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特開2024-117736樹脂組成物、樹脂シート、積層体、シート硬化物及び回路基板材料
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024117736
(43)【公開日】2024-08-29
(54)【発明の名称】樹脂組成物、樹脂シート、積層体、シート硬化物及び回路基板材料
(51)【国際特許分類】
C08F 2/44 20060101AFI20240822BHJP
C08F 255/00 20060101ALI20240822BHJP
C08F 20/00 20060101ALI20240822BHJP
C08L 51/00 20060101ALI20240822BHJP
【ＦＩ】
C08F2/44 C
C08F255/00
C08F20/00 510
C08L51/00
【審査請求】未請求
【請求項の数】20
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2024017159
(22)【出願日】2024-02-07
(31)【優先権主張番号】P 2023023112
(32)【優先日】2023-02-17
(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP
(71)【出願人】
【識別番号】000006035
【氏名又は名称】三菱ケミカル株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100165179
【弁理士】
【氏名又は名称】田▲崎▼ 聡
(74)【代理人】
【識別番号】100142309
【弁理士】
【氏名又は名称】君塚 哲也
(74)【代理人】
【識別番号】100140774
【弁理士】
【氏名又は名称】大浪 一徳
(72)【発明者】
【氏名】古谷 小春
(72)【発明者】
【氏名】牛島 麻友香
(72)【発明者】
【氏名】早川 裕子
【テーマコード（参考）】
4J002
4J011
4J026
【Ｆターム（参考）】
4J002BG022
4J002BN061
4J002BN141
4J002BQ002
4J002GF00
4J002GQ01
4J011AA05
4J011BA04
4J011PA34
4J011PA64
4J011PA65
4J011PB30
4J011PC02
4J011PC08
4J026AA11
4J026AC11
4J026AC16
4J026BA39
4J026BA40
4J026BA42
4J026BB03
4J026DA08
4J026DB06
4J026DB13
4J026DB24
4J026DB32
4J026FA05
(57)【要約】
【課題】低誘電特性、耐熱性、難燃性及び導体との密着性に優れるシート硬化物及び回路基板材料、並びに、低誘電特性、耐熱性、難燃性及び導体との密着性に優れる前記シート硬化物及び前記回路基板材料を製造可能な樹脂組成物、樹脂シート及び積層体を提供する。
【解決手段】本発明の一態様に係る樹脂組成物は、主鎖に酸素原子を含まない炭化水素系高分子化合物（Ａ）と、分子内に２つ以上のエチレン性不飽和結合を有するラジカル重合性化合物（Ｂ）と、エチレン性不飽和結合を有するリン系化合物（Ｃ）と、を含有する（ただし、（Ａ）～（Ｃ）成分は互いに異なる化合物である）。
【選択図】なし
【解決手段】本発明の一態様に係る樹脂組成物は、主鎖に酸素原子を含まない炭化水素系高分子化合物（Ａ）と、分子内に２つ以上のエチレン性不飽和結合を有するラジカル重合性化合物（Ｂ）と、エチレン性不飽和結合を有するリン系化合物（Ｃ）と、を含有する（ただし、（Ａ）～（Ｃ）成分は互いに異なる化合物である）。
【選択図】なし
【特許請求の範囲】
【請求項1】
主鎖に酸素原子を含まない炭化水素系高分子化合物（Ａ）と、分子内に２つ以上のエチレン性不飽和結合を有するラジカル重合性化合物（Ｂ）と、エチレン性不飽和結合を有するリン系化合物（Ｃ）と、を含有する樹脂組成物（ただし、（Ａ）～（Ｃ）成分は互いに異なる化合物である）。
【請求項2】
前記炭化水素系高分子化合物（Ａ）が熱可塑性樹脂である、請求項１に記載の樹脂組成物。
【請求項3】
前記炭化水素系高分子化合物（Ａ）が、スチレン系熱可塑性エラストマー、オレフィン系熱可塑性エラストマー及びエチレン系重合体からなる群から選ばれる少なくとも１種である、請求項１に記載の樹脂組成物。
【請求項4】
前記炭化水素系高分子化合物（Ａ）として、スチレン系熱可塑性エラストマー、オレフィン系熱可塑性エラストマー及びエチレン系重合体からなる群から選ばれる少なくとも１種の熱可塑性樹脂（Ａ１）及び、環状ポリオレフィン樹脂共重合体（Ａ２）を含む、請求項１に記載の樹脂組成物。
【請求項5】
前記環状ポリオレフィン樹脂共重合体（Ａ２）が、ポリオレフィンの側鎖に脂環式構造を有する共重合体である、請求項４に記載の樹脂組成物。
【請求項6】
前記炭化水素系高分子化合物（Ａ）として、スチレン系熱可塑性エラストマーを含む、請求項１に記載の樹脂組成物。
【請求項7】
前記スチレン系熱可塑性エラストマーのスチレン含有量が１０質量％以上７０質量％以下である、請求項６に記載の樹脂組成物。
【請求項8】
前記炭化水素系高分子化合物（Ａ）の質量平均分子量（Ｍｗ）が３０，０００以上である、請求項１に記載の樹脂組成物。
【請求項9】
前記ラジカル重合性化合物（Ｂ）として、２官能芳香族ビニル化合物及びトリアルケニルイソシアヌレート化合物からなる群から選ばれる少なくとも１種を含む、請求項１に記載の樹脂組成物。
【請求項10】
前記ラジカル重合性化合物（Ｂ）が、分子内に極性官能基を有しない、請求項１に記載の樹脂組成物。
【請求項11】
前記ラジカル重合性化合物（Ｂ）の極性官能基当量（ラジカル重合性化合物（Ｂ）の分子量／極性官能基の分子量）が２以上である、請求項１に記載の樹脂組成物。
【請求項12】
前記ラジカル重合性化合物（Ｂ）の質量平均分子量（Ｍｗ）が１００以上４，０００以下である、請求項1に記載の樹脂組成物。
【請求項13】
前記リン系化合物（Ｃ）が芳香族基を有する、請求項１に記載の樹脂組成物。
【請求項14】
前記炭化水素系高分子化合物（Ａ）の含有量が、前記樹脂組成物中の樹脂成分のうち６０質量％以上である、請求項１に記載の樹脂組成物。
【請求項15】
前記ラジカル重合性化合物（Ｂ）の含有量が、前記炭化水素系高分子化合物（Ａ）１００質量部に対して１質量部以上５０質量部以下である、請求項１に記載の樹脂組成物。
【請求項16】
前記リン系化合物（Ｃ）の含有量が、前記炭化水素系高分子化合物（Ａ）１００質量部に対して１質量部以上５０質量部以下である、請求項１に記載の樹脂組成物。
【請求項17】
請求項１～１６のいずれか１項に記載の樹脂組成物からなる、樹脂シート。
【請求項18】
請求項１７に記載の樹脂シートの一方又は両方の面に、離型フィルムを備える、積層体。
【請求項19】
請求項１７に記載の樹脂シートを硬化させてなる、シート硬化物。
【請求項20】
請求項１７に記載の樹脂シートからなる絶縁層と、導体とを積層してなる、回路基板材料。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、樹脂組成物、樹脂シート、積層体、シート硬化物及び回路基板材料に関する。
【背景技術】
【0002】
近年、電気・電子機器の高性能・高機能化に伴い、通信速度及び情報伝達量の向上のために、通信周波数の高周波化が進んでいる。
回路基板にデジタル信号を流すと、送信されたデジタル信号の一部が回路基板中で熱変換され、伝送損失が発生する。伝送損失の量は比誘電率及び誘電正接の積で表されるため、低損失通信を実現するには、比誘電率及び誘電正接の低い材料、すなわち低誘電特性を有する部材が必要となる。特に高周波領域における伝送信号はより熱に変換されやすい特徴があるため、より低誘電特性を有する材料が求められている。
一方、電気・電子機器内の回路の高集積化に伴い、電気・電子機器内部の発熱量も大きくなっているため、回路基板材料は耐熱性を有することも求められる。
回路基板にデジタル信号を流すと、送信されたデジタル信号の一部が回路基板中で熱変換され、伝送損失が発生する。伝送損失の量は比誘電率及び誘電正接の積で表されるため、低損失通信を実現するには、比誘電率及び誘電正接の低い材料、すなわち低誘電特性を有する部材が必要となる。特に高周波領域における伝送信号はより熱に変換されやすい特徴があるため、より低誘電特性を有する材料が求められている。
一方、電気・電子機器内の回路の高集積化に伴い、電気・電子機器内部の発熱量も大きくなっているため、回路基板材料は耐熱性を有することも求められる。
【0003】
低誘電特性を有する材料としては、例えば、エポキシ化合物とシアネート化合物とが配合されたポリフェニレンエーテル樹脂組成物（例えば、特許文献１参照）や、マレイミド樹脂（例えば、特許文献２参照）等の熱硬化系樹脂、環状オレフィン系樹脂組成物（例えば、特許文献３参照）等の熱可塑性樹脂が知られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【特許文献1】特開２０１０－０５９３６３号公報
【特許文献2】特開２０１２－２５５０５９号公報
【特許文献3】国際公開第２００６／０９５５１１号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
しかしながら、従来の熱硬化系樹脂は、熱可塑性樹脂に比べて比誘電率及び誘電正接が高い傾向があり、低誘電特性とするためには無機粒子等を大量に添加する必要があった。
一方、従来の熱可塑性樹脂は、低誘電特性ではあるものの、耐熱性が良好でない場合があった。
一方、従来の熱可塑性樹脂は、低誘電特性ではあるものの、耐熱性が良好でない場合があった。
【0006】
上記特許文献３に例示される環状オレフィン系樹脂は、大きな極性基を持たないので分子内の電荷の偏りがなく、吸水による水分の影響も受けにくいため、特に低誘電特性を示すことが知られている。しかし、環状オレフィン系樹脂は分子構造の主鎖に酸素原子を含まないため、熱分解した際に燃焼性の高いメタンガスを発生しやすく、燃えやすいという課題がある。よって、環状ポリオレフィン樹脂をフレキシブルプリント基板（ＦＰＣ）など電子部材の用途で用いる場合には、火炎防止のために、難燃性を改善することが求められる。
【0007】
上記難燃性を改善する方法として、難燃剤を添加する手段が挙げられるが、難燃剤の種類によっては誘電特性が悪化したり、銅箔等の導体との密着性が低下したりして、回路基板材料として用いると不具合が生じる場合があった。
【0008】
そこで、本発明は、低誘電特性、耐熱性、難燃性及び導体との密着性に優れるシート硬化物及び回路基板材料、並びに、低誘電特性、耐熱性、難燃性及び導体との密着性に優れる前記シート硬化物及び前記回路基板材料を製造可能な樹脂組成物、樹脂シート及び積層体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0009】
本発明者は上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、重合性のリン系難燃剤を添加することにより、上記課題を解決し得ることを見出した。
【0010】
本発明の要旨は以下のとおりである。
［１］主鎖に酸素原子を含まない炭化水素系高分子化合物（Ａ）と、分子内に２つ以上のエチレン性不飽和結合を有するラジカル重合性化合物（Ｂ）と、エチレン性不飽和結合を有するリン系化合物（Ｃ）と、を含有する樹脂組成物（ただし、（Ａ）～（Ｃ）成分は互いに異なる化合物である）。
［２］前記炭化水素系高分子化合物（Ａ）が熱可塑性樹脂である、上記［１］に記載の樹脂組成物。
［３］前記炭化水素系高分子化合物（Ａ）が、スチレン系熱可塑性エラストマー、オレフィン系熱可塑性エラストマー及びエチレン系重合体からなる群から選ばれる少なくとも１種である、上記［１］又は［２］に記載の樹脂組成物。
［４］前記炭化水素系高分子化合物（Ａ）として、スチレン系熱可塑性エラストマー、オレフィン系熱可塑性エラストマー及びエチレン系重合体からなる群から選ばれる少なくとも１種の熱可塑性樹脂（Ａ１）及び、環状ポリオレフィン樹脂共重合体（Ａ２）を含む、［１］～［３］のいずれか１つに記載の樹脂組成物。
［５］前記環状ポリオレフィン樹脂共重合体（Ａ２）が、ポリオレフィンの側鎖に脂環式構造を有する共重合体である、［４］に記載の樹脂組成物。
［６］前記炭化水素系高分子化合物（Ａ）として、スチレン系熱可塑性エラストマーを含む、上記［１］～［３］のいずれか１つに記載の樹脂組成物。
［７］前記スチレン系熱可塑性エラストマーのスチレン含有量が１０質量％以上７０質量％以下である、上記［４］に記載の樹脂組成物。
［８］前記炭化水素系高分子化合物（Ａ）の質量平均分子量（Ｍｗ）が３０，０００以上である、上記［１］～［５］のいずれか１つに記載の樹脂組成物。
［９］前記ラジカル重合性化合物（Ｂ）として、２官能芳香族ビニル化合物及びトリアルケニルイソシアヌレート化合物からなる群から選ばれる少なくとも１種を含む、上記［１］～［６］のいずれか１つに記載の樹脂組成物。
［１０］前記ラジカル重合性化合物（Ｂ）が、分子内に極性官能基を有しない、上記［１］～［７］のいずれか１つに記載の樹脂組成物。
［１１］前記ラジカル重合性化合物（Ｂ）の極性官能基当量（ラジカル重合性化合物（Ｂ）の分子量／極性官能基の分子量）が２以上である、上記［１］～［７］のいずれか１つに記載の樹脂組成物。
［１２］前記ラジカル重合性化合物（Ｂ）の質量平均分子量（Ｍｗ）が１００以上４，０００以下である、上記［１］～［９］のいずれか１つに記載の樹脂組成物。
［１３］前記リン系化合物（Ｃ）が芳香族基を有する、上記［１］～［１０］のいずれか１つに記載の樹脂組成物。
