特開 2024-129588 純水再生装置、純水再生システムおよび純水再生方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2024129588

(43)【公開日】2024-09-27

(54)【発明の名称】純水再生装置、純水再生システムおよび純水再生方法

(51)【国際特許分類】

   H01L 21/304 20060101AFI20240919BHJP

   H01L 21/306 20060101ALI20240919BHJP

   C02F 1/20 20230101ALI20240919BHJP

   B01D 19/00 20060101ALI20240919BHJP

【ＦＩ】

H01L21/304 648F

H01L21/306 Z

H01L21/304 648K

H01L21/304 648G

H01L21/304 647Z

H01L21/304 643A

C02F1/20 Z

B01D19/00 A

B01D19/00 D

【審査請求】未請求

【請求項の数】13

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2023038901

(22)【出願日】2023-03-13

(71)【出願人】

【識別番号】000219967

【氏名又は名称】東京エレクトロン株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】110002147

【氏名又は名称】弁理士法人酒井国際特許事務所

(72)【発明者】

【氏名】小杉 仁

【テーマコード（参考）】

4D011

4D037

5F043

5F157

【Ｆターム（参考）】

4D011AA12

4D011AA16

4D011AB01

4D011AC02

4D037AA03

4D037AB12

4D037AB14

4D037BA23

4D037BA24

4D037BB02

4D037BB06

5F043AA09

5F043AA31

5F043AA35

5F043BB01

5F043BB22

5F043BB23

5F043DD13

5F043EE01

5F043EE07

5F043EE08

5F043EE28

5F043EE32

5F043EE33

5F043EE40

5F043GG10

5F157AB02

5F157AB14

5F157AB33

5F157AB90

5F157AC02

5F157AC26

5F157BC16

5F157BD26

5F157BD35

5F157BE12

5F157CB13

5F157CD42

5F157CD44

5F157CE10

5F157CE11

5F157CE83

5F157CF04

5F157CF14

5F157CF16

5F157CF34

5F157CF42

5F157CF44

5F157CF60

5F157CF74

5F157CF99

5F157DB23

5F157DC85

5F157DC86

(57)【要約】

【課題】高純度の純水を再生する。
【解決手段】本開示による純水再生装置は、混合液貯留部と、気化部と、排気部とを備える。混合液貯留部は、基板処理に用いた純水であって薬液成分が混入した混合液を貯留する。気化部は、混合液貯留部内に設けられ、混合液中の薬液成分を気化させる。排気部は、気化させた薬液成分を排気する。
【選択図】図３

【特許請求の範囲】

【請求項1】

基板処理に用いた純水であって薬液成分が混入した混合液を貯留する混合液貯留部と、
前記混合液貯留部内に設けられ、前記混合液中の前記薬液成分を気化させる気化部と、
気化させた前記薬液成分を排気する排気部と
を備える、純水再生装置。

【請求項2】

前記気化部によって前記薬液成分が気化された再生純水を貯留する純水貯留部と、
前記純水貯留部に貯留された前記再生純水の液面の高さを測定する液面センサと
を備える、
請求項１に記載の純水再生装置。

【請求項3】

前記混合液貯留部と前記純水貯留部とを接続する接続流路部と、
前記接続流路部内に設けられ、前記再生純水中の気泡を除去する脱気部と
を備える、
請求項２に記載の純水再生装置。

【請求項4】

前記混合液を加熱する加熱機構
を備える、
請求項１に記載の純水再生装置。

【請求項5】

前記混合液貯留部内に不活性ガスを供給する不活性ガス供給部
を備える、
請求項１に記載の純水再生装置。

【請求項6】

前記気化部は、
前記混合液貯留部内における前記混合液の液面よりも高い位置に設けられ、前記混合液を前記混合液貯留部内に供給するノズルを備え、
前記ノズルは、
減圧脱泡器を備える、
請求項１に記載の純水再生装置。

【請求項7】

前記気化部は、
前記混合液貯留部内の前記混合液中に気体を供給する気体供給部を備える、
請求項１に記載の純水再生装置。

【請求項8】

請求項１に記載の純水再生装置と、
前記純水再生装置により再生処理が施された再生純水、純水の新液またはこれらを混合した純水を基板処理装置に供給する純水供給部と、
前記基板処理装置に供給された後の混合液の流入先を切り替える切替弁と、
前記基板処理装置から前記純水再生装置の前記混合液貯留部に前記混合液を供給する混合液供給部と、
を備える、
純水再生システム。

【請求項9】

前記混合液貯留部に純水の新液を供給する新液供給部と、
前記純水再生装置に貯留された前記再生純水の液面の高さを測定する液面センサと、
前記純水再生装置に設けられ、前記再生純水の純度を測定する測定部と、
前記純水再生装置から前記再生純水を排出する純水排出部と、
前記混合液供給部、前記切替弁および前記純水排出部を制御する制御部と
を備え、
前記制御部は、
前記混合液供給部によって前記混合液貯留部に前記混合液が供給されている間、前記液面センサを用いて前記純水再生装置内の前記再生純水の液面の高さを測定し、
測定された前記液面の高さが第１液面閾値以上である場合は、前記切替弁を制御して前記基板処理装置からの前記混合液の回収を停止し、かつ、前記純水排出部を制御して前記純水再生装置に貯留された前記再生純水を排出し、
測定された前記液面の高さが前記第１液面閾値よりも低い第２液面閾値以上である場合は、前記切替弁を制御して前記基板処理装置からの前記混合液の回収を停止する、
請求項８に記載の純水再生システム。

【請求項10】

前記混合液貯留部に純水の新液を供給する新液供給部と、
前記純水再生装置に貯留された前記再生純水の液面の高さを測定する液面センサと、
前記純水供給部および前記新液供給部を制御する制御部と
を備え、
前記制御部は、
前記液面センサを用いて前記純水再生装置内の前記再生純水の液面の高さを測定し、
測定された前記液面の高さが第３液面閾値以下である場合は、前記新液供給部を制御して前記混合液貯留部に前記純水の新液を供給し、
測定された前記液面の高さが前記第３液面閾値よりも低い第４液面閾値以下である場合は、前記新液供給部を制御して前記混合液貯留部に前記純水の新液を供給し、かつ、前記純水供給部を制御して前記基板処理装置への前記再生純水の供給を停止する、
請求項８に記載の純水再生システム。

【請求項11】

前記純水再生装置に設けられ、前記再生純水の純度を測定する測定部と、
前記純水供給部を制御する制御部と
を備え、
前記制御部は、
前記測定部を用いて前記再生純水の純度を測定し、
測定した前記再生純水の純度が第１純度閾値以上である場合には、前記純水供給部を制御して前記基板処理装置へ前記再生純水を供給し、
測定した前記再生純水の純度が前記第１純度閾値より小さい場合には、前記純水供給部を制御して前記再生純水の純度に応じた量の再生純水および純水の新液を混合した純水を前記基板処理装置へ供給する、
請求項８に記載の純水再生システム。

