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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024120423
(43)【公開日】2024-09-05
(54)【発明の名称】光学積層体
(51)【国際特許分類】
G02B 5/30 20060101AFI20240829BHJP
H10K 50/10 20230101ALI20240829BHJP
H10K 50/86 20230101ALI20240829BHJP
H10K 59/10 20230101ALI20240829BHJP
C09J 7/30 20180101ALI20240829BHJP
B32B 7/023 20190101ALI20240829BHJP
B32B 9/00 20060101ALI20240829BHJP
【ＦＩ】
G02B5/30
H10K50/10
H10K50/86
H10K59/10
C09J7/30
B32B7/023
B32B9/00 Z
【審査請求】未請求
【請求項の数】6
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2023027215
(22)【出願日】2023-02-24
(71)【出願人】
【識別番号】000002093
【氏名又は名称】住友化学株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】110001195
【氏名又は名称】弁理士法人深見特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】矢野 央人
(72)【発明者】
【氏名】松野 健次
(72)【発明者】
【氏名】小林 直子
【テーマコード（参考）】
2H149
3K107
4F100
4J004
【Ｆターム（参考）】
2H149AA13
2H149AA18
2H149AB13
2H149BA02
2H149BA13
2H149CA02
2H149DA02
2H149DA12
2H149DB04
2H149DB06
2H149EA02
2H149EA03
2H149EA12
2H149EA22
2H149EA23
2H149FA02X
2H149FA03W
2H149FA03Z
2H149FA05X
2H149FA24Y
2H149FA33Y
2H149FA34Y
2H149FA63
2H149FD05
2H149FD09
2H149FD14
3K107AA01
3K107AA05
3K107BB01
3K107CC24
3K107CC32
3K107CC33
3K107CC37
3K107EE26
3K107FF06
3K107FF17
4F100AA05A
4F100AA05H
4F100AJ06C
4F100AK03C
4F100AK21A
4F100AK21D
4F100AK25B
4F100AS00B
4F100AT00C
4F100BA03
4F100BA04
4F100BA07
4F100EC182
4F100EH46C
4F100EJ37A
4F100GB41
4F100JB14B
4F100JD08B
4F100JN10A
4F100JN18B
4J004AB01
4J004EA06
4J004FA08
(57)【要約】
【課題】液晶位相差層を有する位相差板を備えた光学積層体であって、耐熱性が向上した光学積層体を提供する。
【解決手段】直線偏光板と位相差板とをこの順に備え、前記直線偏光板と前記位相差板との間に粘接着層を有しない光学積層体であって、前記直線偏光板は、前記位相差板側の最表面に保護フィルムを有し、直交色相ｂ値が－１５以上－３以下である、光学積層体。
【選択図】図１
【解決手段】直線偏光板と位相差板とをこの順に備え、前記直線偏光板と前記位相差板との間に粘接着層を有しない光学積層体であって、前記直線偏光板は、前記位相差板側の最表面に保護フィルムを有し、直交色相ｂ値が－１５以上－３以下である、光学積層体。
【選択図】図１
【特許請求の範囲】
【請求項1】
直線偏光板と位相差板とをこの順に備え、前記直線偏光板と前記位相差板との間に粘接着層を有しない光学積層体であって、
前記直線偏光板は、前記位相差板側の最表面に保護フィルムを有し、直交色相ｂ値が－１５以上－３以下である、光学積層体。
前記直線偏光板は、前記位相差板側の最表面に保護フィルムを有し、直交色相ｂ値が－１５以上－３以下である、光学積層体。
【請求項2】
前記直線偏光板は、視感度補正単体透過率が４３．０％以上４６．０％以下である、請求項１に記載の光学積層体。
【請求項3】
前記直線偏光板は、直交色相ｂ値が－１５以上－６以下である、請求項１又は２に記載の光学積層体。
【請求項4】
前記位相差板は、液晶化合物の硬化物を含む、請求項１又は２に記載の光学積層体。
【請求項5】
前記光学積層体を、温度８５℃の環境下に５００時間放置した前後での前記位相差板の面内位相差値の変化量の絶対値が０．５ｎｍ以下である、請求項１又は２に記載の光学積層体。
【請求項6】
前記直線偏光板と前記位相差板との間に配向膜を有し、
前記配向膜は、ポリビニルアルコール系樹脂を含む、請求項１又は２に記載の光学積層体。
前記配向膜は、ポリビニルアルコール系樹脂を含む、請求項１又は２に記載の光学積層体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は光学積層体に関する。
【背景技術】
【0002】
従来、画像表示装置において、画像表示パネルの視認側に円偏光板を配置して、外来光の反射による視認性の低下を抑制する方法が採用されている。
【0003】
円偏光板は、直線偏光板と位相差板とが積層された光学積層体である。円偏光板では、画像表示パネルに向かう外来光を直線偏光板により直線偏光に変換し、続く位相差板により円偏光に変換する。円偏光である外来光は、画像表示パネルの表面で反射するものの、この反射の際に偏光面の回転方向が逆転し、位相差板により直線偏光に変換された後、続く直線偏光板により遮光される。その結果、外部への外来光の出射が著しく抑制される。
【0004】
位相差板においては、液晶化合物の硬化物を含む液晶位相差膜を有する構成が知られている（例えば、特許文献１、２）。かかる構成によると、位相差板の薄型化を図ることができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0005】
【特許文献1】特開２０１５－１６３９３５号公報
【特許文献2】特開２０１９－９１０３０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
液晶位相差膜を有する位相差板を備えた光学積層体において、耐熱性が低下する場合があった。
【0007】
本発明は、液晶位相差膜を有する位相差板を備えた光学積層体であって、耐熱性が向上した光学積層体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0008】
本発明は、以下の光学積層体を提供する。
〔１〕 直線偏光板と位相差板とをこの順に備え、前記直線偏光板と前記位相差板との間に粘接着層を有しない光学積層体であって、
前記直線偏光板は、前記位相差板側の最表面に保護フィルムを有し、直交色相ｂ値が－１５以上－３以下である、光学積層体。
〔２〕 前記直線偏光板は、視感度補正単体透過率が４３．０％以上４６．０％以下である、〔１〕に記載の光学積層体。
〔３〕 前記直線偏光板は、直交色相ｂ値が－１５以上－６以下である、〔１〕又は〔２〕に記載の光学積層体。
〔４〕 前記位相差板は、液晶化合物の硬化物を含む、〔１〕～〔３〕のいずれか１項に記載の光学積層体。
〔５〕 前記光学積層体を、温度８５℃の環境下に５００時間放置した前後での前記位相差板の面内位相差値の変化量の絶対値が０．５ｎｍ以下である、〔１〕～〔４〕のいずれか１項に記載の光学積層体。
〔６〕 前記直線偏光板と前記位相差板との間に配向膜を有し、前記配向膜は、ポリビニルアルコール系樹脂を含む、〔１〕～〔５〕のいずれか１項に記載の光学積層体。
〔１〕 直線偏光板と位相差板とをこの順に備え、前記直線偏光板と前記位相差板との間に粘接着層を有しない光学積層体であって、
前記直線偏光板は、前記位相差板側の最表面に保護フィルムを有し、直交色相ｂ値が－１５以上－３以下である、光学積層体。
〔２〕 前記直線偏光板は、視感度補正単体透過率が４３．０％以上４６．０％以下である、〔１〕に記載の光学積層体。
〔３〕 前記直線偏光板は、直交色相ｂ値が－１５以上－６以下である、〔１〕又は〔２〕に記載の光学積層体。
〔４〕 前記位相差板は、液晶化合物の硬化物を含む、〔１〕～〔３〕のいずれか１項に記載の光学積層体。
〔５〕 前記光学積層体を、温度８５℃の環境下に５００時間放置した前後での前記位相差板の面内位相差値の変化量の絶対値が０．５ｎｍ以下である、〔１〕～〔４〕のいずれか１項に記載の光学積層体。
〔６〕 前記直線偏光板と前記位相差板との間に配向膜を有し、前記配向膜は、ポリビニルアルコール系樹脂を含む、〔１〕～〔５〕のいずれか１項に記載の光学積層体。
【発明の効果】
【0009】
本発明によると、液晶位相差膜を有する位相差板を備えた光学積層体であって、耐熱性が向上した光学積層体を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【0010】
【発明を実施するための形態】
【0011】
以下、図面を参照しつつ本発明の実施形態を説明するが、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。以下のすべての図面においては、各構成要素を理解しやすくするために縮尺を適宜調整して示しており、図面に示される各構成要素の縮尺と実際の構成要素の縮尺とは必ずしも一致しない。
【0012】
［光学積層体］
図１は、本実施形態の光学積層体の一例を模式的に示す概略断面図である。図１に示すように、光学積層体１は、前面側から、直線偏光板１０と、位相差板３０と、がこの順に積層されている。直線偏光板１０は、位相差板３０側の最表面に保護フィルム１１を有する。光学積層体１は、円偏光板であってもよい。
図１は、本実施形態の光学積層体の一例を模式的に示す概略断面図である。図１に示すように、光学積層体１は、前面側から、直線偏光板１０と、位相差板３０と、がこの順に積層されている。直線偏光板１０は、位相差板３０側の最表面に保護フィルム１１を有する。光学積層体１は、円偏光板であってもよい。
【0013】
光学積層体１は、直線偏光板１０と位相差板３０との間に粘接着層を有しない。このような構成においては、粘接着層を有する場合と比較して耐熱性が低下しやすい。直線偏光板１０と位相差板３０との間に粘接着層が介在する場合には、これがバリア層として機能して、直線偏光板１０から位相差板３０へのヨウ素の移行が抑制されることにより、耐熱性の低下が抑制されるものと推測される。
【0014】
光学積層体１において、直線偏光板１０は、直交色相ｂ値が－１５以上－３以下である。本発明者らは、このような構成によると、直線偏光板１０と位相差板３０との間に粘接着層を有しない構成であっても、耐熱性を向上させることができるとの知見を得て本発明に至った。
【0015】
耐熱性の向上は、色変化の大きさを一つの指標とすることができる。画像表示装置において、画像表示パネルの視認側に円偏光板を配置して、外来光の反射による視認性の低下を抑制する方法が採用されている。画面を正面方向からみた場合と斜め方向からみた場合とで反射色が異なり、更に斜め方向においては偏光板や位相差板の影響により面内角に応じた反射色を生じる。耐久試験を実施した際には、偏光板や位相差板の劣化に伴い反射色相の変化が生じることがあり、初期と耐久試験後の変化が少ないことが望ましい。本発明の光学積層体によると、初期と耐久試験後の反射色の変化が抑制された画像表示装置を構成することができる。
【0016】
上記の直交色相とは、直線偏光板の一方の面から光をあてたときに他方の面から透過してくる光の色相を意味する。ここでの色相は、Ｌａｂ表色系においてａ値及びｂ値で表すことができ、標準の光を用いて測定される。なお本発明において、直線偏光板の直交色相の実測は直線偏光板の片面に粘着剤層を設け、その粘着剤層側でガラス板に貼合した状態で行っている。Ｌａｂ表色系は、 ＪＩＳ Ｋ ５９８１:２００６「合成樹脂粉体塗膜」の「５.５ 促進耐候性試験」に記載されるように、ハンターの明度指数Ｌと色相ａ及びｂで表されるものである。Ｌａｂ表色系に類似する概念として、ＪＩＳ Ｚ ８７８１-４:２０１３「測色－第４部：ＣＩＥ １９７６ Ｌ*ａ*ｂ*空間」に規定されるＬ*ａ*ｂ*表色系があるが、本発明ではＬａｂ表色系を採用する。明度指数Ｌと色相ａ及びｂの値は、ＪＩＳ Ｚ ８７２２:２００９「色の測定方法－反射及び透過物体色」に規定される三刺激値Ｘ、Ｙ及びＺから、次の式によって計算される。
【0017】
Ｌ＝１０Ｙ1/2
ａ＝１７.５（１０.２Ｘ－Ｙ）／Ｙ1/2
ｂ＝７.０（Ｙ－０.８４７Ｚ）／Ｙ1/2
ａ＝１７.５（１０.２Ｘ－Ｙ）／Ｙ1/2
ｂ＝７.０（Ｙ－０.８４７Ｚ）／Ｙ1/2
【0018】
Ｌａｂ表色系において、色相ａ値及びｂ値は、彩度に相当する位置を示すことができ、色相ａ値が増加すると色相は赤系に、色相ｂ値が増加すると色相は黄系にそれぞれ変化する。また、０に近い程、共に無彩色に近いことを表す。
【0019】
直線偏光板１０は、直交色相ｂ値が－１５以上－３以下であり、好ましくは－１５以上－６以下であり、より好ましくは－１０以上－６以下であり、－９以上－７以下である。
【0020】
［直線偏光板］
直線偏光板１０は、光吸収異方性の機能を有するフィルムであり、一般的には二色性色素を一軸配向した偏光フィルムや偏光膜（本明細書において、偏光フィルムと偏光膜とをまとめて「偏光子」ともいう。）を含むフィルムである。二色性色素を一軸配向させるためには、ＰＶＡ等のポリマー中にヨウ素や有機二色性染料を含浸させた状態で一軸延伸したフィルム（以下、「偏光フィルム」ともいう）や、二色性色素と重合性液晶化合物を配向させることによって形成される光学異方性層（以下、「偏光膜」ともいう）から作製する事ができる。すなわち、延伸ポリマーや重合性液晶化合物の重合体中に包摂された二色性色素によって光が異方性吸収されることによって偏光機能を発現する。
直線偏光板１０は、光吸収異方性の機能を有するフィルムであり、一般的には二色性色素を一軸配向した偏光フィルムや偏光膜（本明細書において、偏光フィルムと偏光膜とをまとめて「偏光子」ともいう。）を含むフィルムである。二色性色素を一軸配向させるためには、ＰＶＡ等のポリマー中にヨウ素や有機二色性染料を含浸させた状態で一軸延伸したフィルム（以下、「偏光フィルム」ともいう）や、二色性色素と重合性液晶化合物を配向させることによって形成される光学異方性層（以下、「偏光膜」ともいう）から作製する事ができる。すなわち、延伸ポリマーや重合性液晶化合物の重合体中に包摂された二色性色素によって光が異方性吸収されることによって偏光機能を発現する。
【0021】
直線偏光板の偏光性能は、分光光度計を用いて測定することができる。例えば、可視光である波長３８０ｎｍ～７８０ｎｍの範囲で透過軸方向（配向垂直方向）の透過率（Ｔ１）及び吸収軸方向（配向方向）の透過率（Ｔ２）を、分光光度計にプリズム偏光子をセットした装置を用いてダブルビーム法で測定することができる。可視光範囲での偏光性能は、下記式（式１）ならびに（式２）を用いて、各波長における単体透過率、偏光度を算出し、さらにＪＩＳ Ｚ ８７０１の２度視野(Ｃ光源)により視感度補正を行うことで、視感度補正単体透過率（Ｔｙ）および視感度補正偏光度（Ｐｙ）で算出することができる。
単体透過率（％）＝ （Ｔ１＋Ｔ２）／２ ・・・（式１）
偏光度（％） ＝ （Ｔ１－Ｔ２）／（Ｔ１＋Ｔ２）×１００ ・・・（式２）
単体透過率（％）＝ （Ｔ１＋Ｔ２）／２ ・・・（式１）
偏光度（％） ＝ （Ｔ１－Ｔ２）／（Ｔ１＋Ｔ２）×１００ ・・・（式２）
【0022】
直線偏光板１０の視感度補正単体透過率Ｔｙは、高くなるほど白表示時の明瞭性が増すが、（式１）と（式２）の関係からわかるように、単体透過率を高くしすぎると偏光度が下がるという問題がある。よって、好ましくは４３．０％以上４６．０％以下であり、より好ましくは４３．５％以上４５．５％以下であり、さらに好ましくは４４．０％以上４５．０％以下である。視感度補正単体透過率Ｔｙが過度に高いと視感度補正偏光度Ｐｙが低くなりすぎて、反射防止フィルムとして使用した際の反射防止機能が不十分となることがある。
【0023】
直線偏光板１０の視感度補正偏光度Ｐｙは、通常８０％以上であり、好ましくは９０％以上、より好ましくは９５％以上、さらに好ましくは９８％以上、特に好ましくは９９％以上であり、９９．９％以上であれば、外来光の反射を防止する観点から画像表示パネルに好適に用いる事ができる。直線偏光板の視感度補正偏光度Ｐｙを高くすることは、光学積層体の反射防止機能を高めるうえで有利である。視感度補正偏光度Ｐｙが８０％未満であると、反射防止フィルムとして使用した際の反射防止機能を果たせないことがある。
【0024】
＜偏光フィルム＞
偏光フィルムすなわちポリビニルアルコール系樹脂フィルム（ＰＶＡ）等のポリマー中にヨウ素や有機二色性染料を含浸させた状態で一軸延伸したフィルムは、通常、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを一軸延伸する工程、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムをヨウ素等の二色性色素で染色することにより、その二色性色素を吸着させる工程、二色性色素が吸着されたポリビニルアルコール系樹脂フィルムをホウ酸水溶液等の架橋剤で処理する工程、及び、ホウ酸水溶液等の架橋剤による処理後に水洗する工程を経て製造することができる。偏光フィルムは架橋剤を含んでいてよい。
偏光フィルムすなわちポリビニルアルコール系樹脂フィルム（ＰＶＡ）等のポリマー中にヨウ素や有機二色性染料を含浸させた状態で一軸延伸したフィルムは、通常、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを一軸延伸する工程、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムをヨウ素等の二色性色素で染色することにより、その二色性色素を吸着させる工程、二色性色素が吸着されたポリビニルアルコール系樹脂フィルムをホウ酸水溶液等の架橋剤で処理する工程、及び、ホウ酸水溶液等の架橋剤による処理後に水洗する工程を経て製造することができる。偏光フィルムは架橋剤を含んでいてよい。
【0025】
偏光フィルムの厚みは、通常３０μｍ以下であり、好ましくは１８μｍ以下、より好ましくは１５μｍ以下であり、さらに好ましくは１２μｍ以下である。該厚みは、通常１μｍ以上であり、例えば５μｍ以上であればよい。
【0026】
