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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024178356
(43)【公開日】2024-12-24
(54)【発明の名称】積層体
(51)【国際特許分類】
G02B 5/30 20060101AFI20241217BHJP
【ＦＩ】
G02B5/30
【審査請求】有
【請求項の数】10
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2024165232
(22)【出願日】2024-09-24
(62)【分割の表示】P 2023077671の分割
【原出願日】2014-08-07
(31)【優先権主張番号】P 2013165944
(32)【優先日】2013-08-09
(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP
(71)【出願人】
【識別番号】000002093
【氏名又は名称】住友化学株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100145403
【弁理士】
【氏名又は名称】山尾 憲人
(74)【代理人】
【識別番号】100104592
【弁理士】
【氏名又は名称】森住 憲一
(74)【代理人】
【識別番号】100162710
【弁理士】
【氏名又は名称】梶田 真理奈
(72)【発明者】
【氏名】小林 忠弘
(57)【要約】 （修正有）
【課題】黒表示時斜めから見た時の光漏れ抑制に優れる光学フィルムを得るための積層体を提供すること。
【解決手段】基材及び光学異方性層を有し、かつ光学異方性層が下記式（１）、（２）及び（３）を満たす積層体の提供。Δｎ５０（４５０）／Δｎ５０（５５０）≦１．００（１）１．００≦Δｎ５０（６５０）／Δｎ５０（５５０）（２）（ここで、Δｎ５０（４５０）、Δｎ５０（５５０）、Δｎ５０（６５０）はそれぞれ波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、６５０ｎｍにおいて、進相軸を傾斜中心軸として５０度傾斜させ、測定したときに得られる位相差値から導出される複屈折である。）ｎｚ＞ｎｘ≒ｎｙ（３）（ｎｘ、ｎｙは、基材平面に対して平行な方向の屈折率を示し、ｎｘとｎｙはそれぞれ直交し、ｎｚはｎｘ及びｎｙのいずれにも直交する方向の屈折率を示す。）
【選択図】図１
【解決手段】基材及び光学異方性層を有し、かつ光学異方性層が下記式（１）、（２）及び（３）を満たす積層体の提供。Δｎ５０（４５０）／Δｎ５０（５５０）≦１．００（１）１．００≦Δｎ５０（６５０）／Δｎ５０（５５０）（２）（ここで、Δｎ５０（４５０）、Δｎ５０（５５０）、Δｎ５０（６５０）はそれぞれ波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、６５０ｎｍにおいて、進相軸を傾斜中心軸として５０度傾斜させ、測定したときに得られる位相差値から導出される複屈折である。）ｎｚ＞ｎｘ≒ｎｙ（３）（ｎｘ、ｎｙは、基材平面に対して平行な方向の屈折率を示し、ｎｘとｎｙはそれぞれ直交し、ｎｚはｎｘ及びｎｙのいずれにも直交する方向の屈折率を示す。）
【選択図】図１
【特許請求の範囲】
【請求項1】
基材及び光学異方性層を有し、かつ光学異方性層が下記式（１）、（２）及び（３）を
満たす層であって、重合性液晶化合物及び光重合開始剤及びレベリング剤を含む組成物から得られるコーティング層であり、前記重合性液晶化合物が式（Ａ）で表される化合物であり、
［式（Ａ）中、
Ｘ１は、酸素原子、硫黄原子又は－ＮＲ１－を表す。Ｒ１は、水素原子又は炭素数１～４
のアルキル基を表す。
