特開 2024-113550 真空ポンプ

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2024113550

(43)【公開日】2024-08-22

(54)【発明の名称】真空ポンプ

(51)【国際特許分類】

   F04C 18/08 20060101AFI20240815BHJP

   F04C 25/02 20060101ALI20240815BHJP

【ＦＩ】

F04C18/08

F04C25/02 K

【審査請求】未請求

【請求項の数】6

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2023018621

(22)【出願日】2023-02-09

(71)【出願人】

【識別番号】000000239

【氏名又は名称】株式会社荏原製作所

(74)【代理人】

【識別番号】100118500

【弁理士】

【氏名又は名称】廣澤 哲也

(74)【代理人】

【氏名又は名称】渡邉 勇

(74)【代理人】

【識別番号】100174089

【弁理士】

【氏名又は名称】郷戸 学

(74)【代理人】

【識別番号】100186749

【弁理士】

【氏名又は名称】金沢 充博

(72)【発明者】

【氏名】杉浦 哲郎

(72)【発明者】

【氏名】長山 真己

(72)【発明者】

【氏名】カマタカラ アナガ

(72)【発明者】

【氏名】堀部 悠河

【テーマコード（参考）】

3H129

【Ｆターム（参考）】

3H129AA06

3H129AB06

3H129AB12

3H129BB47

3H129CC01

3H129CC16

(57)【要約】

【課題】粉体がルーツロータ間に挟まれにくく、ルーツロータのスムーズな回転を維持することができる真空ポンプを提供する。
【解決手段】第１ルーツロータ８Ｃおよび第２ルーツロータ９Ｃのそれぞれは、インボリュート曲線からなる形状を有するインボリュート側面３１と、インボリュート側面３１の外側端部に接続された円弧凸面３４と、インボリュート側面３１の内側端部に接続された円弧凹面３６を有しており、円弧凸面３４の曲率半径は、円弧凹面３６の曲率半径よりも大きい。
【選択図】図３

【特許請求の範囲】

【請求項1】

少なくとも１つのロータ室を内部に有するポンプケーシングと、
前記ロータ室内に並列に配置された第１ルーツロータおよび第２ルーツロータを備え、
前記第１ルーツロータおよび前記第２ルーツロータのそれぞれは、インボリュート曲線からなる形状を有するインボリュート側面と、前記インボリュート側面の外側端部に接続された円弧凸面と、前記インボリュート側面の内側端部に接続された円弧凹面を有しており、
前記円弧凸面の曲率半径は、前記円弧凹面の曲率半径よりも大きい、真空ポンプ。

【請求項2】

前記第１ルーツロータおよび前記第２ルーツロータが回転しているときの前記第１ルーツロータの前記インボリュート側面と、前記第２ルーツロータの前記インボリュート側面との隙間は、一定である、請求項１に記載の真空ポンプ。

【請求項3】

前記第１ルーツロータの前記円弧凸面と、前記第２ルーツロータの前記円弧凹面との隙間は、前記第１ルーツロータの前記インボリュート側面と、前記第２ルーツロータの前記インボリュート側面との前記隙間よりも大きい、請求項２に記載の真空ポンプ。

【請求項4】

前記第１ルーツロータの前記円弧凸面上の最外点と、前記第２ルーツロータの前記円弧凹面上の最内点が最も近づいたときの前記最外点と前記最内点との隙間は、前記第１ルーツロータの前記インボリュート側面と前記第２ルーツロータの前記インボリュート側面との隙間の１．５～２０倍である、請求項３に記載の真空ポンプ。

【請求項5】

前記第１ルーツロータの前記円弧凸面と、前記第２ルーツロータの前記円弧凹面とが対向したときに、前記第１ルーツロータの前記円弧凸面と、前記第２ルーツロータの前記円弧凹面との間には三日月形状の空間が形成される、請求項１に記載の真空ポンプ。

【請求項6】

前記第１ルーツロータおよび前記第２ルーツロータが回転しているとき、前記第１ルーツロータの前記インボリュート側面は、前記第２ルーツロータの前記インボリュート側面のみに対向し、前記第１ルーツロータの前記円弧凸面は、前記第２ルーツロータの前記円弧凹面のみに対向し、前記第２ルーツロータの前記円弧凸面は、前記第１ルーツロータの前記円弧凹面のみに対向する、請求項１に記載の真空ポンプ。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、真空ポンプに関し、特に半導体デバイス、液晶パネル、ＬＥＤ、太陽電池等の製造に使用されるプロセスガスを排気する用途に好適に使用される真空ポンプに関する。

