特開 2024-171036 描画データ検査方法、描画方法、描画装置、およびプログラム

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2024171036

(43)【公開日】2024-12-11

(54)【発明の名称】描画データ検査方法、描画方法、描画装置、およびプログラム

(51)【国際特許分類】

   H01L 21/027 20060101AFI20241204BHJP

   G06F 30/398 20200101ALI20241204BHJP

   G06F 111/04 20200101ALN20241204BHJP

   G06F 119/18 20200101ALN20241204BHJP

【ＦＩ】

H01L21/30 541W

G06F30/398

G06F111:04

G06F119:18

【審査請求】未請求

【請求項の数】5

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2023087886

(22)【出願日】2023-05-29

(71)【出願人】

【識別番号】504162958

【氏名又は名称】株式会社ニューフレアテクノロジー

(74)【代理人】

【識別番号】100120031

【弁理士】

【氏名又は名称】宮嶋 学

(74)【代理人】

【識別番号】100107582

【弁理士】

【氏名又は名称】関根 毅

(74)【代理人】

【識別番号】100120385

【弁理士】

【氏名又は名称】鈴木 健之

(74)【代理人】

【識別番号】100217940

【弁理士】

【氏名又は名称】三並 大悟

(72)【発明者】

【氏名】安井 健一

【テーマコード（参考）】

5B146

5F056

【Ｆターム（参考）】

5B146AA22

5B146BA04

5B146EA09

5B146GL05

5F056AA07

5F056CA30

(57)【要約】

【課題】正確に描画データを検査することが可能な描画データ検査方法を提供する。
【解決手段】一実施形態に係る描画データ検査方法は、荷電粒子ビーム描画装置で用いられる、図形がＢスプライン曲線であらわされる描画データを検査する描画データ検査方法である。この方法は、Ｂスプライン曲線を形成する第１制御点群の位置を示す座標を取得し、Ｂスプライン曲線交差率を検査の過程で算出し、Ｂスプライン曲線交差率がしきい値を超えた場合に、第１制御点群の座標を、ベジェ曲線の第２制御点群の座標に変換して座標変換後の図形が交差するか否かを判定し、Ｂスプライン曲線交差率がしきい値以下である場合、第１制御点群に基づいて描画データの図形が交差するか否かを判定し、描画データの図形が交差する場合に、第１制御点群の座標を第２制御点群の座標に変換して座標変換後の図形が交差するか否かを判定する。
【選択図】図３

【特許請求の範囲】

【請求項1】

荷電粒子ビーム描画装置で用いられる、図形がＢスプライン曲線であらわされる描画データを検査する描画データ検査方法であって、
前記Ｂスプライン曲線を形成する第１制御点群の位置を示す座標を取得し、
前記図形の総数に占める交差箇所を有するＢスプライン曲線であらわされる図形数の比率を示すＢスプライン曲線交差率を検査の過程で算出し、
前記Ｂスプライン曲線交差率がしきい値を超えた場合に、前記第１制御点群の座標を、ベジェ曲線の第２制御点群の座標に変換して座標変換後の図形が交差するか否かを判定し、
前記Ｂスプライン曲線交差率がしきい値以下である場合、前記第１制御点群に基づいて前記図形が交差するか否かを判定し、前記図形が交差する場合に、前記第１制御点群の座標を前記第２制御点群の座標に変換して座標変換後の図形が交差するか否かを判定する、
描画データ検査方法。

【請求項2】

分数の係数を有する第１変換行列を、前記係数の分母の整数倍した第２変換行列を用いて前記第１制御点群の座標を前記第２制御点群の座標に変換する、請求項１に記載の描画データ検査方法。

【請求項3】

請求項１または請求項２に記載の描画データ検査方法によって検査された描画データに基づいて荷電粒子ビームを照射する、描画方法。

【請求項4】

図形がＢスプライン曲線であらわされる描画データを検査する描画装置であって、
前記Ｂスプライン曲線を形成する第１制御点群の位置を示す座標を取得し、前記図形の総数に占める交差箇所を有するＢスプライン曲線であらわされる図形数の比率を示すＢスプライン曲線交差率を検査の過程で算出し、前記Ｂスプライン曲線交差率がしきい値を超えた場合に、前記第１制御点群の座標を、ベジェ曲線の第２制御点群の座標に変換して座標変換後の図形が交差するか否かを判定し、前記Ｂスプライン曲線交差率がしきい値以下である場合、前記第１制御点群に基づいて前記図形が交差するか否かを判定し、前記図形が交差する場合に、前記第１制御点群の座標を前記第２制御点群の座標に変換して座標変換後の図形が交差するか否かを判定するデータ検査部を備える、描画装置。

【請求項5】

荷電粒子ビーム描画装置で用いられる描画データの図形をあらわすＢスプライン曲線を形成する第１制御点群の位置を示す座標を取得する処理と、
前記図形の総数に占める交差箇所を有するＢスプライン曲線であらわされる図形数の比率を示すＢスプライン曲線交差率を検査の過程で算出する処理と、
前記Ｂスプライン曲線交差率がしきい値を超えた場合に、前記第１制御点群の座標を、ベジェ曲線の第２制御点群の座標に変換して座標変換後の図形が交差するか否かを判定し、前記Ｂスプライン曲線交差率がしきい値以下である場合、前記第１制御点群に基づいて前記図形が交差するか否かを判定する処理と、
前記Ｂスプライン曲線交差率がしきい値以下である場合、前記第１制御点群に基づいて前記図形が交差するか否かを判定し、前記図形が交差する場合に、前記第１制御点群の座標を前記第２制御点群の座標に変換して座標変換後の図形が交差するか否かを判定する処理と、
をコンピュータに実行させるためのプログラム。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、描画データ検査方法、描画方法、描画装置、およびプログラムに関する。

【背景技術】

【0002】

電子ビーム描画装置として、例えば、マルチビームを用いて一度に多くのビームを照射するマルチビーム描画装置が知られている。マルチビーム描画装置は、描画データに基づいて電子ビーム描画を行う。この描画データが、曲線状の図形を含んでいる場合、この曲線図形は、マスクデータ量削減のために、パラメータ曲線の一つであるＢスプライン曲線で近似される。

【0003】

Ｂスプライン曲線で作成された曲線図形は、ラスタライズ処理の効率化のために、同一図形内で交差しないことを前提としている。このため、描画データの曲線図形内に交差箇所が存在するか否かを検査する必要がある。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0004】

【特許文献1】特開２０２０－６４９１１号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0005】

Ｂスプライン曲線で作成された曲線図形を含む描画データを検査する場合、描画データの形状によっては、曲線同士が交差からほど遠い状況であっても、検査で不合格と判定されてしまう場合がある。

【0006】

本発明は、正確に描画データを検査することが可能な描画データ検査方法、描画方法、描画装置、およびプログラムを提供することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0007】

本発明の一態様による描画データ検査方法は、荷電粒子ビーム描画装置で用いられる、図形がＢスプライン曲線であらわされる描画データを検査する描画データ検査方法である。この検査方法は、Ｂスプライン曲線を形成する第１制御点群の位置を示す座標を取得し、図形の総数に占める交差箇所を有するＢスプライン曲線であらわされる図形数の比率を示すＢスプライン曲線交差率を検査の過程で算出し、Ｂスプライン曲線交差率がしきい値を超えた場合に、第１制御点群の座標を、ベジェ曲線の第２制御点群の座標に変換して座標変換後の図形が交差するか否かを判定し、Ｂスプライン曲線交差率がしきい値以下である場合、第１制御点群に基づいて図形が交差するか否かを判定し、図形が交差する場合に、第１制御点群の座標を第２制御点群の座標に変換して座標変換後の図形が交差するか否かを判定する。

