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特開2024-129751半導体製造装置、突上げユニットおよび半導体装置の製造方法
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024129751
(43)【公開日】2024-09-27
(54)【発明の名称】半導体製造装置、突上げユニットおよび半導体装置の製造方法
(51)【国際特許分類】
   H01L 21/67 20060101AFI20240919BHJP
   H01L 21/677 20060101ALI20240919BHJP
   H01L 21/52 20060101ALI20240919BHJP
【FI】
H01L21/68 E
H01L21/68 A
H01L21/52 F
【審査請求】未請求
【請求項の数】17
【出願形態】OL
(21)【出願番号】P 2023039157
(22)【出願日】2023-03-13
(71)【出願人】
【識別番号】515085901
【氏名又は名称】ファスフォードテクノロジ株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】110000350
【氏名又は名称】ポレール弁理士法人
(72)【発明者】
【氏名】齊藤 明
(72)【発明者】
【氏名】佐々 匠
(72)【発明者】
【氏名】小野 悠太
【テーマコード(参考)】
5F047
5F131
【Fターム(参考)】
5F047FA04
5F047FA07
5F131AA04
5F131BA39
5F131BA53
5F131BA54
5F131CA09
5F131DA03
5F131DA13
5F131DA32
5F131DA33
5F131DA36
5F131DA42
5F131DB12
5F131DB22
5F131DB62
5F131DB72
5F131DC26
5F131EA02
5F131EA05
5F131EA07
5F131EA14
5F131EA15
5F131EA22
5F131EB01
5F131EB31
5F131EC33
5F131EC35
5F131EC72
5F131EC74
5F131EC75
5F131FA17
5F131FA32
5F131FA33
5F131KA14
5F131KA72
5F131KB09
5F131KB32
5F131KB53
5F131KB54
5F131KB55
(57)【要約】
【課題】ダイの損傷を低減することが可能な技術を提供することにある。
【解決手段】半導体製造装置は、ダイが貼付されるダイシングテープを保持するウエハ保持台と、前記ダイシングテープを突上げるブロック部を有する突上げユニットと、を備える。前記ブロック部は、平面視において第一方向の長さが第二方向の長さより長く、複数の開口を有する外側ブロックと、前記開口の内側に配置される内側ブロックと、を備える。前記内側ブロックは前記第一方向に沿って並んで複数配置される。
【選択図】図7
【特許請求の範囲】
【請求項1】
ダイが貼付されるダイシングテープを保持するウエハ保持台と、
前記ダイシングテープを突上げるブロック部を有する突上げユニットと、
を備え、
前記ブロック部は、
平面視において第一方向の長さが第二方向の長さより長く、複数の開口を有する外側ブロックと、
前記開口の内側に配置される内側ブロックと、
を備え、
前記内側ブロックは前記第一方向に沿って並んで複数配置される半導体製造装置。
【請求項2】
請求項1の半導体製造装置において、
前記外側ブロックに代えて、平面視において前記第一方向の長さが前記第二方向の長さより長く、一つの開口を有する外側ブロックを備え、
前記外側ブロックは前記ダイシングテープと接触する位置は断続的または間欠的である半導体製造装置。
【請求項3】
請求項1の半導体製造装置において、
前記外側ブロックに代えて、一つの開口を有する複数の外側ブロックを備え、
前記複数の外側ブロックは前記第一方向に沿って並んで配置され、
前記複数の外側ブロックのそれぞれには、同じ突上げ動作を行う前記内側ブロックが少なくとも一つ配置される半導体製造装置。
【請求項4】
請求項1から3の何れか1項の半導体製造装置において、
前記内側ブロックは、平面視で円形である半導体製造装置。
【請求項5】
請求項1から3の何れか1項の半導体製造装置において、
前記内側ブロックの前記第二方向のサイズは0.1mm以上、1.5mm以下である半導体製造装置。
【請求項6】
請求項1から3の何れか1項の半導体製造装置において、
前記内側ブロックは、平面視で多角形または楕円である半導体製造装置。
【請求項7】
請求項6の半導体製造装置において、
平面視で多角形である前記内側ブロックの角部は円弧形状である半導体製造装置。
【請求項8】
請求項1の半導体製造装置において、
前記内側ブロックは、複数の部材が同心状に配置されている半導体製造装置。
【請求項9】
請求項1の半導体製造装置において、
前記内側ブロックは配置位置により平面視におけるサイズが異なる半導体製造装置。
【請求項10】
請求項1の半導体製造装置において、
前記外側ブロックの外周面は、突上げの中心軸に対して勾配を有し、前記外側ブロックの外周側の幅は下方に向かうに連れて広くなる半導体製造装置。
【請求項11】
請求項1の半導体製造装置において、
さらに、前記外側ブロックおよび前記内側ブロックのそれぞれを独立して上昇および下降させる制御部を備える半導体製造装置。
【請求項12】
請求項11の半導体製造装置において、
前記制御部は、前記内側ブロックを両外側から中央に向けた順に下降させるよう構成される半導体製造装置。
【請求項13】
請求項11の半導体製造装置において、
前記制御部は、前記内側ブロックを一端から他端へ向けた順に下降させるよう構成される半導体製造装置。
【請求項14】
請求項11の半導体製造装置において、
前記突上げユニットは、さらに、前記ブロック部の周辺に配置されるドームを有し、
前記制御部は、前記ドームによって前記ダイシングテープの吸着を行いながら前記内側ブロックの全体を上昇させた後、前記内側ブロックを両外側から順に下降させるよう構成される半導体製造装置。
【請求項15】
請求項11の半導体製造装置において、
前記制御部は、前記外側ブロックおよびすべての前記内側ブロックを上昇させた後、前記外側ブロックを下げながら前記内側ブロックをすべて上昇させるよう構成される半導体製造装置。
【請求項16】
ダイシングテープを突上げるブロック部を備え、
前記ブロック部は、
平面視において第一方向の長さが第二方向の長さより長く、複数の開口を有する外側ブロックと、
前記開口の内側に配置される内側ブロックと、
を備え、
前記内側ブロックは前記第一方向に沿って並んで複数配置される突上げユニット。
【請求項17】
ダイが貼付されるダイシングテープを保持するウエハ保持台と、前記ダイシングテープを突上げるブロック部を有する突上げユニットと、を備え、前記ブロック部は、平面視において第一方向の長さが第二方向の長さより長く、複数の開口を有する外側ブロックと、前記開口の内側に配置される内側ブロックと、を備え、前記内側ブロックは前記第一方向に沿って並んで複数配置される半導体製造装置に前記ダイシングテープを保持するウエハリングを搬入する工程と、
前記ダイシングテープから前記ダイを剥離する工程と、
を有する半導体装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本開示は半導体製造装置に関し、例えば突き上げユニットを有するダイボンダに適用可能である。
