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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024123673
(43)【公開日】2024-09-12
(54)【発明の名称】フッ素原子含有化合物
(51)【国際特許分類】
C08G 65/329 20060101AFI20240905BHJP
C09D 7/63 20180101ALI20240905BHJP
C09D 201/00 20060101ALI20240905BHJP
【ＦＩ】
C08G65/329
C09D7/63
C09D201/00
【審査請求】有
【請求項の数】24
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2023031283
(22)【出願日】2023-03-01
(71)【出願人】
【識別番号】000002853
【氏名又は名称】ダイキン工業株式会社
(71)【出願人】
【識別番号】504137912
【氏名又は名称】国立大学法人 東京大学
(74)【代理人】
【識別番号】100129791
【弁理士】
【氏名又は名称】川本 真由美
(74)【代理人】
【識別番号】100132252
【弁理士】
【氏名又は名称】吉田 環
(74)【代理人】
【識別番号】100221501
【弁理士】
【氏名又は名称】式見 真行
(74)【代理人】
【識別番号】100188802
【弁理士】
【氏名又は名称】澤内 千絵
(72)【発明者】
【氏名】松井 元志
(72)【発明者】
【氏名】岸川 洋介
(72)【発明者】
【氏名】匂坂 重仁
(72)【発明者】
【氏名】前平 健
(72)【発明者】
【氏名】江島 広貴
【テーマコード（参考）】
4J005
4J038
【Ｆターム（参考）】
4J005AA00
4J005AA09
4J005AB00
4J005BA00
4J005BD00
4J038JA11
4J038KA06
4J038NA11
4J038PB08
4J038PB09
4J038PC02
(57)【要約】
【課題】摩擦耐久性が良好であり、かつ、基材への結合が良好である表面処理層の形成に寄与し得る、フッ素原子含有化合物を得る。
【解決手段】分子末端にＲＡを少なくとも１含む、フッ素原子含有化合物であって、ＲＡは、それぞれ独立して、芳香環を含む基であり、前記芳香環を含む基は、少なくとも３つの－ＯＲＰ１を有するベンゼン環を含み、ＲＰ１は、それぞれ独立して、水素原子、又は、保護基である、フッ素原子含有化合物。
【選択図】なし
【解決手段】分子末端にＲＡを少なくとも１含む、フッ素原子含有化合物であって、ＲＡは、それぞれ独立して、芳香環を含む基であり、前記芳香環を含む基は、少なくとも３つの－ＯＲＰ１を有するベンゼン環を含み、ＲＰ１は、それぞれ独立して、水素原子、又は、保護基である、フッ素原子含有化合物。
【選択図】なし
【特許請求の範囲】
【請求項1】
分子末端にＲＡを少なくとも１含む、フッ素原子含有化合物であって、
ＲＡは、それぞれ独立して、芳香環を含む基であり、
前記芳香環を含む基は、少なくとも３つの－ＯＲＰ１を有するベンゼン環を含み、
ＲＰ１は、それぞれ独立して、水素原子、又は、保護基である、
フッ素原子含有化合物。
ＲＡは、それぞれ独立して、芳香環を含む基であり、
前記芳香環を含む基は、少なくとも３つの－ＯＲＰ１を有するベンゼン環を含み、
ＲＰ１は、それぞれ独立して、水素原子、又は、保護基である、
フッ素原子含有化合物。
【請求項2】
式（Ａ）又は（Ｂ）：
で表される、請求項１に記載のフッ素原子含有化合物。
［式中：
ＲＦ１は、Ｒｆ１－ＲＦ－Ｏｑ－であり；
ＲＦ２は、－Ｒｆ２ ｐ－ＲＦ－Ｏｑ－であり；
Ｒｆ１は、１個以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－１６アルキル基であり；
Ｒｆ２は、１個以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－６アルキレン基であり；
ＲＦは、それぞれ独立して、２価のフッ素原子含有基であり；
ｐは、０又は１であり；
ｑは、それぞれ独立して、０又は１であり；
αは、１～９の整数であり；
βは、１～９の整数であり；
γは、それぞれ独立して、１～９の整数であり；
ＸＡは、それぞれ独立して、単結合、又は、２～１０価の有機基であり；
ＲＡは、それぞれ独立して、芳香環を含む基であり；
前記芳香環を含む基は、少なくとも３つの－ＯＲＰ１を有するベンゼン環を含み；
ＲＰ１は、それぞれ独立して、水素原子、又は、保護基である。］
【化1】
［式中：
ＲＦ１は、Ｒｆ１－ＲＦ－Ｏｑ－であり；
ＲＦ２は、－Ｒｆ２ ｐ－ＲＦ－Ｏｑ－であり；
Ｒｆ１は、１個以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－１６アルキル基であり；
Ｒｆ２は、１個以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－６アルキレン基であり；
ＲＦは、それぞれ独立して、２価のフッ素原子含有基であり；
ｐは、０又は１であり；
ｑは、それぞれ独立して、０又は１であり；
αは、１～９の整数であり；
βは、１～９の整数であり；
γは、それぞれ独立して、１～９の整数であり；
ＸＡは、それぞれ独立して、単結合、又は、２～１０価の有機基であり；
ＲＡは、それぞれ独立して、芳香環を含む基であり；
前記芳香環を含む基は、少なくとも３つの－ＯＲＰ１を有するベンゼン環を含み；
ＲＰ１は、それぞれ独立して、水素原子、又は、保護基である。］
【請求項3】
ＲＰ１は、水素原子である、請求項１又は２に記載のフッ素原子含有化合物。
【請求項4】
ＲＦは、それぞれ独立して、下記式（ｆ１）、又は、（ｆ２）：
－（ＯＣｊＲｃ ２ｊ）ｊ１－（ＯＣｈＲｃ ２ｈ－２）ｈ１－ （ｆ１）
［式中：
－ＯＣｊＲｃ ２ｊ－は、それぞれ独立して、直鎖又は分岐鎖を有する繰り返し単位であり；
－ＯＣｈＲｃ ２ｈ－２－は、それぞれ独立して、環構造を有する繰り返し単位であり；
Ｒｃは、それぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、又は、塩素原子であり；
但し、ＲＦにおいて少なくとも１つのＲｃは、フッ素原子であり；
ｊは、それぞれ独立して、１～６の整数であり；
ｈは、それぞれ独立して、１～７の整数であり；
ｊ１は、０以上の整数であり；
ｈ１は、０以上の整数であり；
ｊ１とｈ１との合計は、１以上であり；
ｊ１又はｈ１を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］
－（ＣｓＲｃ１ ２ｓ）ｓ１－（Ｒｄ）ｓ２－ （ｆ２）
［式中：
ｓは、それぞれ独立して、１～１０の整数であり；
Ｒｃ１は、それぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、又は、塩素原子であり；
Ｒｄは、それぞれ独立して、フッ素原子で置換されていてもよいアリーレン基であり；
但し、Ｒｄの置換基又はＲｃ１のうち、少なくとも１つは、フッ素原子であり；
ｓ１は、０以上の整数であり；
ｓ２は、０以上の整数であり；
ｓ１とｓ２との合計は、１以上であり；
ｓ１又はｓ２を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］
で表される基である、請求項２に記載のフッ素原子含有化合物。
－（ＯＣｊＲｃ ２ｊ）ｊ１－（ＯＣｈＲｃ ２ｈ－２）ｈ１－ （ｆ１）
［式中：
－ＯＣｊＲｃ ２ｊ－は、それぞれ独立して、直鎖又は分岐鎖を有する繰り返し単位であり；
－ＯＣｈＲｃ ２ｈ－２－は、それぞれ独立して、環構造を有する繰り返し単位であり；
Ｒｃは、それぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、又は、塩素原子であり；
但し、ＲＦにおいて少なくとも１つのＲｃは、フッ素原子であり；
ｊは、それぞれ独立して、１～６の整数であり；
ｈは、それぞれ独立して、１～７の整数であり；
ｊ１は、０以上の整数であり；
ｈ１は、０以上の整数であり；
ｊ１とｈ１との合計は、１以上であり；
ｊ１又はｈ１を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］
－（ＣｓＲｃ１ ２ｓ）ｓ１－（Ｒｄ）ｓ２－ （ｆ２）
［式中：
ｓは、それぞれ独立して、１～１０の整数であり；
Ｒｃ１は、それぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、又は、塩素原子であり；
Ｒｄは、それぞれ独立して、フッ素原子で置換されていてもよいアリーレン基であり；
但し、Ｒｄの置換基又はＲｃ１のうち、少なくとも１つは、フッ素原子であり；
ｓ１は、０以上の整数であり；
ｓ２は、０以上の整数であり；
ｓ１とｓ２との合計は、１以上であり；
ｓ１又はｓ２を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］
で表される基である、請求項２に記載のフッ素原子含有化合物。
【請求項5】
ＲＦは、それぞれ独立して、
－（ＯＣ６Ｆ１２）ａ１－（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ１－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ１－（ＯＣ３ＲＦａ ６）ｄ１－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ１－（ＯＣＦ２）ｆ１－
で表される基である、請求項２に記載のフッ素原子含有化合物。
［式中：
ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、ｅ１及びｆ１は、それぞれ独立して、０～２００の整数であって、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、ｅ１及びｆ１の和は１以上であり、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、ｅ１、又はｆ１を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり；
ＲＦａは、それぞれ独立して、水素原子、塩素原子、又は、フッ素原子である。］
－（ＯＣ６Ｆ１２）ａ１－（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ１－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ１－（ＯＣ３ＲＦａ ６）ｄ１－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ１－（ＯＣＦ２）ｆ１－
で表される基である、請求項２に記載のフッ素原子含有化合物。
［式中：
ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、ｅ１及びｆ１は、それぞれ独立して、０～２００の整数であって、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、ｅ１及びｆ１の和は１以上であり、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、ｅ１、又はｆ１を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり；
ＲＦａは、それぞれ独立して、水素原子、塩素原子、又は、フッ素原子である。］
【請求項6】
ＲＦは、それぞれ独立して、下記式（ｆ１１）、（ｆ１２）、（ｆ１３）、（ｆ１４）、（ｆ１５）又は（ｆ１６）：
－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ１－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ１－ （ｆ１１）
［式中：
ｄ１は、１～２００の整数であり；
ｅ１は、０又は１である。］；
－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ１－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ１－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ１－（ＯＣＦ２）ｆ１－ （ｆ１２）
［式中：
ｃ１及びｄ１は、それぞれ独立して、０以上３０以下の整数であり；
ｅ１及びｆ１は、それぞれ独立して、１以上２００以下の整数であり；
ｃ１、ｄ１、ｅ１及びｆ１の和は２以上であり；
添字ｃ１、ｄ１、ｅ１又はｆ１を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］；
－（Ｒ７１－Ｒ７２）ｇ１－ （ｆ１３）
［式中：
Ｒ７１は、ＯＣＦ２又はＯＣ２Ｆ４であり；
Ｒ７２は、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６、ＯＣ４Ｆ８、ＯＣ５Ｆ１０及びＯＣ６Ｆ１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせであり；
ｇ１は、２～１００の整数である。］；
－（Ｒ７１－Ｒ７２）ｇ１－Ｒｒ－（Ｒ７２’－Ｒ７１’）ｇ１’－ （ｆ１４）
［式中：
Ｒ７１は、ＯＣＦ２又はＯＣ２Ｆ４であり；
Ｒ７２は、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６、ＯＣ４Ｆ８、ＯＣ５Ｆ１０及びＯＣ６Ｆ１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせであり；
Ｒ７１’は、ＯＣＦ２又はＯＣ２Ｆ４であり；
Ｒ７２’は、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６、ＯＣ４Ｆ８、ＯＣ５Ｆ１０及びＯＣ６Ｆ１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせであり；
ｇ１は、２～１００の整数であり；
ｇ１’は、２～１００の整数であり；
Ｒｒは、以下の基：
（式中、＊は、結合位置を示す。）
のいずれか１つである。］；
－（ＯＣ６Ｆ１２）ａ１－（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ１－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ１－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ１－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ１－（ＯＣＦ２）ｆ１－ （ｆ１５）
［式中：
ｅ１は、１以上２００以下の整数であり、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１及びｆ１は、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、ｅ１及びｆ１の和は少なくとも１であり、また、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、ｅ１又はｆ１を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
－（ＯＣ６Ｆ１２）ａ１－（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ１－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ１－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ１－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ１－（ＯＣＦ２）ｆ１－ （ｆ１６）
［式中：
ｆ１は、１以上２００以下の整数であり、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１及びｅ１は、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、ｅ１及びｆ１の和は少なくとも１であり、また、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、ｅ１又はｆ１を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
で表される基；又は、
－（ＣｓＦ２ｓ）ｓ１－（Ｒｄ）ｓ２－ （ｆ２１）
［式中：
ｓは、１～１０の整数であり；
Ｒｄは、フッ素原子で置換されたアリーレン基であり；
ｓ１は、０以上の整数であり；
ｓ２は、０以上の整数であり；
ｓ１とｓ２との合計は、１以上であり；
ｓ１又はｓ２を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］
で表される基である、請求項２に記載のフッ素原子含有化合物。
－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ１－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ１－ （ｆ１１）
［式中：
ｄ１は、１～２００の整数であり；
ｅ１は、０又は１である。］；
－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ１－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ１－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ１－（ＯＣＦ２）ｆ１－ （ｆ１２）
［式中：
ｃ１及びｄ１は、それぞれ独立して、０以上３０以下の整数であり；
ｅ１及びｆ１は、それぞれ独立して、１以上２００以下の整数であり；
ｃ１、ｄ１、ｅ１及びｆ１の和は２以上であり；
添字ｃ１、ｄ１、ｅ１又はｆ１を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］；
－（Ｒ７１－Ｒ７２）ｇ１－ （ｆ１３）
［式中：
Ｒ７１は、ＯＣＦ２又はＯＣ２Ｆ４であり；
Ｒ７２は、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６、ＯＣ４Ｆ８、ＯＣ５Ｆ１０及びＯＣ６Ｆ１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせであり；
ｇ１は、２～１００の整数である。］；
－（Ｒ７１－Ｒ７２）ｇ１－Ｒｒ－（Ｒ７２’－Ｒ７１’）ｇ１’－ （ｆ１４）
［式中：
Ｒ７１は、ＯＣＦ２又はＯＣ２Ｆ４であり；
Ｒ７２は、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６、ＯＣ４Ｆ８、ＯＣ５Ｆ１０及びＯＣ６Ｆ１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせであり；
Ｒ７１’は、ＯＣＦ２又はＯＣ２Ｆ４であり；
Ｒ７２’は、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６、ＯＣ４Ｆ８、ＯＣ５Ｆ１０及びＯＣ６Ｆ１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせであり；
ｇ１は、２～１００の整数であり；
ｇ１’は、２～１００の整数であり；
Ｒｒは、以下の基：
【化2】
のいずれか１つである。］；
－（ＯＣ６Ｆ１２）ａ１－（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ１－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ１－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ１－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ１－（ＯＣＦ２）ｆ１－ （ｆ１５）
［式中：
ｅ１は、１以上２００以下の整数であり、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１及びｆ１は、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、ｅ１及びｆ１の和は少なくとも１であり、また、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、ｅ１又はｆ１を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
－（ＯＣ６Ｆ１２）ａ１－（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ１－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ１－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ１－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ１－（ＯＣＦ２）ｆ１－ （ｆ１６）
［式中：
ｆ１は、１以上２００以下の整数であり、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１及びｅ１は、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、ｅ１及びｆ１の和は少なくとも１であり、また、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、ｅ１又はｆ１を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
で表される基；又は、
－（ＣｓＦ２ｓ）ｓ１－（Ｒｄ）ｓ２－ （ｆ２１）
［式中：
ｓは、１～１０の整数であり；
Ｒｄは、フッ素原子で置換されたアリーレン基であり；
ｓ１は、０以上の整数であり；
ｓ２は、０以上の整数であり；
ｓ１とｓ２との合計は、１以上であり；
ｓ１又はｓ２を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］
で表される基である、請求項２に記載のフッ素原子含有化合物。
【請求項7】
ＲＡは、式（１ａ）、又は（１ｂ）：
で表される基である、請求項１又は２に記載のフッ素原子含有化合物。
［式中：
ＲＢ１は、芳香環を含む基であり；
前記芳香環を含む基は、少なくとも３つの－ＯＲＰ１を有するベンゼン環を含み；
ＲＰ１は、それぞれ独立して、水素原子、又は、保護基であり；
Ｘ１は、それぞれ独立して、ケイ素原子、炭素原子、又は、窒素原子であり；
Ｒ１１は、それぞれ独立して、－Ｚ１１－ＲＢ１で表され；
Ｚ１１は、単結合、又は、２価の有機基であり；
Ｒ１２は、それぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、水酸基、又は、１価の有機基であり；
ｋ１は、１以上の整数であり；
ｋ１とｌ１との合計は、Ｘ１の価数－１である。]
【化3】
［式中：
ＲＢ１は、芳香環を含む基であり；
前記芳香環を含む基は、少なくとも３つの－ＯＲＰ１を有するベンゼン環を含み；
ＲＰ１は、それぞれ独立して、水素原子、又は、保護基であり；
Ｘ１は、それぞれ独立して、ケイ素原子、炭素原子、又は、窒素原子であり；
Ｒ１１は、それぞれ独立して、－Ｚ１１－ＲＢ１で表され；
Ｚ１１は、単結合、又は、２価の有機基であり；
Ｒ１２は、それぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、水酸基、又は、１価の有機基であり；
ｋ１は、１以上の整数であり；
ｋ１とｌ１との合計は、Ｘ１の価数－１である。]
【請求項8】
ＲＢ１は、以下の式：
［式中：
ＲＰ１は、水素原子、又は、保護基であり；
δは、３以上の整数であり；
＊は、結合位置を示す。］
のいずれか１つである、請求項７に記載のフッ素原子含有化合物。
【化4】
ＲＰ１は、水素原子、又は、保護基であり；
δは、３以上の整数であり；
＊は、結合位置を示す。］
のいずれか１つである、請求項７に記載のフッ素原子含有化合物。
【請求項9】
ＸＡは、－（Ｒ５０）ｐ０－（Ｘａ）ｑ０－で表される２価の有機基、又は、単結合である、請求項２に記載のフッ素原子含有化合物。
［式中：
Ｒ５０は、単結合、－（ＣＨ２）ｐ１０－又はｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基であり；
ｐ１０は、１～２０の整数であり；
Ｘａは、－（Ｘｂ）ｑ１０－を表し；
Ｒ５０及びＸａは、それぞれ独立して、フッ素原子、Ｃ１－３アルキル基、及び、Ｃ１－３フルオロアルキル基から選択される１個以上の置換基により置換されていてもよく；
Ｘｂは、それぞれ独立して、－Ｓ－、ｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基、－Ｏ－、－（ＯＲ５５）ｎ５０－、－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（＝Ｏ）－、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ５４－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ５４－、－ＮＲ５４Ｃ（＝Ｏ）－、－ＮＲ５４Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－ＮＲ５４Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ５４－、－ＮＲ５４－、－（ＣＨ２）ｎ５２－、－Ｓｉ（Ｒ５３）２－、及び、－（Ｓｉ（Ｒ５３）２Ｏ）ｎ５１－Ｓｉ（Ｒ５３）２－、からなる群から選択される基を表し；
Ｒ５３は、それぞれ独立して、フェニル基、Ｃ１－６アルキル基、又は、Ｃ１－６アルコキシ基を表し；
Ｒ５４は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基、又は、Ｃ１－６アルキル基を表し；
Ｒ５５は、それぞれ独立して、Ｃ１－６アルキレン基であり；
ｎ５０は、それぞれ独立して、１～２０の整数であり；
ｎ５１は、それぞれ独立して、１～１００の整数であり；
ｎ５２は、それぞれ独立して、１～２０の整数であり；
ｑ１０は、１～１０の整数であり；
ｐ０は、０～４の整数であり；
ｑ０は、０～４の整数であり；
ｐ０又はｑ０を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は任意であり；
ここで、ｐ０及びｑ０の合計は、１以上の整数である。]
［式中：
Ｒ５０は、単結合、－（ＣＨ２）ｐ１０－又はｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基であり；
ｐ１０は、１～２０の整数であり；
Ｘａは、－（Ｘｂ）ｑ１０－を表し；
Ｒ５０及びＸａは、それぞれ独立して、フッ素原子、Ｃ１－３アルキル基、及び、Ｃ１－３フルオロアルキル基から選択される１個以上の置換基により置換されていてもよく；
Ｘｂは、それぞれ独立して、－Ｓ－、ｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基、－Ｏ－、－（ＯＲ５５）ｎ５０－、－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（＝Ｏ）－、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ５４－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ５４－、－ＮＲ５４Ｃ（＝Ｏ）－、－ＮＲ５４Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－ＮＲ５４Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ５４－、－ＮＲ５４－、－（ＣＨ２）ｎ５２－、－Ｓｉ（Ｒ５３）２－、及び、－（Ｓｉ（Ｒ５３）２Ｏ）ｎ５１－Ｓｉ（Ｒ５３）２－、からなる群から選択される基を表し；
Ｒ５３は、それぞれ独立して、フェニル基、Ｃ１－６アルキル基、又は、Ｃ１－６アルコキシ基を表し；
Ｒ５４は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基、又は、Ｃ１－６アルキル基を表し；
Ｒ５５は、それぞれ独立して、Ｃ１－６アルキレン基であり；
ｎ５０は、それぞれ独立して、１～２０の整数であり；
ｎ５１は、それぞれ独立して、１～１００の整数であり；
ｎ５２は、それぞれ独立して、１～２０の整数であり；
ｑ１０は、１～１０の整数であり；
ｐ０は、０～４の整数であり；
ｑ０は、０～４の整数であり；
ｐ０又はｑ０を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は任意であり；
ここで、ｐ０及びｑ０の合計は、１以上の整数である。]
【請求項10】
ＲＦは、式（ｆ１１）：
－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ１－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ１－ （ｆ１１）
［式中：
ｄ１は、１～２００の整数であり；
ｅ１は、０又は１である。］
で表され；
ＸＡは、それぞれ独立して、－（（ＣＨ２）ｐ１０）ｐ２１－Ｘｂ１－（（ＣＨ２）ｐ１０）ｐ２１’－、又は－（（ＣＨ２）ｐ１０）ｐ２２－Ｘｂ１－（（ＣＨ２）ｐ１０）ｐ２３－Ｘｂ１－（（ＣＨ２）ｐ１０）ｐ２４－で表され；
［式中：
Ｘｂ１は、それぞれ独立して、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ５４－、又は、－ＮＲ５４Ｃ（＝Ｏ）－であり；
Ｒ５４は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基、又は、Ｃ１－６アルキル基を表し；
ｐ１０は、それぞれ独立して、１～２０の整数であり；
ｐ２１、ｐ２１’、ｐ２２、ｐ２３、及びｐ２４は、それぞれ独立して、０又は１である。］
ＲＡは、式（１ａ）：
［式中：
ＲＢ１は、芳香環を含む基であり；
前記芳香環を含む基は、少なくとも３つの－ＯＲＰ１を有するベンゼン環を含み；
ＲＰ１は、それぞれ独立して、水素原子、又は、保護基である。］
で表され、
α、β及びγは１である、
請求項２に記載のフッ素原子含有化合物。
－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ１－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ１－ （ｆ１１）
［式中：
ｄ１は、１～２００の整数であり；
ｅ１は、０又は１である。］
で表され；
ＸＡは、それぞれ独立して、－（（ＣＨ２）ｐ１０）ｐ２１－Ｘｂ１－（（ＣＨ２）ｐ１０）ｐ２１’－、又は－（（ＣＨ２）ｐ１０）ｐ２２－Ｘｂ１－（（ＣＨ２）ｐ１０）ｐ２３－Ｘｂ１－（（ＣＨ２）ｐ１０）ｐ２４－で表され；
［式中：
Ｘｂ１は、それぞれ独立して、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ５４－、又は、－ＮＲ５４Ｃ（＝Ｏ）－であり；
Ｒ５４は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基、又は、Ｃ１－６アルキル基を表し；
ｐ１０は、それぞれ独立して、１～２０の整数であり；
ｐ２１、ｐ２１’、ｐ２２、ｐ２３、及びｐ２４は、それぞれ独立して、０又は１である。］
ＲＡは、式（１ａ）：
【化5】
ＲＢ１は、芳香環を含む基であり；
前記芳香環を含む基は、少なくとも３つの－ＯＲＰ１を有するベンゼン環を含み；
ＲＰ１は、それぞれ独立して、水素原子、又は、保護基である。］
で表され、
α、β及びγは１である、
請求項２に記載のフッ素原子含有化合物。
【請求項11】
ＲＦは、式（ｆ１１）：
－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ１－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ１－ （ｆ１１）
［式中：
ｄ１は、１～２００の整数であり；
ｅ１は、０又は１である。］；
で表され；
ＸＡは、単結合であり；
ＲＡは、式（１ｂ）：
［式中：
Ｘ１は、炭素原子であり；
Ｒ１１は、それぞれ独立して、－Ｚ１１－ＲＢ１で表され；
Ｚ１１は、２価の有機基であり；
ＲＢ１は、芳香環を含む基であり；
前記芳香環を含む基は、少なくとも３つの－ＯＲＰ１を有するベンゼン環を含み；
ＲＰ１は、それぞれ独立して、水素原子、又は、保護基であり；
Ｒ１２は、水酸基であり；
ｋ１は、それぞれ独立して、２又は３であり；
ｋ１とｌ１との合計は、式（１ｂ）毎に３である。]
で表され、
α、β及びγは１である、
請求項２に記載のフッ素原子含有化合物。
－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ１－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ１－ （ｆ１１）
［式中：
ｄ１は、１～２００の整数であり；
ｅ１は、０又は１である。］；
で表され；
ＸＡは、単結合であり；
ＲＡは、式（１ｂ）：
【化6】
［式中：
Ｘ１は、炭素原子であり；
Ｒ１１は、それぞれ独立して、－Ｚ１１－ＲＢ１で表され；
Ｚ１１は、２価の有機基であり；
ＲＢ１は、芳香環を含む基であり；
前記芳香環を含む基は、少なくとも３つの－ＯＲＰ１を有するベンゼン環を含み；
ＲＰ１は、それぞれ独立して、水素原子、又は、保護基であり；
Ｒ１２は、水酸基であり；
ｋ１は、それぞれ独立して、２又は３であり；
ｋ１とｌ１との合計は、式（１ｂ）毎に３である。]
で表され、
α、β及びγは１である、
請求項２に記載のフッ素原子含有化合物。
【請求項12】
ＲＦは、式（ｆ１１）：
－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ１－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ１－ （ｆ１１）
［式中：
ｄ１は、１～２００の整数であり；
ｅ１は、０又は１である。］；
で表され；
ＸＡは、それぞれ独立して、－（（ＣＨ２）ｐ１０）ｐ２１－Ｏ－（（ＣＨ２）ｐ１０）ｐ２１’－であり；
ｐ１０は、それぞれ独立して、１～２０の整数であり；
ｐ２１は、０又は１であり；
ｐ２１’は、０又は１である。］
ＲＡは、式（１ｂ）：
［式中：
Ｘ１は、ケイ素原子であり；
Ｒ１１は、それぞれ独立して、－Ｚ１１－ＲＢ１で表され；
Ｚ１１は、２価の有機基であり；
ＲＢ１は、芳香環を含む基であり；
前記芳香環を含む基は、少なくとも３つの－ＯＲＰ１を有するベンゼン環を含み；
ＲＰ１は、それぞれ独立して、水素原子、又は、保護基であり；
Ｒ１２は、水酸基であり；
ｋ１は、それぞれ独立して、２又は３であり；
ｋ１とｌ１との合計は、式（１ｂ）毎に３である。]
で表され、
α、β及びγは１である、
請求項２に記載のフッ素原子含有化合物。
－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ１－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ１－ （ｆ１１）
［式中：
ｄ１は、１～２００の整数であり；
ｅ１は、０又は１である。］；
で表され；
ＸＡは、それぞれ独立して、－（（ＣＨ２）ｐ１０）ｐ２１－Ｏ－（（ＣＨ２）ｐ１０）ｐ２１’－であり；
ｐ１０は、それぞれ独立して、１～２０の整数であり；
ｐ２１は、０又は１であり；
ｐ２１’は、０又は１である。］
ＲＡは、式（１ｂ）：
【化7】
Ｘ１は、ケイ素原子であり；
Ｒ１１は、それぞれ独立して、－Ｚ１１－ＲＢ１で表され；
Ｚ１１は、２価の有機基であり；
ＲＢ１は、芳香環を含む基であり；
前記芳香環を含む基は、少なくとも３つの－ＯＲＰ１を有するベンゼン環を含み；
ＲＰ１は、それぞれ独立して、水素原子、又は、保護基であり；
Ｒ１２は、水酸基であり；
ｋ１は、それぞれ独立して、２又は３であり；
ｋ１とｌ１との合計は、式（１ｂ）毎に３である。]
で表され、
α、β及びγは１である、
請求項２に記載のフッ素原子含有化合物。
【請求項13】
ＲＦは、式（ｆ１１）：
－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ１－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ１－ （ｆ１１）
［式中：
ｄ１は、１～２００の整数であり；
ｅ１は、０又は１である。］；
で表され；
ＸＡは、－Ｃ（＝Ｏ）－であり；
ＲＡは、式（１ｂ）：
［式中：
Ｘ１は、窒素原子であり；
Ｒ１１は、それぞれ独立して、－Ｚ１１－ＲＢ１で表され；
Ｚ１１は、２価の有機基であり；
ＲＢ１は、芳香環を含む基であり；
前記芳香環を含む基は、少なくとも３つの－ＯＲＰ１を有するベンゼン環を含み；
ＲＰ１は、それぞれ独立して、水素原子、又は、保護基であり；
Ｒ１２は、水素原子、フェニル基、又は、Ｃ１－６アルキル基であり；
ｋ１は、それぞれ独立して、１又は２であり；
ｋ１とｌ１との合計は、式（１ｂ）毎に２である。]
で表され、
α、β及びγは１である、
請求項２に記載のフッ素原子含有化合物。
－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ１－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ１－ （ｆ１１）
［式中：
ｄ１は、１～２００の整数であり；
ｅ１は、０又は１である。］；
で表され；
ＸＡは、－Ｃ（＝Ｏ）－であり；
ＲＡは、式（１ｂ）：
【化8】
Ｘ１は、窒素原子であり；
Ｒ１１は、それぞれ独立して、－Ｚ１１－ＲＢ１で表され；
Ｚ１１は、２価の有機基であり；
ＲＢ１は、芳香環を含む基であり；
前記芳香環を含む基は、少なくとも３つの－ＯＲＰ１を有するベンゼン環を含み；
ＲＰ１は、それぞれ独立して、水素原子、又は、保護基であり；
Ｒ１２は、水素原子、フェニル基、又は、Ｃ１－６アルキル基であり；
ｋ１は、それぞれ独立して、１又は２であり；
ｋ１とｌ１との合計は、式（１ｂ）毎に２である。]
で表され、
α、β及びγは１である、
請求項２に記載のフッ素原子含有化合物。
【請求項14】
式（Ａ１）又は（Ｂ１）：
［式中：
ＲＦ１は、Ｒｆ１－ＲＦ－Ｏｑ－であり；
ＲＦ２は、－Ｒｆ２ ｐ－ＲＦ－Ｏｑ－であり；
Ｒｆ１は、１個以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－１６アルキル基であり；
Ｒｆ２は、１個以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－６アルキレン基であり；
ＲＦは、それぞれ独立して、２価のフッ素原子含有基であり；
ｐは、０又は１であり；
ｑは、それぞれ独立して、０又は１であり；
αは、１～９の整数であり；
βは、１～９の整数であり；
γは、それぞれ独立して、１～９の整数であり；
ＸＡ１は、それぞれ独立して、単結合、又は、２～１０価の有機基であり；
ＲＡ２は、それぞれ独立して、芳香環を含む基であり；
前記芳香環を含む基は、少なくとも３つの－ＯＲＰ２を有するベンゼン環を含み；
ＲＰ２は、それぞれ独立して、保護基である。］
で表されるフッ素原子含有化合物の保護基を水素原子に置換する工程を含む、
フッ素原子含有化合物の製造方法。
ＲＦ１は、Ｒｆ１－ＲＦ－Ｏｑ－であり；
ＲＦ２は、－Ｒｆ２ ｐ－ＲＦ－Ｏｑ－であり；
Ｒｆ１は、１個以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－１６アルキル基であり；
Ｒｆ２は、１個以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－６アルキレン基であり；
ＲＦは、それぞれ独立して、２価のフッ素原子含有基であり；
