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特開2024-176439感光性組成物、樹脂膜の形成方法、基板の製造方法、及び樹脂
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024176439
(43)【公開日】2024-12-19
(54)【発明の名称】感光性組成物、樹脂膜の形成方法、基板の製造方法、及び樹脂
(51)【国際特許分類】
G03F 7/038 20060101AFI20241212BHJP
C08L 83/04 20060101ALI20241212BHJP
C08K 5/42 20060101ALI20241212BHJP
C08K 5/09 20060101ALI20241212BHJP
C08K 5/3492 20060101ALI20241212BHJP
C08K 5/21 20060101ALI20241212BHJP
C08K 5/31 20060101ALI20241212BHJP
C09K 3/00 20060101ALI20241212BHJP
【ＦＩ】
G03F7/038 601
C08L83/04
C08K5/42
C08K5/09
C08K5/3492
C08K5/21
C08K5/31
C09K3/00 K
【審査請求】未請求
【請求項の数】10
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2023094972
(22)【出願日】2023-06-08
(71)【出願人】
【識別番号】000220239
【氏名又は名称】東京応化工業株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100106002
【弁理士】
【氏名又は名称】正林 真之
(74)【代理人】
【識別番号】100120891
【弁理士】
【氏名又は名称】林 一好
(72)【発明者】
【氏名】小林 三朗
(72)【発明者】
【氏名】衣幡 慶一
【テーマコード（参考）】
2H225
4J002
【Ｆターム（参考）】
2H225AE04P
2H225AF15P
2H225AF28P
2H225AF52P
2H225AF56P
2H225AF68P
2H225AF71P
2H225AF99P
2H225AM10P
2H225AM85P
2H225AM93P
2H225AN38P
2H225AN39P
2H225BA01P
2H225BA26P
2H225CA12
2H225CB14
2H225CC01
2H225CC17
4J002CP031
4J002CP051
4J002CP071
4J002EG016
4J002ER027
4J002ET017
4J002EU187
4J002EV256
4J002FD147
4J002FD206
4J002GQ00
4J002GQ05
(57)【要約】
【課題】極端紫外線（ＥＵＶ）露光によって、ラフネスの小さいパターン化され樹脂膜を形成可能な感光性組成物と、前述の感光性組成物を用いる樹脂膜の形成方法と、前述の樹脂膜の形成方法を用いる基板の製造方法と、樹脂とを提供すること。
【解決手段】樹脂（Ａ）と、光酸発生剤（Ｂ）と、クエンチャー（Ｃ）と、架橋剤（Ｄ）とを含む感光性組成物において、樹脂（Ａ）として、フェノール性水酸基を有するポリオルガノシロキサン構造を有する樹脂（Ａ１）を用い、樹脂（Ａ）の分子量分散度を１．００以上１．５０以下とする。
【選択図】なし
【解決手段】樹脂（Ａ）と、光酸発生剤（Ｂ）と、クエンチャー（Ｃ）と、架橋剤（Ｄ）とを含む感光性組成物において、樹脂（Ａ）として、フェノール性水酸基を有するポリオルガノシロキサン構造を有する樹脂（Ａ１）を用い、樹脂（Ａ）の分子量分散度を１．００以上１．５０以下とする。
【選択図】なし
【特許請求の範囲】
【請求項1】
樹脂（Ａ）と、光酸発生剤（Ｂ）と、クエンチャー（Ｃ）と、架橋剤（Ｄ）とを含み、
前記樹脂（Ａ）は、フェノール性水酸基を有するポリオルガノシロキサン構造を有する樹脂（Ａ１）を含み、
前記架橋剤（Ｄ）は、露光により前記光酸発生剤（Ｂ）が発生させる酸の作用により、前記樹脂（Ａ）を架橋する化合物であり、
前記樹脂（Ａ）の分子量分散度が１．００以上１．５０以下である、感光性組成物。
前記樹脂（Ａ）は、フェノール性水酸基を有するポリオルガノシロキサン構造を有する樹脂（Ａ１）を含み、
前記架橋剤（Ｄ）は、露光により前記光酸発生剤（Ｂ）が発生させる酸の作用により、前記樹脂（Ａ）を架橋する化合物であり、
前記樹脂（Ａ）の分子量分散度が１．００以上１．５０以下である、感光性組成物。
【請求項2】
前記樹脂（Ａ１）が、下記式（ａ１）：
で表される構成単位を含む、請求項１に記載の感光性組成物。
（前記式（ａ１）中、Ｒａ１は、フェノール性水酸基を有する炭素原子数６以上２０以下の有機基であり、Ｌａは、酸素原子、窒素原子、硫黄原子、ケイ素原子、及びハロゲン原子からなる群より選択される少なくとも１つの原子を含む炭素原子数１以上２０以下の有機基であり、Ｒａ２は水素原子、又は炭素原子数１以上２０以下の有機基である。）
【化1】
（前記式（ａ１）中、Ｒａ１は、フェノール性水酸基を有する炭素原子数６以上２０以下の有機基であり、Ｌａは、酸素原子、窒素原子、硫黄原子、ケイ素原子、及びハロゲン原子からなる群より選択される少なくとも１つの原子を含む炭素原子数１以上２０以下の有機基であり、Ｒａ２は水素原子、又は炭素原子数１以上２０以下の有機基である。）
【請求項3】
前記樹脂（Ａ１）が、ポリオルガノシロキサンであり、
前記樹脂（Ａ１）としての前記ポリオルガノシロキサンの全構成単位の量に対する前記式（ａ１）で表される構成単位の量の割合が５０モル％以上１００モル％以下である、請求項１、又は２に記載の感光性組成物。
前記樹脂（Ａ１）としての前記ポリオルガノシロキサンの全構成単位の量に対する前記式（ａ１）で表される構成単位の量の割合が５０モル％以上１００モル％以下である、請求項１、又は２に記載の感光性組成物。
【請求項4】
前記光酸発生剤（Ｂ）が、下記式（ｂ１）：
で表される化合物である、請求項１、又は２に記載の感光性組成物。
（前記式（ｂ１）中、Ｒｂ１は炭素原子数１以上４０以下の有機基であり、Ｒｂ１としての前記有機基は、Ｃ－Ｓ結合により、式（ｂ１）中の硫黄原子に結合し、前記Ｃ－Ｓ結合中の炭素原子はフッ素原子と結合し、Ｍｂ１はスルホニウムカチオン、又はヨードニウムカチオンである。）
【化2】
（前記式（ｂ１）中、Ｒｂ１は炭素原子数１以上４０以下の有機基であり、Ｒｂ１としての前記有機基は、Ｃ－Ｓ結合により、式（ｂ１）中の硫黄原子に結合し、前記Ｃ－Ｓ結合中の炭素原子はフッ素原子と結合し、Ｍｂ１はスルホニウムカチオン、又はヨードニウムカチオンである。）
【請求項5】
前記クエンチャー（Ｃ）が、下記式（ｃ１）又は式（ｃ２）：
で表される化合物である、請求項１、又は２に記載の感光性組成物。
（前記式（ｃ１）中、Ｒｃ１は炭素原子数１以上２０以下の有機基であり、Ｒｃ１としての前記有機基は、Ｃ－Ｓ結合により、式（ｃ１）中の硫黄原子に結合し、前記Ｃ－Ｓ結合中の炭素原子にフッ素原子が結合せず、Ｍｃ１はスルホニウムカチオン、又はヨードニウムカチオンである。前記式（ｃ２）中、Ｒｃ２は炭素原子数１以上２０以下の有機基であり、Ｍｃ２はスルホニウムカチオン、又はヨードニウムカチオンである。）
【化3】
（前記式（ｃ１）中、Ｒｃ１は炭素原子数１以上２０以下の有機基であり、Ｒｃ１としての前記有機基は、Ｃ－Ｓ結合により、式（ｃ１）中の硫黄原子に結合し、前記Ｃ－Ｓ結合中の炭素原子にフッ素原子が結合せず、Ｍｃ１はスルホニウムカチオン、又はヨードニウムカチオンである。前記式（ｃ２）中、Ｒｃ２は炭素原子数１以上２０以下の有機基であり、Ｍｃ２はスルホニウムカチオン、又はヨードニウムカチオンである。）
【請求項6】
前記架橋剤（Ｄ）が、窒素原子に結合するメチロール基、又は窒素原子に結合するアルコキシメチル基を有するメチロール型架橋剤（Ｄ１）を含む、請求項１、又は２に記載の感光性組成物。
【請求項7】
前記メチロール型架橋剤（Ｄ１）が、メラミン系化合物、グアナミン系化合物、及び尿素系化合物から選択される１種以上である、請求項６に記載の感光性組成物。
【請求項8】
請求項１、又は２に記載の感光性組成物を基板上に塗布して塗布膜を形成することと、
前記塗布膜に対して、極端紫外線を位置選択的に露光することと、
露光された前記塗布膜を、現像液により現像することと、を含む、
パターン化された樹脂膜の形成方法。
前記塗布膜に対して、極端紫外線を位置選択的に露光することと、
露光された前記塗布膜を、現像液により現像することと、を含む、
パターン化された樹脂膜の形成方法。
【請求項9】
請求項８に記載の方法により、前記基板上にパターン化された前記樹脂膜を形成することと、
パターン化された前記樹脂膜をエッチングマスクとして、前記基板に対してドライエッチングを行うことと、を含む、
エッチングされた基板の製造方法。
パターン化された前記樹脂膜をエッチングマスクとして、前記基板に対してドライエッチングを行うことと、を含む、
エッチングされた基板の製造方法。
【請求項10】
下記式（ａ１）：
で表される構成単位を含む、樹脂。
（前記式（ａ１）中、Ｒａ１は、フェノール性水酸基を有する炭素原子数６以上２０以下の有機基であり、Ｌａは、酸素原子、窒素原子、硫黄原子、ケイ素原子、及びハロゲン原子からなる群より選択される少なくとも１つの原子を含む炭素原子数１以上２０以下の有機基であり、Ｒａ２は水素原子、又は炭素原子数１以上２０以下の有機基である。）
【化4】
（前記式（ａ１）中、Ｒａ１は、フェノール性水酸基を有する炭素原子数６以上２０以下の有機基であり、Ｌａは、酸素原子、窒素原子、硫黄原子、ケイ素原子、及びハロゲン原子からなる群より選択される少なくとも１つの原子を含む炭素原子数１以上２０以下の有機基であり、Ｒａ２は水素原子、又は炭素原子数１以上２０以下の有機基である。）
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、感光性組成物と、前述の感光性組成物を用いる樹脂膜の形成方法と、前述の樹脂膜の形成方法を用いる基板の製造方法と、樹脂と、に関する。
【背景技術】
【0002】
近年、半導体素子や液晶表示素子の製造においては、リソグラフィー技術の進歩により急速にパターンの微細化が進んでいる。パターンの微細化の手法としては、一般に、露光光源の短波長化（高エネルギー化）が行われている。微細なパターンの形成に用いられる短波長の露光光源としては、極端紫外線（ＥＵＶ）が広く知られている。
【0003】
ＥＵＶ露光により微細なパターンを形成するために、レジスト材料には、ＥＵＶに対する良好な感度や、微細な寸法のパターンを正確に再現できる解像性等の優れたリソグラフィー特性が求められる。
【0004】
また、レジスト材料としては、基板加工のマスクとしての機能を果たすために、エッチング耐性が求められることがある。エッチング耐性を有する材料として、通常、シリコン含有ポリマーが基材成分として用いられることが多い。
例えば、特許文献１には、パターンの微細化の目的で、２種の特定の構成単位を有するシルセスキオキサン樹脂と、酸発生剤成分と、架橋剤成分と、を含有し、電子線リソグラフィーやＥＵＶ露光に適用可能なネガ型レジスト組成物が開示されている。
例えば、特許文献１には、パターンの微細化の目的で、２種の特定の構成単位を有するシルセスキオキサン樹脂と、酸発生剤成分と、架橋剤成分と、を含有し、電子線リソグラフィーやＥＵＶ露光に適用可能なネガ型レジスト組成物が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0005】
【特許文献1】国際公開第２００５／０９１０７３号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
今後、さらなるパターンの微細化に伴ってレジスト膜の薄膜化が進む。そうすると、レジスト膜のエッチング耐性の向上が必要となる。
さらに、パターンの微細化が進むにつれ、レジスト材料には、ＥＵＶ露光を行う際の高い解像性が要求される。また、ラインパターンを形成する場合には、ＬＷＲ（ラインワイズラフネス：ライン幅の不均一性）が低減されたラインパターンを形成できることが感光性組成物に要求される。円形の開口を有するホールを含むホールパターンを形成する場合には、ホールの開口の真円性が向上したホールパターンを形成できることが感光性組成物に要求される。このように、感光性組成物には、ＥＵＶ露光を行う場合のリソグラフィー特性の向上が求められる。
しかしながら、シリコン含有ポリマーを基材成分として含む感光性組成物を用いる場合、高いエッチング耐性を備えるレジスト膜を形成しやすいが、感光性組成物のＥＵＶ露光を行う際のリソグラフィー特性に改良の余地がある。
さらに、パターンの微細化が進むにつれ、レジスト材料には、ＥＵＶ露光を行う際の高い解像性が要求される。また、ラインパターンを形成する場合には、ＬＷＲ（ラインワイズラフネス：ライン幅の不均一性）が低減されたラインパターンを形成できることが感光性組成物に要求される。円形の開口を有するホールを含むホールパターンを形成する場合には、ホールの開口の真円性が向上したホールパターンを形成できることが感光性組成物に要求される。このように、感光性組成物には、ＥＵＶ露光を行う場合のリソグラフィー特性の向上が求められる。
しかしながら、シリコン含有ポリマーを基材成分として含む感光性組成物を用いる場合、高いエッチング耐性を備えるレジスト膜を形成しやすいが、感光性組成物のＥＵＶ露光を行う際のリソグラフィー特性に改良の余地がある。
【0007】
本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、極端紫外線（ＥＵＶ）露光によって、ラフネスの小さいパターン化された樹脂膜を形成可能な感光性組成物と、前述の感光性組成物を用いる樹脂膜の形成方法と、前述の樹脂膜の形成方法を用いる基板の製造方法と、樹脂とを提供することを目的とする。
【0008】
本発明者らは、樹脂（Ａ）と、光酸発生剤（Ｂ）と、クエンチャー（Ｃ）と、架橋剤（Ｄ）とを含み感光性組成物において、樹脂（Ａ）として、フェノール性水酸基を有するポリオルガノシロキサン構造を有する樹脂（Ａ１）を用い、樹脂（Ａ）の分子量分散度が１．００以上１．５０以下であることにより、上記の課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。
【0009】
本発明の第１の態様は、樹脂（Ａ）と、光酸発生剤（Ｂ）と、クエンチャー（Ｃ）と、架橋剤（Ｄ）とを含み、
樹脂（Ａ）は、フェノール性水酸基を有するポリオルガノシロキサン構造を有する樹脂（Ａ１）を含み、
架橋剤（Ｄ）は、露光により前記光酸発生剤（Ｂ）が発生させる酸の作用により、樹脂（Ａ）を架橋する化合物であり、
樹脂（Ａ）の分子量分散度が１．００以上１．５０以下である、感光性組成物である。
樹脂（Ａ）は、フェノール性水酸基を有するポリオルガノシロキサン構造を有する樹脂（Ａ１）を含み、
架橋剤（Ｄ）は、露光により前記光酸発生剤（Ｂ）が発生させる酸の作用により、樹脂（Ａ）を架橋する化合物であり、
樹脂（Ａ）の分子量分散度が１．００以上１．５０以下である、感光性組成物である。
【0010】
本発明の第２の態様は、第１の態様にかかる感光性組成物を基板上に塗布して塗布膜を形成することと、
塗布膜に対して、極端紫外線を位置選択的に露光することと、
露光された塗布膜を、現像液により現像することと、を含む、
パターン化された樹脂膜の形成方法である。
塗布膜に対して、極端紫外線を位置選択的に露光することと、
露光された塗布膜を、現像液により現像することと、を含む、
パターン化された樹脂膜の形成方法である。
【0011】
本発明の第３の態様は、第２の態様にかかる樹脂膜の形成方法により、基板上にパターン化された前記樹脂膜を形成することと、
パターン化された樹脂膜をエッチングマスクとして、基板に対してドライエッチングを行うことと、を含む、
エッチングされた基板の製造方法である。
パターン化された樹脂膜をエッチングマスクとして、基板に対してドライエッチングを行うことと、を含む、
エッチングされた基板の製造方法である。
【0012】
本発明の第４の態様は、下記式（ａ１）：
で表される構成単位を含む、樹脂である。
（式（ａ１）中、Ｒａ１は、フェノール性水酸基を有する炭素原子数６以上２０以下の有機基であり、Ｌａは、酸素原子、窒素原子、硫黄原子、ケイ素原子、及びハロゲン原子からなる群より選択される少なくとも１つの原子を含む炭素原子数１以上２０以下の有機基であり、Ｒａ２は水素原子、又は炭素原子数１以上２０以下の有機基である。）
【化1】
（式（ａ１）中、Ｒａ１は、フェノール性水酸基を有する炭素原子数６以上２０以下の有機基であり、Ｌａは、酸素原子、窒素原子、硫黄原子、ケイ素原子、及びハロゲン原子からなる群より選択される少なくとも１つの原子を含む炭素原子数１以上２０以下の有機基であり、Ｒａ２は水素原子、又は炭素原子数１以上２０以下の有機基である。）
【発明の効果】
【0013】
本発明によれば、極端紫外線（ＥＵＶ）露光によって、ラフネスの小さいパターン化された樹脂膜を形成可能な感光性組成物と、前述の感光性組成物を用いる樹脂膜の形成方法と、前述の樹脂膜の形成方法を用いる基板の製造方法と、樹脂とを提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【0014】
≪感光性組成物≫
以下、感光性組成物について説明する。
以下、感光性組成物について説明する。
【0015】
感光性組成物は、樹脂（Ａ）と、光酸発生剤（Ｂ）と、クエンチャー（Ｃ）と、架橋剤（Ｄ）とを含む。
樹脂（Ａ）は、フェノール性水酸基を有するポリオルガノシロキサン構造を有する樹脂（Ａ１）を含む。
架橋剤（Ｄ）は、露光により光酸発生剤（Ｂ）が発生させる酸の作用により、樹脂（Ａ）を架橋する化合物である。
樹脂（Ａ）の分子量分散度が１．００以上１．５０以下である。
上記の感光性組成物を用いることにより、極端紫外線（ＥＵＶ）露光によって、ラフネスの小さいパターン化された樹脂膜を形成可能である。
樹脂（Ａ）は、フェノール性水酸基を有するポリオルガノシロキサン構造を有する樹脂（Ａ１）を含む。
架橋剤（Ｄ）は、露光により光酸発生剤（Ｂ）が発生させる酸の作用により、樹脂（Ａ）を架橋する化合物である。
樹脂（Ａ）の分子量分散度が１．００以上１．５０以下である。
上記の感光性組成物を用いることにより、極端紫外線（ＥＵＶ）露光によって、ラフネスの小さいパターン化された樹脂膜を形成可能である。
【0016】
＜樹脂（Ａ）＞
樹脂（Ａ）は、露光により後述する光酸発生剤（Ｂ）が発生させる酸の作用により、後述する架橋剤（Ｄ）により架橋される樹脂である。樹脂（Ａ）は、フェノール性水酸基を有するポリオルガノシロキサン構造を有する樹脂（Ａ１）を含む。樹脂（Ａ）は、フェノール性水酸基を有さないポリオルガノシロキサン構造を有する樹脂を含んでいてもよい。
樹脂（Ａ）の分子量分散度は、１．００以上１．５０以下が好ましく、１．１０以上１．３０以下がより好ましい。樹脂（Ａ）の分子量分散度が、前述の範囲であれば、ラフネスの小さいレジストパターンを形成することができる。樹脂（Ａ）の分子量分散度は、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定できる。
樹脂（Ａ１）は、所望する効果が損なわれない範囲で、樹脂（Ａ１）とともに、樹脂（Ａ１）に該当しない樹脂（Ａ２）を含んでいてもよい。
以下、樹脂（Ａ１）、及び樹脂（Ａ２）について説明する。
樹脂（Ａ）は、露光により後述する光酸発生剤（Ｂ）が発生させる酸の作用により、後述する架橋剤（Ｄ）により架橋される樹脂である。樹脂（Ａ）は、フェノール性水酸基を有するポリオルガノシロキサン構造を有する樹脂（Ａ１）を含む。樹脂（Ａ）は、フェノール性水酸基を有さないポリオルガノシロキサン構造を有する樹脂を含んでいてもよい。
樹脂（Ａ）の分子量分散度は、１．００以上１．５０以下が好ましく、１．１０以上１．３０以下がより好ましい。樹脂（Ａ）の分子量分散度が、前述の範囲であれば、ラフネスの小さいレジストパターンを形成することができる。樹脂（Ａ）の分子量分散度は、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定できる。
樹脂（Ａ１）は、所望する効果が損なわれない範囲で、樹脂（Ａ１）とともに、樹脂（Ａ１）に該当しない樹脂（Ａ２）を含んでいてもよい。
以下、樹脂（Ａ１）、及び樹脂（Ａ２）について説明する。
【0017】
〔樹脂（Ａ１）〕
樹脂（Ａ１）は、下記式（ａ１）で表される構成単位を含む。
樹脂（Ａ１）は、下記式（ａ１）で表される構成単位を含む。
【化2】
【0018】
式（ａ１）中、Ｒａ１は、フェノール性水酸基を有する炭素原子数６以上２０以下の有機基である。Ｌａは、酸素原子、窒素原子、硫黄原子、ケイ素原子、及びハロゲン原子からなる群より選択される少なくとも１つの原子を含む炭素原子数１以上２０以下の有機基である。Ｒａ２は、水素原子、又は炭素原子数１以上２０以下の有機基である。
【0019】
Ｒａ１としてのフェノール性水酸基を有する炭素原子数６以上２０以下の有機基としては、－Ｐｈ－ＯＨ、－ＣＨ２－Ｐｈ－ＯＨ、－ＣＨ２ＣＨ２－Ｐｈ－ＯＨ、－Ｎｐ－ＯＨ、－ＣＨ２－Ｎｐ－ＯＨ、及び－ＣＨ２ＣＨ２－Ｎｐ－ＯＨで表される基が挙げられる。
Ｐｈは、ｏ－フェニレン基、ｍ－フェニレン基、又はｐ－フェニレン基であり、ｐ－フェニレン基が好ましい。これらのフェニレン基は、置換基を有してもよい。置換基としては、所望する効果が損なわれない限り特に制限されず、脂肪族炭化水素基、アリール基（芳香族炭化水素基）、並びに酸素原子、窒素原子、硫黄原子、ケイ素原子、及びハロゲン原子からなる群より選択される少なくとも１つの原子を含む炭素原子数１以上１０以下の有機基が挙げられる。
Ｎｐとしては、ナフタレン－１，２－ジイル基、ナフタレン－１，３－ジイル基、ナフタレン－１，４ジイル基、ナフタレン－１，５－ジイル基、ナフタレン－１，６－ジイル基、ナフタレン－１，７－ジイル基、ナフタレン－１，８－ジイル基、ナフタレン－２，３－ジイル基、ナフタレン－２，６－ジイル基、又はナフタレン－２，７－ジイル基であり、ナフタレン－１，２－ジイル基、ナフタレン－１，４ジイル基、ナフタレン－２，３－ジイル基、ナフタレン－２，６－ジイル基、及びナフタレン－２，７－ジイル基が好ましい。これらのナフタレンジイル基は、置換基を有してもよい。置換基としては、所望する効果が損なわれない限り特に制限されず、脂肪族炭化水素基、アリール基、並びに酸素原子、窒素原子、硫黄原子、ケイ素原子、及びハロゲン原子からなる群より選択される少なくとも１つの原子を含む炭素原子数１以上１０以下の有機基が挙げられる。
Ｐｈは、ｏ－フェニレン基、ｍ－フェニレン基、又はｐ－フェニレン基であり、ｐ－フェニレン基が好ましい。これらのフェニレン基は、置換基を有してもよい。置換基としては、所望する効果が損なわれない限り特に制限されず、脂肪族炭化水素基、アリール基（芳香族炭化水素基）、並びに酸素原子、窒素原子、硫黄原子、ケイ素原子、及びハロゲン原子からなる群より選択される少なくとも１つの原子を含む炭素原子数１以上１０以下の有機基が挙げられる。
Ｎｐとしては、ナフタレン－１，２－ジイル基、ナフタレン－１，３－ジイル基、ナフタレン－１，４ジイル基、ナフタレン－１，５－ジイル基、ナフタレン－１，６－ジイル基、ナフタレン－１，７－ジイル基、ナフタレン－１，８－ジイル基、ナフタレン－２，３－ジイル基、ナフタレン－２，６－ジイル基、又はナフタレン－２，７－ジイル基であり、ナフタレン－１，２－ジイル基、ナフタレン－１，４ジイル基、ナフタレン－２，３－ジイル基、ナフタレン－２，６－ジイル基、及びナフタレン－２，７－ジイル基が好ましい。これらのナフタレンジイル基は、置換基を有してもよい。置換基としては、所望する効果が損なわれない限り特に制限されず、脂肪族炭化水素基、アリール基、並びに酸素原子、窒素原子、硫黄原子、ケイ素原子、及びハロゲン原子からなる群より選択される少なくとも１つの原子を含む炭素原子数１以上１０以下の有機基が挙げられる。
【0020】
Ｌａは、酸素原子、窒素原子、硫黄原子、ケイ素原子、及びハロゲン原子からなる群より選択される少なくとも１つの原子を含む炭素原子数１以上２０以下の有機基である。
