特開 2024-141986 基板処理装置及び基板処理方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2024141986

(43)【公開日】2024-10-10

(54)【発明の名称】基板処理装置及び基板処理方法

(51)【国際特許分類】

   H01L 21/683 20060101AFI20241003BHJP

   H01L 21/304 20060101ALI20241003BHJP

【ＦＩ】

H01L21/68 N

H01L21/304 643A

H01L21/304 648L

【審査請求】未請求

【請求項の数】15

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2023053905

(22)【出願日】2023-03-29

(71)【出願人】

【識別番号】000219967

【氏名又は名称】東京エレクトロン株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】110002756

【氏名又は名称】弁理士法人弥生特許事務所

(72)【発明者】

【氏名】待鳥 真一

【テーマコード（参考）】

5F131

5F157

【Ｆターム（参考）】

5F131AA02

5F131BA12

5F131BA37

5F131CA12

5F131EA06

5F131EA23

5F131EA24

5F131EB55

5F157AB02

5F157AB16

5F157AB33

5F157AB90

5F157BB32

5F157CF16

5F157CF32

5F157DB02

(57)【要約】

【課題】基板を処理するために昇降可能な処理部を備える基板処理装置において、駆動機構から発生するパーティクルによる基板の汚染を防止する。
【解決手段】本開示の基板処理装置は、駆動機構を備える基部と、前記基部を覆うカバー部と、前記カバー部に覆われる内部領域から当該領域の外側の外部領域へと突出し、前記駆動機構によって前記基部に対して昇降移動する昇降体と、前記外部領域にて前記昇降体に接続された、基板を処理するための処理部と、前記駆動機構から発生するパーティクルを吸引するための吸引口が形成された吸引部と、を備える。
【選択図】図７

【特許請求の範囲】

【請求項1】

駆動機構を備える基部と、
前記基部を覆うカバー部と、
前記カバー部に覆われる内部領域から当該領域の外側の外部領域へと突出し、前記駆動機構によって前記基部に対して昇降移動する昇降体と、
前記外部領域にて前記昇降体に接続された、基板を処理するための処理部と、
前記駆動機構から発生するパーティクルを吸引するための吸引口が形成された吸引部と、
を備える基板処理装置。

【請求項2】

前記吸引口は、前記内部領域に設けられる請求項１記載の基板処理装置。

【請求項3】

前記吸引口は、前記カバー部と前記昇降体との間に形成される隙間を介して前記外部領域に連通する請求項２記載の基板処理装置。

【請求項4】

前記カバー部は前記基部を上方から覆うと共に前記昇降体が貫通する上壁を備え、
前記上壁と前記基部との間は、前記隙間に連通して前記パーティクルを前記吸引口から吸引するための吸引路をなす請求項３記載の基板処理装置。

【請求項5】

前記吸引口は上方に向いて開口する請求項４記載の基板処理装置。

【請求項6】

前記駆動機構は、前記昇降体に接続されるスライダを備え、
前記スライダの昇降可能範囲の高さの中心よりも上側に前記吸引口が開口する請求項５記載の基板処理装置。

【請求項7】

前記内部領域について、前記吸引口が設けられる上方側空間と、当該上方側空間の下方の下方側空間とに区画するように、横方向に伸長する第１仕切部が設けられる請求項２ないし６のいずれか一つに記載の基板処理装置。

【請求項8】

前記内部領域について、前記吸引口が設けられる一方側の空間と、当該一方側の空間の側方に位置する他方側の空間と、に区画するように縦方向に伸長する第２仕切部を備える請求項１記載の基板処理装置。

【請求項9】

前記内部領域において前記昇降体、前記基部、前記吸引部がこの順で横方向に並び、
当該内部領域にて、前記駆動機構に対して当該昇降体側に縦方向に伸長して設けられ、
当該内部領域を、前記昇降体、前記基部、前記吸引部の配列方向に並ぶ一の空間と、他の空間とに区画する第３仕切部を備える請求項１記載の基板処理装置。

【請求項10】

前記カバー部は、
前記昇降体、前記基部及び前記吸引部を側方から囲む側壁と、
前記基部を上方から覆うと共に前記昇降体が貫通する上壁と、
前記上壁よりも下方に形成され、前記側壁から前記昇降体の昇降路に向けて突出する下壁と、
を備える請求項９記載の基板処理装置。

【請求項11】

前記昇降体には前記処理部を支持する支持部材が設けられ、
前記処理部は、前記支持部材に支持されるノズルまたはブラシである請求項１０記載の基板処理装置。

【請求項12】

前記基板を収容する処理容器と、
前記処理部により前記基板を処理するために、前記処理容器内で当該基板を保持する基板保持部と、
を備える請求項１記載の基板処理装置。

【請求項13】

前記吸引口からの吸引は、前記基板処理装置の稼働中に常時行われる請求項１記載の基板処理装置。

【請求項14】

カバー部により覆われる基部に設けられる駆動機構により、前記カバー部に覆われる内部領域から当該領域の外側の外部領域へと突出する昇降体を、前記基部に対して昇降移動させる工程と、
前記外部領域にて前記昇降体に接続された処理部により、基板を処理する工程と、
吸引部に形成された吸引口により、前記駆動機構から発生するパーティクルを吸引する工程と、
を備える基板処理方法。

【請求項15】

前記吸引口は、前記カバー部に囲まれる領域に設けられる請求項１４記載の基板処理方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本開示は、基板処理装置及び基板処理方法に関する。

【背景技術】

【0002】

半導体デバイスを製造するにあたり、基板である半導体ウエハ（以下、ウエハと記載する）に対して装置内で各種の処理が行われる。特許文献１においてはウエハを装置内で昇降搬送するにあたり、当該ウエハを支持して搬送するための搬送アームについて、ボールスクリューを含む駆動機構を用いて昇降移動させる技術について記載されている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【特許文献1】特開２０１４－３１８１公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

本開示は、基板を処理するために昇降可能な処理部を備える基板処理装置において、駆動機構から発生するパーティクルによる基板の汚染を防止することができる技術を提供する。

【課題を解決するための手段】

【0005】

本開示の基板処理装置は、駆動機構を備える基部と、
前記基部を覆うカバー部と、
前記カバー部に覆われる内部領域から当該領域の外側の外部領域へと突出し、前記駆動機構によって前記基部に対して昇降移動する昇降体と、
前記外部領域にて前記昇降体に接続された、基板を処理するための処理部と、
前記駆動機構から発生するパーティクルを吸引するための吸引口が形成された吸引部と、
を備える。

【発明の効果】

【0006】

本開示は、基板を処理するために昇降可能な処理部を備える基板処理装置において、駆動機構から発生するパーティクルによる基板の汚染を防止することができる。

【図面の簡単な説明】

【0007】

【図1】本開示の一実施形態に係る基板処理装置である現像装置の平面図である。

【図2】前記現像装置の側面図である。

【図3】前記現像装置に設けられる昇降ユニットの斜視図である。

【図4】前記昇降ユニットの分解斜視図である。

【図5】前記昇降ユニットの縦断正面図である。

【図6】前記昇降ユニットの横断平面図である。

【図7】前記昇降ユニットの縦断側面図である。

【図8】前記昇降ユニットを構成する上カバーを構成する部材の斜視図である。

【図9】前記現像装置を構成する部材の位置関係を示すための平面図である。

【図10】前記昇降ユニットにおける気流を示す説明図である。

【図11】昇降ユニットの他の例を示す縦断側面図である。

【図12】昇降ユニットのさらに他の例を示す横断平面図である。

【発明を実施するための形態】

【0008】

本開示の一実施形態に係る基板処理装置として、現像装置１について、図１の平面図及び図２の側面図を用いて説明する。図中、Ｘ方向、Ｙ方向は各々水平方向であり、互いに直交する。Ｚ方向は鉛直方向である。Ｘ方向を前後方向、Ｙ方向を左右方向として呼称する場合が有る。現像装置１には、図示しない搬送機構によってウエハＷが搬送される。ウエハＷの表面にはレジスト膜が形成され、当該レジスト膜は所定のパターンに沿って露光されている。現像装置１では、このウエハＷに対して現像液の供給による現像処理、洗浄液の供給による洗浄処理が順に行われる。

【0009】

現像装置１は、スピンチャック１１、回転機構１２、カップ１３、現像部２及び洗浄部２Ａを備えている。スピンチャック１１はウエハＷの裏面中央部を吸着して、当該ウエハＷを水平に保持する載置部である。基板保持部であるスピンチャック１１は、回転機構１２に接続されており、ウエハＷを保持した状態で鉛直軸周りに回転し、当該ウエハＷについては中心周りに回転する。

