特開 2024-169924 液晶組成物、色素化合物、液晶層及び調光素子

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2024169924

(43)【公開日】2024-12-06

(54)【発明の名称】液晶組成物、色素化合物、液晶層及び調光素子

(51)【国際特許分類】

   C09K 19/38 20060101AFI20241129BHJP

   G02F 1/13 20060101ALI20241129BHJP

   G02F 1/1334 20060101ALI20241129BHJP

【ＦＩ】

C09K19/38

G02F1/13 500

G02F1/13 505

G02F1/1334

【審査請求】未請求

【請求項の数】11

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2023086787

(22)【出願日】2023-05-26

(71)【出願人】

【識別番号】000002886

【氏名又は名称】ＤＩＣ株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100088155

【弁理士】

【氏名又は名称】長谷川 芳樹

(74)【代理人】

【識別番号】100128381

【弁理士】

【氏名又は名称】清水 義憲

(74)【代理人】

【識別番号】100185591

【弁理士】

【氏名又は名称】中塚 岳

(74)【代理人】

【識別番号】100211018

【弁理士】

【氏名又は名称】財部 俊正

(72)【発明者】

【氏名】高崎 美花

(72)【発明者】

【氏名】川北 健人

(72)【発明者】

【氏名】東條 健太

(72)【発明者】

【氏名】中田 秀俊

(72)【発明者】

【氏名】間宮 純一

【テーマコード（参考）】

2H088

2H189

4H027

【Ｆターム（参考）】

2H088EA34

2H088FA29

2H088GA02

2H088GA10

2H088GA13

2H088GA17

2H088HA01

2H088HA02

2H088HA14

2H088JA06

2H088KA06

2H088KA20

2H088MA02

2H189AA04

2H189CA08

2H189HA06

2H189LA15

4H027BA12

4H027BB11

4H027BD02

4H027BD07

4H027BD24

4H027BE06

4H027CC04

4H027CD01

4H027CD04

4H027CE05

4H027CF04

4H027CG04

4H027CM01

4H027CM04

4H027CP04

(57)【要約】

【課題】電圧無印加時に十分な遮光性を有し、熱による遮光性の低下を起こし難い液晶層、及び、該液晶層を形成するための液晶組成物を提供すること。
【解決手段】重合性化合物と、重合開始剤と、非重合性液晶化合物と、を含有し、重合性化合物が、３７０～７８０ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する第１の重合性化合物と、３７０～７８０ｎｍの範囲に極大吸収波長を有しない第２の重合性化合物と、を含む、液晶組成物。
【選択図】なし

【特許請求の範囲】

【請求項1】

重合性化合物と、重合開始剤と、非重合性液晶化合物と、を含有し、
前記重合性化合物が、３７０～７８０ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する第１の重合性化合物と、３７０～７８０ｎｍの範囲に極大吸収波長を有しない第２の重合性化合物と、を含む、液晶組成物。

【請求項2】

前記第１の重合性化合物が、前記極大吸収波長の異なる２種以上の化合物を含む、請求項１に記載の液晶組成物。

【請求項3】

前記第１の重合性化合物が、アントラキノン骨格を有する化合物を含む、請求項１に記載の液晶組成物。

【請求項4】

前記第１の重合性化合物が、下記式（１）

【化1】

［式中、
Ａ^１及びＡ^２はそれぞれ独立して
（ａ）１，４－シクロへキシレン基（この基中に存在する１個の－ＣＨ_２－又は隣接していない２個以上の－ＣＨ_２－はそれぞれ独立して－Ｏ－又は－Ｓ－に置き換えられてもよく、この基中に存在する－ＣＨ＝は－Ｎ＝に置き換えられてもよい。）、
（ｂ）１，４－フェニレン基（この基中に存在する１個の－ＣＨ＝又は隣接していない２個以上の－ＣＨ＝は－Ｎ＝に置き換えられてもよい。）、
（ｃ）１，４－シクロヘキセニレン基、ビシクロ［２．２．２］オクタン－１，４－ジイル基、ナフタレン－２，６－ジイル基、ナフタレン－１，４－ジイル基、１，２，３，４－テトラヒドロナフタレン－２，６－ジイル基、５，６，７，８－テトラヒドロナフタレン－１，４－ジイル基、デカヒドロナフタレン－２，６－ジイル基、アントラセン－２，６－ジイル基、アントラセン－１，４－ジイル基、アントラセン－９，１０－ジイル基、フェナントレン－２，７－ジイル基（ナフタレン－２，６－ジイル基、ナフタレン－１，４－ジイル基、１，２，３，４－テトラヒドロナフタレン－２，６－ジイル基、５，６，７，８－テトラヒドロナフタレン－１，４－ジイル基、アントラセン－２，６－ジイル基、アントラセン－１，４－ジイル基、アントラセン－９，１０－ジイル基及びフェナントレン－２，７－ジイル基中に存在する１個の－ＣＨ＝又は隣接していない２個以上の－ＣＨ＝は－Ｎ＝に置き換えられてもよい。）及び
（ｄ）チオフェン－２，５－ジイル基、チオフェン－２，４－ジイル基、ベンゾチオフェン－２，５－ジイル基、ベンゾチオフェン－２，６－ジイル基、ジベンゾチオフェン－３，７－ジイル基、ジベンゾチオフェン－２，６－ジイル基、又はチエノ［３，２－ｂ］チオフェン－２，５－ジイル基（これらの基中に存在する１個の－ＣＨ＝又は隣接していない２個以上の－ＣＨ＝は－Ｎ＝に置き換えられてもよい。）
からなる群より選ばれる基、又は単結合を表し、前記の基（ａ）、基（ｂ）、基（ｃ）及び基（ｄ）中に存在する水素原子はそれぞれ独立して、メチル基、エチル基、プロピル基、２－プロピル基、ブチル基、２－ブチル基、メトキシ基、エトキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、シアノ基、ニトロ基、フッ素原子又は塩素原子に置き換えられていてもよく、
Ｚ^１及びＺ^２はそれぞれ独立して、単結合、－Ｎ＝ＣＨ－、－ＣＨ＝Ｎ－、－Ｎ＝Ｎ－、－Ｃ≡Ｃ－、炭素原子数１～２０の直鎖状若しくは分岐状アルキレン基、又は炭素原子数２～３０の直鎖状若しくは分岐状アルケニレン基を表し、当該アルキレン基及びアルケニレン基中の１個又は２個以上の－ＣＨ_２－は－Ｏ－、－ＣＯＯ－又は－ＯＣＯ－に置換されてもよく、当該アルキレン基及びアルケニレン基中に存在する水素原子はフッ素原子に置換されてもよく、
Ｒ^１及びＲ^２はそれぞれ独立して、水素原子、炭素原子数１～３０の非重合性基又は炭素原子数０～２０の重合性基を表すが、Ｒ^１及びＲ^２のうちの少なくとも一つは前記重合性基であり、
Ｘ^１及びＸ^２はそれぞれ独立して、－Ｏ－、－Ｓ－又は－ＮＹ－を表し、ここでＹは下記式（２）

【化2】

（式中、Ａ^３及びＺ^３は、それぞれ前記Ａ^１及び前記Ｚ^１と同義であり、Ｒ^３は水素原子又は炭素原子数１～３０の非重合性基を表し、＊は窒素原子との結合手を示す。）
で表される基であり、
ｎ^１、ｎ^２及びｎ^３はそれぞれ独立して０～３の整数を表し、
ｍ^１及びｍ^２はそれぞれ独立して０～４の整数を表すが、ｍ^１＋ｍ^２は１以上であり、
Ａ^１、Ａ^２、Ａ^３、Ｚ^１、Ｚ^２、Ｚ^３、Ｘ^１、Ｘ^２、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、ｎ^１、ｎ^２及びｎ^３が複数存在する場合、複数のＡ^１、Ａ^２、Ａ^３、Ｚ^１、Ｚ^２、Ｚ^３、Ｘ^１、Ｘ^２、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、ｎ^１、ｎ^２及びｎ^３は、それぞれ、互いに同一であっても異なっていてもよい。
ただし、式中で酸素原子と酸素原子が直接結合することはない。］
で表される化合物を含む、請求項１に記載の液晶組成物。

【請求項5】

前記第１の重合性化合物が、下記式（１－１）～（１－３）

【化3】

【化4】

【化5】

［式中、
Ａ^１ａ、Ａ^２ａ、Ａ^１ｂ、Ａ^２ｂ、Ａ^３ｂ、Ａ^１ｃ及びＡ^２ｃはそれぞれ独立して前記Ａ^１と同義であり、
Ｚ^１ａ、Ｚ^２ａ、Ｚ^１ｂ、Ｚ^２ｂ、Ｚ^３ｂ、Ｚ^１ｃ及びＺ^２ｃはそれぞれ独立して前記Ｚ^１と同義であり、
Ｒ^１ａ、Ｒ^２ａ、Ｒ^１ｂ、Ｒ^２ｂ、Ｒ^３ｂ、Ｒ^１ｃ及びＲ^２ｃはそれぞれ独立して前記Ｒ^１と同義であるが、Ｒ^１ａ及びＲ^２ｂのうちの少なくとも一つ、Ｒ^１ｂ、Ｒ^２ｂ及びＲ^３ｂのうちの少なくとも一つ、並びに、Ｒ^１ｃ及びＲ^２ｃのうちの少なくとも一つは前記重合性基であり、
Ｘ^１ａ、Ｘ^２ａ及びＸ^１ｂはそれぞれ独立して－Ｏ－又は－Ｓ－を表し、
ｎ^１ａ、ｎ^２ａ、ｎ^１ｂ、ｎ^２ｂ、ｎ^３ｂ、ｎ^１ｃ及びｎ^２ｃはそれぞれ独立して０～３の整数を表し、
Ａ^１ａ、Ａ^２ａ、Ａ^１ｂ、Ａ^２ｂ、Ａ^３ｂ、Ａ^１ｃ、Ａ^２ｃ、Ｚ^１ａ、Ｚ^２ａ、Ｚ^１ｂ、Ｚ^２ｂ、Ｚ^３ｂ、Ｚ^１ｃ及びＺ^２ｃが複数存在する場合、複数のＡ^１ａ、Ａ^２ａ、Ａ^１ｂ、Ａ^２ｂ、Ａ^３ｂ、Ａ^１ｃ、Ａ^２ｃ、Ｚ^１ａ、Ｚ^２ａ、Ｚ^１ｂ、Ｚ^２ｂ、Ｚ^３ｂ、Ｚ^１ｃ及びＺ^２ｃは、それぞれ、互いに同一であっても異なっていてもよい。
ただし、式中で酸素原子と酸素原子が直接結合することはない。］
で表される化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物を含む、請求項１に記載の液晶組成物。

【請求項6】

非重合性の色素化合物を更に含有する、請求項１に記載の液晶組成物。

【請求項7】

前記非重合性液晶化合物が、下記式（３）

【化6】

［式中、
Ｒ^１１は炭素原子数１～１０のアルキル基（この基中に存在する水素原子はフッ素原子に置き換えられてもよく、この基中に存在する１個の－ＣＨ_２－又は隣接していない２個以上の－ＣＨ_２－はそれぞれ独立して、－ＣＨ＝ＣＨ－、－Ｃ≡Ｃ－、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－又は－ＯＣＯ－に置き換えられてもよい。）を表し、
Ｒ^１２はハロゲン原子、シアノ基、イソチオシアネート基又は炭素原子数１～１０のアルキル基（該アルキル基中に存在する水素原子はフッ素原子に置き換えられてもよく、該アルキル基中に存在する１個の－ＣＨ_２－又は隣接していない２個以上の－ＣＨ_２－はそれぞれ独立して、－ＣＨ＝ＣＨ－、－Ｃ≡Ｃ－、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－又は－ＯＣＯ－に置き換えられてもよい。）を表し、
Ａ^１１、Ａ^１２及びＡ^１３はそれぞれ独立して
（ａ３）１，４－シクロヘキシレン基（この基中に存在する１個の－ＣＨ_２－又は隣接していない２個以上の－ＣＨ_２－は－Ｏ－に置き換えられてもよい。）、
（ｂ３）１，４－フェニレン基（この基中に存在する１個の－ＣＨ＝又は隣接していない２個以上の－ＣＨ＝は－Ｎ＝に置き換えられてもよい。）及び
（ｃ３）１，４－シクロヘキセニル基、テトラヒドロピラン－２，５－ジイル基、１，３－ジオキサン－２，５－ジイル基、デカヒドロナフタレン－２，６－ジイル基、ピリジン－２，５－ジイル基、ピリミジン－２，５－ジイル基、ピラジン－２，５－ジイル基、ナフタレン－２，６－ジイル基、１，２，３，４－テトラヒドロナフタレン－２，６－ジイル基（ナフタレン－２，６－ジイル基及び１，２，３，４－テトラヒドロナフタレン－２，６－ジイル基中に存在する１個の－ＣＨ＝又は隣接していない２個以上の－ＣＨ＝は－Ｎ＝に置き換えられてもよい。）
からなる群より選ばれる基を表し、前記の基（ａ３）、基（ｂ３）及び基（ｃ３）中に存在する水素原子はそれぞれ独立して、シアノ基、メチル基、トリフルオロメチル基、トリフルオロメチルオキシ基、フッ素原子又は塩素原子に置き換えられてもよく、
Ｚ^１１及びＺ^１２はそれぞれ独立して、単結合、－ＣＨ_２ＣＨ_２－、－（ＣＨ_２）_４－、－ＯＣＨ_２－、－ＣＨ_２Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＯＣＦ_２－、－ＣＦ_２Ｏ－、－ＣＨ＝Ｎ－Ｎ＝ＣＨ－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＦ＝ＣＦ－又は－Ｃ≡Ｃ－を表し、
ｎ^１１は０～３の整数を表し、
Ａ^１１及びＺ^１１が複数存在する場合、複数のＡ^１１は互いに同一であっても異なっていてもよく、複数のＺ^１１は互いに同一であっても異なっていてもよい。
ただし、式中で酸素原子と酸素原子が直接結合することはない。］
で表される化合物を含む、請求項１に記載の液晶組成物。

【請求項8】

前記式（３）で表される化合物が、トラン骨格を有する化合物を含む、請求項７に記載の液晶組成物。

【請求項9】

下記式（１－２）

【化7】

［式中、
Ａ^１ｂ、Ａ^２ｂ及びＡ^３ｂはそれぞれ独立して
（ａ）１，４－シクロへキシレン基（この基中に存在する１個の－ＣＨ_２－又は隣接していない２個以上の－ＣＨ_２－はそれぞれ独立して－Ｏ－又は－Ｓ－に置き換えられてもよく、この基中に存在する－ＣＨ＝は－Ｎ＝に置き換えられてもよい。）、
（ｂ）１，４－フェニレン基（この基中に存在する１個の－ＣＨ＝又は隣接していない２個以上の－ＣＨ＝は－Ｎ＝に置き換えられてもよい。）、
（ｃ）１，４－シクロヘキセニレン基、ビシクロ［２．２．２］オクタン－１，４－ジイル基、ナフタレン－２，６－ジイル基、ナフタレン－１，４－ジイル基、１，２，３，４－テトラヒドロナフタレン－２，６－ジイル基、５，６，７，８－テトラヒドロナフタレン－１，４－ジイル基、デカヒドロナフタレン－２，６－ジイル基、アントラセン－２，６－ジイル基、アントラセン－１，４－ジイル基、アントラセン－９，１０－ジイル基、フェナントレン－２，７－ジイル基（ナフタレン－２，６－ジイル基、ナフタレン－１，４－ジイル基、１，２，３，４－テトラヒドロナフタレン－２，６－ジイル基、５，６，７，８－テトラヒドロナフタレン－１，４－ジイル基、アントラセン－２，６－ジイル基、アントラセン－１，４－ジイル基、アントラセン－９，１０－ジイル基及びフェナントレン－２，７－ジイル基中に存在する１個の－ＣＨ＝又は隣接していない２個以上の－ＣＨ＝は－Ｎ＝に置き換えられてもよい。）及び
（ｄ）チオフェン－２，５－ジイル基、チオフェン－２，４－ジイル基、ベンゾチオフェン－２，５－ジイル基、ベンゾチオフェン－２，６－ジイル基、ジベンゾチオフェン－３，７－ジイル基、ジベンゾチオフェン－２，６－ジイル基、又はチエノ［３，２－ｂ］チオフェン－２，５－ジイル基（これらの基中に存在する１個の－ＣＨ＝又は隣接していない２個以上の－ＣＨ＝は－Ｎ＝に置き換えられてもよい。）
からなる群より選ばれる基、又は単結合を表し、前記の基（ａ）、基（ｂ）、基（ｃ）及び基（ｄ）中に存在する水素原子はそれぞれ独立して、メチル基、エチル基、プロピル基、２－プロピル基、ブチル基、２－ブチル基、メトキシ基、エトキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、シアノ基、ニトロ基、フッ素原子又は塩素原子に置き換えられていてもよく、
Ｚ^１ｂ、Ｚ^２ｂ及びＺ^３ｂはそれぞれ独立して、炭素原子数１～２０の直鎖状若しくは分岐状アルキレン基、炭素原子数２～３０の直鎖状若しくは分岐状アルケニレン基、－ＣＨ_２Ｏ－、－ＯＣＨ_２－、－ＣＦ_２Ｏ－、－ＯＣＦ_２－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－Ｎ＝ＣＨ－、－ＣＨ＝Ｎ－、－Ｎ＝Ｎ－、－Ｃ≡Ｃ－又は単結合を表し、当該アルキレン基及びアルケニレン基中に存在する水素原子はフッ素原子に置換されてもよく、
Ｒ^１ｂ、Ｒ^２ｂ及びＲ^３ｂはそれぞれ独立して、水素原子、炭素原子数１～３０の非重合性基又は炭素原子数０～２０の重合性基を表すが、Ｒ^１ｂ、Ｒ^２ｂ及びＲ^３ｂのうちの少なくとも一つは前記重合性基であり、
Ｘ^１ｂは－Ｏ－又は－Ｓ－を表し、
ｎ^１ｂ、ｎ^２ｂ及びｎ^３ｂはそれぞれ独立して０～３の整数を表し、
Ａ^１ｂ、Ａ^２ｂ、Ａ^３ｂ、Ｚ^１ｂ、Ｚ^２ｂ及びＺ^３ｂが複数存在する場合、複数のＡ^１ｂ、Ａ^２ｂ、Ａ^３ｂ、Ｚ^１ｂ、Ｚ^２ｂ及びＺ^３ｂは、それぞれ、互いに同一であっても異なっていてもよい。
ただし、式中で酸素原子と酸素原子が直接結合することはない。］
で表される色素化合物。

【請求項10】

請求項１～８のいずれか一項に記載の液晶組成物から形成される液晶層であって、
前記重合性化合物由来のポリマーネットワークと、前記非重合性液晶化合物とを含む、液晶層。

【請求項11】

一対の透明電極基板と、
前記一対の透明電極基板の間に配された請求項１０に記載の液晶層と、を有する調光素子。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、液晶組成物、色素化合物、液晶層及び調光素子に関する。

【背景技術】

【0002】

液晶材料は、ＴＶやスマートフォンに代表される文字や画像、映像を表示させる各種表示素子に利用されるだけではなく、光の透過を調節する調光素子としての利用に関しても実用化されつつある。液晶材料には目的に応じて種々の性能を有する色素化合物が用いられる（例えば特許文献１）。

【0003】

近年、建材や運輸の分野において、空間の快適性と利便性向上のため、外光の透過度合いを調節するスマートウィンドウ・スマートガラス用途の調光素子として、いわゆる高分子分散型（ポリマーネットワーク型）液晶素子が注目されている。高分子分散型液晶素子は、液晶材料がポリマーネットワーク中に介在（又は分散）する構造の液晶層（調光層）を有しており、液晶層での光の透過／散乱度合いを印加電圧によって調整することができる。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0004】

【特許文献1】米国特許第５５７８４１９号明細書

【特許文献2】国際公開第２０２２／１３８４１８号

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0005】

上記調光素子の液晶層には、電圧印加時に十分な遮光性を有することが求められる。また、調光素子は高温環境下で使用されることがあるため、熱により液晶層の遮光性が低下しないこと、すなわち、液晶層が耐熱性を有することも重要である。

【0006】

本発明の課題の一つは、電圧無印加時に十分な遮光性を有し、熱による遮光性の低下を起こし難い液晶層を提供することにある。また、本発明の課題の一つは、上記液晶層を形成するための液晶組成物を提供することにある。また、本発明の課題の一つは、上記液晶組成物を用いた調光素子を提供することにある。また、本発明の課題の一つは、上記液晶組成物に用いられる新規な色素化合物を提供することにある。

【課題を解決するための手段】

【0007】

本発明のいくつかの側面は、下記［１］～［１１］を提供する。

【0008】

［１］
重合性化合物と、重合開始剤と、非重合性液晶化合物と、を含有し、
前記重合性化合物が、３７０～７８０ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する第１の重合性化合物と、３７０～７８０ｎｍの範囲に極大吸収波長を有しない第２の重合性化合物と、を含む、液晶組成物。

