特開 2024-127861 測定チャンバにおける配置のためのセンサー構成体、マスクを適切なものにするための装置、およびマスクを適切なものにするための方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2024127861

(43)【公開日】2024-09-20

(54)【発明の名称】測定チャンバにおける配置のためのセンサー構成体、マスクを適切なものにするための装置、およびマスクを適切なものにするための方法

(51)【国際特許分類】

   H01L 21/304 20060101AFI20240912BHJP

【ＦＩ】

H01L21/304 645Z

H01L21/304 642Z

【審査請求】有

【請求項の数】24

【出願形態】ＯＬ

【外国語出願】

(21)【出願番号】P 2024034934

(22)【出願日】2024-03-07

(31)【優先権主張番号】10 2023 202 135.8

(32)【優先日】2023-03-09

(33)【優先権主張国・地域又は機関】DE

(71)【出願人】

【識別番号】503263355

【氏名又は名称】カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー

(74)【代理人】

【識別番号】100094569

【弁理士】

【氏名又は名称】田中 伸一郎

(74)【代理人】

【識別番号】100109070

【弁理士】

【氏名又は名称】須田 洋之

(74)【代理人】

【識別番号】100067013

【弁理士】

【氏名又は名称】大塚 文昭

(74)【代理人】

【識別番号】100120525

【弁理士】

【氏名又は名称】近藤 直樹

(74)【代理人】

【識別番号】100139712

【弁理士】

【氏名又は名称】那須 威夫

(74)【代理人】

【識別番号】100141553

【弁理士】

【氏名又は名称】鈴木 信彦

(74)【代理人】

【識別番号】100151987

【弁理士】

【氏名又は名称】谷口 信行

(72)【発明者】

【氏名】ルッツ ブレカーボーム

(72)【発明者】

【氏名】ウルリッヒ マテイカ

【テーマコード（参考）】

5F157

【Ｆターム（参考）】

5F157AA73

5F157BG04

5F157BG05

5F157BG13

5F157BG14

5F157BG15

5F157CF04

5F157CF38

5F157CF42

(57)【要約】

【課題】本発明は、測定チャンバ（５４０）における配置のためのセンサー構成体（１００；２００；３００；５００）を提案する。
【解決手段】センサー構成体（１００；２００；３００；５００）は、センサー（１２４；２２４；３２４；５２４）、取り込み開口（１３１；２３１；３３１）、および出口（１３２；２３２；３３２；５３２）を備える。センサー構成体（１００；２００；３００；５００）が、取り込み開口（１３１；２３１；３３１）と出口（１３２；２３２；３３２；５３２）との間に流体接続部（１３３；２３３；３３３）を備える。
【選択図】図１

【特許請求の範囲】

【請求項1】

測定チャンバ（５４０）における配置のためのセンサー構成体（１００；２００；３００；５００）であって、前記センサー構成体（１００；２００；３００；５００）が、センサー（１２４；２２４；３２４；５２４）と取り込み開口（１３１；２３１；３３１）と出口（１３２；２３２；３３２；５３２）とを備え、前記センサー構成体（１００；２００；３００；５００）が、前記取り込み開口（１３１；２３１；３３１）と前記出口（１３２；２３２；３３２；５３２）との間の流体接続部（１３３；２３３；３３３）を備える、
センサー構成体（１００；２００；３００；５００）。

【請求項2】

前記流体接続部（１３３；２３３；３３３）が、前記センサー構成体（１００；２００；３００；５００）の動作中に吸引により前記測定チャンバ（５４０）から媒体を抜き出すように設計されている、
請求項１に記載のセンサー構成体（１００；２００；３００；５００）。

【請求項3】

前記センサー構成体（１００；２００；３００；５００）が、接着層（１２３；２２３；３２３、３２３ａ）を含む、
請求項１または２に記載のセンサー構成体（１００；２００；３００；５００）。

【請求項4】

前記流体接続部（１３３；２３３；３３３）が、前記センサー構成体（１００；２００；３００；５００）の動作中に吸引により前記接着層（１２３；２２３；３２３、３２３ａ）の放出気体（１２６；２２６；３２６）を抜き出すように設計された、
請求項３に記載のセンサー構成体（１００；２００；３００；５００）。

【請求項5】

前記センサー構成体（１００；２００；３００；５００）が、第１のセクション（１９０；２９０；３９０）と第２のセクション（１１０；２１０；３１０）とを含み、前記第１のセクション（１９０；２９０；３９０）が、前記出口（１３２；２３２；３３２；５３２）を含み、前記第２のセクション（１１０；２１０；３１０）が、前記取り込み開口（１３１；２３１；３３１）と前記センサー（１２４；２２４；３２４；５２４）とを含み、前記流体接続部（１３３；２３３；３３３）が、前記第１のセクション（１９０；２９０；３９０）を前記第２のセクション（１１０；２１０；３１０）に接続している、
請求項１～４のいずれか１項に記載のセンサー構成体（１００；２００；３００；５００）。

【請求項6】

前記センサー構成体（１００；２００；３００；５００）が、電子機器ユニット（１２０；２２０；３２０）を備え、前記第１のセクション（１９０；２９０；３９０）が、前記電子機器ユニット（１２０；２２０；３２０）を備える、
請求項５に記載のセンサー構成体（１００；２００；３００；５００）。

【請求項7】

前記第１のセクション（１９０；２９０；３９０）が、キャリアプレート（１２１、２２１、３２１）を含み、前記第２のセクション（１１０；２１０；３１０）が、センサーキャリア（１２２；２２２；３２２）を含む、
請求項５または６に記載のセンサー構成体（１００；２００；３００；５００）。

【請求項8】

前記センサー構成体（１００；２００；３００；５００）が、前記第１のセクション（１９０；２９０；３９０）から前記第２のセクション（１１０；２１０；３１０）に向かって低下する圧力勾配を生成するように設計されている、
請求項５～７のいずれか１項に記載のセンサー構成体（１００；２００；３００；５００）。

【請求項9】

前記第１のセクション（１９０；２９０；３９０）が、第１の空洞（１３４；２３４；３３４；５３４）を含み、前記第２のセクション（１１０；２１０；３１０）が、第２の空洞（１３５；２３５；３３５；５３５）を含み、前記第１の空洞（１３４；２３４；３３４；５３４）における分圧が、前記第２の空洞（１３５；２３５；３３５；５３５）における分圧より低い、
請求項５～８のいずれか１項に記載のセンサー構成体（１００；２００；３００；５００）。

【請求項10】

前記センサー構成体（１００；２００；３００；５００）が、第３のセクション（３４０）を含み、前記第３のセクション（３４０）が、第３の空洞（３４５）を含み、前記第３の空洞（３４５）における分圧が、前記第１の空洞（１３４；２３４；３３４；５３４）における分圧および前記第２の空洞（１３５；２３５；３３５；５３５）における分圧より高い、
請求項９に記載のセンサー構成体（１００；２００；３００；５００）。

【請求項11】

前記センサー構成体（１００；２００；３００；５００）が、複数のセンサー（１２４；２２４；３２４；５２４）、特に複数の結像センサー（１２４；２２４；３２４；５２４）を備える、
請求項１～１０のいずれか１項に記載のセンサー構成体（１００；２００；３００；５００）。

【請求項12】

前記センサー（１２４；２２４；３２４；５２４）が、ＥＵＶ範囲における放射波（５３６）を検出するように設計されている、
請求項１～１１のいずれか１項に記載のセンサー構成体（１００；２００；３００；５００）。