【請求項12】

基板処理に用いた純水であって薬液成分が混入した混合液を貯留する工程と、
前記混合液中の薬液成分を気化させる工程と、
気化させた前記薬液成分を排気する工程と
を含む、
純水再生方法。

【請求項13】

貯留された前記混合液に対して不活性ガスを供給する工程
をさらに含む、
請求項１２に記載の純水再生方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本開示は、純水再生装置、純水再生システムおよび純水再生方法に関する。

【背景技術】

【0002】

特許文献１には、基板に対して薬液処理と純水処理とを行う枚葉化学処理装置において、薬液処理時の排液系統と純水処理時の排液系統とを分離することで、効率的な排液回収を行う技術が開示されている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【特許文献1】特開２０００－２９４５３１号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

本開示は、高純度の純水を再生する技術を提供する。

【課題を解決するための手段】

【0005】

本開示の一態様による純水再生装置は、混合液貯留部と、気化部と、排気部とを備える。混合液貯留部は、基板処理に用いた純水であって薬液成分が混入した混合液を貯留する。気化部は、混合液貯留部内に設けられ、混合液中の薬液成分を気化させる。排気部は、気化させた薬液成分を排気する。

【発明の効果】

【0006】

本開示によれば、高純度の純水を再生することができる。

【図面の簡単な説明】

【0007】

【図1】図１は、第１実施形態に係る純水再生システムの構成例を示す概略ブロック図である。

【図2】図２は、第１実施形態に係る基板処理装置の具体的な構成の一例を示す模式図である。

【図3】図３は、第１実施形態に係る純水再生装置の具体的な構成の一例を示す模式図である。

【図4】図４は、第１実施形態に係る基板処理装置が実行する制御処理の手順の一例を示すフローチャートである。

【図5】図５は、第１実施形態に係る純水再生システムが実行するリンス処理および純水回収処理の手順の一例を示すフローチャートである。

【図6】図６は、第１実施形態に係るリンス処理の手順の別の一例を示すフローチャートである。

【図7】図７は、第１実施形態に係るリンス処理および純水回収処理の手順の別の一例を示すフローチャートである。

【図8】図８は、再生純水の液面の高さに応じた制御処理の一例を示す表である。

【図9】図９は、第２実施形態に係る純水再生装置の具体的な構成の一例を示す模式図である。

【発明を実施するための形態】

【0008】

以下に、本開示による純水再生装置、純水再生システムおよび純水再生方法を実施するための形態（以下、「実施形態」と記載する）について図面を参照しつつ詳細に説明する。なお、この実施形態により本開示が限定されるものではない。また、各実施形態は、処理内容を矛盾させない範囲で適宜組み合わせることが可能である。また、以下の各実施形態において同一の部位には同一の符号を付し、重複する説明は省略される。

【0009】

また、以下に示す実施形態では、「一定」、「直交」、「垂直」あるいは「平行」といった表現が用いられる場合があるが、これらの表現は、厳密に「一定」、「直交」、「垂直」あるいは「平行」であることを要しない。すなわち、上記した各表現は、例えば製造精度、設置精度などのずれを許容するものとする。

【0010】

特許文献１には、基板に対して薬液処理と純水処理とを行う枚葉化学処理装置において、薬液処理時の排液系統と純水処理時の排液系統とを分離することで、効率的な排液回収を行う技術が開示されている。しかし、特許文献１に記載の方法では、基板に残存していた薬液を含んだ低純度の純水が回収されるおそれがある。このような場合、回収された純水を基板に対する処理に使用するには純度を高める再生処理を施す必要がある。

【0011】

そこで、高純度の純水を再生する技術が期待されている。

【0012】

（第１実施形態）
＜純水再生システムの構成＞
最初に、図１を参照しながら、第１実施形態に係る純水再生システム１の概略構成について説明する。図１は、第１実施形態に係る純水再生システム１の構成例を示す概略ブロック図である。

【0013】

図１に示すように、純水再生システム１は、基板処理装置２と、純水再生装置３と、循環部４とを備える。基板処理装置２は、図示しない基板搬送装置によって搬送されるウェハＷ（図２参照）に対して薬液を用いた薬液処理を行った後、純水を用いたリンス処理を行う。かかる基板処理装置２の構成については、図２を用いて後述する。

【0014】

純水再生装置３は、基板処理装置２で使用された純水に再生処理を施す。具体的には、薬液処理後のウェハＷには薬液が残存しているため、基板処理装置２から回収される純水には、かかる薬液が混入している可能性がある。純水再生装置３は、このように薬液が混入した純水（以下、「混合液」と記載する）から薬液成分を除去して純水の純度を高める処理を行う。なお、以下の説明では、純水再生装置３によって再生処理が施され、循環路４ａへと送り出された液体を「再生純水」と呼ぶ。また、以下の説明では、基板処理装置２の回収ライン６５ｂ（図２参照）に流入した純水であって薬液成分が混入した混合液を純水再生装置３によって再生する例について説明するが、純水再生装置３の処理対象となる混合液はこれに限られない。純水再生装置３の構成については、図３を用いて後述する。

【0015】

循環部４は、基板処理装置２と純水再生装置３との間で混合液または再生純水を循環させる。循環部４は、循環路４ａと、複数の加熱機構４ｂ、４ｃと、ポンプ４ｄと、フィルタ４ｅとを備える。

【0016】

加熱機構４ｂ、４ｃは、循環路４ａを流れる混合液または再生純水を加熱する。具体的に加熱機構４ｂ、４ｃは、循環路４ａを流れる混合液または再生純水を再生処理に適した温度に調整する。たとえば、薬液がＨＦ（フッ酸）およびＮＨ_３ＯＨ（水酸化アンモニウム）である場合、加熱機構４ｂ、４ｃは、ＨＦおよびＮＨ_３ＯＨの沸点よりも高く、純水の沸点よりも低い温度に混合液を加熱する。たとえば、加熱機構４ｂ、４ｃは、循環路４ａを流れる混合液または再生純水を７０℃に加熱する。ポンプ４ｄは、再生純水を循環路４ａに送り出す。フィルタ４ｅは、循環路４ａを流れる再生純水から固形状の不純物（パーティクル）を除去する。加熱機構４ｂ、４ｃおよびポンプ４ｄは、後述する制御部７１によって制御される。

