特開 2024-112393 真空ポンプおよびルーツロータの形状を決定する方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2024112393

(43)【公開日】2024-08-21

(54)【発明の名称】真空ポンプおよびルーツロータの形状を決定する方法

(51)【国際特許分類】

   F04C 18/18 20060101AFI20240814BHJP

   F04C 29/00 20060101ALI20240814BHJP

【ＦＩ】

F04C18/18 B

F04C29/00 D

【審査請求】未請求

【請求項の数】8

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2023017363

(22)【出願日】2023-02-08

(71)【出願人】

【識別番号】000000239

【氏名又は名称】株式会社荏原製作所

(74)【代理人】

【識別番号】100118500

【弁理士】

【氏名又は名称】廣澤 哲也

(74)【代理人】

【氏名又は名称】渡邉 勇

(74)【代理人】

【識別番号】100174089

【弁理士】

【氏名又は名称】郷戸 学

(74)【代理人】

【識別番号】100186749

【弁理士】

【氏名又は名称】金沢 充博

(72)【発明者】

【氏名】杉浦 哲郎

(72)【発明者】

【氏名】長山 真己

(72)【発明者】

【氏名】カマタカラ アナガ

(72)【発明者】

【氏名】堀部 悠河

(72)【発明者】

【氏名】大渕 真志

【テーマコード（参考）】

3H129

【Ｆターム（参考）】

3H129AA06

3H129AB06

3H129BB36

3H129BB42

3H129CC02

(57)【要約】

【課題】粉体がルーツロータ間に挟まれにくく、ルーツロータのスムーズな回転を維持することができる真空ポンプを提供する。
【解決手段】第１ルーツロータ８および第２ルーツロータ９のそれぞれは、インボリュート曲線からなる形状を有するインボリュート側面３１と、インボリュート側面３１の外側端部に接続された円弧凸面３４と、インボリュート側面３１の内側端部に接続された円弧凹面３６を有しており、円弧凸面３４の曲率半径Ｒ１は、円弧凹面３６の曲率半径Ｒ２よりも小さい。
【選択図】図３

【特許請求の範囲】

【請求項1】

少なくとも１つのロータ室を内部に有するポンプケーシングと、
前記ロータ室内に並列に配置された第１ルーツロータおよび第２ルーツロータを備え、
前記第１ルーツロータおよび前記第２ルーツロータのそれぞれは、インボリュート曲線からなる形状を有するインボリュート側面と、前記インボリュート側面の外側端部に接続された円弧凸面と、前記インボリュート側面の内側端部に接続された円弧凹面を有しており、
前記円弧凸面の曲率半径は、前記円弧凹面の曲率半径よりも小さい、真空ポンプ。

【請求項2】

前記円弧凸面および前記円弧凹面のそれぞれは、前記インボリュート側面よりも長い、請求項１に記載の真空ポンプ。

【請求項3】

前記円弧凸面および前記円弧凹面が対面したときの、前記円弧凸面と前記円弧凹面との間に形成される空間の幅は、前記円弧凸面と前記円弧凹面との最小隙間の位置から離れるに従って大きくなる、請求項１に記載の真空ポンプ。

【請求項4】

前記円弧凸面の曲率半径は、前記円弧凹面の曲率半径の０．２～０．９倍である、請求項１に記載の真空ポンプ。

【請求項5】

ルーツロータの形状を決定する方法であって、
ルーツロータの諸元を変えながら、前記諸元を満たす形状を持つルーツロータの複数の候補を前記演算システムにより生成し、
前記複数の候補のうちの１つの候補の形状を持つ一対のルーツロータの複数の回転角度に対応する前記一対のルーツロータ間の複数の隙間を前記演算システムにより算定し、
前記複数の隙間のうち最大隙間を決定し、
前記複数の候補について、前記複数の隙間の算定と、前記最大隙間の決定を繰り返して、前記複数の候補に対応する複数の最大隙間を決定し、
前記複数の最大隙間のうち最も小さい最大隙間に対応する候補のルーツロータの形状を決定することを含む、方法。

【請求項6】

前記複数の回転角度に対応する前記複数の隙間を補間することで、複数の追加の回転角度に対応する追加の複数の隙間を算定することをさらに含み、
前記最大隙間は、前記複数の隙間と前記追加の複数の隙間から決定される、請求項５に記載の方法。

