(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024144115
(43)【公開日】2024-10-11
(54)【発明の名称】ガスセンサ及びガス測定方法
(51)【国際特許分類】
G01N 29/24 20060101AFI20241003BHJP
G01N 29/02 20060101ALI20241003BHJP
【ＦＩ】
G01N29/24
G01N29/02
【審査請求】未請求
【請求項の数】18
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2024010427
(22)【出願日】2024-01-26
(31)【優先権主張番号】P 2023052302
(32)【優先日】2023-03-28
(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP
(71)【出願人】
【識別番号】303046277
【氏名又は名称】旭化成エレクトロニクス株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100147485
【弁理士】
【氏名又は名称】杉村 憲司
(74)【代理人】
【識別番号】230118913
【弁護士】
【氏名又は名称】杉村 光嗣
(74)【代理人】
【識別番号】100165951
【弁理士】
【氏名又は名称】吉田 憲悟
(74)【代理人】
【識別番号】100180655
【弁理士】
【氏名又は名称】鈴木 俊樹
(72)【発明者】
【氏名】古屋 貴明
(72)【発明者】
【氏名】小泉 佳彦
(72)【発明者】
【氏名】高木 雄太
(72)【発明者】
【氏名】鵜篭 直也
(72)【発明者】
【氏名】岩田 直也
【テーマコード（参考）】
2G047
【Ｆターム（参考）】
2G047AA01
2G047BA04
2G047BC15
2G047CA04
2G047EA10
2G047GD02
2G047GF11
(57)【要約】
【課題】高精度に被検出ガスを検出可能なガスセンサ及びガス測定方法が提供される。
【解決手段】ガスセンサ（１）は、基板の上に設けられた光源（１１）と、基板の上に設けられて光源から出射された光に基づく信号を検出する検出部（４１）と、気体が通る孔が設けられたガス検出空間（４２）と、を有するガス測定部（４０）を備え、ガス測定部の共鳴モードの固有周波数をｆとして、光源の駆動周波数は、０．９ｆ以上１．１ｆ以下であり、ガス検出空間は、光源の駆動により、音圧の分布が生じ、光源及び検出部は、それぞれ音圧の絶対値の最大値に対して７割以上の領域に配置される。
【選択図】図１
【解決手段】ガスセンサ（１）は、基板の上に設けられた光源（１１）と、基板の上に設けられて光源から出射された光に基づく信号を検出する検出部（４１）と、気体が通る孔が設けられたガス検出空間（４２）と、を有するガス測定部（４０）を備え、ガス測定部の共鳴モードの固有周波数をｆとして、光源の駆動周波数は、０．９ｆ以上１．１ｆ以下であり、ガス検出空間は、光源の駆動により、音圧の分布が生じ、光源及び検出部は、それぞれ音圧の絶対値の最大値に対して７割以上の領域に配置される。
【選択図】図１
【特許請求の範囲】
【請求項1】
基板の上に設けられた光源と、前記基板の上に設けられて前記光源から出射された光に基づく信号を検出する検出部と、気体が通る孔が設けられたガス検出空間と、を有するガス測定部を備え、
前記ガス測定部の共鳴モードの固有周波数をｆとして、前記光源の駆動周波数は、０．９ｆ以上１．１ｆ以下であり、
前記ガス検出空間は、前記光源の駆動により、音圧の分布が生じ、
前記光源及び検出部は、それぞれ前記音圧の絶対値の最大値に対して７割以上の領域に配置される、ガスセンサ。
前記ガス測定部の共鳴モードの固有周波数をｆとして、前記光源の駆動周波数は、０．９ｆ以上１．１ｆ以下であり、
前記ガス検出空間は、前記光源の駆動により、音圧の分布が生じ、
前記光源及び検出部は、それぞれ前記音圧の絶対値の最大値に対して７割以上の領域に配置される、ガスセンサ。
【請求項2】
前記基板の主面を正面に見る平面視で、
前記ガス測定部の中心に対して点対称の位置、又は、前記ガス測定部の中心を通る直線に対して線対称の位置にそれぞれ前記光源及び前記検出部が配置され、
前記光源及び前記検出部は、前記平面視における前記ガス測定部の最大長さの３分の１以上離隔されている、請求項１に記載のガスセンサ。
前記ガス測定部の中心に対して点対称の位置、又は、前記ガス測定部の中心を通る直線に対して線対称の位置にそれぞれ前記光源及び前記検出部が配置され、
前記光源及び前記検出部は、前記平面視における前記ガス測定部の最大長さの３分の１以上離隔されている、請求項１に記載のガスセンサ。
【請求項3】
前記基板の主面を正面に見る平面視で、
前記光源及び前記検出部の一方は、前記ガス測定部の中心に配置され、
前記光源及び前記検出部の他方は、前記ガス測定部の中心から前記平面視における前記ガス測定部の最大長さの４分の１以上離隔して配置されている、請求項１に記載のガスセンサ。
前記光源及び前記検出部の一方は、前記ガス測定部の中心に配置され、
前記光源及び前記検出部の他方は、前記ガス測定部の中心から前記平面視における前記ガス測定部の最大長さの４分の１以上離隔して配置されている、請求項１に記載のガスセンサ。
【請求項4】
前記光源は駆動周波数を２００Ｈｚ以上とする発光素子である、請求項１に記載のガスセンサ。
【請求項5】
前記共鳴モードの固有周波数であるｆは、前記ガス測定部の各辺の長さをＬｘ、Ｌｙ、Ｌｚ、音速をｃ、０から３のいずれかの整数をｎｘ、ｎｙ、ｎｚとし、ｎｘ、ｎｙ、ｎｚのいずれかは０より大きい場合に、以下の式（１）で与えられる、請求項１に記載のガスセンサ。
【数1】
【請求項6】
前記ガス測定部の一辺の長さであるＬｘ、Ｌｙ、Ｌｚは、前記ガス検出空間の体積をＶとする場合に、以下の式（２）で与えられる、請求項５に記載のガスセンサ。
【数2】
【請求項7】