【請求項13】

前記センサー構成体（１００；２００；３００；５００）が、第１の接続要素（１３７；３３７；５３７）を含み、前記第１の接続要素（１３７；３３７；５３７）が、真空源（５３８）に接続されることができる、
請求項１～１２のいずれか１項に記載のセンサー構成体（１００；２００；３００；５００）。

【請求項14】

前記センサー構成体（１００；２００；３００；５００）が、真空源（５３８）を含む、
請求項１～１３のいずれか１項に記載のセンサー構成体（１００；２００；３００；５００）。

【請求項15】

前記センサー構成体（１００；２００；３００；５００）が、第２の接続要素（１３９；２３９；３３９）を含み、前記第２の接続要素（１３９；２３９；３３９）が、超高真空での動作のために前記測定チャンバ（５４０）に接続されることができる、
請求項１～１４のいずれか１項に記載のセンサー構成体（１００；２００；３００；５００）。

【請求項16】

前記センサー構成体（１００；２００；３００；５００）が、洗い流し媒体の洗い流し流（２２８；３２８）を流すための洗い流しデバイス（２２７；３２７）を備える、
請求項１～１５のいずれか１項に記載のセンサー構成体（１００；２００；３００；５００）。

【請求項17】

前記洗い流し媒体が、ヘリウム、水素、窒素、ネオン、アルゴン、クリプトン、キセノン、および酸素からなる群から選択された１つまたは複数の気体を含む、
請求項１～１６のいずれか１項に記載のセンサー構成体（１００；２００；３００；５００）。

【請求項18】

前記流体接続部（１３３；２３３；３３３）が、１つまたは複数の経路部（１４１；２４１；３４１）を含む、
請求項１～１７のいずれか１項に記載のセンサー構成体（１００；２００；３００；５００）。

【請求項19】

前記経路部（１４１；２４１；３４１）が、少なくとも０．１ｍｍ²、特に少なくとも１ｍｍ²、特に好ましくは少なくとも５ｍｍ²の断面を有する、
請求項１８に記載のセンサー構成体（１００；２００；３００；５００）。

【請求項20】

前記流体接続部（１３３；２３３；３３３）が、１つまたは複数の弁を含む、
請求項１～１９のいずれか１項に記載のセンサー構成体（１００；２００；３００；５００）。

【請求項21】

前記センサー構成体（１００；２００；３００；５００）が、冷却デバイス（３４２）を含む、
請求項１～２０のいずれか１項に記載のセンサー構成体（１００；２００；３００；５００）。

【請求項22】

リソグラフィーにおける使用のためのマスク（５３０）を適切なものにするための装置であって、前記装置が、請求項１～２１のいずれか１項に記載のセンサー構成体（１００；２００；３００；５００）を備える、
装置。

【請求項23】

前記装置が、評価および制御デバイス（５４３）と、更に、光学システム（５２０）を備える測定チャンバ（５４０）とを含む、
請求項２２に記載のマスク（５３０）を適切なものにするための装置（５５０）。

【請求項24】

リソグラフィーにおける使用のためのマスク（５３０）を適切なものにするための方法であって、
・マスク（５３０）を適切なものにするための装置（５５０）を提供するステップ（１０１０）であって、前記装置が、センサー構成体（１００；２００；３００；５００）に関連した請求項１～２１のいずれか１項に記載のセンサー構成体（１００；２００；３００；５００）を備え、前記装置（５５０）が、評価および制御デバイス（５４３）と、更に、光学システム（５２０）を備える測定チャンバ（５４０）とを含み、前記センサー構成体（１００；２００；３００；５００）が、センサー（１２４；２２４；３２４；５２４）と取り込み開口（１３１；２３１；３３１）と出口（１３２；２３２；３３２；５３２）とを含み、前記センサー構成体（１００；２００；３００；５００）が、前記取り込み開口（１３１；２３１；３３１）と前記出口（１３２；２３２；３３２；５３２）との間に流体接続部（１３３；２３３；３３３）を含み、前記装置（５５０）が、真空源（５３８）を含む、ステップ（１０１０）と、
・前記センサー（１２４；２２４；３２４；５２４）により前記マスク（５３０）の少なくとも一部の少なくとも１つの光学的像を検出するステップ（１０２０）と、
・前記評価および制御デバイス（５４３）により前記流体接続部（１３３；２３３；３３３）を介して吸引により前記測定チャンバ（５４０）から媒体を抜き出すステップ（１０３０）と、
を含む、方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本出願は、２０２３年３月９日に出願されたドイツ特許出願第ＤＥ１０２０２３２０２１３５．８号の優先権を主張する。このドイツ出願の内容は更に、本出願の文章に参照により組み込まれる。

【0002】

本発明は、測定チャンバにおける配置のためのセンサー構成体、マスクを適切なものにするための装置、およびマスクを適切なものにするための方法に関する。

【背景技術】

【0003】

測定チャンバにおける配置のための、特に真空測定チャンバにおける配置のための知られたセンサー構成体では、粒子および／または気体が特にセンサー構成体から測定チャンバ内に入り得、例えば接着剤の放出気体が測定チャンバ内に入る。

【0004】

従来技術は、リソグラフィーにおける使用のためのマスクを適切なものにするための装置および方法を開示している。この場合において、リソグラフィーにおける使用のためのマスクは、例えば半導体要素を生成するための後続のリソグラフィー工程において品質を高めるために欠陥および／またはソイリングを見つけるために光学的像を記録することにより検査され得る。マスクを適切なものにするための方法は、センサー構成体を備える装置により実施され得る。従来技術から知られているセンサー構成体では、センサー構成体の部品からの、および／または測定チャンバからの粒子または汚染物質が光センサーに、または光学面に、例えば測定チャンバ内の光学面に堆積させられるおそれがある。これは、光学コンポーネントに、および／またはセンサーに、特に光センサーに望ましくない堆積が形成されることをもたらし得、これらの望ましくない堆積は測定結果に悪影響をもたらす。望ましくない堆積は、例えば有機物であることができる。センサー構成体からの汚染物質に加えて、センサー構成体に由来しない汚染物質が、代替的に、または追加的に表面に、特にセンサー面に堆積させられるようになり得る。これは例えば、リソグラフィーにおける使用のためのマスクを適切なものにするための方法の測定結果に悪影響を与え、特にマスクまたは光学コンポーネントが汚染されるおそれがある。これは、特に経時的に蓄積する手法により、例えば欠陥検出の信頼性に悪影響を与えるおそれがある。代替例として、または加えて、適切であることが意図されるマスクが、知られた方法によりソイリングされる可能性があり、これがリソグラフィー結果に悪影響を与えるおそれがある。代替例として、または加えて、誤判定の欠陥検出動作の割合が増加するおそれがあり、および／または、存在する欠陥が検出されないおそれがある。

【発明の概要】

【0005】

したがって、本発明の目的は、測定チャンバにおける配置のためのセンサー構成体、マスクを適切なものにするための装置、およびマスクを適切なものにするための方法を提供することであり、これらのセンサー構成体、装置、および方法は、測定チャンバおよび／またはマスクの汚染物質を減らす。

