特開 2024-157224 ステージ装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2024157224

(43)【公開日】2024-11-07

(54)【発明の名称】ステージ装置

(51)【国際特許分類】

   H01J 37/20 20060101AFI20241030BHJP

   H02K 41/03 20060101ALI20241030BHJP

【ＦＩ】

H01J37/20 D

H02K41/03 A

【審査請求】未請求

【請求項の数】11

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2023071454

(22)【出願日】2023-04-25

(71)【出願人】

【識別番号】501387839

【氏名又は名称】株式会社日立ハイテク

(74)【代理人】

【識別番号】110000350

【氏名又は名称】ポレール弁理士法人

(72)【発明者】

【氏名】高橋 宗大

(72)【発明者】

【氏名】水落 真樹

(72)【発明者】

【氏名】山本 来布

(72)【発明者】

【氏名】細渕 啓一郎

(72)【発明者】

【氏名】加藤 孝宜

【テーマコード（参考）】

5C101

5H641

【Ｆターム（参考）】

5C101AA03

5C101FF02

5C101FF56

5C101FF57

5H641BB06

5H641BB16

5H641BB18

5H641GG03

5H641GG04

5H641GG06

5H641HH02

5H641HH06

(57)【要約】

【課題】
磁気浮上型のステージ装置において、駆動に伴う振動を効果的に抑制しつつ、高速な位置決めが可能であり、かつ漏れ磁場が小さいステージ装置を提供する。
【解決手段】
位置決めを行う対象物を支持する支持ステージと、当該支持ステージを磁気により浮上させて位置決めする浮上機構を備えたステージ装置であって、前記浮上機構の第１の方向の推力を発生する第１のモータと、前記第１の方向と異なる第２の方向の推力を発生する第２のモータと、前記第１の方向と前記第２の方向と異なる第３の方向の推力を発生する第３のモータと、を有し、前記第１のモータと前記第２のモータと前記第３のモータは、前記各モータに対応する非浮上側の各ヨークが同じ部材を共有して一体で構成されており、前記同じ部材を共有して一体で構成された各ヨークを、テーブルの前記第２の方向の両端に配置し、前記テーブルに対して前記第１の方向の辺が固定されていることを特徴とする。
【選択図】 図１０

【特許請求の範囲】

【請求項1】

位置決めを行う対象物を支持する支持ステージと、当該支持ステージを磁気により浮上させて位置決めする浮上機構を備えたステージ装置であって、
前記浮上機構の第１の方向の推力を発生する第１のモータと、前記第１の方向と異なる第２の方向の推力を発生する第２のモータと、前記第１の方向と前記第２の方向と異なる第３の方向の推力を発生する第３のモータと、を有し、
前記第１のモータと前記第２のモータと前記第３のモータは、前記各モータに対応する非浮上側の各ヨークが同じ部材を共有して一体で構成されており、
前記同じ部材を共有して一体で構成された各ヨークを、テーブルの前記第２の方向の両端に配置し、前記テーブルに対して前記第１の方向の辺が固定されていることを特徴とするステージ装置。

【請求項2】

請求項１に記載のステージ装置であって、
前記第２の方向は、前記第１の方向に垂直な方向であり、
前記第３の方向は、前記第１の方向および前記第２の方向に垂直な方向であることを特徴とするステージ装置。

【請求項3】

請求項１に記載のステージ装置であって、
前記第１のモータ、前記第２のモータ、前記第３のモータは、それぞれＸ軸モータ、Ｙ軸モータ、Ｚ軸モータであり、
前記浮上機構の前記Ｘ軸モータと前記Ｙ軸モータと前記Ｚ軸モータは、前記各モータに対応する非浮上側のＸヨークとＹヨークとＺヨークが同じ部材を共有して一体で構成されており、
前記同じ部材を共有して一体で構成されたＸヨークとＹヨークとＺヨークを、ＹテーブルのＹ方向の両端に配置し、前記Ｙテーブルに対してＸ方向の辺が固定されていることを特徴とするステージ装置。

【請求項4】

請求項３に記載のステージ装置であって、
Ｘ軸とＹ軸は、水平面内で互いに垂直であり、
Ｚ軸は、前記水平面に対して鉛直であることを特徴とするステージ装置。

【請求項5】

請求項３に記載のステージ装置であって、
前記同じ部材を共有して一体で構成されたＸヨークとＹヨークとＺヨークは、その断面形状がコの字形であることを特徴とするステージ装置。

