ホーム > 特許ランキング > 富士フイルム株式会社
知財求人 - 知財ポータルサイト「IP Force」
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024107027
(43)【公開日】2024-08-08
(54)【発明の名称】積層体、光学装置および表示装置
(51)【国際特許分類】
G02B 5/30 20060101AFI20240801BHJP
G02F 1/1335 20060101ALI20240801BHJP
G09F 9/00 20060101ALI20240801BHJP
G09F 9/30 20060101ALI20240801BHJP
B32B 7/023 20190101ALI20240801BHJP
B32B 27/00 20060101ALI20240801BHJP
【ＦＩ】
G02B5/30
G02F1/1335 510
G09F9/00 313
G09F9/30 308A
B32B7/023
B32B27/00 B
【審査請求】有
【請求項の数】17
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2024083823
(22)【出願日】2024-05-23
(62)【分割の表示】P 2021562551の分割
【原出願日】2020-11-17
(31)【優先権主張番号】P 2019218273
(32)【優先日】2019-12-02
(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP
(31)【優先権主張番号】P 2019236920
(32)【優先日】2019-12-26
(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP
(31)【優先権主張番号】P 2020092501
(32)【優先日】2020-05-27
(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP
(31)【優先権主張番号】P 2020149976
(32)【優先日】2020-09-07
(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP
(31)【優先権主張番号】P 2020174814
(32)【優先日】2020-10-16
(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP
(71)【出願人】
【識別番号】306037311
【氏名又は名称】富士フイルム株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100152984
【弁理士】
【氏名又は名称】伊東 秀明
(74)【代理人】
【識別番号】100148080
【弁理士】
【氏名又は名称】三橋 史生
(72)【発明者】
【氏名】柴田 直也
(72)【発明者】
【氏名】桑山 靖和
(72)【発明者】
【氏名】小糸 直希
(72)【発明者】
【氏名】加藤 由実
(72)【発明者】
【氏名】三戸部 史岳
(72)【発明者】
【氏名】山田 直良
(57)【要約】
【課題】本発明は、複数の方向に同時に延伸された場合においても偏光度の低下が抑制された、光吸収異方性層を含む積層体およびそれを用いた光学装置および表示装置を提供することを課題とする。
【解決手段】本発明の積層体は、少なくとも、樹脂基材と、光吸収異方性層を有する積層体であって、樹脂基材のｔａｎδのピーク温度が１７０℃以下であり、光吸収異方性層が液晶性化合物および二色性物質を含有し、二色性物質の配向度が０．９５以上である、積層体である。
【選択図】なし
【解決手段】本発明の積層体は、少なくとも、樹脂基材と、光吸収異方性層を有する積層体であって、樹脂基材のｔａｎδのピーク温度が１７０℃以下であり、光吸収異方性層が液晶性化合物および二色性物質を含有し、二色性物質の配向度が０．９５以上である、積層体である。
【選択図】なし
【特許請求の範囲】
【請求項1】
少なくとも、樹脂基材と、光吸収異方性層を有する積層体であって、
前記樹脂基材のｔａｎδのピーク温度が１７０℃以下であり、
前記光吸収異方性層が液晶性化合物および二色性物質を含有し、二色性物質の配向度が０．９５以上である、積層体。
前記樹脂基材のｔａｎδのピーク温度が１７０℃以下であり、
前記光吸収異方性層が液晶性化合物および二色性物質を含有し、二色性物質の配向度が０．９５以上である、積層体。
【請求項2】
前記樹脂基材のｔａｎδのピーク温度が１３０℃以下である、請求項１に記載の積層体。
【請求項3】
前記樹脂基材のｔａｎδのピーク温度における貯蔵弾性率が１００ｋＰａ以下である、請求項１または２に記載の積層体。
【請求項4】
前記樹脂基材、接着剤層、および、前記光吸収異方性層がこの順に配置された、請求項１～３のいずれか１項に記載の積層体。
【請求項5】
前記接着剤層が、紫外線硬化型接着剤層である、請求項４に記載の積層体。
【請求項6】
前記接着剤層が、少なくとも（メタ）アクリレート化合物を含む接着剤層である、請求項５に記載の積層体。
【請求項7】
更に、配向層を有する、請求項１～６のいずれか１項に記載の積層体。
【請求項8】
前記配向層が、ラジカル重合性化合物を含有する組成物から形成された層である、請求項７に記載の積層体。
【請求項9】
前記樹脂基材、接着剤層、前記光吸収異方性層、および、配向層がこの順に配置された、請求項１～８のいずれか１項に記載の積層体。
【請求項10】
前記接着剤層が、紫外線硬化型接着剤層である、請求項９に記載の積層体。
【請求項11】
前記接着剤層が、少なくとも（メタ）アクリレート化合物を含む接着剤層である、請求項１０に記載の積層体。
【請求項12】
前記光吸収異方性層が、高分子液晶性化合物を有する組成物から形成される、請求項１～１１のいずれか１項に記載の積層体。
【請求項13】
前記光吸収異方性層を形成する組成物の固形分重量に対しラジカル重合性基のモル含有率が、０．６ｍｍｏｌ／ｇ以上である、請求項１～１２のいずれか１項に記載の積層体。
【請求項14】
曲面を有する、請求項１～１３のいずれか１項に記載の積層体。
【請求項15】
曲面を有する光学装置であって、
請求項１４に記載の積層体が、前記曲面に沿うように配置された、光学装置。
請求項１４に記載の積層体が、前記曲面に沿うように配置された、光学装置。
【請求項16】
曲面を有する複数の部材を有する表示装置であって、
請求項１４に記載の積層体が、前記曲面を有する部材のうち、最も視認側に存在する部材の曲面の更に視認側に沿うように配置された、表示装置。
請求項１４に記載の積層体が、前記曲面を有する部材のうち、最も視認側に存在する部材の曲面の更に視認側に沿うように配置された、表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、積層体、光学装置および表示装置に関する。
【背景技術】
【0002】
偏光子は、反射防止、迷光抑止などの観点から、様々な光学装置で用いられているが、使用される各部材に対して、意匠性向上や設計のし易さのため曲面等形状の自由度が求められている。
従来、偏光子にはヨウ素偏光子が使用されていることが多い。ヨウ素偏光子は、ヨウ素を溶解し、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）のような高分子材料膜に吸着させ、一方向に高倍率に延伸することで作製されており、十分な薄型化が困難であった。また、特許文献１に記載のように、延伸されたＰＶＡは熱経時での形状変化を生じやすく、曲面形状で用いることも困難であった。
従来、偏光子にはヨウ素偏光子が使用されていることが多い。ヨウ素偏光子は、ヨウ素を溶解し、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）のような高分子材料膜に吸着させ、一方向に高倍率に延伸することで作製されており、十分な薄型化が困難であった。また、特許文献１に記載のように、延伸されたＰＶＡは熱経時での形状変化を生じやすく、曲面形状で用いることも困難であった。
【0003】
近年、ヨウ素偏光子に対して、透明フィルムなどの基板上に液晶性化合物や二色性アゾ色素を塗布し、分子間相互作用などを利用して二色性アゾ色素配向させた偏光素子が検討されている。例えば、特許文献１には、湾曲部を有する偏光板に用いる偏光子として、第１の面および第２の面を有する、厚みが１５μｍ以下の偏光子が記載されており（［請求項１］）、また、このような偏光子として、液晶化合物の硬化物および二色性色素を含み、二色性色素が分散して配向された偏光層を含む偏光子が記載されている（［請求項４］）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【特許文献1】特開２０１９－１９４６８５号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
ところで、車載ディスプレイやレンズ等の曲面に対して液晶配向を利用した偏光子を使用するためには、偏光フィルムを曲面に沿う形状に成形する必要がある。また、このような成形を施すと、複数方向への引っ張り応力が発生することになる。
本発明者らは、配向軸の方向に対する延伸では、偏光度が低下しないのに対し、配向軸の方向と異なる方向に対する延伸では、偏光度が低下することを明らかとし、２軸方向に同時に延伸した場合には、配向が乱れて偏光度がさらに大きく低下することを明らかとした。
本発明者らは、配向軸の方向に対する延伸では、偏光度が低下しないのに対し、配向軸の方向と異なる方向に対する延伸では、偏光度が低下することを明らかとし、２軸方向に同時に延伸した場合には、配向が乱れて偏光度がさらに大きく低下することを明らかとした。
【0006】
そこで、本発明は、配向軸の方向と異なる方向や、複数の方向に同時に延伸された場合においても、偏光度の低下が抑制された、光吸収異方性層を含む積層体およびそれを用いた光学装置および表示装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【0007】
本発明者らは、上記課題を達成すべく鋭意検討した結果、特定の樹脂基材と、二色性物質の配向度が所定の値以上となる光吸収異方性層とを有する積層体を用いると、複数の方向に同時に延伸された場合においても偏光度の低下が抑制された吸収型偏光フィルムが実現できることを見出し、本発明を完成させた。
すなわち、以下の構成により上記課題を達成することができることを見出した。
すなわち、以下の構成により上記課題を達成することができることを見出した。
【0008】
［１］ 少なくとも、樹脂基材と、光吸収異方性層を有する積層体であって、
樹脂基材のｔａｎδのピーク温度が１７０℃以下であり、
光吸収異方性層が液晶性化合物および二色性物質を含有し、二色性物質の配向度が０．９５以上である、積層体。
［２］ 樹脂基材のｔａｎδのピーク温度が１３０℃以下である、［１］に記載の積層体。
［３］ 樹脂基材のｔａｎδのピーク温度における貯蔵弾性率が１００ｋＰａ以下である、［１］または［２］に記載の積層体。
［４］ 樹脂基材、接着剤層、および、光吸収異方性層がこの順に配置された、［１］～［３］のいずれかに記載の積層体。
［５］ 接着剤層が、紫外線硬化型接着剤層である、［４］に記載の積層体。
［６］ 接着剤層が、少なくとも（メタ）アクリレート化合物を含む接着剤層である、［５］に記載の積層体。
［７］ 更に、配向層を有する、［１］～［６］のいずれかに記載の積層体。
［８］ 配向層が、ラジカル重合性化合物を含有する組成物から形成された層である、［７］に記載の積層体。
［９］ 樹脂基材、接着剤層、光吸収異方性層、および、配向層がこの順に配置された、［１］～［８］のいずれかに記載の積層体。
［１０］ 接着剤層が、紫外線硬化型接着剤層である、［９］に記載の積層体。
［１１］ 接着剤層が、少なくとも（メタ）アクリレート化合物を含む接着剤層である、［１０］に記載の積層体。
［１２］ 光吸収異方性層が、高分子液晶性化合物を有する組成物から形成される、［１］～［１１］のいずれかに記載の積層体。
［１３］ 光吸収異方性層を形成する組成物の固形分重量に対しラジカル重合性基のモル含有率が、０．６ｍｍｏｌ／ｇ以上である、［１］～［１２］のいずれかに記載の積層体。
［１４］ 曲面を有する、［１］～［１３］のいずれかに記載の積層体。
［１５］ 曲面を有する光学装置であって、［１４］に記載の積層体が、曲面に沿うように配置された、光学装置。
［１６］ 曲面を有する複数の部材を有する表示装置であって、［１４］に記載の積層体が、曲面を有する部材のうち、最も視認側に存在する部材の曲面の更に視認側に沿うように配置された、表示装置。
樹脂基材のｔａｎδのピーク温度が１７０℃以下であり、
光吸収異方性層が液晶性化合物および二色性物質を含有し、二色性物質の配向度が０．９５以上である、積層体。
［２］ 樹脂基材のｔａｎδのピーク温度が１３０℃以下である、［１］に記載の積層体。
［３］ 樹脂基材のｔａｎδのピーク温度における貯蔵弾性率が１００ｋＰａ以下である、［１］または［２］に記載の積層体。
［４］ 樹脂基材、接着剤層、および、光吸収異方性層がこの順に配置された、［１］～［３］のいずれかに記載の積層体。
［５］ 接着剤層が、紫外線硬化型接着剤層である、［４］に記載の積層体。
［６］ 接着剤層が、少なくとも（メタ）アクリレート化合物を含む接着剤層である、［５］に記載の積層体。
［７］ 更に、配向層を有する、［１］～［６］のいずれかに記載の積層体。
［８］ 配向層が、ラジカル重合性化合物を含有する組成物から形成された層である、［７］に記載の積層体。
［９］ 樹脂基材、接着剤層、光吸収異方性層、および、配向層がこの順に配置された、［１］～［８］のいずれかに記載の積層体。
［１０］ 接着剤層が、紫外線硬化型接着剤層である、［９］に記載の積層体。
［１１］ 接着剤層が、少なくとも（メタ）アクリレート化合物を含む接着剤層である、［１０］に記載の積層体。
［１２］ 光吸収異方性層が、高分子液晶性化合物を有する組成物から形成される、［１］～［１１］のいずれかに記載の積層体。
［１３］ 光吸収異方性層を形成する組成物の固形分重量に対しラジカル重合性基のモル含有率が、０．６ｍｍｏｌ／ｇ以上である、［１］～［１２］のいずれかに記載の積層体。
［１４］ 曲面を有する、［１］～［１３］のいずれかに記載の積層体。
［１５］ 曲面を有する光学装置であって、［１４］に記載の積層体が、曲面に沿うように配置された、光学装置。
［１６］ 曲面を有する複数の部材を有する表示装置であって、［１４］に記載の積層体が、曲面を有する部材のうち、最も視認側に存在する部材の曲面の更に視認側に沿うように配置された、表示装置。
【発明の効果】
【0009】
本発明によれば、配向軸の方向と異なる方向や、複数の方向に同時に延伸された場合においても、偏光度の低下が抑制された、積層体およびそれを用いた光学装置や表示装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【0010】
【発明を実施するための形態】
【0011】
以下、本発明について詳細に説明する。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。
なお、本明細書において、「～」を用いて表される数値範囲は、「～」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
また、本明細書において、平行、直交、水平、および、垂直とは、それぞれ厳密な意味での平行、直交、水平、および、垂直を意味するのではなく、それぞれ、平行±１０°の範囲、直交±１０°の範囲、水平±１０°、および、垂直±１０°の範囲を意味する。
また、本明細書において、各成分は、各成分に該当する物質を１種単独でも用いても、２種以上を併用してもよい。ここで、各成分について２種以上の物質を併用する場合、その成分についての含有量とは、特段の断りが無い限り、併用した物質の合計の含有量を指す。
また、本明細書において、「（メタ）アクリレート」は、「アクリレート」または「メタクリレート」を表す表記であり、「（メタ）アクリル」は、「アクリル」または「メタクリル」を表す表記であり、「（メタ）アクリロイル」は、「アクリロイル」または「メタクリロイル」を表す表記である。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。
なお、本明細書において、「～」を用いて表される数値範囲は、「～」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
また、本明細書において、平行、直交、水平、および、垂直とは、それぞれ厳密な意味での平行、直交、水平、および、垂直を意味するのではなく、それぞれ、平行±１０°の範囲、直交±１０°の範囲、水平±１０°、および、垂直±１０°の範囲を意味する。
また、本明細書において、各成分は、各成分に該当する物質を１種単独でも用いても、２種以上を併用してもよい。ここで、各成分について２種以上の物質を併用する場合、その成分についての含有量とは、特段の断りが無い限り、併用した物質の合計の含有量を指す。
また、本明細書において、「（メタ）アクリレート」は、「アクリレート」または「メタクリレート」を表す表記であり、「（メタ）アクリル」は、「アクリル」または「メタクリル」を表す表記であり、「（メタ）アクリロイル」は、「アクリロイル」または「メタクリロイル」を表す表記である。
【0012】
［積層体］
本発明の積層体は、樹脂基材と、光吸収異方性層を有する積層体であって、樹脂基材のｔａｎδが１７０℃以下であり、光吸収異方性層が液晶性化合物および二色性物質を含有し、二色性物質の配向度が０．９５以上である、積層体である。
光吸収異方性層における二色性物質の配向度は、０．９７以上がさらに好ましい。配向度が高いほど、複数の方向に同時に延伸された場合の偏光度変化が小さい。
本発明の積層体は、樹脂基材と、光吸収異方性層を有する積層体であって、樹脂基材のｔａｎδが１７０℃以下であり、光吸収異方性層が液晶性化合物および二色性物質を含有し、二色性物質の配向度が０．９５以上である、積層体である。
光吸収異方性層における二色性物質の配向度は、０．９７以上がさらに好ましい。配向度が高いほど、複数の方向に同時に延伸された場合の偏光度変化が小さい。
【0013】
本発明においては、上述した通り、樹脂基材のｔａｎδのピーク温度が１７０℃以下であり、光吸収異方性層における二色性物質が０．９５以上の高配向度であることにより、配向軸の方向と異なる方向や、複数の方向に同時に延伸された場合においても、偏光度の低下を抑制することができる。
この理由の詳細は未だ明らかになっていないが、本発明者らは以下の理由によるものと推測している。
まず、本発明の光学積層体が有する樹脂基材のｔａｎδのピーク温度が１７０℃以下であることにより、光吸収異方性層における液晶性化合物の配向状態に影響を与えない温度領域で、延伸させることができ、かつ、その温度領域で曲面形状を付与することができると推定できる。
また、本発明の光学積層体が有する光吸収異方性層は、二色性物質を有しており、分子レベルでは様々な方向に配置されている。それらの個々の分子の方向を平均化すれば、ある方向に収斂し、それが二色性物質の配向軸である（図５参照）。配向軸に対して垂直な延伸応力が働いた場合を考える。配向軸に対して平行な方向に配置された分子は、延伸応力が働いても方向が変化しないと推定される。一方、配向軸に対して平行な方向からずれた分子は、延伸応力により、配向軸に対してさらにずれが大きくなる方向に変化すると推定できる。
ここで、高配向度を有する光吸収異方性層は、大部分の分子が配向軸方向に配置されているので、配向軸に対して垂直な延伸応力が働いた場合でも、その影響が小さく、結果として偏光度の変化も小さくなると考えている。
以下に、積層体に含まれる各構成要素について詳述する。
この理由の詳細は未だ明らかになっていないが、本発明者らは以下の理由によるものと推測している。
まず、本発明の光学積層体が有する樹脂基材のｔａｎδのピーク温度が１７０℃以下であることにより、光吸収異方性層における液晶性化合物の配向状態に影響を与えない温度領域で、延伸させることができ、かつ、その温度領域で曲面形状を付与することができると推定できる。
また、本発明の光学積層体が有する光吸収異方性層は、二色性物質を有しており、分子レベルでは様々な方向に配置されている。それらの個々の分子の方向を平均化すれば、ある方向に収斂し、それが二色性物質の配向軸である（図５参照）。配向軸に対して垂直な延伸応力が働いた場合を考える。配向軸に対して平行な方向に配置された分子は、延伸応力が働いても方向が変化しないと推定される。一方、配向軸に対して平行な方向からずれた分子は、延伸応力により、配向軸に対してさらにずれが大きくなる方向に変化すると推定できる。
ここで、高配向度を有する光吸収異方性層は、大部分の分子が配向軸方向に配置されているので、配向軸に対して垂直な延伸応力が働いた場合でも、その影響が小さく、結果として偏光度の変化も小さくなると考えている。
以下に、積層体に含まれる各構成要素について詳述する。
【0014】
〔樹脂基材〕
本発明に用いられる樹脂基材は、ｔａｎδのピーク温度が１７０℃以下である。
また、低温で熱変形処理が可能となる観点から、樹脂基材は、ｔａｎδのピーク温度が１５０℃以下が好ましく、ｔａｎδのピーク温度が１３０℃以下がさらに好ましい。
本発明に用いられる樹脂基材は、ｔａｎδのピーク温度が１７０℃以下である。
また、低温で熱変形処理が可能となる観点から、樹脂基材は、ｔａｎδのピーク温度が１５０℃以下が好ましく、ｔａｎδのピーク温度が１３０℃以下がさらに好ましい。
【0015】
ここで、ｔａｎδの測定方法について記載する。
動的粘弾性測定装置（アイティー計測制御株式会社製ＤＶＡ－２００）を用いて、あらかじめ温度２５℃、湿度６０％Ｒｈ雰囲気下で２時間以上調湿したフィルム試料について、下記条件において、Ｅ”（損失弾性率）とＥ’（貯蔵弾性率）を測定し、ｔａｎδ（＝Ｅ”／Ｅ’）を求める値とする。
装置:アイティー計測制御株式会社製 ＤＶＡ－２００
試料:５ｍｍ、長さ５０ｍｍ（ギャップ２０ｍｍ）
測定条件:引張りモード
測定温度:－１５０℃～２２０℃
昇温条件:５℃/ｍｉｎ
周波数:１Ｈｚ
なお、一般的に光学用途においては、延伸処理がなされた樹脂基材を使用することが多く、延伸処理によって、ｔａｎδのピーク温度は変化することが多い。例えば、ＴＡＣ（トリアセチルセルロース）基材（ＴＧ４０、富士フイルム社製）は、ｔａｎδのピーク温度は１８０℃以上となる。
動的粘弾性測定装置（アイティー計測制御株式会社製ＤＶＡ－２００）を用いて、あらかじめ温度２５℃、湿度６０％Ｒｈ雰囲気下で２時間以上調湿したフィルム試料について、下記条件において、Ｅ”（損失弾性率）とＥ’（貯蔵弾性率）を測定し、ｔａｎδ（＝Ｅ”／Ｅ’）を求める値とする。
装置:アイティー計測制御株式会社製 ＤＶＡ－２００
試料:５ｍｍ、長さ５０ｍｍ（ギャップ２０ｍｍ）
測定条件:引張りモード
測定温度:－１５０℃～２２０℃
昇温条件:５℃/ｍｉｎ
周波数:１Ｈｚ
なお、一般的に光学用途においては、延伸処理がなされた樹脂基材を使用することが多く、延伸処理によって、ｔａｎδのピーク温度は変化することが多い。例えば、ＴＡＣ（トリアセチルセルロース）基材（ＴＧ４０、富士フイルム社製）は、ｔａｎδのピーク温度は１８０℃以上となる。
【0016】
本発明に用いられる樹脂基材は、ｔａｎδのピーク温度が１７０℃以下であれば、制限なく様々な光学樹脂が使用可能である。例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ノルボルネン系ポリマー等のポリオレフィン；環状オレフィン系樹脂；ポリビニルアルコール；ポリエチレンテレフタレート；ポリメタクリル酸エステル及びポリアクリル酸エステル等のアクリル系樹脂；ポリエチレンナフタレート；ポリカーボネート；ポリスルホン；ポリエーテルスルホン；ポリエーテルケトン；ポリフェニレンスルフィド及びポリフェニレンオキシドが挙げられる。
中でも、市場から容易に入手できたり、透明性に優れていたりする点から、好ましくは、環状オレフィン系樹脂、アクリル系樹脂またはポリカーボネートであり、より好ましくは、アクリル系樹脂であり、更に好ましくは、ポリメタクリル酸エステルである。
中でも、市場から容易に入手できたり、透明性に優れていたりする点から、好ましくは、環状オレフィン系樹脂、アクリル系樹脂またはポリカーボネートであり、より好ましくは、アクリル系樹脂であり、更に好ましくは、ポリメタクリル酸エステルである。
【0017】
市販の樹脂基材としては、テクノロイＳ００１Ｇ、テクノロイＳ０１４Ｇ、テクノロイＳ０００、テクノロイＣ００１、テクノロイＣ０００（住化アクリル販売株式会社）、ルミラーＵタイプ、ルミラーＦＸ１０、ルミラーＳＦ２０（東レ株式会社）、ＨＫ－５３Ａ（東山フィルム株式会社）、テフレックスＦＴ３（帝人デュポンフィルム株式会社）、エスシーナ”及びＳＣＡ４０（積水化学工業（株））、ゼオノアフィルム（オプテス（株））、アートンフィルム（ＪＳＲ（株））などが挙げられる。
【0018】
本発明に用いられる樹脂基材は、延伸加工が容易となる理由から、ｔａｎδのピーク温度における貯蔵弾性率が、５００ｋＰａ以下が好ましく、１００ｋＰａ以下がより好ましく、５０ｋＰａ以下がさらに好ましい。
ここで、ｔａｎδのピーク温度における貯蔵弾性率は、上述したｔａｎδの測定方法において測定されるＥ’（貯蔵弾性率）のうち、ｔａｎδのピーク温度における貯蔵弾性率をいう。
ここで、ｔａｎδのピーク温度における貯蔵弾性率は、上述したｔａｎδの測定方法において測定されるＥ’（貯蔵弾性率）のうち、ｔａｎδのピーク温度における貯蔵弾性率をいう。
【0019】
樹脂基材の厚みは特に制限されないが、５～３００μｍが好ましく、５～１００μｍがより好ましく、５～３０μｍがさらに好ましい。
【0020】
〔光吸収異方性層〕
本発明に用いられる光吸収異方性層は、液晶性化合物および二色性物質を含有し、二色性物質の配向度が０．９５以上である。
このような光吸収異方性層は、液晶性化合物および二色性物質を含有する組成物（以下、「光吸収異方性層形成用組成物」と略す。）を用いて形成されることが好ましい。
特に、加熱時の偏光度低下が抑制される点で、光吸収異方性層形成用組成物に含まれる液晶化合物や二色性色素がラジカル重合性基を有することが好ましい。
光吸収異方性層形成用組成物の固形分重量に対して、ラジカル重合性基のモル含有率が、０．６ｍｍｏｌ／ｇ以上であることが好ましく、１．０ｍｍｏｌ／ｇ以上であることがより好ましく、１．５ｍｍｏｌ／ｇ以上であることがさらに好ましい。
本発明に用いられる光吸収異方性層は、液晶性化合物および二色性物質を含有し、二色性物質の配向度が０．９５以上である。
このような光吸収異方性層は、液晶性化合物および二色性物質を含有する組成物（以下、「光吸収異方性層形成用組成物」と略す。）を用いて形成されることが好ましい。
特に、加熱時の偏光度低下が抑制される点で、光吸収異方性層形成用組成物に含まれる液晶化合物や二色性色素がラジカル重合性基を有することが好ましい。
光吸収異方性層形成用組成物の固形分重量に対して、ラジカル重合性基のモル含有率が、０．６ｍｍｏｌ／ｇ以上であることが好ましく、１．０ｍｍｏｌ／ｇ以上であることがより好ましく、１．５ｍｍｏｌ／ｇ以上であることがさらに好ましい。
【0021】
＜液晶性化合物＞
光吸収異方性層形成用組成物は、液晶性化合物を含有する。
液晶性化合物は、可視領域で二色性を示さない液晶性化合物が好ましい。
液晶性化合物としては、低分子液晶性化合物および高分子液晶性化合物のいずれも用いることができる。ここで、「低分子液晶性化合物」とは、化学構造中に繰り返し単位を有さない液晶性化合物のことをいう。また、「高分子液晶性化合物」とは、化学構造中に繰り返し単位を有する液晶性化合物のことをいう。
