(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024112598
(43)【公開日】2024-08-21
(54)【発明の名称】研磨装置およびガラス基板
(51)【国際特許分類】
B24B 21/10 20060101AFI20240814BHJP
B24B 21/20 20060101ALI20240814BHJP
B24B 49/10 20060101ALI20240814BHJP
B24B 49/14 20060101ALI20240814BHJP
C03C 19/00 20060101ALI20240814BHJP
【ＦＩ】
B24B21/10
B24B21/20
B24B49/10
B24B49/14
C03C19/00 Z
【審査請求】未請求
【請求項の数】11
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2023017742
(22)【出願日】2023-02-08
(71)【出願人】
【識別番号】000000044
【氏名又は名称】ＡＧＣ株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100107766
【弁理士】
【氏名又は名称】伊東 忠重
(74)【代理人】
【識別番号】100070150
【弁理士】
【氏名又は名称】伊東 忠彦
(72)【発明者】
【氏名】阿部 真之
【テーマコード（参考）】
3C034
3C158
4G059
【Ｆターム（参考）】
3C034AA07
3C034BB92
3C034CA16
3C034CA19
3C034CB04
3C034DD07
3C034DD08
3C158AA05
3C158AA14
3C158AA16
3C158AB04
3C158AC02
3C158AC04
3C158BA05
3C158BA06
3C158BA08
3C158CA06
3C158CB03
3C158CB10
3C158DA17
4G059AA01
4G059AA08
4G059AC03
(57)【要約】
【課題】比較的高い研磨速度を有する上、大型のワークに対しても適正に研磨できる研磨装置。
【解決手段】研磨装置は、研磨ベルトと、前記研磨ベルトのおもて面を第１の水平方向に移動させることが可能な複数のローラーと、前記ローラーを回転駆動させる駆動モーターと、第１の定盤および第２の定盤であって、前記第１の定盤と前記第２の定盤の間には、前記研磨ベルトの前記おもて面と対面するように被加工対象となるワークが保持される、第１の定盤および第２の定盤と、前記第２の定盤を、前記第１の水平方向と直交する第２の水平方向に移動させることが可能な走行機構と、前記第１の定盤または前記第２の定盤を昇降させる昇降機構と、前記昇降機構に設けられた荷重検出器と、を有する。前記荷重検出器は、前記ワークの研磨中、該ワークの被研磨面に対する荷重を把握し、該荷重を適正な範囲に維持する。
【選択図】図１
【解決手段】研磨装置は、研磨ベルトと、前記研磨ベルトのおもて面を第１の水平方向に移動させることが可能な複数のローラーと、前記ローラーを回転駆動させる駆動モーターと、第１の定盤および第２の定盤であって、前記第１の定盤と前記第２の定盤の間には、前記研磨ベルトの前記おもて面と対面するように被加工対象となるワークが保持される、第１の定盤および第２の定盤と、前記第２の定盤を、前記第１の水平方向と直交する第２の水平方向に移動させることが可能な走行機構と、前記第１の定盤または前記第２の定盤を昇降させる昇降機構と、前記昇降機構に設けられた荷重検出器と、を有する。前記荷重検出器は、前記ワークの研磨中、該ワークの被研磨面に対する荷重を把握し、該荷重を適正な範囲に維持する。
【選択図】図１
【特許請求の範囲】
【請求項1】
研磨装置であって、
おもて面およびうら面を有し、前記おもて面に砥粒が担持された研磨ベルトと、
回転により、前記研磨ベルトの前記おもて面を第１の水平方向に移動させることが可能な複数のローラーと、
前記ローラーを回転駆動させる駆動モーターと、
相互に対向して配置される第１の定盤および第２の定盤であって、
前記第１の定盤は、前記研磨ベルトのうら面側に配置され、
前記第２の定盤は、前記研磨ベルトのおもて面側に配置され、
前記第１の定盤と前記第２の定盤の間には、前記研磨ベルトの前記おもて面と対面するように被加工対象となるワークが保持される、第１の定盤および第２の定盤と、
前記第２の定盤を、前記第１の水平方向と直交する第２の水平方向に移動させることが可能な走行機構と、
前記第１の定盤または前記第２の定盤に機械的に接続され、接続された前記第１の定盤または前記第２の定盤を昇降させる昇降機構と、
前記昇降機構に設けられた荷重検出器と、
を有し、
前記荷重検出器は、前記ワークの研磨中、該ワークの被研磨面に対する荷重を把握し、該荷重を適正な範囲に維持する、研磨装置。
おもて面およびうら面を有し、前記おもて面に砥粒が担持された研磨ベルトと、
回転により、前記研磨ベルトの前記おもて面を第１の水平方向に移動させることが可能な複数のローラーと、
前記ローラーを回転駆動させる駆動モーターと、
相互に対向して配置される第１の定盤および第２の定盤であって、
前記第１の定盤は、前記研磨ベルトのうら面側に配置され、
前記第２の定盤は、前記研磨ベルトのおもて面側に配置され、
前記第１の定盤と前記第２の定盤の間には、前記研磨ベルトの前記おもて面と対面するように被加工対象となるワークが保持される、第１の定盤および第２の定盤と、
前記第２の定盤を、前記第１の水平方向と直交する第２の水平方向に移動させることが可能な走行機構と、
前記第１の定盤または前記第２の定盤に機械的に接続され、接続された前記第１の定盤または前記第２の定盤を昇降させる昇降機構と、
前記昇降機構に設けられた荷重検出器と、
を有し、
前記荷重検出器は、前記ワークの研磨中、該ワークの被研磨面に対する荷重を把握し、該荷重を適正な範囲に維持する、研磨装置。
【請求項2】
前記ワークの研磨中、前記荷重検出器により把握された荷重に基づいて、
（ｉ）前記第１の定盤もしくは第２の定盤が昇降され、または
（ｉｉ）前記ワークの研磨時間、前記第１の定盤もしくは前記第２の定盤の圧力、および前記研磨ベルトの移動速度の少なくとも一つが調整され、
これにより、前記荷重が適正な範囲に維持される、請求項１に記載の研磨装置。
（ｉ）前記第１の定盤もしくは第２の定盤が昇降され、または
（ｉｉ）前記ワークの研磨時間、前記第１の定盤もしくは前記第２の定盤の圧力、および前記研磨ベルトの移動速度の少なくとも一つが調整され、
これにより、前記荷重が適正な範囲に維持される、請求項１に記載の研磨装置。
【請求項3】
前記ワークの研磨完了時点での前記第１の定盤または前記第２の定盤のうち前記昇降機構に接続された方の高さレベル、前記ワークの加工時間、および前記研磨ベルトの移動速度の少なくとも一つを把握し、
次のバッチにおけるワークの研磨の際に、前記高さレベル、前記ワークの加工時間、および前記研磨ベルトの移動速度の少なくとも一つに基づいて加工条件が設定され、研磨が開始される、請求項１に記載の研磨装置。
次のバッチにおけるワークの研磨の際に、前記高さレベル、前記ワークの加工時間、および前記研磨ベルトの移動速度の少なくとも一つに基づいて加工条件が設定され、研磨が開始される、請求項１に記載の研磨装置。
【請求項4】
前記研磨ベルトは、ループ状の研磨ベルトである、請求項１に記載の研磨装置。
【請求項5】
さらに、前記研磨ベルトの前記ワークと非接触の位置において、前記研磨ベルトの表面温度を測定することが可能な温度測定器を有する、請求項１に記載の研磨装置。
【請求項6】
さらに、前記研磨ベルトの弛みを低減する張力付与機構を有する、請求項１に記載の研磨装置。
【請求項7】
前記第１の定盤は、上定盤であり、前記第２の定盤は、下定盤である、請求項１に記載の研磨装置。
【請求項8】
前記下定盤は、前記第１の水平方向の寸法が１００ｍｍ～２３００ｍｍの範囲である、請求項７に記載の研磨装置。
【請求項9】
前記ワークは、ガラス基板であり、
当該研磨装置は、さらに、欠点除去システムを有し、該欠点除去システムは、
欠点測定用ガラス基板の被研磨面に対し、研磨量を変えて徐々に研磨を実施し、被研磨面の深さ方向における欠点分布を把握し、
前記欠点測定用ガラス基板の前記被研磨面において、最小の研磨量で最小の欠点数が得られる最適研磨量を把握する
ように操作され、
当該研磨装置は、前記最適研磨量に基づいて、実際のガラス基板の被研磨面を研磨する、請求項１に記載の研磨装置。
当該研磨装置は、さらに、欠点除去システムを有し、該欠点除去システムは、