ポリビニルアルコール系樹脂フィルムの一軸延伸は、二色性色素による染色の前、染色と同時、又は染色の後に行うことができる。一軸延伸を染色の後で行う場合、この一軸延伸は、ホウ酸処理の前に行ってもよいし、ホウ酸処理中に行ってもよい。もちろん、ここに示した複数の段階で一軸延伸を行うこともできる。一軸延伸には、周速の異なるロール間でフィルム運搬方向に一軸に延伸する方法や、熱ロールを用いてフィルム運搬方向に一軸に延伸する方法、テンターを使用して幅方向に延伸する方法などが採用できる。また一軸延伸は、大気中で延伸を行う乾式延伸により行ってもよいし、水等の溶媒を用い、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを膨潤させた状態で延伸を行う湿式延伸により行ってもよい。延伸倍率は、通常３～８倍程度である。また、熱可塑性樹脂フィルム上にポリビニルアルコールを含む水溶液を塗布した後に乾燥処理を施し、熱可塑性樹脂フィルムと共に上記方法にて延伸してもよい。
【0027】
ポリビニルアルコール系樹脂フィルムの二色性色素による染色は、例えば、二色性色素を含有する水溶液にポリビニルアルコール系樹脂フィルムを浸漬する方法により行うことができる。二色性色素として、具体的にはヨウ素や二色性有機染料が用いられる。
【0028】
＜保護フィルム＞
保護フィルム１１（以下、「第１保護フィルム」とも称する）は、直線偏光板１０の位相差板３０側の最表面に設けられている。すなわち、光学積層体１において、直線偏光板１０は、その保護フィルム１１が位相差板３０の最表面と接するようにして、積層されている。直線偏光板１０において、偏光子の位相差板３０側とは反対側の表面においても保護フィルム（以下、「第２保護フィルム」とも称する）が設けられていてもよい。以下、第１保護フィルムと第２保護フィルムに共通する事項についての説明は、「保護フィルム」という。
保護フィルム１１（以下、「第１保護フィルム」とも称する）は、直線偏光板１０の位相差板３０側の最表面に設けられている。すなわち、光学積層体１において、直線偏光板１０は、その保護フィルム１１が位相差板３０の最表面と接するようにして、積層されている。直線偏光板１０において、偏光子の位相差板３０側とは反対側の表面においても保護フィルム（以下、「第２保護フィルム」とも称する）が設けられていてもよい。以下、第１保護フィルムと第２保護フィルムに共通する事項についての説明は、「保護フィルム」という。
【0029】
保護フィルムとしては、熱可塑性樹脂フィルムを用いることができる。直線偏光子と保護フィルムとは、接着剤等を介して積層することができる。熱可塑性樹脂から形成されたフィルムは、偏光子との密着性を向上するため、表面処理（例えば、コロナ処理等）が施されていてもよく、プライマー層（下塗り層ともいう）等の薄層が形成されていてもよい。
【0030】
熱可塑性樹脂フィルムを構成する熱可塑性樹脂としては、透明フィルムである事が好ましく、例えば、トリアセチルセルロース等のセルロース樹脂；ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル樹脂；ポリエーテルスルホン樹脂；ポリスルホン樹脂；ポリカーボネート樹脂；ナイロンや芳香族ポリアミド等のポリアミド樹脂；ポリイミド樹脂；ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン・プロピレン共重合体等のポリオレフィン樹脂；シクロ系及びノルボルネン構造を有する環状ポリオレフィン樹脂（ノルボルネン系樹脂ともいう）；（メタ）アクリル樹脂；ポリアリレート樹脂；ポリスチレン樹脂；ポリビニルアルコール樹脂等が挙げられる。中でも、熱可塑性樹脂フィルムは、環状ポリオレフィン系樹脂フィルム、セルロースエステル系樹脂フィルム、ポリエステル系樹脂フィルム又は（メタ）アクリル系樹脂フィルムであることが好ましい。
【0031】
熱可塑性樹脂フィルム上にハードコート層が形成されていてもよい。ハードコート層は、熱可塑性樹脂フィルムの一方の面に形成されていてもよいし、両面に形成されていてもよい。ハードコート層を設けることにより、硬度及び耐スクラッチ性を向上させた熱可塑性樹脂フィルムとすることができる。ハードコート層は、例えば活性エネルギー線硬化型樹脂、好ましくは紫外線硬化型樹脂の硬化層である。紫外線硬化型樹脂としては、例えば（メタ）アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、アミド系樹脂、エポキシ系樹脂等が挙げられる。ハードコート層は、強度を向上させるために、添加剤を含んでいてもよい。添加剤は特に限定されず、無機系微粒子、有機系微粒子又はこれらの混合物が挙げられる。
【0032】
第１保護フィルム１１として、偏光板の耐クラック性向上の観点からトリアセチルセルロース等のセルロース系樹脂を用いることが好ましい。本発明によると、セルロース系樹脂からなる第１保護フィルム１１に粘接着層を介さずに液晶位相差膜が設けられていることにより、耐クラック性を向上させることができる。通常、セルロース系樹脂は、適度な透湿度を有することから、直線偏光板１０と位相差板３０との間のバリア性に寄与しにくいと推測される。本発明によると、第１保護フィルム１１がトリアセチルセルロース等のセルロース系樹脂であっても、耐熱性を向上させることができる。また、第１保護フィルム１１と液晶位相差膜との間にＰＶＡ系配向膜が含まれると、第１保護フィルム１１がトリアセチルセルロース等のセルロース系樹脂であっても、バリア性が付与され、ヨウ素の移行がさらに抑制される。
【0033】
直線偏光板１０において、第１保護フィルム又は第２保護フィルムは、偏光子の表面には、粘接着層を介して設けられていてもよく、または粘接着層を介さずに自粘着タイプのものが設けてられいてもよい。保護フィルムの貼合に用いられる粘接着剤としては特に限定されることはなく、例えば、水系接着剤、紫外線硬化型接着剤を用いることができる。保護フィルムの透湿度は、水系接着剤を用いて偏光子に貼合される場合、水系接着剤を効率的に乾燥させる観点から、好ましくは５００ｇ／ｍ２・２４ｈｒ以上であり、より好ましくは１０００ｇ／ｍ２・２４ｈｒ以上である。偏光子の両面に保護フィルムの貼合を行う場合は、水系接着剤を用いることで３枚同時貼合を行うことが可能となるため工程数を少なくすることができる。
【0034】
＜最前面の層＞
直線偏光板１０は、最前面に反射防止層を備えていてもよい。反射防止層は、直線偏光板１０の表面での外光の反射光が視認されるのを防止する機能を有するものであり、従来に準じた反射防止層等の形成方法、すなわちコート法、スパッタ法、真空蒸着法等により形成することができる。反射防止層は、直線偏光板１０の前面側に設けられる保護フィルムの前面側に予め形成しておくことにより、かかる保護フィルムを用いて反射防止層付き直線偏光板を構成してもよいし、保護フィルムとは別に設けられてもよい。
直線偏光板１０は、最前面に反射防止層を備えていてもよい。反射防止層は、直線偏光板１０の表面での外光の反射光が視認されるのを防止する機能を有するものであり、従来に準じた反射防止層等の形成方法、すなわちコート法、スパッタ法、真空蒸着法等により形成することができる。反射防止層は、直線偏光板１０の前面側に設けられる保護フィルムの前面側に予め形成しておくことにより、かかる保護フィルムを用いて反射防止層付き直線偏光板を構成してもよいし、保護フィルムとは別に設けられてもよい。
【0035】
直線偏光板１０は、最前面に、反射防止層以外の表面処理層を有していてもよい。このような表面処理層としては、ハードコート層、スティッキング防止層、アンチグレア層、拡散層等が挙げられる。
【0036】
［位相差板］
位相差板３０は、重合性液晶化合物の配向状態における重合体からなる液晶位相差膜であってよい。少なくとも１層の液晶位相差膜を有することが好ましい。光学異方性膜が重合性液晶を重合することで形成される層の場合、その厚さは、通常１０μｍ以下であり、好ましくは５μｍ以下であり、より好ましくは０．３μｍ以上３μｍ以下である。
位相差板３０は、重合性液晶化合物の配向状態における重合体からなる液晶位相差膜であってよい。少なくとも１層の液晶位相差膜を有することが好ましい。光学異方性膜が重合性液晶を重合することで形成される層の場合、その厚さは、通常１０μｍ以下であり、好ましくは５μｍ以下であり、より好ましくは０．３μｍ以上３μｍ以下である。
【0037】
＜液晶位相差膜＞
本明細書においては、重合性液晶の光軸が基材平面に対して水平に配向したものを水平配向、重合性液晶の光軸が基材平面に対して垂直に配向したものを垂直配向と定義する。光軸とは、重合性液晶の配向により形成される屈折率楕円体において、光軸に直交する方向で切り出した断面が円となる方向、すなわち３方向の屈折率がすべて等しくなる方向を意味する。
本明細書においては、重合性液晶の光軸が基材平面に対して水平に配向したものを水平配向、重合性液晶の光軸が基材平面に対して垂直に配向したものを垂直配向と定義する。光軸とは、重合性液晶の配向により形成される屈折率楕円体において、光軸に直交する方向で切り出した断面が円となる方向、すなわち３方向の屈折率がすべて等しくなる方向を意味する。
【0038】
重合性液晶化合物を含む組成物（以下、「液晶位相差層形成用組成物」ともいう）を透明基材上に塗布形成し、重合性液晶化合物の配向した重合体からなる液晶位相差膜とすることが、薄型化ならびに波長分散特性を任意に設計できる点で好ましい。
液晶位相差膜は、通常、基材上に形成された配向膜上に、位相差膜形成用組成物を塗布し、上記位相差膜形成用組成物に含まれる重合性液晶化合物を重合することによって形成される。液晶位相差膜は、通常、重合性液晶化合物が配向した状態で硬化した膜であり、視認面内で位相差を生じるためには、重合性液晶化合物が基材面に対して水平方向に配向した状態で重合性基が重合した硬化膜である必要がある。この際、重合性液晶化合物が棒状の液晶である場合にはポジティブＡプレートであればよく、重合性液晶化合物が円盤状の液晶であればネガティブＡプレートであればよい。
液晶位相差膜は、通常、基材上に形成された配向膜上に、位相差膜形成用組成物を塗布し、上記位相差膜形成用組成物に含まれる重合性液晶化合物を重合することによって形成される。液晶位相差膜は、通常、重合性液晶化合物が配向した状態で硬化した膜であり、視認面内で位相差を生じるためには、重合性液晶化合物が基材面に対して水平方向に配向した状態で重合性基が重合した硬化膜である必要がある。この際、重合性液晶化合物が棒状の液晶である場合にはポジティブＡプレートであればよく、重合性液晶化合物が円盤状の液晶であればネガティブＡプレートであればよい。
【0039】
画像表示パネルの外来光の反射を防止するためには、可視光全域でのλ／４板機能（すなわちπ／２の位相差機能）を有すればよい。具体的には逆波長分散性λ／４層が好ましく、正波長分散性λ／２層と正波長分散性λ／４層を組み合わせたものであっても良い。さらに、斜め方向での反射防止機能を補償し得る観点から、厚み方向に異方性を有する層（ポジティブＣプレート）をさらに含んでいる事が好ましい。また、それぞれの光学異方性層はチルト配向をしていても良いし、コレステリック配向状態を形成していても良い。
【0040】
重合性液晶としては、棒状の重合性液晶および円盤状の重合性液晶が挙げられる。棒状の重合性液晶が基材に対して水平配向または垂直配向した場合は、該重合性液晶の光軸は、該重合性液晶の長軸方向と一致する。円盤状の重合性液晶が配向した場合は、該重合性液晶の光軸は、該重合性液晶の円盤面に対して直交する方向に存在する。
【0041】
重合性液晶を重合させることにより形成される層が面内位相差を発現するためには、重合性液晶を適した方向に配向させればよい。重合性液晶が棒状の場合は、該重合性液晶の光軸を基材平面に対して水平に配向させることで面内位相差が発現する、この場合、光軸方向と遅相軸方向とは一致する。重合性液晶が円盤状の場合は、該重合性液晶の光軸を基材平面に対して水平に配向させることで面内位相差が発現する、この場合、光軸と遅相軸とは直交する。重合性液晶の配向状態は、配向膜と重合性液晶との組み合わせにより調整することができる。
【0042】
液晶位相差膜の面内位相差値は、位相差膜の厚みによって調整することができる。面内位相差値は式（１１）によって決定されることから、所望の面内位相差値（Ｒｅ（λ））を得るためには、Δｎ（λ）と膜厚ｄを調整すればよい。
Ｒｅ（λ）＝ｄ×Δｎ（λ） （１１）
式中、Ｒｅ（λ）は、波長λｎｍにおける面内位相差値を表し、ｄは膜厚を表し、Δｎ（λ）は波長λｎｍにおける複屈折率を表わす。
Ｒｅ（λ）＝ｄ×Δｎ（λ） （１１）
式中、Ｒｅ（λ）は、波長λｎｍにおける面内位相差値を表し、ｄは膜厚を表し、Δｎ（λ）は波長λｎｍにおける複屈折率を表わす。
【0043】
複屈折率Δｎ（λ）は、面内位相差値を測定して、位相差膜の厚みで除することで得られる。具体的な測定方法においては、ガラス基板のように基材自体に面内位相差が無いような基材上に製膜したものを測定することで、実質的な位相差膜の特性を測定することができる。
【0044】
本明細書では、重合性液晶の配向又はフィルムの延伸により形成される屈折率楕円体における３方向の屈折率を、ｎｘ、ｎｙおよびｎｚとして表す。ｎxは、液晶位相差膜が形成する屈折率楕円体において、フィルム平面に対して平行な方向の主屈折率を表す。ｎｙは、位相差膜が形成する屈折率楕円体において、フィルム平面に対して平行であり、且つ、該ｎｘの方向に対して直交する方向の屈折率を表す。ｎｚは、位相差膜が形成する屈折率楕円体において、フィルム平面に対して垂直な方向の屈折率を表す。
【0045】
棒状の重合性液晶の光軸が、基材平面に対して水平に配向した場合、得られる位相差膜の屈折率関係は、ｎx＞ｎy≒ｎz（ポジティブＡプレート）となり、屈折率楕円体におけるｎｘの方向の軸と遅相軸が一致する。
【0046】
また、円盤状の重合性液晶の光軸が、基材平面に対して水平に配向した場合、得られる位相差膜の屈折率関係は、ｎx＜ｎy≒ｎz（ネガティブＡプレート）となり、屈折率楕円体におけるｎｙの方向の軸と遅相軸が一致する。
【0047】
重合性液晶を重合させることにより形成される層が厚み方向の位相差を発現するためには、重合性液晶を適した方向に配向させればよい。本明細書において、厚み方向の位相差を発現するとは、式（２０）において、Ｒth（厚み方向の位相差値）が負となる特性を示すものと定義する。Ｒthは、面内の進相軸を傾斜軸として４０度傾斜させて測定される位相差値（Ｒ４０）と、面内の位相差値（Ｒe）とから算出することができる。すなわち、Ｒthは、Ｒe、Ｒ４０、ｄ（位相差膜の厚み）、およびｎ0（位相差膜の平均屈折率）から、以下の式(２１)～（２３）によりｎx、ｎy及びｎzを求め、これらを式（２０）に代入することで算出することができる。
Ｒｔｈ＝［（ｎｘ＋ｎｙ）／２－ｎｚ］×ｄ （２０）
Ｒe ＝（ｎｘ－ｎｙ）×ｄ （２１）
Ｒ４０＝（ｎｘ－ｎｙ'）×ｄ／ｃｏｓ(φ) （２２）
(ｎｘ＋ｎｙ＋ｎｚ)／３＝ｎ０ （２３）
ここで、
φ＝ｓｉｎ－１〔ｓｉｎ（４０°)／ｎ0〕
ｎｙ'＝ｎｙ×ｎｚ／〔ｎｙ2×ｓｉｎ2(φ)＋ｎｚ2×ｃｏｓ2(φ)〕1/2
また、ｎx、ｎyおよびｎzは前述の定義と同じである。
Ｒｔｈ＝［（ｎｘ＋ｎｙ）／２－ｎｚ］×ｄ （２０）
Ｒe ＝（ｎｘ－ｎｙ）×ｄ （２１）
Ｒ４０＝（ｎｘ－ｎｙ'）×ｄ／ｃｏｓ(φ) （２２）
(ｎｘ＋ｎｙ＋ｎｚ)／３＝ｎ０ （２３）
ここで、
φ＝ｓｉｎ－１〔ｓｉｎ（４０°)／ｎ0〕
ｎｙ'＝ｎｙ×ｎｚ／〔ｎｙ2×ｓｉｎ2(φ)＋ｎｚ2×ｃｏｓ2(φ)〕1/2
また、ｎx、ｎyおよびｎzは前述の定義と同じである。
【0048】
重合性液晶が棒状の場合は、該重合性液晶の光軸を基材平面に対して垂直に配向させることで厚み方向の位相差が発現する。重合性液晶が円盤状の場合は、該重合性液晶の光軸を基材平面に対して水平に配向させることで厚み方向の位相差が発現する。円盤状の重合性液晶の場合は、該重合性液晶の光軸が基材平面に対して平行であるため、Ｒeを決めると、厚みが固定されるため、一義的にＲthが決定されるが、棒状の重合性液晶の場合は、該重合性液晶の光軸が基材平面に対して垂直であるため、位相差膜の厚みを調節することでＲeを変化させることなくＲthを調節することができる。
【0049】
棒状の重合性液晶の光軸が、基材平面に対して垂直に配向した場合、得られる位相差膜の屈折率関係は、ｎx≒ｎy＜ｎz（ポジティブＣプレート）となり、屈折率楕円体におけるｎzの方向の軸と遅相軸方向が一致する。
【0050】
また、円盤状の重合性液晶の光軸が、基材平面に対して平行に配向した場合、得られる位相差膜の屈折率関係は、ｎx＜ｎy≒ｎz（ネガティブＡプレート）となり、屈折率楕円体におけるｎyの方向の軸と遅相軸方向が一致する。
【0051】
＜重合性液晶＞
重合性液晶とは、重合性基を有し、かつ、液晶性を有する化合物である。重合性基とは、重合反応に関与する基を意味し、光重合性基であることが好ましい。ここで、光重合性基とは、後述する光重合開始剤から発生した活性ラジカルや酸などによって重合反応に関与し得る基のことをいう。重合性基としては、ビニル基、ビニルオキシ基、１－クロロビニル基、イソプロペニル基、４－ビニルフェニル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、オキシラニル基、オキセタニル基等が挙げられる。中でも、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニルオキシ基、オキシラニル基及びオキセタニル基が好ましく、アクリロイルオキシ基がより好ましい。重合性液晶が有する液晶性はサーモトロピック性液晶でもリオトロピック液晶でもよく、サーモトロピック液晶を秩序度で分類すると、ネマチック液晶でもスメクチック液晶でもよい。
重合性液晶とは、重合性基を有し、かつ、液晶性を有する化合物である。重合性基とは、重合反応に関与する基を意味し、光重合性基であることが好ましい。ここで、光重合性基とは、後述する光重合開始剤から発生した活性ラジカルや酸などによって重合反応に関与し得る基のことをいう。重合性基としては、ビニル基、ビニルオキシ基、１－クロロビニル基、イソプロペニル基、４－ビニルフェニル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、オキシラニル基、オキセタニル基等が挙げられる。中でも、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニルオキシ基、オキシラニル基及びオキセタニル基が好ましく、アクリロイルオキシ基がより好ましい。重合性液晶が有する液晶性はサーモトロピック性液晶でもリオトロピック液晶でもよく、サーモトロピック液晶を秩序度で分類すると、ネマチック液晶でもスメクチック液晶でもよい。
【0052】
棒状の重合性液晶としては、例えば、下記式（Ａ）で表される化合物及び、下記式（Ｘ）で表される基を含む化合物が挙げられる。棒状の重合性液晶としては、波長分散性発現の観点から分子軸方向に対して垂直配向さらに複屈折性を有するＴ字型あるいはＨ型にメソゲン構造を有する液晶が好ましく、より強い分散が得られる観点からＴ字型液晶がより好ましく、Ｔ字型液晶の構造としては、具体的には、下記式（Ａ）で表される化合物が挙げられる。
