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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024171999
(43)【公開日】2024-12-12
(54)【発明の名称】蛍光Ｘ線分析方法及び蛍光Ｘ線分析装置
(51)【国際特許分類】
G01B 15/02 20060101AFI20241205BHJP
G01N 23/223 20060101ALI20241205BHJP
【ＦＩ】
G01B15/02 D
G01N23/223
【審査請求】未請求
【請求項の数】4
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2023089405
(22)【出願日】2023-05-31
(71)【出願人】
【識別番号】503460323
【氏名又は名称】株式会社日立ハイテクサイエンス
(74)【代理人】
【識別番号】100120396
【弁理士】
【氏名又は名称】杉浦 秀幸
(72)【発明者】
【氏名】泉山 優樹
【テーマコード（参考）】
2F067
2G001
【Ｆターム（参考）】
2F067AA27
2F067BB01
2F067BB16
2F067EE05
2F067HH04
2F067JJ03
2F067KK01
2F067LL15
2F067MM00
2F067NN02
2F067NN03
2F067PP12
2F067RR12
2F067RR21
2G001AA01
2G001BA04
2G001CA01
2G001FA02
2G001GA01
2G001GA08
2G001HA01
2G001JA04
2G001JA09
2G001JA17
2G001KA01
2G001KA11
2G001MA05
2G001NA11
2G001NA12
2G001NA17
2G001SA02
(57)【要約】
【課題】 積層構造を有する試料に対して１回のＸ線照射のみで試料を構成する各層の膜厚または組成を測定することができる蛍光Ｘ線分析方法及び装置を提供すること。
【解決手段】 下層Ｌ１と中間層Ｌ２と上層Ｌ３とを備えた試料ＳにＸ線を照射する照射ステップと、膜厚が既知の複数の標準物質にＸ線を照射して放射される蛍光Ｘ線のエネルギーを標準情報として取得しておく標準情報取得ステップと、試料からの蛍光Ｘ線のエネルギーを実測情報として得る検出ステップと、標準情報と比較して実測情報を分析し各膜厚を算出する膜厚の算出ステップとを有し、各層のうち他の層の影響を受けずに放射される蛍光Ｘ線を放射する層を特定層とし、標準物質が、特定層と同じ元素で形成された単層標準物質であり、単層標準物質の膜厚及び標準情報と実測情報とを比較して特定層の膜厚を算出し、特定層の膜厚に基づいて試料の他の層の膜厚を算出する。
【選択図】 図２
【解決手段】 下層Ｌ１と中間層Ｌ２と上層Ｌ３とを備えた試料ＳにＸ線を照射する照射ステップと、膜厚が既知の複数の標準物質にＸ線を照射して放射される蛍光Ｘ線のエネルギーを標準情報として取得しておく標準情報取得ステップと、試料からの蛍光Ｘ線のエネルギーを実測情報として得る検出ステップと、標準情報と比較して実測情報を分析し各膜厚を算出する膜厚の算出ステップとを有し、各層のうち他の層の影響を受けずに放射される蛍光Ｘ線を放射する層を特定層とし、標準物質が、特定層と同じ元素で形成された単層標準物質であり、単層標準物質の膜厚及び標準情報と実測情報とを比較して特定層の膜厚を算出し、特定層の膜厚に基づいて試料の他の層の膜厚を算出する。
【選択図】 図２
【特許請求の範囲】
【請求項1】
下層と前記下層上に積層された中間層と前記中間層上に積層された上層とを備え、前記上層と前記下層とが同じ第１の元素で形成されていると共に前記中間層が前記第１の元素と異なる第２の元素で形成された試料にその上方からＸ線を照射する照射ステップと、
膜厚または組成が既知の複数の標準物質にＸ線を照射して放射される蛍光Ｘ線のエネルギーまたは波長情報を標準情報として予め取得しておく標準情報取得ステップと、
前記試料から放射される蛍光Ｘ線を検出し前記蛍光Ｘ線のエネルギーまたは波長情報を実測情報として得る検出ステップと、
前記標準情報と比較して前記実測情報を分析し前記上層，前記中間層及び前記下層の各膜厚または組成を算出する膜厚算出ステップとを有し、
前記上層，前記中間層及び前記下層のうち、他の層の影響を受けずに前記試料の上方に放射される蛍光Ｘ線を放射する元素の層を特定層とし、
複数の前記標準物質のうち一つが、前記特定層と同じ元素で形成された単層標準物質であり、
前記膜厚または組成の算出ステップが、前記単層標準物質の膜厚または組成及び前記標準情報と前記実測情報とを比較して前記特定層の膜厚または組成を算出する特定層算出ステップと、
算出された前記特定層の膜厚または組成に基づいてさらに前記試料の他の層の膜厚または組成を算出する他層算出ステップとを有していることを特徴とする蛍光Ｘ線分析方法。
膜厚または組成が既知の複数の標準物質にＸ線を照射して放射される蛍光Ｘ線のエネルギーまたは波長情報を標準情報として予め取得しておく標準情報取得ステップと、
前記試料から放射される蛍光Ｘ線を検出し前記蛍光Ｘ線のエネルギーまたは波長情報を実測情報として得る検出ステップと、
前記標準情報と比較して前記実測情報を分析し前記上層，前記中間層及び前記下層の各膜厚または組成を算出する膜厚算出ステップとを有し、
前記上層，前記中間層及び前記下層のうち、他の層の影響を受けずに前記試料の上方に放射される蛍光Ｘ線を放射する元素の層を特定層とし、
複数の前記標準物質のうち一つが、前記特定層と同じ元素で形成された単層標準物質であり、
前記膜厚または組成の算出ステップが、前記単層標準物質の膜厚または組成及び前記標準情報と前記実測情報とを比較して前記特定層の膜厚または組成を算出する特定層算出ステップと、
算出された前記特定層の膜厚または組成に基づいてさらに前記試料の他の層の膜厚または組成を算出する他層算出ステップとを有していることを特徴とする蛍光Ｘ線分析方法。
【請求項2】
請求項１に記載の蛍光Ｘ線分析方法において、
前記中間層の前記第２の元素が、前記上層に吸収されずに蛍光Ｘ線を前記試料の上方に放射可能であり、
複数の前記標準物質が、基材上に前記第２の元素で形成された前記単層標準物質と、
基材上に前記第２の元素で形成された層とその上に前記第１の元素で形成された層とで構成された２層標準物質と、
基材上に前記第１の元素で形成された層とその上に前記第２の元素で形成された層とその上に前記第１の元素で形成された層とで構成された３層標準物質とであり、
前記標準情報が、前記単層標準物質，前記２層標準物質及び前記３層標準物質の各層の膜厚または組成及び蛍光Ｘ線のエネルギーまたは波長情報であり、
前記特定層算出ステップで、前記中間層を前記特定層として膜厚または組成を算出し、
前記他層算出ステップで、前記２層標準物質の膜厚または組成及び前記標準情報と前記実測情報とを比較して前記上層の膜厚または組成を算出する上層算出ステップと、
前記３層標準物質の膜厚または組成及び前記標準情報と前記実測情報とを比較して前記下層の膜厚または組成を算出する下層算出ステップとを有し、
前記上層算出ステップで、前記特定層算出ステップで得られた前記中間層の膜厚または組成を一定値として前記上層の膜厚または組成の算出を行い、
前記下層算出ステップで、前記特定層算出ステップで得られた前記中間層の膜厚または組成と前記上層算出ステップで得られた前記上層の膜厚または組成とを一定値として前記下層の膜厚または組成の算出を行うことを特徴とする蛍光Ｘ線分析方法。
前記中間層の前記第２の元素が、前記上層に吸収されずに蛍光Ｘ線を前記試料の上方に放射可能であり、
複数の前記標準物質が、基材上に前記第２の元素で形成された前記単層標準物質と、
基材上に前記第２の元素で形成された層とその上に前記第１の元素で形成された層とで構成された２層標準物質と、
基材上に前記第１の元素で形成された層とその上に前記第２の元素で形成された層とその上に前記第１の元素で形成された層とで構成された３層標準物質とであり、