このような有機基としては、下記式（Ａ－Ｉ）～式（Ａ－Ｖ）で表される２価の基が好ましい。
－ＲＡ１－Ｘ－・・・（Ａ－Ｉ）
－ＲＡ２－Ｘ－ＲＡ３－・・・（Ａ－ＩＩ）
－ＲＡ４－Ｘ－ＲＡ５－Ｘ－・・・（Ａ－ＩＩＩ）
－ＲＡ６－Ｘ－ＲＡ７－Ｘ－ＲＡ８－・・・（Ａ－ＶＩ）
－ＲＡ９－Ｘ－ＲＡ１０－Ｘ－ＲＡ１１－Ｘ－・・・（Ａ－Ｖ）
（式（Ａ－Ｉ）～式（Ａ－Ｖ）において、ＲＡ１～ＲＡ１１は、２価の炭化水素基である。Ｘは、－Ｏ－、－ＣＯ－、－Ｓ－、－ＳＯ－、－ＳＯ２－、－Ｓ－Ｓ－、－ＣＳ－、－ＮＨ－、－ＮＣＨ３－、－Ｎ＝Ｎ－、－Ｓｉ（ＣＨ３）２－、－ＣＯ－Ｏ－、－ＣＯ－Ｓ－、及び－ＣＳ－Ｓ－からなる群より選択される基である。下記式（Ａ－Ｉ）～式（Ａ－Ｖ）で表される２価の基の炭素原子数は、１以上２０以下である。）
このような有機基としては、下記式（Ａ－Ｉ）～式（Ａ－Ｖ）で表される２価の基が好ましい。
－ＲＡ１－Ｘ－・・・（Ａ－Ｉ）
－ＲＡ２－Ｘ－ＲＡ３－・・・（Ａ－ＩＩ）
－ＲＡ４－Ｘ－ＲＡ５－Ｘ－・・・（Ａ－ＩＩＩ）
－ＲＡ６－Ｘ－ＲＡ７－Ｘ－ＲＡ８－・・・（Ａ－ＶＩ）
－ＲＡ９－Ｘ－ＲＡ１０－Ｘ－ＲＡ１１－Ｘ－・・・（Ａ－Ｖ）
（式（Ａ－Ｉ）～式（Ａ－Ｖ）において、ＲＡ１～ＲＡ１１は、２価の炭化水素基である。Ｘは、－Ｏ－、－ＣＯ－、－Ｓ－、－ＳＯ－、－ＳＯ２－、－Ｓ－Ｓ－、－ＣＳ－、－ＮＨ－、－ＮＣＨ３－、－Ｎ＝Ｎ－、－Ｓｉ（ＣＨ３）２－、－ＣＯ－Ｏ－、－ＣＯ－Ｓ－、及び－ＣＳ－Ｓ－からなる群より選択される基である。下記式（Ａ－Ｉ）～式（Ａ－Ｖ）で表される２価の基の炭素原子数は、１以上２０以下である。）
【0021】
ＲＡ１～ＲＡ１１としての炭化水素基としては、アルキレン基、アリーレン基、アラルキル基中のアリール基から１つの水素原子を除いた基が挙げられる。
【0022】
Ｌａとしての２価の有機基としては、ヘテロ原子として、酸素原子、又は硫黄原子を含む基が好ましい。
【0023】
Ｌａに酸素原子が含まれる場合の具体例としては、＊－ＣＨ２－Ｏ－＊＊、＊－ＣＨ２ＣＨ２－Ｏ－＊＊、＊－ＣＨ（ＣＨ３）－Ｏ－＊＊、＊－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－Ｏ－＊＊、＊－ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）－Ｏ－＊＊、＊－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－Ｏ－＊＊、＊－ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ３）－Ｏ－＊＊、＊－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）－Ｏ－＊＊、及び＊－ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ（ＣＨ３）－Ｏ－＊＊等のオキシアルキレン基；＊－ＣＨ２－Ｏ－ＣＨ２－＊＊、＊－ＣＨ２ＣＨ２－Ｏ－ＣＨ２－＊＊、＊－ＣＨ２－Ｏ－ＣＨ２ＣＨ２－＊＊、＊－ＣＨ２ＣＨ２－Ｏ－ＣＨ２ＣＨ２－＊＊、＊－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－Ｏ－ＣＨ２－＊＊、＊－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－Ｏ－ＣＨ２ＣＨ２－＊＊、＊－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－Ｏ－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－＊＊、＊－ＣＨ２－Ｏ－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－＊＊、及び＊－ＣＨ２ＣＨ２－Ｏ－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－＊＊等の酸素原子で中断されたアルキレン基；－Ｐｈ－Ｏ－、及び－Ｎｐ－Ｏ－等のオキシアリーレン基；＊－Ｐｈ－Ｏ－＊＊、及び＊－Ｎｐ－Ｏ－＊＊等のオキシアリーレン基；＊－ＣＨ２－Ｐｈ－Ｏ－＊＊、＊－ＣＨ２ＣＨ２－Ｐｈ－Ｏ－＊＊、＊－ＣＨ２－Ｎｐ－Ｏ－＊＊、及び＊－ＣＨ２ＣＨ２－Ｎｐ－Ｏ－＊＊等のアラルキル基中のアリール基に酸素原子が結合した２価の基；＊－ＣＨ２－Ｏ－ＣＯ－＊＊、＊－ＣＨ２ＣＨ２－Ｏ－ＣＯ－＊＊、＊－ＣＨ（ＣＨ３）－Ｏ－ＣＯ－＊＊、＊－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－Ｏ－ＣＯ－＊＊、＊－ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）－Ｏ－ＣＯ－＊＊、＊－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－Ｏ－ＣＯ－＊＊、＊－ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ３）－Ｏ－ＣＯ－＊＊、＊－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）－Ｏ－ＣＯ－＊＊、及び＊－ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ（ＣＨ３）－Ｏ－ＣＯ－＊＊等の末端にエステル結合が結合したアルキレン基が挙げられる。
以上の例示において、Ｐｈ、及びＮｐは、それぞれ前述した通りである。
以上の例示した２価の基について、「＊」が付された結合手が、式（ａ１）中のケイ素原子に結合する。「＊＊」が付された結合手が、式（ａ１）中のＲａ１に結合する。
以上の例示において、Ｐｈ、及びＮｐは、それぞれ前述した通りである。
以上の例示した２価の基について、「＊」が付された結合手が、式（ａ１）中のケイ素原子に結合する。「＊＊」が付された結合手が、式（ａ１）中のＲａ１に結合する。
【0024】
Ｌａに硫黄原子が含まれる場合の具体例としては、＊－ＣＨ２－Ｓ－＊＊、＊－ＣＨ２ＣＨ２－Ｓ－＊＊、＊－ＣＨ（ＣＨ３）－Ｓ－＊＊、＊－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－Ｓ－＊＊、＊－ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）－Ｓ－＊＊、＊－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－Ｓ－＊＊、＊－ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ３）－Ｓ－＊＊、＊－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）－Ｓ－＊＊、及び＊－ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ（ＣＨ３）－Ｓ－＊＊等のチオアルキレン基；＊－ＣＨ２－Ｓ－ＣＨ２－＊＊、＊－ＣＨ２ＣＨ２－Ｓ－ＣＨ２－＊＊、＊－ＣＨ２－Ｓ－ＣＨ２ＣＨ２－＊＊、＊－ＣＨ２ＣＨ２－Ｓ－ＣＨ２ＣＨ２－＊＊、＊－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－Ｓ－ＣＨ２－＊＊、＊－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－Ｓ－ＣＨ２ＣＨ２－＊＊、＊－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－Ｓ－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－＊＊、＊－ＣＨ２－Ｓ－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－＊＊、及び＊－ＣＨ２ＣＨ２－Ｓ－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－＊＊等の硫黄原子で中断されたアルキレン基；－Ｐｈ－Ｓ－、及び－Ｎｐ－Ｓ－等のチオアリーレン基；－ＣＨ２－Ｐｈ－Ｓ－、－ＣＨ２ＣＨ２－Ｐｈ－Ｓ－、－ＣＨ２－Ｎｐ－Ｓ－、及び－ＣＨ２ＣＨ２－Ｎｐ－Ｓ－等のアラルキル基中のアリール基に硫黄原子が結合した２価の基が挙げられる。
以上の例示において、Ｐｈ、及びＮｐは、それぞれ前述した通りである。
以上の例示した２価の基について、「＊」が付された結合手が、式（ａ１）中のケイ素原子に結合する。「＊＊」が付された結合手が、式（ａ１）中のＲａ１に結合する。
以上の例示において、Ｐｈ、及びＮｐは、それぞれ前述した通りである。
以上の例示した２価の基について、「＊」が付された結合手が、式（ａ１）中のケイ素原子に結合する。「＊＊」が付された結合手が、式（ａ１）中のＲａ１に結合する。
【0025】
式（ａ１）で表される構成単位の好適な具体例としては、下記の構成単位が挙げられる。
【化3】
【化4】
【0026】
樹脂（Ａ１）としてのポリオルガノシロキサンの全構成単位の量に対する式（ａ１）で表される構成単位の割合は、３０モル％以上１００モル％以下が好ましく、５０モル％以上１００モル％以下がより好ましく、７０モル％以上１００モル％以下がさらに好ましい。
【0027】
上記の通り、樹脂（Ａ１）は、式（ａ１）で表される構成単位以外の構成単位を含み得る。式（ａ１）で表される構成単位以外の構成単位は、所望する効果が損なわれない範囲で特に限定されない。
式（ａ１）で表される構成単位以外の構成単位の好適な例としては、下記式（ａ２）で表される構成単位が挙げられる。
式（ａ１）で表される構成単位以外の構成単位の好適な例としては、下記式（ａ２）で表される構成単位が挙げられる。
【化5】
【0028】
式（ａ２）中、Ｒａ３、及びＲａ４は、それぞれ独立して、水素原子、又はヘテロ原子を含んでいてもよい炭素原子数１以上２０以下の有機基である。有機基の構造は直鎖状であっても、分岐鎖状であっても、環状であっても、これらの組み合わせであってもよい。有機基が有し得るヘテロ原子としては、酸素原子、窒素原子、硫黄原子、ケイ素原子、及びハロゲン原子が挙げられる。ただし、有機基は、式（ａ１）中の－Ｌａ－Ｒａ１で表される基には該当しない。
【0029】
Ｒａ３、及びＲａ４としての有機基がアルキル基である場合の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、イソブチル基、ｎ－ペンチル基、イソペンチル基、ｔｅｒｔ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、ｎ－ヘキサン－２－イル基、ｎ－ヘキサン－３－イル基、ｎ－ヘプチル基、ｎ－ヘプタン－２－イル基、ｎ－ヘプタン－３－イル基、イソヘプチル基、ｔｅｒｔ－ヘプチル基、ｎ－オクチル基、イソオクチル基、ｔｅｒｔ－オクチル基、２－エチルヘキシル基、ｎ－ノニル基、イソノニル基、ｎ－デシル基、ｎ－ウンデシル基、ｎ－ドデシル基、ｎ－トリデシル基、ｎ－テトラデシル基、ｎ－ペンタデシル基、ｎ－ヘキサデシル基、ｎ－ヘプタデシル基、及びｎ－オクタデシル基が挙げられる。
【0030】
Ｒａ３、及びＲａ４としての有機基がアルケニル基である場合の具体例としては、ビニル基、２－プロペニル基（アリル基）、３－ブテニル基、４－ペンテニル基、５－ヘキセニル基、６－ヘプテニル基、７－オクテニル基、８－ノネニル基、９－デセニル基、１０－ウンデセニル基、１１－ドデセニル基、１２－トリデセニル基、１３－テトラデセニル基、１４－ペンタデセニル基、１５－ヘキサデセニル基、１６－へプタデセニル基、及び１７－オクタデセニル基が挙げられる。
【0031】
Ｒａ３、及びＲａ４としての有機基が脂肪族炭化水素基である場合の具体例は、シクロプロパン、シクロブタン、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン、シクロデカン、ビシクロ［２．１．１］ヘキサン、ビシクロ［２．２．１］ヘプタン、ビシクロ［３．２．１］オクタン、ビシクロ［２．２．２］オクタン、及びアダマンタン等の環状脂肪族炭化水素から水素原子を１つ除いた基が挙げられる。
【0032】
Ｒａ３、及びＲａ４としての有機基がハロゲン原子で置換された脂肪族炭化水素基である場合の具体例は、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、２－クロロエチル基、２－ブロモエチル基、ペンタフルオロ－ｎ－プロピル基、３－ブロモプロピル基、ノナフルオロ－ｎ－ブチル基、トリデカフルオロ－ｎ－ヘキシル基、ヘプタデカフルオロ－ｎ－オクチル基、２，２，２－トリフルオロエチル基、１，１－ジフルオロエチル基、１，１－ジフルオロ－ｎ－プロピル基、１，１，２，２－テトラフルオロ－ｎ－プロピル基、３，３，３－トリフルオロ－ｎ－プロピル基、２，２，３，３，３－ペンタフルオロ－ｎ－プロピル基、２－ノルボルニル－１，１－ジフルオロエチル基、２－ノルボルニルテトラフルオロエチル基、及び３－アダマンチル－１，１，２，２－テトラフルオロプロピル基が挙げられる。
【0033】
Ｒａ３、及びＲａ４としての有機基が置換基を有してもよいアリール基である場合の具体例は、フェニル基、ナフタレン－１－イル基、ナフタレン－２－イル基、４－フェニルフェニル基、３－フェニルフェニル基，２－フェニルフェニル基、４－メチルフェニル基、３－メチルフェニル基、２－メチルフェニル基、２，３－ジメチルフェニル、２，４－ジメチルフェニル基、２，５－ジメチルフェニル基、２，６－ジメチルフェニル基、３，４－ジメチルフェニル基、３，５－ジメチルフェニル基、４－ヒドロキシフェニル基、３－ヒドロキシフェニル基、２－ヒドロキシフェニル基、４－クロロフェニル基、３－クロロフェニル基、２－クロロフェニル基、４－ブロモフェニル基、３－ブロモフェニル基、２－ブロモフェニル基、４－シアノフェニル基、３－シアノフェニル基、及び２－シアノフェニル基等が挙げられる。
【0034】
Ｒａ３、及びＲａ４としての有機基が置換基を有してもよいアラルキル基である場合の具体例は、ベンジル基、フェネチル基、２－フェニルプロパン－２－イル基、４－メチルフェニルメチル基、３－メチルフェニルメチル基、２－メチルフェニルメチル基、４－クロロフェニルメチル基、３－クロロフェニルメチル基、２－クロロフェニルメチル基、４－ブロモフェニルメチル基、３－ブロモフェニルメチル基、２－ブロモフェニルメチル基、４－ヒドロキシフェニルメチル基、３－ヒドロキシフェニルメチル基、及び２－ヒドロキシフェニルメチル基が挙げられる。
【0035】
Ｒａ３、及びＲａ４としての有機基が酸素原子を含む有機基である場合の具体例は、－ＣＨ２－Ｏ－ＣＨ３、－ＣＨ２－Ｏ－ＣＨ２ＣＨ３、－ＣＨ２ＣＨ２－Ｏ－ＣＨ２ＣＨ３、－ＣＨ２－Ｏ－Ｐｈ、－ＣＨ２－Ｏ－Ｎｐ、－ＣＨ２－Ｏ－ＣＨ２－Ｐｈ、－ＣＨ２－Ｏ－ＣＨ２－Ｎｐ等が挙げられる。Ｐｈ、及びＮｐは、それぞれ前述した通りである。
【0036】
Ｒａ３、及びＲａ４としての有機基が硫黄原子を含む有機基である場合の具体例は、－ＣＨ２－Ｓ－ＣＨ２ＣＨ３、－ＣＨ２ＣＨ２－Ｓ－ＣＨ２ＣＨ３、－ＣＨ２－Ｓ－Ｐｈ、－ＣＨ２－Ｓ－Ｎｐ、－ＣＨ２－Ｓ－ＣＨ２－Ｐｈ、－ＣＨ２－Ｓ－ＣＨ２－Ｎｐ等が挙げられる。
【0037】
式（ａ２）で表される構成単位の好適な具体例としては、下記のものが挙げられる。
【化6】
【0038】
〔樹脂（Ａ２）〕
樹脂（Ａ）は、所望する効果が損なわれない限りにおいて、樹脂（Ａ１）とともに、樹脂（Ａ１）に該当しない樹脂（Ａ２）を含んでいてもよい。
樹脂（Ａ２）としては、典型的にはケイ素含有樹脂が用いられる。樹脂（Ａ２）としては、シロキサン結合を有する樹脂が好ましい。シロキサン結合を有する樹脂としては、ポリオルガノシロキサンや、ポリオルガノシルセスキオキサンが挙げられる。
樹脂（Ａ）は、所望する効果が損なわれない限りにおいて、樹脂（Ａ１）とともに、樹脂（Ａ１）に該当しない樹脂（Ａ２）を含んでいてもよい。
樹脂（Ａ２）としては、典型的にはケイ素含有樹脂が用いられる。樹脂（Ａ２）としては、シロキサン結合を有する樹脂が好ましい。シロキサン結合を有する樹脂としては、ポリオルガノシロキサンや、ポリオルガノシルセスキオキサンが挙げられる。
【0039】
ポリオルガノシロキサンとしては、前述の式（ａ２）で表される１種以上の構成単位からなる、ポリオルガノシロキサンが好ましい。
ポリオルガノシロキサンとしては、前述の式（ａ２）で表される１種以上の構成単位からなり、式（ａ２）で表される構成単位の好適な具体例として上記される構成単位を１種以上含むポリオルガノシロキサンがより好ましい。
ポリオルガノシロキサンとしては、前述の式（ａ２）で表される１種以上の構成単位からなり、式（ａ２）で表される構成単位の好適な具体例として上記される構成単位を１種以上含むポリオルガノシロキサンがより好ましい。
【0040】
ポリオルガノシルセスキオキサンは、典型的には、加水分解によりシラノール基を生成させる加水分解縮合性基を３つ有するオルガノシランの加水分解縮合により得られる。ポリオルガノシルセスキオキサンの構造は、かご型であっても、ラダー型であってもよい。加水分解縮合性基を３つ有するオルガノシランとしては、オルガノトリアルコキシシランが好ましく、オルガノトリメトキシシラン、及びオルガノトリエトキシシランがより好ましく、オルガノトリメトキシシランがさらに好ましい。
【0041】
オルガノトリアルコキシシランの好適な具体例としては、メチルトリメトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、プロピルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、プロピルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、アリルトリメトキシシラン、３－ブテニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、アリルトリエトキシシラン、３－ブテニルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、４－ヒドロキシフェニルトリメトキシシラン、３－ヒドロキシフェニルトリメトキシシラン、シクロペンチルトリメトキシシラン、シクロヘキシルトリメトキシシラン、シクロヘプチルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、４－ヒドロキシフェニルトリエトキシシラン、３－ヒドロキシフェニルトリエトキシシラン、シクロペンチルトリエトキシシラン、シクロヘキシルトリエトキシシラン、シクロヘプチルトリエトキシシラン、ベンジルトリメトキシシラン、４－ヒドロキフェニルメチルトリメトキシシラン、３－ヒドロキフェニルメチルトリメトキシシラン、ベンジルトリエトキシシラン、４－ヒドロキフェニルメチルトリエトキシシラン、及び３－ヒドロキフェニルメチルトリエトキシシランが挙げられる。
【0042】
ポリオルガノシルセスキオキサンとしては、それぞれ加水分解縮合性基を３つ有する、３官能性４－ヒドロキシフェニルシラン、３官能性３－ヒドロキシフェニルシラン、３官能性４－ヒドロキフェニルメチルシラン、及び３官能性３－ヒドロキフェニルメチルシランから選択される１種以上と、それぞれ加水分解縮合性基を３つ有する、３官能性メチルシラン、３官能性エチルシラン、及び３官能性フェニルシランから選択され１種以上のとの加水分解縮合物が好ましい。
上記の加水分解縮合物の中では、３官能性４－ヒドロキフェニルメチルシランと、３官能性メチルシランとの加水分解縮合物がより好ましく、３官能性４－ヒドロキフェニルメチルシラン１モルと、３官能性メチルシラン０．５モル以上２モル以下との加水分解縮合物がさらに好ましい。
上記の加水分解縮合物の中では、３官能性４－ヒドロキフェニルメチルシランと、３官能性メチルシランとの加水分解縮合物がより好ましく、３官能性４－ヒドロキフェニルメチルシラン１モルと、３官能性メチルシラン０．５モル以上２モル以下との加水分解縮合物がさらに好ましい。
【0043】
樹脂（Ａ）の質量に対する、樹脂（Ａ２）の質量の比率は、７０質量％以下が好ましく、５０質量％以下がより好ましく、３０質量％以下がさらに好ましく、１０質量％以下が特に好ましく、０質量％が最も好ましい。
【0044】
＜光酸発生剤（Ｂ）＞
感光性組成物は、光酸発生剤（Ｂ）を含む。露光により光酸発生剤（Ｂ）が発生させる酸の作用により、樹脂（Ａ）が後述する架橋剤（Ｄ）により架橋される。
感光性組成物は、光酸発生剤（Ｂ）を含む。露光により光酸発生剤（Ｂ）が発生させる酸の作用により、樹脂（Ａ）が後述する架橋剤（Ｄ）により架橋される。
【0045】
光酸発生剤（Ｂ）としては、特に限定されず、従来より感光性組成物に配合されている光酸発生剤を特に限定なく用いることができる。
光酸発生剤（Ｂ）としては、下記式（ｂ１）で表される化合物を用いるのが好ましい。
光酸発生剤（Ｂ）としては、下記式（ｂ１）で表される化合物を用いるのが好ましい。
【化7】
【0046】
式（ｂ１）中、Ｒｂ１は炭素原子数１以上４０以下の有機基である。Ｒｂ１としての有機基は、Ｃ－Ｓ結合により、式（ｂ１）中の硫黄原子に結合する。Ｃ－Ｓ結合中の炭素原子はフッ素原子と結合する。Ｍｂ１はスルホニウムカチオン、又はヨードニウムカチオンである。
以下、式（Ｂ１）で表される化合物を構成するアニオン部と、カチオン部とについて説明する。
以下、式（Ｂ１）で表される化合物を構成するアニオン部と、カチオン部とについて説明する。
【0047】
（アニオン部）
式（ｂ１）中、Ｒｂ１としての有機基としては、下記式（ｂ１－１－ａｎ１）で表される有機基が好ましい。
式（ｂ１）中、Ｒｂ１としての有機基としては、下記式（ｂ１－１－ａｎ１）で表される有機基が好ましい。
【化8】
【0048】
式（ｂ１－１－ａｎ１）中、Ｒ１０１は、置換基を有していてもよい環式基含有基、置換基を有していてもよい鎖状のアルキル基、又は置換基を有していてもよい鎖状のアルケニル基である。Ｒ１０２は、炭素原子数１以上５以下のフッ素化アルキル基、又はフッ素原子である。Ｙ１０１は、酸素原子を含む２価の連結基、又は単結合である。Ｖ１０１は、単結合、アルキレン基、又はフッ素化アルキレン基である。式中＊は、式（ｂ１－１－ａｎ１）中のＹ１０１に結合する結合手である。
【0049】
Ｒ１０１としての置換基を有してもよい環式基含有基は、環状の炭化水素基を含むのが好ましい。環状の炭化水素基は、アリール基であってもよく、脂肪族炭化水素基であってもよい。脂肪族炭化水素基は芳香族性を持たない炭化水素基を意味する。また、脂肪族炭化水素基は、飽和であってもよく、不飽和であってもよく、飽和であるのが好ましい。
アリール基の炭素原子数は、６以上３０以下が好ましく。６以上２０以下がより好ましく、６以上１８以下がさらに好ましい。ただし、炭素原子数には、置換基における炭素原子数は含まないものとする。
アリール基の炭素原子数は、６以上３０以下が好ましく。６以上２０以下がより好ましく、６以上１８以下がさらに好ましい。ただし、炭素原子数には、置換基における炭素原子数は含まないものとする。
【0050】
Ｒ１０１としての環式基含有基に含まれる芳香族炭化水素環の具体例として、ベンゼン環、フルオレン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環、及びビフェニル環が挙げられる。
【0051】
Ｒ１０１としてのアリール基を有する環式基含有基の具体例としては、アリール基、アラルキル基、アリール基に脂肪族炭化水素環が縮合した縮合環式基、及び環状脂肪族炭化水素基に芳香族炭化水素環が縮合した縮合環式基が挙げられる。 アリール基の例としては、フェニル基、ナフチル基、アントラニル基、フェナントレニル基、及びビフェニリル基が挙げられる。アラルキル基の例としては、ベンジル基、フェネチル基、ナフタレン－１－イルメチル基、ナフタレン－２－イルメチル基、ナフタレン－１－イルエチル基、及び２－ナフタレン－２－イルエチル基等が挙げられる。アラルキル基中のアルキル鎖の炭素原子数は、１以上４以下が好ましく、１以上２以下がより好ましく、１が特に好ましい。
【0052】