低分子液晶性化合物としては、例えば、特開２０１３－２２８７０６号公報の段落［００２７］～［００３４］に記載されている液晶性化合物が挙げられる。中でもスメックチック性を示す低分子液晶性化合物が好ましい。
高分子液晶性化合物としては、例えば、特開２０１１－２３７５１３号公報に記載されているサーモトロピック液晶性高分子が挙げられる。また、高分子液晶性化合物は、末端に架橋性基（例えば、アクリロイル基およびメタクリロイル基）を有していることが好ましい。
液晶性化合物は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。高分子液晶性化合物と低分子液晶性化合物を併用することも好ましい。
液晶性化合物の含有量は、光吸収異方性層形成用組成物中の二色性物質の含有量１００質量部に対して、２５～２０００質量部が好ましく、３３～１０００質量部がより好ましく、５０～５００質量部がさらに好ましい。液晶性化合物の含有量が上記範囲内にあることで、偏光子の配向度がより向上する。
光吸収異方性層形成用組成物は、液晶性化合物を含有する。
液晶性化合物は、可視領域で二色性を示さない液晶性化合物が好ましい。
液晶性化合物としては、低分子液晶性化合物および高分子液晶性化合物のいずれも用いることができる。ここで、「低分子液晶性化合物」とは、化学構造中に繰り返し単位を有さない液晶性化合物のことをいう。また、「高分子液晶性化合物」とは、化学構造中に繰り返し単位を有する液晶性化合物のことをいう。
低分子液晶性化合物としては、例えば、特開２０１３－２２８７０６号公報の段落［００２７］～［００３４］に記載されている液晶性化合物が挙げられる。中でもスメックチック性を示す低分子液晶性化合物が好ましい。
高分子液晶性化合物としては、例えば、特開２０１１－２３７５１３号公報に記載されているサーモトロピック液晶性高分子が挙げられる。また、高分子液晶性化合物は、末端に架橋性基（例えば、アクリロイル基およびメタクリロイル基）を有していることが好ましい。
液晶性化合物は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。高分子液晶性化合物と低分子液晶性化合物を併用することも好ましい。
液晶性化合物の含有量は、光吸収異方性層形成用組成物中の二色性物質の含有量１００質量部に対して、２５～２０００質量部が好ましく、３３～１０００質量部がより好ましく、５０～５００質量部がさらに好ましい。液晶性化合物の含有量が上記範囲内にあることで、偏光子の配向度がより向上する。
【0022】
液晶性化合物は、得られる光吸収異方性層の配向度がより高くなる理由から、高分子液晶性化合物であることが好ましく、下記式（１）で表される繰り返し単位（以下、「繰り返し単位（１）」とも略す。）を含む高分子液晶性化合物であることがより好ましい。
【0023】
【化1】
【0024】
上記式（１）中、Ｐ１は繰り返し単位の主鎖を表し、Ｌ１は単結合または２価の連結基を表し、ＳＰ１はスペーサー基を表し、Ｍ１はメソゲン基を表し、Ｔ１は末端基を表す。
【0025】
Ｐ１が表す繰り返し単位の主鎖としては、具体的には、例えば、下記式（Ｐ１－Ａ）～（Ｐ１－Ｄ）で表される基が挙げられ、なかでも、原料となる単量体の多様性および取り扱いが容易である観点から、下記式（Ｐ１－Ａ）で表される基が好ましい。
【0026】
【化2】
【0027】
式（Ｐ１－Ａ）～（Ｐ１－Ｄ）において、「＊」は、式（１）におけるＬ１との結合位置を表す。式（Ｐ１－Ａ）において、Ｒ１は水素原子またはメチル基を表す。式（Ｐ１－Ｄ）において、Ｒ２はアルキル基を表す。
式（Ｐ１－Ａ）で表される基は、得られる光吸収異方性層の配向度がより高くなる理由から、（メタ）アクリル酸エステルの重合によって得られるポリ（メタ）アクリル酸エステルの部分構造の一単位であることが好ましい。
式（Ｐ１－Ｂ）で表される基は、得られる光吸収異方性層の配向度がより高くなる理由から、エチレングリコールを重合して得られるポリエチレングリコールにおけるエチレングリコール単位であることが好ましい。
式（Ｐ１－Ｃ）で表される基は、得られる光吸収異方性層の配向度がより高くなる理由から、プロピレングリコールを重合して得られるプロピレングリコール単位であることが好ましい。
式（Ｐ１－Ｄ）で表される基は、得られる光吸収異方性層の配向度がより高くなる理由から、シラノールの縮重合によって得られるポリシロキサンのシロキサン単位であることが好ましい。
式（Ｐ１－Ａ）で表される基は、得られる光吸収異方性層の配向度がより高くなる理由から、（メタ）アクリル酸エステルの重合によって得られるポリ（メタ）アクリル酸エステルの部分構造の一単位であることが好ましい。
式（Ｐ１－Ｂ）で表される基は、得られる光吸収異方性層の配向度がより高くなる理由から、エチレングリコールを重合して得られるポリエチレングリコールにおけるエチレングリコール単位であることが好ましい。
式（Ｐ１－Ｃ）で表される基は、得られる光吸収異方性層の配向度がより高くなる理由から、プロピレングリコールを重合して得られるプロピレングリコール単位であることが好ましい。
式（Ｐ１－Ｄ）で表される基は、得られる光吸収異方性層の配向度がより高くなる理由から、シラノールの縮重合によって得られるポリシロキサンのシロキサン単位であることが好ましい。
【0028】
Ｌ１は、単結合または２価の連結基である。
Ｌ１が表す２価の連結基としては、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（Ｏ）－、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｃ（Ｏ）ＮＲ３－、－ＮＲ３Ｃ（Ｏ）－、－ＳＯ２－、および、－ＮＲ３Ｒ４－などが挙げられる。式中、Ｒ３およびＲ４はそれぞれ独立に、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１～６のアルキル基を表わす。
Ｐ１が式（Ｐ１－Ａ）で表される基である場合には、得られる光吸収異方性層の配向度がより高くなる理由から、Ｌ１は－Ｃ（Ｏ）Ｏ－で表される基が好ましい。
Ｐ１が式（Ｐ１－Ｂ）～（Ｐ１－Ｄ）で表される基である場合には、得られる光吸収異方性層の配向度がより高くなる理由から、Ｌ１は単結合が好ましい。
Ｌ１が表す２価の連結基としては、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（Ｏ）－、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｃ（Ｏ）ＮＲ３－、－ＮＲ３Ｃ（Ｏ）－、－ＳＯ２－、および、－ＮＲ３Ｒ４－などが挙げられる。式中、Ｒ３およびＲ４はそれぞれ独立に、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１～６のアルキル基を表わす。
Ｐ１が式（Ｐ１－Ａ）で表される基である場合には、得られる光吸収異方性層の配向度がより高くなる理由から、Ｌ１は－Ｃ（Ｏ）Ｏ－で表される基が好ましい。
Ｐ１が式（Ｐ１－Ｂ）～（Ｐ１－Ｄ）で表される基である場合には、得られる光吸収異方性層の配向度がより高くなる理由から、Ｌ１は単結合が好ましい。
【0029】
ＳＰ１が表すスペーサー基は、液晶性を発現しやすいことや、原材料の入手性などの理由から、オキシエチレン構造、オキシプロピレン構造、ポリシロキサン構造およびフッ化アルキレン構造からなる群より選択される少なくとも１種の構造を含むことが好ましい。
ここで、ＳＰ１が表すオキシエチレン構造は、＊－（ＣＨ２－ＣＨ２Ｏ）ｎ１－＊で表される基が好ましい。式中、ｎ１は１～２０の整数を表し、＊は、上記式（１）中のＬ１またはＭ１との結合位置を表す。ｎ１は、得られる光吸収異方性層の配向度がより高くなる理由から、２～１０の整数であることが好ましく、２～４の整数であることがより好ましく、３であることが最も好ましい。
また、ＳＰ１が表すオキシプロピレン構造は、得られる光吸収異方性層の配向度がより高くなる理由から、＊－（ＣＨ（ＣＨ３）－ＣＨ２Ｏ）ｎ２－＊で表される基が好ましい。式中、ｎ２は１～３の整数を表し、＊はＬ１またはＭ１との結合位置を表す。
また、ＳＰ１が表すポリシロキサン構造は、得られる光吸収異方性層の配向度がより高くなる理由から、＊－（Ｓｉ（ＣＨ３）２－Ｏ）ｎ３－＊で表される基が好ましい。式中、ｎ３は６～１０の整数を表し、＊はＬ１またはＭ１との結合位置を表す。
また、ＳＰ１が表すフッ化アルキレン構造は、得られる光吸収異方性層の配向度がより高くなる理由から、＊－（ＣＦ２－ＣＦ２）ｎ４－＊で表される基が好ましい。式中、ｎ４は６～１０の整数を表し、＊はＬ１またはＭ１との結合位置を表す。
ここで、ＳＰ１が表すオキシエチレン構造は、＊－（ＣＨ２－ＣＨ２Ｏ）ｎ１－＊で表される基が好ましい。式中、ｎ１は１～２０の整数を表し、＊は、上記式（１）中のＬ１またはＭ１との結合位置を表す。ｎ１は、得られる光吸収異方性層の配向度がより高くなる理由から、２～１０の整数であることが好ましく、２～４の整数であることがより好ましく、３であることが最も好ましい。
また、ＳＰ１が表すオキシプロピレン構造は、得られる光吸収異方性層の配向度がより高くなる理由から、＊－（ＣＨ（ＣＨ３）－ＣＨ２Ｏ）ｎ２－＊で表される基が好ましい。式中、ｎ２は１～３の整数を表し、＊はＬ１またはＭ１との結合位置を表す。
また、ＳＰ１が表すポリシロキサン構造は、得られる光吸収異方性層の配向度がより高くなる理由から、＊－（Ｓｉ（ＣＨ３）２－Ｏ）ｎ３－＊で表される基が好ましい。式中、ｎ３は６～１０の整数を表し、＊はＬ１またはＭ１との結合位置を表す。
また、ＳＰ１が表すフッ化アルキレン構造は、得られる光吸収異方性層の配向度がより高くなる理由から、＊－（ＣＦ２－ＣＦ２）ｎ４－＊で表される基が好ましい。式中、ｎ４は６～１０の整数を表し、＊はＬ１またはＭ１との結合位置を表す。
【0030】
Ｍ１が表すメソゲン基とは、液晶形成に寄与する液晶分子の主要骨格を示す基である。液晶分子は、結晶状態と等方性液体状態の中間の状態（メソフェーズ）である液晶性を示す。メソゲン基については特に制限はなく、例えば、「Ｆｌｕｓｓｉｇｅ Ｋｒｉｓｔａｌｌｅ ｉｎ Ｔａｂｅｌｌｅｎ ＩＩ」（ＶＥＢ Ｄｅｕｔｓｃｈｅ Ｖｅｒｌａｇ ｆｕｒ Ｇｒｕｎｄｓｔｏｆｆ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅ，Ｌｅｉｐｚｉｇ、１９８４年刊）、特に第７頁～第１６頁の記載、および、液晶便覧編集委員会編、液晶便覧（丸善、２０００年刊）、特に第３章の記載、を参照することができる。
メソゲン基としては、例えば、芳香族炭化水素基、複素環基、および、脂環式基からなる群から選択される少なくとも１種の環状構造を有する基であることが好ましい。
メソゲン基は、得られる光吸収異方性層の配向度がより高くなる理由から、芳香族炭化水素基を有するのが好ましく、２～４個の芳香族炭化水素基を有するのがより好ましく、３個の芳香族炭化水素基を有するのがさらに好ましい。
メソゲン基としては、例えば、芳香族炭化水素基、複素環基、および、脂環式基からなる群から選択される少なくとも１種の環状構造を有する基であることが好ましい。
メソゲン基は、得られる光吸収異方性層の配向度がより高くなる理由から、芳香族炭化水素基を有するのが好ましく、２～４個の芳香族炭化水素基を有するのがより好ましく、３個の芳香族炭化水素基を有するのがさらに好ましい。
【0031】
メソゲン基としては、液晶性の発現、液晶相転移温度の調整、原料入手性および合成適性という観点、並びに、本発明の効果がより優れるから、下記式（Ｍ１－Ａ）または下記式（Ｍ１－Ｂ）で表される基が好ましく、式（Ｍ１－Ｂ）で表される基がより好ましい。
【0032】
【化3】
【0033】
式（Ｍ１－Ａ）中、Ａ１は、芳香族炭化水素基、複素環基および脂環式基からなる群より選択される２価の基である。これらの基は、アルキル基、フッ化アルキル基、アルコキシ基又は置換基で置換されていてもよい。
Ａ１で表される２価の基は、４～６員環であることが好ましい。また、Ａ１で表される２価の基は、単環でも、縮環であってもよい。
＊は、ＳＰ１またはＴ１との結合位置を表す。
Ａ１で表される２価の基は、４～６員環であることが好ましい。また、Ａ１で表される２価の基は、単環でも、縮環であってもよい。
＊は、ＳＰ１またはＴ１との結合位置を表す。
【0034】
Ａ１が表す２価の芳香族炭化水素基としては、フェニレン基、ナフチレン基、フルオレン－ジイル基、アントラセン－ジイル基およびテトラセン－ジイル基などが挙げられ、メソゲン骨格の設計の多様性や原材料の入手性などの観点から、フェニレン基またはナフチレン基が好ましく、フェニレン基がより好ましい。
【0035】
Ａ１が表す２価の複素環基としては、芳香族または非芳香族のいずれであってもよいが、配向度がより向上するという観点から、２価の芳香族複素環基であることが好ましい。
２価の芳香族複素環基を構成する炭素以外の原子としては、窒素原子、硫黄原子および酸素原子が挙げられる。芳香族複素環基が炭素以外の環を構成する原子を複数有する場合、これらは同一であっても異なっていてもよい。
２価の芳香族複素環基の具体例としては、例えば、ピリジレン基（ピリジン－ジイル基）、ピリダジン－ジイル基、イミダゾール－ジイル基、チエニレン（チオフェン－ジイル基）、キノリレン基（キノリン－ジイル基）、イソキノリレン基（イソキノリン－ジイル基）、オキサゾール－ジイル基、チアゾール－ジイル基、オキサジアゾール－ジイル基、ベンゾチアゾール－ジイル基、ベンゾチアジアゾール－ジイル基、フタルイミド－ジイル基、チエノチアゾール－ジイル基、チアゾロチアゾール－ジイル基、チエノチオフェン－ジイル基、および、チエノオキサゾール－ジイル基などが挙げられる。
２価の芳香族複素環基を構成する炭素以外の原子としては、窒素原子、硫黄原子および酸素原子が挙げられる。芳香族複素環基が炭素以外の環を構成する原子を複数有する場合、これらは同一であっても異なっていてもよい。
２価の芳香族複素環基の具体例としては、例えば、ピリジレン基（ピリジン－ジイル基）、ピリダジン－ジイル基、イミダゾール－ジイル基、チエニレン（チオフェン－ジイル基）、キノリレン基（キノリン－ジイル基）、イソキノリレン基（イソキノリン－ジイル基）、オキサゾール－ジイル基、チアゾール－ジイル基、オキサジアゾール－ジイル基、ベンゾチアゾール－ジイル基、ベンゾチアジアゾール－ジイル基、フタルイミド－ジイル基、チエノチアゾール－ジイル基、チアゾロチアゾール－ジイル基、チエノチオフェン－ジイル基、および、チエノオキサゾール－ジイル基などが挙げられる。
【0036】
Ａ１が表す２価の脂環式基の具体例としては、シクロペンチレン基およびシクロへキシレン基などが挙げられる。
【0037】
式（Ｍ１－Ａ）中、ａ１は１～１０の整数を表す。ａ１が２以上である場合には、複数のＡ１は同一でも異なっていてもよい。
【0038】
式（Ｍ１－Ｂ）中、Ａ２およびＡ３はそれぞれ独立に、芳香族炭化水素基、複素環基および脂環式基からなる群より選択される２価の基である。Ａ２およびＡ３の具体例および好適態様は、式（Ｍ１－Ａ）のＡ１と同様であるので、その説明を省略する。
式（Ｍ１－Ｂ）中、ａ２は１～１０の整数を表し、ａ２が２以上である場合には、複数のＡ２は同一でも異なっていてもよく、複数のＡ３は同一でも異なっていてもよく、複数のＬＡ１は同一でも異なっていてもよい。ａ２は、得られる光吸収異方性層の配向度がより高くなる理由から、２以上の整数であることが好ましく、２であることがより好ましい。
式（Ｍ１－Ｂ）中、ａ２が１である場合には、ＬＡ１は２価の連結基である。ａ２が２以上である場合には、複数のＬＡ１はそれぞれ独立に、単結合または２価の連結基であり、複数のＬＡ１のうち少なくとも１つが２価の連結基である。ａ２が２である場合、得られる光吸収異方性層の配向度がより高くなる理由から、２つのＬＡ１のうち、一方が２価の連結基であり、他方が単結合であることが好ましい。
式（Ｍ１－Ｂ）中、ａ２は１～１０の整数を表し、ａ２が２以上である場合には、複数のＡ２は同一でも異なっていてもよく、複数のＡ３は同一でも異なっていてもよく、複数のＬＡ１は同一でも異なっていてもよい。ａ２は、得られる光吸収異方性層の配向度がより高くなる理由から、２以上の整数であることが好ましく、２であることがより好ましい。
式（Ｍ１－Ｂ）中、ａ２が１である場合には、ＬＡ１は２価の連結基である。ａ２が２以上である場合には、複数のＬＡ１はそれぞれ独立に、単結合または２価の連結基であり、複数のＬＡ１のうち少なくとも１つが２価の連結基である。ａ２が２である場合、得られる光吸収異方性層の配向度がより高くなる理由から、２つのＬＡ１のうち、一方が２価の連結基であり、他方が単結合であることが好ましい。
【0039】
式（Ｍ１－Ｂ）中、ＬＡ１が表す２価の連結基としては、－Ｏ－、－（ＣＨ２）ｇ－、－（ＣＦ２）ｇ－、－Ｓｉ（ＣＨ３）２－、－（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｇ－、－（ＯＳｉ（ＣＨ３）２）ｇ－（ｇは１～１０の整数を表す。）、－Ｎ（Ｚ）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｎ－、－Ｎ＝Ｃ（Ｚ）－、－Ｃ（Ｚ）２－Ｃ（Ｚ’）２－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＯＣ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｎ（Ｚ）Ｃ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｚ）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（Ｏ）－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｎ－、－Ｎ＝Ｃ（Ｚ）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｚ”）－、－Ｎ（Ｚ”）－Ｃ（Ｏ）－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－Ｃ（Ｏ）－Ｓ－、－Ｓ－Ｃ（Ｏ）－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｎ－Ｎ＝Ｃ（Ｚ’）－（Ｚ、Ｚ’、Ｚ”は独立に、水素、Ｃ１～Ｃ４アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、シアノ基、または、ハロゲン原子を表す。）、－Ｃ≡Ｃ－、－Ｎ＝Ｎ－、－Ｓ－、－Ｓ（Ｏ）－、－Ｓ（Ｏ）（Ｏ）－、－（Ｏ）Ｓ（Ｏ）Ｏ－、－Ｏ（Ｏ）Ｓ（Ｏ）Ｏ－、－ＳＣ（Ｏ）－、および、－Ｃ（Ｏ）Ｓ－などが挙げられる。なかでも、得られる光吸収異方性層の配向度がより高くなる理由から、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－が好ましい。ＬＡ１は、これらの基を２つ以上組み合わせた基であってもよい。
【0040】
Ｍ１の具体例としては、例えば以下の構造が挙げられる。なお、下記具体例において、「Ａｃ」は、アセチル基を表す。
【0041】
【化4】
【0042】
【化5】
【0043】
Ｔ１が表す末端基としては、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数１～１０のアルコキシ基、炭素数１～１０のアルキルチオ基、炭素数１～１０のアルコキシカルボニルオキシ基、炭素数１～１０のアルコキシカルボニル基（ＲＯＣ（Ｏ）－：Ｒはアルキル基）、炭素数１～１０のアシルオキシ基、炭素数１～１０のアシルアミノ基、炭素数１～１０のアルコキシカルボニルアミノ基、炭素数１～１０のスルホニルアミノ基、炭素数１～１０のスルファモイル基、炭素数１～１０のカルバモイル基、炭素数１～１０のスルフィニル基、および、炭素数１～１０のウレイド基、（メタ）アクリロイルオキシ基含有基などが挙げられる。上記（メタ）アクリロイルオキシ基含有基としては、例えば、－Ｌ－Ａ（Ｌは単結合又は連結基を表す。連結基の具体例は上述したＬ１及びＳＰ１と同じである。Ａは（メタ）アクリロイルオキシ基を表す）で表される基が挙げられる。
Ｔ１は、得られる光吸収異方性層の配向度がより高くなる理由から、炭素数１～１０のアルコキシ基が好ましく、炭素数１～５のアルコキシがより好ましく、メトキシ基がさらに好ましい。これらの末端基は、これらの基、または、特開２０１０－２４４０３８号公報に記載の重合性基によって、さらに置換されていてもよい。
Ｔ１の主鎖の原子数は、得られる光吸収異方性層の配向度がより高くなる理由から、１～２０が好ましく、１～１５がより好ましく、１～１０がさらに好ましく、１～７が特に好ましい。Ｔ１の主鎖の原子数が２０以下であることで、偏光子の配向度がより向上する。ここで、Ｔ１おける「主鎖」とは、Ｍ１と結合する最も長い分子鎖を意味し、水素原子はＴ１の主鎖の原子数にカウントしない。例えば、Ｔ１がｎ－ブチル基である場合には主鎖の原子数は４であり、Ｔ１がｓｅｃ－ブチル基である場合の主鎖の原子数は３である。
Ｔ１は、得られる光吸収異方性層の配向度がより高くなる理由から、炭素数１～１０のアルコキシ基が好ましく、炭素数１～５のアルコキシがより好ましく、メトキシ基がさらに好ましい。これらの末端基は、これらの基、または、特開２０１０－２４４０３８号公報に記載の重合性基によって、さらに置換されていてもよい。
Ｔ１の主鎖の原子数は、得られる光吸収異方性層の配向度がより高くなる理由から、１～２０が好ましく、１～１５がより好ましく、１～１０がさらに好ましく、１～７が特に好ましい。Ｔ１の主鎖の原子数が２０以下であることで、偏光子の配向度がより向上する。ここで、Ｔ１おける「主鎖」とは、Ｍ１と結合する最も長い分子鎖を意味し、水素原子はＴ１の主鎖の原子数にカウントしない。例えば、Ｔ１がｎ－ブチル基である場合には主鎖の原子数は４であり、Ｔ１がｓｅｃ－ブチル基である場合の主鎖の原子数は３である。
【0044】
繰り返し単位（１）の含有量は、得られる光吸収異方性層の配向度がより高くなる理由から、高分子液晶性化合物が有する全繰り返し単位１００質量％に対して、２０～１００質量％が好ましい。
本発明において、高分子液晶性化合物に含まれる各繰り返し単位の含有量は、各繰り返し単位を得るために使用される各単量体の仕込み量（質量）に基づいて算出される。
繰り返し単位（１）は、高分子液晶性化合物中において、１種単独で含まれていてもよいし、２種以上含まれていてもよい。なかでも、得られる光吸収異方性層の配向度がより高くなる理由から、繰り返し単位（１）が高分子液晶性化合物中に２種含まれているのがよい。
本発明において、高分子液晶性化合物に含まれる各繰り返し単位の含有量は、各繰り返し単位を得るために使用される各単量体の仕込み量（質量）に基づいて算出される。
繰り返し単位（１）は、高分子液晶性化合物中において、１種単独で含まれていてもよいし、２種以上含まれていてもよい。なかでも、得られる光吸収異方性層の配向度がより高くなる理由から、繰り返し単位（１）が高分子液晶性化合物中に２種含まれているのがよい。
【0045】
高分子液晶性化合物が繰り返し単位（１）を２種含む場合、得られる光吸収異方性層の配向度がより高くなる理由から、一方（繰り返し単位Ａ）においてＴ１が表す末端基がアルコキシ基であり、他方（繰り返し単位Ｂ）においてＴ１が表す末端基がアルコキシ基以外の基であることが好ましい。
上記繰り返し単位ＢにおいてＴ１が表す末端基は、得られる光吸収異方性層の配向度がより高くなる理由から、アルコキシカルボニル基、シアノ基、又は、（メタ）アクリロイルオキシ基含有基であることが好ましく、アルコキシカルボニル基、又は、シアノ基であることがより好ましい。
高分子液晶性化合物中の上記繰り返し単位Ａの含有量と高分子液晶性化合物中の上記繰り返し単位Ｂの含有量との割合（Ａ／Ｂ）は、得られる光吸収異方性層の配向度がより高くなる理由から、５０／５０～９５／５であることが好ましく、６０／４０～９３／７であることがより好ましく、７０／３０～９０／１０であることがさらに好ましい。
上記繰り返し単位ＢにおいてＴ１が表す末端基は、得られる光吸収異方性層の配向度がより高くなる理由から、アルコキシカルボニル基、シアノ基、又は、（メタ）アクリロイルオキシ基含有基であることが好ましく、アルコキシカルボニル基、又は、シアノ基であることがより好ましい。
高分子液晶性化合物中の上記繰り返し単位Ａの含有量と高分子液晶性化合物中の上記繰り返し単位Ｂの含有量との割合（Ａ／Ｂ）は、得られる光吸収異方性層の配向度がより高くなる理由から、５０／５０～９５／５であることが好ましく、６０／４０～９３／７であることがより好ましく、７０／３０～９０／１０であることがさらに好ましい。
【0046】
＜繰り返し単位（３－２）＞
本発明の高分子液晶性化合物は、さらに、下記式（３－２）で表される繰り返し単位（本明細書において、「繰り返し単位（３－２）」ともいう。）を含んでいてもよい。これにより、高分子液晶性化合物の溶媒に対する溶解性が向上すること、および、液晶相転移温度の調整が容易になることなどの利点がある。
繰り返し単位（３－２）は、少なくともメソゲン基を有しないという点で、上記繰り返し単位（１）と異なる。
高分子液晶性化合物が繰り返し単位（３－２）を含む場合には、高分子液晶性化合物は、繰り返し単位（１）と繰り返し単位（３－２）との共重合体であり（さらに、繰り返し単位Ａ，Ｂを含む共重合体であってもよい）、ブロック重合体、交互重合体、ランダム重合体、および、グラフト重合体など、いずれの重合体であってもよい。
本発明の高分子液晶性化合物は、さらに、下記式（３－２）で表される繰り返し単位（本明細書において、「繰り返し単位（３－２）」ともいう。）を含んでいてもよい。これにより、高分子液晶性化合物の溶媒に対する溶解性が向上すること、および、液晶相転移温度の調整が容易になることなどの利点がある。
繰り返し単位（３－２）は、少なくともメソゲン基を有しないという点で、上記繰り返し単位（１）と異なる。
高分子液晶性化合物が繰り返し単位（３－２）を含む場合には、高分子液晶性化合物は、繰り返し単位（１）と繰り返し単位（３－２）との共重合体であり（さらに、繰り返し単位Ａ，Ｂを含む共重合体であってもよい）、ブロック重合体、交互重合体、ランダム重合体、および、グラフト重合体など、いずれの重合体であってもよい。
【0047】
【化6】
【0048】
式（３－２）中、Ｐ３は繰り返し単位の主鎖を表し、Ｌ３は単結合または２価の連結基を表し、ＳＰ３はスペーサー基を表し、Ｔ３は末端基を表す。
式（３－２）におけるＰ３、Ｌ３、ＳＰ３およびＴ３の具体例はそれぞれ、上記式（１）におけるＰ１、Ｌ１、ＳＰ１およびＴ１と同様である。
ここで、式（３－２）におけるＴ３は、光吸収異方性層の強度が向上する観点から、重合性基を有することが好ましい。
式（３－２）におけるＰ３、Ｌ３、ＳＰ３およびＴ３の具体例はそれぞれ、上記式（１）におけるＰ１、Ｌ１、ＳＰ１およびＴ１と同様である。
ここで、式（３－２）におけるＴ３は、光吸収異方性層の強度が向上する観点から、重合性基を有することが好ましい。
【0049】
繰り返し単位（３－２）を含有する場合の含有量は、高分子液晶性化合物が有する全繰り返し単位１００質量％に対して、０．５～４０質量％が好ましく、１～３０質量％がより好ましい。
繰り返し単位（３－２）は、高分子液晶性化合物中において、１種単独で含まれていてもよいし、２種以上含まれていてもよい。繰り返し単位（３－２）を２種以上含む場合には、その合計量が上記範囲内であることが好ましい。
繰り返し単位（３－２）は、高分子液晶性化合物中において、１種単独で含まれていてもよいし、２種以上含まれていてもよい。繰り返し単位（３－２）を２種以上含む場合には、その合計量が上記範囲内であることが好ましい。
【0050】
（重量平均分子量）
高分子液晶性化合物の重量平均分子量（Ｍｗ）は、得られる光吸収異方性層の配向度がより高くなる理由から、１０００～５０００００が好ましく、２０００～３０００００がより好ましい。高分子液晶性化合物のＭｗが上記範囲内にあれば、高分子液晶性化合物の取り扱いが容易になる。