【0008】

本発明の一態様による描画方法は、上記描画データ検査方法によって検査された描画データに基づいて荷電粒子ビームを照射する。

【0009】

本発明の一態様による描画装置は、図形がＢスプライン曲線であらわされる描画データを検査する描画データ装置である。この描画装置は、前記Ｂスプライン曲線を形成する第１制御点群の位置を示す座標を取得し、前記図形の総数に占める交差箇所を有するＢスプライン曲線であらわされる図形数の比率を示すＢスプライン曲線交差率を検査の過程で算出し、前記Ｂスプライン曲線交差率がしきい値を超えた場合に、前記第１制御点群の座標を、ベジェ曲線の第２制御点群の座標に変換して座標変換後の図形が交差するか否かを判定し、前記Ｂスプライン曲線交差率がしきい値以下である場合、前記第１制御点群に基づいて前記図形が交差するか否かを判定し、前記図形が交差する場合に、前記第１制御点群の座標を前記第２制御点群の座標に変換して座標変換後の図形が交差するか否かを判定するデータ検査部を備える。

【0010】

本発明の一態様によるプログラムは、荷電粒子ビーム描画装置で用いられる描画データの図形をあらわすＢスプライン曲線を形成する第１制御点群の位置を示す座標を取得する処理と、前記図形の総数に占める交差箇所を有するＢスプライン曲線であらわされる図形数の比率を示すＢスプライン曲線交差率を検査の過程で算出する処理と、前記Ｂスプライン曲線交差率がしきい値を超えた場合に、前記第１制御点群の座標を、ベジェ曲線の第２制御点群の座標に変換して座標変換後の図形が交差するか否かを判定し、前記Ｂスプライン曲線交差率がしきい値以下である場合、前記第１制御点群に基づいて前記図形が交差するか否かを判定する処理と、前記Ｂスプライン曲線交差率がしきい値以下である場合、前記第１制御点群に基づいて前記図形が交差するか否かを判定し、前記図形が交差する場合に、前記第１制御点群の座標を前記第２制御点群の座標に変換して座標変換後の図形が交差するか否かを判定する処理と、をコンピュータに実行させるためのプログラムである。

【発明の効果】

【0011】

本発明によれば、描画データに含まれる曲線図形の形状の制約を緩和しつつ、正確に描画データを検査することが可能となる。

【図面の簡単な説明】

【0012】

【図1】第１実施形態に係るマルチ荷電粒子ビーム描画装置の概略図である。

【図2】設計データＤ０の例を示す図である。

【図3】描画データの検査方法の手順の一例を説明するためのフローチャートである。

【図4】Ｂスプライン曲線およびベジェ曲線の各々の制御点の一例を示す図である。

【図5】描画データの検査方法の一例を説明するための図である。

【図6】描画データの検査方法の手順の他の一例を説明するためのフローチャートである。

【図7】図６に示すフローチャートに従って行われる描画データの検査方法を説明するための図である。

【図8】第１変形例に係るＢスプライン曲線およびベジェ曲線の各々の制御点の一例を示す図である。

【図9】第２変形例に係る設計データを示す図である。

【図10】第２変形例に係る描画データの検査方法の手順の一例を説明するためのフローチャートである。

【図11】第２実施形態に係る描画データ検査装置の概略的な構成を示すブロック図である。

【発明を実施するための形態】

【0013】

以下、図面を参照して本発明の実施形態を説明する。本実施形態は、本発明を限定するものではない。

【0014】

（第１実施形態）
図１は、第１実施形態に係るマルチ荷電粒子ビーム描画装置の概略図である。本実施形態では、荷電粒子ビームの一例として、電子ビームを用いた構成について説明する。但し、荷電粒子ビームは、電子ビームに限られず、イオンビーム等の他の荷電粒子ビームでもよい。また、本実施形態では、描画装置は、マルチビーム方式であるが、シングルビーム方式であってもよい。

【0015】

本実施形態に係る図１に示す描画装置１は、マスクやウェーハ等の対象物に電子ビームを照射して所望のパターンを描画する描画部１０と、描画部１０による描画動作を制御する制御部５０とを備える。描画部１０は、電子ビーム鏡筒１２及び描画室３０を有する。

【0016】

電子ビーム鏡筒１２内には、電子銃１４、照明レンズ１６、成形アパーチャアレイ部材１８、ブランキングアパーチャアレイプレート２０、縮小レンズ２２、制限アパーチャ部材２４、対物レンズ２６、及び偏向器２８が配置されている。描画室３０内には、ＸＹステージ３２が配置される。ＸＹステージ３２上には、描画対象基板となるマスクブランク３４が載置されている。対象物として、例えば、ウェーハや、ウェーハにエキシマレーザを光源としたステッパやスキャナ等の縮小投影型露光装置や極端紫外線露光装置を用いてパターンを転写する露光用のマスクが含まれる。また、描画対象基板には、例えば、既にパターンが形成されているマスクも含まれる。例えば、レベンソン型マスクは２回の描画を必要とするため、１度描画されマスクに加工された物に２度目のパターンを描画することもある。ＸＹステージ３２上には、さらに、ＸＹステージ３２の位置測定用のミラー３６が配置される。

【0017】

制御部５０は、制御計算機５２、偏向制御回路５４，５６、及びステージ位置検出器５８を有する。制御計算機５２、偏向制御回路５４，５６、及びステージ位置検出器５８は、バスを介して互いに接続されている。

【0018】

電子銃１４から放出された電子ビーム４０は、照明レンズ１６によりほぼ垂直に成形アパーチャアレイ部材１８全体を照明する。成形アパーチャアレイ部材１８には、穴（開口部）が所定の配列ピッチでマトリクス状に形成されている。電子ビーム４０は、成形アパーチャアレイ部材１８のすべての穴が含まれる領域を照明する。これらの複数の穴を電子ビーム４０の一部がそれぞれ通過することで、図１に示すようなマルチビーム４０ａ～４０ｅが形成される。

【0019】

ブランキングアパーチャアレイプレート２０には、成形アパーチャアレイ部材１８の各穴の配置位置に合わせて通過孔が形成され、各通過孔には、対となる２個の電極からなるブランカが、それぞれ配置される。各通過孔を通過する電子ビーム４０ａ～４０ｅは、それぞれ独立に、ブランカが印加する電圧によって偏向される。かかる偏向によってブランキング制御される。このように、複数のブランカが、成形アパーチャアレイ部材１８の複数の穴を通過したマルチビームのうち、それぞれ対応するビームのブランキング偏向を行う。

【0020】

ブランキングアパーチャアレイプレート２０を通過したマルチビーム４０ａ～４０ｅは、縮小レンズ２２によって縮小され、制限アパーチャ部材２４に形成された中心の穴に向かって進む。ここで、ブランキングアパーチャアレイプレート２０のブランカにより偏向された電子ビームは、制限アパーチャ部材２４の中心の穴から位置がはずれ、制限アパーチャ部材２４によって遮蔽される。一方、ブランキングアパーチャアレイプレート２０のブランカによって偏向されなかった電子ビームは、制限アパーチャ部材２４の中心の穴を通過する。

【0021】

このように、制限アパーチャ部材２４は、ブランキングアパーチャアレイプレート２０のブランカによってビームＯＦＦの状態になるように偏向された各ビームを遮蔽する。そして、ビームＯＮになってからビームＯＦＦになるまでに制限アパーチャ部材２４を通過したビームが、１回分のショットのビームとなる。制限アパーチャ部材２４を通過したマルチビーム４０ａ～４０ｅは、対物レンズ２６により焦点が合わされ、所望の縮小率のパターン像となる。制限アパーチャ部材２４を通過した各ビーム（マルチビーム全体）は、偏向器２８によって同方向にまとめて偏向され、各ビームのマスクブランク３４上のそれぞれの照射位置に照射される。

