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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024175490
(43)【公開日】2024-12-18
(54)【発明の名称】ガラス物品の製造方法及びガラス物品
(51)【国際特許分類】
C03C 19/00 20060101AFI20241211BHJP
C03B 33/09 20060101ALI20241211BHJP
C03B 33/04 20060101ALI20241211BHJP
【ＦＩ】
C03C19/00 Z
C03B33/09
C03B33/04
【審査請求】未請求
【請求項の数】13
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2023093319
(22)【出願日】2023-06-06
(71)【出願人】
【識別番号】000000044
【氏名又は名称】ＡＧＣ株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】110002147
【氏名又は名称】弁理士法人酒井国際特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】齋藤 勲
(72)【発明者】
【氏名】藤▲原▼ 卓磨
(72)【発明者】
【氏名】渡邉 康章
(72)【発明者】
【氏名】小野 丈彰
【テーマコード（参考）】
4G015
4G059
【Ｆターム（参考）】
4G015FA04
4G015FA06
4G015FB01
4G015FC05
4G059AA01
4G059AB05
4G059AC03
(57)【要約】 （修正有）
【課題】面取りにより所望の形状を得つつ、チッピングを小さくする。
【解決手段】ガラス物品１０Ｔの製造方法は、ガラス母材を切断して、第１主面１０Ａ、第２主面１０Ｂ、及び第１主面１０Ａと第２主面１０Ｂとを接続する端面１０Ｃを有し、端面１０Ｃの算術平均高さＳａが０．１μｍ以上１．０μｍ未満のガラス材１０Ｓを得ることと、算術平均高さＳａが０．１μｍ以上１．０μｍ未満の状態の端面１０Ｃを、メディアン径Ｄ５０が８μｍ以上２４μｍ以下の砥粒を有する砥石Ｗで研削して、面取り部１０Ｄ２を形成すること、を含む。
【選択図】図４
【解決手段】ガラス物品１０Ｔの製造方法は、ガラス母材を切断して、第１主面１０Ａ、第２主面１０Ｂ、及び第１主面１０Ａと第２主面１０Ｂとを接続する端面１０Ｃを有し、端面１０Ｃの算術平均高さＳａが０．１μｍ以上１．０μｍ未満のガラス材１０Ｓを得ることと、算術平均高さＳａが０．１μｍ以上１．０μｍ未満の状態の端面１０Ｃを、メディアン径Ｄ５０が８μｍ以上２４μｍ以下の砥粒を有する砥石Ｗで研削して、面取り部１０Ｄ２を形成すること、を含む。
【選択図】図４
【特許請求の範囲】
【請求項1】
ガラス母材を切断して、第１主面、第２主面、及び第１主面と第２主面とを接続する端面を有し、前記端面の算術平均高さＳａが０．１μｍ以上１．０μｍ未満のガラス材を得ることと、
算術平均高さＳａが０．１μｍ以上１．０μｍ未満の状態の前記端面を、メディアン径Ｄ５０が８μｍ以上２４μｍ以下の砥粒を有する砥石で研削して、面取り部を形成すること、
を含む、
ガラス物品の製造方法。
算術平均高さＳａが０．１μｍ以上１．０μｍ未満の状態の前記端面を、メディアン径Ｄ５０が８μｍ以上２４μｍ以下の砥粒を有する砥石で研削して、面取り部を形成すること、
を含む、
ガラス物品の製造方法。
【請求項2】
前記ガラス物品は、側面部、及び、前記第１主面又は前記第２主面と前記側面部とを接続する前記面取り部を有し、
前記面取り部及び前記側面部は、算術平均高さＳａが０．１μｍ以上１．０μｍ未満の状態の前記端面を、メディアン径Ｄ５０が８μｍ以上２４μｍ以下の砥粒を有する砥石で研削することで、形成される、請求項１に記載のガラス物品の製造方法。
前記面取り部及び前記側面部は、算術平均高さＳａが０．１μｍ以上１．０μｍ未満の状態の前記端面を、メディアン径Ｄ５０が８μｍ以上２４μｍ以下の砥粒を有する砥石で研削することで、形成される、請求項１に記載のガラス物品の製造方法。
【請求項3】
前記砥石での研削により、前記端面を、前記端面に垂直な方向に０．０５ｍｍ以上０．３ｍｍ除去して、前記側面部を形成する、請求項２に記載のガラス物品の製造方法。
【請求項4】
前記面取り部及び前記側面部に対応する研削面を有する総型砥石を前記砥石として用いて、前記端面を研削して、前記面取り部及び前記側面部を同時に形成する、請求項２又は請求項３に記載のガラス物品の製造方法。
【請求項5】
前記面取り部の角度が、４５°以上６０°以下である、請求項１から請求項３のいずれか１項に記載のガラス物品の製造方法。
【請求項6】
前記ガラス母材の主面に設定される仮想線に沿って、レーザ光を照射して、前記ガラス母材に前記仮想線に沿った改質部を形成し、前記仮想線に沿った前記改質部を起点として前記ガラス母材を破断して、前記端面の算術平均高さＳａが０．１μｍ以上１．０μｍ未満の前記ガラス材を得る、請求項１から請求項３のいずれか１項に記載のガラス物品の製造方法。
【請求項7】
前記レーザ光は、パルス発振したレーザ光である、請求項６に記載のガラス物品の製造方法。
【請求項8】
前記レーザ光は、波長域が２５０ｎｍ以上３０００ｎｍ以下である、請求項６に記載のガラス物品の製造方法。
【請求項9】
第１主面、第２主面、及び第１主面と第２主面とを接続する端面を有するガラス物品であって、
前記端面が、側面部、及び前記側面部と前記第１主面とを接続する面取り部を有し、
前記面取り部の算術平均高さＳａが０．１μｍ以上０．８μｍ以下であり、
前記面取り部の、前記第１主面側から見た場合の周方向における１００ｍｍの長さの区間に存在するチッピングの大きさの最大値が、３５μｍ以下である、
ガラス物品。
前記端面が、側面部、及び前記側面部と前記第１主面とを接続する面取り部を有し、
前記面取り部の算術平均高さＳａが０．１μｍ以上０．８μｍ以下であり、
前記面取り部の、前記第１主面側から見た場合の周方向における１００ｍｍの長さの区間に存在するチッピングの大きさの最大値が、３５μｍ以下である、
ガラス物品。
【請求項10】
前記面取り部には、前記第１主面側から見た場合の周方向に延在する研削スジが形成されている、請求項９に記載のガラス物品。
【請求項11】
前記面取り部と前記側面部との境界部分の曲率半径が、０．０５ｍｍ以上である、請求項９又は請求項１０に記載のガラス物品。
【請求項12】
前記面取り部の算術平均高さＳａが、０．１μｍ以上０．５μｍ以下である、請求項９又は請求項１０に記載のガラス物品。
【請求項13】
前記面取り部の角度が、４５°以上６０°以下である、請求項９又は請求項１０に記載のガラス物品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、ガラス物品の製造方法及びガラス物品に関する。
【背景技術】
【0002】
ガラスの端面を面取りすることで、所望の形状のガラス物品を製造する方法が知られている。このようにガラス物品を製造する際には、ガラスをカッタースクライブなどで切断し、切断面に２段階の面取り加工を施すことが一般的である。例えば特許文献１には、ガラスの端面に面取り加工をした後、更に研磨を行う旨が記載されている。
【0003】
【特許文献1】国際公開第２０２２／１４９５１２号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
しかしながら、上記方法では、面取り部のチッピングが十分に小さくできないおそれがある。従って、面取りにより所望の形状を得つつ、チッピングを小さくすることが求められている。
【0005】
本発明は、面取りにより所望の形状を得つつ、チッピングを小さくすることが可能なガラス物品の製造方法及びガラス物品を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0006】
本開示に係るガラス物品の製造方法は、ガラス母材を切断して、第１主面、第２主面、及び第１主面と第２主面とを接続する端面を有し、前記端面の算術平均高さＳａが０．１μｍ以上１．０μｍ未満のガラス材を得ることと、算術平均高さＳａが０．１μｍ以上１．０μｍ未満の状態の前記端面を、メディアン径Ｄ５０が８μｍ以上２４μｍ以下の砥粒を有する砥石で研削して、面取り部を形成すること、を含む。
【0007】
本開示に係るガラス物品は、第１主面、第２主面、及び第１主面と第２主面とを接続する端面を有するガラス物品であって、前記端面が、側面部、及び前記側面部と前記第１主面とを接続する面取り部を有し、前記面取り部の算術平均高さＳａが０．１μｍ以上０．８μｍ以下であり、前記面取り部の、前記第１主面側から見た場合の周方向における１００ｍｍの長さの区間に存在するチッピングの大きさの最大値が、３５μｍ以下である。
【発明の効果】
【0008】
本発明によれば、面取りにより所望の形状を得つつ、チッピングを小さくできる。
【図面の簡単な説明】
【0009】
【発明を実施するための形態】
【0010】
以下に添付図面を参照して、本発明の好適な実施形態を詳細に説明する。なお、この実施形態により本発明が限定されるものではなく、また、実施形態が複数ある場合には、各実施形態を組み合わせて構成するものも含むものである。また、数値については四捨五入の範囲が含まれる。
【0011】
本実施形態においては、ガラス母材１０を切断してガラス材１０Ｓを得て、ガラス材１０Ｓを研削してガラス物品１０Ｔを製造する。以下で、ガラス母材１０、ガラス母材１０からのガラス材１０Ｓの製造方法、及びガラス材１０Ｓからのガラス物品１０Ｔの製造方法について、説明する。
なお、本実施形態におけるガラス物品１０Ｔは、車載用の表示装置に設けられ、車載用の表示装置の表面のカバー材として用いられる。すなわち、ガラス物品１０Ｔは、車載用の表示装置が有する表示パネルの表面（表示面）に設けられて、表示パネルの表示面を保護する。ただし、ガラス物品１０Ｔの用途は任意であり、車載用以外の用途の表示装置のカバー材として用いてもよいし、表示装置以外の装置のカバー材として用いてもよいし、カバー材以外の用途で用いてもよい。