【0053】
（式（Ａ）で表される化合物）
式（Ａ）は下記のとおりである。以下、式（Ａ）で表される化合物を重合性液晶（Ａ）ということがある。
式（Ａ）は下記のとおりである。以下、式（Ａ）で表される化合物を重合性液晶（Ａ）ということがある。
【0054】
【0055】
式（Ａ）中、Ａｒは置換基を有していてもよい二価の芳香族基を表す。該二価の芳香族基中には窒素原子、酸素原子、硫黄原子のうち少なくとも１つ以上が含まれることが好ましい。二価の基Ａｒに含まれる芳香族基が２つ以上である場合、２つ以上の芳香族基は互いに単結合、－ＣＯ－Ｏ－、－Ｏ－などの二価の結合基で結合していてもよい。
Ｇ１及びＧ２はそれぞれ独立に、二価の芳香族基又は二価の脂環式炭化水素基を表す。ここで、該二価の芳香族基又は二価の脂環式炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、炭素数１～４のアルキル基、炭素数１～４のフルオロアルキル基、炭素数１～４のアルコキシ基、シアノ基又はニトロ基に置換されていてもよく、該二価の芳香族基又は二価の脂環式炭化水素基を構成する炭素原子が、酸素原子、硫黄原子又は窒素原子に置換されていてもよい。
Ｌ１、Ｌ２ 、Ｂ１及びＢ２はそれぞれ独立に、単結合又は二価の連結基である。
ｋ、ｌは、それぞれ独立に０～３の整数を表し、１≦ｋ＋ｌの関係を満たす。ここで、２≦ｋ＋ｌである場合、Ｂ１及びＢ２、Ｇ１及びＧ２は、それぞれ互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。
Ｅ１及びＥ２はそれぞれ独立に、炭素数１～１７のアルカンジイル基を表し、ここで、アルカンジイル基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子で置換されていてもよく、該アルカンジイル基に含まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯＯ－で置換されていてもよく、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯＯ－を複数有する場合は互いに隣接しない。Ｐ１及びＰ２は互いに独立に、重合性基又は水素原子を表し、少なくとも１つは重合性基である。
Ｇ１及びＧ２はそれぞれ独立に、二価の芳香族基又は二価の脂環式炭化水素基を表す。ここで、該二価の芳香族基又は二価の脂環式炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、炭素数１～４のアルキル基、炭素数１～４のフルオロアルキル基、炭素数１～４のアルコキシ基、シアノ基又はニトロ基に置換されていてもよく、該二価の芳香族基又は二価の脂環式炭化水素基を構成する炭素原子が、酸素原子、硫黄原子又は窒素原子に置換されていてもよい。
Ｌ１、Ｌ２ 、Ｂ１及びＢ２はそれぞれ独立に、単結合又は二価の連結基である。
ｋ、ｌは、それぞれ独立に０～３の整数を表し、１≦ｋ＋ｌの関係を満たす。ここで、２≦ｋ＋ｌである場合、Ｂ１及びＢ２、Ｇ１及びＧ２は、それぞれ互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。
Ｅ１及びＥ２はそれぞれ独立に、炭素数１～１７のアルカンジイル基を表し、ここで、アルカンジイル基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子で置換されていてもよく、該アルカンジイル基に含まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯＯ－で置換されていてもよく、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯＯ－を複数有する場合は互いに隣接しない。Ｐ１及びＰ２は互いに独立に、重合性基又は水素原子を表し、少なくとも１つは重合性基である。
【0056】
Ｇ１及びＧ２は、それぞれ独立に、好ましくは、ハロゲン原子及び炭素数１～４のアルキル基からなる群から選ばれる少なくとも１つの置換基で置換されていてもよい１，４－フェニレンジイル基、ハロゲン原子及び炭素数１～４のアルキル基からなる群から選ばれる少なくとも１つの置換基で置換されていてもよい１，４－シクロヘキサンジイル基であり、より好ましくはメチル基で置換された１，４－フェニレンジイル基、無置換の１，４－フェニレンジイル基、又は無置換の１，４－ｔｒａｎｓ－シクロヘキサンジイル基であり、特に好ましくは無置換の１，４－フェニレンジイル基、又は無置換の１，４－ｔｒａｎｓ－シクロへキサンジイル基である。
また、複数存在するＧ１及びＧ２のうち少なくとも１つは二価の脂環式炭化水素基であることが好ましく、また、Ｌ１又はＬ２に結合するＧ１及びＧ２のうち少なくとも１つは二価の脂環式炭化水素基であることがより好ましい。
また、複数存在するＧ１及びＧ２のうち少なくとも１つは二価の脂環式炭化水素基であることが好ましく、また、Ｌ１又はＬ２に結合するＧ１及びＧ２のうち少なくとも１つは二価の脂環式炭化水素基であることがより好ましい。
【0057】
Ｌ１及びＬ２はそれぞれ独立に、好ましくは、単結合、炭素数１～４のアルキレン基、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｒａ１ＯＲａ２－、－Ｒａ３ＣＯＯＲａ４－、－Ｒａ５ＯＣＯＲａ６－、Ｒａ７ＯＣ＝ＯＯＲａ８－、－Ｎ＝Ｎ－、－ＣＲｃ＝ＣＲｄ－、又はＣ≡Ｃ－である。ここで、Ｒａ１～Ｒａ８はそれぞれ独立に単結合、又は炭素数１～４のアルキレン基を表し、Ｒｃ及びＲｄは炭素数１～４のアルキル基又は水素原子を表す。Ｌ１及びＬ２はそれぞれ独立に、より好ましくは単結合、－ＯＲａ２－１－、－ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＯＯＲａ４－１－、又はＯＣＯＲａ６－１－である。ここで、Ｒａ２－１、Ｒａ４－１、Ｒａ６－１はそれぞれ独立に単結合、－ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２－のいずれかを表す。Ｌ１及びＬ２はそれぞれ独立に、さらに好ましくは単結合、－Ｏ－、－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＯＯ－、－ＣＯＯＣＨ２ＣＨ２－、又はＯＣＯ－である。
【0058】
Ｂ１及びＢ２はそれぞれ独立に、好ましくは、単結合、炭素数１～４のアルキレン基、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｒａ９ＯＲａ１０－、－Ｒａ１１ＣＯＯＲａ１２－、－Ｒａ１３ＯＣＯＲａ１４－、又は－Ｒａ１５ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲａ１６－である。ここで、Ｒａ９～Ｒａ１６はそれぞれ独立に単結合、又は炭素数１～４のアルキレン基を表す。Ｂ１及びＢ２はそれぞれ独立に、より好ましくは単結合、－ＯＲａ１０－１－、－ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＯＯＲａ１２－１－、又はＯＣＯＲａ１４－１－である。ここで、Ｒａ１０－１、Ｒａ１２－１、Ｒａ１４－１はそれぞれ独立に単結合、－ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２－のいずれかを表す。Ｂ１及びＢ２はそれぞれ独立に、さらに好ましくは単結合、－Ｏ－、－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＯＯ－、－ＣＯＯＣＨ２ＣＨ２－、－ＯＣＯ－、又は－ＯＣＯＣＨ２ＣＨ２－である。
【0059】
ｋ及びｌは、逆波長分散性発現の観点から２≦ｋ＋ｌ≦６の範囲が好ましく、ｋ＋ｌ＝４であることが好ましく、ｋ＝２かつｌ＝２であることがより好ましい。ｋ＝２かつｌ＝２であると対称構造となるため好ましい。
【0060】
Ｅ１及びＥ２はそれぞれ独立に、炭素数１～１７のアルカンジイル基が好ましく、炭素数４～１２のアルカンジイル基がより好ましい。
【0061】
Ｐ１又はＰ２で表される重合性基としては、エポキシ基、ビニル基、ビニルオキシ基、１－クロロビニル基、イソプロペニル基、４－ビニルフェニル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、オキシラニル基、及びオキセタニル基等が挙げられる。中でも、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニルオキシ基、オキシラニル基及びオキセタニル基が好ましく、アクリロイルオキシ基がより好ましい。
【0062】
Ａｒは置換基を有していてもよい芳香族炭化水素環、置換基を有していてもよい芳香族複素環、及び電子吸引性基から選ばれる少なくとも一つを有することが好ましい。当該芳香族炭化水素環としては、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環等が挙げられ、ベンゼン環、ナフタレン環が好ましい。当該芳香族複素環としては、フラン環、ベンゾフラン環、ピロール環、インドール環、チオフェン環、ベンゾチオフェン環、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、トリアゾール環、トリアジン環、ピロリン環、イミダゾール環、ピラゾール環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、チエノチアゾール環、オキサゾール環、ベンゾオキサゾール環、及びフェナンスロリン環等が挙げられる。なかでも、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、又はベンゾフラン環を有することが好ましく、ベンゾチアゾール基を有することがさらに好ましい。また、Ａｒに窒素原子が含まれる場合、当該窒素原子はπ電子を有することが好ましい。
【0063】
式（Ａ）中、Ａｒで表される２価の芳香族基に含まれるπ電子の合計数Ｎπは８以上が好ましく、より好ましくは１０以上であり、さらに好ましくは１４以上であり、特に好ましくは１６以上である。また、好ましくは３０以下であり、より好ましくは２６以下であり、さらに好ましくは２４以下である。
【0064】
Ａｒで表される芳香族基としては、例えば以下の基が好適に挙げられる。
【0065】
【0066】
式（Ａｒ－１）～式（Ａｒ－２３）中、＊印は連結部を表し、Ｚ０、Ｚ１及びＺ２は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～１２のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１～１２のアルキルスルフィニル基、炭素数１～１２のアルキルスルホニル基、カルボキシル基、炭素数１～１２のフルオロアルキル基、炭素数１～６のアルコキシ基、炭素数１～１２のアルキルチオ基、炭素数１～１２のＮ－アルキルアミノ基、炭素数２～１２のＮ，Ｎ－ジアルキルアミノ基、炭素数１～１２のＮ－アルキルスルファモイル基又は炭素数２～１２のＮ，Ｎ－ジアルキルスルファモイル基を表す。
【0067】
Ｑ１、Ｑ２及びＱ３は、それぞれ独立に、－ＣＲ２’Ｒ３’－、－Ｓ－、－ＮＨ－、－ＮＲ２’－、－ＣＯ－又はＯ－を表し、Ｒ２’及びＲ３’は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数１～４のアルキル基を表す。
【0068】
Ｊ１、及びＪ２は、それぞれ独立に、炭素原子、又は窒素原子を表す。
【0069】
Ｙ１、Ｙ２及びＹ３は、それぞれ独立に、置換されていてもよい芳香族炭化水素基又は芳香族複素環基を表す。
【0070】
Ｗ１及びＷ２は、それぞれ独立に、水素原子、シアノ基、メチル基又はハロゲン原子を表し、ｍは０～６の整数を表す。
【0071】
Ｙ１、Ｙ２及びＹ３における芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、アンスリル基、フェナンスリル基、ビフェニル基等の炭素数６～２０の芳香族炭化水素基が挙げられ、フェニル基、ナフチル基が好ましく、フェニル基がより好ましい。芳香族複素環基としては、フリル基、ピロリル基、チエニル基、ピリジニル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基等の窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を少なくとも１つ含む炭素数４～２０の芳香族複素環基が挙げられ、フリル基、チエニル基、ピリジニル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基が好ましい。
【0072】
Ｙ１、Ｙ２及びＹ３は、それぞれ独立に、置換されていてもよい多環系芳香族炭化水素基又は多環系芳香族複素環基であってもよい。多環系芳香族炭化水素基は、縮合多環系芳香族炭化水素基、又は芳香環集合に由来する基をいう。多環系芳香族複素環基は、縮合多環系芳香族複素環基、又は芳香環集合に由来する基をいう。
【0073】
Ｚ０、Ｚ１及びＺ２は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～１２のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１～１２のアルコキシ基であることが好ましく、Ｚ０は、水素原子、炭素数１～１２のアルキル基、シアノ基がさらに好ましく、Ｚ１及びＺ２は、水素原子、フッ素原子、塩素原子、メチル基、シアノ基がさらに好ましい。
【0074】
Ｑ１、Ｑ２及びＱ３は、－ＮＨ－、－Ｓ－、－ＮＲ２’－、－Ｏ－が好ましく、Ｒ２’は水素原子が好ましい。中でも－Ｓ－、－Ｏ－、－ＮＨ－が特に好ましい。
【0075】
式（Ａｒ－１）～（Ａｒ－２３）の中でも、式（Ａｒ－６）及び式（Ａｒ－７）が分子の安定性の観点から好ましい。
式（Ａｒ－１６）～（Ａｒ－２３）において、Ｙ１は、これが結合する窒素原子及びＺ０と共に、芳香族複素環基を形成していてもよい。芳香族複素環基としては、Ａｒが有していてもよい芳香族複素環として前記したものが挙げられるが、例えば、ピロール環、イミダゾール環、ピロリン環、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、インドール環、キノリン環、イソキノリン環、プリン環、ピロリジン環等が挙げられる。この芳香族複素環基は、置換基を有していてもよい。また、Ｙ１は、これが結合する窒素原子及びＺ０と共に、前述した置換されていてもよい多環系芳香族炭化水素基又は多環系芳香族複素環基であってもよい。例えば、ベンゾフラン環、ベンゾチアゾール環、ベンゾオキサゾール環等が挙げられる。
式（Ａｒ－１６）～（Ａｒ－２３）において、Ｙ１は、これが結合する窒素原子及びＺ０と共に、芳香族複素環基を形成していてもよい。芳香族複素環基としては、Ａｒが有していてもよい芳香族複素環として前記したものが挙げられるが、例えば、ピロール環、イミダゾール環、ピロリン環、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、インドール環、キノリン環、イソキノリン環、プリン環、ピロリジン環等が挙げられる。この芳香族複素環基は、置換基を有していてもよい。また、Ｙ１は、これが結合する窒素原子及びＺ０と共に、前述した置換されていてもよい多環系芳香族炭化水素基又は多環系芳香族複素環基であってもよい。例えば、ベンゾフラン環、ベンゾチアゾール環、ベンゾオキサゾール環等が挙げられる。
【0076】
（式（Ｘ）で表される基を含む化合物）
式（Ｘ）は下記のとおりである。以下、式（Ｘ）で表される基を含む化合物を重合性液晶（Ｂ）ということがある。
Ｐ１１－Ｂ１１－Ｅ１１－Ｂ１２－Ａ１１－Ｂ１３－ （Ｘ）
式（Ｘ）は下記のとおりである。以下、式（Ｘ）で表される基を含む化合物を重合性液晶（Ｂ）ということがある。
Ｐ１１－Ｂ１１－Ｅ１１－Ｂ１２－Ａ１１－Ｂ１３－ （Ｘ）
【0077】
［式（Ｘ）中、Ｐ１１は、重合性基を表わす。
Ａ１１は、２価の脂環式炭化水素基または２価の芳香族炭化水素基を表わす。該２価の脂環式炭化水素基および２価の芳香族炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、炭素数１～６のアルキル基、炭素数１～６アルコキシ基、シアノ基またはニトロ基で置換されていてもよく、該炭素数１～６のアルキル基および該炭素数１～６アルコキシ基に含まれる水素原子は、フッ素原子で置換されていてもよい。
Ｂ１１は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－Ｏ－、－Ｏ－ＣＯ－、－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－、－ＣＯ－ＮＲ１６－、－ＮＲ１６－ＣＯ－、－ＣＯ－、－ＣＳ－または単結合を表わす。Ｒ１６は、水素原子または炭素数１～６のアルキル基を表わす。
Ｂ１２およびＢ１３は、それぞれ独立に、－Ｃ≡Ｃ－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＨ２－ＣＨ２－、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－ＣＨ＝Ｎ－、－Ｎ＝ＣＨ－、－Ｎ＝Ｎ－、－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲ１６－、－ＮＲ１６－Ｃ（＝Ｏ）－、－ＯＣＨ２－、－ＯＣＦ２－、－ＣＨ２Ｏ－、－ＣＦ２Ｏ－、－ＣＨ＝ＣＨ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－ＣＨ＝ＣＨ－または単結合を表わす。
Ｅ１１は、炭素数１～１２のアルカンジイル基を表わし、該アルカンジイル基に含まれる水素原子は、炭素数１～５のアルコキシ基で置換されていてもよく、該アルコキシ基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子で置換されていてもよい。また、該アルカンジイル基を構成する－ＣＨ２－は、－Ｏ－または－ＣＯ－に置き換わっていてもよい。］
Ａ１１は、２価の脂環式炭化水素基または２価の芳香族炭化水素基を表わす。該２価の脂環式炭化水素基および２価の芳香族炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、炭素数１～６のアルキル基、炭素数１～６アルコキシ基、シアノ基またはニトロ基で置換されていてもよく、該炭素数１～６のアルキル基および該炭素数１～６アルコキシ基に含まれる水素原子は、フッ素原子で置換されていてもよい。