前記標準情報が、前記単層標準物質，前記２層標準物質及び前記３層標準物質の各層の膜厚または組成及び蛍光Ｘ線のエネルギーまたは波長情報であり、
前記特定層算出ステップで、前記中間層を前記特定層として膜厚または組成を算出し、
前記他層算出ステップで、前記２層標準物質の膜厚または組成及び前記標準情報と前記実測情報とを比較して前記上層の膜厚または組成を算出する上層算出ステップと、
前記３層標準物質の膜厚または組成及び前記標準情報と前記実測情報とを比較して前記下層の膜厚または組成を算出する下層算出ステップとを有し、
前記上層算出ステップで、前記特定層算出ステップで得られた前記中間層の膜厚または組成を一定値として前記上層の膜厚または組成の算出を行い、
前記下層算出ステップで、前記特定層算出ステップで得られた前記中間層の膜厚または組成と前記上層算出ステップで得られた前記上層の膜厚または組成とを一定値として前記下層の膜厚または組成の算出を行うことを特徴とする蛍光Ｘ線分析方法。
【請求項3】
請求項１に記載の蛍光Ｘ線分析方法において、
前記上層の前記第１の元素が、前記中間層及び前記下層の影響を受けずに蛍光Ｘ線を前記試料の上方に放射可能であり、
複数の前記標準物質が、基材上に前記第１の元素で形成された前記単層標準物質と、
基材上に前記第２の元素で形成された層とその上に前記第１の元素で形成された層とで構成された２層標準物質と、
基材上に前記第１の元素で形成された層とその上に前記第２の元素で形成された層とその上に前記第１の元素で形成された層とで構成された３層標準物質とであり、
前記標準情報が、前記単層標準物質，前記２層標準物質及び前記３層標準物質の各層の膜厚または組成及び蛍光Ｘ線のエネルギーまたは波長情報であり、
前記特定層算出ステップで、前記上層を前記特定層として膜厚または組成を算出し、
前記他層算出ステップで、前記２層標準物質の膜厚または組成及び前記標準情報と前記実測情報とを比較して前記中間層の膜厚または組成を算出する中間層算出ステップと、
前記３層標準物質の膜厚または組成及び前記標準情報と前記実測情報とを比較して前記下層の膜厚または組成を算出する下層算出ステップとを有し、
前記中間層算出ステップで、前記特定層算出ステップで得られた前記上層の膜厚または組成を一定値として前記中間層の膜厚または組成の算出を行い、
前記下層算出ステップで、前記特定層算出ステップで得られた前記上層の膜厚または組成と前記中間層算出ステップで得られた前記中間層の膜厚または組成とを一定値として前記下層の膜厚または組成の算出を行うことを特徴とする蛍光Ｘ線分析方法。
前記上層の前記第１の元素が、前記中間層及び前記下層の影響を受けずに蛍光Ｘ線を前記試料の上方に放射可能であり、
複数の前記標準物質が、基材上に前記第１の元素で形成された前記単層標準物質と、
基材上に前記第２の元素で形成された層とその上に前記第１の元素で形成された層とで構成された２層標準物質と、
基材上に前記第１の元素で形成された層とその上に前記第２の元素で形成された層とその上に前記第１の元素で形成された層とで構成された３層標準物質とであり、
前記標準情報が、前記単層標準物質，前記２層標準物質及び前記３層標準物質の各層の膜厚または組成及び蛍光Ｘ線のエネルギーまたは波長情報であり、
前記特定層算出ステップで、前記上層を前記特定層として膜厚または組成を算出し、
前記他層算出ステップで、前記２層標準物質の膜厚または組成及び前記標準情報と前記実測情報とを比較して前記中間層の膜厚または組成を算出する中間層算出ステップと、
前記３層標準物質の膜厚または組成及び前記標準情報と前記実測情報とを比較して前記下層の膜厚または組成を算出する下層算出ステップとを有し、
前記中間層算出ステップで、前記特定層算出ステップで得られた前記上層の膜厚または組成を一定値として前記中間層の膜厚または組成の算出を行い、
前記下層算出ステップで、前記特定層算出ステップで得られた前記上層の膜厚または組成と前記中間層算出ステップで得られた前記中間層の膜厚または組成とを一定値として前記下層の膜厚または組成の算出を行うことを特徴とする蛍光Ｘ線分析方法。
【請求項4】
下層と前記下層上に積層された中間層と前記中間層上に積層された上層とを備え、前記上層と前記下層とが同じ第１の元素で形成されていると共に前記中間層が前記第１の元素と異なる第２の元素で形成された試料を載置する試料ステージと、
前記試料ステージ上の前記試料にその上方からＸ線を照射するＸ線源と、
前記Ｘ線が照射された前記試料から放射される蛍光Ｘ線を検出し、前記蛍光Ｘ線のエネルギーまたは波長情報を含む信号を出力するＸ線検出器と、
前記信号を分析し前記上層，前記中間層及び前記下層の各膜厚を算出するデータ処理部とを備え、
前記データ処理部が、膜厚または組成が既知の複数の標準物質にＸ線を照射して放射される蛍光Ｘ線のエネルギーまたは波長情報を標準情報として予め取得しておき、前記試料から放射される蛍光Ｘ線を検出し前記蛍光Ｘ線のエネルギーまたは波長情報を実測情報として得て、標準情報と比較して前記実測情報を分析し前記上層，前記中間層及び前記下層の各膜厚または組成を算出する演算機能を有し、
前記演算機能が、前記上層，前記中間層及び前記下層のうち、他の層の影響を受けずに前記試料の上方に放射される蛍光Ｘ線を放射する元素の層を特定層とし、
複数の前記標準物質のうち一つが、前記特定層と同じ元素で形成された単層標準物質であり、
前記単層標準物質の膜厚または組成及び前記標準情報と前記実測情報とを比較して前記特定層の膜厚または組成を算出し、算出された前記特定層の膜厚または組成に基づいてさらに前記試料の他の層の膜厚を算出することを特徴とする蛍光Ｘ線分析装置。
前記試料ステージ上の前記試料にその上方からＸ線を照射するＸ線源と、
前記Ｘ線が照射された前記試料から放射される蛍光Ｘ線を検出し、前記蛍光Ｘ線のエネルギーまたは波長情報を含む信号を出力するＸ線検出器と、
前記信号を分析し前記上層，前記中間層及び前記下層の各膜厚を算出するデータ処理部とを備え、
前記データ処理部が、膜厚または組成が既知の複数の標準物質にＸ線を照射して放射される蛍光Ｘ線のエネルギーまたは波長情報を標準情報として予め取得しておき、前記試料から放射される蛍光Ｘ線を検出し前記蛍光Ｘ線のエネルギーまたは波長情報を実測情報として得て、標準情報と比較して前記実測情報を分析し前記上層，前記中間層及び前記下層の各膜厚または組成を算出する演算機能を有し、
前記演算機能が、前記上層，前記中間層及び前記下層のうち、他の層の影響を受けずに前記試料の上方に放射される蛍光Ｘ線を放射する元素の層を特定層とし、
複数の前記標準物質のうち一つが、前記特定層と同じ元素で形成された単層標準物質であり、
前記単層標準物質の膜厚または組成及び前記標準情報と前記実測情報とを比較して前記特定層の膜厚または組成を算出し、算出された前記特定層の膜厚または組成に基づいてさらに前記試料の他の層の膜厚を算出することを特徴とする蛍光Ｘ線分析装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、多層構造の膜厚等を分析可能な蛍光Ｘ線分析方法及び蛍光Ｘ線分析装置に関するものである。
【背景技術】
【0002】
Ｘ線分析は、試料を非破壊で分析することが可能であるという特性から、小型電子部品などの試料に一次Ｘ線（入射Ｘ線）を照射して、試料から放射される二次Ｘ線（蛍光Ｘ線等）を分析して、試料について元素の定量分析や、多層構造の膜厚等を分析する製品検査用途等に用いられている。
【0003】
例えば、試料が下層と中間層と上層との３層で構成され、上層と下層とが同じ元素で形成されていると共に中間層が上層・下層の元素と異なる元素で形成されたサンドイッチ構造に対し、各元素の含有量又は各層の膜厚を蛍光Ｘ線分析法で測定する場合、１回の蛍光Ｘ線分析法による測定では求めることが困難であり、蛍光Ｘ線分析法以外の手法と組み合わせる従来技術が知られている。
例えば、測定試料と同じ試料構造を再現した標準物質を使用して感度曲線を校正し、測定する方法が知られている（特許文献１参照）。
また、１層ずつ積層の各段階で成膜装置から取り出し各元素の含有量又は膜厚を評価し、次の段階の評価時に、前回の結果を検索して適用する方法も知られている（特許文献２参照）。
