特開 2024-10749 基板保持装置、基板製造装置、および基板製造方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2024010749

(43)【公開日】2024-01-25

(54)【発明の名称】基板保持装置、基板製造装置、および基板製造方法

(51)【国際特許分類】

   H01L 21/683 20060101AFI20240118BHJP

【ＦＩ】

H01L21/68 N

【審査請求】未請求

【請求項の数】16

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2022112217

(22)【出願日】2022-07-13

(71)【出願人】

【識別番号】000000239

【氏名又は名称】株式会社荏原製作所

(74)【代理人】

【識別番号】100118500

【弁理士】

【氏名又は名称】廣澤 哲也

(74)【代理人】

【識別番号】100091498

【弁理士】

【氏名又は名称】渡邉 勇

(74)【代理人】

【識別番号】100174089

【弁理士】

【氏名又は名称】郷戸 学

(74)【代理人】

【識別番号】100186749

【弁理士】

【氏名又は名称】金沢 充博

(72)【発明者】

【氏名】佐竹 正行

(72)【発明者】

【氏名】中西 正行

【テーマコード（参考）】

5F131

【Ｆターム（参考）】

5F131AA02

5F131BA51

5F131BA60

5F131CA06

5F131CA09

5F131EB32

5F131EB57

(57)【要約】

【課題】基板に欠陥が生じることを防止することができる基板保持装置が提供される。
【解決手段】基板保持装置１は、保持ローラー５１と、保持ローラー５１に保持されたベベル部Ｂに加圧流体を吹き出す流体吹き出し装置６０と、を備える。
【選択図】図４

【特許請求の範囲】

【請求項1】

基板のベベル部を保持しつつ、前記基板を回転させる保持ローラーと、
前記保持ローラーに連結され、かつ前記保持ローラーに保持された前記ベベル部に加圧流体を吹き出す流体吹き出し装置と、を備える、基板保持装置。

【請求項2】

前記流体吹き出し装置は、
前記保持ローラーに形成された吹き出し口に連結された流体供給ラインと、
前記流体供給ラインに接続された流体供給装置と、を備えている、請求項１に記載の基板保持装置。

【請求項3】

前記基板保持装置は、前記保持ローラーの、前記ベベル部を挟持する第１挟持部および第２挟持部を互いに近接または離間させるクランプ装置を備えている、請求項１に記載の基板保持装置。

【請求項4】

前記基板保持装置は、前記ベベル部に接触する接触位置と前記ベベル部から離間する離間位置との間で前記保持ローラーを移動させるローラー移動装置を備えている、請求項１に記載の基板保持装置。

【請求項5】

第１基板および第２基板を貼り合わせて形成された積層基板を製造する基板製造装置において、
前記積層基板を保持しつつ、前記積層基板を回転させる保持ローラーと、
前記保持ローラーに連結され、かつ前記保持ローラーに保持された前記積層基板の隙間に加圧流体を吹き出す流体吹き出し装置と、
前記隙間に充填剤を塗布する塗布装置と、を備える、基板製造装置。

【請求項6】

前記流体吹き出し装置は、
前記保持ローラーに形成された吹き出し口に連結された流体供給ラインと、
前記流体供給ラインに接続された流体供給装置と、を備えている、請求項５に記載の基板製造装置。

【請求項7】

前記基板製造装置は、前記保持ローラーの、前記積層基板のベベル部を挟持する第１挟持部および第２挟持部を互いに近接または離間させるクランプ装置を備えている、請求項５に記載の基板製造装置。

【請求項8】

前記基板製造装置は、前記積層基板のベベル部に接触する接触位置と前記ベベル部から離間する離間位置との間で前記保持ローラーを移動させるローラー移動装置を備えている、請求項５に記載の基板製造装置。

【請求項9】

前記流体吹き出し装置は、前記積層基板のベベル部に吹き出すための流体を加熱するヒーターを備えている、請求項５に記載の基板製造装置。

【請求項10】

前記塗布装置は、前記隙間に向けて充填剤を供給する供給ノズルに供給される充填剤に加圧流体を噴射する噴射ノズルを備えている、請求項５に記載の基板製造装置。

【請求項11】

第１基板および第２基板を貼り合わせて形成された積層基板を製造する基板製造方法において、
保持ローラーによって、前記積層基板を保持しつつ、前記積層基板を回転させる工程と、
前記積層基板の隙間に充填剤を塗布する工程と、
前記保持ローラーに連結され、かつ前記隙間に加圧流体を吹き出す工程と、を含む、基板製造方法。