ｐは、０又は１であり；
ｑは、それぞれ独立して、０又は１であり；
αは、１～９の整数であり；
βは、１～９の整数であり；
γは、それぞれ独立して、１～９の整数であり；
ＸＡ１は、それぞれ独立して、単結合、又は、２～１０価の有機基であり；
ＲＡ２は、それぞれ独立して、芳香環を含む基であり；
前記芳香環を含む基は、少なくとも３つの－ＯＲＰ２を有するベンゼン環を含み；
ＲＰ２は、それぞれ独立して、保護基である。］
で表されるフッ素原子含有化合物の保護基を水素原子に置換する工程を含む、
フッ素原子含有化合物の製造方法。
【請求項15】
前記工程において、Ｒｐ２はベンジル基であり、接触水素化によりベンジル基を水素原子に置換する、請求項１４に記載のフッ素原子含有化合物の製造方法。
【請求項16】
請求項３に記載のフッ素原子含有化合物と溶剤とを含む、組成物。
【請求項17】
溶剤の地球温暖化係数（１００年）が１，０００以下である、請求項１６に記載の組成物。
【請求項18】
溶剤は、ハイドロクロロフルオロカーボン、ハイドロフルオロカーボン、ハイドロフルオロエーテル、ハイドロクロロフルオロオレフィン、ハイドロフルオロオレフィン、含フッ素芳香族炭化水素、含フッ素アルコール、及び、含フッ素カルボン酸から選ばれる少なくとも１つである請求項１６に記載の組成物。
【請求項19】
溶剤は、ＨＣＦＣ－２２５ｃａ、ＨＣＦＣ－２２５ｃｂ、１，１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６－トリデカフルオロオクタン、１，１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６－トリデカフルオロヘキサン、１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタン、ＨＦＥ－３４７ｐｃ－ｆ、メチルノナフルオロブチルエーテル、メチルノナフルオロイソブチルエーテル、エチルノナフルオロブチルエーテル、エチルノナフルオロイソブチルエーテル、ＨＦＥ－７３００、ＨＦＥ－３５６ｍｅｃ３、ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄ、ＨＣＦＯ－１２３３ｚｄ（Ｚ）、パーフルオロベンゼン、ベンズトリフルオリド、１，３－ビストリフルオロメチルベンゼン、２，２，２-トリフルオロエタノール、２，２，３，３，３－ペンタフルオロ-1-プロパノール、１，１，１，３，３，３－ヘキサフルオロ－２－プロパノール、及び、トリフルオロ酢酸からなる群より選ばれる少なくとも１つである請求項１６に記載の組成物。
【請求項20】
上記組成物は、コーティング用である、請求項１６に記載の組成物。
【請求項21】
真空蒸着用、又は、湿潤被覆処理用のコーティング剤である、請求項１６に記載の組成物。
【請求項22】
基材と、該基材上に、請求項２に記載のフッ素原子含有化合物で処理された層とを含む、物品。
【請求項23】
基材と、該基材上に、請求項１６に記載の組成物で処理された層とを含む、物品。
【請求項24】
前記基材は、金属を含む、請求項２２に記載の物品。
【請求項25】
前記基材は、Ａｌ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｙ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｓｎ、Ｗ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ａｕ、及びＰｂからなる群より選ばれる少なくとも１つを含む、請求項２２に記載の物品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本開示は、フッ素原子含有化合物に関する。
【背景技術】
【0002】
分子内にフッ素原子を有する化合物（以下、「フッ素原子含有化合物」と称することがある）は、例えば、撥水性、撥油性等の物性を有する層（以下、「表面処理層」と称することがある）の形成に寄与し得ることが知られている（例えば、特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【特許文献1】特開２０２１－８０４４８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
本開示は、摩擦耐久性が良好であり、かつ、基材への結合が良好である表面処理層の形成に寄与し得るフッ素原子含有化合物を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0005】
本開示は、以下の［１］～［２５］を提供するものである。
［１］
分子末端にＲＡを少なくとも１含む、フッ素原子含有化合物であって、
ＲＡは、それぞれ独立して、芳香環を含む基であり、
前記芳香環を含む基は、少なくとも３つの－ＯＲＰ１を有するベンゼン環を含み、
ＲＰ１は、それぞれ独立して、水素原子、又は、保護基である、
フッ素原子含有化合物。
［２］
式（Ａ）又は（Ｂ）：
で表される、［１］に記載のフッ素原子含有化合物。
［式中：
ＲＦ１は、Ｒｆ１－ＲＦ－Ｏｑ－であり；
ＲＦ２は、－Ｒｆ２ ｐ－ＲＦ－Ｏｑ－であり；
Ｒｆ１は、１個以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－１６アルキル基であり；
Ｒｆ２は、１個以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－６アルキレン基であり；
ＲＦは、それぞれ独立して、２価のフッ素原子含有基であり；
ｐは、０又は１であり；
ｑは、それぞれ独立して、０又は１であり；
αは、１～９の整数であり；
βは、１～９の整数であり；
γは、それぞれ独立して、１～９の整数であり；
ＸＡは、それぞれ独立して、単結合、又は、２～１０価の有機基であり；
ＲＡは、それぞれ独立して、芳香環を含む基であり；
前記芳香環を含む基は、少なくとも３つの－ＯＲＰ１を有するベンゼン環を含み；
ＲＰ１は、それぞれ独立して、水素原子、又は、保護基である。］
［３］
ＲＰ１は、水素原子である、［１］又は［２］に記載のフッ素原子含有化合物。
［４］
ＲＦは、それぞれ独立して、下記式（ｆ１）、又は、（ｆ２）：
－（ＯＣｊＲｃ ２ｊ）ｊ１－（ＯＣｈＲｃ ２ｈ－２）ｈ１－ （ｆ１）
［式中：
－ＯＣｊＲｃ ２ｊ－は、それぞれ独立して、直鎖又は分岐鎖を有する繰り返し単位であり；
－ＯＣｈＲｃ ２ｈ－２－は、それぞれ独立して、環構造を有する繰り返し単位であり；
Ｒｃは、それぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、又は、塩素原子であり；
但し、ＲＦにおいて少なくとも１つのＲｃは、フッ素原子であり；
ｊは、それぞれ独立して、１～６の整数であり；
ｈは、それぞれ独立して、１～７の整数であり；
ｊ１は、０以上の整数であり；
ｈ１は、０以上の整数であり；
ｊ１とｈ１との合計は、１以上であり；
ｊ１又はｈ１を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］
－（ＣｓＲｃ１ ２ｓ）ｓ１－（Ｒｄ）ｓ２－ （ｆ２）
［式中：
ｓは、それぞれ独立して、１～１０の整数であり；
Ｒｃ１は、それぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、又は、塩素原子であり；
Ｒｄは、それぞれ独立して、フッ素原子で置換されていてもよいアリーレン基であり；
但し、Ｒｄの置換基又はＲｃ１のうち、少なくとも１つは、フッ素原子であり；
ｓ１は、０以上の整数であり；
ｓ２は、０以上の整数であり；
ｓ１とｓ２との合計は、１以上であり；
ｓ１又はｓ２を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］
で表される基である、［２］に記載のフッ素原子含有化合物。
［５］
ＲＦは、それぞれ独立して、
－（ＯＣ６Ｆ１２）ａ１－（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ１－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ１－（ＯＣ３ＲＦａ ６）ｄ１－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ１－（ＯＣＦ２）ｆ１－
で表される基である、［２］又は［４］に記載のフッ素原子含有化合物。
［式中：
ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、ｅ１及びｆ１は、それぞれ独立して、０～２００の整数であって、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、ｅ１及びｆ１の和は１以上であり、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、ｅ１、又はｆ１を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり；
ＲＦａは、それぞれ独立して、水素原子、塩素原子、又は、フッ素原子である。］
［６］
ＲＦは、それぞれ独立して、下記式（ｆ１１）、（ｆ１２）、（ｆ１３）、（ｆ１４）、（ｆ１５）又は（ｆ１６）：
－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ１－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ１－ （ｆ１１）
［式中：
ｄ１は、１～２００の整数であり；
ｅ１は、０又は１である。］；
－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ１－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ１－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ１－（ＯＣＦ２）ｆ１－ （ｆ１２）
［式中：
ｃ１及びｄ１は、それぞれ独立して、０以上３０以下の整数であり；
ｅ１及びｆ１は、それぞれ独立して、１以上２００以下の整数であり；
ｃ１、ｄ１、ｅ１及びｆ１の和は２以上であり；
添字ｃ１、ｄ１、ｅ１又はｆ１を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］；
－（Ｒ７１－Ｒ７２）ｇ１－ （ｆ１３）
［式中：
Ｒ７１は、ＯＣＦ２又はＯＣ２Ｆ４であり；
Ｒ７２は、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６、ＯＣ４Ｆ８、ＯＣ５Ｆ１０及びＯＣ６Ｆ１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせであり；
ｇ１は、２～１００の整数である。］；
－（Ｒ７１－Ｒ７２）ｇ１－Ｒｒ－（Ｒ７２’－Ｒ７１’）ｇ１’－ （ｆ１４）
［式中：
Ｒ７１は、ＯＣＦ２又はＯＣ２Ｆ４であり；
Ｒ７２は、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６、ＯＣ４Ｆ８、ＯＣ５Ｆ１０及びＯＣ６Ｆ１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせであり；
Ｒ７１’は、ＯＣＦ２又はＯＣ２Ｆ４であり；
Ｒ７２’は、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６、ＯＣ４Ｆ８、ＯＣ５Ｆ１０及びＯＣ６Ｆ１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせであり；
ｇ１は、２～１００の整数であり；
ｇ１’は、２～１００の整数であり；
Ｒｒは、以下の基：
（式中、＊は、結合位置を示す。）
のいずれか１つである。]；
－（ＯＣ６Ｆ１２）ａ１－（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ１－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ１－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ１－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ１－（ＯＣＦ２）ｆ１－ （ｆ１５）
［式中：
ｅ１は、１以上２００以下の整数であり、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１及びｆ１は、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、ｅ１及びｆ１の和は少なくとも１であり、また、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、ｅ１又はｆ１を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
－（ＯＣ６Ｆ１２）ａ１－（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ１－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ１－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ１－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ１－（ＯＣＦ２）ｆ１－ （ｆ１６）
［式中：
ｆ１は、１以上２００以下の整数であり、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１及びｅ１は、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、ｅ１及びｆ１の和は少なくとも１であり、また、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、ｅ１又はｆ１を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
で表される基；又は、
－（ＣｓＦ２ｓ）ｓ１－（Ｒｄ）ｓ２－ （ｆ２１）
［式中：
ｓは、１～１０の整数であり；
Ｒｄは、フッ素原子で置換されたアリーレン基であり；
ｓ１は、０以上の整数であり；
ｓ２は、０以上の整数であり；
ｓ１とｓ２との合計は、１以上であり；
ｓ１又はｓ２を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］
で表される基である、［２］、［４］又は［５］に記載のフッ素原子含有化合物。
［７］
ＲＡは、式（１ａ）、又は（１ｂ）：
で表される基である、［１］～［６］のいずれか１つに記載のフッ素原子含有化合物。
［式中：
ＲＢ１は、芳香環を含む基であり；
前記芳香環を含む基は、少なくとも３つの－ＯＲＰ１を有するベンゼン環を含み；
ＲＰ１は、それぞれ独立して、水素原子、又は、保護基であり；
Ｘ１は、それぞれ独立して、ケイ素原子、炭素原子、又は、窒素原子であり；
Ｒ１１は、それぞれ独立して、－Ｚ１１－ＲＢ１で表され；
Ｚ１１は、単結合、又は、２価の有機基であり；
Ｒ１２は、それぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、水酸基、又は、１価の有機基であり；
ｋ１は、１以上の整数であり；
ｋ１とｌ１との合計は、Ｘ１の価数－１である。]
［８］
ＲＢ１は、以下の式：
［式中：
ＲＰ１は、水素原子、又は、保護基であり；
δは、３以上の整数であり；
＊は、結合位置を示す。］
のいずれか１つである、［７］に記載のフッ素原子含有化合物。
［９］
ＸＡは、－（Ｒ５０）ｐ０－（Ｘａ）ｑ０－で表される２価の有機基、又は、単結合である、［２］、［４］～［８］のいずれか１つに記載のフッ素原子含有化合物。
［式中：
Ｒ５０は、単結合、－（ＣＨ２）ｐ１０－又はｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基であり；
ｐ１０は、１～２０の整数であり；
Ｘａは、－（Ｘｂ）ｑ１０－を表し；
Ｒ５０及びＸａは、それぞれ独立して、フッ素原子、Ｃ１－３アルキル基、及び、Ｃ１－３フルオロアルキル基から選択される１個以上の置換基により置換されていてもよく；
Ｘｂは、それぞれ独立して、－Ｓ－、ｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基、－Ｏ－、－（ＯＲ５５）ｎ５０－、－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（＝Ｏ）－、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ５４－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ５４－、－ＮＲ５４Ｃ（＝Ｏ）－、－ＮＲ５４Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－ＮＲ５４Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ５４－、－ＮＲ５４－、－（ＣＨ２）ｎ５２－、－Ｓｉ（Ｒ５３）２－、及び、－（Ｓｉ（Ｒ５３）２Ｏ）ｎ５１－Ｓｉ（Ｒ５３）２－、からなる群から選択される基を表し；
Ｒ５３は、それぞれ独立して、フェニル基、Ｃ１－６アルキル基、又は、Ｃ１－６アルコキシ基を表し；
Ｒ５４は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基、又は、Ｃ１－６アルキル基を表し；
Ｒ５５は、それぞれ独立して、Ｃ１－６アルキレン基であり；
ｎ５０は、それぞれ独立して、１～２０の整数であり；
ｎ５１は、それぞれ独立して、１～１００の整数であり；
ｎ５２は、それぞれ独立して、１～２０の整数であり；
ｑ１０は、１～１０の整数であり；
ｐ０は、０～４の整数であり；
ｑ０は、０～４の整数であり；
ｐ０又はｑ０を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は任意であり；
ここで、ｐ０及びｑ０の合計は、１以上の整数である。]
［１０］
ＲＦは、式（ｆ１１）：
－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ１－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ１－ （ｆ１１）
［式中：
ｄ１は、１～２００の整数であり；
ｅ１は、０又は１である。］
で表され；
ＸＡは、それぞれ独立して、－（（ＣＨ２）ｐ１０）ｐ２１－Ｘｂ１－（（ＣＨ２）ｐ１０）ｐ２１’－、又は－（（ＣＨ２）ｐ１０）ｐ２２－Ｘｂ１－（（ＣＨ２）ｐ１０）ｐ２３－Ｘｂ１－（（ＣＨ２）ｐ１０）ｐ２４－で表され；
［式中：
Ｘｂ１は、それぞれ独立して、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ５４－、又は、－ＮＲ５４Ｃ（＝Ｏ）－であり；
Ｒ５４は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基、又は、Ｃ１－６アルキル基を表し；
ｐ１０は、それぞれ独立して、１～２０の整数であり；
ｐ２１、ｐ２１’、ｐ２２、ｐ２３、及びｐ２４は、それぞれ独立して、０又は１である。］
ＲＡは、式（１ａ）：
［式中：
ＲＢ１は、芳香環を含む基であり；
前記芳香環を含む基は、少なくとも３つの－ＯＲＰ１を有するベンゼン環を含み；
ＲＰ１は、それぞれ独立して、水素原子、又は、保護基である。］
で表され、
α、β及びγは１である、
［２］、［４］～［８］のいずれか１つに記載のフッ素原子含有化合物。
［１１］
ＲＦは、式（ｆ１１）：
－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ１－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ１－ （ｆ１１）
［式中：
ｄ１は、１～２００の整数であり；
ｅ１は、０又は１である。］；
で表され；
ＸＡは、単結合であり；
ＲＡは、式（１ｂ）：
［式中：
Ｘ１は、炭素原子であり；
Ｒ１１は、それぞれ独立して、－Ｚ１１－ＲＢ１で表され；
Ｚ１１は、２価の有機基であり；
ＲＢ１は、芳香環を含む基であり；
前記芳香環を含む基は、少なくとも３つの－ＯＲＰ１を有するベンゼン環を含み；
ＲＰ１は、それぞれ独立して、水素原子、又は、保護基であり；
Ｒ１２は、水酸基であり；
ｋ１は、それぞれ独立して、２又は３であり；
ｋ１とｌ１との合計は、式（１ｂ）毎に３である。]
で表され、
α、β及びγは１である、［２］、［４］～［８］のいずれか１つに記載のフッ素原子含有化合物。
［１２］
ＲＦは、式（ｆ１１）：
－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ１－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ１－ （ｆ１１）
［式中：
ｄ１は、１～２００の整数であり；
ｅ１は、０又は１である。］；
で表され；
ＸＡは、それぞれ独立して、－（（ＣＨ２）ｐ１０）ｐ２１－Ｏ－（（ＣＨ２）ｐ１０）ｐ２１’－であり；
ｐ１０は、それぞれ独立して、１～２０の整数であり；
ｐ２１は、０又は１であり；
ｐ２１’は、０又は１である。］
ＲＡは、式（１ｂ）：
［式中：
Ｘ１は、ケイ素原子であり；
Ｒ１１は、それぞれ独立して、－Ｚ１１－ＲＢ１で表され；
Ｚ１１は、２価の有機基であり；
ＲＢ１は、芳香環を含む基であり；
前記芳香環を含む基は、少なくとも３つの－ＯＲＰ１を有するベンゼン環を含み；
ＲＰ１は、それぞれ独立して、水素原子、又は、保護基であり；
Ｒ１２は、水酸基であり；
ｋ１は、それぞれ独立して、２又は３であり；
ｋ１とｌ１との合計は、式（１ｂ）毎に３である。]
で表され、
α、β及びγは１である、［２］、［４］～［８］のいずれか１つに記載のフッ素原子含有化合物。
［１３］
ＲＦは、式（ｆ１１）：
－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ１－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ１－ （ｆ１１）
［式中：
ｄ１は、１～２００の整数であり；
ｅ１は、０又は１である。］；
で表され；
ＸＡは、－Ｃ（＝Ｏ）－であり；
ＲＡは、式（１ｂ）：
［式中：
Ｘ１は、窒素原子であり；
Ｒ１１は、それぞれ独立して、－Ｚ１１－ＲＢ１で表され；
Ｚ１１は、２価の有機基であり；
ＲＢ１は、芳香環を含む基であり；
前記芳香環を含む基は、少なくとも３つの－ＯＲＰ１を有するベンゼン環を含み；
ＲＰ１は、それぞれ独立して、水素原子、又は、保護基であり；
Ｒ１２は、水素原子、フェニル基、又は、Ｃ１－６アルキル基であり；
ｋ１は、それぞれ独立して、１又は２であり；
ｋ１とｌ１との合計は、式（１ｂ）毎に２である。]
で表され、
α、β及びγは１である、［２］、［４］～［８］のいずれか１つに記載のフッ素原子含有化合物。
［１４］
式（Ａ１）又は（Ｂ１）：
［式中：
ＲＦ１は、Ｒｆ１－ＲＦ－Ｏｑ－であり；
ＲＦ２は、－Ｒｆ２ ｐ－ＲＦ－Ｏｑ－であり；
Ｒｆ１は、１個以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－１６アルキル基であり；
Ｒｆ２は、１個以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－６アルキレン基であり；
ＲＦは、それぞれ独立して、２価のフッ素原子含有基であり；
ｐは、０又は１であり；
ｑは、それぞれ独立して、０又は１であり；
αは、１～９の整数であり；
βは、１～９の整数であり；
γは、それぞれ独立して、１～９の整数であり；
ＸＡ１は、それぞれ独立して、単結合、又は、２～１０価の有機基であり；
ＲＡ２は、それぞれ独立して、芳香環を含む基であり；
前記芳香環を含む基は、少なくとも３つの－ＯＲＰ２を有するベンゼン環を含み；
ＲＰ２は、それぞれ独立して、保護基である。］
で表されるフッ素原子含有化合物の保護基を水素原子に置換する工程を含む、
フッ素原子含有化合物の製造方法。
［１５］
前記工程において、Ｒｐ２はベンジル基であり、接触水素化によりベンジル基を水素原子に置換する、［１４］に記載のフッ素原子含有化合物の製造方法。
［１６］
［１］～［１３］のいずれか１つに記載のフッ素原子含有化合物と溶剤とを含む、組成物。
［１７］
溶剤の地球温暖化係数（１００年）が１，０００以下である、［１６］に記載の組成物。
［１８］
溶剤は、ハイドロクロロフルオロカーボン、ハイドロフルオロカーボン、ハイドロフルオロエーテル、ハイドロクロロフルオロオレフィン、ハイドロフルオロオレフィン、含フッ素芳香族炭化水素、含フッ素アルコール、及び、含フッ素カルボン酸から選ばれる少なくとも１つである［１６］又は［１７］に記載の組成物。
［１９］
溶剤は、ＨＣＦＣ－２２５ｃａ、ＨＣＦＣ－２２５ｃｂ、１，１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６－トリデカフルオロオクタン、１，１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６－トリデカフルオロヘキサン、１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタン、ＨＦＥ－３４７ｐｃ－ｆ、メチルノナフルオロブチルエーテル、メチルノナフルオロイソブチルエーテル、エチルノナフルオロブチルエーテル、エチルノナフルオロイソブチルエーテル、ＨＦＥ－７３００、ＨＦＥ－３５６ｍｅｃ３、ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄ、ＨＣＦＯ－１２３３ｚｄ（Ｚ）、パーフルオロベンゼン、ベンズトリフルオリド、１，３－ビストリフルオロメチルベンゼン、２，２，２-トリフルオロエタノール、２，２，３，３，３－ペンタフルオロ-1-プロパノール、１，１，１，３，３，３－ヘキサフルオロ－２－プロパノール、及び、トリフルオロ酢酸からなる群より選ばれる少なくとも１つである［１６］～［１８］のいずれか１つに記載の組成物。
［２０］
上記組成物は、コーティング用である、［１６］～［１９］のいずれか１つに記載の組成物。
［２１］
真空蒸着用、又は、湿潤被覆処理用のコーティング剤である、［１６］～［１９］のいずれか１つに記載の組成物。
［２２］
基材と、該基材上に、［１］～［１３］のいずれか１つに記載のフッ素原子含有化合物で処理された層とを含む、物品。
［２３］
基材と、該基材上に、［１６］～［２１］のいずれか１つに記載の組成物で処理された層とを含む、物品。
［２４］
前記基材は、金属を含む、［２２］又は［２３］に記載の物品。
［２５］
前記基材は、Ａｌ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｙ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｓｎ、Ｗ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ａｕ、及びＰｂからなる群より選ばれる少なくとも１つを含む、［２２］～［２４］のいずれか１つに記載の物品。
［１］
分子末端にＲＡを少なくとも１含む、フッ素原子含有化合物であって、
ＲＡは、それぞれ独立して、芳香環を含む基であり、
前記芳香環を含む基は、少なくとも３つの－ＯＲＰ１を有するベンゼン環を含み、
ＲＰ１は、それぞれ独立して、水素原子、又は、保護基である、
フッ素原子含有化合物。
［２］
式（Ａ）又は（Ｂ）：
【化1】
［式中：
ＲＦ１は、Ｒｆ１－ＲＦ－Ｏｑ－であり；
ＲＦ２は、－Ｒｆ２ ｐ－ＲＦ－Ｏｑ－であり；
Ｒｆ１は、１個以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－１６アルキル基であり；
Ｒｆ２は、１個以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－６アルキレン基であり；
ＲＦは、それぞれ独立して、２価のフッ素原子含有基であり；
ｐは、０又は１であり；
ｑは、それぞれ独立して、０又は１であり；
αは、１～９の整数であり；
βは、１～９の整数であり；
γは、それぞれ独立して、１～９の整数であり；
ＸＡは、それぞれ独立して、単結合、又は、２～１０価の有機基であり；
ＲＡは、それぞれ独立して、芳香環を含む基であり；
前記芳香環を含む基は、少なくとも３つの－ＯＲＰ１を有するベンゼン環を含み；
ＲＰ１は、それぞれ独立して、水素原子、又は、保護基である。］
［３］
ＲＰ１は、水素原子である、［１］又は［２］に記載のフッ素原子含有化合物。
［４］
ＲＦは、それぞれ独立して、下記式（ｆ１）、又は、（ｆ２）：
－（ＯＣｊＲｃ ２ｊ）ｊ１－（ＯＣｈＲｃ ２ｈ－２）ｈ１－ （ｆ１）
［式中：
－ＯＣｊＲｃ ２ｊ－は、それぞれ独立して、直鎖又は分岐鎖を有する繰り返し単位であり；
－ＯＣｈＲｃ ２ｈ－２－は、それぞれ独立して、環構造を有する繰り返し単位であり；
Ｒｃは、それぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、又は、塩素原子であり；
但し、ＲＦにおいて少なくとも１つのＲｃは、フッ素原子であり；
ｊは、それぞれ独立して、１～６の整数であり；
ｈは、それぞれ独立して、１～７の整数であり；
ｊ１は、０以上の整数であり；
ｈ１は、０以上の整数であり；
ｊ１とｈ１との合計は、１以上であり；
ｊ１又はｈ１を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］
－（ＣｓＲｃ１ ２ｓ）ｓ１－（Ｒｄ）ｓ２－ （ｆ２）
［式中：
ｓは、それぞれ独立して、１～１０の整数であり；
Ｒｃ１は、それぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、又は、塩素原子であり；
Ｒｄは、それぞれ独立して、フッ素原子で置換されていてもよいアリーレン基であり；
但し、Ｒｄの置換基又はＲｃ１のうち、少なくとも１つは、フッ素原子であり；
ｓ１は、０以上の整数であり；
ｓ２は、０以上の整数であり；
ｓ１とｓ２との合計は、１以上であり；
ｓ１又はｓ２を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］
で表される基である、［２］に記載のフッ素原子含有化合物。
［５］
ＲＦは、それぞれ独立して、
－（ＯＣ６Ｆ１２）ａ１－（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ１－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ１－（ＯＣ３ＲＦａ ６）ｄ１－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ１－（ＯＣＦ２）ｆ１－
で表される基である、［２］又は［４］に記載のフッ素原子含有化合物。
［式中：
ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、ｅ１及びｆ１は、それぞれ独立して、０～２００の整数であって、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、ｅ１及びｆ１の和は１以上であり、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、ｅ１、又はｆ１を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり；
ＲＦａは、それぞれ独立して、水素原子、塩素原子、又は、フッ素原子である。］
［６］
ＲＦは、それぞれ独立して、下記式（ｆ１１）、（ｆ１２）、（ｆ１３）、（ｆ１４）、（ｆ１５）又は（ｆ１６）：
－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ１－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ１－ （ｆ１１）
［式中：
ｄ１は、１～２００の整数であり；
ｅ１は、０又は１である。］；
－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ１－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ１－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ１－（ＯＣＦ２）ｆ１－ （ｆ１２）
［式中：
ｃ１及びｄ１は、それぞれ独立して、０以上３０以下の整数であり；
ｅ１及びｆ１は、それぞれ独立して、１以上２００以下の整数であり；
ｃ１、ｄ１、ｅ１及びｆ１の和は２以上であり；
添字ｃ１、ｄ１、ｅ１又はｆ１を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］；
－（Ｒ７１－Ｒ７２）ｇ１－ （ｆ１３）
［式中：
Ｒ７１は、ＯＣＦ２又はＯＣ２Ｆ４であり；
Ｒ７２は、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６、ＯＣ４Ｆ８、ＯＣ５Ｆ１０及びＯＣ６Ｆ１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせであり；
ｇ１は、２～１００の整数である。］；
－（Ｒ７１－Ｒ７２）ｇ１－Ｒｒ－（Ｒ７２’－Ｒ７１’）ｇ１’－ （ｆ１４）
［式中：
Ｒ７１は、ＯＣＦ２又はＯＣ２Ｆ４であり；
Ｒ７２は、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６、ＯＣ４Ｆ８、ＯＣ５Ｆ１０及びＯＣ６Ｆ１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせであり；
Ｒ７１’は、ＯＣＦ２又はＯＣ２Ｆ４であり；
Ｒ７２’は、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６、ＯＣ４Ｆ８、ＯＣ５Ｆ１０及びＯＣ６Ｆ１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせであり；
ｇ１は、２～１００の整数であり；
ｇ１’は、２～１００の整数であり；
Ｒｒは、以下の基：
【化2】
のいずれか１つである。]；
－（ＯＣ６Ｆ１２）ａ１－（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ１－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ１－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ１－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ１－（ＯＣＦ２）ｆ１－ （ｆ１５）
［式中：
ｅ１は、１以上２００以下の整数であり、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１及びｆ１は、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、ｅ１及びｆ１の和は少なくとも１であり、また、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、ｅ１又はｆ１を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
－（ＯＣ６Ｆ１２）ａ１－（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ１－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ１－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ１－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ１－（ＯＣＦ２）ｆ１－ （ｆ１６）
［式中：
ｆ１は、１以上２００以下の整数であり、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１及びｅ１は、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、ｅ１及びｆ１の和は少なくとも１であり、また、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、ｅ１又はｆ１を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
で表される基；又は、
－（ＣｓＦ２ｓ）ｓ１－（Ｒｄ）ｓ２－ （ｆ２１）
［式中：
ｓは、１～１０の整数であり；
Ｒｄは、フッ素原子で置換されたアリーレン基であり；
ｓ１は、０以上の整数であり；
ｓ２は、０以上の整数であり；
ｓ１とｓ２との合計は、１以上であり；
ｓ１又はｓ２を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］
で表される基である、［２］、［４］又は［５］に記載のフッ素原子含有化合物。
［７］
ＲＡは、式（１ａ）、又は（１ｂ）：
【化3】
［式中：
ＲＢ１は、芳香環を含む基であり；
前記芳香環を含む基は、少なくとも３つの－ＯＲＰ１を有するベンゼン環を含み；
ＲＰ１は、それぞれ独立して、水素原子、又は、保護基であり；
Ｘ１は、それぞれ独立して、ケイ素原子、炭素原子、又は、窒素原子であり；
Ｒ１１は、それぞれ独立して、－Ｚ１１－ＲＢ１で表され；
Ｚ１１は、単結合、又は、２価の有機基であり；
Ｒ１２は、それぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、水酸基、又は、１価の有機基であり；
ｋ１は、１以上の整数であり；
ｋ１とｌ１との合計は、Ｘ１の価数－１である。]
［８］
ＲＢ１は、以下の式：
【化4】
ＲＰ１は、水素原子、又は、保護基であり；
δは、３以上の整数であり；
＊は、結合位置を示す。］
のいずれか１つである、［７］に記載のフッ素原子含有化合物。
［９］
ＸＡは、－（Ｒ５０）ｐ０－（Ｘａ）ｑ０－で表される２価の有機基、又は、単結合である、［２］、［４］～［８］のいずれか１つに記載のフッ素原子含有化合物。
［式中：
Ｒ５０は、単結合、－（ＣＨ２）ｐ１０－又はｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基であり；
ｐ１０は、１～２０の整数であり；
Ｘａは、－（Ｘｂ）ｑ１０－を表し；
Ｒ５０及びＸａは、それぞれ独立して、フッ素原子、Ｃ１－３アルキル基、及び、Ｃ１－３フルオロアルキル基から選択される１個以上の置換基により置換されていてもよく；
Ｘｂは、それぞれ独立して、－Ｓ－、ｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基、－Ｏ－、－（ＯＲ５５）ｎ５０－、－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（＝Ｏ）－、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ５４－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ５４－、－ＮＲ５４Ｃ（＝Ｏ）－、－ＮＲ５４Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－ＮＲ５４Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ５４－、－ＮＲ５４－、－（ＣＨ２）ｎ５２－、－Ｓｉ（Ｒ５３）２－、及び、－（Ｓｉ（Ｒ５３）２Ｏ）ｎ５１－Ｓｉ（Ｒ５３）２－、からなる群から選択される基を表し；
Ｒ５３は、それぞれ独立して、フェニル基、Ｃ１－６アルキル基、又は、Ｃ１－６アルコキシ基を表し；
Ｒ５４は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基、又は、Ｃ１－６アルキル基を表し；
Ｒ５５は、それぞれ独立して、Ｃ１－６アルキレン基であり；
ｎ５０は、それぞれ独立して、１～２０の整数であり；