Ｂ１１は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－Ｏ－、－Ｏ－ＣＯ－、－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－、－ＣＯ－ＮＲ１６－、－ＮＲ１６－ＣＯ－、－ＣＯ－、－ＣＳ－または単結合を表わす。Ｒ１６は、水素原子または炭素数１～６のアルキル基を表わす。
Ｂ１２およびＢ１３は、それぞれ独立に、－Ｃ≡Ｃ－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＨ２－ＣＨ２－、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－ＣＨ＝Ｎ－、－Ｎ＝ＣＨ－、－Ｎ＝Ｎ－、－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲ１６－、－ＮＲ１６－Ｃ（＝Ｏ）－、－ＯＣＨ２－、－ＯＣＦ２－、－ＣＨ２Ｏ－、－ＣＦ２Ｏ－、－ＣＨ＝ＣＨ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－ＣＨ＝ＣＨ－または単結合を表わす。
Ｅ１１は、炭素数１～１２のアルカンジイル基を表わし、該アルカンジイル基に含まれる水素原子は、炭素数１～５のアルコキシ基で置換されていてもよく、該アルコキシ基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子で置換されていてもよい。また、該アルカンジイル基を構成する－ＣＨ２－は、－Ｏ－または－ＣＯ－に置き換わっていてもよい。］
【0078】
Ａ１１の芳香族炭化水素基および脂環式炭化水素基の炭素数は、３～１８の範囲であることが好ましく、５～１２の範囲であることがより好ましく、５または６であることが特に好ましい。Ａ１１としては、シクロヘキサン－１，４－ジイル基、１，４－フェニレン基が好ましい。
【0079】
Ｅ１１としては、直鎖状の炭素数１～１２のアルカンジイル基が好ましい。該アルカンジイル基を構成する－ＣＨ２－は、－Ｏ－に置き換っていてもよい。
具体的には、メチレン基、エチレン基、プロパン－１，３－ジイル基、ブタン－１，４－ジイル基、ペンタン－１，５－ジイル基、へキサン－１，６－ジイル基、へプタン－１，７－ジイル基、オクタン－１，８－ジイル基、ノナン－１，９－ジイル基、デカン－１，１０－ジイル基、ウンデカン－１，１１－ジイル基およびドデカン－１，１２－ジイル基等の炭素数１～１２の直鎖状アルカンジイル基；－ＣＨ２－ＣＨ２－Ｏ－ＣＨ２－ＣＨ２－、－ＣＨ２－ＣＨ２－Ｏ－ＣＨ２－ＣＨ２－Ｏ－ＣＨ２－ＣＨ２－および－ＣＨ２－ＣＨ２－Ｏ－ＣＨ２－ＣＨ２－Ｏ－ＣＨ２－ＣＨ２－Ｏ－ＣＨ２－ＣＨ２－等が挙げられる。
Ｂ１１としては、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－Ｏ－、－Ｏ－ＣＯ－が好ましく、中でも、－ＣＯ－Ｏ－がより好ましい。
Ｂ１２およびＢ１３としては、それぞれ独立に、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－が好ましく、中でも、－Ｏ－または－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－がより好ましい。
具体的には、メチレン基、エチレン基、プロパン－１，３－ジイル基、ブタン－１，４－ジイル基、ペンタン－１，５－ジイル基、へキサン－１，６－ジイル基、へプタン－１，７－ジイル基、オクタン－１，８－ジイル基、ノナン－１，９－ジイル基、デカン－１，１０－ジイル基、ウンデカン－１，１１－ジイル基およびドデカン－１，１２－ジイル基等の炭素数１～１２の直鎖状アルカンジイル基；－ＣＨ２－ＣＨ２－Ｏ－ＣＨ２－ＣＨ２－、－ＣＨ２－ＣＨ２－Ｏ－ＣＨ２－ＣＨ２－Ｏ－ＣＨ２－ＣＨ２－および－ＣＨ２－ＣＨ２－Ｏ－ＣＨ２－ＣＨ２－Ｏ－ＣＨ２－ＣＨ２－Ｏ－ＣＨ２－ＣＨ２－等が挙げられる。
Ｂ１１としては、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－Ｏ－、－Ｏ－ＣＯ－が好ましく、中でも、－ＣＯ－Ｏ－がより好ましい。
Ｂ１２およびＢ１３としては、それぞれ独立に、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－が好ましく、中でも、－Ｏ－または－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－がより好ましい。
【0080】
Ｐ１１で示される重合性基としては、重合反応性、特に光重合反応性が高いという点で、ラジカル重合性基またはカチオン重合性基が好ましく、取り扱いが容易な上、液晶化合物の製造自体も容易であることから、重合性基は、下記の式（Ｐ－１１）～式（Ｐ－１５）で表わされる基であることが好ましい。
【0081】
【0082】
［式（Ｐ－１１）～（Ｐ－１５）中、
Ｒ１７～Ｒ２１はそれぞれ独立に、炭素数１～６のアルキル基または水素原子を表わす。］
Ｒ１７～Ｒ２１はそれぞれ独立に、炭素数１～６のアルキル基または水素原子を表わす。］
【0083】
式（Ｐ－１１）～式（Ｐ－１５）で表わされる基の具体例としては、下記式（Ｐ－１６）～式（Ｐ－２０）で表わされる基が挙げられる。
【0084】
【0085】
Ｐ１１は、式（Ｐ－１４）～式（Ｐ－２０）で表わされる基であることが好ましく、ビニル基、ｐ－スチルベン基、エポキシ基またはオキセタニル基がより好ましい。
Ｐ１１－Ｂ１１－で表わされる基が、アクリロイルオキシ基またはメタアクリロイルオキシ基であることがさらに好ましい。
Ｐ１１－Ｂ１１－で表わされる基が、アクリロイルオキシ基またはメタアクリロイルオキシ基であることがさらに好ましい。
【0086】
重合性液晶（Ｂ）としては、式（Ｉ）、式（ＩＩ）、式（ＩＩＩ）、式（ＩＶ）、式（Ｖ）または式（ＶＩ）で表わされる化合物が挙げられる。
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-A13-B15-A14-B16-E12-B17-P12 （Ｉ）
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-A13-B15-A14-F11 （ＩＩ）
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-A13-B15-E12-B17-P12 （ＩＩＩ）
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-A13-F11 （ＩＶ）
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-E12-B17-P12 （Ｖ）
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-F11 （ＶＩ）
（式中、
Ａ１２～Ａ１４はそれぞれ独立に、Ａ１１と同義であり、Ｂ１４～Ｂ１６はそれぞれ独立に、Ｂ１２と同義であり、Ｂ１７は、Ｂ１１と同義であり、Ｅ１２は、Ｅ１１と同義である。
Ｆ１１は、水素原子、炭素数１～１３のアルキル基、炭素数１～１３のアルコキシ基、シアノ基、ニトロ基、トリフルオロメチル基、ジメチルアミノ基、ヒドロキシ基、メチロール基、ホルミル基、スルホ基（－ＳＯ３Ｈ）、カルボキシ基、炭素数１～１０のアルコキシカルボニル基またはハロゲン原子を表わし、該アルキル基およびアルコキシ基を構成する－ＣＨ２－は、－Ｏ－に置き換っていてもよい。）
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-A13-B15-A14-B16-E12-B17-P12 （Ｉ）
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-A13-B15-A14-F11 （ＩＩ）
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-A13-B15-E12-B17-P12 （ＩＩＩ）
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-A13-F11 （ＩＶ）
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-E12-B17-P12 （Ｖ）
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-F11 （ＶＩ）
（式中、
Ａ１２～Ａ１４はそれぞれ独立に、Ａ１１と同義であり、Ｂ１４～Ｂ１６はそれぞれ独立に、Ｂ１２と同義であり、Ｂ１７は、Ｂ１１と同義であり、Ｅ１２は、Ｅ１１と同義である。
Ｆ１１は、水素原子、炭素数１～１３のアルキル基、炭素数１～１３のアルコキシ基、シアノ基、ニトロ基、トリフルオロメチル基、ジメチルアミノ基、ヒドロキシ基、メチロール基、ホルミル基、スルホ基（－ＳＯ３Ｈ）、カルボキシ基、炭素数１～１０のアルコキシカルボニル基またはハロゲン原子を表わし、該アルキル基およびアルコキシ基を構成する－ＣＨ２－は、－Ｏ－に置き換っていてもよい。）
【0087】
重合性液晶（Ｂ）の具体例としては、液晶便覧（液晶便覧編集委員会編、丸善（株）平成１２年１０月３０日発行）の「３．８．６ ネットワーク（完全架橋型）」、「６．５．１ 液晶材料 ｂ．重合性ネマチック液晶材料」に記載された化合物の中で重合性基を有する化合物、特開２０１０－３１２２３号公報、特開２０１０－２７０１０８号公報、特開２０１１－６３６０号公報および特開２０１１－２０７７６５号公報記載の重合性液晶が挙げられる。
【0088】
重合性液晶（Ｂ）の具体例としては、下記式（Ｉ－１）～式（Ｉ－４）、式（ＩＩ－１）～式（ＩＩ－４）、式（ＩＩＩ－１）～式（ＩＩＩ－２６）、式（ＩＶ－１）～式（ＩＶ－２６）、式（Ｖ－１）～式（Ｖ－２）および式（ＶＩ－１）～式（ＶＩ－６）で表わされる化合物が挙げられる。なお、下記式中、ｋ1およびｋ2は、それぞれ独立して、２～１２の整数を表わす。これらの重合性液晶（Ｂ）は、その合成の容易さ、または、入手の容易さの点で、好ましい。
【0089】
【0090】
【0091】
【0092】
【0093】
【0094】
【0095】
【0096】
【0097】
【0098】
円盤状の重合性液晶としては、例えば、式（Ｗ）で表される基を含む化合物（以下、重合性液晶（Ｃ）ということがある）が挙げられる。
【0099】
［式（Ｗ）中、Ｒ４０は、下記式（Ｗ－１）～（Ｗ－５）を表わす。
【0100】
【0101】
Ｘ４０およびＺ４０は、炭素数１～１２のアルカンジイル基を表わし、該アルカンジイル基に含まれる水素原子は、炭素数１～５のアルコキシ基で置換されていてもよく、該アルコキシ基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子で置換されていてもよい。また、該アルカンジイル基を構成する－ＣＨ２－は、－Ｏ－または－ＣＯ－に置き換わっていてもよい。
【0102】
重合性液晶（Ｃ）の具体例としては、液晶便覧（液晶便覧編集委員会編、丸善（株）平成１２年１０月３０日発行）の「６．５．１ 液晶材料 ｂ．重合性ネマチック液晶材料 図６．２１」に記載された化合物、特開平７－２５８１７０号公報、特開平７－３０６３７号公報、特開平７－３０９８０７号公報、特開平８－２３１４７０号公報記載の重合性液晶が挙げられる。
【0103】
重合性液晶組成物中の重合性液晶化合物の含有量は、重合性液晶組成物の固形分１００質量部に対して、例えば７０～９９．５質量部であり、好ましくは８０～９９質量部であり、より好ましくは８５～９８質量部であり、さらに好ましくは９０～９５質量部である。重合性液晶化合物の含有量が上記範囲内であれば、得られる液晶硬化膜の配向性の観点から有利である。なお、本明細書において、重合性液晶組成物の固形分とは、重合性液晶組成物から有機溶剤等の揮発性成分を除いた全ての成分を意味する。
【0104】
位相差板は、式（１）および式（２）で表される光学特性を有することが好ましい。式（１）および式（２）で表される光学特性を有する位相差板は、式（４）、（６）及び式（７）で表される光学特性を有する層（正波長分散性１／２波長層）と、式（５）、（６）及び式（７）で表される光学特性を有する層（正波長分散性１／４波長層）とを特定の遅相軸関係で組み合わせることで得られる。
Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≦１．００ （１）
１．００≦Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０） （２）
１００ｎｍ＜Ｒｅ（５５０）＜１６０ｎｍ （４）
２００ｎｍ＜Ｒｅ（５５０）＜３２０ｎｍ （５）
Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≧１．００ （６）
１．００≧Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０） （７）
Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≦１．００ （１）
１．００≦Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０） （２）
１００ｎｍ＜Ｒｅ（５５０）＜１６０ｎｍ （４）
２００ｎｍ＜Ｒｅ（５５０）＜３２０ｎｍ （５）
Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≧１．００ （６）
１．００≧Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０） （７）
【0105】
位相差板は、好ましくは、式（１）および式（２）で表される光学特性を有する。位相差板が式（１）および式（２）で表される光学特性を有すると、可視光域における各波長の光に対して、一様な偏光変換の特性が得られ、有機ＥＬ表示装置等の表示装置の黒表示時の光漏れを抑制することができる。
【0106】
前記特定の構造を有する重合性液晶としては、例えば、前記重合性液晶（Ａ）が挙げられる。重合性液晶（Ａ）を、基材平面に対して光軸が水平となるように配向することで、式（１）及び式（２）で表される光学特性を有する位相差膜が得られ、さらに、前記式（１０）に従って膜厚を調節することで、例えば、式（４）で表される光学特性等の所望の面内位相差値を有する位相差膜を得ることができる。
１００ｎｍ＜Ｒｅ（５５０）＜１６０ｎｍ （４）
１００ｎｍ＜Ｒｅ（５５０）＜１６０ｎｍ （４）
【0107】
なお、式（４）で表される光学特性を有する層を１／４波長層ともいい、式（５）で表される光学特性を有する層を１／２波長層ともいい、式（６）及び式（７）で表される光学特性を正波長分散性ともいう。式（４）、（６）及び式（７）で表される光学特性を有する層と、式（５）、（６）及び式（７）で表される光学特性を有する層とを特定の遅相軸関係で組み合わせる方法としては、周知の方法が挙げられる。例えば、特開２０１５－１６３９３５号公報や、ＷＯ２０１３／１３７４６４号公報等の周知の方法が挙げられる。視野角補償の観点から好ましくは円盤状の重合性液晶化合物の重合体を含むである１／２波長層と棒状の重合性液晶化合物の重合体を含むである１／４波長層を用いることが好ましい。
【0108】
上記式（６）及び式（７）で表される光学特性を有する位相差膜は、周知の方法で得ることができる。すなわち、上記式（１）および式（２）で表される光学特性を有する位相差膜を得る方法以外の方法で得られる位相差膜は、概ね式（６）及び式（７）で表される光学特性を有する。
【0109】
１／２波長層及び１／４波長層は、面内位相差値を有することが好ましく、波長５５０ｎｍにおける面内位相差値が８０ｎｍ以上であることが好ましく、９０ｎｍ以上であってもよく、１００ｎｍ以上であってもよく、また、３００ｎｍ以下であってもよく、２００ｎｍ以下であってもよい。
【0110】
１／２波長層及び１／４波長層は、厚み方向の位相差値が０（ゼロ）であってもよく、厚み方向の位相差値を有していてもよい。１／２波長層及び１／４波長層の波長５５０ｎｍにおける厚み方向の位相差値は、例えば１０ｎｍ以上であってもよく、２０ｎｍ以上であってもよく、４０ｎｍ以上であってもよく、また、１００ｎｍ以下であってもよく、８０ｎｍ以下であってもよく、６０ｎｍ以下であってもよい。
【0111】
位相差板の好適な一形態は、式（５）、（６）及び式（７）で表される光学特性を有する１／２波長層と、式（４）、（６）及び式（７）で表される光学特性を有する１／４波長層とからなる。
１００ｎｍ＜Ｒｅ（５５０）＜１６０ｎｍ （４）
２００ｎｍ＜Ｒｅ（５５０）＜３２０ｎｍ （５）
Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≧１．００ （６）
１．００≧Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０） （７）
１／４波長層は好ましくは式（４－１）で表される光学特性を有する層であり、１／２波長層は好ましくは式（５－１）で表される光学特性を有する層である。
１３０ｎｍ＜Ｒｅ（５５０）＜１５０ｎｍ （４－１）
２６５ｎｍ＜Ｒｅ（５５０）＜２８５ｎｍ （５－１）
１００ｎｍ＜Ｒｅ（５５０）＜１６０ｎｍ （４）
２００ｎｍ＜Ｒｅ（５５０）＜３２０ｎｍ （５）
Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≧１．００ （６）
１．００≧Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０） （７）
１／４波長層は好ましくは式（４－１）で表される光学特性を有する層であり、１／２波長層は好ましくは式（５－１）で表される光学特性を有する層である。
１３０ｎｍ＜Ｒｅ（５５０）＜１５０ｎｍ （４－１）
２６５ｎｍ＜Ｒｅ（５５０）＜２８５ｎｍ （５－１）
【0112】
１／２波長層は、好ましくは重合性液晶（Ｃ）を重合させることにより形成されるコーティング層である。１／４波長層は、好ましくは重合性液晶（Ｂ）を重合させることにより形成されるコーティング層である。
【0113】
１／２波長層と１／４波長層は、それぞれの厚みが３．０μｍ以下である。１／２波長層と１／４波長層との厚みが、例えば３．０μｍ以下のように薄い構成の光学積層体においては、斜め方向から干渉ムラが視認されやすく、したがって本発明により奏される干渉ムラを低減する効果がより顕著となる。
【0114】
液晶位相差膜の厚さは、干渉膜厚計、レーザー顕微鏡または触針式膜厚計による測定によって求めることができる。
【0115】
位相差板として、上記１／２波長層と１／４波長層を組み合わせた構成以外にもチルト配向やコレステリック配向している構成についても反射防止機能を達成する構成であれば特に制限はなく、例えばＷＯ２０２１／０６０３７８号公報、ＷＯ２０２１／１３２６１６号公報、ＷＯ２０２１／１３２６２４号公報等の周知の構成が挙げられる。
【0116】
