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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024147628
(43)【公開日】2024-10-16
(54)【発明の名称】積層体および画像表示装置
(51)【国際特許分類】
G02B 5/30 20060101AFI20241008BHJP
H10K 59/10 20230101ALI20241008BHJP
H10K 50/86 20230101ALI20241008BHJP
C09J 201/00 20060101ALI20241008BHJP
C09J 7/38 20180101ALI20241008BHJP
B32B 27/20 20060101ALI20241008BHJP
B32B 7/023 20190101ALI20241008BHJP
【ＦＩ】
G02B5/30
H10K59/10
H10K50/86
C09J201/00
C09J7/38
B32B27/20 A
B32B7/023
【審査請求】有
【請求項の数】9
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2024110330
(22)【出願日】2024-07-09
(62)【分割の表示】P 2022550558の分割
【原出願日】2021-09-14
(31)【優先権主張番号】P 2020154771
(32)【優先日】2020-09-15
(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP
(31)【優先権主張番号】P 2021147527
(32)【優先日】2021-09-10
(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP
(71)【出願人】
【識別番号】306037311
【氏名又は名称】富士フイルム株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100152984
【弁理士】
【氏名又は名称】伊東 秀明
(74)【代理人】
【識別番号】100148080
【弁理士】
【氏名又は名称】三橋 史生
(72)【発明者】
【氏名】兼岩 秀樹
(72)【発明者】
【氏名】小糸 直希
(72)【発明者】
【氏名】加藤 隆志
(72)【発明者】
【氏名】井上 拓也
(72)【発明者】
【氏名】笠原 健裕
(57)【要約】
【課題】本発明は、表示性能および耐変色性に優れた画像表示装置を作製することができる積層体、および、それを用いた画像表示装置を提供することを課題とする。
【解決手段】本発明の積層体は、２枚の基板と、上記２枚の基板の間に配置された偏光子層とを有する積層体であって、上記偏光子層が分子内に２つ以上のアゾ結合を有するアゾ色素を１種類以上含み、上記２枚の基板の透湿度がいずれも１０－３ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であり、上記２枚の基板の間に存在する水分量が０．９ｇ／ｍ２以下である、積層体である。
【選択図】なし
【解決手段】本発明の積層体は、２枚の基板と、上記２枚の基板の間に配置された偏光子層とを有する積層体であって、上記偏光子層が分子内に２つ以上のアゾ結合を有するアゾ色素を１種類以上含み、上記２枚の基板の透湿度がいずれも１０－３ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であり、上記２枚の基板の間に存在する水分量が０．９ｇ／ｍ２以下である、積層体である。
【選択図】なし
【特許請求の範囲】
【請求項1】
２枚の基板と、前記２枚の基板の間に配置された偏光子層とを有する積層体であって、
前記偏光子層が、分子内に２つ以上のアゾ結合を有するアゾ色素を１種類以上含み、
前記２枚の基板の透湿度が、いずれも１０－３ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であり、
前記２枚の基板の間に存在する水分量が０．９ｇ／ｍ２以下である、積層体。
前記偏光子層が、分子内に２つ以上のアゾ結合を有するアゾ色素を１種類以上含み、
前記２枚の基板の透湿度が、いずれも１０－３ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であり、
前記２枚の基板の間に存在する水分量が０．９ｇ／ｍ２以下である、積層体。
【請求項2】
前記２枚の基板の間に存在する水分量が０．７ｇ／ｍ２以下である、請求項１に記載の積層体。
【請求項3】
前記２枚の基板の間に存在する水分量が０．４ｇ／ｍ２以下である、請求項１に記載の積層体。
【請求項4】
更に、前記２枚の基板の間に配置された少なくとも１つの粘着剤層を有する、請求項１～３のいずれか１項に記載の積層体。
【請求項5】
前記少なくとも１つの粘着剤層における還元剤の合計含有量が０．０４ｇ／ｍ２以下である、請求項４に記載の積層体。
【請求項6】
前記少なくとも１つの粘着剤層のそれぞれの厚みが１００μｍ以上である、請求項４または５に記載の積層体。
【請求項7】
２枚の基板と、前記２枚の基板の間に配置された偏光子層と、前記２枚の基板の間に配置された少なくとも１つの粘着剤層とを有する積層体であって、
前記偏光子層が、分子内に２つ以上のアゾ結合を有するアゾ色素を１種類以上含み、
前記２枚の基板の透湿度が、いずれも１０－３ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であり、
前記少なくとも１つの粘着剤層の合計厚みが７０μｍ以下である、積層体。
前記偏光子層が、分子内に２つ以上のアゾ結合を有するアゾ色素を１種類以上含み、
前記２枚の基板の透湿度が、いずれも１０－３ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であり、
前記少なくとも１つの粘着剤層の合計厚みが７０μｍ以下である、積層体。
【請求項8】
前記少なくとも１つの粘着剤層における還元剤の合計含有量が０．０４ｇ／ｍ２以下である、請求項７に記載の積層体。
【請求項9】
前記少なくとも１つの粘着層の合計厚みが５０μｍ以上である、請求項７または８に記載の積層体。
【請求項10】
２枚の基板と、前記２枚の基板の間に配置された偏光子層と、前記２枚の基板の間に配置された少なくとも１つの低透湿層と、前記２枚の基板の間に配置された少なくとも１つの粘着剤層とを有する積層体であって、
前記偏光子層が、分子内に２つ以上のアゾ結合を有するアゾ色素を１種類以上含み、
前記２枚の基板の透湿度が、いずれも１０－３ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であり、
前記少なくとも１つの低透湿層が、前記偏光子層と前記少なくとも１つの粘着剤層との間に配置され、
前記少なくとも１つの低透湿層の透湿度が、いずれも２０ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下である、積層体。
前記偏光子層が、分子内に２つ以上のアゾ結合を有するアゾ色素を１種類以上含み、
前記２枚の基板の透湿度が、いずれも１０－３ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であり、
前記少なくとも１つの低透湿層が、前記偏光子層と前記少なくとも１つの粘着剤層との間に配置され、
前記少なくとも１つの低透湿層の透湿度が、いずれも２０ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下である、積層体。
【請求項11】
前記少なくとも１つの低透湿層が環状ポリオレフィン系樹脂を有する、請求項１０に記載の積層体。
【請求項12】
前記少なくとも１つの粘着剤層における還元剤の合計含有量が０．０４ｇ／ｍ２以下である、請求項１０または１１に記載の積層体。
【請求項13】
前記２枚の基板が、いずれもガラス基板である、請求項１～１２のいずれか１項に記載の積層体。
【請求項14】
前記２枚の基板の厚みが、いずれも１００～１１００μｍである、請求項１～１３のいずれか１項に記載の積層体。
【請求項15】
前記アゾ色素が、下記式（１）で表される化合物である、請求項１～１４のいずれか１項に記載の積層体。
前記式（１）中、Ａｒ１およびＡｒ２は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよいフェニレン基、または、置換基を有していてもよいナフチレン基を表す。
前記式（１）中、Ｒ１は、水素原子、または、置換基を有していてもよい、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルキルスルホニル基、アルキルカルボニル基、アルキルオキシカルボニル基、アシルオキシ基、アルキルカーボネート基、アルキルアミノ基、アシルアミノ基、アルキルカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アルキルスルホニルアミノ基、アルキルスルファモイル基、アルキルカルバモイル基、アルキルスルフィニル基、アルキルウレイド基、アルキルリン酸アミド基、アルキルイミノ基、もしくは、アルキルシリル基を表す。
前記式（１）中、Ｒ２およびＲ３は、それぞれ独立に、水素原子、または、置換基を有していてもよい、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アシル基、アルキルオキシカルボニル基、アルキルアミド基、アルキルスルホニル基、アリール基、アリールカルボニル基、アリールスルホニル基、アリールオキシカルボニル基、もしくは、アリールアミド基を表す。Ｒ２およびＲ３は、互いに結合して環を形成していてもよく、Ｒ２またはＲ３は、Ａｒ２と結合して環を形成していてもよい。
【化1】
前記式（１）中、Ｒ１は、水素原子、または、置換基を有していてもよい、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルキルスルホニル基、アルキルカルボニル基、アルキルオキシカルボニル基、アシルオキシ基、アルキルカーボネート基、アルキルアミノ基、アシルアミノ基、アルキルカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アルキルスルホニルアミノ基、アルキルスルファモイル基、アルキルカルバモイル基、アルキルスルフィニル基、アルキルウレイド基、アルキルリン酸アミド基、アルキルイミノ基、もしくは、アルキルシリル基を表す。
前記式（１）中、Ｒ２およびＲ３は、それぞれ独立に、水素原子、または、置換基を有していてもよい、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アシル基、アルキルオキシカルボニル基、アルキルアミド基、アルキルスルホニル基、アリール基、アリールカルボニル基、アリールスルホニル基、アリールオキシカルボニル基、もしくは、アリールアミド基を表す。Ｒ２およびＲ３は、互いに結合して環を形成していてもよく、Ｒ２またはＲ３は、Ａｒ２と結合して環を形成していてもよい。
【請求項16】
請求項１～１５のいずれか１項に記載の積層体を有する、画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、積層体および画像表示装置に関する。
【背景技術】
【0002】
従来、レーザー光または自然光を含む照射光の減衰機能、偏光機能、散乱機能、または、遮光機能等が必要となった際には、それぞれの機能ごとに異なった原理によって作動する装置を利用していた。そのため、上記の機能に対応する製品も、それぞれの機能別に異なった製造工程によって製造されていた。
例えば、画像表示装置（例えば、液晶表示装置）では、表示における旋光性または複屈折性を制御するために直線偏光子または円偏光子が用いられている。また、有機発光ダイオード（Organic Light Emitting Diode：ＯＬＥＤ）においても、外光の反射防止のために円偏光子が使用されている。
例えば、画像表示装置（例えば、液晶表示装置）では、表示における旋光性または複屈折性を制御するために直線偏光子または円偏光子が用いられている。また、有機発光ダイオード（Organic Light Emitting Diode：ＯＬＥＤ）においても、外光の反射防止のために円偏光子が使用されている。
【0003】
従来、これらの偏光子には、ヨウ素が二色性物質として広く使用されてきたが、ヨウ素の代わりに有機色素を二色性物質として使用する偏光子についても検討されている。
例えば、特許文献１には、所定の構造を有する二色性物質を含有する組成物を用いて形成される光吸収異方性膜（偏光子層）が記載されている（［請求項１］［請求項１４］）。
例えば、特許文献１には、所定の構造を有する二色性物質を含有する組成物を用いて形成される光吸収異方性膜（偏光子層）が記載されている（［請求項１］［請求項１４］）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【特許文献1】国際公開第２０１７／１９５８３３号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
本発明者らは、特許文献１に記載された偏光子層を作製し、実用上の態様（例えば、有機電界発光方式のスマートフォンの反射防止を目的とした円偏光板）に合わせて、この偏光子層を両側から透湿度の低い基板（例えば、ガラス基板）で挟みこみ、得られた積層体を高温下の条件に長時間曝した場合、積層体の面内の中央部に黄色く変色した領域が生じることが判明した。
また、本発明者らが検討を重ねたところ、積層体の作製に使用する粘着剤の組成や積層体作製時の条件に応じて、積層体の中央部に生じる変色の程度が変わることが判明した。
また、本発明者らが検討を重ねたところ、積層体の作製に使用する粘着剤の組成や積層体作製時の条件に応じて、積層体の中央部に生じる変色の程度が変わることが判明した。
【0006】
そこで、本発明は、表示性能および耐変色性に優れた画像表示装置を作製することができる積層体、および、それを用いた画像表示装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【0007】
本発明者らは、上記課題について鋭意検討した結果、以下の構成により上記課題が解決できることを見出した。
【0008】
［１］ ２枚の基板と、２枚の基板の間に配置された偏光子層とを有する積層体であって、
偏光子層が、分子内に２つ以上のアゾ結合を有するアゾ色素を１種類以上含み、
２枚の基板の透湿度が、いずれも１０－３ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であり、
２枚の基板の間に存在する水分量が０．９ｇ／ｍ２以下である、積層体。
［２］ ２枚の基板の間に存在する水分量が０．７ｇ／ｍ２以下である、［１］に記載の積層体。
［３］ ２枚の基板の間に存在する水分量が０．４ｇ／ｍ２以下である、［１］に記載の積層体。
［４］ 更に、２枚の基板の間に配置された少なくとも１つの粘着剤層を有する、［１］～［３］のいずれかに記載の積層体。
［５］ 少なくとも１つの粘着剤層における還元剤の合計含有量が０．０４ｇ／ｍ２以下である、［４］に記載の積層体。
［６］ 少なくとも１つの粘着剤層のそれぞれの厚みが１００μｍ以上である、［４］または［５］に記載の積層体。
［７］ ２枚の基板と、２枚の基板の間に配置された偏光子層と、２枚の基板の間に配置された少なくとも１つの粘着剤層とを有する積層体であって、
偏光子層が、分子内に２つ以上のアゾ結合を有するアゾ色素を１種類以上含み、
２枚の基板の透湿度が、いずれも１０－３ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であり、
少なくとも１つの粘着剤層の合計厚みが７０μｍ以下である、積層体。
［８］ 少なくとも１つの粘着剤層における還元剤の合計含有量が０．０４ｇ／ｍ２以下である、［７］に記載の積層体。
［９］ 少なくとも１つの粘着層の合計厚みが５０μｍ以上である、［７］または［８］に記載の積層体。
［１０］ ２枚の基板と、２枚の基板の間に配置された偏光子層と、２枚の基板の間に配置された少なくとも１つの低透湿層と、２枚の基板の間に配置された少なくとも１つの粘着剤層とを有する積層体であって、
偏光子層が、分子内に２つ以上のアゾ結合を有するアゾ色素を１種類以上含み、
２枚の基板の透湿度が、いずれも１０－３ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であり、
少なくとも１つの低透湿層が、偏光子層と少なくとも１つの粘着剤層との間に配置され、
少なくとも１つの低透湿層の透湿度が、いずれも２０ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下である、積層体。
［１１］ 少なくとも１つの低透湿層が環状ポリオレフィン系樹脂を有する、［１０］に記載の積層体。
［１２］ 少なくとも１つの粘着剤層における還元剤の合計含有量が０．０４ｇ／ｍ２以下である、［１０］または［１１］に記載の積層体。
［１３］ ２枚の基板が、いずれもガラス基板である、［１］～［１２］のいずれかに記載の積層体。
［１４］ ２枚の基板の厚みが、いずれも１００～１１００μｍである、［１］～［１３］のいずれかに記載の積層体。
［１５］ アゾ色素が、後述する式（１）で表される化合物である、［１］～［１４］のいずれかに記載の積層体。
［１６］ ［１］～［１５］のいずれかに記載の積層体を有する、画像表示装置。
偏光子層が、分子内に２つ以上のアゾ結合を有するアゾ色素を１種類以上含み、
２枚の基板の透湿度が、いずれも１０－３ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であり、
２枚の基板の間に存在する水分量が０．９ｇ／ｍ２以下である、積層体。
［２］ ２枚の基板の間に存在する水分量が０．７ｇ／ｍ２以下である、［１］に記載の積層体。
［３］ ２枚の基板の間に存在する水分量が０．４ｇ／ｍ２以下である、［１］に記載の積層体。
［４］ 更に、２枚の基板の間に配置された少なくとも１つの粘着剤層を有する、［１］～［３］のいずれかに記載の積層体。
［５］ 少なくとも１つの粘着剤層における還元剤の合計含有量が０．０４ｇ／ｍ２以下である、［４］に記載の積層体。
［６］ 少なくとも１つの粘着剤層のそれぞれの厚みが１００μｍ以上である、［４］または［５］に記載の積層体。
［７］ ２枚の基板と、２枚の基板の間に配置された偏光子層と、２枚の基板の間に配置された少なくとも１つの粘着剤層とを有する積層体であって、
偏光子層が、分子内に２つ以上のアゾ結合を有するアゾ色素を１種類以上含み、
２枚の基板の透湿度が、いずれも１０－３ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であり、
少なくとも１つの粘着剤層の合計厚みが７０μｍ以下である、積層体。
［８］ 少なくとも１つの粘着剤層における還元剤の合計含有量が０．０４ｇ／ｍ２以下である、［７］に記載の積層体。
［９］ 少なくとも１つの粘着層の合計厚みが５０μｍ以上である、［７］または［８］に記載の積層体。
［１０］ ２枚の基板と、２枚の基板の間に配置された偏光子層と、２枚の基板の間に配置された少なくとも１つの低透湿層と、２枚の基板の間に配置された少なくとも１つの粘着剤層とを有する積層体であって、
偏光子層が、分子内に２つ以上のアゾ結合を有するアゾ色素を１種類以上含み、
２枚の基板の透湿度が、いずれも１０－３ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であり、
少なくとも１つの低透湿層が、偏光子層と少なくとも１つの粘着剤層との間に配置され、
少なくとも１つの低透湿層の透湿度が、いずれも２０ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下である、積層体。
［１１］ 少なくとも１つの低透湿層が環状ポリオレフィン系樹脂を有する、［１０］に記載の積層体。
［１２］ 少なくとも１つの粘着剤層における還元剤の合計含有量が０．０４ｇ／ｍ２以下である、［１０］または［１１］に記載の積層体。
［１３］ ２枚の基板が、いずれもガラス基板である、［１］～［１２］のいずれかに記載の積層体。
［１４］ ２枚の基板の厚みが、いずれも１００～１１００μｍである、［１］～［１３］のいずれかに記載の積層体。
［１５］ アゾ色素が、後述する式（１）で表される化合物である、［１］～［１４］のいずれかに記載の積層体。
［１６］ ［１］～［１５］のいずれかに記載の積層体を有する、画像表示装置。
【発明の効果】
【0009】
本発明によれば、表示性能および耐変色性に優れた画像表示装置を作製することができる積層体、および、それを用いた画像表示装置を提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【0010】
以下、本発明について詳細に説明する。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。
なお、本明細書において、「～」を用いて表される数値範囲は、「～」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
また、本明細書において、各成分は、各成分に該当する物質を１種単独で用いても、２種以上を併用してもよい。ここで、各成分について２種以上の物質を併用する場合、その成分についての含有量とは、特段の断りが無い限り、併用した物質の合計の含有量を指す。
また、本明細書において、基板に関する規定（例えば、厚み、種類など）は、特段の断りが無い限り、２枚の基板に関する共通規定を指す。
また、本明細書において、粘着剤層が複数存在している場合、粘着剤層に関する規定（例えば、厚み、還元剤含有量など）は、特段の断りが無い限り、複数の粘着剤層に関する共通規定を指す。
また、本明細書において、低透湿層が複数存在している場合、低透湿層に関する規定（例えば、厚み、透湿度など）は、特段の断りが無い限り、複数の低透湿層に関する共通規定を指す。
また、本明細書において、「（メタ）アクリレート」は、「アクリレート」または「メタクリレート」を表す表記であり、「（メタ）アクリル」は、「アクリル」または「メタクリル」を表す表記であり、「（メタ）アクリロイル」は、「アクリロイル」または「メタクリロイル」を表す表記である。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。
なお、本明細書において、「～」を用いて表される数値範囲は、「～」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
また、本明細書において、各成分は、各成分に該当する物質を１種単独で用いても、２種以上を併用してもよい。ここで、各成分について２種以上の物質を併用する場合、その成分についての含有量とは、特段の断りが無い限り、併用した物質の合計の含有量を指す。
また、本明細書において、基板に関する規定（例えば、厚み、種類など）は、特段の断りが無い限り、２枚の基板に関する共通規定を指す。
また、本明細書において、粘着剤層が複数存在している場合、粘着剤層に関する規定（例えば、厚み、還元剤含有量など）は、特段の断りが無い限り、複数の粘着剤層に関する共通規定を指す。
また、本明細書において、低透湿層が複数存在している場合、低透湿層に関する規定（例えば、厚み、透湿度など）は、特段の断りが無い限り、複数の低透湿層に関する共通規定を指す。
また、本明細書において、「（メタ）アクリレート」は、「アクリレート」または「メタクリレート」を表す表記であり、「（メタ）アクリル」は、「アクリル」または「メタクリル」を表す表記であり、「（メタ）アクリロイル」は、「アクリロイル」または「メタクリロイル」を表す表記である。
【0011】
＜積層体＞
本発明の積層体は、以下に示す、第１の態様～第３の態様に係る積層体である。
本発明の積層体は、以下に示す、第１の態様～第３の態様に係る積層体である。
【0012】
本発明の第１の態様に係る積層体は、２枚の基板と、２枚の基板の間に配置された偏光子層とを有する積層体であって、偏光子層が分子内に２つ以上のアゾ結合を有するアゾ色素を１種類以上含み、２枚の基板の透湿度がいずれも１０－３ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であり、２枚の基板の間に存在する水分量が０．９ｇ／ｍ２以下となる、積層体である。
【0013】
本発明の第２の態様に係る積層体は、２枚の基板と、２枚の基板の間に配置された偏光子層と、２枚の基板の間に配置された少なくとも１つの粘着剤層とを有する積層体であって、偏光子層が分子内に２つ以上のアゾ結合を有するアゾ色素を１種類以上含み、２枚の基板の透湿度がいずれも１０－３ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であり、少なくとも１つの粘着剤層の合計厚みが７０μｍ以下となる、積層体である。
【0014】
本発明の第３の態様に係る積層体は、２枚の基板と、２枚の基板の間に配置された偏光子層と、２枚の基板の間に配置された少なくとも１つの低透湿層と、２枚の基板の間に配置された少なくとも１つの粘着剤層とを有する積層体であって、偏光子層が分子内に２つ以上のアゾ結合を有するアゾ色素を１種類以上含み、２枚の基板の透湿度がいずれも１０－３ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であり、少なくとも１つの低透湿層が偏光子層と少なくとも１つの粘着剤層との間に配置され、少なくとも１つの低透湿層の透湿度がいずれも２０ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下となる、積層体である。
【0015】
以下、本発明の第１の態様～第３の態様に係る積層体（以下、特に区別を要しない場合には「本発明の積層体」とも略す。）を構成する部材について詳述する。
【0016】
［基板］
本発明の積層体は、２枚の基板を有する。
基板の透湿度は、１０－３ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であり、本発明の積層体が適用される有機電界発光装置および液晶表示装置などの耐久性の観点から、１０－４ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下が好ましく、１０－５ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下がより好ましい。下限は特に制限されないが、１０－１０ｇ／ｍ２・ｄａｙ以上の場合が多い。
基板の透湿度の測定方法は、以下の通りである。測定温度４０℃、相対湿度９０％の条件下で、水蒸気透過率測定装置（ＭＯＣＯＮ，ＩＮＣ．製のＡＱＵＡＴＲＡＮ２（登録商標））を用いて測定する。
本発明の積層体は、２枚の基板を有する。
基板の透湿度は、１０－３ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であり、本発明の積層体が適用される有機電界発光装置および液晶表示装置などの耐久性の観点から、１０－４ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下が好ましく、１０－５ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下がより好ましい。下限は特に制限されないが、１０－１０ｇ／ｍ２・ｄａｙ以上の場合が多い。
基板の透湿度の測定方法は、以下の通りである。測定温度４０℃、相対湿度９０％の条件下で、水蒸気透過率測定装置（ＭＯＣＯＮ，ＩＮＣ．製のＡＱＵＡＴＲＡＮ２（登録商標））を用いて測定する。
【0017】
基板を構成する材料は特に制限されず、無機物であっても、有機物であってもよい。
基板としては、透湿度が規定より低ければ特に制限されないが、例えば、ガラス基板、および、ガスバリアフィルム等が挙げられる。より具体的には、有機電界発光装置に用いられる封止ガラス、液晶セル中のガラスおよび表面カバーガラス等のガラス基板、ならびに、ハイバリアフィルムおよび有機電界発光装置に用いられるバリアフィルム等のガスバリアフィルムが挙げられる。
基板は、単層構造であってもよいし、複層構造であってもよい。
また、それぞれの基板の表面側には、表面硬化層（ハードコート層）および空気界面で生じる表面反射を抑制した低反射層などの機能層を１層または複数層を有していてもよい。
基板としては、透湿度が規定より低ければ特に制限されないが、例えば、ガラス基板、および、ガスバリアフィルム等が挙げられる。より具体的には、有機電界発光装置に用いられる封止ガラス、液晶セル中のガラスおよび表面カバーガラス等のガラス基板、ならびに、ハイバリアフィルムおよび有機電界発光装置に用いられるバリアフィルム等のガスバリアフィルムが挙げられる。
基板は、単層構造であってもよいし、複層構造であってもよい。
また、それぞれの基板の表面側には、表面硬化層（ハードコート層）および空気界面で生じる表面反射を抑制した低反射層などの機能層を１層または複数層を有していてもよい。
【0018】
基板は、透明であることが好ましく、いわゆる透明基板であることが好ましい。
なお、本明細書において、「透明」とは、可視光の透過率が６０％以上であることを示し、８０％以上が好ましく、９０％以上がより好ましい。上限は特に制限されないが、１００％未満の場合が多い。
なお、本明細書において、「透明」とは、可視光の透過率が６０％以上であることを示し、８０％以上が好ましく、９０％以上がより好ましい。上限は特に制限されないが、１００％未満の場合が多い。
【0019】
本発明においては、本発明の効果が顕在化する理由から、２枚の基板がいずれもガラス基板であることが好ましい。
【0020】
基板の厚みは特に制限されないが、薄型化の点から、１１００μｍ以下が好ましく、７００μｍ以下がより好ましく、５００μｍ以下が更に好ましい。下限は特に制限されないが、１０μｍ以上が好ましく、５０μｍ以上がより好ましく、１００μｍ以上が更に好ましく、２００μｍ以上が特に好ましい。
本発明においては、本発明の効果が顕在化する理由から、２枚の基板の厚みが、いずれも１００～１１００μｍであることが好ましく、１００～７００μｍであることがより好ましく、２００～５００μｍであることが更に好ましい。
本発明においては、本発明の効果が顕在化する理由から、２枚の基板の厚みが、いずれも１００～１１００μｍであることが好ましく、１００～７００μｍであることがより好ましく、２００～５００μｍであることが更に好ましい。
【0021】
［偏光子層］
本発明の積層体は、偏光子層を有する。
本発明の積層体が有する偏光子層は、分子内に２つ以上のアゾ結合を有するアゾ色素（以下、形式的に「本発明のアゾ色素」とも略す。）を１種類以上含む。
本発明のアゾ色素は、二色性を有する二色性物質であることが好ましい。
本発明において、二色性物質とは、方向によって吸光度が異なる色素を意味する。
本発明の積層体は、偏光子層を有する。
本発明の積層体が有する偏光子層は、分子内に２つ以上のアゾ結合を有するアゾ色素（以下、形式的に「本発明のアゾ色素」とも略す。）を１種類以上含む。
本発明のアゾ色素は、二色性を有する二色性物質であることが好ましい。
本発明において、二色性物質とは、方向によって吸光度が異なる色素を意味する。
【0022】
〔アゾ色素〕
本発明のアゾ色素は液晶性を示してもよいし、液晶性を示さなくてもよい。
アゾ色素が液晶性を示す場合には、ネマチック性またはスメクチック性のいずれを示してもよい。液晶相を示す温度範囲は、室温（約２０℃～２８℃）～３００℃が好ましく、取扱い性および製造適性の観点から、５０℃～２００℃であることがより好ましい。
本発明のアゾ色素は、核であり、２つ以上のアゾ結合を有する発色団と、発色団の末端に結合する側鎖と、を有する化合物であることが好ましい。