欠点測定用ガラス基板の被研磨面に対し、研磨量を変えて徐々に研磨を実施し、被研磨面の深さ方向における欠点分布を把握し、
前記欠点測定用ガラス基板の前記被研磨面において、最小の研磨量で最小の欠点数が得られる最適研磨量を把握する
ように操作され、
当該研磨装置は、前記最適研磨量に基づいて、実際のガラス基板の被研磨面を研磨する、請求項１に記載の研磨装置。
【請求項10】
相互に対向する第１の表面および第２の表面を有し、
前記第１の表面には、少なくとも一つの凸部と、少なくとも一つの凹部が存在し、
前記凸部における最も低い位置の高さレベルと、前記凹部における最も高い位置の高さレベルの差は、５０μｍ以上である、ガラス基板。
前記第１の表面には、少なくとも一つの凸部と、少なくとも一つの凹部が存在し、
前記凸部における最も低い位置の高さレベルと、前記凹部における最も高い位置の高さレベルの差は、５０μｍ以上である、ガラス基板。
【請求項11】
前記第１の表面の各凹部には、一つの方向に沿って相互に平行に延在する複数の研磨痕が存在する、請求項１０に記載のガラス基板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、研磨装置およびガラス基板に関する。
【背景技術】
【0002】
被加工対象（ワーク）の表面を高精度に研磨することが可能な研磨装置として、ラップ研磨装置が知られている（例えば特許文献１）。
【0003】
ラップ研磨装置では、上定盤に設置された研磨パッドと、下定盤に設置された研磨パッドとの間にワークが配置される。次に、両研磨パッドがワークの上下面と接触するように、上定盤および下定盤が配置され、ワークの上下面に押圧が付与される。次に、ワークに自転を加えながら、上定盤と下定盤を相互に反対方向に回転させることにより、ワークを両面側から研磨することができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【特許文献1】特開平９－４７９５９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
ラップ研磨装置では、高精度の研磨表面を得ることができる。
【0006】
しかしながら、ラップ研磨装置では、重厚な部材である上定盤および下定盤を高速で回転させることは、装置構成上難しいという問題がある。そのため、ラップ研磨装置によるワークの研磨速度は、あまり高くすることができず、その結果、研磨加工に多くの時間がかかってしまう。また、ラップ研磨装置では、上定盤の中心に回転軸（非研磨利用領域）が設けられるため、上定盤の半径以下の寸法のワークしか装置内に配置できず、大型のワークを研磨することは難しいという問題がある。
【0007】
このような背景から、大型のワークであっても、より高い研磨速度で精密に研磨することが可能な研磨装置が求められている。
【0008】
本発明は、このような背景に鑑みなされたものであり、本発明では、比較的高い研磨速度を有する上、大型のワークに対しても適正に研磨することが可能な研磨装置を提供することを目的とする。また、本発明では、そのような研磨装置により製造されるガラス基板を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0009】
本発明では、
研磨装置であって、
おもて面およびうら面を有し、前記おもて面に砥粒が担持された研磨ベルトと、
回転により、前記研磨ベルトの前記おもて面を第１の水平方向に移動させることが可能な複数のローラーと、
前記ローラーを回転駆動させる駆動モーターと、
相互に対向して配置される第１の定盤および第２の定盤であって、
前記第１の定盤は、前記研磨ベルトのうら面側に配置され、
前記第２の定盤は、前記研磨ベルトのおもて面側に配置され、
前記第１の定盤と前記第２の定盤の間には、前記研磨ベルトの前記おもて面と対面するように被加工対象となるワークが保持される、第１の定盤および第２の定盤と、
前記第２の定盤を、前記第１の水平方向と直交する第２の水平方向に移動させることが可能な走行機構と、
前記第１の定盤または前記第２の定盤に機械的に接続され、接続された前記第１の定盤または前記第２の定盤を昇降させる昇降機構と、
前記昇降機構に設けられた荷重検出器と、
を有し、
前記荷重検出器は、前記ワークの研磨中、該ワークの被研磨面に対する荷重を把握し、該荷重を適正な範囲に維持する、研磨装置が提供される。
研磨装置であって、
おもて面およびうら面を有し、前記おもて面に砥粒が担持された研磨ベルトと、
回転により、前記研磨ベルトの前記おもて面を第１の水平方向に移動させることが可能な複数のローラーと、
前記ローラーを回転駆動させる駆動モーターと、
相互に対向して配置される第１の定盤および第２の定盤であって、
前記第１の定盤は、前記研磨ベルトのうら面側に配置され、
前記第２の定盤は、前記研磨ベルトのおもて面側に配置され、
前記第１の定盤と前記第２の定盤の間には、前記研磨ベルトの前記おもて面と対面するように被加工対象となるワークが保持される、第１の定盤および第２の定盤と、
前記第２の定盤を、前記第１の水平方向と直交する第２の水平方向に移動させることが可能な走行機構と、
前記第１の定盤または前記第２の定盤に機械的に接続され、接続された前記第１の定盤または前記第２の定盤を昇降させる昇降機構と、
前記昇降機構に設けられた荷重検出器と、
を有し、
前記荷重検出器は、前記ワークの研磨中、該ワークの被研磨面に対する荷重を把握し、該荷重を適正な範囲に維持する、研磨装置が提供される。
【発明の効果】
【0010】
本発明では、比較的高い研磨速度を有する上、大型のワークに対しても適正に研磨することが可能な研磨装置を提供することができる。また、本発明では、そのような研磨装置により製造されるガラス基板を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【0011】
【図1】本発明の一実施形態による研磨装置の概略的な側面図である。
【図2】本発明の一実施形態による研磨装置の概略的な上面図である。
【図3】本発明の一実施形態による研磨装置が備える欠点除去システムに関する処理を概略的に示したフロー図である。
【図4】本発明の別の実施形態による研磨装置の概略的な側面図である。
【図5】本発明のさらに別の実施形態による研磨装置の概略的な側面図である。
【図6】本発明のさらに別の実施形態による研磨装置の概略的な側面図である。
【図7】本発明の一実施形態による研磨装置を用いて製造されたガラス基板の一例の模式的な斜視図である。
【図9】本発明の一実施形態による研磨装置を用いて製造された別のガラス基板の一例の模式的な斜視図である。
【図10】本発明の一実施形態による研磨装置を用いて製造されたさらに別のガラス基板の一例の模式的な斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【0012】
前述のように、ラップ研磨装置では、重厚な部材である上定盤および下定盤を高速で回転させることは現実的ではなく、そのためワークの研磨速度をあまり高くすることができないという問題がある。また、ラップ研磨装置では、大型のワークを研磨することは難しいという問題がある。
【0013】
これに対して、本発明の一実施形態では、研磨装置であって、
おもて面およびうら面を有し、前記おもて面に砥粒が担持された研磨ベルトと、
回転により、前記研磨ベルトの前記おもて面を第１の水平方向に移動させることが可能な複数のローラーと、
前記ローラーを回転駆動させる駆動モーターと、
相互に対向して配置される第１の定盤および第２の定盤であって、
前記第１の定盤は、前記研磨ベルトのうら面側に配置され、
前記第２の定盤は、前記研磨ベルトのおもて面側に配置され、
前記第１の定盤と前記第２の定盤の間には、前記研磨ベルトの前記おもて面と対面するように被加工対象となるワークが保持される、第１の定盤および第２の定盤と、
前記第２の定盤を、前記第１の水平方向と直交する第２の水平方向に移動させることが可能な走行機構と、
前記第１の定盤または前記第２の定盤に機械的に接続され、接続された前記第１の定盤または前記第２の定盤を昇降させる昇降機構と、
前記昇降機構に設けられた荷重検出器と、
を有し、
前記荷重検出器は、前記ワークの研磨中、該ワークの被研磨面に対する荷重を把握し、該荷重を適正な範囲に維持する、研磨装置が提供される。
おもて面およびうら面を有し、前記おもて面に砥粒が担持された研磨ベルトと、
回転により、前記研磨ベルトの前記おもて面を第１の水平方向に移動させることが可能な複数のローラーと、
前記ローラーを回転駆動させる駆動モーターと、
相互に対向して配置される第１の定盤および第２の定盤であって、
