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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024146491
(43)【公開日】2024-10-15
(54)【発明の名称】積層体の製造方法
(51)【国際特許分類】
G03F 7/20 20060101AFI20241004BHJP
G03F 7/004 20060101ALI20241004BHJP
G03F 7/11 20060101ALI20241004BHJP
G03F 7/029 20060101ALI20241004BHJP
G03F 7/031 20060101ALI20241004BHJP
H10K 50/10 20230101ALI20241004BHJP
H10K 59/10 20230101ALI20241004BHJP
C23C 14/04 20060101ALI20241004BHJP
H01L 21/56 20060101ALI20241004BHJP
【ＦＩ】
G03F7/20 521
G03F7/004 512
G03F7/11
G03F7/029
G03F7/031
H10K50/10
H10K59/10
C23C14/04 A
H01L21/56 Z
【審査請求】未請求
【請求項の数】25
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2023059426
(22)【出願日】2023-03-31
(71)【出願人】
【識別番号】306037311
【氏名又は名称】富士フイルム株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】110001519
【氏名又は名称】弁理士法人太陽国際特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】藤本 進二
(72)【発明者】
【氏名】石坂 壮二
(72)【発明者】
【氏名】漢那 慎一
【テーマコード（参考）】
2H197
2H225
3K107
4K029
5F061
【Ｆターム（参考）】
2H197BA05
2H197CA03
2H197CA04
2H197CA05
2H197CA07
2H197CE01
2H197DB06
2H197HA03
2H197HA04
2H197HA05
2H197JA12
2H225AC31
2H225AC34
2H225AC37
2H225AC44
2H225AC46
2H225AC49
2H225AC57
2H225AC63
2H225AC72
2H225AD14
2H225AD24
2H225AM04N
2H225AM10N
2H225AM13P
2H225AM22P
2H225AM23P
2H225AM32P
2H225AM53N
2H225AM58N
2H225AN02P
2H225AN12N
2H225AN38P
2H225AN39P
2H225AN47P
2H225AN65P
2H225AN66P
2H225AN68P
2H225AN82P
2H225AN87P
2H225AP01N
2H225BA01N
2H225BA02P
2H225BA09P
2H225BA18P
2H225BA32N
2H225BA32P
2H225CA11
2H225CA12
2H225CB05
2H225CC01
2H225CC13
2H225DA26
3K107AA01
3K107BB01
3K107CC45
3K107DD15
3K107DD97
3K107EE44
3K107FF00
3K107FF06
3K107FF14
3K107FF15
3K107GG11
3K107GG12
3K107GG28
4K029BB03
4K029CA01
4K029HA02
5F061AA01
5F061BA03
5F061CA10
5F061CB02
5F061CB12
(57)【要約】
【課題】フォトマスク忠実性に優れた樹脂パターンが得られる積層体の製造方法を提供する。
【解決手段】仮支持体と、アルカリ可溶性樹脂、光重合開始剤、及びエチレン性二重結合を有する重合性化合物を含有する感光性樹脂層を有する転写層と、を含む感光性転写材料の転写層側が基板と接するように、感光性転写材料と基板とを貼り合わせる貼合工程、転写層を、フォトマスクを介してパターン露光する露光工程、及び、パターン露光された転写層を現像して樹脂パターンを形成する現像工程を有し、パターン露光の露光量Ｓ１が、感光性転写材料と基板とを貼り合わせた後に、ストーファー２１段ステップタブレットをマスクとして露光し、次いで現像したときの最高残膜段数が６段となる露光量Ｓ０の８０％以下の露光量である、積層体の製造方法。
【選択図】なし
【解決手段】仮支持体と、アルカリ可溶性樹脂、光重合開始剤、及びエチレン性二重結合を有する重合性化合物を含有する感光性樹脂層を有する転写層と、を含む感光性転写材料の転写層側が基板と接するように、感光性転写材料と基板とを貼り合わせる貼合工程、転写層を、フォトマスクを介してパターン露光する露光工程、及び、パターン露光された転写層を現像して樹脂パターンを形成する現像工程を有し、パターン露光の露光量Ｓ１が、感光性転写材料と基板とを貼り合わせた後に、ストーファー２１段ステップタブレットをマスクとして露光し、次いで現像したときの最高残膜段数が６段となる露光量Ｓ０の８０％以下の露光量である、積層体の製造方法。
【選択図】なし
【特許請求の範囲】
【請求項1】
仮支持体と、アルカリ可溶性樹脂、光重合開始剤、及びエチレン性二重結合を有する重合性化合物を含有する感光性樹脂層を有する転写層と、を含む感光性転写材料の前記転写層側が基板と接するように、前記感光性転写材料と前記基板とを貼り合わせる貼合工程、
前記転写層を、フォトマスクを介してパターン露光する露光工程、及び、
パターン露光された前記転写層を現像して樹脂パターンを形成する現像工程を有し、
前記パターン露光の露光量Ｓ１が、前記感光性転写材料と前記基板とを貼り合わせた後に、ストーファー２１段ステップタブレットをマスクとして露光し、次いで現像したときの最高残膜段数が６段となる露光量Ｓ０の８０％以下の露光量である、
積層体の製造方法。
前記転写層を、フォトマスクを介してパターン露光する露光工程、及び、
パターン露光された前記転写層を現像して樹脂パターンを形成する現像工程を有し、
前記パターン露光の露光量Ｓ１が、前記感光性転写材料と前記基板とを貼り合わせた後に、ストーファー２１段ステップタブレットをマスクとして露光し、次いで現像したときの最高残膜段数が６段となる露光量Ｓ０の８０％以下の露光量である、
積層体の製造方法。
【請求項2】
前記感光性転写材料の最大感度波長における透過率が７０％以上である、請求項１に記載の積層体の製造方法。
【請求項3】
前記露光工程が、前記感光性樹脂層と露光光源との間に、更に、ＮＤフィルターを介在させてパターン露光する工程である、請求項１又は請求項２に記載の積層体の製造方法。
【請求項4】
前記ＮＤフィルターの反射率が、３０％以下である、請求項３に記載の積層体の製造方法。
【請求項5】
前記ＮＤフィルターの透過率が、２５％～７５％である、請求項３に記載の積層体の製造方法。
【請求項6】
前記露光工程に用いる露光方式が、コンタクト露光方式である、請求項１又は請求項２に記載の積層体の製造方法。
【請求項7】
前記感光性樹脂層の膜厚が、５μｍ以下である、請求項１又は請求項２に記載の積層体の製造方法。
【請求項8】
前記光重合開始剤が、ヘキサアリールビスイミダゾール系光重合開始剤である、請求項１又は請求項２に記載の積層体の製造方法。
【請求項9】
前記感光性樹脂層が、更に増感剤を含有する、請求項１又は請求項２に記載の積層体の製造方法。
【請求項10】
前記感光性樹脂層中の前記光重合開始剤の含有量を、前記感光性樹脂層中の前記増感剤の含有量で除した値が、質量基準で、２０以上３００以下である、請求項９に記載の積層体の製造方法。
【請求項11】
前記増感剤が、ベンゾフェノン系増感剤である、請求項９に記載の積層体の製造方法。
【請求項12】
前記感光性樹脂層の膜厚をＸμｍとし、前記感光性樹脂層中の前記増感剤の固形分含有量をＹ質量％としたとき、Ｘの値とＹの値とを乗じて更に１０倍した値が、０．５以上５．０以下である、請求項９に記載の積層体の製造方法。
【請求項13】
前記露光量Ｓ０が、６０ｍＪ／ｃｍ２以下である、請求項１又は請求項２に記載の積層体の製造方法。
【請求項14】
前記仮支持体と、前記感光性樹脂層との間に、中間層を有する、請求項１又は請求項２に記載の積層体の製造方法。
【請求項15】
前記中間層が、水溶性樹脂層を有する、請求項１４に記載の積層体の製造方法。
【請求項16】
前記中間層が、熱可塑性樹脂層及び水溶性樹脂層を有する、請求項１４に記載の積層体の製造方法。
【請求項17】
前記貼合工程と、前記露光工程との間に、前記仮支持体を除去する工程を有する、請求項１又は請求項２に記載の積層体の製造方法。
【請求項18】
前記樹脂パターンの開口幅Ｗｒが、前記フォトマスクが有する遮光パターンの遮光幅Ｗｍよりも広い、請求項１又は請求項２に記載の積層体の製造方法。
【請求項19】
前記樹脂パターンの開口幅Ｗｒが２０μｍ以下である、請求項１８に記載の積層体の製造方法。
【請求項20】
前記基板が、前記感光性転写材料と接する側の表面に金属層を有する基板であり、
前記現像工程の後に、前記樹脂パターンが形成されていない領域にある前記金属層にエッチング処理を行った後に、前記樹脂パターンを除去して金属パターン層を形成する工程、又は、前記樹脂パターンが形成されていない領域にある前記金属層にめっき処理を行った後に、樹脂パターンを除去し、前記樹脂パターンの除去によって露出した前記金属層にエッチング処理を行って金属パターン層を形成する工程、を有する、
請求項１又は請求項２に記載の積層体の製造方法。
前記現像工程の後に、前記樹脂パターンが形成されていない領域にある前記金属層にエッチング処理を行った後に、前記樹脂パターンを除去して金属パターン層を形成する工程、又は、前記樹脂パターンが形成されていない領域にある前記金属層にめっき処理を行った後に、樹脂パターンを除去し、前記樹脂パターンの除去によって露出した前記金属層にエッチング処理を行って金属パターン層を形成する工程、を有する、
請求項１又は請求項２に記載の積層体の製造方法。
【請求項21】
前記基板が、第１面及び前記第１面の反対の位置に第２面を有する金属基板であり、
前記現像工程の後に、前記樹脂パターンが形成されていない領域にある前記金属基板にエッチング処理を行って、前記金属基板を貫通する貫通孔を形成した後に、前記樹脂パターンを除去して金属パターン層を形成する工程を有する、
請求項１又は請求項２に記載の積層体の製造方法。
前記現像工程の後に、前記樹脂パターンが形成されていない領域にある前記金属基板にエッチング処理を行って、前記金属基板を貫通する貫通孔を形成した後に、前記樹脂パターンを除去して金属パターン層を形成する工程を有する、
請求項１又は請求項２に記載の積層体の製造方法。
【請求項22】
前記金属基板が、鉄－ニッケル合金を含有する、請求項２１に記載の積層体の製造方法。
【請求項23】
前記金属パターン層が、四角形状の貫通孔を有する、請求項２１に記載の積層体の製造方法。
【請求項24】
前記積層体が、金属マスクである、請求項２１に記載の積層体の製造方法。
【請求項25】
前記積層体が、半導体パッケージである、請求項２０に記載の積層体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本開示は、積層体の製造方法に関する。
【背景技術】
【0002】
ドライフィルムレジストとも称される感光性転写材料は、熱ラミネートを用いることで、様々な基材に簡便にレジストパターンを形成することが可能であることから、広く用いられている。例えば、半導体パッケージ基板の製造工程における配線パターンの形成、ＯＬＥＤ（Organic Light Emitting Diode）の製造に利用される金属マスクの形成などに用いられている。
【0003】
例えば、特許文献１には、レジストパターンが形成可能な感光性エレメントとして、「支持フィルムと、支持フィルム上に形成された感光性樹脂組成物に由来する感光層と、を備える感光性エレメントであって、支持フィルムのヘーズが、０．０１～１．５％であり、かつ、支持フィルムに含まれる直径５μｍ以上の粒子及び直径５μｍ以上の凝集物の総数が５個／ｍｍ２以下であり、感光層が、バインダーポリマー、エチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物及び光重合開始剤を含有し、感光層の厚さＴと感光層の３６５ｎｍにおける吸光度Ａとが、式（Ｉ）：０．００１≦Ａ／Ｔ≦０．０２０ （Ｉ）で表される関係を満足する、感光性エレメント」が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【特許文献1】国際公開第２０１２／０８１６８０号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
本開示の一実施形態は、フォトマスク忠実性に優れた樹脂パターンが得られる積層体の製造方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【0006】
本開示は、以下の態様を含む。
＜１＞ 仮支持体と、アルカリ可溶性樹脂、光重合開始剤、及びエチレン性二重結合を有する重合性化合物を含有する感光性樹脂層を有する転写層と、を含む感光性転写材料の上記転写層側が基板と接するように、上記感光性転写材料と上記基板とを貼り合わせる貼合工程、
上記転写層を、フォトマスクを介してパターン露光する露光工程、及び、
パターン露光された上記転写層を現像して樹脂パターンを形成する現像工程を有し、
上記パターン露光の露光量Ｓ１が、上記感光性転写材料と上記基板とを貼り合わせた後に、ストーファー２１段ステップタブレットをマスクとして露光し、次いで現像したときの最高残膜段数が６段となる露光量Ｓ０の８０％以下の露光量である、
積層体の製造方法。
＜１＞ 仮支持体と、アルカリ可溶性樹脂、光重合開始剤、及びエチレン性二重結合を有する重合性化合物を含有する感光性樹脂層を有する転写層と、を含む感光性転写材料の上記転写層側が基板と接するように、上記感光性転写材料と上記基板とを貼り合わせる貼合工程、
上記転写層を、フォトマスクを介してパターン露光する露光工程、及び、
パターン露光された上記転写層を現像して樹脂パターンを形成する現像工程を有し、
上記パターン露光の露光量Ｓ１が、上記感光性転写材料と上記基板とを貼り合わせた後に、ストーファー２１段ステップタブレットをマスクとして露光し、次いで現像したときの最高残膜段数が６段となる露光量Ｓ０の８０％以下の露光量である、
積層体の製造方法。
【0007】
＜２＞ 上記感光性転写材料の最大感度波長における透過率が７０％以上である、＜１＞に記載の積層体の製造方法。
＜３＞ 上記露光工程が、上記感光性樹脂層と露光光源との間に、更に、ＮＤフィルターを介在させてパターン露光する工程である、＜１＞又は＜２＞に記載の積層体の製造方法。
＜４＞ 上記ＮＤフィルターの反射率が、３０％以下である、＜３＞に記載の積層体の製造方法。
＜５＞ 上記ＮＤフィルターの透過率が、２５％～７５％である、＜３＞又は＜４＞に記載の積層体の製造方法。
＜６＞ 上記露光工程に用いる露光方式が、コンタクト露光方式である、＜１＞～＜５＞のいずれか１つに記載の積層体の製造方法。
＜７＞ 上記感光性樹脂層の膜厚が、５μｍ以下である、＜１＞～＜６＞のいずれか１つに記載の積層体の製造方法。
＜８＞ 上記光重合開始剤が、ヘキサアリールビスイミダゾール系光重合開始剤である、＜１＞～＜７＞のいずれか１つに記載の積層体の製造方法。
＜９＞ 上記感光性樹脂層が、更に増感剤を含有する、＜１＞～＜８＞のいずれか１つに記載の積層体の製造方法。
＜１０＞ 上記感光性樹脂層中の上記光重合開始剤の含有量を、上記感光性樹脂層中の上記増感剤の含有量で除した値が、質量基準で、２０以上３００以下である、＜９＞に記載の積層体の製造方法。
＜１１＞ 上記増感剤が、ベンゾフェノン系増感剤である、＜９＞又は＜１０＞に記載の積層体の製造方法。
＜１２＞ 上記感光性樹脂層の膜厚をＸμｍとし、上記感光性樹脂層中の上記増感剤の含有量をＹ質量％としたとき、Ｘの値とＹの値とを乗じて更に１０倍した値が、０．５以上５．０以下である、＜９＞～＜１１＞のいずれか１つに記載の積層体の製造方法。
＜１３＞ 上記露光量Ｓ０が、６０ｍＪ／ｃｍ２以下である、＜１＞～＜１２＞のいずれか１つに記載の積層体の製造方法。
＜１４＞ 上記仮支持体と、上記感光性樹脂層との間に、中間層を有する、＜１＞～＜１３＞のいずれか１つに記載の積層体の製造方法。
＜１５＞ 上記中間層が、水溶性樹脂層を有する、＜１４＞に記載の積層体の製造方法。
＜１６＞ 上記中間層が、熱可塑性樹脂層及び水溶性樹脂層を有する、＜１４＞又は＜１５＞に記載の積層体の製造方法。
＜１７＞ 上記貼合工程と、上記露光工程との間に、上記仮支持体を除去する工程を有する、＜１＞～＜１６＞のいずれか１つに記載の積層体の製造方法。
＜１８＞ 上記樹脂パターンの開口幅Ｗｒが、上記フォトマスクが有する遮光パターンの遮光幅Ｗｍよりも広い、＜１＞～＜１７＞のいずれか１つに記載の積層体の製造方法。
＜１９＞ 上記樹脂パターンの開口幅Ｗｒが２０μｍ以下である、＜１８＞に記載の積層体の製造方法。
＜３＞ 上記露光工程が、上記感光性樹脂層と露光光源との間に、更に、ＮＤフィルターを介在させてパターン露光する工程である、＜１＞又は＜２＞に記載の積層体の製造方法。
＜４＞ 上記ＮＤフィルターの反射率が、３０％以下である、＜３＞に記載の積層体の製造方法。
＜５＞ 上記ＮＤフィルターの透過率が、２５％～７５％である、＜３＞又は＜４＞に記載の積層体の製造方法。
＜６＞ 上記露光工程に用いる露光方式が、コンタクト露光方式である、＜１＞～＜５＞のいずれか１つに記載の積層体の製造方法。
＜７＞ 上記感光性樹脂層の膜厚が、５μｍ以下である、＜１＞～＜６＞のいずれか１つに記載の積層体の製造方法。
＜８＞ 上記光重合開始剤が、ヘキサアリールビスイミダゾール系光重合開始剤である、＜１＞～＜７＞のいずれか１つに記載の積層体の製造方法。
＜９＞ 上記感光性樹脂層が、更に増感剤を含有する、＜１＞～＜８＞のいずれか１つに記載の積層体の製造方法。
＜１０＞ 上記感光性樹脂層中の上記光重合開始剤の含有量を、上記感光性樹脂層中の上記増感剤の含有量で除した値が、質量基準で、２０以上３００以下である、＜９＞に記載の積層体の製造方法。
＜１１＞ 上記増感剤が、ベンゾフェノン系増感剤である、＜９＞又は＜１０＞に記載の積層体の製造方法。
＜１２＞ 上記感光性樹脂層の膜厚をＸμｍとし、上記感光性樹脂層中の上記増感剤の含有量をＹ質量％としたとき、Ｘの値とＹの値とを乗じて更に１０倍した値が、０．５以上５．０以下である、＜９＞～＜１１＞のいずれか１つに記載の積層体の製造方法。
＜１３＞ 上記露光量Ｓ０が、６０ｍＪ／ｃｍ２以下である、＜１＞～＜１２＞のいずれか１つに記載の積層体の製造方法。
＜１４＞ 上記仮支持体と、上記感光性樹脂層との間に、中間層を有する、＜１＞～＜１３＞のいずれか１つに記載の積層体の製造方法。
＜１５＞ 上記中間層が、水溶性樹脂層を有する、＜１４＞に記載の積層体の製造方法。
＜１６＞ 上記中間層が、熱可塑性樹脂層及び水溶性樹脂層を有する、＜１４＞又は＜１５＞に記載の積層体の製造方法。
＜１７＞ 上記貼合工程と、上記露光工程との間に、上記仮支持体を除去する工程を有する、＜１＞～＜１６＞のいずれか１つに記載の積層体の製造方法。
＜１８＞ 上記樹脂パターンの開口幅Ｗｒが、上記フォトマスクが有する遮光パターンの遮光幅Ｗｍよりも広い、＜１＞～＜１７＞のいずれか１つに記載の積層体の製造方法。
＜１９＞ 上記樹脂パターンの開口幅Ｗｒが２０μｍ以下である、＜１８＞に記載の積層体の製造方法。
【0008】
＜２０＞ 上記基板が、上記感光転写材料と接する側の表面に金属層を有する基板であり、上記現像工程の後に、上記樹脂パターンが形成されていない領域にある上記金属層にエッチング処理を行った後に、上記樹脂パターンを除去して金属パターン層を形成する工程、又は、上記樹脂パターンが形成されていない領域にある上記金属層にめっき処理を行った後に、樹脂パターンを除去し、上記樹脂パターンの除去によって露出した上記金属層にエッチング処理を行って金属パターン層を形成する工程、を有する、＜１＞～＜１９＞のいずれか１つに記載の積層体の製造方法。
【0009】
＜２１＞ 上記基板が、第１面及び上記第１面の反対の位置に第２面を有する金属基板であり、上記現像工程の後に、上記樹脂パターンが形成されていない領域にある上記金属基板にエッチング処理を行って、上記金属基板を貫通する貫通孔を形成した後に、上記樹脂パターンを除去して金属パターン層を形成する工程を有する、＜１＞～＜１９＞のいずれか１つに記載の積層体の製造方法。
【0010】
＜２２＞ 上記金属基板が、鉄－ニッケル合金を含有する、＜２１＞に記載の積層体の製造方法。
＜２３＞ 上記金属パターン層が、四角形状の貫通孔を有する、＜２１＞又は＜２２＞に記載の積層体の製造方法。
＜２４＞ 上記積層体が、金属マスクである、＜２１＞～＜２３＞のいずれか１つに記載の積層体の製造方法。
＜２５＞上記積層体が、半導体パッケージである、＜２０＞に記載の積層体の製造方法。
＜２３＞ 上記金属パターン層が、四角形状の貫通孔を有する、＜２１＞又は＜２２＞に記載の積層体の製造方法。
＜２４＞ 上記積層体が、金属マスクである、＜２１＞～＜２３＞のいずれか１つに記載の積層体の製造方法。
＜２５＞上記積層体が、半導体パッケージである、＜２０＞に記載の積層体の製造方法。
【発明の効果】
【0011】
本開示の一実施形態によれば、フォトマスク忠実性に優れた樹脂パターンが得られる積層体の製造方法が提供される。
【図面の簡単な説明】
【0012】
【発明を実施するための形態】
【0013】
以下、本開示の実施形態について詳細に説明する。本開示は、以下の実施形態に何ら制限されない。以下の実施形態は、本開示の目的の範囲内において適宜変更されてもよい。
【0014】
本開示において、「～」を用いて示された数値範囲は、「～」の前に記載される数値を下限値として、「～」の前に記載される数値を上限値として含む範囲を示す。本開示に段階的に記載されている数値範囲において、ある数値範囲で記載された上限値又は下限値は、他の段階的な記載の数値範囲の上限値又は下限値に置き換えてもよい。また、本開示に記載されている数値範囲において、ある数値範囲で記載された上限値又は下限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。
【0015】
本開示において、「（メタ）アクリル」は、アクリル、メタクリル、又はアクリル及びメタクリルの両方を表す。
【0016】
本開示において、「（メタ）アクリレート」は、アクリレート、メタクリレート又はアクリレート及びメタクリレートの両方を表す。
【0017】
本開示において、「（メタ）アクリロイル」は、アクリロイル、メタクリロイル又はアクリロイル及びメタクリロイルの両方を表す。
【0018】
本開示において、組成物中の各成分の量は、組成物中に各成分に該当する物質が複数存在する場合、特に断らない限り、組成物中に存在する該当する複数の物質の合計量を意味する。
【0019】
本開示において、「工程」との用語は、独立した工程だけでなく、所期の目的が達成される場合には他の工程と明確に区別できない工程も包含する。
【0020】
本開示において、置換及び無置換を記していない基（原子団）は、置換基を有しない基（原子団）及び置換基を有する基（原子団）を包含する。例えば「アルキル基」とは、置換基を有しないアルキル基（即ち、無置換アルキル基）のみならず、置換基を有するアルキル基（即ち、置換アルキル基）を包含する。
【0021】
本開示において、「露光」に用いられる光としては、一般的に、水銀灯の輝線スペクトル、エキシマレーザに代表される遠紫外線、極紫外線（ＥＵＶ光）、Ｘ線、電子線等の活性光線（活性エネルギー線）が挙げられる。
【0022】
本開示における化学構造式は、水素原子を省略した簡略構造式で記載する場合がある。
【0023】
本開示において、「質量％」と「重量％」とは同義であり、「質量部」と「重量部」とは同義である。
【0024】
本開示において、２以上の好ましい態様の組み合わせは、より好ましい態様である。
【0025】
本開示において、序数詞（例えば、「第一」、及び「第二」）は、構成要素を区別するために使用する用語であり、構成要素の数、及び構成要素の優劣を制限するものではない。
【0026】
本開示において、「透明」とは、波長４００ｎｍ～７００ｎｍの可視光の平均透過率が、８０％以上であることを意味し、９０％以上であることが好ましい。
【0027】
本開示における重量平均分子量（Ｍｗ）及び数平均分子量（Ｍｎ）は、特に断りのない限り、ＴＳＫｇｅｌ ＧＭＨｘＬ、ＴＳＫｇｅｌ Ｇ４０００ＨｘＬ、ＴＳＫｇｅｌ Ｇ２０００ＨｘＬ（何れも東ソー株式会社製の商品名）のカラムを使用したゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）分析装置により、溶剤ＴＨＦ（テトラヒドロフラン）、示差屈折計により検出し、標準物質としてポリスチレンを用いて換算した分子量である。
【0028】
本開示において、「アルカリ可溶性」とは、液温が２２℃である炭酸ナトリウムの１質量％水溶液１００ｇへの溶解度が０．１ｇ以上であることを意味する。
【0029】
本開示において、「水溶性」とは、液温が２２℃であるｐＨ７．０の水１００ｇへの溶解度が０．１ｇ以上であることを意味する。
【0030】
本開示において、「固形分」とは、溶剤を除いたすべての成分を意味する。
【0031】
＜積層体の製造方法＞
本開示に係る積層体の製造方法は、仮支持体と、アルカリ可溶性樹脂、光重合開始剤、及びエチレン性二重結合を有する重合性化合物を含有する感光性樹脂層を含む転写層と、を有する感光性転写材料の転写層側側が基板と接するように、上記感光性転写材料と上記基板とを貼り合わせる貼合工程（以下、単に「貼合工程」とも称する。）、
上記転写層を、フォトマスクを介してパターン露光する露光工程（以下、単に「露光工程」とも称する。）、及び、
パターン露光された上記転写層を現像して樹脂パターンを形成する現像工程（以下、単に「現像工程」とも称する。）を有し、
上記パターン露光の露光量Ｓ１が、上記感光性転写材料と上記基板とを貼り合わせた後に、ストーファー２１段ステップタブレットをマスクとして露光し、次いで現像したときの最高残膜段数が６段となる露光量Ｓ０の８０％以下の露光量である。
本開示に係る積層体の製造方法は、仮支持体と、アルカリ可溶性樹脂、光重合開始剤、及びエチレン性二重結合を有する重合性化合物を含有する感光性樹脂層を含む転写層と、を有する感光性転写材料の転写層側側が基板と接するように、上記感光性転写材料と上記基板とを貼り合わせる貼合工程（以下、単に「貼合工程」とも称する。）、
上記転写層を、フォトマスクを介してパターン露光する露光工程（以下、単に「露光工程」とも称する。）、及び、
パターン露光された上記転写層を現像して樹脂パターンを形成する現像工程（以下、単に「現像工程」とも称する。）を有し、
上記パターン露光の露光量Ｓ１が、上記感光性転写材料と上記基板とを貼り合わせた後に、ストーファー２１段ステップタブレットをマスクとして露光し、次いで現像したときの最高残膜段数が６段となる露光量Ｓ０の８０％以下の露光量である。
【0032】
本開示に係る積層体の製造方法は、貼合工程、露光工程、及び、現像工程に加えて、他の工程を有していてもよい。
本開示に係る積層体の製造方法は、現像工程の後に、金属パターン層を形成する工程（以下、「金属パターン層形成工程」とも称する。）を有することが好ましい。
本開示に係る積層体の製造方法は、貼合工程と露光工程との間に、仮支持体を除去する工程（以下、「仮支持体除去工程」とも称する。）を含むことが好ましい。
また、本開示に係る積層体の製造方法は、必要に応じ、貼合工程の前に、保護フィルムを除去する工程（以下、「保護フィルム除去工程」とも称する。）を含むことが好ましい。
本開示に係る積層体の製造方法は、現像工程の後に、金属パターン層を形成する工程（以下、「金属パターン層形成工程」とも称する。）を有することが好ましい。
本開示に係る積層体の製造方法は、貼合工程と露光工程との間に、仮支持体を除去する工程（以下、「仮支持体除去工程」とも称する。）を含むことが好ましい。
また、本開示に係る積層体の製造方法は、必要に応じ、貼合工程の前に、保護フィルムを除去する工程（以下、「保護フィルム除去工程」とも称する。）を含むことが好ましい。
【0033】
ドライフィルムレジストとも称される感光性転写材料を用いたパターニングには、高解像化の要求がある。例えば、半導体パッケージ基板の製造工程では、ドライフィルムレジストで形成した微細パターンをセミアディティブプロセスに用い、３μｍ以下の銅配線パターンを形成する試みがなされている。また、ＯＬＥＤの製造に用いられる、微小な貫通孔を有する金属マスクでは、ＯＬＥＤの高精細化に伴い、孔幅１５μｍ以下の微細化の要求がある。
【0034】
しかし、従来の方法は、樹脂パターン（レジストパターン）の形状に歪み（具体的には、不自然な突起やくびれ）が生じてしまい、樹脂パターンのフォトマスク忠実性が得られず、必ずしも高解像化に適さない場合があった。
【0035】