【0022】

ＸＹステージ３２が連続移動している時、ビームの照射位置がＸＹステージ３２の移動に追従するように偏向器２８によって制御される。ＸＹステージ３２の移動は、ステージ制御部（不図示）により行われ、ＸＹステージ３２の位置はステージ位置検出器５８により検出される。

【0023】

一度に照射されるマルチビームは、理想的には成形アパーチャアレイ部材１８の複数の穴の配列ピッチに上述した所望の縮小率を乗じたピッチで並ぶことになる。この描画装置は、ショットビームを連続して順に照射していくラスタースキャン方式で描画動作を行い、所望のパターンを描画する際、パターンに応じて必要なビームがブランキング制御によりビームＯＮに制御される。ＸＹステージ３２が連続移動している時、ビームの照射位置がＸＹステージ３２の移動に追従するように偏向器２８によって制御される。

【0024】

制御計算機５２は、図１に示すように、データ検査部５２１、ショットデータ生成部５２２、および照射制御部５２３を有する。データ検査部５２１は、記憶装置６０から読み出した描画データＤ１を検査する。データ検査部５２１による検査方法については、後述する。

【0025】

描画データＤ１がデータ検査部５２１の検査に合格すると、ショットデータ生成部５２２は、描画データＤ１に対して複数段のデータ変換処理を行って装置固有のショットデータを生成する。ショットデータには、各ショットの照射量及び照射位置座標等が定義される。例えば、ショットデータ生成部５２２は、描画データＤ１内に定義された図形パターンを対応する画素に割り当てる。そして、ショットデータ生成部５２２は、画素毎に、配置される図形パターンの面積密度を算出する。

【0026】

照射制御部５２３は、画素毎に、１ショットあたりの電子ビームの照射量を算出する。例えば、画素の面積密度に比例した照射量を求め、近接効果、かぶり効果、ローディング効果等による寸法変動を考慮して照射量を補正する。

【0027】

照射制御部５２３は、ショットデータに基づいて算出した各ショットの照射量を偏向制御回路５４に出力する。偏向制御回路５４は、入力された照射量を電流密度で割って照射時間ｔを求める。そして、偏向制御回路５４は、対応するショットを行う際、照射時間ｔだけブランカがビームＯＮするように、ブランキングアパーチャアレイプレート２０の対応するブランカに偏向電圧を印加する。

【0028】

また、照射制御部５２３は、ショットデータが示す位置（座標）に各ビームが偏向されるように、偏向位置データを偏向制御回路５６に出力する。偏向制御回路５６は、偏向量を演算し、偏向器２８に偏向電圧を印加する。これにより、その回にショットされるマルチビームがまとめて偏向される。

【0029】

ここで、データ検査部５２１の検査対象である描画データＤ１について説明する。描画データＤ１は、変換装置７０にて設計データ（ＣＡＤデータ）Ｄ０に基づいて生成される。設計データＤ０は、例えば、半導体集積回路のレイアウトを設計したレイアウトデータである。

【0030】

設計データＤ０には、曲線図形が含まれている。変換装置７０は、この曲線図形について、Ｂスプライン曲線を表現（パラメトリック曲線表現）するための複数の制御点を算出し、制御点の座標位置を求める。変換装置７０は、各制御点について、描画データＤ１上で隣接する制御点からの変位を求める。

【0031】

図２は、設計データＤ０の例を示す図である。この設計データＤ０は、閉曲線で形成されている。この閉曲線は、９個の制御点Ｐｓ０～制御点Ｐｓ８で形成されるＢスプライン曲線に近似される。変換装置７０は、閉曲線を近似する制御点Ｐｓ０～制御点Ｐｓ８を算出する。本実施形態では、制御点Ｐｓ０～制御点Ｐｓ８には、制御点番号が描画データＤ１上の位置に応じて連続して付与されている。変換装置７０は、制御点の座標位置を、当該制御点に対して描画データＤ１上で隣接する他の制御点からの変位で表現して、描画データＤ１を生成する。

【0032】

なお、描画データＤ１の図形は、閉曲線に限定されない。例えば、描画データＤ１は、曲線図形および多角形図形を含んでいてもよい。また、描画データＤ１は、閉曲線で囲まれた外周部内に、ホールを有していてもよい。このホールは、閉曲線または直線で囲まれた開口部である。

【0033】

例えば、図２では、制御点Ｐｓ０の座標（ｘｓ０、ｙｓ０）が、この曲線図形の図形配置原点として定義される。描画データＤ１上で制御点Ｐｓ０に隣接し、かつ制御点番号が次の制御点Ｐｓ１の座標位置は、制御点Ｐｓ０から見たｘ方向の変位δｓｘ１と、ｙ方向の変位δｓｙ１で定義される。制御点Ｐｓ２～制御点Ｐｓ８の各座標位置についても、制御点Ｐｓ１と同じように、描画データＤ１上で一つ前の制御点番号の制御点から見たｘ方向およびｙ方向の変位で定義される。このとき、変換装置７０は、制御点Ｐｓ０～制御点Ｐｓ８のｘ座標およびｙ座標を全て整数で定義する。

【0034】

データ検査部５２１は、Ｂスプライン曲線で近似された描画データＤ１を検査する。ここで、データ検査部５２１の検査方法の一例について説明する。

【0035】

図３は、描画データＤ１の検査方法の手順の一例を説明するためのフローチャートである。まず、データ検査部５２１は、記憶装置６０から描画データＤ１の複数の制御点Ｐｓから成る制御点群（第１制御点群）の座標を取得する（ステップＳ１１）。

【0036】

次に、データ検査部５２１は、Ｂスプライン曲線をベジェ曲線に変換する（ステップＳ１２）。ステップＳ１２では、例えば、Ｂスプライン曲線の次数ｐが２である場合、データ検査部５２１は、下記の式（１）に記載された変換行列を用いて、Ｂスプライン曲線の図形配置原点である制御点Ｐｓ０の座標を、ベジェ曲線の図形配置原点である制御点Ｐｂ０の座標に変換する。

【数1】

【0037】

また、曲線次数ｐが３である場合、データ検査部５２１は、下記の式（２）に記載された変換行列を用いて、Ｂスプライン曲線の制御点Ｐｓ０の座標を、ベジェ曲線の制御点Ｐｂ０の座標に変換する。

【数2】

【0038】

上記のように、Ｂスプライン曲線からベジェ曲線に変換するための変換行列は、Ｂスプライン曲線の次数に応じて予め設定されている。また、ベジェ曲線上で制御点Ｐｂ０に隣接し、かつ制御点番号が次の制御点Ｐｂ１の座標位置は、制御点Ｐｂ０から見たｘ方向の変位δｂｘ１と、ｙ方向の変位δｂｙ１で定義される。ベジェ曲線の制御点Ｐｂ（第２制御点）は、Ｂスプライン曲線の制御点Ｐｓと同じように、ベジェ曲線上で一つ前の制御点番号の制御点から見たｘ方向およびｙ方向の変位で定義される。このようにして、Ｂスプライン曲線がベジェ曲線に変換される。

