特開 2024-140327 搬送パッドおよび搬送装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2024140327

(43)【公開日】2024-10-10

(54)【発明の名称】搬送パッドおよび搬送装置

(51)【国際特許分類】

   B24B 41/06 20120101AFI20241003BHJP

   H01L 21/677 20060101ALI20241003BHJP

   B23Q 3/08 20060101ALI20241003BHJP

   B23Q 7/04 20060101ALI20241003BHJP

【ＦＩ】

B24B41/06 A

H01L21/68 B

B24B41/06 L

B23Q3/08 A

B23Q7/04 K

【審査請求】未請求

【請求項の数】2

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2023051419

(22)【出願日】2023-03-28

(71)【出願人】

【識別番号】000134051

【氏名又は名称】株式会社ディスコ

(74)【代理人】

【識別番号】110001014

【氏名又は名称】弁理士法人東京アルパ特許事務所

(72)【発明者】

【氏名】伊藤 裕貴

(72)【発明者】

【氏名】外薗 直樹

【テーマコード（参考）】

3C016

3C033

3C034

5F131

【Ｆターム（参考）】

3C016DA05

3C033BB04

3C033HH28

3C033MM02

3C034AA08

3C034BB15

3C034BB73

3C034BB83

3C034BB84

3C034DD07

3C034DD10

5F131AA02

5F131BA32

5F131CA70

5F131DB22

5F131DB62

5F131DB72

5F131DB76

5F131DB77

5F131DB88

5F131EA05

5F131EB03

(57)【要約】

【課題】チャックテーブルの保持面からウェーハを素早く離脱させる。
【解決手段】本実施形態では、搬送パッド８０の外周吸引部９１によって、ウェーハ１００の外周部を反り上がらせて、この外周部のみをチャックテーブル２０の保持面２２から離隔することにより、ウェーハ１００を中凸形状にして、ウェーハ１００の外周部から保持面２２に大気を入れて、保持面２２（ポーラス部材２１）の真空を破壊している。したがって、流体流通機構４６によって保持面２２から水や混合流体を噴出しなくとも、保持面２２からウェーハ１００を離隔することが可能となる。このため、保持面２２からウェーハ１００を素早く離脱させることができる。
【選択図】図５

【特許請求の範囲】

【請求項1】

テーブルの載置面に載置されている板状ワークの上面を吸引保持する搬送パッドであって、
基台と、
該基台に配置され、吸引源に連通されて該板状ワークの外周部を吸引し、該板状ワークの外周部を反り上がらせて湾曲形状にして保持する外周吸引部と、
を備える搬送パッド。

【請求項2】

請求項１記載の搬送パッドを用いてテーブルから板状ワークを搬出する搬送装置であって、
該搬送パッドを昇降させる昇降機構と、制御部とを備え、
該制御部は、
該昇降機構によって該搬送パッドを下降させ、吸引源に連通させた該外周吸引部によって該板状ワークの外周部を吸引保持すること、および、
該昇降機構によって該搬送パッドを上昇させ、該板状ワークの外周部を反り上がらせて該板状ワークを湾曲形状にして、該テーブルから該板状ワークを搬出すること、を実施する、
搬送装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、搬送パッドおよび搬送装置に関する。

【背景技術】

【0002】

特許文献１および２に開示のように、研削装置では、チャックテーブルのポーラス部材の上面の保持面によってウェーハの下面を吸引保持して、ウェーハの上面を砥石で研削している。そして、研削されたウェーハの上面を搬送パッドによって吸引保持し、チャックテーブルから水とエアとの混合流体を噴出させ、ウェーハを吸引保持した搬送パッドを保持面から上昇させて、保持面からウェーハを離脱させている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【特許文献1】特開２０１３－１８４２６９号公報

【特許文献2】特開２００９－１２５９００号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

上記のように保持面からウェーハを離脱させる際には、保持面から噴出する混合流体によって保持面からウェーハを浮き上がらせ、混合流体のエアによって水の表面張力を破壊している。

【0005】

つまり、混合流体の噴出によって保持面からウェーハを浮上させてから、ウェーハを保持している搬送パッドを上昇させて保持面からウェーハを離脱させ、ウェーハを洗浄装置に搬送している。このため、保持面からウェーハを離脱させるまでに時間がかかる。
したがって、本発明の目的は、チャックテーブルの保持面からウェーハを素早く離脱させることにある。

【0006】

また、搬送パッドによって、チャックテーブルに載置された板状ワークの上面を吸引保持して、チャックテーブルから板状ワークを離脱させる際、ウェーハが、吸盤のように作用して、チャックテーブルに引っ付くことがある。
このため、本発明の他の目的は、チャックテーブルに引っ付かないように、板状ワークを離脱させることにある。

【課題を解決するための手段】

【0007】

本発明の搬送パッド（本搬送パッド）は、テーブルの載置面に載置されている板状ワークの上面を吸引保持する搬送パッドであって、基台と、該基台に配置され、吸引源に連通されて該板状ワークの外周部を吸引し、該板状ワークの外周部を反り上がらせて湾曲形状にして保持する外周吸引部と、備えている。

【0008】

本発明の搬送装置（本搬送装置）は、本搬送パッドを用いてテーブルから板状ワークを搬出する搬送装置であって、該搬送パッドを昇降させる昇降機構と、制御部とを備え、該制御部は、該昇降機構によって該搬送パッドを下降させ、吸引源に連通させた該外周吸引部によって該板状ワークの外周部を吸引保持すること、および、該昇降機構によって該搬送パッドを上昇させ、該板状ワークの外周部を反り上がらせて該板状ワークを湾曲形状にして、該テーブルから該板状ワークを搬出すること、を実施する。

【発明の効果】

【0009】

本搬送パッドを用いることにより、外周吸引部によって板状ワークの外周部を反り上がらせて、板状ワークの外周部のみをテーブルの載置面から離隔して、板状ワークの外周部から載置面に大気を入れて、載置面から板状ワーク全体を離脱させる。つまり、円形の板状ワークの外周部が載置面から離隔しないことで、板状ワークが吸盤のようになることによる載置面の吸引力を、破壊することができる。したがって、板状ワークがテーブルに対して吸盤のように吸い付いて、板状ワークがテーブルから離脱しにくくなることを、良好に抑制することができる。

【0010】

また、載置面を吸引源に連通させ載置面が板状ワークを吸引保持するテーブルの場合、板状ワークの外周部から載置面に大気を入れて載置面の吸引力を破壊することができる。したがって、載置面から水や混合流体を噴出しなくとも、載置面から板状ワークを離隔することが可能となる。また、載置面から水や混合流体を噴出して載置面から板状ワークが浮上する前に、板状ワークの外周部を反り上がらせて、載置面から板状ワークの外周部のみを離隔させているため、テーブルの載置面から板状ワークを素早く離脱させることができる。