例えば、測定試料と同じ試料構造を再現した標準物質を使用して感度曲線を校正し、測定する方法が知られている（特許文献１参照）。
また、１層ずつ積層の各段階で成膜装置から取り出し各元素の含有量又は膜厚を評価し、次の段階の評価時に、前回の結果を検索して適用する方法も知られている（特許文献２参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【特許文献1】特開２０００－２９２１４１号公報
【特許文献2】特開２００２－２５７７５７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
上記従来の技術には、以下の課題が残されている。
上記特許文献１では、標準試料の付着量の決定にＸ線反射率法やラザフォード後方散乱法など、他の分析手法を要し、これらの手法を使用できない状況下においては、適用が不可能であった。特に、Ｘ線反射率法は広い測定面積と平坦な面を必要とするため、凹凸のある試料や微小部位の測定には適用できないという問題があった。
また、上記特許文献２では、複数の層に同一元素を含む多層薄膜試料の測定などで、積層の各段階で試料を成膜装置から抜き出す必要があるなど、複雑な手順を踏む必要があると共に、予め全て積層された状態の試料に対しては試料を構成する各層の各元素又は各層の膜厚の全てを測定できないという不都合があった。
上記特許文献１では、標準試料の付着量の決定にＸ線反射率法やラザフォード後方散乱法など、他の分析手法を要し、これらの手法を使用できない状況下においては、適用が不可能であった。特に、Ｘ線反射率法は広い測定面積と平坦な面を必要とするため、凹凸のある試料や微小部位の測定には適用できないという問題があった。
また、上記特許文献２では、複数の層に同一元素を含む多層薄膜試料の測定などで、積層の各段階で試料を成膜装置から抜き出す必要があるなど、複雑な手順を踏む必要があると共に、予め全て積層された状態の試料に対しては試料を構成する各層の各元素又は各層の膜厚の全てを測定できないという不都合があった。
【0006】
本発明は、前述の課題に鑑みてなされたもので、上層と下層とが同じ元素で形成されていると共に中間層が上層・下層の元素と異なる元素で形成された薄膜の積層構造を有する試料に対して１回のＸ線照射のみで試料を構成する各層の膜厚または組成を測定することができる蛍光Ｘ線分析方法及び蛍光Ｘ線分析装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0007】
本発明は、前記課題を解決するために以下の構成を採用した。すなわち、第１の発明に係る蛍光Ｘ線分析方法は、下層と前記下層上に積層された中間層と前記中間層上に積層された上層とを備え、前記上層と前記下層とが同じ第１の元素で形成されていると共に前記中間層が前記第１の元素と異なる第２の元素で形成された試料にその試料表面側からＸ線を照射する照射ステップと、膜厚または組成が既知の複数の標準物質にＸ線を照射して放射される蛍光Ｘ線のエネルギーまたは波長の情報を標準情報として予め取得しておく標準情報取得ステップと、前記試料から放射される蛍光Ｘ線を検出し前記蛍光Ｘ線のエネルギーまたは波長の情報を実測情報として得る検出ステップと、前記標準情報と比較して前記実測情報を分析し前記上層，前記中間層及び前記下層の各膜厚を算出する膜厚算出ステップとを有し、前記上層，前記中間層及び前記下層のうち、他の層の影響を受けずに前記試料の上方に放射される蛍光Ｘ線を放射する元素の層を特定層とし、複数の前記標準物質のうち一つが、前記特定層と同じ元素で形成された単層標準物質であり、前記膜厚算出ステップが、前記単層標準物質の膜厚または組成及び前記標準情報と前記実測情報とを比較して前記特定層の膜厚または組成を算出する特定層算出ステップと、算出された前記特定層の膜厚または組成に基づいてさらに前記試料の他の層の膜厚または組成を算出する他層算出ステップとを有していることを特徴とする。
【0008】
この蛍光Ｘ線分析方法では、上層，中間層及び下層のうち、他の層の影響（特に吸収）が無視できるくらい小さい（以下、「影響を受けない」と表現）試料の上方に放射される蛍光Ｘ線を放射する元素の層を特定層とし、複数の標準物質のうち一つが、特定層と同じ元素で形成された単層であり、膜厚または組成の算出ステップが、単層標準物質の膜厚または組成及び標準情報と実測情報とを比較して特定層の膜厚または組成を算出する特定層算出ステップと、算出された特定層の膜厚または組成に基づいてさらに試料の他の層の膜厚または組成を算出する他層算出ステップとを有しているので、試料の一部の層（特定層）をモデル（単層標準物質）として限定して計算し、その層の膜厚または組成を固定値とすることで、一度のＸ線照射による蛍光Ｘ線分析で試料の各層の膜厚または組成を算出することが可能になる。
【0009】
すなわち、まず上層，中間層及び下層のうち、他の層の影響を受けずに試料の上方に放射される蛍光Ｘ線を放射する元素の層を特定層として、この特定層と同じ元素で形成された単層標準物質を、試料の一部のモデルと仮定することで、この標準物質（モデル）の膜厚または組成と蛍光Ｘ線（標準情報）との関係を予め求めておく。次に、Ｘ線を照射して検出された試料の蛍光Ｘ線の実測情報と標準物質の上記関係との比較により、特定層の膜厚または組成を算出する。ここで特定層の上記蛍光Ｘ線は他の層の吸収等の影響を受けずに試料上方に放射されるため、その蛍光Ｘ線の強度は特定層の膜厚または組成に対応しており、単層標準物質の膜厚または組成と標準情報との関係から検量法やファンダメンタルパラメータ法（以下、ＦＰ法という）等により特定層の膜厚または組成を容易に算出することができる。
このように、試料の３層のうち１層の膜厚または組成が最初に算出されることで、この１層（特定層）の膜厚または組成を固定値として他の２層の算出を行う際に適用することで、他の２層の膜厚または組成も算出することが可能になる。
このように、試料の３層のうち１層の膜厚または組成が最初に算出されることで、この１層（特定層）の膜厚または組成を固定値として他の２層の算出を行う際に適用することで、他の２層の膜厚または組成も算出することが可能になる。
【0010】
第２の発明に係る蛍光Ｘ線分析方法は、第１の発明において、前記中間層の前記第２の元素が、前記上層に吸収されずに蛍光Ｘ線を前記試料の上方に放射可能であり、複数の前記標準物質が、基材上に前記第２の元素で形成された前記単層標準物質と、基材上に前記第２の元素で形成された層とその上に前記第１の元素で形成された層とで構成された２層標準物質と、基材上に前記第１の元素で形成された層とその上に前記第２の元素で形成された層とその上に前記第１の元素で形成された層とで構成された３層標準物質とであり、前記標準情報が、前記単層標準物質，前記２層標準物質及び前記３層標準物質の各層の膜厚または組成及び蛍光Ｘ線のエネルギーまたは波長の情報であり、前記特定層算出ステップで、前記中間層を前記特定層として膜厚または組成を算出し、前記他層算出ステップで、前記２層標準物質の膜厚または組成及び前記標準情報と前記実測情報とを比較して前記上層の膜厚または組成を算出する上層算出ステップと、前記３層標準物質の膜厚または組成及び前記標準情報と前記実測情報とを比較して前記下層の膜厚または組成を算出する下層算出ステップとを有し、前記上層算出ステップで、前記特定層算出ステップで得られた前記中間層の膜厚または組成を一定値として前記上層の膜厚または組成の算出を行い、前記下層算出ステップで、前記特定層算出ステップで得られた前記中間層の膜厚または組成と前記上層算出ステップで得られた前記上層の膜厚または組成とを一定値として前記下層の膜厚または組成の算出を行うことを特徴とする。
【0011】