Ｙ１は、置換基を有していてもよい炭素数６～１２の１価の芳香族炭化水素基、又は置換
基を有していてもよい炭素数３～１２の１価の芳香族複素環式基を表す。
Ｑ３及びＱ４は、それぞれ独立に、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１～２０
の１価の脂肪族炭化水素基、炭素数３～２０の脂環式炭化水素基、置換基を有していても
よい炭素数６～２０の１価の芳香族炭化水素基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、－
ＮＲ２Ｒ３又は－ＳＲ２を表すか、Ｑ３及びＱ４が互いに結合して、これらがそれぞれ結
合する炭素原子とともに芳香環又は芳香族複素環を形成していてもよい。Ｒ２及びＲ３は
、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数１～６のアルキル基を表す。
Ｄ１及びＤ２は、それぞれ独立に、単結合、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｓ）－Ｏ－、
－ＣＲ４Ｒ５－、－ＣＲ４Ｒ５－ＣＲ６Ｒ７－、－Ｏ－ＣＲ４Ｒ５－、－ＣＲ４Ｒ５－Ｏ
－ＣＲ６Ｒ７－、－ＣＯ－Ｏ－ＣＲ４Ｒ５－、－Ｏ－ＣＯ－ＣＲ４Ｒ５－、－ＣＲ４Ｒ５
－Ｏ－ＣＯ－ＣＲ６Ｒ７－、－ＣＲ４Ｒ５－ＣＯ－Ｏ－ＣＲ６Ｒ７－又は－ＮＲ４－ＣＲ
５Ｒ６－又は－ＣＯ－ＮＲ４－を表す。
Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６及びＲ７は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子又は炭素数１～４
のアルキル基を表す。
Ｇ１及びＧ２は、それぞれ独立に、炭素数５～８の２価の脂環式炭化水素基を表し、該脂
環式炭化水素基を構成するメチレン基は、酸素原子、硫黄原子又は－ＮＨ－に置き換って
いてもよく、該脂環式炭化水素基を構成するメチン基は、第三級窒素原子に置き換ってい
てもよい。
Ｌ１及びＬ２は、それぞれ独立に、１価の有機基を表し、Ｌ１及びＬ２のうち少なくとも
一方が、重合性基を有する有機基である。］
前記レベリング剤は、ポリアクリレート系のレベリング剤およびパーフルオロアルキル系
のレベリング剤からなる群より選択されるレベリング剤である積層体。
Δｎ５０（４５０）／Δｎ５０（５５０）≦１．００ （１）
１．００≦Δｎ５０（６５０）／Δｎ５０（５５０） （２）
（ここで、Δｎ５０（４５０）、Δｎ５０（５５０）、Δｎ５０（６５０）はそれぞれ波
長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、６５０ｎｍにおいて、進相軸を傾斜中心軸として５０度傾斜
させ、測定したときに得られる位相差値から導出される複屈折である。）
ｎｚ＞ｎｘ≒ｎｙ （３）
（ｎｘ、ｎｙは、基材平面に対して平行な方向の屈折率を示し、ｎｘとｎｙはそれぞれ
直交し、ｎｚはｎｘ及びｎｙのいずれにも直交する方向の屈折率を示す。）
満たす層であって、重合性液晶化合物及び光重合開始剤及びレベリング剤を含む組成物から得られるコーティング層であり、前記重合性液晶化合物が式（Ａ）で表される化合物であり、
Ｘ１は、酸素原子、硫黄原子又は－ＮＲ１－を表す。Ｒ１は、水素原子又は炭素数１～４
のアルキル基を表す。
Ｙ１は、置換基を有していてもよい炭素数６～１２の１価の芳香族炭化水素基、又は置換
基を有していてもよい炭素数３～１２の１価の芳香族複素環式基を表す。
Ｑ３及びＱ４は、それぞれ独立に、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１～２０
の１価の脂肪族炭化水素基、炭素数３～２０の脂環式炭化水素基、置換基を有していても