【図面の簡単な説明】

【0011】

【図1】研削装置の構成を示す斜視図である。

【図2】搬出機構の構成を示す説明図である。

【図3】図３（ａ）は、搬送パッドの構成を示す斜視図であり、図３（ｂ）は、外周吸引部の構成を示す説明図である。

【図4】搬出機構によるウェーハの搬送動作を示す説明図である。

【図5】搬出機構によるウェーハの搬送動作を示す説明図である。

【図6】搬出機構によるウェーハの搬送動作を示す説明図である。

【図7】搬送パッドの他の構成を示す斜視図である。

【図8】搬出機構によるウェーハの搬送動作を示す説明図である。

【図9】搬出機構によるウェーハの搬送動作を示す説明図である。

【図10】搬出機構によるウェーハの搬送動作を示す説明図である。

【図11】搬出機構によるウェーハの搬送動作を示す説明図である。

【発明を実施するための形態】

【0012】

図１に示すように、本実施形態にかかる研削装置１は、加工装置の一例であり、ウェーハ１００を研削加工するための装置である。ウェーハ１００は、板状ワークの一例であり、表面１０１および裏面１０２を有している。ウェーハ１００の裏面１０２は、研削加工が施される被加工面となる。

【0013】

研削装置１は、第１の装置ベース１０と、第１の装置ベース１０の後方（＋Ｙ方向側）に配置された第２の装置ベース１１とを有している。

【0014】

第１の装置ベース１０の－Ｙ方向側には、第１のカセットステージ１６０および第２のカセットステージ１６２が設けられている。第１のカセットステージ１６０には、加工前のウェーハ１００が収容される第１のカセット１６１が載置されている。第２のカセットステージ１６２には、加工後のウェーハ１００が収容される第２のカセット１６３が載置されている。

【0015】

第１のカセット１６１および第２のカセット１６３は、内部に複数の棚を備えており、各棚に一枚ずつウェーハ１００が収容されている。すなわち、第１のカセット１６１および第２のカセット１６３は、複数のウェーハ１００を棚状に収容する。

【0016】

第１のカセット１６１および第２のカセット１６３の開口（図示せず）は、＋Ｙ方向側を向いている。これらの開口の＋Ｙ方向側には、ロボット１５５が配設されている。ロボット１５５は、ウェーハ１００を保持する保持面を備えている。ロボット１５５は、加工後のウェーハ１００を第２のカセット１６３に搬入（収納）する。また、ロボット１５５は、第１のカセット１６１から加工前のウェーハ１００を取り出して、仮置き機構１５２の仮置きテーブル１５４に載置する。

【0017】

仮置き機構１５２は、第１のカセット１６１から取り出されたウェーハ１００を仮置きするために用いられ、ロボット１５５に隣接する位置に設けられている。仮置き機構１５２は、仮置きテーブル１５４、および、位置合わせ部材１５３を有している。

【0018】

位置合わせ部材１５３は、仮置きテーブル１５４を囲むように外側に配置される複数の位置合わせピンと、位置合わせピンを仮置きテーブル１５４の径方向に移動させるスライダとを備えている。位置合わせ部材１５３では、位置合わせピンが仮置きテーブル１５４の径方向に中央に向かって移動されることにより、複数の位置合わせピンを結ぶ円が縮径される。これにより、仮置きテーブル１５４に載置されたウェーハ１００が、所定の位置に位置合わせ（センタリング）される。

【0019】

仮置き機構１５２に隣接する位置には、搬入機構１７０が設けられている。搬入機構１７０は、仮置き機構１５２に仮置きされたウェーハ１００を、裏面１０２が上向きとなるように、チャックテーブル２０の保持面２２に載置する。

【0020】

第２の装置ベース１１の上面側には、開口部１３が設けられている。そして、開口部１３内には、ウェーハ保持機構３０が配置されている。

【0021】

ウェーハ保持機構３０は、ウェーハ１００を保持する保持面２２を備えたチャックテーブル２０、チャックテーブル２０を支持するチャックテーブルベース２９、チャックテーブルベース２９の基端側に無端ベルト２５を介して接続されている駆動部２６、チャックテーブルベース２９を支持する支持部材２８、および、支持部材２８を支える複数の支持柱２７を含んでいる。

【0022】

チャックテーブル２０は、テーブルの一例であり、ポーラス部材２１と、ポーラス部材２１の上面が露出するようにポーラス部材２１を収容する枠体２３と、を備えている。ポーラス部材２１の上面は、ウェーハ１００を吸引保持する保持面２２である。保持面２２は、第１吸引源４７（図２参照）に連通されることにより、ウェーハ１００を吸引保持する。このように、チャックテーブル２０は、第１吸引源４７に連通された保持面２２によって、板状ワークであるウェーハ１００を吸引保持する。また、枠体２３の上面である枠体面２４は、保持面２２を囲繞しており、保持面２２と同一面（面一）となるように形成されている

【0023】

駆動部２６は、モータおよび駆動プーリを備え、無端ベルト２５を回動させることにより、チャックテーブルベース２９を回転させる。これにより、チャックテーブルベース２９に支持されているチャックテーブル２０が、保持面２２の中心を通るようにＺ軸方向に延びるテーブル回転軸を中心に回転する。

【0024】

チャックテーブル２０の周囲には、チャックテーブル２０とともにＹ軸方向に沿って移動されるカバー板３９が設けられている。また、カバー板３９には、Ｙ軸方向に伸縮する蛇腹カバー１２が連結されている。そして、ウェーハ保持機構３０の下方には、Ｙ軸方向移動機構４０が配設されている。

【0025】

Ｙ軸方向移動機構４０は、チャックテーブル２０と研削機構７０の研削砥石７７とを、相対的に、保持面２２に平行なＹ軸方向に移動させる。本実施形態では、Ｙ軸方向移動機構４０は、研削機構７０の研削砥石７７に対して、チャックテーブル２０をＹ軸方向に移動させるように構成されている。

【0026】

Ｙ軸方向移動機構４０は、Ｙ軸方向に平行な一対のＹ軸ガイドレール４２、このＹ軸ガイドレール４２上をスライドするＹ軸移動テーブル４５、Ｙ軸ガイドレール４２と平行なＹ軸ボールネジ４３、Ｙ軸ボールネジ４３に接続されているＹ軸モータ４４、および、これらを保持する保持台４１を備えている。