【背景技術】

【0002】

半導体デバイス、液晶パネル、ＬＥＤ、太陽電池等を製造する製造プロセスにおいては、プロセスガスをプロセスチャンバ内に導入してエッチング処理やＣＶＤ処理等の各種処理を行っている。プロセスチャンバに導入されたプロセスガスは、真空ポンプによって排気される。一般に、高い清浄度が必要とされるこれらの製造プロセスに使用される真空ポンプは、気体の流路内にオイルを使用しない、いわゆるドライ真空ポンプである。このようなドライ真空ポンプの代表例として、ロータ室内に配置された一対のルーツロータを互いに反対方向に回転させて、気体を移送する容積式真空ポンプがある。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【特許文献1】特開平１－０７７７８２号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

プロセスガスは、副生成物からなる粉体を含むことがある。このような粉体は、プロセスガスとともに真空ポンプ内に流入する。また、真空ポンプ内の状態（例えば、温度、圧力）によっては、プロセスガスが真空ポンプに流入した後に真空ポンプ内で粉体が生成されることもある。粉体の大部分は、プロセスガスとともに真空ポンプから排出されるが、粉体の一部はロータ室内に留まり、ロータ室内に徐々に堆積する。特に、対向する２つのルーツロータの凸面と凹面が面接触（実際には非接触）の状態のときに、粉体の逃げ場がないために、粉体はこれらルーツロータの凸面と凹面との間に強く挟まれて、ルーツロータの回転が阻害されてしまうことがある。

【0005】

そこで、本発明は、粉体がルーツロータ間に挟まれにくく、ルーツロータのスムーズな回転を維持することができる真空ポンプを提供する。

【課題を解決するための手段】

【0006】

一態様では、少なくとも１つのロータ室を内部に有するポンプケーシングと、前記ロータ室内に並列に配置された第１ルーツロータおよび第２ルーツロータを備え、前記第１ルーツロータおよび前記第２ルーツロータのそれぞれは、インボリュート曲線からなる形状を有するインボリュート側面と、前記インボリュート側面の外側端部に接続された円弧凸面と、前記インボリュート側面の内側端部に接続された円弧凹面を有しており、前記円弧凸面の曲率半径は、前記円弧凹面の曲率半径よりも大きい、真空ポンプが提供される。

【0007】

一態様では、前記第１ルーツロータおよび前記第２ルーツロータが回転しているときの前記第１ルーツロータの前記インボリュート側面と、前記第２ルーツロータの前記インボリュート側面との隙間は、一定である。
一態様では、前記第１ルーツロータの前記円弧凸面と、前記第２ルーツロータの前記円弧凹面との隙間は、前記第１ルーツロータの前記インボリュート側面と、前記第２ルーツロータの前記インボリュート側面との前記隙間よりも大きい。
一態様では、前記第１ルーツロータの前記円弧凸面上の最外点と、前記第２ルーツロータの前記円弧凹面上の最内点が最も近づいたときの前記最外点と前記最内点との隙間は、前記第１ルーツロータの前記インボリュート側面と前記第２ルーツロータの前記インボリュート側面との隙間の１．５～２０倍である。
一態様では、前記第１ルーツロータの前記円弧凸面と、前記第２ルーツロータの前記円弧凹面とが対向したときに、前記第１ルーツロータの前記円弧凸面と、前記第２ルーツロータの前記円弧凹面との間には三日月形状の空間が形成される。
一態様では、前記第１ルーツロータおよび前記第２ルーツロータが回転しているとき、前記第１ルーツロータの前記インボリュート側面は、前記第２ルーツロータの前記インボリュート側面のみに対向し、前記第１ルーツロータの前記円弧凸面は、前記第２ルーツロータの前記円弧凹面のみに対向し、前記第２ルーツロータの前記円弧凸面は、前記第１ルーツロータの前記円弧凹面のみに対向する。