一例として、微小な貫通孔を有する金属マスクの製造においては、四角形状の微小パターンを形成する際に、貫通孔を形成するための樹脂パターンの四角形状の孔部の角部分に不自然な突起やくびれが生じることがあった。樹脂パターンに生じる不自然な突起やくびれは、露光時に発生する回折光の重ね合わせにより、角部分で光が増幅（もしくは減衰）されることで形成されるものと推察される。このような課題は、金属マスクの品質、延いては、金属マスクを用いて蛍光物質をパターン状に蒸着させた際の品質を著しく減退させるものである。
【0036】
そこで、本発明者らは、かかる課題を解決すべく鋭意検討した結果、本開示に係る積層体の製造方法により、フォトマスク忠実性に優れた樹脂パターンが得られることを見出した。本開示に係る積層体の製造方法では、パターン露光する工程において、所定の低露光量露光を行うこと、即ち、パターン露光の露光量Ｓ１が、感光性転写材料と基板とを貼り合わせた後に、ストーファー２１段ステップタブレットをマスクとして露光し、次いで現像したときの最高残膜段数が６段となる露光量Ｓ０の８０％以下の露光量であることで、得られる樹脂パターンのフォトマスク忠実性に優れる。また、本開示に係る積層体の製造方法の一態様では、フォトマスク忠実性及び線幅均一性に優れた樹脂パターンが得られる。
【0037】
一方、特許文献１には、本開示に係る積層体の製造方法に適用される所定の低露光量露光についての着目はない。
【0038】
以下、本開示に係る積層体の製造方法が有する各工程について、詳細に説明する。
なお、本開示に係る積層体の製造方法に用いられる感光性転写材料及び基板の好ましい態様は、製造方法が有する各工程を説明後に、まとめて後述する。
なお、本開示に係る積層体の製造方法に用いられる感光性転写材料及び基板の好ましい態様は、製造方法が有する各工程を説明後に、まとめて後述する。
【0039】
＜保護フィルム除去工程＞
本開示に係る積層体の製造方法は、感光性転写材料から保護フィルムを除去する工程（保護フィルム除去工程）を含むことが好ましい。保護フィルムを除去する方法は、制限されず、公知の方法を適用することができる。
本開示に係る積層体の製造方法は、感光性転写材料から保護フィルムを除去する工程（保護フィルム除去工程）を含むことが好ましい。保護フィルムを除去する方法は、制限されず、公知の方法を適用することができる。
【0040】
＜貼合工程＞
本開示に係る積層体の製造方法は、仮支持体と、アルカリ可溶性樹脂、光重合開始剤、及びエチレン性二重結合を有する重合性化合物を含有する感光性樹脂層を含む転写層と、を有する感光性転写材料の転写層側が基板と接するように、感光性転写材料と基板とを貼り合わせる貼合工程を有する。
本開示に係る積層体の製造方法は、仮支持体と、アルカリ可溶性樹脂、光重合開始剤、及びエチレン性二重結合を有する重合性化合物を含有する感光性樹脂層を含む転写層と、を有する感光性転写材料の転写層側が基板と接するように、感光性転写材料と基板とを貼り合わせる貼合工程を有する。
【0041】
貼合工程は、感光性転写材料が感光性樹脂層の仮支持体と対向していない側の表面に保護フィルム以外の層（例えば高屈折率層及び／又は低屈折率層）を更に備える場合、感光性樹脂層の仮支持体と対向していない側の表面と基板とがその層を介して貼り合わされる態様となる。
【0042】
感光性転写材料と基板との貼り合わせは、公知の方法によって実施されてもよい。貼合工程では、感光性転写材料と基板とを圧着させることが好ましい。例えば、感光性転写材料の転写層側と基板とを重ね合わせ、ロール等の手段を用いて加圧及び加熱を施すことによって感光性転写材料と基板とを圧着することが好ましい。
【0043】
基板と感光性転写材料とを圧着する方法としては、公知のラミネート方法を好適に用いることができる。貼合工程には、ラミネーター、真空ラミネーター及び生産性を高めることができるオートカットラミネーターといった公知のラミネーターが使用できる。ラミネート温度は、特に限定されないが、例えば、７０℃～１３０℃であることが好ましい。
【0044】
感光性転写材料が保護フィルムを含む場合、貼合工程は、保護フィルム除去工程により保護フィルムを除去した後に実施される。
【0045】
＜加圧工程＞
感光性転写材料と基板とを貼り合わせた後、感光性転写材料と基板との貼合体を加圧する工程（以下、「加圧工程」とも称する。）を実施してもよい。加圧される貼合体は、基板と、転写層と、仮支持体と、をこの順に含む貼合体であることが好ましい。加圧される貼合体は、基板と、転写層と、をこの順に含む貼合体であってもよい。例えば、貼合工程の後に、後述する仮支持体除去工程により仮支持体が除去されると、基板と、転写層と、をこの順に含む貼合体が形成される。加圧工程においては、感光性転写材料と基板との貼り合わせによって得られた貼合体をオートクレーブで加圧処理してもよい。例えば、５０℃、０．５ＭＰａ、６０分間の加圧処理を行うことができる。貼合体を加圧処理することで転写層と基板との密着性を向上させることができ、基板の表面の凸凹に対する転写層の追随性が改良する。加圧工程は、露光工程の前に実施されることが好ましい。
感光性転写材料と基板とを貼り合わせた後、感光性転写材料と基板との貼合体を加圧する工程（以下、「加圧工程」とも称する。）を実施してもよい。加圧される貼合体は、基板と、転写層と、仮支持体と、をこの順に含む貼合体であることが好ましい。加圧される貼合体は、基板と、転写層と、をこの順に含む貼合体であってもよい。例えば、貼合工程の後に、後述する仮支持体除去工程により仮支持体が除去されると、基板と、転写層と、をこの順に含む貼合体が形成される。加圧工程においては、感光性転写材料と基板との貼り合わせによって得られた貼合体をオートクレーブで加圧処理してもよい。例えば、５０℃、０．５ＭＰａ、６０分間の加圧処理を行うことができる。貼合体を加圧処理することで転写層と基板との密着性を向上させることができ、基板の表面の凸凹に対する転写層の追随性が改良する。加圧工程は、露光工程の前に実施されることが好ましい。
【0046】
＜仮支持体除去工程＞
本開示に係る積層体の製造方法は、貼合工と露光工程との間に、仮支持体を除去する工程（仮支持体除去工程）を有することが好ましい。露光工程に先立ち、仮支持体を除去することにより、仮支持体に由来するピンホールの発生が抑制され、光学像のボケが減少し、得られる樹脂パターンのフォトマスク忠実性と線幅均一性とをより向上させることができる。
本開示に係る積層体の製造方法は、貼合工と露光工程との間に、仮支持体を除去する工程（仮支持体除去工程）を有することが好ましい。露光工程に先立ち、仮支持体を除去することにより、仮支持体に由来するピンホールの発生が抑制され、光学像のボケが減少し、得られる樹脂パターンのフォトマスク忠実性と線幅均一性とをより向上させることができる。
【0047】
仮支持体除去工程における仮支持体の除去方法は特に制限されず、特開２０１０－０７２５８９号公報の段落０１６１～０１６２に記載されたカバーフィルム剥離機構と同様の機構を使用できる。
【0048】
＜露光工程＞
本開示に係る積層体の製造方法は、転写層を、フォトマスクを介してパターン露光する露光工程（露光工程）を有する。「転写層をパターン露光する」とは、感光性樹脂層を有する転写層に対するフォトマスクを介した光の照射によって、感光性樹脂層に露光部及び非露光部を形成することを意味する。パターン露光における露光領域と未露光領域との位置関係は特に制限されない。露光部と非露光部との位置関係は、例えば、目的とする樹脂パターンの形状に応じて決定することができる。
本開示に係る積層体の製造方法は、転写層を、フォトマスクを介してパターン露光する露光工程（露光工程）を有する。「転写層をパターン露光する」とは、感光性樹脂層を有する転写層に対するフォトマスクを介した光の照射によって、感光性樹脂層に露光部及び非露光部を形成することを意味する。パターン露光における露光領域と未露光領域との位置関係は特に制限されない。露光部と非露光部との位置関係は、例えば、目的とする樹脂パターンの形状に応じて決定することができる。
【0049】
パターン露光に用いる光は、転写層から基板へ向かう方向に沿って転写層に照射されることが好ましい。転写層をパターン露光する光は、３６５ｎｍ及び４０５ｎｍからなる群より選択される少なくとも１種の波長を含むことが好ましい。
【0050】
光源としては、例えば、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、メタルハライドランプ等の放電ランプ；及びＬＥＤ（Light Emitting Diode）、ＬＤ（Laser Diode）等の半導体光源が挙げられる。
【0051】
パターン露光の露光量Ｓ１（即ち、実露光量）は、感光性転写材料と基板とを貼り合わせた後に、ストーファー２１段ステップタブレットをマスクとして露光し、次いで現像したときの最高残膜段数が６段となる露光量Ｓ０の８０％以下の露光量である。つまり、本露光工程では、露光量Ｓ１／露光量Ｓ０×１００が８０％以下となるように、露光量Ｓ１が設定される。露光量Ｓ１／露光量Ｓ０×１００は、５０％以下が好ましく、２５％以下がより好ましい。露光量Ｓ１／露光量Ｓ０×１００の下限値は、例えば、１０％以上である。
【0052】
露光量Ｓ０は、生産時間（タクトタイム）を短縮し生産性を向上させる観点から、２００ｍＪ／ｃｍ２以下が好ましく、６０ｍＪ／ｃｍ２以下がより好ましい。露光量Ｓ０の下限値は、例えば、５ｍＪ／ｃｍ２以上である。
【0053】
「ストーファー２１段ステップタブレット」とは、段階的に透過率が変化する２１段のパターンを備え、１段で１／√２倍に透過率が低下し、２段で１／２倍に透過率が低下するよう設計されている、感光性材料の感度評価用の露光マスクである。「ストーファー２１段ステップタブレット」は、ストーファーインダストリーズ社から入手できる。
【0054】
即ち、本開示に係る積層体の製造方法においては、「ストーファー２１段ステップタブレット」を用いて、最高残膜段数が６段となる露光量Ｓ０を決定して、得られた露光量Ｓ０の８０％以下の露光量に、露光工程に適用するパターン露光の露光量Ｓ１を設定する。なお、ストーファーインダストリーズ社から入手できる「ストーファー２１段ステップタブレット」と同一の構成を有する他の露光マスクは、本開示における「ストーファー２１段ステップタブレット」と同視できるものとする。
【0055】
露光量Ｓ０を決定する際の現像の条件と、露光工程において露光量Ｓ１でパターン露光を行った後、現像工程において行う現像の条件とは同じものとする。具体的には、露光量Ｓ０を決定する際の現像の条件、及び、現像工程において行う現像の条件は、同一の組成を有する現像液を用いて、同一の現像液温度とし、現像時間は最小現像時間の２倍の時間とする。「最小現像時間」とは、未露光部分の感光性樹脂層が現像処理によって完全に溶解するのに要する最も少ない時間を言う
【0056】
露光工程では、低露光量での露光を安定に行う観点から、感光性樹脂層と露光光源との間に、更に、ＮＤフィルター（Neutral Density Filter）を介在させてパターン露光することが好ましい。ＮＤフィルターは、感光波長の光を反射又は吸収して光量を減衰させる機能を有する光学フィルターである。
【0057】
ＮＤフィルターを用いることにより、露光機のシャッター速度を安定に維持できる露光量とし、かつ低露光量で露光を行えるため、線幅均一性が良好な樹脂パターンを得ることができる。
【0058】
ＮＤフィルターの反射率は、迷光による画質の低下を防止する観点から、３０％以下であることが好ましい。
ＮＤフィルターの透過率は、２５％～７５％であることが好ましく、５０％～７５％であることがより好ましい。ＮＤフィルターの透過率は、例えば、２５％、５０％、又は７５％であってもよい。
ＮＤフィルターの透過率は、２５％～７５％であることが好ましく、５０％～７５％であることがより好ましい。ＮＤフィルターの透過率は、例えば、２５％、５０％、又は７５％であってもよい。
【0059】
ＮＤフィルターの反射率は、紫外可視分光光度計を用いて、最大吸収波長の光を用いて測定される値である。
ＮＤフィルターの透過率は、紫外可視分光光度計を用いて、最大吸収波長の光を用いて測定される値である。
ＮＤフィルターの透過率は、紫外可視分光光度計を用いて、最大吸収波長の光を用いて測定される値である。
【0060】
紫外可視分光光度計は、例えば、日本分光（株）製の紫外可視近赤外光分光光度計「Ｖ－６７０」を用いることができる。
【0061】
ＮＤフィルターは、使用する光源の種類及び設定する露光量Ｓ１を考慮して、公知のＮＤフィルターから選択すればよい。ＮＤフィルターとしては、市販品を用いることができる。市販品としては、例えば、ＨＮ００２５、ＨＮ００５０、ＨＮ００７０（朝日分光株式会社製）等が挙げられる。
【0062】
ＮＤフィルターの設置位置としては、感光性樹脂層と露光光源との間に介在する位置であればよいが、フォトマスクより光源に近い側に設置することが好ましい。
【0063】
露光工程は、仮支持体の除去前又は仮支持体の除去後に実施されてもよい。露光工程が仮支持体の除去前に実施される場合、転写層は仮支持体を介して露光されてもよい。露光工程では、フォトマスクを転写層に接触させた状態で転写層をパターン露光してもよく、又はフォトマスクを転写層に接触させずに転写層に近づけた状態で転写層をパターン露光してもよい。フォトマスクと転写層との接触によるフォトマスク汚染の防止及びフォトマスクに付着した異物による露光への影響を避けるために、仮支持体を除去せずに転写層をパターン露光することが好ましい。転写層が仮支持体を介してパターン露光された場合、仮支持体は、露光工程後、かつ、現像工程前に除去されることが好ましい。また、露光は大気下で行うだけでなく、減圧、真空下で行ってもよく、また、光源と転写層の間に水等の液体を介在させて露光してもよい。
【0064】
露光方式は、樹脂パターンの解像性の観点から、コンタクト露光方式を用いることが好ましい。コンタクト露光方式とは、フォトマスクを、露光対象物（仮支持体、感光性樹脂層等）の表面に接触させて露光する方式である。
【0065】
露光工程で用いるフォトマスクとしては、例えば、クロムマスク、エマルジョンマスク、及びフィルムマスクを用いることができる。
【0066】
フォトマスクは、遮光パターンの遮光幅Ｗｍが、得られる樹脂パターンの開口幅Ｗｒよりも狭いことが好ましい。フォトマスクの遮光幅Ｗｍを樹脂パターンの開口幅Ｗｒよりも狭くすることにより、低露光量での露光に際して、樹脂パターンの開口幅Ｗｒが、予め設定された目標開口幅より広がることが抑制される。そのため、フォトマスク忠実性が高く、かつ、目標開口幅通りの樹脂パターンを得ることができる。
【0067】
フォトマスクの遮光幅Ｗｍは、光学顕微鏡により測定した値とする。具体的な測定方法は、後述する実施例に示す。
【0068】
＜現像工程＞
本開示に係る積層体の製造方法は、パターン露光された転写層を現像して樹脂パターンを形成する現像工程を有する。
本開示に係る積層体の製造方法は、パターン露光された転写層を現像して樹脂パターンを形成する現像工程を有する。
【0069】
現像工程では、転写層に対して現像処理を実施し、樹脂パターンを形成する。
現像工程を経て形成される樹脂パターンの解像度は、後述の金属パターン層形成工程を経て形成される金属パターン層（例えば、配線又は貫通孔）の解像度を左右する。また、例えば、金属パターン層がＯＬＥＤの製造に用いられる場合であれば、金属パターン層が有する貫通孔の解像度は、蒸着マスクを用いて形成されるパターンの解像度を左右すると推察される。
現像工程を経て形成される樹脂パターンの解像度は、後述の金属パターン層形成工程を経て形成される金属パターン層（例えば、配線又は貫通孔）の解像度を左右する。また、例えば、金属パターン層がＯＬＥＤの製造に用いられる場合であれば、金属パターン層が有する貫通孔の解像度は、蒸着マスクを用いて形成されるパターンの解像度を左右すると推察される。
【0070】
樹脂パターンは、転写層の露光部又は非露光部の除去によって形成される。転写層が含む感光性樹脂層は、ネガ型の感光性樹脂層であり、現像処理によって転写層の非露光部が除去され、転写層の露光部により樹脂パターンが形成される。
【0071】
現像工程を経て得られる樹脂パターンの開口幅Ｗｒは、フォトマスクが有する遮光パターンの遮光幅Ｗｍよりも広いことが好ましい。
【0072】
樹脂パターンの開口幅Ｗｒは、光学顕微鏡により測定した値とする。具体的な測定方法は、後述する実施例に示す。
遮光幅Ｗｍの詳細は、露光工程において説明したとおりであるため、ここでは説明を省略する。
遮光幅Ｗｍの詳細は、露光工程において説明したとおりであるため、ここでは説明を省略する。
【0073】
樹脂パターンの開口幅Ｗｒは、２０μｍ以下であることが好ましく、５μｍ～２０μｍであることがより好ましく、５μｍ～１５μｍであることが更に好ましい。
【0074】
現像処理は、例えば、現像液を用いて実施される。現像液としては、例えば、公知の現像液（例えば、特開平５－７２７２４号公報に記載の現像液）が挙げられる。現像液としては、ｐＫａ＝７～１３の化合物を０．０５ｍｏｌ／Ｌ～５ｍｏｌ／Ｌの濃度で含むアルカリ水溶液系の現像液が好ましい。アルカリ水溶液系の現像液に含まれるアルカリ性化合物としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド及びコリン（２－ヒドロキシエチルトリメチルアンモニウムヒドロキシド）が挙げられる。
【0075】
現像液は、水溶性の有機溶剤を含んでいてもよい。現像液は、界面活性剤を含んでいてもよい。
【0076】
好ましい現像液としては、例えば、国際公開第２０１５／０９３２７１号の段落０１９４に記載の現像液が挙げられる。
【0077】
現像液の温度は、２０℃～４０℃であることが好ましい。
【0078】
現像方式としては、例えば、パドル現像、シャワー現像、シャワー及びスピン現像並びにディップ現像が挙げられる。シャワー現像とは、対象物に現像液をシャワーにより吹き付ける現像方式である。好ましい現像方式としては、例えば、国際公開第２０１５／０９３２７１号の段落０１９５に記載の現像方式が挙げられる。
【0079】
現像工程の後に残存する現像液及び残渣は、公知の方法によって除去されることが好ましい。現像液及び残渣の除去方法としては、例えば、シャワー処理及びＡｉｒＫｎｉｆｅ（エアナイフ）処理が挙げられる。シャワー処理では、対象物に対して水及び洗浄剤といった液体がシャワーにより吹き付けられる。残渣は、ブラシを用いて除去されてもよい。
【0080】
＜金属パターン層形成工程＞
本開示に係る積層体の製造方法は、現像工程の後に、金属パターン層を形成する工程（金属パターン層形成工程）を有することができる。
本開示に係る積層体の製造方法は、現像工程の後に、金属パターン層を形成する工程（金属パターン層形成工程）を有することができる。
【0081】
本開示に係る積層体の製造方法が、現像工程の後に、金属パターン層形成工程を有する場合、金属パターン層形成工程は、以下に示す第１の態様及び第２の態様であることが好ましい。
【0082】
第１の態様の金属パターン層形成工程では、
基板が感光性転写材料と接する側の表面に金属層を有する基板であり、
樹脂パターンが形成されていない領域にある金属層にエッチング処理を行った後に、樹脂パターンを除去して金属パターン層を形成する（「態様（１）－１とも称する）、又は、
樹脂パターンが形成されていない領域にある金属層にめっき処理を行った後に、樹脂パターンを除去し、樹脂パターンの除去によって露出した金属層にエッチング処理を行って金属パターン層を形成する（「態様（１）－２とも称する）。
基板が感光性転写材料と接する側の表面に金属層を有する基板であり、
樹脂パターンが形成されていない領域にある金属層にエッチング処理を行った後に、樹脂パターンを除去して金属パターン層を形成する（「態様（１）－１とも称する）、又は、
樹脂パターンが形成されていない領域にある金属層にめっき処理を行った後に、樹脂パターンを除去し、樹脂パターンの除去によって露出した金属層にエッチング処理を行って金属パターン層を形成する（「態様（１）－２とも称する）。
【0083】
第２の態様の金属パターン層形成工程では、
基板が第１面及び前記第１面の反対の位置に第２面を有する金属基板であり、
樹脂パターンが形成されていない領域にある金属基板にエッチング処理を行って、金属基板を貫通する貫通孔を形成した後に、樹脂パターンを除去して金属パターン層を形成する。
基板が第１面及び前記第１面の反対の位置に第２面を有する金属基板であり、
樹脂パターンが形成されていない領域にある金属基板にエッチング処理を行って、金属基板を貫通する貫通孔を形成した後に、樹脂パターンを除去して金属パターン層を形成する。
【0084】
第１の態様及び第２の態様に用いる基板については後述する。
【0085】
（エッチング処理）
金属パターン層形成工程の第１の態様及び第２の態様では、感光性樹脂層から形成された樹脂パターンを、エッチングレジストとして使用して、エッチング処理を行う。
金属パターン層形成工程の第１の態様及び第２の態様では、感光性樹脂層から形成された樹脂パターンを、エッチングレジストとして使用して、エッチング処理を行う。
【0086】
エッチング処理は、公知の方法であってもよい。エッチング処理としては、例えば、ウェットエッチング及びドライエッチング（例えば、プラズマエッチング）が挙げられる。エッチング処理としては、例えば、特開２０１７－１２０４３５号公報の段落０２０９～段落０２１０に記載の方法及び特開２０１０－１５２１５５号公報の段落００４８～段落００５４に記載の方法も挙げられる。
【0087】
エッチング処理は、ウェットエッチングであることが好ましい。ウェットエッチングでは、通常、エッチング液が使用される。エッチング液の種類は、エッチングの対象に合わせて酸性又はアルカリ性のエッチング液から選択されてもよい。酸性のエッチング液としては、例えば、塩酸、硫酸、硝酸、酢酸、フッ酸、シュウ酸及びリン酸からなる群より選択される少なくとも１種の酸性成分を含む水溶液が挙げられる。酸性のエッチング液としては、例えば、上記酸性成分と、塩化第２鉄、フッ化アンモニウム及び過マンガン酸カリウムからなる群より選択される少なくとも１種の塩との混合水溶液も挙げられる。酸性成分は、複数の酸性成分を組み合わせた成分であってもよい。アルカリ性のエッチング液としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニア、有機アミン及び有機アミンの塩（テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド等）からなる群より選択される少なくとも１種のアルカリ成分を含む水溶液が挙げられる。アルカリ性のエッチング液としては、例えば、上記アルカリ成分と、塩（例えば、過マンガン酸カリウム）との混合水溶液も挙げられる。アルカリ成分は、複数のアルカリ成分を組み合わせた成分であってもよい。
【0088】
＝貫通孔に関する事項＝
第２の態様の金属パターン形成工程では、樹脂パターンが形成されていない領域にある金属基板にエッチング処理を行って、金属基板を貫通する貫通孔が形成される。
第２の態様の金属パターン形成工程では、樹脂パターンが形成されていない領域にある金属基板にエッチング処理を行って、金属基板を貫通する貫通孔が形成される。
【0089】
貫通孔は複数形成されてもよい。貫通孔の深さは、金属基板の厚さに対応する。貫通孔は、通常、金属基板の内面によって画定される。貫通孔は、１つ又は２つ以上の面によって画定されてもよい。断面視で観察される貫通孔を画定する面は、直線又は曲線であってもよい。貫通孔の数、形状及び配置は、例えば、目的のパターンに応じて決定される。第１面から第２面までのびる貫通孔は、第１面に開口を形成し、そして、第２面に開口を形成する。第１面に形成された開口の径は、後述される第１面における貫通孔の径に対応し、そして、第２面に形成された開口の径は、後述される第２面における貫通孔の径に対応する。平面視で観察される貫通孔（具体的には開口）の形状としては、例えば、円形状、楕円形状及び四角形状が挙げられる。平面視で観察される貫通孔の形状は、四角形状であることが好ましく、正方形又は長方形であることがより好ましい。平面視で観察される貫通孔の形状が多角形（例えば、四角形）である場合、多角形の複数の角の一部又は全部は丸くなっていてもよい。
【0090】
金属基板の第１面に形成される貫通孔の平均径（以下、「貫通孔の平均径Ｄ１」という場合がある。）は、１５μｍ～１００μｍであることが好ましく、２０μｍ～５０μｍであることがより好ましく、２０μｍ～３０μｍであることが更に好ましい。金属基板の第２面に形成される貫通孔の平均径（以下、「貫通孔の平均径Ｄ２」という場合がある。）は、２５μｍ以下であることが好ましく、２０μｍ以下であることがより好ましく、１０μｍ以下であることが更に好ましい。貫通孔の平均径Ｄ２の下限は、制限されない。
【0091】
本開示において、貫通孔の平均径は、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いて得られる画像に基づいて測定される１０個の貫通孔の径の算術平均によって算出される
【0092】
（樹脂パターンの除去処理）
金属パターン層形成工程においては、樹脂パターンの除去処理を行うことが好ましい。
樹脂パターンの除去は、第１の態様の態様（１）－１及び第２の態様においては、エッチング処理を行った後に行われる。第１の態様の態様（１）－２においては、樹脂パターンの除去後にエッチング処理が行われる。
金属パターン層形成工程においては、樹脂パターンの除去処理を行うことが好ましい。
樹脂パターンの除去は、第１の態様の態様（１）－１及び第２の態様においては、エッチング処理を行った後に行われる。第１の態様の態様（１）－２においては、樹脂パターンの除去後にエッチング処理が行われる。
【0093】
樹脂パターンを除去する方法は、特に制限されないが、薬品処理により樹脂パターンを除去する方法が挙げられ、除去液を用いて樹脂パターンを除去する方法が好ましい。
【0094】
除去液としては、例えば、無機アルカリ成分又は有機アルカリ成分と、水、ジメチルスルホキシド、Ｎ－メチルピロリドン又はこれらの混合溶剤と、を含む除去液が挙げられる。無機アルカリ成分としては、例えば、水酸化ナトリウム及び水酸化カリウムが挙げられる。有機アルカリ成分としては、例えば、第一級アミン化合物、第二級アミン化合物、第三級アミン化合物及び第四級アンモニウム塩化合物が挙げられる。
【0095】
樹脂パターンは、除去液への樹脂パターンを含む積層体の浸漬によって除去されてもよい。除去液の温度は、３０℃～８０℃であることが好ましく、５０℃～８０℃であることがより好ましい。浸漬時間は、１分間～３０分間であることが好ましい。浸漬法において、除去液は撹拌されていてもよい。
【0096】
樹脂パターンは、例えば、除去液を用いるスプレー法、シャワー法又はパドル法によって除去されてもよい。
【0097】
（めっき処理）
態様（１）－２の金属パターン層形成工程に用いるめっき処理としては、公知のめっき方法を適用でき、例えば、電解めっき（電気めっき）であることが好ましく、電解銅めっきであることがより好ましい。
態様（１）－２の金属パターン層形成工程に用いるめっき処理としては、公知のめっき方法を適用でき、例えば、電解めっき（電気めっき）であることが好ましく、電解銅めっきであることがより好ましい。
【0098】
電解めっきにおいて使用されるめっき液の成分としては、例えば、水溶性銅塩が挙げられる。水溶性銅塩としては、めっき液の成分として通常使用される水溶性銅塩を用いることができる。水溶性銅塩としては、例えば、無機銅塩、アルカンスルホン酸銅塩、アルカノールスルホン酸銅塩、及び有機酸銅塩よりなる群から選択される少なくとも１種であることが好ましい。無機銅塩としては、例えば、硫酸銅、酸化銅、塩化銅、及び炭酸銅が挙げられる。アルカンスルホン酸銅塩としては、例えば、メタンスルホン酸銅、及びプロパンスルホン酸銅が挙げられる。アルカノールスルホン酸銅塩としては、例えば、イセチオン酸銅、及びプロパノールスルホン酸銅が挙げられる。有機酸銅塩としては、例えば、酢酸銅、クエン酸銅、及び酒石酸銅が挙げられる。
また、電解めっきにおいて使用されるめっき液の成分として、上記銅ではなく、対応する他の金属の塩等を用いてもよい。
また、電解めっきにおいて使用されるめっき液の成分として、上記銅ではなく、対応する他の金属の塩等を用いてもよい。
【0099】
めっき液は、硫酸を含んでもよい。めっき液が硫酸を含むことで、めっき液のｐＨ、及び硫酸イオン濃度を調整することができる。
【0100】
電解めっきの方法及び条件は、制限されない。例えば、めっき液を加えためっき槽に現像工程後の積層体を供給することで、樹脂パターンが配置されていない領域にある金属層の上に金属パターンを形成することができる。電解めっきにおいては、例えば、電流密度、及び、基板の搬送速度を制御することで、金属パターンを形成することができる。
【0101】
電解めっきに使用されるめっき液の温度は、７０℃以下であることが好ましく、１０℃～４０℃であることがより好ましい。電解めっきにおける電流密度は、０．１Ａ／ｄｍ２～１００Ａ／ｄｍ２であることが好ましく、０．５Ａ／ｄｍ２～２０Ａ／ｄｍ２であることがより好ましい。電流密度を高くすることで導体パターンの生産性を向上させることができる。電流密度を低くすることで金属パターンの厚さの均一性を向上させることができる。
【0102】
＜その他の工程＞
本開示に係る積層体の製造方法は、上述した工程以外の任意の工程（その他の工程）を含んでもよい。その他の工程としては、例えば、無電解メッキ工程、スパッタ工程、シード層付与工程、シード層エッチング工程などの工程が挙げられるが、これらの工程に制限されない。
本開示に係る積層体の製造方法は、上述した工程以外の任意の工程（その他の工程）を含んでもよい。その他の工程としては、例えば、無電解メッキ工程、スパッタ工程、シード層付与工程、シード層エッチング工程などの工程が挙げられるが、これらの工程に制限されない。