【0009】

［２］
前記第１の重合性化合物が、前記極大吸収波長の異なる２種以上の化合物を含む、［１］に記載の液晶組成物。

【0010】

［３］
前記第１の重合性化合物が、アントラキノン骨格を有する化合物を含む、［１］又は［２］に記載の液晶組成物。

【0011】

［４］
前記第１の重合性化合物が、下記式（１）

【化1】

［式中、
Ａ^１及びＡ^２はそれぞれ独立して
（ａ）１，４－シクロへキシレン基（この基中に存在する１個の－ＣＨ_２－又は隣接していない２個以上の－ＣＨ_２－はそれぞれ独立して－Ｏ－又は－Ｓ－に置き換えられてもよく、この基中に存在する－ＣＨ＝は－Ｎ＝に置き換えられてもよい。）、
（ｂ）１，４－フェニレン基（この基中に存在する１個の－ＣＨ＝又は隣接していない２個以上の－ＣＨ＝は－Ｎ＝に置き換えられてもよい。）、
（ｃ）１，４－シクロヘキセニレン基、ビシクロ［２．２．２］オクタン－１，４－ジイル基、ナフタレン－２，６－ジイル基、ナフタレン－１，４－ジイル基、１，２，３，４－テトラヒドロナフタレン－２，６－ジイル基、５，６，７，８－テトラヒドロナフタレン－１，４－ジイル基、デカヒドロナフタレン－２，６－ジイル基、アントラセン－２，６－ジイル基、アントラセン－１，４－ジイル基、アントラセン－９，１０－ジイル基、フェナントレン－２，７－ジイル基（ナフタレン－２，６－ジイル基、ナフタレン－１，４－ジイル基、１，２，３，４－テトラヒドロナフタレン－２，６－ジイル基、５，６，７，８－テトラヒドロナフタレン－１，４－ジイル基、アントラセン－２，６－ジイル基、アントラセン－１，４－ジイル基、アントラセン－９，１０－ジイル基及びフェナントレン－２，７－ジイル基中に存在する１個の－ＣＨ＝又は隣接していない２個以上の－ＣＨ＝は－Ｎ＝に置き換えられてもよい。）及び
（ｄ）チオフェン－２，５－ジイル基、チオフェン－２，４－ジイル基、ベンゾチオフェン－２，５－ジイル基、ベンゾチオフェン－２，６－ジイル基、ジベンゾチオフェン－３，７－ジイル基、ジベンゾチオフェン－２，６－ジイル基、又はチエノ［３，２－ｂ］チオフェン－２，５－ジイル基（これらの基中に存在する１個の－ＣＨ＝又は隣接していない２個以上の－ＣＨ＝は－Ｎ＝に置き換えられてもよい。）
からなる群より選ばれる基、又は単結合を表し、前記の基（ａ）、基（ｂ）、基（ｃ）及び基（ｄ）中に存在する水素原子はそれぞれ独立して、メチル基、エチル基、プロピル基、２－プロピル基、ブチル基、２－ブチル基、メトキシ基、エトキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、シアノ基、ニトロ基、フッ素原子又は塩素原子に置き換えられていてもよく、
Ｚ^１及びＺ^２はそれぞれ独立して、単結合、－Ｎ＝ＣＨ－、－ＣＨ＝Ｎ－、－Ｎ＝Ｎ－、－Ｃ≡Ｃ－、炭素原子数１～２０の直鎖状若しくは分岐状アルキレン基、又は炭素原子数２～３０の直鎖状若しくは分岐状アルケニレン基を表し、当該アルキレン基及びアルケニレン基中の１個又は２個以上の－ＣＨ_２－は－Ｏ－、－ＣＯＯ－又は－ＯＣＯ－に置換されてもよく、当該アルキレン基及びアルケニレン基中に存在する水素原子はフッ素原子に置換されてもよく、
Ｒ^１及びＲ^２はそれぞれ独立して、水素原子、炭素原子数１～３０の非重合性基又は炭素原子数０～２０の重合性基を表すが、Ｒ^１及びＲ^２のうちの少なくとも一つは前記重合性基であり、
Ｘ^１及びＸ^２はそれぞれ独立して、－Ｏ－、－Ｓ－又は－ＮＹ－を表し、ここでＹは下記式（２）

【化2】

（式中、Ａ^３及びＺ^３は、それぞれ前記Ａ^１及び前記Ｚ^１と同義であり、Ｒ^３は水素原子又は炭素原子数１～３０の非重合性基を表し、＊は窒素原子との結合手を示す。）
で表される基であり、
ｎ^１、ｎ^２及びｎ^３はそれぞれ独立して０～３の整数を表し、
ｍ^１及びｍ^２はそれぞれ独立して０～４の整数を表すが、ｍ^１＋ｍ^２は１以上であり、
Ａ^１、Ａ^２、Ａ^３、Ｚ^１、Ｚ^２、Ｚ^３、Ｘ^１、Ｘ^２、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、ｎ^１、ｎ^２及びｎ^３が複数存在する場合、複数のＡ^１、Ａ^２、Ａ^３、Ｚ^１、Ｚ^２、Ｚ^３、Ｘ^１、Ｘ^２、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、ｎ^１、ｎ^２及びｎ^３は、それぞれ、互いに同一であっても異なっていてもよい。
ただし、式中で酸素原子と酸素原子が直接結合することはない。］
で表される化合物を含む、［１］～[３]のいずれかに記載の液晶組成物。

【0012】

［５］
前記第１の重合性化合物が、下記式（１－１）～（１－３）

【化3】

【化4】

【化5】

［式中、
Ａ^１ａ、Ａ^２ａ、Ａ^１ｂ、Ａ^２ｂ、Ａ^３ｂ、Ａ^１ｃ及びＡ^２ｃはそれぞれ独立して前記Ａ^１と同義であり、
Ｚ^１ａ、Ｚ^２ａ、Ｚ^１ｂ、Ｚ^２ｂ、Ｚ^３ｂ、Ｚ^１ｃ及びＺ^２ｃはそれぞれ独立して前記Ｚ^１と同義であり、
Ｒ^１ａ、Ｒ^２ａ、Ｒ^１ｂ、Ｒ^２ｂ、Ｒ^３ｂ、Ｒ^１ｃ及びＲ^２ｃはそれぞれ独立して前記Ｒ^１と同義であるが、Ｒ^１ａ及びＲ^２ｂのうちの少なくとも一つ、Ｒ^１ｂ、Ｒ^２ｂ及びＲ^３ｂのうちの少なくとも一つ、並びに、Ｒ^１ｃ及びＲ^２ｃのうちの少なくとも一つは前記重合性基であり、
Ｘ^１ａ、Ｘ^２ａ及びＸ^１ｂはそれぞれ独立して－Ｏ－又は－Ｓ－を表し、
ｎ^１ａ、ｎ^２ａ、ｎ^１ｂ、ｎ^２ｂ、ｎ^３ｂ、ｎ^１ｃ及びｎ^２ｃはそれぞれ独立して０～３の整数を表し、
Ａ^１ａ、Ａ^２ａ、Ａ^１ｂ、Ａ^２ｂ、Ａ^３ｂ、Ａ^１ｃ、Ａ^２ｃ、Ｚ^１ａ、Ｚ^２ａ、Ｚ^１ｂ、Ｚ^２ｂ、Ｚ^３ｂ、Ｚ^１ｃ及びＺ^２ｃが複数存在する場合、複数のＡ^１ａ、Ａ^２ａ、Ａ^１ｂ、Ａ^２ｂ、Ａ^３ｂ、Ａ^１ｃ、Ａ^２ｃ、Ｚ^１ａ、Ｚ^２ａ、Ｚ^１ｂ、Ｚ^２ｂ、Ｚ^３ｂ、Ｚ^１ｃ及びＺ^２ｃは、それぞれ、互いに同一であっても異なっていてもよい。
ただし、式中で酸素原子と酸素原子が直接結合することはない。］
で表される化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物を含む、［１］～［４］のいずれかに記載の液晶組成物。

【0013】

［６］
非重合性の色素化合物を更に含有する、［１］～［５］のいずれかに記載の液晶組成物。

【0014】

［７］
前記非重合性液晶化合物が、下記式（３）

【化6】

［式（３）中、
Ｒ^１１は炭素原子数１～１０のアルキル基（この基中に存在する水素原子はフッ素原子に置き換えられてもよく、この基中に存在する１個の－ＣＨ_２－又は隣接していない２個以上の－ＣＨ_２－はそれぞれ独立して、－ＣＨ＝ＣＨ－、－Ｃ≡Ｃ－、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－又は－ＯＣＯ－に置き換えられてもよい。）を表し、
Ｒ^１２はハロゲン原子、シアノ基、イソチオシアネート基又は炭素原子数１～１０のアルキル基（該アルキル基中に存在する水素原子はフッ素原子に置き換えられてもよく、該アルキル基中に存在する１個の－ＣＨ_２－又は隣接していない２個以上の－ＣＨ_２－はそれぞれ独立して、－ＣＨ＝ＣＨ－、－Ｃ≡Ｃ－、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－又は－ＯＣＯ－に置き換えられてもよい。）を表し、
Ａ^１１、Ａ^１２及びＡ^１３はそれぞれ独立して
（ａ３）１，４－シクロヘキシレン基（この基中に存在する１個の－ＣＨ_２－又は隣接していない２個以上の－ＣＨ_２－は－Ｏ－に置き換えられてもよい。）、
（ｂ３）１，４－フェニレン基（この基中に存在する１個の－ＣＨ＝又は隣接していない２個以上の－ＣＨ＝は－Ｎ＝に置き換えられてもよい。）及び
（ｃ３）１，４－シクロヘキセニル基、テトラヒドロピラン－２，５－ジイル基、１，３－ジオキサン－２，５－ジイル基、デカヒドロナフタレン－２，６－ジイル基、ピリジン－２，５－ジイル基、ピリミジン－２，５－ジイル基、ピラジン－２，５－ジイル基、ナフタレン－２，６－ジイル基、１，２，３，４－テトラヒドロナフタレン－２，６－ジイル基（ナフタレン－２，６－ジイル基及び１，２，３，４－テトラヒドロナフタレン－２，６－ジイル基中に存在する１個の－ＣＨ＝又は隣接していない２個以上の－ＣＨ＝は－Ｎ＝に置き換えられてもよい。）
からなる群より選ばれる基を表し、前記の基（ａ３）、基（ｂ３）及び基（ｃ３）中に存在する水素原子はそれぞれ独立して、シアノ基、メチル基、トリフルオロメチル基、トリフルオロメチルオキシ基、フッ素原子又は塩素原子に置き換えられてもよく、
Ｚ^１１及びＺ^１２はそれぞれ独立して、単結合、－ＣＨ_２ＣＨ_２－、－（ＣＨ_２）_４－、－ＯＣＨ_２－、－ＣＨ_２Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＯＣＦ_２－、－ＣＦ_２Ｏ－、－ＣＨ＝Ｎ－Ｎ＝ＣＨ－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＦ＝ＣＦ－又は－Ｃ≡Ｃ－を表し、
ｎ^１１は０～３の整数を表し、
Ａ^１１及びＺ^１１が複数存在する場合、複数のＡ^１１は互いに同一であっても異なっていてもよく、複数のＺ^１１は互いに同一であっても異なっていてもよい。
ただし、式中で酸素原子と酸素原子が直接結合することはない。］
で表される化合物を含む、［１］～［６］のいずれかに記載の液晶組成物。

【0015】

［８］
前記式（３）で表される化合物が、トラン骨格を有する化合物を含む、［７］に記載の液晶組成物。

【0016】

［９］
下記式（１－２）

【化7】

［式中、
Ａ^１ｂ、Ａ^２ｂ及びＡ^３ｂはそれぞれ独立して
（ａ）１，４－シクロへキシレン基（この基中に存在する１個の－ＣＨ_２－又は隣接していない２個以上の－ＣＨ_２－はそれぞれ独立して－Ｏ－又は－Ｓ－に置き換えられてもよく、この基中に存在する－ＣＨ＝は－Ｎ＝に置き換えられてもよい。）、
（ｂ）１，４－フェニレン基（この基中に存在する１個の－ＣＨ＝又は隣接していない２個以上の－ＣＨ＝は－Ｎ＝に置き換えられてもよい。）、
（ｃ）１，４－シクロヘキセニレン基、ビシクロ［２．２．２］オクタン－１，４－ジイル基、ナフタレン－２，６－ジイル基、ナフタレン－１，４－ジイル基、１，２，３，４－テトラヒドロナフタレン－２，６－ジイル基、５，６，７，８－テトラヒドロナフタレン－１，４－ジイル基、デカヒドロナフタレン－２，６－ジイル基、アントラセン－２，６－ジイル基、アントラセン－１，４－ジイル基、アントラセン－９，１０－ジイル基、フェナントレン－２，７－ジイル基（ナフタレン－２，６－ジイル基、ナフタレン－１，４－ジイル基、１，２，３，４－テトラヒドロナフタレン－２，６－ジイル基、５，６，７，８－テトラヒドロナフタレン－１，４－ジイル基、アントラセン－２，６－ジイル基、アントラセン－１，４－ジイル基、アントラセン－９，１０－ジイル基及びフェナントレン－２，７－ジイル基中に存在する１個の－ＣＨ＝又は隣接していない２個以上の－ＣＨ＝は－Ｎ＝に置き換えられてもよい。）及び
（ｄ）チオフェン－２，５－ジイル基、チオフェン－２，４－ジイル基、ベンゾチオフェン－２，５－ジイル基、ベンゾチオフェン－２，６－ジイル基、ジベンゾチオフェン－３，７－ジイル基、ジベンゾチオフェン－２，６－ジイル基、又はチエノ［３，２－ｂ］チオフェン－２，５－ジイル基（これらの基中に存在する１個の－ＣＨ＝又は隣接していない２個以上の－ＣＨ＝は－Ｎ＝に置き換えられてもよい。）
からなる群より選ばれる基、又は単結合を表し、前記の基（ａ）、基（ｂ）、基（ｃ）及び基（ｄ）中に存在する水素原子はそれぞれ独立して、メチル基、エチル基、プロピル基、２－プロピル基、ブチル基、２－ブチル基、メトキシ基、エトキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、シアノ基、ニトロ基、フッ素原子又は塩素原子に置き換えられていてもよく、
Ｚ^１ｂ、Ｚ^２ｂ及びＺ^３ｂはそれぞれ独立して、炭素原子数１～２０の直鎖状若しくは分岐状アルキレン基、炭素原子数２～３０の直鎖状若しくは分岐状アルケニレン基、－ＣＨ_２Ｏ－、－ＯＣＨ_２－、－ＣＦ_２Ｏ－、－ＯＣＦ_２－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－Ｎ＝ＣＨ－、－ＣＨ＝Ｎ－、－Ｎ＝Ｎ－、－Ｃ≡Ｃ－又は単結合を表し、当該アルキレン基及びアルケニレン基中に存在する水素原子はフッ素原子に置換されてもよく、
Ｒ^１ｂ、Ｒ^２ｂ及びＲ^３ｂはそれぞれ独立して、水素原子、炭素原子数１～３０の非重合性基又は炭素原子数０～２０の重合性基を表すが、Ｒ^１ｂ、Ｒ^２ｂ及びＲ^３ｂのうちの少なくとも一つは前記重合性基であり、
Ｘ^１ｂは－Ｏ－又は－Ｓ－を表し、
ｎ^１ｂ、ｎ^２ｂ及びｎ^３ｂはそれぞれ独立して０～３の整数を表し、
Ａ^１ｂ、Ａ^２ｂ、Ａ^３ｂ、Ｚ^１ｂ、Ｚ^２ｂ及びＺ^３ｂが複数存在する場合、複数のＡ^１ｂ、Ａ^２ｂ、Ａ^３ｂ、Ｚ^１ｂ、Ｚ^２ｂ及びＺ^３ｂは、それぞれ、互いに同一であっても異なっていてもよい。
ただし、式中で酸素原子と酸素原子が直接結合することはない。］
で表される色素化合物。

【0017】

［１０］
［１］～［８］のいずれかに記載の液晶組成物から形成される液晶層であって、
前記重合性化合物由来のポリマーネットワークと、前記非重合性液晶化合物とを含む、液晶層。

【0018】

［１１］
一対の透明電極基板と、
前記一対の透明電極基板の間に配された［１０］に記載の液晶層と、を有する調光素子。

【発明の効果】

【0019】

本発明によれば、電圧無印加時に十分な遮光性を有し、熱による遮光性の低下を起こし難い液晶層を提供することができる。また、本発明によれば、上記液晶層を形成するための液晶組成物を提供することができる。また、本発明によれば、上記液晶組成物を用いた調光素子を提供することができる。また、本発明によれば、上記液晶組成物に用いられる新規な色素化合物を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【0020】

【図1】一実施形態に係る液晶素子を示す模式断面図である。

【発明を実施するための形態】

【0021】

以下、本発明の好適な実施形態について説明する。ただし、本発明は下記実施形態に何ら限定されるものではない。

【0022】

＜液晶組成物＞
本発明の一実施形態は、重合性化合物と、重合開始剤と、非重合性液晶化合物と、を含有し、該重合性化合物が、３７０～７８０ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する第１の重合性化合物と、３７０～７８０ｎｍの範囲に極大吸収波長を有しない第２の重合性化合物と、を含む、液晶組成物である。ここで、第１の重合性化合物は３７０～７８０ｎｍの範囲に極大吸収波長を有することから色素化合物ということができる。

【0023】

上記液晶組成物中の重合性化合物は、重合して液晶成分を分散するポリマーネットワークを構成する。上記液晶組成物によれば、重合性化合物を重合させることにより、高分子分散型（ポリマーネットワーク型）液晶を形成することができる。したがって、上記液晶組成物は、高分子分散型（ポリマーネットワーク型）液晶形成性組成物ということができる。また、上記液晶組成物は、ホストとなる非重合性液晶化合物とゲストとなる色素化合物（３７０～７８０ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する化合物）とを含有することから、ゲスト－ホスト（ＧＨ）型液晶材料ということもできる。

【0024】

上記液晶組成物によれば、電圧無印加時に十分な遮光性を有し、熱による遮光性の低下を起こし難い液晶層を形成することができる。したがって、上記液晶組成物は、スマートウィンドウ等の調光素子用途に好適に用いられる。また、上記液晶組成物により形成される液晶層は、透過率のコントラストにも優れる傾向がある。

【0025】

以下、液晶組成物に含有される成分について説明する。以下では、液晶組成物に含有される成分のうち、重合性化合物からなる成分を「重合性成分」といい、液晶化合物からなる成分を「液晶成分」という。

【0026】

（重合性成分）
重合性成分は、３７０～７８０ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する第１の重合性化合物と、３７０～７８０ｎｍの範囲に極大吸収波長を有しない第２の重合性化合物とを含む。

【0027】

［第１の重合性化合物］
第１の重合性化合物は、重合性基を１又は２以上有する色素化合物（重合性色素）である。重合性基は、ラジカル重合性基であってよく、カチオン重合性基であってもよく、アニオン重合性基であってもよい。重合性基の炭素原子数は、例えば、０～２０であってよい。重合性基の具体例としては、下記式（Ｐ－１）～（Ｐ－２１）で表される基が挙げられる。

【化8】

【0028】

式（Ｐ－１）～（Ｐ－２１）中の＊は、炭素原子又は他の原子との結合手を示す。式中、ビニル基に結合しているメチル基中の水素原子は１個又は２個以上のフッ素原子により置換されていてもよい。

【0029】

第１の重合性化合物が有する重合性基は１種であっても２種以上であってもよい。

【0030】

第１の重合性化合物は、重合性及び保存安定性を高める観点では、式（Ｐ－１）、（Ｐ－２）、（Ｐ－３）、（Ｐ－１８）、及び式（Ｐ－２１）で表わされる基からなる群より選ばれる少なくとも１種の基を有することが好ましく、式（Ｐ－１）及び式（Ｐ－２）からなる群より選ばれる少なくとも１種の基を有することがより好ましい。

【0031】

第１の重合性化合物は、３７０～７８０ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する。第１の重合性化合物は、３７０ｎｍ超、かつ、７５０ｎｍ以下、６００ｎｍ以下又は５００ｎｍ以下の範囲に極大吸収波長を有する化合物であってもよい。黒色など所望の色に調整する観点では、第１の重合性化合物として、極大吸収波長の異なる２種以上の化合物を用いることが好ましい。中でも、３７０ｎｍ超５００ｎｍ以下の範囲に極大吸収波長を有する化合物（黄色色素）、５００ｎｍ超６００ｎｍ以下の範囲に極大吸収波長を有する化合物（赤色色素）及び６００ｎｍ超７５０ｎｍ以下の範囲に極大吸収波長を有する化合物（青色色素）からなる群より選ばれる２種以上の化合物を用いることがより好ましく、これらの３種の化合物全てを用いることがさらに好ましい。液晶組成物に含まれる第１の重合性化合物の種類は、６種以下（例えば１～６種又は２～６種）であってよく、５種以下又は４種以下であってもよい。

【0032】

極大吸収波長の測定方法は、次の通りである。
まず、第１の重合性化合物を溶解することができる任意の液晶組成物１００質量部に対して、第１の重合性化合物を１．０質量部添加して溶解させて試料を調製する。
次に、ＩＴＯ電極を有し、当該ＩＴＯ電極上に水平配向用配向膜を備えた２ｃｍ×２ｃｍのガラス基板を２枚用いて、ＩＴＯ電極層をセルの内側として、プラスチック粒子によりセル厚１０μｍに調整した注入口を備えたセルを作製する。
当該セルに、試料を注入し、注入口を封止材で塞ぐことにより、素子を作製する。
次に、スペクトルメーター（大塚電子社製「ＬＣＤ－５２００」や日立ハイテクサイエンス社製「Ｕ－４１００」）を用いて、２５℃、電圧無印加の条件下、作製した素子を用いて、３７０～７５０ｎｍの間の吸収スペクトルを測定することにより、第１の重合性化合物の極大吸収波長を求めることができる。