【請求項12】

前記加圧流体を吹き出す工程は、前記保持ローラーに形成された吹き出し口から前記加圧流体を吹き出す工程を含む、請求項１１に記載の基板製造方法。

【請求項13】

前記基板製造方法は、前記保持ローラーの、前記積層基板のベベル部を挟持する第１挟持部および第２挟持部を互いに近接または離間させる工程を含む、請求項１１に記載の基板製造方法。

【請求項14】

前記基板製造方法は、前記積層基板のベベル部に接触する接触位置と前記ベベル部から離間する離間位置との間で前記保持ローラーを移動させる工程を含む、請求項１１に記載の基板製造方法。

【請求項15】

前記基板製造方法は、前記積層基板のベベル部に吹き出すための流体を加熱する工程を含む、請求項１１に記載の基板製造方法。

【請求項16】

前記基板製造方法は、前記隙間に向けて充填剤を供給する供給ノズルに供給される充填剤に加圧流体を噴射する工程を含む、請求項１１に記載の基板製造方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、基板保持装置、基板製造装置、および基板製造方法に関する。

【背景技術】

【0002】

複数の基板を積層・集積化する３次元実装技術では、複数の基板のデバイス面同士を接合した後に、一方の基板の非デバイス面を研削している。基板は予めその周縁部に丸みを帯びた形状または面取りされた形状（ベベル部）を有する。

【0003】

したがって、研削によってベベル部が薄くなると、鋭利な端部（ナイフエッジ部）が形成されてしまい、結果として、割れや欠けなどの欠陥が生じるおそれがある。そこで、ベベルフィル技術では、積層基板におけるベベル部の間の隙間を充填剤により埋めることで、ナイフエッジ部を充填剤で支持し、欠陥の発生を防止している。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0004】

【特許文献1】特開２０２２－３８８３４号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0005】

しかしながら、ベベル部の間の隙間に塗布された充填剤に気泡が混入していると、充填剤の内部における気泡（すなわち、空洞）に起因して、基板に欠陥が生じてしまうおそれがある。より具体的には、研削荷重がナイフエッジ部に加えられると、空洞部分におけるナイフエッジ部を充填剤で支持しきれなくなり、結果として、割れや欠けなどの欠陥が基板に生じるおそれがある。そこで、充填剤に混入した気泡を除去することは、基板に欠陥が生じることを防止する観点から重要である。

【0006】

加えて、基板のベベル部に付着した異物（例えば、液体やパーティクルなど）を除去することも、基板に欠陥が生じることを防止する観点から重要である。上述した積層基板に限らず、一般的な基板（すなわち、積層されていない基板）においても、異物が基板のベベル部に付着していると、基板が汚染され、結果として、基板に欠陥が生じるおそれがある。

【0007】

このように、充填剤に混入した気泡の除去および異物のベベル部からの除去を含めて、基板のベベル部を清浄に維持することは、基板に欠陥が発生することを防止する観点から重要である。

【0008】

そこで、本発明は、基板に欠陥が生じることを防止することができる基板保持装置、基板製造装置、および基板製造方法を提供することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0009】

一態様では、基板のベベル部を保持しつつ、前記基板を回転させる保持ローラーと、前記保持ローラーに連結され、かつ前記保持ローラーに保持された前記ベベル部に加圧流体を吹き出す流体吹き出し装置と、を備える、基板保持装置が提供される。

【0010】

一態様では、前記流体吹き出し装置は、前記保持ローラーに形成された吹き出し口に連結された流体供給ラインと、前記流体供給ラインに接続された流体供給装置と、を備えている。
一態様では、前記基板保持装置は、前記保持ローラーの、前記ベベル部を挟持する第１挟持部および第２挟持部を互いに近接または離間させるクランプ装置を備えている。
一態様では、前記基板保持装置は、前記ベベル部に接触する接触位置と前記ベベル部から離間する離間位置との間で前記保持ローラーを移動させるローラー移動装置を備えている。