すなわち、この蛍光Ｘ線分析方法では、上層算出ステップで、特定層算出ステップで得られた中間層の膜厚または組成を一定値として上層の膜厚または組成の算出を行い、下層算出ステップで、特定層算出ステップで得られた中間層の膜厚または組成と上層算出ステップで得られた上層の膜厚または組成とを一定値として下層の膜厚または組成の算出を行うので、計算処理上、特定層（中間層）の膜厚または組成を固定値（一定値）としてモデルを限定することで、他の層、すなわち上層及び下層の膜厚または組成も２層標準物質及び３層標準物質の情報を元に順次算出可能である。
【0012】
第３の発明に係る蛍光Ｘ線分析方法は、第１の発明において、前記上層の前記第１の元素が、前記中間層及び前記下層の影響を受けずに蛍光Ｘ線を前記試料の上方に放射可能であり、複数の前記標準物質が、基材上に前記第１の元素で形成された前記単層標準物質と、基材上に前記第２の元素で形成された層とその上に前記第１の元素で形成された層とで構成された２層標準物質と、基材上に前記第１の元素で形成された層とその上に前記第２の元素で形成された層とその上に前記第１の元素で形成された層とで構成された３層標準物質とであり、前記標準情報が、前記単層標準物質，前記２層標準物質及び前記３層標準物質の各層の膜厚または組成及び蛍光Ｘ線のエネルギーまたは波長の情報であり、前記特定層算出ステップで、前記上層を前記特定層として膜厚または組成を算出し、前記他層算出ステップで、前記２層標準物質の膜厚または組成及び前記標準情報と前記実測情報とを比較して前記中間層の膜厚または組成を算出する中間層算出ステップと、前記３層標準物質の膜厚または組成及び前記標準情報と前記実測情報とを比較して前記下層の膜厚または組成を算出する下層算出ステップとを有し、前記中間層算出ステップで、前記特定層算出ステップで得られた前記上層の膜厚または組成を一定値として前記中間層の膜厚または組成の算出を行い、前記下層算出ステップで、前記特定層算出ステップで得られた前記上層の膜厚または組成と前記中間層算出ステップで得られた前記中間層の膜厚または組成とを一定値として前記下層の膜厚または組成の算出を行うことを特徴とする。
【0013】
すなわち、この蛍光Ｘ線分析方法では、中間層算出ステップで、特定層算出ステップで得られた上層の膜厚または組成を一定値として中間層の膜厚または組成の算出を行い、下層算出ステップで、特定層算出ステップで得られた上層の膜厚または組成と中間層算出ステップで得られた中間層の膜厚または組成とを一定値として下層の膜厚または組成の算出を行うので、計算処理上、特定層（上層）の膜厚または組成を固定値（一定値）としてモデルを限定することで、他の層、すなわち中間層及び下層の膜厚または組成も２層標準物質及び３層標準物質の情報を元に順次算出可能である。
【0014】
第４の発明に係る蛍光Ｘ線分析装置は、下層と前記下層上に積層された中間層と前記中間層上に積層された上層とを備え、前記上層と前記下層とが同じ第１の元素で形成されていると共に前記中間層が前記第１の元素と異なる第２の元素で形成された試料を載置する試料ステージと、前記試料ステージ上の前記試料にその上方からＸ線を照射するＸ線源と、前記Ｘ線が照射された前記試料から放射される蛍光Ｘ線を検出し、前記蛍光Ｘ線のエネルギーまたは波長の情報を含む信号を出力するＸ線検出器と、前記信号を分析し前記上層，前記中間層及び前記下層の各膜厚または組成を算出するデータ処理部とを備え、前記データ処理部が、膜厚または組成が既知の複数の標準物質にＸ線を照射して放射される蛍光Ｘ線のエネルギーまたは波長情報を標準情報として予め取得しておき、前記試料から放射される蛍光Ｘ線を検出し前記蛍光Ｘ線のエネルギーまたは波長の情報を実測情報として得て、標準情報と比較して前記実測情報を分析し前記上層，前記中間層及び前記下層の各膜厚または組成を算出する演算機能を有し、前記演算機能が、前記上層，前記中間層及び前記下層のうち、他の層の影響を受けずに前記試料の上方に放射される蛍光Ｘ線を放射する元素の層を特定層とし、複数の前記標準物質のうち一つが、前記特定層と同じ元素で形成された単層標準物質であり、前記単層標準物質の膜厚または組成及び前記標準情報と前記実測情報とを比較して前記特定層の膜厚または組成を算出し、算出された前記特定層の膜厚または組成に基づいてさらに前記試料の他の層の膜厚または組成を算出することを特徴とする。
【発明の効果】
【0015】
本発明によれば、以下の効果を奏する。
すなわち、本発明に係る蛍光Ｘ線分析方法及び蛍光Ｘ線分析装置によれば、上層，中間層及び下層のうち、他の層の影響（特に吸収）を受けずに試料の上方に放射される蛍光Ｘ線を放射する元素の層を特定層とし、複数の標準物質のうち一つが、特定層と同じ元素で形成された単層であり、単層標準物質の膜厚または組成及び標準情報と実測情報とを比較して特定層の膜厚または組成を算出し、算出された特定層の膜厚または組成に基づいてさらに試料の他の層の膜厚または組成を算出するので、一度のＸ線照射による蛍光Ｘ線分析で試料の各層の膜厚または組成を算出することが可能になる。
すなわち、本発明に係る蛍光Ｘ線分析方法及び蛍光Ｘ線分析装置によれば、上層，中間層及び下層のうち、他の層の影響（特に吸収）を受けずに試料の上方に放射される蛍光Ｘ線を放射する元素の層を特定層とし、複数の標準物質のうち一つが、特定層と同じ元素で形成された単層であり、単層標準物質の膜厚または組成及び標準情報と実測情報とを比較して特定層の膜厚または組成を算出し、算出された特定層の膜厚または組成に基づいてさらに試料の他の層の膜厚または組成を算出するので、一度のＸ線照射による蛍光Ｘ線分析で試料の各層の膜厚または組成を算出することが可能になる。
【図面の簡単な説明】
【0016】
【図1】本発明に係る蛍光Ｘ線分析方法及び蛍光Ｘ線分析装置の第１実施形態において、蛍光Ｘ線分析装置を示す構成図である。
【図2】第１実施形態において、試料を示す断面図（ａ）、及び試料の蛍光Ｘ線強度を示す概念的なスペクトル（ｂ）である。
【図3】第１実施形態において、単層標準物質を示す断面図（ａ）、２層標準物質を示す断面図（ｂ）、３層標準物質を示す断面図（ｃ）である。
【図4】第１実施形態において、蛍光Ｘ線分析方法を示す全体のフローチャートである。
【図5】第１実施形態において、膜厚算出ステップを示すフローチャートである。
【図6】本発明に係る蛍光Ｘ線分析方法及び蛍光Ｘ線分析装置の第２実施形態において、試料を示す断面図（ａ）、及び試料の蛍光Ｘ線強度を示す概念的なスペクトル（ｂ）である。
【図7】第２実施形態において、単層標準物質を示す断面図（ａ）、２層標準物質を示す断面図（ｂ）、３層標準物質を示す断面図（ｃ）である。
【発明を実施するための形態】
【0017】
【0018】
本実施形態の蛍光Ｘ線分析装置１は、図１及び図２に示すように、基材Ｂ上に形成された下層Ｌ１と下層Ｌ１上に積層された中間層Ｌ２と中間層Ｌ２上に積層された上層Ｌ３とを備え、上層Ｌ３と下層Ｌ１とが同じ第１の元素で形成されていると共に中間層Ｌ２が第１の元素と異なる第２の元素で形成された試料Ｓを載置する試料ステージ２と、試料ステージ２上の試料Ｓにその上方からＸ線（一次Ｘ線）Ｘ１を照射するＸ線源３と、Ｘ線Ｘ１が照射された試料Ｓから放射される蛍光Ｘ線（二次Ｘ線）Ｘ２を検出し、蛍光Ｘ線Ｘ２のエネルギーまたは波長の情報を含む信号を出力するＸ線検出器４と、この信号を分析し上層Ｌ３，中間層Ｌ２及び下層Ｌ１の各膜厚または組成を算出するデータ処理部５とを備えている。
【0019】
上記データ処理部５は、図３に示すように、膜厚または組成が既知の複数の標準物質ＳＴ１，ＳＴ２，ＳＴ３にＸ線を照射して放射される蛍光Ｘ線のエネルギーまたは波長の情報を標準情報として予め取得しておき、試料Ｓから放射される蛍光Ｘ線Ｘ２を検出し蛍光Ｘ線Ｘ２のエネルギーまたは波長の情報を実測情報として得て、標準情報と比較して実測情報を分析し上層Ｌ３，中間層Ｌ２及び下層Ｌ１の各膜厚または組成を算出する演算機能を有している。
【0020】
上記演算機能は、上層Ｌ３，中間層Ｌ２及び下層Ｌ１のうち、他の層の影響を受けずに試料Ｓの上方に放射される蛍光Ｘ線Ｘ２を放射する元素の層を特定層とし、複数の標準物質ＳＴ１，ＳＴ２，ＳＴ３のうち一つが、特定層と同じ元素で形成された単層標準物質ＳＴ１であり、単層標準物質ＳＴ１の膜厚または組成及び標準情報と実測情報とを比較して特定層の膜厚または組成を算出し、算出された特定層の膜厚または組成に基づいてさらに試料Ｓの他の層の膜厚または組成を算出する機能である。