前記ガス測定部は直方体であって、直交する２辺の長さが同じである、請求項１から６のいずれか一項に記載のガスセンサ。
【請求項8】
前記ガス測定部は立方体である、請求項１から６のいずれか一項に記載のガスセンサ。
【請求項9】
前記ガス測定部は円筒形又は半球形である、請求項１に記載のガスセンサ。
【請求項10】
前記ガス測定部は円筒形であり、前記共鳴モードの固有周波数であるｆは、前記ガス測定部の高さをＬｃｚ、半径をＲ、音速をｃ、τｍｉは０又はｍ次の第一種Ｂｅｓｓｅｌ関数の０から数えてｉ番目の微分値が０になる点の座標値であり、ｍ、ｉ、ｎｚは０から３のいずれかの整数とし、τｍｉ又はｎｚのいずれかは０より大きい場合に、以下の式（３）で与えられる、請求項９に記載のガスセンサ。
【数3】
【請求項11】
前記ガス測定部は半球形であり、前記共鳴モードの固有周波数であるｆは、前記ガス測定部の半径をＲ、音速をｃ、μｌｉをｌ次の球Ｂｅｓｓｅｌ関数の０から数えてｉ番目の勾配が０になる点の座標値とする場合に、ｌとｉは０から３のいずれかの整数とする場合に、以下の式（４）で与えられる、請求項９に記載のガスセンサ。
【数4】
【請求項12】
前記駆動周波数が１ｋＨｚ以上である、請求項１から６のいずれか一項に記載のガスセンサ。
【請求項13】
前記駆動周波数が１０ｋＨｚ以上である、請求項１から６のいずれか一項に記載のガスセンサ。
【請求項14】
前記検出部は振動膜を有するマイクであって、共振周波数が前記駆動周波数と略同じであり、光音響方式で被検出ガスの存在又は濃度を測定する、請求項１から６のいずれか一項に記載のガスセンサ。
【請求項15】
前記光源は量子型の発光素子である、請求項１から６のいずれか一項に記載のガスセンサ。
【請求項16】
前記光源又は前記検出部が、前記ガス測定部に対して近似的に画定される直方体又は立方体の中心部又は端部に存在する、請求項１から６のいずれか一項に記載のガスセンサ。
【請求項17】
前記光源又は前記検出部が、前記ガス測定部に対して近似的に画定される円筒形又は半球の中心部又は端部に存在する、請求項９から１１のいずれか一項に記載のガスセンサ。
【請求項18】
基板の上に設けられた光源と、前記基板の上に設けられて前記光源から出射された光に基づく信号を検出する検出部と、気体が通る孔が設けられたガス検出空間と、を有するガス測定部を備えるガスセンサが実行するガス測定方法であって、
前記ガス測定部の共鳴モードの固有周波数をｆとして、前記光源の駆動周波数が、０．９ｆ以上１．１ｆ以下であるように設定するステップを含み、
前記ガスセンサにおいて、
前記ガス検出空間は、前記光源の駆動により、音圧の分布が生じ、
前記光源及び検出部は、それぞれ前記音圧の絶対値の最大値に対して７割以上の領域に配置される、ガス測定方法。
前記ガス測定部の共鳴モードの固有周波数をｆとして、前記光源の駆動周波数が、０．９ｆ以上１．１ｆ以下であるように設定するステップを含み、
前記ガスセンサにおいて、
前記ガス検出空間は、前記光源の駆動により、音圧の分布が生じ、
前記光源及び検出部は、それぞれ前記音圧の絶対値の最大値に対して７割以上の領域に配置される、ガス測定方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本開示はガスセンサ及びガス測定方法に関する。
【背景技術】
【0002】
近年、赤外線を発光する光源を備え、赤外線が被検出ガスを含むガスを透過するように構成され、被検出ガスによる赤外線の吸収特性を利用して被検出ガスの濃度を検出するガスセンサ（ガス測定装置）の開発が進められている。被検出ガスは、例えばアルコール又は二酸化炭素などである。例えば特許文献１は、光を吸収したガス分子の振動を高性能なマイクで音として拾うことでガス濃度を測定する光音響方式のガスセンサを開示する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【特許文献1】国際公開第２０２０／２１２４８１号
【特許文献2】米国特許出願公開第２０２１／０３４９０５７号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
ここで、光音響方式のガスセンサではマイクで音を拾うため、使用環境におけるノイズが検出精度に影響する。例えば特許文献２は、ハウジング構造を有する光音響センサにおいて、５Ｈｚから２５ｋＨｚの周波数範囲でＭＥＭＳマイクによって音響情報を検出することを開示する。例えばガスセンサの使用環境にエアコンなどの機器がある場合に、一例として１００Ｈｚ付近にピークを有するノイズを発することがある。そのため、高精度に被検出ガスを検出するために、ノイズの影響を避けることが可能なガスセンサが求められている。しかし、特許文献２はガスセンサの構造設計とノイズの影響について検討していない。
【0005】
かかる事情に鑑みてなされた本開示の目的は、高精度に被検出ガスを検出可能なガスセンサ及びガス測定方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0006】
［１］本開示の一実施形態に係るガスセンサは、
基板の上に設けられた光源と、前記基板の上に設けられて前記光源から出射された光に基づく信号を検出する検出部と、気体が通る孔が設けられたガス検出空間と、を有するガス測定部を備え、
前記ガス測定部の共鳴モードの固有周波数をｆとして、前記光源の駆動周波数は、０．９ｆ以上１．１ｆ以下であり、
前記ガス検出空間は、前記光源の駆動により、音圧の分布が生じ、
前記光源及び検出部は、それぞれ前記音圧の絶対値の最大値に対して７割以上の領域に配置される。
基板の上に設けられた光源と、前記基板の上に設けられて前記光源から出射された光に基づく信号を検出する検出部と、気体が通る孔が設けられたガス検出空間と、を有するガス測定部を備え、
前記ガス測定部の共鳴モードの固有周波数をｆとして、前記光源の駆動周波数は、０．９ｆ以上１．１ｆ以下であり、
前記ガス検出空間は、前記光源の駆動により、音圧の分布が生じ、