【背景技術】
【0002】
半導体装置の製造工程の一工程として、ウエハから分割されたダイをダイシングテープから剥離する剥離工程がある。剥離工程では、例えば、ダイシングテープ裏面から突上げユニットによってダイを突き上げて、ウエハ供給部に保持されたダイシングテープから、1個ずつ剥離し、ピックアップヘッドまたはボンドヘッドに設けられたコレット等の吸着ノズルを使ってダイがピックアップされる。
【0003】
例えば、突上げユニットは、複数のブロックを上下動させることでダイの周辺からダイシングテープを剥離している(例えば、特許文献1)。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【特許文献1】特開2022-114399号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
突上げユニットによってダイをダイシングテープから剥離する際に、ダイを損傷することがある。
【0006】
本開示の課題は、ダイの損傷を低減することが可能な技術を提供することにある。その他の課題と新規な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう。
【課題を解決するための手段】
【0007】
本開示のうち代表的なものの概要を簡単に説明すれば下記の通りである。
すなわち、半導体製造装置は、ダイが貼付されるダイシングテープを保持するウエハ保持台と、前記ダイシングテープを突上げるブロック部を有する突上げユニットと、を備える。前記ブロック部は、平面視において第一方向の長さが第二方向の長さより長く、複数の開口を有する外側ブロックと、前記開口の内側に配置される内側ブロックと、を備える。前記内側ブロックは前記第一方向に沿って並んで複数配置される。
【発明の効果】
【0008】
本開示によれば、ダイの損傷を低減することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【0009】
図1図1は実施形態におけるダイボンダの構成例を示す概略上面図である。
図2図2図1において矢印A方向から見たときの概略構成を説明する図である。
図3図3図1に示すウエハ供給部の主要部を示す概略断面図である。
図4図4図1に示すダイボンダの制御系の概略構成を示すブロック図である。
図5図5図1に示すダイボンダを用いた半導体装置の製造方法を示すフローチャートである。
図6図6図2に示す突上げユニットの要部断面を模式的に示す図である。
図7図7図6に示す突上げユニットの上面図である。
図8図8図6に示す突上げユニットの一動作例における突上げシーケンスを説明する図である。
図9図9図6に示す突上げユニットの第一変形例における突上げシーケンスを説明する図である。
図10図10は第二変形例における突上げユニットのブロック部の上面図である。
図11図11は第三変形例における内側のブロックの上面図である。
図12図12は第四変形例における突上げユニットのブロック部の上面図である。
図13図13は第五変形例における突上げユニットの要部断面を模式的に示す図である。
図14図14図13に示すブロック部の上面図である。
図15図15図13に示す突上げユニットの突上げシーケンスを説明する図である。
図16図16は第六変形例における突上げユニットの要部断面を模式的に示す図である。
図17図17図16に示すブロック部の上面図である。
図18図18は第七変形例における突上げユニットの要部断面を模式的に示す図である。
図19図19図18に示すブロック部の上面図である。
図20図20は第八変形例における突上げユニットの要部断面を模式的に示す図である。
図21図21図20に示すブロック部の上面図である。
図22図22は第九変形例における突上げユニットのブロック部の上面図である。
図23図23は第十変形例における突上げユニットのブロック部の上面図である。
図24図24は第十一変形例における突上げユニットの要部断面を模式的に示す図である。
図25図25図24に示すブロック部の上面図である。
図26図26は第十二変形例における突上げユニットの要部断面を模式的に示す図である。
図27図27図26に示すブロック部の上面図である。
図28図28は第十三変形例における突上げユニットの要部断面図である。
図29図29は第十四変形例における突上げユニットの要部断面図である。
【発明を実施するための形態】
【0010】
以下、実施形態および変形例について、図面を用いて説明する。ただし、以下の説明において、同一構成要素には同一符号を付し繰り返しの説明を省略することがある。なお、図面は説明をより明確にするため、実際の態様に比べ、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合がある。また、複数の図面の相互間においても、各要素の寸法の関係、各要素の比率等は必ずしも一致していない。
【0011】
半導体製造装置の一実施形態であるダイボンダの構成について図1から図3を用いて説明する。図1は実施形態におけるダイボンダの構成例を示す概略上面図である。図2図1において矢印A方向から見たときの概略構成を説明する図である。図3図1に示すウエハ供給部の主要部を示す概略断面図である。
【0012】
ダイボンダ1は、大別して、ウエハ供給部10と、ピックアップ部20、中間ステージ部30と、ボンディング部40と、搬送部50、基板供給部60と、基板搬出部70と、制御部(制御装置)80と、を有する。Y2-Y1方向がダイボンダ1の前後方向であり、X2-X1方向が左右方向であり、Z1-Z2方向が上下方向である。ウエハ供給部10がダイボンダ1の前側に配置され、ボンディング部40が後側に配置される。
【0013】
ウエハ供給部10は、ウエハカセットリフタ11と、ウエハ保持台12と、突上げユニット13と、ウエハ認識カメラ14とを有する。
【0014】
ウエハカセットリフタ11は複数のウエハリングWRが格納されるウエハカセット(不図示)をウエハ搬送高さまで上下動させる。ウエハ修正シュート(不図示)はウエハカセットリフタ11から供給されるウエハリングWRのアライメントを行う。ウエハエキストラクタ(不図示)はウエハリングWRをウエハカセットから取出してウエハ保持台12に供給したり、ウエハ保持台12から取り出してウエハカセットに収納したりする。
【0015】
ウエハ保持台12は、ウエハリングWRを保持するエキスパンドリング121と、ウエハリングWRに保持されダイシングテープDTを水平に位置決めする支持リング122と、を有する。突上げユニット13は支持リング122の内側に配置される。
【0016】
ダイシングテープDT上にウエハWが接着(貼付)されており、そのウエハWは複数のダイDに分割されている。ダイシングテープDTは可視光に対して透明である。ウエハWとダイシングテープDTとの間にダイアタッチフィルム(DAF)と呼ばれるフィルム状の接着材料DFを貼り付けている。接着材料DFは加熱することで硬化する。
【0017】
ウエハ保持台12は図示しない駆動部によってX1-X2方向およびY1-Y2方向に移動し、ピックアップするダイDを突上げユニット13の位置に移動させる。また、ウエハ保持台12は図示しない駆動部によってXY平面内においてウエハリングWRを回転させる。突上げユニット13は図示しない駆動部によって上下方向に移動する。突上げユニット13はダイシングテープDTからダイDを剥離する。ウエハ保持台12および突上げユニット13はピックアップ装置を構成する。ピックアップ装置にピックアップ部20を含めてもよい。
