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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024168799
(43)【公開日】2024-12-05
(54)【発明の名称】処理液供給装置及び処理液供給方法
(51)【国際特許分類】
H01L 21/027 20060101AFI20241128BHJP
B05C 11/10 20060101ALI20241128BHJP
【ＦＩ】
H01L21/30 562
B05C11/10
【審査請求】未請求
【請求項の数】9
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2023085749
(22)【出願日】2023-05-24
(71)【出願人】
【識別番号】000219967
【氏名又は名称】東京エレクトロン株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100096389
【弁理士】
【氏名又は名称】金本 哲男
(74)【代理人】
【識別番号】100101557
【弁理士】
【氏名又は名称】萩原 康司
(74)【代理人】
【識別番号】100167634
【弁理士】
【氏名又は名称】扇田 尚紀
(74)【代理人】
【識別番号】100187849
【弁理士】
【氏名又は名称】齊藤 隆史
(74)【代理人】
【識別番号】100212059
【弁理士】
【氏名又は名称】三根 卓也
(72)【発明者】
【氏名】橋本 和也
(72)【発明者】
【氏名】赤田 光
【テーマコード（参考）】
4F042
5F146
【Ｆターム（参考）】
4F042AA07
4F042AB00
4F042CA03
4F042CB02
4F042CB19
5F146JA01
5F146JA27
5F146LA03
5F146LA19
(57)【要約】
【課題】基板処理装置へ処理液を供給する際の利便性を向上させる。
【解決手段】処理液を用いて基板に処理を行う液処理モジュールを有する基板処理装置に対して前記処理液を供給する処理液供給装置であって、処理液が貯留されている容器を保持して搬送する搬送機構が設けられた搬送領域と、前記搬送領域を間に挟んで対向する一対の供給領域と、を有し、前記供給領域はそれぞれ、当該処理液供給装置の外部から搬入された前記容器を支持する支持部と、前記支持部に支持された前記容器に接続される接続管と、が設けられ、前記支持部に支持された前記容器内の前記処理液を前記接続管を介して前記基板処理装置へ供給する。
【選択図】図１
【解決手段】処理液を用いて基板に処理を行う液処理モジュールを有する基板処理装置に対して前記処理液を供給する処理液供給装置であって、処理液が貯留されている容器を保持して搬送する搬送機構が設けられた搬送領域と、前記搬送領域を間に挟んで対向する一対の供給領域と、を有し、前記供給領域はそれぞれ、当該処理液供給装置の外部から搬入された前記容器を支持する支持部と、前記支持部に支持された前記容器に接続される接続管と、が設けられ、前記支持部に支持された前記容器内の前記処理液を前記接続管を介して前記基板処理装置へ供給する。
【選択図】図１
【特許請求の範囲】
【請求項1】
処理液を用いて基板に処理を行う液処理モジュールを有する基板処理装置に対して前記処理液を供給する処理液供給装置であって、
処理液が貯留されている容器を保持して搬送する搬送機構が設けられた搬送領域と、
前記搬送領域を間に挟んで対向する一対の供給領域と、を有し、
前記供給領域はそれぞれ、
当該処理液供給装置の外部から搬入された前記容器を支持する支持部と、
前記支持部に支持された前記容器に接続される接続管と、が設けられ、
前記支持部に支持された前記容器内の前記処理液を前記接続管を介して前記基板処理装置へ供給する、処理液供給装置。
処理液が貯留されている容器を保持して搬送する搬送機構が設けられた搬送領域と、
前記搬送領域を間に挟んで対向する一対の供給領域と、を有し、
前記供給領域はそれぞれ、
当該処理液供給装置の外部から搬入された前記容器を支持する支持部と、
前記支持部に支持された前記容器に接続される接続管と、が設けられ、
前記支持部に支持された前記容器内の前記処理液を前記接続管を介して前記基板処理装置へ供給する、処理液供給装置。
【請求項2】
前記基板処理装置とは別に床上に設けられ、
処理液流路で前記基板処理装置と接続されている、請求項１に記載の処理液供給装置。
処理液流路で前記基板処理装置と接続されている、請求項１に記載の処理液供給装置。
【請求項3】
前記搬送機構は、少なくとも前記容器を保持する保持部と、前記保持部を移動可能に構成されたアームを有する、請求項１に記載の処理液供給装置。
【請求項4】
制御部をさらに備え、
当該制御部は、前記保持部により前記容器の蓋を保持して当該蓋を開閉するよう制御を行う、請求項３に記載の処理液供給装置。
当該制御部は、前記保持部により前記容器の蓋を保持して当該蓋を開閉するよう制御を行う、請求項３に記載の処理液供給装置。
【請求項5】
前記供給領域は、回転可能に構成された回転軸部と、前記接続管を支持した前記容器の別の蓋と、がさらに設けられ、
前記別の蓋は、
当該別の蓋が前記容器に取り付けられることにより前記接続管が前記容器に接続されるように構成され、
前記回転軸部の回転に従って回転することにより開閉され、
制御部をさらに備え、
当該制御部は、前記保持部により前記回転軸部を保持して回転させることによって前記別の蓋を開閉するよう制御を行う、請求項３または４に記載の処理液供給装置。
前記別の蓋は、
当該別の蓋が前記容器に取り付けられることにより前記接続管が前記容器に接続されるように構成され、
前記回転軸部の回転に従って回転することにより開閉され、
制御部をさらに備え、
当該制御部は、前記保持部により前記回転軸部を保持して回転させることによって前記別の蓋を開閉するよう制御を行う、請求項３または４に記載の処理液供給装置。
【請求項6】
当該処理液供給装置の外部から搬入され且つ前記供給領域に搬送する前の前記容器が待機する待機領域を、前記供給領域とは別にさらに含む、請求項１～４のいずれか１項に記載の処理液供給装置。
【請求項7】
前記供給領域から前記搬送機構により搬出された前記容器が当該処理液供給装置の外部に搬出されるまで待機する回収領域を、前記供給領域とは別にさらに備える、請求項１～４のいずれか１項に記載の処理液供給装置。
【請求項8】
前記搬送領域から前記搬送機構により搬出された前記容器を受け取り前記回収領域へ搬送する回収ラインをさらに備える、請求項７に記載の処理液供給装置。
【請求項9】
処理液を用いて基板に処理を行う液処理モジュールを有する基板処理装置に対して前記処理液を供給する処理液供給方法であって、
平面視で搬送領域を間に挟んで対向する一対の供給領域内の、処理液が貯留されている容器を、前記搬送領域に設けられた前記一対の供給領域の間で共通の搬送機構を用いて交換する工程を含む、処理液供給方法。
平面視で搬送領域を間に挟んで対向する一対の供給領域内の、処理液が貯留されている容器を、前記搬送領域に設けられた前記一対の供給領域の間で共通の搬送機構を用いて交換する工程を含む、処理液供給方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本開示は、処理液供給装置及び処理液供給方法に関する。
【背景技術】
【0002】