【0027】

Ｙ軸移動テーブル４５は、Ｙ軸ガイドレール４２にスライド可能に設置されている。Ｙ軸移動テーブル４５には、図示しないナット部が固定されている。このナット部には、Ｙ軸ボールネジ４３が螺合されている。Ｙ軸モータ４４は、Ｙ軸ボールネジ４３の一端部に連結されている。

【0028】

Ｙ軸方向移動機構４０では、Ｙ軸モータ４４がＹ軸ボールネジ４３を回転させることにより、Ｙ軸移動テーブル４５が、Ｙ軸ガイドレール４２に沿って、Ｙ軸方向に移動する。Ｙ軸移動テーブル４５には、ウェーハ保持機構３０が載置されている。したがって、Ｙ軸移動テーブル４５のＹ軸方向への移動に伴って、チャックテーブル２０を含むウェーハ保持機構３０が、Ｙ軸方向に移動する。

【0029】

本実施形態では、ウェーハ保持機構３０は、チャックテーブル２０の保持面２２にウェーハ１００を保持させるための－Ｙ方向側のウェーハ保持位置と、保持面２２に保持されているウェーハ１００が研削される＋Ｙ方向側の研削位置との間を、Ｙ軸方向移動機構４０によって、Ｙ軸方向に沿って移動される。

【0030】

また、第２の装置ベース１１の＋Ｙ方向側には、コラム１５が立設されている。コラム１５の前面には、ウェーハ１００を研削する研削機構７０、および、研削送り機構６０が設けられている。

【0031】

研削送り機構６０は、チャックテーブル２０と研削機構７０の研削砥石７７とを、保持面２２に垂直なＺ軸方向（研削送り方向）に相対的に移動させる。本実施形態では、研削送り機構６０は、チャックテーブル２０に対して、研削砥石７７をＺ軸方向に移動させるように構成されている。

【0032】

研削送り機構６０は、Ｚ軸方向に平行な一対のＺ軸ガイドレール６１、このＺ軸ガイドレール６１上をスライドするＺ軸移動テーブル６３、Ｚ軸ガイドレール６１と平行なＺ軸ボールネジ６２、Ｚ軸モータ６４、Ｚ軸ボールネジ６２の回転量（回転回数および回転角度）を検知するためのＺ軸エンコーダ６５、および、Ｚ軸移動テーブル６３に取り付けられたホルダ６６を備えている。ホルダ６６は、研削機構７０を支持している。

【0033】

Ｚ軸移動テーブル６３は、Ｚ軸ガイドレール６１にスライド可能に設置されている。Ｚ軸移動テーブル６３には、図示しないナット部が固定されている。このナット部には、Ｚ軸ボールネジ６２が螺合されている。Ｚ軸モータ６４は、Ｚ軸ボールネジ６２の一端部に連結されている。

【0034】

研削送り機構６０では、Ｚ軸モータ６４がＺ軸ボールネジ６２を回転させることにより、Ｚ軸移動テーブル６３が、Ｚ軸ガイドレール６１に沿って、Ｚ軸方向に移動する。これにより、Ｚ軸移動テーブル６３に取り付けられたホルダ６６、および、ホルダ６６に支持された研削機構７０も、Ｚ軸移動テーブル６３とともにＺ軸方向に移動する。

【0035】

Ｚ軸エンコーダ６５は、Ｚ軸モータ６４がＺ軸ボールネジ６２を回転させることで回転され、Ｚ軸ボールネジ６２の回転量（回転回数および回転角度）を認識することができる。そして、本実施形態では、制御部７が、Ｚ軸エンコーダ６５が認識したＺ軸ボールネジ６２の回転量を認識して、その認識結果に基づいて、Ｚ軸方向に移動される研削機構７０の研削砥石７７の高さ位置を検知することができる。

【0036】

研削機構７０は、チャックテーブル２０の保持面２２に吸引保持された板状ワークとしてのウェーハ１００を加工する加工機構の一例である。研削機構７０は、ホルダ６６に固定されたスピンドルハウジング７１、スピンドルハウジング７１に回転可能に保持されたスピンドル７２、スピンドル７２を回転駆動するスピンドルモータ７３、スピンドル７２の下端に取り付けられたホイールマウント７４、および、ホイールマウント７４に支持された研削ホイール７５を備えている。

【0037】

スピンドルハウジング７１は、Ｚ軸方向に延びるようにホルダ６６に保持されている。スピンドル７２は、チャックテーブル２０の保持面２２と直交するようにＺ軸方向に延び、スピンドルハウジング７１に回転可能に支持されている。

【0038】

スピンドルモータ７３は、スピンドル７２の上端側に連結されている。このスピンドルモータ７３により、スピンドル７２は、Ｚ軸方向に延びる回転軸を中心として回転する。

【0039】

ホイールマウント７４は、円板状に形成されており、スピンドル７２の下端（先端）に固定されている。ホイールマウント７４は、研削ホイール７５を支持している。

【0040】

研削ホイール７５は、外径がホイールマウント７４の外径と略同径を有するように形成されている。研削ホイール７５は、金属材料から形成された円環状のホイール基台７６を含む。ホイール基台７６の下面には、全周にわたって、環状に配列された複数の研削砥石７７が固定されている。研削砥石７７は、その中心を軸に、スピンドル７２とともにスピンドルモータ７３によって回転され、チャックテーブル２０に保持されたウェーハ１００の裏面１０２を研削する。

【0041】

また、第２の装置ベース１１における開口部１３の側部には、厚み測定器６７が配設されている。厚み測定器６７は、保持面ハイトゲージ６８および上面ハイトゲージ６９を有している。保持面ハイトゲージ６８は、チャックテーブル２０の保持面２２と同一面である枠体２３の枠体面２４の高さを測定することによって、保持面２２の高さを測定する。上面ハイトゲージ６９は、保持面２２に保持されたウェーハ１００の上面の高さを測定する。厚み測定器６７では、保持面ハイトゲージ６８の測定値と上面ハイトゲージ６９の測定値との差を算出することにより、ウェーハ１００の厚さを測定する。

【0042】

研削後のウェーハ１００は、搬送装置の一例である搬出機構１７２によって搬出される。搬出機構１７２は、チャックテーブル２０に保持されたウェーハ１００を、枚葉式のスピンナ洗浄機構１５６のスピンナテーブル１５７に搬送する。

【0043】

スピンナ洗浄機構１５６は、ウェーハ１００を洗浄するスピンナ洗浄ユニットである。スピンナ洗浄機構１５６は、ウェーハ１００を保持するスピンナテーブル１５７、および、スピンナテーブル１５７に向けて洗浄水および乾燥エアを噴射するノズル１５８を備えている。