【0018】
ウエハ認識カメラ14はウエハWからピックアップするダイDのピックアップ位置を把握したり、ダイDの表面検査をしたりする。
【0019】
ピックアップ部20は、ピックアップヘッド21と、Y駆動部23と、を有する。ピックアップヘッド21には、剥離されたダイDを先端に吸着保持するコレット22が設けられる。ピックアップヘッド21はウエハ供給部10からダイDをピックアップし、中間ステージ31に載置する。Y駆動部23はピックアップヘッド21をY1-Y2方向に移動させる。ピックアップ部20は、ピックアップヘッド21を昇降、回転及びX方向移動させる各駆動部(不図示)を有する。
【0020】
中間ステージ部30は、ダイDが載置される中間ステージ31と、中間ステージ31上のダイDを認識するためのステージ認識カメラ34と、を有する。中間ステージ31は載置されたダイDを吸着する吸引孔を備える。載置されたダイDは中間ステージ31に一時的に保持される。中間ステージ31はダイDが載置される載置ステージであると共に、ダイDがピックアップされるピックアップステージでもある。
【0021】
ボンディング部40は、ボンドヘッド41と、Y駆動部43と、基板認識カメラ44と、ボンドステージ46と、を有する。ボンドヘッド41にはダイDを先端に吸着保持するコレット42が設けられる。Y駆動部43はボンドヘッド41をY1-Y2方向に移動させる。基板認識カメラ44は基板Sの位置認識マーク(図示せず)を撮像し、ボンド位置を認識する。ここで、基板Sには、最終的に一つのパッケージとなる、複数の製品エリア(以下、パッケージエリアPという。)が形成されている。位置認識マークはパッケージエリアPごとに設けられる。ボンドステージ46は、基板SにダイDが載置される際、上昇させられ、基板Sを下方から支える。ボンドステージ46は基板Sを真空吸着するための吸引口(不図示)を有し、基板Sを固定することが可能である。ボンドステージ46は基板Sを加熱する加熱部(不図示)を有する。ボンディング部40は、ボンドヘッド41を昇降、回転及びX方向移動させる各駆動部(不図示)を有する。
【0022】
このような構成によって、ボンドヘッド41は、ステージ認識カメラ34の撮像データに基づいてピックアップ位置や姿勢を補正し、中間ステージ31からダイDをピックアップする。そして、ボンドヘッド41は、基板認識カメラ44の撮像データに基づいて基板SのパッケージエリアP上にボンドし、または既に基板SのパッケージエリアPの上にボンドされたダイの上に積層する形でボンドする。
【0023】
搬送部50は、基板Sを掴み搬送する搬送爪51と、基板Sが移動する搬送レーン52と、を有する。基板Sは、搬送レーン52に設けられた搬送爪51の図示しないナットを搬送レーン52に沿って設けられた図示しないボールネジで駆動することによってX方向に移動する。このような構成によって、基板Sは、基板供給部60から搬送レーン52に沿ってボンド位置まで移動し、ボンド後、基板搬出部70まで移動して、基板搬出部70に基板Sを渡す。
【0024】
基板供給部60は、搬送治具に格納されて搬入された基板Sを搬送治具から取り出して搬送部50に供給する。基板搬出部70は、搬送部50により搬送された基板Sを搬送治具に格納する。
【0025】
次に、制御部80について図4を用いて説明する。図4図1に示すダイボンダの制御系の概略構成を示すブロック図である。
【0026】
制御系8は、制御部(制御装置)80、駆動部86、信号部87、光学系88等を備える。制御部80は、大別して、主としてCPU(Central Processing Unit)で構成される制御・演算装置81と、記憶装置82と、入出力装置83と、バスライン84と、電源部85とを有する。記憶装置82は、主記憶装置82aと補助記憶装置82bとを有する。主記憶装置82aは、処理プログラムなどを記憶しているRAM(Random Access Memory)で構成されている。補助記憶装置82bは、制御に必要な制御データや画像データ等を記憶しているHDD(Hard Disk Drive)やSSD(Solid State Drive)等で構成されている。
【0027】
入出力装置83は、装置状態や情報等を表示するモニタ83aと、オペレータの指示を入力するタッチパネル83bと、モニタ83aを操作するマウス83cと、光学系88からの画像データを取り込む画像取込装置83dと、を有する。入出力装置83は、さらに、モータ制御装置83eと、I/O信号制御装置83fと、を有する。モータ制御装置83eは、ウエハ供給部10のXYテーブル(図示せず)やボンドヘッドテーブルのZY駆動軸、突上げユニット13の駆動部等を制御する。I/O信号制御装置83fは、種々のセンサや照明装置などの明るさを制御するスイッチやボリューム等を含む信号部87から信号を取り込み又は制御する。光学系88には、ウエハ認識カメラ14、ステージ認識カメラ34、基板認識カメラ44が含まれる。制御・演算装置81はバスライン84を介して必要なデータを取込み、演算し、ピックアップヘッド21等の制御や、モニタ83a等に情報を送る。
【0028】
ダイボンダ1を用いた半導体装置の製造工程の一部(半導体装置の製造方法)について図5を用いて説明する。図5図1に示すダイボンダを用いた半導体装置の製造方法を示すフローチャートである。以下の説明において、ダイボンダ1を構成する各部の動作は制御部80により制御される。
【0029】
(ウエハ搬入工程:工程S1)
ウエハリングWRがウエハカセットリフタ11のウエハカセットに供給される。供給されたウエハリングWRがウエハ保持台12に供給される。なお、ウエハWは、予めプローバ等の検査装置により、ダイ毎に検査され、ダイの良、不良を示すウエハマップデータが生成されている。このウエハマップデータは制御部80の記憶装置に記憶される。
【0030】
(基板搬入工程:工程S2)
基板Sが格納された搬送治具が基板供給部60に供給される。基板供給部60で搬送治具から基板Sが取り出され、基板Sが搬送爪51に固定される。
【0031】
(ピックアップ工程:工程S3)
工程S1後、所望するダイDをダイシングテープDTからピックアップできるようにウエハ保持台12が動かされる。ウエハ認識カメラ14によりダイDが撮影され、撮影により取得された画像データに基づいてダイDの位置決めおよび表面検査が行われる。画像データを画像処理することによって、ダイボンダのダイ位置基準点からのウエハ保持台12上のダイDのずれ量(X、Y、θ方向)が算出されて位置決めが行われる。なお、ダイ位置基準点は、予め、ウエハ保持台12の所定の位置を装置の初期設定として保持されている。画像データを画像処理することによって、ダイDの表面検査が行われる。
【0032】
位置決めされたダイDは突上げユニット13およびピックアップヘッド21によりダイシングテープDTから剥離される。ダイシングテープDTから剥離されたダイDは、ピックアップヘッド21に設けられたコレット22に吸着、保持されて、中間ステージ31に搬送されて載置される。
【0033】
ステージ認識カメラ34により中間ステージ31の上のダイDが撮影され、撮影により取得された画像データに基づいてダイDの位置決めおよび表面検査が行われる。画像データを画像処理することによって、ダイボンダのダイ位置基準点からの中間ステージ31上のダイDのずれ量(X、Y、θ方向)が算出されて位置決めが行われる。なお、ダイ位置基準点は、予め、中間ステージ31の所定の位置を装置の初期設定として保持されている。画像データを画像処理することによって、ダイDの表面検査が行われる。