前記第１の定盤は、前記研磨ベルトのうら面側に配置され、
前記第２の定盤は、前記研磨ベルトのおもて面側に配置され、
前記第１の定盤と前記第２の定盤の間には、前記研磨ベルトの前記おもて面と対面するように被加工対象となるワークが保持される、第１の定盤および第２の定盤と、
前記第２の定盤を、前記第１の水平方向と直交する第２の水平方向に移動させることが可能な走行機構と、
前記第１の定盤または前記第２の定盤に機械的に接続され、接続された前記第１の定盤または前記第２の定盤を昇降させる昇降機構と、
前記昇降機構に設けられた荷重検出器と、
を有し、
前記荷重検出器は、前記ワークの研磨中、該ワークの被研磨面に対する荷重を把握し、該荷重を適正な範囲に維持する、研磨装置が提供される。
【0014】
本発明の一実施形態による研磨装置では、ワークは、砥粒が設置された研磨ベルトを用いて研磨される。すなわち、本発明の一実施形態による研磨装置では、ローラーに接続された駆動モーターによりローラーが回転され、これにより研磨ベルトが移動され、ワークが研磨される。
【0015】
この場合、ラップ研磨装置のように上定盤および下定盤を回転させてワークを研磨する方式とは異なり、単に研磨ベルトの移動速度を高めるだけで、ワークの研磨速度を高めることができる。従って、本発明の一実施形態による研磨装置では、ラップ研磨装置に比べて有意に高いワーク研磨速度を得ることが可能となる。
【0016】
ただし、研磨ベルトの高速移動によりワークを研磨する方式では、研磨ベルトに接着された砥粒の消耗、劣化が激しく、新鮮な研磨ベルトと、何回か使用された研磨ベルトでは、研磨能力に有意な差異が生じるおそれがある。その場合、同じ研磨時間で研磨を実施しても、研磨後のワークの仕上がりに差異が生じる可能性がある。
【0017】
しかしながら、本発明の一実施形態による研磨装置は、さらに、荷重検出器を有する。荷重検出器は、研磨中のワークに印加される荷重を把握できる。
【0018】
従って、本発明の一実施形態による研磨装置では、測定された荷重が所定の範囲から逸脱し、または逸脱するおそれが場合、例えば、昇降機構を昇降させて第１の定盤および／または第２の定盤の押圧を変更することができる。その結果、各ワークに対して同様の荷重を印加した状態で研磨を実施することができる。
【0019】
あるいは、研磨時間、第１の定盤／第２の定盤の圧力、および研磨ベルトの移動速度などを所定の値から変更することにより、各ワークに対する荷重を安定化させてもよい。
【0020】
また、本発明の一実施形態による研磨装置では、研磨ベルトの全長を大きくするだけで、大型のワークの研磨にも対応できる。従って、ラップ研磨装置のようなワークサイズに対する制約が少なく、より大きなワークに対しても、高速で精密な研磨をすることができる。
【0021】
以上の効果により、本発明の一実施形態では、比較的高い研磨速度を有する上、大型のワークに対しても適正に研磨することが可能な研磨装置を提供することができる。
【0022】
（本発明の一実施形態による研磨装置）
以下、図面を参照して、本発明の一実施形態についてより詳しく説明する。
以下、図面を参照して、本発明の一実施形態についてより詳しく説明する。
【0023】
図１および図２には、本発明の一実施形態による研磨装置の構成を模式的に示す。図１には、本発明の一実施形態による研磨装置の概略的な側面図が示されており、図２には、本発明の一実施形態による研磨装置の概略的な上面図が示されている。なお、図１および図２では、図面が不明瞭になることを避けるため、一部の構成部材は省略されている。
【0024】
図１および図２に示すように、本発明の一実施形態による研磨装置（以下、「第１の装置」と称する）１００は、研磨ベルト１１０と、複数のローラー１２０、１２１と、駆動モーター１２５と、上定盤１３０と、下定盤１４０と、走行機構１５０と、昇降機構１６０と、荷重検出器１６５を有する。なお、図２においては、昇降機構１６０および荷重検出器１６５は、省略されている。
【0025】
研磨ベルト１１０は、無端ループ形状で構成され、該研磨ベルト１１０の左右に設けられた各ローラー１２０、１２１により、移動可能に支持される。研磨ベルト１１０は、おもて面１１２およびうら面１１４を有し、おもて面１１２には、研磨用の砥粒が設置されている。砥粒は、例えば、ダイヤモンドまたはホワイトアルミナ等で構成されてもよい。
【0026】
ローラー１２０は、駆動モーター１２５（図１には示されていない）に接続されており、該駆動モーター１２５を作動させることにより、ローラー１２０、さらにはローラー１２１を、図１の矢印ｆ１の方向に回転することができる。またこれに伴い、研磨ベルト１１０の下側は、矢印Ｆ１の方向（Ｙ方向）に移動される。逆に、研磨ベルト１１０の上側は、矢印Ｆ１とは反対方向に移動され、これにより、ローラー１２０、１２１の回転の間、研磨ベルト１１０の移動（この場合、「回転」とも称される）が継続される。
【0027】
なお、図１および図２には示されていないが、第１の装置１００は、さらに、張力付与機構を有してもよい。張力付与機構は、研磨ベルト１１０の弛みをなくし、稼働中の研磨ベルト１１０が張力維持状態で回転されるように機能する。
【0028】
張力付与機構は、例えば、エアシリンダ等であってもよい。
【0029】
下定盤１４０は、ワーク（図示されていない）を支持する役割を有する。下定盤１４０には、走行機構１５０が接続されている。走行機構１５０は、水平面（ＸＹ平面）内で、下定盤１４０を移動させることができる。例えば、図２に示した例では、走行機構１５０により、下定盤１４０は、矢印Ｆ２の方向（Ｘ方向）またはその逆方向に移動できる。
【0030】
走行機構１５０は、例えば、直線案内レールを有するリニアガイド等で構成されてもよい。
【0031】
一方、上定盤１３０は、研磨ベルト１１０のおもて面１１２を、下定盤１４０に保持されたワークの被研磨面に押し付ける役割を有する。このため、上定盤１３０には、昇降機構１６０が機械的に結合されている。すなわち、上定盤１３０は、昇降機構１６０により、下降方向（Ｚ方向）または上昇方向に移動できる。
【0032】
昇降機構１６０の構成は、特に限られない。昇降機構１６０は、例えば、サーボシリンダのような、一般的な装置で構成されてもよい。
【0033】
なお、図２に示した例では、ワークの加工前の状態であるため、下定盤１４０は、上面視、上定盤１３０とは離れた位置にある。しかしながら、ワークを加工する際には、上定盤１３０および下定盤１４０は、上面視、相互に対向するように配置される。
【0034】
また、昇降機構１６０には、荷重検出器１６５が設置される。前述のように、荷重検出器１６５は、ワークに印加される荷重を把握する役割を有する。
【0035】
荷重検出器１６５の構成は、特に限られない。荷重検出器１６５には、一般的なロードセルなどが使用されてもよい。
【0036】
次に、このような構成を有する第１の装置１００を用いてワークの被研磨面を研磨する方法について説明する。なお、ここでは、一例として、ワークの被研磨面の全体を一様に研磨する方法について説明する。
【0037】
ワークの被研磨面全体を研磨する際には、まず、第１の装置１００の下定盤１４０の上にワークが載置される。ワークは、上面視、下定盤１４０の領域に収まる寸法を有する。
【0038】
ワークの位置ずれを防止するため、下定盤１４０には、位置ずれ防止手段が設けられてもよい。例えば、下定盤１４０の上面に吸引機構を設けた場合、ワークの被研磨面とは反対の面を下定盤１４０の上面に吸着させ、ワークの位置を固定することができる。ただし、位置ずれ防止手段の構成は特に限られず、任意の位置ずれ防止手段が利用されてもよい。
【0039】
次に、走行機構１５０を用いて、下定盤１４０が矢印Ｆ２の方向に移動される。下定盤１４０は、上面視、上定盤１３０と重なり合う位置まで移動される。なお、これにともない、下定盤１４０の上に載置されたワークも、上定盤１３０の下側に移動される。
【0040】
次に、駆動モーター１２５の駆動により、ローラー１２０、１２１が矢印ｆ１の方向に回転を開始する。図１に示すように、これに伴い、研磨ベルト１１０も「回転」を開始し、研磨ベルト１１０の下側は、矢印Ｆ１の方向に移動する。
【0041】
必要な場合、冷却剤がノズル（図示されていない）から吐出され、ワークの被研磨面の冷却が開始されてもよい。
【0042】
次に、昇降機構１６０の作動により、上定盤１３０が下降され、上定盤１３０が所定の高さレベルに移動される。また、荷重検出器１６５が測定を開始する。そして、上定盤１３０を介して研磨ベルト１１０のおもて面１１２がワークの被研磨面に当接されると、ワークの研磨が開始される。