なお、本実施形態におけるガラス物品１０Ｔは、車載用の表示装置に設けられ、車載用の表示装置の表面のカバー材として用いられる。すなわち、ガラス物品１０Ｔは、車載用の表示装置が有する表示パネルの表面（表示面）に設けられて、表示パネルの表示面を保護する。ただし、ガラス物品１０Ｔの用途は任意であり、車載用以外の用途の表示装置のカバー材として用いてもよいし、表示装置以外の装置のカバー材として用いてもよいし、カバー材以外の用途で用いてもよい。
【0012】
（ガラス母材）
図１は、ガラス母材の模式的な断面図であり、図２は、ガラス母材の模式的な上面図である。図１に示すように、ガラス母材１０は、透明なガラス製の板状部材である。なお、ここでの板状とは、平板状であることに限られず、主面の幅が厚みより長いものを指してよく、ここでの透明とは、可視光を透過することを指してよい。
以下、ガラス母材１０の一方の主面を第１主面１０Ａとし、第１主面１０Ａの反対側の主面を第２主面１０Ｂとし、第１主面１０Ａと第２主面１０Ｂとを接続する端面（側面）を、端面１０Ｘとする。また、ガラス母材１０の厚み方向を、すなわち第２主面１０Ｂと第１主面１０Ａとを結ぶ方向を、Ｚ方向とする。また、Ｚ方向と直交する一方向（図１の例では左右方向）を、Ｘ方向とし、Ｚ方向及びＸ方向に直交する方向（図１の例では紙面に垂直な方向）をＹ方向とする。また、Ｘ方向に沿った一方の向き（図１の例では右方向）を向きＸ１とし、Ｘ方向に沿った他方の向き（図１の例では左方向）を向きＸ２とし、Ｙ方向に沿った一方の向き（図１の例では紙面の奥側に向かう向き）を向きＹ１とし、Ｙ方向に沿った他方の向き（図１の例では紙面の手前側に向かう向き）を向きＹ２とし、Ｚ方向に沿った一方の向き（第１主面１０Ａから第２主面１０Ｂに向かう方向）を向きＺ１とし、Ｚ方向に沿った他方の向き（第２主面１０Ｂから第１主面１０Ａに向かう方向）を向きＺ２とする。
なお、ここでのＺ方向は、ガラス母材１０の中心位置における、第１主面１０Ａに垂直な方向であってよい。
図１は、ガラス母材の模式的な断面図であり、図２は、ガラス母材の模式的な上面図である。図１に示すように、ガラス母材１０は、透明なガラス製の板状部材である。なお、ここでの板状とは、平板状であることに限られず、主面の幅が厚みより長いものを指してよく、ここでの透明とは、可視光を透過することを指してよい。
以下、ガラス母材１０の一方の主面を第１主面１０Ａとし、第１主面１０Ａの反対側の主面を第２主面１０Ｂとし、第１主面１０Ａと第２主面１０Ｂとを接続する端面（側面）を、端面１０Ｘとする。また、ガラス母材１０の厚み方向を、すなわち第２主面１０Ｂと第１主面１０Ａとを結ぶ方向を、Ｚ方向とする。また、Ｚ方向と直交する一方向（図１の例では左右方向）を、Ｘ方向とし、Ｚ方向及びＸ方向に直交する方向（図１の例では紙面に垂直な方向）をＹ方向とする。また、Ｘ方向に沿った一方の向き（図１の例では右方向）を向きＸ１とし、Ｘ方向に沿った他方の向き（図１の例では左方向）を向きＸ２とし、Ｙ方向に沿った一方の向き（図１の例では紙面の奥側に向かう向き）を向きＹ１とし、Ｙ方向に沿った他方の向き（図１の例では紙面の手前側に向かう向き）を向きＹ２とし、Ｚ方向に沿った一方の向き（第１主面１０Ａから第２主面１０Ｂに向かう方向）を向きＺ１とし、Ｚ方向に沿った他方の向き（第２主面１０Ｂから第１主面１０Ａに向かう方向）を向きＺ２とする。
なお、ここでのＺ方向は、ガラス母材１０の中心位置における、第１主面１０Ａに垂直な方向であってよい。
【0013】
図２の例では、ガラス母材１０は、Ｚ方向から見た場合に矩形の平板状であるが、ガラス母材１０の形状は任意であってよい。例えば、ガラス母材１０は、Ｚ方向から見た場合に矩形であることに限られず、多角形、円形、又は楕円形などであってもよい。
【0014】
図１の例では、ガラス母材１０は、第１主面１０Ａ、１０Ｂが平坦な平板状であるが、それに限られず、平板が湾曲した形状であってもよい。すなわち、ガラス母材１０は、第１主面１０Ａ、１０ＢがＺ方向に凸となる曲面状であってもよい。
ガラス母材１０の第１主面１０Ａ、１０ＢがＺ方向に凸となる曲面状である場合、ガラス母材１０の第１主面１０Ａ、１０Ｂの曲率半径は、１００００ｍｍ以下であることが好ましく、５０００ｍｍ以下であることがより好ましく、３０００ｍｍ以下であることが更に好ましい。ガラス母材１０の第１主面１０Ａ、１０ＢがＺ方向に凸となる曲面状である場合、ガラス母材１０の第１主面１０Ａ、１０Ｂの曲率半径は、１０ｍｍ以上が好ましく、５０ｍｍ以上がより好ましく、１００ｍｍ以上がさらに好ましく、２００ｍｍ以上がさらに好ましい。言い換えれば、ガラス母材１０の第１主面１０Ａ、１０ＢがＺ方向に凸となる曲面状である場合、ガラス母材１０の第１主面１０Ａ、１０Ｂの曲率半径は、１０ｍｍ以上１００００ｍｍ以下であることが好ましく、５０ｍｍ以上５０００ｍｍ以下であることがより好ましく、１００ｍｍ以上３０００ｍｍ以下であることが更に好ましく、２００ｍｍ以上３０００ｍｍ以下であることが更に好ましい。
ガラス母材１０の第１主面１０Ａ、１０ＢがＺ方向に凸となる曲面状である場合、ガラス母材１０の第１主面１０Ａ、１０Ｂの曲率半径は、１００００ｍｍ以下であることが好ましく、５０００ｍｍ以下であることがより好ましく、３０００ｍｍ以下であることが更に好ましい。ガラス母材１０の第１主面１０Ａ、１０ＢがＺ方向に凸となる曲面状である場合、ガラス母材１０の第１主面１０Ａ、１０Ｂの曲率半径は、１０ｍｍ以上が好ましく、５０ｍｍ以上がより好ましく、１００ｍｍ以上がさらに好ましく、２００ｍｍ以上がさらに好ましい。言い換えれば、ガラス母材１０の第１主面１０Ａ、１０ＢがＺ方向に凸となる曲面状である場合、ガラス母材１０の第１主面１０Ａ、１０Ｂの曲率半径は、１０ｍｍ以上１００００ｍｍ以下であることが好ましく、５０ｍｍ以上５０００ｍｍ以下であることがより好ましく、１００ｍｍ以上３０００ｍｍ以下であることが更に好ましく、２００ｍｍ以上３０００ｍｍ以下であることが更に好ましい。
【0015】
ガラス母材１０の厚みＤは、０．１ｍｍ以上が好ましく、０．７ｍｍ以上がより好ましく、１．０ｍｍ以上が更に好ましい。また、ガラス母材１０の厚みＤは、５ｍｍ以下であることが好ましく、３ｍｍ以下であることがより好ましく、１．３ｍｍ以下であることが更に好ましい。言い換えれば、ガラス母材１０の厚みＤは、０．７ｍｍ以上５ｍｍ以下であることが好ましく、１．０ｍｍ以上３ｍｍ以下であることがより好ましく、１．１ｍｍ以上１．３ｍｍ以下であることが更に好ましい。なお、ガラス母材１０の厚みＤとは、第１主面１０Ａから第２主面１０ＢまでのＺ方向における長さを指す。
【0016】
ガラス母材１０は、破壊靭性値ＫＩＣが、０．６（ＭＰａ・ｍ０．５）以上であることが好ましく、０．６（ＭＰａ・ｍ０．５）以上１．００（ＭＰａ・ｍ０．５）以下であることがより好ましく、０．６５（ＭＰａ・ｍ０．５）以上０．７０（ＭＰａ・ｍ０．５）以下であることが更に好ましい。破壊靭性値ＫＩＣは、例えば非特許文献（NEW GASS Vol.15 No.2 2000 p18）に記載のDouble Cleavage Drilled Compression(DCDC)法により測定できる。
【0017】
ガラス母材１０は、非晶質ガラスであってもよいし、表面や内部に結晶を含む結晶化ガラスであってもよい。ガラス母材１０としては、例えば、無アルカリガラス、ソーダライムガラス、ソーダライムシリケートガラス、アルミノシリケートガラス、ボロシリケートガラス、リチウムアルミノシリケートガラス、ホウケイ酸ガラスなどを使用できる。ガラス母材１０の材料は、化学強化を適切に行うために、アルカリガラスであることが好ましい。さらに言えば、ガラス母材１０としては、厚さが薄くても強化処理によって大きな応力が入りやすく薄くても高強度なガラスが得られるアルミノシリケートガラスやリチウムアルミノシリケートガラスが好ましい。アルミノシリケートガラスをベースとする化学強化用ガラス（例えば、ＡＧＣ社製「ドラゴントレイル（登録商標）」）も好適に用いられる。
【0018】
ガラス母材１０は、酸化物基準のモル％で、ＳｉＯ２を５０％～８０％、Ａｌ２Ｏ３を１％～２０％、およびＮａ２Ｏを６％～２０％含有するものであってよい。また、ガラス母材１０は、酸化物基準のモル％で、ＳｉＯ2を５０～８０％、Ａｌ2Ｏ3を０．１～２５％、Ｌｉ2Ｏ＋Ｎａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏを３～３０％、ＭｇＯを０～２５％、ＣａＯを０～２５％およびＺｒＯ2を０～５％含有するものであってよい。また、ガラス母材１０は、酸化物基準のモル％で、ＳｉＯ２を５０％～８０％、Ａｌ２Ｏ３を１％～２０％、Ｎａ２Ｏを６％～２０％、Ｋ２Ｏを０％～１１％、ＭｇＯを０％～１５％、ＣａＯを０％～６％、およびＺｒＯ２を０％～５％含有するものであってよい。なお、「～」を用いて表される数値範囲は、「～」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。また例えば、ここでの５０％～８０％とは、ガラス母材１０の全量のモル％を１００％とした場合に、５０％以上８０％以下であることを指し、他の数値範囲も同様である。また、例えばＬｉ2Ｏ＋Ｎａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏとは、Ｌｉ2ＯとＮａ2ＯとＫ2Ｏとの合計含有量を指し、他で「＋」を用いた場合も同様である。
【0019】
より具体的には、ガラス母材１０のより好ましい組成として、以下のガラスの組成が挙げられる。なお、例えば、「ＭｇＯを０％～２５％含む」とは、ＭｇＯは必須ではないが２５％まで含んでもよい、の意である。（ｉ）のガラスはソーダライムシリケートガラスに含まれ、（ｉｉ）および（ｉｉｉ）のガラスはアルミノシリケートガラスに含まれ、（ｉｖ）～（ｖｉ）のガラスはリチウムアルミノシリケートガラスに含まれる。
（ｉ）モル％で表示した組成で、ＳｉＯ2を６３％～７３％、Ａｌ2Ｏ3を０．１％～５．２％、Ｎａ2Ｏを１０％～１６％、Ｋ2Ｏを０％～１．５％、Ｌｉ2Ｏを０％～５％、ＭｇＯを５％～１３％及びＣａＯを４％～１０％を含むガラス。