【0034】
ダイDを中間ステージ31に搬送したピックアップヘッド21はウエハ供給部10に戻される。上述した手順に従って、次のダイDがダイシングテープDTから剥離され、以後同様の手順に従ってダイシングテープDTから1個ずつダイDが剥離される。
【0035】
(ボンド工程:工程S4)
搬送部50により基板Sがボンドステージ46に搬送される。ボンドステージ46上に載置された基板Sが基板認識カメラ44により撮像され、撮影によって取得された画像データに基づいて基板Sの位置決めおよび表面検査が行われる。画像データが画像処理されることによって、ダイボンダ1の基板位置基準点からの基板Sのずれ量(X、Y、θ方向)が算出される。なお、基板位置基準点は、予め、ボンディング部40の所定の位置を装置の初期設定として保持されている。画像データが画像処理されることによって、基板Sの表面検査が行われる。
【0036】
工程S3において算出された中間ステージ31上のダイDのずれ量からボンドヘッド41の吸着位置が補正されてダイDがコレット42により吸着される。中間ステージ31からダイDを吸着したボンドヘッド41によりボンドステージ46に支持された基板Sの所定箇所にダイDがボンドされる。ここで、基板Sの所定箇所は、基板SのパッケージエリアP、または、すでに素子が載置されており、それに加える形で素子をボンドする際の領域、または、積層ボンドする素子のボンド領域である。基板認識カメラ44により基板SにボンドされたダイDが撮影され、撮影により取得された画像データに基づいてダイDが所望の位置にボンドされたかどうか等の検査が行われる。
【0037】
ダイDを基板Sにボンドしたボンドヘッド41は中間ステージ31に戻される。上述した手順に従って、次のダイDが中間ステージ31からピックアップされ、基板Sにボンドされる。これが繰り返されて基板SのすべてのパッケージエリアPにダイDがボンドされる。
【0038】
(基板搬出工程:工程S5)
ダイDがボンドされた基板Sが基板搬出部70に搬送される。基板搬出部70で搬送爪51から基板Sが取り出されて搬送治具に格納される。ダイボンダ1から基板Sが格納されている搬送治具が搬出される。
【0039】
上述したように、ダイDは、基板S上に実装され、ダイボンダ1から搬出される。その後、例えば、ダイDが実装された基板Sが格納された搬送治具がワイヤボンディング工程に搬送され、ダイDの電極はAuワイヤ等を介して基板Sの電極と電気的に接続される。そして、基板Sがモールド工程に搬送され、ダイDとAuワイヤとをモールド樹脂(図示せず)で封止することによって、半導体パッケージが完成する。
【0040】
積層ボンドする場合は、ワイヤボンディング工程に続いて、ダイDが実装された基板Sが載置格納された搬送治具がダイボンダに搬入されて基板S上に実装されたダイDの上にダイDが積層される。そして、ダイボンダから搬出された後、ワイヤボンディング工程でAuワイヤを介して基板Sの電極と電気的に接続される。第二段目より上のダイDは、上述した方法でダイシングテープDTから剥離された後、ボンディング部に搬送されてダイDの上に積層される。上記工程が所定回数繰り返された後、基板Sがモールド工程に搬送され、複数個のダイDとAuワイヤとをモールド樹脂(図示せず)で封止することによって、積層パッケージが完成する。
【0041】
次に、突上げユニット13について図6および図7を用いて説明する。図6図2に示す突上げユニットの要部断面を模式的に示す図である。図7図6に示す突上げユニットの上面図である。
【0042】
突上げユニット13は、円筒状のドーム132にブロック部131が設けられている。ドーム132の上面の周辺部には、複数の吸引口1321と、複数の吸引口1321を連結する複数の溝1322と、が設けられている。吸引口1321の内部は、突上げユニット13を上昇させてその上面をダイシングテープDTの裏面に接触させる際、図示しない吸引機構によって減圧される。このとき、ダイシングテープDTの裏面が下方に吸引され、ドーム132の上面と密着する。
【0043】
ドーム132の中心部には、ダイシングテープDTを上方に突き上げるブロックB0~B4を有するブロック部131が組み込まれている。ブロックB0は四角柱状であり、Z1-Z2方向に貫通する複数の四角状の開口を有する。ブロックB1~B4は四角柱状であり、ブロックB0の開口の中に配置される。ブロックB1~B4は平面視において四角状である。
【0044】
ブロックB0の外周は、ダイDの外周と同程度か僅かに大きいサイズである。言い換えると、ブロックB0のY1-Y2方向の長さ(短辺方向の長さ、幅)はダイDのY1-Y2方向の長さ(短辺方向の長さ、幅)と略同じであり、ブロックB0のX1-X2方向の長さ(長辺方向の長さ)はダイDのX1-X2方向の長さ(長辺方向の長さ)と略同じである。
【0045】
図6に示すように、ブロックB0~B4は駆動部133の駆動軸ND0~ND4により独立に上下運動が可能である。駆動部133は、図示しないモータとモータの回転をカムまたはリンクによって上下動に変換するプランジャ機構とを四組備え、駆動軸ND0~ND4に上下動を与える。
【0046】
次に、突上げユニット13の動作の設定方法および制御について説明する。
【0047】
タイムチャートレシピに基づいて制御部80はブロックB0~B4をそれぞれ駆動する駆動軸ND0~ND4を制御するよう構成される。タイムチャートレシピは、突上げユニット13のブロックB0~B4の動作を、ブロック毎およびステップ毎にステップの時間、ブロックの上昇または下降の速度、ブロックの高さ(位置)が設定される。
【0048】
設定項目の異なる複数のタイムチャートレシピを用意しておき、ユーザは、GUI(Graphical User Interface)によって複数のタイムチャートレシピから一つのタイムチャートレシピを選択し、選択したタイムチャートレシピの項目に設定値を入力する。または、ユーザは、予め設定値が入力されたタイムチャートレシピを外部機器からダイボンダ等の半導体製造装置にデータ通信するか、または、外部記憶装置から半導体製造装置にインストールする。外部記憶装置は、例えば、磁気テープ、フレキシブルディスクやハードディスク等の磁気ディスク、CDやDVD等の光ディスク、MO等の光磁気ディスク、USBメモリやメモリカード等の半導体メモリである。
【0049】
上述したように、タイムチャートレシピの設定により、突上げユニット13の各ブロックB0~B7の動作を突上げ動作ステップの中で自由に設定することが可能であり、突上げユニット13は種々の動作が可能である。
【0050】
突上げユニット13の動作例について図8を用いて説明する。図8図6に示す突上げユニットの一動作例における突上げシーケンスを説明する図である。
【0051】
(第零ステップ:STEP0)
ピックアップ動作はダイシングテープDT上の目的とするダイDが突上げユニット13とコレット22に位置決めされるところから開始する。制御部80は、位置決めが完了すると突上げユニット13の吸引口1321およびブロックB0~B4の間隙を介して真空引きすることによって、ダイシングテープDTを突上げユニット13の上面に吸着する。このとき、ブロックB0~B4の上面はドーム132の上面と同一の高さ(初期位置)にある。制御部80は、その状態で図示しない真空供給源から真空を供給し、コレット22をダイDのデバイス面に向けて真空引きしながら降下させ、着地させる。
【0052】
(第一ステップ:STEP1)