【0039】

図４は、Ｂスプライン曲線およびベジェ曲線の各々の制御点の一例を示す図である。図４に示す例では、９個の制御点Ｐｓ０～制御点Ｐｓ８で形成されるＢスプライン曲線が、２７個の制御点Ｐｂ０～制御点Ｐｂ２６で形成されたベジェ曲線に変換される。この例では、ベジェ曲線の制御点間の変位量、すなわち制御点間を直線で結んだ直線距離が、Ｂスプライン曲線の制御点間の直線距離よりも短い。このため、ベジェ曲線の制御点数は、Ｂスプライン曲線の制御点数よりも多くなっている。

【0040】

Ｂスプライン曲線からベジェ曲線への変換処理が終わると、データ検査部５２１は、検査対象制御点の外積ｖａｌを算出する（ステップＳ１３）。データ検査部５２１は、ベジェ曲線の制御点Ｐｂの座標を外積計算処理した結果に基づいて、検査対象制御点が検査対象領域内に存在するか否かを検査する。検査対象領域は、ベジェ曲線上で３つ以上の制御点を直線で結ぶ線分で囲まれる領域である。一方、検査対象制御点は、検査対象領域を形成する制御点とは異なる制御点である。以下、ステップＳ１３の動作について詳しく説明する。

【0041】

図５は、ベジェ曲線に基づく描画データＤ１の検査方法の一例を説明するための図である。ステップＳ１３では、図５に示すように、例えば、データ検査部５２１は、制御点Ｐｂ０、制御点Ｐｂ１、および制御点Ｐｂ２を線分（ベクトル）Ｌ１～線分（ベクトル）Ｌ３でそれぞれ結んだ三角形を最小の検査対象領域Ａとして設定する。この場合、データ検査部５２１は、ベジェ曲線上で制御点Ｐｂ０、制御点Ｐｂ１，および制御点Ｐｂ２とは異なる制御点Ｐｂ［ｉ］（ｘｂ［ｉ］，ｙｂ［ｉ］）（ｉは制御点番号）を検査対象制御点として設定する。

【0042】

データ検査部５２１は、検査対象領域Ａを囲む線分（ベクトル）Ｌ１～線分（ベクトル）Ｌ３に対する各検査対象制御点の外積ｖａｌを算出する。具体的には、データ検査部５２１は、下記の式（３）を用いて外積ｖａｌ１を算出する。
ｖａｌ１＝ｘｂ１×ｙｂ［ｉ］－ｙｂ１×ｘｂ［ｉ］ （３）

【0043】

データ検査部５２１は、制御点Ｐｂ０の座標（ｘｂ０，ｙｂ０）を原点（０，０）に変換して、制御点Ｐｂ０から制御点Ｐｂ［ｉ］へと直線で結ぶ線分（ベクトル）Ｌａと、制御点Ｐｂ０から制御点Ｐｂ１へと直線で結ぶ線分（ベクトル）Ｌ１とのベクトル外積を外積ｖａｌ１として算出する。このとき、データ検査部５２１は、制御点Ｐｂ１の座標（ｘｂ１，ｙｂ１）および制御点Ｐｂ［ｉ］の座標（ｘｂ［ｉ］，ｙｂ［ｉ］）を、制御点Ｐｂ０の座標を原点とする座標系の座標に変換する。

【0044】

続いて、データ検査部５２１は、下記の式（４）を用いて外積ｖａｌ２を算出する。
ｖａｌ２＝ｘｂ２×ｙｂ［ｉ］－ｙｂ２×ｘｂ［ｉ］ （４）

【0045】

データ検査部５２１は、制御点Ｐｂ１の座標（ｘｂ１，ｙｂ１）を原点（０，０）に変換して、制御点Ｐｂ１から制御点Ｐｂ［ｉ］へと直線で結ぶ線分（ベクトル）Ｌｂと、制御点Ｐｂ１から制御点Ｐｂ２へと直線で結ぶ線分（ベクトル）Ｌ２とのベクトル外積を外積ｖａｌ２として算出する。このとき、データ検査部５２１は、制御点Ｐｂ２の座標（ｘｂ２，ｙｂ２）および制御点Ｐｂ［ｉ］の座標（ｘｂ［ｉ］，ｙｂ［ｉ］）を、制御点Ｐ１の座標を原点とする座標系の座標に変換する。

【0046】

最後に、データ検査部５２１は、下記の式（５）を用いて外積ｖａｌ３を算出する。
ｖａｌ３＝ｘｂ０×ｙｂ［ｉ］－ｙｎ０×ｘｂ［ｉ］ （５）

【0047】

データ検査部５２１は、制御点Ｐｂ２の座標（ｘｂ２，ｙｂ２）を原点（０，０）に変換して、制御点Ｐｂ２から制御点Ｐｂ［ｉ］へと直線で結ぶ線分（ベクトル）Ｌｃと、制御点Ｐｂ２から制御点Ｐｂ０へと直線で結ぶ線分（ベクトル）Ｌ３とのベクトル外積を外積ｖａｌ３として算出する。このとき、データ検査部５２１は、制御点Ｐｂ０の座標（ｘｂ０，ｙｂ０）および制御点Ｐｂ［ｉ］の座標（ｘｂ［ｉ］，ｙｂ［ｉ］）を、制御点Ｐ２の座標を原点とする座標系の座標に変換する。

【0048】

ステップＳ１３では、残りの制御点についても、上記のような計算式を用いて線分（ベクトル）Ｌ１～線分（ベクトル）Ｌ３に対する外積ｖａｌを算出する。

【0049】

外積ｖａｌの算出後、データ検査部５２１は、全ての外積ｖａｌの値をしきい値ＴＨと比較する（ステップＳ１４）。本実施形態では、外積ｖａｌを計算する際に制御点Ｐの座標を原点に変換するため、しきい値ＴＨは０（ゼロ）に設定されている。

【0050】

例えば、外積ｖａｌ１≧しきい値ＴＨである場合、制御点Ｐｂ［ｉ］は、線分（ベクトル）Ｌ１の左側または線分（ベクトル）Ｌ１上に位置することになる。一方、外積ｖａｌ１＜しきい値ＴＨである場合、制御点Ｐｂ［ｉ］は、線分（ベクトル）Ｌ１の右側に位置することになる。

【0051】

また、外積ｖａｌ２≧しきい値ＴＨである場合、制御点Ｐｂ［ｉ］は、線分（ベクトル）Ｌ２の左側または線分（ベクトル）Ｌ２上に位置することになる。一方、外積ｖａｌ２＜しきい値ＴＨである場合、制御点Ｐｂ［ｉ］は、線分（ベクトル）Ｌ２の右側に位置することになる。

【0052】

さらに、外積ｖａｌ３≧しきい値ＴＨである場合、制御点Ｐｂ［ｉ］は、線分（ベクトル）Ｌ３の左側または線分（ベクトル）Ｌ３上に位置することになる。一方、外積ｖａｌ３＜しきい値ＴＨである場合、制御点Ｐｂ［ｉ］は、線分（ベクトル）Ｌ３の右側に位置することになる。

【0053】

上記のように、外積ｖａｌ１～外積ｖａｌ３の各々をしきい値ＴＨと比較した結果、外積ｖａｌ１～外積ｖａｌ３の全てがしきい値ＴＨ以上である場合、制御点Ｐｂ［ｉ］は、線分（ベクトル）Ｌ１～線分（ベクトル）Ｌ３の左側またはいずれかの線分上に位置していることになる。そのため、データ検査部５２１は、制御点Ｐｂ［ｉ］を線分（ベクトル）Ｌ１～線分（ベクトル）Ｌ３で囲まれる検査対象領域Ａ内に存在すると判定する（ステップＳ１５）。この場合、制御点Ｐｂ［ｉ］は違反制御点とみなされ、描画データＤ１は不合格となる。

