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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024137501
(43)【公開日】2024-10-07
(54)【発明の名称】貯蔵装置
(51)【国際特許分類】
B08B 3/08 20060101AFI20240927BHJP
B08B 5/00 20060101ALI20240927BHJP
【ＦＩ】
B08B3/08 Z
B08B5/00 Z
【審査請求】有
【請求項の数】11
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2023049037
(22)【出願日】2023-03-24
(71)【出願人】
【識別番号】320011650
【氏名又は名称】大陽日酸株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100147485
【弁理士】
【氏名又は名称】杉村 憲司
(74)【代理人】
【識別番号】230118913
【弁護士】
【氏名又は名称】杉村 光嗣
(74)【代理人】
【識別番号】100149249
【弁理士】
【氏名又は名称】田中 達也
(72)【発明者】
【氏名】亀岡 崇史
(72)【発明者】
【氏名】向 庸佑
(72)【発明者】
【氏名】渡部 僚馬
(72)【発明者】
【氏名】鹿川 聡太
【テーマコード（参考）】
3B116
3B201
【Ｆターム（参考）】
3B116AA33
3B116BB62
3B116BB75
3B116BB88
3B116CC03
3B116CC05
3B116CD41
3B201AA33
3B201BB01
3B201BB62
3B201BB75
3B201BB95
3B201BB99
3B201CC11
3B201CC21
3B201CD41
(57)【要約】 （修正有）
【課題】貯蔵タンクの残留物を精密に除去できる貯蔵装置を提供する。
【解決手段】液体又は固体状態の貯蔵物質を貯蔵する貯蔵タンク２と、溶剤を貯蔵する溶剤タンク３と、前記溶剤タンク３に不活性ガスを供給でき、前記貯蔵タンク２からガスを排出でき、前記溶剤タンク３への前記不活性ガスの供給と前記貯蔵タンク２からのガスの排出とにより前記溶剤タンク３から前記貯蔵タンク２に前記溶剤を供給でき、前記貯蔵タンク２に不活性ガスを供給でき、且つ、前記貯蔵タンク２への前記不活性ガスの供給により前記貯蔵タンク２から前記溶剤を排出できる経路部４と、前記貯蔵タンク２に供給された前記溶剤中の前記貯蔵物質を検出する検出部５とを有する、貯蔵装置。
【選択図】図１
【解決手段】液体又は固体状態の貯蔵物質を貯蔵する貯蔵タンク２と、溶剤を貯蔵する溶剤タンク３と、前記溶剤タンク３に不活性ガスを供給でき、前記貯蔵タンク２からガスを排出でき、前記溶剤タンク３への前記不活性ガスの供給と前記貯蔵タンク２からのガスの排出とにより前記溶剤タンク３から前記貯蔵タンク２に前記溶剤を供給でき、前記貯蔵タンク２に不活性ガスを供給でき、且つ、前記貯蔵タンク２への前記不活性ガスの供給により前記貯蔵タンク２から前記溶剤を排出できる経路部４と、前記貯蔵タンク２に供給された前記溶剤中の前記貯蔵物質を検出する検出部５とを有する、貯蔵装置。
【選択図】図１
【特許請求の範囲】
【請求項1】
液体又は固体状態の貯蔵物質を貯蔵する貯蔵タンクと、
溶剤を貯蔵する溶剤タンクと、
前記溶剤タンクに不活性ガスを供給でき、前記貯蔵タンクからガスを排出でき、前記溶剤タンクへの前記不活性ガスの供給と前記貯蔵タンクからのガスの排出とにより前記溶剤タンクから前記貯蔵タンクに前記溶剤を供給でき、前記貯蔵タンクに不活性ガスを供給でき、且つ、前記貯蔵タンクへの前記不活性ガスの供給により前記貯蔵タンクから前記溶剤を排出できる経路部と、
前記貯蔵タンクに供給された前記溶剤中の前記貯蔵物質を検出する検出部とを有する、貯蔵装置。
溶剤を貯蔵する溶剤タンクと、
前記溶剤タンクに不活性ガスを供給でき、前記貯蔵タンクからガスを排出でき、前記溶剤タンクへの前記不活性ガスの供給と前記貯蔵タンクからのガスの排出とにより前記溶剤タンクから前記貯蔵タンクに前記溶剤を供給でき、前記貯蔵タンクに不活性ガスを供給でき、且つ、前記貯蔵タンクへの前記不活性ガスの供給により前記貯蔵タンクから前記溶剤を排出できる経路部と、
前記貯蔵タンクに供給された前記溶剤中の前記貯蔵物質を検出する検出部とを有する、貯蔵装置。
【請求項2】
酸性又はアルカリ性の溶液である酸・アルカリ性溶液を貯蔵する酸・アルカリ性溶液タンクを有し、
前記経路部は、前記酸・アルカリ性溶液タンクに不活性ガスを供給でき、前記酸・アルカリ性溶液タンクへの前記不活性ガスの供給と前記貯蔵タンクからのガスの排出とにより前記酸・アルカリ性溶液タンクから前記貯蔵タンクに前記酸・アルカリ性溶液を供給でき、且つ、前記貯蔵タンクへの不活性ガスの供給により前記貯蔵タンクから前記酸・アルカリ性溶液を排出できる、請求項１に記載の貯蔵装置。
前記経路部は、前記酸・アルカリ性溶液タンクに不活性ガスを供給でき、前記酸・アルカリ性溶液タンクへの前記不活性ガスの供給と前記貯蔵タンクからのガスの排出とにより前記酸・アルカリ性溶液タンクから前記貯蔵タンクに前記酸・アルカリ性溶液を供給でき、且つ、前記貯蔵タンクへの不活性ガスの供給により前記貯蔵タンクから前記酸・アルカリ性溶液を排出できる、請求項１に記載の貯蔵装置。
【請求項3】
前記経路部は、前記貯蔵タンク内の前記酸・アルカリ性溶液中に不活性ガスを供給できる、請求項２に記載の貯蔵装置。
【請求項4】
前記酸・アルカリ性溶液は、硝酸、クエン酸若しくはフッ酸を含む酸性溶液、又は、アンモニア水を含むアルカリ性溶液である、請求項２に記載の貯蔵装置。
【請求項5】
