特開2024-175220反射型フォトマスクブランク、及び反射型フォトマスクの製造方法

発明の名称　反射型フォトマスクブランク、及び反射型フォトマスクの製造方法

出願人　信越化学工業株式会社　（識別番号 2060）

　　　　特許公開件数ランキング 65 位（400件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 64 位（382件）（共同出願を含む）

公報番号　特開-2024-175220

公報発行日　2024年12月18

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-P_A1-2024-175220

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