【0010】

カップ１３は、スピンチャック１１に載置されたウエハＷを側方から囲み、ウエハＷに供給されてウエハＷから撥ねた処理液（現像液及び洗浄液）を、その内周面で受け止めて、飛散することを防止する。従って、カップ１３はスピンチャック１１上のウエハＷを収容する処理容器として構成されている。カップ１３の上端の開口部を１４として示している。上記のように処理液の飛散を防止するため、カップ１３の上端は、スピンチャック１１に載置されて処理がなされるウエハＷの上面よりも上方に位置する。開口部１４を介して、図示しない搬送機構とスピンチャック１１との間でウエハＷが受け渡される。この受け渡しは、カップ１３内に設けられる３本のピンを備えた昇降機構１５により行われる。

【0011】

カップ１３の上方には図示しない気体供給部が設けられており、当該気体供給部から下方に向けて清浄な気体、例えば大気が供給されることで、カップ１３及びその周囲に下降気流が形成される。なおこの下降気流は、現像装置１の稼働中に常時形成される。カップ１３内には排液口１６及び排気口１７が開口している。排液口１６を介して上記の処理液はカップ１３外に排出される。また、排気口１７から上記の大気が排気される。

【0012】

続いて、現像部２及び洗浄部２Ａについて説明する。現像部２は現像処理を行うためにウエハＷに現像液を供給する機構であり、洗浄部２Ａは洗浄処理を行うためにウエハＷに洗浄液を供給する機構である。現像液、処理液は現像部２、洗浄部２Ａに夫々設けられるノズルから、スピンチャック１１上のウエハＷに吐出される。そのようにウエハＷに供給する処理液の種類が異なること、及びノズルの形状が異なることを除いて、洗浄部２Ａは現像部２と概ね同様の構成である。以下では代表して、現像部２について説明する。

【0013】

現像部２は、現像液をウエハＷに吐出する現像ノズル２１と、カップ１３の前方に設けられる移動ユニット２２と、現像ノズル２１と移動ユニット２２とを接続するアーム２３と、を備えている。移動ユニット２２によって現像ノズル２１は、左右の水平移動及び鉛直方向の昇降移動が可能であり、カップ１３の外側に設けられる待機領域２４と、スピンチャック１１に載置されるウエハＷの上方との間で移動することができる。待機領域２４は、ウエハＷに対して処理を行わないときに、現像ノズル２１を待機させる領域である。

【0014】

上記した移動ユニット２２は、アーム２３を介して現像ノズル２１を昇降させるための昇降ユニット４と、当該昇降ユニット４を左右に移動させる水平移動機構２５と、を備えている。この昇降ユニット４について、図３の斜視図も参照して概略構成を説明する。昇降ユニット４は、基部４１、昇降体４２、吸引管３１及びカバー部６により構成されている。基部４１は駆動機構５を備えており、アーム２３が接続される昇降体４２を昇降させる。カバー部６は駆動機構５から生じたパーティクルが、周囲へ飛散することを抑えるために基部４１及び昇降体４２を囲む。カバー部６に囲まれる空間が内部領域であり、カバー部６の外側で既述したカップ１３が設けられる領域が外部領域である。昇降体４２の上部側については外部領域へと突出しており、そのように外部領域に位置する上部側に、アーム２３の基端部が接続されている。アーム２３の先端側については後方へ向けて水平に伸びると共に現像ノズル２１を支持しており、現像ノズル２１は、下方に現像液を吐出する。アーム２３は、そのように処理部である現像ノズル２１を支持する支持部材である。

【0015】

昇降体４２が昇降するにあたってスライダ５６及び昇降体４２が、カバー部６内を移動することによってカバー部６内の空間の体積が変動する。より具体的には、昇降体４２及びスライダ５６が上昇するにあたり、当該空間の体積が当該昇降体４２及びスライダ５６の移動量分、上部に押し出される。昇降体４２の昇降を妨げないようにするために、カバー部６と昇降体４２との間には微小な隙間（以下、昇降用隙間と記載する）６５が形成されているが、上記のカバー部６内の空間についての体積が、昇降体４２及びスライダ５６の移動量分押し出されることによって、この隙間６５を介してパーティクルがカバー部６の外に放出されてしまうおそれが有る。その場合、ウエハＷの処理空間をなすカップ１３内にパーティクルが放出され、ウエハＷに付着してしまうことが考えられるが、そのようなパーティクルの放出が防止されるようにカバー部６内には、吸引部として吸引管３１が設けられている。この吸引管３１による排気がなされることで、当該パーティクルは吸引、除去される。なお、隙間６５を介してカバー部６の外側の大気が当該カバー部６内に流入し、吸引管３１に流れ込むことになる。

【0016】

以下、昇降ユニット４について図４の分解斜視図、図５の縦断正面図、図６の横断平面図及び図７の縦断側面図も参照して詳しく説明する。図６は、図５のＡ-Ａ′矢視断面図である。上記した昇降体４２は鉛直方向に伸びる直方体をなし、上面視ではその外形をなす４辺のうちの２辺が前後（Ｘ方向）に、他の２辺が左右（Ｙ方向）に沿って伸びる。上記のアーム２３は、昇降体４２の上端面に接続されている。昇降体４２の右側に基部４１が設けられている。

【0017】

基部４１は、駆動機構５と、吸引管３１を支持するための吸引管支持部３０と、により構成される。駆動機構５について説明すると、駆動機構５は、ボールスクリュー５２を含む直動部５１と、モータ５９と、により構成されており、水平移動機構２５に接続され、左右方向の移動が可能である。

【0018】

直動機構（直線移動機構）５１は、その側面が上記した昇降体４２の側面に対向すると共に縦長の直方体の概形を有しており、鉛直方向に伸びるボールスクリュー５２と、ボールスクリュー５２の上端部、下端部が夫々接続される軸受け５３、５４と、囲み部５５と、昇降可能なスライダ５６と、を備えている。囲み部５５については横断平面が凹部形状をなすと共に鉛直方向に伸びるように形成され、ボールスクリュー５２を前方、後方及び右方から囲み、当該スライダ５６に接続されてスライダ５６の昇降をガイドする部材を備える。囲み部５５の上部、下部に夫々軸受け５３、５４が設けられている。軸受け部５３については直動部５１の上端部を形成しており、この軸受け部５３において、ボールスクリュー５２との摺動がなされる摺動部を５３Ａとして示している。具体的に摺動部５３Ａは、軸受け部５３において鉛直方向に穿孔される貫通孔によって形成され、ボールスクリュー５２が当該貫通孔に挿通されている。モータ５９は軸受け５４の下方に設けられており、ボールスクリュー５２を当該ボールスクリュー５２の軸回りに回転させる。

【0019】

スライダ５６は囲み部５５によって囲まれる領域に、ボールスクリュー５２に接続されて設けられ、当該領域をボールスクリュー５２の回転に応じて昇降する。スライダ５６は軸受け部５３に接する位置から軸受け部５４に接する位置までを昇降可能な範囲とするが、その昇降可能範囲の高さの中心を図５中でＨとして示している。スライダ５６の左方に、上記した昇降体４２の右側面が接続されており、スライダ５６、昇降体４２は左右方向（Ｙ方向）に並んでいる。従って、モータ５９及びボールスクリュー５２の回転動作に連動して、スライダ５６及び昇降体４２、ひいては昇降体４２に接続される現像ノズル２１が昇降する。

【0020】

吸引管支持部３０について説明すると、吸引管支持部３０は、その厚さ方向が左右方向となるように直動部５１に右側から接続された厚板状の部材であって、鉛直方向に長尺な矩形板として構成されている。吸引管支持部３０の上端は、後述する軸受け部５３上に形成される気流を妨げないように、直動部５１の上端よりも若干下方に位置している。吸引管支持部３０及び直動部５１についての各々の前後の幅は同じであると共に、前端の位置、後端の位置は夫々揃っているため、吸引管支持部３０及び直動部５１の概形としては一つの直方体をなす。

【0021】

吸引管支持部３０の右側に、吸引管３１が設けられている。従って、昇降体４２、基部４１、吸引管３１は、この順に右側に向けて一列に並んでいる。即ち、これらはＹ方向に並ぶ。吸引管３１の上流端を形成する吸引口３２は、鉛直上方に向けて開口し、後に詳しく述べるように、直動部５１の上方側に気流を形成することができる。この吸引口３２の位置についてさらに詳しく述べると、当該吸引口３２は、吸引管支持部３０の上端よりも僅かに下方の高さに開口している。従って、吸引口３２の高さとしては直動部５１の上端よりも下方であって、上記したスライダ５６の昇降可能範囲の高さの中心Ｈよりも上方である。また、吸引口３２の位置については、吸引管支持部３０の前後方向（Ｘ方向）の中央部の右側であると共に、直動部５１の摺動部５３Ａの右側である。