【0017】

また、純水再生システム１は、制御装置７を備える。制御装置７は、たとえばコンピュータであり、制御部７１と記憶部７２とを備える。記憶部７２には、純水再生システム１において実行される各種の処理を制御するプログラムが格納される。制御部７１は、記憶部７２に記憶されたプログラムを読み出して実行することによって純水再生システム１の動作を制御する。

【0018】

なお、かかるプログラムは、コンピュータによって読み取り可能な記憶媒体に記録されていたものであって、その記憶媒体から制御装置７の記憶部７２にインストールされたものであってもよい。コンピュータによって読み取り可能な記憶媒体としては、たとえばハードディスク（ＨＤ）、フレキシブルディスク（ＦＤ）、コンパクトディスク（ＣＤ）、マグネットオプティカルディスク（ＭＯ）、メモリカードなどがある。

【0019】

＜基板処理装置の構成＞
次に、第１実施形態に係る基板処理装置２の構成について、図２を参照しながら説明する。図２は、基板処理装置２の具体的な構成の一例を示す模式図である。図２に示すように、基板処理装置２は、チャンバ２０と、基板処理部３０と、薬液供給部４０と、純水供給部５０と、回収カップ６０とを備える。

【0020】

なお、図２では、２つのカップが多段に設けられた回収カップ６０を例示しているが、カップの数は２つに限定されない。

【0021】

チャンバ２０は、基板処理部３０と、薬液供給部４０と、純水供給部５０と、回収カップ６０とを収容する。チャンバ２０の天井部には、ＦＦＵ（Fan Filter Unit）２１が設けられる。ＦＦＵ２１は、チャンバ２０内にダウンフローを形成する。

【0022】

基板処理部３０は、保持部３１と、支柱部３２と、駆動部３３とを備え、載置されたウェハＷに液処理を施す。保持部３１は、ウェハＷを水平に保持する。支柱部３２は、鉛直方向に延在する部材であり、基端部が駆動部３３によって回転可能に支持され、先端部において保持部３１を水平に支持する。駆動部３３は、支柱部３２を鉛直軸まわりに回転させる。

【0023】

かかる基板処理部３０は、駆動部３３を用いて支柱部３２を回転させることによって支柱部３２に支持された保持部３１を回転させ、これにより、保持部３１に保持されたウェハＷを回転させる。

【0024】

また、基板処理部３０が備える保持部３１の上面には、ウェハＷを側面から保持する保持部材３１ａが設けられる。ウェハＷは、かかる保持部材３１ａによって保持部３１の上面からわずかに離間した状態で水平保持される。

【0025】

薬液供給部４０は、保持部３１に保持されたウェハＷに薬液を供給する。薬液供給部４０は、ノズル４１と、ノズル４１を水平に支持するアーム４２と、アーム４２を旋回および昇降させる旋回昇降機構４３とを備える。

【0026】

ノズル４１は、バルブ４４を介して薬液供給源４６に接続される。薬液供給源４６は、薬液を貯留するタンクである。この薬液は、たとえば、ＨＦ（フッ酸）、ＨＦ／ＨＮＯ_３（フッ硝酸）、ＨＦ／ＨＮＯ_３／ＣＨ_３ＣＯＯＨ（フッ酸－硝酸－酢酸混合酸）、ＮＨ_３ＯＨ（水酸化アンモニウム）、ＳＣ１（アンモニア－過酸化水素水混合液）及びＴＭＡＨ（水酸化テトラメチルアンモニウム）の少なくとも１種である。

【0027】

また、ウェハＷの表面には、たとえば、上述の薬液によってエッチング可能な薄膜（たとえば、酸化膜、窒化膜およびシリコン膜の少なくとも１種）が形成される。

【0028】

純水供給部５０は、保持部３１に保持されたウェハＷに純水を供給して、ウェハＷのリンス処理を行う。純水は、たとえばＤＩＷ（DeIonized Water：脱イオン水）である。純水供給部５０は、ノズル５１と、ノズル５１を水平に支持するアーム５２と、アーム５２を旋回および昇降させる旋回昇降機構５３とを備える。

【0029】

ノズル５１は、調整弁５４を介してＤＩＷ供給源５６または循環路４ａに接続される。調整弁５４は、ノズル５１に流入させる純水を、ＤＩＷ供給源５６から供給される純水と、循環路４ａから供給される純水との間で切り替える。また、調整弁５４は、ＤＩＷ供給源５６から供給される純水と、循環路４ａから供給される純水との両方をノズル５１に流入させることができる。さらに、調整弁５４は、ＤＩＷ供給源５６から供給される純水と、循環路４ａから供給される純水と割合を調整することができる。

【0030】

ＤＩＷ供給源５６は、ＤＩＷを貯留するタンクである。以下の説明では、ＤＩＷ供給源５６から供給される純水を「純水の新液」と呼び、循環路４ａから供給される純水を「再生純水」と呼ぶ。また、純水の新液と再生純水とを区別しない場合にはこれらを単に「純水」と呼ぶ場合がある。

【0031】

たとえば、制御部７１が調整弁５４を制御して、ノズル５１をＤＩＷ供給源５６と接続した場合、ＤＩＷ供給源５６から供給される純水の新液は、調整弁５４を介してウェハＷに供給される。同様に、制御部７１が調整弁５４を制御して、ノズル５１を循環路４ａと接続した場合、循環路４ａを循環する再生純水は、調整弁５４を介してウェハＷに供給される。なお、制御部７１は、調整弁５４を制御して、ＤＩＷ供給源５６からの純水の新液と、循環路４ａを流れる再生純水との混合液をウェハＷに供給してもよい。かかる点については、図６を用いて後述する。

【0032】

回収カップ６０は、保持部３１の周囲に設けられ、保持部３１の回転によってウェハＷから飛散する処理液を捕集する。回収カップ６０は、基板処理部３０によって保持され回転するウェハＷの回転中心に同心配置された多段構成とすることができる。具体的には、回収カップ６０は、純水回収カップ６０ａと、ドレイン回収カップ６０ｆとを含む。

【0033】

純水回収カップ６０ａは、ウェハＷの下方及び外周外方を囲むとともに、ウェハＷの上方を開放させる形状を有する。純水回収カップ６０ａは、ドレイン回収カップ６０ｆの外側に設けられる。純水回収カップ６０ａは、ウェハＷの外周外方に回収口６０ｂを形成するとともに、下方に回収口６０ｂに連通する回収空間６０ｃを形成する。

【0034】

また、純水回収カップ６０ａは、回収空間６０ｃの底部に同心リング状の仕切壁６０ｈを形成して、回収空間６０ｃの底部を同心二重リング状の純水回収部６０ｄとドレイン部６０ｅとに区画する。純水回収部６０ｄは、ドレイン部６０ｅの外側に配置される。