【0006】

したがって、本発明は、測定チャンバにおける配置のためのセンサー構成体を提案する。センサー構成体はセンサーを含む。センサーは、光センサー、特に結像センサーであることができる。センサーは、例えば、ＣＣＤ（電荷結合デバイス）チップ、ＣＭＯＳ（相補型金属－酸化物－半導体）チップ、および／または、フォトダイオードを包含することができる。センサーは、特に好ましくは、ＴＤＩ（時間遅延およびインテグレーション）センサーを備えることができる。センサー構成体は、例えばカメラシステムであることができる。センサー構成体は、取り込み開口と出口とを含む。センサー構成体は、取り込み開口と出口との間の流体接続部を含む。取り込み開口は、測定チャンバから出てセンサー構成体内に、特にセンサー構成体における空洞内に流体を流すように設計され得る。流体は、例えば空気といった気体および／または液体媒質であることができる。取り込み開口は、流体を通すことができる媒体により完全に、または部分的に充填され得る。出口は、流体接続部の少なくとも一部を介してセンサー構成体から外に流体を流すように設計され得る。出口は開口として構成され得る。出口は流体を通すことができる媒体により完全に、または部分的に充填され得る。流体接続部は、センサー構成体の少なくとも一部を通して流体を流すように設計されている。流体接続部は、取り込み開口から出口に流体を流すように設計され得る。流体接続部は空洞として少なくとも部分的に構成され得る。流体接続部は、流体を通すことができる媒体により少なくとも部分的に充填され得る。

【0007】

流体接続部は、センサー構成体の動作中に吸引により測定チャンバから媒体を抜き出すように設計され得る。媒体は、好ましくは流体であり得る。媒体は、気体、特に気体混合物、および／または、粒子および／または、汚染物質を含み得る。

【0008】

センサー構成体は接着層を含み得る。接着層は、センサー構成体の２つ以上の要素を互いに接続するように設計され得る。接着層は、接着層ソイリングに対する障壁を形成し得る。接着層は、汚染物質が測定チャンバに向かって動くことを防ぐように設計され得る。流体接続部は、特に吸引により放出気体を抜き出すために、センサー構成体の動作中に接着層の放出気体を放散させるように設計され得る。これは、測定チャンバ内への放出気体の拡散を抑制し得、および／または、接着層の放出気体が、取り込み開口を介して、および／または流体接続部を介して出口に流され得る。

【0009】

センサー構成体は、第１のセクションと第２のセクションとを含み得る。第１のセクションは、出口を含み得る。第２のセクションは、取り込み開口とセンサーとを含み得る。加えて、第２のセクションは接着層を含み得る。流体接続部は、第１のセクションを第２のセクションに接続し得る。第１のセクションは、例えば１つの平面により第２のセクションから離され得る。測定チャンバにおけるセンサー構成体の配置の場合、平面は測定チャンバの壁に配置され得る。測定チャンバにおけるセンサー構成体の配置の場合、センサー構成体の第１のセクションは、実質的に測定チャンバの外部に配置され得る。測定チャンバにおけるセンサー構成体の配置の場合、センサー構成体の第２のセクションは、実質的に測定チャンバ内に突出し得る。本発明の文脈では、例えば例として「第１のセクション」における、例えば「第１の」、「第２の」、「第３の」といった表現は、特にある順序を示すのではなく、および言及されているタイプの別の要素の存在を示すのではなく、純粋な名称として機能する。

【0010】

センサー構成体は、電子機器ユニットを備え得る。特に第１のセクションは、電子機器ユニットを備え得る。電子機器ユニットは、電気接続体および／またはケーブルハーネスおよび／または制御ユニットおよび／または評価ユニットを備え得る。

【0011】

第１のセクションは、キャリアプレートを含み得る。第２のセクションは、センサーキャリアを含み得る。キャリアプレートは、測定チャンバにセンサー構成体を配置するように設計され得る。キャリアプレートは、例えば測定チャンバの壁に永久的に、または可逆的に接続され得る。センサー構成体は、例えば、封止要素、特に封止材、例えばＯリング、および／または液密接着層、および／または液密コーティングを含み得る。封止目的のために、封止材、特にＯリングは、キャリアプレートと測定チャンバの壁との間に配置され得る。キャリアプレートは、開口、例えば円形開口を含み得る。電子機器ユニットの少なくとも一部は、開口に収容され得る。キャリアプレートおよび／またはセンサーキャリアおよび／またはセンサーは、互いに実質的に平行に配置され得る。本例において、実質的に平行であることは、３０°未満の、特に１０°未満の、特に好ましくは１°未満の２つの要素間の角度を意味すると理解され得る。接着層は、センサーキャリアとセンサーとの間に配置され得る。接着層は、センサーキャリアをセンサーに接続するように設計され得る。電子機器ユニットは、センサーキャリアまたはセンサーキャリアにおける開口を介して、および／または、接着層を通る通路を介してセンサーに接続され、特に電気的に接続され得る。電子機器ユニットは、例えば実質的に円柱形であり得る。

【0012】

第２のセクションは接着層を含み得る。接着層は、第１のセクションから、特に電子機器ユニットから測定チャンバ内への汚染を防ぐように設計され得る。結果として、電子機器ユニットは、真空に適するように構成される必要がない。これはコストを下げ得る。真空に適するように設計される必要があるセンサー構成体のボリュームは、接着層により低減され得る。接着層は、真空に適していないセンサー構成体の要素を遮蔽し得る。

【0013】

センサー構成体は、特に放出気体が第２のセクションから、特に接着層から吸引により抜き出され得る手法により、第１のセクションから第２のセクションに向かって低下する圧力勾配を生成するように設計され得る。第１のセクションは第１の空洞を含み得る。第２のセクションは第２の空洞を含み得る。第１の空洞における分圧は、特にセンサー構成体の動作中、第２の空洞における分圧より低くなり得る。センサー構成体は、好ましくは、第１の空洞における分圧が特にセンサー構成体の動作中に第２の空洞における分圧より低くなり得るように設計され得る。第１の空洞は、例えば電子機器ユニットの一部であり得る。第２の空洞は、例えば経路部および／または取り込み開口であり得る。第１の空洞および／または第２の空洞は、媒体で、例えば多孔質媒体で少なくとも部分的に充填され得る。第２の空洞は、例えばセンサーキャリアに、特にセンサーキャリアの多孔質部材に、および／または、センサーキャリアのケーブルブッシングに配置され得る。

【0014】

センサー構成体は、複数のセンサー、特に複数の結像センサー、特に好ましくは複数のＴＤＩセンサーを含み得る。センサー構成体は、例えば複数のＣＣＤ（電荷結合デバイス）チップおよび／または複数のＣＭＯＳ（相補的金属－酸化物－半導体）チップおよび／または複数のフォトダイオードを備え得る。センサー構成体は、例えば２個～１００個のセンサー、特に５個～５０個のセンサー、特に好ましくは１０個～３０個のセンサーを含み得る。センサー構成体は、複数のセンサーの各々が部分像を記録するように設計される手法により構成され得、部分像は、時間オフセット後に追加され得る。これは、小さいセンサーを使用するときにセンサー構成体の視野が広げられること、および／または、摩耗時にセンサーが個別に置換されることができるようにすることを可能にする。センサー構成体は複数のＴＤＩチップを含み得、ＴＤＩチップは、重ならずに可能である限り１つの平面に配置され得る。

【0015】

センサー、特にセンサー構成体は、ＥＵＶ範囲における放射波を検出するように設計され得る。放射波は、１ｎｍ～２５０ｎｍの間の、特に１０ｎｍ～１００ｎｍの間の、好ましくは１３ｎｍ～１４ｎｍの間の波長をもち得る。

