(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024108688
(43)【公開日】2024-08-13
(54)【発明の名称】Ｘ線透過検査装置及びＸ線透過検査方法
(51)【国際特許分類】
G01N 23/18 20180101AFI20240805BHJP
G01N 23/04 20180101ALI20240805BHJP
【ＦＩ】
G01N23/18
G01N23/04
【審査請求】未請求
【請求項の数】7
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2023013184
(22)【出願日】2023-01-31
(71)【出願人】
【識別番号】503460323
【氏名又は名称】株式会社日立ハイテクサイエンス
(74)【代理人】
【識別番号】100120396
【弁理士】
【氏名又は名称】杉浦 秀幸
(72)【発明者】
【氏名】松原 哲
【テーマコード（参考）】
2G001
【Ｆターム（参考）】
2G001AA01
2G001BA11
2G001CA01
2G001GA01
2G001GA13
2G001JA02
2G001JA06
2G001KA03
2G001KA04
2G001KA05
(57)【要約】
【課題】照射角度の差異が大きな透過像が得られ、異物位置の奥行きを高い精度で得ることができるＸ線透過検査装置及びＸ線透過検査方法を提供すること。
【解決手段】Ｘ線源２と、透過Ｘ線を検出するＸ線センサ３と、Ｘ線源及びＸ線センサに対して試料Ｓを相対的に移動させる移動機構４と、検出した透過Ｘ線に基づいて試料中の厚さ方向における異物の高さ位置を算出する演算部５とを備え、Ｘ線源が、試料の厚さ方向及び試料の搬送方向に対して斜め方向にＸ線を照射し、移動機構が、試料を第１搬送方向ｄ１に移動可能であると共に、試料を第１搬送方向と逆方向の第２搬送方向ｄ２に移動可能であり、試料を第１搬送方向に移動させる際の試料に対するＸ線の照射角度と、試料を第２搬送方向に移動させる際の試料に対するＸ線の照射角度とを、Ｘ線源及びＸ線センサと試料とを相対的に移動させて変更可能である。
【選択図】図１
【解決手段】Ｘ線源２と、透過Ｘ線を検出するＸ線センサ３と、Ｘ線源及びＸ線センサに対して試料Ｓを相対的に移動させる移動機構４と、検出した透過Ｘ線に基づいて試料中の厚さ方向における異物の高さ位置を算出する演算部５とを備え、Ｘ線源が、試料の厚さ方向及び試料の搬送方向に対して斜め方向にＸ線を照射し、移動機構が、試料を第１搬送方向ｄ１に移動可能であると共に、試料を第１搬送方向と逆方向の第２搬送方向ｄ２に移動可能であり、試料を第１搬送方向に移動させる際の試料に対するＸ線の照射角度と、試料を第２搬送方向に移動させる際の試料に対するＸ線の照射角度とを、Ｘ線源及びＸ線センサと試料とを相対的に移動させて変更可能である。
【選択図】図１
【特許請求の範囲】
【請求項1】
試料に対してＸ線を照射するＸ線源と、
前記試料に対して前記Ｘ線源と反対側に設置され前記Ｘ線が前記試料を透過した際の透過Ｘ線を検出するＸ線センサと、
前記Ｘ線源及び前記Ｘ線センサに対して前記試料を相対的に移動させる移動機構と、
前記Ｘ線センサで検出した前記透過Ｘ線に基づいて前記試料中の厚さ方向における異物の高さ位置を算出する演算部とを備え、
前記Ｘ線源が、前記試料の厚さ方向及び前記試料の搬送方向に対して斜め方向にＸ線を照射し、
前記移動機構が、前記試料を前記厚さ方向に対して直交する第１搬送方向に移動可能であると共に、前記試料を前記第１搬送方向と逆方向の第２搬送方向に移動可能であり、前記試料を前記第１搬送方向に移動させる際の前記試料に対するＸ線の照射角度と、前記試料を前記第２搬送方向に移動させる際の前記試料に対するＸ線の照射角度とを、前記Ｘ線源及び前記Ｘ線センサと前記試料とを相対的に移動させて変更可能であることを特徴とするＸ線透過検査装置。
前記試料に対して前記Ｘ線源と反対側に設置され前記Ｘ線が前記試料を透過した際の透過Ｘ線を検出するＸ線センサと、
前記Ｘ線源及び前記Ｘ線センサに対して前記試料を相対的に移動させる移動機構と、
前記Ｘ線センサで検出した前記透過Ｘ線に基づいて前記試料中の厚さ方向における異物の高さ位置を算出する演算部とを備え、
前記Ｘ線源が、前記試料の厚さ方向及び前記試料の搬送方向に対して斜め方向にＸ線を照射し、
前記移動機構が、前記試料を前記厚さ方向に対して直交する第１搬送方向に移動可能であると共に、前記試料を前記第１搬送方向と逆方向の第２搬送方向に移動可能であり、前記試料を前記第１搬送方向に移動させる際の前記試料に対するＸ線の照射角度と、前記試料を前記第２搬送方向に移動させる際の前記試料に対するＸ線の照射角度とを、前記Ｘ線源及び前記Ｘ線センサと前記試料とを相対的に移動させて変更可能であることを特徴とするＸ線透過検査装置。
【請求項2】
請求項１に記載のＸ線透過検査装置において、
前記演算部が、前記試料を前記第１搬送方向に移動させた際に検出したＸ線透過像と、前記試料を前記第２搬送方向に移動させた際に検出したＸ線透過像とのずれ量から前記異物の高さ位置を算出することを特徴とするＸ線透過検査装置。
前記演算部が、前記試料を前記第１搬送方向に移動させた際に検出したＸ線透過像と、前記試料を前記第２搬送方向に移動させた際に検出したＸ線透過像とのずれ量から前記異物の高さ位置を算出することを特徴とするＸ線透過検査装置。
【請求項3】
請求項１又は２に記載のＸ線透過検査装置において、
前記Ｘ線センサが、ＴＤＩセンサであることを特徴とするＸ線透過検査装置。