上記データ処理部９は、演算機能を行うために、例えばディスプレイを備えたコンピュータを備えている。
上記データ処理部９は、演算機能を行うために、例えばディスプレイを備えたコンピュータを備えている。
【0021】
上記Ｘ線源３は、試料ステージ２より上方に位置し、試料ステージ２上の任意の照射ポイントＰに一次Ｘ線Ｘ１を照射するＸ線管球である。Ｘ線源３は、例えば管球内のフィラメント（陰極）から発生した熱電子がフィラメント（陰極）とターゲット（陽極）との間に印加された電圧により加速され、ターゲット（Ｗ（タングステン）、Ｍｏ（モリブデン）、Ｒｈ（ロジウム）など）に衝突して発生したＸ線を一次Ｘ線Ｘ１としてベリリウム箔などの窓から出射するものである。
【0022】
また、本実施形態の蛍光Ｘ線分析装置１は、一次Ｘ線Ｘ１を成形するＸ線ビーム成型機構１０を備えている。このＸ線ビーム成型機構１０は、例えばコリメータやポリキャピラリＸ線集光素子である。ポリキャピラリＸ線集光素子は、多数の中空のガラス管を、入射光と出射口でそれぞれ一点を指向するように束ねることで、ガラス管の内壁を全反射モードで伝播するＸ線を集光する素子である。
【0023】
上記Ｘ線検出器４は、試料ステージ２より上方に位置しつつＸ線源３と離間している。このＸ線検出器４は、試料Ｓから放射される蛍光Ｘ線Ｘ２を検出し、この蛍光Ｘ線Ｘ２のエネルギーまたは波長情報を含む信号を出力する。Ｘ線検出器４は、例えば半導体検出器又は比例計数管などのエネルギー分散型Ｘ線検出器である。なお、Ｘ線検出器４として、波長分散型Ｘ線検出器を用いてもよい。
上記データ処理部５は、Ｘ線検出器４に接続されて出力された信号を分析する分析器を有している。分析器は例えば、上記信号から電圧パルスの波高を得てエネルギースペクトルを生成する波高分析器（マルチチャンネルアナライザー）である。
上記データ処理部５は、Ｘ線検出器４に接続されて出力された信号を分析する分析器を有している。分析器は例えば、上記信号から電圧パルスの波高を得てエネルギースペクトルを生成する波高分析器（マルチチャンネルアナライザー）である。
【0024】
上記試料ステージ２は、数値制御可能な１軸又はそれ以上の多軸のリニアステージに載置されたパレットであって、ステージ移動機構６により、一定の搬送方向に連続的に移動可能となっている。
なお、試料ステージ２の表面材料は、試料Ｓから発生する蛍光Ｘ線Ｘ２のエネルギーに対して、試料ステージ２の表面から発生する蛍光Ｘ線Ｘ２のエネルギーと干渉しないものが選ばれる。
なお、試料ステージ２の表面材料は、試料Ｓから発生する蛍光Ｘ線Ｘ２のエネルギーに対して、試料ステージ２の表面から発生する蛍光Ｘ線Ｘ２のエネルギーと干渉しないものが選ばれる。
【0025】
本実施形態の蛍光Ｘ線分析方法では、上記蛍光Ｘ線分析装置１を用い、図４に示すように、試料Ｓにその上方からＸ線を照射する照射ステップＳ１と、膜厚が既知の複数の標準物質ＳＴ１，ＳＴ２，ＳＴ３にＸ線を照射して放射される蛍光Ｘ線のエネルギーまたは波長の情報を標準情報として予め取得しておく標準情報取得ステップＳ２と、試料Ｓから放射される蛍光Ｘ線Ｘ２を検出し蛍光Ｘ線Ｘ２のエネルギーまたは波長情報を実測情報として得る検出ステップＳ３と、標準情報と比較して実測情報を分析し上層Ｌ３，中間層Ｌ２及び下層Ｌ１の各膜厚を算出する膜厚算出ステップＳ４とを有している。
なお、照射ステップＳ１と標準情報取得ステップＳ２とは、手順として互いに前後しても構わない。
なお、照射ステップＳ１と標準情報取得ステップＳ２とは、手順として互いに前後しても構わない。
【0026】
本実施形態の蛍光Ｘ線分析方法では、上述したように、上層Ｌ３，中間層Ｌ２及び下層Ｌ１のうち、他の層の影響を受けずに試料Ｓの上方に放射される蛍光Ｘ線Ｘ２を放射する元素の層を特定層とし、複数の標準物質ＳＴ１，ＳＴ２，ＳＴ３のうち一つが、特定層と同じ元素で形成された単層標準物質ＳＴ１とする。
上記膜厚算出ステップＳ４は、単層標準物質ＳＴ１の膜厚及び標準情報と実測情報とを比較して特定層の膜厚を算出する特定層算出ステップＳ５と、算出された特定層の膜厚に基づいてさらに試料Ｓの他の層の膜厚を算出する他層算出ステップＳ６とを有している。
上記膜厚算出ステップＳ４は、単層標準物質ＳＴ１の膜厚及び標準情報と実測情報とを比較して特定層の膜厚を算出する特定層算出ステップＳ５と、算出された特定層の膜厚に基づいてさらに試料Ｓの他の層の膜厚を算出する他層算出ステップＳ６とを有している。
【0027】
本実施形態では、例えば中間層Ｌ２の第２の元素が、上層Ｌ３に吸収されずに蛍光Ｘ線Ｘ２を試料Ｓの上方に放射可能である。
例えば、本実施形態の試料Ｓは、下層Ｌ１及び上層Ｌ３が第１の元素であるＮｉで形成され、中間層Ｌ２が第２の元素であるＡｇで形成された３層の積層構造を有しているものである。
また、試料Ｓは、基材Ｂ上に成膜されており、基材Ｂとしては、Ｃｕや真鍮、リン青銅、コルソン銅、ベリリウム銅のような銅合金をはじめとして、鉄や４２アロイのような鉄合金、アルミなどが採用可能である。
例えば、本実施形態の試料Ｓは、下層Ｌ１及び上層Ｌ３が第１の元素であるＮｉで形成され、中間層Ｌ２が第２の元素であるＡｇで形成された３層の積層構造を有しているものである。
また、試料Ｓは、基材Ｂ上に成膜されており、基材Ｂとしては、Ｃｕや真鍮、リン青銅、コルソン銅、ベリリウム銅のような銅合金をはじめとして、鉄や４２アロイのような鉄合金、アルミなどが採用可能である。
【0028】
すなわち、この試料ＳにＸ線Ｘ１を照射して検出される蛍光Ｘ線Ｘ２は、図２の（ｂ）に示すように、ＮｉのＮｉＫαと、Ａｇの相対的にエネルギーが小さいＡｇＬαと、相対的にエネルギーが大きいＡｇＫαとが検出される。
なお、図２の（ｂ）は、横軸がエネルギーであり、縦軸が蛍光Ｘ線強度を示すスペクトルを表示したものである。
このうち、下層Ｌ１のＮｉの蛍光Ｘ線ＮｉＫαは、中間層Ｌ２Ａｇで吸収されてしまうのに対し、中間層Ｌ２のＡｇの蛍光Ｘ線ＡｇＫαは、上層Ｌ３のＮｉによる吸収を無視して上方に放射される。したがって、本実施形態では、モデルをＡｇ単層（単層標準物質ＳＴ１）に限定し、中間層Ｌ２を上記特定層とすることで、蛍光Ｘ線ＡｇＫαを用いて中間層Ｌ２の膜厚を算出する。
なお、試料Ｓから検出される複数の蛍光Ｘ線Ｘ２のうち、算出に使用する蛍光Ｘ線は、強度が十分に測定可能な蛍光Ｘ線に限定する。
なお、図２の（ｂ）は、横軸がエネルギーであり、縦軸が蛍光Ｘ線強度を示すスペクトルを表示したものである。
このうち、下層Ｌ１のＮｉの蛍光Ｘ線ＮｉＫαは、中間層Ｌ２Ａｇで吸収されてしまうのに対し、中間層Ｌ２のＡｇの蛍光Ｘ線ＡｇＫαは、上層Ｌ３のＮｉによる吸収を無視して上方に放射される。したがって、本実施形態では、モデルをＡｇ単層（単層標準物質ＳＴ１）に限定し、中間層Ｌ２を上記特定層とすることで、蛍光Ｘ線ＡｇＫαを用いて中間層Ｌ２の膜厚を算出する。
なお、試料Ｓから検出される複数の蛍光Ｘ線Ｘ２のうち、算出に使用する蛍光Ｘ線は、強度が十分に測定可能な蛍光Ｘ線に限定する。
【0029】
また、本実施形態で予め用意された標準物質ＳＴ１，ＳＴ２，ＳＴ３は、図３の（ａ）に示すように、基材Ｂ上に第２の元素のＡｇ層で形成された単層標準物質ＳＴ１と、図３の（ｂ）に示すように、基材Ｂ上に第２の元素のＡｇで形成されたＡｇ層とその上に第１の元素のＮｉで形成されたＮｉ層とで構成された２層標準物質ＳＴ２と、図３の（ｃ）に示すように、基材Ｂ上に第１の元素のＮｉで形成されたＮｉ層とその上に第２の元素のＡｇで形成されたＡｇ層とその上に第１の元素のＮｉで形成されたＮｉ層とで構成された３層標準物質ＳＴ３とになる。
【0030】
上記標準情報は、上述したようにＡｇ層の単層標準物質ＳＴ１，Ａｇ層及びＮｉ層の２層標準物質ＳＴ２及びＮｉ層，Ａｇ層及びＮｉ層の３層標準物質ＳＴ３の各層の膜厚及び蛍光Ｘ線Ｘ２のエネルギーまたは波長の情報である。
本実施形態の特定層算出ステップＳ５では、Ａｇの中間層Ｌ２を特定層として膜厚を算出する。