その後、制御部80は、ブロックB0~B4を同時に所定の速度(s1)で所定の高さ(H2)まで上昇させる。ここで、ダイDはコレット22とブロックB0~B4に挟まれたまま上昇するが、ダイシングテープDTの周辺部は突上げユニット13の周辺であるドーム132の吸引口1321に真空吸着されたままなので、ダイDの周辺で張力が生じる。その結果、ダイD周辺でダイシングテープDTの剥離が開始されることになる。
【0053】
(第二ステップ:STEP2)
続いて、制御部80は、ブロックB0をドーム132の上面と同じ高さまで所定の速度(s2)で下降させる。
【0054】
(第三ステップ:STEP3)
続いて、制御部80は、ブロックB1がドーム132の上面と同じ高さまで所定の速度(s2)で下降させる。ここで、ブロックB1がドーム132の上面の高さまで下がることにより、ダイシングテープDTの支えがなくなり、ダイシングテープDTの張力によりダイシングテープDTの剥離がさらに進行する。
【0055】
(第四ステップ:STEP4)
続いて、制御部80は、ブロックB2がドーム132の上面と同じ高さまで所定の速度(s2)で下降させる。ここで、ブロックB2がドーム132の上面の高さまで下がることにより、ダイシングテープDTの支えがなくなり、ダイシングテープDTの張力によりダイシングテープDTの剥離がさらに進行する。
【0056】
(第五ステップ:STEP5)
続いて、制御部80は、ブロックB3がドーム132の上面と同じ高さまで所定の速度(s2)で下降させる。ここで、ブロックB3がドーム132の上面の高さまで下がることにより、ダイシングテープDTの支えがなくなり、ダイシングテープDTの張力によりダイシングテープDTの剥離がさらに進行する。
【0057】
その後、制御部80はコレット22を上方に引き上げると共に、ブロックB4を所定の速度(s3)で下降させ初期位置に戻す。これにより、ダイDをダイシングテープDTから剥がす作業が完了する。
【0058】
上述の突上げシーケンス(動作)を本明細書ではRMS(Reverse Multi Step)という。
【0059】
突上げユニット13は、高アスペクト比、例えば、アスペクト比が5:1以上のダイに適用可能である。例えば、LCD(liquid crystal display)ドライバ用のダイに適用可能である。また、アスペクト比が5:1未満であっても、短辺側の長さ(幅)が狭いダイに適用可能である。
【0060】
例えば、ブロックB0がダイシングテープDTと接触する箇所である外枠の幅(オーバハング量)を0.2mm程度とし、ブロックB1~B4のY1-Y2方向の長さ(幅)を0.1mm以上とし、ブロック間の隙間を考慮すると、最小幅が0.6mm程度のダイに対応することが可能である。Y1-Y2方向における突上げブロックは二段であるので、ブロックB1~B4の幅は大きくし過ぎないのが好ましく、例えば、1.5mm以下が好ましい。この場合、ダイの最大幅は2mm程度である。
【0061】
実施形態によれば、短辺(幅)の狭い突上げブロックに対しても二段以上での突き上げることが可能であるので、幅が小さいダイにおける突上げにおいてダイの損傷を低減することが可能になる。長辺に対しては更に多くの段数での突上げが可能になり、外側のブロックを下げたときのオーバハングを小さくできるのでダイの割れや欠けなどの損傷(不良)の低減が可能になる。ここで、オーバハングとは、ダイシングテープDTと接触している最も外側のブロックの端部よりダイDの外周が外側に突き出ていることをいう。
【0062】
<変形例>
以下、実施形態の代表的な変形例について、幾つか例示する。以下の変形例の説明において、上述の実施形態にて説明されているものと同様の構成および機能を有する部分に対しては、上述の実施形態と同様の符号が用いられ得るものとする。そして、かかる部分の説明については、技術的に矛盾しない範囲内において、上述の実施形態における説明が適宜援用され得るものとする。また、上述の実施例の一部、および、複数の変形例の全部または一部が、技術的に矛盾しない範囲内において、適宜、複合的に適用され得る。
【0063】
(第一変形例)
図9図6に示す突上げユニットの第一変形例における突上げシーケンスを説明する図である。
【0064】
第一変形例における突上げシーケンスは、第一ステップ(STEP1)以外は実施形態と同様である。
【0065】
第一変形例における突上げシーケンスでは、実施形態の第一ステップにおいて、制御部80はブロックB0を所定の高さ(H1)で止めて(STEP1a)、ブロックB1~B4を所定の高さ(H2)までさらに上げる(STEP1b)。これにより、ブロックB0を剥離起点として機能させるとき、そのあとのブロックB1~B4の上昇時に段差が大きくならず、周辺のダイDの変形と剥離対象のダイDの変形を低減できる。これにより、剥離対象のダイDおよび周辺のダイDのストレスを小さくし、ダイDの割れや欠け等の損傷を防止できる。
【0066】
また、ブロックB1~B4のH1からH2への上昇に並行してブロックB0を下げるのが好ましい。これにより、ダイDの剥離速度を高めることが可能である。
【0067】
(第二変形例)
図10は第二変形例における突上げユニットのブロック部の上面図である。
【0068】
実施形態では、内側のブロックB1~B4は平面視で見た場合、四角状である。他方、第二変形例では、内側のブロックブロックB1~B4は平面視で見た場合、円形である。内側のブロックB1~B4は円柱状のブロックである。
【0069】
内側のブロックB1~B4を円柱状にすることにより、径を0.6mm程度にすることが可能であり、実施形態におけるブロックB1~B4の幅よりも小さくすることが可能である。
【0070】
(第三変形例)
図11は第三変形例における内側のブロックの上面図である。
【0071】
内側のブロックB1~B4の平面視の形状は、図11に示すように、六角形や八角形等の多角形であってもよいし、楕円形であってもよい。また、多角形(実施形態の四角形も含む)の場合、角部に曲面を設けるのが好ましい。これにより、角部のバリ等に起因するブロックの損傷を防止できる。
【0072】
(第四変形例)
図12は第四変形例における突上げユニットのブロック部の上面図である。
【0073】
第二変形例では、外側のブロックB0は複数の開口を有し、外側のブロックB0は内側のブロックB1~B4のすべての側面を囲っている。他方、第四変形例では、外側のブロックB0は一つの開口を有し、外側のブロックB0のダイシングテープDTとの接触面は、断続的や間欠的に構成される。ブロックB1の側面には、ダイDの長辺と短辺とで構成される四つの角部付近にブロックB0がある。ブロックB2~B4のダイDの長辺側の側面のみにブロックB0がある。ブロックB0を引き下げたとき、ブロックB1~B4の近傍などの選択的な剥離起点形成が可能となる。
【0074】
(第五変形例)
第五変形例における突上げユニット13の構成にについて図13および図14を用いて説明する。図13は第五変形例における突上げユニットの要部断面を模式的に示す図である。図14図13に示す突上げユニットのブロック部の上面図である。
【0075】
実施形態では、内側の七個のブロックは動作が異なる四種類のブロックB1~B4で構成される例を説明した。他方、第五変形例では、内側の七個のブロックは動作が異なる七種類のブロックB1~B7で構成される。X2側からX1側にブロックB1,B2,B3,B4,B5,B6,B7の順に配置される。第五変形例では、駆動軸ND0~ND7を用いてブロックB0~B7を上下動させる。駆動部133は、図示しないモータとモータの回転をカムまたはリンクによって上下動に変換するプランジャ機構とを八組備え、駆動軸ND0~ND4に上下動を与える。