【0011】

一態様では、第１基板および第２基板を貼り合わせて形成された積層基板を製造する基板製造装置が提供される。基板製造装置は、前記積層基板を保持しつつ、前記積層基板を回転させる保持ローラーと、前記保持ローラーに連結され、かつ前記保持ローラーに保持された前記積層基板の隙間に加圧流体を吹き出す流体吹き出し装置と、前記隙間に充填剤を塗布する塗布装置と、を備える。

【0012】

一態様では、前記流体吹き出し装置は、前記保持ローラーに形成された吹き出し口に連結された流体供給ラインと、前記流体供給ラインに接続された流体供給装置と、を備えている。
一態様では、前記基板製造装置は、前記保持ローラーの、前記積層基板のベベル部を挟持する第１挟持部および第２挟持部を互いに近接または離間させるクランプ装置を備えている。
一態様では、前記基板製造装置は、前記積層基板のベベル部に接触する接触位置と前記ベベル部から離間する離間位置との間で前記保持ローラーを移動させるローラー移動装置を備えている。

【0013】

一態様では、前記流体吹き出し装置は、前記積層基板のベベル部に吹き出すための流体を加熱するヒーターを備えている。
一態様では、前記塗布装置は、前記隙間に向けて充填剤を供給する供給ノズルに供給される充填剤に加圧流体を噴射する噴射ノズルを備えている。

【0014】

一態様では、第１基板および第２基板を貼り合わせて形成された積層基板を製造する基板製造方法が提供される。基板製造方法は、保持ローラーによって、前記積層基板を保持しつつ、前記積層基板を回転させる工程と、前記積層基板の隙間に充填剤を塗布する工程と、前記保持ローラーに連結され、かつ前記隙間に加圧流体を吹き出す工程と、を含む。

【0015】

一態様では、前記加圧流体を吹き出す工程は、前記保持ローラーに形成された吹き出し口から前記加圧流体を吹き出す工程を含む。
一態様では、前記基板製造方法は、前記保持ローラーの、前記積層基板のベベル部を挟持する第１挟持部および第２挟持部を互いに近接または離間させる工程を含む。
一態様では、前記基板製造方法は、前記積層基板のベベル部に接触する接触位置と前記ベベル部から離間する離間位置との間で前記保持ローラーを移動させる工程を含む。

【0016】

一態様では、前記基板製造方法は、前記積層基板のベベル部に吹き出すための流体を加熱する工程を含む。
一態様では、前記基板製造方法は、前記隙間に向けて充填剤を供給する供給ノズルに供給される充填剤に加圧流体を噴射する工程を含む。

【発明の効果】

【0017】

流体吹き出し装置は、基板のベベル部に加圧流体を吹き出すことによって、基板のベベル部を清浄に維持することができる。結果として、基板に欠陥が生じることが防止される。

【図面の簡単な説明】

【0018】

【図1】図１（ａ）および図１（ｂ）は、基板の一例であるウエハの周縁部を示す拡大断面図である。

【図2】図２（ａ）は２枚のウエハを接合した積層ウエハの一例を示す模式図であり、図２（ｂ）は図２（ａ）に示す第２ウエハを研削（薄化）した後の積層ウエハを示す模式図である。

【図3】基板製造装置の一実施形態を示す図である。

【図4】基板保持装置の一実施形態を示す図である。

【図5】図５（ａ）および図５（ｂ）は、積層ウエハの隙間に加圧流体を噴射する様子を示す図である。

【図6】積層ウエハの積層工程を示す図である。

【図7】保持ローラーで積層ウエハをクランプするクランプ装置を示す図である。

【図8】流体吹き出し装置の他の実施形態を示す図である。

【図9】塗布装置の他の実施形態を示す図である。

【発明を実施するための形態】

【0019】

図１（ａ）および図１（ｂ）は、基板の一例であるウエハの周縁部を示す拡大断面図である。より詳しくは、図１（ａ）はいわゆるストレート型のウエハの断面図であり、図１（ｂ）はいわゆるラウンド型のウエハの断面図である。図１（ａ）のウエハＷにおいて、ベベル部は、上側傾斜部（上側ベベル部）Ｐ、下側傾斜部（下側ベベル部）Ｑ、および側部（アペックス）Ｒから構成されるウエハＷの最外周面（符号Ｂで示す）である。