前記酸・アルカリ性溶液を貯蔵する再利用タンクを有し、
前記経路部は、前記再利用タンクからガスを排出でき、前記貯蔵タンクへの不活性ガスの供給と前記再利用タンクからのガスの排出とにより前記貯蔵タンクから前記再利用タンクに前記酸・アルカリ性溶液を供給でき、且つ、前記再利用タンクへの不活性ガスの供給と前記貯蔵タンクからのガスの排出とにより前記再利用タンクから前記貯蔵タンクに前記酸・アルカリ性溶液を供給できる、請求項２に記載の貯蔵装置。
前記経路部は、前記再利用タンクからガスを排出でき、前記貯蔵タンクへの不活性ガスの供給と前記再利用タンクからのガスの排出とにより前記貯蔵タンクから前記再利用タンクに前記酸・アルカリ性溶液を供給でき、且つ、前記再利用タンクへの不活性ガスの供給と前記貯蔵タンクからのガスの排出とにより前記再利用タンクから前記貯蔵タンクに前記酸・アルカリ性溶液を供給できる、請求項２に記載の貯蔵装置。
【請求項6】
前記経路部は、前記貯蔵タンクに脱イオン水を供給でき、且つ、前記貯蔵タンクから前記脱イオン水を排出できる、請求項１に記載の貯蔵装置。
【請求項7】
前記経路部は、前記脱イオン水を前記貯蔵タンクに流通させることができる、請求項６に記載の貯蔵装置。
【請求項8】
前記貯蔵タンクを加熱できる加熱部を有し、
前記経路部は、前記加熱部によって温度が上昇した状態の前記貯蔵タンクに不活性ガスを供給することで前記貯蔵タンクを乾燥させることができる、請求項１に記載の貯蔵装置。
前記経路部は、前記加熱部によって温度が上昇した状態の前記貯蔵タンクに不活性ガスを供給することで前記貯蔵タンクを乾燥させることができる、請求項１に記載の貯蔵装置。
【請求項9】
前記貯蔵物質は、２５℃、１気圧で液体又は固体状態となる有機又は無機金属化合物である、請求項１に記載の貯蔵装置。
【請求項10】
前記溶剤は有機化合物である、請求項１に記載の貯蔵装置。
【請求項11】
前記検出部は、ｐＨ計、分光計、比色計、超音波計又は質量分析計によって構成される、請求項１に記載の貯蔵装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は貯蔵装置に関する。
【背景技術】
【0002】
貯蔵タンクを洗浄する装置が知られている（例えば特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【特許文献1】特許第３３８１９２５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
液体又は固体状態の貯蔵物質を貯蔵する貯蔵タンクを有する貯蔵装置は、不純物の混入を抑制して貯蔵物質の高純度を保ちつつ貯蔵タンクを繰り返し使用するために、使用後に貯蔵タンクに残留した貯蔵物質の残留物を精密に除去できることが好ましい。
【0005】
そこで本発明の目的は、貯蔵タンクの残留物を精密に除去できる貯蔵装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0006】
本発明の一態様は以下のとおりである。
【0007】
［１］
液体又は固体状態の貯蔵物質を貯蔵する貯蔵タンクと、
溶剤を貯蔵する溶剤タンクと、
前記溶剤タンクに不活性ガスを供給でき、前記貯蔵タンクからガスを排出でき、前記溶剤タンクへの前記不活性ガスの供給と前記貯蔵タンクからのガスの排出とにより前記溶剤タンクから前記貯蔵タンクに前記溶剤を供給でき、前記貯蔵タンクに不活性ガスを供給でき、且つ、前記貯蔵タンクへの前記不活性ガスの供給により前記貯蔵タンクから前記溶剤を排出できる経路部と、
前記貯蔵タンクに供給された前記溶剤中の前記貯蔵物質を検出する検出部とを有する、貯蔵装置。
液体又は固体状態の貯蔵物質を貯蔵する貯蔵タンクと、
溶剤を貯蔵する溶剤タンクと、
前記溶剤タンクに不活性ガスを供給でき、前記貯蔵タンクからガスを排出でき、前記溶剤タンクへの前記不活性ガスの供給と前記貯蔵タンクからのガスの排出とにより前記溶剤タンクから前記貯蔵タンクに前記溶剤を供給でき、前記貯蔵タンクに不活性ガスを供給でき、且つ、前記貯蔵タンクへの前記不活性ガスの供給により前記貯蔵タンクから前記溶剤を排出できる経路部と、
前記貯蔵タンクに供給された前記溶剤中の前記貯蔵物質を検出する検出部とを有する、貯蔵装置。
【0008】
［２］
酸性又はアルカリ性の溶液である酸・アルカリ性溶液を貯蔵する酸・アルカリ性溶液タンクを有し、
前記経路部は、前記酸・アルカリ性溶液タンクに不活性ガスを供給でき、前記酸・アルカリ性溶液タンクへの前記不活性ガスの供給と前記貯蔵タンクからのガスの排出とにより前記酸・アルカリ性溶液タンクから前記貯蔵タンクに前記酸・アルカリ性溶液を供給でき、且つ、前記貯蔵タンクへの不活性ガスの供給により前記貯蔵タンクから前記酸・アルカリ性溶液を排出できる、［１］に記載の貯蔵装置。
酸性又はアルカリ性の溶液である酸・アルカリ性溶液を貯蔵する酸・アルカリ性溶液タンクを有し、
前記経路部は、前記酸・アルカリ性溶液タンクに不活性ガスを供給でき、前記酸・アルカリ性溶液タンクへの前記不活性ガスの供給と前記貯蔵タンクからのガスの排出とにより前記酸・アルカリ性溶液タンクから前記貯蔵タンクに前記酸・アルカリ性溶液を供給でき、且つ、前記貯蔵タンクへの不活性ガスの供給により前記貯蔵タンクから前記酸・アルカリ性溶液を排出できる、［１］に記載の貯蔵装置。
【0009】
［３］
前記経路部は、前記貯蔵タンク内の前記酸・アルカリ性溶液中に不活性ガスを供給できる、［２］に記載の貯蔵装置。
前記経路部は、前記貯蔵タンク内の前記酸・アルカリ性溶液中に不活性ガスを供給できる、［２］に記載の貯蔵装置。
【0010】
［４］
前記酸・アルカリ性溶液は、硝酸、クエン酸若しくはフッ酸を含む酸性溶液、又は、アンモニア水を含むアルカリ性溶液である、［２］又は［３］に記載の貯蔵装置。