よい炭素数６～２０の１価の芳香族炭化水素基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、－
ＮＲ２Ｒ３又は－ＳＲ２を表すか、Ｑ３及びＱ４が互いに結合して、これらがそれぞれ結
合する炭素原子とともに芳香環又は芳香族複素環を形成していてもよい。Ｒ２及びＲ３は
、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数１～６のアルキル基を表す。
Ｄ１及びＤ２は、それぞれ独立に、単結合、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｓ）－Ｏ－、
－ＣＲ４Ｒ５－、－ＣＲ４Ｒ５－ＣＲ６Ｒ７－、－Ｏ－ＣＲ４Ｒ５－、－ＣＲ４Ｒ５－Ｏ
－ＣＲ６Ｒ７－、－ＣＯ－Ｏ－ＣＲ４Ｒ５－、－Ｏ－ＣＯ－ＣＲ４Ｒ５－、－ＣＲ４Ｒ５
－Ｏ－ＣＯ－ＣＲ６Ｒ７－、－ＣＲ４Ｒ５－ＣＯ－Ｏ－ＣＲ６Ｒ７－又は－ＮＲ４－ＣＲ
５Ｒ６－又は－ＣＯ－ＮＲ４－を表す。
Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６及びＲ７は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子又は炭素数１～４
のアルキル基を表す。
Ｇ１及びＧ２は、それぞれ独立に、炭素数５～８の２価の脂環式炭化水素基を表し、該脂
環式炭化水素基を構成するメチレン基は、酸素原子、硫黄原子又は－ＮＨ－に置き換って
いてもよく、該脂環式炭化水素基を構成するメチン基は、第三級窒素原子に置き換ってい
てもよい。
Ｌ１及びＬ２は、それぞれ独立に、１価の有機基を表し、Ｌ１及びＬ２のうち少なくとも
一方が、重合性基を有する有機基である。］
前記レベリング剤は、ポリアクリレート系のレベリング剤およびパーフルオロアルキル系
のレベリング剤からなる群より選択されるレベリング剤である積層体。
Δｎ５０（４５０）／Δｎ５０（５５０）≦１．００ （１）
１．００≦Δｎ５０（６５０）／Δｎ５０（５５０） （２）
（ここで、Δｎ５０（４５０）、Δｎ５０（５５０）、Δｎ５０（６５０）はそれぞれ波
長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、６５０ｎｍにおいて、進相軸を傾斜中心軸として５０度傾斜
させ、測定したときに得られる位相差値から導出される複屈折である。）
ｎｚ＞ｎｘ≒ｎｙ （３）
（ｎｘ、ｎｙは、基材平面に対して平行な方向の屈折率を示し、ｎｘとｎｙはそれぞれ
直交し、ｎｚはｎｘ及びｎｙのいずれにも直交する方向の屈折率を示す。）
【請求項2】
基材と光学異方性層との間に配向膜層を有し、該配向膜層がポリイミド、ポリアミド及びポリアミック酸からなる群から選ばれる少なくとも１種を含む請求項１に記載の積層体。
【請求項3】
配向膜層が重合性液晶化合物を垂直配向させる配向規制力を有する請求項２に記載の積
層体。
層体。
【請求項4】
偏光板（Ａ）、請求項１～３のいずれかに記載の積層体、偏光板（Ｂ）の順に積層した
構成において、偏光板（Ａ）と偏光板（Ｂ）の吸収軸が直交し、かつ、次の（ａ）及び（
ｂ）のいずれの場合においても、偏光板（Ｂ）側から光を入射し偏光板（Ａ）側から透過
光を検出した時に得られる波長５５０ｎｍにおける透過率Ｔが下記式（Ｄ）を満たす、請
求項１～３のいずれかに記載の積層体。
（ａ）積層体を構成する基材の面内に遅相軸が存在する場合、該基材を偏光板（Ｂ）側に
配置し、かつ、基材の遅相軸を偏光板（Ｂ）の吸収軸と平行に積層する。
（ｂ）積層体を構成する基材面内に遅相軸が存在しない場合、該基材を偏光板（Ｂ）側に
配置する。
０．０００＜ Ｔ ＜０．００５ （Ｄ）
（ここで、透過率Ｔは、偏光板（Ａ）と偏光板（Ｂ）の吸収軸を平行に配置した場合の透