Ｒ１０１としての環式基含有基がその構造中に環を含む脂肪族炭化水素基である場合、脂肪族炭化水素基としては、脂環式炭化水素基、脂環式炭化水素基が直鎖状、又は分岐鎖状の脂肪族炭化水素基の末端に結合した基、及び脂環式炭化水素基が直鎖状、又は分岐鎖状の脂肪族炭化水素基の途中に介在する基等が挙げられる。
【0053】
脂環式炭化水素基の炭素原子数は、３以上２０以下が好ましく、３以上１２以下がより好ましい。
脂環式炭化水素基は、多環式基であってもよく、単環式基であってもよい。単環式の脂環式炭化水素基としては、モノシクロアルカンから１つ以上の水素原子を除いた基が好ましい。モノシクロアルカンの炭素原子数は、３以上６以下が好ましい。脂環式炭化水素基の具体例としては、シクロペンタン、及びシクロヘキサン等が挙げられる。
多環式の脂環式炭化水素基としては、ポリシクロアルカンから１つ以上の水素原子を除いた基が好ましい。ポリシクロアルカンの炭素原子数は、７以上３０以下が好ましい。ポリシクロアルカンの具体例としては、アダマンタン、ノルボルナン、イソボルナン、トリシクロデカン、及びテトラシクロドデカン等の架橋環系の多環式骨格を有するポリシクロアルカン；ステロイド骨格を有する環式基等の縮合系の多環式骨格を有するポリシクロアルカンが挙げられる。
脂環式炭化水素基は、多環式基であってもよく、単環式基であってもよい。単環式の脂環式炭化水素基としては、モノシクロアルカンから１つ以上の水素原子を除いた基が好ましい。モノシクロアルカンの炭素原子数は、３以上６以下が好ましい。脂環式炭化水素基の具体例としては、シクロペンタン、及びシクロヘキサン等が挙げられる。
多環式の脂環式炭化水素基としては、ポリシクロアルカンから１つ以上の水素原子を除いた基が好ましい。ポリシクロアルカンの炭素原子数は、７以上３０以下が好ましい。ポリシクロアルカンの具体例としては、アダマンタン、ノルボルナン、イソボルナン、トリシクロデカン、及びテトラシクロドデカン等の架橋環系の多環式骨格を有するポリシクロアルカン；ステロイド骨格を有する環式基等の縮合系の多環式骨格を有するポリシクロアルカンが挙げられる。
【0054】
脂肪族炭化水素基としては、モノシクロアルカン、又はポリシクロアルカンから水素原子を１つ以上除いた基が好ましく、ポリシクロアルカンから水素原子を１つ除いた基がより好ましく、アダマンチル基、及びノルボルニル基が特に好ましい。
【0055】
脂環式炭化水素基に結合してもよい、直鎖状の脂肪族炭化水素基の炭素原子数は、１以上１０以下が好ましく、１以上６以下がより好ましく、１以上４以下がさらに好ましく、１以上３以下が最も好ましい。直鎖状の脂肪族炭化水素基としては、直鎖状のアルキレン基が好ましい。直鎖状のアルキレン基の具体例としては、メチレン基［－ＣＨ２－］、エチレン基［－（ＣＨ２）２－］、及びペンタメチレン基［－（ＣＨ２）５－］等が挙げられる。
【0056】
脂環式炭化水素基に結合してもよい、分岐鎖状の脂肪族炭化水素基の炭素原子数は、２以上１０以下が好ましく、３以上６以下がより好ましく、３又は４が好ましく、３が最も好ましい。分岐鎖状の脂肪族炭化水素基としては、分岐鎖状のアルキレン基が好ましい。分岐鎖状のアルキレン基の具体例としては、－ＣＨ（ＣＨ３）－、－ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ３）－、－ＣＨ（ＣＨ３）２－、－Ｃ（ＣＨ３）（ＣＨ２ＣＨ３）－、－Ｃ（ＣＨ３）（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３）－、－Ｃ（ＣＨ２ＣＨ３）２－等のアルキルメチレン基；－ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２－、－ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ（ＣＨ３）－、－Ｃ（ＣＨ３）２ＣＨ２－、－ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ３）ＣＨ２－、－Ｃ（ＣＨ２ＣＨ３）２－ＣＨ２－等のアルキルエチレン基；－ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２－等のアルキルトリメチレン基；－ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ２－等のアルキルテトラメチレン基等のアルキルアルキレン基等が挙げられる。アルキルアルキレン基におけるアルキル基としては、炭素原子数１以上５以下の直鎖状のアルキル基が好ましい。
【0057】
Ｒ１０１としての環式基含有基は、脂肪族炭化水素環と芳香環とが縮合した縮合環を含む縮合環式基であってもよい。縮合環としては、例えば、架橋環系の多環式骨格を有するポリシクロアルカンに、１個以上の芳香環が縮合した縮合環等が挙げられる。架橋環系ポリシクロアルカンの具体例としては、ビシクロ［２．２．１］ヘプタン（ノルボルナン）、及びビシクロ［２．２．２］オクタン等のビシクロアルカンが挙げられる。縮合環式基としては、ビシクロアルカンから１個の水素原子が除かれた基に、２又は３の芳香族炭化水素環が縮合した縮合環が好ましく、ビシクロ［２．２．２］オクタンから１個の水素原子が除かれた基に、２又は個の芳香族炭化水素環が縮合した縮合環がより好ましい。Ｒ１０１としての環式基含有基が上記の縮合環式である場合の縮合環式基の具体例としては、下記式（ｒ－ｂｒ－１）、及び式（ｒ－ｂｒ－２）で表される基が挙げられる。式中＊は、式（ｂ１－１－ａｎ１）中のＹｂ１１に結合する結合手を表す。
【0058】
【化9】
【0059】
Ｒ１０１としての環式基含有基に含まれる環式基は、ヘテロ原子を含んでもよい。ヘテロ原子を含む環式基の例としては、ラクトン含有環式基、後述する式（ｂ－ｒ２－１）～（ｂ－ｒ２－４）で表される－ＳＯ２－含有環式基、及びその他の複素環式基が挙げられる。
【0060】
「－ＳＯ２－含有環式基」とは、その環骨格中に－ＳＯ２－結合を含む環式基である。－ＳＯ２－含有環式基は、単環式基であってもよく、多環式基であってもよい。－ＳＯ２－含有環式基が－ＳＯ２－含有環のみからなる場合、－ＳＯ２－含有環式基は、単環式基である。－ＳＯ２－含有環式基が、２以上の－ＳＯ２－環からなるか、－ＳＯ２－環とともに、－ＳＯ２－環構造の他の構造の環を有する場合は、－ＳＯ２－含有環式基は、多環式基である。
－ＳＯ２－含有環式基としては、特に、その環骨格中に－Ｏ－ＳＯ２－結合を含む環式基が好ましい。かかる環式基は、スルトン（ｓｕｌｔｏｎｅ）環を含有する。
－ＳＯ２－含有環式基として、より具体的には、下記式（ｂ－ｒ２－１）～式（ｂ－ｒ２－４）で表される基が挙げられる。
－ＳＯ２－含有環式基としては、特に、その環骨格中に－Ｏ－ＳＯ２－結合を含む環式基が好ましい。かかる環式基は、スルトン（ｓｕｌｔｏｎｅ）環を含有する。
－ＳＯ２－含有環式基として、より具体的には、下記式（ｂ－ｒ２－１）～式（ｂ－ｒ２－４）で表される基が挙げられる。
【0061】
【化10】
【0062】
式（ｂ－ｒ２－１）～式（ｂ－ｒ２－４）中、Ｒｂ２１は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、水酸基、－ＣＯＯＲ”、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ”、ヒドロキシアルキル基、又はシアノ基であり；Ｒ”は、水素原子、アルキル基、ラクトン含有環式基、カーボネート含有環式基、又は－ＳＯ２－含有環式基であり；Ｂ”は、酸素原子を含んでいてもよい炭素原子数１以上５以下のアルキレン基、硫黄原子を含んでいてもよい炭素原子数１以上５以下のアルキレン基、酸素原子、又は硫黄原子であり；ｎ’は０、１、又は２である。
【0063】
式（ｂ－ｒ２－１）～式（ｂ－ｒ２－４）中、Ｒｂ２１としてのアルキル基としては、炭素原子数１以上６以下のアルキル基が好ましい。アルキル基は、直鎖状、又は分岐鎖状であってよい。アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、及びｎ－ヘキシル基等が挙げられる。これらの中では、メチル基、及びエチル基が好ましく、メチル基が特に好ましい。
【0064】
Ｒｂ２１としてのアルコキシ基としては、炭素原子数１以上６以下のアルコキシ基が好ましい。アルコキシ基は、直鎖状、又は分岐鎖状であってよい。アルコキシ基の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ－プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ｎ－ブチルオキシ基、イソブチルオキシ基、ｓｅｃ－ブチルオキシ基、ｔｅｒｔ－ブチルオキシ基、ｎ－ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、ネオペンチルオキシ基、及びｎ－ヘキシルオキシ基等が挙げられる。これらの中では、メトキシ基、及びエトキシ基が好ましく、メトキシ基が特に好ましい。
【0065】
Ｒｂ２１としてのハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、及びヨウ素原子が挙げられる。これらの中では、フッ素原子が好ましい。
【0066】
Ｒｂ２１としてのハロゲン化アルキル基としては、Ｒｂ２１としてのアルキル基の水素原子の一部又は全部が前述のハロゲン原子で置換された基が挙げられる。ハロゲン化アルキル基としては、フッ素化アルキル基が好ましく、特にパーフルオロアルキル基が好ましい。
【0067】
Ｒｂ２１としての－ＣＯＯＲ”、及び－ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ”において、Ｒ”は、いずれも水素原子、アルキル基、脂環式炭化水素基、ラクトン含有環式基、カーボネート含有環式基、又は－ＳＯ２－含有環式基である。Ｒ”としての脂環式炭化水素基は、フッ素原子、又はフッ素化アルキル基で置換されていてもよい。
【0068】
式（ｂ－ｒ２－１）～式（ｂ－ｒ２－４）中、Ｂ”としての炭素原子数１以上５以下のアルキレン基は、直鎖状であっても、分岐鎖状であってもよい。アルキレン基の具体例としては、メチレン基、エチレン基、プロパン－１，３－ジイル基、プロパン－１，２－ジイル基等が挙げられる。アルキレン基が、酸素原子、又は硫黄原子を含む場合、その例としては、アルキレン基の末端又は炭素原子間に－Ｏ－、又は－Ｓ－が介在する基が挙げられる。このような基の具体例としては、－Ｏ－ＣＨ２－、－ＣＨ２－Ｏ－ＣＨ２－、－Ｓ－ＣＨ２－、－ＣＨ２－Ｓ－ＣＨ２－等が挙げられる。Ｂ”としては、炭素原子数１以上５以下のアルキレン基、又は－Ｏ－が好ましく、炭素原子数１以上５以下のアルキレン基がより好ましく、メチレン基が最も好ましい。
以下、式（ｂ－ｒ２－１）～式（ｂ－ｒ２－４）で表される基の具体例を挙げる。式中のＡｃは、アセチル基を示す。
以下、式（ｂ－ｒ２－１）～式（ｂ－ｒ２－４）で表される基の具体例を挙げる。式中のＡｃは、アセチル基を示す。
【0069】
【化11】
【0070】
【化12】
【0071】
【化13】
【0072】
式（ｂ１－１－ａｎ１）中、Ｒ１０１としての環式基含有基が有してもよい置換基としては、例えば、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、水酸基、カルボニル基、及びニトロ基等が挙げられる。
置換基としてのアルキル基としては、炭素原子数１以上５以下のアルキル基が好ましく、メチル基、エチル基、プロピル基、ｎ－ブチル基、及びｔｅｒｔ－ブチル基が好ましい。
置換基としてのアルコキシ基としては、炭素原子数１以上５以下のアルコキシ基が好ましく、メトキシ基、エトキシ基、ｎ－プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ－ブトキシ基、及びｔｅｒｔ－ブトキシ基がより好ましく、メトキシ基、及びエトキシ基がさらに好ましい。
置換基としてのハロゲン原子としては、臭素原子、ヨウ素原子、及びフッ素原子が好ましく、臭素原子、及びヨウ素原子がより好ましい。
置換基としてのハロゲン化アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ｎ－ブチル基、及びｔｅｒｔ－ブチル基等の炭素原子数１以上５以下のアルキル基の水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置換された基が挙げられる。
置換基としてのカルボニル基は、環状の炭化水素基を構成するメチレン基（―ＣＨ２－）を置換する基である。
置換基としてのアルキル基としては、炭素原子数１以上５以下のアルキル基が好ましく、メチル基、エチル基、プロピル基、ｎ－ブチル基、及びｔｅｒｔ－ブチル基が好ましい。
置換基としてのアルコキシ基としては、炭素原子数１以上５以下のアルコキシ基が好ましく、メトキシ基、エトキシ基、ｎ－プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ－ブトキシ基、及びｔｅｒｔ－ブトキシ基がより好ましく、メトキシ基、及びエトキシ基がさらに好ましい。
置換基としてのハロゲン原子としては、臭素原子、ヨウ素原子、及びフッ素原子が好ましく、臭素原子、及びヨウ素原子がより好ましい。
置換基としてのハロゲン化アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ｎ－ブチル基、及びｔｅｒｔ－ブチル基等の炭素原子数１以上５以下のアルキル基の水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置換された基が挙げられる。
置換基としてのカルボニル基は、環状の炭化水素基を構成するメチレン基（―ＣＨ２－）を置換する基である。
【0073】
Ｒ１０１としての環式基含有基が有してもよい置換基としては、上記の中でも水酸基、アルコキシ基、臭素原子、及びヨウ素原子が好ましく、水酸基、臭素原子、及びヨウ素原子がより好ましい。
【0074】
Ｒ１０１としての鎖状のアルキル基は、直鎖状又は分岐鎖状のいずれでもよい。
直鎖状のアルキル基の炭素原子数は、１以上２０以下が好ましく、１以上１５以下がより好ましく、１以上１０以下が最も好ましい。
直鎖状のアルキル基の好適な具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、ｎ－ヘプチル基、ｎ－オクチル基、ｎ－ノニル基、ｎ－デシル基、ｎ－ウンデシル基、ｎ－ドデシル基、ｎ－トリデシル基、ｎ－テトラデシル基、ｎ－ペンタデシル基、ｎ－ヘキサデシル基、ｎ－ヘプタデシル基、ｎ－オクタデシル基、ｎ－ノナデシル基、及びｎ－イコシル基等が挙げられる。
直鎖状のアルキル基の炭素原子数は、１以上２０以下が好ましく、１以上１５以下がより好ましく、１以上１０以下が最も好ましい。
直鎖状のアルキル基の好適な具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、ｎ－ヘプチル基、ｎ－オクチル基、ｎ－ノニル基、ｎ－デシル基、ｎ－ウンデシル基、ｎ－ドデシル基、ｎ－トリデシル基、ｎ－テトラデシル基、ｎ－ペンタデシル基、ｎ－ヘキサデシル基、ｎ－ヘプタデシル基、ｎ－オクタデシル基、ｎ－ノナデシル基、及びｎ－イコシル基等が挙げられる。
【0075】
分岐鎖状のアルキル基の炭素原子数は、３以上２０以下が好ましく、３以上１５以下がより好ましく、３以上１０以下が最も好ましい。分岐鎖状のアルキル基の好適な具体例としては、１－メチルエチル基（イソプロピル基）、１－メチルプロピル基（ｓｅｃ－ブチル基）、２－メチルプロピル基（イソブチル基）、１－メチルブチル基（ｓｅｃ－ペンチル基）、２－メチルブチル基、３－メチルブチル基（イソブチル基）、１－エチルブチル基、２－エチルブチル基、１－メチルペンチル基、２－メチルペンチル基、３－メチルペンチル基、及び４－メチルペンチル基等が挙げられる。
【0076】
Ｒ１０１としての鎖状のアルケニル基は、直鎖状であっても、分岐鎖状であってもよい。鎖状のアルケニル基の炭素原子数は、２以上１０以下が好ましく、２以上５以下がより好ましく、２以上４以下がさらに好ましく、２が特に好ましい。直鎖状のアルケニル基の好適な具体例としては、例えば、ビニル基、１－プロペニル基、２－プロペニル基（アリル基）、及びブテニル基等が挙げられる。分岐鎖状のアルケニル基の好適な具体例としては、例えば、１－メチルビニル基、１－メチルプロペニル基、及び２－メチルプロペニル基等が挙げられる。
上記のアルケニル基の中では、直鎖状のアルケニル基が好ましく、ビニル基、及びプロペニル基がより好ましく、ビニル基が特に好ましい。
上記のアルケニル基の中では、直鎖状のアルケニル基が好ましく、ビニル基、及びプロペニル基がより好ましく、ビニル基が特に好ましい。
【0077】
Ｒ１０１としての鎖状のアルキル基、又は鎖状のアルケニル基が有してもよい置換基としては、例えば、アルコキシ基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、水酸基、カルボニル基、ニトロ基、アミノ基、及び上記のＲ１０１としての環式基含有基等が挙げられる。
【0078】
上記の中でも、Ｒ１０１は、置換基を有してもよい環式基が好ましい。また、Ｒ１０１は、ラフネスの提言の観点からは、置換基を有していてもよい多環式炭化水素基であることがより好ましく、置換基を有していてもよい架橋環系の多環式炭化水素基であることがさらに好ましい。また、Ｒ１０１は、感度向上の観点からは、ヨウ素原子又は臭素原子を有する環式基が好ましく、ヨウ素原子又は臭素原子を有するアリール基がより好ましい。
【0079】
多環式炭化水素基としては、多環式骨格を有するポリシクロアルカンから１個の水素原子を除いた基、多環式骨格を有するポリシクロアルカンに芳香族環が縮合した縮合環から水素原子を１つ除いた基等が挙げられる。ポリシクロアルカンとしては、アダマンタン、ノルボルナン（ビシクロヘプタン）、ビシクロオクタン等の架橋環系の多環式骨格を有するポリシクロアルカン；ステロイド骨格を有する環式基等の縮合環系の多環式骨格を有するポリシクロアルカン等が挙げられる。その中でも、架橋環系の多環式骨格を有するポリシクロアルカンが好ましい。多環式脂肪族炭化水素基の好適な具体例としては、アダマンチル基、及びノルボルニル基が挙げられる。
【0080】
多環式骨格を有するポリシクロアルカンに芳香族環が縮合した縮合環から水素原子を１つ除いた基としては、上記ポリシクロアルカンとベンゼン環との縮合環から水素原子を１つ除いた基が挙げられる。
【0081】
複素環を有する多環式炭化水素としては、複素環を有する架橋環系の多環式炭化水素基が好ましく、具体的には、上記式（ｂ－ｒ２－１）で表される－ＳＯ２－含有架橋環系の多環式基等が挙げられる。
【0082】
式（ｂ１－１－ａｎ１）中、Ｙ１０１は、単結合、又は酸素原子を含む２価の連結基である。
Ｙ１０１が、酸素原子を含む２価の連結基である場合、Ｙ１０１は、酸素原子以外の原子を含有してもよい。酸素原子以外の原子としては、例えば炭素原子、水素原子、硫黄原子、窒素原子等が挙げられる。
酸素原子を含む２価の連結基としては、例えば、酸素原子（－Ｏ－）、－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＨ－、カルボニル基、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－等の酸素原子含有連結基；酸素原子含有連結基とアルキレン基との組み合わせ等が挙げられる。この組み合わせに、さらにスルホニル基（－ＳＯ２－）が連結されていてもよい。かかる酸素原子を含む２価の連結基としては、例えば下記式（ｂ－ｙ－１）～式（ｂ－ｙ－７）で表される連結基が挙げられる。
Ｙ１０１が、酸素原子を含む２価の連結基である場合、Ｙ１０１は、酸素原子以外の原子を含有してもよい。酸素原子以外の原子としては、例えば炭素原子、水素原子、硫黄原子、窒素原子等が挙げられる。
酸素原子を含む２価の連結基としては、例えば、酸素原子（－Ｏ－）、－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＨ－、カルボニル基、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－等の酸素原子含有連結基；酸素原子含有連結基とアルキレン基との組み合わせ等が挙げられる。この組み合わせに、さらにスルホニル基（－ＳＯ２－）が連結されていてもよい。かかる酸素原子を含む２価の連結基としては、例えば下記式（ｂ－ｙ－１）～式（ｂ－ｙ－７）で表される連結基が挙げられる。
【0083】
【化14】
【0084】
式（ｂ－ｙ－１）～式（ｂ－ｙ－７）中、Ｖ’１０１は、単結合、又は炭素原子数１以上５以下のアルキレン基である。Ｖ’１０２は、炭素原子数１以上３０以下の２価の飽和炭化水素基である。
【0085】
Ｖ’１０２としての２価の飽和炭化水素基は、鎖状飽和炭化水素基であっても、環状飽和炭化水素基であっても、鎖状飽和炭化水素基と環状飽和炭化水素基との組み合わせであってもよい。Ｖ’１０２としての２価の飽和炭化水素基は、アルキレン基であるのが好ましい。アルキレン基の炭素原子数は、１以上３０以下が好ましく、１以上１０以下がより好ましく、１以上５以下がさらに好ましい。
【0086】
Ｖ’１０１及びＶ’１０２としてのアルキレン基は、直鎖状であっても、分岐鎖状であってもよく、直鎖状であるのが好ましい。
Ｖ’１０１及びＶ’１０２としてのアルキレン基の具体例としては、メチレン基；－ＣＨ（ＣＨ３）－、－ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ３）－、－Ｃ（ＣＨ３）２－、－Ｃ（ＣＨ３）（ＣＨ２ＣＨ３）－、－Ｃ（ＣＨ３）（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３）－、及び－Ｃ（ＣＨ２ＣＨ３）２－等のアルキルメチレン基；エチレン基（－ＣＨ２ＣＨ２－）；－ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２－、－ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ（ＣＨ３）－、－Ｃ（ＣＨ３）２ＣＨ２－、及び－ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ３）ＣＨ２－等のアルキルエチレン基；トリメチレン基（－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－）；－ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ２－、及び－ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２－等のアルキルトリメチレン基；テトラメチレン基（－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－）；－ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、及び－ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ２－等のアルキルテトラメチレン基；ペンタメチレン基（－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－）等が挙げられる。