【発明の効果】

【0008】

第１ルーツロータと第２ルーツロータのインボリュート側面同士は互いに対向し、円弧凸面および円弧凹面には対向しない。インボリュート側面間の隙間の両側で空間が広がっているので、インボリュート側面は粉体を噛み込まない。同様に、第１ルーツロータと第２ルーツロータの円弧凸面と円弧凹面が対向したとき、円弧凸面とインボリュート側面との接続点、および円弧凹面とインボリュート側面との接続点の両側で空間が広がっているので、第１ルーツロータと第２ルーツロータは粉体を噛み込まない。

【0009】

第１ルーツロータの円弧凸面と第２ルーツロータの円弧凹面との間には三日月状の大きな空間が形成される。したがって、粉体は、第１ルーツロータの円弧凸面と第２ルーツロータの円弧凹面との間に挟まれにくい。三日月状の空間内に閉じ込められた粉体は、これらルーツロータの回転に伴って三日月状の空間から排出される。結果として、ルーツロータは、スムーズな回転を維持することができる。

【図面の簡単な説明】

【0010】

【図1】真空ポンプ装置の一実施形態を示す断面図である。

【図2】図１のＡ－Ａ線断面図である。

【図3】ルーツロータの拡大図である。

【図4】ルーツロータ間の隙間を説明する拡大図である。

【図5】２つのルーツロータが反対方向に回転している様子を示す図である。

【図6】二葉ルーツロータの一実施形態を示す図である。

【発明を実施するための形態】

【0011】

以下、本発明の実施形態について図面を参照して説明する。図１は、真空ポンプ装置の一実施形態を示す断面図であり、図２は図１のＡ－Ａ線断面図である。以下に説明する実施形態の真空ポンプ装置は、容積式真空ポンプ装置である。特に、図１および図２に示す真空ポンプ装置は、気体の流路内にオイルを使用しない、いわゆるドライ真空ポンプ装置である。ドライ真空ポンプ装置は、気化したオイルが上流側に流れることがないので、高い清浄度が必要とされる半導体デバイスの製造装置に好適に使用することができる。

【0012】

図１に示すように、真空ポンプ装置は、真空ポンプ１と、この真空ポンプ１を駆動する電動機２を備えている。本実施形態の真空ポンプ１は、多段真空ポンプである。すなわち、真空ポンプ１は、複数のロータ室５Ａ～５Ｅを内部に有するポンプケーシング６と、ロータ室５Ａ～５Ｅ内にそれぞれ配置された複数段のルーツロータ８Ａ～８Ｅ、９Ａ～９Ｅと、複数段のルーツロータ８Ａ～８Ｅ、９Ａ～９Ｅを支持する一対の回転軸１１，１２を備えている。一実施形態では、真空ポンプ１は、１つのロータ室内に配置された単段のルーツロータを有する単段の真空ポンプであってもよい。

【0013】

図１ではルーツロータ８Ａ～８Ｅおよび回転軸１１のみが示されているが、ルーツロータ８Ａ～８Ｅと、ルーツロータ９Ａ～９Ｅは、ポンプケーシング６内に並列に配置されており、回転軸１１と回転軸１２は並列に配置されている。図２は、互いに並列に配置されているルーツロータ８Ｃとルーツロータ９Ｃを示している。図示しないが、ルーツロータ８Ａ，８Ｂ，８Ｄ，８Ｅと、ルーツロータ９Ａ，９Ｂ，９Ｄ，９Ｅも、ポンプケーシング６内で互いに並列に配置されている。ルーツロータ８Ａ～８Ｅは回転軸１１に支持され、ルーツロータ９Ａ～９Ｅは回転軸１２に支持されている。

【0014】

ルーツロータ８Ａ～８Ｅとルーツロータ９Ａ～９Ｅは互いに非接触であり、かつルーツロータ８Ａ～８Ｅ，９Ａ～９Ｅは、ポンプケーシング６の内面と非接触である。したがって、ルーツロータ８Ａ～８Ｅ，９Ａ～９Ｅは、潤滑油の使用なしで、ポンプケーシング６内でスムーズに回転することができる。

【0015】

ルーツロータ８Ａ～８Ｅと回転軸１１は、一体構造物であってもよい。同様に、ルーツロータ９Ａ～９Ｅと回転軸１２は、一体構造物であってもよい。電動機２は回転軸１１，１２のうちの一方に連結されている。一実施形態では、一対の電動機２が、回転軸１１，１２にそれぞれ連結されていてもよい。