【0103】
＜用途＞
本開示に係る積層体の製造方法により製造される積層体は、種々の用途に適用することができる。
ある態様において、本開示に係る積層体の製造方法は、種々の装置の製造に適用することができる。装置としては、例えば、タッチパネル等の入力装置、有機エレクトロルミネッセンス表示装置、液晶表示装置等の表示装置が挙げられる。
また、ある態様において、本開示に係る積層体の製造方法は、金属マスクの製造に適用することができる。金属マスクとしては、ＯＬＥＤ等の製造に用いられる蒸着マスクが挙げられる。蒸着マスクの例としては、特開２０２２－１６８８１９号公報の段落０２４５～０２５７に記載される蒸着マスクが挙げられる
さらに、ある態様において、本開示に係る積層体の製造方法、半導体パッケージの製造に適用することができる。
本開示に係る積層体の製造方法により製造される積層体は、種々の用途に適用することができる。
ある態様において、本開示に係る積層体の製造方法は、種々の装置の製造に適用することができる。装置としては、例えば、タッチパネル等の入力装置、有機エレクトロルミネッセンス表示装置、液晶表示装置等の表示装置が挙げられる。
また、ある態様において、本開示に係る積層体の製造方法は、金属マスクの製造に適用することができる。金属マスクとしては、ＯＬＥＤ等の製造に用いられる蒸着マスクが挙げられる。蒸着マスクの例としては、特開２０２２－１６８８１９号公報の段落０２４５～０２５７に記載される蒸着マスクが挙げられる
さらに、ある態様において、本開示に係る積層体の製造方法、半導体パッケージの製造に適用することができる。
【0104】
＜基板＞
基板としては、公知の基板を用いればよい。
ある態様において、基板は、金属層を有する基板であってよく、基板の表面に金属層を有することがより好ましい。
基板は、必要に応じて金属層以外の任意の層を有してもよい。
基板としては、例えば、樹脂基板、ガラス基板、及び、半導体基板が挙げられる。
基板の好ましい態様としては、例えば、国際公開第２０１８／１５５１９３号の段落０１４０に記載が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。
基板としては、公知の基板を用いればよい。
ある態様において、基板は、金属層を有する基板であってよく、基板の表面に金属層を有することがより好ましい。
基板は、必要に応じて金属層以外の任意の層を有してもよい。
基板としては、例えば、樹脂基板、ガラス基板、及び、半導体基板が挙げられる。
基板の好ましい態様としては、例えば、国際公開第２０１８／１５５１９３号の段落０１４０に記載が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。
【0105】
基板を構成する基材としては、例えば、ガラス、シリコン及びフィルムが挙げられる。
基板を構成する基材は、透明であることが好ましい。本明細書において「透明である」とは、波長４００ｎｍ～７００ｎｍの光の透過率が８０％以上であることを意味する。
また、基板を構成する基板の屈折率は、１．５０～１．５２であることが好ましい。
基板を構成する基材は、透明であることが好ましい。本明細書において「透明である」とは、波長４００ｎｍ～７００ｎｍの光の透過率が８０％以上であることを意味する。
また、基板を構成する基板の屈折率は、１．５０～１．５２であることが好ましい。
【0106】
透明なガラス基板としては、コーニング社のゴリラガラスに代表される強化ガラスが挙げられる。また、透明なガラス基板としては、特開２０１０－８６６８４号公報、特開２０１０－１５２８０９号公報及び特開２０１０－２５７４９２号公報に用いられている材料を用いることができる。
【0107】
基板としてフィルム基板を用いる場合は、光学的に歪みが小さく、かつ／又は、透明度が高いフィルム基板を用いることが好ましい。そのようなフィルム基板としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、トリアセチルセルロース及びシクロオレフィンポリマーが挙げられる。
【0108】
基板としては、ロールツーロール方式で製造する場合、フィルム基板が好ましい。
【0109】
基板が有する金属層としては、一般的な回路配線又はタッチパネル配線に用いられる導電層が挙げられる。導電層としては、導電性及び細線形成性の観点から、金属層、導電性金属酸化物層、グラフェン層、カーボンナノチューブ層及び導電ポリマー層よりなる群から選ばれた少なくとも１種の層が好ましく、金属層がより好ましく、銅層又は銀層が更に好ましい。
【0110】
基板は、金属層を１層単独で有してよく、２層以上有してもよい。２層以上の金属層を有する場合は、異なる材質の金属層を有することが好ましい。
【0111】
金属層の材料としては、金属及び導電性金属酸化物が挙げられる。
金属としては、Ａｌ、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ａｇ及びＡｕが挙げられる。導電性金属酸化物としては、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）、ＩＺＯ（Indium Zinc Oxide）及びＳｉＯ２が挙げられる。
金属としては、Ａｌ、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ａｇ及びＡｕが挙げられる。導電性金属酸化物としては、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）、ＩＺＯ（Indium Zinc Oxide）及びＳｉＯ２が挙げられる。
【0112】
ある態様において、基板は、金属基板であってもよい。金属基板は、第１面と、第１面の反対の位置に第２面と、を有する。
【0113】
金属基板の構造は、単層構造又は複層構造であってもよい。金属基板に含まれる金属元素としては、例えば、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｆｅ、Ｃｒ、Ｍｎ及びＣｏが挙げられる。
金属基板は、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｆｅ、Ｃｒ、Ｍｎ及びＣｏからなる群より選択される少なくとも１種の金属元素を含むことが好ましく、Ｃｕ、Ｆｅ及びＮｉからなる群より選択される少なくとも１種の金属元素を含むことがより好ましく、Ｃｕを含むことが更に好ましい。金属基板は、金属元素以外の元素を含んでいてもよい。金属元素以外の元素としては、例えば、Ｂ、Ｃ、Ｎ、Ｏ、Ｐ、Ｓ及びＣｌが挙げられる。好ましい金属基板の一例としては、銅基板が挙げられる。
金属基板の一部又は全部は、合金であってもよい。合金としては、例えば、ニッケル－コバルト（Ｎｉ－Ｃｏ）合金及び鉄－ニッケル（Ｆｅ－Ｎｉ）合金が挙げられる。ある態様において、金属基板は、鉄－ニッケル（Ｆｅ－Ｎｉ）合金を含有することが好ましい。
金属基板は、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｆｅ、Ｃｒ、Ｍｎ及びＣｏからなる群より選択される少なくとも１種の金属元素を含むことが好ましく、Ｃｕ、Ｆｅ及びＮｉからなる群より選択される少なくとも１種の金属元素を含むことがより好ましく、Ｃｕを含むことが更に好ましい。金属基板は、金属元素以外の元素を含んでいてもよい。金属元素以外の元素としては、例えば、Ｂ、Ｃ、Ｎ、Ｏ、Ｐ、Ｓ及びＣｌが挙げられる。好ましい金属基板の一例としては、銅基板が挙げられる。
金属基板の一部又は全部は、合金であってもよい。合金としては、例えば、ニッケル－コバルト（Ｎｉ－Ｃｏ）合金及び鉄－ニッケル（Ｆｅ－Ｎｉ）合金が挙げられる。ある態様において、金属基板は、鉄－ニッケル（Ｆｅ－Ｎｉ）合金を含有することが好ましい。
【0114】
金属基板の第１面の粗さＲｍａｘは、０．５μｍ～５．０μｍであってもよい。金属層の第２面の粗さＲｍａｘは、０．５μｍ～５．０μｍであってもよい。
【0115】
金属基板の平均厚さは、３０μｍ～５００μｍであることが好ましく、４０μｍ～４００μｍであることがより好ましく、５０μｍ～３００μｍであることが更に好ましい。金属層の平均厚さは、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いる断面観察で測定される５か所の厚さの算術平均によって算出される。
【0116】
＜感光性転写材料＞
本開示に係る積層体の製造方法に用いる感光性転写材料は、仮支持体と、アルカリ可溶性樹脂、光重合開始剤、及びエチレン性二重結合を有する重合性化合物を含有する感光性樹脂層を有する転写層とを含み、仮支持体及び感光性樹脂層以外の他の層を含んでいてもよい。他の層としては、保護フィルム、中間層（例えば、熱可塑性樹脂層、及び水溶性樹脂層）等が挙げられる。
本開示に係る積層体の製造方法に用いる感光性転写材料は、仮支持体と、アルカリ可溶性樹脂、光重合開始剤、及びエチレン性二重結合を有する重合性化合物を含有する感光性樹脂層を有する転写層とを含み、仮支持体及び感光性樹脂層以外の他の層を含んでいてもよい。他の層としては、保護フィルム、中間層（例えば、熱可塑性樹脂層、及び水溶性樹脂層）等が挙げられる。
【0117】
図１は、感光性転写材料の構成の一例を示す概略図である。図１に示す感光性転写材料１０は、仮支持体１１と、熱可塑性樹脂層１３、水溶性樹脂層１５、及び、感光性樹脂層１７を含む転写層１２と、保護フィルム１９とを、この順に有する。また、図１で示す感光性転写材料１０は熱可塑性樹脂層１３及び水溶性樹脂層１５を配置した形態であるが、熱可塑性樹脂層１３及び水溶性樹脂層１５は、配置されなくてもよい。
【0118】
本開示に係る積層体の製造方法に用いられる感光性転写材料は、仮支持体と、感光性樹脂層を含む転写層とを有し、仮支持体と、感光性樹脂層を含む転写層と、保護フィルムとをこの順に有することが好ましい。
【0119】
感光性転写材料は、最大感度波長における透過率が、７０％以上であることが好ましく、８０％以上がより好ましく、８５％以上が更に好ましい。上限は特に制限されないが、１００％であってもよい。
【0120】
最大感度波長における透過率が、７０％以上であると、よりフォトマスク忠実性に優れる。
【0121】
「最大感度波長」とは、光の波長毎に感光性樹脂層が反応する最低露光量を分光感度として求め、最低露光量が最も小さくなる波長を指す。最大感度波長は、例えば、以下のようにして決めることができる。
【0122】
感光性樹脂層に対し、特定波長の光を、ストーファー４１０５ステップウエッジタブレット（ストーファーインダストリーズ社）を通して照射した際に、感光性樹脂層が反応する最低露光量をＥｍｉｎとする。
感光性樹脂層が反応する最低露光量は、ある波長（例えば３６５ｎｍ）で、ステップウエッジタブレットを通して感光性樹脂層を露光し、現像した後に、露光された感光性樹脂層が全て残膜する最も大きな段数、即ち、最大残膜段数となる露光量である。
照射する波長を変えることで、分光感度曲線を取得できる。Ｅｍｉｎは波長ごとになり、Ｅｍｉｎが最小値をとる波長が最大感度波長となる。
感光性樹脂層が反応する最低露光量は、ある波長（例えば３６５ｎｍ）で、ステップウエッジタブレットを通して感光性樹脂層を露光し、現像した後に、露光された感光性樹脂層が全て残膜する最も大きな段数、即ち、最大残膜段数となる露光量である。
照射する波長を変えることで、分光感度曲線を取得できる。Ｅｍｉｎは波長ごとになり、Ｅｍｉｎが最小値をとる波長が最大感度波長となる。
【0123】
ネガ型の感光樹脂層においては、露光部が残存する最低露光量をＥｍｉｎとすることができる。なお、光源光が高圧水銀灯のように離散的な（ｇ線、ｈ線、又はｉ線のように）光量分布を持つ場合や、フィルタ等を用いて照射光の波長制御を行う場合、感材に実際に当たる光の中で最も感度が高い波長を最大感度波長とする。例えば、ある感材の分光感度曲線で最小値が２９０ｎｍにあり、２番目が３６５ｎｍ（ｉ線）にあったとする。高圧水銀灯では２９０ｎｍの光は実質的にほとんど出ていないため、この感材を高圧水銀灯で露光する場合は３６５ｎｍが最大感度波長となる。
【0124】
感光性転写材料の総厚みは、５μｍ～５５μｍであることが好ましく、１０μｍ～５０μｍであることがより好ましく、２０μｍ～４０μｍであることが特に好ましい。感光性転写材料の総厚みは、上記各層の厚みの測定方法に準ずる方法によって測定する。
【0125】
感光性転写材料における仮支持体及び保護フィルムを除く各層の層厚みは、本開示における効果をより発揮する観点から、２０μｍ以下であることが好ましく、１０μｍ以下であることがより好ましく、１μｍ以上１０μｍ以下であることが特に好ましい。
【0126】
また、感光性転写材料における感光性樹脂層、水溶性樹脂層及び熱可塑性樹脂層の総厚みは、本開示における効果をより発揮する観点から、２０μｍ以下であることが好ましく、１０μｍ以下であることがより好ましく、５μｍ以下であることが更に好ましく、１μｍ以上５μｍ以下であることが特に好ましい。
【0127】
以下、感光性転写材料が含む各構成要素について説明する。
【0128】
（仮支持体）
感光性転写材料は、仮支持体を含む。仮支持体は、転写層を支持し、転写層から除去可能な支持体である。仮支持体の構造は、単層構造又は複層構造であってもよい。
感光性転写材料は、仮支持体を含む。仮支持体は、転写層を支持し、転写層から除去可能な支持体である。仮支持体の構造は、単層構造又は複層構造であってもよい。
【0129】
仮支持体を構成する材料としては、例えば、ガラス基板、樹脂フィルム及び紙が挙げられる。強度、可撓性及び光透過性の観点から、仮支持体は、フィルムであることが好ましく、樹脂フィルムであることがより好ましい。仮支持体としては、可撓性を有し、かつ、加圧下、又は、加圧及び加熱下において、著しい変形、収縮、又は、伸びを生じないフィルムが好ましい。フィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレートフィルム（例えば、２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム）、ポリメチルメタクリレートフィルム、トリ酢酸セルロースフィルム、ポリスチレンフィルム、ポリイミドフィルム及びポリカーボネートフィルムが挙げられる。仮支持体は、ポリエチレンテレフタレートフィルムであることが好ましい。仮支持体として使用されるフィルムには、シワ等の変形及び傷がないことが好ましい。
【0130】
仮支持体を介してパターン露光できるという観点から、仮支持体は、高い透明性を有することが好ましい。３６５ｎｍの透過率は、６０％以上であることが好ましく、７０％以上であることがより好ましい。
【0131】
仮支持体を介するパターン露光時のパターン形成性及び仮支持体の透明性の観点から、仮支持体のヘーズ値は小さい方が好ましい。仮支持体のヘーズ値は、５％以下であることが好ましく、２％以下であることがより好ましく、０．５％以下であることが更に好ましく、０．１％以下であることが特に好ましい。仮支持体のヘーズ値の下限は、制限されない。仮支持体のヘーズ値の下限は、０．０１％又は０．００１％であってもよい。ヘーズ値は、ヘーズメーター（例えば、日本電色工業株式会社製ヘーズメーターＮＤＨ４００）を用いて測定される。
【0132】
仮支持体を介するパターン露光時のパターン形成性及び仮支持体の透明性の観点から、仮支持体に含まれる粗大粒子、異物及び欠陥の数は少ない方が好ましい。仮支持体における直径１μｍ以上の粒子、異物及び欠陥の数は、５０個／１０ｍｍ２以下であることが好ましく、１０個／１０ｍｍ２以下であることがより好ましく、３個／１０ｍｍ２以下であることが更に好ましく、０個／１０ｍｍ２であることが特に好ましい。
【0133】
仮支持体を介するパターン露光における解像性の観点から、仮支持体の平均厚さは、２００μｍ以下であることが好ましく、１００μｍ以下であることがより好ましく、５０μｍ以下であることが更に好ましい。仮支持体の平均厚さは、５μｍ以上であることが好ましく、１０μｍ以上であることがより好ましい。仮支持体の平均厚さは、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いる断面観察で測定される５か所の厚さの算術平均によって算出される。
【0134】
好ましい仮支持体としては、例えば、厚さ１６μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム、厚さ１２μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム及び厚さ９μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムが挙げられる。
【0135】
仮支持体の好ましい態様は、例えば、特開２０１４－８５６４３号公報の段落００１７～段落００１８、特開２０１６－２７３６３号公報の段落００１９～段落００２６、国際公開第２０１２／０８１６８０号の段落００４１～段落００５７、国際公開第２０１８／１７９３７０号の段落００２９～段落００４０及び特開２０１９－１０１４０５号公報の段落００１２～段落００３２に記載されている。上記した公報は、参照により本明細書に取り込まれる。
【0136】
ハンドリング性の観点から、仮支持体は、微小な粒子を含む層（以下、本段落において「滑剤層」ともいう。）を含んでいてもよい。滑剤層は、仮支持体の片側又は両側の最外層として配置されることが好ましい。滑剤層に含まれる粒子の直径は、０．０５μｍ～０．８μｍであることが好ましい。滑剤層の平均厚さは、０．０５μｍ～１．０μｍであることが好ましい。
【0137】
（転写層）
感光性転写材料は、感光性樹脂層を有する転写層を含む。感光性樹脂層は、アルカリ可溶性樹脂、光重合開始剤、及びエチレン性二重結合を有する重合性化合物を含有する層である。転写層の構造は、単層構造又は複層構造であってもよい。
感光性転写材料は、感光性樹脂層を有する転写層を含む。感光性樹脂層は、アルカリ可溶性樹脂、光重合開始剤、及びエチレン性二重結合を有する重合性化合物を含有する層である。転写層の構造は、単層構造又は複層構造であってもよい。
【0138】
（転写層の構成要素：感光性樹脂層）
転写層は、感光性樹脂層を含む。転写層が単層構造を有する場合、転写層は、感光性樹脂層である。感光性樹脂層は、ネガ型の感光性樹脂層である。
転写層は、感光性樹脂層を含む。転写層が単層構造を有する場合、転写層は、感光性樹脂層である。感光性樹脂層は、ネガ型の感光性樹脂層である。
【0139】
＜＜アルカリ可溶性樹脂＞＞
感光性樹脂層は、アルカリ可溶性樹脂を含有する。好ましいアルカリ可溶性樹脂としては、例えば、エッチングレジストに用いられる公知のアルカリ可溶性樹脂が挙げられる。アルカリ可溶性樹脂は、バインダーポリマーであることが好ましい。アルカリ可溶性樹脂は、酸基を有するアルカリ可溶性樹脂であることが好ましい。好ましいアルカリ可溶性樹脂としては、後述する重合体Ａが挙げられる。
感光性樹脂層は、アルカリ可溶性樹脂を含有する。好ましいアルカリ可溶性樹脂としては、例えば、エッチングレジストに用いられる公知のアルカリ可溶性樹脂が挙げられる。アルカリ可溶性樹脂は、バインダーポリマーであることが好ましい。アルカリ可溶性樹脂は、酸基を有するアルカリ可溶性樹脂であることが好ましい。好ましいアルカリ可溶性樹脂としては、後述する重合体Ａが挙げられる。
【0140】
現像液による感光性樹脂層の膨潤を抑制することにより、解像性がより優れる点から、重合体Ａの酸価は、２２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが好ましく、２００ｍｇＫＯＨ／ｇ未満であることがより好ましく、１９０ｍｇＫＯＨ／ｇ未満が更に好ましい。現像性がより優れる点から、重合体Ａの酸価は、６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であることが好ましく、１２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であることがより好ましく、１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であることが更に好ましく、１７０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であることが特に好ましい。酸価は、試料１ｇを中和するのに必要な水酸化カリウムの質量［ｍｇ］である。酸価は、例えば、化合物中における酸基の平均含有量から算出される。重合体Ａの酸価は、例えば、重合体Ａを構成する構成単位の種類及び酸基を含有する構成単位の含有量により調整される。
【0141】
重合体Ａの重量平均分子量は、５，０００～５００，０００であることが好ましい。重量平均分子量を５００，０００以下にすることは、解像性及び現像性を向上させる観点から好ましい。重合体Ａの重量平均分子量は、１００，０００以下であることがより好ましく、６０，０００以下であることが更に好ましく、５０，０００以下であることが特に好ましい。一方で、重量平均分子量を５，０００以上にすることは、現像凝集物の性状、並びに感光性樹脂層におけるエッジフューズ性及びカットチップ性等の未露光膜の性状を制御する観点から好ましい。重合体Ａの重量平均分子量は、１０，０００以上であることがより好ましく、２０，０００以上であることが更に好ましく、３０，０００以上であることが特に好ましい。エッジフューズ性とは、転写フィルムをロール状に巻き取った場合に、ロールの端面からの、感光性樹脂層のはみ出し易さの程度をいう。カットチップ性とは、未露光膜をカッターで切断した場合に、チップの飛び易さの程度をいう。このチップが感光性樹脂層の上面等に付着すると、後の露光工程等でマスクに転写して、不良品の原因となる。重合体Ａの分散度は、１．０～６．０であることが好ましく、１．０～５．０であることがより好ましく、１．０～４．０であることが更に好ましく、１．０～３．０であることが特に好ましい。本開示で重量平均分子量（Ｍｗ）及び数平均分子量（Ｍｎ）は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーを用いて測定される値である。また、分散度は、数平均分子量に対する重量平均分子量の比（重量平均分子量／数平均分子量）である。
【0142】
露光時の焦点位置がずれたときの線幅太り及び解像度の悪化を抑制する観点から、重合体Ａは、芳香族炭化水素基を有することが好ましく、芳香族炭化水素基を有する構成単位を有することがより好ましい。芳香族炭化水素基としては、例えば、置換又は非置換のフェニル基及び置換又は非置換のアラルキル基が挙げられる。重合体Ａにおける芳香族炭化水素基を有する構成単位の含有割合は、重合体Ａの全質量を基準として、２０質量％以上であることが好ましく、３０質量％以上であることがより好ましく、４０質量％以上であることが更に好ましく、４５質量％以上であることが特に好ましく、５０質量％以上であることが最も好ましい。上限としては特に限定されないが、好ましくは９５質量％以下、より好ましくは８５質量％以下である。なお、重合体Ａを複数種類含有する場合における、芳香族炭化水素基を有する構成単位の含有割合は、重量平均値として求める。
【0143】
芳香族炭化水素基を有する構成単位を形成する単量体としては、例えば、アラルキル基を有するモノマー、スチレン、及び、重合可能なスチレン誘導体（例えば、メチルスチレン、ビニルトルエン、ｔｅｒｔ－ブトキシスチレン、アセトキシスチレン、４－ビニル安息香酸、スチレンダイマー、スチレントリマー等）が挙げられる。中でも、アラルキル基を有するモノマー、又はスチレンが好ましい。一態様において、重合体Ａにおける芳香族炭化水素基を有する構成単位を形成する単量体がスチレンである場合、スチレン由来の構成単位の含有割合は、重合体Ａの全質量を基準として、２０質量％～５０質量％であることが好ましく、２５質量％～４５質量％であることがより好ましく、３０質量％～４０質量％であることが更に好ましく、３０質量％～３５質量％であることが特に好ましい。
【0144】
アラルキル基としては、置換又は非置換のフェニルアルキル基等が挙げられ、置換又は非置換のベンジル基が好ましい。
【0145】
置換又は非置換のベンジル基以外のフェニルアルキル基を有する単量体としては、フェニルエチル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【0146】
置換又は非置換のベンジル基を有する単量体としては、置換又は非置換のベンジル基を有する（メタ）アクリレート（例えば、ベンジル（メタ）アクリレート、クロロベンジル（メタ）アクリレート等）；ベンジル基を有するビニルモノマー（例えば、ビニルベンジルクロライド、ビニルベンジルアルコール等）が挙げられる。中でもベンジル（メタ）アクリレートが好ましい。一態様において、重合体Ａにおける芳香族炭化水素基を有する構成単位を形成する単量体がベンジル（メタ）アクリレートである場合、ベンジル（メタ）アクリレート由来の構成単位の含有割合は、重合体Ａの全質量を基準として、５０質量％～９５質量％であることが好ましく、６０質量％～９０質量％であることがより好ましく、７０質量％～９０質量％であることが更に好ましく、７５質量％～９０質量％であることが特に好ましい。
【0147】
芳香族炭化水素基を有する構成単位を有する重合体Ａは、芳香族炭化水素基を有する単量体と、後述する第一の単量体の少なくとも１種及び／又は後述する第二の単量体の少なくとも１種とを重合することにより得られることが好ましい。
【0148】
芳香族炭化水素基を有する構成単位を有しない重合体Ａは、後述する第一の単量体の少なくとも１種を重合することにより得られることが好ましく、第一の単量体の少なくとも１種と後述する第二の単量体の少なくとも１種とを共重合することにより得られることがより好ましい。
【0149】
第一の単量体は、分子中にカルボキシ基を有する単量体である。第一の単量体としては、例えば、（メタ）アクリル酸、フマル酸、ケイ皮酸、クロトン酸、イタコン酸、４－ビニル安息香酸、マレイン酸無水物、マレイン酸半エステル等が挙げられる。これらの中でも、（メタ）アクリル酸が好ましい。
【0150】
重合体Ａにおける第一の単量体由来の構成単位の含有割合は、重合体Ａの全質量を基準として、５質量％～５０質量％であることが好ましく、１０質量％～４０質量％であることがより好ましく、１５質量％～３０質量％であることが更に好ましい。
【0151】
第一の単量体由来の構成単位の含有割合は、重合体Ａの全質量を基準として、１０質量％～５０質量％であることが好ましい。上記割合を１０質量％以上にすることは、良好な現像性を発現させる観点、エッジフューズ性を制御するなどの観点から好ましく、１５質量％以上がより好ましく、２０質量％以上が更に好ましい。上記含有割合を５０質量％以下にすることは、レジストパターンの高解像性及びスソ形状の観点から、更にはレジスト
パターンの耐薬品性の観点から好ましく、これらの観点においては、３５質量％以下がより好ましく、３０質量％以下が更に好ましく、２７質量％以下が特に好ましい。
パターンの耐薬品性の観点から好ましく、これらの観点においては、３５質量％以下がより好ましく、３０質量％以下が更に好ましく、２７質量％以下が特に好ましい。
【0152】
第二の単量体は、非酸性であり、かつ分子中にエチレン性不飽和基を少なくとも１個有する単量体である。第二の単量体としては、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ－プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ｎ－ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ－ブチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２－エチルヘキシル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレート類；酢酸ビニル等のビニルアルコールのエステル類；並びに（メタ）アクリロニトリル等が挙げられる。中でも、メチル（メタ）アクリレート、２－エチルヘキシル（メタ）アクリレート、及びｎ－ブチル（メタ）アクリレートが好ましく、メチル（メタ）アクリレートが特に好ましい。
【0153】
重合体Ａにおける第二の単量体由来の構成単位の含有割合は、重合体Ａの全質量を基準として、５質量％～６０質量％であることが好ましく、１５質量％～５０質量％であることがより好ましく、２０質量％～４５質量％であることが更に好ましい。
【0154】
また、重合体Ａは、アラルキル基を有する構成単位、及び、スチレン由来の構成単位よりなる群から選ばれた少なくとも１種の構成単位を含有することが、露光時の焦点位置がずれたときの線幅太り、及び、解像度の悪化を抑制する観点から好ましい。重合体Ａとしては、例えば、メタクリル酸とベンジルメタクリレートとスチレンを含む共重合体、メタクリル酸とメチルメタクリレートとベンジルメタクリレートとスチレンを含む共重合体等が好ましい。
【0155】
一態様において、重合体Ａは、芳香族炭化水素基を有する構成単位を２５質量％～４０質量％、第一の単量体由来の構成単位を２０質量％～３５質量％、及び、第二の単量体由来の構成単位を３０質量％～４５質量％含む重合体であることが好ましい。また、別の態様において、芳香族炭化水素基を有する構成単位を７０質量％～９０質量％、及び、第一の単量体由来の構成単位を１０質量％～２５質量％含む重合体であることが好ましい。