前記Ｘ線センサが、ＴＤＩセンサであることを特徴とするＸ線透過検査装置。
【請求項4】
請求項１又は２に記載のＸ線透過検査装置において、
前記移動機構が、少なくとも前記Ｘ線源を移動させてＸ線の前記照射角度を変更可能であることを特徴とするＸ線透過検査装置。
前記移動機構が、少なくとも前記Ｘ線源を移動させてＸ線の前記照射角度を変更可能であることを特徴とするＸ線透過検査装置。
【請求項5】
請求項１又は２に記載のＸ線透過検査装置において、
前記移動機構が、前記試料を検査幅方向に沿った回転軸又は前記搬送方向に沿った回転軸に対して１８０°回転可能であることを特徴とするＸ線透過検査装置。
前記移動機構が、前記試料を検査幅方向に沿った回転軸又は前記搬送方向に沿った回転軸に対して１８０°回転可能であることを特徴とするＸ線透過検査装置。
【請求項6】
請求項１に記載のＸ線透過検査装置において、
前記移動機構又は前記試料の表面に設置された基準片を備え、
前記演算部が、前記異物の高さ位置を前記基準片の高さ位置と比較して算出することを特徴とするＸ線透過検査装置。
前記移動機構又は前記試料の表面に設置された基準片を備え、
前記演算部が、前記異物の高さ位置を前記基準片の高さ位置と比較して算出することを特徴とするＸ線透過検査装置。
【請求項7】
請求項１に記載のＸ線透過検査装置を用いたＸ線透過検査方法であって、
前記試料を前記第１搬送方向に移動させる第１移動ステップと、
前記第１移動ステップ中に前記Ｘ線センサで検出した前記透過Ｘ線に基づいて前記試料中の異物が検出された前記第１搬送方向の位置を第１通過点として検出する第１通過点検出ステップと、
前記試料を前記第２搬送方向に移動させる第２移動ステップと、
前記第２移動ステップ中に前記Ｘ線センサで検出した前記透過Ｘ線に基づいて前記試料中の異物が検出された前記第２搬送方向の位置を第２通過点として検出する第２通過点検出ステップと、
前記第１通過点と前記第２通過点と前記第１搬送方向に移動した際の前記照射角度と前記第２搬送方向に移動した際の前記照射角度とに基づいて前記試料中の異物の高さ位置を算出する演算ステップとを有していることを特徴とするＸ線透過検査方法。
前記試料を前記第１搬送方向に移動させる第１移動ステップと、
前記第１移動ステップ中に前記Ｘ線センサで検出した前記透過Ｘ線に基づいて前記試料中の異物が検出された前記第１搬送方向の位置を第１通過点として検出する第１通過点検出ステップと、
前記試料を前記第２搬送方向に移動させる第２移動ステップと、
前記第２移動ステップ中に前記Ｘ線センサで検出した前記透過Ｘ線に基づいて前記試料中の異物が検出された前記第２搬送方向の位置を第２通過点として検出する第２通過点検出ステップと、
前記第１通過点と前記第２通過点と前記第１搬送方向に移動した際の前記照射角度と前記第２搬送方向に移動した際の前記照射角度とに基づいて前記試料中の異物の高さ位置を算出する演算ステップとを有していることを特徴とするＸ線透過検査方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、試料中の金属異物等を検出可能なＸ線透過検査装置及びＸ線透過検査方法に関する。
【背景技術】
【0002】
近年、ニッケル水素系バッテリーよりもエネルギー密度の高いリチウムイオン二次電池は、非水電解質二次電池の一種で、電解質中のリチウムイオンが電気伝導を担い、かつ金属リチウムを電池内に含まない二次電池であり、ノート型パーソナルコンピュータや携帯電話機含め自動車，ハイブリッド車又は電気自動車等のバッテリーとして採用されている。
一般に、試料中の金属異物等を検出するために、試料にＸ線を照射して取得したＸ線透過像により検査を行うＸ線透過検査が用いられており、例えば上記リチウムイオン二次電池の材料中の異物検査にもＸ線透過検査が用いられている。
一般に、試料中の金属異物等を検出するために、試料にＸ線を照射して取得したＸ線透過像により検査を行うＸ線透過検査が用いられており、例えば上記リチウムイオン二次電池の材料中の異物検査にもＸ線透過検査が用いられている。
【0003】
従来、例えば特許文献１に記載されているように、異物混入の有無を透過Ｘ線像によって検出する異物検出方法が提案されている。
また、特許文献２のように複数のＸ線センサを用いて試料からの透過Ｘ線から複数の画像を得て、この複数の画像のずれ量を用いてＸ線源から試料の検査対象までの距離、つまり奥行き情報を得ることができる画像処理装置が知られている。
また、特許文献２のように複数のＸ線センサを用いて試料からの透過Ｘ線から複数の画像を得て、この複数の画像のずれ量を用いてＸ線源から試料の検査対象までの距離、つまり奥行き情報を得ることができる画像処理装置が知られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【特許文献1】特許第５８１３９２３号公報
【特許文献2】特開平５－３４１３１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
上記従来の技術には、以下の課題が残されている。
従来の特許文献２に記載の装置では、複数のＸ線センサを用いているが、Ｘ線センサの間隔が狭く照射角度の変化が微小であるため、透過像間での試料中の異物のずれ量が小さくなってしまい、異物位置の奥行きの推定精度が低いという課題があった。
従来の特許文献２に記載の装置では、複数のＸ線センサを用いているが、Ｘ線センサの間隔が狭く照射角度の変化が微小であるため、透過像間での試料中の異物のずれ量が小さくなってしまい、異物位置の奥行きの推定精度が低いという課題があった。