（ｉｉ）モル％で表示した組成が、ＳｉＯ2を５０％～７４％、Ａｌ2Ｏ3を１％～１０％、Ｎａ2Ｏを６％～１４％、Ｋ2Ｏを３％～１１％、Ｌｉ2Ｏを０％～５％、ＭｇＯを２％～１５％、ＣａＯを０％～６％およびＺｒＯ2を０％～５％含有し、ＳｉＯ2およびＡｌ2Ｏ3の含有量の合計が７５％以下、Ｎａ2ＯおよびＫ2Ｏの含有量の合計が１２％～２５％、ＭｇＯおよびＣａＯの含有量の合計が７％～１５％であるガラス。
（ｉｉｉ）モル％で表示した組成が、ＳｉＯ2を６８％～８０％、Ａｌ2Ｏ3を４％～１０％、Ｎａ2Ｏを５％～１５％、Ｋ2Ｏを０％～１％、Ｌｉ2Ｏを０％～５％、ＭｇＯを４％～１５％およびＺｒＯ2を０％～１％含有するガラス。
（ｉｖ）モル％で表示した組成が、ＳｉＯ2を６７％～７５％、Ａｌ2Ｏ3を０％～４％、Ｎａ2Ｏを７％～１５％、Ｋ2Ｏを１％～９％、Ｌｉ2Ｏを０％～５％、ＭｇＯを６％～１４％およびＺｒＯ2を０％～１．５％含有し、ＳｉＯ2およびＡｌ2Ｏ3の含有量の合計が７１％～７５％、Ｎａ2ＯおよびＫ2Ｏの含有量の合計が１２％～２０％であり、ＣａＯを含有する場合その含有量が１％未満であるガラス。
（ｖ）モル％で表示した組成が、ＳｉＯ2を５６％～７３％、Ａｌ2Ｏ3を１０％～２４％、Ｂ2Ｏ3を０％～６％、Ｐ2Ｏ5を０％～６％、Ｌｉ2Ｏを２％～７％、Ｎａ2Ｏを３％～１１％、Ｋ2Ｏを０％～５％、ＭｇＯを０％～８％、ＣａＯを０％～２％、ＳｒＯを０％～５％、ＢａＯを０％～５％、ＺｎＯを０％～５％、ＴｉＯ2を０％～２％、ＺｒＯ2を０％～４％含有するガラス。
（ｖｉ）モル％で表示した組成が、ＳｉＯ２を５８％～８０％、Ａｌ２Ｏ３を１３％～１８％、Ｂ２Ｏ３を０％～５％、Ｐ２Ｏ５を０．５％～４％、Ｌｉ２Ｏを３％～１０％、Ｎａ２Ｏを５％～２０％、Ｋ２Ｏを０％～２％、ＭｇＯを０％～１１％、ＣａＯを０％～２０％、ＳｒＯを０％～２０％、ＢａＯを０％～１５％、ＺｎＯを０％～１０％、ＴｉＯ２を０％～１％、ＺｒＯ２を０％～２％を含有するガラス。
（ｉ）モル％で表示した組成で、ＳｉＯ2を６３％～７３％、Ａｌ2Ｏ3を０．１％～５．２％、Ｎａ2Ｏを１０％～１６％、Ｋ2Ｏを０％～１．５％、Ｌｉ2Ｏを０％～５％、ＭｇＯを５％～１３％及びＣａＯを４％～１０％を含むガラス。
（ｉｉ）モル％で表示した組成が、ＳｉＯ2を５０％～７４％、Ａｌ2Ｏ3を１％～１０％、Ｎａ2Ｏを６％～１４％、Ｋ2Ｏを３％～１１％、Ｌｉ2Ｏを０％～５％、ＭｇＯを２％～１５％、ＣａＯを０％～６％およびＺｒＯ2を０％～５％含有し、ＳｉＯ2およびＡｌ2Ｏ3の含有量の合計が７５％以下、Ｎａ2ＯおよびＫ2Ｏの含有量の合計が１２％～２５％、ＭｇＯおよびＣａＯの含有量の合計が７％～１５％であるガラス。
（ｉｉｉ）モル％で表示した組成が、ＳｉＯ2を６８％～８０％、Ａｌ2Ｏ3を４％～１０％、Ｎａ2Ｏを５％～１５％、Ｋ2Ｏを０％～１％、Ｌｉ2Ｏを０％～５％、ＭｇＯを４％～１５％およびＺｒＯ2を０％～１％含有するガラス。
（ｉｖ）モル％で表示した組成が、ＳｉＯ2を６７％～７５％、Ａｌ2Ｏ3を０％～４％、Ｎａ2Ｏを７％～１５％、Ｋ2Ｏを１％～９％、Ｌｉ2Ｏを０％～５％、ＭｇＯを６％～１４％およびＺｒＯ2を０％～１．５％含有し、ＳｉＯ2およびＡｌ2Ｏ3の含有量の合計が７１％～７５％、Ｎａ2ＯおよびＫ2Ｏの含有量の合計が１２％～２０％であり、ＣａＯを含有する場合その含有量が１％未満であるガラス。
（ｖ）モル％で表示した組成が、ＳｉＯ2を５６％～７３％、Ａｌ2Ｏ3を１０％～２４％、Ｂ2Ｏ3を０％～６％、Ｐ2Ｏ5を０％～６％、Ｌｉ2Ｏを２％～７％、Ｎａ2Ｏを３％～１１％、Ｋ2Ｏを０％～５％、ＭｇＯを０％～８％、ＣａＯを０％～２％、ＳｒＯを０％～５％、ＢａＯを０％～５％、ＺｎＯを０％～５％、ＴｉＯ2を０％～２％、ＺｒＯ2を０％～４％含有するガラス。
（ｖｉ）モル％で表示した組成が、ＳｉＯ２を５８％～８０％、Ａｌ２Ｏ３を１３％～１８％、Ｂ２Ｏ３を０％～５％、Ｐ２Ｏ５を０．５％～４％、Ｌｉ２Ｏを３％～１０％、Ｎａ２Ｏを５％～２０％、Ｋ２Ｏを０％～２％、ＭｇＯを０％～１１％、ＣａＯを０％～２０％、ＳｒＯを０％～２０％、ＢａＯを０％～１５％、ＺｎＯを０％～１０％、ＴｉＯ２を０％～１％、ＺｒＯ２を０％～２％を含有するガラス。
【0020】
ガラス母材１０は、化学強化されていないことが好ましい。さらに言えば、ガラス母材１０を切断して得られるガラス材１０Ｓと、ガラス材１０Ｓを研削して得られるガラス物品１０Ｔとも、化学強化されていないことが好ましい。ガラス母材１０が化学強化されていないことで、切断や面取り時の欠け発生を抑制できる。従って、ガラス材１０Ｓ及びガラス物品１０Ｔの材料（組成）は、ガラス母材１０の材料（組成）と同じである。
ただし、研削した後のガラス物品１０Ｔに対して化学強化を施すことが好ましい。化学強化されたガラス物品１０Ｔは、表示装置のカバーガラスとして好適に用いられる。研削後のガラス物品１０Ｔが化学強化された場合には、ガラス母材１０の組成は、ガラス物品１０Ｔの板厚方向における中央部分の組成に相当する。具体的には、化学強化の際に置換されて放出された元素を置換前元素とし、化学強化で置換されて取り込まれた元素を置換元素とすると、ガラス物品１０Ｔは、ガラス物品１０Ｔの化学強化された表面層に対して、置換元素の代わりに置換前元素が含まれる組成になるといえる。
ただし、研削した後のガラス物品１０Ｔに対して化学強化を施すことが好ましい。化学強化されたガラス物品１０Ｔは、表示装置のカバーガラスとして好適に用いられる。研削後のガラス物品１０Ｔが化学強化された場合には、ガラス母材１０の組成は、ガラス物品１０Ｔの板厚方向における中央部分の組成に相当する。具体的には、化学強化の際に置換されて放出された元素を置換前元素とし、化学強化で置換されて取り込まれた元素を置換元素とすると、ガラス物品１０Ｔは、ガラス物品１０Ｔの化学強化された表面層に対して、置換元素の代わりに置換前元素が含まれる組成になるといえる。
【0021】
（ガラス材の製造）
図３は、ガラス材の模式的な上面図である。本製造方法においては、ガラス母材１０を切断することで、ガラス材１０Ｓを得る。図３に示すように、ガラス材１０Ｓは、第１主面１０Ａ、第２主面１０Ｂ、及び第１主面１０Ａと第２主面１０Ｂとを接続する端面１０Ｃを有する。ガラス材１０Ｓの第１主面１０Ａは、ガラス母材１０の第１主面１０Ａに対応し、ガラス材１０Ｓの第２主面１０Ｂは、ガラス母材１０の第２主面１０Ｂに対応する。従って、ガラス材１０Ｓの厚みは、ガラス母材１０の厚みＤと同じである。
図３は、ガラス材の模式的な上面図である。本製造方法においては、ガラス母材１０を切断することで、ガラス材１０Ｓを得る。図３に示すように、ガラス材１０Ｓは、第１主面１０Ａ、第２主面１０Ｂ、及び第１主面１０Ａと第２主面１０Ｂとを接続する端面１０Ｃを有する。ガラス材１０Ｓの第１主面１０Ａは、ガラス母材１０の第１主面１０Ａに対応し、ガラス材１０Ｓの第２主面１０Ｂは、ガラス母材１０の第２主面１０Ｂに対応する。従って、ガラス材１０Ｓの厚みは、ガラス母材１０の厚みＤと同じである。
【0022】
ガラス材１０Ｓの端面１０Ｃの少なくとも一部は、ガラス母材１０を切断することで形成される切断面である。本製造方法においては、ガラス材１０Ｓの端面１０Ｃの算術平均高さＳａが０．１μｍ以上１．０μｍ未満となるように、ガラス母材１０を切断する。ガラス材１０Ｓの端面１０Ｃの算術平均高さＳａは、０．２μｍ以上０．７μｍ以下が好ましく、０．３μｍ以上０．７μｍ以下がより好ましい。端面１０Ｃの算術平均高さＳａの下限値をこのような範囲とすることで、端面１０Ｃが滑らか過ぎることによって砥石Ｗが端面１０Ｃ上で滑り、研削が適切にできなくなることを抑制して、砥石Ｗを用いた面取りにより、所望の形状を得ることができる。また、端面１０Ｃの算術平均高さＳａの上限値をこのような範囲とし、下述するような面取り方法と組み合わせることで、チッピングを小さくできる。
なお、端面１０Ｃの算術平均高さＳａは、端面１０Ｃの全域のうちの、Ｚ方向に直交する方向から見て、主面（第１主面１０Ａ又は第２主面１０Ｂ）に接する９０μｍ×６０μｍ四方の領域における、算術平均高さＳａとしてよい。算術平均高さＳａは、ＩＳＯ ２５１７８に準拠する方法にて測定することができる。
なお、算術平均高さＳａは、端面１０Ｃから、任意の３箇所を選んで、各箇所において９０μｍ×６０μｍ四方の領域における算術平均高さＳａを測定し、その平均値を用いるものとする。任意の３点は、全域から偏りなく選択され、また飛び値をとるような点は避けるものとする。他の位置における算術平均高さＳａや、最大高さＳｚについても、同様である。
なお、端面１０Ｃの算術平均高さＳａは、端面１０Ｃの全域のうちの、Ｚ方向に直交する方向から見て、主面（第１主面１０Ａ又は第２主面１０Ｂ）に接する９０μｍ×６０μｍ四方の領域における、算術平均高さＳａとしてよい。算術平均高さＳａは、ＩＳＯ ２５１７８に準拠する方法にて測定することができる。
なお、算術平均高さＳａは、端面１０Ｃから、任意の３箇所を選んで、各箇所において９０μｍ×６０μｍ四方の領域における算術平均高さＳａを測定し、その平均値を用いるものとする。任意の３点は、全域から偏りなく選択され、また飛び値をとるような点は避けるものとする。他の位置における算術平均高さＳａや、最大高さＳｚについても、同様である。
【0023】
本製造方法においては、ガラス材１０Ｓの端面１０Ｃの最大高さＳｚが１μｍ以上１０μｍ以下となるように、ガラス母材１０を切断することが好ましい。端面１０Ｃの最大高さＳｚの下限値をこのような範囲とすることで、端面１０Ｃが滑らか過ぎることによって砥石Ｗによる研削が適切にできなくなることを抑制して、砥石Ｗを用いた面取りにより、所望の形状を得ることができる。端面１０Ｃの最大高さＳｚの上限値をこのような範囲とすることで、チッピングを小さくできる。
なお、端面１０Ｃの最大高さＳｚは、端面１０Ｃの全域のうちの、Ｚ方向に直交する方向から見て、主面（第１主面１０Ａ又は第２主面１０Ｂ）に接する９０μｍ×６０μｍ四方の領域における、最大高さＳｚとしてよい。最大高さＳｚは、ＩＳＯ ２５１７８に準拠する方法にて測定することができる。