【0035】

純水回収部６０ｄには、排液口６１ａが形成される。排液口６１ａからの排出経路は、切替弁６７を介して、ドレインライン６５ａおよび回収ライン６５ｂに接続される。たとえば、制御部７１が切替弁６７を制御して、排液の流入先をドレインライン６５ａとした場合、排液口６１ａから排出される排液は、バルブ６４ａを介してドレインライン６５ａに流れる。同様に、たとえば、制御部７１が切替弁６７を制御して、排液の流入先を回収ライン６５ｂとした場合、排液口６１ａから排出される排液は、バルブ６４ｂを介して回収ライン６５ｂに流れる。回収ライン６５ｂを流れる排液は、循環路４ａに流入される。

【0036】

また、純水回収部６０ｄには、純水の純度を測定する測定部６２ａが設けられる。本明細書における「純水の純度」とは、純水における、主成分である水（Ｈ_２Ｏ）が占める割合を示す。「純水の純度が高い」とは、主成分である水（Ｈ_２Ｏ）の割合が高いこと、言い換えれば、主成分以外の成分（薬液成分等の不純物）の割合が少ないことを意味する。純水の純度は、たとえば、純水の導電率、濃度、比抵抗等から推定することが可能である。このため、測定部６２ａとしては、たとえば、導電率計や、濃度計または比抵抗計等を用いることができる。なお、比抵抗は、導電率の逆数である。

【0037】

ドレイン部６０ｅには、排液口６１ｂが形成される。排液口６１ｂからの排出経路は、バルブ６４ｃへ接続される。排液口６１ｂから排出される排液は、かかるバルブ６４ｃを介して処理ユニット１６の外部へ排出される。なお、バルブ６４ｃを複数個のバルブで構成し、酸性やアルカリ性といった薬液の性質に応じて個別にバルブを分けて、排出経路を分岐させてもよい。また、薬液が再利用可能な場合には、バルブ６４ｃを介して排出された薬液を回収してもよい。

【0038】

純水回収カップ６０ａの仕切壁６０ｈには、かかる仕切壁６０ｈを貫き、かつ、回収カップ６０内において排液口６１ａ，６１ｂよりも上方で開口された複数の排気口６６が、仕切壁６０ｈの円周方向に沿って間隔を空けつつ形成される。かかる排気口６６からの排出経路は、バルブ６６ａに接続される。

【0039】

ドレイン回収カップ６０ｆは、仕切壁６０ｈの直上方に所定の間隔を空けて配置され、昇降可能に設けられる。ドレイン回収カップ６０ｆには、かかるドレイン回収カップ６０ｆを昇降させる昇降機構７０（カップ切替部の一例）が接続される。かかる昇降機構７０は、制御部７１によって昇降制御される。

【0040】

ドレイン回収カップ６０ｆは、上端部に純水回収カップ６０ａの回収口６０ｂまで内側上方に向けて傾斜する傾斜壁部６０ｇを有する。傾斜壁部６０ｇは、純水回収カップ６０ａの回収口６０ｂまで回収空間６０ｃの傾斜壁に沿って平行に伸延されており、傾斜壁部６０ｇが純水回収カップ６０ａの回収空間６０ｃの傾斜壁と近接するようになっている。

【0041】

そして、昇降機構７０を用いてドレイン回収カップ６０ｆを下降させると、回収空間６０ｃの内部において純水回収カップ６０ａの傾斜壁とドレイン回収カップ６０ｆの傾斜壁部６０ｇとの間に回収口６０ｂから排液口６１ａへと通じる流路が形成される。

【0042】

また、昇降機構７０を用いてドレイン回収カップ６０ｆを上昇させると、回収空間６０ｃの内部においてドレイン回収カップ６０ｆの傾斜壁部６０ｇの内側に回収口６０ｂからドレイン部６０ｅの排液口６１ｂへと通じる流路が形成される。

【0043】

そして、処理ユニット１６は、基板処理を行う際、基板処理中にてかかるドレイン回収カップ６０ｆを昇降させることによって、排液口６１ａ，６１ｂの切り替えを実行する。

【0044】

たとえば、薬液をウェハＷへ吐出してウェハＷを処理する場合、制御部７１は、基板処理部３０の駆動部３３を制御して保持部３１を所定回転速度で回転させた状態でバルブ４４を開放する。これにより、薬液供給源４６から供給される薬液が、ノズル４１からウェハＷの上面へ吐出される。

【0045】

このとき、制御部７１は、昇降機構７０を制御してドレイン回収カップ６０ｆを上昇させて、回収口６０ｂからドレイン部６０ｅの排液口６１ｂへと通じる流路を形成しておく。

【0046】

これにより、ウェハＷへ供給された薬液は、ウェハＷの回転による遠心力の作用でウェハＷの外周外方へ向けて振り切られ、回収口６０ｂから回収空間６０ｃのドレイン部６０ｅに回収される。そして、薬液は、排液口６１ｂから排出される。言い換えると、ドレイン回収カップ６０ｆが上昇した状態は、液をドレイン回収カップ６０ｆで受ける状態となっている。

【0047】

また、たとえば純水をウェハＷへ吐出してウェハＷを処理する場合、制御部７１は、同じく駆動部３３を制御して保持部３１を所定回転速度で回転させた状態で調整弁５４を制御する。これにより、ＤＩＷ供給源５６または循環路４ａから供給される純水がノズル５１からウェハＷの上面へ吐出される。

【0048】

このとき、制御部７１は、昇降機構７０を制御してドレイン回収カップ６０ｆを下降させて、回収口６０ｂから純水回収部６０ｄの排液口６１ａへと通じる流路を形成する。

【0049】

これにより、ウェハＷに供給された純水は、ウェハＷの回転による遠心力の作用でウェハＷの外周外方へ向けて振り切られ、純水回収カップ６０ａの回収口６０ｂから回収空間６０ｃの純水回収部６０ｄに回収される。そして、純水は、排液口６１ａから排出される。言い換えると、ドレイン回収カップ６０ｆが下降した状態は、液を純水回収カップ６０ａで受ける状態となっている。

【0050】

なお、このようにドレイン回収カップ６０ｆを昇降させることによって行う排液口６１ａ，６１ｂの切り替えを、以下では、「カップ切替」と呼ぶ場合がある。

【0051】

＜純水再生装置の構成＞
次に、第１実施形態に係る純水再生装置３の構成について、図３を参照しながら説明する。図３は、純水再生装置３の具体的な構成の一例を示す模式図である。図３に示すように、純水再生装置３は、混合液貯留部８０と、純水貯留部９０とを備える。