［１４］前記炭化水素系高分子化合物（Ａ）の含有量が、前記樹脂組成物中の樹脂成分のうち６０質量％以上である、上記［１］～［１１］のいずれか１つに記載の樹脂組成物。
［１５］前記ラジカル重合性化合物（Ｂ）の含有量が、前記炭化水素系高分子化合物（Ａ）１００質量部に対して１質量部以上５０質量部以下である、上記［１］～［１２］のいずれか１つに記載の樹脂組成物。
［１６］前記リン系化合物（Ｃ）の含有量が、前記炭化水素系高分子化合物（Ａ）１００質量部に対して１質量部以上５０質量部以下である、上記［１］～［１３］のいずれか１つに記載の樹脂組成物。
［１７］上記［１］～［１４］のいずれか１つに記載の樹脂組成物からなる、樹脂シート。
［１８］上記［１５］に記載の樹脂シートの一方又は両方の面に、離型フィルムを備える、積層体。
［１９］上記［１５］に記載の樹脂シートを硬化させてなる、シート硬化物。
［２０］上記［１５］に記載の樹脂シートからなる絶縁層と、導体とを積層してなる、回路基板材料。
［１］主鎖に酸素原子を含まない炭化水素系高分子化合物（Ａ）と、分子内に２つ以上のエチレン性不飽和結合を有するラジカル重合性化合物（Ｂ）と、エチレン性不飽和結合を有するリン系化合物（Ｃ）と、を含有する樹脂組成物（ただし、（Ａ）～（Ｃ）成分は互いに異なる化合物である）。
［２］前記炭化水素系高分子化合物（Ａ）が熱可塑性樹脂である、上記［１］に記載の樹脂組成物。
［３］前記炭化水素系高分子化合物（Ａ）が、スチレン系熱可塑性エラストマー、オレフィン系熱可塑性エラストマー及びエチレン系重合体からなる群から選ばれる少なくとも１種である、上記［１］又は［２］に記載の樹脂組成物。
［４］前記炭化水素系高分子化合物（Ａ）として、スチレン系熱可塑性エラストマー、オレフィン系熱可塑性エラストマー及びエチレン系重合体からなる群から選ばれる少なくとも１種の熱可塑性樹脂（Ａ１）及び、環状ポリオレフィン樹脂共重合体（Ａ２）を含む、［１］～［３］のいずれか１つに記載の樹脂組成物。
［５］前記環状ポリオレフィン樹脂共重合体（Ａ２）が、ポリオレフィンの側鎖に脂環式構造を有する共重合体である、［４］に記載の樹脂組成物。
［６］前記炭化水素系高分子化合物（Ａ）として、スチレン系熱可塑性エラストマーを含む、上記［１］～［３］のいずれか１つに記載の樹脂組成物。
［７］前記スチレン系熱可塑性エラストマーのスチレン含有量が１０質量％以上７０質量％以下である、上記［４］に記載の樹脂組成物。
［８］前記炭化水素系高分子化合物（Ａ）の質量平均分子量（Ｍｗ）が３０，０００以上である、上記［１］～［５］のいずれか１つに記載の樹脂組成物。
［９］前記ラジカル重合性化合物（Ｂ）として、２官能芳香族ビニル化合物及びトリアルケニルイソシアヌレート化合物からなる群から選ばれる少なくとも１種を含む、上記［１］～［６］のいずれか１つに記載の樹脂組成物。
［１０］前記ラジカル重合性化合物（Ｂ）が、分子内に極性官能基を有しない、上記［１］～［７］のいずれか１つに記載の樹脂組成物。
［１１］前記ラジカル重合性化合物（Ｂ）の極性官能基当量（ラジカル重合性化合物（Ｂ）の分子量／極性官能基の分子量）が２以上である、上記［１］～［７］のいずれか１つに記載の樹脂組成物。
［１２］前記ラジカル重合性化合物（Ｂ）の質量平均分子量（Ｍｗ）が１００以上４，０００以下である、上記［１］～［９］のいずれか１つに記載の樹脂組成物。
［１３］前記リン系化合物（Ｃ）が芳香族基を有する、上記［１］～［１０］のいずれか１つに記載の樹脂組成物。
［１４］前記炭化水素系高分子化合物（Ａ）の含有量が、前記樹脂組成物中の樹脂成分のうち６０質量％以上である、上記［１］～［１１］のいずれか１つに記載の樹脂組成物。
［１５］前記ラジカル重合性化合物（Ｂ）の含有量が、前記炭化水素系高分子化合物（Ａ）１００質量部に対して１質量部以上５０質量部以下である、上記［１］～［１２］のいずれか１つに記載の樹脂組成物。
［１６］前記リン系化合物（Ｃ）の含有量が、前記炭化水素系高分子化合物（Ａ）１００質量部に対して１質量部以上５０質量部以下である、上記［１］～［１３］のいずれか１つに記載の樹脂組成物。
［１７］上記［１］～［１４］のいずれか１つに記載の樹脂組成物からなる、樹脂シート。
［１８］上記［１５］に記載の樹脂シートの一方又は両方の面に、離型フィルムを備える、積層体。
［１９］上記［１５］に記載の樹脂シートを硬化させてなる、シート硬化物。
［２０］上記［１５］に記載の樹脂シートからなる絶縁層と、導体とを積層してなる、回路基板材料。
【発明の効果】
【0011】
本発明によれば、低誘電特性、耐熱性、難燃性及び導体との密着性に優れるシート硬化物及び回路基板材料、並びに、低誘電特性、耐熱性、難燃性及び導体との密着性に優れる前記シート硬化物及び前記回路基板材料を製造可能な樹脂組成物、樹脂シート及び積層体を得ることができる。
【発明を実施するための形態】
【0012】
以下に本発明について詳細に説明するが、以下の説明は、本発明の実施の形態の一例であり、本発明はその要旨を超えない限り、以下の記載内容に限定されるものではない。
以下において「～」という表現を用いる場合、その前後の数値又は物性値を含む表現として用いるものとする。
以下において「～」という表現を用いる場合、その前後の数値又は物性値を含む表現として用いるものとする。
【0013】
＜樹脂組成物＞
本発明の一実施形態に係る樹脂組成物（以下、「本組成物」ともいう。）は、主鎖に酸素原子を含まない炭化水素系高分子化合物（Ａ）と、分子内に２つ以上のエチレン性不飽和結合を有するラジカル重合性化合物（Ｂ）と、エチレン性不飽和結合を有するリン系化合物（Ｃ）とを含有する（ただし、（Ａ）～（Ｃ）成分は互いに異なる化合物である）。
本組成物からなるシート硬化物及び回路基板材料の低誘電特性、耐熱性、難燃性及び導体との密着性が良好となる理由は定かではないが、以下のような点が考えられる。
本組成物を硬化させると、炭化水素系高分子化合物（Ａ）に対して、ラジカル重合性化合物（Ｂ）及びリン系化合物（Ｃ）の分子鎖が互いに部分的かつ物理的に絡み合うため、炭化水素系高分子化合物（Ａ）の低誘電特性を維持しながら、その他の特性を付与できると考えられる。
また、本組成物を硬化させると、炭化水素系高分子化合物（Ａ）、ラジカル重合性化合物（Ｂ）及びリン系化合物（Ｃ）の分子鎖の絡み合いを好適に形成することができるため、炭化水素系高分子化合物（Ａ）単体よりも疑似的に架橋密度が高くなり、弾性率が向上して耐熱性が良好となると考えられる。
さらに、本組成物はリン系化合物（Ｃ）が重合性であることにより、炭化水素系高分子化合物（Ａ）及びラジカル重合性化合物（Ｂ）の架橋構造に組み込まれやすいため、リン系化合物（Ｃ）の組成物中での分散性が高くなる。また、リン系化合物（Ｃ）が架橋構造に組み込まれることにより、炭化水素系高分子化合物（Ａ）及びラジカル重合性化合物（Ｂ）のみからなる組成物よりも架橋密度を低くできるので、難燃性と導体との密着性を両立できると考えられる。
以下、本組成物の各成分について説明する。
本発明の一実施形態に係る樹脂組成物（以下、「本組成物」ともいう。）は、主鎖に酸素原子を含まない炭化水素系高分子化合物（Ａ）と、分子内に２つ以上のエチレン性不飽和結合を有するラジカル重合性化合物（Ｂ）と、エチレン性不飽和結合を有するリン系化合物（Ｃ）とを含有する（ただし、（Ａ）～（Ｃ）成分は互いに異なる化合物である）。
本組成物からなるシート硬化物及び回路基板材料の低誘電特性、耐熱性、難燃性及び導体との密着性が良好となる理由は定かではないが、以下のような点が考えられる。
本組成物を硬化させると、炭化水素系高分子化合物（Ａ）に対して、ラジカル重合性化合物（Ｂ）及びリン系化合物（Ｃ）の分子鎖が互いに部分的かつ物理的に絡み合うため、炭化水素系高分子化合物（Ａ）の低誘電特性を維持しながら、その他の特性を付与できると考えられる。
また、本組成物を硬化させると、炭化水素系高分子化合物（Ａ）、ラジカル重合性化合物（Ｂ）及びリン系化合物（Ｃ）の分子鎖の絡み合いを好適に形成することができるため、炭化水素系高分子化合物（Ａ）単体よりも疑似的に架橋密度が高くなり、弾性率が向上して耐熱性が良好となると考えられる。
さらに、本組成物はリン系化合物（Ｃ）が重合性であることにより、炭化水素系高分子化合物（Ａ）及びラジカル重合性化合物（Ｂ）の架橋構造に組み込まれやすいため、リン系化合物（Ｃ）の組成物中での分散性が高くなる。また、リン系化合物（Ｃ）が架橋構造に組み込まれることにより、炭化水素系高分子化合物（Ａ）及びラジカル重合性化合物（Ｂ）のみからなる組成物よりも架橋密度を低くできるので、難燃性と導体との密着性を両立できると考えられる。
以下、本組成物の各成分について説明する。
【0014】
１．炭化水素系高分子化合物（Ａ）
本組成物の炭化水素系高分子化合物（Ａ）は、主鎖に酸素原子を含まないことを特徴とする。主鎖に酸素原子を含まない炭化水素系高分子化合物（Ａ）は、上述のとおり、単体で用いると熱分解した際に燃焼性の高いメタンガスを発生しやすく、燃えやすい傾向がある。そのため、炭化水素系高分子化合物（Ａ）が主鎖に酸素原子を含まない場合に、本発明の効果が好適に発揮される。
また、炭化水素系高分子化合物（Ａ）は、リン原子を含まず、エチレン性不飽和結合を有しない。
主鎖構造の分析方法としては、例えばＮＭＲ、ＩＲ、ＭＡＬＤＩ－ＴＯＦＭＳ法などが挙げられる。
本組成物の炭化水素系高分子化合物（Ａ）は、主鎖に酸素原子を含まないことを特徴とする。主鎖に酸素原子を含まない炭化水素系高分子化合物（Ａ）は、上述のとおり、単体で用いると熱分解した際に燃焼性の高いメタンガスを発生しやすく、燃えやすい傾向がある。そのため、炭化水素系高分子化合物（Ａ）が主鎖に酸素原子を含まない場合に、本発明の効果が好適に発揮される。
また、炭化水素系高分子化合物（Ａ）は、リン原子を含まず、エチレン性不飽和結合を有しない。
主鎖構造の分析方法としては、例えばＮＭＲ、ＩＲ、ＭＡＬＤＩ－ＴＯＦＭＳ法などが挙げられる。
【0015】
炭化水素系高分子化合物（Ａ）の分子構造は特に限定されず、脂肪族炭化水素、脂環式炭化水素、芳香族炭化水素のいずれであってもよい。
【0016】
炭化水素系高分子化合物（Ａ）は、低誘電特性の観点から、熱可塑性樹脂であることが好ましく、その中でも、スチレン系熱可塑性エラストマー、オレフィン系熱可塑性エラストマー、エチレン系重合体及び環状ポリオレフィン樹脂共重合体からなる群から選ばれる少なくとも１種がより好ましい。炭化水素系高分子化合物（Ａ）は、１種を単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
【0017】
上記スチレン系熱可塑性エラストマーとしては、例えば、スチレン－ブタジエン－スチレンブロック共重合体（ＳＢＳ）、スチレン－イソプレン－スチレンブロック共重合体（ＳＩＳ）及びこれらを水添したスチレン－エチレン－ブタジエン－スチレンブロック共重合体（ＳＥＢＳ）、スチレン－エチレン－プロピレン－スチレンブロック共重合体（ＳＥＰＳ）、スチレン－イソブチレン－スチレン－ブロック共重合体（ＳＩＢＳ）等が挙げられる。
【0018】
上記オレフィン系熱可塑性エラストマーは、ハードセグメントとしてポリオレフィン（但し、後述する環状ポリオレフィンを除く）を含み、ソフトセグメントとしてゴム成分を含む。
上記オレフィン系熱可塑性エラストマーは、ポリオレフィンとゴム成分との混合物（ポリマーブレンド）であってもよく、ポリオレフィンとゴム成分とを架橋反応させた架橋物であってもよく、ポリオレフィンとゴム成分とを重合させた重合体であってもよい。
上記ポリオレフィンとしては、ポリプロピレン、ポリエチレン等が挙げられる。
上記ゴム成分としては、イソプレンゴム、ブタジエンゴム、ブチルゴム、プロピレン－ブタジエンゴム、アクリロニトリル－ブタジエンゴム、アクリロニトリル－イソプレンゴム等のジエン系ゴム、エチレン－プロピレン非共役ジエンゴム、エチレン－ブタジエン共重合体ゴム等が挙げられる。
上記オレフィン系熱可塑性エラストマーは、ポリオレフィンとゴム成分との混合物（ポリマーブレンド）であってもよく、ポリオレフィンとゴム成分とを架橋反応させた架橋物であってもよく、ポリオレフィンとゴム成分とを重合させた重合体であってもよい。
上記ポリオレフィンとしては、ポリプロピレン、ポリエチレン等が挙げられる。
上記ゴム成分としては、イソプレンゴム、ブタジエンゴム、ブチルゴム、プロピレン－ブタジエンゴム、アクリロニトリル－ブタジエンゴム、アクリロニトリル－イソプレンゴム等のジエン系ゴム、エチレン－プロピレン非共役ジエンゴム、エチレン－ブタジエン共重合体ゴム等が挙げられる。
【0019】
上記エチレン系重合体としては、エチレンの単独重合体、及びエチレンと他の単量体との共重合体が挙げられる。
上記エチレンと他の単量体との共重合体は、エチレンを主成分とすることが好ましい。ここで、「エチレンを主成分とする」とは、共重合体中にエチレン構造単位を５０ｍｏｌ％以上、好ましくは６０ｍｏｌ％以上含有することをいう。
また、エチレンと共重合する他の単量体は、エチレンと共重合可能な単量体であれば特に限定されない。
上記エチレン系重合体の好ましい例としては、低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）、線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）、メタロセン系触媒を用い重合して得られたポリエチレン等が挙げられる。これらの中でも、柔軟性が高い点から、線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）を用いることが特に好ましい。
上記エチレンと他の単量体との共重合体は、エチレンを主成分とすることが好ましい。ここで、「エチレンを主成分とする」とは、共重合体中にエチレン構造単位を５０ｍｏｌ％以上、好ましくは６０ｍｏｌ％以上含有することをいう。
また、エチレンと共重合する他の単量体は、エチレンと共重合可能な単量体であれば特に限定されない。