【0016】

センサー構成体は第１の接続要素を含み得る。第１の接続要素は真空源に接続可能であり得る。第１の接続要素は、出口と同一であり得る。

【0017】

センサー構成体は真空源を含み得る。真空源はポンプであり得る。真空源は真空システムであり得る。真空源は超高真空を生成するように設計され得る。超高真空は、本例では１０パスカル未満、好ましくは５パスカル未満の分圧を意味すると理解され得る。超高真空は、特に好ましくは、１００ナノパスカル未満の分圧を意味すると理解され得る。センサー構成体は、例えば複数のポンプ、特にプライマーポンプおよび主ポンプを含み得る。真空源は、ロック弁ポンプ、回転翼ポンプ、噴射ポンプ、分子ポンプ、ターボ分子ポンプ、クライオポンプ、およびソープションポンプを含む群から選択された１つまたは複数の要素を含み得る。センサー構成体は、加熱のための装置を含み得る。これは、動作中に汚染物質が測定チャンバに入ることを防ぎ得る。

【0018】

センサー構成体は第２の接続要素を含み得る。第２の接続要素は超高真空における動作のために測定チャンバに接続され得る。第２の接続要素は、キャリアプレートを測定チャンバの壁に永久的に、または可逆的に接続するように設計され得る。接続要素は封止のためのＯリングを備え得る。第２の接続要素は例えばフランジを備え得る。第２の接続要素は、測定チャンバにねじ式で嵌め合わされるように設計され得る。第２の接続要素は、１つまたは複数の穿孔穴を含み得る。

【0019】

センサー構成体は、洗い流し媒体の洗い流し流を流すための洗い流しデバイスを備え得る。洗い流しデバイスは、洗い流し媒体源、洗い流し媒体を流すためのライン、センサーのうちの１つに洗い流し媒体を送るための出口、特にノズル、を含む群から選択された１つまたは複数の要素を備え得る。洗い流し媒体は、ヘリウム、水素、窒素、ネオン、アルゴン、クリプトン、キセノン、および酸素を含む群から選択された１つまたは複数の気体を含み得る。洗い流し媒体は純粋な気体であることができる。この代わりとして、気体は気体混合物であることができる。洗い流し媒体は、好ましくは、ヘリウムと水素とを含む気体混合物であり得る。洗い流しデバイスは、一定の洗い流し流を生成するように設計され得る。洗い流しデバイスは、層状洗い流し流を生成するように設計され得る。洗い流しデバイスは、好ましくは、洗い流し流をセンサーの少なくとも一部上に、特にセンサーのセンサー縁部上に向かわせるように設計され得る。センサーは、洗い流し流により洗浄され得る。代替例として、または加えて、例えばセンサーからの熱が洗い流し流により、特にセンサー構成体の第１のセクションに放散させられ得る。これは、センサーの機能を改善し得る。取り込み開口は、洗い流し媒体を引き込むように設計され得る。流体接続部は、洗い流し流を取り込み開口から出口に向かわせるように設計され得る。洗い流し流は、汚染物質および／または接着層の放出気体とともに移動するように設計され得る。洗い流しデバイスおよび／または流体接続部は、センサー構成体の一部に真空を生成するように設計され得る。これは例えば、特に出口に向けて、吸引により汚染物質および／または放出気体を抜き出すために使用され得る。

【0020】

センサー構成体は、第１のハウジングを含み得る。センサー構成体の少なくとも一部は、第１のハウジングに統合され得る。例えば、電子機器ユニットおよび／またはキャリアプレートが、第１のハウジングに少なくとも部分的に配置され、および／または、第１のハウジングに機械的に接続され得る。例えば、センサー構成体の第１のハウジングは出口を含み得る。例えば、センサー構成体は、第２のハウジングを含み得る。第２のハウジングは、例えばセンサーキャリアおよび／またはセンサーおよび／または洗い流しデバイスを少なくとも部分的に備え得る。この手法により、例えば吸引による電子機器ユニットからの、および／またはセンサー構成体の接着層からの汚染物質および／または放出気体の抜き出しが簡略化され得る。

【0021】

流体接続部は、１つまたは複数の経路部を含み得る。流体接続部は、例えば環状ギャップを備え得る。環状ギャップは、一定のギャップ幅をもち得る。環状ギャップは、例えば特にセンサー構成体を安定化させるための要素のための、および／または、電気接続体のための不連続部分をもち得る。環状ギャップは、特に電子機器ユニットがキャリアプレートにおける円形開口内に突出することにより、円柱形電子機器ユニットとキャリアプレートとの間に形成され得る。リング形開口の半径は、例えば０．１ｍｍ～１ｃｍぶん、好ましくは０．５ｍｍ～２ｍｍぶん、特に好ましくは１ｍｍぶん電子機器ユニットの半径より大きくすることができる。

【0022】

経路部は、少なくとも０．１ｍｍ²、特に少なくとも１ｍｍ²、特に好ましくは少なくとも５ｍｍ²の断面をもち得る。経路部は、例えばキャリアプレートと電子機器ユニットとの間に形成され得る。代替例として、または加えて、経路部は、電子機器ユニットのハウジングとキャリアプレートとの間に形成され得る。電子機器ユニットのハウジングおよび／または電子機器ユニットは、例えば実質的に管状または缶形または円柱形であり得る。この代わりとして、電子機器ユニットのハウジングおよび／または電子機器ユニットは、例えば実質的に立方体状であり得る。電子機器ユニットのハウジングは、例えば接着層によりセンサーキャリアに接続され得る。電子機器ユニットのハウジングは、例えばセンサー構成体の第１のハウジングに接続され得る。電子機器ユニットのハウジングは、電気ラインを供給するための開口を含み得る。

【0023】

センサー構成体は、例えば第３のセクションを含み得る。第３のセクションは、第３の空洞を備え得る。第３の空洞は、例えば電子機器ユニットのハウジング内に統合され得る。第３の空洞における分圧は、特にセンサー構成体の動作中、第１の空洞および／また第２の空洞における分圧より高くされ得る。センサー構成体は、好ましくは、第３の空洞における分圧が、特にセンサー構成体の動作中、第１の空洞および／または第２の空洞における分圧より高くされ得る手法により構成され得る。第１のセクションの空洞における分圧は、好ましくは、第２のセクションの空洞における分圧より高くされ得る。第３のセクションは、好ましくは、電子機器ユニットを備え得る。センサー構成体は、特に電子機器ユニットのハウジングとセンサーキャリアとの間に更なる接着層を含み得る。更なる接着層は、特に、電子機器ユニットの一部が接着層を通ってセンサーキャリアまで案内され得る手法によりリング形に構成され得る。第３のセクションは、液密壁により、および／または、電子機器ユニットのハウジングにより、および／または、更なる接着層により、第１のセクションから、および／または第２のセクションから分離され、特に流体的に分離され得る。結果として、電子機器ユニットが真空に適するように構成されることは必要とされない。第１の空洞における分圧および／または第２の空洞における分圧が例えば電子機器ユニットにより管理された手法により調節され得る手法により、センサー構成体が構成され得る。特に好ましくは、第１の空洞における分圧および／または第２の空洞における分圧および／または第３の空洞における分圧が例えば電子機器ユニットにより管理された手法により調節され得る手法により、センサー構成体が構成され得る。例えば、真空源は、センサー構成体の空洞における分圧を調節する、および／または制御するように設計され得る。真空源は、第１の空洞および／または第２の空洞における異なる分圧を生成する、および／または管理するように設計され得る。真空源は、好ましくは、第１の空洞および／または第２の空洞および／または第３の空洞における異なる分圧を生成する、および／または管理するように設計され得る。