【0076】
第五変形例における突上げユニット13の動作例について図15を用いて説明する。図15図13に示す突上げユニットの突上げシーケンスを説明する図である。
【0077】
第零ステップ(STEP0)から第二ステップ(STEP2)は実施形態の図8に示す突上げシーケンスと同様の動作を行う。
【0078】
(第三ステップ:STEP3)
続いて、制御部80は、ブロックB1がドーム132の上面と同じ高さまで所定の速度(s2)で下降させる。ここで、ブロックB1がドーム132の上面の高さまで下がることにより、ダイシングテープDTの支えがなくなり、ダイシングテープDTの張力によりダイシングテープDTの剥離がさらに進行する。
【0079】
(第四ステップ:STEP4)
続いて、制御部80は、ブロックB2がドーム132の上面と同じ高さまで所定の速度(s2)で下降させる。ここで、ブロックB2がドーム132の上面の高さまで下がることにより、ダイシングテープDTの支えがなくなり、ダイシングテープDTの張力によりダイシングテープDTの剥離がさらに進行する。
【0080】
(第五ステップ:STEP5)
続いて、制御部80は、ブロックB3がドーム132の上面と同じ高さまで所定の速度(s2)で下降させる。ここで、ブロックB3がドーム132の上面の高さまで下がることにより、ダイシングテープDTの支えがなくなり、ダイシングテープDTの張力によりダイシングテープDTの剥離がさらに進行する。
【0081】
(第六ステップ:STEP6)
続いて、制御部80は、ブロックB4がドーム132の上面と同じ高さまで所定の速度(s2)で下降させる。ここで、ブロックB4がドーム132の上面の高さまで下がることにより、ダイシングテープDTの支えがなくなり、ダイシングテープDTの張力によりダイシングテープDTの剥離がさらに進行する。
【0082】
(第七ステップ:STEP7)
続いて、制御部80は、ブロックB5がドーム132の上面と同じ高さまで所定の速度(s2)で下降させる。ここで、ブロックB5がドーム132の上面の高さまで下がることにより、ダイシングテープDTの支えがなくなり、ダイシングテープDTの張力によりダイシングテープDTの剥離がさらに進行する。
【0083】
(第八ステップ:STEP8)
続いて、制御部80は、ブロックB6がドーム132の上面と同じ高さまで所定の速度(s2)で下降させる。ここで、ブロックB6がドーム132の上面の高さまで下がることにより、ダイシングテープDTの支えがなくなり、ダイシングテープDTの張力によりダイシングテープDTの剥離がさらに進行する。
【0084】
その後、制御部80はコレット22を上方に引き上げると共に、ブロックB7を所定の速度(s3)で下降させ初期位置に戻す。これにより、ダイDをダイシングテープDTから剥がす作業が完了する。
【0085】
第五変形例によれば、内側のブロックが一端から他端に向け順に作動するスライド動作によるダイの剥離が可能となる。なお、第五変形例では、実施形態におけるRMS動作も可能である。
【0086】
(第六変形例)
図16は第六変形例における突上げユニットの要部断面を模式的に示す図である。図17図16に示す突上げユニットのブロック部の上面図である。
【0087】
第五変形例では、内側の七個のブロックは動作が異なる七種類のブロックB1~B7で構成される例を説明した。他方、第六変形例では、内側の七個のブロックは動作が異なる三種類のブロックB1,B2,B3で構成される。X2側からX1側にブロックB1,B1,B2,B2,B2,B3,B3の順に配置される。第六変形例では、駆動軸ND0~ND3を用いてブロックB0~B3を上下動させる。
【0088】
第六変形例における突上げユニット13の動作について説明する。突上げユニット13は実施形態の図8に示す突上げシーケンスの第零ステップ(STEP0)から第二ステップ(STEP2)と同様の動作を行う。
【0089】
(第三ステップ:STEP3)
続いて、制御部80は、ブロックB1がドーム132の上面と同じ高さまで所定の速度(s2)で下降させる。ここで、ブロックB1がドーム132の上面の高さまで下がることにより、ダイシングテープDTの支えがなくなり、ダイシングテープDTの張力によりダイシングテープDTの剥離がさらに進行する。
【0090】
(第四ステップ:STEP4)
続いて、制御部80は、ブロックB2がドーム132の上面と同じ高さまで所定の速度(s2)で下降させる。ここで、ブロックB2がドーム132の上面の高さまで下がることにより、ダイシングテープDTの支えがなくなり、ダイシングテープDTの張力によりダイシングテープDTの剥離がさらに進行する。
【0091】
その後、制御部80はコレット22を上方に引き上げると共に、ブロックB3を所定の速度(s3)で下降させ初期位置に戻す。これにより、ダイDをダイシングテープDTから剥がす作業が完了する。
【0092】
第六変形例では、内側のブロックが隣り合うブロックをグループに構成されるので、駆動軸の数を削減することができる。
【0093】
(第七変形例)
図18は第七変形例における突上げユニットの要部断面を模式的に示す図である。図19図18に示す突上げユニットのブロック部の上面図である。
【0094】
第三変形例では、内側のブロックB1~B4は円柱状のブロックである。他方、第七変形例では、内側のブロックB1~B4は円筒形のブロック(パイプ)であり、その中にブロックB5~B8が設けれる。ブロックB5~B8は円柱状のブロック(ピン)である。例えば、細パイプのブロックB1~B4に極細ピンのブロックB5~B8を同心状に挿入して構成される。第七変形例では、駆動軸ND0~ND8を用いてブロックB0~B8を上下動させる。
【0095】
第七変形例における突上げユニット13はRMS動作を行う。第七変形例における第零ステップ(STEP0)から第二ステップ(STEP2)は実施形態の図8に示す突上げシーケンスの第零ステップ(STEP0)から第二ステップ(STEP2)と同様の動作を行う。ただし、ブロックB5~B7はブロックB1~B4と同様の動作を行う。
【0096】
第七変形例における第三ステップ(STEP3)から第五ステップ(STEP5)は実施形態の図8に示す突上げシーケンスの第三ステップ(STEP3)から第五ステップ(STEP5)と同様の動作を行う。
【0097】
(第六ステップ:STEP6)
続いて、制御部80は、ブロックB5がドーム132の上面と同じ高さまで所定の速度(s2)で下降させる。ここで、ブロックB5がドーム132の上面の高さまで下がることにより、ダイシングテープDTの支えがなくなり、ダイシングテープDTの張力によりダイシングテープDTの剥離がさらに進行する。
【0098】
(第七ステップ:STEP7)
続いて、制御部80は、ブロックB6がドーム132の上面と同じ高さまで所定の速度(s2)で下降させる。ここで、ブロックB6がドーム132の上面の高さまで下がることにより、ダイシングテープDTの支えがなくなり、ダイシングテープDTの張力によりダイシングテープDTの剥離がさらに進行する。
【0099】
(第八ステップ:STEP8)
続いて、制御部80は、ブロックB7がドーム132の上面と同じ高さまで所定の速度(s2)で下降させる。ここで、ブロックB7がドーム132の上面の高さまで下がることにより、ダイシングテープDTの支えがなくなり、ダイシングテープDTの張力によりダイシングテープDTの剥離がさらに進行する。
【0100】
