特開 2024-112582 レーザ装置および制御方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2024112582

(43)【公開日】2024-08-21

(54)【発明の名称】レーザ装置および制御方法

(51)【国際特許分類】

   H01S 5/0687 20060101AFI20240814BHJP

【ＦＩ】

H01S5/0687

【審査請求】未請求

【請求項の数】14

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2023017721

(22)【出願日】2023-02-08

(71)【出願人】

【識別番号】000005290

【氏名又は名称】古河電気工業株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】110002147

【氏名又は名称】弁理士法人酒井国際特許事務所

(72)【発明者】

【氏名】石川 慶

(72)【発明者】

【氏名】山本 篤司

(72)【発明者】

【氏名】金堂 晃久

【テーマコード（参考）】

5F173

【Ｆターム（参考）】

5F173SE01

5F173SF10

5F173SF34

5F173SF43

5F173SF72

5F173SF74

(57)【要約】

【課題】それぞれがレーザ光を出力する複数の光源部を備えているレーザ装置において、好適な周波数制御を実現する技術を提供すること。
【解決手段】レーザ装置は、Ｎを３以上の整数として、それぞれが出力するレーザ光の周波数を変更可能なＮ個の光源と、Ｎ個の前記レーザ光のそれぞれの周波数に対応するモニタ値を取得するモニタ部と、Ｎ個の前記モニタ値のそれぞれに基づく制御量を前記Ｎ個の光源のそれぞれに順次供給することによって前記Ｎ個のレーザ光のそれぞれの周波数をそれぞれの目標周波数に近づける制御を行う制御部と、を備え、前記制御部は、前記光源を制御する間隔を１周期とした場合に、前記Ｎ個の光源のうち少なくとも一つの光源である第１光源を少なくとも一つの第１周期で制御し、前記Ｎ個の光源のうち前記第１光源以外の少なくとも一つの光源である第２光源を第１周期よりも長い第２周期で制御する。
【選択図】図１

【特許請求の範囲】

【請求項1】

Ｎを３以上の整数として、それぞれが出力するレーザ光の周波数を変更可能なＮ個の光源と、
Ｎ個の前記レーザ光のそれぞれの周波数に対応するモニタ値を取得するモニタ部と、
Ｎ個の前記モニタ値のそれぞれに基づく制御量を前記Ｎ個の光源のそれぞれに順次供給することによって前記Ｎ個のレーザ光のそれぞれの周波数をそれぞれの目標周波数に近づける制御を行う制御部と、
を備え、
前記制御部は、前記光源を制御する間隔を１周期とした場合に、前記Ｎ個の光源のうち少なくとも一つの光源である第１光源を少なくとも一つの第１周期で制御し、前記Ｎ個の光源のうち前記第１光源以外の少なくとも一つの光源である第２光源を第１周期よりも長い第２周期で制御する
レーザ装置。

【請求項2】

前記第１周期はＮ周期よりも短く、前記第２周期はＮ周期よりも長い
請求項１に記載のレーザ装置。

【請求項3】

前記第１光源は、前記第２光源よりも周囲の熱変化が大きい
請求項１に記載のレーザ装置。

【請求項4】

複数の前記第１光源を有し、
前記制御部は、周囲の熱変化がより大きい前記第１光源をより短い周期で制御する
請求項３に記載のレーザ装置。

【請求項5】

前記Ｎ個のレーザ光は互いに周波数が異なり、
前記第１光源が出力するレーザ光の周波数は、前記Ｎ個のレーザ光の周波数が周波数軸において成す周波数列の両端以外の周波数であり、前記第２光源が出力するレーザ光の周波数は、前記周波数列において、両端の周波数である
請求項１に記載のレーザ装置。

【請求項6】

複数の前記第１光源を有し、
前記制御部は、前記周波数列の中心周波数により近い周波数のレーザ光を出力する前記第１光源をより短い周期で制御する
請求項５に記載のレーザ装置。

【請求項7】

前記モニタ部は、Ｎ個の前記モニタ値を取得する共通のモニタ部を有する
請求項１に記載のレーザ装置。

【請求項8】

Ｎを３以上の整数として、それぞれが出力するレーザ光の周波数を変更可能なＮ個の光源を備えるレーザ装置の制御方法であって、
前記レーザ光の周波数に対応するモニタ値を取得するモニタステップと、
前記モニタ値に基づく制御量を前記光源に供給することによって前記レーザ光の周波数を目標周波数に近づける制御を行う制御ステップと、
を備え、
前記モニタステップと前記制御ステップとを、前記光源ごとに実行し、
前記制御ステップでは、前記光源を制御する間隔を１周期とした場合に、前記Ｎ個の光源のうち少なくとも一つの光源である第１光源を少なくとも一つの第１周期で制御し、前記Ｎ個の光源のうち前記第１光源以外の少なくとも一つの光源である第２光源を第１周期よりも長い第２周期で制御する
レーザ装置の制御方法。

【請求項9】

前記第１周期はＮ周期よりも短く、前記第２周期はＮ周期よりも長い
請求項８に記載のレーザ装置の制御方法。

【請求項10】

前記第１光源は、前記第２光源よりも周囲の熱変化が大きい
請求項８に記載のレーザ装置の制御方法。

【請求項11】

前記レーザ装置は、複数の前記第１光源を有し、
前記制御ステップでは、周囲の熱変化がより大きい前記第１光源をより短い周期で制御する
請求項１０に記載のレーザ装置の制御方法。

【請求項12】

前記Ｎ個のレーザ光は互いに周波数が異なり、
前記第１光源が出力するレーザ光の周波数は、前記Ｎ個のレーザ光の周波数が周波数軸において成す周波数列の両端以外の周波数であり、前記第２光源が出力するレーザ光の周波数は、前記周波数列において、両端の周波数である
請求項８に記載のレーザ装置の制御方法。

【請求項13】

前記レーザ装置は、複数の前記第１光源を有し、
前記制御ステップでは、前記周波数列の中心周波数により近い周波数のレーザ光を出力する前記第１光源をより短い周期で制御する
請求項１２に記載のレーザ装置の制御方法。

【請求項14】

前記レーザ装置は、Ｎ個の前記モニタ値を取得する共通のモニタ部を有する
請求項８に記載のレーザ装置の制御方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、レーザ装置および制御方法に関する。