【請求項7】

前記決定された形状のルーツロータは、請求項１乃至３のいずれか一項の前記第１ルーツロータおよび前記第２ルーツロータである、請求項５に記載の方法。

【請求項8】

ルーツロータの前記諸元は、一対のルーツロータの中心間距離、ルーツロータの前記インボリュート側面の圧力角、ルーツロータの半径、ルーツロータ間の隙間、ルーツロータの前記円弧凸面の曲率半径、およびルーツロータの前記円弧凹面の曲率半径のうちの少なくとも１つを含む、請求項７に記載の方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、真空ポンプに関し、特に半導体デバイス、液晶パネル、ＬＥＤ、太陽電池等の製造に使用されるプロセスガスを排気する用途に好適に使用される真空ポンプに関する。

【背景技術】

【0002】

半導体デバイス、液晶パネル、ＬＥＤ、太陽電池等を製造する製造プロセスにおいては、プロセスガスをプロセスチャンバ内に導入してエッチング処理やＣＶＤ処理等の各種処理を行っている。プロセスチャンバに導入されたプロセスガスは、真空ポンプによって排気される。一般に、高い清浄度が必要とされるこれらの製造プロセスに使用される真空ポンプは、気体の流路内にオイルを使用しない、いわゆるドライ真空ポンプである。このようなドライ真空ポンプの代表例として、ロータ室内に配置された一対のルーツロータを互いに反対方向に回転させて、気体を移送する容積式真空ポンプがある。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【特許文献1】特開平１－０７７７８２号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

プロセスガスは、副生成物からなる粉体を含むことがある。このような粉体は、プロセスガスとともに真空ポンプ内に流入する。また、真空ポンプ内の状態（例えば、温度、圧力）によっては、プロセスガスが真空ポンプに流入した後に真空ポンプ内で粉体が生成されることもある。粉体の大部分は、プロセスガスとともに真空ポンプから排出されるが、粉体の一部はロータ室内に留まり、ロータ室内に徐々に堆積する。特に、対向する２つのルーツロータの凸面と凹面が面接触（実際には非接触）の状態のときに、粉体の逃げ場がないために、粉体はこれらルーツロータの凸面と凹面との間に強く挟まれて、ルーツロータの回転が阻害されてしまうことがある。

【0005】

そこで、本発明は、粉体がルーツロータ間に挟まれにくく、ルーツロータのスムーズな回転を維持することができる真空ポンプを提供する。また、本発明は、そのようなルーツロータの形状を決定する方法を提供する。

【課題を解決するための手段】

【0006】

一態様では、少なくとも１つのロータ室を内部に有するポンプケーシングと、前記ロータ室内に並列に配置された第１ルーツロータおよび第２ルーツロータを備え、前記第１ルーツロータおよび前記第２ルーツロータのそれぞれは、インボリュート曲線からなる形状を有するインボリュート側面と、前記インボリュート側面の外側端部に接続された円弧凸面と、前記インボリュート側面の内側端部に接続された円弧凹面を有しており、前記円弧凸面の曲率半径は、前記円弧凹面の曲率半径よりも小さい、真空ポンプが提供される。

【0007】

一態様では、前記円弧凸面および前記円弧凹面のそれぞれは、前記インボリュート側面よりも長い。
一態様では、前記円弧凸面および前記円弧凹面が対面したときの、前記円弧凸面と前記円弧凹面との間に形成される空間の幅は、前記円弧凸面と前記円弧凹面との最小隙間の位置から離れるに従って大きくなる。
一態様では、前記円弧凸面の曲率半径は、前記円弧凹面の曲率半径の０．２～０．９倍である。

【0008】

一態様では、ルーツロータの形状を決定する方法であって、ルーツロータの諸元を変えながら、前記諸元を満たす形状を持つルーツロータの複数の候補を前記演算システムにより生成し、前記複数の候補のうちの１つの候補の形状を持つ一対のルーツロータの複数の回転角度に対応する前記一対のルーツロータ間の複数の隙間を前記演算システムにより算定し、前記複数の隙間のうち最大隙間を決定し、前記複数の候補について、前記複数の隙間の算定と、前記最大隙間の決定を繰り返して、前記複数の候補に対応する複数の最大隙間を決定し、前記複数の最大隙間のうち最も小さい最大隙間に対応する候補のルーツロータの形状を決定することを含む、方法が決定される。