【0156】
重合体Ａは、側鎖に分岐構造及び／又は脂環構造を有してもよい。側鎖に分岐構造を有する基を含むモノマー、又は側鎖に脂環構造を有する基を含むモノマーを使用することによって、重合体Ａの側鎖に分岐構造又は脂環構造を導入することができる。脂環構造は、単環構造であっても、多環構造であってもよい。
【0157】
側鎖に分岐構造を有する基を含むモノマーの具体例としては、（メタ）アクリル酸ｉ－プロピル、（メタ）アクリル酸ｉ－ブチル、（メタ）アクリル酸ｓ－ブチル、（メタ）アクリル酸ｔ－ブチル、（メタ）アクリル酸ｉ－アミル、（メタ）アクリル酸ｔ－アミル、（メタ）アクリル酸イソアミル、（メタ）アクリル酸２－オクチル、（メタ）アクリル酸３－オクチル、及び（メタ）アクリル酸ｔ－オクチル等が挙げられる。これらの中でも、（メタ）アクリル酸ｉ－プロピル、（メタ）アクリル酸ｉ－ブチル、又はメタクリル酸ｔ－ブチルが好ましく、メタクリル酸ｉ－プロピル又はメタクリル酸ｔ－ブチルがより好ましい。
【0158】
側鎖に脂環構造を有する基を含むモノマーの具体例としては、単環の脂肪族炭化水素基を有するモノマー、及び、多環の脂肪族炭化水素基を有するモノマーが挙げられる。また、炭素数（炭素原子数）５個～２０個の脂環式炭化水素基を有する（メタ）アクリレートが挙げられる。より具体的な例としては、（メタ）アクリル酸（ビシクロ［２．２．１］ヘプチル－２）、（メタ）アクリル酸－１－アダマンチル、（メタ）アクリル酸－２－ア
ダマンチル、（メタ）アクリル酸－３－メチル－１－アダマンチル、（メタ）アクリル酸－３，５－ジメチル－１－アダマンチル、（メタ）アクリル酸－３－エチルアダマンチル、（メタ）アクリル酸－３－メチル－５－エチル－１－アダマンチル、（メタ）アクリル酸－３，５，８－トリエチル－１－アダマンチル、（メタ）アクリル酸－３，５－ジメチル－８－エチル－１－アダマンチル、（メタ）アクリル酸２－メチル－２－アダマンチル、（メタ）アクリル酸２－エチル－２－アダマンチル、（メタ）アクリル酸３－ヒドロキシ－１－アダマンチル、（メタ）アクリル酸オクタヒドロ－４，７－メンタノインデン－５－イル、（メタ）アクリル酸オクタヒドロ－４，７－メンタノインデン－１－イルメチル、（メタ）アクリル酸－１－メンチル、（メタ）アクリル酸トリシクロデカン、（メタ）アクリル酸－３－ヒドロキシ－２，６，６－トリメチル－ビシクロ［３．１．１］ヘプチル、（メタ）アクリル酸－３，７，７－トリメチル－４－ヒドロキシ－ビシクロ［４．１．０］ヘプチル、（メタ）アクリル酸（ノル）ボルニル、（メタ）アクリル酸イソボルニル、（メタ）アクリル酸フェンチル、（メタ）アクリル酸－２，２，５－トリメチルシクロヘキシル、及び（メタ）アクリル酸シクロヘキシル等が挙げられる。
ダマンチル、（メタ）アクリル酸－３－メチル－１－アダマンチル、（メタ）アクリル酸－３，５－ジメチル－１－アダマンチル、（メタ）アクリル酸－３－エチルアダマンチル、（メタ）アクリル酸－３－メチル－５－エチル－１－アダマンチル、（メタ）アクリル酸－３，５，８－トリエチル－１－アダマンチル、（メタ）アクリル酸－３，５－ジメチル－８－エチル－１－アダマンチル、（メタ）アクリル酸２－メチル－２－アダマンチル、（メタ）アクリル酸２－エチル－２－アダマンチル、（メタ）アクリル酸３－ヒドロキシ－１－アダマンチル、（メタ）アクリル酸オクタヒドロ－４，７－メンタノインデン－５－イル、（メタ）アクリル酸オクタヒドロ－４，７－メンタノインデン－１－イルメチル、（メタ）アクリル酸－１－メンチル、（メタ）アクリル酸トリシクロデカン、（メタ）アクリル酸－３－ヒドロキシ－２，６，６－トリメチル－ビシクロ［３．１．１］ヘプチル、（メタ）アクリル酸－３，７，７－トリメチル－４－ヒドロキシ－ビシクロ［４．１．０］ヘプチル、（メタ）アクリル酸（ノル）ボルニル、（メタ）アクリル酸イソボルニル、（メタ）アクリル酸フェンチル、（メタ）アクリル酸－２，２，５－トリメチルシクロヘキシル、及び（メタ）アクリル酸シクロヘキシル等が挙げられる。
【0159】
これら（メタ）アクリル酸エステルの中でも、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸（ノル）ボルニル、（メタ）アクリル酸イソボルニル、（メタ）アクリル酸－１－アダマンチル、（メタ）アクリル酸－２－アダマンチル、（メタ）アクリル酸フェンチル、（メタ）アクリル酸－１－メンチル又は（メタ）アクリル酸トリシクロデカンが好ましく、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸（ノル）ボルニル、（メタ）アクリル酸イソボルニル、（メタ）アクリル酸－２－アダマンチル又は（メタ）アクリル酸トリシクロデカンがより好ましい。
【0160】
感光性樹脂層は、重合体Ａを、１種単独で含有しても、２種以上を含有してもよい。感光性樹脂層が２種以上の重合体Ａを含有する場合には、芳香族炭化水素基を有する重合体Ａを２種類混合使用すること、又は、芳香族炭化水素基を有する重合体Ａと、芳香族炭化水素基を有しない重合体Ａと、を混合使用することが好ましい。後者の場合、芳香族炭化水素基を有する重合体Ａの含有割合は、重合体Ａの全質量に対して、５０質量％以上であることが好ましく、７０質量％以上であることがより好ましく、８０質量％以上であることが更に好ましく、９０質量％以上であることが特に好ましい。
【0161】
重合体Ａの合成は、上記で説明された単数又は複数の単量体を、アセトン、メチルエチルケトン、イソプロパノール等の溶剤で希釈した溶液に、過酸化ベンゾイル、アゾイソブチロニトリル等のラジカル重合開始剤を適量添加し、加熱撹拌することにより行われることが好ましい。混合物の一部を反応液に滴下しながら合成を行う場合もある。反応終了後、更に溶剤を加えて、所望の濃度に調整する場合もある。合成手段としては、溶液重合以外に、塊状重合、懸濁重合、又は乳化重合を用いてもよい。
【0162】
重合体Ａのガラス転移温度Ｔｇは、３０℃以上１３５℃以下であることが好ましい。感光性樹脂層において、１３５℃以下のＴｇを有する重合体Ａを使用することによって、露光時の焦点位置がずれたときの線幅太り又は解像度の悪化を抑制することができる。この観点から、重合体ＡのＴｇは、１３０℃以下であることがより好ましく、１２０℃以下であることが更に好ましく、１１０℃以下であることが特に好ましい。また、３０℃以上のＴｇを有する重合体Ａを使用することは、耐エッジフューズ性を向上させる観点から好ましい。この観点から、重合体ＡのＴｇは、４０℃以上であることがより好ましく、５０℃以上であることが更に好ましく、６０℃以上であることが特に好ましく、７０℃以上であることが最も好ましい。
【0163】
また、アルカリ可溶性樹脂として、後述する熱可塑性樹脂層の説明で述べるアルカリ可溶性樹脂を使用してもよい。
【0164】
アルカリ可溶性樹脂は、１種単独で使用しても、２種以上を混合して使用してもよい。
【0165】
アルカリ可溶性樹脂の、感光性樹脂層の全質量に対する割合は、好ましくは１０質量％～９０質量％であり、より好ましくは３０質量％～７０質量％であり、更に好ましくは４０質量％～６０質量％である。感光性樹脂層に対するアルカリ可溶性樹脂の割合を９０質量％以下にすることは、現像時間を制御する観点から好ましい。一方で、感光性樹脂層に対するアルカリ可溶性樹脂の割合を１０質量％以上にすることは、耐エッジフューズ性を向上させる観点から好ましい。
【0166】
感光性樹脂層は、アルカリ可溶性樹脂以外の樹脂を含有してもよい。アルカリ可溶性樹脂以外の樹脂としては、液温が２２℃である炭酸ナトリウムの１質量％水溶液１００ｇへの溶解度が０．１ｇ未満である樹脂であればよく、例えば、アクリル樹脂、スチレン－アクリル共重合体（但し、スチレン含有率が４０質量％以下であるもの）、ポリウレタン樹脂、ポリビニルアルコール、ポリビニルホルマール、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリヒドロキシスチレン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリベンゾオキサゾール樹脂、ポリシロキサン樹脂、ポリエチレンイミン、ポリアリルアミン、及び、ポリアルキレングリコールが挙げられる。
【0167】
＜＜エチレン性二重結合を有する重合性化合物＞＞
感光性樹脂層は、エチレン性二重結合を有する重合性化合物（以下、単に「重合性化合物」とも称する。）を含有する。「重合性化合物」とは、重合開始剤の作用を受けて重合する化合物であって、上述した重合体とは異なる化合物を意味する。
感光性樹脂層は、エチレン性二重結合を有する重合性化合物（以下、単に「重合性化合物」とも称する。）を含有する。「重合性化合物」とは、重合開始剤の作用を受けて重合する化合物であって、上述した重合体とは異なる化合物を意味する。
【0168】
重合性化合物は、エチレン性二重結合を有する重合性基を有する化合物である。エチレン性二重結合を有する重合性基としては、例えば、ビニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、スチリル基、マレイミド基等のエチレン性不飽和基を有する基が挙げられる。エチレン性不飽和基を有する基としては、アクリロイル基又はメタクリロイル基がより好ましい。
【0169】
重合性化合物をとしては、感光性樹脂層の感光性がより優れる点で、１つ以上のエチレン性不飽和基を有する化合物（エチレン性不飽和化合物）が好ましく、一分子中に２つ以上のエチレン性不飽和基を有する化合物（多官能エチレン性不飽和化合物）がより好ましい。また、解像性及び剥離性により優れる点で、エチレン性不飽和化合物が一分子中に有するエチレン性不飽和基の数は、６つ以下であることが好ましく、３つ以下であることがより好ましく、２つ以下が更に好ましい。
【0170】
感光性樹脂層の感光性と解像性及び剥離性とのバランスがより優れる点で、感光性樹脂層は、一分子中に２つ又は３つのエチレン性不飽和基を有する２官能又は３官能エチレン性不飽和化合物を含むことが好ましく、一分子中に２つのエチレン性不飽和基を有する２官能エチレン性不飽和化合物を含むことがより好ましい。重合性化合物の全質量に対する２官能エチレン性不飽和化合物の含有量は、剥離性に優れる観点から、２０質量％以上であることが好ましく、４０質量％超であることがより好ましく、５５質量％以上であることが更に好ましい。上限は特に制限されず、１００質量％であってもよい。即ち、重合性化合物が全て２官能エチレン性不飽和化合物であってもよい。また、エチレン性不飽和化合物としては、重合性基として（メタ）アクリロイル基を有する（メタ）アクリレート化合物が好ましい。
【0171】
感光性樹脂層は、芳香環及び２つのエチレン性不飽和基を有するエチレン性不飽和化合物Ｂ１を含有することが好ましい。エチレン性不飽和化合物Ｂ１は、上述したエチレン性不飽和化合物のうち、一分子中に１つ以上の芳香環を有する２官能エチレン性不飽和化合物である。
【0172】
感光性樹脂層中、エチレン性不飽和化合物の含有量に対するエチレン性不飽和化合物Ｂ１の含有量の質量比は、解像性がより優れる点から、４０質量％以上であることが好ましく、５０質量％以上であることがより好ましく、５５質量％以上であることが更に好ましく、６０質量％以上であることが特に好ましい。上限は特に制限されないが、剥離性の点から、９９質量％以下が好ましく、９５質量％以下がより好ましく、９０質量％以下が更に好ましく、８５質量％以下が特に好ましい。
【0173】
エチレン性不飽和化合物Ｂ１が有する芳香環としては、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環等の芳香族炭化水素環、チオフェン環、フラン環、ピロール環、イミダゾール環、トリアゾール環、ピリジン環等の芳香族複素環、並びに、それらの縮合環が挙げられ、芳香族炭化水素環が好ましく、ベンゼン環がより好ましい。なお、上記芳香環は、置換基を有してもよい。エチレン性不飽和化合物Ｂ１は、芳香環を１つのみ有してもよく、２つ以上の芳香環を有してもよい。
【0174】
エチレン性不飽和化合物Ｂ１は、現像液による感光性樹脂層の膨潤を抑制することにより、解像性が向上する点から、ビスフェノール構造を有することが好ましい。ビスフェノール構造としては、例えば、ビスフェノールＡ（２，２－ビス（４－ヒドロキシフェニル）プロパン）に由来するビスフェノールＡ構造、ビスフェノールＦ（２，２－ビス（４－ヒドロキシフェニル）メタン）に由来するビスフェノールＦ構造、及び、ビスフェノールＢ（２，２－ビス（４－ヒドロキシフェニル）ブタン）に由来するビスフェノールＢ構造が挙げられ、ビスフェノールＡ構造が好ましい。
【0175】
ビスフェノール構造を有するエチレン性不飽和化合物Ｂ１としては、例えば、ビスフェノール構造と、そのビスフェノール構造の両端に結合した２つの重合性基（好ましくは（メタ）アクリロイル基）とを有する化合物が挙げられる。ビスフェノール構造の両端と２つの重合性基とは、直接結合してもよく、１つ以上のアルキレンオキシ基を介して結合してもよい。ビスフェノール構造の両端に付加するアルキレンオキシ基としては、エチレンオキシ基又はプロピレンオキシ基が好ましく、エチレンオキシ基がより好ましい。ビスフェノール構造に付加するアルキレンオキシ基の付加数は特に制限されないが、１分子あたり４個～１６個が好ましく、６個～１４個がより好ましい。ビスフェノール構造を有するエチレン性不飽和化合物Ｂ１については、特開２０１６－２２４１６２号公報の段落００７２～段落００８０に記載されており、この公報に記載の内容は本明細書に組み込まれる。
【0176】
エチレン性不飽和化合物Ｂ１としては、ビスフェノールＡ構造を有する２官能エチレン性不飽和化合物が好ましく、２，２－ビス（４－（（メタ）アクリロキシポリアルコキシ）フェニル）プロパンがより好ましい。２，２－ビス（４－（（メタ）アクリロキシポリアルコキシ）フェニル）プロパンとしては、例えば、２，２－ビス（４－（メタクリロキシジエトキシ）フェニル）プロパン（ＦＡ－３２４Ｍ、日立化成株式会社製）、２，２－ビス（４－（メタクリロキシエトキシプロポキシ）フェニル）プロパン、２，２－ビス（４－（メタクリロキシペンタエトキシ）フェニル）プロパン（ＢＰＥ－５００、新中村化学工業株式会社製）、２，２－ビス（４－（メタクリロキシドデカエトキシテトラプロポキシ）フェニル）プロパン（ＦＡ－３２００ＭＹ、日立化成株式会社製）、２，２－ビス（４－（メタクリロキシペンタデカエトキシ）フェニル）プロパン（ＢＰＥ－１３００、新中村化学工業株式会社製）、２，２－ビス（４－（メタクリロキシジエトキシ）フェニル）プロパン（ＢＰＥ－２００、新中村化学工業株式会社製）、及び、エトキシ化（１０）ビスフェノールＡジアクリレート（ＮＫエステルＡ－ＢＰＥ－１０、新中村化学工業株式会社製）が挙げられる。
【0177】
エチレン性不飽和化合物Ｂ１としては、引き置き時間線幅変化、現像温度線幅変化、及び、感度の観点から、下記式（Ｂｉｓ）で表される化合物を含むことが好ましい。
【0178】
【化1】
【0179】
式（Ｂｉｓ）中、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表し、ＡはＣ２Ｈ４であり、ＢはＣ３Ｈ６であり、ｎ１及びｎ３はそれぞれ独立に、１～３９の整数であり、かつｎ１＋ｎ３は２～４０の整数であり、ｎ２及びｎ４はそれぞれ独立に、０～２９の整数であり、かつｎ２＋ｎ４は０～３０の整数であり、－（Ａ－Ｏ）－及び－（Ｂ－Ｏ）－の繰り返し単位の配列は、ランダムであってもブロックであってもよい。そして、ブロックの場合、－（Ａ－Ｏ）－と－（Ｂ－Ｏ）－とのいずれがビスフェノール構造側でもよい。一態様において、ｎ１＋ｎ２＋ｎ３＋ｎ４は、２～２０の整数であることが好ましく、２～１６の整数であることがより好ましく、４～１２の整数であることが更に好ましい。また、ｎ２＋ｎ４は、０～１０の整数であることが好ましく、０～４の整数であることがより好ましく、０～２の整数であることが更に好ましく、０であることが特に好ましい。
【0180】
エチレン性不飽和化合物Ｂ１は、１種単独で使用しても、２種以上を併用してもよい。感光性樹脂層における、エチレン性不飽和化合物Ｂ１の含有量は、解像性がより優れる点から、感光性樹脂層の全質量に対して、１０質量％以上であることが好ましく、２０質量％以上であることがより好ましい。上限は特に制限されないが、転写性及びエッジフュージョン（転写フィルムの端部から感光性樹脂層中の成分が滲み出す現象）の点から、７０質量％以下が好ましく、６０質量％以下がより好ましい。
【0181】
感光性樹脂層は、上述したエチレン性不飽和化合物Ｂ１以外のエチレン性不飽和化合物を含有してもよい。エチレン性不飽和化合物Ｂ１以外のエチレン性不飽和化合物は、特に制限されず、公知の化合物の中から適宜選択できる。例えば、一分子中に１つのエチレン性不飽和基を有する化合物（単官能エチレン性不飽和化合物）、芳香環を有さない２官能エチレン性不飽和化合物、及び、３官能以上のエチレン性不飽和化合物が挙げられる。
【0182】
単官能エチレン性不飽和化合物としては、例えば、エチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、２－（メタ）アクリロイルオキシエチルサクシネート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、及び、フェノキシエチル（メタ）アクリレートが挙げられる。
【0183】
芳香環を有さない２官能エチレン性不飽和化合物としては、例えば、アルキレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリアルキレングリコールジ（メタ）アクリレート、ウレタンジ（メタ）アクリレート、及び、トリメチロールプロパンジアクリレートが挙げられる。
【0184】
アルキレングリコールジ（メタ）アクリレートとしては、例えば、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート（Ａ－ＤＣＰ、新中村化学工業株式会社製）、トリシクロデカンジメタノールジメタクリレート（ＤＣＰ、新中村化学工業株式会社製）、１，９－ノナンジオールジアクリレート（Ａ－ＮＯＤ－Ｎ、新中村化学工業株式会社製）、１，６－ヘキサンジオールジアクリレート（Ａ－ＨＤ－Ｎ、新中村化学工業株式会社製）、エチレングリコールジメタクリレート、１，１０－デカンジオールジアクリレート、及び、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレートが挙げられる。
【0185】
ポリアルキレングリコールジ（メタ）アクリレートとしては、例えば、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、及び、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレートが挙げられる。
【0186】
ウレタンジ（メタ）アクリレートとしては、例えば、プロピレンオキサイド変性ウレタンジ（メタ）アクリレート、並びに、エチレンオキサイド及びプロピレンオキサイド変性ウレタンジ（メタ）アクリレートが挙げられる。ウレタンジ（メタ）アクリレートの市販品としては、例えば、８ＵＸ－０１５Ａ（大成ファインケミカル株式会社製）、ＵＡ－３２Ｐ（新中村化学工業株式会社製）、及び、ＵＡ－１１００Ｈ（新中村化学工業株式会社製）が挙げられる。
【0187】
３官能以上のエチレン性不飽和化合物としては、例えば、ジペンタエリスリトール（トリ／テトラ／ペンタ／ヘキサ）（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトール（トリ／テトラ）（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸トリ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート、及び、これらのアルキレンオキサイド変性物が挙げられる。「（トリ／テトラ／ペンタ／ヘキサ）（メタ）アクリレート」は、トリ（メタ）アクリレート、テトラ（メタ）アクリレート、ペンタ（メタ）アクリレート、及びヘキサ（メタ）アクリレートを包含する概念であり、「（トリ／テトラ）（メタ）アクリレート」は、トリ（メタ）アクリレート及びテトラ（メタ）アクリレートを包含する概念である。一態様において、感光性
層は、上述したエチレン性不飽和化合物Ｂ１及び３官能以上のエチレン性不飽和化合物を含むことが好ましく、上述したエチレン性不飽和化合物Ｂ１及び２種以上の３官能以上のエチレン性不飽和化合物を含むことがより好ましい。この場合、エチレン性不飽和化合物Ｂ１と３官能以上のエチレン性不飽和化合物の質量比は、（エチレン性不飽和化合物Ｂ１の合計質量）：（３官能以上のエチレン性不飽和化合物の合計質量）＝１：１～５：１が好ましく、１．２：１～４：１がより好ましく、１．５：１～３：１が更に好ましい。また、一態様において、感光性樹脂層は、上述したエチレン性不飽和化合物Ｂ１及び２種以上の３官能のエチレン性不飽和化合物を含むことが好ましい。
層は、上述したエチレン性不飽和化合物Ｂ１及び３官能以上のエチレン性不飽和化合物を含むことが好ましく、上述したエチレン性不飽和化合物Ｂ１及び２種以上の３官能以上のエチレン性不飽和化合物を含むことがより好ましい。この場合、エチレン性不飽和化合物Ｂ１と３官能以上のエチレン性不飽和化合物の質量比は、（エチレン性不飽和化合物Ｂ１の合計質量）：（３官能以上のエチレン性不飽和化合物の合計質量）＝１：１～５：１が好ましく、１．２：１～４：１がより好ましく、１．５：１～３：１が更に好ましい。また、一態様において、感光性樹脂層は、上述したエチレン性不飽和化合物Ｂ１及び２種以上の３官能のエチレン性不飽和化合物を含むことが好ましい。
【0188】
３官能以上のエチレン性不飽和化合物のアルキレンオキサイド変性物としては、カプロラクトン変性（メタ）アクリレート化合物（日本化薬株式会社製ＫＡＹＡＲＡＤ（登録商標）ＤＰＣＡ－２０、新中村化学工業株式会社製Ａ－９３００－１ＣＬ等）、アルキレンオキサイド変性（メタ）アクリレート化合物（日本化薬株式会社製ＫＡＹＡＲＡＤ ＲＰ－１０４０、新中村化学工業株式会社製ＡＴＭ－３５Ｅ及びＡ－９３００、ダイセル・オルネクス社製ＥＢＥＣＲＹＬ（登録商標） １３５等）、エトキシル化グリセリントリアクリレート（新中村化学工業株式会社製Ａ－ＧＬＹ－９Ｅ等）、アロニックス（登録商標）ＴＯ－２３４９（東亞合成株式会社製）、アロニックスＭ－５２０（東亞合成株式会社製）、並びに、アロニックスＭ－５１０（東亞合成株式会社製）が挙げられる。
【0189】
また、エチレン性不飽和化合物Ｂ１以外のエチレン性不飽和化合物としては、特開２００４－２３９９４２号公報の段落００２５～段落００３０に記載の酸基を有するエチレン性不飽和化合物を用いてもよい。
【0190】
感光性樹脂層におけるエチレン性不飽和化合物の含有量に対するアルカリ可溶性樹脂の含有量の比は、解像性及び直線性の観点から、１．０以下であることが好ましく、０．９以下であることがより好ましく、０．５以上０．９以下であることが更に好ましい。
【0191】
感光性樹脂層におけるエチレン性不飽和化合物は、硬化性、及び、解像性の観点から、（メタ）アクリル化合物を含むことが好ましく、（メタ）アクリレート化合物を含むことがより好ましい。感光性樹脂層におけるエチレン性不飽和化合物は、硬化性、解像性及び直線性の観点から、（メタ）アクリル化合物を含み、かつ感光性樹脂層に含まれる上記（メタ）アクリル化合物の全質量に対するアクリル化合物の含有量が、６０質量％以下であることがより好ましい。
【0192】
エチレン性不飽和化合物Ｂ１を含むエチレン性不飽和化合物の分子量（分布を有する場合は、重量平均分子量（Ｍｗ））としては、２００～３，０００が好ましく、２８０～２，２００がより好ましく、３００～２，２００が更に好ましい。
【0193】
重合性化合物は、１種単独で使用しても、２種以上を併用してもよい。感光性樹脂層における重合性化合物の含有量は、感光性樹脂層の全質量に対し、１０質量％～７０質量％であることが好ましく、２０質量％～６０質量％であることがより好ましく、２０質量％～５０質量％であることが更に好ましい。
【0194】
＜＜光重合開始剤＞＞
感光性樹脂層は、光重合開始剤を含む。光重合開始剤としては、光ラジカル重合開始剤、及び、光カチオン重合開始剤が挙げられる。
感光性樹脂層は、光重合開始剤を含む。光重合開始剤としては、光ラジカル重合開始剤、及び、光カチオン重合開始剤が挙げられる。
【0195】
光重合開始剤は、紫外線、可視光線及びＸ線等の活性光線を受けて、重合性化合物の重合を開始する化合物である。光重合開始剤としては、特に制限されず、公知の光重合開始剤を用いることができる。光重合開始剤としては、光ラジカル重合開始剤が好ましい。
【0196】
光ラジカル重合開始剤としては、例えば、オキシムエステル構造を有する光重合開始剤、ビイミダゾール構造を有する光重合開始剤、α－アミノアルキルフェノン構造を有する光重合開始剤、α－ヒドロキシアルキルフェノン構造を有する光重合開始剤、アシルフォスフィンオキサイド構造を有する光重合開始剤、及び、Ｎ－フェニルグリシン構造を有する光重合開始剤が挙げられる。
【0197】
感光性樹脂層は、感光性、露光部及び非露光部の視認性及び解像性の観点から、光ラジカル重合開始剤として、ビイミダゾール構造を有する光重合開始剤を含有することが好ましく、ヘキサアリールビスイミダゾール系光重合開始剤を含有することがより好ましい。い。光ラジカル重合開始剤として、具体的には、２，４，５－トリアリールイミダゾール二量体及びその誘導体からなる群より選択される少なくとも１種を含むことが好ましい。なお、２，４，５－トリアリールイミダゾール二量体及びその誘導体における２つの２，４，５－トリアリールイミダゾール構造は、同一であっても異なっていてもよい。２，４，５－トリアリールイミダゾール二量体の誘導体としては、例えば、２－（ｏ－クロロフェニル）－４，５－ジフェニルイミダゾール二量体、２－（ｏ－クロロフェニル）－４，５－ジ（メトキシフェニル）イミダゾール二量体、２－（ｏ－フルオロフェニル）－４，５－ジフェニルイミダゾール二量体、２－（ｏ－メトキシフェニル）－４，５－ジフェニルイミダゾール二量体、及び、２－（ｐ－メトキシフェニル）－４，５－ジフェニルイミダゾール二量体が挙げられる。
【0198】
光ラジカル重合開始剤としては、例えば、特開２０１１－９５７１６号公報の段落００３１～段落００４２、特開２０１５－１４７８３号公報の段落００６４～段落００８１に記載された重合開始剤を用いてもよい。
【0199】
光ラジカル重合開始剤としては、例えば、ジメチルアミノ安息香酸エチル（ＤＢＥ、ＣＡＳ Ｎｏ．１０２８７－５３－３）、ベンゾインメチルエーテル、アニシル（ｐ，ｐ’－ジメトキシベンジル）、ＴＡＺ－１１０（商品名：みどり化学株式会社製）、ベンゾフェノン、ＴＡＺ－１１１（商品名：みどり化学株式会社製）、ＩｒｇａｃｕｒｅＯＸＥ０１、ＯＸＥ０２、ＯＸＥ０３、ＯＸＥ０４（ＢＡＳＦ社製）、Ｏｍｎｉｒａｄ６５１及び３６９（商品名：ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．社製）、及び、２，２’－ビス（２－クロロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラフェニル－１，２’－ビイミダゾール（東京化成工業株式会社製）が挙げられる。
【0200】
光ラジカル重合開始剤の市販品としては、例えば、１－［４－（フェニルチオ）フェニル］－１，２－オクタンジオン－２－（Ｏ－ベンゾイルオキシム）（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標） ＯＸＥ－０１、ＢＡＳＦ社製）、１－［９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］エタノン－１－（Ｏ－アセチルオキシム）（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ－０２、ＢＡＳＦ社製）、ＩＲＧＡＣＵＲＥ
ＯＸＥ－０３（ＢＡＳＦ社製）、２－（ジメチルアミノ）－２－［（４－メチルフェニル）メチル］－１－［４－（４－モルフォリニル）フェニル］－１－ブタノン（商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ ３７９ＥＧ、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．製）、２－メチル－１－（４－メチルチオフェニル）－２－モルフォリノプロパン－１－オン（商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ ９０７、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．製）、２－ヒドロキシ－１－｛４－［４－（２－ヒドロキシ－２－メチルプロピオニル）ベンジル］フェニル｝－２－メチルプロパン－１－オン（商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ １２７、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．製）、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルフォリノフェニル）ブタノン－１（商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ ３６９、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．製）、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニルプロパン－１－オン（商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ １
