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特開2024-104699チルトステージ、極端紫外光生成装置、及び電子デバイスの製造方法
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024104699
(43)【公開日】2024-08-05
(54)【発明の名称】チルトステージ、極端紫外光生成装置、及び電子デバイスの製造方法
(51)【国際特許分類】
G03F 7/20 20060101AFI20240729BHJP
H05G 2/00 20060101ALI20240729BHJP
【ＦＩ】
G03F7/20 503
G03F7/20 521
H05G2/00 K
【審査請求】未請求
【請求項の数】20
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2023009057
(22)【出願日】2023-01-24
(71)【出願人】
【識別番号】300073919
【氏名又は名称】ギガフォトン株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100105212
【弁理士】
【氏名又は名称】保坂 延寿
(72)【発明者】
【氏名】石井 卓也
(72)【発明者】
【氏名】田中 雄人
(72)【発明者】
【氏名】萩原 真一
【テーマコード（参考）】
2H197
4C092
【Ｆターム（参考）】
2H197AA10
2H197CA10
2H197CA12
2H197CA17
2H197GA05
2H197GA12
2H197GA24
2H197HA03
4C092AA06
4C092AB10
4C092AB12
4C092AC09
(57)【要約】 （修正有）
【課題】極端紫外光生成装置のターゲット供給装置の姿勢を調整する方法を提供する。
【解決手段】チルトステージは、極端紫外光生成装置のターゲットをチャンバ内の所定領域に供給するターゲット供給装置が載置される載置台と、載置台を少なくとも第１及び第２の軸に対して回転可能に支持する回転支持部と、第１及び第２のチルト支持部と、第１及び第２の調整器と、を備える。第１及び第２のチルト支持部の各々は、ボールとボールに当接する当接面とを含み、載置台を支持する。第１及び第２の調整器の各々は、ボールが当接面で転がるように、ボール及び当接面のいずれかを当接面に垂直な方向及び平行な方向のいずれとも異なる方向に移動させることで、ターゲット供給装置の姿勢を調整する。
【選択図】図３
【解決手段】チルトステージは、極端紫外光生成装置のターゲットをチャンバ内の所定領域に供給するターゲット供給装置が載置される載置台と、載置台を少なくとも第１及び第２の軸に対して回転可能に支持する回転支持部と、第１及び第２のチルト支持部と、第１及び第２の調整器と、を備える。第１及び第２のチルト支持部の各々は、ボールとボールに当接する当接面とを含み、載置台を支持する。第１及び第２の調整器の各々は、ボールが当接面で転がるように、ボール及び当接面のいずれかを当接面に垂直な方向及び平行な方向のいずれとも異なる方向に移動させることで、ターゲット供給装置の姿勢を調整する。
【選択図】図３
【特許請求の範囲】
【請求項1】
極端紫外光生成装置のターゲットをチャンバ内の所定領域に供給するターゲット供給装置が載置される載置台と、
前記載置台を少なくとも第１及び第２の軸に対して回転可能に支持する回転支持部と、
第１のボールと前記第１のボールに当接する第１の当接面とを含み、前記載置台を支持する第１のチルト支持部と、
前記第１のボールが前記第１の当接面で転がるように、前記第１のボール及び前記第１の当接面のいずれかを前記第１の当接面に垂直な方向及び平行な方向のいずれとも異なる第１の方向に移動させることで、前記ターゲット供給装置の姿勢を調整する第１の調整器と、
第２のボールと前記第２のボールに当接する第２の当接面とを含み、前記載置台を支持する第２のチルト支持部と、
前記第２のボールが前記第２の当接面で転がるように、前記第２のボール及び前記第２の当接面のいずれかを前記第２の当接面に垂直な方向及び平行な方向のいずれとも異なる第２の方向に移動させることで、前記ターゲット供給装置の姿勢を調整する第２の調整器と、
を備えるチルトステージ。
前記載置台を少なくとも第１及び第２の軸に対して回転可能に支持する回転支持部と、
第１のボールと前記第１のボールに当接する第１の当接面とを含み、前記載置台を支持する第１のチルト支持部と、
前記第１のボールが前記第１の当接面で転がるように、前記第１のボール及び前記第１の当接面のいずれかを前記第１の当接面に垂直な方向及び平行な方向のいずれとも異なる第１の方向に移動させることで、前記ターゲット供給装置の姿勢を調整する第１の調整器と、
第２のボールと前記第２のボールに当接する第２の当接面とを含み、前記載置台を支持する第２のチルト支持部と、
前記第２のボールが前記第２の当接面で転がるように、前記第２のボール及び前記第２の当接面のいずれかを前記第２の当接面に垂直な方向及び平行な方向のいずれとも異なる第２の方向に移動させることで、前記ターゲット供給装置の姿勢を調整する第２の調整器と、
を備えるチルトステージ。
【請求項2】
請求項１に記載のチルトステージであって、
前記第１のボールの一部が前記チャンバ及び前記載置台のうちの一方に前記第１の方向に移動可能に支持された第１のソケットに複数のソケット内転動体と共に収容されて、前記第１のボールが回転可能に支持され、
前記第１の当接面は、前記チャンバ及び前記載置台のうちの他方に固定された、
チルトステージ。
前記第１のボールの一部が前記チャンバ及び前記載置台のうちの一方に前記第１の方向に移動可能に支持された第１のソケットに複数のソケット内転動体と共に収容されて、前記第１のボールが回転可能に支持され、
前記第１の当接面は、前記チャンバ及び前記載置台のうちの他方に固定された、
チルトステージ。
【請求項3】
請求項２に記載のチルトステージであって、
前記第１のチルト支持部は、前記第１の方向に配置されたレールと、前記第１のソケットを支持して前記レールに沿って移動する移動部と、前記レールと前記移動部との間に配置された複数のリニアガイド転動体と、をさらに含む、チルトステージ。
前記第１のチルト支持部は、前記第１の方向に配置されたレールと、前記第１のソケットを支持して前記レールに沿って移動する移動部と、前記レールと前記移動部との間に配置された複数のリニアガイド転動体と、をさらに含む、チルトステージ。
【請求項4】
請求項１に記載のチルトステージであって、
前記第１のボールの一部が前記チャンバ及び前記載置台のうちの一方に固定された第１のソケットに複数のソケット内転動体と共に収容されて、前記第１のボールが回転可能に支持され、
前記第１の当接面は、前記チャンバ及び前記載置台のうちの他方に前記第１の方向に移動可能に支持された、
チルトステージ。
前記第１のボールの一部が前記チャンバ及び前記載置台のうちの一方に固定された第１のソケットに複数のソケット内転動体と共に収容されて、前記第１のボールが回転可能に支持され、
前記第１の当接面は、前記チャンバ及び前記載置台のうちの他方に前記第１の方向に移動可能に支持された、
チルトステージ。
【請求項5】
請求項４に記載のチルトステージであって、
前記第１のチルト支持部は、前記第１の方向に配置されたレールと、前記第１の当接面を支持して前記レールに沿って移動する移動部と、前記レールと前記移動部との間に配置された複数のリニアガイド転動体と、をさらに含む、チルトステージ。
前記第１のチルト支持部は、前記第１の方向に配置されたレールと、前記第１の当接面を支持して前記レールに沿って移動する移動部と、前記レールと前記移動部との間に配置された複数のリニアガイド転動体と、をさらに含む、チルトステージ。
【請求項6】
請求項１に記載のチルトステージであって、
前記第２のボールの一部が前記チャンバ及び前記載置台のうちの一方に支持された第２のソケットに複数のソケット内転動体と共に収容されて、前記第２のボールが回転可能に支持され、
前記第２の当接面は、前記チャンバ及び前記載置台のうちの他方に支持された、
チルトステージ。
前記第２のボールの一部が前記チャンバ及び前記載置台のうちの一方に支持された第２のソケットに複数のソケット内転動体と共に収容されて、前記第２のボールが回転可能に支持され、
前記第２の当接面は、前記チャンバ及び前記載置台のうちの他方に支持された、
チルトステージ。
【請求項7】
請求項１に記載のチルトステージであって、
前記第１の当接面と前記第１の方向とが４５°未満の角度で交差する、
チルトステージ。
前記第１の当接面と前記第１の方向とが４５°未満の角度で交差する、
チルトステージ。
【請求項8】
請求項１に記載のチルトステージであって、
前記第１の当接面は、前記第１の調整器によって前記第１のボール及び前記第１の当接面のいずれかを移動させるときの前記第１のボールの前記第１の当接面に対する移動軌跡に沿った溝を有する、
チルトステージ。
前記第１の当接面は、前記第１の調整器によって前記第１のボール及び前記第１の当接面のいずれかを移動させるときの前記第１のボールの前記第１の当接面に対する移動軌跡に沿った溝を有する、
チルトステージ。
【請求項9】
請求項８に記載のチルトステージであって、
前記溝に垂直な断面に沿った前記溝の曲率半径は、前記第１のボールの曲率半径より大きい、
チルトステージ。
前記溝に垂直な断面に沿った前記溝の曲率半径は、前記第１のボールの曲率半径より大きい、
チルトステージ。
【請求項10】
請求項１に記載のチルトステージであって、
前記回転支持部は、前記第１の当接面に垂直な方向と前記第１の方向との両方に平行な面であって前記第１のボールを通る前記面に位置する、
チルトステージ。
前記回転支持部は、前記第１の当接面に垂直な方向と前記第１の方向との両方に平行な面であって前記第１のボールを通る前記面に位置する、
チルトステージ。
【請求項11】
請求項１に記載のチルトステージであって、
前記回転支持部は、前記第１の調整器によって前記第１のボール及び前記第１の当接面のいずれかを移動させるときの前記第１のボールの回転軸に垂直な面であって前記第１のボールを通る前記面に位置する、