【0020】

図１（ｂ）のウエハＷにおいては、ベベル部は、ウエハＷの最外周面を構成する、湾曲した断面を有する部分（符号Ｂで示す）である。トップエッジ部Ｅ１は、ベベル部Ｂよりも半径方向内側に位置する領域であって、かつデバイスが形成される領域Ｄよりも半径方向外側に位置する平坦部である。トップエッジ部Ｅ１は、デバイスが形成された領域を含むこともある。ボトムエッジ部Ｅ２は、トップエッジ部Ｅ１とは反対側に位置し、ベベル部Ｂよりも半径方向内側に位置する平坦部である。これらトップエッジ部Ｅ１およびボトムエッジ部Ｅ２は、総称してニアエッジ部と呼ばれることもある。

【0021】

図２（ａ）は２枚のウエハを接合した積層ウエハの一例を示す模式図であり、図２（ｂ）は図２（ａ）に示す第２ウエハを研削（薄化）した後の積層ウエハを示す模式図である。図２（ａ）に示す積層ウエハＷｓは、図１（ｂ）に示すラウンド型の第１ウエハＷ１と第２ウエハＷ２とを接合することにより製造される。

【0022】

図２（ｂ）に示すように、第２ウエハＷ２を薄化すると、第２ウエハＷ２の周縁部にナイフエッジ部ＮＥが形成される。このナイフエッジ部ＮＥは、物理的な接触により欠けやすく、結果として、積層ウエハＷｓに割れや欠けなどの欠陥が生じるおそれがある。そこで、積層ウエハＷｓの第１ウエハＷ１と第２ウエハＷ２との間に充填剤を塗布し、この充填剤を硬化させることで、ナイフエッジ部ＮＥを効果的に保護する。

【0023】

しかしながら、充填剤に気泡が混入していると、ナイフエッジ部ＮＥに割れや欠けなどの欠陥が生じるおそれがある。充填剤に混入した気泡を除去することは、積層ウエハＷｓに欠陥が生じることを防止する観点から重要である。

【0024】

上述したように、ウエハＷのベベル部Ｂに付着した異物（例えば、液体やパーティクルなど）を除去することも、ウエハＷに欠陥が生じることを防止する観点から重要である。そこで、以下、ウエハＷ（積層ウエハＷｓを含む）に欠陥が生じることを防止することができる基板製造装置について、図面を参照して説明する。

【0025】

図３は、基板製造装置の一実施形態を示す図である。基板製造装置は、第１ウエハＷ１および第２ウエハＷ２を貼り合わせて形成された積層ウエハＷｓを製造（すなわち、処理）する装置である。したがって、基板製造装置は、基板処理装置と呼ばれてもよい。

【0026】

基板製造装置は、積層ウエハＷｓを保持する基板保持装置１と、第１ウエハＷ１のベベル部Ｂと第２ウエハＷ２のベベル部Ｂとの間の隙間（すなわち、積層ウエハＷｓの隙間）に充填剤Ｆを塗布する塗布装置２と、を備えている。

【0027】

塗布装置２は、鉛直方向に保持された積層ウエハＷｓの上方に配置されている。より具体的には、積層ウエハＷｓは、その平面が水平面に対して垂直な状態で保持される。言い換えれば、積層ウエハＷｓは、縦置き状態で保持される。塗布装置２は、積層ウエハＷｓの隙間に向けて充填剤Ｆを供給する供給ノズル４と、供給ノズル４を支持する支持アーム３と、を備えている。

【0028】

図４は、基板保持装置の一実施形態を示す図である。図４に示すように、基板保持装置１は、積層ウエハＷｓの周縁部を保持しつつ、積層ウエハＷｓを回転させる保持ローラー５１と、保持ローラー５１に連結され、かつ保持ローラー５１に保持された積層ウエハＷｓの周縁部に加圧流体を吹き出す流体吹き出し装置６０と、を備えている。