前記光源及び検出部は、それぞれ前記音圧の絶対値の最大値に対して７割以上の領域に配置される。
【0007】
［２］本開示の一実施形態として、［１］において、
前記基板の主面を正面に見る平面視で、
前記ガス測定部の中心に対して点対称の位置、又は、前記ガス測定部の中心を通る直線に対して線対称の位置にそれぞれ前記光源及び前記検出部が配置され、
前記光源及び前記検出部は、前記平面視における前記ガス測定部の最大長さの３分の１以上離隔されている。
前記基板の主面を正面に見る平面視で、
前記ガス測定部の中心に対して点対称の位置、又は、前記ガス測定部の中心を通る直線に対して線対称の位置にそれぞれ前記光源及び前記検出部が配置され、
前記光源及び前記検出部は、前記平面視における前記ガス測定部の最大長さの３分の１以上離隔されている。
【0008】
［３］本開示の一実施形態として、［１］において、
前記基板の主面を正面に見る平面視で、
前記光源及び前記検出部の一方は、前記ガス測定部の中心に配置され、
前記光源及び前記検出部の他方は、前記ガス測定部の中心から前記平面視における前記ガス測定部の最大長さの４分の１以上離隔して配置されている。
前記基板の主面を正面に見る平面視で、
前記光源及び前記検出部の一方は、前記ガス測定部の中心に配置され、
前記光源及び前記検出部の他方は、前記ガス測定部の中心から前記平面視における前記ガス測定部の最大長さの４分の１以上離隔して配置されている。
【0009】
［４］本開示の一実施形態として、［１］において、
前記光源は駆動周波数を２００Ｈｚ以上とする発光素子である。
前記光源は駆動周波数を２００Ｈｚ以上とする発光素子である。
【0010】
［５］本開示の一実施形態として、［１］において、
前記共鳴モードの固有周波数であるｆは、前記ガス測定部の各辺の長さをＬｘ、Ｌｙ、Ｌｚ、音速をｃ、０から３のいずれかの整数をｎｘ、ｎｙ、ｎｚとし、ｎｘ、ｎｙ、ｎｚのいずれかは０より大きい場合に、以下の式（１）で与えられる。
前記共鳴モードの固有周波数であるｆは、前記ガス測定部の各辺の長さをＬｘ、Ｌｙ、Ｌｚ、音速をｃ、０から３のいずれかの整数をｎｘ、ｎｙ、ｎｚとし、ｎｘ、ｎｙ、ｎｚのいずれかは０より大きい場合に、以下の式（１）で与えられる。
【数1】
【0011】
［６］本開示の一実施形態として、［５］において、
前記ガス測定部の一辺の長さであるＬｘ、Ｌｙ、Ｌｚは、前記ガス検出空間の体積をＶとする場合に、以下の式（２）で与えられる。
前記ガス測定部の一辺の長さであるＬｘ、Ｌｙ、Ｌｚは、前記ガス検出空間の体積をＶとする場合に、以下の式（２）で与えられる。
【数2】
【0012】
［７］本開示の一実施形態として、［１］から［６］のいずれかにおいて、
前記ガス測定部は直方体であって、直交する２辺の長さが同じである。
前記ガス測定部は直方体であって、直交する２辺の長さが同じである。
【0013】
［８］本開示の一実施形態として、［１］から［６］のいずれかにおいて、
前記ガス測定部は立方体である。
前記ガス測定部は立方体である。
【0014】
［９］本開示の一実施形態として、［１］において、
前記ガス測定部は円筒形又は半球形である。
前記ガス測定部は円筒形又は半球形である。
【0015】
［１０］本開示の一実施形態として、［９］において、
前記ガス測定部は円筒形であり、前記共鳴モードの固有周波数であるｆは、前記ガス測定部の高さをＬｃｚ、半径をＲ、音速をｃ、τｍｉは０又はｍ次の第一種Ｂｅｓｓｅｌ関数の０から数えてｉ番目の微分値が０になる点の座標値であり、ｍ、ｉ、ｎｚは０から３のいずれかの整数とし、τｍｉ又はｎｚのいずれかは０より大きい場合に、以下の式（３）で与えられる。
前記ガス測定部は円筒形であり、前記共鳴モードの固有周波数であるｆは、前記ガス測定部の高さをＬｃｚ、半径をＲ、音速をｃ、τｍｉは０又はｍ次の第一種Ｂｅｓｓｅｌ関数の０から数えてｉ番目の微分値が０になる点の座標値であり、ｍ、ｉ、ｎｚは０から３のいずれかの整数とし、τｍｉ又はｎｚのいずれかは０より大きい場合に、以下の式（３）で与えられる。
【数3】
【0016】
［１１］本開示の一実施形態として、［９］において、
前記ガス測定部は半球形であり、前記共鳴モードの固有周波数であるｆは、前記ガス測定部の半径をＲ、音速をｃ、μｌｉをｌ次の球Ｂｅｓｓｅｌ関数の０から数えてｉ番目の勾配が０になる点の座標値とする場合に、ｌとｉは０から３のいずれかの整数とする場合に、以下の式（４）で与えられる。
前記ガス測定部は半球形であり、前記共鳴モードの固有周波数であるｆは、前記ガス測定部の半径をＲ、音速をｃ、μｌｉをｌ次の球Ｂｅｓｓｅｌ関数の０から数えてｉ番目の勾配が０になる点の座標値とする場合に、ｌとｉは０から３のいずれかの整数とする場合に、以下の式（４）で与えられる。
【数4】
【0017】
［１２］本開示の一実施形態として、［１］から［１１］のいずれかにおいて、
前記駆動周波数が１ｋＨｚ以上である。
前記駆動周波数が１ｋＨｚ以上である。
【0018】
［１３］本開示の一実施形態として、［１］から［１２］のいずれかにおいて、
前記駆動周波数が１０ｋＨｚ以上である。
前記駆動周波数が１０ｋＨｚ以上である。
【0019】
［１４］本開示の一実施形態として、［１］から［１３］のいずれかにおいて、
前記検出部は振動膜を有するマイクであって、共振周波数が前記駆動周波数と略同じであり、光音響方式で被検出ガスの存在又は濃度を測定する。
前記検出部は振動膜を有するマイクであって、共振周波数が前記駆動周波数と略同じであり、光音響方式で被検出ガスの存在又は濃度を測定する。
【0020】
［１５］本開示の一実施形態として、［１］から［１４］のいずれかにおいて、
前記光源は量子型の発光素子である。
前記光源は量子型の発光素子である。
【0021】
［１６］本開示の一実施形態として、［１］から［８］のいずれかにおいて、
前記光源又は前記検出部が、前記ガス測定部に対して近似的に画定される直方体又は立方体の中心部又は端部に存在する。