発色団は、アゾ結合に加えて芳香族環基（例えば、芳香族炭化水素基、芳香族複素環基）を有する構造が好ましく、芳香族環基と２つまたは３つのアゾ結合とを有するビスアゾまたはトリスアゾ構造がより好ましく、芳香族複素環基（特に好ましくはチエノチアゾール基）と２つのアゾ結合を有するビスアゾ構造が更に好ましい。
側鎖としては、特に限定されず、後述の式（１）のＲ１、Ｒ２またはＲ３で表される基が挙げられる。
本発明のアゾ色素は液晶性を示してもよいし、液晶性を示さなくてもよい。
アゾ色素が液晶性を示す場合には、ネマチック性またはスメクチック性のいずれを示してもよい。液晶相を示す温度範囲は、室温（約２０℃～２８℃）～３００℃が好ましく、取扱い性および製造適性の観点から、５０℃～２００℃であることがより好ましい。
本発明のアゾ色素は、核であり、２つ以上のアゾ結合を有する発色団と、発色団の末端に結合する側鎖と、を有する化合物であることが好ましい。
発色団は、アゾ結合に加えて芳香族環基（例えば、芳香族炭化水素基、芳香族複素環基）を有する構造が好ましく、芳香族環基と２つまたは３つのアゾ結合とを有するビスアゾまたはトリスアゾ構造がより好ましく、芳香族複素環基（特に好ましくはチエノチアゾール基）と２つのアゾ結合を有するビスアゾ構造が更に好ましい。
側鎖としては、特に限定されず、後述の式（１）のＲ１、Ｒ２またはＲ３で表される基が挙げられる。
【0023】
本発明のアゾ色素は、偏光子層の配向度がより向上する点、および、表示性能および耐変色性により優れた画像表示装置を作製することができる点（以下、「本発明の効果がより優れる点」と略す。）から、式（１）で表される化合物であるのが好ましい。
【0024】
【化1】
【0025】
式（１）中、Ａｒ１およびＡｒ２は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよいフェニレン基または置換基を有していてもよいナフチレン基を表し、本発明の効果がより優れる点から、フェニレン基が好ましい。
【0026】
式（１）中、Ｒ１は、水素原子、または、置換基を有していてもよい、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルキルスルホニル基、アルキルカルボニル基、アルキルオキシカルボニル基、アシルオキシ基、アルキルカーボネート基、アルキルアミノ基、アシルアミノ基、アルキルカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アルキルスルホニルアミノ基、アルキルスルファモイル基、アルキルカルバモイル基、アルキルスルフィニル基、アルキルウレイド基、アルキルリン酸アミド基、アルキルイミノ基、もしくは、アルキルシリル基を表す。
Ｒ１における置換基を有するアルキル基としては、アルキル基の炭素原子が－Ｏ－、－ＣＯ－、－Ｃ（Ｏ）－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（Ｏ）－、－Ｓｉ（ＣＨ３）２－Ｏ－Ｓｉ（ＣＨ３）２－、－Ｎ（Ｒ１’）－、－Ｎ（Ｒ１’）－ＣＯ－、－ＣＯ－Ｎ（Ｒ１’）－、－Ｎ（Ｒ１’）－Ｃ（Ｏ）－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（Ｏ）－Ｎ（Ｒ１’）－、－Ｎ（Ｒ１’）－Ｃ（Ｏ）－Ｎ（Ｒ１’）－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－Ｃ≡Ｃ－、－Ｎ＝Ｎ－、－Ｃ（Ｒ１’）＝ＣＨ－Ｃ（Ｏ）－または－Ｏ－Ｃ（Ｏ）－Ｏ－によって置換された基が挙げられる。アルキル基の炭素原子は、１個以上が上記基によって置換されていてもよいし、２個以上が上記基によって置換されていてもよい。
Ｒ１におけるアルキル基の炭素数は、１～２０が好ましく、２～１８がより好ましく、４～１４が更に好ましく、８～１２が特に好ましい。
Ｒ１におけるアルキル基は、直鎖状、分岐状および環状のいずれの構造であってもよいが、本発明の効果がより優れる点から、直鎖状または分岐状が好ましく、直鎖状がより好ましい。
Ｒ１が水素原子以外の基である場合、各基が有する水素原子は、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、－Ｎ（Ｒ１’）２、アミノ基、－Ｃ（Ｒ１’）＝Ｃ（Ｒ１’）－ＮＯ２、－Ｃ（Ｒ１’）＝Ｃ（Ｒ１’）－ＣＮ、または、－Ｃ（Ｒ１’）＝Ｃ（ＣＮ）２によって置換されていてもよい。各基が有する水素原子は、１個以上が上記基によって置換されていてもよいし、２個以上が上記基によって置換されていてもよい。
Ｒ１’は、水素原子または炭素数１～６の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基を表す。各基において、Ｒ１’が複数存在する場合、互いに同一であっても異なっていてもよい。
Ｒ１における置換基を有するアルキル基としては、アルキル基の炭素原子が－Ｏ－、－ＣＯ－、－Ｃ（Ｏ）－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（Ｏ）－、－Ｓｉ（ＣＨ３）２－Ｏ－Ｓｉ（ＣＨ３）２－、－Ｎ（Ｒ１’）－、－Ｎ（Ｒ１’）－ＣＯ－、－ＣＯ－Ｎ（Ｒ１’）－、－Ｎ（Ｒ１’）－Ｃ（Ｏ）－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（Ｏ）－Ｎ（Ｒ１’）－、－Ｎ（Ｒ１’）－Ｃ（Ｏ）－Ｎ（Ｒ１’）－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－Ｃ≡Ｃ－、－Ｎ＝Ｎ－、－Ｃ（Ｒ１’）＝ＣＨ－Ｃ（Ｏ）－または－Ｏ－Ｃ（Ｏ）－Ｏ－によって置換された基が挙げられる。アルキル基の炭素原子は、１個以上が上記基によって置換されていてもよいし、２個以上が上記基によって置換されていてもよい。
Ｒ１におけるアルキル基の炭素数は、１～２０が好ましく、２～１８がより好ましく、４～１４が更に好ましく、８～１２が特に好ましい。
Ｒ１におけるアルキル基は、直鎖状、分岐状および環状のいずれの構造であってもよいが、本発明の効果がより優れる点から、直鎖状または分岐状が好ましく、直鎖状がより好ましい。
Ｒ１が水素原子以外の基である場合、各基が有する水素原子は、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、－Ｎ（Ｒ１’）２、アミノ基、－Ｃ（Ｒ１’）＝Ｃ（Ｒ１’）－ＮＯ２、－Ｃ（Ｒ１’）＝Ｃ（Ｒ１’）－ＣＮ、または、－Ｃ（Ｒ１’）＝Ｃ（ＣＮ）２によって置換されていてもよい。各基が有する水素原子は、１個以上が上記基によって置換されていてもよいし、２個以上が上記基によって置換されていてもよい。
Ｒ１’は、水素原子または炭素数１～６の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基を表す。各基において、Ｒ１’が複数存在する場合、互いに同一であっても異なっていてもよい。
【0027】
式（１）中、Ｒ２およびＲ３は、それぞれ独立に、水素原子、または、置換基を有していてもよい、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アシル基、アルキルオキシカルボニル基、アルキルアミド基、アルキルスルホニル基、アリール基、アリールカルボニル基、アリールスルホニル基、アリールオキシカルボニル基、もしくは、アリールアミド基を表す。
Ｒ２およびＲ３における置換基を有するアルキル基としては、アルキル基の炭素原子が－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｃ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）－Ｓ－、－Ｓ－Ｃ（Ｏ）－、－Ｓｉ（ＣＨ3）2－Ｏ－Ｓｉ（ＣＨ3）2－、－ＮＲ２’－、－ＮＲ２’－ＣＯ－、－ＣＯ－ＮＲ２’－、－ＮＲ２’－Ｃ（Ｏ）－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（Ｏ）－ＮＲ２’－、－ＮＲ２’－Ｃ（Ｏ）－ＮＲ２’－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－Ｃ≡Ｃ－、－Ｎ＝Ｎ－、－Ｃ（Ｒ２’）＝ＣＨ－Ｃ（Ｏ）－、または、－Ｏ－Ｃ（Ｏ）－Ｏ－によって置換された基が挙げられる。アルキル基の炭素原子は、１個以上が上記基によって置換されていてもよいし、２個以上が上記基によって置換されていてもよい。
Ｒ２およびＲ３におけるアルキル基の炭素数は、１～２０が好ましく、１～１６がより好ましく、１～８が更に好ましく、１～４が特に好ましい。
Ｒ２およびＲ３におけるアルキル基は、直鎖状、分岐状および環状のいずれの構造であってもよいが、本発明の効果がより優れる点から、直鎖状または分岐状が好ましく、直鎖状がより好ましい。
Ｒ２およびＲ３が水素原子以外の基である場合、各基が有する水素原子は、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、－ＯＨ基、－Ｎ（Ｒ２’）２、アミノ基、－Ｃ（Ｒ２’）＝Ｃ（Ｒ２’）－ＮＯ２、－Ｃ（Ｒ２’）＝Ｃ（Ｒ２’）－ＣＮ、－Ｃ（Ｒ２’）＝Ｃ（ＣＮ）２、によって置換されていてもよい。各基が有する水素原子は、１個以上が上記基によって置換されていてもよいし、２個以上が上記基によって置換されていてもよい。
Ｒ２’は、水素原子または炭素数１～６の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基を表す。各基において、Ｒ２’が複数存在する場合、互いに同一であっても異なっていてもよい。
Ｒ２およびＲ３は、互いに結合して環を形成してもよいし、Ｒ２またはＲ３は、Ａｒ２と結合して環を形成してもよい。
Ｒ２およびＲ３における置換基を有するアルキル基としては、アルキル基の炭素原子が－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｃ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）－Ｓ－、－Ｓ－Ｃ（Ｏ）－、－Ｓｉ（ＣＨ3）2－Ｏ－Ｓｉ（ＣＨ3）2－、－ＮＲ２’－、－ＮＲ２’－ＣＯ－、－ＣＯ－ＮＲ２’－、－ＮＲ２’－Ｃ（Ｏ）－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（Ｏ）－ＮＲ２’－、－ＮＲ２’－Ｃ（Ｏ）－ＮＲ２’－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－Ｃ≡Ｃ－、－Ｎ＝Ｎ－、－Ｃ（Ｒ２’）＝ＣＨ－Ｃ（Ｏ）－、または、－Ｏ－Ｃ（Ｏ）－Ｏ－によって置換された基が挙げられる。アルキル基の炭素原子は、１個以上が上記基によって置換されていてもよいし、２個以上が上記基によって置換されていてもよい。
Ｒ２およびＲ３におけるアルキル基の炭素数は、１～２０が好ましく、１～１６がより好ましく、１～８が更に好ましく、１～４が特に好ましい。
Ｒ２およびＲ３におけるアルキル基は、直鎖状、分岐状および環状のいずれの構造であってもよいが、本発明の効果がより優れる点から、直鎖状または分岐状が好ましく、直鎖状がより好ましい。
Ｒ２およびＲ３が水素原子以外の基である場合、各基が有する水素原子は、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、－ＯＨ基、－Ｎ（Ｒ２’）２、アミノ基、－Ｃ（Ｒ２’）＝Ｃ（Ｒ２’）－ＮＯ２、－Ｃ（Ｒ２’）＝Ｃ（Ｒ２’）－ＣＮ、－Ｃ（Ｒ２’）＝Ｃ（ＣＮ）２、によって置換されていてもよい。各基が有する水素原子は、１個以上が上記基によって置換されていてもよいし、２個以上が上記基によって置換されていてもよい。
Ｒ２’は、水素原子または炭素数１～６の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基を表す。各基において、Ｒ２’が複数存在する場合、互いに同一であっても異なっていてもよい。
Ｒ２およびＲ３は、互いに結合して環を形成してもよいし、Ｒ２またはＲ３は、Ａｒ２と結合して環を形成してもよい。
【0028】
本発明の効果がより優れる点から、Ｒ１は電子吸引性基であることが好ましく、Ｒ２およびＲ３は電子供与性が低い基であることが好ましい。
Ｒ１が電子吸引性基である基の具体例として、Ｒ１としては、アルキルスルホニル基、アルキルカルボニル基、アルキルオキシカルボニル基、アシルオキシ基、アルキルスルホニルアミノ基、アルキルスルファモイル基、アルキルスルフィニル基、アルキルウレイド基、および、炭素原子が－Ｃ（Ｏ）－Ｏ－および－Ｏ－で置換されたアルキル基が挙げられる。炭素原子が－Ｃ（Ｏ）－Ｏ－および－Ｏ－で置換されたアルキル基としては、Ｒ１１－Ｃ（Ｏ）－Ｏ－Ｒ１２－Ｏ－で表される基が好ましい。Ｒ１１は、炭素数１～６（好ましくは炭素数１～３）の直鎖状または分岐状のアルキル基を表し、Ｒ１２は、炭素数１～２０（好ましくは炭素数２～１８）の直鎖状または分岐状のアルキレン基を表す。
Ｒ２およびＲ３が電子供与性の低い基である場合の具体例としては、下記の構造の基が挙げられる。なお下記の構造の基は、上記式（１）において、Ｒ２およびＲ３が結合する窒素原子を含む形で示す。
Ｒ１が電子吸引性基である基の具体例として、Ｒ１としては、アルキルスルホニル基、アルキルカルボニル基、アルキルオキシカルボニル基、アシルオキシ基、アルキルスルホニルアミノ基、アルキルスルファモイル基、アルキルスルフィニル基、アルキルウレイド基、および、炭素原子が－Ｃ（Ｏ）－Ｏ－および－Ｏ－で置換されたアルキル基が挙げられる。炭素原子が－Ｃ（Ｏ）－Ｏ－および－Ｏ－で置換されたアルキル基としては、Ｒ１１－Ｃ（Ｏ）－Ｏ－Ｒ１２－Ｏ－で表される基が好ましい。Ｒ１１は、炭素数１～６（好ましくは炭素数１～３）の直鎖状または分岐状のアルキル基を表し、Ｒ１２は、炭素数１～２０（好ましくは炭素数２～１８）の直鎖状または分岐状のアルキレン基を表す。
Ｒ２およびＲ３が電子供与性の低い基である場合の具体例としては、下記の構造の基が挙げられる。なお下記の構造の基は、上記式（１）において、Ｒ２およびＲ３が結合する窒素原子を含む形で示す。
【0029】
【化2】
【0030】
アゾ色素の具体例を以下に示すが、これに限定されるものではない。
【0031】
【化3】
【0032】
本発明のアゾ色素は、偏光子の色味調整の観点から、最大吸収波長が５６０ｎｍ以上７００ｎｍ以下（より好ましくは５６０～６５０ｎｍ、特に好ましくは５６０～６４０ｎｍ）の範囲に最大吸収波長を有することが好ましい。
本明細書におけるアゾ色素の最大吸収波長（ｎｍ）は、アゾ色素を良溶媒中に溶解させた溶液を用いて、分光光度計によって測定される波長３８０～８００ｎｍの範囲における紫外可視光スペクトルから求められる。
本明細書におけるアゾ色素の最大吸収波長（ｎｍ）は、アゾ色素を良溶媒中に溶解させた溶液を用いて、分光光度計によって測定される波長３８０～８００ｎｍの範囲における紫外可視光スペクトルから求められる。
【0033】
偏光子層は、複数のアゾ色素を含んでいてよいし、アゾ色素以外の二色性物質を含んでいてもよい。アゾ色素およびアゾ色素以外の二色性物質は偏光子層中において重合していてもよいし、重合していなくてもよい。
偏光子層は、低分子液晶化合物や高分子液晶化化合物を含んでいてもよい。低分子液晶化合物や高分子液晶化合物は各々が偏光子層中において重合していてもよいし、重合していなくてもよい。
偏光子層は、低分子液晶化合物や高分子液晶化化合物を含んでいてもよい。低分子液晶化合物や高分子液晶化合物は各々が偏光子層中において重合していてもよいし、重合していなくてもよい。
【0034】
偏光子層の厚さは、特に限定されないが、後述する本発明の積層体を偏光素子に用いた場合のフレキシブル性の観点から、１００～８０００ｎｍであることが好ましく、３００～５０００ｎｍであることがより好ましい。
【0035】
偏光子層を製造する方法として、例えば、液晶性化合物、アゾ色素などを含有する偏光子形成用組成物を塗布して形成する方法が挙げられる。以下、偏光子形成用組成物に含まれる各成分について詳述する。
【0036】
＜液晶性化合物＞
偏光子形成用組成物が含有する液晶性化合物としては、高分子液晶性化合物および低分子液晶性化合物のいずれも用いることができ、配向度を高くできる理由から、高分子液晶性化合物を用いることが好ましい。
ここで、「高分子液晶性化合物」とは、化学構造中に繰り返し単位を有する液晶性化合物のことをいう。
また、「低分子液晶性化合物」とは、化学構造中に繰り返し単位を有さない液晶性化合物のことをいう。
高分子液晶性化合物としては、例えば、特開２０１１－２３７５１３号公報に記載されているサーモトロピック液晶性高分子、国際公開第２０１８／１９９０９６号の［００１２］～［００４２］段落に記載されている高分子液晶性化合物などが挙げられる。
低分子液晶性化合物としては、例えば、特開２０１３－２２８７０６号公報の［００７２］～［００８８］段落に記載されている液晶性化合物が挙げられ、中でも、スメクチック性を示す液晶性化合物が好ましい。
また、液晶性化合物としては、高分子液晶性化合物および低分子液晶性化合物を併用してもよい。
偏光子形成用組成物が含有する液晶性化合物としては、高分子液晶性化合物および低分子液晶性化合物のいずれも用いることができ、配向度を高くできる理由から、高分子液晶性化合物を用いることが好ましい。
ここで、「高分子液晶性化合物」とは、化学構造中に繰り返し単位を有する液晶性化合物のことをいう。
また、「低分子液晶性化合物」とは、化学構造中に繰り返し単位を有さない液晶性化合物のことをいう。
高分子液晶性化合物としては、例えば、特開２０１１－２３７５１３号公報に記載されているサーモトロピック液晶性高分子、国際公開第２０１８／１９９０９６号の［００１２］～［００４２］段落に記載されている高分子液晶性化合物などが挙げられる。
低分子液晶性化合物としては、例えば、特開２０１３－２２８７０６号公報の［００７２］～［００８８］段落に記載されている液晶性化合物が挙げられ、中でも、スメクチック性を示す液晶性化合物が好ましい。
また、液晶性化合物としては、高分子液晶性化合物および低分子液晶性化合物を併用してもよい。
【0037】
液晶性化合物は、得られる偏光子層の配向度がより高くなる理由から、下記式（１）で表される繰り返し単位（以下、「繰り返し単位（１）」とも略す。）を含む高分子液晶性化合物であることが好ましい。
【0038】
【化4】
【0039】
上記式（１）中、Ｐ１は繰り返し単位の主鎖を表し、Ｌ１は単結合または２価の連結基を表し、ＳＰ１はスペーサー基を表し、Ｍ１はメソゲン基を表し、Ｔ１は末端基を表す。
【0040】
Ｐ１が表す繰り返し単位の主鎖としては、具体的には、例えば、下記式（Ｐ１－Ａ）～（Ｐ１－Ｄ）で表される基が挙げられ、なかでも、原料となる単量体の多様性および取り扱いが容易である観点から、下記式（Ｐ１－Ａ）で表される基が好ましい。
【0041】
【化5】
【0042】
上記式（Ｐ１－Ａ）～（Ｐ１－Ｄ）において、「＊」は、上記式（１）におけるＬ１との結合位置を表す。
上記式（Ｐ１－Ａ）～（Ｐ１－Ｄ）において、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基または炭素数１～１０のアルキル基、炭素数１～１０のアルコキシ基を表す。上記アルキル基は、直鎖または分岐のアルキル基であってもよいし、環状構造を有するアルキル基（シクロアルキル基）であってもよい。また、上記アルキル基の炭素数は、１～５が好ましい。
上記式（Ｐ１－Ａ）で表される基は、（メタ）アクリル酸エステルの重合によって得られるポリ（メタ）アクリル酸エステルの部分構造の一単位であることが好ましい。
上記式（Ｐ１－Ｂ）で表される基は、エポキシ基を有する化合物のエポキシ基を開環重合して形成されるエチレングリコール単位であることが好ましい。
上記式（Ｐ１－Ｃ）で表される基は、オキセタン基を有する化合物のオキセタン基を開環重合して形成されるプロピレングリコール単位であることが好ましい。
上記式（Ｐ１－Ｄ）で表される基は、アルコキシシリル基およびシラノール基の少なくとも一方の基を有する化合物の縮重合によって得られるポリシロキサンのシロキサン単位であることが好ましい。ここで、アルコキシシリル基およびシラノール基の少なくとも一方の基を有する化合物としては、式ＳｉＲ１４（ＯＲ１５）２－で表される基を有する化合物が挙げられる。式中、Ｒ１４は、（Ｐ１－Ｄ）におけるＲ１４と同義であり、複数のＲ１５はそれぞれ独立に、水素原子または炭素数１～１０のアルキル基を表す。
上記式（Ｐ１－Ａ）～（Ｐ１－Ｄ）において、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基または炭素数１～１０のアルキル基、炭素数１～１０のアルコキシ基を表す。上記アルキル基は、直鎖または分岐のアルキル基であってもよいし、環状構造を有するアルキル基（シクロアルキル基）であってもよい。また、上記アルキル基の炭素数は、１～５が好ましい。
上記式（Ｐ１－Ａ）で表される基は、（メタ）アクリル酸エステルの重合によって得られるポリ（メタ）アクリル酸エステルの部分構造の一単位であることが好ましい。
上記式（Ｐ１－Ｂ）で表される基は、エポキシ基を有する化合物のエポキシ基を開環重合して形成されるエチレングリコール単位であることが好ましい。
上記式（Ｐ１－Ｃ）で表される基は、オキセタン基を有する化合物のオキセタン基を開環重合して形成されるプロピレングリコール単位であることが好ましい。
上記式（Ｐ１－Ｄ）で表される基は、アルコキシシリル基およびシラノール基の少なくとも一方の基を有する化合物の縮重合によって得られるポリシロキサンのシロキサン単位であることが好ましい。ここで、アルコキシシリル基およびシラノール基の少なくとも一方の基を有する化合物としては、式ＳｉＲ１４（ＯＲ１５）２－で表される基を有する化合物が挙げられる。式中、Ｒ１４は、（Ｐ１－Ｄ）におけるＲ１４と同義であり、複数のＲ１５はそれぞれ独立に、水素原子または炭素数１～１０のアルキル基を表す。
【0043】
上記式（１）中、Ｌ１は、単結合または２価の連結基である。
Ｌ１が表す２価の連結基としては、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（Ｏ）－、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｃ（Ｏ）ＮＲ３－、－ＮＲ３Ｃ（Ｏ）－、－ＳＯ２－、および、－ＮＲ３Ｒ４－などが挙げられる。式中、Ｒ３およびＲ４はそれぞれ独立に、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１～６のアルキル基を表わす。
Ｐ１が式（Ｐ１－Ａ）で表される基である場合には、得られる偏光子層の配向度がより高くなる理由から、Ｌ１は－Ｃ（Ｏ）Ｏ－で表される基が好ましい。
Ｐ１が式（Ｐ１－Ｂ）～（Ｐ１－Ｄ）で表される基である場合には、得られる偏光子層の配向度がより高くなる理由から、Ｌ１は単結合が好ましい。
Ｌ１が表す２価の連結基としては、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（Ｏ）－、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｃ（Ｏ）ＮＲ３－、－ＮＲ３Ｃ（Ｏ）－、－ＳＯ２－、および、－ＮＲ３Ｒ４－などが挙げられる。式中、Ｒ３およびＲ４はそれぞれ独立に、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１～６のアルキル基を表わす。
Ｐ１が式（Ｐ１－Ａ）で表される基である場合には、得られる偏光子層の配向度がより高くなる理由から、Ｌ１は－Ｃ（Ｏ）Ｏ－で表される基が好ましい。
Ｐ１が式（Ｐ１－Ｂ）～（Ｐ１－Ｄ）で表される基である場合には、得られる偏光子層の配向度がより高くなる理由から、Ｌ１は単結合が好ましい。
【0044】
上記式（１）中、ＳＰ１が表すスペーサー基は、液晶性を発現しやすいことや、原材料の入手性などの理由から、オキシエチレン構造、オキシプロピレン構造、ポリシロキサン構造およびフッ化アルキレン構造からなる群より選択される少なくとも１種の構造を含むことが好ましい。
ここで、ＳＰ１が表すオキシエチレン構造は、＊－（ＣＨ２－ＣＨ２Ｏ）ｎ１－＊で表される基が好ましい。式中、ｎ１は１～２０の整数を表し、＊は、上記式（１）中のＬ１またはＭ１との結合位置を表す。ｎ１は、得られる偏光子層の配向度がより高くなる理由から、２～１０の整数であることが好ましく、２～４の整数であることがより好ましく、３であることが最も好ましい。
また、ＳＰ１が表すオキシプロピレン構造は、得られる偏光子層の配向度がより高くなる理由から、＊－（ＣＨ（ＣＨ３）－ＣＨ２Ｏ）ｎ２－＊で表される基が好ましい。式中、ｎ２は１～３の整数を表し、＊はＬ１またはＭ１との結合位置を表す。
また、ＳＰ１が表すポリシロキサン構造は、得られる偏光子層の配向度がより高くなる理由から、＊－（Ｓｉ（ＣＨ３）２－Ｏ）ｎ３－＊で表される基が好ましい。式中、ｎ３は６～１０の整数を表し、＊はＬ１またはＭ１との結合位置を表す。
また、ＳＰ１が表すフッ化アルキレン構造は、得られる偏光子層の配向度がより高くなる理由から、＊－（ＣＦ２－ＣＦ２）ｎ４－＊で表される基が好ましい。式中、ｎ４は６～１０の整数を表し、＊はＬ１またはＭ１との結合位置を表す。
ここで、ＳＰ１が表すオキシエチレン構造は、＊－（ＣＨ２－ＣＨ２Ｏ）ｎ１－＊で表される基が好ましい。式中、ｎ１は１～２０の整数を表し、＊は、上記式（１）中のＬ１またはＭ１との結合位置を表す。ｎ１は、得られる偏光子層の配向度がより高くなる理由から、２～１０の整数であることが好ましく、２～４の整数であることがより好ましく、３であることが最も好ましい。
また、ＳＰ１が表すオキシプロピレン構造は、得られる偏光子層の配向度がより高くなる理由から、＊－（ＣＨ（ＣＨ３）－ＣＨ２Ｏ）ｎ２－＊で表される基が好ましい。式中、ｎ２は１～３の整数を表し、＊はＬ１またはＭ１との結合位置を表す。
また、ＳＰ１が表すポリシロキサン構造は、得られる偏光子層の配向度がより高くなる理由から、＊－（Ｓｉ（ＣＨ３）２－Ｏ）ｎ３－＊で表される基が好ましい。式中、ｎ３は６～１０の整数を表し、＊はＬ１またはＭ１との結合位置を表す。
また、ＳＰ１が表すフッ化アルキレン構造は、得られる偏光子層の配向度がより高くなる理由から、＊－（ＣＦ２－ＣＦ２）ｎ４－＊で表される基が好ましい。式中、ｎ４は６～１０の整数を表し、＊はＬ１またはＭ１との結合位置を表す。
【0045】
上記式（１）中、Ｍ１が表すメソゲン基とは、液晶形成に寄与する液晶分子の主要骨格を示す基である。液晶分子は、結晶状態と等方性液体状態の中間の状態（メソフェーズ）である液晶性を示す。メソゲン基については特に制限はなく、例えば、「Ｆｌｕｓｓｉｇｅ Ｋｒｉｓｔａｌｌｅ ｉｎ Ｔａｂｅｌｌｅｎ ＩＩ」（ＶＥＢ Ｄｅｕｔｓｃｈｅ Ｖｅｒｌａｇ ｆｕｒ Ｇｒｕｎｄｓｔｏｆｆ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅ，Ｌｅｉｐｚｉｇ、１９８４年刊）、特に第７頁～第１６頁の記載、および、液晶便覧編集委員会編、液晶便覧（丸善、２０００年刊）、特に第３章の記載、を参照することができる。
メソゲン基としては、例えば、芳香族炭化水素基、複素環基、および脂環式基からなる群より選択される少なくとも１種の環状構造を有する基が好ましい。
メソゲン基は、得られる偏光子層の配向度がより高くなる理由から、芳香族炭化水素基を有するのが好ましく、２～４個の芳香族炭化水素基を有するのがより好ましく、３個の芳香族炭化水素基を有するのが更に好ましい。
メソゲン基としては、例えば、芳香族炭化水素基、複素環基、および脂環式基からなる群より選択される少なくとも１種の環状構造を有する基が好ましい。
メソゲン基は、得られる偏光子層の配向度がより高くなる理由から、芳香族炭化水素基を有するのが好ましく、２～４個の芳香族炭化水素基を有するのがより好ましく、３個の芳香族炭化水素基を有するのが更に好ましい。
【0046】
メソゲン基としては、液晶性の発現、液晶相転移温度の調整、原料入手性および合成適性という観点、並びに、得られる偏光子層の配向度がより高くなる理由から、下記式（Ｍ１－Ａ）または下記式（Ｍ１－Ｂ）で表される基が好ましく、式（Ｍ１－Ｂ）で表される基がより好ましい。
【0047】
【化6】
【0048】
式（Ｍ１－Ａ）中、Ａ１は、芳香族炭化水素基、複素環基および脂環式基からなる群より選択される２価の基である。これらの基は、アルキル基、フッ化アルキル基、アルコキシ基又は置換基で置換されていてもよい。
Ａ１で表される２価の基は、４～６員環であることが好ましい。また、Ａ１で表される２価の基は、単環でも、縮環であってもよい。
＊は、ＳＰ１またはＴ１との結合位置を表す。
Ａ１で表される２価の基は、４～６員環であることが好ましい。また、Ａ１で表される２価の基は、単環でも、縮環であってもよい。
＊は、ＳＰ１またはＴ１との結合位置を表す。
【0049】
Ａ１が表す２価の芳香族炭化水素基としては、フェニレン基、ナフチレン基、フルオレン－ジイル基、アントラセン－ジイル基およびテトラセン－ジイル基などが挙げられ、メソゲン骨格の設計の多様性や原材料の入手性などの観点から、フェニレン基またはナフチレン基が好ましく、フェニレン基がより好ましい。
【0050】
Ａ１が表す２価の複素環基としては、芳香族または非芳香族のいずれであってもよいが、配向度がより向上するという観点から、２価の芳香族複素環基であることが好ましい。
２価の芳香族複素環基を構成する炭素以外の原子としては、窒素原子、硫黄原子および酸素原子が挙げられる。芳香族複素環基が炭素以外の環を構成する原子を複数有する場合、これらは同一であっても異なっていてもよい。
２価の芳香族複素環基の具体例としては、例えば、ピリジレン基（ピリジン－ジイル基）、ピリダジン－ジイル基、イミダゾール－ジイル基、チエニレン（チオフェン－ジイル基）、キノリレン基（キノリン－ジイル基）、イソキノリレン基（イソキノリン－ジイル基）、オキサゾール－ジイル基、チアゾール－ジイル基、オキサジアゾール－ジイル基、ベンゾチアゾール－ジイル基、ベンゾチアジアゾール－ジイル基、フタルイミド－ジイル基、チエノチアゾール－ジイル基、チアゾロチアゾール－ジイル基、チエノチオフェン－ジイル基、および、チエノオキサゾール－ジイル基などが挙げられる。
２価の芳香族複素環基を構成する炭素以外の原子としては、窒素原子、硫黄原子および酸素原子が挙げられる。芳香族複素環基が炭素以外の環を構成する原子を複数有する場合、これらは同一であっても異なっていてもよい。
２価の芳香族複素環基の具体例としては、例えば、ピリジレン基（ピリジン－ジイル基）、ピリダジン－ジイル基、イミダゾール－ジイル基、チエニレン（チオフェン－ジイル基）、キノリレン基（キノリン－ジイル基）、イソキノリレン基（イソキノリン－ジイル基）、オキサゾール－ジイル基、チアゾール－ジイル基、オキサジアゾール－ジイル基、ベンゾチアゾール－ジイル基、ベンゾチアジアゾール－ジイル基、フタルイミド－ジイル基、チエノチアゾール－ジイル基、チアゾロチアゾール－ジイル基、チエノチオフェン－ジイル基、および、チエノオキサゾール－ジイル基などが挙げられる。
【0051】
Ａ１が表す２価の脂環式基の具体例としては、シクロペンチレン基およびシクロへキシレン基などが挙げられる。
【0052】
式（Ｍ１－Ａ）中、ａ１は１～１０の整数を表す。ａ１が２以上である場合には、複数のＡ１は同一でも異なっていてもよい。
【0053】
式（Ｍ１－Ｂ）中、Ａ２およびＡ３はそれぞれ独立に、芳香族炭化水素基、複素環基および脂環式基からなる群より選択される２価の基である。Ａ２およびＡ３の具体例および好適態様は、式（Ｍ１－Ａ）のＡ１と同様であるので、その説明を省略する。
式（Ｍ１－Ｂ）中、ａ２は１～１０の整数を表し、ａ２が２以上である場合には、複数のＡ２は同一でも異なっていてもよく、複数のＡ３は同一でも異なっていてもよく、複数のＬＡ１は同一でも異なっていてもよい。ａ２は、得られる偏光子層の配向度がより高くなる理由から、２以上の整数であることが好ましく、２であることがより好ましい。