特に、塗布時のクラック抑制の観点から、高分子液晶性化合物の重量平均分子量（Ｍｗ）は、１００００以上が好ましく、１００００～３０００００がより好ましい。
また、配向度の温度ラチチュードの観点から、高分子液晶性化合物の重量平均分子量（Ｍｗ）は、１００００未満が好ましく、２０００以上１００００未満が好ましい。
ここで、本発明における重量平均分子量および数平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフ（ＧＰＣ）法により測定された値である。
・溶媒（溶離液）：Ｎ－メチルピロリドン
・装置名：ＴＯＳＯＨ ＨＬＣ－８２２０ＧＰＣ
・カラム：ＴＯＳＯＨ ＴＳＫｇｅｌＳｕｐｅｒＡＷＭ－Ｈ（６ｍｍ×１５ｃｍ）を３本接続して使用
・カラム温度：２５℃
・試料濃度：０．１質量％
・流速：０．３５ｍＬ／ｍｉｎ
・校正曲線：ＴＯＳＯＨ製ＴＳＫ標準ポリスチレン Ｍｗ＝２８０００００～１０５０（Ｍｗ／Ｍｎ＝１．０３～１．０６）までの７サンプルによる校正曲線を使用
高分子液晶性化合物の重量平均分子量（Ｍｗ）は、得られる光吸収異方性層の配向度がより高くなる理由から、１０００～５０００００が好ましく、２０００～３０００００がより好ましい。高分子液晶性化合物のＭｗが上記範囲内にあれば、高分子液晶性化合物の取り扱いが容易になる。
特に、塗布時のクラック抑制の観点から、高分子液晶性化合物の重量平均分子量（Ｍｗ）は、１００００以上が好ましく、１００００～３０００００がより好ましい。
また、配向度の温度ラチチュードの観点から、高分子液晶性化合物の重量平均分子量（Ｍｗ）は、１００００未満が好ましく、２０００以上１００００未満が好ましい。
ここで、本発明における重量平均分子量および数平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフ（ＧＰＣ）法により測定された値である。
・溶媒（溶離液）：Ｎ－メチルピロリドン
・装置名：ＴＯＳＯＨ ＨＬＣ－８２２０ＧＰＣ
・カラム：ＴＯＳＯＨ ＴＳＫｇｅｌＳｕｐｅｒＡＷＭ－Ｈ（６ｍｍ×１５ｃｍ）を３本接続して使用
・カラム温度：２５℃
・試料濃度：０．１質量％
・流速：０．３５ｍＬ／ｍｉｎ
・校正曲線：ＴＯＳＯＨ製ＴＳＫ標準ポリスチレン Ｍｗ＝２８０００００～１０５０（Ｍｗ／Ｍｎ＝１．０３～１．０６）までの７サンプルによる校正曲線を使用
【0051】
（含有量）
本発明においては、液晶性化合物の含有量は、光吸収異方性層形成用組成物における固形分中の５０～９９質量％となる量であることが好ましく、７０～９６質量％となる量であることがより好ましい。
ここで、「光吸収異方性層形成用組成物における固形分」とは、溶媒を除いた成分をいい、固形分の具体例としては、上記液晶性化合物および後述する二色性物質、重合開始剤、界面改良剤などが挙げられる。
本発明においては、液晶性化合物の含有量は、光吸収異方性層形成用組成物における固形分中の５０～９９質量％となる量であることが好ましく、７０～９６質量％となる量であることがより好ましい。
ここで、「光吸収異方性層形成用組成物における固形分」とは、溶媒を除いた成分をいい、固形分の具体例としては、上記液晶性化合物および後述する二色性物質、重合開始剤、界面改良剤などが挙げられる。
【0052】
＜二色性物質＞
本発明に用いられる光吸収異方性層形成用組成物は、二色性物質を含有する。
二色性物質は、特に限定されず、可視光吸収物質（二色性色素）、発光物質（蛍光物質、燐光物質）、紫外線吸収物質、赤外線吸収物質、非線形光学物質、カーボンナノチューブ、無機物質（例えば量子ロッド）、などが挙げられ、従来公知の二色性物質（二色性色素）を使用することができる。
具体的には、例えば、特開２０１３－２２８７０６号公報の［００６７］～［００７１］段落、特開２０１３－２２７５３２号公報の［０００８］～［００２６］段落、特開２０１３－２０９３６７号公報の［０００８］～［００１５］段落、特開２０１３－１４８８３号公報の［００４５］～［００５８］段落、特開２０１３－１０９０９０号公報の［００１２］～［００２９］段落、特開２０１３－１０１３２８号公報の［０００９］～［００１７］段落、特開２０１３－３７３５３号公報の［００５１］～［００６５］段落、特開２０１２－６３３８７号公報の［００４９］～［００７３］段落、特開平１１－３０５０３６号公報の［００１６］～［００１８］段落、特開２００１－１３３６３０号公報の［０００９］～［００１１］段落、特開２０１１－２１５３３７号公報の［００３０］～［０１６９］、特開２０１０－１０６２４２号公報の［００２１］～［００７５］段落、特開２０１０－２１５８４６号公報の［００１１］～［００２５］段落、特開２０１１－０４８３１１号公報の［００１７］～［００６９］段落、特開２０１１－２１３６１０号公報の［００１３］～［０１３３］段落、特開２０１１－２３７５１３号公報の［００７４］～［０２４６］段落、特開２０１６－００６５０２号公報の［０００５］～［００５１］段落、ＷＯ２０１６／０６０１７３号公報の［０００５］～［００４１］段落、ＷＯ２０１６／１３６５６１号公報の［０００８］～［００６２］段落、国際公開第２０１７／１５４８３５号の［００１４］～［００３３］段落、国際公開第２０１７／１５４６９５号の［００１４］～［００３３］段落、国際公開第２０１７／１９５８３３号の［００１３］～［００３７］段落、国際公開第２０１８／１６４２５２号の［００１４］～［００３４］段落などに記載されたものが挙げられる。
本発明に用いられる光吸収異方性層形成用組成物は、二色性物質を含有する。
二色性物質は、特に限定されず、可視光吸収物質（二色性色素）、発光物質（蛍光物質、燐光物質）、紫外線吸収物質、赤外線吸収物質、非線形光学物質、カーボンナノチューブ、無機物質（例えば量子ロッド）、などが挙げられ、従来公知の二色性物質（二色性色素）を使用することができる。
具体的には、例えば、特開２０１３－２２８７０６号公報の［００６７］～［００７１］段落、特開２０１３－２２７５３２号公報の［０００８］～［００２６］段落、特開２０１３－２０９３６７号公報の［０００８］～［００１５］段落、特開２０１３－１４８８３号公報の［００４５］～［００５８］段落、特開２０１３－１０９０９０号公報の［００１２］～［００２９］段落、特開２０１３－１０１３２８号公報の［０００９］～［００１７］段落、特開２０１３－３７３５３号公報の［００５１］～［００６５］段落、特開２０１２－６３３８７号公報の［００４９］～［００７３］段落、特開平１１－３０５０３６号公報の［００１６］～［００１８］段落、特開２００１－１３３６３０号公報の［０００９］～［００１１］段落、特開２０１１－２１５３３７号公報の［００３０］～［０１６９］、特開２０１０－１０６２４２号公報の［００２１］～［００７５］段落、特開２０１０－２１５８４６号公報の［００１１］～［００２５］段落、特開２０１１－０４８３１１号公報の［００１７］～［００６９］段落、特開２０１１－２１３６１０号公報の［００１３］～［０１３３］段落、特開２０１１－２３７５１３号公報の［００７４］～［０２４６］段落、特開２０１６－００６５０２号公報の［０００５］～［００５１］段落、ＷＯ２０１６／０６０１７３号公報の［０００５］～［００４１］段落、ＷＯ２０１６／１３６５６１号公報の［０００８］～［００６２］段落、国際公開第２０１７／１５４８３５号の［００１４］～［００３３］段落、国際公開第２０１７／１５４６９５号の［００１４］～［００３３］段落、国際公開第２０１７／１９５８３３号の［００１３］～［００３７］段落、国際公開第２０１８／１６４２５２号の［００１４］～［００３４］段落などに記載されたものが挙げられる。
【0053】
本発明においては、２種以上の二色性物質を併用してもよく、例えば、得られる光吸収異方性層を黒色に近づける観点から、波長３７０～５５０ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する少なくとも１種の二色性物質と、波長５００～７００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する少なくとも１種の二色性物質とを併用することが好ましい。
この場合、二色性物質を有する光吸収異方性層は、偏光子として用いることもできる。
この場合、二色性物質を有する光吸収異方性層は、偏光子として用いることもできる。
【0054】
上記二色性物質は、架橋性基を有していてもよい。特に、加熱時の偏光度変化を抑制する観点では、架橋性基を有することが好ましい。
上記架橋性基としては、具体的には、例えば、（メタ）アクリロイル基、エポキシ基、オキセタニル基、スチリル基などが挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基が好ましい。
上記架橋性基としては、具体的には、例えば、（メタ）アクリロイル基、エポキシ基、オキセタニル基、スチリル基などが挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基が好ましい。
【0055】
（含有量）
光吸収異方性層形成用組成物の二色性物質の含有量は、二色性物質の配向度がより高くなる理由から、上記液晶性化合物１００質量部に対して１～４００質量部であることが好ましく、２～１００質量部であることがより好ましく、５～３０質量部であることが更に好ましい。
光吸収異方性層形成用組成物の二色性物質の含有量は、二色性物質の配向度がより高くなる理由から、上記液晶性化合物１００質量部に対して１～４００質量部であることが好ましく、２～１００質量部であることがより好ましく、５～３０質量部であることが更に好ましい。
【0056】
＜界面活性剤＞
光吸収異方性層形成用組成物が含有する界面活性剤は、従来公知の界面活性剤を用いることが可能であるが、フッ化アルキル基を含む繰り返し単位（以下、「繰り返し単位Ｆ」とも略す。）と、環構造を含む繰り返し単位（以下、「繰り返し単位Ｍ」とも略す。）とを有する共重合体が好ましい。
光吸収異方性層形成用組成物が含有する界面活性剤は、従来公知の界面活性剤を用いることが可能であるが、フッ化アルキル基を含む繰り返し単位（以下、「繰り返し単位Ｆ」とも略す。）と、環構造を含む繰り返し単位（以下、「繰り返し単位Ｍ」とも略す。）とを有する共重合体が好ましい。
【0057】
ハンセンの溶解度パラメータは、ＨＳＰｉＰ（Ｖｅｒ．５．１．０８）に化合物の構造式を入力して算出される値を採用した。分散項δＤは、ファンデルワールス力に起因する項である。
なお、共重合体においては、各々の繰り返し単位の結合部を水素原子に置き換えた構造式でδＤおよび体積を計算し、体積比で平均した値を採用している。
液晶を配向させるために８０℃～１４０℃の高温熟成が必要であり、高温熟成時に組成物の粘度が下がりハジキ故障が生じることがある。発明者らが検討した結果、界面活性剤のδＤとハジキ故障の相関があることが明らかになった。具体的には、界面活性剤のδＤが１５．５以上１７．５以下が好ましく、１５．８以上１７．０以下がより好ましい。
なお、共重合体においては、各々の繰り返し単位の結合部を水素原子に置き換えた構造式でδＤおよび体積を計算し、体積比で平均した値を採用している。
液晶を配向させるために８０℃～１４０℃の高温熟成が必要であり、高温熟成時に組成物の粘度が下がりハジキ故障が生じることがある。発明者らが検討した結果、界面活性剤のδＤとハジキ故障の相関があることが明らかになった。具体的には、界面活性剤のδＤが１５．５以上１７．５以下が好ましく、１５．８以上１７．０以下がより好ましい。
【0058】
（繰り返し単位Ｆ）
上記共重合体が有する繰り返し単位Ｆは、下記式（ａ）で表される繰り返し単位であることが好ましい。
上記共重合体が有する繰り返し単位Ｆは、下記式（ａ）で表される繰り返し単位であることが好ましい。
【化7】
【0059】
上記式（ａ）中、Ｒａ１は、水素原子または炭素数１～２０のアルキル基を表し、Ｒａ２は、少なくともひとつの炭素原子がフッ素原子を置換基として有する炭素数１～２０のアルキル基もしくは炭素数２～２０のアルケニル基を表す。
【0060】
上記式（ａ）中、Ｒａ２は、得られる光吸収異方性層の配向欠陥がより抑制される理由から、少なくともひとつの炭素原子がフッ素原子を置換基として有する炭素数１～１０のアルキル基もしくは炭素数２～１０のアルケニレン基が好ましく、炭素数１～１０のアルキル基であることがより好ましく、Ｒａ２に含まれる半数以上の炭素原子がフッ素原子を置換基として有することが特に好ましい。
【0061】
本発明においては、上記共重合体が有する繰り返し単位Ｆは、下記式（ｂ）で表される繰り返し単位であることがより好ましい。
【化8】
【0062】
上記式（ｂ）中、Ｒａ１は、水素原子または炭素数１～２０のアルキル基を表し、ｍａおよびｎａは、それぞれ独立に０以上の整数を表し、Ｘは、水素原子またはフッ素原子を表す。
ここで、ｍａは、１以上１０以下の整数であることが好ましく、ｎａは、４以上１２以下が好ましい。
ここで、ｍａは、１以上１０以下の整数であることが好ましく、ｎａは、４以上１２以下が好ましい。
【0063】
上記共重合体が有する繰り返し単位Ｆを形成する単量体（以下、「フルオロアルキル基含有モノマー」とも略す。）としては、具体的には、例えば、２，２，２－トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、２，２，３，３，３－ペンタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、２－（パーフルオロブチル）エチル（メタ）アクリレート、２－（パーフルオロヘキシル）エチル（メタ）アクリレート、２－（パーフルオロオクチル）エチル（メタ）アクリレート、２－（パーフルオロデシル）エチル（メタ）アクリレート、２－（パーフルオロ－３－メチルブチル）エチル（メタ）アクリレート、２－（パーフルオロ－５－メチルヘキシル）エチル（メタ）アクリレート、２－（パーフルオロ－７－メチルオクチル）エチル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ，３Ｈ－テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ，５Ｈ－オクタフルオロペンチル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ，７Ｈ－ドデカフルオロヘプチル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ，９Ｈ－ヘキサデカフルオロノニル（メタ）アクリレート、１Ｈ－１－（トリフオロメチル）トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ，３Ｈ－ヘキサフルオロブチル（メタ）アクリレート、３－パーフルオロブチル－２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３－パーフルオロヘキシル－２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３－パーフルオロオクチル－２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３－（パーフルオロ－３－メチルブチル）－２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３－（パーフルオロ－５－メチルヘキシル）－２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３－（パーフルオロ－７－メチルオクチル）－２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【0064】
本発明において、フルオロアルキル基含有モノマーを共重合させる割合は、反応性や表面改質効果の観点から、後述するメソゲン基を有するモノマー１モルに対して、０．０１～１００モルであることが好ましく、０．１～５０モルであることがより好ましく、１～３０モルであることが更に好ましい。
【0065】
（繰り返し単位Ｍ）
上記共重合体が有する繰り返し単位Ｍは、環構造を含む単位であればよい。
環構造とは、例えば、芳香族炭化水素基、複素環基、および、脂環式基からなる群から選択される少なくとも１種の環構造を表す。配向欠陥を抑制する観点からは２個以上の環構造を有することが好ましい。
上記共重合体が有する繰り返し単位Ｍは、環構造を含む単位であればよい。
環構造とは、例えば、芳香族炭化水素基、複素環基、および、脂環式基からなる群から選択される少なくとも１種の環構造を表す。配向欠陥を抑制する観点からは２個以上の環構造を有することが好ましい。
【0066】
本発明においては、上記共重合体が有する繰り返し単位Ｆは、下記式（ｃ）で表される繰り返し単位であることがより好ましい。
【化9】
【0067】
上記式（ｃ）中、Ｒａ１は、水素原子または炭素数１～２０のアルキル基を表し、Ｌ４、Ｌ５は単結合または炭素数１～８のアルキレン基を表し、Ｇ１、Ｇ２は２価の環状基を表し、Ｔ１は末端基を表す。ｎは、０～４の整数を表す。
【0068】
Ｌ４、Ｌ５が表すアルキレン基については、アルキレン基を構成する１個以上の－ＣＨ２－は、単結合、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＲ３１－、－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｓ）－、－ＣＲ３２＝ＣＲ３２－、－Ｃ≡Ｃ－、－ＳｉＲ３３Ｒ３４－、－Ｎ＝Ｎ－、－ＣＲ３５＝Ｎ－Ｎ＝ＣＲ３６－、－ＣＲ３７＝Ｎ－、および、－ＳＯ２－からなる群より選択される少なくとも一種の基によって置き換えられていてもよく、Ｒ３１～Ｒ３７は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、または、炭素数１～１０の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基を表す。
また、Ｌが、アルキレン基を表す場合、アルキレン基を構成する１個以上の－ＣＨ２－に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、水酸基、炭素数１～１０の直鎖状のアルキル基および炭素数１～１０の分岐状のアルキル基からなる群より選択される少なくとも１種の基によって置き換えられていてもよい。
中でも、Ｌ４については炭素数４～６で末端が酸素のアルキレンオキシ基が好ましく、Ｌ５については、エステル基が最も好ましい。
また、Ｌが、アルキレン基を表す場合、アルキレン基を構成する１個以上の－ＣＨ２－に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、水酸基、炭素数１～１０の直鎖状のアルキル基および炭素数１～１０の分岐状のアルキル基からなる群より選択される少なくとも１種の基によって置き換えられていてもよい。
中でも、Ｌ４については炭素数４～６で末端が酸素のアルキレンオキシ基が好ましく、Ｌ５については、エステル基が最も好ましい。
【0069】
Ｇ１およびＧ２が表す２価の環状基は、それぞれ独立に、炭素数５～８の２価の脂環式炭化水素基または芳香族炭化水素基を表し、上記脂環式炭化水素基を構成する－ＣＨ２－の１個以上が－Ｏ－、－Ｓ－または－ＮＨ－で置換されていてもよい。さらに、脂環式炭化水素基または芳香族炭化水素基は複数が単結合していても良い。中でも、ベンゼン環が好ましい。
【0070】
Ｔ４が表す末端基としては、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数１～１０のアルコキシ基、炭素数１～１０のアルキルチオ基、炭素数１～１０のアルコキシカルボニルオキシ基、炭素数１～１０のアルコキシカルボニル基（ＲＯＣ（Ｏ）－：Ｒはアルキル基）、炭素数１～１０のアシルオキシ基、炭素数１～１０のアシルアミノ基、炭素数１～１０のアルコキシカルボニルアミノ基、炭素数１～１０のスルホニルアミノ基、炭素数１～１０のスルファモイル基、炭素数１～１０のカルバモイル基、炭素数１～１０のスルフィニル基、および、炭素数１～１０のウレイド基、（メタ）アクリロイルオキシ基含有基などが挙げられる。中でも、水素原子、シアノ基が最も好ましい。
【0071】
繰り返し単位Ｆの全体に対するモル比は、配向度の観点から５０モル％以上が好ましく、ハジキの観点から、７０モル％以下が好ましい。
【0072】
（含有量）
本発明においては、上述した界面活性剤の含有量は、得られる光吸収異方性層の配向度がより高くなる理由から、上記液晶性化合物１００質量部に対して０．０５～１５質量部であることが好ましく、０．０８～１０質量部であることがより好ましく、０．１～５質量部であることが更に好ましい。
本発明においては、上述した界面活性剤の含有量は、得られる光吸収異方性層の配向度がより高くなる理由から、上記液晶性化合物１００質量部に対して０．０５～１５質量部であることが好ましく、０．０８～１０質量部であることがより好ましく、０．１～５質量部であることが更に好ましい。
【0073】
＜重合開始剤＞
光吸収異方性層形成用組成物は、重合開始剤を含むことが好ましい。
重合開始剤としては特に制限はないが、感光性を有する化合物、すなわち光重合開始剤であることが好ましい。
光重合開始剤としては、各種の化合物を特に制限なく使用できる。光重合開始剤の例には、α－カルボニル化合物（米国特許第２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書）、アシロインエーテル（米国特許第２４４８８２８号明細書）、α－炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許第２７２２５１２号明細書）、多核キノン化合物（米国特許第３０４６１２７号および同２９５１７５８号の各明細書）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ－アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許第３５４９３６７号明細書）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０－１０５６６７号公報および米国特許第４２３９８５０号明細書）、オキサジアゾール化合物（米国特許第４２１２９７０号明細書）、ｏ－アシルオキシム化合物(特開２０１６－２７３８４明細書［００６５］)および、アシルフォスフィンオキシド化合物（特公昭６３－４０７９９号公報、特公平５－２９２３４号公報、特開平１０－９５７８８号公報および特開平１０－２９９９７号公報）などが挙げられる。
このような光重合開始剤としては、市販品も用いることができ、ＢＡＳＦ社製のイルガキュア－１８４、イルガキュア－９０７、イルガキュア－３６９、イルガキュア－６５１、イルガキュア－８１９、イルガキュア－ＯＸＥ－０１およびイルガキュア－ＯＸＥ－０２等が挙げられる。
光吸収異方性層形成用組成物は、重合開始剤を含むことが好ましい。
重合開始剤としては特に制限はないが、感光性を有する化合物、すなわち光重合開始剤であることが好ましい。
光重合開始剤としては、各種の化合物を特に制限なく使用できる。光重合開始剤の例には、α－カルボニル化合物（米国特許第２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書）、アシロインエーテル（米国特許第２４４８８２８号明細書）、α－炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許第２７２２５１２号明細書）、多核キノン化合物（米国特許第３０４６１２７号および同２９５１７５８号の各明細書）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ－アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許第３５４９３６７号明細書）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０－１０５６６７号公報および米国特許第４２３９８５０号明細書）、オキサジアゾール化合物（米国特許第４２１２９７０号明細書）、ｏ－アシルオキシム化合物(特開２０１６－２７３８４明細書［００６５］)および、アシルフォスフィンオキシド化合物（特公昭６３－４０７９９号公報、特公平５－２９２３４号公報、特開平１０－９５７８８号公報および特開平１０－２９９９７号公報）などが挙げられる。
このような光重合開始剤としては、市販品も用いることができ、ＢＡＳＦ社製のイルガキュア－１８４、イルガキュア－９０７、イルガキュア－３６９、イルガキュア－６５１、イルガキュア－８１９、イルガキュア－ＯＸＥ－０１およびイルガキュア－ＯＸＥ－０２等が挙げられる。
【0074】
光吸収異方性層形成用組成物が重合開始剤を含有する場合、重合開始剤の含有量は、光吸収異方性層形成用組成物中の上記二色性物質と上記液晶性化合物との合計１００質量部に対し、０．０１～３０質量部が好ましく、０．１～１５質量部がより好ましい。重合開始剤の含有量が０．０１質量部以上であることで、光吸収異方性膜の耐久性が良好となり、３０質量部以下であることで、光吸収異方性膜の配向度がより良好となる。
重合開始剤は、１種単独で用いても２種以上を併用してもよい。重合開始剤を２種以上含む場合、その合計量が上記範囲内であるのが好ましい。
重合開始剤は、１種単独で用いても２種以上を併用してもよい。重合開始剤を２種以上含む場合、その合計量が上記範囲内であるのが好ましい。
【0075】
＜溶媒＞
本発明の光吸収異方性層形成用の着色組成物は、作業性等の観点から、溶媒を含有するのが好ましい。
溶媒としては、例えば、ケトン類（例えば、アセトン、２－ブタノン、メチルイソブチルケトン、シクロペタンタノン、シクロヘキサノンなど）、エーテル類（例えば、ジオキサン、テトラヒドロフラン、２－メチルテトラヒドロフラン、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロピラン、ジオキソランなど）、脂肪族炭化水素類（例えば、ヘキサンなど）、脂環式炭化水素類（例えば、シクロヘキサンなど）、芳香族炭化水素類（例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、トリメチルベンゼンなど）、ハロゲン化炭素類（例えば、ジクロロメタン、トリクロロメタン、ジクロロエタン、ジクロロベンゼン、クロロトルエンなど）、エステル類（例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチルなど）、アルコール類（例えば、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノール、イソペンチルアルコール、ネオペンチルアルコール、ジアセトンアルコール、ベンジルアルコールなど）、セロソルブ類（例えば、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、１，２－ジメトキシエタンなど）、セロソルブアセテート類、スルホキシド類（例えば、ジメチルスルホキシドなど）、アミド類（例えば、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチルピロリドン、Ｎ－エチルピロリドンなど）、および、ヘテロ環化合物（例えば、ピリジンなど）などの有機溶媒、ならびに、水が挙げられる。これの溶媒は、１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
これらの溶媒のうち、溶解性に優れるという効果を活かす観点から、ケトン類（特にシクロペンタノン、シクロヘキサノン）、エーテル類（特にテトラヒドロフラン、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロピラン、ジオキソラン）、および、アミド類（特に、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチルピロリドン、Ｎ－エチルピロリドン）が好ましい。