【0043】
ワークの研磨中、荷重検出器１６５は、ワークに印加される荷重を検知し、その値が所定の範囲に含まれるかどうかを判断する。
【0044】
そして、荷重検出器によって、荷重の値が所定の範囲からずれていると判断された場合、研磨条件が変更される。
【0045】
例えば、荷重の値が所定の値よりも低い場合、昇降機構１６０により、上定盤１３０が下降される。また逆に、荷重の値が所定の値よりも高い場合、昇降機構１６０により、上定盤１３０が上昇される。
【0046】
あるいは、研磨時間、上定盤１３０／下定盤１４０の圧力、および研磨ベルト１１０の移動速度などが所定の値から増減されてもよい。
【0047】
このように、ワークの研磨中、被加工面に対する荷重が常時測定され、これに基づいて、所定の対応が行われ、荷重が適正な範囲に維持される。
【0048】
なお、ワークの全長（Ｘ方向の寸法）が研磨ベルト１１０の幅（Ｘ方向の寸法）よりも大きい場合、走行機構１５０を用いて、下定盤１４０を矢印Ｆ２の方向に移動させたまま、ワークの研磨が実施されてもよい。これにより、全長が大きなワークに対しても、被研磨面の研磨を行うことができる。この場合、研磨中の走行機構１５０による下定盤１４０の移動速度は、例えば、５ｍｍ／秒～５０ｍｍ／秒の範囲であってもよい。
【0049】
その後、所定時間経過後に、昇降機構１６０により上定盤１３０が上昇され、研磨ベルト１１０がワークと当接しなくなると、研磨が完了される。
【0050】
このような工程により、ワークの被研磨面を研磨することができる。
【0051】
第１の装置１００では、ローラー１２０、１２１の回転速度を高めることにより、研磨ベルト１１０の回転速度を容易に高めることができる。従って、ラップ研磨装置では得られないような高速研磨が可能となる。
【0052】
また、第１の装置１００では、荷重検出器１６５によって、研磨中のワークの荷重が把握されるため、荷重を適正な範囲に維持できる。従って、高速研磨中もワークに対して適正な研磨状態を維持することができる。その結果、所望の研磨面を有するワークを得ることができる。
【0053】
さらに、第１の装置１００では、研磨ベルト１１０の全長（Ｙ方向の寸法）を拡張することにより、大型のワークの研磨を実施することも可能となる。
【0054】
例えば、これに限られるものではないが、第１の装置１００では、上面視、研磨ベルト１１０として全長（Ｙ方向の長さ）が５０００ｍｍ等の大きな寸法の研磨ベルトも利用できる。
【0055】
また、これに限られるものではないが、第１の装置１００において、下定盤１４０の幅（Ｙ方向の寸法）は、６００ｍｍ～２３００ｍｍの範囲であってもよい。この場合、幅（Ｙ方向の寸法）が５５０ｍｍ～２２５０ｍｍの寸法を有する大型のワークを研磨することができる。
【0056】
なお、当然のことながら、小さなワークを研磨する場合、下定盤１４０の幅は１００ｍｍ～６００ｍｍの範囲としてもよい。この場合、幅が５０ｍｍ～５５０ｍｍの範囲のワークを研磨することができる。
【0057】
なお、第１の装置１００では、動作の開始の際、昇降機構１６０は、予め定められた高さレベル（以下、「初期設定高さＬ０」と称する）まで上定盤１３０を下降させる。また、予め定められた加工時間（以下、「初期設定加工時間Ｔ０」と称する）、および予め定められた研磨ベルト１１０の移動速度（以下、「初期設定移動速度Ｒ０」と称する）で、研磨が開始される。
【0058】
しかしながら、研磨ベルト１１０が繰り返し利用されると、研磨ベルト１１０のおもて面１１２の研磨能力が低下する。そのため、次の研磨バッチでは、初期設定高さＬ０、初期設定加工時間Ｔ０、および初期設定移動速度Ｒ０から研磨を開始すると、ワークに所定の荷重が印加できず、適正な研磨条件に移行するまで時間を要する場合があり得る。
【0059】
このような問題に対処するため、ｎ回目のバッチにおけるワークの研磨終了時点での上定盤１３０の高さレベル（以下、「高さＬＥ」と称する）、加工時間（以下、「加工時間ＴＥ」と称する）、および移動速度（以下、「移動速度ＲＥ」と称する）の少なくとも一つが測定、把握されてもよい。そして、（ｎ＋１）回目のバッチにおけるワークの研磨処理の際に、これらの測定された高さＬＥ、加工時間ＴＥ、および移動速度ＲＥに基づいて、上定盤１３０の高さレベル、加工時間、および移動速度のような加工条件が調整、設定されてもよい。
【0060】
この場合、より迅速に適正な研磨条件に移行することができ、迅速な研磨が可能となる。
【0061】
また、図１および図２には示されていないが、第１の装置１００は、さらに、研磨ベルト１１０の温度を計測することが可能な温度測定器を備えてもよい。そのような温度測定器は、研磨工程中、研磨ベルト１１０のおもて面１１２のワークと接触しない箇所で、温度を計測することができる。
【0062】
研磨ベルト１１０のおもて面１１２には、樹脂製の結合材を用いて砥粒が接着される。そのような結合材の一部は、熱に弱い場合がある。また、砥粒自体も熱により劣化が生じる場合がある。
【0063】
研磨中の研磨ベルト１１０のおもて面１１２の温度を管理することにより、研磨ベルト１１０のおもて面１１２のそのような劣化を防止することができる。例えば、測定される温度が所定の温度を超えた場合、冷却剤の量を増やしたり、研磨ベルト１１０の回転速度を抑制したりして、研磨ベルト１１０のおもて面１１２の温度を低減してもよい。
【0064】
【0065】
ここで、「欠点」とは、ガラス基板の表面および内部に存在する異物および気泡を意味する。
【0066】
欠点除去システムは、ガラス基板の被研磨面の欠点を抑制するための最適な研磨量を把握するように機能する。
【0067】
具体的には、欠点除去システムは、図３に示すようなフローを実施するように構成される。
【0068】
図３には、欠点除去システムを用いて実施されるフローを概略的に示す。
【0069】
図３に示すように、欠点除去システムは、
（ｉ）欠点測定用ガラス基板の被研磨面に対し、研磨量を徐々に変えて研磨を実施し、被研磨面の深さ方向における欠点分布を把握するステップ（ステップＳ１１０）と、
（ｉｉ）前記欠点測定用ガラス基板の前記被研磨面において、最小の研磨量で最小の欠点数が得られる最適研磨量を把握するステップ（ステップＳ１２０）と、
を有する。
（ｉ）欠点測定用ガラス基板の被研磨面に対し、研磨量を徐々に変えて研磨を実施し、被研磨面の深さ方向における欠点分布を把握するステップ（ステップＳ１１０）と、
（ｉｉ）前記欠点測定用ガラス基板の前記被研磨面において、最小の研磨量で最小の欠点数が得られる最適研磨量を把握するステップ（ステップＳ１２０）と、
を有する。
【0070】
以下、各ステップについて、より詳しく説明する。
【0071】
（ステップＳ１１０）
まず、欠点測定用のガラス基板（以下、「参照ワーク」と称する）が準備される。参照ワークは、被研磨対象となるガラス基板と同様の組成、同様の寸法を有し、被研磨対象となるガラス基板と同じ製造ロットから選択されることが好ましい。
まず、欠点測定用のガラス基板（以下、「参照ワーク」と称する）が準備される。参照ワークは、被研磨対象となるガラス基板と同様の組成、同様の寸法を有し、被研磨対象となるガラス基板と同じ製造ロットから選択されることが好ましい。
【0072】
次に、第１の装置１００を用いて、所定の条件で、参照ワークの一方の被研磨面（以下、「第１の参照表面」と称する）が所定の量だけ研磨される（第１の研磨）。研磨後に、第１の参照表面上の欠点の数および分布等が記録される（第１の記録）。
【0073】
次に、第１の研磨と同じ条件で、参照ワークの第１の参照表面が所定の量だけ研磨される（第２の研磨）。研磨後に、第１の参照表面上の欠点の数および分布等が記録される（第２の記録）。
【0074】
このような操作を繰り返して、第１の参照表面の深さ方向における欠点分布を把握する。
【0075】
必要な場合、参照ワークの第１の参照表面とは反対の表面（以下、「第２の参照表面」と称する）に対しても同様の操作が実施されてもよい。
【0076】
（ステップＳ１２０）
次に、ステップＳ１１０で得られた結果から、第１の参照表面に露出する欠点数が最小となる研磨量（以下、「第１の最適研磨量」と称する）が把握される。
次に、ステップＳ１１０で得られた結果から、第１の参照表面に露出する欠点数が最小となる研磨量（以下、「第１の最適研磨量」と称する）が把握される。
【0077】
必要な場合、第２の参照表面に対しても、欠点数が最小となる研磨量、すなわち第２の最適研磨量が把握されてもよい。
【0078】
その後は、第１の装置１００により、ステップＳ１２０によって得られた第１の最適研磨量に基づいて、実際のガラス基板の被研磨面の研磨が実施される。