【背景技術】

【0002】

出力するレーザ光の周波数を変更可能なレーザ装置において、入力する光の周波数に対して透過率が周期的に変化する透過特性を有する周波数フィルタを用いて、レーザ光の周波数を制御する技術が開示されている（特許文献１）。レーザ光の周波数を所望の周波数に制御する技術は周波数ロック制御とも呼ばれ、周波数フィルタを透過したレーザ光のパワーの検出結果に基づくフィードバック制御によって実現される。具体的には、周波数フィルタを透過したレーザ光のパワーの検出結果が、周波数フィルタの透過率スペクトルが成す周波数弁別カーブによってレーザ光の周波数と対応づけられることよって、レーザ光の周波数の検出と制御が実行される。

【0003】

一方、互いに周波数が異なる多数のレーザ光を出力できる波長可変光源が開示されている。このような光源は多波長光源や多波長レーザ装置とも呼ばれる（特許文献２）。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0004】

【特許文献1】特開２０１９－１４０３０４号公報

【特許文献2】特開２０２１－６８８２３号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0005】

多波長レーザ装置が、それぞれがレーザ光を出力する複数の光源を備えている場合、光源によって熱環境が異なる場合がある。この場合、周囲の熱変化が大きい光源は、周囲からの熱の流入量または周囲への熱の流出量が多いため、当該光源が出力するレーザ光の周波数が変動しやすいという課題がある。また、多波長レーザ装置が出力する複数のレーザ光の周波数が周波数軸において成す周波数列の両端以外の周波数のレーザ光は、その両隣に他の周波数のレーザ光が存在する。この場合、当該両端以外の周波数のレーザ光の周波数が変動すると、その両隣の周波数のレーザ光に対して影響を及ぼすので、両端の周波数が変動する場合よりも影響が大きい。この影響とは、たとえば、周波数スペクトル同士の重なりとなって現れる。このような重なりは、レーザ光が高速変調されてスペクトルが広がっている場合に顕著になる。そして、このような重なりは、チャネル間クロストークなどの不具合の原因になるので好ましくない。そこで、周波数列において両隣に他の周波数のレーザ光が存在するレーザ光は、より高精度に周波数制御されることが好ましい。

【0006】

本発明は、上記に鑑みてなされたものであって、それぞれがレーザ光を出力する複数の光源部を備えているレーザ装置において、好適な周波数制御を実現する技術を提供することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0007】

本発明の一態様は、Ｎを３以上の整数として、それぞれが出力するレーザ光の周波数を変更可能なＮ個の光源と、Ｎ個の前記レーザ光のそれぞれの周波数に対応するモニタ値を取得するモニタ部と、Ｎ個の前記モニタ値のそれぞれに基づく制御量を前記Ｎ個の光源のそれぞれに順次供給することによって前記Ｎ個のレーザ光のそれぞれの周波数をそれぞれの目標周波数に近づける制御を行う制御部と、を備え、前記制御部は、前記光源を制御する間隔を１周期とした場合に、前記Ｎ個の光源のうち少なくとも一つの光源である第１光源を少なくとも一つの第１周期で制御し、前記Ｎ個の光源のうち前記第１光源以外の少なくとも一つの光源である第２光源を第１周期よりも長い第２周期で制御する、レーザ装置である。

【0008】

前記第１周期はＮ周期よりも短く、前記第２周期はＮ周期よりも長くてもよい。

【0009】

前記第１光源は、前記第２光源よりも周囲の熱変化が大きくてもよい。

【0010】

複数の前記第１光源を有し、前記制御部は、周囲の熱変化がより大きい前記第１光源をより短い周期で制御してもよい。

【0011】

前記Ｎ個のレーザ光は互いに周波数が異なり、前記第１光源が出力するレーザ光の周波数は、前記Ｎ個のレーザ光の周波数が周波数軸において成す周波数列の両端以外の周波数であり、前記第２光源が出力するレーザ光の周波数は、前記周波数列において、両端の周波数であってもよい。

【0012】

複数の前記第１光源を有し、前記制御部は、前記周波数列の中心周波数により近い周波数のレーザ光を出力する前記第１光源をより短い周期で制御してもよい。

【0013】

前記モニタ部は、Ｎ個の前記モニタ値を取得する共通のモニタ部を有してもよい。

【0014】

本発明の一態様は、Ｎを３以上の整数として、それぞれが出力するレーザ光の周波数を変更可能なＮ個の光源を備えるレーザ装置の制御方法であって、前記レーザ光の周波数に対応するモニタ値を取得するモニタステップと、前記モニタ値に基づく制御量を前記光源に供給することによって前記レーザ光の周波数を目標周波数に近づける制御を行う制御ステップと、を備え、前記モニタステップと前記制御ステップとを、前記光源ごとに実行し、前記制御ステップでは、前記光源を制御する間隔を１周期とした場合に、前記Ｎ個の光源のうち少なくとも一つの光源である第１光源を少なくとも一つの第１周期で制御し、前記Ｎ個の光源のうち前記第１光源以外の少なくとも一つの光源である第２光源を第１周期よりも長い第２周期で制御する、レーザ装置の制御方法である。

【0015】

前記第１周期はＮ周期よりも短く、前記第２周期はＮ周期よりも長くてもよい。

【0016】

前記第１光源は、前記第２光源よりも周囲の熱変化が大きくてもよい。

【0017】

前記レーザ装置は、複数の前記第１光源を有し、前記制御ステップでは、周囲の熱変化がより大きい前記第１光源をより短い周期で制御してもよい。

【0018】

前記Ｎ個のレーザ光は互いに周波数が異なり、前記第１光源が出力するレーザ光の周波数は、前記Ｎ個のレーザ光の周波数が周波数軸において成す周波数列の両端以外の周波数であり、前記第２光源が出力するレーザ光の周波数は、前記周波数列において、両端の周波数であってもよい。

【0019】

前記レーザ装置は、複数の前記第１光源を有し、前記制御ステップでは、前記周波数列の中心周波数により近い周波数のレーザ光を出力する前記第１光源をより短い周期で制御してもよい。