【0054】

一方、外積ｖａｌ１～外積ｖａｌ３の何れか１つでもしきい値ＴＨを下回る場合には、データ検査部５２１は、制御点Ｐｂ［ｉ］を検査対象領域Ａ外に存在すると判定する（ステップＳ１６）。この場合、制御点Ｐｂ［ｉ］は、合格制御点とみなされる。全ての検査対象制御点が合格制御点である場合、描画データＤ１は合格となる。

【0055】

上記のように検査対象領域Ａ内における制御点の存否の検査が終了すると、データ検査部５２１は、制御点Ｐｓ１、制御点Ｐｓ２、および制御点Ｐｓ３を直線で結ぶ三角形を検査対象領域Ａの次の検査対象領域として設定する。そして、データ検査部５２１は、検査対象領域Ａの検査と同じように、設定した検査対象領域内における検査対象制御点の存否を検査する。このようにして、データ検査部５２１は、検査対象領域を設定するたびに、検査対象領域内における検査対象制御点の存否を検査する。

【0056】

（比較例）
以下、図４を参照して比較例について説明する。本比較例は、上述した描画データＤ１の検査方法をＢスプライン曲線に適用している。

【0057】

本比較例では、データ検査部５２１は、まず、Ｂスプライン曲線の制御点Ｐｓ０、制御点Ｐｓ１、および制御点Ｐｓ２を検査対象領域Ｂと設定するとともに、制御点Ｐｓ６を検査対象制御点に設定する。続いて、データ検査部５２１は、上述したステップ１３と同じように各制御点の座標を用いた外積ｖａｌを算出する。続いて、データ検査部５２１は、上述したステップＳ１４～ステップＳ１６と同じように、外積ｖａｌとしきい値ＴＨとの比較結果に基づいて、描画データＤ１の検査の合否を判定する。

【0058】

本比較例では、図４に示すように、制御点Ｐｓ６は、制御点Ｐｓ０～制御点Ｐｓ２を直線で結んだ線分によって囲まれる検査対象領域Ｂ内に存在する。このため、制御点Ｐｓ０～制御点Ｐｓ８によって形成される曲線同士が交差していないにも関わらず、この描画データＤ１の検査は、不合格と判定されてしまう。

【0059】

一方、上述した本実施形態では、データ検査部５２１は、Ｂスプライン曲線よりもデータ圧縮率が低いベジェ曲線に基づいて描画データＤ１を検査している。これにより、データ検査部５２１は、設計データＤ０により近似した描画データＤ１を検査することができ、描画データＤ１は、検査の際に曲線図形の形状の制約を受けにくくなる。したがって、本実施形態によれば、描画データＤ１に含まれる曲線図形の形状の制約を緩和しつつ、正確に描画データを検査することが可能となる。

【0060】

なお、本実施形態では、データ検査部５２１は、検査対象領域内における検査対象制御点の存否によって、描画データＤ１の検査結果を判定しているが、描画データＤ１の検査は、この方法に限定されず、別の方法で行われてもよい。

【0061】

ここで、描画データＤ１の別の検査方法として、ベジェ曲線の制御点間を直線で結ぶ２個の線分を互いに交差させないようにするための検査方法を説明する。

【0062】

図６は、描画データＤ１の検査方法の手順の他の一例を説明するためのフローチャートである。また、図７は、図６に示すフローチャートに従って行われる描画データＤ１の検査方法を説明するための図である。

【0063】

図６および図７を用いて説明する検査方法において、データ検査部５２１は、ベジェ曲線の次数ｐ＝２の条件下で２個の検査対象線分が互いに交差しているか否かを検査する。

【0064】

まず、データ検査部５２１は、変換装置７０から描画データＤ１に含まれるＢスプライン曲線の制御点Ｐｓ０～制御点Ｐｓ８から成る制御点群の座標を取得する（ステップＳ２１）。

【0065】

次に、データ検査部５２１は、Ｂスプライン曲線をベジェ曲線に変換する（ステップＳ２２）。データ検査部５２１は、上述した数式（１）に記載の変換行列を用いて、Ｂスプライン曲線の制御点Ｐｓの座標をベジェ曲線の制御点Ｐｂの座標に変換する。

【0066】

次に、データ検査部５２１は、検査対象制御点の外積ｖａｌを算出する（ステップＳ２３）。ステップＳ２３では、データ検査部５２１は、ベジェ曲線上で互いに隣接する２個の制御点を検査対象制御点として設定する。ここでは、図７に示すように、データ検査部５２１が、制御点Ｐｂ［ｉ］（ｘｂ［ｉ］，ｙｂ［ｉ］）および制御点Ｐｂ［ｋ］（ｘｂ［ｋ］，ｙｂ［ｋ］）（ｋ！＝ｉ＋１）を検査対象制御点として設定した場合について説明する。この場合、データ検査部５２１は、検査対象制御点の外積ｖａｌを算出することによって、検査対象線分（ベクトル）Ｌ［ｉ］と検査対象線分（ベクトル）Ｌ［ｋ］とが互いに交差するか否かを検査する。

【0067】

検査対象線分（ベクトル）Ｌ［ｉ］は、制御点Ｐｂ［ｉ］から、制御点Ｐｂ［ｉ］から制御点番号ｉを１つ置いた制御点Ｐｂ［ｉ+２］へと直線で結んだ線分である。一方、検査対象線分（ベクトル）Ｌ［ｋ］は、制御点Ｐｂ［ｋ］から、制御点Ｐｂ［ｋ］から制御点番号ｋを１つ置いた制御点Ｐｂ［ｋ＋２］へと直線で結んだ線分である。

【0068】

検査対象線分（ベクトル）Ｌ［ｉ］と検査対象線分（ベクトル）Ｌ［ｋ］との交差の有無を検査するため、データ検査部５２１は、下記の式（６）を用いて検査対象線分（ベクトル）Ｌ［ｋ］に対する制御点Ｐｂ［ｉ］の外積ｖａｌ４を算出するとともに、下記の式（７）を用いて検査対象線分（ベクトル）Ｌ［ｋ］に対する制御点Ｐｂ［ｉ＋２］の外積ｖａｌ５を算出する。
ｖａｌ４＝ｘｂ[k+2]×ｙｂ[i]－ｘｂ[k+2]×ｘｂ[i] （６）
ｖａｌ５＝ｘｂ[k+2]×ｙｂ[i+2]－ｙｂ[k+2]×ｘｂ[i+2] （７）

【0069】

データ検査部５２１は、外積ｖａｌ４を算出する際、制御点Ｐｂ［ｋ］の座標（ｘｂ［ｋ］，ｙｂ［ｋ］）を原点（０，０）に変換して、検査対象線分（ベクトル）Ｌ［ｋ］と、制御点Ｐｂ［ｋ］から制御点Ｐｂ［ｉ］へと直線で結ぶ線分（ベクトル）Ｌ４とのベクトル外積を外積ｖａｌ４として算出する。このとき、データ検査部５２１は、制御点Ｐｂ［ｉ］の座標（ｘｂ［ｉ］，ｙｂ［ｉ］）および制御点Ｐｂ［ｋ＋２］の座標（ｘｂ［ｋ＋２］，ｙｂ［ｋ＋２］）を、制御点Ｐｂ［ｋ］の座標を原点とする座標系の座標に変換する。