【0009】

一態様では、前記方法は、前記複数の回転角度に対応する前記複数の隙間を補間することで、複数の追加の回転角度に対応する追加の複数の隙間を算定することをさらに含み、前記最大隙間は、前記複数の隙間と前記追加の複数の隙間から決定される。
一態様では、前記ルーツロータは、インボリュート曲線からなる形状を有するインボリュート側面と、前記インボリュート側面の外側端部に接続された円弧凸面と、前記インボリュート側面の内側端部に接続された円弧凹面を有しており、前記円弧凸面の曲率半径は、前記円弧凹面の曲率半径よりも小さい。
一態様では、ルーツロータの前記諸元は、一対のルーツロータの中心間距離、ルーツロータの前記インボリュート側面の圧力角、ルーツロータの半径、ルーツロータ間の隙間、ルーツロータの前記円弧凸面の曲率半径、およびルーツロータの前記円弧凹面の曲率半径のうちの少なくとも１つを含む。

【発明の効果】

【0010】

第１ルーツロータの円弧凸面の曲率半径は、第２ルーツロータの円弧凹面の曲率半径よりも小さいので、第１ルーツロータの円弧凸面上の１点と第２ルーツロータの円弧凹面上の１点とが最小隙間を形成し、その最小隙間の両側ではルーツロータ間の隙間は徐々に広がる。したがって、粉体は、第１ルーツロータの円弧凸面と第２ルーツロータの円弧凹面との間に挟まれにくい。結果として、ルーツロータは、スムーズな回転を維持することができる。

【図面の簡単な説明】

【0011】

【図1】真空ポンプ装置の一実施形態を示す断面図である。

【図2】図１のＡ－Ａ線断面図である。

【図3】ルーツロータの拡大図である。

【図4】ルーツロータ間の隙間を説明する拡大図である。

【図5】２つのルーツロータが反対方向に回転している様子を示す図である。

【図6】ルーツロータの形状を決定する演算システムの一実施形態を示す模式図である。

【図7】ルーツロータの形状を決定する方法の一実施形態を説明するフローチャートである。

【図8】一対のルーツロータを一回転させたときのルーツロータ間の隙間の変化を示すグラフである。

【図9】三葉ルーツロータの一実施形態を示す図である。

【発明を実施するための形態】

【0012】

以下、本発明の実施形態について図面を参照して説明する。図１は、真空ポンプ装置の一実施形態を示す断面図であり、図２は図１のＡ－Ａ線断面図である。以下に説明する実施形態の真空ポンプ装置は、容積式真空ポンプ装置である。特に、図１および図２に示す真空ポンプ装置は、気体の流路内にオイルを使用しない、いわゆるドライ真空ポンプ装置である。ドライ真空ポンプ装置は、気化したオイルが上流側に流れることがないので、高い清浄度が必要とされる半導体デバイスの製造装置に好適に使用することができる。

【0013】

図１に示すように、真空ポンプ装置は、真空ポンプ１と、この真空ポンプ１を駆動する電動機２を備えている。本実施形態の真空ポンプ１は、単段真空ポンプである。すなわち、真空ポンプ１は、ロータ室５を内部に有するポンプケーシング６と、ロータ室５内に配置された単段のルーツロータ８，９と、ルーツロータ８，９を支持する一対の回転軸１１，１２を備えている。一実施形態では、真空ポンプ１は、複数のロータ室内に配置された多段のルーツロータを有する多段真空ポンプであってもよい。

【0014】

図１ではルーツロータ８および回転軸１１のみが示されているが、ルーツロータ８とルーツロータ９は、ポンプケーシング６内に並列に配置されており、回転軸１１と回転軸１２は並列に配置されている。図２は、互いに並列に配置されているルーツロータ８とルーツロータ９を示している。ルーツロータ８は回転軸１１に支持され、ルーツロータ９は回転軸１２に支持されている。

【0015】

ルーツロータ８とルーツロータ９は互いに非接触であり、かつルーツロータ８，９は、ポンプケーシング６の内面と非接触である。したがって、ルーツロータ８，９は、潤滑油の使用なしで、ポンプケーシング６内でスムーズに回転することができる。

【0016】

ルーツロータ８と回転軸１１は、一体構造物であってもよい。同様に、ルーツロータ９と回転軸１２は、一体構造物であってもよい。電動機２は回転軸１１，１２のうちの一方に連結されている。一実施形態では、一対の電動機２が、回転軸１１，１２にそれぞれ連結されていてもよい。