その後、制御部80はコレット22を上方に引き上げると共に、ブロックB8を所定の速度(s3)で下降させ初期位置に戻す。これにより、ダイDをダイシングテープDTから剥がす作業が完了する。
【0101】
ブロック部131のY1-Y2方向のブロック段数が実施形態よりも多いので、オーバハングを低減することができる。
【0102】
(第八変形例)
図20は第八変形例における突上げユニットの要部断面を模式的に示す図である。図21図20に示す突上げユニットのブロック部の上面図である。
【0103】
第七変形例では、内側の十四個のブロックは動作が異なる八種類のブロックB1~B8で構成される例を説明した。他方、第八変形例では、内側の十四個のブロックは動作が異なる十四種類のブロックB1~B14で構成される。X2側からX1側にブロックB1,B2,B3,B4,B5,B6,B7の順に配置される。ブロックB1~B7のそれぞれの中にブロックB8~B14が設けれる。第八変形例では、駆動軸ND0~ND14を用いてブロックB0~B14を上下動させる。
【0104】
第八変形例における突上げユニット13の動作は第七変形例とは異なり、第五変形例と同様のスライド動作を行う。第八変形例における突上げユニット13の動作について説明する。
【0105】
第八変形例における第零ステップ(STEP0)から第二ステップ(STEP2)は第四変形例の図13に示す突上げシーケンスの第零ステップ(STEP0)から第二ステップ(STEP2)と同様の動作を行う。ただし、ブロックB5~B14はブロックB1~B7と同様の動作を行う。
【0106】
第八変形例における第三ステップ(STEP3)から第八ステップ(STEP8)は第五変形例の図15に示す突上げシーケンスの第三ステップ(STEP3)から第八ステップ(STEP8)と同様の動作を行う。
【0107】
(第九ステップ:STEP9)
続いて、制御部80は、ブロックB8がドーム132の上面と同じ高さまで所定の速度(s2)で下降させる。ここで、ブロックB8がドーム132の上面の高さまで下がることにより、ダイシングテープDTの支えがなくなり、ダイシングテープDTの張力によりダイシングテープDTの剥離がさらに進行する。
【0108】
(第十ステップ:STEP10)
続いて、制御部80は、ブロックB9がドーム132の上面と同じ高さまで所定の速度(s2)で下降させる。ここで、ブロックB9がドーム132の上面の高さまで下がることにより、ダイシングテープDTの支えがなくなり、ダイシングテープDTの張力によりダイシングテープDTの剥離がさらに進行する。
【0109】
(第十一ステップ:STEP11)
続いて、制御部80は、ブロックB10がドーム132の上面と同じ高さまで所定の速度(s2)で下降させる。ここで、ブロックB10がドーム132の上面の高さまで下がることにより、ダイシングテープDTの支えがなくなり、ダイシングテープDTの張力によりダイシングテープDTの剥離がさらに進行する。
【0110】
(第十二ステップ:STEP12)
続いて、制御部80は、ブロックB11がドーム132の上面と同じ高さまで所定の速度(s2)で下降させる。ここで、ブロックB11がドーム132の上面の高さまで下がることにより、ダイシングテープDTの支えがなくなり、ダイシングテープDTの張力によりダイシングテープDTの剥離がさらに進行する。
【0111】
(第十三ステップ:STEP13)
続いて、制御部80は、ブロックB12がドーム132の上面と同じ高さまで所定の速度(s2)で下降させる。ここで、ブロックB12がドーム132の上面の高さまで下がることにより、ダイシングテープDTの支えがなくなり、ダイシングテープDTの張力によりダイシングテープDTの剥離がさらに進行する。
【0112】
(第十四ステップ:STEP14)
続いて、制御部80は、ブロックB13がドーム132の上面と同じ高さまで所定の速度(s2)で下降させる。ここで、ブロックB13がドーム132の上面の高さまで下がることにより、ダイシングテープDTの支えがなくなり、ダイシングテープDTの張力によりダイシングテープDTの剥離がさらに進行する。
【0113】
その後、制御部80はコレット22を上方に引き上げると共に、ブロックB14を所定の速度(s3)で下降させ初期位置に戻す。これにより、ダイDをダイシングテープDTから剥がす作業が完了する。
【0114】
ブロック部131のY1-Y2方向のブロック段数が実施形態よりも多いので、にオーバハングを低減することができる。
【0115】
(第九変形例)
図22は第九変形例における突上げユニットのブロック部の上面図である。
【0116】
第二変形例では、内側のブロックB1~B4は同一の径の円柱状のブロックである。他方、第七変形例では、内側のブロックB1~B4の径(サイズ)をブロックB1,B2,B3,B4の順に小さくする。第七変形例では、突上げユニット13はRMS動作を行うので、ダイDのダイシングテープDTからの剥離が進むにしたがって、オーバハング量を変えられる(大きくすることができる)。
【0117】
(第十変形例)
図23は第十変形例における突上げユニットのブロック部の上面図である。
【0118】
第九変形例では、RMS動作を行う。他方、第十変形例では、スライド動作を行う。第十変形例では、内側のブロックB1~B7はX2側からX1側にブロックB1,B2,B3,B4,B5,B6,B7の順に配置される。第十変形例では、内側のブロックB1~B7の径(サイズ)をブロックB1,B2,B3,B4,B5,B6,B7の順に小さくする。これにより、ダイDのダイシングテープDTからの剥離が進むにしたがって、オーバハング量を変えられる(大きくすることができる)。
【0119】
(第十一変形例)
図24は第十一形例における突上げユニットの要部断面を模式的に示す図である。図25図24に示す突上げユニットのブロック部の上面図である。
【0120】
第六変形例では、一つの外側のブロックB0の内側にブロックB1~B3が配置される。他方、第十一変形例では、外側のブロックB0は、内側のブロックB3~B5毎に三つに分割して、ブロックB0,B1,B2で構成される。ブロックB0,B1,B2はそれぞれ一つの開口を有し、X1-X2方向に沿って並んで配置される。外側のブロックB0は二つのブロックB5の周りを取り囲み、外側のブロックB1は三つのブロックB4の周りを取り囲み、外側のブロックB2は二つのブロックB3の周りを取り囲む。第十一変形例では、駆動軸ND0~ND5を用いてブロックB0~B5を上下動させる。
【0121】
第十一変形例における突上げユニット13の動作について説明する。第十一変形例における第零ステップ(STEP0)および第一ステップ(STEP1)は第六変形例の第零ステップ(STEP0)および第一ステップ(STEP1)と同様の動作を行う。ただし、第十一変形例のブロックB0~B2は第六変形例のブロックB0と同様の動作を行う。第十一変形例のブロックB3~B5は第六変形例のブロックB1~B3と同様の動作を行う。
【0122】
(第二ステップ:STEP2)
続いて、制御部80は、ブロックB0をドーム132の上面と同じ高さまで一定の速度(s2)で下降させる。
【0123】
(第三ステップ:STEP3)
続いて、制御部80は、ブロックB1をドーム132の上面と同じ高さまで一定の速度(s2)で下降させる。
【0124】
(第四ステップ:STEP4)
続いて、制御部80は、ブロックB2をドーム132の上面と同じ高さまで一定の速度(s2)で下降させる。
【0125】
(第五ステップ:STEP5)