特許文献１には、処理液を用いて基板の液処理を行う液処理部を備えた複数の基板処理システムに対して、複数の容器内に貯留された複数種の処理液を、基板処理システムの外部から供給する処理液供給装置が開示されている。この処理液供給装置は、処理液が貯留されている容器を載置する複数の容器載置部と、容器載置部に配置された容器と、複数の基板処理システムとを接続する複数の処理液流路と、を有する。さらに、処理液供給装置は、容器内の処理液を、処理液流路を介して複数の前記処理システムに対して圧送する処理液供給部と、基板処理システムに接続する複数の処理液流路を、基板処理システム毎に一括して囲繞する複数の配管ダクトと、を有する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【特許文献1】特開２０１７－７６６７０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
本開示にかかる技術は、基板処理装置へ処理液を供給する際の利便性を向上させる。
【課題を解決するための手段】
【0005】
本開示の一態様は、処理液を用いて基板に処理を行う液処理モジュールを有する基板処理装置に対して前記処理液を供給する処理液供給装置であって、処理液が貯留されている容器を保持して搬送する搬送機構が設けられた搬送領域と、前記搬送領域を間に挟んで対向する一対の供給領域と、を有し、前記供給領域はそれぞれ、当該処理液供給装置の外部から搬入された前記容器を支持する支持部と、前記支持部に支持された前記容器に接続される接続管と、が設けられ、前記支持部に支持された前記容器内の前記処理液を前記接続管を介して前記基板処理装置へ供給する。
【発明の効果】
【0006】
本開示によれば、基板処理装置へ処理液を供給する際の利便性を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【0007】
【図1】第１実施形態にかかる処理液供給装置の内部構成の概略を示すための平面図である。
【図4】供給領域及び待機領域の部分拡大平面図である。
【図5】供給領域及び待機領域の部分拡大側面図である。
【図6】供給領域及び待機領域の部分拡大正面図である。
【図7】接続管ユニットの斜視図であり、カバーが取り付けられた状態の接続管ユニットを示している。
【図8】接続管ユニットの斜視図であり、カバーが取り外された状態の接続管ユニットを示している。
【図17】第２実施形態にかかる処理液供給装置の内部構成の概略を示すための平面図である。
【発明を実施するための形態】
【0008】
半導体デバイス等の製造プロセスでは、半導体ウェハ（以下、「ウェハ」という。）等の基板上にレジスト液を塗布してレジスト膜を形成したり、現像液を供給してレジスト膜を現像したりするために、様々な液処理が行われる。これら一連の液処理は、各種液処理モジュールやモジュール間で基板を搬送する搬送機構等を搭載した基板処理装置により行われる。
【0009】
このような基板処理装置で用いられる各種処理液の一部は、例えば、当該基板処理装置内に配置された、処理液を貯留する容器から、各液処理モジュールに供給される。これに代えて、基板処理装置の外部の処理液供給装置に処理液の容器が収容され、この外部の処理液供給装置から基板処理装置に処理液が供給される場合がある（特許文献１参照）。しかし、このように外部の処理液供給装置から処理液を供給する場合、利便性の点で改善の余地がある。
【0010】
そこで、本開示にかかる技術は、外部から基板処理装置へ処理液を供給する際の利便性を向上させる。
【0011】
以下、本実施形態にかかる処理液供給装置及び処理液供給方法を、図面を参照しながら説明する。なお、本明細書において、実質的に同一の機能構成を有する要素においては、同一の符号を付することにより重複説明を省略する。
【0012】
（第１実施形態）
＜処理液供給装置＞
図１は、第１実施形態にかかる処理液供給装置の内部構成の概略を示すための平面図である。図２は、図１の処理液供給装置の内部構成の概略を示す側面図である。図３は、図１の処理液供給装置の内部構成の概略を示す正面図である。
＜処理液供給装置＞
図１は、第１実施形態にかかる処理液供給装置の内部構成の概略を示すための平面図である。図２は、図１の処理液供給装置の内部構成の概略を示す側面図である。図３は、図１の処理液供給装置の内部構成の概略を示す正面図である。
【0013】
図１の処理液供給装置１は、基板処理装置としてのウェハ処理装置ＷＴに対して処理液を供給する。具体的には、例えば、処理液供給装置１は、ウェハ処理装置ＷＴの外部から、中継装置Ｔを介して、ウェハ処理装置ＷＴに処理液を供給する。処理液供給装置１は、１台の処理液供給装置１から複数台のウェハ処理装置ＷＴに処理液を供給してもよい。なお、処理液供給装置１が供給する処理液は、半導体製造用の処理液であり、具体的には、例えば、レジスト液や、現像液、レジスト膜以外の膜を形成するための処理液等である。
【0014】
ウェハ処理装置ＷＴは、半導体製造装置であり、具体的には、例えば塗布現像装置や、塗布または現像の一方のみを処理する装置、洗浄装置等である。ウェハ処理装置ＷＴは、処理液を用いてウェハＷに処理を行う液処理モジュールＷＴ１を有する。具体的には、ウェハ処理装置ＷＴは液処理モジュールＷＴ１を複数有する。また、ウェハ処理装置ＷＴは、ウェハＷを複数収容可能に構成された収容容器であるカセットＣが載置されるカセット載置台ＷＴ２を有する。
【0015】
中継装置Ｔは、例えば、処理液供給装置１とウェハ処理装置ＷＴとを接続する処理液流路（図示せず）を有する。処理液流路は複数設けられていてもよい。また、処理液流路には、処理液供給装置１から圧送された処理液を一旦貯留するバッファタンク（図示せず）や、バッファタンクに貯留された処理液をウェハ処理装置ＷＴに圧送するポンプ（図示せず）が設けられていてもよい。。
一実施形態において、中継装置Ｔは、処理液供給装置１に隣接して配置され且つ接続され、また、中継装置Ｔにおける処理液供給装置１側とは反対側に隣接してウェハ処理装置ＷＴが配置され且つ接続される。ウェハ処理装置ＷＴにおける中継装置Ｔが接続される部分は、例えば、カセット載置台ＷＴ２である。
中継装置Ｔは、ウェハ処理装置ＷＴ内に設けられていてもよい。
一実施形態において、中継装置Ｔは、処理液供給装置１に隣接して配置され且つ接続され、また、中継装置Ｔにおける処理液供給装置１側とは反対側に隣接してウェハ処理装置ＷＴが配置され且つ接続される。ウェハ処理装置ＷＴにおける中継装置Ｔが接続される部分は、例えば、カセット載置台ＷＴ２である。
中継装置Ｔは、ウェハ処理装置ＷＴ内に設けられていてもよい。
【0016】
処理液供給装置１は、図１で示される本実施形態のように、ウェハ処理装置ＷＴにおけるウェハＷの搬送空間および液処理モジュールを内包する筐体（ウェハ処理装置ＷＴの外輪郭に相当）とは異なる筐体（処理液供給装置１の外輪郭に相当）で設けられうる。すなわち、処理液供給装置１は、ウェハ処理装置ＷＴと合せて上下に積層されずに、ウェハ処理装置ＷＴとは別の装置として設けられうる。また、図１の例は、中継装置Ｔによって処理液供給装置１とウェハ処理装置ＷＴが接続されているので、処理液供給装置１はウェハ処理装置ＷＴに対し処理液流路により接続されているとも言える。処理液供給装置１はウェハ処理装置ＷＴが設置される設置空間（クリーンルーム）の床上に、設けられてもよいし、中継装置Ｔの代わりとなる処理液流路を用いることでウェハ処理装置ＷＴとは異なる設置空間（例えば、クリーンルーム下部のサブファブ空間）に設けられてもよい。