【0017】

ポンプケーシング６は、ロータ室５に連通する気体入口１４および気体出口１５を有している。気体入口１４は、移送すべき気体で満たされたチャンバ（図示せず）に連結される。一例では、気体入口１４は、半導体デバイスの製造装置のプロセスチャンバに連結され、真空ポンプ１は、プロセスチャンバに導入されたプロセスガスを排気する用途に使用される。

【0018】

真空ポンプ１は、ポンプケーシング６の側壁６Ａの外側に位置するギヤハウジング１６をさらに備えている。ギヤハウジング１６の内部には、互いに噛み合う一対のギヤ２０が配置されている。なお、図１では１つのギヤ２０のみが描かれている。これらギヤ２０は、回転軸１１，１２にそれぞれ固定されている。電動機２は、図示しないモータドライバによって回転し、電動機２が連結された回転軸１１，１２のうちの一方は、ギヤ２０を介して、電動機２が連結されていない回転軸１１，１２のうちの他方を反対方向に回転させる。

【0019】

回転軸１１，１２は、ポンプケーシング６の側壁６Ａに保持された軸受１７と、ポンプケーシング６の他方の側壁６Ｂに保持された軸受１８により回転可能に支持されている。電動機２は、ポンプケーシング６の側壁６Ｂの外側に位置するモータハウジング２２と、モータハウジング２２内に配置されたモータロータ２Ａおよびモータステータ２Ｂを有している。

【0020】

一実施形態では、回転軸１１，１２にそれぞれ連結された一対の電動機２が設けられてもよい。一対の電動機２は、図示しないモータドライバによって同期して反対方向に回転し、図２に示すように、回転軸１１，１２およびルーツロータ８，９を同期して反対方向に回転させる。この場合のギヤ２０の役割としては、突発的な外的要因によるルーツロータ８の同期回転の脱調を防ぐことにある。

【0021】

電動機２がルーツロータ８，９を回転させると、気体は、気体入口１４を通ってロータ室５に吸い込まれる。気体は、ロータ室５内のルーツロータ８，９の回転によって気体出口１５Ｅに送られ、気体出口１５Ｅを通ってポンプケーシング６から排出される。

【0022】

ルーツロータ８，９は、同じ外形を有している。したがって、以下、ルーツロータ８について説明する。図３は、ルーツロータ８の拡大図である。図３に示すように、ルーツロータ８は、インボリュート曲線からなる形状を有するインボリュート側面３１と、インボリュート側面３１の外側端部に接続された円弧凸面３４と、インボリュート側面３１の内側端部に接続された円弧凹面３６を有している。ルーツロータ８は、２つの突出部を有する、いわゆる二葉ルーツロータである。したがって、ルーツロータ８は、２つの円弧凸面３４と、４つのインボリュート側面３１と、２つの円弧凹面３６を有している。２つの円弧凸面３４は、４つのインボリュート側面３１の外側端部に接続され、２つの円弧凹面３６は、４つのインボリュート側面３１の内側端部に接続されている。円弧凸面３４および円弧凹面３６のそれぞれは、インボリュート側面３１よりも長い。

【0023】

円弧凸面３４の曲率半径Ｒ１は、円弧凹面３６の曲率半径Ｒ２よりも小さい。一実施形態では、円弧凸面３４の曲率半径Ｒ１は、円弧凹面３６の曲率半径Ｒ２の０．２～０．９倍である。したがって、図４に示すように、ルーツロータ８の円弧凸面３４が、ルーツロータ９の円弧凹面３６に対向するとき、ルーツロータ８の円弧凸面３４上の１点とルーツロータ９の円弧凹面３６上の１点のみが近接し、円弧凸面３４と円弧凹面３６との間に最小隙間Ｇ１minが形成される。空間４０の幅Ｗは、最小隙間Ｇ１minが形成される位置から離れるに従って徐々に大きくなる。

【0024】

ルーツロータ８の円弧凸面３４の曲率半径Ｒ１は、ルーツロータ９の円弧凹面３６の曲率半径Ｒ２よりも小さいので、ルーツロータ８の円弧凸面３４上の１点とルーツロータ９の円弧凹面３６上の１点とが最小隙間Ｇ１minを形成し、その最小隙間Ｇ１minの両側ではルーツロータ８，９間の隙間は徐々に広がる。したがって、粉体は、ルーツロータ８の円弧凸面３４とルーツロータ９の円弧凹面３６との間に挟まれにくい。結果として、ルーツロータ８，９は、スムーズな回転を維持することができる。