【0033】

第１の重合性化合物は、例えば、アントラキノン骨格、アゾ骨格、キノフタロン骨格、ジケトピロロピロール骨格、ベンゾチアジアゾール骨格、ペリレン骨格、クマリン骨格、キナクリドン骨格、ポルフィリン骨格等の骨格を有する化合物であってよい。これらの中でも、アントラキノン骨格を有する化合物はラジカル耐性に優れる。そのため、液晶組成物が第１の重合性化合物としてアントラキノン骨格を有する化合物を含む場合、液晶層の耐光性が向上する傾向がある。

【0034】

第１の重合性化合物としては、遮光性及び耐熱性をより高める観点から、下記式（１）で表される化合物（以下、「化合物（１）」ともいう。）を用いることが好ましい。なお、下記式（１）中のＡ^１、Ａ^２、Ｚ^１、Ｚ^２、Ｘ^１、Ｘ^２、Ｒ^１、Ｒ^２、ｎ^１及びｎ^２が複数存在する場合、複数のＡ^１、Ａ^２、Ｚ^１、Ｚ^２、Ｘ^１、Ｘ^２、Ｒ^１、Ｒ^２、ｎ^１及びｎ^２は、それぞれ、互いに同一であっても異なっていてもよい。また、式（１）中で酸素原子と酸素原子が直接結合することはない。

【化9】

【0035】

式（１）中、Ａ^１及びＡ^２はそれぞれ独立して下記の基（ａ）、基（ｂ）、基（ｃ）及び基（ｄ）からなる群より選ばれる基又は単結合を表す。

【0036】

（ａ）１，４－シクロへキシレン基（この基中に存在する１個の－ＣＨ_２－又は隣接していない２個以上の－ＣＨ_２－はそれぞれ独立して－Ｏ－又は－Ｓ－に置き換えられてもよく、この基中に存在する－ＣＨ＝は－Ｎ＝に置き換えられてもよい。）

【0037】

（ｂ）１，４－フェニレン基（この基中に存在する１個の－ＣＨ＝又は隣接していない２個以上の－ＣＨ＝は－Ｎ＝に置き換えられてもよい。）

【0038】

（ｃ）１，４－シクロヘキセニレン基、ビシクロ［２．２．２］オクタン－１，４－ジイル基、ナフタレン－２，６－ジイル基、ナフタレン－１，４－ジイル基、１，２，３，４－テトラヒドロナフタレン－２，６－ジイル基、５，６，７，８－テトラヒドロナフタレン－１，４－ジイル基、デカヒドロナフタレン－２，６－ジイル基、アントラセン－２，６－ジイル基、アントラセン－１，４－ジイル基、アントラセン－９，１０－ジイル基、フェナントレン－２，７－ジイル基（ナフタレン－２，６－ジイル基、ナフタレン－１，４－ジイル基、１，２，３，４－テトラヒドロナフタレン－２，６－ジイル基、５，６，７，８－テトラヒドロナフタレン－１，４－ジイル基、アントラセン－２，６－ジイル基、アントラセン－１，４－ジイル基、アントラセン－９，１０－ジイル基及びフェナントレン－２，７－ジイル基中に存在する１個の－ＣＨ＝又は隣接していない２個以上の－ＣＨ＝は－Ｎ＝に置き換えられてもよい。）

【0039】

（ｄ）チオフェン－２，５－ジイル基、チオフェン－２，４－ジイル基、ベンゾチオフェン－２，５－ジイル基、ベンゾチオフェン－２，６－ジイル基、ジベンゾチオフェン－３，７－ジイル基、ジベンゾチオフェン－２，６－ジイル基、又はチエノ［３，２－ｂ］チオフェン－２，５－ジイル基（これらの基中に存在する１個の－ＣＨ＝又は隣接していない２個以上の－ＣＨ＝は－Ｎ＝に置き換えられてもよい。）

【0040】

基（ａ）、基（ｂ）、基（ｃ）及び基（ｄ）中に存在する水素原子はそれぞれ独立して、メチル基、エチル基、プロピル基、２－プロピル基、ブチル基、２－ブチル基、メトキシ基、エトキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、シアノ基、ニトロ基、フッ素原子又は塩素原子に置き換えられていてもよい。

【0041】

基（ａ）は例えば下記式（ａ１）～（ａ５）で表される基からなる群より選ばれる基であってよい。波線はＸ側の結合手を示し、＊はＲ側の結合手を示す。なお、Ｘ側とは、Ａ^１の場合はＸ^１側を意味し、Ａ^２の場合はＸ^２側を意味する。また、Ｒ側とは、Ａ^１の場合はＲ^１側を意味し、Ａ^２の場合はＲ^２側を意味する。

【化10】

【0042】

基（ｂ）は例えば下記式（ｂ１）～（ｂ１１）で表される基からなる群より選ばれる基であってよい。波線はＸ側の結合手を示し、＊はＲ側の結合手を示す。

【化11】

【0043】

式（ｂ２）～（ｂ６）中のＲ^ｅはメチル基、エチル基、プロピル基（１－プロピル基）、２－プロピル基、ブチル基、２－ブチル基、メトキシ基、エトキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、シアノ基、ニトロ基、フッ素原子又は塩素原子を表す。Ｒ^ｅが複数存在する場合、複数のＲ^ｅは互いに同一の基であってもよく、異なる基であってもよい。

【0044】

基（ｃ）は例えば下記式（ｃ１）～（ｃ１４）で表される基からなる群より選ばれる基であってよい。波線はＸ側の結合手を示し、＊はＲ側の結合手を示す。

【化12】

【0045】

基（ｄ）は例えば下記式（ｄ１）～（ｄ１０）で表される基からなる群より選ばれる基であってよい。式（ｄ８）～（ｄ１０）中のＲ^ｅは上記と同義である。波線はＸ側の結合手を示し、＊はＲ側の結合手を示す。

【化13】

【0046】

溶解性を高める観点では、Ａ^１及びＡ^２が、基（ａ）及び基（ｂ）からなる群より選ばれる基であることが好ましく、基（ｂ）であることがより好ましい。中でも、Ａ^１及びＡ^２がそれぞれ独立して、下記式（ｂ－１）で表される構造の基であることが好ましく、下記式（ｂ－２）又は下記式（ｂ－３）で表される構造の基であることがより好ましく、Ａ^１及びＡ^２の両方が下記式（ｂ－２）で表される構造の基であることが特に好ましい。波線はＸ側の結合手を示し、＊はＲ側の結合手を示す。

【化14】

【0047】

式（ｂ－１）中、Ｒ^ｉ１及びＲ^ｉ２はそれぞれ独立して、水素原子又はメチル基を表す。

【0048】

Ｚ^１及びＺ^２はそれぞれ独立して、単結合、－Ｎ＝ＣＨ－、－ＣＨ＝Ｎ－、－Ｎ＝Ｎ－、－Ｃ≡Ｃ－、炭素原子数１～２０の直鎖状若しくは分岐状アルキレン基、又は炭素原子数２～３０の直鎖状若しくは分岐状アルケニレン基を表す。アルキレン基及びアルケニレン基中の１個又は２個以上の－ＣＨ_２－は－Ｏ－、－ＣＯＯ－又は－ＯＣＯ－に置換されてもよく、アルキレン基及びアルケニレン基中に存在する水素原子はフッ素原子に置換されてもよい。

【0049】

Ｚ^１及びＺ^２は、合成難易度及び溶解性の観点から、炭素原子数１～２０の直鎖状若しくは分岐状アルキレン基、又は、単結合であることが好ましい。アルキレン基は、合成難易度の観点から、直鎖状であることが好ましい。アルキレン基の炭素原子数は、溶解性の観点から、好ましくは２～１２であり、より好ましくは２～８である。アルキレン基は、無置換であるか、１個の－ＣＨ_２－が－Ｏ－に置換されていることが好ましい。アルキレン基としては、例えば、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、ヘプチレン基及びオクチレン基等が挙げられる。これらの中でも、ブチレン基、ペンチレン基及びヘキシレン基からなる群より選ばれる基が好ましい。

【0050】

Ｒ^１及びＲ^２はそれぞれ独立して、水素原子、炭素原子数１～３０の非重合性基又は炭素原子数０～２０の重合性基を表す。ただし、Ｒ^１及びＲ^２のうちの少なくとも一つは炭素原子数０～２０の重合性基である。なお、Ｒ^１及びＲ^２が複数存在する場合、複数のＲ^１のうちの一つ、又は、複数のＲ^２のうちの一つが炭素原子数０～２０の重合性基であればよい。

【0051】

非重合性基は、例えば、炭素原子数１～２０の直鎖状若しくは分岐状アルキル基、又は炭素原子数２～３０の直鎖状若しくは分岐状アルケニル基であってよい。これらの基（アルキル基及びアルケニル基）中に存在する１個の－ＣＨ_２－又は隣接していない２個以上の－ＣＨ_２－はそれぞれ独立して－ＮＲ^４－、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＦ＝ＣＦ－又は－Ｃ≡Ｃ－により置き換えられてもよい。また、これらの基中に存在する水素原子はフッ素原子に置換されてもよい。

【0052】

上記Ｒ^４は水素原子、炭素原子数１～２０のアルキル基又は炭素原子数２～３０のアルケニル基を表す。これらの基（アルキル基及びアルケニル基）中に存在する１個の－ＣＨ_２－又は隣接していない２個以上の－ＣＨ_２－はそれぞれ独立して－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－又は－ＣＯ－により置き換えられてもよい。また、これらの基中に存在する水素原子はフッ素原子に置換されてもよい。Ｒ^４が複数存在する場合、複数のＲ^４は、互いに同一であっても異なっていてもよい。

【0053】

非重合性基は、溶解性を高める観点から、炭素原子数１～２０の直鎖状若しくは分岐状アルキル基であることが好ましく、炭素原子数１～２０の無置換の直鎖状若しくは分岐状アルキル基であることがより好ましい。アルキル基は、直鎖状であることが好ましい。アルキル基の炭素原子数は、好ましくは２～１６であり、より好ましくは４～１２である。なお、上記炭素数は、アルキル基中の一部が上述したいずれかの基に置き換えられている場合には、置換基中の炭素原子数を含めた総炭素原子数を意味する。

【0054】

炭素原子数１～２０の無置換のアルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基等が挙げられる。

【0055】

Ｒ^１が水素原子又は重合性基である場合、Ｒ^１に直接結合するＺ^１は、炭素原子数１～２０の直鎖状若しくは分岐状アルキレン基であってよく、Ｒ^１が非重合性基である場合、Ｒ^１に直接結合するＺ^１は、単結合であってよい。同様に、Ｒ^２が水素原子又は重合性基である場合、Ｒ^２に直接結合するＺ^２は、炭素原子数１～２０の直鎖状若しくは分岐状アルキレン基であってよく、Ｒ^２が非重合性基である場合、Ｒ^２に直接結合するＺ^２は、単結合であってよい。

【0056】

Ｘ^１及びＸ^２はそれぞれ独立して、－Ｏ－、－Ｓ－又は－ＮＹ－を表す。

【0057】

Ｙは下記式（２）で表される基である。

【化15】

【0058】

式（２）中、Ａ^３及びＺ^３は、それぞれ上記Ａ^１及び上記Ｚ^１と同義であり、Ｒ^３は水素原子又は炭素原子数１～３０の非重合性基を表し、＊は窒素原子との結合手を示す。非重合性基の例は、上記Ｒ^１で表される非重合性基の例と同じである。式（２）中のＡ^３、Ｚ^３Ｒ^３及びｎ^３が複数存在する場合、複数のＡ^３、Ｚ^３Ｒ^３及びｎ^３は、それぞれ、互いに同一であっても異なっていてもよい。

【0059】

ｎ^１、ｎ^２及びｎ^３はそれぞれ独立して０～３の整数を表す。溶解性の観点では、ｎ^１、ｎ^２及びｎ^３はそれぞれ独立して０又は１であることが好ましい。

【0060】

ｍ^１及びｍ^２はそれぞれ独立して０～４の整数を表す。ただし、ｍ^１＋ｍ^２は１以上である。溶解性の観点では、ｍ^１及びｍ^２はそれぞれ独立して０～２であることが好ましく、ｍ^１＋ｍ^２は２～３であることが好ましい。

【0061】

遮光性を高める観点では、化合物（１）として、下記式（１－１）～（１－３）で表される化合物（以下、「化合物（１－１）」、「化合物（１－２）」及び「化合物（１－３）」ともいう。）からなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物を用いることが好ましく、遮光性をより高める観点では、化合物（１－１）、化合物（１－２）及び化合物（１－３）からなる群より選ばれる少なくとも２種以上の化合物を用いることがより好ましい。

【化16】

【化17】

【化18】

【0062】

式中、Ａ^１ａ、Ａ^２ａ、Ａ^１ｂ、Ａ^２ｂ、Ａ^３ｂ、Ａ^１ｃ及びＡ^２ｃはそれぞれ独立して上記式（１）中のＡ^１と同義であり、Ｚ^１ａ、Ｚ^２ａ、Ｚ^１ｂ、Ｚ^２ｂ、Ｚ^３ｂ、Ｚ^１ｃ及びＺ^２ｃはそれぞれ独立して上記式（１）中のＺ^１と同義であり、Ｒ^１ａ、Ｒ^２ａ、Ｒ^１ｂ、Ｒ^２ｂ、Ｒ^３ｂ、Ｒ^１ｃ及びＲ^２ｃはそれぞれ独立して上記式（１）中のＲ^１と同義であるが、Ｒ^１ａ及びＲ^２ｂのうちの少なくとも一つ、Ｒ^１ｂ、Ｒ^２ｂ及びＲ^３ｂのうちの少なくとも一つ、並びに、Ｒ^１ｃ及びＲ^２ｃのうちの少なくとも一つは炭素原子数０～２０の重合性基であり、Ｘ^１ａ、Ｘ^２ａ及びＸ^１ｂはそれぞれ独立して－Ｏ－又は－Ｓ－を表し、ｎ^１ａ、ｎ^２ａ、ｎ^１ｂ、ｎ^２ｂ、ｎ^３ｂ、ｎ^１ｃ及びｎ^２ｃはそれぞれ独立して０～３の整数を表し、Ａ^１ａ、Ａ^２ａ、Ａ^１ｂ、Ａ^２ｂ、Ａ^３ｂ、Ａ^１ｃ、Ａ^２ｃ、Ｚ^１ａ、Ｚ^２ａ、Ｚ^１ｂ、Ｚ^２ｂ、Ｚ^３ｂ、Ｚ^１ｃ及びＺ^２ｃが複数存在する場合、複数のＡ^１ａ、Ａ^２ａ、Ａ^１ｂ、Ａ^２ｂ、Ａ^３ｂ、Ａ^１ｃ、Ａ^２ｃ、Ｚ^１ａ、Ｚ^２ａ、Ｚ^１ｂ、Ｚ^２ｂ、Ｚ^３ｂ、Ｚ^１ｃ及びＺ^２ｃは、それぞれ、互いに同一であっても異なっていてもよい。ただし、式中で酸素原子と酸素原子が直接結合することはない。

【0063】

〔化合物（１－１）〕
化合物（１－１）は、３７０ｎｍ超５００ｎｍ以下の範囲に極大吸収波長を有する傾向がある。そのため、化合物（１－１）は、黄色色素として用いられ得る。

【0064】

化合物（１－１）は、極大吸収波長の観点から、下記式（１－１－１）で表される化合物であることが好ましく、下記式（１－１－１ａ）で表される化合物であることがより好ましい。

【化19】

【化20】

【0065】

式（１－１－１）中のＺ^１ａ、Ｚ^２ａ、Ｒ^１ａ、Ｒ^２ａ、Ｘ^１ａ及びＸ^２ａは、それぞれ、上記式（１－１）中のＺ^１ａ、Ｚ^２ａ、Ｒ^１ａ、Ｒ^２ａ、Ｘ^１ａ及びＸ^２ａと同義である。

【0066】

化合物（１－１）は、１種を単独で用いてよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

【0067】

化合物（１－１）の含有量は、例えば、第１の重合性化合物の総量１００質量部に対して、５～９０質量部、１０～６０質量部又は１５～４５質量部であってよい。

【0068】

化合物（１－１）は、公知化合物であるか、又は公知化合物から公知の製法に準じて製造することができる。化合物（１－１）は、例えば、原料化合物として、下記式（ｘ１－１）で表される化合物（１，５－ジヒドロキシアントラセン－９，１０－ジオン）と、下記式（ｙ１－１）及び式（ｙ１－２）で表される化合物（以下、「化合物（ｙ１－１）」及び「化合物（ｙ１－２）」ともいう。）とを用い、これらの原料化合物を反応させて化合物（１－１）を得る工程（１ａ）を含む方法により得ることができる。

【化21】

【化22】

【0069】

ここで、式中のＡ^１ａ、Ａ^２ａ、Ｚ^１ａ、Ｚ^２ａ、Ｒ^１ａ、Ｒ^２ａ、Ｘ^１ａ、Ｘ^２ａ、ｎ^１ａ及びｎ^２ａは式（１－１）中のＡ^１ａ、Ａ^２ａ、Ｚ^１ａ、Ｚ^２ａ、Ｒ^１ａ、Ｒ^２ａ、Ｘ^１ａ、Ｘ^２ａ、ｎ^１ａ及びｎ^２ａと同義である。なお、化合物（ｙ１－１）と化合物（ｙ１－２）とは互いに同一であってもよい。

【0070】

工程（１ａ）で行われる反応及び後処理の条件は、原料化合物の構造等に応じて適宜設定することができる。工程（１ａ）では、例えば、１，５－ジヒドロキシアントラセン－９，１０－ジオンと化合物（ｙ１－１）と化合物（ｙ１－２）とトリフェニルホスフィンとを含む混合物中にアゾジカルボン酸ジイソプロピルを滴下し攪拌することで原料化合物を反応させ、化合物（１－１）を得ることができる。混合物中には必要に応じて、溶媒を含めることができる。溶媒としては、例えば、テトラヒドロフラン、１，４－ジオキサン、トルエン、ベンゼン、クロロホルム、ジクロロメタン、アセトニトリル等が挙げられる。これらの溶媒は２種以上を併用してもよい。アゾジカルボン酸ジイソプロピルの滴下は氷冷下で行ってよい。アゾジカルボン酸ジイソプロピルを滴下した後の攪拌は室温（例えば０～４０℃）で行ってよい。攪拌時間は、例えば、１～４８時間であってよい。後処理は、例えば、反応後の混合物から化合物（１－１）を含む有機層を分液操作により抽出すること、抽出した有機層を洗浄すること、洗浄後の有機層を乾燥させること等を含む方法によって行うことができる。分液操作は、例えば、水、ジクロロメタン等、及びこれらの混合溶媒を反応後の混合物に添加することによって行うことができる。有機層の洗浄は、例えば、メタノール、エタノール、水等を用いて行うことができる。有機層の乾燥は、例えば、無水硫酸ナトリウム等の乾燥材を有機層に加えること、有機層から乾燥材をろ過した後、ろ液を減圧乾燥すること等により行うことができる。後処理は、精製処理を含んでいてもよい。精製処理は、例えば、シリカゲルカラムクロマトグラフィーを用いて行ってよい。ジクロロメタン、メタノール、及びこれらの混合溶媒等を用いた再沈殿による精製処理を行ってもよい。

【0071】

〔化合物（１－２）〕
化合物（１－２）は、５００ｎｍ超６００ｎｍ以下の範囲に極大吸収波長を有する傾向がある。そのため、化合物（１－２）は、赤色色素として用いられ得る。

【0072】

化合物（１－２）は、極大吸収波長の観点から、下記式（１－２－１）で表される化合物であることが好ましく、下記式（１－２－１ａ）で表される化合物であることがより好ましい。

【化23】

【化24】

【0073】

式（１－２－１）中のＺ^１ｂ、Ｒ^１ｂ、Ｒ^２ｂ、Ｒ^３ｂ及びＸ^１ｂは、それぞれ、上記式（１－２）中のＺ^１ｂ、Ｒ^１ｂ、Ｒ^２ｂ、Ｒ^３ｂ及びＸ^１ｂと同義である。

【0074】

化合物（１－２）は、１種を単独で用いてよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

【0075】

化合物（１－２）の含有量は、例えば、第１の重合性化合物の総量１００質量部に対して、５～９０質量部、１０～６０質量部又は１５～４５質量部であってよい。

【0076】

化合物（１－２）は、例えば、次に示す工程（１ｂ）～（３ｂ）を含む方法によって製造することができる。

【0077】

工程（１ｂ）は、原料化合物として、下記式（ｘ２－１）で表される化合物（以下、「化合物（ｘ２－１）」ともいう。）と、下記式（ｙ２－１）で表される化合物（以下、「化合物（ｙ２－１）」ともいう。）とを用い、これらの原料化合物を反応させて、下記式（ｘ２－２）で表される化合物（以下、「化合物（ｘ２－２）」ともいう。）を得る工程である。