チルトステージ。
前記回転支持部は、前記第１の調整器によって前記第１のボール及び前記第１の当接面のいずれかを移動させるときの前記第１のボールの回転軸に垂直な面であって前記第１のボールを通る前記面に位置する、
チルトステージ。
【請求項12】
請求項１に記載のチルトステージであって、
前記回転支持部は、前記チャンバ及び前記載置台のうちの一方に固定された第３のボールと、前記チャンバ及び前記載置台のうちの他方に固定され前記第３のボールの一部を複数のソケット内転動体と共に収容して前記第３のボールを回転可能に支持する第３のソケットと、を含む球面軸受で構成される、
チルトステージ。
前記回転支持部は、前記チャンバ及び前記載置台のうちの一方に固定された第３のボールと、前記チャンバ及び前記載置台のうちの他方に固定され前記第３のボールの一部を複数のソケット内転動体と共に収容して前記第３のボールを回転可能に支持する第３のソケットと、を含む球面軸受で構成される、
チルトステージ。
【請求項13】
請求項１２に記載のチルトステージであって、
前記第１～第３のボールの中心を頂点とする三角形を前記ターゲット供給装置の一部が貫通するように前記第１～第３のボールが配置された、
チルトステージ。
前記第１～第３のボールの中心を頂点とする三角形を前記ターゲット供給装置の一部が貫通するように前記第１～第３のボールが配置された、
チルトステージ。
【請求項14】
請求項１に記載のチルトステージであって、
前記第１及び第２の軸の両方と交差する第３の軸に対する前記載置台の回転を制限するガイド部材をさらに備える、
チルトステージ。
前記第１及び第２の軸の両方と交差する第３の軸に対する前記載置台の回転を制限するガイド部材をさらに備える、
チルトステージ。
【請求項15】
請求項１に記載のチルトステージであって、
前記第１のボール及び前記第１の当接面の一方を他方に対して押し付けるバネをさらに備える、
チルトステージ。
前記第１のボール及び前記第１の当接面の一方を他方に対して押し付けるバネをさらに備える、
チルトステージ。
【請求項16】
チャンバと、
ターゲットを前記チャンバ内の所定領域に供給するターゲット供給装置と、
チルトステージであって、
前記ターゲット供給装置が載置される載置台と、
前記載置台を少なくとも第１及び第２の軸に対して回転可能に支持する回転支持部と、
第１のボールと前記第１のボールに当接する第１の当接面とを含み、前記載置台を支持する第１のチルト支持部と、
前記第１のボールが前記第１の当接面で転がるように、前記第１のボール及び前記第１の当接面のいずれかを前記第１の当接面に垂直な方向及び平行な方向のいずれとも異なる第１の方向に移動させることで、前記ターゲット供給装置の姿勢を調整する第１の調整器と、
第２のボールと前記第２のボールに当接する第２の当接面とを含み、前記載置台を支持する第２のチルト支持部と、
前記第２のボールが前記第２の当接面で転がるように、前記第２のボール及び前記第２の当接面のいずれかを前記第２の当接面に垂直な方向及び平行な方向のいずれとも異なる第２の方向に移動させることで、前記ターゲット供給装置の姿勢を調整する第２の調整器と、
を備える前記チルトステージと、
を備える、極端紫外光生成装置。
ターゲットを前記チャンバ内の所定領域に供給するターゲット供給装置と、
チルトステージであって、
前記ターゲット供給装置が載置される載置台と、
前記載置台を少なくとも第１及び第２の軸に対して回転可能に支持する回転支持部と、
第１のボールと前記第１のボールに当接する第１の当接面とを含み、前記載置台を支持する第１のチルト支持部と、
前記第１のボールが前記第１の当接面で転がるように、前記第１のボール及び前記第１の当接面のいずれかを前記第１の当接面に垂直な方向及び平行な方向のいずれとも異なる第１の方向に移動させることで、前記ターゲット供給装置の姿勢を調整する第１の調整器と、
第２のボールと前記第２のボールに当接する第２の当接面とを含み、前記載置台を支持する第２のチルト支持部と、
前記第２のボールが前記第２の当接面で転がるように、前記第２のボール及び前記第２の当接面のいずれかを前記第２の当接面に垂直な方向及び平行な方向のいずれとも異なる第２の方向に移動させることで、前記ターゲット供給装置の姿勢を調整する第２の調整器と、
を備える前記チルトステージと、
を備える、極端紫外光生成装置。
【請求項17】
請求項１６に記載の極端紫外光生成装置であって、
前記ターゲット供給装置の位置を調整する位置ステージと、
前記ターゲットの軌道を検出するターゲットセンサと、
前記ターゲットセンサの検出結果に基づいて前記チルトステージを制御することにより前記ターゲットの軌道の粗調整を行い、前記検出結果に基づいて前記位置ステージを制御することにより前記ターゲットの軌道の微調整を行うプロセッサと、
をさらに備える、極端紫外光生成装置。
前記ターゲット供給装置の位置を調整する位置ステージと、
前記ターゲットの軌道を検出するターゲットセンサと、
前記ターゲットセンサの検出結果に基づいて前記チルトステージを制御することにより前記ターゲットの軌道の粗調整を行い、前記検出結果に基づいて前記位置ステージを制御することにより前記ターゲットの軌道の微調整を行うプロセッサと、
をさらに備える、極端紫外光生成装置。
【請求項18】
請求項１６に記載の極端紫外光生成装置であって、
前記ターゲット供給装置の位置を調整する位置ステージと、
前記ターゲットの軌道を検出するターゲットセンサと、
前記ターゲットセンサが前記ターゲットの軌道を検出できない場合に前記チルトステージを制御し、前記ターゲットセンサが前記ターゲットの軌道を検出できた場合に前記位置ステージを制御するプロセッサと、
をさらに備える、極端紫外光生成装置。
前記ターゲット供給装置の位置を調整する位置ステージと、
前記ターゲットの軌道を検出するターゲットセンサと、
前記ターゲットセンサが前記ターゲットの軌道を検出できない場合に前記チルトステージを制御し、前記ターゲットセンサが前記ターゲットの軌道を検出できた場合に前記位置ステージを制御するプロセッサと、
をさらに備える、極端紫外光生成装置。
【請求項19】
電子デバイスの製造方法であって、
チャンバと、
ターゲットを前記チャンバ内の所定領域に供給するターゲット供給装置と、
チルトステージであって、
前記ターゲット供給装置が載置される載置台と、
前記載置台を少なくとも第１及び第２の軸に対して回転可能に支持する回転支持部と、
第１のボールと前記第１のボールに当接する第１の当接面とを含み、前記載置台を支持する第１のチルト支持部と、
前記第１のボールが前記第１の当接面で転がるように、前記第１のボール及び前記第１の当接面のいずれかを前記第１の当接面に垂直な方向及び平行な方向のいずれとも異なる第１の方向に移動させることで、前記ターゲット供給装置の姿勢を調整する第１の調整器と、
第２のボールと前記第２のボールに当接する第２の当接面とを含み、前記載置台を支持する第２のチルト支持部と、
前記第２のボールが前記第２の当接面で転がるように、前記第２のボール及び前記第２の当接面のいずれかを前記第２の当接面に垂直な方向及び平行な方向のいずれとも異なる第２の方向に移動させることで、前記ターゲット供給装置の姿勢を調整する第２の調整器と、
を備える前記チルトステージと、
を備える極端紫外光生成装置によって極端紫外光を生成し、
前記極端紫外光を露光装置に出力し、
電子デバイスを製造するために、前記露光装置内で感光基板上に前記極端紫外光を露光する
ことを含む、電子デバイスの製造方法。
チャンバと、
ターゲットを前記チャンバ内の所定領域に供給するターゲット供給装置と、
チルトステージであって、
前記ターゲット供給装置が載置される載置台と、
前記載置台を少なくとも第１及び第２の軸に対して回転可能に支持する回転支持部と、
第１のボールと前記第１のボールに当接する第１の当接面とを含み、前記載置台を支持する第１のチルト支持部と、
前記第１のボールが前記第１の当接面で転がるように、前記第１のボール及び前記第１の当接面のいずれかを前記第１の当接面に垂直な方向及び平行な方向のいずれとも異なる第１の方向に移動させることで、前記ターゲット供給装置の姿勢を調整する第１の調整器と、
第２のボールと前記第２のボールに当接する第２の当接面とを含み、前記載置台を支持する第２のチルト支持部と、
前記第２のボールが前記第２の当接面で転がるように、前記第２のボール及び前記第２の当接面のいずれかを前記第２の当接面に垂直な方向及び平行な方向のいずれとも異なる第２の方向に移動させることで、前記ターゲット供給装置の姿勢を調整する第２の調整器と、
を備える前記チルトステージと、
を備える極端紫外光生成装置によって極端紫外光を生成し、
前記極端紫外光を露光装置に出力し、
電子デバイスを製造するために、前記露光装置内で感光基板上に前記極端紫外光を露光する
ことを含む、電子デバイスの製造方法。
【請求項20】
電子デバイスの製造方法であって、
チャンバと、
ターゲットを前記チャンバ内の所定領域に供給するターゲット供給装置と、
チルトステージであって、
前記ターゲット供給装置が載置される載置台と、
前記載置台を少なくとも第１及び第２の軸に対して回転可能に支持する回転支持部と、
第１のボールと前記第１のボールに当接する第１の当接面とを含み、前記載置台を支持する第１のチルト支持部と、
前記第１のボールが前記第１の当接面で転がるように、前記第１のボール及び前記第１の当接面のいずれかを前記第１の当接面に垂直な方向及び平行な方向のいずれとも異なる第１の方向に移動させることで、前記ターゲット供給装置の姿勢を調整する第１の調整器と、
第２のボールと前記第２のボールに当接する第２の当接面とを含み、前記載置台を支持する第２のチルト支持部と、
前記第２のボールが前記第２の当接面で転がるように、前記第２のボール及び前記第２の当接面のいずれかを前記第２の当接面に垂直な方向及び平行な方向のいずれとも異なる第２の方向に移動させることで、前記ターゲット供給装置の姿勢を調整する第２の調整器と、
を備える前記チルトステージと、
を備える極端紫外光生成装置によって生成した極端紫外光をマスクに照射してマスクの欠陥を検査し、
前記検査の結果を用いてマスクを選定し、
前記選定したマスクに形成されたパターンを感光基板上に露光転写する
ことを含む、電子デバイスの製造方法。