上記他層算出ステップＳ６では、Ａｇ層及びＮｉ層の２層標準物質ＳＴ２の膜厚及び標準情報と実測情報とを比較してＮｉの上層Ｌ３の膜厚を算出する上層算出ステップＳＴ７と、３層標準物質ＳＴ３の膜厚及び標準情報と実測情報とを比較して下層Ｌ１の膜厚を算出する下層算出ステップＳＴ８とを有している。
本実施形態の特定層算出ステップＳ５では、Ａｇの中間層Ｌ２を特定層として膜厚を算出する。
上記他層算出ステップＳ６では、Ａｇ層及びＮｉ層の２層標準物質ＳＴ２の膜厚及び標準情報と実測情報とを比較してＮｉの上層Ｌ３の膜厚を算出する上層算出ステップＳＴ７と、３層標準物質ＳＴ３の膜厚及び標準情報と実測情報とを比較して下層Ｌ１の膜厚を算出する下層算出ステップＳＴ８とを有している。
【0031】
上記上層算出ステップＳＴ７では、特定層算出ステップＳ５で得られたＡｇの中間層Ｌ２の膜厚を一定値（固定値）としてＮｉの上層Ｌ３の膜厚の算出を行う。
また、上記下層算出ステップＳＴ８では、特定層算出ステップＳ５で得られたＡｇの中間層Ｌ２の膜厚と上層算出ステップＳＴ７で得られたＮｉの上層Ｌ３の膜厚とを一定値（固定値）としてＮｉの下層Ｌ１の膜厚の算出を行う。
また、上記下層算出ステップＳＴ８では、特定層算出ステップＳ５で得られたＡｇの中間層Ｌ２の膜厚と上層算出ステップＳＴ７で得られたＮｉの上層Ｌ３の膜厚とを一定値（固定値）としてＮｉの下層Ｌ１の膜厚の算出を行う。
【0032】
すなわち、まず上層Ｌ３，中間層Ｌ２及び下層Ｌ１のうち、他の層の影響を受けずに試料Ｓの上方に放射される蛍光Ｘ線Ｘ２を放射する元素の層を特定層として、この特定層と同じ元素で形成された単層標準物質ＳＴ１を、試料Ｓの一部のモデルと仮定することで、この標準物質ＳＴ１，ＳＴ２，ＳＴ３（モデル）の膜厚と蛍光Ｘ線Ｘ２（標準情報）との関係を予め求めておく。
【0033】
次に、Ｘ線Ｘ１を照射して検出された試料Ｓの蛍光Ｘ線Ｘ２の実測情報と標準物質の上記関係との比較により、特定層の膜厚を算出する。ここで特定層の上記蛍光Ｘ線Ｘ２は他の層の吸収等の影響を受けずに試料Ｓ上方に放射されるため、その蛍光Ｘ線Ｘ２の強度は特定層の膜厚に対応しており、単層標準物質ＳＴ１の膜厚と標準情報との関係から検量法やＦＰ法等により特定層の膜厚を容易に算出することができる。
このように、試料Ｓの３層のうち１層の膜厚が最初に算出されることで、この１層（特定層）の膜厚を固定値として他の２層の算出を行う際に適用することで、他の２層の膜厚も算出することが可能になる。
このように、試料Ｓの３層のうち１層の膜厚が最初に算出されることで、この１層（特定層）の膜厚を固定値として他の２層の算出を行う際に適用することで、他の２層の膜厚も算出することが可能になる。
【0034】
上記膜厚算出ステップＳ４について、より具体的に以下に説明する。
まず、上記標準情報として、単層標準物質ＳＴ１のＡｇＫα，２層標準物質ＳＴ２のＡｇＬα及び３層標準物質ＳＴ３のＮｉＫαの強度を実測して実測蛍光Ｘ線強度とする。また、各標準物質ＳＴ１，ＳＴ２，ＳＴ３の各層の膜厚と膜厚に基づいて計算された理論上の蛍光Ｘ線強度（以下、理論蛍光Ｘ線強度という）と実測蛍光Ｘ線の強度との関係を求める。この関係に基づいて実測蛍光Ｘ線強度に対する理論蛍光Ｘ線強度の補正係数を算出し、これらを標準情報としてデータ処理部５に記憶しておく。
なお、ここで単層標準物質ＳＴ１に関しては、膜厚と実測蛍光Ｘ線強度との関係から検量線を作成してもよい。
まず、上記標準情報として、単層標準物質ＳＴ１のＡｇＫα，２層標準物質ＳＴ２のＡｇＬα及び３層標準物質ＳＴ３のＮｉＫαの強度を実測して実測蛍光Ｘ線強度とする。また、各標準物質ＳＴ１，ＳＴ２，ＳＴ３の各層の膜厚と膜厚に基づいて計算された理論上の蛍光Ｘ線強度（以下、理論蛍光Ｘ線強度という）と実測蛍光Ｘ線の強度との関係を求める。この関係に基づいて実測蛍光Ｘ線強度に対する理論蛍光Ｘ線強度の補正係数を算出し、これらを標準情報としてデータ処理部５に記憶しておく。
なお、ここで単層標準物質ＳＴ１に関しては、膜厚と実測蛍光Ｘ線強度との関係から検量線を作成してもよい。
【0035】
上記特定層算出ステップＳ５では、特定層が単層標準物質ＳＴ１、すなわちモデルが基材Ｂ上のＡｇ層であると仮定し、蛍光Ｘ線ＡｇＫαを用いてＡｇの中間層Ｌ２の膜厚を算出する。
このとき、単層標準物質ＳＴ１のＡｇ層の膜厚から理論蛍光Ｘ線強度を算出し、この理論蛍光Ｘ線強度と実測蛍光Ｘ線強度との比較を行うことでモデルを修正するＦＰ法を使用する場合は、以下の手順で行う。
このとき、単層標準物質ＳＴ１のＡｇ層の膜厚から理論蛍光Ｘ線強度を算出し、この理論蛍光Ｘ線強度と実測蛍光Ｘ線強度との比較を行うことでモデルを修正するＦＰ法を使用する場合は、以下の手順で行う。
【0036】
ａ．まず、中間層Ｌ２に相当する基材Ｂ上のＡｇ層の膜厚を適当な値に仮定する。
なお、上記適当な値は、成膜時に想定している目標の膜厚等である。
ｂ．次に、仮定した膜厚値を用いてＡｇＫαの理論蛍光Ｘ線強度を算出する。
ｃ．次に、実測したＡｇＫαの実測蛍光Ｘ線強度と理論蛍光Ｘ線強度とを比較する。この際、上記で算出した補正係数を使用する。
ｄ．さらに、ＡｇＫαの実測蛍光Ｘ線強度と理論蛍光Ｘ線強度との差が小さくなるように中間層Ｌ２（Ａｇ）の膜厚（仮定する膜厚値）を修正して、ｂの手順に戻ることを繰り返し、両者の差が所定の範囲内になったところで、その膜厚を試料Ｓの中間層Ｌ２（Ａｇ）の膜厚とする。
なお、上記膜厚の計算範囲は、成膜ばらつき等を考慮して想定される膜厚範囲内に限定することで、モデル計算が発散して収束しなくなることを防止できる。
なお、上記適当な値は、成膜時に想定している目標の膜厚等である。
ｂ．次に、仮定した膜厚値を用いてＡｇＫαの理論蛍光Ｘ線強度を算出する。
ｃ．次に、実測したＡｇＫαの実測蛍光Ｘ線強度と理論蛍光Ｘ線強度とを比較する。この際、上記で算出した補正係数を使用する。
ｄ．さらに、ＡｇＫαの実測蛍光Ｘ線強度と理論蛍光Ｘ線強度との差が小さくなるように中間層Ｌ２（Ａｇ）の膜厚（仮定する膜厚値）を修正して、ｂの手順に戻ることを繰り返し、両者の差が所定の範囲内になったところで、その膜厚を試料Ｓの中間層Ｌ２（Ａｇ）の膜厚とする。
なお、上記膜厚の計算範囲は、成膜ばらつき等を考慮して想定される膜厚範囲内に限定することで、モデル計算が発散して収束しなくなることを防止できる。
【0037】
なお、標準物質ＳＴ１，ＳＴ２，ＳＴ３の膜厚と実測蛍光Ｘ線強度との関係から検量線を作成する方法を使用する場合は、以下の手順で行う。
ａ．試料ＳのＡｇＫαの強度を検量線に当てはめる。
ｂ．対応する膜厚を試料Ｓの中間層Ｌ２（Ａｇ）の膜厚とする。
ａ．試料ＳのＡｇＫαの強度を検量線に当てはめる。
ｂ．対応する膜厚を試料Ｓの中間層Ｌ２（Ａｇ）の膜厚とする。
【0038】
次に、上記上層算出ステップＳＴ７では、モデルとして２層標準物質ＳＴ２の標準情報を用いて試料Ｓを基材Ｂ上に形成されたＡｇ層上のＮｉ層と仮定し、蛍光Ｘ線ＡｇＬαを用いて上層Ｌ３のＮｉの膜厚を算出する。
このとき、上記で算出した中間層Ｌ２（Ａｇ）の膜厚を試料Ｓのモデルに与え、一定値（固定値）とする。
この算出にはＦＰ法を以下の手順によって使用する。
このとき、上記で算出した中間層Ｌ２（Ａｇ）の膜厚を試料Ｓのモデルに与え、一定値（固定値）とする。
この算出にはＦＰ法を以下の手順によって使用する。
【0039】
ａ．２層標準物質ＳＴ２のＡｇ層上のＮｉ層についてＡｇ層の膜厚を、上記で算出し求めた中間層Ｌ２の膜厚値に固定する。
ｂ．上層Ｌ３のＮｉの膜厚を適当な値に仮定する。
なお、上記適当な値は、成膜時に想定している目標の膜厚等である。
ｃ．上記仮定した膜厚値を用いてＡｇＬαの理論蛍光Ｘ線強度を算出する。
ｄ．ＡｇＬαの上記理論蛍光Ｘ線強度と実測蛍光Ｘ線強度とを比較する。この際、上記で算出した補正係数を使用する。
ｅ．さらに、ＡｇＬαの実測蛍光Ｘ線強度と理論蛍光Ｘ線強度との差が小さくなるように上層Ｌ３（Ｎｉ）の膜厚（仮定する膜厚値）を修正して、ｃの手順に戻ることを繰り返し、両者の差が所定の範囲内になったところで、その膜厚を試料Ｓの上層Ｌ３（Ｎｉ）の膜厚とする。
ｂ．上層Ｌ３のＮｉの膜厚を適当な値に仮定する。
なお、上記適当な値は、成膜時に想定している目標の膜厚等である。