１７３、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．製）、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ １８４、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．製）、２，２－ジメトキシ－１，２－ジフェニルエタン－１－オン（商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ ６５１、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．製）、２，４，６－トリメチルベンゾリル－ジフェニルフォスフィンオキサイド（商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ ＴＰＯ Ｈ、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．製）、ビス（２，４，６－トリメチルベンゾリル）フェニルフォスフィンオキサイド（商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ ８１９、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．製）、オキシムエステル系の光重合開始剤（商品名：Ｌｕｎａｒ ６、ＤＫＳＨジャパン株式会社製）、２，２’－ビス（２－クロロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラフェニルビスイミダゾール（２－（２－クロロフェニル）－４，５－ジフェニルイミダゾール二量体）（商品名：Ｂ－ＣＩＭ、Ｈａｍｐｆｏｒｄ社製）、及び、２－（ｏ－クロロフェニル）－４，５－ジフェニルイミダゾール二量体（商品名：ＢＣＴＢ、東京化成工業株式会社製）、２－（ｏ－クロロフェニル）－４，５－ジフェニルイミダゾール二量体（商品名：ＢＣＴＢ、東京化成工業社製）、１－［４－（フェニルチオ）フェニル］－３－シクロペンチルプロパン－１，２－ジオン－２－（Ｏ－ベンゾイルオキシム）（商品名：ＴＲ－ＰＢＧ－３０５、常州強力電子新材料社製）、１，２－プロパンジオン，３－シクロヘキシル－１－［９－エチル－６－（２－フラニルカルボニル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］－，２－（Ｏ－アセチルオキシム）（商品名：ＴＲ－ＰＢＧ－３２６、常州強力電子新材料社製）、及び、３－シクロヘキシル－１－（６－（２－（ベンゾイルオキシイミノ）ヘキサノイル）－９－エチル－９Ｈ－カルバゾール－３－イル）－プロパン－１，２－ジオン－２－（Ｏ－ベンゾイルオキシム）（商品名：ＴＲ－ＰＢＧ－３９１、常州強力電子新材料社製）が挙げられる。
ＯＸＥ－０３（ＢＡＳＦ社製）、２－（ジメチルアミノ）－２－［（４－メチルフェニル）メチル］－１－［４－（４－モルフォリニル）フェニル］－１－ブタノン（商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ ３７９ＥＧ、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．製）、２－メチル－１－（４－メチルチオフェニル）－２－モルフォリノプロパン－１－オン（商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ ９０７、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．製）、２－ヒドロキシ－１－｛４－［４－（２－ヒドロキシ－２－メチルプロピオニル）ベンジル］フェニル｝－２－メチルプロパン－１－オン（商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ １２７、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．製）、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルフォリノフェニル）ブタノン－１（商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ ３６９、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．製）、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニルプロパン－１－オン（商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ １
１７３、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．製）、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ １８４、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．製）、２，２－ジメトキシ－１，２－ジフェニルエタン－１－オン（商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ ６５１、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．製）、２，４，６－トリメチルベンゾリル－ジフェニルフォスフィンオキサイド（商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ ＴＰＯ Ｈ、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．製）、ビス（２，４，６－トリメチルベンゾリル）フェニルフォスフィンオキサイド（商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ ８１９、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．製）、オキシムエステル系の光重合開始剤（商品名：Ｌｕｎａｒ ６、ＤＫＳＨジャパン株式会社製）、２，２’－ビス（２－クロロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラフェニルビスイミダゾール（２－（２－クロロフェニル）－４，５－ジフェニルイミダゾール二量体）（商品名：Ｂ－ＣＩＭ、Ｈａｍｐｆｏｒｄ社製）、及び、２－（ｏ－クロロフェニル）－４，５－ジフェニルイミダゾール二量体（商品名：ＢＣＴＢ、東京化成工業株式会社製）、２－（ｏ－クロロフェニル）－４，５－ジフェニルイミダゾール二量体（商品名：ＢＣＴＢ、東京化成工業社製）、１－［４－（フェニルチオ）フェニル］－３－シクロペンチルプロパン－１，２－ジオン－２－（Ｏ－ベンゾイルオキシム）（商品名：ＴＲ－ＰＢＧ－３０５、常州強力電子新材料社製）、１，２－プロパンジオン，３－シクロヘキシル－１－［９－エチル－６－（２－フラニルカルボニル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］－，２－（Ｏ－アセチルオキシム）（商品名：ＴＲ－ＰＢＧ－３２６、常州強力電子新材料社製）、及び、３－シクロヘキシル－１－（６－（２－（ベンゾイルオキシイミノ）ヘキサノイル）－９－エチル－９Ｈ－カルバゾール－３－イル）－プロパン－１，２－ジオン－２－（Ｏ－ベンゾイルオキシム）（商品名：ＴＲ－ＰＢＧ－３９１、常州強力電子新材料社製）が挙げられる。
【0201】
光カチオン重合開始剤（光酸発生剤）は、活性光線を受けて酸を発生する化合物である。光カチオン重合開始剤としては、波長３００ｎｍ以上、好ましくは波長３００～４５０ｎｍの活性光線に感応し、酸を発生する化合物が好ましいが、その化学構造は制限されない。また、波長３００ｎｍ以上の活性光線に直接感応しない光カチオン重合開始剤についても、増感剤と併用することによって波長３００ｎｍ以上の活性光線に感応し、酸を発生する化合物であれば、増感剤と組み合わせて好ましく用いることができる。
【0202】
光カチオン重合開始剤としては、ｐＫａが４以下の酸を発生する光カチオン重合開始剤が好ましく、ｐＫａが３以下の酸を発生する光カチオン重合開始剤がより好ましく、ｐＫａが２以下の酸を発生する光カチオン重合開始剤が特に好ましい。ｐＫａの下限値は特に定めないが、例えば、－１０．０以上が好ましい。
【0203】
光カチオン重合開始剤としては、イオン性光カチオン重合開始剤及び非イオン性光カチオン重合開始剤が挙げられる。イオン性光カチオン重合開始剤として、例えば、ジアリールヨードニウム塩類及びトリアリールスルホニウム塩類等のオニウム塩化合物、並びに、第四級アンモニウム塩類が挙げられる。イオン性光カチオン重合開始剤としては、特開２０１４－８５６４３号公報の段落０１１４～段落０１３３に記載のイオン性光カチオン重合開始剤を用いてもよい。非イオン性光カチオン重合開始剤としては、例えば、トリクロロメチル－ｓ－トリアジン類、ジアゾメタン化合物、イミドスルホネート化合物、及び、オキシムスルホネート化合物が挙げられる。トリクロロメチル－ｓ－トリアジン類、ジアゾメタン化合物及びイミドスルホネート化合物としては、特開２０１１－２２１４９４号公報の段落００８３～段落００８８に記載の化合物を用いてもよい。また、オキシムスルホネート化合物としては、国際公開第２０１８／１７９６４０号の段落００８４～段落００８８に記載された化合物を用いてもよい。
【0204】
感光性樹脂層は、光重合開始剤を、１種単独で含有してもよいし、２種以上を含有してもよい。感光性樹脂層における光重合開始剤の含有量は、特に制限されないが、感光性樹脂層の全質量に対し、０．１質量％以上であることが好ましく、０．５質量％以上であることがより好ましく、１．０質量％以上であることが更に好ましい。上限は特に制限されないが、感光性樹脂層の全質量に対し、１０質量％以下が好ましく、５質量％以下がより好ましい。
【0205】
＜＜増感剤＞＞
感光性樹脂層は、更に増感剤を含有することが好ましい。増感剤は、特に制限されず、公知の増感剤、染料及び顔料を使用できる。増感剤としては、例えば、ジアルキルアミノベンゾフェノン化合物等のベンゾフェノン系増感剤、ピラゾリン化合物、アントラセン化合物、クマリン化合物、キサントン化合物、チオキサントン化合物、アクリドン化合物、オキサゾール化合物、ベンゾオキサゾール化合物、チアゾール化合物、ベンゾチアゾール化合物、トリアゾール化合物（例えば、１，２，４－トリアゾール）、スチルベン化合物、トリアジン化合物、チオフェン化合物、ナフタルイミド化合物、トリアリールアミン化合物、及びアミノアクリジン化合物が挙げられる。
感光性樹脂層は、更に増感剤を含有することが好ましい。増感剤は、特に制限されず、公知の増感剤、染料及び顔料を使用できる。増感剤としては、例えば、ジアルキルアミノベンゾフェノン化合物等のベンゾフェノン系増感剤、ピラゾリン化合物、アントラセン化合物、クマリン化合物、キサントン化合物、チオキサントン化合物、アクリドン化合物、オキサゾール化合物、ベンゾオキサゾール化合物、チアゾール化合物、ベンゾチアゾール化合物、トリアゾール化合物（例えば、１，２，４－トリアゾール）、スチルベン化合物、トリアジン化合物、チオフェン化合物、ナフタルイミド化合物、トリアリールアミン化合物、及びアミノアクリジン化合物が挙げられる。
【0206】
増感剤としては、増感効果と最大感度波長における透明性との観点から、ベンゾフェノン系増感剤が好ましい。ベンゾフェノン系の増感剤は、増感効果が高いために少ない添加量で高い感度を得られるため、最大感度波長における透明性が高くなり、フォトマスク忠実性、及び線幅安定性が向上するため好ましい。
なお、ベンゾフェノン系増感剤とは、ベンゾフェノン骨格を有する化合物からなる増感剤である。
なお、ベンゾフェノン系増感剤とは、ベンゾフェノン骨格を有する化合物からなる増感剤である。
【0207】
増感剤は、１種単独で使用してもよく、２種以上使用してもよい。感光性樹脂層が増感剤を含む場合、増感剤の含有量は、目的により適宜選択できるが、光源に対する感度の向上、及び重合速度と連鎖移動のバランスによる硬化速度の向上の観点から、感光性樹脂層の全質量に対して、０．０１質量％～５質量％が好ましく、０．０５質量％～１質量％がより好ましい。
【0208】
感光性樹脂層中の光重合開始剤の含有量を、感光性樹脂層中の増感剤の含有量で除した値は、増感効果と最大感度波長の透明性の観点から、質量基準で、２０以上３００以下であることが好ましく、３０以上３００以下であることがより好ましく、１００以上２００以下であることが更に好ましい。
【0209】
感光性樹脂層の膜厚をＸμｍとし、感光性樹脂層中の増感剤の含有量をＹ質量％としたとき、Ｘの値とＹの値とを乗じて更に１０倍した値が、０．５以上５．０以下であることが好ましく、０．５以上３．０以下であることが好ましく、０．５以上２．０以下であることが更に好ましい。
【0210】
＜＜色素＞＞
感光性樹脂層は、露光部及び非露光部の視認性、現像後のパターン視認性、及び、解像性の観点から、色素を含有することが好ましく、発色時の波長範囲４００ｎｍ～７８０ｎｍにおける極大吸収波長が４５０ｎｍ以上であり、かつ、酸、塩基、又はラジカルにより極大吸収波長が変化する色素（単に「色素Ｎ」ともいう。）を含有することがより好ましい。色素Ｎを含有すると、詳細なメカニズムは不明であるが、隣接する層（例えば仮支持体及び中間層）との密着性が向上し、解像性により優れる。
感光性樹脂層は、露光部及び非露光部の視認性、現像後のパターン視認性、及び、解像性の観点から、色素を含有することが好ましく、発色時の波長範囲４００ｎｍ～７８０ｎｍにおける極大吸収波長が４５０ｎｍ以上であり、かつ、酸、塩基、又はラジカルにより極大吸収波長が変化する色素（単に「色素Ｎ」ともいう。）を含有することがより好ましい。色素Ｎを含有すると、詳細なメカニズムは不明であるが、隣接する層（例えば仮支持体及び中間層）との密着性が向上し、解像性により優れる。
【0211】
本開示において、色素が「酸、塩基又はラジカルにより極大吸収波長が変化する」とは、発色状態にある色素が酸、塩基又はラジカルにより消色する態様、消色状態にある色素が酸、塩基又はラジカルにより発色する態様、及び、発色状態にある色素が他の色相の発色状態に変化する態様のいずれの態様を意味してもよい。具体的には、色素Ｎは、露光により消色状態から変化して発色する化合物であってもよいし、露光により発色状態から変化して消色する化合物であってもよい。この場合、露光により酸、塩基又はラジカルが感光性樹脂層内において発生し作用することにより、発色又は消色の状態が変化する色素でもよく、酸、塩基又はラジカルにより感光性樹脂層内の状態（例えばｐＨ）が変化することで発色又は消色の状態が変化する色素でもよい。また、露光を介さずに、酸、塩基又はラジカルを刺激として直接受けて発色又は消色の状態が変化する色素でもよい。
【0212】
中でも、露光部及び非露光部の視認性並びに解像性の観点から、色素Ｎは、酸又はラジカルにより極大吸収波長が変化する色素が好ましく、ラジカルにより極大吸収波長が変化する色素がより好ましい。
【0213】
感光性樹脂層は、露光部及び非露光部の視認性並びに解像性の観点から、色素Ｎとしてラジカルにより極大吸収波長が変化する色素、及び、光ラジカル重合開始剤の両者を含有することが好ましい。
【0214】
また、露光部及び非露光部の視認性の観点から、色素Ｎは、酸、塩基、又はラジカルにより発色する色素であることが好ましい。
【0215】
本開示における色素Ｎの発色機構の例としては、感光性樹脂層に光ラジカル重合開始剤、光カチオン重合開始剤（光酸発生剤）又は光塩基発生剤を添加して、露光後に光ラジカル重合開始剤、光カチオン重合開始剤又は光塩基発生剤から発生するラジカル、酸又は塩基によって、ラジカル反応性色素、酸反応性色素又は塩基反応性色素（例えばロイコ色素）が発色する態様が挙げられる。
【0216】
色素Ｎは、露光部及び非露光部の視認性の観点から、発色時の波長範囲４００ｎｍ～７８０ｎｍにおける極大吸収波長が、５５０ｎｍ以上であることが好ましく、５５０ｎｍ～７００ｎｍであることがより好ましく、５５０ｎｍ～６５０ｎｍであることが更に好ましい。また、色素Ｎは、発色時の波長範囲４００ｎｍ～７８０ｎｍにおける極大吸収波長を１つのみ有していてもよく、２つ以上有していてもよい。色素Ｎが発色時の波長範囲４００ｎｍ～７８０ｎｍにおける極大吸収波長を２つ以上有する場合は、２つ以上の極大吸収波長のうち吸光度が最も高い極大吸収波長が４５０ｎｍ以上であればよい。
【0217】
色素Ｎの極大吸収波長は、大気雰囲気下で、分光光度計：ＵＶ３１００（株式会社島津製作所製）を用いて、４００ｎｍ～７８０ｎｍの範囲で色素Ｎを含有する溶液（液温２５℃）の透過スペクトルを測定し、光の強度が極小となる波長（極大吸収波長）を検出する
ことにより、得られる。
ことにより、得られる。
【0218】
露光により発色又は消色する色素としては、例えば、ロイコ化合物が挙げられる。露光により消色する色素としては、例えば、ロイコ化合物、ジアリールメタン系色素、オキザジン系色素、キサンテン系色素、イミノナフトキノン系色素、アゾメチン系色素及びアントラキノン系色素が挙げられる。色素Ｎとしては、露光部及び非露光部の視認性の観点から、ロイコ化合物が好ましい。
【0219】
ロイコ化合物としては、例えば、トリアリールメタン骨格を有するロイコ化合物（トリアリールメタン系色素）、スピロピラン骨格を有するロイコ化合物（スピロピラン系色素）、フルオラン骨格を有するロイコ化合物（フルオラン系色素）、ジアリールメタン骨格を有するロイコ化合物（ジアリールメタン系色素）、ローダミンラクタム骨格を有するロイコ化合物（ローダミンラクタム系色素）、インドリルフタリド骨格を有するロイコ化合物（インドリルフタリド系色素）、及び、ロイコオーラミン骨格を有するロイコ化合物（ロイコオーラミン系色素）が挙げられる。中でも、トリアリールメタン系色素又はフルオラン系色素が好ましく、トリフェニルメタン骨格を有するロイコ化合物（トリフェニルメタン系色素）又はフルオラン系色素がより好ましい。
【0220】
ロイコ化合物としては、露光部及び非露光部の視認性の観点から、ラクトン環、スルチン環又はスルトン環を有することが好ましい。これにより、ロイコ化合物が有するラクトン環、スルチン環又はスルトン環を、光ラジカル重合開始剤から発生するラジカル又は光カチオン重合開始剤から発生する酸と反応させて、ロイコ化合物を閉環状態に変化させて消色させるか、又は、ロイコ化合物を開環状態に変化させて発色させることができる。ロイコ化合物としては、ラクトン環、スルチン環又はスルトン環を有し、ラジカル又は酸によりラクトン環、スルチン環又はスルトン環が開環して発色する化合物が好ましく、ラクトン環を有し、ラジカル又は酸によりラクトン環が開環して発色する化合物がより好ましい。
【0221】
色素Ｎとしては、例えば、染料が挙げられる。染料としては、例えば、ブリリアントグリーン、エチルバイオレット、メチルグリーン、クリスタルバイオレット、ベイシックフクシン、メチルバイオレット２Ｂ、キナルジンレッド、ローズベンガル、メタニルイエロー、チモールスルホフタレイン、キシレノールブルー、メチルオレンジ、パラメチルレッド、コンゴーフレッド、ベンゾプルプリン４Ｂ、α－ナフチルレッド、ナイルブルー２Ｂ、ナイルブルーＡ、メチルバイオレット、マラカイトグリーン、パラフクシン、ビクトリアピュアブルー－ナフタレンスルホン酸塩、ビクトリアピュアブルーＢＯＨ（保土谷化学工業株式会社製）、オイルブルー＃６０３（オリヱント化学工業株式会社製）、オイルピンク＃３１２（オリヱント化学工業株式会社製）、オイルレッド５Ｂ（オリヱント化学工業株式会社製）、オイルスカーレット＃３０８（オリヱント化学工業株式会社製）、オイルレッドＯＧ（オリヱント化学工業株式会社製）、オイルレッドＲＲ（オリヱント化学工業株式会社製）、オイルグリーン＃５０２（オリヱント化学工業株式会社製）、スピロンレッドＢＥＨスペシャル（保土谷化学工業株式会社製）、ｍ－クレゾールパープル、クレゾールレッド、ローダミンＢ、ローダミン６Ｇ、スルホローダミンＢ、オーラミン、４－ｐ－ジエチルアミノフェニルイミノナフトキノン、２－カルボキシアニリノ－４－ｐ－ジエチルアミノフェニルイミノナフトキノン、２－カルボキシステアリルアミノ－４－ｐ－Ｎ，Ｎ－ビス（ヒドロキシエチル）アミノ－フェニルイミノナフトキノン、１－フェニル－３－メチル－４－ｐ－ジエチルアミノフェニルイミノ－５－ピラゾロン、及び、１－β－ナフチル－４－ｐ－ジエチルアミノフェニルイミノ－５－ピラゾロンが挙げられる。
【0222】
色素Ｎとしては、例えば、ロイコ化合物が挙げられる。ロイコ化合物としては、例えば、ｐ，ｐ’，ｐ”－ヘキサメチルトリアミノトリフェニルメタン（ロイコクリスタルバイオレット）、Ｐｅｒｇａｓｃｒｉｐｔ Ｂｌｕｅ ＳＲＢ（ＢＡＳＦ社製）、クリスタルバイオレットラクトン、マラカイトグリーンラクトン、ベンゾイルロイコメチレンブルー、２－（Ｎ－フェニル－Ｎ－メチルアミノ）－６－（Ｎ－ｐ－トリル－Ｎ－エチル）アミノフルオラン、２－アニリノ－３－メチル－６－（Ｎ－エチル－ｐ－トルイジノ）フルオラン、３，６－ジメトキシフルオラン、３－（Ｎ，Ｎ－ジエチルアミノ）－５－メチル－７－（Ｎ，Ｎ－ジベンジルアミノ）フルオラン、３－（Ｎ－シクロヘキシル－Ｎ－メチルアミノ）－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－（Ｎ，Ｎ－ジエチルアミノ）－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－（Ｎ，Ｎ－ジエチルアミノ）－６－メチル－７－キシリジノフルオラン、３－（Ｎ，Ｎ－ジエチルアミノ）－６－メチル－７－クロロフルオラン、３－（Ｎ，Ｎ－ジエチルアミノ）－６－メトキシ－７－アミノフルオラン、３－（Ｎ，Ｎ－ジエチルアミノ）－７－（４－クロロアニリノ）フルオラン、３－（Ｎ，Ｎ－ジエチルアミノ）－７－クロロフルオラン、３－（Ｎ，Ｎ－ジエチルアミノ）－７－ベンジルアミノフルオラン、３－（Ｎ，Ｎ－ジエチルアミノ）－７，８－ベンゾフロオラン、３－（Ｎ，Ｎ－ジブチルアミノ）－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－（Ｎ，Ｎ－ジブチルアミノ）－６－メチル－７－キシリジノフルオラン、３－ピペリジノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－ピロリジノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３，３－ビス（１－エチル－２－メチルインドール－３－イル）フタリド、３，３－ビス（１－ｎ－ブチル－２－メチルインドール－３－イル）フタリド、３，３－ビス（ｐ－ジメチルアミノフェニル）－６－ジメチルアミノフタリド、３－（４－ジエチルアミノ－２－エトキシフェニル）－３－（１－エチル－２－メチルインドール－３－イル）－４－アザフタリド、３－（４－ジエチルアミノフェニル）－３－（１－エチル－２－メチルインドール－３－イル）フタリド、及び、３’，６’－ビス（ジフェニルアミノ）スピロイソベンゾフラン－１（３Ｈ），９’－［９Ｈ］キサンテン－３－オンが挙げられる。
【0223】
色素Ｎは、露光部及び非露光部の視認性、現像後のパターン視認性、及び、解像性の観点から、ラジカルにより極大吸収波長が変化する色素であることが好ましく、ラジカルにより発色する色素であることがより好ましい。
【0224】
色素Ｎとしては、ロイコクリスタルバイオレット、クリスタルバイオレットラクトン、ブリリアントグリーン、又は、ビクトリアピュアブルー－ナフタレンスルホン酸塩が好ましい。
【0225】
色素は、１種単独で使用しても、２種以上を使用してもよい。色素の含有量は、露光部及び非露光部の視認性、現像後のパターン視認性、及び、解像性の観点から、感光性樹脂層の全質量に対し、０．１質量％以上であることが好ましく、０．１質量％～１０質量％であることがより好ましく、０．１質量％～５質量％であることが更に好ましく、０．１質量％～１質量％であることが特に好ましい。また、色素Ｎの含有量は、露光部及び非露光部の視認性、現像後のパターン視認性、及び、解像性の観点から、感光性樹脂層の全質量に対し、０．１質量％以上であることが好ましく、０．１質量％～１０質量％であることがより好ましく、０．１質量％～５質量％であることが更に好ましく、０．１質量％～１質量％であることが特に好ましい。
【0226】
色素Ｎの含有量は、感光性樹脂層に含まれる色素Ｎの全てを発色状態にした場合の色素の含有量を意味する。以下に、ラジカルにより発色する色素を例に、色素Ｎの含有量の定量方法を説明する。メチルエチルケトン１００ｍＬに、色素０．００１ｇ又は０．０１ｇを溶かした２種類の溶液を調製する。得られた各溶液に、光ラジカル重合開始剤Ｉｒｇａｃｕｒｅ ＯＸＥ０１（商品名、ＢＡＳＦ社製）を加え、３６５ｎｍの光を照射することによりラジカルを発生させ、全ての色素を発色状態にする。その後、大気雰囲気下で、分光光度計（ＵＶ３１００、株式会社島津製作所製）を用いて、液温が２５℃である各溶液の吸光度を測定し、検量線を作成する。次に、色素に代えて感光性樹脂層３ｇをメチルエチルケトンに溶かすこと以外は上記と同様の方法で、色素を全て発色させた溶液の吸光度を測定する。得られた感光性樹脂層を含有する溶液の吸光度から、検量線に基づいて感光性樹脂層に含まれる色素の含有量を算出する。
【0227】
＜＜熱架橋性化合物＞＞
感光性樹脂層は、得られる硬化膜の強度、及び、得られる未硬化膜の粘着性の観点から、熱架橋性化合物を含むことが好ましい。なお、後述するエチレン性不飽和基を有する熱架橋性化合物は、エチレン性不飽和化合物としては扱わず、熱架橋性化合物として扱うものとする。
感光性樹脂層は、得られる硬化膜の強度、及び、得られる未硬化膜の粘着性の観点から、熱架橋性化合物を含むことが好ましい。なお、後述するエチレン性不飽和基を有する熱架橋性化合物は、エチレン性不飽和化合物としては扱わず、熱架橋性化合物として扱うものとする。
【0228】
熱架橋性化合物としては、メチロール化合物、及びブロックイソシアネート化合物が挙げられる。中でも、得られる硬化膜の強度、及び、得られる未硬化膜の粘着性の観点から、ブロックイソシアネート化合物が好ましい。ブロックイソシアネート化合物は、ヒドロキシ基及びカルボキシ基と反応するため、例えば、アルカリ可溶性樹脂及び／又はエチレン性不飽和化合物等が、ヒドロキシ基及びカルボキシ基の少なくとも一方を有する場合には、形成される膜の親水性が下がり、感光性樹脂層を硬化した膜を保護膜として使用する場合の機能が強化される傾向がある。なお、ブロックイソシアネート化合物とは、「イソシアネートのイソシアネート基をブロック剤で保護（いわゆる、マスク）した構造を有する化合物」を指す。
【0229】
ブロックイソシアネート化合物の解離温度は、特に制限されないが、１００℃～１６０℃が好ましく、１３０℃～１５０℃がより好ましい。ブロックイソシアネートの解離温度とは、「示差走査熱量計を用いて、ＤＳＣ（Ｄｉｆｆｅｒｅｎｔｉａｌ ｓｃａｎｎｉｎｇ ｃａｌｏｒｉｍｅｔｒｙ）分析にて測定した場合における、ブロックイソシアネートの脱保護反応に伴う吸熱ピークの温度」を意味する。示差走査熱量計としては、例えば、セイコーインスツルメンツ株式会社製の示差走査熱量計（型式：ＤＳＣ６２００）を好適に使用できる。但し、示差走査熱量計は、これに限定されない。
【0230】
解離温度が１００℃～１６０℃であるブロック剤としては、活性メチレン化合物〔マロン酸ジエステル（マロン酸ジメチル、マロン酸ジエチル、マロン酸ジｎ－ブチル、マロン酸ジ２－エチルヘキシル等）〕、オキシム化合物（ホルムアルドオキシム、アセトアルドオキシム、アセトオキシム、メチルエチルケトオキシム、及びシクロヘキサノンオキシム等の分子内に－Ｃ（＝Ｎ－ＯＨ）－で表される構造を有する化合物）が挙げられる。これらの中でも、解離温度が１００℃～１６０℃であるブロック剤としては、例えば、保存安定性の観点から、オキシム化合物を含むことが好ましい。
【0231】
ブロックイソシアネート化合物は、例えば、膜の脆性改良、被転写体との密着力向上等の観点から、イソシアヌレート構造を有することが好ましい。イソシアヌレート構造を有するブロックイソシアネート化合物は、例えば、ヘキサメチレンジイソシアネートをイソシアヌレート化して保護することにより得られる。イソシアヌレート構造を有するブロックイソシアネート化合物の中でも、オキシム化合物をブロック剤として用いたオキシム構造を有する化合物が、オキシム構造を有さない化合物よりも解離温度を好ましい範囲にしやすく、且つ、現像残渣を少なくしやすいという観点から好ましい。
【0232】
ブロックイソシアネート化合物は、重合性基を有していてもよい。重合性基としては、特に制限はなく、公知の重合性基を用いることができ、ラジカル重合性基が好ましい。重合性基としては、（メタ）アクリロキシ基、（メタ）アクリルアミド基、スチリル基等のエチレン性不飽和基、並びに、グリシジル基等のエポキシ基を有する基が挙げられる。中でも、重合性基としては、エチレン性不飽和基が好ましく、（メタ）アクリロキシ基がより好ましく、アクリロキシ基が更に好ましい。