チャンバと、
ターゲットを前記チャンバ内の所定領域に供給するターゲット供給装置と、
チルトステージであって、
前記ターゲット供給装置が載置される載置台と、
前記載置台を少なくとも第１及び第２の軸に対して回転可能に支持する回転支持部と、
第１のボールと前記第１のボールに当接する第１の当接面とを含み、前記載置台を支持する第１のチルト支持部と、
前記第１のボールが前記第１の当接面で転がるように、前記第１のボール及び前記第１の当接面のいずれかを前記第１の当接面に垂直な方向及び平行な方向のいずれとも異なる第１の方向に移動させることで、前記ターゲット供給装置の姿勢を調整する第１の調整器と、
第２のボールと前記第２のボールに当接する第２の当接面とを含み、前記載置台を支持する第２のチルト支持部と、
前記第２のボールが前記第２の当接面で転がるように、前記第２のボール及び前記第２の当接面のいずれかを前記第２の当接面に垂直な方向及び平行な方向のいずれとも異なる第２の方向に移動させることで、前記ターゲット供給装置の姿勢を調整する第２の調整器と、
を備える前記チルトステージと、
を備える極端紫外光生成装置によって生成した極端紫外光をマスクに照射してマスクの欠陥を検査し、
前記検査の結果を用いてマスクを選定し、
前記選定したマスクに形成されたパターンを感光基板上に露光転写する
ことを含む、電子デバイスの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本開示は、チルトステージ、極端紫外光生成装置、及び電子デバイスの製造方法に関する。
【背景技術】
【0002】
近年、半導体プロセスの微細化に伴って、半導体プロセスの光リソグラフィにおける転写パターンの微細化が急速に進展している。次世代においては、１０ｎｍ以下の微細加工が要求されるようになる。このため、波長約１３ｎｍの極端紫外（ＥＵＶ）光を生成するための装置と縮小投影反射光学系とを組み合わせた半導体露光装置の開発が期待されている。
【0003】
ＥＵＶ光生成装置としては、ターゲット物質にレーザ光を照射することによって生成されるプラズマが用いられるＬＰＰ（Laser Produced Plasma）式の装置の開発が進んでいる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【特許文献1】米国特許出願公開第２０１０／０２９４９５８号明細書
【特許文献2】米国特許出願公開第２０１３／０１５３７９２号明細書
【特許文献3】米国特許出願公開第２０１５／０１７９４０１号明細書
【概要】
【0005】
本開示の１つの観点に係るチルトステージは、極端紫外光生成装置のターゲットをチャンバ内の所定領域に供給するターゲット供給装置が載置される載置台と、載置台を少なくとも第１及び第２の軸に対して回転可能に支持する回転支持部と、第１のボールと第１のボールに当接する第１の当接面とを含み、載置台を支持する第１のチルト支持部と、第１のボールが第１の当接面で転がるように、第１のボール及び第１の当接面のいずれかを第１の当接面に垂直な方向及び平行な方向のいずれとも異なる第１の方向に移動させることで、ターゲット供給装置の姿勢を調整する第１の調整器と、第２のボールと第２のボールに当接する第２の当接面とを含み、載置台を支持する第２のチルト支持部と、第２のボールが第２の当接面で転がるように、第２のボール及び第２の当接面のいずれかを第２の当接面に垂直な方向及び平行な方向のいずれとも異なる第２の方向に移動させることで、ターゲット供給装置の姿勢を調整する第２の調整器と、を備える。
【0006】
本開示の１つの観点に係る極端紫外光生成装置は、チャンバと、ターゲットをチャンバ内の所定領域に供給するターゲット供給装置と、チルトステージであって、ターゲット供給装置が載置される載置台と、載置台を少なくとも第１及び第２の軸に対して回転可能に支持する回転支持部と、第１のボールと第１のボールに当接する第１の当接面とを含み、載置台を支持する第１のチルト支持部と、第１のボールが第１の当接面で転がるように、第１のボール及び第１の当接面のいずれかを第１の当接面に垂直な方向及び平行な方向のいずれとも異なる第１の方向に移動させることで、ターゲット供給装置の姿勢を調整する第１の調整器と、第２のボールと第２のボールに当接する第２の当接面とを含み、載置台を支持する第２のチルト支持部と、第２のボールが第２の当接面で転がるように、第２のボール及び第２の当接面のいずれかを第２の当接面に垂直な方向及び平行な方向のいずれとも異なる第２の方向に移動させることで、ターゲット供給装置の姿勢を調整する第２の調整器と、を備えるチルトステージと、を備える。
【0007】
本開示の１つの観点に係る電子デバイスの製造方法は、チャンバと、ターゲットをチャンバ内の所定領域に供給するターゲット供給装置と、チルトステージであって、ターゲット供給装置が載置される載置台と、載置台を少なくとも第１及び第２の軸に対して回転可能に支持する回転支持部と、第１のボールと第１のボールに当接する第１の当接面とを含み、載置台を支持する第１のチルト支持部と、第１のボールが第１の当接面で転がるように、第１のボール及び第１の当接面のいずれかを第１の当接面に垂直な方向及び平行な方向のいずれとも異なる第１の方向に移動させることで、ターゲット供給装置の姿勢を調整する第１の調整器と、第２のボールと第２のボールに当接する第２の当接面とを含み、載置台を支持する第２のチルト支持部と、第２のボールが第２の当接面で転がるように、第２のボール及び第２の当接面のいずれかを第２の当接面に垂直な方向及び平行な方向のいずれとも異なる第２の方向に移動させることで、ターゲット供給装置の姿勢を調整する第２の調整器と、を備えるチルトステージと、を備える極端紫外光生成装置によって極端紫外光を生成し、極端紫外光を露光装置に出力し、電子デバイスを製造するために、露光装置内で感光基板上に極端紫外光を露光することを含む。
【0008】
本開示の１つの観点に係る電子デバイスの製造方法は、チャンバと、ターゲットをチャンバ内の所定領域に供給するターゲット供給装置と、チルトステージであって、ターゲット供給装置が載置される載置台と、載置台を少なくとも第１及び第２の軸に対して回転可能に支持する回転支持部と、第１のボールと第１のボールに当接する第１の当接面とを含み、載置台を支持する第１のチルト支持部と、第１のボールが第１の当接面で転がるように、第１のボール及び第１の当接面のいずれかを第１の当接面に垂直な方向及び平行な方向のいずれとも異なる第１の方向に移動させることで、ターゲット供給装置の姿勢を調整する第１の調整器と、第２のボールと第２のボールに当接する第２の当接面とを含み、載置台を支持する第２のチルト支持部と、第２のボールが第２の当接面で転がるように、第２のボール及び第２の当接面のいずれかを第２の当接面に垂直な方向及び平行な方向のいずれとも異なる第２の方向に移動させることで、ターゲット供給装置の姿勢を調整する第２の調整器と、を備えるチルトステージと、を備える極端紫外光生成装置によって生成した極端紫外光をマスクに照射してマスクの欠陥を検査し、検査の結果を用いてマスクを選定し、選定したマスクに形成されたパターンを感光基板上に露光転写することを含む。
【図面の簡単な説明】
【0009】
本開示のいくつかの実施形態を、単なる例として、添付の図面を参照して以下に説明する。
【実施形態】
【0010】
＜内容＞
１．ＥＵＶ光生成システム１１の全体説明
１．１ 構成
１．２ 動作
２．比較例
２．１ 構成
２．２ 動作
２．３ 比較例の課題
３．第１、第２、及び第３のボール７１１、７２１、及び７３１でターゲット供給装置２６を支持するチルトステージ７
３．１ 構成
３．１．１ 回転支持部７３
３．１．２ 第１のチルト支持部７１及び第１の調整器７５
３．１．３ 第２のチルト支持部７２及び第２の調整器７６
３．１．４ ガイド機構７４
３．２ 動作
３．３ 変形例
３．４ 作用
４．チルトステージ７と位置ステージ８とを使い分けるＥＵＶ光生成装置１
４．１ 動作
４．２ 作用
５．その他
５．１ ＥＵＶ光利用装置６の例
５．２ 補足
１．ＥＵＶ光生成システム１１の全体説明
１．１ 構成
１．２ 動作
２．比較例
２．１ 構成
２．２ 動作
２．３ 比較例の課題
３．第１、第２、及び第３のボール７１１、７２１、及び７３１でターゲット供給装置２６を支持するチルトステージ７
３．１ 構成
３．１．１ 回転支持部７３
３．１．２ 第１のチルト支持部７１及び第１の調整器７５
３．１．３ 第２のチルト支持部７２及び第２の調整器７６
３．１．４ ガイド機構７４
３．２ 動作
３．３ 変形例
３．４ 作用
４．チルトステージ７と位置ステージ８とを使い分けるＥＵＶ光生成装置１
４．１ 動作
４．２ 作用
５．その他
５．１ ＥＵＶ光利用装置６の例
５．２ 補足
【0011】
以下、本開示の実施形態について、図面を参照しながら詳しく説明する。以下に説明される実施形態は、本開示のいくつかの例を示すものであって、本開示の内容を限定するものではない。また、各実施形態で説明される構成及び動作の全てが本開示の構成及び動作として必須であるとは限らない。なお、同一の構成要素には同一の参照符号を付して、重複する説明を省略する。
【0012】
１．ＥＵＶ光生成システム１１の全体説明
１．１ 構成
図１に、例示的なＬＰＰ式のＥＵＶ光生成システム１１の構成を概略的に示す。ＥＵＶ光生成装置１は、レーザ装置３と共に用いられる。本開示においては、ＥＵＶ光生成装置１及びレーザ装置３を含むシステムを、ＥＵＶ光生成システム１１と称する。ＥＵＶ光生成装置１は、チャンバ２及びターゲット供給装置２６を含む。チャンバ２は、密閉可能な容器である。ターゲット供給装置２６は、ターゲット物質を含むターゲット２７をチャンバ２内部に供給する。ターゲット物質の材料は、スズ、テルビウム、ガドリニウム、リチウム、キセノン、又は、それらの内のいずれか２つ以上の組合せを含んでもよい。
１．１ 構成
図１に、例示的なＬＰＰ式のＥＵＶ光生成システム１１の構成を概略的に示す。ＥＵＶ光生成装置１は、レーザ装置３と共に用いられる。本開示においては、ＥＵＶ光生成装置１及びレーザ装置３を含むシステムを、ＥＵＶ光生成システム１１と称する。ＥＵＶ光生成装置１は、チャンバ２及びターゲット供給装置２６を含む。チャンバ２は、密閉可能な容器である。ターゲット供給装置２６は、ターゲット物質を含むターゲット２７をチャンバ２内部に供給する。ターゲット物質の材料は、スズ、テルビウム、ガドリニウム、リチウム、キセノン、又は、それらの内のいずれか２つ以上の組合せを含んでもよい。