過率を１００％とした時の値である）
構成において、偏光板（Ａ）と偏光板（Ｂ）の吸収軸が直交し、かつ、次の（ａ）及び（
ｂ）のいずれの場合においても、偏光板（Ｂ）側から光を入射し偏光板（Ａ）側から透過
光を検出した時に得られる波長５５０ｎｍにおける透過率Ｔが下記式（Ｄ）を満たす、請
求項１～３のいずれかに記載の積層体。
（ａ）積層体を構成する基材の面内に遅相軸が存在する場合、該基材を偏光板（Ｂ）側に
配置し、かつ、基材の遅相軸を偏光板（Ｂ）の吸収軸と平行に積層する。
（ｂ）積層体を構成する基材面内に遅相軸が存在しない場合、該基材を偏光板（Ｂ）側に
配置する。
０．０００＜ Ｔ ＜０．００５ （Ｄ）
（ここで、透過率Ｔは、偏光板（Ａ）と偏光板（Ｂ）の吸収軸を平行に配置した場合の透
過率を１００％とした時の値である）
【請求項5】
基材が、下記式（４）を満たす請求項１～４のいずれかに記載の積層体。
ｎｘ＞ｎｙ≒ｎｚ （４）
（ここで、ｎｘ、ｎｙは、基材平面に対して平行な方向の屈折率を示し、ｎｘとｎｙはそ
れぞれ直交し、ｎｚはｎｘ及びｎｙのいずれにも直交する方向の屈折率を示す。）
ｎｘ＞ｎｙ≒ｎｚ （４）
（ここで、ｎｘ、ｎｙは、基材平面に対して平行な方向の屈折率を示し、ｎｘとｎｙはそ
れぞれ直交し、ｎｚはｎｘ及びｎｙのいずれにも直交する方向の屈折率を示す。）
【請求項6】
基材が、下記式（５）及び（６）を満たす請求項１～５のいずれかに記載の積層体。
Δｎ（４５０）／Δｎ（５５０）≧１．００ （５）
１．００≧Δｎ（６５０）／Δｎ（５５０） （６）
（Δｎ（４５０）、Δｎ（５５０）、Δｎ（６５０）はそれぞれ波長４５０ｎｍ、５５０
ｎｍ、６５０ｎｍにおいて、測定したときに正面位相差値から導出される複屈折である。
）
Δｎ（４５０）／Δｎ（５５０）≧１．００ （５）
１．００≧Δｎ（６５０）／Δｎ（５５０） （６）
（Δｎ（４５０）、Δｎ（５５０）、Δｎ（６５０）はそれぞれ波長４５０ｎｍ、５５０
ｎｍ、６５０ｎｍにおいて、測定したときに正面位相差値から導出される複屈折である。
）
【請求項7】
基材が、下記式（７）及び（８）を満たす請求項１～６のいずれかに記載の積層体。
Δｎ（４５０）／Δｎ（５５０）≦１．００ （７）
１．００≦Δｎ（６５０）／Δｎ（５５０） （８）
（Δｎ（４５０）、Δｎ（５５０）、Δｎ（６５０）は上記と同じ意味を表す。）
Δｎ（４５０）／Δｎ（５５０）≦１．００ （７）
１．００≦Δｎ（６５０）／Δｎ（５５０） （８）
（Δｎ（４５０）、Δｎ（５５０）、Δｎ（６５０）は上記と同じ意味を表す。）
【請求項8】
請求項１～７のいずれかに記載の積層体を含む偏光板。
【請求項9】
請求項１～８のいずれかに記載の積層体を備えた表示装置。
【請求項10】
請求項１～４のいずれかに記載の積層体においての光学異方性層を、粘接着剤を介して
被転写基材に転写し、被転写基材、粘接着剤層及び光学異方性層からなる第２の積層体を
得る積層体の製造方法。
被転写基材に転写し、被転写基材、粘接着剤層及び光学異方性層からなる第２の積層体を
得る積層体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、積層体に関する。
【背景技術】
【0002】
フラットパネル表示装置（ＦＰＤ）には、偏光板及び位相差板等の光学フィルムを含む
部材が用いられている。このような光学フィルムとして、重合性液晶化合物、光重合開始
剤及び溶剤を含む組成物を基材上に塗布することにより製造されたものが知られている。
例えば、特許文献１には、重合性液晶化合物を含む組成物を基材上に塗布し、垂直配向さ
せて重合することによりで得られる光学フィルムが記載されている。
部材が用いられている。このような光学フィルムとして、重合性液晶化合物、光重合開始