【0020】

前記レーザ装置は、Ｎ個の前記モニタ値を取得する共通のモニタ部を有してもよい。

【発明の効果】

【0021】

本発明によれば、好適な周波数制御を実現することができる。

【図面の簡単な説明】

【0022】

【図1】図１は、実施形態に係るレーザ装置の構成を示す図である。

【図2】図２は、第１制御例における光源＃１～光源＃４についての制御周期を説明する図である。

【図3】図３は、図２に示した制御を実行する際のフローチャートの一例を示す図である。

【図4】図４は、光源が３個または５個の場合の制御周期の例を説明する図である。

【図5】図５は、周囲熱変化と制御周期との関係の例を示す図である。

【図6】図６は、周囲熱変化と制御周期との関係の別の例を示す図である。

【図7】図７は、周囲熱変化と制御周期との関係のさらに別の例を示す図である。

【図8】図８は、周囲熱変化と制御周期との関係のさらに別の例を示す図である。

【図9】図９は、レーザ光の周波数と制御周期との関係の例を示す図である。

【図10】図１０は、レーザ光の周波数と制御周期との関係の別の例を示す図である。

【発明を実施するための形態】

【0023】

以下に、図面を参照して、本発明の実施形態について説明する。なお、以下に説明する実施形態によって本発明が限定されるものではない。さらに、図面の記載において、同一の部分には適宜同一の符号を付し、重複説明を適宜省略している。また、図面は模式的なものであり、各要素の寸法の関係、各要素の比率等は、現実と異なる場合がある。さらに、図面の相互間においても、互いの寸法の関係や比率が異なる部分が含まれている場合がある。

【0024】

（実施形態）
［レーザ装置の構成］
図１は、実施形態に係るレーザ装置の構成を示す図である。レーザ装置１０は、４個の光源１ａ、１ｂ、１ｃ、１ｄと、光出力部２と、光スイッチ部３と、光合波部４と、モニタ部５と、制御部６と、基台７と、を備えている。

【0025】

光源１ａ、１ｂ、１ｃ、１ｄは、制御部６による制御の下、それぞれがレーザ光Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３、Ｌ４を出力する。レーザ光Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３、Ｌ４の周波数は、制御部６の制御によって変更可能である。レーザ光Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３、Ｌ４の周波数は、同じでもよいし、互いに異なっていてもよい。光源１ａ、１ｂ、１ｃ、１ｄは、Ｎを３以上の整数として、それぞれが出力するレーザ光の周波数を変更可能なＮ個の光源部の一例である。

【0026】

光源１ａは、特許文献１に開示されるような構成を有する、バーニア効果を利用したレーザ素子またはレーザモジュールである。ただし、光源１ａは、出力するレーザ光Ｌ１の周波数が変更可能であればその構成は限定されない。

【0027】

光源１ａは、変更部１ａａを備える。変更部１ａａは、少なくとも一つのマイクロヒータを有する。変更部１ａａは、制御部６から供給される電流によって発熱し、光源１ａを局所的に加熱することによって、レーザ光Ｌ１の周波数を変更する。すなわち、制御部６は、制御量である電流に対応する電力を光源１ａに供給することによってレーザ光Ｌ１の周波数を制御する。

【0028】

光源１ｂは、変更部１ｂａを備える。光源１ｃは、変更部１ｃａを備える。光源１ｄは、変更部１ｄａを備える。これらの光源および変更部は、光源１ａおよび変更部１ａａと同様の構成を有し、同様の周波数制御が可能なので、説明を省略する。

【0029】

光出力部２は、光源１ａ～１ｄのそれぞれから入力されたレーザ光Ｌ１～Ｌ４のそれぞれを２分岐して、分岐した一方をレーザ装置１０の外部に出力するとともに、分岐した他方を光スイッチ部３に出力する。光出力部２はたとえば溶融型光カプラまたは導波路型光カプラを有するが、これには限定されない。

【0030】

光スイッチ部３は、光スイッチ３ａ、３ｂ、３ｃ、３ｄを備える。光スイッチ３ａは、制御部６による制御の下、光源１ａから光出力部２を経由して入力されたレーザ光Ｌ１を出力するＯＮ状態と、レーザ光Ｌ１を遮断するＯＦＦ状態とで動作状態が切り替わる。光スイッチ３ｂは、制御部６による制御の下、光源１ｂから光出力部２を経由して入力されたレーザ光Ｌ２を出力するＯＮ状態と、レーザ光Ｌ２を遮断するＯＦＦ状態とで動作状態が切り替わる。光スイッチ３ｃは、制御部６による制御の下、光源１ｃから光出力部２を経由して入力されたレーザ光Ｌ３を出力するＯＮ状態と、レーザ光Ｌ３を遮断するＯＦＦ状態とで動作状態が切り替わる。光スイッチ３ｄは、制御部６による制御の下、光源１ｄから光出力部２を経由して入力されたレーザ光Ｌ４を出力するＯＮ状態と、レーザ光Ｌ４を遮断するＯＦＦ状態とで動作状態が切り替わる。

【0031】

光スイッチ３ａ、３ｂ、３ｃ、３ｄは、たとえば半導体光増幅器を有する。半導体光増幅器は、逆バイアス電圧を掛けることによって、入力されたレーザ光を吸収して遮断し、順バイアス電圧を掛けて閾値以上の電流を供給することによって、入力されたレーザ光を増幅して出力するので、光スイッチとして利用できる。ただし、光スイッチ３ａ、３ｂ、３ｃ、３ｄは、半導体光増幅器を有するものに限られない。

【0032】

光合波部４は、レーザ光Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３、Ｌ４のうち入力されたレーザ光を１つの出力ポートからレーザ光Ｌ５として出力する。本実施形態では、光スイッチ３ａ、３ｂ、３ｃ、３ｄの動作制御によって光合波部４にはレーザ光Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３、Ｌ４のうちいずれか一つが入力される。光合波部４は、たとえば多モード干渉型（ＭＭＩ）カプラを有するが、これには限定されない。

【0033】

モニタ部５は、光分岐部５ａと、周波数フィルタ５ｂと、ＰＤ（Photo Diode）５ｃ、５ｄを備えている。

【0034】

光分岐部５ａは、光合波部４から入力されたレーザ光Ｌ５を２つのレーザ光Ｌ６、Ｌ７に分岐する。レーザ光Ｌ６は周波数フィルタ５ｂに出力され、レーザ光Ｌ７はＰＤ５ｄに出力される。光分岐部５ａは、たとえば溶融型光カプラまたは導波路型光カプラを有するが、これには限定されない。

【0035】

周波数フィルタ５ｂは、入力する光の周波数に対して透過率が周期的に変化する透過特性を有し、レーザ光Ｌ６をレーザ光Ｌ６の周波数に応じた透過率で透過する。周波数フィルタ５ｂを透過したレーザ光Ｌ６は、ＰＤ５ｃに入力する。なお、周波数フィルタ５ｂとして、入力する光の周波数に対して周期的な透過特性を有するエタロンフィルタやＭＺＩ（Mach-Zehnder Interferometer）フィルタやリング共振器フィルタを有するが、これらには限定されない。