【請求項6】

請求項５に記載のステージ装置であって、
前記同じ部材を共有して一体で構成されたＸヨークとＹヨークとＺヨークの下面は、前記Ｚ軸モータの磁気吸引に使用されることを特徴とするステージ装置。

【請求項7】

請求項６に記載のステージ装置であって、
前記Ｘ軸モータとＹ軸モータとＺ軸モータの各コイルは、まとめてコイルモールドされることを特徴とするステージ装置。

【請求項8】

請求項７に記載のステージ装置であって、
前記Ｙ軸モータのコイルを前記Ｘ軸モータのコイルと同じ高さ、かつ、前記コの字形ヨークの奥側に配置されることを特徴とするステージ装置。

【請求項9】

請求項６に記載のステージ装置であって、
前記Ｘ軸モータと前記Ｙ軸モータは、縦方向に重ねて配置され、かつ、ＸＺ平面に対称に前記Ｘ軸モータと前記Ｙ軸モータで上下関係が逆に配置されることを特徴とするステージ装置。

【請求項10】

請求項３に記載のステージ装置であって、
前記Ｘ軸モータと前記Ｙ軸モータは、それぞれの高さが互い違いになるよう配置されることを特徴とするステージ装置。

【請求項11】

請求項１に記載のステージ装置であって、
荷電粒子線装置または真空装置に搭載されることを特徴とするステージ装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、ステージ装置の構造に係り、特に、磁気浮上型のステージ装置に適用して有効な技術に関する。

【背景技術】

【0002】

従来から半導体関連装置のためのデバイスステージおよびウエハを正確に位置決めして支持するための磁気浮上ステージに関する技術が知られている。

【0003】

例えば、特許文献１には、デバイスを移動させる磁気浮上ステージ機構が開示されている。この磁気浮上ステージ機構は、ＸＹＺの各軸に磁石可動式のモータを用いており、固定子のコイルがはり状となっている構造である。この特許文献１では、３軸方向のモータ推力をそれぞれ別々のモータで発生し非接触支持を実現している。

【0004】

また、特許文献２には、ＸＹ軸の各軸駆動用の磁界の相互干渉を抑制することができるステージ装置が開示されている。

【0005】

また、特許文献３には、磁場の漏れを抑制可能かつ高速な位置決めが可能なステージ装置が開示されている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0006】

【特許文献1】特開２０１５－１９８１２１号公報

【特許文献2】特開２０１２－８５３８６号公報

【特許文献3】国際公開第２０２２／２６４２８７号

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0007】

例えば、半導体ウエハの製造、測定、検査などの工程では、半導体ウエハの正確な位置決めを行うために、上記特許文献１から特許文献３のようなステージ装置が用いられる。このようなステージ装置においては、半導体ウエハの高速かつ高精度な位置決め性能が求められている。

【0008】

しかしながら、上記特許文献１のような従来の磁気浮上ステージ装置では、長手方向のストロークが大きい場合に、固定子がはり状となり振動するため、ステージ機構の固有振動数が低く、制御帯域の向上に制約が生じて高速な位置決めが困難であるという課題がある。また、ＸＹＺの各軸のモータに磁性体であるヨークが必要となり、磁場変動や漏洩磁場の問題から、荷電粒子線装置への適用が困難である。

【0009】

上記特許文献２及び特許文献３のいずれにおいても、上記のような課題は十分に考慮されておらず、改善の余地がある。

【0010】

そこで、本発明の目的は、磁気浮上型のステージ装置において、駆動に伴う振動を効果的に抑制しつつ、高速な位置決めが可能であり、かつ漏れ磁場が小さいステージ装置、及びそれを用いた荷電粒子線装置、真空装置を提供することにある。

【課題を解決するための手段】

【0011】

上記課題を解決するために、本発明は、位置決めを行う対象物を支持する支持ステージと、当該支持ステージを磁気により浮上させて位置決めする浮上機構を備えたステージ装置であって、前記浮上機構の第１の方向の推力を発生する第１のモータと、前記第１の方向と異なる第２の方向の推力を発生する第２のモータと、前記第１の方向と前記第２の方向と異なる第３の方向の推力を発生する第３のモータと、を有し、前記第１のモータと前記第２のモータと前記第３のモータは、前記各モータに対応する非浮上側の各ヨークが同じ部材を共有して一体で構成されており、前記同じ部材を共有して一体で構成された各ヨークを、テーブルの前記第２の方向の両端に配置し、前記テーブルに対して前記第１の方向の辺が固定されていることを特徴とする。