ｎ５１は、それぞれ独立して、１～１００の整数であり；
ｎ５２は、それぞれ独立して、１～２０の整数であり；
ｑ１０は、１～１０の整数であり；
ｐ０は、０～４の整数であり；
ｑ０は、０～４の整数であり；
ｐ０又はｑ０を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は任意であり；
ここで、ｐ０及びｑ０の合計は、１以上の整数である。]
［１０］
ＲＦは、式（ｆ１１）：
－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ１－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ１－ （ｆ１１）
［式中：
ｄ１は、１～２００の整数であり；
ｅ１は、０又は１である。］
で表され；
ＸＡは、それぞれ独立して、－（（ＣＨ２）ｐ１０）ｐ２１－Ｘｂ１－（（ＣＨ２）ｐ１０）ｐ２１’－、又は－（（ＣＨ２）ｐ１０）ｐ２２－Ｘｂ１－（（ＣＨ２）ｐ１０）ｐ２３－Ｘｂ１－（（ＣＨ２）ｐ１０）ｐ２４－で表され；
［式中：
Ｘｂ１は、それぞれ独立して、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ５４－、又は、－ＮＲ５４Ｃ（＝Ｏ）－であり；
Ｒ５４は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基、又は、Ｃ１－６アルキル基を表し；
ｐ１０は、それぞれ独立して、１～２０の整数であり；
ｐ２１、ｐ２１’、ｐ２２、ｐ２３、及びｐ２４は、それぞれ独立して、０又は１である。］
ＲＡは、式（１ａ）：
【化5】
ＲＢ１は、芳香環を含む基であり；
前記芳香環を含む基は、少なくとも３つの－ＯＲＰ１を有するベンゼン環を含み；
ＲＰ１は、それぞれ独立して、水素原子、又は、保護基である。］
で表され、
α、β及びγは１である、
［２］、［４］～［８］のいずれか１つに記載のフッ素原子含有化合物。
［１１］
ＲＦは、式（ｆ１１）：
－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ１－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ１－ （ｆ１１）
［式中：
ｄ１は、１～２００の整数であり；
ｅ１は、０又は１である。］；
で表され；
ＸＡは、単結合であり；
ＲＡは、式（１ｂ）：
【化6】
［式中：
Ｘ１は、炭素原子であり；
Ｒ１１は、それぞれ独立して、－Ｚ１１－ＲＢ１で表され；
Ｚ１１は、２価の有機基であり；
ＲＢ１は、芳香環を含む基であり；
前記芳香環を含む基は、少なくとも３つの－ＯＲＰ１を有するベンゼン環を含み；
ＲＰ１は、それぞれ独立して、水素原子、又は、保護基であり；
Ｒ１２は、水酸基であり；
ｋ１は、それぞれ独立して、２又は３であり；
ｋ１とｌ１との合計は、式（１ｂ）毎に３である。]
で表され、
α、β及びγは１である、［２］、［４］～［８］のいずれか１つに記載のフッ素原子含有化合物。
［１２］
ＲＦは、式（ｆ１１）：
－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ１－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ１－ （ｆ１１）
［式中：
ｄ１は、１～２００の整数であり；
ｅ１は、０又は１である。］；
で表され；
ＸＡは、それぞれ独立して、－（（ＣＨ２）ｐ１０）ｐ２１－Ｏ－（（ＣＨ２）ｐ１０）ｐ２１’－であり；
ｐ１０は、それぞれ独立して、１～２０の整数であり；
ｐ２１は、０又は１であり；
ｐ２１’は、０又は１である。］
ＲＡは、式（１ｂ）：
【化7】
Ｘ１は、ケイ素原子であり；
Ｒ１１は、それぞれ独立して、－Ｚ１１－ＲＢ１で表され；
Ｚ１１は、２価の有機基であり；
ＲＢ１は、芳香環を含む基であり；
前記芳香環を含む基は、少なくとも３つの－ＯＲＰ１を有するベンゼン環を含み；
ＲＰ１は、それぞれ独立して、水素原子、又は、保護基であり；
Ｒ１２は、水酸基であり；
ｋ１は、それぞれ独立して、２又は３であり；
ｋ１とｌ１との合計は、式（１ｂ）毎に３である。]
で表され、
α、β及びγは１である、［２］、［４］～［８］のいずれか１つに記載のフッ素原子含有化合物。
［１３］
ＲＦは、式（ｆ１１）：
－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ１－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ１－ （ｆ１１）
［式中：
ｄ１は、１～２００の整数であり；
ｅ１は、０又は１である。］；
で表され；
ＸＡは、－Ｃ（＝Ｏ）－であり；
ＲＡは、式（１ｂ）：
【化8】
Ｘ１は、窒素原子であり；
Ｒ１１は、それぞれ独立して、－Ｚ１１－ＲＢ１で表され；
Ｚ１１は、２価の有機基であり；
ＲＢ１は、芳香環を含む基であり；
前記芳香環を含む基は、少なくとも３つの－ＯＲＰ１を有するベンゼン環を含み；
ＲＰ１は、それぞれ独立して、水素原子、又は、保護基であり；
Ｒ１２は、水素原子、フェニル基、又は、Ｃ１－６アルキル基であり；
ｋ１は、それぞれ独立して、１又は２であり；
ｋ１とｌ１との合計は、式（１ｂ）毎に２である。]
で表され、
α、β及びγは１である、［２］、［４］～［８］のいずれか１つに記載のフッ素原子含有化合物。
［１４］
式（Ａ１）又は（Ｂ１）：
ＲＦ１は、Ｒｆ１－ＲＦ－Ｏｑ－であり；
ＲＦ２は、－Ｒｆ２ ｐ－ＲＦ－Ｏｑ－であり；
Ｒｆ１は、１個以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－１６アルキル基であり；
Ｒｆ２は、１個以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－６アルキレン基であり；
ＲＦは、それぞれ独立して、２価のフッ素原子含有基であり；
ｐは、０又は１であり；
ｑは、それぞれ独立して、０又は１であり；
αは、１～９の整数であり；
βは、１～９の整数であり；
γは、それぞれ独立して、１～９の整数であり；
ＸＡ１は、それぞれ独立して、単結合、又は、２～１０価の有機基であり；
ＲＡ２は、それぞれ独立して、芳香環を含む基であり；
前記芳香環を含む基は、少なくとも３つの－ＯＲＰ２を有するベンゼン環を含み；
ＲＰ２は、それぞれ独立して、保護基である。］
で表されるフッ素原子含有化合物の保護基を水素原子に置換する工程を含む、
フッ素原子含有化合物の製造方法。
［１５］
前記工程において、Ｒｐ２はベンジル基であり、接触水素化によりベンジル基を水素原子に置換する、［１４］に記載のフッ素原子含有化合物の製造方法。
［１６］
［１］～［１３］のいずれか１つに記載のフッ素原子含有化合物と溶剤とを含む、組成物。
［１７］
溶剤の地球温暖化係数（１００年）が１，０００以下である、［１６］に記載の組成物。
［１８］
溶剤は、ハイドロクロロフルオロカーボン、ハイドロフルオロカーボン、ハイドロフルオロエーテル、ハイドロクロロフルオロオレフィン、ハイドロフルオロオレフィン、含フッ素芳香族炭化水素、含フッ素アルコール、及び、含フッ素カルボン酸から選ばれる少なくとも１つである［１６］又は［１７］に記載の組成物。
［１９］
溶剤は、ＨＣＦＣ－２２５ｃａ、ＨＣＦＣ－２２５ｃｂ、１，１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６－トリデカフルオロオクタン、１，１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６－トリデカフルオロヘキサン、１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタン、ＨＦＥ－３４７ｐｃ－ｆ、メチルノナフルオロブチルエーテル、メチルノナフルオロイソブチルエーテル、エチルノナフルオロブチルエーテル、エチルノナフルオロイソブチルエーテル、ＨＦＥ－７３００、ＨＦＥ－３５６ｍｅｃ３、ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄ、ＨＣＦＯ－１２３３ｚｄ（Ｚ）、パーフルオロベンゼン、ベンズトリフルオリド、１，３－ビストリフルオロメチルベンゼン、２，２，２-トリフルオロエタノール、２，２，３，３，３－ペンタフルオロ-1-プロパノール、１，１，１，３，３，３－ヘキサフルオロ－２－プロパノール、及び、トリフルオロ酢酸からなる群より選ばれる少なくとも１つである［１６］～［１８］のいずれか１つに記載の組成物。
［２０］
上記組成物は、コーティング用である、［１６］～［１９］のいずれか１つに記載の組成物。
［２１］
真空蒸着用、又は、湿潤被覆処理用のコーティング剤である、［１６］～［１９］のいずれか１つに記載の組成物。
［２２］
基材と、該基材上に、［１］～［１３］のいずれか１つに記載のフッ素原子含有化合物で処理された層とを含む、物品。
［２３］
基材と、該基材上に、［１６］～［２１］のいずれか１つに記載の組成物で処理された層とを含む、物品。
［２４］
前記基材は、金属を含む、［２２］又は［２３］に記載の物品。
［２５］
前記基材は、Ａｌ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｙ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｓｎ、Ｗ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ａｕ、及びＰｂからなる群より選ばれる少なくとも１つを含む、［２２］～［２４］のいずれか１つに記載の物品。
【発明の効果】
【0006】
本開示によれば、摩擦耐久性が良好であり、かつ、基材への結合が良好である表面処理層の形成に寄与し得るフッ素原子含有化合物を提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【0007】
本明細書において用いられる場合、「１価の有機基」とは、炭素を含有する１価の基を意味する。１価の有機基としては、特に限定されないが、炭化水素基、又は、その誘導体であり得る。炭化水素基の誘導体とは、炭化水素基の末端、又は、分子鎖中に、１つ又はそれ以上のＮ、Ｏ、Ｓ、Ｓｉ、アミド、スルホニル、シロキサン、カルボニル、カルボニルオキシ等を有している基を意味する。
【0008】
本明細書において用いられる場合、「２～１０価の有機基」とは、炭素を含有する２～１０価の基を意味する。かかる２～１０価の有機基としては、特に限定されないが、炭化水素基からさらに１～９個の水素原子を脱離させた２～１０価の基が挙げられる。２価の有機基としては、特に限定されるものではないが、炭化水素基からさらに１個の水素原子を脱離させた２価の基が挙げられる。
【0009】
本明細書において用いられる場合、「炭化水素基」とは、炭素及び水素を含む基であって、分子から１個の水素原子を脱離させた基を意味する。かかる炭化水素基としては、特に限定されるものではないが、１つ又はそれ以上の置換基により置換されていてもよい、炭素原子数１～２０の炭化水素基、例えば、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基等が挙げられる。上記「脂肪族炭化水素基」は、直鎖状、分枝鎖状、又は、環状のいずれであってもよく、飽和、又は、不飽和のいずれであってもよい。また、炭化水素基は、１つ又はそれ以上の環構造を含んでいてもよい。
【0010】
本明細書において用いられる場合、「炭化水素基」の置換基としては、特に限定されないが、例えば、ハロゲン原子；１個又はそれ以上のハロゲン原子により置換されていてもよい、Ｃ１－６アルキル基、Ｃ２－６アルケニル基、Ｃ２－６アルキニル基、Ｃ３－１０シクロアルキル基、Ｃ３－１０不飽和シクロアルキル基、５～１０員のヘテロシクリル基、５～１０員の不飽和ヘテロシクリル基、Ｃ６－１０アリール基及び５～１０員のヘテロアリール基から選択される１個又はそれ以上の基が挙げられる。
【0011】
本明細書において、アルキル基及びフェニル基は、非置換であっても、置換されていてもよい。かかる基の置換基としては、特に限定されないが、例えば、ハロゲン原子、Ｃ１－６アルキル基、Ｃ２－６アルケニル基及びＣ２－６アルキニル基から選択される１個又はそれ以上の基が挙げられる。
【0012】
＜フッ素原子含有化合物＞
以下、本開示の一態様である、フッ素原子含有化合物について説明する。
以下、本開示の一態様である、フッ素原子含有化合物について説明する。
【0013】
本開示のフッ素原子含有化合物は、分子末端にＲＡを少なくとも１含む。
上記ＲＡは、それぞれ独立して、芳香環を含む基ＲＢ１を有する。上記芳香環を含む基は、少なくとも３つの－ＯＲＰ１を有するベンゼン環を含む。ＲＰ１は、それぞれ独立して、水素原子、又は、保護基である。
上記ＲＡは、それぞれ独立して、芳香環を含む基ＲＢ１を有する。上記芳香環を含む基は、少なくとも３つの－ＯＲＰ１を有するベンゼン環を含む。ＲＰ１は、それぞれ独立して、水素原子、又は、保護基である。
【0014】
［ＲＰ１］
一の態様において、ＲＰ１は、水素原子である。
一の態様において、ＲＰ１は、水素原子である。
【0015】
一の態様において、ＲＰ１は、保護基である。
【0016】
本明細書において、保護基は、水酸基を保護する基である。保護基としては、エーテル系保護基（例えば、ベンジル基、アリル基、メチル基、ｐ－メトキシベンジル基、トリフェニルメチル基等）、シリル系保護基（例えば、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシリル基、トリイソプロピルシリル基、ｔｅｒｔ－ブチルジフェニルシリル基等）、アセタール系保護基（例えば、２－テトラヒドロピラニル基、メトキシメチル基、メトキシエトキシメチル基、ベンジリデンアセタール基等）、アシル系保護基（例えば、ベンゾイル基、アセチル基、ピバロイル基等）、環状カーボネート基を挙げることができる。
【0017】
芳香環を含む基とは、ベンゼン環を有している基であり、例えば、フェニル基、ナフチル基を挙げることができる。一の態様において、ＲＢ１としては、以下の構造で表される基を挙げることができる。ＲＰ１は、上記のとおりである。δは３以上の整数である。なお、以下の構造において、＊は結合位置を示す。
【化9】
【0018】
具体的には、ＲＢ１としては、少なくとも３つの－ＯＲＰ１を有するフェニル基、少なくとも３つの－ＯＲＰ１を有するナフチル基を挙げることができる。
【0019】
ＲＢ１において、－ＯＲＰ１は、いずれの位置に結合していてもよい。
【0020】
一の態様において、ＲＢ１は、フェニル基と３～５個の－ＯＲＰ１とを有する。即ち、本態様において、δは３～５の整数である。δは、より好ましくは３又は４である。例えば、δは３であり；別の例では、δは４である。なお、本態様において、１位は、他の基（即ち、該ＲＢ１以外の基）に結合する結合位置である。
【0021】
上記態様において、－ＯＲＰ１は、フェニル基の２，３，４，５，６位、２，３，４，５位、２，３，４，６位、２，３，５，６位、２，３，４位、２，３，５位、２，３，６位、３，４，５位、又は、３，４，６位に存在し得る。なお、本態様において、１位は、他の基に結合する結合位置である。具体的には、ＲＢ１は、以下のいずれかの構造を取り得る。
【化10】
【0022】
一の態様において、－ＯＲＰ１は、２，３，４，５位、２，３，４位、３，４，５位に存在し得る。これにより、フッ素原子含有化合物と基材とが反応する際の反応場のｐＨを適切な範囲に制御し得ると考えられる。
【0023】
一の態様において、ＲＢ１は、フェニル基と少なくとも３個の－ＯＲＰ１とを有する。
【0024】
上記態様において、好ましくは、－ＯＲＰ１は、３，４，５位に存在し得る。
【0025】
一の態様において、ＲＢ１は、ナフチル基と少なくとも３個の－ＯＲＰ１とを有する。好ましくは、－ＯＲＰ１を３～７個有する。即ち、好ましくは、δは３～７の整数である。
【0026】
一の態様において、ＲＢ１は、ナフチル基と３又は４個の－ＯＲＰ１とを有する。即ち、本態様において、δは３又は４である。例えば、δは３であり；別の例では、δは４である。
【0027】
ナフチル基としては、１－ナフチル基、又は、２－ナフチル基を挙げることができる。例えば、上記基は１－ナフチル基であり；別の例では、２－ナフチル基である。なお、本態様において、１－ナフチル基は、１位において他の基（即ち、該ＲＢ１以外の基）に結合する結合位置を有する。２－ナフチル基は、２位において他の基（即ち、該ＲＢ１以外の基）に結合する結合位置を有する。
【0028】
一の態様において、ＲＢ１は１－ナフチル基と３～７個の－ＯＲＰ１とを有する。好ましくは、－ＯＲＰ１は、２，３，４位、３，４，５位、４，５，６位、５，６，７位、６，７，８位；２，３，４，５位、３，４，５，６位、４，５，６，７位、５，６，７，８位；２，３，４，５，６位、３，４，５，６，７位、４，５，６，７，８位；２，３，４，５，６，７位、３，４，５，６，７，８位；又は２，３，４，５，６，７，８位に存在する。
【0029】
一の態様において、ＲＢ１は２－ナフチル基と３～７個の－ＯＲＰ１とを有する。好ましくは、－ＯＲＰ１は、１，７，８位、３，４，５位、４，５，６位、５，６，７位、６，７，８位；１，６，７，８位、３，４，５，６位、４，５，６，７位、５，６，７，８位；１，５，６，７，８位、３，４，５，６，７位、４，５，６，７，８位；１，４，５，６，７，８位、３，４，５，６，７，８位；又は１，３，４，５，６，７，８位に存在する。
【0030】
一の態様において、ＲＢ１は１－ナフチル基と３又は４個の－ＯＲＰ１とを有する。－ＯＲＰ１は、好ましくは５，６，７位、６，７，８位、５，６，７，８位に存在する。これにより、フッ素原子含有化合物と基材とが反応する際の反応場のｐＨを適切な範囲に制御し得ると考えられる。
【0031】
一の態様において、ＲＢ１は２－ナフチル基と３又は４個の－ＯＲＰ１とを有する。－ＯＲＰ１は、好ましくは５，６，７位、６，７，８位、５，６，７，８位に存在する。これにより、フッ素原子含有化合物と基材とが反応する際の反応場のｐＨを適切な範囲に制御し得ると考えられる。
【0032】
一の態様において、ＲＢ１は１－ナフチル基を有し、－ＯＲＰ１は、５，６，７位、又は６，７，８位に存在する。
【0033】
一の態様において、ＲＢ１は２－ナフチル基を有し、－ＯＲＰ１は、５，６，７位、又は６，７，８位に存在する。
【0034】
ＲＡは、好ましくは、式（１ａ）、又は、式（１ｂ）で表される基である。
【化11】
【0035】
［式（１ａ）］
【化12】
【0036】
ＲＢ１は、上記のとおりである。
【0037】
［式（１ｂ）］
【化13】
【0038】
［Ｒ１１］
Ｒ１１は、それぞれ独立して、－Ｚ１１－ＲＢ１で表される。
Ｒ１１は、それぞれ独立して、－Ｚ１１－ＲＢ１で表される。
【0039】
ＲＢ１は、上記のとおりである。
【0040】
［Ｚ１１］
Ｚ１１は、単結合、又は、２価の有機基である。
Ｚ１１は、単結合、又は、２価の有機基である。
【0041】
一の態様において、Ｚ１１は単結合である。
【0042】
一の態様において、Ｚ１１は２価の有機基である。
【0043】
一の態様において、Ｚ１１は、－（ＣＨ２）ｇ１１－（ＣＨ＝ＣＨ）ｇ１２－（Ｃ≡Ｃ）ｇ１３－、－Ｒ４１－ＮＲ３４Ｃ（＝Ｏ）－Ｒ４２－、－Ｒ４１－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ３４－Ｒ４２－、－Ｒ４１’－Ｏ－Ｒ４２’－、又は、－Ｒ４１”－フェニレン－Ｒ４２”－である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ１－６アルキル基、Ｃ２－６アルケニル基、及び、Ｃ２－６アルキニル基から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよい。
【0044】
［－（ＣＨ２）ｇ１１－（ＣＨ＝ＣＨ）ｇ１２－（Ｃ≡Ｃ）ｇ１３－］
ｇ１１は、０～６の整数である。ｇ１２及びｇ１３は、それぞれ独立して、０～３の整数である。但し、－（ＣＨ２）ｇ１１－（ＣＨ＝ＣＨ）ｇ１２－（Ｃ≡Ｃ）ｇ１３－に含まれる炭素原子数は、０～６の整数、好ましくは１～６の整数である。ｇ１１、ｇ１２及びｇ１３を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。
ｇ１１は、０～６の整数である。ｇ１２及びｇ１３は、それぞれ独立して、０～３の整数である。但し、－（ＣＨ２）ｇ１１－（ＣＨ＝ＣＨ）ｇ１２－（Ｃ≡Ｃ）ｇ１３－に含まれる炭素原子数は、０～６の整数、好ましくは１～６の整数である。ｇ１１、ｇ１２及びｇ１３を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。
【0045】
一の態様において、ｇ１１及びｇ１２は０、ｇ１３は１である。一の態様において、ｇ１１は０～６の整数、ｇ１２は０、ｇ１３は１である。
【0046】
一の態様において、Ｚ１１は、－Ｃ≡Ｃ－（ＣＨ２）ｇ１１１－、又はＣ１－６アルキレン基である。一の態様において、Ｚ１１は－Ｃ≡Ｃ－（ＣＨ２）ｇ１１１－である。一の態様において、Ｚ１１はＣ１－６アルキレン基である。ｇ１１１は０～６の整数であり、上記ｇ１１に相当する。
【0047】
一の態様において、ｇ１１は０～６の整数、好ましくは１～６の整数、ｇ１２は１、ｇ１３は０である。
【0048】
一の態様において、Ｚ１１は、－（ＣＨ２）ｇ１１２－（ＣＨ＝ＣＨ）－（ＣＨ２）ｇ１１３－である。ｇ１１２は、０～６の整数であり、例えば１～６の整数であり、ｇ１１３は、０～６の整数であり、例えば１～６の整数である。ｇ１１２及びｇ１１３の合計は、上記ｇ１１の値である。
一の態様において、ｇ１１２は１～６の整数であり、ｇ１１３は０であり；別の態様において、ｇ１１２は０であり、ｇ１１３は１～６の整数である。ｇ１１２及びｇ１１３の合計は、上記ｇ１１の値である。
一の態様において、ｇ１１２は１～６の整数であり、ｇ１１３は０であり；別の態様において、ｇ１１２は０であり、ｇ１１３は１～６の整数である。ｇ１１２及びｇ１１３の合計は、上記ｇ１１の値である。
【0049】
［－Ｒ４１－ＮＲ３４Ｃ（＝Ｏ）－Ｒ４２－又は－Ｒ４１－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ３４－Ｒ４２－］
Ｒ４１は、それぞれ独立して、－（ＣＨ２）ｇ１４－（ＣＨ＝ＣＨ）ｇ１５－（Ｃ≡Ｃ）ｇ１６－で表される。ｇ１４は、０～６の整数である。ｇ１５及びｇ１６は、それぞれ独立して、０～３の整数である。但し、－（ＣＨ２）ｇ１４－（ＣＨ＝ＣＨ）ｇ１５－（Ｃ≡Ｃ）ｇ１６－に含まれる炭素原子数は、０～６の整数である。一の態様において、上記式に含まれる炭素原子数は１～６の整数である。ｇ１４、ｇ１５及びｇ１６を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。
Ｒ４１は、それぞれ独立して、－（ＣＨ２）ｇ１４－（ＣＨ＝ＣＨ）ｇ１５－（Ｃ≡Ｃ）ｇ１６－で表される。ｇ１４は、０～６の整数である。ｇ１５及びｇ１６は、それぞれ独立して、０～３の整数である。但し、－（ＣＨ２）ｇ１４－（ＣＨ＝ＣＨ）ｇ１５－（Ｃ≡Ｃ）ｇ１６－に含まれる炭素原子数は、０～６の整数である。一の態様において、上記式に含まれる炭素原子数は１～６の整数である。ｇ１４、ｇ１５及びｇ１６を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。
【0050】
Ｒ４２は、それぞれ独立して、－（ＣＨ２）ｇ１７－（ＣＨ＝ＣＨ）ｇ１８－（Ｃ≡Ｃ）ｇ１９－で表される。ｇ１７は、０～６の整数である。ｇ１８及びｇ１９は、それぞれ独立して、０～３の整数である。但し、－（ＣＨ２）ｇ１７－（ＣＨ＝ＣＨ）ｇ１８－（Ｃ≡Ｃ）ｇ１９－に含まれる炭素原子数は、０～６の整数である。一の態様において、上記式に含まれる炭素原子数は１～６の整数である。ｇ１７、ｇ１８及びｇ１９を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。
【0051】
一の態様において、Ｒ４１は－（ＣＨ２）ｇ１４－、Ｒ４２は－（ＣＨ２）ｇ１７－で表される。ｇ１４は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｇ１７は、０～６の整数である。一の態様において、ｇ１４とｇ１７との合計は、１以上である。
一の態様において、ｇ１４は１～６の整数、ｇ１７は０～６の整数である。例えば、ｇ１４は１～６の整数、ｇ１７は０である。
一の態様において、ｇ１４は１～６の整数、ｇ１７は０～６の整数である。例えば、ｇ１４は１～６の整数、ｇ１７は０である。
【0052】
Ｒ３４は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基、又は、Ｃ１－６アルキル基を表す。一の態様において、Ｒ３４は、水素原子である。一の態様において、Ｒ３４は、メチル基である。
【0053】
［－Ｒ４１’－Ｏ－Ｒ４２’－］
Ｒ４１’は、－（ＣＨ２）ｇ１４’－（ＣＨ＝ＣＨ）ｇ１５’－（Ｃ≡Ｃ）ｇ１６’－で表される。ｇ１４’は、０～６の整数であり、ｇ１５’及びｇ１６’は、それぞれ独立して、０～３の整数である。但し、－（ＣＨ２）ｇ１４’－（ＣＨ＝ＣＨ）ｇ１５’－（Ｃ≡Ｃ）ｇ１６’－に含まれる炭素原子数は、０～６の整数である。一の態様において、上記式に含まれる炭素原子数は１～６の整数である。ｇ１４’、ｇ１５’及びｇ１６’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。
Ｒ４１’は、－（ＣＨ２）ｇ１４’－（ＣＨ＝ＣＨ）ｇ１５’－（Ｃ≡Ｃ）ｇ１６’－で表される。ｇ１４’は、０～６の整数であり、ｇ１５’及びｇ１６’は、それぞれ独立して、０～３の整数である。但し、－（ＣＨ２）ｇ１４’－（ＣＨ＝ＣＨ）ｇ１５’－（Ｃ≡Ｃ）ｇ１６’－に含まれる炭素原子数は、０～６の整数である。一の態様において、上記式に含まれる炭素原子数は１～６の整数である。ｇ１４’、ｇ１５’及びｇ１６’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。
【0054】
Ｒ４２’は、－（ＣＨ２）ｇ１７’－（ＣＨ＝ＣＨ）ｇ１８’－（Ｃ≡Ｃ）ｇ１９’－で表される。ｇ１７’は、０～６の整数であり、ｇ１８’及びｇ１９’は、それぞれ独立して、０～３の整数である。但し、－（ＣＨ２）ｇ１７’－（ＣＨ＝ＣＨ）ｇ１８’－（Ｃ≡Ｃ）ｇ１９’－に含まれる炭素原子数は、０～６の整数である。一の態様において、上記式に含まれる炭素原子数は１～６の整数である。ｇ１７’、ｇ１８’及びｇ１９’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。
【0055】
一の態様において、Ｒ４１’は－（ＣＨ２）ｇ１４’－、Ｒ４２’は－（ＣＨ２）ｇ１７’－である。ｇ１４’は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｇ１７’は、０～６の整数、例えば１～６の整数である。一の態様において、ｇ１４’とｇ１７’との合計は、１以上である。
一の態様において、ｇ１４’は１～６の整数、ｇ１７’は０～６の整数である。一の態様において、ｇ１４’は１～６の整数、ｇ１７’は０である。一の態様において、ｇ１４’は０～６の整数、ｇ１７’は１～６の整数である。
一の態様において、ｇ１４’は１～６の整数、ｇ１７’は０～６の整数である。一の態様において、ｇ１４’は１～６の整数、ｇ１７’は０である。一の態様において、ｇ１４’は０～６の整数、ｇ１７’は１～６の整数である。
【0056】
一の態様において、Ｒ４１’は－（ＣＨ２）ｇ１４’－、Ｒ４２’は－（ＣＨ２）ｇ１７’－であり、ｇ１４’は、０、ｇ１７’は、１～６の整数である。
【0057】
一の態様において、ｇ１４’、ｇ１５’、ｇ１６’、ｇ１９’は０、ｇ１７’は０～６の整数、ｇ１８’は０～３の整数である。即ち、Ｒ４１’は単結合、Ｒ４２’は－（ＣＨ２）ｇ１７’－（ＣＨ＝ＣＨ）ｇ１８’－で表される。但し、－（ＣＨ２）ｇ１７’－（ＣＨ＝ＣＨ）ｇ１８’－に含まれる炭素原子数は、０～６の整数、好ましくは１～６の整数である。ｇ１７’、及びｇ１８’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。
本態様において、好ましくは、－（ＣＨ２）ｇ１７’－（ＣＨ＝ＣＨ）ｇ１８’－は、－（ＣＨ２）ｇ１７１’－（ＣＨ＝ＣＨ）ｇ１８１’－（ＣＨ２）ｇ１７２’－で表される。ｇ１７１’は０～６の整数であり、例えば、１～６の整数であり；ｇ１７２’は０～６の整数であり、例えば、１～６の整数であり；ｇ１８１’は１である。ｇ１７１’は、例えば１～６の整数であり、別の例では０である。ｇ１７２’は、例えば１～６の整数であり、別の例では０である。
本態様において、好ましくは、－（ＣＨ２）ｇ１７’－（ＣＨ＝ＣＨ）ｇ１８’－は、－（ＣＨ２）ｇ１７１’－（ＣＨ＝ＣＨ）ｇ１８１’－（ＣＨ２）ｇ１７２’－で表される。ｇ１７１’は０～６の整数であり、例えば、１～６の整数であり；ｇ１７２’は０～６の整数であり、例えば、１～６の整数であり；ｇ１８１’は１である。ｇ１７１’は、例えば１～６の整数であり、別の例では０である。ｇ１７２’は、例えば１～６の整数であり、別の例では０である。
【0058】
一の態様において、－（ＣＨ２）ｇ１７’－（ＣＨ＝ＣＨ）ｇ１８’－は、－（ＣＨ２）ｇ１７１’－（ＣＨ＝ＣＨ）ｇ１８１’－（ＣＨ２）ｇ１７２’－で表される。ｇ１８１’は１である。一の態様において、ｇ１７１’は、１～６の整数であり、ｇ１７２’は、０である。一の態様において、ｇ１７１’は、０であり、ｇ１７２’は、１～６の整数である。
【0059】
一の態様において、ｇ１４’、ｇ１５’、ｇ１６’、ｇ１９’は０、ｇ１７’は０～６の整数、ｇ１８’は０～３の整数である。即ち、Ｒ４１’は単結合、Ｒ４２’は－（ＣＨ２）ｇ１７’－（ＣＨ＝ＣＨ）ｇ１８’－で表される。但し、－（ＣＨ２）ｇ１７’－（ＣＨ＝ＣＨ）ｇ１８’－に含まれる炭素原子数は、０～６の整数であり、好ましくは１～６の整数である。ｇ１７’、及びｇ１８’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。一の態様において、ｇ１４’、ｇ１５’、ｇ１６’、ｇ１９’は０、ｇ１７’は１～６の整数、ｇ１８’は０である。
【0060】
［－Ｒ４１”－フェニレン－Ｒ４２”－］
Ｒ４１”は、－（ＣＨ２）ｇ１４”－（ＣＨ＝ＣＨ）ｇ１５”－（Ｃ≡Ｃ）ｇ１６”－で表される。ｇ１４”は、０～６の整数であり、ｇ１５”及びｇ１６”は、それぞれ独立して、０～３の整数である。但し、－（ＣＨ２）ｇ１４”－（ＣＨ＝ＣＨ）ｇ１５”－（Ｃ≡Ｃ）ｇ１６”－に含まれる炭素原子数は、０～６の整数である。一の態様において、上記式に含まれる炭素原子数は１～６の整数である。ｇ１４”、ｇ１５”及びｇ１６”を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。
Ｒ４１”は、－（ＣＨ２）ｇ１４”－（ＣＨ＝ＣＨ）ｇ１５”－（Ｃ≡Ｃ）ｇ１６”－で表される。ｇ１４”は、０～６の整数であり、ｇ１５”及びｇ１６”は、それぞれ独立して、０～３の整数である。但し、－（ＣＨ２）ｇ１４”－（ＣＨ＝ＣＨ）ｇ１５”－（Ｃ≡Ｃ）ｇ１６”－に含まれる炭素原子数は、０～６の整数である。一の態様において、上記式に含まれる炭素原子数は１～６の整数である。ｇ１４”、ｇ１５”及びｇ１６”を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。
【0061】
Ｒ４２”は、－（ＣＨ２）ｇ１７”－（ＣＨ＝ＣＨ）ｇ１８”－（Ｃ≡Ｃ）ｇ１９”－で表される。ｇ１７”は、０～６の整数であり、ｇ１８”及びｇ１９”は、それぞれ独立して、０～３の整数である。但し、－（ＣＨ２）ｇ１７”－（ＣＨ＝ＣＨ）ｇ１８”－（Ｃ≡Ｃ）ｇ１９”－に含まれる炭素原子数は、０～６の整数である。一の態様において、上記式に含まれる炭素原子数は１～６の整数である。ｇ１７”、ｇ１８”及びｇ１９”を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。
【0062】
一の態様において、Ｒ４１”は－（ＣＨ２）ｇ１４”－、Ｒ４２”は－（ＣＨ２）ｇ１７”－で表される。ｇ１４”は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｇ１７”は、０～６の整数、例えば１～６の整数である。一の態様において、ｇ１４”とｇ１７”との合計は、１以上である。一の態様において、ｇ１４”は１～６の整数、ｇ１７”は０～６の整数である。一の態様において、ｇ１４”は０、ｇ１７”は０～６の整数である。
【0063】
一の態様において、Ｚ１１は、－（ＣＨ２）ｇ１１－（ＣＨ＝ＣＨ）ｇ１２－（Ｃ≡Ｃ）ｇ１３－である。ｇ１１、ｇ１２、ｇ１３は、それぞれ上記と同意義である。
【0064】
一の態様において、上記Ｚ１１は、Ｃ１－６アルキレン基である。一の態様において、Ｚ１１は、Ｃ２－３アルキレン基である。
【0065】
一の態様において、Ｚ１１は、－Ｒ４１－ＮＲ３４Ｃ（＝Ｏ）－Ｒ４２－である。Ｒ４１、Ｒ４２、Ｒ３４は、それぞれ上記と同意義である。
【0066】
一の態様において、Ｚ１１は－（ＣＨ２）ｇ１４－ＮＲ３４Ｃ（＝Ｏ）－（ＣＨ２）ｇ１７－である。ｇ１４、ｇ１７、Ｒ３４はそれぞれ上記と同意義である。
【0067】
一の態様において、Ｚ１１は、－Ｒ４１－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ３４－Ｒ４２－である。Ｒ４１、Ｒ４２、Ｒ３４はそれぞれ上記と同意義である。
【0068】
一の態様において、Ｚ１１は－（ＣＨ２）ｇ１４－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ３４－（ＣＨ２）ｇ１７－である。ｇ１４、ｇ１７、Ｒ３４は、それぞれ上記と同意義である。
【0069】
一の態様において、Ｚ１１は、－Ｒ４１’－Ｏ－Ｒ４２’－である。Ｒ４１’、Ｒ４２’は、それぞれ上記と同意義である。
【0070】
一の態様において、Ｚ１１は－（ＣＨ２）ｇ１４’－Ｏ－（ＣＨ２）ｇ１７’－である。ｇ１４’、ｇ１７’は、それぞれ上記と同意義である。
【0071】
一の態様において、Ｚ１１は－（ＣＨ２）ｇ１４’－Ｏ－（ＣＨ２）ｇ１７１’－（ＣＨ＝ＣＨ）ｇ１８１’－（ＣＨ２）ｇ１７２’－である。ｇ１４’、ｇ１７１’、ｇ１７２’、ｇ１８１’は、それぞれ上記と同意義である。
【0072】
一の態様において、Ｚ１１は、－Ｒ４１”－フェニレン－Ｒ４２”－である。Ｒ４１”、Ｒ４２”は、それぞれ上記と同意義である。
【0073】
［Ｒ１２］
Ｒ１２は、それぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、水酸基、又は、１価の有機基である。
Ｒ１２は、それぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、水酸基、又は、１価の有機基である。
【0074】
一の態様において、Ｒ１２は水素原子である。
【0075】
一の態様において、Ｒ１２はフッ素原子である。
【0076】
一の態様において、Ｒ１２は水酸基である。
【0077】
一の態様において、Ｒ１２は１価の有機基である。本態様において、Ｒ１２は、好ましくはＣ１－２０アルキル基、－（Ｒｅ３）ｅ２－ＯＲｅ１、又は、－（Ｒｅ３）ｅ２－Ｏ－（Ｒｅ２Ｏ）ｅ１－Ｒｅ１である。
Ｃ１－２０アルキル基は、より好ましくはＣ１－６アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。
Ｒｅ１は、それぞれ独立して、Ｃ１－４アルキル基、例えば、メチル基である。
Ｒｅ２は、それぞれ独立して、Ｃ１－５アルキレン基、例えば、Ｃ２－３アルキレン基である。
Ｒｅ３は、それぞれ独立して、Ｃ１－５アルキレン基、例えば、Ｃ１－３アルキレン基、具体的にはメチレン基である。
ｅ１は、１～１０の整数、例えば、２又は３である。
ｅ２は、それぞれ独立して、０又は１である。一の態様において、ｅ２は０である。一の態様において、ｅ２は１である。
Ｃ１－２０アルキル基は、より好ましくはＣ１－６アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。
Ｒｅ１は、それぞれ独立して、Ｃ１－４アルキル基、例えば、メチル基である。
Ｒｅ２は、それぞれ独立して、Ｃ１－５アルキレン基、例えば、Ｃ２－３アルキレン基である。
Ｒｅ３は、それぞれ独立して、Ｃ１－５アルキレン基、例えば、Ｃ１－３アルキレン基、具体的にはメチレン基である。
ｅ１は、１～１０の整数、例えば、２又は３である。
ｅ２は、それぞれ独立して、０又は１である。一の態様において、ｅ２は０である。一の態様において、ｅ２は１である。
【0078】
一の態様において、Ｒ１２は、Ｃ１－２０アルキル基である。
【0079】
一の態様において、Ｒ１２は、－ＯＲｅ１である。
【0080】
一の態様において、Ｒ１２は、－（Ｒｅ３）ｅ２－Ｏ－（Ｒｅ２Ｏ）ｅ１－Ｒｅ１である。例えば、ｅ２は１、ｅ１は０であり；別の例としては、ｅ２及びｅ１は０であり；更に別の例としては、ｅ２は１、ｅ１は２又は３である。Ｒｅ１は、Ｃ１－４アルキル基、例えば、メチル基である。Ｒｅ２、Ｒｅ３は、それぞれ上記と同意義である。
【0081】
［Ｘ１］
Ｘ１は、それぞれ独立して、ケイ素原子、炭素原子、又は、窒素原子である。
Ｘ１は、それぞれ独立して、ケイ素原子、炭素原子、又は、窒素原子である。
【0082】
一の態様において、Ｘ１は、ケイ素原子である。
【0083】
一の態様において、Ｘ１は、炭素原子である。
【0084】
一の態様において、Ｘ１は、窒素原子である。
【0085】
［ｋ１、ｌ１］
ｋ１は、１以上の整数であり、ｋ１とｌ１との合計は、Ｘ１の価数から１を引いた数、即ち、Ｘ１の価数－１である。
ｋ１は、１以上の整数であり、ｋ１とｌ１との合計は、Ｘ１の価数から１を引いた数、即ち、Ｘ１の価数－１である。
【0086】
一の態様において、Ｘ１はケイ素原子、又は、炭素原子であり、ｋ１は、それぞれ独立して、１～３の整数であり、ｋ１とｌ１との合計は３である。即ち、ｌ１は、それぞれ独立して、０～２の整数である。好ましくは、ｋ１は、２又は３である。一の態様において、ｋ１は２である。別の態様において、ｋ１は３である。
【0087】
一の態様において、Ｘ１は窒素原子であり、ｋ１は、それぞれ独立して、１又は２であり、ｋ１とｌ１との合計は２である。即ち、ｌ１は、それぞれ独立して、０又は１である。一の態様において、ｋ１は１である。別の態様において、ｋ１は２である。
【0088】
［式（Ａ）又は式（Ｂ）］
フッ素原子含有化合物は、好ましくは、式（Ａ）又は式（Ｂ）で表される構造である。
フッ素原子含有化合物は、好ましくは、式（Ａ）又は式（Ｂ）で表される構造である。
【化14】
【0089】
一の態様において、フッ素原子含有化合物は、式（Ａ）で表される構造である。
【0090】
一の態様において、フッ素原子含有化合物は、式（Ｂ）で表される構造である。
【0091】
ＲＡは、上記のとおりである。
【0092】
ＲＦ１は、Ｒｆ１－ＲＦ－Ｏｑ－である。
【0093】
ＲＦ２は、－Ｒｆ２
ｐ－ＲＦ－Ｏｑ－である。
【0094】
上記式において、ｐは、０又は１である。一の態様において、ｐは０である。別の態様においてｐは１である。
【0095】
上記式において、ｑは、それぞれ独立して、０又は１である。一の態様において、ｑは０である。別の態様においてｑは１である。
【0096】
Ｒｆ１は、１個以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－１６アルキル基である。上記「Ｃ１－１６アルキル基」は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖、又は、分枝鎖のＣ１－６アルキル基、特に直鎖、又は、分枝鎖のＣ１－３アルキル基であり、より好ましくは直鎖のＣ１－６アルキル基、特に直鎖のＣ１－３アルキル基である。
【0097】
上記Ｒｆ１は、好ましくは、１個以上のフッ素原子により置換されているＣ１－１６アルキル基であり、より好ましくはＣ１－１６パーフルオロアルキル基である。上記Ｃ１－１６パーフルオロアルキル基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖、又は、分枝鎖のＣ１－６パーフルオロアルキル基、特に直鎖、又は、分枝鎖のＣ１－３パーフルオロアルキル基であり、より好ましくは直鎖のＣ１－６パーフルオロアルキル基、特に直鎖のＣ１－３パーフルオロアルキル基である。
