特開 2024-146322 調整方法及び調整治具

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2024146322

(43)【公開日】2024-10-15

(54)【発明の名称】調整方法及び調整治具

(51)【国際特許分類】

   H01L 21/677 20060101AFI20241004BHJP

   H01L 21/66 20060101ALI20241004BHJP

【ＦＩ】

H01L21/68 A

H01L21/66 B

【審査請求】未請求

【請求項の数】12

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2023059145

(22)【出願日】2023-03-31

(71)【出願人】

【識別番号】000151494

【氏名又は名称】株式会社東京精密

(74)【代理人】

【識別番号】100083116

【弁理士】

【氏名又は名称】松浦 憲三

(74)【代理人】

【識別番号】100170069

【弁理士】

【氏名又は名称】大原 一樹

(74)【代理人】

【識別番号】100128635

【弁理士】

【氏名又は名称】松村 潔

(74)【代理人】

【識別番号】100140992

【弁理士】

【氏名又は名称】松浦 憲政

(72)【発明者】

【氏名】細川 仁志

【テーマコード（参考）】

4M106

5F131

【Ｆターム（参考）】

4M106AA01

4M106BA01

4M106DD30

4M106DJ32

5F131AA02

5F131BA39

5F131CA42

5F131DA07

5F131DA20

5F131DA32

5F131DA33

5F131DA36

5F131DA42

5F131DD03

5F131DD25

5F131DD26

5F131DD33

5F131DD43

5F131DD59

5F131DD76

5F131FA26

5F131FA32

5F131FA37

5F131KA22

5F131KA72

5F131KB12

5F131KB32

5F131KB33

5F131KB43

5F131KB48

5F131KB58

(57)【要約】

【課題】ウェーハ搬送装置の調整における自動化が実現される、調整方法及び調整治具を提供する。
【解決手段】調整方法は、ウェーハ設置部（１２）へ調整治具（４０）を設置し、第１移動装置を用いて上下方向へ移動自在に支持されるセンサ（３２）を用いて、上下方向における第１プレート（４６）位置を測定し、搬送部に具備される第２移動装置を用いて上下方向へ移動自在に支持される搬送ユニットを用いて、上下方向における第１プレートの位置を測定し、センサを用いて測定される上下方向における第１プレートの位置、及び搬送ユニットを用いて測定される上下方向における第１プレートの位置に基づき、ウェーハ設置部と搬送部との上下方向における位置を調整する。
【選択図】図３

【特許請求の範囲】

【請求項1】

ウェーハカセットの第１スロットに対応する上下方向の位置を有する第１プレート、及び前記ウェーハカセットの第１スロットよりも上に配置される第２スロットに対応する前記上下方向の位置を有する第２プレートを備えた調整治具を用いて、前記ウェーハカセットが設置されるウェーハ設置部と、前記ウェーハカセットからウェーハを取り出す搬送ユニットが具備される搬送部との前記上下方向の位置を調整する調整方法であって、
前記ウェーハ設置部へ、前記調整治具を設置し、
前記ウェーハ設置部に具備される第１移動装置を用いて前記上下方向へ移動自在に支持されるセンサを用いて、前記上下方向における前記第１プレートの位置を測定し、
前記搬送部に具備される第２移動装置を用いて前記上下方向へ移動自在に支持される搬送ユニットを用いて、前記上下方向における前記第１プレートの位置を測定し、
前記センサを用いて測定される前記上下方向における前記第１プレートの位置、及び前記搬送ユニットを用いて測定される前記上下方向における前記第１プレートの位置に基づき、前記ウェーハ設置部と前記搬送部との前記上下方向における位置を調整する調整方法。

【請求項2】

前記上下方向における前記第１プレートの位置、又は前記上下方向における前記第２プレートの位置を測定する際に、
前記第１プレート又は前記第２プレートと、前記搬送ユニットに具備される前記ウェーハを保持するウェーハ保持アームと、を前記上下方向に沿って相対移動させ、
前記ウェーハ保持アームが前記第１プレート、又は前記第２プレートと接触する位置を、接触の有無を識別するセンサによって検出する請求項１に記載の調整方法。

【請求項3】

前記センサは、前記ウェーハ保持アームの吸着圧力がしきい値以上か否かに基いて、接触の有無を識別する請求項２に記載の調整方法。

【請求項4】

前記搬送ユニットを用いて、前記上下方向における前記第２プレートの位置を測定し、
前記センサを用いて測定される前記上下方向における前記第１プレートの位置、前記搬送ユニットを用いて測定される前記上下方向における前記第１プレートの位置、及び前記搬送ユニットを用いて測定される前記上下方向における前記第２プレートの位置に基づき、前記上下方向に対する前記搬送部の傾斜を補正する請求項１に記載の調整方法。

【請求項5】

前記搬送ユニットを用いて測定される前記上下方向における前記第２プレートの位置を測定する際に、
第１搬送分解能を適用して、前記第２プレートと、前記搬送ユニットに具備される前記ウェーハを保持するウェーハ保持アームと、を前記上下方向に沿って相対移動させ、
前記ウェーハ保持アームが前記第２プレートと接触する位置を、第２プレートの位置として検出する請求項４に記載の調整方法。

【請求項6】

前記搬送ユニットを用いて測定される前記上下方向における前記第２プレートの位置を測定する際に、
前記第２プレートに接触する前記ウェーハ保持アームを前記第２プレートから離間させ、
前記第１搬送分解能よりも小さい第２搬送分解能を適用して、前記第２プレートと前記ウェーハ保持アームとを相対移動させ、
前記ウェーハ保持アームが前記第２プレートと接触する位置を、第２プレートの位置として検出する請求項５に記載の調整方法。

【請求項7】

光学センサが適用される前記センサを用いて、前記上下方向における前記第１プレートの位置を測定する請求項１に記載の調整方法。

【請求項8】

前記搬送ユニットを用いて測定される前記上下方向における前記第１プレートの位置を測定する際に、
第３搬送分解能を適用して、前記第１プレートと前記搬送ユニットに具備される前記ウェーハを保持するウェーハ保持アームと前記上下方向に沿って相対移動させ、
前記ウェーハ保持アームが前記第１プレートと接触する位置を、第１プレートの位置として検出する請求項１に記載の調整方法。

【請求項9】

前記搬送ユニットを用いて測定される前記上下方向における前記第１プレートの位置を測定する際に、前記第１プレートに接触する前記ウェーハ保持アームを前記第１プレートから離間させ、
前記第３搬送分解能よりも小さい第４搬送分解能を適用して、前記第１プレートと前記ウェーハ保持アームとを相対移動させ、
前記ウェーハ保持アームが前記第１プレートと接触する位置を、第１プレートの位置として検出する請求項８に記載の調整方法。

【請求項10】

ウェーハカセットの第１スロットに対応する上下方向の位置を有する第１プレートと、
前記ウェーハカセットの第１スロットよりも上に配置される第２スロットに対応する前記上下方向の位置を有する第２プレートと、
を備え、
前記第１プレート及び前記第２プレートは、前記上下方向について移動自在に支持され、かつ、前記上下方向と直交する面における位置が固定される調整治具。