位相差板として、液晶位相差膜として、上述の式（１）、（２）、（４）の関係を満たす、逆分散性の１／４波長層を１層のみ有する構成であってもよい。
【0117】
＜基材＞
位相差板３０は、基材を有していてもよい。基材は通常透明基材である。透明基材とは、光、特に可視光を透過し得る透明性を有する基材を意味し、透明性とは、波長３８０～７８０ｎｍにわたる光線に対しての透過率が８０％を以上となる特性をいう。基材としては、ガラス基材及びフィルム基材が挙げられ、フィルム基材が好ましい、連続的に製造できる点で長尺のロール状フィルムがより好ましい。フィルム基材を構成する樹脂としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ノルボルネン系ポリマー等のポリオレフィン；環状オレフィン系樹脂；ポリビニルアルコール；ポリエチレンテレフタレート；ポリメタクリル酸エステル；ポリアクリル酸エステル；トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース及びセルロースアセテートプロピオネート等のセルロースエステル；ポリエチレンナフタレート；ポリカーボネート；ポリスルホン；ポリエーテルスルホン；ポリエーテルケトン；ポリフェニレンスルフィド及びポリフェニレンオキシド；等のプラスチックが挙げられる。中でも光学フィルム用途で使用する際の透明性等の観点からトリアセチルセルロース、環状オレフィン系樹脂、ポリメタクリル酸エステル、ポリエチレンテレフタレートのいずれかから選ばれるフィルム基材がより好ましい。
位相差板３０は、基材を有していてもよい。基材は通常透明基材である。透明基材とは、光、特に可視光を透過し得る透明性を有する基材を意味し、透明性とは、波長３８０～７８０ｎｍにわたる光線に対しての透過率が８０％を以上となる特性をいう。基材としては、ガラス基材及びフィルム基材が挙げられ、フィルム基材が好ましい、連続的に製造できる点で長尺のロール状フィルムがより好ましい。フィルム基材を構成する樹脂としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ノルボルネン系ポリマー等のポリオレフィン；環状オレフィン系樹脂；ポリビニルアルコール；ポリエチレンテレフタレート；ポリメタクリル酸エステル；ポリアクリル酸エステル；トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース及びセルロースアセテートプロピオネート等のセルロースエステル；ポリエチレンナフタレート；ポリカーボネート；ポリスルホン；ポリエーテルスルホン；ポリエーテルケトン；ポリフェニレンスルフィド及びポリフェニレンオキシド；等のプラスチックが挙げられる。中でも光学フィルム用途で使用する際の透明性等の観点からトリアセチルセルロース、環状オレフィン系樹脂、ポリメタクリル酸エステル、ポリエチレンテレフタレートのいずれかから選ばれるフィルム基材がより好ましい。
【0118】
市販のセルロースエステル基材としては、“フジタックフィルム”（富士写真フイルム株式会社製）；“ＫＣ８ＵＸ２Ｍ”、“ＫＣ８ＵＹ”及び“ＫＣ４ＵＹ”（以上、コニカミノルタオプト株式会社製）等が挙げられる。
市販の環状オレフィン系樹脂としては、“Ｔｏｐａｓ”（登録商標）（Ｔｉｃｏｎａ社（独）製）、“アートン”（登録商標）（ＪＳＲ株式会社製）、“ゼオノア（ＺＥＯＮＯＲ）”（登録商標）、“ゼオネックス（ＺＥＯＮＥＸ）”（登録商標）（以上、日本ゼオン株式会社製）及び“アペル”（登録商標）（三井化学株式会社製）が挙げられる。このような環状オレフィン系樹脂を、溶剤キャスト法、溶融押出法等の公知の手段により製膜して、基材とすることができる。市販されている環状オレフィン系樹脂基材を用いることもできる。市販の環状オレフィン系樹脂基材としては、“エスシーナ”（登録商標）、“ＳＣＡ４０”（登録商標）（以上、積水化学工業株式会社製）、“ゼオノアフィルム”（登録商標）（オプテス株式会社製）及び“アートンフィルム”（登録商標）（ＪＳＲ株式会社製）が挙げられる。
市販の環状オレフィン系樹脂としては、“Ｔｏｐａｓ”（登録商標）（Ｔｉｃｏｎａ社（独）製）、“アートン”（登録商標）（ＪＳＲ株式会社製）、“ゼオノア（ＺＥＯＮＯＲ）”（登録商標）、“ゼオネックス（ＺＥＯＮＥＸ）”（登録商標）（以上、日本ゼオン株式会社製）及び“アペル”（登録商標）（三井化学株式会社製）が挙げられる。このような環状オレフィン系樹脂を、溶剤キャスト法、溶融押出法等の公知の手段により製膜して、基材とすることができる。市販されている環状オレフィン系樹脂基材を用いることもできる。市販の環状オレフィン系樹脂基材としては、“エスシーナ”（登録商標）、“ＳＣＡ４０”（登録商標）（以上、積水化学工業株式会社製）、“ゼオノアフィルム”（登録商標）（オプテス株式会社製）及び“アートンフィルム”（登録商標）（ＪＳＲ株式会社製）が挙げられる。
【0119】
基材の厚さは、実用的な取り扱いができる程度で薄い方が好ましいが、薄すぎると強度が低下し、加工性に劣る傾向がある。基材の厚さは、通常、５μｍ～３００μｍであり、好ましくは１０μｍ～２００μｍ、より好ましくは１０～５０μｍである。また、基材を剥離して偏光膜や位相差膜を転写することによって、さらなる薄膜化効果が得られる。
【0120】
＜配向膜＞
本明細書において配向膜は、重合性液晶化合物を所望の方向に液晶配向させる、配向規制力を有するものである。
本明細書において配向膜は、重合性液晶化合物を所望の方向に液晶配向させる、配向規制力を有するものである。
【0121】
配向膜は、重合性液晶化合物の液晶配向を容易にする。水平配向、垂直配向、ハイブリッド配向、傾斜配向等の液晶配向の状態は、配向膜および重合性液晶化合物の性質によって変化し、その組み合わせは任意に選択することができる。例えば、配向膜が配向規制力として水平配向を発現させる材料であれば、重合性液晶化合物は水平配向またはハイブリッド配向を形成することができ、垂直配向を発現させる材料であれば、重合性液晶化合物は垂直配向または傾斜配向を形成することができる。水平、垂直等の表現は、光学異方性層平面を基準とした場合の、配向した重合性液晶化合物の光軸の方向を表す。例えば、垂直配向とは光学異方性層平面に対して垂直な方向に、配向した重合性液晶化合物の光軸を有することである。ここでいう垂直とは、光学異方性層平面に対して９０°±２０°のことを意味する。
【0122】
配向規制力は、配向膜が配向性ポリマーから形成されている場合は、表面状態やラビング条件によって任意に調整することが可能であり、光配向性ポリマーから形成されている場合は、偏光照射条件等によって任意に調整することが可能である。また、重合性液晶化合物の、表面張力や液晶性等の物性を選択することにより、液晶配向を制御することもできる。
【0123】
基材と液晶位相差膜との間に形成される配向膜としては、配向膜上に液晶位相差膜を形成する際に使用される溶剤に不溶であり、また、溶剤の除去や液晶の配向のための加熱処理における耐熱性を有するものが好ましい。配向膜としては、配向性ポリマーからなる配向膜、光配向膜およびグルブ（ｇｒｏｏｖｅ）配向膜、配向方向に延伸してある延伸フィルム等が挙げられ、長尺のロール状フィルムに適用する場合には、配向方向を容易に制御できる点で、光配向膜が好ましい。
【0124】
配向膜の厚さは、通常１０ｎｍ～５０００ｎｍの範囲であり、好ましくは１０ｎｍ～１０００ｎｍの範囲であり、より好ましくは３０～３００ｎｍである。
【0125】
ラビング配向膜に用いられる配向性ポリマーとしては、分子内にアミド結合を有するポリアミドやゼラチン類、分子内にイミド結合を有するポリイミドおよびその加水分解物であるポリアミック酸、ポリビニルアルコール、アルキル変性ポリビニルアルコール、ポリアクリルアミド、ポリオキサゾール、ポリエチレンイミン、ポリスチレン、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸およびポリアクリル酸エステル類等が挙げられる。中でも、ポリビニルアルコールが好ましい。これらの配向性ポリマーは、単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【0126】
ラビングする方法としては、ラビング布が巻きつけられ、回転しているラビングロールに、配向性ポリマー組成物を基材に塗布しアニールすることで基材表面に形成された配向性ポリマーの膜を、接触させる方法が挙げられる。
【0127】
光配向膜は、光反応性基を有するポリマーやオリゴマーまたはモノマーからなる。光配向膜は、偏光を照射することで配向規制力が得られる。照射する偏光の偏光方向を選択することにより、配向規制力の方向を任意に制御できる点で光配向膜がより好ましい。
【0128】
光反応性基とは、光を照射することにより液晶配向能を生じる基をいう。具体的には、光を照射することで生じる分子の配向誘起または異性化反応、二量化反応、光架橋反応、または光分解反応のような、液晶配向能の起源となる光反応を生じるものである。当該光反応性基の中でも、二量化反応または光架橋反応を起こすものが、配向性に優れる点で好ましい。以上のような反応を生じうる光反応性基としては、不飽和結合、特に二重結合を有するものが好ましく、炭素－炭素二重結合（Ｃ＝Ｃ結合）、炭素－窒素二重結合（Ｃ＝Ｎ結合）、窒素－窒素二重結合（Ｎ＝Ｎ結合）、および炭素－酸素二重結合（Ｃ＝Ｏ結合）からなる群より選ばれる少なくとも一つを有する基がより好ましい。
【0129】
Ｃ＝Ｃ結合を有する光反応性基としては例えば、ビニル基、ポリエン基、スチルベン基、スチルバゾ－ル基、スチルバゾリウム基、カルコン基およびシンナモイル基等が挙げられる。反応性の制御が容易であるという点や光配向時の配向規制力発現の観点から、カルコン基およびシンナモイル基が好ましい。Ｃ＝Ｎ結合を有する光反応性基としては、芳香族シッフ塩基および芳香族ヒドラゾン等の構造を有する基が挙げられる。Ｎ＝Ｎ結合を有する光反応性基としては、アゾベンゼン基、アゾナフタレン基、芳香族複素環アゾ基、ビスアゾ基およびホルマザン基等や、アゾキシベンゼンを基本構造とするものが挙げられる。Ｃ＝Ｏ結合を有する光反応性基としては、ベンゾフェノン基、クマリン基、アントラキノン基およびマレイミド基等が挙げられる。これらの基は、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリルオキシ基、シアノ基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシル基、スルホン酸基およびハロゲン化アルキル基等の置換基を有していてもよい。
【0130】
偏光を照射するには、膜面から直接偏光を照射する形式でも、基材側から偏光を照射し、偏光を透過させて照射する形式でもよい。また、当該偏光は、実質的に平行光であることが特に好ましい。照射する偏光の波長は、光反応性基を有するポリマーまたはモノマーの光反応性基が、光エネルギーを吸収し得る波長領域のものがよい。具体的には、波長２５０～４００ｎｍの範囲のＵＶ（紫外光）が特に好ましい。当該偏光照射に用いる光源としては、キセノンランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、ＫｒＦ、ＡｒＦ等の紫外光レーザー等が挙げられ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプおよびメタルハライドランプがより好ましい。これらのランプは、波長３１３ｎｍの紫外光の発光強度が大きいため好ましい。前記光源からの光を、適当な偏光子を通過して照射することにより、偏光を照射することができる。かかる偏光子としては、偏光フィルターやグラントムソン、グランテーラー等の偏光プリズムやワイヤーグリッドタイプの偏光子を用いることができる。
【0131】
＜偏光膜形成用組成物、液晶位相差膜形成用組成物＞
偏光膜形成用組成物又は液晶位相差膜形成用組成物（以下、光学異方性層形成用組成物ともいう）はさらに、溶剤やレベリング剤、重合開始剤、光増感剤、重合禁止剤、架橋剤、密着剤等の反応性添加剤を含んでいても良く、溶剤やレベリング剤を含む事が加工性の観点から好ましい。
偏光膜形成用組成物又は液晶位相差膜形成用組成物（以下、光学異方性層形成用組成物ともいう）はさらに、溶剤やレベリング剤、重合開始剤、光増感剤、重合禁止剤、架橋剤、密着剤等の反応性添加剤を含んでいても良く、溶剤やレベリング剤を含む事が加工性の観点から好ましい。
【0132】
（溶剤）
光学異方性層形成用組成物は溶剤を含有してよい。一般に重合性液晶化合物は粘度が高いため、溶剤に溶解させた光学異方性層形成用組成物とすることで塗布が容易になり、結果として光学異方性層の形成がし易くなる場合が多い。溶剤としては、重合性液晶化合物を完全に溶解し得るものが好ましく、また、重合性液晶化合物の重合反応に不活性な溶剤であることが好ましい。
光学異方性層形成用組成物は溶剤を含有してよい。一般に重合性液晶化合物は粘度が高いため、溶剤に溶解させた光学異方性層形成用組成物とすることで塗布が容易になり、結果として光学異方性層の形成がし易くなる場合が多い。溶剤としては、重合性液晶化合物を完全に溶解し得るものが好ましく、また、重合性液晶化合物の重合反応に不活性な溶剤であることが好ましい。
【0133】
溶剤としては、メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、エチレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールブチルエーテルおよびプロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール溶剤；酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、γ－ブチロラクトンまたはプロピレングリコールメチルエーテルアセテートおよび乳酸エチル等のエステル溶剤；アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、２－ヘプタノンおよびメチルイソブチルケトン等のケトン溶剤；ペンタン、ヘキサンおよびヘプタン等の脂肪族炭化水素溶剤；トルエンおよびキシレン等の芳香族炭化水素溶剤、アセトニトリル等のニトリル溶剤；テトラヒドロフランおよびジメトキシエタン等のエーテル溶剤；クロロホルムおよびクロロベンゼン等の塩素含有溶剤；ジメチルアセトアミド、ジメチルホルミアミド、Ｎ－メチル－２－ピロリドン、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン等のアミド系溶剤等が挙げられる。これら溶剤は、単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【0134】
溶剤の含有量は、前記光学異方性層形成用組成物の総量に対して５０～９８質量％が好ましい。換言すると、光学異方性層形成用組成物における固形分の含有量は、２～５０質量％が好ましく、５～３０質量％がより好ましい。該固形分の含有量が５０質量％以下であると、光学異方性層形成用組成物の粘度が低くなることから、光学異方性層の厚さが略均一になることで、当該光学異方性層に干渉ムラが生じにくくなる傾向がある。また、かかる固形分の含有量は、製造しようとする光学異方性層の厚さを考慮して定めることができる。
【0135】
（レベリング剤）
光学異方性層形成用組成物には、レベリング剤を含有させてもよい。レベリング剤とは、組成物の流動性を調整し、組成物を塗布して得られる膜をより平坦にする機能を有する添加剤であり、例えば、有機変性シリコーン系、ポリアクリレート系およびパーフルオロアルキル系のレベリング剤が挙げられる。中でも、水平配向させる場合には、ポリアクリレート系レベリング剤およびパーフルオロアルキル系レベリング剤が好ましく、垂直配向させる場合には、有機変性シリコーン系レベリング剤およびパーフルオロアルキル系レベリング剤が好ましい。
光学異方性層形成用組成物には、レベリング剤を含有させてもよい。レベリング剤とは、組成物の流動性を調整し、組成物を塗布して得られる膜をより平坦にする機能を有する添加剤であり、例えば、有機変性シリコーン系、ポリアクリレート系およびパーフルオロアルキル系のレベリング剤が挙げられる。中でも、水平配向させる場合には、ポリアクリレート系レベリング剤およびパーフルオロアルキル系レベリング剤が好ましく、垂直配向させる場合には、有機変性シリコーン系レベリング剤およびパーフルオロアルキル系レベリング剤が好ましい。
【0136】
光学異方性層形成用組成物がレベリング剤を含有する場合、重合性液晶化合物の含有量１００質量部に対して、好ましくは０．０１～５質量部、より好ましくは０．０５～３質量部である。レベリング剤の含有量が上記範囲内であると、重合性液晶化合物を水平配向させることが容易であり、かつ得られる光学異方性層がより平滑となる傾向がある。重合性液晶化合物に対するレベリング剤の含有量が上記範囲を超えると、得られる光学異方性層に干渉ムラが生じやすい傾向がある。なお、光学異方性層形成用組成物は、レベリング剤を２種以上含有していてもよい。
【0137】
（重合開始剤）
光学異方性層形成用組成物は重合開始剤を含有していてもよい。重合開始剤は、重合性液晶化合物等の重合反応を開始し得る化合物である。重合開始剤としては、サーモトロピック液晶の相状態に依存しないという観点から、光の作用により活性ラジカルを発生する光重合開始剤が好ましい。
光学異方性層形成用組成物は重合開始剤を含有していてもよい。重合開始剤は、重合性液晶化合物等の重合反応を開始し得る化合物である。重合開始剤としては、サーモトロピック液晶の相状態に依存しないという観点から、光の作用により活性ラジカルを発生する光重合開始剤が好ましい。
【0138】
光重合開始剤は、重合性液晶化合物の重合反応を開始し得る化合物であれば、公知の光重合開始剤を用いることができる。具体的には、光の作用により活性ラジカルまたは酸を発生できる光重合開始剤が挙げられ、中でも、光の作用によりラジカルを発生する光重合開始剤が好ましい。光重合開始剤は単独または二種以上組み合わせて使用できる。
【0139】
光重合開始剤としては、公知の光重合開始剤を用いることができ、例えば、活性ラジカルを発生する光重合開始剤としては、自己開裂型のベンゾイン系化合物、アセトフェノン系化合物、ヒドロキシアセトフェノン系化合物、α－アミノアセトフェノン系化合物、オキシムエステル系化合物、アシルホスフィンオキサイド系化合物、アゾ系化合物等を使用でき、水素引き抜き型のベンゾフェノン系化合物、アルキルフェノン系化合物、ベンゾインエーテル系化合物、ベンジルケタール系化合物、ジベンゾスベロン系化合物、アントラキノン系化合物、キサントン系化合物、チオキサントン系化合物、ハロゲノアセトフェノン系化合物、ジアルコキシアセトフェノン系化合物、ハロゲノビスイミダゾール系化合物、ハロゲノトリアジン系化合物、トリアジン系化合物等を使用できる。酸を発生する光重合開始剤としては、ヨードニウム塩およびスルホニウム塩等を使用することができる。低温での反応効率に優れるという観点から自己開裂型の光重合開始剤が好ましく、特にアセトフェノン系化合物、ヒドロキシアセトフェノン系化合物、α－アミノアセトフェノン系化合物、オキシムエステル系化合物が好ましい。