式（Ｍ１－Ｂ）中、ａ２が１である場合には、ＬＡ１は２価の連結基である。ａ２が２以上である場合には、複数のＬＡ１はそれぞれ独立に、単結合または２価の連結基であり、複数のＬＡ１のうち少なくとも１つが２価の連結基である。ａ２が２である場合、得られる偏光子層の配向度がより高くなる理由から、２つのＬＡ１のうち、一方が２価の連結基であり、他方が単結合であることが好ましい。
式（Ｍ１－Ｂ）中、ａ２は１～１０の整数を表し、ａ２が２以上である場合には、複数のＡ２は同一でも異なっていてもよく、複数のＡ３は同一でも異なっていてもよく、複数のＬＡ１は同一でも異なっていてもよい。ａ２は、得られる偏光子層の配向度がより高くなる理由から、２以上の整数であることが好ましく、２であることがより好ましい。
式（Ｍ１－Ｂ）中、ａ２が１である場合には、ＬＡ１は２価の連結基である。ａ２が２以上である場合には、複数のＬＡ１はそれぞれ独立に、単結合または２価の連結基であり、複数のＬＡ１のうち少なくとも１つが２価の連結基である。ａ２が２である場合、得られる偏光子層の配向度がより高くなる理由から、２つのＬＡ１のうち、一方が２価の連結基であり、他方が単結合であることが好ましい。
【0054】
式（Ｍ１－Ｂ）中、ＬＡ１が表す２価の連結基としては、－Ｏ－、－（ＣＨ２）ｇ－、－（ＣＦ２）ｇ－、－Ｓｉ（ＣＨ３）２－、－（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｇ－、－（ＯＳｉ（ＣＨ３）２）ｇ－（ｇは１～１０の整数を表す。）、－Ｎ（Ｚ）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｎ－、－Ｎ＝Ｃ（Ｚ）－、－Ｃ（Ｚ）２－Ｃ（Ｚ’）２－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＯＣ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｎ（Ｚ）Ｃ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｚ）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（Ｏ）－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｎ－、－Ｎ＝Ｃ（Ｚ）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｚ”）－、－Ｎ（Ｚ”）－Ｃ（Ｏ）－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－Ｃ（Ｏ）－Ｓ－、－Ｓ－Ｃ（Ｏ）－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｎ－Ｎ＝Ｃ（Ｚ’）－（Ｚ、Ｚ’、Ｚ”は独立に、水素、Ｃ１～Ｃ４アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、シアノ基、または、ハロゲン原子を表す。）、－Ｃ≡Ｃ－、－Ｎ＝Ｎ－、－Ｓ－、－Ｓ（Ｏ）－、－Ｓ（Ｏ）（Ｏ）－、－（Ｏ）Ｓ（Ｏ）Ｏ－、－Ｏ（Ｏ）Ｓ（Ｏ）Ｏ－、－ＳＣ（Ｏ）－、および、－Ｃ（Ｏ）Ｓ－などが挙げられる。なかでも、得られる偏光子層の配向度がより高くなる理由から、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－が好ましい。ＬＡ１は、これらの基を２つ以上組み合わせた基であってもよい。
【0055】
Ｍ１の具体例としては、例えば以下の構造が挙げられる。なお、下記具体例において、「Ａｃ」は、アセチル基を表す。
【0056】
【化7】
【0057】
【化8】
【0058】
【化9】
【0059】
【化10】
【0060】
【化11】
【0061】
【化12】
【0062】
【化13】
【0063】
上記式（１）中、Ｔ１が表す末端基としては、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数１～１０のアルコキシ基、炭素数１～１０のアルキルチオ基、炭素数１～１０のアルコキシカルボニルオキシ基、炭素数１～１０のアルコキシカルボニル基（ＲＯＣ（Ｏ）－：Ｒはアルキル基）、炭素数１～１０のアシルオキシ基、炭素数１～１０のアシルアミノ基、炭素数１～１０のアルコキシカルボニルアミノ基、炭素数１～１０のスルホニルアミノ基、炭素数１～１０のスルファモイル基、炭素数１～１０のカルバモイル基、炭素数１～１０のスルフィニル基、および、炭素数１～１０のウレイド基、（メタ）アクリロイルオキシ基含有基などが挙げられる。上記（メタ）アクリロイルオキシ基含有基としては、例えば、－Ｌ－Ａ（Ｌは単結合又は連結基を表す。連結基の具体例は上述したＬ１及びＳＰ１と同じである。Ａは（メタ）アクリロイルオキシ基を表す）で表される基が挙げられる。
【0064】
Ｔ１は、得られる偏光子層の配向度がより高くなる理由から、炭素数１～１０のアルコキシ基が好ましく、炭素数１～５のアルコキシがより好ましく、メトキシ基が更に好ましい。
これらの末端基は、これらの基、または、特開２０１０－２４４０３８号公報に記載の重合性基によって、さらに置換されていてもよい。
これらの末端基は、これらの基、または、特開２０１０－２４４０３８号公報に記載の重合性基によって、さらに置換されていてもよい。
【0065】
Ｔ１は、隣接層との密着性がより良好となり、膜としての凝集力を向上させることができる理由から、重合性基であることが好ましい。
重合性基は、特に限定されないが、ラジカル重合またはカチオン重合可能な重合性基が好ましい。
ラジカル重合性基としては、一般に知られているラジカル重合性基を用いることができ、好適なものとして、アクリロイル基またはメタクリロイル基を挙げることができる。この場合、重合速度はアクリロイル基が一般的に速いことが知られており、生産性向上の観点からアクリロイル基が好ましいが、メタクリロイル基も重合性基として同様に使用することができる。
カチオン重合性基としては、一般に知られているカチオン重合性を用いることができ、具体的には、脂環式エーテル基、環状アセタール基、環状ラクトン基、環状チオエーテル基、スピロオルソエステル基、および、ビニルオキシ基などを挙げることができる。中でも、脂環式エーテル基、または、ビニルオキシ基が好適であり、エポキシ基、オキセタニル基、または、ビニルオキシ基が特に好ましい。
重合性基は、特に限定されないが、ラジカル重合またはカチオン重合可能な重合性基が好ましい。
ラジカル重合性基としては、一般に知られているラジカル重合性基を用いることができ、好適なものとして、アクリロイル基またはメタクリロイル基を挙げることができる。この場合、重合速度はアクリロイル基が一般的に速いことが知られており、生産性向上の観点からアクリロイル基が好ましいが、メタクリロイル基も重合性基として同様に使用することができる。
カチオン重合性基としては、一般に知られているカチオン重合性を用いることができ、具体的には、脂環式エーテル基、環状アセタール基、環状ラクトン基、環状チオエーテル基、スピロオルソエステル基、および、ビニルオキシ基などを挙げることができる。中でも、脂環式エーテル基、または、ビニルオキシ基が好適であり、エポキシ基、オキセタニル基、または、ビニルオキシ基が特に好ましい。
【0066】
上記式（１）で表される繰り返し単位を含む高分子液晶性化合物の重量平均分子量（Ｍｗ）は、得られる偏光子層の配向度がより高くなる理由から、１０００～５０００００が好ましく、２０００～３０００００がより好ましい。高分子液晶性化合物のＭｗが上記範囲内にあれば、高分子液晶性化合物の取り扱いが容易になる。
特に、塗布時のクラック抑制の観点から、高分子液晶性化合物の重量平均分子量（Ｍｗ）は、１００００以上が好ましく、１００００～３０００００がより好ましい。
また、配向度の温度ラチチュードの観点から、高分子液晶性化合物の重量平均分子量（Ｍｗ）は、１００００未満が好ましく、２０００以上１００００未満が好ましい。
ここで、本発明における重量平均分子量および数平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフ（ＧＰＣ）法により測定された値である。
・溶媒（溶離液）：Ｎ－メチルピロリドン
・装置名：ＴＯＳＯＨ ＨＬＣ－８２２０ＧＰＣ
・カラム：ＴＯＳＯＨ ＴＳＫｇｅｌＳｕｐｅｒＡＷＭ－Ｈ（６ｍｍ×１５ｃｍ）を３本接続して使用
・カラム温度：２５℃
・試料濃度：０．１質量％
・流速：０．３５ｍＬ／ｍｉｎ
・校正曲線：ＴＯＳＯＨ製ＴＳＫ標準ポリスチレン Ｍｗ＝２８０００００～１０５０（Ｍｗ／Ｍｎ＝１．０３～１．０６）までの７サンプルによる校正曲線を使用
特に、塗布時のクラック抑制の観点から、高分子液晶性化合物の重量平均分子量（Ｍｗ）は、１００００以上が好ましく、１００００～３０００００がより好ましい。
また、配向度の温度ラチチュードの観点から、高分子液晶性化合物の重量平均分子量（Ｍｗ）は、１００００未満が好ましく、２０００以上１００００未満が好ましい。
ここで、本発明における重量平均分子量および数平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフ（ＧＰＣ）法により測定された値である。
・溶媒（溶離液）：Ｎ－メチルピロリドン
・装置名：ＴＯＳＯＨ ＨＬＣ－８２２０ＧＰＣ
・カラム：ＴＯＳＯＨ ＴＳＫｇｅｌＳｕｐｅｒＡＷＭ－Ｈ（６ｍｍ×１５ｃｍ）を３本接続して使用
・カラム温度：２５℃
・試料濃度：０．１質量％
・流速：０．３５ｍＬ／ｍｉｎ
・校正曲線：ＴＯＳＯＨ製ＴＳＫ標準ポリスチレン Ｍｗ＝２８０００００～１０５０（Ｍｗ／Ｍｎ＝１．０３～１．０６）までの７サンプルによる校正曲線を使用
【0067】
本発明においては、上述したアゾ色素や後述する二色性物質との相溶性を調整しやすくなる理由から、液晶性化合物のｌｏｇＰ値が０．０～１０であることが好ましく、１．０～７．０であることがより好ましく、２．０～５．０であることが更に好ましい。
ここで、ｌｏｇＰ値は、化学構造の親水性および疎水性の性質を表現する指標であり、親疎水パラメータと呼ばれることがある。ｌｏｇＰ値は、ＣｈｅｍＢｉｏＤｒａｗ ＵｌｔｒａまたはＨＳＰｉＰ(Ｖｅｒ．４．１．０７)などのソフトウェアを用いて計算できる。また、ＯＥＣＤ Ｇｕｉｄｅｌｉｎｅｓ ｆｏｒ ｔｈｅ Ｔｅｓｔｉｎｇ ｏｆ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ，Ｓｅｃｔｉｏｎｓ １，Ｔｅｓｔ Ｎｏ．１１７の方法などにより、実験的に求めることもできる。本発明では特に断りのない限り、ＨＳＰｉＰ(Ｖｅｒ．４．１．０７)に化合物の構造式を入力して算出される値をｌｏｇＰ値として採用する。
ここで、ｌｏｇＰ値は、化学構造の親水性および疎水性の性質を表現する指標であり、親疎水パラメータと呼ばれることがある。ｌｏｇＰ値は、ＣｈｅｍＢｉｏＤｒａｗ ＵｌｔｒａまたはＨＳＰｉＰ(Ｖｅｒ．４．１．０７)などのソフトウェアを用いて計算できる。また、ＯＥＣＤ Ｇｕｉｄｅｌｉｎｅｓ ｆｏｒ ｔｈｅ Ｔｅｓｔｉｎｇ ｏｆ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ，Ｓｅｃｔｉｏｎｓ １，Ｔｅｓｔ Ｎｏ．１１７の方法などにより、実験的に求めることもできる。本発明では特に断りのない限り、ＨＳＰｉＰ(Ｖｅｒ．４．１．０７)に化合物の構造式を入力して算出される値をｌｏｇＰ値として採用する。
【0068】
本発明においては、液晶性化合物の含有量は、偏光子形成用組成物における固形分中の８～９９質量％となる量であることが好ましく、８～９６質量％となる量であることがより好ましい。
ここで、「偏光子形成用組成物における固形分」とは、溶媒を除いた成分をいい、固形分の具体例としては、上述した液晶性化合物およびアゾ色素ならびに後述する二色性物質、重合開始剤、界面活性剤などが挙げられる。
ここで、「偏光子形成用組成物における固形分」とは、溶媒を除いた成分をいい、固形分の具体例としては、上述した液晶性化合物およびアゾ色素ならびに後述する二色性物質、重合開始剤、界面活性剤などが挙げられる。
【0069】
＜アゾ色素＞
偏光子形成用組成物が含有するアゾ色素は、上述した本発明のアゾ色素と同様の色素である。
偏光子形成用組成物が含有するアゾ色素は、上述した本発明のアゾ色素と同様の色素である。
【0070】
偏光子形成用組成物は、上述したアゾ色素を複数含んでいてもよい。
偏光子形成用組成物が複数のアゾ色素を含んでいる場合、得られる偏光子層を黒色に近づける観点から、上述の波長５６０ｎｍ以上７００ｎｍ未満の範囲に極大吸収波長を有する少なくとも１種のアゾ色素と、波長３７０ｎｍ以上５６０ｎｍ未満の範囲に極大吸収波長を有する少なくとも１種のアゾ色素とを併用することが好ましい。
偏光子形成用組成物が複数のアゾ色素を含んでいる場合、得られる偏光子層を黒色に近づける観点から、上述の波長５６０ｎｍ以上７００ｎｍ未満の範囲に極大吸収波長を有する少なくとも１種のアゾ色素と、波長３７０ｎｍ以上５６０ｎｍ未満の範囲に極大吸収波長を有する少なくとも１種のアゾ色素とを併用することが好ましい。
【0071】
アゾ色素は架橋性基を有していてもよい。上記架橋性基としては、具体的には、例えば、（メタ）アクリロイル基、エポキシ基、オキセタニル基、スチリル基などが挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基が好ましい。
【0072】
＜二色性物質＞
偏光子形成用組成物はアゾ色素以外の二色性物質を含んでいてもよい。アゾ色素以外の二色性物質もまた、架橋性基を有していてもよい。
上記架橋性基としては、具体的には、例えば、（メタ）アクリロイル基、エポキシ基、オキセタニル基、スチリル基などが挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基が好ましい。
偏光子形成用組成物が含有する二色性物質は、特に限定されず、可視光吸収物質（二色性色素）、発光物質（蛍光物質、燐光物質）、紫外線吸収物質、赤外線吸収物質、非線形光学物質、カーボンナノチューブ、無機物質（例えば量子ロッド）、などが挙げられ、従来公知の二色性物質（二色性色素）を使用することができる。
具体的には、例えば、特開２０１３－２２８７０６号公報の［００６７］～［００７１］段落、特開２０１３－２２７５３２号公報の［０００８］～［００２６］段落、特開２０１３－２０９３６７号公報の［０００８］～［００１５］段落、特開２０１３－１４８８３号公報の［００４５］～［００５８］段落、特開２０１３－１０９０９０号公報の［００１２］～［００２９］段落、特開２０１３－１０１３２８号公報の［０００９］～［００１７］段落、特開２０１３－３７３５３号公報の［００５１］～［００６５］段落、特開２０１２－６３３８７号公報の［００４９］～［００７３］段落、特開平１１－３０５０３６号公報の［００１６］～［００１８］段落、特開２００１－１３３６３０号公報の［０００９］～［００１１］段落、特開２０１１－２１５３３７号公報の［００３０］～［０１６９］、特開２０１０－１０６２４２号公報の［００２１］～［００７５］段落、特開２０１０－２１５８４６号公報の［００１１］～［００２５］段落、特開２０１１－０４８３１１号公報の［００１７］～［００６９］段落、特開２０１１－２１３６１０号公報の［００１３］～［０１３３］段落、特開２０１１－２３７５１３号公報の［００７４］～［０２４６］段落、特開２０１６－００６５０２号公報の［０００５］～［００５１］段落、ＷＯ２０１６／０６０１７３号公報の［０００５］～［００４１］段落、ＷＯ２０１６／１３６５６１号公報の［０００８］～［００６２］段落、国際公開第２０１７／１５４８３５号の［００１４］～［００３３］段落、国際公開第２０１７／１５４６９５号の［００１４］～［００３３］段落、国際公開第２０１７／１９５８３３号の［００１３］～［００３７］段落、国際公開第２０１８／１６４２５２号の［００１４］～［００３４］段落、国際公開第２０１８／１８６５０３号の［００２１］～［００３０］段落、国際公開第２０１９／１８９３４５号の［００４３］～［００６３］段落、国際公開第２０１９／２２５４６８号の［００４３］～［００８５］段落、国際公開第２０２０／００４１０６号の［００５０］～［００７４］段落などに記載されたものが挙げられる。
偏光子形成用組成物はアゾ色素以外の二色性物質を含んでいてもよい。アゾ色素以外の二色性物質もまた、架橋性基を有していてもよい。
上記架橋性基としては、具体的には、例えば、（メタ）アクリロイル基、エポキシ基、オキセタニル基、スチリル基などが挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基が好ましい。
偏光子形成用組成物が含有する二色性物質は、特に限定されず、可視光吸収物質（二色性色素）、発光物質（蛍光物質、燐光物質）、紫外線吸収物質、赤外線吸収物質、非線形光学物質、カーボンナノチューブ、無機物質（例えば量子ロッド）、などが挙げられ、従来公知の二色性物質（二色性色素）を使用することができる。
具体的には、例えば、特開２０１３－２２８７０６号公報の［００６７］～［００７１］段落、特開２０１３－２２７５３２号公報の［０００８］～［００２６］段落、特開２０１３－２０９３６７号公報の［０００８］～［００１５］段落、特開２０１３－１４８８３号公報の［００４５］～［００５８］段落、特開２０１３－１０９０９０号公報の［００１２］～［００２９］段落、特開２０１３－１０１３２８号公報の［０００９］～［００１７］段落、特開２０１３－３７３５３号公報の［００５１］～［００６５］段落、特開２０１２－６３３８７号公報の［００４９］～［００７３］段落、特開平１１－３０５０３６号公報の［００１６］～［００１８］段落、特開２００１－１３３６３０号公報の［０００９］～［００１１］段落、特開２０１１－２１５３３７号公報の［００３０］～［０１６９］、特開２０１０－１０６２４２号公報の［００２１］～［００７５］段落、特開２０１０－２１５８４６号公報の［００１１］～［００２５］段落、特開２０１１－０４８３１１号公報の［００１７］～［００６９］段落、特開２０１１－２１３６１０号公報の［００１３］～［０１３３］段落、特開２０１１－２３７５１３号公報の［００７４］～［０２４６］段落、特開２０１６－００６５０２号公報の［０００５］～［００５１］段落、ＷＯ２０１６／０６０１７３号公報の［０００５］～［００４１］段落、ＷＯ２０１６／１３６５６１号公報の［０００８］～［００６２］段落、国際公開第２０１７／１５４８３５号の［００１４］～［００３３］段落、国際公開第２０１７／１５４６９５号の［００１４］～［００３３］段落、国際公開第２０１７／１９５８３３号の［００１３］～［００３７］段落、国際公開第２０１８／１６４２５２号の［００１４］～［００３４］段落、国際公開第２０１８／１８６５０３号の［００２１］～［００３０］段落、国際公開第２０１９／１８９３４５号の［００４３］～［００６３］段落、国際公開第２０１９／２２５４６８号の［００４３］～［００８５］段落、国際公開第２０２０／００４１０６号の［００５０］～［００７４］段落などに記載されたものが挙げられる。
【0073】
偏光子形成用組成物においては、上述したアゾ色素以外の二色性物質を２種以上併用してもよい。
【0074】
本発明においては、画像表示装置の表示性能および耐久性がより良好となる理由から、上記アゾ色素のｌｏｇＰ値と上記液晶性化合物のｌｏｇＰ値との差が５．０以上であることが好ましく、７．０以上であることがより好ましく、７．０以上１０．０未満であることが更に好ましい。
ここで、アゾ色素のｌｏｇＰ値と液晶性化合物のｌｏｇＰ値との差（絶対値）について、アゾ色素または液晶性化合物を複数用いている場合には、各化合物のｌｏｇＰ値から算出される差のうち、最大の差をいう。
ここで、アゾ色素のｌｏｇＰ値と液晶性化合物のｌｏｇＰ値との差（絶対値）について、アゾ色素または液晶性化合物を複数用いている場合には、各化合物のｌｏｇＰ値から算出される差のうち、最大の差をいう。
【0075】
アゾ色素およびアゾ色素以外の二色性物質の含有量は、本発明の効果がより優れる点から、上記液晶性化合物１００質量部に対して１～４００質量部であることが好ましく、２～１００質量部であることがより好ましく、５～３０質量部であることが更に好ましい。
また、アゾ色素およびアゾ色素以外の二色性物質の含有量は、偏光子層形成用組成物における固形分中の１～５０質量％となる量であることが好ましく、２～４０質量％となる量であることがより好ましい。
また、アゾ色素およびアゾ色素以外の二色性物質の含有量は、偏光子層形成用組成物における固形分中の１～５０質量％となる量であることが好ましく、２～４０質量％となる量であることがより好ましい。
【0076】
＜重合開始剤＞
偏光子層形成用組成物は、重合開始剤を含むことが好ましい。
重合開始剤としては特に制限はないが、感光性を有する化合物、すなわち光重合開始剤であることが好ましい。
光重合開始剤としては、各種の化合物を特に制限なく使用できる。光重合開始剤の例には、α－カルボニル化合物（米国特許第２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書）、アシロインエーテル（米国特許第２４４８８２８号明細書）、α－炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許第２７２２５１２号明細書）、多核キノン化合物（米国特許第３０４６１２７号および同２９５１７５８号の各明細書）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ－アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許第３５４９３６７号明細書）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０－１０５６６７号公報および米国特許第４２３９８５０号明細書）、オキサジアゾール化合物（米国特許第４２１２９７０号明細書）、ｏ－アシルオキシム化合物（特開２０１６－２７３８４明細書［００６５］）、および、アシルフォスフィンオキシド化合物（特公昭６３－４０７９９号公報、特公平５－２９２３４号公報、特開平１０－９５７８８号公報および特開平１０－２９９９７号公報）などが挙げられる。
このような光重合開始剤としては、市販品も用いることができ、ＢＡＳＦ社製のイルガキュア－１８４、イルガキュア－９０７、イルガキュア－３６９、イルガキュア－６５１、イルガキュア－８１９、イルガキュア－ＯＸＥ－０１およびイルガキュア－ＯＸＥ－０２等が挙げられる。
偏光子層形成用組成物は、重合開始剤を含むことが好ましい。
重合開始剤としては特に制限はないが、感光性を有する化合物、すなわち光重合開始剤であることが好ましい。
光重合開始剤としては、各種の化合物を特に制限なく使用できる。光重合開始剤の例には、α－カルボニル化合物（米国特許第２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書）、アシロインエーテル（米国特許第２４４８８２８号明細書）、α－炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許第２７２２５１２号明細書）、多核キノン化合物（米国特許第３０４６１２７号および同２９５１７５８号の各明細書）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ－アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許第３５４９３６７号明細書）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０－１０５６６７号公報および米国特許第４２３９８５０号明細書）、オキサジアゾール化合物（米国特許第４２１２９７０号明細書）、ｏ－アシルオキシム化合物（特開２０１６－２７３８４明細書［００６５］）、および、アシルフォスフィンオキシド化合物（特公昭６３－４０７９９号公報、特公平５－２９２３４号公報、特開平１０－９５７８８号公報および特開平１０－２９９９７号公報）などが挙げられる。
このような光重合開始剤としては、市販品も用いることができ、ＢＡＳＦ社製のイルガキュア－１８４、イルガキュア－９０７、イルガキュア－３６９、イルガキュア－６５１、イルガキュア－８１９、イルガキュア－ＯＸＥ－０１およびイルガキュア－ＯＸＥ－０２等が挙げられる。
【0077】
偏光子層形成用組成物が重合開始剤を含有する場合、重合開始剤の含有量は、偏光子層形成用組成物中の上記アゾ色素とアゾ色素以外の二色性物質と上記液晶性化合物との合計１００質量部に対し、０．０１～３０質量部が好ましく、０．１～１５質量部がより好ましい。重合開始剤の含有量が０．０１質量部以上であることで、偏光子層の耐久性が良好となり、３０質量部以下であることで、偏光子層の配向度がより良好となる。
重合開始剤は、１種単独で用いても２種以上を併用してもよい。重合開始剤を２種以上含む場合、その合計量が上記範囲内であるのが好ましい。
重合開始剤は、１種単独で用いても２種以上を併用してもよい。重合開始剤を２種以上含む場合、その合計量が上記範囲内であるのが好ましい。
【0078】
＜界面活性剤＞
偏光子層形成用組成物は、界面活性剤を含むことが好ましい。
界面活性剤を含むことにより、塗布表面の平滑性が向上し、配向度が更に向上したり、ハジキおよびムラを抑制して、面内の均一性が向上したりする効果が見込まれる。
界面活性剤としては、二色性物質と液晶性化合物を塗布表面側で水平にさせるものが好ましく、例えば、国際公開第２０１６／００９６４８号の［０１５５］～［０１７０］段落に記載されている化合物、特開２０１１－２３７５１３号公報の［０２５３］～［０２９３］段落に記載の化合物（水平配向剤）などを用いることができる。
偏光子層形成用組成物は、界面活性剤を含むことが好ましい。
界面活性剤を含むことにより、塗布表面の平滑性が向上し、配向度が更に向上したり、ハジキおよびムラを抑制して、面内の均一性が向上したりする効果が見込まれる。
界面活性剤としては、二色性物質と液晶性化合物を塗布表面側で水平にさせるものが好ましく、例えば、国際公開第２０１６／００９６４８号の［０１５５］～［０１７０］段落に記載されている化合物、特開２０１１－２３７５１３号公報の［０２５３］～［０２９３］段落に記載の化合物（水平配向剤）などを用いることができる。
【0079】
本発明の偏光子層形成用組成物が含有する界面活性剤は、後述する式（Ｂ－１）で表される繰り返し構造Ｂ１と、フッ素原子を有する繰り返し構造Ｂ２とを有するフッ素含有重合体であってもよい。
【0080】
（繰り返し構造Ｂ１）
上記フッ素含有重合体が有する繰り返し構造Ｂ１は、下記式（Ｂ－１）で表される繰り返し構造である。
上記フッ素含有重合体が有する繰り返し構造Ｂ１は、下記式（Ｂ－１）で表される繰り返し構造である。
【0081】
【化14】
【0082】
上記式（Ｂ－１）中、Ｒ１は、水素原子、炭素数１～５のアルキル基、または、ハロゲン原子を表す。
また、Ｌ１は、単結合、または、－ＣＯ－を表す。
また、Ｓｐは、炭素数１～２０の直鎖状または分岐状の２価の炭化水素基を表す。ただし、炭化水素基の一部を構成する－ＣＨ２－のうち、１個または隣接しない２個以上の－ＣＨ２－は、それぞれ独立に、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＨ－、または、－Ｎ（Ｑ）－で置換されていてもよく、Ｑは、置換基を表す。
Ｌ２およびＬ３は、それぞれ独立に、単結合、または、２価の連結基を表す。
また、Ｌ１は、単結合、または、－ＣＯ－を表す。
また、Ｓｐは、炭素数１～２０の直鎖状または分岐状の２価の炭化水素基を表す。ただし、炭化水素基の一部を構成する－ＣＨ２－のうち、１個または隣接しない２個以上の－ＣＨ２－は、それぞれ独立に、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＨ－、または、－Ｎ（Ｑ）－で置換されていてもよく、Ｑは、置換基を表す。
Ｌ２およびＬ３は、それぞれ独立に、単結合、または、２価の連結基を表す。
【0083】
上記式（Ｂ－１）中のＲ１としては、水素原子または炭素数１～５のアルキル基であることが好ましく、水素原子またはメチル基であることがより好ましい。
【0084】
上記式（Ｂ－１）中のＬ１としては、－ＣＯ－であることが好ましい。
【0085】
上記式（Ｂ－１）中のＳｐが示す炭素数１～２０の直鎖状または分岐状の２価の炭化水素基としては、例えば、炭素数１～２０の直鎖状または分岐状の２価の脂肪族炭化水素基、炭素数３～２０の２価の脂環式炭化水素基、炭素数６～２０の２価の芳香族炭化水素基、炭素数６～２０の２価の芳香族複素環基などが挙げられ、中でも、炭素数１～２０の直鎖状または分岐状の２価の脂肪族炭化水素基が好ましい。
ここで、炭素数１～２０の２価の脂肪族炭化水素基としては、炭素数１～１５のアルキレン基が好ましく、炭素数１～８のアルキレン基がより好ましく、具体的には、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、メチルヘキシレン基、へプチレン基などが好適に挙げられる。
なお、Ｓｐは、上述した通り、炭素数１～２０の直鎖状または分岐状の２価の炭化水素基の一部を構成する－ＣＨ２－のうち、１個または隣接しない２個以上の－ＣＨ２－が、それぞれ独立に、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＨ－、または、－Ｎ（Ｑ）－で置換されていてもよい。なお、Ｑで表される置換基としては、上述した置換基Ｗが挙げられ、中でも、アルキル基、アルコキシ基、または、ハロゲン原子が好ましい。
ここで、炭素数１～２０の２価の脂肪族炭化水素基としては、炭素数１～１５のアルキレン基が好ましく、炭素数１～８のアルキレン基がより好ましく、具体的には、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、メチルヘキシレン基、へプチレン基などが好適に挙げられる。
なお、Ｓｐは、上述した通り、炭素数１～２０の直鎖状または分岐状の２価の炭化水素基の一部を構成する－ＣＨ２－のうち、１個または隣接しない２個以上の－ＣＨ２－が、それぞれ独立に、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＨ－、または、－Ｎ（Ｑ）－で置換されていてもよい。なお、Ｑで表される置換基としては、上述した置換基Ｗが挙げられ、中でも、アルキル基、アルコキシ基、または、ハロゲン原子が好ましい。
【0086】
上記式（Ｂ－１）中のＬ２およびＬ３の一態様が示す２価の連結基としては、例えば、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（Ｏ）－、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｃ（Ｏ）ＮＲＬ１－、－ＮＲＬ１Ｃ（Ｏ）－、－ＳＯ２－、および、－ＮＲＬ１ＲＬ２－などが挙げられる。式中、ＲＬ１およびＲＬ２は、それぞれ独立に、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１～６のアルキル基を表す。なお、炭素数１～６のアルキル基が有していてもよい置換基としては、上述した置換基Ｗが挙げられ、中でも、アルキル基、アルコキシ基、または、ハロゲン原子が好ましい。
【0087】
また、上記式（Ｂ－１）中、Ａは、下記式（Ａ－１）～（Ａ－１５）のいずれかで表される２価の連結基を表す。ただし、下記式（Ａ－１）～（Ａ－１５）中の＊は、Ｌ２またはＬ３との結合位置を表し、下記式（Ａ－１）～（Ａ－１５）中の環構造を構成する炭素原子は、ヘテロ原子で置換されていてもよく、置換基を有していてもよい。なお、環構造を構成する炭素原子が有していてもよい置換基としては、上述した置換基Ｗが挙げられ、中でも、アルキル基、アルコキシ基、または、ハロゲン原子が好ましい。
【0088】
【化15】
【0089】