【0233】
ブロックイソシアネート化合物としては、市販品を使用できる。ブロックイソシアネート化合物の市販品の例としては、カレンズ（登録商標） ＡＯＩ－ＢＭ、カレンズ（登録商標） ＭＯＩ－ＢＭ、カレンズ（登録商標） ＭＯＩ－ＢＰ等（以上、昭和電工株式会社製）、ブロック型のデュラネートシリーズ（例えば、デュラネート（登録商標） ＴＰＡ－Ｂ８０Ｅ、デュラネート（登録商標） ＷＴ３２－Ｂ７５Ｐ等、旭化成ケミカルズ株式会社製）が挙げられる。また、ブロックイソシアネート化合物として、下記の構造の化合物を用いることもできる。
【0234】
【化2】
【0235】
熱架橋性化合物は、１種単独で使用してもよく、２種以上使用してもよい。感光性樹脂層が熱架橋性化合物を含む場合、熱架橋性化合物の含有量は、感光性樹脂層の全質量に対して、１質量％～５０質量％が好ましく、５質量％～３０質量％がより好ましい。
【0236】
＜＜その他の成分＞＞
感光性樹脂層は、他の成分を含有してもよい。他の成分としては、例えば、ラジカル重合禁止剤、界面活性剤、各種添加剤等が挙げられる。他の成分は、１種単独で使用してもよく、２種以上使用してもよい。
感光性樹脂層は、他の成分を含有してもよい。他の成分としては、例えば、ラジカル重合禁止剤、界面活性剤、各種添加剤等が挙げられる。他の成分は、１種単独で使用してもよく、２種以上使用してもよい。
【0237】
－ラジカル重合禁止剤－
感光性樹脂層は、ラジカル重合禁止剤を含んでいてもよい。ラジカル重合禁止剤としては、例えば、特許第４５０２７８４号公報の段落００１８に記載された熱重合防止剤が挙げられる。中でも、フェノチアジン、フェノキサジン、又は４－メトキシフェノールが好ましい。の他のラジカル重合禁止剤としては、ナフチルアミン、塩化第一銅、ニトロソフェニルヒドロキシアミンアルミニウム塩、及びジフェニルニトロソアミン等が挙げられる。感光性樹脂層の感度を損なわないために、ニトロソフェニルヒドロキシアミンアルミニウム塩をラジカル重合禁止剤として使用することが好ましい。
感光性樹脂層は、ラジカル重合禁止剤を含んでいてもよい。ラジカル重合禁止剤としては、例えば、特許第４５０２７８４号公報の段落００１８に記載された熱重合防止剤が挙げられる。中でも、フェノチアジン、フェノキサジン、又は４－メトキシフェノールが好ましい。の他のラジカル重合禁止剤としては、ナフチルアミン、塩化第一銅、ニトロソフェニルヒドロキシアミンアルミニウム塩、及びジフェニルニトロソアミン等が挙げられる。感光性樹脂層の感度を損なわないために、ニトロソフェニルヒドロキシアミンアルミニウム塩をラジカル重合禁止剤として使用することが好ましい。
【0238】
ラジカル重合禁止剤は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用することもできる。感光性樹脂層がラジカル重合禁止剤を含む場合、ラジカル重合禁止剤の含有量は、感光性樹脂層の全質量に対して、０．００１質量％～５．０質量％が好ましく、０．０１質量％～３．０質量％がより好ましく、０．０２質量％～２．０質量％が更に好ましい。また、ラジカル重合禁止剤の含有量は、重合性化合物の全質量に対しては、０．００５質量％～５．０質量％が好ましく、０．０１質量％～３．０質量％がより好ましく、０．０１質量％～１．０質量％が更に好ましい。
【0239】
－界面活性剤－
感光性樹脂層は、界面活性剤を含んでいてもよい。界面活性剤としては、例えば、特許第４５０２７８４号公報の段落００１７、及び、特開２００９－２３７３６２号公報の段落００６０～段落００７１に記載の界面活性剤が挙げられる。また、界面活性剤としては、ノニオン系界面活性剤、フッ素系界面活性剤又はシリコーン系界面活性剤が好ましい。
感光性樹脂層は、界面活性剤を含んでいてもよい。界面活性剤としては、例えば、特許第４５０２７８４号公報の段落００１７、及び、特開２００９－２３７３６２号公報の段落００６０～段落００７１に記載の界面活性剤が挙げられる。また、界面活性剤としては、ノニオン系界面活性剤、フッ素系界面活性剤又はシリコーン系界面活性剤が好ましい。
【0240】
ノニオン系界面活性剤としては、グリセロール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン並びにそれらのエトキシレート及びプロポキシレート（例えば、グリセロールプロポキシレート、グリセロールエトキシレート等）、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジステアレート、ソルビタン脂肪酸エステル、プルロニック（商品名）Ｌ１０、Ｌ３１、Ｌ６１、Ｌ６２、１０Ｒ５、１７Ｒ２、２５Ｒ２（以上、ＢＡＳＦ社製）、テトロニック（商品名）３０４、７０１、７０４、９０１、９０４、１５０Ｒ１（以上、ＢＡＳＦ社製）、ソルスパース（商品名）２００００（以上、日本ルーブリゾール株式会社製）、ＮＣＷ－１０１、ＮＣＷ－１００１、ＮＣＷ－１００２（以上、富士フイルム和光純薬株式会社製）、パイオニン（商品名）Ｄ－６１１２、Ｄ－６１１２－Ｗ、Ｄ－６３１５（以上、竹本油脂株式会社製）、オルフィンＥ１０１０、サーフィノール１０４、４００、４４０（以上、日信化学工業株式会社製）などが挙げられる。
【0241】
フッ素系界面活性剤の市販品としては、例えば、メガファック（商品名）Ｆ－１７１、Ｆ－１７２、Ｆ－１７３、Ｆ－１７６、Ｆ－１７７、Ｆ－１４１、Ｆ－１４２、Ｆ－１４３、Ｆ－１４４、Ｆ－４３７、Ｆ－４４４、Ｆ－４７５、Ｆ－４７７、Ｆ－４７９、Ｆ－４８２、Ｆ－５５１－Ａ、Ｆ－５５２、Ｆ－５５４、Ｆ－５５５－Ａ、Ｆ－５５６、Ｆ－５５７、Ｆ－５５８、Ｆ－５５９、Ｆ－５６０、Ｆ－５６１、Ｆ－５６５、Ｆ－５６３、Ｆ－５６８、Ｆ－５７５、Ｆ－７８０、ＥＸＰ、ＭＦＳ－３３０、Ｒ－４１、Ｒ－４１－ＬＭ、Ｒ－０１、Ｒ－４０、Ｒ－４０－ＬＭ、ＲＳ－４３、ＴＦ－１９５６、ＲＳ－９０、Ｒ－９４、ＲＳ－７２－Ｋ、ＤＳ－２１（以上、ＤＩＣ株式会社製）、フロラード（商品名）ＦＣ４３０、ＦＣ４３１、ＦＣ１７１（以上、住友スリーエム株式会社製）、サーフロン（商品名）Ｓ－３８２、ＳＣ－１０１、ＳＣ－１０３、ＳＣ－１０４、ＳＣ－１０５、ＳＣ－１０６８、ＳＣ－３８１、ＳＣ－３８３、Ｓ－３９３、ＫＨ－４０（以上、ＡＧＣ株式会社製）、ＰｏｌｙＦｏｘ（商品名）ＰＦ６３６、ＰＦ６５６、ＰＦ６３２０、ＰＦ６５２０、ＰＦ７００２（以上、ＯＭＮＯＶＡ社製）、フタージェント（商品名）７１０ＦＭ、６１０ＦＭ、６０１ＡＤ、６０１ＡＤＨ２、６０２Ａ、２１５Ｍ、２４５Ｆ（以上、株式会社ネオス製）等が挙げられる。
【0242】
また、フッ素系界面活性剤は、フッ素原子を含有する官能基を持つ分子構造を有し、熱を加えるとフッ素原子を含有する官能基の部分が切断されてフッ素原子が揮発するアクリル系化合物も好適に使用できる。このようなフッ素系界面活性剤としては、ＤＩＣ株式会社製のメガファック（商品名）ＤＳシリーズ（化学工業日報（２０１６年２月２２日）、日経産業新聞（２０１６年２月２３日））、例えばメガファック（商品名）ＤＳ－２１が挙げられる。
【0243】
また、フッ素系界面活性剤としては、フッ素化アルキル基又はフッ素化アルキレンエーテル基を有するフッ素原子含有ビニルエーテル化合物と、親水性のビニルエーテル化合物との重合体を用いることも好ましい。
【0244】
フッ素系界面活性剤としては、ブロックポリマーを用いることもできる。フッ素系界面活性剤は、フッ素原子を有する（メタ）アクリレート化合物に由来する構成単位と、アルキレンオキシ基（好ましくはエチレンオキシ基、プロピレンオキシ基）を２以上（好ましくは５以上）有する（メタ）アクリレート化合物に由来する構成単位と、を含む含フッ素高分子化合物も好ましく用いることができる。
【0245】
フッ素系界面活性剤としては、エチレン性不飽和基を側鎖に有する含フッ素重合体を用いることもできる。メガファック（商品名）ＲＳ－１０１、ＲＳ－１０２、ＲＳ－７１８Ｋ、ＲＳ－７２－Ｋ（以上、ＤＩＣ株式会社製）等が挙げられる。
【0246】
フッ素系界面活性剤として、例えば、炭素数が７以上の直鎖状パーフルオロアルキル基を有する化合物が使用されてもよい。ただし、環境適性向上の観点から、フッ素系界面活性剤として、ペルフルオロオクタン酸（ＰＦＯＡ）又はペルフルオロオクタンスルホン酸（ＰＦＯＳ）の代替材料が使用されることが好ましい。
【0247】
シリコーン系界面活性剤としては、シロキサン結合からなる直鎖状ポリマー、及び、側鎖や末端に有機基を導入した変性シロキサンポリマーが挙げられる。シリコーン系界面活性剤の具体例としては、ＤＯＷＳＩＬ（商品名）８０３２ ＡＤＤＩＴＩＶＥ、トーレシリコーンＤＣ３ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ７ＰＡ、トーレシリコーンＤＣ１１ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ２１ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ２８ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ２９ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ３０ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ８４００（以上、東レ・ダウコーニング株式会社製）並びに、Ｘ－２２－４９５２、Ｘ－２２－４２７２、Ｘ－２２－６２６６、ＫＦ－３５１Ａ、Ｋ３５４Ｌ、ＫＦ－３５５Ａ、ＫＦ－９４５、ＫＦ－６４０、ＫＦ－６４２、ＫＦ－６４３、Ｘ－２２－６１９１、Ｘ－２２－４５１５、ＫＦ－６００４、ＫＰ－３４１、ＫＦ－６００１、ＫＦ－６００２（以上、信越化学工業株式会社製）、Ｆ－４４４０、ＴＳＦ－４３００、ＴＳＦ－４４４５、ＴＳＦ－４４６０、ＴＳＦ－４４５２（以上、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製）、ＢＹＫ３０７、ＢＹＫ３２３、ＢＹＫ３３０（以上、ビックケミー社製）等が挙げられる。
【0248】
感光性樹脂層は、界面活性剤を、１種単独で含有してもよいし、２種以上を含有してもよい。界面活性剤の含有量は、感光性樹脂層の全質量に対し、０．００１質量％～１０質量％であることが好ましく、０．０１質量％～３質量％であることがより好ましい。
【0249】
－添加剤－
感光性樹脂層は、必要に応じて公知の添加剤を含有してもよい。添加剤としては、例えば、可塑剤、ヘテロ環状化合物、ベンゾトリアゾール類、カルボキシベンゾトリアゾール類、ピリジン類（イソニコチンアミド等）、プリン塩基（アデニン等）、及び、溶剤が挙げられる。感光性樹脂層は、各添加剤を１種単独で含有してもよいし、２種以上を含有してもよい。
感光性樹脂層は、必要に応じて公知の添加剤を含有してもよい。添加剤としては、例えば、可塑剤、ヘテロ環状化合物、ベンゾトリアゾール類、カルボキシベンゾトリアゾール類、ピリジン類（イソニコチンアミド等）、プリン塩基（アデニン等）、及び、溶剤が挙げられる。感光性樹脂層は、各添加剤を１種単独で含有してもよいし、２種以上を含有してもよい。
【0250】
ベンゾトリアゾール類としては、例えば、１，２，３－ベンゾトリアゾール、１－クロロ－１，２，３－ベンゾトリアゾール、ビス（Ｎ－２－エチルヘキシル）アミノメチレン－１，２，３－ベンゾトリアゾール、ビス（Ｎ－２－エチルヘキシル）アミノメチレン－１，２，３－トリルトリアゾール、ビス（Ｎ－２－ヒドロキシエチル）アミノメチレン－１，２，３－ベンゾトリアゾール等が挙げられる。
【0251】
カルボキシベンゾトリアゾール類としては、例えば、４－カルボキシ－１，２，３－ベンゾトリアゾール、５－カルボキシ－１，２，３－ベンゾトリアゾール、Ｎ－（Ｎ，Ｎ－ジ－２－エチルヘキシル）アミノメチレンカルボキシベンゾトリアゾール、Ｎ－（Ｎ，Ｎ－ジ－２－ヒドロキシエチル）アミノメチレンカルボキシベンゾトリアゾール、Ｎ－（Ｎ，Ｎ－ジ－２－エチルヘキシル）アミノエチレンカルボキシベンゾトリアゾール等が挙げられる。カルボキシベンゾトリアゾール類としては、例えば、ＣＢＴ－１（城北化学工業株式会社、商品名）などの市販品を用いることができる。
【0252】
ベンゾトリアゾ－ル類及びカルボキシベンゾトリアゾ－ル類の合計含有量は、感光性樹脂層の全質量に対し、０．０１質量％～３質量％であることが好ましく、０．０５質量％～１質量％であることがより好ましい。上記含有量を０．０１質量％以上にすることは、感光性樹脂層に保存安定性を付与するという観点から好ましい。一方で、上記含有量を３質量％以下にすることは、感度を維持し、染料の脱色を抑える観点から好ましい。
【0253】
感光性樹脂層は、可塑剤及びヘテロ環状化合物よりなる群から選択される少なくとも１種を含有してもよい。可塑剤及びヘテロ環状化合物としては、国際公開第２０１８／１７９６４０号の段落００９７～段落０１０３及び段落０１１１～段落０１１８に記載された化合物が挙げられる。
【0254】
感光性樹脂層は、溶剤を含有してもよい。溶剤を含む感光性組成物により感光性樹脂層を形成した場合、感光性樹脂層に溶剤が残留することがある。
【0255】
また、感光性樹脂層は、金属酸化物粒子、酸化防止剤、分散剤、酸増殖剤、現像促進剤、導電性繊維、熱酸発生剤、紫外線吸収剤、増粘剤、架橋剤、及び、有機又は無機の沈殿防止剤等の公知の添加剤を更に含有してもよい。
【0256】
感光性樹脂層に含有される添加剤については特開２０１４－８５６４３号公報の段落０１６５～段落０１８４に記載されており、この公報の内容は本明細書に組み込まれる。
【0257】
感光性樹脂層は、所定量の不純物を含んでいてもよい。不純物の具体例としては、ナトリウム、カリウム、マグネシウム、カルシウム、鉄、マンガン、銅、アルミニウム、チタン、クロム、コバルト、ニッケル、亜鉛、スズ、ハロゲン及びこれらのイオンが挙げられる。中でも、ハロゲン化物イオン、ナトリウムイオン、及びカリウムイオンは不純物として混入し易いため、下記の含有量にすることが好ましい。
【0258】
＜＜不純物等＞＞
感光性樹脂層における不純物の含有量は、質量基準で、８０ｐｐｍ以下が好ましく、１０ｐｐｍ以下がより好ましく、２ｐｐｍ以下が更に好ましい。不純物の含有量は、質量基準で、１ｐｐｂ以上とすることができ、０．１ｐｐｍ以上としてもよい。
感光性樹脂層における不純物の含有量は、質量基準で、８０ｐｐｍ以下が好ましく、１０ｐｐｍ以下がより好ましく、２ｐｐｍ以下が更に好ましい。不純物の含有量は、質量基準で、１ｐｐｂ以上とすることができ、０．１ｐｐｍ以上としてもよい。
【0259】
不純物を上記範囲にする方法としては、組成物の原料として不純物の含有量が少ないものを選択すること、感光性樹脂層の作製時に不純物の混入を防ぐこと、及び洗浄して除去することが挙げられる。このような方法により、不純物量を上記範囲内とすることができる。
【0260】
不純物は、例えば、ＩＣＰ（Inductively Coupled Plasma）発光分光分析法、原子吸光分光法、及びイオンクロマトグラフィー法等の公知の方法で定量できる。
【0261】
感光性樹脂層における、ベンゼン、ホルムアルデヒド、トリクロロエチレン、１，３－ブタジエン、四塩化炭素、クロロホルム、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、及びヘキサン等の化合物の含有量は、少ないことが好ましい。これら化合物の感光性樹脂層の全質量に対する含有量としては、質量基準で、１００ｐｐｍ以下が好ましく、２０ｐｐｍ以下がより好ましく、４ｐｐｍ以下が更に好ましい。下限は、質量基準で、感光性樹脂層の全質量に対して、１０ｐｐｂ以上とすることができ、１００ｐｐｂ以上とすることができる。これら化合物は、上記の金属の不純物と同様の方法で含有量を抑制できる。また、公知の測定法により定量できる。
【0262】
感光性樹脂層における水の含有量は、信頼性及びラミネート性を向上させる観点から、０．０１質量％～１．０質量％であることが好ましく、０．０５質量％～０．５質量％であることがより好ましい。
【0263】
＜＜残存モノマー＞＞
感光性樹脂層は、上述したアルカリ可溶性樹脂の各構成単位に対応する残存モノマーを含む場合がある。残存モノマーの含有量は、パターニング性、及び、信頼性の点から、アルカリ可溶性樹脂全質量に対して、５，０００質量ｐｐｍ以下が好ましく、２，０００質量ｐｐｍ以下がより好ましく、５００質量ｐｐｍ以下が更に好ましい。下限は特に制限されないが、１質量ｐｐｍ以上が好ましく、１０質量ｐｐｍ以上がより好ましい。アルカリ可溶性樹脂の各構成単位の残存モノマーの含有量は、パターニング性、及び、信頼性の点から、感光性樹脂層の全質量に対して、３，０００質量ｐｐｍ以下が好ましく、６００質量ｐｐｍ以下がより好ましく、１００質量ｐｐｍ以下が更に好ましい。下限は特に制限されないが、０．１質量ｐｐｍ以上が好ましく、１質量ｐｐｍ以上がより好ましい。
感光性樹脂層は、上述したアルカリ可溶性樹脂の各構成単位に対応する残存モノマーを含む場合がある。残存モノマーの含有量は、パターニング性、及び、信頼性の点から、アルカリ可溶性樹脂全質量に対して、５，０００質量ｐｐｍ以下が好ましく、２，０００質量ｐｐｍ以下がより好ましく、５００質量ｐｐｍ以下が更に好ましい。下限は特に制限されないが、１質量ｐｐｍ以上が好ましく、１０質量ｐｐｍ以上がより好ましい。アルカリ可溶性樹脂の各構成単位の残存モノマーの含有量は、パターニング性、及び、信頼性の点から、感光性樹脂層の全質量に対して、３，０００質量ｐｐｍ以下が好ましく、６００質量ｐｐｍ以下がより好ましく、１００質量ｐｐｍ以下が更に好ましい。下限は特に制限されないが、０．１質量ｐｐｍ以上が好ましく、１質量ｐｐｍ以上がより好ましい。
【0264】
高分子反応でアルカリ可溶性樹脂を合成する際のモノマーの残存モノマー量も、上記範囲とすることが好ましい。例えば、カルボン酸側鎖にアクリル酸グリシジルを反応させてアルカリ可溶性樹脂を合成する場合には、アクリル酸グリシジルの含有量を上記範囲にすることが好ましい。
【0265】
残存モノマーの量は、液体クロマトグラフィー、及び、ガスクロマトグラフィー等の公知の方法で測定できる。
【0266】
＜＜顔料＞＞
感光性樹脂層は、顔料を含む着色層であってもよい。顔料については、所望とする色相に合わせて適宜選択すればよく、黒色顔料、白色顔料、黒色及び白色以外の有彩色の顔料の中から選択できる。中でも、黒色系のパターンを形成する場合には、顔料として黒色顔料が好適に選択される。
感光性樹脂層は、顔料を含む着色層であってもよい。顔料については、所望とする色相に合わせて適宜選択すればよく、黒色顔料、白色顔料、黒色及び白色以外の有彩色の顔料の中から選択できる。中でも、黒色系のパターンを形成する場合には、顔料として黒色顔料が好適に選択される。
【0267】
黒色顔料としては、本開示における効果を損なわない範囲であれば、公知の黒色顔料（有機顔料又は無機顔料等）を適宜選択することができる。中でも、光学濃度の観点から、黒色顔料としては、例えば、カーボンブラック、酸化チタン、チタンカーバイド、酸化鉄、酸化チタン及び黒鉛等が好適に挙げられ、カーボンブラックが特に好ましい。カーボンブラックとしては、表面抵抗の観点から、表面の少なくとも一部が樹脂で被覆されたカーボンブラックが好ましい。黒色顔料の粒径は、分散安定性の観点から、数平均粒径で０．００１μｍ～０．１μｍであることが好ましく、０．０１μｍ～０．０８μｍであること
がより好ましい。粒径とは、電子顕微鏡で撮影した顔料粒子の写真像から顔料粒子の面積を求め、顔料粒子の面積と同面積の円を考えた場合の円の直径を指し、数平均粒径は、任意の１００個の粒子について上記の粒径を求め、求められた１００個の粒径を平均して得られる平均値である。
がより好ましい。粒径とは、電子顕微鏡で撮影した顔料粒子の写真像から顔料粒子の面積を求め、顔料粒子の面積と同面積の円を考えた場合の円の直径を指し、数平均粒径は、任意の１００個の粒子について上記の粒径を求め、求められた１００個の粒径を平均して得られる平均値である。
【0268】
黒色顔料以外の顔料として、白色顔料については、特開２００５－００７７６５号公報の段落００１５及び段落０１１４に記載の白色顔料を使用できる。具体的には、白色顔料のうち、無機顔料としては、酸化チタン、酸化亜鉛、リトポン、軽質炭酸カルシウム、ホワイトカーボン、酸化アルミニウム、水酸化アルミニウム、又は硫酸バリウムが好ましく、酸化チタン又は酸化亜鉛がより好ましく、酸化チタンが更に好ましい。無機顔料としては、ルチル型又はアナターゼ型の酸化チタンが更に好ましく、ルチル型の酸化チタンが特に好ましい。
【0269】
酸化チタンの表面は、シリカ処理、アルミナ処理、チタニア処理、ジルコニア処理、又は有機物処理が施されていてもよく、二つ以上の処理が施されてもよい。これにより、酸化チタンの触媒活性が抑制され、耐熱性及び褪光性等が改善される。加熱後の感光性樹脂層の厚みを薄くする観点から、酸化チタンの表面への表面処理としては、アルミナ処理及びジルコニア処理の少なくとも一方が好ましく、アルミナ処理及びジルコニア処理の両方が特に好ましい。
【0270】
感光性樹脂層が着色層である場合、転写性の観点から、感光性樹脂層は、黒色顔料及び白色顔料以外の有彩色の顔料を更に含んでいることも好ましい。有彩色の顔料を含む場合、有彩色の顔料の粒径としては、分散性がより優れる点で、０．１μｍ以下が好ましく、０．０８μｍ以下がより好ましい。有彩色の顔料としては、例えば、ビクトリア・ピュアーブルーＢＯ（Ｃｏｌｏｒ Ｉｎｄｅｘ（以下Ｃ．Ｉ．）４２５９５）、オーラミン（Ｃ．Ｉ．４１０００）、ファット・ブラックＨＢ（Ｃ．Ｉ．２６１５０）、モノライト・エローＧＴ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・エロー１２）、パーマネント・エローＧＲ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・エロー１７）、パーマネント・エローＨＲ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・エロー８３）、パーマネント・カーミンＦＢＢ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１４６）、ホスターバームレッドＥＳＢ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・バイオレット１９）、パーマネント・ルビーＦＢＨ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１１）、ファステル・ピンクＢスプラ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド８１）、モナストラル・ファースト・ブルー（Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５）、モノライト・ファースト・ブラックＢ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブラック１）及びカーボン、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド９７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１２２、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１４９、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１６８、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１７７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１８０、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１９２、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド２１５、Ｃ．Ｉ．ピグメント・グリーン７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：４、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー２２、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー６０、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー６４、及びＣ．Ｉ．ピグメント・バイオレット２３等が挙げられる。中でも、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１７７が好ましい。
【0271】
感光性樹脂層が顔料を含む場合、顔料の含有量は、感光性樹脂層の全質量に対して、３質量％を超え４０質量％以下であることが好ましく、３質量％を超え３５質量％以下であることがより好ましく、５質量％を超え３５質量％以下であることが更に好ましく、１０質量％以上３５質量％以下であることが特に好ましい。
【0272】
感光性樹脂層が黒色顔料以外の顔料（白色顔料及び有彩色の顔料）を含む場合、黒色顔料以外の顔料の含有量は、黒色顔料に対して、３０質量％以下であることが好ましく、１質量％～２０質量％であることがより好ましく、３質量％～１５質量％であることが更に好ま
しい。
しい。
【0273】
黒色顔料を含む感光性樹脂層の製造方法において、黒色顔料（好ましくはカーボンブラック）は、顔料分散液の形態で後述の感光性組成物に導入されることが好ましい。分散液は、黒色顔料と顔料分散剤とをあらかじめ混合して得られる混合物を、有機溶剤（又はビヒクル）に加えて分散機で分散させることによって調製されるものでもよい。顔料分散剤は、顔料及び溶剤に応じて選択すればよく、例えば市販の分散剤を使用することができる。なお、ビヒクルとは、顔料分散液とした場合に顔料を分散させている媒質の部分を指し、液状であり、黒色顔料を分散状態で保持するバインダー成分と、バインダー成分を溶解及び希釈する溶剤成分（有機溶剤）と、を含む。分散機としては、特に制限はなく、例えば、ニーダー、ロールミル、アトライター、スーパーミル、ディゾルバ、ホモミキサー、及びサンドミル等の公知の分散機が挙げられる。更に、機械的摩砕により摩擦力を利用して微粉砕してもよい。分散機及び微粉砕については、「顔料の事典」（朝倉邦造著、第一版、朝倉書店、２０００年、４３８頁、３１０頁）の記載を参照することができる。
【0274】
＜＜物性等＞＞
感光性樹脂層の膜厚（平均厚さ）は、現像性、及び、解像性の観点から、２０μｍ以下であることが好ましく、１０μｍ以下であることがより好ましく、８μｍ以下であることが更に好ましく、５μｍ以下であることが特に好ましい。感光性樹脂層の平均厚さは、０．５μｍ以上であることが好ましく、１μｍ以上であることがより好ましい。
転写層が間層（好ましくは、熱可塑性樹脂層及び／又は水溶性樹脂層）及び感光性樹脂層を含む場合、感光性樹脂層の平均厚さは、４．８μｍ以下であることが好ましく、３μｍ以下であることがより好ましい。
感光性樹脂層の平均厚さは、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いる断面観察で測定される５か所の厚さの算術平均によって算出される。
感光性樹脂層の膜厚（平均厚さ）は、現像性、及び、解像性の観点から、２０μｍ以下であることが好ましく、１０μｍ以下であることがより好ましく、８μｍ以下であることが更に好ましく、５μｍ以下であることが特に好ましい。感光性樹脂層の平均厚さは、０．５μｍ以上であることが好ましく、１μｍ以上であることがより好ましい。
転写層が間層（好ましくは、熱可塑性樹脂層及び／又は水溶性樹脂層）及び感光性樹脂層を含む場合、感光性樹脂層の平均厚さは、４．８μｍ以下であることが好ましく、３μｍ以下であることがより好ましい。
感光性樹脂層の平均厚さは、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いる断面観察で測定される５か所の厚さの算術平均によって算出される。
【0275】
＜＜形成方法＞＞
目的の感光性樹脂層が得られる限り、感光性樹脂層の製造方法は制限されない。感光性樹脂層の形成方法としては、例えば、アルカリ可溶性樹脂、エチレン性不飽和化合物、光重合開始剤及び溶剤を含有する感光性組成物を調製し、仮支持体等の対象物に感光性組成物を塗布し、感光性組成物の塗膜を乾燥することにより形成する方法が挙げられる。また、感光性樹脂層は、感光性組成物を後述する保護フィルム上に塗布し、乾燥することにより形成してもよい。
目的の感光性樹脂層が得られる限り、感光性樹脂層の製造方法は制限されない。感光性樹脂層の形成方法としては、例えば、アルカリ可溶性樹脂、エチレン性不飽和化合物、光重合開始剤及び溶剤を含有する感光性組成物を調製し、仮支持体等の対象物に感光性組成物を塗布し、感光性組成物の塗膜を乾燥することにより形成する方法が挙げられる。また、感光性樹脂層は、感光性組成物を後述する保護フィルム上に塗布し、乾燥することにより形成してもよい。
【0276】
感光性樹脂層の形成に使用される感光性組成物としては、例えば、アルカリ可溶性樹脂、エチレン性不飽和化合物、光重合開始剤、上記の任意成分及び溶剤を含有する組成物が挙げられる。感光性組成物は、感光性組成物の粘度を調節し、感光性樹脂層の形成を容易にするため、溶剤を含有することが好ましい。
【0277】
－溶剤－