【0052】

混合液貯留部８０は、基板処理装置２から回収された混合液を貯留する。混合液貯留部８０は、混合液供給部８１と、気体供給部８２と、排気部８３と、加熱機構８４と、不活性ガス供給部８５と、新液供給部８７とを備える。

【0053】

混合液供給部８１は、循環路４ａを流れる混合液を混合液貯留部８０内に供給する。混合液供給部８１は、ノズル８１ａを備える。ノズル８１ａは、バルブ８１ｂを介して循環路４ａと接続される。ノズル８１ａは、混合液貯留部８０内における混合液の液面よりも高い位置に設けられ、混合液を混合液貯留部８０内に噴霧させる。

【0054】

ノズル８１ａは、不図示の減圧脱泡器を備えていてもよい。これにより、ノズル８１ａは、循環路４ａを流れる混合液を混合液貯留部８０内に減圧脱泡することができる。かかる構成によれば、混合液中の薬液成分の気化を促進することができる。ノズル８１ａは、混合液中の薬液成分を気化させる気化部の一例である。

【0055】

気体供給部８２は、混合液貯留部８０の内部において、ノズル８１ａよりも下方に配置される。具体的には、気体供給部８２は、混合液貯留部８０に貯留された混合液の液面よりも低い位置に、より具体的には、混合液貯留部８０の底面付近に配置される。気体供給部８２は、複数の供給口８２ｃを備えており、かかる供給口８２ｃから混合液貯留部８０内の混合液に気体を供給する。複数の供給口８２ｃは、バルブ８２ｂを介して気体供給源８２ａに接続される。気体供給源８２ａは、複数の供給口８２ｃに気体を供給する。気体供給源８２ａから複数の供給口８２ｃに供給される気体は、たとえば窒素ガスや二酸化炭素であってもよい。

【0056】

かかる構成によれば、気液界面の面積を増加でき、混合液の気化を促進することができる。気体供給部８２は、混合液中の薬液成分を気化させる気化部の一例である。

【0057】

純水再生装置３は、混合液に含まれる薬液成分を気化させることによって混合液から薬液成分を除去する。これにより、純水再生装置３は、純度の高い純水を得ることができる。かかる純水を基板処理に再利用することで、再利用しない場合と比較して、基板処理における純水の使用量を低減することができる。

【0058】

排気部８３は、ノズル８１ａまたは気体供給部８２によって気化させた薬液成分を排気する。排気部８３は、混合液貯留部８０の上部に形成される排気口８３ｂを備える、排気口８３ｂからの排気経路は、真空ポンプなどのポンプ部８３ａに接続される。

【0059】

加熱機構８４は、混合液貯留部８０内の混合液を加熱する。たとえば、制御部７１は、加熱機構８４を制御して、薬液であるＨＦおよびＮＨ_３ＯＨの沸点よりも高く、純水の沸点よりも低い温度に混合液を加熱する。かかる構成によれば、混合液中の薬液成分の気化を促進することができる。

【0060】

不活性ガス供給部８５は、混合液貯留部８０内に不活性ガスを供給する。不活性ガス供給部８５は、不活性ガス供給源８５ａと、バルブ８５ｂと、供給口８５ｃとを備える。不活性ガス供給源８５ａからの不活性ガスは、バルブ８５ｂを介して供給口８５ｃから混合液貯留部８０に供給される。かかる構成によれば、混合液貯留部８０内の気体を排気部８３経由でパージ（排気）することができる。不活性ガスは、たとえば窒素ガスである。

【0061】

新液供給部８７は、混合液貯留部８０内に純水の新液を供給する。純水は、たとえばＤＩＷ（DeIonized Water：脱イオン水）である。新液供給部８７は、ＤＩＷ供給源８７ａと、バルブ８７ｂとを備える。ＤＩＷ供給源５６からの純水の新液は、バルブ８７ｂを介して混合液貯留部８０に供給される。

【0062】

純水貯留部９０は、混合液貯留部８０において薬液成分が除去された再生純水を貯留する。実施形態では、１つのタンクを仕切板８６で２つに分割し、一方を混合液貯留部８０、他方を純水貯留部９０として用いている。仕切板８６には開口８６ａが設けられており、混合液貯留部８０と純水貯留部９０とは開口８６ａを介して連通している。

【0063】

純水貯留部９０は、液面センサ９１と、測定部９２と、純水排出部９３と、純水回収部９４と、排気部９５と、不活性ガス供給部９６とを備える。

【0064】

液面センサ９１は、純水貯留部９０に貯留された再生純水の液面の高さを測定する。かかる構成によれば、純水貯留部９０中の再生純水の量を把握することができ、再生純水の排液や、液供給の制御を行うことができる。たとえば、制御部７１は、液面センサ９１を用いて再生純水の液面の高さを測定し、かかる液面の高さと予め定められた第１液面閾値～第４液面閾値とを比較する。そして、制御部７１は、かかる比較結果に基づいて排液や、液供給の制御を行う。この点については、図７および図８を用いて後述する。

【0065】

測定部９２は、純水貯留部９０内の再生純水の純度を測定する。測定部９２としては、たとえば、導電率計や、濃度計または比抵抗計等を用いることができる。たとえば、制御部７１は、測定部９２を用いて再生純水の純度を測定し、測定された純度に基づいて基板処理装置２に供給する液（再生純水、純水の新液またはこれらを混合した純水）を決定する。この点については、図６を用いて後述する。

【0066】

純水排出部９３は、純水貯留部９０内の再生純水を排出する。純水排出部９３の排液口９３ａは、たとえば純水貯留部９０における側面下部に設けられる。排液口９３ａから排出される排液は、バルブ９３ｂを介して純水再生装置３の外部に排出される。

【0067】

純水回収部９４は、純水貯留部９０内の再生純水を回収して、循環路４ａ（図１参照）に送り出す。純水回収部９４は、純水貯留部９０に形成された排液口９４ａ、９４ｃを備える。具体的に、排液口９４ａは純水貯留部９０の側面の底部に形成され、排液口９４ｃは純水貯留部９０の上部に形成される。排液口９４ａ、９４ｃからの排液経路は、バルブ９４ｂ、９４ｄを介して、循環路４ａに接続される。

【0068】

排気部９５は、純水貯留部９０の上部に形成される排気口９５ｂを備える、排気口９５ｂからの排気経路は、真空ポンプなどのポンプ部９５ａに接続される。不活性ガス供給部９６は、純水貯留部９０内に不活性ガスを供給する。不活性ガス供給部９６は、不活性ガス供給源９６ａと、バルブ９６ｂと、供給口９６ｃとを備える。不活性ガス供給源９６ａからの不活性ガスは、バルブ９６ｂを介して供給口９６ｃから純水貯留部９０に供給される。