本発明の光吸収異方性層形成用の着色組成物は、作業性等の観点から、溶媒を含有するのが好ましい。
溶媒としては、例えば、ケトン類（例えば、アセトン、２－ブタノン、メチルイソブチルケトン、シクロペタンタノン、シクロヘキサノンなど）、エーテル類（例えば、ジオキサン、テトラヒドロフラン、２－メチルテトラヒドロフラン、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロピラン、ジオキソランなど）、脂肪族炭化水素類（例えば、ヘキサンなど）、脂環式炭化水素類（例えば、シクロヘキサンなど）、芳香族炭化水素類（例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、トリメチルベンゼンなど）、ハロゲン化炭素類（例えば、ジクロロメタン、トリクロロメタン、ジクロロエタン、ジクロロベンゼン、クロロトルエンなど）、エステル類（例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチルなど）、アルコール類（例えば、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノール、イソペンチルアルコール、ネオペンチルアルコール、ジアセトンアルコール、ベンジルアルコールなど）、セロソルブ類（例えば、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、１，２－ジメトキシエタンなど）、セロソルブアセテート類、スルホキシド類（例えば、ジメチルスルホキシドなど）、アミド類（例えば、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチルピロリドン、Ｎ－エチルピロリドンなど）、および、ヘテロ環化合物（例えば、ピリジンなど）などの有機溶媒、ならびに、水が挙げられる。これの溶媒は、１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
これらの溶媒のうち、溶解性に優れるという効果を活かす観点から、ケトン類（特にシクロペンタノン、シクロヘキサノン）、エーテル類（特にテトラヒドロフラン、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロピラン、ジオキソラン）、および、アミド類（特に、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチルピロリドン、Ｎ－エチルピロリドン）が好ましい。
【0076】
光吸収異方性層形成用組成物が溶媒を含有する場合、溶媒の含有量は、光吸収異方性層形成用組成物の全質量に対して、８０～９９質量％であることが好ましく、８３～９７質量％であることがより好ましく、８５～９５質量％であることが特に好ましい。
溶媒は、１種単独で用いても２種以上を併用してもよい。溶媒を２種以上含む場合、その合計量が上記範囲内であるのが好ましい。
溶媒は、１種単独で用いても２種以上を併用してもよい。溶媒を２種以上含む場合、その合計量が上記範囲内であるのが好ましい。
【0077】
＜光吸収異方性層の形成方法＞
光吸収異方性層の形成方法は特に限定されず、上述した光吸収異方性層形成用組成物を後述する配向層上に塗布して塗布膜を形成する工程（以下、「塗布膜形成工程」ともいう。）と、塗布膜に含まれる液晶性成分や二色性物質を配向させる工程（以下、「配向工程」ともいう。）と、をこの順に含む方法が挙げられる。
なお、液晶性成分とは、上述した液晶性化合物だけでなく、上述した二色性物質が液晶性を有している場合は、液晶性を有する二色性物質も含む成分である。
光吸収異方性層の形成方法は特に限定されず、上述した光吸収異方性層形成用組成物を後述する配向層上に塗布して塗布膜を形成する工程（以下、「塗布膜形成工程」ともいう。）と、塗布膜に含まれる液晶性成分や二色性物質を配向させる工程（以下、「配向工程」ともいう。）と、をこの順に含む方法が挙げられる。
なお、液晶性成分とは、上述した液晶性化合物だけでなく、上述した二色性物質が液晶性を有している場合は、液晶性を有する二色性物質も含む成分である。
【0078】
（塗布膜形成工程）
塗布膜形成工程は、光吸収異方性層形成用組成物を後述する配向層上に塗布して塗布膜を形成する工程である。
上述した溶媒を含有する光吸収異方性層形成用組成物を用いたり、光吸収異方性層形成用組成物を加熱などによって溶融液などの液状物としたものを用いたりすることにより、後述する配向層上に光吸収異方性層形成用組成物を塗布することが容易になる。
光吸収異方性層形成用組成物の塗布方法としては、具体的には、例えば、ロールコーティング法、グラビア印刷法、スピンコート法、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法、スプレー法、および、インクジェット法などの公知の方法が挙げられる。
塗布膜形成工程は、光吸収異方性層形成用組成物を後述する配向層上に塗布して塗布膜を形成する工程である。
上述した溶媒を含有する光吸収異方性層形成用組成物を用いたり、光吸収異方性層形成用組成物を加熱などによって溶融液などの液状物としたものを用いたりすることにより、後述する配向層上に光吸収異方性層形成用組成物を塗布することが容易になる。
光吸収異方性層形成用組成物の塗布方法としては、具体的には、例えば、ロールコーティング法、グラビア印刷法、スピンコート法、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法、スプレー法、および、インクジェット法などの公知の方法が挙げられる。
【0079】
（配向工程）
配向工程は、塗布膜に含まれる液晶性成分を配向させる工程である。これにより、光吸収異方性層が得られる。
配向工程は、乾燥処理を有していてもよい。乾燥処理によって、溶媒などの成分を塗布膜から除去することができる。乾燥処理は、塗布膜を室温下において所定時間放置する方法（例えば、自然乾燥）によって行われてもよいし、加熱および／または送風する方法によって行われてもよい。
ここで、光吸収異方性層形成用組成物に含まれる液晶性成分は、上述した塗布膜形成工程または乾燥処理によって、配向する場合がある。例えば、光吸収異方性層形成用組成物が溶媒を含む塗布液として調製されている態様では、塗布膜を乾燥して、塗布膜から溶媒を除去することで、光吸収異方性を持つ塗布膜（すなわち、光吸収異方性膜）が得られる。
乾燥処理が塗布膜に含まれる液晶性成分の液晶相への転移温度以上の温度により行われる場合には、後述する加熱処理は実施しなくてもよい。
配向工程は、塗布膜に含まれる液晶性成分を配向させる工程である。これにより、光吸収異方性層が得られる。
配向工程は、乾燥処理を有していてもよい。乾燥処理によって、溶媒などの成分を塗布膜から除去することができる。乾燥処理は、塗布膜を室温下において所定時間放置する方法（例えば、自然乾燥）によって行われてもよいし、加熱および／または送風する方法によって行われてもよい。
ここで、光吸収異方性層形成用組成物に含まれる液晶性成分は、上述した塗布膜形成工程または乾燥処理によって、配向する場合がある。例えば、光吸収異方性層形成用組成物が溶媒を含む塗布液として調製されている態様では、塗布膜を乾燥して、塗布膜から溶媒を除去することで、光吸収異方性を持つ塗布膜（すなわち、光吸収異方性膜）が得られる。
乾燥処理が塗布膜に含まれる液晶性成分の液晶相への転移温度以上の温度により行われる場合には、後述する加熱処理は実施しなくてもよい。
【0080】
塗布膜に含まれる液晶性成分の液晶相への転移温度は、製造適性等の面から１０～２５０℃が好ましく、２５～１９０℃がより好ましい。上記転移温度が１０℃以上であると、液晶相を呈する温度範囲にまで温度を下げるための冷却処理等が必要とならず、好ましい。また、上記転移温度が２５０℃以下であると、一旦液晶相を呈する温度範囲よりもさらに高温の等方性液体状態にする場合にも高温を要さず、熱エネルギーの浪費、ならびに、基板の変形および変質等を低減できるため、好ましい。
【0081】
配向工程は、加熱処理を有することが好ましい。これにより、塗布膜に含まれる液晶性成分を配向させることができるため、加熱処理後の塗布膜を光吸収異方性膜として好適に使用できる。
加熱処理は、製造適性等の面から１０～２５０℃が好ましく、２５～１９０℃がより好ましい。また、加熱時間は、１～３００秒が好ましく、１～６０秒がより好ましい。
加熱処理は、製造適性等の面から１０～２５０℃が好ましく、２５～１９０℃がより好ましい。また、加熱時間は、１～３００秒が好ましく、１～６０秒がより好ましい。
【0082】
配向工程は、加熱処理後に実施される冷却処理を有していてもよい。冷却処理は、加熱後の塗布膜を室温（２０～２５℃）程度まで冷却する処理である。これにより、塗布膜に含まれる液晶性成分の配向を固定することができる。冷却手段としては、特に限定されず、公知の方法により実施できる。
以上の工程によって、光吸収異方性膜を得ることができる。
なお、本態様では、塗布膜に含まれる液晶性成分を配向する方法として、乾燥処理および加熱処理などを挙げているが、これに限定されず、公知の配向処理によって実施できる。
以上の工程によって、光吸収異方性膜を得ることができる。
なお、本態様では、塗布膜に含まれる液晶性成分を配向する方法として、乾燥処理および加熱処理などを挙げているが、これに限定されず、公知の配向処理によって実施できる。
【0083】
（他の工程）
光吸収異方性層の形成方法は、上記配向工程後に、光吸収異方性層を硬化させる工程（以下、「硬化工程」ともいう。）を有していてもよい。
硬化工程は、例えば、光吸収異方性層が架橋性基（重合性基）を有している場合には、加熱および／または光照射（露光）によって実施される。このなかでも、硬化工程は光照射によって実施されることが好ましい。
硬化に用いる光源は、赤外線、可視光または紫外線など、種々の光源を用いることが可能であるが、紫外線であることが好ましい。また、硬化時に加熱しながら紫外線を照射してもよいし、特定の波長のみを透過するフィルタを介して紫外線を照射してもよい。
露光が加熱しながら行われる場合、露光時の加熱温度は、液晶膜に含まれる液晶性成分の液晶相への転移温度にもよるが、２５～１４０℃であることが好ましい。
また、露光は、窒素雰囲気下で行われてもよい。ラジカル重合によって液晶膜の硬化が進行する場合において、酸素による重合の阻害が低減されるため、窒素雰囲気下で露光することが好ましい。
光吸収異方性層の形成方法は、上記配向工程後に、光吸収異方性層を硬化させる工程（以下、「硬化工程」ともいう。）を有していてもよい。
硬化工程は、例えば、光吸収異方性層が架橋性基（重合性基）を有している場合には、加熱および／または光照射（露光）によって実施される。このなかでも、硬化工程は光照射によって実施されることが好ましい。
硬化に用いる光源は、赤外線、可視光または紫外線など、種々の光源を用いることが可能であるが、紫外線であることが好ましい。また、硬化時に加熱しながら紫外線を照射してもよいし、特定の波長のみを透過するフィルタを介して紫外線を照射してもよい。
露光が加熱しながら行われる場合、露光時の加熱温度は、液晶膜に含まれる液晶性成分の液晶相への転移温度にもよるが、２５～１４０℃であることが好ましい。
また、露光は、窒素雰囲気下で行われてもよい。ラジカル重合によって液晶膜の硬化が進行する場合において、酸素による重合の阻害が低減されるため、窒素雰囲気下で露光することが好ましい。
【0084】
光吸収異方性層の厚さは、特に限定されないが、後述する本発明の積層体を偏光素子に用いた場合のフレキシブル性の観点から、１００～８０００ｎｍであることが好ましく、３００～５０００ｎｍであることがより好ましい。
【0085】
〔垂直配向光吸収異方性層〕
本発明の光吸収異方性層は、二色性物質を水平配向させてもよいし、垂直に配向させてもよい。垂直配向させた光吸収異方性層は、斜め方向に入射する偏光に対する吸収を有する特徴があり、視野角を制御するためのプライバシーフィルムなどに利用することが可能である。
二色性物質および液晶化合物を垂直配向させる観点から、下記の垂直配向剤を用いることが好ましい。
本発明の光吸収異方性層は、二色性物質を水平配向させてもよいし、垂直に配向させてもよい。垂直配向させた光吸収異方性層は、斜め方向に入射する偏光に対する吸収を有する特徴があり、視野角を制御するためのプライバシーフィルムなどに利用することが可能である。
二色性物質および液晶化合物を垂直配向させる観点から、下記の垂直配向剤を用いることが好ましい。
【0086】
（垂直配向剤）
垂直配向剤としては、ボロン酸化合物、及び、オニウム塩が挙げられる。
垂直配向剤としては、ボロン酸化合物、及び、オニウム塩が挙げられる。
【0087】
ボロン酸化合物としては、式（３０）で表される化合物が好ましい。
【0088】
式（３０）
【化10】
【0089】
式（３０）中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に、水素原子、置換若しくは無置換の脂肪族炭化水素基、置換若しくは無置換のアリール基、又は、置換若しくは無置換のヘテロ環基を表す。
Ｒ３は、（メタ）アクリル基を含む置換基を表す。
ボロン酸化合物の具体例としては、特開２００８－２２５２８１号公報の段落００２３～００３２に記載の一般式（Ｉ）で表されるボロン酸化合物が挙げられる。
ボロン酸化合物としては、以下に例示する化合物も好ましい。
Ｒ３は、（メタ）アクリル基を含む置換基を表す。
ボロン酸化合物の具体例としては、特開２００８－２２５２８１号公報の段落００２３～００３２に記載の一般式（Ｉ）で表されるボロン酸化合物が挙げられる。
ボロン酸化合物としては、以下に例示する化合物も好ましい。
【0090】
【化11】
【0091】
オニウム塩としては、式（３１）で表される化合物が好ましい。
【0092】
式（３１）
【化12】
【0093】
式（３１）中、環Ａは、含窒素複素環からなる第４級アンモニウムイオンを表す。Ｘは、アニオンを表す。Ｌ１は、２価の連結基を表す。Ｌ２は、単結合、又は、２価の連結基を表す。Ｙ１は、５又は６員環を部分構造として有する２価の連結基を表す。Ｚは、２～２０のアルキレン基を部分構造として有する２価の連結基を表す。Ｐ１及びＰ２は、それぞれ独立に、重合性エチレン性不飽和結合を有する一価の置換基を表す。
オニウム塩の具体例としては、特開２０１２－２０８３９７号公報の段落００５２～００５８号公報に記載のオニウム塩、特開２００８－０２６７３０号公報の段落００２４～００５５に記載のオニウム塩、及び、特開２００２－３７７７７号公報に記載のオニウム塩が挙げられる。
オニウム塩の具体例としては、特開２０１２－２０８３９７号公報の段落００５２～００５８号公報に記載のオニウム塩、特開２００８－０２６７３０号公報の段落００２４～００５５に記載のオニウム塩、及び、特開２００２－３７７７７号公報に記載のオニウム塩が挙げられる。
【0094】
組成物中の垂直配向剤の含有量は、液晶性化合物全質量に対して、０．１～４００質量％が好ましく、０．５～３５０質量％がより好ましい。
垂直配向剤は、単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。垂直配向剤が２種以上を用いられる場合、それらの合計量が上記範囲であることが好ましい。
垂直配向剤は、単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。垂直配向剤が２種以上を用いられる場合、それらの合計量が上記範囲であることが好ましい。
【0095】
（垂直配向に適したレベリング剤）
垂直配向の場合は、以下のレベリング剤を含むことが好ましい。組成物がレベリング剤を含むと、光吸収異方性層の表面にかかる乾燥風による面状の荒れを抑制し、二色性物質がより均一に配向する。
レベリング剤は特に制限されず、フッ素原子を含むレベリング剤（フッ素系レベリング剤）、又は、ケイ素原子を含むレベリング剤（ケイ素系レベリング剤）が好ましく、フッ素系レベリング剤がより好ましい。
垂直配向の場合は、以下のレベリング剤を含むことが好ましい。組成物がレベリング剤を含むと、光吸収異方性層の表面にかかる乾燥風による面状の荒れを抑制し、二色性物質がより均一に配向する。
レベリング剤は特に制限されず、フッ素原子を含むレベリング剤（フッ素系レベリング剤）、又は、ケイ素原子を含むレベリング剤（ケイ素系レベリング剤）が好ましく、フッ素系レベリング剤がより好ましい。
【0096】
フッ素系レベリング剤としては、脂肪酸の一部がフルオロアルキル基で置換された多価カルボン酸の脂肪酸エステル類、及び、フルオロ置換基を有するポリアクリレート類が挙げられる。特に、二色性物質及び液晶性化合物として棒状化合物を用いる場合、二色性物質及び液晶性化合物の垂直配向を促進する点から、式（４０）で表される化合物由来の繰り返し単位を含むレベリング剤が好ましい。
【0097】
式（４０）
【化13】
【0098】
Ｒ０は、水素原子、ハロゲン原子、又は、メチル基を表す。
Ｌは、２価の連結基を表す。Ｌとしては、炭素数２～１６のアルキレン基が好ましく、上記アルキレン基において隣接しない任意の－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＣＯ－、又は、－ＣＯＮＨ－に置換されていてもよい。
ｎは、１～１８の整数を表す。
Ｌは、２価の連結基を表す。Ｌとしては、炭素数２～１６のアルキレン基が好ましく、上記アルキレン基において隣接しない任意の－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＣＯ－、又は、－ＣＯＮＨ－に置換されていてもよい。
ｎは、１～１８の整数を表す。
【0099】
式（４０）で表される化合物由来の繰り返し単位を有するレベリング剤は、さらに他の繰り返し単位を含んでいてもよい。
他の繰り返し単位としては、式（４１）で表される化合物由来の繰り返し単位が挙げられる。
他の繰り返し単位としては、式（４１）で表される化合物由来の繰り返し単位が挙げられる。
【0100】
式（４１）
【化14】
【0101】
Ｒ１１は、水素原子、ハロゲン原子、又は、メチル基を表す。
Ｘは、酸素原子、硫黄原子、又は、－Ｎ（Ｒ１３）－を表す。Ｒ１３は、水素原子、又は、炭素数１～８のアルキル基を表す。
Ｒ１２は、水素原子、置換基を有してもよいアルキル基、又は、置換基を有していてもよい芳香族基を表す。上記アルキル基の炭素数は、１～２０が好ましい。上記アルキル基は、直鎖状、分岐鎖状、及び、環状のいずれであってもよい。
また、上記アルキル基の有していてもよい置換基としては、ポリ（アルキレンオキシ）基、及び、重合性基が挙げられる。重合性基の定義は、上述した通りである。
Ｘは、酸素原子、硫黄原子、又は、－Ｎ（Ｒ１３）－を表す。Ｒ１３は、水素原子、又は、炭素数１～８のアルキル基を表す。
Ｒ１２は、水素原子、置換基を有してもよいアルキル基、又は、置換基を有していてもよい芳香族基を表す。上記アルキル基の炭素数は、１～２０が好ましい。上記アルキル基は、直鎖状、分岐鎖状、及び、環状のいずれであってもよい。
また、上記アルキル基の有していてもよい置換基としては、ポリ（アルキレンオキシ）基、及び、重合性基が挙げられる。重合性基の定義は、上述した通りである。
【0102】
レベリング剤が、式（４０）で表される化合物由来の繰り返し単位、及び、式（４１）で表される化合物由来の繰り返し単位を含む場合、式（４０）で表される化合物由来の繰り返し単位の含有量は、レベリング剤が含む全繰り返し単位に対して、１０～９０モル％が好ましく、１５～９５モル％がより好ましい。
レベリング剤が、式（４０）で表される化合物由来の繰り返し単位、及び、式（４１）で表される化合物由来の繰り返し単位を含む場合、式（４１）で表される化合物由来の繰り返し単位の含有量は、レベリング剤が含む全繰り返し単位に対して、１０～９０モル％が好ましく、５～８５モル％がより好ましい。
レベリング剤が、式（４０）で表される化合物由来の繰り返し単位、及び、式（４１）で表される化合物由来の繰り返し単位を含む場合、式（４１）で表される化合物由来の繰り返し単位の含有量は、レベリング剤が含む全繰り返し単位に対して、１０～９０モル％が好ましく、５～８５モル％がより好ましい。
【0103】
また、レベリング剤としては、上述した式（４０）で表される化合物由来の繰り返し単位に代えて、式（４２）で表される化合物由来の繰り返し単位を含むレベリング剤も挙げられる。
【0104】
式（４２）
【化15】
【0105】
Ｒ２は、水素原子、ハロゲン原子、又は、メチル基を表す。
Ｌ２は、２価の連結基を表す。
ｎは、１～１８の整数を表す。
Ｌ２は、２価の連結基を表す。
ｎは、１～１８の整数を表す。
【0106】
レベリング剤の具体例としては、特開２００４－３３１８１２号公報の段落００４６～００５２に例示される化合物、及び、特開２００８－２５７２０５号公報の段落００３８～００５２に記載の化合物が挙げられる。
【0107】
組成物中のレベリング剤の含有量は、液晶性化合物全質量に対して、１０～８０質量％が好ましく、２０～６０質量％がより好ましい。
レベリング剤は、単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。レベリング剤が２種以上を用いられる場合、それらの合計量が上記範囲であることが好ましい。
レベリング剤は、単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。レベリング剤が２種以上を用いられる場合、それらの合計量が上記範囲であることが好ましい。
【0108】
〔配向層〕
本発明の積層体は、上述した液晶の配向させるために配向層を有することが好ましい。
配向層を形成する方法としては、例えば、有機化合物（好ましくはポリマー）の膜表面へのラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログルーブを有する層の形成、および、ラングミュアブロジェット法（ＬＢ膜）による有機化合物（例えば、ω－トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライド、ステアリル酸メチルなど）の累積などの手法が挙げられる。さらに、電場の付与、磁場の付与あるいは光照射により、配向機能が生じる配向層も知られている。
なかでも、本発明では、配向層のプレチルト角の制御し易さの点からはラビング処理により形成する配向層（ラビング処理配向層）が好ましいが、本発明にとって重要である配向の均一性の点から、ラジカル重合性化合物（例えば、エチレン性不飽和二重結合を有する基を含有する化合物など）を含有する組成物から形成された配向層がより好ましく、光照射により形成する光配向層が更に好ましい。
なお、このような配向層を用いる場合、本発明の積層体は、そのまま配向層を有している状態であってもよく、配向層をはく離した状態であってもよい。
本発明の積層体は、上述した液晶の配向させるために配向層を有することが好ましい。
配向層を形成する方法としては、例えば、有機化合物（好ましくはポリマー）の膜表面へのラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログルーブを有する層の形成、および、ラングミュアブロジェット法（ＬＢ膜）による有機化合物（例えば、ω－トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライド、ステアリル酸メチルなど）の累積などの手法が挙げられる。さらに、電場の付与、磁場の付与あるいは光照射により、配向機能が生じる配向層も知られている。
なかでも、本発明では、配向層のプレチルト角の制御し易さの点からはラビング処理により形成する配向層（ラビング処理配向層）が好ましいが、本発明にとって重要である配向の均一性の点から、ラジカル重合性化合物（例えば、エチレン性不飽和二重結合を有する基を含有する化合物など）を含有する組成物から形成された配向層がより好ましく、光照射により形成する光配向層が更に好ましい。
なお、このような配向層を用いる場合、本発明の積層体は、そのまま配向層を有している状態であってもよく、配向層をはく離した状態であってもよい。
【0109】
＜ラビング処理配向層＞
ラビング処理により形成される配向層に用いられるポリマー材料としては、多数の文献に記載があり、多数の市販品を入手することができる。本発明においては、ポリビニルアルコール又はポリイミド、及びその誘導体が好ましく用いられる。配向層については国際公開第２００１／８８５７４Ａ１号公報の４３頁２４行～４９頁８行の記載を参照することができる。配向層の厚さは、０．０１～１０μｍであることが好ましく、０．０１～２μｍであることが更に好ましい。
ラビング処理により形成される配向層に用いられるポリマー材料としては、多数の文献に記載があり、多数の市販品を入手することができる。本発明においては、ポリビニルアルコール又はポリイミド、及びその誘導体が好ましく用いられる。配向層については国際公開第２００１／８８５７４Ａ１号公報の４３頁２４行～４９頁８行の記載を参照することができる。配向層の厚さは、０．０１～１０μｍであることが好ましく、０．０１～２μｍであることが更に好ましい。
【0110】
＜光配向層＞
本発明の積層体が有していてもよい光配向層は、特に制限されず、公知の光配向層を用いることができる。
光配向層を形成するための材料は特に制限されないが、通常、光配向性基を有する化合物が使用される。化合物としては、光配向性基を含む繰り返し単位を有する重合体（ポリマー）であってもよい。
上記光配向性基は、光照射により膜に異方性を付与することができる官能基である。より具体的には、光（例えば、直線偏光）の照射により、その基中の分子構造に変化が起こり得る基である。典型的には、光（例えば、直線偏光）の照射により、光異性化反応、光二量化反応、および光分解反応から選ばれる少なくとも１つの光反応が引き起こされる基をいう。
これら光配向性基のなかでも、光異性化反応を起こす基（光異性化する構造を有する基）、および、光二量化反応を起こす基（光二量化する構造を有する基）が好ましく、光二量化反応を起こす基がより好ましい。
本発明の積層体が有していてもよい光配向層は、特に制限されず、公知の光配向層を用いることができる。
光配向層を形成するための材料は特に制限されないが、通常、光配向性基を有する化合物が使用される。化合物としては、光配向性基を含む繰り返し単位を有する重合体（ポリマー）であってもよい。
上記光配向性基は、光照射により膜に異方性を付与することができる官能基である。より具体的には、光（例えば、直線偏光）の照射により、その基中の分子構造に変化が起こり得る基である。典型的には、光（例えば、直線偏光）の照射により、光異性化反応、光二量化反応、および光分解反応から選ばれる少なくとも１つの光反応が引き起こされる基をいう。
これら光配向性基のなかでも、光異性化反応を起こす基（光異性化する構造を有する基）、および、光二量化反応を起こす基（光二量化する構造を有する基）が好ましく、光二量化反応を起こす基がより好ましい。
【0111】
上記光異性化反応とは、光の作用で立体異性化、または、構造異性化を引き起こす反応をいう。このような光異性化反応を起こす物質としては、例えば、アゾベンゼン構造を有する物質（K. Ichimura et al., Mol.Cryst.Liq.Cryst., 298, page 221 (1997)）、ヒドラゾノ－β－ケトエステル構造を有する物質（S. Yamamura et al., Liquid Crystals, vol. 13, No. 2, page 189 (1993)）、スチルベン構造を有する物質（J.G.Victor and J.M.Torkelson, Macromolecules, 20, page 2241 (1987)）、桂皮酸（シンナモイル）構造（骨格）を有する基、およびスピロピラン構造を有する物質（K. Ichimura et al., Chemistry Letters, page 1063 (1992) ；K.Ichimura et al., Thin Solid Films, vol. 235, page 101 (1993)）などが知られている。