【請求項11】

前記第１プレートを支持する第１支持面に、前記上下方向へ延びる第１支持ピンが配置され、
前記第１支持ピンは、前記第１プレートに形成される第１貫通穴に挿入される請求項１０に記載の調整治具。

【請求項12】

前記第２プレートを支持する第２支持面に、前記上下方向へ延びる第２支持ピンが配置され、
前記第２支持ピンは、前記第２プレートに形成される第１貫通穴に挿入される請求項１０に記載の調整治具。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、ウェーハ搬送装置における調整方法及び調整治具に関する。

【背景技術】

【0002】

半導体製造装置において、ウェーハカセットからウェーハを取り出す必要がある。ウェーハカセットにおけるウェーハ同士の間隔は１０ミリメートルと非常に狭く、上下に隣り合うウェーハの間へウェーハ保持アームを挿入し、ウェーハ保持アームを用いてウェーハを支持してウェーハカセットからウェーハを取り出すため、装置ごとにウェーハカセットに対するウェーハ保持アームの挿入位置の調整が必要となる。

【0003】

従来は、装置が組み立てられた後に、ウェーハカセットの一番下のスロットの位置が高精度に再現されるプレートと、ウェーハカセットの一番上のスロットの位置が高精度に再現されるプレートとを備える治具を用意し、ロードポート上へ治具を載置し、ウェーハ搬送装置のウェーハ保持アームを治具へ挿入して各プレートの下面とウェーハ保持アームとが接触する位置を測定し、測定結果に基づいてウェーハをウェーハ保持アームへ受け渡す受け渡し高さが調整される。

【0004】

特許文献１は、ウェーハカセットへウェーハを移送するウェーハ移送装置の調整方法が記載される。同文献に記載の方法は、ウェーハカセットの基準となる精度を備えたウェーハ保持治具を用いて、ウェーハ移送装置の調整を実施する。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0005】

【特許文献1】特開平１０－２４２２４５号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0006】

しかしながら、上記した従来の方法は工数がかかるという課題が存在する。また、上記した従来の方法は、作業者の感覚で調整が実施される場合があり、作業者の個人差が調整結果に対して影響する懸念があるという課題が存在している。

【0007】

特許文献１に記載の方法は、ウェーハ又はウェーハの相当品が収納されるウェーハ保持治具が使用されるので、ウェーハ等をウェーハ保持治具へ収納する工程が発生し、工数がかかる。

【0008】

本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであり、ウェーハ搬送装置の調整における自動化が実現される、調整方法及び調整治具を提供することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0009】

本開示の第１態様に係る調整方法は、ウェーハカセットの第１スロットに対応する上下方向の位置を有する第１プレート、及びウェーハカセットの第１スロットよりも上に配置される第２スロットに対応する上下方向の位置を有する第２プレートを備えた調整治具を用いて、ウェーハカセットが設置されるウェーハ設置部と、ウェーハカセットからウェーハを取り出す搬送ユニットが具備される搬送部との上下方向の位置を調整する調整方法であって、ウェーハ設置部へ、調整治具を設置し、ウェーハ設置部に具備される第１移動装置を用いて上下方向へ移動自在に支持されるセンサを用いて、上下方向における第１プレートの位置を測定し、搬送部に具備される第２移動装置を用いて上下方向へ移動自在に支持される搬送ユニットを用いて、上下方向における第１プレートの位置を測定し、センサを用いて測定される上下方向における第１プレートの位置、及び搬送ユニットを用いて測定される上下方向における第１プレートの位置に基づき、ウェーハ設置部と搬送部との上下方向における位置を調整する調整方法。ウェーハ搬送装置調整方法である。

【0010】

本開示の第１態様に係る調整方法によれば、ウェーハ設置部へ設置される調整治具の第１プレートの位置を、ウェーハ設置部に具備されるセンサを用いて測定し、かつ、搬送部に具備される搬送ユニットを用いて測定し、測定結果に基づきウェーハ設置部と搬送部との上下方向における位置が調整される。これにより、ウェーハ設置部と搬送部との上下方向における位置調整の自動化が実現される。

【0011】

第１スロットは、ウェーハカセットの最下段のスロットを適用し得る。第２スロットは、ウェーハカセットの最上段のスロットを適用し得る。

【0012】

上下方向は、ウェーハ設置部及び搬送部が設置される面に対して直交する方向が適用されてもよい。

【0013】

第２態様に係る調整方法は、第１態様の調整方法において、上下方向における第１プレートの位置、又は上下方向における第２プレートの位置を測定する際に、第１プレート又は第２プレートと、搬送ユニットに具備されるウェーハを保持するウェーハ保持アームと、を上下方向に沿って相対移動させ、ウェーハ保持アームが第１プレート、又は第２プレートと接触する位置を、接触の有無を識別するセンサによって検出してもよい。

【0014】

かかる態様によれば、センサの検出結果に基づき、第１プレートとウェーハ保持アームとの接触、及び第２プレートとウェーハ保持アームとの接触を検出し得る。

【0015】

第３態様に係る調整方法は、第２態様の調整方法において、センサは、ウェーハ保持アームの吸着圧力がしきい値以上か否かに基いて、接触の有無を識別してもよい。

【0016】

かかる態様によれば、現実の運用と同様の方法を適用して、、第１プレートとウェーハ保持アームとの接触、及び第２プレートとウェーハ保持アームとの接触を検出し得る。

【0017】

第４態様に係る調整方法は、第１態様から第３態様のいずれか一態様の調整方法において、搬送ユニットを用いて、上下方向における第２プレートの位置を測定し、センサを用いて測定される上下方向における第１プレートの位置、搬送ユニットを用いて測定される上下方向における第１プレートの位置、及び搬送ユニットを用いて測定される上下方向における第２プレートの位置に基づき、上下方向に対する搬送部の傾斜を補正してもよい。

【0018】

かかる態様によれば、上下方向に対する搬送部の傾斜が考慮された、ウェーハ設置部と搬送部との上下方向における位置調整の自動化が実現される。

【0019】

第５態様に係る調整方法は、第４態様の調整方法において、搬送ユニットを用いて測定される上下方向における第２プレートの位置を測定する際に、第１搬送分解能を適用して、第２プレートと、搬送ユニットに具備されるウェーハを保持するウェーハ保持アームと、を上下方向に沿って相対移動させ、ウェーハ保持アームが第２プレートと接触する位置を、第２プレートの位置として検出してもよい。

【0020】

かかる態様によれば、調整治具における第２プレートの位置精度に応じた、高精度の調整が実施される。

【0021】

第６態様に係る調整方法は、第５態様の調整方法において、搬送ユニットを用いて測定される上下方向における第２プレートの位置を測定する際に、第２プレートに接触するウェーハ保持アームを第２プレートから離間させ、第１搬送分解能よりも小さい第２搬送分解能を適用して、第２プレートとウェーハ保持アームとを相対移動させ、ウェーハ保持アームが第２プレートと接触する位置を、第２プレートの位置として検出してもよい。

【0022】

かかる態様によれば、効率がよく、かつ、高精度の第２プレートの位置の検出が実施される。

【0023】

第７態様に係る調整方法は、第１態様から第６態様のいずれか一態様の調整方法において、光学センサが適用されるセンサを用いて、上下方向における第１プレートの位置を測定してもよい。

