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特開2024-152765樹脂パターンの製造方法、回路配線の製造方法、タッチパネルの製造方法、及び、感光性転写部材
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024152765
(43)【公開日】2024-10-25
(54)【発明の名称】樹脂パターンの製造方法、回路配線の製造方法、タッチパネルの製造方法、及び、感光性転写部材
(51)【国際特許分類】
G03F 7/004 20060101AFI20241018BHJP
G03F 7/027 20060101ALI20241018BHJP
G06F 3/041 20060101ALI20241018BHJP
H05K 3/06 20060101ALI20241018BHJP
【ＦＩ】
G03F7/004 512
G03F7/027 502
G06F3/041 400
G06F3/041 495
G06F3/041 660
H05K3/06 J
【審査請求】有
【請求項の数】6
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2024130025
(22)【出願日】2024-08-06
(62)【分割の表示】P 2021575783の分割
【原出願日】2021-02-01
(31)【優先権主張番号】P 2020017720
(32)【優先日】2020-02-05
(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP
(71)【出願人】
【識別番号】306037311
【氏名又は名称】富士フイルム株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】110001519
【氏名又は名称】弁理士法人太陽国際特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】石坂 壮二
(57)【要約】
【課題】解像性に優れる樹脂パターンの製造方法、回路配線の製造方法、タッチパネルの製造方法、及び、感光性転写部材の提供。
【解決手段】仮支持体及び感光性樹脂層を有する感光性転写部材を用いて基板上に樹脂パターンを形成する樹脂パターンの製造方法であって、上記樹脂パターンの最大高さの９０％の位置におけるパターン幅よりも上記樹脂パターンの上記基板に接する部分におけるパターン幅が、０．２μｍ以上大きい樹脂パターンの製造方法、回路配線の製造方法、タッチパネルの製造方法、並びに、仮支持体及び感光性樹脂層を有する感光性転写部材であって、最大高さの９０％の位置におけるパターン幅が６μｍとなる樹脂パターンＡを基板上に形成した場合に、上記樹脂パターンＡの幅方向の断面において、上記基板に接する部分における上記樹脂パターンＡのパターン幅が、６．２μｍ以上である感光性転写部材。
【選択図】図１
【解決手段】仮支持体及び感光性樹脂層を有する感光性転写部材を用いて基板上に樹脂パターンを形成する樹脂パターンの製造方法であって、上記樹脂パターンの最大高さの９０％の位置におけるパターン幅よりも上記樹脂パターンの上記基板に接する部分におけるパターン幅が、０．２μｍ以上大きい樹脂パターンの製造方法、回路配線の製造方法、タッチパネルの製造方法、並びに、仮支持体及び感光性樹脂層を有する感光性転写部材であって、最大高さの９０％の位置におけるパターン幅が６μｍとなる樹脂パターンＡを基板上に形成した場合に、上記樹脂パターンＡの幅方向の断面において、上記基板に接する部分における上記樹脂パターンＡのパターン幅が、６．２μｍ以上である感光性転写部材。
【選択図】図１
【特許請求の範囲】
【請求項1】
仮支持体及び感光性樹脂層を有する感光性転写部材を用いて基板上に樹脂パターンを形成する樹脂パターンの製造方法であって、
前記樹脂パターンの幅方向の断面において、前記樹脂パターンの前記基板からの最大高さの９０％の位置におけるパターン幅よりも前記樹脂パターンの前記基板に接する部分におけるパターン幅が、０．２μｍ以上大きい
樹脂パターンの製造方法。
前記樹脂パターンの幅方向の断面において、前記樹脂パターンの前記基板からの最大高さの９０％の位置におけるパターン幅よりも前記樹脂パターンの前記基板に接する部分におけるパターン幅が、０．２μｍ以上大きい
樹脂パターンの製造方法。
【請求項2】
前記感光性樹脂層の厚さが、８μｍ以下である請求項１に記載の樹脂パターンの製造方法。
【請求項3】
前記仮支持体の厚さが、２５μｍ以下である請求項１又は請求項２に記載の樹脂パターンの製造方法。
【請求項4】
前記樹脂パターンの前記基板に接する部分におけるパターン幅から前記樹脂パターンの最大高さの９０％の位置におけるパターン幅を引いた値が、０．２μｍ以上２．４μｍ以下である請求項１～請求項３のいずれか１項に記載の樹脂パターンの製造方法。
【請求項5】
前記感光性樹脂層が、重合性化合物、及び、バインダーポリマーを含む請求項１～請求項４のいずれか１項に記載の樹脂パターンの製造方法。
【請求項6】
前記感光性樹脂層における重合性化合物の含有量Ｍｍとバインダーポリマーの含有量Ｍｂとの比Ｍｍ／Ｍｂの値が、０．９以下である請求項５に記載の樹脂パターンの製造方法。
【請求項7】
前記感光性樹脂層における前記重合性化合物が、（メタ）アクリル化合物を含み、
前記感光性樹脂層に含まれる前記（メタ）アクリル化合物の全質量に対するアクリル化合物の含有量が、６０質量％以下である請求項５又は請求項６に記載の樹脂パターンの製造方法。
前記感光性樹脂層に含まれる前記（メタ）アクリル化合物の全質量に対するアクリル化合物の含有量が、６０質量％以下である請求項５又は請求項６に記載の樹脂パターンの製造方法。
【請求項8】
製造される樹脂パターンが、パターン幅が６μｍ以下の樹脂パターンを含む請求項１～請求項７のいずれか１項に記載の樹脂パターンの製造方法。
【請求項9】
前記基板が、前記樹脂パターンが形成されている側の表面に導電層を有し、
請求項１～請求項８のいずれか１項に記載の樹脂パターンの製造方法により製造された前記基板上に前記樹脂パターンを有する積層体において、前記樹脂パターンが配置されていない領域にある前記導電層をエッチング処理して回路配線を形成する工程を含む、
回路配線の製造方法。
請求項１～請求項８のいずれか１項に記載の樹脂パターンの製造方法により製造された前記基板上に前記樹脂パターンを有する積層体において、前記樹脂パターンが配置されていない領域にある前記導電層をエッチング処理して回路配線を形成する工程を含む、
回路配線の製造方法。
【請求項10】
前記基板が、前記樹脂パターンが形成されている側の表面に導電層を有し、
請求項１～請求項８のいずれか１項に記載の樹脂パターンの製造方法により製造された前記基板上に前記樹脂パターンを有する積層体において、前記樹脂パターンが配置されていない領域にある前記導電層をエッチング処理してタッチパネル用配線を形成する工程を含む、
タッチパネルの製造方法。
請求項１～請求項８のいずれか１項に記載の樹脂パターンの製造方法により製造された前記基板上に前記樹脂パターンを有する積層体において、前記樹脂パターンが配置されていない領域にある前記導電層をエッチング処理してタッチパネル用配線を形成する工程を含む、
タッチパネルの製造方法。
【請求項11】
仮支持体及び感光性樹脂層を有する感光性転写部材であって、
前記感光性転写部材により、基板上に前記基板からの最大高さの９０％の位置におけるパターン幅が６μｍとなる樹脂パターンＡを形成した場合に、前記樹脂パターンＡの幅方向の断面において、前記基板に接する部分における前記樹脂パターンＡのパターン幅が、６．２μｍ以上である
感光性転写部材。
前記感光性転写部材により、基板上に前記基板からの最大高さの９０％の位置におけるパターン幅が６μｍとなる樹脂パターンＡを形成した場合に、前記樹脂パターンＡの幅方向の断面において、前記基板に接する部分における前記樹脂パターンＡのパターン幅が、６．２μｍ以上である
感光性転写部材。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本開示は、樹脂パターンの製造方法、回路配線の製造方法、タッチパネルの製造方法、及び、感光性転写部材に関する。
【背景技術】
【0002】
静電容量型入力装置などのタッチパネルを備えた表示装置（有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置及び液晶表示装置など）では、視認部のセンサーに相当する電極パターン、周辺配線部分及び取り出し配線部分の配線などの導電層パターンがタッチパネル内部に設けられている。
一般的にパターン化した層の形成には、必要とするパターン形状を得るための工程数が少ないといったことから、感光性転写部材を用いて任意の基板上に設けた感光性樹脂組成物の層に対して、所望のパターンを有するマスクを介して露光した後に現像する方法が広く使用されている。
一般的にパターン化した層の形成には、必要とするパターン形状を得るための工程数が少ないといったことから、感光性転写部材を用いて任意の基板上に設けた感光性樹脂組成物の層に対して、所望のパターンを有するマスクを介して露光した後に現像する方法が広く使用されている。
【0003】
また、従来の感光性樹脂組成物としては、特開２０１４－２０９１７３号公報又は特開２０１１－２０９４２６号公報に記載されたものが知られている。
特開２０１４－２０９１７３号公報には、（Ａ）酸変性感光性エポキシ樹脂、及び、（Ｂ）スチレン骨格を有し、重量平均分子量が１００００～５００００である非感光性カルボン酸樹脂、を含むことを特徴とする感光性樹脂組成物が記載されている。
特開２０１４－２０９１７３号公報には、（Ａ）酸変性感光性エポキシ樹脂、及び、（Ｂ）スチレン骨格を有し、重量平均分子量が１００００～５００００である非感光性カルボン酸樹脂、を含むことを特徴とする感光性樹脂組成物が記載されている。
【0004】
特開２０１１－２０９４２６号公報には、アルカリ溶解性樹脂と、キノンジアジド構造を有する化合物と、ピロール構造、イソオキサゾール構造、チアゾール構造、イソチアゾール構造、ピリジン構造、インドール構造、キノリン構造、及びイソキノリン構造からなる群より選ばれた少なくともいずれか１つの構造を有する含窒素複素環化合物と、を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物が記載されている。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
本発明の一実施形態が解決しようとする課題は、解像性に優れる樹脂パターンの製造方法を提供することである。
また、本発明の他の実施形態が解決しようとする課題は、解像性に優れる回路配線の製造方法、及び、タッチパネルの製造方法を提供することである。
更に、本発明の他の実施形態が解決しようとする課題は、解像性に優れる感光性転写部材を提供することである。
また、本発明の他の実施形態が解決しようとする課題は、解像性に優れる回路配線の製造方法、及び、タッチパネルの製造方法を提供することである。
更に、本発明の他の実施形態が解決しようとする課題は、解像性に優れる感光性転写部材を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【0006】
上記課題を解決するための手段には、以下の態様が含まれる。
＜１＞ 仮支持体及び感光性樹脂層を有する感光性転写部材を用いて基板上に樹脂パターンを形成する樹脂パターンの製造方法であって、上記樹脂パターンの上記基板からの最大高さの９０％の位置におけるパターン幅よりも上記樹脂パターンの上記基板に接する部分におけるパターン幅が、０．２μｍ以上大きい樹脂パターンの製造方法。
＜２＞ 上記感光性樹脂層の厚さが、８μｍ以下である＜１＞に記載の樹脂パターンの製造方法。
＜３＞ 上記仮支持体の厚さが、２５μｍ以下である＜１＞又は＜２＞に記載の樹脂パターンの製造方法。
＜４＞ 上記樹脂パターンの前記基板に接する部分におけるパターン幅から上記樹脂パターンの最大高さの９０％の位置におけるパターン幅を引いた値が、０．２μｍ以上２．４μｍ以下である＜１＞～＜３＞のいずれか１つに記載の樹脂パターンの製造方法。
＜５＞ 上記感光性樹脂層が、重合性化合物、及び、バインダーポリマーを含む＜１＞～＜４＞のいずれか１つに記載の樹脂パターンの製造方法。
＜６＞ 上記感光性樹脂層における重合性化合物の含有量Ｍｍとバインダーポリマーの含有量Ｍｂとの比Ｍｍ／Ｍｂの値が、０．９以下である＜５＞に記載の樹脂パターンの製造方法。
＜７＞ 上記感光性樹脂層における上記重合性化合物が、（メタ）アクリル化合物を含み、上記感光性樹脂層に含まれる上記（メタ）アクリル化合物の全質量に対するアクリル化合物の含有量が、６０質量％以下である＜５＞又は＜６＞に記載の樹脂パターンの製造方法。
＜８＞ 製造される樹脂パターンが、パターン幅が６μｍ以下の樹脂パターンを含む＜１＞～＜７＞のいずれか１つに記載の樹脂パターンの製造方法。
＜９＞ 上記基板が、上記樹脂パターンが形成されている側の表面に導電層を有し、＜１＞～＜８＞のいずれか１つに記載の樹脂パターンの製造方法により製造された上記基板上に上記樹脂パターンを有する積層体において、上記樹脂パターンが配置されていない領域にある上記導電層をエッチング処理して回路配線を形成する工程を含む、回路配線の製造方法。
＜１０＞ 上記基板が、上記樹脂パターンが形成されている側の表面に導電層を有し、＜１＞～＜８＞のいずれか１つに記載の樹脂パターンの製造方法により製造された上記基板上に上記樹脂パターンを有する積層体において、上記樹脂パターンが配置されていない領域にある上記導電層をエッチング処理してタッチパネル用配線を形成する工程を含む、タッチパネルの製造方法。
＜１１＞ 仮支持体及び感光性樹脂層を有する感光性転写部材であって、上記感光性転写部材により、基板上に上記基板からの最大高さの９０％の位置におけるパターン幅が６μｍとなる樹脂パターンＡを形成した場合に、上記樹脂パターンＡの幅方向の断面において、上記基板に接する部分における上記樹脂パターンＡのパターン幅が、６．２μｍ以上である感光性転写部材。
＜１＞ 仮支持体及び感光性樹脂層を有する感光性転写部材を用いて基板上に樹脂パターンを形成する樹脂パターンの製造方法であって、上記樹脂パターンの上記基板からの最大高さの９０％の位置におけるパターン幅よりも上記樹脂パターンの上記基板に接する部分におけるパターン幅が、０．２μｍ以上大きい樹脂パターンの製造方法。
＜２＞ 上記感光性樹脂層の厚さが、８μｍ以下である＜１＞に記載の樹脂パターンの製造方法。
＜３＞ 上記仮支持体の厚さが、２５μｍ以下である＜１＞又は＜２＞に記載の樹脂パターンの製造方法。
＜４＞ 上記樹脂パターンの前記基板に接する部分におけるパターン幅から上記樹脂パターンの最大高さの９０％の位置におけるパターン幅を引いた値が、０．２μｍ以上２．４μｍ以下である＜１＞～＜３＞のいずれか１つに記載の樹脂パターンの製造方法。
＜５＞ 上記感光性樹脂層が、重合性化合物、及び、バインダーポリマーを含む＜１＞～＜４＞のいずれか１つに記載の樹脂パターンの製造方法。
＜６＞ 上記感光性樹脂層における重合性化合物の含有量Ｍｍとバインダーポリマーの含有量Ｍｂとの比Ｍｍ／Ｍｂの値が、０．９以下である＜５＞に記載の樹脂パターンの製造方法。
＜７＞ 上記感光性樹脂層における上記重合性化合物が、（メタ）アクリル化合物を含み、上記感光性樹脂層に含まれる上記（メタ）アクリル化合物の全質量に対するアクリル化合物の含有量が、６０質量％以下である＜５＞又は＜６＞に記載の樹脂パターンの製造方法。
＜８＞ 製造される樹脂パターンが、パターン幅が６μｍ以下の樹脂パターンを含む＜１＞～＜７＞のいずれか１つに記載の樹脂パターンの製造方法。
＜９＞ 上記基板が、上記樹脂パターンが形成されている側の表面に導電層を有し、＜１＞～＜８＞のいずれか１つに記載の樹脂パターンの製造方法により製造された上記基板上に上記樹脂パターンを有する積層体において、上記樹脂パターンが配置されていない領域にある上記導電層をエッチング処理して回路配線を形成する工程を含む、回路配線の製造方法。
＜１０＞ 上記基板が、上記樹脂パターンが形成されている側の表面に導電層を有し、＜１＞～＜８＞のいずれか１つに記載の樹脂パターンの製造方法により製造された上記基板上に上記樹脂パターンを有する積層体において、上記樹脂パターンが配置されていない領域にある上記導電層をエッチング処理してタッチパネル用配線を形成する工程を含む、タッチパネルの製造方法。
＜１１＞ 仮支持体及び感光性樹脂層を有する感光性転写部材であって、上記感光性転写部材により、基板上に上記基板からの最大高さの９０％の位置におけるパターン幅が６μｍとなる樹脂パターンＡを形成した場合に、上記樹脂パターンＡの幅方向の断面において、上記基板に接する部分における上記樹脂パターンＡのパターン幅が、６．２μｍ以上である感光性転写部材。
【発明の効果】
【0007】
本発明の一実施形態によれば、解像性に優れる樹脂パターンの製造方法を提供することができる。
また、本発明の他の実施形態によれば、解像性に優れる回路配線の製造方法、及び、タッチパネルの製造方法を提供することができる。
更に、本発明の他の実施形態によれば、解像性に優れる感光性転写部材を提供することができる。
また、本発明の他の実施形態によれば、解像性に優れる回路配線の製造方法、及び、タッチパネルの製造方法を提供することができる。
更に、本発明の他の実施形態によれば、解像性に優れる感光性転写部材を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【0008】
【発明を実施するための形態】
【0009】
以下、本開示の内容について説明する。なお、添付の図面を参照しながら説明するが、符号は省略する場合がある。
また、本明細書において「～」を用いて表される数値範囲は、「～」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。
また、本明細書において、「（メタ）アクリル」はアクリル及びメタクリルの双方、又は、いずれかを表し、「（メタ）アクリレート」はアクリレート及びメタクリレートの双方、又は、いずれかを表す。
更に、本明細書において組成物中の各成分の量は、組成物中に各成分に該当する物質が複数存在する場合、特に断らない限り、組成物中に存在する該当する複数の物質の合計量を意味する。
本明細書において「工程」との語は、独立した工程だけでなく、他の工程と明確に区別できない場合であっても工程の所期の目的が達成されれば、本用語に含まれる。
本明細書における基（原子団）の表記において、置換及び無置換を記していない表記は、置換基を有さないものと共に置換基を有するものをも包含するものである。例えば「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基（無置換アルキル基）のみならず、置換基を有するアルキル基（置換アルキル基）をも包含するものである。
本明細書において「露光」とは、特に断らない限り、光を用いた露光のみならず、電子線、イオンビーム等の粒子線を用いた描画も含む。また、露光に用いられる光としては、一般的に、水銀灯の輝線スペクトル、エキシマレーザに代表される遠紫外線、極紫外線（ＥＵＶ光）、Ｘ線、電子線等の活性光線（活性エネルギー線）が挙げられる。
また、本明細書における化学構造式は、水素原子を省略した簡略構造式で記載する場合もある。
本開示において、「質量％」と「重量％」とは同義であり、「質量部」と「重量部」とは同義である。
また、本開示において、２以上の好ましい態様の組み合わせは、より好ましい態様である。
また、本開示における重量平均分子量（Ｍｗ）及び数平均分子量（Ｍｎ）は、特に断りのない限り、ＴＳＫｇｅｌ ＧＭＨｘＬ、ＴＳＫｇｅｌ Ｇ４０００ＨｘＬ、ＴＳＫｇｅｌ Ｇ２０００ＨｘＬ（何れも東ソー（株）製の商品名）のカラムを使用したゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）分析装置により、溶剤ＴＨＦ（テトラヒドロフラン）、示差屈折計により検出し、標準物質としてポリスチレンを用いて換算した分子量である。
また、本明細書において「～」を用いて表される数値範囲は、「～」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。
また、本明細書において、「（メタ）アクリル」はアクリル及びメタクリルの双方、又は、いずれかを表し、「（メタ）アクリレート」はアクリレート及びメタクリレートの双方、又は、いずれかを表す。
更に、本明細書において組成物中の各成分の量は、組成物中に各成分に該当する物質が複数存在する場合、特に断らない限り、組成物中に存在する該当する複数の物質の合計量を意味する。
本明細書において「工程」との語は、独立した工程だけでなく、他の工程と明確に区別できない場合であっても工程の所期の目的が達成されれば、本用語に含まれる。
本明細書における基（原子団）の表記において、置換及び無置換を記していない表記は、置換基を有さないものと共に置換基を有するものをも包含するものである。例えば「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基（無置換アルキル基）のみならず、置換基を有するアルキル基（置換アルキル基）をも包含するものである。
本明細書において「露光」とは、特に断らない限り、光を用いた露光のみならず、電子線、イオンビーム等の粒子線を用いた描画も含む。また、露光に用いられる光としては、一般的に、水銀灯の輝線スペクトル、エキシマレーザに代表される遠紫外線、極紫外線（ＥＵＶ光）、Ｘ線、電子線等の活性光線（活性エネルギー線）が挙げられる。
また、本明細書における化学構造式は、水素原子を省略した簡略構造式で記載する場合もある。
本開示において、「質量％」と「重量％」とは同義であり、「質量部」と「重量部」とは同義である。
また、本開示において、２以上の好ましい態様の組み合わせは、より好ましい態様である。
また、本開示における重量平均分子量（Ｍｗ）及び数平均分子量（Ｍｎ）は、特に断りのない限り、ＴＳＫｇｅｌ ＧＭＨｘＬ、ＴＳＫｇｅｌ Ｇ４０００ＨｘＬ、ＴＳＫｇｅｌ Ｇ２０００ＨｘＬ（何れも東ソー（株）製の商品名）のカラムを使用したゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）分析装置により、溶剤ＴＨＦ（テトラヒドロフラン）、示差屈折計により検出し、標準物質としてポリスチレンを用いて換算した分子量である。
【0010】
［樹脂パターンの製造方法］
本開示に係る樹脂パターンの製造方法は、仮支持体及び感光性樹脂層を有する感光性転写部材を用いて基板上に樹脂パターンを形成する樹脂パターンの製造方法であって、上記樹脂パターンの幅方向の断面において、上記樹脂パターンの上記基板からの最大高さの９０％の位置におけるパターン幅よりも上記樹脂パターンの上記基板に接する部分におけるパターン幅が、０．２μｍ以上大きい。
本開示に係る樹脂パターンの製造方法は、仮支持体及び感光性樹脂層を有する感光性転写部材を用いて基板上に樹脂パターンを形成する樹脂パターンの製造方法であって、上記樹脂パターンの幅方向の断面において、上記樹脂パターンの上記基板からの最大高さの９０％の位置におけるパターン幅よりも上記樹脂パターンの上記基板に接する部分におけるパターン幅が、０．２μｍ以上大きい。
【0011】
感光性樹脂組成物の高精細化のため、膜厚の薄膜化が検討されている。
薄膜レジストの場合、従来の厚膜レジストと同じ条件で現像、エッチングなどの処理を行うと過剰に現像、エッチングされるため好ましい形態を得られない可能性がある（アンダーカットや剥離、凸凹形状など）。
特にエッチングが過剰であると、レジストの下部深くまでエッチングが進行したり（いわゆる、サイドエッチング）、レジスト層そのものへのダメージが生じ、配線が消失するなどが起こり、樹脂パターンの微細化が困難であるという問題があった。
一方で、一般的にはレジストは、エッチングの直線性及び直線形状の均一化のため矩形の形状であることが求められており、更にエッチング時間を長くするなどして良い直線性を得るように設計している。
しかしながら、上述したようにレジストを薄膜化した場合には、長いエッチング時間で処理することは難しくなる。
薄膜レジストの場合、従来の厚膜レジストと同じ条件で現像、エッチングなどの処理を行うと過剰に現像、エッチングされるため好ましい形態を得られない可能性がある（アンダーカットや剥離、凸凹形状など）。
特にエッチングが過剰であると、レジストの下部深くまでエッチングが進行したり（いわゆる、サイドエッチング）、レジスト層そのものへのダメージが生じ、配線が消失するなどが起こり、樹脂パターンの微細化が困難であるという問題があった。
一方で、一般的にはレジストは、エッチングの直線性及び直線形状の均一化のため矩形の形状であることが求められており、更にエッチング時間を長くするなどして良い直線性を得るように設計している。
しかしながら、上述したようにレジストを薄膜化した場合には、長いエッチング時間で処理することは難しくなる。
【0012】
従来のパターンの断面形状を形成する樹脂パターンの製造方法では、解像性が十分でないことを、本発明者は見出した。
本発明者は鋭意検討を重ねた結果、上記構成の樹脂パターンの製造方法とすることにより、解像性に優れることを見出した。
詳細な上記効果の発現機構は不明であるが、上記樹脂パターンの幅方向の断面において、上記樹脂パターンの上記基板からの最大高さの９０％の位置におけるパターン幅よりも上記樹脂パターンの上記基板に接する部分におけるパターン幅が、０．２μｍ以上大きいことにより、上記樹脂パターンを使用したエッチング時において、上記樹脂パターンの上記基板に接する部分の幅が大きいため、サイドエッチングの進行を遅くすることができ、幅の小さなエッチングパターンであってもパターン細り及び断線等のエッチング欠陥の発生を抑制でき、得られるエッチングパターンの解像性（単に「解像性」ともいう。）に優れると推定している。
本発明者は鋭意検討を重ねた結果、上記構成の樹脂パターンの製造方法とすることにより、解像性に優れることを見出した。
詳細な上記効果の発現機構は不明であるが、上記樹脂パターンの幅方向の断面において、上記樹脂パターンの上記基板からの最大高さの９０％の位置におけるパターン幅よりも上記樹脂パターンの上記基板に接する部分におけるパターン幅が、０．２μｍ以上大きいことにより、上記樹脂パターンを使用したエッチング時において、上記樹脂パターンの上記基板に接する部分の幅が大きいため、サイドエッチングの進行を遅くすることができ、幅の小さなエッチングパターンであってもパターン細り及び断線等のエッチング欠陥の発生を抑制でき、得られるエッチングパターンの解像性（単に「解像性」ともいう。）に優れると推定している。
【0013】
また、通常、エッチング不良を防ぐために、エッチングレジストは残渣及びすそ引きの無い矩形の形状であることが求められる。
一方、本開示に係る樹脂パターンの製造方法は、現像後のレジスト形状を敢えて、スソをひくような形状に設計することでエッチング速度を遅くし、過剰なエッチングを防ぐ設計を行うものである。
すなわち、本開示に係る樹脂パターンの製造方法は、従来のネガレジストの設計とは逆の技術思想を有する発明である。
一方、本開示に係る樹脂パターンの製造方法は、現像後のレジスト形状を敢えて、スソをひくような形状に設計することでエッチング速度を遅くし、過剰なエッチングを防ぐ設計を行うものである。
すなわち、本開示に係る樹脂パターンの製造方法は、従来のネガレジストの設計とは逆の技術思想を有する発明である。
【0014】
本開示に係る樹脂パターンの製造方法は、仮支持体及び感光性樹脂層を有する感光性転写部材を用いて基板上に樹脂パターンを形成する樹脂パターンの製造方法である。
本開示に用いられる感光性転写部材の好ましい態様は、後述する。
本開示に係る樹脂パターンの製造方法に用いられる感光性転写部材は、ネガ型感光性転写部材であることが好ましい。
また、本開示に係る樹脂パターンの製造方法により製造される樹脂パターンは、エッチングレジストとして好適に用いることができる。
本開示に用いられる感光性転写部材の好ましい態様は、後述する。
本開示に係る樹脂パターンの製造方法に用いられる感光性転写部材は、ネガ型感光性転写部材であることが好ましい。
また、本開示に係る樹脂パターンの製造方法により製造される樹脂パターンは、エッチングレジストとして好適に用いることができる。
【0015】
本開示に係る樹脂パターンの製造方法は、上記樹脂パターンの幅方向の断面において、上記樹脂パターンの上記基板からの最大高さの９０％の位置におけるパターン幅よりも上記樹脂パターンの上記基板に接する部分におけるパターン幅が、０．２μｍ以上大きい。０．２μｍ以上大きいと、エッチング時のサイドエッジの進行を遅らせることができ、解像性に優れる。
また、本開示に係る樹脂パターンの製造方法は、上記樹脂パターンの幅方向の断面において、上記樹脂パターンの前記基板に接する部分におけるパターン幅から上記樹脂パターンの最大高さの９０％の位置におけるパターン幅を引いた値（上記樹脂パターンの前記基板に接する部分におけるパターン幅－上記樹脂パターンの最大高さの９０％の位置におけるパターン幅の値）は、解像性及び直線性の観点から、０．２μｍ以上３．０μｍ以下であることが好ましく、０．２μｍ以上２．４μｍ以下であることがより好ましく、０．３μｍ以上２．０μｍ以下であることが更に好ましく、０．４μｍ以上２．０μｍ以下であることが特に好ましい。
また、本開示に係る樹脂パターンの製造方法は、上記樹脂パターンの幅方向の断面において、上記樹脂パターンの前記基板に接する部分におけるパターン幅から上記樹脂パターンの最大高さの９０％の位置におけるパターン幅を引いた値（上記樹脂パターンの前記基板に接する部分におけるパターン幅－上記樹脂パターンの最大高さの９０％の位置におけるパターン幅の値）は、解像性及び直線性の観点から、０．２μｍ以上３．０μｍ以下であることが好ましく、０．２μｍ以上２．４μｍ以下であることがより好ましく、０．３μｍ以上２．０μｍ以下であることが更に好ましく、０．４μｍ以上２．０μｍ以下であることが特に好ましい。
【0016】
本開示における上記樹脂パターンの幅方向の断面における上記樹脂パターンの最大高さの上記基板からの９０％の位置におけるパターン幅、及び、上記樹脂パターンの上記基板に接する部分におけるパターン幅の測定方法としては、樹脂パターンを有する基板を上記樹脂パターンの幅方向に切断し、切断した上記樹脂パターン及び基板を、走査型電子顕微鏡により切断面側から観察し、各パターン幅を測定する。なお、上記樹脂パターンの最大高さの９０％の位置におけるパターン幅、及び、上記樹脂パターンの上記基板に接する部分におけるパターン幅は、１０箇所の測定値の平均値をとるものとする。
【0017】
本開示において、「樹脂パターンの幅方向の断面」とは、上記基板の幅方向及び厚さ方向に平行な面での断面であり、例えば、ラインアンドスペースである樹脂パターンのライン方向に対し垂直な面での断面である。
また、本開示において、「上記樹脂パターンの幅方向の断面において、上記樹脂パターンの最大高さのＸ％の位置」とは、上記樹脂パターンの幅方向の断面における上記基板から上記樹脂パターンの最大高さのＸ％の高さの位置を表す。
更に、本開示において、上記樹脂パターンは、未硬化の上記感光性樹脂層よりも硬度が高いことが好ましい。
また、本開示において、「上記樹脂パターンの幅方向の断面において、上記樹脂パターンの最大高さのＸ％の位置」とは、上記樹脂パターンの幅方向の断面における上記基板から上記樹脂パターンの最大高さのＸ％の高さの位置を表す。