【0022】

このように吸引口３２として開口する位置から、吸引管３１は鉛直方向に沿って吸引管支持部３０の下方へと伸び、さらに後述する下カバー６９に囲まれる空間の外部へと引き出され、排気機構３３に接続されている。排気機構３３は、例えばエジェクタにより構成されている。排気機構３３の動作により、吸引口３２からの吸引がなされる状態と、当該吸引が停止する状態とが切り替えられる。

【0023】

吸引管支持部３０には、吸引管３１を固定するための固定部材が上下に互いに離れて３段に設けられており、これらの固定部材を上方から下方に向けて固定部材３４Ａ、３４Ｂ、３４Ｃとする。固定部材３４Ａ～３４Ｃは、各々前後方向（Ｘ方向）、即ち横方向に伸長する角型のブロック状に構成されている。そして、固定部材３４Ａ～３４Ｃの前後方向の中央部には鉛直方向の貫通孔が形成され、吸引管３１の上流側の部位は、固定部材３４Ａ～３４Ｃの各貫通孔に挿通されることで、吸引管支持部３０に固定されている。このように固定部材３４Ａ～３４Ｃが設けられるので、上面視では固定部材３４Ａ～３４Ｃは吸引管３１から前方及び後方に伸びる。

【0024】

固定部材３４Ａ～３４Ｃのうち、最も吸引口３２寄りに設けられる固定部材３４Ａは後に詳しく述べるように、吸引管３１による吸引力を高めるために吸引口３２が位置する空間を周囲の空間から区画する役割も有している。固定部材３４Ａは、吸引管３１の上端よりも若干下方で、上記した高さ中心Ｈよりも上方に位置している。固定部材３４Ａ及び固定部材３４Ｂは、後述する上カバー６１に覆われる高さに設けられており、当該上カバー６１に対する位置関係については後に詳しく述べる。固定部材３４Ｃは、下カバー６９に覆われる高さに設けられている。

【0025】

なお、上記したように昇降ユニット４については左右に移動するため、吸引管３１についてはこの移動を妨げないように少なくとも、固定部材３４Ｃにより固定される位置よりも上流側（排気機構３３側）には、可撓性を有する部位を備えている。具体的には、吸引管３１は蛇腹構造を備えることでこの可撓性を有しているが、蛇腹の図示は省略している。

【0026】

吸引管支持部３０の後方端（アーム２３の伸長方向の端）には、当該後方端から右方（即ち、Ｙ方向）へ突出すると共に鉛直方向、即ち縦方向に伸長して前後（Ｘ方向）を仕切る前後仕切板３５が設けられている。前後仕切板３５は矩形板であり、吸引管支持部３０の上端から固定部材３４Ｂの上面に至るように、縦長に設けられている。従って、前後仕切板３５の上端、下端は夫々吸引口３２に対して上方、下方に夫々位置しているなお、固定部材３４Ａの前端面は、前後仕切板３５の後面に接続されている。この前後仕切板３５の役割については後述する。

【0027】

続いて、カバー部６について説明する。カバー部６は基部４１に対して、ねじなどの図示しない固定具により固定されて設けられ、上カバー６１及び下カバー６９によって構成されている。上カバー６１は方形の筐体として構成されており、鉛直方向に起立した側壁６２と、水平な上壁６３と、を備えるが、筐体の下壁については一部を残して大きく切り欠かれた構成となっている。平面視における上カバー６１の外形をなす４つの辺のうち、２つの辺は前後（Ｘ方向）に沿い、他の２つの辺は左右（Ｙ方向）に沿う。説明にあたり、側壁６２については上記の４つの各辺を構成する部位毎に区別し、前方側（アーム２３の伸長方向とは逆側）の部位から時計回りに順に、前壁６２Ａ、左壁６２Ｂ、後壁６２Ｃ、右壁６２Ｄとして表記する。基部４１の上部側と、吸引管３１のうち当該基部４１の上部側に設けられる部位と、については側壁６２、上壁６３によって、上方、側方から夫々覆われる。また、昇降体４２は側壁６２により囲まれると共に、その上部が上カバー６１の上方へと突出する。

【0028】

下カバー６９については、鉛直方向に長尺な角型の筐体についての上壁及び左壁が切り取られたように構成されている。基部４１の下部側と、吸引管３１のうちで当該基部４１の下部側に設けられる部位とは、この下カバー６９に覆われる。下カバー６９の上端と、上カバー６１の下端と、は互いに接続されおり、上カバー６１に囲まれる空間と、下カバー６９に囲まれる空間とは連通する。また、下カバー６９についても上カバー６１と同様、平面視において外形をなす各辺は、前後方向あるいは左右方向に沿うように形成されている。

【0029】

以下、上カバー６１について詳しく説明する。上カバー６１は、前カバー７１と、後カバー７２とに分離可能である。前カバー７１、後カバー７２は、上カバー６１が左右方向（Ｙ方向）に沿って前後（Ｘ方向）に分割された分割体である。従って、前カバー７１は下方及び後方（アーム２３の伸長方向）が開放される筐体として構成され、右壁６２Ｄ、左壁６２Ｂ及び上壁６３の各々の前方側と、前壁６２Ａと、を形成する。そして、後カバー７２は下方及び前方（アーム２３の伸長方向とは逆方向）が開放される筐体として構成され、右壁６２Ｄ、左壁６２Ｂ及び上壁６３の各々の後方側と、後壁６２Ｃと、を形成する。

【0030】

ただし前カバー７１において上壁６３を形成する部位（上壁前方形成部７１Ａとする）の後端部は、右壁６２Ｄ、左壁６２Ｂを構成する部位に対して後方に突出することで、突片７３をなす。後カバー７２が基部４１に固定されるにあたり、後カバー７２の上壁６３を形成する部位（上壁後方形成部７２Ａとする）は、直動部５１の上面に支持される。そして前カバー７１が基部４１に固定されるにあたり、突片７３が上壁後方形成部７２Ａ上に支持される。従って、上カバー６１の上壁６３については、前後方向における一部が二重壁になっており、その上面及び下面に段差が形成された構成となっている。

【0031】

前後の幅について、前カバー７１の方が後カバー７２よりも大きい。そのため、上記のように前カバー７１及び後カバー７２が基部４１に固定されるにあたり、直動部５１については後端部のみ上壁６３との間に隙間が形成されず、直動部５１における上面の前後の中央部から前端に亘る領域と上壁６３との間には排気用隙間７５が形成されている。従って、直動部５１の摺動部５３Ａの上方も、排気用隙間７５として構成されている。

【0032】

上壁６３についてさらに詳しく説明する。上壁前方形成部７１Ａの後端の一部及び上壁後方形成部７２Ａの前端の一部が切り欠かれることで、上壁６３の左前方の角部には、平面視で矩形の貫通孔６４が形成されている。昇降体４２の上部側は、貫通孔６４を介して上カバー６１の外へ突出する。貫通孔６４の孔縁は昇降体４２に沿うと共に近接して形成されており、当該孔縁と昇降体４２との間は、既述した昇降用隙間６５として形成されている。従って平面視で昇降用隙間６５は、角型のリング状に形成されている。なお、このような構成であるため、上壁６３は側壁６２の上側にて当該側壁６２に対して屈曲して設けられると共に、昇降体４２に向けて突出している。

【0033】

上記した排気用隙間７５を介して、昇降用隙間６５は吸引管３１の吸引口３２に連通しており、左右方向において排気用隙間７５から見て、吸引管３１は昇降用隙間６５の反対側に位置している。従って、吸引管３１によって吸引されることで、上カバー６１に囲まれる空間の外側から昇降用隙間６５を介して上カバー６１内に流入した大気は、吸引路である排気用隙間７５を通過して、吸引口３２に流入する。つまり、摺動部５３Ａを含むことで比較的パーティクルが発生しやすい軸受け部５３上に気流が形成されるので、当該パーティクルはこの気流に乗って吸引口３２へと流されやすい。従って、排気用隙間７５を形成するように上壁６３を形成することは、パーティクルの捕集効率を高めることに寄与している。

【0034】

なお、吸引口３２は上記したように直動部５１の上端よりも下方に開口しているが、この配置についても排気用隙間７５において縦方向における下方側（即ち、直動部５１寄りの位置）の気流を強くすることで、パーティクルの捕集効率を高めることに寄与している。排気用隙間７５の流速を比較的高くしてパーティクルの捕集効果を高くするために、排気用隙間７５の高さＨ１（図５参照）としては比較的小さいことが好ましいので例えば３ｍｍ以下に設定する。

【0035】

ところで既述したように吸引口３２は基部４１の上端部付近、即ち昇降可能範囲の高さの中心Ｈよりも上方に開口するので排気用隙間７５近くに位置しており、当該排気用隙間７５の気流を強めることができる。それ故に、パーティクルの捕集効果がより高められている。また、既述したように吸引管３１の吸引口３２は上方に向けられている。つまり、縦方向において、排気用隙間７５及び昇降用隙間６５が位置する側に向けて吸引口３２が開口しており、その点からも当該昇降用隙間６５における吸引力が高く、パーティクルの捕集効果が高い。

