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特開2024-1763発達支援装置、脳性麻痺児用発達支援装置及び製造方法
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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024001763
(43)【公開日】2024-01-10
(54)【発明の名称】発達支援装置、脳性麻痺児用発達支援装置及び製造方法
(51)【国際特許分類】
   A61F 5/02 20060101AFI20231227BHJP
   A61F 5/32 20060101ALI20231227BHJP
   A61F 5/01 20060101ALI20231227BHJP
   A61H 1/02 20060101ALI20231227BHJP
   A61H 7/00 20060101ALI20231227BHJP
   A61H 39/04 20060101ALI20231227BHJP
【FI】
A61F5/02 N
A61F5/32
A61F5/01 N
A61H1/02 N
A61H7/00 322F
A61H39/04 W
【審査請求】未請求
【請求項の数】10
【出願形態】OL
(21)【出願番号】P 2022100633
(22)【出願日】2022-06-22
(71)【出願人】
【識別番号】504137912
【氏名又は名称】国立大学法人 東京大学
(74)【代理人】
【識別番号】110002789
【氏名又は名称】弁理士法人IPX
(72)【発明者】
【氏名】淺間 一
(72)【発明者】
【氏名】山下 淳
(72)【発明者】
【氏名】安 ▲ち▼
(72)【発明者】
【氏名】山川 博司
(72)【発明者】
【氏名】▲濱▼田 裕幸
(72)【発明者】
【氏名】阿部 勇貴
(72)【発明者】
【氏名】高田 謙一
(72)【発明者】
【氏名】丸田 茂樹
(72)【発明者】
【氏名】鈴木 恒彦
(72)【発明者】
【氏名】木野本 誠
【テーマコード(参考)】
4C046
4C098
4C100
4C101
【Fターム(参考)】
4C046AA09
4C046AA46
4C046BB09
4C046DD06
4C046DD07
4C046DD39
4C098BB12
4C098BC15
4C098BC34
4C098BC45
4C098BC48
4C098BD04
4C100AD40
4C100BB01
4C100BB08
4C100CA02
4C100DA10
4C101BA01
4C101BB03
4C101BC01
4C101BD08
4C101BE02
4C101BE04
(57)【要約】
【課題】対象者の運動機能を発達させることが可能な発達支援装置を提供すること。
【解決手段】本発明の一態様によれば、発達支援装置が提供される。この発達支援装置は、支持部と、固定部と、圧力部とを備える。支持部は、対象者の足底部に対向するように配置され、足底部を支持可能に構成される。固定部は、支持部の一端部に配置され、足底部におけるアーチ構造を維持するように対象者の足首部を固定可能に構成される。圧力部は、支持部における足底部と対向する側の反対側において支持部に対向して配置され、足底部の内在筋に対して圧力をかけるように構成される。
【選択図】図1
【特許請求の範囲】
【請求項1】
発達支援装置であって、
支持部と、固定部と、圧力部とを備え、
前記支持部は、対象者の足底部に対向するように配置され、前記足底部を支持可能に構成され、
前記固定部は、前記支持部の一端部に配置され、前記足底部におけるアーチ構造を維持するように前記対象者の足首部を固定可能に構成され、
前記圧力部は、前記支持部における前記足底部と対向する側の反対側において前記支持部に対向して配置され、前記足底部の内在筋に対して圧力をかけるように構成される、
発達支援装置。
【請求項2】
請求項1に記載の発達支援装置において、
背屈部を備え、
前記背屈部は、前記支持部の他端部に配置され、前記対象者のつま先部を背屈させるように構成される、
発達支援装置。
【請求項3】
請求項1に記載の発達支援装置において、
前記固定部は、前記足首部に圧力をかけて前記足首部を固定可能に構成される、
発達支援装置。
【請求項4】
請求項1に記載の発達支援装置において、
前記圧力部は、空気圧により圧力をかけるように構成される、
発達支援装置。
【請求項5】
請求項1に記載の発達支援装置において、
前記圧力部は、1から10Nの圧力をかけるように構成される、
発達支援装置。
【請求項6】
請求項1に記載の発達支援装置において、
前記支持部は、前記足底部のサイズが10から20cmに対応可能に構成される、
発達支援装置。
【請求項7】
脳性麻痺児用発達支援装置であって、
支持部と、固定部と、圧力部とを備え、
前記支持部は、対象者の足底部に対向するように配置され、前記足底部を支持可能に構成され、