更に、本開示において、上記樹脂パターンは、未硬化の上記感光性樹脂層よりも硬度が高いことが好ましい。
【0018】
図１は、本開示に係る樹脂パターンの製造方法において形成される樹脂パターンの幅方向の断面模式図である。
図１に示す基板２上の樹脂パターン４は、基板２と接する部分近傍において、裾引き部分４ａを樹脂パターン４の両側に有している。また、図１において、樹脂パターン４の基板２からの最大高さの９０％の高さがＨ９０であり、樹脂パターン４の最大高さの９０％の位置におけるパターン幅がＬ１であり、樹脂パターン４の基板２に接する部分におけるパターン幅がＬ２である。
図１に示す基板２上の樹脂パターン４は、基板２と接する部分近傍において、裾引き部分４ａを樹脂パターン４の両側に有している。また、図１において、樹脂パターン４の基板２からの最大高さの９０％の高さがＨ９０であり、樹脂パターン４の最大高さの９０％の位置におけるパターン幅がＬ１であり、樹脂パターン４の基板２に接する部分におけるパターン幅がＬ２である。
【0019】
また、本開示に係る樹脂パターンの製造方法は、基板上に上記基板からの最大高さの９０％の位置におけるパターン幅が６μｍとなる樹脂パターンＡを形成した場合に、上記樹脂パターンＡの幅方向の断面において、上記基板に接する部分における上記樹脂パターンＡのパターン幅は、解像性及び直線性の観点から、６．２μｍ以上であることが好ましく、６．２μｍ以上９．０μｍ以下であることがより好ましく、６．２μｍ以上８．４μｍ以下であることが更に好ましく、６．３μｍ以上８．０μｍ以下であることが特に好ましく、６．４μｍ以上８．０μｍ以下であることが最も好ましい。
【0020】
本開示に係る樹脂パターンの製造方法は、上記樹脂パターンの全てが、上記樹脂パターンの幅方向の断面において、上記基板からの最大高さの９０％の位置におけるパターン幅よりも上記基板に接する部分におけるパターン幅が０．２μｍ以上大きい樹脂パターンでなくともよく、上記基板の面方向に垂直な方向から観察した上記感光性転写部材により製造する樹脂パターンのうち、上記樹脂パターンの幅方向の断面において、上記樹脂パターンの最大高さの９０％の位置におけるパターン幅よりも上記樹脂パターンの上記基板に接する部分におけるパターン幅が０．２μｍ以上大きい樹脂パターンの割合が、５０面積％以上であることが好ましく、８０面積％以上であることがより好ましく、９０面積％以上であることが特に好ましい。
【0021】
また、本開示に係る樹脂パターンの製造方法は、上記樹脂パターンの幅方向の断面において、上記樹脂パターンの最大高さの９０％の位置におけるパターン幅－上記樹脂パターンの最大高さの５０％の位置におけるパターン幅の値は、解像性及び直線性の観点から、－０．５μｍ以上１．０μｍ以下であることが好ましく、－０．２μｍ以上０．５μｍ以下であることがより好ましく、－０．２μｍ以上０．２μｍ以下であることが更に好ましく、－０．１μｍ以上０．１μｍ以下であることが特に好ましい。
【0022】
本開示に係る樹脂パターンの製造方法により製造される樹脂パターンは、解像性及び直線性の観点から、上記樹脂パターンの幅方向の断面において、上記樹脂パターンの最大高さの５％～４０％の位置から上記基板に向かって徐々にパターン幅が長くなる樹脂パターンであることがより好ましく、上記樹脂パターンの最大高さの１０％～３０％の位置から上記基板に向かって徐々にパターン幅が長くなる樹脂パターンであることがより好ましく、上記樹脂パターンの最大高さの１５％～２５％の位置から上記基板に向かって徐々にパターン幅が長くなる樹脂パターンであることが特に好ましい。
【0023】
また、本開示に係る樹脂パターンの製造方法は、上記樹脂パターンの幅方向の断面において、上記樹脂パターンの上記基板からの最大高さの９０％の位置におけるパターン幅－上記樹脂パターンの上記基板からの最大高さの５％の位置におけるパターン幅の値は、解像性及び直線性の観点から、０．１μｍ以上２．５μｍ以下であることが好ましく、０．１μｍ以上２．０μｍ以下であることがより好ましく、０．１５μｍ以上１．８μｍ以下であることが更に好ましく、０．２μｍ以上１．５μｍ以下であることが特に好ましい。
【0024】
本開示に係る樹脂パターンの製造方法により製造される樹脂パターンは、本開示における効果をより発揮する観点から、パターン幅が１０μｍ以下の樹脂パターンを含むことが好ましく、パターン幅が８μｍ以下の樹脂パターンを含むことがより好ましく、パターン幅が６μｍ以下の樹脂パターンを含むことが更に好ましく、パターン幅が１μｍ以上６μｍ以下の樹脂パターンを含むことが特に好ましい。
また、本開示に係る樹脂パターンの製造方法により製造される樹脂パターンは、本開示における効果をより発揮する観点から、ラインアンドスペースパターンを有することが好ましい。
更に、本開示に係る樹脂パターンの製造方法により製造される樹脂パターンは、本開示における効果をより発揮する観点から、配線形成用エッチングレジストパターンであることが好ましく、回路配線用エッチングレジストパターンであることがより好ましく、幅が６μｍ以下の配線を含む回路配線用エッチングレジストパターンであることが特に好ましい。
また、本開示に係る樹脂パターンの製造方法により製造される樹脂パターンは、本開示における効果をより発揮する観点から、ラインアンドスペースパターンを有することが好ましい。
更に、本開示に係る樹脂パターンの製造方法により製造される樹脂パターンは、本開示における効果をより発揮する観点から、配線形成用エッチングレジストパターンであることが好ましく、回路配線用エッチングレジストパターンであることがより好ましく、幅が６μｍ以下の配線を含む回路配線用エッチングレジストパターンであることが特に好ましい。
【0025】
本開示に係る樹脂パターンの製造方法により製造される樹脂パターンの最大高さは、後述する感光性樹脂層の厚さとも関連するが、本開示における効果をより発揮する観点から、２０μｍ以下であることが好ましく、１０μｍ以下であることがより好ましく、８μｍ以下であることが更に好ましく、２μｍ以上８μｍ以下であることが特に好ましい。
【0026】
また、本開示に係る樹脂パターンの製造方法により製造される樹脂パターンは、上記樹脂パターンの上記基板からの最大高さの９０％の位置におけるパターン幅／上記樹脂パターンの最大高さの値が下記の数値範囲となる樹脂パターンを含むことが好ましい。
上記樹脂パターンの上記基板からの最大高さの９０％の位置におけるパターン幅／上記樹脂パターンの最大高さの値は、本開示における効果をより発揮する観点から、２以下であることが好ましく、１．５以下であることがより好ましく、１以下であることが更に好ましく、０．５以上０．８以下であることが特に好ましい。
上記樹脂パターンの上記基板からの最大高さの９０％の位置におけるパターン幅／上記樹脂パターンの最大高さの値は、本開示における効果をより発揮する観点から、２以下であることが好ましく、１．５以下であることがより好ましく、１以下であることが更に好ましく、０．５以上０．８以下であることが特に好ましい。
【0027】
本開示に係る樹脂パターンの製造方法は、仮支持体及び感光性樹脂層を有する感光性転写部材を用いて基板上に樹脂パターンを形成する樹脂パターンの製造方法である。
樹脂パターンの製造方法としては、感光性転写部材と基板（好ましくは導電性を有する基板）とを、感光性樹脂層の第２面、即ち、仮支持体と対向していない側の面に基板を接触させて貼り合わせる工程（以下「貼り合わせ工程」ともいう。）と、感光性樹脂層をパターン露光する工程（以下「露光工程」ともいう。）と、露光された感光性樹脂層を現像して樹脂パターンを形成する工程（以下「現像工程」ともいう。）と、をこの順に含む方法が好ましい。
樹脂パターンの製造方法としては、感光性転写部材と基板（好ましくは導電性を有する基板）とを、感光性樹脂層の第２面、即ち、仮支持体と対向していない側の面に基板を接触させて貼り合わせる工程（以下「貼り合わせ工程」ともいう。）と、感光性樹脂層をパターン露光する工程（以下「露光工程」ともいう。）と、露光された感光性樹脂層を現像して樹脂パターンを形成する工程（以下「現像工程」ともいう。）と、をこの順に含む方法が好ましい。
【0028】
＜貼り合わせ工程＞
樹脂パターンの製造方法は、貼り合わせ工程を含むことが好ましい。
貼り合わせ工程においては、感光性樹脂層の第２面に基板（基板の表面に導電層が設けられている場合は導電層）を接触させ、感光性転写部材と基板とを圧着させることが好ましい。上記態様であると、感光性樹脂層の第２面と基板との密着性が向上するため、露光及び現像後のパターン形成された感光性樹脂層導電層をエッチングする際のエッチングレジストとして好適に用いることができる。
樹脂パターンの製造方法は、貼り合わせ工程を含むことが好ましい。
貼り合わせ工程においては、感光性樹脂層の第２面に基板（基板の表面に導電層が設けられている場合は導電層）を接触させ、感光性転写部材と基板とを圧着させることが好ましい。上記態様であると、感光性樹脂層の第２面と基板との密着性が向上するため、露光及び現像後のパターン形成された感光性樹脂層導電層をエッチングする際のエッチングレジストとして好適に用いることができる。
【0029】
なお、感光性転写部材がカバーフィルムを備える場合は、感光性樹脂層の表面からカバーフィルムを除去した後、貼り合わせればよい。
また、貼り合わせ工程は、感光性転写部材が感光性樹脂層の仮支持体と対向していない側の表面にカバーフィルム以外の層（例えば高屈折率層及び／又は低屈折率層）を更に備える場合、感光性樹脂層の仮支持体を有していない側の表面と基板とがその層を介して貼り合わされる態様となる。
また、貼り合わせ工程は、感光性転写部材が感光性樹脂層の仮支持体と対向していない側の表面にカバーフィルム以外の層（例えば高屈折率層及び／又は低屈折率層）を更に備える場合、感光性樹脂層の仮支持体を有していない側の表面と基板とがその層を介して貼り合わされる態様となる。
【0030】
基板と感光性転写部材とを圧着する方法としては、特に制限されず、公知の転写方法、及び、ラミネート方法を用いることができる。
感光性転写部材の基板への貼り合わせは、感光性樹脂層の第２面側に基板を重ね、ロール等の手段を用いて加圧及び加熱を施すことにより、行われることが好ましい。貼り合わせには、ラミネーター、真空ラミネーター、及び、より生産性を高めることができるオートカットラミネーター等の公知のラミネーターが使用できる。
感光性転写部材の基板への貼り合わせは、感光性樹脂層の第２面側に基板を重ね、ロール等の手段を用いて加圧及び加熱を施すことにより、行われることが好ましい。貼り合わせには、ラミネーター、真空ラミネーター、及び、より生産性を高めることができるオートカットラミネーター等の公知のラミネーターが使用できる。
【0031】
貼り合わせ工程を含む樹脂パターンの製造方法及び回路配線の製造方法は、ロールツーロール方式により行われることが好ましい。
以下、ロールツーロール方式について説明する。
ロールツーロール方式とは、基板として、巻き取り及び巻き出しが可能な基板を用い、樹脂パターンの製造方法又は回路配線の製造方法に含まれるいずれかの工程の前に、基板又は基板を含む構造体を巻き出す工程（「巻き出し工程」ともいう。）と、いずれかの工程の後に、基板又は基板を含む構造体を巻き取る工程（「巻き取り工程」ともいう。）と、を含み、少なくともいずれかの工程（好ましくは、全ての工程、又は加熱工程以外の全ての工程）を、基板又は基板を含む構造体を搬送しながら行う方式をいう。
巻き出し工程における巻き出し方法、及び巻き取り工程における巻取り方法としては、特に制限されず、ロールツーロール方式を適用する製造方法において、公知の方法を用いればよい。
以下、ロールツーロール方式について説明する。
ロールツーロール方式とは、基板として、巻き取り及び巻き出しが可能な基板を用い、樹脂パターンの製造方法又は回路配線の製造方法に含まれるいずれかの工程の前に、基板又は基板を含む構造体を巻き出す工程（「巻き出し工程」ともいう。）と、いずれかの工程の後に、基板又は基板を含む構造体を巻き取る工程（「巻き取り工程」ともいう。）と、を含み、少なくともいずれかの工程（好ましくは、全ての工程、又は加熱工程以外の全ての工程）を、基板又は基板を含む構造体を搬送しながら行う方式をいう。
巻き出し工程における巻き出し方法、及び巻き取り工程における巻取り方法としては、特に制限されず、ロールツーロール方式を適用する製造方法において、公知の方法を用いればよい。
【0032】
＜基板＞
本開示に係る樹脂パターンの製造方法に用いられる基板としては、公知の基板を用いればよいが、導電層を有する基板が好ましく、基板の表面に導電層を有することがより好ましい。
基板は、必要に応じて導電層以外の任意の層を有してもよい。
本開示に係る樹脂パターンの製造方法に用いられる基板としては、公知の基板を用いればよいが、導電層を有する基板が好ましく、基板の表面に導電層を有することがより好ましい。
基板は、必要に応じて導電層以外の任意の層を有してもよい。
【0033】
基板を構成する基材としては、例えば、ガラス、シリコン及びフィルムが挙げられる。
基板を構成する基材は、透明であることが好ましい。本明細書において「透明である」とは、波長４００ｎｍ～７００ｎｍの光の透過率が８０％以上であることを意味する。
また、基板を構成する基板の屈折率は、１．５０～１．５２であることが好ましい。
基板を構成する基材は、透明であることが好ましい。本明細書において「透明である」とは、波長４００ｎｍ～７００ｎｍの光の透過率が８０％以上であることを意味する。
また、基板を構成する基板の屈折率は、１．５０～１．５２であることが好ましい。
【0034】
透明なガラス基板としては、コーニング社のゴリラガラスに代表される強化ガラスが挙げられる。また、透明なガラス基板としては、特開２０１０－８６６８４号公報、特開２０１０－１５２８０９号公報及び特開２０１０－２５７４９２号公報に用いられている材料を用いることができる。
【0035】
基板としてフィルム基板を用いる場合は、光学的に歪みが小さく、かつ／又は、透明度が高いフィルム基板を用いることが好ましい。そのようなフィルム基板としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、トリアセチルセルロース及びシクロオレフィンポリマーが挙げられる。
【0036】
基板としては、ロールツーロール方式で製造する場合、フィルム基板が好ましい。また、ロールツーロール方式によりタッチパネル用の回路配線を製造する場合、基板がシート状樹脂組成物であることが好ましい。
【0037】
基板が有する導電層としては、一般的な回路配線又はタッチパネル配線に用いられる導電層が挙げられる。
導電層としては、導電性及び細線形成性の観点から、金属層、導電性金属酸化物層、グラフェン層、カーボンナノチューブ層及び導電ポリマー層よりなる群から選ばれた少なくとも１種の層が好ましく、金属層がより好ましく、銅層又は銀層が更に好ましい。
基板は、導電層を１層単独で有してよく、２層以上有してもよい。２層以上の導電層を有する場合は、異なる材質の導電層を有することが好ましい。
導電層としては、導電性及び細線形成性の観点から、金属層、導電性金属酸化物層、グラフェン層、カーボンナノチューブ層及び導電ポリマー層よりなる群から選ばれた少なくとも１種の層が好ましく、金属層がより好ましく、銅層又は銀層が更に好ましい。
基板は、導電層を１層単独で有してよく、２層以上有してもよい。２層以上の導電層を有する場合は、異なる材質の導電層を有することが好ましい。
【0038】
導電層の材料としては、金属及び導電性金属酸化物が挙げられる。
金属としては、Ａｌ、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ａｇ及びＡｕが挙げられる。
導電性金属酸化物としては、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）、ＩＺＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｚｉｎｃ Ｏｘｉｄｅ）及びＳｉＯ２が挙げられる。
なお、本明細書において「導電性」とは、体積抵抗率が１×１０６Ωｃｍ未満であることをいう。導電性金属酸化物の体積抵抗率は、１×１０４Ωｃｍ未満が好ましい。
金属としては、Ａｌ、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ａｇ及びＡｕが挙げられる。
導電性金属酸化物としては、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）、ＩＺＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｚｉｎｃ Ｏｘｉｄｅ）及びＳｉＯ２が挙げられる。
なお、本明細書において「導電性」とは、体積抵抗率が１×１０６Ωｃｍ未満であることをいう。導電性金属酸化物の体積抵抗率は、１×１０４Ωｃｍ未満が好ましい。
【0039】
複数の導電層を有する基板を用いて樹脂パターンを製造する場合、複数の導電層のうち少なくとも一つの導電層は導電性金属酸化物を含有することが好ましい。
導電層としては、静電容量型タッチパネルに用いられる視認部のセンサーに相当する電極パターン又は周辺取り出し部の配線が好ましい。
導電層としては、静電容量型タッチパネルに用いられる視認部のセンサーに相当する電極パターン又は周辺取り出し部の配線が好ましい。
【0040】
＜露光工程＞
樹脂パターンの製造方法は、上記貼り合わせ工程の後、感光性樹脂層をパターン露光する工程（露光工程）を含むことが好ましい。
樹脂パターンの製造方法は、上記貼り合わせ工程の後、感光性樹脂層をパターン露光する工程（露光工程）を含むことが好ましい。
【0041】
パターン露光におけるパターンの詳細な配置及び具体的サイズは特に制限されない。回路配線の製造方法により製造される回路配線を有する入力装置を備えた表示装置（例えばタッチパネル）の表示品質を高め、また、取り出し配線の占める面積が小さくなるように、パターンの少なくとも一部（好ましくはタッチパネルの電極パターン及び／又は取り出し配線の部分）は幅が２０μｍ以下である細線を含むことが好ましく、幅が１０μｍ以下の細線を含むことがより好ましい。
【0042】
露光に使用する光源は、感光性樹脂層を露光可能な波長の光（例えば、３６５ｎｍ又は４０５ｎｍ）を照射する光源であれば、適宜選定して用いることができる。具体的には、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、メタルハライドランプ及びＬＥＤ（Ｌｉｇｈｔ Ｅｍｉｔｔｉｎｇ Ｄｉｏｄｅ）が挙げられる。
【0043】
露光量としては、５ｍＪ／ｃｍ２～２００ｍＪ／ｃｍ２が好ましく、１０ｍＪ／ｃｍ２～１００ｍＪ／ｃｍ２がより好ましい。
【0044】
露光工程においては、感光性樹脂層から仮支持体を剥離した後にパターン露光してもよく、仮支持体を介してパターン露光した後に仮支持体を剥離してもよい。感光性樹脂層とマスクとの接触による感光性樹脂層の汚染の防止、及び、マスクに付着した異物による露光への影響を避けるため、仮支持体を介してパターン露光することが好ましい。なお、パターン露光は、マスクを介した露光でもよいし、レーザー等の露光手段を用いたダイレクト露光でもよい。
【0045】
＜現像工程＞
樹脂パターンの製造方法は、上記露光工程の後、露光された感光性樹脂層を現像して樹脂パターンを形成する工程（現像工程）を含むことが好ましい。
感光性転写部材が熱可塑性樹脂及び中間層を有する場合、現像工程において、非露光部の熱可塑性樹脂層及び中間層も、非露光部の感光性樹脂層とともに除去される。また、現像工程において、露光部の熱可塑性樹脂層及び中間層も現像液に溶解あるいは分散する形で除去されてもよい。
樹脂パターンの製造方法は、上記露光工程の後、露光された感光性樹脂層を現像して樹脂パターンを形成する工程（現像工程）を含むことが好ましい。
感光性転写部材が熱可塑性樹脂及び中間層を有する場合、現像工程において、非露光部の熱可塑性樹脂層及び中間層も、非露光部の感光性樹脂層とともに除去される。また、現像工程において、露光部の熱可塑性樹脂層及び中間層も現像液に溶解あるいは分散する形で除去されてもよい。
【0046】
現像工程における露光された感光性樹脂層の現像は、現像液を用いて行うことができる。
現像液としては、感光性樹脂層の非画像部（非露光部）を除去することができれば特に制限されず、例えば、特開平５－７２７２４号公報に記載の現像液等の公知の現像液が使用できる。
現像液としては、ｐＫａ＝７～１３の化合物を０．０５ｍｏｌ／Ｌ～５ｍｏｌ／Ｌ（リットル）の濃度で含むアルカリ水溶液系の現像液が好ましい。現像液は、水溶性の有機溶剤及び／又は界面活性剤を含有してもよい。現像液としては、国際公開第２０１５／０９３２７１号の段落０１９４に記載の現像液も好ましい。
現像液としては、感光性樹脂層の非画像部（非露光部）を除去することができれば特に制限されず、例えば、特開平５－７２７２４号公報に記載の現像液等の公知の現像液が使用できる。
現像液としては、ｐＫａ＝７～１３の化合物を０．０５ｍｏｌ／Ｌ～５ｍｏｌ／Ｌ（リットル）の濃度で含むアルカリ水溶液系の現像液が好ましい。現像液は、水溶性の有機溶剤及び／又は界面活性剤を含有してもよい。現像液としては、国際公開第２０１５／０９３２７１号の段落０１９４に記載の現像液も好ましい。
【0047】
現像方式としては、特に制限されず、パドル現像、シャワー現像、シャワー及びスピン現像、並びに、ディップ現像のいずれであってもよい。シャワー現像とは、露光後の感光性樹脂層に現像液をシャワーにより吹き付けることにより、非露光部を除去する現像処理である。
現像工程の後に、洗浄剤をシャワーにより吹き付け、ブラシで擦りながら、現像残渣を除去することが好ましい。
現像液の液温は特に制限されないが、２０℃～４０℃が好ましい。
現像工程の後に、洗浄剤をシャワーにより吹き付け、ブラシで擦りながら、現像残渣を除去することが好ましい。
現像液の液温は特に制限されないが、２０℃～４０℃が好ましい。
【0048】
＜カバーフィルム剥離工程＞
感光性転写部材がカバーフィルムを備える場合、樹脂パターンの製造方法は、感光性転写部材からカバーフィルムを剥離する工程を含むことが好ましい。カバーフィルムを剥離する方法は、制限されず、公知の方法を適用することができる。
感光性転写部材がカバーフィルムを備える場合、樹脂パターンの製造方法は、感光性転写部材からカバーフィルムを剥離する工程を含むことが好ましい。カバーフィルムを剥離する方法は、制限されず、公知の方法を適用することができる。
【0049】
＜その他の工程＞
樹脂パターンの製造方法は、上述した工程以外の任意の工程（その他の工程）を含んでもよい。例えば、以下の工程が挙げられるが、これらの工程に制限されない。
樹脂パターンの製造方法は、上述した工程以外の任意の工程（その他の工程）を含んでもよい。例えば、以下の工程が挙げられるが、これらの工程に制限されない。
【0050】
以下、本開示に用いられる感光性転写部材について、詳細に説明する。
【0051】
＜感光性転写部材＞
本開示に用いられる感光性転写部材は、仮支持体及び感光性樹脂層を少なくとも備える。
感光性転写部材は、仮支持体と感光性樹脂層とが他の層を介さずに直接積層されていてもよいし、他の層を介して積層されていてもよい。また、感光性樹脂層の仮支持体に対向する面とは反対側の面に他の層が積層していてもよい。
仮支持体及び感光性樹脂層以外の他の層としては、例えば、熱可塑性樹脂層、中間層及びカバーフィルムが挙げられる。
本開示に用いられる感光性転写部材は、仮支持体及び感光性樹脂層を少なくとも備える。
感光性転写部材は、仮支持体と感光性樹脂層とが他の層を介さずに直接積層されていてもよいし、他の層を介して積層されていてもよい。また、感光性樹脂層の仮支持体に対向する面とは反対側の面に他の層が積層していてもよい。
仮支持体及び感光性樹脂層以外の他の層としては、例えば、熱可塑性樹脂層、中間層及びカバーフィルムが挙げられる。
【0052】
〔仮支持体〕
本開示に用いられる感光性転写部材は、仮支持体を備える。
仮支持体は、感光性樹脂層又は感光性樹脂層を含む積層体を支持し、且つ、剥離可能な支持体である。
本開示に用いられる感光性転写部材は、仮支持体を備える。
仮支持体は、感光性樹脂層又は感光性樹脂層を含む積層体を支持し、且つ、剥離可能な支持体である。
【0053】
仮支持体は、感光性樹脂層をパターン露光する際に、仮支持体を介した感光性樹脂層の露光が可能になる観点から、光透過性を有することが好ましい。なお、本明細書において「光透過性を有する」とは、パターン露光に使用する波長の光の透過率が５０％以上であることを意味する。
仮支持体は、感光性樹脂層の露光感度向上の観点から、パターン露光に使用する波長（より好ましくは波長３６５ｎｍ）の光の透過率が６０％以上であることが好ましく、７０％以上であることがより好ましい。
なお、感光性転写部材が備える層の透過率とは、層の主面に垂直な方向（厚さ方向）に光を入射させたときの、入射光の強度に対する層を通過して出射した出射光の強度の比率であり、大塚電子（株）製ＭＣＰＤ Ｓｅｒｉｅｓを用いて測定される。
仮支持体は、感光性樹脂層の露光感度向上の観点から、パターン露光に使用する波長（より好ましくは波長３６５ｎｍ）の光の透過率が６０％以上であることが好ましく、７０％以上であることがより好ましい。
なお、感光性転写部材が備える層の透過率とは、層の主面に垂直な方向（厚さ方向）に光を入射させたときの、入射光の強度に対する層を通過して出射した出射光の強度の比率であり、大塚電子（株）製ＭＣＰＤ Ｓｅｒｉｅｓを用いて測定される。
【0054】
仮支持体を構成する材料としては、例えば、ガラス基板、樹脂フィルム及び紙が挙げられ、強度、可撓性及び光透過性の観点から、樹脂フィルムが好ましい。
樹脂フィルムとしては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ：ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ ｔｅｒｅｐｈｔｈａｌａｔｅ）フィルム、トリ酢酸セルロースフィルム、ポリスチレンフィルム及びポリカーボネートフィルムが挙げられる。中でも、ＰＥＴフィルムが好ましく、２軸延伸ＰＥＴフィルムがより好ましい。
樹脂フィルムとしては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ：ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ ｔｅｒｅｐｈｔｈａｌａｔｅ）フィルム、トリ酢酸セルロースフィルム、ポリスチレンフィルム及びポリカーボネートフィルムが挙げられる。中でも、ＰＥＴフィルムが好ましく、２軸延伸ＰＥＴフィルムがより好ましい。
【0055】
仮支持体の厚さ（層厚）は、特に制限されず、支持体としての強度、回路配線形成用基板との貼り合わせに求められる可撓性、及び、最初の露光工程で要求される光透過性の観点から、材質に応じて選択すればよい。
仮支持体の厚さは、５μｍ～１００μｍの範囲が好ましく、取扱い易さ及び汎用性の点から、１０μｍ～５０μｍの範囲がより好ましく、１０μｍ～２０μｍの範囲が更に好ましく、１０μｍ～１６μｍの範囲が特に好ましい。
また、仮支持体の厚さは、仮支持体を介して露光する場合における解像度及び直線性の観点から、５０μｍ以下であることが好ましく、２５μｍ以下であることがより好ましい。
仮支持体の厚さは、５μｍ～１００μｍの範囲が好ましく、取扱い易さ及び汎用性の点から、１０μｍ～５０μｍの範囲がより好ましく、１０μｍ～２０μｍの範囲が更に好ましく、１０μｍ～１６μｍの範囲が特に好ましい。
また、仮支持体の厚さは、仮支持体を介して露光する場合における解像度及び直線性の観点から、５０μｍ以下であることが好ましく、２５μｍ以下であることがより好ましい。
【0056】
また、仮支持体として使用するフィルムには、シワ等の変形、傷、欠陥などがないことが好ましい。
仮支持体を介するパターン露光時のパターン形成性、及び、仮支持体の透明性の観点から、仮支持体に含まれる微粒子、異物、欠陥、析出物などの数は少ない方が好ましい。直径１μｍ以上の微粒子や異物や欠陥の数は、５０個／１０ｍｍ２以下であることが好ましく、１０個／１０ｍｍ２以下であることがより好ましく、３個／１０ｍｍ２以下であることが更に好ましく、０個／１０ｍｍ２であることが特に好ましい。
仮支持体を介するパターン露光時のパターン形成性、及び、仮支持体の透明性の観点から、仮支持体に含まれる微粒子、異物、欠陥、析出物などの数は少ない方が好ましい。直径１μｍ以上の微粒子や異物や欠陥の数は、５０個／１０ｍｍ２以下であることが好ましく、１０個／１０ｍｍ２以下であることがより好ましく、３個／１０ｍｍ２以下であることが更に好ましく、０個／１０ｍｍ２であることが特に好ましい。
【0057】
仮支持体の好ましい態様としては、例えば、特開２０１４－８５６４３号公報の段落００１７～段落００１８、特開２０１６－２７３６３号公報の段落００１９～００２６、国際公開第２０１２／０８１６８０号の段落００４１～００５７、国際公開第２０１８／１７９３７０号の段落００２９～００４０、特開２０１９－１０１４０５号公報の段落００１２～段落００３２に記載があり、これらの公報の内容は本明細書に組み込まれる。
【0058】
〔感光性樹脂層〕
本開示に用いられる感光性転写部材は、感光性樹脂層を備える。
本開示に用いられる感光性転写部材は、感光性樹脂層を備える。
【0059】
感光性樹脂層は、露光により露光部の現像液に対する溶解性が低下し、非露光部が現像により除去されるネガ型感光性樹脂層であることが好ましい。しかしながら、感光性樹脂層はネガ型感光性樹脂層に制限されず、露光により露光部の現像液に対する溶解性が向上し、露光部が現像により除去されるポジ型感光性樹脂層であってもよい。
【0060】
感光性樹脂層は、重合性化合物、及び、バインダーポリマーを含むことが好ましく、重合性化合物、バインダーポリマー、及び、光重合開始剤を含むことがより好ましく、重合体Ａ、重合性化合物、及び、光重合開始剤を含むことが特に好ましい。感光性樹脂層は、上記感光性樹脂層の全質量基準で、バインダーポリマー：１０質量％～９０質量％；重合性化合物：５質量％～７０質量％；及び光重合開始剤：０．０１質量％～２０質量％を含むことが好ましい。
以下、各成分を順に説明する。
以下、各成分を順に説明する。
【0061】
（バインダーポリマー）
感光性樹脂層は、バインダーポリマーを含むことが好ましい。
バインダーポリマーとしては、特に制限はなく、例えば、エッチングレジストに用いられる公知のバインダーポリマーが好適に挙げられる。
また、バインダーポリマーとしては、アルカリ可溶性高分子が挙げられる。
アルカリ可溶性高分子としては、酸基を有するアルカリ可溶性高分子であることが好ましい。
中でも、バインダーポリマーとしては、後述する重合体Ａが好ましい。
感光性樹脂層は、バインダーポリマーを含むことが好ましい。
バインダーポリマーとしては、特に制限はなく、例えば、エッチングレジストに用いられる公知のバインダーポリマーが好適に挙げられる。
また、バインダーポリマーとしては、アルカリ可溶性高分子が挙げられる。
アルカリ可溶性高分子としては、酸基を有するアルカリ可溶性高分子であることが好ましい。
中でも、バインダーポリマーとしては、後述する重合体Ａが好ましい。
【0062】
－重合体Ａ－
バインダーポリマーとしては、重合体Ａを含むことが好ましい。
重合体Ａは、アルカリ可溶性高分子であることが好ましい。アルカリ可溶性高分子は、アルカリ物質に溶け易い高分子を包含する。
バインダーポリマーとしては、重合体Ａを含むことが好ましい。