前記光源又は前記検出部が、前記ガス測定部に対して近似的に画定される直方体又は立方体の中心部又は端部に存在する。
【0022】
［１７］本開示の一実施形態として、［９］から［１１］のいずれかにおいて、
前記光源又は前記検出部が、前記ガス測定部に対して近似的に画定される円筒形又は半球の中心部又は端部に存在する。
前記光源又は前記検出部が、前記ガス測定部に対して近似的に画定される円筒形又は半球の中心部又は端部に存在する。
【0023】
［１８］本開示の一実施形態に係るガス測定方法は、
基板の上に設けられた光源と、前記基板の上に設けられて前記光源から出射された光に基づく信号を検出する検出部と、気体が通る孔が設けられたガス検出空間と、を有するガス測定部を備えるガスセンサが実行するガス測定方法であって、
前記ガス測定部の共鳴モードの固有周波数をｆとして、前記光源の駆動周波数が、０．９ｆ以上１．１ｆ以下であるように設定するステップを含み、
前記ガスセンサにおいて、
前記ガス検出空間は、前記光源の駆動により、音圧の分布が生じ、
前記光源及び検出部は、それぞれ前記音圧の絶対値の最大値に対して７割以上の領域に配置される。
基板の上に設けられた光源と、前記基板の上に設けられて前記光源から出射された光に基づく信号を検出する検出部と、気体が通る孔が設けられたガス検出空間と、を有するガス測定部を備えるガスセンサが実行するガス測定方法であって、
前記ガス測定部の共鳴モードの固有周波数をｆとして、前記光源の駆動周波数が、０．９ｆ以上１．１ｆ以下であるように設定するステップを含み、
前記ガスセンサにおいて、
前記ガス検出空間は、前記光源の駆動により、音圧の分布が生じ、
前記光源及び検出部は、それぞれ前記音圧の絶対値の最大値に対して７割以上の領域に配置される。
【発明の効果】
【0024】
本開示によれば、高精度に被検出ガスを検出可能なガスセンサを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【0025】
【発明を実施するための形態】
【0026】
以下、図面を参照して本開示の一実施形態に係るガスセンサが説明される。各図中、同一又は相当する部分には、同一符号が付されている。本実施形態の説明において、同一又は相当する部分については、説明を適宜省略又は簡略化する。
【0027】
（ガスセンサ）
図１は、本実施形態に係るガスセンサ１の構成を示す図である。ガスセンサ１は、筐体１０と、筐体１０の内部に配置されるガス測定部４０と、を備える。本実施形態のように、ガスセンサ１は基板３０を備えてよい。また、ガスセンサ１は回路５０を備えてよい。ガス測定部４０は、光源１１と、検出部４１と、ガス検出空間４２と、を有する。ガスセンサ１の構成要素の詳細については後述する。ガス測定部４０には、気体（例えば周囲の空気）が通る孔４３が設けられており、ガス検出空間４２に気体が導入される。ガスセンサ１は、導入された気体における被検出ガスの存在又は濃度を測定する。被検出ガスは、検出対象である特定のガスであって、例えば二酸化炭素、水蒸気、一酸化炭素、一酸化窒素、アンモニア、二酸化硫黄、アルコール、ホルムアルデヒド、メタン、プロパンなどであり得る。
図１は、本実施形態に係るガスセンサ１の構成を示す図である。ガスセンサ１は、筐体１０と、筐体１０の内部に配置されるガス測定部４０と、を備える。本実施形態のように、ガスセンサ１は基板３０を備えてよい。また、ガスセンサ１は回路５０を備えてよい。ガス測定部４０は、光源１１と、検出部４１と、ガス検出空間４２と、を有する。ガスセンサ１の構成要素の詳細については後述する。ガス測定部４０には、気体（例えば周囲の空気）が通る孔４３が設けられており、ガス検出空間４２に気体が導入される。ガスセンサ１は、導入された気体における被検出ガスの存在又は濃度を測定する。被検出ガスは、検出対象である特定のガスであって、例えば二酸化炭素、水蒸気、一酸化炭素、一酸化窒素、アンモニア、二酸化硫黄、アルコール、ホルムアルデヒド、メタン、プロパンなどであり得る。
【0028】
本実施形態において、筐体１０の内部にガス測定部４０が配置されている。ただし、筐体１０が無い構成であってよい。ガスセンサ１は、基板３０の上にガス測定部４０と回路５０とを備えて構成される。本実施形態において、ガス測定部４０は、基板３０の上に設けられた光源１１及び検出部４１と、ガス検出空間４２と、を含んで構成される。また、孔４３は、ガス測定部４０のガス検出空間４２を区画する外壁（側壁及び天井）の一部に設けられてよい。本実施形態において、孔４３は、ガス検出空間４２を区画する外壁のうちの天井に設けられている。
【0029】
（筐体）
筐体１０はガスセンサ１の外装である。筐体１０は基板３０を保持してよい。筐体１０に基板３０が取り付けられることによって、ガス測定部４０の位置が固定される。筐体１０は、金属、ガラス、樹脂、それらの複合材料であり得る。樹脂は、例えばフェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ビスマレイミドトリアジン樹脂、フッ素樹脂、ポリフェニレンオキシド樹脂などである。
筐体１０はガスセンサ１の外装である。筐体１０は基板３０を保持してよい。筐体１０に基板３０が取り付けられることによって、ガス測定部４０の位置が固定される。筐体１０は、金属、ガラス、樹脂、それらの複合材料であり得る。樹脂は、例えばフェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ビスマレイミドトリアジン樹脂、フッ素樹脂、ポリフェニレンオキシド樹脂などである。
【0030】
（基板）
基板３０は、ガス測定部４０を保持する機能を有する。本実施形態において、基板３０は回路５０も保持する。基板３０の材質は、例えば紙、ガラスクロス、ポリイミドフィルム、ＰＥＴフィルム、セラミックスなどである。
基板３０は、ガス測定部４０を保持する機能を有する。本実施形態において、基板３０は回路５０も保持する。基板３０の材質は、例えば紙、ガラスクロス、ポリイミドフィルム、ＰＥＴフィルム、セラミックスなどである。
