特開 2024-152265 処理装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2024152265

(43)【公開日】2024-10-25

(54)【発明の名称】処理装置

(51)【国際特許分類】

   H01L 21/3065 20060101AFI20241018BHJP

   H05H 1/46 20060101ALI20241018BHJP

【ＦＩ】

H01L21/302 101M

H05H1/46 A

H05H1/46 B

【審査請求】未請求

【請求項の数】9

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2023066351

(22)【出願日】2023-04-14

(71)【出願人】

【識別番号】000219967

【氏名又は名称】東京エレクトロン株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100088155

【弁理士】

【氏名又は名称】長谷川 芳樹

(74)【代理人】

【識別番号】100113435

【弁理士】

【氏名又は名称】黒木 義樹

(74)【代理人】

【識別番号】100122507

【弁理士】

【氏名又は名称】柏岡 潤二

(72)【発明者】

【氏名】小林 民宏

(72)【発明者】

【氏名】北原 聡文

【テーマコード（参考）】

2G084

5F004

【Ｆターム（参考）】

2G084AA01

2G084BB30

2G084CC05

2G084CC06

2G084CC14

2G084CC33

2G084DD04

2G084DD19

2G084DD42

2G084DD44

2G084DD65

2G084FF15

2G084FF39

5F004AA01

5F004AA16

5F004BA04

5F004BB13

5F004BB29

(57)【要約】

【課題】処理装置のメンテナンス作業を軽減するための技術を提供する。
【解決手段】一つの例示的実施形態において、処理装置が提供される。プレート部はシャワープレートの上方に設けられ、連結部材はシャワープレートに固定されプレート部に向けて突出しシャワープレートをプレート部に連結するように構成され、プレート部の下面にはシャワープレートに対向するように配置されたガイド溝が設けられ、連結部材のうちプレート部に向けて突出した突出部分はガイド溝内に収容され、プレート部に設けられたガイド溝の一端内にシャワープレートに固定された連結部材の突出部分が収容されることによってプレート部に対するシャワープレートの位置が定まり、一端内に突出部分が収容され本体部から蓋部が離隔された状態ではシャワープレートがプレート部から吊り下げられた状態となる。
【選択図】図１

【特許請求の範囲】

【請求項1】

処理空間を提供する処理容器と、
前記処理容器の下部を構成する本体部と、
前記処理容器の上部を構成し、前記本体部上に載置されるように構成された蓋部と、
を備え、
前記蓋部は、シャワープレート、該シャワープレートの上方に設けられたプレート部、及び該シャワープレートに固定され該プレート部に向けて突出し該シャワープレートを該プレート部に連結するように構成された連結部材を有し、
前記プレート部の下面には、前記シャワープレートに対向するように配置されたガイド溝が設けられ、
前記連結部材のうち前記プレート部に向けて突出した突出部分は、前記ガイド溝内に収容され、
前記プレート部に設けられた前記ガイド溝の一端内に前記シャワープレートに固定された前記連結部材の前記突出部分が収容されることによって、前記プレート部に対する前記シャワープレートの位置が定まり、
前記一端内に前記突出部分が収容され前記本体部から前記蓋部が離隔された状態では、該一端における前記ガイド溝の開口に設けられた支持部に前記連結部材の先端が支持されることによって、前記シャワープレートが前記プレート部から吊り下げられた状態となる、
処理装置。

【請求項2】

前記蓋部は、二重のＯリングを有するシール部材を有し、
前記シール部材は、前記処理空間を前記処理容器の外部から気密に遮断するように構成されている、
請求項１に記載の処理装置。

【請求項3】

前記連結部材は、その先端に設けられた頭頂部及び該頭頂部に接続され該頭頂部よりも小径の軸部を有し、
前記頭頂部及び前記軸部は、前記突出部分を提供する、
請求項１に記載の処理装置。

【請求項4】

前記ガイド溝の前記一端には、前記頭頂部よりも小径であって前記軸部よりも大径の開口を有する縮幅部が設けられており、
前記縮幅部内に前記突出部分が収容され前記本体部から前記蓋部が離隔された状態では、前記頭頂部が前記支持部によって支持される、
請求項３に記載の処理装置。