重合体Ａは、アルカリ可溶性高分子であることが好ましい。アルカリ可溶性高分子は、アルカリ物質に溶け易い高分子を包含する。
【0063】
重合体Ａの酸価は、現像液による感光性樹脂層の膨潤を抑制することにより、解像性がより優れる点から、２２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が好ましく、２００ｍｇＫＯＨ／ｇ未満がより好ましく、１９０ｍｇＫＯＨ／ｇ未満が更に好ましい。
重合体Ａの酸価の下限は特に制限されないが、現像性がより優れる点から、６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上が好ましく、１２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上がより好ましく、１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上が更に好ましく、１７０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上が特に好ましい。
重合体Ａの酸価の下限は特に制限されないが、現像性がより優れる点から、６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上が好ましく、１２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上がより好ましく、１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上が更に好ましく、１７０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上が特に好ましい。
【0064】
なお、酸価は、試料１ｇを中和するのに必要な水酸化カリウムの質量［ｍｇ］であり、本明細書においては、単位をｍｇＫＯＨ／ｇと記載する。酸価は、例えば、化合物中における酸基の平均含有量から算出できる。
重合体Ａの酸価は、重合体Ａを構成する構成単位の種類及び酸基を含有する構成単位の含有量により調整すればよい。
重合体Ａの酸価は、重合体Ａを構成する構成単位の種類及び酸基を含有する構成単位の含有量により調整すればよい。
【0065】
重合体Ａの重量平均分子量は、５，０００～５００，０００であることが好ましい。重量平均分子量を５００，０００以下にすることは、解像性及び現像性を向上させる観点から好ましい。重量平均分子量を１００，０００以下にすることがより好ましく、６０，０００以下にすることが更に好ましく、５０，０００以下にすることが特に好ましい。一方で、重量平均分子量を５，０００以上にすることは、現像凝集物の性状、並びに感光性樹脂積層体とした場合のエッジフューズ性及びカットチップ性等の未露光膜の性状を制御する観点から好ましい。重量平均分子量を１０，０００以上にすることがより好ましく、２０，０００以上にすることが更に好ましく、３０，０００以上にすることが特に好ましい。エッジフューズ性とは、感光性転写部材をロール状に巻き取った場合に、ロールの端面からの、感光性樹脂層のはみ出し易さの程度をいう。カットチップ性とは、未露光膜をカッターで切断した場合に、チップの飛び易さの程度をいう。このチップが感光性樹脂積層体の上面等に付着すると、後の露光工程等でマスクに転写して、不良品の原因となる。重合体Ａの分散度は、１．０～６．０であることが好ましく、１．０～５．０であることがより好ましく、１．０～４．０であることが更に好ましく、１．０～３．０であることが更に好ましい。本開示で、分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーを用いて測定される値である。また分散度は、数平均分子量に対する重量平均分子量の比（重量平均分子量／数平均分子量）である。
【0066】
感光性樹脂層は、露光時の焦点位置がずれたときの線幅太りや解像度の悪化を抑制する観点から、重合体Ａとして、芳香族炭化水素基を有する単量体成分を含むものであることが好ましい。なお、このような芳香族炭化水素基としては、例えば、置換又は非置換のフェニル基や、置換又は非置換のアラルキル基が挙げられる。重合体Ａにおける芳香族炭化水素基を有する単量体成分の含有割合は、全単量体成分の合計質量を基準として、２０質量％以上であることが好ましく、３０質量％以上であることがより好ましく、４０質量％以上であることが更に好ましく、４５質量％以上であることが特に好ましく、５０質量％以上であることが最も好ましい。上限としては特に限定されないが、好ましくは９５質量％以下、より好ましくは８５質量％以下である。なお、重合体Ａを複数種類含有する場合における、芳香族炭化水素基を有する単量体成分の含有割合は、重量平均値として求めた。
【0067】
上記芳香族炭化水素基を有する単量体としては、例えば、アラルキル基を有するモノマー、スチレン、及び重合可能なスチレン誘導体（例えば、メチルスチレン、ビニルトルエン、ｔｅｒｔ－ブトキシスチレン、アセトキシスチレン、４－ビニル安息香酸、スチレンダイマー、スチレントリマー等）が挙げられる。中でも、アラルキル基を有するモノマー、又はスチレンが好ましい。一態様において、重合体Ａにおける芳香族炭化水素基を有する単量体成分がスチレンである場合、スチレン単量体成分の含有割合は、全単量体成分の合計質量を基準として、２０質量％～５０質量％であることが好ましく、２５質量％～４５質量％であることがより好ましく、３０質量％～４０質量％であることが更に好ましく、３０質量％～３５質量％であることが特に好ましい。
【0068】
アラルキル基としては、置換又は非置換のフェニルアルキル基（ベンジル基を除く）や、置換又は非置換のベンジル基等が挙げられ、置換又は非置換のベンジル基が好ましい。
【0069】
フェニルアルキル基を有する単量体としては、フェニルエチル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【0070】
ベンジル基を有する単量体としては、ベンジル基を有する（メタ）アクリレート、例えば、ベンジル（メタ）アクリレート、クロロベンジル（メタ）アクリレート等；ベンジル基を有するビニルモノマー、例えば、ビニルベンジルクロライド、ビニルベンジルアルコール等が挙げられる。中でもベンジル（メタ）アクリレートが好ましい。一態様において、重合体Ａにおける芳香族炭化水素基を有する単量体成分がベンジル（メタ）アクリレートである場合、ベンジル（メタ）アクリレート単量体成分の含有割合は、全単量体成分の合計質量を基準として、５０質量％～９５質量％であることが好ましく、６０質量％～９０質量％であることがより好ましく、７０質量％～９０質量％であることが更に好ましく、７５質量％～９０質量％であることが特に好ましい。
【0071】
芳香族炭化水素基を有する単量体成分を含有する重合体Ａは、芳香族炭化水素基を有する単量体と、後述する第一の単量体の少なくとも１種及び／又は後述する第二の単量体の少なくとも１種とを重合することにより得られることが好ましい。
【0072】
芳香族炭化水素基を有する単量体成分を含有しない重合体Ａは、後述する第一の単量体の少なくとも１種を重合することにより得られることが好ましく、第一の単量体の少なくとも１種と後述する第二の単量体の少なくとも１種とを共重合することにより得られることがより好ましい。
【0073】
第一の単量体は、分子中にカルボキシル基を有する単量体である。第一の単量体としては、例えば、（メタ）アクリル酸、フマル酸、ケイ皮酸、クロトン酸、イタコン酸、４－ビニル安息香酸、マレイン酸無水物、マレイン酸半エステル等が挙げられる。これらの中でも、（メタ）アクリル酸が好ましい。
重合体Ａにおける第一の単量体の含有割合は、全単量体成分の合計質量を基準として、５質量％～５０質量％であることが好ましく、１０質量％～４０質量％であることがより好ましく、１５質量％～３０質量％であることが更に好ましい。
重合体Ａにおける第一の単量体の含有割合は、全単量体成分の合計質量を基準として、５質量％～５０質量％であることが好ましく、１０質量％～４０質量％であることがより好ましく、１５質量％～３０質量％であることが更に好ましい。
【0074】
なお、本明細書において「（メタ）アクリル酸」とは、アクリル酸又はメタクリル酸を意味し、「（メタ）アクリロイル基」とは、アクリロイル基又はメタクリロイル基を意味し、かつ「（メタ）アクリレート」とは、「アクリレート」又は「メタクリレート」を意味する。
【0075】
第一の単量体の共重合割合は、全単量体成分の合計質量を基準として、１０質量％～５０質量％であることが好ましい。上記共重合割合を１０質量％以上にすることは、良好な現像性を発現させる観点、エッジフューズ性を制御するなどの観点から好ましく、１５質量％以上がより好ましく、２０質量％以上が更に好ましい。上記共重合割合を５０質量％以下にすることは、レジストパターンの高解像性及びスソ形状の観点から、更にはレジストパターンの耐薬品性の観点から好ましく、これらの観点においては、３５質量％以下がより好ましく、３０質量％以下が更に好ましく、２７質量％以下が特に好ましい。
【0076】
第二の単量体は、非酸性であり、かつ分子中に重合性不飽和基を少なくとも１個有する単量体である。第二の単量体としては、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ－プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ｎ－ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ－ブチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２－エチルヘキシル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレート類；酢酸ビニル等のビニルアルコールのエステル類；並びに（メタ）アクリロニトリル等が挙げられる。中でも、メチル（メタ）アクリレート、２－エチルヘキシル（メタ）アクリレート、及びｎ－ブチル（メタ）アクリレートが好ましく、メチル（メタ）アクリレートが特に好ましい。
重合体Ａにおける第二の単量体の含有割合は、全単量体成分の合計質量を基準として、５質量％～６０質量％であることが好ましく、１５質量％～５０質量％であることがより好ましく、２０質量％～４５質量％であることが更に好ましい。
重合体Ａにおける第二の単量体の含有割合は、全単量体成分の合計質量を基準として、５質量％～６０質量％であることが好ましく、１５質量％～５０質量％であることがより好ましく、２０質量％～４５質量％であることが更に好ましい。
【0077】
アラルキル基を有する単量体、及び／又はスチレンを単量体として含有することが、露光時の焦点位置がずれたときの線幅太りや解像度の悪化を抑制する観点から好ましい。例えば、メタクリル酸とベンジルメタクリレートとスチレンを含む共重合体、メタクリル酸とメチルメタクリレートとベンジルメタクリレートとスチレンを含む共重合体等が好ましい。
一態様において、重合体Ａは、芳香族炭化水素基を有する単量体成分を２５質量％～４０質量％、第一の単量体成分を２０質量％～３５質量％、第二の単量体成分を３０質量％～４５質量％含む重合体であることが好ましい。また、別の態様において、芳香族炭化水素基を有する単量体成分を７０質量％～９０質量％、第一の単量体成分を１０質量％～２５質量％含む重合体であることが好ましい。
一態様において、重合体Ａは、芳香族炭化水素基を有する単量体成分を２５質量％～４０質量％、第一の単量体成分を２０質量％～３５質量％、第二の単量体成分を３０質量％～４５質量％含む重合体であることが好ましい。また、別の態様において、芳香族炭化水素基を有する単量体成分を７０質量％～９０質量％、第一の単量体成分を１０質量％～２５質量％含む重合体であることが好ましい。
【0078】
重合体Ａは、側鎖に直鎖構造、分岐構造、及び、脂環構造のいずれかを有してもよい。側鎖に分岐構造を有する基を含むモノマー、又は側鎖に脂環構造を有する基を含むモノマーを使用することによって、重合体Ａの側鎖に分岐構造や脂環構造を導入することができる。脂環構造を有する基は単環又は多環であってもよい
【0079】
側鎖に分岐構造を有する基を含むモノマーの具体例としては、（メタ）アクリル酸イソプロピル、（メタ）アクリル酸イソブチル、（メタ）アクリル酸ｓｅｃ－ブチル、（メタ）アクリル酸ｔｅｒｔ－ブチル、（メタ）アクリル酸イソアミル、（メタ）アクリル酸ｔｅｒｔ－アミル、（メタ）アクリル酸ｓｅｃ－アミル、（メタ）アクリル酸２－オクチル、（メタ）アクリル酸３－オクチル及び（メタ）アクリル酸ｔｅｒｔ－オクチル等が挙げられる。これらのなかでも、（メタ）アクリル酸イソプロピル、（メタ）アクリル酸イソブチル、メタクリル酸ｔｅｒｔ－ブチルが好ましく、メタクリル酸イソプロピル又はメタクリル酸ｔｅｒｔ－ブチルがより好ましい。
【0080】
側鎖に脂環構造を有する基を含むモノマーの具体例としては、単環の脂肪族炭化水素基を有するモノマー、及び、多環の脂肪族炭化水素基を有するモノマーが挙げられる。また、炭素原子数５～２０個の脂環式炭化水素基を有する（メタ）アクリレートが挙げられる。より具体的な例としては、（メタ）アクリル酸（ビシクロ〔２．２．１］ヘプチル－２）、（メタ）アクリル酸－１－アダマンチル、（メタ）アクリル酸－２－アダマンチル、（メタ）アクリル酸－３－メチル－１－アダマンチル、（メタ）アクリル酸－３，５－ジメチル－１－アダマンチル、（メタ）アクリル酸－３－エチルアダマンチル、（メタ）アクリル酸－３－メチル－５－エチル－１－アダマンチル、（メタ）アクリル酸－３，５，８－トリエチル－１－アダマンチル、（メタ）アクリル酸－３，５－ジメチル－８－エチル－１－アダマンチル、（メタ）アクリル酸２－メチル－２－アダマンチル、（メタ）アクリル酸２－エチル－２－アダマンチル、（メタ）アクリル酸３－ヒドロキシ－１－アダマンチル、（メタ）アクリル酸オクタヒドロ－４，７－メンタノインデン－５－イル、（メタ）アクリル酸オクタヒドロ－４，７－メンタノインデン－１－イルメチル、（メタ）アクリル酸－１－メンチル、（メタ）アクリル酸トリシクロデカン、（メタ）アクリル酸－３－ヒドロキシ－２，６，６－トリメチル－ビシクロ〔３．１．１〕ヘプチル、（メタ）アクリル酸－３，７，７－トリメチル－４－ヒドロキシ－ビシクロ〔４．１．０〕ヘプチル、（メタ）アクリル酸（ノル）ボルニル、（メタ）アクリル酸イソボルニル、（メタ）アクリル酸フェンチル、（メタ）アクリル酸－２，２，５－トリメチルシクロヘキシル、及び（メタ）アクリル酸シクロヘキシル等が挙げられる。これら（メタ）アクリル酸エステルのなかでも、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸（ノル）ボルニル、（メタ）アクリル酸イソボルニル、（メタ）アクリル酸－１－アダマンチル、（メタ）アクリル酸－２－アダマンチル、（メタ）アクリル酸フェンチル、（メタ）アクリル酸１－メンチル、又は（メタ）アクリル酸トリシクロデカンが好ましく、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸（ノル）ボルニル、（メタ）アクリル酸イソボルニル、（メタ）アクリル酸－２－アダマンチル、又は（メタ）アクリル酸トリシクロデカンがより好ましい。
【0081】
重合体Ａは、１種単独で使用することができ、或いは２種以上を混合して使用してもよい。２種以上を混合して使用する場合には、芳香族炭化水素基を有する単量体成分を含む重合体Ａを２種類混合使用すること、又は芳香族炭化水素基を有する単量体成分を含む重合体Ａと、芳香族炭化水素基を有する単量体成分を含まない重合体Ａと、を混合使用することが好ましい。後者の場合、芳香族炭化水素基を有する単量体成分を含む重合体Ａの使用割合は、重合体Ａの全部に対して、５０質量％以上であることが好ましく、７０質量％以上であることがより好ましく、８０質量％以上であることが好ましく、９０質量％以上であることがより好ましい。
【0082】
重合体Ａの合成は、上記で説明された単数又は複数の単量体を、アセトン、メチルエチルケトン、イソプロパノール等の溶剤で希釈した溶液に、過酸化ベンゾイル、アゾイソブチロニトリル等のラジカル重合開始剤を適量添加し、加熱撹拌することにより行われることが好ましい。混合物の一部を反応液に滴下しながら合成を行う場合もある。反応終了後、さらに溶剤を加えて、所望の濃度に調整する場合もある。合成手段としては、溶液重合以外に、塊状重合、懸濁重合、又は乳化重合を用いてもよい。
【0083】
重合体Ａのガラス転移温度Ｔｇは、３０℃以上１３５℃以下であることが好ましい。感光性樹脂層において、１３５℃以下のＴｇを有する重合体Ａを使用することによって、露光時の焦点位置がずれたときの線幅太りや解像度の悪化を抑制することができる。この観点から、重合体ＡのＴｇは、１３０℃以下であることがより好ましく、１２０℃以下であることが更に好ましく、１１０℃以下であることが特に好ましい。また、３０℃以上のＴｇを有する重合体Ａを使用することは、耐エッジフューズ性を向上させる観点から好ましい。この観点から、重合体ＡのＴｇは、４０℃以上であることがより好ましく、５０℃以上であることが更に好ましく、６０℃以上であることが特に好ましく、７０℃以上であることが最も好ましい。
【0084】
感光性樹脂層は、重合体Ａ以外の樹脂を含有してもよい。
重合体Ａ以外の樹脂としては、アクリル樹脂、スチレン－アクリル共重合体（但し、スチレン含有率が４０質量％以下であるもの）、ポリウレタン樹脂、ポリビニルアルコール、ポリビニルホルマール、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、エポキシ樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリヒドロキシスチレン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリベンゾオキサゾール樹脂、ポリシロキサン樹脂、ポリエチレンイミン、ポリアリルアミン、及び、ポリアルキレングリコールが挙げられる。
重合体Ａ以外の樹脂としては、アクリル樹脂、スチレン－アクリル共重合体（但し、スチレン含有率が４０質量％以下であるもの）、ポリウレタン樹脂、ポリビニルアルコール、ポリビニルホルマール、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、エポキシ樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリヒドロキシスチレン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリベンゾオキサゾール樹脂、ポリシロキサン樹脂、ポリエチレンイミン、ポリアリルアミン、及び、ポリアルキレングリコールが挙げられる。
【0085】
バインダーポリマーは、１種単独で使用することができ、或いは２種以上を混合して使用してもよい。
バインダーポリマーの、感光性樹脂層の全質量に対する割合は、好ましくは１０質量％～９０質量％の範囲であり、より好ましくは３０質量％～７０質量％であり、更に好ましくは４０質量％～６０質量％である。感光性樹脂層に対するバインダーポリマーの割合を９０質量％以下にすることは、現像時間を制御する観点から好ましい。一方で、感光性樹脂層に対するバインダーポリマーの割合を１０質量％以上にすることは、耐エッジフューズ性を向上させる観点から好ましい。
バインダーポリマーの、感光性樹脂層の全質量に対する割合は、好ましくは１０質量％～９０質量％の範囲であり、より好ましくは３０質量％～７０質量％であり、更に好ましくは４０質量％～６０質量％である。感光性樹脂層に対するバインダーポリマーの割合を９０質量％以下にすることは、現像時間を制御する観点から好ましい。一方で、感光性樹脂層に対するバインダーポリマーの割合を１０質量％以上にすることは、耐エッジフューズ性を向上させる観点から好ましい。
【0086】
（重合性化合物）
感光性樹脂層は、重合性化合物を含有することが好ましい。
本明細書において「重合性化合物」とは、後述する重合開始剤の作用を受けて重合する化合物であって、上述したバインダーポリマーとは異なる化合物を意味する。
感光性樹脂層は、重合性化合物を含有することが好ましい。
本明細書において「重合性化合物」とは、後述する重合開始剤の作用を受けて重合する化合物であって、上述したバインダーポリマーとは異なる化合物を意味する。
【0087】
重合性化合物としては、エチレン性不飽和化合物が好ましい。
エチレン性不飽和化合物は、ネガ型感光性樹脂層の感光性（すなわち、光硬化性）及び硬化膜の強度に寄与する成分である。
また、エチレン性不飽和化合物は、１つ以上のエチレン性不飽和基を有する化合物である。
感光性樹脂層は、エチレン性不飽和化合物として、２官能以上のエチレン性不飽和化合物を含むことが好ましい。
ここで、２官能以上のエチレン性不飽和化合物とは、一分子中にエチレン性不飽和基を２つ以上有する化合物を意味する。
エチレン性不飽和基としては、（メタ）アクリロイル基がより好ましい。
エチレン性不飽和化合物としては、（メタ）アクリレート化合物が好ましい。
エチレン性不飽和化合物は、ネガ型感光性樹脂層の感光性（すなわち、光硬化性）及び硬化膜の強度に寄与する成分である。
また、エチレン性不飽和化合物は、１つ以上のエチレン性不飽和基を有する化合物である。
感光性樹脂層は、エチレン性不飽和化合物として、２官能以上のエチレン性不飽和化合物を含むことが好ましい。
ここで、２官能以上のエチレン性不飽和化合物とは、一分子中にエチレン性不飽和基を２つ以上有する化合物を意味する。
エチレン性不飽和基としては、（メタ）アクリロイル基がより好ましい。
エチレン性不飽和化合物としては、（メタ）アクリレート化合物が好ましい。
【0088】
感光性樹脂層は、重合性基を有する重合性化合物を含有することが好ましい。
重合性化合物が有する重合性基としては、重合反応に関与する基であれば特に制限されず、例えば、ビニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、スチリル基及びマレイミド基等のエチレン性不飽和基を有する基；並びに、エポキシ基及びオキセタン基等のカチオン性重合性基を有する基が挙げられる。
重合性基としては、エチレン性不飽和基を有する基が好ましく、アクリロイル基又はメタアクリロイル基がより好ましい。
重合性化合物が有する重合性基としては、重合反応に関与する基であれば特に制限されず、例えば、ビニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、スチリル基及びマレイミド基等のエチレン性不飽和基を有する基；並びに、エポキシ基及びオキセタン基等のカチオン性重合性基を有する基が挙げられる。
重合性基としては、エチレン性不飽和基を有する基が好ましく、アクリロイル基又はメタアクリロイル基がより好ましい。
【0089】
重合性化合物としては、感光性樹脂層の感光性がより優れる点で、１つ以上のエチレン性不飽和基を有する化合物（エチレン性不飽和化合物）が好ましく、一分子中に２つ以上のエチレン性不飽和基を有する化合物（多官能エチレン性不飽和化合物）がより好ましい。
また、解像性及び剥離性により優れる点で、エチレン性不飽和化合物が一分子中に有するエチレン性不飽和基の数は、６つ以下が好ましく、３つ以下がより好ましく、２つ以下が更に好ましい。
また、解像性及び剥離性により優れる点で、エチレン性不飽和化合物が一分子中に有するエチレン性不飽和基の数は、６つ以下が好ましく、３つ以下がより好ましく、２つ以下が更に好ましい。
【0090】
感光性樹脂層は、感光性樹脂層の感光性と解像性及び剥離性とのバランスがより優れる点で、一分子中に２つ又は３つのエチレン性不飽和基を有する２官能又は３官能エチレン性不飽和化合物を含有することが好ましく、一分子中に２つのエチレン性不飽和基を有する２官能エチレン性不飽和化合物を含有することがより好ましい。
感光性樹脂層における、重合性化合物の含有量に対する２官能エチレン性不飽和化合物の含有量は、剥離性に優れる点から、６０質量％以上が好ましく、７０質量％超がより好ましく、９０質量％以上が更に好ましい。上限は特に制限されず、１００質量％であってもよい。即ち、感光性樹脂層に含まれる重合性化合物が全て２官能エチレン性不飽和化合物であってもよい。
また、エチレン性不飽和化合物としては、重合性基として（メタ）アクリロイル基を有する（メタ）アクリレート化合物が好ましい。
感光性樹脂層における、重合性化合物の含有量に対する２官能エチレン性不飽和化合物の含有量は、剥離性に優れる点から、６０質量％以上が好ましく、７０質量％超がより好ましく、９０質量％以上が更に好ましい。上限は特に制限されず、１００質量％であってもよい。即ち、感光性樹脂層に含まれる重合性化合物が全て２官能エチレン性不飽和化合物であってもよい。
また、エチレン性不飽和化合物としては、重合性基として（メタ）アクリロイル基を有する（メタ）アクリレート化合物が好ましい。
【0091】
－重合性化合物Ｂ１－
感光性樹脂層は、芳香環及び２つのエチレン性不飽和基を有する重合性化合物Ｂ１を含有することが好ましい。重合性化合物Ｂ１は、上述した重合性化合物のうち、一分子中に１つ以上の芳香環を有する２官能エチレン性不飽和化合物である。
感光性樹脂層は、芳香環及び２つのエチレン性不飽和基を有する重合性化合物Ｂ１を含有することが好ましい。重合性化合物Ｂ１は、上述した重合性化合物のうち、一分子中に１つ以上の芳香環を有する２官能エチレン性不飽和化合物である。
【0092】
感光性樹脂層中、重合性化合物の含有量に対する重合性化合物Ｂ１の含有量の質量比は、解像性がより優れる点から、４０質量％以上であることが好ましく、５０質量％以上であることがより好ましく、５５質量％以上であることが更に好ましく、６０質量％以上であることが特に好ましい。上限は特に制限されないが、剥離性の点から、９９質量％以下が好ましく、９５質量％以下がより好ましく、９０質量％以下が更に好ましく、８５質量％以下が特に好ましい。
【0093】
重合性化合物Ｂ１が有する芳香環としては、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環及びアントラセン環等の芳香族炭化水素環、チオフェン環、フラン環、ピロール環、イミダゾール環、トリアゾール環及びピリジン環等の芳香族複素環、並びに、それらの縮合環が挙げられ、芳香族炭化水素環が好ましく、ベンゼン環がより好ましい。なお、上記芳香環は、置換基を有してもよい。
重合性化合物Ｂ１は、芳香環を１つのみ有してもよく、２つ以上の芳香環を有してもよい。
重合性化合物Ｂ１は、芳香環を１つのみ有してもよく、２つ以上の芳香環を有してもよい。
【0094】
重合性化合物Ｂ１は、現像液による感光性樹脂層の膨潤を抑制することにより、解像性が向上する点から、ビスフェノール構造を有することが好ましい。
ビスフェノール構造としては、例えば、ビスフェノールＡ（２，２－ビス（４－ヒドロキシフェニル）プロパン）に由来するビスフェノールＡ構造、ビスフェノールＦ（２，２－ビス（４－ヒドロキシフェニル）メタン）に由来するビスフェノールＦ構造、及び、ビスフェノールＢ（２，２－ビス（４－ヒドロキシフェニル）ブタン）に由来するビスフェノールＢ構造が挙げられ、ビスフェノールＡ構造が好ましい。
ビスフェノール構造としては、例えば、ビスフェノールＡ（２，２－ビス（４－ヒドロキシフェニル）プロパン）に由来するビスフェノールＡ構造、ビスフェノールＦ（２，２－ビス（４－ヒドロキシフェニル）メタン）に由来するビスフェノールＦ構造、及び、ビスフェノールＢ（２，２－ビス（４－ヒドロキシフェニル）ブタン）に由来するビスフェノールＢ構造が挙げられ、ビスフェノールＡ構造が好ましい。
【0095】
ビスフェノール構造を有する重合性化合物Ｂ１としては、例えば、ビスフェノール構造と、そのビスフェノール構造の両端に結合した２つの重合性基（好ましくは（メタ）アクリロイル基）とを有する化合物が挙げられる。
ビスフェノール構造の両端と２つの重合性基とは、直接結合してもよく、１つ以上のアルキレンオキシ基を介して結合してもよい。ビスフェノール構造の両端に付加するアルキレンオキシ基としては、エチレンオキシ基又はプロピレンオキシ基が好ましく、エチレンオキシ基がより好ましい。ビスフェノール構造に付加するアルキレンオキシ基の付加数は特に制限されないが、１分子あたり４～１６個が好ましく、６～１４個がより好ましい。
ビスフェノール構造を有する重合性化合物Ｂ１については、特開２０１６－２２４１６２号公報の段落００７２～００８０に記載されており、この公報に記載の内容は本明細書に組み込まれる。
ビスフェノール構造の両端と２つの重合性基とは、直接結合してもよく、１つ以上のアルキレンオキシ基を介して結合してもよい。ビスフェノール構造の両端に付加するアルキレンオキシ基としては、エチレンオキシ基又はプロピレンオキシ基が好ましく、エチレンオキシ基がより好ましい。ビスフェノール構造に付加するアルキレンオキシ基の付加数は特に制限されないが、１分子あたり４～１６個が好ましく、６～１４個がより好ましい。
ビスフェノール構造を有する重合性化合物Ｂ１については、特開２０１６－２２４１６２号公報の段落００７２～００８０に記載されており、この公報に記載の内容は本明細書に組み込まれる。
【0096】
重合性化合物Ｂ１としては、ビスフェノールＡ構造を有する２官能エチレン性不飽和化合物が好ましく、２，２－ビス（４－（（メタ）アクリロキシポリアルコキシ）フェニル）プロパンがより好ましい。
２，２－ビス（４－（（メタ）アクリロキシポリアルコキシ）フェニル）プロパンとしては、例えば、２，２－ビス（４－（メタクリロキシジエトキシ）フェニル）プロパン（ＦＡ－３２４Ｍ、日立化成（株）製）、２，２－ビス（４－（メタクリロキシエトキシプロポキシ）フェニル）プロパン、２，２－ビス（４－（メタクリロキシペンタエトキシ）フェニル）プロパン（ＢＰＥ－５００、新中村化学工業（株）製）、２，２－ビス（４－（メタクリロキシドデカエトキシテトラプロポキシ）フェニル）プロパン（ＦＡ－３２００ＭＹ、日立化成（株）製）、２，２－ビス（４－（メタクリロキシペンタデカエトキシ）フェニル）プロパン（ＢＰＥ－１３００、新中村化学工業（株）製）、２，２－ビス（４－（メタクリロキシジエトキシ）フェニル）プロパン（ＢＰＥ－２００、新中村化学工業（株）製）、及び、エトキシ化（１０）ビスフェノールＡジアクリレート（ＮＫエステルＡ－ＢＰＥ－１０、新中村化学工業（株）製）が挙げられる。
２，２－ビス（４－（（メタ）アクリロキシポリアルコキシ）フェニル）プロパンとしては、例えば、２，２－ビス（４－（メタクリロキシジエトキシ）フェニル）プロパン（ＦＡ－３２４Ｍ、日立化成（株）製）、２，２－ビス（４－（メタクリロキシエトキシプロポキシ）フェニル）プロパン、２，２－ビス（４－（メタクリロキシペンタエトキシ）フェニル）プロパン（ＢＰＥ－５００、新中村化学工業（株）製）、２，２－ビス（４－（メタクリロキシドデカエトキシテトラプロポキシ）フェニル）プロパン（ＦＡ－３２００ＭＹ、日立化成（株）製）、２，２－ビス（４－（メタクリロキシペンタデカエトキシ）フェニル）プロパン（ＢＰＥ－１３００、新中村化学工業（株）製）、２，２－ビス（４－（メタクリロキシジエトキシ）フェニル）プロパン（ＢＰＥ－２００、新中村化学工業（株）製）、及び、エトキシ化（１０）ビスフェノールＡジアクリレート（ＮＫエステルＡ－ＢＰＥ－１０、新中村化学工業（株）製）が挙げられる。
【0097】
重合性化合物Ｂ１としては、下記一般式（Ｉ）：
【0098】
【化1】
【0099】