【0140】
光学異方性層形成用組成物中の重合開始剤の含有量は、重合性液晶化合物の種類およびその量に応じて適宜調節できるが、重合性液晶化合物の含有量１００質量部に対して、通常０．１～３０質量部、好ましくは０．５～１０質量部、より好ましくは０．５～８質量 部である。重合開始剤の含有量が上記範囲内であると、重合性液晶化合物の配向を乱すことなく重合を行うことができる。
【0141】
（増感剤）
光学異方性層形成用組成物は増感剤を含有してもよい。増感剤としては、光増感剤が好ましい。該増感剤としては、例えば、キサントンおよびチオキサントン等のキサントン化合物（例えば、２，４－ジエチルチオキサントン、２－イソプロピルチオキサントン等）；アントラセンおよびアルコキシ基含有アントラセン(例えば、ジブトキシアントラセン等)等のアントラセン化合物；フェノチアジンおよびルブレン等が挙げられる。
光学異方性層形成用組成物は増感剤を含有してもよい。増感剤としては、光増感剤が好ましい。該増感剤としては、例えば、キサントンおよびチオキサントン等のキサントン化合物（例えば、２，４－ジエチルチオキサントン、２－イソプロピルチオキサントン等）；アントラセンおよびアルコキシ基含有アントラセン(例えば、ジブトキシアントラセン等)等のアントラセン化合物；フェノチアジンおよびルブレン等が挙げられる。
【0142】
光学異方性層形成用組成物が増感剤を含有する場合、光学異方性層形成用組成物に含有される重合性液晶化合物の重合反応をより促進することができる。かかる増感剤の使用量は、重合性液晶化合物の含有量１００質量部に対して、０．１～３０質量部が好ましく、０．５～１０質量部がより好ましく、０．５～８質量部がさらに好ましい。
【0143】
（酸化防止剤）
重合反応を安定的に進行させる観点から、光学異方性層形成用組成物は酸化防止剤を含有してもよい。酸化防止剤により、重合性液晶化合物の重合反応の進行度合いをコントロールすることができる。
重合反応を安定的に進行させる観点から、光学異方性層形成用組成物は酸化防止剤を含有してもよい。酸化防止剤により、重合性液晶化合物の重合反応の進行度合いをコントロールすることができる。
【0144】
前記酸化防止剤としては、例えば、フェノール系酸化防止剤、アミン系酸化防止剤、キノン系酸化防止剤、ニトロソ系酸化防止剤から選ばれる一次酸化防止剤であってもよいし、リン系酸化防止剤および硫黄系酸化防止剤から選ばれる二次酸化防止剤であったもよい。
【0145】
光学異方性層形成用組成物が酸化防止剤を含有する場合、酸化防止剤の含有量は、重合性液晶化合物の含有量１００質量部に対して、好ましくは０．１～３０質量部、より好ましくは０．５～１０質量部、さらに好ましくは０．５～８質量部である。酸化防止剤は単独または２種以上を組み合わせて使用できる。酸化防止剤の含有量が、上記範囲内であると、重合性液晶化合物の配向を乱すことなく重合を行うことができる。
【0146】
（光学異方性層形成用組成物；反応性添加剤）
光学異方性層形成用組成物は、反応性添加剤を含んでもよい。反応性添加剤としては、その分子内に炭素－炭素不飽和結合や活性水素反応性基やチオール基を有するものが好ましい。なお、ここでいう「活性水素反応性基」とは、カルボキシル基（－ＣＯＯＨ）、水酸基（－ＯＨ）、アミノ基（－ＮＨ２）等の活性水素を有する基に対して反応性を有する基を意味し、グリシジル基、オキサゾリン基、カルボジイミド基、アジリジン基、イミド基、イソシアネート基、チオイソシアネート基、無水マレイン酸基等がその代表例である。反応性添加剤が有する反応性基の個数は、通常、それぞれ１～２０個であり、好ましくはそれぞれ１～１０個である。
光学異方性層形成用組成物は、反応性添加剤を含んでもよい。反応性添加剤としては、その分子内に炭素－炭素不飽和結合や活性水素反応性基やチオール基を有するものが好ましい。なお、ここでいう「活性水素反応性基」とは、カルボキシル基（－ＣＯＯＨ）、水酸基（－ＯＨ）、アミノ基（－ＮＨ２）等の活性水素を有する基に対して反応性を有する基を意味し、グリシジル基、オキサゾリン基、カルボジイミド基、アジリジン基、イミド基、イソシアネート基、チオイソシアネート基、無水マレイン酸基等がその代表例である。反応性添加剤が有する反応性基の個数は、通常、それぞれ１～２０個であり、好ましくはそれぞれ１～１０個である。
【0147】
＜偏光膜、液晶位相差膜＞
（保護層）
偏光膜又は液晶位相差膜（以下、光学異方性層ともいう）は、さらに保護層を有していても良い。光学異方性層を粘接着剤等によって別のフィルムに接着積層させるような場合に、保護層を有する事で光学異方性層中の未反応の重合性液晶化合物や二色性色素等の低分子成分が別の層へ拡散する事を防止する事ができる。
（保護層）
偏光膜又は液晶位相差膜（以下、光学異方性層ともいう）は、さらに保護層を有していても良い。光学異方性層を粘接着剤等によって別のフィルムに接着積層させるような場合に、保護層を有する事で光学異方性層中の未反応の重合性液晶化合物や二色性色素等の低分子成分が別の層へ拡散する事を防止する事ができる。
【0148】
保護層は光学異方性層中の未反応の重合性液晶化合物や二色性色素等の低分子成分が別の層へ拡散する事を防止する事ができるのであれば薄い事が好ましい。好ましい膜厚としては、０．１μｍ以上１０μｍ以下であり、より好ましくは０．１μｍ以上５μｍ以下、さらに好ましくは０．１μｍ以上３μｍ以下である。
【0149】
保護層は架橋密度が高いポリマーか親水性相互作用の高い水溶性ポリマーが好ましい。例えば、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、オキセタン樹脂、ウレタン樹脂、及びメラミン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂からなる群から選択される少なくとも１種を含んでなる。これらの中でも、硬化性が高く形成しやすい観点から、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、オキセタン樹脂、ウレタン樹脂、及びメラミン樹脂からなる群から選択される少なくとも１種を含んでなることが好ましく、アクリル樹脂及びウレタン樹脂からなる群から選択される少なくとも１種を含んでなることがより好ましい。また、親水性の観点からポリビニルアルコール樹脂が好ましい。
【0150】
＜光学異方性層の製造方法＞
光学異方性層は、基材並びに配向膜上に光学異方性層形成用組成物を塗布することで製造することができる。光学積層体１において、直線偏光板１０側に設けられる第１位相差膜は、直線偏光板１０の保護フィルム１１を基材として保護フィルム１１上に形成することが好ましい。また第１位相差膜は、保護フィルム１１上に形成された配向膜上に形成することが好ましい。このように第１位相差膜を形成することにより、直線偏光板１０と位相差板３０との間に粘接着層を有しない光学積層体を構成することができる。
光学異方性層は、基材並びに配向膜上に光学異方性層形成用組成物を塗布することで製造することができる。光学積層体１において、直線偏光板１０側に設けられる第１位相差膜は、直線偏光板１０の保護フィルム１１を基材として保護フィルム１１上に形成することが好ましい。また第１位相差膜は、保護フィルム１１上に形成された配向膜上に形成することが好ましい。このように第１位相差膜を形成することにより、直線偏光板１０と位相差板３０との間に粘接着層を有しない光学積層体を構成することができる。
【0151】
＜光学異方性層形成用組成物の塗布＞
光学異方性層形成用組成物を基材又は配向膜上に塗布する方法としては、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ＣＡＰコーティング法、スリットコーティング法、マイクログラビア法、ダイコーティング法、インクジェット法等が挙げられる。また、ディップコーター、バーコーター、スピンコーター等のコーターを用いて塗布する方法等も挙げられる。中でも、Ｒｏｌｌ ｔｏ Ｒｏｌｌ形式で連続的に塗布する場合には、マイクログラビア法、インクジェット法、スリットコーティング法、ダイコーティング法による塗布方法が好ましく、ガラス等の枚葉基材に塗布する場合には、均一性の高いスピンコーティング法が好ましい。Ｒｏｌｌ ｔｏ Ｒｏｌｌ形式で塗布する場合、基材に配向膜形成用組成物等を塗布して配向膜を形成し、さらに得られた配向膜上に光学異方性層形成用組成物を連続的に塗布することもできる。
光学異方性層形成用組成物を基材又は配向膜上に塗布する方法としては、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ＣＡＰコーティング法、スリットコーティング法、マイクログラビア法、ダイコーティング法、インクジェット法等が挙げられる。また、ディップコーター、バーコーター、スピンコーター等のコーターを用いて塗布する方法等も挙げられる。中でも、Ｒｏｌｌ ｔｏ Ｒｏｌｌ形式で連続的に塗布する場合には、マイクログラビア法、インクジェット法、スリットコーティング法、ダイコーティング法による塗布方法が好ましく、ガラス等の枚葉基材に塗布する場合には、均一性の高いスピンコーティング法が好ましい。Ｒｏｌｌ ｔｏ Ｒｏｌｌ形式で塗布する場合、基材に配向膜形成用組成物等を塗布して配向膜を形成し、さらに得られた配向膜上に光学異方性層形成用組成物を連続的に塗布することもできる。
【0152】
＜光学異方性層形成用組成物の乾燥＞
光学異方性層形成用組成物に含まれる溶剤を除去する乾燥方法としては、例えば、自然乾燥、通風乾燥、加熱乾燥、減圧乾燥およびこれらを組み合わせた方法が挙げられる。中でも、自然乾燥または加熱乾燥が好ましい。乾燥温度は、０～２００℃の範囲が好ましく、２０～１５０℃の範囲がより好ましく、５０～１３０℃の範囲がさらに好ましい。乾燥時間は、１０秒間～１０分間が好ましく、より好ましくは３０秒間～５分間である。光配向膜形成用組成物および配向性ポリマー組成物も同様に乾燥することができる。
光学異方性層形成用組成物に含まれる溶剤を除去する乾燥方法としては、例えば、自然乾燥、通風乾燥、加熱乾燥、減圧乾燥およびこれらを組み合わせた方法が挙げられる。中でも、自然乾燥または加熱乾燥が好ましい。乾燥温度は、０～２００℃の範囲が好ましく、２０～１５０℃の範囲がより好ましく、５０～１３０℃の範囲がさらに好ましい。乾燥時間は、１０秒間～１０分間が好ましく、より好ましくは３０秒間～５分間である。光配向膜形成用組成物および配向性ポリマー組成物も同様に乾燥することができる。
【0153】
＜重合性液晶化合物の重合＞
重合性液晶化合物を重合させる方法としては、光重合が好ましい。光重合は、基材上または配向膜上に重合性液晶化合物を含む光学異方性層形成用組成物が塗布された積層体に活性エネルギー線を照射することにより実施される。照射する活性エネルギー線としては、乾燥被膜に含まれる重合性液晶化合物の種類（特に、重合性液晶化合物が有する光重合性官能基の種類）、光重合開始剤を含む場合には光重合開始剤の種類、およびそれらの量に応じて適宜選択される。具体的には、可視光、紫外光、赤外光、Ｘ線、α線、β線、およびγ線からなる群より選択される一種以上の光が挙げられる。中でも、重合反応の進行を制御し易い点、および光重合装置として当分野で広範に用いられているものが使用できるという点で、紫外光が好ましく、紫外光によって光重合可能なように、重合性液晶化合物の種類を選択することが好ましい。
重合性液晶化合物を重合させる方法としては、光重合が好ましい。光重合は、基材上または配向膜上に重合性液晶化合物を含む光学異方性層形成用組成物が塗布された積層体に活性エネルギー線を照射することにより実施される。照射する活性エネルギー線としては、乾燥被膜に含まれる重合性液晶化合物の種類（特に、重合性液晶化合物が有する光重合性官能基の種類）、光重合開始剤を含む場合には光重合開始剤の種類、およびそれらの量に応じて適宜選択される。具体的には、可視光、紫外光、赤外光、Ｘ線、α線、β線、およびγ線からなる群より選択される一種以上の光が挙げられる。中でも、重合反応の進行を制御し易い点、および光重合装置として当分野で広範に用いられているものが使用できるという点で、紫外光が好ましく、紫外光によって光重合可能なように、重合性液晶化合物の種類を選択することが好ましい。
【0154】
前記活性エネルギー線の光源としては、例えば、低圧水銀ランプ、中圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、キセノンランプ、ハロゲンランプ、カーボンアーク灯、タングステンランプ、ガリウム干渉ランプ、エキシマレーザー、波長範囲３８０～４４０ｎｍを発光するＬＥＤ光源、ケミカルランプ、ブラックライトランプ、マイクロウェーブ励起水銀灯、メタルハライドランプ等が挙げられる。
【0155】
紫外線照射強度は、通常、１０ｍＷ／ｃｍ２～３，０００ｍＷ／ｃｍ２である。紫外線照射強度は、好ましくはカチオン重合開始剤又はラジカル重合開始剤の活性化に有効な波長領域における強度である。光を照射する時間は、通常０．１秒～１０分であり、好ましくは１秒～５分であり、より好ましくは５秒～３分であり、さらに好ましくは１０秒～１分である。このような紫外線照射強度で１回又は複数回照射すると、その積算光量は、１０ｍＪ／ｃｍ２～３，０００ｍＪ／ｃｍ２、好ましくは５０ｍＪ／ｃｍ２～２，０００ｍＪ／ｃｍ２、より好ましくは１００ｍＪ／ｃｍ２～１，０００ｍＪ／ｃｍ２である。積算光量がこの範囲以下である場合には、重合性液晶化合物の硬化が不十分となり、良好な転写性が得られない場合がある。逆に、積算光量がこの範囲以上である場合には、光学異方層を含む光学フィルムが着色する場合がある。
【0156】
基材上または配向膜上に重合性液晶化合物を含む光学異方性層形成用組成物が塗布された積層体に活性エネルギー線を照射する前もしくは照射時に、積層体を加温することが好ましい。重合性液晶化合物の重合度を十分高められるという観点から、紫外線照射時の温度は好ましくは３０℃以上であり、より好ましくは４０℃以上であり、さらに好ましくは、５０℃以上である。また、温度が高すぎる場合、基材層にシワが生じ、位相差ムラが発生する懸念が有ることから、紫外線照射時の温度は好ましくは２００℃以下、より好ましくは１２０℃以下、さらに好ましくは９０℃以下であり、特に好ましくは７０℃以下である。なお、上述した上限値及び下限値は、任意に組み合わせることができる。この範囲に加温することにより、重合性液晶化合物の重合率が高まるため、耐久性の高い光学異方性層を形成することができる。
【0157】
液晶位相差膜の重合性液晶化合物の重合について、紫外線照射強度について、その積算光量を６００Ｊ／ｃｍ２～１０００ｍＪ／ｃｍ２とすることにより、バリア性を向上させることができ、光学積層体の耐熱性を向上させることができる。
【0158】
第１位相差板の製造方法において、第１液晶位相差膜の上に第２液晶位相差膜を形成する方法は限定されない。例えば、上述のようにして形成された第２液晶位相差膜を、直線偏光板１０上に形成された第１液晶位相層の上に粘接着層を介して貼合することにより、または第１位相差液晶層の上に塗布して形成することにより、得ることができる。
【0159】
［粘接着層］
粘接着層は、直線偏光板１０内や位相差板３０内で、二つ以上の層を貼合するために用いられる層である。粘接着層は、粘接着層は、粘着剤層であってもよいし、接着層であってもよい。粘着剤層は粘着剤組成物から形成される層であり、接着剤層は接着剤組成物から形成される層である。
粘接着層は、直線偏光板１０内や位相差板３０内で、二つ以上の層を貼合するために用いられる層である。粘接着層は、粘接着層は、粘着剤層であってもよいし、接着層であってもよい。粘着剤層は粘着剤組成物から形成される層であり、接着剤層は接着剤組成物から形成される層である。
【0160】
接着剤組成物としては、例えば、水系接着剤組成物、加熱又は紫外線、可視光、電子線、Ｘ線等の活性エネルギー線の照射により硬化する硬化性接着剤組成物等が挙げられる。水系接着剤組成物としては、例えば、主成分としてポリビニルアルコール系樹脂又はウレタン樹脂を水に溶解したもの、主成分としてポリビニルアルコール系樹脂又はウレタン樹脂を水に分散させたものが挙げられる。
硬化性接着剤組成物は、主成分として硬化性（重合性）化合物を含み、活性エネルギー線照射により硬化する活性エネルギー線硬化型接着剤組成物であることが好ましい。活性エネルギー線硬化型接着剤組成物としては、硬化性化合物としてカチオン重合性化合物を含むカチオン重合型接着剤組成物、硬化性化合物としてラジカル重合性化合物を含むラジカル重合型接着剤組成物、硬化性化合物としてカチオン重合性化合物とラジカル重合性化合物との両方を含むハイブリッド型接着剤組成物等が挙げられる。
硬化性接着剤組成物は、主成分として硬化性（重合性）化合物を含み、活性エネルギー線照射により硬化する活性エネルギー線硬化型接着剤組成物であることが好ましい。活性エネルギー線硬化型接着剤組成物としては、硬化性化合物としてカチオン重合性化合物を含むカチオン重合型接着剤組成物、硬化性化合物としてラジカル重合性化合物を含むラジカル重合型接着剤組成物、硬化性化合物としてカチオン重合性化合物とラジカル重合性化合物との両方を含むハイブリッド型接着剤組成物等が挙げられる。
【0161】
粘着剤組成物としては、光学的な透明性に優れる粘着剤組成物を特に制限なく用いることができ、例えば、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリビニルエーテル系樹脂などのベースポリマーを有する粘着剤組成物を用いることができる。また、活性エネルギー線硬化型粘着剤組成物、熱硬化型粘着剤組成物などであってもよい。
【0162】
粘着剤層の厚みは、通常０．１～３０μｍであり、好ましくは３～３０μｍであり、さらに好ましくは５～２５μｍである。
【0163】
水系接着剤組成物から形成される接着剤層の厚みは、例えば５μｍ以下であってよく、１μｍ以下であることが好ましく、０．５μｍ以下であることがより好ましく、０．０１μｍ以上であってよく、０．０５μｍ以上であることが好ましい。
活性エネルギー線硬化型接着剤組成物から形成される接着剤層の厚みは、例えば、１０μｍ以下であってよく、５μｍ以下であることが好ましく、３μｍ以下であることがより好ましく、０．１μｍ以上であってもよく、０．５μｍ以上であることが好ましく、１μｍ以上であることがより好ましい。
活性エネルギー線硬化型接着剤組成物から形成される接着剤層の厚みは、例えば、１０μｍ以下であってよく、５μｍ以下であることが好ましく、３μｍ以下であることがより好ましく、０．１μｍ以上であってもよく、０．５μｍ以上であることが好ましく、１μｍ以上であることがより好ましい。
【0164】
［画像表示装置］
図２は、本実施形態の画像表示装置の一例を模式的に示す概略断面図である。画像表示装置２は、図２に示すように、前面側から、図１に示す光学積層体１、画像表示パネル４０をこの順に有する。画像表示装置２において、光学積層体１は、直線偏光板１０側が位相差板３０よりも前面側となるような向きで配置される。