上記エチレン系重合体の好ましい例としては、低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）、線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）、メタロセン系触媒を用い重合して得られたポリエチレン等が挙げられる。これらの中でも、柔軟性が高い点から、線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）を用いることが特に好ましい。
【0020】
上記環状ポリオレフィン樹脂共重合体は、脂環式構造を有する共重合体であり、具体的には、ポリオレフィンの側鎖に脂環式構造を有する共重合体である。当該脂環式構造の好適な例としては、シクロアルカン、ビシクロアルカン、多環式化合物等が挙げられる。これらのなかでも、シクロアルカンが好ましく、シクロヘキサンがより好ましい。
また、当該脂環式構造は、後述する水素化芳香族ビニルポリマーブロック単位が有する、芳香族環の水素化により生じる脂環式構造であることがより好ましい。
また、当該脂環式構造は、後述する水素化芳香族ビニルポリマーブロック単位が有する、芳香族環の水素化により生じる脂環式構造であることがより好ましい。
【0021】
環状ポリオレフィン樹脂共重合体は、結晶融解ピーク温度が１００℃未満であるのが好ましい。
環状ポリオレフィン樹脂共重合体の結晶融解ピーク温度は、５０℃以上が好ましく、６０℃以上がより好ましく、６５℃以上がさらに好ましい。また、環状ポリオレフィン樹脂共重合体の結晶融解ピーク温度は、９０℃以下が好ましく、８５℃以下がより好ましい。
本発明における結晶融解ピーク温度とは、加熱速度１０℃／分で測定される示差走査熱量測定（ＤＳＣ）において、結晶融解ピークが検出されたときの温度である。本組成物に用いる環状ポリオレフィン樹脂共重合体は、結晶融解ピークが１００℃未満に存在するものであればよく、例えば、１００℃未満と、１００℃以上の２点に結晶融解ピークが存在する場合も含まれる。
環状ポリオレフィン樹脂共重合体の結晶融解ピーク温度は、５０℃以上が好ましく、６０℃以上がより好ましく、６５℃以上がさらに好ましい。また、環状ポリオレフィン樹脂共重合体の結晶融解ピーク温度は、９０℃以下が好ましく、８５℃以下がより好ましい。
本発明における結晶融解ピーク温度とは、加熱速度１０℃／分で測定される示差走査熱量測定（ＤＳＣ）において、結晶融解ピークが検出されたときの温度である。本組成物に用いる環状ポリオレフィン樹脂共重合体は、結晶融解ピークが１００℃未満に存在するものであればよく、例えば、１００℃未満と、１００℃以上の２点に結晶融解ピークが存在する場合も含まれる。
【0022】
なお、公知の環状ポリオレフィンとしては、単環式ノルボルネン系単量体又は多環式ノルボルネン系単量体由来の繰り返し単位を有する開環重合体の水素添加物（例えば、国際公開第２０１２／０４６４４３号、国際公開第２０１２／０３３０７６号等）が挙げられる。この環状ポリオレフィンは、重合体の主鎖に脂環式構造を有するものであり、結晶融解ピーク温度が１００℃未満に存在しないか、あるいは非晶性である。
重合体の結晶性は通常、分子の構造の規則性や立体障害により変化するものであり、側鎖や主鎖に脂環式構造を有する重合体は立体障害が大きいため結晶化しにくく、非晶性となりやすい。
一方、本組成物の環状ポリオレフィン樹脂共重合体は、後述する水素化共役ジエンポリマーブロック単位の構造を有することによって結晶性を呈するとともに、ポリオレフィンの側鎖に脂環式構造を有することにより、結晶融解ピーク温度を１００℃未満に存在させることができる。
重合体の結晶性は通常、分子の構造の規則性や立体障害により変化するものであり、側鎖や主鎖に脂環式構造を有する重合体は立体障害が大きいため結晶化しにくく、非晶性となりやすい。
一方、本組成物の環状ポリオレフィン樹脂共重合体は、後述する水素化共役ジエンポリマーブロック単位の構造を有することによって結晶性を呈するとともに、ポリオレフィンの側鎖に脂環式構造を有することにより、結晶融解ピーク温度を１００℃未満に存在させることができる。
【0023】
前記環状ポリオレフィン樹脂共重合体のメルトフローレート（ＭＦＲ）は特に限定されないが、通常、０．１ｇ／１０分以上であり、成形方法や成形体の外観の観点から、好ましくは０．５ｇ／１０分以上である。また、前記メルトフローレート（ＭＦＲ）は、通常、２００ｇ／１０分以下であり、材料強度の観点から、好ましくは１００ｇ／１０分以下、より好ましくは９０．０ｇ／１０分以下である。前記ＭＦＲを上記範囲内にすることによって、熱可塑性樹脂との相溶性が良好となる。
ＭＦＲは、ＩＳＯ Ｒ１１３３に従って、測定温度２３０℃、測定荷重２．１６ｋｇの条件で測定することで求められる。
ＭＦＲは、ＩＳＯ Ｒ１１３３に従って、測定温度２３０℃、測定荷重２．１６ｋｇの条件で測定することで求められる。
【0024】
本組成物に用いる環状ポリオレフィン樹脂共重合体としては、低誘電特性の観点から、少なくとも１種の水素化芳香族ビニルポリマーブロック単位及び少なくとも１種の水素化共役ジエンポリマーブロック単位を含む環状ポリオレフィン（以下、「環状ポリオレフィン（ａ）」ともいう）、又は当該環状ポリオレフィン（ａ）の不飽和カルボン酸及びその無水物の少なくとも一方による変性体が好ましい。
【0025】
本発明において「ブロック」とは、コポリマーの構造的又は組成的に異なった重合セグメントからのミクロ相分離を表すコポリマーの重合セグメントをいう。ミクロ相分離は、ブロックコポリマー中で重合セグメントが混じり合わないことにより生ずる。
なお、ミクロ相分離とブロックコポリマーは、ＰＨＹＳＩＣＳ ＴＯＤＡＹの１９９９年２月号３２－３８頁の“Ｂｌｏｃｋ Ｃｏｐｏｌｙｍｅｒｓ－Ｄｅｓｉｇｎｅｒ Ｓｏｆｔ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ”で広範に議論されている。
なお、ミクロ相分離とブロックコポリマーは、ＰＨＹＳＩＣＳ ＴＯＤＡＹの１９９９年２月号３２－３８頁の“Ｂｌｏｃｋ Ｃｏｐｏｌｙｍｅｒｓ－Ｄｅｓｉｇｎｅｒ Ｓｏｆｔ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ”で広範に議論されている。
【0026】
環状ポリオレフィン（ａ）は、水素化芳香族ビニルポリマーブロック単位（以下「ブロックＡ」ともいう）及び水素化共役ジエンポリマーブロック単位（以下「ブロックＢ」ともいう）からなるジブロックコポリマー、ブロックＡ及びブロックＢの少なくとも一方を２以上含むトリブロックコポリマー、テトラブロックコポリマー、ペンタブロックコポリマー等が挙げられる。
環状ポリオレフィン（ａ）は、ブロックＡを少なくとも２個含むことが好ましく、例えば、Ａ－Ｂ－Ａ型、Ａ－Ｂ－Ａ－Ｂ型、Ａ－Ｂ－Ａ－Ｂ－Ａ型などが好適に挙げられる。
環状ポリオレフィン（ａ）は、ブロックＡを少なくとも２個含むことが好ましく、例えば、Ａ－Ｂ－Ａ型、Ａ－Ｂ－Ａ－Ｂ型、Ａ－Ｂ－Ａ－Ｂ－Ａ型などが好適に挙げられる。
【0027】
また、環状ポリオレフィン（ａ）は、それぞれの末端に水素化芳香族ビニルポリマーからなるセグメントを含むことが好ましい。このため、本組成物の水素化ブロックコポリマーは、少なくとも２個の水素化芳香族ビニルポリマーブロック単位（ブロックＡ）を有し、この２個の水素化芳香族ビニルポリマーブロック単位（ブロックＡ）の間には、少なくとも１つの水素化共役ジエンポリマーブロック単位（ブロックＢ）を有することが好ましい。これらの観点から、環状ポリオレフィン（ａ）は、Ａ－Ｂ－Ａ型又はＡ－Ｂ－Ａ－Ｂ－Ａ型がより好ましい。
【0028】
環状ポリオレフィン（ａ）における水素化芳香族ビニルポリマーブロック単位（ブロックＡ）の含有率は、好ましくは３０～９９モル％、より好ましくは４０～９０モル％である。なかでも、さらに好ましくは５０モル％以上、よりさらに好ましくは６０モル％以上である。
水素化芳香族ビニルポリマーブロック単位（ブロックＡ）の比率が上記下限以上であれば剛性が低下することがなく、耐熱性や線熱膨張率も良好となる。一方、前記の比率が上記上限以下であれば柔軟性が良好となる。
水素化芳香族ビニルポリマーブロック単位（ブロックＡ）の比率が上記下限以上であれば剛性が低下することがなく、耐熱性や線熱膨張率も良好となる。一方、前記の比率が上記上限以下であれば柔軟性が良好となる。
【0029】
また、環状ポリオレフィン（ａ）における水素化共役ジエンポリマーブロック単位（ブロックＢ）の含有率は、好ましくは１～７０モル％、より好ましくは１０～６０モル％である。なかでも、さらに好ましくは５０モル％以下、よりさらに好ましくは４０モル％以下である。
水素化共役ジエンポリマーブロック単位（ブロックＢ）の比率が上記下限以上であれば柔軟性が良好となる。一方、前記の比率が上記上限以下であれば剛性が低下することがなく、耐熱性や線熱膨張率も良好となる。
水素化共役ジエンポリマーブロック単位（ブロックＢ）の比率が上記下限以上であれば柔軟性が良好となる。一方、前記の比率が上記上限以下であれば剛性が低下することがなく、耐熱性や線熱膨張率も良好となる。
【0030】
環状ポリオレフィン（ａ）を構成する水素化芳香族ビニルポリマーブロック単位及び水素化共役ジエンポリマーブロック単位はそれぞれ、後に詳述する芳香族ビニルモノマー及び１，３－ブタジエンなどの共役ジエンモノマーから構成されるポリマーブロックを水素化することで得ることができる。
また、環状ポリオレフィン（ａ）は官能基のないブロックコポリマーであることが好ましい。「官能基のない」とは、ブロックコポリマー中に如何なる官能基も存在しない、即ち、炭素原子と水素原子以外の原子を含む基が存在しないことを意味する。
また、環状ポリオレフィン（ａ）は官能基のないブロックコポリマーであることが好ましい。「官能基のない」とは、ブロックコポリマー中に如何なる官能基も存在しない、即ち、炭素原子と水素原子以外の原子を含む基が存在しないことを意味する。
【0031】
以下、水素化する前の芳香族ビニルポリマーブロック単位及び共役ジエンポリマーブロック単位を形成するためのモノマーについて説明する。
【0032】
（芳香族ビニルモノマー）
水素化前の芳香族ビニルポリマーブロック単位の原料となる芳香族ビニルモノマーは、下記一般式（１）で示されるモノマーである。
水素化前の芳香族ビニルポリマーブロック単位の原料となる芳香族ビニルモノマーは、下記一般式（１）で示されるモノマーである。
【0033】
【化1】
【0034】
上記一般式（１）において、Ｒは水素原子又はアルキル基であり、Ａｒはフェニル基、ハロフェニル基、アルキルフェニル基、アルキルハロフェニル基、ナフチル基、ピリジニル基又はアントラセニル基である。
【0035】
上記Ｒがアルキル基である場合、炭素数は好ましくは１～６であり、上記アルキル基はハロ基、ニトロ基、アミノ基、ヒドロキシ基、シアノ基、カルボニル基及びカルボキシル基のような官能基で単置換若しくは多重置換されていてもよい。
また、上記Ａｒは、フェニル基又はアルキルフェニル基が好ましく、フェニル基がより好ましい。
また、上記Ａｒは、フェニル基又はアルキルフェニル基が好ましく、フェニル基がより好ましい。
【0036】
芳香族ビニルモノマーとしては、例えば、スチレン、α－メチルスチレン、ビニルトルエン（全ての異性体を含み、特にｐ－ビニルトルエンが好ましい）、エチルスチレン、プロピルスチレン、ブチルスチレン、ビニルビフェニル、ビニルナフタレン、ビニルアントラセン（全ての異性体を含む）、及びこれらの混合物が挙げられる。これらのなかでも、スチレンが好ましい。
【0037】
（共役ジエンモノマー）
水素化前の共役ジエンポリマーブロック単位の原料となる共役ジエンモノマーは、２個の共役二重結合を持つモノマーであればよく、特に限定されるものではない。
共役ジエンモノマーとしては、例えば、１，３－ブタジエン、２－メチル－１，３－ブタジエン（イソプレン）、２－メチル－１，３－ペンタジエンとその類似化合物、及びこれらの混合物が挙げられる。これらのなかでも、構造の規則性が高く結晶化しやすいブロックを得る観点から、１，３－ブタジエンが好ましい。
水素化前の共役ジエンポリマーブロック単位の原料となる共役ジエンモノマーは、２個の共役二重結合を持つモノマーであればよく、特に限定されるものではない。
共役ジエンモノマーとしては、例えば、１，３－ブタジエン、２－メチル－１，３－ブタジエン（イソプレン）、２－メチル－１，３－ペンタジエンとその類似化合物、及びこれらの混合物が挙げられる。これらのなかでも、構造の規則性が高く結晶化しやすいブロックを得る観点から、１，３－ブタジエンが好ましい。
【0038】
なお、共役ジエンモノマーとして１，３－ブタジエンを用いる場合、その重合体であるポリブタジエンは、１，４－結合単位（［－ＣＨ２－ＣＨ＝ＣＨ－ＣＨ２－］）と１，２－結合単位（［－ＣＨ２－ＣＨ（ＣＨ＝ＣＨ２）－］）とが存在するため、水素化により、前者はポリエチレンの繰り返し単位と同様の構造（エチレン構造）を与え、後者は１－ブテンを重合した際の繰り返し単位と同様の構造（１－ブテン構造）を与える。したがって、本組成物における水素化共役ジエンポリマーブロックは、エチレン構造及び１－ブテン構造の少なくともいずれか一方を含むことが好ましい。
また、共役ジエンモノマーとしてイソプレンを用いる場合、その重合体であるポリイソプレンは、１，４－結合単位（［－ＣＨ２－Ｃ（ＣＨ３）＝ＣＨ－ＣＨ２－］）、３，４－結合単位（［－ＣＨ２－ＣＨ（Ｃ（ＣＨ３）＝ＣＨ２）－］）及び１，２－結合単位（［－ＣＨ２－Ｃ（ＣＨ３）（ＣＨ＝ＣＨ２）－］）が存在し、水素化により得られる３種の繰り返し単位の少なくともいずれかを含むものとなる。
また、共役ジエンモノマーとしてイソプレンを用いる場合、その重合体であるポリイソプレンは、１，４－結合単位（［－ＣＨ２－Ｃ（ＣＨ３）＝ＣＨ－ＣＨ２－］）、３，４－結合単位（［－ＣＨ２－ＣＨ（Ｃ（ＣＨ３）＝ＣＨ２）－］）及び１，２－結合単位（［－ＣＨ２－Ｃ（ＣＨ３）（ＣＨ＝ＣＨ２）－］）が存在し、水素化により得られる３種の繰り返し単位の少なくともいずれかを含むものとなる。
