特開2024-138921真空チャンバ、電子デバイスの製造装置及び電子デバイスの製造方法

発明の名称　真空チャンバ、電子デバイスの製造装置及び電子デバイスの製造方法

出願人　キヤノントッキ株式会社　（識別番号 591065413）

　　　　特許公開件数ランキング 734 位（31件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 728 位（27件）（共同出願を含む）

公報番号　特開-2024-138921

公報発行日　2024年10月9

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-P_A1-2024-138921

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