【0044】

スピンナ洗浄機構１５６では、ウェーハ１００を保持したスピンナテーブル１５７が回転するとともに、ウェーハ１００に向けて洗浄水が噴射されて、ウェーハ１００がスピンナ洗浄される。その後、ウェーハ１００に乾燥エアが吹き付けられて、ウェーハ１００が乾燥される。

【0045】

スピンナ洗浄機構１５６によって洗浄されたウェーハ１００は、ロボット１５５により、第２のカセットステージ１６２上の第２のカセット１６３に搬入される。

【0046】

また、研削装置１は、その内部に、研削装置１の制御のための制御部７を有している。制御部７は、制御プログラムに従って演算処理を行うＣＰＵ、および、メモリ等の記憶媒体等を備えている。制御部７は、各種の処理を実行し、研削装置１の各構成要素を統括制御する。

【0047】

たとえば、制御部７は、研削装置１の上述した各部材を制御して、ウェーハ１００に対する研削処理を実行する。

【0048】

ここで、図２を用いて、流体流通機構４６について説明する。流体流通機構４６は、チャックテーブル２０の保持面２２に対して、流体であるエア、水あるいはエアと水との混合流体を供給する、あるいは、保持面２２に吸引力を付与するための機構である。

【0049】

流体流通機構４６は、吸引溝４０３、吸引溝４０３に連通されている吸引流路４７０、および、吸引流路４７０に連通されている吸引配管４７１を備えている。

【0050】

吸引溝４０３は、ポーラス部材２１の下面に接するように、チャックテーブル２０における枠体２３の凹部の底面に設けられている。吸引溝４０３は、チャックテーブル２０の中心を中心として、同心円状に形成されている。

【0051】

吸引流路４７０は、吸引溝４０３の底面から下方に延びて、吸引配管４７１に接続されている。吸引配管４７１の一端側は、吸引流路４７０に連通されている。吸引配管４７１の他端側には、第１吸引源４７が接続されている。この第１吸引源４７は、たとえば、バキュームポンプまたはエジェクター機構等の真空発生装置を備え、チャックテーブル２０のポーラス部材２１に連通されて、その上面である保持面２２に吸引力を与えるために用いられる。

【0052】

また、吸引配管４７１には、第１吸引源４７から吸引流路４７０側に向かって順に、吸引開閉弁４７５および吸引流量調整部４７３が配設されている。吸引開閉弁４７５は、吸引配管４７１と第１吸引源４７との連通状態を切り換える。吸引流量調整部４７３は、たとえば比例制御弁であり、吸引開閉弁４７５が開いているときに、内部のオリフィス径を変更して、第１吸引源４７からポーラス部材２１の保持面２２に伝達される吸引力を調整するために用いられる。

【0053】

さらに、吸引配管４７１には、エア配管４８１が連通されている。エア配管４８１は、チャックテーブル２０の保持面２２とエア供給源４８とを連通するための配管である。

【0054】

エア配管４８１の一端側は、吸引配管４７１を介して、吸引流路４７０に連通されている。エア配管４８１の他端側には、エア供給源４８が接続されている。エア供給源４８は、コンプレッサー等を備え、チャックテーブル２０の保持面２２にエアを供給するために用いられる。

【0055】

また、エア配管４８１には、エア供給源４８から吸引流路４７０側に向かって順に、エア供給開閉弁４８５およびエア調整部４８３が配設されている。エア供給開閉弁４８５は、エア配管４８１とエア供給源４８との連通状態を切り換える。エア調整部４８３は、たとえば比例制御弁であり、エア供給開閉弁４８５が開いているときに、内部のオリフィス径を変更して、エア供給源４８から保持面２２に送られるエアの流量を調整するために用いられる。

【0056】

また、エア配管４８１には、水配管４９１が連通されている。水配管４９１は、チャックテーブル２０の保持面２２と水供給源４９とを連通するための配管である。

【0057】

水配管４９１の一端側は、エア配管４８１および吸引配管４７１を介して、吸引流路４７０に連通されている。水配管４９１の他端側には、水供給源４９が接続されている。水供給源４９は、ポンプ等を備え、チャックテーブル２０の保持面２２に水を供給するために用いられる。

【0058】

また、水配管４９１には、水供給源４９から吸引流路４７０側に向かって順に、水供給開閉弁４９５および水調整部４９３が配設されている。水供給開閉弁４９５は、水配管４９１と水供給源４９との連通状態を切り換える。水調整部４９３は、たとえば比例制御弁であり、水供給開閉弁４９５が開いているときに、内部のオリフィス径を変更して、水供給源４９から保持面２２に送られる水の流量を調整するために用いられる。

【0059】

なお、吸引流量調整部４７３、エア調整部４８３および水調整部４９３は、手動でオリフィス径を調整するニードルバルブあるいはゲートバルブでもよい。

【0060】

次に、搬出機構１７２の構成について説明する。搬出機構１７２は、搬送パッド８０を用いてチャックテーブル２０からウェーハ１００を搬出するものである。具体的には、搬出機構１７２は、第１吸引源４７に連通されたチャックテーブル２０の保持面２２に吸引保持されているウェーハ１００の上面を搬送パッド８０によって吸引保持し、第１吸引源４７との連通が遮断された保持面２２からウェーハ１００を上昇させ、保持面２２からウェーハ１００を搬出させる。

【0061】

図２に示すように、搬出機構１７２は、円板状の搬送パッド８０、搬送パッド８０を上下自在に吊持するアーム８１、Ｚ軸方向に延びる回動柱部８２、および、回動柱部８２に接続されている移動機構５０を備えている。アーム８１における基端側の端部は、回動柱部８２の上端に連結されている。移動機構５０は、回動柱部８２を、アーム８１および搬送パッド８０とともに移動させる。

【0062】

移動機構５０は、搬送パッド８０を昇降させる昇降機構の一例である。移動機構５０は、第１の装置ベース１０（図１参照）に立設されたコラム５１と、コラム５１に設けられたボールネジ５２と、ボールネジ５２に対して平行に配設されたガイドレール５３と、ボールネジ５２を回転させるモータ５４と、ボールネジ５２の回転量（たとえば回転回数および回転角度）を検知するためのエンコーダ５７と、ボールネジ５２に螺合するナット５５と、を備えている。ガイドレール５３には、回動柱部８２が、スライド可能な状態で設置されている。また、回動柱部８２は、ナット５５に連結されている。