剤及び溶剤を含む組成物を基材上に塗布することにより製造されたものが知られている。
例えば、特許文献１には、重合性液晶化合物を含む組成物を基材上に塗布し、垂直配向さ
せて重合することによりで得られる光学フィルムが記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【特許文献1】特開２００６－３４２３３２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
しかしながら、従来の光学フィルムは黒表示時斜めから見た時の光漏れ抑制が十分では
なかった。
なかった。
【課題を解決するための手段】
【0005】
本発明は以下の発明を含む。
[１] 基材及び光学異方性層を有し、かつ光学異方性層が下記式（１）、（２）及び（３
）を満たす積層体。
Δｎ５０（４５０）／Δｎ５０（５５０）≦１．００ （１）
１．００≦Δｎ５０（６５０）／Δｎ５０（５５０） （２）
（ここで、Δｎ５０（４５０）、Δｎ５０（５５０）、Δｎ５０（６５０）はそれぞれ波
長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、６５０ｎｍにおいて、進相軸を傾斜中心軸として５０度傾斜
させ、測定したときに得られる位相差値から導出される複屈折である。）
ｎｚ＞ｎｘ≒ｎｙ （３）
（ｎｘ、ｎｙは、基材平面に対して平行な方向の屈折率を示し、ｎｘとｎｙはそれぞれ
直交し、ｎｚはｎｘ及びｎｙのいずれにも直交する方向の屈折率を示す。）
[２] 光学異方性層が、重合性液晶化合物及び光重合開始剤を含む組成物から形成される
[１]に記載の積層体。
[３] 基材と光学異方性層との間に配向膜層を有し、該配向膜層がポリイミド、ポリアミ
ド及びポリアミック酸からなる群から選ばれる少なくとも１種を含む[１]又は[２]に記載
の積層体。
[４] 配向膜層が重合性液晶化合物を垂直配向させる配向規制力を有する[３]に記載の積
層体。
[５] 偏光板（Ａ）、[１]～[４]のいずれかに記載の積層体、偏光板（Ｂ）の順に積層し
た構成において、偏光板（Ａ）と偏光板（Ｂ）の吸収軸が直交し、かつ、次の（ａ）及び
（ｂ）のいずれの場合においても、偏光板（Ｂ）側から光を入射し偏光板（Ａ）側から透
過光を検出した時に得られる波長５５０ｎｍにおける透過率Ｔが下記式（Ｄ）を満たす、
[１]～[４]のいずれかに記載の積層体。
（ａ）積層体を構成する基材の面内に遅相軸が存在する場合、該基材を偏光板（Ｂ）側に
配置し、かつ、基材の遅相軸を偏光板（Ｂ）の吸収軸と平行に積層する。
（ｂ）積層体を構成する基材面内に遅相軸が存在しない場合、該基材を偏光板（Ｂ）側に
配置する。
０．０００＜ Ｔ ＜０．００５ （Ｄ）
（ここで、透過率Ｔは、偏光板（Ａ）と偏光板（Ｂ）の吸収軸を平行に配置した場合の透
過率を１００％とした時の値である）
[６] 基材が、下記式（４）を満たす[１]～[５]のいずれかに記載の積層体。
ｎｘ＞ｎｙ≒ｎｚ （４）
（ここで、ｎｘ、ｎｙは、基材平面に対して平行な方向の屈折率を示し、ｎｘとｎｙはそ
れぞれ直交し、ｎｚはｎｘ及びｎｙのいずれにも直交する方向の屈折率を示す。）
[７] 基材が、下記式（５）及び（６）を満たす[１]～[６]のいずれかに記載の積層体。
Δｎ（４５０）／Δｎ（５５０）≧１．００ （５）
１．００≧Δｎ（６５０）／Δｎ（５５０） （６）
（Δｎ（４５０）、Δｎ（５５０）、Δｎ（６５０）はそれぞれ波長４５０ｎｍ、５５０
ｎｍ、６５０ｎｍにおいて、測定したときに正面位相差値から導出される複屈折である。
）
[８] 基材が、下記式（７）及び（８）を満たす[１]～[６]のいずれかに記載の積層体。
Δｎ（４５０）／Δｎ（５５０）≦１．００ （７）
１．００≦Δｎ（６５０）／Δｎ（５５０） （８）