｛式中、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表し、ＡはＣ２Ｈ４であり、ＢはＣ３Ｈ６であり、ｎ１及びｎ３はそれぞれ独立に、１～３９の整数であり、かつｎ１＋ｎ３は２～４０の整数であり、ｎ２及びｎ４はそれぞれ独立に、０～２９の整数であり、かつｎ２＋ｎ４は０～３０の整数であり、－（Ａ－Ｏ）－及び－（Ｂ－Ｏ）－の繰り返し単位の配列は、ランダムであってもブロックであってもよい。そして、ブロックの場合、－（Ａ－Ｏ）－と－（Ｂ－Ｏ）－とのいずれがビスフェニル基側でもよい。｝
で表される化合物を使用することができる。
一態様において、ｎ１＋ｎ２＋ｎ３＋ｎ４は、２～２０が好ましく、２～１６がより好ましく、４～１２が更に好ましい。また、ｎ２＋ｎ４は、０～１０が好ましく、０～４がより好ましく、０～２が更に好ましく、０が特に好ましい。
で表される化合物を使用することができる。
一態様において、ｎ１＋ｎ２＋ｎ３＋ｎ４は、２～２０が好ましく、２～１６がより好ましく、４～１２が更に好ましい。また、ｎ２＋ｎ４は、０～１０が好ましく、０～４がより好ましく、０～２が更に好ましく、０が特に好ましい。
【0100】
重合性化合物Ｂ１は、１種単独で使用しても、２種以上を併用してもよい。
感光性樹脂層における、重合性化合物Ｂ１の含有量は、解像性がより優れる点から、感光性樹脂層の総質量に対して、１０質量％以上が好ましく、２０質量％以上がより好ましい。上限は特に制限されないが、転写性及びエッジフュージョン（転写部材の端部から感光性樹脂が滲み出す現象）の点から、７０質量％以下が好ましく、６０質量％以下がより好ましい。
感光性樹脂層における、重合性化合物Ｂ１の含有量は、解像性がより優れる点から、感光性樹脂層の総質量に対して、１０質量％以上が好ましく、２０質量％以上がより好ましい。上限は特に制限されないが、転写性及びエッジフュージョン（転写部材の端部から感光性樹脂が滲み出す現象）の点から、７０質量％以下が好ましく、６０質量％以下がより好ましい。
【0101】
感光性樹脂層は、上述した重合性化合物Ｂ１以外の重合性化合物を含有してもよい。
重合性化合物Ｂ１以外の重合性化合物は、特に制限されず、公知の化合物の中から適宜選択できる。例えば、一分子中に１つのエチレン性不飽和基を有する化合物（単官能エチレン性不飽和化合物）、芳香環を有さない２官能エチレン性不飽和化合物、及び、３官能以上のエチレン性不飽和化合物が挙げられる。
重合性化合物Ｂ１以外の重合性化合物は、特に制限されず、公知の化合物の中から適宜選択できる。例えば、一分子中に１つのエチレン性不飽和基を有する化合物（単官能エチレン性不飽和化合物）、芳香環を有さない２官能エチレン性不飽和化合物、及び、３官能以上のエチレン性不飽和化合物が挙げられる。
【0102】
単官能エチレン性不飽和化合物としては、例えば、エチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、２－（メタ）アクリロイルオキシエチルサクシネート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、及び、フェノキシエチル（メタ）アクリレートが挙げられる。
【0103】
芳香環を有さない２官能エチレン性不飽和化合物としては、例えば、アルキレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリアルキレングリコールジ（メタ）アクリレート、ウレタンジ（メタ）アクリレート、及び、トリメチロールプロパンジアクリレートが挙げられる。
アルキレングリコールジ（メタ）アクリレートとしては、例えば、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート（Ａ－ＤＣＰ、新中村化学工業（株）製）、トリシクロデカンジメタノールジメタクリレート（ＤＣＰ、新中村化学工業（株）製）、１，９－ノナンジオールジアクリレート（Ａ－ＮＯＤ－Ｎ、新中村化学工業（株）製）、１，６－ヘキサンジオールジアクリレート（Ａ－ＨＤ－Ｎ、新中村化学工業（株）製）、エチレングリコールジメタクリレート、１，１０－デカンジオールジアクリレート、及び、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレートが挙げられる。
ポリアルキレングリコールジ（メタ）アクリレートとしては、例えば、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、及び、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレートが挙げられる。
ウレタンジ（メタ）アクリレートとしては、例えば、プロピレンオキサイド変性ウレタンジ（メタ）アクリレート、並びに、エチレンオキサイド及びプロピレンオキサイド変性ウレタンジ（メタ）アクリレートが挙げられる。の市販品としては、例えば、８ＵＸ－０１５Ａ（大成ファインケミカル（株）製）、ＵＡ－３２Ｐ（新中村化学工業（株）製）、及び、ＵＡ－１１００Ｈ（新中村化学工業（株）製）が挙げられる。
アルキレングリコールジ（メタ）アクリレートとしては、例えば、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート（Ａ－ＤＣＰ、新中村化学工業（株）製）、トリシクロデカンジメタノールジメタクリレート（ＤＣＰ、新中村化学工業（株）製）、１，９－ノナンジオールジアクリレート（Ａ－ＮＯＤ－Ｎ、新中村化学工業（株）製）、１，６－ヘキサンジオールジアクリレート（Ａ－ＨＤ－Ｎ、新中村化学工業（株）製）、エチレングリコールジメタクリレート、１，１０－デカンジオールジアクリレート、及び、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレートが挙げられる。
ポリアルキレングリコールジ（メタ）アクリレートとしては、例えば、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、及び、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレートが挙げられる。
ウレタンジ（メタ）アクリレートとしては、例えば、プロピレンオキサイド変性ウレタンジ（メタ）アクリレート、並びに、エチレンオキサイド及びプロピレンオキサイド変性ウレタンジ（メタ）アクリレートが挙げられる。の市販品としては、例えば、８ＵＸ－０１５Ａ（大成ファインケミカル（株）製）、ＵＡ－３２Ｐ（新中村化学工業（株）製）、及び、ＵＡ－１１００Ｈ（新中村化学工業（株）製）が挙げられる。
【0104】
３官能以上のエチレン性不飽和化合物としては、例えば、ジペンタエリスリトール（トリ／テトラ／ペンタ／ヘキサ）（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトール（トリ／テトラ）（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸トリ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート、並びに、これらのアルキレンオキサイド変性物が挙げられる。
ここで、「（トリ／テトラ／ペンタ／ヘキサ）（メタ）アクリレート」は、トリ（メタ）アクリレート、テトラ（メタ）アクリレート、ペンタ（メタ）アクリレート、及びヘキサ（メタ）アクリレートを包含する概念であり、「（トリ／テトラ）（メタ）アクリレート」は、トリ（メタ）アクリレート及びテトラ（メタ）アクリレートを包含する概念である。一態様において、感光性樹脂層は、上述した重合性化合物Ｂ１及び３官能以上のエチレン性不飽和化合物を含むことが好ましく、上述した重合性化合物Ｂ１及び２種以上の３官能以上のエチレン性不飽和化合物を含むことがより好ましい。この場合、重合性化合物Ｂ１と３官能以上のエチレン性不飽和化合物の質量比は、（重合性化合物Ｂ１の合計質量）：（３官能以上のエチレン性不飽和化合物の合計質量）＝１：１～５：１が好ましく、１.２：１～４：１がより好ましく、１.５：１～３：１が更に好ましい。
また、一態様において、感光性樹脂層は、上述した重合性化合物Ｂ１及び２種以上の３官能のエチレン性不飽和化合物を含むことが好ましい。
ここで、「（トリ／テトラ／ペンタ／ヘキサ）（メタ）アクリレート」は、トリ（メタ）アクリレート、テトラ（メタ）アクリレート、ペンタ（メタ）アクリレート、及びヘキサ（メタ）アクリレートを包含する概念であり、「（トリ／テトラ）（メタ）アクリレート」は、トリ（メタ）アクリレート及びテトラ（メタ）アクリレートを包含する概念である。一態様において、感光性樹脂層は、上述した重合性化合物Ｂ１及び３官能以上のエチレン性不飽和化合物を含むことが好ましく、上述した重合性化合物Ｂ１及び２種以上の３官能以上のエチレン性不飽和化合物を含むことがより好ましい。この場合、重合性化合物Ｂ１と３官能以上のエチレン性不飽和化合物の質量比は、（重合性化合物Ｂ１の合計質量）：（３官能以上のエチレン性不飽和化合物の合計質量）＝１：１～５：１が好ましく、１.２：１～４：１がより好ましく、１.５：１～３：１が更に好ましい。
また、一態様において、感光性樹脂層は、上述した重合性化合物Ｂ１及び２種以上の３官能のエチレン性不飽和化合物を含むことが好ましい。
【0105】
３官能以上のエチレン性不飽和化合物のアルキレンオキサイド変性物としては、カプロラクトン変性（メタ）アクリレート化合物（日本化薬（株）製ＫＡＹＡＲＡＤ（登録商標）ＤＰＣＡ－２０、新中村化学工業（株）製Ａ－９３００－１ＣＬ等）、アルキレンオキサイド変性（メタ）アクリレート化合物（日本化薬（株）製ＫＡＹＡＲＡＤ ＲＰ－１０４０、新中村化学工業（株）製ＡＴＭ－３５Ｅ及びＡ－９３００、ダイセル・オルネクス社製ＥＢＥＣＲＹＬ（登録商標） １３５等）、エトキシル化グリセリントリアクリレート（新中村化学工業（株）製Ａ－ＧＬＹ－９Ｅ等）、アロニックス（登録商標）ＴＯ－２３４９（東亞合成（株）製）、アロニックスＭ－５２０（東亞合成（株）製）、並びに、アロニックスＭ－５１０（東亞合成（株）製）が挙げられる。
【0106】
また、重合性化合物Ｂ１以外の重合性化合物としては、特開２００４－２３９９４２号公報の段落００２５～００３０に記載の酸基を有する重合性化合物を用いてもよい。
【0107】
感光性樹脂層における重合性化合物の含有量Ｍｍとバインダーポリマーの含有量Ｍｂとの比Ｍｍ／Ｍｂの値は、解像性及び直線性の観点から、１．０以下であることが好ましく、０．９以下であることがより好ましく、０．５以上０．９以下であることが特に好ましい。
また、感光性樹脂層における重合性化合物は、硬化性、及び、解像性の観点から、（メタ）アクリル化合物を含むことが好ましい。
更に、感光性樹脂層における重合性化合物は、硬化性、解像性及び直線性の観点から、（メタ）アクリル化合物を含み、かつ感光性樹脂層に含まれる上記（メタ）アクリル化合物の全質量に対するアクリル化合物の含有量が、６０質量％以下であることがより好ましい。アクリル化合物の含有量の下限値は特に限定されず、例えば、０．１質量％である。
また、感光性樹脂層における重合性化合物は、硬化性、及び、解像性の観点から、（メタ）アクリル化合物を含むことが好ましい。
更に、感光性樹脂層における重合性化合物は、硬化性、解像性及び直線性の観点から、（メタ）アクリル化合物を含み、かつ感光性樹脂層に含まれる上記（メタ）アクリル化合物の全質量に対するアクリル化合物の含有量が、６０質量％以下であることがより好ましい。アクリル化合物の含有量の下限値は特に限定されず、例えば、０．１質量％である。
【0108】
重合性化合物は、１種単独で使用しても、２種以上を併用してもよい。
感光性樹脂層における重合性化合物の含有量は、感光性樹脂層の全質量に対し、１０質量％～７０質量％が好ましく、２０質量％～６０質量％がより好ましく、２０質量％～５０質量％が更に好ましい。
感光性樹脂層における重合性化合物の含有量は、感光性樹脂層の全質量に対し、１０質量％～７０質量％が好ましく、２０質量％～６０質量％がより好ましく、２０質量％～５０質量％が更に好ましい。
【0109】
重合性化合物Ｂ１を含む重合性化合物の重量平均分子量（Ｍｗ）としては、２００～３，０００が好ましく、２８０～２，２００がより好ましく、３００～２，２００が更に好ましい。
【0110】
（その他の成分）
感光性樹脂層は、バインダーポリマー及び重合性化合物以外の成分を含有してもよい。
感光性樹脂層は、バインダーポリマー及び重合性化合物以外の成分を含有してもよい。
【0111】
－光重合開始剤－
感光性樹脂層は、光重合開始剤を含有することが好ましい。
光重合開始剤は、紫外線、可視光線及びＸ線等の活性光線を受けて、重合性化合物の重合を開始する化合物である。光重合開始剤としては、特に制限されず、公知の光重合開始剤を用いることができる。
光重合開始剤としては、例えば、光ラジカル重合開始剤及び光カチオン重合開始剤が挙げられ、光ラジカル重合開始剤が好ましい。
感光性樹脂層は、光重合開始剤を含有することが好ましい。
光重合開始剤は、紫外線、可視光線及びＸ線等の活性光線を受けて、重合性化合物の重合を開始する化合物である。光重合開始剤としては、特に制限されず、公知の光重合開始剤を用いることができる。
光重合開始剤としては、例えば、光ラジカル重合開始剤及び光カチオン重合開始剤が挙げられ、光ラジカル重合開始剤が好ましい。
【0112】
光ラジカル重合開始剤としては、例えば、オキシムエステル構造を有する光重合開始剤、α－アミノアルキルフェノン構造を有する光重合開始剤、α－ヒドロキシアルキルフェノン構造を有する光重合開始剤、アシルフォスフィンオキサイド構造を有する光重合開始剤、及び、Ｎ－フェニルグリシン構造を有する光重合開始剤が挙げられる。
【0113】
また、感光性樹脂層は、感光性、露光部及び非露光部の視認性、及び、解像性の観点から、光ラジカル重合開始剤として、２，４，５－トリアリールイミダゾール二量体及びその誘導体からなる群より選択される少なくとも１種を含むことが好ましい。なお、２，４，５－トリアリールイミダゾール二量体及びその誘導体における２つの２，４，５－トリアリールイミダゾール構造は、同一であっても異なっていてもよい。
２，４，５－トリアリールイミダゾール二量体の誘導体としては、例えば、２－（ｏ－クロロフェニル）－４，５－ジフェニルイミダゾール二量体、２－（ｏ－クロロフェニル）－４，５－ジ（メトキシフェニル）イミダゾール二量体、２－（ｏ－フルオロフェニル）－４，５－ジフェニルイミダゾール二量体、２－（ｏ－メトキシフェニル）－４，５－ジフェニルイミダゾール二量体、及び、２－（ｐ－メトキシフェニル）－４，５－ジフェニルイミダゾール二量体が挙げられる。
２，４，５－トリアリールイミダゾール二量体の誘導体としては、例えば、２－（ｏ－クロロフェニル）－４，５－ジフェニルイミダゾール二量体、２－（ｏ－クロロフェニル）－４，５－ジ（メトキシフェニル）イミダゾール二量体、２－（ｏ－フルオロフェニル）－４，５－ジフェニルイミダゾール二量体、２－（ｏ－メトキシフェニル）－４，５－ジフェニルイミダゾール二量体、及び、２－（ｐ－メトキシフェニル）－４，５－ジフェニルイミダゾール二量体が挙げられる。
【0114】
光ラジカル重合開始剤としては、例えば、特開２０１１－９５７１６号公報の段落００３１～００４２、特開２０１５－１４７８３号公報の段落００６４～００８１に記載された重合開始剤を用いてもよい。
【0115】
光ラジカル重合開始剤としては、例えば、ジメチルアミノ安息香酸エチル（ＤＢＥ、ＣＡＳ Ｎｏ．１０２８７－５３－３）、ベンゾインメチルエーテル、アニシル（ｐ，ｐ’－ジメトキシベンジル）、ＴＡＺ－１１０（商品名：みどり化学（株）製）、ベンゾフェノン、ＴＡＺ－１１１（商品名：みどり化学（株）製）、ＩｒｇａｃｕｒｅＯＸＥ０１、ＯＸＥ０２、ＯＸＥ０３、ＯＸＥ０４（ＢＡＳＦ社製）、Ｏｍｎｉｒａｄ６５１及び３６９（商品名：ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．社製）、及び、２，２’－ビス（２－クロロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラフェニル－１，２’－ビイミダゾール（東京化成工業（株）製）が挙げられる。
【0116】
光ラジカル重合開始剤の市販品としては、例えば、１－［４－（フェニルチオ）フェニル］－１，２－オクタンジオン－２－（Ｏ－ベンゾイルオキシム）（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標） ＯＸＥ－０１、ＢＡＳＦ社製）、１－［９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］エタノン－１－（Ｏ－アセチルオキシム）（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ－０２、ＢＡＳＦ社製）、ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ－０３（ＢＡＳＦ社製）、２－（ジメチルアミノ）－２－［（４－メチルフェニル）メチル］－１－［４－（４－モルフォリニル）フェニル］－１－ブタノン（商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ ３７９ＥＧ、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．製）、２－メチル－１－（４－メチルチオフェニル）－２－モルフォリノプロパン－１－オン（商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ ９０７、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．製）、２－ヒドロキシ－１－｛４－［４－（２－ヒドロキシ－２－メチルプロピオニル）ベンジル］フェニル｝－２－メチルプロパン－１－オン（商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ １２７、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．製）、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルフォリノフェニル）ブタノン－１（商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ ３６９、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．製）、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニルプロパン－１－オン（商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ １１７３、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．製）、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ １８４、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．製）、２，２－ジメトキシ－１，２－ジフェニルエタン－１－オン（商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ ６５１、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．製）、２，４，６－トリメチルベンゾリル－ジフェニルフォスフィンオキサイド（商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ ＴＰＯ Ｈ、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．製）、ビス（２，４，６－トリメチルベンゾリル）フェニルフォスフィンオキサイド（商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ ８１９、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．製）、オキシムエステル系の光重合開始剤（商品名：Ｌｕｎａｒ ６、ＤＫＳＨジャパン（株）製）、２，２’－ビス（２－クロロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラフェニルビスイミダゾール（２－（２－クロロフェニル）－４，５－ジフェニルイミダゾール二量体）（商品名：Ｂ－ＣＩＭ、Ｈａｍｐｆｏｒｄ社製）、及び、２－（ｏ－クロロフェニル）－４，５－ジフェニルイミダゾール二量体（商品名：ＢＣＴＢ、東京化成工業（株）製）が挙げられる。
【0117】
なお、２，２’－ビス（２－クロロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラフェニルビスイミダゾール（２－（２－クロロフェニル）－４，５－ジフェニルイミダゾール二量体）は、（商品名：Ｂ－ＩＭＤ、黒金化成（株）製）も用いることができる。
【0118】
本明細書では、２，２’－ビス（２－クロロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラフェニルビスイミダゾール（２－（２－クロロフェニル）－４，５－ジフェニルイミダゾール二量体は、Ｂ－ＣＩＭ、または、Ｂ－ＩＭＤと記載される。
【0119】
光カチオン重合開始剤（光酸発生剤）は、活性光線を受けて酸を発生する化合物である。光カチオン重合開始剤としては、波長３００ｎｍ以上、好ましくは波長３００～４５０ｎｍの活性光線に感応し、酸を発生する化合物が好ましいが、その化学構造は制限されない。また、波長３００ｎｍ以上の活性光線に直接感応しない光カチオン重合開始剤についても、増感剤と併用することによって波長３００ｎｍ以上の活性光線に感応し、酸を発生する化合物であれば、増感剤と組み合わせて好ましく用いることができる。
光カチオン重合開始剤としては、ｐＫａが４以下の酸を発生する光カチオン重合開始剤が好ましく、ｐＫａが３以下の酸を発生する光カチオン重合開始剤がより好ましく、ｐＫａが２以下の酸を発生する光カチオン重合開始剤が特に好ましい。ｐＫａの下限値は特に定めないが、例えば、－１０．０以上が好ましい。
光カチオン重合開始剤としては、ｐＫａが４以下の酸を発生する光カチオン重合開始剤が好ましく、ｐＫａが３以下の酸を発生する光カチオン重合開始剤がより好ましく、ｐＫａが２以下の酸を発生する光カチオン重合開始剤が特に好ましい。ｐＫａの下限値は特に定めないが、例えば、－１０．０以上が好ましい。
【0120】
光カチオン重合開始剤としては、イオン性光カチオン重合開始剤及び非イオン性光カチオン重合開始剤が挙げられる。
イオン性光カチオン重合開始剤として、例えば、ジアリールヨードニウム塩類及びトリアリールスルホニウム塩類等のオニウム塩化合物、並びに、第４級アンモニウム塩類が挙げられる。
イオン性光カチオン重合開始剤としては、特開２０１４－８５６４３号公報の段落０１１４～０１３３に記載のイオン性光カチオン重合開始剤を用いてもよい。
イオン性光カチオン重合開始剤として、例えば、ジアリールヨードニウム塩類及びトリアリールスルホニウム塩類等のオニウム塩化合物、並びに、第４級アンモニウム塩類が挙げられる。
イオン性光カチオン重合開始剤としては、特開２０１４－８５６４３号公報の段落０１１４～０１３３に記載のイオン性光カチオン重合開始剤を用いてもよい。
【0121】
非イオン性光カチオン重合開始剤としては、例えば、トリクロロメチル－ｓ－トリアジン類、ジアゾメタン化合物、イミドスルホネート化合物、及び、オキシムスルホネート化合物が挙げられる。トリクロロメチル－ｓ－トリアジン類、ジアゾメタン化合物及びイミドスルホネート化合物としては、特開２０１１－２２１４９４号公報の段落００８３～００８８に記載の化合物を用いてもよい。また、オキシムスルホネート化合物としては、国際公開第２０１８／１７９６４０号の段落００８４～００８８に記載された化合物を用いてもよい。
【0122】
感光性樹脂層は、光ラジカル重合開始剤を含有することが好ましく、２，４，５－トリアリールイミダゾール二量体及びその誘導体からなる群より選択される少なくとも１種を含有することがより好ましい。
【0123】
感光性樹脂層は、光重合開始剤を、１種単独で含有してもよいし、２種以上を含有してもよい。
感光性樹脂層における光重合開始剤の含有量は、特に制限されないが、感光性樹脂層の全質量に対し、０．１質量％以上が好ましく、０．５質量％以上がより好ましく、１．０質量％以上が更に好ましい。上限は特に制限されないが、感光性樹脂層の全質量に対し、１０質量％以下が好ましく、５質量％以下がより好ましい。
感光性樹脂層における光重合開始剤の含有量は、特に制限されないが、感光性樹脂層の全質量に対し、０．１質量％以上が好ましく、０．５質量％以上がより好ましく、１．０質量％以上が更に好ましい。上限は特に制限されないが、感光性樹脂層の全質量に対し、１０質量％以下が好ましく、５質量％以下がより好ましい。
【0124】
－色素－
感光性樹脂層は、露光部及び非露光部の視認性、現像後のパターン視認性、及び、解像性の観点から、発色時の波長範囲４００ｎｍ～７８０ｎｍにおける最大吸収波長が４５０ｎｍ以上であり、かつ、酸、塩基、又はラジカルにより最大吸収波長が変化する色素（単に「色素Ｎ」ともいう。）を含有することが好ましい。色素Ｎを含有すると、詳細なメカニズムは不明であるが、隣接する層（例えば仮支持体及び中間層）との密着性が向上し、解像性により優れる。
感光性樹脂層は、露光部及び非露光部の視認性、現像後のパターン視認性、及び、解像性の観点から、発色時の波長範囲４００ｎｍ～７８０ｎｍにおける最大吸収波長が４５０ｎｍ以上であり、かつ、酸、塩基、又はラジカルにより最大吸収波長が変化する色素（単に「色素Ｎ」ともいう。）を含有することが好ましい。色素Ｎを含有すると、詳細なメカニズムは不明であるが、隣接する層（例えば仮支持体及び中間層）との密着性が向上し、解像性により優れる。
【0125】
本明細書において、色素が「酸、塩基又はラジカルにより極大吸収波長が変化する」とは、発色状態にある色素が酸、塩基又はラジカルにより消色する態様、消色状態にある色素が酸、塩基又はラジカルにより発色する態様、及び、発色状態にある色素が他の色相の発色状態に変化する態様のいずれの態様を意味してもよい。
具体的には、色素Ｎは、露光により消色状態から変化して発色する化合物であってもよいし、露光により発色状態から変化して消色する化合物であってもよい。この場合、露光により酸、塩基又はラジカルが感光性樹脂層内において発生し作用することにより、発色又は消色の状態が変化する色素でもよく、酸、塩基又はラジカルにより感光性樹脂層内の状態（例えばｐＨ）が変化することで発色又は消色の状態が変化する色素でもよい。また、露光を介さずに、酸、塩基又はラジカルを刺激として直接受けて発色又は消色の状態が変化する色素でもよい。
具体的には、色素Ｎは、露光により消色状態から変化して発色する化合物であってもよいし、露光により発色状態から変化して消色する化合物であってもよい。この場合、露光により酸、塩基又はラジカルが感光性樹脂層内において発生し作用することにより、発色又は消色の状態が変化する色素でもよく、酸、塩基又はラジカルにより感光性樹脂層内の状態（例えばｐＨ）が変化することで発色又は消色の状態が変化する色素でもよい。また、露光を介さずに、酸、塩基又はラジカルを刺激として直接受けて発色又は消色の状態が変化する色素でもよい。
【0126】
中でも、露光部及び非露光部の視認性並びに解像性の観点から、色素Ｎは、酸又はラジカルにより最大吸収波長が変化する色素が好ましく、ラジカルにより最大吸収波長が変化する色素がより好ましい。
感光性樹脂層は、露光部及び非露光部の視認性並びに解像性の観点から、色素Ｎとしてラジカルにより最大吸収波長が変化する色素、及び、光ラジカル重合開始剤の両者を含有することが好ましい。
また、露光部及び非露光部の視認性の観点から、色素Ｎは、酸、塩基、又はラジカルにより発色する色素であることが好ましい。
感光性樹脂層は、露光部及び非露光部の視認性並びに解像性の観点から、色素Ｎとしてラジカルにより最大吸収波長が変化する色素、及び、光ラジカル重合開始剤の両者を含有することが好ましい。
また、露光部及び非露光部の視認性の観点から、色素Ｎは、酸、塩基、又はラジカルにより発色する色素であることが好ましい。
【0127】
本開示における色素Ｎの発色機構の例としては、感光性樹脂層に光ラジカル重合開始剤、光カチオン重合開始剤（光酸発生剤）又は光塩基発生剤を添加して、露光後に光ラジカル重合開始剤、光カチオン重合開始剤又は光塩基発生剤から発生するラジカル、酸又は塩基によって、ラジカル反応性色素、酸反応性色素又は塩基反応性色素（例えばロイコ色素）が発色する態様が挙げられる。
【0128】
色素Ｎは、露光部及び非露光部の視認性の観点から、発色時の波長範囲４００ｎｍ～７８０ｎｍにおける極大吸収波長が、５５０ｎｍ以上であることが好ましく、５５０ｎｍ～７００ｎｍであることがより好ましく、５５０ｎｍ～６５０ｎｍであることが更に好ましい。
また、色素Ｎは、発色時の波長範囲４００ｎｍ～７８０ｎｍにおける極大吸収波長を１つのみ有していてもよく、２つ以上有していてもよい。色素Ｎが発色時の波長範囲４００ｎｍ～７８０ｎｍにおける極大吸収波長を２つ以上有する場合は、２つ以上の極大吸収波長のうち吸光度が最も高い極大吸収波長が４５０ｎｍ以上であればよい。
また、色素Ｎは、発色時の波長範囲４００ｎｍ～７８０ｎｍにおける極大吸収波長を１つのみ有していてもよく、２つ以上有していてもよい。色素Ｎが発色時の波長範囲４００ｎｍ～７８０ｎｍにおける極大吸収波長を２つ以上有する場合は、２つ以上の極大吸収波長のうち吸光度が最も高い極大吸収波長が４５０ｎｍ以上であればよい。
【0129】
色素Ｎの極大吸収波長は、大気雰囲気下で、分光光度計：ＵＶ３１００（（株）島津製作所製）を用いて、４００ｎｍ～７８０ｎｍの範囲で色素Ｎを含有する溶液（液温２５℃）の透過スペクトルを測定し、光の強度が極小となる波長（極大吸収波長）を検出することにより、得られる。
【0130】
露光により発色又は消色する色素としては、例えば、ロイコ化合物が挙げられる。
露光により消色する色素としては、例えば、ロイコ化合物、ジアリールメタン系色素、オキザジン系色素、キサンテン系色素、イミノナフトキノン系色素、アゾメチン系色素及びアントラキノン系色素が挙げられる。
色素Ｎとしては、露光部及び非露光部の視認性の観点から、ロイコ化合物が好ましい。
露光により消色する色素としては、例えば、ロイコ化合物、ジアリールメタン系色素、オキザジン系色素、キサンテン系色素、イミノナフトキノン系色素、アゾメチン系色素及びアントラキノン系色素が挙げられる。
色素Ｎとしては、露光部及び非露光部の視認性の観点から、ロイコ化合物が好ましい。
【0131】
ロイコ化合物としては、例えば、トリアリールメタン骨格を有するロイコ化合物（トリアリールメタン系色素）、スピロピラン骨格を有するロイコ化合物（スピロピラン系色素）、フルオラン骨格を有するロイコ化合物（フルオラン系色素）、ジアリールメタン骨格を有するロイコ化合物（ジアリールメタン系色素）、ローダミンラクタム骨格を有するロイコ化合物（ローダミンラクタム系色素）、インドリルフタリド骨格を有するロイコ化合物（インドリルフタリド系色素）、及び、ロイコオーラミン骨格を有するロイコ化合物（ロイコオーラミン系色素）が挙げられる。
中でも、トリアリールメタン系色素又はフルオラン系色素が好ましく、トリフェニルメタン骨格を有するロイコ化合物（トリフェニルメタン系色素）又はフルオラン系色素がより好ましい。