【0029】

加圧流体は、運動エネルギーが付与された流体である。本実施形態では、加圧流体は、充填剤Ｆから気泡を除去するのに必要な圧力まで加圧された気体を意味する。

【0030】

積層ウエハＷｓの周縁部を保持ローラー５１で保持することにより、異物の、積層ウエハＷｓの表面（および裏面）への付着を防止することができる。図４に示す実施形態では、基板保持装置１は、４つの保持ローラー５１を備えているが、積層ウエハＷｓを保持することができれば、保持ローラー５１の数は本実施形態には限定されない。本実施形態では、基板保持装置１は、積層ウエハＷｓを鉛直方向に保持しているが、水平方向に保持してもよい。

【0031】

図４に示すように、各保持ローラー５１は、積層ウエハＷｓの周縁部を挟持する第１挟持部５３Ａおよび第２挟持部５３Ｂと、第１挟持部５３Ａと第２挟持部５３Ｂとの間に配置された軸部５４と、を備えている。

【0032】

基板保持装置１は、保持ローラー５１を回転させるローラー回転装置７０を備えている。ローラー回転装置７０は、保持ローラー５１（より具体的には、第１挟持部５３Ａ（または第２挟持部５３Ｂ））に接続された接続ロッド７１と、接続ロッド７１を回転させるモーター７２と、を備えている。

【0033】

流体吹き出し装置６０は、軸部５４の外周面に形成された吹き出し口５２に連結された流体供給ライン６１と、流体供給ライン６１に接続された流体供給装置６２と、流体供給ライン６１を開閉する開閉弁６３と、を備えている。図４に示す実施形態では、複数の吹き出し口５２が形成されているが、少なくとも１つの吹き出し口５２が形成されてもよい。吹き出し口５２は保持ローラー５１の軸部５４の外周面に形成されている。したがって、保持ローラー５１が積層ウエハＷｓを保持すると、吹き出し口５２は積層ウエハＷｓの隙間に対向する。

【0034】

積層ウエハＷｓの隙間に加圧流体を供給することができれば、吹き出し口５２は、必ずしも軸部５４に形成される必要はない。一実施形態では、流体吹き出し装置６０は、挟持部５３Ａ，５３Ｂの少なくとも１つに形成された吹き出し口５２を備えてもよい。

【0035】

基板製造装置は、ローラー回転装置７０の動作を制御する制御装置４０（図３参照）を備えている。制御装置４０は、ローラー回転装置７０に電気的に接続されており、ローラー回転装置７０を通じて保持ローラー５１を回転させるように構成されている。積層ウエハＷｓが保持ローラー５１に保持された状態で保持ローラー５１が回転すると、積層ウエハＷｓは、保持ローラー５１とともに回転する。

【0036】

制御装置４０は、流体吹き出し装置６０の動作を制御するように構成されている。制御装置４０が開閉弁６３を開いた状態で流体供給装置６２を駆動すると、加圧流体は、流体供給ライン６１を通じて吹き出し口５２から吹き出す。

【0037】

制御装置４０は、塗布装置２の動作を制御するように構成されている。制御装置４０は、ローラー回転装置７０を動作させることにより、保持ローラー５１を通じて積層ウエハＷｓを回転させ、かつ塗布装置２を動作させることにより、供給ノズル４を通じて積層ウエハＷｓの上方から充填剤Ｆを供給させる。積層ウエハＷｓを回転させながら、充填剤Ｆを供給させることにより、積層ウエハＷｓの隙間は、積層ウエハＷｓの全周にわたって、充填剤Ｆで満たされる。

【0038】

図３および図４に示す実施形態では、基板保持装置１は、保持ローラー５１を積層ウエハＷｓの周縁部に接触させる接触位置と、保持ローラー５１を積層ウエハＷｓの周縁部から離間させる離間位置と、の間で保持ローラー５１を移動させるローラー移動装置８０を備えている。

【0039】

一実施形態では、ローラー移動装置８０は、ローラー回転装置７０に連結されたリニアアクチュエーターを備えてもよい。ローラー移動装置８０は、ローラー回転装置７０を介して保持ローラー５１を移動するように構成されている。ローラー移動装置８０の構成要素は、保持ローラー５１を接触位置と離間位置との間で移動させることができれば、特に、限定されない。一実施形態では、ローラー移動装置８０は、ボールねじとリニアガイドとの組み合わせであってもよい。