なお、端面１０Ｃの最大高さＳｚは、端面１０Ｃの全域のうちの、Ｚ方向に直交する方向から見て、主面（第１主面１０Ａ又は第２主面１０Ｂ）に接する９０μｍ×６０μｍ四方の領域における、最大高さＳｚとしてよい。最大高さＳｚは、ＩＳＯ ２５１７８に準拠する方法にて測定することができる。
【0024】
図２に示すように、本実施形態の例では、ガラス母材１０に後述の仮想線Ｔを設定し、仮想線Ｔに沿ってガラス母材１０を切断して、ガラス母材１０から仮想線Ｔに囲われた部分を切り出して、ガラス材１０Ｓを得る。以下、ガラス材１０Ｓの中心を中心Ｏとする。すなわち、図２の例では、ガラス材１０Ｓの端面１０Ｃの全域が、仮想線Ｔに沿った切断面となる。なお、ガラス材１０Ｓの中心Ｏとは、Ｚ方向から見た場合のガラス材１０Ｓの中心位置であり、径方向及び周方向とは、ガラス材１０Ｓの中心Ｏを通りＺ方向に沿った軸を軸方向とした場合の、径方向及び周方向を指す。以降でも特に断りのない限り同様である。
ただし、ガラス母材１０を周方向の全区間に亘って切断することに限られない。この場合、ガラス材１０Ｓの端面１０Ｃの一部が切断面となり、ガラス材１０Ｓの端面１０Ｃの残りの部分は、ガラス母材１０の端面１０Ｘに対応する部分（すなわち切断されていないガラス母材１０の端面１０Ｘそのもの）となる。このように端面１０Ｃの一部のみが切断面である場合は、端面１０Ｃは、全域に亘って、算術平均高さＳａ及び最大高さＳｚが上記範囲となることが好ましい。
ただし、ガラス母材１０を周方向の全区間に亘って切断することに限られない。この場合、ガラス材１０Ｓの端面１０Ｃの一部が切断面となり、ガラス材１０Ｓの端面１０Ｃの残りの部分は、ガラス母材１０の端面１０Ｘに対応する部分（すなわち切断されていないガラス母材１０の端面１０Ｘそのもの）となる。このように端面１０Ｃの一部のみが切断面である場合は、端面１０Ｃは、全域に亘って、算術平均高さＳａ及び最大高さＳｚが上記範囲となることが好ましい。
【0025】
図３の例では、ガラス母材１０は、Ｚ方向から見て、矩形の４つの頂点がＲ状（曲線状）となっている。ただし、Ｚ方向から見たガラス母材１０の形状は任意であってよい。
【0026】
また、切断によって得られるガラス材１０Ｓの端面１０Ｃは、Ｚ方向に向けて平坦状であることが好ましく、例えば面取り部を有さないことが好ましい。ガラス材１０Ｓの端面１０Ｃは、第１主面１０Ａに対して垂直であることがより好ましい。ここでの垂直は、厳密に９０°であることに限られず、８５°以上９５°以下程度も含んでよい。
【0027】
（レーザ光による切断）
ガラス母材１０を切断してガラス材１０Ｓを得る方法は任意であってよいが、本実施形態では、ガラス母材１０の主面上にレーザ光Ｌを照射して、ガラス母材１０を切断する。より詳しくは、本実施形態では、図１に示すように、ガラス母材１０の第１主面１０Ａにレーザ光Ｌを照射して、ガラス母材１０に改質部Ｈを形成し、改質部Ｈを起点としてガラス母材１０を破断（切断）することで、ガラス材１０Ｓを得る。なお、第１主面１０Ａではなく、第２主面１０Ｂにレーザ光Ｌを照射してもよい。
図１に示すように、本製造方法においては、照射装置Ｍからガラス母材１０の第１主面１０Ａにレーザ光Ｌを照射させて、ガラス母材１０内に改質部Ｈを形成する。改質部Ｈは、ガラスの構造変化によって、又はガラスの溶融と再凝固によって、密度又は屈折率が変化した層である。改質部Ｈは、空隙を含んでもよい。なお、レーザ光Ｌは、例えば非線形吸収によって改質部Ｈを形成する。非線形吸収は、多光子吸収とも呼ばれる。多光子吸収が発生する確率は光子密度（レーザ光Ｌのパワー密度）に対して非線形であり、光子密度が高いほど確率が飛躍的に高くなる。例えば２光子吸収が発生する確率は、光子密度の自乗に比例する。
なお、ガラス母材１０のうちで改質部Ｈが形成されていない部分（レーザ光Ｌが照射されていない部分）に対して、密度、屈折率、不対電子密度、仮想温度の少なくともいずれかが異なる箇所を、改質部Ｈとしてよい。なお、改質部Ｈが形成されていない部分は、例えば、Ｚ方向から見て、後述する仮想線Ｔから１０ｍｍ以上離れた位置を指してよい。
ガラス母材１０を切断してガラス材１０Ｓを得る方法は任意であってよいが、本実施形態では、ガラス母材１０の主面上にレーザ光Ｌを照射して、ガラス母材１０を切断する。より詳しくは、本実施形態では、図１に示すように、ガラス母材１０の第１主面１０Ａにレーザ光Ｌを照射して、ガラス母材１０に改質部Ｈを形成し、改質部Ｈを起点としてガラス母材１０を破断（切断）することで、ガラス材１０Ｓを得る。なお、第１主面１０Ａではなく、第２主面１０Ｂにレーザ光Ｌを照射してもよい。
図１に示すように、本製造方法においては、照射装置Ｍからガラス母材１０の第１主面１０Ａにレーザ光Ｌを照射させて、ガラス母材１０内に改質部Ｈを形成する。改質部Ｈは、ガラスの構造変化によって、又はガラスの溶融と再凝固によって、密度又は屈折率が変化した層である。改質部Ｈは、空隙を含んでもよい。なお、レーザ光Ｌは、例えば非線形吸収によって改質部Ｈを形成する。非線形吸収は、多光子吸収とも呼ばれる。多光子吸収が発生する確率は光子密度（レーザ光Ｌのパワー密度）に対して非線形であり、光子密度が高いほど確率が飛躍的に高くなる。例えば２光子吸収が発生する確率は、光子密度の自乗に比例する。
なお、ガラス母材１０のうちで改質部Ｈが形成されていない部分（レーザ光Ｌが照射されていない部分）に対して、密度、屈折率、不対電子密度、仮想温度の少なくともいずれかが異なる箇所を、改質部Ｈとしてよい。なお、改質部Ｈが形成されていない部分は、例えば、Ｚ方向から見て、後述する仮想線Ｔから１０ｍｍ以上離れた位置を指してよい。
【0028】
図１に示すように、レーザ光Ｌを照射する照射装置Ｍは、光源部Ｍ１と、光学系Ｍ２と、走査機構Ｍ３とを有する。光源部Ｍ１は、レーザ光Ｌを発生させる光源である。光源部Ｍ１は任意のものであってよいが、例えば、ＮｄがドープされたＹＡＧ結晶（Ｎｄ：ＹＡＧ）などを用いてよい。光学系Ｍ２は、光源部Ｍ１に対してレーザ光Ｌの進行方向側に設けられて、光源部Ｍ１からのレーザ光Ｌが入射する。光学系Ｍ２は、入射したレーザ光Ｌを第１主面１０Ａに向けて出射する。走査機構Ｍ３は、レーザ光Ｌを走査（掃引）する機構である。すなわち、走査機構Ｍ３は、レーザ光Ｌの第１主面１０Ａに照射される位置である照射位置を、第１主面１０Ａに平行な方向に走査（移動）させる。走査機構Ｍ３は、レーザ光Ｌを走査可能であれば任意の機構であってよいが、例えばガルバノミラーなどであってよい。なお、照射装置Ｍの構成は以上の説明に限られず、照射位置を第１主面１０Ａに平行な方向に走査しつつレーザ光Ｌを照射可能な任意の構成であってよい。例えば、光源部Ｍ１や光学系Ｍ２などのレーザ光Ｌが照射されるレーザヘッドの位置が固定され、レーザ光Ｌが照射されるガラス母材１０を移動させることで、照射位置を走査する構成であってよい。すなわち、レーザ光Ｌのスポット位置とガラス母材１０との相対位置を移動させることで、照射位置を走査してよいといえる。
レーザ光Ｌの走査は、第１主面１０Ａに平行な方向に限られず、第１主面１０Ａに垂直な方向、すなわちガラス物品１０ａの厚さ方向に実施しても良い。例えばガラス物品１０ａの厚さが３ｍｍ以上である場合、厚さ方向に走査することで、破断時に必要な応力を低減しやすい。
また、レーザ光Ｌは、光軸方向に線状のパワー分布をもつことが好ましい。また、レーザ光Ｌは、光軸方向に少なくとも一つのピークがあるパワー分布をもつレーザを用いてもよい。これにより、厚み方向に改質部Ｈを精度よく形成できる。
なお、レーザ光Ｌは、非線形のカー効果による自己集束で、線状に集束してもよいし、光学系Ｍ２によって線状に集束してもよい。この場合の具体的な光学系Ｍ２として、例えばアキシコン（Ａｘｉｃｏｎ）レンズを用いた光学系、複屈折材料を用いた光学系、回折光学素子を用いた光学系、又は光学収差を利用した光学系などが用いられてよい。
レーザ光Ｌの走査は、第１主面１０Ａに平行な方向に限られず、第１主面１０Ａに垂直な方向、すなわちガラス物品１０ａの厚さ方向に実施しても良い。例えばガラス物品１０ａの厚さが３ｍｍ以上である場合、厚さ方向に走査することで、破断時に必要な応力を低減しやすい。
また、レーザ光Ｌは、光軸方向に線状のパワー分布をもつことが好ましい。また、レーザ光Ｌは、光軸方向に少なくとも一つのピークがあるパワー分布をもつレーザを用いてもよい。これにより、厚み方向に改質部Ｈを精度よく形成できる。
なお、レーザ光Ｌは、非線形のカー効果による自己集束で、線状に集束してもよいし、光学系Ｍ２によって線状に集束してもよい。この場合の具体的な光学系Ｍ２として、例えばアキシコン（Ａｘｉｃｏｎ）レンズを用いた光学系、複屈折材料を用いた光学系、回折光学素子を用いた光学系、又は光学収差を利用した光学系などが用いられてよい。
【0029】
レーザ光Ｌの波長域は、２５０ｎｍ以上３０００ｎｍ以下であることが好ましい。波長域が２５０ｎｍ以上３０００ｎｍ以下のレーザ光は、ガラス母材１０をある程度透過するため、ガラス母材１０の内部に非線形吸収を生じさせて改質部Ｈを適切に形成できる。波長域は、２６０ｎｍ以上２５００ｎｍ以下であることがより好ましい。
また、レーザ光Ｌは、パルス光（パルス発振したレーザ光）であることが好ましい。レーザ光Ｌのパルス幅は、１０ｆｓ以上１０００ｎｓ以下であることが好ましい。また、パルス幅が１０００ｎｓ以下のパルスレーザ光であれば、光子密度を高め易く、ガラス母材１０の内部に非線形吸収を生じさせて改質部Ｈを形成できる。パルス幅は、好ましくは１００ｆｓ以上１００ｎｓ以下である。レーザ光Ｌは、バーストと呼ばれるパルス群を出力してもよい。一のパルス群は、例えば、３～５０の複数のパルス光を有し、各パルス光が１０ｎｓ未満のパルス幅を有する。一のパルス群において、パルス光のエネルギーは徐々に減少してもよい。一つのパルス、または、一つのパルス群のエネルギーは、ガラス母材１０の厚み方向に連続的に形成された点状または線状の改質部、或いは亀裂を形成出来る様に適切に設定する。例えば、１０μJ～５０００μJであり、好ましくは２０μJ～３０００μJであり、より好ましくは３０μJ～２０００μJである。