【0036】

なお、上記したように排気用隙間７５は直動部５１上の前端側に形成され、直動部５１上の後端部には形成されていない。つまり直動部５１上の前後方向においてウエハＷの処理空間をなすカップ１３内に近い側である前方側では気流に乗ってパーティクルが移動せず、カップ１３に遠い側である後方側でのみ、このパーティクルの移動が起きる。そのような構成とされることによって、カップ１３内へのパーティクルの流入がより確実に抑制される。

【0037】

続いて上カバー６１の側壁６２について詳しく述べる。側壁６２をなし、アーム２３の伸長方向とは逆側に位置する前壁６２Ａは、直動部５１、吸引管支持部３０及び昇降体４２の各部材の前面に対して近接して設けられる一方で、後壁６２Ｃは、当該各部材の後面に対して若干離れて設けられる。つまり、前壁６２Ａと上記の各部材の前面との距離よりも、後壁６２Ｃと当該各部材の後面との距離の方が長い。後壁６２Ｃと当該各部材の後面との間のスペースには、昇降体４２の高さ位置を検出するためのセンサ等の図示しない機器類が配置される。また、左壁６２Ｂは、昇降体４２の左面に対して近接して設けられている。

【0038】

そして右壁６２Ｄは、上記した固定部材３４Ａ、３４Ｂの右側面、及び前後仕切板３５の右端に接している。従って、固定部材３４Ａ、３４Ｂは、上カバー６１に囲まれる内部領域のうち、吸引管支持部３０に対して右方側の空間を縦方向に区画している。その区画された空間うちの固定部材３４Ａによって区画される空間に、吸引口３２が開口している。固定部材３４Ａは第１仕切部であり、上カバー６１内において固定部材３４Ａに対して上方の空間、下方の空間が夫々上方側空間、下方空間に該当する。

【0039】

前後仕切板３５については、上カバー６１に囲まれると共に吸引管支持部３０に対して右側の空間を前後方向（Ｘ方向）に区画しており、そのように区画された空間のうちの前方側（アーム２３の伸長方向側）の空間に吸引口３２が開口している。前後仕切板３５は第２仕切部を構成し、上カバー６１内において前後仕切板３５に対して後方側の空間、前方側の空間が夫々一方側の空間、他方側の空間に該当する。

【0040】

固定部材３４Ａ及び前後仕切板３５によって画成され、吸引口３２が開口する空間を吸引口設置空間３６とする。見方によっては吸引口３２が開口する吸引口設置空間３６が比較的小さくなるように、固定部材３４Ａ及び前後仕切板３５が設けられ、吸引管支持部３０に対して右側の空間を分割している。なお、吸引口設置空間３６は、上記した上方側の空間且つ一方側の空間である。

【0041】

吸引口３２からの吸引が行われるにあたり、上記のように区画がなされていることで、上カバー６１の内部領域において吸引口設置空間３６に隣接する空間から当該吸引口設置空間３６へ大気が流入するにあたっては、比較的大きい圧力損失を生じることになるので、当該大気の流入が抑制される。また、上記のように吸引口設置空間３６が比較的小さく形成されていることで、吸引管３１からの吸引によって当該吸引口設置空間３６における圧力を比較的低くすることができる。以上のことから、吸引口設置空間３６に連通する昇降用隙間６５に対する吸引力が高まり、この昇降用隙間６５からのパーティクルの放出が、より確実に抑制される。

【0042】

上カバー６１をなす前カバー７１の内側を示す斜視図である図８を参照して説明を続ける。前壁６２Ａの下端が後方へと水平に突出することで、下側仕切板６６として形成されている。上カバー６１は下壁が一部を残して切り欠かれた筐体であることを述べたが、下側仕切板６６が当該下壁に該当する。従って、この下側仕切板６６については、上壁６３よりも下方の位置に、側壁６２に対して屈曲して設けられている。

【0043】

昇降体４２が昇降するにあたり、その下端は、上カバー６１内における高さと、上カバー６１よりも下方の高さとの間で移動する。下側仕切板６６は、そのように移動する昇降体４２の下端に干渉しないように形成されている。具体的には下側仕切板６６は平面視で矩形状に形成されており、右壁６２Ｄから左壁６２Ｂに亘るように形成される。そして下側仕切板６６の後端は、直動部５１、吸引管支持部３０及び昇降体４２の昇降路に近接しており、上カバー６１内の大気が外部へ流出すること、及び大気が上カバー６１内へ流入することを防ぐ。このような下側仕切板６６が設けられることによって、吸引口設置空間３６の流速が大きくなり、且つ、上カバー６１内からのパーティクルの流出が抑制される。

【0044】

そして前壁６２Ａから後方に突出して左右仕切板６７が設けられており、左右仕切板６７の上端、下端は下側仕切板６６と上壁６３とに夫々接続されている。この左右仕切板６７は側面視において矩形状で縦長であり、下側仕切板６６と上壁６３との間の空間を左右（Ｙ方向）に分割するように設けられており、昇降体４２に対してはその移動を妨げないように近接している。左右仕切板６７は第３仕切部であり、上カバー６１内で左右仕切板６７に対して左側の空間及び右側の空間の一方、他方が夫々一の空間、他の空間に該当する。

【0045】

図２に戻って、上カバー６１と上記したカップ１３との高さの関係を述べる。上記したアーム２３によって現像ノズル２１をカップ１３の内外で移動させることが可能であるように、アーム２３はカップ１３よりも上方を移動することになる。そのため昇降用隙間６５が設けられる上カバー６１の上壁６３は、カップ１３の上端よりも高い位置に設けられている。その一方で上カバー６１の下端は、カップ１３の上端よりも低い位置に設けられている。

【0046】

ところで上カバー６１は下方が開放される構造となっているため、直動部５１で発生したパーティクルは、上部側の昇降用隙間６５の他に当該上カバー６１の下方から放出されることで、カバー部６の外側へと放出され得る。しかし、上記したように上カバー６１の下端はカップ１３の上端よりも低く、且つカップ１３の周囲には既述した下降気流が形成されているので、上カバー６１の下側から放出されるパーティクルはカップ１３内へと移動しにくい。つまり、上カバー６１の下方からのパーティクルの放出よりも、昇降用隙間６５からのパーティクルの放出が、カップ１３内及びカップ１３内に収納されるウエハＷの上面の清浄度に大きく影響する。そこで、既述したように吸引管３１については昇降用隙間６５における吸引力が高くなるように、排気用隙間７５の付近に吸引口３２が開口するように設けられている。

【0047】

そして昇降用隙間６５における吸引力を高めるためには、上カバー６１において昇降用隙間６５以外の箇所での外部から内部への気体の流入を抑えることが有効である。それ故に図４、図８等に示した下側仕切板６６が設けられており、当該下側仕切板６６によって、上カバー６１の下方から当該上カバー６１内へ向う大気の圧力損失が比較的大きくなり、当該上カバー６１内への大気の流入が抑制されるようにしている。

【0048】

また、図４、図８等に示した左右仕切板６７について補足して説明すると、この左右仕切板６７は、上カバー６１内でパーティクルが飛散することで昇降用隙間６５から放出されてしまうことが抑制されるように、この飛散を抑制して当該パーティクルをより確実に吸引口３２に導入させる役割を有する。さらに詳しく説明すると、直動部５１に対して右側に吸引管３１が設けられるので、直動部５１から左方に向けて飛散したパーティクルは吸引管３１から離れる方向に向かうことになる。そのため吸引によって形成される気流に乗らずに、昇降用隙間６５や上カバー６１の下方から放出されることが考えられる。

【0049】

そこで、直動部５１に対して吸引管３１が位置する側（右側）とは反対側（左側）に、当該反対側における空間を左右に分割するように左右仕切板６７を設ける。この左右仕切板６７により、直動部５１から見て吸引管３１とは反対側に位置する空間の奥行きが小さくなるので、当該反対側へとパーティクルの飛散する距離が抑えられ、このパーティクルを吸引管３１からの吸引によって、より確実に捕集することができる。

【0050】

なお左右仕切板６７を設けることによって上カバー６１内の空間が左右に区画され、区画された左側の空間からは、吸引口３２が位置する右側の空間へ向けて大気が流れ難くなるので、当該吸引口３２からの昇降用隙間６５に対する吸引力も高まる。つまり左右仕切板６７は前後仕切板３５と同様に、空間を区画することで吸引管３１によるパーティクルの捕集効果を向上させる役割も有している。