【0024】

かかる態様によれば、非接触の第１プレートの位置の測定が実現される。

【0025】

第８態様に係る調整方法は、第１態様から第７態様のいずれか一態様の調整方法において、搬送ユニットを用いて測定される上下方向における第１プレートの位置を測定する際に、第３搬送分解能を適用して、第１プレートと搬送ユニットに具備されるウェーハを保持するウェーハ保持アームと上下方向に沿って相対移動させ、ウェーハ保持アームが第１プレートと接触する位置を、第１プレートの位置として検出してもよい。

【0026】

かかる態様によれば、調整治具における第１プレートの位置精度に応じた、高精度の調整が実施される。

【0027】

第９態様に係る調整方法は、第８態様の調整方法において、搬送ユニットを用いて測定される上下方向における第１プレートの位置を測定する際に、第１プレートに接触するウェーハ保持アームを第１プレートから離間させ、第３搬送分解能よりも小さい第４搬送分解能を適用して、第１プレートとウェーハ保持アームとを相対移動させ、ウェーハ保持アームが第１プレートと接触する位置を、第１プレートの位置として検出してもよい。

【0028】

かかる態様によれば、効率がよく、かつ、高精度の第１プレートの位置の検出が実施される。

【0029】

本開示の第１０態様に係る調整治具は、ウェーハカセットの第１スロットに対応する上下方向の位置を有する第１プレートと、ウェーハカセットの第１スロットよりも上に配置される第２スロットに対応する上下方向の位置を有する第２プレートと、を備え、第１プレート及び第２プレートは、上下方向について位置が固定されずに支持され、かつ、上下方向と直交する面における位置が固定される調整治具である。

【0030】

本開示の第１０態様に係る調整治具によれば、第１プレート及び第２プレートは、上下方向について固定されず、上下方向と直交する面における位置が固定される。これにより、上下方向についてウェーハ保持アームとの相対移動がされ、第１プレート及び第２プレートとウェーハ保持アームとを接触させた場合に、ウェーハ保持アームがオーバーシュートしたとしても、第１プレート及び第２プレートとウェーハ保持アームとの衝突が回避される。

【0031】

第１１態様に係る調整治具は、第１０態様の調整治具において、第１プレートを支持する第１支持面に、上下方向へ延びる第１支持ピンが配置され、第１支持ピンは、第１プレートに形成される第１貫通穴に挿入されてもよい。

【0032】

かかる態様によれば、第１プレートを上下方向に固定せずに、上下方向と直交する面に対して固定し得る。

【0033】

第１２態様に係る調整治具は、第１０態様又は第１１態様の調整治具において、第２プレートを支持する第２支持面に、上下方向へ延びる第２支持ピンが配置され、第２支持ピンは、第２プレートに形成される第１貫通穴に挿入されてもよい。

【0034】

かかる態様によれば、第２プレートを上下方向に固定せずに、上下方向と直交する面に対して固定し得る。

【発明の効果】

【0035】

本発明によれば、ウェーハ搬送装置の調整における自動化が実現される。

【図面の簡単な説明】

【0036】

【図1】実施形態に係るウェーハ搬送装置調整方法が適用される装置の概略構成を示す斜視図である。

【図2】図１に示す装置を構成するロードポートの概略構成を示す斜視図である。

【図3】図２に示すロードポートに対して調整治具が載置される状態を示すロードポート斜視図である。

【図4】図２の斜視図に対応する正面図である。

【図5】図１に示す装置に適用される搬送ユニットの概略構成を示す斜視図である。

【図6】実施形態に係る高さ調整方法の手順を示すフローチャートである。

【図7】エレベータ上下軸補正値取得工程の模式図である。

【図8】第１ローダ上下軸補正値取得工程の手順を示すフローチャートである。

【図9】第１ローダ上下軸補正値取得及び第２ローダ上下軸補正値取得の模式図である。

【図10】通常運用の際のウェーハ高さの測定の模式図である。

【図11】ローダ上下軸とエレベータ上下軸とのずれ量の模式図である。

【図12】ローダ上下軸基準のウェーハ高さ取得の説明図である。

【図13】ローダ上下軸の軸ずれ説明図である。

【図14】ローダ上下軸の軸ずれが考慮されたウェーハ保持アームの挿入位置の模式図である。

【発明を実施するための形態】

【0037】

以下、添付図面に従って本発明の好ましい実施形態について詳説する。本明細書では、同一の構成要素には同一の参照符号を付して、重複する説明については、適宜、省略される。

【0038】

［実施形態に係るウェーハ搬送装置調整方法が適用される装置構成例］
図１は、実施形態に係るウェーハ搬送装置調整方法が適用される装置の概略構成を示す斜視図である。同図には、複数の半導体チップが形成されるウェーハの電気試験を実施するプローバ１０が図示される。

【0039】

図１に示すプローバ１０は、複数のロードポート１２、ローダ１４及び処理装置１６を備える。複数のロードポート１２、ローダ１４及び処理装置１６は、Ｙ軸方向に沿って、ロードポート１２、ローダ１４及び処理装置１６の順に配置される。また、複数のロードポート１２は、Ｘ軸方向に沿って配置される。なお、処理装置１６は一点鎖線を用いて模式的に図示される。

【0040】

複数のロードポート１２のそれぞれは、同様の構成が適用される。図１では、ロードポート１２の構成要素の図示が省略される。ロードポート１２の構成は、図２から図４を参照して後述する。

【0041】

ローダ１４は、搬送ユニット２０、ローダ上下軸移動部２２及びローダ水平移動機構を備える。搬送ユニット２０は、ロードポート１２に収納されるウェーハカセットからウェーハを取り出し、取り出したウェーハを処理装置１６へ搬送する。

【0042】

搬送ユニット２０は、ローダ上下軸移動部２２を用いて、Ｚ軸方向に沿って移動自在に支持される。ローダ上下軸移動部２２は、Ｘ軸方向に沿って移動自在に支持される。ローダ水平移動部は、ローダ上下軸移動部２２をＸ方向に沿って移動させ、ローダ上下軸移動部２２を各ロードポート１２の位置へ配置する。ローダ水平移動部の図示は省略される。

【0043】

なお、実施形態に記載のロードポート１２は、ウェーハカセットが設置されるウェーハ設置部の一例である。実施形態に記載のローダ１４は、ウェーハカセットからウェーハを取り出す搬送ユニットが具備される搬送部の一例である。実施形態に記載のローダ上下軸移動部２２は、搬送部に具備される第２移動装置であり、搬送ユニットを上下方向へ移動自在に支持する第２移動装置の一例である。

【0044】

［ロードポートの構成例］
図２は、図１に示す装置を構成するロードポートの概略構成を示す斜視図である。ロードポート１２は、設置台３０、センシングセンサ３２及びエレベータ上下軸移動部３４を備える。

【0045】

設置台３０は、ウェーハの搬送が実施される際にウェーハカセットが設置される。また、設置台３０は、高さ調整の際に調整治具４０が設置される。高さ調整とは、ウェーハ保持アームを用いてウェーハカセットからウェーハが取り出される際の、ウェーハとウェーハ保持アームとのＺ軸方向における位置合わせである。図２に示す符号４６、符号４６Ａ、符号４８及び符号４８Ａのそれぞれは、調整治具に具備される第１プレート、第１プレートの端面、第２プレート及び第２プレート４８の端面に付される符号である。