【0070】

データ検査部５２１は、外積ｖａｌ５を算出する際には、外積ｖａｌ４の算出と同じように、制御点Ｐｂ［ｋ］の座標（ｘｂ［ｋ］，ｙｂ［ｋ］）を原点（０，０）に変換して、検査対象線分（ベクトル）Ｌ［ｋ］と、制御点Ｐｂ［ｋ］から制御点Ｐｂ［ｉ＋２］へと直線で結ぶ線分（ベクトル）Ｌ５とのベクトル外積を外積ｖａｌ５として算出する。このときも、データ検査部５２１は、制御点Ｐｂ［ｉ＋２］の座標（ｘｂ［ｉ＋２］，ｙｂ［ｉ＋２］）および制御点Ｐｂ［ｋ＋２］の座標（ｘｂ［ｋ＋２］，ｙｂ［ｋ＋２］）を、制御点Ｐｂ［ｋ］の座標を原点とする座標系の座標に変換する。

【0071】

続いて、データ検査部５２１は、下記の式（８）を用いて検査対象線分（ベクトル）Ｌ［ｉ］に対する制御点Ｐｂ［ｋ］の外積ｖａｌ６を算出するとともに、下記の式（９）を用いて検査対象線分（ベクトル）Ｌ［ｉ］に対する制御点Ｐｂ［ｋ＋２］の外積ｖａｌ７を算出する。
ｖａｌ６＝ｘｂ[i]×ｙｂ[k]－ｙｂ[i]×ｘｂ[k] （８）
ｖａｌ７＝ｘｂ[i]×ｙｂ[k+2]－ｙｂ[i]×ｘｂ[k+2] （９）

【0072】

データ検査部５２１は、外積ｖａｌ６を算出する際、制御点Ｐｂ［ｉ＋２］の座標（ｘｂ［ｉ＋２］，ｙｂ［ｉ＋２］）を原点（０，０）に変換して、検査対象線分（ベクトル）Ｌ［ｉ］と、線分（ベクトル）Ｌ５とのベクトル外積を外積ｖａｌ６として算出する。このとき、データ検査部５２１は、制御点Ｐｂ［ｉ］の座標（ｘｂ［ｉ］，ｙｂ［ｉ］）および制御点Ｐｂ［ｋ］の座標（ｘｂ［ｋ］，ｙｂ［ｋ］）を、制御点Ｐｂ［ｉ＋２］の座標を原点とする座標系の座標に変換する。

【0073】

データ検査部５２１は、外積ｖａｌ７を算出する際には、外積ｖａｌ６の算出と同じように、制御点Ｐｂ［ｉ＋２］の座標（ｘｂ［ｉ＋２］，ｙｂ［ｉ＋２］）を原点（０，０）に変換して、検査対象線分（ベクトル）Ｌ［ｉ］と、制御点Ｐｂ［ｉ＋２］から制御点Ｐｂ［ｋ＋２］へと直線で結ぶ線分（ベクトル）Ｌ６とのベクトル外積を外積ｖａｌ７として算出する。このときも、データ検査部５２１は、制御点Ｐｂ［ｉ］の座標（ｘｂ［ｉ］，ｙｂ［ｉ］）および制御点Ｐｂ［ｋ＋２］の座標（ｘｂ［ｋ＋２］，ｙｂ［ｋ＋２］）を、制御点Ｐｂ［ｉ＋２］の座標を原点とする座標系の座標に変換する。

【0074】

外積ｖａｌ４～外積ｖａｌ７の算出後、データ検査部５２１は、外積ｖａｌ４および外積ｖａｌ５の値をしきい値ＴＨとそれぞれ比較する（ステップＳ２４）。本実施形態では、外積ｖａｌ４および外積ｖａｌ５を計算する際に制御点Ｐｂ［ｋ］の座標を原点に変換するため、しきい値ＴＨは０（ゼロ）に設定されている。

【0075】

ｖａｌ４＜ＴＨである場合、制御点Ｐｂ［ｉ］は、検査対象線分（ベクトル）Ｌ［ｋ］の右側に位置することになる。また、ｖａｌ５＞ＴＨである場合、制御点Ｐｂ［ｉ＋２］は、検査対象線分（ベクトル）Ｌ［ｋ］の左側に位置することになる。このため、ｖａｌ４＜ＴＨ、かつｖａｌ５＞ＴＨである場合、データ検査部５２１は、制御点Ｐｂ［ｉ］および制御点Ｐｂ［ｉ＋２］が検査対象線分（ベクトル）Ｌ［ｋ］の両側に存在すると判定する（ステップＳ２５）。制御点Ｐｂ［ｉ］および制御点Ｐｂ［ｉ＋２］が検査対象線分（ベクトル）Ｌ［ｋ］の両側に存在することは、換言すると、制御点Ｐｂ［ｉ］および制御点Ｐｂ［ｉ＋２］が検査対象線分（ベクトル）Ｌ［ｋ］を挟んで互いに対向していることである。

【0076】

制御点Ｐｂ［ｉ］および制御点Ｐｂ［ｉ＋２］が検査対象線分Ｌ［ｋ］の両側に存在する場合、データ検査部５２１は、外積ｖａｌ６および外積ｖａｌ７の値をしきい値ＴＨとそれぞれ比較する（ステップＳ２６）。本実施形態では、外積ｖａｌ６および外積ｖａｌ７を計算する際に制御点Ｐｂ［ｉ＋２］の座標を原点に変換するため、しきい値ＴＨは０（ゼロ）に設定されている。

【0077】

ｖａｌ６＜ＴＨである場合、制御点Ｐｂ［ｋ］は、検査対象線分（ベクトル）Ｌ［ｉ］の右側に位置することになる。また、ｖａｌ７＞ＴＨである場合、制御点Ｐｂ［ｋ＋２］は、検査対象線分（ベクトル）Ｌ［ｉ］の左側に位置することになる。このため、ｖａｌ６＜ＴＨ、かつｖａｌ７＞ＴＨである場合、データ検査部５２１は、制御点Ｐｂ［ｋ］および制御点Ｐｂ［ｋ＋２］が検査対象線分（ベクトル）Ｌ［ｉ］の両側に存在すると判定する（ステップＳ２７）。制御点Ｐｂ［ｋ］および制御点Ｐｂ［ｋ＋２］が検査対象線分（ベクトル）Ｌ［ｉ］の両側に存在することは、換言すると、制御点Ｐｂ［ｋ］および制御点Ｐｂ［ｋ＋２］が検査対象線分（ベクトル）Ｌ［ｉ］を挟んで互いに対向していることである。

【0078】

上述したように、制御点Ｐｂ［ｉ］から制御点Ｐｂ［ｉ＋２］へと直線で結んだ線分が検査対象線分（ベクトル）Ｌ［ｉ］であり、制御点Ｐｂ［ｋ］から制御点Ｐｂ［ｋ＋２］へと直線で結んだ線分が検査対象線分（ベクトル）Ｌ［ｋ］である。このため、制御点Ｐｂ［ｉ］および制御点Ｐｂ［ｉ＋２］が検査対象線分（ベクトル）Ｌ［ｋ］の両側に存在し、かつ、制御点Ｐｂ［ｋ］および制御点Ｐｂ［ｋ＋２］が検査対象線分（ベクトル）Ｌ［ｉ］の両側に存在するということは、検査対象線分（ベクトル）Ｌ［ｉ］と検査対象線分（ベクトル）Ｌ［ｋ］とが互いに交差していることを意味する。このため、データ検査部５２１は、検査対象線分（ベクトル）Ｌ［ｉ］と検査対象線分（ベクトル）Ｌ［ｋ］とが互いに交差していると判定する（ステップＳ２８）。この場合、制御点Ｐｂ［ｉ］および制御点Ｐｂ［ｋ］は、違反制御点とみなされ、描画データＤ１は不合格となる。