また、レーザ光Ｌは、パルス光（パルス発振したレーザ光）であることが好ましい。レーザ光Ｌのパルス幅は、１０ｆｓ以上１０００ｎｓ以下であることが好ましい。また、パルス幅が１０００ｎｓ以下のパルスレーザ光であれば、光子密度を高め易く、ガラス母材１０の内部に非線形吸収を生じさせて改質部Ｈを形成できる。パルス幅は、好ましくは１００ｆｓ以上１００ｎｓ以下である。レーザ光Ｌは、バーストと呼ばれるパルス群を出力してもよい。一のパルス群は、例えば、３～５０の複数のパルス光を有し、各パルス光が１０ｎｓ未満のパルス幅を有する。一のパルス群において、パルス光のエネルギーは徐々に減少してもよい。一つのパルス、または、一つのパルス群のエネルギーは、ガラス母材１０の厚み方向に連続的に形成された点状または線状の改質部、或いは亀裂を形成出来る様に適切に設定する。例えば、１０μJ～５０００μJであり、好ましくは２０μJ～３０００μJであり、より好ましくは３０μJ～２０００μJである。
【0030】
本製造方法においては、照射位置を走査しつつレーザ光Ｌを照射することで、照射位置の走査方向（移動方向）に沿って、所定の間隔で複数の改質部Ｈを形成する。すなわち、図２に示すように、ガラス母材１０の第１主面１０Ａに、レーザ光Ｌの照射位置の走査の軌跡である仮想線Ｔを設定する。そして、本製造方法では、ガラス母材１０の第１主面１０Ａに、仮想線Ｔに沿って照射位置を走査（移動）させつつレーザ光Ｌを照射することで、仮想線Ｔに沿って所定の間隔で並ぶ複数の改質部Ｈを形成する。各改質部Ｈ同士の間隔は、例えば２μｍ～２５μｍであり、好ましくは３μｍ～２０μｍである。この範囲であると、後の工程で分断した後、分断面の品質を高くしやすい。なお、仮想線Ｔは、図２の例では、ガラス母材１０の中心Ｏを周方向の全区間に亘って囲う形状となっているが、仮想線Ｔの形状は、任意に設定されてよい。仮想線Ｔの長さも任意であってよいが、例えば、１０ｍｍ以上であることが好ましく、１００ｍｍ以上５０００ｍｍ以下であることがより好ましく、８００ｍｍ以上２０００ｍｍ以下であることが更に好ましい。
【0031】
なお、ガラス母材１０を切断してガラス材１０Ｓを得る方法は、レーザ光Ｌの照射に限られない。例えば、カッタースクライブや砥石により、ガラス母材１０を切断してガラス材１０Ｓを得てもよい。
【0032】
（ガラス物品の製造）
図４は、ガラス物品の製造方法を説明する模式図である。本製造方法においては、算術平均高さＳａが上記範囲（０．１μｍ以上１．０μｍ未満）となっている状態のガラス材１０Ｓの端面１０Ｃを、メディアン径Ｄ５０が８μｍ以上２４μｍ以下の砥石Ｗで研削して、端面１０Ｃに面取り部１０Ｄ２を形成することで、面取り部１０Ｄ２が形成されたガラス物品１０Ｔを製造する。すなわち、本実施形態では、上記で説明した状態のガラス材１０Ｓの端面１０Ｃに対して他の加工工程を実行することなく、他の加工工程が実行されていない状態のガラス材１０Ｓの端面１０Ｃをメディアン径Ｄ５０が８μｍ以上２４μｍ以下の砥石Ｗで研削して、ガラス物品１０Ｔを得る。砥石Ｗについては後述する。
図４は、ガラス物品の製造方法を説明する模式図である。本製造方法においては、算術平均高さＳａが上記範囲（０．１μｍ以上１．０μｍ未満）となっている状態のガラス材１０Ｓの端面１０Ｃを、メディアン径Ｄ５０が８μｍ以上２４μｍ以下の砥石Ｗで研削して、端面１０Ｃに面取り部１０Ｄ２を形成することで、面取り部１０Ｄ２が形成されたガラス物品１０Ｔを製造する。すなわち、本実施形態では、上記で説明した状態のガラス材１０Ｓの端面１０Ｃに対して他の加工工程を実行することなく、他の加工工程が実行されていない状態のガラス材１０Ｓの端面１０Ｃをメディアン径Ｄ５０が８μｍ以上２４μｍ以下の砥石Ｗで研削して、ガラス物品１０Ｔを得る。砥石Ｗについては後述する。
【0033】
本製造方法においては、ガラス材１０Ｓの端面１０Ｃを砥石Ｗで研削することで、ガラス材１０Ｓの端面１０Ｃの少なくとも一部の領域を除去して端面１０Ｄを形成し、端面１０Ｄが形成されたガラス材１０Ｓを、ガラス物品１０Ｔとして得る。
ガラス物品１０Ｔは、第１主面１０Ａ、第２主面１０Ｂ、及び第１主面１０Ａと第２主面１０Ｂとを接続する端面１０Ｄを有する。ガラス物品１０Ｔの第１主面１０Ａは、ガラス材１０Ｓの第１主面１０Ａに対応し、ガラス物品１０Ｔの第２主面１０Ｂは、ガラス材１０Ｓの第２主面１０Ｂに対応する。従って、ガラス物品１０Ｔの厚みは、ガラス材１０Ｓの厚み（ガラス母材１０の厚みＤ）と同じである。
ガラス物品１０Ｔは、第１主面１０Ａ、第２主面１０Ｂ、及び第１主面１０Ａと第２主面１０Ｂとを接続する端面１０Ｄを有する。ガラス物品１０Ｔの第１主面１０Ａは、ガラス材１０Ｓの第１主面１０Ａに対応し、ガラス物品１０Ｔの第２主面１０Ｂは、ガラス材１０Ｓの第２主面１０Ｂに対応する。従って、ガラス物品１０Ｔの厚みは、ガラス材１０Ｓの厚み（ガラス母材１０の厚みＤ）と同じである。
【0034】
（端面）
ガラス物品１０Ｔの端面１０Ｄは、第１主面１０Ａと第２主面１０Ｂとを接続する端面（側面）である。端面１０Ｄは、側面部１０Ｄ１と面取り部１０Ｄ２とを含む。ガラス物品１０Ｔの側面部１０Ｄ１は、ガラス材１０Ｓの最も径方向外側の面（側面）である。側面部１０Ｄ１は、平坦状であっても曲面状であってもよい。
ガラス物品１０Ｔの端面１０Ｄは、第１主面１０Ａと第２主面１０Ｂとを接続する端面（側面）である。端面１０Ｄは、側面部１０Ｄ１と面取り部１０Ｄ２とを含む。ガラス物品１０Ｔの側面部１０Ｄ１は、ガラス材１０Ｓの最も径方向外側の面（側面）である。側面部１０Ｄ１は、平坦状であっても曲面状であってもよい。
【0035】
面取り部１０Ｄ２は、側面部１０Ｄ１と主面（第１主面１０Ａ又は第２主面１０Ｂ）とを接続する、面取りされた面である。面取り部１０Ｄ２は、Ｚ方向に直交する方向（図４の例ではＹ方向）から見て、側面部１０Ｄ１及び主面（第１主面１０Ａ又は第２主面１０Ｂ）の両方に対して傾斜している。面取り部１０Ｄ２は、平坦状（すなわちＣ面取り）あっても曲面状（Ｒ面取り）であってもよい。
本実施形態では、端面１０Ｄは、面取り部１０Ｄ２として、側面部１０Ｄ１と第１主面１０Ａとを接続する面取り部１０Ｄ２と、側面部１０Ｄ１と第２主面１０Ｂとを接続する面取り部１０Ｄ２とを含む。ただし、端面１０Ｄは、側面部１０Ｄ１と第１主面１０Ａとを接続する面取り部１０Ｄ２と、側面部１０Ｄ１と第２主面１０Ｂとを接続する面取り部１０Ｄ２とのいずれか一方のみを含んでいてもよい。
本実施形態では、端面１０Ｄは、面取り部１０Ｄ２として、側面部１０Ｄ１と第１主面１０Ａとを接続する面取り部１０Ｄ２と、側面部１０Ｄ１と第２主面１０Ｂとを接続する面取り部１０Ｄ２とを含む。ただし、端面１０Ｄは、側面部１０Ｄ１と第１主面１０Ａとを接続する面取り部１０Ｄ２と、側面部１０Ｄ１と第２主面１０Ｂとを接続する面取り部１０Ｄ２とのいずれか一方のみを含んでいてもよい。
【0036】
（砥石）
砥石Ｗは、メディアン径Ｄ５０が８μｍ以上２４μｍ以下の砥粒を有する砥石である。すなわち、砥石Ｗは、メディアン径Ｄ５０が８μｍ以上２４μｍ以下の複数の砥粒が表面に設けられた研削用の部材である。砥石Ｗの砥粒のメディアン径Ｄ５０は、９．４μｍ以上２０．５μｍ以下が好ましく、９．４μｍ以上１６．２μｍ以下がより好ましい。砥粒のメディアン径Ｄ５０の上限値をこの範囲とすることで、チッピングを小さくでき、砥粒のメディアン径Ｄ５０の下限値をこの範囲とすることで、一般的に流通している砥粒を用いて、チッピングを適切に小さくできる。
なお、砥粒のメディアン径Ｄ５０は、粒度分布計により測定できる。
砥石Ｗは、メディアン径Ｄ５０が８μｍ以上２４μｍ以下の砥粒を有する砥石である。すなわち、砥石Ｗは、メディアン径Ｄ５０が８μｍ以上２４μｍ以下の複数の砥粒が表面に設けられた研削用の部材である。砥石Ｗの砥粒のメディアン径Ｄ５０は、９．４μｍ以上２０．５μｍ以下が好ましく、９．４μｍ以上１６．２μｍ以下がより好ましい。砥粒のメディアン径Ｄ５０の上限値をこの範囲とすることで、チッピングを小さくでき、砥粒のメディアン径Ｄ５０の下限値をこの範囲とすることで、一般的に流通している砥粒を用いて、チッピングを適切に小さくできる。
なお、砥粒のメディアン径Ｄ５０は、粒度分布計により測定できる。
【0037】
砥石Ｗに設けられる砥粒の材料は任意であってよいが、例えば単結晶ダイヤモンド、立方晶の窒化ホウ素、炭化ケイ素、アルミナなどが挙げられ、単結晶ダイヤモンドが好ましい。
【0038】
砥石Ｗの形状は特に限られず、円柱状や球状などでもよいが、第１部分Ｗ１と第２部分Ｗ２とを有する総型砥石であることが好ましい。総型砥石とは、目的とする工作物の形状にあわせた研削面を持つ砥石である。第１部分Ｗ１は、側面部１０Ｄ１に対応する研削面を有する部分であり、言い換えれば、側面部１０Ｄ１を形成するための研削面を有する。第１部分Ｗ１は、円柱形状であり、外周面が研削面となっている。第２部分Ｗ２は、面取り部１０Ｄ２に対応する研削面を有する部分であり、言い換えれば、面取り部１０Ｄ２を形成するための研削面を有する。第２部分Ｗ２は、第１部分Ｗ１に対して軸方向側に接続され、第１部分Ｗ１から遠ざかるに従って径が大きくなるコーン形状であり、外周面が研削面となっている。本実施形態では、砥石Ｗは、第２部分Ｗ２として、第１部分Ｗ１の軸方向の一方側に設けられる第２部分Ｗ２と、第１部分Ｗ１の軸方向の他方側に設けられる第２部分Ｗ２とを有する。
第１部分Ｗ１の研削面と第２部分Ｗ２の研削面には、上述で説明した砥粒が設けられている。
第１部分Ｗ１の研削面（外周面）と第２部分Ｗ２の研削面（外周面）との境界部分は、Ｒ状（曲面状）となっていることが好ましい。この境界部分の曲率半径は、０．０５ｍｍ以上であることが好ましく、０．１ｍｍ以上０．５ｍｍ以下であることがより好ましく、０．２ｍｍ以上０．３ｍｍ以下であることが更に好ましい。境界部分の曲率半径がこの範囲となることで、研削によって得られる側面部１０Ｄ１と面取り部１０Ｄ２との境界部分の曲率半径もこの範囲とすることができ、チッピングをより好適に小さくできる。
第１部分Ｗ１の研削面と第２部分Ｗ２の研削面には、上述で説明した砥粒が設けられている。