前記固定部は、前記支持部の一端部に配置され、前記足底部におけるアーチ構造を維持するように前記対象者の足首部を固定可能に構成され、
前記圧力部は、前記支持部における前記足底部と対向する側の反対側において前記支持部に対向して配置され、前記足底部の内在筋に対して圧力をかけるように構成される、
脳性麻痺児用発達支援装置。
【請求項8】
発達支援装置を製造する製造方法であって、
前記発達支援装置は、請求項1から6までの何れか1項に記載の発達支援装置であり、
測定工程と、製造工程とを備え、
前記測定工程では、前記対象者の足の形態を測定し、
前記製造工程では、前記足の形態に基づいて、前記発達支援装置を製造する、
製造方法。
【請求項9】
請求項8に記載の製造方法において、
前記製造工程は、支持部製造工程と、固定部製造工程と、圧力部製造工程と、装置組立工程とを備え、
前記支持部製造工程では、対象者の足底部を支持可能に構成される支持部を製造し、
前記固定部製造工程では、前記足底部におけるアーチ構造を維持するように前記対象者の足首部を固定可能に構成される固定部を製造し、
前記圧力部製造工程では、前記足底部の内在筋に対して圧力をかけるように構成される圧力部を製造し、
前記装置組立工程では、前記支持部、前記固定部及び前記圧力部を用いて、前記発達支援装置を組み立てる、
製造方法。
【請求項10】
請求項8に記載の製造方法において、
前記支持部製造工程、前記固定部製造工程及び前記圧力部製造工程は、3Dプリンタにより実行される、
製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、発達支援装置、脳性麻痺児用発達支援装置及び製造方法に関する。
【背景技術】
【0002】
対象者のつま先から踵にかけての足底部(足裏)に対して多様なマッサージを同時に行う足裏マッサージ機が開示されている(例えば、特許文献1参照。)。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【特許文献1】特開2017-108778号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
しかしながら、特許文献1に開示された足裏マッサージ機では、運動障害を抱える対象者の運動機能を発達させることができなかった。
【0005】
本発明では上記事情を鑑み、対象者の運動機能を発達させることが可能な発達支援装置を提供することとした。
【課題を解決するための手段】
【0006】
本発明の一態様によれば、発達支援装置が提供される。この発達支援装置は、支持部と、固定部と、圧力部とを備える。支持部は、対象者の足底部に対向するように配置され、足底部を支持可能に構成される。固定部は、支持部の一端部に配置され、足底部におけるアーチ構造を維持するように対象者の足首部を固定可能に構成される。圧力部は、支持部における足底部と対向する側の反対側において支持部に対向して配置され、足底部の内在筋に対して圧力をかけるように構成される。
【0007】
上記の開示によれば、対象者の運動機能を発達させることができる。
【図面の簡単な説明】
【0008】
図1】システム100を表す構成図である。
図2】発達支援装置200の構成を示す図である。
図3】発達支援装置200の構成を示す図である。
図4】発達支援装置200の構成を示す図である。
図5】発達支援装置200の構成を示す図である。
図6】発達支援装置200に対象者の足底部700を固定した状態を示す図である。
図7】対象者の足底部700に対する力のかかり方を示す図である。
図8】対象者の足底部700のアーチ部740に対して圧力部240が作用する状態を示す図である。
図9】対象者の足底部700の中足骨750に対して圧力部240が作用する状態を示す図である。
図10】対象者の足底部700のアーチ部740に対する圧力部240と、対象者の足底部700の中足骨750に対する圧力部240との位置関係を示す図である。
図11】アーチ部740及び中足骨750の位置関係を示す図である。
図12】理学療法士が対象者の足底部700に介入する様子を示す図である。
図13】理学療法士により対象者の足底部700に加えられる圧力を計測した結果を示す図である。
図14】発達支援装置200により対象者の足底部700に加えられる圧力を計測した結果を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【0009】
以下、図面を用いて本発明の実施形態について説明する。以下に示す実施形態中で示した各種特徴事項は、互いに組み合わせ可能である。
【0010】
1.構成
第1節では、本実施形態の各構成について説明する。
【0011】
1-1.システム100
図1は、システム100を表す構成図である。システム100は、発達支援装置200と、制御装置300と、電磁弁400と、エアポンプ500とを備える。これらの構成要素についてさらに説明する。