続いて、制御部80は、ブロックB3がドーム132の上面と同じ高さまで所定の速度(s2)で下降させる。ここで、ブロックB3がドーム132の上面の高さまで下がることにより、ダイシングテープDTの支えがなくなり、ダイシングテープDTの張力によりダイシングテープDTの剥離がさらに進行する。
【0126】
(第六ステップ:STEP6)
続いて、制御部80は、ブロックB4がドーム132の上面と同じ高さまで所定の速度(s2)で下降させる。ここで、ブロックB4がドーム132の上面の高さまで下がることにより、ダイシングテープDTの支えがなくなり、ダイシングテープDTの張力によりダイシングテープDTの剥離がさらに進行する。
【0127】
その後、制御部80はコレット22を上方に引き上げると共に、ブロックB5を所定の速度(s3)で下降させ初期位置に戻す。これにより、ダイDをダイシングテープDTから剥がす作業が完了する。
【0128】
これにより、剥離の進行に伴い、複数のタイミングで外周剥離起点を作ることができる。
【0129】
(第十二変形例)
図26は第十二形例における突上げユニットの要部断面を模式的に示す図である。図27図26に示す突上げユニットのブロック部の上面図である。
【0130】
第十一変形例では、外側のブロックB0は二つのブロックB5の周りを取り囲み、外側のブロックB1は三つのブロックB4の周りを取り囲み、外側のブロックB2は二つのブロックB3の周りを取り囲む。他方、第十二変形例では、外側のブロックB0は一つのブロックB5の周りを取り囲み、外側のブロックB1は一つのブロックB6の周りを取り囲む。外側のブロックB2は一つのブロックB7の周りを取り囲み、外側のブロックB3は一つのブロックB8の周りを取り囲み、外側のブロックB4は一つのブロックB9の周りを取り囲む。第十二変形例では、駆動軸ND0~ND9を用いてブロックB0~B9を上下動させる。
【0131】
第十二変形例における突上げユニット13の動作について説明する。第十二変形例における第零ステップ(STEP0)および第一ステップ(STEP1)は第五変形例の第零ステップ(STEP0)および第一ステップ(STEP1)と同様の動作を行う。ただし、第十二変形例のブロックB0~B4は第五変形例のブロックB0と同様の動作を行う。第十二変形例のブロックB5~B9は第五変形例のブロックB1~B3と同様の動作を行う。
【0132】
(第二ステップ:STEP2)
続いて、制御部80は、ブロックB0をドーム132の上面と同じ高さまで一定の速度(s2)で下降させる。
【0133】
(第三ステップ:STEP3)
続いて、制御部80は、ブロックB1をドーム132の上面と同じ高さまで一定の速度(s2)で下降させる。
【0134】
(第四ステップ:STEP4)
続いて、制御部80は、ブロックB2をドーム132の上面と同じ高さまで一定の速度(s2)で下降させる。
【0135】
(第五ステップ:STEP5)
続いて、制御部80は、ブロックB3をドーム132の上面と同じ高さまで一定の速度(s2)で下降させる。
【0136】
(第六ステップ:STEP6)
続いて、制御部80は、ブロックB4をドーム132の上面と同じ高さまで一定の速度(s2)で下降させる。
【0137】
(第七ステップ:STEP7)
続いて、制御部80は、ブロックB5がドーム132の上面と同じ高さまで所定の速度(s2)で下降させる。ここで、ブロックB5がドーム132の上面の高さまで下がることにより、ダイシングテープDTの支えがなくなり、ダイシングテープDTの張力によりダイシングテープDTの剥離がさらに進行する。
【0138】
(第八ステップ:STEP8)
続いて、制御部80は、ブロックB6がドーム132の上面と同じ高さまで所定の速度(s2)で下降させる。ここで、ブロックB6がドーム132の上面の高さまで下がることにより、ダイシングテープDTの支えがなくなり、ダイシングテープDTの張力によりダイシングテープDTの剥離がさらに進行する。
【0139】
(第九ステップ:STEP9)
続いて、制御部80は、ブロックB7がドーム132の上面と同じ高さまで所定の速度(s2)で下降させる。ここで、ブロックB7がドーム132の上面の高さまで下がることにより、ダイシングテープDTの支えがなくなり、ダイシングテープDTの張力によりダイシングテープDTの剥離がさらに進行する。
【0140】
(第十ステップ:STEP10)
続いて、制御部80は、ブロックB8がドーム132の上面と同じ高さまで所定の速度(s2)で下降させる。ここで、ブロックB8がドーム132の上面の高さまで下がることにより、ダイシングテープDTの支えがなくなり、ダイシングテープDTの張力によりダイシングテープDTの剥離がさらに進行する。
【0141】
その後、制御部80はコレット22を上方に引き上げると共に、ブロックB9を所定の速度(s3)で下降させ初期位置に戻す。これにより、ダイDをダイシングテープDTから剥がす作業が完了する。
【0142】
これにより、剥離の進行に伴い、複数のタイミングで外周剥離起点を作ることができる。
【0143】
(第十三変形例)
図28は第十三変形例における突上げユニットの要部断面図である。
【0144】
実施形態では、外側のブロックB0の外周部の断面は長方形である。他方、第十三変形例では、外側のブロックB0の外周部の断面は台形形状である。これにより、ブロックB0の強度を高めることができる。
【0145】
(第十四変形例)
図29は第十四変形例における突上げユニットの要部断面図である。
【0146】
第十三変形例では、外側のブロックB0の外周部の断面は台形形状である。他方、第十四変形例では、ブロックB0の外周部の上部B0aの断面は実施形態と同様に長方形とし、それよりも下部B0bの断面は下に向かうにつれて幅を広くする。
【0147】
以上、本開示者らによってなされた開示を実施形態および変形例に基づき具体的に説明したが、本開示は、上記実施形態および変形例に限定されるものではなく、種々変更可能であることはいうまでもない。
【0148】
例えば、実施形態では、内側のブロック数は七個の例を説明したが、ダイサイズ等に応じてブロック数は七個よりも少なくても多くてもよい。
【0149】
また、実施形態では、ダイアタッチフィルムを用いる例を説明したが、基板に接着剤を塗布するプリフォーム部を設けてダイアタッチフィルムを用いなくてもよい。
【0150】
また、実施形態では、ウエハ供給部からダイをピックアップヘッドでピックアップして中間ステージに載置し、中間ステージに載置されたダイをボンディングヘッドで基板にボンディングするダイボンダについて説明した。しかし、これに限定されるものではなく、ダイ供給部からダイをピックアップするダイボンディング装置に適用可能である。
【0151】
例えば、中間ステージとピックアップヘッドがなく、ウエハ供給部のダイをボンディングヘッドで基板にボンディングするダイボンダにも適用可能である。
【0152】
また、中間ステージがなく、ウエハ供給部からダイをピックアップしダイピックアップヘッドを上に回転してダイをボンディングヘッドに受け渡しボンディングヘッドで基板にボンディングするフリップチップボンダに適用可能である。
【0153】
実施形態では、ダイボンダを例に説明したが、ピックアップしたダイをトレイに載置する半導体製造装置にも適用できる。
【符号の説明】
【0154】
1・・・ダイボンダ(半導体製造装置)
12・・・ウエハ保持台
13・・・突上げユニット
131・・・ブロック部
B0・・・ブロック(外側ブロック)
B1~B4・・・ブロック(内側ブロック)
132・・・ドーム
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