（Δｎ（４５０）、Δｎ（５５０）、Δｎ（６５０）は上記と同じ意味を表す。）
[９] 重合性液晶化合物が式（Ａ）で表される化合物である[２]～[８]のいずれかに記載
の積層体。
［式（Ａ）中、
Ｘ１は、酸素原子、硫黄原子又は－ＮＲ１－を表す。Ｒ１は、水素原子又は炭素数１～
４のアルキル基を表す。
Ｙ１は、置換基を有していてもよい炭素数６～１２の１価の芳香族炭化水素基、又は置
換基を有していてもよい炭素数３～１２の１価の芳香族複素環式基を表す。
Ｑ３及びＱ４は、それぞれ独立に、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１～２
０の１価の脂肪族炭化水素基、炭素数３～２０の脂環式炭化水素基、置換基を有していて
もよい炭素数６～２０の１価の芳香族炭化水素基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、
－ＮＲ２Ｒ３又は－ＳＲ２を表すか、Ｑ３及びＱ４が互いに結合して、これらがそれぞれ
結合する炭素原子とともに芳香環又は芳香族複素環を形成していてもよい。Ｒ２及びＲ３
は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数１～６のアルキル基を表す。
Ｄ１及びＤ２は、それぞれ独立に、単結合、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｓ）－Ｏ－
、－ＣＲ４Ｒ５－、－ＣＲ４Ｒ５－ＣＲ６Ｒ７－、－Ｏ－ＣＲ４Ｒ５－、－ＣＲ４Ｒ５－
Ｏ－ＣＲ６Ｒ７－、－ＣＯ－Ｏ－ＣＲ４Ｒ５－、－Ｏ－ＣＯ－ＣＲ４Ｒ５－、－ＣＲ４Ｒ
５－Ｏ－ＣＯ－ＣＲ６Ｒ７－、－ＣＲ４Ｒ５－ＣＯ－Ｏ－ＣＲ６Ｒ７－又は－ＮＲ４－Ｃ
Ｒ５Ｒ６－又は－ＣＯ－ＮＲ４－を表す。
Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６及びＲ７は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子又は炭素数１～
４のアルキル基を表す。
Ｇ１及びＧ２は、それぞれ独立に、炭素数５～８の２価の脂環式炭化水素基を表し、該
脂環式炭化水素基を構成するメチレン基は、酸素原子、硫黄原子又は－ＮＨ－に置き換っ
ていてもよく、該脂環式炭化水素基を構成するメチン基は、第三級窒素原子に置き換って
いてもよい。
Ｌ１及びＬ２は、それぞれ独立に、１価の有機基を表し、Ｌ１及びＬ２のうち少なくと
も一方が、重合性基を有する有機基である。］
[１０] 工程（ａ１）及び（ａ２）を含む積層体の製造方法。
工程（ａ１）：基材に式（Ａ）で表される重合性液晶化合物を含む組成物を塗布する工程
工程（ａ２）：塗布された該組成物を乾燥し、光照射によって硬化する工程
[１１] 工程（ｂ１）、（ｂ２）及び（ｂ３）を含む積層体の製造方法。
工程（ｂ１）：基材に配向性ポリマーを塗布し、配向膜層を形成する工程
工程（ｂ２）：該配向膜層上に、式（Ａ）で表される重合性液晶化合物を含む組成物を塗
布する工程
工程（ｂ３）：塗布された該組成物を乾燥し、光照射によって硬化する工程。
[１２] [１]～[９]のいずれかに記載の積層体を含む偏光板。
[１３] [１]～[９]のいずれかに記載の積層体を備えた表示装置。
[１４] [１]～[５]のいずれかに記載の積層体の光学異方性層を、粘接着剤を介して被転
写基材に転写し、被転写基材、粘接着剤層及び光学異方性層からなる積層体を得る積層体
の製造方法。
[１５] 被転写基材及び光学異方性層を有し、かつ光学異方性層が下記式（１）、（２）
及び（３）を満たす積層体。
Δｎ５０（４５０）／Δｎ５０（５５０）≦１．００ （１）
１．００≦Δｎ５０（６５０）／Δｎ５０（５５０） （２）
（ここで、Δｎ５０（４５０）、Δｎ５０（５５０）、Δｎ５０（６５０）はそれぞれ波