【0039】
（ブロック構造）
環状ポリオレフィン（ａ）は、ＳＢＳ、ＳＢＳＢ、ＳＢＳＢＳ、ＳＢＳＢＳＢ、ＳＩＳ、ＳＩＳＩＳ、及びＳＩＳＢＳ（ここで、Ｓはポリスチレン、Ｂはポリブタジエン、Ｉはポリイソプレンを意味する。）のようなトリブロックコポリマー、テトラブロックコポリマー、ペンタブロックコポリマー等のマルチブロックコポリマーの水素化によって製造されることが好ましい。ブロックは、線状ブロックでもよく、分岐していてもよい。分岐している場合の重合連鎖は、コポリマーの骨格に沿ってどの位置に結合していてもよい。また、ブロックは、線状ブロックのほかに、テーパードブロック、又はスターブロックであってもよい。
環状ポリオレフィン（ａ）は、ＳＢＳ、ＳＢＳＢ、ＳＢＳＢＳ、ＳＢＳＢＳＢ、ＳＩＳ、ＳＩＳＩＳ、及びＳＩＳＢＳ（ここで、Ｓはポリスチレン、Ｂはポリブタジエン、Ｉはポリイソプレンを意味する。）のようなトリブロックコポリマー、テトラブロックコポリマー、ペンタブロックコポリマー等のマルチブロックコポリマーの水素化によって製造されることが好ましい。ブロックは、線状ブロックでもよく、分岐していてもよい。分岐している場合の重合連鎖は、コポリマーの骨格に沿ってどの位置に結合していてもよい。また、ブロックは、線状ブロックのほかに、テーパードブロック、又はスターブロックであってもよい。
【0040】
環状ポリオレフィン（ａ）を構成する水素化前のブロックコポリマーは、芳香族ビニルポリマーブロック単位及び共役ジエンポリマーブロック単位以外の１又は複数の追加ブロック単位を含んでいてもよい。例えば、トリブロックコポリマーの場合には、これらの追加ブロック単位はトリブロックポリマー骨格のどの位置に結合していてもよい。
【0041】
前記水素化芳香族ビニルポリマーブロック単位の好ましい例としては、水素化ポリスチレンを挙げることができ、前記水素化共役ジエンポリマーブロック単位の好ましい例としては、水素化ポリブタジエン又は水素化ポリイソプレンを挙げることができ、水素化ポリブタジエンがより好ましい。
そして、環状ポリオレフィン（ａ）の好ましい一態様としては、スチレンとブタジエンの水素化トリブロック又は水素化ペンタブロックコポリマーを挙げることができ、水素化トリブロックコポリマーがより好ましい。
そして、環状ポリオレフィン（ａ）の好ましい一態様としては、スチレンとブタジエンの水素化トリブロック又は水素化ペンタブロックコポリマーを挙げることができ、水素化トリブロックコポリマーがより好ましい。
【0042】
（水素化レベル）
環状ポリオレフィン（ａ）は、ブタジエンなどの共役ジエンに由来する二重結合に加えて、スチレンなどに由来する芳香族環も水素化されるものであり、実質的に完全に水素化されている。具体的には、以下に示す水素化レベルを達成しているものをいう。
前記水素化芳香族ビニルポリマーブロック単位の水素化レベルは、好ましくは９０％以上、より好ましくは９５％以上、更に好ましくは９８％以上、特に好ましくは９９．５％以上である。
前記水素化共役ジエンポリマーブロック単位の水素化レベルは、好ましくは９５％以上、より好ましくは９９％以上、更に好ましくは９９．５％以上である。
このように高レベルの水素化をすることによって、誘電損失を低減することができ、剛性と耐熱性も良好となる。
なお、水素化芳香族ビニルポリマーブロック単位の水素化レベルとは、芳香族ビニルポリマーブロック単位が水素化によって飽和される割合を示す。水素化共役ジエンポリマーブロック単位の水素化レベルとは、共役ジエンポリマーブロック単位が水素化によって飽和される割合を示す。
なお、各ブロック単位の水素化レベルは、プロトンＮＭＲを用いて決定される。
環状ポリオレフィン（ａ）は、ブタジエンなどの共役ジエンに由来する二重結合に加えて、スチレンなどに由来する芳香族環も水素化されるものであり、実質的に完全に水素化されている。具体的には、以下に示す水素化レベルを達成しているものをいう。
前記水素化芳香族ビニルポリマーブロック単位の水素化レベルは、好ましくは９０％以上、より好ましくは９５％以上、更に好ましくは９８％以上、特に好ましくは９９．５％以上である。
前記水素化共役ジエンポリマーブロック単位の水素化レベルは、好ましくは９５％以上、より好ましくは９９％以上、更に好ましくは９９．５％以上である。
このように高レベルの水素化をすることによって、誘電損失を低減することができ、剛性と耐熱性も良好となる。
なお、水素化芳香族ビニルポリマーブロック単位の水素化レベルとは、芳香族ビニルポリマーブロック単位が水素化によって飽和される割合を示す。水素化共役ジエンポリマーブロック単位の水素化レベルとは、共役ジエンポリマーブロック単位が水素化によって飽和される割合を示す。
なお、各ブロック単位の水素化レベルは、プロトンＮＭＲを用いて決定される。
【0043】
環状ポリオレフィン樹脂共重合体は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
本組成物における環状ポリオレフィン樹脂共重合体としては、市販のものを用いることができ、具体的には三菱ケミカル社製：テファブロック（商標登録）が挙げられる。
本組成物における環状ポリオレフィン樹脂共重合体としては、市販のものを用いることができ、具体的には三菱ケミカル社製：テファブロック（商標登録）が挙げられる。
【0044】
上記で例示した炭化水素系高分子化合物（Ａ）の中でも、特に炭化水素系高分子化合物（Ａ）自体がラジカル重合性化合物（Ｂ）と反応しにくいような組み合わせを選択した場合には、炭化水素系高分子化合物（Ａ）とラジカル重合性化合物（Ｂ）とが相互侵入高分子網目構造（以下、「セミＩＰＮ構造」ともいう。）を形成し、低誘電特性と耐熱性をより良好にできると考えられる。セミＩＰＮ構造は、炭化水素系高分子化合物（Ａ）とラジカル重合性化合物（Ｂ）とが化学的結合を形成するのではなく、炭化水素系高分子化合物（Ａ）とラジカル重合性化合物（Ｂ）の分子鎖同士が互いに部分的かつ物理的に絡み合った構造である。このセミＩＰＮ構造を形成することで、炭化水素系高分子化合物（Ａ）の低誘電特性を維持しながら、炭化水素系高分子化合物（Ａ）単体に比べて疑似的に架橋密度が高くなる。そのため、弾性率が向上して耐熱性が良好となると考えられる。この観点からは、上記の炭化水素系高分子化合物（Ａ）の中でも、スチレン系熱可塑性エラストマーが好ましく、スチレン－イソブチレン－スチレン－ブロック共重合体（ＳＩＢＳ）又はスチレン－エチレン－ブタジエン－スチレンブロック共重合体（ＳＥＢＳ）がより好ましく、スチレン－エチレン－ブタジエン－スチレンブロック共重合体（ＳＥＢＳ）がさらに好ましい。
【0045】
炭化水素系高分子化合物（Ａ）としてスチレン系熱可塑性エラストマーを用いる場合、スチレン含有量は、１０質量％以上が好ましく、１５質量％以上がより好ましい。また、スチレン含有量は、７０質量％以下が好ましく、６０質量％以下がより好ましく、５０質量％以下がさらに好ましく、４０質量％以下がよりさらに好ましい。
スチレン含有量が上記範囲内であると、炭化水素系高分子化合物（Ａ）の誘電正接が低く、弾性率も適度な値となるため、低誘電特性と耐熱性を両立でき、ハンドリング性も良好となる。
スチレン含有量が上記範囲内であると、炭化水素系高分子化合物（Ａ）の誘電正接が低く、弾性率も適度な値となるため、低誘電特性と耐熱性を両立でき、ハンドリング性も良好となる。
【0046】
また、接着性の向上、耐熱性の向上、熱膨張率の低減やタック性の低減などの観点から、炭化水素系高分子化合物（Ａ）として、スチレン系熱可塑性エラストマー、オレフィン系熱可塑性エラストマー及びエチレン系重合体からなる群から選ばれる少なくとも１種の熱可塑性樹脂（以下（Ａ１）ともいう）並びに、環状ポリオレフィン樹脂共重合体（以下（Ａ２）ともいう）を含有するのが好ましい。
接着性、耐熱性、線熱膨張率やタック性などが良好となる理由は定かではないが、前記（Ａ１）とともに前記（Ａ２）を含有することで、分子内に前記（Ａ２）に由来する剛直な骨格が取り入れられるためと考えられる。
前記（Ａ１）の中でも、低誘電特性、及び加工性の観点からスチレン系熱可塑性エラストマーが好ましく、スチレン－エチレン－ブタジエン－スチレンブロック共重合体（ＳＥＢＳ）がより好ましい。
接着性、耐熱性、線熱膨張率やタック性などが良好となる理由は定かではないが、前記（Ａ１）とともに前記（Ａ２）を含有することで、分子内に前記（Ａ２）に由来する剛直な骨格が取り入れられるためと考えられる。
前記（Ａ１）の中でも、低誘電特性、及び加工性の観点からスチレン系熱可塑性エラストマーが好ましく、スチレン－エチレン－ブタジエン－スチレンブロック共重合体（ＳＥＢＳ）がより好ましい。
【0047】
本組成物が炭化水素系高分子化合物（Ａ）として前記（Ａ１）及び（Ａ２）を含む場合、（Ａ１）を主成分とすることが好ましい。
なお、炭化水素系高分子化合物（Ａ）における「主成分」とは、本組成物に含まれる炭化水素系高分子化合物（Ａ）として含有量が最も多い樹脂をいい、より具体的には、炭化水素系高分子化合物（Ａ）全量を１００質量％としたときに、１００質量％を上限として、好ましくは５０質量％以上、より好ましくは５５質量％以上、さらに好ましくは６０質量％以上を占める樹脂をいう。
なお、炭化水素系高分子化合物（Ａ）における「主成分」とは、本組成物に含まれる炭化水素系高分子化合物（Ａ）として含有量が最も多い樹脂をいい、より具体的には、炭化水素系高分子化合物（Ａ）全量を１００質量％としたときに、１００質量％を上限として、好ましくは５０質量％以上、より好ましくは５５質量％以上、さらに好ましくは６０質量％以上を占める樹脂をいう。
【0048】
また、本組成物が炭化水素系高分子化合物（Ａ）として（Ａ１）及び（Ａ２）を含む場合、（Ａ２）の含有量は、線熱膨張率の低減やタック性の低減の観点から、本組成物の樹脂成分のうち１０質量％以上が好ましく、１５質量％以上がより好ましく、２０質量％以上がさらに好ましい。一方上限は柔軟性や基材への密着性の観点から、４０質量％以下が好ましく、３８質量％以下がより好ましく、３５質量％以下がさらに好ましい。
なお、本発明において「樹脂成分」とは、本組成物に含まれる炭化水素系高分子化合物（Ａ）及び必要に応じて添加されるその他の樹脂をいう。
なお、本発明において「樹脂成分」とは、本組成物に含まれる炭化水素系高分子化合物（Ａ）及び必要に応じて添加されるその他の樹脂をいう。
【0049】
炭化水素系高分子化合物（Ａ）の質量平均分子量（Ｍｗ）は、得られる樹脂シートにタック性が生じにくいようにする観点から、３０，０００以上が好ましく、４０，０００以上がより好ましく、５０，０００以上がさらに好ましい。一方、製膜時のハンドリング性の観点から、３００，０００以下が好ましく、２５０，０００以下がより好ましく、２００，０００以下がさらに好ましい。
なお、本発明における質量平均分子量（Ｍｗ）は、ゲル浸透クロマトグラフィーにて測定したポリスチレン換算の値である。
なお、本発明における質量平均分子量（Ｍｗ）は、ゲル浸透クロマトグラフィーにて測定したポリスチレン換算の値である。
【0050】
炭化水素系高分子化合物（Ａ）は、公知の方法により変性されていてもよい。変性体としては、例えば、上記例示した炭化水素系高分子化合物（Ａ）と不飽和カルボン酸及びその無水物の少なくとも一方との反応物が挙げられる。
炭化水素系高分子化合物（Ａ）を変性することによりポリマーの極性が大きくなるので、銅箔等の金属層との接着性向上が期待できる。
炭化水素系高分子化合物（Ａ）を変性することによりポリマーの極性が大きくなるので、銅箔等の金属層との接着性向上が期待できる。
【0051】
上記不飽和カルボン酸及びその無水物の少なくとも一方としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、α－エチルアクリル酸、マレイン酸、フマール酸、テトラヒドロフタル酸、メチルテトラヒドロフタル酸、イタコン酸、シトラコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、ナジック酸類等の不飽和カルボン酸、及びこれらの無水物が挙げられる。
また、酸無水物としては、具体的には、無水マレイン酸、無水シトラコン酸、無水ナジック酸類が挙げられる。
なお、ナジック酸類又はその無水物としては、エンドシス－ビシクロ［２．２．１］ヘプト－２，３－ジカルボン酸（ナジック酸）、メチル－エンドシス－ビシクロ［２．２．１］ヘプト－５－エン－２，３－ジカルボン酸（メチルナジック酸）等及びその無水物が挙げられる。
また、酸無水物としては、具体的には、無水マレイン酸、無水シトラコン酸、無水ナジック酸類が挙げられる。
なお、ナジック酸類又はその無水物としては、エンドシス－ビシクロ［２．２．１］ヘプト－２，３－ジカルボン酸（ナジック酸）、メチル－エンドシス－ビシクロ［２．２．１］ヘプト－５－エン－２，３－ジカルボン酸（メチルナジック酸）等及びその無水物が挙げられる。
【0052】
これらの不飽和カルボン酸及びその無水物の少なくとも一方の中では、アクリル酸、マレイン酸、ナジック酸、無水マレイン酸、無水ナジック酸が好ましい。
不飽和カルボン酸及びその無水物の少なくとも一方は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
不飽和カルボン酸及びその無水物の少なくとも一方は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【0053】
本組成物における炭化水素系高分子化合物（Ａ）の含有量は、低誘電特性の観点から、本組成物の樹脂成分のうち６０質量％以上が好ましく、７０質量％以上がより好ましく、８０質量％以上がさらに好ましく、８５質量％以上がよりさらに好ましい。前記含有量の上限は特に限定されず、本組成物の樹脂成分が炭化水素系高分子化合物（Ａ）のみ（１００質量％）であってもよい。