Ｖ’１０１及びＶ’１０２としてのアルキレン基の具体例としては、メチレン基；－ＣＨ（ＣＨ３）－、－ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ３）－、－Ｃ（ＣＨ３）２－、－Ｃ（ＣＨ３）（ＣＨ２ＣＨ３）－、－Ｃ（ＣＨ３）（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３）－、及び－Ｃ（ＣＨ２ＣＨ３）２－等のアルキルメチレン基；エチレン基（－ＣＨ２ＣＨ２－）；－ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２－、－ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ（ＣＨ３）－、－Ｃ（ＣＨ３）２ＣＨ２－、及び－ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ３）ＣＨ２－等のアルキルエチレン基；トリメチレン基（－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－）；－ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ２－、及び－ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２－等のアルキルトリメチレン基；テトラメチレン基（－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－）；－ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、及び－ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ２－等のアルキルテトラメチレン基；ペンタメチレン基（－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－）等が挙げられる。
【0087】
また、Ｖ’１０１、又はＶ’１０２としてのアルキレン基において、一部のメチレン基が、炭素原子数５以上１０以下の２価の脂肪族環式基で置換されていてもよい。脂肪族環式基は単環式基でも多環式基でもよい。
単環式基である脂肪族炭化水素基としては、モノシクロアルカンから２個の水素原子を除いた基が好ましい。モノシクロアルカンの炭素原子数は、３以上６以下が好ましい。モノシクロアルカンから２個の水素原子を除いた基としては、シクロペンチレン基、及びシクロへキシレン基等が挙げられる。これらの中では、シクロへキシレン基がより好ましい。
多環式基である脂肪族炭化水素基としては、ポリシクロアルカンから２個の水素原子を除いた基が好ましい。ポリシクロアルカンの炭素原子数は、７以上１２以下が好ましい。ポリシクロアルカンから２個の水素原子を除いた基としては、アダマンタンジイル基、ノルボルナンジイル基、イソボルナンジイル基、トリシクロデカンジイル基、及びテトラシクロドデカンジイル基等が挙げられる。これらのなかでは、アダマンタン－１，５－ジイル基、及びアダマンタン－２，６－ジイル基がより好ましい。
単環式基である脂肪族炭化水素基としては、モノシクロアルカンから２個の水素原子を除いた基が好ましい。モノシクロアルカンの炭素原子数は、３以上６以下が好ましい。モノシクロアルカンから２個の水素原子を除いた基としては、シクロペンチレン基、及びシクロへキシレン基等が挙げられる。これらの中では、シクロへキシレン基がより好ましい。
多環式基である脂肪族炭化水素基としては、ポリシクロアルカンから２個の水素原子を除いた基が好ましい。ポリシクロアルカンの炭素原子数は、７以上１２以下が好ましい。ポリシクロアルカンから２個の水素原子を除いた基としては、アダマンタンジイル基、ノルボルナンジイル基、イソボルナンジイル基、トリシクロデカンジイル基、及びテトラシクロドデカンジイル基等が挙げられる。これらのなかでは、アダマンタン－１，５－ジイル基、及びアダマンタン－２，６－ジイル基がより好ましい。
【0088】
脂肪族環式基は、置換基を有してもよい。この置換基としては、例えば、－ＲＰ１、－ＲＰ２－Ｏ－ＲＰ１、－ＲＰ２－ＣＯ－ＲＰ１、－ＲＰ２－ＣＯ－ＯＲＰ１、－ＲＰ２－Ｏ－ＣＯ－ＲＰ１、－ＲＰ２－ＯＨ、－ＲＰ２－ＣＮ、及び－ＲＰ２－ＣＯＯＨ等が挙げられる。
ＲＰ１は、炭素原子数１以上１０以下のアルキル基、炭素原子数３以上２０以下の環状飽和炭化水素基、又は炭素原子数６以上３０以下のアリール基である。
ＲＰ２は、単結合、炭素原子数１以上１０以下の２価の鎖状飽和炭化水素基、炭素原子数３以上２０以下の２価の脂肪族環状飽和炭化水素基、又は炭素原子数６以上３０以下の２価のアリール基である。
ＲＰ１及びＲＰ２は、上記の鎖状飽和炭化水素基、環状飽和炭化水素基、及びアリール基が有する水素原子の一部、又は全部が、フッ素原子で置換された基であってもよい。
上記の環状炭化水素基は、上記置換基を１種単独で１つ以上有してもよいし、上記置換基のうち複数種を各１つ以上有してもよい。
ＲＰ１は、炭素原子数１以上１０以下のアルキル基、炭素原子数３以上２０以下の環状飽和炭化水素基、又は炭素原子数６以上３０以下のアリール基である。
ＲＰ２は、単結合、炭素原子数１以上１０以下の２価の鎖状飽和炭化水素基、炭素原子数３以上２０以下の２価の脂肪族環状飽和炭化水素基、又は炭素原子数６以上３０以下の２価のアリール基である。
ＲＰ１及びＲＰ２は、上記の鎖状飽和炭化水素基、環状飽和炭化水素基、及びアリール基が有する水素原子の一部、又は全部が、フッ素原子で置換された基であってもよい。
上記の環状炭化水素基は、上記置換基を１種単独で１つ以上有してもよいし、上記置換基のうち複数種を各１つ以上有してもよい。
【0089】
炭素原子数１以上１０以下の１価のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、ｎ－ヘプチル基、オクチル基、及びデシル基等が挙げられる。
炭素原子数３以上２０以下の１価の環状飽和炭化水素基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロデシル基、及びシクロドデシル基等のシクロアルキル基；ビシクロ［２．２．２］オクタニル基、トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカニル基、トリシクロ［３．３．１．１３，７］デカニル基、テトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］ドデカニル基、及びアダマンチル基等の多環式飽和炭化水素基が挙げられる。
炭素原子数６以上３０以下の１価のアリール基としては、例えば、フェニル基、ビフェニリル基、フルオレニル基、ナフチル基、アントリル基、及びフェナントリル基が挙げられる。
炭素原子数３以上２０以下の１価の環状飽和炭化水素基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロデシル基、及びシクロドデシル基等のシクロアルキル基；ビシクロ［２．２．２］オクタニル基、トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカニル基、トリシクロ［３．３．１．１３，７］デカニル基、テトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］ドデカニル基、及びアダマンチル基等の多環式飽和炭化水素基が挙げられる。
炭素原子数６以上３０以下の１価のアリール基としては、例えば、フェニル基、ビフェニリル基、フルオレニル基、ナフチル基、アントリル基、及びフェナントリル基が挙げられる。
【0090】
Ｙ１０１としては、エステル結合を含む２価の連結基、又はエーテル結合を含む２価の連結基が好ましく、上記式（ｂ－ｙ－１）～式（ｂ－ｙ－５）でそれぞれ表される連結基がより好ましい。
【0091】
式（ｂ１－１－ａｎ１）中、Ｖ１０１は、単結合、アルキレン基、又はフッ素化アルキレン基である。Ｖ１０１としてのアルキレン基、及びフッ素化アルキレン基の炭素原子数は、１以上４以下が好ましい。Ｖ１０１としてのフッ素化アルキレン基としては、Ｖ１０１としてのアルキレン基の水素原子の一部又は全部がフッ素原子で置換された基が挙げられる。なかでも、Ｖ１０１としては、単結合、及び炭素原子数１以上４以下のフッ素化アルキレン基が好ましい。
【0092】
式（ｂ１－１－ａｎ１）中、Ｒ１０２は、フッ素原子、又は炭素原子数１以上５以下のフッ素化アルキル基である。Ｒ１０２としては、フッ素原子、及び炭素原子数１以上５以下のパーフルオロアルキル基が好ましく、フッ素原子がより好ましい。
【0093】
Ｙ１０１が単結合である場合、式（ｂ１－１－ａｎ１）で表されるアニオン部の具体例としては、トリフルオロメタンスルホネートアニオン、及びパーフルオロブタンスルホネートアニオン等のフッ素化アルキルスルホネートアニオンが挙げられる。Ｙ１０１が酸素原子を含む２価の連結基である場合、式（ｂ１－１－ａｎ１）で表されるアニオン部の具体例としては、下記式（ｂａ－１）～（ｂａ－３）で表されるアニオンが挙げられる。
【0094】
【化15】
【0095】
Ｒ”１０１、及びＲ”１０３としての置換基を有してもよい脂肪族環式基は、式（ｂ１－１－ａｎ１）中のＲ１０１としての脂環式炭化水素基として例示された基であるのが好ましい。
Ｒ”１０２としての置換基を有してもよい脂肪族炭化水素基は、式（ｂ１－１－ａｎ１）中のＲ１０１としての脂環式炭化水素基として例示された基であるのが好ましい。
置換基としては、式（ｂ１－１－ａｎ１）中のＲ１０１としての脂環式炭化水素基が有してもよい置換基と同様の基が挙げられる。
Ｒ”１０２としての置換基を有してもよい脂肪族炭化水素基は、式（ｂ１－１－ａｎ１）中のＲ１０１としての脂環式炭化水素基として例示された基であるのが好ましい。
置換基としては、式（ｂ１－１－ａｎ１）中のＲ１０１としての脂環式炭化水素基が有してもよい置換基と同様の基が挙げられる。
【0096】
Ｒ”１０３としての置換基を有してもよい芳香族基は、式（ｂ１－１－ａｎ１）中のＲ１０１について、アリール基として例示した基であるのが好ましい。置換基としては、式（ｂ１－１－ａｎ１）中のＲ１０１としてのアリール基を置換してもよい置換基と同様の基が挙げられる。
【0097】
Ｒ”１０１としての置換基を有してもよい鎖状のアルキル基は、式（ｂ１－１－ａｎ１）中のＲ１０１としての鎖状のアルキル基として例示した基であるのが好ましい。
Ｒ”１０３としての置換基を有してもよい鎖状のアルケニル基は、式（ｂ１－１－ａｎ１）中のＲ１０１としての鎖状のアルケニル基として例示した基であるのが好ましい。
Ｒ”１０３としての置換基を有してもよい鎖状のアルケニル基は、式（ｂ１－１－ａｎ１）中のＲ１０１としての鎖状のアルケニル基として例示した基であるのが好ましい。
【0098】
以上説明したアニオン部として、下記式（ｂａ１－１）～式（ｂａ１－６）で表されるアニオンが特に好ましい。
【化16】
【0099】
（カチオン部）
式（ｂ１）中、Ｍｂ１で表される有機カチオンとしては、特に制限されず、従来知られる光酸発生剤を構成するカチオン部として知られている有機カチオンを適宜用いることができる。かかるカチオン部としては、スルホニウムカチオン、又はヨードニウムカチオンが好ましい。
式（ｂ１）中、Ｍｂ１で表される有機カチオンとしては、特に制限されず、従来知られる光酸発生剤を構成するカチオン部として知られている有機カチオンを適宜用いることができる。かかるカチオン部としては、スルホニウムカチオン、又はヨードニウムカチオンが好ましい。
【0100】
Ｍｂ１におけるスルホニウムカチオンの具体例としては、例えば、下記式（ｂｃ－１）、又は（ｂｃ－２）で表されるスルホニウムカチオンが挙げられる。
【化17】
【0101】
式（ｂｃ－１）、及び（ｂｃ－２）中、Ｒｂｃ１～Ｒｂｃ５は、それぞれ独立に置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいシクロアルキル基、又は置換基を有してもよいアルケニル基である。Ｒｂｃ１～Ｒｂｃ３のうちの２つは、互いに結合して式中の硫黄原子とともに環を形成してもよい。Ｒｂｃ４、及びＲｂｃ５は、互いに結合して式中の硫黄原子とともに環を形成してもよい。Ｒｂｃ６～Ｒｂｃ７は、それぞれ独立に水素原子、又は炭素原子数１以上５以下のアルキル基である。Ｒｂｃ８は、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアルケニル基、又は置換基を有してもよいＳＯ２－含有環式基である。Ｌｂｃ１は、－Ｃ（＝Ｏ）－、又は－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－である。
【0102】
式（ｂｃ－１）、及び（ｂｃ－２）中、Ｒｂｃ１～Ｒｂｃ５としてのアリール基としては、炭素原子数６以上２０以下の無置換のアリール基が挙げられる。無置換のアリール基としては、フェニル基、及びナフチル基が好ましい。
Ｒｂｃ１～Ｒｂｃ５としてのアルキル基の炭素原子数は、１以上３０以下が好ましい。
Ｒｂｃ１～Ｒｂｃ５としてのシクロアルキル基の炭素原子数は、３以上３０以下が好ましい。
Ｒｂｃ１～Ｒｂｃ５としてのアルケニル基の炭素原子数は、２以上１０以下が好ましい。
Ｒｂｃ１～Ｒｂｃ５、又はＲｂｃ８としてのアリール基、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、及びＳＯ２－含有環式基が有してもよい置換基としては、例えば、アルキル基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、カルボニル基、シアノ基、アミノ基、アリール基、下記式（ｂｃ－ｒ－１）～（ｂｃ－ｒ－７）でそれぞれ表される基等が挙げられる。
Ｒｂｃ１～Ｒｂｃ５としてのアルキル基の炭素原子数は、１以上３０以下が好ましい。
Ｒｂｃ１～Ｒｂｃ５としてのシクロアルキル基の炭素原子数は、３以上３０以下が好ましい。
Ｒｂｃ１～Ｒｂｃ５としてのアルケニル基の炭素原子数は、２以上１０以下が好ましい。
Ｒｂｃ１～Ｒｂｃ５、又はＲｂｃ８としてのアリール基、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、及びＳＯ２－含有環式基が有してもよい置換基としては、例えば、アルキル基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、カルボニル基、シアノ基、アミノ基、アリール基、下記式（ｂｃ－ｒ－１）～（ｂｃ－ｒ－７）でそれぞれ表される基等が挙げられる。
【0103】
【化18】
【0104】
式（ｂｃ－ｒ－１）～（ｂｃ－ｒ－７）中、Ｒ’ｂ１１は、それぞれ独立に、水素原子、置換基を有してもよい環式基、置換基を有してもよいアルキル基、又は置換基を有してもよいアルケニル基である。
【0105】
Ｒ’ｂ１１としての環式基としては、環状炭化水素基が好ましい。環状炭化水素基は、アリール基であってもよく、脂環式炭化水素基であってもよく、芳香族炭化水素環と、脂肪族炭化水素環とを含む基であってもよい。脂環式炭化水素基は、飽和であってもよく、不飽和であってもよい。脂環式炭化水素基は、好ましくは飽和脂環式炭化水素基である。
【0106】
Ｒ’ｂ１１としてのアリール基の炭素原子数は、３以上３０以下が好ましく、５以上３０以下がより好ましく、５以上２０以下がさらに好ましく、６以上１５以下が特に好ましく、６以上１０以下が最も好ましい。ただし、炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含まない。
【0107】
Ｒ’ｂ１１としてのアリール基に含まれる芳香族炭化水素環の具体例としては、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環、ビフェニル環、及びフルオレン環が挙げられる。
【0108】
Ｒ’ｂ１１としての環式基は、上記の芳香族炭化水素環を構成する炭素原子の一部がヘテロ原子で置換された芳香族複素環を含んでいてもよい。芳香族複素環におけるヘテロ原子としては、酸素原子、硫黄原子、窒素原子等が挙げられる。
【0109】
Ｒ’ｂ１１としてのアリール基の具体例としては、フェニル基、ナフタレン－１－イル基、ナフタレン－２－イル基、４－フェニルフェニル基、３－フェニルフェニル基、及び２－フェニルフェニル基等が挙げられる。
【0110】
Ｒ’ｂ１１としての脂環式炭化水素基の炭素原子数は、３以上２０以下が好ましく、３以上１２以下がより好ましい。
脂環式炭化水素基は、多環式基であってもよく、単環式基であってもよい。単環式の脂環式炭化水素基は、シクロアルキル基である。シクロアルキル基の炭素原子数は、３以上６以下が好ましい。シクロアルキル基の好適な具体例としては、シクロペンチル基、及びシクロヘキシル基等が挙げられる。多環式の脂環式炭化水素基としては、ポリシクロアルカンから１個以上の水素原子を除いた基が好ましい。ポリシクロアルカンの炭素原子数は、７以上３０以下が好ましい。ポリシクロアルカンの好適な具体例としては、アダマンタン、ノルボルナン、イソボルナン、トリシクロデカン、及びテトラシクロドデカン等の架橋環系の多環式骨格を有するポリシクロアルカン；ステロイド骨格を有する環式基等の縮合環系の多環式骨格を有するポリシクロアルカンが挙げられる。
脂環式炭化水素基は、多環式基であってもよく、単環式基であってもよい。単環式の脂環式炭化水素基は、シクロアルキル基である。シクロアルキル基の炭素原子数は、３以上６以下が好ましい。シクロアルキル基の好適な具体例としては、シクロペンチル基、及びシクロヘキシル基等が挙げられる。多環式の脂環式炭化水素基としては、ポリシクロアルカンから１個以上の水素原子を除いた基が好ましい。ポリシクロアルカンの炭素原子数は、７以上３０以下が好ましい。ポリシクロアルカンの好適な具体例としては、アダマンタン、ノルボルナン、イソボルナン、トリシクロデカン、及びテトラシクロドデカン等の架橋環系の多環式骨格を有するポリシクロアルカン；ステロイド骨格を有する環式基等の縮合環系の多環式骨格を有するポリシクロアルカンが挙げられる。
【0111】
なかでも、Ｒ’ｂ１１としての脂環式炭化水素基としては、アダマンチル基、及びノルボルニル基が好ましく、アダマンチル基がより好ましい。
【0112】
Ｒ’ｂ１１としての環式基は、ヘテロ原子を含む複素環基であってもよい。具体的にはラクトン含有環式基、式（ｂ－ｒ２－１）～式（ｂ－ｒ２－４）で表される－ＳＯ２－含有環式基、その他の複素環式基が挙げられる。
【0113】
式（ｂｃ－ｒ－１）～（ｂｃ－ｒ－７）中のＲ’ｂ１１としての環式基が有してもよい置換基としては、例えば、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、水酸基、カルボニル基、及びニトロ基等が挙げられる。
置換基としてのアルキル基としては、炭素原子数１以上５以下のアルキル基が好ましく、メチル基、エチル基、プロピル基、ｎ－ブチル基、及びｔｅｒｔ－ブチル基がより好ましい。
置換基としてのアルコキシ基としては、炭素原子数１以上５以下のアルコキシ基が好ましく、メトキシ基、エトキシ基、ｎ－プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ－ブトキシ基、及びｔｅｒｔ－ブトキシ基がより好ましく、メトキシ基、及びエトキシ基がさらに好ましい。
置換基としてのハロゲン原子としては、フッ素原子が好ましい。
置換基としてのハロゲン化アルキル基としては、炭素原子数１以上５以下のアルキル基、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ｎ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基等の水素原子の一部、又は全部がハロゲン原子で置換された基が挙げられる。
置換基としてのカルボニル基は、環状の炭化水素基を構成するメチレン基（－ＣＨ２－）を置換する基である。
置換基としてのアルキル基としては、炭素原子数１以上５以下のアルキル基が好ましく、メチル基、エチル基、プロピル基、ｎ－ブチル基、及びｔｅｒｔ－ブチル基がより好ましい。
置換基としてのアルコキシ基としては、炭素原子数１以上５以下のアルコキシ基が好ましく、メトキシ基、エトキシ基、ｎ－プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ－ブトキシ基、及びｔｅｒｔ－ブトキシ基がより好ましく、メトキシ基、及びエトキシ基がさらに好ましい。
置換基としてのハロゲン原子としては、フッ素原子が好ましい。
置換基としてのハロゲン化アルキル基としては、炭素原子数１以上５以下のアルキル基、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ｎ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基等の水素原子の一部、又は全部がハロゲン原子で置換された基が挙げられる。
置換基としてのカルボニル基は、環状の炭化水素基を構成するメチレン基（－ＣＨ２－）を置換する基である。
【0114】
Ｒ’ｂ１１としてのアルキル基は、直鎖状、及び分岐鎖状のいずれでもよい。
直鎖状のアルキル基の炭素原子数は、１以上２０以下が好ましく１以上１５以下がより好ましく、１以上１０以下がさらに好ましい。
直鎖状のアルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、ｎ－ヘプチル基、ｎ－オクチル基、ｎ－ノニル基、ｎ－デシル基、ｎ－ウンデシル基、ｎ－ドデシル基、ｎ－トリデシル基、ｎ－テトラデシル基、ｎ－ペンタデシル基、ｎ－ヘキサデシル基、ｎ－ヘプタデシル基、ｎ－オクタデシル基、ｎ－ノナデシル基、及びｎ－イコシル基等が挙げられる。
分岐鎖状のアルキルの炭素原子数は、３以上２０以下が好ましく、３以上１５以下がより好ましく、３以上１０以下がさらに好ましい。
分岐鎖状のアルキルの具体例としては、イソプロピル基、ｓｅｃ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ペンチル基、２－メチルブチル基、イソペンチル基、１－エチルブチル基、２－エチルブチル基、１－メチルペンチル基、２－メチルペンチル基、３－メチルペンチル基、及び４－メチルペンチル基等が挙げられる。
直鎖状のアルキル基の炭素原子数は、１以上２０以下が好ましく１以上１５以下がより好ましく、１以上１０以下がさらに好ましい。
直鎖状のアルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、ｎ－ヘプチル基、ｎ－オクチル基、ｎ－ノニル基、ｎ－デシル基、ｎ－ウンデシル基、ｎ－ドデシル基、ｎ－トリデシル基、ｎ－テトラデシル基、ｎ－ペンタデシル基、ｎ－ヘキサデシル基、ｎ－ヘプタデシル基、ｎ－オクタデシル基、ｎ－ノナデシル基、及びｎ－イコシル基等が挙げられる。
分岐鎖状のアルキルの炭素原子数は、３以上２０以下が好ましく、３以上１５以下がより好ましく、３以上１０以下がさらに好ましい。
分岐鎖状のアルキルの具体例としては、イソプロピル基、ｓｅｃ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ペンチル基、２－メチルブチル基、イソペンチル基、１－エチルブチル基、２－エチルブチル基、１－メチルペンチル基、２－メチルペンチル基、３－メチルペンチル基、及び４－メチルペンチル基等が挙げられる。
【0115】
Ｒ’ｂ１１としてのアルケニル基は、直鎖状、及び分岐鎖状のいずれでもよい。
直鎖状のアルケニル基の炭素原子数は、２以上１０以下が好ましく、２以上５以下がより好ましく、２以上４以下がさらに好ましく、２が特に好ましい。
直鎖状のアルケニル基の具体例としては、ビニル基、１－プロペニル基、２－プロペニル基（アリル基）、及びブテニル基等が挙げられる。
分岐鎖状のアルケニル基の具体例としては、１－メチルビニル基、１－メチルプロペニル基、及び２－メチルプロペニル基等が挙げられる。
アルケニル基としては、直鎖状のアルケニル基が好ましく、ビニル基、及びプロペニル基がより好ましく、ビニル基が特に好ましい。
直鎖状のアルケニル基の炭素原子数は、２以上１０以下が好ましく、２以上５以下がより好ましく、２以上４以下がさらに好ましく、２が特に好ましい。
直鎖状のアルケニル基の具体例としては、ビニル基、１－プロペニル基、２－プロペニル基（アリル基）、及びブテニル基等が挙げられる。
分岐鎖状のアルケニル基の具体例としては、１－メチルビニル基、１－メチルプロペニル基、及び２－メチルプロペニル基等が挙げられる。
アルケニル基としては、直鎖状のアルケニル基が好ましく、ビニル基、及びプロペニル基がより好ましく、ビニル基が特に好ましい。
【0116】
Ｒ’ｂ１１としてのアルキル基、及びアルケニル基が有してもよい置換基としては、例えば、アルコキシ基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、水酸基、カルボニル基、ニトロ基、アミノ基、及び上記Ｒ’ｂ１１としての環式基等が挙げられる。
【0117】