【0016】

図１に示すように、ルーツロータ８Ａ～８Ｅ，９Ａ～９Ｅおよびロータ室５Ａ～５Ｅは、気体の移送方向に沿って配列されている。すなわち、ルーツロータ８Ａ，９Ａおよびロータ室５Ａは、ポンプケーシング６内の気体の移送方向において最も上流側に位置している。ルーツロータ８Ｂ，９Ｂおよびロータ室５Ｂは、ルーツロータ８Ａ，９Ａおよびロータ室５Ａの下流側に位置し、ルーツロータ８Ｃ，９Ｃおよびロータ室５Ｃは、ルーツロータ８Ｂ，９Ｂおよびロータ室５Ｂの下流側に位置し、ルーツロータ８Ｄ，９Ｄおよびロータ室５Ｄは、ルーツロータ８Ｃ，９Ｃおよびロータ室５Ｃの下流側に位置し、ルーツロータ８Ｅ，９Ｅおよびロータ室５Ｅは、ルーツロータ８Ｄ，９Ｄおよびロータ室５Ｄの下流側に位置している。ルーツロータ８Ｅ，９Ｅおよびロータ室５Ｅは、ポンプケーシング６内の気体の移送方向において最も下流側に位置している。

【0017】

ポンプケーシング６は、ロータ室５Ａに連通する気体入口１４Ａおよび気体出口１５Ａと、ロータ室５Ｂに連通する気体入口１４Ｂおよび気体出口１５Ｂと、ロータ室５Ｃに連通する気体入口１４Ｃおよび気体出口１５Ｃと、ロータ室５Ｄに連通する気体入口１４Ｄおよび気体出口１５Ｄと、ロータ室５Ｅに連通する気体入口１４Ｅおよび気体出口１５Ｅを有している。

【0018】

気体入口１４Ａは、移送すべき気体で満たされたチャンバ（図示せず）に連結される。一例では、気体入口１４Ａは、半導体デバイスの製造装置のプロセスチャンバに連結され、真空ポンプ１は、プロセスチャンバに導入されたプロセスガスを排気する用途に使用される。気体出口１５Ａは、図示しない流路を介して気体入口１４Ｂに連通し、気体出口１５Ｂは、図示しない流路を介して気体入口１４Ｃに連通し、気体出口１５Ｃは、図示しない流路を介して気体入口１４Ｄに連通し、気体出口１５Ｄは、図示しない流路を介して気体入口１４Ｅに連通している。

【0019】

真空ポンプ１は、ポンプケーシング６の側壁６Ａの外側に位置するギヤハウジング１６をさらに備えている。ギヤハウジング１６の内部には、互いに噛み合う一対のギヤ２０が配置されている。なお、図１では１つのギヤ２０のみが描かれている。これらギヤ２０は、回転軸１１，１２にそれぞれ固定されている。電動機２は、図示しないモータドライバによって回転し、電動機２が連結された回転軸１１，１２のうちの一方は、ギヤ２０を介して、電動機２が連結されていない回転軸１１，１２のうちの他方を反対方向に回転させる。

【0020】

回転軸１１，１２は、ポンプケーシング６の側壁６Ａに保持された軸受１７と、ポンプケーシング６の他方の側壁６Ｂに保持された軸受１８により回転可能に支持されている。電動機２は、ポンプケーシング６の側壁６Ｂの外側に位置するモータハウジング２２と、モータハウジング２２内に配置されたモータロータ２Ａおよびモータステータ２Ｂを有している。

【0021】

一実施形態では、回転軸１１，１２にそれぞれ連結された一対の電動機２が設けられてもよい。一対の電動機２は、図示しないモータドライバによって同期して反対方向に回転し、図２に示すように、回転軸１１，１２およびルーツロータ８Ａ～８Ｅ，９Ａ～９Ｅを同期して反対方向に回転させる。この場合のギヤ２０の役割としては、突発的な外的要因によるルーツロータ８の同期回転の脱調を防ぐことにある。

【0022】

電動機２がルーツロータ８Ａ～８Ｅ，９Ａ～９Ｅを回転させると、気体は、気体入口１４Ａを通ってロータ室５Ａに吸い込まれる。気体は、ロータ室５Ａ～５Ｅ内のルーツロータ８Ａ～８Ｅ，９Ａ～９Ｅによって順次圧縮され、気体出口１５Ｅを通ってポンプケーシング６から排出される。