【0063】

移動機構５０では、モータ５４により、ボールネジ５２をＺ軸方向に延びる回転軸５２１を軸として回転させることで、回動柱部８２を、ガイドレール５３に沿ってＺ軸方向に昇降移動させる。そして、このように回動柱部８２をＺ軸方向に昇降移動させることで、回動柱部８２に連結されたアーム８１、および、アーム８１に吊持されている搬送パッド８０を昇降移動させる。なお、この際、エンコーダ５７が、ボールネジ５２の回転量（回転回数および回転角度）を認識し、認識結果に基づいて、Ｚ軸方向に昇降移動される搬送パッド８０の高さ位置を検知する。

【0064】

また、移動機構５０は、アーム８１を、回動柱部８２を通るＺ軸方向の回転軸８２１を軸にして旋回移動させることが可能なように構成されている。本実施形態では、アーム８１は、図示しない旋回モータによって、回転軸８２１を軸にして、吊持している搬送パッド８０とともに旋回移動することが可能である。

【0065】

このように、移動機構５０では、アーム８１の昇降移動および旋回移動を行うことで、搬送パッド８０を移動させて、搬送パッド８０の高さ位置および水平位置を調整することができる。

【0066】

アーム８１の先端側の端部には、円板状の円板部材８１１が取り付けられている。円板部材８１１には、複数（たとえば３つ）の貫通孔８１２が、円周上に等間隔に貫通形成されている。そして、貫通孔８１２には、搬送パッド８０に連結されたボルト８４が挿入されている。

【0067】

ボルト８４は、貫通孔８１２よりも僅かに小さな径を有する軸部８４１と、軸部８４１の上端に形成された頭部８４２とを備えている。

【0068】

軸部８４１は、貫通孔８１２を貫通しており、貫通孔８１２に遊嵌されている。軸部８４１の下端は、搬送パッド８０の基台プレート９０の上面に連結されている。頭部８４２は、貫通孔８１２よりも大径に形成されており、ボルト８４の下降範囲を制限している。

【0069】

また、ボルト８４は、軸部８４１の周囲に、衝撃吸収部材としてのスプリング８４３を有している。スプリング８４３の上端は円板部材８１１の下面に接触している一方、スプリング８４３の下端は、搬送パッド８０の基台プレート９０の上面に接触している。スプリング８４３は、円板部材８１１と搬送パッド８０とを、互いに遠ざかる方向に付勢している。

【0070】

アーム８１は、このような構成の円板部材８１１およびボルト８４を介して、搬送パッド８０に加えられる衝撃を吸収しながら、搬送パッド８０を吊持することが可能となっている。

【0071】

搬送パッド８０は、チャックテーブル２０の載置面である保持面２２に載置されているウェーハ１００の上面である裏面１０２を吸引保持する。搬送パッド８０は、図２および図３（ａ）に示すように、基台の一例としての円板状の基台プレート９０と、基台プレート９０の下面９０ａに配置された外周吸引部９１と、を有している。

【0072】

外周吸引部９１は、ウェーハ１００の外周部を吸引保持するための部材である。本実施形態では、基台プレート９０の下面９０ａにおける外周部付近に、下面９０ａの中心を中心とする円上に、等間隔に４つの外周吸引部９１が配置されている。

【0073】

図３（ａ）に示すように、外周吸引部９１は、基台プレート９０に取り付けられている柱状部材９１１と、柱状部材９１１の先端に取り付けられている外周吸盤９１２とを備えている。

【0074】

図３（ｂ）に示すように、柱状部材９１１は、基台プレート９０の下面９０ａに、下面９０ａの径方向外側に傾いた状態で取り付けられている。すなわち、柱状部材９１１は、下面９０ａに垂直な垂直軸３０１から径方向外側に傾いている傾斜軸３０２に沿って延びるように、下面９０ａに取り付けられている。また、柱状部材９１１は、たとえば筒蛇腹などの弾性部材から構成されており、外力に応じて弾性的に向きを変えることが可能なように構成されている。

【0075】

また、搬出機構１７２は、図２に示すように、外側吸引路９３を有している。外側吸引路９３の下端は、４つに分岐されて基台プレート９０を貫通し、４つの外周吸引部９１に接続されている。また、外側吸引路９３の上端は、外側エアバルブ９４を介して、第２吸引源９５に接続されている。外側エアバルブ９４は、外周吸引部９１の外周吸盤９１２と第２吸引源９５との連通状態を切り換える。

【0076】

したがって、搬出機構１７２では、外側エアバルブ９４を開けることにより、第２吸引源９５を外周吸引部９１に連通させて外周吸盤９１２に吸引力を与えて、保持面２２上のウェーハ１００の外周部を吸引保持することが可能となる。これにより、搬送パッド８０が、ウェーハ１００を保持することができる。

【0077】

そして、移動機構５０によって回動柱部８２およびアーム８１を旋回および昇降させることにより、ウェーハ１００を保持している搬送パッド８０を旋回および昇降させて、ウェーハ１００をチャックテーブル２０から搬出することが可能となる。

【0078】

次に、上記のような構成を有する搬出機構１７２によるウェーハ１００の搬送方法について説明する。搬出機構１７２によるウェーハ１００の搬送は、研削機構７０（図１参照）を用いたウェーハ１００に対する研削加工の終了後に、制御部７によって実施される。

【0079】

このときには、図２に示すように、流体流通機構４６の吸引開閉弁４７５が開かれており、チャックテーブル２０の保持面２２が、第１吸引源４７に連通されて、ウェーハ１００を吸引保持している。また、外側エアバルブ９４は閉じている。

【0080】

ウェーハ１００に対する研削加工の終了後、制御部７は、図１に示したＹ軸方向移動機構４０を制御して、ウェーハ１００を保持しているチャックテーブル２０を、研削機構７０の下方の研削位置から、搬出機構１７２に近い－Ｙ方向側のウェーハ保持位置に移動させる。

【0081】

その後、研削機構７０は、搬出機構１７２における移動機構５０によって回動柱部８２およびアーム８１を旋回移動させることで、図２に示すように、搬送パッド８０を、チャックテーブル２０の保持面２２に吸引保持されているウェーハ１００の上方に位置づける。この際、制御部７は、搬送パッド８０における基台プレート９０の中心とウェーハ１００の上面である裏面１０２の中心との水平位置が略合致するように、搬送パッド８０の位置を調整する。

【0082】

次に、制御部７は、移動機構５０によって搬送パッド８０を下降させ、第２吸引源９５に連通させた外周吸引部９１によってウェーハ１００の外周部を吸引保持する。具体的には、制御部７は、移動機構５０によって回動柱部８２を下降させることにより、アーム８１の先端に吊持されている搬送パッド８０を下降させる。これにより、制御部７は、図４に示すように、搬送パッド８０の外周吸引部９１の外周吸盤９１２を、保持面２２に保持されたウェーハ１００の裏面１０２の外周部に押し付けて接触させる。