【0079】
また、必要な場合、被研磨面とは反対の側の表面に対して、第２の最適研磨量に基づいて、研磨が実施される。
【0080】
欠点除去システムを用いてこのような工程を実施することにより、欠点の少ない研磨面を有するガラス基板を製造することが可能となる。
【0081】
（本発明の別の実施形態による研磨装置）
次に、図４を参照して、本発明の別の実施形態について説明する。
次に、図４を参照して、本発明の別の実施形態について説明する。
【0082】
【0083】
図４に示すように、第２の装置２００は、前述の第１の装置１００と同様の構成を有する。従って、図４において、第１の装置１００と同様の部材には、図１および図２に示した参照符号に１００を加えた参照符号が付与されている。
【0084】
例えば、第２の装置２００は、研磨ベルト２１０、上定盤２３０、下定盤２４０、走行機構２５０、昇降機構２６０、荷重検出器２６５を有する。
【0085】
ただし、第２の装置２００では、研磨ベルト２１０の形態が第１の装置１００の場合とは異なっている。
【0086】
すなわち、第２の装置２００において、研磨ベルト２１０には、ループ形状の研磨ベルトではなく、ロール形態の研磨ベルトが使用される。
【0087】
具体的には、研磨ベルト２１０は、４つのローラー２２０、２２１、２２２、２２３により、巻き出し／巻き取り式に供給される。これらのローラーのうち、ローラー２２０およびローラー２２１は、研磨ベルト２１０を供給する側のローラーであり、ローラー２２２およびローラー２２３は、研磨ベルト２１０を巻き取る側のローラーであってもよい。ただし、研磨ベルト２１０が最終状態まで巻き取られた後は、ローラー２２０およびローラー２２１が研磨ベルト２１０を巻き取る側のローラーとなり、ローラー２２２およびローラー２２３が、研磨ベルト２１０を供給する側のローラーとなってもよい。
【0088】
第２の装置２００の作動の際には、ローラー２２０およびローラー２２１がそれぞれ、矢印ｆ１およびｆ２の方向に回転される。また、ローラー２２２およびローラー２２３がそれぞれ、矢印ｆ３およびｆ４の方向に回転される。これにより、研磨ベルト２１０を矢印Ｆ１の方向に移動させることができる。
【0089】
前述のように、研磨ベルト２１０は、おもて面２１２およびうら面２１４を有し、おもて面２１２には研磨用の砥粒が設置されている。従って、第２の装置２００においても、昇降機構２６０により上定盤２３０を下降させることによって、研磨ベルト２１０のおもて面２１２をワークの被研磨面に当接させ、該被研磨面を研磨することができる。
【0090】
また、第２の装置２００は、荷重検出器２６５を有する。このため、前述のように、ワークの研磨中、被研磨面に対する荷重が常時測定され、これに基づいて、荷重が適正な範囲に維持される。
【0091】
このような第２の装置２００においても、ワークに対して高速の研磨処理を実施し、高精度の研磨面を得ることができる。また、大型のワークに対しても、同様の研磨を実施することができる。
【0092】
（本発明のさらに別の実施形態による研磨装置）
次に、図５を参照して、本発明のさらに別の実施形態について説明する。
次に、図５を参照して、本発明のさらに別の実施形態について説明する。
【0093】
図５は、本発明のさらに別の実施形態による研磨装置（以下、「第３の装置」と称する）の構成を模式的に示した側面図である。なお、図５では、図面が不明瞭になることを避けるため、一部の構成部材は省略されている。
【0094】
図５に示すように、第３の装置３００は、前述の第１の装置１００と同様の構成を有する。従って、図５において、第１の装置１００と同様の部材には、図１および図２に示した参照符号に２００を加えた参照符号が付与されている。
【0095】
例えば、第３の装置３００は、研磨ベルト３１０、上定盤３３０、下定盤３４０、走行機構３５０、昇降機構３６０、荷重検出器３６５を有する。
【0096】
ただし、第３の装置３００では、昇降機構３６０および荷重検出器３６５の設置位置が第１の装置１００の場合とは異なっている。
【0097】
すなわち、第３の装置３００において、昇降機構３６０および荷重検出器３６５は、上定盤３３０ではなく、下定盤３４０の側に設置されている。
【0098】
第３の装置３００により、ワークの研磨を行う際には、昇降機構３６０により、下定盤３４０が上昇され、これにより、ワークの被研磨面が研磨ベルト３１０のおもて面３１２と当接される。
【0099】
このような構成の第３の装置３００においても、第１の装置１００と同様の動作により、ワークに対して高速の研磨処理を実施し、高精度の研磨面を得ることができる。また、大型のワークに対しても、同様の研磨を実施することができる。
【0100】
（本発明のさらに別の実施形態による研磨装置）
次に、図６を参照して、本発明のさらに別の実施形態について説明する。
次に、図６を参照して、本発明のさらに別の実施形態について説明する。
【0101】
図６は、本発明のさらに別の実施形態による研磨装置（以下、「第４の装置」と称する）の構成を模式的に示した側面図である。なお、図６では、図面が不明瞭になることを避けるため、一部の構成部材は省略されている。
【0102】
図６に示すように、第４の装置４００は、前述の第１の装置１００と同様の構成を有する。従って、図６において、第１の装置１００と同様の部材には、図１および図２に示した参照符号に３００を加えた参照符号が付与されている。
【0103】
例えば、第４の装置４００は、研磨ベルト４１０、上定盤４３０、下定盤４４０、走行機構４５０、昇降機構４６０、および荷重検出器４６５を有する。
【0104】
ただし、第４の装置４００では、研磨ベルト４１０および走行機構４５０の配置場所が第１の装置１００の場合とは異なっている。
【0105】
すなわち、第４の装置４００において、研磨ベルト４１０は、おもて面４１２が上定盤４３０の側となり、うら面４１４が下定盤４４０の側となるように、上定盤４３０および下定盤４４０に対して配置されている。
【0106】
また、これに伴い、走行機構４５０は、上定盤４３０に接続され、上定盤４３０を図６のＸ方向に移動するように機能する。
【0107】
このような構成の第４の装置４００においても、第１の装置１００と同様の動作により、ワークに対して高速の研磨処理を実施し、高精度の研磨面を得ることができる。また、大型のワークに対しても、同様の研磨を実施することができる。
【0108】
以上、第１の装置１００～第４の装置４００を例に、本発明の一実施形態による研磨装置の構成について説明した。
【0109】
しかしながら、本発明の一実施形態による研磨装置がこれらの構成に限られないことは、当業者には明らかである。
【0110】
例えば、前述の第３の装置３００または第４の装置４００において、ループ形状の研磨ベルトに代えて、図４に示したようなロールの形態の研磨ベルトが適用されてもよい。
【0111】
この他にも各種変更が可能であることは、当業者には容易に把握できる。
【0112】
（ガラス基板）
前述のような本発明の一実施形態による研磨装置を使用してガラス基板を研磨した場合、その他のプロセスを実施しなくても、各種特徴的な形態の研磨面を有するガラス基板を得ることができる。
前述のような本発明の一実施形態による研磨装置を使用してガラス基板を研磨した場合、その他のプロセスを実施しなくても、各種特徴的な形態の研磨面を有するガラス基板を得ることができる。
【0113】
【0114】
（ガラス基板の第１の態様）
図７には、本発明の一実施形態による研磨装置を用いて研磨されたガラス基板（以下、「第１のガラス基板」と称する）の斜視図を示す。
図７には、本発明の一実施形態による研磨装置を用いて研磨されたガラス基板（以下、「第１のガラス基板」と称する）の斜視図を示す。
【0115】
図７に示すように、第１のガラス基板１１００は、相互に対向する第１の表面１１１２および第２の表面１１１４を有する。第１の表面１１１２は、研磨面であり、図７には研磨後の形態が示されている。ただし、図７では、第１の表面１１１２の凹凸が誇張して示されている。一方、第２の表面１１１４は、研磨面であっても、非研磨面であってもよい。
【0116】
第１のガラス基板１１００の第１の表面１１１２は、略矩形状であり、上面視、相互に対向する第１の辺１１０２および第３の辺１１０６と、相互に対向する第２の辺１１０４および第４の辺１１０８と、を有する。
【0117】
第１の辺１１０２の寸法ｕは、例えば、５０ｍｍ～２２００ｍｍの範囲である。また、第１の辺１１０２と直行する第２の辺１１０４の寸法ｖは、例えば、５０ｍｍ～２２００ｍｍの範囲である。