【0017】
処理液供給装置１は、搬送領域Ｒ１と、一対の供給領域Ｒ２と、を有する。
搬送領域Ｒ１は、処理液が貯留されている容器としてのボトルＢを保持して搬送する搬送機構１０が１台設けられている。この搬送領域Ｒ１は、装置幅方向（図のＹ方向）に延びるように設けられている。
搬送領域Ｒ１は、処理液が貯留されている容器としてのボトルＢを保持して搬送する搬送機構１０が１台設けられている。この搬送領域Ｒ１は、装置幅方向（図のＹ方向）に延びるように設けられている。
【0018】
搬送機構１０は、多関節ロボット１１と台座部１２と、を有する。多関節ロボット１１は例えば垂直多関節ロボットである。
多関節ロボット１１は、図２に示すように、ハンド１１ａと多関節アーム１１ｂを有する。
多関節ロボット１１は、図２に示すように、ハンド１１ａと多関節アーム１１ｂを有する。
【0019】
ハンド１１ａは、少なくともボトルＢを保持する保持部である。
多関節アーム１１ｂは、ハンド１１ａが延在するハンド１１ａの中心軸を中心としてハンド１１ａを回転可能且つハンド１１ａを移動可能に構成されたアームである。例えば多関節アーム１１ｂの先端にハンド１１ａが接続される。多関節アーム１１ｂは、複数（図の例では２つ）のリンク１１ｃと複（図の例では３つ）の関節部１１ｄを有する。
多関節アーム１１ｂは、ハンド１１ａが延在するハンド１１ａの中心軸を中心としてハンド１１ａを回転可能且つハンド１１ａを移動可能に構成されたアームである。例えば多関節アーム１１ｂの先端にハンド１１ａが接続される。多関節アーム１１ｂは、複数（図の例では２つ）のリンク１１ｃと複（図の例では３つ）の関節部１１ｄを有する。
【0020】
多関節アーム１１ｂによりハンド１１ａの中心軸を中心としてハンド１１ａが回転し且つハンド１１ａが３次元的に移動するよう、ハンド１１ａと先端側のリンク１１ｃ、リンク１１ｃ同士及び基端側のリンク１１ｃと台座部１２が、関節部１１ｄを介して所定の軸を中心に相対的に回転または回動可能に接続されている。上記所定の軸を中心とした相対的な回転を駆動するアクチュエータは例えば関節部１１ｄまたは台座部１２内に設けられる。
【0021】
台座部１２は装置幅方向に移動自在に構成されている。具体的には、台座部１２は、例えば、装置幅方向に延びるレール（図示せず）に沿って移動自在に構成されている。台座部１２の移動を駆動するアクチュエータは例えば台座部１２内に設けられている。
【0022】
搬送機構１０は、ボトルＢを多関節ロボット１１のハンド１１ａで保持して搬送する。また、多関節ロボット１１は、ボトルＢの蓋すなわちキャップＣをハンド１１ａで保持して開閉してもよい。具体的には、多関節ロボット１１は、ボトルＢのキャップＣを、ハンド１１ａで保持して、鉛直軸と平行にされたハンド１１ａの中心軸を中心として回転させて開閉してもよい。キャップＣは例えばネジ式のものであり、キャップＣが閉じられると、ボトルＢの開口部が気密に塞がれ、すなわち、封止される。
【0023】
さらに、多関節ロボット１１は、ハンド１１ａを用いて、後述の接続管２２ａをボトルＢに着脱させてもよい。また、多関節ロボット１１は、ハンド１１ａを用いて、後述の管付きキャップ２２ｂを回転させて開閉してもよい。
【0024】
なお、搬送機構１０は後述の制御部Ｍにより制御される。具体的には搬送機構１０の動作を駆動するアクチュエータは制御部Ｍにより制御される。
【0025】
一対の供給領域Ｒ２は、図１に示すように、平面視で搬送領域Ｒ１を間に挟んで対向する。
供給領域Ｒ２それぞれには、処理液供給装置１の外部から搬入されたボトルＢを支持する支持部としての供給ステージ２０が設けられている。供給ステージ２０は、例えば、供給領域Ｒ２毎に、装置奥行き方向（図１のＹ方向）に沿って複数並ぶように設けられる。また、供給ステージ２０は、図２及び図３に示すように、装置高さ方向（図２及び図３の上下方向）に沿って複数並ぶように設けられ、すなわち、多段に積層されていてもよい。
供給領域Ｒ２それぞれには、処理液供給装置１の外部から搬入されたボトルＢを支持する支持部としての供給ステージ２０が設けられている。供給ステージ２０は、例えば、供給領域Ｒ２毎に、装置奥行き方向（図１のＹ方向）に沿って複数並ぶように設けられる。また、供給ステージ２０は、図２及び図３に示すように、装置高さ方向（図２及び図３の上下方向）に沿って複数並ぶように設けられ、すなわち、多段に積層されていてもよい。
【0026】
また、処理液供給装置１は、図１及び図２に示すように、当該処理液供給装置１の外部から搬入され供給領域Ｒ２に搬送する前のボトルＢが待機する待機領域Ｒ３を、供給領域Ｒ２とは別に、さらに有する。
一実施形態において待機領域Ｒ３は供給領域Ｒ２毎に設けられる。待機領域Ｒ３それぞれは、供給領域Ｒ２の搬送領域Ｒ１側とは反対側に隣接して設けられる。
一実施形態において待機領域Ｒ３は供給領域Ｒ２毎に設けられる。待機領域Ｒ３それぞれは、供給領域Ｒ２の搬送領域Ｒ１側とは反対側に隣接して設けられる。
【0027】
待機領域Ｒ３それぞれには、処理液供給装置１の外部から搬入されたボトルＢを支持する別の支持部としての搬入ステージ３０が設けられている。搬入ステージ３０は供給ステージ２０毎に設けられる。処理液供給装置１内に搬入され搬入ステージ３０に載置され支持されたボトルＢは、例えばハンド１１ａに把持され多関節ロボット１１により対応する供給ステージ２０に搬送される。また、処理液供給装置１の外部から搬入ステージ３０へのボトルＢの搬送は、処理液供給装置１の外部の装置または作業者により行われる。処理液供給装置１の外部から待機領域Ｒ３へのボトルＢの搬入は、供給領域Ｒ２側とは反対側から行われる。
【0028】
図の例では、搬入ステージ３０それぞれにはボトルＢが１本のみ載置されているが、複数本載置されていてもよい。
【0029】
さらに、処理液供給装置１は、図１及び図３に示すように、供給領域Ｒ２から搬送機構１０により搬出されたボトルＢが処理液供給装置１の外部に搬出されるまで待機する回収領域Ｒ４を、供給領域Ｒ２とは別に有する。具体的には、処理液供給装置１は、回収領域Ｒ４を、供給領域Ｒ２及び待機領域Ｒ３とは別に有する。
【0030】
一実施形態において、回収領域Ｒ４は、供給領域Ｒ２毎に設けられ、すなわち、処理液供給装置１は一対の回収領域Ｒ４を有する。
一対の回収領域Ｒ４は、例えば、平面視で搬送領域Ｒ１を間に挟んで対向する。
また、回収領域Ｒ４それぞれは、例えば、処理液供給装置１におけるウェハ処理装置ＷＴ側とは反対側の端部に設けられる。これにより、処理液供給装置１の近くに配設されたウェハ処理装置ＷＴのメンテナンス性が、回収領域Ｒ４によって損なわれるのを抑制することができる。すなわち、回収領域Ｒ４それぞれを、処理液供給装置１におけるウェハ処理装置ＷＴ側とは反対側の端部に設けると、処理液供給装置１におけるウェハ処理装置ＷＴ側の端部に設けた場合に比べて、運用がしやすい。
一対の回収領域Ｒ４は、例えば、平面視で搬送領域Ｒ１を間に挟んで対向する。
また、回収領域Ｒ４それぞれは、例えば、処理液供給装置１におけるウェハ処理装置ＷＴ側とは反対側の端部に設けられる。これにより、処理液供給装置１の近くに配設されたウェハ処理装置ＷＴのメンテナンス性が、回収領域Ｒ４によって損なわれるのを抑制することができる。すなわち、回収領域Ｒ４それぞれを、処理液供給装置１におけるウェハ処理装置ＷＴ側とは反対側の端部に設けると、処理液供給装置１におけるウェハ処理装置ＷＴ側の端部に設けた場合に比べて、運用がしやすい。