上記式（Ａ－１）～（Ａ－１５）のいずれかで表される２価の連結基としては、具体的には、例えば、１，４－フェニレン基、１，４－シクロヘキシレン基、１，４－シクロヘキセニル基、テトラヒドロピラン－２，５－ジイル基、１，４－ピペラジン基、１，４－ピペリジン基、１，３－ジオキサン－２，５－ジイル基、テトラヒドロチオピラン－２，５－ジイル基、１，４－ビシクロ（２，２，２）オクチレン基、デカヒドロナフタレン－２，６－ジイル基、ピリジン－２，５－ジイル基、ピリミジン－２，５－ジイル基、ピラジン－２，５－ジイル基、１，２，３，４－テトラヒドロナフタレン－２，６－ジイル基、２，６－ナフチレン基、フェナントレン－２，７－ジイル基、９，１０－ジヒドロフェナントレン－２，７－ジイル基、１，２，３，４，４ａ，９，１０ａ－オクタヒドロフェナントレン２，７－ジイル基、９－フルオレノン－２，７－ジイル、フルオレン２，７－ジイル基、チエノチオフェン－３，６－ジイル基、カルバゾール－３，６－ジイル基、および、カルバゾール－２，７－ジイル基などが挙げられる。
【0090】
上記式（Ｂ－１）中のＡは、形成される偏光子層の配向度がより高くなる理由から、上記式（Ａ－１）、（Ａ－４）、（Ａ－７）、（Ａ－１０）および（Ａ－１３）のいずれかで表される２価の連結基であることが好ましく、上記（Ａ－７）および（Ａ－１３）のいずれかで表される２価の連結基であることがより好ましい。
【0091】
また、上記式（Ｂ－１）中、Ｄは、水素原子と第１４～１６族の非金属原子とで構成される水素結合性基を表す。ただし、非金属原子は、置換基を有していてもよい。
ここで、第１４～１６族の非金属原子としては、例えば、酸素原子、硫黄原子、窒素原子、および、炭素原子などが挙げられる。
また、非金属原子（特に、窒素原子および炭素原子）が有していてもよい置換基としては、例えば、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アルキル置換アルコキシ基、環状アルキル基、アリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基等）、シアノ基、アミノ基、ニトロ基、アルキルカルボニル基、スルホ基、および、水酸基等が挙げられる。
ここで、第１４～１６族の非金属原子としては、例えば、酸素原子、硫黄原子、窒素原子、および、炭素原子などが挙げられる。
また、非金属原子（特に、窒素原子および炭素原子）が有していてもよい置換基としては、例えば、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アルキル置換アルコキシ基、環状アルキル基、アリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基等）、シアノ基、アミノ基、ニトロ基、アルキルカルボニル基、スルホ基、および、水酸基等が挙げられる。
【0092】
このような水素結合性基としては、例えば、水素結合供与性基および水素結合受容性基などが挙げられる。
水素結合供与性基としては、具体的には、例えば、アミノ基、アミド基、ウレア基、ウレタン基、スルホニルアミノ基、スルホ基、ホスホ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、カルボキシル基、電子求引性基が置換したメチレン基、電子求引性基が置換したメチン基などが挙げられ、中でも、カルボキシル基、アミド基が好ましい。
水素結合受容性基としては、具体的には、例えば、含ヘテロ環上の非共有電子対を有するヘテロ原子、ヒドロキシ基、アルデヒド、ケトン、カルボキシル基、カルボン酸エステル、カルボン酸アミド、ラクトン、ラクタム、スルホン酸アミド、スルホ基、ホスホ基、リン酸アミド、ウレタン、ウレア、エーテル構造（特にポリエーテル構造に含まれる酸素原子を有する高分子構造）、脂肪族アミン、芳香族アミンなどが挙げられ、中でも、カルボキシル基、アミド基が好ましい。
水素結合供与性基としては、具体的には、例えば、アミノ基、アミド基、ウレア基、ウレタン基、スルホニルアミノ基、スルホ基、ホスホ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、カルボキシル基、電子求引性基が置換したメチレン基、電子求引性基が置換したメチン基などが挙げられ、中でも、カルボキシル基、アミド基が好ましい。
水素結合受容性基としては、具体的には、例えば、含ヘテロ環上の非共有電子対を有するヘテロ原子、ヒドロキシ基、アルデヒド、ケトン、カルボキシル基、カルボン酸エステル、カルボン酸アミド、ラクトン、ラクタム、スルホン酸アミド、スルホ基、ホスホ基、リン酸アミド、ウレタン、ウレア、エーテル構造（特にポリエーテル構造に含まれる酸素原子を有する高分子構造）、脂肪族アミン、芳香族アミンなどが挙げられ、中でも、カルボキシル基、アミド基が好ましい。
【0093】
（繰り返し構造Ｂ２）
上記フッ素含有重合体が有する繰り返し構造Ｂ２は、フッ素原子を有する繰り返し構造である。
上記フッ素含有重合体が有する繰り返し構造Ｂ２は、フッ素原子を有する繰り返し構造である。
【0094】
本発明においては、繰り返し構造Ｂ２の含有量は、形成される偏光子層の配向度がより高くなる理由から、界面活性剤の総質量に対して１５～９０質量％であることが好ましく、２０～８０質量％であることがより好ましく、３０～７０質量％であることが更に好ましい。
なお、繰り返し構造Ｂ２は、界面活性剤中において、１種単独で含まれていてもよいし、２種以上含まれていてもよい。繰り返し構造Ｂ２が２種以上含まれる場合、上記繰り返し構造Ｂ２の含有量は、繰り返し構造Ｂ２の含有量の合計を意味する。
なお、繰り返し構造Ｂ２は、界面活性剤中において、１種単独で含まれていてもよいし、２種以上含まれていてもよい。繰り返し構造Ｂ２が２種以上含まれる場合、上記繰り返し構造Ｂ２の含有量は、繰り返し構造Ｂ２の含有量の合計を意味する。
【0095】
（繰り返し構造Ｂ３）
本発明においては、形成される偏光子層に対する上層塗布性が良好となる理由から、上記フッ素含有重合体が、上述した繰り返し構造Ｂ１およびＢ２以外に、更に、分子量３００以下のモノマーから誘導される繰り返し構造Ｂ３を含有していることが好ましい。
本発明においては、形成される偏光子層に対する上層塗布性が良好となる理由から、上記フッ素含有重合体が、上述した繰り返し構造Ｂ１およびＢ２以外に、更に、分子量３００以下のモノマーから誘導される繰り返し構造Ｂ３を含有していることが好ましい。
【0096】
繰り返し構造Ｂ３としては、形成される偏光子層に対する上層塗布性がより良好となる理由から、下記式（Ｎ－１）で表される繰り返し構造であることが好ましい。繰り返し構造Ｂ３は、上述した繰り返し構造Ｂ２とは異なる構造を有しており、フッ素原子を含まないことが好ましい。
【0097】
【化16】
【0098】
式（Ｎ－１）中、ＲＢ１１及びＲＢ１２はそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を表す。ただし、ＲＢ１１及びＲＢ１２が置換基である場合、ＲＢ１１及びＲＢ１２が連結して環を形成していてもよい。
【0099】
ＲＢ１１の分子量及びＲＢ１２の分子量の合計は、２００以下であることが好ましく、１００以下であることがより好ましく、７０以下であることが更に好ましい。上記分子量の合計が１００以下であれば、繰り返し構造Ｂ３間での相互作用がより向上して、界面活性剤と液晶分子との相溶性をより低下させることができる。これにより、配向欠陥が少なく、優れた配向度の偏光子層が得られる。
ＲＢ１１の分子量及びＲＢ１２の分子量の合計の下限は、２以上が好ましい。
ＲＢ１１の分子量及びＲＢ１２の分子量の合計の下限は、２以上が好ましい。
【0100】
ＲＢ１１及びＲＢ１２が表す置換基としては、本発明の効果がより優れる点から、有機基であることが好ましく、炭素数１～１５の有機基であることがより好ましく、炭素数１～１２の有機基であることが更に好ましく、炭素数１～８の有機基であることが特に好ましい。
上記有機基としては、直鎖、分岐又は環状のアルキル基、芳香族炭化水素基、複素環基が挙げられる。
上記有機基としては、直鎖、分岐又は環状のアルキル基、芳香族炭化水素基、複素環基が挙げられる。
【0101】
アルキル基の炭素数は、１～１５が好ましく、１～１２がより好ましく、１～８が更に好ましい。
アルキル基の炭素原子は、－Ｏ－、－Ｓｉ（ＣＨ３）２－、－（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｇ－、－（ＯＳｉ（ＣＨ３）２）ｇ－（ｇは１～１０の整数を表す。）、－Ｎ（Ｚ）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｎ－、－Ｎ＝Ｃ（Ｚ）－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＯＣ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｎ（Ｚ）Ｃ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｚ）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（Ｏ）－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｎ－、－Ｎ＝Ｃ（Ｚ）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｚ”）－、－Ｎ（Ｚ”）－Ｃ（Ｏ）－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－Ｃ（Ｏ）－Ｓ－、－Ｓ－Ｃ（Ｏ）－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｎ－Ｎ＝Ｃ（Ｚ’）－（Ｚ、Ｚ’及びＺ”はそれぞれ独立に、水素、炭素数１～４のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、シアノ基、又は、ハロゲン原子を表す。）、－Ｃ≡Ｃ－、－Ｎ＝Ｎ－、－Ｓ－、－Ｃ（Ｓ）－、－Ｓ（Ｏ）－、－ＳＯ２－、－（Ｏ）Ｓ（Ｏ）Ｏ－、－Ｏ（Ｏ）Ｓ（Ｏ）Ｏ－、－ＳＣ（Ｏ）－、及び、－Ｃ（Ｏ）Ｓ－、並びに、これらの基を２つ以上組み合わせた基で置換されていてもよい。アルキル基の炭素原子が置換されてもよい基の中でも、本発明の効果がより優れる点から、－Ｏ－、－Ｃ（Ｏ）－、－Ｎ（Ｚ）－、－ＯＣ（Ｏ）－、又は、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－が好ましい。
アルキル基の水素原子は、ハロゲン原子、シアノ基、アリール基、ニトロ基、－ＯＺＨ、－Ｃ（Ｏ）ＺＨ、－Ｃ（Ｏ）ＯＺＨ、－ＯＣ（Ｏ）ＺＨ、－ＯＣ（Ｏ）ＯＺＨ、－ＮＺＨＺＨ’、－ＮＺＨＣ（Ｏ）ＺＨ’、－ＮＺＨＣ（Ｏ）ＯＺＨ’、－Ｃ（Ｏ）ＮＺＨＺＨ’、－ＯＣ（Ｏ）ＮＺＨＺＨ’、－ＮＺＨＣ（Ｏ）ＮＺＨ’ＯＺＨ’’、－ＳＺＨ、－Ｃ（Ｓ）ＺＨ、－Ｃ（Ｏ）ＳＺＨ、又は、－ＳＣ（Ｏ）ＺＨ、で置換されていてもよい。ＺＨ、ＺＨ’及びＺＨ’’はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～１０のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、を表す。アルキル基の水素原子が置換されてもよい基の中でも、本発明の効果がより優れる点から、－ＯＨ、－ＣＯＯＨ、又は、アリール基（フェニル基が好ましい。）が好ましい。
アルキル基の炭素原子は、－Ｏ－、－Ｓｉ（ＣＨ３）２－、－（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｇ－、－（ＯＳｉ（ＣＨ３）２）ｇ－（ｇは１～１０の整数を表す。）、－Ｎ（Ｚ）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｎ－、－Ｎ＝Ｃ（Ｚ）－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＯＣ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｎ（Ｚ）Ｃ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｚ）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（Ｏ）－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｎ－、－Ｎ＝Ｃ（Ｚ）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｚ”）－、－Ｎ（Ｚ”）－Ｃ（Ｏ）－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－Ｃ（Ｏ）－Ｓ－、－Ｓ－Ｃ（Ｏ）－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｎ－Ｎ＝Ｃ（Ｚ’）－（Ｚ、Ｚ’及びＺ”はそれぞれ独立に、水素、炭素数１～４のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、シアノ基、又は、ハロゲン原子を表す。）、－Ｃ≡Ｃ－、－Ｎ＝Ｎ－、－Ｓ－、－Ｃ（Ｓ）－、－Ｓ（Ｏ）－、－ＳＯ２－、－（Ｏ）Ｓ（Ｏ）Ｏ－、－Ｏ（Ｏ）Ｓ（Ｏ）Ｏ－、－ＳＣ（Ｏ）－、及び、－Ｃ（Ｏ）Ｓ－、並びに、これらの基を２つ以上組み合わせた基で置換されていてもよい。アルキル基の炭素原子が置換されてもよい基の中でも、本発明の効果がより優れる点から、－Ｏ－、－Ｃ（Ｏ）－、－Ｎ（Ｚ）－、－ＯＣ（Ｏ）－、又は、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－が好ましい。
アルキル基の水素原子は、ハロゲン原子、シアノ基、アリール基、ニトロ基、－ＯＺＨ、－Ｃ（Ｏ）ＺＨ、－Ｃ（Ｏ）ＯＺＨ、－ＯＣ（Ｏ）ＺＨ、－ＯＣ（Ｏ）ＯＺＨ、－ＮＺＨＺＨ’、－ＮＺＨＣ（Ｏ）ＺＨ’、－ＮＺＨＣ（Ｏ）ＯＺＨ’、－Ｃ（Ｏ）ＮＺＨＺＨ’、－ＯＣ（Ｏ）ＮＺＨＺＨ’、－ＮＺＨＣ（Ｏ）ＮＺＨ’ＯＺＨ’’、－ＳＺＨ、－Ｃ（Ｓ）ＺＨ、－Ｃ（Ｏ）ＳＺＨ、又は、－ＳＣ（Ｏ）ＺＨ、で置換されていてもよい。ＺＨ、ＺＨ’及びＺＨ’’はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～１０のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、を表す。アルキル基の水素原子が置換されてもよい基の中でも、本発明の効果がより優れる点から、－ＯＨ、－ＣＯＯＨ、又は、アリール基（フェニル基が好ましい。）が好ましい。
【0102】
芳香族炭化水素基の水素原子及び複素環基の水素原子は、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数１～１０のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、－ＯＺＨ、－Ｃ（Ｏ）ＺＨ、－Ｃ（Ｏ）ＯＺＨ、－ＯＣ（Ｏ）ＺＨ、－ＯＣ（Ｏ）ＯＺＨ、－ＮＺＨＺＨ’、－ＮＺＨＣ（Ｏ）ＺＨ’、－ＮＺＨＣ（Ｏ）ＯＺＨ’、－Ｃ（Ｏ）ＮＺＨＺＨ’、－ＯＣ（Ｏ）ＮＺＨＺＨ’、 －ＮＺＨＣ（Ｏ）ＮＺＨ’ＯＺＨ’’、－ＳＺＨ、－Ｃ（Ｓ）ＺＨ、－Ｃ（Ｏ）ＳＺＨ、－ＳＣ（Ｏ）ＺＨ、－Ｂ（ＯＨ）２で置換されていてもよい。ＺＨ、ＺＨ’及びＺＨ’’はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～１０のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、を表す。芳香族炭化水素基の水素原子及び複素環基の水素原子が置換されてもよい基の中でも、本発明の効果がより優れる点から、－ＯＨ、－Ｂ（ＯＨ）２が好ましい。
【0103】
ＲＢ１１及びＲＢ１２はそれぞれ独立に、本発明の効果がより優れる点から、水素原子又は炭素数１～１５の有機基であることが好ましい。有機基の好適態様については、上述の通りである。
本発明の効果がより優れる点から、ＲＢ１１及びＲＢ１２のうち、少なくとも一方が置換基であることが好ましく、少なくとも一方が炭素数１～１５の有機基であることがより好ましい。
本発明の効果がより優れる点から、ＲＢ１１及びＲＢ１２のうち、少なくとも一方が置換基であることが好ましく、少なくとも一方が炭素数１～１５の有機基であることがより好ましい。
【0104】
ＲＢ１１及びＲＢ１２が連結して形成された環は、式（Ｎ－１）における窒素原子を含む複素環であり、酸素原子、硫黄原子及び窒素原子等のヘテロ原子を環内に更に含んでいてよい。
ＲＢ１１及びＲＢ１２が連結して形成された環は、本発明の効果がより優れる点から、４～８員環であることが好ましく、５～７員環であることがより好ましく、５～６員環であることが更に好ましい。
ＲＢ１１及びＲＢ１２が連結して形成された環を構成する炭素原子の数は、本発明の効果がより優れる点から、３～７が好ましく、３～６がより好ましい。
ＲＢ１１及びＲＢ１２が連結して形成された環は、芳香族性を有していてもよいし、芳香族性を有していなくてもよいが、本発明の効果がより優れる点から、芳香族性を有していないことが好ましい。
ＲＢ１１及びＲＢ１２が連結して形成された環の具体例としては、以下の基が挙げられる。
ＲＢ１１及びＲＢ１２が連結して形成された環は、本発明の効果がより優れる点から、４～８員環であることが好ましく、５～７員環であることがより好ましく、５～６員環であることが更に好ましい。
ＲＢ１１及びＲＢ１２が連結して形成された環を構成する炭素原子の数は、本発明の効果がより優れる点から、３～７が好ましく、３～６がより好ましい。
ＲＢ１１及びＲＢ１２が連結して形成された環は、芳香族性を有していてもよいし、芳香族性を有していなくてもよいが、本発明の効果がより優れる点から、芳香族性を有していないことが好ましい。
ＲＢ１１及びＲＢ１２が連結して形成された環の具体例としては、以下の基が挙げられる。
【0105】
【化17】
【0106】
ＲＢ１３は、水素原子、炭素数１～５のアルキル基、ハロゲン原子又はシアノ基を表し、中でも、水素原子又は炭素数１～５のアルキル基が好ましく、水素原子がより好ましい。
上記アルキル基の炭素数は、１～５であり、１～３が好ましく、１がより好ましい。アルキル基は、直鎖状、分岐状及び環状のいずれの構造であってもよい。
上記アルキル基の炭素数は、１～５であり、１～３が好ましく、１がより好ましい。アルキル基は、直鎖状、分岐状及び環状のいずれの構造であってもよい。
【0107】
繰り返し構造Ｂ３の具体例を以下に示すが、繰り返し構造Ｂ３は以下の構造に限定されるものではない。
【0108】
【化18】
【0109】
繰り返し構造Ｂ３の含有量は、フッ素含有重合体の全繰り返し構造の総質量に対して、３～７５質量％が好ましく、１５～７０質量％がより好ましく、２０～６５質量％が更に好ましい。繰り返し構造Ｂ３の含有量が上記範囲内にあれば、本発明の効果がより優れる。
繰り返し構造Ｂ３は、界面活性剤中において、１種単独で含まれていてもよいし、２種以上含まれていてもよい。繰り返し構造Ｂ３が２種以上含まれる場合、上記繰り返し構造Ｂ３の含有量は、繰り返し構造Ｂ３の含有量の合計を意味する。
繰り返し構造Ｂ３は、界面活性剤中において、１種単独で含まれていてもよいし、２種以上含まれていてもよい。繰り返し構造Ｂ３が２種以上含まれる場合、上記繰り返し構造Ｂ３の含有量は、繰り返し構造Ｂ３の含有量の合計を意味する。
【0110】
（他の繰り返し構造（その１））
上記フッ素含有重合体は、更に下記一般式（Ｍ－３）で表される繰り返し構造を有してもよい。
上記フッ素含有重合体は、更に下記一般式（Ｍ－３）で表される繰り返し構造を有してもよい。
【0111】
【化19】
【0112】
上記式（Ｍ－３）中、Ｒ３は水素原子、フッ素原子、塩素原子、又は炭素数１～２０のアルキル基を表し、Ｌ３は、単結合または２価の連結基を表し、Ｔ３は芳香環を表す。
Ｌ３の連結基としては、上記式（Ｆ－２）中のＳＰ２１と同様の基が挙げられる。
Ｔ３の芳香環基としては、例えば、ベンゼン環基、ナフタレン環基、アントラセン環基、および、フェナンスロリン環基等の芳香族炭化水素環基；フラン環基、ピロール環基、チオフェン環基、ピリジン環基、チアゾール環基、および、ベンゾチアゾール環基等の芳香族複素環基；が挙げられる。なかでも、ベンゼン環基（例えば、１，４－フェニル基等）が好ましい。これらの基を重合体中に含むことで、相溶性を向上させることができる。
Ｌ３の連結基としては、上記式（Ｆ－２）中のＳＰ２１と同様の基が挙げられる。
Ｔ３の芳香環基としては、例えば、ベンゼン環基、ナフタレン環基、アントラセン環基、および、フェナンスロリン環基等の芳香族炭化水素環基；フラン環基、ピロール環基、チオフェン環基、ピリジン環基、チアゾール環基、および、ベンゾチアゾール環基等の芳香族複素環基；が挙げられる。なかでも、ベンゼン環基（例えば、１，４－フェニル基等）が好ましい。これらの基を重合体中に含むことで、相溶性を向上させることができる。
【0113】
上記式（Ｍ－３）で表される繰返し構造を形成する単量体としては、具体的には、例えば、下記式（Ｍ３－１）～（Ｍ３－５）で表される構造が挙げられるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【0114】
【化20】
【0115】
（他の繰り返し構造（その２））
上記フッ素含有重合体は、更に下記一般式（Ｍ－４）で表される繰り返し構造を有してもよい。
上記フッ素含有重合体は、更に下記一般式（Ｍ－４）で表される繰り返し構造を有してもよい。
【0116】
【化21】
【0117】
上記式（Ｍ－４）中、Ｒ４は水素原子、フッ素原子、塩素原子、又は炭素数１～２０のアルキル基を表し、Ｌ４は、単結合または２価の連結基を表し、Ｑ４は上述の式（Ｐ１）～（Ｐ３０）で表される架橋性基を表す。
Ｌ４の連結基としては、上記式（Ｗ１）中のＳＰＷと同様の基が挙げられ、炭素数４～２０の芳香族炭化水素基、炭素数４～２０の環状のアルキレン基、炭素数１～２０複素環基が挙げられ、炭素数１～２０の直鎖、分岐、又は環状のアルキレン基、炭素数４～２０の芳香族炭化水素基、が好ましく、－Ｏ－、－ＣＯ－Ｏ－、－ＣＯ－ＮＨ－、－Ｏ－ＣＯ－を有していることが好ましい。
Ｌ４の連結基としては、上記式（Ｗ１）中のＳＰＷと同様の基が挙げられ、炭素数４～２０の芳香族炭化水素基、炭素数４～２０の環状のアルキレン基、炭素数１～２０複素環基が挙げられ、炭素数１～２０の直鎖、分岐、又は環状のアルキレン基、炭素数４～２０の芳香族炭化水素基、が好ましく、－Ｏ－、－ＣＯ－Ｏ－、－ＣＯ－ＮＨ－、－Ｏ－ＣＯ－を有していることが好ましい。
【0118】
Ｑ４がカチオン重合性基を含む基を表す場合、カチオン重合性基としては、特に限定されず、例えば、脂環式エーテル基、環状アセタール基、環状ラクトン基、環状チオエーテル基、スピロオルソエステル基、ビニルオキシ基などを挙げることができる。
カチオン重合性基としては、脂環式エーテル基又はビニルオキシ基が好ましく、エポキシ基、オキセタニル基又はビニルオキシ基がより好ましく、エポキシ基又はオキセタニル基が更に好ましく、エポキシ基が特に好ましい。エポキシ基としては脂環式エポキシ基であることが特に好ましい。なお、上記した各基は置換基を有していても良い。
Ｑ４がラジカル重合性基を含む基を表す場合、ラジカル重合性基としては、特に限定されず、例えば、重合性炭素－炭素二重結合を含む基が挙げられ、具体的には、（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリロイルオキシ基、（メタ）アクリルアミド基、ビニル基、スチリル基、アリル基などが挙げられ、（メタ）アクリロイルオキシ基が好ましい。なお、上記した各基は置換基を有していてもよい。これらの基を含むことで、複数の偏光子層を積層する形態とした際の層間の密着性を向上させることができる。
カチオン重合性基としては、脂環式エーテル基又はビニルオキシ基が好ましく、エポキシ基、オキセタニル基又はビニルオキシ基がより好ましく、エポキシ基又はオキセタニル基が更に好ましく、エポキシ基が特に好ましい。エポキシ基としては脂環式エポキシ基であることが特に好ましい。なお、上記した各基は置換基を有していても良い。
Ｑ４がラジカル重合性基を含む基を表す場合、ラジカル重合性基としては、特に限定されず、例えば、重合性炭素－炭素二重結合を含む基が挙げられ、具体的には、（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリロイルオキシ基、（メタ）アクリルアミド基、ビニル基、スチリル基、アリル基などが挙げられ、（メタ）アクリロイルオキシ基が好ましい。なお、上記した各基は置換基を有していてもよい。これらの基を含むことで、複数の偏光子層を積層する形態とした際の層間の密着性を向上させることができる。
【0119】
上記式（Ｍ－４）で表される繰返し構造を形成する単量体としては、具体的には、例えば、下記式（Ｍ４―１）～（Ｍ４－１７）で表される単量体が挙げられるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【0120】
【化22】
【0121】
上記フッ素含有重合体は、ブロック構造、グラフト構造、ブランチ構造またはスター構造を有する重合体であってもよい。このようなブロック構造、グラフト構造、ブランチ構造またはスター構造を有することで、フッ素原子団が塊として存在し、重合体の塗膜表面への移行性が向上する等の点で好ましい。
また、フッ素置換アルキル鎖長が１～４のランダム構造を有する共重合体においては、フッ素原子団の塊が小さく、汎用溶剤への溶解性は優れるものの、塗膜表面への移行性は低い。一方、上記の重合体は、フッ素原子団が塊として存在することに起因し、フッ素置換アルキル鎖長が１～４でも塗膜表面への移行性が高く、このような共重合体を組成物中に添加することで、塗膜の表面張力を低下させ、塗工時における組成物の基材に対するぬれ性（均質塗工性）、塗膜表面の面状を良好なものとできることから好ましい。
また、フッ素置換アルキル鎖長が１～４のランダム構造を有する共重合体においては、フッ素原子団の塊が小さく、汎用溶剤への溶解性は優れるものの、塗膜表面への移行性は低い。一方、上記の重合体は、フッ素原子団が塊として存在することに起因し、フッ素置換アルキル鎖長が１～４でも塗膜表面への移行性が高く、このような共重合体を組成物中に添加することで、塗膜の表面張力を低下させ、塗工時における組成物の基材に対するぬれ性（均質塗工性）、塗膜表面の面状を良好なものとできることから好ましい。
【0122】
本発明においては、偏光子形成用組成物が界面活性剤を含有する場合、画像表示装置の表示性能および耐久性がより良好となる理由から、界面活性剤のｌｏｇＰ値と上記液晶性化合物のｌｏｇＰ値との差が３．１未満であることが好ましく、１．４未満であることがより好ましく、０以上１．４未満であることが更に好ましい。
ここで、界面活性剤のｌｏｇＰ値と液晶性化合物のｌｏｇＰ値との差（絶対値）について、界面活性剤または液晶性化合物を複数用いている場合には、各化合物のｌｏｇＰ値から算出される差のうち、最小の差をいう。
ここで、界面活性剤のｌｏｇＰ値と液晶性化合物のｌｏｇＰ値との差（絶対値）について、界面活性剤または液晶性化合物を複数用いている場合には、各化合物のｌｏｇＰ値から算出される差のうち、最小の差をいう。
【0123】
偏光子層形成用組成物が界面活性剤を含有する場合、界面活性剤の含有量は、偏光子層形成用組成物中の上記アゾ色素およびアゾ色素以外の二色性物質と上記液晶性化合物との合計１００質量部に対し、０．００１～５質量部が好ましく、０．０１～３質量部がより好ましい。
界面活性剤は、１種単独で用いても２種以上を併用してもよい。界面活性剤を２種以上含む場合、その合計量が上記範囲内であるのが好ましい。
界面活性剤は、１種単独で用いても２種以上を併用してもよい。界面活性剤を２種以上含む場合、その合計量が上記範囲内であるのが好ましい。
【0124】
＜密着改良剤＞
偏光子層形成用組成物は、後述するバリア層との密着性の観点から、密着改良剤を含んでもよい。密着改良剤としては、例えば、ヒドロキシル基、カルボキシル基、ボロン酸基を含む化合物が挙げられ、ボロン酸基を含む化合物が好ましい。
ボロン酸基を含む化合物としては、例えば、下記式で表される化合物が好適に挙げられる。
偏光子層形成用組成物は、後述するバリア層との密着性の観点から、密着改良剤を含んでもよい。密着改良剤としては、例えば、ヒドロキシル基、カルボキシル基、ボロン酸基を含む化合物が挙げられ、ボロン酸基を含む化合物が好ましい。
ボロン酸基を含む化合物としては、例えば、下記式で表される化合物が好適に挙げられる。
【0125】
【化23】
【0126】
式中、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立に、水素原子、あるいは、置換もしくは無置換の、脂肪族炭化水素基、アリール基またはヘテロ環基を表す。Ｒ３は、（メタ）アクリル基と結合し得る官能基を含む置換基を表す。
【0127】
＜溶媒＞
偏光子層形成用組成物は、作業性等の観点から、溶媒を含むことが好ましい。
溶媒としては、例えば、ケトン類（例えば、アセトン、２－ブタノン、メチルイソブチルケトン、シクロペタンタノン、シクロヘキサノンなど）、エーテル類（例えば、ジオキサン、テトラヒドロフラン、２－メチルテトラヒドロフラン、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロピラン、ジオキソランなど）、脂肪族炭化水素類（例えば、ヘキサンなど）、脂環式炭化水素類（例えば、シクロヘキサンなど）、芳香族炭化水素類（例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、トリメチルベンゼンなど）、ハロゲン化炭素類（例えば、ジクロロメタン、トリクロロメタン、ジクロロエタン、ジクロロベンゼン、クロロトルエンなど）、エステル類（例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチルなど）、アルコール類（例えば、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノール、イソペンチルアルコール、ネオペンチルアルコール、ジアセトンアルコール、ベンジルアルコールなど）、セロソルブ類（例えば、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、１，２－ジメトキシエタンなど）、セロソルブアセテート類、スルホキシド類（例えば、ジメチルスルホキシドなど）、アミド類（例えば、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチルピロリドン、Ｎ－エチルピロリドンなど）、および、ヘテロ環化合物（例えば、ピリジンなど）などの有機溶媒、ならびに、水が挙げられる。これの溶媒は、１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
これらの溶媒のうち、偏光子層形成用組成物の溶解性に優れるという効果を活かす観点から、ケトン類（特にシクロペンタノン、シクロヘキサノン）、エーテル類（特にテトラヒドロフラン、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロピラン、ジオキソラン）、および、アミド類（特に、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチルピロリドン、Ｎ－エチルピロリドン）が好ましい。
偏光子層形成用組成物は、作業性等の観点から、溶媒を含むことが好ましい。