なお、本発明において「樹脂成分」とは、本組成物に含まれる炭化水素系高分子化合物（Ａ）及び必要に応じて添加されるその他の樹脂をいう。
なお、本発明において「樹脂成分」とは、本組成物に含まれる炭化水素系高分子化合物（Ａ）及び必要に応じて添加されるその他の樹脂をいう。
【0054】
炭化水素系高分子化合物（Ａ）の２４℃における貯蔵弾性率は、０．１ＭＰａ以上が好ましく、１ＭＰａ以上がより好ましい。また、前記貯蔵弾性率は、２０００ＭＰａ未満が好ましく、１５００ＭＰａ未満がより好ましく、１０００ＭＰａ未満がさらに好ましく、５００ＭＰａ未満がよりさらに好ましく、３００ＭＰａ未満がいっそう好ましく、１００ＭＰａ未満がよりいっそう好ましく、５０ＭＰａ未満がさらにいっそう好ましい。
貯蔵弾性率を上記の上限値未満とすることで、得られるシート硬化物の柔軟性が良好となる。また、貯蔵弾性率を上記の下限値以上とすることで、得られるシート硬化物の耐熱性やハンドリング性が良好となる。
貯蔵弾性率を上記の上限値未満とすることで、得られるシート硬化物の柔軟性が良好となる。また、貯蔵弾性率を上記の下限値以上とすることで、得られるシート硬化物の耐熱性やハンドリング性が良好となる。
【0055】
上記貯蔵弾性率は、炭化水素系高分子化合物（Ａ）を厚み３００μｍのシート状に成形して試験片とし、粘弾性スペクトロメーターで動的粘弾性を測定することによって求めた値である。測定条件は、実施例に記載の条件と同じであってよい。
【0056】
炭化水素系高分子化合物（Ａ）の密度は、０．９８ｇ／ｃｍ３以下が好ましく、０．９５ｇ／ｃｍ３以下がより好ましく、０．９１ｇ／ｃｍ３以下がさらに好ましい。一方、前記密度の下限は特に限定されないが、０．８０ｇ／ｃｍ３以上が好ましい。
密度が上記の値以下であることで、得られるシート硬化物の柔軟性が良好となる。
密度が上記の値以下であることで、得られるシート硬化物の柔軟性が良好となる。
【0057】
上記密度は、炭化水素系高分子化合物（Ａ）を厚み３００μｍのシート状に成形して試験片とし、ＡＳＴＭ Ｄ７９２に準拠して測定することができる。
【0058】
炭化水素系高分子化合物（Ａ）の誘電正接は、１０ＧＨｚにおいて０．００２未満が好ましく、０．００１５未満がより好ましく、０．００１未満がさらに好ましい。一方、下限は特に限定されず、０以上であればよい。
誘電正接が小さければ小さいほど誘電損失が小さいので、本組成物を回路基板材料とした際の電気信号の伝達効率、高速化が得られる。
誘電正接が小さければ小さいほど誘電損失が小さいので、本組成物を回路基板材料とした際の電気信号の伝達効率、高速化が得られる。
【0059】
上記誘電正接は、炭化水素系高分子化合物（Ａ）を厚み３００μｍのシート状に成形して試験片とし、ＪＩＳ Ｃ２５６５：１９９２に準拠して温度２３℃、周波数１０ＧＨｚの条件で測定して求めた値である。
【0060】
２．ラジカル重合性化合物（Ｂ）
ラジカル重合性化合物（Ｂ）は、分子内に２つ以上のエチレン性不飽和結合を有する化合物である。ラジカル重合性化合物（Ｂ）は、２官能、及び３官能以上のいずれであってもよい。
ラジカル重合性化合物（Ｂ）は、リン原子を含まない。
ラジカル重合性化合物（Ｂ）は、分子内に２つ以上のエチレン性不飽和結合を有する化合物である。ラジカル重合性化合物（Ｂ）は、２官能、及び３官能以上のいずれであってもよい。
ラジカル重合性化合物（Ｂ）は、リン原子を含まない。
【0061】
２官能のラジカル重合性化合物（Ｂ）としては、ジビニルベンゼン、ジビニルナフタレン、及びジビニルビフェニル等の２官能芳香族ビニル化合物；エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，３－ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，４－ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、３－メチル－１，５－ペンタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６－ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、２－ブチル－２－エチル－１，３－プロパンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９－ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、１，１０－デカンジオールジ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、及びエトキシ化２－メチル－１，３－プロパンジオールジ（メタ）アクリレート等の２官能脂肪族（メタ）アクリレート化合物；シクロヘキサンジメタノールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化シクロヘキサンジメタノールジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化シクロヘキサンジメタノールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化プロポキシ化シクロヘキサンジメタノールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化プロポキシ化トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化水添ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化水添ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、エトキシ化プロポキシ化水添ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、エトキシ化水添ビスフェノールＦジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化水添ビスフェノールＦジ（メタ）アクリレート、及びエトキシ化プロポキシ化水添ビスフェノールＦジ（メタ）アクリレート等の２官能脂環式（メタ）アクリレート化合物；エトキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、エトキシ化プロポキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ビスフェノールＦジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ビスフェノールＦジ（メタ）アクリレート、エトキシ化プロポキシ化ビスフェノールＦジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ビスフェノールＡＦジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ビスフェノールＡＦジ（メタ）アクリレート、エトキシ化プロポキシ化ビスフェノールＡＦジ（メタ）アクリレート、エトキシ化フルオレン型ジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化フルオレン型ジ（メタ）アクリレート、及びエトキシ化プロポキシ化フルオレン型ジ（メタ）アクリレート等の２官能芳香族（メタ）アクリレート化合物；エトキシ化イソシアヌル酸ジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化イソシアヌル酸ジ（メタ）アクリレート、エトキシ化プロポキシ化イソシアヌル酸ジ（メタ）アクリレート等の２官能複素環式（メタ）アクリレート化合物等が挙げられる。
【0062】
３官能以上のラジカル重合性化合物（Ｂ）としては、トリアリルシアヌレート、及びトリアリルイソシアヌレート等のトリアルケニルイソシアヌレート化合物；トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エトキシ化プロポキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、エトキシ化プロポキシ化ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、エトキシ化プロポキシ化ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、及びジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等の多官能脂肪族（メタ）アクリレート化合物；エトキシ化イソシアヌル酸トリ（メタ）アクリレート、プロポキシ化イソシアヌル酸トリ（メタ）アクリレート、及びエトキシ化プロポキシ化イソシアヌル酸トリ（メタ）アクリレート等の多官能複素環式（メタ）アクリレート化合物等が挙げられる。
【0063】
上記の中でも、炭化水素系高分子化合物（Ａ）としてスチレン系熱可塑性エラストマーを用いる場合は、スチレン系熱可塑性エラストマーに対して適度な相容性を示す観点から、２官能芳香族ビニル化合物、及びトリアルケニルイソシアヌレート化合物からなる群から選ばれる少なくとも１種が好ましく、その中でもジビニルベンゼン又はトリアリルイソシアヌレートがより好ましく、低誘電特性の観点から、トリアルケニルイソシアヌレートがさらに好ましい。
【0064】
ラジカル重合性化合物（Ｂ）は、分子内に極性官能基を有しないか、あるいは極性官能基数が少ないことが好ましい。ラジカル重合性化合物（Ｂ）が環状構造を有する場合は、置換基に極性官能基を有しないか、あるいは極性官能基が少ないことが好ましい。
極性官能基が少ないと、炭化水素系高分子化合物（Ａ）に対する相容性が良好となり、得られるシート硬化物の誘電正接も低くなる。
極性官能基とは、陰性原子（例えば、窒素、酸素、塩素、フッ素等）を有し、正味の双極子を有する官能基を意味する。例えば、エステル基、カルボニル基、カルボキシル基、ヒドロキシ基、アミド基、アミノ基等が挙げられる。
ラジカル重合性化合物（Ｂ）がエステル基を有する場合、ラジカル重合性化合物（Ｂ）の極性官能基当量（ラジカル重合性化合物（Ｂ）の分子量／極性官能基の分子量（極性官能基が複数ある場合は、その合計量））は、２以上が好ましく、３以上がより好ましく、４以上がさらに好ましく、５以上がよりさらに好ましく、６以上がいっそう好ましい。
極性官能基が少ないと、炭化水素系高分子化合物（Ａ）に対する相容性が良好となり、得られるシート硬化物の誘電正接も低くなる。
極性官能基とは、陰性原子（例えば、窒素、酸素、塩素、フッ素等）を有し、正味の双極子を有する官能基を意味する。例えば、エステル基、カルボニル基、カルボキシル基、ヒドロキシ基、アミド基、アミノ基等が挙げられる。
ラジカル重合性化合物（Ｂ）がエステル基を有する場合、ラジカル重合性化合物（Ｂ）の極性官能基当量（ラジカル重合性化合物（Ｂ）の分子量／極性官能基の分子量（極性官能基が複数ある場合は、その合計量））は、２以上が好ましく、３以上がより好ましく、４以上がさらに好ましく、５以上がよりさらに好ましく、６以上がいっそう好ましい。
【0065】
ラジカル重合性化合物（Ｂ）の質量平均分子量（Ｍｗ）は、１００以上が好ましく、１２０以上がより好ましい。また、上記質量平均分子量（Ｍｗ）は、３，０００以下が好ましく、２，０００以下がより好ましく、１，０００以下がさらに好ましく、８００以下がよりさらに好ましく、６００以下がいっそう好ましい。
ラジカル重合性化合物（Ｂ）の質量平均分子量（Ｍｗ）が上記範囲内であることで、硬化時に炭化水素系高分子化合物（Ａ）、ラジカル重合性化合物（Ｂ）及びリン系化合物（Ｃ）の分子鎖同士が絡み合いやすくなり、疑似的に架橋密度を高くしやすくなるため、得られるシート硬化物の耐熱性が良好となる。
なお、ラジカル重合性化合物（Ｂ）が一部架橋したものや重合物でない場合、「ラジカル重合性化合物（Ｂ）の質量平均分子量（Ｍｗ）」とはラジカル重合性化合物（Ｂ）として用いる化合物の分子量を意味する。
ラジカル重合性化合物（Ｂ）の質量平均分子量（Ｍｗ）が上記範囲内であることで、硬化時に炭化水素系高分子化合物（Ａ）、ラジカル重合性化合物（Ｂ）及びリン系化合物（Ｃ）の分子鎖同士が絡み合いやすくなり、疑似的に架橋密度を高くしやすくなるため、得られるシート硬化物の耐熱性が良好となる。
なお、ラジカル重合性化合物（Ｂ）が一部架橋したものや重合物でない場合、「ラジカル重合性化合物（Ｂ）の質量平均分子量（Ｍｗ）」とはラジカル重合性化合物（Ｂ）として用いる化合物の分子量を意味する。
【0066】
本組成物におけるラジカル重合性化合物（Ｂ）の含有量は、炭化水素系高分子化合物（Ａ）１００質量部に対して１質量部以上５０質量部以下が好ましく、３質量部以上３０質量部以下がより好ましく、５質量部以上２０質量部以下がさらに好ましい。
ラジカル重合性化合物（Ｂ）の含有量が上記範囲内であると、炭化水素系高分子化合物（Ａ）の誘電特性を低下させることなく、疑似的に架橋密度を高くしやすくなるため、得られるシート硬化物の誘電特性と耐熱性が良好となる。
ラジカル重合性化合物（Ｂ）の含有量が上記範囲内であると、炭化水素系高分子化合物（Ａ）の誘電特性を低下させることなく、疑似的に架橋密度を高くしやすくなるため、得られるシート硬化物の誘電特性と耐熱性が良好となる。
【0067】
３．リン系化合物（Ｃ）
本組成物は、難燃剤としてエチレン性不飽和結合を有するリン系化合物（Ｃ）を含有する。
一般的に、難燃剤としては、ハロゲン系、リン系、ビニル基含有系、エポキシ基含有系、水酸基含有系等が知られている。この中でも、リン系難燃剤はハロゲン系難燃剤に比べて環境負荷が小さく、誘電特性への影響も比較的少ないため、低誘電特性と難燃性とを両立しやすい傾向がある。