【0024】

センサー構成体は、例えば冷却デバイスを含み得る。冷却デバイスは、ペルティエ素子を備え得る。冷却デバイスは、センサーを冷やすように設計され得る。流体接続部は、流体流および／または洗い流し流がペルティエ素子の高温側を通り過ぎるように、特に熱が出口に逃がされる手法により配置され得る。代替例として、または加えて、流体接続部は、流体流および／または洗い流し流がペルティエ素子の低温側を通り過ぎる手法により、特に凝縮した水分が出口に逃がされる手法により構成され得る。流体接続部は、例えば、センサーキャリアと冷却デバイス、特にペルティエ素子との間のギャップであり得る。流体接続部は、冷却デバイスからの水分、特に凝縮物を出口に流すように設計され得る。流体接続部、特に経路部は、冷却デバイスおよび／またはセンサーキャリアに少なくとも部分的に配置され得る。これは、熱および／または水分および／または汚染物質が目的にかなう手法によりセンサーから放散されることを可能にする。

【0025】

例えば、センサー構成体は、電子機器ユニットが測定チャンバの分圧より低い分圧をもち得る手法によりセンサー構成体における分圧が管理され得る手法により構成され得る。これは、センサー、および／または、センサーキャリア、および／または、冷却デバイス、特にペルティエ素子が、特に測定チャンバと電子機器ユニットとの間のより小さい圧力差に起因して、より小さく曲がるという利点を有する。

【0026】

流体接続部は、１つまたは複数の弁を含み得る。弁は、第１のセクションから第２のセクションへの流体流を防ぐように設計され得る。これは、例えば真空源がオフにスイッチングされたとき、センサー構成体からの汚染物質が測定チャンバに入ることを防ぎ得る。弁は、例えば逆止め弁であり得る。代替例として、または加えて、出口および／または流体接続部は、必要とされる場合、特に例えば液密スライドといった流密な手法により出口および／または流体接続部を閉じるように設計されたデバイスを含み得る。流体接続部および／または出口は、例えば、吸引により抜き出された流体をフィルタリングするためのフィルタを含み得る。流体接続部および／または出口は、例えば質量分析計といった、吸引により抜き出された流体を分析するためのデバイスを含み得る。これは、特に放出気体源といったソイリング源を示すことができる。センサー構成体は、１つまたは複数の圧力センサーを含み得る。これは、流体流がセンサー構成体により管理される、および／または制御されることを可能にする。

【0027】

更なる態様において、本発明は、リソグラフィーにおける使用のためのマスクを適切にするための装置を備え得る。装置は、本開示によるセンサー構成体を備える。例示として、マスクを適切なものにすることは、マスクを検査することを含み得る。代替例として、または加えて、マスクを適切なものにすることは、例えば補正といったマスクを前処理することを含むことができる。

【0028】

マスクは、フォトリソグラフィックマスク、特に好ましくはＥＵＶ波長範囲に対するフォトリソグラフィックマスクであることができる。マスクは、複数の層、特に平面状層を備え得る。マスクは、吸収パターン要素を備える吸収体構造物を含み得る。

【0029】

マスクを適切なものにするための装置は、評価および制御デバイス、更には光学システムを備える測定チャンバを備え得る。評価および制御デバイスは、独立した評価デバイスと独立した制御デバイスとを含み得、２つのデバイスは、インターフェースにより互いに接続され得る。この代わりとして、評価および制御デバイスは、１つの装置として構成され得る。評価および制御デバイスは、好ましくは、データ処理装置を含み得る。評価および制御デバイスは、例えばインターフェースにより人により動作させられ得る。このインターフェースデバイスは、キーボードまたはタッチパッドであり得る。

【0030】

光学システムは、照射ユニットと結像ユニットとを含み得る。照射ユニットは、光、特に照明光をマスクに当てるように設計され得る。照射ユニットは、ＥＵＶ光源を含み得る。結像ユニットは、マスクにより反射された光を像平面において結像する（ｉｍａｇｅ）ように設計され得る。

【0031】

マスクを適切なものにするための装置は、マスクを適切なものにするための装置の少なくとも１つのハウジングを含み得る。例えば、光学システムは、マスクを適切なものにするための装置のハウジング内に配置され、好ましくはマスクを適切なものにするための装置のハウジング内に完全に配置され得る。評価および制御デバイスは、マスクを適切なものにするための装置のハウジング内に部分的に配置され得る。例えば、評価および制御デバイスは、マスクを適切なものにするための装置のハウジング内に完全に配置され得る。この代わりとして、評価および制御デバイスは、マスクを適切なものにするための装置のハウジングの外部に完全に配置され得る。例えば、センサー構成体は、マスクを適切なものにするための装置のハウジング内に少なくとも部分的に配置され得る。

【0032】

装置は、マスクを収容するためのデバイスを含み得る。マスクを収容するためのデバイスは、少なくとも１つの洗い流し気体、特に上述の洗い流し気体をマスクに送るように設計され得る。センサー構成体の洗い流しデバイスに代えて、または加えてマスクを収容するためのデバイスが、更に、センサー構成体のセンサーに洗い流し気体を送り得る。本開示によるセンサー構成体を使用することにより、マスクにおける欠陥の検出が、装置により改善され得る。

【0033】

本発明の更なる態様では、リソグラフィーにおける使用のためのマスクを適切にするための方法が提案される。本方法は、マスクを適切なものにするための装置を提供することを含み、装置は、本開示によるセンサー構成体を備える。装置は、評価および制御デバイス、更には測定チャンバを備え得る。光学システムは、測定チャンバに配置され得る。センサー構成体は、センサー、取り込み開口、および出口を備える。センサー構成体は、取り込み開口と出口との間の流体接続部を含む。装置は、真空源を含み得る。本方法は、センサーによりマスクの一部の少なくとも１つの光学的像を検出することを更に含む。本方法は、流体接続部を介した吸引による、特に評価および制御デバイスによる測定チャンバからの媒体の抜き出しを更に含む。更なるステップでは、センサーにより生成された１つまたは複数の像は、特に評価および制御デバイスにより評価され得る。更なるステップでは、欠陥検出は、特に評価および制御デバイスにより実行され得る。例えば、欠陥および／またはソイリングは、マスクにおいて検出され得る。更なるステップでは、マスクの修理が実行され得る。

【0034】

測定チャンバにおける配置のための本開示によるセンサー構成体、マスクを適切なものにするための本開示による装置、および、マスクを適切なものにするための本開示による方法は、少なくとも例示的な微調整において様々な利点を有する。特にマスクの適切さの信頼性は、例えば測定チャンバ内への接着層の放出気体の低減により、および／または、吸引による汚染物質および／または水分の抜き出しにより、および／または、測定チャンバから外への、および／またはセンサー構成体から外への熱の伝達により高められ得る。

【0035】

上述の特徴および以下で説明されているものが、本開示の範囲から逸脱せずに、各場合において指定されている組み合わせにより使用されるだけでなく、他の組み合わせにより、またはそれら自体で使用され得ることは言うまでも無い。

【0036】

本開示の例示的な実施形態が図面に示されており、以下の説明を参照しながら更に詳細に説明される。図面において以下のとおりである。

【図面の簡単な説明】

【0037】

【図1】本発明によるセンサー構成体の第１の例示的な実施形態の概略図である。

【図2】本発明によるセンサー構成体の第２の例示的な実施形態の概略図である。

【図3】本発明によるセンサー構成体の第３の例示的な実施形態の概略図である。

【図4】マスクを適切なものにするための本発明による装置の例示的な実施形態の概略図である。

【図5】マスクを適切なものにするための本発明による方法の概略図である。

【発明を実施するための形態】

【0038】

図１は、測定チャンバにおける配置のための本発明によるセンサー構成体１００の第１の例示的な実施形態を示す。センサー構成体１００は、センサー１２４、取り込み開口１３１、および出口１３２を含む。センサー構成体１００は、取り込み開口１３１と出口１３２との間の流体接続部１３３を含む。流体接続部１３３は、センサー構成体１００の動作中に吸引により測定チャンバから媒体を抜き出すように設計されている。センサー１２４は、ＥＵＶ範囲における放射波を検出するように設計され得る。センサー構成体１００は、複数のセンサー１２４、特に複数の結像センサー１２４、特にＥＵＶ範囲における放射波を検出するように設計され得る複数のセンサー１２４を含み得る。