なかでも、Ｒ’ｂ１１としては、置換基を有してもよい環式基が好ましく、置換基を有してもよい環状の炭化水素基がより好ましい。より具体的には、例えば、フェニル基、ナフチル基、ポリシクロアルカンから１個以上の水素原子を除いた基、ラクトン含有環式基、式（ｂ－ｒ２－１）～式（ｂ－ｒ２－４）で表される－ＳＯ２－含有環式基等が好ましい。
【0118】
式（ｂｃ－１）、又は（ｂｃ－２）中のＲｂｃ１～Ｒｂｃ３のうちの２つが、互いに結合して式中の硫黄原子とともに環を形成する場合、Ｒｂｃ１～Ｒｂｃ３のうちの２つが、硫黄原子、酸素原子、窒素原子等のヘテロ原子や、カルボニル基、－ＳＯ－、－ＳＯ２－、－ＳＯ３－、－ＣＯＯ－、－ＣＯＮＨ－又は－Ｎ（ＲＮ）－（ＲＮは炭素原子数１以上５以下のアルキル基である。）等の官能基を介して結合してもよい。
Ｒｂｃ１～Ｒｂｃ３のうちの２つが結合して形成される環は、硫黄原子を含めて、３～１０員環であることが好ましく、５～７員環であることが特に好ましい。環の具体例としては、チオフェン環、チアゾール環、ベンゾチオフェン環、ジベンゾチオフェン環、９Ｈ－チオキサンテン環、チオキサントン環、チアントレン環、フェノキサチイン環、テトラヒドロチオフェニウム環、及びテトラヒドロチオピラニウム環等が挙げられる。
Ｒｂｃ１～Ｒｂｃ３のうちの２つが結合して形成される環は、硫黄原子を含めて、３～１０員環であることが好ましく、５～７員環であることが特に好ましい。環の具体例としては、チオフェン環、チアゾール環、ベンゾチオフェン環、ジベンゾチオフェン環、９Ｈ－チオキサンテン環、チオキサントン環、チアントレン環、フェノキサチイン環、テトラヒドロチオフェニウム環、及びテトラヒドロチオピラニウム環等が挙げられる。
【0119】
Ｒｂｃ６～Ｒｂｃ７は、それぞれ独立に、水素原子、又は炭素原子数１以上５以下のアルキル基を表す。Ｒｂｃ６～Ｒｂｃ７は、好ましくは、水素原子、又は炭素原子数１以上３以下のアルキル基である。Ｒｂｃ６、及びＲｂｃ７の双方がアルキル基である場合、Ｒｂｃ６、及びＲｂｃ７が相互に結合して環を形成してもよい。
【0120】
Ｒｂｃ８は、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアルケニル基、又は置換基を有してもよい－ＳＯ２－含有環式基である。
Ｒｂｃ８がアリール基である場合、アリール基としては、炭素原子数６以上２０以下の無置換のアリール基が好ましく、フェニル基、ナフタレン－１－イル基、及びナフタレン－２－イル基がより好ましい。
Ｒｂｃ８がアルキル基である場合、アルキル基は、鎖状又は環状のアルキル基であってよい。アルキル基の炭素原子数は、１以上３０以下が好ましい。
Ｒｂｃ８がアルケニル基である場合、アルケニル基の炭素原子数は、２以上１０以下が好ましい。
Ｒｂｃ８としての置換基を有してもよい－ＳＯ２－含有環式基は、好ましくは－ＳＯ２－含有多環式基である。
Ｒｂｃ８がアリール基である場合、アリール基としては、炭素原子数６以上２０以下の無置換のアリール基が好ましく、フェニル基、ナフタレン－１－イル基、及びナフタレン－２－イル基がより好ましい。
Ｒｂｃ８がアルキル基である場合、アルキル基は、鎖状又は環状のアルキル基であってよい。アルキル基の炭素原子数は、１以上３０以下が好ましい。
Ｒｂｃ８がアルケニル基である場合、アルケニル基の炭素原子数は、２以上１０以下が好ましい。
Ｒｂｃ８としての置換基を有してもよい－ＳＯ２－含有環式基は、好ましくは－ＳＯ２－含有多環式基である。
【0121】
式（ｂｃ－１）で表されるカチオンの好適な例を以下に示す。
【0122】
【化19】
【0123】
【化20】
【0124】
【化21】
【0125】
式（ｂｃ－１－３５）～（ｂｃ－１－３７）中、ｇ１、ｇ２、及びｇ３は括弧内の基の繰返し数を示す。ｇ１は１以上５の整数である。ｇ２は０以上２０以下の整数である。ｇ３は０以上２０以下の整数である。
【0126】
【化22】
【0127】
【化23】
【0128】
【化24】
【0129】
【化25】
【0130】
式中、Ｒ”ｂ１１は、水素原子、又は置換基である。置換基は、Ｒｂｃ１～Ｒｂｃ５、及びＲｂｃ８が有してもよい置換基と同様である。
【0131】
【化26】
【0132】
式（ｂｃ－２）で表されるカチオンの好適な具体例としては、下記式（ｂｃ－２－１）～（ｂｃ－２－６）で表されるカチオンが挙げられる。
【0133】
【化27】
【0134】
光酸発生剤（ｂ１）のカチオン部としてのスルホニウムカチオンとしては、式（ｂｃ－１）、及び式（ｂｃ－２）で表されるスルホニウムカチオンが好ましい。中でも、式（ｂｃ－１－１）～式（ｂｃ－１－６）、式（ｂｃ－１－５２）～式（ｂｃ－１－６０）、式（ｂｃ－１－７６）～式（ｂｃ－１－８１）で表されるカチオンが好ましい。
【0135】
Ｍｂ１におけるヨードニウムカチオンの具体例としては、例えば、下記式（ｂｃ－３）で表されるヨードニウムカチオンが挙げられる。
【化28】
【0136】
式（ｂｃ－３）中、Ｒｂｃ９、及びＲｂｃ１０は、それぞれ独立に置換基を有してもよいアリール基を表す。Ｒｂｃ９、及びＲｂｃ１０は、互いに結合して式中のヨウ素原子とともに環を形成してもよい。
【0137】
式（ｂｃ－３）中、Ｒｂｃ９、及びＲｂｃ１０のアリール基としては、炭素原子数６以上２０以下の無置換のアリール基が挙げられる。無置換のアリール基としては、フェニル基、及びナフチル基が好ましい。Ｒｂｃ９、及びＲｂｃ１０が有していてもよい置換基としては、上記式（ｂｃ－１）、及び式（ｂｃ－２）中、Ｒｂｃ１～Ｒｂｃ５、及びＲｂｃ８が有してもよい置換基と同様の置換基が挙げられる。
【0138】
式（ｂｃ－３）で表されるカチオンの好適な具体例を以下に示す。
【化29】
【0139】
【化30】
【0140】
【化31】
【0141】
式（ｂｃ－３－３５）～（ｂｃ－３－３７）中、ｇ１、ｇ２、及びｇ３は括弧内の基の繰返し数を示す。ｇ１は１以上５の整数である。ｇ２は０以上２０以下の整数である。ｇ３は０以上２０以下の整数である。
【0142】
【化32】
【0143】
【化33】
【0144】
光酸発生剤（ｂ１）のカチオン部としてのヨードニウムカチオンとしては、式（ｂｃ－３）で表されるヨードニウムカチオンが好ましい。その中でも、式（ｂｃ－３－１）～式（ｂｃ－３－８）、及び式（ｂｃ－３－６０）～式（ｂｃ－３－６７）で表されるカチオンが好ましい。
【0145】
感光性組成物において、光酸発生剤（Ｂ）は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
感光性組成物における光酸発生剤（Ｂ）の含有量は、樹脂（Ａ）１００質量部に対して、５質量部以上５０質量部以下が好ましく、１０質量部以上４０質量部以下がより好ましく、１５質量部以上３５質量以下がさらに好ましい。
感光性組成物における光酸発生剤（Ｂ）の含有量は、樹脂（Ａ）１００質量部に対して、５質量部以上５０質量部以下が好ましく、１０質量部以上４０質量部以下がより好ましく、１５質量部以上３５質量以下がさらに好ましい。
【0146】
＜クエンチャー（Ｃ）＞
感光性組成物は、クエンチャー（Ｃ）を含む。クエンチャー（Ｃ）としては、露光により分解して酸拡散制御性を光崩壊性塩基（Ｃ－１）、光崩壊性塩基（Ｃ－１）に該当しない含窒素有機化合物（Ｃ－２）等が挙げられる。これらの中でも、高感度化、ラフネス低減、塗布欠陥の発生の抑制の特性をいずれも高められやすいことから、光崩壊性塩基（Ｃ－１）が好ましい。
感光性組成物は、クエンチャー（Ｃ）を含む。クエンチャー（Ｃ）としては、露光により分解して酸拡散制御性を光崩壊性塩基（Ｃ－１）、光崩壊性塩基（Ｃ－１）に該当しない含窒素有機化合物（Ｃ－２）等が挙げられる。これらの中でも、高感度化、ラフネス低減、塗布欠陥の発生の抑制の特性をいずれも高められやすいことから、光崩壊性塩基（Ｃ－１）が好ましい。
【0147】
〔光崩壊性塩基（Ｃ－１）〕
光崩壊性塩基（Ｃ－１）としては、露光により分解して酸拡散制御性を失うものであれば特に限定されず、下記式（ｃ１）で表される化合物（以下「（ｃ１）成分という。」）、及び下記式（ｃ２）で表される化合物（以下「（ｃ２）成分という。」）からなる群より選ばれる１種以上の化合物が好ましい。
（ｃ１）成分、及び（ｃ２）成分は、感光性組成物を用いて形成される塗布膜の露光部においては分解して酸拡散制御性（塩基性）を失うためクエンチャーとして作用せず、塗布膜の未露光部においてクエンチャーとして作用する。
光崩壊性塩基（Ｃ－１）としては、露光により分解して酸拡散制御性を失うものであれば特に限定されず、下記式（ｃ１）で表される化合物（以下「（ｃ１）成分という。」）、及び下記式（ｃ２）で表される化合物（以下「（ｃ２）成分という。」）からなる群より選ばれる１種以上の化合物が好ましい。
（ｃ１）成分、及び（ｃ２）成分は、感光性組成物を用いて形成される塗布膜の露光部においては分解して酸拡散制御性（塩基性）を失うためクエンチャーとして作用せず、塗布膜の未露光部においてクエンチャーとして作用する。
【0148】
【化34】
【0149】
式（ｃ１）中、Ｒｃ１は炭素原子数１以上２０以下の有機基であり、Ｒｃ１としての有機基は、Ｃ－Ｓ結合により、式（ｃ１）中の硫黄原子に結合し、Ｃ－Ｓ結合中の炭素原子にフッ素原子が結合せず、Ｍｃ１はスルホニウムカチオン、又はヨードニウムカチオンである。
式（ｃ２）中、Ｒｃ２は炭素原子数１以上２０以下の有機基であり、Ｍｃ２はスルホニウムカチオン、又はヨードニウムカチオンである。
以下、式（ｃ１）で表される化合物を「（ｃ１）成分」とも記す。式（ｃ２）で表される化合物を「（ｃ２）成分」とも記す。
式（ｃ２）中、Ｒｃ２は炭素原子数１以上２０以下の有機基であり、Ｍｃ２はスルホニウムカチオン、又はヨードニウムカチオンである。
以下、式（ｃ１）で表される化合物を「（ｃ１）成分」とも記す。式（ｃ２）で表される化合物を「（ｃ２）成分」とも記す。
【0150】
〔（ｃ１）成分〕
（アニオン部）
式（ｃ１）中、Ｒｃ１は、置換基を有してもよい環式基、置換基を有してもよい鎖状のアルキル基、又は置換基を有してもよい鎖状のアルケニル基であり、式（ｂｃ－ｒ－１）～式（ｂｃ－ｒ－７）中のＲ’ｂ１１と同様の基が挙げられる。
ただし、Ｒｃ１における、硫黄原子に隣接する炭素原子にはフッ素原子は結合しない（フッ素原子で置換されない）。これにより、式（ｃ１）で表される化合物のアニオンが適度な弱酸アニオンとなり、クエンチャー（Ｃ）としてのクエンチング能が向上する。
（アニオン部）
式（ｃ１）中、Ｒｃ１は、置換基を有してもよい環式基、置換基を有してもよい鎖状のアルキル基、又は置換基を有してもよい鎖状のアルケニル基であり、式（ｂｃ－ｒ－１）～式（ｂｃ－ｒ－７）中のＲ’ｂ１１と同様の基が挙げられる。
ただし、Ｒｃ１における、硫黄原子に隣接する炭素原子にはフッ素原子は結合しない（フッ素原子で置換されない）。これにより、式（ｃ１）で表される化合物のアニオンが適度な弱酸アニオンとなり、クエンチャー（Ｃ）としてのクエンチング能が向上する。
【0151】
Ｒｃ１としては、置換基を有してもよい鎖状のアルキル基、又は置換基を有してもよい脂肪族環式基であることが好ましい。鎖状のアルキル基の炭素原子数は、１以上１０以下が好ましく、３以上１０以下がより好ましい。
脂肪族環式基としては、アダマンタン、ノルボルナン、イソボルナン、トリシクロデカン、テトラシクロドデカン等から１個以上の水素原子を除いた基；カンファー等から１個以上の水素原子を除いた基であることがより好ましい。これらの脂肪族環式基は、置換基を有してもよい。
Ｒｃ１としての炭化水素基は、置換基を有していてもよい。置換基としては、水酸基、オキソ基、アルキル基、アリール基、フッ素原子、ヨウ素原子、臭素原子、フッ素化アルキル基、ラクトン含有環式基、及びこれらの組み合わせが挙げられる。また、Ｒｃ１としての炭化水素基が鎖状のアルキル基であるか、アルキレン基を含む場合、鎖状のアルキル基、及びアルキレン基は、エーテル結合、又はエステル結合で中断されていてもよく、末端にエーテル結合、又はエステル結合を有してもよい。
脂肪族環式基としては、アダマンタン、ノルボルナン、イソボルナン、トリシクロデカン、テトラシクロドデカン等から１個以上の水素原子を除いた基；カンファー等から１個以上の水素原子を除いた基であることがより好ましい。これらの脂肪族環式基は、置換基を有してもよい。
Ｒｃ１としての炭化水素基は、置換基を有していてもよい。置換基としては、水酸基、オキソ基、アルキル基、アリール基、フッ素原子、ヨウ素原子、臭素原子、フッ素化アルキル基、ラクトン含有環式基、及びこれらの組み合わせが挙げられる。また、Ｒｃ１としての炭化水素基が鎖状のアルキル基であるか、アルキレン基を含む場合、鎖状のアルキル基、及びアルキレン基は、エーテル結合、又はエステル結合で中断されていてもよく、末端にエーテル結合、又はエステル結合を有してもよい。
【0152】
（ｃ１）成分におけるアニオン部の好ましい具体例を以下に示す。
【化35】
【0153】
（カチオン部）
式（ｃ１）中、Ｍｃ１はスルホニウムカチオン、又はヨードニウムカチオンである。
スルホニウムカチオンとしては、上記式（ｂｃ－１－１）～式（ｂｃ－１－１１１）で表されるカチオンと同様のカチオンが好ましい。これらの中でも、上記式（ｂｃ－１－７０）～（ｂｃ－１－８１）で表されるカチオンが好ましい。すなわち、フッ素原子を有するカチオンがカチオン部として好ましい。
ヨードニウムカチオンとしては、上記式（ｂｃ－３－１）～式（ｂｃ－１－７５）で表されるカチオンと同様のカチオンが好ましい。これらの中でも、上記式（ｂｃ－３－６０）～式（ｂｃ－１－６７）で表されるカチオンが好ましい。すなわち、フッ素原子を有するカチオンがカチオン部として好ましい。
式（ｃ１）中、Ｍｃ１はスルホニウムカチオン、又はヨードニウムカチオンである。
スルホニウムカチオンとしては、上記式（ｂｃ－１－１）～式（ｂｃ－１－１１１）で表されるカチオンと同様のカチオンが好ましい。これらの中でも、上記式（ｂｃ－１－７０）～（ｂｃ－１－８１）で表されるカチオンが好ましい。すなわち、フッ素原子を有するカチオンがカチオン部として好ましい。
ヨードニウムカチオンとしては、上記式（ｂｃ－３－１）～式（ｂｃ－１－７５）で表されるカチオンと同様のカチオンが好ましい。これらの中でも、上記式（ｂｃ－３－６０）～式（ｂｃ－１－６７）で表されるカチオンが好ましい。すなわち、フッ素原子を有するカチオンがカチオン部として好ましい。
【0154】
〔（ｃ２）成分〕
（アニオン部）
式（ｃ２）中、Ｒｃ２は、置換基を有してもよい環式基、置換基を有してもよい鎖状のアルキル基、又は置換基を有してもよい鎖状のアルケニル基であり、それぞれ式（ｂｃ－ｒ－１）～式（ｂｃ－ｒ－７）中のＲ’ｂ１１と同様の基が挙げられる。
これらの中でも、Ｒｃ２としては、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよい脂肪族環式基、及び置換基を有してもよい鎖状のアルキル基が好ましい。
これらの基が有していてもよい置換基としては、水酸基、オキソ基、アルキル基、アリール基、フッ素原子、ヨウ素原子、臭素原子、フッ素化アルキル基、及びこれらの組み合わせが挙げられる。エーテル結合やエステル結合を置換基として含む場合、アルキレン基を介していてもよく、この場合の置換基としては、上記式（ｂ－ｙ－１）～（ｂ－ｙ－５）でそれぞれ表される連結基が好ましい。
また、Ｒｃ２が、鎖状のアルキル基であるか、アルキレン基を含む場合、鎖状のアルキル基、及びアルキレン基は、エーテル結合、又はエステル結合で中断されていてもよく、末端にエーテル結合、又はエステル結合を有してもよい。
（アニオン部）
式（ｃ２）中、Ｒｃ２は、置換基を有してもよい環式基、置換基を有してもよい鎖状のアルキル基、又は置換基を有してもよい鎖状のアルケニル基であり、それぞれ式（ｂｃ－ｒ－１）～式（ｂｃ－ｒ－７）中のＲ’ｂ１１と同様の基が挙げられる。
これらの中でも、Ｒｃ２としては、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよい脂肪族環式基、及び置換基を有してもよい鎖状のアルキル基が好ましい。
これらの基が有していてもよい置換基としては、水酸基、オキソ基、アルキル基、アリール基、フッ素原子、ヨウ素原子、臭素原子、フッ素化アルキル基、及びこれらの組み合わせが挙げられる。エーテル結合やエステル結合を置換基として含む場合、アルキレン基を介していてもよく、この場合の置換基としては、上記式（ｂ－ｙ－１）～（ｂ－ｙ－５）でそれぞれ表される連結基が好ましい。
また、Ｒｃ２が、鎖状のアルキル基であるか、アルキレン基を含む場合、鎖状のアルキル基、及びアルキレン基は、エーテル結合、又はエステル結合で中断されていてもよく、末端にエーテル結合、又はエステル結合を有してもよい。
【0155】
Ｒｃ２としての環式基としては、フェニル基、ナフチル基、及びビシクロオクタン骨格を含む多環構造が好適に挙げられる。
Ｒｃ２が脂肪増環式基である場合、脂肪族環式基としては、アダマンチル基、ノルボルニル基、イソボルニル基、トリシクロデカニル基、テトラシクロドデカニル基等のポリシクロアルカンから１個以上の水素原子を除いた基であることがより好ましい。
Ｒｃ２が鎖状のアルキル基である場合、鎖状のアルキル基の炭素原子数は、１以上１０以下が好ましい。鎖状のアルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、ｎ－ヘプチル基、ｎ－オクチル基、ｎ－ノニル基、及びｎ－デシル基等の直鎖状のアルキル基；１－メチルエチル基、１－メチルプロピル基、２－メチルプロピル基、１－メチルブチル基、２－メチルブチル基、３－メチルブチル基、１－エチルブチル基、２－エチルブチル基、１－メチルペンチル基、２－メチルペンチル基、３－メチルペンチル基、４－メチルペンチル基等の分岐鎖状のアルキル基が挙げられる。
Ｒｃ２が脂肪増環式基である場合、脂肪族環式基としては、アダマンチル基、ノルボルニル基、イソボルニル基、トリシクロデカニル基、テトラシクロドデカニル基等のポリシクロアルカンから１個以上の水素原子を除いた基であることがより好ましい。
Ｒｃ２が鎖状のアルキル基である場合、鎖状のアルキル基の炭素原子数は、１以上１０以下が好ましい。鎖状のアルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、ｎ－ヘプチル基、ｎ－オクチル基、ｎ－ノニル基、及びｎ－デシル基等の直鎖状のアルキル基；１－メチルエチル基、１－メチルプロピル基、２－メチルプロピル基、１－メチルブチル基、２－メチルブチル基、３－メチルブチル基、１－エチルブチル基、２－エチルブチル基、１－メチルペンチル基、２－メチルペンチル基、３－メチルペンチル基、４－メチルペンチル基等の分岐鎖状のアルキル基が挙げられる。
【0156】
鎖状のアルキル基が、フッ素化アルキル基である場合、フッ素化アルキル基の炭素原子数は、１以上１１以下が好ましく、１以上８以下がより好ましく、１以上４以下さらに好ましい。フッ素化アルキル基は、フッ素原子以外の原子を含有してもよい。フッ素原子以外の原子としては、例えば、酸素原子、硫黄原子、及び窒素原子等が挙げられる。
【0157】
（ｃ２）成分におけるアニオン部の好ましい具体例を以下に示す。
【化36】
【0158】
（カチオン部）
式（ｃ２）中、Ｍｃ１はスルホニウムカチオン、又はヨードニウムカチオンである。
スルホニウムカチオンとしては、上記式（ｂｃ－１－１）～式（ｂｃ－１－１１１）で表されるカチオンと同様のカチオンが好ましい。これらの中でも、上記式（ｂｃ－１－７０）～式（ｂｃ－１－８１）で表されるカチオンが好ましい。すなわち、フッ素原子を有するカチオンがカチオン部として好ましい。
ヨードニウムカチオンとしては、上記式（ｂｃ－３－１）～式（ｂｃ－１－７５）で表されるカチオンと同様のカチオンが好ましい。これらの中でも、上記式（ｂｃ－３－６０）～式（ｂｃ－１－６７）で表されるカチオンが好ましい。すなわち、フッ素原子を有するカチオンがカチオン部として好ましい。
式（ｃ２）中、Ｍｃ１はスルホニウムカチオン、又はヨードニウムカチオンである。
スルホニウムカチオンとしては、上記式（ｂｃ－１－１）～式（ｂｃ－１－１１１）で表されるカチオンと同様のカチオンが好ましい。これらの中でも、上記式（ｂｃ－１－７０）～式（ｂｃ－１－８１）で表されるカチオンが好ましい。すなわち、フッ素原子を有するカチオンがカチオン部として好ましい。
ヨードニウムカチオンとしては、上記式（ｂｃ－３－１）～式（ｂｃ－１－７５）で表されるカチオンと同様のカチオンが好ましい。これらの中でも、上記式（ｂｃ－３－６０）～式（ｂｃ－１－６７）で表されるカチオンが好ましい。すなわち、フッ素原子を有するカチオンがカチオン部として好ましい。
【0159】
（ｃ２）成分は、感度向上の観点からは、上記の中でも下記式（ｃ０）で表される化合物（以下「（ｃ０）成分」という。）を含むことが好ましい。
【0160】
【化37】
【0161】
式（ｃ０）中、Ｘ０は、臭素原子、又はヨウ素原子である。Ｒｍは、ヒドロキシ基、アルキル基、フッ素原子、又は塩素原子である。ｎｃ１は、１以上５以下の整数である。ｎｃ２は、０以上４以下の整数である。ｎｃ１＋ｎｃ２は、１以上５以下である。Ｙｃ０は、２価の連結基、又は単結合である。Ｍｃ０は、スルホニウムカチオン、又はヨードニウムカチオンである。
【0162】
〔（ｃ０）成分〕
（アニオン部）
式（ｃ０）中、Ｘ０は、臭素原子、又はヨウ素原子であり、ヨウ素原子がより好ましい。
（アニオン部）
式（ｃ０）中、Ｘ０は、臭素原子、又はヨウ素原子であり、ヨウ素原子がより好ましい。
【0163】
式（ｃ０）中、Ｒｍは、ヒドロキシ基、アルキル基、フッ素原子、又は塩素原子である。Ｒｍとしてのアルキル基としては、炭素原子数１以上５以下のアルキル基が好ましく、メチル基、及びエチル基がより好ましい。
【0164】
式（ｃ０）中、ｎｃ１は、１以上５以下の整数である。ｎｃ２は、０以上４以下の整数である。ｎｃ１＋ｎｃ２は、１以上５以下である。
ｎｃ１は、１以上３以下の整数であることが好ましく、放射線の吸収性の点から、２又は３であることがより好ましく、３であることがさらに好ましい。
ｎｃ２は、０以上３以下の整数であることが好ましく、０又は１であることがより好ましく、０であることがさらに好ましい。
ｎｃ１は、１以上３以下の整数であることが好ましく、放射線の吸収性の点から、２又は３であることがより好ましく、３であることがさらに好ましい。
ｎｃ２は、０以上３以下の整数であることが好ましく、０又は１であることがより好ましく、０であることがさらに好ましい。
【0165】
式（ｃ０）中、Ｙｃ０は、２価の連結基、又は単結合である。Ｙｃ０における２価の連結基としては、酸素原子を含む２価の連結基が好適に挙げられる。
Ｙｃ０が酸素原子を含む２価の連結基である場合、Ｙｃ０は、酸素原子以外の原子を含んでもよい。酸素原子以外の原子としては、例えば、炭素原子、水素原子、硫黄原子、及び窒素原子等が挙げられる。
酸素原子を含む２価の連結基としては、例えば、酸素原子（－Ｏ－）、－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＨ－、カルボニル基、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－等の酸素原子含有連結基；酸素原子含有連結基とアルキレン基との組み合わせ等が挙げられる。この組み合わせに、さらにスルホニル基（－ＳＯ２－）が連結されていてもよい。
Ｙｃ０としては、酸素原子を含む２価の連結基、又は単結合であることが好ましく、単結合であることがより好ましい。
Ｙｃ０が酸素原子を含む２価の連結基である場合、Ｙｃ０は、酸素原子以外の原子を含んでもよい。酸素原子以外の原子としては、例えば、炭素原子、水素原子、硫黄原子、及び窒素原子等が挙げられる。
酸素原子を含む２価の連結基としては、例えば、酸素原子（－Ｏ－）、－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＨ－、カルボニル基、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－等の酸素原子含有連結基；酸素原子含有連結基とアルキレン基との組み合わせ等が挙げられる。この組み合わせに、さらにスルホニル基（－ＳＯ２－）が連結されていてもよい。