上記光異性化反応を起こす基としては、Ｃ＝Ｃ結合またはＮ＝Ｎ結合を含む光異性化反応を起こす基が好ましく、このような基としては、例えば、アゾベンゼン構造（骨格）を有する基、ヒドラゾノ－β－ケトエステル構造（骨格）を有する基、スチルベン構造（骨格）を有する基、桂皮酸（シンナモイル）構造（骨格）を有する基、および、スピロピラン構造（骨格）を有する基などが挙げられる。これら基のなかでも、シンナモイル構造を有する基、クマリン構造を有する基が好ましく、シンナモイル構造を有する基がより好ましい。
上記光異性化反応を起こす基としては、Ｃ＝Ｃ結合またはＮ＝Ｎ結合を含む光異性化反応を起こす基が好ましく、このような基としては、例えば、アゾベンゼン構造（骨格）を有する基、ヒドラゾノ－β－ケトエステル構造（骨格）を有する基、スチルベン構造（骨格）を有する基、桂皮酸（シンナモイル）構造（骨格）を有する基、および、スピロピラン構造（骨格）を有する基などが挙げられる。これら基のなかでも、シンナモイル構造を有する基、クマリン構造を有する基が好ましく、シンナモイル構造を有する基がより好ましい。
【0112】
上記光二量化反応とは、光の作用で二つの基の間で付加反応が起こり、典型的には環構造が形成される反応をいう。このような光二量化を起こす物質としては、例えば、桂皮酸構造を有する物質（M. Schadt et al., J. Appl. Phys., vol. 31, No. 7, page 2155 (1992)）、クマリン構造を有する物質（M. Schadt et al., Nature., vol. 381, page 212 (1996)）、カルコン構造を有する物質（小川俊博他、液晶討論会講演予稿集，2AB03(1997))、ベンゾフェノン構造を有する物質（Y. K. Jang et al., SID Int. Symposium Digest, P-53(1997)）などが知られている。
上記光二量化反応を起こす基としては、例えば、桂皮酸（シンナモイル）構造（骨格）を有する基、クマリン構造（骨格）を有する基、カルコン構造（骨格）を有する基、ベンゾフェノン構造（骨格）を有する基、および、アントラセン構造（骨格）を有する基などが挙げられる。これら基のなかでも、シンナモイル構造を有する基、クマリン構造を有する基が好ましく、シンナモイル構造を有する基がより好ましい。
上記光二量化反応を起こす基としては、例えば、桂皮酸（シンナモイル）構造（骨格）を有する基、クマリン構造（骨格）を有する基、カルコン構造（骨格）を有する基、ベンゾフェノン構造（骨格）を有する基、および、アントラセン構造（骨格）を有する基などが挙げられる。これら基のなかでも、シンナモイル構造を有する基、クマリン構造を有する基が好ましく、シンナモイル構造を有する基がより好ましい。
【0113】
また、上記光配向性基を有する化合物は、さらに、架橋性基を有することが好ましい。
上記架橋性基としては、熱の作用により硬化反応を起こす熱架橋性基、光の作用により硬化反応を起こす光架橋性基が好ましく、熱架橋性基および光架橋性基をいずれも有する架橋性基であってもよい。
上記架橋性基としては、例えば、エポキシ基、オキセタニル基、－ＮＨ－ＣＨ2－Ｏ－Ｒ（Ｒは水素原子または炭素数１～２０のアルキル基を表す。）で表される基、ラジカル重合性基（エチレン性不飽和二重結合を有する基）、および、ブロックイソシアネート基からなる群から選ばれた少なくとも１つが挙げられる。なかでも、エポキシ基、オキセタニル基、エチレン性不飽和二重結合を有する基が好ましい。
なお、３員環の環状エーテル基はエポキシ基とも呼ばれ、４員環の環状エーテル基はオキセタニル基とも呼ばれる。
また、ラジカル重合性基（エチレン性不飽和二重結合を有する基）としては、具体的には、例えば、ビニル基、アリル基、スチリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基が挙げられ、アクリロイル基またはメタクリロイル基であることが好ましい。
上記架橋性基としては、熱の作用により硬化反応を起こす熱架橋性基、光の作用により硬化反応を起こす光架橋性基が好ましく、熱架橋性基および光架橋性基をいずれも有する架橋性基であってもよい。
上記架橋性基としては、例えば、エポキシ基、オキセタニル基、－ＮＨ－ＣＨ2－Ｏ－Ｒ（Ｒは水素原子または炭素数１～２０のアルキル基を表す。）で表される基、ラジカル重合性基（エチレン性不飽和二重結合を有する基）、および、ブロックイソシアネート基からなる群から選ばれた少なくとも１つが挙げられる。なかでも、エポキシ基、オキセタニル基、エチレン性不飽和二重結合を有する基が好ましい。
なお、３員環の環状エーテル基はエポキシ基とも呼ばれ、４員環の環状エーテル基はオキセタニル基とも呼ばれる。
また、ラジカル重合性基（エチレン性不飽和二重結合を有する基）としては、具体的には、例えば、ビニル基、アリル基、スチリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基が挙げられ、アクリロイル基またはメタクリロイル基であることが好ましい。
【0114】
上記光配向層の好適態様の一つとしては、シンナメート基を含む繰り返し単位ａ１を有する重合体Ａと、シンナメート基を有し、上記重合体Ａよりも分子量が小さい低分子化合物Ｂとを含む光配向層形成用組成物を用いて形成される光配向層が挙げられる。
【0115】
ここで、本明細書において、シンナメート基とは、桂皮酸またはその誘導体を基本骨格として含む桂皮酸構造を有する基であって、下記式（Ｉ）または下記式（ＩＩ）で表される基をいう。
【0116】
【化16】
【0117】
式中、Ｒ１は水素原子または１価の有機基を表し、Ｒ２は１価の有機基を表す。式（Ｉ）中、ａは０～５の整数を表し、式（ＩＩ）中、ａは０～４を表す。ａが２以上の場合、複数のＲ1はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。＊は結合手であることを示す。
【0118】
重合体Ａは、シンナメート基を含む繰り返し単位ａ１を有する重合体であれば特に制限されず、従来公知の重合体を用いることができる。
重合体Ａの重量平均分子量は、１０００～５０００００が好ましく、２０００～３０００００がより好ましく、３０００～２０００００がさらに好ましい。
ここで、重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）測定によるポリスチレン（ＰＳ）換算値として定義され、本発明におけるＧＰＣによる測定は、ＨＬＣ－８２２０ＧＰＣ（東ソー（株）製）を用い、カラムとしてＴＳＫｇｅｌ Ｓｕｐｅｒ ＨＺＭ－Ｈ、ＨＺ４０００、ＨＺ２０００を用いて測定できる。
重合体Ａの重量平均分子量は、１０００～５０００００が好ましく、２０００～３０００００がより好ましく、３０００～２０００００がさらに好ましい。
ここで、重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）測定によるポリスチレン（ＰＳ）換算値として定義され、本発明におけるＧＰＣによる測定は、ＨＬＣ－８２２０ＧＰＣ（東ソー（株）製）を用い、カラムとしてＴＳＫｇｅｌ Ｓｕｐｅｒ ＨＺＭ－Ｈ、ＨＺ４０００、ＨＺ２０００を用いて測定できる。
【0119】
上記重合体Ａが有するシンナメート基を含む繰り返し単位ａ１としては、例えば、下記式（Ａ１）～（Ａ４）で表される繰り返し単位が挙げられる。
【0120】
【化17】
【0121】
ここで、式（Ａ１）および式（Ａ３）中、Ｒ３は水素原子またはメチル基を表し、式（Ａ２）および式（Ａ４）中、Ｒ４は炭素数１～６のアルキル基を表す。
式（Ａ１）および式（Ａ２）中、Ｌ１は単結合または２価の連結基を表し、ａは０～５の整数を表し、Ｒ１は水素原子または１価の有機基を表す。
式（Ａ３）および式（Ａ４）中、Ｌ２は２価の連結基を表し、Ｒ２は１価の有機基を表す。
また、Ｌ１としては、具体的には、例えば、－ＣＯ－Ｏ－Ｐｈ－、－ＣＯ－Ｏ－Ｐｈ－Ｐｈ－、－ＣＯ－Ｏ－（ＣＨ２）ｎ－、－ＣＯ－Ｏ－（ＣＨ２）ｎ－Ｃｙ－、および、－（ＣＨ２）ｎ－Ｃｙ－などが挙げられる。ここで、Ｐｈは置換基を有していてもよい２価のベンゼン環（例えば、フェニレン基など）を表し、Ｃｙは置換基を有していてもよい２価のシクロヘキサン環（例えば、シクロヘキサン－１，４－ジイル基など）を表し、ｎは１～４の整数を表す。
また、Ｌ２としては、具体的には、例えば、－Ｏ－ＣＯ－、－Ｏ－ＣＯ－（ＣＨ２）ｍ－Ｏ－などが挙げられる。ここで、ｍは１～６の整数を表す。
また、Ｒ１の１価の有機基としては、例えば、炭素数１～２０の鎖状または環状のアルキル基、炭素数１～２０のアルコキシ基、および、置換基を有していてもよい炭素数６～２０のアリール基などが挙げられる。
また、Ｒ２の１価の有機基としては、例えば、炭素数１～２０の鎖状または環状のアルキル基、および、置換基を有していてもよい炭素数６～２０のアリール基などが挙げられる。
また、ａは１であるのが好ましく、Ｒ１がパラ位に有しているのが好ましい。
また、上述したＰｈ、Ｃｙおよびアリール基が有していてもよい置換基としては、例えば、アルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、および、アミノ基などが挙げられる。
式（Ａ１）および式（Ａ２）中、Ｌ１は単結合または２価の連結基を表し、ａは０～５の整数を表し、Ｒ１は水素原子または１価の有機基を表す。
式（Ａ３）および式（Ａ４）中、Ｌ２は２価の連結基を表し、Ｒ２は１価の有機基を表す。
また、Ｌ１としては、具体的には、例えば、－ＣＯ－Ｏ－Ｐｈ－、－ＣＯ－Ｏ－Ｐｈ－Ｐｈ－、－ＣＯ－Ｏ－（ＣＨ２）ｎ－、－ＣＯ－Ｏ－（ＣＨ２）ｎ－Ｃｙ－、および、－（ＣＨ２）ｎ－Ｃｙ－などが挙げられる。ここで、Ｐｈは置換基を有していてもよい２価のベンゼン環（例えば、フェニレン基など）を表し、Ｃｙは置換基を有していてもよい２価のシクロヘキサン環（例えば、シクロヘキサン－１，４－ジイル基など）を表し、ｎは１～４の整数を表す。
また、Ｌ２としては、具体的には、例えば、－Ｏ－ＣＯ－、－Ｏ－ＣＯ－（ＣＨ２）ｍ－Ｏ－などが挙げられる。ここで、ｍは１～６の整数を表す。
また、Ｒ１の１価の有機基としては、例えば、炭素数１～２０の鎖状または環状のアルキル基、炭素数１～２０のアルコキシ基、および、置換基を有していてもよい炭素数６～２０のアリール基などが挙げられる。
また、Ｒ２の１価の有機基としては、例えば、炭素数１～２０の鎖状または環状のアルキル基、および、置換基を有していてもよい炭素数６～２０のアリール基などが挙げられる。
また、ａは１であるのが好ましく、Ｒ１がパラ位に有しているのが好ましい。
また、上述したＰｈ、Ｃｙおよびアリール基が有していてもよい置換基としては、例えば、アルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、および、アミノ基などが挙げられる。
【0122】
光吸収異方性層の配向性がより向上する点、および、光吸収異方性層の密着性がより向上する点から、上記重合体Ａは、さらに、架橋性基を含む繰り返し単位ａ２を有しているのが好ましい。
架橋性基の定義および好適態様は、上述した通りである。
なかでも、架橋性基を含む繰り返し単位ａ２としては、エポキシ基、オキセタニル基、エチレン性不飽和二重結合を有する基を有する繰り返し単位が好ましい。
架橋性基の定義および好適態様は、上述した通りである。
なかでも、架橋性基を含む繰り返し単位ａ２としては、エポキシ基、オキセタニル基、エチレン性不飽和二重結合を有する基を有する繰り返し単位が好ましい。
【0123】
エポキシ基、オキセタニル基、エチレン性不飽和二重結合を有する基を有する繰り返し単位の好ましい具体例としては、下記の繰り返し単位が例示できる。なお、Ｒ３およびＲ４は、それぞれ、上述した式（Ａ１）および式（Ａ１）中のＲ３およびＲ４と同義である。
【0124】
【化18】
【0125】
上記重合体Ａは、上述した繰り返し単位ａ１および繰り返し単位ａ２以外の他の繰り返し単位を有していてもよい。
他の繰り返し単位を形成するモノマーとしては、例えば、アクリル酸エステル化合物、メタクリル酸エステル化合物、マレイミド化合物、アクリルアミド化合物、アクリロニトリル、マレイン酸無水物、スチレン化合物、および、ビニル化合物などが挙げられる。
他の繰り返し単位を形成するモノマーとしては、例えば、アクリル酸エステル化合物、メタクリル酸エステル化合物、マレイミド化合物、アクリルアミド化合物、アクリロニトリル、マレイン酸無水物、スチレン化合物、および、ビニル化合物などが挙げられる。
【0126】
光配向層形成用組成物中における上記重合体Ａの含有量は、後述する有機溶媒を含む場合、溶媒１００質量部に対して、０．１～５０質量部であるのが好ましく、０．５～１０質量部であるのがより好ましい。
【0127】
低分子化合物Ｂは、シンナメート基を有し、重合体Ａよりも分子量が小さい化合物である。低分子化合物Ｂを用いることにより、作製される光配向層の配向性がより良好となる。
光配向層の配向性がより向上する理由から、上記低分子化合物Ｂの分子量は、２００～５００が好ましく、２００～４００がより好ましい。
低分子化合物Ｂとしては、例えば、下記式（Ｂ１）で表される化合物が挙げられる。
光配向層の配向性がより向上する理由から、上記低分子化合物Ｂの分子量は、２００～５００が好ましく、２００～４００がより好ましい。
低分子化合物Ｂとしては、例えば、下記式（Ｂ１）で表される化合物が挙げられる。
【0128】
【化19】
【0129】
式（Ｂ１）中、ａは０～５の整数を表し、Ｒ１は、水素原子または１価の有機基を表し、Ｒ２は、１価の有機基を表す。ａが２以上の場合、複数のＲ１は、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。
また、Ｒ１の１価の有機基としては、例えば、炭素数１～２０の鎖状または環状のアルキル基、炭素数１～２０のアルコキシ基、および、置換基を有していてもよい炭素数６～２０のアリール基が挙げられ、なかでも、炭素数１～２０のアルコキシ基が好ましく、炭素数１～６のアルコキシ基がより好ましく、メトキシ基またはエトキシ基がさらに好ましい。
また、Ｒ２の１価の有機基としては、例えば、炭素数１～２０の鎖状または環状のアルキル基、および、置換基を有していてもよい炭素数６～２０のアリール基が挙げられ、なかでも、炭素数１～２０の鎖状のアルキル基が好ましく、炭素数１～１０の分岐鎖状のアルキル基がより好ましい。
また、ａは１であるのが好ましく、Ｒ１がパラ位に有しているのが好ましい。
また、上述したアリール基が有していてもよい置換基としては、例えば、アルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、および、アミノ基などが挙げられる。
また、Ｒ１の１価の有機基としては、例えば、炭素数１～２０の鎖状または環状のアルキル基、炭素数１～２０のアルコキシ基、および、置換基を有していてもよい炭素数６～２０のアリール基が挙げられ、なかでも、炭素数１～２０のアルコキシ基が好ましく、炭素数１～６のアルコキシ基がより好ましく、メトキシ基またはエトキシ基がさらに好ましい。
また、Ｒ２の１価の有機基としては、例えば、炭素数１～２０の鎖状または環状のアルキル基、および、置換基を有していてもよい炭素数６～２０のアリール基が挙げられ、なかでも、炭素数１～２０の鎖状のアルキル基が好ましく、炭素数１～１０の分岐鎖状のアルキル基がより好ましい。
また、ａは１であるのが好ましく、Ｒ１がパラ位に有しているのが好ましい。
また、上述したアリール基が有していてもよい置換基としては、例えば、アルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、および、アミノ基などが挙げられる。
【0130】
光配向層形成用組成物中における、上記低分子化合物Ｂの含有量は、重合体Ａの構成単位ａ１の質量に対して、１０～５００質量％であるのが好ましく、３０～３００質量％であるのがより好ましい。
【0131】
光配向層形成用組成物は、配向性がより向上する理由から、架橋性基を含む構成単位ａ２を有する重合体Ａとは別に、架橋性基を有する架橋剤Ｃを含むことが好ましい。
上記架橋剤Ｃの分子量は、１０００以下が好ましく、１００～５００がより好ましい。
上記架橋剤Ｃとしては、例えば、分子内に２個以上のエポキシ基またはオキセタニル基を有する化合物、ブロックイソシアネート化合物（保護されたイソシアナト基を有する化合物）、および、アルコキシメチル基含有化合物などが挙げられる。
これらのうち、分子内に２個以上のエポキシ基またはオキセタニル基を有する化合物、または、ブロックイソシアネート化合物が好ましい。
上記架橋剤Ｃの分子量は、１０００以下が好ましく、１００～５００がより好ましい。
上記架橋剤Ｃとしては、例えば、分子内に２個以上のエポキシ基またはオキセタニル基を有する化合物、ブロックイソシアネート化合物（保護されたイソシアナト基を有する化合物）、および、アルコキシメチル基含有化合物などが挙げられる。
これらのうち、分子内に２個以上のエポキシ基またはオキセタニル基を有する化合物、または、ブロックイソシアネート化合物が好ましい。
【0132】
光配向層形成用組成物が上記架橋剤Ｃを含む場合、架橋剤Ｃの含有量は、重合体Ａの構成単位ａ１の１００質量部に対して、１～１０００質量部であるのが好ましく、１０～５００質量部であるのがより好ましい。
【0133】
光配向層形成用組成物は、光配向層を作製する作業性の観点から、溶媒を含むことが好ましい。溶剤としては、水、および、有機溶媒が挙げられる。
有機溶媒としては、具体的には、例えば、ケトン類（例えば、アセトン、２－ブタノン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、および、シクロペンタノンなど）、エーテル類（例えば、ジオキサン、および、テトラヒドロフランなど）、脂肪族炭化水素類（例えば、ヘキサンなど）、脂環式炭化水素類（例えば、シクロヘキサンなど）、芳香族炭化水素類（例えば、トルエン、キシレン、および、トリメチルベンゼンなど）、ハロゲン化炭素類（例えば、ジクロロメタン、ジクロロエタン、ジクロロベンゼン、クロロトルエンなど）、エステル類（例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、および、酢酸ブチルなど）、アルコール類（例えば、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、および、シクロヘキサノールなど）、セロソルブ類（例えば、メチルセロソルブ、および、エチルセロソルブなど）、セロソルブアセテート類、スルホキシド類（例えば、ジメチルスルホキシドなど）、および、アミド類（例えば、ジメチルホルムアミド、および、ジメチルアセトアミドなど）が挙げられる。これらを１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
有機溶媒としては、具体的には、例えば、ケトン類（例えば、アセトン、２－ブタノン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、および、シクロペンタノンなど）、エーテル類（例えば、ジオキサン、および、テトラヒドロフランなど）、脂肪族炭化水素類（例えば、ヘキサンなど）、脂環式炭化水素類（例えば、シクロヘキサンなど）、芳香族炭化水素類（例えば、トルエン、キシレン、および、トリメチルベンゼンなど）、ハロゲン化炭素類（例えば、ジクロロメタン、ジクロロエタン、ジクロロベンゼン、クロロトルエンなど）、エステル類（例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、および、酢酸ブチルなど）、アルコール類（例えば、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、および、シクロヘキサノールなど）、セロソルブ類（例えば、メチルセロソルブ、および、エチルセロソルブなど）、セロソルブアセテート類、スルホキシド類（例えば、ジメチルスルホキシドなど）、および、アミド類（例えば、ジメチルホルムアミド、および、ジメチルアセトアミドなど）が挙げられる。これらを１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【0134】
光配向層形成用組成物は、上記以外の他の成分を含んでいてもよく、例えば、架橋触媒、密着改良剤、レベリング剤、界面活性剤、および、可塑剤などが挙げられる。
【0135】
＜光配向層の形成方法＞
光配向層の形成方法は特に限定されず、例えば、上述した光配向層形成用組成物を支持体表面に塗布する塗布工程と、光配向層形成用組成物の塗膜に対し、偏光または塗膜表面に対して斜め方向から非偏光を照射する光照射工程とを有する製造方法により作製することができる。
光配向層の形成方法は特に限定されず、例えば、上述した光配向層形成用組成物を支持体表面に塗布する塗布工程と、光配向層形成用組成物の塗膜に対し、偏光または塗膜表面に対して斜め方向から非偏光を照射する光照射工程とを有する製造方法により作製することができる。
【0136】
〔λ／４板〕
本発明の積層体は、上述した光吸収異方性層が円偏光板として機能する場合、λ／４板を有していることが好ましい。
ここで、「λ／４板」とは、λ／４機能を有する板であり、具体的には、ある特定の波長の直線偏光を円偏光に（または円偏光を直線偏光に）変換する機能を有する板である。
λ／４板が単層構造である態様としては、具体的には、例えば、液晶配向で屈折率異方性を発現しλ／４機能を有する光学異方性層を設けた位相差フィルムなどが挙げられる。
また、λ／４板が複層構造である態様としては、具体的には、例えば、λ／４板とλ／２板とを積層してなる広帯域λ／４板、広帯域λ／４板にさらにλ／２板を積層した超広帯域λ／４板、逆分散波長特性を有する液晶を用いた位相差板とねじれ配向層とポジティブＣプレート等とを組み合わせた広帯域λ／４板などが挙げられる。
λ／４板と光吸収異方性層とは、積層されていてもよいし、λ／４板と液晶膜との間に、他の層が設けられていてもよい。このような層としては、密着性担保のための接着剤層が挙げられる。
本発明の積層体は、上述した光吸収異方性層が円偏光板として機能する場合、λ／４板を有していることが好ましい。
ここで、「λ／４板」とは、λ／４機能を有する板であり、具体的には、ある特定の波長の直線偏光を円偏光に（または円偏光を直線偏光に）変換する機能を有する板である。
λ／４板が単層構造である態様としては、具体的には、例えば、液晶配向で屈折率異方性を発現しλ／４機能を有する光学異方性層を設けた位相差フィルムなどが挙げられる。
また、λ／４板が複層構造である態様としては、具体的には、例えば、λ／４板とλ／２板とを積層してなる広帯域λ／４板、広帯域λ／４板にさらにλ／２板を積層した超広帯域λ／４板、逆分散波長特性を有する液晶を用いた位相差板とねじれ配向層とポジティブＣプレート等とを組み合わせた広帯域λ／４板などが挙げられる。
λ／４板と光吸収異方性層とは、積層されていてもよいし、λ／４板と液晶膜との間に、他の層が設けられていてもよい。このような層としては、密着性担保のための接着剤層が挙げられる。
【0137】
〔バリア層〕
本発明の積層体は、光吸収異方性層とともに、バリア層を有していることが好ましい。
ここで、バリア層は、ガス遮断層（酸素遮断層）とも呼ばれ、大気中の酸素等のガス、水分、または、隣接する層に含まれる化合物等から本発明の偏光素子を保護する機能を有する。
バリア層については、例えば、特開２０１４－１５９１２４号公報の［００１４］～［００５４］段落、特開２０１７－１２１７２１号公報の［００４２］～［００７５］段落、特開２０１７－１１５０７６号公報の［００４５］～［００５４］段落、特開２０１２－２１３９３８号公報の［００１０］～［００６１］段落、特開２００５－１６９９９４号公報の［００２１］～［００３１］段落の記載を参照できる。
本発明の積層体は、光吸収異方性層とともに、バリア層を有していることが好ましい。
ここで、バリア層は、ガス遮断層（酸素遮断層）とも呼ばれ、大気中の酸素等のガス、水分、または、隣接する層に含まれる化合物等から本発明の偏光素子を保護する機能を有する。
バリア層については、例えば、特開２０１４－１５９１２４号公報の［００１４］～［００５４］段落、特開２０１７－１２１７２１号公報の［００４２］～［００７５］段落、特開２０１７－１１５０７６号公報の［００４５］～［００５４］段落、特開２０１２－２１３９３８号公報の［００１０］～［００６１］段落、特開２００５－１６９９９４号公報の［００２１］～［００３１］段落の記載を参照できる。
【0138】
〔硬化層〕
本発明の積層体は、上述した光吸収異方性層が二色性物質を有し、円偏光板として反射防止の目的で用いられる場合、光吸収異方性層の高屈折率に起因する内部反射が問題となる場合がある。その場合に、下記に述べる硬化層が存在することが好ましい。
硬化層は、光吸収異方性層に接するように配置される層であり、架橋性基を有する化合物を含有する組成物から形成され、波長５５０ｎｍにおける面内平均屈折率が１．５５以上１．７０以下である。いわゆるインデックスマッチングを行うための屈折率調整層であることが好ましい。
本発明の積層体は、上述した光吸収異方性層が二色性物質を有し、円偏光板として反射防止の目的で用いられる場合、光吸収異方性層の高屈折率に起因する内部反射が問題となる場合がある。その場合に、下記に述べる硬化層が存在することが好ましい。
硬化層は、光吸収異方性層に接するように配置される層であり、架橋性基を有する化合物を含有する組成物から形成され、波長５５０ｎｍにおける面内平均屈折率が１．５５以上１．７０以下である。いわゆるインデックスマッチングを行うための屈折率調整層であることが好ましい。
【0139】
屈折率調整層の面内平均屈折率は、上記範囲であればよいが、１．５８～１．７０が好ましく、１．６０～１．７０がさらに好ましい。
【0140】
屈折率調整層の厚みは特に制限されないが、薄型化の点から、０．０１～２．００μｍが好ましく、０．０１～０．８０μｍがより好ましく、０．０１～０．１５μｍがさらに好ましい。
【0141】
屈折率調整層を構成する成分の種類は、架橋性基を有する化合物を含有していれば特に制限されない。架橋性基があることで層内の強度が確保できる。光や熱で硬化する化合物、例えば、（メタ）アクリロイル基やエポキシ基を有する重合性化合物が好ましい。また、高い面内平均屈折率が得られる点で重合性液晶性化合物も好ましい。また、重合性液晶性化合物は面内で屈折率の異方性を制御できる点で、面内で屈折率異方性を持つ光吸収異方性層との屈折率最適化のポテンシャルが高い。
【0142】
屈折率調整層は、架橋性基を有する化合物と共に、粒子を含んでいてもよい。粒子としては、有機粒子、無機粒子ならびに有機成分および無機成分を含む有機無機複合粒子が挙げられる。
有機粒子としては、スチレン樹脂粒子、スチレン－ジビニルベンゼン共重合体粒子、アクリル樹脂粒子、メタクリル樹脂粒子、スチレン－アクリル共重合体粒子、スチレン－メタクリル共重合体粒子、メラミン樹脂粒子およびこれらを２種以上含む樹脂粒子が挙げられる。
無機粒子を構成する成分としては、金属酸化物、金属窒化物、金属酸窒化物、および、金属単体が挙げられる。上記金属酸化物、金属窒化物、金属酸窒化物、および、金属単体に含まれる金属原子としては、チタン原子、ケイ素原子、アルミニウム原子、コバルト原子、および、ジルコニウム原子が挙げられる。無機粒子の具体例としては、アルミナ粒子、アルミナ水和物粒子、シリカ粒子、ジルコニア粒子、および、粘土鉱物（例えば、スメクタイト）等の無機酸化物粒子が挙げられる。高屈折率が得られる点で、ジルコニア粒子は好ましい。