第１部分Ｗ１の研削面（外周面）と第２部分Ｗ２の研削面（外周面）との境界部分は、Ｒ状（曲面状）となっていることが好ましい。この境界部分の曲率半径は、０．０５ｍｍ以上であることが好ましく、０．１ｍｍ以上０．５ｍｍ以下であることがより好ましく、０．２ｍｍ以上０．３ｍｍ以下であることが更に好ましい。境界部分の曲率半径がこの範囲となることで、研削によって得られる側面部１０Ｄ１と面取り部１０Ｄ２との境界部分の曲率半径もこの範囲とすることができ、チッピングをより好適に小さくできる。
【0039】
（砥石による研削）
本製造方法においては、図４に示すように、砥石Ｗの軸方向に沿った中心軸を回転軸として砥石Ｗを回転させつつ、ガラス材１０Ｓの端面１０Ｃに砥石Ｗを押し当てる。これにより、端面１０Ｃが研削されて、端面１０Ｄが形成される。本実施形態では、ガラス材１０Ｓの端面１０Ｃのうちで、第１部分Ｗ１が押し当てられた部分が、第１部分Ｗ１により研削（除去）されて、側面部１０Ｄ１が形成される。そして、ガラス材１０Ｓの端面１０Ｃのうちで、第２部分Ｗ２が押し当てられた部分が、第２部分Ｗ２により研削（除去）されて、面取り部１０Ｄ２が形成される。
本製造方法においては、図４に示すように、砥石Ｗの軸方向に沿った中心軸を回転軸として砥石Ｗを回転させつつ、ガラス材１０Ｓの端面１０Ｃに砥石Ｗを押し当てる。これにより、端面１０Ｃが研削されて、端面１０Ｄが形成される。本実施形態では、ガラス材１０Ｓの端面１０Ｃのうちで、第１部分Ｗ１が押し当てられた部分が、第１部分Ｗ１により研削（除去）されて、側面部１０Ｄ１が形成される。そして、ガラス材１０Ｓの端面１０Ｃのうちで、第２部分Ｗ２が押し当てられた部分が、第２部分Ｗ２により研削（除去）されて、面取り部１０Ｄ２が形成される。
【0040】
ここで、砥石Ｗの研削による端面１０Ｃの取り代を、取り代Ａ１とする。取り代Ａ１は、側面部１０Ｄ１における、端面１０Ｃ（側面部１０Ｄ１）に垂直な方向（図４の例では方向Ｘ）での取り代を指す。言い換えれば、取り代Ａ１は、研削前のガラス材１０Ｓの中心と研削後のガラス物品１０Ｔの中心とを同じ位置に置いた場合の、端面１０Ｃから側面部１０Ｄ１までの、端面１０Ｃ（側面部１０Ｄ１）に垂直な方向における距離を指す。この場合、取り代Ａ１は、０．０５ｍｍ以上０．３ｍｍであることが好ましく、０．０５ｍｍ以上、０．１５ｍｍ以下であることがより好ましく、０．１ｍｍ以上、０．１５ｍｍ以下であることが更に好ましい。取り代Ａ１の下限値をこの範囲とすることで、チッピングを十分に除去でき、取り代Ａ１の上限値をこの範囲とすることで、研削時間が長くなることを抑制できる。
【0041】
このように、本実施形態においては、算術平均高さＳａが０．１μｍ以上１．０μｍ未満となっている状態のガラス材１０Ｓの端面１０Ｃを、メディアン径Ｄ５０が８μｍ以上２４μｍ以下の砥粒を有する砥石Ｗで研削して、端面１０Ｃに面取り部１０Ｄ２を形成することで、面取り部１０Ｄ２が形成されたガラス物品１０Ｔを製造する。算術平均高さＳａを上記範囲とする方法は特に限られないが、本実施形態のように、端面１０Ｄを形成するための研削工程において、砥粒の粒径が異なる複数の砥石Ｗを用いた複数段階の研削を行わずに、砥石Ｗを用いた一段階の研削のみを行って、端面１０Ｄを形成することが好ましい。ここでの一段階の研削とは、同じ領域に対して、１種類の砥石Ｗによる研削のみを行うことを指し、複数段階の研削とは、同じ領域に対して、複数種類の砥石を用いて順番に研削することを指す。
【0042】
また、上述のように、本実施形態では、砥石Ｗとして総型砥石を採用して、第１部分Ｗ１及び第２部分Ｗ２により端面１０Ｃを研削して、側面部１０Ｄ１と面取り部１０Ｄ２とを同時に形成する。ただしそれに限られず、側面部１０Ｄ１と面取り部１０Ｄ２とを別々に形成してもよい。この場合例えば、第１部分Ｗ１を有する砥石Ｗで端面１０Ｃを研削して、側面部１０Ｄ１を形成する。そして、第２部分Ｗ２を有する砥石Ｗで、側面部１０Ｄ１と主面（第１主面１０Ａ又は第２主面１０Ｂ）との境界部分を研削して、面取り部１０Ｄ２を形成する。この場合においても、側面部１０Ｄ１は、第１部分Ｗ１を有する砥石Ｗのみで一段階の研削により形成され、面取り部１０Ｄ２は、第２部分Ｗ２を有する砥石Ｗのみで一段階の研削により形成されているといえる。
【0043】
また、本実施形態では、側面部１０Ｄ１は、端面１０Ｃを研削することにより形成された研削面であるが、それに限られず、端面１０Ｃのうちで研削されずに残った部分を、側面部１０Ｄ１としてもよい。この場合例えば、端面１０Ｃと主面（第１主面１０Ａ又は第２主面１０Ｂ）との境界部分を、第２部分Ｗ２を有する砥石Ｗで研削して、面取り部１０Ｄ２を形成する。すなわちこの場合、端面１０Ｄのうちの面取り部１０Ｄ２のみが、研削面となる。
【0044】
【0045】
ガラス物品１０Ｔの面取り部１０Ｄ２の算術平均高さＳａは、０．１μｍ以上０．８μｍ以下が好ましく、０．１μｍ以上０．５μｍ以下がより好ましい。ガラス物品１０Ｔの面取り部１０Ｄ２の最大高さＳｚは、１μｍ以上２０μｍ以下が好ましく、１．０μｍ以上１０μｍ以下がより好ましく、１μｍ以上５μｍ以下が更に好ましい。面取り部１０Ｄ２の算術平均高さＳａ及び最大高さＳｚをこの範囲とすることで、面取り部１０Ｄ２を滑らかにして、面取り部１０Ｄ２を起点とした破損を抑制できる。
なお、面取り部１０Ｄ２の算術平均高さＳａ及び最大高さＳｚは、面取り部１０Ｄ２の全域のうちの、９０μｍ×６０μｍ四方の領域における、算術平均高さＳａ及び最大高さＳｚとしてよい。
なお、面取り部１０Ｄ２の算術平均高さＳａ及び最大高さＳｚは、面取り部１０Ｄ２の全域のうちの、９０μｍ×６０μｍ四方の領域における、算術平均高さＳａ及び最大高さＳｚとしてよい。
【0046】
ガラス物品１０Ｔの面取り部１０Ｄ２の角度θは、３０°以上６０°以下が好ましく、４０°以上６０°以下がより好ましく、４５°以上６０°以下が更に好ましい。図５に示すように、角度θは、側面部１０Ｄ１と面取り部１０Ｄ２とのなす角度である。角度θをこの範囲とすることで、主面と面取り部１０Ｄ２との境界部分が鋭りすぎることを抑制して、チッピングを適切に小さくできる。なお、面取り部１０Ｄ２が曲面状の場合、面取り部１０Ｄ２のうちで最も突出している部分の接線と、側面部１０Ｄ１とのなす角度を、角度θとしてよい。
【0047】
ここで、図６に示すように、ガラス物品１０Ｔの面取り部１０Ｄ２のうちで、第１主面１０Ａ側から見た場合の周方向における１００ｍｍの長さの区間（領域）を、領域ＡＲとする。すなわち、領域ＡＲとは、図６に示すように、面取り部１０Ｄ２の全域のうちで、面取り部１０Ｄ２上の任意の位置ＡＲ１から、位置ＡＲ１に対して、面取り部１０Ｄ２上を周方向に１００ｍｍ離れた位置ＡＲ２までの、領域を指す。この場合、領域ＡＲにおけるチッピングの大きさの最大値は、３５μｍ以下が好ましく、３０μｍ以下がより好ましい。ここでのチッピングの大きさとは、チッピングが面取り部１０Ｄ２からの窪み（凹）である場合には、チッピングの窪みの深さを指し、チッピングが面取り部１０Ｄ２から突出している場合には、面取り部１０Ｄ２からのチッピングの突出長さを指す。チッピングの大きさの最大値とは、領域ＡＲにおけるチッピングのうちで、大きさが最大となるチッピングの大きさを指す。チッピングの大きさの最大値をこの範囲とすることで、チッピングを小さく保ち、面取り部１０Ｄ２を起点とした割れを抑制できる。
【0048】
ガラス物品１０Ｔの側面部１０Ｄ１の算術平均高さＳａは、０．１μｍ以上０．８μｍ以下が好ましく、０．１μｍ以上０．５μｍ以下がより好ましく、０．１μｍ以上０．３μｍ以下が更に好ましい。ガラス物品１０Ｔの側面部１０Ｄ１の最大高さＳｚは、１．０μｍ以上２０μｍ以下が好ましく、０．１μｍ以上１０μｍ以下がより好ましく、１．０μｍ以上５μｍ以下が更に好ましい。側面部１０Ｄ１の算術平均高さＳａ及び最大高さＳｚをこの範囲とすることで、端面１０Ｄを滑らかにして、端面１０Ｄを起点とした破損を抑制できる。
なお、側面部１０Ｄ１の算術平均高さＳａ及び最大高さＳｚは、側面部１０Ｄ１の全域のうちの、９０μｍ×６０μｍ四方の領域における、算術平均高さＳａ及び最大高さＳｚとしてよい。
なお、側面部１０Ｄ１の算術平均高さＳａ及び最大高さＳｚは、側面部１０Ｄ１の全域のうちの、９０μｍ×６０μｍ四方の領域における、算術平均高さＳａ及び最大高さＳｚとしてよい。
【0049】
ガラス物品１０Ｔの側面部１０Ｄ１と面取り部１０Ｄ２との境界部分は、Ｒ状（曲面状）となっていることが好ましい。この境界部分の曲率半径は、０．０５ｍｍ以上であることが好ましく、０．１ｍｍ以上０．５ｍｍ以下であることがより好ましく、０．２ｍｍ以上０．３ｍｍ以下であることが更に好ましい。境界部分の曲率半径がこの範囲となることで、面取り部１０Ｄ２を起点とした割れを抑制できる。
【0050】
ガラス物品１０Ｔの面取り部１０Ｄ２は、全域に亘って、周方向に延びる研削スジが形成されていてもよい。ガラス物品１０Ｔは、研削により面取りされているにも関わらず、チッピングを小さく保つことができる。研削スジとは、砥石Ｗによる研削跡である。研削スジは、面取り部１０Ｄ２において、Ｚ方向に並んで複数形成されていることが好ましい。
また、側面部１０Ｄ１も研削により形成した場合には、側面部１０Ｄ１にも、全域に亘って、周方向に延びる研削スジが形成されていることが好ましい。研削スジは、側面部１０Ｄ１において、Ｚ方向に並んで複数形成されていることが好ましい。すなわちこの場合、周方向に延びる研削スジが、端面１０Ｄの全域に亘って形成されていることが好ましい。
研削スジは、マイクロスコープにより確認できる。
また、側面部１０Ｄ１も研削により形成した場合には、側面部１０Ｄ１にも、全域に亘って、周方向に延びる研削スジが形成されていることが好ましい。研削スジは、側面部１０Ｄ１において、Ｚ方向に並んで複数形成されていることが好ましい。すなわちこの場合、周方向に延びる研削スジが、端面１０Ｄの全域に亘って形成されていることが好ましい。
研削スジは、マイクロスコープにより確認できる。
【0051】