【0031】
回収領域Ｒ４それぞれには、供給領域Ｒ２から搬送機構１０によって搬出されたボトルＢを支持する他の支持部としての回収ステージ４０が設けられている。回収ステージ４０それぞれは、例えば装置奥行き方向（図のＸ方向）に延びるように設けられる。回収領域Ｒ４内において、回収ステージ４０が装置幅方向（図のＹ方向）に並ぶ数は例えば１つである。また、回収ステージ４０は、供給ステージ２０と同様、多段に積層されていてもよい。この場合、回収ステージ４０の積層数と供給ステージ２０の積層数とを等しくしてもよい。
回収ステージ４０に載置され支持されたボトルＢは、処理液供給装置１の外部の装置または作業者により搬出され回収される。
回収ステージ４０に載置され支持されたボトルＢは、処理液供給装置１の外部の装置または作業者により搬出され回収される。
【0032】
回収ステージ４０は、当該回収ステージ４０上をボトルＢが移動するよう構成されていてもよい。具体的には、回収ステージ４０に設けられた搬送ローラ（図示せず）により、ボトルＢが搬送領域Ｒ１から遠ざかるよう移動するようにしてもよい。また、回収ステージ４０を水平に対し傾斜させ、ボトルＢに作用する重力により、当該ボトルＢが回収ステージ４０上を搬送領域Ｒ１から遠ざかるよう移動するようにしてもよい。
【0033】
さらに、処理液供給装置１は、当該処理液供給装置１の制御を行う制御部Ｍをさらに有している。制御部Ｍは、例えばＣＰＵ等のプロセッサやメモリを備えたコンピュータであり、プログラム格納部（図示せず）を有している。プログラム格納部には、処理液供給装置１による処理液の供給を実行するための指令を含むプログラムや、処理液供給装置１によるボトル交換を実行するための指令を含むプログラムが格納されている。なお、上記プログラムは、例えばコンピュータ読み取り可能な記憶媒体Ｈに記憶されていたものであって、当該記憶媒体Ｈから制御部Ｍにインストールされたものであってもよい。記憶媒体Ｈは、一時的なものであっても、非一時的なものであってもよい。
【0034】
なお、図の例では、処理液供給装置１の搬送領域Ｒ１より手前側（図のＸ方向負側）の部分から回収領域Ｒ４を除いた部分が、装置高さ方向及び装置幅方向に分割され、小ブロック化され各小ブロックが枠体により区画され、各小ブロック内に供給ステージ２０及び搬入ステージ３０が設けられている。同様に、処理液供給装置１の搬送領域Ｒ１より奥側（図のＸ方向正側）の部分から回収領域Ｒ４を除いた部分が、装置高さ方向及び装置幅方向に分割され、小ブロック化され各小ブロックが枠体により区画され、各小ブロック内に供給ステージ２０及び搬入ステージ３０が設けられている。
【0035】
＜供給領域Ｒ２＞
次に、供給領域Ｒ２内のより詳細な構成について、図４～図８を用いて説明する。図４～図６はそれぞれ、供給領域Ｒ２及び待機領域Ｒ３の部分拡大平面図、部分拡大側面図及び部分拡大正面図である。図７及び図８は、後述の接続管ユニット２２の斜視図であり、図７は、後述のカバー２２ｈが取り付けられた状態の接続管ユニット２２を示し、図８は、カバー２２ｈが取り外された状態の接続管ユニット２２を示している。
次に、供給領域Ｒ２内のより詳細な構成について、図４～図８を用いて説明する。図４～図６はそれぞれ、供給領域Ｒ２及び待機領域Ｒ３の部分拡大平面図、部分拡大側面図及び部分拡大正面図である。図７及び図８は、後述の接続管ユニット２２の斜視図であり、図７は、後述のカバー２２ｈが取り付けられた状態の接続管ユニット２２を示し、図８は、カバー２２ｈが取り外された状態の接続管ユニット２２を示している。
【0036】
【0037】
キャップ置き２１には、ボトルＢから外されたキャップＣが元のボトルＢに戻されるまで載置される。
【0038】
接続管ユニット２２は、図７及び図８に示すように、供給ステージ２０に載置され支持されたボトルＢに接続される接続管２２ａを有する。具体的には、接続管ユニット２２は、接続管２２ａを支持した別の蓋としての管付きキャップ２２ｂを有する。管付きキャップ２２ｂをキャップＣに代えてボトルＢに取り付けることにより、接続管２２ａがボトルＢに接続される。
管付きキャップ２２ｂは、接続管２２ａの他、接続管２２ａが挿通されボトルＢに取り付けられるキャップ本体２２ｃを有する。キャップ本体２２ｃは、接続管２２ａとは独立して回転可能に、当該接続管２２ａが挿通され、当該接続管２２ａを支持する。管付きキャップ２２ｂは例えばネジ式のものであり、管付きキャップ２２ｂが閉じられると、ボトルＢの開口部が封止される。
管付きキャップ２２ｂは、接続管２２ａの他、接続管２２ａが挿通されボトルＢに取り付けられるキャップ本体２２ｃを有する。キャップ本体２２ｃは、接続管２２ａとは独立して回転可能に、当該接続管２２ａが挿通され、当該接続管２２ａを支持する。管付きキャップ２２ｂは例えばネジ式のものであり、管付きキャップ２２ｂが閉じられると、ボトルＢの開口部が封止される。
【0039】
接続管ユニット２２は、さらに、第１ローラ２２ｄと、第２ローラ２２ｅと、ベルト２２ｆとを有する。
【0040】
第１ローラ２２ｄは、回転可能に構成され、具体的には、当該第１ローラ２２ｄの中心を通る鉛直軸を中心として回転可能に構成されている。第１ローラ２２ｄの中心には、回転軸部としてのスティック２２ｇが、鉛直方向に延びるように取り付けられている。スティック２２ｇは、第１ローラ２２ｄを貫通するように当該第１ローラ２２ｄに取り付けられる。スティック２２ｇがハンド１１ａにより当該スティック２２ｇの中心軸を中心として回転されることにより、第１ローラ２２ｄが当該第１ローラ２２ｄの中心を通る鉛直軸を中心として回転する。
スティック２２ｇは、例えば、柱状に形成され、具体的には、例えば、ハンド１１ａにより把持される上部が角柱状に形成され、第１ローラ２２ｄを貫通する下部が円柱状に形成されている。
スティック２２ｇは、例えば、柱状に形成され、具体的には、例えば、ハンド１１ａにより把持される上部が角柱状に形成され、第１ローラ２２ｄを貫通する下部が円柱状に形成されている。
【0041】
第２ローラ２２ｅは、第１ローラ２２ｄの回転に従って、同様に、当該第２ローラ２２ｅの中心を通る鉛直軸を中心として回転する。第２ローラ２２ｅは管付きキャップ２２ｂに対して固定されている。そのため、第２ローラ２２ｅの回転に従って、管付きキャップ２２ｂ（具体的にはキャップ本体２２ｃ）が第２ローラ２２ｅの中心を通る鉛直軸を中心として回転し、これにより、管付きキャップ２２ｂが開閉される。
【0042】
ベルト２２ｆは、第１ローラ２２ｄの回転運動を第２ローラ２２ｅに伝達し、当該第２ローラ２２ｅを回転させる。ベルト２２ｆの内周面、第１ローラ２２ｄの外周面及び第２ローラ２２ｅの外周面には、動力伝達のための歯（図示せず）が形成されていてもよい。
【0043】
さらに、接続管ユニット２２は、カバー２２ｈと、把持部２２ｊとを有する。
カバー２２ｈは、キャップ本体２２ｃ、第１ローラ２２ｄ、第２ローラ２２ｅ及びベルトをまとめて覆い、パッケージ化すなわちユニット化する。
把持部２２ｊは、多関節ロボット１１により接続管ユニット２２が移動されるときにハンド１１ａにより把持される部分である。把持部２２ｊは、カバー２２ｈに固定され、具体的には、カバー２２ｈと一体形成されていてもよい。
カバー２２ｈは、キャップ本体２２ｃ、第１ローラ２２ｄ、第２ローラ２２ｅ及びベルトをまとめて覆い、パッケージ化すなわちユニット化する。