【0118】
第１のガラス基板１１００の第１の表面１１１２の側には、中央凹部１１２０と、第１の凸部１１２５ａおよび第２の凸部１１２５ｂとが存在する。第１の凸部１１２５ａおよび第２の凸部１１２５ｂは、相互に平行に延在し、それぞれ、第２の辺１１０４および第４の辺１１０８の側に、中央凹部１１２０を挟むようにして配置される。
【0119】
第１の凸部１１２５ａおよび第２の凸部１１２５ｂにおける最も低い位置の高さレベルと、中央凹部１１２０の最も高い位置の高さレベルの差（以下、「段差ｄ」とも称する）は、例えば、５０μｍ以上である。段差は、６０μｍ以上、３００μｍ以下であってもよい。
【0120】
このような第１のガラス基板１１００は、本発明の一実施形態による研磨装置を使用して製造することができる。以下、図８を参照して、前述の第１の装置１００を用いた場合を例に、第１のガラス基板１１００の製造方法の一例について説明する。
【0121】
図８は、第１のガラス基板１１００を製造する際の研磨ベルト１１０とワークＰの相対的な配置関係を模式的に示した上面図である。
【0122】
第１のガラス基板１１００を製造する際には、まず、矩形状のワーク（ガラス基板）Ｐが準備される。
【0123】
図８に示すように、ワークＰは、被研磨面１５０２を有する。また、ワークＰの被研磨面１５０２は、略矩形状であり、第１の辺１５１２～第４の辺１５１８を有する。
【0124】
ワークＰは、第１の辺１５１２の長さが研磨ベルト１１０の幅Ｗよりも大きくなるように選定される。あるいは、ワークＰの第１の辺１５１２の長さよりも小さな幅Ｗを有する研磨ベルト１１０が選定され、該研磨ベルト１１０が第１の装置１００に挿着されてもよい。
【0125】
次に、図８に示すような位置関係となるように、ワークＰが配置される。すなわち、ワークＰは、第２の辺１５１４および第４の辺１５１８が研磨ベルト１１０の幅Ｗの方向に対して垂直となり、かつ上面視、第２の辺１５１４および第４の辺１５１８が研磨ベルト１１０から露出される（「はみ出す」）ように配置される。
【0126】
このような配置でワークＰを研磨することにより、ワークＰの被研磨面１５０２のうち、研磨ベルト１１０と当接された領域のみが研磨できる。図８の右側には、この工程において研磨されたワークＰの被研磨面１５０２内の研磨領域Ｋを示す。
【0127】
なお、別の実施形態では、研磨ベルト１１０がワークＰからはみ出さない範囲で、走行機構１５０を移動させながらワークＰを加工することにより、研磨ベルト１１０の幅Ｗの方向において、研磨領域Ｋをより広げることも可能である。
【0128】
このようにして、研磨領域Ｋに対応する中央凹部１１２０と、非研磨領域に対応する第１の凸部１１２５ａおよび第２の凸部１１２５ｂとを有する第１のガラス基板１１００を製造できる。
【0129】
なお、上記の方法では、第１のガラス基板１１００の第１の凸部１１２５ａおよび第２の凸部１１２５ｂは、全く研磨処理されないままの状態となる。
【0130】
そのような状態を避ける必要がある場合、第１の装置１００を用いて、研磨処理を２回実施してもよい。すなわち、１回目の研磨では、走行機構１５０を用いて下定盤１４０を移動させながら、ワークＰの被研磨面１５０２の全体が研磨される。次に、２回目の研磨の際に、前述のように、ワークＰの第２の辺１５１４および第４の辺１５１８が研磨ベルト１１０から露出されるようにして、ワークＰが研磨ベルト１１０に対して配置され、この状態でワークＰが研磨される。
【0131】
第１のガラス基板１１００は、このような方法により製造されるため、第１の表面１１１２の中央凹部１１２０に、第２の辺１１０４および第４の辺１１０８に沿った複数の平行な研磨痕を有するという特徴がある。
【0132】
（ガラス基板の第２の態様）
次に、図９には、本発明の一実施形態による研磨装置を用いて研磨された別のガラス基板（以下、「第２のガラス基板」と称する）の斜視図を示す。
次に、図９には、本発明の一実施形態による研磨装置を用いて研磨された別のガラス基板（以下、「第２のガラス基板」と称する）の斜視図を示す。
【0133】
図９に示すように、第２のガラス基板１２００は、相互に対向する第１の表面１２１２および第２の表面１２１４を有する。第１の表面１２１２は、研磨面であり、図９には研磨後の形態が示されている。ただし、図９では、第１の表面１２１２の凹凸が誇張して示されている。一方、第２の表面１２１４は、研磨面であっても、非研磨面であってもよい。
【0134】
第２のガラス基板１２００の第１の表面１２１２は、略矩形状であり、上面視、相互に対向する第１の辺１２０２および第３の辺１２０６と、相互に対向する第２の辺１２０４および第４の辺１２０８と、を有する。
【0135】
第２のガラス基板１２００の第１の表面１２１２側には、中央凹部１２２０と、４つのコーナー凸部１２２６とが存在する。各コーナー凸部１２２６は、上面視、第１の表面１２１２の４つのコーナー部に配置される。
【0136】
４つのコーナー凸部１１２６における最も低い位置の高さレベルと、中央凹部１２２０の最も高い位置の高さレベルの差（以下、「段差ｄ」とも称する）は、５０μｍ以上である。段差は、６０μｍ以上、３００μｍ以下であってもよい。
【0137】
このような第２のガラス基板１２００は、本発明の一実施形態による研磨装置を使用して、以下のように製造することができる。
【0138】
まず、前述の第１のガラス基板１１００と同様の方法により、ワークＰの被研磨面１５０２を研磨する。これにより、２つの平行に延在する凸部を有するワークが形成される（図７参照）。
【0139】
次に、１回目の研磨に対してワークＰを９０゜回転させた状態で、再度、ワークＰの被研磨面１５０２を研磨する。この２回目の研磨では、ワークＰは、上面視、第１の辺１５１２および第３の辺１５１６が研磨ベルト１１０の幅Ｗの方向に対して垂直となり、第１の辺１５１２および第３の辺１５１６が研磨ベルト１１０から露出されるように配置される。
【0140】
そのような配置でワークＰを研磨することにより、図９に示したような４つのコーナー凸部１２２６を有する第２のガラス基板１２００を製造できる。
【0141】
（ガラス基板の第３の態様）
次に、図１０には、本発明の一実施形態による研磨装置を用いて研磨されたさらに別のガラス基板（以下、「第３のガラス基板」と称する）の斜視図を示す。
次に、図１０には、本発明の一実施形態による研磨装置を用いて研磨されたさらに別のガラス基板（以下、「第３のガラス基板」と称する）の斜視図を示す。
【0142】
図１０に示すように、第３のガラス基板１３００は、相互に対向する第１の表面１３１２および第２の表面１３１４を有する。第１の表面１３１２は、研磨面であり、図１０には研磨後の形態が示されている。ただし、図１０では、第１の表面１３１２の凹凸が誇張して示されている。一方、第２の表面１３１４は、研磨面であっても、非研磨面であってもよい。
【0143】
第３のガラス基板１３００の第１の表面１３１２は、略矩形状であり、上面視、相互に対向する第１の辺１３０２および第３の辺１３０６と、相互に対向する第２の辺１３０４および第４の辺１３０８と、を有する。
【0144】
第３のガラス基板１３００の第１の表面１３１２の側には、第１の中央凹部１３２０ａおよび第２の中央凹部１３２０ｂと、第１の凸部１３２５ａ、第２の凸部１３２５ｂ、および第３の凸部１３２５ｃとが存在する。
【0145】
第１の凸部１３２５ａ～第３の凸部１３２５ｃは、相互に平行に延在する。第１の凸部１３２５ａおよび第２の凸部１３２５ｂは、それぞれ、第２の辺１３０４および第４の辺１３０８の側にそれぞれの辺と平行に延在するように配置される。一方、第３の凸部１３２５ｃは、第１の表面１３１２の略中央側に、第２の辺１３０４および第４の辺１３０８と平行に延在するように配置される。
【0146】
第１の凸部１３２５ａと第３の凸部１３２５ｃの間に、第１の中央凹部１３２０ａが区画され、第２の凸部１３２５ｂと第３の凸部１３２５ｃの間に、第２の中央凹部１３２０ｂが区画される。第１の中央凹部１３２０ａと第２の中央凹部１３２０ｂは、相互に平行に延在する。
【0147】
第１の中央凹部１３２０ａおよび第２の中央凹部１３２０ｂにおける最も高い位置の高さレベルと、第１の凸部１３２５ａ～第３の凸部１３２５ｃにおける最も低い位置の高さレベルの差（以下、「段差ｄ」とも称する）は、５０μｍ以上である。段差は、６０μｍ以上、３００μｍ以下であってもよい。
【0148】
このような第３のガラス基板１３００は、本発明の一実施形態による研磨装置を使用して製造することができる。以下、図１１～図１２を参照して、前述の第１の装置１００を用いた場合を例に、第３のガラス基板１３００の製造方法の一例について説明する。