【0006】
本発明は、前述の課題に鑑みてなされたもので、照射角度の差異が大きな透過像が得られ、異物位置の奥行きを高い精度で得ることができるＸ線透過検査装置及びＸ線透過検査方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0007】
本発明は、前記課題を解決するために以下の構成を採用した。すなわち、第１の発明に係るＸ線透過検査装置は、試料に対してＸ線を照射するＸ線源と、前記試料に対して前記Ｘ線源と反対側に設置され前記Ｘ線が前記試料を透過した際の透過Ｘ線を検出するＸ線センサと、前記Ｘ線源及び前記Ｘ線センサに対して前記試料を相対的に移動させる移動機構と、前記Ｘ線センサで検出した前記透過Ｘ線に基づいて前記試料中の厚さ方向における異物の高さ位置を算出する演算部とを備え、前記Ｘ線源が、前記試料の厚さ方向及び前記試料の搬送方向に対して斜め方向にＸ線を照射し、前記移動機構が、前記試料を前記厚さ方向に対して直交する第１搬送方向に移動可能であると共に、前記試料を前記第１搬送方向と逆方向の第２搬送方向に移動可能であり、前記試料を前記第１搬送方向に移動させる際の前記試料に対するＸ線の照射角度と、前記試料を前記第２搬送方向に移動させる際の前記試料に対するＸ線の照射角度とを、前記Ｘ線源及び前記Ｘ線センサと前記試料とを相対的に移動させて変更可能であることを特徴とする。
【0008】
このＸ線透過検査装置では、移動機構が、試料を第１搬送方向に移動させる際の試料に対するＸ線の照射角度と、試料を第２搬送方向に移動させる際の試料に対するＸ線の照射角度とを、Ｘ線源及びＸ線センサと試料とを相対的に移動させて変更可能であるので、Ｘ線の照射角度の差異が大きな透過像が得られる。したがって、異なる角度で照射されたＸ線による異なる透過像間で、試料中の異物のずれ量が異物の奥行き（厚さ方向の高さ位置）の位置で大きくなることで、異物位置の奥行きを高い精度で推定することが可能になる。
【0009】
第２の発明に係るＸ線透過検査装置は、第１の発明において、前記演算部が、前記試料を前記第１搬送方向に移動させた際に検出したＸ線透過像と、前記試料を前記第２搬送方向に移動させた際に検出したＸ線透過像とのずれ量から前記異物の高さ位置を算出することを特徴とする。
【0010】
第３の発明に係るＸ線透過検査装置は、第１又は第２の発明において、前記Ｘ線センサが、ＴＤＩセンサであることを特徴とする。
【0011】
第４の発明に係るＸ線透過検査装置は、第１又は第２の発明において、前記移動機構が、少なくとも前記Ｘ線源を移動させてＸ線の前記照射角度を変更可能であることを特徴とする。
すなわち、このＸ線透過検査装置では、移動機構が、少なくともＸ線源を移動させてＸ線の照射角度を変更可能であるので、試料を第１搬送方向に移動させる際と、第２搬送方向に移動させる際とで、Ｘ線源を移動させ、試料に対するＸ線の照射角度を容易にかつ大きく変更することができる。
すなわち、このＸ線透過検査装置では、移動機構が、少なくともＸ線源を移動させてＸ線の照射角度を変更可能であるので、試料を第１搬送方向に移動させる際と、第２搬送方向に移動させる際とで、Ｘ線源を移動させ、試料に対するＸ線の照射角度を容易にかつ大きく変更することができる。
【0012】
第５の発明に係るＸ線透過検査装置は、第１又は第２の発明において、前記移動機構が、前記試料を検査幅方向に沿った回転軸又は前記搬送方向に沿った回転軸に対して１８０°回転可能であることを特徴とする。
すなわち、このＸ線透過検査装置では、移動機構が、試料を検査幅方向に沿った回転軸又は前記搬送方向に沿った回転軸に対して１８０°回転可能であるので、試料を第１搬送方向に移動させる際と、第２搬送方向に移動させる際とで、試料を１８０°回転させ、Ｘ線源を移動させずに、試料に対するＸ線の照射角度を容易に変更することができる。
なお、試料を検査幅方向に沿った回転軸又は搬送方向に沿った回転軸に対して１８０°回転させると、試料が裏返しになり、試料に対するＸ線の照射角度も正負が逆になる。
すなわち、このＸ線透過検査装置では、移動機構が、試料を検査幅方向に沿った回転軸又は前記搬送方向に沿った回転軸に対して１８０°回転可能であるので、試料を第１搬送方向に移動させる際と、第２搬送方向に移動させる際とで、試料を１８０°回転させ、Ｘ線源を移動させずに、試料に対するＸ線の照射角度を容易に変更することができる。
なお、試料を検査幅方向に沿った回転軸又は搬送方向に沿った回転軸に対して１８０°回転させると、試料が裏返しになり、試料に対するＸ線の照射角度も正負が逆になる。
【0013】
第６の発明に係るＸ線透過検査装置は、第１の発明において、前記移動機構又は前記試料の表面に設置された基準片を備え、前記演算部が、前記異物の高さ位置を前記基準片の高さ位置と比較して算出することを特徴とする。
すなわち、このＸ線透過検査装置では、演算部が、異物の高さ位置を基準片の高さ位置と比較して算出するので、異物までの距離の基準が取れない場合や、試料の撓みが大きい場合など、検出した移動機構表面又は試料表面の基準片と比較することで、異物の移動機構表面又は試料表面からの深さ位置（高さ位置）を得ることができる。
すなわち、このＸ線透過検査装置では、演算部が、異物の高さ位置を基準片の高さ位置と比較して算出するので、異物までの距離の基準が取れない場合や、試料の撓みが大きい場合など、検出した移動機構表面又は試料表面の基準片と比較することで、異物の移動機構表面又は試料表面からの深さ位置（高さ位置）を得ることができる。
【0014】