【請求項5】

前記ガイド溝の他の一端には、前記頭頂部よりも大径の開口を有する拡幅部が設けられている、
請求項４に記載の処理装置。

【請求項6】

前記突出部分が前記縮幅部内に収容されている状態から、前記シャワープレートを前記プレート部の周方向に回転させて該突出部分を前記拡幅部に移動させることができる、
請求項５に記載の処理装置。

【請求項7】

前記プレート部の周方向に対応するように設けられた少なくとも三個の前記連結部材と、
前記少なくとも三個の前記連結部材のそれぞれに対向する位置に設けられ該連結部材と同数個の前記ガイド溝と、
を備える、
請求項１～４の何れか一項に記載の処理装置。

【請求項8】

前記少なくとも三個の前記連結部材及び該連結部材の個数と同数個の前記ガイド溝とは、前記周方向において等配とならないように配置されている、
請求項７に記載の処理装置。

【請求項9】

前記プレート部は、上部電極である、
請求項１～４の何れか一項に記載の処理装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本開示の例示的実施形態は、処理装置に関するものである。

【背景技術】

【0002】

特許文献１には、シャワーヘッド及び側壁を有するプラズマ処理チャンバを備えたプラズマ処理装置が開示されている。プラズマ処理装置のメンテナンスは、プラズマ処理チャンバからシャワーヘッドを分離しプラズマ処理チャンバの内側を露出して行われ得る。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【特許文献1】特開２０２２－１１１７７２号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

本開示は、処理装置のメンテナンス作業を軽減するための技術を提供する。

【課題を解決するための手段】

【0005】

一つの例示的実施形態において、処理装置が提供される。処理装置は、処理容器と、本体部と、蓋部とを備える。処理容器は、処理空間を提供する。本体部は、処理容器の下部を構成する。蓋部は、処理容器の上部を構成し、本体部上に載置されるように構成されている。蓋部は、シャワープレート、プレート部、及び連結部材を有する。プレート部は、シャワープレートの上方に設けられている。連結部材は、シャワープレートに固定されプレート部に向けて突出しシャワープレートをプレート部に連結するように構成されている。プレート部の下面には、シャワープレートに対向するように配置されたガイド溝が設けられている。連結部材のうちプレート部に向けて突出した突出部分は、ガイド溝内に収容されている。プレート部に設けられたガイド溝の一端内にシャワープレートに固定された連結部材の突出部分が収容されることによって、プレート部に対するシャワープレートの位置が定まる。一端内に突出部分が収容され本体部から蓋部が離隔された状態では、一端におけるガイド溝の開口に設けられた支持部に連結部材の先端が支持されることによって、シャワープレートがプレート部から吊り下げられた状態となる。

【発明の効果】

【0006】

一つの例示的実施形態によれば、処理装置のメンテナンスでの作業を軽減するための技術が提供される。

【図面の簡単な説明】

【0007】

【図1】一つの例示的実施形態に係るプラズマ処理装置の構成を例示する図である。

【図2】一つの例示的実施形態に係るプラズマ処理装置の上部電極の下面の構成を例示する図である。

【図3】一つの例示的実施形態に係るプラズマ処理装置において、上部電極及びシャワープレートを連結する連結部材が上部電極の下面に設けられたガイド溝によってガイドされる様子を例示する図である。

【図4】一つの例示的実施形態に係るプラズマ処理装置のメンテナンス作業前において、シャワープレートを含む蓋部が本体部に取り付けられ上部電極がシャワープレートに密接された状態を例示する図である。

【図5】一つの例示的実施形態に係るプラズマ処理装置のメンテナンス作業中において、シャワープレートに固定された連結部材によってシャワープレート、更に支持枠体、放出部を含む構成が一体的に上部電極に吊り下げられている状態を例示する図である。