【0025】

図５は、２つのルーツロータ８，９が反対方向に回転している様子を示す図である。図５に示すように、ルーツロータ８およびルーツロータ９のインボリュート側面３１同士は互いに対向し、円弧凸面３４および円弧凹面３６には対向しない。一方、ルーツロータ８の円弧凸面３４は、ルーツロータ９の円弧凹面３６に対向し、ルーツロータ９のインボリュート側面３１には対向しない。同様に、ルーツロータ９の円弧凸面３４は、ルーツロータ８の円弧凹面３６に対向し、ルーツロータ８のインボリュート側面３１には対向しない。ルーツロータ８およびルーツロータ９が一回転している間、ルーツロータ８とルーツロータ９は線接触せず、点接触（実際には非接触）する。したがって、ルーツロータ８とルーツロータ９との間に粉体が挟まりにくい。２つのルーツロータ８，９のインボリュート側面３１間の隙間Ｇ２は、常に一定である。

【0026】

インボリュート側面３１は、外側に湾曲する面である。したがって、ルーツロータ８のインボリュート側面３１上の一点とルーツロータ９のインボリュート側面３１上の一点の間に隙間Ｇ２が形成され、隙間Ｇ２の両側では隙間は広がっている。このようなインボリュート側面３１の点接触（実際には非接触）により、ルーツロータ８のインボリュート側面３１とルーツロータ９のインボリュート側面３１の間には、粉体は挟まりにくい。

【0027】

次に、上述したルーツロータ８，９の形状を決定する方法について説明する。ルーツロータ８，９の形状の決定は、図６に示す演算システム５０によって実行される。この演算システム５０は、プログラムが格納された記憶装置５０ａと、プログラムに含まれる命令に従って演算を実行する処理装置５０ｂを備えている。演算システム５０は、少なくとも１台のコンピュータから構成される。記憶装置５０ａは、ランダムアクセスメモリ（ＲＡＭ）などの主記憶装置と、ハードディスクドライブ（ＨＤＤ）、ソリッドステートドライブ（ＳＳＤ）などの補助記憶装置を備えている。処理装置５０ｂの例としては、ＣＰＵ（中央処理装置）、ＧＰＵ（グラフィックプロセッシングユニット）が挙げられる。ただし、演算システム５０の具体的構成はこれらの例に限定されない。

【0028】

図７は、ルーツロータの形状を決定する方法の一実施形態を説明するフローチャートである。
ステップ１では、演算システム５０は、ルーツロータの諸元を変えながら、諸元を満たす形状を持つルーツロータの複数の候補を生成する。ルーツロータの諸元は、一対のルーツロータの中心間距離、ルーツロータのインボリュート側面３１の圧力角、ルーツロータの半径、ルーツロータ間の隙間、ルーツロータの円弧凸面３４の曲率半径、およびルーツロータの円弧凹面３６の曲率半径の少なくとも１つを含む。演算システム５０は、諸元を構成するこれらの要素（条件）のうちの少なくとも１つを変えながら、諸元を満たす形状を持つルーツロータの複数の候補を生成する。例えば、演算システム５０は、ルーツロータのインボリュート側面３１の圧力角、ルーツロータの円弧凸面３４の曲率半径、およびルーツロータの円弧凹面３６の曲率半径を変えながら、諸元を満たす形状を持つルーツロータの複数の候補を生成する。

【0029】

ステップ２では、演算システム５０は、上記複数の候補のうちの１つの候補の形状を持つ一対のルーツロータの複数の回転角度に対応するルーツロータ間の複数の隙間を算定する。より具体的には、各候補の形状を持つ一対のルーツロータを仮想空間内で反対方向に回転させながら、ルーツロータ間の隙間を所定の回転角度間隔で算定する。

【0030】

図８は、ある候補の一対のルーツロータを一回転させたときのルーツロータ間の隙間の変化を示すグラフである。図８において、縦軸はルーツロータ間の隙間を表し、横軸はルーツロータの回転角度を表している。２つのルーツロータのインボリュート側面３１同士が対向しているときは、ルーツロータ間の隙間Ｇ２は概ね一定であるが、２つのルーツロータの円弧凸面３４と円弧凹面３６が対向しているときは、ルーツロータ間の隙間Ｇ１は変化する。

【0031】

演算システム５０は、各回転角度でのルーツロータ間の隙間を算定する。したがって、複数の回転角度に対応する複数の隙間が取得される。演算システム５０は、得られた複数の隙間のうち最大隙間を決定する。図８の例では、最大隙間はグラフのピーク値である。最大隙間が大きすぎると、真空ポンプ１の排気性能が低下する。