【0031】
（ガス測定部）
ガス測定部４０は被検出ガスを検出する。詳細に述べると、ガス測定部４０は、ガス検出空間４２に導入された気体中の被検出ガスの存在又は濃度を測定し、測定結果を示す電気信号を出力する。本実施形態において、ガス測定部４０は、光音響方式で被検出ガスの存在又は濃度を測定する。光音響方式は、光を吸収したガス分子の振動を高性能なマイクで音（圧力変化）として拾うことによって被検出ガスを測定する。
ガス測定部４０は被検出ガスを検出する。詳細に述べると、ガス測定部４０は、ガス検出空間４２に導入された気体中の被検出ガスの存在又は濃度を測定し、測定結果を示す電気信号を出力する。本実施形態において、ガス測定部４０は、光音響方式で被検出ガスの存在又は濃度を測定する。光音響方式は、光を吸収したガス分子の振動を高性能なマイクで音（圧力変化）として拾うことによって被検出ガスを測定する。
【0032】
（光源）
光源１１は、被検出ガスによって吸収される波長を含む光を出射する。光源１１は、所定の駆動周波数を有する発光素子で構成されてよい。発光素子は、例えばＬＥＤ（Ｌｉｇｈｔ Ｅｍｉｔｔｉｎｇ Ｄｉｏｄｅ）、ランプ、レーザ（Ｌｉｇｈｔ Ａｍｐｌｉｆｉｃａｔｉｏｎ ｂｙ Ｓｔｉｍｕｌａｔｅｄ Ｅｍｉｓｓｉｏｎ ｏｆ Ｒａｄｉａｔｉｏｎ）、有機発光素子、ＭＥＭＳ（Ｍｉｃｒｏ Ｅｌｅｃｔｒｏ Ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ Ｓｙｓｔｅｍｓ）ヒータ、ＶＣＳＥＬ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ｃａｖｉｔｙ Ｓｕｒｆａｃｅ Ｅｍｉｔｔｉｎｇ ＬＡＳＥＲ）などであってよい。本実施形態において、光源１１は、駆動周波数を２００Ｈｚ以上とし、赤外線を出射するＬＥＤ（赤外線ＬＥＤ）である。また、高い周波数で駆動できるように、光源１１は半導体の電子又は正孔を利用して赤外線を発光する量子型の赤外線ＬＥＤである。
光源１１は、被検出ガスによって吸収される波長を含む光を出射する。光源１１は、所定の駆動周波数を有する発光素子で構成されてよい。発光素子は、例えばＬＥＤ（Ｌｉｇｈｔ Ｅｍｉｔｔｉｎｇ Ｄｉｏｄｅ）、ランプ、レーザ（Ｌｉｇｈｔ Ａｍｐｌｉｆｉｃａｔｉｏｎ ｂｙ Ｓｔｉｍｕｌａｔｅｄ Ｅｍｉｓｓｉｏｎ ｏｆ Ｒａｄｉａｔｉｏｎ）、有機発光素子、ＭＥＭＳ（Ｍｉｃｒｏ Ｅｌｅｃｔｒｏ Ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ Ｓｙｓｔｅｍｓ）ヒータ、ＶＣＳＥＬ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ｃａｖｉｔｙ Ｓｕｒｆａｃｅ Ｅｍｉｔｔｉｎｇ ＬＡＳＥＲ）などであってよい。本実施形態において、光源１１は、駆動周波数を２００Ｈｚ以上とし、赤外線を出射するＬＥＤ（赤外線ＬＥＤ）である。また、高い周波数で駆動できるように、光源１１は半導体の電子又は正孔を利用して赤外線を発光する量子型の赤外線ＬＥＤである。
【0033】
ここで、赤外線の波長は２μｍ～１２μｍであってよい。２μｍ～１２μｍの領域は、各種ガスに固有の吸収帯が数多く存在し、ガスセンサ１に用いるのに特に適した波長帯である。例えば３．３μｍの波長にメタン、４．３μｍの波長に二酸化炭素、９．５μｍの波長にアルコール（エタノール）の吸収帯が存在する。
【0034】
（検出部）
検出部４１は、ガス検出空間４２の気体（空気）中に存在する被検出ガスの濃度測定において、被検出ガスの存在量に応じた変化を検出する。光源１１から出射された光は、ガス検出空間４２を通り、被検出ガスの存在量に応じて吸収される。検出部４１は、光源１１から出射された光に基づく信号を検出する。本実施形態において、検出部４１はマイク（ｍｉｃｒｏｐｈｏｎｅ）である。光音響方式のガスセンサ１において、光を吸収した被検出ガスのガス分子の振動音が光に基づく信号に対応する。
検出部４１は、ガス検出空間４２の気体（空気）中に存在する被検出ガスの濃度測定において、被検出ガスの存在量に応じた変化を検出する。光源１１から出射された光は、ガス検出空間４２を通り、被検出ガスの存在量に応じて吸収される。検出部４１は、光源１１から出射された光に基づく信号を検出する。本実施形態において、検出部４１はマイク（ｍｉｃｒｏｐｈｏｎｅ）である。光音響方式のガスセンサ１において、光を吸収した被検出ガスのガス分子の振動音が光に基づく信号に対応する。
【0035】
（ガス検出空間）
ガス検出空間４２は、外壁により空間が分離され、その内部空間に空気などの気体を収容する機能を備えている。ガス検出空間４２に収容された気体は、孔４３を通して置換される。ガス検出空間４２の外壁は金属又は樹脂などで形成される。
ガス検出空間４２は、外壁により空間が分離され、その内部空間に空気などの気体を収容する機能を備えている。ガス検出空間４２に収容された気体は、孔４３を通して置換される。ガス検出空間４２の外壁は金属又は樹脂などで形成される。
【0036】
（孔）
孔４３は、ガス検出空間４２の外壁に備えられた穴である。気体が孔４３を通り、ガス検出空間４２内の気体が置換される。孔４３は、複数存在する場合もある。ここで、孔４３は防塵用の防塵フィルタを備えてよい。また、孔４３は付加的に管状の通気管を備えてよい。通気管は気体が通気する空間を制限し、気体をガス検出空間４２へ導く機能を有する。
孔４３は、ガス検出空間４２の外壁に備えられた穴である。気体が孔４３を通り、ガス検出空間４２内の気体が置換される。孔４３は、複数存在する場合もある。ここで、孔４３は防塵用の防塵フィルタを備えてよい。また、孔４３は付加的に管状の通気管を備えてよい。通気管は気体が通気する空間を制限し、気体をガス検出空間４２へ導く機能を有する。
【0037】
（回路）