前記酸・アルカリ性溶液は、硝酸、クエン酸若しくはフッ酸を含む酸性溶液、又は、アンモニア水を含むアルカリ性溶液である、［２］又は［３］に記載の貯蔵装置。
【0011】
［５］
前記酸・アルカリ性溶液を貯蔵する再利用タンクを有し、
前記経路部は、前記再利用タンクからガスを排出でき、前記貯蔵タンクへの不活性ガスの供給と前記再利用タンクからのガスの排出とにより前記貯蔵タンクから前記再利用タンクに前記酸・アルカリ性溶液を供給でき、且つ、前記再利用タンクへの不活性ガスの供給と前記貯蔵タンクからのガスの排出とにより前記再利用タンクから前記貯蔵タンクに前記酸・アルカリ性溶液を供給できる、［２］～［４］の何れか１項に記載の貯蔵装置。
前記酸・アルカリ性溶液を貯蔵する再利用タンクを有し、
前記経路部は、前記再利用タンクからガスを排出でき、前記貯蔵タンクへの不活性ガスの供給と前記再利用タンクからのガスの排出とにより前記貯蔵タンクから前記再利用タンクに前記酸・アルカリ性溶液を供給でき、且つ、前記再利用タンクへの不活性ガスの供給と前記貯蔵タンクからのガスの排出とにより前記再利用タンクから前記貯蔵タンクに前記酸・アルカリ性溶液を供給できる、［２］～［４］の何れか１項に記載の貯蔵装置。
【0012】
［６］
前記経路部は、前記貯蔵タンクに脱イオン水を供給でき、且つ、前記貯蔵タンクから前記脱イオン水を排出できる、［１］～［５］の何れか１項に記載の貯蔵装置。
前記経路部は、前記貯蔵タンクに脱イオン水を供給でき、且つ、前記貯蔵タンクから前記脱イオン水を排出できる、［１］～［５］の何れか１項に記載の貯蔵装置。
【0013】
［７］
前記経路部は、前記脱イオン水を前記貯蔵タンクに流通させることができる、［６］に記載の貯蔵装置。
前記経路部は、前記脱イオン水を前記貯蔵タンクに流通させることができる、［６］に記載の貯蔵装置。
【0014】
［８］
前記貯蔵タンクを加熱できる加熱部を有し、
前記経路部は、前記加熱部によって温度が上昇した状態の前記貯蔵タンクに不活性ガスを供給することで前記貯蔵タンクを乾燥させることができる、［１］～［７］の何れか１項に記載の貯蔵装置。
前記貯蔵タンクを加熱できる加熱部を有し、
前記経路部は、前記加熱部によって温度が上昇した状態の前記貯蔵タンクに不活性ガスを供給することで前記貯蔵タンクを乾燥させることができる、［１］～［７］の何れか１項に記載の貯蔵装置。
【0015】
［９］
前記貯蔵物質は、２５℃、１気圧で液体又は固体状態となる有機又は無機金属化合物である、［１］～［８］の何れか１項に記載の貯蔵装置。
前記貯蔵物質は、２５℃、１気圧で液体又は固体状態となる有機又は無機金属化合物である、［１］～［８］の何れか１項に記載の貯蔵装置。
【0016】
［１０］
前記溶剤は有機化合物である、［１］～［９］の何れか１項に記載の貯蔵装置。
前記溶剤は有機化合物である、［１］～［９］の何れか１項に記載の貯蔵装置。
【0017】
［１１］
前記検出部は、ｐＨ計、分光計、比色計、超音波計又は質量分析計によって構成される、［１］～［１０］の何れか１項に記載の貯蔵装置。
前記検出部は、ｐＨ計、分光計、比色計、超音波計又は質量分析計によって構成される、［１］～［１０］の何れか１項に記載の貯蔵装置。
【発明の効果】
【0018】
本発明によれば、貯蔵タンクの残留物を精密に除去できる貯蔵装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【0019】
【図1】本発明の第１実施形態の貯蔵装置における配管の一例を示す模式図である。
【図2】本発明の第２実施形態の貯蔵装置における配管の一例を示す模式図である。
【図3】本発明の第３実施形態の貯蔵装置における配管の一例を示す模式図である。
【図4】本発明の第４実施形態の貯蔵装置における配管の一例を示す模式図である。
【図5】本発明の第５実施形態の貯蔵装置を説明するための説明図である。
【発明を実施するための形態】
【0020】
以下、図面を参照しつつ本発明の実施形態を例示説明する。
【0021】
図１に示すように、本発明の第１実施形態において貯蔵装置１は、液体又は固体状態の貯蔵物質を貯蔵する貯蔵タンク２と、溶剤を貯蔵する溶剤タンク３と、溶剤タンク３に不活性ガスを供給でき、貯蔵タンク２からガスを排出でき、排出溶剤タンク３への不活性ガスの供給と貯蔵タンク２からのガスの排出とにより溶剤タンク３から貯蔵タンク２に溶剤を供給でき、貯蔵タンク２に不活性ガスを供給でき、且つ、貯蔵タンク２への不活性ガスの供給により貯蔵タンク２から溶剤を排出できる経路部４と、貯蔵タンク２に供給された溶剤中の貯蔵物質を検出する検出部５とを有する。
【0022】
上記構成によれば、溶剤タンク３に不活性ガスを供給（例えば０．１ＭＰａＧ以上で、圧送）し且つ貯蔵タンク２からガスを排出し、その結果、溶剤タンク３から貯蔵タンク２に溶剤を供給し、貯蔵タンク２に残留した貯蔵物質の残留物を溶剤中に溶解させ、貯蔵タンク２に不活性ガスを供給（例えば０．１ＭＰａＧ以上で、圧送）し、その結果、貯蔵タンク２から溶剤を排出する溶剤処理工程を行うことができる。また、貯蔵タンク２の残留物が十分に減少するまで溶剤処理工程を繰り返すことができる。その際、貯蔵タンク２に供給された溶剤中の貯蔵物質を検出部５によって検出することで、例えば検出値を閾値と比較することにより、溶剤による貯蔵タンク２の残留物の除去が溶剤処理工程の繰り返しを終了させるのに十分であるか否かを判定することができる。したがって上記構成によれば、貯蔵タンク２の残留物を精密に除去できる貯蔵装置１を実現できる。
【0023】
また上記構成によれば、不活性ガスと溶剤を利用し、空気及び水分との接触を抑制しつつ残留物を処理できる。したがって、貯蔵物質が禁水性及び／又は腐食性を有する場合に特に有効である。貯蔵物質は例えば、半導体プロセスにおける成膜用材料である。経路部４は例えば、密封された配管によって構成される。溶剤処理工程は、経路部４により、貯留タンクに不活性ガスを供給（例えば０．１ＭＰａＧ以上で、圧送）し且つ貯留タンクから貯留物質を排出する貯留物質排出工程の後に行うことができる。検出部５は例えば、貯留タンクから溶剤を排出する経路上に設けることができる。