【0036】

ＰＤ５ｃは、周波数フィルタ５ｂを透過したレーザ光Ｌ６を受光し、当該レーザ光Ｌ６の強度に応じた値の電流を制御部６に出力する。ＰＤ５ｄは、レーザ光Ｌ７（レーザ光Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３またはＬ４と同一の周波数を有し、レーザ光Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３またはＬ４の強度と対応する強度を有する）を受光し、当該レーザ光Ｌ７の強度に応じた値の電流を制御部６に出力する。そして、ＰＤ５ｃ、５ｄからそれぞれ出力された電流は、制御部６による周波数ロック制御（レーザ光Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３およびＬ４の周波数をそれぞれの目標周波数に近づけるための制御）に用いられる。ＰＤ５ｃの受光強度の値またはそれに対応する電流の値は、レーザ光の周波数に対応するモニタ値の一例である。また、モニタ部５は、Ｎが４の場合のＮ個のモニタ値を取得する共通のモニタ部の一例である。

【0037】

つぎに、制御部６の構成について説明する。制御部６は、たとえばユーザインターフェースを備えた上位の制御装置と接続されており、当該上位の制御装置を介したユーザからの指示にしたがって、レーザ装置１０の動作を制御する。

【0038】

制御部６は、ハードウェアとして、演算部６ａと記憶部６ｂとを備える。演算部６ａは、たとえばＣＰＵなどのプロセッサを含んでおり、制御のための各種演算処理を行う。記憶部６ｂは、演算部が演算処理を行うために使用する各種プログラムやデータ等が格納されるＲＯＭなどの記憶部を備えている。記憶部６ｂは、演算部が演算処理を行う際の作業スペースや演算部の演算処理の結果等を記憶する等のために使用されるＲＡＭなどの記憶部を備えている。

【0039】

さらに、制御部６は、ハードウェアとして、トランスインピーダンスアンプ（ＴＩＡ）６ｃ、６ｄ、アナログ－デジタルコンバータ（ＡＤＣ）６ｅ、６ｆ、および電流出力型のデジタル－アナログコンバータ（ＤＡＣ）６ｇ、６ｈ、６ｉ、６ｊ、６ｋを備え、さらにＤＣ電源や入出力インターフェイスなどの、制御部に必要な構成を適宜備えている。

【0040】

ＴＩＡ６ｃは、ＰＤ５ｃから入力された電流を電圧信号に変換する。ＡＤＣ６ｅは、ＴＩＡ６ｃから入力されたアナログの電圧信号をデジタルの電圧信号に変換する。ＴＩＡ６ｄは、ＰＤ５ｄから入力された電流を電圧信号に変換する。ＡＤＣ６ｆは、ＴＩＡ６ｄから入力されたアナログの電圧信号をデジタルの電圧信号に変換する。

【0041】

ＤＡＣ６ｇは、演算部６ａから入力されたデジタルの電圧信号をアナログの電流信号に変換して光源１ａの変更部１ａａに出力する。これにより光源１ａが出力するレーザ光Ｌ１の周波数が制御される。ＤＡＣ６ｈは、演算部６ａから入力されたデジタルの電圧信号をアナログの電流信号に変換して光源１ｂの変更部１ｂａに出力する。これにより光源１ｂが出力するレーザ光Ｌ２の周波数が制御される。ＤＡＣ６ｉは、演算部６ａから入力されたデジタルの電圧信号をアナログの電流信号に変換して光源１ｃの変更部１ｃａに出力する。これにより光源１ｃが出力するレーザ光Ｌ３の周波数が制御される。ＤＡＣ６ｊは、演算部６ａから入力されたデジタルの電圧信号をアナログの電流信号に変換して光源１ｄの変更部１ｄａに出力する。これにより光源１ｄが出力するレーザ光Ｌ４の周波数が制御される。ＤＡＣ６ｋは、演算部６ａから入力されたデジタルの電圧信号をアナログの電流信号に変換して光スイッチ部３に出力する。これにより光スイッチ部３における光スイッチ３ａ、３ｂ、３ｃおよび３ｄが制御される。

【0042】

上記のように構成された制御部６は、周波数ロック制御や、光スイッチ部３の切替制御などを行う機能を有する。制御部６の機能は、たとえば、制御部６の演算部６ａが記憶部６ｂに記憶されたプログラムおよびデータを用いてプログラムを実行することによってハードウェアとソフトウェアとが協働して実現されてもよいし、制御部６のハードウェアの機能として実現されてもよい。

【0043】

基台７は、光源１ａ、１ｂ、１ｃ、１ｄを搭載している。基台７は、たとえばペルチェ素子のような温度制御器を備えていてもよい。基台７が温度制御器を備えている場合、制御部６は、光源１ａ、１ｂ、１ｃ、１ｄのそれぞれに設けられた温度センサによってモニタされた温度に基づいて、光源１ａ、１ｂ、１ｃ、１ｄの温度が所定の温度範囲内になるように温度制御器を制御してもよい。

【0044】

［レーザ装置における個々の光源の周波数ロック制御］
つぎに、レーザ装置１０における個々の光源の周波数ロック制御の一例について説明する。以下では、光源１ａを周波数ロック制御する場合について説明する。

【0045】

はじめに、制御部６は、光スイッチ３ａをＯＮ状態にし、光スイッチ３ｂ、３ｃ、３ｄをＯＦＦ状態にする切替制御を行う。これにより、光スイッチ部３から出力されるレーザ光はレーザ光Ｌ１のみとなり、光合波部４から出力されるレーザ光Ｌ５もレーザ光Ｌ１となる。また、ＰＤ５ｃ、５ｄから出力される電流も、レーザ光Ｌ１に基づいた電流である。

【0046】

制御部６は、たとえば上位の制御装置からの指示信号を受けたり記憶部６ｂに記憶された設定値を読み出したりして、レーザ光Ｌ１の周波数の制御における目標値として目標周波数を設定する。

【0047】

つづいて、制御部６は、目標周波数を、周波数フィルタ５ｂが成す周波数弁別カーブに当てはめることによって、目標値を取得する。周波数フィルタ５ｂが成す周波数弁別カーブの情報は、実験等によって予め取得され、たとえばテーブルデータや関係式などの形式にて記憶部６ｂに記憶されている。