把持部２２ｊは、多関節ロボット１１により接続管ユニット２２が移動されるときにハンド１１ａにより把持される部分である。把持部２２ｊは、カバー２２ｈに固定され、具体的には、カバー２２ｈと一体形成されていてもよい。
【0044】
【0045】
タンク２３は、ボトルＢから接続管２２ａを介して圧送された処理液を一時的に貯留する。タンク２３内の処理液は、例えば、中継装置Ｔに圧送される。具体的には、タンク２３内の処理液は、例えば、タンク２３に接続された配管２６を介して、中継装置Ｔに搬送される。
【0046】
配管２４は、接続管２２ａとタンク２３とを接続する。
【0047】
液受け２５は、ボトルＢに接続されていない状態の接続管２２ａから垂れた処理液を受ける。
【0048】
＜処理液供給＞
次に、処理液供給装置１からの処理液の供給の一例について説明する。なお、以下の各工程は、制御部Ｍの制御の下、行われる。
次に、処理液供給装置１からの処理液の供給の一例について説明する。なお、以下の各工程は、制御部Ｍの制御の下、行われる。
【0049】
例えば、まず、加圧気体供給源（図示せず）から気体が供給ステージ２０上のボトルＢ内に供給される。これにより、ボトルＢ内の処理液がタンク２３に圧送される。
なお、加圧気体供給源からの気体をボトルＢ内に供給するめの給気官（図示せず）は管付きキャップ２２ｂに取り付けられていてもよい。
なお、加圧気体供給源からの気体をボトルＢ内に供給するめの給気官（図示せず）は管付きキャップ２２ｂに取り付けられていてもよい。
【0050】
その後、加圧気体供給源（図示せず）から気体がタンク２３に供給される。これにより、タンク２３内の処理液が、配管２６を介して、中継装置Ｔに圧送され、または、処理液供給装置１に圧送される。
【0051】
＜ボトル交換＞
続いて、処理液供給装置１による当該処理液供給装置１が用いるボトルＢの交換の一例について図９～図１６を用いて説明する。図９～図１６は、上記交換時の処理液供給装置内の状態を示す図である。なお、以下の各工程は、制御部Ｍの制御の下、行われる。
続いて、処理液供給装置１による当該処理液供給装置１が用いるボトルＢの交換の一例について図９～図１６を用いて説明する。図９～図１６は、上記交換時の処理液供給装置内の状態を示す図である。なお、以下の各工程は、制御部Ｍの制御の下、行われる。
【0052】
（ステップＳ１）
例えば、まず、供給領域Ｒ２内の空のボトルＢに取り付けられた管付きキャップ２２ｂが、搬送機構１０の多関節ロボット１１により開けられる。
具体的には、接続管ユニット２２のスティック２２ｇが、ハンド１１ａにより保持されて回転されることによって、管付きキャップ２２ｂが開けられる。
より具体的には、図９に示すように、供給領域Ｒ２内の空のボトルＢに取り付けられた接続管ユニット２２のスティック２２ｇが、ハンド１１ａにより上方から把持される。その後、ハンド１１ａが、鉛直軸と平行にされた当該ハンド１１ａの中心軸を中心として回転される。これにより、第１ローラ２２ｄが当該第１ローラ２２ｄの中心を通る鉛直軸を中心に回転する。その結果、第２ローラ２２ｅ及びキャップ本体２２ｃが第２ローラ２２ｅの中心を通る鉛直軸を中心に回転し、空のボトルＢの管付きキャップ２２ｂが開けられる。
例えば、まず、供給領域Ｒ２内の空のボトルＢに取り付けられた管付きキャップ２２ｂが、搬送機構１０の多関節ロボット１１により開けられる。
具体的には、接続管ユニット２２のスティック２２ｇが、ハンド１１ａにより保持されて回転されることによって、管付きキャップ２２ｂが開けられる。
より具体的には、図９に示すように、供給領域Ｒ２内の空のボトルＢに取り付けられた接続管ユニット２２のスティック２２ｇが、ハンド１１ａにより上方から把持される。その後、ハンド１１ａが、鉛直軸と平行にされた当該ハンド１１ａの中心軸を中心として回転される。これにより、第１ローラ２２ｄが当該第１ローラ２２ｄの中心を通る鉛直軸を中心に回転する。その結果、第２ローラ２２ｅ及びキャップ本体２２ｃが第２ローラ２２ｅの中心を通る鉛直軸を中心に回転し、空のボトルＢの管付きキャップ２２ｂが開けられる。
【0053】
（ステップＳ２）
次に、空のボトルＢに取り付けられていた接続管２２ａが、当該空のボトルＢから抜き出される。
具体的には、図１０に示すように、接続管ユニット２２の把持部２２ｊが、ハンド１１ａにより上方から把持される。次いで、図１１に示すように、ハンド１１ａが、多関節アーム１１ｂにより上昇される。これにより、接続管２２ａが空のボトルＢから抜き出される。その後、図１２に示すように液受け部２５の上方に接続管２２ａが位置するよう、ハンド１１ａが移動され接続管ユニット２２が移動される。移動後、接続管ユニット２２は支持部材（図示せず）に支持される。
次に、空のボトルＢに取り付けられていた接続管２２ａが、当該空のボトルＢから抜き出される。
具体的には、図１０に示すように、接続管ユニット２２の把持部２２ｊが、ハンド１１ａにより上方から把持される。次いで、図１１に示すように、ハンド１１ａが、多関節アーム１１ｂにより上昇される。これにより、接続管２２ａが空のボトルＢから抜き出される。その後、図１２に示すように液受け部２５の上方に接続管２２ａが位置するよう、ハンド１１ａが移動され接続管ユニット２２が移動される。移動後、接続管ユニット２２は支持部材（図示せず）に支持される。
【0054】
（ステップＳ３）
続いて、キャップＣが、多関節ロボット１１により、空のボトルＢに対して閉められる。
具体的には、キャップＣが、ハンド１１ａにより保持され回転され、空のボトルＢに対して閉められる。
より具体的には、まず、キャップ置き２１に載置されていたキャップＣがハンド１１ａにより上方から把持される。次に、図１３に示すように、空のボトルＢの開口部にキャップＣが被さるよう、キャップＣを把持したハンド１１ａが移動される。そして、ハンド１１ａが、鉛直軸と平行にされた当該ハンド１１ａの中心軸を中心として回転される。これにより、キャップＣがハンド１１ａと同様に回転される。その結果、図１４に示すように、キャップ置き２１に載置されていたキャップＣが空のボトルＢに対し閉められる。
続いて、キャップＣが、多関節ロボット１１により、空のボトルＢに対して閉められる。
具体的には、キャップＣが、ハンド１１ａにより保持され回転され、空のボトルＢに対して閉められる。
より具体的には、まず、キャップ置き２１に載置されていたキャップＣがハンド１１ａにより上方から把持される。次に、図１３に示すように、空のボトルＢの開口部にキャップＣが被さるよう、キャップＣを把持したハンド１１ａが移動される。そして、ハンド１１ａが、鉛直軸と平行にされた当該ハンド１１ａの中心軸を中心として回転される。これにより、キャップＣがハンド１１ａと同様に回転される。その結果、図１４に示すように、キャップ置き２１に載置されていたキャップＣが空のボトルＢに対し閉められる。
【0055】
（ステップＳ４）
その後、空のボトルＢが、多関節ロボット１１により、供給領域Ｒ２から回収領域Ｒ４へ搬送される。
具体的には、まず、供給ステージ２０上の空のボトルＢの首部分が、図１５に示すように、ハンド１１ａにより側方から把持される。その状態で、ハンド１１ａが移動され、供給ステージ２０に載置されていた空のボトルＢが、回収ステージ４０上に載置される。
その後、空のボトルＢが、多関節ロボット１１により、供給領域Ｒ２から回収領域Ｒ４へ搬送される。