【0079】

一方、制御点Ｐｂ［ｉ］および制御点Ｐｂ［ｉ＋２］が検査対象線分（ベクトル）Ｌ［ｋ］の両側に存在し、かつ、制御点Ｐｂ［ｋ］および制御点Ｐｂ［ｋ＋２］が検査対象線分（ベクトル）Ｌ［ｉ］の両側に存在するという条件を満たさない場合には、データ検査部５２１は、検査対象線分（ベクトル）Ｌ［ｉ］と検査対象線分（ベクトル）Ｌ［ｋ］とが互いに交差していないと判定する（ステップＳ２９）。この場合、制御点Ｐｂ［ｉ］および制御点Ｐｂ［ｋ］は、合格制御点とみなされる。

【0080】

上記のように制御点Ｐｂ［ｉ］および制御点Ｐｂ［ｋ］の交差判定が終了すると、データ検査部５２１は、ベジェ曲線上で互いに隣接する別の２個の制御点を検査対象制御点に設定し、検査対象制御点の交差判定を行う。このようにして、データ検査部５２１は、検査対象制御点を設定するたびに、検査対象制御点を一端とする検査対象線分同士の交差の有無を検査する。

【0081】

上述した検査方法であっても、データ検査部５２１は、Ｂスプライン曲線をベジェ曲線に変換して描画データＤ１の検査を行っている。このため、描画データＤ１の図形に関して幾何学的な制約を緩和しつつ、正確な交差判定を行うことが可能となる。

【0082】

（第１変形例）
以下、第１実施形態の第１変形例について説明する。ここでは、第１実施形態と異なる点を中心に説明する。本変形例では、Ｂスプライン曲線からベジェ曲線に変換するための変換行列が、第１実施形態と異なる。

【0083】

第１実施形態で説明した第１変換行列の係数は、式（１）および式（２）に示すように分数である。このため、第１変換行列を用いて整数座標で定義されたＢスプライン曲線の制御点Ｐｓをベジェ曲線の制御点Ｐｂに変換すると、制御点Ｐｂの座標は、浮動小数で定義されることになる。この場合、変換前後で誤差が発生して、描画データＤ１の検査結果に誤りが生じる可能性がある。

【0084】

そこで、本変形例では、曲線次数ｐが２である場合、データ検査部５２１は、下記の式（１０）に記載された第２変換行列を用いて、Ｂスプライン曲線の図形配置原点である制御点Ｐｓ０の座標を、ベジェ曲線の図形配置原点である制御点Ｐｂ０の座標に変換する。

【数3】

【0085】

また、曲線次数ｐが３である場合、データ検査部５２１は、下記の式（１１）に記載された第２変換行列を用いて、Ｂスプライン曲線の制御点Ｐｓ０の座標を、ベジェ曲線の制御点Ｐｂ０の座標に変換する。

【数4】

【0086】

上記の式（１０）で定義される第２変換行列は、式（１）の第１変換行列を、係数の分母、すなわち「２」の整数倍（この例では「２」の１倍）したものである。また、上記の式（１１）で定義される第２変換行列は、式（２）の第１変換行列を、係数の分母、すなわち「６」の整数倍（この例では「６」の１倍）したものである。

【0087】

図８は、第１変形例に係るＢスプライン曲線およびベジェ曲線の各々の制御点の一例を示す図である。図８に示すように、８個の制御点Ｐｓ０～制御点Ｐｓ８で形成されたＢスプライン曲線は、第１実施形態と同じように、２７個の制御点Ｐｂ０～制御点Ｐｂ２６で形成されたベジェ曲線に変換される。

【0088】

ただし、本変形例の第２変換行列では、第１実施形態の第１変換行列に比べて係数が分母の整数倍になっている。このため、ベジェ曲線の制御点Ｐｂによって囲まれる図形の面積は、Ｂスプライン曲線の制御点Ｐｓによって囲まれる図形よりも広く（大きく）なっている。また、本変形例の第２変換行列によれば、第１実施形態の第１変換行列の係数の分母を整数倍することによって、ベジェ曲線の制御点Ｐｂ０～制御点Ｐｂ２６は、全て整数座標に変換される。

【0089】

本変形例でも、ベジェ曲線の制御点Ｐｂによって囲まれる図形で描画データＤ１を検査する。検査方法については、第１実施形態と同じであるため、説明を省略する。

【0090】

以上説明した本変形例によれば、ベジェ曲線の制御点Ｐｂの座標が全て整数で定義される。そのため、第１実施形態に比べて、より正確に描画データＤ１を検査することが可能となる。

【0091】

（第２変形例）
以下、第１実施形態の第２変形例について説明する。ここでは、第１実施形態と異なる点を中心に説明する。本変形例では、描画データＤ１の構成が第１実施形態と異なる。

【0092】

図９は、第２変形例に係る設計データを示す図である。上述した第１実施形態では、データ検査部５２１が、１個の図形から成る描画データＤ１を検査対象としている。

【0093】

一方、本変形例では、図９に示すように、描画データＤ１は、設計データＤ０１を制御点Ｐｓ０～制御点Ｐｓ２６で構成されたＢスプライン曲線で近似した図形と、設計データＤ０２を制御点Ｐｓ４０～制御点Ｐｓ４６で構成されたＢスプライン曲線で近似した図形と、を有する。なお、図９に示す２個の図形は、互いに異なる形状であるが、同じ形状であってもよい。

【0094】

図１０は、第２変形例に係る描画データＤ１の検査方法の手順の一例を説明するためのフローチャートである。本変形例では、描画データＤ１は、例えばチップ、フレーム、ブロック、セル等の階層毎に作成される。データ検査部５２１は、描画データＤ１の階層毎に、図１０のフローチャートに従って検査する。

【0095】

本変形例では、まず、データ検査部５２１は、変換装置７０から描画データＤ１に含まれるＢスプライン曲線の制御点Ｐｓ０～制御点Ｐｓ２６から成る制御点群の座標を取得する（ステップＳ３１）。

【0096】

次に、データ検査部５２１は、Ｂスプライン曲線交差率を０．０に初期化する（ステップＳ３２）。Ｂスプライン曲線交差率は、検査を行った描画データＤ１の図形の総数に占める交差箇所を有するＢスプライン曲線を含む図形数の比率を示す。本変形例では、データ検査部５２１は、特定の描画データの階層で検査直前まで処理した描画データＤ１の図形の総数を、特定の描画データの階層で検査直前までにＢスプライン曲線に交差が有った図形数で除算する式によって、Ｂスプライン曲線交差率を算出する。Ｂスプライン曲線に交差が有った図形には、Ｂスプライン曲線の検査対象制御点が検査対象領域内に存在する図形や、互いに隣接するＢスプライン曲線の制御点をそれぞれ一端とする検査対象線分同士が交差する図形が含まれる。

【0097】

次に、データ検査部５２１は、Ｂスプライン曲線を含む複数の図形から検査対象図形を選択する（ステップＳ３３）。ここでは、データ検査部５２１は、図９に示す設計データＤ０１をＢスプライン曲線で近似した図形および設計データＤ０２をＢスプライン曲線で近似した図形のうち、前者の図形を検査対象図形として選択する。

【0098】

次に、データ検査部５２１は、Ｂスプライン曲線交差率がしきい値Ｒを超えていえるか否かを判定する（ステップＳ３４）。しきい値Ｒは、例えば０．５に設定される。Ｂスプライン曲線交差率がしきい値Ｒを超えている場合（ステップＳ３４のＹＥＳ）には、データ検査部５２１は、Ｂスプライン曲線の制御点Ｐｓを用いた検査をスキップして、ステップＳ３７へ進み後述するようにＢスプライン曲線をベジェ曲線に変換する。