【0048】

つづいて、制御部６は、ＡＤＣ６ｅ、６ｆから入力された電圧信号から第１比をモニタ値として取得する。第１比は、レーザ光Ｌ１の周波数に相当するモニタ値である。

【0049】

第１比は、ＰＤ５ｄの受光強度に対するＰＤ５ｃの受光強度の比に相当する。ただし、第１比として、ＰＤ５ｃの受光強度の代わりにＰＤ５ｃの受光強度に補正係数を適用した値を使用してもよいし、ＰＤ５ｄの受光強度の代わりにＰＤ５ｄの受光強度に補正係数を適用した値を使用してもよい。このような補正係数は、実験等によって予め取得され、テーブルデータや関係式などの形式にて記憶部に記憶されている。また、補正係数の適用とは、たとえば、加算、減算、乗算、除算のいずれかまたはそれらの組み合わせの演算による適用である。

【0050】

つづいて、制御部６は、目標値とモニタ値との差分を算出して取得する。

【0051】

つづいて、制御部６は、目標値とモニタ値との差分に基づいて指示値に対応する電圧信号を生成する。電圧信号は比例積分微分（ＰＩＤ）制御やＰＩ制御に基づいて生成される。つづいて、制御部６は指示値に対応する電圧信号がＤＡＣ６ｇによって変換された電流信号を光源１ａの変更部１ａａに供給する。このとき、制御部６は、目標値とモニタ値との差の絶対値が小さくなるよう、すなわち目標値とモニタ値とが近づくような電圧信号を生成する。これによってフィードバック制御としての周波数ロック制御が実現される。電流信号は、モニタ値に基づく制御量の一例である。

【0052】

制御部６は、一度には光源１ａ、１ｂ、１ｃ、１ｄのうちいずれか一つに電流信号を供給して周波数ロック制御し、その後その他の光源の周波数ロック制御を、１つずつに電流信号を順次供給して行う。以下では、制御部６が周波数ロック制御を行う間隔を１周期と定義する。

【0053】

［レーザ装置の第１制御例］
つぎに、制御部６によるレーザ装置１０の具体的な制御として第１制御例について説明する。なお、以下では、光源１ａ、１ｂ、１ｃ、１ｄを、それぞれ光源＃１、光源＃２、光源＃３、光源＃４と記載する場合がある。また、光スイッチ３ａ、３ｂ、３ｃ、３ｄを、それぞれ光スイッチ＃１、光スイッチ＃２、光スイッチ＃３、光スイッチ＃４と記載する場合がある。

【0054】

光源１ａ、１ｂ、１ｃ、１ｄは、レーザ光の出力動作中には発熱する。図１に示すように、光源１ａおよび光源１ｄは、一方の隣にのみ他の光源が存在するが、光源１ｂおよび光源１ｃは、両隣に他の光源が存在する。したがって、光源１ｂおよび光源１ｃは、発熱する他の光源からの熱流入が光源１ａおよび光源１ｄよりも大きいので、光源１ａおよび光源１ｄよりも周囲の熱変化が大きい光源と言うことができる。光源１ｂ（光源＃２）および光源１ｃ（光源＃３）は第１光源の一例であり、光源１ａ（光源＃１）および光源１ｄ（光源＃４）は第２光源の一例である。

【0055】

このような第１光源は、出力するレーザ光の周波数が第２光源よりも変動しやすい。そこで、制御部６は、光源＃１～光源＃４について、＃１→＃２→＃３→＃４→＃１→＃２→＃３→＃４→・・・のように昇順に順次制御し、各光源を均等に４周期ずつで制御する代わりに、以下の制御を行う。

【0056】

図２は、第１制御例における光源＃１～光源＃４についての制御周期を説明する図である。制御部６は、図２に示すように、第１光源である光源＃２、光源＃３を３周期ごとに周波数ロック制御する。また、制御部６は、第２光源である光源＃２、光源＃３を６周期ごとに周波数ロック制御する。このように制御部６が第１光源を第２光源よりも短い周期で周波数ロック制御を行うことによって、出力するレーザ光の周波数がより変動しやすい第１光源を、第２光源よりも頻繁に制御する。ここで、３周期とは、第１光源を制御する少なくとも１つの第１周期の例であって、４周期よりも短い周期の一例である。また、６周期とは、第２光源を制御する第２周期の一例であって、４周期よりも長い周期の一例である。光源＃１～光源＃４の制御の順序の情報は、たとえば実験等によって予め取得され、記憶部６ｂに記憶されている。

【0057】

図３は、図２に示した制御を実行する際のフローチャートの一例である。制御部６は、ステップＳ１０１において、光源＃１～光源＃４に対するレーザ光の目標周波数に基づいて、変更部１ａａ、１ｂａ、１ｃａ、１ｄａのそれぞれに対する初期設定を実行する。これにより、光源＃１～光源＃４がそれぞれ出力するレーザ光の周波数が、目標周波数またはその近傍の周波数に制御される。

【0058】

つづいて、制御部６は、ステップＳ１０２において、光スイッチ＃１～光スイッチ＃４の動作状態を制御する。具体的には、制御部６は、光スイッチ＃１をＯＮ状態に設定し、光スイッチ＃２～光スイッチ＃４をＯＦＦ状態に設定する。

【0059】

つづいて、制御部６は、ステップＳ１０３において、光源＃１が出力するレーザ光Ｌ１に基づくモニタ値を取得する（モニタステップ）。

【0060】

つづいて、制御部６は、ステップＳ１０４において、第２制御定数を用いて光源＃１に対する制御電流値を設定する。制御電流値は、目標値とモニタ値とを近づけるように設定される。制御電流値の設定は、制御電流値を実現するためにＤＡＣ６ｇに出力する電圧信号の設定により行われる。ここで、第２制御定数とは、たとえばＰＩＤ制御における比例定数、微分定数、積分定数のことであり、第２光源を６周期で制御するために設定された制御定数である。