【0024】
図２に示す第２実施形態のように、貯蔵装置１は、酸性又はアルカリ性の溶液である酸・アルカリ性溶液を貯蔵する酸・アルカリ性溶液タンク６を有し、経路部４は、酸・アルカリ性溶液タンク６に不活性ガスを供給でき、酸・アルカリ性溶液タンク６への不活性ガスの供給と貯蔵タンク２からのガスの排出とにより酸・アルカリ性溶液タンク６から貯蔵タンク２に酸・アルカリ性溶液を供給でき、且つ、貯蔵タンク２への不活性ガスの供給により貯蔵タンク２から酸・アルカリ性溶液を排出できる構成としてもよい。
【0025】
上記構成によれば、溶剤処理工程の完了後に、酸・アルカリ性溶液タンク６に不活性ガスを供給（例えば０．１ＭＰａＧ以上で、圧送）し且つ貯蔵タンク２からガスを排出し、その結果、酸・アルカリ性溶液タンク６から貯蔵タンク２に酸・アルカリ性溶液を供給し、貯蔵タンク２に残留した貯蔵物質の残留物を酸・アルカリ性溶液中に溶解させ、貯蔵タンク２に不活性ガスを供給（例えば０．１ＭＰａＧ以上で、圧送）し、その結果、貯蔵タンク２から酸・アルカリ性溶液を排出する酸・アルカリ性溶液洗浄工程を行うことができる。
【0026】
図２に示すように、経路部４は、貯蔵タンク２内の酸・アルカリ性溶液中に不活性ガスを供給できる構成としてもよい。上記構成によれば、酸・アルカリ性溶液洗浄工程において、貯蔵タンク２内の酸・アルカリ性溶液中に不活性ガスを所定量（例えば０．１～５０ｓｌｍ）供給して所定時間（例えば１分以上）に亘って泡立てることにより、酸・アルカリ性溶液による洗浄効果を高めることができる。
【0027】
酸・アルカリ性溶液は、硝酸、クエン酸若しくはフッ酸を含む酸性溶液、又は、アンモニア水を含むアルカリ性溶液である。上記構成によれば、酸・アルカリ性溶液による洗浄効果を安定して得ることができる。好ましい酸性溶液の濃度は、硝酸：１～５５％、クエン酸：１～３０％、フッ酸：０．１～５％である。好ましいアルカリ性溶液の濃度は、アンモニア水：１～３０％である。
【0028】
図３に示す第３実施形態のように、貯蔵装置１は、酸・アルカリ性溶液を貯蔵する再利用タンク７を有し、経路部４は、再利用タンク７からガスを排出でき、貯蔵タンク２への不活性ガスの供給と再利用タンク７からのガスの排出とにより貯蔵タンク２から再利用タンク７に酸・アルカリ性溶液を供給でき、且つ、再利用タンク７への不活性ガスの供給と貯蔵タンク２からのガスの排出とにより再利用タンク７から貯蔵タンク２に酸・アルカリ性溶液を供給できる構成としてもよい。
【0029】
上記構成によれば、酸・アルカリ性溶液洗浄工程の後に、貯蔵タンク２に不活性ガスを供給（例えば０．１ＭＰａＧ以上で、圧送）し且つ再利用タンク７からガスを排出し、その結果、貯蔵タンク２から再利用タンク７に酸・アルカリ性溶液を供給して貯蔵できる。また、次に酸・アルカリ性溶液洗浄工程を行う代わりに、再利用タンク７に不活性ガスを供給（例えば０．１ＭＰａＧ以上で、圧送）し、貯蔵タンク２からガスを排出し、その結果、再利用タンク７から貯蔵タンク２に酸・アルカリ性溶液を供給する酸・アルカリ性溶液再利用洗浄工程を行うことができる。このように上記構成によれば、酸・アルカリ性溶液の再利用を可能にできる。
【0030】
図３に示すように、貯蔵装置１は、再利用タンク７から貯蔵タンク２に酸・アルカリ性溶液を供給する経路上に、ｐＨ検出部８を有し、経路部４は、ｐＨ検出部８の検出結果に応じて、酸・アルカリ性溶液を貯蔵タンク２に供給するか否か（例えば貯蔵タンク２に供給せずに廃棄し、代わりに酸・アルカリ性溶液タンク６から貯蔵タンク２に酸・アルカリ性溶液を供給する）を選択できる構成としてもよい。上記構成によれば、酸・アルカリ性溶液が再利用に不適切なほど汚染した場合に再利用されることを回避できる。
【0031】
経路部４は、貯蔵タンク２に酸性溶液を供給できる構成としてもよい。上記構成によれば、酸・アルカリ性溶液洗浄工程（又は酸・アルカリ性溶液再利用洗浄工程）の後に、貯蔵タンク２からガスを排出し且つ貯蔵タンク２に酸性溶液を供給し、貯蔵タンク２中で所定時間（例えば１分以上）保持することで貯蔵タンク２の内面を不働態化する不働態化処理工程を行うことができる。不働態化処理により、貯蔵タンク２の腐食を抑制できる。この場合、酸・アルカリ性溶液タンク６に貯蔵する酸・アルカリ性溶液を、不働態化処理にも適する酸性溶液とすることで、貯蔵装置１の構成を簡単にできる。
【0032】
図４に示す第４実施形態のように、経路部４は、貯蔵タンク２に脱イオン水を供給でき、且つ、貯蔵タンク２から脱イオン水を排出できる構成としてもよい。
【0033】
上記構成によれば、酸・アルカリ性溶液洗浄工程の後（第３実施形態の構成を組み合わせ、酸・アルカリ性溶液再利用洗浄工程も行い得る構成とする場合には、酸・アルカリ性溶液洗浄工程又は酸・アルカリ性溶液再利用洗浄工程の後）又は不働態化処理工程の後、或いは、酸・アルカリ性溶液洗浄工程（又は酸・アルカリ性溶液再利用洗浄工程）を行わない場合（第１実施形態のように酸・アルカリ性溶液洗浄工程を行わない構成を組み合わせてもよい）には溶剤処理工程の後に、貯蔵タンク２に脱イオン水を供給し、貯蔵タンク２に残留した貯蔵物質の残留物を脱イオン水中に溶解させ、貯蔵タンク２から脱イオン水を排出する脱イオン水処理工程を行うことができる。
【0034】