具体的には、まず、供給ステージ２０上の空のボトルＢの首部分が、図１５に示すように、ハンド１１ａにより側方から把持される。その状態で、ハンド１１ａが移動され、供給ステージ２０に載置されていた空のボトルＢが、回収ステージ４０上に載置される。
【0056】
（ステップＳ５）
次いで、新たなボトルＢが、多関節ロボット１１により、待機領域Ｒ３から供給領域Ｒ２へ搬送される。
具体的には、まず、搬入ステージ３０上の新たなボトルＢの首部分が、ハンド１１ａにより側方から把持される。その状態で、ハンド１１ａが移動され、図１６に示すように、搬入ステージ３０に載置されていた新たなボトルＢが、供給ステージ２０上に載置される。
次いで、新たなボトルＢが、多関節ロボット１１により、待機領域Ｒ３から供給領域Ｒ２へ搬送される。
具体的には、まず、搬入ステージ３０上の新たなボトルＢの首部分が、ハンド１１ａにより側方から把持される。その状態で、ハンド１１ａが移動され、図１６に示すように、搬入ステージ３０に載置されていた新たなボトルＢが、供給ステージ２０上に載置される。
【0057】
（ステップＳ６）
その後、新たなボトルＢのキャップＣが、多関節ロボット１１により、開けられる。
具体的には、新たなボトルＢのキャップＣが、ハンド１１ａにより保持され回転され、開けられる。
より具体的には、まず、新たなボトルＢのキャップＣがハンド１１ａにより上方から把持される。次に、ハンド１１ａが、鉛直軸と平行にされた当該ハンド１１ａの中心軸を中心として回転される。これにより、キャップＣがハンド１１ａと同様に回転される。その結果、新たなボトルＢのキャップＣが開けられる。その後、キャップＣを把持したハンド１１ａが移動され、キャップＣがキャップ置き２１に載置される。
その後、新たなボトルＢのキャップＣが、多関節ロボット１１により、開けられる。
具体的には、新たなボトルＢのキャップＣが、ハンド１１ａにより保持され回転され、開けられる。
より具体的には、まず、新たなボトルＢのキャップＣがハンド１１ａにより上方から把持される。次に、ハンド１１ａが、鉛直軸と平行にされた当該ハンド１１ａの中心軸を中心として回転される。これにより、キャップＣがハンド１１ａと同様に回転される。その結果、新たなボトルＢのキャップＣが開けられる。その後、キャップＣを把持したハンド１１ａが移動され、キャップＣがキャップ置き２１に載置される。
【0058】
（ステップＳ７）
続いて、接続管２２ａが、新たなボトルＢに差し込まれる。
具体的には、液受け２５の上方近傍に位置する接続管ユニット２２の把持部２２ｊが、ハンド１１ａにより上方から把持される。次いで、液受け部２５の上方に接続管２２ａが位置するよう、接続管ユニット２２を把持したハンド１１ａが移動される。その後、ハンド１１ａが下降される。これにより、接続管２２ａが新たなボトルＢに差し込まれると共に、管付きキャップ２２ｂが新たなボトルＢの開口部に被さる。
続いて、接続管２２ａが、新たなボトルＢに差し込まれる。
具体的には、液受け２５の上方近傍に位置する接続管ユニット２２の把持部２２ｊが、ハンド１１ａにより上方から把持される。次いで、液受け部２５の上方に接続管２２ａが位置するよう、接続管ユニット２２を把持したハンド１１ａが移動される。その後、ハンド１１ａが下降される。これにより、接続管２２ａが新たなボトルＢに差し込まれると共に、管付きキャップ２２ｂが新たなボトルＢの開口部に被さる。
【0059】
（ステップＳ８）
そして、管付きキャップ２２ｂが、搬送機構１０の多関節ロボット１１により、新たなボトルＢに対し閉められる。
具体的には、接続管ユニット２２のスティック２２ｇが、ハンド１１ａにより保持されて回転されることによって、管付きキャップ２２ｂが新たなボトルＢに対し閉められる。
より具体的には、供給領域Ｒ２内の新たなボトルＢに管付きキャップ２２ｂが被さった
接続管ユニット２２のスティック２２ｇが、ハンド１１ａにより上方から把持される。その後、ハンド１１ａが、鉛直軸と平行にされた当該ハンド１１ａの中心軸を中心として回転される。これにより、第１ローラ２２ｄが当該第１ローラ２２ｄの中心を通る鉛直軸を中心に回転する。その結果、第２ローラ２２ｅ及びキャップ本体２２ｃが第２ローラ２２ｅの中心を通る鉛直軸を中心に回転し、新たなボトルＢに対し管付きキャップ２２ｂが閉められる。
そして、管付きキャップ２２ｂが、搬送機構１０の多関節ロボット１１により、新たなボトルＢに対し閉められる。
具体的には、接続管ユニット２２のスティック２２ｇが、ハンド１１ａにより保持されて回転されることによって、管付きキャップ２２ｂが新たなボトルＢに対し閉められる。
より具体的には、供給領域Ｒ２内の新たなボトルＢに管付きキャップ２２ｂが被さった
接続管ユニット２２のスティック２２ｇが、ハンド１１ａにより上方から把持される。その後、ハンド１１ａが、鉛直軸と平行にされた当該ハンド１１ａの中心軸を中心として回転される。これにより、第１ローラ２２ｄが当該第１ローラ２２ｄの中心を通る鉛直軸を中心に回転する。その結果、第２ローラ２２ｅ及びキャップ本体２２ｃが第２ローラ２２ｅの中心を通る鉛直軸を中心に回転し、新たなボトルＢに対し管付きキャップ２２ｂが閉められる。
【0060】
（ステップＳ９）
また、待機領域Ｒ３へのボトルＢの補充も行われる。
待機領域Ｒ３へのボトルＢの補充は例えば上記ステップＳ６～ステップＳ８と平行して行われる。処理液供給装置１の外部から待機領域Ｒ３の搬入ステージ３０へのボトルＢの搬送は例えば処理液供給装置１の外部の装置により行われる。
また、待機領域Ｒ３へのボトルＢの補充も行われる。
待機領域Ｒ３へのボトルＢの補充は例えば上記ステップＳ６～ステップＳ８と平行して行われる。処理液供給装置１の外部から待機領域Ｒ３の搬入ステージ３０へのボトルＢの搬送は例えば処理液供給装置１の外部の装置により行われる。
【0061】
（ステップＳ１０）
さらに、回収領域Ｒ４からの使用済のボトルＢの回収も行われる。
回収領域Ｒ４からの使用済のボトルＢの回収は例えば上記ステップＳ６～ステップＳ８と平行して行われる。回収領域Ｒ４からの使用済のボトルＢの回収は例えば処理液供給装置１の外部の装置により行われる。
さらに、回収領域Ｒ４からの使用済のボトルＢの回収も行われる。
回収領域Ｒ４からの使用済のボトルＢの回収は例えば上記ステップＳ６～ステップＳ８と平行して行われる。回収領域Ｒ４からの使用済のボトルＢの回収は例えば処理液供給装置１の外部の装置により行われる。
【0062】
＜主な効果＞
上述のように、本実施形態にかかる処理液供給装置１は、ボトルＢを保持して搬送する搬送機構１０が設けられた搬送領域Ｒ１と、平面視で搬送領域Ｒ１を間に挟んで対向する一対の供給領域Ｒ２と、を備える。そのため、供給領域Ｒ２内のボトルＢの交換を作業員によらず、搬送機構１０により自動で行うことができるため、利便性が高い。
また、平面視で搬送領域Ｒ１を間に挟んで対向するように一対の供給領域Ｒ２が設けられているため、供給領域Ｒ２間で、ボトルＢの交換に用いる搬送機構１０を共通にすることができ、供給領域Ｒ２毎に搬送機構１０を設ける必要がない。すなわち、限られた数の搬送機構１０で供給領域Ｒ２内のボトルＢを交換することができる。この観点でも利便性が高い。