【0069】

＜制御処理の手順＞
つづいて、第１実施形態に係る制御処理の手順について、図４を参照しながら説明する。図４は、実施形態に係る基板処理装置２が実行する制御処理の手順の一例を示すフローチャートである。なお、図４のフローチャートが開始される時点で、ドレイン回収カップ６０ｆは上昇しており、ドレイン回収カップ６０ｆで液を受ける状態になっている。

【0070】

実施形態に係る制御処理では、まず、制御部７１が、基板処理装置２に搬入されたウェハＷを保持部３１で保持する（ステップＳ１０１）。そして、制御部７１は、基板処理部３０などを制御して、ウェハＷを所与の回転数で回転させる（ステップＳ１０２）。

【0071】

次に、制御部７１は、薬液供給部４０を制御して、ウェハＷ上に所与の流量で薬液を供給する（ステップＳ１０３）。その後、制御部７１は、ウェハＷに対する薬液の供給を停止する（ステップＳ１０４）。

【0072】

次に、制御部７１は、昇降機構７０を制御して、カップ切り替えを行う（ステップＳ１０５）。具体的には、制御部７１は、昇降機構７０を制御してドレイン回収カップ６０ｆを下降させて、純水回収カップ６０ａで液を受ける状態にする。このとき、切替弁６７は、排液口６１ａとドレインライン６５ａとを接続した状態となっている。このため、純水回収カップ６０ａに回収された液は、ドレインライン６５ａ経由で外部に排出される。

【0073】

かかる処理によれば、純水回収カップ６０ａへの薬液の持ち込みが低減されるため、純水の純度低下を抑制することができる。純水の純度低下が抑制されると、純水再生装置３内で気化させる薬液成分が少量になるため、より効率的に再生処理を行うことができる。

【0074】

次に、制御部７１は、薬液による液処理が終了したウェハＷに対し、純水によるリンス処理を実施する（ステップＳ１０６）。具体的には、制御部７１は、純水供給部５０を制御してウェハＷ上に所与の流量で純水を供給する。

【0075】

制御部７１は、所定の条件に基づいてウェハＷに供給する純水の種類（再生純水、純水の新液またはこれらを混合した純水）を切り替える。たとえば、制御部７１は、リンス処理開始からの経過時間に応じて純水の種類を切り替えてもよい。また、制御部７１は、純水貯留部９０に貯留されている再生純水の純度に応じて純水の種類を切り替えてもよい。また、制御部７１は、純水貯留部９０に貯留されている再生純水の液面の高さに応じて純水の種類を切り替えてもよい。

【0076】

制御部７１は、かかるリンス処理中に純水回収処理を行う。具体的には、制御部７１は、所定の条件に基づいて純水の流入先を切り替える。たとえば、制御部７１は、リンス処理開始からの経過時間に応じて純水の流入先を切り替えてもよい。また、制御部７１は、純水貯留部９０に貯留されている再生純水の液面の高さに応じて純水の流入先を切り替えてもよい。

【0077】

上述したリンス処理および純水回収処理の詳細については、図５～図７を用いて後述する。

【0078】

次に、制御部７１は、ウェハＷに対するリンス液の供給を停止し、リンス処理が終了したウェハＷに対して、スピン乾燥などによる乾燥処理を実施する（ステップＳ１０７）。そして、制御部７１は、乾燥処理が終了したウェハＷを基板処理装置２から搬出し（ステップＳ１０８）、一連の制御処理を終了する。

【0079】

つづいて、第１実施形態に係るリンス処理および純水回収処理の手順について、図５～図７を参照しながら説明する。図５は、第１実施形態に係る純水再生システム１が実行するリンス処理および純水回収処理の手順の一例を示すフローチャートである。上述した図４のステップＳ１０６におけるリンス処理が開始されると、本フローチャートのリンス処理および純水回収処理が開始される。

【0080】

まず、制御部７１は、純水供給部５０を制御して、ウェハＷにリンス液として再生純水を供給する（ステップＳ２０１）。このとき、回収カップ６０は純水回収カップ６０ａで液を受ける状態となっている。また、排液口６１ａは、切替弁６７によってドレインライン６５ａと接続された状態となっており、バルブ６４ａは開いた状態となっている。これにより、ウェハＷに供給された再生純水は、ドレインライン６５ａを介して外部に排出される。

【0081】

つづいて、制御部７１は、ステップＳ２０１において再生純水の供給を開始してから所定の時間が経過したか否かを判定する（ステップＳ２０２）。制御部７１は、所定時間が経過するまで、再生純水の供給を継続する（ステップＳ２０２，Ｎｏ）。一方、ステップＳ２０２において所定時間が経過したと判定すると、制御部７１は、切替弁６７を制御して、ウェハＷに供給された後の純水の流入先をドレインライン６５ａから回収ライン６５ｂに切り替える（ステップＳ２０３）。

【0082】

ここで、所定の時間とは、たとえば純水の純度が予め定められた閾値以上となるために必要な時間であってもよい。かかる所定の時間は、たとえば、リンス処理開始から純水の純度が閾値以上になった時点までの時間を複数回計測して、平均の時間を算出することで得られる。一例として、リンス処理中における純水の導電率の変化を導電率計である測定部６２ａにより測定し、測定された導電率が予め定められた値以下となるまでに要する時間を計測する。この計測を複数回行い、導電率が予め定められた値以下となるまでに要する時間の平均値を求める。このようにして得られた平均時間が、純水の純度が予め定められた閾値以上となるために必要な時間、すなわち、所定の時間としてレシピ情報に登録されてもよい。

【0083】

かかる処理によれば、薬液成分が多く含まれている可能性の高いリンス処理開始直後の純水は回収せずに、リンス処理開始から所定の時間経過後の純度が高い純水のみを回収することができる。

【0084】

また、制御部７１は、ステップＳ２０３から所定の時間が経過した後に、純水供給部５０を制御して、ウェハＷにリンス液として純水の新液を供給する（ステップＳ２０４）。なお、ステップＳ２０３およびステップＳ２０４の処理は同時に行われてもよい。その後、制御部７１は、本フローチャートの処理を終了し、図４のステップＳ１０７の乾燥処理を行う。

【0085】

図６は、第１実施形態に係るリンス処理の手順の別の一例を示すフローチャートである。上述した図４のステップＳ１０６におけるリンス処理が開始されると、本フローチャートのリンス処理が開始される。