【0061】

つづいて、制御部６は、ステップＳ１０５において、制御電流を変更部１ａａに供給する（制御ステップ）。これにより、光源＃１が周波数ロック制御される。

【0062】

つづいて、制御部６は、ステップＳ１０６において、光スイッチ＃２をＯＮ状態に設定し、光スイッチ＃１、光スイッチ＃３、光スイッチ＃４をＯＦＦ状態に設定する。

【0063】

つづいて、制御部６は、ステップＳ１０７において、光源＃２が出力するレーザ光Ｌ２に基づくモニタ値を取得する（モニタステップ）。

【0064】

つづいて、制御部６は、ステップＳ１０８において、第１制御定数を用いて光源＃２に対する制御電流値を設定する。制御電流値の設定は、制御電流値を実現するためにＤＡＣ６ｈに出力する電圧信号の設定により行われる。ここで、第１制御定数とは、たとえばＰＩＤ制御における比例定数、微分定数、積分定数のことであり、第１光源を３周期で制御するために設定された制御定数である。たとえば、第１制御定数における積分定数は、第２制御定数における積分定数の１／２程度に設定されている。

【0065】

つづいて、制御部６は、ステップＳ１０９において、制御電流を変更部１ｂａに供給する（制御ステップ）。これにより、光源＃２が周波数ロック制御される。

【0066】

つづいて、制御部６は、ステップＳ１１０において、光スイッチ＃３をＯＮ状態に設定し、光スイッチ＃１、光スイッチ＃２、光スイッチ＃４をＯＦＦ状態に設定する。

【0067】

つづいて、制御部６は、ステップＳ１１１において、光源＃３が出力するレーザ光Ｌ３に基づくモニタ値を取得する（モニタステップ）。

【0068】

つづいて、制御部６は、ステップＳ１１２において、第１制御定数を用いて光源＃３に対する制御電流値を設定する。制御電流値の設定は、制御電流値を実現するためにＤＡＣ６ｉに出力する電圧信号の設定により行われる。

【0069】

つづいて、制御部６は、ステップＳ１１３において、制御電流を変更部１ｃａに供給する（制御ステップ）。これにより、光源＃３が周波数ロック制御される。

【0070】

つづいて、制御部６は、ステップＳ１１４において、光スイッチ＃４をＯＮ状態に設定し、光スイッチ＃１～光スイッチ＃３をＯＦＦ状態に設定する。

【0071】

つづいて、制御部６は、ステップＳ１１５において、光源＃４が出力するレーザ光Ｌ４に基づくモニタ値を取得する（モニタステップ）。

【0072】

つづいて、制御部６は、ステップＳ１１６において、第２制御定数を用いて光源＃４に対する制御電流値を設定する。制御電流値の設定は、制御電流値を実現するためにＤＡＣ６ｊに出力する電圧信号の設定により行われる。

【0073】

つづいて、制御部６は、ステップＳ１１７において、制御電流を変更部１ｄａに供給する（制御ステップ）。これにより、光源＃４が周波数ロック制御される。

【0074】

つづいて、制御部６は、光源＃２の周波数ロック制御のためにステップＳ１１８～Ｓ１２１を実行する。ステップＳ１１８～Ｓ１２１はステップＳ１０６～Ｓ１０９と同じなので説明を省略する。

【0075】

つづいて、制御部６は、光源＃３の周波数ロック制御のためにステップＳ１２２～Ｓ１２５を実行する。ステップＳ１２２～Ｓ１２５はステップＳ１１０～Ｓ１１３と同じなので説明を省略する。その後、制御はステップＳ１０２に戻る。

【0076】

上記のように、制御部６は、モニタステップと制御ステップとを、光源＃１～光源＃４ごとに順次実行する。

【0077】

以上のように構成されたレーザ装置１０および制御部６が実行する第１制御例による制御方法によれば、出力するレーザ光の周波数がより変動しやすい光源＃２、光源＃３を光源＃１、光源＃４よりも頻繁に制御するので、より好適な周波数制御が実現される。

【0078】

また、レーザ装置１０は、光源＃１～光源＃４に対応する４個のモニタ値を取得する共通のモニタ部であるモニタ部５を備えているので、光源＃１～＃４に対応する４個のモニタ値をそれぞれ別のモニタ部で取得する構成と比較して、以下のような利点を有する。

【0079】

すなわち、モニタ部が取得するモニタ値は、同じ周波数のレーザ光に対するモニタ値であっても、経年的や温度依存によるモニタ部の特性の変化に応じて変化し得る。それぞれの光源に対応するモニタ値をそれぞれ別のモニタ部で取得する場合、特性の変化の程度や傾向はモニタ部ごとに違う場合があるので、取得されるモニタ値の変化の傾向や変化量なども光源ごとに違ってしまう場合がある。この場合、周波数ロック制御を行っても、周波数軸上で隣接するレーザ光同士の相対的な周波数間隔が変化してしまう。

【0080】

これに対して、レーザ装置１０では、共通のモニタ部５でモニタ値を取得するので、モニタ部の特性の変化もモニタ値に対して共通の変化として影響する。その結果、周波数ロック制御を行った場合の周波数間隔の変化が抑制される。レーザ装置１０の用途によっては、レーザ光の周波数間隔が変動しないことが重視される場合があるので、共通のモニタ部５でモニタ値を取得する構成はそのような用途に対して好適である。また、共通のモニタ部５を備える構成では、光源ごとにモニタ部を備える構成よりも、レーザ装置の専有面積や消費電力を削減できる。

【0081】

なお、実施形態に係るレーザ装置において、光源の数は３以上であれば特に限定はされない。以下では、光源の数が４以外の場合について説明する。

【0082】

図４は、光源が３個または５個の場合の制御周期の例を説明する図である。図４（ａ）は光源が光源＃１～光源＃３の３個の場合である。光源＃１～光源＃３は、図１における光源＃１～光源＃３のような位置関係にあるとする。この場合、光源＃２は両隣に他の光源が存在するので第１光源として制御を行う。光源＃１および光源＃３は、一方の隣にのみ他の光源が存在するので第２光源として制御を行う。この場合、制御部は、図４（ａ）に示すように、第１光源である光源＃２を２周期ごとに周波数ロック制御する。また、制御部は、第２光源である光源＃１、光源＃３を４周期ごとに周波数ロック制御する。２周期は少なくとも一つの第１周期の一例であり、４周期は第２周期の一例である。

【0083】

図４（ｂ）は光源が光源＃１～光源＃５の５個の場合であり、光源＃１～＃４は、図１における光源＃１～光源＃４のような位置関係にあり、光源＃５は光源＃４に対して光源＃３とは反対側に配置されているとする。この場合、光源＃２～光源＃４は両隣に他の光源が存在するので第１光源として制御を行う。光源＃１および光源＃５は、一方の隣にのみ他の光源が存在するので第２光源として制御を行う。したがって、制御部は、図４（ｂ）に示すように、第１光源である光源＃２～光源＃４を４周期ごとに周波数ロック制御する。また、制御部は、第２光源である光源＃１、光源＃５を８周期ごとに周波数ロック制御する。４周期は少なくとも一つの第１周期の一例であり、８周期は第２周期の一例である。