【0013】
チャンバ２の壁には、貫通孔が備えられている。その貫通孔は、ウインドウ２１によって塞がれ、ウインドウ２１をレーザ装置３から出力されるパルスレーザ光３２が透過する。チャンバ２の内部には、回転楕円面形状の反射面を備えたＥＵＶ集光ミラー２３が配置される。ＥＵＶ集光ミラー２３は、第１及び第２の焦点を備える。ＥＵＶ集光ミラー２３の表面には、モリブデンとシリコンとが交互に積層された多層反射膜が形成される。ＥＵＶ集光ミラー２３は、その第１の焦点がプラズマ生成領域２５に位置し、その第２の焦点が中間集光点２９２に位置するように配置される。ＥＵＶ集光ミラー２３の中央部には貫通孔２４が備えられ、貫通孔２４をパルスレーザ光３３が通過する。プラズマ生成領域２５は本開示における所定領域に相当する。
【0014】
ＥＵＶ光生成装置１は、プロセッサ５、ターゲットセンサ４等を含む。プロセッサ５は、制御プログラムが記憶されたメモリ５０１と、制御プログラムを実行するＣＰＵ（central processing unit）５０２と、を含む処理装置である。プロセッサ５は本開示に含まれる各種処理を実行するために特別に構成又はプログラムされている。ターゲットセンサ４は、ターゲット２７の存在、軌跡、位置、速度の内の少なくとも１つを検出する。ターゲットセンサ４は、撮像機能を備えてもよい。
【0015】
また、ＥＵＶ光生成装置１は、チャンバ２の内部とＥＵＶ光利用装置６の内部とを連通させる接続部２９を含む。ＥＵＶ光利用装置６は、図１５に示される露光装置６ａでもよいし図１６に示される検査装置６ｂでもよい。接続部２９内部には、アパーチャが形成された壁２９１が備えられる。壁２９１は、そのアパーチャがＥＵＶ集光ミラー２３の第２の焦点に位置するように配置される。
【0016】
さらに、ＥＵＶ光生成装置１は、レーザ光伝送装置３４、レーザ光集光ミラー２２、ターゲット２７を回収するためのターゲット回収部２８等を含む。レーザ光伝送装置３４は、レーザ光の伝送状態を規定するための光学素子と、この光学素子の位置、姿勢等を調整するためのアクチュエータとを備える。
【0017】
１．２ 動作
図１を参照して、ＥＵＶ光生成システム１１の動作を説明する。レーザ装置３から出力されたパルスレーザ光３１は、レーザ光伝送装置３４を経て、パルスレーザ光３２としてウインドウ２１を透過してチャンバ２内に入射する。パルスレーザ光３２は、レーザ光経路に沿ってチャンバ２内を進み、レーザ光集光ミラー２２で反射されて、パルスレーザ光３３としてプラズマ生成領域２５に導かれる。
図１を参照して、ＥＵＶ光生成システム１１の動作を説明する。レーザ装置３から出力されたパルスレーザ光３１は、レーザ光伝送装置３４を経て、パルスレーザ光３２としてウインドウ２１を透過してチャンバ２内に入射する。パルスレーザ光３２は、レーザ光経路に沿ってチャンバ２内を進み、レーザ光集光ミラー２２で反射されて、パルスレーザ光３３としてプラズマ生成領域２５に導かれる。
【0018】
ターゲット供給装置２６は、ターゲット２７をチャンバ２内部のプラズマ生成領域２５に向けて出力する。ターゲット２７には、パルスレーザ光３３が照射される。パルスレーザ光３３が照射されたターゲット２７はプラズマ化し、そのプラズマから放射光２５１が放射される。放射光２５１に含まれるＥＵＶ光は、ＥＵＶ集光ミラー２３によって他の波長域の光に比べて高い反射率で反射される。ＥＵＶ集光ミラー２３によって反射されたＥＵＶ光を含む反射光２５２は、中間集光点２９２で集光され、ＥＵＶ光利用装置６に出力される。なお、１つのターゲット２７に、パルスレーザ光３３に含まれる複数のパルスが照射されてもよい。以下の説明において、ＥＵＶ光の出力方向を＋Ｚ方向とし、ターゲット２７の出力方向を＋Ｙ方向とする。＋Ｚ方向及び＋Ｙ方向は互いに垂直であり、＋Ｚ方向及び＋Ｙ方向の両方に垂直な方向を＋Ｘ方向及び－Ｘ方向とする。
【0019】
プロセッサ５は、ＥＵＶ光生成システム１１全体を制御する。プロセッサ５は、ターゲットセンサ４の検出結果を処理する。ターゲットセンサ４の検出結果に基づいて、プロセッサ５は、ターゲット２７が出力されるタイミング、ターゲット２７の出力方向等を制御する。さらに、プロセッサ５は、レーザ装置３の発振タイミング、パルスレーザ光３２の進行方向、パルスレーザ光３３の集光位置等を制御する。上述の様々な制御は単なる例示に過ぎず、必要に応じて他の制御が追加されてもよい。
【0020】
２．比較例
２．１ 構成
図２は、比較例に係るＥＵＶ光生成システム１１の一部を概略的に示す。本開示の比較例とは、出願人のみによって知られていると出願人が認識している形態であって、出願人が自認している公知例ではない。図２において、チャンバ２、レーザ光集光ミラー２２、ＥＵＶ集光ミラー２３、レーザ光伝送装置３４等の図示は省略されている。図２に示されるように、比較例に係るＥＵＶ光生成装置１は、Ｘ軸軌道センサ４ｘと、Ｚ軸軌道センサ４ｚと、照明装置４１と、位置ステージ８と、を含む。
２．１ 構成
図２は、比較例に係るＥＵＶ光生成システム１１の一部を概略的に示す。本開示の比較例とは、出願人のみによって知られていると出願人が認識している形態であって、出願人が自認している公知例ではない。図２において、チャンバ２、レーザ光集光ミラー２２、ＥＵＶ集光ミラー２３、レーザ光伝送装置３４等の図示は省略されている。図２に示されるように、比較例に係るＥＵＶ光生成装置１は、Ｘ軸軌道センサ４ｘと、Ｚ軸軌道センサ４ｚと、照明装置４１と、位置ステージ８と、を含む。
【0021】
Ｘ軸軌道センサ４ｘ、Ｚ軸軌道センサ４ｚ、及び照明装置４１が、ターゲットセンサ４（図１参照）を構成する。Ｘ軸軌道センサ４ｘ及びＺ軸軌道センサ４ｚの各々は、例えば、撮像装置を含み、ターゲット供給装置２６からプラズマ生成領域２５に向けて移動するターゲット２７を撮像して画像データを生成するように構成されている。
【0022】
Ｘ軸軌道センサ４ｘは、ターゲット２７の軌道Ｔからみて略－Ｚ方向の位置に配置され、ターゲット２７の軌道Ｔを－Ｚ方向の位置から検出する。ターゲット２７の軌道Ｔの位置が＋Ｘ方向又は－Ｘ方向に変更された場合、Ｘ軸軌道センサ４ｘによって取得された画像におけるターゲット２７の像の位置が、＋Ｘ方向又は－Ｘ方向に移動する。従って、プロセッサ５は、Ｘ軸軌道センサ４ｘから出力された画像データに基づいてターゲット２７の軌道ＴのＸ軸における検出位置を算出することができる。
【0023】
Ｚ軸軌道センサ４ｚは、ターゲット２７の軌道Ｔからみて略－Ｘ方向の位置に配置され、ターゲット２７の軌道Ｔを－Ｘ方向の位置から検出する。ターゲット２７の軌道Ｔの位置が＋Ｚ方向又は－Ｚ方向に変更された場合、Ｚ軸軌道センサ４ｚによって取得された画像におけるターゲット２７の像の位置が、＋Ｚ方向又は－Ｚ方向に移動する。従って、プロセッサ５は、Ｚ軸軌道センサ４ｚから出力された画像データに基づいてターゲット２７の軌道ＴのＺ軸における検出位置を算出することができる。
【0024】
Ｘ軸軌道センサ４ｘ及びＺ軸軌道センサ４ｚの各々は、プラズマ生成領域２５の近傍のターゲット２７、例えばプラズマ生成領域２５に到達する直前のターゲット２７を撮像するように配置される。Ｘ軸軌道センサ４ｘの検出範囲Ｖｘ及びＺ軸軌道センサ４ｚの検出範囲Ｖｚは、これらのセンサの光学系によって決まる画角及び焦点深度によって規定される。Ｘ軸軌道センサ４ｘの検出範囲ＶｘとＺ軸軌道センサ４ｚの検出範囲Ｖｚとは、互いに重複する空間Ｖｘｚを含む。ターゲット供給装置２６からプラズマ生成領域２５に向かうターゲット２７の理想的な軌道が空間Ｖｘｚのほぼ中心を貫通するように、Ｘ軸軌道センサ４ｘ及びＺ軸軌道センサ４ｚの各々が位置合わせされている。
【0025】
照明装置４１は、ターゲット２７をレーザ光である照明光４３で照明する。照明光４３の光路に、空間Ｖｘｚが含まれる。
【0026】
位置ステージ８は、ターゲット供給装置２６に接続されている。位置ステージ８は、プラズマ生成領域２５に対するターゲット供給装置２６の位置を変更することにより、ターゲット２７の軌道Ｔを変更するように構成されている。例えば、位置ステージ８は、ターゲット供給装置２６の位置をＸ軸方向とＺ軸方向とに移動することにより、ターゲット２７の軌道ＴをＸ軸方向とＺ軸方向とに変更することができる。
【0027】
２．２ 動作
照明装置４１は、プロセッサ５による制御に従って照明光４３を生成する。ターゲット２７が空間Ｖｘｚを通過するときに、ターゲット２７が照明光４３によって照明される。
照明装置４１は、プロセッサ５による制御に従って照明光４３を生成する。ターゲット２７が空間Ｖｘｚを通過するときに、ターゲット２７が照明光４３によって照明される。
【0028】
Ｘ軸軌道センサ４ｘ及びＺ軸軌道センサ４ｚの各々は、ターゲット２７によって反射された照明光４３の一部を受光する。Ｘ軸軌道センサ４ｘ及びＺ軸軌道センサ４ｚの各々は、照明光４３によって照明されたターゲット２７を撮像して画像データを生成し、画像データをプロセッサ５に出力する。Ｘ軸軌道センサ４ｘ及びＺ軸軌道センサ４ｚによる撮像のタイミングは、プロセッサ５によって制御される。
【0029】
プロセッサ５は、Ｘ軸軌道センサ４ｘ及びＺ軸軌道センサ４ｚから画像データを受信し、Ｘ軸及びＺ軸の各々においてターゲット２７の軌道Ｔの検出位置を算出する。プロセッサ５は、Ｘ軸及びＺ軸の各々における検出位置と、Ｘ軸及びＺ軸の各々におけるターゲット２７の軌道Ｔの目標位置とに基づいて、位置ステージ８を制御する。すなわち、プロセッサ５は、ターゲット２７の軌道ＴがＸ軸及びＺ軸の各々における目標位置に近づくように、位置ステージ８をＸ軸方向とＺ軸方向とに制御する。位置ステージ８がターゲット供給装置２６の位置を変更することにより、その後に出力されるターゲット２７の軌道Ｔが変更される。これにより、ターゲット２７がプラズマ生成領域２５に到達するように、ターゲット２７の軌道Ｔが制御される。
【0030】