有機粒子としては、スチレン樹脂粒子、スチレン－ジビニルベンゼン共重合体粒子、アクリル樹脂粒子、メタクリル樹脂粒子、スチレン－アクリル共重合体粒子、スチレン－メタクリル共重合体粒子、メラミン樹脂粒子およびこれらを２種以上含む樹脂粒子が挙げられる。
無機粒子を構成する成分としては、金属酸化物、金属窒化物、金属酸窒化物、および、金属単体が挙げられる。上記金属酸化物、金属窒化物、金属酸窒化物、および、金属単体に含まれる金属原子としては、チタン原子、ケイ素原子、アルミニウム原子、コバルト原子、および、ジルコニウム原子が挙げられる。無機粒子の具体例としては、アルミナ粒子、アルミナ水和物粒子、シリカ粒子、ジルコニア粒子、および、粘土鉱物（例えば、スメクタイト）等の無機酸化物粒子が挙げられる。高屈折率が得られる点で、ジルコニア粒子は好ましい。
【0143】
粒子の平均粒子径は、１～３００ｎｍが好ましく、１０～２００ｎｍがより好ましい。
上記範囲であると、粒子の分散性に優れ、また、高温耐久性、湿熱耐久性および透明性により優れる硬化物（透明樹脂層）が得られる。
ここで、粒子の平均粒子径は、ＴＥＭ（透過型電子顕微鏡）またはＳＥＭ（走査型電子顕微鏡）の観察にて得られた写真から求めることができる。具体的には、粒子の投影面積を求め、それに対応する円相当径（円の直径）を粒子の平均粒子径とする。なお、本発明における平均粒子径は、１００個の粒子について求めた円相当径の算術平均値とする。粒子は、球状、針状、繊維（ファイバー状）、柱状および板状等のいずれの形状であってもよい。
屈折率調整層中における粒子の含有量は特に制限されないが、屈折率調整層の面内平均屈折率が調整しやすい点で、屈折率調整層全質量に対して、１～５０質量％が好ましく、１～３０質量％がより好ましい。
上記範囲であると、粒子の分散性に優れ、また、高温耐久性、湿熱耐久性および透明性により優れる硬化物（透明樹脂層）が得られる。
ここで、粒子の平均粒子径は、ＴＥＭ（透過型電子顕微鏡）またはＳＥＭ（走査型電子顕微鏡）の観察にて得られた写真から求めることができる。具体的には、粒子の投影面積を求め、それに対応する円相当径（円の直径）を粒子の平均粒子径とする。なお、本発明における平均粒子径は、１００個の粒子について求めた円相当径の算術平均値とする。粒子は、球状、針状、繊維（ファイバー状）、柱状および板状等のいずれの形状であってもよい。
屈折率調整層中における粒子の含有量は特に制限されないが、屈折率調整層の面内平均屈折率が調整しやすい点で、屈折率調整層全質量に対して、１～５０質量％が好ましく、１～３０質量％がより好ましい。
【0144】
屈折率調整層の形成方法は特に制限されないが、屈折率調整層形成用組成物を偏光子上に塗布して、必要に応じて、塗膜に硬化処理を施す方法が挙げられる。
屈折率調整層形成用組成物には、屈折率調整層を構成し得る成分が含まれており、例えば、樹脂、モノマー、および、粒子が挙げられる。樹脂および粒子の例示は、上述した通りである。
モノマーとしては、光硬化性化合物および熱硬化性化合物（例えば、熱硬化性樹脂）が挙げられる。モノマーとしては、重合性基を１分子中に１つ含む単官能重合性化合物、および、同一または異なる重合性基を１分子中に２つ以上含む多官能重合性化合物が好ましい。重合性化合物は、モノマーであっても、オリゴマーまたはプレポリマー等の多量体であってもよい。
重合性基としては、ラジカル重合性基およびカチオン重合性基が挙げられ、ラジカル重合性基が好ましい。ラジカル重合性基としては、エチレン性不飽和結合基等が挙げられる。カチオン重合性基としては、エポキシ基およびオキセタン基等が挙げられる。
屈折率調整層形成用組成物には、屈折率調整層を構成し得る成分が含まれており、例えば、樹脂、モノマー、および、粒子が挙げられる。樹脂および粒子の例示は、上述した通りである。
モノマーとしては、光硬化性化合物および熱硬化性化合物（例えば、熱硬化性樹脂）が挙げられる。モノマーとしては、重合性基を１分子中に１つ含む単官能重合性化合物、および、同一または異なる重合性基を１分子中に２つ以上含む多官能重合性化合物が好ましい。重合性化合物は、モノマーであっても、オリゴマーまたはプレポリマー等の多量体であってもよい。
重合性基としては、ラジカル重合性基およびカチオン重合性基が挙げられ、ラジカル重合性基が好ましい。ラジカル重合性基としては、エチレン性不飽和結合基等が挙げられる。カチオン重合性基としては、エポキシ基およびオキセタン基等が挙げられる。
【0145】
屈折率調整層形成用組成物には、界面改良剤、重合開始剤、および、溶媒の少なくとも１種が含まれていてもよい。これらの成分としては、液晶性組成物に含まれていてもよい成分として例示した化合物が挙げられる。
【0146】
屈折率調整層形成用組成物の塗布方法は特に制限されず、上述した液晶性組成物の塗布方法が挙げられる。
【0147】
屈折率調整層形成用組成物を塗布した後、必要に応じて、塗膜に乾燥処理を施してもよい。
また、屈折率調整層形成用組成物がモノマー等の硬化性化合物を含む場合は、屈折率調整層形成用組成物を塗布した後、塗膜に硬化処理を施してもよい。
硬化処理としては、光硬化処理および熱硬化処理が挙げられ、用いられる材料に応じて最適な条件が選択される。
また、屈折率調整層形成用組成物がモノマー等の硬化性化合物を含む場合は、屈折率調整層形成用組成物を塗布した後、塗膜に硬化処理を施してもよい。
硬化処理としては、光硬化処理および熱硬化処理が挙げられ、用いられる材料に応じて最適な条件が選択される。
【0148】
重合性液晶性化合物を用いる場合、化合物は特に限定されない。
一般的に、液晶性化合物はその形状から、棒状タイプと円盤状タイプに分類できる。さらにそれぞれ低分子と高分子タイプがある。高分子とは一般に重合度が１００以上のものを指す（高分子物理・相転移ダイナミクス，土井 正男 著，２頁，岩波書店，１９９２）。
本発明においては、いずれの液晶性化合物を用いることもできるが、棒状液晶性化合物（以下、「ＣＬＣ」とも略す。）またはディスコティック液晶性化合物（以下、「ＤＬＣ」とも略す。）を用いるのが好ましく、棒状液晶性化合物を用いるのがより好ましい。なお、２種以上の棒状液晶性化合物、２種以上の円盤状液晶性化合物、または、棒状液晶性化合物と円盤状液晶性化合物との混合物を用いてもよい。
一般的に、液晶性化合物はその形状から、棒状タイプと円盤状タイプに分類できる。さらにそれぞれ低分子と高分子タイプがある。高分子とは一般に重合度が１００以上のものを指す（高分子物理・相転移ダイナミクス，土井 正男 著，２頁，岩波書店，１９９２）。
本発明においては、いずれの液晶性化合物を用いることもできるが、棒状液晶性化合物（以下、「ＣＬＣ」とも略す。）またはディスコティック液晶性化合物（以下、「ＤＬＣ」とも略す。）を用いるのが好ましく、棒状液晶性化合物を用いるのがより好ましい。なお、２種以上の棒状液晶性化合物、２種以上の円盤状液晶性化合物、または、棒状液晶性化合物と円盤状液晶性化合物との混合物を用いてもよい。
【0149】
本発明においては、上述の液晶性化合物の固定化のために、重合性基を有する液晶性化合物を用いることが必要であり、液晶性化合物が１分子中に重合性基を２以上有することがさらに好ましい。なお、液晶性化合物が２種類以上の混合物の場合には、少なくとも１種類の液晶性化合物が１分子中に２以上の重合性基を有していることが好ましい。なお、液晶性化合物が重合によって固定された後においては、もはや液晶性を示す必要はない。
【0150】
また、重合性基の種類は特に制限されず、付加重合反応が可能な官能基が好ましく、重合性エチレン性不飽和基または環重合性基が好ましい。より具体的には、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基などが好ましく挙げられ、（メタ）アクリロイル基がより好ましい。なお、（メタ）アクリロイル基とは、メタアクリロイル基またはアクリロイル基を意味する表記である。
【0151】
棒状液晶性化合物としては、例えば、特表平１１－５１３０１９号公報の請求項１や特開２００５－２８９９８０号公報の段落［００２６］～［００９８］に記載のものを好ましく用いることができ、ディスコティック液晶性化合物としては、例えば、特開２００７－１０８７３２号公報の段落［００２０］～［００６７］や特開２０１０－２４４０３８号公報の段落［００１３］～［０１０８］に記載のものを好ましく用いることができるが、これらに限定されない。
【0152】
＜その他の成分＞
屈折率調整層形成用組成物に含まれるその他の成分としては、具体的には、例えば、上述した二色性アゾ色素化合物を含有する組成物（光吸収異方性層形成用組成物）において説明した重合開始剤、界面活性剤および溶媒などを挙げることができる。
屈折率調整層形成用組成物に含まれるその他の成分としては、具体的には、例えば、上述した二色性アゾ色素化合物を含有する組成物（光吸収異方性層形成用組成物）において説明した重合開始剤、界面活性剤および溶媒などを挙げることができる。
【0153】
＜形成方法＞
上述した光吸収異方性層形成用組成物を用いた光吸収異方性層の形成方法は特に限定されず、上述した光吸収異方性層形成用組成物を層構成に応じて後述する配向膜または上述した光吸収異方性層上に塗布して塗布膜を形成する工程（以下、「塗布膜形成工程」ともいう。）と、塗布膜に含まれる液晶性成分を配向させる工程（以下、「配向工程」ともいう。）と、をこの順に含む方法が挙げられる。
ここで、塗布膜形成工程および配向工程としては、上述した光吸収異方性層の形成方法において説明したものと同様の工程が挙げられる。
上述した光吸収異方性層形成用組成物を用いた光吸収異方性層の形成方法は特に限定されず、上述した光吸収異方性層形成用組成物を層構成に応じて後述する配向膜または上述した光吸収異方性層上に塗布して塗布膜を形成する工程（以下、「塗布膜形成工程」ともいう。）と、塗布膜に含まれる液晶性成分を配向させる工程（以下、「配向工程」ともいう。）と、をこの順に含む方法が挙げられる。
ここで、塗布膜形成工程および配向工程としては、上述した光吸収異方性層の形成方法において説明したものと同様の工程が挙げられる。
【0154】
〔接着剤層〕
本発明の積層体は、後述する層構成にも示す通り、樹脂基材と光吸収異方性層との間に、接着剤層を有していてもよい。
ここで、接着剤層に含まれる接着剤は、貼り合わせた後の乾燥や反応により接着性を発現するものであれば特に限定されない。
例えば、ポリビニルアルコール系接着剤（ＰＶＡ系接着剤）は、乾燥により接着性が発現し、材料どうしを接着することが可能となる。
また、反応により接着性を発現する硬化型接着剤の具体例としては、（メタ）アクリレート系接着剤のような活性エネルギー線硬化型接着剤や、カチオン重合硬化型接着剤が挙げられる。
（メタ）アクリレート系接着剤における硬化性成分としては、例えば、（メタ）アクリロイル基を有する化合物、ビニル基を有する化合物が挙げられる。
また、カチオン重合硬化型接着剤としては、エポキシ基やオキセタニル基を有する化合物も使用することができる。エポキシ基を有する化合物は、分子内に少なくとも２個のエポキシ基を有するものであれば特に限定されず、一般に知られている各種の硬化性エポキシ化合物を用いることができる。好ましいエポキシ化合物として、分子内に少なくとも２個のエポキシ基と少なくとも１個の芳香環を有する化合物（芳香族系エポキシ化合物）や、分子内に少なくとも２個のエポキシ基を有し、そのうちの少なくとも１個は脂環式環を構成する隣り合う２個の炭素原子との間で形成されている化合物（脂環式エポキシ化合物）等が例として挙げられる。
本発明における接着剤は、加熱変形耐性の観点から、紫外線照射で硬化する紫外線硬化型接着剤が好ましく用いられる。また、光吸収異方性層を樹脂基材と貼り合わせる場合には、樹脂基材との接着性の観点から、（メタ）アクリレート系接着剤が好ましい。中でも、溶剤を含まない（メタ）アクリレート系接着剤が、最も好ましい。
本発明の積層体は、後述する層構成にも示す通り、樹脂基材と光吸収異方性層との間に、接着剤層を有していてもよい。
ここで、接着剤層に含まれる接着剤は、貼り合わせた後の乾燥や反応により接着性を発現するものであれば特に限定されない。
例えば、ポリビニルアルコール系接着剤（ＰＶＡ系接着剤）は、乾燥により接着性が発現し、材料どうしを接着することが可能となる。
また、反応により接着性を発現する硬化型接着剤の具体例としては、（メタ）アクリレート系接着剤のような活性エネルギー線硬化型接着剤や、カチオン重合硬化型接着剤が挙げられる。
（メタ）アクリレート系接着剤における硬化性成分としては、例えば、（メタ）アクリロイル基を有する化合物、ビニル基を有する化合物が挙げられる。
また、カチオン重合硬化型接着剤としては、エポキシ基やオキセタニル基を有する化合物も使用することができる。エポキシ基を有する化合物は、分子内に少なくとも２個のエポキシ基を有するものであれば特に限定されず、一般に知られている各種の硬化性エポキシ化合物を用いることができる。好ましいエポキシ化合物として、分子内に少なくとも２個のエポキシ基と少なくとも１個の芳香環を有する化合物（芳香族系エポキシ化合物）や、分子内に少なくとも２個のエポキシ基を有し、そのうちの少なくとも１個は脂環式環を構成する隣り合う２個の炭素原子との間で形成されている化合物（脂環式エポキシ化合物）等が例として挙げられる。
本発明における接着剤は、加熱変形耐性の観点から、紫外線照射で硬化する紫外線硬化型接着剤が好ましく用いられる。また、光吸収異方性層を樹脂基材と貼り合わせる場合には、樹脂基材との接着性の観点から、（メタ）アクリレート系接着剤が好ましい。中でも、溶剤を含まない（メタ）アクリレート系接着剤が、最も好ましい。
【0155】
〔層構成〕
本発明の積層体は、図１に示す通り、ｔａｎδのピーク温度が１７０℃以下の樹脂基材１、配向層２、および、光吸収異方性層３がこの順に配置された層構成であることが好ましい。
また、本発明の積層体は、ｔａｎδのピーク温度が１７０℃以下の樹脂基材、接着剤層、および、光吸収異方性層がこの順に配置された層構成であることが好ましい。
更に、本発明の積層体は、図２に示す通り、ｔａｎδのピーク温度が１７０℃以下の樹脂基材１、接着剤層４、光吸収異方性層３、および、配向層２がこの順に配置された層構成であることが好ましい。
本発明の積層体は、図１に示す通り、ｔａｎδのピーク温度が１７０℃以下の樹脂基材１、配向層２、および、光吸収異方性層３がこの順に配置された層構成であることが好ましい。
また、本発明の積層体は、ｔａｎδのピーク温度が１７０℃以下の樹脂基材、接着剤層、および、光吸収異方性層がこの順に配置された層構成であることが好ましい。
更に、本発明の積層体は、図２に示す通り、ｔａｎδのピーク温度が１７０℃以下の樹脂基材１、接着剤層４、光吸収異方性層３、および、配向層２がこの順に配置された層構成であることが好ましい。
【0156】
本発明の積層体は、光吸収異方性層における二色性物質の高配向度を実現するためには、１４０℃以上の高温熟成を行うことが好ましい。そのため、光吸収異方性層を形成する工程においては、支持体として、高温でも寸法変化の少ない樹脂基材、例えば、ｔａｎδが１８０℃以上の延伸ＴＡＣを用いることが望まれる。
一方、本発明の積層体に曲面成形を施す観点から、１４０℃未満の温度での熱成形を行う場合には、ｔａｎδのピーク温度が１８０℃以上の延伸ＴＡＣでは破断のリスクが生じ、成形加工の自由度が小さい。
このため、高熱でも寸法変化の少ない樹脂基材を用いて、配向層を形成後、光吸収異方性層を形成した後、接着剤により、ｔａｎδのピーク温度が１７０℃以下の樹脂基材を貼り合わせ、さらに、高温でも寸法変化の少ない樹脂基材を剥離することで、ｔａｎδのピーク温度が１７０℃以下の樹脂基材、接着剤層、光吸収異方性層、および、配向層がこの順に配置された積層体を作成することができる。
一方、本発明の積層体に曲面成形を施す観点から、１４０℃未満の温度での熱成形を行う場合には、ｔａｎδのピーク温度が１８０℃以上の延伸ＴＡＣでは破断のリスクが生じ、成形加工の自由度が小さい。
このため、高熱でも寸法変化の少ない樹脂基材を用いて、配向層を形成後、光吸収異方性層を形成した後、接着剤により、ｔａｎδのピーク温度が１７０℃以下の樹脂基材を貼り合わせ、さらに、高温でも寸法変化の少ない樹脂基材を剥離することで、ｔａｎδのピーク温度が１７０℃以下の樹脂基材、接着剤層、光吸収異方性層、および、配向層がこの順に配置された積層体を作成することができる。
【0157】
〔曲面成形〕
本発明の積層体は、曲面を有していることが好ましく、三次元曲面を有していることがより好ましい。なお、三次元曲面とは、可展面でない曲面を指す。可展面とは伸縮することなしに平面に展開できる曲面のことであり、平面を曲げたり切ったりして作ることのできる曲面をいう。
本発明の積層体に、曲面を形成する方法としては、特開２００４－３２２５０１号公報に記載されているようなインサート成形、ＷＯ２０１０／１８６７号公報や、特開２０１２－１１６０９４号公報に記載されているような真空成形、射出成形、圧空成形、減圧被覆成形、インモールド転写、金型プレス等が挙げられる。
成形時に加熱することも好ましく、８０℃から１７０℃が好ましく、１００℃から１５０℃がより好ましく、１１０℃から１４０℃がさらに好ましい。
また、積層体の成形後に、例えばレンズ等が射出成形される工程の可能性があり、この場合、数分以上の加熱プロセスに対する耐性が積層体に求められる。
本発明の積層体は、曲面を有していることが好ましく、三次元曲面を有していることがより好ましい。なお、三次元曲面とは、可展面でない曲面を指す。可展面とは伸縮することなしに平面に展開できる曲面のことであり、平面を曲げたり切ったりして作ることのできる曲面をいう。
本発明の積層体に、曲面を形成する方法としては、特開２００４－３２２５０１号公報に記載されているようなインサート成形、ＷＯ２０１０／１８６７号公報や、特開２０１２－１１６０９４号公報に記載されているような真空成形、射出成形、圧空成形、減圧被覆成形、インモールド転写、金型プレス等が挙げられる。
成形時に加熱することも好ましく、８０℃から１７０℃が好ましく、１００℃から１５０℃がより好ましく、１１０℃から１４０℃がさらに好ましい。
また、積層体の成形後に、例えばレンズ等が射出成形される工程の可能性があり、この場合、数分以上の加熱プロセスに対する耐性が積層体に求められる。
【0158】
〔表面凹凸〕
本発明の積層体は、表面が平滑であることが好ましい。特に、本発明の積層体をレンズ等に適用する場合は、レンズの像拡大の効果によって、僅かな表面凹凸が像の歪みに繋がることがあるため、表面に凹凸がないことが望まれる。具体的には、表面の平均算術粗さＲａが５０ｎｍ以下であることが好ましく、３０ｎｍ以下であることがより好ましく、１０ｎｍ以下がさらに好ましく、５ｎｍ以下であることが最も好ましい。また、積層体の表面上において、１平方ミリメートルの範囲内における表面凹凸の高低差が、１００ｎｍ以下であることが好ましく、５０ｎｍ以下であることがより好ましく、２０ｎｍ以下であることがさらに好ましい。
上記の平滑性を実現するためには、本発明の光吸収異方性層の表面も、平滑であることが好ましい。具体的には、表面の平均算術粗さＲａが５０ｎｍ以下であることが好ましく、３０ｎｍ以下であることがより好ましく、１０ｎｍ以下がさらに好ましく、５ｎｍ以下であることが最も好ましい。また、積層体の表面上において、１平方ミリメートルの範囲内における表面凹凸の高低差が、１００ｎｍ以下であることが好ましく、５０ｎｍ以下であることがより好ましく、２０ｎｍ以下であることがさらに好ましい。
表面の凹凸および平均算術粗さは、粗さ計や干渉計を用いて測定することができる。たとえば、株式会社菱化システム製の干渉計「ｖｅｒｔｓｃａｎ」を用いて測定することができる。
本発明の積層体は、表面が平滑であることが好ましい。特に、本発明の積層体をレンズ等に適用する場合は、レンズの像拡大の効果によって、僅かな表面凹凸が像の歪みに繋がることがあるため、表面に凹凸がないことが望まれる。具体的には、表面の平均算術粗さＲａが５０ｎｍ以下であることが好ましく、３０ｎｍ以下であることがより好ましく、１０ｎｍ以下がさらに好ましく、５ｎｍ以下であることが最も好ましい。また、積層体の表面上において、１平方ミリメートルの範囲内における表面凹凸の高低差が、１００ｎｍ以下であることが好ましく、５０ｎｍ以下であることがより好ましく、２０ｎｍ以下であることがさらに好ましい。
上記の平滑性を実現するためには、本発明の光吸収異方性層の表面も、平滑であることが好ましい。具体的には、表面の平均算術粗さＲａが５０ｎｍ以下であることが好ましく、３０ｎｍ以下であることがより好ましく、１０ｎｍ以下がさらに好ましく、５ｎｍ以下であることが最も好ましい。また、積層体の表面上において、１平方ミリメートルの範囲内における表面凹凸の高低差が、１００ｎｍ以下であることが好ましく、５０ｎｍ以下であることがより好ましく、２０ｎｍ以下であることがさらに好ましい。
表面の凹凸および平均算術粗さは、粗さ計や干渉計を用いて測定することができる。たとえば、株式会社菱化システム製の干渉計「ｖｅｒｔｓｃａｎ」を用いて測定することができる。
【0159】
〔用途〕
本発明の積層体は、偏光素子（偏光板）として、曲面を有する様々な物品に用いることができる。例えば、曲面を有する車載ディスプレイ、サングラスのレンズ、画像表示装置用のゴーグルのレンズ等に用いることができる。本実施形態における偏光板又は円偏光板は、曲面上に偏光板又は円偏光板を貼合したり、樹脂と一体成形したりすることができるため、デザイン性の向上に寄与する。
ヘッドアップディスプレイ等の車載ディスプレイ光学系、ＡＲ（Augmented Reality）眼鏡、ＶＲ（Virtual Realty）眼鏡等の光学系やＬｉＤＡＲ（Light Detection and Ranging）、顔認証システム、偏光イメージング等の光学センサなどで迷光抑止の目的で用いることも好ましい。また、位相差板と組み合わせて反射防止の目的で用いることも好ましい。
本発明の積層体は、偏光素子（偏光板）として、曲面を有する様々な物品に用いることができる。例えば、曲面を有する車載ディスプレイ、サングラスのレンズ、画像表示装置用のゴーグルのレンズ等に用いることができる。本実施形態における偏光板又は円偏光板は、曲面上に偏光板又は円偏光板を貼合したり、樹脂と一体成形したりすることができるため、デザイン性の向上に寄与する。
ヘッドアップディスプレイ等の車載ディスプレイ光学系、ＡＲ（Augmented Reality）眼鏡、ＶＲ（Virtual Realty）眼鏡等の光学系やＬｉＤＡＲ（Light Detection and Ranging）、顔認証システム、偏光イメージング等の光学センサなどで迷光抑止の目的で用いることも好ましい。また、位相差板と組み合わせて反射防止の目的で用いることも好ましい。
【0160】
［光学装置］
本発明の光学装置は、曲面を有する光学装置であって、曲面を有する本発明の積層体が、光学装置の曲面に沿うように配置された光学装置である。
このような光学装置としては、例えば、携帯電話、スマートフォン、タブレットＰＣ等の携帯型電子機器；赤外センサ、近赤外センサ、ミリ波レーダー、ＬＥＤスポット照明装置、近赤外ＬＥＤ照明装置、ミラーモニター、メーターパネル、ヘッドマウントディスプレイ、ヘッドアップディスプレイ等の車載用電子機器；等が挙げられる。
本発明の光学装置は、曲面を有する光学装置であって、曲面を有する本発明の積層体が、光学装置の曲面に沿うように配置された光学装置である。
このような光学装置としては、例えば、携帯電話、スマートフォン、タブレットＰＣ等の携帯型電子機器；赤外センサ、近赤外センサ、ミリ波レーダー、ＬＥＤスポット照明装置、近赤外ＬＥＤ照明装置、ミラーモニター、メーターパネル、ヘッドマウントディスプレイ、ヘッドアップディスプレイ等の車載用電子機器；等が挙げられる。
【0161】
［表示装置］
本発明の表示装置は、曲面を有する複数の部材を有する表示装置であって、曲面を有する本発明の積層体が、曲面を有する部材のうち最も視認側に存在する部材の曲面の更に視認側に沿うように配置された表示装置である。
本発明の表示装置は、曲面を有する複数の部材を有する表示装置であって、曲面を有する本発明の積層体が、曲面を有する部材のうち最も視認側に存在する部材の曲面の更に視認側に沿うように配置された表示装置である。
【0162】
図３および図４に、本発明の表示装置の一例であるヘッドマウントディスプレイの断面側面図である。
具体的には、図３および図４は、ヘッドマウントディスプレイ１０の筐体１２などのヘッドマウント支持構造によって光学システム２０およびディスプレイシステム４０をどのように支持できるかを示す、ヘッドマウントディスプレイ１０の断面側面図である。
筐体１２は、一対の眼鏡用のフレームの形状を有してもよく（例えば、ヘッドマウントディスプレイ１０は眼鏡に似てもよく）、ヘルメットの形状を有してもよく（例えば、眼鏡１０はヘルメットマウントディスプレイを形成してもよく）、ゴーグルの形状を有してもよく、筐体１２がユーザの頭部に装着されることを可能にする任意の他の適切な筐体形状を有してもよい。
また、ユーザが、システム２０および表示システム４０を方向４８に視認しているときに、筐体１２が、ユーザの目（例えば、目４６）の前に光学システム２０および表示システム４０を支持する構成であることが好ましい。
具体的には、図３および図４は、ヘッドマウントディスプレイ１０の筐体１２などのヘッドマウント支持構造によって光学システム２０およびディスプレイシステム４０をどのように支持できるかを示す、ヘッドマウントディスプレイ１０の断面側面図である。
筐体１２は、一対の眼鏡用のフレームの形状を有してもよく（例えば、ヘッドマウントディスプレイ１０は眼鏡に似てもよく）、ヘルメットの形状を有してもよく（例えば、眼鏡１０はヘルメットマウントディスプレイを形成してもよく）、ゴーグルの形状を有してもよく、筐体１２がユーザの頭部に装着されることを可能にする任意の他の適切な筐体形状を有してもよい。
また、ユーザが、システム２０および表示システム４０を方向４８に視認しているときに、筐体１２が、ユーザの目（例えば、目４６）の前に光学システム２０および表示システム４０を支持する構成であることが好ましい。
【0163】
図３および図４に示すディスプレイシステム４０は、画像表示パネル５００などの画像のソースを含むことができる。画像表示パネル５００は、画像光を放出する画素Ｐの二次元アレイ（例えば、有機発光ダイオード画素、半導体ダイから形成された発光ダイオード画素、バックライトを有する液晶表示画素、フロントライト付きのシリコン上液晶画素、など）を含むことができる。
直線偏光子Ｂ４００などの偏光子は、画像表示パネル５００の前に配置されてもよく、画像表示パネル５００に積層されてもよい。
また、ディスプレイシステム４０は、第２のλ/４板３９９などの波長板も含んでおり、円偏光画像光を提供することができる。第２のλ/４板３９９の遅相軸は、直線偏光子Ｂ４００の透過軸に対して４５度で整列させることができる。第２のλ/４板３９９は、直線偏光子Ｂ４００の前方（直線偏光子Ｂ４００と光学システム２０との間）に装着することができる。所望であれば、第２のλ/４板３９９を直線偏光子Ｂ４００（及び画像表示パネル５００）に取り付けることができる。
直線偏光子Ｂ４００などの偏光子は、画像表示パネル５００の前に配置されてもよく、画像表示パネル５００に積層されてもよい。
また、ディスプレイシステム４０は、第２のλ/４板３９９などの波長板も含んでおり、円偏光画像光を提供することができる。第２のλ/４板３９９の遅相軸は、直線偏光子Ｂ４００の透過軸に対して４５度で整列させることができる。第２のλ/４板３９９は、直線偏光子Ｂ４００の前方（直線偏光子Ｂ４００と光学システム２０との間）に装着することができる。所望であれば、第２のλ/４板３９９を直線偏光子Ｂ４００（及び画像表示パネル５００）に取り付けることができる。
【0164】
図３および図４に示す光学システム２０は、レンズ素子を含むことができる。