第７の発明に係るＸ線透過検査方法は、第１の発明のＸ線透過検査装置を用いたＸ線透過検査方法であって、前記試料を前記第１搬送方向に移動させる第１移動ステップと、前記第１移動ステップ中に前記Ｘ線センサで検出した前記透過Ｘ線に基づいて前記試料中の異物が検出された前記第１搬送方向の位置を第１通過点として検出する第１通過点検出ステップと、前記試料を前記第２搬送方向に移動させる第２移動ステップと、前記第２移動ステップ中に前記Ｘ線センサで検出した前記透過Ｘ線に基づいて前記試料中の異物が検出された前記第２搬送方向の位置を第２通過点として検出する第２通過点検出ステップと、前記第１通過点と前記第２通過点と前記第１搬送方向に移動した際の前記照射角度と前記第２搬送方向に移動した際の前記照射角度とに基づいて前記試料中の異物の高さ位置を算出する演算ステップとを有していることを特徴とする。
【発明の効果】
【0015】
本発明によれば、以下の効果を奏する。
すなわち、本発明に係るＸ線透過検査装置及びＸ線透過検査方法によれば、移動機構が、試料を第１搬送方向に移動させる際の試料に対するＸ線の照射角度と、試料を第２搬送方向に移動させる際の試料に対するＸ線の照射角度とを、Ｘ線源及びＸ線センサと試料とを相対的に移動させて変更可能であるので、Ｘ線の照射角度の差異が大きな透過像が得られ、試料中の異物のずれ量が異物の奥行き（厚さ方向の高さ位置）の位置で大きくなり、異物位置の奥行きを高い精度で推定することが可能になる。
すなわち、本発明に係るＸ線透過検査装置及びＸ線透過検査方法によれば、移動機構が、試料を第１搬送方向に移動させる際の試料に対するＸ線の照射角度と、試料を第２搬送方向に移動させる際の試料に対するＸ線の照射角度とを、Ｘ線源及びＸ線センサと試料とを相対的に移動させて変更可能であるので、Ｘ線の照射角度の差異が大きな透過像が得られ、試料中の異物のずれ量が異物の奥行き（厚さ方向の高さ位置）の位置で大きくなり、異物位置の奥行きを高い精度で推定することが可能になる。
【図面の簡単な説明】
【0016】
【図1】本発明に係るＸ線透過検査装置及びＸ線透過検査方法の第１実施形態において、検査方法を工程順に示す概略的な全体構成図である。
【図2】第１実施形態において、往路（（ａ）第１搬送方向）と復路（（ｂ）第２搬送方向）とにおける装置構成とＸ線透過像との関係を示す図である。
【図3】第１実施形態において、高さ方向の異物位置を求める計算方法を説明するための模式図である。
【図4】第１実施形態において、試料に撓みがある場合の基準片と異物との高さ位置を示す模式図である。
【図5】第１実施形態において、異物の３次元形状を検出する際の異物の高さ位置を示す模式図である。
【図6】第１実施形態において、異物の３次元形状を検出する際の１スキャン目の画像例（ａ）と、２スキャン目の画像例（ｂ）とを示す模式図である。
【図7】本発明に係るＸ線透過検査装置及びＸ線透過検査方法の第２実施形態において、検査方法を工程順に示す概略的な全体構成図である。
【発明を実施するための形態】
【0017】
【0018】
本実施形態のＸ線透過検査装置１は、図１に示すように、試料Ｓに対してＸ線（一次Ｘ線）を照射するＸ線源２と、試料Ｓに対してＸ線源２と反対側に設置されＸ線が試料Ｓを透過した際の透過Ｘ線を検出するＸ線センサ３と、Ｘ線源２及びＸ線センサ３に対して試料Ｓを相対的に移動させる移動機構４と、Ｘ線センサ３で検出した透過Ｘ線に基づいて試料Ｓ中の厚さ方向における異物の高さ位置を算出する演算部５とを備えている。
【0019】
上記Ｘ線源２は、試料Ｓの厚さ方向及び試料Ｓの搬送方向ｄ１，ｄ２（試料Ｓの厚さ方向に直交する方向）に対して斜め方向にＸ線を照射するように配置されている。
上記移動機構４は、試料Ｓを厚さ方向に対して直交する第１搬送方向ｄ１に移動可能であると共に、試料Ｓを第１搬送方向ｄ１と逆方向の第２搬送方向ｄ２に移動可能であり、図３に示すように、試料Ｓを第１搬送方向ｄ１に移動させる際の試料Ｓに対するＸ線の照射角度θ１と、試料Ｓを第２搬送方向ｄ２に移動させる際の試料Ｓに対するＸ線の照射角度θ２とを、Ｘ線源２及びＸ線センサ３と試料Ｓとを相対的に移動させて変更可能である。
上記移動機構４は、試料Ｓを厚さ方向に対して直交する第１搬送方向ｄ１に移動可能であると共に、試料Ｓを第１搬送方向ｄ１と逆方向の第２搬送方向ｄ２に移動可能であり、図３に示すように、試料Ｓを第１搬送方向ｄ１に移動させる際の試料Ｓに対するＸ線の照射角度θ１と、試料Ｓを第２搬送方向ｄ２に移動させる際の試料Ｓに対するＸ線の照射角度θ２とを、Ｘ線源２及びＸ線センサ３と試料Ｓとを相対的に移動させて変更可能である。
【0020】
上記演算部５は、試料Ｓを第１搬送方向ｄ１に移動させた際に検出したＸ線透過像と、試料Ｓを第２搬送方向ｄ２に移動させた際に検出したＸ線透過像とのずれ量から異物の高さ位置を算出する機能を有している。
【0021】
本実施形態では、移動機構４が、少なくともＸ線源２を移動させてＸ線の照射角度を変更可能である。
すなわち、移動機構４により、図１の（ａ）に示すように、下方のＸ線源２から正面視左側に傾斜させたＸ線を上方のＸ線センサ３に向けて照射するようにＸ線源２とＸ線センサ３を配置し、図１の（ｂ）に示すように、この状態で第１搬送方向ｄ１に試料Ｓを移動させて斜めに照射されたＸ線の中を通過させる。
すなわち、移動機構４により、図１の（ａ）に示すように、下方のＸ線源２から正面視左側に傾斜させたＸ線を上方のＸ線センサ３に向けて照射するようにＸ線源２とＸ線センサ３を配置し、図１の（ｂ）に示すように、この状態で第１搬送方向ｄ１に試料Ｓを移動させて斜めに照射されたＸ線の中を通過させる。