【0046】

なお、ウェーハは符号Ｗが付され図５に図示される。ウェーハ保持アームは符号２９が付され図５に図示される。ウェーハカセットの図示は省略される。

【0047】

センシングセンサ３２は、ウェーハカセットへ収納されるウェーハの受渡位置をセンシングする際に用いられる。センシングセンサ３２は、光学センサが適用される。センシングセンサ３２は、エレベータ上下軸移動部３４を用いて、Ｚ軸方向に移動自在に支持される。すなわち、センシングセンサ３２は、Ｚ軸方向に移動し、ウェーハカセットの複数のスロットのそれぞれに収納されるウェーハの受渡位置を検出する。

【0048】

なお、実施形態に記載のエレベータ上下軸移動部３４は、ウェーハ設置部に具備される第１移動装置であり、センサを上下方向へ移動自在に支持する第１移動装置の一例である。

【0049】

［調整治具の構成例］
図３は、図２に示すロードポートに対して調整治具が設置される状態を示すロードポート斜視図である。図４は、図２の斜視図に対応する正面図である。図３には、調整治具の一部が拡大して図示される。以下、図３及び図４を参照して、調整治具４０について説明する。

【0050】

調整治具４０は、基台４２、第１支柱４４、第２支柱４５、第１プレート４６、第２プレート４８、第１支持ピン５０、第２支持ピン５１及びハンドル５２を備える。

【0051】

基台４２は、３本の第１支柱４４及び４本の第２支柱４５が立設される。３本の第１支柱４４は、第１プレート４６を支持する第１支持面を有する。４本の第２支柱４５は、第２プレート４８を支持する第２支持面を有する。

【0052】

第１プレート４６は、基台４２の上面４２Ａに対して規定の平行度を満たす姿勢で支持される。また、第２プレート４８は、第１プレート４６と同様に、基台４２の上面４２Ａに対して規定の平行度を満たす姿勢で支持される。

【0053】

ロードポート１２の設置台３０に対して調整治具４０が設置される場合における、第１プレート４６のＺ軸方向における位置は、ロードポート１２の設置台３０に対してウェーハカセットが設置される場合における、ウェーハカセットにおける最下段のスロットのウェーハ受渡位置と一致する。

【0054】

同様に、ロードポート１２の設置台３０に対して調整治具４０が設置される場合における、第２プレート４８のＺ軸方向における位置は、ロードポート１２の設置台３０に対してウェーハカセットが設置される場合における、ウェーハカセットの最上段のスロットのウェーハ受渡位置と一致する。ウェーハ受渡位置は、各スロットに支持されるウェーハＷの被支持面のＺ軸方向における位置である。

【0055】

ここでいう、第１プレート４６のＺ軸方向における位置は、第１プレート４６の下面４６ＢのＺ軸方向における位置である。同様に、第２プレート４８のＺ軸方向における位置は、第２プレート４８の下面４８ＢのＺ軸方向における位置である。第１プレート４６の下面４６Ｂは、基台４２の上面４２Ａと対向する面である。また、第２プレート４８の下面４８Ｂは、第２プレート４８の基台４２の上面４２Ａと対向する面である。

【0056】

第１プレート４６は、３本の第１支柱４４の第１支持面のそれぞれに具備される第１支持ピン５０を用いて位置決めされる。すなわち、第１プレート４６に形成される第１貫通穴には、Ｚ軸方向に延びる第１支持ピン５０が挿入され、Ｘ軸方向及びＹ軸方向の位置が決められる。一方、第１支持ピン５０と第１プレート４６とは固定されず、第１プレート４６はＺ軸方向について移動することができる。なお、図示の都合上、第１プレート４６に形成される第１貫通穴の図示は省略される。

【0057】

第１プレート４６と同様に、第２プレート４８は、４本の第２支柱４５の第２支持面のそれぞれに具備され、Ｚ軸方向に延びる第２支持ピン５１が第２貫通穴４８Ｃに挿入され、Ｘ軸方向及びＹ軸方向の位置が決められる。一方、第２プレート４８は、第２支持ピン５１と固定されず、第２プレート４８はＺ軸方向について移動することができる。これにより、ウェーハ保持アーム２９を上昇させた際に、ウェーハ保持アーム２９のオーバーシュートに起因して、ウェーハ保持アーム２９が第２プレート４８を押し上げてしまうことが回避され、ウェーハ保持アーム２９の破損及び第２プレート４８の破損が抑制され得る。

【0058】

第１プレート４６と第２プレート４８は、センシングセンサ３２の側の端辺４６Ａおよび端辺４８Ａに円弧形状を有する部分が含まれる。第１プレート４６と第２プレート４８の端辺４８Ａの円弧形状は、ウェーハの円弧形状に対応している。これにより、第２プレート４８をセンシングする際に、ウェーハのセンシングに対して近い条件が適用される。

【0059】

なお、実施形態に記載の最下段のスロットは、第１スロットの一例である。実施形態に記載の最上段のスロットは、第１スロットよりも上に配置される第２スロットの一例である。

【0060】

実施形態に記載のＺ軸方向は上下方向の一例であり、実施形態に記載のＸ軸及びＹ軸に対して平行となる面は、上下方向と直交する面の一例である。

【0061】

［ウェーハ搬送装置の構成例］
図５は、図１に示す装置に適用される搬送ユニットの概略構成を示す斜視図である。搬送ユニット２０は、複数のウェーハＷが収納されるウェーハカセットから、ウェーハを１枚ずつ取り出し、処理装置へ搬送する。

【0062】

搬送ユニット２０は、ウェーハ保持アーム２９及びウェーハ保持アーム動作機構を備える。ウェーハ保持アーム２９は、ウェーハ保持アーム動作機構を用いて進退自在に支持される。図５には、ウェーハ保持アーム２９が伸ばされ、搬送ユニット２０の本体２６に形成される開口２７から外部へ出された状態が図示される。

【0063】

ウェーハ保持アーム２９は、ウェーハＷに対して吸着圧力を付与する吸引穴２９Ａが形成される。吸引穴２９Ａは、気体流路を介してポンプ等の吸引装置と接続される。なお、気体流路及び吸引装置の図示は省略される。

【0064】

搬送ユニット２０は、本体２６に収納されるウェーハ保持アーム２９を伸ばし、ウェーハ保持アーム２９をウェーハカセットの内部へ進入させ、ウェーハ保持アーム２９に対して１枚のウェーハＷを吸着させる。

【0065】

また、搬送ユニット２０は、１枚のウェーハＷが吸着されるウェーハ保持アーム２９を縮めて、１枚のウェーハＷをウェーハカセットから取り出し、本体２６の内部へ収納する。

【0066】

搬送ユニット２０は、回転機構２８を備える。回転機構２８は、Ｚ軸方向に沿う回転軸の回りに搬送ユニット２０を回転させる。回転機構２８は、回転軸にシャフトが連結される駆動モータを備える。なお、駆動モータの図示は省略される。