ｃ．上記仮定した膜厚値を用いてＡｇＬαの理論蛍光Ｘ線強度を算出する。
ｄ．ＡｇＬαの上記理論蛍光Ｘ線強度と実測蛍光Ｘ線強度とを比較する。この際、上記で算出した補正係数を使用する。
ｅ．さらに、ＡｇＬαの実測蛍光Ｘ線強度と理論蛍光Ｘ線強度との差が小さくなるように上層Ｌ３（Ｎｉ）の膜厚（仮定する膜厚値）を修正して、ｃの手順に戻ることを繰り返し、両者の差が所定の範囲内になったところで、その膜厚を試料Ｓの上層Ｌ３（Ｎｉ）の膜厚とする。
【0040】
さらに、上記下層算出ステップＳＴ８では、モデルとして３層標準物質ＳＴ３の標準情報を用いて試料Ｓを基材Ｂ上にＮｉ層，Ａｇ層，Ｎｉ層の順に積層したものと仮定し、蛍光Ｘ線ＮｉＫαを用いて下層Ｌ１のＮｉの膜厚を算出する。
このとき、上記で算出した中間層Ｌ２（Ａｇ）と上層Ｌ３（Ｎｉ）との膜厚を試料Ｓのモデルに与え、固定値とする。
この算出にはＦＰ法を以下の手順によって使用する。
このとき、上記で算出した中間層Ｌ２（Ａｇ）と上層Ｌ３（Ｎｉ）との膜厚を試料Ｓのモデルに与え、固定値とする。
この算出にはＦＰ法を以下の手順によって使用する。
【0041】
ａ．３層標準物質ＳＴ３のＮｉ層上に形成されたＡｇ層上のＮｉ層についてＡｇ層の膜厚を、上記で算出し求めた中間層Ｌ２の膜厚値に固定する。
ｂ．下層Ｌ１のＮｉの膜厚を適当な値に仮定する。
なお、上記適当な値は、成膜時に想定している目標の膜厚等である。
ｃ．上記仮定した膜厚値を用いてＮｉＫαの理論蛍光Ｘ線強度を算出する。
ｄ．ＮｉＫαの上記理論蛍光Ｘ線強度と実測蛍光Ｘ線強度とを比較する。この際、上記で算出した補正係数を使用する。
ｅ．さらに、ＮｉＫαの実測蛍光Ｘ線強度と理論蛍光Ｘ線強度との差が小さくなるように下層Ｌ１（Ｎｉ）の膜厚（仮定する膜厚値）を修正して、ｃの手順に戻ることを繰り返し、両者の差が所定の範囲内になったところで、その膜厚を試料Ｓの下層Ｌ１（Ｎｉ）の膜厚とする。
ｂ．下層Ｌ１のＮｉの膜厚を適当な値に仮定する。
なお、上記適当な値は、成膜時に想定している目標の膜厚等である。
ｃ．上記仮定した膜厚値を用いてＮｉＫαの理論蛍光Ｘ線強度を算出する。
ｄ．ＮｉＫαの上記理論蛍光Ｘ線強度と実測蛍光Ｘ線強度とを比較する。この際、上記で算出した補正係数を使用する。
ｅ．さらに、ＮｉＫαの実測蛍光Ｘ線強度と理論蛍光Ｘ線強度との差が小さくなるように下層Ｌ１（Ｎｉ）の膜厚（仮定する膜厚値）を修正して、ｃの手順に戻ることを繰り返し、両者の差が所定の範囲内になったところで、その膜厚を試料Ｓの下層Ｌ１（Ｎｉ）の膜厚とする。
【0042】
このように本実施形態の蛍光Ｘ線分析方法では、上層Ｌ３，中間層Ｌ２及び下層Ｌ１のうち、他の層の影響（特に吸収）を受けずに試料Ｓの上方に放射される蛍光Ｘ線Ｘ２を放射する元素の層を特定層とし、複数の標準物質ＳＴ１，ＳＴ２，ＳＴ３のうち一つが、特定層と同じ元素で形成された単層であり、膜厚算出ステップが、単層標準物質ＳＴ１の膜厚及び標準情報と実測情報とを比較して特定層の膜厚を算出する特定層算出ステップと、算出された特定層の膜厚に基づいてさらに試料Ｓの他の層の膜厚を算出する他層算出ステップとを有しているので、試料Ｓの一部の層（特定層）をモデル（単層標準物質ＳＴ１）として限定して計算し、その層の膜厚を固定値とすることで、一度のＸ線照射による蛍光Ｘ線分析で試料Ｓの各層の膜厚を算出することが可能になる。
【0043】
また、上層算出ステップで、特定層算出ステップで得られた中間層Ｌ２の膜厚を一定値として上層Ｌ３の膜厚の算出を行い、下層算出ステップで、特定層算出ステップで得られた中間層Ｌ２の膜厚と上層算出ステップで得られた上層Ｌ３の膜厚とを一定値として下層Ｌ１の膜厚の算出を行うので、計算処理上、特定層（中間層Ｌ２）の膜厚を固定値（一定値）としてモデルを限定することで、他の層、すなわち上層Ｌ３及び下層Ｌ１の膜厚も２層標準物質ＳＴ２及び３層標準物質ＳＴ３の情報を元に順次算出可能である。
【0044】
次に、本発明に係る蛍光Ｘ線分析方法及び蛍光Ｘ線分析装置の第２実施形態について、図６及び図７を参照して以下に説明する。なお、以下の実施形態の説明において、上記実施形態において説明した同一の構成要素には同一の符号を付し、その説明は省略する。
【0045】
第２実施形態と第１実施形態との異なる点は、第１実施形態では、中間層Ｌ２を特定層としたのに対し、第２実施形態の蛍光Ｘ線分析方法及び蛍光Ｘ線分析装置では、図６及び図７に示すように、上層Ｌ３を特定層とした点である。
すなわち、第２実施形態の試料Ｓは、例えば下層Ｌ１及び上層Ｌ３が第１の元素であるＡｇで形成され、中間層Ｌ２が第２の元素であるＰｂで形成された３層の積層構造を有しているものである。この場合、Ａｇの上層Ｌ３の蛍光Ｘ線ＡｇＬαが他の層の影響を受けずに上方に放射されることから、第２実施形態では、上層Ｌ３（Ａｇ）を特定層として各層の膜厚を計算する。
すなわち、第２実施形態の試料Ｓは、例えば下層Ｌ１及び上層Ｌ３が第１の元素であるＡｇで形成され、中間層Ｌ２が第２の元素であるＰｂで形成された３層の積層構造を有しているものである。この場合、Ａｇの上層Ｌ３の蛍光Ｘ線ＡｇＬαが他の層の影響を受けずに上方に放射されることから、第２実施形態では、上層Ｌ３（Ａｇ）を特定層として各層の膜厚を計算する。
【0046】
なお、下層Ｌ１のＡｇの蛍光Ｘ線ＡｇＫαはエネルギーが大きく、中間層Ｌ２のＰｂを透過して上層Ｌ３のＡｇの蛍光Ｘ線ＡｇＫαと共に試料Ｓの上方に放射されてしまうため、上層Ｌ３のＡｇの影響を受ける。また、下層Ｌ１のＡｇの蛍光Ｘ線ＡｇＬαはエネルギーが小さく、中間層Ｌ２の原子番号が大きいＰｂに吸収、減衰されてしまう。このため、第２実施形態では、下層Ｌ１の影響を受けないＡｇの上層Ｌ３の蛍光Ｘ線ＡｇＬαを用いて、特定層を上層Ｌ３として膜厚を最初に算出する。
したがって、第２実施形態では、特定層算出ステップＳ５で上層Ｌ３を特定層として膜厚を算出し、その後、他層算出ステップＳ６において中間層算出ステップで中間層Ｌ２の膜厚を算出し、さらに下層算出ステップで下層Ｌ１の膜厚を算出する。
したがって、第２実施形態では、特定層算出ステップＳ５で上層Ｌ３を特定層として膜厚を算出し、その後、他層算出ステップＳ６において中間層算出ステップで中間層Ｌ２の膜厚を算出し、さらに下層算出ステップで下層Ｌ１の膜厚を算出する。
【0047】
また、第２実施形態で予め用意された標準物質ＳＴ１，ＳＴ２，ＳＴ３は、図６の（ａ）に示すように、基材Ｂ上に第１の元素のＡｇ層で形成された単層標準物質ＳＴ１と、図６の（ｂ）に示すように、基材Ｂ上に第１の元素のＰｂで形成されたＰｂ層とその上に第２の元素のＡｇで形成されたＡｇ層とで構成された２層標準物質ＳＴ２と、図６の（ｃ）に示すように、基材Ｂ上に第１の元素のＡｇで形成されたＡｇ層とその上に第２の元素のＰｂで形成されたＰｂ層とその上に第１の元素のＡｇで形成されたＡｇ層とで構成された３層標準物質ＳＴ３とになる。
【0048】
第２実施形態の膜厚算出ステップＳ４について、より具体的に以下に説明する。
まず、上記標準情報として、単層標準物質ＳＴ１のＡｇＬα，２層標準物質ＳＴ２のＰｂＬα及び３層標準物質ＳＴ３のＡｇＫαの強度を実測して実測蛍光Ｘ線強度とする。また、各標準物質ＳＴ１，ＳＴ２，ＳＴ３の各層の膜厚を測定し、これら膜厚と膜厚に基づいて計算された理論上の蛍光Ｘ線強度（以下、理論蛍光Ｘ線強度という）と実測蛍光Ｘ線の強度との関係を求める。この関係に基づいて実測蛍光Ｘ線強度に対する理論蛍光Ｘ線強度の補正係数を算出し、これらを標準情報としてデータ処理部５に記憶しておく。
なお、ここで単層標準物質ＳＴ１に関しては、膜厚と実測蛍光Ｘ線強度との関係から検量線を作成してもよい。
まず、上記標準情報として、単層標準物質ＳＴ１のＡｇＬα，２層標準物質ＳＴ２のＰｂＬα及び３層標準物質ＳＴ３のＡｇＫαの強度を実測して実測蛍光Ｘ線強度とする。また、各標準物質ＳＴ１，ＳＴ２，ＳＴ３の各層の膜厚を測定し、これら膜厚と膜厚に基づいて計算された理論上の蛍光Ｘ線強度（以下、理論蛍光Ｘ線強度という）と実測蛍光Ｘ線の強度との関係を求める。この関係に基づいて実測蛍光Ｘ線強度に対する理論蛍光Ｘ線強度の補正係数を算出し、これらを標準情報としてデータ処理部５に記憶しておく。