【0022】
次に、移動機構４により、図１の（ｃ）に示すように、モータ等でＸ線源２を正面視左側へと移動させると共にＸ線センサ３を正面視右側に移動させ、下方のＸ線源２から正面視右側に傾斜させたＸ線を上方のＸ線センサ３に向けて照射するようにＸ線源２とＸ線センサ３を配置する。この状態で第１搬送方向ｄ１とは逆方向の第２搬送方向ｄ２に試料Ｓを移動させて第１搬送方向ｄ１の場合とは逆方向に斜めに照射されたＸ線の中を通過させる。このように、移動機構４は、試料Ｓを往復搬送する機構と、Ｘ線源２とＸ線センサ３とを相対的に移動させる機構とを備えている。
【0023】
なお、第２搬送方向ｄ２の場合、上記ではＸ線源２とＸ線センサ３との両方を移動させたが、Ｘ線源２だけを移動させて第１搬送方向ｄ１の場合とは異なる斜め方向にＸ線を照射可能に配置しても構わない。
また、第１搬送方向ｄ１（往路）の場合のＸ線と、第２搬送方向ｄ２（復路）の場合のＸ線とが交差するように設定されている。
なお、第１搬送方向ｄ１（往路）の場合のＸ線と、第２搬送方向ｄ２（復路）の場合のＸ線とが交差しなくても、往復の検査位置は検査幅方向Ｘの位置が同一であれば、搬送方向にズレていてもよい。
また、第１搬送方向ｄ１（往路）の場合のＸ線と、第２搬送方向ｄ２（復路）の場合のＸ線とが交差するように設定されている。
なお、第１搬送方向ｄ１（往路）の場合のＸ線と、第２搬送方向ｄ２（復路）の場合のＸ線とが交差しなくても、往復の検査位置は検査幅方向Ｘの位置が同一であれば、搬送方向にズレていてもよい。
【0024】
また、本実施形態のＸ線透過検査装置１は、Ｘ線源２，Ｘ線センサ３，移動機構４及び演算部５を制御する制御部ＣＴを備えている。
なお、本実施形態では、試料Ｓの搬送方向をＹ、高さ方向（厚さ方向）をＺ、検査幅方向をＸとしている。
なお、本実施形態では、試料Ｓの搬送方向をＹ、高さ方向（厚さ方向）をＺ、検査幅方向をＸとしている。
【0025】
上記試料Ｓは、例えば帯状に形成されたリチウムイオンバッテリー用の材料や医薬品系に用いられる材料である。
上記Ｘ線源２は、Ｘ線を照射可能なＸ線管球であって、管球内のフィラメント（陰極）から発生した熱電子がフィラメント（陰極）とターゲット（陽極）との間に印加された電圧により加速されターゲットのＷ（タングステン）、Ｍｏ（モリブデン）、Ｃｒ（クロム）などに衝突して発生したＸ線Ｘをベリリウム箔などの窓から出射するものである。
なお、本実施形態のＸ線透過検査装置１は、Ｘ線源２からのＸ線の拡がりを制限するコリメータや、Ｘ線を平行Ｘ線に変換するポリキャピラリ等を備えてもよい。
上記Ｘ線源２は、Ｘ線を照射可能なＸ線管球であって、管球内のフィラメント（陰極）から発生した熱電子がフィラメント（陰極）とターゲット（陽極）との間に印加された電圧により加速されターゲットのＷ（タングステン）、Ｍｏ（モリブデン）、Ｃｒ（クロム）などに衝突して発生したＸ線Ｘをベリリウム箔などの窓から出射するものである。
なお、本実施形態のＸ線透過検査装置１は、Ｘ線源２からのＸ線の拡がりを制限するコリメータや、Ｘ線を平行Ｘ線に変換するポリキャピラリ等を備えてもよい。
【0026】
上記Ｘ線センサ３は、試料Ｓが移動する搬送方向ｄ１，ｄ２に対して垂直方向（検査幅方向Ｘ）に延在した、例えばＴＤＩ(Time Delay Integration)センサ等のラインセンサである。
ＴＤＩセンサは、対応するＸ線源に対向した面に複数のセル（センサ素子）を配置したものであって、検出面に配された蛍光体と、蛍光体下に複数の光ファイバを二次元的に縦横に複数列並べて配したＦＯＰ（ファイバオプティクスプレート）と、ＦＯＰの下に配されたＳｉ受光素子とを備え、ラインセンサを複数列並べたような構成を有している。
Ｘ線センサ３では、例えば、試料Ｓの送り方向に２００～１０００段の単位ラインセンサが並んでＴＤＩセンサが構成されている。
ＴＤＩセンサは、対応するＸ線源に対向した面に複数のセル（センサ素子）を配置したものであって、検出面に配された蛍光体と、蛍光体下に複数の光ファイバを二次元的に縦横に複数列並べて配したＦＯＰ（ファイバオプティクスプレート）と、ＦＯＰの下に配されたＳｉ受光素子とを備え、ラインセンサを複数列並べたような構成を有している。
Ｘ線センサ３では、例えば、試料Ｓの送り方向に２００～１０００段の単位ラインセンサが並んでＴＤＩセンサが構成されている。
【0027】
上記制御部ＣＴは、Ｘ線源２，Ｘ線センサ３，移動機構４及び演算部５等に接続され、これらを制御するＣＰＵ等で構成されたコンピュータである。
この制御部ＣＴは、ＴＤＩセンサであるＸ線センサ３の電荷転送の方向及び速度を、試料Ｓの移動方向及び速度に合わせると共に、受光面の検出領域においてＸ線センサ３が受光したＸ線の輝度値を積算する機能を有している。
なお、制御部ＣＴは、演算部５を含んでいても構わない。
この制御部ＣＴは、ＴＤＩセンサであるＸ線センサ３の電荷転送の方向及び速度を、試料Ｓの移動方向及び速度に合わせると共に、受光面の検出領域においてＸ線センサ３が受光したＸ線の輝度値を積算する機能を有している。
なお、制御部ＣＴは、演算部５を含んでいても構わない。
【0028】
上記移動機構４は、Ｘ線センサ３に対して、例えばシート状の試料Ｓの延在方向に相対的に移動可能なモータ等である。上記移動機構４は、例えば帯状の試料Ｓをロール・ｔｏ・ロール方式で延在方向に移動させる少なくとも一対のローラ４ａ等を備えている。
上記演算部５は、検出された透過Ｘ線の強度の分布を示す透過像からコントラスト像を得る機能を有している。
上記演算部５は、検出された透過Ｘ線の強度の分布を示す透過像からコントラスト像を得る機能を有している。