レーザ装置３は、図示しないプリパルスレーザ装置及びメインパルスレーザ装置を含んでもよい。プリパルスレーザ装置から出力されるプリパルスレーザ光はターゲット２７に照射されて、ターゲット２７を拡散させて拡散ターゲットを生成させる。メインパルスレーザ装置から出力されるメインパルスレーザ光は、拡散ターゲットに照射されて拡散ターゲットに含まれるターゲット物質をプラズマ化させる。図示しない複数のプリパルスレーザ装置から複数のプリパルスレーザ光を１つのターゲット２７に順次照射することにより、拡散ターゲットを生成させてもよい。
【0031】
Ｘ軸軌道センサ４ｘ又はＺ軸軌道センサ４ｚは、ターゲット２７がＹ軸における所定の位置を通過したタイミングを示す通過タイミング信号を出力する。プロセッサ５は、通過タイミング信号に基づいて、レーザ装置３を制御してレーザ光３３ａを出力させる。さらに、プロセッサ５は、通過タイミング信号に基づいて、上述のレーザ光伝送装置３４のアクチュエータを制御することにより、Ｙ軸におけるレーザ光３３ａの集光位置を調整する。
【0032】
また、プロセッサ５は、Ｘ軸におけるターゲット２７の軌道Ｔの検出位置に基づいて、レーザ光伝送装置３４のアクチュエータを制御することにより、Ｘ軸におけるレーザ光３３ａの集光位置を調整する。
【0033】
２．３ 比較例の課題
ターゲット供給装置２６を連続稼働していると、ターゲット供給装置２６のノズルにターゲット物質が付着して、ターゲット２７の軌道Ｔが大きくずれてくることがあり得た。ターゲット２７の軌道Ｔが大きくずれると、位置ステージ８によるターゲット２７の軌道Ｔの調整しろを超えてしまい、ターゲット２７をプラズマ生成領域２５に供給できなくなり得た。
ターゲット供給装置２６を連続稼働していると、ターゲット供給装置２６のノズルにターゲット物質が付着して、ターゲット２７の軌道Ｔが大きくずれてくることがあり得た。ターゲット２７の軌道Ｔが大きくずれると、位置ステージ８によるターゲット２７の軌道Ｔの調整しろを超えてしまい、ターゲット２７をプラズマ生成領域２５に供給できなくなり得た。
【0034】
ターゲット２７の軌道Ｔの調整しろを大きくするために、チルトステージを設けてターゲット供給装置２６を傾け、ターゲット２７の出力方向を変更することが考えられる。しかし、ターゲット供給装置２６の荷重に耐えるチルトステージを実現することが難しかった。例えば、チルトステージの回転軸に弾性ヒンジを用いることが考えられるが、弾性ヒンジは大きな荷重には耐えられない場合がある。また、チルトステージにすべり摩擦が生じる部分があると、大きな荷重がかかれば摩擦面に焼き付きが生じる場合がある。チルトステージには設置スペースの制約もあるため、耐荷重や摩擦特性を改善するために複雑な構造をとることも好ましくはない。
【0035】
以下に説明する実施形態は、ＥＵＶ光生成装置１のターゲット供給装置２６を傾けることでターゲット２７の軌道Ｔを変えられるように、コンパクトな構造で大きな荷重にも耐え得るチルトステージ７を提供することに関連している。
【0036】
３．第１、第２、及び第３のボール７１１、７２１、及び７３１でターゲット供給装置２６を支持するチルトステージ７
３．１ 構成
図３は、第１の実施形態におけるチルトステージ７の平面図である。図３には、チルトステージ７を載置するＸ方向移動板８２と、チャンバ２の一部と、が併せて示されている。図４は、チルトステージ７の側面図である。図４には、ターゲット供給装置２６の一部の断面と、Ｘ方向移動板８２を含む位置ステージ８の断面と、チャンバ２の一部の断面と、が併せて示されている。チャンバ２に位置ステージ８が載置され、位置ステージ８にチルトステージ７が載置され、チルトステージ７にターゲット供給装置２６が載置される。
３．１ 構成
図３は、第１の実施形態におけるチルトステージ７の平面図である。図３には、チルトステージ７を載置するＸ方向移動板８２と、チャンバ２の一部と、が併せて示されている。図４は、チルトステージ７の側面図である。図４には、ターゲット供給装置２６の一部の断面と、Ｘ方向移動板８２を含む位置ステージ８の断面と、チャンバ２の一部の断面と、が併せて示されている。チャンバ２に位置ステージ８が載置され、位置ステージ８にチルトステージ７が載置され、チルトステージ７にターゲット供給装置２６が載置される。
【0037】
位置ステージ８は、固定板８０と、固定板８０に載置されたＺ方向移動板８１と、Ｚ方向移動板８１に載置されたＸ方向移動板８２と、を含む。固定板８０とＺ方向移動板８１との間にはＺ方向リニアガイド８ｚが配置され、Ｚ方向移動板８１とＸ方向移動板８２との間にはＸ方向リニアガイド８ｘが配置されている。固定板８０はチャンバ２に対して固定されているが、固定板８０にかかる荷重をチャンバ２が支持しているとは限らない。固定板８０とチャンバ２との位置関係が変化しないように、チャンバ２とは別の部材が固定板８０を支持していてもよい。
【0038】
Ｚ方向リニアガイド８ｚ及びＸ方向リニアガイド８ｘの各々はプロセッサ５（図１参照）によって制御される図示しないアクチュエータを含む。Ｚ方向リニアガイド８ｚによってＺ方向移動板８１が固定板８０に対しＺ軸方向に移動可能であり、Ｘ方向リニアガイド８ｘによってＸ方向移動板８２がＺ方向移動板８１に対しＸ軸方向に移動可能である。従って、Ｚ方向リニアガイド８ｚ及びＸ方向リニアガイド８ｘによって、Ｘ方向移動板８２は固定板８０に対しＺ軸方向及びＸ軸方向に移動可能である。
【0039】
チルトステージ７は、ターゲット供給装置２６が載置される載置台７０と、第１及び第２のチルト支持部７１及び７２と、回転支持部７３と、ガイド機構７４と、第１及び第２の調整器７５及び７６と、を含む。第１及び第２のチルト支持部７１及び７２と、回転支持部７３とは、Ｘ方向移動板８２と載置台７０との間に位置して載置台７０を支持する。
【0040】
第１のチルト支持部７１、第２のチルト支持部７２、及び回転支持部７３は、それぞれ第１のボール７１１、第２のボール７２１、及び第３のボール７３１を含む。載置台７０は第１、第２、及び第３のボール７１１、７２１、及び７３１の３点で支持される。第２のボール７２１の上端と第３のボール７３１の中心とを結ぶ軸を第１の軸Ａｘ１とし、第１のボール７１１の上端と第３のボール７３１の中心とを結ぶ軸を第２の軸Ａｘ２とする。第３のボール７３１の中心を通りＹ軸方向に平行な軸を第３の軸Ａｘ３とする。第３の軸Ａｘ３は第１及び第２の軸Ａｘ１及びＡｘ２の両方と交差する。
【0041】
ターゲット供給装置２６の一部であるノズル２６１は、載置台７０の中央に形成された貫通孔を貫通している。ノズル２６１は、さらに、第１、第２、及び第３のボール７１１、７２１、及び７３１のそれぞれの中心を頂点とする三角形を貫通する。
【0042】
ノズル２６１から出力されたターゲット２７はチャンバ２の貫通孔を通ってチャンバ２の内部に供給される。載置台７０の貫通孔とチャンバ２の貫通孔との間にはフレキシブル管２６２が接続されている。フレキシブル管２６２の内部の圧力はチャンバ２の内部の圧力と同等であり、大気圧の５分の１未満である。フレキシブル管２６２はその内外の圧力差に耐える強度を有している。チルトステージ７には、ターゲット供給装置２６の重量に起因する荷重だけでなく、大気圧に起因する荷重もかかる。
【0043】
３．１．１ 回転支持部７３
図５は、回転支持部７３の断面図である。図５は図４におけるＶ－Ｖ線に沿った断面の一部に相当する。回転支持部７３は、第３のボール７３１と、第３のソケット７３２と、を含む球面軸受で構成される。第３のボール７３１はロッド７３３を介して載置台７０に固定される。第３のソケット７３２は第３のボール７３１の一部を複数のソケット内転動体７３ａと共に収容して第３のボール７３１を回転可能に支持する。ソケット内転動体７３ａは、第３のボール７３１と第３のソケット７３２との間で転がることでこれらの間の摩擦を軽減している。第３のソケット７３２は、Ｘ方向移動板８２に固定されることにより、位置ステージ８を操作しない限りチャンバ２に固定された状態となる。
図５は、回転支持部７３の断面図である。図５は図４におけるＶ－Ｖ線に沿った断面の一部に相当する。回転支持部７３は、第３のボール７３１と、第３のソケット７３２と、を含む球面軸受で構成される。第３のボール７３１はロッド７３３を介して載置台７０に固定される。第３のソケット７３２は第３のボール７３１の一部を複数のソケット内転動体７３ａと共に収容して第３のボール７３１を回転可能に支持する。ソケット内転動体７３ａは、第３のボール７３１と第３のソケット７３２との間で転がることでこれらの間の摩擦を軽減している。第３のソケット７３２は、Ｘ方向移動板８２に固定されることにより、位置ステージ８を操作しない限りチャンバ２に固定された状態となる。
【0044】
第３のボール７３１は、第３のソケット７３２の内部で３自由度の回転が可能となっている。すなわち、互いに直交する任意の３つの軸のいずれの軸周りにも回転可能となっている。但し、第３の軸Ａｘ３周りの回転はターゲット２７の出力方向にほぼ影響がないので、第３の軸Ａｘ３周りの回転は抑制されてもよい。載置台７０は、少なくとも第１及び第２の軸Ａｘ１及びＡｘ２（図３参照）に対して回転可能に支持される。
【0045】
３．１．２ 第１のチルト支持部７１及び第１の調整器７５
図６は、第１のチルト支持部７１と、第１の調整器７５の一部と、の側面図である。図６は、図４の囲み線ＶＩ付近の構成を、第１の調整器７５によって第１のボール７１１が第１の方向Ｄ１に移動するときの第１のボール７１１の回転軸Ｒ１と平行な方向に見たものに相当する。すなわち、図６における視線の方向は、第１の方向Ｄ１に垂直である。図７は、図６のＶＩＩ－ＶＩＩ線における断面図である。図７は、後述の溝７１８の方向に垂直な断面に相当する。
図６は、第１のチルト支持部７１と、第１の調整器７５の一部と、の側面図である。図６は、図４の囲み線ＶＩ付近の構成を、第１の調整器７５によって第１のボール７１１が第１の方向Ｄ１に移動するときの第１のボール７１１の回転軸Ｒ１と平行な方向に見たものに相当する。すなわち、図６における視線の方向は、第１の方向Ｄ１に垂直である。図７は、図６のＶＩＩ－ＶＩＩ線における断面図である。図７は、後述の溝７１８の方向に垂直な断面に相当する。
【0046】