【0040】

図示しない搬送装置によって、基板保持装置１に搬送された積層ウエハＷｓを保持ローラー５１で保持するとき、ローラー移動装置８０は、保持ローラー５１を接触位置に移動させる。その後、流体吹き出し装置６０は、積層ウエハＷｓの隙間上に塗布された充填剤Ｆから気泡を除去する。気泡を除去した後、ローラー移動装置８０は、積層ウエハＷｓを保持ローラー５１から離間させるとき、保持ローラー５１を離間位置に移動させる。その後、積層ウエハＷｓは、図示しない搬送装置によって、後処理のモジュールに搬送される。

【0041】

図５（ａ）および図５（ｂ）は、積層ウエハの隙間に加圧流体を噴射する様子を示す図である。図５（ａ）に示すように、保持ローラー５１から積層ウエハＷｓの隙間上の充填剤Ｆに加圧流体を噴射することにより、充填剤Ｆが圧縮される。

【0042】

図５（ｂ）に示すように、充填剤Ｆに混入する気泡は、充填剤Ｆとともに圧縮され、やがて、ナイフエッジ部ＮＥに悪影響を及ぼさない程度まで小さくなる。加圧流体の噴射により縮小された気泡のサイズは、元のサイズに戻ることはない。このようにして、流体吹き出し装置６０は、積層ウエハＷｓの隙間に塗布された充填剤Ｆから気泡を除去することができる。

【0043】

本実施形態によれば、流体吹き出し装置６０は、積層ウエハＷｓの隙間に塗布された充填剤Ｆから気泡を除去することができる。したがって、基板製造装置は、充填剤Ｆに混入した気泡に起因して、ナイフエッジ部ＮＥに割れや欠けなどの欠陥が生じることを防止することができる。

【0044】

本実施形態によれば、流体吹き出し装置６０は、ウエハＷのベベル部Ｂに付着した異物（例えば、液体やパーティクルなど）を除去し、ベベル部Ｂを清浄に維持することができる。したがって、基板製造装置は、ウエハＷのベベル部Ｂに付着した異物に起因して、ウエハＷに欠陥が生じることを防止することができる。

【0045】

図６は、積層ウエハの積層工程を示す図である。図６に示すように、ウエハＷ１およびウエハＷ３（Ｗ４，Ｗ５）を貼り合わせた状態で、ウエハＷ３（Ｗ４，Ｗ５）の裏面を研削（薄化）して、研削プロセスを実行する。このような研削プロセスを繰り返して、ウエハＷ３（Ｗ４，Ｗ５）をウエハＷ１に積層することにより、積層ウエハＷｓの厚さ方向の厚さが大きくなる。

【0046】

図７は、保持ローラーで積層ウエハをクランプするクランプ装置を示す図である。図７に示す実施形態では、ローラー回転装置７０の図示は省略されている。図７に示すように、基板保持装置１は、保持ローラー５１の第１挟持部５３Ａおよび第２挟持部５３Ｂを互いに近接または離間させるクランプ装置９０を備えている。クランプ装置９０は、第１挟持部５３Ａに連結された第１クランプアクチュエーター５６Ａと、第２挟持部５３Ｂに連結された第２クランプアクチュエーター５６Ｂと、を備えている。

【0047】

クランプアクチュエーター５６Ａ，５６Ｂのそれぞれは、挟持部５３Ａ，５３Ｂのそれぞれを、軸部５４の軸方向に移動させるように構成されている。クランプアクチュエーター５６Ａ，５６Ｂのそれぞれは、例えば、ピストンロッドである。制御装置４０は、クランプアクチュエーター５６Ａ，５６Ｂのそれぞれの動作を制御するように構成されている。

【0048】

制御装置４０は、クランプアクチュエーター５６Ａ，５６Ｂのそれぞれを動作させることにより、挟持部５３Ａ，５３Ｂを互いに近接または離間させる方向に移動させることができる。このような構成により、クランプ装置９０は、様々な厚さを有する積層ウエハＷｓを挟持することができる。