図２は、本実施形態の画像表示装置の一例を模式的に示す概略断面図である。画像表示装置２は、図２に示すように、前面側から、図１に示す光学積層体１、画像表示パネル４０をこの順に有する。画像表示装置２において、光学積層体１は、直線偏光板１０側が位相差板３０よりも前面側となるような向きで配置される。
【0165】
光学積層体１が円偏光板である場合、画像表示装置２において、外部からの入射光は、光学積層体１で反射する光と、光学積層体１を透過する光とがある。光学積層体１は、最前面に反射防止層を有する構成であってもよく、反射防止層を設けることにより、光学積層体１の表面で反射する光（以下、「外部反射光」ともいう）を低減することができる。光学積層体１を透過する光は、画像表示パネル４０で反射されて反射光となり（以下、「内部反射光」ともいう）、光学積層体１に吸収される。内部反射光は、光学積層体１で全て吸収されることが望ましいものの、一部は前面から放出される（以下、かかる光を「放出内部反射光」ともいう）。
【0166】
光学積層体１は、光学積層体１を画像表示パネル４０に貼合させるために用いることができる粘着剤層を後面上に備え、粘着剤層付き偏光板として構成されていてもよい。
【0167】
画像表示装置は特に限定されず、例えば有機エレクトロルミネッセンス（有機ＥＬ）表示装置、無機エレクトロルミネッセンス（無機ＥＬ）表示装置、液晶表示装置、電界発光表示装置等の画像表示装置が挙げられる。
【0168】
画像表示装置は、スマートフォン、タブレット等のモバイル機器、テレビ、デジタルフォトフレーム、電子看板、測定器または計器類、事務用機器、医療機器、電算機器等として用いることができる。
【0169】
＜画像表示装置が有していてもよい他の層＞
画像表示装置２は、上記した層以外の層を有していてもよい。以下、画像表示装置２が有していてもよい他の層を例示する。
画像表示装置２は、上記した層以外の層を有していてもよい。以下、画像表示装置２が有していてもよい他の層を例示する。
【0170】
（タッチセンサパネル）
タッチセンサパネルは、画像表示装置の画面に接触（タッチ）する指などを検知（センシング）する装置（センサ）であり、画面上の指の位置を検知して画像表示装置に入力する入力手段として用いられる。タッチセンサパネルは、光学積層体１と画像表示パネル４０の間に配置されてもよく、光学積層体１の前面側に配置されていてもよい。タッチセンサパネルとしては、タッチされた位置を検出可能なセンサであれば、検出方式は限定されることはなく、抵抗膜方式、静電容量結合方式、光センサ方式、超音波方式、電磁誘導結合方式、表面弾性波方式、赤外線方式等のタッチセンサパネルが例示される。低コストであることから、抵抗膜方式、静電容量結合方式のタッチセンサパネルが好適に用いられる。
タッチセンサパネルは、画像表示装置の画面に接触（タッチ）する指などを検知（センシング）する装置（センサ）であり、画面上の指の位置を検知して画像表示装置に入力する入力手段として用いられる。タッチセンサパネルは、光学積層体１と画像表示パネル４０の間に配置されてもよく、光学積層体１の前面側に配置されていてもよい。タッチセンサパネルとしては、タッチされた位置を検出可能なセンサであれば、検出方式は限定されることはなく、抵抗膜方式、静電容量結合方式、光センサ方式、超音波方式、電磁誘導結合方式、表面弾性波方式、赤外線方式等のタッチセンサパネルが例示される。低コストであることから、抵抗膜方式、静電容量結合方式のタッチセンサパネルが好適に用いられる。
【0171】
抵抗膜方式のタッチセンサパネルの一例は、互いに対向配置された一対の基板と、それら一対の基板の間に挟持された絶縁性スペーサーと、各基板の内側の前面に抵抗膜として設けられた透明導電膜と、タッチ位置検知回路とにより構成されている。抵抗膜方式のタッチセンサパネルを設けた画像表示装置においては、前面板の表面がタッチされると、対向する抵抗膜が短絡して、抵抗膜に電流が流れる。タッチ位置検知回路が、このときの電圧の変化を検知し、タッチされた位置が検出される。
【0172】
静電容量結合方式のタッチセンサパネルの一例は、基板と、基板の全面に設けられた位置検出用透明電極と、タッチ位置検知回路とにより構成されている。静電容量結合方式のタッチセンサパネルを設けた画像表示装置においては、前面板の表面がタッチされると、タッチされた点で人体の静電容量を介して透明電極が接地される。タッチ位置検知回路が、透明電極の接地を検知し、タッチされた位置が検出される。静電容量方式タッチセンサパネルは活性領域及び前記活性領域の外郭部に位置する非活性領域に区分される。活性領域は表示パネルで画面が表示される領域（表示部）に対応する領域であって、使用者のタッチが感知される領域であり、非活性領域は表示装置で画面が表示されない領域（非表示部）に対応する領域である。
【0173】
タッチセンサパネルの厚みは、例えば５μｍ以上２，０００μｍ以下であってよく、５μｍ以上１００μｍ以下であってもよい。
【0174】
＜フレキシブル画像表示装置＞
画像表示装置は、フレキシブル画像表示装置であってもよい。フレキシブル画像表示装置は、折り曲げ可能な画像表示装置である。フレキシブル画像表示装置は、光学式指紋認証システムが組み込まれ、折り曲げ可能な画像表示素子と、本発明の偏光板とを備える。折り曲げ可能な画像表示素子は、例えば有機ＥＬ表示パネルである。有機ＥＬ表示パネルに対して視認側に本発明の偏光板が配置され、折り曲げ可能に構成されている。フレキシブル画像表示装置用偏光板は、さらに前面板やタッチセンサパネルを備えていてもよい。
視認側から前面板、本発明の偏光板、およびタッチセンサパネルがこの順に積層されているか、または視認側から前面板、タッチセンサパネルおよび本発明の偏光板が、この順に積層されていることが好ましい。タッチセンサパネルよりも視認側に偏光子が存在すると、タッチセンサパネルのパターンが視認されにくくなり、結果として表示画像の視認性が良くなるので、タッチセンサパネルよりも視認側に本発明の偏光板を備える構成、すなわち、前面板、本発明の偏光板及びタッチセンサパネルをこの順で備えることがさらに好ましい。それぞれの部材は接着剤、粘着剤等を用いて積層することができる。また、前面板、偏光板、タッチセンサパネルのいずれかの層の少なくとも一面に形成された遮光パターンを具備することができる。
画像表示装置は、フレキシブル画像表示装置であってもよい。フレキシブル画像表示装置は、折り曲げ可能な画像表示装置である。フレキシブル画像表示装置は、光学式指紋認証システムが組み込まれ、折り曲げ可能な画像表示素子と、本発明の偏光板とを備える。折り曲げ可能な画像表示素子は、例えば有機ＥＬ表示パネルである。有機ＥＬ表示パネルに対して視認側に本発明の偏光板が配置され、折り曲げ可能に構成されている。フレキシブル画像表示装置用偏光板は、さらに前面板やタッチセンサパネルを備えていてもよい。
視認側から前面板、本発明の偏光板、およびタッチセンサパネルがこの順に積層されているか、または視認側から前面板、タッチセンサパネルおよび本発明の偏光板が、この順に積層されていることが好ましい。タッチセンサパネルよりも視認側に偏光子が存在すると、タッチセンサパネルのパターンが視認されにくくなり、結果として表示画像の視認性が良くなるので、タッチセンサパネルよりも視認側に本発明の偏光板を備える構成、すなわち、前面板、本発明の偏光板及びタッチセンサパネルをこの順で備えることがさらに好ましい。それぞれの部材は接着剤、粘着剤等を用いて積層することができる。また、前面板、偏光板、タッチセンサパネルのいずれかの層の少なくとも一面に形成された遮光パターンを具備することができる。
【0175】
視認側から前面板、本発明の偏光板および、折り曲げ可能な画像表示パネルを備えるフレキシブル画像表示装置において、前面板および本発明の偏光板は、偏光板と、前面板とを備える前面板付き偏光板を構成する。この前面板付き偏光板において、前面板は通常、偏光板の視認側に配置され、偏光板とは、例えば粘着剤または接着剤により積層される。
視認側からタッチセンサパネル、本発明の偏光板および、折り曲げ可能な画像表示パネルを備えるフレキシブル画像表示装置において、タッチセンサパネルおよび本発明の偏光板は、偏光板とタッチセンサパネルとを備えるタッチセンサパネル付き偏光板を構成する。また、視認側から、本発明の偏光板、タッチセンサパネル、および折り曲げ可能な画像表示素子を備えるフレキシブル画像表示装置において、タッチセンサパネルおよび本発明の偏光板は、偏光板とタッチセンサパネルとを備えるタッチセンサパネル付き偏光板を構成する。このタッチセンサパネル付き偏光板において、タッチセンサパネルは偏光板よりも背面側（視認側とは反対側）に配置されてもよいし、偏光板よりも視認側に配置されてもよい。タッチセンサパネルと偏光板とは、例えば粘着剤または接着剤により積層される。
視認側からタッチセンサパネル、本発明の偏光板および、折り曲げ可能な画像表示パネルを備えるフレキシブル画像表示装置において、タッチセンサパネルおよび本発明の偏光板は、偏光板とタッチセンサパネルとを備えるタッチセンサパネル付き偏光板を構成する。また、視認側から、本発明の偏光板、タッチセンサパネル、および折り曲げ可能な画像表示素子を備えるフレキシブル画像表示装置において、タッチセンサパネルおよび本発明の偏光板は、偏光板とタッチセンサパネルとを備えるタッチセンサパネル付き偏光板を構成する。このタッチセンサパネル付き偏光板において、タッチセンサパネルは偏光板よりも背面側（視認側とは反対側）に配置されてもよいし、偏光板よりも視認側に配置されてもよい。タッチセンサパネルと偏光板とは、例えば粘着剤または接着剤により積層される。
【0176】
本発明の偏光板は、その視認側に前面板を積層して前面板付き偏光板として用いることもできる。前面板付き偏光板は、本発明の偏光板と、その視認側に配置された前面板とを備える。
【0177】
（前面板）
前面板としては、ガラス、樹脂フィルムの少なくとも一面にハードコート層を含んでなるもの等が挙げられる。ガラスとしては、例えば、高透過ガラスや、強化ガラスを用いることができる。特に薄い透明面材を使用する場合には、化学強化を施したガラスが好ましい。ガラスの厚みは、例えば１００μｍ～５ｍｍとすることができる。
前面板としては、ガラス、樹脂フィルムの少なくとも一面にハードコート層を含んでなるもの等が挙げられる。ガラスとしては、例えば、高透過ガラスや、強化ガラスを用いることができる。特に薄い透明面材を使用する場合には、化学強化を施したガラスが好ましい。ガラスの厚みは、例えば１００μｍ～５ｍｍとすることができる。
【0178】
樹脂フィルムの少なくとも一面にハードコート層を含んでなる前面板は、既存のガラスのように硬直ではなく、フレキシブルな特性を有することができる。ハードコート層の厚さは特に限定されず、例えば、５μｍ～１００μｍであってもよい。
【0179】
樹脂フィルムとしては、例えばノルボルネン、多環ノルボルネン系単量体のようなシクロオレフィンを含む単量体の単位を有するシクロオレフィン系誘導体、セルロース（ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース、アセチルセルロースブチレート、イソブチルエステルセルロース、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオニルセルロース）エチレン－酢酸ビニル共重合体、ポリシクロオレフィン、ポリエステル、ポリスチレン、ポリアミド、ポリエーテルイミド、ポリアクリル、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ポリビニルアセタール、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルスルホン、ポリメチルメタアクリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、ポリウレタン、エポキシ等の高分子で形成されたフィルムであってもよい。これらの高分子はそれぞれ単独又は２種以上混合して使用することができる。
樹脂フィルムは、未延伸フィルムであってもよいし、延伸フィルム、例えば１軸延伸フィルム、２軸延伸フィルムであってもよい。樹脂フィルムとしては、透明性及び耐熱性に優れている点で、ポリアミドイミドフィルム、ポリイミドフィルム、１軸延伸ポリエステルフィルム、２軸延伸ポリエステルフィルムが好ましく、透明性及び耐熱性に優れるとともに、フィルムの大型化に対応できる点で、シクロオレフィン系誘導体フィルム、ポリメチルメタクリレートフィルムが好ましく、透明性と光学的に異方性のない樹脂フィルムが比較的入手しやすい点で、トリアセチルセルロース及びイソブチルエステルセルロースフィルムが、それぞれ好ましい。樹脂フィルムの厚さは、通常５～２００μｍであり、好ましくは２０～１００μｍである。
樹脂フィルムは、未延伸フィルムであってもよいし、延伸フィルム、例えば１軸延伸フィルム、２軸延伸フィルムであってもよい。樹脂フィルムとしては、透明性及び耐熱性に優れている点で、ポリアミドイミドフィルム、ポリイミドフィルム、１軸延伸ポリエステルフィルム、２軸延伸ポリエステルフィルムが好ましく、透明性及び耐熱性に優れるとともに、フィルムの大型化に対応できる点で、シクロオレフィン系誘導体フィルム、ポリメチルメタクリレートフィルムが好ましく、透明性と光学的に異方性のない樹脂フィルムが比較的入手しやすい点で、トリアセチルセルロース及びイソブチルエステルセルロースフィルムが、それぞれ好ましい。樹脂フィルムの厚さは、通常５～２００μｍであり、好ましくは２０～１００μｍである。
【0180】
（遮光パターン）
遮光パターンはベゼルとも呼ばれる部材であり、前面板における表示素子側に形成することができる。遮光パターンを備えることにより、表示装置を構成する各配線を隠して使用者に視認されないようにすることができる。遮光パターンの色及び材質は特に制限されることはなく、黒色、白色、金色等の多様な色を有する樹脂物質で形成することができる。一実施形態において、遮光パターンの厚さは２μｍ～５０μｍであってもよく、好ましくは４μｍ～３０μｍであってもよく、より好ましくは６μｍ～１５μｍの範囲であってもよい。また、遮光パターンと表示部の間の段差による気泡混入及び境界部の視認を抑制するために、遮光パターンに形状を付与することができる。
遮光パターンはベゼルとも呼ばれる部材であり、前面板における表示素子側に形成することができる。遮光パターンを備えることにより、表示装置を構成する各配線を隠して使用者に視認されないようにすることができる。遮光パターンの色及び材質は特に制限されることはなく、黒色、白色、金色等の多様な色を有する樹脂物質で形成することができる。一実施形態において、遮光パターンの厚さは２μｍ～５０μｍであってもよく、好ましくは４μｍ～３０μｍであってもよく、より好ましくは６μｍ～１５μｍの範囲であってもよい。また、遮光パターンと表示部の間の段差による気泡混入及び境界部の視認を抑制するために、遮光パターンに形状を付与することができる。
【実施例0181】
以下、実施例及び比較例を示して本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの例によって限定されるものではない。実施例、比較例中の「％」及び「部」で表される配合量は、特記しない限り、質量％及び質量部である。
【0182】
［光学積層体の作製］
１．偏光フィルムの作製
（偏光フィルム１の作製）
厚み３０μｍ、重合度２４００、ケン化度９９％以上のポリビニルアルコールフィルムを、熱ロール上で延伸倍率４．５倍に一軸延伸し、緊張状態を保ったまま、２０℃の純水が入った膨潤浴に３０秒間浸漬した。次いで純水／ヨウ化カリウム／ヨウ素／ホウ酸／ （質量比）が１００／２／０．０１／０．３である３０℃の染色浴に１２０秒間浸漬した。
１．偏光フィルムの作製
（偏光フィルム１の作製）
厚み３０μｍ、重合度２４００、ケン化度９９％以上のポリビニルアルコールフィルムを、熱ロール上で延伸倍率４．５倍に一軸延伸し、緊張状態を保ったまま、２０℃の純水が入った膨潤浴に３０秒間浸漬した。次いで純水／ヨウ化カリウム／ヨウ素／ホウ酸／ （質量比）が１００／２／０．０１／０．３である３０℃の染色浴に１２０秒間浸漬した。
【0183】
次いで、純水／ヨウ化カリウム／ホウ酸／（質量比）が１００／１２／４である５６℃の架橋浴１０４aに７０秒浸漬した。次に、第１の架橋処理後のフィルムをヨウ化カリウム／ホウ酸／純水（質量比）が９／２．９／１００である４０℃ の架橋浴１０４ｂに１０秒浸漬した。次に、第２架橋処理後のフィルムを５℃の純水が入った洗浄浴１０５に５秒間浸漬させた。その後、８０℃で１１３秒間乾燥させ偏光フィルム１を得た。偏光フィルム１の厚みは１２μｍであった。
【0184】
（偏光フィルム２の作製）
乾燥方法について８０℃で７６秒、その次に１００℃で３７秒とした点以外は、偏光フィルム１と同様の方法により偏光フィルム２を作製した。偏光フィルム２の厚み１２μｍであった。
乾燥方法について８０℃で７６秒、その次に１００℃で３７秒とした点以外は、偏光フィルム１と同様の方法により偏光フィルム２を作製した。偏光フィルム２の厚み１２μｍであった。
【0185】
（偏光フィルム３の作製）
乾燥方法について１００℃で１１３秒とした点以外は、偏光フィルム１と同様の方法により偏光フィルム３を作製した。偏光フィルム３の厚み１２μｍであった。
乾燥方法について１００℃で１１３秒とした点以外は、偏光フィルム１と同様の方法により偏光フィルム３を作製した。偏光フィルム３の厚み１２μｍであった。
【0186】
（偏光フィルム４の作製）
厚み３０μｍのポリビニルアルコールフィルム（平均重合度約２４００、ケン化度９９
．９モル％以上）を、熱ロール上で延伸倍率４倍に一軸延伸し、さらに緊張状態を保ったまま、４０℃の純水に４０秒間浸漬した後、ヨウ素／ヨウ化カリウム／水の重量比が０．０５２／５．７／１００の水溶液に２８℃で３０秒間浸漬して染色処理を行った。その後、ヨウ化カリウム／ホウ酸／水の重量比が１１．０／６．２／１００の水溶液に７０℃で１２０秒間浸漬した。引き続き、８℃の純水で１５秒間洗浄した後、３００Ｎの張力で保持した状態で、６０℃で５０秒間、次いで７５℃で２０秒間乾燥し偏光フィルム４を得た。偏光フィルム４の厚みは１２μｍであった。
厚み３０μｍのポリビニルアルコールフィルム（平均重合度約２４００、ケン化度９９
．９モル％以上）を、熱ロール上で延伸倍率４倍に一軸延伸し、さらに緊張状態を保ったまま、４０℃の純水に４０秒間浸漬した後、ヨウ素／ヨウ化カリウム／水の重量比が０．０５２／５．７／１００の水溶液に２８℃で３０秒間浸漬して染色処理を行った。その後、ヨウ化カリウム／ホウ酸／水の重量比が１１．０／６．２／１００の水溶液に７０℃で１２０秒間浸漬した。引き続き、８℃の純水で１５秒間洗浄した後、３００Ｎの張力で保持した状態で、６０℃で５０秒間、次いで７５℃で２０秒間乾燥し偏光フィルム４を得た。偏光フィルム４の厚みは１２μｍであった。