第１のチルト支持部７１は、第１のボール７１１と、第１のソケット７１２と、レール７１５と、移動部７１６と、傾斜部材７１９と、複数のソケット内転動体７１ａと、複数のリニアガイド転動体７１ｂ及び７１ｃと、を含む。第１のソケット７１２は、第１のボール７１１の一部をソケット内転動体７１ａと共に収容して第１のボール７１１を回転可能に支持する。ソケット内転動体７１ａは、第１のボール７１１と第１のソケット７１２との間で転がることでこれらの間の摩擦を軽減している。
【0047】
レール７１５は第１の方向Ｄ１に沿って配置され、Ｘ方向移動板８２（図４参照）に固定されている。移動部７１６は、第１のソケット７１２を支持した状態で、レール７１５に沿って移動する。レール７１５の上面と移動部７１６との間にはリニアガイド転動体７１ｂが配置され、レール７１５の側面と移動部７１６との間にはリニアガイド転動体７１ｃが配置されている。リニアガイド転動体７１ｂ及び７１ｃは、レール７１５と移動部７１６との間で第１の方向Ｄ１に転がることでこれらの間の摩擦を軽減している。レール７１５と移動部７１６との間で転がって移動部７１６の一端に達したリニアガイド転動体７１ｂ及び７１ｃは、移動部７１６の内部の循環路（図示せず）を通って移動部７１６の他端に戻される。
【0048】
傾斜部材７１９は、第１のボール７１１に当接する第１の当接面７１７を含む部材であって、載置台７０に固定されている。第１の方向Ｄ１は、第１の当接面７１７に垂直な方向及び平行な方向のいずれとも異なる方向である。第１の当接面７１７に非垂直な方向に第１のボール７１１が移動することで、第１のボール７１１が第１の当接面７１７で転がる。第１の当接面７１７に非平行な方向に第１のボール７１１が移動することで、第１の当接面７１７がＹ軸方向成分を含む移動方向に移動する。図３を参照しながら説明したように、載置台７０は第１、第２、及び第３のボール７１１、７２１、及び７３１の３点で支持されているので、第１の当接面７１７がＹ軸方向成分を含む移動方向に移動することで、載置台７０は第１の軸Ａｘ１周りに回転する。なお、第１の方向Ｄ１と第１の当接面７１７とが交差する角度θは、４５°未満であることが望ましい。
【0049】
第１の当接面７１７は、第１のボール７１１が転がるときの第１の当接面７１７に対する移動軌跡に沿った溝７１８を有することが望ましい。また、溝７１８に垂直な断面に沿った溝７１８の曲率半径は、第１のボール７１１の曲率半径より大きいことが望ましい。但し、溝７１８がなく第１の当接面７１７が平らな面であってもよい。
【0050】
第１の調整器７５は、Ｘ方向移動板８２に固定されると共に、調整棒７７を介して移動部７１６に接続されている。第１の調整器７５は、プロセッサ５（図１参照）によって制御される図示しないアクチュエータを含み、調整棒７７を第１の方向Ｄ１に進退させることで移動部７１６を移動させる。あるいは、第１の調整器７５はＸ方向移動板８２に固定された雌ネジと調整棒７７に固定された雄ネジとを含み、雌ネジに対して雄ネジを手動で回転させることで調整棒７７を進退させるように構成されてもよい。
【0051】
第１のボール７１１が第１の当接面７１７を押圧するときに、載置台７０は、第３の軸Ａｘ３周りの回転方向の力を受けないか、あるいはその力は小さいことが望ましい。第１のボール７１１と第１の当接面７１７との摩擦が０であると仮定した場合、第１のボール７１１は第１の当接面７１７に垂直な方向に載置台７０を押圧する。実際には摩擦は０ではなく、第１のボール７１１が移動する第１の方向Ｄ１の方向成分を含む摩擦力も、載置台７０を押圧する。そこで、第１の当接面７１７に垂直な方向と第１の方向Ｄ１との両方に平行な仮想の面Ｐ１であって第１のボール７１１を通る面Ｐ１に回転支持部７３を配置することで、載置台７０が第３の軸Ａｘ３周りに回転することを抑制し得る。面Ｐ１は第１のボール７１１の回転軸Ｒ１に垂直であるので、回転軸Ｒ１に垂直な仮想の面Ｐ１であって第１のボール７１１を通る面Ｐ１に回転支持部７３を配置することとしてもよい。
【0052】
３．１．３ 第２のチルト支持部７２及び第２の調整器７６
第２のボール７２１、第２のソケット７２２、第２の当接面７２７等を含む第２のチルト支持部７２、及び第２の調整器７６（図３参照）については、詳細の図示及び説明を省略する。第２のチルト支持部７２及び第２の調整器７６は、第１のチルト支持部７１及び第１の調整器７５とほぼ鏡像対称である点以外は第１のチルト支持部７１及び第１の調整器７５と同様である。第２の調整器７６によって第２のボール７２１が回転軸Ｒ２で回転しながら第２の方向Ｄ２に移動する。回転支持部７３は、第２の当接面７２７に垂直な方向と第２の方向Ｄ２との両方に平行な仮想の面Ｐ２であって第２のボール７２１を通る面Ｐ２に位置する。
第２のボール７２１、第２のソケット７２２、第２の当接面７２７等を含む第２のチルト支持部７２、及び第２の調整器７６（図３参照）については、詳細の図示及び説明を省略する。第２のチルト支持部７２及び第２の調整器７６は、第１のチルト支持部７１及び第１の調整器７５とほぼ鏡像対称である点以外は第１のチルト支持部７１及び第１の調整器７５と同様である。第２の調整器７６によって第２のボール７２１が回転軸Ｒ２で回転しながら第２の方向Ｄ２に移動する。回転支持部７３は、第２の当接面７２７に垂直な方向と第２の方向Ｄ２との両方に平行な仮想の面Ｐ２であって第２のボール７２１を通る面Ｐ２に位置する。
【0053】
３．１．４ ガイド機構７４
図８は、ガイド機構７４の断面図である。ガイド機構７４は、ガイド部材７４１と、バネ７４３と、押さえ部材７４４と、を含む。押さえ部材７４４はＸ方向移動板８２との距離が一定となるように固定されている。ガイド部材７４１は、棒状の部材であって、上端が押さえ部材７４４に固定され、下端がＸ方向移動板８２に固定され、上端と下端との間の一部が載置台７０に形成された切り欠き７４２に挿し込まれる。載置台７０の第３の軸Ａｘ３周りの回転はガイド部材７４１によって制限される。
図８は、ガイド機構７４の断面図である。ガイド機構７４は、ガイド部材７４１と、バネ７４３と、押さえ部材７４４と、を含む。押さえ部材７４４はＸ方向移動板８２との距離が一定となるように固定されている。ガイド部材７４１は、棒状の部材であって、上端が押さえ部材７４４に固定され、下端がＸ方向移動板８２に固定され、上端と下端との間の一部が載置台７０に形成された切り欠き７４２に挿し込まれる。載置台７０の第３の軸Ａｘ３周りの回転はガイド部材７４１によって制限される。
【0054】
バネ７４３は、載置台７０を下方に押し付けることで、第１のボール７１１及び第１の当接面７１７の一方を他方に対して押し付ける。バネ７４３はコイルバネであって、バネ７４３をガイド部材７４１が貫通するように配置することでバネ７４３の位置ずれが抑制される。バネ７４３は、押さえ部材７４４と載置台７０との間に圧縮コイルバネとして配置されてもよいし、載置台７０とＸ方向移動板８２との間に引っ張りコイルバネ（図示せず）として配置されてもよい。
【0055】
３．２ 動作
第１のチルト支持部７１を動作させることにより、載置台７０が第１の軸Ａｘ１周りに回転し、第２のチルト支持部７２を動作させることにより、載置台７０が第２の軸Ａｘ２周りに回転する。第１及び第２のチルト支持部７１及び７２の動作を組み合わせることにより、Ｙ軸に平行な軸周りの回転以外のあらゆる回転方向で載置台７０を回転させ、ターゲット供給装置２６を傾けることができる。例えば、第１及び第２のボール７１１及び７２１の一方を第３のボール７３１に近づく方向に移動させ、他方を第３のボール７３１から遠ざかる方向に移動させると、載置台７０はＺ軸に平行な軸周りに回転する。第１及び第２のボール７１１及び７２１の両方を第３のボール７３１に近づく方向に移動させ、あるいは両方を第３のボール７３１から遠ざかる方向に移動させると、載置台７０はＸ軸に平行な軸周りに回転する。
第１のチルト支持部７１を動作させることにより、載置台７０が第１の軸Ａｘ１周りに回転し、第２のチルト支持部７２を動作させることにより、載置台７０が第２の軸Ａｘ２周りに回転する。第１及び第２のチルト支持部７１及び７２の動作を組み合わせることにより、Ｙ軸に平行な軸周りの回転以外のあらゆる回転方向で載置台７０を回転させ、ターゲット供給装置２６を傾けることができる。例えば、第１及び第２のボール７１１及び７２１の一方を第３のボール７３１に近づく方向に移動させ、他方を第３のボール７３１から遠ざかる方向に移動させると、載置台７０はＺ軸に平行な軸周りに回転する。第１及び第２のボール７１１及び７２１の両方を第３のボール７３１に近づく方向に移動させ、あるいは両方を第３のボール７３１から遠ざかる方向に移動させると、載置台７０はＸ軸に平行な軸周りに回転する。
【0056】
３．３ 変形例
図９は、第１の実施形態の第１の変形例によるチルトステージ７の側面図である。図９においては、図４の構成に対して載置台７０以外のチルトステージ７の構成部材の上下が逆になっている。すなわち、第１のボール７１１は、第１の方向Ｄ１に移動できるように第１のソケット７１２及びレール７１５等を介して載置台７０に支持され、第１の当接面７１７は、Ｘ方向移動板８２に固定される。第３のボール７３１は、ロッド７３３を介してＸ方向移動板８２に固定され、第３のソケット７３２は載置台７０に固定されてもよい。
図９は、第１の実施形態の第１の変形例によるチルトステージ７の側面図である。図９においては、図４の構成に対して載置台７０以外のチルトステージ７の構成部材の上下が逆になっている。すなわち、第１のボール７１１は、第１の方向Ｄ１に移動できるように第１のソケット７１２及びレール７１５等を介して載置台７０に支持され、第１の当接面７１７は、Ｘ方向移動板８２に固定される。第３のボール７３１は、ロッド７３３を介してＸ方向移動板８２に固定され、第３のソケット７３２は載置台７０に固定されてもよい。
【0057】
図１０は、第１の実施形態の第２の変形例によるチルトステージ７の側面図である。図１０の構成は、図４の構成に対して、第１のボール７１１が第１のソケット７１２を介して載置台７０に固定され、第１の当接面７１７は、第１の方向Ｄ１に移動できるようにレール７１５を介してＸ方向移動板８２に支持される点で異なる。
【0058】