中でも、トリアリールメタン系色素又はフルオラン系色素が好ましく、トリフェニルメタン骨格を有するロイコ化合物（トリフェニルメタン系色素）又はフルオラン系色素がより好ましい。
【0132】
ロイコ化合物としては、露光部及び非露光部の視認性の観点から、ラクトン環、スルチン環又はスルトン環を有することが好ましい。これにより、ロイコ化合物が有するラクトン環、スルチン環又はスルトン環を、光ラジカル重合開始剤から発生するラジカル又は光カチオン重合開始剤から発生する酸と反応させて、ロイコ化合物を閉環状態に変化させて消色させるか、又は、ロイコ化合物を開環状態に変化させて発色させることができる。ロイコ化合物としては、ラクトン環、スルチン環又はスルトン環を有し、ラジカル又は酸によりラクトン環、スルチン環又はスルトン環が開環して発色する化合物が好ましく、ラクトン環を有し、ラジカル又は酸によりラクトン環が開環して発色する化合物がより好ましい。
【0133】
色素Ｎとしては、例えば、以下の染料及びロイコ化合物が挙げられる。
色素Ｎのうち染料の具体例としては、ブリリアントグリーン、エチルバイオレット、メチルグリーン、クリスタルバイオレット、ベイシックフクシン、メチルバイオレット２Ｂ、キナルジンレッド、ローズベンガル、メタニルイエロー、チモールスルホフタレイン、キシレノールブルー、メチルオレンジ、パラメチルレッド、コンゴーフレッド、ベンゾプルプリン４Ｂ、α－ナフチルレッド、ナイルブルー２Ｂ、ナイルブルーＡ、メチルバイオレット、マラカイトグリーン、パラフクシン、ビクトリアピュアブルー－ナフタレンスルホン酸塩、ビクトリアピュアブルーＢＯＨ（保土谷化学工業（株）製）、オイルブルー＃６０３（オリヱント化学工業（株）製）、オイルピンク＃３１２（オリヱント化学工業（株）製）、オイルレッド５Ｂ（オリヱント化学工業（株）製）、オイルスカーレット＃３０８（オリヱント化学工業（株）製）、オイルレッドＯＧ（オリヱント化学工業（株）製）、オイルレッドＲＲ（オリヱント化学工業（株）製）、オイルグリーン＃５０２（オリヱント化学工業（株）製）、スピロンレッドＢＥＨスペシャル（保土谷化学工業（株）製）、ｍ－クレゾールパープル、クレゾールレッド、ローダミンＢ、ローダミン６Ｇ、スルホローダミンＢ、オーラミン、４－ｐ－ジエチルアミノフェニルイミノナフトキノン、２－カルボキシアニリノ－４－ｐ－ジエチルアミノフェニルイミノナフトキノン、２－カルボキシステアリルアミノ－４－ｐ－Ｎ，Ｎ－ビス（ヒドロキシエチル）アミノ－フェニルイミノナフトキノン、１－フェニル－３－メチル－４－ｐ－ジエチルアミノフェニルイミノ－５－ピラゾロン、及び、１－β－ナフチル－４－ｐ－ジエチルアミノフェニルイミノ－５－ピラゾロンが挙げられる。
色素Ｎのうち染料の具体例としては、ブリリアントグリーン、エチルバイオレット、メチルグリーン、クリスタルバイオレット、ベイシックフクシン、メチルバイオレット２Ｂ、キナルジンレッド、ローズベンガル、メタニルイエロー、チモールスルホフタレイン、キシレノールブルー、メチルオレンジ、パラメチルレッド、コンゴーフレッド、ベンゾプルプリン４Ｂ、α－ナフチルレッド、ナイルブルー２Ｂ、ナイルブルーＡ、メチルバイオレット、マラカイトグリーン、パラフクシン、ビクトリアピュアブルー－ナフタレンスルホン酸塩、ビクトリアピュアブルーＢＯＨ（保土谷化学工業（株）製）、オイルブルー＃６０３（オリヱント化学工業（株）製）、オイルピンク＃３１２（オリヱント化学工業（株）製）、オイルレッド５Ｂ（オリヱント化学工業（株）製）、オイルスカーレット＃３０８（オリヱント化学工業（株）製）、オイルレッドＯＧ（オリヱント化学工業（株）製）、オイルレッドＲＲ（オリヱント化学工業（株）製）、オイルグリーン＃５０２（オリヱント化学工業（株）製）、スピロンレッドＢＥＨスペシャル（保土谷化学工業（株）製）、ｍ－クレゾールパープル、クレゾールレッド、ローダミンＢ、ローダミン６Ｇ、スルホローダミンＢ、オーラミン、４－ｐ－ジエチルアミノフェニルイミノナフトキノン、２－カルボキシアニリノ－４－ｐ－ジエチルアミノフェニルイミノナフトキノン、２－カルボキシステアリルアミノ－４－ｐ－Ｎ，Ｎ－ビス（ヒドロキシエチル）アミノ－フェニルイミノナフトキノン、１－フェニル－３－メチル－４－ｐ－ジエチルアミノフェニルイミノ－５－ピラゾロン、及び、１－β－ナフチル－４－ｐ－ジエチルアミノフェニルイミノ－５－ピラゾロンが挙げられる。
【0134】
色素Ｎのうちロイコ化合物の具体例としては、ｐ，ｐ’，ｐ”－ヘキサメチルトリアミノトリフェニルメタン（ロイコクリスタルバイオレット）、Ｐｅｒｇａｓｃｒｉｐｔ Ｂｌｕｅ ＳＲＢ（チバガイギー社製）、クリスタルバイオレットラクトン、マラカイトグリーンラクトン、ベンゾイルロイコメチレンブルー、２－（Ｎ－フェニル－Ｎ－メチルアミノ）－６－（Ｎ－ｐ－トリル－Ｎ－エチル）アミノフルオラン、２－アニリノ－３－メチル－６－（Ｎ－エチル－ｐ－トルイジノ）フルオラン、３，６－ジメトキシフルオラン、３－（Ｎ，Ｎ－ジエチルアミノ）－５－メチル－７－（Ｎ，Ｎ－ジベンジルアミノ）フルオラン、３－（Ｎ－シクロヘキシル－Ｎ－メチルアミノ）－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－（Ｎ，Ｎ－ジエチルアミノ）－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－（Ｎ，Ｎ－ジエチルアミノ）－６－メチル－７－キシリジノフルオラン、３－（Ｎ，Ｎ－ジエチルアミノ）－６－メチル－７－クロロフルオラン、３－（Ｎ，Ｎ－ジエチルアミノ）－６－メトキシ－７－アミノフルオラン、３－（Ｎ，Ｎ－ジエチルアミノ）－７－（４－クロロアニリノ）フルオラン、３－（Ｎ，Ｎ－ジエチルアミノ）－７－クロロフルオラン、３－（Ｎ，Ｎ－ジエチルアミノ）－７－ベンジルアミノフルオラン、３－（Ｎ，Ｎ－ジエチルアミノ）－７，８－ベンゾフロオラン、３－（Ｎ，Ｎ－ジブチルアミノ）－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－（Ｎ，Ｎ－ジブチルアミノ）－６－メチル－７－キシリジノフルオラン、３－ピペリジノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－ピロリジノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３，３－ビス（１－エチル－２－メチルインドール－３－イル）フタリド、３，３－ビス（１－ｎ－ブチル－２－メチルインドール－３－イル）フタリド、３，３－ビス（ｐ－ジメチルアミノフェニル）－６－ジメチルアミノフタリド、３－（４－ジエチルアミノ－２－エトキシフェニル）－３－（１－エチル－２－メチルインドール－３－イル）－４－ザフタリド、３－（４－ジエチルアミノフェニル）－３－（１－エチル－２－メチルインドール－３－イル）フタリド、及び、３’，６’－ビス（ジフェニルアミノ）スピロイソベンゾフラン－１（３Ｈ），９’－［９Ｈ］キサンテン－３－オンが挙げられる。
【0135】
色素Ｎは、露光部及び非露光部の視認性、現像後のパターン視認性、及び、解像性の観点から、ラジカルにより最大吸収波長が変化する色素であることが好ましく、ラジカルにより発色する色素であることがより好ましい。
色素Ｎとしては、ロイコクリスタルバイオレット、クリスタルバイオレットラクトン、ブリリアントグリーン、又は、ビクトリアピュアブルー－ナフタレンスルホン酸塩が好ましい。
色素Ｎとしては、ロイコクリスタルバイオレット、クリスタルバイオレットラクトン、ブリリアントグリーン、又は、ビクトリアピュアブルー－ナフタレンスルホン酸塩が好ましい。
【0136】
色素Ｎは、１種単独で使用しても、２種以上を使用してもよい。
色素Ｎの含有量は、露光部及び非露光部の視認性、現像後のパターン視認性、及び、解像性の観点から、感光性樹脂層の全質量に対し、０．１質量％以上が好ましく、０．１質量％～１０質量％がより好ましく、０．１質量％～５質量％が更に好ましく、０．１質量％～１質量％が特に好ましい。
色素Ｎの含有量は、露光部及び非露光部の視認性、現像後のパターン視認性、及び、解像性の観点から、感光性樹脂層の全質量に対し、０．１質量％以上が好ましく、０．１質量％～１０質量％がより好ましく、０．１質量％～５質量％が更に好ましく、０．１質量％～１質量％が特に好ましい。
【0137】
色素Ｎの含有量は、感光性樹脂層に含まれる色素Ｎの全てを発色状態にした場合の色素の含有量を意味する。以下に、ラジカルにより発色する色素を例に、色素Ｎの含有量の定量方法を説明する。
メチルエチルケトン１００ｍＬに、色素０．００１ｇ及び０．０１ｇを溶かした溶液を調製する。得られた各溶液に、光ラジカル重合開始剤Ｉｒｇａｃｕｒｅ ＯＸＥ０１（商品名、ＢＡＳＦジャパン株式会社）を加え、３６５ｎｍの光を照射することによりラジカルを発生させ、
全ての色素を発色状態にする。その後、大気雰囲気下で、分光光度計（ＵＶ３１００、（株）島津製作所製）を用いて、液温が２５℃である各溶液の吸光度を測定し、検量線を作成する。
次に、色素に代えて感光性樹脂層３ｇをメチルエチルケトンに溶かすこと以外は上記と同様の方法で、色素を全て発色させた溶液の吸光度を測定する。得られた感光性樹脂層を含有する溶液の吸光度から、検量線に基づいて感光性樹脂層に含まれる色素の含有量を算出する。
メチルエチルケトン１００ｍＬに、色素０．００１ｇ及び０．０１ｇを溶かした溶液を調製する。得られた各溶液に、光ラジカル重合開始剤Ｉｒｇａｃｕｒｅ ＯＸＥ０１（商品名、ＢＡＳＦジャパン株式会社）を加え、３６５ｎｍの光を照射することによりラジカルを発生させ、
全ての色素を発色状態にする。その後、大気雰囲気下で、分光光度計（ＵＶ３１００、（株）島津製作所製）を用いて、液温が２５℃である各溶液の吸光度を測定し、検量線を作成する。
次に、色素に代えて感光性樹脂層３ｇをメチルエチルケトンに溶かすこと以外は上記と同様の方法で、色素を全て発色させた溶液の吸光度を測定する。得られた感光性樹脂層を含有する溶液の吸光度から、検量線に基づいて感光性樹脂層に含まれる色素の含有量を算出する。
【0138】
－界面活性剤－
感光性樹脂層は、厚さ均一性の観点から、界面活性剤を含有することが好ましい。
界面活性剤としては、例えば、アニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、ノニオン性（非イオン性）界面活性剤、及び、両性界面活性剤が挙げられ、ノニオン性界面活性剤が好ましい。
感光性樹脂層は、厚さ均一性の観点から、界面活性剤を含有することが好ましい。
界面活性剤としては、例えば、アニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、ノニオン性（非イオン性）界面活性剤、及び、両性界面活性剤が挙げられ、ノニオン性界面活性剤が好ましい。
【0139】
ノニオン性界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレン高級アルキルエーテル類、ポリオキシエチレン高級アルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレングリコールの高級脂肪酸ジエステル類、シリコーン系ノニオン性界面活性剤、及び、フッ素系ノニオン性界面活性剤が挙げられる。
【0140】
感光性樹脂層は、解像性がより優れる点から、フッ素系ノニオン性界面活性剤を含有することが好ましい。感光性樹脂層がフッ素系ノニオン性界面活性剤を含有することにより、エッチング液の感光性樹脂層への浸透を抑制してサイドエッチングを低減するためと考えられる。
【0141】
フッ素系ノニオン性界面活性剤の市販品としては、例えば、メガファックＦ－５５１、Ｆ－５５２及びＦ－５５４（いずれもＤＩＣ（株）製）が挙げられる。
【0142】
また、フッ素系界面活性剤の市販品としては、例えば、メガファック Ｆ－１７１、Ｆ－１７２、Ｆ－１７３、Ｆ－１７６、Ｆ－１７７、Ｆ－１４１、Ｆ－１４２、Ｆ－１４３、Ｆ－１４４、Ｆ－４３７、Ｆ－４７５、Ｆ－４７７、Ｆ－４７９、Ｆ－４８２、Ｆ－５５５－Ａ、Ｆ－５５６、Ｆ－５５７、Ｆ－５５８、Ｆ－５５９、Ｆ－５６０、Ｆ－５６１、Ｆ－５６５、Ｆ－５６３、Ｆ－５６８、Ｆ－５７５、Ｆ－７８０、ＥＸＰ、ＭＦＳ－３３０、ＭＦＳ－５７８、ＭＦＳ－５７９、ＭＦＳ－５８６、ＭＦＳ－５８７、Ｒ－４１、Ｒ－４１－ＬＭ、Ｒ－０１、Ｒ－４０、Ｒ－４０－ＬＭ、ＲＳ－４３、ＴＦ－１９５６、ＲＳ－９０、Ｒ－９４、ＲＳ－７２－Ｋ、ＤＳ－２１（以上、ＤＩＣ株式会社製）、
フロラード ＦＣ４３０、ＦＣ４３１、ＦＣ１７１（以上、住友スリーエム（株）製）、サーフロンＳ－３８２、ＳＣ－１０１、ＳＣ－１０３、ＳＣ－１０４、ＳＣ－１０５、ＳＣ－１０６８、ＳＣ－３８１、ＳＣ－３８３、Ｓ－３９３、ＫＨ－４０（以上、ＡＧＣ（株）製）、
ＰｏｌｙＦｏｘ ＰＦ６３６、ＰＦ６５６、ＰＦ６３２０、ＰＦ６５２０、ＰＦ７００２（以上、ＯＭＮＯＶＡ社製）、
フタージェント ７１０ＦＬ、７１０ＦＭ、６１０ＦＭ、６０１ＡＤ、６０１ＡＤＨ２、６０２Ａ、２１５Ｍ、２４５Ｆ、２５１、２１２Ｍ、２５０、２０９Ｆ、２２２Ｆ、２０８Ｇ、７１０ＬＡ、７１０ＦＳ、７３０ＬＭ、６５０ＡＣ、６８１、６８３（以上、（株）ＮＥＯＳ製）等
が挙げられる。
フロラード ＦＣ４３０、ＦＣ４３１、ＦＣ１７１（以上、住友スリーエム（株）製）、サーフロンＳ－３８２、ＳＣ－１０１、ＳＣ－１０３、ＳＣ－１０４、ＳＣ－１０５、ＳＣ－１０６８、ＳＣ－３８１、ＳＣ－３８３、Ｓ－３９３、ＫＨ－４０（以上、ＡＧＣ（株）製）、
ＰｏｌｙＦｏｘ ＰＦ６３６、ＰＦ６５６、ＰＦ６３２０、ＰＦ６５２０、ＰＦ７００２（以上、ＯＭＮＯＶＡ社製）、
フタージェント ７１０ＦＬ、７１０ＦＭ、６１０ＦＭ、６０１ＡＤ、６０１ＡＤＨ２、６０２Ａ、２１５Ｍ、２４５Ｆ、２５１、２１２Ｍ、２５０、２０９Ｆ、２２２Ｆ、２０８Ｇ、７１０ＬＡ、７１０ＦＳ、７３０ＬＭ、６５０ＡＣ、６８１、６８３（以上、（株）ＮＥＯＳ製）等
が挙げられる。
【0143】
また、フッ素系界面活性剤としては、フッ素原子を含有する官能基を持つ分子構造を有し、熱を加えるとフッ素原子を含有する官能基の部分が切断されてフッ素原子が揮発するアクリル系化合物も好適に使用できる。このようなフッ素系界面活性剤としては、ＤＩＣ（株）製のメガファック ＤＳシリーズ（化学工業日報（２０１６年２月２２日）、日経産業新聞（２０１６年２月２３日））、例えばメガファック ＤＳ－２１が挙げられる。
【0144】
また、フッ素系界面活性剤としては、フッ素化アルキル基またはフッ素化アルキレンエーテル基を有するフッ素原子含有ビニルエーテル化合物と、親水性のビニルエーテル化合物との重合体を用いることも好ましい。
【0145】
また、フッ素系界面活性剤としては、ブロックポリマーも使用できる。
【0146】
また、フッ素系界面活性剤としては、フッ素原子を有する（メタ）アクリレート化合物に由来する構成単位と、アルキレンオキシ基（好ましくはエチレンオキシ基、プロピレンオキシ基）を２以上（好ましくは５以上）有する（メタ）アクリレート化合物に由来する構成単位と、を含む含フッ素高分子化合物も好ましく使用できる。
【0147】
また、フッ素系界面活性剤としては、エチレン性不飽和結合含有基を側鎖に有する含フッ素重合体も使用できる。メガファック ＲＳ－１０１、ＲＳ－１０２、ＲＳ－７１８Ｋ、ＲＳ－７２－Ｋ（以上、ＤＩＣ株式会社製）等が挙げられる。
【0148】
フッ素系界面活性剤としては、環境適性向上の観点から、パーフルオロオクタン酸（ＰＦＯＡ）及びパーフルオロオクタンスルホン酸（ＰＦＯＳ）等の炭素数が７以上の直鎖状パーフルオロアルキル基を有する化合物の代替材料に由来する界面活性剤であることが好ましい。
【0149】
ノニオン系界面活性剤としては、グリセロール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン並びにそれらのエトキシレート及びプロポキシレート（例えば、グリセロールプロポキシレート、グリセロールエトキシレート等）、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジステアレート、ソルビタン脂肪酸エステル、プルロニック Ｌ１０、Ｌ３１、Ｌ６１、Ｌ６２、１０Ｒ５、１７Ｒ２、２５Ｒ２（以上、ＢＡＳＦ社製）、テトロニック ３０４、７０１、７０４、９０１、９０４、１５０Ｒ１（以上、ＢＡＳＦ社製）、ソルスパース ２００００（以上、日本ルーブリゾール（株）製）、ＮＣＷ－１０１、ＮＣＷ－１００１、ＮＣＷ－１００２（以上、富士フイルム和光純薬（株）製）、パイオニン Ｄ－６１１２、Ｄ－６１１２－Ｗ、Ｄ－６３１５（以上、竹本油脂（株）製）、オルフィンＥ１０１０、サーフィノール１０４、４００、４４０（以上、日信化学工業（株）製）等が挙げられる。
【0150】
シリコーン系界面活性剤としては、シロキサン結合からなる直鎖状ポリマー、及び、側鎖や末端に有機基を導入した変性シロキサンポリマーが挙げられる。
【0151】
シリコーン系界面活性剤の具体例としては、ＤＯＷＳＩＬ ８０３２ ＡＤＤＩＴＩＶＥ、トーレシリコーンＤＣ３ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ７ＰＡ、トーレシリコーンＤＣ１１ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ２１ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ２８ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ２９ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ３０ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ８４００（以上、東レ・ダウコーニング（株）製）並びに、Ｘ－２２－４９５２、Ｘ－２２－４２７２、Ｘ－２２－６２６６、ＫＦ－３５１Ａ、Ｋ３５４Ｌ、ＫＦ－３５５Ａ、ＫＦ－９４５、ＫＦ－６４０、ＫＦ－６４２、ＫＦ－６４３、Ｘ－２２－６１９１、Ｘ－２２－４５１５、ＫＦ－６００４、ＫＰ－３４１、ＫＦ－６００１、ＫＦ－６００２（以上、信越シリコーン株式会社製）、Ｆ－４４４０、ＴＳＦ－４３００、ＴＳＦ－４４４５、ＴＳＦ－４４６０、ＴＳＦ－４４５２（以上、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製）、ＢＹＫ３０７、ＢＹＫ３２３、ＢＹＫ３３０（以上、ビックケミー社製）等が挙げられる。
【0152】
界面活性剤としては、国際公開第２０１８／１７９６４０号の段落０１２０～０１２５に記載の界面活性剤、特許第４５０２７８４号公報の段落００１７に記載の界面活性剤、及び、特開２００９－２３７３６２号公報の段落００６０～００７１に記載の界面活性剤を用いることもできる。
【0153】
感光性樹脂層は、界面活性剤を、１種単独で含有してもよいし、２種以上を含有してもよい。
界面活性剤の含有量は、感光性樹脂層の全質量に対し、０．００１質量％～１０質量％が好ましく、０．０１質量％～３質量％がより好ましい。
界面活性剤の含有量は、感光性樹脂層の全質量に対し、０．００１質量％～１０質量％が好ましく、０．０１質量％～３質量％がより好ましい。
【0154】
－添加剤－
感光性樹脂層は、上記成分以外に、必要に応じて公知の添加剤を含有してもよい。
添加剤としては、例えば、ラジカル重合禁止剤、増感剤、可塑剤、ヘテロ環状化合物、ベンゾトリアゾール類、カルボキシベンゾトリアゾール類、重合体Ａ以外の樹脂、及び、溶剤が挙げられる。感光性樹脂層は、各添加剤を１種単独で含有してもよいし、２種以上を含有してもよい。
感光性樹脂層は、上記成分以外に、必要に応じて公知の添加剤を含有してもよい。
添加剤としては、例えば、ラジカル重合禁止剤、増感剤、可塑剤、ヘテロ環状化合物、ベンゾトリアゾール類、カルボキシベンゾトリアゾール類、重合体Ａ以外の樹脂、及び、溶剤が挙げられる。感光性樹脂層は、各添加剤を１種単独で含有してもよいし、２種以上を含有してもよい。
【0155】
感光性樹脂層は、ラジカル重合禁止剤を含有してもよい。
ラジカル重合禁止剤としては、例えば、特許第４５０２７８４号公報の段落００１８に記載された熱重合防止剤が挙げられる。中でも、フェノチアジン、フェノキサジン又は４－メトキシフェノールが好ましい。その他のラジカル重合禁止剤としては、ナフチルアミン、塩化第一銅、ニトロソフェニルヒドロキシアミンアルミニウム塩、ジフェニルニトロソアミン等が挙げられる。感光性樹脂層の感度を損なわないために、ニトロソフェニルヒドロキシアミンアルミニウム塩をラジカル重合禁止剤として使用することが好ましい。
ラジカル重合禁止剤としては、例えば、特許第４５０２７８４号公報の段落００１８に記載された熱重合防止剤が挙げられる。中でも、フェノチアジン、フェノキサジン又は４－メトキシフェノールが好ましい。その他のラジカル重合禁止剤としては、ナフチルアミン、塩化第一銅、ニトロソフェニルヒドロキシアミンアルミニウム塩、ジフェニルニトロソアミン等が挙げられる。感光性樹脂層の感度を損なわないために、ニトロソフェニルヒドロキシアミンアルミニウム塩をラジカル重合禁止剤として使用することが好ましい。
【0156】
ベンゾトリアゾール類としては、例えば、１，２，３－ベンゾトリアゾール、１－クロロ－１，２，３－ベンゾトリアゾール、ビス（Ｎ－２－エチルヘキシル）アミノメチレン－１，２，３－ベンゾトリアゾール、ビス（Ｎ－２－エチルヘキシル）アミノメチレン－１，２，３－トリルトリアゾール、ビス（Ｎ－２－ヒドロキシエチル）アミノメチレン－１，２，３－ベンゾトリアゾール等が挙げられる。
【0157】
カルボキシベンゾトリアゾール類としては、例えば、４－カルボキシ－１，２，３－ベンゾトリアゾール、５－カルボキシ－１，２，３－ベンゾトリアゾール、Ｎ－（Ｎ，Ｎ－ジ－２－エチルヘキシル）アミノメチレンカルボキシベンゾトリアゾール、Ｎ－（Ｎ，Ｎ－ジ－２－ヒドロキシエチル）アミノメチレンカルボキシベンゾトリアゾール、Ｎ－（Ｎ，Ｎ－ジ－２－エチルヘキシル）アミノエチレンカルボキシベンゾトリアゾール等が挙げられる。カルボキシベンゾトリアゾール類としては、例えば、ＣＢＴ－１（城北化学工業株式会社、商品名）などの市販品を用いることができる。
【0158】
ラジカル重合禁止剤、ベンゾトリアゾ－ル類、及びカルボキシベンゾトリアゾ－ル類の合計含有量は、感光性樹脂層の全質量を１００質量％としたとき、好ましくは０．０１質量％～３質量％であり、より好ましくは０．０５質量％～１質量％である。該含有量を０．０１質量％以上にすることは、感光性樹脂層に保存安定性を付与するという観点から好ましい。一方で、上記含有量を３質量％以下にすることは、感度を維持し、染料の脱色を抑える観点から好ましい。
【0159】
感光性樹脂層は、増感剤を含有してもよい。
増感剤は、特に制限されず、公知の増感剤、染料及び顔料を用いることができる。増感剤としては、例えば、ジアルキルアミノベンゾフェノン化合物、ピラゾリン化合物、アントラセン化合物、クマリン化合物、キサントン化合物、チオキサントン化合物、アクリドン化合物、オキサゾール化合物、ベンゾオキサゾール化合物、チアゾール化合物、ベンゾチアゾール化合物、トリアゾール化合物（例えば、１，２，４－トリアゾール）、スチルベン化合物、トリアジン化合物、チオフェン化合物、ナフタルイミド化合物、トリアリールアミン化合物、及び、アミノアクリジン化合物が挙げられる。
増感剤は、特に制限されず、公知の増感剤、染料及び顔料を用いることができる。増感剤としては、例えば、ジアルキルアミノベンゾフェノン化合物、ピラゾリン化合物、アントラセン化合物、クマリン化合物、キサントン化合物、チオキサントン化合物、アクリドン化合物、オキサゾール化合物、ベンゾオキサゾール化合物、チアゾール化合物、ベンゾチアゾール化合物、トリアゾール化合物（例えば、１，２，４－トリアゾール）、スチルベン化合物、トリアジン化合物、チオフェン化合物、ナフタルイミド化合物、トリアリールアミン化合物、及び、アミノアクリジン化合物が挙げられる。
【0160】
感光性樹脂層は、増感剤を１種単独で含有してもよいし、２種以上を含有してもよい。
感光性樹脂層が増感剤を含有する場合、増感剤の含有量は、目的により適宜選択できるが、光源に対する感度の向上、及び、重合速度と連鎖移動のバランスによる硬化速度の向上の観点から、感光性樹脂層の全質量に対して、０．０１質量％～５質量％が好ましく、０．０５質量％～１質量％がより好ましい。
感光性樹脂層が増感剤を含有する場合、増感剤の含有量は、目的により適宜選択できるが、光源に対する感度の向上、及び、重合速度と連鎖移動のバランスによる硬化速度の向上の観点から、感光性樹脂層の全質量に対して、０．０１質量％～５質量％が好ましく、０．０５質量％～１質量％がより好ましい。
【0161】
感光性樹脂層は、可塑剤及びヘテロ環状化合物からなる群より選択される少なくとも１種を含有してもよい。
可塑剤及びヘテロ環状化合物としては、国際公開第２０１８／１７９６４０号の段落００９７～０１０３及び０１１１～０１１８に記載された化合物が挙げられる。
可塑剤及びヘテロ環状化合物としては、国際公開第２０１８／１７９６４０号の段落００９７～０１０３及び０１１１～０１１８に記載された化合物が挙げられる。
【0162】
感光性樹脂層は、溶剤を含有してもよい。溶剤を含む感光性樹脂組成物により感光性樹脂層を形成した場合、感光性樹脂層に溶剤が残留することがある。
【0163】
また、感光性樹脂層は、金属酸化物粒子、酸化防止剤、分散剤、酸増殖剤、現像促進剤、導電性繊維、熱ラジカル重合開始剤、熱酸発生剤、紫外線吸収剤、増粘剤、架橋剤、及び、有機又は無機の沈殿防止剤等の公知の添加剤を更に含有してもよい。
感光性樹脂層に含有される添加剤については特開２０１４－８５６４３号公報の段落０１６５～０１８４に記載されており、この公報の内容は本明細書に組み込まれる。
感光性樹脂層に含有される添加剤については特開２０１４－８５６４３号公報の段落０１６５～０１８４に記載されており、この公報の内容は本明細書に組み込まれる。
【0164】
＜物性等＞
感光性樹脂層の層厚は、０．１μｍ～３００μｍが好ましく、０．２μｍ～１００μｍがより好ましく、０．５μｍ～５０μｍが更に好ましく、０．５μｍ～１５μｍがより更に好ましく、０．５μｍ～１０μｍが特に好ましく、０．５μｍ～８μｍが最も好ましい。これにより、感光性樹脂層の現像性が向上し、解像性を向上させることができる。
また、一態様において、０．５μｍ～５μｍが好ましく、０．５μｍ～４μｍがより好ましく、０．５μｍ～３μｍが更に好ましい。
更に、感光性樹脂層の層厚は、直線性の観点から、１０μｍ以下が好ましく、８μｍ以下がより好ましく、６μｍ以下が更に好ましく、１μｍ以上４μｍ以下が特に好ましい。
感光性転写部材が備える各層の層厚は、感光性転写部材の主面に対し垂直な方向の断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ：Scanning Electron Microscope）により観察し、得られた観察画像に基づいて各層の厚さを１０点以上計測し、その平均値を算出することにより、測定される。
感光性樹脂層の層厚は、０．１μｍ～３００μｍが好ましく、０．２μｍ～１００μｍがより好ましく、０．５μｍ～５０μｍが更に好ましく、０．５μｍ～１５μｍがより更に好ましく、０．５μｍ～１０μｍが特に好ましく、０．５μｍ～８μｍが最も好ましい。これにより、感光性樹脂層の現像性が向上し、解像性を向上させることができる。
また、一態様において、０．５μｍ～５μｍが好ましく、０．５μｍ～４μｍがより好ましく、０．５μｍ～３μｍが更に好ましい。
更に、感光性樹脂層の層厚は、直線性の観点から、１０μｍ以下が好ましく、８μｍ以下がより好ましく、６μｍ以下が更に好ましく、１μｍ以上４μｍ以下が特に好ましい。
感光性転写部材が備える各層の層厚は、感光性転写部材の主面に対し垂直な方向の断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ：Scanning Electron Microscope）により観察し、得られた観察画像に基づいて各層の厚さを１０点以上計測し、その平均値を算出することにより、測定される。
【0165】
また、密着性により優れる点から、感光性樹脂層の波長３６５ｎｍの光の透過率は、１０％以上が好ましく、３０％以上が好ましく、５０％以上がより好ましい。上限は特に制限されないが、９９．９％以下が好ましい。
【0166】
＜形成方法＞
感光性樹脂層の形成方法は、上記の成分を含有する層を形成可能な方法であれば特に制限されない。
感光性樹脂層の形成方法としては、例えば、バインダーポリマー、重合性化合物及び溶剤等を含有する感光性樹脂組成物を調製し、仮支持体等の表面に感光性樹脂組成物を塗布し、感光性樹脂組成物の塗膜を乾燥することにより形成する方法が挙げられる。
感光性樹脂層の形成方法は、上記の成分を含有する層を形成可能な方法であれば特に制限されない。
感光性樹脂層の形成方法としては、例えば、バインダーポリマー、重合性化合物及び溶剤等を含有する感光性樹脂組成物を調製し、仮支持体等の表面に感光性樹脂組成物を塗布し、感光性樹脂組成物の塗膜を乾燥することにより形成する方法が挙げられる。
【0167】
感光性樹脂層の形成に使用される感光性樹脂組成物としては、例えば、バインダーポリマー、重合性化合物、上記の任意成分及び溶剤を含有する組成物が挙げられる。
感光性樹脂組成物は、感光性樹脂組成物の粘度を調節し、感光性樹脂層の形成を容易にするため、溶剤を含有することが好ましい。
感光性樹脂組成物は、感光性樹脂組成物の粘度を調節し、感光性樹脂層の形成を容易にするため、溶剤を含有することが好ましい。
【0168】
（溶剤）
感光性樹脂組成物に含有される溶剤としては、バインダーポリマー、重合性化合物及び上記の任意成分を溶解又は分散可能であれば特に制限されず、公知の溶剤を使用できる。
溶剤としては、例えば、アルキレングリコールエーテル溶剤、アルキレングリコールエーテルアセテート溶剤、アルコール溶剤（メタノール及びエタノール等）、ケトン溶剤（アセトン及びメチルエチルケトン等）、芳香族炭化水素溶剤（トルエン等）、非プロトン性極性溶剤（Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド等）、環状エーテル溶剤（テトラヒドロフラン等）、エステル溶剤、アミド溶剤、ラクトン溶剤、並びにこれらの２種以上を含む混合溶剤が挙げられる。
仮支持体、熱可塑性樹脂層、中間層及び感光性樹脂層を備える感光性転写部材を作製する場合、感光性樹脂組成物は、アルキレングリコールエーテル溶剤及びアルキレングリコールエーテルアセテート溶剤からなる群より選択される少なくとも１種を含有することが好ましい。中でも、アルキレングリコールエーテル溶剤及びアルキレングリコールエーテルアセテート溶剤からなる群より選択される少なくとも１種と、ケトン溶剤及び環状エーテル溶剤からなる群より選択される少なくとも１種とを含む混合溶剤がより好ましく、アルキレングリコールエーテル溶剤及びアルキレングリコールエーテルアセテート溶剤からなる群より選択される少なくとも１種、ケトン溶剤、並びに環状エーテル溶剤の３種を少なくとも含む混合溶剤が更に好ましい。
感光性樹脂組成物に含有される溶剤としては、バインダーポリマー、重合性化合物及び上記の任意成分を溶解又は分散可能であれば特に制限されず、公知の溶剤を使用できる。