【図6】一つの例示的実施形態に係るプラズマ処理装置において、シャワープレートに固定された連結部材が上部電極のガイド溝の拡幅部にガイドされシャワープレートが上部電極から取り外し可能となっている状態を例示する図である。

【発明を実施するための形態】

【0008】

以下、図面を参照して種々の例示的実施形態について詳細に説明する。なお、各図面において同一又は相当の部分に対しては同一の符号を附すこととする。

【0009】

図１は、処理装置の一例としてのプラズマ処理装置１の構成を例示する図である。図１に示すプラズマ処理装置１は、処理容器１０、基板支持部１２、上部電極１４、放出部１６、及び導波部１８を備える。

【0010】

処理容器１０は、その内部においてプラズマ処理が行われる処理空間１０ｓを提供している。処理空間１０ｓはプラズマ生成空間を含んでいる。プラズマ処理装置１では、基板Ｗは、処理空間１０ｓの中で処理される。処理容器１０は、アルミニウムのような金属から形成されており、接地されている。

【0011】

処理容器１０は、処理容器１０の下部を構成する本体部１２ｂを有しており、その上端において開口されている。処理容器１０は、処理容器１０の上部を構成し、本体部１２ｂ上に載置されるように構成された蓋部１２ａを有する。

【0012】

蓋部１２ａ及び本体部１２ｂは、略円筒形状を有し得る。処理空間１０ｓは、本体部１２ｂの内側に提供されている。蓋部１２ａ、本体部１２ｂ、及び処理空間１０ｓの各々の中心軸線は、軸線ＡＸである。

【0013】

処理容器１０は、その表面に耐腐食性を有する膜を有していてもよい。耐腐食性を有する膜は、酸化イットリウム膜、酸化フッ化イットリウム膜、フッ化イットリウム膜、酸化イットリウム、又はフッ化イットリウム等を含むセラミック膜であり得る。

【0014】

蓋部１２ａは、シャワープレート２２、プレート部、及び連結部材１５を有する。プレート部は、シャワープレート２２の上方に設けられている。連結部材１５は、シャワープレート２２に固定されプレート部に向けて突出し、シャワープレート２２をプレート部に連結するように構成されている。プレート部は、例えば上部電極１４であり得る。

【0015】

蓋部１２ａは、更に、支持枠体１３及び放出部１６を有する。支持枠体１３は、放出部１６を支持するように構成されている。蓋部１２ａが本体部１２ｂに接続されている状態では、蓋部１２ａは、支持枠体１３を介して本体部１２ｂ上に載置され、支持枠体１３及び本体部１２ｂが密接する。放出部１６は、シャワープレート２２及び支持枠体１３の間に配置されており、シャワープレート２２及び支持枠体１３に固定されている。

【0016】

本体部１２ｂの底部は、排気口１０ｅを提供している。排気口１０ｅには、排気装置が接続される。排気装置は、ドライポンプ及び／又はターボ分子ポンプのような真空ポンプと自動圧力制御弁を含み得る。

【0017】

基板支持部１２は、処理空間１０ｓの中に設けられている。基板支持部１２は、その上面の上に載置された基板Ｗを略水平に支持するように構成されている。基板支持部１２は、略円盤形状を有している。基板支持部１２の中心軸線は、軸線ＡＸである。

【0018】

上部電極１４は、基板支持部１２の上方に処理空間１０ｓを介して設けられている。上部電極１４は、金属（例えばアルミニウム）のような導体から形成されており、略円盤形状を有している。上部電極１４の中心軸線は、軸線ＡＸである。

【0019】

上部電極１４は、複数のスロット１４ｓを提供しており、複数の梁１４ｂを含んでいる。複数のスロット１４ｓは、放出部１６の上方に配置されている。複数のスロット１４ｓは、上部電極１４をその厚さ方向（鉛直方向）に沿って貫通しており、周方向に長く延びている。