回路５０はガスセンサ１の全体を制御してよい。例えば回路５０は被検出ガスの濃度を得るために、ガス測定部４０からの出力信号に対する演算処理を実行してよい。回路５０は光源１１を駆動してよい。回路５０は１つ以上のプロセッサを含んで構成されてよい。プロセッサは、例えば汎用のプロセッサ、又は特定の処理に特化した専用プロセッサであるが、これらに限られず任意のプロセッサとすることができる。
回路５０はガスセンサ１の全体を制御してよい。例えば回路５０は被検出ガスの濃度を得るために、ガス測定部４０からの出力信号に対する演算処理を実行してよい。回路５０は光源１１を駆動してよい。回路５０は１つ以上のプロセッサを含んで構成されてよい。プロセッサは、例えば汎用のプロセッサ、又は特定の処理に特化した専用プロセッサであるが、これらに限られず任意のプロセッサとすることができる。
【0038】
（ガスセンサ設計）
ここで、一般に光音響方式のガスセンサ１ではマイクで音を拾うため、使用環境におけるノイズが検出精度に影響する。例えばガスセンサ１の使用環境にエアコンなどの機器がある場合に、一例として１００Ｈｚ付近にピークを有するノイズを発することがある。そのため、高精度に被検出ガスを検出するために、ノイズの影響を避けることが必要である。また、ガス検出空間４２は外壁で区画され、例えば直方体に近い構造体（セル）の内部空間として設けられる。そのため、セルの共鳴モードを利用することによって、マイクで拾う音を大きくして、測定精度を高めることが可能である。以下に、ノイズの影響の回避及び共鳴モードの利用が順に説明される。
ここで、一般に光音響方式のガスセンサ１ではマイクで音を拾うため、使用環境におけるノイズが検出精度に影響する。例えばガスセンサ１の使用環境にエアコンなどの機器がある場合に、一例として１００Ｈｚ付近にピークを有するノイズを発することがある。そのため、高精度に被検出ガスを検出するために、ノイズの影響を避けることが必要である。また、ガス検出空間４２は外壁で区画され、例えば直方体に近い構造体（セル）の内部空間として設けられる。そのため、セルの共鳴モードを利用することによって、マイクで拾う音を大きくして、測定精度を高めることが可能である。以下に、ノイズの影響の回避及び共鳴モードの利用が順に説明される。
【0039】
図２は、光源１１の駆動周波数の設定を説明するための図である。図２の左図の点線は、ガスセンサ１の使用環境におけるノイズエネルギー強度の数値計算結果を示す。振動源から発せられる音（ノイズ）のモデルとして、日立ルームエアコン「ＲＡＳ－ＡＪ３６Ｄ（Ｗ）」室内ユニットの暖房運転時の送風部からの騒音の計測データが使用された。縦軸は最大値で規格化されたノイズエネルギー強度を示す。横軸は周波数であって、周波数成分毎のノイズエネルギー強度が示されている。光源１１の駆動周波数を、ノイズエネルギー強度のピークから離れた周波数帯域に設定することによって、使用環境におけるノイズの影響を避けることが可能である。図２の例において１００Ｈｚ付近に鋭い強度のピークがある。そのため、光源１１の駆動周波数は２００Ｈｚ以上に設定されてよい。また、ノイズエネルギー強度のピークからさらに離すために、光源１１の駆動周波数は１ｋＨｚ以上であってよく、１０ｋＨｚ以上であってよい。
【0040】
光源１１の発光状態について、発光している状態をＯＮ、発光していない状態をＯＦＦとすると、光源１１の駆動周波数はＯＮの間隔によって定められる。本実施形態において、赤外線ＬＥＤである光源１１に駆動電流が定期的に印加されて、光源１１はＯＮとＯＦＦとを定期的に繰り返す。図２の右図において、ＯＮの間隔は周期ｔで示されている。光源１１の駆動周波数は周期ｔの逆数として与えられる。ここで、デューティー比（周期ｔに対するＯＮである時間）は限定されないが、一例として３０％であってよい。
【0041】
ここで、ガス測定部４０の形状は、特定の形に限定されないが、一部に孔４３を有する直方体、立方体、円筒形、球、半球、楕円体又は半楕円体（楕円体を半分に切断した形状）などであり得る。例えば図１又は図４の例において、ガス測定部４０に対して近似的に画定される直方体又は立方体を定めることができる。ガス測定部４０は、ガス検出空間４２を有しており、特定の周波数（固有周波数）の音波を大きく増幅させる共鳴モードを有する。共鳴モードの固有周波数であるｆは、ガス測定部４０の各辺の長さをＬｘ、Ｌｙ、Ｌｚ、音速をｃ、０から３のいずれかの整数をｎｘ、ｎｙ、ｎｚとする場合に、以下の式（１）で与えられる。ここで、ガス測定部４０の内部に波が存在するために、ｎｘ、ｎｙ、ｎｚのいずれかは０より大きい。
【0042】
【数5】
【0043】
ここで、ｎｘ、ｎｙ、ｎｚは４以上の自然数を含んでよいが、主に共鳴の基底モード（ｎｘ＋ｎｙ＋ｎｚ＝１）、１次モード（ｎｘ＋ｎｙ＋ｎｚ＝２）及び２次モード（ｎｘ＋ｎｙ＋ｎｚ＝３）が考慮される。また、ガス測定部４０は立方体であってよく、この場合に一辺の長さであるＬ（＝Ｌｘ＝Ｌｙ＝Ｌｚ）を用いて式（１）に従って共鳴モードの固有周波数が計算される。また、一辺の長さをＬは実効長であってよい。ガス測定部４０が立方体でない場合に、Ｌはガス検出空間４２の体積Ｖを用いて以下の式（１）で与えられてよい。すなわち、ＬはＶの三乗根として与えられてよい。
【0044】
【数6】
【0045】
図３は光源１１の駆動周波数を変化させた場合のマイク（検出部４１）の出力の変化を例示する図である。図３の実験で用いられたガス測定部４０は１．０６×０．９６×０．８５ｃｍ３のサイズであって、直径１ｍｍの孔４３を有する。赤外線ＬＥＤである光源１１に３５０ｍＡの駆動電流が定期的に印加されて、デューティー比は３０％である。駆動周波数を１６～２３ｋＨｚの範囲で１ｋＨｚずつ変化させたところ、他に比べて２１ｋＨｚでマイクの出力が大きくなった。これは、駆動周波数がガス測定部４０の共鳴モードの固有周波数と略等しくなったためと考えられる。つまり、駆動周波数をガス測定部４０の共鳴モードの固有周波数に基づいて決定することによって、光を吸収したガス分子の振動に基づく大きな音をマイクで拾うことができる。そのため、ノイズの影響を更に低減することができ、高精度に被検出ガスを検出することが可能になる。ここで、駆動周波数を共鳴モードの固有周波数と完全に一致させる必要はなく、例えば共鳴モードの固有周波数と－１ｋＨｚ～＋１ｋＨｚ程度のずれがあっても十分に精度を高められると考えられる。本実施形態において、ガス測定部４０の共鳴モードの固有周波数をｆとして、光源１１の駆動周波数は、０．９ｆ以上１．１ｆ以下である。また同様に、光源１１の駆動周波数のピークを中心としたピーク半値幅の領域と共鳴モードの固有周波数のピークを中心としたピーク半値幅の領域とが重なっていればよい。ピーク半値幅は、ピークの高さ（大きさ）を半分にしたときの波長の幅である。