【0149】
【0150】
第３のガラス基板１３００を製造する際には、まず、矩形状のワーク（ガラス基板）Ｐが準備される。
【0151】
図１１に示すように、ワークＰは、被研磨面１６０２を有する。また、ワークＰの被研磨面１６０２は、略矩形状であり、第１の辺１６１２～第４の辺１６１８を有する。
【0152】
ワークＰは、第１の辺１６１２の長さが研磨ベルト１１０の幅Ｗに対して十分大きくなるように選定される。あるいは、ワークＰの第１の辺１６１２の長さに対して十分に小さな幅Ｗを有する研磨ベルト１１０が選定され、該研磨ベルト１１０が第１の装置１００に挿着されてもよい。
【0153】
次に、図１１に示すような位置関係となるように、ワークＰが配置される。すなわち、ワークＰは、第２の辺１６１４および第４の辺１６１８が研磨ベルト１１０の幅Ｗの方向に対して垂直となり、かつ上面視、第２の辺１６１４および第４の辺１６１８が研磨ベルト１１０から露出される（「はみ出す」）ように配置される。
【0154】
また、ワークＰは、上面視、第４の辺１６１８の側の研磨ベルト１１０からの露出領域Ｒ２が、第２の辺１６１４の側の研磨ベルト１１０からの露出領域Ｒ１に比べて、十分に大きくなるようにして、研磨ベルト１１０に対して配置される。
【0155】
例えば、図１１に示した例では、ワークＰは、被研磨面１６０２において、露出領域Ｒ２が露出領域Ｒ１の約４倍となるようにして、研磨ベルト１１０に対して配置される。
【0156】
このような配置でワークＰを研磨することにより、ワークＰの被研磨面１６０２のうち、研磨ベルト１１０と当接された領域のみが研磨できる。図１１の右側には、この工程において研磨されたワークＰ内の研磨領域Ｋ１を示す。
【0157】
次に、走行機構１５０によりワークＰを移動させ、研磨ベルト１１０に対して、図１２に示すような関係となるように、ワークＰが配置される。すなわち、ワークＰは、上面視、第４の辺１６１８の側の研磨ベルト１１０からの露出領域Ｒ４が、第２の辺１６１４の側の研磨ベルト１１０からの露出領域Ｒ３に比べて、十分に小さくなるようにして、研磨ベルト１１０に対して配置される。
【0158】
例えば、図１２に示した例では、ワークＰは、被研磨面１６０２において、露出領域Ｒ４が露出領域Ｒ３の約１／４倍となるようにして、研磨ベルト１１０に対して配置される。
【0159】
このような配置でワークＰを研磨することにより、ワークＰの被研磨面１６０２のうち、研磨ベルト１１０と当接された領域のみが研磨できる。図１２の右側には、この工程において研磨されたワークＰ内の研磨領域Ｋ２を示す。
【0160】
このような２段階の研磨工程により、図１０に示したような、３つの凸部１３２５ａ～１３２５ｃにより仕切られた、研磨領域Ｋ１に対応する第１の中央凹部１３２０ａおよび研磨領域Ｋ２に対応する第２の中央凹部１３２０ｂを有する第３のガラス基板１３００を製造できる。
【0161】
第３のガラス基板１３００は、このような方法により製造されるため、第１の表面１３１２の第１の中央凹部１３２０ａおよび第２の中央凹部１３２０ｂに、第２の辺１３０４および第４の辺１３０８に沿った複数の平行な研磨痕を有する。
【0162】
ここで、複数のガラス基板を搬送する際、ガラス基板は、水平に積層されたり、傾斜状態で重ねて配置されることが一般的である。特に、近年は、廃棄物ロスの観点から、ガラス基板同士の間に、緩衝材を介在させずに、ガラス基板同士を直接積層することが好ましい。
【0163】
しかしながら、そのような状態でガラス基板を搬送した場合、ガラス基板同士が密着して、後にガラス基板同士を相互に分離させることが難しくなる場合がある。
【0164】
これに対して、前述の形態を有する第１のガラス基板１１００～第３のガラス基板１１３０は、第１の表面１１１２、１２１２、１３１２に凸部を有するため、積層した際のガラス基板同士の密着を有意に軽減することができる。従って、搬送後に各ガラス基板を容易に分離することができる。
【0165】
また、ガラス基板が正方形またはこれに近い形状の場合、しばしば、ガラス基板の向き（縦横方向）の判別が難しくなる場合がある。このような混乱を回避するため、一般に、ガラス基板には、方向が判別できるマーカが設置される。
【0166】
一方、第１のガラス基板１１００および第３のガラス基板１３００は、第１の表面１１１２、１３１２に、多数の平行に延在する研磨痕を有する。このため、第１のガラス基板１１００および第３のガラス基板１３００では、第１の表面１１１２、１３１２が正方形に近い形状であっても、ガラス基板の向きを容易に識別することができる。従って、マーカの設置を簡略化したり、マーカを削除したりすることが可能となる。
【0167】
【0168】
しかしながら、これらの形態は、単なる一例であって、本発明の一実施形態では、各種形態の研磨面を有するガラス基板を製造できる。
【0169】
例えば、図７～図１２に示したガラス基板１１００～１３００では、凸部の側壁は、ガラス基板の厚さ方向に対して略平行に延在する。しかしながら、凸部の側壁は、いかなるプロファイルを有してもよい。例えば、凸部の側壁は、ガラス基板の厚さ方向に対して傾斜した角度で延在してもよい。また、凸部の側壁は、直線状プロファイルに限られず、例えば、凹部に向かって徐々に高さが減少する曲線状のプロファイルを有してもよい。
【0170】
【0171】
この他にも、各種態様が想定される。
【0172】
（本発明の一態様）
本発明は、以下の態様を有する。
本発明は、以下の態様を有する。
【0173】
（態様１）
研磨装置であって、
おもて面およびうら面を有し、前記おもて面に砥粒が担持された研磨ベルトと、
回転により、前記研磨ベルトの前記おもて面を第１の水平方向に移動させることが可能な複数のローラーと、
前記ローラーを回転駆動させる駆動モーターと、
相互に対向して配置される第１の定盤および第２の定盤であって、
前記第１の定盤は、前記研磨ベルトのうら面側に配置され、
前記第２の定盤は、前記研磨ベルトのおもて面側に配置され、
前記第１の定盤と前記第２の定盤の間には、前記研磨ベルトの前記おもて面と対面するように被加工対象となるワークが保持される、第１の定盤および第２の定盤と、
前記第２の定盤を、前記第１の水平方向と直交する第２の水平方向に移動させることが可能な走行機構と、
前記第１の定盤または前記第２の定盤に機械的に接続され、接続された前記第１の定盤または前記第２の定盤を昇降させる昇降機構と、
前記昇降機構に設けられた荷重検出器と、
を有し、
前記荷重検出器は、前記ワークの研磨中、該ワークの被研磨面に対する荷重を把握し、該荷重を適正な範囲に維持する、研磨装置。
研磨装置であって、
おもて面およびうら面を有し、前記おもて面に砥粒が担持された研磨ベルトと、
回転により、前記研磨ベルトの前記おもて面を第１の水平方向に移動させることが可能な複数のローラーと、
前記ローラーを回転駆動させる駆動モーターと、
相互に対向して配置される第１の定盤および第２の定盤であって、
前記第１の定盤は、前記研磨ベルトのうら面側に配置され、
前記第２の定盤は、前記研磨ベルトのおもて面側に配置され、
前記第１の定盤と前記第２の定盤の間には、前記研磨ベルトの前記おもて面と対面するように被加工対象となるワークが保持される、第１の定盤および第２の定盤と、
前記第２の定盤を、前記第１の水平方向と直交する第２の水平方向に移動させることが可能な走行機構と、
前記第１の定盤または前記第２の定盤に機械的に接続され、接続された前記第１の定盤または前記第２の定盤を昇降させる昇降機構と、
前記昇降機構に設けられた荷重検出器と、
を有し、
前記荷重検出器は、前記ワークの研磨中、該ワークの被研磨面に対する荷重を把握し、該荷重を適正な範囲に維持する、研磨装置。
【0174】
（態様２）
前記ワークの研磨中、前記荷重検出器により把握された荷重に基づいて、
（ｉ）前記第１の定盤もしくは第２の定盤が昇降され、または
（ｉｉ）前記ワークの研磨時間、前記第１の定盤もしくは前記第２の定盤の圧力、および前記研磨ベルトの移動速度の少なくとも一つが調整され、
これにより、前記荷重が適正な範囲に維持される、態様１に記載の研磨装置。
前記ワークの研磨中、前記荷重検出器により把握された荷重に基づいて、
（ｉ）前記第１の定盤もしくは第２の定盤が昇降され、または
（ｉｉ）前記ワークの研磨時間、前記第１の定盤もしくは前記第２の定盤の圧力、および前記研磨ベルトの移動速度の少なくとも一つが調整され、
これにより、前記荷重が適正な範囲に維持される、態様１に記載の研磨装置。
【0175】
（態様３）