溶媒としては、例えば、ケトン類（例えば、アセトン、２－ブタノン、メチルイソブチルケトン、シクロペタンタノン、シクロヘキサノンなど）、エーテル類（例えば、ジオキサン、テトラヒドロフラン、２－メチルテトラヒドロフラン、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロピラン、ジオキソランなど）、脂肪族炭化水素類（例えば、ヘキサンなど）、脂環式炭化水素類（例えば、シクロヘキサンなど）、芳香族炭化水素類（例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、トリメチルベンゼンなど）、ハロゲン化炭素類（例えば、ジクロロメタン、トリクロロメタン、ジクロロエタン、ジクロロベンゼン、クロロトルエンなど）、エステル類（例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチルなど）、アルコール類（例えば、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノール、イソペンチルアルコール、ネオペンチルアルコール、ジアセトンアルコール、ベンジルアルコールなど）、セロソルブ類（例えば、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、１，２－ジメトキシエタンなど）、セロソルブアセテート類、スルホキシド類（例えば、ジメチルスルホキシドなど）、アミド類（例えば、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチルピロリドン、Ｎ－エチルピロリドンなど）、および、ヘテロ環化合物（例えば、ピリジンなど）などの有機溶媒、ならびに、水が挙げられる。これの溶媒は、１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
これらの溶媒のうち、偏光子層形成用組成物の溶解性に優れるという効果を活かす観点から、ケトン類（特にシクロペンタノン、シクロヘキサノン）、エーテル類（特にテトラヒドロフラン、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロピラン、ジオキソラン）、および、アミド類（特に、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチルピロリドン、Ｎ－エチルピロリドン）が好ましい。
【0128】
偏光子層形成用組成物が溶媒を含む場合、溶媒の含有量は、偏光子層形成用組成物の全質量に対して、８０～９９質量％であることが好ましく、８３～９７質量％であることがより好ましく、８５～９５質量％であることが特に好ましい。
溶媒は、１種単独で用いても２種以上を併用してもよい。溶媒を２種以上含む場合、その合計量が上記範囲内であるのが好ましい。
溶媒は、１種単独で用いても２種以上を併用してもよい。溶媒を２種以上含む場合、その合計量が上記範囲内であるのが好ましい。
【0129】
＜偏光子層の製造方法＞
偏光子層を製造する方法は特に制限されないが、得られる偏光子層の配向度がより高くなる理由から、配向膜上に上述した本組成物を塗布して塗布膜を形成する工程（以下、「塗布膜形成工程」ともいう。）と、上記塗布膜に含まれるアゾ色素およびアゾ色素以外の二色性物質を配向させる工程（以下、「配向工程」ともいう。）と、をこの順に備える方法（以下、「本製造方法」ともいう。）が好ましい。
以下、各工程について説明する。
偏光子層を製造する方法は特に制限されないが、得られる偏光子層の配向度がより高くなる理由から、配向膜上に上述した本組成物を塗布して塗布膜を形成する工程（以下、「塗布膜形成工程」ともいう。）と、上記塗布膜に含まれるアゾ色素およびアゾ色素以外の二色性物質を配向させる工程（以下、「配向工程」ともいう。）と、をこの順に備える方法（以下、「本製造方法」ともいう。）が好ましい。
以下、各工程について説明する。
【0130】
（塗布膜形成工程）
塗布膜形成工程は、配向膜上に上述した偏光子層形成用組成物を塗布して塗布膜を形成する工程である。塗布膜中の液晶性化合物は配向膜と（本組成物が界面改良剤を含有する場合には）界面改良剤との相互作用により水平配向する。
上述した溶媒を含有する本組成物を用いたり、本組成物を加熱などによって溶融液などの液状物としたものを用いたりすることにより、配向膜上に本組成物を塗布することが容易になる。
本組成物の塗布方法としては、ロールコーティング法、グラビア印刷法、スピンコート法、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法、スプレー法、および、インクジェット法などの公知の方法が挙げられる。
塗布膜形成工程は、配向膜上に上述した偏光子層形成用組成物を塗布して塗布膜を形成する工程である。塗布膜中の液晶性化合物は配向膜と（本組成物が界面改良剤を含有する場合には）界面改良剤との相互作用により水平配向する。
上述した溶媒を含有する本組成物を用いたり、本組成物を加熱などによって溶融液などの液状物としたものを用いたりすることにより、配向膜上に本組成物を塗布することが容易になる。
本組成物の塗布方法としては、ロールコーティング法、グラビア印刷法、スピンコート法、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法、スプレー法、および、インクジェット法などの公知の方法が挙げられる。
【0131】
（配向膜）
塗布膜使用工程で使用する配向膜について説明する。
配向膜は、本組成物に含有される液晶性化合物を水平配向させる膜であれば、どのような膜でもよい。
有機化合物（好ましくはポリマー）の膜表面へのラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログルーブを有する層の形成、あるいはラングミュアブロジェット法（ＬＢ膜）による有機化合物（例、ω－トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライド、ステアリル酸メチル）の累積のような手段で、設けることができる。さらに、電場の付与、磁場の付与あるいは光照射により、配向機能が生じる配向膜も知られている。なかでも、本発明では、配向膜のプレチルト角の制御し易さの点からはラビング処理により形成する配向膜が好ましく、配向の均一性の点からは光照射により形成する光配向膜も好ましい。
塗布膜使用工程で使用する配向膜について説明する。
配向膜は、本組成物に含有される液晶性化合物を水平配向させる膜であれば、どのような膜でもよい。
有機化合物（好ましくはポリマー）の膜表面へのラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログルーブを有する層の形成、あるいはラングミュアブロジェット法（ＬＢ膜）による有機化合物（例、ω－トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライド、ステアリル酸メチル）の累積のような手段で、設けることができる。さらに、電場の付与、磁場の付与あるいは光照射により、配向機能が生じる配向膜も知られている。なかでも、本発明では、配向膜のプレチルト角の制御し易さの点からはラビング処理により形成する配向膜が好ましく、配向の均一性の点からは光照射により形成する光配向膜も好ましい。
【0132】
（１）ラビング処理配向膜
ラビング処理により形成される配向膜に用いられるポリマー材料としては、多数の文献に記載があり、多数の市販品を入手することができる。本発明においては、ポリビニルアルコールまたはポリイミド、およびその誘導体が好ましく用いられる。配向膜については国際公開第２００１／８８５７４Ａ１号公報の４３頁２４行～４９頁８行の記載を参照することができる。配向膜の厚さは、０．０１～１０μｍであることが好ましく、０．０１～２μｍであることがより好ましい。
ラビング処理により形成される配向膜に用いられるポリマー材料としては、多数の文献に記載があり、多数の市販品を入手することができる。本発明においては、ポリビニルアルコールまたはポリイミド、およびその誘導体が好ましく用いられる。配向膜については国際公開第２００１／８８５７４Ａ１号公報の４３頁２４行～４９頁８行の記載を参照することができる。配向膜の厚さは、０．０１～１０μｍであることが好ましく、０．０１～２μｍであることがより好ましい。
【0133】
（２）光配向膜
光照射により形成される配向膜に用いられる光配向材料としては、多数の文献などに記載がある。本発明においては、例えば、特開２００６－２８５１９７号公報、特開２００７－７６８３９号公報、特開２００７－１３８１３８号公報、特開２００７－９４０７１号公報、特開２００７－１２１７２１号公報、特開２００７－１４０４６５号公報、特開２００７－１５６４３９号公報、特開２００７－１３３１８４号公報、特開２００９－１０９８３１号公報、特許第３８８３８４８号、特許第４１５１７４６号に記載のアゾ化合物、特開２００２－２２９０３９号公報に記載の芳香族エステル化合物、特開２００２－２６５５４１号公報、特開２００２－３１７０１３号公報に記載の光配向性単位を有するマレイミドおよび／またはアルケニル置換ナジイミド化合物、特許第４２０５１９５号、特許第４２０５１９８号に記載の光架橋性シラン誘導体、特表２００３－５２０８７８号公報、特表２００４－５２９２２０号公報、または、特許第４１６２８５０号に記載の光架橋性ポリイミド、ポリアミドもしくはエステルが好ましい例として挙げられる。より好ましくは、アゾ化合物、光架橋性ポリイミド、ポリアミド、または、エステルである。
光照射により形成される配向膜に用いられる光配向材料としては、多数の文献などに記載がある。本発明においては、例えば、特開２００６－２８５１９７号公報、特開２００７－７６８３９号公報、特開２００７－１３８１３８号公報、特開２００７－９４０７１号公報、特開２００７－１２１７２１号公報、特開２００７－１４０４６５号公報、特開２００７－１５６４３９号公報、特開２００７－１３３１８４号公報、特開２００９－１０９８３１号公報、特許第３８８３８４８号、特許第４１５１７４６号に記載のアゾ化合物、特開２００２－２２９０３９号公報に記載の芳香族エステル化合物、特開２００２－２６５５４１号公報、特開２００２－３１７０１３号公報に記載の光配向性単位を有するマレイミドおよび／またはアルケニル置換ナジイミド化合物、特許第４２０５１９５号、特許第４２０５１９８号に記載の光架橋性シラン誘導体、特表２００３－５２０８７８号公報、特表２００４－５２９２２０号公報、または、特許第４１６２８５０号に記載の光架橋性ポリイミド、ポリアミドもしくはエステルが好ましい例として挙げられる。より好ましくは、アゾ化合物、光架橋性ポリイミド、ポリアミド、または、エステルである。
【0134】
これらのうち、光配向化合物として、光の作用により二量化および異性化の少なくとも一方が生じる光反応性基を有する感光性化合物を用いることが好ましい。
また、光反応性基としては、例えば、桂皮酸（シンナモイル）構造（骨格）を有する基、クマリン構造（骨格）を有する基、カルコン構造（骨格）を有する基、ベンゾフェノン構造（骨格）を有する基、および、アントラセン構造（骨格）を有する基などが挙げられる。これら基のなかでも、シンナモイル構造を有する基、クマリン構造を有する基が好ましく、シンナモイル構造を有する基がより好ましい。
また、光反応性基としては、例えば、桂皮酸（シンナモイル）構造（骨格）を有する基、クマリン構造（骨格）を有する基、カルコン構造（骨格）を有する基、ベンゾフェノン構造（骨格）を有する基、および、アントラセン構造（骨格）を有する基などが挙げられる。これら基のなかでも、シンナモイル構造を有する基、クマリン構造を有する基が好ましく、シンナモイル構造を有する基がより好ましい。
【0135】
また、上記光配向性基を有する感光性化合物は、更に架橋性基を有していてもよい。
上記架橋性基としては、熱の作用により硬化反応を起こす熱架橋性基、光の作用により硬化反応を起こす光架橋性基が好ましく、熱架橋性基および光架橋性基をいずれも有する架橋性基であってもよい。
上記架橋性基としては、例えば、エポキシ基、オキセタニル基、－ＮＨ－ＣＨ２－Ｏ－Ｒ（Ｒは水素原子または炭素数１～２０のアルキル基を表す。）で表される基、エチレン性不飽和二重結合を有する基、および、ブロックイソシアネート基からなる群から選ばれた少なくとも１つが挙げられる。なかでも、エポキシ基、オキセタニル基、エチレン性不飽和二重結合を有する基が好ましい。
なお、３員環の環状エーテル基はエポキシ基とも呼ばれ、４員環の環状エーテル基はオキセタニル基とも呼ばれる。
また、エチレン性不飽和二重結合を有する基としては、具体的には、例えば、ビニル基、アリル基、スチリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基が挙げられ、アクリロイル基またはメタクリロイル基であることが好ましい。
上記架橋性基としては、熱の作用により硬化反応を起こす熱架橋性基、光の作用により硬化反応を起こす光架橋性基が好ましく、熱架橋性基および光架橋性基をいずれも有する架橋性基であってもよい。
上記架橋性基としては、例えば、エポキシ基、オキセタニル基、－ＮＨ－ＣＨ２－Ｏ－Ｒ（Ｒは水素原子または炭素数１～２０のアルキル基を表す。）で表される基、エチレン性不飽和二重結合を有する基、および、ブロックイソシアネート基からなる群から選ばれた少なくとも１つが挙げられる。なかでも、エポキシ基、オキセタニル基、エチレン性不飽和二重結合を有する基が好ましい。
なお、３員環の環状エーテル基はエポキシ基とも呼ばれ、４員環の環状エーテル基はオキセタニル基とも呼ばれる。
また、エチレン性不飽和二重結合を有する基としては、具体的には、例えば、ビニル基、アリル基、スチリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基が挙げられ、アクリロイル基またはメタクリロイル基であることが好ましい。
【0136】
上記材料から形成した光配向膜に、直線偏光または非偏光照射を施し、光配向膜を製造する。
本明細書において、「直線偏光照射」「非偏光照射」とは、光配向材料に光反応を生じせしめるための操作である。用いる光の波長は、用いる光配向材料により異なり、その光反応に必要な波長であれば特に限定されるものではない。光照射に用いる光のピーク波長は、２００ｎｍ～７００ｎｍが好ましく、光のピーク波長が４００ｎｍ以下の紫外光がより好ましい。
本明細書において、「直線偏光照射」「非偏光照射」とは、光配向材料に光反応を生じせしめるための操作である。用いる光の波長は、用いる光配向材料により異なり、その光反応に必要な波長であれば特に限定されるものではない。光照射に用いる光のピーク波長は、２００ｎｍ～７００ｎｍが好ましく、光のピーク波長が４００ｎｍ以下の紫外光がより好ましい。
【0137】
光照射に用いる光源は、通常使われる光源、例えばタングステンランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ、キセノンフラッシュランプ、水銀ランプ、水銀キセノンランプおよびカーボンアークランプなどのランプ、各種のレーザー［例、半導体レーザー、ヘリウムネオンレーザー、アルゴンイオンレーザー、ヘリウムカドミウムレーザーおよびＹＡＧ（イットリウム・アルミニウム・ガーネット）レーザー］、発光ダイオード、ならびに、陰極線管などを挙げることができる。
【0138】
直線偏光を得る手段としては、偏光板（例えば、ヨウ素偏光板、二色性物質偏光板、および、ワイヤーグリッド偏光板）を用いる方法、プリズム系素子（例えば、グラントムソンプリズム）もしくはブリュースター角を利用した反射型偏光子を用いる方法、または、偏光を有するレーザー光源から出射される光を用いる方法が採用できる。また、フィルタまたは波長変換素子などを用いて必要とする波長の光のみを選択的に照射してもよい。
【0139】
照射する光は、直線偏光の場合には、配向膜に対して上面、または裏面から配向膜表面に対して垂直、または斜めから光を照射する方法が採用される。光の入射角度は、光配向材料によって異なるが、０～９０°（垂直）が好ましく、４０～９０°が好ましい。
非偏光の場合には、配向膜に対して、斜めから非偏光を照射する。その入射角度は、１０～８０°が好ましく、２０～６０°がより好ましく、３０～５０°が特に好ましい。
照射時間は、１分～６０分が好ましく、１分～１０分がより好ましい。
非偏光の場合には、配向膜に対して、斜めから非偏光を照射する。その入射角度は、１０～８０°が好ましく、２０～６０°がより好ましく、３０～５０°が特に好ましい。
照射時間は、１分～６０分が好ましく、１分～１０分がより好ましい。
【0140】
パターン化が必要な場合には、フォトマスクを用いた光照射をパターン作製に必要な回数施す方法、または、レーザー光走査によるパターンの書き込みによる方法を採用できる。
【0141】
配向膜は任意の基材の上に形成されていてもよいし、基材そのものが配向膜を兼ねても良い。配向膜の基材としては、適宜選択することができ、例えば、ガラスおよびポリマーフィルムが挙げられる。基材の光透過率は、８０％以上であるのが好ましい。
基材としてポリマーフィルムを用いる場合には、光学的等方性のポリマーフィルムを用いるのが好ましい。ポリマーの具体例および好ましい態様は、特開２００２－２２９４２号公報の［００１３］段落の記載を適用できる。また、従来知られているポリカーボネートやポリスルホンのような複屈折の発現しやすいポリマーであっても国際公開第２０００／２６７０５号公報に記載の分子を修飾することで発現性を低下させたものを用いることもできる。
基材としてポリマーフィルムを用いる場合には、光学的等方性のポリマーフィルムを用いるのが好ましい。ポリマーの具体例および好ましい態様は、特開２００２－２２９４２号公報の［００１３］段落の記載を適用できる。また、従来知られているポリカーボネートやポリスルホンのような複屈折の発現しやすいポリマーであっても国際公開第２０００／２６７０５号公報に記載の分子を修飾することで発現性を低下させたものを用いることもできる。
【0142】
配向膜および配向膜の基材は、積層体から取り除かれて残されていなくても良いし、残されていても良い。配向膜および配向膜の基材を積層体に残さない方法としては、配向膜上に偏光子層を形成した後に偏光子層表面を積層体を構成する材料、例えば基板、に貼合し、その後に配向膜の基材を剥がす、などの方法がある。またこの際に、配向膜の基材のみを取り除き、配向膜のみを積層体中に残しても良い。
【0143】
（配向工程）
配向工程は、塗布膜に含まれる液晶性成分を配向させる工程である。これにより、本発明の偏光子層が得られる。
配向工程は、乾燥処理を有していてもよい。乾燥処理によって、溶媒などの成分を塗布膜から除去することができる。乾燥処理は、塗布膜を室温下において所定時間放置する方法（例えば、自然乾燥）によって行われてもよいし、加熱および／または送風する方法によって行われてもよい。
ここで、偏光子層形成用組成物に含まれる液晶性成分は、上述した塗布膜形成工程または乾燥処理によって、配向する場合がある。例えば、偏光子形成用組成物が溶媒を含む塗布液として調製されている態様では、塗布膜を乾燥して、塗布膜から溶媒を除去することで、偏光子層が得られる。
乾燥処理が塗布膜に含まれる液晶性成分の液晶相への転移温度以上の温度により行われる場合には、後述する加熱処理は実施しなくてもよい。
配向工程は、塗布膜に含まれる液晶性成分を配向させる工程である。これにより、本発明の偏光子層が得られる。
配向工程は、乾燥処理を有していてもよい。乾燥処理によって、溶媒などの成分を塗布膜から除去することができる。乾燥処理は、塗布膜を室温下において所定時間放置する方法（例えば、自然乾燥）によって行われてもよいし、加熱および／または送風する方法によって行われてもよい。
ここで、偏光子層形成用組成物に含まれる液晶性成分は、上述した塗布膜形成工程または乾燥処理によって、配向する場合がある。例えば、偏光子形成用組成物が溶媒を含む塗布液として調製されている態様では、塗布膜を乾燥して、塗布膜から溶媒を除去することで、偏光子層が得られる。
乾燥処理が塗布膜に含まれる液晶性成分の液晶相への転移温度以上の温度により行われる場合には、後述する加熱処理は実施しなくてもよい。
【0144】
塗布膜に含まれる液晶性成分の液晶相への転移温度は、製造適性等の面から１０～２５０℃が好ましく、２５～１９０℃がより好ましい。上記転移温度が１０℃以上であると、液晶相を呈する温度範囲にまで温度を下げるための冷却処理等が必要とならず、好ましい。また、上記転移温度が２５０℃以下であると、一旦液晶相を呈する温度範囲よりもさらに高温の等方性液体状態にする場合にも高温を要さず、熱エネルギーの浪費、ならびに、基板の変形および変質等を低減できるため、好ましい。
【0145】
配向工程は、加熱処理を有することが好ましい。これにより、塗布膜に含まれる液晶性成分を配向させることができるため、加熱処理後の塗布膜を光偏光子層として好適に使用できる。
加熱処理は、製造適性等の面から１０～２５０℃が好ましく、２５～１９０℃がより好ましい。また、加熱時間は、１～３００秒が好ましく、１～６０秒がより好ましい。
加熱処理は、製造適性等の面から１０～２５０℃が好ましく、２５～１９０℃がより好ましい。また、加熱時間は、１～３００秒が好ましく、１～６０秒がより好ましい。
【0146】
配向工程は、加熱処理後に実施される冷却処理を有していてもよい。冷却処理は、加熱後の塗布膜を室温（２０～２５℃）程度まで冷却する処理である。これにより、塗布膜に含まれる液晶性成分の配向を固定することができる。冷却手段としては、特に限定されず、公知の方法により実施できる。
以上の工程によって、偏光子層を得ることができる。
なお、本態様では、塗布膜に含まれる液晶性成分を配向する方法として、乾燥処理および加熱処理などを挙げているが、これに限定されず、公知の配向処理によって実施できる。
以上の工程によって、偏光子層を得ることができる。
なお、本態様では、塗布膜に含まれる液晶性成分を配向する方法として、乾燥処理および加熱処理などを挙げているが、これに限定されず、公知の配向処理によって実施できる。
【0147】
（他の工程）
偏光子層の製造方法は、上記配向工程後に、偏光子層を硬化させる工程（以下、「硬化工程」ともいう。）を有していてもよい。
硬化工程は、例えば、偏光子層が架橋性基（重合性基）を有している場合には、加熱および／または光照射（露光）によって実施される。このなかでも、硬化工程は光照射によって実施されることが好ましい。
硬化に用いる光源は、赤外線、可視光または紫外線など、種々の光源を用いることが可能であるが、紫外線であることが好ましい。また、硬化時に加熱しながら紫外線を照射してもよいし、特定の波長のみを透過するフィルタを介して紫外線を照射してもよい。
露光が加熱しながら行われる場合、露光時の加熱温度は、偏光子層に含まれる液晶性成分の液晶相への転移温度にもよるが、２５～１４０℃であることが好ましい。
また、露光は、窒素雰囲気下で行われてもよい。ラジカル重合によって偏光子層の硬化が進行する場合において、酸素による重合の阻害が低減されるため、窒素雰囲気下で露光することが好ましい。
偏光子層の製造方法は、上記配向工程後に、偏光子層を硬化させる工程（以下、「硬化工程」ともいう。）を有していてもよい。
硬化工程は、例えば、偏光子層が架橋性基（重合性基）を有している場合には、加熱および／または光照射（露光）によって実施される。このなかでも、硬化工程は光照射によって実施されることが好ましい。
硬化に用いる光源は、赤外線、可視光または紫外線など、種々の光源を用いることが可能であるが、紫外線であることが好ましい。また、硬化時に加熱しながら紫外線を照射してもよいし、特定の波長のみを透過するフィルタを介して紫外線を照射してもよい。
露光が加熱しながら行われる場合、露光時の加熱温度は、偏光子層に含まれる液晶性成分の液晶相への転移温度にもよるが、２５～１４０℃であることが好ましい。
また、露光は、窒素雰囲気下で行われてもよい。ラジカル重合によって偏光子層の硬化が進行する場合において、酸素による重合の阻害が低減されるため、窒素雰囲気下で露光することが好ましい。
【0148】
［光学異方性膜］
本発明の積層体は、光学異方性膜を有することも好ましい。
ここで、光学異方性膜とは、位相差を生じるフィルム全般を指し、例えば、延伸ポリマーフィルム、支持体上に配向した液晶性化合物を有する光学異方性層を設けた位相差フィルムなどが挙げられる。
ここで、光学異方性層に含まれる液晶性化合物の配向方向に関して特に制限はなく、膜面に対し、水平、垂直、捩れ配向等が挙げられる。
また、光学異方性膜の具体的な機能としては、例えば、λ／４板、λ／２板などが挙げられる。
また、光学異方性層は複数の層からなっていてもよい。複数の光学異方性層からなる光学異方性層については、例えば、特開２０１４－２０９２１９号公報の［０００８］～［００５３］段落の記載を参照できる。
また、このような光学異方性膜と上述した偏光子層とは、接して設けられていてもよいし、間に他の層が設けられていてもよい。このような層としては、密着性担保のための粘着層または接着層が挙げられる。
本発明の積層体は、光学異方性膜を有することも好ましい。
ここで、光学異方性膜とは、位相差を生じるフィルム全般を指し、例えば、延伸ポリマーフィルム、支持体上に配向した液晶性化合物を有する光学異方性層を設けた位相差フィルムなどが挙げられる。
ここで、光学異方性層に含まれる液晶性化合物の配向方向に関して特に制限はなく、膜面に対し、水平、垂直、捩れ配向等が挙げられる。
また、光学異方性膜の具体的な機能としては、例えば、λ／４板、λ／２板などが挙げられる。
また、光学異方性層は複数の層からなっていてもよい。複数の光学異方性層からなる光学異方性層については、例えば、特開２０１４－２０９２１９号公報の［０００８］～［００５３］段落の記載を参照できる。
また、このような光学異方性膜と上述した偏光子層とは、接して設けられていてもよいし、間に他の層が設けられていてもよい。このような層としては、密着性担保のための粘着層または接着層が挙げられる。
【0149】
本発明の積層体は、上述した光学異方性膜としてλ／４板を用いることが好ましく、偏光子層上に、λ／４板を有していることがより好ましい。
ここで、「λ／４板」とは、λ／４機能を有する板であり、具体的には、ある特定の波長の直線偏光を円偏光に（または円偏光を直線偏光に）変換する機能を有する板である。
例えば、λ／４板が単層構造である態様としては、具体的には、延伸ポリマーフィルムや、支持体上にλ／４機能を有する光学異方性層を設けた位相差フィルムなどが挙げられ、また、λ／４板が複層構造である態様としては、具体的には、λ／４板とλ／２板とを積層してなる広帯域λ／４板が挙げられる。
ここで、「λ／４板」とは、λ／４機能を有する板であり、具体的には、ある特定の波長の直線偏光を円偏光に（または円偏光を直線偏光に）変換する機能を有する板である。
例えば、λ／４板が単層構造である態様としては、具体的には、延伸ポリマーフィルムや、支持体上にλ／４機能を有する光学異方性層を設けた位相差フィルムなどが挙げられ、また、λ／４板が複層構造である態様としては、具体的には、λ／４板とλ／２板とを積層してなる広帯域λ／４板が挙げられる。
【0150】
［バリア層］
本発明の積層体は、偏光子層上に、バリア層を有していてもよい。
ここで、バリア層は、ガス遮断層（酸素遮断層）とも呼ばれ、大気中の酸素等のガス、水分、または、隣接する層に含まれる化合物等から本発明の偏光素子を保護する機能を有する。
バリア層については、例えば、特開２０１４－１５９１２４号公報の［００１４］～［００５４］段落、特開２０１７－１２１７２１号公報の［００４２］～［００７５］段落、特開２０１７－１１５０７６号公報の［００４５］～［００５４］段落、特開２０１２－２１３９３８号公報の［００１０］～［００６１］段落、特開２００５－１６９９９４号公報の［００２１］～［００３１］段落の記載を参照できる。
本発明の積層体は、偏光子層上に、バリア層を有していてもよい。
ここで、バリア層は、ガス遮断層（酸素遮断層）とも呼ばれ、大気中の酸素等のガス、水分、または、隣接する層に含まれる化合物等から本発明の偏光素子を保護する機能を有する。
バリア層については、例えば、特開２０１４－１５９１２４号公報の［００１４］～［００５４］段落、特開２０１７－１２１７２１号公報の［００４２］～［００７５］段落、特開２０１７－１１５０７６号公報の［００４５］～［００５４］段落、特開２０１２－２１３９３８号公報の［００１０］～［００６１］段落、特開２００５－１６９９９４号公報の［００２１］～［００３１］段落の記載を参照できる。
【0151】
［粘着剤層］
本発明の第１の態様に係る積層体は、上述した２枚の基板の間に少なくとも１つの粘着剤層を有していることが好ましい。
また、本発明の第２の態様および第３の態様に係る積層体は、上述した２枚の基板の間に少なくとも１つの粘着剤層を有する。
このような粘着剤層は特に限定されるわけではないが、例えば、基材と偏光子層との間、偏光子層と光学異方性層との間、または、基材と光学異方性層との間などに好適に用いることができる。
本発明の第１の態様に係る積層体は、上述した２枚の基板の間に少なくとも１つの粘着剤層を有していることが好ましい。
また、本発明の第２の態様および第３の態様に係る積層体は、上述した２枚の基板の間に少なくとも１つの粘着剤層を有する。
このような粘着剤層は特に限定されるわけではないが、例えば、基材と偏光子層との間、偏光子層と光学異方性層との間、または、基材と光学異方性層との間などに好適に用いることができる。
【0152】
粘着剤層に含まれる粘着剤としては、例えば、ゴム系粘着剤、アクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ビニルアルキルエーテル系粘着剤、ポリビニルアルコール系粘着剤、ポリビニルピロリドン系粘着剤、ポリアクリルアミド系粘着剤、セルロース系粘着剤等が挙げられる。透明性、耐候性、耐熱性などの観点から、アクリル系粘着剤が好ましい。また、特開２０１４－１５２１９８号公報の［００３４］～［００５７］段落に記載の材料もまた好ましく使用できる。
【0153】
粘着剤層は、例えば、粘着剤の溶液を離型シート上に塗布し、乾燥した後に後、透明樹脂層の表面に転写する方法；粘着剤の溶液を透明樹脂層の表面に直接塗布し、乾燥させる方法；等により形成することができる。
粘着剤の溶液は、例えば、トルエンや酢酸エチル等の溶剤に、粘着剤を溶解または分散させた１０～４０質量％程度の溶液として調製される。
塗布法は、リバースコーティング、グラビアコーティング等のロールコーティング法、スピンコーティング法、スクリーンコーティング法、ファウンテンコーティング法、ディッピング法、スプレー法などを採用できる。
粘着剤の溶液は、例えば、トルエンや酢酸エチル等の溶剤に、粘着剤を溶解または分散させた１０～４０質量％程度の溶液として調製される。
塗布法は、リバースコーティング、グラビアコーティング等のロールコーティング法、スピンコーティング法、スクリーンコーティング法、ファウンテンコーティング法、ディッピング法、スプレー法などを採用できる。
【0154】
また、離型シートの構成材料としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレートなどの合成樹脂フィルム；ゴムシート；紙；布；不織布；ネット；発泡シート；金属箔；等の適宜な薄葉体等が挙げられる。
【0155】
本発明の積層体は、複数の粘着剤層を有していてもよい。複数の粘着剤層は含有成分や厚みが同じでもよいし、異なっていてもよい。
【0156】
本発明においては、粘着剤には、積層体の耐変色性を高めるために、アゾ色素の分解反応を促進しうる化合物を極力含まないことが望ましい。
ここで、アゾ色素の分解反応を促進しうる化合物としては、例えば、水、還元剤、求核性化合物、酸、塩基などが挙げられる。アゾ色素の変色に対しては、特に水と還元剤の存在を抑えることが好ましい。
ここで、アゾ色素の分解反応を促進しうる化合物としては、例えば、水、還元剤、求核性化合物、酸、塩基などが挙げられる。アゾ色素の変色に対しては、特に水と還元剤の存在を抑えることが好ましい。
【0157】
特に、耐変色性がより良好となる理由から、少なくとも１つの粘着剤層のそれぞれにおける還元剤の含有量が０．０４ｇ／ｍ２以下であることが好ましく、０．０３ｇ／ｍ２以下であることがより好ましい。
また、同様の理由から、粘着剤層を複数有する場合は、全ての粘着剤層における還元剤の合計含有量が０．０４ｇ／ｍ２以下であることが好ましく、０．０３ｇ／ｍ２以下であることがより好ましい。