【0039】

センサー構成体１００は、接着層１２３を含む。流体接続部１３３は、センサー構成体１００の動作中に吸引により接着層１２３の放出気体１２６を抜き出すように設計され得る。

【0040】

センサー構成体１００は、第１のセクション１９０と第２のセクション１１０とを含む。図１に示される実施形態において、破線１４１は、第１のセクション１９０と第２のセクション１１０との間の境界としての平面を示す。第１のセクション１９０は、出口１３２を備える。第２のセクション１１０は、取り込み開口１３１とセンサー１２４とを含む。流体接続部１３３は、第１のセクション１９０を第２のセクション１１０に接続している。

【0041】

センサー構成体１００は、電子機器ユニット１２０を備える。第１のセクション１９０は、電子機器ユニット１２０を備える。第１のセクション１９０は、キャリアプレート１２１を更に備える。第２のセクション１１０は、センサーキャリア１２２を備える。センサー構成体１００は、第１のセクション１９０から第２のセクション１１０に向かって低下する圧力勾配を生成するように設計され得る。

【0042】

第１のセクション１９０は、第１の空洞１３４を含む。第１の空洞１３４は、例えば、電子機器ユニット１２０を備え得る。第２のセクション１１０は、第２の空洞１３５を含む。第２の空洞１３５は、取り込み開口１３１であり得る。第１の空洞１３４における分圧は、特に超高真空のもとで測定チャンバにおけるセンサー構成体１００の動作中に、第２の空洞１３５における分圧より低くなり得る。

【0043】

センサー構成体１００は、第１のハウジング１４３を含み得る。出口１３２および／またはキャリアプレート１２１および／または電子機器ユニット１２０は、第１のハウジング１４３に少なくとも部分的に統合され得る。代替例として、または加えて、センサー構成体１００は第２のハウジングを含み得る。第２のハウジングは、例えば、センサーキャリア１２２および／またはセンサー１２４および／または洗い流しデバイスを少なくとも部分的に囲み得る。この手法により、吸引による、例えば、電子機器ユニット１２０からの、および／またはセンサー構成体１００の接着層１２３からの汚染物質および／または放出気体の抜き出しが簡略化され得る。第１のハウジング１４３の空洞は、例えば第１の空洞であり得る。第２のハウジングの空洞は、例えば第２の空洞であり得る。

【0044】

センサー構成体１００は、第１の接続要素１３７を含む。第１の接続要素１３７は、真空源に接続可能であり得る。この代わりとして、センサー構成体１００は、例えばポンプといった真空源を含み得る。センサー構成体１００は、第２の接続要素１３９を含む。図１による例示的な実施形態では、第２の接続要素１３９は、キャリアプレート１２１である。第２の接続要素１３９は、超高真空での動作のために測定チャンバに接続可能であり得る。

【0045】

流体接続部１３３は、経路部１４１を含む。図１による経路部１４１は実質的に環状ギャップとして設計されている。環状ギャップは、例えば、特にセンサー構成体１００の機械的安定化のための要素による、および／または電気接続体による不連続部分をもち得る。経路部１４１は、電子機器ユニット１２０とキャリアプレート１２１との間のギャップから形成されている。経路部１４１は、少なくとも０．１ｍｍ²、特に少なくとも１ｍｍ²、特に好ましくは少なくとも５ｍｍ²の断面をもち得る。流体接続部１３３は、１つまたは複数の弁を含み得る。センサー構成体１００は、冷却デバイスを含み得る。

【0046】

電子機器ユニット１２０は実質的に円筒形である。この代わりとして、電子機器ユニット１２０は、実質的に立方体状であり得る。電子機器ユニット１２０は、キャリアプレート１２１における円形開口内に収容されている。電子機器ユニット１２０は、特に電気接続体によりセンサーキャリア１２２に接続されている。センサーキャリア１２２は、接着層１２３によりセンサー１２４に接続されている。センサー１２４は、ＴＤＩセンサーであり得る。センサー１２４は、例えば複数のＴＤＩセンサーを備え得る。ポンプが出口１３２に接続されたとき、電子機器ユニット１２０と出口１３２とキャリアプレート１２１と更にはセンサー構成体１００の第１のハウジング１４３の少なくとも一部とを含む第１のセクション１９０に真空が生成され得、真空は、センサーキャリア１２２と接着層１２３とセンサー１２４とを備える第２のセクション１１０から第１のセクション１９０内への流体流を生成することができる。これは、接着層１２３の放出気体１２６が第２のセクション１１０から出て第１のセクション１９０内に向けられることを可能にする。

【0047】

図２によるセンサー構成体２００の例示的な実施形態は、図１による例示的な実施形態と実質的に同様に構成され得る。図２による例示的な実施形態は、洗い流し媒体の洗い流し流２２８を流すための洗い流しデバイス２２７を備える。洗い流し媒体は、ヘリウム、水素、窒素、ネオン、アルゴン、クリプトン、キセノン、および酸素を含む群から選択された１つまたは複数の気体を含み得る。洗い流しデバイス２２７は、例えばリング形ノズル構成体として構成され得る。洗い流しデバイス２２７は、吸引による接着層２２３からの放出気体２２６の抜き出しを強化するように設計され得る。洗い流しデバイス２２７は、洗い流し流２２８をセンサー２２４の縁部に、および／または接着層２２３の縁部ゾーンに向かわせるように設計され得る。これは、吸引による、接着層２２３からの放出気体２２６および／またはセンサー２２４のソイリングの抜き出しを強化し得る。

【0048】

センサー構成体２００は、第１のハウジング２４３を含み得る。出口２３２および／またはキャリアプレート２２１および／または電子機器ユニット２２０は、第１のハウジング２４３に少なくとも部分的に統合され得る。

【0049】

図２によるセンサー構成体２００は、センサー構成体２００の第２のハウジング２４４を備える。センサー構成体２００の第２のハウジング２４４は、例えば、センサーキャリア２２２および／またはセンサー２２４および／または洗い流しデバイス２２７および／または接着層２２３を少なくとも部分的に囲み得る。この手法により、例えば吸引による電子機器ユニット２２０からの、および／またはセンサー構成体２００の接着層２２３からの汚染物質および／または放出気体２２６の抜き出しが簡略化され得る。第１のハウジング２４３の空洞は、例えば第１の空洞２３４であり得る。第２のハウジング２４４の空洞は、例えば第２の空洞２３５であり得る。検出デバイス２００の動作中、特に第１のハウジング２４３における第１の空洞２３４における分圧が、特に第２のハウジング２４４における第２の空洞２３５における分圧より低くなり得る。

【0050】

図３によるセンサー構成体３００の例示的な実施形態は、図１および／または図２によるセンサー構成体と実質的に同様に構成され得、および、例えば、図３に示されていないコンポーネントを更に含み得る。第１のセクション３９０は、キャリアプレート３２１を備える。第２のセクション３１０は、センサー３２４とセンサーキャリア３２２と、更にはセンサーキャリア３２２にセンサー３２４を接続する接着層３２３とを備える。