溶剤としては、例えば、アルキレングリコールエーテル溶剤、アルキレングリコールエーテルアセテート溶剤、アルコール溶剤（メタノール及びエタノール等）、ケトン溶剤（アセトン及びメチルエチルケトン等）、芳香族炭化水素溶剤（トルエン等）、非プロトン性極性溶剤（Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド等）、環状エーテル溶剤（テトラヒドロフラン等）、エステル溶剤、アミド溶剤、ラクトン溶剤、並びにこれらの２種以上を含む混合溶剤が挙げられる。
仮支持体、熱可塑性樹脂層、中間層及び感光性樹脂層を備える感光性転写部材を作製する場合、感光性樹脂組成物は、アルキレングリコールエーテル溶剤及びアルキレングリコールエーテルアセテート溶剤からなる群より選択される少なくとも１種を含有することが好ましい。中でも、アルキレングリコールエーテル溶剤及びアルキレングリコールエーテルアセテート溶剤からなる群より選択される少なくとも１種と、ケトン溶剤及び環状エーテル溶剤からなる群より選択される少なくとも１種とを含む混合溶剤がより好ましく、アルキレングリコールエーテル溶剤及びアルキレングリコールエーテルアセテート溶剤からなる群より選択される少なくとも１種、ケトン溶剤、並びに環状エーテル溶剤の３種を少なくとも含む混合溶剤が更に好ましい。
【0169】
アルキレングリコールエーテル溶剤としては、例えば、エチレングリコールモノアルキルエーテル、エチレングリコールジアルキルエーテル、プロピレングリコールモノアルキルエーテル、プロピレングリコールジアルキルエーテル、ジエチレングリコールジアルキルエーテル、ジプロピレングリコールモノアルキルエーテル及びジプロピレングリコールジアルキルエーテルが挙げられる。
アルキレングリコールエーテルアセテート溶剤としては、例えば、エチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート及びジプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテートが挙げられる。
溶剤としては、国際公開第２０１８／１７９６４０号の段落００９２～００９４に記載された溶剤、及び、特開２０１８－１７７８８９公報の段落００１４に記載された溶剤を用いてもよく、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
アルキレングリコールエーテルアセテート溶剤としては、例えば、エチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート及びジプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテートが挙げられる。
溶剤としては、国際公開第２０１８／１７９６４０号の段落００９２～００９４に記載された溶剤、及び、特開２０１８－１７７８８９公報の段落００１４に記載された溶剤を用いてもよく、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
【0170】
感光性樹脂組成物は、溶剤を１種単独で含有してもよく、２種以上を含有してもよい。
感光性樹脂組成物を塗布する際における溶剤の含有量は、感光性樹脂組成物中の全固形分１００質量部に対し、５０質量部～１，９００質量部が好ましく、１００質量部～９００質量部がより好ましい。
感光性樹脂組成物を塗布する際における溶剤の含有量は、感光性樹脂組成物中の全固形分１００質量部に対し、５０質量部～１，９００質量部が好ましく、１００質量部～９００質量部がより好ましい。
【0171】
感光性樹脂組成物の調製方法は特に制限されず、例えば、各成分を上記溶剤に溶解させた溶液を予め調製し、得られた溶液を所定の割合で混合することにより、感光性樹脂組成物を調製する方法が挙げられる。
感光性樹脂組成物は、感光性樹脂層を形成する前に、孔径０．２μｍ～３０μｍのフィルターを用いてろ過することが好ましい。
感光性樹脂組成物は、感光性樹脂層を形成する前に、孔径０．２μｍ～３０μｍのフィルターを用いてろ過することが好ましい。
【0172】
感光性樹脂組成物の塗布方法は特に制限されず、公知の方法で塗布すればよい。塗布方法としては、例えば、スリット塗布、スピン塗布、カーテン塗布及びインクジェット塗布が挙げられる。
また、感光性樹脂層は、感光性樹脂組成物を後述するカバーフィルム上に塗布し、乾燥することにより形成してもよい。
また、感光性樹脂層は、感光性樹脂組成物を後述するカバーフィルム上に塗布し、乾燥することにより形成してもよい。
【0173】
〔熱可塑性樹脂層〕
感光性転写部材は、熱可塑性樹脂層を備えていてもよい。
感光性転写部材は、仮支持体と感光性樹脂層との間に熱可塑性樹脂層を備えることが好ましい。感光性転写部材が仮支持体と感光性樹脂層との間に熱可塑性樹脂層を備えることにより、基板との貼り合わせ工程における基板への追従性が向上して、基板と感光性転写部材との間の気泡の混入が抑制され、隣接する層（例えば仮支持体）との密着性が向上するためである。
感光性転写部材は、熱可塑性樹脂層を備えていてもよい。
感光性転写部材は、仮支持体と感光性樹脂層との間に熱可塑性樹脂層を備えることが好ましい。感光性転写部材が仮支持体と感光性樹脂層との間に熱可塑性樹脂層を備えることにより、基板との貼り合わせ工程における基板への追従性が向上して、基板と感光性転写部材との間の気泡の混入が抑制され、隣接する層（例えば仮支持体）との密着性が向上するためである。
【0174】
＜成分＞
（アルカリ可溶性樹脂）
熱可塑性樹脂層は、熱可塑性樹脂として、アルカリ可溶性樹脂を含有する。
なお、本明細書において、「アルカリ可溶性」とは、２２℃において炭酸ナトリウムの１質量％水溶液１００ｇへの溶解度が０．１ｇ以上であることを意味する。
アルカリ可溶性樹脂としては、例えば、アクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、スチレン－アクリル共重合体、ポリウレタン樹脂、ポリビニルアルコール、ポリビニルホルマール、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、エポキシ樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリヒドロキシスチレン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリベンゾオキサゾール樹脂、ポリシロキサン樹脂、ポリエチレンイミン、ポリアリルアミン及びポリアルキレングリコールが挙げられる。
（アルカリ可溶性樹脂）
熱可塑性樹脂層は、熱可塑性樹脂として、アルカリ可溶性樹脂を含有する。
なお、本明細書において、「アルカリ可溶性」とは、２２℃において炭酸ナトリウムの１質量％水溶液１００ｇへの溶解度が０．１ｇ以上であることを意味する。
アルカリ可溶性樹脂としては、例えば、アクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、スチレン－アクリル共重合体、ポリウレタン樹脂、ポリビニルアルコール、ポリビニルホルマール、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、エポキシ樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリヒドロキシスチレン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリベンゾオキサゾール樹脂、ポリシロキサン樹脂、ポリエチレンイミン、ポリアリルアミン及びポリアルキレングリコールが挙げられる。
【0175】
アルカリ可溶性樹脂としては、現像性及び隣接する層との密着性の観点から、アクリル樹脂が好ましい。
ここで、アクリル樹脂は、（メタ）アクリル酸に由来する構成単位、（メタ）アクリル酸エステルに由来する構成単位、及び、（メタ）アクリル酸アミドに由来する構成単位よりなる群から選ばれた少なくとも１種の構成単位を有する樹脂を意味する。
アクリル樹脂としては、（メタ）アクリル酸に由来する構成単位、（メタ）アクリル酸エステルに由来する構成単位、及び、（メタ）アクリル酸アミドに由来する構成単位の合計含有量が、アクリル樹脂の全質量に対して５０質量％以上であることが好ましい。
中でも、（メタ）アクリル酸に由来する構成単位及び（メタ）アクリル酸エステルに由来する構成単位の合計含有量が、アクリル樹脂の全質量に対して３０質量％～１００質量％であることが好ましく、５０質量％～１００質量％であることがより好ましい。
ここで、アクリル樹脂は、（メタ）アクリル酸に由来する構成単位、（メタ）アクリル酸エステルに由来する構成単位、及び、（メタ）アクリル酸アミドに由来する構成単位よりなる群から選ばれた少なくとも１種の構成単位を有する樹脂を意味する。
アクリル樹脂としては、（メタ）アクリル酸に由来する構成単位、（メタ）アクリル酸エステルに由来する構成単位、及び、（メタ）アクリル酸アミドに由来する構成単位の合計含有量が、アクリル樹脂の全質量に対して５０質量％以上であることが好ましい。
中でも、（メタ）アクリル酸に由来する構成単位及び（メタ）アクリル酸エステルに由来する構成単位の合計含有量が、アクリル樹脂の全質量に対して３０質量％～１００質量％であることが好ましく、５０質量％～１００質量％であることがより好ましい。
【0176】
また、アルカリ可溶性樹脂は、酸基を有する重合体であることが好ましい。
酸基としては、カルボキシ基、スルホ基、リン酸基及びホスホン酸基が挙げられ、カルボキシ基が好ましい。
アルカリ可溶性樹脂は、現像性の観点から、酸価６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上のアルカリ可溶性樹脂がより好ましく、酸価６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上のカルボキシ基含有アクリル樹脂が更に好ましい。
アルカリ可溶性樹脂の酸価の上限は、特に制限されないが、２００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が好ましく、１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下がより好ましい。
酸基としては、カルボキシ基、スルホ基、リン酸基及びホスホン酸基が挙げられ、カルボキシ基が好ましい。
アルカリ可溶性樹脂は、現像性の観点から、酸価６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上のアルカリ可溶性樹脂がより好ましく、酸価６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上のカルボキシ基含有アクリル樹脂が更に好ましい。
アルカリ可溶性樹脂の酸価の上限は、特に制限されないが、２００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が好ましく、１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下がより好ましい。
【0177】
酸価６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上のカルボキシ基含有アクリル樹脂としては、特に制限されず、公知の樹脂から適宜選択して用いることができる。
例えば、特開２０１１－９５７１６号公報の段落００２５に記載のポリマーのうち酸価６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上のカルボキシ基含有アクリル樹脂であるアルカリ可溶性樹脂、特開２０１０－２３７５８９号公報の段落００３３～００５２に記載のポリマーのうちの酸価６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上のカルボキシ基含有アクリル樹脂、及び、特開２０１６－２２４１６２号公報の段落００５３～００６８に記載のバインダーポリマーのうちの酸価６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上のカルボキシ基含有アクリル樹脂が挙げられる。
上記カルボキシ基含有アクリル樹脂におけるカルボキシ基を有する構成単位の共重合比は、アクリル樹脂の全質量に対して、５質量％～５０質量％が好ましく、１０質量％～４０質量％がより好ましく、１２質量％～３０質量％が更に好ましい。
アルカリ可溶性樹脂としては、現像性及び隣接する層との密着性の観点から、（メタ）アクリル酸に由来する構成単位を有するアクリル樹脂が特に好ましい。
例えば、特開２０１１－９５７１６号公報の段落００２５に記載のポリマーのうち酸価６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上のカルボキシ基含有アクリル樹脂であるアルカリ可溶性樹脂、特開２０１０－２３７５８９号公報の段落００３３～００５２に記載のポリマーのうちの酸価６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上のカルボキシ基含有アクリル樹脂、及び、特開２０１６－２２４１６２号公報の段落００５３～００６８に記載のバインダーポリマーのうちの酸価６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上のカルボキシ基含有アクリル樹脂が挙げられる。
上記カルボキシ基含有アクリル樹脂におけるカルボキシ基を有する構成単位の共重合比は、アクリル樹脂の全質量に対して、５質量％～５０質量％が好ましく、１０質量％～４０質量％がより好ましく、１２質量％～３０質量％が更に好ましい。
アルカリ可溶性樹脂としては、現像性及び隣接する層との密着性の観点から、（メタ）アクリル酸に由来する構成単位を有するアクリル樹脂が特に好ましい。
【0178】
アルカリ可溶性樹脂は、反応性基を有していてもよい。反応性基としては、付加重合可能な基であればよく、エチレン性不飽和基；ヒドロキシ基及びカルボキシ基等の重縮合性基；エポキシ基、（ブロック）イソシアネート基等の重付加反応性基が挙げられる。
【0179】
アルカリ可溶性樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は、１，０００以上が好ましく、１万～１０万がより好ましく、２万～５万が更に好ましい。
【0180】
熱可塑性樹脂層は、アルカリ可溶性樹脂を１種単独で含有してもよく、２種以上を含有してもよい。
アルカリ可溶性樹脂の含有量は、現像性及び隣接する層との密着性の観点から、熱可塑性樹脂層の全質量に対して、１０質量％～９９質量％が好ましく、２０質量％～９０質量％がより好ましく、４０質量％～８０質量％が更に好ましく、５０質量％～７０質量％が特に好ましい。
アルカリ可溶性樹脂の含有量は、現像性及び隣接する層との密着性の観点から、熱可塑性樹脂層の全質量に対して、１０質量％～９９質量％が好ましく、２０質量％～９０質量％がより好ましく、４０質量％～８０質量％が更に好ましく、５０質量％～７０質量％が特に好ましい。
【0181】
（色素）
熱可塑性樹脂層は、発色時の波長範囲４００ｎｍ～７８０ｎｍにおける最大吸収波長が４５０ｎｍ以上であり、酸、塩基、又はラジカルにより最大吸収波長が変化する色素（単に「色素Ｂ」ともいう。）を含有することが好ましい。
色素Ｂの好ましい態様は、後述する点以外は、色素Ｎの好ましい態様と同様である。
熱可塑性樹脂層は、発色時の波長範囲４００ｎｍ～７８０ｎｍにおける最大吸収波長が４５０ｎｍ以上であり、酸、塩基、又はラジカルにより最大吸収波長が変化する色素（単に「色素Ｂ」ともいう。）を含有することが好ましい。
色素Ｂの好ましい態様は、後述する点以外は、色素Ｎの好ましい態様と同様である。
【0182】
色素Ｂは、露光部及び非露光部の視認性並びに解像性の観点から、酸又はラジカルにより最大吸収波長が変化する色素が好ましく、酸により最大吸収波長が変化する色素であることがより好ましい。
熱可塑性層は、露光部及び非露光部の視認性並びに解像性の観点から、色素Ｂとしての酸により最大吸収波長が変化する色素、及び、後述する光により酸を発生する化合物の両者を含有することが好ましい。
熱可塑性層は、露光部及び非露光部の視認性並びに解像性の観点から、色素Ｂとしての酸により最大吸収波長が変化する色素、及び、後述する光により酸を発生する化合物の両者を含有することが好ましい。
【0183】
色素Ｂは、１種単独で使用しても、２種以上を使用してもよい。
色素Ｂの含有量は、露光部及び非露光部の視認性の観点から、熱可塑性樹脂層の全質量に対して、０．２質量％以上が好ましく、０．２質量％～６質量％がより好ましく、０．２質量％～５質量％が更に好ましく、０．２５質量％～３．０質量％が特に好ましい。
色素Ｂの含有量は、露光部及び非露光部の視認性の観点から、熱可塑性樹脂層の全質量に対して、０．２質量％以上が好ましく、０．２質量％～６質量％がより好ましく、０．２質量％～５質量％が更に好ましく、０．２５質量％～３．０質量％が特に好ましい。
【0184】
ここで、色素Ｂの含有量は、熱可塑性樹脂層に含まれる色素Ｂの全てを発色状態にした場合の色素の含有量を意味する。以下に、ラジカルにより発色する色素を例に、色素Ｂの含有量の定量方法を説明する。
メチルエチルケトン１００ｍＬに、色素０．００１ｇ及び０．０１ｇを溶かした溶液を調製する。得られた各溶液に、光ラジカル重合開始剤Ｉｒｇａｃｕｒｅ ＯＸＥ０１（商品名、ＢＡＳＦジャパン株式会社）を加え、３６５ｎｍの光を照射することによりラジカルを発生させ、全ての色素を発色状態にする。その後、大気雰囲気下で、分光光度計（ＵＶ３１００、（株）島津製作所製）を用いて、液温が２５℃である各溶液の吸光度を測定し、検量線を作成する。
次に、色素に代えて熱可塑性樹脂層０．１ｇをメチルエチルケトンに溶かすこと以外は上記と同様の方法で、色素を全て発色させた溶液の吸光度を測定する。得られた熱可塑性樹脂層を含有する溶液の吸光度から、検量線に基づいて熱可塑性樹脂層に含まれる色素の量を算出する。
メチルエチルケトン１００ｍＬに、色素０．００１ｇ及び０．０１ｇを溶かした溶液を調製する。得られた各溶液に、光ラジカル重合開始剤Ｉｒｇａｃｕｒｅ ＯＸＥ０１（商品名、ＢＡＳＦジャパン株式会社）を加え、３６５ｎｍの光を照射することによりラジカルを発生させ、全ての色素を発色状態にする。その後、大気雰囲気下で、分光光度計（ＵＶ３１００、（株）島津製作所製）を用いて、液温が２５℃である各溶液の吸光度を測定し、検量線を作成する。
次に、色素に代えて熱可塑性樹脂層０．１ｇをメチルエチルケトンに溶かすこと以外は上記と同様の方法で、色素を全て発色させた溶液の吸光度を測定する。得られた熱可塑性樹脂層を含有する溶液の吸光度から、検量線に基づいて熱可塑性樹脂層に含まれる色素の量を算出する。
【0185】
（光により酸、塩基又はラジカルを発生する化合物）
熱可塑性樹脂層は、光により酸、塩基又はラジカルを発生する化合物（単に「化合物Ｃ」ともいう。）を含有してもよい。
化合物Ｃとしては、紫外線及び可視光線等の活性光線を受けて、酸、塩基、又はラジカルを発生する化合物が好ましい。
化合物Ｃとしては、公知の、光酸発生剤、光塩基発生剤、及び、光ラジカル重合開始剤（光ラジカル発生剤）を用いることができる。中でも、光酸発生剤が好ましい。
熱可塑性樹脂層は、光により酸、塩基又はラジカルを発生する化合物（単に「化合物Ｃ」ともいう。）を含有してもよい。
化合物Ｃとしては、紫外線及び可視光線等の活性光線を受けて、酸、塩基、又はラジカルを発生する化合物が好ましい。
化合物Ｃとしては、公知の、光酸発生剤、光塩基発生剤、及び、光ラジカル重合開始剤（光ラジカル発生剤）を用いることができる。中でも、光酸発生剤が好ましい。
【0186】
－光酸発生剤－
熱可塑性樹脂層は、解像性の観点から、光酸発生剤を含有することが好ましい。
光酸発生剤としては、上述した感光性樹脂層が含有してもよい光カチオン重合開始剤が挙げられ、後述する点以外は好ましい態様も同じである。
熱可塑性樹脂層は、解像性の観点から、光酸発生剤を含有することが好ましい。
光酸発生剤としては、上述した感光性樹脂層が含有してもよい光カチオン重合開始剤が挙げられ、後述する点以外は好ましい態様も同じである。
【0187】
光酸発生剤としては、感度及び解像性の観点から、オニウム塩化合物、及び、オキシムスルホネート化合物よりなる群から選ばれた少なくとも１種の化合物を含有することが好ましく、感度、解像性及び密着性の観点から、オキシムスルホネート化合物を含有することがより好ましい。
また、光酸発生剤としては、以下の構造を有する光酸発生剤も好ましい。
また、光酸発生剤としては、以下の構造を有する光酸発生剤も好ましい。
【0188】
【化2】
【0189】
－光ラジカル重合開始剤－
熱可塑性樹脂層は、光ラジカル重合開始剤（光ラジカル重合開始剤）を含有してもよい。
光ラジカル重合開始剤としては、上述した感光性樹脂層が含有してもよい光ラジカル重合開始剤が挙げられ、好ましい態様も同じである。
熱可塑性樹脂層は、光ラジカル重合開始剤（光ラジカル重合開始剤）を含有してもよい。
光ラジカル重合開始剤としては、上述した感光性樹脂層が含有してもよい光ラジカル重合開始剤が挙げられ、好ましい態様も同じである。
【0190】
－光塩基発生剤－
熱可塑性樹脂層は、光塩基発生剤を含有してもよい。
光塩基発生剤としては、公知の光塩基発生剤であれば特に制限されず、例えば、２－ニトロベンジルシクロヘキシルカルバメート、トリフェニルメタノール、Ｏ－カルバモイルヒドロキシルアミド、Ｏ－カルバモイルオキシム、［［（２，６－ジニトロベンジル）オキシ］カルボニル］シクロヘキシルアミン、ビス［［（２－ニトロベンジル）オキシ］カルボニル］ヘキサン１，６－ジアミン、４－（メチルチオベンゾイル）－１－メチル－１－モルホリノエタン、（４－モルホリノベンゾイル）－１－ベンジル－１－ジメチルアミノプロパン、Ｎ－（２－ニトロベンジルオキシカルボニル）ピロリジン、ヘキサアンミンコバルト（III）トリス（トリフェニルメチルボレート）、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルホリノフェニル）ブタノン、２，６－ジメチル－３，５－ジアセチル－４－（２－ニトロフェニル）－１，４－ジヒドロピリジン、及び、２，６－ジメチル－３，５－ジアセチル－４－（２，４－ジニトロフェニル）－１，４－ジヒドロピリジンが挙げられる。
熱可塑性樹脂層は、光塩基発生剤を含有してもよい。
光塩基発生剤としては、公知の光塩基発生剤であれば特に制限されず、例えば、２－ニトロベンジルシクロヘキシルカルバメート、トリフェニルメタノール、Ｏ－カルバモイルヒドロキシルアミド、Ｏ－カルバモイルオキシム、［［（２，６－ジニトロベンジル）オキシ］カルボニル］シクロヘキシルアミン、ビス［［（２－ニトロベンジル）オキシ］カルボニル］ヘキサン１，６－ジアミン、４－（メチルチオベンゾイル）－１－メチル－１－モルホリノエタン、（４－モルホリノベンゾイル）－１－ベンジル－１－ジメチルアミノプロパン、Ｎ－（２－ニトロベンジルオキシカルボニル）ピロリジン、ヘキサアンミンコバルト（III）トリス（トリフェニルメチルボレート）、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルホリノフェニル）ブタノン、２，６－ジメチル－３，５－ジアセチル－４－（２－ニトロフェニル）－１，４－ジヒドロピリジン、及び、２，６－ジメチル－３，５－ジアセチル－４－（２，４－ジニトロフェニル）－１，４－ジヒドロピリジンが挙げられる。
【0191】
熱可塑性樹脂層は、化合物Ｃを、１種単独で含有してもよいし、２種以上を含有してもよい。
化合物Ｃの含有量は、露光部及び非露光部の視認性並びに解像性の観点から、熱可塑性樹脂層の全質量に対して、０．１質量％～１０質量％が好ましく、０．５質量％～５質量％がより好ましい。
化合物Ｃの含有量は、露光部及び非露光部の視認性並びに解像性の観点から、熱可塑性樹脂層の全質量に対して、０．１質量％～１０質量％が好ましく、０．５質量％～５質量％がより好ましい。
【0192】
（可塑剤）
熱可塑性樹脂層は、解像性、隣接する層との密着性及び現像性の観点から、可塑剤を含有することが好ましい。
可塑剤は、アルカリ可溶性樹脂よりも分子量（オリゴマー又はポリマーである場合は重量平均分子量（Ｍｗ））が小さいことが好ましい。可塑剤の分子量（重量平均分子量（Ｍｗ））は、２００～２，０００が好ましい。
可塑剤は、アルカリ可溶性樹脂と相溶して可塑性を発現する化合物であれば特に制限されないが、可塑性付与の観点から、可塑剤は、分子中にアルキレンオキシ基を有することが好ましく、ポリアルキレングリコール化合物がより好ましい。可塑剤に含まれるアルキレンオキシ基は、ポリエチレンオキシ構造又はポリプロピレンオキシ構造を有することがより好ましい。
熱可塑性樹脂層は、解像性、隣接する層との密着性及び現像性の観点から、可塑剤を含有することが好ましい。
可塑剤は、アルカリ可溶性樹脂よりも分子量（オリゴマー又はポリマーである場合は重量平均分子量（Ｍｗ））が小さいことが好ましい。可塑剤の分子量（重量平均分子量（Ｍｗ））は、２００～２，０００が好ましい。
可塑剤は、アルカリ可溶性樹脂と相溶して可塑性を発現する化合物であれば特に制限されないが、可塑性付与の観点から、可塑剤は、分子中にアルキレンオキシ基を有することが好ましく、ポリアルキレングリコール化合物がより好ましい。可塑剤に含まれるアルキレンオキシ基は、ポリエチレンオキシ構造又はポリプロピレンオキシ構造を有することがより好ましい。
【0193】
また、可塑剤は、解像性及び保存安定性の観点から、（メタ）アクリレート化合物を含有することが好ましい。相溶性、解像性及び隣接する層との密着性の観点から、アルカリ可溶性樹脂がアクリル樹脂であり、かつ、可塑剤が（メタ）アクリレート化合物を含有することがより好ましい。
可塑剤として用いられる（メタ）アクリレート化合物としては、上述した感光性樹脂層に含有される重合性化合物として記載した（メタ）アクリレート化合物が挙げられる。
感光性転写部材において、熱可塑性樹脂層と感光性樹脂層とが直接接触して積層される場合、熱可塑性樹脂層及び感光性樹脂層がいずれも同じ（メタ）アクリレート化合物を含有することが好ましい。同じ（メタ）アクリレート化合物を熱可塑性樹脂層及び感光性樹脂層がそれぞれ含有することで、層間の成分拡散が抑制され、保存安定性が向上するためである。
可塑剤として用いられる（メタ）アクリレート化合物としては、上述した感光性樹脂層に含有される重合性化合物として記載した（メタ）アクリレート化合物が挙げられる。
感光性転写部材において、熱可塑性樹脂層と感光性樹脂層とが直接接触して積層される場合、熱可塑性樹脂層及び感光性樹脂層がいずれも同じ（メタ）アクリレート化合物を含有することが好ましい。同じ（メタ）アクリレート化合物を熱可塑性樹脂層及び感光性樹脂層がそれぞれ含有することで、層間の成分拡散が抑制され、保存安定性が向上するためである。
【0194】
熱可塑性樹脂層が可塑剤として（メタ）アクリレート化合物を含有する場合、隣接する層との密着性の観点から、露光後の露光部においても（メタ）アクリレート化合物が重合しないことが好ましい。
また、可塑剤として用いられる（メタ）アクリレート化合物としては、解像性、隣接する層との密着性及び現像性の観点から、一分子中に２つ以上の（メタ）アクリロイル基を有する多官能（メタ）アクリレート化合物が好ましい。
更に、可塑剤として用いられる（メタ）アクリレート化合物としては、酸基を有する（メタ）アクリレート化合物、又は、ウレタン（メタ）アクリレート化合物も好ましい。
また、可塑剤として用いられる（メタ）アクリレート化合物としては、解像性、隣接する層との密着性及び現像性の観点から、一分子中に２つ以上の（メタ）アクリロイル基を有する多官能（メタ）アクリレート化合物が好ましい。
更に、可塑剤として用いられる（メタ）アクリレート化合物としては、酸基を有する（メタ）アクリレート化合物、又は、ウレタン（メタ）アクリレート化合物も好ましい。
【0195】
熱可塑性樹脂層は、可塑剤を１種単独で含有してもよいし、２種以上を含有してもよい。
可塑剤の含有量は、解像性、隣接する層との密着性及び現像性の観点から、熱可塑性樹脂層の全質量に対し、１質量％～７０質量％が好ましく、１０質量％～６０質量％がより好ましく、２０質量％～５０質量％が特に好ましい。
可塑剤の含有量は、解像性、隣接する層との密着性及び現像性の観点から、熱可塑性樹脂層の全質量に対し、１質量％～７０質量％が好ましく、１０質量％～６０質量％がより好ましく、２０質量％～５０質量％が特に好ましい。
【0196】
（界面活性剤）
熱可塑性樹脂層は、厚さ均一性の観点から、界面活性剤を含有することが好ましい。
界面活性剤としては、上述した感光性樹脂層が含有してもよい界面活性剤が挙げられ、好ましい態様も同じである。
熱可塑性樹脂層は、厚さ均一性の観点から、界面活性剤を含有することが好ましい。
界面活性剤としては、上述した感光性樹脂層が含有してもよい界面活性剤が挙げられ、好ましい態様も同じである。
【0197】
熱可塑性樹脂層は、界面活性剤を１種単独で含有してもよいし、２種以上を含有してもよい。
界面活性剤の含有量は、熱可塑性樹脂層の全質量に対し、０．００１質量％～１０質量％が好ましく、０．０１質量％～３質量％がより好ましい。
界面活性剤の含有量は、熱可塑性樹脂層の全質量に対し、０．００１質量％～１０質量％が好ましく、０．０１質量％～３質量％がより好ましい。
【0198】
（増感剤）
熱可塑性樹脂層は、増感剤を含有してもよい。
増感剤としては、特に制限されず、上述した感光性樹脂層が含有してもよい増感剤が挙げられる。
熱可塑性樹脂層は、増感剤を含有してもよい。
増感剤としては、特に制限されず、上述した感光性樹脂層が含有してもよい増感剤が挙げられる。
【0199】
熱可塑性樹脂層は、増感剤を、１種単独で含有してもよいし、２種以上を含有してもよい。
増感剤の含有量は、目的により適宜選択できるが、光源に対する感度の向上、及び、露光部及び非露光部の視認性の観点から、熱可塑性樹脂層の全質量に対し、０．０１質量％～５質量％の範囲が好ましく、０．０５質量％～１質量％の範囲がより好ましい。
増感剤の含有量は、目的により適宜選択できるが、光源に対する感度の向上、及び、露光部及び非露光部の視認性の観点から、熱可塑性樹脂層の全質量に対し、０．０１質量％～５質量％の範囲が好ましく、０．０５質量％～１質量％の範囲がより好ましい。
【0200】
（添加剤等）
熱可塑性樹脂層は、上記成分以外に、必要に応じて公知の添加剤を含有してもよい。
また、熱可塑性樹脂層については、特開２０１４－８５６４３号公報の段落０１８９～０１９３に記載されており、この公報に記載の内容は本明細書に組み込まれる。
熱可塑性樹脂層は、上記成分以外に、必要に応じて公知の添加剤を含有してもよい。
また、熱可塑性樹脂層については、特開２０１４－８５６４３号公報の段落０１８９～０１９３に記載されており、この公報に記載の内容は本明細書に組み込まれる。
【0201】
＜物性等＞
熱可塑性樹脂層の層厚は、特に制限されないが、隣接する層との密着性の観点から、１μｍ以上が好ましく、２μｍ以上がより好ましい。上限は特に制限されないが、現像性及び解像性の観点から、２０μｍ以下が好ましく、１０μｍ以下がより好ましく、５μｍ以下が更に好ましい。
熱可塑性樹脂層の層厚は、特に制限されないが、隣接する層との密着性の観点から、１μｍ以上が好ましく、２μｍ以上がより好ましい。上限は特に制限されないが、現像性及び解像性の観点から、２０μｍ以下が好ましく、１０μｍ以下がより好ましく、５μｍ以下が更に好ましい。
【0202】
＜形成方法＞
熱可塑性樹脂層の形成方法は、上記の成分を含有する層を形成可能な方法であれば特に制限されない。
熱可塑性樹脂層の形成方法としては、例えば、上記の成分と溶剤とを含有する熱可塑性樹脂組成物を調製し、仮支持体等の表面に熱可塑性樹脂組成物を塗布し、熱可塑性樹脂組成物の塗膜を乾燥することにより形成する方法が挙げられる。