【0099】

Ｂスプライン曲線交差率がしきい値Ｒ以下である場合、データ検査部５２１は、ステップＳ３３で選択した検査対象図形を検査する。ここでは、データ検査部５２１は、Ｂスプライン曲線を形成する複数の制御点Ｐｓの中に、違反制御点Ｐｓが存在するか否か判定する（ステップＳ３５）。違反制御点Ｐｓには、第１実施形態で説明したように、検査対象領域内に存在する制御点や、Ｂスプライン曲線の次数が２である場合に互いに交差する検査対象線分の一端に存在する制御点が該当する。

【0100】

違反制御点Ｐｓが存在する場合（ステップＳ３５のＹＥＳ）、データ検査部５２１は、Ｂスプライン曲線交差率を更新する（ステップＳ３６）。一方、違反制御点Ｐｓが無い場合には、データ検査部５２１は、ステップＳ４０へ進み後述するように未検査の検査対象図形が残っているか否か確認する。

【0101】

データ検査部５２１は、ステップＳ３６にてＢスプライン曲線交差率を更新した後、Ｂスプライン曲線をベジェ曲線に変換する（ステップＳ３７）。このステップＳ３７では、データ検査部５２１は、上述した第１実施形態または第１変形例と同じように、変換行列を用いてＢスプライン曲線の制御点Ｐｓの座標をベジェ曲線の制御点Ｐｂの座標に変換する。

【0102】

次に、データ検査部５２１は、ベジェ曲線を形成する複数の制御点Ｐｂを検査する（ステップＳ３８）。このステップでは、第１実施形態で説明したように、データ検査部５２１は、検査対象領域内における検査対象制御点の存否を判定する。また、曲線次数が２の場合には、データ検査部５２１は、検査対象線分同士の交差判定を行ってもよい。

【0103】

この検査の結果、データ検査部５２１は、ベジェ曲線の制御点Ｐｂの中に、違反制御点Ｐｂが存在するか否か判定する（ステップＳ３９）。違反制御点Ｐｂには、第１実施形態で説明したように、検査対象領域内に存在する制御点や、ベジェ曲線の次数が２である場合に互いに交差する検査対象線分の一端に存在する制御点が該当する。

【0104】

ベジェ曲線の制御点Ｐｂの中に、違反制御点Ｐｂが存在しない場合（ステップＳ３９のＮＯ）、データ検査部５２１は、後述するように未検査の検査対象図形が残っているか否か確認する（ステップＳ４０）。未検査の検査対象図形が残っている場合（ステップＳ４０のＹＥＳ）には、上述したステップＳ３３に戻る。この場合、設計データＤ０２をＢスプライン曲線で近似した図形が検査対象図形として選択され、上述したステップＳ３４～ステップＳ３９の動作が繰り返される。

【0105】

一方、ベジェ曲線の制御点Ｐｂの中に、違反制御点Ｐｂが存在する場合（ステップＳ３９のＹＥＳ）には、データ検査部５２１は、描画データＤ１の検査を不合格と判定する（ステップＳ４１）。なお、全ての検査対象図形を検査した（ステップＳ４０のＮＯ）結果、違反制御点Ｐｂが存在しなかった場合には、データ検査部５２１は、描画データＤ１の検査を合格と判定する（ステップＳ４２）。

【0106】

以上説明した本変形例では、データ検査部５２１は、Ｂスプライン曲線交差率がしきい値Ｒを超えている場合には、Ｂスプライン曲線の制御点Ｐｓの検査をスキップしてベジェ曲線の制御点Ｐｂを検査する。また、Ｂスプライン曲線交差率がしきい値Ｒ以下である場合には、Ｂスプライン曲線で検査を行っても検査精度を確保できるため、データ検査部５２１は、Ｂスプライン曲線の制御点Ｐｓの検査を行う。検査の結果、違反制御点が無かった場合には、データ検査部５２１は、ベジェ曲線の制御点Ｐｂの検査をスキップしている。

【0107】

上記のように、Ｂスプライン曲線交差率に応じて、Ｂスプライン曲線に基づく検査とベジェ曲線に基づく検査とを切り替えている。これにより、毎回、Ｂスプライン曲線およびベジェ曲線の両方の検査を行う場合に比べて、検査時間が大幅に短縮される。よって、高速に描画データＤ１を検査することが可能となる。

【0108】

（第２実施形態）
図１１は、第２実施形態に係る描画データ検査装置の概略的な構成を示すブロック図である。本実施形態では、上述した第１実施形態による変換装置７０により生成された描画データＤ１は、描画データ検査装置８０に入力される。

【0109】

描画データ検査装置８０は、図１１に示すように、データ検査部８１および記録媒体８２を有する。データ検査部８１は、第１実施形態、第１変形例、および第２変形例のいずれかで説明したデータ検査部５２１と同じ機能を有する。すなわち、本実施形態は、第１実施形態に係る描画装置１の制御計算機５２のうち、データ検査部５２１に関する機能を、描画装置１から独立した描画データ検査装置８０に移設した構成となっている。一方、記録媒体８２には、データ検査部８１で行われる処理を実現するプログラムが格納されている。

【0110】

データ検査部８１は、第１実施形態や変形例と同じように、例えばＢスプライン曲線交差率に応じてＢスプライン曲線をベジェ曲線に変換した上で、描画データＤ１の３つ以上の制御点を直線で結んだ検査対象領域内に、検査対象制御点または検査対象頂点が存在するか否かを検査する。また、ベジェ曲線の次数が２の場合には、ベジェ曲線上で互いに隣接する２個の制御点を一端とする検査対象線分同士の交差判定を行ってもよい。

【0111】

描画データＤ１がデータ検査部８１の検査に合格すると、描画データＤ１は、制御計算機５２に入力される。その後、描画装置１が、描画データＤ１に基づく荷電粒子ビームを照射する。

【0112】

上述した本実施形態によれば、データ検査部８１は、Ｂスプライン曲線をベジェ曲線に変換して、描画データＤ１の検査の合否を判定している。そのため、描画データＤ１に含まれる曲線図形の形状の制約を緩和しつつ、正確に描画データを検査することが可能となる。

【0113】

なお、本実施形態では、変換装置７０は、描画データ検査装置８０内に設けられていてもよい。その場合、描画データ検査装置８０は、入力された設計データＤ０に基づいて描画データＤ１を生成するデータ生成部と、データ検査部８１とを備えたものとなる。

【0114】

本実施形態で説明した描画データ検査装置８０の検査機能の少なくとも一部は、ハードウェアで構成してもよいし、ソフトウェアで構成してもよい。ソフトウェアで構成する場合には、描画データ検査装置８０の検査機能の少なくとも一部を実現するプログラムをフレキシブルディスクやＣＤ－ＲＯＭ等の記録媒体に収納し、コンピュータに読み込ませて実行させてもよい。記録媒体は、磁気ディスクや光ディスク等の着脱可能なものに限定されず、ハードディスク装置やメモリなどの固定型の記録媒体でもよい。

【0115】

また、描画データ検査装置８０の検査機能の少なくとも一部を実現するプログラムを、インターネット等の通信回線（無線通信も含む）を介して頒布してもよい。さらに、同プログラムを暗号化したり、変調をかけたり、圧縮した状態で、インターネット等の有線回線や無線回線を介して、あるいは記録媒体に収納して頒布してもよい。

【0116】

なお、本発明は上記実施形態そのままに限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。また、上記実施形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合わせにより、種々の発明を形成できる。例えば、実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。さらに、異なる実施形態にわたる構成要素を適宜組み合わせてもよい。

【符号の説明】

【0117】

１：描画装置
８０：描画データ検査装置
８１：データ検査部

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】