【0083】

この際、外周吸盤９１２の下面がウェーハ１００の裏面１０２にならって裏面１０２に平行になろうとするため、外周吸引部９１の柱状部材９１１が、外周吸盤９１２から力を受けて、基台プレート９０の下面９０ａ（ウェーハ１００の裏面１０２）の径方向外側に傾いている状態から、下面９０ａに略垂直な状態に、弾性的に変形する。

【0084】

なお、外周吸盤９１２の下面をウェーハ１００の裏面１０２にならって平行にするために、さらにアーム８１を下降させ、アーム８１の上面とボルト８４の頭部８４２の下面との間に隙間を形成し、スプリング８４３を押しつぶして、外周吸盤９１２をウェーハ１００の裏面１０２に押し付ける力を強めてもよい。

【0085】

そして、制御部７は、この状態で外側エアバルブ９４を開くことで、外周吸引部９１を第２吸引源９５に連通させて、外周吸引部９１の外周吸盤９１２によってウェーハ１００の裏面１０２の外周部を吸引保持する。さらに、制御部７は、流体流通機構４６の吸引開閉弁４７５を閉じることにより、チャックテーブル２０の保持面２２と第１吸引源４７との連通を遮断する。

【0086】

次に、制御部７は、移動機構５０によって搬送パッド８０を上昇させ、ウェーハ１００の外周部を反り上がらせてウェーハ１００を湾曲形状にして、チャックテーブル２０からウェーハ１００を搬出する。

【0087】

具体的には、制御部７は、移動機構５０によって回動柱部８２を上昇させることにより、アーム８１および搬送パッド８０を、所定の距離だけ上昇させる。これにより、基台プレート９０が所定距離だけ上昇して、図５に示すように、ウェーハ１００の裏面１０２の外周部を保持している外周吸引部９１が、所定の距離だけ上昇する。そして、基台プレート９０の下面９０ａ（ウェーハ１００の裏面１０２）に略垂直な状態に変形していた外周吸引部９１の柱状部材９１１の向きが、弾性力により、下面９０ａ（裏面１０２）の径方向外側に傾いている状態に戻る。
これにより、柱状部材９１１の先端の外周吸盤９１２に吸引保持されているウェーハ１００の外周部が反りあがり、保持面２２から離隔される。したがって、ウェーハ１００は、図５に示すように、中央が下方に突出した中凸形状となる。

【0088】

このように、外周吸引部９１は、第２吸引源９５に連通されてウェーハ１００の外周部を吸引し、ウェーハ１００の外周部を反り上がらせて湾曲形状にして保持する。したがって、ウェーハ１００では、外周吸引部９１に吸引保持されている外周部のみが保持面２２から離隔される。これにより、ウェーハ１００の外周部から保持面２２に大気が導入されて、保持面２２（ポーラス部材２１）の真空（吸引力）が破壊される。すなわち、保持面２２を構成するポーラス部材２１内の真空が破られる。

【0089】

なお、制御部７は、流体流通機構４６の吸引開閉弁４７５を閉じるときに、エア供給開閉弁４８５または水供給開閉弁４９５を開けて保持面２２の吸引力を破壊することにより、外周吸盤９１２をウェーハ１００の裏面１０２に押し付け、即座にアーム８１を上昇させ、ウェーハ１００を、その中央が下方に突出した中凸形状にして、ウェーハ１００を保持面２２から離脱させる時間を短くしてもよい。
また、チャックテーブル２０の保持面２２は、ウェーハ１００を吸引保持せず、ウェーハ１００を載置するだけの載置面であってもよい。つまり、保持面２２を第１吸引源４７に連通させない構成でもよい。

【0090】

このように、制御部７は、移動機構５０によって搬送パッド８０を所定距離だけ上昇させることにより、ウェーハ１００の中央を下方向に中凸形状にして、外周吸引部９１によって吸引保持されているウェーハ１００の外周部のみを保持面２２から離隔させ、保持面２２に大気を入れて、保持面２２（ポーラス部材２１）の真空を破壊する。これにより、保持面２２からウェーハ１００への吸引力が消失して、ウェーハ１００を保持面２２から容易に離脱させることが可能となる。

【0091】

次に、制御部７は、図６に示すように、移動機構５０によって搬送パッド８０をさらに上昇させて、保持面２２からウェーハ１００を完全に離脱させて、保持面２２からウェーハ１００を搬出する。

【0092】

以上のように、本実施形態にかかる搬出機構１７２では、搬送パッド８０の外周吸引部９１が、弾性部材からなる柱状部材９１１を備えており、ウェーハ１００の外周部を保持したまま、ウェーハ１００の径方向外側を向くように弾性変形することが可能なように構成されている。これにより、外周吸引部９１によって、ウェーハ１００の外周部を反り上がらせて、この外周部のみを保持面２２から離隔することができるので、ウェーハ１００を中凸形状にして、ウェーハ１００の外周部から保持面２２に大気を入れて、保持面２２の（ポーラス部材２１）真空を破壊することができる。

【0093】

したがって、流体流通機構４６によって保持面２２から水や混合流体を噴出しなくとも、保持面２２からウェーハ１００を離隔することが可能となる。このため、保持面２２からウェーハ１００を素早く離脱させることができるので、搬出機構１７２による搬送時間を短縮することが可能である。また、ウェーハ１００が濡れることを防止することもできる。

【0094】

また、ウェーハ１００の外周部から保持面２２に大気を入れて、保持面２２（ポーラス部材２１）の真空を破壊している。このため、ウェーハ１００の外周部が保持面２２から離隔しないことによりウェーハ１００が吸盤のようになることによる保持面２２の吸引力を、容易に破壊することができる。したがって、ウェーハ１００がチャックテーブル２０に対して吸盤のように吸い付いて、ウェーハ１００がチャックテーブル２０から離脱しにくくなることを、良好に抑制することもできる。

【0095】

なお、搬送パッド８０は、図７に示すように、外周吸引部９１に加えて、中央吸引部９２を有していてもよい。

【0096】

中央吸引部９２は、基台プレート９０における外周吸引部９１よりも内側に配置されている。中央吸引部９２は、ウェーハ１００の中央部分を吸引保持するための部材である。本実施形態では、基台プレート９０の下面９０ａの中心を中心とする円上に、等間隔に３つの中央吸引部９２が配置されている。