さらに、本実施形態では、供給領域Ｒ２が一対設けられているため、供給領域Ｒ２が１つの場合に比べて、多数のボトルＢを供給領域Ｒ２に収容することができる。そのため、多数のボトルＢから処理液を同時供給したり、多数のボトルＢの中から選択されたボトルＢから特定種の処理液を供給したりすることができる。また、１つの処理液供給装置１から複数のウェハ処理装置ＷＴに処理液を供給し得る。この観点でも利便性が高い。加えて、供給領域Ｒ２間で搬送領域Ｒ１が共通であるため、搬送領域Ｒ１を供給領域Ｒ２毎に個別に設ける場合に比べて、フットプリントを抑制することができる。すなわち、本実施形態によれば、多数のボトルＢから処理液を同時供給したり、多数のボトルＢの中から選択されたボトルＢから特定種の処理液を供給したり、１つの処理液供給装置１から複数のウェハ処理装置ＷＴに処理液を供給したりすることを、フットプリントの増加を抑えながら実現することができる。なお、多数のボトルＢから処理液を同時供給する技術は、ウェハ処理装置ＷＴに搭載する液処理モジュール数が多くなってきている昨今では、必要な技術である。
上述のように、本実施形態にかかる処理液供給装置１は、ボトルＢを保持して搬送する搬送機構１０が設けられた搬送領域Ｒ１と、平面視で搬送領域Ｒ１を間に挟んで対向する一対の供給領域Ｒ２と、を備える。そのため、供給領域Ｒ２内のボトルＢの交換を作業員によらず、搬送機構１０により自動で行うことができるため、利便性が高い。
また、平面視で搬送領域Ｒ１を間に挟んで対向するように一対の供給領域Ｒ２が設けられているため、供給領域Ｒ２間で、ボトルＢの交換に用いる搬送機構１０を共通にすることができ、供給領域Ｒ２毎に搬送機構１０を設ける必要がない。すなわち、限られた数の搬送機構１０で供給領域Ｒ２内のボトルＢを交換することができる。この観点でも利便性が高い。
さらに、本実施形態では、供給領域Ｒ２が一対設けられているため、供給領域Ｒ２が１つの場合に比べて、多数のボトルＢを供給領域Ｒ２に収容することができる。そのため、多数のボトルＢから処理液を同時供給したり、多数のボトルＢの中から選択されたボトルＢから特定種の処理液を供給したりすることができる。また、１つの処理液供給装置１から複数のウェハ処理装置ＷＴに処理液を供給し得る。この観点でも利便性が高い。加えて、供給領域Ｒ２間で搬送領域Ｒ１が共通であるため、搬送領域Ｒ１を供給領域Ｒ２毎に個別に設ける場合に比べて、フットプリントを抑制することができる。すなわち、本実施形態によれば、多数のボトルＢから処理液を同時供給したり、多数のボトルＢの中から選択されたボトルＢから特定種の処理液を供給したり、１つの処理液供給装置１から複数のウェハ処理装置ＷＴに処理液を供給したりすることを、フットプリントの増加を抑えながら実現することができる。なお、多数のボトルＢから処理液を同時供給する技術は、ウェハ処理装置ＷＴに搭載する液処理モジュール数が多くなってきている昨今では、必要な技術である。
【0063】
また、本実施形態では、多関節ロボット１１のハンド１１ａによりボトルＢのキャップＣを保持して回転させキャップＣを開閉している。そのため、ボトルＢのキャップＣを回転させて開閉するための構成を供給領域Ｒ２に設ける必要がない。したがって、平面視での供給領域Ｒ２の面積を小さくすることができ、処理液供給装置１の小フットプリント化をさらに図ることができる。さらに、高コスト化につながるボトルＢのキャップＣの回転を駆動するアクチュエータを供給領域に設ける必要がないため、処理液供給装置１の高コスト化を抑制しながら、処理液供給装置１の利便性を向上させることができる。
【0064】
本実施形態では、接続管２２ａが設けられた管付きキャップ２２ｂを多関節ロボット１１のハンド１１ａによりにより回転させ、当該管付きキャップ２２ｂを開閉している。そのため、管付きキャップ２２ｂを回転させて開閉するための構成のうち、少なくとも管付きキャップ２２ｂの回転を駆動するアクチュエータを供給領域に設ける必要がない。したがって、この観点でも、処理液供給装置１の高コスト化を抑制しながら、処理液供給装置１の利便性を向上させることができる。
【0065】
さらに、本実施形態では、管付きキャップ２２ｂがスティック２２ｇの回転に従って回転することにより開閉されるように構成されている。そして、本実施形態では、管付きキャップ２２ｂをハンド１１ａによりスティック２２ｇを保持して回転させることによって開閉している。したがって、管付きキャップ２２ｂを回転させることにより、管付きキャップ２２ｂに取り付けられた接続管２２ａ及び接続管２２ａに接続された配管２４と多関節ロボット１１とが干渉することを抑制することができる。
【0066】
（第２実施形態）
＜処理液供給装置＞
図１７は、第２実施形態にかかる処理液供給装置の内部構成の概略を示すための平面図である。
図１７に示すように、処理液供給装置１Ａは、回収ラインＲＬをさらに有していてもよい。回収ラインＲＬは、搬送領域Ｒ１から搬送機構１０により搬出されたボトルＢが載置され、すなわち、上記ボトルＢを受け取る。そして、回収ラインＲＬは、受け取ったボトルＢを回収領域Ｒ４へ搬送する。回収ラインＲＬによるボトルＢの搬送は、例えば、回収ラインＲＬにおいて当該ボトルＢが載置される搬送ローラ等のコンベア（図示せず）により行われる。
この回収ラインＲＬは、例えば、平面視で搬送領域Ｒ１と供給領域Ｒ２との間の位置に設けられる。
＜処理液供給装置＞
図１７は、第２実施形態にかかる処理液供給装置の内部構成の概略を示すための平面図である。
図１７に示すように、処理液供給装置１Ａは、回収ラインＲＬをさらに有していてもよい。回収ラインＲＬは、搬送領域Ｒ１から搬送機構１０により搬出されたボトルＢが載置され、すなわち、上記ボトルＢを受け取る。そして、回収ラインＲＬは、受け取ったボトルＢを回収領域Ｒ４へ搬送する。回収ラインＲＬによるボトルＢの搬送は、例えば、回収ラインＲＬにおいて当該ボトルＢが載置される搬送ローラ等のコンベア（図示せず）により行われる。
この回収ラインＲＬは、例えば、平面視で搬送領域Ｒ１と供給領域Ｒ２との間の位置に設けられる。
【0067】
本実施形態のように、回収ラインＲＬを設けることにより、搬送機構１０が使用済みのボトルＢの搬送に供される時間を減らすことができる。したがって、使用済のボトルＢの搬送機構１０による搬送中に当該搬送機構１０による他の搬送が中断されるのを抑制することができる。
【0068】
なお、供給領域Ｒ２の供給ステージ２０を多段に設け搬送機構１０を一台のみ設ける場合、回収ラインＲＬを１段のみ設けるようにしてもよい。具体的には、供給領域Ｒ２の供給ステージ２０が多段に設ける場合に、最下段の供給ステージ２０と同じ高さ位置にのみ、回収ラインＲＬを設けるようにしてもよい。これによりコストの増加を抑制することができる。また、搬送機構１０の多関節ロボット１１が、上段の供給ステージ２０に載置されたボトルＢに対する動作を行う場合に、回収ラインＲＬと多関節ロボット１１が干渉するのを抑制することができる。
【0069】
＜変形例＞
以上の例では、搬送領域Ｒ１に設けられていた搬送機構１０は１台であったが、複数台設けられていてもよい。例えば、図２等の例のように、供給ステージ２０が複数段に積層されている場合、段毎に搬送機構１０が設けられていてもよい。
以上の例では、搬送領域Ｒ１に設けられていた搬送機構１０は１台であったが、複数台設けられていてもよい。例えば、図２等の例のように、供給ステージ２０が複数段に積層されている場合、段毎に搬送機構１０が設けられていてもよい。
【0070】
以上の例では、接続管ユニット２２に把持部２２ｊが設けられていたが、把持部２２ｊは省略してもよい。この場合、接続管ユニット２２の移動の際は、例えば、多関節ロボット１１のハンド１１ａによりスティック２２ｇが把持される。
【0071】