【0012】
発達支援装置200は、支持部220と、固定部230と、圧力部240と、背屈部250とを備える。これらの構成要素について説明する。
【0013】
支持部220は、種々の物を支持するように構成される。例えば、支持部220は、対象者の足底部700に対向するように配置され、対象者の足底部700を支持可能に構成される。
【0014】
固定部230は、種々の物を固定するように構成される。例えば、固定部230は、支持部220の一端部に配置され、対象者の足底部700におけるアーチ構造を維持するように対象者の足首部を固定可能に構成される。
【0015】
圧力部240は、種々の物に対して圧力をかけるように構成される。例えば、圧力部240は、支持部220における対象者の足底部700と対向する側の反対側において支持部220に対向して配置され、対象者の足底部700の内在筋に対して圧力をかけるように構成される。
【0016】
背屈部250は、手首や足首等の関節を背屈させるように構成される。例えば、背屈部250は、支持部220の他端部に配置され、対象者のつま先部を背屈させるように構成される。
【0017】
圧力部240は、ジャバラ242、突起243及び気圧センサ244を備える。ジャバラ242は、チューブ630を介して電磁弁400からの空気が注入されることで、伸長する。突起243は、ジャバラ242の一端部に配置され、ジャバラ242の伸縮動作とともに上下動する。気圧センサ244は、ジャバラ242の内部に配置され、突起243が対象者の足底部700を押圧する力を計測する。
【0018】
制御装置300は、通信バス640を介して気圧センサ244と接続され、気圧センサ244で計測された空気圧の計測値を入力とし、目標とする計測値に到達するまで電磁弁400を開放するように制御する。また、制御装置300は、目標とする計測値に到達した場合、電磁弁400を閉鎖してジャバラ242から空気を抜くように制御する。
【0019】
電磁弁400は、通信バス610を介して制御装置300と接続され、制御装置300から送信される制御信号に応じて、開閉動作をする。電磁弁400は、チューブ620を介してエアポンプ500と接続され、システム100の動作中にエアポンプ500から空気が注入される。電磁弁400は、チューブ630を介してジャバラ242と接続され、開放状態において、エアポンプ500から注入された空気をジャバラ242に注入する。
【0020】
エアポンプ500は、チューブ620を介して電磁弁400と接続される。エアポンプ500は、不図示のモータの回転に応じてポンプ室の容積の膨張及び収縮を繰り返すことで、電磁弁400に空気を注入する。
【0021】
1-2.発達支援装置200
図2から図5は、発達支援装置200の構成を示す図である。発達支援装置200は、底板210、支持部220、固定部230、圧力部240、背屈部250及びベルト260を備える。これらの構成要素についてさらに説明する。
【0022】
底板210は、発達支援装置200の底部に配置される。底板210は、樹脂で形成され、例えば、ポリ乳酸から形成されてもよい。底板210は、発達支援装置200全体を支持可能に構成される。底板210は、長方形の板状を呈する。
【0023】
支持部220は、対象者の足底部700に対向するように配置される。すなわち、支持部220は、対象者の足底部700が載置されるように構成される。支持部220は、スペーサ212を介して、底板210に接続されている。支持部220は、スペーサ212に対してネジ213で留められている。底板210と支持部220とは、例えば数cmの間隔を有して配置される。具体的には例えば、1,2,3,4,5,6,7,8,9,10cmであり、ここで例示した数値の何れか2つの間の範囲内であってもよい。したがって、底板210と支持部220との間に、圧力部240の各構成要素が配置される。支持部220は、樹脂で形成され、例えば、底板210に対向する面はポリエチレンテレフタレートから形成され、対象者の足底部700に対向する面はポリ乳酸から形成されてもよい。すなわち、支持部220は、ポリエチレンテレフタレートで形成された板状部材と、ポリ乳酸で形成された板状部材との二枚重ねであってもよい。
【0024】
支持部220は、対象者の足底部700と当接した状態において、対象者の足底部700を支持可能に構成される。支持部220は、孔221、孔222及び孔223を有する。孔221、孔222及び孔223は、突起243が上下動可能な位置に設けられている。支持部220は、対象者の足底部700のサイズが10から20cmに対応可能に構成される。具体的には例えば、10,11,12,13,14,15,16,17,18,19,20cmであり、ここで例示した数値の何れか2つの間の範囲内であってもよい。支持部220は、長方形の板状を呈し、対象者の足底部700のつま先部がはみ出す大きさ、すなわち、長辺が7から16cm程度の長さを呈する。具体的には例えば、7,8,9,10,11,12,13,14,15,16cmであり、ここで例示した数値の何れか2つの間の範囲内であってもよい。