【0098】
一の態様において、Ｒｆ１は、１個以上のフッ素原子で置換されていてもよいＣ１－６アルキル基である。上記「Ｃ１－６アルキル基」は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖、又は、分枝鎖のＣ１－３アルキル基である。
一の態様としては、上記Ｃ１－６アルキル基は、直鎖のＣ１－６アルキル基であり、好ましくはＣ１－３アルキル基である。
Ｒｆ１は、一の態様ではＣＦ３－であり；別の態様ではＣＦ３ＣＦ２－であり；更に別の態様ではＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２－である。
一の態様としては、上記Ｃ１－６アルキル基は、直鎖のＣ１－６アルキル基であり、好ましくはＣ１－３アルキル基である。
Ｒｆ１は、一の態様ではＣＦ３－であり；別の態様ではＣＦ３ＣＦ２－であり；更に別の態様ではＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２－である。
【0099】
上記態様において、Ｒｆ１は、好ましくは、１個以上のフッ素原子により置換されているＣ１－６アルキル基であり、より好ましくはＣ１－６パーフルオロアルキル基である。本態様において、上記Ｃ１－６パーフルオロアルキル基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖のＣ１－６パーフルオロアルキル基、特に直鎖のＣ１－３パーフルオロアルキル基である。
【0100】
Ｒｆ２は、１個以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－６アルキレン基である。該「Ｃ１－６アルキレン基」は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖、又は、分枝鎖のＣ１－３アルキレン基であり、より好ましくは直鎖のＣ１－３アルキレン基である。
【0101】
上記Ｒｆ２は、好ましくは、１個以上のフッ素原子により置換されているＣ１－６アルキレン基であり、より好ましくはＣ１－６パーフルオロアルキレン基であり、さらに好ましくはＣ１－３パーフルオロアルキレン基である。
【0102】
上記Ｃ１－６パーフルオロアルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖、又は、分枝鎖のＣ１－３パーフルオロアルキレン基であり、より好ましくは直鎖のＣ１－３パーフルオロアルキレン基、具体的には－ＣＦ２－、－ＣＦ２ＣＦ２－、又は－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－である。
【0103】
ＲＦは、それぞれ独立して、２価のフッ素原子含有基である。２価のフッ素原子含有基とは、２価の有機基であって、水素原子の少なくとも一部がフッ素原子により置換されている基を意味する。
【0104】
好ましくは、ＲＦは、それぞれ独立して、下記式（ｆ１）で表される基ＲＦ１１、又は、下記式（ｆ２）で表される基ＲＦ１２である。
－（ＯＣｊＲｃ ２ｊ）ｊ１－（ＯＣｈＲｃ ２ｈ－２）ｈ１－ （ｆ１）
－（ＣｓＲｃ１ ２ｓ）ｓ１－（Ｒｄ）ｓ２－ （ｆ２）
－（ＯＣｊＲｃ ２ｊ）ｊ１－（ＯＣｈＲｃ ２ｈ－２）ｈ１－ （ｆ１）
－（ＣｓＲｃ１ ２ｓ）ｓ１－（Ｒｄ）ｓ２－ （ｆ２）
【0105】
［ＲＦ１１］
－（ＯＣｊＲｃ ２ｊ）ｊ１－（ＯＣｈＲｃ ２ｈ－２）ｈ１－ （ｆ１）
－（ＯＣｊＲｃ ２ｊ）ｊ１－（ＯＣｈＲｃ ２ｈ－２）ｈ１－ （ｆ１）
【0106】
－ＯＣｊＲｃ
２ｊ－は、それぞれ独立して、直鎖又は分岐鎖を有する繰り返し単位である。
－ＯＣｈＲｃ ２ｈ－２－は、それぞれ独立して、環構造を有する繰り返し単位である。
－ＯＣｈＲｃ ２ｈ－２－は、それぞれ独立して、環構造を有する繰り返し単位である。
【0107】
Ｒｃは、それぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、又は、塩素原子であり、但し、ＲＦ１１において、少なくとも１つのＲｃは、フッ素原子である。
【0108】
Ｒｃは、好ましくは、フッ素原子である。
【0109】
ｊは、それぞれ独立して、１～６の整数である。
【0110】
ｈは、それぞれ独立して、１～７の整数である。
【0111】
ｊ１は、０以上の整数である。
ｈ１は、０以上の整数である。
但し、ｊ１とｈ１との合計は、１以上であり、好ましくは、２以上である。ｊ１又はｈ１を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。
ｈ１は、０以上の整数である。
但し、ｊ１とｈ１との合計は、１以上であり、好ましくは、２以上である。ｊ１又はｈ１を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。
【0112】
一の態様において、－（ＯＣｊＲｃ
２ｊ）ｊ１－は、
－（ＯＣ６Ｆ１２）ａ１－（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ１－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ１－（ＯＣ３ＲＦａ ６）ｄ１－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ１－（ＯＣＦ２）ｆ１－
で表される。
ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、ｅ１及びｆ１は、それぞれ独立して、０～２００の整数であって、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、ｅ１及びｆ１の和は１以上であり、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、ｅ１、又はｆ１を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。
上記のようなＲＦ１１を有することにより、撥水性、撥油性、耐ケミカル性、及び、摩擦耐久性等を有する表面処理層を形成し得る。
なお、本明細書において、ＲＦ１１は、左側がＲｆ１又はＲｆ２ ｐに、右側が－Ｏｑ－に、それぞれ結合する。また、上記式は、好ましくは、少なくとも１つのフッ素原子を有する。
－（ＯＣ６Ｆ１２）ａ１－（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ１－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ１－（ＯＣ３ＲＦａ ６）ｄ１－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ１－（ＯＣＦ２）ｆ１－
で表される。
ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、ｅ１及びｆ１は、それぞれ独立して、０～２００の整数であって、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、ｅ１及びｆ１の和は１以上であり、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、ｅ１、又はｆ１を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。
上記のようなＲＦ１１を有することにより、撥水性、撥油性、耐ケミカル性、及び、摩擦耐久性等を有する表面処理層を形成し得る。
なお、本明細書において、ＲＦ１１は、左側がＲｆ１又はＲｆ２ ｐに、右側が－Ｏｑ－に、それぞれ結合する。また、上記式は、好ましくは、少なくとも１つのフッ素原子を有する。
【0113】
ＲＦａは、それぞれ独立して、水素原子、塩素原子、又は、フッ素原子である。
【0114】
上記ＲＦａは、好ましくは、水素原子、又は、フッ素原子であり、より好ましくは、フッ素原子である。
【0115】
ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、ｅ１及びｆ１は、好ましくは、それぞれ独立して、０～１００の整数であってもよい。
【0116】
ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、ｅ１及びｆ１の和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上であり、例えば１５以上又は２０以上であってもよい。ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、ｅ１及びｆ１の和は、好ましくは２００以下、より好ましくは１００以下、さらに好ましくは６０以下であり、例えば５０以下又は３０以下であってもよい。
【0117】
上記直鎖又は分岐鎖を有する繰り返し単位としては、例えば以下のような構造を挙げることができる。－（ＯＣ６Ｆ１２）－は、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））－等であってもよい。－（ＯＣ５Ｆ１０）－は、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））－等であってもよい。－（ＯＣ４Ｆ８）－は、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））－、－（ＯＣ（ＣＦ３）２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２Ｃ（ＣＦ３）２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ（ＣＦ３））－、－（ＯＣＦ（Ｃ２Ｆ５）ＣＦ２）－及び－（ＯＣＦ２ＣＦ（Ｃ２Ｆ５））－のいずれであってもよい。－（ＯＣ３Ｆ６）－（即ち、上記式中、ＲＦａはフッ素原子である）は、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）－及び－（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））－のいずれであってもよい。－（ＯＣ２Ｆ４）－は、－（ＯＣＦ２ＣＦ２）－及び－（ＯＣＦ（ＣＦ３））－のいずれであってもよい。
【0118】
一の態様において、上記繰り返し単位は直鎖状である。
【0119】
一の態様において、上記繰り返し単位は分枝鎖状を含む。
【0120】
一の態様において、ＲＦ１１は、
－（ＯＣ６Ｆ１２）ａ１－（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ１－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ１－（ＯＣ３ＲＦａ ６）ｄ１－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ１－（ＯＣＦ２）ｆ１－
で表される。各符号は上記のとおりである。
－（ＯＣ６Ｆ１２）ａ１－（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ１－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ１－（ＯＣ３ＲＦａ ６）ｄ１－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ１－（ＯＣＦ２）ｆ１－
で表される。各符号は上記のとおりである。
【0121】
－（ＯＣｈＲｃ
２ｈ－２）－は、下記三員環、四員環、五員環、又は六員環であり得る。
［式中、＊は、結合位置を示す。］
【化15】
【0122】
一の態様において、ＲＦ１１は、各出現においてそれぞれ独立して、下記式（ｆ１１）～（ｆ１６）のいずれかで表される基である。
－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ１－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ１－ （ｆ１１）
［式中、ｄ１は、１～２００の整数であり；ｅ１は０又は１、好ましくは１である。］；
－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ１－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ１－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ１－（ＯＣＦ２）ｆ１－ （ｆ１２）
［式中、ｃ１及びｄ１は、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｅ１及びｆ１は、それぞれ独立して１以上２００以下の整数であり；
ｃ１、ｄ１、ｅ１及びｆ１の和は２以上であり；
添字ｃ１、ｄ１、ｅ１又はｆ１を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］；
－（Ｒ７１－Ｒ７２）ｇ１－ （ｆ１３）
［式中、Ｒ７１は、ＯＣＦ２又はＯＣ２Ｆ４であり；
Ｒ７２は、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６、ＯＣ４Ｆ８、ＯＣ５Ｆ１０及びＯＣ６Ｆ１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせであり；
ｇ１は、２～１００の整数である。］；
－（Ｒ７１－Ｒ７２）ｇ１－Ｒｒ－（Ｒ７２’－Ｒ７１’）ｇ１’－ （ｆ１４）
［式中、Ｒ７１は、ＯＣＦ２又はＯＣ２Ｆ４であり；
Ｒ７２は、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６、ＯＣ４Ｆ８、ＯＣ５Ｆ１０及びＯＣ６Ｆ１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせであり；
Ｒ７１’は、ＯＣＦ２又はＯＣ２Ｆ４であり；
Ｒ７２’は、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６、ＯＣ４Ｆ８、ＯＣ５Ｆ１０及びＯＣ６Ｆ１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせであり；
ｇ１は、２～１００の整数であり；
ｇ１’は、２～１００の整数であり；
Ｒｒは、
（式中、＊は、結合位置を示す。）
で示されるいずれか１つである。］；
－（ＯＣ６Ｆ１２）ａ１－（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ１－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ１－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ１－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ１－（ＯＣＦ２）ｆ１－ （ｆ１５）
［式中、ｅ１は、１以上２００以下の整数であり、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１及びｆ１は、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、ｅ１及びｆ１の和は少なくとも１であり、また、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、ｅ１又はｆ１を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
－（ＯＣ６Ｆ１２）ａ１－（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ１－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ１－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ１－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ１－（ＯＣＦ２）ｆ１－ （ｆ１６）
［式中、ｆ１は、１以上２００以下の整数であり、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１及びｅ１は、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、ｅ１及びｆ１の和は少なくとも１であり、また、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、ｅ１又はｆ１を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ１－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ１－ （ｆ１１）
［式中、ｄ１は、１～２００の整数であり；ｅ１は０又は１、好ましくは１である。］；
－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ１－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ１－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ１－（ＯＣＦ２）ｆ１－ （ｆ１２）
［式中、ｃ１及びｄ１は、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｅ１及びｆ１は、それぞれ独立して１以上２００以下の整数であり；
ｃ１、ｄ１、ｅ１及びｆ１の和は２以上であり；
添字ｃ１、ｄ１、ｅ１又はｆ１を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］；
－（Ｒ７１－Ｒ７２）ｇ１－ （ｆ１３）
［式中、Ｒ７１は、ＯＣＦ２又はＯＣ２Ｆ４であり；
Ｒ７２は、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６、ＯＣ４Ｆ８、ＯＣ５Ｆ１０及びＯＣ６Ｆ１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせであり；
ｇ１は、２～１００の整数である。］；
－（Ｒ７１－Ｒ７２）ｇ１－Ｒｒ－（Ｒ７２’－Ｒ７１’）ｇ１’－ （ｆ１４）
［式中、Ｒ７１は、ＯＣＦ２又はＯＣ２Ｆ４であり；
Ｒ７２は、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６、ＯＣ４Ｆ８、ＯＣ５Ｆ１０及びＯＣ６Ｆ１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせであり；
Ｒ７１’は、ＯＣＦ２又はＯＣ２Ｆ４であり；
Ｒ７２’は、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６、ＯＣ４Ｆ８、ＯＣ５Ｆ１０及びＯＣ６Ｆ１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせであり；
ｇ１は、２～１００の整数であり；
ｇ１’は、２～１００の整数であり；
Ｒｒは、
【化16】
で示されるいずれか１つである。］；
－（ＯＣ６Ｆ１２）ａ１－（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ１－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ１－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ１－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ１－（ＯＣＦ２）ｆ１－ （ｆ１５）
［式中、ｅ１は、１以上２００以下の整数であり、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１及びｆ１は、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、ｅ１及びｆ１の和は少なくとも１であり、また、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、ｅ１又はｆ１を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
－（ＯＣ６Ｆ１２）ａ１－（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ１－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ１－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ１－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ１－（ＯＣＦ２）ｆ１－ （ｆ１６）
［式中、ｆ１は、１以上２００以下の整数であり、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１及びｅ１は、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、ｅ１及びｆ１の和は少なくとも１であり、また、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、ｅ１又はｆ１を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
【0123】
上記式（ｆ１１）において、ｄ１は、好ましくは５～２００、より好ましくは１０～１００、さらに好ましくは１５～５０、例えば２５～３５の整数である。上記式（ｆ１１）における（ＯＣ３Ｆ６）は、好ましくは、（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）又は（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）で表される基であり、より好ましくは、（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）で表される基である。上記式（ｆ１１）における（ＯＣ２Ｆ４）は、好ましくは、（ＯＣＦ２ＣＦ２）又は（ＯＣＦ（ＣＦ３））で表される基であり、より好ましくは、（ＯＣＦ２ＣＦ２）で表される基である。
【0124】
上記式（ｆ１２）において、ｅ１及びｆ１は、それぞれ独立して、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０～２００の整数である。また、ｃ１、ｄ１、ｅ１及びｆ１の和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上であり、例えば１５以上又は２０以上であってもよい。一の態様において、上記式（ｆ１２）は、好ましくは、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｃ１－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｄ１－（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｅ１－（ＯＣＦ２）ｆ１－で表される基である。別の態様において、式（ｆ１２）は、－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ１－（ＯＣＦ２）ｆ１－で表される基であってもよい。
【0125】
上記式（ｆ１３）において、Ｒ７１は、好ましくは、ＯＣ２Ｆ４である。上記（ｆ１３）において、Ｒ７２は、好ましくは、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６及びＯＣ４Ｆ８から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせであり、より好ましくは、ＯＣ３Ｆ６及びＯＣ４Ｆ８から選択される基である。ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６及びＯＣ４Ｆ８から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせとしては、特に限定されないが、例えば－ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６－、－ＯＣ２Ｆ４ＯＣ４Ｆ８－、－ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４－、－ＯＣ３Ｆ６ＯＣ３Ｆ６－、－ＯＣ３Ｆ６ＯＣ４Ｆ８－、－ＯＣ４Ｆ８ＯＣ４Ｆ８－、－ＯＣ４Ｆ８ＯＣ３Ｆ６－、－ＯＣ４Ｆ８ＯＣ２Ｆ４－、－ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６－、－ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４ＯＣ４Ｆ８－、－ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４－、－ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６ＯＣ３Ｆ６－、－ＯＣ２Ｆ４ＯＣ４Ｆ８ＯＣ２Ｆ４－、－ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４－、－ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６－、－ＯＣ３Ｆ６ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４－、及び－ＯＣ４Ｆ８ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４－等が挙げられる。上記式（ｆ１３）において、ｇ１は、好ましくは３以上、より好ましくは５以上の整数である。上記ｇ１は、好ましくは５０以下の整数である。上記式（ｆ１３）において、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６、ＯＣ４Ｆ８、ＯＣ５Ｆ１０及びＯＣ６Ｆ１２は、直鎖、又は、分枝鎖のいずれであってもよく、好ましくは直鎖である。この態様において、上記式（ｆ１３）は、好ましくは、－（ＯＣ２Ｆ４－ＯＣ３Ｆ６）ｇ１－又は－（ＯＣ２Ｆ４－ＯＣ４Ｆ８）ｇ１－である。
【0126】
上記式（ｆ１４）において、Ｒ７１、Ｒ７２及びｇ１は、上記式（ｆ１３）の記載と同意義であり、同様の態様を有する。Ｒ７１’、Ｒ７２’及びｇ１’は、それぞれ、上記式（ｆ１３）に記載のＲ７１、Ｒ７２及びｇ１と同意義であり、同様の態様を有する。Ｒｒは、好ましくは、
［式中、＊は、結合位置を示す。］
で表されるいずれか１つであり、より好ましくは
［式中、＊は、結合位置を示す。］
である。
【化17】
［式中、＊は、結合位置を示す。］
で表されるいずれか１つであり、より好ましくは
【化18】
である。
【0127】
上記式（ｆ１５）において、ｅ１は、好ましくは、１以上１００以下、より好ましくは５以上１００以下の整数である。ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、ｅ１及びｆ１の和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上、例えば１０以上１００以下である。
【0128】
上記式（ｆ１５）において、ＲＦ１１の末端部分の繰り返し単位は－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－であってもよい。
【0129】
上記式（ｆ１６）において、ｆ１は、好ましくは、１以上１００以下、より好ましくは５以上１００以下の整数である。ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、ｅ１及びｆ１の和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上、例えば１０以上１００以下である。
【0130】
一の態様において、上記ＲＦ１１は、上記式（ｆ１１）で表される基である。
【0131】
一の態様において、上記ＲＦ１１は、上記式（ｆ１２）で表される基である。
【0132】
一の態様において、上記ＲＦ１１は、上記式（ｆ１３）又は（ｆ１４）で表される基である。
【0133】
一の態様において、上記ＲＦ１１は、上記式（ｆ１３）で表される基である。
【0134】
一の態様において、上記ＲＦ１１は、上記式（ｆ１４）で表される基である。
【0135】
一の態様において、上記ＲＦ１１は、上記式（ｆ１５）で表される基である。
【0136】
一の態様において、上記ＲＦ１１は、上記式（ｆ１６）で表される基である。
【0137】
一の態様において、上記ＲＦ１１は、上記式（ｆ１１）、（ｆ１２）、（ｆ１５）又は（ｆ１６）で表される基である。
【0138】
一の態様において、上記ＲＦ１１は、上記式（ｆ１１）、（ｆ１２）、又は（ｆ１６）で表される基である。
【0139】
上記ＲＦ１１において、ｆ１に対するｅ１の比（以下、「ｅ／ｆ比」という）は、例えば０．１以上１０以下であり、好ましくは０．２以上５以下であり、より好ましくは０．２～２であり、さらに好ましくは０．２以上１．５以下であり、さらにより好ましくは０．２以上０．９未満であり、特に好ましくは０．２以上０．８５以下である。ｅ／ｆ比が上記の範囲にあることにより、得られる含フッ素化合物の安定性は向上する。ここで、ｆ１は１以上の整数である。
【0140】
一の態様において、ＲＦ１１においてｅ／ｆ比は、好ましくは、１．０以上、例えば１．１以上、１．３以上であってもよい。ＲＦ１１においてｅ／ｆ比は、好ましくは１０．０以下、９．０以下、より好ましくは５．０以下、さらに好ましくは２．０以下、特に好ましくは１．５以下である。ＲＦ１１においてｅ／ｆ比は、例えば、１．０～１０．０、具体的には１．０～５．０、より具体的には１．０～２．０、さらに具体的には１．０～１．５を挙げることができる。
【0141】
一の態様において、ＲＦ１１において、ｅ／ｆ比は、１．０～１．２の範囲にあってもよい。
【0142】
一の態様において、ＲＦ１１において、ｅ／ｆ比は、０．９未満、例えば０．８以下、０．７以下であってもよい。ＲＦ１１において、ｅ／ｆ比は、好ましくは０．２以上、より好ましくは０．３以上、さらに好ましくは０．４以上、特に好ましくは０．５以上である。ＲＦ１１において、ｅ／ｆ比は、例えば、０．２以上０．９未満、具体的には０．４以上０．８以下、より具体的には０．５以上０．７以下を挙げることができる。
【0143】
一の態様において、ＲＦ１１において、ｄ１は、１以上の整数であることが好ましく、３以上であることがより好ましく、６以上であることがさらに好ましく、２００以下であってもよく、１２０以下であってもよく、６０以下であってもよく、５４以下であってもよい。本態様において、ｄ１は、１～２００であってもよく、３～１２０であってもよく、３～６０であってもよく、６～６０であってもよい。
【0144】
一の態様において、ＲＦ１１は、
－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ１－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ１－ （ｆ１１）
［式中、ｄ１は、３～６０の整数であり、好ましくは６～５４の整数であり；ｅ１は、１であり；ＯＣ３Ｆ６及びＯＣ２Ｆ４は直鎖状である。］
で表される基である。
－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ１－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ１－ （ｆ１１）
［式中、ｄ１は、３～６０の整数であり、好ましくは６～５４の整数であり；ｅ１は、１であり；ＯＣ３Ｆ６及びＯＣ２Ｆ４は直鎖状である。］
で表される基である。
【0145】
一の態様において、ＲＦ１１は、
－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ１－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ１－ （ｆ１１）
［式中、ｄ１は、３～１２０の整数であり、好ましくは６～６０の整数であり；ｅ１は、１であり；各ＯＣ３Ｆ６及びＯＣ２Ｆ４は分岐鎖を有する。］
で表される基である。例えば、式（ｆ１１）において、繰り返し単位は－ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２－で表される。
－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ１－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ１－ （ｆ１１）
［式中、ｄ１は、３～１２０の整数であり、好ましくは６～６０の整数であり；ｅ１は、１であり；各ＯＣ３Ｆ６及びＯＣ２Ｆ４は分岐鎖を有する。］
で表される基である。例えば、式（ｆ１１）において、繰り返し単位は－ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２－で表される。
【0146】
上記ＲＦ１１部分の数平均分子量は、特に限定されるものではないが、例えば５００～３０，０００、好ましくは１，５００～３０，０００、より好ましくは２，０００～１０，０００である。本明細書において、ＲＦ１１の数平均分子量は、１９Ｆ－ＮＭＲにより測定される値とする。
【0147】
別の態様において、ＲＦ１１部分の数平均分子量は、５００～３０，０００、好ましくは１，０００～２０，０００、より好ましくは２，０００～１５，０００、さらにより好ましくは２，０００～１０，０００、例えば３，０００～６，０００であり得る。
【0148】
別の態様において、ＲＦ１１部分の数平均分子量は、４，０００～３０，０００、好ましくは５，０００～１０，０００、より好ましくは６，０００～１０，０００であり得る。
【0149】
［ＲＦ１２］
－（ＣｓＲｃ１ ２ｓ）ｓ１－（Ｒｄ）ｓ２－ （ｆ２）
－（ＣｓＲｃ１ ２ｓ）ｓ１－（Ｒｄ）ｓ２－ （ｆ２）
【0150】
Ｒｃ１は、それぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、又は、塩素原子である。
Ｒｄは、それぞれ独立して、フッ素原子で置換されていてもよいアリーレン基である。
但し、Ｒｄの置換基又はＲｃ１のうち、少なくとも１つはフッ素原子である。
上記アリーレン基とは、芳香族炭化水素基の環構造から２つの水素原子を除去することによって得られる２価の有機基をいう。例えば、アリーレン基として、フェニレン基を挙げることができる。
Ｒｄは、それぞれ独立して、フッ素原子で置換されていてもよいアリーレン基である。
但し、Ｒｄの置換基又はＲｃ１のうち、少なくとも１つはフッ素原子である。
上記アリーレン基とは、芳香族炭化水素基の環構造から２つの水素原子を除去することによって得られる２価の有機基をいう。例えば、アリーレン基として、フェニレン基を挙げることができる。
【0151】
一の態様において、Ｒｃ１は、フッ素原子である。
【0152】
一の態様において、－ＣｓＲｃ１
２ｓ－において、全てのＲｃ１がフッ素原子で置換されている。即ち、－ＣｓＲｃ１
２ｓ－はパーフルオロアルキレン基、即ち、－（ＣｓＦ２ｓ）－である。
【0153】
一の態様において、Ｒｄ（具体的には、Ｒｄの水素原子）は、少なくとも一部がフッ素原子で置換されている。即ち、Ｒｄは、フッ素原子で置換されたアリーレン基である。
【0154】
一の態様において、Ｒｄにおいて、全ての水素原子がフッ素原子で置換されている。
【0155】
一の態様において、ＲＦ１２において、アリーレン基は、フェニレン基である。該フェニレン基は、オルト位、メタ位、又は、パラ位のいずれに結合位置を有していてもよい。一の態様において、フェニレン基は、パラ位に結合位置を有する。
【0156】
一の態様において、ＲＦ１２において、フェニレン基の全ての水素原子が、フッ素原子で置換されている。
【0157】
ｓは、１～１０の整数である。
【0158】
ｓ１は、０以上の整数であり、ｓ２は、０以上の整数である。ｓ１とｓ２との合計は、１以上である。ｓ１又はｓ２を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。
【0159】
一の態様において、ｓ１は、０～２０の整数であり、ｓ２は、０～１０の整数である。ｓ１とｓ２との合計は、１以上である。
【0160】
式（Ａ）において、好ましくは、αは１～９の整数である。好ましくは、βは１～９の整数である。これらα及びβは、ＸＡの価数に応じて変化し得る。α及びβの和は、ＸＡの価数と同じである。例えば、ＸＡが１０価の有機基である場合、α及びβの和は１０であり、例えばαが９かつβが１、αが５かつβが５、又は、αが１かつβが９となり得る。また、ＸＡが２価の有機基である場合、α及びβは１である。
【0161】
式（Ｂ）において、好ましくは、γは、それぞれ独立して、１～９の整数である。γは、ＸＡの価数に応じて変化し得る。即ち、γは、ＸＡの価数から１を引いた値である。
【0162】
式（Ａ）又は（Ｂ）において、ＸＡは、それぞれ独立して、単結合、又は、２～１０価の有機基である。
【0163】
［ＸＡ］
一の態様において、ＸＡは、単結合である。
一の態様において、ＸＡは、単結合である。
【0164】
一の態様において、ＸＡは、３～１０価の有機基であり得る。
【0165】
一の態様において、ＸＡは、２～１０価の有機基である。
【0166】
例えば、ＸＡは、－Ｃ６Ｈ４－、－ＣＯ－、－ＳＯ２－、－ＮＲ５４－、及び－Ｏ－からなる群より選ばれる少なくとも１つを有する２～１０価の有機基である。Ｒ５４は、水素原子、フェニル基、又は、Ｃ１－６アルキル基である。
【0167】
一の態様において、ＸＡは、－ＮＲ５４－ＣＯ－、－ＣＯ－ＮＲ５４－、－ＣＯＮＲ５４－Ｃ６Ｈ４－、－ＣＯ－、－ＣＯ－Ｃ６Ｈ４－、－ＳＯ２ＮＲ５４－、－ＳＯ２ＮＲ５４－ＳＯ２－Ｃ６Ｈ４－、－ＳＯ２－、－ＳＯ２－Ｃ６Ｈ４－、及び－Ｏ－からなる群より選ばれる少なくとも１つを有する２～１０価の有機基であり、上記基は分子主鎖中に含まれることが好ましい。
【0168】
一の態様において、ＸＡは、２～７価の有機基であり、好ましくは２～４価の有機基であり、さらに好ましくは２価の有機基である。
【0169】
一の態様において、ＸＡは２～４価の有機基である。
【0170】
一の態様において、ＸＡは、単結合、又は、２価の有機基である。
【0171】
上記態様において、２価の有機基としては、－（Ｒ５０）ｐ０－（Ｘａ）ｑ０－で表される基を挙げることができる。
式中：
Ｒ５０は、単結合、－（ＣＨ２）ｐ１０－、又は、ｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基を表し、好ましくは－（ＣＨ２）ｐ１０－であり；
ｐ１０は、１～２０の整数、好ましくは１～６の整数、より好ましくは１～３の整数であり；
Ｘａは、－（Ｘｂ）ｑ１０－を表し；
Ｘｂは、それぞれ独立して、－Ｓ－、ｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基、－Ｏ－、－（ＯＲ５５）ｎ５０－、－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（＝Ｏ）－、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ５４－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ５４－、－ＮＲ５４Ｃ（＝Ｏ）－、－ＮＲ５４Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－ＮＲ５４Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ５４－、－ＮＲ５４－、－（ＣＨ２）ｎ５２－、－Ｓｉ（Ｒ５３）２－及び－（Ｓｉ（Ｒ５３）２Ｏ）ｎ５１－Ｓｉ（Ｒ５３）２－からなる群から選択される基を表し；
Ｒ５３は、それぞれ独立して、フェニル基、Ｃ１－６アルキル基、又は、Ｃ１－６アルコキシ基を表し、好ましくはフェニル基、又は、Ｃ１－６アルキル基であり、より好ましくはメチル基であり；