【0029】
本実施形態のＸ線透過検査装置１を用いたＸ線透過検査方法は、図１から図３に示すように、試料Ｓを第１搬送方向ｄ１に移動させる第１移動ステップと、第１移動ステップ中にＸ線センサ３で検出した透過Ｘ線に基づいて試料Ｓ中の異物が検出された第１搬送方向ｄ１の位置を第１通過点Ａ１として検出する第１通過点検出ステップと、試料Ｓを第２搬送方向ｄ２に移動させる第２移動ステップと、第２移動ステップ中にＸ線センサ３で検出した透過Ｘ線に基づいて試料Ｓ中の異物が検出された第２搬送方向ｄ２の位置を第２通過点Ａ２として検出する第２通過点検出ステップと、第１通過点Ａ１と第２通過点Ａ２と第１搬送方向ｄ１に移動した際の照射角度θ１と第２搬送方向に移動した際の照射角度θ２とに基づいて試料Ｓ中の異物の高さ位置を算出する演算ステップとを有している。
【0030】
上記Ｘ線透過検査方法を、試料Ｓの表面側（Ｘ線センサ３側）にある異物Ａと、試料Ｓの裏面側（Ｘ線源２側）にある異物Ｂとを例にして以下で説明する。
【0031】
まず、上記移動ステップにおいて、試料Ｓが第１搬送方向ｄ１の撮像開始位置（検出開始位置）に到達すると、透過像の出力が開始される。この出力された透過像において、第１搬送方向ｄ１の先頭を撮像開始（基準点）とする。
上記第１通過点検出ステップ及び第２通過点検出ステップにおいて、図２に示すように、試料Ｓが第１搬送方向ｄ１に移動する往路で、異物ＡがＸ線源２とＸ線センサ３との光軸を通過する位置を第１通過点Ａ１とし、試料Ｓが第２搬送方向ｄ２に移動する復路で、Ｘ線源２とＸ線センサ３との光軸を通過する位置を第２通過点Ａ２とする。
また、試料Ｓが第１搬送方向ｄ１に移動する往路で、異物ＢがＸ線源２とＸ線センサ３との光軸を通過する位置を第１通過点Ｂ１とし、試料Ｓが第２搬送方向ｄ２に移動する復路で、Ｘ線源２とＸ線センサ３との光軸を通過する位置を第２通過点Ｂ２とする。
上記第１通過点検出ステップ及び第２通過点検出ステップにおいて、図２に示すように、試料Ｓが第１搬送方向ｄ１に移動する往路で、異物ＡがＸ線源２とＸ線センサ３との光軸を通過する位置を第１通過点Ａ１とし、試料Ｓが第２搬送方向ｄ２に移動する復路で、Ｘ線源２とＸ線センサ３との光軸を通過する位置を第２通過点Ａ２とする。
また、試料Ｓが第１搬送方向ｄ１に移動する往路で、異物ＢがＸ線源２とＸ線センサ３との光軸を通過する位置を第１通過点Ｂ１とし、試料Ｓが第２搬送方向ｄ２に移動する復路で、Ｘ線源２とＸ線センサ３との光軸を通過する位置を第２通過点Ｂ２とする。
【0032】
なお、異物Ａから通過点Ａ１までの距離をＹＡ１、通過点Ａ２までの距離をＹＡ２とし、異物Ｂから通過点Ｂ１までの距離をＹＢ１、通過点Ｂ２までの距離をＹＢ２とする。
異物から撮像開始までの距離は、第１搬送方向ｄ１の場合（往路）と第２搬送方向ｄ２の場合（復路）とのいずれでもＸ線センサ３側の表面に位置する異物ＡよりもＸ線源２側の表面に位置する異物Ｂの方が長い（ＹＡ１＜ＹＢ１、ＹＡ２＜ＹＢ２）。
このように、異物が混入している試料Ｓの厚み方向の高さ位置に応じて、異物がＸ線の光軸を通過するタイミングが変化するため、撮像開始などの透過像のある基準点から異物までの距離の差から、異物が混入している試料Ｓの厚み方向の高さ位置を見積もることができる。
異物から撮像開始までの距離は、第１搬送方向ｄ１の場合（往路）と第２搬送方向ｄ２の場合（復路）とのいずれでもＸ線センサ３側の表面に位置する異物ＡよりもＸ線源２側の表面に位置する異物Ｂの方が長い（ＹＡ１＜ＹＢ１、ＹＡ２＜ＹＢ２）。
このように、異物が混入している試料Ｓの厚み方向の高さ位置に応じて、異物がＸ線の光軸を通過するタイミングが変化するため、撮像開始などの透過像のある基準点から異物までの距離の差から、異物が混入している試料Ｓの厚み方向の高さ位置を見積もることができる。
【0033】
すなわち、上記演算ステップにおいて、Ｘ線センサ３の透過像に基づいて、ある基準点から異物Ａ，Ｂまでの距離の差から異物Ａ，Ｂが混入している高さを見積もる際の計算を、図３を用いて説明する。なお、この計算は演算部５により行われる。
撮像開始位置は、試料Ｓの検査領域が透過像として出力されるように、任意に設定するタイミングに基づき、画像出力が開始される位置である。
撮像開始位置は、試料Ｓの検査領域が透過像として出力されるように、任意に設定するタイミングに基づき、画像出力が開始される位置である。
【0034】
Ｘ線源２から異物までの距離は、以下のように設定することで計算することができる。
なお、以下、第１搬送方向ｄ１に移動する場合を往路とし、第２搬送方向ｄ２に移動する場合を復路とする。
往路の際のＸ線源２からＸ線センサ３へのＸ線の照射角度：θ１
復路の際のＸ線源２からＸ線センサ３へのＸ線の照射角度：θ２
往路の際のＸ線センサ３から異物Ａまでの高さ方向の距離：ＺＡ１
復路の際のＸ線センサ３から異物Ａまでの高さ方向の距離：ＺＡ２
ここで、ＺＡ１＝ＺＡ２＝ＺＡとする。
往路の際の異物ＡからＸ線センサ３の撮像開始までの搬送方向の距離：ＬＡ１
復路の際の異物ＡからＸ線センサ３の撮像開始までの搬送方向の距離：ＬＡ２
往路の際の異物ＡからＸ線センサ３の撮像開始までの搬送方向の距離：ＹＡ１
復路の際の異物ＡからＸ線センサ３の撮像開始までの搬送方向の距離：ＹＡ２
ＹＡ１＝ＺＡ・ｔａｎθ１＋ＬＡ１
ＹＡ２＝ＺＡ・ｔａｎθ２＋ＬＡ２
よって
ＹＡ１＋ＹＡ２＝（ｔａｎθ１＋ｔａｎθ２）ＺＡ＋（ＬＡ１＋ＬＡ２）・・・式１
ＺＡに比例してＹＡ１＋ＹＡ２が増加する。
そのため、ＹＡ１＋ＹＡ２をＸ線透過像から求めることで、Ｘ線源２から異物Ａ，Ｂまでの距離を算出することができる。