また、リン系難燃剤としては、赤リン、リン酸エステル化合物、リン酸塩、ハロゲン化リン等、重合性を有しないものと、重合性を有するものが知られている。本発明では、これらの中でも重合性を有するもの、すなわちエチレン性不飽和結合を有するリン系化合物（Ｃ）を用いることで、炭化水素系高分子化合物（Ａ）及びラジカル重合性化合物（Ｂ）の架橋構造に組み込まれやすいため、低誘電特性を維持しながら、難燃性と導体との密着性を両立できる。
本組成物は、難燃剤としてエチレン性不飽和結合を有するリン系化合物（Ｃ）を含有する。
一般的に、難燃剤としては、ハロゲン系、リン系、ビニル基含有系、エポキシ基含有系、水酸基含有系等が知られている。この中でも、リン系難燃剤はハロゲン系難燃剤に比べて環境負荷が小さく、誘電特性への影響も比較的少ないため、低誘電特性と難燃性とを両立しやすい傾向がある。
また、リン系難燃剤としては、赤リン、リン酸エステル化合物、リン酸塩、ハロゲン化リン等、重合性を有しないものと、重合性を有するものが知られている。本発明では、これらの中でも重合性を有するもの、すなわちエチレン性不飽和結合を有するリン系化合物（Ｃ）を用いることで、炭化水素系高分子化合物（Ａ）及びラジカル重合性化合物（Ｂ）の架橋構造に組み込まれやすいため、低誘電特性を維持しながら、難燃性と導体との密着性を両立できる。
【0068】
リン系化合物（Ｃ）は、ホスホナート骨格又はホスフィンオキシド骨格を有する化合物のリン原子に少なくとも１つ以上のエチレン性不飽和結合を有する基が結合している化合物である。
具体的には、例えば、ジメチルビニルホスホナート、ジエチルビニルホスホナート、ジフェニルビニルホスホナート、ジフェニルビニルホスフィンオキシド、９，１０－ジヒドロ－９－オキサ－１０－ビニル－１０－ホスファフェナントレン－１０－オキシド、フェニルビニルホスホン酸エチルエステル、フェニルビニルホスフィン酸等が挙げられる。
上記の中でも、炭化水素系高分子化合物（Ａ）との相溶性及び低誘電特性の観点から、芳香族基を有するジフェニルビニルホスホナート、ジフェニルビニルホスフィンオキシド、９，１０－ジヒドロ－９－オキサ－１０－ビニル－１０－ホスファフェナントレン－１０－オキシド、フェニルビニルホスホン酸エチルエステル、フェニルビニルホスフィン酸からなる群から選ばれる少なくとも１種を用いることが好ましく、さらにその中でも、ジフェニルビニルホスホナート、ジフェニルビニルホスフィンオキシドがより好ましい。リン系化合物（Ｃ）が炭化水素系高分子化合物（Ａ）と相溶することで、組成物中の分散性が高くなり、導体との密着性の向上が期待できるうえ、芳香族基による分極及び分子運動性の抑制によって、低誘電特性が良好となる。
具体的には、例えば、ジメチルビニルホスホナート、ジエチルビニルホスホナート、ジフェニルビニルホスホナート、ジフェニルビニルホスフィンオキシド、９，１０－ジヒドロ－９－オキサ－１０－ビニル－１０－ホスファフェナントレン－１０－オキシド、フェニルビニルホスホン酸エチルエステル、フェニルビニルホスフィン酸等が挙げられる。
上記の中でも、炭化水素系高分子化合物（Ａ）との相溶性及び低誘電特性の観点から、芳香族基を有するジフェニルビニルホスホナート、ジフェニルビニルホスフィンオキシド、９，１０－ジヒドロ－９－オキサ－１０－ビニル－１０－ホスファフェナントレン－１０－オキシド、フェニルビニルホスホン酸エチルエステル、フェニルビニルホスフィン酸からなる群から選ばれる少なくとも１種を用いることが好ましく、さらにその中でも、ジフェニルビニルホスホナート、ジフェニルビニルホスフィンオキシドがより好ましい。リン系化合物（Ｃ）が炭化水素系高分子化合物（Ａ）と相溶することで、組成物中の分散性が高くなり、導体との密着性の向上が期待できるうえ、芳香族基による分極及び分子運動性の抑制によって、低誘電特性が良好となる。
【0069】
本組成物におけるリン系化合物（Ｃ）の含有量は、炭化水素系高分子化合物（Ａ）１００質量部に対して１質量部以上５０質量部以下が好ましく、３質量部以上３５質量部以下がより好ましく、５質量部以上３０質量部以下がさらに好ましい。
リン系化合物（Ｃ）の含有量が上記範囲内であると、低誘電特性と難燃性が両立しやすい。
リン系化合物（Ｃ）の含有量が上記範囲内であると、低誘電特性と難燃性が両立しやすい。
【0070】
リン系化合物（Ｃ）のリン含有量は、１質量％以上４０質量％以下が好ましく、５質量％以上３０質量％以下がより好ましく、７質量％以上２５質量％以下がさらに好ましい。
リン含有量が上記下限値以上であることで効果的に樹脂組成物の難燃性を向上することができ、上記上限値以下であることで樹脂組成物の低誘電特性を維持することができる。
なお、リン含有量は、例えば原子吸光光度法により測定することができる。
リン含有量が上記下限値以上であることで効果的に樹脂組成物の難燃性を向上することができ、上記上限値以下であることで樹脂組成物の低誘電特性を維持することができる。
なお、リン含有量は、例えば原子吸光光度法により測定することができる。
【0071】
４．有機過酸化物（Ｄ）
本組成物は、硬化反応の促進を目的として、有機過酸化物（Ｄ）を含有してもよい。
上記有機過酸化物としては、例えば、ハイドロパーオキサイド、ジアルキルパーオキサイド、ジアシルパーオキサイド、パーオキシエステル及びケトンパーオキサイドからなる群に含まれるものが挙げられる。
具体的には、キュメンハイドロパーオキサイド、ｔｅｒｔ－ブチルハイドロパーオキサイド等のハイドロパーオキサイド；ジクミルパーオキサイド、ジｔｅｒｔ－ブチルパーオキサイド、２，５－ジメチル－２，５－ジ（ｔｅｒｔ－ブチルパーオキシ）ヘキサン、２，５－ビス（ｔｅｒｔ－ブチルパーオキシ）－２，５－ジメチル－３－ヘキシン、α，α－ジ（ｔｅｒｔ－ブチルパーオキシイソプロピル）ベンゼン等のジアルキルパーオキサイド；ラウリルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド等のジアシルパーオキサイド；ｔｅｒｔ－ブチルパーオキシアセテート、ｔｅｒｔ－ブチルパーオキシベンゾエイト、ｔｅｒｔ－ブチルパーオキシイソプロピルカーボネート等のパーオキシエステル；シクロヘキサノンパーオキサイド等のケトンパーオキサイドが挙げられる。
本組成物は、硬化反応の促進を目的として、有機過酸化物（Ｄ）を含有してもよい。
上記有機過酸化物としては、例えば、ハイドロパーオキサイド、ジアルキルパーオキサイド、ジアシルパーオキサイド、パーオキシエステル及びケトンパーオキサイドからなる群に含まれるものが挙げられる。
具体的には、キュメンハイドロパーオキサイド、ｔｅｒｔ－ブチルハイドロパーオキサイド等のハイドロパーオキサイド；ジクミルパーオキサイド、ジｔｅｒｔ－ブチルパーオキサイド、２，５－ジメチル－２，５－ジ（ｔｅｒｔ－ブチルパーオキシ）ヘキサン、２，５－ビス（ｔｅｒｔ－ブチルパーオキシ）－２，５－ジメチル－３－ヘキシン、α，α－ジ（ｔｅｒｔ－ブチルパーオキシイソプロピル）ベンゼン等のジアルキルパーオキサイド；ラウリルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド等のジアシルパーオキサイド；ｔｅｒｔ－ブチルパーオキシアセテート、ｔｅｒｔ－ブチルパーオキシベンゾエイト、ｔｅｒｔ－ブチルパーオキシイソプロピルカーボネート等のパーオキシエステル；シクロヘキサノンパーオキサイド等のケトンパーオキサイドが挙げられる。
【0072】
本組成物における有機過酸化物（Ｄ）の含有量は、炭化水素系高分子化合物（Ａ）１００質量部に対して０．０１質量部以上５質量部以下が好ましく、０．０５質量部以上３質量部以下がより好ましく、０．１質量部以上１質量部以下がさらに好ましい。
有機過酸化物（Ｄ）の含有量が上記範囲内であると、硬化反応を促進させつつ、シート硬化物の誘電特性を低く維持することができる。
有機過酸化物（Ｄ）の含有量が上記範囲内であると、硬化反応を促進させつつ、シート硬化物の誘電特性を低く維持することができる。
【0073】
５．溶剤（Ｅ）
本組成物から塗布工程を経て樹脂シートを製造する場合には、溶剤（Ｅ）を含有してもよい。
溶剤（Ｅ）は、炭化水素系高分子化合物（Ａ）及びラジカル重合性化合物（Ｂ）が均一に溶解するものであれば特に限定されないが、トルエン、シクロヘキサン、テトラヒドロフラン、キシレン等が挙げられる。
本組成物から塗布工程を経て樹脂シートを製造する場合には、溶剤（Ｅ）を含有してもよい。
溶剤（Ｅ）は、炭化水素系高分子化合物（Ａ）及びラジカル重合性化合物（Ｂ）が均一に溶解するものであれば特に限定されないが、トルエン、シクロヘキサン、テトラヒドロフラン、キシレン等が挙げられる。
【0074】
溶剤（Ｅ）は、樹脂シートの乾燥時に揮発するように、沸点が２００℃以下であることが好ましい。
【0075】
本組成物における溶剤（Ｅ）の含有量は、製膜性の観点から、炭化水素系高分子化合物（Ａ）１００質量部に対して１００質量部以上５００質量部以下が好ましく、２００質量部以上４００質量部以下がより好ましい。
【0076】
６．その他の成分
本組成物は、上記以外の成分として、炭化水素系高分子化合物（Ａ）以外の熱可塑性エラストマー、ラジカル重合性化合物（Ｂ）以外の架橋剤、ドリップ防止剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、酸化防止剤、カップリング剤、可塑剤、着色剤、分散剤、乳化剤、低弾性化剤、希釈剤、消泡剤、イオントラップ剤、増粘剤、レベリング剤、無機粒子、有機粒子等を含有してもよい。
本組成物は、上記以外の成分として、炭化水素系高分子化合物（Ａ）以外の熱可塑性エラストマー、ラジカル重合性化合物（Ｂ）以外の架橋剤、ドリップ防止剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、酸化防止剤、カップリング剤、可塑剤、着色剤、分散剤、乳化剤、低弾性化剤、希釈剤、消泡剤、イオントラップ剤、増粘剤、レベリング剤、無機粒子、有機粒子等を含有してもよい。
【0077】
ラジカル重合性化合物（Ｂ）以外の架橋剤としては、例えば、ビスマレイミド化合物、エポキシ化合物等が挙げられる。
【0078】
ドリップ防止剤としては、フッ素系ドリップ防止剤やシリコンゴム類、層状ケイ酸塩等が挙げられる。ドリップ防止剤を添加すると、燃焼時に樹脂材料の滴下（ドリップ）を防止し、難燃性をさらに向上できる。
【0079】
無機粒子としては、例えば、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、炭酸バリウム、硫酸マグネシウム、硫酸バリウム、硫酸カルシウム、酸化亜鉛、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、アルミナ、水酸化アルミニウム、ヒドロキシアパタイト、シリカ、マグネシウムシリケート、マイカ、タルク、カオリン、クレー、ガラス粉、アスベスト粉、ゼオライト、珪酸白土等が挙げられる。
有機粒子としては、例えば、（メタ）アクリレート系樹脂粒子、スチレン系樹脂粒子、シリコーン系樹脂粒子、ナイロン系樹脂粒子、ポリエチレン系樹脂粒子、ベンゾグアナミン系樹脂粒子、ウレタン系樹脂粒子等が挙げられる。
無機粒子又は有機粒子を含有する場合、その含有量は、本組成物の樹脂成分１００質量部に対して１質量部以上２００質量部以下が好ましく、５質量部以上１５０質量部以下がより好ましく、１０質量部以上１００質量部以下がさらに好ましい。無機粒子又は有機粒子の含有量が上記下限値以上であると、シート硬化物の誘電特性をさらに低くできるうえに、シート硬化物の線熱膨張係数を低減でき、回路基板材料として用いた場合に基板との剥離が起こりにくくなる。一方、無機粒子又は有機粒子の含有量が上記上限値以下であると、シート硬化物の成形性が良好となる。
有機粒子としては、例えば、（メタ）アクリレート系樹脂粒子、スチレン系樹脂粒子、シリコーン系樹脂粒子、ナイロン系樹脂粒子、ポリエチレン系樹脂粒子、ベンゾグアナミン系樹脂粒子、ウレタン系樹脂粒子等が挙げられる。
無機粒子又は有機粒子を含有する場合、その含有量は、本組成物の樹脂成分１００質量部に対して１質量部以上２００質量部以下が好ましく、５質量部以上１５０質量部以下がより好ましく、１０質量部以上１００質量部以下がさらに好ましい。無機粒子又は有機粒子の含有量が上記下限値以上であると、シート硬化物の誘電特性をさらに低くできるうえに、シート硬化物の線熱膨張係数を低減でき、回路基板材料として用いた場合に基板との剥離が起こりにくくなる。一方、無機粒子又は有機粒子の含有量が上記上限値以下であると、シート硬化物の成形性が良好となる。
【0080】
＜樹脂シート＞
本発明の一実施形態に係る樹脂シート（以下、「本樹脂シート」ともいう。）は、本組成物を未硬化の状態でシート状に成形したものである。
本発明の一実施形態に係る樹脂シート（以下、「本樹脂シート」ともいう。）は、本組成物を未硬化の状態でシート状に成形したものである。
【0081】
本樹脂シートの硬化後における厚さは、１０～５００μｍが好ましく、５０～４００μｍがより好ましく、１００～３５０μｍがさらに好ましい。
本樹脂シートの硬化後における厚さが上記下限値以上であると、ハンドリング性が良好となる。また、前記厚さが上記上限値以下であると、本樹脂シートを回路基板材料として用いる場合は、基板の段差への追従性が良好となる。
なお、上記厚さは、本樹脂シートを２００℃、０．２ＭＰａの条件で３０分間熱プレスして得られた硬化物をマイクロメータで測定した値である。
本樹脂シートの硬化後における厚さが上記下限値以上であると、ハンドリング性が良好となる。また、前記厚さが上記上限値以下であると、本樹脂シートを回路基板材料として用いる場合は、基板の段差への追従性が良好となる。
なお、上記厚さは、本樹脂シートを２００℃、０．２ＭＰａの条件で３０分間熱プレスして得られた硬化物をマイクロメータで測定した値である。