【0049】

図７に示す実施形態では、吹き出し口５２は、挟持部５３Ａ，５３Ｂの傾斜面のそれぞれに形成されている。一実施形態では、吹き出し口５２は、軸部５４に形成されてもよい。本実施形態においても、吹き出し口５２は積層ウエハＷｓの隙間に対向しているため、流体吹き出し装置６０は、積層ウエハＷｓの隙間上に塗布された充填剤Ｆから気泡を除去することができる。

【0050】

充填剤Ｆの性質として、加熱することによって硬化する性質を有する充填剤Ｆが知られている。このような充填剤Ｆを採用する場合、ナイフエッジ部ＮＥを効果的に保護するために、充填剤Ｆから気泡を除去した後、充填剤Ｆに高温（すなわち、充填剤Ｆを硬化させるために必要な温度）の気体を供給して、充填剤Ｆを加熱することが望ましい。充填剤Ｆを硬化させるために必要な温度は、言い換えれば、硬化温度である。

【0051】

そこで、流体吹き出し装置６０は、複数の保持ローラー５１のうち、少なくとも１つから、硬化温度以上に加熱された加熱流体を供給するように構成されてもよい。例えば、流体吹き出し装置６０は、流体供給ライン６１に接続されたヒーター６７を備えてもよい（図７参照）。

【0052】

流体供給ライン６１を流れる流体がヒーター６７を通過することによって、硬化温度以上に加熱された加熱流体は、保持ローラー５１の吹き出し口５２から吹き出し、積層ウエハＷｓの隙間上に塗布された充填剤Ｆを硬化させる。一実施形態では、充填剤Ｆから気泡を除去するのに必要な圧力まで加圧された加圧流体を硬化温度以上に加熱し、この加熱された加圧流体を供給してもよい。このような構成により、流体吹き出し装置６０は、気泡を除去するとともに、充填剤Ｆを硬化させることができる。

【0053】

図３に示す実施形態では、４つの保持ローラー５１が配置されている。以下、積層ウエハＷｓの回転方向における塗布装置２の下流側に配置された、塗布装置２に隣接する保持ローラー５１を第１保持ローラー５１と呼ぶ。積層ウエハＷｓの回転方向における第１保持ローラー５１の下流側に配置された、第１保持ローラー５１に隣接する保持ローラー５１を第２保持ローラー５１と呼ぶ。積層ウエハＷｓの回転方向における第２保持ローラー５１の下流側に配置された、第２保持ローラー５１に隣接する保持ローラー５１を第３保持ローラー５１と呼ぶ。積層ウエハＷｓの回転方向における第３保持ローラー５１の下流側に配置された、第３保持ローラー５１に隣接する保持ローラー５１を第４保持ローラー５１と呼ぶ。

【0054】

この場合、流体吹き出し装置６０は、第１保持ローラー５１および第２保持ローラー５１のそれぞれから加熱されていない加圧流体を供給して、充填剤Ｆから気泡を除去し、第３保持ローラー５１および第４保持ローラー５１から加熱流体を供給して、気泡が除去された充填剤Ｆを硬化させる。このような構成により、積層ウエハＷｓの隙間上に塗布された充填剤Ｆから気泡を除去した直後に、充填剤Ｆを硬化させることができる。したがって、充填剤Ｆの塗布、気泡の除去、および充填剤Ｆの硬化を短時間で行うことができ、結果として、積層ウエハＷｓのプロセス時間の短縮を実現することができる。一実施形態では、第３保持ローラー５１および第４保持ローラー５１から供給される加熱流体は、充填剤Ｆから気泡を除去するのに必要な圧力まで加圧されてもよい。

【0055】

図８は、流体吹き出し装置の他の実施形態を示す図である。図８に示す実施形態では、流体吹き出し装置６０は、加熱されていない加圧流体と、加熱された流体（加圧流体または加圧されていない流体）と、を切り替えるように構成されている。流体吹き出し装置６０は、流体供給ライン６１から分岐するバイパスライン６６と、流体供給ライン６１およびバイパスライン６６に接続された切り替え弁６５と、バイパスライン６６に接続されたヒーター６７と、を備えている。このように構成された流体吹き出し装置６０は、複数の保持ローラー５１のうち、少なくとも１つに接続されている。