長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、６５０ｎｍにおいて、進相軸を傾斜中心軸として５０度傾斜
させ、測定したときに得られる位相差値から導出される複屈折である。）
ｎｚ＞ｎｘ≒ｎｙ （３）
（ｎｘ、ｎｙは、基材平面に対して平行な方向の屈折率を示し、ｎｘとｎｙはそれぞれ
直交し、ｎｚはｎｘ及びｎｙのいずれにも直交する方向の屈折率を示す。）
[１] 基材及び光学異方性層を有し、かつ光学異方性層が下記式（１）、（２）及び（３
）を満たす積層体。
Δｎ５０（４５０）／Δｎ５０（５５０）≦１．００ （１）
１．００≦Δｎ５０（６５０）／Δｎ５０（５５０） （２）
（ここで、Δｎ５０（４５０）、Δｎ５０（５５０）、Δｎ５０（６５０）はそれぞれ波
長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、６５０ｎｍにおいて、進相軸を傾斜中心軸として５０度傾斜
させ、測定したときに得られる位相差値から導出される複屈折である。）
ｎｚ＞ｎｘ≒ｎｙ （３）
（ｎｘ、ｎｙは、基材平面に対して平行な方向の屈折率を示し、ｎｘとｎｙはそれぞれ
直交し、ｎｚはｎｘ及びｎｙのいずれにも直交する方向の屈折率を示す。）
[２] 光学異方性層が、重合性液晶化合物及び光重合開始剤を含む組成物から形成される
[１]に記載の積層体。
[３] 基材と光学異方性層との間に配向膜層を有し、該配向膜層がポリイミド、ポリアミ
ド及びポリアミック酸からなる群から選ばれる少なくとも１種を含む[１]又は[２]に記載
の積層体。
[４] 配向膜層が重合性液晶化合物を垂直配向させる配向規制力を有する[３]に記載の積
層体。
[５] 偏光板（Ａ）、[１]～[４]のいずれかに記載の積層体、偏光板（Ｂ）の順に積層し
た構成において、偏光板（Ａ）と偏光板（Ｂ）の吸収軸が直交し、かつ、次の（ａ）及び
（ｂ）のいずれの場合においても、偏光板（Ｂ）側から光を入射し偏光板（Ａ）側から透
過光を検出した時に得られる波長５５０ｎｍにおける透過率Ｔが下記式（Ｄ）を満たす、
[１]～[４]のいずれかに記載の積層体。
（ａ）積層体を構成する基材の面内に遅相軸が存在する場合、該基材を偏光板（Ｂ）側に
配置し、かつ、基材の遅相軸を偏光板（Ｂ）の吸収軸と平行に積層する。
（ｂ）積層体を構成する基材面内に遅相軸が存在しない場合、該基材を偏光板（Ｂ）側に
配置する。
０．０００＜ Ｔ ＜０．００５ （Ｄ）
（ここで、透過率Ｔは、偏光板（Ａ）と偏光板（Ｂ）の吸収軸を平行に配置した場合の透
過率を１００％とした時の値である）
[６] 基材が、下記式（４）を満たす[１]～[５]のいずれかに記載の積層体。
ｎｘ＞ｎｙ≒ｎｚ （４）
（ここで、ｎｘ、ｎｙは、基材平面に対して平行な方向の屈折率を示し、ｎｘとｎｙはそ
れぞれ直交し、ｎｚはｎｘ及びｎｙのいずれにも直交する方向の屈折率を示す。）
[７] 基材が、下記式（５）及び（６）を満たす[１]～[６]のいずれかに記載の積層体。
Δｎ（４５０）／Δｎ（５５０）≧１．００ （５）
１．００≧Δｎ（６５０）／Δｎ（５５０） （６）
（Δｎ（４５０）、Δｎ（５５０）、Δｎ（６５０）はそれぞれ波長４５０ｎｍ、５５０
ｎｍ、６５０ｎｍにおいて、測定したときに正面位相差値から導出される複屈折である。
）
[８] 基材が、下記式（７）及び（８）を満たす[１]～[６]のいずれかに記載の積層体。
Δｎ（４５０）／Δｎ（５５０）≦１．００ （７）
１．００≦Δｎ（６５０）／Δｎ（５５０） （８）
（Δｎ（４５０）、Δｎ（５５０）、Δｎ（６５０）は上記と同じ意味を表す。）
[９] 重合性液晶化合物が式（Ａ）で表される化合物である[２]～[８]のいずれかに記載
の積層体。
Ｘ１は、酸素原子、硫黄原子又は－ＮＲ１－を表す。Ｒ１は、水素原子又は炭素数１～