【0051】

続いて図９の平面図を参照して、上カバー６１の昇降用隙間６５とカップ１３との位置関係について説明する。平面視においてカップ１３の開口部１４における点Ｐと吸引口３２とを結ぶ直線をＬとする。点Ｐとしては無数に設定し得るが、その中には図に示すように、点Ｐ、昇降用隙間６５、吸引口３２が同一の直線Ｌ上に位置する位置関係となるものが含まれる。これは、吸引口３２からの吸引によって、開口部１４上を排気して吸引口３２へ向けて直線Ｌに沿った気流を形成することが可能であるということである。この気流に乗ったパーティクルを吸引、除去することができるため、開口部１４内についてより確実な清浄化がなされることになる。

【0052】

下カバー６９についても補足して述べると、固定部材３４Ｃの右端は、下カバー６９の右壁に接続される。下カバー６９の右壁と、上カバー６１の右壁６２Ｄとの左右方向の位置は同じであり、下カバー６９の後壁と、上カバー６１の後壁６２Ｃとの前後方向の位置は同じである。下カバー６９の前壁については、下側仕切り板６６の下面に接続される。なお、下カバー６９は左方が開放されているが、そのように開放された構成であっても上記した下降気流の作用によって、当該下カバー６９で覆われる空間で発生するパーティクルについては、カップ１３内へは移動し難い。

【0053】

図１を参照して洗浄部２Ａについても簡単に説明すると、現像ノズル２１に相当する、アーム２３に設けられる洗浄ノズルについて、２１Ａとして示している。そして待機領域２４に相当する洗浄ノズル２１Ａ用の待機領域については、２４Ａとして示している。現像ノズル２１及び洗浄ノズル２１Ａは、ウエハＷに対して処理を行う処理部である。

【0054】

また、現像装置１は制御部１０を備えている。制御部１０はコンピュータにより構成されており、プログラムを備えている。プログラムには、後述する現像装置１における一連の動作を実施することができるように、ステップ群が組み込まれている。このプログラムによって制御部１０は現像装置１の各部に制御信号を出力し、当該各部の動作が制御される。この制御には、モータ５９の回転によるノズルの昇降、水平移動機構２５による昇降ユニット４の移動、図示しない処理液供給源からの現像ノズル２１、洗浄ノズル２１Ａへの各処理液の給断、排気機構３３の動作による吸引管３１からの吸引の有無の切替えなどの制御が含まれる。上記のプログラムは、例えばコンパクトディスク、ハードディスク、ＤＶＤなどの記憶媒体に格納されて、制御部１０にインストールされる。

【0055】

上記の排気機構３３については現像装置１の稼働中は排気動作を行い、当該稼働中は常時吸引管３１からの吸引が行われるように制御される。ここでの装置の稼働中とは装置に電源が投入されることでウエハＷの処理が可能となっている状態のことであり、ウエハＷに処理を行っている期間及びウエハＷに処理を行っていない期間が含まれる。より具体的には、装置に連続して電源が投入されている間、ウエハＷが複数枚現像装置１に処理されるとする。その複数枚のうちの最初のウエハＷの現像装置１への搬入前から最後のウエハＷの処理が終わってウエハＷが現像装置１から搬出されるまでの間、継続して吸引管３１から吸引が行われる。

【0056】

以下、現像装置１の動作について説明する。現像装置１にウエハＷが搬入されておらず、現像装置１が待機している状態で、上記したカップ１３の周囲に大気の下降気流が形成されると共に排気気孔３３が動作し、吸引管３１による排気が行われている。図１０は、この際の昇降ユニット４において形成される気流を点線の矢印で模式的に示したものである。吸引によってカバー部６の外側の大気が昇降用隙間６５からカバー部６の上カバー６１内に流入し、この上カバー６１内を吸引管３１に向かうことで、基部４１の周囲に気流が形成される。既述した吸引口３２の配置及び排気用隙間７５が形成されることによって、直動部５１の上方（即ち、排気用隙間７５）における、気流の流速は比較的高いものとなり、パーティクルの流出が抑制される。

【0057】

そして、上記したように下側仕切板６６によって、下方から上カバー６１内への大気の流入及び上カバー６１内からの大気の流出が抑制される。また、固定部材３４Ａ、前後仕切板３５及び左右仕切板６７により、上カバー６１内が区画されることで、吸引口設置空間３６の周囲から当該吸引口設置空間３６への大気の流れができ、上カバー６１内のパーティクルの吸引が促進される。

【0058】

搬送機構によってウエハＷが現像装置１に搬送され、スピンチャック１１に載置されて回転される。待機領域２４、２４Ａで夫々待機していた現像ノズル２１、洗浄ノズル２１Ａが上昇した後、左右方向に移動し、さらに下降して、各ノズルの下端部がカップ１３内に進入する。そして、現像ノズル２１が現像液を吐出しつつウエハＷの径方向に沿って、ウエハＷの周端部上から中心部上へ向けて移動し、ウエハＷの上面全体に現像液が供給されて現像処理が行われ、レジスト膜にパターンが形成される。なお、このウエハＷの径方向に沿った移動とは、左右方向の移動である。

【0059】

続いて現像ノズル２１がウエハＷの中心部上から退避し、洗浄ノズル２１ＡがウエハＷの周端部上から中心部上へと移動する。そして、洗浄ノズル２１ＡからウエハＷの中心部に洗浄液が吐出されて洗浄処理が行われ、現像液が除去される。その後、現像ノズル２１、洗浄ノズル２１Ａはカップ１３内への移動とは逆の動作で、待機領域２４、２４Ａに夫々移動して、再度待機状態となる。洗浄処理後のウエハＷは、搬送機構により現像装置１から搬出される。

【0060】

上記したウエハＷの処理中における現像ノズル２１、洗浄ノズル２１Ａの各昇降は、現像部２、洗浄部２Ａのモータ５９によるボールスクリューの５２の回転によってなされ、このボールスクリュー５２と、軸受け部５３、５４及びスライダ５６との摺動によりパーティクルが発生する。このパーティクルの一部は、既述したように上カバー６１内に形成される気流に乗って吸引管３１から除去される。このように吸引管３１から除去されるパーティクルの中には、左右仕切板６７によって飛散が抑えられたものが含まれる。図１０中の鎖線の矢印は、そのようなパーティクルの流れを示したものである。また、発生したパーティクルのうちの他の一部については、上カバー６１の下端の開口、あるいは下カバー６９からカバー部６の外側へ移動し、下降気流に押し流されることによって現像装置１から除去される。以上のように、現像装置１においては駆動機構５を備える昇降ユニット４からのパーティクルの飛散が抑えられ、ウエハＷの処理をクリーンな環境で行うことができる。従って、当該ウエハＷから製造される半導体デバイスの歩留りの低下を抑制することができる。

【0061】

図１１は昇降ユニット４の変形例の縦断正面図である。吸引管３１についてはこの図１１に示すように、上流側の端部をカバー部６の上壁６３上に突出させて、吸引口３２を昇降用隙間６５付近に配置し、昇降用隙間６５からカバー部６の外側に放出されるパーティクルを吸引するようにしてもよい。ただし、カバー部６の外側の雰囲気が多く吸引管３１に吸引されることになるので、昇降用隙間６５に対する吸引作用は比較的低いものとなるおそれが有る。従って、より確実に昇降用隙間６５に高い吸引力を作用させるためには、図４等で示したように吸引口３２は、カバー部６内に設けることが好ましい。

【0062】

そのようにカバー部６内に吸引口３２を設けるにあたり、図５等で説明した例よりも低い位置、例えば昇降可能範囲の高さの中心Ｈ付近に吸引口３２が開口するように設けてもよいし、下カバー６９に囲まれる空間に設けてもよい。しかし、上記したように昇降用隙間６５からのパーティクルの放出をより確実に抑えるためには、図５等で説明した位置に設けることが好ましい。

【0063】

また吸引管３１については、側方に向けて吸引口３２が開口する構成であってもよい。さらに、その側方に向う吸引口３２が複数設けられ、互いに異なる高さに位置する構成であってもよい。ただし、上記した摺動部５３Ａが臨む隙間７５に高い流速の気流を形成し、パーティクルの捕集効率を高める観点から、既述したように吸引口３２は上方に向けて開口することが好ましい。

【0064】

ところで上記したように前後仕切板３５は、上カバー６１内を上下に伸びて前後に区画し、昇降用隙間６５から吸引口３２が開口する空間へ向う大気の流れを集中させて、吸引口３２へ流れる大気の流量を大きくする（大気流量を集中させる）。この前後仕切板３５については、そのように大気流量を集中させることができればよいので、例えば図４等で示した例よりも鉛直方向の長さが短く、固定部材３４Ｂとの間に隙間が設けられていてもよい。ただし、吸引口３２と前後仕切板３５との高さの位置がずれていると、前後仕切板３５はその役割を十分に果たすことができない。そのため吸引口３２については、前後仕切板３５の上端と同じ高さかそれよりも低く、且つ前後仕切板３５の下端と同じ高さかそれよりも高い位置に開口することが好ましい。なお、上カバー６１内の空間の鉛直方向の高さをＨ２（図５参照）とすると、前後仕切板３５の鉛直方向の長さとしては、例えば高さＨ２×１／２以上の長さを有するように形成することが、上記した大気流量を集中させる効果を確実に得るにあたって好ましい。