【0187】
２．保護フィルムの準備
以下の保護フィルムを準備した。
・保護フィルムＡ：厚さ３２μｍのハードコート層付ＴＡＣフィルム〔凸版印刷株式会社製、商品名「２５ＫＣＨＣＮ」〕
・保護フィルムＢ：厚さ２３μｍのＣＯＰフィルム〔日本ゼオン株式会社製、商品名「ＺＦ１４」〕
・保護フィルムＣ：厚さ４０μｍのＴＡＣフィルム〔コニカミノルタ株式会社製、商品名「ＫＣ４ＣＺ」〕
以下の保護フィルムを準備した。
・保護フィルムＡ：厚さ３２μｍのハードコート層付ＴＡＣフィルム〔凸版印刷株式会社製、商品名「２５ＫＣＨＣＮ」〕
・保護フィルムＢ：厚さ２３μｍのＣＯＰフィルム〔日本ゼオン株式会社製、商品名「ＺＦ１４」〕
・保護フィルムＣ：厚さ４０μｍのＴＡＣフィルム〔コニカミノルタ株式会社製、商品名「ＫＣ４ＣＺ」〕
【0188】
３．直線偏光板の作製
（偏光板１～３、５）
上記で作製した偏光フィルム１～４の片面に水系接着剤を介して保護フィルムＡをロール貼合機を用いて貼合した。貼合後、８０℃で３分間乾燥処理を行った。偏光フィルムの片面にのみ保護フィルムが積層された直線偏光板１～３、５を得た。偏光板１～３、５は、保護フィルムＡ／偏光フィルム１～３、４の層構成を有するものだった。偏光板１～３、５は、光学積層体を構成する際に、偏光フィルム１～３、４側に保護フィルムを貼合して、両面に保護フィルムを有する直線偏光板として用いることもできる。
（偏光板１～３、５）
上記で作製した偏光フィルム１～４の片面に水系接着剤を介して保護フィルムＡをロール貼合機を用いて貼合した。貼合後、８０℃で３分間乾燥処理を行った。偏光フィルムの片面にのみ保護フィルムが積層された直線偏光板１～３、５を得た。偏光板１～３、５は、保護フィルムＡ／偏光フィルム１～３、４の層構成を有するものだった。偏光板１～３、５は、光学積層体を構成する際に、偏光フィルム１～３、４側に保護フィルムを貼合して、両面に保護フィルムを有する直線偏光板として用いることもできる。
【0189】
（偏光板４）
偏光フィルム４を用い、保護フィルムＢ、Ｃを用いて、偏光板１～３、５と同様にして、偏光板４を得た。偏光板４は、保護フィルムＢ／偏光フィルム４／保護フィルムＣの層構成を有するものであった。
偏光フィルム４を用い、保護フィルムＢ、Ｃを用いて、偏光板１～３、５と同様にして、偏光板４を得た。偏光板４は、保護フィルムＢ／偏光フィルム４／保護フィルムＣの層構成を有するものであった。
【0190】
（単体透過率、偏光度及び直交色相ｂ値の測定）
偏光板１～５について、４ｃｍ×４ｃｍのサイズで測定用試料を切り出した。この試料を積分球付き分光光度計〔日本分光（株）製の「Ｖ７１００」〕を用いて波長３８０～７８０ｎｍの範囲における透過軸方向の透過率と吸収軸方向の透過率を測定し、視感度補正単体透過率（Ｔｙ）、視感度補正偏光度（Ｐｙ）及び直交色相ｂ値を求めた。表１に、視感度補正単体透過率（Ｔｙ）及び直交色相ｂ値の算出結果を示す。
偏光板１～５について、４ｃｍ×４ｃｍのサイズで測定用試料を切り出した。この試料を積分球付き分光光度計〔日本分光（株）製の「Ｖ７１００」〕を用いて波長３８０～７８０ｎｍの範囲における透過軸方向の透過率と吸収軸方向の透過率を測定し、視感度補正単体透過率（Ｔｙ）、視感度補正偏光度（Ｐｙ）及び直交色相ｂ値を求めた。表１に、視感度補正単体透過率（Ｔｙ）及び直交色相ｂ値の算出結果を示す。
【0191】
４．直線偏光板上への位相差板の作製
（１）配向膜形成用組成物の調製
（ＰＶＡ系配向膜形成用組成物Ａの調製）
市販のポリビニルアルコール(ポリビニルアルコール１０００完全ケン化型、和光純薬工業株式会社製)、水を加えて１００℃で１時間加熱し、固形分量２質量％（溶剤濃度９８質量％）のＰＶＡ系配向膜形成用組成物を得た。
（１）配向膜形成用組成物の調製
（ＰＶＡ系配向膜形成用組成物Ａの調製）
市販のポリビニルアルコール(ポリビニルアルコール１０００完全ケン化型、和光純薬工業株式会社製)、水を加えて１００℃で１時間加熱し、固形分量２質量％（溶剤濃度９８質量％）のＰＶＡ系配向膜形成用組成物を得た。
【0192】
（光配向膜形成用組成物Ｂの調製）
下記化学式で表される数平均分子量２８０００のポリマー（１） ２部とｏ－キシレン ９８部とを混合し、得られた混合物を８０℃で１時間攪拌することにより、光配向膜形成用組成物Ｂを得た。
下記化学式で表される数平均分子量２８０００のポリマー（１） ２部とｏ－キシレン ９８部とを混合し、得られた混合物を８０℃で１時間攪拌することにより、光配向膜形成用組成物Ｂを得た。
【0193】
ポリマー（１）
〔式中、Ｍｅはメチル基を表す。〕
〔式中、Ｍｅはメチル基を表す。〕
【0194】
（２）液晶硬化膜形成用の重合性液晶組成物Ａの調製
下記構造の重合性液晶化合物Ａ－１（８６．０部）と、重合性液晶化合物Ａ－２（１４．０部）と、ポリアクリレート化合物（レベリング剤／ＢＹＫ－３６１Ｎ；ＢＹＫ－Ｃｈｅｍｉｅ社製）（０．１２部）と、２－ジメチルアミノ－２－ベンジル－１－（４－モルホリノフェニル）ブタン－１－オン（光重合開始剤／イルガキュア３６９；チバ スペシャルティケミカルズ社製）（３．０部）と、ＬＡＬＯＭＥＲ ＬＲ９０００（ＢＡＳＦジャパン社製）（２．０部）とを混合した。さらに、固形分濃度が９％となるようにアニソールを添加した。重合性液晶化合物Ａ－１および重合性液晶化合物Ａ－２を含む重合性液晶組成物Ａを得た。
なお、重合性液晶化合物Ａ－１は、特開２０１０－３１２２３号公報に記載の方法で合成した。クロロホルム中で測定した重合性液晶化合物Ａ－１の極大吸収波長λｍａｘ（ＬＣ）は３５０ｎｍであった。
下記構造の重合性液晶化合物Ａ－１（８６．０部）と、重合性液晶化合物Ａ－２（１４．０部）と、ポリアクリレート化合物（レベリング剤／ＢＹＫ－３６１Ｎ；ＢＹＫ－Ｃｈｅｍｉｅ社製）（０．１２部）と、２－ジメチルアミノ－２－ベンジル－１－（４－モルホリノフェニル）ブタン－１－オン（光重合開始剤／イルガキュア３６９；チバ スペシャルティケミカルズ社製）（３．０部）と、ＬＡＬＯＭＥＲ ＬＲ９０００（ＢＡＳＦジャパン社製）（２．０部）とを混合した。さらに、固形分濃度が９％となるようにアニソールを添加した。重合性液晶化合物Ａ－１および重合性液晶化合物Ａ－２を含む重合性液晶組成物Ａを得た。
なお、重合性液晶化合物Ａ－１は、特開２０１０－３１２２３号公報に記載の方法で合成した。クロロホルム中で測定した重合性液晶化合物Ａ－１の極大吸収波長λｍａｘ（ＬＣ）は３５０ｎｍであった。
【0195】
重合性液晶化合物Ａ－１：
【0196】
重合性液晶化合物Ａ－２：
【0197】
（３）光学積層体の作製（実施例１～６、比較例１、２）
（実施例１）
保護フィルムＣの表面に、ＰＶＡ系配向膜形成用組成物Ａをバーコーターにより塗布した。塗布膜を８０℃で１分間乾燥してＰＶＡ系配向膜を形成した。
（実施例１）
保護フィルムＣの表面に、ＰＶＡ系配向膜形成用組成物Ａをバーコーターにより塗布した。塗布膜を８０℃で１分間乾燥してＰＶＡ系配向膜を形成した。
【0198】
続いて、室温２５℃、相対湿度３０％の環境下において、重合性液晶組成物Ａを孔径０．２μｍのＰＴＦＥ製メンブレンフィルタ（アドバンテック東洋株式会社製、品番；Ｔ３００Ａ０２５Ａ）に通し、２５℃に保温したＰＶＡ系配向膜上にバーコーターを用いて塗布し、塗膜を１２０℃で１分間乾燥した。得られた塗膜の保護フィルムＣがホットプレートに接するように、フィルムを６０℃に設定したホットプレート上に設置した。ホットプレートをケースの中に入れて、窒素を１分間封入した。高圧水銀ランプ（ユニキュアＶＢ―１５２０１ＢＹ－Ａ、ウシオ電機株式会社製）を用いて、前記重合性液晶組成物Ａの塗布面に紫外線を照射（窒素雰囲気下、波長：３６５ｎｍ、波長３６５ｎｍにおける照射強度：１０ｍＷ／ｃｍ２、積算光量：１０００ｍＪ／ｃｍ２）し、保護フィルムＣ、ＰＶＡ系配向膜および第１位相差膜の積層体を形成した（以上の第１位相差膜を形成工程において採用した条件を「条件１」ともいう）。得られた塗膜の厚みをレーザー顕微鏡（ＬＥＸＴ、オリンパス株式会社製）で測定したところ２μｍであった。
得られた第１位相差膜の位相差値を測定したところ、Ｒｅ（４５０）＝１２１ｎｍ、Ｒｅ（５５０）＝１３９ｎｍ、Ｒｅ（６５０）＝１４６ｎｍであった。
各波長での面内位相差値の関係は以下のとおりとなった。
Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＝０．８７
Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）＝１．０５
得られた第１位相差膜の位相差値を測定したところ、Ｒｅ（４５０）＝１２１ｎｍ、Ｒｅ（５５０）＝１３９ｎｍ、Ｒｅ（６５０）＝１４６ｎｍであった。
各波長での面内位相差値の関係は以下のとおりとなった。
Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＝０．８７
Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）＝１．０５
【0199】
偏光板１の偏光フィルム面に水系接着剤を介して、保護フィルムＣ、ＰＶＡ系配向膜および第１位相差膜の積層体における保護フィルムＣ面をロール貼合機を用いて貼り合せた。その後、８０℃で３分間乾燥処理を行って、重合性液晶化合物が硬化した層（第１位相差膜）、ＰＶＡ系配向膜、及び偏光板（保護フィルムＣ（位相差板側の最表面の保護フィルム）、偏光フィルムおよび保護フィルムＡ）がこの順に積層された実施例１の光学積層体を得た。実施例１の光学積層体において、位相差板は、第１位相差膜とＰＶＡ系配向膜とからなり、第１位相差膜は、λ／４の位相差値を示す逆分散性の位相差膜であった。
【0200】
（実施例２）
保護フィルムＣの表面に、実施例１と同様にしてＰＶＡ系配向膜を形成し、さらにＰＶＡ系配向膜の上に第１位相差膜を形成した。第１位相差膜の形成において、条件１に代えて条件２（ホットプレートによる加温無しとしたこと以外は条件１と同じ）を採用した点以外は、実施例１の光学積層体と同様にして、実施例２の光学積層体を得た。
保護フィルムＣの表面に、実施例１と同様にしてＰＶＡ系配向膜を形成し、さらにＰＶＡ系配向膜の上に第１位相差膜を形成した。第１位相差膜の形成において、条件１に代えて条件２（ホットプレートによる加温無しとしたこと以外は条件１と同じ）を採用した点以外は、実施例１の光学積層体と同様にして、実施例２の光学積層体を得た。
【0201】
（実施例３）
保護フィルムＣの表面に、実施例１と同様にしてＰＶＡ系配向膜及び第１位相層を形成した後、偏光板２を用いたこと以外は実施例１と同様にして、実施例３の光学積層体を得た。
保護フィルムＣの表面に、実施例１と同様にしてＰＶＡ系配向膜及び第１位相層を形成した後、偏光板２を用いたこと以外は実施例１と同様にして、実施例３の光学積層体を得た。
【0202】
（実施例４）
第１位相差膜の形成において、条件１に代えて条件２を採用した点以外は、実施例３の光学積層体と同様にして、実施例４の光学積層体を得た。
第１位相差膜の形成において、条件１に代えて条件２を採用した点以外は、実施例３の光学積層体と同様にして、実施例４の光学積層体を得た。
【0203】
（実施例５）
保護フィルムＣの表面に、実施例１と同様にしてＰＶＡ系配向膜及び第１位相層を形成した後、偏光板３を用いたこと以外は実施例１と同様にして、実施例５の光学積層体を得た。
保護フィルムＣの表面に、実施例１と同様にしてＰＶＡ系配向膜及び第１位相層を形成した後、偏光板３を用いたこと以外は実施例１と同様にして、実施例５の光学積層体を得た。
【0204】
（実施例６）
第１位相差膜の形成において、条件１に代えて条件２を採用した点以外は、実施例３の光学積層体と同様にして、実施例６の光学積層体を得た。
第１位相差膜の形成において、条件１に代えて条件２を採用した点以外は、実施例３の光学積層体と同様にして、実施例６の光学積層体を得た。
【0205】
（比較例１）
第１位相差膜を含む積層体を以下のように作製した。トリアセチルセルロースフィルム（コニカミノルタ社製ＫＣ４ＣＺ－ＴＡＣ、厚さ４０μｍ）を、コロナ処理装置（ＡＧＦ－Ｂ１０；春日電機株式会社製）を用いて出力０．３ｋＷ、処理速度３ｍ／分の条件で１回処理した。コロナ処理を施した基材の表面に、光配向膜形成用組成物Ｂをバーコーターにより塗布した。塗布膜を８０℃で１分間乾燥し、偏光ＵＶ照射装置（ＳＰＯＴ ＣＵＲＥ ＳＰ－７；ウシオ電機株式会社製）を用いて、１００ｍＪ／ｃｍ２の積算光量で偏光ＵＶ露光を実施した。得られた水平配向膜の厚みをレーザー顕微鏡（ＬＥＸＴ、オリンパス株式会社製）で測定したところ、１００ｎｍであった。
第１位相差膜を含む積層体を以下のように作製した。トリアセチルセルロースフィルム（コニカミノルタ社製ＫＣ４ＣＺ－ＴＡＣ、厚さ４０μｍ）を、コロナ処理装置（ＡＧＦ－Ｂ１０；春日電機株式会社製）を用いて出力０．３ｋＷ、処理速度３ｍ／分の条件で１回処理した。コロナ処理を施した基材の表面に、光配向膜形成用組成物Ｂをバーコーターにより塗布した。塗布膜を８０℃で１分間乾燥し、偏光ＵＶ照射装置（ＳＰＯＴ ＣＵＲＥ ＳＰ－７；ウシオ電機株式会社製）を用いて、１００ｍＪ／ｃｍ２の積算光量で偏光ＵＶ露光を実施した。得られた水平配向膜の厚みをレーザー顕微鏡（ＬＥＸＴ、オリンパス株式会社製）で測定したところ、１００ｎｍであった。
【0206】
続いて、室温２５℃、相対湿度３０％の環境下において、重合性液晶組成物Ａを孔径０．２μｍのＰＴＦＥ製メンブレンフィルタ（アドバンテック東洋株式会社製、品番；Ｔ３００Ａ０２５Ａ）に通し、２５℃に保温した配向膜付き基材フィルム上にバーコーターを用いて塗布した。塗膜を１２０℃で１分間乾燥した後、高圧水銀ランプ（ユニキュアＶＢ―１５２０１ＢＹ－Ａ、ウシオ電機株式会社製）を用いて、紫外線を照射（窒素雰囲気下、波長：３６５ｎｍ、波長３６５ｎｍにおける積算光量：１０００ｍＪ／ｃｍ２）した。得られた塗膜の厚みをレーザー顕微鏡（ＬＥＸＴ、オリンパス株式会社製）で測定したところ２μｍであった。
得られた第１位相差膜の位相差値を測定したところ、Ｒｅ（４５０）＝１２１ｎｍ、Ｒｅ（５５０）＝１３９ｎｍ、Ｒｅ（６５０）＝１４６ｎｍであった。
各波長での面内位相差値の関係は以下のとおりとなった。
Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＝０．８７
Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）＝１．０５
得られた第１位相差膜の位相差値を測定したところ、Ｒｅ（４５０）＝１２１ｎｍ、Ｒｅ（５５０）＝１３９ｎｍ、Ｒｅ（６５０）＝１４６ｎｍであった。
各波長での面内位相差値の関係は以下のとおりとなった。
Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＝０．８７
Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）＝１．０５
【0207】
このようにして、重合性液晶化合物が硬化した層（第１位相差膜）、配向膜、及び基材がこの順に積層された積層体を得た。第１位相差膜は、λ／４の位相差値を示す逆分散性の位相差膜であった。
【0208】
両面剥離フィルム付きシート状粘着剤（厚み２５μｍ リンテック株式会社製Ｐ－３１３２）の一方の剥離フィルムを剥離し、得られた偏光板４の保護フィルムＣ側表面に粘着層剤を介して貼り合わせた後、シート状粘着剤の他方側の剥離フィルムを剥離し、粘着剤層を偏光板のＴＡＣフィルム側表面に積層させた。積層された粘着剤層を介して、重合性液晶化合物が硬化した層（第１位相差膜）、配向膜、及び基材がこの順に積層された積層体における第１位相差膜表面と偏光板における保護フィルムＣ面を貼り合わせた後、この積層体から基材を剥離した。さらに先の両面剥離フィルム付きシート状粘着剤の一方の剥離フィルムを剥離した後、積層体の基材を剥離した面に粘着剤層を介して貼り合わせ、積層構造が、保護フィルムＢ／偏光フィルム４／保護フィルムＣ／粘着剤層／第１位相差膜／配向膜／粘着剤層／剥離フィルムである比較例１の光学積層体を得た。
【0209】
（比較例２）
偏光板５を用いたこと以外は実施例２と同様にして、比較例２の光学積層体を得た。
偏光板５を用いたこと以外は実施例２と同様にして、比較例２の光学積層体を得た。
【0210】
５．評価
＜耐熱性評価＞
実施例１～６、比較例１，２の光学積層体について、測定波長５５０ｎｍで面内位相差値を測定するとともに色味を観察した。その後、温度８５℃の環境下に５００時間放置し取り出した光学積層体について、測定波長５５０ｎｍで面内位相差値を測定するとともに色味を観察した。面内位相差値は王子計測機器株式会社の「ＫＯＢＲＡ－ＷＰＲ」により測定した。表１に位相差値変化（耐熱試験後の面内位相差値－耐熱試験前の面内位相差値）と、下記測定にしたがって評価した色変化を示す。
＜耐熱性評価＞
実施例１～６、比較例１，２の光学積層体について、測定波長５５０ｎｍで面内位相差値を測定するとともに色味を観察した。その後、温度８５℃の環境下に５００時間放置し取り出した光学積層体について、測定波長５５０ｎｍで面内位相差値を測定するとともに色味を観察した。面内位相差値は王子計測機器株式会社の「ＫＯＢＲＡ－ＷＰＲ」により測定した。表１に位相差値変化（耐熱試験後の面内位相差値－耐熱試験前の面内位相差値）と、下記測定にしたがって評価した色変化を示す。
【0211】
＜色味観察反射色相ｂ*の測定＞
Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔ ＳｙｓｔｅｍｓＧｍｂＨ製のディスプレイ評価システムＤＭＳ８０３を用いて傾斜角６０°の偏光板吸収軸を０°とし１０°毎に１８０°旋回させた際の反射色相ｂ*の平均値を算出した。次に耐熱性評価を実施したサンプルも同様の測定を実施し、初期と５００時間との平均値の差分の絶対値Δｂ*を確認した。その際のΔｂ*に基づいて、色変化について以下の通りに評価を行った。
Ａ：０．５未満
Ｂ：０．５以上かつ１．０未満
Ｃ：１．０以上かつ１．５未満
Ｄ：１．５以上かつ２．０未満
Ｅ：２．０以上かつ２．５未満
Ｆ：２．５以上
Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔ ＳｙｓｔｅｍｓＧｍｂＨ製のディスプレイ評価システムＤＭＳ８０３を用いて傾斜角６０°の偏光板吸収軸を０°とし１０°毎に１８０°旋回させた際の反射色相ｂ*の平均値を算出した。次に耐熱性評価を実施したサンプルも同様の測定を実施し、初期と５００時間との平均値の差分の絶対値Δｂ*を確認した。その際のΔｂ*に基づいて、色変化について以下の通りに評価を行った。
Ａ：０．５未満
Ｂ：０．５以上かつ１．０未満
Ｃ：１．０以上かつ１．５未満
Ｄ：１．５以上かつ２．０未満
Ｅ：２．０以上かつ２．５未満
Ｆ：２．５以上
【0212】
【符号の説明】
【0213】
１ 光学積層体、２ 画像表示装置、１０ 直線偏光板、１１ 第１保護フィルム、４０ 画像表示パネル。
【図1】
【図2】