【0020】

複数のスロット１４ｓは、互いに離間しており、軸線ＡＸの周りで周方向に沿って配列されている。複数のスロット１４ｓは、等間隔に配列されていてもよい。複数の梁１４ｂは、軸線ＡＸの周りで周方向に沿って複数のスロット１４ｓと交互に配列されている。複数の梁１４ｂは、上部電極１４の内側部分と外側部分を互いに連結している。

【0021】

放出部１６は、そこから処理空間１０ｓに電磁波を放出するために設けられている。プラズマ処理装置１では、放出部１６から処理空間１０ｓに放出される電磁波により、処理空間１０ｓ内のガスが励起されて、プラズマが生成される。放出部１６から処理空間１０ｓに放出される電磁波は、ＶＨＦ波又はＵＨＦ波のような高周波であり得る。

【0022】

放出部１６は、石英、窒化アルミニウム、又は酸化アルミニウムのような誘電体から形成されている。放出部１６は、処理空間１０ｓの横方向端部に設けられており、軸線ＡＸの周りで周方向に延在している。放出部１６は、環形状を有していてもよい。

【0023】

導波部１８は、放出部１６に電磁波を供給するように構成されている。電磁波は、後述する高周波電源２４によって発生される。電磁波は、導波部１８を介して放出部１６に伝搬し、放出部１６から処理空間１０ｓ内に導入される。導波部１８は、共振器２０を含んでいる。

【0024】

共振器２０は、導波路２０ｗを提供している。導波路２０ｗは、金属のような導体から形成された壁（以下、「導体壁」という）によって囲まれた空洞を提供していてもよい。導波路２０ｗの導体壁は、アルミ合金、銅、ニッケル、又はステンレス等から形成されていてもよく、銀、金、又はロジウム等の低抵抗材料で被覆されていてもよい。

【0025】

一実施形態において、共振器２０の導波路２０ｗは、上部２０ａ及び下部２０ｂを含む層構造を有していてもよい。下部２０ｂは、軸線ＡＸの周りで複数の第２の短絡部２０２に向けて軸線ＡＸに対して径方向に延びている。

【0026】

上部２０ａは、下部２０ｂの上方且つ軸線ＡＸの周りで、第１の短絡部２０１から径方向に対して反対方向に延びている。即ち、上部２０ａは、第１の短絡部２０１から軸線ＡＸに近付く方向に延びている。導波路２０ｗは、軸線ＡＸの周りで第１の短絡部２０１から複数の第２の短絡部２０２まで蛇行するように径方向とその反対方向とに交互に延びている。

【0027】

一実施形態において、導波路２０ｗは、中間部２０ｃを更に含んでいてもよい。中間部２０ｃは、上部２０ａと下部２０ｂとの間に設けられている。即ち、中間部２０ｃは、上部２０ａの下、且つ、下部２０ｂの上に設けられている。

【0028】

中間部２０ｃの一端は、上部２０ａにおける内側の端部、即ち、第１の短絡部２０１に対して内側の上部２０ａの端部に接続している。中間部２０ｃの他端は、下部２０ｂにおける内側の端部、即ち、複数の第２の短絡部２０２に対して内側の下部２０ｂの端部に接続している。中間部２０ｃは、軸線ＡＸの周りで蛇行するように径方向とその反対方向とに交互に延びていてもよい。

【0029】

一実施形態において、プラズマ処理装置１は、電磁波を導波路２０ｗに導入するためにコネクタ４０を更に備えていてもよい。コネクタ４０は、同軸線路２８の一部である。高周波電源２４は、同軸線路２８及びコネクタ４０を介して、上部２０ａに結合されている。コネクタ４０は、軸線ＡＸから径方向に離れた位置で上部２０ａに結合されていてもよい。

【0030】

一実施形態において、プラズマ処理装置１は、シャワープレート２２を更に含んでいてもよい。シャワープレート２２は、アルミニウムのような金属から形成されていてもよい。放出部１６は、シャワープレート２２を囲むように延在している。

【0031】

放出部１６及びシャワープレート２２は、処理容器１０の上端の開口を閉じるように配置されている。シャワープレート２２は、複数のガス孔２２ｈを提供している。複数のガス孔２２ｈは、シャワープレート２２の厚さ方向（鉛直方向）に延びており、シャワープレート２２を貫通している。