【0051】

センサー構成体３００は、第１のセクション３９０および第２のセクション３１０に対して、特にセンサーキャリア３２２に対して電子機器ユニット３２０のハウジング３２１ａを流体的に密封するように設計され得る更なる接着層３２３ａを備える。センサー構成体３００は、第３のセクション３４０を含む。第３のセクション３４０は、電子機器ユニット３２０を備える。センサー構成体３００は、第１のセクション３９０における第１の空洞３３４と、第２のセクション３１０における第２の空洞３３５とを含む。第３のセクション３４０は、センサー構成体３００の動作中に第１のセクション３９０および第２のセクション３１０より高い分圧を有する第３の空洞３４５を含み得る。第３の空洞３４５は、特にセンサー構成体３００の動作中に大気圧であり得る。センサー構成体３００は、冷却デバイス３４２を備える。

【0052】

センサー構成体３００は、第１のハウジング３４３を含み得る。出口３３２および／またはキャリアプレート３２１および／または電子機器ユニット３２０は、第１のハウジング３４３に少なくとも部分的に統合され得る。代替例として、または加えて、センサー構成体３００は、第２のハウジングを含み得る。第２のハウジングは、例えば、センサーキャリア３２２および／またはセンサー３２４および／または洗い流しデバイス３２７および／または接着層３２３を少なくとも部分的に囲み得る。この手法により、例えば吸引による電子機器ユニット３２０からの、および／またはセンサー構成体３００の接着層３２３からの汚染物質および／または放出気体の抜き出しが簡略化され得る。第１のハウジング３４３の空洞は、例えば第１の空洞３３４であり得る。第２のハウジングの空洞は、例えば第２の空洞であり得る。検出デバイス３００の動作中、特に第１のハウジング３４３における第１の空洞３３４における分圧は、特に第２のハウジングにおける第２の空洞における分圧より低くされ得る。

【0053】

図４は、リソグラフィーにおける使用のためのマスク５３０を適切なものにするための本発明による装置５５０の例示的な実施形態を示し、装置５５０は、本発明によるセンサー構成体５００を備える。センサー構成体５００は、上述のセンサー構成体と同様に構成され得る。図４は、特にセンサー５２４と出口５３２とを備えるセンサー構成体５００を示す。センサー５２４は、ＥＵＶ範囲における放射波５３６を検出するように設計され得る。出口５３２は、第１の接続要素５３７である。出口５３２は、真空源５３８に接続されている。真空源５３８は、センサー構成体５００内に、特にセンサー構成体５００の第１のハウジング５４３内に組み込まれている。装置５５０はＥＵＶ源５１０を備える。

【0054】

デバイス５５０は、評価および制御デバイス５４３と、更には光学システム５２０を備える測定チャンバ５４０とを備える。評価および制御デバイス５４３は、インターフェースを介して、センサー構成体５００に、および／またはＥＵＶ源５１０に、および／または光学システム５２０に接続され得る。装置５５０はハウジング５９０を含む。ハウジング５９０は、例えば測定チャンバ５４０の境界を定め得る。装置５５０は、マスク５３０を適切なものにするための本発明による方法を実施するように設計され得る。

【0055】

図５は、リソグラフィーにおける使用のためのマスクを適切にするための本発明による方法の例示的な実施形態を示す。本方法は、マスクを適切なものにするための装置を提供すること１０１０を含む。装置は、例えば図４に示される装置５５０であることができる。装置は、特に、例えば図１、図２、図３または図４に示される本発明によるセンサー構成体を備える。装置は、評価および制御デバイス、更には光学システムを備える測定チャンバを含み得る。センサー構成体は、センサー、取り込み開口、および出口を備える。センサー構成体は、取り込み開口と出口との間に流体接続部を備える。装置は、真空源を含み得る。更なるステップ１０２０において、マスクの少なくとも一部の少なくとも１つの光学的像がセンサーにより検出される。例えば複数の像が記録され得る。更なるステップ１０３０において、媒体が、評価および制御デバイスにより流体接続部を介して吸引により測定チャンバから抜き出される。更なるステップでは、評価は評価および制御デバイスにより実行され得、特に、欠陥検出は、マスクの欠陥またはソイリングを特定するために実行され得る。

【符号の説明】

【0056】

１００、２００、３００、５００ センサー構成体
５４０ 測定チャンバ
１２４、２２４、３２４、５２４ センサー
１３１、２３１、３３１ 取り込み開口
１３２、２３２、３３２、５３２ 出口
１３３、２３３、３３３ 流体接続部
１２３、２２３、３２３ 接着層
１２６、２２６、３２６ 放出気体
１９０、２９０、３９０ 第１のセクション
１１０、２１０、３１０ 第２のセクション
１０１０ 提供する
１０２０ 検出する
１０３０ 吸引により抜き出す
１２０、２２０、３２０ 電子機器ユニット
１２１、２２１、３２１ キャリアプレート
１２２、２２２、３２２ センサーキャリア
１３４、２３４、３３４、５３４ 第１の空洞
１３５、２３５、３３５、５３５ 第２の空洞
５３６ ＥＵＶ範囲の放射波
１３７、３３７、５３７ 第１の接続要素
５３８ 真空源
１３９、２３９、３３９ 第２の接続要素
２２７、３２７ 洗い流しデバイス
２２８、３２８ 洗い流し流
１４１、２４１、３４１ 経路部
３４２ 冷却デバイス
５３０ マスク
５４３ 評価および制御デバイス
５２０ 光学システム
５５０ マスクを適切なものにするための装置
１４２、２４２、３４２ 平面
３２３ａ 更なる接着層
３２１ａ 電子機器ユニットのハウジング
３４０ 第３のセクション
５１０ ＥＵＶ源
５９０ マスクを適切なものにするための装置のハウジング
１４３、２４３、３４３、５４３ センサー構成体の第１のハウジング
２４４ センサー構成体の第２のハウジング
３４５ 第３の空洞

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【手続補正書】

【提出日】2024-07-09

【手続補正1】

【補正対象書類名】特許請求の範囲

【補正対象項目名】全文

【補正方法】変更

【補正の内容】

【特許請求の範囲】

【請求項1】

測定チャンバ（５４０）における配置のためのセンサー構成体（１００；２００；３００；５００）であって、前記センサー構成体（１００；２００；３００；５００）が、センサー（１２４；２２４；３２４；５２４）と取り込み開口（１３１；２３１；３３１）と出口（１３２；２３２；３３２；５３２）とを備え、前記センサー構成体（１００；２００；３００；５００）が、前記取り込み開口（１３１；２３１；３３１）と前記出口（１３２；２３２；３３２；５３２）との間の流体接続部（１３３；２３３；３３３）を備える、
センサー構成体（１００；２００；３００；５００）。

【請求項2】

前記流体接続部（１３３；２３３；３３３）が、前記センサー構成体（１００；２００；３００；５００）の動作中に吸引により前記測定チャンバ（５４０）から媒体を抜き出すように設計されている、
請求項１に記載のセンサー構成体（１００；２００；３００；５００）。

【請求項3】

前記センサー構成体（１００；２００；３００；５００）が、接着層（１２３；２２３；３２３、３２３ａ）を含む、
請求項１または２に記載のセンサー構成体（１００；２００；３００；５００）。

【請求項4】

前記流体接続部（１３３；２３３；３３３）が、前記センサー構成体（１００；２００；３００；５００）の動作中に吸引により前記接着層（１２３；２２３；３２３、３２３ａ）の放出気体（１２６；２２６；３２６）を抜き出すように設計された、
請求項３に記載のセンサー構成体（１００；２００；３００；５００）。