本実施形態においては、砥石Ｗを用いた研削加工により製造されたガラス物品１０Ｔに対して、すなわち研削により上記の特性を有した状態のガラス物品１０Ｔに対して、端面１０Ｄに対する更なる機械加工（研磨・研削）を行わない。ただし例えば、研削により上記の特性を有した状態のガラス物品１０Ｔに対して、機械加工以外の処理（例えば、化学強化、曲げ形成、防眩層、反射防止層、防汚層などの層形成）を施してもよい。
【0052】
（製造フロー）
以上説明したガラス物品１０Ｔの製造方法の処理フローを説明する。図７は、ガラス物品の製造フローを説明するフローチャートである。図７に示すように、本製造方法においては、ガラス母材１０を準備し、ガラス母材１０を切断してガラス材１０Ｓを得る（ステップＳ１０）。そして、切断により得られたガラス材１０Ｓの端面１０Ｃを砥石Ｗにより研削して、面取り部１０Ｄ２を含む端面１０Ｄが形成されたガラス物品１０Ｔを得る（ステップＳ１２）。
以上説明したガラス物品１０Ｔの製造方法の処理フローを説明する。図７は、ガラス物品の製造フローを説明するフローチャートである。図７に示すように、本製造方法においては、ガラス母材１０を準備し、ガラス母材１０を切断してガラス材１０Ｓを得る（ステップＳ１０）。そして、切断により得られたガラス材１０Ｓの端面１０Ｃを砥石Ｗにより研削して、面取り部１０Ｄ２を含む端面１０Ｄが形成されたガラス物品１０Ｔを得る（ステップＳ１２）。
【0053】
（効果）
以上説明したように、本開示の第１態様に係る製造方法は、ガラス母材１０を切断して、第１主面１０Ａ、第２主面１０Ｂ、及び端面１０Ｃを有し、端面１０Ｃの算術平均高さＳａが０．１μｍ以上１．０μｍ未満のガラス材１０Ｓを得ることと、算術平均高さＳａが０．１μｍ以上１．０μｍ未満の状態の端面１０Ｃを、メディアン径Ｄ５０が８μｍ以上２４μｍ以下の砥粒を有する砥石Ｗで研削して、面取り部１０Ｄ２を形成することと、を含む。
以上説明したように、本開示の第１態様に係る製造方法は、ガラス母材１０を切断して、第１主面１０Ａ、第２主面１０Ｂ、及び端面１０Ｃを有し、端面１０Ｃの算術平均高さＳａが０．１μｍ以上１．０μｍ未満のガラス材１０Ｓを得ることと、算術平均高さＳａが０．１μｍ以上１．０μｍ未満の状態の端面１０Ｃを、メディアン径Ｄ５０が８μｍ以上２４μｍ以下の砥粒を有する砥石Ｗで研削して、面取り部１０Ｄ２を形成することと、を含む。
【0054】
ガラス材１０Ｓの端面１０Ｃを研削して、面取り部を有するガラス物品１０Ｔを製造する際には、一般的には、砥粒径が異なる複数種類の砥石を用いて、端面１０Ｃに複数段階の研削を施す。しかしながら、本発明者は、鋭意研究の結果、複数段階の研削を施した場合には、面取り部のチッピングが大きくなってしまうことを見出した。そして、本発明者は、面取り部を形成して所望の形状を得つつ、チッピングを小さく出来る製造条件を見出した。すなわち、本製造方法においては、ガラス母材１０を切断して、端面１０Ｃの算術平均高さＳａが上記範囲となるガラス材１０Ｓを製造し、算術平均高さＳａが上記範囲となっている状態における端面１０Ｃを、砥粒径が上記範囲となる砥石Ｗで一段階研削することで、所望の形状を得つつ、チッピングを小さくできる。
【0055】
本開示の第２態様に係る製造方法は、第１態様に係る製造方法であって、ガラス物品１０Ｔは、側面部１０Ｄ１、及び、第１主面１０Ａ又は第２主面１０Ｂと側面部１０Ｄ１とを接続する面取り部１０Ｄ２を有し、面取り部１０Ｄ２及び側面部１０Ｄ１は、算術平均高さＳａが０．１μｍ以上１．０μｍ未満の状態の端面１０Ｃを、メディアン径Ｄ５０が８μｍ以上２４μｍ以下の砥粒を有する砥石Ｗで研削することで、形成されることが好ましい。本開示によると、側面部１０Ｄ１を一段階の研削で形成しつつ、面取り部１０Ｄ２を一段階の研削で形成することで、所望の形状を得つつ、チッピングを小さくできる。
【0056】
本開示の第３態様に係る製造方法は、第２態様に係る製造方法であって、砥石Ｗでの研削により、端面１０Ｃを、端面１０Ｃに垂直な方向に０．０５ｍｍ以上０．３ｍｍ除去して、側面部１０Ｄ１を形成することが好ましい。本開示によると、取り代Ａ１をこの範囲とすることで、研削時間が長くなることを抑制しつつ、端面１０Ｃを適切に研削できる。
【0057】
本開示の第４態様に係る製造方法は、第２態様又は第３態様に係る製造方法であって、面取り部１０Ｄ２及び側面部１０Ｄ１に対応する研削面を有する総型砥石を砥石Ｗとして用いて、端面１０Ｃを研削して、面取り部１０Ｄ２及び側面部１０Ｄ１を同時に形成することが好ましい。本開示によると、総型砥石を用いることで、端面１０Ｃを適切に研削できる。
【0058】
本開示の第５態様に係る製造方法は、第１態様から第４態様のいずれかに係る製造方法であって、面取り部１０Ｄ２の角度θが、４５°以上６０°以下であることが好ましい。面取り部１０Ｄ２の角度θがこの範囲となるように製造することで、面取り部１０Ｄ２を起点とした割れを抑制できる。
【0059】
本開示の第６態様に係る製造方法は、第１態様から第５態様のいずれかに係る製造方法であって、ガラス母材１０の主面（第１主面１０Ａ又は第２主面１０Ｂ）に設定される仮想線Ｔに沿って、レーザ光Ｌを照射して、ガラス母材１０に仮想線Ｔに沿った改質部Ｈを形成し、仮想線Ｔに沿った改質部Ｈを起点としてガラス母材１０を破断して、端面１０Ｃの算術平均高さＳａが０．１μｍ以上１．０μｍ未満のガラス材１０Ｓを得ることが好ましい。本開示によると、レーザ光Ｌによりガラス母材１０を切断することで、端面１０Ｃの算術平均高さＳａが上記範囲となるガラス材１０Ｓを適切に製造できる。
【0060】
本開示の第７態様に係る製造方法は、第６態様に係る製造方法であって、レーザ光Ｌは、パルス発振したレーザ光であることが好ましい。本開示によると、パルスレーザを用いることで、端面１０Ｃの算術平均高さＳａが上記範囲となるガラス材１０Ｓを適切に製造できる。
【0061】
本開示の第８態様に係る製造方法は、第６態様又は第７態様に係る製造方法であって、レーザ光Ｌは、波長域が２５０ｎｍ以上３０００ｎｍ以下であることが好ましい。本開示によると、このような波長域の赤外線レーザを用いることで、端面１０Ｃの算術平均高さＳａが上記範囲となるガラス材１０Ｓを適切に製造できる。
【0062】
本開示の第９態様に係るガラス物品１０Ｔは、第１主面１０Ａ、第２主面１０Ｂ、及び端面１０Ｄを有し、端面１０Ｄが、側面部１０Ｄ１、及び側面部１０Ｄ１と第１主面１０Ａとを接続する面取り部１０Ｄ２を有し、面取り部１０Ｄ２の算術平均高さＳａが０．１μｍ以上０．８μｍ以下であり、面取り部１０Ｄ２の、第１主面１０Ａ側から見た場合の周方向における１００ｍｍの長さの区間（領域ＡＲ）に存在するチッピングの大きさの最大値が、３５μｍ以下である。本開示によると、チッピングを小さくし、かつ所望の形状となるガラス物品１０Ｔを得ることができる。
【0063】
本開示の第１０態様に係るガラス物品１０Ｔは、第９態様に係るガラス物品であって、面取り部１０Ｄ２には、第１主面１０Ａ側から見た場合の周方向に延在する研削スジが形成されていることが好ましい。本開示によると、チッピングを小さくし、かつ所望の形状となるガラス物品１０Ｔを得ることができる。
【0064】
本開示の第１１態様に係るガラス物品１０Ｔは、第９態様又は第１０態様に係るガラス物品であって、面取り部１０Ｄ２と側面部１０Ｄ１との境界部分の曲率半径が、０．０５ｍｍ以上であることが好ましい。境界部分の曲率半径をこの範囲とすることで、面取り部１０Ｄ２を起点とした割れを抑制できる。
【0065】
本開示の第１２態様に係るガラス物品１０Ｔは、第９態様から第１１態様のいずれかに係るガラス物品であって、面取り部１０Ｄ２の算術平均高さＳａが、０．１μｍ以上０．５μｍ以下であることが好ましい。面取り部１０Ｄ２の算術平均高さＳａをこの範囲とすることで、面取り部１０Ｄ２からの割れを抑制できる。
【0066】
本開示の第１３態様に係るガラス物品１０Ｔは、第９態様から第１２態様のいずれかに係るガラス物品であって、面取り部１０Ｄ２の角度θが、４５°以上６０°以下であることが好ましい。面取り部１０Ｄ２の角度θがこの範囲となるように製造することで、チッピングを適切に小さくできる。
【0067】
（実施例）
次に、実施例について説明する。表１は、各例の製造条件及び評価結果を示す表である。
次に、実施例について説明する。表１は、各例の製造条件及び評価結果を示す表である。
【0068】
【表1】
【0069】
（例１）
例１においては、厚さが１．３ｍｍのガラス母材を準備した。ガラス母材としては、ＡＧＣ社製、Ｄｒａｇｏｎｔｒａｉｌ（登録商標）を用いた。このガラス母材に対して、ガラス母材の中心を周方向に全区間に亘って囲う仮想線を設定して、仮想線に沿って、Ｒｏｆｉｎ社製ＳｔａｒＰｉｃｏ３を用いて、以下の条件でレーザ光（パルスレーザ）を照射して改質部を形成した。
・波長：１０６４ｎｍ
・光学系：Ｃｏｈｅｒｅｎｔ Ｓｍａｒｔ Ｃｌｅａｖｅ
・パルス幅：１０ｐｓ
・バースト数：４バースト
・照射ピッチ：５μｍ
・パルスエネルギー：５２３μＪ
・送り速度（走査速度）：１１２５０ｍｍ/ｍｉｎ
・出力：３９．２Ｗ
例１においては、厚さが１．３ｍｍのガラス母材を準備した。ガラス母材としては、ＡＧＣ社製、Ｄｒａｇｏｎｔｒａｉｌ（登録商標）を用いた。このガラス母材に対して、ガラス母材の中心を周方向に全区間に亘って囲う仮想線を設定して、仮想線に沿って、Ｒｏｆｉｎ社製ＳｔａｒＰｉｃｏ３を用いて、以下の条件でレーザ光（パルスレーザ）を照射して改質部を形成した。
・波長：１０６４ｎｍ
・光学系：Ｃｏｈｅｒｅｎｔ Ｓｍａｒｔ Ｃｌｅａｖｅ
・パルス幅：１０ｐｓ
・バースト数：４バースト
・照射ピッチ：５μｍ
・パルスエネルギー：５２３μＪ
・送り速度（走査速度）：１１２５０ｍｍ/ｍｉｎ
・出力：３９．２Ｗ
【0070】
例１においては、改質部を形成したガラス母材を、改質部に沿って切断して、ガラス材を得た。そして、ガラス材の端面（切断面）の算術平均高さＳａ及び最大高さＳｚを測定した。端面１０Ｃの算術平均高さＳａ及び最大高さＳｚは、端面の全域のうちの、Ｚ方向に直交する方向から見て、主面に接する９０μｍ×６０μｍ四方の領域における測定値とした。
例１においては、ガラス材に対して研削を行わず、切断により得られたガラス材を、ガラス物品として扱った。
例１においては、ガラス材に対して研削を行わず、切断により得られたガラス材を、ガラス物品として扱った。