【化25】

【化26】

【化27】

【0078】

ここで、式中のＡ^３ｂ、Ｚ^３ｂ、Ｒ^３ｂ及びｎ^３ｂは式（１－２）中のＡ^３ｂ、Ｚ^３ｂ、Ｒ^３ｂ及びｎ^３ｂと同義であり、Ｑ^２ｂ及びＱ^３ｂはそれぞれ独立してハロゲン原子を示す。ハロゲン原子は臭素原子であってよく、塩素原子であってもよい。

【0079】

工程（１ｂ）で行われる反応及び後処理の条件は、原料化合物の構造等に応じて適宜設定することができる。工程（１ｂ）では、例えば、化合物（ｘ２－１）と化合物（ｙ２－１）とを含む反応混合物中でこれらを反応させることによって化合物（ｘ２－２）を得ることができる。反応混合物中には必要に応じて、溶媒、塩基、及び触媒のうちいずれか１種以上をさらに含めることができる。溶媒としては、例えば、エチレングリコール、ノルマルブタノール、イソブタノール、ノルマルペンタノール、ノルマルヘキサノール、Ｎ－メチル－ピロリドン（ＮＭＰ）、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）、トルエン、１，４－ジオキサン、エチレングリコール、ジメチルスルホキシド、ジクロロメタン等が挙げられる。塩基としては、例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、ピリジン、トリエチルアミン、リン酸水素２ナトリウム等が挙げられる。触媒としては、例えば、塩化パラジウム、酢酸パラジウム、ビス（ジベンジリデンアセトン）パラジウム、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム、ビス（ジ－ｔｅｒｔ－ブチル（４－ジメチルアミノフェニル）ホスフィン）ジクロロパラジウム、銅粉、酢酸銅一水和物、塩化銅、臭化銅、ヨウ化銅、硫酸銅五水和物、塩化スズ等が挙げられる、これら溶媒、塩基及び触媒は２種以上を併用してもよい。反応混合物の温度（反応温度）は、例えば、１００℃以上であってよく、１００～１８０℃であってよい。当該反応温度に保持する時間（反応時間）は、例えば、１０分以上、又は４０分以上であってよく、１２０時間以下、又は８０時間以下であってよい。後処理は、例えば、反応混合物から化合物（ｘ２－２）を含む有機層を分液操作により抽出すること、抽出した有機層を洗浄すること、洗浄後の有機層を乾燥させること等を含む方法によって行うことができる。化合物（ｘ２－２）を含む有機層を抽出するための分液操作は、例えば、水、ＨＣｌ水溶液（例えば、１０ｗ／ｗ％ＨＣｌ水溶液）、トルエン、ジクロロメタン等、及びこれらの混合溶媒を反応混合物に添加することによって行うことができる。分液操作の後、有機層の洗浄の前に、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液等を用いて抽出した有機層を中和してもよい。有機層の洗浄は、例えば、飽和食塩水等を用いて行うことができる。有機層の乾燥は、例えば、無水硫酸ナトリウム等の乾燥材を有機層に加えること、有機層から乾燥材をろ過した後、ろ液を減圧乾燥すること等により行うことができる。後処理は、精製処理を含んでいてもよい。精製処理は、例えば、シリカゲルカラムクロマトグラフィーを用いて行ってよい。ジクロロメタン、ヘキサン、メタノール及びこれらの混合溶媒等を用いた再沈殿による精製処理を行ってもよい。

【0080】

工程（２ｂ）は、原料化合物として、化合物（ｘ２－２）と、下記式（ｙ２－２）で表される化合物（以下、「化合物（ｙ２－２）」ともいう。）とを用い、これらの原料化合物を反応させて、下記式（ｘ２－３）で表される化合物（以下、「化合物（ｘ２－３）」ともいう。）を得る工程である。

【化28】

【化29】

【0081】

ここで、式中のＡ^２ｂ、Ａ^３ｂ、Ｚ^２ｂ、Ｚ^３ｂ、Ｒ^２ｂ、Ｒ^３ｂ、Ｘ^１ｂ、ｎ^２ｂ及びｎ^３ｂは式（１－２）中のＡ^２ｂ、Ａ^３ｂ、Ｚ^２ｂ、Ｚ^３ｂ、Ｒ^２ｂ、Ｒ^３ｂ、Ｘ^１ｂ、ｎ^２ｂ及びｎ^３ｂと同義である。

【0082】

工程（２ｂ）で行われる反応及び後処理の条件は、原料化合物の構造等に応じて適宜設定することができる。工程（２ｂ）では、例えば、化合物（ｘ２－２）と化合物（ｙ２－２）とを含む反応混合物中でこれらを反応させることによって化合物（ｘ２－３）を得ることができる。反応混合物中には必要に応じて溶媒、塩基及び触媒のうちいずれか１種以上をさらに含めることができる。溶媒、塩基、触媒としては上記工程（１ｂ）で例示した各種の溶媒、塩基、及び触媒を用いることができる。反応は、窒素雰囲気下で行われてもよい。反応混合物の温度（反応温度）は、例えば、８０℃以上であってよく、８０～１６０℃であってよい。当該反応温度に保持する時間（反応時間）は、例えば、１時間以上、又は５時間以上であってよく、１～１０時間、又は５～８時間であってよい。後処理は、工程（１ｂ）と同様にして行ってよい。

【0083】

工程（３ｂ）は、原料化合物として、化合物（ｘ２－３）と、下記式（ｙ２－３）で表される化合物（以下、「化合物（ｙ２－３）」ともいう。）とを用い、これらの原料化合物を反応させて、化合物（１－２）を得る工程である。

【化30】

【0084】

ここで、式中のＡ^１ｂ、Ｚ^１ｂ、Ｒ^１ｂ及びｎ^１ｂは式（１－２）中のＡ^１ｂ、Ｚ^１ｂ、Ｒ^１ｂ及びｎ^１ｂと同義であり、Ｑ^１ｂはハロゲン原子を示す。ハロゲン原子は臭素原子であってよく、塩素原子であってもよい。

【0085】

工程（３ｂ）で行われる反応及び後処理の条件は、原料化合物の構造等に応じて適宜設定することができる。工程（３ｂ）では、例えば、化合物（ｘ２－３）と化合物（ｙ２－３）とを含む反応混合物中でこれらを反応させることによって化合物（１－２）を得ることができる。反応混合物中には必要に応じて、溶媒、塩基、及び触媒のうちいずれか１種以上をさらに含めることができる。溶媒、塩基、触媒としては上記工程（１ｂ）で例示した各種の溶媒、塩基、及び触媒を用いることができる。これら溶媒、塩基及び触媒は２種以上を併用してもよい。反応混合物の温度（反応温度）は、例えば、１００℃以上であってよく、１００～１８０℃であってよい。当該反応温度に保持する時間（反応時間）は、例えば、１０分以上、又は４０分以上であってよく、１２０時間以下、又は８０時間以下であってよい。後処理は、工程（１ｂ）と同様にして行ってよい。

【0086】

〔化合物（１－３）〕
化合物（１－３）は、６００ｎｍ超７５０ｎｍ以下の範囲に極大吸収波長を有する傾向がある。そのため、化合物（１－３）は、青色色素として用いられ得る。

【0087】

化合物（１－３）は、極大吸収波長の観点から、下記式（１－３－１）で表される化合物であることが好ましく、下記式（１－３－１ａ）で表される化合物であることがより好ましい。

【化31】

【化32】

【0088】

式（１－３－１）中のＺ^１ｃ、Ｚ^２ｃ、Ｒ^１ｃ及びＲ^２ｃは、それぞれ、上記式（１－３）中のＺ^１ｃ、Ｚ^２ｃ、Ｒ^１ｃ及びＲ^２ｃと同義である。

【0089】

化合物（１－３）は、１種を単独で用いてよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

【0090】

化合物（１－３）の含有量は、例えば、第１の重合性化合物の総量１００質量部に対して、５～９０質量部、１０～６０質量部又は１５～４５質量部であってよい。

【0091】

化合物（１－３）は、公知化合物であるか、又は公知化合物から公知の製法に準じて製造することができる。化合物（１－３）は、例えば、原料化合物として、下記式（ｘ３－１）で表される化合物（以下、「化合物（ｘ３－１）」ともいう。）と、下記式（ｙ３－１）及び式（ｙ３－２）で表される化合物（以下、「化合物（ｙ３－１）」及び「化合物（ｙ３－２）」ともいう。）とを用い、これらの原料化合物を反応させて、化合物（１－３）を得る工程（１ｃ）を含む方法により得ることができる。

【化33】

【化34】

【0092】

ここで、式中のＡ^１ｃ、Ａ^２ｃ、Ｚ^１ｃ、Ｚ^２ｃ、Ｒ^１ｃ、Ｒ^２ｃ、ｎ^１ｃ及びｎ^２ｃは式（１－３）中のＡ^１ｃ、Ａ^２ｃ、Ｚ^１ｃ、Ｚ^２ｃ、Ｒ^１ｃ、Ｒ^２ｃ、ｎ^１ｃ及びｎ^２ｃと同義であり、Ｑ^１ｃ及びＱ^２ｃはそれぞれ独立してハロゲン原子を示す。ハロゲン原子は臭素原子であってよく、塩素原子であってもよい。なお、化合物（ｙ３－１）と化合物（ｙ３－２）とは互いに同一であってもよい。

【0093】

工程（１ｃ）で行われる反応及び後処理の条件は、原料化合物の構造等に応じて適宜設定することができる。工程（１ｃ）では、例えば、化合物（ｘ３－１）と化合物（ｙ３－１）と化合物（ｙ３－２）とを含む反応混合物中でこれらを反応させることによって化合物（１－３）を得ることができる。反応混合物中には必要に応じて、溶媒、塩基、及び触媒のうちいずれか１種以上をさらに含めることができる。溶媒、塩基、触媒としては上記工程（１ｂ）で例示した各種の溶媒、塩基、及び触媒を用いることができる。これら溶媒、塩基及び触媒は２種以上を併用してもよい。反応混合物の温度（反応温度）は、例えば、１００℃以上であってよく、１００～１８０℃であってよい。当該反応温度に保持する時間（反応時間）は、例えば、１０分以上、又は４０分以上であってよく、１２０時間以下、又は８０時間以下であってよい。後処理は、例えば、化合物（１－３）を析出させること、析出した化合物（１－３）を洗浄すること、洗浄後の化合物（１－３）を乾燥（例えば、減圧乾燥）させること等を含む方法によって行うことができる。化合物（１－３）の析出は、例えば、メタノール、エタノール、水等、及びこれらの混合溶媒を反応混合物に添加することによって行うことができる。化合物（１－３）の洗浄は、例えば、メタノール、エタノール、ＨＣｌ水溶液（例えば、５ｗ／ｗ％ＨＣｌ水溶液）等を用いて行うことができる。後処理は、精製処理を含んでいてもよい。精製処理は、例えば、シリカゲルカラムクロマトグラフィーを用いて行ってよい。ジクロロメタン、ヘキサン、メタノール及びこれらの混合溶媒等を用いた再沈殿による精製処理を行ってもよい。

【0094】

化合物（１－３）が下記式（１－３’）で表される化合物（以下、「化合物（１－３’）」ともいう。）である場合、化合物（１－３’）は、下記に示す工程（２ｃ）及び工程（３ｃ）を含む方法によっても製造することができる。

【化35】

【0095】

式中のＡ^１ｃ、Ａ^２ｃ、Ｚ^１ｃ、Ｚ^２ｃ、Ｒ^１ｃ、Ｒ^２ｃ、ｎ^１ｃ及びｎ^２ｃは式（１－３）中のＡ^１ｃ、Ａ^２ｃ、Ｚ^１ｃ、Ｚ^２ｃ、Ｒ^１ｃ、Ｒ^２ｃ、ｎ^１ｃ及びｎ^２ｃと同義であり、Ｚ^３ｃ及びＺ^４ｃは、炭素原子数１～２０の直鎖状若しくは分岐状アルキレン基、又は炭素原子数２～３０の直鎖状若しくは分岐状アルケニレン基を表す。

【0096】

工程（２ｃ）は、原料化合物として、化合物（ｘ３－１）と、下記式（ｙ３－３）及び式（ｙ３－４）で表される化合物（以下、「化合物（ｙ３－３）」及び「化合物（ｙ３－４）」ともいう。）とを用い、これらの原料化合物を反応させて、下記式（ｘ３－２）で表される化合物（以下、「化合物（ｘ３－２）」ともいう。）を得る工程である。

【化36】

【化37】

【0097】

ここで、式中のＡ^１ｃ及びＡ^２ｃは式（１－３）中のＡ^１ｃ及びＡ^２ｃと同義である。なお、化合物（ｙ３－３）と化合物（ｙ３－４）とは互いに同一であってもよい。

【0098】

工程（２ｃ）で行われる反応及び後処理の条件は、原料化合物の構造等に応じて適宜設定することができる。工程（２ｃ）では、例えば、化合物（ｘ３－１）と化合物（ｙ３－３）と化合物（ｙ３－４）とを含む反応混合物中でこれらを反応させることによって化合物（ｘ３－２）を得ることができる。反応混合物中には必要に応じて、溶媒、塩基、及び触媒のうちいずれか１種以上をさらに含めることができる。溶媒、塩基、触媒としては上記工程（１ｂ）で例示した各種の溶媒、塩基、及び触媒を用いることができる。これら溶媒、塩基及び触媒は２種以上を併用してもよい。反応混合物の温度（反応温度）は、例えば、１００℃以上であってよく、１００～１８０℃であってよい。当該反応温度に保持する時間（反応時間）は、例えば、１０分以上、又は４０分以上であってよく、１２０時間以下、又は８０時間以下であってよい。後処理は、工程（１ｃ）と同様にして行ってよい。

【0099】

工程（３ｃ）は、原料化合物として、化合物（ｘ３－２）と、下記式（ｙ３－５）及び式（ｙ３－６）で表される化合物（以下、「化合物（ｙ３－５）」及び「化合物（ｙ３－６）」ともいう。）とを用い、これらの原料化合物を反応させて、化合物（１－３’）を得る工程である。

【化38】

【0100】

ここで、式中のＡ^１ｃ、Ａ^２ｃ、Ｚ^１ｃ、Ｚ^２ｃ、Ｚ^３ｃ、Ｚ^４ｃ、Ｒ^１ｃ、Ｒ^２ｃ、ｎ^１ｃ及びｎ^２ｃは式（１－３’）中のＡ^１ｃ、Ａ^２ｃ、Ｚ^１ｃ、Ｚ^２ｃ、Ｚ^３ｃ、Ｚ^４ｃ、Ｒ^１ｃ、Ｒ^２ｃ、ｎ^１ｃ及びｎ^２ｃと同義であり、Ｑ^３ｃ及びＱ^４ｃはハロゲン原子を示す。ハロゲン原子は臭素原子であってよく、塩素原子であってもよい。なお、化合物（ｙ３－５）と化合物（ｙ３－６）とは互いに同一であってもよい。

【0101】

工程（３ｃ）で行われる反応及び後処理の条件は、原料化合物の構造等に応じて適宜設定することができる。工程（３ｃ）では、例えば、化合物（ｘ３－２）と化合物（ｙ３－５）と化合物（ｙ３－６）とを含む反応混合物中でこれらを反応させることによって化合物（１－３’）を得ることができる。反応混合物中には必要に応じて、溶媒、塩基、及び触媒のうちいずれか１種以上をさらに含めることができる。溶媒、塩基、触媒としては上記工程（１ｂ）で例示した各種の溶媒、塩基、及び触媒を用いることができる。これら溶媒、塩基及び触媒は２種以上を併用してもよい。反応混合物の温度（反応温度）は、例えば、１００℃以上であってよく、１００～１８０℃であってよい。当該反応温度に保持する時間（反応時間）は、例えば、１０分以上、又は４０分以上であってよく、１２０時間以下、又は８０時間以下であってよい。後処理は、工程（１ｃ）と同様にして行ってよい。

【0102】

化合物（１）の含有量（総量）は、例えば、第１の重合性化合物の総量１００質量部に対して、５～９０質量部、１０～６０質量部又は１５～４５質量部であってよい。

【0103】

第１の重合性化合物の含有量（総量）の範囲は、電圧ＯＦＦ時の遮光性、耐熱性の観点から、液晶組成物中の液晶成分の総量１００質量部に対して、０．２質量部以上、０．５質量部以上又は１質量部以上であってよい。第１の重合性化合物の含有量（総量）は、組成物中での溶解性、電圧ＯＦＦ時の透明性の観点から、液晶組成物中の液晶成分の総量１００質量部に対して、１５質量部以下、１３質量部以下又は１０質量部以下であってよい。これらの観点から、第１の重合性化合物の含有量（総量）は、液晶組成物中の液晶成分の総量１００質量部に対して、０．２～１５質量部、０．５～１３質量部又は１～１０質量部であってよい。

【0104】

［第２の重合性化合物］
第２の重合性化合物は、重合性基を１又は２以上有する。第２の重合性化合物が有する重合性基の例は、上述した第１の重合性化合物が有する重合性基の例と同じである。第２の重合性化合物が有する重合性基は、１種であっても２種以上であってもよい。

【0105】

第２の重合性化合物は、好ましくは（メタ）アクリレートである。ここで、「（メタ）アクリレート」とは、アクリレート、及び、それに対応するメタクリレートの少なくとも一方を意味する。

【0106】

第２の重合性化合物としては、後述する第１～第４成分のうちの少なくとも１種を用いることが好ましい。中でも、第１成分を用いることが好ましく、第１成分と、第２成分及び第３成分のうちの少なくとも１種とを組み合わせて用いることがより好ましい。より密着性を重視する場合には、第４成分を用いることが好ましい。

【0107】

－第１成分－
第１成分は、例えば、下記式（ｖ）で表される鎖状単官能重合性化合物である。

【0108】

【化39】

【0109】

式（ｖ）中、Ｐ^ｉｉａ１は重合性基を表し、
Ｒ^ｉｉａ２は炭素原子数１～２２の直鎖又は分岐のアルキル基を表すが、該アルキル基中の１つ又は２つ以上の－ＣＨ_２－は、酸素原子が直接隣接しないようにそれぞれ独立して、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－又は、－ＯＣＯ－で置換されていてもよく、該アルキル基中に存在する１又は２以上の水素原子は、それぞれ独立して、フッ素原子又は－ＯＨで置換されていてもよい。

【0110】

式（ｖ）で表される化合物において、Ｐ^ｉｉａ１は重合性基を表すが、好ましくは、上記式（Ｐ－１）～（Ｐ－２１）のいずれかで表される基である。

【0111】

重合性及び保存安定性を高める観点では、上記式（Ｐ－１）～（Ｐ－２１）で表わされる重合性基のうち、式（Ｐ－１）、式（Ｐ－２）、式（Ｐ－７）、式（Ｐ－１２）、式（Ｐ－１３）又は式（Ｐ－２１）で表わされる重合性基が好ましく、式（Ｐ－１）、式（Ｐ－２）、式（Ｐ－７）又は式（Ｐ－２１）で表わされる重合性基がより好ましく、特に式（Ｐ－１）、式（Ｐ－２）又は式（Ｐ－２１）で表わされる重合性基が好ましい。

【0112】

式（ｖ）で表される化合物において、Ｒ^ｉｉａ２は炭素原子数３～３０の直鎖又は分岐のアルキル基を表すことがより好ましく、炭素原子数６～２８の直鎖又は分岐のアルキル基を表すことが特に結晶性を抑制できる点から好ましく、分岐のアルキル基を表すことがさらにより好ましく、炭素原子数９～２４の分岐のアルキル基を表すことがさらにより好ましく、炭素原子数９～２４の分岐のアルキル基を表すことが最も好ましい。なお、上記「直鎖又は分岐のアルキル基」には、該アルキル基中の１つ又は２つ以上の－ＣＨ_２－が、酸素原子が直接隣接しないように－Ｏ－で置換されたものも包含される。

【0113】

Ｒ^ｉｉａ２が分岐のアルキル基を表す場合、式（ｖ）で表される化合物としては、下記の構造で表される分岐状アルキル鎖を有するモノ（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、イソノニル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、イソミリスチル（メタ）アクリレート、イソステアリル（メタ）アクリレートが好ましい。

【化40】

【0114】

特に電圧無印加時の透明性を良好に維持しつつ、駆動電圧を低減効果が顕著なものとなる観点では、式（ｖ）で表される化合物のなかでも分岐状アルキル鎖を有するモノ（メタ）アクリレートを用いることが好ましい。

【0115】

式（ｖ）で表される化合物は、１種を単独で用いてよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

【0116】

式（ｖ）で表される化合物の含有量は、低電圧駆動化の観点から、また、液晶組成物中の各成分の相溶性を高める観点から、重合性成分の総量を基準として、５質量％以上であることが好ましく、１０質量％以上であることがより好ましく、１５質量％以上であることが特に好ましい。式（ｖ）で表される化合物の含有量は、密着性の観点から、重合性成分の総量を基準として、６０質量％以下であることが好ましく、５０質量％以下であることがより好ましく、４０質量％以下であることが特に好ましい。

【0117】

第１成分は、下記式（ｉｉ）で表される環状単官能重合性化合物であってもよい。

【化41】

【0118】

式（ｉｉ）中、
Ｐ^ｉｉｉ１は重合性基を表し、
Ｚ^ｉｉｉ１は単結合、又は炭素原子数１～７のアルキレン基を表し、該アルキレン基中の１つ又は２つ以上の隣接しない－ＣＨ_２－は酸素原子が直接隣接しないようにそれぞれ独立して－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－又は－ＯＣＯ－で置換されていてもよく、
Ａ^ｉｉｉ１は下記式（ｉｉ－１）～（ｉｉ－２０）で表される基を表す。