図１１は、第１の実施形態の第３の変形例によるチルトステージ７の側面図である。図１１においては、図１０の構成に対して載置台７０以外のチルトステージ７の構成部材の上下が逆になっている。すなわち、第１のボール７１１は、第１のソケット７１２を介してＸ方向移動板８２に固定され、第１の当接面７１７は、第１の方向Ｄ１に移動できるようにレール７１５を介して載置台７０に支持される。第３のボール７３１は、ロッド７３３を介してＸ方向移動板８２に固定され、第３のソケット７３２は載置台７０に固定されてもよい。
【0059】
３．４ 作用
（１）第１の実施形態においては、チルトステージ７は、載置台７０と、回転支持部７３と、第１及び第２のチルト支持部７１及び７２と、第１及び第２の調整器７５及び７６と、を備える。載置台７０には、ＥＵＶ光生成装置１のターゲット２７をチャンバ２内のプラズマ生成領域２５に供給するターゲット供給装置２６が載置される。回転支持部７３は、載置台７０を少なくとも第１及び第２の軸Ａｘ１及びＡｘ２に対して回転可能に支持する。第１のチルト支持部７１は、第１のボール７１１と第１のボール７１１に当接する第１の当接面７１７とを含み、載置台７０を支持する。第１の調整器７５は、第１のボール７１１が第１の当接面７１７で転がるように、第１のボール７１１及び第１の当接面７１７のいずれかを第１の当接面７１７に垂直な方向及び平行な方向のいずれとも異なる第１の方向Ｄ１に移動させることで、ターゲット供給装置２６の姿勢を調整する。第２のチルト支持部７２は、第２のボール７２１と第２のボール７２１に当接する第２の当接面７２７とを含み、載置台７０を支持する。第２の調整器７６は、第２のボール７２１が第２の当接面７２７で転がるように、第２のボール７２１及び第２の当接面７２７のいずれかを第２の当接面７２７に垂直な方向及び平行な方向のいずれとも異なる第２の方向Ｄ２に移動させることで、ターゲット供給装置２６の姿勢を調整する。
（１）第１の実施形態においては、チルトステージ７は、載置台７０と、回転支持部７３と、第１及び第２のチルト支持部７１及び７２と、第１及び第２の調整器７５及び７６と、を備える。載置台７０には、ＥＵＶ光生成装置１のターゲット２７をチャンバ２内のプラズマ生成領域２５に供給するターゲット供給装置２６が載置される。回転支持部７３は、載置台７０を少なくとも第１及び第２の軸Ａｘ１及びＡｘ２に対して回転可能に支持する。第１のチルト支持部７１は、第１のボール７１１と第１のボール７１１に当接する第１の当接面７１７とを含み、載置台７０を支持する。第１の調整器７５は、第１のボール７１１が第１の当接面７１７で転がるように、第１のボール７１１及び第１の当接面７１７のいずれかを第１の当接面７１７に垂直な方向及び平行な方向のいずれとも異なる第１の方向Ｄ１に移動させることで、ターゲット供給装置２６の姿勢を調整する。第２のチルト支持部７２は、第２のボール７２１と第２のボール７２１に当接する第２の当接面７２７とを含み、載置台７０を支持する。第２の調整器７６は、第２のボール７２１が第２の当接面７２７で転がるように、第２のボール７２１及び第２の当接面７２７のいずれかを第２の当接面７２７に垂直な方向及び平行な方向のいずれとも異なる第２の方向Ｄ２に移動させることで、ターゲット供給装置２６の姿勢を調整する。
【0060】
これによれば、第１及び第２の当接面７１７及び７２７における第１及び第２のボール７１１及び７２１の転がりによってターゲット供給装置２６の姿勢を調整することで、第１及び第２のチルト支持部７１及び７２における摩擦を低減し、接触面における焼き付きを抑制し得る。ターゲット２７の軌道Ｔのずれが位置ステージ８の調整範囲を超える場合であっても、ターゲット供給装置２６を傾けてターゲット２７の出力方向を変更することにより、軌道Ｔのずれを軽減し得る。また、第１及び第２のチルト支持部７１及び７２と回転支持部７３とを用いた簡易な構成でチルトステージ７を構成でき、載置台７０とチャンバ２との間の設置スペースを大幅に拡大しなくてもターゲット２７の出力方向を変更し得る。
【0061】
（２）第１の実施形態においては、第１のボール７１１の一部がチャンバ２及び載置台７０のうちの一方に第１の方向Ｄ１に移動可能に支持された第１のソケット７１２に複数のソケット内転動体７１ａと共に収容されて、第１のボール７１１が回転可能に支持され、第１の当接面７１７は、チャンバ２及び載置台７０のうちの他方に固定される。
【0062】
これによれば、第１の方向Ｄ１に移動可能に支持された第１のソケット７１２に第１のボール７１１の一部が収容され、第１の当接面７１７が固定されることで、第１のボール７１１が第１の当接面７１７で転がることを簡易な構成で実現し得る。また、第１のボール７１１と第１のソケット７１２との摩擦をソケット内転動体７１ａによって低減できる。
【0063】
（３）第１の実施形態においては、第１のチルト支持部７１は、第１の方向Ｄ１に配置されたレール７１５と、第１のソケット７１２を支持してレール７１５に沿って移動する移動部７１６と、レール７１５と移動部７１６との間に配置された複数のリニアガイド転動体７１ｂ及び７１ｃと、をさらに含む。
【0064】
これによれば、第１のソケット７１２を第１の方向Ｄ１に移動可能に支持することを簡易な構成で実現し得る。また、レール７１５と移動部７１６との摩擦をリニアガイド転動体７１ｂ及び７１ｃによって低減できる。
【0065】
（４）第１の実施形態においては、第１のボール７１１の一部がチャンバ２及び載置台７０のうちの一方に固定された第１のソケット７１２に複数のソケット内転動体７１ａと共に収容されて、第１のボール７１１が回転可能に支持され、第１の当接面７１７は、チャンバ２及び載置台７０のうちの他方に第１の方向Ｄ１に移動可能に支持される。
【0066】
これによれば、固定された第１のソケット７１２に第１のボール７１１の一部が収容され、第１の当接面７１７が第１の方向Ｄ１に移動可能に支持されることで、第１のボール７１１が第１の当接面７１７で転がることを簡易な構成で実現し得る。また、第１のボール７１１と第１のソケット７１２との摩擦をソケット内転動体７１ａによって低減できる。
【0067】
（５）第１の実施形態においては、第１のチルト支持部７１は、第１の方向Ｄ１に配置されたレール７１５と、第１の当接面７１７を支持してレール７１５に沿って移動する移動部７１６と、レール７１５と移動部７１６との間に配置された複数のリニアガイド転動体７１ｂ及び７１ｃと、をさらに含む。
【0068】
これによれば、第１の当接面７１７を第１の方向Ｄ１に移動可能に支持することを簡易な構成で実現し得る。また、レール７１５と移動部７１６との摩擦をリニアガイド転動体７１ｂ及び７１ｃによって低減できる。
【0069】
（６）第１の実施形態においては、第２のボール７２１の一部がチャンバ２及び載置台７０のうちの一方に支持された第２のソケット７２２に複数のソケット内転動体（図示せず）と共に収容されて、第２のボール７２１が回転可能に支持され、第２の当接面７２７は、チャンバ２及び載置台７０のうちの他方に支持される。
【0070】
これによれば、第２のボール７２１と第２のソケット７２２との摩擦をソケット内転動体によって低減できる。
【0071】
（７）第１の実施形態においては、第１の当接面７１７と第１の方向Ｄ１とが４５°未満の角度θで交差する。
【0072】
これによれば、第１のボール７１１及び第１の当接面７１７のいずれかを第１の方向Ｄ１に移動させる力が、第１のボール７１１及び第１の当接面７１７を互いに押し付ける力より小さくても、第１のチルト支持部７１を駆動してターゲット供給装置２６の姿勢を調整し得る。
【0073】
（８）第１の実施形態においては、第１の当接面７１７は、第１の調整器７５によって第１のボール７１１及び第１の当接面７１７のいずれかを移動させるときの第１のボール７１１の第１の当接面７１７に対する移動軌跡に沿った溝７１８を有する。
【0074】
これによれば、溝７１８を設けることで第１のボール７１１と第１の当接面７１７との接触面にかかる圧力を低減し、接触面の変形を抑制し得る。また、溝７１８に第１のボール７１１が留まりやすくなり、第１及び第２の軸Ａｘ１及びＡｘ２と交差する第３の軸Ａｘ３周りの載置台７０の回転が抑制され得る。
【0075】
（９）第１の実施形態においては、溝７１８に垂直なＶＩＩ－ＶＩＩ線における断面に沿った溝７１８の曲率半径は、第１のボール７１１の曲率半径より大きい。
【0076】
これによれば、第１のボール７１１の曲率半径よりも溝７１８の曲率半径を大きくすることで、第１のボール７１１と第１の当接面７１７との間ですべり摩擦が発生することを抑制し得る。
【0077】
（１０）第１の実施形態においては、回転支持部７３は、第１の当接面７１７に垂直な方向と第１の方向Ｄ１との両方に平行な面Ｐ１であって第１のボール７１１を通る面Ｐ１に位置する。
【0078】
これによれば、第１の当接面７１７に垂直な方向と第１の方向Ｄ１との両方に平行な面Ｐ１に回転支持部７３を配置することで、載置台７０の第３の軸Ａｘ３周りの回転が抑制され得る。
【0079】
（１１）第１の実施形態においては、回転支持部７３は、第１の調整器７５によって第１のボール７１１及び第１の当接面７１７のいずれかを移動させるときの第１のボール７１１の回転軸Ｒ１に垂直な面Ｐ１であって第１のボール７１１を通る面Ｐ１に位置する。
【0080】
これによれば、第１のボール７１１の回転軸Ｒ１に垂直な面Ｐ１に回転支持部７３を配置することで、載置台７０の第３の軸Ａｘ３周りの回転が抑制され得る。
【0081】
（１２）第１の実施形態においては、回転支持部７３は、チャンバ２及び載置台７０のうちの一方に固定された第３のボール７３１と、チャンバ２及び載置台７０のうちの他方に固定され第３のボール７３１の一部を複数のソケット内転動体７３ａと共に収容して第３のボール７３１を回転可能に支持する第３のソケット７３２と、を含む球面軸受で構成される。
【0082】
これによれば、第３のソケット７３２に第３のボール７３１の一部が収容されることで、載置台７０を少なくとも第１及び第２の軸Ａｘ１及びＡｘ２に対して回転可能に支持することを簡易な構成で実現し得る。また、第３のボール７３１と第３のソケット７３２との摩擦をソケット内転動体７３ａによって低減できる。
【0083】
（１３）第１の実施形態においては、第１、第２、及び第３のボール７１１、７２１、及び７３１の中心を頂点とする三角形をターゲット供給装置２６の一部が貫通するように第１、第２、及び第３のボール７１１、７２１、及び７３１が配置される。