【0032】

シャワープレート２２は、上部電極１４の下に設けられている。シャワープレート２２と上部電極１４は、それらの間にガス拡散空間１４ｄを画成している。ガス拡散空間１４ｄの中心軸線は、軸線ＡＸであり得る。ガス拡散空間１４ｄには、シャワープレート２２の複数のガス孔２２ｈが接続している。また、上部電極１４は、入口１４ｈを提供している。入口１４ｈは、軸線ＡＸ上で延在していてもよい。入口１４ｈは、ガス拡散空間１４ｄに接続している。

【0033】

ガス拡散空間１４ｄには、ガス供給部２６が接続されている。ガス供給部２６から出力されるガスは、入口１４ｈ、ガス拡散空間１４ｄ、及び複数のガス孔２２ｈを介して処理空間１０ｓに供給される。

【0034】

プラズマ処理装置１は、高周波電源２４を更に備えていてもよい。高周波電源２４は、共振器２０の導波路に電気的に結合されており、その周波数が可変である高周波電力を発生するように構成されている。処理容器１０内に導入される電磁波は、高周波電源２４によって発生される高周波電力に基づいて発生する。

【0035】

高周波電源２４は、同軸線路２８を用いて共振器２０の導波路に直結されていてもよい。即ち、高周波電源２４は、インピーダンス整合用の整合器を介さずに、共振器２０の導波路に結合されていてもよい。

【0036】

以下、図１と共に図２を参照する。図２は、プラズマ処理装置１の上部電極１４の構成を例示する図である。図２は、図１のＩＩ－ＩＩ線に沿ってとった断面図であり、上部電極１４の上面の構成を例示する図である。

【0037】

共振器２０は、第１の短絡部２０１及び複数の第２の短絡部２０２を含んでいる。第１の短絡部２０１は、共振器２０の導波路２０ｗの一端を構成している。一実施形態において、第１の短絡部２０１は、軸線ＡＸの周りで周方向に沿って延在していてもよい。

【0038】

複数の第２の短絡部２０２は、共振器２０の導波路２０ｗの他端を構成している。複数の第２の短絡部２０２は、軸線ＡＸの周りで周方向に沿って軸対称に配列（等配）されている。なお、複数の梁１４ｂは、複数の第２の短絡部２０２を構成している。

【0039】

共振器２０は、複数の間隙２０ｇを提供している。複数の間隙２０ｇは、軸線ＡＸの周りで周方向に沿って複数の第２の短絡部２０２と交互に配列されている。複数の間隙２０ｇは、放出部１６に電磁的に結合されている。なお、複数のスロット１４ｓは、複数の間隙２０ｇを構成している。

【0040】

プラズマ処理装置１は、上部電極１４の周方向に設けられた少なくとも三個の連結部材１５を備え得る。プラズマ処理装置１は、少なくとも三個の連結部材１５のそれぞれに対向する位置に設けられ連結部材１５と同数個のガイド溝１４ｅを備え得る。少なくとも三個の連結部材１５及び連結部材１５の個数と同数個のガイド溝１４ｅとは、上部電極１４の周方向において等配とならないように配置されている。

【0041】

プラズマ処理装置１では、複数の第２の短絡部２０２、即ち複数の梁１４ｂと、第１の短絡部２０１との間で、電磁波の共振が生じる。共振器２０において共振した電磁波は、複数の間隙２０ｇ、即ち複数のスロット１４ｓを通って放出部１６に供給される。放出部１６に供給された電磁波は、放出部１６から処理空間１０ｓに放出される。

【0042】

以下、図１及び図２と共に図３及び図４を参照する。図３は、上部電極１４及びシャワープレート２２を連結する連結部材１５が上部電極１４の下面１４ａに設けられたガイド溝１４ｅによってガイドされる様子を例示する図である。図４は、プラズマ処理装置１のメンテナンス作業前において、シャワープレート２２を含む蓋部１２ａが本体部１２ｂに取り付けられ上部電極１４がシャワープレート２２に密接された状態を例示する図である。