【0025】
固定部230は、支持部220における対象者の足底部700の踵側(支持部220の一端部)に配置される。固定部230は、支持部220における対象者の足底部700に対向する面に接続される。固定部230は、半円筒状に湾曲した形状を呈し、対象者の踵から足首を覆うように構成される。固定部230は、内周面に不図示のエアバッグを備える。当該エアバッグは、エアポンプ500からの空気により膨張及び収縮する。すなわち、固定部230は、対象者の足首部に圧力をかけて対象者の足首部を固定可能に構成される。固定部230は、背屈部250との作用により対象者の足首部を保持可能であるため、対象者の足底部700におけるアーチ構造を維持可能に構成される。固定部230は、樹脂で形成され、例えば、ポリエチレンテレフタレートから形成されてもよい。
【0026】
圧力部240は、基部241、ジャバラ242、突起243及び保護部材245を備える。基部241は、底板210と接続する部分である。ジャバラ242は、基部241に接続され、電磁弁400から注入される空気に応じて伸縮可能に構成される。突起243は、ドーム状を呈し、ジャバラ242に接続される。突起243は、孔221、孔222及び孔223に摺接し、ジャバラ242の伸縮とともに上下動する。保護部材245は、ジャバラ242を覆うように構成される。圧力部240は、空気圧により圧力をかけるように構成される。圧力部240は、1から10Nの圧力をかけるように構成される。具体的には例えば、1,2,3,4,5,6,7,8,9,10Nであり、ここで例示した数値の何れか2つの間の範囲内であってもよい。
【0027】
圧力部240は、底板210と支持部220との間に配置される。すなわち、圧力部240は、支持部220における対象者の足底部700と対向する側の反対側(底板210側)において支持部220に対向して配置される。圧力部240は、対象者の足底部700の内在筋に対して圧力をかけるように構成される。すなわち、圧力部240は、支持部220に対象者の足底部700が対向した状態において、突起243が対象者の足底部700の内在筋を押圧可能に構成される。
【0028】
背屈部250は、支持板251、角度調整部252及び先端部253を備える。支持板251は、支持部220における対象者の足底部700のつま先側に配置され、底板210に接続している。支持板251は、角度調整部252及び先端部253を支持可能に構成される。角度調整部252は、支持板251に接続され、先端部253との接続面が傾斜している。したがって、先端部253は、対象者のつま先部に対して斜め方向から接触する状態となる。先端部253は、対象者のつま先部との接触部が湾曲して構成され、対象者の足底部700を支持部220に対向させた際に当該つま先部を背屈させるように構成される。
【0029】
すなわち、背屈部250は、支持部220における対象者の足底部700のつま先側(支持部220の他端部)に配置され、対象者のつま先部を背屈させるように構成される。
【0030】
ベルト260は、底板210に取り付けられ、対象者の足底部700を支持部220に固定可能に構成される。ベルト260は、対象者の足底部700を支持部220に固定する際に、長さを調整可能に構成されてもよい。
【0031】
2.使用状態
第2節では、本実施形態の使用状態について説明する。
【0032】
図6は、発達支援装置200に対象者の足底部700を固定した状態を示す図である。ここで、対象者は、脳性麻痺児を示すものとする。すなわち、発達支援装置200は、脳性麻痺児用発達支援装置を示すものとする。
【0033】
対象者の介護者(以下単に「介護者」という。)は、対象者の足底部700を発達支援装置200に固定させる。すなわち、介護者は、対象者の足底部700を支持部220に接触させ、並びに、対象者の踵及び足首部を固定部230に接触させた状態で、ベルト260にて対象者の足底部700を支持部220に固定させる。
【0034】
続いて、介護者は、システム100の電源をオンにする。エアポンプ500は、不図示のモータの回転によりチューブ620を介して空気を電磁弁400に送る。制御装置300は、通信バス610を介して弁開放の制御信号を電磁弁400に送信する。電磁弁400は、当該制御信号により弁が開放状態となり、チューブ630を介して空気をジャバラ242に送る。ジャバラ242は、送られた空気により伸長する。また、エアポンプ500は、空気を固定部230のエアバッグに送る。対象者の足首部は、固定部230により固定される。
【0035】
図7は、対象者の足底部700に対する力のかかり方を示す図である。
【0036】