Ｒ５４は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基、又は、Ｃ１－６アルキル基（好ましくはメチル基）を表し；
Ｒ５５は、それぞれ独立して、Ｃ１－６アルキレン基であり；
ｎ５０は、それぞれ独立して、１～２０の整数であり；
ｎ５１は、それぞれ独立して、１～１００の整数、好ましくは１～２０の整数であり；
ｎ５２は、それぞれ独立して、１～２０の整数、好ましくは１～６の整数、より好ましくは１～３の整数であり；
ｑ１０は、１～１０の整数、好ましくは１～５の整数、より好ましくは１～３の整数であり；
ｐ０は、０以上の整数であり、好ましくは、０～４の整数であり；
ｑ０は、０以上の整数であり、好ましくは、０～４の整数である。
ここに、ｐ０及びｑ０の少なくとも一方は１であり、ｐ０又はｑ０を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は任意である。
Ｒ５０及びＸａ（典型的にはＲ５０及びＸａの水素原子）は、それぞれ独立して、フッ素原子、Ｃ１－３アルキル基及びＣ１－３フルオロアルキル基から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよい。
式中：
Ｒ５０は、単結合、－（ＣＨ２）ｐ１０－、又は、ｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基を表し、好ましくは－（ＣＨ２）ｐ１０－であり；
ｐ１０は、１～２０の整数、好ましくは１～６の整数、より好ましくは１～３の整数であり；
Ｘａは、－（Ｘｂ）ｑ１０－を表し；
Ｘｂは、それぞれ独立して、－Ｓ－、ｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基、－Ｏ－、－（ＯＲ５５）ｎ５０－、－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（＝Ｏ）－、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ５４－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ５４－、－ＮＲ５４Ｃ（＝Ｏ）－、－ＮＲ５４Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－ＮＲ５４Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ５４－、－ＮＲ５４－、－（ＣＨ２）ｎ５２－、－Ｓｉ（Ｒ５３）２－及び－（Ｓｉ（Ｒ５３）２Ｏ）ｎ５１－Ｓｉ（Ｒ５３）２－からなる群から選択される基を表し；
Ｒ５３は、それぞれ独立して、フェニル基、Ｃ１－６アルキル基、又は、Ｃ１－６アルコキシ基を表し、好ましくはフェニル基、又は、Ｃ１－６アルキル基であり、より好ましくはメチル基であり；
Ｒ５４は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基、又は、Ｃ１－６アルキル基（好ましくはメチル基）を表し；
Ｒ５５は、それぞれ独立して、Ｃ１－６アルキレン基であり；
ｎ５０は、それぞれ独立して、１～２０の整数であり；
ｎ５１は、それぞれ独立して、１～１００の整数、好ましくは１～２０の整数であり；
ｎ５２は、それぞれ独立して、１～２０の整数、好ましくは１～６の整数、より好ましくは１～３の整数であり；
ｑ１０は、１～１０の整数、好ましくは１～５の整数、より好ましくは１～３の整数であり；
ｐ０は、０以上の整数であり、好ましくは、０～４の整数であり；
ｑ０は、０以上の整数であり、好ましくは、０～４の整数である。
ここに、ｐ０及びｑ０の少なくとも一方は１であり、ｐ０又はｑ０を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は任意である。
Ｒ５０及びＸａ（典型的にはＲ５０及びＸａの水素原子）は、それぞれ独立して、フッ素原子、Ｃ１－３アルキル基及びＣ１－３フルオロアルキル基から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよい。
【0172】
一の態様において、ｐ１０は、１又は２である。
【0173】
一の態様において、ｑ１０は、１である。
【0174】
一の態様において、Ｘｂは、それぞれ独立して、－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（＝Ｏ）－、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ５４－、－ＯＣ（＝Ｏ）ＮＲ５４－、－ＮＲ５４Ｃ（＝Ｏ）－、－ＮＲ５４Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、－ＮＲ５４Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ５４－、及び－Ｏ－からなる群から選択される基である。
【0175】
一の態様において、ＸＡは、それぞれ独立して、単結合、又は、－（（ＣＨ２）ｐ１０）ｐ２１０－［Ｘｂ１－（（ＣＨ２）ｐ１０）ｐ２１０’］ｐ２１０”－で表される。
ｐ１０は上記のとおりである。Ｘｂ１は下記のとおりである。ｐ２１０、ｐ２１０’、及びｐ２１０”は、それぞれ０又は１である。
ｐ１０は上記のとおりである。Ｘｂ１は下記のとおりである。ｐ２１０、ｐ２１０’、及びｐ２１０”は、それぞれ０又は１である。
【0176】
一の態様において、ＸＡは、それぞれ独立して、単結合、－（（ＣＨ２）ｐ１０）ｐ２１－Ｘｂ１－（（ＣＨ２）ｐ１０）ｐ２１’－、又は、－（（ＣＨ２）ｐ１０）ｐ２２－Ｘｂ１－（（ＣＨ２）ｐ１０）ｐ２３－Ｘｂ１－（（ＣＨ２）ｐ１０）ｐ２４－で表される。
【0177】
Ｘｂ１は、それぞれ独立して、－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ５４－、－ＮＲ５４Ｃ（＝Ｏ）－、又は、－Ｃ（＝Ｏ）－である。
Ｒ５４は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基、又は、Ｃ１－６アルキル基を表し、例えば、水素原子である。
Ｒ５４は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基、又は、Ｃ１－６アルキル基を表し、例えば、水素原子である。
【0178】
ｐ１０は、それぞれ独立して、上記のとおりである。
【0179】
ｐ２１は、０又は１であり、ｐ２１’は、０又は１である。
【0180】
一の態様において、ｐ２１とｐ２１’との合計は０である。一の態様において、ｐ２１は１、ｐ２１’は０である。一の態様において、ｐ２１は０、ｐ２１’は１である。一の態様において、ｐ２１とｐ２１’との合計は１又は２である。一の態様において、ｐ２１とｐ２１’との合計は２である。
【0181】
ｐ２２、ｐ２３、及びｐ２４は、それぞれ独立して、０又は１である。一の態様において、ｐ２２、ｐ２３及びｐ２４の合計は１以上である。
【0182】
一の態様において、ｐ２２、ｐ２３及びｐ２４の合計は１である。一の態様において、ｐ２２、ｐ２３及びｐ２４の合計は２である。一の態様において、ｐ２２、ｐ２３及びｐ２４の合計は３である。
【0183】
一の態様において、ｐ２２は０、ｐ２３は１、及びｐ２４は０である。
【0184】
一の態様において、ｐ２２は１、ｐ２３は１、及びｐ２４は０である。
【0185】
一の態様において、ｐ２２は０、ｐ２３は１、及びｐ２４は１である。
【0186】
一の態様において、ｐ２２は１、ｐ２３は１、及びｐ２４は１である。
【0187】
一の態様において、
ＲＦ１は、Ｒｆ１－ＲＦ－Ｏｑ－であり；
ＲＦ２は、－Ｒｆ２ ｐ－ＲＦ－Ｏｑ－であり；
Ｒｆ１は、１個以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－１６アルキル基であり；
Ｒｆ２は、１個以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－６アルキレン基であり；
ｐは、０又は１であり；
ｑは、それぞれ独立して、０又は１であり；
ＲＦは、ＲＦ１１で表され；
ＲＦ１１は、式（ｆ１１）：
－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ１－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ１－ （ｆ１１）
［式中：
ｄ１は、１～２００の整数であり；
ｅ１は、０又は１である。］
で表され；
α、β及びγは１であり；
ＸＡは、それぞれ独立して、－（（ＣＨ２）ｐ１０）ｐ２１－Ｘｂ１－（（ＣＨ２）ｐ１０）ｐ２１’－、又は－（（ＣＨ２）ｐ１０）ｐ２２－Ｘｂ１－（（ＣＨ２）ｐ１０）ｐ２３－Ｘｂ１－（（ＣＨ２）ｐ１０）ｐ２４－で表され；
［式中：
Ｘｂ１は、それぞれ独立して、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ５４－、又は、－ＮＲ５４Ｃ（＝Ｏ）－であり；
Ｒ５４は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基、又は、Ｃ１－６アルキル基を表し、例えば、水素原子であり；
ｐ１０は、１～２０の整数であり、例えば、１～６の整数であり；
ｐ２１は、０又は１であり；
ｐ２１’は、０又は１であり；
ｐ２２は、０又は１であり；
ｐ２３は、０又は１であり；
ｐ２４は、０又は１であり；
ｐ２２、ｐ２３及びｐ２４の合計は、好ましくは１以上である。］
ＲＡは、式（１ａ）：
［式中：
ＲＢ１は、芳香環を含む基であり；
前記芳香環を含む基は、少なくとも３つの－ＯＲＰ１を有するベンゼン環を含み；
ＲＰ１は、それぞれ独立して、水素原子、又は、保護基である。］
で表される。
ＲＦ１は、Ｒｆ１－ＲＦ－Ｏｑ－であり；
ＲＦ２は、－Ｒｆ２ ｐ－ＲＦ－Ｏｑ－であり；
Ｒｆ１は、１個以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－１６アルキル基であり；
Ｒｆ２は、１個以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－６アルキレン基であり；
ｐは、０又は１であり；
ｑは、それぞれ独立して、０又は１であり；
ＲＦは、ＲＦ１１で表され；
ＲＦ１１は、式（ｆ１１）：
－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ１－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ１－ （ｆ１１）
［式中：
ｄ１は、１～２００の整数であり；
ｅ１は、０又は１である。］
で表され；
α、β及びγは１であり；
ＸＡは、それぞれ独立して、－（（ＣＨ２）ｐ１０）ｐ２１－Ｘｂ１－（（ＣＨ２）ｐ１０）ｐ２１’－、又は－（（ＣＨ２）ｐ１０）ｐ２２－Ｘｂ１－（（ＣＨ２）ｐ１０）ｐ２３－Ｘｂ１－（（ＣＨ２）ｐ１０）ｐ２４－で表され；
［式中：
Ｘｂ１は、それぞれ独立して、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ５４－、又は、－ＮＲ５４Ｃ（＝Ｏ）－であり；
Ｒ５４は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基、又は、Ｃ１－６アルキル基を表し、例えば、水素原子であり；
ｐ１０は、１～２０の整数であり、例えば、１～６の整数であり；
ｐ２１は、０又は１であり；
ｐ２１’は、０又は１であり；
ｐ２２は、０又は１であり；
ｐ２３は、０又は１であり；
ｐ２４は、０又は１であり；
ｐ２２、ｐ２３及びｐ２４の合計は、好ましくは１以上である。］
ＲＡは、式（１ａ）：
【化19】
ＲＢ１は、芳香環を含む基であり；
前記芳香環を含む基は、少なくとも３つの－ＯＲＰ１を有するベンゼン環を含み；
ＲＰ１は、それぞれ独立して、水素原子、又は、保護基である。］
で表される。
【0188】
上記態様において、好ましくは、上記ＲＢ１は、フェニル基と、少なくとも３つの－ＯＲＰ１を有する。
【0189】
上記態様において、例えば、上記ｐ２１は０であり、上記ｐ２１’は１である。
【0190】
上記態様において、例えば、上記ｐ２２は０、上記ｐ２３は１、上記ｐ２４は０である。
【0191】
上記態様において、例えば、ＸＡは、－（（ＣＨ２）ｐ１０）ｐ２１－Ｘｂ１－（（ＣＨ２）ｐ１０）ｐ２１’－で表され、別の例において、ＸＡは、－（（ＣＨ２）ｐ１０）ｐ２２－Ｘｂ１－（（ＣＨ２）ｐ１０）ｐ２３－Ｘｂ１－（（ＣＨ２）ｐ１０）ｐ２４－で表される。
【0192】
一の態様において、
ＲＦ１は、Ｒｆ１－ＲＦ－Ｏｑ－であり；
ＲＦ２は、－Ｒｆ２ ｐ－ＲＦ－Ｏｑ－であり；
Ｒｆ１は、１個以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－１６アルキル基であり；
Ｒｆ２は、１個以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－６アルキレン基であり；
ｐは、０又は１であり；
ｑは、それぞれ独立して、０又は１であり；
ＲＦは、ＲＦ１１で表され；
ＲＦ１１は、式（ｆ１１）：
－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ１－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ１－ （ｆ１１）
［式中：
ｄ１は、１～２００の整数であり；
ｅ１は、０又は１である。］
で表され；
α、β及びγは１であり；
ＸＡは、単結合であり；
ＲＡは、式（１ｂ）：
［式中：
Ｘ１は、炭素原子であり；
Ｒ１１は、それぞれ独立して、－Ｚ１１－ＲＢ１で表され；
Ｚ１１は、２価の有機基であり、好ましくは－（ＣＨ２）ｇ１４’－Ｏ－（ＣＨ２）ｇ１７’－、－Ｃ≡Ｃ－（ＣＨ２）ｇ１１－、又は、Ｃ１－６アルキレン基であり；
ｇ１４’は、０～６の整数であり、好ましくは０であり；
ｇ１７’は、０～６の整数であり、好ましくは１～６の整数であり；
ｇ１１は、０～６の整数であり；
ＲＢ１は、芳香環を含む基であり；
前記芳香環を含む基は、少なくとも３つの－ＯＲＰ１を有するベンゼン環を含み；
ＲＰ１は、それぞれ独立して、水素原子、又は、保護基であり；
Ｒ１２は、水酸基であり；
ｋ１は、２又は３であり；
ｋ１とｌ１との合計は、式（１ｂ）毎に３である。]
で表される。
上記ＲＢ１は、例えば、フェニル基と、少なくとも３つの－ＯＲＰ１を有する。
ＲＦ１は、Ｒｆ１－ＲＦ－Ｏｑ－であり；
ＲＦ２は、－Ｒｆ２ ｐ－ＲＦ－Ｏｑ－であり；
Ｒｆ１は、１個以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－１６アルキル基であり；
Ｒｆ２は、１個以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－６アルキレン基であり；
ｐは、０又は１であり；
ｑは、それぞれ独立して、０又は１であり；
ＲＦは、ＲＦ１１で表され；
ＲＦ１１は、式（ｆ１１）：
－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ１－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ１－ （ｆ１１）
［式中：
ｄ１は、１～２００の整数であり；
ｅ１は、０又は１である。］
で表され；
α、β及びγは１であり；
ＸＡは、単結合であり；
ＲＡは、式（１ｂ）：
【化20】
Ｘ１は、炭素原子であり；
Ｒ１１は、それぞれ独立して、－Ｚ１１－ＲＢ１で表され；
Ｚ１１は、２価の有機基であり、好ましくは－（ＣＨ２）ｇ１４’－Ｏ－（ＣＨ２）ｇ１７’－、－Ｃ≡Ｃ－（ＣＨ２）ｇ１１－、又は、Ｃ１－６アルキレン基であり；
ｇ１４’は、０～６の整数であり、好ましくは０であり；
ｇ１７’は、０～６の整数であり、好ましくは１～６の整数であり；
ｇ１１は、０～６の整数であり；
ＲＢ１は、芳香環を含む基であり；
前記芳香環を含む基は、少なくとも３つの－ＯＲＰ１を有するベンゼン環を含み；
ＲＰ１は、それぞれ独立して、水素原子、又は、保護基であり；
Ｒ１２は、水酸基であり；
ｋ１は、２又は３であり；
ｋ１とｌ１との合計は、式（１ｂ）毎に３である。]
で表される。
上記ＲＢ１は、例えば、フェニル基と、少なくとも３つの－ＯＲＰ１を有する。
【0193】
上記態様において、例えば、上記ｋ１は２であり；別の例として、上記ｋ１は３である。
【0194】
上記態様において、例えば、
ｋ１は２であり；
Ｚ１１は、２つの－Ｃ≡Ｃ－（ＣＨ２）ｇ１１－又はＣ１－６アルキレン基を有する。Ｚ１１は、例えば、それぞれ独立して、－Ｃ≡Ｃ－（ＣＨ２）ｇ１１－であり、別の例においては、それぞれ独立して、Ｃ１－６アルキレン基である。
ｋ１は２であり；
Ｚ１１は、２つの－Ｃ≡Ｃ－（ＣＨ２）ｇ１１－又はＣ１－６アルキレン基を有する。Ｚ１１は、例えば、それぞれ独立して、－Ｃ≡Ｃ－（ＣＨ２）ｇ１１－であり、別の例においては、それぞれ独立して、Ｃ１－６アルキレン基である。
【0195】
上記態様において、例えば、
ｋ１は３であり；
Ｚ１１は、１つの－（ＣＨ２）ｇ１４’－Ｏ－（ＣＨ２）ｇ１７’－と、２つの－Ｃ≡Ｃ－（ＣＨ２）ｇ１１－又はＣ１－６アルキレン基とを有する。Ｚ１１は、例えば、１つの－（ＣＨ２）ｇ１４’－Ｏ－（ＣＨ２）ｇ１７’－と２つの－Ｃ≡Ｃ－（ＣＨ２）ｇ１１－とを有し、別の例においては、１つの－（ＣＨ２）ｇ１４’－Ｏ－（ＣＨ２）ｇ１７’－と２つのＣ１－６アルキレン基とを有する。
ｋ１は３であり；
Ｚ１１は、１つの－（ＣＨ２）ｇ１４’－Ｏ－（ＣＨ２）ｇ１７’－と、２つの－Ｃ≡Ｃ－（ＣＨ２）ｇ１１－又はＣ１－６アルキレン基とを有する。Ｚ１１は、例えば、１つの－（ＣＨ２）ｇ１４’－Ｏ－（ＣＨ２）ｇ１７’－と２つの－Ｃ≡Ｃ－（ＣＨ２）ｇ１１－とを有し、別の例においては、１つの－（ＣＨ２）ｇ１４’－Ｏ－（ＣＨ２）ｇ１７’－と２つのＣ１－６アルキレン基とを有する。
【0196】
一の態様において、
ＲＦ１は、Ｒｆ１－ＲＦ－Ｏｑ－であり；
ＲＦ２は、－Ｒｆ２ ｐ－ＲＦ－Ｏｑ－であり；
Ｒｆ１は、１個以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－１６アルキル基であり；
Ｒｆ２は、１個以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－６アルキレン基であり；
ｐは、０又は１であり；
ｑは、それぞれ独立して、０又は１であり；
ＲＦは、ＲＦ１１で表され；
ＲＦ１１は、式（ｆ１１）：
－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ１－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ１－ （ｆ１１）
［式中：
ｄ１は、１～２００の整数であり；
ｅ１は、０又は１である。］
で表され；
α、β及びγは１であり；
ＸＡは、それぞれ独立して、－（（ＣＨ２）ｐ１０）ｐ２１－Ｘｂ１－（（ＣＨ２）ｐ１０）ｐ２１’－であり；
ｐ１０は、それぞれ独立して、１～２０の整数、好ましくは１～６の整数、より好ましくは１～３の整数であり；
ｐ２１は、０又は１であり、好ましくは０であり；
ｐ２１’は、０又は１であり、好ましくは０であり；
Ｘｂ１は、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ５４－、又は－ＮＲ５４Ｃ（＝Ｏ）－であり、好ましくは－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ５４－であり；
Ｒ５４は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基、又は、Ｃ１－６アルキル基を表し、例えば、水素原子であり；
ＲＡは、式（１ｂ）：
［式中：
Ｘ１は、炭素原子であり；
Ｒ１１は、それぞれ独立して、－Ｚ１１－ＲＢ１で表され；
Ｚ１１は、２価の有機基であり、好ましくは－Ｃ≡Ｃ－（ＣＨ２）ｇ１１－、又は、Ｃ１－６アルキレン基であり；
ｇ１１は、０～６の整数であり；
ＲＢ１は、芳香環を含む基であり；
前記芳香環を含む基は、少なくとも３つの－ＯＲＰ１を有するベンゼン環を含み；
ＲＰ１は、それぞれ独立して、水素原子、又は、保護基であり；
Ｒ１２は、－（Ｒｅ３）ｅ２－ＯＲｅ１又は－（Ｒｅ３）ｅ２－Ｏ－（Ｒｅ２Ｏ）ｅ１－Ｒｅ１であり；
Ｒｅ１は、それぞれ独立して、Ｃ１－４アルキル基、例えば、メチル基であり；
Ｒｅ２は、それぞれ独立して、Ｃ１－５アルキレン基、例えば、Ｃ２－３アルキレン基であり；
Ｒｅ３は、Ｃ１－５アルキレン基であり；
ｅ１は、１～１０の整数、例えば、２又は３であり；
ｅ２は、それぞれ独立して、０又は１であり；
ｋ１は、２又は３であり；
ｋ１とｌ１との合計は、式（１ｂ）毎に３である。]
で表される。
上記ＲＢ１は、例えば、フェニル基と、少なくとも３つの－ＯＲＰ１を有する。
ＲＦ１は、Ｒｆ１－ＲＦ－Ｏｑ－であり；
ＲＦ２は、－Ｒｆ２ ｐ－ＲＦ－Ｏｑ－であり；
Ｒｆ１は、１個以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－１６アルキル基であり；
Ｒｆ２は、１個以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－６アルキレン基であり；
ｐは、０又は１であり；
ｑは、それぞれ独立して、０又は１であり；
ＲＦは、ＲＦ１１で表され；
ＲＦ１１は、式（ｆ１１）：
－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ１－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ１－ （ｆ１１）
［式中：
ｄ１は、１～２００の整数であり；
ｅ１は、０又は１である。］
で表され；
α、β及びγは１であり；
ＸＡは、それぞれ独立して、－（（ＣＨ２）ｐ１０）ｐ２１－Ｘｂ１－（（ＣＨ２）ｐ１０）ｐ２１’－であり；
ｐ１０は、それぞれ独立して、１～２０の整数、好ましくは１～６の整数、より好ましくは１～３の整数であり；
ｐ２１は、０又は１であり、好ましくは０であり；
ｐ２１’は、０又は１であり、好ましくは０であり；
Ｘｂ１は、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ５４－、又は－ＮＲ５４Ｃ（＝Ｏ）－であり、好ましくは－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ５４－であり；
Ｒ５４は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基、又は、Ｃ１－６アルキル基を表し、例えば、水素原子であり；
ＲＡは、式（１ｂ）：
【化21】
Ｘ１は、炭素原子であり；
Ｒ１１は、それぞれ独立して、－Ｚ１１－ＲＢ１で表され；
Ｚ１１は、２価の有機基であり、好ましくは－Ｃ≡Ｃ－（ＣＨ２）ｇ１１－、又は、Ｃ１－６アルキレン基であり；
ｇ１１は、０～６の整数であり；
ＲＢ１は、芳香環を含む基であり；
前記芳香環を含む基は、少なくとも３つの－ＯＲＰ１を有するベンゼン環を含み；
ＲＰ１は、それぞれ独立して、水素原子、又は、保護基であり；
Ｒ１２は、－（Ｒｅ３）ｅ２－ＯＲｅ１又は－（Ｒｅ３）ｅ２－Ｏ－（Ｒｅ２Ｏ）ｅ１－Ｒｅ１であり；
Ｒｅ１は、それぞれ独立して、Ｃ１－４アルキル基、例えば、メチル基であり；
Ｒｅ２は、それぞれ独立して、Ｃ１－５アルキレン基、例えば、Ｃ２－３アルキレン基であり；
Ｒｅ３は、Ｃ１－５アルキレン基であり；
ｅ１は、１～１０の整数、例えば、２又は３であり；
ｅ２は、それぞれ独立して、０又は１であり；
ｋ１は、２又は３であり；
ｋ１とｌ１との合計は、式（１ｂ）毎に３である。]
で表される。
上記ＲＢ１は、例えば、フェニル基と、少なくとも３つの－ＯＲＰ１を有する。
【0197】
上記態様において、Ｚ１１は、例えば、それぞれ独立して、－Ｃ≡Ｃ－（ＣＨ２）ｇ１１－であり、別の例において、それぞれ独立して、Ｃ１－６アルキレン基である。
【0198】
上記態様において、ｇ１１は、例えば、０である。
【0199】
上記態様において、Ｒ１２は、例えば、－（Ｒｅ３）ｅ２－ＯＲｅ１であり、別の例において、－（Ｒｅ３）ｅ２－Ｏ－（Ｒｅ２Ｏ）ｅ１－Ｒｅ１である。
【0200】
上記態様において、ｅ２は、例えば０であり、別の例においては１である。
【0201】
一の態様において、
ＲＦ１は、Ｒｆ１－ＲＦ－Ｏｑ－であり；
ＲＦ２は、－Ｒｆ２ ｐ－ＲＦ－Ｏｑ－であり；
Ｒｆ１は、１個以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－１６アルキル基であり；
Ｒｆ２は、１個以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－６アルキレン基であり；
ｐは、０又は１であり；
ｑは、それぞれ独立して、０又は１であり；
ＲＦは、ＲＦ１１で表され；
ＲＦ１１は、式（ｆ１１）：
－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ１－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ１－ （ｆ１１）
［式中：
ｄ１は、１～２００の整数であり；
ｅ１は、０又は１である。］
で表され；
α、β及びγは１であり；
ＸＡは、それぞれ独立して、－（（ＣＨ２）ｐ１０）ｐ２１－Ｘｂ１－（（ＣＨ２）ｐ１０）ｐ２１’－であり；
ｐ１０は、それぞれ独立して、１～２０の整数、好ましくは１～６の整数、より好ましくは１～３の整数であり；
ｐ２１は、０又は１であり、好ましくは０であり；
ｐ２１’は、０又は１であり、好ましくは１であり；
Ｘｂ１は、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ５４－、又は－ＮＲ５４Ｃ（＝Ｏ）－であり、好ましくは－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ５４－であり；
Ｒ５４は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基、又は、Ｃ１－６アルキル基を表し、例えば、水素原子であり；
ＲＡは、式（１ｂ）：
［式中：
Ｘ１は、炭素原子であり；
Ｒ１１は、それぞれ独立して、－Ｚ１１－ＲＢ１で表され；
Ｚ１１は、２価の有機基であり、好ましくは－（ＣＨ２）ｇ１１２－（ＣＨ＝ＣＨ）－（ＣＨ２）ｇ１１３－、又は、Ｃ１－６アルキレン基であり；
ｇ１１２及びｇ１１３は、それぞれ独立して、０～６の整数であり、例えば、ｇ１１２は１～６の整数であり、ｇ１１３は０であり；
ＲＢ１は、芳香環を含む基であり；
前記芳香環を含む基は、少なくとも３つの－ＯＲＰ１を有するベンゼン環を含み；
ＲＰ１は、それぞれ独立して、水素原子、又は、保護基であり；
Ｒ１２は、水素原子、フッ素原子、水酸基、又は、１価の有機基であり；
ｋ１は、２又は３であり、好ましくは３であり；
ｋ１とｌ１との合計は、式（１ｂ）毎に３である。]
で表される。
上記ＲＢ１は、例えば、フェニル基と、少なくとも３つの－ＯＲＰ１を有する。
ＲＦ１は、Ｒｆ１－ＲＦ－Ｏｑ－であり；
ＲＦ２は、－Ｒｆ２ ｐ－ＲＦ－Ｏｑ－であり；
Ｒｆ１は、１個以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－１６アルキル基であり；
Ｒｆ２は、１個以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－６アルキレン基であり；
ｐは、０又は１であり；
ｑは、それぞれ独立して、０又は１であり；
ＲＦは、ＲＦ１１で表され；
ＲＦ１１は、式（ｆ１１）：
－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ１－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ１－ （ｆ１１）
［式中：
ｄ１は、１～２００の整数であり；
ｅ１は、０又は１である。］
で表され；
α、β及びγは１であり；
ＸＡは、それぞれ独立して、－（（ＣＨ２）ｐ１０）ｐ２１－Ｘｂ１－（（ＣＨ２）ｐ１０）ｐ２１’－であり；
ｐ１０は、それぞれ独立して、１～２０の整数、好ましくは１～６の整数、より好ましくは１～３の整数であり；
ｐ２１は、０又は１であり、好ましくは０であり；
ｐ２１’は、０又は１であり、好ましくは１であり；
Ｘｂ１は、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ５４－、又は－ＮＲ５４Ｃ（＝Ｏ）－であり、好ましくは－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ５４－であり；
Ｒ５４は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基、又は、Ｃ１－６アルキル基を表し、例えば、水素原子であり；
ＲＡは、式（１ｂ）：
【化22】
Ｘ１は、炭素原子であり；
Ｒ１１は、それぞれ独立して、－Ｚ１１－ＲＢ１で表され；
Ｚ１１は、２価の有機基であり、好ましくは－（ＣＨ２）ｇ１１２－（ＣＨ＝ＣＨ）－（ＣＨ２）ｇ１１３－、又は、Ｃ１－６アルキレン基であり；
ｇ１１２及びｇ１１３は、それぞれ独立して、０～６の整数であり、例えば、ｇ１１２は１～６の整数であり、ｇ１１３は０であり；
ＲＢ１は、芳香環を含む基であり；
前記芳香環を含む基は、少なくとも３つの－ＯＲＰ１を有するベンゼン環を含み；
ＲＰ１は、それぞれ独立して、水素原子、又は、保護基であり；
Ｒ１２は、水素原子、フッ素原子、水酸基、又は、１価の有機基であり；
ｋ１は、２又は３であり、好ましくは３であり；
ｋ１とｌ１との合計は、式（１ｂ）毎に３である。]
で表される。
上記ＲＢ１は、例えば、フェニル基と、少なくとも３つの－ＯＲＰ１を有する。
【0202】
一の態様において、
ＲＦ１は、Ｒｆ１－ＲＦ－Ｏｑ－であり；
ＲＦ２は、－Ｒｆ２ ｐ－ＲＦ－Ｏｑ－であり；
Ｒｆ１は、１個以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－１６アルキル基であり；
Ｒｆ２は、１個以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－６アルキレン基であり；
ｐは、０又は１であり；
ｑは、それぞれ独立して、０又は１であり；
ＲＦは、ＲＦ１１で表され；
ＲＦ１１は、式（ｆ１１）：
－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ１－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ１－ （ｆ１１）
［式中：
ｄ１は、１～２００の整数であり；
ｅ１は、０又は１である。］
で表され；
α、β及びγは１であり；
ＸＡは、－Ｃ（＝Ｏ）－であり；
ＲＡは、式（１ｂ）：
［式中：
Ｘ１は、窒素原子であり；
Ｒ１１は、それぞれ独立して、－Ｚ１１－ＲＢ１で表され；
Ｚ１１は、２価の有機基であり、好ましくはＣ１－６アルキレン基又は－（ＣＨ２）ｇ１４－ＮＲ３４Ｃ（＝Ｏ）－（ＣＨ２）ｇ１７－であり；
ｇ１４は、０～６の整数であり；
ｇ１７は、０～６の整数であり；
Ｒ３４は、水素原子、フェニル基、又は、Ｃ１－６アルキル基であり；
ＲＢ１は、芳香環を含む基であり；
前記芳香環を含む基は、少なくとも３つの－ＯＲＰ１を有するベンゼン環を含み；
ＲＰ１は、それぞれ独立して、水素原子、又は、保護基であり；
Ｒ１２は、水素原子、フッ素原子、水酸基、又は、１価の有機基であり、好ましくは、水素原子、フェニル基、又は、Ｃ１－６アルキル基であり；
ｋ１は、１又は２であり；
ｋ１とｌ１との合計は、式（１ｂ）毎に２である。]
で表される。
上記ＲＢ１は、例えば、フェニル基と、少なくとも３つの－ＯＲＰ１を有する。
ＲＦ１は、Ｒｆ１－ＲＦ－Ｏｑ－であり；
ＲＦ２は、－Ｒｆ２ ｐ－ＲＦ－Ｏｑ－であり；
Ｒｆ１は、１個以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－１６アルキル基であり；
Ｒｆ２は、１個以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－６アルキレン基であり；
ｐは、０又は１であり；
ｑは、それぞれ独立して、０又は１であり；
ＲＦは、ＲＦ１１で表され；
ＲＦ１１は、式（ｆ１１）：
－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ１－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ１－ （ｆ１１）
［式中：
ｄ１は、１～２００の整数であり；
ｅ１は、０又は１である。］
で表され；
α、β及びγは１であり；
ＸＡは、－Ｃ（＝Ｏ）－であり；
ＲＡは、式（１ｂ）：
【化23】
Ｘ１は、窒素原子であり；
Ｒ１１は、それぞれ独立して、－Ｚ１１－ＲＢ１で表され；
Ｚ１１は、２価の有機基であり、好ましくはＣ１－６アルキレン基又は－（ＣＨ２）ｇ１４－ＮＲ３４Ｃ（＝Ｏ）－（ＣＨ２）ｇ１７－であり；
ｇ１４は、０～６の整数であり；
ｇ１７は、０～６の整数であり；
Ｒ３４は、水素原子、フェニル基、又は、Ｃ１－６アルキル基であり；
ＲＢ１は、芳香環を含む基であり；
前記芳香環を含む基は、少なくとも３つの－ＯＲＰ１を有するベンゼン環を含み；
ＲＰ１は、それぞれ独立して、水素原子、又は、保護基であり；
Ｒ１２は、水素原子、フッ素原子、水酸基、又は、１価の有機基であり、好ましくは、水素原子、フェニル基、又は、Ｃ１－６アルキル基であり；
ｋ１は、１又は２であり；
ｋ１とｌ１との合計は、式（１ｂ）毎に２である。]
で表される。
上記ＲＢ１は、例えば、フェニル基と、少なくとも３つの－ＯＲＰ１を有する。
【0203】
上記態様において、例えば、上記ｋ１は２であり；別の例として、上記ｋ１は１である。
【0204】
上記態様において、Ｚ１１は、例えば、Ｃ１－６アルキレン基であり、具体的にはＣ２－３アルキレン基である。
【0205】
上記態様において、Ｚ１１は、例えば－（ＣＨ２）ｇ１４－ＮＲ３４Ｃ（＝Ｏ）－（ＣＨ２）ｇ１７－であり、具体的には－（ＣＨ２）ｇ１４－ＮＲ３４Ｃ（＝Ｏ）－である。ｇ１４は、１～６の整数であり；Ｒ３４は、水素原子、フェニル基、又は、Ｃ１－６アルキル基であり、好ましくは水素原子である。
【0206】
一の態様において、
ＲＦ１は、Ｒｆ１－ＲＦ－Ｏｑ－であり；
ＲＦ２は、－Ｒｆ２ ｐ－ＲＦ－Ｏｑ－であり；
Ｒｆ１は、１個以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－１６アルキル基であり；
Ｒｆ２は、１個以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－６アルキレン基であり；
ｐは、０又は１であり；
ｑは、それぞれ独立して、０又は１であり；
ＲＦは、ＲＦ１１で表され；
ＲＦ１１は、式（ｆ１１）：
－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ１－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ１－ （ｆ１１）
［式中：
ｄ１は、１～２００の整数であり；
ｅ１は、０又は１である。］
で表され；
α、β及びγは１であり；
ＸＡは、それぞれ独立して、－（（ＣＨ２）ｐ１０）ｐ２１－Ｘｂ１－（（ＣＨ２）ｐ１０）ｐ２１’－であり；
ｐ１０は、それぞれ独立して、１～２０の整数、好ましくは１～６の整数、より好ましくは１～３の整数であり；
ｐ２１は、０又は１であり、好ましくは１であり；
ｐ２１’は、０又は１であり、好ましくは１であり；
Ｘｂ１は、－Ｏ－であり；
ＲＡは、式（１ｂ）：
［式中：
Ｘ１は、ケイ素原子であり；
Ｒ１１は、それぞれ独立して、－Ｚ１１－ＲＢ１で表され；
Ｚ１１は、２価の有機基であり、好ましくは－Ｃ≡Ｃ－（ＣＨ２）ｇ１１１－、又は、Ｃ１－６アルキレン基であり；
ｇ１１１は、０～６の整数であり、例えば０であり；
ＲＢ１は、芳香環を含む基であり；
前記芳香環を含む基は、少なくとも３つの－ＯＲＰ１を有するベンゼン環を含み；
ＲＰ１は、それぞれ独立して、水素原子、又は、保護基であり；
Ｒ１２は、水酸基であり；
ｋ１は、２又は３であり、好ましくは３であり；
ｋ１とｌ１との合計は、式（１ｂ）毎に３である。]
で表される。
上記ＲＢ１は、例えば、フェニル基と、少なくとも３つの－ＯＲＰ１を有する。
ＲＦ１は、Ｒｆ１－ＲＦ－Ｏｑ－であり；
ＲＦ２は、－Ｒｆ２ ｐ－ＲＦ－Ｏｑ－であり；
Ｒｆ１は、１個以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－１６アルキル基であり；
Ｒｆ２は、１個以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－６アルキレン基であり；
ｐは、０又は１であり；
ｑは、それぞれ独立して、０又は１であり；
ＲＦは、ＲＦ１１で表され；
ＲＦ１１は、式（ｆ１１）：
－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ１－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ１－ （ｆ１１）
［式中：
ｄ１は、１～２００の整数であり；
ｅ１は、０又は１である。］
で表され；
α、β及びγは１であり；
ＸＡは、それぞれ独立して、－（（ＣＨ２）ｐ１０）ｐ２１－Ｘｂ１－（（ＣＨ２）ｐ１０）ｐ２１’－であり；
ｐ１０は、それぞれ独立して、１～２０の整数、好ましくは１～６の整数、より好ましくは１～３の整数であり；
ｐ２１は、０又は１であり、好ましくは１であり；
ｐ２１’は、０又は１であり、好ましくは１であり；
Ｘｂ１は、－Ｏ－であり；
ＲＡは、式（１ｂ）：
【化24】
Ｘ１は、ケイ素原子であり；
Ｒ１１は、それぞれ独立して、－Ｚ１１－ＲＢ１で表され；
Ｚ１１は、２価の有機基であり、好ましくは－Ｃ≡Ｃ－（ＣＨ２）ｇ１１１－、又は、Ｃ１－６アルキレン基であり；
ｇ１１１は、０～６の整数であり、例えば０であり；
ＲＢ１は、芳香環を含む基であり；
前記芳香環を含む基は、少なくとも３つの－ＯＲＰ１を有するベンゼン環を含み；
ＲＰ１は、それぞれ独立して、水素原子、又は、保護基であり；
Ｒ１２は、水酸基であり；
ｋ１は、２又は３であり、好ましくは３であり；
ｋ１とｌ１との合計は、式（１ｂ）毎に３である。]
で表される。
上記ＲＢ１は、例えば、フェニル基と、少なくとも３つの－ＯＲＰ１を有する。
【0207】
＜フッ素原子含有化合物の製造方法＞
フッ素原子含有化合物の製造方法について記載する。なお、本開示の内容は、以下の記載に限定されない。
フッ素原子含有化合物の製造方法について記載する。なお、本開示の内容は、以下の記載に限定されない。
【0208】
［工程（Ｉ）］
本開示の製造方法は、フッ素原子を含む部分（ＲＦ１又はＲＦ２）と、ＲＡとを結合する工程（Ｉ）を含む。工程（Ｉ）としては、例えば、工程（Ｉａ）、又は、工程（Ｉｂ）を挙げることができる。
本開示の製造方法は、フッ素原子を含む部分（ＲＦ１又はＲＦ２）と、ＲＡとを結合する工程（Ｉ）を含む。工程（Ｉ）としては、例えば、工程（Ｉａ）、又は、工程（Ｉｂ）を挙げることができる。
【0209】
（工程（Ｉａ））
工程（Ｉａ）は、式（Ａ２１）の化合物及び式（Ｂ２１）の化合物の少なくとも一方と、式（Ｃ２１）の化合物との反応を含む。
工程（Ｉａ）は、式（Ａ２１）の化合物及び式（Ｂ２１）の化合物の少なくとも一方と、式（Ｃ２１）の化合物との反応を含む。
【化25】
【化26】
【0210】
式（Ａ２１）の化合物と式（Ｃ２１）の化合物との反応により式（Ａ３１）の化合物が、式（Ｂ２１）の化合物と式（Ｃ２１）の化合物との反応により式（Ｂ３１）の化合物が、それぞれ製造される。
【化27】
【0211】
ＲＦ１、ＲＦ２、及び、ＲＢ１は、上記と同意義である。
【0212】
ＹＡ２としては、酸フロライド（－Ｃ（＝Ｏ）Ｆ）、酸クロリド（－Ｃ（＝Ｏ）Ｃｌ）、酸ブロミド（－Ｃ（＝Ｏ）Ｂｒ）、酸ヨージド（－Ｃ（＝Ｏ）Ｉ）、酸無水物の誘導体（例えば、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ、Ｒはメチル基）、エステル基（－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ３１、ＲＡ３１は例えばメチル基、エチル基）、カルボキシル基（－Ｃ（＝Ｏ）ＯＨ）、又は、－ＳｉＸ３（例えば、Ｘはハロゲン原子、好ましくは塩素原子）を挙げることができる。