前記ワークの研磨完了時点での前記第１の定盤または前記第２の定盤のうち前記昇降機構に接続された方の高さレベル、前記ワークの加工時間、および前記研磨ベルトの移動速度の少なくとも一つを把握し、
次のバッチにおけるワークの研磨の際に、前記高さレベル、前記ワークの加工時間、および前記研磨ベルトの移動速度の少なくとも一つに基づいて加工条件が設定され、研磨が開始される、態様１または２に記載の研磨装置。
前記ワークの研磨完了時点での前記第１の定盤または前記第２の定盤のうち前記昇降機構に接続された方の高さレベル、前記ワークの加工時間、および前記研磨ベルトの移動速度の少なくとも一つを把握し、
次のバッチにおけるワークの研磨の際に、前記高さレベル、前記ワークの加工時間、および前記研磨ベルトの移動速度の少なくとも一つに基づいて加工条件が設定され、研磨が開始される、態様１または２に記載の研磨装置。
【0176】
（態様４）
前記研磨ベルトは、ループ状の研磨ベルトである、態様１乃至３のいずれか一つに記載の研磨装置。
前記研磨ベルトは、ループ状の研磨ベルトである、態様１乃至３のいずれか一つに記載の研磨装置。
【0177】
（態様５）
さらに、前記研磨ベルトの前記ワークと非接触の位置において、前記研磨ベルトの表面温度を測定することが可能な温度測定器を有する、態様１乃至４のいずれか一つに記載の研磨装置。
さらに、前記研磨ベルトの前記ワークと非接触の位置において、前記研磨ベルトの表面温度を測定することが可能な温度測定器を有する、態様１乃至４のいずれか一つに記載の研磨装置。
【0178】
（態様６）
さらに、前記研磨ベルトの弛みを低減する張力付与機構を有する、態様１乃至５のいずれか一つに記載の研磨装置。
さらに、前記研磨ベルトの弛みを低減する張力付与機構を有する、態様１乃至５のいずれか一つに記載の研磨装置。
【0179】
（態様７）
前記第１の定盤は、上定盤であり、前記第２の定盤は、下定盤である、態様１乃至６のいずれか一つに記載の研磨装置。
前記第１の定盤は、上定盤であり、前記第２の定盤は、下定盤である、態様１乃至６のいずれか一つに記載の研磨装置。
【0180】
（態様８）
前記下定盤は、前記第１の水平方向の寸法が１００ｍｍ～２３００ｍｍの範囲である、態様７に記載の研磨装置。
前記下定盤は、前記第１の水平方向の寸法が１００ｍｍ～２３００ｍｍの範囲である、態様７に記載の研磨装置。
【0181】
（態様９）
前記ワークは、ガラス基板であり、
当該研磨装置は、さらに、欠点除去システムを有し、該欠点除去システムは、
欠点測定用ガラス基板の被研磨面に対し、研磨量を変えて徐々に研磨を実施し、被研磨面の深さ方向における欠点分布を把握し、
前記欠点測定用ガラス基板の前記被研磨面において、最小の研磨量で最小の欠点数が得られる最適研磨量を把握する
ように操作され、
当該研磨装置は、前記最適研磨量に基づいて、実際のガラス基板の被研磨面を研磨する、態様１乃至８のいずれか一つに記載の研磨装置。
前記ワークは、ガラス基板であり、
当該研磨装置は、さらに、欠点除去システムを有し、該欠点除去システムは、
欠点測定用ガラス基板の被研磨面に対し、研磨量を変えて徐々に研磨を実施し、被研磨面の深さ方向における欠点分布を把握し、
前記欠点測定用ガラス基板の前記被研磨面において、最小の研磨量で最小の欠点数が得られる最適研磨量を把握する
ように操作され、
当該研磨装置は、前記最適研磨量に基づいて、実際のガラス基板の被研磨面を研磨する、態様１乃至８のいずれか一つに記載の研磨装置。
【0182】
（態様１０）
相互に対向する第１の表面および第２の表面を有し、
前記第１の表面には、少なくとも一つの凸部と、少なくとも一つの凹部が存在し、
前記凸部における最も低い位置の高さレベルと、前記凹部における最も高い位置の高さレベルの差は、５０μｍ以上である、ガラス基板。
相互に対向する第１の表面および第２の表面を有し、
前記第１の表面には、少なくとも一つの凸部と、少なくとも一つの凹部が存在し、
前記凸部における最も低い位置の高さレベルと、前記凹部における最も高い位置の高さレベルの差は、５０μｍ以上である、ガラス基板。
【0183】
（態様１１）
前記第１の表面の各凹部には、一つの方向に沿って相互に平行に延在する複数の研磨痕が存在する、態様１０に記載のガラス基板。
前記第１の表面の各凹部には、一つの方向に沿って相互に平行に延在する複数の研磨痕が存在する、態様１０に記載のガラス基板。
【符号の説明】
【0184】
１００ 第１の装置
１１０ 研磨ベルト
１１２ おもて面
１１４ うら面
１２０、１２１ ローラー
１２５ 駆動モーター
１３０ 上定盤
１４０ 下定盤
１５０ 走行機構
１６０ 昇降機構
１６５ 荷重検出器
２００ 第２の装置
２１０ 研磨ベルト
２１２ おもて面
２１４ うら面
２２０～２２３ ローラー
２３０ 上定盤
２４０ 下定盤
２５０ 走行機構
２６０ 昇降機構
２６５ 荷重検出器
３００ 第３の装置
３１０ 研磨ベルト
３１２ おもて面
３１４ うら面
３２０、３２１ ローラー
３３０ 上定盤
３４０ 下定盤
３５０ 走行機構
３６０ 昇降機構
３６５ 荷重検出器
４００ 第４の装置
４１０ 研磨ベルト
４１２ おもて面
４１４ うら面
４２０、４２１ ローラー
４３０ 上定盤
４４０ 下定盤
４５０ 走行機構
４６０ 昇降機構
４６５ 荷重検出器
１１００ 第１のガラス基板
１１０２ 第１の辺
１１０４ 第２の辺
１１０６ 第３の辺
１１０８ 第４の辺
１１１２ 第１の表面
１１１４ 第２の表面
１１２０ 中央凹部
１１２５ａ 第１の凸部
１１２５ｂ 第２の凸部
１２００ 第２のガラス基板
１２０２ 第１の辺
１２０４ 第２の辺
１２０６ 第３の辺
１２０８ 第４の辺
１２１２ 第１の表面
１２１４ 第２の表面
１２２０ 中央凹部
１２２６ コーナー凸部
１３００ 第３のガラス基板
１３０２ 第１の辺
１３０４ 第２の辺
１３０６ 第３の辺
１３０８ 第４の辺
１３１２ 第１の表面
１３１４ 第２の表面
１３２０ａ 第１の中央凹部
１３２０ｂ 第２の中央凹部
１３２５ａ 第１の凸部
１３２５ｂ 第２の凸部
１３２５ｃ 第３の凸部
１５０２ 被研磨面
１５１２ 被研磨面の第１の辺
１５１４ 被研磨面の第２の辺
１５１６ 被研磨面の第３の辺
１５１８ 被研磨面の第４の辺
１６０２ 被研磨面
１６１２ 被研磨面の第１の辺
１６１４ 被研磨面の第２の辺
１６１６ 被研磨面の第３の辺
１６１８ 被研磨面の第４の辺
Ｋ、Ｋ１、Ｋ２ 研磨領域
Ｐ ワーク
Ｒ１～Ｒ４ 露出領域
１１０ 研磨ベルト
１１２ おもて面
１１４ うら面
１２０、１２１ ローラー
１２５ 駆動モーター
１３０ 上定盤
１４０ 下定盤
１５０ 走行機構
１６０ 昇降機構
１６５ 荷重検出器
２００ 第２の装置
２１０ 研磨ベルト
２１２ おもて面
２１４ うら面
２２０～２２３ ローラー
２３０ 上定盤
２４０ 下定盤
２５０ 走行機構
２６０ 昇降機構
２６５ 荷重検出器
３００ 第３の装置
３１０ 研磨ベルト
３１２ おもて面
３１４ うら面
３２０、３２１ ローラー
３３０ 上定盤
３４０ 下定盤
３５０ 走行機構
３６０ 昇降機構
３６５ 荷重検出器
４００ 第４の装置
４１０ 研磨ベルト
４１２ おもて面
４１４ うら面
４２０、４２１ ローラー
４３０ 上定盤
４４０ 下定盤
４５０ 走行機構
４６０ 昇降機構
４６５ 荷重検出器
１１００ 第１のガラス基板
１１０２ 第１の辺
１１０４ 第２の辺
１１０６ 第３の辺
１１０８ 第４の辺
１１１２ 第１の表面
１１１４ 第２の表面
１１２０ 中央凹部
１１２５ａ 第１の凸部
１１２５ｂ 第２の凸部
１２００ 第２のガラス基板
１２０２ 第１の辺
１２０４ 第２の辺
１２０６ 第３の辺
１２０８ 第４の辺
１２１２ 第１の表面
１２１４ 第２の表面
１２２０ 中央凹部
１２２６ コーナー凸部
１３００ 第３のガラス基板
１３０２ 第１の辺
１３０４ 第２の辺
１３０６ 第３の辺
１３０８ 第４の辺
１３１２ 第１の表面
１３１４ 第２の表面
１３２０ａ 第１の中央凹部
１３２０ｂ 第２の中央凹部
１３２５ａ 第１の凸部
１３２５ｂ 第２の凸部
１３２５ｃ 第３の凸部
１５０２ 被研磨面
１５１２ 被研磨面の第１の辺
１５１４ 被研磨面の第２の辺
１５１６ 被研磨面の第３の辺
１５１８ 被研磨面の第４の辺
１６０２ 被研磨面
１６１２ 被研磨面の第１の辺
１６１４ 被研磨面の第２の辺
１６１６ 被研磨面の第３の辺
１６１８ 被研磨面の第４の辺
Ｋ、Ｋ１、Ｋ２ 研磨領域
Ｐ ワーク
Ｒ１～Ｒ４ 露出領域
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】