また、同様の理由から、粘着剤層を複数有する場合は、全ての粘着剤層における還元剤の合計含有量が０．０４ｇ／ｍ２以下であることが好ましく、０．０３ｇ／ｍ２以下であることがより好ましい。
【0158】
水はそれ自体が求核性を有してアゾ結合分解を促進とともに、還元剤・酸・塩基による反応を促進する作用もあるため、その存在量を抑えることが望ましい。
本発明の積層体においては、２枚の基板の間に存在する水分量が０．８ｇ／ｍ２以下であることが好ましく、０．７ｇ／ｍ２以下であることがより好ましく、０．６ｇ／ｍ２以下であることが更に好ましく、０．４ｇ／ｍ２以下であることが特に好ましく、０．３ｇ／ｍ２以下であることが最も好ましい。なお、本発明の第１の態様に係る積層体は、２枚の基板の間に存在する水分量は、０．９ｇ／ｍ２以下である。
本発明の積層体においては、２枚の基板の間に存在する水分量が０．８ｇ／ｍ２以下であることが好ましく、０．７ｇ／ｍ２以下であることがより好ましく、０．６ｇ／ｍ２以下であることが更に好ましく、０．４ｇ／ｍ２以下であることが特に好ましく、０．３ｇ／ｍ２以下であることが最も好ましい。なお、本発明の第１の態様に係る積層体は、２枚の基板の間に存在する水分量は、０．９ｇ／ｍ２以下である。
【0159】
ここで、水分量の測定方法は、測定対象である積層体の初期質量、および、分解して１２０℃で２時間乾燥させた後の乾燥質量との変化量（初期質量－乾燥質量）を測定し、その結果を単位面積当たりに換算する方法で行う。
また、初期質量は、測定対象である積層体を温度２５℃、相対湿度６０％の環境下において３日間放置した直後に測定した質量である。
また、分解後の乾燥質量は、初期質量の測定後、３０分以内に２枚の基板のいずれか一方の基板を剥離し、１２０℃で２時間乾燥させた直後に測定した質量である。
また、初期質量は、測定対象である積層体を温度２５℃、相対湿度６０％の環境下において３日間放置した直後に測定した質量である。
また、分解後の乾燥質量は、初期質量の測定後、３０分以内に２枚の基板のいずれか一方の基板を剥離し、１２０℃で２時間乾燥させた直後に測定した質量である。
【0160】
また、積層体の２枚の基板の間に持ち込まれる水分量を減らし、上述した範囲に調整することが容易となる理由から、粘着剤層の含水率が０．４％以下であることが好ましく、０．３％以下であることがより好ましい。
ここで、含水率は、測定対象である粘着剤層を、温度２５℃、相対湿度６０％の環境下において３日間放置した後、カールフィッシャー水分計を用いて測定した値をいう。
なお、本発明の積層体に市販の粘着剤層を用いる場合には、市販の粘着剤層のライナーを剥離した状態で測定することができる。
また、粘着剤層の含水率は、積層体を作製する前に、積層体を作製する環境下よりも相対湿度が低い環境下において粘着剤層を乾燥させる方法などにより調整することができる。
ここで、含水率は、測定対象である粘着剤層を、温度２５℃、相対湿度６０％の環境下において３日間放置した後、カールフィッシャー水分計を用いて測定した値をいう。
なお、本発明の積層体に市販の粘着剤層を用いる場合には、市販の粘着剤層のライナーを剥離した状態で測定することができる。
また、粘着剤層の含水率は、積層体を作製する前に、積層体を作製する環境下よりも相対湿度が低い環境下において粘着剤層を乾燥させる方法などにより調整することができる。
【0161】
還元剤はアゾ結合を容易に分解しうるため、その存在量を抑えることが望ましい。
還元剤としては、例えば、ｐ－メトキシフェノール、クレゾール、ｔ－ブチルカテコール、３．５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシトルエン、２．２'－メチレンビス（４－メチル－６－ｔ－ブチルフェノール）、２．２'－メチレンビス（４－エチル－６－ｔ－ブチルフェノール）、４．４'－チオビス（３－メチル－６－ｔ－ブチルフェノール）、４－メトキシ－１－ナフトール、４，４’－ジアルコキシ－２，２’－ビ－１－ナフトール、等のフェノール系化合物；
ヒドロキノン、メチルヒドロキノン、ｔｅｒｔ－ブチルヒドロキノン、ｐ－ベンゾキノン、メチル－ｐ－ベンゾキノン、ｔｅｒｔ－ブチル－ｐ－ベンゾキノン、２，５－ジフェニルベンゾキノン、２－ヒドロキシ－１，４－ナフトキノン、１，４－ナフトキノン、２，３－ジクロロ－１，４－ナフトキノン、アントラキノン、ジフェノキノン、等のキノン系化合物；
ｐ－フェニレンジアミン、４－アミノジフェニルアミン、Ｎ．Ｎ'－ジフェニル－ｐ－フェニレンジアミン、Ｎ－ｉ－プロピル－Ｎ'－フェニル－ｐ－フェニレンジアミン、Ｎ－（１．３－ジメチルブチル）－Ｎ'－フェニル－ｐ－フェニレンジアミン、Ｎ．Ｎ'－ジ－２－ナフチル－ｐ－フェニレンジアミン、ジフェニルアミン、Ｎ－フェニル－β－ナフチルアミン、４．４'－ジクミル－ジフェニルアミン、４．４'－ジオクチル－ジフェニルアミン、等のアミン系化合物；
フェノチアジン、ジステアリルチオジプロピオネート、等のチオエーテル系化合物、
Ｎ－ニトロソジフェニルアミン、Ｎ－ニトロソフェニルナフチルアミン、Ｎ－ニトロソジナフチルアミン、ｐ－ニトロソフェノール、ニトロソベンゼン、ｐ－ニトロソジフェニルアミン、α－ニトロソ－β－ナフトール等、Ｎ、Ｎ－ジメチルｐ－ニトロソアニリン、ｐ－ニトロソジフェニルアミン、ｐ－ニトロンジメチルアミン、ｐ－ニトロン－Ｎ、Ｎ－ジエチルアミン、Ｎ－ニトロソエタノールアミン、Ｎ－ニトロソジ－ｎ－ブチルアミン、Ｎ－ニトロソ－Ｎ －ｎ－ブチル－４－ブタノールアミン、Ｎ－ニトロソ－ジイソプロパノールアミン、Ｎ－ニトロソ－Ｎ－エチル－４－ブタノールアミン、５－ニトロソ－８－ヒドロキシキノリン、Ｎ－ニトロソモルホリン、Ｎ－二トロソーＮ－フェニルヒドロキシルアミンアンモニウム塩、二トロソベンゼン、２，４．６－トリーｔｅｒｔ－ブチルニトロンベンゼン、Ｎ－ニトロソ－Ｎ－メチル－ｐ－トルエンスルホンアミド、Ｎ－ニトロソ－Ｎ－エチルウレタン、Ｎ－ニトロソ－Ｎ－ｎ－プロピルウレタン、１－ニトロソ－２－ナフトール、２－ニトロソ－１－ナフトール、１－ニトロソ－２－ナフトール－３，６－スルホン酸ナトリウム、２－ニトロソ－１－ナフトール－４－スルホン酸ナトリウム、２－ニトロソ－５－メチルアミノフェノール塩酸塩、２－ニトロソ－５－メチルアミノフェノール塩酸塩、等のニトロソ系化合物；
などが挙げられる。また、ヒドラジン、メチルヒドラジン、１，１－ジメチルヒドラジンおよびフェニルヒドラジンなどのヒドラジン類や、Ｎ－メチルピロリドン、Ｎ－エチルピロリドンおよびＮ－ビニルピロリドンなどのピロリドン類もアゾ結合に対して還元剤として作用する。
還元剤としては、例えば、ｐ－メトキシフェノール、クレゾール、ｔ－ブチルカテコール、３．５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシトルエン、２．２'－メチレンビス（４－メチル－６－ｔ－ブチルフェノール）、２．２'－メチレンビス（４－エチル－６－ｔ－ブチルフェノール）、４．４'－チオビス（３－メチル－６－ｔ－ブチルフェノール）、４－メトキシ－１－ナフトール、４，４’－ジアルコキシ－２，２’－ビ－１－ナフトール、等のフェノール系化合物；
ヒドロキノン、メチルヒドロキノン、ｔｅｒｔ－ブチルヒドロキノン、ｐ－ベンゾキノン、メチル－ｐ－ベンゾキノン、ｔｅｒｔ－ブチル－ｐ－ベンゾキノン、２，５－ジフェニルベンゾキノン、２－ヒドロキシ－１，４－ナフトキノン、１，４－ナフトキノン、２，３－ジクロロ－１，４－ナフトキノン、アントラキノン、ジフェノキノン、等のキノン系化合物；
ｐ－フェニレンジアミン、４－アミノジフェニルアミン、Ｎ．Ｎ'－ジフェニル－ｐ－フェニレンジアミン、Ｎ－ｉ－プロピル－Ｎ'－フェニル－ｐ－フェニレンジアミン、Ｎ－（１．３－ジメチルブチル）－Ｎ'－フェニル－ｐ－フェニレンジアミン、Ｎ．Ｎ'－ジ－２－ナフチル－ｐ－フェニレンジアミン、ジフェニルアミン、Ｎ－フェニル－β－ナフチルアミン、４．４'－ジクミル－ジフェニルアミン、４．４'－ジオクチル－ジフェニルアミン、等のアミン系化合物；
フェノチアジン、ジステアリルチオジプロピオネート、等のチオエーテル系化合物、
Ｎ－ニトロソジフェニルアミン、Ｎ－ニトロソフェニルナフチルアミン、Ｎ－ニトロソジナフチルアミン、ｐ－ニトロソフェノール、ニトロソベンゼン、ｐ－ニトロソジフェニルアミン、α－ニトロソ－β－ナフトール等、Ｎ、Ｎ－ジメチルｐ－ニトロソアニリン、ｐ－ニトロソジフェニルアミン、ｐ－ニトロンジメチルアミン、ｐ－ニトロン－Ｎ、Ｎ－ジエチルアミン、Ｎ－ニトロソエタノールアミン、Ｎ－ニトロソジ－ｎ－ブチルアミン、Ｎ－ニトロソ－Ｎ －ｎ－ブチル－４－ブタノールアミン、Ｎ－ニトロソ－ジイソプロパノールアミン、Ｎ－ニトロソ－Ｎ－エチル－４－ブタノールアミン、５－ニトロソ－８－ヒドロキシキノリン、Ｎ－ニトロソモルホリン、Ｎ－二トロソーＮ－フェニルヒドロキシルアミンアンモニウム塩、二トロソベンゼン、２，４．６－トリーｔｅｒｔ－ブチルニトロンベンゼン、Ｎ－ニトロソ－Ｎ－メチル－ｐ－トルエンスルホンアミド、Ｎ－ニトロソ－Ｎ－エチルウレタン、Ｎ－ニトロソ－Ｎ－ｎ－プロピルウレタン、１－ニトロソ－２－ナフトール、２－ニトロソ－１－ナフトール、１－ニトロソ－２－ナフトール－３，６－スルホン酸ナトリウム、２－ニトロソ－１－ナフトール－４－スルホン酸ナトリウム、２－ニトロソ－５－メチルアミノフェノール塩酸塩、２－ニトロソ－５－メチルアミノフェノール塩酸塩、等のニトロソ系化合物；
などが挙げられる。また、ヒドラジン、メチルヒドラジン、１，１－ジメチルヒドラジンおよびフェニルヒドラジンなどのヒドラジン類や、Ｎ－メチルピロリドン、Ｎ－エチルピロリドンおよびＮ－ビニルピロリドンなどのピロリドン類もアゾ結合に対して還元剤として作用する。
【0162】
積層体の２枚の基板の間に存在する還元剤の量は０．０４ｇ／ｍ２以下であることが好ましく、０．０３ｇ／ｍ２以下であることがより好ましい。
【0163】
本発明の第１の態様および第３の態様に係る積層体においては、粘着層の厚みは特に限定されないが、３μｍ～２２０μｍであることが好ましい。
本発明の第１の態様および第３の態様に係る積層体においては、本発明の効果が顕在化する理由から、少なくとも１つの粘着剤層のそれぞれの厚みが１００μｍ以上であることが好ましく、１００～３００μｍであることがより好ましく、１００～２２０μｍであることが更に好ましい。
本発明の第１の態様および第３の態様に係る積層体においては、本発明の効果が顕在化する理由から、少なくとも１つの粘着剤層のそれぞれの厚みが１００μｍ以上であることが好ましく、１００～３００μｍであることがより好ましく、１００～２２０μｍであることが更に好ましい。
【0164】
本発明の第１の態様および第３の態様に係る積層体においては、粘着剤層を複数有する場合、粘着層の合計厚みは、１５μｍ～２５０μｍであることが好ましく、２０μｍ～７０μｍであることがより好ましく、２５μｍ～５０μｍであることが更に好ましい。
【0165】
本発明の第２の態様に係る積層体においては、粘着層の厚み（粘着剤層を複数有している場合は合計厚み）は７０μｍ以下であるが、本発明の効果が顕在化する理由から、５０μｍ以上であることが好ましい。
【0166】
＜低透湿層＞
本発明の第１の態様および第２の態様に係る積層体は、偏光子層への水分の移動を妨げるために、上述した２枚の基板の間に少なくとも１つの低透湿層を有していることが好ましく、偏光子層と粘着剤層との間に少なくとも１つの低透湿層を有していることがより好ましい。
また、本発明の第３の態様に係る積層体は、上述した２枚の基板の間に少なくとも１つの低透湿層を有する。
このような低透湿層は一層でもよいし、複数層が存在してもよい。
偏光子層の両側に粘着剤層が位置する場合には、偏光子層の両側にそれぞれ低透湿層が存在していてもよい。
本発明の第１の態様および第２の態様に係る積層体は、偏光子層への水分の移動を妨げるために、上述した２枚の基板の間に少なくとも１つの低透湿層を有していることが好ましく、偏光子層と粘着剤層との間に少なくとも１つの低透湿層を有していることがより好ましい。
また、本発明の第３の態様に係る積層体は、上述した２枚の基板の間に少なくとも１つの低透湿層を有する。
このような低透湿層は一層でもよいし、複数層が存在してもよい。
偏光子層の両側に粘着剤層が位置する場合には、偏光子層の両側にそれぞれ低透湿層が存在していてもよい。
【0167】
低透湿層の素材としては、例えば、オレフィン系樹脂、アクリル系樹脂およびポリエチレンテレフタレート系樹脂などが挙げられる。
ここでいうオレフィン系樹脂は、鎖状ポリオレフィン系樹脂及び環状ポリオレフィン系樹脂を包含する。
これらの樹脂フィルムは、原料樹脂の溶融押出によって製膜されるフィルムや、製膜後に横延伸して得られる一軸延伸フィルム、製膜後に縦延伸し、次いで横延伸して得られる二軸延伸フィルムなどであることができる。
ここでいうオレフィン系樹脂は、鎖状ポリオレフィン系樹脂及び環状ポリオレフィン系樹脂を包含する。
これらの樹脂フィルムは、原料樹脂の溶融押出によって製膜されるフィルムや、製膜後に横延伸して得られる一軸延伸フィルム、製膜後に縦延伸し、次いで横延伸して得られる二軸延伸フィルムなどであることができる。
【0168】
これらのうち、本発明の効果がより優れる点から、少なくとも１つの低透湿層が環状ポリオレフィン系樹脂を有していることが好ましい。
【0169】
環状ポリオレフィン系樹脂は、例えば、ノルボルネン及び他のシクロペンタジエン誘導体のような環状オレフィンモノマーを、触媒の存在下に重合して得られるものである。
【0170】
環状ポリオレフィン系樹脂としては、例えば、シクロペンタジエンとオレフィン類又は（メタ）アクリル酸若しくはそのエステル類とから、ディールス・アルダー反応によって得られるノルボルネン又はその誘導体をモノマーとして開環メタセシス重合を行い、それに続く水添によって得られる樹脂；ジシクロペンタジエンとオレフィン類又は（メタ）アクリル酸若しくはそのエステル類とからディールス・アルダー反応によって得られるテトラシクロドデセン又はその誘導体をモノマーとして開環メタセシス重合を行い、それに続く水添によって得られる樹脂；ノルボルネン、テトラシクロドデセン、それらの誘導体、及びその他の環状オレフィンモノマーから選ばれる少なくとも２種のモノマーを同様に開環メタセシス共重合し、それに続く水添によって得られる樹脂；ノルボルネン、テトラシクロドデセン、又はそれらの誘導体のような環状オレフィンに、鎖状オレフィン及び／又はビニル基を有する芳香族化合物を付加共重合させて得られる樹脂などが挙げられる。
【0171】
環状ポリオレフィン系樹脂は、市販品を容易に入手することが可能である。市販品の例を挙げると、それぞれ商品名で、ＴＯＰＡＳ ＡＤＶＡＮＣＥＤ ＰＯＬＹＭＥＲＳ ＧｍｂＨにて生産され、日本ではポリプラスチックス株式会社から販売されている“ＴＯＰＡＳ”、ＪＳＲ株式会社から販売されている“アートン（登録商標）”、日本ゼオン株式会社から販売されている“ゼオノア（登録商標）”及び“ゼオネックス（登録商標）”、三井化学株式会社から販売されている“アペル（登録商標）”などがある。
【0172】
鎖状ポリオレフィン系樹脂の典型的な例は、ポリエチレン系樹脂及びポリプロピレン系樹脂である。なかでも、プロピレンの単独重合体、又はプロピレンを主体とし、それに共重合可能なコモノマー、例えばエチレンを、１～２０質量％、好ましくは３～１０質量％の割合で共重合させた共重合体が好適に用いられる。
【0173】
ポリプロピレン系樹脂は、脂環族飽和炭化水素樹脂を含有してもよい。脂環族飽和炭化水素樹脂を含有させることにより、位相差値が制御しやすくなる。脂環族飽和炭化水素樹脂の含有量は、ポリプロピレン系樹脂に対して０.１～３０質量％とするのが有利であり、より好ましい含有量は、３～２０質量％である。
【0174】
アクリル系樹脂は、典型的には、メタクリル酸メチル単位を５０質量％以上含む重合体である。メタクリル酸メチル単位の含有量は、好ましくは７０質量％以上であり、１００質量％であってもよい。
【0175】
メタクリル酸メチルを主成分とするアクリル系樹脂は、市販品を容易に入手することが可能であり、例えば、それぞれ商品名で、住友化学株式会社から販売されている“スミペックス（登録商標）”、三菱レイヨン株式会社から販売されている“アクリペット（登録商標）”、旭化成株式会社から販売されている“デルペット（登録商標）”、株式会社クラレから販売されている“パラペット（登録商標）”、株式会社日本触媒から販売されている“アクリビュア（登録商標）”などがある。
【0176】
ポリエチレンテレフタレート系樹脂とは、繰り返し単位の８０モル％以上がエチレンテレフタレートで構成される樹脂を意味し、他のジカルボン酸成分やジオール成分が共重合されていてもよい。他のジカルボン酸成分としては、例えば、イソフタル酸、４，４’－ジカルボキシジフェニール、４，４’－ジカルボキシベンゾフェノン、ビス（４－カルボキシフェニル）エタン、アジピン酸、セバシン酸、１，４－ジカルボキシシクロヘキサンなどが挙げられる。他のジオール成分としては、例えば、プロピレングリコール、ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、ジエチレングリコール、シクロヘキサンジオール、ビスフェノールＡのエチレンオキサイド付加物、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコールなどが挙げられる。
【0177】
これら他のジカルボン酸成分やジオール成分は、必要により２種類以上を組み合わせて使用することもできる。また、ｐ－ヒドロキシ安息香酸、ｐ－β－ヒドロキシエトキシ安息香酸のようなオキシカルボン酸を併用することもできる。さらには他の共重合成分として、少量のアミド結合、ウレタン結合、エーテル結合、カーボネート結合などを含有するジカルボン酸成分又はジオール成分が用いられてもよい。
【0178】
ポリエチレンテレフタレート系樹脂フィルムは、市販品を容易に入手することが可能であり、例えば、それぞれ商品名で、三菱樹脂株式会社から販売されている“ダイアホイル（登録商標）”、“ホスタファン（登録商標）”及び“フュージョン（登録商標）”、帝人デュポンフィルム株式会社から販売されている“テイジンテトロンフィルム（登録商標）”、“メリネックス（登録商標）”、“マイラー（登録商標）”及び“テフレックス（登録商標）”、東洋紡績株式会社から販売されている“東洋紡エステルフィルム（登録商標）”、“東洋紡エスペットフィルム（登録商標）”、“コスモシャイン（登録商標）”及び“クリスパー（登録商標）”、東レフィルム加工株式会社から販売されている“ルミラー（登録商標）”、ユニチカ株式会社から販売されている“エンブロン（登録商標）”及び“エンブレット（登録商標）”、エス・ケー・シー社から販売されている“スカイロール（登録商標）”、株式会社高合から販売されている“コーフィル（登録商標）”、株式会社瑞通から販売されている“瑞通ポリエステルフィルム（登録商標）”、フタムラ化学株式会社から販売されている“太閤ポリエステルフィルム（登録商標）”などがある。ポリエチレンテレフタレート系樹脂フィルムの中では特に、二軸延伸品が好ましく用いられる。
【0179】
低透湿層の厚みとしては３～１１０μｍが好ましく、５～８０μｍがより好ましく、１０～５５μｍが特に好ましい。
【0180】
低透湿層の透湿度は２０ｇ／ｍ２・２４ｈｒ以下が好ましく、１０ｇ／ｍ２・２４ｈｒ以下がより好ましく、５ｇ／ｍ２・２４ｈｒ以下が特に好ましい。
【0181】
＜用途＞
本発明の積層体は、偏光素子（偏光板）として使用でき、具体的には、例えば、直線偏光板または円偏光板として使用できる。
本発明の積層体が上記λ／４板などの光学異方性層を有さない場合には、積層体は直線偏光板として使用できる。
一方、本発明の積層体が上記λ／４板を有する場合には、積層体は円偏光板として使用できる。
本発明の積層体は、偏光素子（偏光板）として使用でき、具体的には、例えば、直線偏光板または円偏光板として使用できる。
本発明の積層体が上記λ／４板などの光学異方性層を有さない場合には、積層体は直線偏光板として使用できる。
一方、本発明の積層体が上記λ／４板を有する場合には、積層体は円偏光板として使用できる。
【0182】
＜画像表示装置＞
本発明の画像表示装置は、上述した本発明の積層体を有する。
本発明の画像表示装置に用いられる表示素子は特に限定されず、例えば、液晶セル、有機エレクトロルミネッセンス（以下、「ＥＬ」と略す。）表示パネル、および、プラズマディスプレイパネル等が挙げられる。
これらのうち、液晶セルまたは有機ＥＬ表示パネルであるのが好ましい。すなわち、本発明の画像表示装置としては、表示素子として液晶セルを用いた液晶表示装置、表示素子として有機ＥＬ表示パネルを用いた有機ＥＬ表示装置であるのが好ましい。
本発明の画像表示装置は、上述した本発明の積層体を有する。
本発明の画像表示装置に用いられる表示素子は特に限定されず、例えば、液晶セル、有機エレクトロルミネッセンス（以下、「ＥＬ」と略す。）表示パネル、および、プラズマディスプレイパネル等が挙げられる。
これらのうち、液晶セルまたは有機ＥＬ表示パネルであるのが好ましい。すなわち、本発明の画像表示装置としては、表示素子として液晶セルを用いた液晶表示装置、表示素子として有機ＥＬ表示パネルを用いた有機ＥＬ表示装置であるのが好ましい。
【0183】
［視野角制御層］
本発明の画像表示装置は、視野角制御層を有していてもよい。
ここで、視野角制御層とは、表示装置の覗き込み防止や視野角切り替えのために用いられる画像表示装置の正面方向と斜め方向から見た際の透過率を制御する層で、３Ｍ社製ライトコントロールフィルムや、厚さ方向に吸収軸を持つ偏光子層を利用する積層体などが挙げられる。厚さ方向に吸収軸を持つ偏光子層を利用する積層体については、例えば、国際公開第２０１８／０７９８５４号公報の段落［０００６］～［００４３］の記載を参照できる。
なお、本発明の画像表示装置の一例である有機ＥＬ表示装置としては、例えば、視認側から、上記視野角制御層と、上述した偏光子層と、上述した任意の偏光子層と、有機ＥＬ表示パネルと、をこの順で有する態様が好適に挙げられる。
本発明の画像表示装置は、視野角制御層を有していてもよい。
ここで、視野角制御層とは、表示装置の覗き込み防止や視野角切り替えのために用いられる画像表示装置の正面方向と斜め方向から見た際の透過率を制御する層で、３Ｍ社製ライトコントロールフィルムや、厚さ方向に吸収軸を持つ偏光子層を利用する積層体などが挙げられる。厚さ方向に吸収軸を持つ偏光子層を利用する積層体については、例えば、国際公開第２０１８／０７９８５４号公報の段落［０００６］～［００４３］の記載を参照できる。
なお、本発明の画像表示装置の一例である有機ＥＬ表示装置としては、例えば、視認側から、上記視野角制御層と、上述した偏光子層と、上述した任意の偏光子層と、有機ＥＬ表示パネルと、をこの順で有する態様が好適に挙げられる。
【0184】
［液晶表示装置］
本発明の画像表示装置の一例である液晶表示装置としては、上述した本発明の積層体（ただし、λ／４板を含まない）と、液晶セルと、を有する液晶表示装置である。
なお、本発明においては、液晶セルの両側に設けられる積層体のうち、フロント側の偏光素子として本発明の積層体を用いるのが好ましく、フロント側およびリア側の偏光素子として本発明の積層体を用いるのがより好ましい。
以下に、液晶表示装置を構成する液晶セルについて詳述する。
本発明の画像表示装置の一例である液晶表示装置としては、上述した本発明の積層体（ただし、λ／４板を含まない）と、液晶セルと、を有する液晶表示装置である。
なお、本発明においては、液晶セルの両側に設けられる積層体のうち、フロント側の偏光素子として本発明の積層体を用いるのが好ましく、フロント側およびリア側の偏光素子として本発明の積層体を用いるのがより好ましい。
以下に、液晶表示装置を構成する液晶セルについて詳述する。
【0185】
〔液晶セル〕
液晶表示装置に利用される液晶セルは、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モード、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ Ｂｅｎｄ）モード、ＩＰＳ（Ｉｎ－Ｐｌａｎｅ－Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モード、またはＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）モードであることが好ましいが、これらに限定されるものではない。
ＴＮモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子（棒状液晶性化合物）が実質的に水平配向し、更に６０～１２０゜にねじれ配向している。ＴＮモードの液晶セルは、カラーＴＦＴ液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載がある。
ＶＡモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に垂直に配向している。ＶＡモードの液晶セルには、（１）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のＶＡモードの液晶セル（特開平２－１７６６２５号公報記載）に加えて、（２）視野角拡大のため、ＶＡモードをマルチドメイン化した（ＭＶＡモード（Ｍｕｌｔｉ－ｄｏｍａｉｎ Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）の）液晶セル（ＳＩＤ９７、Ｄｉｇｅｓｔ ｏｆ ｔｅｃｈ．Ｐａｐｅｒｓ（予稿集）２８（１９９７）８４５記載）、（３）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード（ｎ－ＡＳＭ（Ａｘｉａｌｌｙ ｓｙｍｍｅｔｒｉｃ ａｌｉｇｎｅｄ ｍｉｃｒｏｃｅｌｌ）モード）の液晶セル（日本液晶討論会の予稿集５８～５９（１９９８）記載）および（４）ＳＵＲＶＩＶＡＬモードの液晶セル（ＬＣＤ（ｌｉｑｕｉｄ ｃｒｙｓｔａｌ ｄｉｓｐｌａｙ）インターナショナル９８で発表）が含まれる。また、ＰＶＡ（Ｐａｔｔｅｒｎｅｄ Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）型、光配向型（Ｏｐｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）、およびＰＳＡ（Ｐｏｌｙｍｅｒ－Ｓｕｓｔａｉｎｅｄ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）のいずれであってもよい。これらのモードの詳細については、特開２００６－２１５３２６号公報、および特表２００８－５３８８１９号公報に詳細な記載がある。
ＩＰＳモードの液晶セルは、棒状液晶性分子が基板に対して実質的に平行に配向しており、基板面に平行な電界が印加することで液晶分子が平面的に応答する。ＩＰＳモードは電界無印加時で黒表示となり、上下一対の偏光板の吸収軸は直交している。光学補償シートを用いて、斜め方向での黒表示時の漏れ光を低減させ、視野角を改良する方法が、特開平１０－５４９８２号公報、特開平１１－２０２３２３号公報、特開平９－２９２５２２号公報、特開平１１－１３３４０８号公報、特開平１１－３０５２１７号公報、特開平１０－３０７２９１号公報などに開示されている。
液晶表示装置に利用される液晶セルは、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モード、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ Ｂｅｎｄ）モード、ＩＰＳ（Ｉｎ－Ｐｌａｎｅ－Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モード、またはＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）モードであることが好ましいが、これらに限定されるものではない。
ＴＮモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子（棒状液晶性化合物）が実質的に水平配向し、更に６０～１２０゜にねじれ配向している。ＴＮモードの液晶セルは、カラーＴＦＴ液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載がある。
ＶＡモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に垂直に配向している。ＶＡモードの液晶セルには、（１）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のＶＡモードの液晶セル（特開平２－１７６６２５号公報記載）に加えて、（２）視野角拡大のため、ＶＡモードをマルチドメイン化した（ＭＶＡモード（Ｍｕｌｔｉ－ｄｏｍａｉｎ Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）の）液晶セル（ＳＩＤ９７、Ｄｉｇｅｓｔ ｏｆ ｔｅｃｈ．Ｐａｐｅｒｓ（予稿集）２８（１９９７）８４５記載）、（３）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード（ｎ－ＡＳＭ（Ａｘｉａｌｌｙ ｓｙｍｍｅｔｒｉｃ ａｌｉｇｎｅｄ ｍｉｃｒｏｃｅｌｌ）モード）の液晶セル（日本液晶討論会の予稿集５８～５９（１９９８）記載）および（４）ＳＵＲＶＩＶＡＬモードの液晶セル（ＬＣＤ（ｌｉｑｕｉｄ ｃｒｙｓｔａｌ ｄｉｓｐｌａｙ）インターナショナル９８で発表）が含まれる。また、ＰＶＡ（Ｐａｔｔｅｒｎｅｄ Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）型、光配向型（Ｏｐｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）、およびＰＳＡ（Ｐｏｌｙｍｅｒ－Ｓｕｓｔａｉｎｅｄ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）のいずれであってもよい。これらのモードの詳細については、特開２００６－２１５３２６号公報、および特表２００８－５３８８１９号公報に詳細な記載がある。
ＩＰＳモードの液晶セルは、棒状液晶性分子が基板に対して実質的に平行に配向しており、基板面に平行な電界が印加することで液晶分子が平面的に応答する。ＩＰＳモードは電界無印加時で黒表示となり、上下一対の偏光板の吸収軸は直交している。光学補償シートを用いて、斜め方向での黒表示時の漏れ光を低減させ、視野角を改良する方法が、特開平１０－５４９８２号公報、特開平１１－２０２３２３号公報、特開平９－２９２５２２号公報、特開平１１－１３３４０８号公報、特開平１１－３０５２１７号公報、特開平１０－３０７２９１号公報などに開示されている。
【0186】
［有機ＥＬ表示装置］
本発明の画像表示装置の一例である有機ＥＬ表示装置（以下、本段落において「本発明の有機ＥＬ表示装置」と略す。）としては、例えば、視認側から、上述した本発明の積層体（粘着層およびλ／４板を含む）と、有機ＥＬ表示パネルと、をこの順で有する態様が好適に挙げられる。この場合には、積層体は、視認側から、基板（視認側）、必要に応じて設けられる配向膜、偏光子層、透明樹脂層、粘着層、λ／４板および、基板（非視認側）の順に配置されている。なお、積層体の非視認側の基板は、有機ＥＬ表示装置の基板を兼ねていてもよい。本発明の有機ＥＬ表示装置は、視認側に基板を有することにより、耐摩耗性や耐衝撃性に優れる。また、上述した特性により、本発明の有機ＥＬ表示装置は、例えば、車載用表示装置などにおいて好適に用いられる。
また、有機ＥＬ表示パネルは、電極間（陰極および陽極間）に有機発光層（有機エレクトロルミネッセンス層）を挟持してなる有機ＥＬ素子を用いて構成された表示パネルである。有機ＥＬ表示パネルの構成は特に制限されず、公知の構成が採用される。