以上の例では、搬入ステージ３０から供給ステージ２０へのボトルＢの搬送を、多関節ロボット１１により行っていたが、以下のようにしてもよい。すなわち、搬入ステージ３０から供給ステージ２０へのボトルＢの搬送が、搬入ステージ３０に設けられた搬送ローラ（図示せず）により行われてもよい。また、搬入ステージ３０を水平に対し傾斜させ、ボトルＢに作用する重力により、搬入ステージ３０から供給ステージ２０へのボトルＢの搬送が行われてもよい。
【0072】
また、以上の例では、キャップＣの着脱及び管付きキャップ２２ｂの両方が多関節ロボット１１により行われていたが、いずれか一方のみが多関節ロボット１１により行われてもよい。一方のみが行われる場合は、キャップＣの着脱のみが多関節ロボット１１により行われることが好ましい。
【0073】
今回開示された実施形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。上記の実施形態は、添付の請求の範囲及びその主旨を逸脱することなく、様々な形態で省略、置換、変更されてもよい。例えば、上記実施形態の構成要件は任意に組み合わせることができる。当該任意の組み合せからは、組み合わせにかかるそれぞれの構成要件についての作用及び効果が当然に得られるとともに、本明細書の記載から当業者には明らかな他の作用及び他の効果が得られる。
【0074】
また、本明細書に記載された効果は、あくまで説明的または例示的なものであって限定的ではない。つまり、本開示に係る技術は、上記の効果とともに、又は、上記の効果に代えて、本明細書の記載から当業者には明らかな他の効果を奏しうる。
【0075】
なお、以下のような構成例も本開示の技術的範囲に属する。
（１）処理液を用いて基板に処理を行う液処理モジュールを有する基板処理装置に対して前記処理液を供給する処理液供給装置であって、
処理液が貯留されている容器を保持して搬送する搬送機構が設けられた搬送領域と、
前記搬送領域を間に挟んで対向する一対の供給領域と、を有し、
前記供給領域はそれぞれ、
当該処理液供給装置の外部から搬入された前記容器を支持する支持部と、
前記支持部に支持された前記容器に接続される接続管と、が設けられ、
前記支持部に支持された前記容器内の前記処理液を前記接続管を介して前記基板処理装置へ供給する、処理液供給装置。
（２）前記基板処理装置とは別に床上に設けられ、
処理液流路で前記基板処理装置と接続されている、前記（１）に記載の処理液供給装置。
（３）前記搬送機構は、少なくとも前記容器を保持する保持部と、前記保持部を移動可能に構成されたアームを有する、前記（１）に記載の処理液供給装置。
（４）制御部をさらに備え、
当該制御部は、前記保持部により前記容器の蓋を保持して当該蓋を開閉するよう制御を行う、前記（３）に記載の処理液供給装置。
（５）前記供給領域は、回転可能に構成された回転軸部と、前記接続管を支持した前記容器の別の蓋と、がさらに設けられ、
前記別の蓋は、
当該別の蓋が前記容器に取り付けられることにより前記接続管が前記容器に接続されるように構成され、
前記回転軸部の回転に従って回転することにより開閉され、
制御部をさらに備え、
当該制御部は、前記保持部により前記回転軸部を保持して回転させることによって前記別の蓋を開閉するよう制御を行う、前記（３）または（４）に記載の処理液供給装置。
（６）当該処理液供給装置の外部から搬入され且つ前記供給領域に搬送する前の前記容器が待機する待機領域を、前記供給領域とは別にさらに含む、前記（１）～（５）のいずれか１に記載の処理液供給装置。
（７）前記供給領域から前記搬送機構により搬出された前記容器が当該処理液供給装置の外部に搬出されるまで待機する回収領域を、前記供給領域とは別にさらに備える、前記（１）～（６）のいずれか１に記載の処理液供給装置。
（８）前記搬送領域から前記搬送機構により搬出された前記容器を受け取り前記回収領域へ搬送する回収ラインをさらに備える、前記（７）に記載の処理液供給装置。
（８）処理液を用いて基板に処理を行う液処理モジュールを有する基板処理装置に対して前記処理液を供給する処理液供給方法であって、
平面視で搬送領域を間に挟んで対向する一対の供給領域内の、処理液が貯留されている容器を、前記搬送領域に設けられた前記一対の供給領域の間で共通の搬送機構を用いて交換する工程を含む、処理液供給方法。
（１）処理液を用いて基板に処理を行う液処理モジュールを有する基板処理装置に対して前記処理液を供給する処理液供給装置であって、
処理液が貯留されている容器を保持して搬送する搬送機構が設けられた搬送領域と、
前記搬送領域を間に挟んで対向する一対の供給領域と、を有し、
前記供給領域はそれぞれ、
当該処理液供給装置の外部から搬入された前記容器を支持する支持部と、
前記支持部に支持された前記容器に接続される接続管と、が設けられ、
前記支持部に支持された前記容器内の前記処理液を前記接続管を介して前記基板処理装置へ供給する、処理液供給装置。
（２）前記基板処理装置とは別に床上に設けられ、
処理液流路で前記基板処理装置と接続されている、前記（１）に記載の処理液供給装置。
（３）前記搬送機構は、少なくとも前記容器を保持する保持部と、前記保持部を移動可能に構成されたアームを有する、前記（１）に記載の処理液供給装置。
（４）制御部をさらに備え、
当該制御部は、前記保持部により前記容器の蓋を保持して当該蓋を開閉するよう制御を行う、前記（３）に記載の処理液供給装置。
（５）前記供給領域は、回転可能に構成された回転軸部と、前記接続管を支持した前記容器の別の蓋と、がさらに設けられ、
前記別の蓋は、
当該別の蓋が前記容器に取り付けられることにより前記接続管が前記容器に接続されるように構成され、
前記回転軸部の回転に従って回転することにより開閉され、
制御部をさらに備え、
当該制御部は、前記保持部により前記回転軸部を保持して回転させることによって前記別の蓋を開閉するよう制御を行う、前記（３）または（４）に記載の処理液供給装置。
（６）当該処理液供給装置の外部から搬入され且つ前記供給領域に搬送する前の前記容器が待機する待機領域を、前記供給領域とは別にさらに含む、前記（１）～（５）のいずれか１に記載の処理液供給装置。
（７）前記供給領域から前記搬送機構により搬出された前記容器が当該処理液供給装置の外部に搬出されるまで待機する回収領域を、前記供給領域とは別にさらに備える、前記（１）～（６）のいずれか１に記載の処理液供給装置。
（８）前記搬送領域から前記搬送機構により搬出された前記容器を受け取り前記回収領域へ搬送する回収ラインをさらに備える、前記（７）に記載の処理液供給装置。
（８）処理液を用いて基板に処理を行う液処理モジュールを有する基板処理装置に対して前記処理液を供給する処理液供給方法であって、
平面視で搬送領域を間に挟んで対向する一対の供給領域内の、処理液が貯留されている容器を、前記搬送領域に設けられた前記一対の供給領域の間で共通の搬送機構を用いて交換する工程を含む、処理液供給方法。
【符号の説明】
【0076】
１、１Ａ 処理液供給装置
１０ 搬送機構
１１ 多関節ロボット
２０ 供給ステージ
２２ａ 接続管
Ｂ ボトル
Ｒ１ 搬送領域
Ｒ２ 供給領域
Ｗ ウェハ
ＷＴ ウェハ処理装置
ＷＴ１ 液処理モジュール
１０ 搬送機構
１１ 多関節ロボット
２０ 供給ステージ
２２ａ 接続管
Ｂ ボトル
Ｒ１ 搬送領域
Ｒ２ 供給領域
Ｗ ウェハ
ＷＴ ウェハ処理装置
ＷＴ１ 液処理モジュール
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13】
【図14】
【図15】
【図16】
【図17】