対象者の足底部700が支持部220に固定されると、対象者のつま先部は、背屈部250により矢印710の方向に背屈される。また、背屈部250により矢印721の方向に力がかかり、固定部230により矢印722の方向に力がかかるため、対象者の足底部700におけるアーチ構造が形成される。さらに、矢印721の方向と矢印722の方向との力により、対象者の足底部700におけるアーチ部が矢印730の方向に持ち上げられる。
【0037】
図8は、対象者の足底部700のアーチ部740に対して圧力部240が作用する状態を示す図である。
【0038】
図8Aは、対象者の足底部700が支持部220に固定され、システム100の電源がオンされた直後の状態を示す。続いて、図8Bは、ジャバラ242に空気が注入されて0.25秒経過した状態を示す。突起243は、図8Aよりも図8Bの方が上昇している。続いて、図8Cは、ジャバラ242に空気が注入されて0.50秒経過した状態を示す。突起243は、図8Bよりも図8Cの方が上昇している。また、図8Cは、電磁弁400が閉鎖状態となった直後、すなわち、ジャバラ242への空気の注入がストップされ、ジャバラ242中の空気が抜け始めた直後の状態を示す。続いて、図8Dは、ジャバラ242中の空気が抜け始めて0.30秒経過した状態を示す。突起243は、下方向に移動し、図8Aと同じ位置にある。
【0039】
図9は、対象者の足底部700の中足骨750に対して圧力部240が作用する状態を示す図である。
【0040】
図9Aは、対象者の足底部700が支持部220に固定され、システム100の電源がオンされた直後の状態を示す。続いて、図9Bは、ジャバラ242に空気が注入されて0.25秒経過した状態を示す。突起243は、図9Aよりも図9Bの方が上昇している。続いて、図9Cは、ジャバラ242に空気が注入されて0.50秒経過した状態を示す。突起243は、図9Bよりも図9Cの方が上昇している。また、図9Cは、電磁弁400が閉鎖状態となった直後、すなわち、ジャバラ242への空気の注入がストップされ、ジャバラ242中の空気が抜け始めた直後の状態を示す。続いて、図9Dは、ジャバラ242中の空気が抜け始めて0.30秒経過した状態を示す。突起243は、下方向に移動し、図9Aと同じ位置にある。
【0041】
図10は、対象者の足底部700のアーチ部740に対する圧力部240と、対象者の足底部700の中足骨750に対する圧力部240との位置関係を示す図である。図11は、アーチ部740及び中足骨750の位置関係を示す図である。
【0042】
圧力部240は、アーチ部740及び中足骨750に対して圧力をかけることで、対象者の足底部700の内在筋に対して圧力をかけるように構成される。アーチ部740に圧力をかける圧力部240と、中足骨750に対して圧力をかける圧力部240とは、それぞれ独立して動作可能である。
【0043】
3.製造方法
第3節では、本実施形態の製造方法について説明する。この製造方法は、発達支援装置200を製造する製造方法である。発達支援装置200は、測定工程と、製造工程とを備える。測定工程では、対象者の足の形態を測定する。製造工程では、足の形態に基づいて、発達支援装置200を製造する。
【0044】
また、上記製造工程は、支持部製造工程と、固定部製造工程と、圧力部製造工程と、背屈部製造工程と、装置組立工程とを備える。支持部製造工程では、対象者の足底部700を支持可能に構成される支持部220を製造する。固定部製造工程では、対象者の足底部700におけるアーチ構造を維持するように対象者の足首部を固定可能に構成される固定部230を製造する。圧力部製造工程では、対象者の足底部700の内在筋に対して圧力をかけるように構成される圧力部240を製造する。背屈部製造工程では、対象者のつま先部を背屈させるように構成される背屈部250を製造する。装置組立工程では、支持部220、固定部230、圧力部240及び背屈部250を用いて、発達支援装置200を組み立てる。この製造工程は、例えば、3Dプリンタにより実行される。
【0045】
本実施形態では、市販のFFF式(熱溶解積層式)3Dプリンタ、市販のSLA式(光造形式)3Dプリンタ等を使用して、発達支援装置200を製造した。3Dプリンタは、滑らかさが必要な箇所には造形後の面粗さが滑らかなSLA式を使用し、強度確保や耐候性などが必要な箇所にはFFF式を使用する等、部品の用途に合わせる形で使い分けをした。
【0046】
第1工程では、発達支援装置200を使用する対象者の足の形態を測定した。この足の形態は、足底部700のサイズ(縦横の長さ、縦横の比等)、足首部のサイズ、足指のサイズ等を含む。
【0047】
第2工程では、発達支援装置200を使用する対象者の足底部700のサイズに基づいて、市販の3DCADソフトを使用してモデリングし、3DデータをSTL(Stereolithography)などに代表されるポリゴンデータに変換した。
【0048】
第3工程では、使用する3Dプリンタで推奨される市販のスライスソフトを用いて、次の(1)から(3)を実施した。(1)使用する樹脂に合わせた温度、プリント速度、及び中空部へのサポート配置などを設定した。(2)摺動部や強度部などの区分けに合わせた積層ピッチ、及びインフィル密度などを設定した。(3)上記ポリゴンデータを、それぞれの3Dプリンタで読み込むことができるファイル形式に変換した。