【0086】

まず、制御部７１は、測定部９２を用いて、純水貯留部９０における再生純水の純度を測定する（ステップＳ３０１）。そして、制御部７１は、測定された再生純水の純度が予め定められた第１純度閾値以上であるか否か、言い換えると、純水貯留部９０における再生純水がウェハＷのリンス処理に使用可能な純度であるか否かを判定する（ステップＳ３０２）。制御部７１は、再生純水の純度が第１純度閾値以上である場合（ステップＳ３０２，Ｙｅｓ）、純水供給部５０を制御して、ウェハＷに再生純水を供給する（ステップＳ３０３）。

【0087】

一方、制御部７１は、再生純水の純度が第１純度閾値よりも小さい場合（ステップＳ３０２，Ｎｏ）、再生純水の純度が第１純度閾値よりも小さい第２純度閾値以上であるか否かを判定する（ステップＳ３０４）。制御部７１は、再生純水の純度が第２純度閾値以上である場合（ステップＳ３０４，Ｙｅｓ）、純水供給部５０を制御して、ウェハＷに再生純水および純水の新液を混合した純水を供給する（ステップＳ３０５）。具体的には、制御部７１は、再生純水の純度に応じて、再生純水の供給量と、純水の新液の供給量とを決定し、ウェハＷに対して供給する。たとえば、再生純水の純度が第１純度閾値に近い純度である場合、制御部７１は、再生純水の供給量を、純水の新液の供給量よりも多くする。一方、再生純水の純度が第２純度閾値に近い純度である場合、制御部７１は、再生純水の供給量を、純水の新液の供給量よりも少なくする。

【0088】

このように、再生純水の純度が、ウェハＷのリンス処理に使用可能な純度でない場合であっても、純水の新液を混合させることでリンス処理に使用可能な純度まで高めることができる。

【0089】

一方、制御部７１は、再生純水の純度が第２純度閾値よりも小さい場合（ステップＳ３０４，Ｎｏ）、純水供給部５０を制御して、ウェハＷに純水の新液を供給する（ステップＳ３０６）。

【0090】

以上のように、実施形態に係る純水再生システム１は、測定部９２を用いて再生純水の純度を測定し、測定した再生純水の純度が第１純度閾値以上である場合には、純水供給部５０を制御して基板処理装置２へ再生純水を供給し、測定した再生純水の純度が第１純度閾値より小さい場合には、純水供給部５０を制御して再生純水の純度に応じた量の再生純水および純水の新液を基板処理装置へ供給する。かかる処理によれば、再生純水の純度に応じて基板処理装置２へ供給する再生純水の使用量を調整することができる。

【0091】

図７は、第１実施形態に係るリンス処理および純水回収処理の手順の別の一例を示すフローチャートである。図８は、再生純水の液面の高さに応じた制御処理の一例を示す表である。上述した図４のステップＳ１０６におけるリンス処理が開始されると、本フローチャートのリンス処理が開始される。

【0092】

まず、制御部７１は、液面センサ９１を用いて、純水貯留部９０における再生純水の液面の高さを測定する（ステップＳ４０１）。そして、制御部７１は、測定された再生純水の液面の高さが予め定められた第１液面閾値以上であるか否かを判定する（ステップＳ４０２）。制御部７１は、再生純水の液面の高さが第１液面閾値以上である場合（ステップＳ４０２，Ｙｅｓ）、第１処理を行う（ステップＳ４０３）。第１処理は、純水貯留部９０における再生純水の貯留量を減らして適正範囲に近付ける処理である。

【0093】

具体的に、制御部７１は、図８に示すように、基板処理装置２の純水供給部５０を制御して、ウェハＷへの再生純水の供給を停止する。プロセス処理が継続している場合には、純水の新液のみでリンス処理を行う。また、制御部７１は、基板処理装置２の切替弁６７を制御して、回収カップ６０によって回収された純水をドレインライン６５ａ経由で排出する。また、制御部７１は、純水排出部９３を制御して、再生純水を純水再生装置３の外部に排出する。第１処理において、制御部７１は、新液供給部８７から混合液貯留部８０への純水の新液の供給を行わない。

【0094】

なお、第１処理において、ウェハＷへの再生純水の供給を停止しているのは、純水貯留部９０から再生純水を排出しながらウェハＷへの再生純水の供給を行うと、再生純水の供給流量が安定せずリンス処理が適切に完了しないおそれがあるためである。

【0095】

次に、制御部７１は、再生純水の液面の高さが第１液面閾値よりも低い場合（ステップＳ４０２，Ｎｏ）、再生純水の液面の高さが第１液面閾値よりも低い第２液面閾値以上であるか否かを判定する（ステップＳ４０４）。制御部７１は、再生純水の液面の高さが第２液面閾値以上である場合（ステップＳ４０４，Ｙｅｓ）、第２処理を行う（ステップＳ４０５）。第２処理は、第１処理と同じく、純水貯留部９０における再生純水の貯留量を減らす処理である。第２処理では、第１処理が実施される状況と比べ、再生純水の貯留量は適正範囲に近いため、ウェハＷへの再生純水の供給の停止および純水貯留部９０内の再生純水の排出は行われない。

【0096】

具体的に、制御部７１は、図８に示すように、基板処理装置２の純水供給部５０を制御して、ウェハＷへ通常のリンス処理（たとえば、図５または図６で説明したリンス処理）を行う。また、制御部７１は、基板処理装置２の切替弁６７を制御して、回収カップ６０によって回収された純水をドレインライン６５ａ経由で排出する。第２処理において、制御部７１は、純水貯留部９０からの再生純水の排出を行わない。また、第２処理において、制御部７１は、新液供給部８７から混合液貯留部８０への純水の新液の供給を行わない。

【0097】

次に、制御部７１は、再生純水の液面の高さが第２液面閾値よりも低い場合（ステップＳ４０４，Ｎｏ）、再生純水の液面の高さが第２液面閾値よりも低い第３液面閾値以上であるか否かを判定する（ステップＳ４０６）。制御部７１は、再生純水の液面の高さが第３液面閾値以上である場合（ステップＳ４０６，Ｙｅｓ）、第３処理を行う（ステップＳ４０７）。第３処理は、再生純水の貯留量が適正範囲内である場合に実施される処理である。

【0098】

具体的に、制御部７１は、図８に示すように、基板処理装置２の純水供給部５０を制御して、ウェハＷへ通常のリンス処理を行う。また、制御部７１は、基板処理装置２の切替弁６７を制御して、回収カップ６０によって回収された純水を回収ライン６５ｂに流入させる。第３処理において、制御部７１は、純水貯留部９０からの再生純水の排出を行わない。また、第３処理において、制御部７１は、新液供給部８７から混合液貯留部８０への純水の新液の供給を行わない。