【化42】

【0119】

式（ｉｉ－１）～（ｉｉ－２０）中、１つ以上の－ＣＨ_２－はそれぞれ独立して、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＮＨ－、－ＮＣＨ_３－、又は－ＣＯ－で置換されていてもよいが、式（ｉｉ－１）～（ｉｉ－２０）中に酸素原子及び／又は硫黄原子が合計２個以上存在する場合には、これらは－Ｏ－Ｏ－、－Ｏ－Ｓ－又は－Ｓ－Ｓ－のようにお互い同士結合することはなく、また、一つ以上の－ＣＨ_２－ＣＨ_２－は、－ＣＨ＝ＣＨ－基に置換されていてもよく、また、式（ｉｉ－１）～（ｉｉ－２０）中の水素原子は炭素原子数１～８のアルキル基で置換されていてもよく、該アルキル基は直鎖であっても分岐鎖であってもよく、該アルキル基中の１つ又は２つ以上の隣接しない－ＣＨ_２－は酸素原子が直接隣接しないようにそれぞれ独立して－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－又は－ＯＣＯ－で置換されていてもよい。また、式中の黒点はＺ^ｉｉｉ１への結合手を表す。

【0120】

式（ｉｉ）で表される化合物は、可撓性に優れる材料であり、この化合物を用いると、曲げた状態でも白濁性を維持することができる。また、密着性を高めるとともに、液晶組成物中の各成分の相溶性を高めることができる。式（ｉｉ）で表される化合物は、非液晶性の化合物である。

【0121】

式（ｉｉ）で表される化合物において、Ｐ^ｉｉｉ１の好ましい例は式（ｖ）中のＰ^ｉｉａ１で表される重合性基の好ましい例と同じである。

【0122】

式（ｉｉ）で表される化合物において、Ｚ^ｉｉｉ１は単結合又は炭素原子数１～７のアルキレン基を表し、該アルキレン基中の１つ又は２つ以上の－ＣＨ_２－は、酸素原子が直接隣接しないようにそれぞれ独立して－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－又は－ＯＣＯ－で置換されていてもよく、該アルキレン基中に存在する１つ又は２つ以上の水素原子は、それぞれ独立してフッ素原子で置換されていてもよい。Ｚ^ｉｉｉ１は、単結合又は炭素原子数１～６のアルキレン基であることが好ましく、単結合又は炭素原子数１～３のアルキレン基であることがより好ましく、単結合又は－ＣＨ_２－基であるのが特に好ましい。

【0123】

式（ｉｉ）で表される化合物において、Ａ^ｉｉｉ１は、密着性をより向上させる観点から、Ａ^ｉｉｉ１中に窒素原子、酸素原子、硫黄原子を有する複素環構造を有することが好ましく、より具体的には、以下の式（ｉｉ－ａ１）～（ｉｉ－ａ１１）で表される基であることが好ましい。特に、環状構造が窒素原子を有する場合には、環状構造が窒素原子の存在により、密着性をより向上させることができる。

【化43】

【0124】

式（ｉｉ－ａ１）～（ｉｉ－ａ１１）中、１つ以上の－ＣＨ_２－はそれぞれ独立して－ＣＯ－で置換されていてもよく、また、式（ｉｉ－ａ１）～（ｉｉ－ａ１１）中の水素原子は炭素原子数１～８のアルキル基で置換されていてもよく、該アルキル基中の１つ又は２つ以上の隣接しない－ＣＨ_２－は酸素原子が直接隣接しないようにそれぞれ独立して－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－又は－ＯＣＯ－で置換されていてもよい。

【0125】

式（ｉｉ－ａ１）～（ｉｉ－ａ１１）中の水素原子は炭素原子数１～８のアルキル基で置換されていてもよく、該アルキル基は直鎖であっても分岐鎖であってもよく、該アルキル基中の１つ又は２つ以上の隣接しない－ＣＨ_２－は酸素原子が直接隣接しないようにそれぞれ独立して－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－又は－ＯＣＯ－で置換されていてもよい。

【0126】

式（ｉｉ－ａ１）～（ｉｉ－ａ１１）中の黒点はＺ^ｉｉｉ１への結合手を表す。

【0127】

式（ｉｉ）で表される化合物としては、具体的には、下記の式（ＩＩ－３４）～（ＩＩ－５１）で表される化合物が好ましい。

【化44】

【0128】

式（ＩＩ－３４）～（ＩＩ－５１）中、Ｘ^５は水素原子、又はメチル基を表す。

【0129】

式（ＩＩ－３４）～（ＩＩ－５１）で表される化合物の中でも、式（ＩＩ－３４）、（ＩＩ－３６）、式（ＩＩ－３８）、式（ＩＩ－３９）、式（ＩＩ－４０）、式（ＩＩ－４１）、式（ＩＩ－４３）、又は式（ＩＩ－４５）で表される化合物を用いることがより好ましい。

【0130】

式（ｉｉ）で表される化合物は、１種を単独で用いてよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

【0131】

式（ｉｉ）で表される化合物の含有量は、密着性を向上させる観点から、また、液晶組成物中の各成分の相溶性を高める観点から、重合性成分の総量を基準として、１０質量％以上であることが好ましく、２０質量％以上であることがより好ましく、３０質量％以上であることが特に好ましい。式（ｉｉ）で表される化合物の含有量は、低電圧化の観点から、重合性成分の総量を基準として、８０質量％以下であることが好ましく、７０質量％以下であることがより好ましく、６０質量％以下であることが特に好ましい。

【0132】

第１成分としては、低電圧を重視する場合は、式（ｖ）で表される化合物を用いることが好ましく、密着性を重視する場合は式（ｉｉ）で表される化合物を用いることが好ましい。第１成分としては、式（ｖ）で表される化合物と式（ｉｉ）で表される化合物とを併用することもできる。

【0133】

－第２成分－
第２成分は、重量平均分子量が２０００以上の多官能（メタ）アクリレートオリゴマーである。多官能（メタ）アクリレートオリゴマーは、ポリマーのネットワーク構造中に架橋構造を導入するために、また、良好な密着性を得るために用いられてよい。

【0134】

多官能（メタ）アクリレートオリゴマーの重量平均分子量は、２０００以上であり、２０００～６００００が好ましく、２５００～４００００がより好ましく、２８００～３５０００がさらにより好ましく、３０００～３００００がさらにより好ましい。これは、分子量が小さすぎると、１分子中に含まれる（メタ）アクリル基の増加によって引き起こる架橋密度の増加により、硬化収縮の度合いが大きくなり、密着性が悪化してしまうこと、及び、分子量が大きいすぎると、架橋間距離が長くなるため、隙間が大きくなり、液晶を取り込みやすくなるために高分子分散型液晶としての散乱性が低下するからである。すなわち高温下での環境に放置すると、ポリマーが液晶を吸収してしまい、特性が大きく変化してしまうためである。また、分子量が大きすぎると重合性化合物添加による高分子分散型液晶の転移点Ｔｎｍの低下度合いが小さくなり、Ｔｎｍを室温以下にするには、液晶化合物自身のＴｎｉが低い材料を用いなければならなくなるため、結果的に動作温度範囲が狭くなってしまう問題も生じてしまう。

【0135】

多官能（メタ）アクリレートオリゴマーの中でも、２官能アクリレートオリゴマーが好ましい。さらに、基材との密着性を重視するには、ウレタン系又はポリエステル系の（メタ）アクリレートオリゴマーが好ましく、ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーがより好ましい。ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーはポリエステル系のウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーであってもよいが、ポリエーテル系のウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーが好ましい。

【0136】

多官能のウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーは、水酸基含有（メタ）アクリレートと、ポリオールと、ポリイソシアネートとを反応させて得られる。

【0137】

ポリオールとしては、ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリカーボネートポリオール、ポリカプロラクトンポリオール、ポリブタジエンポリオール等があげられ、ポリエーテルポリオールとしては、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール等が挙げられる。

【0138】

ポリイソシアネートとしては、２、４－および２、６－トリレンジイソシアネート（ＴＤＩ）、オルトトルイジンジイソシアネート（ＴＯＤＩ）、ナフチレンジイソシアネート（ＮＤＩ）、キシリレンジイソシアネート（ＸＤＩ）、４、４’－ジフェニルメタンジイソシアネート（ＭＤＩ）、メチレンビス（４－シクロヘキシルイソシアネート）、キシリレンジイソシアネート、水添キシリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、トランスシクロヘキサン１，４－ジイソシアネート、１，６，１１－ウンデカントリイソシアネート、１，８－ジイソシアネート－４－イソシアネートメチルオクタン、１，３，６－ヘキサメチレントリイソシアネート、ビシクロヘプタントリイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、ジシクロペンタジエンジイソシアネート、ノルボルネンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、およびカルボジイミド変成ＭＤＩ、ポリメチレンポリフェニルイソシアネート、ポリメリックポリイソシアネート等があげられる。

【0139】

水酸基含有（メタ）アクリレートとしては、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、４－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、１，４－シクロヘキサンジメタノールモノアクリレート、ε－カプロラクトンで変性されたモノ（メタ）アクリレート等があげられる。

【0140】

ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーとしては、具体的には、脂肪族ウレタン（メタ）アクリレート又は芳香族ウレタン（メタ）アクリレートを用いることが好ましく、脂肪族ウレタンアクリレートを用いることがより好ましい。また、ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーとしては、ポリウレタンジ（メタ）アクリレートオリゴマーを用いることが好ましい。

【0141】

用いるポリオールとしては、ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリカプロラクトンポリオールが好ましく、ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオールが特に好ましい。

【0142】

用いるポリイソシアネートとしては、環状構造を有するポリイソシアネートが好ましく、脂環構造を有するポリイソシアネートが特に好ましい。より具体的には、オルトトルイジンジイソシアネート（ＴＯＤＩ）、メチレンビス（４－シクロヘキシルイソシアネート）、キシリレンジイソシアネート、水添キシリレンジイソシアネート、トランスシクロヘキサン１，４－ジイソシアネート、１，６，１１－ウンデカントリイソシアネート、ビシクロヘプタントリイソシアネート、ジシクロペンタジエンジイソシアネート、ノルボルネンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、カルボジイミド変成ＭＤＩが好ましく、メチレンビス（４－シクロヘキシルイソシアネート）、キシリレンジイソシアネート、水添キシリレンジイソシアネート、トランスシクロヘキサン１，４－ジイソシアネート、１，６，１１－ウンデカントリイソシアネート、ビシクロヘプタントリイソシアネート、ジシクロペンタジエンジイソシアネート、ノルボルネンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネートが特に好ましい。

【0143】

用いる水酸基含有（メタ）アクリレートとしては、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、４－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、１，４－シクロヘキサンジメタノールモノアクリレート、ε－カプロラクトンで変性されたモノ（メタ）アクリレートが好ましく、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、４－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレートが特に好ましい。

【0144】

ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーとしては、以下の一般式（ｉ－１）の化合物も好ましい。

【化45】

【0145】

式（ｉ－１）中、Ｘ^ｉ１はそれぞれ独立して水素原子、又はメチル基を表し、Ｂ^１は各々独立して、炭素原子数１～４までのアルキル基を表し、該アルキル基中の一つ以上の－ＣＨ_２－は酸素原子、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－で置換されていてもよく、ｂは１～２０を表す。Ｂ^２は、下記式（ｉ－２）～（ｉ－６）で表される基の中から選ばれる基を表し、ｂが２以上である場合、複数のＢ^２は互いに同一であっても異なっていてもよい。

【化46】

【0146】

Ｂ^３は下記式（ｉ－７）～（ｉ－１１）で表される基の中から選ばれる基を表し、ｂが２以上である場合、複数のＢ^３は互いに同一であっても異なっていてもよい。

【化47】

【0147】

式（ｉ－７）～（ｉ－１１）中、Ｘ^ｉ４、及びＸ^ｉ5はそれぞれ独立に水素原子、又はメチル基を表し、Ｘ^ｉ２、及びＸ^ｉ３はそれぞれ独立に炭素原子数１～９のアルキル基を表し、Ｙ^３は分岐鎖を有していてもよい炭素原子数１～１５のアルキレン基、２価の芳香族基又は２価の脂環式炭化水素基を表し、該アルキレン基中の一つ以上の－ＣＨ_２－基は、酸素原子が互いに隣接しない条件で酸素原子、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－で置換されていてもよく、ｔ１及びｔ２はそれぞれ独立して０、又は１を表し、ｔ３は０～３００の整数を表す。

【0148】

第２成分は、１種を単独で用いてよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

【0149】

第２成分の含有量は、密着性を高める観点から、重合性成分の総量を基準として、５質量％以上であることが好ましく、１５質量％以上であることがより好ましく、２５質量％以上であることが特に好ましい。第２成分の含有量は、低電圧化の観点から、重合性成分の総量を基準として、８０質量％以下であることが好ましく、６０質量％以下であることがより好ましく、５０質量％以下であることが特に好ましい。

【0150】

－第３成分－
第３成分は、下記式（ｉｖ）で表される重量平均分子量２０００未満の多官能重合性化合物である。

【化48】

【0151】

式（ｉｖ）中、
Ｙ^３１は水素原子、又はメチル基を表し、
Ｘ^３１は炭素原子数１３０以下のアルキレン基を表し、該アルキレン基は環式炭化水素基や分岐鎖を有していてもよく、該アルキレン基、又は環式炭化水素基中の一つ以上の－ＣＨ_２－基は、酸素原子が互いに直接隣接しないようにそれぞれ独立して－Ｏ－、－ＮＨ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＨ＝ＣＨ－、又は－Ｃ≡Ｃ－で置換されていてもよく、該アルキレン基又は環式炭化水素基中に存在する１つ又は２つ以上の水素原子は、それぞれ独立してフッ素原子又は－ＯＨで置換されていてもよく、
ｎ^３１は２～６の整数を表す。

【0152】

式（ｉｖ）で表される重合性化合物としては、好ましくは下記式（ｉｖ－１）で表される重合性化合物を用いることが好ましい。

【化49】

【0153】

式（ｉｖ－１）中、
Ｙ^１、及びＹ^２は水素原子、又はメチル基を表し、
Ｘ^１は直鎖又は分岐の炭素原子数２～８０のアルキレンを表す。該アルキレンの任意の炭素原子は、酸素原子が直接隣接しないように、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－Ｃ≡Ｃ－又は、ＯＨで置換されてよい。該アルキレンの炭素原子数は６～７０の範囲であることが好ましく、中でも８～６０の範囲であることが好ましく、特に９～５０の範囲であることが駆動電圧低下の点から好ましい。

【0154】

式（ｉｖ－１）で表される重合性化合物としては、例えば、下記式（ｉｖ－１－１）～（ｉｖ－１－１０）で表される化合物が挙げられる。

【化50】

【0155】

式（ｉｖ－１－１）～（ｉｖ－１－１０）中、ｎ及びｍはｎ＋ｍが１～１０となる整数、ｎ^２は１～１８の整数、ｎ^３及びｍ^２はｎ^３＋ｍ^２が１～１８となる整数、ｎ^４は１～２３の整数、ｎ^５は１～２３の整数、ｎ^６は４～３０の整数、ｎ^７は２～１０の整数、ｎ^８及びｎ^９は２～１０の整数をそれぞれ表す。

【0156】

第３成分はオリゴマーであってもモノマーであってもよい。第３成分の分子量は、１５００以下であることが好ましく、１０００以下であることがより好ましい。

【0157】

第３成分は、１種を単独で用いてよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。例えば、オリゴマーとモノマーを組み合わせて用いてもよい。

【0158】

第３成分の含有量は、耐熱性向上の観点から、重合性成分の総量を基準として、２質量％以上であることが好ましく、５質量％以上であることがより好ましく、１０質量％以上であることがさらに好ましい。第３成分の含有量は、密着性を維持する観点から、重合性成分の総量を基準として、５０質量％以下であること、４０質量％以下であること、３０質量％以下であること、２５質量％以下であることが特に好ましい。

【0159】

－第４成分－
第４成分は、下記式（ｘ）で表されるリン系（メタ）アクリレートである。

【化51】

【0160】

式（ｘ）中、
Ｙ^３１は水素原子、又はメチル基を表し、
Ｘ^３１は、下記式（ｘ－１）で表される２価の基を有する、炭素原子数１３０以下のアルキレン基を表し、該アルキレン基は環式炭化水素基や分岐鎖を有していてもよく、該アルキレン基、又は環式炭化水素基中の一つ以上の－ＣＨ_２－基は、酸素原子が互いに直接隣接しないようにそれぞれ独立して－Ｏ－、－ＮＨ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＨ＝ＣＨ－、又は－Ｃ≡Ｃ－で置換されていてもよく、該アルキレン基又は環式炭化水素基中に存在する１つ又は２つ以上の水素原子は、それぞれ独立してフッ素原子又は－ＯＨで置換されていてもよく、
ｎ^３１は１～６の整数を表す。

【化52】

【0161】

第４成分としては、具体的には、下記式（ｘ－２）及び（ｘ－３）で表される化合物を用いることが好ましい。

【化53】

【0162】

式（ｘ－２）及び（ｘ－３）中、Ｘ^６、Ｘ^７、及びＸ^８はそれぞれ独立して水素原子、又はメチル基を表し、ｑ、ｒ、及びｓは１～４の整数を表す。

【0163】

第４成分は、１種を単独で用いてよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

【0164】

第４成分の含有量は、重合性成分の総量を基準として、０．００５質量％以上２質量％以下であることが好ましく、０．０１質量％以上０．５質量％以下であることがより好ましく、０．０１質量％以上０．２質量％以下であることがさらに好ましい。

【0165】

－その他の重合性化合物－
第２の重合性化合物としては、上記第１～第４成分以外の重合性化合物（例えば、メソゲン性骨格を有する重合性化合物等）を用いてもよい。上記第１～第４成分以外の第２の重合性化合物の含有量は、液晶組成物中の重合性成分の総量を基準として、５質量％以下であってよく、０質量％であってもよい。

【0166】

第２の重合性化合物の含有量（総量）は、高散乱性、高密着性の観点から、液晶組成物の総量を基準として、２０質量％以上、３０質量％以上又は４０質量％以上であってよい。第２の重合性化合物の含有量（総量）は、高散乱性、低電圧性の観点から、液晶組成物の総量を基準として、７０質量％以下、６０質量％以下又は５０質量％以下であってよい。これらの観点から、第２の重合性化合物の含有量（総量）は、高散乱性の観点から、液晶組成物の総を基準として、２０～７０質量％、３０～６０質量％又は４０～５０質量％であってよい。ここで、上記液晶組成物の総量とは、例えば、液晶組成物中の液晶成分、重合性成分及び重合開始剤の総量である。

【0167】

重合性成分の含有量（総量）は、高散乱性、高密着性の観点から、液晶組成物の総量を基準として、２０質量％以上、３０質量％以上又は４０質量％以上であってよい。重合性成分の含有量の含有量（総量）は、高散乱性、低電圧性の観点から、液晶組成物の総量を基準として、７０質量％以下、６０質量％以下又は５０質量％以下であってよい。これらの観点から、重合性成分の含有量の含有量（総量）は、高散乱性の観点から、液晶組成物の総量を基準として、２０～７０質量％、３０～６０質量％又は４０～５０質量％であってよい。

【0168】

（重合開始剤）
重合開始剤は、重合性化合物を重合させるために用いる。重合開始剤は、重合を光照射によって行う場合に使用される、光重合開始剤であることが好ましい。光重合開始剤としては、重合性化合物の重合性に対応した活性種を発生するものを使用すればよく、例えば、光ラジカル重合開始剤又は光カチオン重合開始剤を用いることができる。光重合開始剤としては、公知慣用のものを使用できる。

【0169】

光ラジカル重合開始剤としては、例えば１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン「オムニラッド１８４」、１－（４－イソプロピルフェニル）－２－ヒドロキシ－２－メチルプロパン－１－オン「オムニラッド１１７３」、２－メチル－１－［（メチルチオ）フェニル］－２－モリホリノプロパン－１「オムニラッド９０７」、２，２－ジメトキシ－１，２－ジフェニルエタン－１－オン「オムニラッドＢＤＫ」、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルフォリノフェニル）－ブタノン「オムニラッド３６９」）、２－ジメチルアミノ－２－（４－メチルベンジル）－１－（４－モルフォリノ－フェニル）ブタン－１－オン「オムニラッド３７９」、２，２－ジメトキシ－２－フェニルアセトフェノン「オムニラッド６５１」等のアルキルフェノン系光ラジカル重合開始剤；２，２－ジメトキシ－１，２－ジフェニルエタン－１－オン、ビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）－ジフェニルフォスフィンオキサイド「オムニラッドＴＰＯ」、２，４，６－トリメチルベンゾイル－フェニル－フォスフィンオキサイド「オムニラッド８１９」（ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ株式会社製）等のアシルホスフィンオキサイド系光ラジカル重合開始剤；１，２－オクタンジオン，１－［４－（フェニルチオ）－，２－（Ｏ－ベンゾイルオキシム）］，エタノン「イルガキュアＯＸＥ０１」）、１－［９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］－，１－（Ｏ－アセチルオキシム）「イルガキュアＯＸＥ０２」、「イルガキュアＯＸＥ０４」（ＢＡＳＦ株式会社製）、「アデカアークルズＮＣＩ－８３１」、「アデカアークルズＮＣＩ－９３０」、「アデカアークルズＮ－１９１９」（ＡＤＥＫＡ社製）等のオキシムエステル系光ラジカル重合開始剤などが挙げられる。光ラジカル重合開始剤としては、２，４－ジエチルチオキサントン（日本化薬社製「カヤキュアＤＥＴＸ」）とｐ－ジメチルアミノ安息香酸エチル（日本化薬社製「カヤキュアＥＰＡ」）との混合物、イソプロピルチオキサントン（ワ－ドプレキンソップ社製「カンタキュア－ＩＴＸ」）とｐ－ジメチルアミノ安息香酸エチルとの混合物、「エサキュア ＯＮＥ」、「エサキュアＫＩＰ１５０」、「エサキュアＫＩＰ１６０」、「エサキュア１００１Ｍ」、「エサキュアＡ１９８」、「エサキュアＫＩＰ ＩＴ」、「エサキュアＫＴＯ４６」、「エサキュアＴＺＴ」（ｌａｍｂｅｒｔｉ株式会社製）、「スピードキュアＢＭＳ」、「スピードキュアＰＢＺ」、「ベンゾフェノン」（ＬＡＭＢＳＯＮ社製）等を用いることもできる。これらは、１種を単独で用いてよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