熱可塑性樹脂組成物は、熱可塑性樹脂組成物の粘度を調節し、熱可塑性樹脂層の形成を容易にするため、溶剤を含有することが好ましい。
熱可塑性樹脂層の形成方法は、上記の成分を含有する層を形成可能な方法であれば特に制限されない。
熱可塑性樹脂層の形成方法としては、例えば、上記の成分と溶剤とを含有する熱可塑性樹脂組成物を調製し、仮支持体等の表面に熱可塑性樹脂組成物を塗布し、熱可塑性樹脂組成物の塗膜を乾燥することにより形成する方法が挙げられる。
熱可塑性樹脂組成物は、熱可塑性樹脂組成物の粘度を調節し、熱可塑性樹脂層の形成を容易にするため、溶剤を含有することが好ましい。
【0203】
（溶剤）
熱可塑性樹脂組成物に含有される溶剤としては、熱可塑性樹脂層に含有される上記成分を溶解又は分散可能であれば特に制限されない。
熱可塑性樹脂組成物に含有される溶剤としては、上述した感光性樹脂組成物が含有してもよい溶剤が挙げられ、好ましい態様も同じである。
熱可塑性樹脂組成物に含有される溶剤としては、熱可塑性樹脂層に含有される上記成分を溶解又は分散可能であれば特に制限されない。
熱可塑性樹脂組成物に含有される溶剤としては、上述した感光性樹脂組成物が含有してもよい溶剤が挙げられ、好ましい態様も同じである。
【0204】
熱可塑性樹脂組成物に含有される溶剤は、１種単独であってもよく、２種以上であってもよい。
熱可塑性樹脂組成物を塗布する際における溶剤の含有量は、熱可塑性樹脂組成物中の全固形分１００質量部に対し、５０質量部～１，９００質量部が好ましく、１００質量部～９００質量部がより好ましい。
熱可塑性樹脂組成物を塗布する際における溶剤の含有量は、熱可塑性樹脂組成物中の全固形分１００質量部に対し、５０質量部～１，９００質量部が好ましく、１００質量部～９００質量部がより好ましい。
【0205】
熱可塑性樹脂組成物の調製及び熱可塑性樹脂層の形成は、上述した感光性樹脂組成物の調製方法及び感光性樹脂層の形成方法に準じて行えばよい。
例えば、熱可塑性樹脂層に含有される各成分を上記溶剤に溶解させた溶液を予め調製し、得られた溶液を所定の割合で混合することにより、熱可塑性樹脂組成物が調製した後、得られた熱可塑性樹脂組成物を仮支持体の表面に塗布し、熱可塑性樹脂組成物の塗膜を乾燥させることにより、熱可塑性樹脂層が形成される。
また、後述するカバーフィルム上に、感光性樹脂層及び中間層を形成した後、中間層の表面に熱可塑性樹脂層を形成してもよい。
例えば、熱可塑性樹脂層に含有される各成分を上記溶剤に溶解させた溶液を予め調製し、得られた溶液を所定の割合で混合することにより、熱可塑性樹脂組成物が調製した後、得られた熱可塑性樹脂組成物を仮支持体の表面に塗布し、熱可塑性樹脂組成物の塗膜を乾燥させることにより、熱可塑性樹脂層が形成される。
また、後述するカバーフィルム上に、感光性樹脂層及び中間層を形成した後、中間層の表面に熱可塑性樹脂層を形成してもよい。
【0206】
〔中間層〕
感光性転写部材は、熱可塑性樹脂層と感光性樹脂層との間に、中間層を備えることが好ましい。中間層を備えることにより、複数層を塗布する際及び塗布後の保存の際における成分の混合を抑制できる。
中間層は、現像性、並びに、複数層を塗布する際及び塗布後の保存の際における成分の混合を抑制する観点から、水溶性の層であることが好ましい。
なお、本明細書において「水溶性」とは、液温が２２℃であるｐＨ７．０の水１００ｇへの溶解度が０．１ｇ以上であることを意味する。
感光性転写部材は、熱可塑性樹脂層と感光性樹脂層との間に、中間層を備えることが好ましい。中間層を備えることにより、複数層を塗布する際及び塗布後の保存の際における成分の混合を抑制できる。
中間層は、現像性、並びに、複数層を塗布する際及び塗布後の保存の際における成分の混合を抑制する観点から、水溶性の層であることが好ましい。
なお、本明細書において「水溶性」とは、液温が２２℃であるｐＨ７．０の水１００ｇへの溶解度が０．１ｇ以上であることを意味する。
【0207】
中間層としては、特開平５－７２７２４号公報に「分離層」として記載されている、酸素遮断機能のある酸素遮断層が挙げられる。中間層が酸素遮断層であると、露光時の感度が向上し、露光機の時間負荷が低減し、生産性が向上するため、好ましい。
中間層として用いられる酸素遮断層は、上記公報等に記載された公知の層から適宜選択すればよい。中でも、低い酸素透過性を示し、水又はアルカリ水溶液（２２℃の炭酸ナトリウムの１質量％水溶液）に分散又は溶解する酸素遮断層が好ましい。
中間層として用いられる酸素遮断層は、上記公報等に記載された公知の層から適宜選択すればよい。中でも、低い酸素透過性を示し、水又はアルカリ水溶液（２２℃の炭酸ナトリウムの１質量％水溶液）に分散又は溶解する酸素遮断層が好ましい。
【0208】
中間層は、樹脂を含有することが好ましい。
中間層に含有される樹脂としては、例えば、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリビニルピロリドン系樹脂、セルロース系樹脂、アクリルアミド系樹脂、ポリエチレンオキサイド系樹脂、ゼラチン、ビニルエーテル系樹脂、ポリアミド樹脂、及び、これらの共重合体等の樹脂が挙げられる。
中間層に含有される樹脂としては、水溶性樹脂が好ましい。
また、中間層に含有される樹脂は、複数層間の成分の混合を抑制する観点から、感光性樹脂層に含有される重合体Ａ、及び、熱可塑性樹脂層に含有され熱可塑性樹脂（アルカリ可溶性樹脂）のいずれとも異なる樹脂であることが好ましい。
中間層に含有される樹脂としては、例えば、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリビニルピロリドン系樹脂、セルロース系樹脂、アクリルアミド系樹脂、ポリエチレンオキサイド系樹脂、ゼラチン、ビニルエーテル系樹脂、ポリアミド樹脂、及び、これらの共重合体等の樹脂が挙げられる。
中間層に含有される樹脂としては、水溶性樹脂が好ましい。
また、中間層に含有される樹脂は、複数層間の成分の混合を抑制する観点から、感光性樹脂層に含有される重合体Ａ、及び、熱可塑性樹脂層に含有され熱可塑性樹脂（アルカリ可溶性樹脂）のいずれとも異なる樹脂であることが好ましい。
【0209】
中間層は、酸素遮断性、並びに、複数層を塗布する際及び塗布後の保存の際における成分の混合を抑制する観点から、ポリビニルアルコールを含有することが好ましく、ポリビニルアルコール及びポリビニルピロリドンの両者を含有することがより好ましい。
【0210】
中間層は、上記樹脂を１種単独で含有してもよく、２種以上を含有してもよい。
中間層における樹脂の含有量は、特に制限されないが、酸素遮断性、並びに、複数層を塗布する際及び塗布後の保存の際における成分の混合を抑制する観点から、中間層の全質量に対し、５０質量％～１００質量％が好ましく、７０質量％～１００質量％がより好ましく、８０質量％～１００質量％が更に好ましく、９０質量％～１００質量％が特に好ましい。
また、中間層は、必要に応じて界面活性剤等の添加剤を含有してもよい。
中間層における樹脂の含有量は、特に制限されないが、酸素遮断性、並びに、複数層を塗布する際及び塗布後の保存の際における成分の混合を抑制する観点から、中間層の全質量に対し、５０質量％～１００質量％が好ましく、７０質量％～１００質量％がより好ましく、８０質量％～１００質量％が更に好ましく、９０質量％～１００質量％が特に好ましい。
また、中間層は、必要に応じて界面活性剤等の添加剤を含有してもよい。
【0211】
中間層の層厚は、特に制限されないが、０．１μｍ～５μｍが好ましく、０．５μｍ～３μｍがより好ましい。
中間層の厚みが上記の範囲内であると、酸素遮断性を低下させることがなく、複数層を塗布する際及び塗布後の保存の際における成分の混合を抑制でき、また、現像時の中間層除去時間の増大を抑制できるためである。
中間層の厚みが上記の範囲内であると、酸素遮断性を低下させることがなく、複数層を塗布する際及び塗布後の保存の際における成分の混合を抑制でき、また、現像時の中間層除去時間の増大を抑制できるためである。
【0212】
中間層の形成方法は、特に制限されず、例えば、上記樹脂及び任意の添加剤を含有する中間層組成物を調製し、熱可塑性樹脂層又は感光性樹脂層の表面に塗布し、中間層組成物の塗膜を乾燥することにより、中間層を形成する方法が挙げられる。
中間層組成物は、中間層組成物の粘度を調節し、中間層の形成を容易にするため、溶剤を含有することが好ましい。
中間層組成物は、中間層組成物の粘度を調節し、中間層の形成を容易にするため、溶剤を含有することが好ましい。
【0213】
中間層組成物に含有される溶剤としては、上記樹脂を溶解又は分散可能であれば特に制限されず、水及び水混和性の有機溶剤からなる群より選択される少なくとも１種が好ましく、水又は水と水混和性の有機溶剤との混合溶剤がより好ましい。
水混和性の有機溶剤としては、例えば、炭素数１～３のアルコール、アセトン、エチレングリコール及びグリセリンが挙げられ、炭素数１～３のアルコールが好ましく、メタノール又はエタノールがより好ましい。
水混和性の有機溶剤としては、例えば、炭素数１～３のアルコール、アセトン、エチレングリコール及びグリセリンが挙げられ、炭素数１～３のアルコールが好ましく、メタノール又はエタノールがより好ましい。
【0214】
〔カバーフィルム〕
感光性転写部材は、感光性樹脂層の仮支持体に対向していない面に接するカバーフィルムを備えることが好ましい。
以下、本明細書において、感光性樹脂層の仮支持体に対向する面を「第１面」ともいい、第１面とは反対側の面を「第２面」ともいう。
感光性転写部材は、感光性樹脂層の仮支持体に対向していない面に接するカバーフィルムを備えることが好ましい。
以下、本明細書において、感光性樹脂層の仮支持体に対向する面を「第１面」ともいい、第１面とは反対側の面を「第２面」ともいう。
【0215】
カバーフィルムを構成する材料としては、樹脂フィルム及び紙が挙げられ、強度及び可撓性の観点から、樹脂フィルムが好ましい。
樹脂フィルムとしては、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、トリ酢酸セルロースフィルム、ポリスチレンフィルム、及び、ポリカーボネートフィルムが挙げられる。中でも、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、又は、ポリエチレンテレフタレートフィルムが好ましい。
樹脂フィルムとしては、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、トリ酢酸セルロースフィルム、ポリスチレンフィルム、及び、ポリカーボネートフィルムが挙げられる。中でも、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、又は、ポリエチレンテレフタレートフィルムが好ましい。
【0216】
カバーフィルムの厚さ（層厚）は、特に制限されないが、５μｍ～１００μｍが好ましく、１０～５０μｍがより好ましい。
また、カバーフィルムの感光性樹脂層に接する面（以下単に「カバーフィルムの表面」ともいう）の算術平均粗さＲａ値は、解像性により優れる点から、０．３μｍ以下が好ましく、０．１μｍ以下がより好ましく、０．０５μｍ以下が更に好ましい。カバーフィルムの表面のＲａ値が上記範囲であることにより、感光性樹脂層及び形成される樹脂パターンの層厚の均一性が向上するためと考えられる。
カバーフィルムの表面のＲａ値の下限は特に制限されないが、０．００１μｍ以上が好ましい。
また、カバーフィルムの感光性樹脂層に接する面（以下単に「カバーフィルムの表面」ともいう）の算術平均粗さＲａ値は、解像性により優れる点から、０．３μｍ以下が好ましく、０．１μｍ以下がより好ましく、０．０５μｍ以下が更に好ましい。カバーフィルムの表面のＲａ値が上記範囲であることにより、感光性樹脂層及び形成される樹脂パターンの層厚の均一性が向上するためと考えられる。
カバーフィルムの表面のＲａ値の下限は特に制限されないが、０．００１μｍ以上が好ましい。
【0217】
カバーフィルムの表面のＲａ値は、以下の方法で測定される。
３次元光学プロファイラー（Ｎｅｗ Ｖｉｅｗ７３００、Ｚｙｇｏ社製）を用いて、以下の条件にてカバーフィルムの表面を測定し、光学フィルムの表面プロファイルを得る。
測定・解析ソフトとしては、ＭｅｔｒｏＰｒｏ ｖｅｒ８．３．２のＭｉｃｒｏｓｃｏｐｅ Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎを用いる。次に、上記解析ソフトにてＳｕｒｆａｃｅ Ｍａｐ画面を表示し、Ｓｕｒｆａｃｅ Ｍａｐ画面中でヒストグラムデータを得る。得られたヒストグラムデータから、算術平均粗さを算出し、カバーフィルムの表面のＲａ値を得る。
カバーフィルムが感光性転写部材に貼り合わされている場合は、感光性転写部材からカバーフィルムを剥離して、剥離した側の表面のＲａ値を測定すればよい。
３次元光学プロファイラー（Ｎｅｗ Ｖｉｅｗ７３００、Ｚｙｇｏ社製）を用いて、以下の条件にてカバーフィルムの表面を測定し、光学フィルムの表面プロファイルを得る。
測定・解析ソフトとしては、ＭｅｔｒｏＰｒｏ ｖｅｒ８．３．２のＭｉｃｒｏｓｃｏｐｅ Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎを用いる。次に、上記解析ソフトにてＳｕｒｆａｃｅ Ｍａｐ画面を表示し、Ｓｕｒｆａｃｅ Ｍａｐ画面中でヒストグラムデータを得る。得られたヒストグラムデータから、算術平均粗さを算出し、カバーフィルムの表面のＲａ値を得る。
カバーフィルムが感光性転写部材に貼り合わされている場合は、感光性転写部材からカバーフィルムを剥離して、剥離した側の表面のＲａ値を測定すればよい。
【0218】
感光性転写部材は、上述した層以外の層（以下「その他の層」ともいう。）を備えてもよい。その他の層としては、例えば、コントラストエンハンスメント層が挙げられる。
コントラストエンハンスメント層については、国際公開第２０１８／１７９６４０号の段落０１３４に記載されている。また、その他の層については特開２０１４－８５６４３号公報の段落０１９４～０１９６に記載されている。これらの公報の内容は本明細書に組み込まれる。
コントラストエンハンスメント層については、国際公開第２０１８／１７９６４０号の段落０１３４に記載されている。また、その他の層については特開２０１４－８５６４３号公報の段落０１９４～０１９６に記載されている。これらの公報の内容は本明細書に組み込まれる。
【0219】
感光性転写部材における仮支持体及びカバーフィルムを除く各層の総厚さは、本開示における効果をより発揮する観点から、２０μｍ以下であることが好ましく、１０μｍ以下であることがより好ましく、８μｍ以下であることが更に好ましく、２μｍ以上８μｍ以下であることが特に好ましい。
また、感光性転写部材における感光性樹脂層、中間層及び熱可塑性樹脂層の総厚さは、本開示における効果をより発揮する観点から、２０μｍ以下であることが好ましく、１０μｍ以下であることがより好ましく、８μｍ以下であることが更に好ましく、２μｍ以上８μｍ以下であることが特に好ましい。
また、感光性転写部材における感光性樹脂層、中間層及び熱可塑性樹脂層の総厚さは、本開示における効果をより発揮する観点から、２０μｍ以下であることが好ましく、１０μｍ以下であることがより好ましく、８μｍ以下であることが更に好ましく、２μｍ以上８μｍ以下であることが特に好ましい。
【0220】
〔感光性転写部材の製造方法〕
本開示に用いられる感光性転写部材の製造方法は、特に制限されず、公知の製造方法、例えば、公知の各層の形成方法を用いることができる。
以下、図２を参照しながら、本開示に用いられる感光性転写部材の製造方法について説明する。但し、本開示に用いられる感光性転写部材は、図２に示す構成を有するものに制限されない。
図２は、本開示に用いられる感光性転写部材の構成の一例を示す概略図である。図２に示す感光性転写部材１００は、仮支持体１０と、熱可塑性樹脂層１２と、中間層１４と、感光性樹脂層１６と、カバーフィルム１８とがこの順に積層された構成を有する。
本開示に用いられる感光性転写部材の製造方法は、特に制限されず、公知の製造方法、例えば、公知の各層の形成方法を用いることができる。
以下、図２を参照しながら、本開示に用いられる感光性転写部材の製造方法について説明する。但し、本開示に用いられる感光性転写部材は、図２に示す構成を有するものに制限されない。
図２は、本開示に用いられる感光性転写部材の構成の一例を示す概略図である。図２に示す感光性転写部材１００は、仮支持体１０と、熱可塑性樹脂層１２と、中間層１４と、感光性樹脂層１６と、カバーフィルム１８とがこの順に積層された構成を有する。
【0221】
上記の感光性転写部材１００の製造方法としては、例えば、仮支持体１０の表面に熱可塑性樹脂組成物を塗布した後、熱可塑性樹脂組成物の塗膜を乾燥させることにより、熱可塑性樹脂層１２を形成する工程と、熱可塑性樹脂層１２の表面に中間層組成物を塗布した後、中間層組成物の塗膜を乾燥させて中間層１４を形成する工程と、中間層１４の表面にバインダーポリマー及び重合性化合物を含有する感光性樹脂組成物を塗布した後、感光性樹脂組成物の塗膜を乾燥させて感光性樹脂層１６を形成する工程とを含む方法が挙げられる。
上記の製造方法において、アルキレングリコールエーテル溶剤及びアルキレングリコールエーテルアセテート溶剤からなる群より選択される少なくとも１種を含有する熱可塑性樹脂組成物と、水及び水混和性の有機溶剤からなる群より選択される少なくとも１種を含有する中間層組成物と、バインダーポリマー、重合性化合物、並びに、アルキレングリコールエーテル溶剤及びアルキレングリコールエーテルアセテート溶剤からなる群より選択される少なくとも１種を含有する感光性樹脂組成物とを使用することが好ましい。これにより、熱可塑性樹脂層１２の表面への中間層組成物の塗布、及び／又は、中間層組成物の塗膜を有する積層体の保存期間における、熱可塑性樹脂層１２に含有される成分と中間層１４に含有される成分との混合を抑制でき、なお且つ、中間層１４の表面への感光性樹脂組成物の塗布、及び／又は、感光性樹脂組成物の塗膜を有する積層体の保存期間における、中間層１４に含有される成分と感光性樹脂層１６に含有される成分との混合を抑制できる。
上記の製造方法において、アルキレングリコールエーテル溶剤及びアルキレングリコールエーテルアセテート溶剤からなる群より選択される少なくとも１種を含有する熱可塑性樹脂組成物と、水及び水混和性の有機溶剤からなる群より選択される少なくとも１種を含有する中間層組成物と、バインダーポリマー、重合性化合物、並びに、アルキレングリコールエーテル溶剤及びアルキレングリコールエーテルアセテート溶剤からなる群より選択される少なくとも１種を含有する感光性樹脂組成物とを使用することが好ましい。これにより、熱可塑性樹脂層１２の表面への中間層組成物の塗布、及び／又は、中間層組成物の塗膜を有する積層体の保存期間における、熱可塑性樹脂層１２に含有される成分と中間層１４に含有される成分との混合を抑制でき、なお且つ、中間層１４の表面への感光性樹脂組成物の塗布、及び／又は、感光性樹脂組成物の塗膜を有する積層体の保存期間における、中間層１４に含有される成分と感光性樹脂層１６に含有される成分との混合を抑制できる。
【0222】
上記の製造方法により製造された積層体の感光性樹脂層１６に、カバーフィルム１８を圧着させることにより、感光性転写部材１００が製造される。
本開示に用いられる感光性転写部材の製造方法としては、感光性樹脂層１６の第２面に接するようにカバーフィルム１８を設ける工程を含むことにより、仮支持体１０、熱可塑性樹脂層１２、中間層１４、感光性樹脂層１６及びカバーフィルム１８を備える感光性転写部材１００を製造することが好ましい。
上記の製造方法により感光性転写部材１００を製造した後、感光性転写部材１００を巻き取ることにより、ロール形態の感光性転写部材を作製及び保管してもよい。ロール形態の感光性転写部材は、後述するロールツーロール方式での基板との貼り合わせ工程にそのままの形態で提供できる。
本開示に用いられる感光性転写部材の製造方法としては、感光性樹脂層１６の第２面に接するようにカバーフィルム１８を設ける工程を含むことにより、仮支持体１０、熱可塑性樹脂層１２、中間層１４、感光性樹脂層１６及びカバーフィルム１８を備える感光性転写部材１００を製造することが好ましい。
上記の製造方法により感光性転写部材１００を製造した後、感光性転写部材１００を巻き取ることにより、ロール形態の感光性転写部材を作製及び保管してもよい。ロール形態の感光性転写部材は、後述するロールツーロール方式での基板との貼り合わせ工程にそのままの形態で提供できる。
【0223】
［回路配線の製造方法］
本開示に係る回路配線の製造方法は、本開示に係る樹脂パターンの製造方法を含む回路配線の製造方法であれば、特に制限されない。
回路配線の製造方法としては、上記基板が、上記樹脂パターンが形成されている側の表面に導電層を有し、及び、本開示に係る樹脂パターンの製造方法により製造された樹脂パターンがこの順で積層された積層体において、樹脂パターンが配置されていない領域にある導電層をエッチング処理する工程（以下「エッチング工程」ともいう。）を含む方法が好ましく、上記貼り合わせ工程と、上記露光工程と、上記現像工程とを含む製造方法により製造される樹脂パターンを使用する場合、より好ましい。
以下、回路配線の製造方法が含む各工程について説明するが、特に言及した場合を除き、樹脂パターンの製造方法に含まれる各工程について説明した内容は、回路配線の製造方法に含まれる各工程についても適用されるものとする。
本開示に係る回路配線の製造方法は、本開示に係る樹脂パターンの製造方法を含む回路配線の製造方法であれば、特に制限されない。
回路配線の製造方法としては、上記基板が、上記樹脂パターンが形成されている側の表面に導電層を有し、及び、本開示に係る樹脂パターンの製造方法により製造された樹脂パターンがこの順で積層された積層体において、樹脂パターンが配置されていない領域にある導電層をエッチング処理する工程（以下「エッチング工程」ともいう。）を含む方法が好ましく、上記貼り合わせ工程と、上記露光工程と、上記現像工程とを含む製造方法により製造される樹脂パターンを使用する場合、より好ましい。
以下、回路配線の製造方法が含む各工程について説明するが、特に言及した場合を除き、樹脂パターンの製造方法に含まれる各工程について説明した内容は、回路配線の製造方法に含まれる各工程についても適用されるものとする。
【0224】
〔エッチング工程〕
回路配線の製造方法は、基板、導電層及び樹脂パターン（より好ましくは、上記貼り合わせ工程と、上記露光工程と、上記現像工程とを含む製造方法により製造された樹脂パターン）がこの順で積層された積層体において、樹脂パターンが配置されていない領域にある導電層をエッチング処理する工程（エッチング工程）を含むことが好ましい。「樹脂パターンが配置されていない領域にある導電層をエッチング処理する」とは、具体的には、導電層をエッチングして、その上に樹脂パターンが配置されていない導電層の一部を除去することを意味する。
回路配線の製造方法は、基板、導電層及び樹脂パターン（より好ましくは、上記貼り合わせ工程と、上記露光工程と、上記現像工程とを含む製造方法により製造された樹脂パターン）がこの順で積層された積層体において、樹脂パターンが配置されていない領域にある導電層をエッチング処理する工程（エッチング工程）を含むことが好ましい。「樹脂パターンが配置されていない領域にある導電層をエッチング処理する」とは、具体的には、導電層をエッチングして、その上に樹脂パターンが配置されていない導電層の一部を除去することを意味する。
【0225】
エッチング工程では、感光性樹脂層から形成された樹脂パターンを、エッチングレジストとして使用し、導電層のエッチング処理を行う。
エッチング処理の方法としては、公知の方法を適用でき、例えば、特開２０１７－１２０４３５号公報の段落０２０９～段落０２１０に記載の方法、特開２０１０－１５２１５５号公報の段落００４８～段落００５４に記載の方法、エッチング液に浸漬するウェットエッチング法、及び、プラズマエッチング等のドライエッチングによる方法が挙げられる。
エッチング処理の方法としては、公知の方法を適用でき、例えば、特開２０１７－１２０４３５号公報の段落０２０９～段落０２１０に記載の方法、特開２０１０－１５２１５５号公報の段落００４８～段落００５４に記載の方法、エッチング液に浸漬するウェットエッチング法、及び、プラズマエッチング等のドライエッチングによる方法が挙げられる。
【0226】
ウェットエッチングに用いられるエッチング液は、エッチングの対象に合わせて酸性又はアルカリ性のエッチング液を適宜選択すればよい。
酸性のエッチング液としては、例えば、塩酸、硫酸、硝酸、酢酸、フッ酸、シュウ酸及びリン酸から選択される酸性成分単独の水溶液、並びに、酸性成分と、塩化第２鉄、フッ化アンモニウム及び過マンガン酸カリウムから選択される塩との混合水溶液が挙げられる。酸性成分は、複数の酸性成分を組み合わせた成分であってもよい。
アルカリ性のエッチング液としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニア、有機アミン、及び、有機アミンの塩（テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド等）から選択されるアルカリ成分単独の水溶液、並びに、アルカリ成分と塩（過マンガン酸カリウム等）との混合水溶液が挙げられる。アルカリ成分は、複数のアルカリ成分を組み合わせた成分であってもよい。
酸性のエッチング液としては、例えば、塩酸、硫酸、硝酸、酢酸、フッ酸、シュウ酸及びリン酸から選択される酸性成分単独の水溶液、並びに、酸性成分と、塩化第２鉄、フッ化アンモニウム及び過マンガン酸カリウムから選択される塩との混合水溶液が挙げられる。酸性成分は、複数の酸性成分を組み合わせた成分であってもよい。
アルカリ性のエッチング液としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニア、有機アミン、及び、有機アミンの塩（テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド等）から選択されるアルカリ成分単独の水溶液、並びに、アルカリ成分と塩（過マンガン酸カリウム等）との混合水溶液が挙げられる。アルカリ成分は、複数のアルカリ成分を組み合わせた成分であってもよい。
【0227】
〔除去工程〕
回路配線の製造方法においては、残存する樹脂パターンを除去する工程（除去工程）を行うことが好ましい。
除去工程は、特に制限されず、必要に応じて行うことができるが、エッチング工程の後に行うことが好ましい。
残存する樹脂パターンを除去する方法としては特に制限されないが、薬品処理により除去する方法が挙げられ、除去液を用いて除去する方法が好ましい。
感光性樹脂層の除去方法としては、液温が好ましくは３０℃～８０℃、より好ましくは５０℃～８０℃である撹拌中の除去液に、残存する樹脂パターンを有する基板を、１分間～３０分間浸漬する方法が挙げられる。
回路配線の製造方法においては、残存する樹脂パターンを除去する工程（除去工程）を行うことが好ましい。
除去工程は、特に制限されず、必要に応じて行うことができるが、エッチング工程の後に行うことが好ましい。
残存する樹脂パターンを除去する方法としては特に制限されないが、薬品処理により除去する方法が挙げられ、除去液を用いて除去する方法が好ましい。
感光性樹脂層の除去方法としては、液温が好ましくは３０℃～８０℃、より好ましくは５０℃～８０℃である撹拌中の除去液に、残存する樹脂パターンを有する基板を、１分間～３０分間浸漬する方法が挙げられる。
【0228】
除去液としては、例えば、無機アルカリ成分又は有機アルカリ成分を、水、ジメチルスルホキシド、Ｎ－メチルピロリドン又はこれらの混合溶液に溶解させた除去液が挙げられる。無機アルカリ成分としては、例えば、水酸化ナトリウム及び水酸化カリウムが挙げられる。有機アルカリ成分としては、第１級アミン化合物、第２級アミン化合物、第３級アミン化合物及び第４級アンモニウム塩化合物が挙げられる。
また、除去液を使用し、スプレー法、シャワー法及びパドル法等の公知の方法により除去してもよい。
また、除去液を使用し、スプレー法、シャワー法及びパドル法等の公知の方法により除去してもよい。
【0229】
〔その他の工程〕
回路配線の製造方法は、上述した工程以外の任意の工程（その他の工程）を含んでもよい。例えば、以下の工程が挙げられるが、これらの工程に制限されない。
また、回路配線の製造方法に適用可能な露光工程、現像工程、及びその他の工程としては、特開２００６－２３６９６号公報の段落００３５～００５１に記載の工程が挙げられる。
回路配線の製造方法は、上述した工程以外の任意の工程（その他の工程）を含んでもよい。例えば、以下の工程が挙げられるが、これらの工程に制限されない。
また、回路配線の製造方法に適用可能な露光工程、現像工程、及びその他の工程としては、特開２００６－２３６９６号公報の段落００３５～００５１に記載の工程が挙げられる。
【0230】
＜可視光線反射率を低下させる工程＞
回路配線の製造方法は、基板が有する複数の導電層の一部又は全ての可視光線反射率を低下させる処理を行う工程を含んでいてもよい。
可視光線反射率を低下させる処理としては、酸化処理が挙げられる。基板が銅を含有する導電層を有する場合、銅を酸化処理して酸化銅とし、導電層を黒化することにより、導電層の可視光線反射率を低下させることができる。
可視光線反射率を低下させる処理については、特開２０１４－１５０１１８号公報の段落００１７～００２５、並びに、特開２０１３－２０６３１５号公報の段落００４１、段落００４２、段落００４８及び段落００５８に記載されており、これらの公報に記載の内容は本明細書に組み込まれる。
回路配線の製造方法は、基板が有する複数の導電層の一部又は全ての可視光線反射率を低下させる処理を行う工程を含んでいてもよい。
可視光線反射率を低下させる処理としては、酸化処理が挙げられる。基板が銅を含有する導電層を有する場合、銅を酸化処理して酸化銅とし、導電層を黒化することにより、導電層の可視光線反射率を低下させることができる。
可視光線反射率を低下させる処理については、特開２０１４－１５０１１８号公報の段落００１７～００２５、並びに、特開２０１３－２０６３１５号公報の段落００４１、段落００４２、段落００４８及び段落００５８に記載されており、これらの公報に記載の内容は本明細書に組み込まれる。
【0231】
＜絶縁膜を形成する工程、絶縁膜の表面に新たな導電層を形成する工程＞
回路配線の製造方法は、回路配線の表面に絶縁膜を形成する工程と、絶縁膜の表面に新たな導電層を形成する工程と、を含むことも好ましい。
上記の工程により、第一の電極パターンと絶縁した第二の電極パターンを形成することができる。
絶縁膜を形成する工程としては、特に制限されず、公知の永久膜を形成する方法が挙げられる。また、絶縁性を有する感光性材料を用いて、フォトリソグラフィにより所望のパターンの絶縁膜を形成してもよい。
絶縁膜上に新たな導電層を形成する工程は、特に制限されず、例えば、導電性を有する感光性材料を用いて、フォトリソグラフィにより所望のパターンの新たな導電層を形成してもよい。
回路配線の製造方法は、回路配線の表面に絶縁膜を形成する工程と、絶縁膜の表面に新たな導電層を形成する工程と、を含むことも好ましい。
上記の工程により、第一の電極パターンと絶縁した第二の電極パターンを形成することができる。
絶縁膜を形成する工程としては、特に制限されず、公知の永久膜を形成する方法が挙げられる。また、絶縁性を有する感光性材料を用いて、フォトリソグラフィにより所望のパターンの絶縁膜を形成してもよい。