【0043】

プレート部の一例である上部電極１４の下面１４ａには、シャワープレート２２に対向するように配置されたガイド溝１４ｅが設けられている。連結部材１５のうちシャワープレート２２から上部電極１４に向けて突出した突出部分１５１は、ガイド溝１４ｅ内に収容される。突出部分１５１がガイド溝１４ｅの一端（縮幅部１４ｅ２）内に収容されることによって、上部電極１４に対するシャワープレート２２の位置が定まる。

【0044】

より具体的に説明する。連結部材１５は、その先端に設けられた頭頂部１５ａ及び頭頂部１５ａに接続され頭頂部１５ａよりも小径の軸部１５ｂを有する。頭頂部１５ａ及び軸部１５ｂは、突出部分１５１を提供する。

【0045】

連結部材１５は、シャワープレート２２内にあって軸部１５ｂの下端に設けられた下端部１５ｃを有する。下端部１５ｃがシャワープレート２２内においてシャワープレート２２に固定されることによって連結部材１５がシャワープレート２２に固定される。

【0046】

ガイド溝１４ｅの一端には、頭頂部１５ａよりも小径であって軸部１５ｂよりも大径の開口を有する縮幅部１４ｅ２が設けられている。ガイド溝１４ｅの他端には、頭頂部１５ａよりも大径の開口を有する拡幅部１４ｅ１が設けられている。縮幅部１４ｅ２内に突出部分１５１が収容され本体部１２ｂから前記蓋部１２ａが離隔された状態では、頭頂部１５ａが支持部１４１によって支持される。

【0047】

突出部分１５１が縮幅部１４ｅ２に収容された連結部材１５は、方向ＡＲ１及び方向ＡＲ２に突出部分１５１を拡幅部１４ｅ１にガイド（移動）され得る。突出部分１５１が拡幅部１４ｅ１に収容された連結部材１５は、拡幅部１４ｅ１を介してガイド溝１４ｅ内から抜き出され得る。

【0048】

縮幅部１４ｅ２内に突出部分１５１が収容されていると共に蓋部１２ａが本体部１２ｂに載置された状態では、重力によって上部電極１４がシャワープレート２２に密接し、頭頂部１５ａと支持部１４１とが離隔する。

【0049】

蓋部１２ａは、シール部材１４ｆ１及びシール部材１４ｆ２を有する。シール部材１４ｆ１は、上部電極１４及びシャワープレート２２が接する箇所に設けられている。シール部材１４ｆ２は、シャワープレート２２及び放出部１６が接する箇所に設けられている。シール部材１４ｆ１及びシール部材１４ｆ２は、何れも、例えばＯリングであり得、処理空間１０ｓと処理容器１０の外部とを仕切る一重目のＯリングに相当する。

【0050】

蓋部１２ａは、処理空間１０ｓと処理容器１０の外部空間とを仕切る二重目のＯリングに相当するシール部材１６ｇを有する。シール部材１６ｇは、上部電極１４がシャワープレート２２に密接した状態において、例えば、放出部１６及び上部電極１４が接する箇所に設けられている。シール部材１６ｇは、処理空間１０ｓを処理容器１０の外部から気密に遮断するように構成されている。このように、蓋部１２ａには、シール部材１４ｆ１及びシール部材１６ｇにより二重のＯリング構造が形成され、また、シール部材１４ｆ２及びシール部材１６ｇにより二重のＯリング構造が形成されている。

【0051】

図５を更に参照する。図５は、プラズマ処理装置１のメンテナンス作業中において、シャワープレート２２に固定された連結部材１５によってシャワープレート２２、更に支持枠体１３、放出部１６を含む構成が一体的に上部電極１４に吊り下げられている状態を例示する図である。