【0046】
また、光音響方式で被検出ガスの存在又は濃度を測定する場合に、検出部４１は振動膜を有するマイクであり得る。この場合に、マイクの出力がさらに大きくなるように、振動膜の共振周波数を光源１１の駆動周波数と略同じであるようにしてよい。ここで、略同じとは、振動膜の共振周波数のピークを中心としたピーク半値幅の領域と光源１１の駆動周波数のピークを中心としたピーク半値幅の領域とが重なっていること、振動膜の共振周波数をＦとして光源１１の駆動周波数が０．９Ｆ以上かつ１．１Ｆ以下であること、のいずれかを満たしていればよい。
【0047】
ここで、光源１１又は検出部４１は、ガス測定部４０に対して近似的に画定される直方体又は立方体の中心部又は端部に存在することが好ましい。以下に説明するように、ガス検出空間４２は、光源１１の駆動により、音圧の分布が生じる。光源１１及び検出部４１は、それぞれ音圧の絶対値の最大値に対して７割以上の領域に配置されることが好ましく、８割以上の領域に配置されることがさらに好ましい。基板３０の主面を正面に見る平面視で、ガス測定部４０の中心に対して点対称の位置、又は、ガス測定部４０の中心を通る直線に対して線対称の位置にそれぞれ光源１１及び検出部４１が配置されてよい。このとき、光源１１及び検出部４１は、平面視におけるガス測定部４０の最大長さの３分の１以上、より好ましくは半分以上離隔されていてよい。また、基板３０の主面を正面に見る平面視で、光源１１及び検出部４１の一方は、ガス測定部４０の中心に配置されてよい。そして、光源１１及び検出部４１の他方は、ガス測定部４０の中心から離隔して配置されてよい。光源１１及び検出部４１の他方について、ガス測定部４０の中心から離隔される長さは、平面視におけるガス測定部４０の最大長さの４分の１以上であることが好ましく、３分の１以上であることがさらに好ましい。ここで、ガス測定部４０の最大長さは、平面視で最大になる長さであって、ガス測定部４０が長方形又は正方形であれば対角線、円であれば直径、楕円であれば長軸の長さで定められる。また、光源１１の位置は、光源１１がＬＥＤであれば発光領域のどこかの位置で定められてよい。検出部４１の位置は、検出部４１がマイクであれば取り込み穴のどこかの位置で定められてよい。例えばＬＥＤの発光領域のどこかの位置とマイクの取り込み穴のどこかの位置とが、平面視におけるガス測定部４０の最大長さの３分の１以上、より好ましくは半分以上離隔されていれば、上記の条件が満たされるとしてよい。
【0048】
図４に示すように、近似的に直方体又は立方体のガス測定部４０は共鳴箱として扱うことができる。共鳴モードによって気体の振動が増加するが、共鳴モードの節の位置（変動が無い位置）に光源１１又は検出部４１があると、検出部４１に振動が与えられず、結果として検出精度の劣化を招く。よって、被検出ガスの検出精度を高めるために、光源１１又は検出部４１を共鳴モードの節の位置から外して、好ましくは山谷の位置に置くことが好ましい。光源１１と検出部４１を共鳴モードの山谷の位置に置くことによって、発生し、検出する音圧が高まり、被検出ガスの検出精度が高まる。このような山谷の位置とは、音圧の極値として得られ、極値を含み、極値における音圧の絶対値の７割以上の近傍の領域であってよい。この位置に光源１１又は検出部４１を置くことで高精度に被検出ガスを検出可能な効果が得られる。より好ましくは山谷の位置は、絶対値の８割以上の近傍の領域であってよい。またこのような節の位置は、音圧が０である位置として得られ、音圧が０である位置を含み、音圧の絶対値の最大値に対して３割以下の近傍の領域であってよい。この位置以外に光源１１又は検出部４１を置くことで高精度に被検出ガスを検出可能な効果が得られる。節の位置は、より好ましくは絶対値の２割以下の近傍の領域であってよい。ここで、共鳴モードの低次数モードは形状が明確であるため、設計上、節の位置を決定することができる。以下、低次数モードとして、基底モード及び１次モードが検討される。具体的には、ガス測定部４０の形状が直方体、立方体、円筒形、球又は楕円の場合に、対称面、対称軸又は中心部が音圧の共鳴モードの節となる。図４の例では、ガス検出空間４２を区画する側壁（対向する一対の面）のからＬ／４の位置が節となる。また、ガス検出空間４２を区画する側壁の中心部も節となることがある。また、ガス検出空間４２を区画する側壁は山谷の位置となることがある。また、共鳴モードの縮退が生じてさらに強く共鳴を生じさせるため、ガス測定部４０は直方体であって、直交する２辺の長さが同じであることが好ましい。同様の理由から、ガス測定部４０は立方体であることがさらに好ましい。ガス測定部４０内部の音圧がヘルムホルツ方程式を満たし、さらに壁近傍のガスが壁方向に対して動かないことから音圧が壁面に垂直方向には勾配を持たない境界条件を満たす、すなわち式（３）を満たす。より具体的には、ガス測定部４０の形状が各辺の長さがＬｘ、Ｌｙ、Ｌｚである直方体である場合には、その内部に発生する音圧ｐは以下の式（４）で与えられ、壁の位置では音圧は余弦関数の山谷となる。またの固有周波数ｆは式（４）を式（３）に代入することにより、式（１）として得られる。ここでｘ、ｙ、ｚは直交する座標の値である。ｚの方向は基板３０に対し垂直方向のガス測定部４０がある方向を正とする。ｘｙ方向は直方体のガス測定部４０の各辺に対して平行な方向であり、右手系を構成するように選ばれる。原点は直方体であるガス測定部４０の隅の点である。ＡとＢは適当な定数であり、ｔは時刻である。この関数の山谷・節の位置により、光源１１又は検出部４１の好ましい位置が決定される。節の位置は式（５）で与えられる。山谷の位置は式（６）で与えられる。図５は、ガス測定部４０の形状が直方体の場合の内部における音圧分布の数値計算例を示す。ここで、図５は、任意のｚにおけるガス測定部４０のｘｙ平面に平行な面での断面を示す。