感光性組成物に含有される溶剤としては、例えば、アルキレングリコールエーテル溶剤、アルキレングリコールエーテルアセテート溶剤、アルコール溶剤（メタノール及びエタノール等）、ケトン溶剤（アセトン及びメチルエチルケトン等）、芳香族炭化水素溶剤（トルエン等）、非プロトン性極性溶剤（Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド等）、環状エーテル溶剤（テトラヒドロフラン等）、エステル溶剤、アミド溶剤、ラクトン溶剤、並びにこれらの２種以上を含む混合溶剤が挙げられる。
感光性組成物に含有される溶剤としては、例えば、アルキレングリコールエーテル溶剤、アルキレングリコールエーテルアセテート溶剤、アルコール溶剤（メタノール及びエタノール等）、ケトン溶剤（アセトン及びメチルエチルケトン等）、芳香族炭化水素溶剤（トルエン等）、非プロトン性極性溶剤（Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド等）、環状エーテル溶剤（テトラヒドロフラン等）、エステル溶剤、アミド溶剤、ラクトン溶剤、並びにこれらの２種以上を含む混合溶剤が挙げられる。
【0278】
感光性組成物は、アルキレングリコールエーテル溶剤及びアルキレングリコールエーテルアセテート溶剤よりなる群から選択される少なくとも１種を含有することが好ましい。中でも、アルキレングリコールエーテル溶剤及びアルキレングリコールエーテルアセテート溶剤よりなる群から選択される少なくとも１種と、ケトン溶剤及び環状エーテル溶剤よりなる群から選択される少なくとも１種とを含む混合溶剤がより好ましく、アルキレングリコールエーテル溶剤及びアルキレングリコールエーテルアセテート溶剤よりなる群から選択される少なくとも１種、ケトン溶剤、並びに環状エーテル溶剤の３種を少なくとも含む混合溶剤が更に好ましい。
【0279】
アルキレングリコールエーテル溶剤としては、例えば、エチレングリコールモノアルキルエーテル、エチレングリコールジアルキルエーテル、プロピレングリコールモノアルキルエーテル、プロピレングリコールジアルキルエーテル、ジエチレングリコールジアルキルエーテル、ジプロピレングリコールモノアルキルエーテル及びジプロピレングリコールジアルキルエーテルが挙げられる。
【0280】
アルキレングリコールエーテルアセテート溶剤としては、例えば、エチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート及びジプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテートが挙げられる。
【0281】
溶剤としては、国際公開第２０１８／１７９６４０号の段落００９２～段落００９４に記載された溶剤、及び、特開２０１８－１７７８８９号公報の段落００１４に記載された溶剤を用いてもよく、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
【0282】
感光性組成物は、溶剤を１種単独で含有してもよく、２種以上を含有してもよい。感光性組成物を塗布する際における溶剤の含有量は、感光性組成物中の全固形分１００質量部に対し、５０質量部～１，９００質量部が好ましく、１００質量部～９００質量部がより好ましい。
【0283】
感光性組成物の調製方法は特に制限されず、例えば、各成分を上記溶剤に溶解させた溶液を予め調製し、得られた溶液を所定の割合で混合することにより、感光性組成物を調製する方法が挙げられる。感光性組成物は、感光性樹脂層を形成する前に、孔径０．２μｍ～３０μｍのフィルターを用いてろ過することが好ましい。
【0284】
感光性組成物の塗布方法は特に制限されず、公知の方法で塗布すればよい。塗布方法としては、例えば、スリット塗布、スピン塗布、カーテン塗布及びインクジェット塗布が挙げられる。
【0285】
感光性組成物の塗膜の乾燥方法としては、加熱乾燥及び減圧乾燥が好ましい。なお、本明細書において、「乾燥」とは、組成物に含まれる溶剤の少なくとも一部を除去することを意味する。乾燥方法としては、例えば、自然乾燥、加熱乾燥、及び、減圧乾燥が挙げられる。上記した方法を単独で又は複数組み合わせて適用することができる。乾燥温度としては、８０℃以上が好ましく、９０℃以上がより好ましい。また、その上限値としては１３０℃以下が好ましく、１２０℃以下がより好ましい。温度を連続的に変化させて乾燥させることもできる。乾燥時間としては、２０秒以上が好ましく、４０秒以上がより好ましく、６０秒以上が更に好ましい。また、その上限値としては特に制限されないが、６００秒以下が好ましく、３００秒以下がより好ましい。
【0286】
（転写層の構成要素：中間層）
転写層は、中間層及び感光性樹脂層を含むことが好ましい。中間層は、感光性転写材料と対象物との貼り合わせにおいて転写層と対象物との間に気泡が混入することを抑制し、転写層と対象物との密着性を向上できる。中間層は、表面が粗い対象物への転写層の追随性も向上できる。中間層は、仮支持体と感光性樹脂層との間に配置されることが好ましい。即ち、感光性転写材料は、仮支持体と、中間層と、感光性樹脂層と、をこの順に含むことが好ましい。中間層の構造は、単層構造又は複層構造であってもよい。
転写層は、中間層及び感光性樹脂層を含むことが好ましい。中間層は、感光性転写材料と対象物との貼り合わせにおいて転写層と対象物との間に気泡が混入することを抑制し、転写層と対象物との密着性を向上できる。中間層は、表面が粗い対象物への転写層の追随性も向上できる。中間層は、仮支持体と感光性樹脂層との間に配置されることが好ましい。即ち、感光性転写材料は、仮支持体と、中間層と、感光性樹脂層と、をこの順に含むことが好ましい。中間層の構造は、単層構造又は複層構造であってもよい。
【0287】
中間層としては、例えば、熱可塑性樹脂層及び水溶性樹脂層が挙げられる。中間層は、水溶性樹脂層を含む態様であってもよいし、熱可塑性樹脂層及び水溶性樹脂層を含む態様であってもよい。
【0288】
中間層が熱可塑性樹脂層及び水溶性樹脂層の両方を含む場合、感光性転写材料は、仮支持体と、熱可塑性樹脂層と、水溶性樹脂層と、感光性樹脂層と、をこの順に含むことが好ましい。また、中間層としては、例えば、特開平５－７２７２４号公報に「分離層」として記載されている、酸素遮断機能のある酸素遮断層も挙げられる。中間層が酸素遮断層であると、露光時の感度が向上し、露光機の時間負荷が低減し、生産性が向上する。
【0289】
〔熱可塑性樹脂層〕
熱可塑性樹脂層は、熱可塑性樹脂として、アルカリ可溶性樹脂を含有することが好ましい。アルカリ可溶性樹脂としては、例えば、アクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、スチレン－アクリル共重合体、ポリウレタン樹脂、ポリビニルアルコール、ポリビニルホルマール、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリヒドロキシスチレン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリベンゾオキサゾール樹脂、ポリシロキサン樹脂、ポリエチレンイミン、ポリアリルアミン及びポリアルキレングリコールが挙げられる。
熱可塑性樹脂層は、熱可塑性樹脂として、アルカリ可溶性樹脂を含有することが好ましい。アルカリ可溶性樹脂としては、例えば、アクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、スチレン－アクリル共重合体、ポリウレタン樹脂、ポリビニルアルコール、ポリビニルホルマール、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリヒドロキシスチレン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリベンゾオキサゾール樹脂、ポリシロキサン樹脂、ポリエチレンイミン、ポリアリルアミン及びポリアルキレングリコールが挙げられる。
【0290】
アルカリ可溶性樹脂としては、現像性及び隣接する層との密着性の観点から、アクリル樹脂が好ましい。アクリル樹脂は、（メタ）アクリル酸に由来する構成単位、（メタ）アクリル酸エステルに由来する構成単位、及び、（メタ）アクリル酸アミドに由来する構成単位よりなる群から選ばれた少なくとも１種の構成単位を有する樹脂を意味する。アクリル樹脂としては、（メタ）アクリル酸に由来する構成単位、（メタ）アクリル酸エステルに由来する構成単位、及び、（メタ）アクリル酸アミドに由来する構成単位の合計含有量が、アクリル樹脂の全質量に対して５０質量％以上であることが好ましい。
中でも、（メタ）アクリル酸に由来する構成単位及び（メタ）アクリル酸エステルに由来する構成単位の合計含有量が、アクリル樹脂の全質量に対して３０質量％～１００質量％であることが好ましく、５０質量％～１００質量％であることがより好ましい。
中でも、（メタ）アクリル酸に由来する構成単位及び（メタ）アクリル酸エステルに由来する構成単位の合計含有量が、アクリル樹脂の全質量に対して３０質量％～１００質量％であることが好ましく、５０質量％～１００質量％であることがより好ましい。
【0291】
アルカリ可溶性樹脂は、酸基を有する重合体であることが好ましい。酸基としては、カルボキシ基、スルホ基、リン酸基及びホスホン酸基が挙げられ、カルボキシ基が好ましい。
【0292】
アルカリ可溶性樹脂は、現像性の観点から、酸価６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上のアルカリ可溶性樹脂であることが好ましく、酸価６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上のカルボキシ基含有アクリル樹脂であることがより好ましい。アルカリ可溶性樹脂の酸価の上限は、特に制限されないが、２００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが好ましく、１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることがより好ましい。
【0293】
酸価６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上のカルボキシ基含有アクリル樹脂としては、特に制限されず、公知の樹脂から適宜選択して用いることができる。例えば、特開２０１１－９５７１６号公報の段落００２５に記載のポリマーのうち酸価６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上のカルボキシ基含有アクリル樹脂であるアルカリ可溶性樹脂、特開２０１０－２３７５８９号公報の段落００３３～段落００５２に記載のポリマーのうちの酸価６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上のカルボキシ基含有アクリル樹脂、及び、特開２０１６－２２４１６２号公報の段落００５３～段落００６８に記載のアルカリ可溶性樹脂のうちの酸価６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上のカル
ボキシ基含有アクリル樹脂が挙げられる。
ボキシ基含有アクリル樹脂が挙げられる。
【0294】
カルボキシ基含有アクリル樹脂におけるカルボキシ基を有する構成単位の共重合比は、アクリル樹脂の全質量に対して、５質量％～５０質量％であることが好ましく、１０質量％～４０質量％であることがより好ましく、１２質量％～３０質量％であることが更に好ましい。
【0295】
アルカリ可溶性樹脂としては、現像性及び隣接する層との密着性の観点から、（メタ）アクリル酸に由来する構成単位を有するアクリル樹脂が特に好ましい。
【0296】
アルカリ可溶性樹脂は、反応性基を有していてもよい。反応性基としては、重合可能な基、例えば、付加重合、重縮合又は重付加が可能な基であればよく、エチレン性不飽和基；ヒドロキシ基及びカルボキシ基等の重縮合性基；エポキシ基、（ブロック）イソシアネート基等の重付加反応性基が挙げられる。
【0297】
アルカリ可溶性樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は、１，０００以上であることが好ましく、１万～１０万であることがより好ましく、２万～５万であることが更に好ましい。
【0298】
熱可塑性樹脂層は、アルカリ可溶性樹脂を１種単独で含有してもよく、２種以上を含有してもよい。アルカリ可溶性樹脂の含有量は、現像性及び隣接する層との密着性の観点から、熱可塑性樹脂層の全質量に対して、１０質量％～９９質量％であることが好ましく、２０質量％～９０質量％であることがより好ましく、４０質量％～８０質量％であることが更に好ましく、５０質量％～７０質量％であることが特に好ましい。
【0299】
熱可塑性樹脂層は、発色時の波長範囲４００ｎｍ～７８０ｎｍにおける極大吸収波長が４５０ｎｍ以上であり、酸、塩基、又はラジカルにより極大吸収波長が変化する色素（単に「色素Ｂ」ともいう。）を含有することが好ましい。色素Ｂの好ましい態様は、後述する点以外は、色素Ｎの好ましい態様と同様である。
【0300】
色素Ｂは、露光部及び非露光部の視認性並びに解像性の観点から、酸又はラジカルにより極大吸収波長が変化する色素が好ましく、酸により極大吸収波長が変化する色素であることがより好ましい。熱可塑性樹脂層は、露光部及び非露光部の視認性並びに解像性の観点から、色素Ｂとしての酸により極大吸収波長が変化する色素、及び、後述する光により酸を発生する化合物の両者を含有することが好ましい。
【0301】
色素Ｂは、１種単独で使用しても、２種以上を使用してもよい。色素Ｂの含有量は、露光部及び非露光部の視認性の観点から、熱可塑性樹脂層の全質量に対して、０．２質量％以上が好ましく、０．２質量％～６質量％がより好ましく、０．２質量％～５質量％が更に好ましく、０．２５質量％～３．０質量％が特に好ましい。色素Ｂの含有量は、熱可塑性樹脂層に含まれる色素Ｂの全てを発色状態にした場合の色素の含有量を意味する。以下に、ラジカルにより発色する色素を例に、色素Ｂの含有量の定量方法を説明する。メチルエチルケトン１００ｍＬに、色素０．００１ｇ又は０．０１ｇを溶かした２種類の溶液を調製する。得られた各溶液に、光ラジカル重合開始剤Ｉｒｇａｃｕｒｅ ＯＸＥ０１（商品名、ＢＡＳＦ社製）を加え、３６５ｎｍの光を照射することによりラジカルを発生させ、全ての色素を発色状態にする。その後、大気雰囲気下で、分光光度計（ＵＶ３１００、株式会社島津製作所製）を用いて、液温が２５℃である各溶液の吸光度を測定し、検量線を作成する。次に、色素に代えて熱可塑性樹脂層０．１ｇをメチルエチルケトンに溶かすこと以外は上記と同様の方法で、色素を全て発色させた溶液の吸光度を測定する。得られた熱可塑性樹脂層を含有する溶液の吸光度から、検量線に基づいて熱可塑性樹脂層に含まれる色素の量を算出する。
【0302】
熱可塑性樹脂層は、光により酸、塩基又はラジカルを発生する化合物（単に「化合物Ｃ」ともいう。）を含有してもよい。化合物Ｃとしては、紫外線及び可視光線等の活性光線を受けて、酸、塩基、又はラジカルを発生する化合物が好ましい。化合物Ｃとしては、公知の、光酸発生剤、光塩基発生剤、及び、光ラジカル重合開始剤（光ラジカル発生剤）を用いることができる。中でも、光酸発生剤が好ましい。
【0303】
熱可塑性樹脂層は、解像性の観点から、光酸発生剤を含有することが好ましい。光酸発生剤としては、上述した感光性樹脂層が含有してもよい光カチオン重合開始剤が挙げられ、後述する点以外は好ましい態様も同じである。
【0304】
光酸発生剤としては、感度及び解像性の観点から、オニウム塩化合物、及び、オキシムスルホネート化合物よりなる群から選ばれた少なくとも１種の化合物を含有することが好ましく、感度、解像性及び密着性の観点から、オキシムスルホネート化合物を含有することがより好ましい。また、光酸発生剤としては、以下の構造を有する光酸発生剤も好ましい。
【0305】
【化3】
【0306】
熱可塑性樹脂層は、光ラジカル重合開始剤（光ラジカル重合開始剤）を含有してもよい。光ラジカル重合開始剤としては、上述した感光性樹脂層が含有してもよい光ラジカル重合開始剤が挙げられ、好ましい態様も同じである。
【0307】
熱可塑性樹脂層は、光塩基発生剤を含有してもよい。光塩基発生剤としては、公知の光塩基発生剤であれば特に制限されず、例えば、２－ニトロベンジルシクロヘキシルカルバメート、トリフェニルメタノール、Ｏ－カルバモイルヒドロキシルアミド、Ｏ－カルバモイルオキシム、｛［（２，６－ジニトロベンジル）オキシ］カルボニル｝シクロヘキシルアミン、ビス｛［（２－ニトロベンジル）オキシ］カルボニル｝ヘキサン－１，６－ジアミン、４－（メチルチオベンゾイル）－１－メチル－１－モルホリノエタン、（４－モルホリノベンゾイル）－１－ベンジル－１－ジメチルアミノプロパン、Ｎ－（２－ニトロベンジルオキシカルボニル）ピロリジン、ヘキサアンミンコバルト（III）トリス（トリフェニルメチルボレート）、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルホリノフェニル）ブタノン、２，６－ジメチル－３，５－ジアセチル－４－（２－ニトロフェニル）－１，４－ジヒドロピリジン、及び、２，６－ジメチル－３，５－ジアセチル－４－（２，４－ジニトロフェニル）－１，４－ジヒドロピリジンが挙げられる。
【0308】
熱可塑性樹脂層は、化合物Ｃを、１種単独で含有してもよいし、２種以上を含有してもよい。化合物Ｃの含有量は、露光部及び非露光部の視認性並びに解像性の観点から、熱可塑性樹脂層の全質量に対して、０．１質量％～１０質量％であることが好ましく、０．５質量％～５質量％であることがより好ましい。
【0309】
熱可塑性樹脂層は、解像性、隣接する層との密着性及び現像性の観点から、可塑剤を含有することが好ましい。
【0310】
可塑剤は、アルカリ可溶性樹脂よりも分子量（オリゴマー又はポリマーである場合は重量平均分子量（Ｍｗ））が小さいことが好ましい。可塑剤の分子量（重量平均分子量（Ｍｗ））は、２００～２，０００が好ましい。
【0311】
可塑剤は、アルカリ可溶性樹脂と相溶して可塑性を発現する化合物であれば特に制限されないが、可塑性付与の観点から、可塑剤は、分子中にアルキレンオキシ基を有することが好ましく、ポリアルキレングリコール化合物がより好ましい。可塑剤に含まれるアルキレンオキシ基は、ポリエチレンオキシ構造又はポリプロピレンオキシ構造を有することがより好ましい。
【0312】
また、可塑剤は、解像性及び保存安定性の観点から、（メタ）アクリレート化合物を含有することが好ましい。相溶性、解像性及び隣接する層との密着性の観点から、アルカリ可溶性樹脂がアクリル樹脂であり、かつ、可塑剤が（メタ）アクリレート化合物を含有することがより好ましい。可塑剤として用いられる（メタ）アクリレート化合物としては、上述した感光性樹脂層に含有されるエチレン性不飽和化合物として記載した（メタ）アクリレート化合物が挙げられる。
【0313】
転写フィルムにおいて、熱可塑性樹脂層と感光性樹脂層とが直接接触して積層される場合、熱可塑性樹脂層及び感光性樹脂層がいずれも同じ（メタ）アクリレート化合物を含有することが好ましい。同じ（メタ）アクリレート化合物を熱可塑性樹脂層及び感光性樹脂層がそれぞれ含有することで、層間の成分拡散が抑制され、保存安定性が向上するためである。
【0314】
熱可塑性樹脂層が可塑剤として（メタ）アクリレート化合物を含有する場合、隣接する層との密着性の観点から、露光後の露光部においても（メタ）アクリレート化合物が重合しないことが好ましい。
【0315】
また、可塑剤として用いられる（メタ）アクリレート化合物としては、解像性、隣接する層との密着性及び現像性の観点から、一分子中に２つ以上の（メタ）アクリロイル基を有する多官能（メタ）アクリレート化合物が好ましい。
【0316】
更に、可塑剤として用いられる（メタ）アクリレート化合物としては、酸基を有する（メタ）アクリレート化合物、又は、ウレタン（メタ）アクリレート化合物も好ましい。
【0317】
熱可塑性樹脂層は、可塑剤を１種単独で含有してもよいし、２種以上を含有してもよい。可塑剤の含有量は、解像性、隣接する層との密着性及び現像性の観点から、熱可塑性樹脂層の全質量に対し、１質量％～７０質量％であることが好ましく、１０質量％～６０質量％であることがより好ましく、２０質量％～５０質量％であることが更に好ましい。
【0318】
熱可塑性樹脂層は、厚さ均一性の観点から、界面活性剤を含有することが好ましい。界面活性剤としては、上述した感光性樹脂層が含有してもよい界面活性剤が挙げられ、好ましい態様も同じである。熱可塑性樹脂層は、界面活性剤を１種単独で含有してもよいし、２種以上を含有してもよい。界面活性剤の含有量は、熱可塑性樹脂層の全質量に対し、０．００１質量％～１０質量％であることが好ましく、０．０１質量％～３質量％であることがより好ましい。
【0319】
熱可塑性樹脂層は、増感剤を含有してもよい。増感剤としては、特に制限されず、上述した感光性樹脂層が含有してもよい増感剤が挙げられる。熱可塑性樹脂層は、増感剤を、１種単独で含有してもよいし、２種以上を含有してもよい。増感剤の含有量は、目的により適宜選択できるが、光源に対する感度の向上、及び、露光部及び非露光部の視認性の観点か
ら、熱可塑性樹脂層の全質量に対し、０．０１質量％～５質量％の範囲であることが好ましく、０．０５質量％～１質量％の範囲であることがより好ましい。
ら、熱可塑性樹脂層の全質量に対し、０．０１質量％～５質量％の範囲であることが好ましく、０．０５質量％～１質量％の範囲であることがより好ましい。
【0320】
熱可塑性樹脂層は、上記成分以外に、必要に応じて公知の添加剤を含有してもよい。また、熱可塑性樹脂層については、特開２０１４－８５６４３号公報の段落０１８９～段落０１９３に記載されており、この公報に記載の内容は本明細書に組み込まれる。
【0321】
熱可塑性樹脂層の平均厚さは、隣接する層との密着性の観点から、１μｍ以上であることが好ましく、２μｍ以上であることがより好ましい。上限は特に制限されないが、現像性及び解像性の観点から、２０μｍ以下が好ましく、１０μｍ以下がより好ましく、５μｍ以下が更に好ましい。熱可塑性樹脂層の平均厚さは、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いる断面観察で測定される５か所の厚さの算術平均によって算出される。
【0322】
目的の熱可塑性樹脂層が得られる限り、熱可塑性樹脂層の製造方法は制限されない。熱可塑性樹脂層の製造方法としては、例えば、上記の成分と溶剤とを含有する熱可塑性樹脂組成物を調製し、仮支持体等の対象物に熱可塑性樹脂組成物を塗布し、熱可塑性樹脂組成物の塗膜を乾燥することにより形成する方法が挙げられる。熱可塑性樹脂組成物は、熱可塑性樹脂組成物の粘度を調節し、熱可塑性樹脂層の形成を容易にするため、溶剤を含有することが好ましい。
【0323】
熱可塑性樹脂組成物に含有される溶剤としては、熱可塑性樹脂層に含有される上記成分を溶解又は分散可能であれば特に制限されない。熱可塑性樹脂組成物に含有される溶剤としては、上述した感光性組成物が含有してもよい溶剤が挙げられ、好ましい態様も同じである。熱可塑性樹脂組成物に含有される溶剤は、１種単独であってもよく、２種以上であってもよい。熱可塑性樹脂組成物を塗布する際における溶剤の含有量は、熱可塑性樹脂組成物中の全固形分１００質量部に対し、５０質量部～１，９００質量部であることが好ましく、１００質量部～９００質量部であることがより好ましい。
【0324】
熱可塑性樹脂組成物の調製及び熱可塑性樹脂層の形成は、上述した感光性組成物の調製方法及び感光性樹脂層の形成方法に準じて行えばよい。例えば、熱可塑性樹脂層に含有される各成分を上記溶剤に溶解させた溶液を予め調製し、得られた溶液を所定の割合で混合することにより、熱可塑性樹脂組成物が調製した後、得られた熱可塑性樹脂組成物を仮支持体の表面に塗布し、熱可塑性樹脂組成物の塗膜を乾燥させることにより、熱可塑性樹脂層が形成される。また、後述する保護フィルム上に、感光性樹脂層及び水溶性樹脂層を形成した後、水溶性樹脂層の上に熱可塑性樹脂層を形成してもよい。
【0325】
〔水溶性樹脂層〕
水溶性樹脂層は、水溶性樹脂を含むことが好ましい。水溶性樹脂としては、例えば、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリビニルピロリドン系樹脂、セルロース系樹脂、アクリルアミド系樹脂、ポリエチレンオキサイド系樹脂、ゼラチン、ビニルエーテル系樹脂、ポリアミド樹脂、及び、これらの共重合体等の樹脂が挙げられる。水溶性樹脂層に含有される水溶性樹脂は、複数層間の成分の混合を抑制する観点から、感光性樹脂層に含有される重合体Ａ、及び、熱可塑性樹脂層に含有され熱可塑性樹脂（例えば、アルカリ可溶性樹脂）のいずれとも異なる樹脂であることが好ましい。
水溶性樹脂層は、水溶性樹脂を含むことが好ましい。水溶性樹脂としては、例えば、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリビニルピロリドン系樹脂、セルロース系樹脂、アクリルアミド系樹脂、ポリエチレンオキサイド系樹脂、ゼラチン、ビニルエーテル系樹脂、ポリアミド樹脂、及び、これらの共重合体等の樹脂が挙げられる。水溶性樹脂層に含有される水溶性樹脂は、複数層間の成分の混合を抑制する観点から、感光性樹脂層に含有される重合体Ａ、及び、熱可塑性樹脂層に含有され熱可塑性樹脂（例えば、アルカリ可溶性樹脂）のいずれとも異なる樹脂であることが好ましい。
【0326】
水溶性樹脂層は、酸素遮断性、並びに、複数層を塗布する際及び塗布後の保存の際における成分の混合を抑制する観点から、ポリビニルアルコールを含有することが好ましく、ポリビニルアルコール及びポリビニルピロリドンの両者を含有することがより好ましい。
水溶性樹脂層は、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、及びヒドロキシプロピルメチルセルロースを含有することも好ましい。
水溶性樹脂層は、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、及びヒドロキシプロピルメチルセルロースを含有することも好ましい。
【0327】
水溶性樹脂層は、水溶性樹脂を１種単独で含有してもよく、２種以上を含有してもよい。
【0328】
水溶性樹脂層における水溶性樹脂の含有量は、特に制限されないが、酸素遮断性、並びに、複数層を塗布する際及び塗布後の保存の際における成分の混合を抑制する観点から、水溶性樹脂層の全質量に対し、５０質量％～１００質量％であることが好ましく、７０質量％～１００質量％であることがより好ましく、８０質量％～１００質量％であることが更に好ましく、９０質量％～１００質量％であることが特に好ましい。
【0329】
また、水溶性樹脂層は、必要に応じて界面活性剤等の添加剤を含有してもよい。
【0330】
水溶性樹脂層の平均厚さは、０．１μｍ～５μｍであることが好ましく、０．５μｍ～３μｍであることがより好ましい。水溶性樹脂層の厚みが上記の範囲内であると、酸素遮断性を低下させることがなく、複数層を塗布する際及び塗布後の保存の際における成分の混合を抑制でき、また、現像時の水溶性樹脂層の除去時間の増大を抑制できるためである。水溶性樹脂層の平均厚さは、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いる断面観察で測定される５か所の厚さの算術平均によって算出される。
【0331】
目的の水溶性樹脂層が得られる限り、水溶性樹脂層の製造方法は制限されない。水溶性樹脂層は、例えば、水溶性樹脂及び任意の添加剤を含有する水溶性樹脂層形成用組成物を調製し、熱可塑性樹脂層又は感光性樹脂層に塗布し、水溶性樹脂層形成用組成物の塗膜を乾燥することにより形成される。水溶性樹脂層形成用組成物は、水溶性樹脂層形成用組成物の粘度を調節し、水溶性樹脂層の形成を容易にするため、溶剤を含有することが好ましい。
【0332】
水溶性樹脂層形成用組成物に含有される溶剤としては、水及び水混和性の有機溶剤よりなる群から選択される少なくとも１種が好ましく、水又は水と水混和性の有機溶剤との混合溶剤がより好ましい。水混和性の有機溶剤としては、例えば、炭素数１～３のアルコール、アセトン、エチレングリコール及びグリセリンが挙げられ、炭素数１～３のアルコールが好ましく、メタノール又はエタノールがより好ましい。
【0333】
転写層は、他の層を更に含んでいてもよい。他の層としては、例えば、屈折率調整層（コントラストエンハンスメント層）が挙げられる。コントラストエンハンスメント層については、国際公開第２０１８／１７９６４０号の段落０１３４に記載されている。また、他の層については、特開２０１４－８５６４３号公報の段落０１９４～段落０１９６に記載されている。これらの公報の内容は本明細書に組み込まれる。
【0334】
（保護フィルム）
転写フィルムは、保護フィルムを含むことが好ましい。例えば、感光性転写材料は、仮支持体と、転写層と、保護フィルムと、をこの順に含むことが好ましい。
転写フィルムは、保護フィルムを含むことが好ましい。例えば、感光性転写材料は、仮支持体と、転写層と、保護フィルムと、をこの順に含むことが好ましい。
【0335】
保護フィルムを構成する材料としては、樹脂フィルム及び紙が挙げられ、強度及び可撓性の観点から、樹脂フィルムが好ましい。樹脂フィルムとしては、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、トリ酢酸セルロースフィルム、ポリスチレンフィルム、及び、ポリカーボネートフィルムが挙げられる。中でも、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、又は、ポリエチレンテレフタレートフィルムが好ましい。