図４に示すように、貯蔵装置１は、貯蔵タンク２に供給された脱イオン水の比抵抗値を検出する比抵抗値検出部９を有する構成としてもよい。上記構成によれば、比抵抗値検出部９の検出結果に応じて、脱イオン水処理工程を終了できる。比抵抗値検出部９は例えば、比抵抗計によって構成される。この場合、例えば１８ＭΩ・ｃｍ以下の脱イオン水を使用し、検出結果が例えば１５ＭΩ・ｃｍ以上となったときに脱イオン水処理工程を終了できる。比抵抗値検出部９は例えば、貯留タンクから脱イオン水を排出する経路上に設けることができる。比抵抗値検出部９に代えて、貯蔵タンク２に供給された脱イオン水の導電率を検出する導電率検出部を設けてもよい。導電率検出部は例えば、導電率計によって構成される。
【0035】
図４に示すように、経路部４は、脱イオン水を貯蔵タンク２に流通（例えば、０．１～１０Ｌ／ｍｉｎで６０分以上）させることができる構成としてもよい。上記構成によれば、脱イオン水処理工程を効率的に行うことができる。
【0036】
図４に示すように、貯蔵装置１は、貯蔵タンク２に供給された脱イオン水中の貯蔵物質を検出する脱イオン水中貯蔵物質検出部１０を有する構成としてもよい。上記構成によれば、脱イオン水中貯蔵物質検出部１０の検出結果に応じて、脱イオン水処理工程を終了できる。脱イオン水中貯蔵物質検出部１０は例えば、液中パーティクルカウンタによって構成される。この場合、検出結果が例えば１０個／Ｌ以下となったときに脱イオン水処理工程を終了できる。脱イオン水中貯蔵物質検出部１０は例えば、貯留タンクから脱イオン水を排出する経路上に設けることができる。
【0037】
貯蔵装置１は、図５に示すように、貯蔵タンク２を加熱できる加熱部１１を有し、経路部４は、加熱部１１によって温度が上昇した状態の貯蔵タンク２に不活性ガスを供給することで貯蔵タンク２を乾燥させることができる構成（第５実施形態）としてもよい。上記構成によれば、溶剤処理工程、酸・アルカリ性溶液洗浄工程（又は酸・アルカリ性溶液再利用洗浄工程）、不働態化処理工程又は脱イオン水処理工程の後に、加熱部１１によって温度が上昇した状態の貯蔵タンク２に不活性ガスを供給することで貯蔵タンク２を乾燥させる乾燥工程を行うことができる。したがって上記構成によれば、貯蔵タンク２の残留物のより一層精密な除去を実現できる。
【0038】
第５実施形態は、前述した第１実施形態から第４実施形態の何れかに組み合わせた構成とできる。加熱部１１を貯蔵タンク２に対して予め設置してもよいし、別の箇所に設置しておき、適切なタイミングで貯蔵タンク２を加熱部１１まで移動するように構成してもよい。加熱部１１は例えば恒温槽によって構成される。
【0039】
乾燥工程は例えば、不活性ガスの流量を０．１～１０ｓｌｍとし、処理時間を６０分以上とし、貯蔵タンク２内温度を室温から１５０℃までとする条件下で行うことができる。
【0040】
図５に示すように、貯蔵装置１は、貯蔵タンク２に供給された不活性ガスの露点を検出する露点検出部１２を有する構成としてもよい。上記構成によれば、貯蔵タンク２に供給された不活性ガスの露点を露点検出部１２によって検出することで、例えば検出値を閾値と比較することにより、貯蔵タンク２の乾燥状態が乾燥工程を終了させるのに十分であるか否かを判定することができる。乾燥工程の終了は、例えば、露点が－７６℃以下にまで達したか否かで判定できる。露点検出部１２は例えば露点計によって構成される。露点検出部１２は例えば、貯留タンクから不活性ガスを排出する経路上に設けることができる。
【0041】
図５に示すように、貯蔵装置１は、貯蔵タンク２に供給された不活性ガス中の貯蔵物質を検出する不活性ガス中貯蔵物質検出部１３を有する構成としてもよい。上記構成によれば、不活性ガス中貯蔵物質検出部１３の検出結果に応じて、乾燥工程を終了できる。不活性ガス中貯蔵物質検出部１３は例えば、気中パーティクルカウンタによって構成される。この場合、検出結果が例えば１０個／Ｌ以下となったときに乾燥工程を終了できる。不活性ガス中貯蔵物質検出部１３は例えば、貯留タンクから不活性ガスを排出する経路上に設けることができる。
【0042】
貯蔵物質は例えば、２５℃、１気圧で液体又は固体状態となる有機又は無機金属化合物である。上記構成によれば、貯蔵タンク２の残留物を安定して精密に除去できる。
【0043】
溶剤は例えば、有機化合物（有機溶剤）である。上記構成によれば、貯蔵タンク２の残留物を安定して精密に除去できる。有機溶剤は、各種プロセスガスを含め特に限定されず、広く工業的に用いられる溶剤、例えば、オクタン等の有機溶剤、フロン系や塩素系の有機溶剤等であってもよい。有機溶剤は、一般に常温（２０～３０℃）常圧（０．１ＭＰａ）で液体であるが、本願では、加圧条件下或いは低温条件下において液化された溶剤であってもよい。有機溶剤は、例えば、飽和炭化水素（例えばｎ－ヘキサン、ｎ－オクタン等）、環状飽和炭化水素（例えばシクロヘキサン等）、ケトン（例えばアセトン等）、エステル（例えば酢酸エチル等）、芳香族化合物（例えばベンゼン、トルエン等）、環状エーテル化合物（例えばテトラヒドロフラン：ＴＨＦ等）、複素環式化合物（例えばピリジン、ピペリジン等）、酢酸、塩素化炭化水素（例えばジクロロメタン、クロロホルム等）、アミン化合物（例えばトリエチルアミン、エチレンジアミン等）、アルコール（例えばメタノール、エタノール等）である。
【0044】
検出部５は例えば、ｐＨ計、分光計、比色計、超音波計又は質量分析計によって構成される。上記構成によれば、溶剤処理工程の繰り返しを終了させるタイミングを安定して適切に決定することができる。ｐＨ計を使用する場合、検出結果が例えば溶剤のブランク値に到達したときに溶剤処理工程の繰り返しを終了できる。
【0045】
貯蔵装置１は、貯蔵タンク２内の貯蔵物質の量を検出する貯蔵物質量検出部（不図示）を有する構成としてもよい。貯蔵物質量検出部は例えば、貯蔵物質を貯蔵している状態の貯蔵タンク２の重量を測定する重量計、又は、貯蔵タンク２内の液状の貯蔵物質の液面レベルを測定する液面計によって構成される。液面計は例えば、貯蔵タンク２の上部と底部とに接続される透明性を有するチューブ内の液面レベルを測定する液面レベルセンサ（近接センサ）によって構成される。