【0049】
【数7】
【0050】
またガス測定部４０が円筒形で与えられる場合には、式（４）の音圧ｐを円筒座標のラプラス演算子として解くことで、解析的に解を式（７）のように構成できる。ここでＪｍはｍ次の第一種Ｂｅｓｓｅｌ関数である。Ｒは円筒の半径である。τｍｉは、式（３）の境界条件を満たすように、ｍ次の第一種Ｂｅｓｓｅｌ関数の０から数えてｉ番目の勾配（微分値）が０になる点の座標値である。すなわちτｍｉは、第一種Ｂｅｓｓｅｌ関数の導関数の０から数えてｉ番目の零点の座標値である。ここで、導関数が零であっても原点０は含まない。ｍ、ｎｚは自然数である。ｒは円筒の中心からの動径方向の座標値である。θは円筒の中心からの方位角である。Ｌｃｚは円筒の高さである。Ａ、Ｂは適当な定数である。図６は、ガス測定部４０の形状が円筒形の場合の内部における音圧分布の数値計算例を示す。ここで、図６は、任意のｚにおけるガス測定部４０のｘｙ平面に平行な面での断面を示す。ガス測定部４０が円筒形の場合には、円筒の中心と円筒の壁の位置に音圧ｐの山谷の位置が来る共鳴モードがあり、この位置に検出部４１又は光源１１を置くことによって強い音圧を検知し、高精度に被検出ガスを検出可能が可能である。また円筒の壁部の対向する位置に音圧ｐの山谷の位置が来る共鳴モードがあり、この対向する位置に検出部４１又は光源１１を置くことによって強い音圧を検知し、高精度に被検出ガスを検出可能が可能である。また円筒の端部である円形の壁部に中心から見て９０°毎の位置に音圧ｐの山谷の位置が来る共鳴モードがあり、このいずれかの位置に検出部４１又は光源１１を置くことによって強い音圧を検知し、高精度に被検出ガスを検出可能が可能である。またの固有周波数ｆは式（７）を式（３）に代入することにより、式（８）として得られる。近似値としてτ１１が約１．８４であり、τ２１が約３．０５であり、τ０１が約３．８３である。円筒動径方向に波が立たず、高さ方向のみ波が立つ共鳴モードの場合に、τｍｉはゼロとし、Ｊｍが一定値であり、ｎｚが１以上である。
【0051】
【数8】
【0052】
またガス測定部４０が半球形で与えられる場合には、式（３）の音圧ｐを球面座標によるラプラス演算子として式（９）のように解析的に解くことができ、音圧ｐはこれらの関数の実部又は虚部として構成される。ここでｊｌは１次の球Ｂｅｓｓｅｌ関数である。Ｒは半球底面の円の中心からの半球の半径である。μｌｉは、式（３）の境界条件を満たすようにｌ次の球Ｂｅｓｓｅｌ関数の０から数えてｉ番目の勾配が０になる点の座標値である。Ｙｌｍはｌ、ｍ次の球面調和関数である。ｌ、ｍは整数である。ｒは半球底面の円の中心からの動径方向の座標値である。θは極角である。φは方位角である。またそれらの球面調和関数は半球の境界条件により半球底面に対して上下が対称であるものに限定される。Ａ、Ｂは適当な定数である。図７は、ガス測定部４０の形状が半球形の場合の内部における音圧分布の数値計算例を示す。ガス測定部４０が半球の場合に、半球底面の中心と半球底面の円端部の位置に音圧ｐの山谷の位置が来る共鳴モードがあり、この位置に検出部４１又は光源１１を置くことによって強い音圧を検知し、高精度に被検出ガスを検出可能が可能である。また半球底面の円形の端部である壁部の対向する位置に音圧ｐの山谷の位置が来る共鳴モードがあり、この対向する位置に検出部４１又は光源１１を置くことによって強い音圧を検知し、高精度に被検出ガスを検出可能が可能である。また半球底面の円の端部である円形の壁部に中心から見て９０°毎の位置に音圧ｐの山谷の位置が来る共鳴モードがあり、このいずれかの位置に検出部４１又は光源１１を置くことによって強い音圧を検知し、高精度に被検出ガスを検出可能が可能である。またの固有周波数ｆは式（９）を式（３）に代入することにより、式（１０）として得られる。近似値としてμ１１が約２．０９であり、μ２１が約３．３４であり、μ０１が約４．４９である。
【0053】
【数9】
【0054】
以上のように、本実施形態に係るガスセンサ１は、光源１１の駆動周波数がノイズの影響を避けるように、ガス測定部４０の共鳴モードの固有周波数に基づいて決定されることによって、高精度に被検出ガスを検出可能である。
【0055】
本開示の実施形態について、諸図面及び実施例に基づき説明してきたが、当業者であれば本開示に基づき種々の変形又は修正を行うことが容易であることに注意されたい。従って、これらの変形又は修正は本開示の範囲に含まれることに留意されたい。上記の実施形態において、装置であるガスセンサ１が説明されたが、例えばガスセンサ１が実行するガス測定方法は本開示の範囲に包含される。例えばガスセンサ１が実行するガス測定方法は、ガス測定部４０の共鳴モードの固有周波数をｆとして、光源１１の駆動周波数が、０．９ｆ以上１．１ｆ以下である、若しくは光源１１の駆動周波数のピークを中心としたピーク半値幅の領域と共鳴モードの固有周波数のピークを中心としたピーク半値幅の領域とが重なっている、ように設定するステップを含んでよい。設定するステップは、ガスセンサ１が備える制御装置（例えばプロセッサ）又はガスセンサ１を制御可能な外部の装置（例えばコンピュータ）が、駆動周波数設定部として機能することによって、実行してよい。
【符号の説明】
【0056】
１ ガスセンサ
１０ 筐体
１１ 光源
３０ 基板
４０ ガス測定部
４１ 検出部
４２ ガス検出空間
４３ 孔
５０ 回路
１０ 筐体
１１ 光源
３０ 基板
４０ ガス測定部
４１ 検出部
４２ ガス検出空間
４３ 孔
５０ 回路
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