【0049】
第4工程では、設定ファイルを3Dプリンタに読み込ませ、プリントを開始した。このようにして、支持部220、固定部230、圧力部240及び背屈部250をそれぞれ製造した。
【0050】
第5工程では、次の(1)から(5)を実施して、発達支援装置200を組み立てた。(1)支持部220を、対象者の足底部700に対向するように配置した。(2)固定部230を、支持部220の一端部に配置した。(3)圧力部240を、支持部220における対象者の足底部700と対向する側の反対側において支持部220に対向して配置した。(4)背屈部250を、支持部220の他端部に配置した。(5)支持部220、固定部230、圧力部240及び背屈部250を用いて、発達支援装置200を組み立てた。
【0051】
4.実験例
第4節では、本実施形態の実験例について説明する。
【0052】
図12は、理学療法士が対象者の足底部700に介入する様子を示す図である。
【0053】
理学療法士は、対象者の足底部700に介入し、筋を機械的に刺激することで足の内在筋の活性化を図っている。理学療法士は、左手810及び右手820で対象者の足底部700を包み込むように把持し、アーチ部740及び中足骨750を刺激する。
【0054】
図13は、理学療法士により対象者の足底部700に加えられる圧力を計測した結果を示す図である。図13上図は、アーチ部740に加えられる圧力を計測した結果を示す。図13中図は、中足骨750の下部に加えられる圧力を計測した結果を示す。図13下図は、中足骨750の上部に加えられる圧力を計測した結果を示す。
【0055】
各図において、横軸は時間、縦軸は圧力を示す。各図の黒丸は、対象者の足底部700を刺激する動作の1サイクルにおける最大値となる点である。対象者の足底部700に加えられている力にはばらつきがあるものの、理学療法士が対象者のアーチ部740に加えている力は、1.05±0.17N(平均±標準偏差)であった。また、理学療法士が対象者の中足骨750の下部に加えている力は、4.03±0.78N(平均±標準偏差)であった。さらに、理学療法士が対象者の中足骨750の上部に加えている力は、3.56±1.00N(平均±標準偏差)であった。
【0056】
図14は、発達支援装置200により対象者の足底部700に加えられる圧力を計測した結果を示す図である。図14上図は、アーチ部740に加えられる圧力を計測した結果を示す。図14下図は、中足骨750に加えられる圧力を計測した結果を示す。
【0057】
各図において、横軸は時間、縦軸は圧力を示す。各図の黒丸は、対象者の足底部700を刺激する動作の1サイクルにおける最大値となる点である。発達支援装置200により対象者のアーチ部740に加えられる力は、6.17±0.31N(平均±標準偏差)であった。発達支援装置200により対象者の中足骨750に加えられる力は、5.08±1.05N(平均±標準偏差)であった。
【0058】
以上のように、中足骨750に対しては、理学療法士による力と発達支援装置200による力とがほぼ同等であったため、発達支援装置200は、理学療法士が行う介入を再現可能であることが示された。一方、アーチ部740に対しては、発達支援装置200による力の最大値と最小値(図14上図の白丸)との差分を計算すると、2.51±0.53N(平均±標準偏差)であったため、理学療法士がアーチ部740に加える力に近くなる。なお、ヒトの皮膚における振動を検知する機械的な受容体は、持続的な圧入力に対して順応する。したがって、アーチ部740に対しても、発達支援装置200は、理学療法士が行う介入を再現可能であることが示された。
【0059】
5.本実施形態の態様
第5節では、本実施形態の各態様について説明する。
【0060】
本実施形態の一態様では、発達支援装置200は、支持部220と、固定部230と、圧力部240とを備える。支持部220は、対象者の足底部700に対向するように配置され、対象者の足底部700を支持可能に構成される。固定部230は、支持部220の一端部に配置され、対象者の足底部700におけるアーチ構造を維持するように対象者の足首部を固定可能に構成される。圧力部240は、支持部220における対象者の足底部700と対向する側の反対側において支持部220に対向して配置され、対象者の足底部700の内在筋に対して圧力をかけるように構成される。
【0061】
近年、周産期医療の発展により、低体重出生児の出生率が増加傾向にある。低体重出生児は、脳室周囲白質軟化症(PVL)を患う場合があり、PVLを患うと下肢等に麻痺が生じ、立位姿勢の維持や歩行が困難になる。このような脳性麻痺児の下肢の障害に対しては、次の(1)及び(2)の処置がなされていた。(1)脳性麻痺児の足部に装具を装着することで関節を固定する。(2)理学療法士が脳性麻痺児の足底部に介入し、筋緊張を低減するための処置をする。