【0023】

本実施形態では、ルーツロータ８Ａ～８Ｅ，９Ａ～９Ｅは、同じ外形を有している。一実施形態では、異なる段のルーツロータの外形は異なることもある。以下、ルーツロータ８Ｃについて説明する。図３は、ルーツロータ８Ｃの拡大図である。図３に示すように、ルーツロータ８Ｃは、インボリュート曲線からなる形状を有するインボリュート側面３１と、インボリュート側面３１の外側端部に接続された円弧凸面３４と、インボリュート側面３１の内側端部に接続された円弧凹面３６を有している。ルーツロータ８Ｃは、３つの突出部を有する、いわゆる三葉ルーツロータである。したがって、ルーツロータ８Ｃは、３つの円弧凸面３４と、６つのインボリュート側面３１と、３つの円弧凹面３６を有している。３つの円弧凸面３４は、６つのインボリュート側面３１の外側端部に接続され、３つの円弧凹面３６は、６つのインボリュート側面３１の内側端部に接続されている。ルーツロータ８Ｃに対向するルーツロータ９Ｃは、ルーツロータ８Ｃと同じ形状を有している。

【0024】

円弧凸面３４の曲率半径Ｒ１は、円弧凹面３６の曲率半径Ｒ２よりも大きい。したがって、図４に示すように、ルーツロータ８Ｃの円弧凸面３４が、ルーツロータ９Ｃの円弧凹面３６に対向するとき、ルーツロータ８Ｃの円弧凸面３４とルーツロータ９Ｃの円弧凹面３６との間には、三日月状の空間４０が形成される。

【0025】

ルーツロータ８Ｃ，９Ｃの円弧凸面３４と円弧凹面３６が対向したとき、円弧凸面３４とインボリュート側面３１との接続点、および円弧凹面３６とインボリュート側面３１との接続点の両側で空間が広がっているので、ルーツロータ８Ｃおよびルーツロータ９Ｃは粉体を噛み込まない。インボリュート側面３１の隣に形成されている三日月状の空間４０は、粉体の一時的な逃げ場として機能する。すなわち、ルーツロータ８Ｃ，９Ｃの回転に伴い、粉体は一時的に三日月状の空間４０内に移動し、ルーツロータ８Ｃ，９Ｃがさらに回転するにつれて三日月状の空間４０から排出される。

【0026】

インボリュート側面３１同士が対向する位相から、円弧凸面３４と円弧凹面３６とが対向する位相に移行するとき、図４に示すように、三日月状の空間４０の両側に２つの隙間Ｇ２が存在する。その後、ルーツロータ８Ｃ，９Ｃが回転するにつれて１つの隙間Ｇ２のみが存在する。このようなルーツロータ８Ｃ，９Ｃの動きにより、粉体を容易に排出することができる。

【0027】

図４において、ルーツロータ８Ｃおよびルーツロータ９Ｃが回転しているとき、ルーツロータ８Ｃの円弧凸面３４とルーツロータ９Ｃの円弧凹面３６との隙間Ｇ１は、ルーツロータ８Ｃのインボリュート側面３１とルーツロータ９Ｃのインボリュート側面３１との隙間Ｇ２よりも常に大きい。特に、ルーツロータ８Ｃの円弧凸面３４上の最外点Ｐ１と、ルーツロータ９Ｃの円弧凹面３６上の最内点Ｐ２が最も近づいたときの最外点Ｐ１と最内点Ｐ２との隙間（距離）Ｇ１minは、ルーツロータ８Ｃのインボリュート側面３１とルーツロータ９Ｃのインボリュート側面３１との隙間Ｇ２の１．５～２０倍である。隙間Ｇ１minが小さすぎると、ルーツロータ８Ｃ，９Ｃの間に粉体が強く挟まれる可能性があり、その一方で隙間Ｇ１minが大きすぎると、排気効率が低下する。

【0028】

図５は、２つのルーツロータ８Ｃ，９Ｃが反対方向に回転している様子を示す図である。図５に示すように、ルーツロータ８Ｃおよびルーツロータ９Ｃが回転している間、ルーツロータ８Ｃのインボリュート側面３１とルーツロータ９Ｃのインボリュート側面３１との隙間Ｇ２は、常に一定である。言い換えれば、隙間Ｇ２は、ルーツロータ８Ｃ，９Ｃの回転角度に拘わらず、一定である。