【0065】

また、この前後仕切板３５について、大気流量を集中させるために基部４１から突出して上カバー６１の側壁６２をなす右壁６２Ｄに接するように形成されている。従って、基部４１と側壁６２との左右の距離（Ｙ方向の距離）Ｌ２＝前後仕切板３５の左右の幅Ｌ１である（図１２参照）。なお、板によってこのように前後（Ｘ方向）を区画することに限られず、例えば鉛直方向に伸びるブロックによって区画するようにしてもよい。

【0066】

また、左右仕切板６７について、既述した例ではパーティクルの飛散防止効果及び高い圧力損失効果を高くするために縦長で上壁６３から下側仕切板６６に亘り、且つ側壁６２に接するように形成されているが、そのように形成されていなくてもよい。つまり、上壁６３、側壁６２及び下側仕切板６６（下壁）のうちの１つあるいは２つに左右仕切板６７は接しておらず、その接していない壁との間に隙間が形成される構成であってもよい。

【0067】

ただし、上記した各効果を十分に得るために、上カバー６１内の空間の鉛直方向の高さをＨ２（図５参照）とすると、左右仕切板６７の鉛直方向の長さとしては、高さＨ２となる（即ち、これまでに述べたように左右仕切板６７の上端、下端が、上カバー６１の上壁６３、下側仕切板６６に夫々接する）ように形成することが好ましい。
また、昇降体４４と側壁６２との前後の距離Ｌ４に対して、左右仕切板６７の前後の幅Ｌ３が小さすぎると、左右仕切板６７は十分にその役割を果たすことができないので、例えばＬ３／Ｌ４＝０．８以上となるように左右仕切板６７を形成することが好ましい。なお、板によってこのように前後を区画することに限られず、例えば鉛直方向に伸びるブロックによって区画するようにしてもよい。

【0068】

ところで左右仕切板６７について、これまでに示した昇降体４２に前後方向に並ぶ位置よりも右方に設けてもよく、例えば吸引管支持部３０に対して前後に並ぶ位置に設けると共に、この吸引管支持部３０に接続されるように設けてもよい。この場合にも、吸引口設置空間３６への不要な大気の流入を抑制することができる。しかしそのような配置にすると、上記した駆動機構５から左方へ向うパーティクルの飛散が、左右仕切板６７によって妨げられなくなるので、パーティクルの捕集する効果をより高くするためには、上記したように昇降体４２に前後に並ぶ位置に左右仕切板６７を設けることが好ましい。

【0069】

さらに、上記したように固定部材３４Ａは、前後仕切板３５と共に吸引口３２が設けられるスペースを小さくする役割を果たすが、この固定部材３４Ａに対して吸引口３２は上方位置に設けられることに限られず、固定部材３４Ａの上面と同じ高さに設けられてもよい。また、吸引管３１の上端を、固定部材３４Ａの上面よりも吸引部若干低い位置に設けてもよく、この場合は固定部材３４Ａの貫通孔が吸引口をなすことになる。

【0070】

また昇降体４２、駆動機構５を備える基部４１、吸引管３１について、左側から右側に向けて順に並ぶ例を示したが、そのようなレイアウトであることに限られず、これらの部材の並びが左右逆であったり、前後方向にこの順で並んでいたりしてもよい。また、昇降体４２、基部４１、吸引管３１をこのように一列に配列することには限られず、例えば昇降体４２、基部４１が並ぶ方向と、基部４１、吸引管３１が並ぶ方向と、が直交するように、これらの各部材を設けてもよい。具体的には、既述の例において吸引管３１を基部４１の右側に設ける代わりに、基部４１の前方あるいは後方に設けてもよい。ただし、昇降体４２、基部４１、吸引管３１をこの順に一列に配置することで、既述した昇降用隙間６５から基部４１上を介して吸引管３１へと流れる気流を形成し、パーティクルの捕集効果をより高いものとすることができるため好ましい。なお、上カバー６内の空間を区画する各部材については、昇降体４２、基部４１及び吸引管３１のレイアウトの変更に応じて、配置を適宜変更すればよい。
また、昇降体４２について直方体であるとして述べたが形状は任意であり、例えば上面視でコ字型やＣ字型であってもよい。

【0071】

基板処理装置として現像装置１を例に挙げて説明したが、基板処理装置は現像装置として構成されることに限られない。具体的に、基板処理装置は例えばレジスト膜や絶縁膜などの各種の膜を形成する薬液をノズルからウエハＷ上に供給する塗布膜形成装置であってもよい。また現像装置１について、現像部２が設けられず、洗浄処理のみが行われる構成の装置（即ち、洗浄装置）としてもよい。さらに、基板処理装置としては例えばアーム２３の先端側に処理部として回転するブラシを備え、ウエハＷの表面または裏面を当該ブラシによって擦って洗浄する構成であってもよい。従って、処理部としては処理液を吐出するノズルであることに限られない。また、そのようにアーム２３に支持される処理部としてはノズルやブラシ以外に、例えば基板表面または裏面の各種の膜を加熱するヒータでもよいし、基板の表面または側面の各種の膜を露光処理する光照射部でもよい。

【0072】

例えば、処理部がノズルである場合、既述したように当該ノズルをカップ１３の内外で搬送するために、昇降用隙間６５は比較的高い位置に設けられることになる。即ち、放出されるパーティクルが下降気流によってカップ１３内へと流され得る高さに、昇降用隙間６５が形成されることになるため、処理部がノズルとなる基板処理装置に本技術を適用することが特に有効である。また、基板処理装置として大気雰囲気に設けられる例を述べたが、不活性ガス雰囲気などの大気雰囲気以外の雰囲気に設けられていてもよい。

【0073】

また吸引管３１からの吸引について、装置の稼働中に常時行うことには限られない。例えば１枚のウエハＷを処理するにあたり、アーム２３の昇降が必要になる時点に対して所定の時間だけ前の時点をｔ１、当該ウエハＷの処理が完了して現像ノズル２１及び昇降の２１の昇降が不要となる時点の所定時間だけ後の時点をｔ２とすると、時点ｔ１～時点ｔ２の間に限って吸引が行われるようにしてもよい。従って現像装置１で複数のウエハＷを順次処理するにあたり、吸引は各ウエハＷの処理毎に行われ、一のウエハＷの処理に対応する期間と、次のウエハＷの処理に対応する期間との間で吸引が停止するようにしてもよい。また、アーム２３の昇降移動中（即ち、モータ５９の動作中）においてのみ、吸引がなされるようにしてもよい。従って、１枚のウエハＷの処理中に吸引の有無が切り替えられつつ、当該ウエハＷに処理が行われてもよい。なお、吸引管３１の下流側については排気機構３３の代わりに、負圧雰囲気が形成される工場の排気路に接続され、吸引管３１に介設されるバルブの開閉によって吸引の有無が切り替えられる構成としてもよい

【0074】

また、駆動機構としてはボールスクリュー５２を含む直動部５１によってスライダ５６を昇降させる構成のものには限られない。例えばモータ５９と、対となる２つのプーリと、当該２つのプーリに掛けられる無端のベルトとにより構成され、２つのプーリのうちの一方がモータ５９により回転することでベルトが駆動し、当該ベルトに接続されるスライダ５６が昇降する構成であってもよい。その他に、エアシリンダなどのモータ５９を用いない直動機構や、リニアモータなどによって駆動機構が構成されていてもよい。

【0075】

装置で処理される基板としてはウエハＷに限られず、ＦＰＤ（フラットパネルディスプレイ）基板、露光マスクを製造するためのマスク基板であってもよい。そして、今回開示された実施形態は、全ての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。上記の実施形態は、添付の特許請求の範囲及びその趣旨を逸脱することなく、様々な形態で省略、置換、変更及び組み合わせがなされてもよい。