【0067】

回転機構２８は、正転方向及び逆転方向のそれぞれについて、搬送ユニット２０を１８０度回転させてもよいし、正転方向又は逆転方向のいずれかについて、搬送ユニット２０を３６０度回転させてもよい。すなわち、回転機構２８は、開口２７がロードポート１２を向く搬送ユニット２０の姿勢と、開口２７が処理装置１６を向く搬送ユニット２０の姿勢とを、切り替える。

【0068】

［高さ調整方法の具体例］
実施形態に係る高さ調整方法は、図３及び図４に図示される調整治具４０を用いて実施される、ウェーハカセットにおける各スロットのＺ軸方向の位置と、ウェーハ保持アーム２９におけるウェーハＷが支持される面のＺ軸方向の位置との位置合わせに適用される。ここで、高さとは、予め規定されるＺ軸方向における基準面からのＺ軸方向に沿う距離を意味する。

【0069】

以下に、ウェーハカセットのスロット数が２５の場合の高さ調整について説明する。なお、以下の説明におけるスロットという用語の後ろに付される数値は、ウェーハカセットのスロット数を表す。例えば、スロット１は、最下段のスロットを表す。

【0070】

高さ調整方法の事前の準備として、図３に示すように、ロードポート１２の設置台３０に対して、第２プレート４８の円弧形状がローダ１４の側を向く姿勢で調整治具４０が設置される。

【0071】

図６は、実施形態に係る高さ調整方法の手順を示すフローチャートである。実施形態に係る高さ調整方法は、コンピュータが適用される制御装置がプログラムを実行し、各工程が実現される。なお、以下の説明において、図２に示すエレベータ上下軸移動部３４をエレベータ上下軸と称する。また、図１に示すローダ上下軸移動部２２をローダ上下軸と称する。

【0072】

高さ調整方法は、エレベータ上下軸補正値取得工程Ｓ１０及びローダ上下軸補正値取得工程Ｓ１２が含まれる。エレベータ上下軸補正値取得工程Ｓ１０では、エレベータ上下軸補正値が取得される。

【0073】

エレベータ上下軸補正値取得工程Ｓ１０では、センシングセンサ３２を用いて調整治具４０の第１プレート４６の下面４６Ｂの位置が、エレベータ上下軸治具スロット１高さとして測定される。エレベータ上下軸治具スロット１高さから、エレベータ上下軸スロット１高さ設計値が減算され、エレベータ上下軸補正値取得される。エレベータ上下軸スロット１高さ設計値は、エレベータ上下軸におけるスロット１の高さの設計値である。

【0074】

また、ローダ上下軸補正値取得工程Ｓ１２では、ローダ上下軸補正値が取得される。ローダ上下軸補正値取得工程Ｓ１２の詳細は後述する。エレベータ上下軸補正値及びローダ上下軸補正値が取得されると、高さ調整方法は終了される。エレベータ上下軸補正値及びローダ上下軸補正値は、ウェーハＷが搬送される通常運用に適用される。

【0075】

〔エレベータ上下軸補正値取得工程〕
図７は、エレベータ上下軸補正値取得の模式図である。同図には、エレベータ上下軸治具スロット１高さ、エレベータ上下軸スロット１高さ設計値、及びエレベータ上下軸補正値の関係が模式的に図示される。

【0076】

例えば、エレベータ上下軸スロット１高さ設計値を０とし、エレベータ上下軸治具スロット１高さの測定値が３００マイクロメートルの場合、エレベータ上下軸補正値は３００マイクロメートルである。

【0077】

〔ローダ上下軸補正値取得工程〕
図８は、第２ローダ上下軸補正値取得工程の手順を示すフローチャートである。図６に示すローダ上下軸補正値取得工程Ｓ１２は、第１ローダ上下軸補正値を算出する第１ローダ上下軸補正値取得工程と、第２ローダ上下軸補正値を算出する第２ローダ上下軸補正値取得工程とが含まれる。

【0078】

第１ローダ上下軸補正値の算出と第２ローダ上下軸補正値の算出とは、同様の手順が適用されるので、図８には、第２ローダ上下軸補正値を算出する第２ローダ上下軸補正値取得工程の手順を示す。

【0079】

図８に示すウェーハ保持アーム移動工程Ｓ２０では、図５に示すウェーハ保持アーム２９を、ローダ上下軸スロット２５高さ設計値に対して、２０ミリメートル下の位置へ移動させる。上記の位置におけるウェーハ保持アーム２９は、図９において一点鎖線を用いて図示される。ローダ上下軸スロット２５高さ設計値は、ローダ上下軸移動部２２におけるスロット２５の高さの設計値である。

【0080】

図８に示す第１ピッチ送り工程Ｓ２２では、ウェーハ保持アーム２９の吸着圧力を発生させ、ウェーハ保持アーム２９をＺ軸方向の上方向へ４ミリメートルずつ移動させる第１ピッチ送りが実施される。

【0081】

なお、ウェーハ保持アーム２９のＺ軸方向の上方向への第１ピッチ送りは、第２プレートとウェーハ保持アームとの相対移動の一例であり、第１ピッチ送りにおける搬送分解である４ミリメートルは、第３搬送分解能の一例である。

【0082】

第１吸着圧力判定工程Ｓ２４では、ウェーハ保持アーム２９の第１ピッチ送りの停止位置ごとに、ウェーハ保持アーム２９の吸着圧力が第１しきい値以上であるか否かが判定される。第１吸着圧力判定工程Ｓ２４において、ウェーハ保持アーム２９の吸着圧力が第１しきい値未満であると判定される場合はＮｏ判定となり、第１送り回数判定工程Ｓ２６へ進む。なお、ウェーハ保持アーム２９の吸着が真空引きによる場合は、吸着圧力は絶対値として解される。

【0083】

第１送り回数判定工程Ｓ２６では、送り回数が規定の第１最大回数以上であるか否かが判定される。第１送り回数判定工程Ｓ２６において、送り回数が規定の第１最大回数未満であると判定される場合はＮｏ判定となる。Ｎｏ判定の場合は、第１ピッチ送り工程Ｓ２２が継続され、第１吸着圧力判定工程Ｓ２４又は第１送り回数判定工程Ｓ２６においてＹｅｓ判定となるまで、第１ピッチ送り工程Ｓ２２から第１送り回数判定工程Ｓ２６までの各工程が繰り返し実行される。

【0084】

一方、第１送り回数判定工程Ｓ２６において、送り回数が規定の第１最大回数以上であると判定される場合はＹｅｓ判定となる。Ｙｅｓ判定の場合はエラーとされ、高さ調整方法は終了される。高さ調整方法が終了される場合、ウェーハ保持アーム移動工程Ｓ２０においてウェーハ保持アーム２９を移動させた位置へウェーハ保持アーム２９が戻され、搬送ユニット２０の内部へウェーハ保持アーム２９が収納される。

【0085】

第１最大回数は、ローダ上下軸スロット２５高さの設計値から、ウェーハ保持アーム２９の第１ピッチ送り工程Ｓ２２の実行前の位置までの距離に基づき規定し得る。例えば、第１最大回数は８回とし得る。

【0086】

本例では、２０ミリメートルに対して４ミリメートルのピッチ送りが実施される。計算上、５回のピッチ送りが実施されると、ウェーハ保持アーム２９が第２プレート４８の下面４８Ｂへ接触するはずである。例えば、両者が接触すべき送り量の１．５倍の送りが実施されても両者が接触しない場合は、何らかの異常が発生している可能性があると判定し得る。