【0071】
（例２）
例２においては、例１と同じ方法でガラス材を得た。例２においては、番手が♯８００、メディアン径Ｄ５０が１６．２μｍの砥粒を有する総型砥石を用いて、得られたガラス材の端面を研削して、面取り部の角度が４５°のガラス物品を得た。研削における取り代（上述の実施形態での取り代Ａ１）は、０．１ｍｍとした。
研削により得られたガラス物品の、側面部（上述の実施形態での側面部１０Ｄ１）の算術平均高さＳａ及び最大高さＳｚを測定した。
なお、表１において、１回目「なし」で２回目に条件が記載されたものと、２回目「なし」で１回目に条件が記載されたものとは、いずれも１度しか研削していないことを指す。
例２においては、例１と同じ方法でガラス材を得た。例２においては、番手が♯８００、メディアン径Ｄ５０が１６．２μｍの砥粒を有する総型砥石を用いて、得られたガラス材の端面を研削して、面取り部の角度が４５°のガラス物品を得た。研削における取り代（上述の実施形態での取り代Ａ１）は、０．１ｍｍとした。
研削により得られたガラス物品の、側面部（上述の実施形態での側面部１０Ｄ１）の算術平均高さＳａ及び最大高さＳｚを測定した。
なお、表１において、１回目「なし」で２回目に条件が記載されたものと、２回目「なし」で１回目に条件が記載されたものとは、いずれも１度しか研削していないことを指す。
【0072】
（例３～例４）
例３～例４においては、ガラス材の端面の研削条件を表１に示したように変更した以外は、例２と同じ方法でガラス物品を得た。
例３～例４においては、ガラス材の端面の研削条件を表１に示したように変更した以外は、例２と同じ方法でガラス物品を得た。
【0073】
（例５～例６）
例５～例６においては、番手が♯８００の砥石（東京ダイヤモンド工具製作所社製）を用いて例１と同じガラス母材を切断して、ガラス材を得た。切断時の送り速度は、１００ｍｍ／ｍｉｎ～２００ｍｍ／ｍｉｎとした。得られたガラス材の端面を、表１に示した研削条件で研削して、ガラス物品を得た。
例５～例６においては、番手が♯８００の砥石（東京ダイヤモンド工具製作所社製）を用いて例１と同じガラス母材を切断して、ガラス材を得た。切断時の送り速度は、１００ｍｍ／ｍｉｎ～２００ｍｍ／ｍｉｎとした。得られたガラス材の端面を、表１に示した研削条件で研削して、ガラス物品を得た。
【0074】
（例７）
例７においては、超硬カッター（三星ダイヤモンド工業社製）を用いて例１と同じガラス母材を切断して、ガラス材を得た。切断時の送り速度は、６０００ｍｍ／ｍｉｎとした。得られたガラス材の表面を、番手が♯４００の総型砥石（東京ダイヤモンド工業社製）を用いて一段階目の研削を行った後、例２と同じ総型砥石を用いて二段階目の研削を行って、ガラス物品を得た。
例７においては、超硬カッター（三星ダイヤモンド工業社製）を用いて例１と同じガラス母材を切断して、ガラス材を得た。切断時の送り速度は、６０００ｍｍ／ｍｉｎとした。得られたガラス材の表面を、番手が♯４００の総型砥石（東京ダイヤモンド工業社製）を用いて一段階目の研削を行った後、例２と同じ総型砥石を用いて二段階目の研削を行って、ガラス物品を得た。
【0075】
（例８）
例８においては、研削条件を表１に示したものとした以外は、例７と同様の方法でガラス物品を得た。
例８においては、研削条件を表１に示したものとした以外は、例７と同様の方法でガラス物品を得た。
【0076】
（例９）
例９においては、研削条件を表１に示したものとした以外は、例５と同様の方法でガラス物品を得た。
例９においては、研削条件を表１に示したものとした以外は、例５と同様の方法でガラス物品を得た。
【0077】
（例１０）
例１０においては、研削条件を表１に示したものとした以外は、例２と同様の方法でガラス物品を得た。
例１０においては、研削条件を表１に示したものとした以外は、例２と同様の方法でガラス物品を得た。
【0078】
（例１１）
例１１においては、番手が♯２００の砥石（ノリタケカンパニーリミテッド社製）を用いて例１と同じガラス母材を切断して、ガラス材を得た。切断時の送り速度は、１００ｍｍ／ｍｉｎとした。得られたガラス材の端面を、表１に示した研削条件で研削して、ガラス物品を得た。
例１１においては、番手が♯２００の砥石（ノリタケカンパニーリミテッド社製）を用いて例１と同じガラス母材を切断して、ガラス材を得た。切断時の送り速度は、１００ｍｍ／ｍｉｎとした。得られたガラス材の端面を、表１に示した研削条件で研削して、ガラス物品を得た。
【0079】
（例１２～例１３）
例１２～例１３においては、ＣＯ２レーザを用いて例１と同じガラス母材を切断して、ガラス材を得た。ＣＯ２レーザの照射装置はＲｏｆｉｎ社製ＳＲ１５ｉとし、照射条件は以下とした。
・波長：１０６００ｎｍｎｍ
・スポット径：６．５８ｍｍ
・出力：４７．３Ｗ
・送り速度（走査速度）：１８００ｍｍ/ｍｉｎ
例１２～例１３においては、ＣＯ２レーザを用いて例１と同じガラス母材を切断して、ガラス材を得た。ＣＯ２レーザの照射装置はＲｏｆｉｎ社製ＳＲ１５ｉとし、照射条件は以下とした。
・波長：１０６００ｎｍｎｍ
・スポット径：６．５８ｍｍ
・出力：４７．３Ｗ
・送り速度（走査速度）：１８００ｍｍ/ｍｉｎ
【0080】
例１２～例１３においては、得られたガラス材の端面を、表１に示した研削条件で研削して、ガラス物品を得た。
【0081】
（評価）
評価においては、各例のガラス物品のチッピングの大きさの最大値を測定した。チッピングの大きさの最大値は、マイクロスコープにより測定した。チッピングの大きさの最大値が４０μｍ未満を合格、４０μｍ以上を不合格とした。
また、評価においては、面取り形状を評価した。面取り形状が得られている場合をＡ（合格）、得られていない場合をＢ（不合格）とした。
評価においては、各例のガラス物品のチッピングの大きさの最大値を測定した。チッピングの大きさの最大値は、マイクロスコープにより測定した。チッピングの大きさの最大値が４０μｍ未満を合格、４０μｍ以上を不合格とした。
また、評価においては、面取り形状を評価した。面取り形状が得られている場合をＡ（合格）、得られていない場合をＢ（不合格）とした。
【0082】
表１に示すように、端面の算術平均高さＳａが０．１μｍ以上１．０μｍ未満のガラス材に対して、メディアン径Ｄ５０が８μｍ以上２４μｍ以下の砥石で一段階研削した例２～例６（実施例）は、チッピングの大きさ及び面取り形状の両方が合格となっており、面取りにより所望の形状を得つつ、チッピングを小さく出来ることが分かる。
【0083】
一方、例１、例７～例１３（比較例）においては、チッピングの大きさと面取り形状との少なくとも一方が不合格となっており、面取りにより所望の形状を得ることと、チッピングを小さくすることとを両立できないことが分かる。
例えば例１では、研削を行っていないため、面取り形状及びチッピングの大きさの両方が不合格であった。例７では、ガラス材の端面が粗く、二段階研削を行っているため、チッピングが大きくなってしまう。例８では、一段階研削ではあるが、ガラス材の端面が粗いため、チッピングが大きくなってしまう。例９では、一段階研削ではあるが、研削に用いた砥石の粒径が大きいため、チッピングが大きくなってしまう。例１０では、０．１μｍ以上１．０μｍ未満の状態の端面に対して、研削（ここでは１回目の研削）に用いる砥石の粒径が大きすぎるため、チッピングが大きくなってしまう。例１１では、一段階研削ではあるが、ガラス材の端面が粗いため、チッピングが大きくなってしまう。例１２では、ガラス材の端面が滑らか過ぎ、二段階研削を行っているため、チッピングが大きくなってしまう。例１３では、一段階研削ではあるが、ガラス材の端面が滑らか過ぎるため、研削ができず、所望の面取り形状が得られない。
例えば例１では、研削を行っていないため、面取り形状及びチッピングの大きさの両方が不合格であった。例７では、ガラス材の端面が粗く、二段階研削を行っているため、チッピングが大きくなってしまう。例８では、一段階研削ではあるが、ガラス材の端面が粗いため、チッピングが大きくなってしまう。例９では、一段階研削ではあるが、研削に用いた砥石の粒径が大きいため、チッピングが大きくなってしまう。例１０では、０．１μｍ以上１．０μｍ未満の状態の端面に対して、研削（ここでは１回目の研削）に用いる砥石の粒径が大きすぎるため、チッピングが大きくなってしまう。例１１では、一段階研削ではあるが、ガラス材の端面が粗いため、チッピングが大きくなってしまう。例１２では、ガラス材の端面が滑らか過ぎ、二段階研削を行っているため、チッピングが大きくなってしまう。例１３では、一段階研削ではあるが、ガラス材の端面が滑らか過ぎるため、研削ができず、所望の面取り形状が得られない。
【0084】
オプションとして、工程評価を行った。工程評価においては、例５、例６（砥石切断）においてガラス母材を切断してガラス材を得て、ガラス材を研削してガラス物品を得る際に要した工程時間を１００％とした場合に、工程時間が２０％以下にできるかを評価した。本評価においては、例２～４と、例５～例６とにおいて、工程時間を２０％以下にできた。すなわち、例２～４、例５～例６のように、パルスレーザを用いることで工程時間が短くなり、より好ましいことが分かる。
【0085】
以上、本発明の実施形態を説明したが、この実施形態の内容により実施形態が限定されるものではない。また、前述した構成要素には、当業者が容易に想定できるもの、実質的に同一のもの、いわゆる均等の範囲のものが含まれる。さらに、前述した構成要素は適宜組み合わせることが可能である。さらに、前述した実施形態の要旨を逸脱しない範囲で構成要素の種々の省略、置換又は変更を行うことができる。
【符号の説明】
【0086】
１０ ガラス母材
１０Ａ 第１主面
１０Ｂ 第２主面
１０Ｃ、１０Ｄ 端面
１０Ｄ１ 側面部
１０Ｄ２ 面取り部
１０Ｓ ガラス材
１０Ｔ ガラス物品
Ｗ 砥石
１０Ａ 第１主面
１０Ｂ 第２主面
１０Ｃ、１０Ｄ 端面
１０Ｄ１ 側面部
１０Ｄ２ 面取り部
１０Ｓ ガラス材
１０Ｔ ガラス物品
Ｗ 砥石
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】