【符号の説明】

【0076】

４１ 基部
４２ 昇降体
５ 駆動機構
６ カバー部
２１ 現像ノズル

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】

【手続補正書】

【提出日】2024-03-01

【手続補正1】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】０００７

【補正方法】変更

【補正の内容】

【0007】

【図1】本開示の一実施形態に係る基板処理装置である現像装置の平面図である。

【図2】前記現像装置の側面図である。

【図3】前記現像装置に設けられる昇降ユニットの斜視図である。

【図4】前記昇降ユニットの分解斜視図である。

【図5】前記昇降ユニットの縦断正面図である。

【図6】前記昇降ユニットの横断平面図である。

【図7】前記昇降ユニットの縦断側面図である。

【図8】前記昇降ユニットを構成する上カバーを構成する部材の斜視図である。

【図9】前記現像装置を構成する部材の位置関係を示すための平面図である。

【図10】前記昇降ユニットにおける気流を示す説明図である。

【図11】昇降ユニットの他の例を示す縦断正面図である。

【図12】昇降ユニットのさらに他の例を示す横断平面図である。

【手続補正2】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００１４

【補正方法】変更

【補正の内容】

【0014】

上記した移動ユニット２２は、アーム２３を介して現像ノズル２１を昇降させるための昇降ユニット４と、当該昇降ユニット４を左右に移動させる水平移動機構２５と、を備えている。この昇降ユニット４について、図３の斜視図、及び図４の分解斜視図も参照して概略構成を説明する。昇降ユニット４は、基部４１、昇降体４２、吸引管３１及びカバー部６により構成されている。基部４１は駆動機構５を備えており、アーム２３が接続される昇降体４２を昇降させる。カバー部６は駆動機構５から生じたパーティクルが、周囲へ飛散することを抑えるために基部４１及び昇降体４２を囲む。カバー部６に囲まれる空間が内部領域であり、カバー部６の外側で既述したカップ１３が設けられる領域が外部領域である。昇降体４２の上部側については外部領域へと突出しており、そのように外部領域に位置する上部側に、アーム２３の基端部が接続されている。アーム２３の先端側については後方へ向けて水平に伸びると共に現像ノズル２１を支持しており、現像ノズル２１は、下方に現像液を吐出する。アーム２３は、そのように処理部である現像ノズル２１を支持する支持部材である。

【手続補正3】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００１６

【補正方法】変更

【補正の内容】

【0016】

以下、昇降ユニット４について図５の縦断正面図、図６の横断平面図及び図７の縦断側面図も参照して詳しく説明する。図６は、図５のＡ-Ａ′矢視断面図である。上記した昇降体４２は鉛直方向に伸びる直方体をなし、上面視ではその外形をなす４辺のうちの２辺が前後（Ｘ方向）に、他の２辺が左右（Ｙ方向）に沿って伸びる。上記のアーム２３は、昇降体４２の上端面に接続されている。昇降体４２の右側に基部４１が設けられている。

【手続補正4】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００２７

【補正方法】変更

【補正の内容】

【0027】

続いて、カバー部６について説明する。カバー部６は基部４１に対して、ねじなどの図示しない固定具により固定されて設けられ、上カバー６１及び下カバー６９によって構成されている。上カバー６１は方形の筐体として構成されており、鉛直方向に起立した側壁６２と、水平な上壁６３と、を備えるが、筐体の下壁については一部を残して大きく切り欠かれた構成となっている。平面視における上カバー６１の外形をなす４つの辺のうち、２つの辺は前後（Ｘ方向）に沿い、他の２つの辺は左右（Ｙ方向）に沿う。説明にあたり、側壁６２については上記の４つの各辺を構成する部位毎に区別し、前方側（アーム２３の伸長方向とは逆側）の部位から時計回りに順に、前壁６２Ａ、左壁６２Ｂ、後壁６２Ｃ、右壁６２Ｄとして表記する。基部４１の上部側と、吸引管３１のうち当該基部４１の上部側に設けられる部位と、については側壁６２、上壁６３によって、側方、上方から夫々覆われる。また、昇降体４２は側壁６２により囲まれると共に、その上部が上カバー６１の上方へと突出する。

【手続補正5】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００４４

【補正方法】変更

【補正の内容】

【0044】

そして前壁６２Ａから後方に突出して左右仕切板６７が設けられており、左右仕切板６７の上端、下端は上壁６３と下側仕切板６６とに夫々接続されている。この左右仕切板６７は側面視において矩形状で縦長であり、下側仕切板６６と上壁６３との間の空間を左右（Ｙ方向）に分割するように設けられており、昇降体４２に対してはその移動を妨げないように近接している。左右仕切板６７は第３仕切部であり、上カバー６１内で左右仕切板６７に対して左側の空間及び右側の空間の一方、他方が夫々一の空間、他の空間に該当する。

【手続補正6】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００５６

【補正方法】変更

【補正の内容】

【0056】

以下、現像装置１の動作について説明する。現像装置１にウエハＷが搬入されておらず、現像装置１が待機している状態で、上記したカップ１３の周囲に大気の下降気流が形成されると共に排気機構３３が動作し、吸引管３１による排気が行われている。図１０は、この際の昇降ユニット４において形成される気流を点線の矢印で模式的に示したものである。吸引によってカバー部６の外側の大気が昇降用隙間６５からカバー部６の上カバー６１内に流入し、この上カバー６１内を吸引管３１に向かうことで、基部４１の周囲に気流が形成される。既述した吸引口３２の配置及び排気用隙間７５が形成されることによって、直動部５１の上方（即ち、排気用隙間７５）における、気流の流速は比較的高いものとなり、パーティクルの流出が抑制される。

【手続補正7】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００６７

【補正方法】変更

【補正の内容】

【0067】

ただし、上記した各効果を十分に得るために、上カバー６１内の空間の鉛直方向の高さをＨ２（図５参照）とすると、左右仕切板６７の鉛直方向の長さとしては、高さＨ２となる（即ち、これまでに述べたように左右仕切板６７の上端、下端が、上カバー６１の上壁６３、下側仕切板６６に夫々接する）ように形成することが好ましい。
また、昇降体４２と側壁６２との前後の距離Ｌ４に対して、左右仕切板６７の前後の幅Ｌ３が小さすぎると、左右仕切板６７は十分にその役割を果たすことができないので、例えばＬ３／Ｌ４＝０．８以上となるように左右仕切板６７を形成することが好ましい。なお、板によってこのように前後を区画することに限られず、例えば鉛直方向に伸びるブロックによって区画するようにしてもよい。

【手続補正8】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００６９

【補正方法】変更

【補正の内容】

【0069】

さらに、上記したように固定部材３４Ａは、前後仕切板３５と共に吸引口３２が設けられるスペースを小さくする役割を果たすが、この固定部材３４Ａに対して吸引口３２は上方位置に設けられることに限られず、固定部材３４Ａの上面と同じ高さに設けられてもよい。また、吸引管３１の上端を、固定部材３４Ａの上面よりも若干低い位置に設けてもよく、この場合は固定部材３４Ａの貫通孔が吸引口をなすことになる。

【手続補正9】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００７０

【補正方法】変更

【補正の内容】

【0070】

また昇降体４２、駆動機構５を備える基部４１、吸引管３１について、左側から右側に向けて順に並ぶ例を示したが、そのようなレイアウトであることに限られず、これらの部材の並びが左右逆であったり、前後方向にこの順で並んでいたりしてもよい。また、昇降体４２、基部４１、吸引管３１をこのように一列に配列することには限られず、例えば昇降体４２、基部４１が並ぶ方向と、基部４１、吸引管３１が並ぶ方向と、が直交するように、これらの各部材を設けてもよい。具体的には、既述の例において吸引管３１を基部４１の右側に設ける代わりに、基部４１の前方あるいは後方に設けてもよい。ただし、昇降体４２、基部４１、吸引管３１をこの順に一列に配置することで、既述した昇降用隙間６５から基部４１上を介して吸引管３１へと流れる気流を形成し、パーティクルの捕集効果をより高いものとすることができるため好ましい。なお、カバー部６内の空間を区画する各部材については、昇降体４２、基部４１及び吸引管３１のレイアウトの変更に応じて、配置を適宜変更すればよい。
また、昇降体４２について直方体であるとして述べたが形状は任意であり、例えば上面視でコ字型やＣ字型であってもよい。

【手続補正10】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００７３

【補正方法】変更

【補正の内容】

【0073】

また吸引管３１からの吸引について、装置の稼働中に常時行うことには限られない。例えば１枚のウエハＷを処理するにあたり、アーム２３の昇降が必要になる時点に対して所定の時間だけ前の時点をｔ１、当該ウエハＷの処理が完了して現像ノズル２１及び昇降体４２の昇降が不要となる時点の所定時間だけ後の時点をｔ２とすると、時点ｔ１～時点ｔ２の間に限って吸引が行われるようにしてもよい。従って現像装置１で複数のウエハＷを順次処理するにあたり、吸引は各ウエハＷの処理毎に行われ、一のウエハＷの処理に対応する期間と、次のウエハＷの処理に対応する期間との間で吸引が停止するようにしてもよい。また、アーム２３の昇降移動中（即ち、モータ５９の動作中）においてのみ、吸引がなされるようにしてもよい。従って、１枚のウエハＷの処理中に吸引の有無が切り替えられつつ、当該ウエハＷに処理が行われてもよい。なお、吸引管３１の下流側については排気機構３３の代わりに、負圧雰囲気が形成される工場の排気路に接続され、吸引管３１に介設されるバルブの開閉によって吸引の有無が切り替えられる構成としてもよい