【0056】

流体吹き出し装置６０は、ヒーター６７を通じて、積層ウエハＷｓの周縁部に吹き出すための流体を加熱するように構成されている。制御装置４０は、流体吹き出し装置６０の動作を制御するように構成されている。制御装置４０は、切り替え弁６５を動作させて、流体供給ライン６１を開き、バイパスライン６６を閉じる。このような動作により、流体供給装置６２から供給された流体は、加熱されずに、吹き出し口５２から供給される。

【0057】

制御装置４０は、切り替え弁６５を切り替えることにより、バイパスライン６６を開き、流体供給ライン６１の上流側（すなわち、切り替え弁６５と流体供給装置６２との間の流体供給ライン６１）を閉じる。このような動作により、流体供給装置６２から供給された流体は、ヒーター６７により加熱され、加熱された加圧流体は、吹き出し口５２から供給される。

【0058】

図９は、塗布装置の他の実施形態を示す図である。図９に示すように、塗布装置２は、充填剤Ｆが充填されたシリンジ本体２０と、支持アーム３を通じてシリンジ本体２０内の充填剤Ｆを供給ノズル４に導入する導入部２１と、導入部２１内の充填剤Ｆを供給ノズル４に押し出すロッド２２と、シリンジ本体２０内の充填剤に加圧流体（例えば、窒素ガス）を噴射する噴射ノズル２３と、を備えてもよい。

【0059】

シリンジ本体２０内の充填剤Ｆには、すでに気泡が混入している場合がある。そこで、図９に示す実施形態では、噴射ノズル２３は、供給ノズル４に供給される充填剤Ｆ（すなわち、シリンジ本体２０内の充填剤Ｆ）に加圧流体を噴射して、積層ウエハＷｓの隙間に塗布される前の充填剤Ｆから気泡を除去するように構成されている。

【0060】

制御装置４０は、噴射ノズル２３の動作を制御可能に構成されている。より具体的には、制御装置４０は、噴射ノズル２３を通じて加圧流体を供給する流体供給源（図示しない）に電気的に接続されている。加圧流体を噴射ノズル２３から噴射することにより、シリンジ本体２０内の充填剤Ｆに混入する気泡は、充填剤Ｆとともに圧縮され、やがて、ナイフエッジ部ＮＥに悪影響を及ぼさない程度まで小さくなる（図５（ａ）および図５（ｂ）参照）。

【0061】

上述した実施形態では、基板保持装置１を含む基板製造装置を積層ウエハＷｓに適用する実施形態について説明したが、本実施形態に係る基板製造装置は、積層ウエハＷｓのみならず、一般的なウエハＷ（すなわち、積層されていないウエハ）にも適用可能である。本実施形態における積層ウエハＷｓはウエハＷに相当し、積層ウエハＷｓの周縁部は、ウエハＷのベベル部Ｂに相当する。したがって、ウエハＷのベベル部Ｂは、積層ウエハＷｓの周縁部を意味する。

【0062】

上述した実施形態は、本発明が属する技術分野における通常の知識を有する者が本発明を実施できることを目的として記載されたものである。上記実施形態の種々の変形例は、当業者であれば当然になしうることであり、本発明の技術的思想は他の実施形態にも適用しうる。したがって、本発明は、記載された実施形態に限定されることはなく、特許請求の範囲によって定義される技術的思想に従った最も広い範囲に解釈されるものである。

【符号の説明】

【0063】

１ 基板保持装置
２ 塗布装置
３ 支持アーム
４ 供給ノズル
２０ シリンジ本体
２１ 導入部
２２ ロッド
２３ 噴射ノズル
４０ 制御装置
５１ 保持ローラー
５２ 吹き出し口
５３Ａ 第１挟持部
５３Ｂ 第２挟持部
５４ 軸部
５６Ａ 第１クランプアクチュエーター
５６Ｂ 第２クランプアクチュエーター
６０ 流体吹き出し装置
６１ 流体供給ライン
６２ 流体供給装置
６３ 開閉弁
６５ 切り替え弁
６６ バイパスライン
６７ ヒーター
７０ ローラー回転装置
７１ 接続ロッド
７２ モーター
８０ ローラー移動装置
９０ クランプ装置

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】