【0082】
本樹脂シートの硬化後における比誘電率は、４以下が好ましく、３以下がより好ましく、２．５以下がよりさらに好ましい。一方、前記比誘電率の下限は特に限定されず、１以上であればよい。
また、本樹脂シートの硬化後における誘電正接は、０．００２以下が好ましく、０．００１８以下がより好ましく、０．００１５以下がよりさらに好ましい。一方、前記誘電正接の下限は特に限定されず、０以上であればよい。
なお、上記比誘電率及び誘電正接は、本樹脂シートを２００℃、０．２ＭＰａの条件で３０分間熱プレスして得られた硬化物を試験片とし、ＪＩＳ Ｃ２５６５：１９９２に準拠して温度２３℃、周波数１０ＧＨｚの条件で測定して求めた値である。
また、本樹脂シートの硬化後における誘電正接は、０．００２以下が好ましく、０．００１８以下がより好ましく、０．００１５以下がよりさらに好ましい。一方、前記誘電正接の下限は特に限定されず、０以上であればよい。
なお、上記比誘電率及び誘電正接は、本樹脂シートを２００℃、０．２ＭＰａの条件で３０分間熱プレスして得られた硬化物を試験片とし、ＪＩＳ Ｃ２５６５：１９９２に準拠して温度２３℃、周波数１０ＧＨｚの条件で測定して求めた値である。
【0083】
＜積層体＞
本樹脂シートは、ハンドリング性を良好にするため、一方又は両方の面に離型フィルムを設けて積層体とすることが好ましい。
離型フィルムとしては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン；ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル；ポリイミド；ポリカーボネート等を主成分とする樹脂フィルムを用いることができる。これらの表面にシリコーン樹脂離型剤等を塗布して剥離強度を調整してもよい。
離型フィルムの厚さは、１～３００μｍが好ましく、５～２００μｍがより好ましく、１０～１５０μｍがさらに好ましく、２０～１２０μｍがよりさらに好ましい。
離型フィルムは、樹脂シートと接触する面にマット処理、コロナ処理、帯電防止処理を施してあってもよい。
本樹脂シートは、ハンドリング性を良好にするため、一方又は両方の面に離型フィルムを設けて積層体とすることが好ましい。
離型フィルムとしては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン；ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル；ポリイミド；ポリカーボネート等を主成分とする樹脂フィルムを用いることができる。これらの表面にシリコーン樹脂離型剤等を塗布して剥離強度を調整してもよい。
離型フィルムの厚さは、１～３００μｍが好ましく、５～２００μｍがより好ましく、１０～１５０μｍがさらに好ましく、２０～１２０μｍがよりさらに好ましい。
離型フィルムは、樹脂シートと接触する面にマット処理、コロナ処理、帯電防止処理を施してあってもよい。
【0084】
上記積層体は、コアに捲回されて捲回体としてもよい。
本発明の一実施形態に係る捲回体において、積層体の長さは、好ましくは１０ｍ以上であり、より好ましくは２０ｍ以上である。積層体の長さが１０ｍ以上であることによって、例えば、本樹脂シートをフレキシブル積層板又はストレッチャブル積層板として用いる場合、電子部材を連続して生産することが可能であり、連続製膜性に優れる。なお、前記長さの上限は特に限定されないが、１０００ｍ以下が好ましい。
コアの素材は特に限定されないが、例えば、紙、樹脂含浸紙、アクリロニトリル／ブタジエン／スチレン共重合体（ＡＢＳ樹脂）、繊維強化プラスチック（ＦＲＰ）、フェノール樹脂、無機物含有樹脂等が挙げられる。コアには、接着剤を使用してもよい。
本発明の一実施形態に係る捲回体において、積層体の長さは、好ましくは１０ｍ以上であり、より好ましくは２０ｍ以上である。積層体の長さが１０ｍ以上であることによって、例えば、本樹脂シートをフレキシブル積層板又はストレッチャブル積層板として用いる場合、電子部材を連続して生産することが可能であり、連続製膜性に優れる。なお、前記長さの上限は特に限定されないが、１０００ｍ以下が好ましい。
コアの素材は特に限定されないが、例えば、紙、樹脂含浸紙、アクリロニトリル／ブタジエン／スチレン共重合体（ＡＢＳ樹脂）、繊維強化プラスチック（ＦＲＰ）、フェノール樹脂、無機物含有樹脂等が挙げられる。コアには、接着剤を使用してもよい。
【0085】
＜樹脂シートの製造方法＞
以下、本樹脂シートの製造方法を説明するが、本樹脂シートの製造方法は下記の製造方法に限定されるものではない。
以下、本樹脂シートの製造方法を説明するが、本樹脂シートの製造方法は下記の製造方法に限定されるものではない。
【0086】
［第一の製造方法］
本樹脂シートの第一の製造方法は、樹脂組成物からなる塗工液を調製する塗工液調製工程と、該塗工液をシート状に成形する成形工程と、を含む。
第一の製造方法は、炭化水素系高分子化合物（Ａ）、ラジカル重合性化合物（Ｂ）、リン系化合物（Ｃ）が適度に相容し、硬化後に最適なセミＩＰＮ構造を構築しやすいため、低誘電特性が良好になる点で好ましい。
本樹脂シートの第一の製造方法は、樹脂組成物からなる塗工液を調製する塗工液調製工程と、該塗工液をシート状に成形する成形工程と、を含む。
第一の製造方法は、炭化水素系高分子化合物（Ａ）、ラジカル重合性化合物（Ｂ）、リン系化合物（Ｃ）が適度に相容し、硬化後に最適なセミＩＰＮ構造を構築しやすいため、低誘電特性が良好になる点で好ましい。
【0087】
（１）塗工液調製工程
塗工液調製工程では、炭化水素系高分子化合物（Ａ）、ラジカル重合性化合物（Ｂ）、リン系化合物（Ｃ）並びに必要に応じて添加される有機過酸化物（Ｄ）、溶剤（Ｅ）及びその他の成分を撹拌して均一に混合することで、塗工液を得る。
混合には、例えば、ミキサー、ブレンダー、三本ロール混練装置、ボールミル、ニーダー、単軸混練機又は二軸混練機等の一般的な混合・撹拌装置を用いることができ、混合に際しては、必要に応じて加熱してもよい。
塗工液調製工程では、炭化水素系高分子化合物（Ａ）、ラジカル重合性化合物（Ｂ）、リン系化合物（Ｃ）並びに必要に応じて添加される有機過酸化物（Ｄ）、溶剤（Ｅ）及びその他の成分を撹拌して均一に混合することで、塗工液を得る。
混合には、例えば、ミキサー、ブレンダー、三本ロール混練装置、ボールミル、ニーダー、単軸混練機又は二軸混練機等の一般的な混合・撹拌装置を用いることができ、混合に際しては、必要に応じて加熱してもよい。
【0088】
（２）成形工程
成形工程では、上記塗工液をシート状に成形して、樹脂シートを得る。
上記塗工液をシート状に成形する方法としては、公知の方法を用いることができる。例えば、ドクターブレード法、溶剤キャスト法又は押出成膜法等の方法であってよい。好ましい成形方法としては、以下に示す（２－１）塗布工程及び（２－２）乾燥工程を含む方法が挙げられる。
成形工程では、上記塗工液をシート状に成形して、樹脂シートを得る。
上記塗工液をシート状に成形する方法としては、公知の方法を用いることができる。例えば、ドクターブレード法、溶剤キャスト法又は押出成膜法等の方法であってよい。好ましい成形方法としては、以下に示す（２－１）塗布工程及び（２－２）乾燥工程を含む方法が挙げられる。
【0089】
（２－１）塗布工程
塗布工程では、離型フィルムの表面に塗工液を塗布して、塗膜を形成する。
塗布方法は、ディップ法、スピンコート法、スプレーコート法、ブレード法等の一般的な方法であってよい。塗布には、スピンコーター、スリットコーター、ダイコーター、ブレードコーター等の塗布装置を用いることができ、これにより、離型フィルム上に所定の膜厚の塗膜を均一に形成することが可能である。
塗布工程では、離型フィルムの表面に塗工液を塗布して、塗膜を形成する。
塗布方法は、ディップ法、スピンコート法、スプレーコート法、ブレード法等の一般的な方法であってよい。塗布には、スピンコーター、スリットコーター、ダイコーター、ブレードコーター等の塗布装置を用いることができ、これにより、離型フィルム上に所定の膜厚の塗膜を均一に形成することが可能である。
【0090】
（２－２）乾燥工程
乾燥工程では、上記で形成された塗膜から溶剤が除去される。
乾燥温度は特に限定されないが、通常１０～１５０℃、好ましくは２５～１２０℃、より好ましくは３０～１１０℃である。乾燥温度が上記上限値以下であることで、塗膜中のラジカル重合性化合物（Ｂ）及びリン系化合物（Ｃ）の架橋反応が抑制される。また、乾燥温度が上記下限値以上であることで、樹脂シートの発泡を抑制し、効果的に溶剤を取り除くことができ、生産性が向上する。
乾燥時間は、塗膜の状態、乾燥環境等によって適宜調整することができる。乾燥時間は、好ましくは１分以上であり、より好ましくは２分以上、さらに好ましくは５分以上、よりさらに好ましくは１０分以上、特に好ましくは２０分以上、最も好ましくは３０分以上である。一方、乾燥時間は、好ましくは４時間以下であり、より好ましくは３時間以下であり、さらに好ましくは２時間以下である。
乾燥時間が上記下限以上であることで、十分に溶剤が除去できる。乾燥時間が上記上限以下であることで、生産性が向上し、製造コストを抑制できる。
樹脂組成物中の溶剤は、ホットプレート、熱風炉、ＩＲ加熱炉、真空乾燥機、高周波加
熱機など公知の加熱方法で除去することができる。
乾燥工程では、上記で形成された塗膜から溶剤が除去される。
乾燥温度は特に限定されないが、通常１０～１５０℃、好ましくは２５～１２０℃、より好ましくは３０～１１０℃である。乾燥温度が上記上限値以下であることで、塗膜中のラジカル重合性化合物（Ｂ）及びリン系化合物（Ｃ）の架橋反応が抑制される。また、乾燥温度が上記下限値以上であることで、樹脂シートの発泡を抑制し、効果的に溶剤を取り除くことができ、生産性が向上する。
乾燥時間は、塗膜の状態、乾燥環境等によって適宜調整することができる。乾燥時間は、好ましくは１分以上であり、より好ましくは２分以上、さらに好ましくは５分以上、よりさらに好ましくは１０分以上、特に好ましくは２０分以上、最も好ましくは３０分以上である。一方、乾燥時間は、好ましくは４時間以下であり、より好ましくは３時間以下であり、さらに好ましくは２時間以下である。
乾燥時間が上記下限以上であることで、十分に溶剤が除去できる。乾燥時間が上記上限以下であることで、生産性が向上し、製造コストを抑制できる。
樹脂組成物中の溶剤は、ホットプレート、熱風炉、ＩＲ加熱炉、真空乾燥機、高周波加
熱機など公知の加熱方法で除去することができる。
【0091】
なお、樹脂シート表面の汚染防止や、ハンドリング性の観点から、上記乾燥工程後に、樹脂シートの上に離型フィルムが積層されてもよい。
【0092】
［第二の製造方法］
本樹脂シートの第二の製造方法は、樹脂組成物を離型フィルム上に押し出す製膜工程を含む。
第二の製造方法は、溶剤を使用する必要がないため、コストの点や、多層化が容易である点、及び残留溶剤に起因する不具合が発生しにくい点で好ましい。
本樹脂シートの第二の製造方法は、樹脂組成物を離型フィルム上に押し出す製膜工程を含む。
第二の製造方法は、溶剤を使用する必要がないため、コストの点や、多層化が容易である点、及び残留溶剤に起因する不具合が発生しにくい点で好ましい。
【0093】
製膜工程では、炭化水素系高分子化合物（Ａ）、ラジカル重合性化合物（Ｂ）、リン系化合物（Ｃ）及び必要に応じて添加される有機過酸化物（Ｄ）及びその他の成分を単軸押出機又は二軸押出機で混練し、炭化水素系高分子化合物（Ａ）の融点以上、かつ、ラジカル重合性化合物（Ｂ）の架橋温度未満の温度条件下で、押出機等を用いて離型フィルム上に押し出して製膜を行う。樹脂組成物の押出法は特に限定されないが、より具体的にはＴダイ成形が挙げられる。
【0094】
＜シート硬化物＞
本発明の一実施形態に係るシート硬化物（以下、「本硬化物」ともいう。）は、上記樹脂シートを硬化したものである。
本発明の一実施形態に係るシート硬化物（以下、「本硬化物」ともいう。）は、上記樹脂シートを硬化したものである。
【0095】
上記樹脂シートの硬化温度は、炭化水素系高分子化合物（Ａ）が流動せず、かつ、ラジカル重合性化合物（Ｂ）及びリン系化合物（Ｃ）の架橋反応が進行する温度であればよい。具体的には、１２０～３００℃が好ましく、１４０～２５０℃がより好ましく、１５０～２２０℃がさらに好ましい。
また、上記樹脂シートの硬化時間は特に限定されないが、１０分～１時間が好ましい。
また、上記樹脂シートの硬化時間は特に限定されないが、１０分～１時間が好ましい。
【0096】
＜樹脂組成物、樹脂シート及びシート硬化物の用途＞
本発明の一実施形態に係る樹脂組成物、樹脂シート及びシート硬化物の用途としては、例えば、銅箔積層板、ストレッチャブル基板、フレキシブルプリント基板、多層プリント配線基板、キャパシタ等の電気・電子機器用回路基板材料、アンダーフィル材料、３Ｄ－ＬＳＩ用インターチップフィル、絶縁シート、制振材、接着剤、ソルダーレジスト、半導体封止材、穴埋め樹脂、部品埋め込み樹脂等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
本発明の一実施形態に係る樹脂組成物、樹脂シート及びシート硬化物の用途としては、例えば、銅箔積層板、ストレッチャブル基板、フレキシブルプリント基板、多層プリント配線基板、キャパシタ等の電気・電子機器用回路基板材料、アンダーフィル材料、３Ｄ－ＬＳＩ用インターチップフィル、絶縁シート、制振材、接着剤、ソルダーレジスト、半導体封止材、穴埋め樹脂、部品埋め込み樹脂等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【0097】
＜回路基板材料＞
本発明の一実施形態に係る樹脂シートは、導体と積層することにより回路基板材料とすることができる。
本発明の一実施形態に係る樹脂シートは、導体と積層することにより回路基板材料とすることができる。