【0336】
保護フィルムの平均厚さは、１μｍ～１００μｍであることが好ましく、５μｍ～５０μｍであることがより好ましく、５μｍ～４０μｍであることが更に好ましく、１５μｍ～３０μｍであることが特に好ましい。保護フィルムの平均厚さは、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いる断面観察で測定される５か所の厚さの算術平均によって算出される。
【0337】
保護フィルムの転写層に面する表面（以下、単に「保護フィルムの表面」ともいう。）の算術平均粗さＲａは、解像性により優れる点から、０．３μｍ以下であることが好ましく、０．１μｍ以下であることがより好ましく、０．０５μｍ以下であることが更に好ましい。保護フィルムの表面のＲａ値が上記範囲であることにより、転写層及び形成されるレジストパターンの厚さの均一性が向上する。保護フィルムの表面のＲａ値の下限は特に制限されないが、０．００１μｍ以上が好ましい。
【0338】
保護フィルムの表面のＲａ値は、以下の方法で測定される。３次元光学プロファイラー（Ｎｅｗ Ｖｉｅｗ７３００、Ｚｙｇｏ社製）を用いて、以下の条件にて保護フィルムの表面を測定し、保護フィルムの表面プロファイルを得る。測定・解析ソフトウェアとしては、ＭｅｔｒｏＰｒｏ ｖｅｒ８．３．２のＭｉｃｒｏｓｃｏｐｅ Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎを用いる。次に、上記解析ソフトウェアにてＳｕｒｆａｃｅ Ｍａｐ画面を表示し、Ｓｕｒｆａｃｅ Ｍａｐ画面中でヒストグラムデータを得る。得られたヒストグラムデータから、算術平均粗さを算出し、保護フィルムの表面のＲａ値を得る。
【0339】
保護フィルムは、例えば、保護フィルムと転写層との貼り合わせによって感光性転写材料に導入される。保護フィルムと転写層との貼り合わせは、例えば、公知のラミネーターを用いて実施される。ラミネーターとしては、例えば、真空ラミネーター及びオートカットラミネーターが挙げられる。ラミネーターは、ゴムローラー等の任意の加熱可能なローラーを備え、加圧及び加熱ができる装置であることが好ましい。
【0340】
〔感光性転写材料の製造方法〕
本開示に用いられる感光性転写材料の製造方法は、特に制限されず、公知の製造方法、例えば、公知の各層の形成方法を用いることができる。以下、図１を参照しながら、本開示に用いられる感光性転写材料の製造方法について説明する。但し、本開示に用いられる感光性転写材料は、図１に示す構成を有するものに制限されない。
本開示に用いられる感光性転写材料の製造方法は、特に制限されず、公知の製造方法、例えば、公知の各層の形成方法を用いることができる。以下、図１を参照しながら、本開示に用いられる感光性転写材料の製造方法について説明する。但し、本開示に用いられる感光性転写材料は、図１に示す構成を有するものに制限されない。
【0341】
図１は、本開示に用いられる感光性転写材料の一実施態様における層構成の一例を示す概略断面図である。図１に示す感光性転写材料１０は、仮支持体１１と、熱可塑性樹脂層１３、水溶性樹脂層１５、及び感光性樹脂層１７を含む転写層１２と、保護フィルム１９とがこの順に積層された構成を有する。
【0342】
感光性転写材料１０の製造方法としては、例えば、仮支持体１１の表面に熱可塑性樹脂組成物を塗布した後、熱可塑性樹脂組成物の塗膜を乾燥させることにより、熱可塑性樹脂層１２を形成する工程と、熱可塑性樹脂層１３の表面に水溶性樹脂層組成物を塗布した後、水溶性樹脂層組成物の塗膜を乾燥させて水溶性樹脂層１５を形成する工程と、水溶性樹脂層１５の表面にエチレン性不飽和化合物を含有する感光性樹脂組成物を塗布した後、感光性樹脂組成物の塗膜を乾燥させて感光性樹脂層１７を形成する工程とを含む方法が挙げられる。
【0343】
上記の製造方法により製造された積層体の感光性樹脂層１７に、保護フィルム１９を圧着させることにより、感光性転写材料１０が製造される。本開示に用いられる感光性転写材料の製造方法としては、感光性樹脂層１７の第２面に接するように保護フィルム１９を設ける工程を含むことにより、仮支持体１１、熱可塑性樹脂層１３、水溶性樹脂層１５、感光性樹脂層１７及び保護フィルム１９を備える感光性転写材料１０を製造することが好ましい。上記の製造方法により感光性転写材料１０を製造した後、感光性転写材料１０を巻き取ることにより、ロール形態の感光性転写材料を作製及び保管してもよい。
【実施例0344】
以下、実施例により本開示を詳細に説明する。ただし、本開示は、以下の実施例に制限されるものではない。以下の説明において、特に断りのない限り、「％」とは「質量％」を意味し、「部」とは「質量部」を意味する。
【0345】
＜実施例１＞
（感光性転写材料１の製造）
以下の手順により、仮支持体（１６ＫＳ４０、東レ株式会社製、厚さ１６μｍの２軸延伸ＰＥＴフィルム）と、熱可塑性樹脂層と、水溶性樹脂層と、感光性樹脂層と、保護フィルムと、をこの順に含む感光性転写材料１を製造した。感光性樹脂層は、アルカリ可溶性樹脂、光重合開始剤、及びエチレン性二重結合を有する重合性化合物を含有するネガ型感光性樹脂層である。本実施例では、熱可塑性樹脂層及び水溶性樹脂層からなる中間層と感光性樹脂層とが、転写層を構成する。
（感光性転写材料１の製造）
以下の手順により、仮支持体（１６ＫＳ４０、東レ株式会社製、厚さ１６μｍの２軸延伸ＰＥＴフィルム）と、熱可塑性樹脂層と、水溶性樹脂層と、感光性樹脂層と、保護フィルムと、をこの順に含む感光性転写材料１を製造した。感光性樹脂層は、アルカリ可溶性樹脂、光重合開始剤、及びエチレン性二重結合を有する重合性化合物を含有するネガ型感光性樹脂層である。本実施例では、熱可塑性樹脂層及び水溶性樹脂層からなる中間層と感光性樹脂層とが、転写層を構成する。
【0346】
表１の「熱可塑性樹脂層」の欄に記載された成分を含む組成物Ａを準備した。スリット状ノズルを用いて仮支持体の上に組成物Ａを塗布した後、８０℃及び２分間の条件で組
成物Ａを乾燥することで、熱可塑性樹脂層を形成した。熱可塑性樹脂層の厚さは、表１に
記載されている。
成物Ａを乾燥することで、熱可塑性樹脂層を形成した。熱可塑性樹脂層の厚さは、表１に
記載されている。
【0347】
表１の「水溶性樹脂層」の欄に記載された成分を含む組成物Ｂを準備した。スリット状ノズルを用いて熱可塑性樹脂層の上に組成物Ｂを塗布した後、９０℃及び２分間の条件で組成物Ｂを乾燥することで、中間層を形成した。中間層の厚さは、表１に記載されている。
【0348】
表１の「感光性樹脂層」の欄に記載された成分を含む組成物Ｃを準備した。スリット状ノズルを用いて中間層の上に組成物Ｃを塗布した後、８０℃及び２分間の条件で組成物
Ｃを乾燥することで、感光性樹脂層を形成した。感光性樹脂層の厚さは、表１に記載されている。
Ｃを乾燥することで、感光性樹脂層を形成した。感光性樹脂層の厚さは、表１に記載されている。
【0349】
最後に、感光性樹脂層の上に保護フィルム（１６ＫＳ４０、東レ株式会社製、厚さ：１６μｍ）を設けた。
【0350】
以上により、感光性転写材料１を得た。
【0351】
＜積層体の製造＞
続いて、以下の手順により、得られた感光性転写材料１を用いて積層体を製造した。
第１面及び第１面の反対の位置に第２面を有する金属基板として、インバー基板を準備した。第１面及び第２面は、互いに逆方向を向いている。インバー基板の第１面の粗さＲｍａｘは、０．８０μｍである。インバー基板の第２面の粗さＲｍａｘは、０．９０μｍである。インバー基板の平均厚さは、５０μｍである。
続いて、以下の手順により、得られた感光性転写材料１を用いて積層体を製造した。
第１面及び第１面の反対の位置に第２面を有する金属基板として、インバー基板を準備した。第１面及び第２面は、互いに逆方向を向いている。インバー基板の第１面の粗さＲｍａｘは、０．８０μｍである。インバー基板の第２面の粗さＲｍａｘは、０．９０μｍである。インバー基板の平均厚さは、５０μｍである。
【0352】
感光性転写材料１から保護フィルムを剥離した。ロールラミネーターを用いて、１００℃の温度、０．５ＭＰａの線圧及び４ｍ／分の線速度（ラミネート速度）の条件で感光性転写材料１とインバー基板とを貼り合わせ、インバー基板の第１面の上に、転写層（即ち、感光性樹脂層、水溶性樹脂層、及び熱可塑性樹脂層）、及び仮支持体をこの順に配置した。インバー基板の第１面は、感光性樹脂層に接触している。
【0353】
次いで、仮支持体を剥離せずに、仮支持体に露光マスクを密着させた。露光マスクは、複数の正方形の遮光部を有する。各遮光部の寸法は、縦１０μｍ×横１０μｍ～縦２０μｍ×横２０μｍの範囲で０．１μｍ単位で変化している。露光は、高圧水銀灯露光機（ＭＡＰ－１２００Ｌ、（株）大日本科研製、主波長：３６５ｎｍ）を用いて、転写層に対して光を照射して行った。
【0354】
露光量Ｓ１は、感光性転写材料１を、インバー基板にラミネートした後に、ストーファー２１段タブレットをマスクとして露光し、次いで現像した時の最高残膜段数が６段となる露光量Ｓ０の２５％の露光量とした。
具体的には、最高残膜段数が６段となる露光量は５５ｍＪ／ｃｍ２であった。従って、実露光量である露光量Ｓ１は、１４ｍＪ／ｃｍ２となるように設定した。露光量を減光するためのＮＤフィルターは使用しなかった。
具体的には、最高残膜段数が６段となる露光量は５５ｍＪ／ｃｍ２であった。従って、実露光量である露光量Ｓ１は、１４ｍＪ／ｃｍ２となるように設定した。露光量を減光するためのＮＤフィルターは使用しなかった。
【0355】
実露光量（露光量Ｓ１）は、以下の手順で測定した。
露光機の露光サンプルの設置場所の中央に照度計をセットし、露光機の設定露光量を段階的に変更し、照度計で検出される露光量（実露光量）の関係から検量線を作成した。この検量線から目標の実露光量となる露光機の設定露光量を読み取り、その設定露光量で再度照度計に照射し、露光量を測定し、目標の実露光量となることを確認した。目標の実露光量とのずれが発生している場合は、目標の実露光量と露光量が一致するまでこの操作を繰り返した。
露光機の露光サンプルの設置場所の中央に照度計をセットし、露光機の設定露光量を段階的に変更し、照度計で検出される露光量（実露光量）の関係から検量線を作成した。この検量線から目標の実露光量となる露光機の設定露光量を読み取り、その設定露光量で再度照度計に照射し、露光量を測定し、目標の実露光量となることを確認した。目標の実露光量とのずれが発生している場合は、目標の実露光量と露光量が一致するまでこの操作を繰り返した。
【0356】
実露光量は、受光部分に遮光パターンの無いガラスマスクを乗せて測定を行った。こうすることで、マスクでの反射による照度の減少を加味した実露光量の測定が可能になる。
【0357】
なお、ＮＤフィルターを使用する場合は、ＮＤフィルターは露光マスクより光源に近い側にセットした。実露光量は、ＮＤフィルターをセットした状態で測定した。
【0358】
照度計には、露光サンプルの最大感度波長に合致した受光器（即ち、最大感度波長に近い測定中心波長を有する受光器）をもった照度計を用いる。照度計には、ＵＳＨＩＯ社製の紫外線光量計（ＵＩＴ－２５０）を用いる。例えば、最大感度波長が、ｉ線の場合は、受光器にはＵＶＤ－Ｓ３６５を用いる。また、ｇ線又はｈ線の場合には、露光器には、ＵＶＤ－Ｓ４０５を用いる。
【0359】
最大感度波長とは、光の波長毎に感光性樹脂層が反応する最低露光量を分光感度として求め、最低露光量が最も小さくなる波長を指す。
【0360】
なお、最大感度波長は、予め以下のようにして決定した。
基板に感光性樹脂層に対し、特定波長の光を、ストーファー４１０５ステップウエッジタブレットを通して照射した際に、感光材が反応を起こす最低露光量をＥｍｉｎとした。照射する波長を変えることで、分光感度曲線が取得できる。Ｅｍｉｎは波長ごとに異なるため、最小値をとる波長が最大感度波長となる。
基板に感光性樹脂層に対し、特定波長の光を、ストーファー４１０５ステップウエッジタブレットを通して照射した際に、感光材が反応を起こす最低露光量をＥｍｉｎとした。照射する波長を変えることで、分光感度曲線が取得できる。Ｅｍｉｎは波長ごとに異なるため、最小値をとる波長が最大感度波長となる。
【0361】
ネガ型感光性樹脂層においては、露光部が残存する最低露光量をＥｍｉｎとする。
なお、光源光が高圧水銀灯のように離散的な（ｇ線、ｈ線、ｉ線のように）光量分布を持つ場合、バンドパスフィルタ等を用いて照射光の波長制御を行う場合、感光材に実際に当たる光の中で最も感度が高い波長を最大感度波長とする。例えば、ある感材の分光感度曲線で最小値が２９０ｎｍにあり、２番目が３６５ｎｍ（ｉ線）にあったとする。高圧水銀灯では２９０ｎｍの光は実質的にほとんど出ていないため、この感材を高圧水銀灯で露光する場合は３６５ｎｍが最大感度波長となる。
なお、光源光が高圧水銀灯のように離散的な（ｇ線、ｈ線、ｉ線のように）光量分布を持つ場合、バンドパスフィルタ等を用いて照射光の波長制御を行う場合、感光材に実際に当たる光の中で最も感度が高い波長を最大感度波長とする。例えば、ある感材の分光感度曲線で最小値が２９０ｎｍにあり、２番目が３６５ｎｍ（ｉ線）にあったとする。高圧水銀灯では２９０ｎｍの光は実質的にほとんど出ていないため、この感材を高圧水銀灯で露光する場合は３６５ｎｍが最大感度波長となる。
【0362】
感光性転写材料１の最大感度波長は、ｉ線、３５６ｎｍであった。
【0363】
現像は、２８℃の１．０質量％炭酸ナトリウム水溶液を現像液として現像を行い、現像時間は最小現像時間の２倍の時間とした。最小現像時間とは、未露光部分の感光性樹脂層が現像処理によって完全に溶解するのに要する最も少ない時間を言う。現像はシャワー現像で行った。
【0364】
具体的には、先ず、シャワー現像で未露光部の感光性樹脂層が完全に溶解するのに要する最も少ない時間を求めた。次に、パターン露光された感光性樹脂層に対してシャワー現像を最小現像時間の２倍の時間行った。その後、ＡｉｒＫｎｉｆｅ（エアナイフ）処理をして、現像液を除去した後、２５℃の純水で３０秒間シャワー処理をして、更にＡｉｒＫｎｉｆｅ処理を行った。
【0365】
最大感度波長を求める際の現像条件、最大残膜段数を求める際の現像条件、サンプルを現像する際の現像条件は全て上記の方法で行った。
【0366】
＜フォトマスクの遮光幅Ｗｍ＞
フォトマスクの遮光幅Ｗｍは、各遮光部の寸法が、縦１０μｍ×横１０μｍ～縦２０μｍ×横２０μｍの範囲で０．１μｍ単位で変化している露光マスクを用いて、露光・現像し、得られたサンプルにおいて樹脂パターンの開口幅（レジスト開口幅）が、最も１５．０μｍに近くなる遮光幅を選択した。
フォトマスクの遮光幅Ｗｍは、各遮光部の寸法が、縦１０μｍ×横１０μｍ～縦２０μｍ×横２０μｍの範囲で０．１μｍ単位で変化している露光マスクを用いて、露光・現像し、得られたサンプルにおいて樹脂パターンの開口幅（レジスト開口幅）が、最も１５．０μｍに近くなる遮光幅を選択した。
【0367】
＜最大感度波長における透過率＞
感光性転写材料１を０．７ｍｍ厚のソーダガラスに、ロールラミネーターを用いて、１００℃の温度、０．５ＭＰａの線圧及び４ｍ／分の線速度（ラミネート速度）という条件で感光性転写材料１とソーダガラスとを貼り合わせ、ソーダガラス上に、転写層（即ち、感光性樹脂層、水溶性樹脂層、及び熱可塑性樹脂層）、及び仮支持体をこの順に配置した。
感光性転写材料１を０．７ｍｍ厚のソーダガラスに、ロールラミネーターを用いて、１００℃の温度、０．５ＭＰａの線圧及び４ｍ／分の線速度（ラミネート速度）という条件で感光性転写材料１とソーダガラスとを貼り合わせ、ソーダガラス上に、転写層（即ち、感光性樹脂層、水溶性樹脂層、及び熱可塑性樹脂層）、及び仮支持体をこの順に配置した。
【0368】
上記サンプルの最大感度波長（３６５ｎｍ）における透過率を、０．７ｍｍ厚のソーダカラスをリファレンスとして測定した。
【0369】
＜実施例２～２１、比較例１～２＞
表１及び表２に記載の組成とした以外は、実施例１で作製した感光性転写材料１と同様にして、感光性転写材料１～１６を得た。
表１及び表２に記載の感光性転写材料１～１６のいずれかを用い、表３～表５に記載に従って露光方法を変更したこと以外は、実施例１に準ずる手順によって、実施例２～２１及び比較例１～２の積層体を製造した。
表１及び表２に記載の組成とした以外は、実施例１で作製した感光性転写材料１と同様にして、感光性転写材料１～１６を得た。
表１及び表２に記載の感光性転写材料１～１６のいずれかを用い、表３～表５に記載に従って露光方法を変更したこと以外は、実施例１に準ずる手順によって、実施例２～２１及び比較例１～２の積層体を製造した。
【0370】
＜評価＞
実施例及び比較例で製造された各積層体を用いて、以下の項目を評価した。
実施例及び比較例で製造された各積層体を用いて、以下の項目を評価した。
【0371】
（樹脂パターンの開口幅Ｗｒ／フォトマスクの遮光幅Ｗｍ）
樹脂パターンの開口幅Ｗｒと、対応するフォトマスクの遮光幅Ｗｍとの比をＷｒ／Ｗｍとした。樹脂パターンの開口幅Ｗｒは、実施例及び比較例の積層体を同一条件でそれぞれ４枚づつ製造し、１枚について面内１６点、計６４点の開口幅（現像液に溶解した部分）を測定し、その平均値を用いた。
樹脂パターンの開口幅Ｗｒと、対応するフォトマスクの遮光幅Ｗｍとの比をＷｒ／Ｗｍとした。樹脂パターンの開口幅Ｗｒは、実施例及び比較例の積層体を同一条件でそれぞれ４枚づつ製造し、１枚について面内１６点、計６４点の開口幅（現像液に溶解した部分）を測定し、その平均値を用いた。
【0372】
（フォトマスク忠実性）
得られた樹脂パターンの開口幅Ｗｒ（平均値）が１５．０μｍとなる開口パターンの対角線の長さ（Ｗｄ）と、対角線の両サイドにある突起間の長さ（Ｗｐ１及びＷｐ２）をそれぞれ測定した。
図２Ａに、対角線の両サイドに突起が観察されない開口パターンのモデル図を示し、図２Ｂに、対角線の両サイドに突起の観察される開口パターンのモデル図を示す。
下記式によって得られた値を、小数点以下第一位で四捨五入した値を突起率とした。
突起率（％）＝（（Ｗｐ１＋Ｗｐ２）／２／Ｗｄ）－１）×１００
図２Ａが参照されるように、対角線の両サイドに突起が観察されないもの（即ち、Ｗｐ１及びＷｐ２が存在しないもの）は、突起率０％とした。
得られた突起率に基づき、下記の評価基準によりフォトマスク忠実性を評価した。
得られた樹脂パターンの開口幅Ｗｒ（平均値）が１５．０μｍとなる開口パターンの対角線の長さ（Ｗｄ）と、対角線の両サイドにある突起間の長さ（Ｗｐ１及びＷｐ２）をそれぞれ測定した。
図２Ａに、対角線の両サイドに突起が観察されない開口パターンのモデル図を示し、図２Ｂに、対角線の両サイドに突起の観察される開口パターンのモデル図を示す。
下記式によって得られた値を、小数点以下第一位で四捨五入した値を突起率とした。
突起率（％）＝（（Ｗｐ１＋Ｗｐ２）／２／Ｗｄ）－１）×１００
図２Ａが参照されるように、対角線の両サイドに突起が観察されないもの（即ち、Ｗｐ１及びＷｐ２が存在しないもの）は、突起率０％とした。
得られた突起率に基づき、下記の評価基準によりフォトマスク忠実性を評価した。
【0373】
－評価基準－
５：突起率０％
４：突起率０％超５％以下
３：突起率５％超１０％以下。
２：突起率１０％超２０％以下
１：突起率２０％超
５：突起率０％
４：突起率０％超５％以下
３：突起率５％超１０％以下。
２：突起率１０％超２０％以下
１：突起率２０％超
【0374】
（線幅均一性）
実施例及び比較例の積層体を同一条件でそれぞれ４枚づつ製造し、１枚について、面内１６点、計６４点の開口幅（現像液に溶解した部分）測定し、標準偏差σを求めた。得られた標準偏差σに基づき、下記の評価基準により線幅均一性を評価した。
実施例及び比較例の積層体を同一条件でそれぞれ４枚づつ製造し、１枚について、面内１６点、計６４点の開口幅（現像液に溶解した部分）測定し、標準偏差σを求めた。得られた標準偏差σに基づき、下記の評価基準により線幅均一性を評価した。
【0375】
－評価基準－
５：σ≦０．２μｍ
４：０．２μｍ＜σ≦０．５μｍ
３：０．５μｍ＜σ≦１．０μｍ
２：１．０μｍ＜σ≦１．５μｍ
１：１．５μｍ＜σ
５：σ≦０．２μｍ
４：０．２μｍ＜σ≦０．５μｍ
３：０．５μｍ＜σ≦１．０μｍ
２：１．０μｍ＜σ≦１．５μｍ
１：１．５μｍ＜σ
【0376】
（タクトタイム）
露光機の設定露光量をタクトタイムとし、以下の評価基準で評価した。
５：露光機の設定露光量３０ｍＪ／ｃｍ２以下
４：露光機の設定露光量３０ｍＪ／ｃｍ２超４０ｍＪ／ｃｍ２以下
３：露光機の設定露光量４０ｍＪ／ｃｍ２超５０ｍＪ／ｃｍ２以下
２：露光機の設定露光量５０ｍＪ／ｃｍ２超６０ｍＪ／ｃｍ２以下
１：露光機の設定露光量６０ｍＪ／ｃｍ２超
露光機の設定露光量をタクトタイムとし、以下の評価基準で評価した。
５：露光機の設定露光量３０ｍＪ／ｃｍ２以下
４：露光機の設定露光量３０ｍＪ／ｃｍ２超４０ｍＪ／ｃｍ２以下
３：露光機の設定露光量４０ｍＪ／ｃｍ２超５０ｍＪ／ｃｍ２以下
２：露光機の設定露光量５０ｍＪ／ｃｍ２超６０ｍＪ／ｃｍ２以下
１：露光機の設定露光量６０ｍＪ／ｃｍ２超
【0377】
（ピンホール）
積層体の樹脂パターン（レジスト）の開口部分以外の部分の面積：１ｍｍ２を光学顕微鏡（Ｏｌｙｍｐｕｓ製 ＭＸ－６３）を用いて観察し、樹脂パターン上に発生した欠陥（ピンホール）の数をカウントし、以下評価の基準により評価とした。
５：ピンホール２個以下
４：ピンホール２個超５個以下
３：ピンホール５個超１０個以下、
２：ピンホール１０個超５０個以下
１：ピンホール５０個超
積層体の樹脂パターン（レジスト）の開口部分以外の部分の面積：１ｍｍ２を光学顕微鏡（Ｏｌｙｍｐｕｓ製 ＭＸ－６３）を用いて観察し、樹脂パターン上に発生した欠陥（ピンホール）の数をカウントし、以下評価の基準により評価とした。
５：ピンホール２個以下
４：ピンホール２個超５個以下
３：ピンホール５個超１０個以下、
２：ピンホール１０個超５０個以下
１：ピンホール５０個超
【0378】
以上の評価結果を、表３～表５に示す。
【0379】
【表1】
【0380】
【表2】
【0381】
表１及び表２に示す組成欄中の空欄は、該当する成分を含有していないことを示す。
【0382】
表１及び表２に示される次の略号は、それぞれ、以下の意味を有する。
「Ｍ／Ｂ」：重合体の全質量に対する重合性化合物の全質量の比
「重合体Ｂ１」：メタクリル酸ベンジル（ＢｚＭＡ）／メタクリル酸（ＭＡＡ）／アクリル酸（ＡＡ）＝７８／１４．５／７．５（質量比）、Ｍｗ：１２，５００、酸価：１８７ｍｇＫＯＨ／ｇ、ガラス転移温度：７５℃、固形分：３０質量％
「重合体Ｂ２」：スチレン（Ｓｔ）／メタクリル酸メチル（ＭＭＡ）／メタクリル酸（ＭＡＡ）／メタクリル酸－メタクリル酸グリシジル（ＧＭＡ－ＭＡＡ）＝４７．７／１．３／１９／３２、Ｍｗ：２０，０００、酸価：１２４ｍｇＫＯＨ／ｇ、ガラス転移温度：７６℃、固形分：３０質量％
なお、「メタクリル酸－メタクリル酸グリシジル」は、メタクリル酸由来の構成単位のカルボキシ基にメタクリル酸グリシジルのエポキシ基を反応させてなる構成単位を表す。
「重合体Ｂ３」：スチレン（Ｓｔ）／メタクリル酸メチル（ＭＭＡ）／メタクリル酸（ＭＡＡ）＝５２／１９／２９、Ｍｗ：５０，０００、酸価：１８９ｍｇＫＯＨ／ｇ、ガラス転移温度：１３１℃、固形分：３０質量％
「Ａ－ＤＣＰ」：新中村化学工業株式会社製のＮＫエステルＡ－ＤＣＰ、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート
「８ＵＸ－０１５Ａ」：大成ファインケミカル株式会社製の８ＵＸ－０１５Ａ、ＵＶ硬化型ウレタンクリレート
「ＴＯ－２３４９」：東亞合成株式会社製のアロニックスＴＯ－２３４９
「ＣＢＴ－１」：城北化学工業株式会社製のＣＢＴ－１、カルボキシベンゾトリアゾール
「Ｆ－５５２」：ＤＩＣ株式会社製のメガファックＦ－５５２、フッ素系界面活性剤、固形分＝３０質量％（メチルエチルケトン溶液）
「ＰＶＡ」：株式会社クラレ製のＰＶＡ２０５、ポリビニルアルコール
「ＰＶＰ」：株式会社日本触媒製のＫ－３０、ポリビニルピロリドン
「ＨＰＭＣ」：信越化学工業株式会社製のメトローズ６０ＳＨ－０３、ヒドロキシプロピルメチルセルロース
「Ｆ－４４４」：ＤＩＣ株式会社製のメガファックＦ－４４４、フッ素系界面活性剤
「ＭｅＯＨ」：メタノール
「ＢＰＥ－５００」：新中村化学工業株式会社製のＮＫエステルＢＰＥ－５００、（２，２－ビス（４－（メタクリロキシペンタエトキシ）フェニル）プロパン
「ＢＰＥ－１００」：新中村化学工業株式会社製のＮＫエステルＢＰＥ－１００、（２，２－ビス（４－（メタクリロキシモノエトキシ）フェニル）プロパン、（２，２－ビス（４－（メタクリロキシジエトキシ）フェニル）プロパン、の混合物。
「アロニックスＭ－２７０」：東亞合成株式会社製のアロニックスＭ－２７０、ポリプロピレングリコールジアクリレート
「Ｂ－ＩＭＤ」：黒金化成株式会社製Ｂ－ＣＩＭ（２－（２－クロロフェニル）－４，５－ジフェニルイミダゾール二量体
「ＥＡＢ－Ｆ」：三洋貿易株式会社より入手された４，４′－ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン
「フェニドン１％ＭＥＫ溶液」：１質量％のフェニドンを含むメチルエチルケトン溶液 「化合物Ａ」：富士フイルム和光純薬株式会社製のＮ－フェニルカルバモイルメチル－Ｎ－カルボキシメチルアニリン
「ＬＣＶ」：東京化成工業株式会社製のロイコクリスタルバイオレット、ラジカルにより発色する色素
「ＭＭＰＧＡｃ」：１－メトキシ－２－プロピルアセテ－ト
「ＭＥＫ」：メチルエチルケトン
「ＭＦＧ」：１－メトキシ－２－プロパノール
「Ｍ／Ｂ」：重合体の全質量に対する重合性化合物の全質量の比
「重合体Ｂ１」：メタクリル酸ベンジル（ＢｚＭＡ）／メタクリル酸（ＭＡＡ）／アクリル酸（ＡＡ）＝７８／１４．５／７．５（質量比）、Ｍｗ：１２，５００、酸価：１８７ｍｇＫＯＨ／ｇ、ガラス転移温度：７５℃、固形分：３０質量％
「重合体Ｂ２」：スチレン（Ｓｔ）／メタクリル酸メチル（ＭＭＡ）／メタクリル酸（ＭＡＡ）／メタクリル酸－メタクリル酸グリシジル（ＧＭＡ－ＭＡＡ）＝４７．７／１．３／１９／３２、Ｍｗ：２０，０００、酸価：１２４ｍｇＫＯＨ／ｇ、ガラス転移温度：７６℃、固形分：３０質量％
なお、「メタクリル酸－メタクリル酸グリシジル」は、メタクリル酸由来の構成単位のカルボキシ基にメタクリル酸グリシジルのエポキシ基を反応させてなる構成単位を表す。
「重合体Ｂ３」：スチレン（Ｓｔ）／メタクリル酸メチル（ＭＭＡ）／メタクリル酸（ＭＡＡ）＝５２／１９／２９、Ｍｗ：５０，０００、酸価：１８９ｍｇＫＯＨ／ｇ、ガラス転移温度：１３１℃、固形分：３０質量％
「Ａ－ＤＣＰ」：新中村化学工業株式会社製のＮＫエステルＡ－ＤＣＰ、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート
「８ＵＸ－０１５Ａ」：大成ファインケミカル株式会社製の８ＵＸ－０１５Ａ、ＵＶ硬化型ウレタンクリレート
「ＴＯ－２３４９」：東亞合成株式会社製のアロニックスＴＯ－２３４９
「ＣＢＴ－１」：城北化学工業株式会社製のＣＢＴ－１、カルボキシベンゾトリアゾール
「Ｆ－５５２」：ＤＩＣ株式会社製のメガファックＦ－５５２、フッ素系界面活性剤、固形分＝３０質量％（メチルエチルケトン溶液）
「ＰＶＡ」：株式会社クラレ製のＰＶＡ２０５、ポリビニルアルコール
「ＰＶＰ」：株式会社日本触媒製のＫ－３０、ポリビニルピロリドン
「ＨＰＭＣ」：信越化学工業株式会社製のメトローズ６０ＳＨ－０３、ヒドロキシプロピルメチルセルロース
「Ｆ－４４４」：ＤＩＣ株式会社製のメガファックＦ－４４４、フッ素系界面活性剤
「ＭｅＯＨ」：メタノール
「ＢＰＥ－５００」：新中村化学工業株式会社製のＮＫエステルＢＰＥ－５００、（２，２－ビス（４－（メタクリロキシペンタエトキシ）フェニル）プロパン
「ＢＰＥ－１００」：新中村化学工業株式会社製のＮＫエステルＢＰＥ－１００、（２，２－ビス（４－（メタクリロキシモノエトキシ）フェニル）プロパン、（２，２－ビス（４－（メタクリロキシジエトキシ）フェニル）プロパン、の混合物。
「アロニックスＭ－２７０」：東亞合成株式会社製のアロニックスＭ－２７０、ポリプロピレングリコールジアクリレート
「Ｂ－ＩＭＤ」：黒金化成株式会社製Ｂ－ＣＩＭ（２－（２－クロロフェニル）－４，５－ジフェニルイミダゾール二量体
「ＥＡＢ－Ｆ」：三洋貿易株式会社より入手された４，４′－ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン
「フェニドン１％ＭＥＫ溶液」：１質量％のフェニドンを含むメチルエチルケトン溶液 「化合物Ａ」：富士フイルム和光純薬株式会社製のＮ－フェニルカルバモイルメチル－Ｎ－カルボキシメチルアニリン
「ＬＣＶ」：東京化成工業株式会社製のロイコクリスタルバイオレット、ラジカルにより発色する色素
「ＭＭＰＧＡｃ」：１－メトキシ－２－プロピルアセテ－ト
「ＭＥＫ」：メチルエチルケトン
「ＭＦＧ」：１－メトキシ－２－プロパノール
【0383】
【表3】
【0384】
【表4】
【0385】
【表5】
【0386】
表３～表５に示されるとおり、実施例の積層体の製造方法によれば、フォトマスク忠実性に優れた樹脂パターンが得られ得ることが分かる。
【符号の説明】
【0387】
１０：感光性転写材料、１１：仮支持体、１２：転写層、１３：熱可塑性樹脂層、１５：水溶性樹脂層、１７：感光性樹脂層、１９：保護フィルム、Ｗｄ：開口パターンの対角線の長さ、Ｗｒ：樹脂パターンの開口幅、Ｗｐ１：突起間の長さ、Ｗｐ２：突起間の長さ
【図1】
【図2A】
【図2B】