【0062】
しかしながら、(1)は、足部の変形予防や体重支持を支援するに留まり、神経の発達や回復を支援する装具ではなかった。(2)は、理学療法士によるリハビリの日数が限られているため、運動の獲得や改善の機会が十分ではなかった。なお、従来の足裏マッサージ機を使用して脳性麻痺児の足底部をマッサージすると、運動機能の発達に不適な場所に圧力をかけることで、当該脳性麻痺児の運動機能の発達を阻害する場合があった。
【0063】
本実施形態の一態様によれば、脳性麻痺児にハビリテーションを実施する場合において、理学療法士が脳性麻痺児の足底部に対して行う介入技能を再現可能であるため、在宅においても運動機能を獲得するトレーニングを行う機会を付与することができる。すなわち、理学療法士によるリハビリと併用することで、脳性麻痺児に対して運動機能を獲得する機会を十分に付与することができる。
【0064】
本実施形態の一態様では、発達支援装置200は、背屈部250を備える。背屈部250は、支持部220の他端部に配置され、対象者のつま先部を背屈させるように構成される。
【0065】
このような態様によれば、脳性麻痺児の足底部のアーチ構造を維持させる場合において、脳性麻痺児の足底部の腱膜を刺激することになるため、アーチ構造の形成・維持に寄与することができる。
【0066】
本実施形態の一態様では、固定部230は、対象者の足首部に圧力をかけて当該足首部を固定可能に構成される。
【0067】
このような態様によれば、脳性麻痺児の症状の一つである足首部のひねりを抑制させる場合において、脳性麻痺児の足首部をより確実に固定可能であるため、脳性麻痺児の足底部の内在筋に対して効率的に圧力をかけることができる。
【0068】
本実施形態の一態様では、圧力部240は、空気圧により圧力をかけるように構成される。
【0069】
このような態様によれば、仮に発達支援装置200の誤作動が生じた場合であっても、脳性麻痺児の足底部に過度な圧力がかかることを防止可能であるため、高い安全性を確保することができる。
【0070】
本実施形態の一態様では、圧力部240は、1から10Nの圧力をかけるように構成される。
【0071】
このような態様によれば、対象者が脳性麻痺児の場合において、脳性麻痺児の足底部の内在筋に対する理学療法士の介入の力(約1から10N)と同等の圧力をかけることが可能であるため、脳性麻痺児に対して好適に利用可能である。
【0072】
本実施形態の一態様では、支持部220は、対象者の足底部700のサイズが10から20cmに対応可能に構成される。
【0073】
このような態様によれば、対象者が脳性麻痺児の場合において、支持部が脳性麻痺児の足底部のサイズに適合しているため、脳性麻痺児に対して好適に利用可能である。
【0074】
本実施形態の一態様では、脳性麻痺児用発達支援装置は、支持部220と、固定部230と、圧力部240とを備える。支持部220は、対象者の足底部700に対向するように配置され、対象者の足底部700を支持可能に構成される。固定部230は、支持部220の一端部に配置され、対象者の足底部700におけるアーチ構造を維持するように対象者の足首部を固定可能に構成される。圧力部240は、支持部220における対象者の足底部700と対向する側の反対側において支持部220に対向して配置され、対象者の足底部700の内在筋に対して圧力をかけるように構成される。
【0075】
このような態様によれば、対象者の足底部の内在筋に対して圧力をかけることで、脳への感覚入力を行うため、下肢に障害を有する者のうち、脳性麻痺児に対して好適に利用可能である。
【0076】
本実施形態の一態様では、製造方法は、発達支援装置を製造する製造方法である。発達支援装置は、発達支援装置である。発達支援装置は、測定工程と、製造工程とを備える。測定工程では、対象者の足の形態を測定する。製造工程では、足の形態に基づいて、発達支援装置を製造する。
【0077】
このような態様によれば、個々の脳性麻痺児の足底部のサイズに合わせて、オーダーメイドで発達支援装置200を製造することができる。
【0078】
本実施形態の一態様では、製造工程は、支持部製造工程と、固定部製造工程と、圧力部製造工程と、装置組立工程とを備える。支持部製造工程では、対象者の足底部700を支持可能に構成される支持部220を製造する。固定部製造工程では、対象者の足底部700におけるアーチ構造を維持するように対象者の足首部を固定可能に構成される固定部230を製造する。圧力部製造工程では、対象者の足底部700の内在筋に対して圧力をかけるように構成される圧力部240を製造する。装置組立工程では、支持部220、固定部230及び圧力部240を用いて、発達支援装置200を組み立てる。
【0079】
このような態様によれば、個々の脳性麻痺児の足底部のサイズに合わせて、オーダーメイドで発達支援装置200を製造する場合において、簡便な製造工程により発達支援装置200を製造することができる。