【0170】

上記の中でも、電圧ＯＦＦ時の遮光性やコントラストがより優れる観点から、オキシムエステル系光ラジカル重合開始剤又はアシルホスフィンオキサイド系光ラジカル重合開始剤を用いることが好ましく、アシルホスフィンオキサイド系光ラジカル重合開始剤を用いることがより好ましい。

【0171】

光カチオン重合開始剤としては、光酸発生剤を用いることができる。光酸発生剤としてはジアゾジスルホン系化合物、トリフェニルスルホニウム系化合物、フェニルスルホン系化合物、スルフォニルピリジン系化合物、トリアジン系化合物及びジフェニルヨードニウム化合物などが挙げられる。

【0172】

光重合開始剤の含有量は、液晶組成物中の重合性成分の総量１００質量部に対し、０．１質量部以上１０質量部以下が好ましく、０．２質量部以上６質量部以下がより好ましい。

【0173】

重合開始剤としては、熱重合開始剤を用いることもできる。熱重合の際に使用する熱重合開始剤としては、公知慣用のものが使用でき、例えば、メチルアセトアセテイトパーオキサイド、キュメンハイドロパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、ビス（４－ｔ－ブチルシクロヘキシル）パ－オキシジカーボネイト、ｔ－ブチルパーオキシベンゾエイト、メチルエチルケトンパーオキサイド、１，１－ビス（ｔ－ヘキシルパ－オキシ）３，３，５－トリメチルシクロヘキサン、ｐ－ペンタハイドロパーオキサイド、ｔ－ブチルハイドロパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、イソブチルパーオキサイド、ジ（３－メチル－３－メトキシブチル）パーオキシジカーボネイト、１，１－ビス（ｔ－ブチルパーオキシ）シクロヘキサン等の有機過酸化物、２，２’－アゾビスイソブチロニトリル、２，２’－アゾビス（２，４－ジメチルバレロニトリル）等のアゾニトリル化合物、２，２’－アゾビス（２－メチル－Ｎ－フェニルプロピオン－アミヂン）ジハイドロクロライド等のアゾアミヂン化合物、２，２’アゾビス｛２－メチル－Ｎ－［１，１－ビス（ヒドロキシメチル）－２－ヒドロキシエチル］プロピオンアミド｝等のアゾアミド化合物、２，２’アゾビス（２，４，４－トリメチルペンタン）等のアルキルアゾ化合物等を使用することができる。これらは、１種を単独で用いてよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

【0174】

熱重合開始剤の含有量は、液晶組成物中の重合性成分の総量１００質量部に対し、０．１質量部以上１０質量部以下が好ましく、１質量部以上６質量部以下がより好ましい。

【0175】

（液晶成分）
液晶成分は、少なくとも非重合性液晶化合物を含む。非重合性液晶化合物としては、動作温度範囲、動作電圧、光散乱性、溶解性等の観点から、下記式（３）で表される化合物（以下、「化合物（３）」ともいう。）が好ましく用いられる。

【化54】

【0176】

式（３）中、
Ｒ^１１は炭素原子数１～１０のアルキル基（この基中に存在する水素原子はフッ素原子に置き換えられてもよく、この基中に存在する１個の－ＣＨ_２－又は隣接していない２個以上の－ＣＨ_２－はそれぞれ独立して、－ＣＨ＝ＣＨ－、－Ｃ≡Ｃ－、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－又は－ＯＣＯ－に置き換えられてもよい。）を表し、
Ｒ^１２はハロゲン原子、シアノ基、イソチオシアネート基又は炭素原子数１～１０のアルキル基（該アルキル基中に存在する水素原子はフッ素原子に置き換えられてもよく、該アルキル基中に存在する１個の－ＣＨ_２－又は隣接していない２個以上の－ＣＨ_２－はそれぞれ独立して、－ＣＨ＝ＣＨ－、－Ｃ≡Ｃ－、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－又は－ＯＣＯ－に置き換えられてもよい。）を表し、
Ａ^１１、Ａ^１２及びＡ^１３はそれぞれ独立して
（ａ３）１，４－シクロヘキシレン基（この基中に存在する１個の－ＣＨ_２－又は隣接していない２個以上の－ＣＨ_２－は－Ｏ－に置き換えられてもよい。）、
（ｂ３）１，４－フェニレン基（この基中に存在する１個の－ＣＨ＝又は隣接していない２個以上の－ＣＨ＝は－Ｎ＝に置き換えられてもよい。）及び
（ｃ３）１，４－シクロヘキセニル基、テトラヒドロピラン－２，５－ジイル基、１，３－ジオキサン－２，５－ジイル基、デカヒドロナフタレン－２，６－ジイル基、ピリジン－２，５－ジイル基、ピリミジン－２，５－ジイル基、ピラジン－２，５－ジイル基、ナフタレン－２，６－ジイル基、１，２，３，４－テトラヒドロナフタレン－２，６－ジイル基（ナフタレン－２，６－ジイル基及び１，２，３，４－テトラヒドロナフタレン－２，６－ジイル基中に存在する１個の－ＣＨ＝又は隣接していない２個以上の－ＣＨ＝は－Ｎ＝に置き換えられてもよい。）
からなる群より選ばれる基を表し、前記の基（ａ３）、基（ｂ３）及び基（ｃ３）中に存在する水素原子はそれぞれ独立して、シアノ基、メチル基、トリフルオロメチル基、トリフルオロメチルオキシ基、フッ素原子又は塩素原子に置き換えられてもよく、
Ｚ^１１及びＺ^１２はそれぞれ独立して、単結合、－ＣＨ_２ＣＨ_２－、－（ＣＨ_２）_４－、－ＯＣＨ_２－、－ＣＨ_２Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＯＣＦ_２－、－ＣＦ_２Ｏ－、－ＣＨ＝Ｎ－Ｎ＝ＣＨ－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＦ＝ＣＦ－又は－Ｃ≡Ｃ－を表し、
ｎ^１１は０～３の整数を表し、
Ａ^１１及びＺ^１１が複数存在する場合、複数のＡ^１１は互いに同一であっても異なっていてもよく、複数のＺ^１１は互いに同一であっても異なっていてもよい。ただし、式中で酸素原子と酸素原子が直接結合することはない。なお、上記のとおり、化合物（３）は、分子中に－ＣＨ＝ＣＨ－、－Ｃ≡Ｃ－等の不飽和結合を含み得るが、化合物（３）の構造上、これらの不飽和結合を有する基（例えばアルケニル基）は重合性基として機能しない基であり、実質的に、重合性基ではない。

【0177】

Ｒ^１１は、炭素原子数１～８のアルキル基、炭素原子数１～８のアルコキシ基、炭素原子数２～８のアルケニル基又は炭素原子数２～８のアルケニルオキシ基が好ましく、炭素原子数１～５のアルキル基、炭素原子数１～５のアルコキシ基、炭素原子数２～５のアルケニル基又は炭素原子数２～５のアルケニルオキシ基が好ましく、炭素原子数１～５のアルキル基又は炭素原子数２～５のアルケニル基がさらに好ましく、炭素原子数２～５のアルキル基又は炭素原子数２～３のアルケニル基がさらに好ましく、炭素原子数２～５のアルキル基が特に好ましい。

【0178】

Ｒ^１１は、信頼性を重視する場合にはアルキル基であることが好ましい。Ｒ^１１は、ネマチック相を安定化させるためには、炭素原子及び酸素原子の合計が５以下であることが好ましく、直鎖状であることが好ましい。

【0179】

Ｒ^１２は、好ましくはフッ素原子、シアノ基又は炭素原子数１～５のアルキル基（該アルキル基中の１個の－ＣＨ_２－又は隣接していない２個以上の－ＣＨ_２－は－Ｏ－に置き換えられてもよい。）である。

【0180】

Ａ^１１、Ａ^１２及びＡ^１３はそれぞれ独立して、上記の基（ａ３）及び基（ｂ３）からなる群より選ばれる基を表すことが好ましい。中でも、Ａ^１３は基（ｂ３）であることが好ましく、下記式（ｂ３－１）で表される構造の基であることがより好ましい。

【化55】

【0181】

Ｒ^ｉ３、Ｒ^ｉ４及びＲ^ｉ５はそれぞれ独立して、水素原子又はフッ素原子を表す。式（ｂ３－１）中の＊がＲ^１２への結合手を表し、波線がＺ^１２への結合手を表す。

【0182】

Ａ^１３が基（ｂ３）であるとき、屈折率異方性（Δｎ）を大きくすることが求められる場合には、Ａ^１１及びＡ^１２は芳香族であることが好ましい。また、応答速度を改善するためには、Ａ^１１及びＡ^１２は脂肪族であることが好ましい。これらの観点から、Ａ^１１及びＡ^１２はそれぞれ独立して、トランス－１，４－シクロへキシレン基（この基中に存在する１個の－ＣＨ_２－又は隣接していない２個以上の－ＣＨ_２－は－Ｏ－に置き換えられてもよく、この基中に存在する－ＣＨ＝は－Ｎ＝に置き換えられてもよい。）、又は、１，４－フェニレン基、２－フルオロ－１，４－フェニレン基、３－フルオロ－１，４－フェニレン基、３，５－ジフルオロ－１，４－フェニレン基若しくは２，３－ジフルオロ－１，４－フェニレン基（これらの基中に存在する１個の－ＣＨ＝又は隣接していない２個以上の－ＣＨ＝は－Ｎ＝に置き換えられてもよい。）を表すことが好ましい。

【0183】

中でもＡ^１１及びＡ^１２は、それぞれ独立して下記の構造のいずれかを表すことがより好ましい。

【化56】

【0184】

上記構造中の波線で表される結合手がＲ^１１側の結合手であり、＊で表される結合手がＲ^１２側の結合手である。

【0185】

Ａ^１１及びＡ^１２は、それぞれ独立して下記の構造のいずれかを表すことがさらに好ましい。なお、下記構造中の波線及び＊は上記と同義である。

【化57】

【0186】

ｎ^１１は、０、１又は２であることが好ましい。Δεの改善に重点を置く場合、ｎ^１１は０又は１であることが好ましい。転移温度（Ｔｎｉ）を重視する場合には、ｎ^１１は１又は２であることが好ましい。

【0187】

上記化合物（３）は、１種を単独で用いてよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。例えば、化合物（３）を、２種、３種、４種、５種、６種、７種、８種又は９種組み合わせて用いてよく、１０種以上組み合わせて用いてもよい。組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの所望の性能に応じて組み合わせて使用する。

【0188】

化合物（３）の含有量は、散乱性、低電圧駆動の観点から、液晶組成物中の液晶成分、重合性化合物及び重合開始剤の総量を基準として、２５質量％以上、３５質量％以上又は４５質量％以上であってよい。化合物（３）の含有量は、散乱性、信頼性の観点から、液晶組成物中の液晶成分、重合性化合物及び重合開始剤の総量を基準として、８０質量％以下、７０質量％以下又は６０質量％以下であってよい。これらの観点から、化合物（３）の含有量は、液晶組成物中の液晶成分、重合性化合物及び重合開始剤の総量を基準として、２５～８０質量％、３５～７０質量％又は４５～６０質量％であってよい。

【0189】

上記化合物（３）は、２５℃における誘電率異方性（Δε）が正の液晶化合物（いわゆるｐ型液晶化合物）又は誘電率異方性（Δε）がほぼ０の液晶化合物（いわゆるノンポーラ型液晶化合物）である。

【0190】

一実施形態では、化合物（３）として、トラン骨格を有する化合物（以下、「トラン系液晶化合物」という。）を用いることが好ましい。具体的には、化合物（３）として、式（３）中のＺ^１２が－Ｃ≡Ｃ－である化合物を用いることがより好ましい。液晶成分が該トラン系液晶化合物を含む場合、液晶素子において、密着性、光散乱性が良好になりやすく、室温時及び低温時の低電圧駆動を実現しやすい。

【0191】

トラン系液晶化合物において、式（３）中のＲ^１２は、炭素原子数１～１０のアルキル基（置換されたものも含む）であることが好ましい。

【0192】

トラン系液晶化合物において、式（３）中のＡ^１１は、１，４－シクロへキシレン基であるか、又は、下記式（Ａ１）～（Ａ１２）で表されるいずれかの構造であることが好ましく、Ａ^１２及びＡ^１３はそれぞれ独立して、下記式（Ａ１）～（Ａ１２）で表されるいずれかの構造であることが好ましい。

【化58】

【化59】

【0193】

上記構造中の波線で表される結合手がＲ^１１側の結合手であり、＊で表される結合手がＲ^１２側の結合手である。

【0194】

Ａ^１１は、高散乱の点から、１，４－フェニレン基であることがより好ましく、Ａ^１２及びＡ^１３は、高速応答の点から、上記式（Ａ５）～（Ａ８）、式（Ａ１１）及び式（Ａ１２）で表されるいずれかの構造となるように選択されることが好ましい。

【0195】

トラン系液晶化合物において、式（３）中のＺ^１１は、－Ｃ≡Ｃ－、－ＣＦ_２Ｏ－、－ＯＣＦ_２－、トランス－－ＣＨ＝ＣＨ－、トランス－－ＣＦ＝ＣＦ－、－ＣＯＯ－、－ＣＨ_２－ＣＨ_２－、－ＣＦ_２－ＣＦ_２－又は単結合であることが好ましく、単結合であることがより好ましい。

【0196】

トラン系液晶化合物において、式（３）中のｎ^１１は０又は１であることが好ましい。

【0197】

トラン系液晶化合物の好適な具体例としては、下記式（３Ｔ）で表される化合物が挙げられる。

【化60】

【0198】

式（３Ｔ）中、
Ｒ^Ｔ１及びＲ^Ｔ２はそれぞれ独立して、炭素原子数１～１０のアルキル基（この基中に存在する１個の－ＣＨ_２－又は隣接していない２個以上の－ＣＨ_２－は－ＣＨ＝ＣＨ－、－Ｃ≡Ｃ－、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－又は－ＯＣＯ－に置き換えられてもよい。）を表し、
Ａ^Ｔ１、Ａ^Ｔ２及びＡ^Ｔ３はそれぞれ独立して、１，４－フェニレン基（この基中に存在する１個の－ＣＨ＝又は隣接していない２個以上の－ＣＨ＝は－Ｎ＝に置き換えられてもよく、この基中の水素原子はメチル基、シアノ基、フッ素原子又は塩素原子に置き換えられてもよい。）を表し、
ｎ^Ｔ１は０又は１を表す。

【0199】

Ｒ^Ｔ１及びＲ^Ｔ２で表されるアルキル基の詳細（好ましい態様を含む）は、式（３）中のＲ^１１で表されるアルキル基の詳細と同じである。

【0200】

Ａ^Ｔ１及びＡ^Ｔ２はそれぞれ独立して、１，４－フェニレン基、２－フルオロ－１，４－フェニレン基、３－フルオロ－１，４－フェニレン基、３，５－ジフルオロ－１，４－フェニレン基又は２，３－ジフルオロ－１，４－フェニレン基を表すことが好ましく、１，４－フェニレン基、３－フルオロ－１，４－フェニレン基又は３，５－ジフルオロ－１，４－フェニレン基を表すことがより好ましい。なお、１位がＲ^Ｔ１側であり、４位がＲ^Ｔ２側である。

【0201】

Ａ^Ｔ３は、１，４－フェニレン基、２－フルオロ－１，４－フェニレン基、２，６－ジフルオロ－１，４－フェニレン基、３－フルオロ－１，４－フェニレン基、３，５－ジフルオロ－１，４－フェニレン基又は５－フルオロ－１，４－フェニレン基を表すことが好ましく、１，４－フェニレン基又は２，６－ジフルオロ－１，４－フェニレン基を表すことがより好ましい。なお、１位がＲ^Ｔ１側であり、４位がＲ^Ｔ２側である。

【0202】

トラン系液晶化合物の好適な具体例としては、下記式（３Ｔ－１）及び下記式（３Ｔ－２）で表される化合物が挙げられる。

【化61】

【0203】

上記式中のＲ^Ｔ１及びＲ^Ｔ２は、前述の式（３Ｔ）におけるＲ^Ｔ１及びＲ^Ｔ２と同義であり、Ｘ^Ｔ１、Ｘ^Ｔ２、Ｘ^Ｔ３及びＸ^Ｔ４は、それぞれ独立して、水素原子又はフッ素原子を表す。Ｘ^Ｔ１、Ｘ^Ｔ２、Ｘ^Ｔ３及びＸ^Ｔ４のいずれか一つはフッ素原子であることが好ましい。ただし、Ｘ^Ｔ１及びＸ^Ｔ２のいずれか一方がフッ素原子であるとき、Ｘ^Ｔ３及びＸ^Ｔ４は水素原子であることが好ましい。

【0204】

式（３Ｔ－１）及び式（３Ｔ－２）で表される化合物としては、例えば、下記式（３Ｔ－Ａ）～（３Ｔ－Ｄ）で表される化合物が挙げられる。

【化62】

【0205】

上記トラン系液晶化合物は、１種を単独で用いてよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

【0206】

トラン系液晶化合物の含有量は、散乱性の観点から、液晶組成物中の液晶成分の総量を基準として、０質量％以上、２０質量％以上又は４０質量％以上であってよい。トラン系液晶化合物の含有量は、液晶組成物中の液晶成分の総量を基準として、８０質量％以下、７０質量％以下又は６０質量％以下であってよい。これらの観点から、トラン系液晶化合物の含有量は、液晶組成物中の液晶成分の総量を基準として、０～７０質量％、２０～６５質量％又は４０～６０質量％であってよい。同様の観点から、式（３Ｔ）で表される化合物の含有量は上記範囲であってよい。

【0207】

一実施形態では、化合物（３）として、式（３）中のＲ^１２がシアノ基である化合物（以下、「シアン系液晶化合物」という。）を用いることが好ましい。

【0208】

シアン系液晶化合物において、式（３）中のＺ^１１及びＺ^１２は、それぞれ独立して、単結合、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＨ_２－ＣＨ_２－であることが好ましく、単結合又は－ＣＯＯ－であることがより好ましい。

【0209】

シアン系液晶化合物において、式（３）中のＲ^１１の炭素原子数は、好ましくは２～７であり、より好ましくは２～５である。

【0210】

シアン系液晶化合物において、式（３）中のｎ^１１は０又は１であることが好ましい。

【0211】

シアン系液晶化合物の好適な具体例としては、下記式（ｖｉ－１）～（ｖｉ－１１）で表される化合物が挙げられる。

【化63】

【0212】

上記式（ｖｉ－１）～（ｖｉ－１１）中、Ｒ^５１は炭素原子数１～１０のアルキル基、又は炭素原子数１～１０のアルコキシ基を表し、Ｙ^１１～Ｙ^６４は、それぞれ独立して水素原子、又はフッ素原子を表す。Ｙ^１１～Ｙ^６４は、全て水素原子を表してもよく、その中の１つ以上がフッ素原子を表してもよい。

【0213】

シアン系液晶化合物のより具体的な例としては、下記式（ｖｉ－Ａ）～（ｖｉ－Ｇ）で表される化合物が挙げられる。

【0214】

【化64】

【0215】

上記式（ｖｉ－Ａ）～（ｖｉ－Ｇ）中、Ｒ^５１１は炭素原子数２～７のアルキル基、又は炭素原子数２～７のアルコキシ基を表し、好ましくは２～５のアルキル基、又は炭素原子数２～５のアルコキシ基を表す。

【0216】

シアン系液晶化合物のさらに具体的な例としては、下記式（３Ｃ－１）～（３Ｃ－１６）で表される化合物が挙げられる。

【化65】

【化66】

【化67】

【化68】

【0217】

上記シアン系液晶化合物は、１種を単独で用いてよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

【0218】

シアン系液晶化合物の含有量は、低駆動電圧の観点から液晶組成物中の液晶成分の総量を基準として、５質量％以上、１０質量％以上又は１５質量％以上であってよい。シアン系液晶化合物の含有量は、信頼性・低粘度化による高速応答性の観点から、液晶組成物中の液晶成分の総量を基準として、１００質量％以下、９７質量％以下又は９５質量％以下であってよい。これらの観点から、シアン系液晶化合物の含有量は、液晶組成物中の液晶成分の総量を基準として、５～１００質量％、１０～９７質量％又は１５～９５質量％であってよい。