【手続補正11】

【補正対象書類名】図面

【補正対象項目名】図１

【補正方法】変更

【補正の内容】

【図1】

【手続補正12】

【補正対象書類名】図面

【補正対象項目名】図５

【補正方法】変更

【補正の内容】

【図5】

【手続補正13】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００３０

【補正方法】変更

【補正の内容】

【0030】

ただし前カバー７１において上壁６３を形成する部位（上壁前方形成部７１Ａとする）の後端部は、右壁６２Ｄ、左壁６２Ｂを構成する部位に対して後方に突出することで、突片７３をなす。後カバー７２が基部４１に固定されるにあたり、後カバー７２の上壁６３を形成する部位（上壁後方形成部７２Ａとする）は、直動部５１の上面に支持される。そして前カバー７１が基部４１に固定されるにあたり、突片７３が上壁後方形成部７２Ａ上に支持される。従って、上カバー６１の上壁６３については、前後方向における一部が二重壁７３Ａになっており、その上面及び下面に段差が形成された構成となっている。

【手続補正14】

【補正対象書類名】図面

【補正対象項目名】図９

【補正方法】変更

【補正の内容】

【図9】

【手続補正15】

【補正対象書類名】図面

【補正対象項目名】図１１

【補正方法】変更

【補正の内容】

【図11】

【手続補正16】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００１８

【補正方法】変更

【補正の内容】

【0018】

直動部（直線移動機構）５１は、その側面が上記した昇降体４２の側面に対向すると共に縦長の直方体の概形を有しており、鉛直方向に伸びるボールスクリュー５２と、ボールスクリュー５２の上端部、下端部が夫々接続される軸受け部５３、５４と、囲み部５５と、昇降可能なスライダ５６と、を備えている。囲み部５５については横断平面が凹部形状をなすと共に鉛直方向に伸びるように形成され、ボールスクリュー５２を前方、後方及び右方から囲み、当該スライダ５６に接続されてスライダ５６の昇降をガイドする部材を備える。囲み部５５の上部、下部に夫々軸受け部５３、５４が設けられている。軸受け部５３については直動部５１の上端部を形成しており、この軸受け部５３において、ボールスクリュー５２との摺動がなされる摺動部を５３Ａとして示している。具体的に摺動部５３Ａは、軸受け部５３において鉛直方向に穿孔される貫通孔によって形成され、ボールスクリュー５２が当該貫通孔に挿通されている。モータ５９は軸受け部５４の下方に設けられており、ボールスクリュー５２を当該ボールスクリュー５２の軸回りに回転させる。

【手続補正17】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００２６

【補正方法】変更

【補正の内容】

【0026】

吸引管支持部３０の前方端（アーム２３の伸長方向とは逆側の端）には、当該前方端から右方（即ち、Ｙ方向）へ突出すると共に鉛直方向、即ち縦方向に伸長して前後（Ｘ方向）を仕切る前後仕切板３５が設けられている。前後仕切板３５は矩形板であり、吸引管支持部３０の上端から固定部材３４Ｂの上面に至るように、縦長に設けられている。従って、前後仕切板３５の上端、下端は夫々吸引口３２に対して上方、下方に夫々位置しているなお、固定部材３４Ａの前端面は、前後仕切板３５の後面に接続されている。この前後仕切板３５の役割については後述する。

【手続補正18】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００３６

【補正方法】変更

【補正の内容】

【0036】

なお、上記したように排気用隙間７５は直動部５１上の前端側に形成され、直動部５１上の後端部には形成されていない。つまり直動部５１上の前後方向においてウエハＷの処理空間をなすカップ１３内に近い側である後方側では気流に乗ってパーティクルが移動せず、カップ１３に遠い側である前方側でのみ、このパーティクルの移動が起きる。そのような構成とされることによって、カップ１３内へのパーティクルの流入がより確実に抑制される。

【手続補正19】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００３８

【補正方法】変更

【補正の内容】

【0038】

そして右壁６２Ｄは、上記した固定部材３４Ａ、３４Ｂの右側面、及び前後仕切板３５の右端に接している。従って、固定部材３４Ａ、３４Ｂは、上カバー６１に囲まれる内部領域のうち、吸引管支持部３０に対して右方側の空間を縦方向に区画している。その区画された空間うちの固定部材３４Ａによって区画される空間に、吸引口３２が開口している。固定部材３４Ａは第１仕切部であり、上カバー６１内において固定部材３４Ａに対して上方の空間、下方の空間が夫々上方側空間、下方側空間に該当する。

【手続補正20】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００３９

【補正方法】変更

【補正の内容】

【0039】

前後仕切板３５については、上カバー６１に囲まれると共に吸引管支持部３０に対して右側の空間を前後方向（Ｘ方向）に区画しており、そのように区画された空間のうちの後方側（アーム２３の伸長方向側）の空間に吸引口３２が開口している。前後仕切板３５は第２仕切部を構成し、上カバー６１内において前後仕切板３５に対して後方側の空間、前方側の空間が夫々一方側の空間、他方側の空間に該当する。

【手続補正21】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００６７

【補正方法】変更

【補正の内容】

【0067】

ただし、上記した各効果を十分に得るために、上カバー６１内の空間の鉛直方向の高さをＨ２（図５参照）とすると、左右仕切板６７の鉛直方向の長さとしては、高さＨ２となる（即ち、これまでに述べたように左右仕切板６７の上端、下端が、上カバー６１の上壁６３、下側仕切板６６に夫々接する）ように形成することが好ましい。
また、昇降体４４と側壁６２との前後の距離Ｌ４に対して、左右仕切板６７の前後の幅Ｌ３が小さすぎると、左右仕切板６７は十分にその役割を果たすことができないので、例えばＬ３／Ｌ４＝０．８以上となるように左右仕切板６７を形成することが好ましい。なお、板によってこのように左右を区画することに限られず、例えば鉛直方向に伸びるブロックによって区画するようにしてもよい。

【手続補正22】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００６０

【補正方法】変更

【補正の内容】

【0060】

上記したウエハＷの処理中における現像ノズル２１、洗浄ノズル２１Ａの各昇降は、現像部２、洗浄部２Ａのモータ５９によるボールスクリューの５２の回転によってなされ、このボールスクリュー５２と、軸受け部５３、５４及びスライダ５６との摺動によりパーティクルが発生する。このパーティクルの一部は、既述したように上カバー６１内に形成される気流に乗って吸引管３１から除去される。このように吸引管３１から除去されるパーティクルの中には、左右仕切板６７によって飛散が抑えられたものが含まれる。図１０中の点線の矢印Ａは、そのようなパーティクルの流れを示したものである。また、発生したパーティクルのうちの他の一部については、上カバー６１の下端の開口、あるいは下カバー６９からカバー部６の外側へ移動し、下降気流に押し流されることによって現像装置１から除去される。以上のように、現像装置１においては駆動機構５を備える昇降ユニット４からのパーティクルの飛散が抑えられ、ウエハＷの処理をクリーンな環境で行うことができる。従って、当該ウエハＷから製造される半導体デバイスの歩留りの低下を抑制することができる。

【手続補正23】

【補正対象書類名】図面

【補正対象項目名】図１０

【補正方法】変更

【補正の内容】

【図10】

【手続補正書】

【提出日】2024-03-18

【手続補正1】

【補正対象書類名】手続補正書

【補正対象項目名】手続補正７

【補正方法】変更

【補正の内容】

【手続補正7】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００６７

【補正方法】変更

【補正の内容】

【0067】

ただし、上記した各効果を十分に得るために、上カバー６１内の空間の鉛直方向の高さをＨ２（図５参照）とすると、左右仕切板６７の鉛直方向の長さとしては、高さＨ２となる（即ち、これまでに述べたように左右仕切板６７の上端、下端が、上カバー６１の上壁６３、下側仕切板６６に夫々接する）ように形成することが好ましい。
また、昇降体４２と側壁６２との前後の距離Ｌ４に対して、左右仕切板６７の前後の幅Ｌ３が小さすぎると、左右仕切板６７は十分にその役割を果たすことができないので、例えばＬ３／Ｌ４＝０．８以上となるように左右仕切板６７を形成することが好ましい。なお、板によってこのように左右を区画することに限られず、例えば鉛直方向に伸びるブロックによって区画するようにしてもよい。

【手続補正2】

【補正対象書類名】手続補正書

【補正対象項目名】手続補正２１

【補正方法】削除

【補正の内容】