【0046】
図１において、経路部４は、上流から下流に向けて弁１４、圧力計１５、流量制御装置１６（例えばマスフローコントローラ）をこの順に有する不活性ガス供給共通経路１７と、不活性ガス供給共通経路１７の下流端から貯留タンク内の上部まで伸びる第１経路１８と、不活性ガス供給共通経路１７の下流端から溶剤タンク３内の上部まで伸びる第２経路１９と、貯蔵タンク２内の下部から貯留タンクの外部まで伸びる第３経路２０と、溶剤タンク３内の下部から貯留タンクの外部まで伸びる第４経路２１と、第１経路１８と第２経路１９とにそれぞれ接続する排気経路２２と、第３経路２０に接続する排液経路２３とを有する。溶剤は、溶剤タンク３から第４経路２１と第３経路２０とを通って貯留タンクへ供給でき、第３経路２０と排液経路２３とを通って貯留タンクから排出できる。
【0047】
図２において、経路部４は、図１の構成に加えて、不活性ガス供給共通経路１７の下流端から酸・アルカリ性溶液タンク６内の上部まで伸びる第５経路２４と、酸・アルカリ性溶液タンク６内の下部から酸・アルカリ性溶液タンク６の外部まで伸びる第６経路２５とを有し、排気経路２２は第５経路２４にも接続する。酸・アルカリ性溶液は、酸・アルカリ性溶液タンク６から第６経路２５と第３経路２０とを通って貯留タンクへ供給でき、第３経路２０と排液経路２３とを通って貯留タンクから排出できる。
【0048】
図３において、経路部４は、図２の構成に加えて、不活性ガス供給共通経路１７の下流端から再利用タンク７内の上部まで伸びる第７経路２６と、再利用タンク７内の上部から再利用タンク７の外部まで伸びる第８経路２７と、再利用タンク７内の下部から再利用タンク７の外部まで伸びる第９経路２８とを有し、排気経路２２は第７経路２６にも接続し、第９経路２８は液体フィルタ２９とｐＨ検出部８を有する。酸・アルカリ性溶液は、貯留タンクから第３経路２０と第８経路２７とを通って再利用タンク７へ供給できる。また酸・アルカリ性溶液は、第９経路２８と第３経路２０とを通って再利用タンク７から貯留タンクへ供給でき、酸・アルカリ性溶液が再利用に不適切なほど汚染した場合に第９経路２８と排液経路２３とを通って再利用タンク７から排出できる。
【0049】
図４において、経路部４は、図２の構成に加えて、第３経路２０に脱イオン水を供給できる脱イオン水供給経路３０と、第１経路１８に接続し脱イオン水を排出できる脱イオン水排出経路３１とを有する。脱イオン水排出経路３１は、検出部５、脱イオン水中貯蔵物質検出部１０、比抵抗値検出部９及び流量計３２を有する。
【0050】
図５において、経路部４は、第３経路２０に接続する不活性ガス供給第１経路３３と、排気経路２２に接続する不活性ガス供給第２経路３４とを有し、不活性ガス供給第１経路３３は上流から下流に向けて流量制御装置１６、弁１４、圧力計１５をこの順に有し、不活性ガス供給第２経路３４は上流から下流に向けて流量制御装置１６、弁１４をこの順に有し、排気経路２２は露点検出部１２と不活性ガス中貯蔵物質検出部１３とを有する。不活性ガスは、不活性ガス供給第１経路３３、第３経路２０、貯蔵タンク２内、第２経路１９、排気経路２２をこの順に流れることができる。不活性ガス供給第２経路３４から排気経路２２に不活性ガスを適宜供給できる。
【0051】
本発明は前述した実施形態に限定されず、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能である。
【実施例0052】
（比較例１）
比較例１として、以下の貯蔵物質及び溶剤を用いて実験を行った。
貯蔵物質（禁水性液体）：ビスジエチルアミノシラン（貯蔵タンク容量：１Ｌ）
溶剤：ノルマルヘキサン
［実験方法］ドラフト内にて貯蔵タンクを開放し、ノルマルヘキサンによるかけ洗いを行った。
［実験条件］大気開放での溶剤処理
［実験結果］溶剤かけ洗い１０回目においてもｐＨはフルスケールの２０を超えており、ノルマルヘキサンのブランク値であるｐＨ＝５に到達しなかった。また、貯蔵タンク内にビスジエチルアミノシランの加水分解物と思われる固形物が付着していた。
比較例１として、以下の貯蔵物質及び溶剤を用いて実験を行った。
貯蔵物質（禁水性液体）：ビスジエチルアミノシラン（貯蔵タンク容量：１Ｌ）
溶剤：ノルマルヘキサン
［実験方法］ドラフト内にて貯蔵タンクを開放し、ノルマルヘキサンによるかけ洗いを行った。
［実験条件］大気開放での溶剤処理
［実験結果］溶剤かけ洗い１０回目においてもｐＨはフルスケールの２０を超えており、ノルマルヘキサンのブランク値であるｐＨ＝５に到達しなかった。また、貯蔵タンク内にビスジエチルアミノシランの加水分解物と思われる固形物が付着していた。
【0053】
（実施例１）
実施例１として、以下の貯蔵物質、溶剤及び酸性溶液を用いて実験を行った。
貯蔵物質（禁水性液体）：ビスジエチルアミノシラン（貯蔵タンク容量：１Ｌ）
溶剤：ノルマルヘキサン
酸溶液：２５％クエン酸
［実験１－１：溶剤処理工程］
［実験方法］図１に示す貯蔵装置において容量１Ｌの貯蔵タンクにビスジエチルアミンを充填し、排出した後、溶剤(ノルマルヘキサン)による溶剤処理工程を実施した。
［実験条件］圧送用不活性ガス：Ｎ２、圧送圧力：０．１ＭＰａＧ、保持時間：１分
［実験結果］溶剤処理工程３回目で溶剤のブランク値に到達した。具体的には、ノルマルヘキサンのｐＨ５．０に対し、測定されたｐＨは処理１回目で２０以上、処理２回目で８．３、処理３回目で５．３であった。
実施例１として、以下の貯蔵物質、溶剤及び酸性溶液を用いて実験を行った。
貯蔵物質（禁水性液体）：ビスジエチルアミノシラン（貯蔵タンク容量：１Ｌ）
溶剤：ノルマルヘキサン
酸溶液：２５％クエン酸
［実験１－１：溶剤処理工程］