【0219】

一実施形態では、上記トラン系液晶化合物及び上記シアン系液晶化合物の少なくとも一方と、トラン系液晶化合物及びシアン系液晶化合物のいずれにも該当しない化合物とを組み合わせて用いてもよい。これらの化合物は、１種を単独で用いてよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

【0220】

トラン系液晶化合物及びシアン系液晶化合物のいずれにも該当しない化合物としては、例えば、化合物（３）のうち、式（３）中のＲ^１２が炭素原子数１～１０のアルキル基（置換されたものも含む）であり、式（３）中のＺ^１１及びＺ^１２が単結合である化合物が挙げられる。このような化合物の具体例としては、下記式（３Ｍ－１）～（３Ｍ－６）で表される化合物のうちの１種以上を用いることが好ましい。

【化69】

【化70】

【0221】

液晶成分は、化合物（３）以外の液晶化合物を含有してもよい。化合物（３）以外の液晶化合物の含有量は、液晶組成物中の液晶成分の総量を基準として、１０質量％以下であることが好ましい。

【0222】

液晶成分（液晶化合物全体）の転移温度（Ｔｎｉ）は、９５℃以上であることが好ましく、１００～１５０℃であることがより好ましく、１３０～１４０℃であることがさらに好ましい。ここで、転移温度（Ｔｎｉ）は、液晶成分（液晶相）がネマチック相から等方相へ相転移する温度(上限温度）を意味する。転移温度（Ｔｎｉ）が高いほど高温でもネマチック相を維持することができ、駆動温度範囲を広く取ることができる。

【0223】

液晶成分の２５℃、５８９ｎｍにおける屈折率異方性（Δｎ）は、０．１５～０．３５であることが好ましく、０．１８～０．３２であることがより好ましく、０．２０～０．３０であることがさらに好ましい。

【0224】

（添加剤成分）
液晶組成物には、実用的な電気光学特性、及び、液晶素子を作製した際に密着性が損なわれない範囲で、重合禁止剤、酸化防止剤、光安定剤、連鎖移動剤、顔料、粒子径が１μｍ未満の粒子、キラル化合物、あるいは、配向材料を添加することができる。これらの中でも、重合禁止剤、酸化防止剤、光安定剤、粒子径が１μｍ未満の粒子及び顔料からなる群より選ばれる少なくとも１種を用いることが好ましい。これらの添加剤としては、公知慣用のものを使用でき、例えば、国際公開第２０２２／１３８４１８号に記載されている化合物を同様の添加量で用いることができる。

【0225】

＜液晶層＞
本発明の他の一実施形態は、上記実施形態の液晶組成物から形成される液晶層である。この液晶層は、上記重合性化合物（重合性成分）由来のポリマーネットワークと、非重合性液晶化合物（液晶成分）と、を含む。ポリマーネットワークは、上記重合性成分の重合体（重合性成分として例示した各重合性化合物をモノマー単位として含む重合体）で構成される。液晶組成物中の重合性成分の総量に対する上記第１～第４成分の含有量は、液晶層中の重合体の総量（全質量）に対する各成分に由来するモノマー単位の含有量として読み替えることができる。また、液晶組成物の総量に対する上記重合性成分の含有量は、液晶層の総量に対する重合体の含有量として読み替えることができる。

【0226】

上記液晶層は、ポリマーネットワークと液晶成分とを含むことから、高分子分散型（ポリマーネットワーク型）液晶からなる層、すなわち、高分子分散型液晶層（ポリマーネットワーク型液晶層）ということができる。高分子分散型液晶層は、例えば、ポリマーの３次元ネットワーク構造中に液晶成分が連続層をなす構造、液晶成分のドロップレットがポリマー中に分散している構造、又は両者が混在する構造を有する。高分子分散型液晶層は、液晶成分がポリマー成分内にカプセル状に閉じ込められた構造、液晶成分の連続相中にポリマー成分の３次元ネットワーク構造が形成された構造、又は両者が混在した構造等を有しているが、液晶成分の連続相中にポリマー成分の３次元ネットワーク構造が形成された構造を有することが好ましい。カプセル状の液晶成分の平均粒径、及び、ポリマー成分の３次元ネットワーク構造の平均空隙間隔は、それぞれ、０．１μｍ以上が好ましく、０．２μｍ以上がより好ましく、０．３μｍ以上が最も好ましく、３μｍ以下が好ましく、２μｍ以下がより好ましく、１μｍ以下が最も好ましい。上記液晶層において、液晶成分とポリマーネットワークとは互いに相分離するため、液晶層は相分離液晶層ということもできる。

【0227】

液晶層は、例えば、基材上に液晶組成物を塗布し、該液晶組成物中の重合性成分を重合させることにより得られる。

【0228】

液晶組成物の塗布方法は、アプリケーター法、バーコーティング法、ロールコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、インクジェット法、ダイコーティング法、キャップコーティング法等の公知慣用の方法であってよい。

【0229】

液晶組成物中の重合性成分を重合させる方法は、重合性成分の種類（重合開始剤の種類）に応じた方法であればよいが、光重合開始剤を含有する液晶組成物に対して紫外線照射を行うことで、該重合性成分を重合させることが好ましい。

【0230】

紫外線を発生させるランプとしては、メタルハライドランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ等を用いることができる。また、照射する紫外線の波長としては、液晶組成物に含有されている光重合開始剤の吸収波長領域であり、且つ含有されている液晶化合物の吸収波長域でない波長領域の紫外線を照射することが好ましい。具体的には、メタルハライドランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプを使用して３３０ｎｍ以下の紫外線をカットして使用することが好ましい。また、単一波長を照射できるＵＶ－ＬＥＤランプを用いることも好ましい。

【0231】

照射する紫外線の強度は、目的とする液晶層を得る観点から適宜調整することができるが、１～２００ｍｗ／ｃｍ^２が好ましく、５～５０ｍｗ／ｃｍ^２がより好ましい。紫外線を照射する時間は照射する紫外線強度により適宜選ばれるが、１０～３００秒が好ましい。紫外線照射時の温度は、液晶層の特性を決める重要な要素となるが、液晶組成物のアイソトロピック－ネマチック転移点（Ｔｎｍ）より高い温度が好ましい。

【0232】

＜液晶素子及び調光素子＞
本発明の他の一実施形態は、液晶層と、電極と、該液晶層及び該電極を支持する基材と、を少なくとも備える液晶素子である。この液晶素子は、液晶層が上記実施形態の液晶層（高分子分散型（ポリマーネットワーク型）液晶層）であることから、いわゆる高分子分散型（ポリマーネットワーク型）液晶素子である。

【0233】

図１は、一実施形態に係る液晶素子を示す模式断面図である。図１に示すように、一実施形態に係る液晶素子１は、第１の電極基板２及び第２の電極基板３からなる一対の電極基板と、一対の電極基板（第１の電極基板２及び第２の電極基板３）間に配置された液晶層４と、第１の電極基板２の液晶層４とは反対側に設けられた紫外線遮断層５と、を備える。すなわち、一実施形態に係る液晶素子１は、厚さ方向（積層方向）に、第２の電極基板３、液晶層４、第１の電極基板２及び紫外線遮断層５をこの順に備える。

【0234】

上記液晶素子は、例えば、電圧無印加時には、重合性化合物由来のポリマーネットワークとその空隙に存在する液晶分子（液晶成分）によって光散乱状態とすることができる。一方、電圧印加時には、基材に対して液晶分子が垂直に配向することによって、光透過状態とすることができる。このように、上記液晶素子は電圧印加の有無により光の透過状態を変化させられる。特に、上記液晶層は、ポリマーネットワークが色素化合物である第１の重合性化合物由来の構造を有することから、無着色のポリマーネットワークと比べて、ポリマーネットワーク部を導波路として伝送される光についても、着色や遮光をすることができるため、電圧無印加時に該第１の重合性化合物の吸収波長に応じた色を発現でき、十分な遮光性を発現できる。このため、上記液晶素子は、調光機能が求められる装置に組み込んで用いる液晶調光素子や、映像表示用ディスプレイに用いられる液晶表示素子として利用することができる。

【0235】

液晶素子は、例えば、建材、調光ガラス、車載向けのスマートウィンドウ又はＯＬＥＤディスプレイにおける調光ユニット等に用いることが好ましい。液晶素子は、従来の高分子分散型液晶表示素子と同様な用途に用いることができるほか、特に透過型ディスプレイ、フレキシブルディスプレイ等にも好ましく用いることができる。より具体的には、窓、天窓、屋根、壁、仕切り、間仕切り、扉等の建築用調光素子、扉、窓、ドア、ヘルメット、サンルーフ等の輸送用調光素子、サングラス、眼鏡、サンバイザー、時計、鏡、反射板等の装飾用調光素子、フレキシブル液晶表示素子、反射型液晶表示素子、透明液晶表示素子、可変式拡散フィルム等のディスプレイ用部材等の物品に用いることができる。

【0236】

（電極基板）
第１の電極基板２は、第１の基材２ａと該第１の基材２ａ上に設けられた第１の電極２ｂとを備える。同様に、第２の電極基板３は、第２の基材３ａと該第２の基材３ａ上に設けられた第２の電極３ｂとを備える。これらの電極基板において、電極（第１の電極２ｂ及び第２の電極３ｂ）は、液晶層中の液晶分子を配向制御可能な電界を生じるように設けられている。

【0237】

第１の電極基板２は透明な電極基板（透明電極基板）であり、第１の基材２ａ及び第１の電極２ｂは透明な材料で構成されている。すなわち、第１の基材２ａは透明基材であり、第１の電極２ｂは透明電極である。ここで、「透明」とは、４００～７８０ｎｍの波長域の光透過率が８０％以上であることを意味する。なお、特に断りのない場合、本明細書中、光透過率は、分光光度計（Ｖ－６６０）を用いて測定される透過率を意味する。

【0238】

第１の基材２ａ（透明基材）は、例えば、平板状又は非平板状（例えば曲面を有する形状）である。第１の基材２ａ（透明基材）を構成する材料は、ガラスであってもプラスチックであってもよい。すなわち、第１の基材２ａ（透明基材）はガラス基材であってもプラスチック基材であってもよい。軽量化や後工程の作業性の観点では、第１の基材２ａ（透明基材）はプラスチック基材であることが好ましい。プラスチック基材の材料としては、セルロース誘導体、ポリオレフィン、ポリエステル、ポリオレフィン、ポリカーボネート、ポリアクリレート、ポリアリレート、ポリエーテルサルホン、ポリイミド、ポリフェニレンスルフィド、ポリフェニレンエーテル、ナイロン又はポリスチレン等が挙げられる。中でもポリエステル（例えばＰＥＴ）、ポリスチレン、ポリオレフィン、セルロース誘導体、ポリアリレート、ポリカーボネート、ポリイミド等が好ましく用いられる。

【0239】

第１の基材２ａ（透明基材）の厚さは、例えば５～５００μｍであってよい。

【0240】

第１の電極２ｂ（透明電極）は、例えば、膜状である。第１の電極２ｂ（透明電極）の形状は特に限定されず、例えば、電極の導電部が、ストライプ状、メッシュ状、ランダムな網目状等に形成されていてもよい。第１の電極２ｂ（透明電極）を構成する材料としては、例えばＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）、ＩＺＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｚｉｎｃ Ｏｘｉｄｅ）、ＩＺＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｚｉｎｃ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）のような公知の透明導電性材料が挙げられる。

【0241】

第１の電極２ｂ（透明電極）の厚さは、例えば５～５００ｎｍであってよい。

【0242】

第２の電極基板３は、第１の電極基板２と同じく透明電極基板であってもよいが、場合によっては非透明の電極基板（例えば、色付きの電極基板、遮光性を有する電極基板等）であってもよい。

【0243】

第２の基材３ａは、例えば、平板状又は非平板状（例えば曲面を有する形状）である。第２の基材３ａとしては、液晶表示素子、有機発光表示素子、その他表示素子、光学部品、調光素子、着色剤、マーキング、印刷物や光学フィルムに通常使用する基材を用いることができる。第２の基材３ａの材料に特に制限はなく、例えば、上記第１の基材２ａに用いられるガラス基材及びプラスチック基材の他、金属基材、セラミックス基材、紙基材等を用いることができる。第２の基材３ａは、透明であってよく、色付きの基材であってもよい。第２の基材３ａとしては、第２の電極基板３に遮光性を付与するために、可視光の透過率が低い基材（例えば、グレー色等の基材）を用いることもできる。

【0244】

第２の電極３ｂは、例えば、膜状である。第２の電極３ｂの形状は特に限定されず、例えば、電極の導電部が、ストライプ状、メッシュ状、ランダムな網目状等に形成されていてもよい。第２の電極３ｂの材料に特に制限はなく、公知の金属材料であってよい。このような金属材料としては、上記第１の電極２ｂに用いられる透明導電性材料の他、例えば、Ａｌ、Ｃｕ、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｒ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｍｏ、Ｗ、Ｎｉ又はこれらのうちの少なくとも１種を含む合金を用いることができる。

【0245】

第２の基材３ａの厚さ及び第２の電極３ｂの厚さの範囲は、それぞれ、第１の基材２ａの厚さ及び第１の電極２ｂの厚さとして例示した上記範囲と同じであってよい。

【0246】

第１の電極基板２及び第２の電極基板３の基材（第１の基材２ａ及び第２の基材３ａ）は、液晶素子の密着性向上のために表面処理されていてもよい。表面処理としては、オゾン処理、プラズマ処理、コロナ処理、シランカップリング処理などが挙げられる。また、光の透過率や反射率を調節するために、基材表面に、有機薄膜、無機酸化物薄膜、金属薄膜等が、蒸着等の方法によって設けられていてよい。また、光学的な付加価値をつけるために、基材がピックアップレンズ、ロッドレンズ、光ディスク、位相差フィルム、光拡散フィルム、マイクロレンズシート、カラーフィルター、等であってもよい。また、必要に応じて、基材に反射防止機能、反射機能等が付与されていてもよい。

【0247】

図示しないが、第１の電極基板２及び第２の電極基板３は、周縁領域に配置されたエポキシ系熱硬化性組成物等のシール材及び封止材によって互いに貼り合わされていてよい。第１の電極基板２及び第２の電極基板３の間には、基板間距離を保持するために、例えば、ガラス粒子、プラスチック粒子、アルミナ粒子等の粒状スペーサー、又はフォトリソグラフィー法により形成された樹脂からなるスペーサー柱が配置されていてもよい。

【0248】

（紫外線遮断層）
紫外線遮断層５は、３７８ｎｍ以下の波長域における光透過率が０．１％以下である層である。紫外線遮断層５の４１２ｎｍ以下の波長域における光透過率は、好ましくは３０％以上であり、５０％以上であってもよい。紫外線遮断層５の４００ｎｍ以下の波長域における光透過率は０．１％超（例えば０．１％超９０％以下）であってもよいが、０．１％以下であってもよい。紫外線遮断層５の３９４ｎｍ以下の波長域における光透過率は０．１％以下であってよい。紫外線遮断層５の３９４ｎｍ以下の波長域における光透過率が０．１％以下である場合、紫外線遮断層５の４１２ｎｍ以下の波長域における光透過率は、好ましくは５０％以上である。

【0249】

紫外線遮断層５は、長波長域の光に対しては光透過性を有する。紫外線遮断層５の４２０ｎｍ以上の波長域における光透過率は、例えば、８０％以上である。

【0250】

紫外線遮断層５は、例えば、膜状である。紫外線遮断層５を構成する材料としては、紫外線吸収剤を混入、又はコーティングした各種プラスチックフィルム、光干渉型の基材等が挙げられる。紫外線吸収剤入り樹脂を電極基板２に直接コーティングして形成されたコーティング層であってもよい。

【0251】

紫外線遮断層５の厚さは、例えば１０μｍ～５ｍｍであってよい。

【0252】

紫外線遮断層５としては、例えば、富士フィルム社製のＴＡＣ基材の紫外線吸収フィルターＳＣシリーズ、日東樹脂工業社製のアクリル基材の紫外線カットフィルター、ＨＯＹＡ社の色ガラスフィルター、３Ｍ社製のＵＶカットフィルター等として入手可能な紫外線遮断フィルムを使用可能である。

【0253】

紫外線遮断層５を配置する方法は、紫外線遮断層であるフィルム・基材を第１の電極基板２に貼り合わせる方法、第１の電極基板２に紫外線遮断層をコーティング等の手法により、直接成形させる方法等が挙げられる。

【0254】

本発明の液晶素子は上記実施形態の液晶素子に限定されない。例えば、紫外線遮断層が第２の電極基板３の液晶層４とは反対側にさらに設けられていてもよい。すなわち、液晶素子は、一対の電極基板（第１の電極基板２及び第２の電極基板３）と液晶層４とを挟むように、一対の紫外線遮断層を備えていてもよい。この場合、第２の電極基板３は透明電極基板であってよい。透明電極基板の詳細は、第１の電極基板２場合と同じである。また、本発明の液晶素子が、一対の電極基板と該一対の電極基板間に配置された液晶層とを備える素子を他の基材に貼り合わせて得られたものである場合、該基材、貼り合わせに使用された感圧接着剤（ＰＳＡ）、ＰＶＢ、ＥＶＡ等の中間膜などが紫外線遮断層５であってもよい。すなわち、これらの基材等に紫外性遮断機能を持たせることで、紫外線遮断層５としてもよい。ＰＳＡや、ＰＶＢ、ＥＶＡ等の中間膜に紫外線遮断機能を持たせる方法としては、例えば、これらの材料に紫外線吸収剤等を含有させる方法が挙げられる。本発明の液晶素子は、紫外線遮断層を備えていなくてもよいが、紫外線遮断層を使用することで、液晶素子の耐光性を向上させることができる。

【0255】

上記液晶素子は、液晶素子中の液晶分子が水平配向、あるいは、垂直配向するように、配向膜をさらに備えていてもよく、基材に配向処理が施されていてもよい。配向膜としては、ポリイミド、ポリシロキサン、ポリアミド、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリフェニレンエーテル、ポリアリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエーテルサルホン、エポキシ樹脂、エポキシアクリレート樹脂、アクリル樹脂、アゾ化合物、クマリン化合物、カルコン化合物、シンナメート化合物、フルギド化合物、アントラキノン化合物、アゾ化合物、アリールエテン化合物等の化合物、又は、前記化合物の重合体や共重合体などで構成される膜が挙げられる。配向処理としては、延伸処理、ラビング処理、偏光紫外可視光照射処理、イオンビーム処理、基材へのＳｉＯ_２の斜方蒸着処理、等が挙げられる。液晶分子にチルト角を付与するために、ラビング処理を行う場合、ラビングにより配向処理する化合物は、配向処理、もしくは配向処理の後に加熱工程を入れることで材料の結晶化が促進されるものが好ましい。ラビング以外の配向処理を行う化合物の中では光配向材料を用いることが好ましい。一般に、配向機能を有する基材に液晶組成物を接触させた場合、液晶分子は基板付近で基板を配向処理した方向に沿って配向する。液晶分子が基板と水平に配向するか、傾斜あるいは垂直して配向するかは、基板への配向処理方法による影響が大きい。

【0256】

上記液晶素子は、そのまま使用できるが、他の基材に貼り合せて使用することもできる。また、液晶素子には、接着剤や接着層、粘着剤や粘着層、保護フィルムや偏光フィルム等が積層されていてもよい。

【0257】

液晶素子は、電圧印加により液晶分子の配向を制御できるよう構成されればよく、垂直電界型液晶素子、横電界型液晶素子、その他の電界型（例えば、ＦＦＳ駆動モードに採用されるフリンジ電界型）の液晶素子であってよい。これらの中でも、液晶素子が垂直電界型液晶素子として構成されることが好ましい。

【0258】

垂直電界型液晶素子は、配向膜に対して垂直に電界が生じるように電極が配置された液晶素子である。垂直電界型液晶素子においては、通常、液晶層を狭持する一対の透明基材の両方に電極が設けられる。すなわち、透明基材と電極とを備える透明電極基板が用いられる。

【0259】

垂直電界型の液晶素子は、例えば、一対の透明電極基板（第一の透明電極基板及び第二の透明電極基板）と、前記一対の透明電極基板の間に配された液晶層と、を有する。このような構造の液晶素子は、調光素子として好適に用いられる。すなわち、本発明の他の一実施形態は、一対の透明電極基板と、前記一対の透明電極基板の間に配された、上記実施形態の液晶層と、を有する調光素子である。

【0260】

調光素子は、例えば、光の透過率を電気的に制御する素子であってよい。調光素子は電圧印加装置を備えていてもよい。調光素子は、上記液晶層及び透明電極基板の積層体を、ＰＶＢ（ポリビニルブチラール）、ＥＶＡ（エチレン酢酸ビニル共重合樹脂）、ＴＰＵ（ポリウレタン系）、ＳＧＰ等の中間膜を介して２枚のガラスで挟み、合わせガラスとした構造を有していてもよい。また、本調光素子には、紫外線カット、熱線カット等の機能性フィルムが付加されていてもよい。

【0261】

垂直電界型液晶素子は、生産性の観点から、例えばロールｔｏロール法を用いて、基材の上に上記実施形態の液晶組成物をＯＤＦ法等により滴下又は塗布し、対向基板をラミネートした後に液晶組成物中の重合性成分を重合させることで、液晶素子を作製することが好ましい。