なお、以下、第１搬送方向ｄ１に移動する場合を往路とし、第２搬送方向ｄ２に移動する場合を復路とする。
往路の際のＸ線源２からＸ線センサ３へのＸ線の照射角度：θ１
復路の際のＸ線源２からＸ線センサ３へのＸ線の照射角度：θ２
往路の際のＸ線センサ３から異物Ａまでの高さ方向の距離：ＺＡ１
復路の際のＸ線センサ３から異物Ａまでの高さ方向の距離：ＺＡ２
ここで、ＺＡ１＝ＺＡ２＝ＺＡとする。
往路の際の異物ＡからＸ線センサ３の撮像開始までの搬送方向の距離：ＬＡ１
復路の際の異物ＡからＸ線センサ３の撮像開始までの搬送方向の距離：ＬＡ２
往路の際の異物ＡからＸ線センサ３の撮像開始までの搬送方向の距離：ＹＡ１
復路の際の異物ＡからＸ線センサ３の撮像開始までの搬送方向の距離：ＹＡ２
ＹＡ１＝ＺＡ・ｔａｎθ１＋ＬＡ１
ＹＡ２＝ＺＡ・ｔａｎθ２＋ＬＡ２
よって
ＹＡ１＋ＹＡ２＝（ｔａｎθ１＋ｔａｎθ２）ＺＡ＋（ＬＡ１＋ＬＡ２）・・・式１
ＺＡに比例してＹＡ１＋ＹＡ２が増加する。
そのため、ＹＡ１＋ＹＡ２をＸ線透過像から求めることで、Ｘ線源２から異物Ａ，Ｂまでの距離を算出することができる。
【0035】
なお、｜θ１｜＝｜θ２｜の場合、照射角度が大きいほど、高さ位置の推定精度が向上する。
例えば、解像度を１０μｍとして、｜θ１｜＝｜θ２｜＝４５°（θ１＝－４５°、θ２＝４５°）の時、高さ位置の推定精度は±１０μｍであるのに対して、｜θ１｜＝｜θ２｜＝３０°（θ１＝－３０°、θ２＝３０°）の時、高さ位置の推定精度は±１７．３μｍとなる。
なお、特許文献２の技術では、照射角度の変化が微小であるため、高さ位置の推定精度が低い。
例えば、解像度を１０μｍとして、｜θ１｜＝｜θ２｜＝４５°（θ１＝－４５°、θ２＝４５°）の時、高さ位置の推定精度は±１０μｍであるのに対して、｜θ１｜＝｜θ２｜＝３０°（θ１＝－３０°、θ２＝３０°）の時、高さ位置の推定精度は±１７．３μｍとなる。
なお、特許文献２の技術では、照射角度の変化が微小であるため、高さ位置の推定精度が低い。
【0036】
上記式１を変形したものが次の式であり、高さ位置の推定精度は照射角度が小さくなるほど悪くなる。
距離ＹＡ１と距離ＹＡ２との精度がそれぞれ±１ｐｉｘｅｌであるとすると、ＹＡ１＋ＹＡ２は最大±２ｐｉｘｅｌの誤差含む。
解像度を１０μｍとすると、最大誤差は±２０μｍとなる。
誤差も含めて式で表すと、次の式となる。
【数1】
解像度を１０μｍとすると、最大誤差は±２０μｍとなる。
誤差も含めて式で表すと、次の式となる。
【数2】
【0037】
例えば、｜θ１｜＝｜θ２｜＝４５°の場合の誤差計算は、次のように算出される。
例えば、｜θ１｜＝｜θ２｜＝３０°の場合の誤差計算は、次のように算出される。
【数3】
【数4】
【0038】
なお、特許文献２では微小角度としか記載がない為、想定している角度はわからないが、仮に｜θ１｜＝｜θ２｜＝１°として、同様の条件で高さ位置の推定精度誤差を計算すると、±５７３μｍとなる。
【0039】
次に、透過像で異物までの距離の基準が取れない場合や、試料Ｓの撓みが大きい場合は、図４に示すように、試料Ｓ表面に基準片９を置くことで試料Ｓ表面からの異物Ｃの深さ位置を推定することができる。
すなわち、撮像開始位置が安定せず、撮像開始位置を異物までの距離の基準できない、かつ、試料Ｓの端など透過像から基準となる特徴点を決定できない場合や、試料Ｓが撓み、Ｘ線センサ３と試料Ｓ表面との距離が一定ではない場合でも、異物の深さ位置を推定することができる。
すなわち、撮像開始位置が安定せず、撮像開始位置を異物までの距離の基準できない、かつ、試料Ｓの端など透過像から基準となる特徴点を決定できない場合や、試料Ｓが撓み、Ｘ線センサ３と試料Ｓ表面との距離が一定ではない場合でも、異物の深さ位置を推定することができる。
【0040】
本実施形態のＸ線透過検査装置１では、試料Ｓが撓んでいる場合、図５に示すように、試料Ｓの表面に設置された基準片９を備えることで、演算部５が、異物Ｃの高さ位置を基準片９の高さ位置と比較して算出することができる。
第１搬送方向ｄ１（往路）における配置のＸ線源２Ａ及びＸ線センサ３Ａと、第２搬送方向ｄ２（復路）における配置のＸ線源２Ｂ及びＸ線センサ３Ｂとで、例えば、Ｘ線センサ３Ａから金属等の基準片９（試料Ｓ表面）までの距離：Ｚａ、Ｘ線センサ３Ａから異物Ｃまでの距離：Ｚｃとした場合、基準片９（試料Ｓ表面）から異物Ｃまでの距離が、Ｚａ－Ｚｃとなる。
なお、移動機構４の構成部材の試料Ｓに近い表面に、基準片９を設置しても構わない。
第１搬送方向ｄ１（往路）における配置のＸ線源２Ａ及びＸ線センサ３Ａと、第２搬送方向ｄ２（復路）における配置のＸ線源２Ｂ及びＸ線センサ３Ｂとで、例えば、Ｘ線センサ３Ａから金属等の基準片９（試料Ｓ表面）までの距離：Ｚａ、Ｘ線センサ３Ａから異物Ｃまでの距離：Ｚｃとした場合、基準片９（試料Ｓ表面）から異物Ｃまでの距離が、Ｚａ－Ｚｃとなる。
なお、移動機構４の構成部材の試料Ｓに近い表面に、基準片９を設置しても構わない。
【0041】
次に、本実施形態のＸ線透過検査装置１では、図５及び図６に示すように、複数の２次元画像から算出された異物サイズや形状の情報を統合することで、異物Ｄ，Ｅの３次元形状の推定精度が向上する。
すなわち、例えば、図５に示すように、試料Ｓ中に異物Ｄ，Ｅがあり、試料Ｓの表面（Ｘ線センサ側）に基準片９を設置した場合、往路（１スキャン目）のＸ線Ｘ１で検出した透過像が図６の（ａ）となり、復路（２スキャン目）のＸ線Ｘ２で検出した透過像が図６の（ｂ）となる。