【発明の効果】

【0012】

本発明によれば、磁気浮上型のステージ装置において、駆動に伴う振動を効果的に抑制しつつ、高速な位置決めが可能であり、かつ漏れ磁場が小さいステージ装置、及びそれを用いた荷電粒子線装置、真空装置を実現することができる。

【0013】

これにより、ステージ装置を搭載する荷電粒子線装置や真空装置の性能向上及び信頼性向上が図れる。

【0014】

上記した以外の課題、構成及び効果は、以下の実施形態の説明により明らかにされる。

【図面の簡単な説明】

【0015】

【図1】従来の転がりガイドを用いたステージ装置を示す図である。

【図2】従来の磁気浮上型ステージ装置を示す図である。

【図3】図２の磁気浮上型ステージ装置のＸ軸モータの構成例を示す図である。

【図4】図２の磁気浮上型ステージ装置のＹ軸モータの構成例を示す図である。

【図5】図２の磁気浮上型ステージ装置のＺ軸モータの構成例を示す図である。

【図6】図２の磁気浮上型ステージ装置のＺ軸モータの別の構成例を示す図である。

【図7】図２の磁気浮上型ステージ装置の断面図である。

【図8】Ｙ軸モータのヨークが曲がる振動モードを模式的に示す図である。

【図9】本発明の実施例１に係る磁気浮上型ステージ装置を示す図である。

【図10】図９の磁気浮上型ステージ装置の断面図である。

【図11】図９の磁気浮上型ステージ装置の３Ｄ複合モータの断面図である。

【図12】図９の磁気浮上型ステージ装置の３Ｄ複合モータのＸＹコイル部の配線例を示す図である。

【図13】本発明の実施例２に係る磁気浮上型ステージ装置の３Ｄ複合モータの断面図である。

【図14】本発明の実施例３に係る半導体計測装置を示す図である。

【発明を実施するための形態】

【0016】

以下、図面を用いて本発明の実施例を説明する。なお、各図面において同一の構成については同一の符号を付し、重複する部分についてはその詳細な説明は省略する。

【実施例0017】

本発明を分かり易くするため、先ず、図１から図８を参照して、従来のステージ装置の構造とその課題について説明する。

【0018】

図１は、従来の転がりガイドを用いたステージ装置の構成を示す図である。Ｘ軸およびＹ軸の両方に転がりガイドを用いたスタック型のステージの構成例である。

【0019】

Ｙテーブル１０９がＹ軸ガイド１１０により案内され、Ｘテーブル１１１がＸ軸ガイド１１４により案内される。Ｘテーブル１１１上に試料１０４とバーミラー１０２を固定したトップテーブル１０１が搭載される。

【0020】

バーミラー１０２は、レーザー干渉計等での試料１０４の位置計測に用いられる。Ｘ軸のリニアモータのヨーク５０６がＹテーブル１０９上に固定され、Ｘ軸のリニアモータのコイル（図示せず）がＸテーブル１１１に固定される。これにより、Ｘ軸方向の推力がＸ軸のリニアモータのコイルに与えられ、Ｘテーブル１１１にＸ方向の推力が与えられる。また、ヨーク５０６には上記のＸ軸方向の推力とは逆方向の反力が発生する。

【0021】

しかし、ヨーク５０６は、長手方向であるＸ方向全体に渡ってＹテーブル１０９に固定されているため、ヨーク５０６の曲げ振動の固有振動数は高く、位置決めにおいて問題となることはない。

【0022】

図２に、従来の磁気浮上型ステージ装置の構成例を示す。図１の転がりガイドを用いたステージ装置に対して、Ｘ軸ガイド１１４を磁気浮上案内化した構成である。

【0023】

従来の磁気浮上型ステージ装置では、上軸でＸＹＺ方向の変位およびＸＹＺ軸回りの回転の６自由度の位置および姿勢の制御が必要となる。そのため、上軸が磁気浮上ではない図１のステージ装置では、上軸であるＸ軸のモータが１個で良いのに対して、駆動要素であるモータの軸数が６軸に増大する。具体的には、図１のＸ軸ガイド１１４は、Ｙ方向およびＺ方向の変位を拘束しているが、従来の磁気浮上型ステージ装置では、この機能をＹ軸モータとＺ軸モータで代替している。

【0024】

また、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸のリニアモータのヨークははり状となるため振動し易い。