［実験方法］図１に示す貯蔵装置において容量１Ｌの貯蔵タンクにビスジエチルアミンを充填し、排出した後、溶剤(ノルマルヘキサン)による溶剤処理工程を実施した。
［実験条件］圧送用不活性ガス：Ｎ２、圧送圧力：０．１ＭＰａＧ、保持時間：１分
［実験結果］溶剤処理工程３回目で溶剤のブランク値に到達した。具体的には、ノルマルヘキサンのｐＨ５．０に対し、測定されたｐＨは処理１回目で２０以上、処理２回目で８．３、処理３回目で５．３であった。
【0054】
実験１－１を実施後に実験１－２を行った。
［実験１－２：酸・アルカリ性溶液洗浄工程、不働態化処理工程］
［実験方法］溶剤処理工程の後、酸性溶液(２５％クエン酸)による酸・アルカリ性溶液洗浄工程（泡立て有り）、不働態化処理工程を実施した。
［実験条件］（１） ２５％クエン酸導入後の泡立て（バブリング）条件
不活性ガス：Ｎ２、ガス流量：１０ｓｌｍ、圧送圧力：０．１ＭＰａＧ、
バブリング時間：５分
（２） ２５％クエン酸不働態化処理条件
２５％クエン酸導入後の保持時間：１時間
［実験結果］貯蔵タンク内に反応性残留物は確認されなかった。処理前後でのＸ線光電子分光（ＸＰＳ）による表面の組成分析を実施した結果を示す。不働態化処理工程の後にクロム酸化膜リッチな不働態膜が観察された。
［実験１－２：酸・アルカリ性溶液洗浄工程、不働態化処理工程］
［実験方法］溶剤処理工程の後、酸性溶液(２５％クエン酸)による酸・アルカリ性溶液洗浄工程（泡立て有り）、不働態化処理工程を実施した。
［実験条件］（１） ２５％クエン酸導入後の泡立て（バブリング）条件
不活性ガス：Ｎ２、ガス流量：１０ｓｌｍ、圧送圧力：０．１ＭＰａＧ、
バブリング時間：５分
（２） ２５％クエン酸不働態化処理条件
２５％クエン酸導入後の保持時間：１時間
［実験結果］貯蔵タンク内に反応性残留物は確認されなかった。処理前後でのＸ線光電子分光（ＸＰＳ）による表面の組成分析を実施した結果を示す。不働態化処理工程の後にクロム酸化膜リッチな不働態膜が観察された。
【表1】
【0055】
実験１－１、１－２を実施後に実験１－３を実施した。
［実験１－３：脱イオン水処理工程（流通）］
［実験方法］不働態化処理工程の後に脱イオン水処理工程（流通）を実施した。
［実験条件］脱イオン水：１８ＭΩ・ｃｍ、流量：０．５Ｌ／ｍｉｎ、圧力：大気圧
［実験結果］処理前後での比抵抗値及び金属不純物濃度（測定法：誘導結合プラズマ質量分析法、ＩＣＰ－ＭＳ）を分析した結果を示す。通水処理５時間後に比抵抗値が脱イオン水レベル(≧１５ＭΩ・ｃｍ)に到達しており、金属不純物による貯蔵タンク内の汚染は確認されなかった。また、液中の０．１μｍ以上のパーティクル数は５個／Ｌであった。
比抵抗値（ＭΩ・ｃｍ） 処理前：０．０１
処理（５時間）後：１７
［実験１－３：脱イオン水処理工程（流通）］
［実験方法］不働態化処理工程の後に脱イオン水処理工程（流通）を実施した。
［実験条件］脱イオン水：１８ＭΩ・ｃｍ、流量：０．５Ｌ／ｍｉｎ、圧力：大気圧
［実験結果］処理前後での比抵抗値及び金属不純物濃度（測定法：誘導結合プラズマ質量分析法、ＩＣＰ－ＭＳ）を分析した結果を示す。通水処理５時間後に比抵抗値が脱イオン水レベル(≧１５ＭΩ・ｃｍ)に到達しており、金属不純物による貯蔵タンク内の汚染は確認されなかった。また、液中の０．１μｍ以上のパーティクル数は５個／Ｌであった。
比抵抗値（ＭΩ・ｃｍ） 処理前：０．０１
処理（５時間）後：１７
【表2】
【0056】
実験１－１、１－２、１－３を実施後に実験１－４を実施した。
［実験１－４：乾燥工程］
［実験方法］脱イオン水処理工程（流通）の後に乾燥工程を実施した。
［実験条件］不活性ガス：Ｎ２、ガス流量：１０ｓｌｍ、圧送圧力：０．１ＭＰａＧ
［実験結果］乾燥前後での露点を分析した結果を示す。乾燥３時間後に露点が－８０℃に到達した。また、気中の０．１μｍ以上のパーティクル数は１個／Ｌであった。
露点 乾燥１時間後：－３０℃
乾燥３時間後：－８０℃
［実験１－４：乾燥工程］
［実験方法］脱イオン水処理工程（流通）の後に乾燥工程を実施した。
［実験条件］不活性ガス：Ｎ２、ガス流量：１０ｓｌｍ、圧送圧力：０．１ＭＰａＧ
［実験結果］乾燥前後での露点を分析した結果を示す。乾燥３時間後に露点が－８０℃に到達した。また、気中の０．１μｍ以上のパーティクル数は１個／Ｌであった。
露点 乾燥１時間後：－３０℃
乾燥３時間後：－８０℃
【0057】
（比較例２）
比較例２として、以下の貯蔵物質及び溶剤を用いて実験を行った。
貯蔵物質（腐食性固体）：モリブデン（ＶＩ）ジクロリドジオキシド（貯蔵タンク容量：１Ｌ）
溶剤：テトラヒドロフラン
［実験方法］ドラフト内にて貯蔵タンクを開放し、テトラヒドロフランによるかけ洗いを行った。その後、１８ＭΩ・ｃｍの脱イオン水で貯蔵タンク内を通水処理した。
［実験条件］大気開放での溶剤処理
脱イオン水：１８ＭΩ・ｃｍ、流量：０．５Ｌ／ｍｉｎ、圧力：大気圧
［実験結果］溶剤かけ洗い１０回目においてもｐＨは４．２であり、テトラヒドロフランのブランク値であるｐＨ＝８．１に到達しなかった。また、貯蔵タンク内にモリブデン（ＶＩ）ジクロリドジオキシドの加水分解物と思われる固形物が付着していた。その後の脱イオン水による通水工程でも固形物は除去できず、２４時間経過後の比抵抗値は１ＭΩ・ｃｍであった。
比較例２として、以下の貯蔵物質及び溶剤を用いて実験を行った。
貯蔵物質（腐食性固体）：モリブデン（ＶＩ）ジクロリドジオキシド（貯蔵タンク容量：１Ｌ）
溶剤：テトラヒドロフラン
［実験方法］ドラフト内にて貯蔵タンクを開放し、テトラヒドロフランによるかけ洗いを行った。その後、１８ＭΩ・ｃｍの脱イオン水で貯蔵タンク内を通水処理した。
［実験条件］大気開放での溶剤処理
脱イオン水：１８ＭΩ・ｃｍ、流量：０．５Ｌ／ｍｉｎ、圧力：大気圧