【0262】

ロールｔｏロール法による液晶素子の製造工程においては、第一の電極、又は、配向膜と第一の電極を有するガラス基材、あるいは、プラスチック基材上に液晶組成物を塗布し、第二の電極、又は、配向膜と第二の電極を有するガラス基材、あるいは、プラスチック基材の前記電極側、又は前記配向膜側と前記液晶組成物が接するように貼り合せ、厚みを略均一にした後に液晶組成物中の重合性成分を重合させることで、前記液晶素子を製造することもできる。

【0263】

液晶組成物の塗布方法及び重合性成分の重合方法は、上記液晶層の作製方法で説明したとおりである。

【0264】

ＯＤＦ法の前記液晶素子製造工程においては、中空素子のバックプレーン又はフロントプレーンのどちらか一方の基板にエポキシ系光熱併用硬化性などのシール剤を、ディスペンサーを用いて閉ループ土手状に描画し、その中に脱気下で所定量の前記液晶組成物を滴下後、フロントプレーンとバックプレーンを接合することによって前記液晶素子を製造することができる。

【0265】

液晶素子を作製する際には、周知の液晶素子の作製方法と同様に、間隔保持用のスペーサー（粒子等）を２枚の基材間に介在させることより、基材間の厚み（基材間隔）を調整してよい。基板間の厚み、すなわち相分離層の厚みは、２～５０μｍが好ましく、１０～３０μｍがより好ましい。スペーサーは事前に基板上に散布してもよいが、液晶組成物中にあらかじめ混入しておき、液晶組成物と同時に基板上に塗布してもよい。

【0266】

２枚の基板間に液晶組成物を狭持させる方法は、通常の真空注入法でもよいが、ＯＤＦ法等滴下又は塗布で行うことが好ましい。この滴下又は塗布から重合性成分が重合するまでの間、液晶組成物は略均一なアイソトロピック状態であることが好ましい。

【0267】

滴下又は塗布を行う場合、２枚の基板で液晶組成物を挟みこむ方法としては、２枚の基板をラミネーター等で挟み込む方法が挙げられる。

【実施例0268】

以下に実施例を挙げて本発明をさらに詳述するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。また、以下の実施例及び比較例の組成物における「部」は「質量部」を意味する。

【0269】

＜第１の重合性化合物（重合性色素）の準備＞
（合成例１：重合性色素１の合成）
乾燥窒素雰囲気下、１，５－ジヒドロキシアントラセン－９，１０－ジオン（３．０ｇ）、４－ヒドロキシブチルアクリレート（３．６ｇ）、トリフェニルホスフィン（７．２１ｇ）、テトラヒドロフラン（６０ｍＬ）を混合し、氷冷した。氷冷下アゾジカルボン酸ジイソプロピル（５．３２ｇ）を滴下し、室温にて６時間撹拌した。反応液に水（２００ｍＬ）を加えた後、ジクロロメタン（２００ｍＬ）を加えて分液した。有機層を水（１００ｍＬ）で洗浄し、無水硫酸ナトリウムを加えて乾燥した。乾燥材をろ過した後、濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製した。得られた粗製物をジクロロメタン及びメタノールから再沈殿することで、重合性色素１として、下記式（１－１－１ａ）で表される化合物（１，５－ビス（４－アクリルオキシブタン－１－オキシ）アントラセン－９，１９－ジオン）を１．５８ｇ得た。重合性色素１の^１Ｈ－ＮＭＲの帰属を以下に示す。
^１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３、ＴＭＳ内部標準）δ（ｐｐｍ）＝７．８９（ｄｄ，Ｊ＝７．８，０．９Ｈｚ，２Ｈ），７．６６（ｔ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，２Ｈ），７．２４（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，２Ｈ），６．４０（ｄｄ，Ｊ＝１７．２，１．６Ｈｚ，２Ｈ），６．１２（ｄｄ，Ｊ＝１７．４，１０．５Ｈｚ，２Ｈ），５．８１（ｄｄ，Ｊ＝１０．３，１．６Ｈｚ，２Ｈ），４．３０（ｔ，Ｊ＝５．９Ｈｚ，４Ｈ），４．１９（ｔ，Ｊ＝５．７Ｈｚ，４Ｈ），２．０２－２．０７（ｍ，８Ｈ）

【化71】

【0270】

（合成例２：重合性色素２の合成）
乾燥窒素雰囲気下、１－アミノ－２，４－ジブロモアントラセン－９，１０－ジオン（１１０ｇ）、４－ブチルアニリン（１０８ｇ）、酢酸銅（ＩＩ）（１０．５ｇ）、酢酸カリウム（７１．０ｇ）及びトルエン（１０００ｍＬ）を混合し、１２０℃にて７２時間攪拌した。室温まで冷却した後、１０％塩酸（９００ｍＬ）及びトルエン（５００ｍＬ）を加え分液した。有機層に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（６００ｍＬ）を加えて中和し分液した。有機層を飽和食塩水（６００ｍＬ）で洗浄し、無水硫酸ナトリウムを加えて乾燥した。ろ過により硫酸ナトリウムを除去し、有機溶媒を減圧留去することで、１－アミノ－２－ブロモ－４－（（４－ブチルフェニル）アミノ）アントラセン－９，１０－ジオン（１０２ｇ）を得た。１－アミノ－２－ブロモ－４－（（４－ブチルフェニル）アミノ）アントラセン－９，１０－ジオンの^１Ｈ－ＮＭＲの帰属を以下に示す。
^１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤ_３ＣＯＣＤ_３）：δ（ｐｐｍ）＝１１．９４（１Ｈ，ｓ）、８．３７－８．３２（２Ｈ，ｍ）、７．８８－７．８５（３Ｈ，ｍ）、７．３４－７．２８（４Ｈ，ｍ）、２．６７（２Ｈ，ｔ）、１．６９－１．６１（２Ｈ，ｍ）、１．４５－１．３５（２Ｈ，ｍ）、０．９５（３Ｈ，ｔ）

【0271】

次に、乾燥窒素雰囲気下、１－アミノ－２－ブロモ－４－（（４－ブチルフェニル）アミノ）アントラセン－９，１０－ジオン（９０．０ｇ）、４－ブチルフェノール（９０．１ｇ）、水酸化カリウム（３３．７ｇ）及びピリジン（８００ｍＬ）を混合し、１１０℃にて２２時間攪拌した。室温まで冷却した後、トルエン（３０００ｍＬ）及び水（１０００ｍＬ）を加え分液した。有機層に１０％塩酸（９００ｍＬ）を加え分液した後、有機層に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（６００ｍＬ）を加えて中和し分液した。有機層を飽和食塩水（１０００ｍＬ）で洗浄し、無水硫酸ナトリウムを加えて乾燥した。ろ過により硫酸ナトリウムを除去し、有機溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製した後、ジクロロメタン及びヘキサン溶媒で再沈殿することで、１－アミノ－２－（４－ブチルフェノキシ）－４－（（４－ブチルフェニル）アミノ）アントラセン－９，１０－ジオン（６６．９ｇ、収率６４％）を得た。１－アミノ－２－（４－ブチルフェノキシ）－４－（（４－ブチルフェニル）アミノ）アントラセン－９，１０－ジオンの^１Ｈ－ＮＭＲの帰属を以下に示す。
^１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３、ＴＭＳ内部標準）δ（ｐｐｍ）＝１２．３３（ｓ，１Ｈ），８．３６（ｄｔ，Ｊ＝７．０，１．６Ｈｚ，２Ｈ），７．６８－７．７５（ｍ，２Ｈ），７．１６－７．１９（ｍ，２Ｈ），６．９５－７．０３（ｍ，６Ｈ），６．７９（ｓ，１Ｈ），２．５９（ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，２Ｈ），２．５３（ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，２Ｈ），１．５０－１．６２（ｍ，４Ｈ），１．２９－１．４０（ｍ，４Ｈ），０．９１－０．９７（ｍ，６Ｈ）

【0272】

次に、乾燥窒素雰囲気下、１－アミノ－２－（４－ブチルフェノキシ）－４－（（４－ブチルフェニル）アミノ）アントラセン－９，１０－ジオン（１．４ｇ）、塩化アクリロイル（０．３ｇ）、トリエチルアミン（０．４ｇ）及びジクロロメタン（２４ｍＬ）を混合し、室温にて２６時間攪拌した。水（１００ｍＬ）及びジクロロメタン（１００ｍＬ）を加え分液した。有機層に無水硫酸ナトリウムを加えて乾燥した。ろ過により硫酸ナトリウムを除去し、得られたろ液をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製した。ジクロロメタン及びメタノールで再沈殿することで、重合性色素２として、下記式（１－２－１ａ）で表される化合物（Ｎ－（２－（４－ブチルフェノキシ）－４－（（４－ブチルフェニル）アミノ）－９，１０－ジオキソ－９，１０－ジヒドロアントラセン－１－イル）アクリルアミド）を０．２ｇ（収率１６％）得た。重合性色素２のマススペクトル及び^１Ｈ－ＮＭＲの帰属、並びに、相転移温度を以下に示す。
ＭＳｍ／ｚ：５７２［Ｍ^＋］
相転移温度：Ｃｒ１５０Ｉｓｏ
^１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３、ＴＭＳ内部標準）δ（ｐｐｍ）＝１１．７６（ｓ，１Ｈ），１０．２３（ｓ，１Ｈ），８．２８（ｄｄ，Ｊ＝７．８，０．９Ｈｚ，１Ｈ），８．１９（ｄｄ，Ｊ＝７．５，１．１Ｈｚ，１Ｈ），７．７７（ｔｄ，Ｊ＝７．５，１．４Ｈｚ，１Ｈ），７．７１（ｔｄ，Ｊ＝７．５，１．５Ｈｚ，１Ｈ），７．１２（ｄｔ，Ｊ＝８．８，２．３Ｈｚ，２Ｈ），７．０２（ｄｑ，Ｊ＝１４．２，２．９Ｈｚ，６Ｈ），６．８６（ｓ，１Ｈ），６．３４－６．４４（ｍ，２Ｈ），５．７７（ｑ，Ｊ＝４．０Ｈｚ，１Ｈ），２．５２－２．５８（ｍ，４Ｈ），１．５１－１．６０（ｍ，４Ｈ），１．３４（ｔｄｄ，Ｊ＝１４．８，７．４，４．７Ｈｚ，４Ｈ），０．９３（ｔｄ，Ｊ＝７．３，４．６Ｈｚ，６Ｈ）

【化72】

【0273】

（合成例３：重合性色素３の合成）
乾燥窒素下、１，４－ジクロロアントラセン－９，１０－ジオン（１．５０ｇ）、４－アミノフェノール（１．７７ｇ）、リン酸水素２ナトリウム（１．５４ｇ）及びＮ－メチルピロリドン（１０ｍＬ）を混合し、１６０℃に加熱し１６時間撹拌した。室温まで冷却した後、メタノール（７０ｍＬ）を加え、生じた沈殿をろ過した。沈殿を水（５０ｍＬ）で洗浄した後、乾燥させることで１，４－ビス（４－ヒドロキシフェニルアミノ）アントラセン－９，１０－ジオン（１．９０ｇ）を得た。

【0274】

次いで、１，４－ビス（４－ヒドロキシフェニルアミノ）アントラセン－９，１０－ジオン（１．９０ｇ）、炭酸カリウム（１．８７ｇ）、アクリル酸６－クロロ－１－ヘキシル（２．５７ｇ）及びジメチルスルホキシド（４０ｍＬ）を混合し、８０℃に加熱した。１５時間撹拌した後、氷冷し、水（１００ｍＬ）を加えた。生じた沈殿をろ過し、水（５０ｍＬ）及びメタノール（５０ｍＬ）で洗浄した。得られた固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した後、ジクロロメタン及びメタノールから再沈殿することで、重合性色素３として、下記式（１－３－１ａ）で表される化合物（１，４－ビス（４－（６－アクリルオキシヘキサン－１－オキシ）フェニルアミノ）アントラセン－９，１０－ジオン）を１．２１ｇ得た。重合性色素３の^１Ｈ－ＮＭＲの帰属を以下に示す。
^１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３、ＴＭＳ内部標準）δ（ｐｐｍ）＝１２．１９（ｓ，２Ｈ），８．３９（ｔｄ，Ｊ＝６．３，３．０Ｈｚ，２Ｈ），７．７４（ｔｄ，Ｊ＝６．３，３．２Ｈｚ，２Ｈ），７．３０（ｓ，２Ｈ），７．１７（ｔｄ，Ｊ＝６．２，３．７Ｈｚ，４Ｈ），６．９０（ｔｄ，Ｊ＝６．１，３．８Ｈｚ，４Ｈ），６．４０（ｄｄ，Ｊ＝１７．４，１．８Ｈｚ，２Ｈ），６．１２（ｄｄ，Ｊ＝１７．２，１０．３Ｈｚ，２Ｈ），５．８１（ｄｄ，Ｊ＝１０．５，１．４Ｈｚ，２Ｈ），４．１８（ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，４Ｈ），３．９７（ｔ，Ｊ＝６．４Ｈｚ，４Ｈ），１．７８－１．８５（ｍ，４Ｈ），１．６９－１．７６（ｍ，４Ｈ），１．４２－１．５５（ｍ，８Ｈ）

【化73】

【0275】

（極大吸収波長の測定）
得られた重合性色素１～３の極大吸収波長を以下の方法で測定した。まず、測定対象化合物（重合性色素１～３）を溶解することができる任意の液晶組成物１００質量部に対して、測定対象化合物を１．０質量部添加して溶解させ、測定試料を調製した。次に、ＩＴＯ電極を有し、当該ＩＴＯ電極上に水平配向用配向膜を備えた２ｃｍ×２ｃｍのガラス基板を２枚用いて、ＩＴＯ電極層をセルの内側として、プラスチック粒子によりセル厚１０μｍに調整した注入口を備えたセルを作製した。当該セルに、試料を注入し、注入口を封止材で塞ぐことにより、素子を作製した。次に、スペクトルメーター（大塚電子社製、「ＬＣＤ－５２００」、又は日立ハイテクサイエンス社製「Ｕ－４１００」）を用いて、２５℃、電圧無印加の条件下、作製した素子を用いて、３７０～７８０ｎｍの間の吸収スペクトルを測定することにより、重合性色素１～３の極大吸収波長を求めた。結果を以下に示す。
［３７０～７８０ｎｍの範囲の極大吸収波長］
重合性色素１：３７７ｎｍ
重合性色素２：５３５ｎｍ
重合性色素３：６４１ｎｍ

【0276】

＜重合性混合物（ＭＡ）の調製＞
下記表１に示す重合性化合物（第２の重合性化合物）及び重合開始剤を表１に示す配合比で混合し、５０℃で攪拌しながら重合開始剤を重合性化合物に溶解させることで、重合性混合物（ＰＬ１）を得た。得られた重合性混合物（ＰＬ１）を後述の実施例及び比較例で用いた。

【0277】

【表1】

【0278】

（合成例４：ウレタンアクリレートの合成）
攪拌羽根のついたフラスコにＩＰＤＩ（イソホロンジイソシアネート）４４．４部（０．２モル）を仕込み、攪拌を行いながらポリプロピレングリコール（平均分子量Ｍｗ：８１００）８１０部（０．１モル）を発熱に注意しながら仕込み、７０℃まで昇温した。この温度で反応を７時間行い、末端にイソシアネート基を有するウレタンポリマーを得た。次いで２－ヒドロキシエチルアクリレート（分子量１１６）２３．２部（０．２モル）を仕込み、この温度でさらに７時間反応を行った。赤外吸収スペクトルでＮＣＯの吸収が消失したことを確認して取り出し、ウレタンアクリレートである重合性化合物（２－１）（平均分子量Ｍｗ：２９８００）を得た。重量平均分子量（Ｍｗ）はＧＰＣ測定に基づきポリスチレン換算した値である。なお、ＧＰＣの測定条件は以下の通りである。

【0279】

［ＧＰＣの測定条件］
測定装置：東ソー株式会社製「ＨＬＣ－８３２０ ＧＰＣ」
カラム：東ソー株式会社製ガードカラム「ＳｕｐｅｒＨＺ－Ｌ」＋東ソー株式会社製「ＳｕｐｅｒＨＺ２０００」×３本＋東ソー株式会社製「ＴＳｕｐｅｒＨＺＭ－Ｍ」
検出器：内蔵ＲＩ検出器
データ処理：東ソー株式会社製「ＥｃｏＳＥＣ－ＷｏｒｋＳｔａｔｉｏｎ Ｖｅｒ２．０１」
測定条件：カラム温度４０℃、展開溶媒テトラヒドロフラン、流速１．０ｍｌ／分
標準：装置測定マニュアルに準拠して、分子量が既知の単分散ポリスチレンを用いた。

【0280】

＜液晶混合物（ＬＣ）の調製＞
複数種の液晶化合物を混ぜ合わせ、下記表２に示す組成の液晶混合物（ＬＣ１及びＬＣ２）を調製した。これらの液晶混合物（ＬＣ１及びＬＣ２）を後述の実施例及び比較例で用いた。

【0281】

【表2】

【0282】

表２では液晶化合物の構造を符号及び数字で示している。各符号は、以下に示す構造の基を表し、末端の数字（１～５）は、該数字と同一の炭素原子数の直鎖状アルキル基を表す。例えば、２－Ｐｈ－Ｅ－Ｐｈ３－ＣＮで表される化合物は、上記式（３Ｃ－１）で表される化合物を意味する。

【化74】

【0283】

表２中、物性値「Ｔｎｉ」は、上記液晶混合物からなる液晶成分（液晶相）がネマチック相から等方相へ転移する温度（上限温度）を意味し、偏光顕微鏡により測定した値である。

【0284】

表２中、物性値「Δｎ」は、液晶混合物からなる液晶成分の２５℃、５８９ｎｍにおける屈折率異方性を意味し、アッベ屈折計を用いて、２５℃、５８９ｎｍにおける液晶分子（液晶成分）の長軸方向の屈折率（ｎ_ｅ）及び液晶分子（液晶成分）の短軸方向の屈折率（ｎ_ｏ）を測定し算出した値である。

【0285】

＜実施例１～３及び比較例１～２＞
（液晶組成物の調製）
下記表３に示す組み合わせ及び配合比（単位：質量部）で、重合性色素と、液晶混合物（ＬＣ１又はＬＣ２）と、重合性混合物（ＰＬ１）とを混合し、５０℃で攪拌しながら重合性色素及び液晶混合物を重合性混合物に溶解させた後、ここに平均粒子径１５μｍのビーズスペーサーを含有させることで、実施例１～３及び比較例１～２の液晶組成物（高分子分散型液晶形成性組成物）を得た。ビーズスペーサーの配合量は液晶組成物の全質量基準で１質量％となるようにした。なお、表３中の「Ｓ－４２８」は三井化学社製の非重合性色素である。

【0286】

【表3】

【0287】

（液晶素子の作製）
上記で得られた液晶組成物を用いて、実施例１～３及び比較例１～２の液晶素子（高分子分散型液晶素子）をそれぞれ作製した。具体的には、まず、電極基板としてＩＴＯ電極付ＰＥＴフィルムを２枚用意し、一方の電極基板のＩＴＯ電極側に上記組成物を塗布して塗膜を形成し、他方の電極基板を、ＩＴＯ電極側の面が塗膜に接するように塗膜上に配置した。次いで、得られた積層体に、ラミネーター（ヒサゴ社製ＦＵＪＩＰＬＡ ＬＰＤ２３１３）を用いて均一な圧をかけた後、ＵＶ－ＬＥＤランプで１５ｍｗ／ｃｍ^２の波長３６５ｎｍのＵＶ光を６０ｓｅｃ間照射して、液晶素子（高分子分散型液晶表示素子）を得た。

【0288】

（全光線透過率の測定）
上記で得られた液晶素子に電極配線を取り付け、ヘイズメーター（日本電色工業社製ＮＤＨ－７０００）を用いて、耐熱試験前後の電圧印加時及び電圧無印加時の全光線透過率を測定した。耐熱試験は、液晶素子を１００℃の恒温槽に投入し、１００時間加熱することにより行った。全光線透過率の測定は、ＪＩＳ Ｋ ７３６１－１及びＪＩＳ Ｋ ７１３６に準拠し、２５℃で矩形波６０Ｈｚ、０～１００Ｖの電圧を印加することにより行った。電圧無印加時の全光線透過率（Ｔ０及びＴ０’）、ＡＣ１００Ｖ印加時の全光線透過率（Ｔ１００及びＴ１００’）、及び、全光線透過率の変化率（Ｒ０及びＲ１００）を表４に示す。電圧無印加時の初期の全光線透過率Ｔ０が５０％以下である場合に遮光性が十分であると評価し、電圧無印加時の全光線透過率の変化率Ｒ０が１５％以下である場合に耐熱性に優れると評価した。なお、全光線透過率の変化率は、下記式により求めた。
変化率（単位：％）＝［（耐熱試験後の全光線透過率）／（初期の全光線透過率）－１］×１００

【0289】

【表4】

【符号の説明】

【0290】

１…液晶素子、２…第１の電極基板、３…第２の電極基板、４…液晶層、５…紫外線遮断層、２ａ…第１の基材、２ｂ…第１の電極、３ａ…第２の基材、３ｂ…第２の電極。

【図1】