ＹＡ３としては、Ｈ２Ｎ－、ＨＣ≡Ｃ－、又はＨ２Ｃ＝ＣＨ－を挙げることができる。
ＹＡ３としては、Ｈ２Ｎ－、ＨＣ≡Ｃ－、又はＨ２Ｃ＝ＣＨ－を挙げることができる。
【0213】
ＹＡ２及びＹＡ３の反応により、ＹＡ４が生じる。式（Ａ２１）の－ＸＡ２１－ＹＡ２と式（Ｃ２１）のＹＡ３－ＸＡ３１－との反応により、式（Ａ３１）の－ＸＡ２１－ＹＡ４－ＸＡ３１－が形成され；式（Ｂ２１）の－ＸＡ２１－ＹＡ２と式（Ｃ２１）のＹＡ３－ＸＡ３１－との反応により、式（Ｂ３１）の－ＸＡ２１－ＹＡ４－ＸＡ３１－が形成される。ＸＡ２１及びＸＡ３１は、それぞれ独立して単結合又は２価の有機基であり、ＹＡ４は２価の基である。－ＸＡ２１－ＹＡ４－ＸＡ３１－は、ＸＡに相当する。
【0214】
ＹＡ４は、例えば、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ５４－、－ＮＲ５４Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（＝Ｏ）－、－ＮＲ５４Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ５４－、－ＮＲ５４Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（＝Ｏ）ＮＲ５４－、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）－、又は－Ｏ－である。Ｒ５４は上記と同意義である。
【0215】
一の態様において、ＹＡ２は－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ３１であり、ＹＡ３はＨ２Ｎ－である。この場合、ＹＡ４は－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ－である。ＲＡ３１は上記と同意義である。
【0216】
一の態様において、ＸＡ２１、及び、ＸＡ３１は、それぞれ独立して、－（（ＣＨ２）ｐ１０１）ｐ３１－、又は－（（ＣＨ２）ｐ１０１）ｐ３２－Ｘｂ１－（（ＣＨ２）ｐ１０１）ｐ３３－である。
ｐ１０１はそれぞれ独立して、１～２０の整数であり、好ましくは１～６の整数であり、より好ましくは１～３の整数であり；
ｐ３１、ｐ３２、及びｐ３３は、それぞれ独立して、０又は１であり；
Ｘｂ１は、それぞれ独立して、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ５４－、又は、－ＮＲ５４Ｃ（＝Ｏ）－である）。Ｒ５４は上記と同意義である。
ｐ１０１はそれぞれ独立して、１～２０の整数であり、好ましくは１～６の整数であり、より好ましくは１～３の整数であり；
ｐ３１、ｐ３２、及びｐ３３は、それぞれ独立して、０又は１であり；
Ｘｂ１は、それぞれ独立して、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ５４－、又は、－ＮＲ５４Ｃ（＝Ｏ）－である）。Ｒ５４は上記と同意義である。
【0217】
上記態様において、例えば、ＸＡ２１は－（（ＣＨ２）ｐ１０１）ｐ３１－、ＹＡ４は－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ－、ＸＡ３１は－（（ＣＨ２）ｐ１０１）ｐ３２－Ｘｂ１－（（ＣＨ２）ｐ１０１）ｐ３３－である。
ｐ１０１は、それぞれ独立して、１～２０の整数であり、好ましくは１～６の整数であり、より好ましくは１～３の整数であり；
ｐ３１、ｐ３２、及びｐ３３は、それぞれ独立して、０又は１であり；
Ｘｂ１は、それぞれ独立して、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ５４－、又は、－ＮＲ５４Ｃ（＝Ｏ）－である）。Ｒ５４は上記と同意義である。
具体的には、ＸＡ２１は単結合、ＹＡ４は－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ－、ＸＡ３１は－（ＣＨ２）ｐ１０１－ＮＲ５４Ｃ（＝Ｏ）－である。
ｐ１０１は、それぞれ独立して、１～２０の整数であり、好ましくは１～６の整数であり、より好ましくは１～３の整数であり；
ｐ３１、ｐ３２、及びｐ３３は、それぞれ独立して、０又は１であり；
Ｘｂ１は、それぞれ独立して、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ５４－、又は、－ＮＲ５４Ｃ（＝Ｏ）－である）。Ｒ５４は上記と同意義である。
具体的には、ＸＡ２１は単結合、ＹＡ４は－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ－、ＸＡ３１は－（ＣＨ２）ｐ１０１－ＮＲ５４Ｃ（＝Ｏ）－である。
【0218】
上記態様において、別の例としては、ＸＡ２１は－（（ＣＨ２）ｐ１０１）ｐ３１－、ＹＡ４は－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ－、ＸＡ３１は－（（ＣＨ２）ｐ１０１）ｐ３１－である。
ｐ１０１は、それぞれ独立して、１～２０の整数であり、好ましくは１～６の整数であり、より好ましくは１～３の整数であり；
ｐ３１は、それぞれ独立して、０又は１である。
具体的には、ＸＡ２１は単結合、ＹＡ４は－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ－、ＸＡ３１は－（ＣＨ２）ｐ１０１－である。
ｐ１０１は、それぞれ独立して、１～２０の整数であり、好ましくは１～６の整数であり、より好ましくは１～３の整数であり；
ｐ３１は、それぞれ独立して、０又は１である。
具体的には、ＸＡ２１は単結合、ＹＡ４は－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ－、ＸＡ３１は－（ＣＨ２）ｐ１０１－である。
【0219】
式（Ａ２１）の化合物及び（Ｂ２１）の化合物と、式（Ｃ２１）の化合物との混合比は、適宜定めることができる。
【0220】
工程（Ｉａ）は、溶媒中で行い得る。溶媒は、化合物（Ａ２１）、化合物（Ｂ２１）、化合物（Ｃ２１）を溶解できるものであることが好ましい。上記溶媒は、１種のみで用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【0221】
上記溶媒は、例えば、非フッ素系溶媒、又は、フッ素系溶媒である。
【0222】
非フッ素系溶媒としては、例えば、Ｓ原子含有溶媒、アミド系溶媒、エステル系溶媒、ケトン系溶媒、エーテル系溶媒、含ハロゲン系溶媒、アルコール系溶媒、炭化水素系溶媒を挙げることができる。
（ｉ）Ｓ原子含有溶媒
Ｓ原子含有溶媒としては、ジメチルスルホキシド、スルホラン、ジメチルスルフィド、二硫化炭素等を挙げることができる。
（ｉｉ）アミド系溶媒
アミド系溶媒としては、Ｎ－メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミド等を挙げることができる。
（ｉｉｉ）エステル系溶媒
エステル系溶媒としては、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート等を挙げることができる。
（ｉｖ）ケトン系溶媒
ケトン系溶媒としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等挙げることができる。
（ｖ）エーテル系溶媒
エーテル系溶媒としては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、シクロペンチルメチルエーテル、１，４－ジオキサン、モノグリム、ジグライム等を挙げることができる。
（ｖｉ）含ハロゲン系溶媒
含ハロゲン系溶媒は、フッ素原子以外のハロゲン原子を含む溶媒を意味し、例えば、ジクロロメタン、クロロホルム、１，２－ジクロロエタン等を挙げることができる。
（ｖｉｉ）アルコール系溶媒
アルコール系溶媒としては、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、エチレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル等をあげることができる。
（ｖｉｉｉ）炭化水素系溶媒
炭化水素系溶媒としては、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、ベンゼン、トルエン、キシレン等を挙げることができる。
（ｉ）Ｓ原子含有溶媒
Ｓ原子含有溶媒としては、ジメチルスルホキシド、スルホラン、ジメチルスルフィド、二硫化炭素等を挙げることができる。
（ｉｉ）アミド系溶媒
アミド系溶媒としては、Ｎ－メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミド等を挙げることができる。
（ｉｉｉ）エステル系溶媒
エステル系溶媒としては、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート等を挙げることができる。
（ｉｖ）ケトン系溶媒
ケトン系溶媒としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等挙げることができる。
（ｖ）エーテル系溶媒
エーテル系溶媒としては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、シクロペンチルメチルエーテル、１，４－ジオキサン、モノグリム、ジグライム等を挙げることができる。
（ｖｉ）含ハロゲン系溶媒
含ハロゲン系溶媒は、フッ素原子以外のハロゲン原子を含む溶媒を意味し、例えば、ジクロロメタン、クロロホルム、１，２－ジクロロエタン等を挙げることができる。
（ｖｉｉ）アルコール系溶媒
アルコール系溶媒としては、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、エチレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル等をあげることができる。
（ｖｉｉｉ）炭化水素系溶媒
炭化水素系溶媒としては、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、ベンゼン、トルエン、キシレン等を挙げることができる。
【0223】
フッ素系溶媒は、１以上のフッ素原子を含む溶媒である。フッ素系溶媒としては、例えば、パーフルオロカーボン、ハイドロクロロフルオロカーボン、ハイドロフルオロカーボン、パーフルオロカーボン、ハイドロフルオロエーテル、ハイドロ（クロロ）フルオロオレフィンや、含フッ素芳香族炭化水素、含フッ素アルコール、含フッ素酸等を挙げることができる。
（ｉ）パーフルオロカーボン
パーフルオロカーボンとしては、例えば、パーフルオロヘキサン、パーフルオロヘプタン等を挙げることができる。
（ｉｉ）ハイドロクロロフルオロカーボン
ハイドロクロロフルオロカーボンとしては、例えば、ＨＣＦＣ－２２５ｃａ、ＨＣＦＣ－２２５ｃｂ等を挙げることができる。
（ｉｉｉ）パーフルオロカーボン
パーフルオロカーボンとしては、例えば、１，１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６－トリデカフルオロオクタン、１，１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６－トリデカフルオロヘキサン、１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタン等を挙げることができる。
（ｉｖ）ハイドロフルオロエーテル
ハイドロフルオロエーテルとしては、例えば、ＨＦＥ－３４７ｐｃ－ｆ、メチルノナフルオロブチルエーテル、メチルノナフルオロイソブチルエーテル、エチルノナフルオロブチルエーテル、エチルノナフルオロイソブチルエーテル、１，１，１，２，２，３，４，５，５，５－デカフルオロ－３－メトキシ－４－（トリフルオロメチル）ペンタン、ＨＦＥ－３５６ｍｅｃ３等を挙げることができる。
（ｖ）ハイドロ（クロロ）フルオロオレフィン
ハイドロ（クロロ）フルオロオレフィンとしては、例えば、ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄ、ＨＣＦＯ－１２３３ｚｄ（Ｚ）等を挙げることができる。
（ｖｉ）含フッ素芳香族炭化水素
含フッ素芳香族炭化水素としては、パーフルオロベンゼン、ベンズトリフルオリド、１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン等を挙げることができる。
（ｖｉｉ）含フッ素アルコール
含フッ素アルコールとしては、２，２，２－トリフルオロエタノール、２，２，３，３，３－ペンタフルオロ－１－プロパノール、１，１，１，３，３，３－ヘキサフルオロ－２－プロパノール等を挙げることができる。
（ｖｉｉｉ）含フッ素酸
含フッ素酸としては、トリフルオロ酢酸、トリフルオロメタンスルホン酸、無水フッ酸等を挙げることができる。
（ｉ）パーフルオロカーボン
パーフルオロカーボンとしては、例えば、パーフルオロヘキサン、パーフルオロヘプタン等を挙げることができる。
（ｉｉ）ハイドロクロロフルオロカーボン
ハイドロクロロフルオロカーボンとしては、例えば、ＨＣＦＣ－２２５ｃａ、ＨＣＦＣ－２２５ｃｂ等を挙げることができる。
（ｉｉｉ）パーフルオロカーボン
パーフルオロカーボンとしては、例えば、１，１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６－トリデカフルオロオクタン、１，１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６－トリデカフルオロヘキサン、１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタン等を挙げることができる。
（ｉｖ）ハイドロフルオロエーテル
ハイドロフルオロエーテルとしては、例えば、ＨＦＥ－３４７ｐｃ－ｆ、メチルノナフルオロブチルエーテル、メチルノナフルオロイソブチルエーテル、エチルノナフルオロブチルエーテル、エチルノナフルオロイソブチルエーテル、１，１，１，２，２，３，４，５，５，５－デカフルオロ－３－メトキシ－４－（トリフルオロメチル）ペンタン、ＨＦＥ－３５６ｍｅｃ３等を挙げることができる。
（ｖ）ハイドロ（クロロ）フルオロオレフィン
ハイドロ（クロロ）フルオロオレフィンとしては、例えば、ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄ、ＨＣＦＯ－１２３３ｚｄ（Ｚ）等を挙げることができる。
（ｖｉ）含フッ素芳香族炭化水素
含フッ素芳香族炭化水素としては、パーフルオロベンゼン、ベンズトリフルオリド、１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン等を挙げることができる。
（ｖｉｉ）含フッ素アルコール
含フッ素アルコールとしては、２，２，２－トリフルオロエタノール、２，２，３，３，３－ペンタフルオロ－１－プロパノール、１，１，１，３，３，３－ヘキサフルオロ－２－プロパノール等を挙げることができる。
（ｖｉｉｉ）含フッ素酸
含フッ素酸としては、トリフルオロ酢酸、トリフルオロメタンスルホン酸、無水フッ酸等を挙げることができる。
【0224】
フッ素系溶媒は、溶解力の観点から、上記列挙のなかでは、ＨＣＦＣ－２２５ｃａ、ＨＣＦＣ－２２５ｃｂ、１，１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６－トリデカフルオロオクタン、ＨＦＥ－３４７ｐｃ－ｆ、メチルノナフルオロブチルエーテル、メチルノナフルオロイソブチルエーテル、エチルノナフルオロブチルエーテル、エチルノナフルオロイソブチルエーテル、１，１，１，２，２，３，４，５，５，５－デカフルオロ－３－メトキシ－４－（トリフルオロメチル）ペンタン、ＨＦＥ－３５６ｍｅｃ３、１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン、２，２，２－トリフルオロエタノール、２，２，３，３，３－ペンタフルオロ－１－プロパノール、１，１，１，３，３，３－ヘキサフルオロ－２－プロパノール、トリフルオロ酢酸が好ましい。
【0225】
溶媒の含有量は特に限定されず、適宜定めることができる。
【0226】
工程（Ｉａ）の反応温度は、特に限定されないが、通常０～１００℃、好ましくは、２０～６０℃で行うことができる。反応時間は、特に限定されないが、通常０．５～２４時間である。反応圧力は、特に限定されないが、－０．２～１ＭＰａ（ゲージ圧）であり、簡便には常圧である。
【0227】
（工程（Ｉｂ））
工程（Ｉｂ）は、式（Ａ２１）の化合物及び式（Ｂ２１）の化合物の少なくとも一方と、式（Ｃ２１）の化合物との反応を含む。
工程（Ｉｂ）は、式（Ａ２１）の化合物及び式（Ｂ２１）の化合物の少なくとも一方と、式（Ｃ２１）の化合物との反応を含む。
【化28】
【化29】
【0228】
式（Ａ２１）の化合物と式（Ｃ２１）の化合物との反応により式（Ａ３２）の化合物が、式（Ｂ２１）の化合物と式（Ｃ２１）の化合物との反応により式（Ｂ３２）の化合物が、それぞれ製造される。
【化30】
【0229】
ＲＦ１、ＲＦ２、ＸＡ２１、ＸＡ３１、ＲＢ１、Ｒ１２、ｋ１及びｌ１は、それぞれ、上記と同意義である。
【0230】
ＹＡ２、ＹＡ３は、それぞれ上記と同意義である。ＹＡ２及びＹＡ３の反応により、ＹＡ４２が生じる。
式（Ａ２１）の－ＸＡ２１－ＹＡ２と式（Ｃ２１）のＹＡ３－ＸＡ３１－ＲＢ１との反応により、－ＸＡ２２－ＹＡ４２（－ＸＡ３２－ＲＢ１）ｋ１が形成され；式（Ｂ２１）の－ＸＡ２１－ＹＡ２と式（Ｃ２１）のＹＡ３－ＸＡ３１－ＲＢ１との反応により、－ＸＡ２２－ＹＡ４２（－ＸＡ３２－ＲＢ１）ｋ１が形成される。－ＸＡ２２－ＹＡ４２（－ＸＡ３２－ＲＢ１）ｋ１は式（Ａ３２）又は式（Ｂ３２）の－ＸＡ２２－Ｘ１（－ＸＡ３２－ＲＢ１）ｋ１Ｒ１２ ｌ１に相当する。
ＸＡ２２、ＸＡ３２は、それぞれ独立して、単結合又は２価の有機基であり、ＹＡ４２は、Ｘ１又はＸ１を含む２価の基である。ＸＡ２２はＸ２１又はＸ２１の水素付加体であり、ＲＦ１又はＲＦ２とＸ１とを結合するリンカー部分ＸＡに相当する。ＹＡ４２はＸ１又はＸ１Ｒ１２に、ＸＡ３２はＺ１１に、それぞれ相当する。
式（Ａ２１）の－ＸＡ２１－ＹＡ２と式（Ｃ２１）のＹＡ３－ＸＡ３１－ＲＢ１との反応により、－ＸＡ２２－ＹＡ４２（－ＸＡ３２－ＲＢ１）ｋ１が形成され；式（Ｂ２１）の－ＸＡ２１－ＹＡ２と式（Ｃ２１）のＹＡ３－ＸＡ３１－ＲＢ１との反応により、－ＸＡ２２－ＹＡ４２（－ＸＡ３２－ＲＢ１）ｋ１が形成される。－ＸＡ２２－ＹＡ４２（－ＸＡ３２－ＲＢ１）ｋ１は式（Ａ３２）又は式（Ｂ３２）の－ＸＡ２２－Ｘ１（－ＸＡ３２－ＲＢ１）ｋ１Ｒ１２ ｌ１に相当する。
ＸＡ２２、ＸＡ３２は、それぞれ独立して、単結合又は２価の有機基であり、ＹＡ４２は、Ｘ１又はＸ１を含む２価の基である。ＸＡ２２はＸ２１又はＸ２１の水素付加体であり、ＲＦ１又はＲＦ２とＸ１とを結合するリンカー部分ＸＡに相当する。ＹＡ４２はＸ１又はＸ１Ｒ１２に、ＸＡ３２はＺ１１に、それぞれ相当する。
【0231】
一の態様において、ＹＡ２は－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ３１、ＹＡ３は水素原子、ＸＡ３１は－Ｃ≡Ｃ－に相当する。ＹＡ４２は－ＣＯＨであり、Ｘ１を含む２価の基Ｘ１Ｒ１２である。Ｘ１は炭素原子、Ｒ１２はＯＨに相当する。
【0232】
一の態様において、ＹＡ２は－ＳｉＣｌ３、ＹＡ３は水素原子、ＸＡ３１は－Ｃ≡Ｃ－に相当する。ＹＡ４２はＸ１であり、ケイ素原子である。
【0233】
一の態様において、ＸＡ２２は－（（ＣＨ２）ｐ１０）ｐ４１－であり、ＹＡ４２はＸ１Ｒ１２であり、Ｘ１は炭素原子、Ｒ１２はＯＨ、ＸＡ３２は－Ｃ≡Ｃ－（ＣＨ２）ｐ１０１’－である
式中、ｐ１０はそれぞれ独立して、１～２０の整数であり、好ましくは１～６の整数であり、より好ましくは１～３の整数であり；
ｐ４１は、０又は１であり；
ｐ１０１’は、０～１８の整数であり、例えば、０～４の整数であり、具体的には、０～１の整数である。
式中、ｐ１０はそれぞれ独立して、１～２０の整数であり、好ましくは１～６の整数であり、より好ましくは１～３の整数であり；
ｐ４１は、０又は１であり；
ｐ１０１’は、０～１８の整数であり、例えば、０～４の整数であり、具体的には、０～１の整数である。
【0234】
一の態様において、ＸＡ２２は、－（（ＣＨ２）ｐ１０）ｐ４１－Ｏ－（（ＣＨ２）ｐ１０）ｐ４１－であり、ＹＡ４２はＸ１に相当し、ケイ素原子であり、ＸＡ３２は、－Ｃ≡Ｃ－（ＣＨ２）ｐ１０１’－である
式中、ｐ１０はそれぞれ独立して、１～２０の整数であり、好ましくは１～６の整数であり、より好ましくは１～３の整数であり；
ｐ４１は、それぞれ独立して、０又は１であり；
ｐ１０１’は、０～１８の整数であり、例えば、０～４の整数であり、具体的には、０～１の整数である。
式中、ｐ１０はそれぞれ独立して、１～２０の整数であり、好ましくは１～６の整数であり、より好ましくは１～３の整数であり；
ｐ４１は、それぞれ独立して、０又は１であり；
ｐ１０１’は、０～１８の整数であり、例えば、０～４の整数であり、具体的には、０～１の整数である。
【0235】
式（Ａ２１）の化合物と（Ｂ２１）の化合物と、式（Ｃ２１）の化合物との混合比は、適宜定めることができる。
【0236】
工程（Ｉｂ）は、溶媒中で行い得る。溶媒については、工程（Ｉａ）と同様に設定し得る。
溶媒の含有量は特に限定されず、適宜定めることができる。
溶媒の含有量は特に限定されず、適宜定めることができる。
【0237】
反応温度、反応時間、及び反応圧力については、工程（Ｉａ）と同様に設定し得る。
【0238】
工程（Ｉｂ）で得られた化合物に、更に、ＲＢ１を有する基を付加する反応を行ってもよい。例えば、Ｒ１２がＯＨである場合、ＨＯ－ＸＡ３１－ＲＢ１を加え、－Ｏ－ＸＡ３１－ＲＢ１を形成してもよい。
【0239】
工程（Ｉｂ）で得られた化合物に、更に、エステル化反応を行ってもよい。
【0240】
（工程（Ｉｃ））
工程（Ｉｃ）は、式（Ａ２１）又は（Ｂ２１）の化合物と、式（Ｃ２２）の化合物との反応を含む。
工程（Ｉｃ）は、式（Ａ２１）又は（Ｂ２１）の化合物と、式（Ｃ２２）の化合物との反応を含む。
【化31】
【化32】
【0241】
式（Ａ２１）の化合物と式（Ｃ２２）の化合物との反応により式（Ａ３３）の化合物が、式（Ｂ２１）の化合物と式（Ｃ２２）の化合物との反応により式（Ｂ３３）の化合物が、それぞれ製造される。
【化33】
【0242】
ＲＦ１、ＲＦ２、Ｘ１、ＲＢ１、Ｒ１２、ｋ１及びｌ１は、それぞれ、上記と同意義である。
【0243】
ＹＡ２、ＹＡ３は、それぞれ上記と同意義である。ＹＡ２及びＹＡ３１の反応によりＹＡ４３が形成される。式（Ａ２１）の－ＸＡ２１－ＹＡ２と式（Ｃ２２）のＹＡ３１－ＸＡ３１－Ｘ１－との反応により、－ＸＡ２１－ＹＡ４３－ＸＡ３１－Ｘ１－が形成され；式（Ｂ２１）の－ＸＡ２１－ＹＡ２と式（Ｃ２２）のＹＡ３１－ＸＡ３１－Ｘ１－との反応により、－ＸＡ２１－ＹＡ４３－ＸＡ３１－Ｘ１－が形成される。ＸＡ２１及びＸＡ３１は、それぞれ独立して、単結合又は２価の有機基であり、ＹＡ４３は２価の基（例えば２価の有機基）である。－ＸＡ２１－ＹＡ４３－ＸＡ３１－は、式（Ａ３３）又は式（Ｂ３３）の－ＸＡ３３－である。ＸＡ３３は、ＲＦ１又はＲＦ２とＸ１とを結合するリンカー部分ＸＡに相当する。
【0244】
ＸＡ３３’は単結合又は２価の有機基であり、Ｘ１とＲＢ１とを結合するリンカー部分Ｚ１１に相当する。
【0245】
一の態様において、ＹＡ２は－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ３１、ＹＡ３１－ＸＡ３１－Ｘ１－はＨＮ－、－ＹＡ４３－Ｘ１－は－Ｃ（＝Ｏ）－Ｘ１－である。ＹＡ４３は－Ｃ（＝Ｏ）－、ＹＡ３１は水素原子、ＸＡ３１単結合、Ｘ１は窒素原子である。
【0246】
式（Ａ２１）の化合物と（Ｂ２１）の化合物と、式（Ｃ２２）の化合物との混合比は、適宜定めることができる。
【0247】
工程（Ｉｃ）は、溶媒中で行い得る。溶媒としては、溶媒については、工程（Ｉａ）と同様に設定し得る。
溶媒の含有量は特に限定されず、適宜定めることができる。
溶媒の含有量は特に限定されず、適宜定めることができる。
【0248】
反応温度、反応時間、及び反応圧力については、工程（Ｉａ）と同様に設定し得る。
【0249】
工程（Ｉａ）～（Ｉｃ）において、他の化合物を更に加え得る。他の化合物としては、例えば、塩基、縮合剤、添加剤、触媒等を挙げることができる。
【0250】
塩基としては、例えば、ｎ－ブチルリチウム、ｓｅｃ－ブチルリチウム、ｔｅｒｔ－ブチルリチウム、リチウムジイソプロピルアミド、ナトリウムヘキサメチルジシラジド、カリウムヘキサメチルジシラジド、ナトリウムメトキシド、カリウムメトキシド、水酸化ナトリウム、リン酸カリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、トリエチルアミン、Ｎ、Ｎ－ジイソプロピルエチルアミン、１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］－７－ウンデセン等を用いることができる。塩基の添加量は特に限定されないが、例えば、フルオロポリエーテル基含有化合物（Ａ）１モルに対して１～５モル加えることができる。
【0251】
縮合剤の種類は、用いる化合物等に応じて適宜選択することができる。縮合剤としては、例えば、ジシクロヘキシルカルボジイミド、１－（３－ジメチルアミノプロピル）－３－エチルカルボジイミドおよびその塩酸塩、１－［ビス(ジメチルアミノ)メチレン］－１Ｈ－１,２,３－トリアゾロ［４，５－ｂ］ピリジニウム３－オキシドヘキサフルオロホスファート、（１－シアノ－２－エトキシ－２－オキソエチリデンアミノオキシ）ジメチルアミノモルホリノカルベニウムヘキサフルオロホスファート、ジフェニルホスホリルアジド、ブロモトリピロリジノホスホニウムヘキサフルオロホスファート、２－クロロ－１－メチルピリジニウムヨージド、カルボニルジイミダゾールなどを挙げることができる。
【0252】
添加剤の種類は、用いる化合物等に応じて適宜選択することができる。
【0253】
触媒としては、例えば、４－ジメチルアミノピリジン、１－ヒドロキシベンゾトリアゾール、１－ヒドロキシ－７－アザベンゾトリアゾール、Ｎ－ヒドロキシスクシンイミド、Ｎ－メチルイミダゾール、４－（ジメチルアミノ）ピリジン Ｎ－オキシドなどを挙げることができる。
【0254】
［工程（ＩＩ）］
本開示の製造方法は、工程（Ｉａ）、（Ｉｂ）又は（Ｉｃ）で得られた化合物に、水素原子を付加する工程（ＩＩ）、を含んでいてもよい。本工程（ＩＩ）により、－ＯＲＰ１のＲＰ１は水素原子に置換される（脱保護）。また、芳香環（例えば、ＲＢ１）以外の炭素－炭素不飽和結合には水素原子が付加され得る。
本開示の製造方法は、工程（Ｉａ）、（Ｉｂ）又は（Ｉｃ）で得られた化合物に、水素原子を付加する工程（ＩＩ）、を含んでいてもよい。本工程（ＩＩ）により、－ＯＲＰ１のＲＰ１は水素原子に置換される（脱保護）。また、芳香環（例えば、ＲＢ１）以外の炭素－炭素不飽和結合には水素原子が付加され得る。
【0255】
具体的には、本開示の製造方法は、式（Ａ１）又は（Ｂ１）：
で表されるフッ素原子含有化合物のＲＡ２に含まれる保護基を水素原子に置換する工程（ＩＩ）を含んでいてもよい。
式中：
ＲＦ１は、Ｒｆ１－ＲＦ－Ｏｑ－であり；
ＲＦ２は、－Ｒｆ２ ｐ－ＲＦ－Ｏｑ－であり；
Ｒｆ１は、１個以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－１６アルキル基であり；
Ｒｆ２は、１個以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－６アルキレン基であり；
ＲＦは、それぞれ独立して、２価のフッ素原子含有基であり；
ｐは、０又は１であり；
ｑは、それぞれ独立して、０又は１であり；
αは、１～９の整数であり；
βは、１～９の整数であり；
γは、それぞれ独立して、１～９の整数であり；
ＸＡ１は、それぞれ独立して、単結合、又は、２～１０価の有機基であり；
ＲＡ２は、それぞれ独立して、芳香環を含む基であり；
前記芳香環を含む基は、少なくとも３つの－ＯＲＰ２を有するベンゼン環を含み；
ＲＰ２は、それぞれ独立して、保護基である。
式中：
ＲＦ１は、Ｒｆ１－ＲＦ－Ｏｑ－であり；
ＲＦ２は、－Ｒｆ２ ｐ－ＲＦ－Ｏｑ－であり；
Ｒｆ１は、１個以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－１６アルキル基であり；
Ｒｆ２は、１個以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－６アルキレン基であり；
ＲＦは、それぞれ独立して、２価のフッ素原子含有基であり；
ｐは、０又は１であり；
ｑは、それぞれ独立して、０又は１であり；
αは、１～９の整数であり；
βは、１～９の整数であり；
γは、それぞれ独立して、１～９の整数であり；
ＸＡ１は、それぞれ独立して、単結合、又は、２～１０価の有機基であり；
ＲＡ２は、それぞれ独立して、芳香環を含む基であり；
前記芳香環を含む基は、少なくとも３つの－ＯＲＰ２を有するベンゼン環を含み；
ＲＰ２は、それぞれ独立して、保護基である。
【0256】
上記ＲＰ２は、好ましくはベンジル基である。本態様において、接触水素化によりベンジル基を水素原子に置換する。
【0257】
上記工程（ＩＩ）は、例えば、（ｉ）水素化分解反応、（ｉｉ）フッ化物イオンを用いた反応、又は（ｉｉｉ）酸を用いた反応において行うことができる。
【0258】
（ｉ）水素化分解反応
水素化分解反応に用いる触媒として、例えば、パラジウム炭素、ラネーニッケル、酸化白金（ＩＶ）、及び水酸化パラジウムから選ばれる少なくとも１つを用いることができる。さらに、水素又はギ酸を用いて、水素原子を供給することができる。
工程（Ｉ）で得られる化合物に含まれる保護基は、芳香環（例えば、ＲＢ１）や芳香環（例えば、ＲＢ１）以外の炭素－炭素不飽和結合であることが好ましい。なお、工程（ＩＩ）を経ることにより、芳香環以外の炭素－炭素不飽和結合には水素原子が付加される。本工程では、好ましくは、保護基としては、ベンジル基を用いる。
水素化分解反応に用いる触媒として、例えば、パラジウム炭素、ラネーニッケル、酸化白金（ＩＶ）、及び水酸化パラジウムから選ばれる少なくとも１つを用いることができる。さらに、水素又はギ酸を用いて、水素原子を供給することができる。
工程（Ｉ）で得られる化合物に含まれる保護基は、芳香環（例えば、ＲＢ１）や芳香環（例えば、ＲＢ１）以外の炭素－炭素不飽和結合であることが好ましい。なお、工程（ＩＩ）を経ることにより、芳香環以外の炭素－炭素不飽和結合には水素原子が付加される。本工程では、好ましくは、保護基としては、ベンジル基を用いる。
【0259】
（ｉｉ）フッ化物イオンを用いた反応
フッ化物イオンを生じさせる化合物として、例えば、フッ化水素、フッ化カリウム、フッ化セシウム、テトラブチルアンモニウムフロリド、テトラメチルアンモニウムフロリド、及びジフルオロトリメチルケイ酸トリス（ジメチルアミノ）スルホニウムから選ばれる少なくとも１つを用いることができる。
工程（Ｉ）で得られる化合物に含まれる保護基は、シリル系保護基であることが好ましく、例えば、トリメチルシリル基、ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシリル基、トリイソプロピルシリル、ｔｅｒｔ－ブチルジフェニルシリル基を挙げることができる。
フッ化物イオンを生じさせる化合物として、例えば、フッ化水素、フッ化カリウム、フッ化セシウム、テトラブチルアンモニウムフロリド、テトラメチルアンモニウムフロリド、及びジフルオロトリメチルケイ酸トリス（ジメチルアミノ）スルホニウムから選ばれる少なくとも１つを用いることができる。
工程（Ｉ）で得られる化合物に含まれる保護基は、シリル系保護基であることが好ましく、例えば、トリメチルシリル基、ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシリル基、トリイソプロピルシリル、ｔｅｒｔ－ブチルジフェニルシリル基を挙げることができる。
【0260】
（ｉｉｉ）酸を用いた反応
酸としては、塩酸、硫酸、トリフルオロ酢酸を用いることが好ましい。
工程（Ｉ）で得られる化合物に含まれる保護基は、アセタール系保護基であることが好ましく、例えば、２－テトラヒドロピラニル基、メトキシメチル基、メトキシエトキシメチル基、ベンジリデンアセタール基等を用いることがより好ましい。
酸としては、塩酸、硫酸、トリフルオロ酢酸を用いることが好ましい。
工程（Ｉ）で得られる化合物に含まれる保護基は、アセタール系保護基であることが好ましく、例えば、２－テトラヒドロピラニル基、メトキシメチル基、メトキシエトキシメチル基、ベンジリデンアセタール基等を用いることがより好ましい。
【0261】
工程（ＩＩ）の反応は、溶媒中で行い得る。溶媒としては、特に限定されないが、例えば、トリフルオロエタノール、ヘキサフルオロ－２－プロパノール、パーフルオロヘキサン、パーフルオロベンゼン、１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン、ＨＣＦＣ－２２５、ＨＦＥ－７２００等を挙げることができる。
【0262】
工程（ＩＩ）の反応温度は、特に限定されないが、通常０～１００℃、好ましくは、２０～６０℃で行うことができる。反応時間は、特に限定されないが、通常０．５～２４時間である。反応圧力は、特に限定されないが、－０．２～１ＭＰａ（ゲージ圧）であり、簡便には常圧である。
【0263】
（その他の工程）
本開示の製造方法は、上記工程（Ｉ）又は（ＩＩ）の後で、中和、抽出、脱水、精製等の工程を含み得る。
本開示の製造方法は、上記工程（Ｉ）又は（ＩＩ）の後で、中和、抽出、脱水、精製等の工程を含み得る。
【0264】
＜組成物＞
本開示の一態様である、フッ素原子含有化合物を含む組成物について説明する。
本開示の一態様である、フッ素原子含有化合物を含む組成物について説明する。
【0265】
一の態様において、フッ素原子含有化合物は、－ＯＲＰ１のＲＰ１は、水素原子である。該組成物は、特にコーティング用（表面処理剤）として有効である。該組成物は、基材への接着性が良好な層の形成に寄与できる。
【0266】
一の態様において、上記組成物は、フッ素原子含有化合物と溶剤とを含む。
【0267】
上記溶剤としては、例えば、地球温暖化係数（１００年）が１，０００以下であるものを用いることができる。ある物質の地球温暖化係数（１００年）とは、単位質量の当該物質が大気中に放出されたときの、１００年間で地球に与える放射エネルギーの積算値を、二酸化炭素の同エネルギーに対する比率として見積もったものである。本開示においては、その具体的な値として、「Smith, C., Z.R.J. Nicholls, K. Armour, W. Collins, P. Forster, M. Meinshausen, M.D. Palmer, and M. Watanabe, 2021: The Earth's Energy Budget, Climate Feedbacks, and Climate Sensitivity Supplementary Material. In Climate Change 2021: The Physical Science Basis. Contribution of Working Group I to the Sixth Assessment Report of the Intergovernmental Panel on Climate Change [Masson-Delmotte, V., P. Zhai, A. Pirani, S.L. Connors, C. Pean, S. Berger, N. Caud, Y. Chen, L. Goldfarb, M.I. Gomis, M. Huang, K. Leitzell, E. Lonnoy, J.B.R. Matthews, T.K. Maycock, T. Waterfield, O. Yelekci, R. Yu, and B. Zhou (eds.)].」に記載の値を用いる。
【0268】
溶剤として、例えば、非フッ素系溶媒、又は、フッ素系溶媒を用いることができる。溶媒は、例えば、上述した非フッ素系溶媒の（ｉ）～（ｖｉｉｉ）、又は、フッ素系溶媒の（ｉ）～（ｖｉｉｉ）である。非フッ素系溶媒及びフッ素系溶媒は組み合わせて用いてもよい。
【0269】
フッ素原子含有化合物に対する溶解力の観点から、溶剤としてフッ素系溶媒を用いることが好ましい。
【0270】
コーティングの実施により、溶剤は揮発し大気に放出されうる。この観点から、地球温暖化係数（１００年）が１，０００以下の溶剤が好ましい。
【0271】
より好ましくは、溶剤として、ハイドロクロロフルオロカーボン、ハイドロフルオロカーボン、ハイドロフルオロエーテル、ハイドロ（クロロ）フルオロオレフィン、含フッ素芳香族炭化水素、含フッ素アルコール、含フッ素酸等を挙げることができる。
【0272】
さらに好ましくは、溶剤として、ＨＣＦＣ－２２５ｃａ、ＨＣＦＣ－２２５ｃｂ、１，１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６－トリデカフルオロオクタン、１，１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６－トリデカフルオロヘキサン、１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタン、ＨＦＥ－３４７ｐｃ－ｆ、メチルノナフルオロブチルエーテル、メチルノナフルオロイソブチルエーテル、エチルノナフルオロブチルエーテル、エチルノナフルオロイソブチルエーテル、１，１，１，２，２，３，４，５，５，５－デカフルオロ－３－メトキシ－４－（トリフルオロメチル）ペンタン、ＨＦＥ－３５６ｍｅｃ３、ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄ、ＨＣＦＯ－１２３３ｚｄ（Ｚ）、パーフルオロベンゼン、ベンズトリフルオリド、１，３－ビストリフルオロメチルベンゼン、２，２，２-トリフルオロエタノール、２，２，３，３，３－ペンタフルオロ－１－プロパノール、１，１，１，３，３，３－ヘキサフルオロ－２－プロパノールを挙げることができる。このような溶剤を用いることにより、本開示の組成物の保存安定性が向上する。
【0273】
本開示の組成物（例えば、表面処理剤）は、撥水性、撥油性、防汚性、表面滑り性、摩擦耐久性、離型性（例えば樹脂成型金型などへの樹脂などの付着を防止する）を基材に対して付与することができ、特に限定されるものではないが、防汚性コーティング剤又は防水性コーティング剤として好適に使用され得る。
【0274】
（他の成分）
上記組成物は、上記フッ素原子含有化合物に加え、他の成分を含んでいてもよい。かかる他の成分としては、特に限定されるものではないが、例えば、シリコーンオイルとして理解され得る（非反応性の）シリコーン化合物（以下、「シリコーンオイル」と言う）、触媒、遷移金属、ハロゲン化物イオン、シランカップリング剤、分子構造内に非共有電子対を有する原子を含む化合物などが挙げられる。
上記組成物は、上記フッ素原子含有化合物に加え、他の成分を含んでいてもよい。かかる他の成分としては、特に限定されるものではないが、例えば、シリコーンオイルとして理解され得る（非反応性の）シリコーン化合物（以下、「シリコーンオイル」と言う）、触媒、遷移金属、ハロゲン化物イオン、シランカップリング剤、分子構造内に非共有電子対を有する原子を含む化合物などが挙げられる。
【0275】
上記シリコーンオイルとしては、例えばシロキサン結合が２，０００以下の直鎖状又は環状のシリコーンオイルを用い得る。直鎖状のシリコーンオイルは、いわゆるストレートシリコーンオイル及び変性シリコーンオイルであってよい。ストレートシリコーンオイルとしては、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル、メチルハイドロジェンシリコーンオイルが挙げられる。変性シリコーンオイルとしては、ストレートシリコーンオイルを、アルキル、アラルキル、ポリエーテル、高級脂肪酸エステル、フルオロアルキル、アミノ、エポキシ、カルボキシル、アルコールなどにより変性したものが挙げられる。環状のシリコーンオイルは、例えば環状ジメチルシロキサンオイルなどが挙げられる。