【0052】

プラズマ処理装置１のメンテナンスでは、蓋部１２ａの上部電極１４を方向ＡＲ３（鉛直方向の逆方向）に持ち上げ、蓋部１２ａを本体部１２ｂから離隔して、本体部１２ｂの内側である処理空間１０ｓを外部に露出させる。この場合、ガイド溝１４ｅの一端（縮幅部１４ｅ２）内に突出部分１５１が収容され本体部１２ｂから蓋部１２ａが離隔された状態となる。この状態では、上部電極１４がシャワープレート２２から離隔する。そして、縮幅部１４ｅ２におけるガイド溝１４ｅの開口に設けられた支持部１４１に連結部材１５の先端（頭頂部１５ａ）が支持されることによって、連結部材１５を介してシャワープレート２２が上部電極１４から吊り下げられた状態となる。この場合、シャワープレート２２、更に支持枠体１３、放出部１６を含む構成が一体的に上部電極１４から吊り下げられた状態となる。

【0053】

図６を更に参照する。図６は、シャワープレート２２に固定された連結部材１５がガイド溝１４ｅの縮幅部１４ｅ２から拡幅部１４ｅ１にガイドされシャワープレート２２が上部電極１４から取り外し可能となっている状態を例示する図である。

【0054】

図６に示す状態は、突出部分１５１が縮幅部１４ｅ２内に収容されている状態から前記シャワープレート２２を上部電極１４の周方向に回転させて突出部分１５１を縮幅部１４ｅ２から拡幅部１４ｅ１に移動させることによって生じ得る。

【0055】

上記説明によれば、ガイド溝１４ｅの縮幅部１４ｅ２内に突出部分１５１が収容され本体部１２ｂから蓋部１２ａが離隔された状態で行われるプラズマ処理装置１のメンテナンスにおいて、シャワープレート２２が上部電極１４から吊り下げられた状態となる。この場合、シャワープレート２２、更に支持枠体１３、放出部１６を含む構成が一体的に上部電極１４から吊り下げられた状態となる。このため、シャワープレート２２を上部電極１４から離隔するためにネジを操作する等の工程が不要となるので、プラズマ処理装置１のメンテナンス作業が軽減される。また、連結部材１５の突出部分１５１をガイド溝１４ｅの縮幅部１４ｅ２に収容すれば上部電極１４に対するシャワープレート２２の位置が定まる。このため、上部電極１４に対するシャワープレート２２の位置合わせのための工程が不要となる。また、通常であれば上部電極１４とシャワープレート２２との位置決めと固定は、特許文献１の構造のように上部電極１４の上方からネジにより固定する必要がある。しかし、上述の例示的実施形態に示したように上部電極１４の上方に導波部１８のような構造物がある場合には、ネジを回すために上部電極１４の上方に存在する構造物を分解し除去する作業が必要である。しかし、上述の例示的実施形態の構造では、上部電極１４の上方に存在する構造物を分解し除去する作業を行う必要がないため、処理装置のメンテナンス作業を軽減することができる。また、特許文献１のような構造で二重のＯリング構造を実現する場合には、必要となるＯリングの設置箇所が増えてしまう。これに対し上述の例示的実施形態の構造ではＯリングの設置箇所を極力減らすことができるので、この意味でもメンテナンス作業を軽減することができる。

【0056】

以上、種々の例示的実施形態について説明してきたが、上述した例示的実施形態に限定されることなく、様々な追加、省略、置換、及び変更がなされてもよい。また、異なる実施形態における要素を組み合わせて他の実施形態を形成することが可能である。