本発明の画像表示装置の一例である有機ＥＬ表示装置（以下、本段落において「本発明の有機ＥＬ表示装置」と略す。）としては、例えば、視認側から、上述した本発明の積層体（粘着層およびλ／４板を含む）と、有機ＥＬ表示パネルと、をこの順で有する態様が好適に挙げられる。この場合には、積層体は、視認側から、基板（視認側）、必要に応じて設けられる配向膜、偏光子層、透明樹脂層、粘着層、λ／４板および、基板（非視認側）の順に配置されている。なお、積層体の非視認側の基板は、有機ＥＬ表示装置の基板を兼ねていてもよい。本発明の有機ＥＬ表示装置は、視認側に基板を有することにより、耐摩耗性や耐衝撃性に優れる。また、上述した特性により、本発明の有機ＥＬ表示装置は、例えば、車載用表示装置などにおいて好適に用いられる。
また、有機ＥＬ表示パネルは、電極間（陰極および陽極間）に有機発光層（有機エレクトロルミネッセンス層）を挟持してなる有機ＥＬ素子を用いて構成された表示パネルである。有機ＥＬ表示パネルの構成は特に制限されず、公知の構成が採用される。
【実施例0187】
以下に実施例に基づいて本発明をさらに詳細に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す実施例により限定的に解釈されるべきものではない。
【0188】
［実施例１］
〔透明支持体の作製〕
＜コア層セルロースアシレートドープの作製＞
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して、各成分を溶解し、コア層セルロースアシレートドープとして用いるセルロースアセテート溶液を調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
コア層セルロースアシレートドープ
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・アセチル置換度２．８８のセルロースアセテート １００質量部
・特開２０１５－２２７９５５号公報の実施例に
記載されたポリエステル化合物Ｂ １２質量部
・下記化合物Ｆ ２質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒） ４３０質量部
・メタノール（第２溶媒） ６４質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
〔透明支持体の作製〕
＜コア層セルロースアシレートドープの作製＞
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して、各成分を溶解し、コア層セルロースアシレートドープとして用いるセルロースアセテート溶液を調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
コア層セルロースアシレートドープ
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・アセチル置換度２．８８のセルロースアセテート １００質量部
・特開２０１５－２２７９５５号公報の実施例に
記載されたポリエステル化合物Ｂ １２質量部
・下記化合物Ｆ ２質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒） ４３０質量部
・メタノール（第２溶媒） ６４質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
【0189】
化合物Ｆ
【化24】
【0190】
＜外層セルロースアシレートドープの作製＞
上記のコア層セルロースアシレートドープ９０質量部に下記のマット剤溶液を１０質量部加え、外層セルロースアシレートドープとして用いるセルロースアセテート溶液を調製した。
上記のコア層セルロースアシレートドープ９０質量部に下記のマット剤溶液を１０質量部加え、外層セルロースアシレートドープとして用いるセルロースアセテート溶液を調製した。
【0191】
―――――――――――――――――――――――――――――――――
マット剤溶液
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・平均粒子サイズ２０ｎｍのシリカ粒子
（ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製） ２質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒） ７６質量部
・メタノール（第２溶媒） １１質量部
・上記のコア層セルロースアシレートドープ １質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
マット剤溶液
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・平均粒子サイズ２０ｎｍのシリカ粒子
（ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製） ２質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒） ７６質量部
・メタノール（第２溶媒） １１質量部
・上記のコア層セルロースアシレートドープ １質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
【0192】
＜セルロースアシレートフィルム１の作製＞
上記コア層セルロースアシレートドープと上記外層セルロースアシレートドープを平均孔径３４μｍのろ紙および平均孔径１０μｍの焼結金属フィルタでろ過した後、上記コア層セルロースアシレートドープとその両側に外層セルロースアシレートドープとを３層同時に流延口から２０℃のドラム上に流延した（バンド流延機）。
次いで、溶媒含有率略２０質量％の状態で剥ぎ取り、フィルムの幅方向の両端をテンタークリップで固定し、横方向に延伸倍率１．１倍で延伸しつつ乾燥した。
その後、熱処理装置のロール間を搬送することにより、さらに乾燥し、厚み４０μｍの光学フィルム（透明支持体）を作製し、これをセルロースアシレートフィルム１とした。得られたセルロースアシレートフィルム１の面内レターデーションは０ｎｍであった。
上記コア層セルロースアシレートドープと上記外層セルロースアシレートドープを平均孔径３４μｍのろ紙および平均孔径１０μｍの焼結金属フィルタでろ過した後、上記コア層セルロースアシレートドープとその両側に外層セルロースアシレートドープとを３層同時に流延口から２０℃のドラム上に流延した（バンド流延機）。
次いで、溶媒含有率略２０質量％の状態で剥ぎ取り、フィルムの幅方向の両端をテンタークリップで固定し、横方向に延伸倍率１．１倍で延伸しつつ乾燥した。
その後、熱処理装置のロール間を搬送することにより、さらに乾燥し、厚み４０μｍの光学フィルム（透明支持体）を作製し、これをセルロースアシレートフィルム１とした。得られたセルロースアシレートフィルム１の面内レターデーションは０ｎｍであった。
【0193】
〔光配向膜ＰＡ１の形成〕
後述する光配向膜形成用塗布液ＰＡ１を、ワイヤーバーで連続的に上記セルロースアシレートフィルム１上に塗布した。塗膜が形成された支持体を１４０℃の温風で１２０秒間乾燥し、続いて、塗膜に対して偏光紫外線照射（１０ｍＪ／ｃｍ２、超高圧水銀ランプ使用）することで、光配向膜ＰＡ１を形成し、光配向膜付きＴＡＣ（トリアセチルセルロース）フィルムを得た。光配向膜ＰＡ１の膜厚は０．５μｍであった。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
光配向膜形成用塗布液ＰＡ１
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記重合体ＰＡ－１ １００．００質量部
・下記酸発生剤ＰＡＧ－１ ８．２５質量部
・下記安定化剤ＤＩＰＥＡ ０．６質量部
・キシレン １１２６．６０質量部
・メチルイソブチルケトン １２５．１８質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
後述する光配向膜形成用塗布液ＰＡ１を、ワイヤーバーで連続的に上記セルロースアシレートフィルム１上に塗布した。塗膜が形成された支持体を１４０℃の温風で１２０秒間乾燥し、続いて、塗膜に対して偏光紫外線照射（１０ｍＪ／ｃｍ２、超高圧水銀ランプ使用）することで、光配向膜ＰＡ１を形成し、光配向膜付きＴＡＣ（トリアセチルセルロース）フィルムを得た。光配向膜ＰＡ１の膜厚は０．５μｍであった。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
光配向膜形成用塗布液ＰＡ１
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記重合体ＰＡ－１ １００．００質量部
・下記酸発生剤ＰＡＧ－１ ８．２５質量部
・下記安定化剤ＤＩＰＥＡ ０．６質量部
・キシレン １１２６．６０質量部
・メチルイソブチルケトン １２５．１８質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
【0194】
重合体ＰＡ－１
【化25】
【0195】
酸発生剤ＰＡＧ－１
【化26】
【0196】
安定化剤ＤＩＰＥＡ
【化27】
【0197】
〔偏光子層Ｐ１の作製〕
得られた光配向膜ＰＡ１上に、下記組成の偏光子層形成用組成物Ｐ１をワイヤーバーで連続的に塗布し、塗布層Ｐ１を形成した。
次いで、塗布層Ｐ１を１４０℃で１５秒間加熱し、塗布層Ｐ１を室温（２３℃）になるまで冷却した。
次いで、下記表１に記載する加熱温度で６０秒間加熱し、再び室温になるまで冷却した。
その後、ＬＥＤ灯（中心波長３６５ｎｍ）を用いて照度２００ｍＷ／ｃｍ２の照射条件で２秒間照射することにより、光配向膜ＰＡ１上に偏光子層Ｐ１を作製した。偏光子層Ｐ１の膜厚は０．５μｍであった。
得られた光配向膜ＰＡ１上に、下記組成の偏光子層形成用組成物Ｐ１をワイヤーバーで連続的に塗布し、塗布層Ｐ１を形成した。
次いで、塗布層Ｐ１を１４０℃で１５秒間加熱し、塗布層Ｐ１を室温（２３℃）になるまで冷却した。
次いで、下記表１に記載する加熱温度で６０秒間加熱し、再び室温になるまで冷却した。
その後、ＬＥＤ灯（中心波長３６５ｎｍ）を用いて照度２００ｍＷ／ｃｍ２の照射条件で２秒間照射することにより、光配向膜ＰＡ１上に偏光子層Ｐ１を作製した。偏光子層Ｐ１の膜厚は０．５μｍであった。
【0198】
―――――――――――――――――――――――――――――――――
偏光子層形成用組成物Ｐ１の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記第１の二色性物質Ｃ－１ ０．５９質量部
・下記第２の二色性物質Ｍ－１ ０．３６質量部
・下記第３の二色性物質Ｙ－１ ０．２４質量部
・下記液晶性化合物Ｌ－１ ５．５５質量部
・重合開始剤
ＩＲＧＡＣＵＲＥＯＸＥ－０２（ＢＡＳＦ社製） ０．２１質量部
・下記界面活性剤Ｆ－１ ０．０５５質量部
・シクロペンタノン ４５．３４質量部
・テトラヒドロフラン ４５．３４質量部
・ベンジルアルコール ２．３３質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
偏光子層形成用組成物Ｐ１の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記第１の二色性物質Ｃ－１ ０．５９質量部
・下記第２の二色性物質Ｍ－１ ０．３６質量部
・下記第３の二色性物質Ｙ－１ ０．２４質量部
・下記液晶性化合物Ｌ－１ ５．５５質量部
・重合開始剤
ＩＲＧＡＣＵＲＥＯＸＥ－０２（ＢＡＳＦ社製） ０．２１質量部
・下記界面活性剤Ｆ－１ ０．０５５質量部
・シクロペンタノン ４５．３４質量部
・テトラヒドロフラン ４５．３４質量部
・ベンジルアルコール ２．３３質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
【0199】
二色性物質Ｃ－１（極大吸収波長：５７０ｎｍ）
【化28】
【0200】
二色性物質Ｍ－１（極大吸収波長：４６６ｎｍ）
【化29】
【0201】
二色性物質Ｙ－１（極大吸収波長：４１７ｎｍ）
【化30】
【0202】
液晶性化合物Ｌ－１
【化31】
【0203】
界面活性剤Ｆ－１
【化32】
【0204】
〔酸素遮断層Ｂ１の形成〕
偏光子層Ｐ１上に、下記組成の塗布液Ｂ１をワイヤーバーで連続的に塗布した。その後、８０℃の温風で５分間乾燥することにより、厚み１．０μｍのポリビニルアルコール（ＰＶＡ）からなる酸素遮断層Ｂ１が形成された積層体Ａ、すなわち、セルロースアシレートフィルム１（透明支持体）、光配向膜ＰＡ１、偏光子層Ｐ１、および、酸素遮断層Ｂ１をこの順に隣接して備える積層体Ａを得た。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
酸素遮断層形成用塗布液Ｂ１の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記の変性ポリビニルアルコール ３．８０質量部
・開始剤Ｉｒｇ２９５９ ０．２０質量部
・水 ７０質量部
・メタノール ３０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
偏光子層Ｐ１上に、下記組成の塗布液Ｂ１をワイヤーバーで連続的に塗布した。その後、８０℃の温風で５分間乾燥することにより、厚み１．０μｍのポリビニルアルコール（ＰＶＡ）からなる酸素遮断層Ｂ１が形成された積層体Ａ、すなわち、セルロースアシレートフィルム１（透明支持体）、光配向膜ＰＡ１、偏光子層Ｐ１、および、酸素遮断層Ｂ１をこの順に隣接して備える積層体Ａを得た。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
酸素遮断層形成用塗布液Ｂ１の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記の変性ポリビニルアルコール ３．８０質量部
・開始剤Ｉｒｇ２９５９ ０．２０質量部
・水 ７０質量部
・メタノール ３０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
【0205】
変性ポリビニルアルコール
【化33】
【0206】
〔粘着剤Ｎ１の作製〕
以下の手順に従い、アクリレート系重合体を調製した。
冷却管、窒素導入管、温度計及び撹拌装置を備えた反応容器に、アクリル酸ブチル９５質量部、アクリル酸５質量部を溶液重合法により重合させて、平均分子量２００万、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）３．０のアクリレート系重合体（Ａ１）を得た。
以下の手順に従い、アクリレート系重合体を調製した。
冷却管、窒素導入管、温度計及び撹拌装置を備えた反応容器に、アクリル酸ブチル９５質量部、アクリル酸５質量部を溶液重合法により重合させて、平均分子量２００万、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）３．０のアクリレート系重合体（Ａ１）を得た。
【0207】
次に、得られたアクリレート系重合体（Ａ１）を用いて、以下の組成で、アクリレート系粘着剤を作製した。これらの組成物を、シリコーン系剥離剤で表面処理したセパレートフィルムにダイコーターを用いて塗布し９０℃の環境下で１分間乾燥させ、紫外線（ＵＶ）を下記条件で照射して、膜厚１５μｍのアクリレート系粘着剤Ｎ１を得た。アクリレート系粘着剤Ｎ１の組成を以下に示す。
作製したアクリレート系粘着剤Ｎ１は、温度２５℃、相対湿度６０％の環境下において３日間放置した後に、０．６０％の含水率を示した。また、作製したアクリレート系粘着剤Ｎ１の還元剤の含有量は、０．０１ｇ／ｍ２未満であった。
＜ＵＶ照射条件＞
・フュージョン社無電極ランプ Ｈバルブ
・照度６００ｍＷ／ｃｍ２、光量１５０ｍＪ／ｃｍ２
・ＵＶ照度・光量は、アイグラフィックス製「ＵＶＰＦ－３６」を用いて測定した。
作製したアクリレート系粘着剤Ｎ１は、温度２５℃、相対湿度６０％の環境下において３日間放置した後に、０．６０％の含水率を示した。また、作製したアクリレート系粘着剤Ｎ１の還元剤の含有量は、０．０１ｇ／ｍ２未満であった。
＜ＵＶ照射条件＞
・フュージョン社無電極ランプ Ｈバルブ
・照度６００ｍＷ／ｃｍ２、光量１５０ｍＪ／ｃｍ２
・ＵＶ照度・光量は、アイグラフィックス製「ＵＶＰＦ－３６」を用いて測定した。
【0208】
―――――――――――――――――――――――――――――――――
アクリレート系粘着剤Ｎ１
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・アクリレート系重合体（Ａ１） １００質量部
・下記（Ａ）多官能アクリレート系モノマー １１．１質量部
・下記（Ｂ）光重合開始剤 １．１質量部
・下記（Ｃ）イソシアネート系架橋剤 １．０質量部
・下記（Ｄ）シランカップリング剤 ０．２質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
アクリレート系粘着剤Ｎ１
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・アクリレート系重合体（Ａ１） １００質量部
・下記（Ａ）多官能アクリレート系モノマー １１．１質量部
・下記（Ｂ）光重合開始剤 １．１質量部
・下記（Ｃ）イソシアネート系架橋剤 １．０質量部
・下記（Ｄ）シランカップリング剤 ０．２質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
【0209】
（Ａ）多官能アクリレート系モノマー：トリス（アクリロイロキシエチル）イソシアヌレート、分子量＝４２３、３官能型（東亜合成社製、商品名「アロニックスＭ－３１５」）
（Ｂ）光重合開始剤：ベンゾフェノンと１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンとの質量比１：１の混合物、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製「イルガキュア５００」
（Ｃ）イソシアネート系架橋剤：トリメチロールプロパン変性トリレンジイソシアネート（日本ポリウレタン社製「コロネートＬ」）
（Ｄ）シランカップリング剤：３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン（信越化学工業社製「ＫＢＭ－４０３」）
（Ｂ）光重合開始剤：ベンゾフェノンと１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンとの質量比１：１の混合物、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製「イルガキュア５００」
（Ｃ）イソシアネート系架橋剤：トリメチロールプロパン変性トリレンジイソシアネート（日本ポリウレタン社製「コロネートＬ」）
（Ｄ）シランカップリング剤：３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン（信越化学工業社製「ＫＢＭ－４０３」）
【0210】
〔粘着剤Ｎ２の作製〕
以下の組成で、アクリレート系粘着剤を、シリコーン系剥離剤で表面処理したセパレートフィルムにダイコーターを用いて塗布し、９０℃の環境下で１０分間乾燥させ、膜厚２００μｍのアクリレート系粘着剤Ｎ２を得た。アクリレート系粘着剤の組成を以下に示す。なお、ｐ－メトキシフェノールは粘着剤の長期保管性向上の為に添加しているが、一方でアゾ色素に対しては還元剤として働きうる。作製したアクリレート系粘着剤Ｎ２は、還元剤として、０．０５ｇ／ｍ２のｐ－メトキシフェノールを含有していた。
作製したアクリレート系粘着剤Ｎ２は温度２５℃、相対湿度６０％の環境下において３日間放置した後に、０．２５％の含水率を示した。
以下の組成で、アクリレート系粘着剤を、シリコーン系剥離剤で表面処理したセパレートフィルムにダイコーターを用いて塗布し、９０℃の環境下で１０分間乾燥させ、膜厚２００μｍのアクリレート系粘着剤Ｎ２を得た。アクリレート系粘着剤の組成を以下に示す。なお、ｐ－メトキシフェノールは粘着剤の長期保管性向上の為に添加しているが、一方でアゾ色素に対しては還元剤として働きうる。作製したアクリレート系粘着剤Ｎ２は、還元剤として、０．０５ｇ／ｍ２のｐ－メトキシフェノールを含有していた。
作製したアクリレート系粘着剤Ｎ２は温度２５℃、相対湿度６０％の環境下において３日間放置した後に、０．２５％の含水率を示した。
【0211】
―――――――――――――――――――――――――――――――――
アクリレート系粘着剤Ｎ２
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・ＳＫダイン２１４７（綜研化学株式会社製） １００質量部
・ｐ－メトキシフェノール ０．３３質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
アクリレート系粘着剤Ｎ２
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・ＳＫダイン２１４７（綜研化学株式会社製） １００質量部
・ｐ－メトキシフェノール ０．３３質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
【0212】
〔評価用積層体Ａ－１の作製〕
１０ｃｍ角の無アルカリガラスイーグルＸＧ１．１ｍｍ厚（コーニング社製）に、１０ｃｍ角に裁断した上記粘着剤Ｎ１を用いて、１０ｃｍ角に裁断した上記積層体Ａの酸素遮断層Ｂ１側を貼り合わせた。次に、上記積層体Ａに含まれるセルロースアシレートフィルム１のみを除去し、その除去した面と、１０ｃｍ角の無アルカリガラスイーグルＸＧ１．１ｍｍ厚とを１０ｃｍ角に裁断した上記粘着剤Ｎ２を用いて貼り合わせ、積層体Ａ－１を作製した。積層体Ａ－１の層構成は、無アルカリガラスイーグルＸＧ、粘着剤層Ｎ１、酸素遮断層Ｂ１、偏光子層Ｐ１、光配向膜ＰＡ１、粘着剤層Ｎ２、無アルカリガラスイーグルＸＧである。
作製した積層体の２枚の無アルカリガラス間に存在する水分量を測定したところ、０．６７ｇ／ｍ２であった。また、作製した積層体の粘着剤層に含まれる還元剤の合計含有量は０．０５ｇ／ｍ２以上０．０６ｇ／ｍ２未満であった。
一方で、作製に用いた無アルカリガラスの透湿度は１．０×１０－３ｇ／ｍ２・ｄａｙ未満であった。
１０ｃｍ角の無アルカリガラスイーグルＸＧ１．１ｍｍ厚（コーニング社製）に、１０ｃｍ角に裁断した上記粘着剤Ｎ１を用いて、１０ｃｍ角に裁断した上記積層体Ａの酸素遮断層Ｂ１側を貼り合わせた。次に、上記積層体Ａに含まれるセルロースアシレートフィルム１のみを除去し、その除去した面と、１０ｃｍ角の無アルカリガラスイーグルＸＧ１．１ｍｍ厚とを１０ｃｍ角に裁断した上記粘着剤Ｎ２を用いて貼り合わせ、積層体Ａ－１を作製した。積層体Ａ－１の層構成は、無アルカリガラスイーグルＸＧ、粘着剤層Ｎ１、酸素遮断層Ｂ１、偏光子層Ｐ１、光配向膜ＰＡ１、粘着剤層Ｎ２、無アルカリガラスイーグルＸＧである。
作製した積層体の２枚の無アルカリガラス間に存在する水分量を測定したところ、０．６７ｇ／ｍ２であった。また、作製した積層体の粘着剤層に含まれる還元剤の合計含有量は０．０５ｇ／ｍ２以上０．０６ｇ／ｍ２未満であった。
一方で、作製に用いた無アルカリガラスの透湿度は１．０×１０－３ｇ／ｍ２・ｄａｙ未満であった。
【0213】
［実施例２］
アクリレート系粘着剤Ｎ２を市販のシート状粘着剤ＳＡ３６８（新タック化成株式会社製）に変更した以外は実施例１と同様の方法で、積層体Ａ－２を作製した。
シート状粘着剤ＳＡ３６８は、温度２５℃、相対湿度６０％の環境下において３日間放置した後に、０．１９％の含水率を示した。また、シート状粘着剤ＳＡ３６８の還元剤含有量は０．０１ｇ／ｍ２未満であった。
作製した積層体の２枚の無アルカリガラス間に存在する水分量を測定したところ、０．５５ｇ／ｍ２であった。
また、作製した積層体の粘着剤層に含まれる還元剤の合計含有量は０．０１ｇ／ｍ２未満であった。
アクリレート系粘着剤Ｎ２を市販のシート状粘着剤ＳＡ３６８（新タック化成株式会社製）に変更した以外は実施例１と同様の方法で、積層体Ａ－２を作製した。
シート状粘着剤ＳＡ３６８は、温度２５℃、相対湿度６０％の環境下において３日間放置した後に、０．１９％の含水率を示した。また、シート状粘着剤ＳＡ３６８の還元剤含有量は０．０１ｇ／ｍ２未満であった。
作製した積層体の２枚の無アルカリガラス間に存在する水分量を測定したところ、０．５５ｇ／ｍ２であった。
また、作製した積層体の粘着剤層に含まれる還元剤の合計含有量は０．０１ｇ／ｍ２未満であった。
【0214】
［実施例３］
〔粘着剤Ｎ３の作製〕
アクリレート系粘着剤Ｎ２について、膜厚を５０μｍに変更した以外はアクリレート系粘着剤Ｎ２と同様にして、アクリレート系粘着剤Ｎ３を得た。
アクリレート系粘着剤Ｎ３は、温度２５℃、相対湿度６０％の環境下において３日間放置した後に、０．２５％の含水率を示した。また、作製したアクリレート系粘着剤Ｎ３は還元剤として０．０１ｇ／ｍ２のｐ－メトキシフェノールを含有していた。
〔粘着剤Ｎ３の作製〕
アクリレート系粘着剤Ｎ２について、膜厚を５０μｍに変更した以外はアクリレート系粘着剤Ｎ２と同様にして、アクリレート系粘着剤Ｎ３を得た。
アクリレート系粘着剤Ｎ３は、温度２５℃、相対湿度６０％の環境下において３日間放置した後に、０．２５％の含水率を示した。また、作製したアクリレート系粘着剤Ｎ３は還元剤として０．０１ｇ／ｍ２のｐ－メトキシフェノールを含有していた。
【0215】
アクリレート系粘着剤Ｎ２をアクリレート系粘着剤Ｎ３に変更した以外は実施例１と同様の方法で、積層体Ａ－３を作製した。
作製した積層体の２枚の無アルカリガラス間に存在する水分量を測定したところ、０．３０ｇ／ｍ２であった。
また、作製した積層体の粘着剤層に含まれる還元剤の合計含有量は０．０１ｇ／ｍ２以上０．０２ｇ／ｍ２未満であった。
作製した積層体の２枚の無アルカリガラス間に存在する水分量を測定したところ、０．３０ｇ／ｍ２であった。
また、作製した積層体の粘着剤層に含まれる還元剤の合計含有量は０．０１ｇ／ｍ２以上０．０２ｇ／ｍ２未満であった。
【0216】
［実施例４］
〔粘着剤Ｎ４の作製〕
市販のアクリレート系粘着剤溶液ＳＫダイン２１４７（）を、シリコーン系剥離剤で表面処理したセパレートフィルムにダイコーターを用いて塗布し、９０℃の環境下で１０分間乾燥させ、膜厚２００μｍのアクリレート系粘着剤Ｎ４を得た。
作製したアクリレート系粘着剤Ｎ４は、温度２５℃、相対湿度６０％の環境下において３日間放置した後に、０．２５％の含水率を示した。また、作製したアクリレート系粘着剤Ｎ４の還元剤含有量は０．０１ｇ／ｍ２未満であった。
〔粘着剤Ｎ４の作製〕
市販のアクリレート系粘着剤溶液ＳＫダイン２１４７（）を、シリコーン系剥離剤で表面処理したセパレートフィルムにダイコーターを用いて塗布し、９０℃の環境下で１０分間乾燥させ、膜厚２００μｍのアクリレート系粘着剤Ｎ４を得た。
作製したアクリレート系粘着剤Ｎ４は、温度２５℃、相対湿度６０％の環境下において３日間放置した後に、０．２５％の含水率を示した。また、作製したアクリレート系粘着剤Ｎ４の還元剤含有量は０．０１ｇ／ｍ２未満であった。
【0217】
アクリレート系粘着剤Ｎ２をアクリレート系粘着剤Ｎ４に変更した以外は実施例１と同様の方法で、積層体Ａ－４を作製した。
作製した積層体の２枚の無アルカリガラス間に存在する水分量を測定したところ、０．６７ｇ／ｍ２であった。
また、作製した積層体の粘着剤層に含まれる還元剤の合計含有量は０．０１ｇ／ｍ２未満であった。
作製した積層体の２枚の無アルカリガラス間に存在する水分量を測定したところ、０．６７ｇ／ｍ２であった。
また、作製した積層体の粘着剤層に含まれる還元剤の合計含有量は０．０１ｇ／ｍ２未満であった。
【0218】
［実施例５］
アクリレート系粘着剤Ｎ２を市販のシート状粘着剤ＣＳ９８９８（日東電工株式会社製）に変更した以外は実施例１と同様の方法で、積層体Ａ－５を作製した。その際、予め上記シート状粘着剤ＣＳ９８９８を低湿環境下（２５℃、相対湿度１０％）に２４時間放置し、脱水した上で貼り合わせを行った。また、シート状粘着剤ＣＳ９８９８の還元剤含有量は０．０１ｇ／ｍ２未満であった。
作製した積層体の２枚の無アルカリガラス間に存在する水分量を測定したところ、０．７７ｇ／ｍ２であった。
また、作製した積層体の粘着剤層に含まれる還元剤の合計含有量は０．０１ｇ／ｍ２未満であった。
アクリレート系粘着剤Ｎ２を市販のシート状粘着剤ＣＳ９８９８（日東電工株式会社製）に変更した以外は実施例１と同様の方法で、積層体Ａ－５を作製した。その際、予め上記シート状粘着剤ＣＳ９８９８を低湿環境下（２５℃、相対湿度１０％）に２４時間放置し、脱水した上で貼り合わせを行った。また、シート状粘着剤ＣＳ９８９８の還元剤含有量は０．０１ｇ／ｍ２未満であった。
作製した積層体の２枚の無アルカリガラス間に存在する水分量を測定したところ、０．７７ｇ／ｍ２であった。
また、作製した積層体の粘着剤層に含まれる還元剤の合計含有量は０．０１ｇ／ｍ２未満であった。
【0219】
［実施例６］
無アルカリガラスイーグルＸＧ１．１ｍｍ厚（コーニング社製）に、上記粘着剤Ｎ１を用いて、上記積層体Ａの酸素遮断層Ｂ１側を貼り合わせた。次に、上記積層体Ａに含まれるセルロースアシレートフィルム１のみを除去し、その除去した面に、市販のシクロオレフィンポリマーフィルム（ゼオノアＺＢ１２、膜厚５０μｍ、日本ゼオン社製）を貼り合わせた。さらに上記積層体のシクロオレフィンポリマーフィルム側とアルカリガラスイーグルＸＧ１．１ｍｍ厚とを市販のシート状粘着剤ＣＳ９８９８（日東電工株式会社製）を用いて貼り合わせ、積層体Ａ－６を作製した。積層体Ａ－６の層構成は、無アルカリガラスイーグルＸＧ、粘着剤層Ｎ１、酸素遮断層Ｂ１、偏光子層Ｐ１、光配向膜ＰＡ１、粘着剤層Ｎ１、シクロオレフィンポリマーフィルムＺＢ１２、シート状粘着剤ＣＳ９８９８、無アルカリガラスイーグルＸＧである。
シート状粘着剤ＣＳ９８９８は、温度２５℃、相対湿度６０％の環境下において３日間放置した後に、０．６９％の含水率を示した。
作製した積層体の２枚の無アルカリガラス間に存在する水分量を測定したところ、１．６４ｇ／ｍ２であった。
また、作製した積層体の粘着剤層に含まれる還元剤の合計含有量は０．０１ｇ／ｍ２未満であった。
また、シクロオレフィンポリマーフィルムＺＢ１２の透湿度は１．８ｇ／ｍ２・ｄａｙであった。
無アルカリガラスイーグルＸＧ１．１ｍｍ厚（コーニング社製）に、上記粘着剤Ｎ１を用いて、上記積層体Ａの酸素遮断層Ｂ１側を貼り合わせた。次に、上記積層体Ａに含まれるセルロースアシレートフィルム１のみを除去し、その除去した面に、市販のシクロオレフィンポリマーフィルム（ゼオノアＺＢ１２、膜厚５０μｍ、日本ゼオン社製）を貼り合わせた。さらに上記積層体のシクロオレフィンポリマーフィルム側とアルカリガラスイーグルＸＧ１．１ｍｍ厚とを市販のシート状粘着剤ＣＳ９８９８（日東電工株式会社製）を用いて貼り合わせ、積層体Ａ－６を作製した。積層体Ａ－６の層構成は、無アルカリガラスイーグルＸＧ、粘着剤層Ｎ１、酸素遮断層Ｂ１、偏光子層Ｐ１、光配向膜ＰＡ１、粘着剤層Ｎ１、シクロオレフィンポリマーフィルムＺＢ１２、シート状粘着剤ＣＳ９８９８、無アルカリガラスイーグルＸＧである。
シート状粘着剤ＣＳ９８９８は、温度２５℃、相対湿度６０％の環境下において３日間放置した後に、０．６９％の含水率を示した。
作製した積層体の２枚の無アルカリガラス間に存在する水分量を測定したところ、１．６４ｇ／ｍ２であった。
また、作製した積層体の粘着剤層に含まれる還元剤の合計含有量は０．０１ｇ／ｍ２未満であった。
また、シクロオレフィンポリマーフィルムＺＢ１２の透湿度は１．８ｇ／ｍ２・ｄａｙであった。
【0220】
［実施例７］
〔光配向膜ＰＡ２の形成〕
下記の組成にて、光配向層形成用塗布液ＰＡ２を調製し、攪拌しながら１時間溶解し、０．４５μｍフィルターでろ過した。調製した光配向層形成用塗布液ＰＡ２を、ワイヤーバーで連続的に上記セルロースアシレートフィルム１上に塗布した。塗膜が形成された支持体を６０℃の温風で１２０秒間乾燥し、続いて、塗膜に対して偏光紫外線照射（１００ｍＪ／ｃｍ２、超高圧水銀ランプ使用）することで、光配向膜ＰＡ２を形成し、光配向膜付きＴＡＣ（トリアセチルセルロース）フィルムを得た。