【0025】

このように、ストロークが一方向に長い磁気浮上型ステージ装置では、はり状構造物であるリニアモータのヨークが多数必要となり、固有振動数が低下して制御帯域が制限され、高速化が困難となる。その他にも、組立性やメンテナンス性の低下も課題となる。

【0026】

図３から図６に、図２の従来の磁気浮上型ステージ装置のＸＹＺ各軸のモータの構成例を示す。

【0027】

図３は、Ｘ軸モータの構成例を示している。永久磁石１０５とコの字形のヨーク１０６により、磁束１０８が形成される。コイル１０７に流す電流の向き１１３により、ローレンツ力によってＸ方向の推力１１２が得られる。

【0028】

図４は、Ｙ軸モータの構成例を示している。永久磁石１０５とコの字形のヨーク１０６により、磁束１０８が形成される。コイル１０７に流す電流の向き１１３により、ローレンツ力によってＹ方向の推力１１２が得られる。

【0029】

図５は、Ｚ軸モータの構成例を示している。２つの永久磁石１０５とガイドヨーク４０２の間の磁気吸引力４０１を浮上部の重力補償に利用する。磁束１０８はガイドヨーク４０２とバックヨーク４０３の内部でループ状に形成される。コイル１０７内に電流１１３を流すことで磁束１０８が増減されて磁気吸引力４０１が増減する。これにより、Ｚ方向の力を制御することが可能である。

【0030】

図６は、図５とは別のＺ軸モータの構成例を示している。永久磁石１０５を１つにして、磁気吸引力４０１をコイル１０７内の電流１１３で制御する。

【0031】

図７に、図２の従来の磁気浮上型ステージ装置の断面図を示す。Ｘ軸モータには、図３の構成のモータが搭載され、ヨーク５０６が図３のヨーク１０６に相当する。Ｙ軸モータには、図４の構成のモータが搭載され、ヨーク５０４が図４のヨーク１０６に相当する。Ｚ軸モータには、図５または図６の構成のモータが搭載されている。

【0032】

水冷ジャケット５０８には水冷配管５０７が埋め込まれている。スケールヘッド８０１により、スケールプレート８０２の位置と姿勢が計測される。浮上部は、主に水冷ジャケット５０８とトップテーブル１０１から構成される。

【0033】

Ｘ方向およびＹ方向に駆動する際に、浮上部の重心回りに回転するピッチングモーメントの発生を抑制するために、駆動中心および浮上部の重心の高さを示す直線７０１上に、Ｘ軸モータとＹ軸モータの高さを揃えることが望ましい。しかし、その場合、Ｘ軸モータまたはＹ軸モータのどちからかしかＹテーブル１０９にヨーク長手方向全体を固定できないため、図２のＹ軸モータのヨーク５０４のように両端支持はり状となる。

【0034】

図８に、Ｙ軸モータのヨーク５０４がＹ方向に曲がる振動モードを模式的に示す。Ｘ軸モータのヨーク５０６はＹテーブル１０９に長手方向全体を固定できるため振動しないが、Ｙ軸モータのヨーク５０４は両端支持はり状となり、図８のようにＹ方向に弓なりのモード形状にて振動しやすい。特に、Ｙ軸モータにはＹ方向の推力が掛かるため、この振動モードが励振され易く、周波数応答特性におけるピークが大きくなり易い。そのため、Ｙ方向の制御帯域が制限され、高速化が困難となる。

【0035】

なお、上記では、図８に示すＹ軸モータのヨーク５０４のＹ方向曲げについて述べたが、Ｚ方向に高速に移動させる場合は、ＺガイドヨークのＺ方向曲げも同様に問題となる。

【0036】

図７の従来の磁気浮上型ステージ装置の構成のその他の課題として、浮上部とＹ軸モータのヨーク５０４が入り組んでおり、組立性とメンテナンス性が悪化するという点も挙げられる。

【0037】

次に、図９から図１２を参照して、本発明の実施例１に係る磁気浮上型ステージ装置について説明する。

【0038】

図９は、上記のような課題を解決するための、本発明の３Ｄ複合モータを搭載した磁気浮上型ステージ装置を示す図である。

【0039】

図９に示すように、本発明では、ＸＹＺの三軸のモータにおいて、ヨークを１つの部材（ヨーク）８０３に複合したモータ構造となっており、ヨーク８０３をＹテーブル１０９に長手方向（Ｙ方向）全体で固定できるため固有振動数が高い。すなわち、図８のようなＹ軸モータのヨーク５０４がＹ方向に曲がる振動や、Ｚ軸モータのヨークがＺ方向に曲がる振動の固有振動数が大幅に向上する。