【0098】
導体としては、銅、アルミニウム等の導電性金属や、これらの金属を含む合金等からなる金属箔、あるいはメッキやスパッタリングで形成された金属層を用いることができる。
【0099】
電気・電子機器用の回路基板材料として用いる場合、樹脂シートの厚みは、１０μｍ以上５００μｍ以下が好ましい。また、導体の厚みは、０．２μｍ以上７０μｍ以下が好ましい。
【0100】
＜回路基板材料の製造方法＞
本発明における回路基板材料は、例えば、次のような方法で製造できる。
本発明の一実施形態に係る樹脂シートを導体に積層した後、樹脂シートを熱硬化し、絶縁層を形成する。絶縁層の上にさらに導体を積層し、こうした層を必要数重ねる。
樹脂シートの硬化温度は、炭化水素系高分子化合物（Ａ）が流動せず、かつ、ラジカル重合性化合物（Ｂ）及びリン系化合物（Ｃ）の架橋反応が進行する温度であればよい。具体的には、樹脂シートの硬化温度は、１２０～３００℃が好ましく、１４０～２５０℃がより好ましく、１５０～２２０℃がさらに好ましい。
また、硬化時間は特に限定されないが、１０分～１時間が好ましい。
樹脂シートと導体との積層は、樹脂シートに導電性金属箔を直接重ね合わせる方法であってもよく、接着剤を用いて樹脂シートと導電性金属箔とを接着する方法であってもよい。また、メッキやスパッタリングにより導電性金属層を形成する方法であってもよく、これらの方法を組み合わせて行ってもよい。
また、絶縁層に穴あけ加工してビアホールを形成する工程や、絶縁層の表面を粗化処理する工程を含んでもよい。
本発明における回路基板材料は、例えば、次のような方法で製造できる。
本発明の一実施形態に係る樹脂シートを導体に積層した後、樹脂シートを熱硬化し、絶縁層を形成する。絶縁層の上にさらに導体を積層し、こうした層を必要数重ねる。
樹脂シートの硬化温度は、炭化水素系高分子化合物（Ａ）が流動せず、かつ、ラジカル重合性化合物（Ｂ）及びリン系化合物（Ｃ）の架橋反応が進行する温度であればよい。具体的には、樹脂シートの硬化温度は、１２０～３００℃が好ましく、１４０～２５０℃がより好ましく、１５０～２２０℃がさらに好ましい。
また、硬化時間は特に限定されないが、１０分～１時間が好ましい。
樹脂シートと導体との積層は、樹脂シートに導電性金属箔を直接重ね合わせる方法であってもよく、接着剤を用いて樹脂シートと導電性金属箔とを接着する方法であってもよい。また、メッキやスパッタリングにより導電性金属層を形成する方法であってもよく、これらの方法を組み合わせて行ってもよい。
また、絶縁層に穴あけ加工してビアホールを形成する工程や、絶縁層の表面を粗化処理する工程を含んでもよい。
【実施例0101】
以下、実施例により本発明をより詳細に説明するが、本発明は本実施例により何ら限定されるものではない。尚、以下の実施例及び比較例においては、下記の方法により各種物性を測定した。
【0102】
＜原料＞
［炭化水素系高分子化合物（Ａ）］
・ａ－１：スチレン－エチレン－ブタジエン－スチレンブロック共重合体（ＳＥＢＳ：旭化成社製、「タフテックＭ１９４３」）、スチレン含有量２０質量％、貯蔵弾性率（２４℃）＝６．８ＭＰａ、密度＝０．９００ｇ／ｃｍ３、質量平均分子量（Ｍｗ）：約１２０，０００
・ａ－２：環状ポリオレフィン：三菱ケミカル社製、「テファブロック（登録商標）ＣＰ４０２」）、質量平均分子量（Ｍｗ）：約５５，０００、水素化芳香族ビニルポリマーブロック単位：含有率６７モル％、水素化レベル９９％以上の水素化ポリスチレン、水素化共役ジエンポリマーブロック単位：含有率３３モル％、水素化レベル９９％以上の水素化ポリブタジエン、ブロック構造：ペンタブロック構造、合計水素化レベル：９９％以上、結晶融解ピーク温度：７５℃、ＭＦＲ（２３０℃、２．１６ｋｇ）：８５ｇ／１０分
［炭化水素系高分子化合物（Ａ）］
・ａ－１：スチレン－エチレン－ブタジエン－スチレンブロック共重合体（ＳＥＢＳ：旭化成社製、「タフテックＭ１９４３」）、スチレン含有量２０質量％、貯蔵弾性率（２４℃）＝６．８ＭＰａ、密度＝０．９００ｇ／ｃｍ３、質量平均分子量（Ｍｗ）：約１２０，０００
・ａ－２：環状ポリオレフィン：三菱ケミカル社製、「テファブロック（登録商標）ＣＰ４０２」）、質量平均分子量（Ｍｗ）：約５５，０００、水素化芳香族ビニルポリマーブロック単位：含有率６７モル％、水素化レベル９９％以上の水素化ポリスチレン、水素化共役ジエンポリマーブロック単位：含有率３３モル％、水素化レベル９９％以上の水素化ポリブタジエン、ブロック構造：ペンタブロック構造、合計水素化レベル：９９％以上、結晶融解ピーク温度：７５℃、ＭＦＲ（２３０℃、２．１６ｋｇ）：８５ｇ／１０分
【0103】
［ラジカル重合性化合物（Ｂ）］
・ｂ－１：トリアリルイソシアヌレート（ＴＡＩＣ：新菱社製）、質量平均分子量（Ｍｗ）：２５０
・ｂ－１：トリアリルイソシアヌレート（ＴＡＩＣ：新菱社製）、質量平均分子量（Ｍｗ）：２５０
【0104】
［エチレン性不飽和結合を有するリン系化合物（Ｃ）］
・ｃ－１：ジフェニルビニルホスフィンオキシド（高圧ガス工業社製、「ＶＨＰ４」）、リン含有量：１６質量％
・ｃ－２：ジフェニルビニルホスホナート（高圧ガス工業社製、「ＶＨＰ３」）、リン含有量：１２質量％
・ｃ－１：ジフェニルビニルホスフィンオキシド（高圧ガス工業社製、「ＶＨＰ４」）、リン含有量：１６質量％
・ｃ－２：ジフェニルビニルホスホナート（高圧ガス工業社製、「ＶＨＰ３」）、リン含有量：１２質量％
【0105】
［エチレン性不飽和結合を有しないリン系化合物（Ｃ’）］
・ｃ’－１：芳香族基含有ホスホニトリル酸（伏見製薬所社製、「ラビトル（登録商標）ＦＰ－１００」）、リン含有量：１３質量％
・ｃ’－１：芳香族基含有ホスホニトリル酸（伏見製薬所社製、「ラビトル（登録商標）ＦＰ－１００」）、リン含有量：１３質量％
【0106】
［有機過酸化物（Ｄ）］
・ｄ－１：α，α－ジ（ｔｅｒｔ－ブチルパーオキシイソプロピル）ベンゼン（日本油脂社製、「パーブチルＰ」）
・ｄ－１：α，α－ジ（ｔｅｒｔ－ブチルパーオキシイソプロピル）ベンゼン（日本油脂社製、「パーブチルＰ」）
【0107】
［溶剤（Ｅ）］
・ｅ－１：トルエン（含有率：＞９９．０質量％）
・ｅ－１：トルエン（含有率：＞９９．０質量％）
【0108】
＜測定方法＞
（１）誘電特性
シート硬化物の面内方向の比誘電率及び誘電正接を、空洞共振器（ＡＥＴ社製）とネットワークアナライザＭＳ４６ １２２Ｂ（アンリツ社製）を用いてＴＥモードで測定した。測定周波数は１０ＧＨｚとした。
（１）誘電特性
シート硬化物の面内方向の比誘電率及び誘電正接を、空洞共振器（ＡＥＴ社製）とネットワークアナライザＭＳ４６ １２２Ｂ（アンリツ社製）を用いてＴＥモードで測定した。測定周波数は１０ＧＨｚとした。
【0109】
（２）難燃性
Ｕｎｄｅｒｗｒｉｔｅｒｓ Ｌａｂｏｒａｔｏｒｉｅｓ社の安全標準ＵＬ９４垂直燃焼試験の手順に基づき、測定試料の難燃性を評価した。長さ２００ｍｍ×幅５０ｍｍ×厚さ０．１ｍｍの試験片を用いて、ｎ＝５にて樹脂シートの燃焼試験を実施した。ＵＬ９４垂直燃焼試験（ＵＬ９４ＶＴＭ）の判定基準に基づき、下記の基準により評価した。
［評価基準］
Ａ（ｖｅｒｙ ｇｏｏｄ）：１２５ｍｍの標線までの燃焼が無い（ＵＬ９４ＶＴＭ－２、ＶＴＭ－１、ＶＴＭ－０相当）
Ｂ（ｇｏｏｄ）：１２５ｍｍの標線までの各試験片の平均燃焼時間が１０秒以上
Ｃ（ｐｏｏｒ）：１２５ｍｍの標線までの各試験片の平均燃焼時間が１０秒以下
Ｕｎｄｅｒｗｒｉｔｅｒｓ Ｌａｂｏｒａｔｏｒｉｅｓ社の安全標準ＵＬ９４垂直燃焼試験の手順に基づき、測定試料の難燃性を評価した。長さ２００ｍｍ×幅５０ｍｍ×厚さ０．１ｍｍの試験片を用いて、ｎ＝５にて樹脂シートの燃焼試験を実施した。ＵＬ９４垂直燃焼試験（ＵＬ９４ＶＴＭ）の判定基準に基づき、下記の基準により評価した。
［評価基準］
Ａ（ｖｅｒｙ ｇｏｏｄ）：１２５ｍｍの標線までの燃焼が無い（ＵＬ９４ＶＴＭ－２、ＶＴＭ－１、ＶＴＭ－０相当）
Ｂ（ｇｏｏｄ）：１２５ｍｍの標線までの各試験片の平均燃焼時間が１０秒以上
Ｃ（ｐｏｏｒ）：１２５ｍｍの標線までの各試験片の平均燃焼時間が１０秒以下
【0110】
（３）はんだ耐熱性
溶融した３００℃のハンダ浴に、２ｃｍ角に切り出したシート硬化物を１分間浸漬し、状態の変化を観察した。浸漬後のシート硬化物を目視で確認し以下の基準で評価した。
Ａ（ｇｏｏｄ）：樹脂の流れだしが無い。
Ｂ（ｐｏｏｒ）：樹脂の流れ出しが見られる。
溶融した３００℃のハンダ浴に、２ｃｍ角に切り出したシート硬化物を１分間浸漬し、状態の変化を観察した。浸漬後のシート硬化物を目視で確認し以下の基準で評価した。
Ａ（ｇｏｏｄ）：樹脂の流れだしが無い。
Ｂ（ｐｏｏｒ）：樹脂の流れ出しが見られる。
【0111】
（４）銅接着性
各実施例、比較例で得られたシート化前の樹脂組成物をシリコーン離型処理された厚さ５０μｍの離型フィルム（三菱ケミカル社製ＰＥＴフィルム）の離型処理面上にシート状に展開し、樹脂シートを得た。樹脂シートの厚さは、硬化後のシートの厚さが約２０μｍになるように調整した。得られたシートから５ｃｍ×１０ｃｍに切り出した試験片を得た。その試験片の両面に厚さ１８μｍの銅箔（福田金属箔粉社製、「ＣＦ－Ｔ４Ｘ－ＳＶ」）を積層して、積層体を形成した。積層体を２００℃の熱プレス機で約０．２ＭＰａの圧力をかけながら３０分間保持し、樹脂シートを完全に硬化させ、積層体硬化物を得た。得られた積層体硬化物を１ｃｍ幅に切りだし、測定試料を得た。測定試料における銅箔（Ａ）と銅箔（Ｂ）の間の層間剥離強度を、万能験機（島津製作所製）を用いて測定した。チャック間２５ｍｍ、２３℃の環境下で５０ｍｍ／ｍｉｎの１８０°剥離試験で測定した。
各実施例、比較例で得られたシート化前の樹脂組成物をシリコーン離型処理された厚さ５０μｍの離型フィルム（三菱ケミカル社製ＰＥＴフィルム）の離型処理面上にシート状に展開し、樹脂シートを得た。樹脂シートの厚さは、硬化後のシートの厚さが約２０μｍになるように調整した。得られたシートから５ｃｍ×１０ｃｍに切り出した試験片を得た。その試験片の両面に厚さ１８μｍの銅箔（福田金属箔粉社製、「ＣＦ－Ｔ４Ｘ－ＳＶ」）を積層して、積層体を形成した。積層体を２００℃の熱プレス機で約０．２ＭＰａの圧力をかけながら３０分間保持し、樹脂シートを完全に硬化させ、積層体硬化物を得た。得られた積層体硬化物を１ｃｍ幅に切りだし、測定試料を得た。測定試料における銅箔（Ａ）と銅箔（Ｂ）の間の層間剥離強度を、万能験機（島津製作所製）を用いて測定した。チャック間２５ｍｍ、２３℃の環境下で５０ｍｍ／ｍｉｎの１８０°剥離試験で測定した。
【0112】
＜実施例１＞
表１に示した割合で原料を配合し、約８０℃で加熱して原料を完全に溶解させて樹脂組成物を作製した。作製した樹脂組成物をシリコーン離型処理された厚さ５０μｍの離型フィルム（三菱ケミカル社製ＰＥＴフィルム）の離型処理面上にシート状に展開し、樹脂シートを得た。樹脂シートの厚さは、硬化後のシートの厚さが約１００μｍになるように調整した。
離型フィルム上に展開した樹脂シートを１００℃のオーブンで１時間乾燥した後、樹脂シートの上からシリコーン離型処理された厚さ５０μｍの離型フィルム（三菱ケミカル社製ＰＥＴフィルム）を、離型処理面が樹脂シート側になるように積層して積層体を形成した。積層体を２００℃の熱プレス機で約０．２ＭＰａの圧力をかけながら３０分間保持し、樹脂シートを完全に硬化させ、両面の離型フィルムを剥がしてシート硬化物を得た。得られたシート硬化物について、誘電特性、難燃性及びはんだ耐熱性を評価した。
表１に示した割合で原料を配合し、約８０℃で加熱して原料を完全に溶解させて樹脂組成物を作製した。作製した樹脂組成物をシリコーン離型処理された厚さ５０μｍの離型フィルム（三菱ケミカル社製ＰＥＴフィルム）の離型処理面上にシート状に展開し、樹脂シートを得た。樹脂シートの厚さは、硬化後のシートの厚さが約１００μｍになるように調整した。
離型フィルム上に展開した樹脂シートを１００℃のオーブンで１時間乾燥した後、樹脂シートの上からシリコーン離型処理された厚さ５０μｍの離型フィルム（三菱ケミカル社製ＰＥＴフィルム）を、離型処理面が樹脂シート側になるように積層して積層体を形成した。積層体を２００℃の熱プレス機で約０．２ＭＰａの圧力をかけながら３０分間保持し、樹脂シートを完全に硬化させ、両面の離型フィルムを剥がしてシート硬化物を得た。得られたシート硬化物について、誘電特性、難燃性及びはんだ耐熱性を評価した。
【0113】
＜実施例２～５、比較例１、２＞
表１に示した割合に従って原料を配合した以外は実施例１と同様の方法で、シート硬化物を作製した。得られたシート硬化物について、誘電特性、難燃性及びはんだ耐熱性を評価した。
表１に示した割合に従って原料を配合した以外は実施例１と同様の方法で、シート硬化物を作製した。得られたシート硬化物について、誘電特性、難燃性及びはんだ耐熱性を評価した。
【0114】
【表1】
【0115】
実施例１～５より、主鎖に酸素原子を含まない炭化水素系高分子化合物（Ａ）に対してラジカル重合性化合物（Ｂ）及びリン系化合物（Ｃ）を添加することで、低誘電特性を維持しながら、耐熱性、難燃性及び導体との密着性に優れるシート硬化物が得られた。
エチレン性不飽和結合を有しないリン系化合物（Ｃ’）を用いた比較例２では、樹脂との相溶性不良のために難燃性が改善せず、リン系化合物（Ｃ’）が凝集したためか、銅接着性も劣っていた。
エチレン性不飽和結合を有しないリン系化合物（Ｃ’）を用いた比較例２では、樹脂との相溶性不良のために難燃性が改善せず、リン系化合物（Ｃ’）が凝集したためか、銅接着性も劣っていた。
【0116】
なお、上記実施例では炭化水素系高分子化合物（Ａ）としてスチレン系熱可塑性エラストマー以外を用いた例はないが、炭化水素系高分子化合物（Ａ）、ラジカル重合性化合物（Ｂ）及びリン系化合物（Ｃ）の分子鎖同士が絡まり合うことで耐熱性、難燃性及び導体との密着性を向上できるというメカニズムからして、スチレン系熱可塑性エラストマーと同様の効果を期待することができる。