【0087】

一方、第１吸着圧力判定工程Ｓ２４において、ウェーハ保持アーム２９の吸着圧力が第１しきい値以上であると判定される場合はＹｅｓ判定となり、第２ピッチ送り工程Ｓ２８へ進む。

【0088】

すなわち、ウェーハ保持アーム２９が第２プレート４８の下面４８Ｂと接触すると、ウェーハ保持アーム２９が第２プレート４８を吸着し、ウェーハ保持アーム２９の吸着圧力が大きく変動する。第１吸着圧力判定工程Ｓ２４においてＹｅｓ判定となる場合は、ウェーハ保持アーム２９が第２プレート４８の下面４８Ｂを吸着したと把握される。

【0089】

ここで、ウェーハ保持アーム２９の吸着圧力が大きく変動する場合に、ウェーハ保持アーム２９が、調整治具４０の第２プレート４８をＺ軸方向の上方向へ押してしまう場合がある。このような場合であって、調整治具４０の第２プレート４８は、ウェーハ保持アーム２９に吸着された状態でウェーハ保持アーム２９の上昇に追従するので、ウェーハ保持アーム２９と第２プレート４８との衝突に起因するウェーハ保持アーム２９の破損が回避され得る。

【0090】

第２ピッチ送り工程Ｓ２８では、ウェーハ保持アーム２９が第２プレート４８の下面４８Ｂを吸着する位置から、Ｚ軸方向の下方向へ１ミリメートルずつウェーハ保持アーム２９を移動させる第２ピッチ送りが実施される。

【0091】

第２ピッチ送り工程Ｓ２８における第２送りピッチは、第１ピッチ送り工程Ｓ２２に適用される第１送りピッチ未満とされる。例えば、ｎを２以上の整数とする場合に、第２送りピッチは、第１送りピッチのｎ分の１としてもよい。ｎは２以上１０以下が好ましい。

【0092】

第２吸着判定工程Ｓ３０では、ウェーハ保持アーム２９の第２ピッチ送りの停止位置ごとに、ウェーハ保持アーム２９の吸着圧力が第２しきい値未満であるか否かが判定される。第２しきい値は、第１吸着圧力判定工程Ｓ２４に適用される第１しきい値と同一であってもよい。

【0093】

第２吸着判定工程Ｓ３０において、ウェーハ保持アーム２９の吸着圧力が第２しきい値以上であると判定される場合はＮｏ判定となり、第２送り回数判定工程Ｓ３２へ進む。第２送り回数判定工程Ｓ３２では、送り回数が第２最大回数以上であるか否かが判定される。

【0094】

第２送り回数判定工程Ｓ３２において、送り回数が第２最大回数未満であると判定される場合はＮｏ判定となる。Ｎｏ判定の場合は、第２ピッチ送り工程Ｓ２８が継続され、第２吸着判定工程Ｓ３０又は第２送り回数判定工程Ｓ３２においてＹｅｓ判定となるまで、第２ピッチ送り工程Ｓ２８から第２送り回数判定工程Ｓ３２までの各工程が繰り返し実行される。

【0095】

一方、第２送り回数判定工程Ｓ３２において、送り回数が第２最大回数以上であると判定される場合はＹｅｓ判定となる。Ｙｅｓ判定の場合は、エラーとして高さ調整方法は終了される。高さ調整方法が終了される場合のウェーハ保持アーム２９に対する処理は、第１送り回数判定工程Ｓ２６のＹｅｓ判定の場合と同様である。

【0096】

第２最大回数は、第１送りピッチを第２送りピッチで除算した値の１．５倍以下とし得る。すなわち、本来は、４回のピッチ送りが実施されるまでにウェーハ保持アーム２９が第２プレート４８の下面４８Ｂから離間し、ウェーハ保持アーム２９の吸着圧力が第２しきい値未満となるはずである。５回以上のピッチ送りが実施されても、ウェーハ保持アーム２９の吸着圧力が第２しきい値以上であり、ウェーハ保持アーム２９が第２プレート４８の下面４８Ｂから離間しない場合は、何らかの異常が発生している可能性があると判定し得る。第２最大回数は、計算値に対するマージンを見込んで規定し得る。例えば、第２最大回数は６回とされてもよい。

【0097】

一方、第２吸着判定工程Ｓ３０において、ウェーハ保持アーム２９の吸着圧力が第２しきい値未満であると判定される場合はＹｅｓ判定となり、第３ピッチ送り工程Ｓ３４へ進む。

【0098】

第３ピッチ送り工程Ｓ３４では、ウェーハ保持アーム２９は、第２プレート４８の下面４８Ｂに対する吸着が解除される位置から、Ｚ軸方向の上方向へ１００マイクロメートルずつウェーハ保持アーム２９を移動させる第３ピッチ送りが実施される。

【0099】

第３ピッチ送り工程Ｓ３４に適用される第３送りピッチは、第２ピッチ送り工程Ｓ２８に適用される第２送りピッチ未満とされる。例えば、ｍを２以上の整数とする場合に、第３送りピッチは、第２送りピッチのｍ分の１としてもよい。

【0100】

第３ピッチ送り工程Ｓ３４は、ウェーハ保持アーム２９が第２プレート４８の下面４８Ｂと接触する位置を高精度に測定する目的で実施される。ｍは１０以上が好ましい。ｍの最大値は、第３ピッチ送り工程Ｓ３４の効率の観点から規定し得る、例えば、ｍは２０以下とし得る。

【0101】

なお、ウェーハ保持アーム２９のＺ軸方向の上方向への第３ピッチ送りは、第２プレートとウェーハ保持アームとの相対移動の一例であり、第３ピッチ送りにおける搬送分解である１００マイクロメートルは、第３搬送分解能よりも小さい第４搬送分解能の一例である。

【0102】

第３吸着判定工程Ｓ３６では、ウェーハ保持アーム２９の第３ピッチ送りの停止位置ごとに、ウェーハ保持アーム２９の吸着圧力が第３しきい値未満であるか否かが判定される。第３しきい値は、第１吸着圧力判定工程Ｓ２４に適用される第１しきい値と同一とし得る。

【0103】

第３吸着判定工程Ｓ３６において、ウェーハ保持アーム２９の吸着圧力が第３しきい値未満であると判定される場合はＮｏ判定となり、第３送り回数判定工程Ｓ３８へ進む。

【0104】

第３送り回数判定工程Ｓ３８では、送り回数が第３最大回数以上であるか否かが判定される。第３送り回数判定工程Ｓ３８において、送り回数が第３最大回数未満であると判定される場合はＮｏ判定となる。Ｎｏ判定の場合は、第３ピッチ送り工程Ｓ３４が継続され、第３吸着判定工程Ｓ３６又は第３送り回数判定工程Ｓ３８においてＹｅｓ判定となるまで、第３ピッチ送り工程Ｓ３４から第３送り回数判定工程Ｓ３８までの各工程が繰り返し実行される。