【0276】
本開示の組成物（例えば、表面処理剤）中、かかるシリコーンオイルは、上記本開示のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物の合計１００質量部（２種以上の場合にはこれらの合計、以下も同様）に対して、例えば０～３００質量部、好ましくは５０～２００質量部で含まれ得る。
【0277】
シリコーンオイルは、本開示の組成物（例えば、表面処理剤）によって形成された層の表面滑り性を向上させるのに寄与する。
【0278】
上記触媒としては、酸（例えば塩酸、硫酸、酢酸、トリフルオロ酢酸等）、塩基（例えばアンモニア、トリエチルアミン、ピリジン等）、ルイス酸（塩化アルミ、塩化鉄、クロロトリメチルシラン、３フッ化ホウ素など）、ルイス塩基（ジメチルスフホキシド、トリフェニルホスフィン、ヘキサメチルホスホラミド等）等が挙げられる。
【0279】
触媒は、本開示のフッ素原子含有化合物と基材との反応場におけるｐＨと適切に調節しうる。
【0280】
本開示の組成物は、基材の表面処理を行うコーティング剤（例えば、表面処理剤）として用いることができる。
【0281】
＜ペレット＞
本開示の組成物は、多孔質物質、例えば多孔質のセラミック材料、金属繊維、例えばスチールウールを綿状に固めたものに含浸させて、ペレットとすることができる。当該ペレットは、例えば、真空蒸着に用いることができる。
本開示の組成物は、多孔質物質、例えば多孔質のセラミック材料、金属繊維、例えばスチールウールを綿状に固めたものに含浸させて、ペレットとすることができる。当該ペレットは、例えば、真空蒸着に用いることができる。
【0282】
＜物品＞
以下、本開示の物品について説明する。
以下、本開示の物品について説明する。
【0283】
本開示の物品は、基材と、該基材表面に本開示のフッ素原子含有化合物又はフッ素原子含有化合物を含む組成物（以下、これらを代表して単に「本開示の表面処理剤」という）より形成された層（表面処理層）とを含む。
【0284】
一の態様において、本開示において使用可能な基材は、金属を含む。該金属は、基材の表面に存在することが好ましい。
【0285】
上記金属は、貴金属又はステンレス鋼であってもよい。
【0286】
上記金属は、好ましくは、Ａｌ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｙ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｓｎ、Ｗ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ａｕ、及びＰｂからなる群より選ばれる少なくとも１つを含む。
【0287】
一の態様において、上記金属は、Ｃｒを含む。一の態様において、上記金属はＮｉを含む。
【0288】
一の態様において、上記金属は合金でもよい。合金としてはステンレス鋼等が挙げられる。ステンレス鋼はＦｅ及びＣｒを含む合金である。ステンレス鋼は、Ｆｅ及びＣｒ以外に、Ｃ、Ｓｉ、Ｍｎ、Ｐ、Ｓ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｃｕ、Ｎ、Ｐｂ、Ａｌ、Ｓｅ、Ｎｂ、Ｔｉ、Ｐｂ等を含んでいてもよい。
【0289】
ステンレス鋼としては、例えば、ＳＵＳ４０３、ＳＵＳ４１０、ＳＵＳ４１０Ｊ１、ＳＵＳ４１０Ｆ２、ＳＵＳ４１６、ＳＵＳ４２０Ｊ１、ＳＵＳ４２０Ｊ２、ＳＵＳ４２０Ｆ、ＳＵＳ４２０Ｆ２、ＳＵＳ４３１、ＳＵＳ４４０Ａ、ＳＵＳ４４０Ｂ、ＳＵＳ４４０Ｃ、ＳＵＳ４４０Ｆ、ＳＵＳ４０５、ＳＵＳ４１０Ｌ、ＳＵＳ４３０、ＳＵＳ４３０Ｆ、ＳＵＳ４３４、ＳＵＳ４４７Ｊ１、ＳＵＳＸＭ２７、ＳＵＳ３２９Ｊ１、ＳＵＳ３２９Ｊ３Ｌ、ＳＵＳ３２９Ｊ４Ｌ、ＳＵＳ２０１、ＳＵＳ２０２、ＳＵＳ３０１、ＳＵＳ３０２、ＳＵＳ３０３、ＳＵＳ３０３Ｓｅ、ＳＵＳ３０３Ｃｕ、ＳＵＳ３０４、ＳＵＳ３０４Ｌ、ＳＵＳ３０４Ｎ１、ＳＵＳ３０４Ｎ２、ＳＵＳ３０４ＬＮ、ＳＵＳ３０４Ｊ３、ＳＵＳ３０５、ＳＵＳ３０９Ｓ、ＳＵＳ３１０Ｓ、ＳＵＳ３１６、ＳＵＳ３１６Ｌ、ＳＵＳ３１６Ｎ、ＳＵＳ３１６ＬＮ、ＳＵＳ３１６Ｔｉ、ＳＵＳ３１６Ｊ１、ＳＵＳ３１６Ｊ１Ｌ、ＳＵＳ３１６Ｆ、ＳＵＳ３１７、ＳＵＳ３１７Ｌ、ＳＵＳ３１７ＬＮ、ＳＵＳ３１７Ｊ１、ＳＵＳ８３６Ｌ、ＳＵＳ８９０Ｌ、ＳＵＳ３２１、ＳＵＳ３４７、ＳＵＳＸＭ７、ＳＵＳＸＭ１５Ｊ１、ＳＵＳ６３０、ＳＵＳ６３１等を挙げることができる。
【0290】
一の態様において、本開示において使用可能な基材は、例えば、ガラス、セラミックス、半導体（シリコン、ゲルマニウム等）、樹脂（天然又は合成樹脂、例えば一般的なプラスチック材料であってよく、板状、フィルム、その他の形態であってよい）、繊維（織物、不織布等）、毛皮、皮革、木材、陶磁器、石材等、建築部材等、任意の適切な材料で構成され得る。
【0291】
基材の形状は特に限定されない。また、本開示の表面処理剤によって形成された層を形成すべき基材の表面領域は、基材表面の少なくとも一部であればよく、製造すべき物品の用途及び具体的仕様等に応じて適宜決定され得る。
【0292】
基材に何らかの前処理を施すことにより、基材の表面を活性化し、表面処理剤の密着性を向上することができる。かかる前処理の例としては、ＵＶオゾン処理、プラズマ処理（例えばコロナ放電）や、イオンビーム照射が挙げられる。これらの処理は、基材表面を清浄化する（異物等を除去する）ためにも好適に利用され得る。また、かかる前処理の別の例としては、炭素－炭素不飽和結合基を有する界面吸着剤をＬＢ法（ラングミュア－ブロジェット法）や化学吸着法等によって、基材表面に予め単分子膜の形態で形成し、その後、酸素や窒素等を含む雰囲気下にて不飽和結合を開裂する方法が挙げられる。
【0293】
次に、かかる基材の表面に、上記の本開示の表面処理剤の層を形成し、この層を必要に応じて後処理し、これにより、本開示の表面処理剤から層を形成する。
【0294】
本開示の表面処理剤の層形成は、上記の表面処理剤を基材の表面に対して、該表面を被覆するように適用することによって実施できる。被覆方法は、特に限定されない。例えば、湿潤被覆法及び乾燥被覆法を使用できる。
【0295】
湿潤被覆法の例としては、浸漬コーティング、スピンコーティング、フローコーティング、スプレーコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティング及び類似の方法が挙げられる。
【0296】
乾燥被覆法の例としては、蒸着（通常、真空蒸着）、スパッタリング、ＣＶＤ及び類似の方法が挙げられる。蒸着法（通常、真空蒸着法）の具体例としては、抵抗加熱、電子ビーム、マイクロ波等を用いた高周波加熱、イオンビーム及び類似の方法が挙げられる。ＣＶＤ方法の具体例としては、プラズマ－ＣＶＤ、光学ＣＶＤ、熱ＣＶＤ及び類似の方法が挙げられる。
【0297】
更に、常圧プラズマ法による被覆も可能である。
【0298】
湿潤被覆法を使用する場合、本開示の表面処理剤は、溶媒で希釈されてから基材表面に適用され得る。
溶媒として、例えば、地球温暖化係数（１００年）が１，０００以下であるものを用いることができる。
溶媒として、例えば、非フッ素系溶媒、又は、フッ素系溶媒を用いることができる。例えば、溶媒として、上述した非フッ素系溶媒の（ｉ）～（ｖｉｉｉ）、又は、フッ素系溶媒の（ｉ）～（ｖｉｉｉ）を用いることができる。非フッ素系溶媒及びフッ素系溶媒は組み合わせて用いてもよい。
溶媒として、例えば、地球温暖化係数（１００年）が１，０００以下であるものを用いることができる。
溶媒として、例えば、非フッ素系溶媒、又は、フッ素系溶媒を用いることができる。例えば、溶媒として、上述した非フッ素系溶媒の（ｉ）～（ｖｉｉｉ）、又は、フッ素系溶媒の（ｉ）～（ｖｉｉｉ）を用いることができる。非フッ素系溶媒及びフッ素系溶媒は組み合わせて用いてもよい。
【0299】
乾燥被覆法を使用する場合、本開示の表面処理剤は、そのまま乾燥被覆法に付してもよく、又は、上記した溶媒で希釈してから乾燥被覆法に付してもよい。
【0300】
表面処理剤の層形成は、層中で本開示の表面処理剤が、加水分解及び脱水縮合のための触媒と共に存在するように実施することが好ましい。簡便には、湿潤被覆法による場合、本開示の表面処理剤を溶媒で希釈した後、基材表面に適用する直前に、本開示の表面処理剤の希釈液に触媒を添加してよい。乾燥被覆法による場合には、触媒添加した本開示の表面処理剤をそのまま蒸着（通常、真空蒸着）処理するか、あるいは鉄や銅などの金属多孔体に、触媒添加した本開示の表面処理剤を含浸させたペレット状物質を用いて蒸着（通常、真空蒸着）処理をしてもよい。
【0301】
触媒としては、酸（例えば塩酸、硫酸、酢酸、トリフルオロ酢酸等）、塩基（例えばアンモニア、トリエチルアミン、ピリジン等）、ルイス酸（塩化アルミ、塩化鉄、クロロトリメチルシラン、３フッ化ホウ素など）、ルイス塩基（ジメチルスフホキシド、トリフェニルホスフィン、ヘキサメチルホスホラミド等）等が挙げられる。。
【0302】
上記のようにして、基材の表面に、本開示の表面処理剤に由来する層が形成され、本開示の物品が製造される。これにより得られる上記層は、高い表面滑り性と高い摩擦耐久性の双方を有する。また、上記層は、高い摩擦耐久性に加えて、使用する表面処理剤の組成にもよるが、撥水性、撥油性、防汚性（例えば指紋等の汚れの付着を防止する）、防水性（電子部品等への水の浸入を防止する）、表面滑り性（又は潤滑性、例えば指紋等の汚れの拭き取り性や、指に対する優れた触感）、離型性（例えば樹脂成型金型などへの樹脂などの付着を防止する）などを有し得、機能性薄膜として好適に利用され得る。
【0303】
本開示はさらに、本開示の表面処理剤に由来する層を最外層に有する金属を有する材料に関する。なお、ここで、金属とはめっき部分を含む。
【0304】
別の態様において、本開示は、本開示の表面処理剤に由来する層を最外層に有する光学材料にも関する。
【0305】
光学材料としては、後記に例示するようなディスプレイ等に関する光学材料のほか、多種多様な光学材料が好ましく挙げられる：例えば、陰極線管（ＣＲＴ；例えば、パソコンモニター）、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、無機薄膜ＥＬドットマトリクスディスプレイ、背面投写型ディスプレイ、蛍光表示管（ＶＦＤ）、電界放出ディスプレイ（ＦＥＤ；Ｆｉｅｌｄ Ｅｍｉｓｓｉｏｎ Ｄｉｓｐｌａｙ）などのディスプレイ又はそれらのディスプレイの保護板、又はそれらの表面に反射防止膜処理を施したもの。
【0306】
本開示によって得られる層を有する物品は、特に限定されるものではない。
【0307】
本開示によって得られる層を有する物品は、例えば、スマートフォン、（スマート）ウォッチ、パーソナルコンピューター（ＰＣ）、タブレットＰＣ；シンク、蛇口；装飾品、アクセサリー；車載部品等を挙げることができる。本開示の表面処理層を設けることにより、金属の防汚性を良好にすることができる。
【0308】
さらに、本開示によって得られる層を有する物品は、樹脂やゴムの製造に用いる成型装置；メタルマスク、フォトマスク等の半導体の製造工程で用いる装置等を挙げることができる。本開示の表面処理層を設けることにより、金属の離型性を向上することができる。
【0309】
別の形態において、本開示によって得られる層を有する物品は、光学部材であり得る。光学部材の例には、次のものが挙げられる：眼鏡などのレンズ；ＰＤＰ、ＬＣＤなどのディスプレイの前面保護板、反射防止板、偏光板、アンチグレア板；携帯電話、携帯情報端末などの機器のタッチパネルシート；ブルーレイ（Ｂｌｕ－ｒａｙ（登録商標））ディスク、ＤＶＤディスク、ＣＤ－Ｒ、ＭＯなどの光ディスクのディスク面；光ファイバー；時計の表示面など。
【0310】
また、本開示によって得られる層を有する物品は、医療機器又は医療材料であってもよい。
【0311】
さらに、本開示によって得られる層を有する物品は、自動車の内外装、例えばヘッドライトカバー、サイドミラー、サイドウインドウ、内装加飾フィルム、センターコンソール、メーターパネル、カメラレンズカバーなどであってもよい。
【0312】
上記層の厚さは、特に限定されない。光学部材の場合、上記層の厚さは、１～５０ｎｍ、１～３０ｎｍ、好ましくは１～１５ｎｍの範囲であることが、光学性能、表面滑り性、摩擦耐久性及び防汚性の点から好ましい。
【0313】
以上、実施形態を説明したが、特許請求の範囲の趣旨及び範囲から逸脱することなく、形態や詳細の多様な変更が可能なことが理解されるであろう。
【実施例0314】
以下、実施例を通じてより具体的に説明するが、本開示はこれら実施例に限定されるものではない。本実施例において、以下に示される化学式はすべて平均組成を示す。Ｂｏｃはｔｅｒｔ－ブトキシカルボニル基を、Ｍｅはメチル基を、Ｂｎはベンジル基を、ｍＸＨＦは１，３－ビストリフルオロメチルベンゼンを、それぞれ意味する。
【0315】
（合成例１）
（合成例１－１）
ガラス製のフラスコに、２．０ｇの３，４，５－トリス（ベンジルオキシ）安息香酸、１．１１ｇのＢｏｃ－ＮＨ－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－ＮＨ２、１．３１ｇの１－（３－ジメチルアミノプロピル）－３－エチルカルボジイミド塩酸塩、１０ｍＬのジクロロメタン、及び、１３３ｍｇの４－ジメチルアミノピリジンを加え、マグネチックスターラーを用いて、室温にて１８時間撹拌した。ジクロロメタンと硫酸水素ナトリウム水溶液とを加えて撹拌し、分液漏斗を用いて水層（上層）を除いた。続いて水酸化ナトリウム水溶液を加えて撹拌し、分液漏斗を用いて水層（上層）を除いた。得られた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過して、減圧濃縮することで、下記の化合物（１－１）を１．８６ｇ得た。
化合物（１－１）
1H-NMR (400 MHz, クロロホルム－ｄ) δ 7.50-7.25 (m, 17H), 5.16 (s, 4H), 5.09 (s, 2H), 4.86-4.76 (m, 2H), 3.48-3.47 (m, 2H), 3.26-3.25 (m, 2H), 1.66-1.62 (m, 2H), 1.47 (s, 9H)
（合成例１－１）
ガラス製のフラスコに、２．０ｇの３，４，５－トリス（ベンジルオキシ）安息香酸、１．１１ｇのＢｏｃ－ＮＨ－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－ＮＨ２、１．３１ｇの１－（３－ジメチルアミノプロピル）－３－エチルカルボジイミド塩酸塩、１０ｍＬのジクロロメタン、及び、１３３ｍｇの４－ジメチルアミノピリジンを加え、マグネチックスターラーを用いて、室温にて１８時間撹拌した。ジクロロメタンと硫酸水素ナトリウム水溶液とを加えて撹拌し、分液漏斗を用いて水層（上層）を除いた。続いて水酸化ナトリウム水溶液を加えて撹拌し、分液漏斗を用いて水層（上層）を除いた。得られた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過して、減圧濃縮することで、下記の化合物（１－１）を１．８６ｇ得た。
化合物（１－１）
【化34】
1H-NMR (400 MHz, クロロホルム－ｄ) δ 7.50-7.25 (m, 17H), 5.16 (s, 4H), 5.09 (s, 2H), 4.86-4.76 (m, 2H), 3.48-3.47 (m, 2H), 3.26-3.25 (m, 2H), 1.66-1.62 (m, 2H), 1.47 (s, 9H)
【0316】
（合成例１－２）
ガラス製のフラスコに、１．５２ｇの化合物（１－１）、４．５０ｇのトリフルオロ酢酸、及び、１０ｍＬのジクロロメタンを加え、マグネチックスターラーを用いて、室温にて１８時間撹拌した。減圧濃縮し、アミノ基で修飾されたシリカゲル（ワコーシル（登録商標） ５０ＮＨ２（ＨＣ）、富士フィルム和光純薬株式会社）によるカラムクロマトグラフィ（展開溶媒：ジクロロメタン）にて精製し、下記の化合物（１－２）を１．１２ｇ得た。
化合物（１－２）
1H-NMR (400 MHz, クロロホルム－ｄ) δ 7.70-7.70 (m, 1H), 7.52-7.19 (m, 15H), 7.14-7.10 (m, 2H), 5.17-5.13 (m, 4H), 5.10-5.06 (m, 2H), 3.60-3.47 (m, 2H), 2.90-2.87 (m, 2H), 1.71-1.68 (m, 2H), 1.55-1.55 (m, 2H)
ガラス製のフラスコに、１．５２ｇの化合物（１－１）、４．５０ｇのトリフルオロ酢酸、及び、１０ｍＬのジクロロメタンを加え、マグネチックスターラーを用いて、室温にて１８時間撹拌した。減圧濃縮し、アミノ基で修飾されたシリカゲル（ワコーシル（登録商標） ５０ＮＨ２（ＨＣ）、富士フィルム和光純薬株式会社）によるカラムクロマトグラフィ（展開溶媒：ジクロロメタン）にて精製し、下記の化合物（１－２）を１．１２ｇ得た。
化合物（１－２）
【化35】
1H-NMR (400 MHz, クロロホルム－ｄ) δ 7.70-7.70 (m, 1H), 7.52-7.19 (m, 15H), 7.14-7.10 (m, 2H), 5.17-5.13 (m, 4H), 5.10-5.06 (m, 2H), 3.60-3.47 (m, 2H), 2.90-2.87 (m, 2H), 1.71-1.68 (m, 2H), 1.55-1.55 (m, 2H)
【0317】
（合成例１－３）
ガラス製のフラスコに、５．００ｇのＦ－（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ－ＣＦ２ＣＦ２－Ｃ（＝Ｏ）ＯＣＨ３（ｎ＝２０）、１．０３ｇの化合物（１－２）、５ｍＬのアサヒクリンＡＫ－２２５（ＡＧＣ株式会社）を加え、マグネチックスターラーを用いて、室温にて１８時間撹拌した。パーフルオロヘキサンを加え、該フルオラス層をアセトンで３回洗浄し、減圧濃縮して、下記の化合物（１－３）を４．５１ｇ得た。なお、以下の化合物（１－３）において、ＲｆはＦ－（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ－ＣＦ２ＣＦ２－である。
化合物（１－３）
1H-NMR (400 MHz, mXHF) δ8.73-8.29 (m, 1H), 8.25-6.73 (m, 17H), 5.73-4.82 (m, 7H), 3.91-3.19 (m, 4H), 2.16-1.73 (m, 2H)
19F-NMR (376 MHz, mXHF) δ -81.1, -84.2, -85.0, -85.2, -85.4, -85.6, -86.1, -86.6, -89.7, -90.9, -125.1, -130.9, -131.3, -131.4, -131.5, -131.6, -131.9, -132.4
ガラス製のフラスコに、５．００ｇのＦ－（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ－ＣＦ２ＣＦ２－Ｃ（＝Ｏ）ＯＣＨ３（ｎ＝２０）、１．０３ｇの化合物（１－２）、５ｍＬのアサヒクリンＡＫ－２２５（ＡＧＣ株式会社）を加え、マグネチックスターラーを用いて、室温にて１８時間撹拌した。パーフルオロヘキサンを加え、該フルオラス層をアセトンで３回洗浄し、減圧濃縮して、下記の化合物（１－３）を４．５１ｇ得た。なお、以下の化合物（１－３）において、ＲｆはＦ－（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ－ＣＦ２ＣＦ２－である。
化合物（１－３）
【化36】
1H-NMR (400 MHz, mXHF) δ8.73-8.29 (m, 1H), 8.25-6.73 (m, 17H), 5.73-4.82 (m, 7H), 3.91-3.19 (m, 4H), 2.16-1.73 (m, 2H)
19F-NMR (376 MHz, mXHF) δ -81.1, -84.2, -85.0, -85.2, -85.4, -85.6, -86.1, -86.6, -89.7, -90.9, -125.1, -130.9, -131.3, -131.4, -131.5, -131.6, -131.9, -132.4
【0318】
（合成例１－４）
ガラス製のフラスコに、３８０ｍｇの化合物（１－３）、３８ｍｇの１０％パラジウム炭素、及び、３．８ｍＬのアサヒクリンＡＫ－２２５（ＡＧＣ株式会社）を加え、フラスコ内を水素ガスで置換し、マグネチックスターラーを用いて、室温にて１８時間撹拌した。パラジウム炭素をろ過で除き、ろ液を減圧濃縮して、以下の化合物（１－４）を３５０ｍｇ得た。
化合物（１－４）
1H-NMR (400 MHz, mXHF) δ7.01-6.77 (m, 2H), 3.76-3.24 (m, 4H), 2.05-1.73 (m, 2H)
19F-NMR (376 MHz, mXHF) δ -81.1, -84.2, -85.0, -85.2, -85.4, -85.6, -86.1, -86.6, -89.7, -90.9, -125.1, -130.9, -131.3, -131.4, -131.5, -131.6, -131.9, -132.4
ガラス製のフラスコに、３８０ｍｇの化合物（１－３）、３８ｍｇの１０％パラジウム炭素、及び、３．８ｍＬのアサヒクリンＡＫ－２２５（ＡＧＣ株式会社）を加え、フラスコ内を水素ガスで置換し、マグネチックスターラーを用いて、室温にて１８時間撹拌した。パラジウム炭素をろ過で除き、ろ液を減圧濃縮して、以下の化合物（１－４）を３５０ｍｇ得た。
化合物（１－４）
【化37】
1H-NMR (400 MHz, mXHF) δ7.01-6.77 (m, 2H), 3.76-3.24 (m, 4H), 2.05-1.73 (m, 2H)
19F-NMR (376 MHz, mXHF) δ -81.1, -84.2, -85.0, -85.2, -85.4, -85.6, -86.1, -86.6, -89.7, -90.9, -125.1, -130.9, -131.3, -131.4, -131.5, -131.6, -131.9, -132.4
【0319】
（合成例２）
（合成例２－１）
ガラス製のフラスコに、３０．０ｇの３，４，５－トリス（ベンジルオキシ）ベンジルアルコール、１５００ｍＬのテトラヒドロフラン、及び、３０．６ｇのＭｎＯ２を加え、メカニカルスターラーを用いて、６０℃にて４時間撹拌した。室温に冷却し、５００ｍＬのメタノールと２０．４ｇの炭酸カリウムを加えて撹拌した。５℃以下に冷却し、２４．８ｇの１－ジアゾアセトニルホスホン酸ジメチルを５℃以下にて滴下し、室温にて１５時間撹拌した。セライトを用いてろ過し、ろ液にメタノール１０００ｍＬ、水２０００ｍＬを加えて撹拌し、懸濁液を得た後、ろ過にて黄色結晶を分離した。該結晶をシリカゲルカラムクロマトグラフィ（展開溶媒：トルエン）にて精製し、白色結晶として、以下の化合物（２－１）を１７．３ｇ得た。
化合物（２－１）
1H-NMR (400 MHz, クロロホルム－ｄ) δ7.44-7.21 (m, 15H), 6.81 (s, 2H), 5.08 (s, 4H), 5.06 (s, 2H), 3.00 (s, 1H)
（合成例２－１）
ガラス製のフラスコに、３０．０ｇの３，４，５－トリス（ベンジルオキシ）ベンジルアルコール、１５００ｍＬのテトラヒドロフラン、及び、３０．６ｇのＭｎＯ２を加え、メカニカルスターラーを用いて、６０℃にて４時間撹拌した。室温に冷却し、５００ｍＬのメタノールと２０．４ｇの炭酸カリウムを加えて撹拌した。５℃以下に冷却し、２４．８ｇの１－ジアゾアセトニルホスホン酸ジメチルを５℃以下にて滴下し、室温にて１５時間撹拌した。セライトを用いてろ過し、ろ液にメタノール１０００ｍＬ、水２０００ｍＬを加えて撹拌し、懸濁液を得た後、ろ過にて黄色結晶を分離した。該結晶をシリカゲルカラムクロマトグラフィ（展開溶媒：トルエン）にて精製し、白色結晶として、以下の化合物（２－１）を１７．３ｇ得た。
化合物（２－１）
【化38】
1H-NMR (400 MHz, クロロホルム－ｄ) δ7.44-7.21 (m, 15H), 6.81 (s, 2H), 5.08 (s, 4H), 5.06 (s, 2H), 3.00 (s, 1H)
【0320】
（合成例２－２）
ガラス製のフラスコ（フラスコＡという）に、１．９４ｇの化合物（２－１）、２１ｍＬのテトラヒドロフランを加え、メカニカルスターラーを用いて撹拌し、－７８℃に冷却した。２．６４ｍＬのｎ－ブチルリチウム（ヘキサン溶液、１．５９ｍｏｌ／Ｌ）を滴下し、０℃に昇温して１時間撹拌した。
上記とは別のガラスフラスコ（フラスコＢという）にて、７．００ｇのＦ－（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ－ＣＦ２ＣＦ２－Ｃ（＝Ｏ）ＯＣＨ３（ｎ＝２０）、及び２１ｍＬのＮｏｖｅｃ７２００（スリーエムジャパン株式会社）を混合し、フラスコＢの溶液を、フラスコＡに０℃にて滴下した後、室温にて１８時間撹拌した。塩酸水溶液とパーフルオロヘキサンを加え、分液漏斗を用いて水層（上層）を除いた。該フルオラス層をアセトンで２回洗浄し、減圧濃縮して、下記の化合物（２－２）を７．９０ｇ得た。なお、以下の化合物（２－２）において、ＲｆはＦ－（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ－ＣＦ２ＣＦ２－である。
化合物（２－２）
1H-NMR (400 MHz, mXHF) δ 7.64-7.40 (m, 30H), 7.18 (s, 4H), 5.41 (s, 4H), 5.20 (s, 8H)
19F-NMR (376 MHz, mXHF) δ -81.1, -84.2, -85.0, -85.2, -85.4, -85.6, -86.1, -86.6, -89.7, -90.9, -121.6, -130.9, -131.3, -131.4, -131.5, -131.6, -131.9, -132.4
ガラス製のフラスコ（フラスコＡという）に、１．９４ｇの化合物（２－１）、２１ｍＬのテトラヒドロフランを加え、メカニカルスターラーを用いて撹拌し、－７８℃に冷却した。２．６４ｍＬのｎ－ブチルリチウム（ヘキサン溶液、１．５９ｍｏｌ／Ｌ）を滴下し、０℃に昇温して１時間撹拌した。
上記とは別のガラスフラスコ（フラスコＢという）にて、７．００ｇのＦ－（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ－ＣＦ２ＣＦ２－Ｃ（＝Ｏ）ＯＣＨ３（ｎ＝２０）、及び２１ｍＬのＮｏｖｅｃ７２００（スリーエムジャパン株式会社）を混合し、フラスコＢの溶液を、フラスコＡに０℃にて滴下した後、室温にて１８時間撹拌した。塩酸水溶液とパーフルオロヘキサンを加え、分液漏斗を用いて水層（上層）を除いた。該フルオラス層をアセトンで２回洗浄し、減圧濃縮して、下記の化合物（２－２）を７．９０ｇ得た。なお、以下の化合物（２－２）において、ＲｆはＦ－（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ－ＣＦ２ＣＦ２－である。
化合物（２－２）
【化39】
1H-NMR (400 MHz, mXHF) δ 7.64-7.40 (m, 30H), 7.18 (s, 4H), 5.41 (s, 4H), 5.20 (s, 8H)
19F-NMR (376 MHz, mXHF) δ -81.1, -84.2, -85.0, -85.2, -85.4, -85.6, -86.1, -86.6, -89.7, -90.9, -121.6, -130.9, -131.3, -131.4, -131.5, -131.6, -131.9, -132.4
【0321】
（合成例２－３）
ガラス製のフラスコに、５００ｍｇの化合物（２－２）、５０ｍｇの１０％パラジウム炭素、及び、５ｍＬのアサヒクリンＡＫ－２２５（ＡＧＣ株式会社）を加え、フラスコ内を水素ガスで置換し、マグネチックスターラーを用いて、室温にて１８時間撹拌した。パラジウム炭素をろ過で除き、ろ液を減圧濃縮して、以下の化合物（２－３）を２５４ｍｇ得た。
化合物（２－３）
1H-NMR (400 MHz, mXHF) δ 6.23 (s, 4H), 2.65-2.40 (m. 4H), 2.20-1.78 (m, 4H)
19F-NMR (376 MHz, mXHF) δ -81.1, -84.2, -85.0, -85.2, -85.4, -85.6, -86.1, -86.6, -89.7, -90.9, -121.6, -130.9, -131.3, -131.4, -131.5, -131.6, -131.9, -132.4
ガラス製のフラスコに、５００ｍｇの化合物（２－２）、５０ｍｇの１０％パラジウム炭素、及び、５ｍＬのアサヒクリンＡＫ－２２５（ＡＧＣ株式会社）を加え、フラスコ内を水素ガスで置換し、マグネチックスターラーを用いて、室温にて１８時間撹拌した。パラジウム炭素をろ過で除き、ろ液を減圧濃縮して、以下の化合物（２－３）を２５４ｍｇ得た。
化合物（２－３）
【化40】
1H-NMR (400 MHz, mXHF) δ 6.23 (s, 4H), 2.65-2.40 (m. 4H), 2.20-1.78 (m, 4H)
19F-NMR (376 MHz, mXHF) δ -81.1, -84.2, -85.0, -85.2, -85.4, -85.6, -86.1, -86.6, -89.7, -90.9, -121.6, -130.9, -131.3, -131.4, -131.5, -131.6, -131.9, -132.4
【0322】
（合成例３）
（合成例３－１）
ガラス製のフラスコに、２５．０ｇの３，４，５－トリス（ベンジルオキシ）安息香酸、９．２１ｇのカルボニルジイミダゾール、４５０ｍＬのジクロロメタンを加え、メカニカルスターラーを用いて、室温で１時間撹拌した。その後、３．８０ｇのＨＮ（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＮＨ２）２を滴下し、室温で１８時間撹拌した。反応液を減圧濃縮し、残渣に８０ｍＬのジクロロメタンを加えて溶解させた後、４００ｍＬのメタノールを加え、析出した結晶をろ取して、結晶を洗浄液（ｎ－ヘプタン：ジクロロメタン＝５：１の混合液）を用いて洗浄した。得られた結晶を減圧乾燥し、以下の化合物（３－１）を２３．６ｇ得た。
化合物（３－１）
1H-NMR (400 MHz, クロロホルム－ｄ) δ 7.44-7.15 (m, 30H), 7.10 (s, 4H), 5.03 (s, 4H), 5.00 (s, 8H), 3.48 (q, 4H, 6.0 Hz), 2.69 (t, 4H, 6.0 Hz), 1.77-1.62 (m, 2H)
（合成例３－１）
ガラス製のフラスコに、２５．０ｇの３，４，５－トリス（ベンジルオキシ）安息香酸、９．２１ｇのカルボニルジイミダゾール、４５０ｍＬのジクロロメタンを加え、メカニカルスターラーを用いて、室温で１時間撹拌した。その後、３．８０ｇのＨＮ（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＮＨ２）２を滴下し、室温で１８時間撹拌した。反応液を減圧濃縮し、残渣に８０ｍＬのジクロロメタンを加えて溶解させた後、４００ｍＬのメタノールを加え、析出した結晶をろ取して、結晶を洗浄液（ｎ－ヘプタン：ジクロロメタン＝５：１の混合液）を用いて洗浄した。得られた結晶を減圧乾燥し、以下の化合物（３－１）を２３．６ｇ得た。
化合物（３－１）
【化41】
1H-NMR (400 MHz, クロロホルム－ｄ) δ 7.44-7.15 (m, 30H), 7.10 (s, 4H), 5.03 (s, 4H), 5.00 (s, 8H), 3.48 (q, 4H, 6.0 Hz), 2.69 (t, 4H, 6.0 Hz), 1.77-1.62 (m, 2H)
【0323】
化合物（３－１）は、以下に示すように、化合物（３－２）及び化合物（３－３）の合成に用いることができる。
【0324】
具体的には、アサヒクリンＡＫ－２２５（ＡＧＣ株式会社）の存在下でＦ－（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ－ＣＦ２ＣＦ２－Ｃ（＝Ｏ）ＯＣＨ３（ｎ＝２０）と混合させることにより、化合物（３－２）を得ることができる。
化合物（３－２）
化合物（３－２）
【化42】
【0325】
化合物（３－２）を、アサヒクリンＡＫ－２２５（ＡＧＣ株式会社）とパラジウム炭素の存在下、水素ガスと反応させることにより、化合物（３－３）を合成することができる。
化合物（３－３）
化合物（３－３）
【化43】
【0326】
（比較合成例１）
ガラス製のフラスコに、２０ｇのＦ－（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２ＯＨ（ｎ＝２０）、１９ｍｇのピリジンを加え、マグネチックスターラーを用いて撹拌しながら、０．３６ｇのオキシ塩化リンを加え、１２５℃に昇温し、１８時間撹拌した。６０℃に冷却し、１．６８ｇの水を滴下した後、１８時間撹拌した。室温に冷却し、パーフルオロヘキサンを加え、該フルオラス層を水で洗浄し、減圧濃縮して、以下の比較化合物１を１８．６ｇ得た。なお、以下の比較化合物１において、ＲｆはＦ－（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ－ＣＦ２ＣＦ２－である。比較化合物１は、ｍ＝１～３の化合物を含み、比較化合物１に含まれる各化合物は、ｍ＝１が１０質量％、ｍ＝２が２６質量％、ｍ３が６４質量％であった。
比較化合物１
ガラス製のフラスコに、２０ｇのＦ－（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２ＯＨ（ｎ＝２０）、１９ｍｇのピリジンを加え、マグネチックスターラーを用いて撹拌しながら、０．３６ｇのオキシ塩化リンを加え、１２５℃に昇温し、１８時間撹拌した。６０℃に冷却し、１．６８ｇの水を滴下した後、１８時間撹拌した。室温に冷却し、パーフルオロヘキサンを加え、該フルオラス層を水で洗浄し、減圧濃縮して、以下の比較化合物１を１８．６ｇ得た。なお、以下の比較化合物１において、ＲｆはＦ－（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ－ＣＦ２ＣＦ２－である。比較化合物１は、ｍ＝１～３の化合物を含み、比較化合物１に含まれる各化合物は、ｍ＝１が１０質量％、ｍ＝２が２６質量％、ｍ３が６４質量％であった。
比較化合物１
【化44】
【0327】
（実施例１）
化合物（１－４）を、ノベックＨＦＥ７２００で固形分濃度０．１質量％に調製し、表面処理剤１を調製した。なお、固形分濃度は、組成物全体に対する質量％を意味する。
化合物（１－４）を、ノベックＨＦＥ７２００で固形分濃度０．１質量％に調製し、表面処理剤１を調製した。なお、固形分濃度は、組成物全体に対する質量％を意味する。
【0328】
（実施例２）
化合物（１－４）の代わりに、化合物（２－３）を用いた以外は、実施例１と同様に調製し、表面処理剤２を調製した。
化合物（１－４）の代わりに、化合物（２－３）を用いた以外は、実施例１と同様に調製し、表面処理剤２を調製した。
【0329】
（比較例１）
化合物（１－４）の代わりに、比較化合物１を用いた以外は、実施例１と同様に調製し、比較表面処理剤１を調製した。
化合物（１－４）の代わりに、比較化合物１を用いた以外は、実施例１と同様に調製し、比較表面処理剤１を調製した。
【0330】
（ディップ処理）
それぞれ、基材（１）～（４）の何れか１つを、以下の条件で、表面処理剤１～２、又は比較表面処理剤１に浸漬させた。
基材前処理：ＵＶオゾン装置で１５分表面洗浄した。
ディップ速度：１０ｍｍ／秒
ディップ時間：１秒
引き上げ速度：１０ｍｍ／秒
加熱処理：１５０℃で３０分
ディップ処理後、常温で一晩放置した。
（基材）
（１）Ｃｒメッキ板
（２）ＳＵＳ３０４板
（３）Ｎｉメッキ板
（４）酸化アルミニウムのスパッタ板
それぞれ、基材（１）～（４）の何れか１つを、以下の条件で、表面処理剤１～２、又は比較表面処理剤１に浸漬させた。
基材前処理：ＵＶオゾン装置で１５分表面洗浄した。
ディップ速度：１０ｍｍ／秒
ディップ時間：１秒
引き上げ速度：１０ｍｍ／秒
加熱処理：１５０℃で３０分
ディップ処理後、常温で一晩放置した。
（基材）
（１）Ｃｒメッキ板
（２）ＳＵＳ３０４板
（３）Ｎｉメッキ板
（４）酸化アルミニウムのスパッタ板
【0331】
（初期評価）
表面処理層を形成していない、基材自体の表面における水の静的接触角を測定した。表１の「未処理」は、基材自体の水の静的接触角を意味する。水の静的接触角は、接触角測定装置（協和界面科学社製）を用いて、水１μＬにて２５℃で測定した値である。
表面処理層を形成していない、基材自体の表面における水の静的接触角を測定した。表１の「未処理」は、基材自体の水の静的接触角を意味する。水の静的接触角は、接触角測定装置（協和界面科学社製）を用いて、水１μＬにて２５℃で測定した値である。
【0332】
初期評価として、表面処理層形成後、その表面に未だ何も触れていない状態で、水の静的接触角を測定した（摩擦回数 ゼロ回）。なお、表面上の余剰分の拭き上げは行っていない。結果を下記表１に示す。表１において、「－」とは、測定していないことを意味する。
【0333】
【表1】
【0334】
（摩擦耐久性評価１）
形成された表面処理層について、その摩擦耐久性を以下のように評価した。
形成された表面処理層について、その摩擦耐久性を以下のように評価した。
【0335】
表面処理層が形成されたサンプル物品を水平配置し、ベンコットＭ－３ＩＩ（旭化成株式会社）を固定した摩擦子を表面処理層の表面に接触（接触面は直径１ｃｍの円）させ、その上に１００ｇｆの荷重を付与し、その後、荷重を加えた状態で摩擦子を３０サイクル／分の速度で往復させた。摩擦子の往復距離は３０ｍｍであった。摩擦子の１００回往復ごとに、水の静的接触角を測定した。水の静的接触角の測定値が９０°未満となった時点で試験を中止した。結果を、下記表２に示す。なお、表２において「－」とは、測定していないことを意味する。
【0336】
【表2】
【0337】
（摩擦耐久性評価２）
形成された表面処理層について、その摩擦耐久性を以下のように評価した。
形成された表面処理層について、その摩擦耐久性を以下のように評価した。
【0338】
表面処理層を形成した基材を水平配置し、消しゴム（ｍｉｎｏａｎ製、型番：ＭＢ００６００４、直径０．６ｃｍ）を該表面処理層の表面に接触させ、その上に５００ｇｆの荷重を付与し、その後、荷重を加えた状態で消しゴムを４０サイクル／分の速度で往復させた。消しゴムの往復距離は４０ｍｍであった。摩擦子の１００回往復ごとに、水の静的接触角を測定した。水の静的接触角の測定値が９０°未満となった時点で試験を中止した。結果を下記表３に示す。
【0339】
【表3】
【産業上の利用可能性】
【0340】
本開示によると、摩擦耐久性、及び、基材への結合が良好である表面処理層の形成に寄与し得るフッ素原子含有化合物を提供し得る。
【手続補正書】
【提出日】2024-06-14
【手続補正1】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項1】
式（Ａ）又は（Ｂ）：
で表され、
Ｒ Ｆ１ は、Ｒｆ １ －Ｒ Ｆ －Ｏ ｑ －であり、
Ｒ Ｆ２ は、－Ｒｆ ２ ｐ －Ｒ Ｆ －Ｏ ｑ －であり、
Ｒｆ １ は、１個以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ １－１６ アルキル基であり、
Ｒｆ ２ は、１個以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ １－６ アルキレン基であり、
Ｒ Ｆ は、それぞれ独立して、２価のフッ素原子含有基であり、
ｐは、０又は１であり、
ｑは、それぞれ独立して、０又は１であり、
αは、１～９の整数であり、
βは、１～９の整数であり、
γは、それぞれ独立して、１～９の整数であり、
Ｘ Ａ は、それぞれ独立して、単結合、又は、２～１０価の有機基であり、
ＲＡは、それぞれ独立して、芳香環を含む基であり、
前記芳香環を含む基は、少なくとも３つの－ＯＲＰ１を有するベンゼン環を含み、
ＲＰ１は、それぞれ独立して、水素原子、又は、保護基であり、