【0097】

中央吸引部９２は、基台プレート９０に取り付けられている柱状部材である伸縮部９２１と、伸縮部９２１の先端に取り付けられている中央吸盤９２２を備えている。

【0098】

伸縮部９２１は、伸縮可能な蛇腹管状に形成されており、バネ性を有している。伸縮部９２１は、図８に示すように、中央吸盤９２２および伸縮部９２１の重さと伸縮部９２１のバネ性とによって、下方に向かって伸びた状態となっている。したがって、中央吸引部９２の中央吸盤９２２は、伸縮部９２１が伸びた状態で基台プレート９０から吊り下げられており、外周吸引部９１の外周吸盤９１２よりも低い位置に配置されている。

【0099】

また、伸縮部９２１は、比較的に強い吸引力が中央吸盤９２２に付与されたときに収縮するように構成されている。そして、伸縮部９２１が収縮したときには、中央吸盤９２２は、外周吸引部９１の外周吸盤９１２と同じ高さに配置される。

【0100】

また、搬出機構１７２は、図８に示すように、外側吸引路９３に加えて、中央吸引路９６を有している。中央吸引路９６は、円板部材８１１の中央を貫通するように設けられた吸引路８９を介して、基台プレート９０内に配置されている。中央吸引路９６の下端は、基台プレート９０内で３つに分岐されて、３つの中央吸引部９２に接続されている。また、中央吸引路９６の上端は、中央エアバルブ９７および流量調整弁９９を介して、第３吸引源９８に接続されている。中央エアバルブ９７は、中央吸引部９２の中央吸盤９２２と第３吸引源９８との連通状態を切り換える。流量調整弁９９は、たとえば比例制御弁であり、中央エアバルブ９７が開いているときに、内部のオリフィス径を変更して、第３吸引源９８から中央吸引部９２の中央吸盤９２２に伝達される吸引力を調整するために用いられる。

【0101】

したがって、この構成の搬出機構１７２では、外側エアバルブ９４を開けることにより、第２吸引源９５を外周吸引部９１に連通させて外周吸盤９１２に吸引力を与えて、保持面２２上のウェーハ１００の外周部を吸引保持することが可能となる。また、中央エアバルブ９７を開けることにより、第３吸引源９８を中央吸引部９２に連通させて中央吸盤９２２に吸引力を与えて、保持面２２上のウェーハ１００の中央部分を吸引保持することができる。これにより、搬送パッド８０が、ウェーハ１００を保持することができる。

【0102】

この構成では、ウェーハ１００をチャックテーブル２０の保持面２２から搬出する場合、制御部７は、上述したように、移動機構５０を制御して、図８に示すように、搬送パッド８０を、チャックテーブル２０の保持面２２に吸引保持されているウェーハ１００の上方に位置づける。

【0103】

次に、制御部７は、移動機構５０によって回動柱部８２を下降させることにより、アーム８１の先端に吊持されている搬送パッド８０を下降させる。これにより、制御部７は、図９に示すように、搬送パッド８０の外周吸引部９１と中央吸引部９２とを、ウェーハ１００の裏面１０２に接触させる。すなわち、制御部７は、外周吸引部９１の外周吸盤９１２を、保持面２２に保持されたウェーハ１００の裏面１０２の外周部に押し付けて接触させる。また、制御部７は、中央吸引部９２の中央吸盤９２２を、ウェーハ１００の裏面１０２の中央部分に押し付けて接触させる。

【0104】

この際、上述したように、外周吸引部９１の柱状部材９１１が、外周吸盤９１２から力を受けて、基台プレート９０の下面９０ａの径方向外側に傾いている状態から、下面９０ａに略垂直な状態に、弾性的に変形する。

【0105】

また、中央吸引部９２の中央吸盤９２２がウェーハ１００の裏面１０２の中央部分に押し付けられることにより、中央吸引部９２の伸縮部９２１は、収縮した状態となる。

【0106】

そして、制御部７は、この状態で外側エアバルブ９４を開くことで、外周吸引部９１の外周吸盤９１２を第２吸引源９５に連通させて、外周吸盤９１２によってウェーハ１００の裏面１０２の外周部を吸引保持する。

【0107】

また、制御部７は、中央エアバルブ９７を開いて中央吸引部９２の中央吸盤９２２を第３吸引源９８に連通させて、中央吸盤９２２によってウェーハ１００の裏面１０２の中央部分を吸引保持する。この際、制御部７は、流量調整弁９９を制御して、中央吸盤９２２に、比較的に弱い吸引力を付与する。

【0108】

さらに、制御部７は、流体流通機構４６の吸引開閉弁４７５を閉じることにより、チャックテーブル２０の保持面２２と第１吸引源４７との連通を遮断する。

【0109】

次に、制御部７は、移動機構５０によって回動柱部８２を上昇させることにより、アーム８１および搬送パッド８０を、所定の距離だけ上昇させる。これにより、基台プレート９０が所定距離だけ上昇して、図１０に示すように、ウェーハ１００の裏面１０２の外周部を保持している外周吸引部９１が、所定の距離だけ上昇する。そして、基台プレート９０の下面９０ａに略垂直な状態に変形していた外周吸引部９１の柱状部材９１１の向きが、弾性力により、下面９０ａの径方向外側に傾いている状態に戻る。
これにより、柱状部材９１１の先端の外周吸盤９１２に吸引保持されているウェーハ１００の外周部が反りあがり、保持面２２から離隔される。

【0110】

一方、上述したように、中央吸引部９２の中央吸盤９２２には、比較的に弱い吸引力が付与されている。このため、中央吸引部９２の伸縮部９２１は、収縮することなく、基台プレート９０の上昇に伴って、外周吸盤９１２および伸縮部９２１の重さと伸縮部９２１のバネ性とによって、下方に向かって伸びる。このため、ウェーハ１００の裏面１０２の中央部分に接している中央吸盤９２２がウェーハ１００を下方に押圧することとなるため、ウェーハ１００の中央部分は、保持面２２に接した状態のままとなる。したがって、ウェーハ１００は、図１０に示すように、中央が下方に突出した中凸形状となる。

【0111】

したがって、ウェーハ１００では、外周吸引部９１に吸引保持されている外周部のみが保持面２２から離隔され、ウェーハ１００の外周部から保持面２２に大気が導入されて、保持面２２（ポーラス部材２１）の真空が破壊される。これにより、保持面２２からウェーハ１００への吸引力が消失して、ウェーハ１００を保持面２２から容易に離脱させることが可能となる。