【0084】

図５は、周囲熱変化と制御周期との関係の例を示す図である。図５（ａ）～（ｃ）は、レーザ装置が、周囲熱変化が互いに異なる４つの光源を有する場合に、制御周期として１つの第１周期と１つの第２周期の２つの制御周期を設定する場合を示している。図５（ａ）は、三角形で示す２つの光源を第１周期で制御し、丸で示す２つの光源を第２周期で制御する例を示している。図５（ｂ）は、三角形で示す３つの光源を第１周期で制御し、丸で示す１つの光源を第２周期で制御する例を示している。図５（ｃ）は、三角形で示す１つの光源を第１周期で制御し、丸で示す３つの光源を第２周期で制御する例を示している。

【0085】

図６は、周囲熱変化と制御周期との関係の別の例を示す図である。図６は、レーザ装置が、周囲熱変化が互いに異なる４つの光源を有する場合に、制御周期として３つの第１周期と１つの第２周期の４つの制御周期を設定し、制御する例を示している。三角形、四角形、六角形が第１制御周期の光源を示し、丸が第２制御周期の光源を示す。図６のように、周囲熱変化が互いに異なる光源のそれぞれに対して互いに異なる制御周期を設定してもよい。図６が示す制御は、レーザ装置が複数の第１光源を有する場合に、制御部が、周囲の熱変化がより大きい第１光源をより短い周期で制御する一例である。

【0086】

図７は、周囲熱変化と制御周期との関係のさらに別の例を示す図である。図７（ａ）～（ｅ）は、レーザ装置が、周囲熱変化が互いに異なる５つの光源を有する場合に、制御周期として２つの第１周期と１つの第２周期の３つの制御周期を設定し、制御する例を示している。図７（ａ）は、三角形で示す２つの光源をより短い第１周期で制御し、四角形で示す１つの光源をより長い第１周期で制御し、丸で示す２つの光源を第２周期で制御する例を示している。図７（ｂ）は、三角形で示す１つの光源をより短い第１周期で制御し、四角形で示す３つの光源をより長い第１周期で制御し、丸で示す１つの光源を第２周期で制御する例を示している。図７（ｃ）は、三角形で示す１つの光源をより短い第１周期で制御し、四角形で示す１つの光源をより長い第１周期で制御し、丸で示す３つの光源を第２周期で制御する例を示している。図７（ｄ）は、三角形で示す３つの光源をより短い第１周期で制御し、四角形で示す１つの光源をより長い第１周期で制御し、丸で示す１つの光源を第２周期で制御する例を示している。図７（ｅ）は、三角形で示す１つの光源をより短い第１周期で制御し、四角形で示す２つの光源をより長い第１周期で制御し、丸で示す２つの光源を第２周期で制御する例を示している。図７が示す制御は、レーザ装置が複数の第１光源を有する場合に、制御部が、周囲の熱変化がより大きい第１光源をより短い周期で制御する一例である。

【0087】

図８は、周囲熱変化と制御周期との関係のさらに別の例を示す図である。図８（ａ）～（ｃ）は、レーザ装置が、周囲熱変化が互いに異なる４つの光源を有する場合に、制御周期として２つの第１周期と１つの第２周期の３つの制御周期を設定し、制御する例を示している。図８（ａ）は、三角形で示す１つの光源をより短い第１周期で制御し、四角形で示す１つの光源をより長い第１周期で制御し、丸で示す２つの光源を第２周期で制御する例を示している。図８（ｂ）は、三角形で示す２つの光源をより短い第１周期で制御し、四角形で示す１つの光源をより長い第１周期で制御し、丸で示す１つの光源を第２周期で制御する例を示している。図８（ｃ）は、三角形で示す１つの光源をより短い第１周期で制御し、四角形で示す２つの光源をより長い第１周期で制御し、丸で示す１つの光源を第２周期で制御する例を示している。図８が示す制御は、レーザ装置が複数の第１光源を有する場合に、制御部が、周囲の熱変化がより大きい第１光源をより短い周期で制御する一例である。

【0088】

［実施形態に係るレーザ装置の第２制御例］
つぎに、実施形態に係るレーザ装置１０の第２制御例について説明する。以下では、光源＃１～光源＃４がそれぞれ出力するレーザ光Ｌ１～Ｌ４のそれぞれの周波数ｆ１～ｆ４は、図９に示すように、互いに異なり、かつｆ１＜ｆ２＜ｆ３＜ｆ４となるような周波数であるとする。ｆ１、ｆ２、ｆ３、ｆ４は、たとえば、それぞれ１９１．３５ＴＨｚ、１９１．５ＴＨｚ、１９１．６５ＴＨｚ、１９１．８ＴＨｚである。

【0089】

この場合、ｆ１～ｆ４が周波数軸において成す周波数列の両端以外の周波数のレーザ光であるレーザ光Ｌ２、Ｌ３は、その両隣に他の周波数のレーザ光が存在する。具体的には、レーザ光Ｌ２については、周波数列において両隣に他の周波数のレーザ光Ｌ１、Ｌ３が存在し、レーザ光Ｌ３については、周波数列において両隣に他の周波数のレーザ光Ｌ２、Ｌ４が存在する。したがって、レーザ光Ｌ２、Ｌ３の周波数が変動すると、両隣の周波数のレーザ光に対して影響を及ぼすので、両端の周波数が変動する場合よりも影響が大きい。

【0090】

そこで、レーザ装置１０の第２制御例では、周波数列の両端以外の周波数であるレーザ光Ｌ２、Ｌ３をそれぞれ出力する光源＃２、光源＃３については、第１光源として第１周期で周波数ロック制御する。また、周波数列の両端の周波数であるレーザ光Ｌ１、Ｌ４をそれぞれ出力する光源＃１、光源＃４については、第２光源として第２周期で周波数ロック制御する。

【0091】

具体的には、図９において四角形で示すレーザ光Ｌ２、Ｌ３をそれぞれ出力する光源＃２、光源＃３については、第１周期で周波数ロック制御し、図９において丸で示すレーザ光Ｌ１、Ｌ４をそれぞれ出力する光源＃１、光源＃４については、第２周期で周波数ロック制御する。