【0084】
これによれば、第１及び第２のチルト支持部７１及び７２と回転支持部７３とを配置する際にターゲット供給装置２６の設置スペースと干渉することを抑制し得る。また、ターゲット供給装置２６の重量を、ターゲット供給装置２６の周囲の３点でバランスよく支持し得る。
【0085】
（１４）第１の実施形態においては、チルトステージ７は、第１及び第２の軸Ａｘ１及びＡｘ２の両方と交差する第３の軸Ａｘ３に対する載置台７０の回転を制限するガイド部材７４１を備える。
【0086】
これによれば、チルトステージ７の調整時だけでなく、搬送時にも、載置台７０の第３の軸Ａｘ３周りの回転を抑制し得る。
【0087】
（１５）第１の実施形態においては、チルトステージ７は、第１のボール７１１及び第１の当接面７１７の一方を他方に対して押し付けるバネ７４３を備える。
【0088】
これによれば、チルトステージ７の搬送時などに、載置台７０のがたつきを抑制し、載置台７０を安定的に保持し得る。
【0089】
（１６）第１の実施形態においては、ＥＵＶ光生成装置１は、チャンバ２と、ターゲット２７をチャンバ２内のプラズマ生成領域２５に供給するターゲット供給装置２６と、チルトステージ７と、を含む。
【0090】
これによれば、ＥＵＶ光生成装置１のターゲット供給装置２６を傾けることでターゲット２７の軌道Ｔを変えることができる。また、上述のチルトステージ７はコンパクトな構造で大きな荷重にも耐えることができる。
【0091】
他の点については、第１の実施形態は比較例と同様である。
【0092】
４．チルトステージ７と位置ステージ８とを使い分けるＥＵＶ光生成装置１
４．１ 動作
図１２は、第２の実施形態においてターゲット軌道調整を行う動作を示すフローチャートである。第２の実施形態に係るＥＵＶ光生成装置１の物理的な構成は、第１の実施形態の構成と同様である。
４．１ 動作
図１２は、第２の実施形態においてターゲット軌道調整を行う動作を示すフローチャートである。第２の実施形態に係るＥＵＶ光生成装置１の物理的な構成は、第１の実施形態の構成と同様である。
【0093】
Ｓ１において、プロセッサ５は、ターゲットセンサ４がターゲット２７を検出できたか否かを判定する。ターゲット２７を検出できた場合（Ｓ１：ＹＥＳ）、プロセッサ５はＳ３に処理を進める。ターゲット２７を検出できない場合（Ｓ１：ＮＯ）、プロセッサ５はＳ２に処理を進める。
【0094】
Ｓ２において、プロセッサ５は、チルトステージ７を制御してターゲット２７の出力方向を変更し、その後Ｓ１に処理を戻す。
【0095】
図１３は、図１２のＳ１及びＳ２におけるターゲット供給装置２６の姿勢とターゲット２７の軌道ＴＳ１及びＴＳ２とを示す。Ｓ１においてターゲット２７の軌道ＴＳ１がターゲットセンサ４によって検出可能な空間Ｖｘｚを通らない場合に、Ｓ２においてプロセッサ５はターゲット供給装置２６の姿勢を矢印ＳＳ２方向に変更することによりターゲット２７の出力方向を変更する。その結果、ターゲット２７の軌道ＴＳ２が空間Ｖｘｚを通るようになった場合は、Ｓ３に処理を進める。ここで、Ｓ２の処理はターゲット２７の軌道ＴＳ２が空間Ｖｘｚのどこかを通るようにターゲット供給装置２６の姿勢を制御することを目的としており、ターゲット２７の軌道ＴＳ２が空間Ｖｘｚの中の最適位置を通るようにすることは目的としない。このようにチルトステージ７の制御はターゲット２７の軌道Ｔの粗調整を担う。
【0096】
図１２を再び参照し、Ｓ３において、プロセッサ５は、ターゲット２７がプラズマ生成領域２５を通過しているか否かを判定する。ターゲット２７がプラズマ生成領域２５を通過している場合（Ｓ３：ＹＥＳ）、プロセッサ５は本フローチャートの処理を終了する。ターゲット２７がプラズマ生成領域２５を通過していない場合（Ｓ３：ＮＯ）、プロセッサ５はＳ４に処理を進める。
【0097】
Ｓ４において、プロセッサ５は、ターゲットセンサ４の検出結果に基づいて位置ステージ８を制御し、その後Ｓ３に処理を戻す。
【0098】
図１４は、図１２のＳ３及びＳ４におけるターゲット供給装置２６の位置とターゲット２７の軌道ＴＳ２及びＴＳ４とを示す。Ｓ３においてターゲット２７の軌道ＴＳ２が空間Ｖｘｚを通るが、空間Ｖｘｚ内の最適位置を通らない場合に、Ｓ４においてプロセッサ５はターゲット供給装置２６の位置を矢印ＳＳ４方向に変更することによりターゲット２７の軌道ＴＳ２を軌道ＴＳ４に平行移動する。その結果、ターゲット２７の軌道ＴＳ４が空間Ｖｘｚ内の最適位置を通るようになった場合は、ターゲット２７がプラズマ生成領域２５を通るものと判断し、図１２のフローチャートの処理を終了する。空間Ｖｘｚ内の最適位置は、ターゲット２７の出力方向によっても異なるが、例えばＸ方向から見てもＺ方向から見ても空間Ｖｘｚの中心となる位置が最適位置である。このように位置ステージ８の制御はターゲット２７の軌道Ｔの微調整を担う。
【0099】
４．２ 作用
（１７）第２の実施形態においては、ＥＵＶ光生成装置１は、ターゲット供給装置２６の位置を調整する位置ステージ８と、ターゲット２７の軌道Ｔを検出するターゲットセンサ４と、ターゲットセンサ４の検出結果に基づいてチルトステージ７を制御することによりターゲット２７の軌道Ｔの粗調整を行い、検出結果に基づいて位置ステージ８を制御することによりターゲット２７の軌道Ｔの微調整を行うプロセッサ５と、を備える。
（１７）第２の実施形態においては、ＥＵＶ光生成装置１は、ターゲット供給装置２６の位置を調整する位置ステージ８と、ターゲット２７の軌道Ｔを検出するターゲットセンサ４と、ターゲットセンサ４の検出結果に基づいてチルトステージ７を制御することによりターゲット２７の軌道Ｔの粗調整を行い、検出結果に基づいて位置ステージ８を制御することによりターゲット２７の軌道Ｔの微調整を行うプロセッサ５と、を備える。
【0100】
これによれば、チルトステージ７は粗調整を行うので、ターゲット２７の軌道Ｔを例えばμｍ単位で精緻に制御可能とするような構成でなくてもよい。従って、チルトステージ７の構成を複雑化する必要性を軽減できる。
【0101】
（１８）第２の実施形態においては、ＥＵＶ光生成装置１は、ターゲット供給装置２６の位置を調整する位置ステージ８と、ターゲット２７の軌道Ｔを検出するターゲットセンサ４と、ターゲットセンサ４がターゲット２７の軌道Ｔを検出できない場合にチルトステージ７を制御し、ターゲットセンサ４がターゲット２７の軌道Ｔを検出できた場合に位置ステージ８を制御するプロセッサ５と、を備える。
【0102】
これによれば、ターゲットセンサ４がターゲット２７の軌道Ｔを検出できなくなった場合でも検出が可能となるようにチルトステージ７によって軌道Ｔを変えることができ、検出が可能となった場合には位置ステージ８によって軌道Ｔを理想的な位置に制御し得る。
【0103】
他の点については、第２の実施形態は第１の実施形態と同様である。
【0104】
【0105】
図１５において、ＥＵＶ光利用装置６（図１参照）としての露光装置６ａは、マスク照射部６０８とワークピース照射部６０９とを含む。マスク照射部６０８は、ＥＵＶ光生成システム１１から入射したＥＵＶ光によって、反射光学系を介してマスクテーブルＭＴのマスクパターンを照明する。ワークピース照射部６０９は、マスクテーブルＭＴによって反射されたＥＵＶ光を、反射光学系を介してワークピーステーブルＷＴ上に配置された図示しないワークピース上に結像させる。ワークピースはフォトレジストが塗布された半導体ウエハ等の感光基板である。露光装置６ａは、マスクテーブルＭＴとワークピーステーブルＷＴとを同期して平行移動させることにより、マスクパターンを反映したＥＵＶ光をワークピースに露光する。以上のような露光工程によって半導体ウエハにデバイスパターンを転写することで電子デバイスを製造できる。
【0106】
図１６は、ＥＵＶ光生成システム１１に接続された検査装置６ｂの構成を概略的に示す。
【0107】
図１６において、ＥＵＶ光利用装置６（図１参照）としての検査装置６ｂは、照明光学系６０３と検出光学系６０６とを含む。照明光学系６０３は、ＥＵＶ光生成システム１１から入射したＥＵＶ光を反射して、マスクステージ６０４に配置されたマスク６０５を照射する。ここでいうマスク６０５はパターンが形成される前のマスクブランクスを含む。検出光学系６０６は、照明されたマスク６０５からのＥＵＶ光を反射して検出器６０７の受光面に結像させる。ＥＵＶ光を受光した検出器６０７はマスク６０５の画像を取得する。検出器６０７は例えばＴＤＩ（time delay integration）カメラである。以上のような工程によって取得したマスク６０５の画像により、マスク６０５の欠陥を検査し、検査の結果を用いて、電子デバイスの製造に適するマスクを選定する。そして、選定したマスクに形成されたパターンを、露光装置６ａを用いて感光基板上に露光転写することで電子デバイスを製造できる。
【0108】
５．２ 補足
上記の説明は、制限ではなく単なる例示を意図している。従って、特許請求の範囲を逸脱することなく本開示の実施形態に変更を加えることができることは、当業者には明らかである。また、本開示の実施形態を組み合わせて使用することも当業者には明らかである。
上記の説明は、制限ではなく単なる例示を意図している。従って、特許請求の範囲を逸脱することなく本開示の実施形態に変更を加えることができることは、当業者には明らかである。また、本開示の実施形態を組み合わせて使用することも当業者には明らかである。
【0109】
本明細書及び特許請求の範囲全体で使用される用語は、明記が無い限り「限定的でない」用語と解釈されるべきである。たとえば、「含む」、「有する」、「備える」、「具備する」などの用語は、「記載されたもの以外の構成要素の存在を除外しない」と解釈されるべきである。また、修飾語「１つの」は、「少なくとも１つ」又は「１又はそれ以上」を意味すると解釈されるべきである。また、「Ａ、Ｂ及びＣの少なくとも１つ」という用語は、「Ａ」「Ｂ」「Ｃ」「Ａ＋Ｂ」「Ａ＋Ｃ」「Ｂ＋Ｃ」又は「Ａ＋Ｂ＋Ｃ」と解釈されるべきであり、さらに、それらと「Ａ」「Ｂ」「Ｃ」以外のものとの組み合わせも含むと解釈されるべきである。
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13】
【図14】
【図15】
【図16】