Ｙｃ０としては、酸素原子を含む２価の連結基、又は単結合であることが好ましく、単結合であることがより好ましい。
【0166】
（ｃ０）成分のアニオン部の具体例を以下に示す。
【0167】
【化38】
【0168】
（カチオン部）
式（ｃ０）中、Ｍｃ０はスルホニウムカチオン、又はヨードニウムカチオンである。
スルホニウムカチオンとしては、上記式（ｂｃ－１－１）～式（ｂｃ－１－１１１）で表されるカチオンと同様のカチオンが好ましい。これらの中でも、上記式（ｂｃ－１－７０）～式（ｂｃ－１－８１）で表されるカチオンが好ましい。
ヨードニウムカチオンとしては、上記式（ｂｃ－３－１）～式（ｂｃ－１－７５）で表されるカチオンと同様のカチオンが好ましい。これらの中でも、上記式（ｂｃ－３－６０）～式（ｂｃ－１－６７）で表されるカチオンが好ましい。
式（ｃ０）中、Ｍｃ０はスルホニウムカチオン、又はヨードニウムカチオンである。
スルホニウムカチオンとしては、上記式（ｂｃ－１－１）～式（ｂｃ－１－１１１）で表されるカチオンと同様のカチオンが好ましい。これらの中でも、上記式（ｂｃ－１－７０）～式（ｂｃ－１－８１）で表されるカチオンが好ましい。
ヨードニウムカチオンとしては、上記式（ｂｃ－３－１）～式（ｂｃ－１－７５）で表されるカチオンと同様のカチオンが好ましい。これらの中でも、上記式（ｂｃ－３－６０）～式（ｂｃ－１－６７）で表されるカチオンが好ましい。
【0169】
〔含窒素有機化合物（Ｃ－２）〕
含窒素有機化合物（Ｃ－２）としては、通常、低分子化合物（非重合体）が用いられている。含窒素有機化合物（Ｃ－２）としては、例えば、脂肪族アミン、芳香族アミン等のアミンが挙げられる。クエンチャー（Ｄ）としては、脂肪族アミンが好ましく、第二級脂肪族アミン、及び第三級脂肪族アミンが特に好ましい。ここで、脂肪族アミンとは、１つ以上の脂肪族基を有するアミンである。脂肪族アミンが有する脂肪族基の炭素原子数は、１以上２０以下が好ましい。
含窒素有機化合物（Ｃ－２）としては、通常、低分子化合物（非重合体）が用いられている。含窒素有機化合物（Ｃ－２）としては、例えば、脂肪族アミン、芳香族アミン等のアミンが挙げられる。クエンチャー（Ｄ）としては、脂肪族アミンが好ましく、第二級脂肪族アミン、及び第三級脂肪族アミンが特に好ましい。ここで、脂肪族アミンとは、１つ以上の脂肪族基を有するアミンである。脂肪族アミンが有する脂肪族基の炭素原子数は、１以上２０以下が好ましい。
【0170】
脂肪族アミンとしては、例えば、アンモニア（ＮＨ３）の水素原子の少なくとも１つが、炭素原子数２０以下のアルキル基で置換されたアルキルアミン、アンモニア（ＮＨ３）の水素原子の少なくとも１つがヒドロキシアルキル基で置換されたアルカノールアミン、及び環式アミンが挙げられる。
【0171】
アルキルアミン及びアルカノールアミンの具体例としては、ｎ－ヘキシルアミン、ｎ－ヘプチルアミン、ｎ－オクチルアミン、ｎ－ノニルアミン、ｎ－デシルアミン等のモノアルキルアミン；ジエチルアミン、ジ－ｎ－プロピルアミン、ジ－ｎ－ヘプチルアミン、ジ－ｎ－オクチルアミン、ジシクロヘキシルアミン等のジアルキルアミン；トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリ－ｎ－プロピルアミン、トリ－ｎ－ブチルアミン、トリ－ｎ－ペンチルアミン、トリ－ｎ－ヘキシルアミン、トリ－ｎ－ヘプチルアミン、トリ－ｎ－オクチルアミン、トリ－ｎ－ノニルアミン、トリ－ｎ－デシルアミン、トリ－ｎ－ドデシルアミン等のトリアルキルアミン；ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、ジイソプロパノールアミン、トリイソプロパノールアミン、ジ－ｎ－オクタノールアミン、トリ－ｎ－オクタノールアミン、ステアリルジエタノールアミン、ラウリルジエタノールアミン等のアルカノールアミンが挙げられる。これらのなかでは、トリアルキルアミン、及びアルカノールアミンが好ましい。
【0172】
環式アミンとしては、例えば、含窒素複素環化合物が挙げられる。含窒素複素環化合物としては、単環式脂肪族アミンであっても、多環式脂肪族アミンであってもよい。
【0173】
脂肪族単環式アミンとして、具体的には、ピペリジン、及びピペラジン等が挙げられる。脂肪族多環式アミンの炭素原子数は、６以上１０以下が好ましい。脂肪族多環式アミンとして、具体的には、１，５－ジアザビシクロ［４．３．０］－５－ノネン、１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］－７－ウンデセン、ヘキサメチレンテトラミン、及び１，４－ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン等が挙げられる。
【0174】
その他の脂肪族アミンとしては、具体的には、トリス（２－メトキシメトキシエチル）アミン、トリス｛２－（２－メトキシエトキシ）エチル｝アミン、トリス｛２－（２－メトキシエトキシメトキシ）エチル｝アミン、トリス｛２－（１－メトキシエトキシ）エチル｝アミン、トリス｛２－（１－エトキシエトキシ）エチル｝アミン、トリス｛２－（１－エトキシプロポキシ）エチル｝アミン、トリス［２－｛２－（２－ヒドロキシエトキシ）エトキシ｝エチル］アミン等が挙げられる。
【0175】
芳香族アミンとしては、具体的には、アニリン、ピリジン、４－ジメチルアミノピリジン、ピロール、インドール、ピラゾール、イミダゾール又はこれらの誘導体、ジフェニルアミン、トリフェニルアミン、トリベンジルアミン、２，６－ジイソプロピルアニリン、２，２’－ジピリジル、４，４’－ジピリジル等が挙げられる。
【0176】
感光性組成物において、クエンチャー（Ｃ）は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
感光性組成物におけるクエンチャー（Ｃ）の含有量は、樹脂（Ａ１）１００質量部に対して、１質量部以上６０質量部以下が好ましく、５質量部以上５０質量部以下がより好ましく、２０質量部以上４５質量部以下がさらに好ましい。
感光性組成物におけるクエンチャー（Ｃ）の含有量は、樹脂（Ａ１）１００質量部に対して、１質量部以上６０質量部以下が好ましく、５質量部以上５０質量部以下がより好ましく、２０質量部以上４５質量部以下がさらに好ましい。
【0177】
＜架橋剤（Ｄ）＞
感光性組成物は、架橋剤（Ｄ）を含む。架橋剤（Ｄ）は、露光により光酸発生剤（Ｂ）が発生させる酸の作用により、樹脂（Ａ）を架橋する化合物であれば特に限定されない。架橋剤（Ｄ）は、分子中に、メチロール基、アルコキシメチル基、及びアシロキシメチル基から選択される基を２以上有する化合物であるメチロール型架橋剤（Ｄ１）が好ましい。
アルコキシメチル基中のアルコキシ基、アシロキシメチル基中のアシル基は、ハロゲン原子で置換されていてもよい。架橋剤（Ｄ１）は、メチロール基、及びアルコキシメチル基から選択される基を２つ以上有する化合物であるのが好ましい。
感光性組成物が架橋剤（Ｄ１）を含む場合、感光性組成物を加熱することにより、樹脂（Ａ）が架橋剤（Ｄ１）により架橋される。その結果、耐薬品に優れる硬化物が形成される。
また、感光性組成物からなる塗布膜を露光、及び現像によりパターニングした後に、パターニングされた塗布膜を加熱することで、樹脂（Ａ）が架橋剤により架橋される。その結果、耐薬品性に優れる、パターン化された樹脂膜（硬化膜）が形成される。
感光性組成物は、架橋剤（Ｄ）を含む。架橋剤（Ｄ）は、露光により光酸発生剤（Ｂ）が発生させる酸の作用により、樹脂（Ａ）を架橋する化合物であれば特に限定されない。架橋剤（Ｄ）は、分子中に、メチロール基、アルコキシメチル基、及びアシロキシメチル基から選択される基を２以上有する化合物であるメチロール型架橋剤（Ｄ１）が好ましい。
アルコキシメチル基中のアルコキシ基、アシロキシメチル基中のアシル基は、ハロゲン原子で置換されていてもよい。架橋剤（Ｄ１）は、メチロール基、及びアルコキシメチル基から選択される基を２つ以上有する化合物であるのが好ましい。
感光性組成物が架橋剤（Ｄ１）を含む場合、感光性組成物を加熱することにより、樹脂（Ａ）が架橋剤（Ｄ１）により架橋される。その結果、耐薬品に優れる硬化物が形成される。
また、感光性組成物からなる塗布膜を露光、及び現像によりパターニングした後に、パターニングされた塗布膜を加熱することで、樹脂（Ａ）が架橋剤により架橋される。その結果、耐薬品性に優れる、パターン化された樹脂膜（硬化膜）が形成される。
【0178】
感光性組成物を加熱して得られる硬化物の耐薬品性の点で、架橋剤（Ｄ１）における、１分子中のメチロール基、及びアルコキシメチル基から選択される基の数は、２以上１０以下が好ましく、２以上８以下がより好ましく、２以上４以下がさらに好ましい。
【0179】
アルコキシメチル基中のアルコキシ基の炭素原子数は、１以上６以下が好ましく、１以上４以下がより好ましく、１以上３以下がさらに好ましく、１又は２が特に好ましく、１が最も好ましい。つまり、アルコキシメチル基としてはメトキシメチル基が最も好ましい。
アルコキシメチル基中のあるアルコキシ基は、直鎖状であっても、分岐鎖状であってもよく、直鎖状であるのが好ましい。
アルコキシメチル基中のあるアルコキシ基は、直鎖状であっても、分岐鎖状であってもよく、直鎖状であるのが好ましい。
【0180】
アシロキシメチル基中のアシロキシ基は、Ｒ－ＣＯ－Ｏ－で表される基であれば特に限定されない。Ｒは、有機基である。Ｒは、Ｃ－Ｃ結合によって、カルボニル基と結合する。Ｒとしての有機基としては、アルキル基、及びアリール基が好ましく、アルキル基がより好ましい。Ｒとしての有機基の炭素源原子数は、１以上２０以下が好ましく、１以上１２以下がより好ましく、１以上６以下がさらに好ましい。
【0181】
架橋剤（Ｄ１）の好適な例としては、メラミン系化合物、グアナミン系化合物、尿素系化合物、レゾール樹脂、及び芳香環上にメチロール基又はアルコキシメチル基を有する芳香族化合物等が挙げられる。
これらの中では、メラミン系化合物、グアナミン系化合物、及び尿素系化合物から選択される１種以上が好ましい。
これらの中では、メラミン系化合物、グアナミン系化合物、及び尿素系化合物から選択される１種以上が好ましい。
【0182】
芳香環上にメチロール基、又はアルコキシメチル基を有する芳香族化合物としては、特開２０１３－０６４８２９号公報の段落［０１３６］～［０１３９］に記載される化合物、及び特開平１０－０１２０９４０号公報の段落［００２９］～［００３６］に記載されたる化合物が挙げられる。
【0183】
架橋剤（Ｄ１）としては、窒素原子に結合するメチロール基、又は窒素原子に結合するアルコキシメチル基を有する化合物が特に好ましい。
窒素原子に結合するメチロール基、又は窒素原子に結合するアルコキシメチル基を有する架橋剤（Ｄ１）としては、メラミン系化合物、グアナミン系化合物、及び尿素系化合物が好ましく、メラミン系化合物、及びメチロールウレア化合物がより好ましく、メラミン系化合物がさらに好ましい。
窒素原子に結合するメチロール基、又は窒素原子に結合するアルコキシメチル基を有する架橋剤（Ｄ１）としては、メラミン系化合物、グアナミン系化合物、及び尿素系化合物が好ましく、メラミン系化合物、及びメチロールウレア化合物がより好ましく、メラミン系化合物がさらに好ましい。
【0184】
メラミン系化合物としては、下記式（ｄ１）で表される化合物が好ましい。
【化39】
【0185】
式（ｄ１）中、Ｒｄ１１～Ｒｄ１６は、それぞれ独立に、水素原子、又は－ＣＨ２－Ｏ－Ｒｄで表される基である。Ｒｄは、水素原子、又は炭素原子数１以上６以下のアルキル基である。ただし、Ｒｄ１１～Ｒｄ１６の少なくとも２つは、－ＣＨ２－Ｏ－Ｒｄで表される基である。
【0186】
Ｒｄとしてのアルキル基は、直鎖状であっても、分岐鎖状であってもよく、直鎖状であるのが好ましい。Ｒｄとしてのアルキル基の炭素原子数は、１以上６以下であり、１以上４以下が好ましく、１以上３以下がより好ましく、１、又は２がさらに好ましく、１が特に好ましい。
【0187】
式（ｄ１）中、Ｒｄ１１～Ｒｄ１６のうちの－ＣＨ２－Ｏ－Ｒｄで表される基の数は、４以上６が好ましく、５、又は６がより好ましく、６がさらに好ましい。
【0188】
グアナミン系化合物としては、下記式（ｄ２）で表される化合物が好ましい。
【化40】
【0189】
式（ｄ２）において、Ｒｄ２１は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、又はアリール基である。Ｒｄ２２～Ｒｄ２５は、それぞれ独立に、水素原子、又は－ＣＨ２－Ｏ－Ｒｄで表される基である。Ｒｄ２２～Ｒｄ２５の少なくとも２つは、－ＣＨ２－Ｏ－Ｒｄで表される基である。
【0190】
Ｒｄ２１としてのアルキル基は、直鎖状であっても、分岐鎖状であってもよく、直鎖状であるのが好ましい。Ｒｄ２１としてのアルキル基の炭素原子数は、１以上６以下が好ましく、１以上４以下がより好ましく、１以上３以下がさらに好ましく、１、又は２がさらにより好ましく、１が特に好ましい。
Ｒｄ２１としてのシクロアルキル基の炭素原子数は、３以上１０以下が好ましく、３以上８以下がより好ましく、４以上７以下がさらに好ましく、５、又は６が特に好ましい。
Ｒｄ２１としてのアリール基の炭素原子数は、６以上１４以下が好ましく、６以上１０以下がより好ましい。アリール基としては、フェニル基が好ましい。
Ｒｄ２１としては、水素原子、メチル基、及びフェニル基が好ましく、水素原子、及びフェニル基がより好ましく、フェニル基がさらに好ましい。
Ｒｄ２１としてのシクロアルキル基の炭素原子数は、３以上１０以下が好ましく、３以上８以下がより好ましく、４以上７以下がさらに好ましく、５、又は６が特に好ましい。
Ｒｄ２１としてのアリール基の炭素原子数は、６以上１４以下が好ましく、６以上１０以下がより好ましい。アリール基としては、フェニル基が好ましい。
Ｒｄ２１としては、水素原子、メチル基、及びフェニル基が好ましく、水素原子、及びフェニル基がより好ましく、フェニル基がさらに好ましい。
【0191】
式（ｄ２）中、Ｒｄ２２～Ｒｄ２５のうちの－ＣＨ２－Ｏ－Ｒｄで表される基の数は、２以上４以下が好ましく、３、又は４がより好ましく、４がさらに好ましい。
【0192】
尿素系化合物としては、下記式（ｄ３）で表される化合物が好ましい。
【化41】
【0193】
式（ｄ３）において、Ｒｄ３１、及びＲｄ３３は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、又はシクロアルキル基である。Ｒｄ３２、及びＲｄ３４は、－ＣＨ２－Ｏ－Ｒｄで表される基である。Ｒｄ３１、及びＲｄ３３は、互いに結合して環を形成してもよい。Ｒｄ３１、及びＲｄ３３が結合して形成される環には、他の環が縮合していてもよい。式（ｄ３）で表され、Ｒｄ３１、及びＲｄ３３が結合して形成される環を含む化合物同士が縮合してもよい。
【0194】
Ｒｄ３１、又はＲｄ３３としてのアルキル基は、直鎖状であっても、分岐鎖状であってもよく、直鎖状であるのが好ましい。Ｒｄ３１、又はＲｄ３３としてのアルキル基の炭素原子数は、１以上８以下が好ましく、１以上６以下がより好ましく、１以上４以下がさらに好ましい。
Ｒｄ３１、又はＲｄ３３としてのシクロアルキル基の炭素原子数は、３以上１０以下が好ましく、３以上８以下がより好ましく、４以上７以下がさらに好ましく、５、又は６が特に好ましい。
Ｒｄ３１、又はＲｄ３３としてのシクロアルキル基の炭素原子数は、３以上１０以下が好ましく、３以上８以下がより好ましく、４以上７以下がさらに好ましく、５、又は６が特に好ましい。
【0195】
式（ｄ３）において、Ｒｄ３１、及びＲｄ３３は、ともに水素原子であるか、互いに結合して環を形成するのが好ましい。Ｒｄ３１、及びＲｄ３３が環を形成する場合、式（ｄ３）で表される化合物は、好ましくは、下記式（ｄ４）、又は下記式（ｄ５）で表される化合物である。下記式（ｄ５）で表される化合物は、メチロールグリコールウリル化合物とも称される。
【化42】
【0196】
式（ｄ４）中、Ｒｄ４１、及びＲｄ４２は、－ＣＨ２－Ｏ－Ｒｄで表される基である。Ｒｄ４３、及びＲｄ４４は、水素原子、又は１価の有機基である。Ｌは、単結合、又は２価の連結基である。
【0197】
式（ｄ４）において、Ｒｄ４１、及びＲｄ４２は、いずれもメトキシメチル基であるのが好ましい。
【0198】
式（ｄ４）において、Ｒｄ４３、及びＲｄ４４は、１価の有機基であるのが好ましい。１価の有機基としては、特に限定されない。１価の有機基としては、アルキル基、及びアルコキシ基が好ましく、アルコキシ基がより好ましい。アルキル基、及びアルコキシ基の炭素原子数は、１以上６以下が好ましく、１以上４以下がより好ましく、１以上３以下がさらに好ましく、１、又は２が特に好ましく、１が最も好ましい。
【0199】
式（ｄ４）において、Ｌは、単結合であるのが好ましい。Ｌとしての２価の連結基としては、アルキレン基が好ましい。アルキレン基は、酸素原子、カルボニル基、又はカルボン酸エステル結合で中断されていてもよい。
【0200】
式（ｄ５）中、Ｒｄ５１～Ｒｄ５４は、水素原子、又は－ＣＨ２－Ｏ－Ｒｄで表される基である。Ｒｄ５１～Ｒｄ５４のうちの少なくとも２つは、－ＣＨ２－Ｏ－Ｒｄで表される基である。Ｒｄ５１～Ｒｄ５４としての－ＣＨ２－Ｏ－Ｒｄで表される基の数は、３、又は４が好ましく、４がより好ましい。
【0201】
以上説明した架橋剤（Ｄ１）の好適な具体例としては、以下の化合物が挙げられる。
【化43】
【0202】
【化44】
【0203】
【化45】
【0204】
架橋剤（Ｄ１）としては、市販品を用いることもできる。市販品の具体例としては、例えば、ニカラックＭＸ－２７０、ニカラックＭＷ－１００ＬＭ、ニカラックＭＸ－２８０、及びニカラックＭＸ－２９０（いずれも三和ケミカル社製）が挙げられる。
【0205】
架橋剤（Ｄ１）は、１種を単独で使用されてもよく、２種以上を組み合わせて使用されてもよい。
【0206】
感光性組成物における、架橋剤（Ｄ１）の含有量は、所望する効果が損なわれない限り特に限定されない。感光性組成物における、架橋剤（Ｄ１）の含有量は、樹脂（Ａ）１００質量部に対して、１．０質量部以上２０．０質量部以下が好ましく、１．０質量部以上１５．０質量以下がより好ましく、１．０質量部以上１０．０質量部以下が特に好ましい。
【0207】
＜溶剤（Ｓ）＞
感光性組成物は、塗布性の調整の目的等で溶媒を含んでいてもよい。溶媒の種類は特に限定されないが、典型的には有機溶媒である。
感光性組成物は、塗布性の調整の目的等で溶媒を含んでいてもよい。溶媒の種類は特に限定されないが、典型的には有機溶媒である。
【0208】
感光性組成物に配合され得る有機溶媒としては、例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコール－ｎ－プロピルエーテル、エチレングリコールモノ－ｎ－ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ－ｎ－プロピルエーテル、ジエチレングリコールモノ－ｎ－ブチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノ－ｎ－プロピルエーテル、プロピレングリコールモノ－ｎ－ブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノ－ｎ－プロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノ－ｎ－ブチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノエチルエーテル等の（ポリ）アルキレングリコールモノアルキルエーテル類；エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等の（ポリ）アルキレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類；ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等の他のエーテル類；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、２－ヘプタノン、３－ヘプタノン等のケトン類；２－ヒドロキシプロピオン酸メチル、２－ヒドロキシプロピオン酸エチル等の乳酸アルキルエステル類；２－ヒドロキシ－２－メチルプロピオン酸エチル、３－メトキシプロピオン酸メチル、３－メトキシプロピオン酸エチル、３－エトキシプロピオン酸メチル、３－エトキシプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、２－ヒドロキシ－３－メチルブタン酸メチル、３－メチル－３－メトキシブチルアセテート、３－メチル－３－メトキシブチルプロピオネート、酢酸エチル、酢酸ｎ－プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ｎ－ブチル、酢酸イソブチル、蟻酸ｎ－ペンチル、酢酸イソペンチル、プロピオン酸ｎ－ブチル、酪酸エチル、酪酸ｎ－プロピル、酪酸イソプロピル、酪酸ｎ－ブチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸ｎ－プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、２－オキソブタン酸エチル等の他のエステル類；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；Ｎ－メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド等のアミド類等が挙げられる。これらの溶剤は、単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【0209】
上記溶剤の中でも、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＧＰＭＥＡ）、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル（ＭＥＤＧ）、シクロヘキサノン、及び３－メトキシブチルアセテート（ＭＢＡ）が好ましく、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートが特に好ましい。
感光性組成物中、溶剤（Ｓ）の含有量は、樹脂（Ａ）１００質量部に対して、５００質量部以上３０，０００質量部以下であることが好ましく、１，０００質量部以上２０，０００質量部以下であることがより好ましい。含有量が上記範囲内であると、感光性組成物の塗布性が向上しやすく、感光性組成物を用いて形成される感光性組成物を用いて形成される塗布膜の膜厚の調整が容易である。
感光性組成物中、溶剤（Ｓ）の含有量は、樹脂（Ａ）１００質量部に対して、５００質量部以上３０，０００質量部以下であることが好ましく、１，０００質量部以上２０，０００質量部以下であることがより好ましい。含有量が上記範囲内であると、感光性組成物の塗布性が向上しやすく、感光性組成物を用いて形成される感光性組成物を用いて形成される塗布膜の膜厚の調整が容易である。
【0210】
＜その他の成分（Ｅ）＞
感光性組成物は、所望する効果が損なわれない範囲で、上記の各成分とともに、種々の添加剤を含んでいてもよい。添加剤は、従来より、感光性組成物に配合されている種々の添加剤から適宜選択され得る。その他の成分の具体例としては、ポリビニル樹脂、界面活性剤、並びに酸又は酸無水物等が挙げられる。
感光性組成物は、所望する効果が損なわれない範囲で、上記の各成分とともに、種々の添加剤を含んでいてもよい。添加剤は、従来より、感光性組成物に配合されている種々の添加剤から適宜選択され得る。その他の成分の具体例としては、ポリビニル樹脂、界面活性剤、並びに酸又は酸無水物等が挙げられる。
【0211】
感光性組成物は、形成される被膜の可塑性を向上させるため、ポリビニル樹脂を含有していてもよい。ポリビニル樹脂の具体例としては、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン、ポリヒドロキシスチレン、ポリ酢酸ビニル、ポリビニル安息香酸、ポリビニルメチルエーテル、ポリビニルエチルエーテル、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリビニルフェノール、及びこれらの共重合体等が挙げられる。