したがって、複数の２次元画像（往路の透過像と復路の透過像とから異物Ｄ，Ｅの異物サイズや形状の情報を得ることも可能になる。
すなわち、例えば、図５に示すように、試料Ｓ中に異物Ｄ，Ｅがあり、試料Ｓの表面（Ｘ線センサ側）に基準片９を設置した場合、往路（１スキャン目）のＸ線Ｘ１で検出した透過像が図６の（ａ）となり、復路（２スキャン目）のＸ線Ｘ２で検出した透過像が図６の（ｂ）となる。
したがって、複数の２次元画像（往路の透過像と復路の透過像とから異物Ｄ，Ｅの異物サイズや形状の情報を得ることも可能になる。
【0042】
このように本実施形態のＸ線透過検査装置１では、移動機構４が、試料Ｓを第１搬送方向ｄ１に移動させる際の試料Ｓに対するＸ線の照射角度と、試料Ｓを第２搬送方向ｄ２に移動させる際の試料Ｓに対するＸ線の照射角度とを、Ｘ線源２及びＸ線センサ３と試料Ｓとを相対的に移動させて変更可能であるので、Ｘ線の照射角度θ１，θ２の差異が大きな透過像が得られる。したがって、異なる角度θ１，θ２で照射されたＸ線による異なる透過像間で、試料Ｓ中の異物のずれ量が異物の奥行き（厚さ方向の高さ位置）の位置で大きくなることで、異物位置の奥行きを高い精度で推定することが可能になる。
【0043】
また、移動機構４が、少なくともＸ線源２を移動させてＸ線の照射角度を変更可能であるので、試料Ｓを第１搬送方向ｄ１に移動させる際と、第２搬送方向ｄ２に移動させる際とで、Ｘ線源２を移動させ、試料Ｓに対するＸ線の照射角度を容易にかつ大きく変更することができる。
さらに、演算部５が、異物の高さ位置を基準片９の高さ位置と比較して算出するので、異物までの距離の基準が取れない場合や、試料Ｓの撓みが大きい場合など、検出した試料Ｓ表面の基準片９と比較することで、異物の試料表面からの深さ位置（高さ位置）を得ることができる。
さらに、演算部５が、異物の高さ位置を基準片９の高さ位置と比較して算出するので、異物までの距離の基準が取れない場合や、試料Ｓの撓みが大きい場合など、検出した試料Ｓ表面の基準片９と比較することで、異物の試料表面からの深さ位置（高さ位置）を得ることができる。
【0044】
次に、本発明に係るＸ線透過検査装置及びＸ線透過検査方法の第２実施形態について、図７を参照して以下に説明する。なお、以下の実施形態の説明において、上記実施形態において説明した同一の構成要素には同一の符号を付し、その説明は省略する。
【0045】
第２実施形態と第１実施形態との異なる点は、第１実施形態では、移動機構４が、Ｘ線源２とＸ線センサ３とを移動させてＸ線の照射角度を変更可能であるのに対し、第２実施形態のＸ線透過検査装置２１では、図７に示すように、移動機構２４が、試料Ｓを検査幅方向に沿った回転軸Ｒ１又は前記搬送方向ｄ１，ｄ２に沿った回転軸Ｒ２に対して１８０°回転可能である回転機構２４ａを備えている点である。
【0046】
第２実施形態では、移動機構２４により、図７の（ａ）に示すように、Ｘ線源２からＸ線をＸ線センサ３に向けて照射し、第１搬送方向ｄ１（往路）に試料Ｓを移動させて斜めに照射されたＸ線の中を通過させ、透過像を検出する。
次に、移動機構２４により、図７の（ｂ）に示すように、回転機構２４ａにより、試料Ｓを検査幅方向に沿った回転軸Ｒ１又は前記搬送方向ｄ１，ｄ２に沿った回転軸Ｒ２に対してモータ等で１８０°回転させる。
次に、移動機構２４により、図７の（ｂ）に示すように、回転機構２４ａにより、試料Ｓを検査幅方向に沿った回転軸Ｒ１又は前記搬送方向ｄ１，ｄ２に沿った回転軸Ｒ２に対してモータ等で１８０°回転させる。
【0047】
試料Ｓを回転させた後、図７の（ｃ）に示すように、第２搬送方向ｄ２（復路）に試料Ｓを移動させ、再び斜めに照射されたＸ線の中を通過させ、透過像を検出する。なお、第２実施形態では、試料Ｓを回転させるが、Ｘ線源２及びＸ線センサ３の配置は変更しない。
この試料Ｓの回転前後（第１搬送方向ｄ１及び第２搬送方向ｄ２）で得た透過像に基づいて、第１実施形態と同様に演算部５によって異物の高さ位置を算出する。
すなわち、試料Ｓを検査幅方向に沿った回転軸Ｒ１又は搬送方向に沿った回転軸Ｒ２に対して１８０°回転させると、試料Ｓが裏返しになり、試料Ｓに対するＸ線の照射角度も正負が逆になる。
この試料Ｓの回転前後（第１搬送方向ｄ１及び第２搬送方向ｄ２）で得た透過像に基づいて、第１実施形態と同様に演算部５によって異物の高さ位置を算出する。
すなわち、試料Ｓを検査幅方向に沿った回転軸Ｒ１又は搬送方向に沿った回転軸Ｒ２に対して１８０°回転させると、試料Ｓが裏返しになり、試料Ｓに対するＸ線の照射角度も正負が逆になる。
【0048】
このように第２実施形態のＸ線透過検査装置２１では、移動機構２４が、試料Ｓを検査幅方向に沿った回転軸Ｒ１又は前記搬送方向ｄ１，ｄ２に沿った回転軸Ｒ２に対して１８０°回転可能であるので、試料Ｓを第１搬送方向ｄ１に移動させる際と、第２搬送方向ｄ２に移動させる際とで、試料Ｓを１８０°回転させ、Ｘ線源２を移動させずに、試料Ｓに対するＸ線の照射角度を容易に変更することができる。
【0049】
なお、本発明の技術範囲は上記各実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能である。
【符号の説明】
【0050】
１，２１…Ｘ線透過検査装置、２，２Ａ，２Ｂ…Ｘ線源、３，３Ａ，３Ｂ…Ｘ線センサ、４，２４…移動機構、５…演算部、９…基準片、Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅ…異物、Ｓ…試料
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】