［実験結果］溶剤かけ洗い１０回目においてもｐＨは４．２であり、テトラヒドロフランのブランク値であるｐＨ＝８．１に到達しなかった。また、貯蔵タンク内にモリブデン（ＶＩ）ジクロリドジオキシドの加水分解物と思われる固形物が付着していた。その後の脱イオン水による通水工程でも固形物は除去できず、２４時間経過後の比抵抗値は１ＭΩ・ｃｍであった。
【0058】
（実施例２）
実施例２として、以下の貯蔵物質、溶剤及び酸性溶液を用いて実験を行った。
腐食性固体材料：モリブデン（ＶＩ）ジクロリドジオキシド（貯蔵タンク容量：１Ｌ）
溶剤：テトラヒドロフラン
［実験２－１：溶剤処理工程］
［実験方法］図１に示す貯蔵装置において容量１Ｌの貯蔵タンクにモリブデン（ＶＩ）ジクロリドジオキシドを充填し、排出した後、溶剤(テトラヒドロフラン)による溶剤処理工程を実施した。
［実験条件］圧送用不活性ガス：Ｎ２、圧送圧力：０．１ＭＰａＧ、保持時間：1分
［実験結果］溶剤処理工程３回目で溶剤のブランク値に到達した。具体的には、テトラヒドロフランのｐＨ８．１に対し、測定されたｐＨは処理１回目で０．４、処理２回目で６．９、処理３回目で８．０であった。
実施例２として、以下の貯蔵物質、溶剤及び酸性溶液を用いて実験を行った。
腐食性固体材料：モリブデン（ＶＩ）ジクロリドジオキシド（貯蔵タンク容量：１Ｌ）
溶剤：テトラヒドロフラン
［実験２－１：溶剤処理工程］
［実験方法］図１に示す貯蔵装置において容量１Ｌの貯蔵タンクにモリブデン（ＶＩ）ジクロリドジオキシドを充填し、排出した後、溶剤(テトラヒドロフラン)による溶剤処理工程を実施した。
［実験条件］圧送用不活性ガス：Ｎ２、圧送圧力：０．１ＭＰａＧ、保持時間：1分
［実験結果］溶剤処理工程３回目で溶剤のブランク値に到達した。具体的には、テトラヒドロフランのｐＨ８．１に対し、測定されたｐＨは処理１回目で０．４、処理２回目で６．９、処理３回目で８．０であった。
【0059】
実験２－１を実施後に実験２－２を行った。
［実験２－２：脱イオン水処理工程（流通）］
［実験方法］溶剤処理工程の後に脱イオン水処理工程（流通）を実施した。
［実験条件］脱イオン水：１８ＭΩ・ｃｍ、流量：０．５Ｌ／ｍｉｎ、圧力：大気圧
［実験結果］処理前後での比抵抗値及び金属不純物濃度（測定法：誘導結合プラズマ質量分析法、ＩＣＰ－ＭＳ）を分析した結果を示す。処理５時間後に比抵抗値が脱イオン水レベル(≧１５ＭΩ・ｃｍ)に到達しており、金属不純物による貯蔵タンク内の汚染は確認されなかった。また、液中の０．１μｍ以上のパーティクル数は３個／Ｌであった。
比抵抗値（ＭΩ・ｃｍ） 処理前：０．０１
処理（５時間）後：１７
［実験２－２：脱イオン水処理工程（流通）］
［実験方法］溶剤処理工程の後に脱イオン水処理工程（流通）を実施した。
［実験条件］脱イオン水：１８ＭΩ・ｃｍ、流量：０．５Ｌ／ｍｉｎ、圧力：大気圧
［実験結果］処理前後での比抵抗値及び金属不純物濃度（測定法：誘導結合プラズマ質量分析法、ＩＣＰ－ＭＳ）を分析した結果を示す。処理５時間後に比抵抗値が脱イオン水レベル(≧１５ＭΩ・ｃｍ)に到達しており、金属不純物による貯蔵タンク内の汚染は確認されなかった。また、液中の０．１μｍ以上のパーティクル数は３個／Ｌであった。
比抵抗値（ＭΩ・ｃｍ） 処理前：０．０１
処理（５時間）後：１７
【表3】
【0060】
実験２－１、２－２を実施後に実験２－３を行った。
［実験２－３：乾燥工程］
［実験方法］脱イオン水処理工程（流通）の後に乾燥工程を実施した。
［実験条件］不活性ガス：Ｎ２、ガス流量：１０ｓｌｍ、圧力：０．１ＭＰａＧ
［実験結果］乾燥前後での露点を分析した結果を示す。乾燥３時間後に露点が－８０℃に到達した。また、気中の０．１μｍ以上のパーティクル数は１個／Ｌであった。
露点 乾燥１時間後：－３３℃
乾燥３時間後：－８０℃
［実験２－３：乾燥工程］
［実験方法］脱イオン水処理工程（流通）の後に乾燥工程を実施した。
［実験条件］不活性ガス：Ｎ２、ガス流量：１０ｓｌｍ、圧力：０．１ＭＰａＧ
［実験結果］乾燥前後での露点を分析した結果を示す。乾燥３時間後に露点が－８０℃に到達した。また、気中の０．１μｍ以上のパーティクル数は１個／Ｌであった。
露点 乾燥１時間後：－３３℃
乾燥３時間後：－８０℃
【符号の説明】
【0061】
１ 貯蔵装置
２ 貯蔵タンク
３ 溶剤タンク
４ 経路部
５ 検出部
６ 酸・アルカリ性溶液タンク
７ 再利用タンク
８ ｐＨ検出部
９ 比抵抗値検出部
１０ 脱イオン水中貯蔵物質検出部
１１ 加熱部
１２ 露点検出部
１３ 不活性ガス中貯蔵物質検出部
１４ 弁
１５ 圧力計
１６ 流量制御装置
１７ 不活性ガス供給共通経路
１８ 第１経路
１９ 第２経路
２０ 第３経路
２１ 第４経路
２２ 排気経路
２３ 排液経路
２４ 第５経路
２５ 第６経路
２６ 第７経路
２７ 第８経路
２８ 第９経路
２９ 液体フィルタ
３０ 脱イオン水供給経路
３１ 脱イオン水排出経路
３２ 流量計
３３ 不活性ガス供給第１経路
３４ 不活性ガス供給第２経路
２ 貯蔵タンク
３ 溶剤タンク
４ 経路部
５ 検出部
６ 酸・アルカリ性溶液タンク
７ 再利用タンク
８ ｐＨ検出部
９ 比抵抗値検出部
１０ 脱イオン水中貯蔵物質検出部
１１ 加熱部
１２ 露点検出部
１３ 不活性ガス中貯蔵物質検出部
１４ 弁
１５ 圧力計
１６ 流量制御装置
１７ 不活性ガス供給共通経路
１８ 第１経路
１９ 第２経路
２０ 第３経路
２１ 第４経路
２２ 排気経路
２３ 排液経路
２４ 第５経路
２５ 第６経路
２６ 第７経路
２７ 第８経路
２８ 第９経路
２９ 液体フィルタ
３０ 脱イオン水供給経路
３１ 脱イオン水排出経路
３２ 流量計
３３ 不活性ガス供給第１経路
３４ 不活性ガス供給第２経路
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】