【0057】

ここで、本開示に含まれる種々の例示的実施形態を、以下の［Ｅ１］～［Ｅ９］に記載する。

【0058】

［Ｅ１］
処理空間を提供する処理容器と、
前記処理容器の下部を構成する本体部と、
前記処理容器の上部を構成し、前記本体部上に載置されるように構成された蓋部と、
を備え、
前記蓋部は、シャワープレート、該シャワープレートの上方に設けられたプレート部、及び該シャワープレートに固定され該プレート部に向けて突出し該シャワープレートを該プレート部に連結するように構成された連結部材を有し、
前記プレート部の下面には、前記シャワープレートに対向するように配置されたガイド溝が設けられ、
前記連結部材のうち前記プレート部に向けて突出した突出部分は、前記ガイド溝内に収容され、
前記プレート部に設けられた前記ガイド溝の一端内に前記シャワープレートに固定された前記連結部材の前記突出部分が収容されることによって、前記プレート部に対する前記シャワープレートの位置が定まり、
前記一端内に前記突出部分が収容され前記本体部から前記蓋部が離隔された状態では、該一端における前記ガイド溝の開口に設けられた支持部に前記連結部材の先端が支持されることによって、前記シャワープレートが前記プレート部から吊り下げられた状態となる、
処理装置。

【0059】

従って、ガイド溝の一端内に突出部分が収容され本体部から蓋部が離隔された状態で行われる処理装置のメンテナンスでは、シャワープレートがプレート部から吊り下げられた状態となる。このため、シャワープレートをプレート部から離隔するためにネジを操作する等の工程が不要となるので、処理装置のメンテナンス作業が軽減される。また、連結部材の突出部分をガイド溝の縮幅部に収容すればプレート部に対するシャワープレートの位置が定まる。このため、プレート部に対するシャワープレートの位置合わせのための工程が不要となる。

【0060】

［Ｅ２］
前記蓋部は、二重のＯリングを有するシール部材を有し、
前記シール部材は、前記処理空間を前記処理容器の外部から気密に遮断するように構成されている、
［Ｅ１］に記載の処理装置。

【0061】

［Ｅ３］
前記連結部材は、その先端に設けられた頭頂部及び該頭頂部に接続され該頭頂部よりも小径の軸部を有し、
前記頭頂部及び前記軸部は、前記突出部分を提供する、
［Ｅ１］又は［Ｅ２］に記載の処理装置。

【0062】

［Ｅ４］
前記ガイド溝の前記一端には、前記頭頂部よりも小径であって前記軸部よりも大径の開口を有する縮幅部が設けられており、
前記縮幅部内に前記突出部分が収容され前記本体部から前記蓋部が離隔された状態では、前記頭頂部が前記支持部によって支持される、
［Ｅ３］に記載の処理装置。

【0063】

［Ｅ５］
前記ガイド溝の他の一端には、前記頭頂部よりも大径の開口を有する拡幅部が設けられている、
［Ｅ４］に記載の処理装置。

【0064】

［Ｅ６］
前記突出部分が前記縮幅部内に収容されている状態から、前記シャワープレートを前記プレート部の周方向に回転させて該突出部分を前記拡幅部に移動させることができる、
［Ｅ５］に記載の処理装置。

【0065】

［Ｅ７］
前記プレート部の周方向に対応するように設けられた少なくとも三個の前記連結部材と、
前記少なくとも三個の前記連結部材のそれぞれに対向する位置に設けられ該連結部材と同数個の前記ガイド溝と、
を備える、
［Ｅ１］～［Ｅ６］の何れか一に記載の処理装置。

【0066】

［Ｅ８］
前記少なくとも三個の前記連結部材及び該連結部材の個数と同数個の前記ガイド溝とは、前記周方向において等配とならないように配置されている、
［Ｅ７］に記載の処理装置。

【0067】

［Ｅ９］
前記プレート部は、上部電極である、
［Ｅ１］～［Ｅ８］の何れか一に記載の処理装置。

【0068】

以上の説明から、本開示の種々の実施形態は、説明の目的で本明細書で説明されており、本開示の範囲及び主旨から逸脱することなく種々の変更をなし得ることが、理解されるであろう。したがって、本明細書に開示した種々の実施形態は限定することを意図しておらず、真の範囲と主旨は、添付の特許請求の範囲によって示される。

【符号の説明】

【0069】

１…プラズマ処理装置、１０…処理容器、１２ａ…蓋部、１２ｂ…本体部、１４…上部電極、１５…連結部材、１４ｅ…ガイド溝、１４ｅ２…縮幅部、１５１…突出部分、１５ａ…頭頂部、２２…シャワープレート。

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】