また、光学システムは、部分反射コーティング、波長板、反射直線偏光子、反射円偏光子、直線偏光子、反射防止コーティングなどの光学構造を組み込むことができる。例えば、図３に示す光学システム２０は、直線偏光子Ａ１００、反射直線偏光子２００、第１の１／４波長板２０１、および、ハーフミラー３００を有している。また、図４に示す光学システム２０は、直線偏光子Ａ１００、第１の１／４波長板１０１、反射円偏光子６００および、ハーフミラー３００を有している。なお、反射円偏光子としては、棒状液晶化合物をコレステリック配向させた液晶硬化膜を用いることが好ましい。
また、本発明の表示装置は、光学システム２０が有する直線偏光子Ａ１００として、曲面を有する本発明の積層体を採用することができる。
また、光学システムは、部分反射コーティング、波長板、反射直線偏光子、反射円偏光子、直線偏光子、反射防止コーティングなどの光学構造を組み込むことができる。例えば、図３に示す光学システム２０は、直線偏光子Ａ１００、反射直線偏光子２００、第１の１／４波長板２０１、および、ハーフミラー３００を有している。また、図４に示す光学システム２０は、直線偏光子Ａ１００、第１の１／４波長板１０１、反射円偏光子６００および、ハーフミラー３００を有している。なお、反射円偏光子としては、棒状液晶化合物をコレステリック配向させた液晶硬化膜を用いることが好ましい。
また、本発明の表示装置は、光学システム２０が有する直線偏光子Ａ１００として、曲面を有する本発明の積層体を採用することができる。
【実施例0165】
以下に実施例に基づいて本発明をさらに詳細に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す実施例により限定的に解釈されるべきものではない。
【0166】
［作成例１］
＜セルロースアシレートフィルム１の作製＞
（コア層セルロースアシレートドープの作製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、撹拌して、各成分を溶解し、コア層セルロースアシレートドープとして用いるセルロースアセテート溶液を調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
コア層セルロースアシレートドープ
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・アセチル置換度２．８８のセルロースアセテート １００質量部
・特開２０１５－２２７９５５号公報の実施例に
記載されたポリエステル化合物Ｂ １２質量部
・下記化合物Ｆ ２質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒） ４３０質量部
・メタノール（第２溶剤） ６４質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
＜セルロースアシレートフィルム１の作製＞
（コア層セルロースアシレートドープの作製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、撹拌して、各成分を溶解し、コア層セルロースアシレートドープとして用いるセルロースアセテート溶液を調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
コア層セルロースアシレートドープ
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・アセチル置換度２．８８のセルロースアセテート １００質量部
・特開２０１５－２２７９５５号公報の実施例に
記載されたポリエステル化合物Ｂ １２質量部
・下記化合物Ｆ ２質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒） ４３０質量部
・メタノール（第２溶剤） ６４質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
【0167】
化合物Ｆ
【化20】
【0168】
（外層セルロースアシレートドープの作製）
上記のコア層セルロースアシレートドープ９０質量部に下記のマット剤溶液を１０質量部加え、外層セルロースアシレートドープとして用いるセルロースアセテート溶液を調製した。
上記のコア層セルロースアシレートドープ９０質量部に下記のマット剤溶液を１０質量部加え、外層セルロースアシレートドープとして用いるセルロースアセテート溶液を調製した。
【0169】
―――――――――――――――――――――――――――――――――
マット剤溶液
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・平均粒子サイズ２０ｎｍのシリカ粒子
（ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製） ２質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒） ７６質量部
・メタノール（第２溶剤） １１質量部
・上記のコア層セルロースアシレートドープ １質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
マット剤溶液
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・平均粒子サイズ２０ｎｍのシリカ粒子
（ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製） ２質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒） ７６質量部
・メタノール（第２溶剤） １１質量部
・上記のコア層セルロースアシレートドープ １質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
【0170】
（セルロースアシレートフィルム１の作製）
上記コア層セルロースアシレートドープと上記外層セルロースアシレートドープを平均孔径３４μｍのろ紙および平均孔径１０μｍの焼結金属フィルターでろ過した後、上記コア層セルロースアシレートドープとその両側に外層セルロースアシレートドープとを３層同時に流延口から２０℃のドラム上に流延した（バンド流延機）。
次いで、溶剤含有率略２０質量％の状態で剥ぎ取り、フィルムの幅方向の両端をテンタークリップで固定し、横方向に延伸倍率１．１倍で延伸しつつ乾燥した。
その後、熱処理装置のロール間を搬送することにより、更に乾燥し、厚み４０μｍの光学フィルムを作製し、これをセルロースアシレートフィルム１とした。得られたセルロースアシレートフィルム１の面内レターデーションは０ｎｍであった。
また、セルロースアシレートフィルム１のｔａｎδピーク温度は、１７０℃超であった。
上記コア層セルロースアシレートドープと上記外層セルロースアシレートドープを平均孔径３４μｍのろ紙および平均孔径１０μｍの焼結金属フィルターでろ過した後、上記コア層セルロースアシレートドープとその両側に外層セルロースアシレートドープとを３層同時に流延口から２０℃のドラム上に流延した（バンド流延機）。
次いで、溶剤含有率略２０質量％の状態で剥ぎ取り、フィルムの幅方向の両端をテンタークリップで固定し、横方向に延伸倍率１．１倍で延伸しつつ乾燥した。
その後、熱処理装置のロール間を搬送することにより、更に乾燥し、厚み４０μｍの光学フィルムを作製し、これをセルロースアシレートフィルム１とした。得られたセルロースアシレートフィルム１の面内レターデーションは０ｎｍであった。
また、セルロースアシレートフィルム１のｔａｎδピーク温度は、１７０℃超であった。
【0171】
＜光配向層の形成＞
後述する配向層形成用塗布液ＰＡ１を、ワイヤーバーで連続的に上記セルロースアシレートフィルム１上に塗布した。塗膜が形成された支持体を１４０℃の温風で１２０秒間乾燥し、続いて、塗膜に対して偏光紫外線照射（１０ｍＪ／ｃｍ２、超高圧水銀ランプ使用）することで、光配向層ＰＡ１を形成し、光配向層付きＴＡＣフィルムを得た。
膜厚は０．３μｍであった。
後述する配向層形成用塗布液ＰＡ１を、ワイヤーバーで連続的に上記セルロースアシレートフィルム１上に塗布した。塗膜が形成された支持体を１４０℃の温風で１２０秒間乾燥し、続いて、塗膜に対して偏光紫外線照射（１０ｍＪ／ｃｍ２、超高圧水銀ランプ使用）することで、光配向層ＰＡ１を形成し、光配向層付きＴＡＣフィルムを得た。
膜厚は０．３μｍであった。
【0172】
―――――――――――――――――――――――――――――――――
（配向層形成用塗布液ＰＡ１）
―――――――――――――――――――――――――――――――――
下記記重合体ＰＡ－１ １００．００質量部
下記酸発生剤ＰＡＧ-1 ５．００質量部
下記酸発生剤ＣＰＩ－１１０ＴＦ ０．００５質量部
キシレン １２２０．００質量部
メチルイソブチルケトン １２２．００質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
（配向層形成用塗布液ＰＡ１）
―――――――――――――――――――――――――――――――――
下記記重合体ＰＡ－１ １００．００質量部
下記酸発生剤ＰＡＧ-1 ５．００質量部
下記酸発生剤ＣＰＩ－１１０ＴＦ ０．００５質量部
キシレン １２２０．００質量部
メチルイソブチルケトン １２２．００質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
【0173】
重合体ＰＡ－１
【化21】
【0174】
酸発生剤ＰＡＧ－１
【化22】
【0175】
酸発生剤ＣＰＩ－１１０Ｆ
【化23】
【0176】
＜光吸収異方性層Ｐ１の形成＞
得られた配向層ＰＡ１上に、下記の光吸収異方性層形成用組成物Ｐ１をワイヤーバーで連続的に塗布し、塗布層Ｐ１を形成した。
次いで、塗布層Ｐ１を１４０℃で３０秒間加熱し、塗布層Ｐ１を室温（２３℃）になるまで冷却した。
次いで、９０℃で６０秒間加熱し、再び室温になるまで冷却した。
その後、ＬＥＤ灯（中心波長３６５ｎｍ）を用いて照度２００ｍＷ／ｃｍ２の照射条件で２秒間照射することにより、配向層ＰＡ１上に光吸収異方性層Ｐ１を作製した。
膜厚は１．６μｍであった。
得られた光吸収異方性層Ｐ１の表面凹凸は、１平方ミリメートルの範囲内の高低差が最大で３０ｎｍであった。また、平均算術粗さＲａは、５ｎｍであった。
これを積層体１Ｂとした。
得られた配向層ＰＡ１上に、下記の光吸収異方性層形成用組成物Ｐ１をワイヤーバーで連続的に塗布し、塗布層Ｐ１を形成した。
次いで、塗布層Ｐ１を１４０℃で３０秒間加熱し、塗布層Ｐ１を室温（２３℃）になるまで冷却した。
次いで、９０℃で６０秒間加熱し、再び室温になるまで冷却した。
その後、ＬＥＤ灯（中心波長３６５ｎｍ）を用いて照度２００ｍＷ／ｃｍ２の照射条件で２秒間照射することにより、配向層ＰＡ１上に光吸収異方性層Ｐ１を作製した。
膜厚は１．６μｍであった。
得られた光吸収異方性層Ｐ１の表面凹凸は、１平方ミリメートルの範囲内の高低差が最大で３０ｎｍであった。また、平均算術粗さＲａは、５ｎｍであった。
これを積層体１Ｂとした。
【0177】
―――――――――――――――――――――――――――――――――
光吸収異方性層形成用組成物Ｐ１
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記二色性物質Ｄ－１ ０．２５質量部
・下記二色性物質Ｄ－２ ０．３６質量部
・下記二色性物質Ｄ－３ ０．５９質量部
・下記高分子液晶性化合物Ｐ－１ ２．２１質量部
・下記低分子液晶性化合物Ｍ－１ １．３６質量部
・重合開始剤
ＩＲＧＡＣＵＲＥＯＸＥ－０２（ＢＡＳＦ社製） ０．２００質量部
・下記界面活性剤Ｆ－１ ０．０２６質量部
・シクロペンタノン ４６．００質量部
・テトラヒドロフラン ４６．００質量部
・ベンジルアルコール ３．００質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
光吸収異方性層形成用組成物Ｐ１
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記二色性物質Ｄ－１ ０．２５質量部
・下記二色性物質Ｄ－２ ０．３６質量部
・下記二色性物質Ｄ－３ ０．５９質量部
・下記高分子液晶性化合物Ｐ－１ ２．２１質量部
・下記低分子液晶性化合物Ｍ－１ １．３６質量部
・重合開始剤
ＩＲＧＡＣＵＲＥＯＸＥ－０２（ＢＡＳＦ社製） ０．２００質量部
・下記界面活性剤Ｆ－１ ０．０２６質量部
・シクロペンタノン ４６．００質量部
・テトラヒドロフラン ４６．００質量部
・ベンジルアルコール ３．００質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
【0178】
Ｄ－１
【化24】
【0179】
Ｄ－２
【化25】
【0180】
Ｄ－３
【化26】
【0181】
高分子液晶性化合物Ｐ－１
【化27】
【0182】
低分子液晶性化合物Ｍ－１
【化28】
【0183】
界面活性剤Ｆ－１
【化29】
【0184】
＜ＵＶ接着剤の作成＞
下記のＵＶ接着剤組成物を調製した。
─────────────────────────────────
ＵＶ接着剤組成物
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・ＣＥＬ２０２１Ｐ（ダイセル社製） ７０質量部
・１、４－ブタンジオールジグリシジルエーテル ２０質量部
・２－エチルヘキシルグリシジルエーテル １０質量部
・ＣＰＩ－１００Ｐ ２．２５質量部
─────────────────────────────────
下記のＵＶ接着剤組成物を調製した。
─────────────────────────────────
ＵＶ接着剤組成物
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・ＣＥＬ２０２１Ｐ（ダイセル社製） ７０質量部
・１、４－ブタンジオールジグリシジルエーテル ２０質量部
・２－エチルヘキシルグリシジルエーテル １０質量部
・ＣＰＩ－１００Ｐ ２．２５質量部
─────────────────────────────────
【0185】
ＣＰＩ－１００Ｐ
【化30】
【0186】
＜積層体１の作成＞
積層体１Ｂの光吸収異方性層表面に対し、上記ＵＶ剤を用いて、樹脂基材Ｓ１としてテクノロイＳ００１Ｇ（メタクリル樹脂５０μｍ厚、ｔａｎδピーク温度１２１℃、ｔａｎδピーク温度での貯蔵弾性率１７ｋＰａ、住化アクリル販売（株））を貼り合わせた。その後、セルロースアシレートフィルム１のみ剥離して、樹脂基材／接着剤層／光吸収異方性層／配向層がこの順に配置された積層体１を作成した。
ＵＶ接着剤層の厚みは２μｍであった。
積層体１Ｂの光吸収異方性層表面に対し、上記ＵＶ剤を用いて、樹脂基材Ｓ１としてテクノロイＳ００１Ｇ（メタクリル樹脂５０μｍ厚、ｔａｎδピーク温度１２１℃、ｔａｎδピーク温度での貯蔵弾性率１７ｋＰａ、住化アクリル販売（株））を貼り合わせた。その後、セルロースアシレートフィルム１のみ剥離して、樹脂基材／接着剤層／光吸収異方性層／配向層がこの順に配置された積層体１を作成した。
ＵＶ接着剤層の厚みは２μｍであった。
【0187】
［作成例２］
作成例１と同様にして、光吸収異方性層形成用組成物Ｐ１を下記に示すＰ２に置き換えて、作成例２の積層体を作成した。光吸収異方性層の膜厚は２．７μｍに変更した。
作成例２において得られた光吸収異方性層の表面凹凸は、１平方ミリメートルの範囲内の高低差が最大で２２ｎｍであった。また、平均算術粗さＲａは、４ｎｍであった。
作成例１と同様にして、光吸収異方性層形成用組成物Ｐ１を下記に示すＰ２に置き換えて、作成例２の積層体を作成した。光吸収異方性層の膜厚は２．７μｍに変更した。
作成例２において得られた光吸収異方性層の表面凹凸は、１平方ミリメートルの範囲内の高低差が最大で２２ｎｍであった。また、平均算術粗さＲａは、４ｎｍであった。
【0188】
―――――――――――――――――――――――――――――――――
光吸収異方性層形成用組成物Ｐ２
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・上記二色性物質Ｄ－１ ０．１４質量部
・上記二色性物質Ｄ－２ ０．２１質量部
・上記二色性物質Ｄ－３ ０．３５質量部
・上記高分子液晶性化合物Ｐ－１ ２．９７質量部
・上記低分子液晶性化合物Ｍ－１ １．１０質量部
・重合開始剤
ＩＲＧＡＣＵＲＥＯＸＥ－０２（ＢＡＳＦ社製） ０．２００質量部
・上記界面活性剤Ｆ－１ ０．０２６質量部
・シクロペンタノン ４６．００質量部
・テトラヒドロフラン ４６．００質量部
・ベンジルアルコール ３．００質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
光吸収異方性層形成用組成物Ｐ２
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・上記二色性物質Ｄ－１ ０．１４質量部
・上記二色性物質Ｄ－２ ０．２１質量部
・上記二色性物質Ｄ－３ ０．３５質量部
・上記高分子液晶性化合物Ｐ－１ ２．９７質量部
・上記低分子液晶性化合物Ｍ－１ １．１０質量部
・重合開始剤
ＩＲＧＡＣＵＲＥＯＸＥ－０２（ＢＡＳＦ社製） ０．２００質量部
・上記界面活性剤Ｆ－１ ０．０２６質量部
・シクロペンタノン ４６．００質量部
・テトラヒドロフラン ４６．００質量部
・ベンジルアルコール ３．００質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
【0189】
［作成例３］
作成例１と同様にして、光吸収異方性層形成用組成物Ｐ１を下記に示すＰ３に置き換えて、作成例３の積層体を作成した。
作成例３において得られた光吸収異方性層の表面凹凸は、１平方ミリメートルの範囲内の高低差が最大で４０ｎｍであった。また、平均算術粗さＲａは、５ｎｍであった。
作成例１と同様にして、光吸収異方性層形成用組成物Ｐ１を下記に示すＰ３に置き換えて、作成例３の積層体を作成した。
作成例３において得られた光吸収異方性層の表面凹凸は、１平方ミリメートルの範囲内の高低差が最大で４０ｎｍであった。また、平均算術粗さＲａは、５ｎｍであった。
【0190】
―――――――――――――――――――――――――――――――――
光吸収異方性層形成用組成物Ｐ３
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・上記二色性物質Ｄ－１ ０．２５質量部
・下記二色性物質Ｄ－４ ０．３６質量部
・下記二色性物質Ｄ－５ ０．５９質量部
・上記高分子液晶性化合物Ｐ－１ ２．２１質量部
・上記低分子液晶性化合物Ｍ－１ １．３６質量部
・重合開始剤
ＩＲＧＡＣＵＲＥＯＸＥ－０２（ＢＡＳＦ社製） ０．２００質量部
・上記界面活性剤Ｆ－１ ０．０２６質量部
・シクロペンタノン ４６．００質量部
・テトラヒドロフラン ４６．００質量部
・ベンジルアルコール ３．００質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
光吸収異方性層形成用組成物Ｐ３
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・上記二色性物質Ｄ－１ ０．２５質量部
・下記二色性物質Ｄ－４ ０．３６質量部
・下記二色性物質Ｄ－５ ０．５９質量部
・上記高分子液晶性化合物Ｐ－１ ２．２１質量部
・上記低分子液晶性化合物Ｍ－１ １．３６質量部
・重合開始剤
ＩＲＧＡＣＵＲＥＯＸＥ－０２（ＢＡＳＦ社製） ０．２００質量部
・上記界面活性剤Ｆ－１ ０．０２６質量部
・シクロペンタノン ４６．００質量部
・テトラヒドロフラン ４６．００質量部
・ベンジルアルコール ３．００質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
【0191】
Ｄ－４
【化31】
【0192】
Ｄ－５
【化32】
【0193】
［作成例４］
作成例１と同様にして、光吸収異方性層形成用組成物Ｐ１を下記に示すＰ４に置き換えて、作成例４の積層体を作成した。
作成例４において得られた光吸収異方性層の表面凹凸は、１平方ミリメートルの範囲内の高低差が最大で４２ｎｍであった。また、平均算術粗さＲａは、６ｎｍであった。
作成例１と同様にして、光吸収異方性層形成用組成物Ｐ１を下記に示すＰ４に置き換えて、作成例４の積層体を作成した。
作成例４において得られた光吸収異方性層の表面凹凸は、１平方ミリメートルの範囲内の高低差が最大で４２ｎｍであった。また、平均算術粗さＲａは、６ｎｍであった。
【0194】
―――――――――――――――――――――――――――――――――
光吸収異方性層形成用組成物Ｐ４
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記二色性物質Ｄ－６ ０．２５質量部
・上記二色性物質Ｄ－２ ０．３６質量部
・上記二色性物質Ｄ－３ ０．５９質量部
・上記高分子液晶性化合物Ｐ－１ １．９８質量部
・上記低分子液晶性化合物Ｍ－１ １．５９質量部
・重合開始剤
ＩＲＧＡＣＵＲＥＯＸＥ－０２（ＢＡＳＦ社製） ０．２００質量部
・上記界面活性剤Ｆ－１ ０．０２６質量部
・シクロペンタノン ４６．００質量部
・テトラヒドロフラン ４６．００質量部
・ベンジルアルコール ３．００質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
光吸収異方性層形成用組成物Ｐ４
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記二色性物質Ｄ－６ ０．２５質量部
・上記二色性物質Ｄ－２ ０．３６質量部
・上記二色性物質Ｄ－３ ０．５９質量部
・上記高分子液晶性化合物Ｐ－１ １．９８質量部
・上記低分子液晶性化合物Ｍ－１ １．５９質量部
・重合開始剤
ＩＲＧＡＣＵＲＥＯＸＥ－０２（ＢＡＳＦ社製） ０．２００質量部
・上記界面活性剤Ｆ－１ ０．０２６質量部
・シクロペンタノン ４６．００質量部
・テトラヒドロフラン ４６．００質量部
・ベンジルアルコール ３．００質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
【0195】
Ｄ－６
【化33】
【0196】
［作成例５］
作成例１と同様にして、光吸収異方性層形成用組成物Ｐ１を下記に示すＰ５に置き換えて、作成例５の積層体を作成した。
作成例５において得られた光吸収異方性層の表面凹凸は、１平方ミリメートルの範囲内の高低差が最大で４５ｎｍであった。また、平均算術粗さＲａは、５ｎｍであった。
作成例１と同様にして、光吸収異方性層形成用組成物Ｐ１を下記に示すＰ５に置き換えて、作成例５の積層体を作成した。
作成例５において得られた光吸収異方性層の表面凹凸は、１平方ミリメートルの範囲内の高低差が最大で４５ｎｍであった。また、平均算術粗さＲａは、５ｎｍであった。
【0197】
―――――――――――――――――――――――――――――――――
光吸収異方性層形成用組成物Ｐ５
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・上記二色性物質Ｄ－６ ０．２５質量部
・上記二色性物質Ｄ－２ ０．３６質量部
・上記二色性物質Ｄ－３ ０．５９質量部
・下記高分子液晶性化合物Ｐ－２ ３．１２質量部
・上記低分子液晶性化合物Ｍ－１ ０．４５質量部
・重合開始剤
ＩＲＧＡＣＵＲＥＯＸＥ－０２（ＢＡＳＦ社製） ０．２００質量部
・上記界面活性剤Ｆ－１ ０．０２６質量部
・シクロペンタノン ４６．００質量部
・テトラヒドロフラン ４６．００質量部
・ベンジルアルコール ３．００質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
光吸収異方性層形成用組成物Ｐ５
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・上記二色性物質Ｄ－６ ０．２５質量部
・上記二色性物質Ｄ－２ ０．３６質量部
・上記二色性物質Ｄ－３ ０．５９質量部
・下記高分子液晶性化合物Ｐ－２ ３．１２質量部
・上記低分子液晶性化合物Ｍ－１ ０．４５質量部
・重合開始剤
ＩＲＧＡＣＵＲＥＯＸＥ－０２（ＢＡＳＦ社製） ０．２００質量部
・上記界面活性剤Ｆ－１ ０．０２６質量部
・シクロペンタノン ４６．００質量部
・テトラヒドロフラン ４６．００質量部
・ベンジルアルコール ３．００質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
【0198】
高分子液晶性化合物Ｐ－２
【化34】
【0199】
［作成例６］
積層体１Ｂの光吸収異方性層表面に対し、上記ＵＶ剤を用いて、樹脂基材Ｓ２としてテクノロイＣ０００（ポリカーボネート樹脂５０μｍ厚、ｔａｎδピーク温度１５６℃、ｔａｎδピーク温度での貯蔵弾性率３１ｋＰａ、住化アクリル販売（株））を貼り合わせた。その後、セルロースアシレートフィルム１のみ剥離して、樹脂基材／接着剤層／光吸収異方性層／配向層がこの順に配置された積層体６を作成した。ＵＶ接着剤層の厚みは２μｍであった。
積層体１Ｂの光吸収異方性層表面に対し、上記ＵＶ剤を用いて、樹脂基材Ｓ２としてテクノロイＣ０００（ポリカーボネート樹脂５０μｍ厚、ｔａｎδピーク温度１５６℃、ｔａｎδピーク温度での貯蔵弾性率３１ｋＰａ、住化アクリル販売（株））を貼り合わせた。その後、セルロースアシレートフィルム１のみ剥離して、樹脂基材／接着剤層／光吸収異方性層／配向層がこの順に配置された積層体６を作成した。ＵＶ接着剤層の厚みは２μｍであった。
【0200】
［作成例７］
＜光配向層形成用組成物ＰＡ２の調製＞
下記の組成にて、光配向層形成用組成物Ｅ１を調製し、攪拌しながら１時間溶解し、０．４５μｍフィルターでろ過した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
光配向層形成用組成物ＰＡ２
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記光活性化合物Ｅ－４ ５．０質量部
・シクロペンタノン ９５．０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
＜光配向層形成用組成物ＰＡ２の調製＞
下記の組成にて、光配向層形成用組成物Ｅ１を調製し、攪拌しながら１時間溶解し、０．４５μｍフィルターでろ過した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
光配向層形成用組成物ＰＡ２
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記光活性化合物Ｅ－４ ５．０質量部
・シクロペンタノン ９５．０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
【0201】
光活性化合物Ｅ－４
【化35】
【0202】
＜光吸収異方性層形成用組成物Ｐ６の調製＞
下記の組成にて、光吸収異方性層形成用組成物Ｐ６を調製し、攪拌しながら８０℃で２時間加熱溶解し、０．４５μｍフィルターでろ過した。ラジカル重合性基のモル含率は、１．９８ｍｍｏｌ／ｇである。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
光吸収異方性層形成用組成物Ｐ６
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記二色性色素Ｄ－７ ２．５質量部
・下記二色性色素Ｄ－８ ２．５質量部
・下記二色性色素Ｄ－９ ２．５質量部
・下記液晶化合物Ｍ－２ １００．０質量部
・重合開始剤ＩＲＧＡＣＵＲＥ３６９Ｅ（ＢＡＳＦ社製） ６．０質量部
・ＢＹＫ３６１Ｎ（ビックケミージャパン社製） １．２質量部
・オルトキシレン ４００．０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