〔光配向膜ＰＡ２の形成〕
下記の組成にて、光配向層形成用塗布液ＰＡ２を調製し、攪拌しながら１時間溶解し、０．４５μｍフィルターでろ過した。調製した光配向層形成用塗布液ＰＡ２を、ワイヤーバーで連続的に上記セルロースアシレートフィルム１上に塗布した。塗膜が形成された支持体を６０℃の温風で１２０秒間乾燥し、続いて、塗膜に対して偏光紫外線照射（１００ｍＪ／ｃｍ２、超高圧水銀ランプ使用）することで、光配向膜ＰＡ２を形成し、光配向膜付きＴＡＣ（トリアセチルセルロース）フィルムを得た。
【0221】
―――――――――――――――――――――――――――――――――
光配向膜形成用塗布液ＰＡ２
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記光活性化合物Ｅ－４ ５．０質量部
・シクロペンタノン ９５．０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
光配向膜形成用塗布液ＰＡ２
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記光活性化合物Ｅ－４ ５．０質量部
・シクロペンタノン ９５．０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
【0222】
光活性化合物Ｅ－４（重量平均分子量；５１０００）
【化34】
【0223】
〔偏光子層Ｐ２の作製〕
下記の組成にて、偏光子層形成用組成物Ｐ２を調製し、攪拌しながら８０℃で２時間加熱溶解し、０．４５μｍフィルターでろ過した。上記光配向膜ＰＡ２上に、調製した偏光子層形成用組成物Ｐ２をワイヤーバーで塗布した。次に、得られた塗膜に対して１２０℃で６０秒間加熱し、室温になるまで冷却した。その後、高圧水銀灯を用いて露光量２０００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射することにより、厚み１．７μｍの偏光子層Ｐ２を形成した。なお、偏光子層の液晶はスメクチックＢ相であることを、確認した。
下記の組成にて、偏光子層形成用組成物Ｐ２を調製し、攪拌しながら８０℃で２時間加熱溶解し、０．４５μｍフィルターでろ過した。上記光配向膜ＰＡ２上に、調製した偏光子層形成用組成物Ｐ２をワイヤーバーで塗布した。次に、得られた塗膜に対して１２０℃で６０秒間加熱し、室温になるまで冷却した。その後、高圧水銀灯を用いて露光量２０００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射することにより、厚み１．７μｍの偏光子層Ｐ２を形成した。なお、偏光子層の液晶はスメクチックＢ相であることを、確認した。
【0224】
―――――――――――――――――――――――――――――――――
偏光子層形成用組成物Ｐ２
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記二色性色素Ｄ１ ０．８質量部
・下記二色性色素Ｄ２ ２．６質量部
・下記二色性色素Ｄ３ ２．２質量部
・下記二色性色素Ｄ４ １．８質量部
・下記液晶化合物Ｍ１ １００．０質量部
・重合開始剤ＩＲＧＡＣＵＲＥ３６９（ＢＡＳＦ社製） ５．０質量部
・ＢＹＫ３６１Ｎ（ビックケミージャパン社製） ０．９質量部
・シクロペンタノン ９２５．０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
偏光子層形成用組成物Ｐ２
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記二色性色素Ｄ１ ０．８質量部
・下記二色性色素Ｄ２ ２．６質量部
・下記二色性色素Ｄ３ ２．２質量部
・下記二色性色素Ｄ４ １．８質量部
・下記液晶化合物Ｍ１ １００．０質量部
・重合開始剤ＩＲＧＡＣＵＲＥ３６９（ＢＡＳＦ社製） ５．０質量部
・ＢＹＫ３６１Ｎ（ビックケミージャパン社製） ０．９質量部
・シクロペンタノン ９２５．０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
【0225】
二色性色素Ｄ１
【化35】
【0226】
二色性色素Ｄ２
【化36】
【0227】
二色性色素Ｄ３
【化37】
【0228】
二色性色素Ｄ４
【化38】
【0229】
液晶化合物Ｍ１（化合物Ａ／化合物Ｂ＝７５／２５で混合）
【0230】
（化合物Ａ）
【化39】
【0231】
（化合物Ｂ）
【化40】
【0232】
〔酸素遮断層Ｂ１の形成〕
偏光子層Ｐ２上に、前述の塗布液Ｂ１をワイヤーバーで連続的に塗布した。その後、８０℃の温風で５分間乾燥することにより、厚み１．０μｍのポリビニルアルコール（ＰＶＡ）からなる酸素遮断層Ｂ１が形成された積層体ＡＡ、すなわち、セルロースアシレートフィルム１（透明支持体）、光配向膜ＰＡ２、偏光子層Ｐ２、および、酸素断層Ｂ１をこの順に隣接して備える積層体ＡＡを得た。
積層体Ａを積層体ＡＡに変更した以外は実施例２と同様の方法で、積層体Ａ－７を作製した。
作製した積層体の２枚の無アルカリガラス間に存在する水分量を測定したところ、０．５５ｇ／ｍ２であった。
また、作製した積層体の粘着剤層に含まれる還元剤の合計含有量は０．０１ｇ／ｍ２未満であった。
偏光子層Ｐ２上に、前述の塗布液Ｂ１をワイヤーバーで連続的に塗布した。その後、８０℃の温風で５分間乾燥することにより、厚み１．０μｍのポリビニルアルコール（ＰＶＡ）からなる酸素遮断層Ｂ１が形成された積層体ＡＡ、すなわち、セルロースアシレートフィルム１（透明支持体）、光配向膜ＰＡ２、偏光子層Ｐ２、および、酸素断層Ｂ１をこの順に隣接して備える積層体ＡＡを得た。
積層体Ａを積層体ＡＡに変更した以外は実施例２と同様の方法で、積層体Ａ－７を作製した。
作製した積層体の２枚の無アルカリガラス間に存在する水分量を測定したところ、０．５５ｇ／ｍ２であった。
また、作製した積層体の粘着剤層に含まれる還元剤の合計含有量は０．０１ｇ／ｍ２未満であった。
【0233】
［比較例１］
アクリレート系粘着剤Ｎ２を市販のシート状粘着剤ＣＳ９８９８（日東電工株式会社製）に変更した以外は実施例１と同様の方法で、積層体Ｂ－１を作製した。
シート状粘着剤ＣＳ９８９８は、温度２５℃、相対湿度６０％の環境下において３日間放置した後に、０．６９％の含水率を示した。
作製した積層体の２枚の無アルカリガラス間に存在する水分量を測定したところ、１．５５ｇ／ｍ２であった。
また、作製した積層体の粘着剤層に含まれる還元剤の合計含有量は０．０１ｇ／ｍ２未満であった。
アクリレート系粘着剤Ｎ２を市販のシート状粘着剤ＣＳ９８９８（日東電工株式会社製）に変更した以外は実施例１と同様の方法で、積層体Ｂ－１を作製した。
シート状粘着剤ＣＳ９８９８は、温度２５℃、相対湿度６０％の環境下において３日間放置した後に、０．６９％の含水率を示した。
作製した積層体の２枚の無アルカリガラス間に存在する水分量を測定したところ、１．５５ｇ／ｍ２であった。
また、作製した積層体の粘着剤層に含まれる還元剤の合計含有量は０．０１ｇ／ｍ２未満であった。
【0234】
［評価：耐変色試験］
実施例および比較例において得られた積層体について１０５℃の環境下に５００時間放置する試験（車載用途を想定した試験）を行い、試験後のサンプル中央部変色について評価した。評価には分光測色計を使用し、白色紙上に静置したサンプルの中央部と周辺部（サンプルの四隅、各辺の１ｃｍ内側の部分４点の平均）の色差（ｂの差）をもって、下記の指標で評価した。「Ｃ」以上と評価されれば、耐久性は許容できると判断することができる。
Ａ：中央部と周辺部の色差Δｂが１．０未満
Ｂ：中央部と周辺部の色差Δｂが１．０以上１．５未満
Ｃ：中央部と周辺部の色差Δｂが１．５以上２．５未満
Ｄ：中央部と周辺部の色差Δｂが２．５以上
実施例および比較例において得られた積層体について１０５℃の環境下に５００時間放置する試験（車載用途を想定した試験）を行い、試験後のサンプル中央部変色について評価した。評価には分光測色計を使用し、白色紙上に静置したサンプルの中央部と周辺部（サンプルの四隅、各辺の１ｃｍ内側の部分４点の平均）の色差（ｂの差）をもって、下記の指標で評価した。「Ｃ」以上と評価されれば、耐久性は許容できると判断することができる。
Ａ：中央部と周辺部の色差Δｂが１．０未満
Ｂ：中央部と周辺部の色差Δｂが１．０以上１．５未満
Ｃ：中央部と周辺部の色差Δｂが１．５以上２．５未満
Ｄ：中央部と周辺部の色差Δｂが２．５以上
【0235】
以上の評価試験の結果を下記表１に示す。
【0236】
【表1】
【0237】
表１に示すように、実施例１～７で作製した積層体は、いずれも耐変色性に優れた積層体が得られることが確認された。
【0238】
［有機ＥＬ表示装置の作製］
〔ポジティブＡプレートＡ１を有するＴＡＣフィルムＡ１の作製〕
下記組成の光配向膜形成用塗布液ＰＡ３を、ワイヤーバーで連続的に上述したセルロースアシレートフィルム１上に塗布した。塗膜が形成された支持体を１４０℃の温風で１２０秒間乾燥し、続いて、塗膜に対して偏光紫外線照射（１０ｍＪ／ｃｍ２、超高圧水銀ランプ使用）することで、０．２μｍの厚みの光配向膜ＰＡ３を形成し、光配向膜付きＴＡＣフィルムを得た。
〔ポジティブＡプレートＡ１を有するＴＡＣフィルムＡ１の作製〕
下記組成の光配向膜形成用塗布液ＰＡ３を、ワイヤーバーで連続的に上述したセルロースアシレートフィルム１上に塗布した。塗膜が形成された支持体を１４０℃の温風で１２０秒間乾燥し、続いて、塗膜に対して偏光紫外線照射（１０ｍＪ／ｃｍ２、超高圧水銀ランプ使用）することで、０．２μｍの厚みの光配向膜ＰＡ３を形成し、光配向膜付きＴＡＣフィルムを得た。
【0239】
―――――――――――――――――――――――――――――――――
光配向膜形成用塗布液ＰＡ３
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・下記重合体ＰＡ－２ １００．００質量部
・上記酸発生剤ＰＡＧ－１ ５．００質量部
・上記酸発生剤ＣＰＩ－１１０ＴＦ ０．００５質量部
・イソプロピルアルコール １６．５０質量部
・酢酸ブチル １０７２．００質量部
・メチルエチルケトン ２６８．００質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
光配向膜形成用塗布液ＰＡ３
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記重合体ＰＡ－２ １００．００質量部
・上記酸発生剤ＰＡＧ－１ ５．００質量部
・上記酸発生剤ＣＰＩ－１１０ＴＦ ０．００５質量部
・イソプロピルアルコール １６．５０質量部
・酢酸ブチル １０７２．００質量部
・メチルエチルケトン ２６８．００質量部
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【0240】
重合体ＰＡ－２
【化41】
【0241】
下記組成の組成物Ａ－１を、バーコーターを用いて上記光配向膜ＰＡ３上に塗布した。光配向膜ＰＡ３上に形成された塗膜を温風にて１２０℃に加熱し、その後６０℃に冷却した後に、窒素雰囲気下で高圧水銀灯を用いて波長３６５ｎｍにて１００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を塗膜に照射し、続いて１２０℃に加熱しながら５００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を塗膜に照射することで、液晶性化合物の配向を固定化し、ポジティブＡプレートＡ１を有するＴＡＣフィルムＡ１を作製した。
ポジティブＡプレートＡ１の厚みは２．５μｍであり、Ｒｅ（５５０）は１４４ｎｍであった。また、ポジティブＡプレートＡ１は、Ｒｅ（４５０）≦Ｒｅ（５５０）≦Ｒｅ（６５０）の関係を満たしていた。Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）は、０．８２であった。
ポジティブＡプレートＡ１の厚みは２．５μｍであり、Ｒｅ（５５０）は１４４ｎｍであった。また、ポジティブＡプレートＡ１は、Ｒｅ（４５０）≦Ｒｅ（５５０）≦Ｒｅ（６５０）の関係を満たしていた。Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）は、０．８２であった。
【0242】
―――――――――――――――――――――――――――――――――
組成物Ａ－１
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記重合性液晶性化合物ＬＡ－１ ４３．５０質量部
・下記重合性液晶性化合物ＬＡ－２ ４３．５０質量部
・下記重合性液晶性化合物ＬＡ－３ ８．００質量部
・下記重合性液晶性化合物ＬＡ－４ ５．００質量部
・下記重合開始剤ＰＩ－１ ０．５５質量部
・下記レベリング剤Ｔ－１ ０．２０質量部
・シクロペンタノン ２３５．００質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
組成物Ａ－１
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記重合性液晶性化合物ＬＡ－１ ４３．５０質量部
・下記重合性液晶性化合物ＬＡ－２ ４３．５０質量部
・下記重合性液晶性化合物ＬＡ－３ ８．００質量部
・下記重合性液晶性化合物ＬＡ－４ ５．００質量部
・下記重合開始剤ＰＩ－１ ０．５５質量部
・下記レベリング剤Ｔ－１ ０．２０質量部
・シクロペンタノン ２３５．００質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
【0243】
重合性液晶性化合物ＬＡ－１（ｔＢｕはターシャリーブチル基を表す）
【化42】
【0244】
重合性液晶性化合物ＬＡ－２
【化43】
【0245】
重合性液晶性化合物ＬＡ－３
【化44】
【0246】
重合性液晶性化合物ＬＡ－４（Ｍｅはメチル基を表す）
【化45】
【0247】
重合開始剤ＰＩ－１
【化46】
【0248】
レベリング剤Ｔ－１
【化47】
【0249】
〔ポジティブＣプレートＣ１を有するＴＡＣフィルムＣ１の作製〕
仮支持体として、上述したセルロースアシレートフィルム１を用いた。
セルロースアシレートフィルム１を温度６０℃の誘電式加熱ロールを通過させ、フィルム表面温度を４０℃に昇温した後に、フィルムの片面に下記に示す組成のアルカリ溶液を、バーコーターを用いて塗布量１４ｍｌ／ｍ２で塗布し、１１０℃に加熱し、（株）ノリタケカンパニーリミテド製のスチーム式遠赤外ヒーターの下に、１０秒間搬送した。
次いで、同じくバーコーターを用いて、フィルム上に純水を３ｍｌ／ｍ２塗布した。
次いで、ファウンテンコーターによる水洗とエアナイフによる水切りを３回繰り返した後に、フィルムを７０℃の乾燥ゾーンに１０秒間搬送して乾燥し、アルカリ鹸化処理されたセルロースアシレートフィルム１を作製した。
仮支持体として、上述したセルロースアシレートフィルム１を用いた。
セルロースアシレートフィルム１を温度６０℃の誘電式加熱ロールを通過させ、フィルム表面温度を４０℃に昇温した後に、フィルムの片面に下記に示す組成のアルカリ溶液を、バーコーターを用いて塗布量１４ｍｌ／ｍ２で塗布し、１１０℃に加熱し、（株）ノリタケカンパニーリミテド製のスチーム式遠赤外ヒーターの下に、１０秒間搬送した。
次いで、同じくバーコーターを用いて、フィルム上に純水を３ｍｌ／ｍ２塗布した。
次いで、ファウンテンコーターによる水洗とエアナイフによる水切りを３回繰り返した後に、フィルムを７０℃の乾燥ゾーンに１０秒間搬送して乾燥し、アルカリ鹸化処理されたセルロースアシレートフィルム１を作製した。
【0250】
―――――――――――――――――――――――――――――――――
（アルカリ溶液）
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・水酸化カリウム ４．７質量部
・水 １５．８質量部
・イソプロパノール ６３．７質量部
・含フッ素界面活性剤ＳＦ－１
（Ｃ１４Ｈ２９Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）２０Ｈ） １．０質量部
・プロピレングリコール １４．８質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
（アルカリ溶液）
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・水酸化カリウム ４．７質量部
・水 １５．８質量部
・イソプロパノール ６３．７質量部
・含フッ素界面活性剤ＳＦ－１
（Ｃ１４Ｈ２９Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）２０Ｈ） １．０質量部
・プロピレングリコール １４．８質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
【0251】
下記組成の配向膜形成用塗布液ＰＡ４を、＃８のワイヤーバーを用いて上記アルカリ鹸化処理されたセルロースアシレートフィルム１上に連続的に塗布した。得られたフィルムを６０℃の温風で６０秒間、さらに１００℃の温風で１２０秒間乾燥し、配向膜ＰＡ４を形成した。
【0252】
―――――――――――――――――――――――――――――――――
配向膜形成用塗布液ＰＡ４
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・ポリビニルアルコール（クラレ製、ＰＶＡ１０３） ２．４質量部
・イソプロピルアルコール １．６質量部
・メタノール ３６質量部
・水 ６０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
配向膜形成用塗布液ＰＡ４
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・ポリビニルアルコール（クラレ製、ＰＶＡ１０３） ２．４質量部
・イソプロピルアルコール １．６質量部
・メタノール ３６質量部
・水 ６０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
【0253】
下記組成のポジティブＣプレート形成用塗布液Ｃ１を配向膜ＰＡ４上に塗布し、得られた塗膜を６０℃で６０秒間熟成させた後に、空気下にて７０ｍＷ／ｃｍ２の空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、１０００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して、その配向状態を固定化することにより、液晶性化合物を垂直配向させ、厚み０．５μｍのポジティブＣプレートＣ１を有するＴＡＣフィルムＣ１を作製した。
得られたポジティブＣプレートのＲｔｈ（５５０）は、－６０ｎｍであった。
得られたポジティブＣプレートのＲｔｈ（５５０）は、－６０ｎｍであった。
【0254】
―――――――――――――――――――――――――――――――――
ポジティブＣプレート形成用塗布液Ｃ１
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・下記液晶性化合物ＬＣ－１ ８０質量部
・下記液晶性化合物ＬＣ－２ ２０質量部
・下記垂直配向性液晶性化合物向剤Ｓ０１ １質量部
・エチレンオキサイド変成トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製） ８質量部
・イルガキュアー９０７（ＢＡＳＦ製） ３質量部
・カヤキュアーＤＥＴＸ（日本化薬（株）製） １質量部
・下記化合物Ｂ０３ ０．４質量部
・メチルエチルケトン １７０質量部
・シクロヘキサノン ３０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
ポジティブＣプレート形成用塗布液Ｃ１
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・下記液晶性化合物ＬＣ－１ ８０質量部
・下記液晶性化合物ＬＣ－２ ２０質量部
・下記垂直配向性液晶性化合物向剤Ｓ０１ １質量部
・エチレンオキサイド変成トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製） ８質量部
・イルガキュアー９０７（ＢＡＳＦ製） ３質量部
・カヤキュアーＤＥＴＸ（日本化薬（株）製） １質量部
・下記化合物Ｂ０３ ０．４質量部
・メチルエチルケトン １７０質量部
・シクロヘキサノン ３０質量部
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【0255】
液晶性化合物ＬＣ－１
【化48】
【0256】
液晶性化合物ＬＣ－２
【化49】
【0257】
垂直配向性液晶性化合物向剤Ｓ０１
【化50】
【0258】
化合物Ｂ０３
【化51】
【0259】
〔評価用積層体Ｃ－１の作製〕
上記ポジティブＡプレートＡ１を有するＴＡＣフィルムＡ１の位相差側と、上記ポジティブＣプレートＣ１を有するＴＡＣフィルムＣ１の位相差側とを、上記ＵＶ接着剤組成物を用いて６００ｍＪ/ｃｍ２のＵＶ照射で貼り合わせた。ＵＶ接着剤層の厚みは３μｍであった。なお、ＵＶ接着剤で貼り合わせる表面には、それぞれコロナ処理を行った。次に、ポジティブＡプレートＡ１側の光配向膜ＰＡ３とセルロースアシレートフィルム１を除去し、位相差板１とした。なお、位相差板１の層構成は、ポジティブＡプレートＡ１、ＵＶ接着剤層、ポジティブＣプレートＣ１、光配向膜ＰＡ４およびセルロースアシレートフィルム１である。
無アルカリガラスイーグルＸＧ１．１ｍｍ厚（コーニング社製）に、上記粘着剤Ｎ１を用いて、上記積層体Ａの酸素遮断層Ｂ１側を貼り合わせた。次に、上記積層体Ａに含まれるセルロースアシレートフィルム１のみを除去し、その除去した面と、上記位相差板１のポジティブＡプレートＡ１側とを、上記粘着剤Ｎ１を用いて貼り合わせた。次に、上記位相差板１に含まれるポジティブＣプレートＣ１側の光配向膜ＰＡ４とセルロースアシレートフィルム１を除去し、積層体Ｃ－１を作製した。このとき、上記積層体Ａに含まれる偏光子層Ｐ１の吸収軸と、ポジティブＡプレートＡ１の遅相軸とのなす角度が４５°となるように貼り合わせた。なお、積層体Ｃ－１の層構成は、無アルカリガラスイーグルＸＧ、粘着剤層Ｎ１、酸素遮断層Ｂ１、偏光子層Ｐ１、光配向膜ＰＡ１、粘着剤層Ｎ１、ポジティブＡプレートＡ１、ＵＶ接着剤層およびポジティブＣプレートＣ１である。
上記ポジティブＡプレートＡ１を有するＴＡＣフィルムＡ１の位相差側と、上記ポジティブＣプレートＣ１を有するＴＡＣフィルムＣ１の位相差側とを、上記ＵＶ接着剤組成物を用いて６００ｍＪ/ｃｍ２のＵＶ照射で貼り合わせた。ＵＶ接着剤層の厚みは３μｍであった。なお、ＵＶ接着剤で貼り合わせる表面には、それぞれコロナ処理を行った。次に、ポジティブＡプレートＡ１側の光配向膜ＰＡ３とセルロースアシレートフィルム１を除去し、位相差板１とした。なお、位相差板１の層構成は、ポジティブＡプレートＡ１、ＵＶ接着剤層、ポジティブＣプレートＣ１、光配向膜ＰＡ４およびセルロースアシレートフィルム１である。
無アルカリガラスイーグルＸＧ１．１ｍｍ厚（コーニング社製）に、上記粘着剤Ｎ１を用いて、上記積層体Ａの酸素遮断層Ｂ１側を貼り合わせた。次に、上記積層体Ａに含まれるセルロースアシレートフィルム１のみを除去し、その除去した面と、上記位相差板１のポジティブＡプレートＡ１側とを、上記粘着剤Ｎ１を用いて貼り合わせた。次に、上記位相差板１に含まれるポジティブＣプレートＣ１側の光配向膜ＰＡ４とセルロースアシレートフィルム１を除去し、積層体Ｃ－１を作製した。このとき、上記積層体Ａに含まれる偏光子層Ｐ１の吸収軸と、ポジティブＡプレートＡ１の遅相軸とのなす角度が４５°となるように貼り合わせた。なお、積層体Ｃ－１の層構成は、無アルカリガラスイーグルＸＧ、粘着剤層Ｎ１、酸素遮断層Ｂ１、偏光子層Ｐ１、光配向膜ＰＡ１、粘着剤層Ｎ１、ポジティブＡプレートＡ１、ＵＶ接着剤層およびポジティブＣプレートＣ１である。
【0260】
有機ＥＬパネル（有機ＥＬ表示素子）搭載のＳＡＭＳＵＮＧ社製ＧＡＬＡＸＹ Ｓ５を分解し、有機ＥＬ表示装置から、円偏光板付きタッチパネルを剥離し、さらにタッチパネルから円偏光板を剥がし、ガラス基板を含む有機ＥＬ表示素子、タッチパネルおよび円偏光板をそれぞれ単離した。続いて、単離したタッチパネルを有機ＥＬ表示素子と再度貼合し、さらに上記で作製した積層体Ｃ－１のポジティブＣプレートＣ１側を上記粘着剤Ｎ２を用いて空気が入らないようにしてタッチパネル上に貼合し、有機ＥＬ表示装置を作製した。
【0261】
作製した有機ＥＬ表示装置について、明光下における表示性能を評価した。具体的には表示装置の表示画面を黒表示にして、正面および極角４５度から蛍光灯を映しこんだときの反射光を観察したところ、黒色で色づきが全く視認されず、優れた表示性能を示した。
【手続補正書】
【提出日】2024-08-07
【手続補正1】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項1】
２枚の基板と、前記２枚の基板の間に配置された偏光子層と、前記２枚の基板の間であって前記基板と前記偏光子層との間に配置された１つまたは２つの粘着剤層とを有する積層体であって、
前記偏光子層が、分子内に２つ以上のアゾ結合を有するアゾ色素を１種類以上含み、
前記２枚の基板の透湿度が、いずれも１０－３ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であり、
前記粘着剤層の厚みが５０μｍ以上７０μｍ以下である、積層体。
ここで、前記粘着剤層の厚みは、前記積層体が前記粘着剤層を２つ有している場合は、２つの前記粘着剤層の合計厚みをいう。
前記偏光子層が、分子内に２つ以上のアゾ結合を有するアゾ色素を１種類以上含み、
前記２枚の基板の透湿度が、いずれも１０－３ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であり、
前記粘着剤層の厚みが５０μｍ以上７０μｍ以下である、積層体。
ここで、前記粘着剤層の厚みは、前記積層体が前記粘着剤層を２つ有している場合は、２つの前記粘着剤層の合計厚みをいう。
【請求項2】
前記粘着剤層における還元剤の含有量が０．０４ｇ／ｍ２以下である、請求項１に記載の積層体。
ここで、前記粘着剤層における還元剤の含有量は、前記積層体が前記粘着剤層を２つ有している場合は、２つの前記粘着剤層における還元剤の合計含有量をいう。
ここで、前記粘着剤層における還元剤の含有量は、前記積層体が前記粘着剤層を２つ有している場合は、２つの前記粘着剤層における還元剤の合計含有量をいう。
【請求項3】
２枚の基板と、前記２枚の基板の間に配置された偏光子層と、前記２枚の基板の間に配置された１つの低透湿層と、前記２枚の基板の間であって、前記基板と前記偏光子層との間、前記基板と前記低透湿層との間、または、前記偏光子層と前記低透湿層との間に配置された１つから３つの粘着剤層とを有する積層体であって、
前記偏光子層が、分子内に２つ以上のアゾ結合を有するアゾ色素を１種類以上含み、
前記２枚の基板の透湿度が、いずれも１０－３ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であり、
前記低透湿層の透湿度が、２０ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であり、
前記粘着剤層の厚みが、少なくとも１つの粘着剤層において１００μｍ以上である、積層体。
前記偏光子層が、分子内に２つ以上のアゾ結合を有するアゾ色素を１種類以上含み、
前記２枚の基板の透湿度が、いずれも１０－３ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であり、
前記低透湿層の透湿度が、２０ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であり、
前記粘着剤層の厚みが、少なくとも１つの粘着剤層において１００μｍ以上である、積層体。
【請求項4】
前記低透湿層が環状ポリオレフィン系樹脂を有する、請求項３に記載の積層体。
【請求項5】
前記粘着剤層における還元剤の含有量が０．０４ｇ／ｍ２以下である、請求項３または４に記載の積層体。
ここで、前記粘着剤層における還元剤の含有量は、前記積層体が前記粘着剤層を複数有している場合は、複数の前記粘着剤層における還元剤の合計含有量をいう。
ここで、前記粘着剤層における還元剤の含有量は、前記積層体が前記粘着剤層を複数有している場合は、複数の前記粘着剤層における還元剤の合計含有量をいう。
【請求項6】
前記２枚の基板が、いずれもガラス基板である、請求項１～５のいずれか１項に記載の積層体。
【請求項7】
前記２枚の基板の厚みが、いずれも１００～１１００μｍである、請求項１～６のいずれか１項に記載の積層体。
【請求項8】
前記アゾ色素が、下記式（１）で表される化合物である、請求項１～７のいずれか１項に記載の積層体。
前記式（１）中、Ａｒ１およびＡｒ２は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよいフェニレン基、または、置換基を有していてもよいナフチレン基を表す。
前記式（１）中、Ｒ１は、水素原子、または、置換基を有していてもよい、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルキルスルホニル基、アルキルカルボニル基、アルキルオキシカルボニル基、アシルオキシ基、アルキルカーボネート基、アルキルアミノ基、アシルアミノ基、アルキルカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アルキルスルホニルアミノ基、アルキルスルファモイル基、アルキルカルバモイル基、アルキルスルフィニル基、アルキルウレイド基、アルキルリン酸アミド基、アルキルイミノ基、もしくは、アルキルシリル基を表す。
前記式（１）中、Ｒ２およびＲ３は、それぞれ独立に、水素原子、または、置換基を有していてもよい、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アシル基、アルキルオキシカルボニル基、アルキルアミド基、アルキルスルホニル基、アリール基、アリールカルボニル基、アリールスルホニル基、アリールオキシカルボニル基、もしくは、アリールアミド基を表す。Ｒ２およびＲ３は、互いに結合して環を形成していてもよく、Ｒ２またはＲ３は、Ａｒ２と結合して環を形成していてもよい。
【化1】
前記式（１）中、Ｒ１は、水素原子、または、置換基を有していてもよい、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルキルスルホニル基、アルキルカルボニル基、アルキルオキシカルボニル基、アシルオキシ基、アルキルカーボネート基、アルキルアミノ基、アシルアミノ基、アルキルカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アルキルスルホニルアミノ基、アルキルスルファモイル基、アルキルカルバモイル基、アルキルスルフィニル基、アルキルウレイド基、アルキルリン酸アミド基、アルキルイミノ基、もしくは、アルキルシリル基を表す。
前記式（１）中、Ｒ２およびＲ３は、それぞれ独立に、水素原子、または、置換基を有していてもよい、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アシル基、アルキルオキシカルボニル基、アルキルアミド基、アルキルスルホニル基、アリール基、アリールカルボニル基、アリールスルホニル基、アリールオキシカルボニル基、もしくは、アリールアミド基を表す。Ｒ２およびＲ３は、互いに結合して環を形成していてもよく、Ｒ２またはＲ３は、Ａｒ２と結合して環を形成していてもよい。
【請求項9】
請求項１～８のいずれか１項に記載の積層体を有する、画像表示装置。