絶縁膜上に新たな導電層を形成する工程は、特に制限されず、例えば、導電性を有する感光性材料を用いて、フォトリソグラフィにより所望のパターンの新たな導電層を形成してもよい。
【0232】
回路配線の製造方法は、基板の両方の表面にそれぞれ複数の導電層を有する基板を用い、基板の両方の表面に形成された導電層に対して逐次又は同時に回路形成することも好ましい。このような構成により、基板の一方の表面に第一の導電パターン、もう一方の表面に第二の導電パターンを形成したタッチパネル用回路配線を形成できる。また、このような構成のタッチパネル用回路配線を、ロールツーロールで基板の両面から形成することも好ましい。
【0233】
〔回路配線の用途〕
回路配線の製造方法により製造される回路配線は、種々の装置に適用することができる。上記の製造方法により製造される回路配線を備えた装置としては、例えば、入力装置が挙げられ、タッチパネルが好ましく、静電容量型タッチパネルがより好ましい。また、上記入力装置は、有機ＥＬ表示装置及び液晶表示装置等の表示装置に適用できる。
回路配線の製造方法により製造される回路配線は、種々の装置に適用することができる。上記の製造方法により製造される回路配線を備えた装置としては、例えば、入力装置が挙げられ、タッチパネルが好ましく、静電容量型タッチパネルがより好ましい。また、上記入力装置は、有機ＥＬ表示装置及び液晶表示装置等の表示装置に適用できる。
【0234】
［タッチパネルの製造方法］
本開示に係るタッチパネルの製造方法は、本開示に係る樹脂パターンの製造方法を含む回路配線の製造方法であれば、特に制限されない。
タッチパネルの製造方法としては、上記基板が、上記樹脂パターンが形成されている側の表面に導電層を有し、及び、上記の感光性転写部材を用いて製造された樹脂パターンがこの順で積層された積層体において、樹脂パターンが配置されていない領域にある導電層をエッチング処理することにより、タッチパネル用配線を形成する工程を含む方法が好ましく、上記貼り合わせ工程と、上記露光工程と、上記現像工程とを含む製造方法により製造される樹脂パターンを使用する場合、より好ましい。
本開示に係るタッチパネルの製造方法は、本開示に係る樹脂パターンの製造方法を含む回路配線の製造方法であれば、特に制限されない。
タッチパネルの製造方法としては、上記基板が、上記樹脂パターンが形成されている側の表面に導電層を有し、及び、上記の感光性転写部材を用いて製造された樹脂パターンがこの順で積層された積層体において、樹脂パターンが配置されていない領域にある導電層をエッチング処理することにより、タッチパネル用配線を形成する工程を含む方法が好ましく、上記貼り合わせ工程と、上記露光工程と、上記現像工程とを含む製造方法により製造される樹脂パターンを使用する場合、より好ましい。
【0235】
タッチパネルの製造方法における、各工程の具体的な態様、及び、各工程を行う順序等の実施態様については、上述の「樹脂パターンの製造方法」及び「回路配線の製造方法」の項において説明した通りであり、好ましい態様も同様である。
タッチパネルの製造方法は、上記の方法によりタッチパネル用配線を形成すること以外は、公知のタッチパネルの製造方法を参照すればよい。
また、タッチパネルの製造方法は、上述した以外の任意の工程（その他の工程）を含んでもよい。
タッチパネルの製造方法は、上記の方法によりタッチパネル用配線を形成すること以外は、公知のタッチパネルの製造方法を参照すればよい。
また、タッチパネルの製造方法は、上述した以外の任意の工程（その他の工程）を含んでもよい。
【0236】
タッチパネルの製造に用いられるマスクのパターンの一例を、図３及び図４に示す。
図３に示されるパターンＡ、及び、図４に示されるパターンＢにおいて、ＳＬ及びＧは非画像部（遮光部）であり、ＤＬはアライメント合わせの枠を仮想的に示したものである。タッチパネルの製造方法において、例えば、図３に示されるパターンＡを有するマスクを介して感光性樹脂層を露光することで、ＳＬ及びＧに対応するパターンＡを有する回路配線が形成されたタッチパネルを製造できる。具体的には、国際公開第２０１６／１９０４０５号の図１に記載の方法で作製できる。製造されたタッチパネルの一例においては、Ｇは透明電極（タッチパネル用電極）が形成される部分であり、ＳＬは周辺取出し部の配線が形成される部分である。
図３に示されるパターンＡ、及び、図４に示されるパターンＢにおいて、ＳＬ及びＧは非画像部（遮光部）であり、ＤＬはアライメント合わせの枠を仮想的に示したものである。タッチパネルの製造方法において、例えば、図３に示されるパターンＡを有するマスクを介して感光性樹脂層を露光することで、ＳＬ及びＧに対応するパターンＡを有する回路配線が形成されたタッチパネルを製造できる。具体的には、国際公開第２０１６／１９０４０５号の図１に記載の方法で作製できる。製造されたタッチパネルの一例においては、Ｇは透明電極（タッチパネル用電極）が形成される部分であり、ＳＬは周辺取出し部の配線が形成される部分である。
【0237】
上記のタッチパネルの製造方法により、タッチパネル用配線を少なくとも有するタッチパネルが製造される。タッチパネルは、透明基板と、電極と、絶縁層又は保護層とを有することが好ましい。
タッチパネルにおける検出方法としては、抵抗膜方式、静電容量方式、超音波方式、電磁誘導方式、及び、光学方式等の公知の方式が挙げられる。中でも、静電容量方式が好ましい。
タッチパネルにおける検出方法としては、抵抗膜方式、静電容量方式、超音波方式、電磁誘導方式、及び、光学方式等の公知の方式が挙げられる。中でも、静電容量方式が好ましい。
【0238】
タッチパネル型としては、いわゆるインセル型（例えば、特表２０１２－５１７０５１号公報の図５、図６、図７及び図８に記載のもの）、いわゆるオンセル型（例えば、特開２０１３－１６８１２５号公報の図１９に記載のもの、並びに、特開２０１２－８９１０２号公報の図１及び図５に記載のもの）、ＯＧＳ（Ｏｎｅ Ｇｌａｓｓ Ｓｏｌｕｔｉｏｎ）型、ＴＯＬ（Ｔｏｕｃｈ－ｏｎ－Ｌｅｎｓ）型（例えば、特開２０１３－５４７２７号公報の図２に記載のもの）、各種アウトセル型（いわゆる、ＧＧ、Ｇ１・Ｇ２、ＧＦＦ、ＧＦ２、ＧＦ１及びＧ１Ｆ等）並びにその他の構成（例えば、特開２０１３－１６４８７１号公報の図６に記載のもの）が挙げられる。
タッチパネルとしては、例えば、特開２０１７－１２０３４５号公報の段落０２２９に記載のものが挙げられる。
タッチパネルとしては、例えば、特開２０１７－１２０３４５号公報の段落０２２９に記載のものが挙げられる。
【0239】
［感光性転写部材］
本開示に係る感光性転写部材は、仮支持体及び感光性樹脂層を有する感光性転写部材であって、上記感光性転写部材により、基板上に上記基板からの最大高さの９０％の位置におけるパターン幅が６μｍとなる樹脂パターンＡを形成した場合に、上記樹脂パターンＡの幅方向の断面において、上記基板に接する部分における上記樹脂パターンＡのパターン幅が、６．２μｍ以上である。
本開示に係る感光性転写部材の好ましい態様は、後述した以外は、上述した本開示に係る樹脂パターンの製造方法に用いられる感光性転写部材の好ましい態様と同様である。
本開示に係る感光性転写部材は、仮支持体及び感光性樹脂層を有する感光性転写部材であって、上記感光性転写部材により、基板上に上記基板からの最大高さの９０％の位置におけるパターン幅が６μｍとなる樹脂パターンＡを形成した場合に、上記樹脂パターンＡの幅方向の断面において、上記基板に接する部分における上記樹脂パターンＡのパターン幅が、６．２μｍ以上である。
本開示に係る感光性転写部材の好ましい態様は、後述した以外は、上述した本開示に係る樹脂パターンの製造方法に用いられる感光性転写部材の好ましい態様と同様である。
【0240】
本開示に係る感光性転写部材は、基板上に上記基板からの最大高さの９０％の位置におけるパターン幅が６μｍとなる樹脂パターンＡを形成した場合に、上記樹脂パターンＡの幅方向の断面において、上記基板に接する部分における上記樹脂パターンＡのパターン幅は、解像性及び直線性の観点から、６．２μｍ以上９．０μｍ以下であることが好ましく、６．２μｍ以上８．４μｍ以下であることがより好ましく、６．３μｍ以上８．０μｍ以下であることが更に好ましく、６．４μｍ以上８．０μｍ以下であることが特に好ましい。
【実施例0241】
以下に実施例を挙げて本発明の実施形態を更に具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、及び、処理手順等は、本発明の実施形態の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。したがって、本発明の実施形態の範囲は以下に示す具体例に限定されない。なお、特に断りのない限り、「部」、「％」は質量基準である。
【0242】
（実施例１～９、及び、比較例１～３）
＜感光性転写部材の作製＞
－熱可塑性樹脂層の形成－
仮支持体として厚さ２５μｍのＰＥＴフィルムを用意した。仮支持体の表面に、スリット状ノズルを用いて塗布幅が１．０ｍ、且つ、乾燥後の層厚が４．０μｍとなるように下記熱可塑性樹脂組成物を塗布した。
形成された熱可塑性樹脂組成物の塗膜を８０℃で４０秒間かけて乾燥し、熱可塑性樹脂層を形成した。
＜感光性転写部材の作製＞
－熱可塑性樹脂層の形成－
仮支持体として厚さ２５μｍのＰＥＴフィルムを用意した。仮支持体の表面に、スリット状ノズルを用いて塗布幅が１．０ｍ、且つ、乾燥後の層厚が４．０μｍとなるように下記熱可塑性樹脂組成物を塗布した。
形成された熱可塑性樹脂組成物の塗膜を８０℃で４０秒間かけて乾燥し、熱可塑性樹脂層を形成した。
【0243】
＜＜熱可塑性樹脂組成物＞＞
以下の成分を混合して熱可塑性樹脂組成物を調製した。
・ベンジルメタクリレート、メタクリル酸及びアクリル酸の共重合体（固形分濃度３０．０％、Ｍｗ３０，０００、酸価１５３ｍｇＫＯＨ／ｇ）：４２．８５部
・ＮＫエステルＡ－ＤＣＰ（トリシクロデカンジメタノールジアクリレート、新中村化学工業（株）製）：４．６３部
・８ＵＸ－０１５Ａ（多官能ウレタンアクリレート化合物、大成ファインケミカル（株）製）：２．３１部
・アロニックスＴＯ－２３４９（カルボキシ基を有する多官能アクリレート化合物、東亞合成（株）製）：０．７７部
・下記に示す構造の化合物（光酸発生剤、特開２０１３－４７７６５号公報の段落０２２７に記載の方法に従って合成した化合物。）：０．３２部
以下の成分を混合して熱可塑性樹脂組成物を調製した。
・ベンジルメタクリレート、メタクリル酸及びアクリル酸の共重合体（固形分濃度３０．０％、Ｍｗ３０，０００、酸価１５３ｍｇＫＯＨ／ｇ）：４２．８５部
・ＮＫエステルＡ－ＤＣＰ（トリシクロデカンジメタノールジアクリレート、新中村化学工業（株）製）：４．６３部
・８ＵＸ－０１５Ａ（多官能ウレタンアクリレート化合物、大成ファインケミカル（株）製）：２．３１部
・アロニックスＴＯ－２３４９（カルボキシ基を有する多官能アクリレート化合物、東亞合成（株）製）：０．７７部
・下記に示す構造の化合物（光酸発生剤、特開２０１３－４７７６５号公報の段落０２２７に記載の方法に従って合成した化合物。）：０．３２部
【0244】
【化3】
【0245】
・下記に示す構造の化合物（酸により発色する色素）：０．０８部
【0246】
【化4】
【0247】
・Ｅ－１（メガファックＦ５５２（ＤＩＣ（株）製））：０．０３部
・ＭＥＫ（メチルエチルケトン、三協化学（株）製）：３９．５０部
・ＰＧＭＥＡ（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、昭和電工（株）製）：９．５１部
・ＭＥＫ（メチルエチルケトン、三協化学（株）製）：３９．５０部
・ＰＧＭＥＡ（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、昭和電工（株）製）：９．５１部
【0248】
－中間層の形成－
形成された熱可塑性樹脂層の表面に、スリット状ノズルを用いて塗布幅が１．０ｍ、且つ、乾燥後の層厚が１．２μｍとなるように上記の中間層組成物を塗布した。中間層組成物の塗膜を８０℃で４０秒間かけて乾燥し、中間層を形成した。
形成された熱可塑性樹脂層の表面に、スリット状ノズルを用いて塗布幅が１．０ｍ、且つ、乾燥後の層厚が１．２μｍとなるように上記の中間層組成物を塗布した。中間層組成物の塗膜を８０℃で４０秒間かけて乾燥し、中間層を形成した。
【0249】
＜＜中間層組成物＞＞
以下の成分を混合して中間層組成物を調製した。
・イオン交換水：３８．１２部
・メタノール（三菱ガス化学（株）製）：５７．１７部
・クラレポバールＰＶＡ－２０５（ポリビニルアルコール、（株）クラレ製）：３．２２部
・ポリビニルピロリドンＫ－３０（日本触媒（株）製）：１．４９部
・メガファックＦ－４４４（フッ素系ノニオン性界面活性剤、ＤＩＣ（株）製）：０．００１５部
以下の成分を混合して中間層組成物を調製した。
・イオン交換水：３８．１２部
・メタノール（三菱ガス化学（株）製）：５７．１７部
・クラレポバールＰＶＡ－２０５（ポリビニルアルコール、（株）クラレ製）：３．２２部
・ポリビニルピロリドンＫ－３０（日本触媒（株）製）：１．４９部
・メガファックＦ－４４４（フッ素系ノニオン性界面活性剤、ＤＩＣ（株）製）：０．００１５部
【0250】
－感光性樹脂層の形成－
形成された中間層の表面に、スリット状ノズルを用いて塗布幅が１．０ｍ、且つ、乾燥後の層厚が表１の記載の厚さとなるように表１に記載の感光性樹脂組成物Ａ－１～Ａ－７又はＡＨ－１～ＡＨ－３のいずれかを塗布した。感光性樹脂組成物Ａ－１～Ａ－７又はＡＨ－１～ＡＨ－３のいずれかの塗膜を８０℃で４０秒間かけて乾燥し、感光性樹脂層を形成した。
形成された中間層の表面に、スリット状ノズルを用いて塗布幅が１．０ｍ、且つ、乾燥後の層厚が表１の記載の厚さとなるように表１に記載の感光性樹脂組成物Ａ－１～Ａ－７又はＡＨ－１～ＡＨ－３のいずれかを塗布した。感光性樹脂組成物Ａ－１～Ａ－７又はＡＨ－１～ＡＨ－３のいずれかの塗膜を８０℃で４０秒間かけて乾燥し、感光性樹脂層を形成した。
【0251】
【表1】
【0252】
また、使用した感光性樹脂組成物Ａ－１～Ａ－７及びＡＨ－１～ＡＨ－３の組成を以下の表２に示す。
【0253】
【表2】
【0254】
表２における「Ｍｍ／Ｍｂ」は、感光性樹脂層における重合性化合物の含有量Ｍｍとバインダーポリマーの含有量Ｍｂとの比Ｍｍ／Ｍｂの値を表し、「アクリル化合物の含有量」は、感光性樹脂層に含まれる（メタ）アクリル化合物の全質量に対するアクリル化合物の含有量を表し、単位は質量％である。
【0255】
なお、表２の略称の詳細を以下に示す。
ＢＰＥ－５００：エトキシ化（１０モル当量）ビスフェノールＡジメタクリレート（新中村化学工業（株）製）
ＢＰＥ－２００：エトキシ化（４モル当量）ビスフェノールＡジメタクリレート（新中村化学工業（株）製）
Ｍ－２７０：ポリプロピレングリコールジアクリレート（ｎ＝約１２）（東亞合成（株）製）
Ａ－ＴＭＰＴ：トリメチロールプロパントリアクリレート（新中村化学工業（株）製）
ＳＲ－４５４：エトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート（アルケマ社製）
ＳＲ－５０２：エトキシ化（９モル当量）トリメチロールプロパントリアクリレート（アルケマ社製）
Ａ－９３００－ＣＬ１：ε－カプロラクトン変性トリス－（２－アクリロキシエチル）イソシアヌレート（新中村化学工業（株）製）
Ｂ－ＣＩＭ：２，２’－ビス（２－クロロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラフェニル－１，２’－ビスイミダゾール（重合開始剤、黒金化成（株）製）
ＳＢ－ＰＩ ７０１：４，４’－ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン（増感剤、三洋貿易（株）製）
ＣＢＴ－１：カルボキシベンゾトリアゾール（防錆剤、城北化学工業（株）製）
ＴＤＰ－Ｇ：フェノチアジン（重合禁止剤、川口化学工業（株）製）
Ｉｒｇａｎｏｘ２４５：ethylene bis(oxyethylene)bis(3-(5-tert-butyl-4-hydroxy-m-tolyl)propionate)（重合禁止剤、ＢＡＳＦ社製）
Ｆ－５５２：フッ素系界面活性剤（ＤＩＣ（株）製）
ＢＰＥ－５００：エトキシ化（１０モル当量）ビスフェノールＡジメタクリレート（新中村化学工業（株）製）
ＢＰＥ－２００：エトキシ化（４モル当量）ビスフェノールＡジメタクリレート（新中村化学工業（株）製）
Ｍ－２７０：ポリプロピレングリコールジアクリレート（ｎ＝約１２）（東亞合成（株）製）
Ａ－ＴＭＰＴ：トリメチロールプロパントリアクリレート（新中村化学工業（株）製）
ＳＲ－４５４：エトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート（アルケマ社製）
ＳＲ－５０２：エトキシ化（９モル当量）トリメチロールプロパントリアクリレート（アルケマ社製）
Ａ－９３００－ＣＬ１：ε－カプロラクトン変性トリス－（２－アクリロキシエチル）イソシアヌレート（新中村化学工業（株）製）
Ｂ－ＣＩＭ：２，２’－ビス（２－クロロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラフェニル－１，２’－ビスイミダゾール（重合開始剤、黒金化成（株）製）
ＳＢ－ＰＩ ７０１：４，４’－ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン（増感剤、三洋貿易（株）製）
ＣＢＴ－１：カルボキシベンゾトリアゾール（防錆剤、城北化学工業（株）製）
ＴＤＰ－Ｇ：フェノチアジン（重合禁止剤、川口化学工業（株）製）
Ｉｒｇａｎｏｘ２４５：ethylene bis(oxyethylene)bis(3-(5-tert-butyl-4-hydroxy-m-tolyl)propionate)（重合禁止剤、ＢＡＳＦ社製）
Ｆ－５５２：フッ素系界面活性剤（ＤＩＣ（株）製）
【0256】
－カバーフィルムの貼り付け－
形成された感光性樹脂層の表面に、カバーフィルムとしてＰＥＴフィルム（東レ（株）製、ルミラー１６ＱＳ６２、算術平均粗さ（Ｒａ値）０．０２μｍ）を圧着し、各実施例の感光性転写部材をそれぞれ作製した。
得られた感光性転写部材を巻き取って、ロール形態の感光性転写部材を作製した。
形成された感光性樹脂層の表面に、カバーフィルムとしてＰＥＴフィルム（東レ（株）製、ルミラー１６ＱＳ６２、算術平均粗さ（Ｒａ値）０．０２μｍ）を圧着し、各実施例の感光性転写部材をそれぞれ作製した。
得られた感光性転写部材を巻き取って、ロール形態の感光性転写部材を作製した。
【0257】
＜積層体の作製＞
上記で作製した感光性転写部材Ｆ－１～Ｆ－９、ＦＨ－１及びＦＨ－２のカバーフィルムを剥離し、感光性転写部材の剥離面を、銅基板に接触させ、ＰＥＴフィルムに銅をスパッタし厚さ２００μｍの銅層を形成した銅基板上に、以下のラミネート条件でラミネートしてラミネート体を得た。
－ラミネート条件－
銅基板の温度：４０℃
ゴムローラーの温度：１１０℃
線圧：３Ｎ／ｃｍ
搬送速度：２ｍ／分
上記で作製した感光性転写部材Ｆ－１～Ｆ－９、ＦＨ－１及びＦＨ－２のカバーフィルムを剥離し、感光性転写部材の剥離面を、銅基板に接触させ、ＰＥＴフィルムに銅をスパッタし厚さ２００μｍの銅層を形成した銅基板上に、以下のラミネート条件でラミネートしてラミネート体を得た。
－ラミネート条件－
銅基板の温度：４０℃
ゴムローラーの温度：１１０℃
線圧：３Ｎ／ｃｍ
搬送速度：２ｍ／分
【0258】
＜露光＞
次いで、ライン＆スペース＝６μｍ／６μｍの露光パターンを有する露光マスクを、ラミネート体の感光性転写部材をラミネートした側における仮支持体に密着させ、露光マスクを介して、超高圧水銀灯を有するプロキシミティー型露光機（日立ハイテク電子エンジニアリング（株）製）を用いて、レジストパターンの最大高さの９０％の位置の高さの幅が６μｍになる露光量で露光した。
次いで、ライン＆スペース＝６μｍ／６μｍの露光パターンを有する露光マスクを、ラミネート体の感光性転写部材をラミネートした側における仮支持体に密着させ、露光マスクを介して、超高圧水銀灯を有するプロキシミティー型露光機（日立ハイテク電子エンジニアリング（株）製）を用いて、レジストパターンの最大高さの９０％の位置の高さの幅が６μｍになる露光量で露光した。
【0259】
＜現像＞
その後、露光したラミネート体から仮支持体を剥離し、１．０％炭酸ナトリウム水溶液を用いて２６℃、３０秒間での現像条件で現像処理した。
次いで、純水を用いて、２６℃、３０秒で洗浄処理を行った。
次いで、表面にエアを吹きかけて水分を除去し、樹脂パターンを有する基板を作製した。
現像処理、及び、洗浄処理は、シャワー型の現像機を用い、スプレー圧は０．０８ＭＰａだった。
その後、露光したラミネート体から仮支持体を剥離し、１．０％炭酸ナトリウム水溶液を用いて２６℃、３０秒間での現像条件で現像処理した。
次いで、純水を用いて、２６℃、３０秒で洗浄処理を行った。
次いで、表面にエアを吹きかけて水分を除去し、樹脂パターンを有する基板を作製した。
現像処理、及び、洗浄処理は、シャワー型の現像機を用い、スプレー圧は０．０８ＭＰａだった。
【0260】
＜エッチング、及び、剥離＞
樹脂パターンを有する基板に対し、２５℃の銅エッチング液（関東化学（株）製、Ｃｕ－０２）を用いて６０秒間、銅層をシャワーエッチングした。
その後、６０℃の剥離液（関東化学（株）製ＫＰ－３０１）を用いて、２分間シャワー剥離を行うことで、樹脂パターンを除去し、回路配線Ａを作製した。
樹脂パターンを有する基板に対し、２５℃の銅エッチング液（関東化学（株）製、Ｃｕ－０２）を用いて６０秒間、銅層をシャワーエッチングした。
その後、６０℃の剥離液（関東化学（株）製ＫＰ－３０１）を用いて、２分間シャワー剥離を行うことで、樹脂パターンを除去し、回路配線Ａを作製した。
【0261】
＜露光部のレジスト線幅の測定＞
作製した樹脂パターンを有する基板を、ラインパターンのライン方向に対して垂直な面で割断した。
ラインパターンの断面を、走査線電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いて断面側から観察し、レジストの幅を計測した。
また、上記と同様のサンプルにおいて、非露光部の層の厚さを計測した。
作製した樹脂パターンを有する基板を、ラインパターンのライン方向に対して垂直な面で割断した。
ラインパターンの断面を、走査線電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いて断面側から観察し、レジストの幅を計測した。
また、上記と同様のサンプルにおいて、非露光部の層の厚さを計測した。
【0262】
＜評価＞
－解像性評価－
複数の幅のライン＆スペースを有する回路配線パターンマスクにより、上記と同様にレジスト剥離後の配線サンプルを作製した。得られた配線サンプルを光学顕微鏡で配線部を観察し、解像している最も細い細線の幅により、以下の評価基準で解像性を評価した。
Ａ：解像している最も細い細線の幅が６μｍ以下
Ｂ：解像している最も細い細線の幅が６μｍより大きく１０μｍ以下
Ｃ：解像している最も細い細線の幅が１０μｍより大きい
－解像性評価－
複数の幅のライン＆スペースを有する回路配線パターンマスクにより、上記と同様にレジスト剥離後の配線サンプルを作製した。得られた配線サンプルを光学顕微鏡で配線部を観察し、解像している最も細い細線の幅により、以下の評価基準で解像性を評価した。
Ａ：解像している最も細い細線の幅が６μｍ以下
Ｂ：解像している最も細い細線の幅が６μｍより大きく１０μｍ以下
Ｃ：解像している最も細い細線の幅が１０μｍより大きい
【0263】
－直線性評価－
上記配線サンプルについて、アトランダムに選んだ箇所の配線の幅を２０箇所測定した。得られた線幅データから標準偏差σを算出し、標準偏差σを３倍した値をＬＷＲ（Ｌｉｎｅ Ｗｉｄｔｈ Ｒｏｕｇｈｎｅｓｓ）と定義し、パターン直線性の指標とした。
ＬＷＲは定義上、小さいほど線幅変動が小さいこととなり好ましい。
Ａ：ＬＷＲの値が２００ｎｍ以下
Ｂ：ＬＷＲの値が２００ｎｍより大きく３００ｎｍ以下
Ｃ：ＬＷＲの値が３００ｎｍより大きい
上記配線サンプルについて、アトランダムに選んだ箇所の配線の幅を２０箇所測定した。得られた線幅データから標準偏差σを算出し、標準偏差σを３倍した値をＬＷＲ（Ｌｉｎｅ Ｗｉｄｔｈ Ｒｏｕｇｈｎｅｓｓ）と定義し、パターン直線性の指標とした。
ＬＷＲは定義上、小さいほど線幅変動が小さいこととなり好ましい。
Ａ：ＬＷＲの値が２００ｎｍ以下
Ｂ：ＬＷＲの値が２００ｎｍより大きく３００ｎｍ以下
Ｃ：ＬＷＲの値が３００ｎｍより大きい
【0264】
（実施例１０）
上記露光時において、ライン＆スペース＝６μｍ／６μｍの露光パターンをライン＆スペース＝８μｍ／８μｍの露光パターンに変更した以外は、実施例５と同様にして、樹脂パターンを有する基板、及び、回路配線Ａを作製した。
また、実施例５と同様にして、評価を行った。
上記露光時において、ライン＆スペース＝６μｍ／６μｍの露光パターンをライン＆スペース＝８μｍ／８μｍの露光パターンに変更した以外は、実施例５と同様にして、樹脂パターンを有する基板、及び、回路配線Ａを作製した。
また、実施例５と同様にして、評価を行った。
【0265】
（実施例１１）
上記露光時において、ライン＆スペース＝６μｍ／６μｍの露光パターンをライン＆スペース＝４μｍ／４μｍの露光パターンに変更した以外は、実施例５と同様にして、樹脂パターンを有する基板、及び、回路配線Ａを作製した。
また、実施例５と同様にして、評価を行った。
上記露光時において、ライン＆スペース＝６μｍ／６μｍの露光パターンをライン＆スペース＝４μｍ／４μｍの露光パターンに変更した以外は、実施例５と同様にして、樹脂パターンを有する基板、及び、回路配線Ａを作製した。
また、実施例５と同様にして、評価を行った。
【0266】
（実施例１２）
上記現像時において、１．０％炭酸ナトリウム水溶液を用いて２６℃、３０秒間での現像条件を、１．２％炭酸カリウム水溶液を用いて３０℃、３０秒間での現像条件に変更した以外は、実施例５と同様にして、樹脂パターンを有する基板、及び、回路配線Ａを作製した。
また、実施例５と同様にして、評価を行った。
上記現像時において、１．０％炭酸ナトリウム水溶液を用いて２６℃、３０秒間での現像条件を、１．２％炭酸カリウム水溶液を用いて３０℃、３０秒間での現像条件に変更した以外は、実施例５と同様にして、樹脂パターンを有する基板、及び、回路配線Ａを作製した。
また、実施例５と同様にして、評価を行った。
【0267】
【表3】
【0268】
上記表３に示すように、実施例１～１２の樹脂パターンの製造方法及び感光性転写部材は、比較例１～３の樹脂パターンの製造方法及び感光性転写部材と比べ、配線等の得られるエッチングパターンの解像性に優れる。
また、上記表３に示すように、実施例１～１２の樹脂パターンの製造方法及び感光性転写部材は、得られるエッチングパターンの直線性にも優れる。
また、上記表３に示すように、実施例１～１２の樹脂パターンの製造方法及び感光性転写部材は、得られるエッチングパターンの直線性にも優れる。
【0269】
なお、２０２０年２月５日に出願された日本国特許出願２０２０－０１７７２０号の開示は、その全体が参照により本明細書に取り込まれる。また、本明細書に記載された全ての文献、特許出願および技術規格は、個々の文献、特許出願、および技術規格が参照により取り込まれることが具体的かつ個々に記された場合と同程度に、本明細書中に参照により取り込まれる。
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【手続補正書】
【提出日】2024-08-14
【手続補正1】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項1】
仮支持体及び感光性樹脂層を有する感光性転写部材を用いて基板上に樹脂パターンを形成する樹脂パターンの製造方法であって、
前記樹脂パターンの幅方向の断面において、前記樹脂パターンの前記基板に接する部分におけるパターン幅から前記樹脂パターンの最大高さの９０％の位置におけるパターン幅を引いた値が、０．２μｍ以上２．４μｍ以下であり、
前記感光性樹脂層が、単層のネガ型感光性樹脂層であって、重合性化合物、バインダーポリマー、及び、光重合開始剤を含み、
前記バインダーポリマーが、（メタ）アクリル酸と、非酸性でありかつ分子中に重合性不飽和基を少なくとも１個有する単量体の少なくとも１種と、の共重合体を含み、
製造される樹脂パターンが、パターン幅が６μｍ以下の樹脂パターンを含み、
前記感光性樹脂層の厚さが、６μｍ以下である、
樹脂パターンの製造方法。
前記樹脂パターンの幅方向の断面において、前記樹脂パターンの前記基板に接する部分におけるパターン幅から前記樹脂パターンの最大高さの９０％の位置におけるパターン幅を引いた値が、０．２μｍ以上２．４μｍ以下であり、
前記感光性樹脂層が、単層のネガ型感光性樹脂層であって、重合性化合物、バインダーポリマー、及び、光重合開始剤を含み、
前記バインダーポリマーが、（メタ）アクリル酸と、非酸性でありかつ分子中に重合性不飽和基を少なくとも１個有する単量体の少なくとも１種と、の共重合体を含み、
製造される樹脂パターンが、パターン幅が６μｍ以下の樹脂パターンを含み、
前記感光性樹脂層の厚さが、６μｍ以下である、
樹脂パターンの製造方法。
【請求項2】
前記仮支持体の厚さが、２５μｍ以下である請求項１に記載の樹脂パターンの製造方法。
【請求項3】
前記感光性樹脂層における重合性化合物の含有量Ｍｍとバインダーポリマーの含有量Ｍｂとの比Ｍｍ／Ｍｂの値が、０．９以下である請求項１又は請求項２に記載の樹脂パターンの製造方法。
【請求項4】
前記感光性樹脂層における前記重合性化合物が、（メタ）アクリル化合物を含み、
前記感光性樹脂層に含まれる前記（メタ）アクリル化合物の全質量に対するアクリル化合物の含有量が、６０質量％以下である請求項１～請求項３のいずれか１項に記載の樹脂パターンの製造方法。
前記感光性樹脂層に含まれる前記（メタ）アクリル化合物の全質量に対するアクリル化合物の含有量が、６０質量％以下である請求項１～請求項３のいずれか１項に記載の樹脂パターンの製造方法。
【請求項5】
前記基板が、前記樹脂パターンが形成されている側の表面に導電層を有し、
請求項１～請求項４のいずれか１項に記載の樹脂パターンの製造方法により製造された前記基板上に前記樹脂パターンを有する積層体において、前記樹脂パターンが配置されていない領域にある前記導電層をエッチング処理して回路配線を形成する工程を含む、
回路配線の製造方法。
請求項１～請求項４のいずれか１項に記載の樹脂パターンの製造方法により製造された前記基板上に前記樹脂パターンを有する積層体において、前記樹脂パターンが配置されていない領域にある前記導電層をエッチング処理して回路配線を形成する工程を含む、
回路配線の製造方法。
【請求項6】
前記基板が、前記樹脂パターンが形成されている側の表面に導電層を有し、
請求項１～請求項４のいずれか１項に記載の樹脂パターンの製造方法により製造された前記基板上に前記樹脂パターンを有する積層体において、前記樹脂パターンが配置されていない領域にある前記導電層をエッチング処理してタッチパネル用配線を形成する工程を含む、
タッチパネルの製造方法。
請求項１～請求項４のいずれか１項に記載の樹脂パターンの製造方法により製造された前記基板上に前記樹脂パターンを有する積層体において、前記樹脂パターンが配置されていない領域にある前記導電層をエッチング処理してタッチパネル用配線を形成する工程を含む、
タッチパネルの製造方法。