【0029】

ルーツロータ８Ｃおよびルーツロータ９Ｃのインボリュート側面３１同士は互いに対向し、円弧凸面３４および円弧凹面３６には対向しない。一方、ルーツロータ８Ｃの円弧凸面３４は、ルーツロータ９Ｃの円弧凹面３６に対向し、ルーツロータ９Ｃのインボリュート側面３１には対向しない。同様に、ルーツロータ９Ｃの円弧凸面３４は、ルーツロータ８Ｃの円弧凹面３６に対向し、ルーツロータ８Ｃのインボリュート側面３１には対向しない。

【0030】

インボリュート側面３１は、外側に湾曲する面である。したがって、インボリュート側面３１同士が互いに対向しているとき、図５に示すように、ルーツロータ８Ｃのインボリュート側面３１上の一点とルーツロータ９Ｃのインボリュート側面３１上の一点の間に隙間Ｇ２が形成され、隙間Ｇ２の両側では隙間は広がっている。このようなインボリュート側面３１の点接触（実際には非接触）により、ルーツロータ８Ｃのインボリュート側面３１とルーツロータ９Ｃのインボリュート側面３１の間には、粉体は挟まりにくい。

【0031】

図４に示すルーツロータ８Ｃの円弧凸面３４とルーツロータ９Ｃの円弧凹面３６との隙間Ｇ１は、ルーツロータ８Ｃ，９Ｃの回転角度に依存して変化する。図４と図５との対比から分かるように、ルーツロータ８Ｃ，９Ｃの回転角度に拘わらず、隙間Ｇ１は隙間Ｇ２よりも常に大きい。

【0032】

このような構成により、粉体は、ルーツロータ８Ｃの円弧凸面３４とルーツロータ９Ｃの円弧凹面３６との間に挟まれにくい。ルーツロータ８Ｃの円弧凸面３４とルーツロータ９Ｃの円弧凹面３６との間の三日月状の空間４０内に閉じ込められた粉体は、ルーツロータ８Ｃ，９Ｃの回転に伴って三日月状の空間４０から排出される。結果として、ルーツロータ８Ｃ，９Ｃは、スムーズな回転を維持することができる。

【0033】

上述した実施形態のルーツロータ８Ａ～８Ｅ，９Ａ～９Ｅは、３つの突出部を有する三葉ルーツロータであるが、本発明は上記実施形態には限定されず、２つの突出部を有する二葉ルーツロータ、または４つ以上の突出部を有する多葉ルーツロータにも適用することができる。

【0034】

例えば、図６は、二葉ルーツロータの一実施形態を示す図である。この実施形態でも、ルーツロータ５１，５２のそれぞれは、インボリュート曲線からなる形状を有するインボリュート側面３１と、インボリュート側面３１の外側端部に接続された円弧凸面３４と、インボリュート側面３１の内側端部に接続された円弧凹面３６を有しており、円弧凸面３４の曲率半径Ｒ３は、円弧凹面３６の曲率半径Ｒ４よりも大きい。特に説明しない二葉ルーツロータ５１，５２の本実施形態の構成は、図１乃至図５を参照して説明した上記実施形態と同じであるので、その重複する説明を省略する。

【0035】

上述した実施形態は、本発明が属する技術分野における通常の知識を有する者が本発明を実施できることを目的として記載されたものである。上記実施形態の種々の変形例は、当業者であれば当然になしうることであり、本発明の技術的思想は他の実施形態にも適用しうる。したがって、本発明は、記載された実施形態に限定されることはなく、特許請求の範囲によって定義される技術的思想に従った最も広い範囲に解釈されるものである。

【符号の説明】

【0036】

１ 真空ポンプ
２ 電動機
２Ａ モータロータ
２Ｂ モータステータ
５Ａ～５Ｅ ロータ室
６ ポンプケーシング
８，９ ルーツロータ
１１，１２ 回転軸
１４Ａ，１４Ｂ，１４Ｃ，１４Ｄ，１４Ｅ 気体入口
１５Ａ，１５Ｂ，１５Ｃ，１５Ｄ，１５Ｅ 気体出口
１６ ギヤハウジング
１７ 軸受
１８ 軸受
２０ ギヤ
２２ モータハウジング
３１ インボリュート側面
３４ 円弧凸面
３６ 円弧凹面
４０ 三日月状の空間
５１，５２ ルーツロータ

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】