【0112】

次に、制御部７は、図１１に示すように、移動機構５０によって搬送パッド８０をさらに上昇させて、保持面２２からウェーハ１００を完全に離脱させて、保持面２２からウェーハ１００を搬出する。この際、制御部７は、流量調整弁９９を制御して、中央吸盤９２２に比較的に強い吸引力を付与する。これにより、中央吸盤９２２を支持している伸縮部９２１が収縮して、ウェーハ１００が平坦な状態となる。そして、制御部７は、この状態で、移動機構５０によって搬送パッド８０をさらに上昇させて、保持面２２からウェーハ１００を搬出する。

【0113】

このように、搬送パッド８０が中央吸引部９２を有している場合、図１０に示すように、中央吸引部９２の中央吸盤９２２によってウェーハ１００の中央部分が下方に押圧される。これにより、外周吸引部９１によって、ウェーハ１００の外周部を反らせて保持面２２から離隔することが容易となる。その結果、ウェーハ１００を保持している保持面２２（ポーラス部材２１）の真空を容易に破壊することが可能である。

【0114】

なお、この構成では、搬送パッド８０の外周吸引部９１と中央吸引部９２とを、ウェーハ１００の裏面１０２に接触させたとき（図９参照）、および、外周吸引部９１によってウェーハ１００の外周部のみを保持面２２から離隔させるとき（図１０参照）に、制御部７は、中央エアバルブ９７を閉じたままにしてもよい。この場合、図９および図１０に示す状態では、中央吸引部９２の中央吸盤９２２によるウェーハ１００の裏面１０２の中央部分の吸引保持は実施されない。

【0115】

さらに、この構成では、制御部７は、ウェーハ１００の外周部を保持面２２から離隔して、保持面２２（ポーラス部材２１）の真空を破壊した後、移動機構５０によって搬送パッド８０を上昇させてウェーハ１００を保持面２２から完全に離脱させるとき（図１１参照）にも、中央吸引部９２の中央吸盤９２２によるウェーハ１００の裏面１０２の中央部分の吸引を実施しなくてもよい。この場合、搬出機構１７２は、中央が下方に突出した中凸形状のウェーハ１００を、搬送パッド８０によって保持して搬送することとなる。

【0116】

また、本実施形態では、外周吸引部９１によってウェーハ１００の外周部のみを保持面２２から離隔させるとき（図５および図１０参照）、あるいは、移動機構５０によって搬送パッド８０を上昇させてウェーハ１００を保持面２２から完全に離脱させるとき（図６および図１１参照）、流体流通機構４６のエア供給開閉弁４８５および／または水供給開閉弁４９５を開けて、保持面２２をエア供給源４８および／または水供給源４９に連通させることにより、保持面２２からエア、水あるいはエアと水との混合流体を噴出してもよい。これにより、保持面２２からのウェーハ１００の離脱を容易に実施することができる。

【0117】

また、搬送パッド８０に中央吸引部９２が形成されている場合、中央吸引部９２の中央吸盤９２２を支持している伸縮部９２１は、バネ性を有していなくてもよい。この場合、ウェーハ１００の裏面１０２の外周部を保持している外周吸引部９１が所定の距離だけ上昇したとき、伸縮部９２１は、中央吸盤９２２および伸縮部９２１の重さによって下方に向かって伸びて、ウェーハ１００を中凸形状とする。したがって、この構成でも、ウェーハ１００の外周部のみが保持面２２から離隔され、外周部から保持面２２に大気が導入されて、保持面２２（ポーラス部材２１）の真空が破壊される。

【0118】

また、本実施形態では、研削装置１は、チャックテーブル２０の保持面２２に連通される第１吸引源４７、搬送パッド８０の外周吸引部９１に連通される第２吸引源９５、および、中央吸引部９２に連通される第３吸引源９８を備えている。これに関し、第１吸引源４７、第２吸引源９５および第３吸引源９８は、それぞれ別の吸引源であってもよいし、１つあるいは２つの共通の吸引源であってもよい。

【符号の説明】

【0119】

１：研削装置、７：制御部、１０：第１の装置ベース、１１：第２の装置ベース、
１２：蛇腹カバー、１３：開口部、１５：コラム、２０：チャックテーブル、
２１：ポーラス部材、２２：保持面、２３：枠体、２４：枠体面、２５：無端ベルト、
２６：駆動部、２７：支持柱、２８：支持部材、２９：チャックテーブルベース、
３０：ウェーハ保持機構、３９：カバー板、４０：Ｙ軸方向移動機構、４１：保持台、
４２：Ｙ軸ガイドレール、４３：Ｙ軸ボールネジ、４４：Ｙ軸モータ、
４５：Ｙ軸移動テーブル、４６：流体流通機構、４７：第１吸引源、４８：エア供給源、
４９：水供給源、５０：移動機構、５１：コラム、５２：ボールネジ、
５３：ガイドレール、５４：モータ、５５：ナット、５７：エンコーダ、
６０：研削送り機構、６１：Ｚ軸ガイドレール、６２：Ｚ軸ボールネジ、
６３：Ｚ軸移動テーブル、６４：Ｚ軸モータ、６５：Ｚ軸エンコーダ、６６：ホルダ、
６７：厚み測定器、６８：保持面ハイトゲージ、６９：上面ハイトゲージ、
７０：研削機構、７１：スピンドルハウジング、７２：スピンドル、
７３：スピンドルモータ、７４：ホイールマウント、７５：研削ホイール、
７６：ホイール基台、７７：研削砥石、８０：搬送パッド、８１：アーム、
８２：回動柱部、８４：ボルト、８９：吸引路、９０：基台プレート、９０ａ：下面、
９１：外周吸引部、９２：中央吸引部、９３：外側吸引路、９４：外側エアバルブ、
９５：第２吸引源、９６：中央吸引路、９７：中央エアバルブ、９８：第３吸引源、
９９：流量調整弁、１００：ウェーハ、１０１：表面、１０２：裏面、
１５２：仮置き機構、１５３：位置合わせ部材、１５４：仮置きテーブル、
１５５：ロボット、１５６：スピンナ洗浄機構、１５７：スピンナテーブル、
１５８：ノズル、１６０：第１のカセットステージ、１６１：第１のカセット、
１６２：第２のカセットステージ、１６３：第２のカセット、１７０：搬入機構、
１７２：搬出機構、４０３：吸引溝、４７０：吸引流路、
４７１：吸引配管、４７３：吸引流量調整部、４７５：吸引開閉弁、
４８１：エア配管、４８３：エア調整部、４８５：エア供給開閉弁、
４９１：水配管、４９３：水調整部、４９５：水供給開閉弁、
５２１：回転軸、８１１：円板部材、８１２：貫通孔、８２１：回転軸、８４１：軸部、
８４２：頭部、８４３：スプリング、９１１：柱状部材、９１２：外周吸盤、
９２１：伸縮部、９２２：中央吸盤

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】