【0080】
本実施形態の一態様では、支持部製造工程、固定部製造工程及び圧力部製造工程は、3Dプリンタにより実行される。
【0081】
乳幼児の足底部のサイズは、1年間で約10mmずつ大きくなる場合がある。したがって、脳性麻痺児の成長に応じて、発達支援装置200の作り直しが必要となる。このような態様によれば、発達支援装置200は、3Dプリンタを使用して製造されるため、簡便で且つ安価に発達支援装置200を提供することができる。
【0082】
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明はこれに限定されることなく、その発明の技術的思想を逸脱しない範囲で適宜変更可能である。
【0083】
6.その他
次に記載の各態様で提供されてもよい。
【0084】
(1)発達支援装置であって、支持部と、固定部と、圧力部とを備え、前記支持部は、対象者の足底部に対向するように配置され、前記足底部を支持可能に構成され、前記固定部は、前記支持部の一端部に配置され、前記足底部におけるアーチ構造を維持するように前記対象者の足首部を固定可能に構成され、前記圧力部は、前記支持部における前記足底部と対向する側の反対側において前記支持部に対向して配置され、前記足底部の内在筋に対して圧力をかけるように構成される、発達支援装置。
【0085】
(2)上記(1)に記載の発達支援装置において、背屈部を備え、前記背屈部は、前記支持部の他端部に配置され、前記対象者のつま先部を背屈させるように構成される、発達支援装置。
【0086】
(3)上記(1)又は(2)に記載の発達支援装置において、前記固定部は、前記足首部に圧力をかけて前記足首部を固定可能に構成される、発達支援装置。
【0087】
(4)上記(1)から(3)までの何れか1項に記載の発達支援装置において、前記圧力部は、空気圧により圧力をかけるように構成される、発達支援装置。
【0088】
(5)上記(1)から(4)までの何れか1項に記載の発達支援装置において、前記圧力部は、1から10Nの圧力をかけるように構成される、発達支援装置。
【0089】
(6)上記(1)から(5)までの何れか1項に記載の発達支援装置において、前記支持部は、前記足底部のサイズが10から20cmに対応可能に構成される、発達支援装置。
【0090】
(7)脳性麻痺児用発達支援装置であって、支持部と、固定部と、圧力部とを備え、前記支持部は、対象者の足底部に対向するように配置され、前記足底部を支持可能に構成され、前記固定部は、前記支持部の一端部に配置され、前記足底部におけるアーチ構造を維持するように前記対象者の足首部を固定可能に構成され、前記圧力部は、前記支持部における前記足底部と対向する側の反対側において前記支持部に対向して配置され、前記足底部の内在筋に対して圧力をかけるように構成される、脳性麻痺児用発達支援装置。
【0091】
(8)発達支援装置を製造する製造方法であって、前記発達支援装置は、上記(1)から(6)までの何れか1項に記載の発達支援装置であり、測定工程と、製造工程とを備え、前記測定工程では、前記対象者の足の形態を測定し、前記製造工程では、前記足の形態に基づいて、前記発達支援装置を製造する、製造方法。
【0092】
(9)上記(8)に記載の製造方法において、前記製造工程は、支持部製造工程と、固定部製造工程と、圧力部製造工程と、装置組立工程とを備え、前記支持部製造工程では、対象者の足底部を支持可能に構成される支持部を製造し、前記固定部製造工程では、前記足底部におけるアーチ構造を維持するように前記対象者の足首部を固定可能に構成される固定部を製造し、前記圧力部製造工程では、前記足底部の内在筋に対して圧力をかけるように構成される圧力部を製造し、前記装置組立工程では、前記支持部、前記固定部及び前記圧力部を用いて、前記発達支援装置を組み立てる、製造方法。
【0093】
(10)上記(8)又は(9)に記載の製造方法において、前記支持部製造工程、前記固定部製造工程及び前記圧力部製造工程は、3Dプリンタにより実行される、製造方法。
もちろん、この限りではない。
【符号の説明】
【0094】
100 :システム
200 :発達支援装置
210 :底板
212 :スペーサ
213 :ネジ
220 :支持部
221 :孔
222 :孔
223 :孔
230 :固定部
240 :圧力部
241 :基部
242 :ジャバラ
243 :突起
244 :気圧センサ
245 :保護部材
250 :背屈部
251 :支持板
252 :角度調整部
253 :先端部
260 :ベルト
300 :制御装置
400 :電磁弁
500 :エアポンプ
610 :通信バス
620 :チューブ
630 :チューブ
640 :通信バス
700 :足底部
710 :矢印
721 :矢印
722 :矢印
730 :矢印
740 :アーチ部
750 :中足骨
810 :左手
820 :右手
図1
図2
図3
図4
図5
図6
図7
図8
図9
図10
図11
図12
図13
図14