【請求項5】

前記センサー構成体（１００；２００；３００；５００）が、第１のセクション（１９０；２９０；３９０）と第２のセクション（１１０；２１０；３１０）とを含み、前記第１のセクション（１９０；２９０；３９０）が、前記出口（１３２；２３２；３３２；５３２）を含み、前記第２のセクション（１１０；２１０；３１０）が、前記取り込み開口（１３１；２３１；３３１）と前記センサー（１２４；２２４；３２４；５２４）とを含み、前記流体接続部（１３３；２３３；３３３）が、前記第１のセクション（１９０；２９０；３９０）を前記第２のセクション（１１０；２１０；３１０）に接続している、
請求項１に記載のセンサー構成体（１００；２００；３００；５００）。

【請求項6】

前記センサー構成体（１００；２００；３００；５００）が、電子機器ユニット（１２０；２２０；３２０）を備え、前記第１のセクション（１９０；２９０；３９０）が、前記電子機器ユニット（１２０；２２０；３２０）を備える、
請求項５に記載のセンサー構成体（１００；２００；３００；５００）。

【請求項7】

前記第１のセクション（１９０；２９０；３９０）が、キャリアプレート（１２１、２２１、３２１）を含み、前記第２のセクション（１１０；２１０；３１０）が、センサーキャリア（１２２；２２２；３２２）を含む、
請求項５または６に記載のセンサー構成体（１００；２００；３００；５００）。

【請求項8】

前記センサー構成体（１００；２００；３００；５００）が、前記第１のセクション（１９０；２９０；３９０）から前記第２のセクション（１１０；２１０；３１０）に向かって低下する圧力勾配を生成するように設計されている、
請求項５または６に記載のセンサー構成体（１００；２００；３００；５００）。

【請求項9】

前記第１のセクション（１９０；２９０；３９０）が、第１の空洞（１３４；２３４；３３４；５３４）を含み、前記第２のセクション（１１０；２１０；３１０）が、第２の空洞（１３５；２３５；３３５；５３５）を含み、前記第１の空洞（１３４；２３４；３３４；５３４）における分圧が、前記第２の空洞（１３５；２３５；３３５；５３５）における分圧より低い、
請求項５または６に記載のセンサー構成体（１００；２００；３００；５００）。

【請求項10】

前記センサー構成体（１００；２００；３００；５００）が、第３のセクション（３４０）を含み、前記第３のセクション（３４０）が、第３の空洞（３４５）を含み、前記第３の空洞（３４５）における分圧が、前記第１の空洞（１３４；２３４；３３４；５３４）における分圧および前記第２の空洞（１３５；２３５；３３５；５３５）における分圧より高い、
請求項９に記載のセンサー構成体（１００；２００；３００；５００）。

【請求項11】

前記センサー構成体（１００；２００；３００；５００）が、複数のセンサー（１２４；２２４；３２４；５２４）、特に複数の結像センサー（１２４；２２４；３２４；５２４）を備える、
請求項１または２に記載のセンサー構成体（１００；２００；３００；５００）。

【請求項12】

前記センサー（１２４；２２４；３２４；５２４）が、ＥＵＶ範囲における放射波（５３６）を検出するように設計されている、
請求項１または２に記載のセンサー構成体（１００；２００；３００；５００）。

【請求項13】

前記センサー構成体（１００；２００；３００；５００）が、第１の接続要素（１３７；３３７；５３７）を含み、前記第１の接続要素（１３７；３３７；５３７）が、真空源（５３８）に接続されることができる、
請求項１または２に記載のセンサー構成体（１００；２００；３００；５００）。

【請求項14】

前記センサー構成体（１００；２００；３００；５００）が、真空源（５３８）を含む、
請求項１または２に記載のセンサー構成体（１００；２００；３００；５００）。

【請求項15】

前記センサー構成体（１００；２００；３００；５００）が、第２の接続要素（１３９；２３９；３３９）を含み、前記第２の接続要素（１３９；２３９；３３９）が、超高真空での動作のために前記測定チャンバ（５４０）に接続されることができる、
請求項１または２に記載のセンサー構成体（１００；２００；３００；５００）。

【請求項16】

前記センサー構成体（１００；２００；３００；５００）が、洗い流し媒体の洗い流し流（２２８；３２８）を流すための洗い流しデバイス（２２７；３２７）を備える、
請求項１または２に記載のセンサー構成体（１００；２００；３００；５００）。

【請求項17】

前記洗い流し媒体が、ヘリウム、水素、窒素、ネオン、アルゴン、クリプトン、キセノン、および酸素からなる群から選択された１つまたは複数の気体を含む、
請求項１または２に記載のセンサー構成体（１００；２００；３００；５００）。

【請求項18】

前記流体接続部（１３３；２３３；３３３）が、１つまたは複数の経路部（１４１；２４１；３４１）を含む、
請求項１または２に記載のセンサー構成体（１００；２００；３００；５００）。

【請求項19】

前記経路部（１４１；２４１；３４１）が、少なくとも０．１ｍｍ²、特に少なくとも１ｍｍ²、特に好ましくは少なくとも５ｍｍ²の断面を有する、
請求項１８に記載のセンサー構成体（１００；２００；３００；５００）。

【請求項20】

前記流体接続部（１３３；２３３；３３３）が、１つまたは複数の弁を含む、
請求項１または２に記載のセンサー構成体（１００；２００；３００；５００）。

【請求項21】

前記センサー構成体（１００；２００；３００；５００）が、冷却デバイス（３４２）を含む、
請求項１または２に記載のセンサー構成体（１００；２００；３００；５００）。

【請求項22】

リソグラフィーにおける使用のためのマスク（５３０）を適切なものにするための装置であって、前記装置が、請求項１または２に記載のセンサー構成体（１００；２００；３００；５００）を備える、
装置。

【請求項23】

前記装置が、評価および制御デバイス（５４３）と、更に、光学システム（５２０）を備える測定チャンバ（５４０）とを含む、
請求項２２に記載のマスク（５３０）を適切なものにするための装置（５５０）。

【請求項24】

リソグラフィーにおける使用のためのマスク（５３０）を適切なものにするための方法であって、
・マスク（５３０）を適切なものにするための装置（５５０）を提供するステップ（１０１０）であって、前記装置が、センサー構成体（１００；２００；３００；５００）に関連した請求項１または２に記載のセンサー構成体（１００；２００；３００；５００）を備え、前記装置（５５０）が、評価および制御デバイス（５４３）と、更に、光学システム（５２０）を備える測定チャンバ（５４０）とを含み、前記センサー構成体（１００；２００；３００；５００）が、センサー（１２４；２２４；３２４；５２４）と取り込み開口（１３１；２３１；３３１）と出口（１３２；２３２；３３２；５３２）とを含み、前記センサー構成体（１００；２００；３００；５００）が、前記取り込み開口（１３１；２３１；３３１）と前記出口（１３２；２３２；３３２；５３２）との間に流体接続部（１３３；２３３；３３３）を含み、前記装置（５５０）が、真空源（５３８）を含む、ステップ（１０１０）と、
・前記センサー（１２４；２２４；３２４；５２４）により前記マスク（５３０）の少なくとも一部の少なくとも１つの光学的像を検出するステップ（１０２０）と、
・前記評価および制御デバイス（５４３）により前記流体接続部（１３３；２３３；３３３）を介して吸引により前記測定チャンバ（５４０）から媒体を抜き出すステップ（１０３０）と、
を含む、方法。

【外国語明細書】