【0092】

このような制御は、たとえば図２に示す場合と同様に、光源＃１～光源＃４について、＃１→＃２→＃３→＃４→＃２→＃３→＃１→＃２→＃３→＃４→・・・のように順次制御することによって実現される。また、このような制御は、図３に示すようなフローチャートで実現される。

【0093】

以上のように構成されたレーザ装置１０および制御部６が実行する第２制御例による制御方法によれば、出力するレーザ光の周波数の変動の影響が大きい光源＃２、光源＃３を光源＃１、光源＃４よりも頻繁に制御するので、より好適な周波数制御が実現される。また、レーザ装置１０は、光源＃１～光源＃４に対応する４個のモニタ値を取得する共通のモニタ部であるモニタ部５を備えているので、周波数ロック制御を行った場合の周波数間隔の経年変化等が抑制される。

【0094】

なお、第２制御例を実行するレーザ装置において、光源の数は３以上であれば特に限定はされない。以下では、光源の数が４以外の場合について説明する。

【0095】

図１０は、光源が３個または５個の場合の制御周期の例を説明する図である。図１０（ａ）は光源が光源＃１～光源＃５の５個の場合を示す。光源＃１～光源＃５が出力するレーザ光の周波数は、図１０（ａ）において記号Ｆ１、Ｆ２、Ｆ３、Ｆ４、Ｆ５で示される周波数の関係であるとする。この場合、四角形で示す光源＃２～光源＃４は、周波数列において両隣に他の周波数の光源が存在するので第１光源として第１周期で制御を行う。丸で示す光源＃１および光源＃５は、周波数列において一方の隣にのみ他の周波数の光源が存在するので第２光源として第２周期で制御を行う。

【0096】

図１０（ｂ）は光源が光源＃１～光源＃５の５個の場合を示す。光源＃１～光源＃５が出力するレーザ光の周波数は、図１０（ｂ）において記号Ｆ６、Ｆ７、Ｆ８、Ｆ９、Ｆ１０で示される周波数の関係であるとする。この場合、三角で示す光源＃３は、周波数列において両隣に他の周波数の光源が存在し、かつ周波数列の中心周波数なので、第１光源としてより短い第１周期で制御を行う。四角で示す光源＃２、光源＃４は、第１光源としてより長い第１周期で制御を行う。丸で示す光源＃１および光源＃５は、第２光源として第２周期で制御を行う。図１０（ｂ）は、制御部が、周波数列の中心周波数により近い周波数のレーザ光を出力する第１光源をより短い周期で制御する例を示している。

【0097】

図１０（ｃ）は光源が光源＃１～光源＃３の３個の場合を示す。光源＃１～光源＃３が出力するレーザ光の周波数は、図１０（ｃ）において記号Ｆ１１、Ｆ１２、Ｆ１３で示される周波数の関係であるとする。この場合、四角形で示す光源＃２は、第１光源として第１周期で制御を行う。丸で示す光源＃１、光源＃３は、第２光源として第２周期で制御を行う。

【0098】

なお、たとえば図２に示す制御では、第１光源（光源＃２、光源＃３）を周波数ロック制御する周期は３周期で一定であるが、途中で違う周期、たとえば２周期に変化させてもよいし、変化させた周期を元の３周期に戻してもよい。第２光源（光源＃１、光源＃４）を周波数ロック制御する周期についても変化させたり元に戻したりしてもよい。

【0099】

また、制御の１周期の時間的な長さについては、制御を実行している間一定でもよいし、途中で変化させたり元に戻したりしてもよい。

【0100】

また、上記実施形態の第１制御例では、光源＃２、光源＃３が、光源＃１、光源＃４よりも周囲の熱変化が大きい光源としているが、光源＃１、光源＃４が、光源＃２、光源＃３よりも周囲の熱変化が大きい光源の場合がある。その場合とは、たとえばレーザ装置１０が他の機器と一緒に筐体に組み込まれた場合に、周囲に発熱や吸熱する機器がある場合である。そのような場合は、光源＃１、光源＃４を第１光源として第１周期で周波数ロック制御し、光源＃２、光源＃３を第２光源として第２周期で周波数ロック制御してもよい。

【0101】

また、たとえば初期設定としては光源＃２、光源＃３を第１光源として第１周期で周波数ロック制御し、光源＃１、光源＃４を第２光源として第２周期で周波数ロック制御する設定としておき、レーザ装置１０が実際に稼働している環境に応じて、第１光源であるか第２光源であるかの設定を変えてもよい。設定の変更は、制御部６の記憶部６ｂに記憶された設定情報を書き換えることで実施することができる。また、光源＃１～光源＃４が温度センサを備えている場合は、レーザ装置１０が実際に稼働している環境における光源＃１～光源＃４の温度を温度センサでモニタし、その結果に基づいて第１光源であるか第２光源であるかの設定を変えてもよい。たとえば、温度センサでのモニタの結果、温度の標準偏差が比較的大きい光源については第１光源として設定を変更または維持し、温度の標準偏差が比較的小さい光源については第２光源として設定を変更または維持してもよい。

【0102】

また、上記第１制御例と第２制御例とを合わせた制御を行ってもよい。この場合は、たとえば相対的な周波数間隔の精度が高まるように第１光源であるか第２光源であるかの設定や制御の周期の設定を行ってもよい。

【0103】

なお、上記実施形態により本発明が限定されるものではない。上述した各構成要素を適宜組み合わせて構成したものも本発明に含まれる。また、さらなる効果や変形例は、当業者によって容易に導き出すことができる。よって、本発明のより広範な態様は、上記の実施形態に限定されるものではなく、様々な変更が可能である。

【符号の説明】

【0104】

１ａ、１ｂ、１ｃ、１ｄ：光源
１ａａ、１ｂａ、１ｃａ、１ｄａ：変更部
２ ：光出力部
３ ：光スイッチ部
３ａ、３ｂ、３ｃ、３ｄ：光スイッチ
４ ：光合波部
５ ：モニタ部
５ａ ：光分岐部
５ｂ ：周波数フィルタ
５ｃ、５ｄ：ＰＤ
６ ：制御部
６ａ ：演算部
６ｂ ：記憶部
６ｃ、６ｄ：ＴＩＡ
６ｅ、６ｆ：ＡＤＣ
６ｇ、６ｈ、６ｉ、６ｊ、６ｋ：ＤＡＣ
７ ：基台
１０ ：レーザ装置
Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３、Ｌ４、Ｌ５、Ｌ６、Ｌ７：レーザ光

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】