【0032】

ルーツロータの形状によっては、ある回転角度で算出されたルーツロータ間の隙間が負の数値を示すことがある。隙間が負であるということは、ルーツロータが接触することを意味する。ルーツロータが接触すると、ルーツロータの回転が阻害される。したがって、ステップ３では、演算システム５０は、上記ステップ２で算出された複数の隙間の中に負の隙間があるか否かを判定する。
ステップ４では、負の隙間がある場合には、演算システム５０は、上記ステップ１で生成した複数の候補から、負の隙間があるその候補を削除する。

【0033】

ステップ５では、演算システム５０は、各候補について算定された複数の隙間の中から最大隙間を決定する。
ステップ６では、演算システム５０は、複数の候補に関して、複数の隙間の算定と、最大隙間の決定を繰り返して、複数の候補にそれぞれ対応する複数の最大隙間を決定する。より具合的には、演算システム５０は、ステップ２からステップ５を繰り返す。
ステップ７では、演算システム５０は、上記ステップ６で決定された複数の最大隙間のうち最も小さい最大隙間に対応する候補のルーツロータの形状を決定する。
このようにして、図１乃至図５を参照して説明したルーツロータ８，９の形状が決定される。

【0034】

一実施形態では、上記ステップ２において、ルーツロータ間の隙間をより細かい回転角度間隔で算定するために、演算システム５０は、算定された複数の隙間を回転角度に沿って補間することで、追加の複数の隙間を算定してもよい。すなわち、演算システム５０は、追加の複数の回転角度に対応する追加の複数の隙間を補間する。補間の例としては、スプライン補間が挙げられる。上記ステップ５では、最大隙間は、ステップ２で算定された複数の隙間と、上記追加の複数の隙間の中から決定される。

【0035】

隙間の補間は、予め定められた回転角度範囲内でのみ実行されてもよい。例えば、隙間の補間は、図４に示すように、円弧凸面３４と円弧凹面３６が対向する回転角度範囲内で実行されてもよい。特に、円弧凸面３４と円弧凹面３６との隙間Ｇ１が最小になる回転角度（図８の２つのピーク点の間のボトム点の回転角度）を含む回転角度範囲内で隙間の補間が実行されてもよい。

【0036】

上述した実施形態のルーツロータ８，９は、２つの突出部を有する二葉ルーツロータであるが、本発明は上記実施形態には限定されず、３つの突出部を有する三葉ルーツロータ、または４つ以上の突出部を有する多葉ルーツロータにも適用することができる。

【0037】

例えば、図９は、三葉ルーツロータの一実施形態を示す図である。この実施形態でも、ルーツロータ５１，５２のそれぞれは、インボリュート曲線からなる形状を有するインボリュート側面３１と、インボリュート側面３１の外側端部に接続された円弧凸面３４と、インボリュート側面３１の内側端部に接続された円弧凹面３６を有しており、円弧凸面３４の曲率半径Ｒ３は、円弧凹面３６の曲率半径Ｒ４よりも小さい。特に説明しない三葉ルーツロータ５１，５２の本実施形態の構成は、図１乃至図５を参照して説明した上記実施形態と同じであるので、その重複する説明を省略する。

【0038】

図６乃至図８を参照して説明したルーツロータの形状を決定する方法の実施形態は、図９に示す三葉ルーツロータ、および４つ以上の突出部を有する多葉ルーツロータにも適用することができる。

【0039】

上述した実施形態は、本発明が属する技術分野における通常の知識を有する者が本発明を実施できることを目的として記載されたものである。上記実施形態の種々の変形例は、当業者であれば当然になしうることであり、本発明の技術的思想は他の実施形態にも適用しうる。したがって、本発明は、記載された実施形態に限定されることはなく、特許請求の範囲によって定義される技術的思想に従った最も広い範囲に解釈されるものである。

【符号の説明】

【0040】

１ 真空ポンプ
２ 電動機
２Ａ モータロータ
２Ｂ モータステータ
５ ロータ室
６ ポンプケーシング
８，９ ルーツロータ
１１，１２ 回転軸
１４ 気体入口
１５ 気体出口
１６ ギヤハウジング
１７ 軸受
１８ 軸受
２０ ギヤ
２２ モータハウジング
３１ インボリュート側面
３４ 円弧凸面
３６ 円弧凹面
４０ 空間
５０ 演算システム

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】