下記の組成にて、光吸収異方性層形成用組成物Ｐ６を調製し、攪拌しながら８０℃で２時間加熱溶解し、０．４５μｍフィルターでろ過した。ラジカル重合性基のモル含率は、１．９８ｍｍｏｌ／ｇである。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
光吸収異方性層形成用組成物Ｐ６
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記二色性色素Ｄ－７ ２．５質量部
・下記二色性色素Ｄ－８ ２．５質量部
・下記二色性色素Ｄ－９ ２．５質量部
・下記液晶化合物Ｍ－２ １００．０質量部
・重合開始剤ＩＲＧＡＣＵＲＥ３６９Ｅ（ＢＡＳＦ社製） ６．０質量部
・ＢＹＫ３６１Ｎ（ビックケミージャパン社製） １．２質量部
・オルトキシレン ４００．０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
【0203】
二色性色素Ｄ－７
【化36】
【0204】
二色性色素Ｄ－８
【化37】
【0205】
二色性色素Ｄ－９
【化38】
【0206】
液晶化合物Ｍ－２（化合物Ａ／化合物Ｂ＝７５／２５で混合）
【0207】
（化合物Ａ）
【化39】
【0208】
（化合物Ｂ）
【化40】
【0209】
上記のセルローストリアセテートフィルム１上に、上記光配向層形成用組成物ＰＡ２を塗布し、８０℃で２分間乾燥した。その後、得られた塗膜に、偏光紫外線露光装置を用いて直線偏光紫外線（１００ｍＪ／ｃｍ２）を照射し、光配向層ＰＡ２を作製した。
得られた光配向層ＰＡ２上に、上記光吸収異方性層形成用組成物Ｐ６をワイヤーバーで塗布した。次に、得られた塗膜に対して１１０℃で１８０秒間加熱し、室温になるまで冷却した。
その後、高圧水銀灯を用いて露光量２０００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射することにより、厚み２．０μｍの光吸収異方性層Ｐ６を形成した。
なお、光吸収異方性層の液晶はスメクチックＢ相であることを、確認した。
これを積層体７Ｂとした
得られた光配向層ＰＡ２上に、上記光吸収異方性層形成用組成物Ｐ６をワイヤーバーで塗布した。次に、得られた塗膜に対して１１０℃で１８０秒間加熱し、室温になるまで冷却した。
その後、高圧水銀灯を用いて露光量２０００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射することにより、厚み２．０μｍの光吸収異方性層Ｐ６を形成した。
なお、光吸収異方性層の液晶はスメクチックＢ相であることを、確認した。
これを積層体７Ｂとした
【0210】
＜積層体７の作成＞
積層体７Ｂの光吸収異方性層表面に対し、上記ＵＶ剤を用いて、樹脂基材Ｓ１としてテクノロイＳ００１Ｇ（メタクリル樹脂５０μｍ厚、ｔａｎδピーク温度１２１℃、住化アクリル販売（株））を貼り合わせた。その後、セルロースアシレートフィルム１と配向層を剥離して、樹脂基材／接着剤層／光吸収異方性層がこの順に配置された積層体７を作成した。
ＵＶ接着剤層の厚みは２μｍであった。
積層体７Ｂの光吸収異方性層表面に対し、上記ＵＶ剤を用いて、樹脂基材Ｓ１としてテクノロイＳ００１Ｇ（メタクリル樹脂５０μｍ厚、ｔａｎδピーク温度１２１℃、住化アクリル販売（株））を貼り合わせた。その後、セルロースアシレートフィルム１と配向層を剥離して、樹脂基材／接着剤層／光吸収異方性層がこの順に配置された積層体７を作成した。
ＵＶ接着剤層の厚みは２μｍであった。
【0211】
［作成例８］
積層体１Ｂの光吸収異方性層表面に対し、上記ＵＶ剤を用いて、樹脂基材Ｓ３としてコスモシャインＡ４３００（２軸延伸ＰＥＴ樹脂３８μｍ厚、ｔａｎδピーク温度１１１℃、ｔａｎδピーク温度での貯蔵弾性率１７１０ｋＰａ、東洋紡（株））を貼り合わせた。その後、セルロースアシレートフィルム１のみ剥離して、樹脂基材／接着剤層／光吸収異方性層／配向層がこの順に配置された積層体８を作成した。ＵＶ接着剤層の厚みは２μｍであった。
積層体１Ｂの光吸収異方性層表面に対し、上記ＵＶ剤を用いて、樹脂基材Ｓ３としてコスモシャインＡ４３００（２軸延伸ＰＥＴ樹脂３８μｍ厚、ｔａｎδピーク温度１１１℃、ｔａｎδピーク温度での貯蔵弾性率１７１０ｋＰａ、東洋紡（株））を貼り合わせた。その後、セルロースアシレートフィルム１のみ剥離して、樹脂基材／接着剤層／光吸収異方性層／配向層がこの順に配置された積層体８を作成した。ＵＶ接着剤層の厚みは２μｍであった。
【0212】
［作成例９］
積層体１Ｂの光吸収異方性層表面に対し、上記ＵＶ剤を用いて、樹脂基材Ｓ４としてコスモシャインＳＲＦ（１軸延伸ＰＥＴ樹脂８０μｍ厚、ｔａｎδピーク温度１１９℃、ｔａｎδピーク温度での貯蔵弾性率２１７０ｋＰａ、東洋紡（株））を貼り合わせた。その後、セルロースアシレートフィルム１のみ剥離して、樹脂基材／接着剤層／光吸収異方性層／配向層がこの順に配置された積層体９を作成した。ＵＶ接着剤層の厚みは２μｍであった。
積層体１Ｂの光吸収異方性層表面に対し、上記ＵＶ剤を用いて、樹脂基材Ｓ４としてコスモシャインＳＲＦ（１軸延伸ＰＥＴ樹脂８０μｍ厚、ｔａｎδピーク温度１１９℃、ｔａｎδピーク温度での貯蔵弾性率２１７０ｋＰａ、東洋紡（株））を貼り合わせた。その後、セルロースアシレートフィルム１のみ剥離して、樹脂基材／接着剤層／光吸収異方性層／配向層がこの順に配置された積層体９を作成した。ＵＶ接着剤層の厚みは２μｍであった。
【0213】
＜配向度の評価＞
光学顕微鏡（株式会社ニコン製、製品名「ＥＣＬＩＰＳＥ Ｅ６００ ＰＯＬ」）の光源側に直線偏光子を挿入した状態で、サンプル台に実施例および比較例の各光吸収異方性層をセットし、マルチチャンネル分光器（Ｏｃｅａｎ Ｏｐｔｉｃｓ社製、製品名「ＱＥ６５０００」）を用いて、４００～７００ｎｍの波長域における光吸収異方性層の吸光度を測定し、以下の式により配向度を算出した。積層体１～９の結果を下記表１に示す。
配向度：Ｓ＝［（Ａｚ０／Ａｙ０）－１］／［（Ａｚ０／Ａｙ０）＋２］
Ａｚ０：光吸収異方性層の吸収軸方向の偏光に対する吸光度
Ａｙ０：光吸収異方性層の偏光軸方向の偏光に対する吸光度
光学顕微鏡（株式会社ニコン製、製品名「ＥＣＬＩＰＳＥ Ｅ６００ ＰＯＬ」）の光源側に直線偏光子を挿入した状態で、サンプル台に実施例および比較例の各光吸収異方性層をセットし、マルチチャンネル分光器（Ｏｃｅａｎ Ｏｐｔｉｃｓ社製、製品名「ＱＥ６５０００」）を用いて、４００～７００ｎｍの波長域における光吸収異方性層の吸光度を測定し、以下の式により配向度を算出した。積層体１～９の結果を下記表１に示す。
配向度：Ｓ＝［（Ａｚ０／Ａｙ０）－１］／［（Ａｚ０／Ａｙ０）＋２］
Ａｚ０：光吸収異方性層の吸収軸方向の偏光に対する吸光度
Ａｙ０：光吸収異方性層の偏光軸方向の偏光に対する吸光度
【0214】
＜二軸延伸＞
積層体１～９を、１２０ｍｍ×１２０ｍｍの正方形に裁断し、下記の条件にて同時二軸延伸を行った。
実験装置：二軸延伸装置ＥＸ－１０（東洋精機製作所）
延伸温度：１２５℃
延伸速度：３０％／分
延伸倍率：ＭＤ/ＴＤ ４％/４％
積層体１～９を、１２０ｍｍ×１２０ｍｍの正方形に裁断し、下記の条件にて同時二軸延伸を行った。
実験装置：二軸延伸装置ＥＸ－１０（東洋精機製作所）
延伸温度：１２５℃
延伸速度：３０％／分
延伸倍率：ＭＤ/ＴＤ ４％/４％
【0215】
＜偏光度変化率評価＞
上記の同時二軸延伸の前後で、偏光度評価を行い、偏光度の変化率から、下記のように評価し、表１に示した。
Ａ：偏光度変化率が０．５％未満
Ｂ：偏光度変化率が０．５％以上１．０％未満
Ｃ：偏光度変化率が１．０％以上
なお、偏光度の測定は下記のように行った。
光学顕微鏡（株式会社ニコン製、製品名「ＥＣＬＩＰＳＥ Ｅ６００ ＰＯＬ」）の光源側に直線偏光子を挿入した状態で、サンプル台に実施例および比較例の各積層体をセットし、マルチチャンネル分光器（Ｏｃｅａｎ Ｏｐｔｉｃｓ社製、製品名「ＱＥ６５０００」）を用いて各積層体の透過率を測定し、以下の式により偏光度を算出した。
偏光度：Ｐ＝√［（Ｔｙ０－Ｔｚ０）／（Ｔｙ０＋Ｔｚ０）］
Ｔｚ０：積層体の吸収軸方向の偏光に対する透過率
Ｔｙ０：積層体の透過軸方向の偏光に対する透過率
上記の同時二軸延伸の前後で、偏光度評価を行い、偏光度の変化率から、下記のように評価し、表１に示した。
Ａ：偏光度変化率が０．５％未満
Ｂ：偏光度変化率が０．５％以上１．０％未満
Ｃ：偏光度変化率が１．０％以上
なお、偏光度の測定は下記のように行った。
光学顕微鏡（株式会社ニコン製、製品名「ＥＣＬＩＰＳＥ Ｅ６００ ＰＯＬ」）の光源側に直線偏光子を挿入した状態で、サンプル台に実施例および比較例の各積層体をセットし、マルチチャンネル分光器（Ｏｃｅａｎ Ｏｐｔｉｃｓ社製、製品名「ＱＥ６５０００」）を用いて各積層体の透過率を測定し、以下の式により偏光度を算出した。
偏光度：Ｐ＝√［（Ｔｙ０－Ｔｚ０）／（Ｔｙ０＋Ｔｚ０）］
Ｔｚ０：積層体の吸収軸方向の偏光に対する透過率
Ｔｙ０：積層体の透過軸方向の偏光に対する透過率
【0216】
＜加熱耐久性の評価＞
積層体１～９を、１３０℃および１００℃の２条件で４分間加熱し、加熱前後での偏光度の変化率から、下記のように評価した。結果を下記表１に示す。
ＡＡ：偏光度変化率が０．３％未満
Ａ：偏光度変化率が０．３％以上０．５％未満
Ｂ：偏光度変化率が０．５％以上１．０％未満
積層体１～９を、１３０℃および１００℃の２条件で４分間加熱し、加熱前後での偏光度の変化率から、下記のように評価した。結果を下記表１に示す。
ＡＡ：偏光度変化率が０．３％未満
Ａ：偏光度変化率が０．３％以上０．５％未満
Ｂ：偏光度変化率が０．５％以上１．０％未満
【0217】
【表1】
【0218】
なお、作成例１の積層体は、１００℃の延伸温度でも伸ばすことができたが、作成例６の積層体は１００℃の延伸温度では十分に延伸できなかった。ｔａｎδのピーク温度が１３０℃以下であれば、低温での成形にも対応可能である。
また、作成例８および９の積層体は、１２５℃の延伸で、積層体を固定するチャック部位において、ずれが生じて延伸することが容易ではなかった。
さらに、積層体１Ｂ（セルロースアシレートフィルム１／光吸収異方性層）は、延伸により破断が生じて延伸不可能であった。
また、作成例８および９の積層体は、１２５℃の延伸で、積層体を固定するチャック部位において、ずれが生じて延伸することが容易ではなかった。
さらに、積層体１Ｂ（セルロースアシレートフィルム１／光吸収異方性層）は、延伸により破断が生じて延伸不可能であった。
【0219】
［作成例１０］
色素が垂直方向に配向した光吸収異方性層を下記のように作成した。斜め方向から入射する偏光を吸収可能であり、視野角制御等に有効である。
色素が垂直方向に配向した光吸収異方性層を下記のように作成した。斜め方向から入射する偏光を吸収可能であり、視野角制御等に有効である。
【0220】
＜透明支持体１の作製＞
後述する配向層形成用塗布液１を、ワイヤーバーで連続的にセルロースアシレートフィルム２（厚み４０μｍのＴＡＣ基材；ＴＧ４０ 富士フイルム社）上に塗布した。塗膜が形成された支持体を６０℃の温風で６０秒間、さらに１００℃の温風で１２０秒間乾燥し、配向層を形成し、配向層付きＴＡＣフィルムを得た。
膜厚は１．０μｍであった。
後述する配向層形成用塗布液１を、ワイヤーバーで連続的にセルロースアシレートフィルム２（厚み４０μｍのＴＡＣ基材；ＴＧ４０ 富士フイルム社）上に塗布した。塗膜が形成された支持体を６０℃の温風で６０秒間、さらに１００℃の温風で１２０秒間乾燥し、配向層を形成し、配向層付きＴＡＣフィルムを得た。
膜厚は１．０μｍであった。
【0221】
――――――――――――――――――――――――――――――――
（配向層形成用塗布液１）
――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記の変性ポリビニルアルコール ３．８０質量部
・開始剤Ｉｒｇ２９５９ ０．２０質量部
・水 ７０質量部
・メタノール ３０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――
（配向層形成用塗布液１）
――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記の変性ポリビニルアルコール ３．８０質量部
・開始剤Ｉｒｇ２９５９ ０．２０質量部
・水 ７０質量部
・メタノール ３０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――
【0222】
変性ポリビニルアルコール
【化41】
【0223】
＜光吸収異方性層Ｐ１の形成＞
得られた配向層ＰＡ１上に、下記の光吸収異方性層形成用組成物Ｐ７をワイヤーバーで連続的に塗布し、塗布層Ｐ７を形成した。
次いで、塗布層Ｐ７を１４０℃で３０秒間加熱し、塗布層Ｐ７を室温（２３℃）になるまで冷却した。
次いで、９０℃で６０秒間加熱し、再び室温になるまで冷却した。
その後、ＬＥＤ灯（中心波長３６５ｎｍ）を用いて照度２００ｍＷ／ｃｍ２の照射条件で２秒間照射することにより、配向層１上に光吸収異方性層Ｐ７を作製した。
膜厚は２．１μｍ、配向度は、０．９６であった。ラジカル重合性基のモル含率は、１．１６ｍｍｏｌ／ｇである。
これを積層体１０Ｂとした。
得られた配向層ＰＡ１上に、下記の光吸収異方性層形成用組成物Ｐ７をワイヤーバーで連続的に塗布し、塗布層Ｐ７を形成した。
次いで、塗布層Ｐ７を１４０℃で３０秒間加熱し、塗布層Ｐ７を室温（２３℃）になるまで冷却した。
次いで、９０℃で６０秒間加熱し、再び室温になるまで冷却した。
その後、ＬＥＤ灯（中心波長３６５ｎｍ）を用いて照度２００ｍＷ／ｃｍ２の照射条件で２秒間照射することにより、配向層１上に光吸収異方性層Ｐ７を作製した。
膜厚は２．１μｍ、配向度は、０．９６であった。ラジカル重合性基のモル含率は、１．１６ｍｍｏｌ／ｇである。
これを積層体１０Ｂとした。
【0224】
―――――――――――――――――――――――――――――――――
光吸収異方性層形成用組成物Ｐ７
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・上記二色性物質Ｄ－１ ０．４０質量部
・上記二色性物質Ｄ－４ ０．１５質量部
・上記二色性物質Ｄ－５ ０．６３質量部
・上記高分子液晶性化合物Ｐ－２ ２．１５質量部
・上記低分子液晶性化合物Ｍ－１ １．３６質量部
・重合開始剤
ＩＲＧＡＣＵＲＥＯＸＥ－０２（ＢＡＳＦ社製） ０．１４０質量部
・下記化合物Ｅ－１ ０．０６０質量部
・下記化合物Ｅ－２ ０．０６０質量部
・下記界面活性剤Ｆ－２ ０．０１０質量部
・下記界面活性剤Ｆ－３ ０．０１５質量部
・シクロペンタノン ４６．００質量部
・テトラヒドロフラン ４６．００質量部
・ベンジルアルコール ３．００質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
光吸収異方性層形成用組成物Ｐ７
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・上記二色性物質Ｄ－１ ０．４０質量部
・上記二色性物質Ｄ－４ ０．１５質量部
・上記二色性物質Ｄ－５ ０．６３質量部
・上記高分子液晶性化合物Ｐ－２ ２．１５質量部
・上記低分子液晶性化合物Ｍ－１ １．３６質量部
・重合開始剤
ＩＲＧＡＣＵＲＥＯＸＥ－０２（ＢＡＳＦ社製） ０．１４０質量部
・下記化合物Ｅ－１ ０．０６０質量部
・下記化合物Ｅ－２ ０．０６０質量部
・下記界面活性剤Ｆ－２ ０．０１０質量部
・下記界面活性剤Ｆ－３ ０．０１５質量部
・シクロペンタノン ４６．００質量部
・テトラヒドロフラン ４６．００質量部
・ベンジルアルコール ３．００質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
【0225】
化合物Ｅ－１
【化42】
【0226】
化合物Ｅ－２
【化43】
【0227】
界面活性剤Ｆ－２
【化44】
【0228】
界面活性剤Ｆ－３
【化45】
【0229】
＜積層体１０の作成＞
積層体１０Ｂの光吸収異方性層表面に対し、上記ＵＶ剤を用いて、樹脂基材Ｓ１としてテクノロイＳ００１Ｇ（メタクリル樹脂５０μｍ厚、ｔａｎδピーク温度１２８℃、住化アクリル販売（株））を貼り合わせた。その後、セルロースアシレートフィルム２のみ剥離して、樹脂基材／接着剤層／光吸収異方性層／配向層がこの順に配置された吸収型偏光フイルムを作成した。ＵＶ接着剤層の厚みは２μｍであった。
積層体１～９と同様の２軸延伸評価を行い、本発明の効果を確認した。
積層体１０Ｂの光吸収異方性層表面に対し、上記ＵＶ剤を用いて、樹脂基材Ｓ１としてテクノロイＳ００１Ｇ（メタクリル樹脂５０μｍ厚、ｔａｎδピーク温度１２８℃、住化アクリル販売（株））を貼り合わせた。その後、セルロースアシレートフィルム２のみ剥離して、樹脂基材／接着剤層／光吸収異方性層／配向層がこの順に配置された吸収型偏光フイルムを作成した。ＵＶ接着剤層の厚みは２μｍであった。
積層体１～９と同様の２軸延伸評価を行い、本発明の効果を確認した。
【0230】
［作成例１１］
＜アクリレート系ＵＶ接着剤の作成＞
下記のアクリレート系ＵＶ接着剤組成物を調製した。
─────────────────────────────────
アクリレート系ＵＶ接着剤組成物
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・アロニックスＭ２２０（東亞合成社製） １８質量部
・４－ヒドロキシブチルアクリレート（東京化成工業社製） ４０質量部
・アクリル酸２－ヒドロキシエチル（東京化成工業社製） ４０質量部
・イルガキュア９０７（ＢＡＳＦ社製） ２質量部
─────────────────────────────────
＜アクリレート系ＵＶ接着剤の作成＞
下記のアクリレート系ＵＶ接着剤組成物を調製した。
─────────────────────────────────
アクリレート系ＵＶ接着剤組成物
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・アロニックスＭ２２０（東亞合成社製） １８質量部
・４－ヒドロキシブチルアクリレート（東京化成工業社製） ４０質量部
・アクリル酸２－ヒドロキシエチル（東京化成工業社製） ４０質量部
・イルガキュア９０７（ＢＡＳＦ社製） ２質量部
─────────────────────────────────
【0231】
＜積層体１１の作成＞
上記アクリレート系ＵＶ接着剤を用い、樹脂基材としてテクノロイＳ０００（メタクリル樹脂７５μｍ厚、ｔａｎδピーク温度１２０℃、住化アクリル販売（株））を用いた以外は、作成例１と同様にして、積層体１Ｂの光吸収異方性層表面に対し樹脂基材を貼り合わせた。その後、セルロースアシレートフィルム１のみ剥離して、樹脂基材／接着剤層／光吸収異方性層／配向層がこの順に配置された積層体１１を作成した。
ＵＶ接着剤層の厚みは２μｍであった。また、積層体１１は、アクリレート系ＵＶ剤を使用したことにより、光吸収異方性層と樹脂基材が非常に強固に接着されており、セルロースアシレートフィルム１を剥離する際、光吸収異方性層が破れたり、樹脂基材から剥がれたりすることなく、容易に剥離することができた。
上記アクリレート系ＵＶ接着剤を用い、樹脂基材としてテクノロイＳ０００（メタクリル樹脂７５μｍ厚、ｔａｎδピーク温度１２０℃、住化アクリル販売（株））を用いた以外は、作成例１と同様にして、積層体１Ｂの光吸収異方性層表面に対し樹脂基材を貼り合わせた。その後、セルロースアシレートフィルム１のみ剥離して、樹脂基材／接着剤層／光吸収異方性層／配向層がこの順に配置された積層体１１を作成した。
ＵＶ接着剤層の厚みは２μｍであった。また、積層体１１は、アクリレート系ＵＶ剤を使用したことにより、光吸収異方性層と樹脂基材が非常に強固に接着されており、セルロースアシレートフィルム１を剥離する際、光吸収異方性層が破れたり、樹脂基材から剥がれたりすることなく、容易に剥離することができた。
【0232】
＜レンズ形状の成形＞
積層体１１を２００ｍｍ×３００ｍｍに裁断し、直径５０ｍｍ、厚み１０ｍｍの凸レンズを型として用い、特開２０１２－１１６０９４号公報に記載の方法にて真空成形を行った。成形温度は１１０℃であった。
成形の前後における偏光度の変化は、最も変化が大きい場所においても０．５％未満であり、偏光度の低下が非常によく抑制されていることを確認した。
積層体１１を２００ｍｍ×３００ｍｍに裁断し、直径５０ｍｍ、厚み１０ｍｍの凸レンズを型として用い、特開２０１２－１１６０９４号公報に記載の方法にて真空成形を行った。成形温度は１１０℃であった。
成形の前後における偏光度の変化は、最も変化が大きい場所においても０．５％未満であり、偏光度の低下が非常によく抑制されていることを確認した。
【符号の説明】
【0233】
１００、２００ 積層体
３００ 曲面を有する光学装置または表示装置
１ 樹脂基材
２ 配向層
３ 光学吸収層
４ 接着剤層
１０ ヘッドマウントディスプレイ
１２ 筐体
２０ 光学システム
４０ ディスプレイシステム
４６ 目
４８ 方向
１００ 直線偏光子Ａ（本発明の積層体）
１０１ 第１の１／４波長板
２００ 反射直線偏光子
２０１ 第１の１／４波長板
３００ ハーフミラー
３９９ 第２のλ/４板
４００ 直線偏光子Ｂ
５００ 画像表示パネル
６００ 反射円偏光子
３００ 曲面を有する光学装置または表示装置
１ 樹脂基材
２ 配向層
３ 光学吸収層
４ 接着剤層
１０ ヘッドマウントディスプレイ
１２ 筐体
２０ 光学システム
４０ ディスプレイシステム
４６ 目
４８ 方向
１００ 直線偏光子Ａ（本発明の積層体）
１０１ 第１の１／４波長板
２００ 反射直線偏光子
２０１ 第１の１／４波長板
３００ ハーフミラー
３９９ 第２のλ/４板
４００ 直線偏光子Ｂ
５００ 画像表示パネル
６００ 反射円偏光子
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【手続補正書】
【提出日】2024-05-28
【手続補正1】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項1】
少なくとも、樹脂基材と、光吸収異方性層を有する積層体であって、
前記樹脂基材の下記測定方法で求められるｔａｎδのピーク温度が１７０℃以下であり、
前記光吸収異方性層が液晶性化合物と、架橋性基を有する二色性物質と、架橋性基を有しない二色性物質と、を含有する組成物を用いて形成された層であり、二色性物質の配向度が０．９５以上である、積層体。
測定方法：動的粘弾性測定装置を用いて、あらかじめ温度２５℃、湿度６０％Ｒｈ雰囲気下で２時間以上調湿した前記樹脂基材について、下記条件において、Ｅ”（損失弾性率）とＥ’（貯蔵弾性率）を測定し、ｔａｎδ（＝Ｅ”／Ｅ’）を求める値とする。
試料:５ｍｍ、長さ５０ｍｍ（ギャップ２０ｍｍ）
測定条件:引張りモード
測定温度:－１５０℃～２２０℃
昇温条件:５℃/ｍｉｎ
周波数:１Ｈｚ
前記樹脂基材の下記測定方法で求められるｔａｎδのピーク温度が１７０℃以下であり、
前記光吸収異方性層が液晶性化合物と、架橋性基を有する二色性物質と、架橋性基を有しない二色性物質と、を含有する組成物を用いて形成された層であり、二色性物質の配向度が０．９５以上である、積層体。
測定方法：動的粘弾性測定装置を用いて、あらかじめ温度２５℃、湿度６０％Ｒｈ雰囲気下で２時間以上調湿した前記樹脂基材について、下記条件において、Ｅ”（損失弾性率）とＥ’（貯蔵弾性率）を測定し、ｔａｎδ（＝Ｅ”／Ｅ’）を求める値とする。
試料:５ｍｍ、長さ５０ｍｍ（ギャップ２０ｍｍ）
測定条件:引張りモード
測定温度:－１５０℃～２２０℃
昇温条件:５℃/ｍｉｎ
周波数:１Ｈｚ
【請求項2】
前記樹脂基材のｔａｎδのピーク温度が１３０℃以下である、請求項１に記載の積層体。
【請求項3】
前記樹脂基材のｔａｎδのピーク温度における貯蔵弾性率が１００ｋＰａ以下である、請求項１または２に記載の積層体。
【請求項4】
前記樹脂基材、接着剤層、および、前記光吸収異方性層がこの順に配置された、請求項１～３のいずれか１項に記載の積層体。
【請求項5】
前記接着剤層が、紫外線硬化型接着剤層である、請求項４に記載の積層体。
【請求項6】
前記接着剤層が、少なくとも（メタ）アクリレート化合物を含む接着剤層である、請求項５に記載の積層体。
【請求項7】
更に、配向層を有する、請求項１～６のいずれか１項に記載の積層体。
【請求項8】
前記配向層が、ラジカル重合性化合物を含有する組成物から形成された層である、請求項７に記載の積層体。
【請求項9】
前記樹脂基材、接着剤層、前記光吸収異方性層、および、配向層がこの順に配置された、請求項１～８のいずれか１項に記載の積層体。
【請求項10】
前記接着剤層が、紫外線硬化型接着剤層である、請求項９に記載の積層体。
【請求項11】
前記接着剤層が、少なくとも（メタ）アクリレート化合物を含む接着剤層である、請求項１０に記載の積層体。
【請求項12】
前記光吸収異方性層が、高分子液晶性化合物を有する組成物から形成される、請求項１～１１のいずれか１項に記載の積層体。
【請求項13】
前記光吸収異方性層を形成する組成物の固形分重量に対しラジカル重合性基のモル含有率が、０．６ｍｍｏｌ／ｇ以上である、請求項１～１２のいずれか１項に記載の積層体。
【請求項14】
曲面を有する、請求項１～１３のいずれか１項に記載の積層体。
【請求項15】
曲面を有する光学装置であって、
請求項１４に記載の積層体が、前記曲面に沿うように配置された、光学装置。
請求項１４に記載の積層体が、前記曲面に沿うように配置された、光学装置。
【請求項16】
曲面を有する複数の部材を有する表示装置であって、
請求項１４に記載の積層体が、前記曲面を有する部材のうち、最も視認側に存在する部材の曲面の更に視認側に沿うように配置された、表示装置。
請求項１４に記載の積層体が、前記曲面を有する部材のうち、最も視認側に存在する部材の曲面の更に視認側に沿うように配置された、表示装置。
【請求項17】
少なくとも、樹脂基材と、光吸収異方性層と、を有し、三次元曲面を有する積層体の製造方法であって、
前記樹脂基材と、前記光吸収異方性層と、をこの順に積層して、積層体を得る工程と、
真空成形によって前記積層体に三次元曲面を形成し、前記三次元曲面を有する積層体を得る工程と、を含み、
前記樹脂基材の下記測定方法で求められるｔａｎδのピーク温度が１７０℃以下であり、
前記光吸収異方性層が液晶性化合物および二色性物質を含有し、二色性物質の配向度が０．９５以上であり、
前記真空成形の前後における偏光度の変化が、最も変化が大きい場所においても０．５％未満である、積層体の製造方法。
測定方法：動的粘弾性測定装置を用いて、あらかじめ温度２５℃、湿度６０％Ｒｈ雰囲気下で２時間以上調湿した前記樹脂基材について、下記条件において、Ｅ”（損失弾性率）とＥ’（貯蔵弾性率）を測定し、ｔａｎδ（＝Ｅ”／Ｅ’）を求める値とする。
試料:５ｍｍ、長さ５０ｍｍ（ギャップ２０ｍｍ）
測定条件:引張りモード
測定温度:－１５０℃～２２０℃
昇温条件:５℃/ｍｉｎ
周波数:１Ｈｚ
前記樹脂基材と、前記光吸収異方性層と、をこの順に積層して、積層体を得る工程と、
真空成形によって前記積層体に三次元曲面を形成し、前記三次元曲面を有する積層体を得る工程と、を含み、
前記樹脂基材の下記測定方法で求められるｔａｎδのピーク温度が１７０℃以下であり、
前記光吸収異方性層が液晶性化合物および二色性物質を含有し、二色性物質の配向度が０．９５以上であり、
前記真空成形の前後における偏光度の変化が、最も変化が大きい場所においても０．５％未満である、積層体の製造方法。
測定方法：動的粘弾性測定装置を用いて、あらかじめ温度２５℃、湿度６０％Ｒｈ雰囲気下で２時間以上調湿した前記樹脂基材について、下記条件において、Ｅ”（損失弾性率）とＥ’（貯蔵弾性率）を測定し、ｔａｎδ（＝Ｅ”／Ｅ’）を求める値とする。
試料:５ｍｍ、長さ５０ｍｍ（ギャップ２０ｍｍ）
測定条件:引張りモード
測定温度:－１５０℃～２２０℃
昇温条件:５℃/ｍｉｎ
周波数:１Ｈｚ