【0099】

次に、制御部７１は、再生純水の液面の高さが第３液面閾値よりも低い場合（ステップＳ４０６，Ｎｏ）、再生純水の液面の高さが第３液面閾値よりも低い第４液面閾値以上であるか否かを判定する（ステップＳ４０８）。制御部７１は、再生純水の液面の高さが第４液面閾値以上である場合（ステップＳ４０８，Ｙｅｓ）、図８の第４処理を行う（ステップＳ４０９）。第４処理は、純水貯留部９０における再生純水の貯留量を増やして適正範囲に近付ける処理である。

【0100】

具体的に、制御部７１は、図８に示すように、基板処理装置２の純水供給部５０を制御して、ウェハＷへ通常のリンス処理を行う。また、制御部７１は、基板処理装置２の切替弁６７を制御して、回収カップ６０によって回収された純水を回収ライン６５ｂに流入させる。また、制御部７１は、純水再生装置３の新液供給部８７を制御して、混合液貯留部８０へ純水の新液を供給する。第４処理において、制御部７１は、純水貯留部９０からの再生純水の排出を行わない。

【0101】

一方、制御部７１は、再生純水の液面の高さが第４液面閾値よりも低い場合（ステップＳ４０８，Ｎｏ）、図８の第５処理を行う（ステップＳ４１０）。第５処理は、第４処理と同様に、純水貯留部９０における再生純水の貯留量を増やす処理である。第５処理では、第４処理が実施される状況と比べ、再生純水の貯留量がさらに少ないため、ウェハＷへの再生純水の供給を停止することで純水貯留部９０内の再生純水が枯渇しないようにしている。

【0102】

具体的に、制御部７１は、図８に示すように、基板処理装置２の純水供給部５０を制御して、ウェハＷへの再生純水の供給を停止する。プロセス処理が継続している場合には、純水の新液のみでリンス処理を行う。また、制御部７１は、基板処理装置２の切替弁６７を制御して、回収カップ６０によって回収された純水を回収ライン６５ｂに流入させる。また、制御部７１は、純水再生装置３の新液供給部８７を制御して、混合液貯留部８０へ純水の新液を供給する。第５処理において、制御部７１は、純水貯留部９０からの再生純水の排出を行わない。

【0103】

次に、制御部７１は、リンス処理が終了したか否かを判定する（ステップＳ４１１）。リンス処理が終了した場合（ステップＳ４１１，Ｙｅｓ）、制御部７１は、本フローチャートの処理を終了する。その後、制御部７１は、図４のステップＳ１０７の乾燥処理を行う。一方、リンス処理が終了していない場合（ステップＳ４１１，Ｎｏ）、制御部７１は、処理をステップＳ４０１に戻す。すなわち、制御部７１は、リンス処理が終了するまでの間、純水再生装置３における再生純水の液面の高さに応じた処理を続ける。

【0104】

以上のように、第１実施形態に係る純水再生システム１は、混合液供給部８１によって混合液貯留部８０に混合液が供給されている間、液面センサ９１を用いて純水再生装置３内の再生純水の液面の高さを測定し、測定された液面の高さが第１液面閾値以上である場合は、切替弁６７を制御して基板処理装置２からの混合液の回収を停止し、かつ、純水排出部９３を制御して純水再生装置３に貯留された再生純水を排出し、測定された液面の高さが第１液面閾値よりも低い第２液面閾値以上である場合は、切替弁６７を制御して基板処理装置２からの混合液の回収を停止する。

【0105】

かかる処理によれば、液面の高さが第２液面閾値以上である場合は再生純水の量が多いため、混合液の回収を停止することでそれ以上に量が多くなるのを防ぐことができる。また、液面の高さが第１液面閾値以上である場合は、混合液の回収を停止し、再生純水を排出することで純水貯留部９０内の再生純水の量を通常に戻すことができる。

【0106】

また、第１実施形態に係る純水再生システム１は、液面センサ９１を用いて純水再生装置３内の再生純水の液面の高さを測定し、測定された液面の高さが第３液面閾値以下である場合は、新液供給部８７を制御して混合液貯留部８０に純水の新液を供給し、測定された液面の高さが第３液面閾値よりも低い第４液面閾値以下である場合は、新液供給部８７を制御して混合液貯留部８０に純水の新液を供給し、かつ、純水供給部５０を制御して基板処理装置２への再生純水の供給を停止する。

【0107】

かかる処理によれば、液面の高さが第３液面閾値以下である場合は再生純水の量が少ないため、純水再生装置３へ純水の新液を供給することで量を多くすることができる。また、液面の高さが第４液面閾値以下である場合は、純水再生装置３へ純水の新液を供給し、かつ、基板処理装置２への再生純水の供給を停止することで再生純水の量を通常に戻すことができる。

【0108】

（第２実施形態）
図９は、第２実施形態に係る純水再生装置の具体的な構成の一例を示す模式図である。図９に示すように、混合液貯留部８０と純水貯留部９０とは、接続流路部１１０によって接続されていてもよい。

【0109】

接続流路部１１０は、混合液貯留部８０と純水貯留部９０とを接続する流路である。混合液貯留部８０に貯留された純水は、接続流路部１１０を経由して純水貯留部９０に流入する。

【0110】

接続流路部１１０には、脱気部１２０が設けられていてもよい。脱気部１２０は、再生純水中の気泡を除去する。脱気部１２０には、たとえば中空糸膜や減圧脱泡器が用いられていてもよい。かかる構成によれば、気体供給部８２により供給された混合液貯留部８０内の混合液中の気体を除去し、再生純水の純度をより高めることができる。

【0111】

今回開示された実施形態は全ての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。実に、上記した実施形態は多様な形態で具現され得る。また、上記の実施形態は、添付の特許請求の範囲およびその趣旨を逸脱することなく、様々な形態で省略、置換、変更されてもよい。

【0112】

また、ここまで示した実施形態および変形例では、基板処理装置２においてウェハＷを１枚ずつ液処理する枚葉処理に対して本開示の技術を適用した例について示したが、本開示はかかる例に限られない。たとえば、複数のウェハＷを一括で処理するバッチ処理に本開示の技術を適用してもよい。

【符号の説明】

【0113】

１ 純水再生システム
２ 基板処理装置
３ 純水再生装置
４ 循環部
７ 制御装置
３１ 保持部
４０ 薬液供給部
４１ ノズル
５０ 純水供給部
５１ ノズル
６０ 回収カップ
６０ａ 純水回収カップ
６５ａ ドレインライン
６５ｂ 回収ライン
６７ 切替弁
７０ 昇降機構
７１ 制御部
７２ 記憶部
８０ 混合液貯留部
８１ 混合液供給部（気化部の一例）
８２ 気体供給部（気化部の一例）
８３ 排気部
９０ 純水貯留部
９１ 液面センサ
９２ 測定部

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】