前記保護基は、ベンジル基、アリル基、ｐ－メトキシベンジル基、トリフェニルメチル基、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシリル基、トリイソプロピルシリル基、ｔｅｒｔ－ブチルジフェニルシリル基、２－テトラヒドロピラニル基、メトキシメチル基、メトキシエトキシメチル基、ベンジリデンアセタール基、ベンゾイル基、アセチル基、ピバロイル基又は環状カーボネート基である、
フッ素原子含有化合物。
【化1】
Ｒ Ｆ１ は、Ｒｆ １ －Ｒ Ｆ －Ｏ ｑ －であり、
Ｒ Ｆ２ は、－Ｒｆ ２ ｐ －Ｒ Ｆ －Ｏ ｑ －であり、
Ｒｆ １ は、１個以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ １－１６ アルキル基であり、
Ｒｆ ２ は、１個以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ １－６ アルキレン基であり、
Ｒ Ｆ は、それぞれ独立して、２価のフッ素原子含有基であり、
ｐは、０又は１であり、
ｑは、それぞれ独立して、０又は１であり、
αは、１～９の整数であり、
βは、１～９の整数であり、
γは、それぞれ独立して、１～９の整数であり、
Ｘ Ａ は、それぞれ独立して、単結合、又は、２～１０価の有機基であり、
ＲＡは、それぞれ独立して、芳香環を含む基であり、
前記芳香環を含む基は、少なくとも３つの－ＯＲＰ１を有するベンゼン環を含み、
ＲＰ１は、それぞれ独立して、水素原子、又は、保護基であり、
前記保護基は、ベンジル基、アリル基、ｐ－メトキシベンジル基、トリフェニルメチル基、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシリル基、トリイソプロピルシリル基、ｔｅｒｔ－ブチルジフェニルシリル基、２－テトラヒドロピラニル基、メトキシメチル基、メトキシエトキシメチル基、ベンジリデンアセタール基、ベンゾイル基、アセチル基、ピバロイル基又は環状カーボネート基である、
フッ素原子含有化合物。
【請求項2】
ＲＰ１は、水素原子である、請求項１に記載のフッ素原子含有化合物。
【請求項3】
ＲＦは、それぞれ独立して、下記式（ｆ１）、又は、（ｆ２）：
－（ＯＣｊＲｃ ２ｊ）ｊ１－（ＯＣｈＲｃ ２ｈ－２）ｈ１－ （ｆ１）
［式中：
－ＯＣｊＲｃ ２ｊ－は、それぞれ独立して、直鎖又は分岐鎖を有する繰り返し単位であり；
－ＯＣｈＲｃ ２ｈ－２－は、それぞれ独立して、環構造を有する繰り返し単位であり；
Ｒｃは、それぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、又は、塩素原子であり；
但し、ＲＦにおいて少なくとも１つのＲｃは、フッ素原子であり；
ｊは、それぞれ独立して、１～６の整数であり；
ｈは、それぞれ独立して、１～７の整数であり；
ｊ１は、０以上の整数であり；
ｈ１は、０以上の整数であり；
ｊ１とｈ１との合計は、１以上であり；
ｊ１又はｈ１を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］
－（ＣｓＲｃ１ ２ｓ）ｓ１－（Ｒｄ）ｓ２－ （ｆ２）
［式中：
ｓは、それぞれ独立して、１～１０の整数であり；
Ｒｃ１は、それぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、又は、塩素原子であり；
Ｒｄは、それぞれ独立して、フッ素原子で置換されていてもよいアリーレン基であり；
但し、Ｒｄの置換基又はＲｃ１のうち、少なくとも１つは、フッ素原子であり；
ｓ１は、０以上の整数であり；
ｓ２は、０以上の整数であり；
ｓ１とｓ２との合計は、１以上であり；
ｓ１又はｓ２を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］
で表される基である、請求項１又は２に記載のフッ素原子含有化合物。
－（ＯＣｊＲｃ ２ｊ）ｊ１－（ＯＣｈＲｃ ２ｈ－２）ｈ１－ （ｆ１）
［式中：
－ＯＣｊＲｃ ２ｊ－は、それぞれ独立して、直鎖又は分岐鎖を有する繰り返し単位であり；
－ＯＣｈＲｃ ２ｈ－２－は、それぞれ独立して、環構造を有する繰り返し単位であり；
Ｒｃは、それぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、又は、塩素原子であり；
但し、ＲＦにおいて少なくとも１つのＲｃは、フッ素原子であり；
ｊは、それぞれ独立して、１～６の整数であり；
ｈは、それぞれ独立して、１～７の整数であり；
ｊ１は、０以上の整数であり；
ｈ１は、０以上の整数であり；
ｊ１とｈ１との合計は、１以上であり；
ｊ１又はｈ１を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］
－（ＣｓＲｃ１ ２ｓ）ｓ１－（Ｒｄ）ｓ２－ （ｆ２）
［式中：
ｓは、それぞれ独立して、１～１０の整数であり；
Ｒｃ１は、それぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、又は、塩素原子であり；
Ｒｄは、それぞれ独立して、フッ素原子で置換されていてもよいアリーレン基であり；
但し、Ｒｄの置換基又はＲｃ１のうち、少なくとも１つは、フッ素原子であり；
ｓ１は、０以上の整数であり；
ｓ２は、０以上の整数であり；
ｓ１とｓ２との合計は、１以上であり；
ｓ１又はｓ２を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］
で表される基である、請求項１又は２に記載のフッ素原子含有化合物。
【請求項4】
ＲＦは、それぞれ独立して、
－（ＯＣ６Ｆ１２）ａ１－（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ１－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ１－（ＯＣ３ＲＦａ ６）ｄ１－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ１－（ＯＣＦ２）ｆ１－
で表される基である、請求項１又は２に記載のフッ素原子含有化合物。
［式中：
ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、ｅ１及びｆ１は、それぞれ独立して、０～２００の整数であって、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、ｅ１及びｆ１の和は１以上であり、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、ｅ１、又はｆ１を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり；
ＲＦａは、それぞれ独立して、水素原子、塩素原子、又は、フッ素原子である。］
－（ＯＣ６Ｆ１２）ａ１－（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ１－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ１－（ＯＣ３ＲＦａ ６）ｄ１－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ１－（ＯＣＦ２）ｆ１－
で表される基である、請求項１又は２に記載のフッ素原子含有化合物。
［式中：
ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、ｅ１及びｆ１は、それぞれ独立して、０～２００の整数であって、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、ｅ１及びｆ１の和は１以上であり、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、ｅ１、又はｆ１を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり；
ＲＦａは、それぞれ独立して、水素原子、塩素原子、又は、フッ素原子である。］
【請求項5】
ＲＦは、それぞれ独立して、下記式（ｆ１１）、（ｆ１２）、（ｆ１３）、（ｆ１４）、（ｆ１５）又は（ｆ１６）：
－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ１－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ１－ （ｆ１１）
［式中：
ｄ１は、１～２００の整数であり；
ｅ１は、０又は１である。］；
－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ１－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ１－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ１－（ＯＣＦ２）ｆ１－ （ｆ１２）
［式中：
ｃ１及びｄ１は、それぞれ独立して、０以上３０以下の整数であり；
ｅ１及びｆ１は、それぞれ独立して、１以上２００以下の整数であり；
ｃ１、ｄ１、ｅ１及びｆ１の和は２以上であり；
添字ｃ１、ｄ１、ｅ１又はｆ１を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］；
－（Ｒ７１－Ｒ７２）ｇ１－ （ｆ１３）
［式中：
Ｒ７１は、ＯＣＦ２又はＯＣ２Ｆ４であり；
Ｒ７２は、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６、ＯＣ４Ｆ８、ＯＣ５Ｆ１０及びＯＣ６Ｆ１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせであり；
ｇ１は、２～１００の整数である。］；
－（Ｒ７１－Ｒ７２）ｇ１－Ｒｒ－（Ｒ７２’－Ｒ７１’）ｇ１’－ （ｆ１４）
［式中：
Ｒ７１は、ＯＣＦ２又はＯＣ２Ｆ４であり；
Ｒ７２は、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６、ＯＣ４Ｆ８、ＯＣ５Ｆ１０及びＯＣ６Ｆ１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせであり；
Ｒ７１’は、ＯＣＦ２又はＯＣ２Ｆ４であり；
Ｒ７２’は、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６、ＯＣ４Ｆ８、ＯＣ５Ｆ１０及びＯＣ６Ｆ１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせであり；
ｇ１は、２～１００の整数であり；
ｇ１’は、２～１００の整数であり；
Ｒｒは、以下の基：
（式中、＊は、結合位置を示す。）
のいずれか１つである。］；
－（ＯＣ６Ｆ１２）ａ１－（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ１－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ１－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ１－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ１－（ＯＣＦ２）ｆ１－ （ｆ１５）
［式中：
ｅ１は、１以上２００以下の整数であり、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１及びｆ１は、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、ｅ１及びｆ１の和は少なくとも１であり、また、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、ｅ１又はｆ１を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
－（ＯＣ６Ｆ１２）ａ１－（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ１－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ１－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ１－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ１－（ＯＣＦ２）ｆ１－ （ｆ１６）
［式中：
ｆ１は、１以上２００以下の整数であり、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１及びｅ１は、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、ｅ１及びｆ１の和は少なくとも１であり、また、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、ｅ１又はｆ１を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
で表される基；又は、
－（ＣｓＦ２ｓ）ｓ１－（Ｒｄ）ｓ２－ （ｆ２１）
［式中：
ｓは、１～１０の整数であり；
Ｒｄは、フッ素原子で置換されたアリーレン基であり；
ｓ１は、０以上の整数であり；
ｓ２は、０以上の整数であり；
ｓ１とｓ２との合計は、１以上であり；
ｓ１又はｓ２を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］
で表される基である、請求項１又は２に記載のフッ素原子含有化合物。
－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ１－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ１－ （ｆ１１）
［式中：
ｄ１は、１～２００の整数であり；
ｅ１は、０又は１である。］；
－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ１－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ１－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ１－（ＯＣＦ２）ｆ１－ （ｆ１２）
［式中：
ｃ１及びｄ１は、それぞれ独立して、０以上３０以下の整数であり；
ｅ１及びｆ１は、それぞれ独立して、１以上２００以下の整数であり；
ｃ１、ｄ１、ｅ１及びｆ１の和は２以上であり；
添字ｃ１、ｄ１、ｅ１又はｆ１を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］；
－（Ｒ７１－Ｒ７２）ｇ１－ （ｆ１３）
［式中：
Ｒ７１は、ＯＣＦ２又はＯＣ２Ｆ４であり；
Ｒ７２は、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６、ＯＣ４Ｆ８、ＯＣ５Ｆ１０及びＯＣ６Ｆ１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせであり；
ｇ１は、２～１００の整数である。］；
－（Ｒ７１－Ｒ７２）ｇ１－Ｒｒ－（Ｒ７２’－Ｒ７１’）ｇ１’－ （ｆ１４）
［式中：
Ｒ７１は、ＯＣＦ２又はＯＣ２Ｆ４であり；
Ｒ７２は、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６、ＯＣ４Ｆ８、ＯＣ５Ｆ１０及びＯＣ６Ｆ１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせであり；
Ｒ７１’は、ＯＣＦ２又はＯＣ２Ｆ４であり；
Ｒ７２’は、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６、ＯＣ４Ｆ８、ＯＣ５Ｆ１０及びＯＣ６Ｆ１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせであり；
ｇ１は、２～１００の整数であり；
ｇ１’は、２～１００の整数であり；
Ｒｒは、以下の基：
【化2】
のいずれか１つである。］；
－（ＯＣ６Ｆ１２）ａ１－（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ１－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ１－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ１－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ１－（ＯＣＦ２）ｆ１－ （ｆ１５）
［式中：
ｅ１は、１以上２００以下の整数であり、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１及びｆ１は、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、ｅ１及びｆ１の和は少なくとも１であり、また、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、ｅ１又はｆ１を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
－（ＯＣ６Ｆ１２）ａ１－（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ１－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ１－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ１－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ１－（ＯＣＦ２）ｆ１－ （ｆ１６）
［式中：
ｆ１は、１以上２００以下の整数であり、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１及びｅ１は、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、ｅ１及びｆ１の和は少なくとも１であり、また、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、ｅ１又はｆ１を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
で表される基；又は、
－（ＣｓＦ２ｓ）ｓ１－（Ｒｄ）ｓ２－ （ｆ２１）
［式中：
ｓは、１～１０の整数であり；
Ｒｄは、フッ素原子で置換されたアリーレン基であり；
ｓ１は、０以上の整数であり；
ｓ２は、０以上の整数であり；
ｓ１とｓ２との合計は、１以上であり；
ｓ１又はｓ２を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］
で表される基である、請求項１又は２に記載のフッ素原子含有化合物。
【請求項6】
ＲＡは、式（１ａ）、又は（１ｂ）：
で表される基である、請求項１又は２に記載のフッ素原子含有化合物。
［式中：
ＲＢ１は、芳香環を含む基であり；
前記芳香環を含む基は、少なくとも３つの－ＯＲＰ１を有するベンゼン環を含み；
ＲＰ１は、それぞれ独立して、水素原子、又は、保護基であり；
Ｘ１は、それぞれ独立して、ケイ素原子、炭素原子、又は、窒素原子であり；
Ｒ１１は、それぞれ独立して、－Ｚ１１－ＲＢ１で表され；
Ｚ１１は、単結合、又は、２価の有機基であり；
Ｒ１２は、それぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、水酸基、又は、１価の有機基であり；
ｋ１は、１以上の整数であり；
ｋ１とｌ１との合計は、Ｘ１の価数－１である。]
【化3】
［式中：
ＲＢ１は、芳香環を含む基であり；
前記芳香環を含む基は、少なくとも３つの－ＯＲＰ１を有するベンゼン環を含み；
ＲＰ１は、それぞれ独立して、水素原子、又は、保護基であり；
Ｘ１は、それぞれ独立して、ケイ素原子、炭素原子、又は、窒素原子であり；
Ｒ１１は、それぞれ独立して、－Ｚ１１－ＲＢ１で表され；
Ｚ１１は、単結合、又は、２価の有機基であり；
Ｒ１２は、それぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、水酸基、又は、１価の有機基であり；
ｋ１は、１以上の整数であり；
ｋ１とｌ１との合計は、Ｘ１の価数－１である。]
【請求項7】
ＲＢ１は、以下の式：
［式中：
ＲＰ１は、水素原子、又は、保護基であり；
δは、３以上の整数であり；
＊は、結合位置を示す。］
のいずれか１つである、請求項６に記載のフッ素原子含有化合物。
【化4】
ＲＰ１は、水素原子、又は、保護基であり；
δは、３以上の整数であり；
＊は、結合位置を示す。］
のいずれか１つである、請求項６に記載のフッ素原子含有化合物。
【請求項8】
ＸＡは、－（Ｒ５０）ｐ０－（Ｘａ）ｑ０－で表される２価の有機基、又は、単結合である、請求項１又は２に記載のフッ素原子含有化合物。
［式中：
Ｒ５０は、単結合、－（ＣＨ２）ｐ１０－又はｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基であり；
ｐ１０は、１～２０の整数であり；
Ｘａは、－（Ｘｂ）ｑ１０－を表し；
Ｒ５０及びＸａは、それぞれ独立して、フッ素原子、Ｃ１－３アルキル基、及び、Ｃ１－３フルオロアルキル基から選択される１個以上の置換基により置換されていてもよく；
Ｘｂは、それぞれ独立して、－Ｓ－、ｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基、－Ｏ－、－（ＯＲ５５）ｎ５０－、－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（＝Ｏ）－、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ５４－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ５４－、－ＮＲ５４Ｃ（＝Ｏ）－、－ＮＲ５４Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－ＮＲ５４Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ５４－、－ＮＲ５４－、－（ＣＨ２）ｎ５２－、－Ｓｉ（Ｒ５３）２－、及び、－（Ｓｉ（Ｒ５３）２Ｏ）ｎ５１－Ｓｉ（Ｒ５３）２－、からなる群から選択される基を表し；
Ｒ５３は、それぞれ独立して、フェニル基、Ｃ１－６アルキル基、又は、Ｃ１－６アルコキシ基を表し；
Ｒ５４は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基、又は、Ｃ１－６アルキル基を表し；
Ｒ５５は、それぞれ独立して、Ｃ１－６アルキレン基であり；
ｎ５０は、それぞれ独立して、１～２０の整数であり；
ｎ５１は、それぞれ独立して、１～１００の整数であり；
ｎ５２は、それぞれ独立して、１～２０の整数であり；
ｑ１０は、１～１０の整数であり；
ｐ０は、０～４の整数であり；
ｑ０は、０～４の整数であり；
ｐ０又はｑ０を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は任意であり；
ここで、ｐ０及びｑ０の合計は、１以上の整数である。]
［式中：
Ｒ５０は、単結合、－（ＣＨ２）ｐ１０－又はｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基であり；
ｐ１０は、１～２０の整数であり；
Ｘａは、－（Ｘｂ）ｑ１０－を表し；
Ｒ５０及びＸａは、それぞれ独立して、フッ素原子、Ｃ１－３アルキル基、及び、Ｃ１－３フルオロアルキル基から選択される１個以上の置換基により置換されていてもよく；
Ｘｂは、それぞれ独立して、－Ｓ－、ｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基、－Ｏ－、－（ＯＲ５５）ｎ５０－、－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（＝Ｏ）－、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ５４－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ５４－、－ＮＲ５４Ｃ（＝Ｏ）－、－ＮＲ５４Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－ＮＲ５４Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ５４－、－ＮＲ５４－、－（ＣＨ２）ｎ５２－、－Ｓｉ（Ｒ５３）２－、及び、－（Ｓｉ（Ｒ５３）２Ｏ）ｎ５１－Ｓｉ（Ｒ５３）２－、からなる群から選択される基を表し；
Ｒ５３は、それぞれ独立して、フェニル基、Ｃ１－６アルキル基、又は、Ｃ１－６アルコキシ基を表し；
Ｒ５４は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基、又は、Ｃ１－６アルキル基を表し；
Ｒ５５は、それぞれ独立して、Ｃ１－６アルキレン基であり；
ｎ５０は、それぞれ独立して、１～２０の整数であり；
ｎ５１は、それぞれ独立して、１～１００の整数であり；
ｎ５２は、それぞれ独立して、１～２０の整数であり；
ｑ１０は、１～１０の整数であり；
ｐ０は、０～４の整数であり；
ｑ０は、０～４の整数であり；
ｐ０又はｑ０を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は任意であり；
ここで、ｐ０及びｑ０の合計は、１以上の整数である。]
【請求項9】
ＲＦは、式（ｆ１１）：
－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ１－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ１－ （ｆ１１）
［式中：
ｄ１は、１～２００の整数であり；
ｅ１は、０又は１である。］
で表され；
ＸＡは、それぞれ独立して、－（（ＣＨ２）ｐ１０）ｐ２１－Ｘｂ１－（（ＣＨ２）ｐ１０）ｐ２１’－、又は－（（ＣＨ２）ｐ１０）ｐ２２－Ｘｂ１－（（ＣＨ２）ｐ１０）ｐ２３－Ｘｂ１－（（ＣＨ２）ｐ１０）ｐ２４－で表され；
［式中：
Ｘｂ１は、それぞれ独立して、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ５４－、又は、－ＮＲ５４Ｃ（＝Ｏ）－であり；
Ｒ５４は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基、又は、Ｃ１－６アルキル基を表し；
ｐ１０は、それぞれ独立して、１～２０の整数であり；
ｐ２１、ｐ２１’、ｐ２２、ｐ２３、及びｐ２４は、それぞれ独立して、０又は１である。］
ＲＡは、式（１ａ）：
［式中：
ＲＢ１は、芳香環を含む基であり；
前記芳香環を含む基は、少なくとも３つの－ＯＲＰ１を有するベンゼン環を含み；
ＲＰ１は、それぞれ独立して、水素原子、又は、保護基である。］
で表され、
α、β及びγは１である、
請求項１又は２に記載のフッ素原子含有化合物。
－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ１－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ１－ （ｆ１１）
［式中：
ｄ１は、１～２００の整数であり；
ｅ１は、０又は１である。］
で表され；
ＸＡは、それぞれ独立して、－（（ＣＨ２）ｐ１０）ｐ２１－Ｘｂ１－（（ＣＨ２）ｐ１０）ｐ２１’－、又は－（（ＣＨ２）ｐ１０）ｐ２２－Ｘｂ１－（（ＣＨ２）ｐ１０）ｐ２３－Ｘｂ１－（（ＣＨ２）ｐ１０）ｐ２４－で表され；
［式中：
Ｘｂ１は、それぞれ独立して、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ５４－、又は、－ＮＲ５４Ｃ（＝Ｏ）－であり；
Ｒ５４は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基、又は、Ｃ１－６アルキル基を表し；
ｐ１０は、それぞれ独立して、１～２０の整数であり；
ｐ２１、ｐ２１’、ｐ２２、ｐ２３、及びｐ２４は、それぞれ独立して、０又は１である。］
ＲＡは、式（１ａ）：
【化5】
ＲＢ１は、芳香環を含む基であり；
前記芳香環を含む基は、少なくとも３つの－ＯＲＰ１を有するベンゼン環を含み；
ＲＰ１は、それぞれ独立して、水素原子、又は、保護基である。］
で表され、
α、β及びγは１である、
請求項１又は２に記載のフッ素原子含有化合物。
【請求項10】
ＲＦは、式（ｆ１１）：
－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ１－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ１－ （ｆ１１）
［式中：
ｄ１は、１～２００の整数であり；
ｅ１は、０又は１である。］；
で表され；
ＸＡは、単結合であり；
ＲＡは、式（１ｂ）：
［式中：
Ｘ１は、炭素原子であり；
Ｒ１１は、それぞれ独立して、－Ｚ１１－ＲＢ１で表され；
Ｚ１１は、２価の有機基であり；
ＲＢ１は、芳香環を含む基であり；
前記芳香環を含む基は、少なくとも３つの－ＯＲＰ１を有するベンゼン環を含み；
ＲＰ１は、それぞれ独立して、水素原子、又は、保護基であり；
Ｒ１２は、水酸基であり；
ｋ１は、それぞれ独立して、２又は３であり；
ｋ１とｌ１との合計は、式（１ｂ）毎に３である。]
で表され、
α、β及びγは１である、
請求項１又は２に記載のフッ素原子含有化合物。
－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ１－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ１－ （ｆ１１）
［式中：
ｄ１は、１～２００の整数であり；
ｅ１は、０又は１である。］；
で表され；
ＸＡは、単結合であり；
ＲＡは、式（１ｂ）：
【化6】
［式中：
Ｘ１は、炭素原子であり；
Ｒ１１は、それぞれ独立して、－Ｚ１１－ＲＢ１で表され；
Ｚ１１は、２価の有機基であり；
ＲＢ１は、芳香環を含む基であり；
前記芳香環を含む基は、少なくとも３つの－ＯＲＰ１を有するベンゼン環を含み；
ＲＰ１は、それぞれ独立して、水素原子、又は、保護基であり；
Ｒ１２は、水酸基であり；
ｋ１は、それぞれ独立して、２又は３であり；
ｋ１とｌ１との合計は、式（１ｂ）毎に３である。]
で表され、
α、β及びγは１である、
請求項１又は２に記載のフッ素原子含有化合物。
【請求項11】
ＲＦは、式（ｆ１１）：
－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ１－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ１－ （ｆ１１）
［式中：
ｄ１は、１～２００の整数であり；
ｅ１は、０又は１である。］；
で表され；
ＸＡは、それぞれ独立して、－（（ＣＨ２）ｐ１０）ｐ２１－Ｏ－（（ＣＨ２）ｐ１０）ｐ２１’－であり；
ｐ１０は、それぞれ独立して、１～２０の整数であり；
ｐ２１は、０又は１であり；
ｐ２１’は、０又は１である。］
ＲＡは、式（１ｂ）：
［式中：
Ｘ１は、ケイ素原子であり；
Ｒ１１は、それぞれ独立して、－Ｚ１１－ＲＢ１で表され；
Ｚ１１は、２価の有機基であり；
ＲＢ１は、芳香環を含む基であり；
前記芳香環を含む基は、少なくとも３つの－ＯＲＰ１を有するベンゼン環を含み；
ＲＰ１は、それぞれ独立して、水素原子、又は、保護基であり；
Ｒ１２は、水酸基であり；
ｋ１は、それぞれ独立して、２又は３であり；
ｋ１とｌ１との合計は、式（１ｂ）毎に３である。]
で表され、
α、β及びγは１である、
請求項１又は２に記載のフッ素原子含有化合物。
－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ１－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ１－ （ｆ１１）
［式中：
ｄ１は、１～２００の整数であり；
ｅ１は、０又は１である。］；
で表され；
ＸＡは、それぞれ独立して、－（（ＣＨ２）ｐ１０）ｐ２１－Ｏ－（（ＣＨ２）ｐ１０）ｐ２１’－であり；
ｐ１０は、それぞれ独立して、１～２０の整数であり；
ｐ２１は、０又は１であり；
ｐ２１’は、０又は１である。］
ＲＡは、式（１ｂ）：
【化7】
Ｘ１は、ケイ素原子であり；
Ｒ１１は、それぞれ独立して、－Ｚ１１－ＲＢ１で表され；
Ｚ１１は、２価の有機基であり；
ＲＢ１は、芳香環を含む基であり；
前記芳香環を含む基は、少なくとも３つの－ＯＲＰ１を有するベンゼン環を含み；
ＲＰ１は、それぞれ独立して、水素原子、又は、保護基であり；
Ｒ１２は、水酸基であり；
ｋ１は、それぞれ独立して、２又は３であり；
ｋ１とｌ１との合計は、式（１ｂ）毎に３である。]
で表され、
α、β及びγは１である、
請求項１又は２に記載のフッ素原子含有化合物。
【請求項12】
ＲＦは、式（ｆ１１）：
－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ１－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ１－ （ｆ１１）
［式中：
ｄ１は、１～２００の整数であり；
ｅ１は、０又は１である。］；
で表され；
ＸＡは、－Ｃ（＝Ｏ）－であり；
ＲＡは、式（１ｂ）：
［式中：
Ｘ１は、窒素原子であり；
Ｒ１１は、それぞれ独立して、－Ｚ１１－ＲＢ１で表され；
Ｚ１１は、２価の有機基であり；
ＲＢ１は、芳香環を含む基であり；
前記芳香環を含む基は、少なくとも３つの－ＯＲＰ１を有するベンゼン環を含み；
ＲＰ１は、それぞれ独立して、水素原子、又は、保護基であり；
Ｒ１２は、水素原子、フェニル基、又は、Ｃ１－６アルキル基であり；
ｋ１は、それぞれ独立して、１又は２であり；
ｋ１とｌ１との合計は、式（１ｂ）毎に２である。]
で表され、
α、β及びγは１である、
請求項１又は２に記載のフッ素原子含有化合物。
－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ１－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ１－ （ｆ１１）
［式中：
ｄ１は、１～２００の整数であり；
ｅ１は、０又は１である。］；
で表され；
ＸＡは、－Ｃ（＝Ｏ）－であり；
ＲＡは、式（１ｂ）：
【化8】
Ｘ１は、窒素原子であり；
Ｒ１１は、それぞれ独立して、－Ｚ１１－ＲＢ１で表され；
Ｚ１１は、２価の有機基であり；
ＲＢ１は、芳香環を含む基であり；
前記芳香環を含む基は、少なくとも３つの－ＯＲＰ１を有するベンゼン環を含み；
ＲＰ１は、それぞれ独立して、水素原子、又は、保護基であり；
Ｒ１２は、水素原子、フェニル基、又は、Ｃ１－６アルキル基であり；
ｋ１は、それぞれ独立して、１又は２であり；
ｋ１とｌ１との合計は、式（１ｂ）毎に２である。]
で表され、
α、β及びγは１である、
請求項１又は２に記載のフッ素原子含有化合物。
【請求項13】
式（Ａ１）又は（Ｂ１）：
［式中：
ＲＦ１は、Ｒｆ１－ＲＦ－Ｏｑ－であり；
ＲＦ２は、－Ｒｆ２ ｐ－ＲＦ－Ｏｑ－であり；
Ｒｆ１は、１個以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－１６アルキル基であり；
Ｒｆ２は、１個以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－６アルキレン基であり；
ＲＦは、それぞれ独立して、２価のフッ素原子含有基であり；
ｐは、０又は１であり；
ｑは、それぞれ独立して、０又は１であり；
αは、１～９の整数であり；
βは、１～９の整数であり；
γは、それぞれ独立して、１～９の整数であり；
ＸＡ１は、それぞれ独立して、単結合、又は、２～１０価の有機基であり；
ＲＡ２は、それぞれ独立して、芳香環を含む基であり；
前記芳香環を含む基は、少なくとも３つの－ＯＲＰ２を有するベンゼン環を含み；
ＲＰ２は、それぞれ独立して、保護基である。］
で表されるフッ素原子含有化合物の保護基を水素原子に置換する工程を含む、
フッ素原子含有化合物の製造方法。
ＲＦ１は、Ｒｆ１－ＲＦ－Ｏｑ－であり；
ＲＦ２は、－Ｒｆ２ ｐ－ＲＦ－Ｏｑ－であり；
Ｒｆ１は、１個以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－１６アルキル基であり；
Ｒｆ２は、１個以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－６アルキレン基であり；
ＲＦは、それぞれ独立して、２価のフッ素原子含有基であり；
ｐは、０又は１であり；
ｑは、それぞれ独立して、０又は１であり；
αは、１～９の整数であり；
βは、１～９の整数であり；
γは、それぞれ独立して、１～９の整数であり；
ＸＡ１は、それぞれ独立して、単結合、又は、２～１０価の有機基であり；
ＲＡ２は、それぞれ独立して、芳香環を含む基であり；
前記芳香環を含む基は、少なくとも３つの－ＯＲＰ２を有するベンゼン環を含み；
ＲＰ２は、それぞれ独立して、保護基である。］
で表されるフッ素原子含有化合物の保護基を水素原子に置換する工程を含む、
フッ素原子含有化合物の製造方法。
【請求項14】
前記工程において、Ｒｐ２はベンジル基であり、接触水素化によりベンジル基を水素原子に置換する、請求項１３に記載のフッ素原子含有化合物の製造方法。
【請求項15】
請求項２に記載のフッ素原子含有化合物と溶剤とを含む、組成物。
【請求項16】
溶剤の地球温暖化係数（１００年）が１，０００以下である、請求項１５に記載の組成物。
【請求項17】
溶剤は、ハイドロクロロフルオロカーボン、ハイドロフルオロカーボン、ハイドロフルオロエーテル、ハイドロクロロフルオロオレフィン、ハイドロフルオロオレフィン、含フッ素芳香族炭化水素、含フッ素アルコール、及び、含フッ素カルボン酸から選ばれる少なくとも１つである請求項１５に記載の組成物。
【請求項18】
溶剤は、ＨＣＦＣ－２２５ｃａ、ＨＣＦＣ－２２５ｃｂ、１，１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６－トリデカフルオロオクタン、１，１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６－トリデカフルオロヘキサン、１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタン、ＨＦＥ－３４７ｐｃ－ｆ、メチルノナフルオロブチルエーテル、メチルノナフルオロイソブチルエーテル、エチルノナフルオロブチルエーテル、エチルノナフルオロイソブチルエーテル、ＨＦＥ－７３００、ＨＦＥ－３５６ｍｅｃ３、ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄ、ＨＣＦＯ－１２３３ｚｄ（Ｚ）、パーフルオロベンゼン、ベンズトリフルオリド、１，３－ビストリフルオロメチルベンゼン、２，２，２-トリフルオロエタノール、２，２，３，３，３－ペンタフルオロ-1-プロパノール、１，１，１，３，３，３－ヘキサフルオロ－２－プロパノール、及び、トリフルオロ酢酸からなる群より選ばれる少なくとも１つである請求項１５に記載の組成物。
【請求項19】
上記組成物は、コーティング用である、請求項１５に記載の組成物。
【請求項20】
真空蒸着用、又は、湿潤被覆処理用のコーティング剤である、請求項１５に記載の組成物。
【請求項21】
基材と、該基材上に、請求項１又は２に記載のフッ素原子含有化合物で処理された層とを含む、物品。
【請求項22】
基材と、該基材上に、請求項１５に記載の組成物で処理された層とを含む、物品。
【請求項23】
前記基材は、金属を含む、請求項２１に記載の物品。
【請求項24】
前記基材は、Ａｌ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｙ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｓｎ、Ｗ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ａｕ、及びＰｂからなる群より選ばれる少なくとも１つを含む、請求項２１に記載の物品。