【0105】

一方、第３送り回数判定工程Ｓ３８において、送り回数が第３最大回数以上であると判定される場合はＹｅｓ判定となる。Ｙｅｓ判定の場合は、エラーとして高さ調整方法は終了される。高さ調整方法が終了される場合のウェーハ保持アーム２９に対する処理は、第１送り回数判定工程Ｓ２６のＹｅｓ判定の場合と同様である。

【0106】

第３最大回数は、第２送りピッチを第３送りピッチで除算した値の１．５倍以下とし得る。すなわち、本来は、１０回のピッチ送りが実施されるまでにウェーハ保持アーム２９が第２プレート４８の下面４８Ｂへ接触し、ウェーハ保持アーム２９の吸着圧力が第３しきい値を超えるはずである。１５回以上のピッチ送りが実施されても、ウェーハ保持アーム２９の吸着圧力が第２しきい値を超えず、ウェーハ保持アーム２９が第２プレート４８の下面４８Ｂへ接触しない場合は、何らかの異常が発生している可能性があると判定し得る。第３最大回数は、計算値に対するマージンを見込んで規定し得る。本例では、第３最大回数は１５回とされてもよい。

【0107】

第３吸着判定工程Ｓ３６において、ウェーハ保持アーム２９の吸着圧力が第３しきい値以上であると判定される場合はＹｅｓ判定となり、ローダ上下軸補正値取得工程Ｓ４０へ進む。

【0108】

ローダ上下軸補正値取得工程Ｓ４０では、第３吸着判定工程Ｓ３６においてＹｅｓ判定とされたウェーハ保持アーム２９の位置が、調整治具４０の第２プレート４８のＺ軸方向における位置である治具スロット２５高さとして取得される。

【0109】

ローダ上下軸補正値取得工程Ｓ４０では、治具スロット２５高さからローダ上下軸スロット２５高さ設計値が減算され、第２ローダ上下軸補正値が取得される。

【0110】

ローダ上下軸補正値取得工程Ｓ４０において、第２ローダ上下軸補正値が取得されると、第２ローダ上下軸補正値取得工程が終了され、第１ローダ上下軸補正値を取得する第１ローダ上下軸補正値取得工程へ進む。

【0111】

第１ローダ上下軸補正値取得工程では、第３吸着判定工程Ｓ３６においてＹｅｓ判定とされた位置から、Ｚ軸方向の下方向へ２６０ミリメートルの位置へウェーハ保持アーム２９を移動させる。かかる工程はウェーハ保持アーム移動工程Ｓ２０に対応する。

【0112】

図９におけるローダ上下軸スロット１高さ設計値の下に一点鎖線を用いて図示されるウェーハ保持アーム２９は、第３吸着判定工程Ｓ３６においてＹｅｓ判定とされた位置から、Ｚ軸方向の下方向へ２６０ミリメートルの位置へ移動させたウェーハ保持アーム２９である。

【0113】

以下、第１プレート４６に対して、第１ピッチ送り工程Ｓ２２からローダ上下軸補正値取得工程Ｓ４０までの各工程が、第１ローダ上下軸補正値を取得する第１ローダ上下軸補正値取得工程として実行される。

【0114】

第１ローダ上下軸補正値取得工程において実施される、ウェーハ保持アーム２９のＺ軸方向の上方向への第１ピッチ送りは、第１プレートとウェーハ保持アームとの相対移動の一例であり、第１ピッチ送りにおける搬送分解である４ミリメートルは、第１搬送分解能の一例である。第３ピッチ送りにおける搬送分解である１００マイクロメートルは、第１搬送分解能よりも小さい第２搬送分解能の一例である。

【0115】

［補正値の具体例］
図９は、第１ローダ上下軸補正値取得及び第２ローダ上下軸補正値取得の模式図である。図９には、ローダ上下軸治具スロット２５高さ、ローダ上下軸スロット２５高さ設計値及び第２ローダ上下軸補正値の具体例として、７６５９００マイクロメート、７６５０００マイクロメート、９００マイクロメートルが例示される。また、ローダ上下軸治具スロット１高さ、ローダ上下軸スロット１高さ設計値及び第１ローダ上下軸補正値の具体例として、５２５５００マイクロメート、５２５０００マイクロメート、５００マイクロメートルが例示される。

【0116】

［実施形態に係る高さ調整方法の変形例］
〔ウェーハ保持アームの連続送り〕
第１ピッチ送り工程Ｓ２２、第２ピッチ送り工程Ｓ２８及び第３ピッチ送り工程Ｓ３４におけるウェーハ保持アーム２９のピッチ送りは、ウェーハ保持アーム２９を停止させずに、連続的に送る連続送りを適用してもよい。第１ピッチ送り工程Ｓ２２等に対してウェーハ保持アーム２９の連続送りが適用される場合は、ピッチ送りの際の停止位置に対応するタイミングにおいて、ウェーハ保持アーム２９の吸着圧力の測定が実施される。

【0117】

〔センサが用いられる接触検出〕
ウェーハ保持アーム２９と第１プレート４６の下面４６Ｂとの接触は、接触の有無を識別する各種のセンサを用いて検出してもよい。ウェーハ保持アーム２９と第２プレート４８の下面４８Ｂとの接触の検出も同様である。各種のセンサとして、在荷センサ及び光学センサ等が挙げられる。

【0118】

［調整治具の変形例］
本実施形態では、ウェーハカセットにおける最下段のスロット１の位置に対応する第１プレート４６と、ウェーハカセットにおける最上段のスロット２５の位置に対応する第２プレート４８を備える調整治具４０を例示したが、第１プレート４６の位置及び第２プレート４８の位置に対応するスロットは、任意に規定し得る。第１プレート４６と第２プレートとの間のスロット数は３以上であればよい。

【0119】

［通常運用の具体例］
図１０は、通常運用の際のウェーハ高さの測定の模式図である。図１０には、エレベータ上下軸基準のスロット４におけるウェーハＷの高さである、スロット４ウェーハ高さの測定が模式的に図示される。

【0120】

図１０に示すスロット４ウェーハ高さは、スロット４ウェーハ高さの測定値から、エレベータ上下軸スロット１高さ設計値が減算され、取得される。同図には、スロット４ウェーハ高さの測定値の例として、３０７００マイクロメートルが図示される。

【0121】

図１１は、ローダ上下軸とエレベータ上下軸とのずれ量の模式図である。ローダ上下軸とエレベータ上下軸とのずれ量は、図９に示す第１ローダ上下軸補正値から、図７に示すエレベータ上下軸補正値との差として算出される。図１１には、第１ローダ上下軸補正値がプラス５００マイクロメートルであり、エレベータ上下軸補正値が３００マイクロメートルの場合に、ローダ上下軸とエレベータ上下軸とのずれ量が２００マイクロメートルである例が図示される。

【0122】

図１２は、ローダ上下軸基準のウェーハ高さ取得の説明図である。同図には、ローダ上下軸基準のスロット４ウェーハ高さの取得が例示される。ローダ上下軸基準のスロット４ウェーハ高さは、ローダ上下軸基準のスロット１ウェーハ高さにエレベータ軸基準のスロット４ウェーハ高さを加算した値から、ローダ上下軸とエレベータ上下軸とのずれ量を減算して取得される。