【0040】

そのため、図２のような従来の磁気浮上型ステージ装置ではヨークの固有振動数により律速されていた制御帯域の向上が可能である。また、磁気浮上型ステージ装置を構成する部品点数も少なくなり、組立工程やメンテナンスにおけるリードタイムも短縮可能である。

【0041】

図１０に、図９の磁気浮上型ステージ装置の断面図を示す。

【0042】

浮上部の重心高さ７０１と、水平方向の推力を得る３Ｄ複合モータのＸＹコイル８０４および３Ｄ複合モータのヨーク８０３との高さを一致させることが可能であり、Ｘ方向およびＹ方向移動におけるピッチングモーメントが小さく、姿勢の変動や姿勢制御のためのＺ軸モータの推力が小さくて済み、低発熱化が可能である。

【0043】

また、浮上部の重力補償のためのＺ軸モータの永久磁石５０２の上側に３Ｄ複合モータのヨーク８０３が存在することにより、Ｚ軸モータの永久磁石５０２からの上方向の漏洩磁場が遮蔽される。

【0044】

図７の従来の磁気浮上型ステージ装置の構成に対して、３Ｄ複合モータのヨーク８０３のＹ方向の幅が広がっており遮蔽効果が高い。そのため、荷電粒子線装置などの、低磁場が求められる装置への適用が可能となる。

【0045】

また、図７のように、試料１０４の下方にＹ軸モータのヨーク５０４などの磁性体を配置する必要がなくなるため、荷電粒子線装置などで問題となる電子光学系の磁場偏向レンズが形成する磁場との干渉が低減する。そのため、電子ビームの歪みが減って良好な像が得られる。

【0046】

図１１に、３Ｄ複合モータの断面図を示す。図１０における３Ｄ複合モータの範囲８０５を拡大した断面図である。

【0047】

ＸＹＺの各軸の推力発生原理としては、図３から図６に示した各モータと同様である。例えば、Ｘ軸方向の推力１１２は、Ｘ軸推力用コイル９０２内の電流１１３とＸ軸推力用永久磁石９０５による磁束１０８によって発生する。同様に、Ｙ軸方向の推力１１２は、Ｙ軸推力用コイル９０３内の電流１１３とＹ軸推力用永久磁石９０６による磁束１０８によって発生する。また、Ｚ方向の磁気吸引力４０１を浮上部の重力補償に利用し、Ｚ軸推力用コイル９０４内の電流１１３によって磁気吸引力４０１を増減し、Ｚ方向の推力制御を行う。Ｘ方向の推力１１２を得るＸ軸推力用コイル９０２と、Ｙ方向の推力１１２を得るＹ軸推力用コイル９０３はコイルモールド９０１内に収められる。

【0048】

このように、本実施例の磁気浮上型ステージ装置では、ＸＹＺ軸の各モータに対してヨーク部材８０３を共有（一体化）しつつ、三軸の推力を独立に発生可能に構成されている。

【0049】

図１２を用いて、３Ｄ複合モータの水平方向推力を得るコイル（ＸＹコイル）の内部配線構造の例について説明する。

【0050】

Ｘ軸推力用コイル９０２とＹ軸推力用コイル９０３の配置については、Ｙ軸推力用コイル９０３を３Ｄ複合モータのヨーク８０３の奥側（図１２ではＸ軸推力用コイル９０２よりも右側）に配置することが望ましい。Ｘ軸モータは３相交流式であるため、ＵＶＷの三相のコイルにおいて、Ｕ相同士を接続する配線９０７と、Ｖ相同士を接続する配線９０８と、Ｗ相同士を接続する配線９０９が必要である。これらは、コイルモールド９０１内部に収める必要がある。

【0051】

コイルモールド９０１がＺ方向に振動すると浮上部の振動となり、試料１０４やバーミラー１０２の振動となり望ましくない。そのため、コイルモールド９０１のコイルの突き出し長さ９１１を極力小さくすることが望ましい。

【0052】

そこで、Ｙ軸推力用コイル９０３を先端部（３Ｄ複合モータのヨーク８０３の奥側）に配置して、三相の配線スペースが必要なＸ軸推力用コイル９０２を根本側に配置することで、コイル突き出し長さ９１１を最小化することができる。すなわち、コイル配線とコイル突き出し長さ９１１の関係から、Ｙ軸推力用コイル９０３をコイルモールド９０１の奥側に配置することに必然性ある。