【0212】
感光性組成物は、支持体との接着性を向上させるため、密着助剤を含有していてもよい。
【0213】
感光性組成物は、塗布性、消泡性、レベリング性等を向上させるため、界面活性剤を含有していてもよい。界面活性剤の具体例としては、ＢＭ－１０００、ＢＭ－１１００（いずれもＢＭケミー社製）、メガファックＦ１４２Ｄ、メガファックＦ１７２、メガファックＦ１７３、メガファックＦ１８３（いずれもＤＩＣ社製）、フロラードＦＣ－１３５、フロラードＦＣ－１７０Ｃ、フロラードＦＣ－４３０、フロラードＦＣ－４３１（いずれも住友スリーエム社製）、サーフロンＳ－１１２、サーフロンＳ－１１３、サーフロンＳ－１３１、サーフロンＳ－１４１、サーフロンＳ－１４５（いずれも旭硝子社製）、ＳＨ－２８ＰＡ、ＳＨ－１９０、ＳＨ－１９３、ＳＺ－６０３２、ＳＦ－８４２８（いずれも東レシリコーン社製）、ポリフォックスＰＦ－１３６Ａ、ポリフォックスＰＦ－１５６Ａ、ポリフォックスＰＦ－１５１Ｎ、ポリフォックスＰＦ－６３６、ポリフォックスＰＦ－６５６、ポリフォックスＰＦ－６５２０（いずれもＯＭＮＯＶＡ Ｓｏｌｕｔｉｏｎｓ社製）等の市販のフッ素系界面活性剤が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【0214】
感光性組成物は、現像液に対する溶解性を微調整するために、酸、又は酸無水物を含有していてもよい。酸としては、架橋剤（Ｄ）による樹脂（Ａ）の架橋を進行させないものが使用される。
【0215】
感光性組成物に配合され得る酸、及び酸無水物の具体例としては、酢酸、プロピオン酸、ｎ－酪酸、イソ酪酸、ｎ－吉草酸、イソ吉草酸、安息香酸、桂皮酸等のモノカルボン酸類；乳酸、２－ヒドロキシ酪酸、３－ヒドロキシ酪酸、サリチル酸、ｍ－ヒドロキシ安息香酸、ｐ－ヒドロキシ安息香酸、２－ヒドロキシ桂皮酸、３－ヒドロキシ桂皮酸、４－ヒドロキシ桂皮酸、５－ヒドロキシイソフタル酸、シリンギン酸等のヒドロキシモノカルボン酸類；シュウ酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、マレイン酸、イタコン酸、ヘキサヒドロフタル酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、１，２－シクロヘキサンジカルボン酸、１，２，４－シクロヘキサントリカルボン酸、ブタンテトラカルボン酸、トリメリット酸、ピロメリット酸、シクロペンタンテトラカルボン酸、ブタンテトラカルボン酸、１，２，５，８－ナフタレンテトラカルボン酸等の多価カルボン酸類；無水イタコン酸、無水コハク酸、無水シトラコン酸、無水ドデセニルコハク酸、無水トリカルバニル酸、無水マレイン酸、無水ヘキサヒドロフタル酸、無水メチルテトラヒドロフタル酸、無水ハイミック酸、１，２，３，４－ブタンテトラカルボン酸無水物、シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、無水フタル酸、無水ピロメリット酸、無水トリメリット酸、無水ベンゾフェノンテトラカルボン酸、エチレングリコールビス無水トリメリタート、グリセリントリス無水トリメリタート等の酸無水物；等を挙げることができる。
【0216】
＜感光性組成物の調製方法＞
感光性組成物は、前述の各成分を通常の方法で混合、撹拌して調製される。前述の各成分を、混合、撹拌する際に使用できる装置としては、ディゾルバー、ホモジナイザー、３本ロールミル等が挙げられる。上記の各成分を均一に混合した後に、得られた混合物を、さらにメッシュ、メンブランフィルタ等を用いて濾過してもよい。
感光性組成物は、前述の各成分を通常の方法で混合、撹拌して調製される。前述の各成分を、混合、撹拌する際に使用できる装置としては、ディゾルバー、ホモジナイザー、３本ロールミル等が挙げられる。上記の各成分を均一に混合した後に、得られた混合物を、さらにメッシュ、メンブランフィルタ等を用いて濾過してもよい。
【0217】
≪パターン化された樹脂膜≫
以上説明した感光性組成物を用いて、フォトリソグラフィー法によりパターン化された樹脂膜を形成できる。
具体的には、前述の感光性組成物を基板上に塗布して塗布膜を形成することと、
塗布膜に対して、極端紫外線（ＥＵＶ）を位置選択的に露光することと、
露光された塗布膜を、現像液により現像することと、を含む、方法によりパターン化された樹脂膜を形成できる。
上記の方法によれば、前述の感光性組成物を用いることによって、極端紫外線（ＥＵＶ）露光によって、ラフネスの小さいパターン化された樹脂膜を形成できる。
以上説明した感光性組成物を用いて、フォトリソグラフィー法によりパターン化された樹脂膜を形成できる。
具体的には、前述の感光性組成物を基板上に塗布して塗布膜を形成することと、
塗布膜に対して、極端紫外線（ＥＵＶ）を位置選択的に露光することと、
露光された塗布膜を、現像液により現像することと、を含む、方法によりパターン化された樹脂膜を形成できる。
上記の方法によれば、前述の感光性組成物を用いることによって、極端紫外線（ＥＵＶ）露光によって、ラフネスの小さいパターン化された樹脂膜を形成できる。
【0218】
まず、上述した感光性組成物を、基板上にスピンナー等で塗布する。塗布された感光性組成物に対して、プリベーク（ポストアプライベーク（ＰＡＢ））処理を、施すのが好ましい。ＰＡＢは、例えば８０℃以上１５０℃以下の温度条件にて４０秒間以上１２０秒間以下、好ましくは６０秒間以上９０秒間以下の時間行われる。
【0219】
このようにして形成された塗布膜に対し、ＥＵＶ露光装置を用いて、所定のパターンが形成されたマスク（マスクパターン）を介した位置選択的な露光を行う。
【0220】
露光された塗布膜に対して、ベーク（ポストエクスポージャーベーク（ＰＥＢ））処理ほどこすのが好ましい。ＰＥＢは、例えば、８０℃以上１５０℃以下の温度条件にて４０秒間以上１２０秒間以下、好ましくは６０秒間以上９０秒間以下の時間行われる。
【0221】
次に、露光された塗布膜を、現像液により現像する。現像により、パターン化された樹脂膜が得られる。
現像は、アルカリ現像プロセスの場合は、アルカリ現像液を用いて現像が行われる。溶剤現像プロセスの場合は、有機溶剤を含有する現像液（有機系現像液）を用いて現像が行われる。
現像は、アルカリ現像プロセスの場合は、アルカリ現像液を用いて現像が行われる。溶剤現像プロセスの場合は、有機溶剤を含有する現像液（有機系現像液）を用いて現像が行われる。
【0222】
現像後、好ましくはリンス処理を行う。アルカリ現像プロセスの場合は、純水を用いた水リンスが好ましい。溶剤現像プロセスの場合は、有機溶剤を含有するリンス液によるリンスが好ましい。
【0223】
現像後、又はリンス後、好ましくは、基板上のパターン化された樹脂膜を乾燥させる。また、現像処理後に、パターン化された樹脂膜に対してベーク処理（ポストベーク）を行ってもよい。
このようにして、パターン化された樹脂膜を形成することができる。
このようにして、パターン化された樹脂膜を形成することができる。
【0224】
基板としては、特に限定されず、従来公知の基板を用いることができ、例えば、電子部品用の基板や、これに所定の配線パターンが形成された基板等が挙げられる。より具体的には、シリコンウェーハ、銅、クロム、鉄、アルミニウム等の金属製の基板や、ガラス基板等が挙げられる。配線パターンの材料としては、例えば銅、アルミニウム、ニッケル、金等が使用可能である。
また、基板上に、無機系及び／又は有機系の膜が設けられていてもよい。無機系の膜としては、無機反射防止膜（無機ＢＡＲＣ）が挙げられる。有機系の膜としては、有機反射防止膜（有機ＢＡＲＣ）や、多層レジスト法における下層有機膜等の有機膜が挙げられる。
また、基板上に、無機系及び／又は有機系の膜が設けられていてもよい。無機系の膜としては、無機反射防止膜（無機ＢＡＲＣ）が挙げられる。有機系の膜としては、有機反射防止膜（有機ＢＡＲＣ）や、多層レジスト法における下層有機膜等の有機膜が挙げられる。
【0225】
アルカリ現像プロセスで用いられるアルカリ現像液としては、例えば濃度０．１質量％以上１０質量％以下のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド（ＴＭＡＨ）水溶液が挙げられる。
【0226】
溶剤現像プロセスで用いられる有機系現像液に含まれる有機溶剤は、樹脂（Ａ）（露光前の樹脂（Ａ））を溶解し得る有機溶剤であればよい。有機系現像液として使用される有機溶剤は、公知の有機溶剤から適宜選択できる。有機溶剤の好適な例としては、ケトン系溶剤、エステル系溶剤、アルコール系溶剤、ニトリル系溶剤、アミド系溶剤、及びエーテル系溶剤等の極性溶剤、並びに炭化水素系溶剤等が挙げられる。
【0227】
ケトン系溶剤は、Ｃ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｃで表される構造を有する有機溶剤である。エステル系溶剤は、カルボン酸エステル基を有する有機溶剤である。アルコール系溶剤は、アルコール性水酸基を有する有機溶剤である。ニトリル系溶剤は、ニトリル基を有する有機溶剤である。アミド系溶剤は、カルボン酸アミド基を含む有機溶剤である。カルボン酸アミド基中の窒素原子は、有機基、好ましくは炭化水素基で置換されていてもよい。エーテル系溶剤は、エーテル結合を有機溶剤である。
【0228】
有機溶剤の中には、構造中に上記各溶剤を特徴づける官能基を複数種含む有機溶剤も存在するが、その場合は、有機溶剤が有する官能基を含むいずれの溶剤種にも該当するものとする。例えば、ジエチレングリコールモノメチルエーテルは、上記分類中のアルコール系溶剤、エーテル系溶剤のいずれにも該当するものとする。
炭化水素系溶剤は、ハロゲン化されていてもよい炭化水素からなり、ハロゲン原子以外の置換基を有さない炭化水素溶剤である。ハロゲン原子としては、フッ素原子が好ましい。
有機系現像液が含有する有機溶剤としては、上記の中でも、極性溶剤が好ましく、ケトン系溶剤、エステル系溶剤、ニトリル系溶剤等が好ましい。
炭化水素系溶剤は、ハロゲン化されていてもよい炭化水素からなり、ハロゲン原子以外の置換基を有さない炭化水素溶剤である。ハロゲン原子としては、フッ素原子が好ましい。
有機系現像液が含有する有機溶剤としては、上記の中でも、極性溶剤が好ましく、ケトン系溶剤、エステル系溶剤、ニトリル系溶剤等が好ましい。
【0229】
ケトン系溶剤としては、例えば、１－オクタノン、２－オクタノン、１－ノナノン、２－ノナノン、アセトン、４－ヘプタノン、１－ヘキサノン、２－ヘキサノン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、フェニルアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセチルアセトン、アセトニルアセトン、イオノン、ジアセトニルアルコール、アセチルカービノール、アセトフェノン、メチルナフチルケトン、イソホロン、プロピレンカーボネート、γ－ブチロラクトン、及びメチルアミルケトン（２－ヘプタノン）等が挙げられる。これらの中では、ケトン系溶剤としては、メチルアミルケトン（２－ヘプタノン）が好ましい。
【0230】
エステル系溶剤としては、例えば、酢酸メチル、酢酸ブチル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸アミル、酢酸イソアミル、メトキシ酢酸エチル、エトキシ酢酸エチル、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノフェニルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノフェニルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、２－メトキシブチルアセテート、３－メトキシブチルアセテート、４－メトキシブチルアセテート、３－メチル－３－メトキシブチルアセテート、３－エチル－３－メトキシブチルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、２－エトキシブチルアセテート、４－エトキシブチルアセテート、４－プロポキシブチルアセテート、２－メトキシペンチルアセテート、３－メトキシペンチルアセテート、４－メトキシペンチルアセテート、２－メチル－３－メトキシペンチルアセテート、３－メチル－３－メトキシペンチルアセテート、３－メチル－４－メトキシペンチルアセテート、４－メチル－４－メトキシペンチルアセテート、プロピレングリコールジアセテート、蟻酸メチル、蟻酸エチル、蟻酸ブチル、蟻酸プロピル、乳酸エチル、乳酸ブチル、乳酸プロピル、炭酸エチル、炭酸プロピル、炭酸ブチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロピル、ピルビン酸ブチル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、プロピオン酸プロピル、プロピオン酸イソプロピル、２－ヒドロキシプロピオン酸メチル、２－ヒドロキシプロピオン酸エチル、メチル－３－メトキシプロピオネート、エチル－３－メトキシプロピオネート、エチル－３－エトキシプロピオネート、及びプロピル－３－メトキシプロピオネート等が挙げられる。これらの中では、エステル系溶剤としては、酢酸ブチルが好ましい。
【0231】
ニトリル系溶剤としては、例えば、アセトニトリル、プロピオニトリル、バレロニトリル、及びブチロニトリル等が挙げられる。
【0232】
有機系現像液には、必要に応じて公知の添加剤を配合できる。添加剤としては、例えば界面活性剤が挙げられる。界面活性剤としては、特に限定されないが、例えばイオン性や非イオン性のフッ素系界面活性剤、及びシリコン系界面活性剤等を用いることができる。界面活性剤としては、非イオン性の界面活性剤が好ましく、非イオン性のフッ素系界面活性剤、及び非イオン性のシリコン系界面活性剤がより好ましい。
界面活性剤を配合する場合、その配合量は、有機系現像液の全量に対して、通常０．００１質量％以上５質量％以下が好ましく、０．００５質量％以上２質量％以下がより好ましく、０．０１質量％以上０．５質量％以下がさらに好ましい。
界面活性剤を配合する場合、その配合量は、有機系現像液の全量に対して、通常０．００１質量％以上５質量％以下が好ましく、０．００５質量％以上２質量％以下がより好ましく、０．０１質量％以上０．５質量％以下がさらに好ましい。
【0233】
現像は、公知の現像方法により実施することが可能である。例えば、現像液中に基板を一定時間浸漬する方法（ディップ法）、基板表面に現像液を表面張力によって盛り上げて一定時間静止する方法（パドル法）、基板表面に現像液を噴霧する方法（スプレー法）、一定速度で回転している基板上に一定速度で現像液塗出ノズルをスキャンしながら現像液を塗出し続ける方法（ダイナミックディスペンス法）等が挙げられる。
【0234】
溶剤現像プロセスにおいて、現像後のリンスに用いるリンス液が含有する有機溶剤としては、例えば前述の有機系現像液に用いる有機溶剤として挙げた有機溶剤のうち、形成された樹脂膜を溶解しにくいものを適宜選択して使用できる。通常、炭化水素系溶剤、ケトン系溶剤、エステル系溶剤、アルコール系溶剤、アミド系溶剤およびエーテル系溶剤から選択される少なくとも１種類の溶剤が使用される。これらのなかでも、炭化水素系溶剤、ケトン系溶剤、エステル系溶剤、アルコール系溶剤及びアミド系溶剤から選択される少なくとも１種類が好ましく、アルコール系溶剤およびエステル系溶剤から選択される少なくとも１種類がより好ましく、アルコール系溶剤が特に好ましい。
リンス液として使用されるアルコール系溶剤は、炭素原子数６以上８以下の１価アルコールが好ましい。１価アルコールは直鎖状、分岐状又は環状のいずれであってもよい。１価アルコールの具体例としては、１－ヘキサノール、１－ヘプタノール、１－オクタノール、２－ヘキサノール、２－ヘプタノール、２－オクタノール、３－ヘキサノール、３－ヘプタノール、３－オクタノール、４－オクタノール、及びベンジルアルコール等が挙げられる。これらの中では、１－ヘキサノール、２－ヘプタノール、及び２－ヘキサノールが好ましく、１－ヘキサノール、２－ヘキサノールがより好ましい。
これらの有機溶剤は、いずれか１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。また、上記以外の有機溶剤や水と混合して用いてもよい。但し、現像特性を考慮すると、リンス液中の水の配合量は、リンス液の全量に対し、３０質量％以下が好ましく、１０質量％以下がより好ましく、５質量％以下がさらに好ましく、３質量％以下が特に好ましい。
リンス液には、必要に応じて公知の添加剤を配合できる。添加剤としては、例えば界面活性剤が挙げられる。界面活性剤としては、前記と同様の界面活性剤が挙げられる。界面活性剤としては、非イオン性の界面活性剤が好ましく、非イオン性のフッ素系界面活性剤、及び非イオン性のシリコン系界面活性剤がより好ましい。
界面活性剤を配合する場合、その配合量は、リンス液の全量に対して、通常０．００１質量％以上５質量％以下であり、０．００５質量％以上２質量％以下が好ましく、０．０１質量％以上０．５質量％以下がより好ましい。
リンス液として使用されるアルコール系溶剤は、炭素原子数６以上８以下の１価アルコールが好ましい。１価アルコールは直鎖状、分岐状又は環状のいずれであってもよい。１価アルコールの具体例としては、１－ヘキサノール、１－ヘプタノール、１－オクタノール、２－ヘキサノール、２－ヘプタノール、２－オクタノール、３－ヘキサノール、３－ヘプタノール、３－オクタノール、４－オクタノール、及びベンジルアルコール等が挙げられる。これらの中では、１－ヘキサノール、２－ヘプタノール、及び２－ヘキサノールが好ましく、１－ヘキサノール、２－ヘキサノールがより好ましい。
これらの有機溶剤は、いずれか１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。また、上記以外の有機溶剤や水と混合して用いてもよい。但し、現像特性を考慮すると、リンス液中の水の配合量は、リンス液の全量に対し、３０質量％以下が好ましく、１０質量％以下がより好ましく、５質量％以下がさらに好ましく、３質量％以下が特に好ましい。
リンス液には、必要に応じて公知の添加剤を配合できる。添加剤としては、例えば界面活性剤が挙げられる。界面活性剤としては、前記と同様の界面活性剤が挙げられる。界面活性剤としては、非イオン性の界面活性剤が好ましく、非イオン性のフッ素系界面活性剤、及び非イオン性のシリコン系界面活性剤がより好ましい。
界面活性剤を配合する場合、その配合量は、リンス液の全量に対して、通常０．００１質量％以上５質量％以下であり、０．００５質量％以上２質量％以下が好ましく、０．０１質量％以上０．５質量％以下がより好ましい。
【0235】
リンス液を用いるリンス（洗浄処理）は、公知のリンス方法により実施できる。リンス処理の方法としては、例えば一定速度で回転している支持体上にリンス液を塗出し続ける方法（回転塗布法）、リンス液中に支持体を一定時間浸漬する方法（ディップ法）、支持体表面にリンス液を噴霧する方法（スプレー法）等が挙げられる。
【0236】
≪エッチングされた基板の製造方法≫
前述の方法により、基板上にパターン化された樹脂膜を形成することと、
パターン化された樹脂膜をエッチングマスクとして、基板に対してドライエッチングを行うことと、を含む、
方法によりエッチングされた基板を製造できる。
前述の通り、上記の感光性組成物を用いることにより、ＥＵＶ露光により、ラフネスが小さく、微細にパターン化された樹脂膜を形成できる。
また、ポリオルガノシロキサンを含む樹脂（Ａ）が架橋された樹脂膜は、種々のエッチャントに対する耐性に優れる。
このため、前述の方法により形成されたパターン化された樹脂膜をエッチングマスクとして基板に対してドライエッチングを行うことにより、基板を、微細、且つ精密に加工することができる。
エッチングされる材質と、エッチャントの組み合わせとしては、例えば、カーボンハードマスクとＮ２／Ｏ２、又はＳｉＯ２とＣＦ４が好ましい。
ドライエッチングは、エッチャントの種類や、基板の種類に応じて、常法に従って行われる。
前述の方法により、基板上にパターン化された樹脂膜を形成することと、
パターン化された樹脂膜をエッチングマスクとして、基板に対してドライエッチングを行うことと、を含む、
方法によりエッチングされた基板を製造できる。
前述の通り、上記の感光性組成物を用いることにより、ＥＵＶ露光により、ラフネスが小さく、微細にパターン化された樹脂膜を形成できる。
また、ポリオルガノシロキサンを含む樹脂（Ａ）が架橋された樹脂膜は、種々のエッチャントに対する耐性に優れる。
このため、前述の方法により形成されたパターン化された樹脂膜をエッチングマスクとして基板に対してドライエッチングを行うことにより、基板を、微細、且つ精密に加工することができる。
エッチングされる材質と、エッチャントの組み合わせとしては、例えば、カーボンハードマスクとＮ２／Ｏ２、又はＳｉＯ２とＣＦ４が好ましい。
ドライエッチングは、エッチャントの種類や、基板の種類に応じて、常法に従って行われる。
【0237】
上記の通り、本発明者らにより、以下の（１）～（１０）が提供される。
（１）樹脂（Ａ）と、光酸発生剤（Ｂ）と、クエンチャー（Ｃ）と、架橋剤（Ｄ）とを含み、
樹脂（Ａ）は、フェノール性水酸基を有するポリオルガノシロキサン構造を有する樹脂（Ａ１）を含み、
架橋剤（Ｄ）は、露光により前記光酸発生剤（Ｂ）が発生させる酸の作用により、樹脂（Ａ）を架橋する化合物であり、
樹脂（Ａ）の分子量分散度が１．００以上１．５０以下である、感光性組成物。
（２）樹脂（Ａ１）が、下記式（ａ１）：
で表される構成単位を含む、（１）に記載の感光性組成物。
（前記式（ａ１）中、Ｒａ１は、フェノール性水酸基を有する炭素原子数６以上２０以下の有機基であり、Ｌａは、酸素原子、窒素原子、硫黄原子、ケイ素原子、及びハロゲン原子からなる群より選択される少なくとも１つの原子を含む炭素原子数１以上２０以下の有機基であり、Ｒａ２は水素原子、又は炭素原子数１以上２０以下の有機基である。）
（３）樹脂（Ａ１）が、ポリオルガノシロキサンであり、
樹脂（Ａ１）としてのポリオルガノシロキサンの全構成単位の量に対する式（ａ１）で表される構成単位の量の割合が５０モル％以上１００モル％以下である、（１）、又は（２）に記載の感光性組成物。
（４）光酸発生剤（Ｂ）が、下記式（ｂ１）：
で表される化合物である、（１）～（３）のいずれか１つに記載の感光性組成物。
（式（ｂ１）中、Ｒｂ１は炭素原子数１以上４０以下の有機基であり、Ｒｂ１としての有機基は、Ｃ－Ｓ結合により、式（ｂ１）中の硫黄原子に結合し、Ｃ－Ｓ結合中の炭素原子はフッ素原子と結合し、Ｍｂ１はスルホニウムカチオン、又はヨードニウムカチオンである。）
（５）クエンチャー（Ｃ）が、下記式（ｃ１）又は式（ｃ２）：
で表される化合物である、（１）～（４）のいずれか１つに記載の感光性組成物。
（式（ｃ１）中、Ｒｃ１は炭素原子数１以上２０以下の有機基であり、Ｒｃ１としての有機基は、Ｃ－Ｓ結合により、式（ｃ１）中の硫黄原子に結合し、Ｃ－Ｓ結合中の炭素原子にフッ素原子が結合せず、Ｍｃ１はスルホニウムカチオン、又はヨードニウムカチオンである。前記式（ｃ２）中、Ｒｃ２は炭素原子数１以上２０以下の有機基であり、Ｍｃ２はスルホニウムカチオン、又はヨードニウムカチオンである。）
（６）架橋剤（Ｄ）が、窒素原子に結合するメチロール基、又は窒素原子に結合するアルコキシメチル基を有するメチロール型架橋剤（Ｄ１）を含む、（１）～（５）のいずれか１つに記載の感光性組成物。
（７）メチロール型架橋剤（Ｄ１）が、メラミン系化合物、グアナミン系化合物、及び尿素系化合物から選択される１種以上である、（１）～（６）のいずれか１つに記載の感光性組成物。
（８）（１）～（７）のいずれか１つに記載の感光性組成物を基板上に塗布して塗布膜を形成することと、
塗布膜に対して、極端紫外線を位置選択的に露光することと、
露光された塗布膜を、現像液により現像することと、を含む、
パターン化された樹脂膜の形成方法。
（９）（８）に記載の方法により、基板上にパターン化された樹脂膜を形成することと、