【0123】

具体的には、ローダ上下軸基準のスロット１ウェーハ高さは、図９に示す５２５０００マイクロメートルであり、エレベータ上下軸基準のスロット４ウェーハ高さは、図１０に示す３０７００マイクロメートルである。ローダ上下軸とエレベータ上下軸とのずれ量は、図１１に示す２００マイクロメートルであり、ローダ上下軸基準のスロット４ウェーハ高さは、５５５５００マイクロメートルである。

【0124】

次に、各スロットに対してウェーハ保持アーム２９を挿入するＺ軸方向の位置である、ウェーハ保持アーム挿入高さについて説明する。ウェーハ保持アーム挿入高さの設計値は、各スロットから３ミリメートル下の位置である。但し、実際のローダ上下軸はＺ軸に対して倒れ等があり、軸ずれが発生する。

【0125】

図１３は、ローダ上下軸の軸ずれ説明図である。同図に示すように、ローダ上下軸スロット２５高さの設計値と、ローダ上下軸スロット１高さの設計値との差は、２４０ミリメートルである。一方、図９に示すローダ上下軸治具スロット２５高さから、ローダ上下軸治具スロット１高さを減算した値は、７６５９００マイクロメートル－５２５５００マイクロメートル＝２４０４００マイクロメートルであり、実際に取得される値は、設計値との差が生じる。

【0126】

そこで、各スロットに対してウェーハ保持アーム２９を挿入するＺ軸方向の位置は、設計値に対して、ローダ上下軸の軸ずれが考慮され、規定される。具体的には、図９に示す第１ローダ上下軸補正値及び第２ローダ上下軸補正値から、軸ずれの考慮分が算出される。

【0127】

すなわち、軸ずれが考慮されたウェーハ保持アームの下げ量は、｛（第２ローダ上下軸補正値）－（第１ローダ上下軸補正値）＋（スロット１からスロット２５までの高さの設計値）／（スロット１からスロット２５までの高さの設計値）｝×ウェーハ保持アームの下げ量の設計値として算出される。

【0128】

具体的には、軸ずれが考慮されたウェーハ保持アームの下げ量は、｛（９００マイクロメートル－５００マイクロメートル＋２４００００マイクロメートル）／２４００００マイクロメートル｝×３０００マイクロメートル＝３００５マイクロメートルである。

【0129】

図１４は、ローダ上下軸の軸ずれが考慮されたウェーハ保持アームの挿入位置の模式図である。図１４には、スロット４に収納されるウェーハＷに適用されるウェーハ保持アーム２９の挿入位置が図示される。

【0130】

図１４に示すように、ローダ上下軸基準のスロット４ウェーハ高さが５５５５００マイクロメートルの場合に、ウェーハ保持アーム２９の挿入位置は５５２４９５マイクロメートルとされる。なお、実施形態に記載の軸ずれは、上下方向に対する搬送部の傾斜の一例である。

【0131】

［実施形態に係る高さ調整方法の作用効果］
実施形態に係る高さ調整方法は、以下の作用効果を得ることが可能である。

【0132】

〔１〕
センシングセンサ３２を用いて測定される調整治具４０の第１プレート４６の測定値である治具スロット１高さに基づき、エレベータ上下軸補正値が取得される。ウェーハ保持アーム２９を用いて取得されるローダ上下軸スロット１高さに基づき、第１ローダ上下軸補正値が算出される。これにより、ウェーハの搬送が実施される通常運用において、エレベータ上下軸補正値及び第１ローダ上下軸補正値を用いて、各スロット高さにおけるエレベータ上下軸に対するローダ上下軸のずれ量が補正される。

【0133】

〔２〕
ウェーハ保持アーム２９を用いて取得されるローダ上下軸スロット２５高さに基づき、第２ローダ上下軸補正値が算出される。第１ローダ上下軸補正値及び第２ローダ上下軸補正値を用いて、ローダ上下軸の軸ずれが考慮されたウェーハ保持アームの下げ量が取得される。

【0134】

〔３〕
調整治具４０に具備される第１プレート４６に対してウェーハ保持アーム２９が接触する位置が、第１プレート４６の位置として把握される。これにより、第１プレート４６の位置精度に応じたスロット１の現実の位置の測定が可能である。

【0135】

〔４〕
第２プレート４８に対してウェーハ保持アーム２９が接触する位置が、第２プレート４８の位置として把握される。これにより、第２プレート４８の位置精度に応じたスロット２５の現実の位置の測定が可能である。

【0136】

〔５〕
４ミリメートルの搬送分解能が適用される第１ピッチ送りが実施され、第１プレート４６に対してウェーハ保持アーム２９を接触させる。第２ピッチ送りが実施され、ウェーハ保持アーム２９を第１プレート４６から離間させ、１００マイクロメートルの搬送分解能が適用される第３ピッチ送りが実施され、第１プレート４６に対してウェーハ保持アーム２９を接触させ、第１プレート４６の位置が把握される。これにより、測定効率がよく、かつ、高精度の第１プレート４６の測定が実施される。第２プレート４８の測定についても、第１プレート４６の測定と同様の手順が適用され、同様の作用効果が得られる。

【0137】

［実施形態に係る調整治具の作用効果］
実施形態に係る調整治具は、以下の作用効果を得ることが可能である。

【0138】

〔１〕
第１プレート４６及び第２プレート４８は、Ｘ軸方向及びＹ軸方向への移動が規制され、Ｚ軸方向の上方への移動が自在に支持される。これにより、第１プレート４６の下面４６Ｂ及び第２プレート４８の下面４８Ｂの側からウェーハ保持アーム２９が接触する場合に、ウェーハ保持アーム２９のオーバーシュートが発生する場合であっても、第１プレート４６及び第２プレート４８をウェーハ保持アーム２９が押し上げた結果、第１プレート４６、第２プレート４８及びウェーハ保持アーム２９の破損が回避される。

【0139】

〔２〕
第２プレート４８のセンシングセンサ３２の側の端辺４８Ａは、円固形状が適用される。これにより、センシングセンサ３２を用いて第２プレート４８の側の端辺４８Ａを検出する際に、ウェーハの検出と同様の条件で第２プレート４８の検出が可能となる。

【0140】

以上説明した本発明の実施形態は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、適宜構成要件を変更、追加、削除することが可能である。本発明は以上説明した実施形態に限定されるものではなく、本発明の技術的思想内で当該分野の通常の知識を有する者により、多くの変形が可能である。また、実施形態、変形例及び応用例は適宜組み合わせて実施してもよい。

【符号の説明】

【0141】

１０…プローバ、１２…ロードポート、１４…ローダ、１６…処理装置、２０…搬送ユニット、２２…ローダ上下移動部、２６…本体、２７…開口、２８…回転機構、２９…ウェーハ搬送アーム、２９Ａ…吸引穴、３０…設置台、３２…センシングセンサ、３４…エレベータ上下軸移動部、４０…調整治具、４２…基台、４２Ａ…上面、４４…第１支柱、４５…第２支柱、４６…第１プレート、４６Ｂ…下面、４８…第２プレート、４８Ａ…端辺、４８Ｂ…下面、４８Ｃ…第２貫通穴、５０…第１プレート支持ピン、５２…第２プレート支持ピン、５２…ハンドル、Ｗ…ウェーハ

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】

【図13】

【図14】