なお、ここで単層標準物質ＳＴ１に関しては、膜厚と実測蛍光Ｘ線強度との関係から検量線を作成してもよい。
【0049】
上記特定層算出ステップＳ５では、特定層が単層標準物質ＳＴ１、すなわちモデルが基材Ｂ上のＡｇ層であると仮定し、蛍光Ｘ線ＡｇＬαを用いてＡｇの上層Ｌ３の膜厚を算出する。
このとき、単層標準物質ＳＴ１のＡｇ層の膜厚から理論蛍光Ｘ線強度を算出し、この理論蛍光Ｘ線強度と実測蛍光Ｘ線強度との比較を行うことでモデルを修正するＦＰ法を使用する場合は、以下の手順で行う。
このとき、単層標準物質ＳＴ１のＡｇ層の膜厚から理論蛍光Ｘ線強度を算出し、この理論蛍光Ｘ線強度と実測蛍光Ｘ線強度との比較を行うことでモデルを修正するＦＰ法を使用する場合は、以下の手順で行う。
【0050】
ａ．まず、上層Ｌ３に相当する基材Ｂ上のＡｇ層の膜厚を適当な値に仮定する。
なお、上記適当な値は、成膜時に想定している目標の膜厚等である。
ｂ．次に、仮定した膜厚値を用いてＡｇＫαの理論蛍光Ｘ線強度を算出する。
ｃ．次に、実測したＡｇＬαの実測蛍光Ｘ線強度と理論蛍光Ｘ線強度とを比較する。この際、上記で算出した補正係数を使用する。
ｄ．さらに、ＡｇＬαの実測蛍光Ｘ線強度と理論蛍光Ｘ線強度との差が小さくなるように上層Ｌ３（Ａｇ）の膜厚（仮定する膜厚値）を修正して、ｂの手順に戻ることを繰り返し、両者の差が所定の範囲内になったところで、その膜厚を試料Ｓの上層Ｌ３（Ａｇ）の膜厚とする。
なお、上記適当な値は、成膜時に想定している目標の膜厚等である。
ｂ．次に、仮定した膜厚値を用いてＡｇＫαの理論蛍光Ｘ線強度を算出する。
ｃ．次に、実測したＡｇＬαの実測蛍光Ｘ線強度と理論蛍光Ｘ線強度とを比較する。この際、上記で算出した補正係数を使用する。
ｄ．さらに、ＡｇＬαの実測蛍光Ｘ線強度と理論蛍光Ｘ線強度との差が小さくなるように上層Ｌ３（Ａｇ）の膜厚（仮定する膜厚値）を修正して、ｂの手順に戻ることを繰り返し、両者の差が所定の範囲内になったところで、その膜厚を試料Ｓの上層Ｌ３（Ａｇ）の膜厚とする。
【0051】
なお、標準物質ＳＴ１，ＳＴ２，ＳＴ３の膜厚と実測蛍光Ｘ線強度との関係から検量線を作成する方法を使用する場合は、以下の手順で行う。
ａ．試料ＳのＡｇＬαの強度を検量線に当てはめる。
ｂ．対応する膜厚を試料Ｓの上層Ｌ３（Ａｇ）の膜厚とする。
ａ．試料ＳのＡｇＬαの強度を検量線に当てはめる。
ｂ．対応する膜厚を試料Ｓの上層Ｌ３（Ａｇ）の膜厚とする。
【0052】
次に、中間層算出ステップでは、モデルとして２層標準物質ＳＴ２の標準情報を用いて試料Ｓを基材Ｂ上に形成されたＰｂ層上のＡｇ層と仮定し、蛍光Ｘ線ＰｂＬαを用いて中間層Ｌ２のＰｂの膜厚を算出する。
このとき、上記で算出した上層Ｌ３（Ａｇ）の膜厚を試料Ｓのモデルに与え、固定値とする。
この算出にはＦＰ法を以下の手順によって使用する。
このとき、上記で算出した上層Ｌ３（Ａｇ）の膜厚を試料Ｓのモデルに与え、固定値とする。
この算出にはＦＰ法を以下の手順によって使用する。
【0053】
ａ．２層標準物質ＳＴ２のＰｂ層上のＡｇ層についてＡｇ層の膜厚を、上記で算出し求めた上層Ｌ３の膜厚値に固定する。
ｂ．中間層Ｌ２のＰｂの膜厚を適当な値に仮定する。
なお、上記適当な値は、成膜時に想定している目標の膜厚等である。
ｃ．上記仮定した膜厚値を用いてＰｂＬαの理論蛍光Ｘ線強度を算出する。
ｄ．ＰｂＬαの上記理論蛍光Ｘ線強度と実測蛍光Ｘ線強度とを比較する。この際、上記で算出した補正係数を使用する。
ｅ．さらに、ＰｂＬαの実測蛍光Ｘ線強度と理論蛍光Ｘ線強度との差が小さくなるように中間層Ｌ２（Ｐｂ）の膜厚（仮定する膜厚値）を修正して、ｃの手順に戻ることを繰り返し、両者の差が所定の範囲内になったところで、その膜厚を試料Ｓの中間層Ｌ２（Ｐｂ）の膜厚とする。
ｂ．中間層Ｌ２のＰｂの膜厚を適当な値に仮定する。
なお、上記適当な値は、成膜時に想定している目標の膜厚等である。
ｃ．上記仮定した膜厚値を用いてＰｂＬαの理論蛍光Ｘ線強度を算出する。
ｄ．ＰｂＬαの上記理論蛍光Ｘ線強度と実測蛍光Ｘ線強度とを比較する。この際、上記で算出した補正係数を使用する。
ｅ．さらに、ＰｂＬαの実測蛍光Ｘ線強度と理論蛍光Ｘ線強度との差が小さくなるように中間層Ｌ２（Ｐｂ）の膜厚（仮定する膜厚値）を修正して、ｃの手順に戻ることを繰り返し、両者の差が所定の範囲内になったところで、その膜厚を試料Ｓの中間層Ｌ２（Ｐｂ）の膜厚とする。
【0054】
さらに、上記下層算出ステップＳＴ８では、モデルとして３層標準物質ＳＴ３の標準情報を用いて試料Ｓを基材Ｂ上にＡｇ層，Ｐｂ層，Ａｇ層の順に積層したものと仮定し、蛍光Ｘ線ＡｇＫαを用いて下層Ｌ１のＡｇの膜厚を算出する。
このとき、上記で算出した上層Ｌ３（Ａｇ）と中間層Ｌ２（Ｐｂ）との膜厚を試料Ｓのモデルに与え、固定値とする。
この算出にはＦＰ法を以下の手順によって使用する。
このとき、上記で算出した上層Ｌ３（Ａｇ）と中間層Ｌ２（Ｐｂ）との膜厚を試料Ｓのモデルに与え、固定値とする。
この算出にはＦＰ法を以下の手順によって使用する。
【0055】
ａ．３層標準物質ＳＴ３のＡｇ層上に形成されたＰｂ層上のＡｇ層について、このＡｇ層の膜厚を、上記で算出し求めた上層Ｌ３の膜厚値に固定する。
ｂ．中間層Ｌ２のＰｂの膜厚を適当な値に仮定する。
なお、上記適当な値は、成膜時に想定している目標の膜厚等である。
ｃ．上記仮定した膜厚値を用いてＡｇＫαの理論蛍光Ｘ線強度を算出する。
ｄ．ＡｇＫαの上記理論蛍光Ｘ線強度と実測蛍光Ｘ線強度とを比較する。この際、上記で算出した補正係数を使用する。
ｅ．さらに、ＡｇＫαの実測蛍光Ｘ線強度と理論蛍光Ｘ線強度との差が小さくなるように下層Ｌ１（Ａｇ）の膜厚（仮定する膜厚値）を修正して、ｃの手順に戻ることを繰り返し、両者の差が所定の範囲内になったところで、その膜厚を試料Ｓの下層Ｌ１（Ａｇ）の膜厚とする。
ｂ．中間層Ｌ２のＰｂの膜厚を適当な値に仮定する。
なお、上記適当な値は、成膜時に想定している目標の膜厚等である。
ｃ．上記仮定した膜厚値を用いてＡｇＫαの理論蛍光Ｘ線強度を算出する。
ｄ．ＡｇＫαの上記理論蛍光Ｘ線強度と実測蛍光Ｘ線強度とを比較する。この際、上記で算出した補正係数を使用する。
ｅ．さらに、ＡｇＫαの実測蛍光Ｘ線強度と理論蛍光Ｘ線強度との差が小さくなるように下層Ｌ１（Ａｇ）の膜厚（仮定する膜厚値）を修正して、ｃの手順に戻ることを繰り返し、両者の差が所定の範囲内になったところで、その膜厚を試料Ｓの下層Ｌ１（Ａｇ）の膜厚とする。
【0056】
このように第２実施形態の蛍光Ｘ線分析方法では、中間層算出ステップで、特定層算出ステップＳ５で得られた上層Ｌ３の膜厚を一定値として中間層Ｌ２の膜厚の算出を行い、下層算出ステップＳＴ８で、特定層算出ステップＳ５で得られた上層Ｌ３の膜厚と中間層算出ステップで得られた中間層Ｌ２の膜厚とを一定値として下層Ｌ１の膜厚の算出を行うので、計算処理上、特定層（上層Ｌ３）の膜厚を固定値（一定値）としてモデルを限定することで、他の層、すなわち中間層Ｌ２及び下層Ｌ１の膜厚も２層標準物質ＳＴ２及び３層標準物質ＳＴ３の情報を元に順次算出可能である。
【0057】
なお、本発明の技術範囲は上記各実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能である。
例えば、上記各実施形態では、蛍光Ｘ線のエネルギー（強度）に基づいて各層の膜厚を算出したが、同様にして、蛍光Ｘ線の波長に基づいて各層の組成（元素濃度）を算出しても構わない。
例えば、上記各実施形態では、蛍光Ｘ線のエネルギー（強度）に基づいて各層の膜厚を算出したが、同様にして、蛍光Ｘ線の波長に基づいて各層の組成（元素濃度）を算出しても構わない。
【符号の説明】
【0058】
１…蛍光Ｘ線分析装置、２…試料ステージ、３…Ｘ線源、４…Ｘ線検出器、５…データ処理部、６…ステージ移動機構、Ｌ１…下層、Ｌ２…中間層、Ｌ３…上層、Ｓ…試料、ＳＴ１，ＳＴ２，ＳＴ３…標準物質、ＳＴ１…単層標準物質、ＳＴ２…２層標準物質、ＳＴ３…３層標準物質、Ｘ１…照射Ｘ線、Ｘ２…蛍光Ｘ線
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】