【0053】

本実施例のステージ装置は以上のように構成されており、位置決めを行う対象物（試料１０４）を支持する支持ステージ（トップテーブル１０１）と、支持ステージ（トップテーブル１０１）を磁気により浮上させて位置決めする浮上機構を備えており、浮上機構の第１の方向の推力を発生する第１のモータ（Ｘ軸モータ）と、第１の方向と異なる第２の方向の推力を発生する第２のモータ（Ｙ軸モータ）と、第１の方向と第２の方向と異なる第３の方向の推力を発生する第３のモータ（Ｚ軸モータ）とを有しており、第１のモータ（Ｘ軸モータ）と第２のモータ（Ｙ軸モータ）と第３のモータ（Ｚ軸モータ）は、各モータに対応する非浮上側の各ヨーク（ＸヨークとＹヨークとＺヨーク）が同じ部材８０３を共有して一体で構成されており、同じ部材８０３を共有して一体で構成された各ヨーク（ＸヨークとＹヨークとＺヨーク）を、テーブル（Ｙテーブル１０９）の第２の方向（Ｙ方向）の両端に配置し、テーブル（Ｙテーブル１０９）に対して第１の方向（Ｘ方向）の辺が固定されている。

【0054】

例えば、第２の方向は、第１の方向に垂直な方向であり、第３の方向は、第１の方向および第２の方向に垂直な方向である。すなわち、Ｘ軸とＹ軸は、水平面内で互いに垂直であり、Ｚ軸は、この水平面に対して鉛直である。

【0055】

また、同じ部材８０３を共有して一体で構成されたＸヨークとＹヨークとＺヨークは、その断面形状がコの字形である。

【0056】

また、同じ部材８０３を共有して一体で構成されたＸヨークとＹヨークとＺヨークの下面は、Ｚ軸モータの磁気吸引に使用される。

【0057】

また、Ｘ軸モータとＹ軸モータとＺ軸モータの各コイルは、まとめてコイルモールド（９０１）されている。

【0058】

また、Ｙ軸モータのコイルは、Ｘ軸モータのコイルと同じ高さ、かつ、上記のコの字形ヨークの奥側に配置されている。

【0059】

これにより、磁気浮上型のステージ装置において、駆動に伴う振動を効果的に抑制しつつ、高速な位置決めが可能であり、かつ漏れ磁場が小さいステージ装置を実現することができる。

【実施例0060】

図１３を参照して、本発明の実施例２に係る磁気浮上型ステージ装置について説明する。

【0061】

図１３は、本実施例の磁気浮上型ステージ装置の３Ｄ複合モータの断面図である。実施例１（図１０）では、Ｘ軸とＹ軸の推力発生部を横に並べた構成であるのに対し、本実施例（図１３）では、Ｘ軸とＹ軸の推力発生部を縦に並べた構成である点において、実施例１（図１０）と異なっている。その他の構成は、実施例１（図１０）と同様である。

【0062】

Ｘ軸の推力発生部は、Ｘ軸モータのヨーク５０６とＸ軸モータのコイル５０５で構成され、Ｙ軸の推力発生部は、Ｙ軸モータのヨーク５０４とＹ軸モータのコイル５０３で構成される。

【0063】

図１３において、右側では、Ｘ軸の推力発生部（５０５，５０６）がＹ軸の推力発生部（５０３，５０４）の上側に配置され、左側では、Ｙ軸の推力発生部（５０３，５０４）がＸ軸の推力発生部（５０５，５０６）の上側に配置される。

【0064】

これにより、磁気浮上型ステージ装置全体で、Ｘ方向移動時およびＹ方向移動時の推力の作用点を重心７０２の高さ７０１に合わせることが可能となり、ピッチングモーメントの発生を抑制できる。

【0065】

また、Ｘ軸モータのヨーク５０６とＹ軸モータのヨーク５０４を共にＹテーブル１０９に長手方向全体で固定できるため、低振動化にも寄与する。

【0066】

本実施例のステージ装置は以上のように構成されており、Ｘ軸モータとＹ軸モータは、縦方向に重ねて配置され、かつ、ＸＺ平面に対称にＸ軸モータとＹ軸モータで上下関係が逆に配置されている。

【0067】

また、Ｘ軸モータとＹ軸モータは、それぞれの高さが互い違いになるよう配置されている。

【0068】

本実施例においても、実施例１と同様に、駆動に伴う振動を効果的に抑制しつつ、高速な位置決めが可能であり、かつ漏れ磁場が小さいステージ装置を実現することができる。