パターン化された樹脂膜をエッチングマスクとして、基板に対してドライエッチングを行うことと、を含む、
エッチングされた基板の製造方法。
（１０）下記式（ａ１）：
で表される構成単位を含む、樹脂。
（式（ａ１）中、Ｒａ１は、フェノール性水酸基を有する炭素原子数６以上２０以下の有機基であり、Ｌａは、酸素原子、窒素原子、硫黄原子、ケイ素原子、及びハロゲン原子からなる群より選択される少なくとも１つの原子を含む炭素原子数１以上２０以下の有機基であり、Ｒａ２は水素原子、又は炭素原子数１以上２０以下の有機基である。）
（１）樹脂（Ａ）と、光酸発生剤（Ｂ）と、クエンチャー（Ｃ）と、架橋剤（Ｄ）とを含み、
樹脂（Ａ）は、フェノール性水酸基を有するポリオルガノシロキサン構造を有する樹脂（Ａ１）を含み、
架橋剤（Ｄ）は、露光により前記光酸発生剤（Ｂ）が発生させる酸の作用により、樹脂（Ａ）を架橋する化合物であり、
樹脂（Ａ）の分子量分散度が１．００以上１．５０以下である、感光性組成物。
（２）樹脂（Ａ１）が、下記式（ａ１）：
【化46】
（前記式（ａ１）中、Ｒａ１は、フェノール性水酸基を有する炭素原子数６以上２０以下の有機基であり、Ｌａは、酸素原子、窒素原子、硫黄原子、ケイ素原子、及びハロゲン原子からなる群より選択される少なくとも１つの原子を含む炭素原子数１以上２０以下の有機基であり、Ｒａ２は水素原子、又は炭素原子数１以上２０以下の有機基である。）
（３）樹脂（Ａ１）が、ポリオルガノシロキサンであり、
樹脂（Ａ１）としてのポリオルガノシロキサンの全構成単位の量に対する式（ａ１）で表される構成単位の量の割合が５０モル％以上１００モル％以下である、（１）、又は（２）に記載の感光性組成物。
（４）光酸発生剤（Ｂ）が、下記式（ｂ１）：
【化47】
（式（ｂ１）中、Ｒｂ１は炭素原子数１以上４０以下の有機基であり、Ｒｂ１としての有機基は、Ｃ－Ｓ結合により、式（ｂ１）中の硫黄原子に結合し、Ｃ－Ｓ結合中の炭素原子はフッ素原子と結合し、Ｍｂ１はスルホニウムカチオン、又はヨードニウムカチオンである。）
（５）クエンチャー（Ｃ）が、下記式（ｃ１）又は式（ｃ２）：
【化48】
（式（ｃ１）中、Ｒｃ１は炭素原子数１以上２０以下の有機基であり、Ｒｃ１としての有機基は、Ｃ－Ｓ結合により、式（ｃ１）中の硫黄原子に結合し、Ｃ－Ｓ結合中の炭素原子にフッ素原子が結合せず、Ｍｃ１はスルホニウムカチオン、又はヨードニウムカチオンである。前記式（ｃ２）中、Ｒｃ２は炭素原子数１以上２０以下の有機基であり、Ｍｃ２はスルホニウムカチオン、又はヨードニウムカチオンである。）
（６）架橋剤（Ｄ）が、窒素原子に結合するメチロール基、又は窒素原子に結合するアルコキシメチル基を有するメチロール型架橋剤（Ｄ１）を含む、（１）～（５）のいずれか１つに記載の感光性組成物。
（７）メチロール型架橋剤（Ｄ１）が、メラミン系化合物、グアナミン系化合物、及び尿素系化合物から選択される１種以上である、（１）～（６）のいずれか１つに記載の感光性組成物。
（８）（１）～（７）のいずれか１つに記載の感光性組成物を基板上に塗布して塗布膜を形成することと、
塗布膜に対して、極端紫外線を位置選択的に露光することと、
露光された塗布膜を、現像液により現像することと、を含む、
パターン化された樹脂膜の形成方法。
（９）（８）に記載の方法により、基板上にパターン化された樹脂膜を形成することと、
パターン化された樹脂膜をエッチングマスクとして、基板に対してドライエッチングを行うことと、を含む、
エッチングされた基板の製造方法。
（１０）下記式（ａ１）：
【化49】
（式（ａ１）中、Ｒａ１は、フェノール性水酸基を有する炭素原子数６以上２０以下の有機基であり、Ｌａは、酸素原子、窒素原子、硫黄原子、ケイ素原子、及びハロゲン原子からなる群より選択される少なくとも１つの原子を含む炭素原子数１以上２０以下の有機基であり、Ｒａ２は水素原子、又は炭素原子数１以上２０以下の有機基である。）
【実施例0238】
以下、本発明を実施例によりさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されない。
【0239】
＜樹脂（Ａ）の調製＞
実施例で使用した樹脂（Ａ）を下記の方法により調製した。
実施例で使用した樹脂（Ａ）を下記の方法により調製した。
【0240】
［樹脂（Ａ－０）の調製］
２，４，６－トリメチル－２，４，６－トリビニルシクロトリシロキサン６０．０ｇ、水０．４２ｇ、脱水テトラヒドロフラン５１ｇ、及びジクロロメタン７７．０ｇを、反応容器中に加えて混合した。得られた混合液を、窒素雰囲気下、６０分間３０℃で撹拌した。その後、１，５，７－トリアザビシクロ［４．４．０］デカ－５－エン３２．３ｍｇを、混合液に加えて、７２分間３０℃で撹拌した。次いで、ピリジン９．２８ｇ、クロロジメチルフェニルシラン１１．９ｇを混合液に加えた。その後、混合液を、９０分間３０℃で撹拌した。
撹拌終了後、混合液を室温まで冷却した。冷却された混合液に、ヘプタン２００ｇ、及び水１００ｇを加えて撹拌した。その後、反応容器内の液を静置して、水層と有機層とに分液させた。水層を除去して回収された有機層を、さらに純水１００ｇで３回洗浄した。次いで、洗浄後に得られた有機層をロータリーエバポレーターを用いて濃縮した。その後、ヘプタン２０ｇ、及びメタノール５００ｇを、濃縮後の残渣に加えた。希釈された残渣を静置して、上層と、下層とに分液させた。上層を除いて得た下層を、ロータリーエバポレーターを用いて濃縮した。その後、濃縮後の残渣をトルエン９０ｇに溶解させ、得られた溶液をロータリーエバポレーターで濃縮することを３回繰り返した。その後、得られた残渣を、濃度が４０質量％になるようにトルエンに溶解することで、下記式で表される構成単位からなる樹脂（Ａ－０）の濃度４０質量％トルエン溶液１５８ｇを得た。
ＧＰＣにより測定された樹脂（Ａ－０）の重量平均分子量は５，１００であり、分子量分散度１．１５であった。
２，４，６－トリメチル－２，４，６－トリビニルシクロトリシロキサン６０．０ｇ、水０．４２ｇ、脱水テトラヒドロフラン５１ｇ、及びジクロロメタン７７．０ｇを、反応容器中に加えて混合した。得られた混合液を、窒素雰囲気下、６０分間３０℃で撹拌した。その後、１，５，７－トリアザビシクロ［４．４．０］デカ－５－エン３２．３ｍｇを、混合液に加えて、７２分間３０℃で撹拌した。次いで、ピリジン９．２８ｇ、クロロジメチルフェニルシラン１１．９ｇを混合液に加えた。その後、混合液を、９０分間３０℃で撹拌した。
撹拌終了後、混合液を室温まで冷却した。冷却された混合液に、ヘプタン２００ｇ、及び水１００ｇを加えて撹拌した。その後、反応容器内の液を静置して、水層と有機層とに分液させた。水層を除去して回収された有機層を、さらに純水１００ｇで３回洗浄した。次いで、洗浄後に得られた有機層をロータリーエバポレーターを用いて濃縮した。その後、ヘプタン２０ｇ、及びメタノール５００ｇを、濃縮後の残渣に加えた。希釈された残渣を静置して、上層と、下層とに分液させた。上層を除いて得た下層を、ロータリーエバポレーターを用いて濃縮した。その後、濃縮後の残渣をトルエン９０ｇに溶解させ、得られた溶液をロータリーエバポレーターで濃縮することを３回繰り返した。その後、得られた残渣を、濃度が４０質量％になるようにトルエンに溶解することで、下記式で表される構成単位からなる樹脂（Ａ－０）の濃度４０質量％トルエン溶液１５８ｇを得た。
ＧＰＣにより測定された樹脂（Ａ－０）の重量平均分子量は５，１００であり、分子量分散度１．１５であった。
【化50】
【0241】
［樹脂（Ａ－１）の調製］
４－ヒドロキシベンゼンチオール１１．０ｇ、トルエン６．００ｇ、及びトリメチルシリルクロリド１１．７ｇを反応容器内に加え、均一に溶解させた。その後、反応容器内の溶液を撹拌しながら、反応容器内にピリジン１０．３ｇを５分間かけて滴下した。次いで、反応容器内の溶液を９０分間撹拌しながら、反応容器内に、樹脂（Ａ－０）の濃度４０質量％のトルエン溶液１０．０ｇと、アゾビスイソブチロニトリル１．３０ｇとを加えた。その後、反応容器内の反応液を１２時間７０℃で撹拌した。撹拌終了後、反応液を室温まで冷却した。その後、反応液に、トルエン、及び熱水を加えて撹拌した。撹拌後、反応容器内の液を静置して分液させた。水層を除去して得た有機層を、さらに熱水６０ｇで３回洗浄した。洗浄された有機層をロータリーエバポレーターを用いて濃縮して残渣を得た。
その後、メタノール７２ｇ、及び１Ｍ塩酸７２ｇを残渣に加えて、得られた混合液を９０分間室温で撹拌した。混合液に、さらに、プロピレングリコールモノメチルエーテル３０ｇ、及び純水６０ｇを、加えた。混合液を静置して、水層と有機層とに分液した。水層を除去して得られた有機層を、さらに純水６０ｇで２回洗浄した。洗浄された有機層をロータリーエバポレーターを用いて濃縮した。濃縮して得られた残渣を、トルエン７５ｇ、及びヘプタン５０ｇで希釈した。得られた希釈液を撹拌した後、希釈液を静置した。静置後に生じた上澄みを除去した。トルエン７０ｇ、及びヘプタン５０ｇによる、濃縮後、又は上澄み除去後の残渣の希釈と、静置と、上澄みの除去とを計３回繰り返し行った。次いで、プロピレングリコールモノメチルエーテル５０ｇを、最後の上澄み除去後の残渣に加えて希釈した。得られた希釈液を、ロータリーエバポレーターで濃縮乾固した。プロピレングリコールモノメチルエーテル５０ｇによる希釈と、濃縮乾固とを、計３回繰り返し行った。その後、最後の濃縮乾固後の残渣を、濃度が１０質量％になるようにプロピレングリコールモノメチルエーテルに溶解させて、下記式で表される構成単位からなる樹脂（Ａ－１）の濃度１０質量％のプロピレングリコールモノメチルエーテル溶液５６．３ｇを得た。ＧＰＣにより測定された樹脂（Ａ－１）の重量平均分子量は６，２００であり、分子量分散度は１．２３であった。
４－ヒドロキシベンゼンチオール１１．０ｇ、トルエン６．００ｇ、及びトリメチルシリルクロリド１１．７ｇを反応容器内に加え、均一に溶解させた。その後、反応容器内の溶液を撹拌しながら、反応容器内にピリジン１０．３ｇを５分間かけて滴下した。次いで、反応容器内の溶液を９０分間撹拌しながら、反応容器内に、樹脂（Ａ－０）の濃度４０質量％のトルエン溶液１０．０ｇと、アゾビスイソブチロニトリル１．３０ｇとを加えた。その後、反応容器内の反応液を１２時間７０℃で撹拌した。撹拌終了後、反応液を室温まで冷却した。その後、反応液に、トルエン、及び熱水を加えて撹拌した。撹拌後、反応容器内の液を静置して分液させた。水層を除去して得た有機層を、さらに熱水６０ｇで３回洗浄した。洗浄された有機層をロータリーエバポレーターを用いて濃縮して残渣を得た。
その後、メタノール７２ｇ、及び１Ｍ塩酸７２ｇを残渣に加えて、得られた混合液を９０分間室温で撹拌した。混合液に、さらに、プロピレングリコールモノメチルエーテル３０ｇ、及び純水６０ｇを、加えた。混合液を静置して、水層と有機層とに分液した。水層を除去して得られた有機層を、さらに純水６０ｇで２回洗浄した。洗浄された有機層をロータリーエバポレーターを用いて濃縮した。濃縮して得られた残渣を、トルエン７５ｇ、及びヘプタン５０ｇで希釈した。得られた希釈液を撹拌した後、希釈液を静置した。静置後に生じた上澄みを除去した。トルエン７０ｇ、及びヘプタン５０ｇによる、濃縮後、又は上澄み除去後の残渣の希釈と、静置と、上澄みの除去とを計３回繰り返し行った。次いで、プロピレングリコールモノメチルエーテル５０ｇを、最後の上澄み除去後の残渣に加えて希釈した。得られた希釈液を、ロータリーエバポレーターで濃縮乾固した。プロピレングリコールモノメチルエーテル５０ｇによる希釈と、濃縮乾固とを、計３回繰り返し行った。その後、最後の濃縮乾固後の残渣を、濃度が１０質量％になるようにプロピレングリコールモノメチルエーテルに溶解させて、下記式で表される構成単位からなる樹脂（Ａ－１）の濃度１０質量％のプロピレングリコールモノメチルエーテル溶液５６．３ｇを得た。ＧＰＣにより測定された樹脂（Ａ－１）の重量平均分子量は６，２００であり、分子量分散度は１．２３であった。
【化51】
【0242】
［樹脂（Ａ－２）の調製］
２，４，６－トリメチル－２，４，６－トリビニルシクロトリシロキサンを、２，４，６－トリフェニル－２，４，６－トリビニルシクロトリシロキサンに変更したこと以外は、樹脂（Ａ－０）、及び樹脂（Ａ－１）の調製と同様にして、下記式で表される構成単位からなる樹脂（Ａ－２）の濃度１０質量％のプロピレングリコールモノメチルエーテル溶液を得た。ＧＰＣにより測定された樹脂（Ａ－２）の重量平均分子量は５，２００であり、分子量分散度は１．１８であった。
２，４，６－トリメチル－２，４，６－トリビニルシクロトリシロキサンを、２，４，６－トリフェニル－２，４，６－トリビニルシクロトリシロキサンに変更したこと以外は、樹脂（Ａ－０）、及び樹脂（Ａ－１）の調製と同様にして、下記式で表される構成単位からなる樹脂（Ａ－２）の濃度１０質量％のプロピレングリコールモノメチルエーテル溶液を得た。ＧＰＣにより測定された樹脂（Ａ－２）の重量平均分子量は５，２００であり、分子量分散度は１．１８であった。
【化52】
【0243】
［樹脂（Ａ－３）の調製］
反応容器に、ベンゼンチオール２．９７ｇ、及びトルエン６．００ｇを加え、均一に溶解させた。次いで、樹脂（Ａ－０）のトルエン溶液１０．０ｇ、及びアゾビスイソブチロニトリル０．４４ｇを反応容器に加えて、反応容器内の反応液を１２時間７０℃で撹拌した。その後、ヒドロキシベンゼンチオール８．８３ｇ、及びトリメチルシリルクロリド１０．２ｇを、反応容器内に加えた。次いで、反応容器内の反応液を撹拌しながら、ピリジン８．８６ｇを反応容器内に５分間かけて滴下した。その後、反応液を９０分間撹拌した。次いで、アゾビスイソブチロニトリル１．０３ｇを、反応容器内に加えて、反応液を１２時間７０℃で撹拌した。その後、反応液を室温まで冷却した。室温に冷却された反応液を、樹脂（Ａ－１）の調製と同様に処理して、下記式で表される構成単位からなる樹脂（Ａ－３）の濃度１０質量％のプロピレングリコールモノメチルエーテル溶液を得た。ＧＰＣにより測定された樹脂（Ａ－３）の重量平均分子量は５，８００であり、分子量分散度は１．２９であった。
反応容器に、ベンゼンチオール２．９７ｇ、及びトルエン６．００ｇを加え、均一に溶解させた。次いで、樹脂（Ａ－０）のトルエン溶液１０．０ｇ、及びアゾビスイソブチロニトリル０．４４ｇを反応容器に加えて、反応容器内の反応液を１２時間７０℃で撹拌した。その後、ヒドロキシベンゼンチオール８．８３ｇ、及びトリメチルシリルクロリド１０．２ｇを、反応容器内に加えた。次いで、反応容器内の反応液を撹拌しながら、ピリジン８．８６ｇを反応容器内に５分間かけて滴下した。その後、反応液を９０分間撹拌した。次いで、アゾビスイソブチロニトリル１．０３ｇを、反応容器内に加えて、反応液を１２時間７０℃で撹拌した。その後、反応液を室温まで冷却した。室温に冷却された反応液を、樹脂（Ａ－１）の調製と同様に処理して、下記式で表される構成単位からなる樹脂（Ａ－３）の濃度１０質量％のプロピレングリコールモノメチルエーテル溶液を得た。ＧＰＣにより測定された樹脂（Ａ－３）の重量平均分子量は５，８００であり、分子量分散度は１．２９であった。
【化53】
【0244】
［樹脂（Ａ－４）の調製］
ベンゼンチオールの量を２．９７ｇから４．９６ｇに変更したこと、４－ヒドロキシベンゼンチオールの量を８．８３ｇから６．１３ｇに変更したこと、トリメチルシリルクロリドの量を１０．２ｇから７．３０ｇに変更したこと、及びピリジンの量を８．８６ｇから６．３３ｇに変更したこと以外は、樹脂（Ａ－３）の調製と同様にして、下記式で表される構成単位からなる樹脂（Ａ－４）の濃度１０質量％のプロピレングリコールモノメチルエーテル溶液を得た。ＧＰＣにより測定された樹脂（Ａ－４）の重量平均分子量は５，８００であり、分子量分散度は１．２５であった。
ベンゼンチオールの量を２．９７ｇから４．９６ｇに変更したこと、４－ヒドロキシベンゼンチオールの量を８．８３ｇから６．１３ｇに変更したこと、トリメチルシリルクロリドの量を１０．２ｇから７．３０ｇに変更したこと、及びピリジンの量を８．８６ｇから６．３３ｇに変更したこと以外は、樹脂（Ａ－３）の調製と同様にして、下記式で表される構成単位からなる樹脂（Ａ－４）の濃度１０質量％のプロピレングリコールモノメチルエーテル溶液を得た。ＧＰＣにより測定された樹脂（Ａ－４）の重量平均分子量は５，８００であり、分子量分散度は１．２５であった。
【化54】
【0245】
［樹脂（Ａ－５）の調製］
４－ヒドロキシベンゼンチオールの量を１１．０ｇから８．８０ｇに変更したこと、トリメチルシリルクロリドの量を１１．７ｇから１０．２ｇに変更したこと、ピリジンの量を１０．３ｇから８．９ｇに変更したこと、及びアゾビスイソブチロニトリルの量を１．３０ｇから５．１７ｇに変更したこと以外は、樹脂（Ａ－１）の調製と同様にして、下記式で表される構成単位からなる樹脂（Ａ－５）の濃度１０質量％のプロピレングリコールモノメチルエーテル溶液を得た。ＧＰＣにより測定された樹脂（Ａ－５）の重量平均分子量は４，８００であり、分子量分散度は１．２１であった。
４－ヒドロキシベンゼンチオールの量を１１．０ｇから８．８０ｇに変更したこと、トリメチルシリルクロリドの量を１１．７ｇから１０．２ｇに変更したこと、ピリジンの量を１０．３ｇから８．９ｇに変更したこと、及びアゾビスイソブチロニトリルの量を１．３０ｇから５．１７ｇに変更したこと以外は、樹脂（Ａ－１）の調製と同様にして、下記式で表される構成単位からなる樹脂（Ａ－５）の濃度１０質量％のプロピレングリコールモノメチルエーテル溶液を得た。ＧＰＣにより測定された樹脂（Ａ－５）の重量平均分子量は４，８００であり、分子量分散度は１．２１であった。
【化55】
【0246】
＜感光性組成物の調製＞
実施例において、樹脂（Ａ１）として、上述の樹脂（Ａ－１）～（Ａ－５）を用いた。実施例、及び比較例において、樹脂（Ａ２）として、下記の樹脂（Ａ－６）、及び（Ａ－７）を用いた。なお、実施例１３では、樹脂（Ａ－１）７５質量部と、樹脂（Ａ－６）２５質量部とを組み合わせて、樹脂（Ａ）として用いた。実施例１３で使用された樹脂（Ａ）の分子量分散度は、１．００以上１．５０以下の範囲内である。
実施例において、樹脂（Ａ１）として、上述の樹脂（Ａ－１）～（Ａ－５）を用いた。実施例、及び比較例において、樹脂（Ａ２）として、下記の樹脂（Ａ－６）、及び（Ａ－７）を用いた。なお、実施例１３では、樹脂（Ａ－１）７５質量部と、樹脂（Ａ－６）２５質量部とを組み合わせて、樹脂（Ａ）として用いた。実施例１３で使用された樹脂（Ａ）の分子量分散度は、１．００以上１．５０以下の範囲内である。
【化56】
【0247】
実施例、及び比較例において、光酸発生剤（Ｂ）として、下記化合物（Ｂ－１）、及び化合物（Ｂ－２）を用いた。
【化57】
【0248】
実施例、及び比較例において、クエンチャー（Ｃ）として、下記化合物（Ｃ－１）、及び化合物（Ｃ－２）を用いた。
【化58】
【0249】
実施例、及び比較例において、架橋剤（Ｄ）として、下記化合物（Ｄ－１）、及び化合物（Ｄ－２）を用いた。
【化59】
【0250】
実施例及び比較例において、添加剤（Ｅ）として、サリチル酸（Ｅ－１）を用いた。
【0251】
実施例及び比較例において、溶剤（Ｓ）として、プロピレングリコールモノメチルエーテル（Ｓ－１）、及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（Ｓ－２）を用いた。
【0252】
それぞれ、表１に記載の種類及び質量部の、樹脂（Ａ１）又は樹脂（Ａ２）と、光酸発生剤（Ｂ）と、クエンチャー（Ｃ）と、架橋剤（Ｄ）と、添加剤（Ｅ）とを、表１に記載の質量部の溶剤（Ｓ）に溶解させて、各実施例及び比較例の感光性組成物を得た。
【0253】
【表1】
【0254】
＜評価＞
１２インチのシリコンウェーハ上に、レジスト有機下層膜組成物（商品名：ＡＬ４１２、ブリューワサイエンス社製）を、スピンコーターを用いて塗布し、ホットプレート上で２０５℃、６０秒間焼成することにより膜厚２０ｎｍの有機下層膜を形成した。
有機下層膜上にスピンコーターを用いて、各実施例及び各比較例の感光性組成物を塗布し、ホットプレート上で、９０℃で６０秒間プリベーク（ＰＡＢ）処理を行うことにより、膜厚２２ｎｍの塗布膜を形成した。
次いで、ＥＵＶ露光装置（製品名：ＮＸＥ３４００、ＡＳＭＬ社製、ＮＡ（開口数）＝０．３３、照明条件：Ａｎｎｕｌａｒ σ－ｉｎ＝０．６０、σ－ｏｕｔ＝０．８２）により、ラインアンドスペースパターン形成用のフォトマスクを介して上記塗布膜に対して、ＥＵＶ光（波長１３．５ｎｍ）を照射した。そして、９０℃で６０秒間のポストエクスポージャーベーク（ＰＥＢ）処理を行った。その後、２３℃にて２．３８質量％のＴＭＡＨ水溶液（商品名：ＮＭＤ－３）、東京応化工業株式会社製）で１０秒間のアルカリ現像を行った。その後、純水を用いて３０秒間のリンス、振り切り乾燥を行い、線幅１４ｎｍのライアンドスペース形状の硬化膜を形成した。
１２インチのシリコンウェーハ上に、レジスト有機下層膜組成物（商品名：ＡＬ４１２、ブリューワサイエンス社製）を、スピンコーターを用いて塗布し、ホットプレート上で２０５℃、６０秒間焼成することにより膜厚２０ｎｍの有機下層膜を形成した。
有機下層膜上にスピンコーターを用いて、各実施例及び各比較例の感光性組成物を塗布し、ホットプレート上で、９０℃で６０秒間プリベーク（ＰＡＢ）処理を行うことにより、膜厚２２ｎｍの塗布膜を形成した。
次いで、ＥＵＶ露光装置（製品名：ＮＸＥ３４００、ＡＳＭＬ社製、ＮＡ（開口数）＝０．３３、照明条件：Ａｎｎｕｌａｒ σ－ｉｎ＝０．６０、σ－ｏｕｔ＝０．８２）により、ラインアンドスペースパターン形成用のフォトマスクを介して上記塗布膜に対して、ＥＵＶ光（波長１３．５ｎｍ）を照射した。そして、９０℃で６０秒間のポストエクスポージャーベーク（ＰＥＢ）処理を行った。その後、２３℃にて２．３８質量％のＴＭＡＨ水溶液（商品名：ＮＭＤ－３）、東京応化工業株式会社製）で１０秒間のアルカリ現像を行った。その後、純水を用いて３０秒間のリンス、振り切り乾燥を行い、線幅１４ｎｍのライアンドスペース形状の硬化膜を形成した。
【0255】
［最適露光量（Ｅｏｐ）の評価］
各実施例及び各比較例で線幅１４ｎｍのライアンドスペース形状の硬化膜を形成した最適露光量Ｅｏｐ（ｍｊ／ｃｍ２）を測定した。
これらの測定結果を表２に記す。
各実施例及び各比較例で線幅１４ｎｍのライアンドスペース形状の硬化膜を形成した最適露光量Ｅｏｐ（ｍｊ／ｃｍ２）を測定した。
これらの測定結果を表２に記す。
【0256】
［ラインワイズラフネス（ＬＷＲ）の評価］
各実施例及び各比較例で形成した線幅１４ｎｍのライアンドスペース形状の硬化膜について、ＬＷＲを示す尺度である３σを求めた。
３σは、走査型電子顕微鏡（製品名：Ｓ－９３８０、日立ハイテクノロジーズ社、加速電圧８００Ｖ）によりラインの長手方向にラインポジションを４００箇所測定し、その測定結果から求めた標準偏差（σ）の３倍値（３σ）（単位：ｎｍ）を示す。
これらの測定結果を表２に記す。３σの値が小さいほど、ライン側壁のラフネスが小さく、より均一な幅のＬＳパターンが得られたことを意味する。
各実施例及び各比較例を以下の基準に従い評価した。
〇：３σが、２．５０以下であった。
×：３σが、２．５０超であった。
各実施例及び各比較例で形成した線幅１４ｎｍのライアンドスペース形状の硬化膜について、ＬＷＲを示す尺度である３σを求めた。
３σは、走査型電子顕微鏡（製品名：Ｓ－９３８０、日立ハイテクノロジーズ社、加速電圧８００Ｖ）によりラインの長手方向にラインポジションを４００箇所測定し、その測定結果から求めた標準偏差（σ）の３倍値（３σ）（単位：ｎｍ）を示す。
これらの測定結果を表２に記す。３σの値が小さいほど、ライン側壁のラフネスが小さく、より均一な幅のＬＳパターンが得られたことを意味する。
各実施例及び各比較例を以下の基準に従い評価した。
〇：３σが、２．５０以下であった。
×：３σが、２．５０超であった。
【0257】
【表2】
【0258】
表２によれば、樹脂（Ａ）と、光酸発生剤（Ｂ）と、クエンチャー（Ｃ）と、架橋剤（Ｄ）とを含み、樹脂（Ａ）は、フェノール性水酸基を有するポリオルガノシロキサン構造を有する樹脂（Ａ１）を含み、樹脂（Ａ）の分子量分散度が１．００以上１．５０以下である、ことにより、ＬＷＲの小さいレジストパターンを形成できる感光性組成物を得ることができる。