４のアルキル基を表す。
Ｙ１は、置換基を有していてもよい炭素数６～１２の１価の芳香族炭化水素基、又は置
換基を有していてもよい炭素数３～１２の１価の芳香族複素環式基を表す。
Ｑ３及びＱ４は、それぞれ独立に、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１～２
０の１価の脂肪族炭化水素基、炭素数３～２０の脂環式炭化水素基、置換基を有していて
もよい炭素数６～２０の１価の芳香族炭化水素基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、
－ＮＲ２Ｒ３又は－ＳＲ２を表すか、Ｑ３及びＱ４が互いに結合して、これらがそれぞれ
結合する炭素原子とともに芳香環又は芳香族複素環を形成していてもよい。Ｒ２及びＲ３
は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数１～６のアルキル基を表す。
Ｄ１及びＤ２は、それぞれ独立に、単結合、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｓ）－Ｏ－
、－ＣＲ４Ｒ５－、－ＣＲ４Ｒ５－ＣＲ６Ｒ７－、－Ｏ－ＣＲ４Ｒ５－、－ＣＲ４Ｒ５－
Ｏ－ＣＲ６Ｒ７－、－ＣＯ－Ｏ－ＣＲ４Ｒ５－、－Ｏ－ＣＯ－ＣＲ４Ｒ５－、－ＣＲ４Ｒ
５－Ｏ－ＣＯ－ＣＲ６Ｒ７－、－ＣＲ４Ｒ５－ＣＯ－Ｏ－ＣＲ６Ｒ７－又は－ＮＲ４－Ｃ
Ｒ５Ｒ６－又は－ＣＯ－ＮＲ４－を表す。
Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６及びＲ７は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子又は炭素数１～
４のアルキル基を表す。
Ｇ１及びＧ２は、それぞれ独立に、炭素数５～８の２価の脂環式炭化水素基を表し、該
脂環式炭化水素基を構成するメチレン基は、酸素原子、硫黄原子又は－ＮＨ－に置き換っ
ていてもよく、該脂環式炭化水素基を構成するメチン基は、第三級窒素原子に置き換って
いてもよい。
Ｌ１及びＬ２は、それぞれ独立に、１価の有機基を表し、Ｌ１及びＬ２のうち少なくと
も一方が、重合性基を有する有機基である。］
[１０] 工程（ａ１）及び（ａ２）を含む積層体の製造方法。
工程（ａ１）：基材に式（Ａ）で表される重合性液晶化合物を含む組成物を塗布する工程
工程（ａ２）：塗布された該組成物を乾燥し、光照射によって硬化する工程
[１１] 工程（ｂ１）、（ｂ２）及び（ｂ３）を含む積層体の製造方法。
工程（ｂ１）：基材に配向性ポリマーを塗布し、配向膜層を形成する工程
工程（ｂ２）：該配向膜層上に、式（Ａ）で表される重合性液晶化合物を含む組成物を塗
布する工程
工程（ｂ３）：塗布された該組成物を乾燥し、光照射によって硬化する工程。
[１２] [１]～[９]のいずれかに記載の積層体を含む偏光板。
[１３] [１]～[９]のいずれかに記載の積層体を備えた表示装置。
[１４] [１]～[５]のいずれかに記載の積層体の光学異方性層を、粘接着剤を介して被転
写基材に転写し、被転写基材、粘接着剤層及び光学異方性層からなる積層体を得る積層体
の製造方法。
[１５] 被転写基材及び光学異方性層を有し、かつ光学異方性層が下記式（１）、（２）
及び（３）を満たす積層体。
Δｎ５０（４５０）／Δｎ５０（５５０）≦１．００ （１）
１．００≦Δｎ５０（６５０）／Δｎ５０（５５０） （２）
（ここで、Δｎ５０（４５０）、Δｎ５０（５５０）、Δｎ５０（６５０）はそれぞれ波
長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、６５０ｎｍにおいて、進相軸を傾斜中心軸として５０度傾斜
させ、測定したときに得られる位相差値から導出される複屈折である。）
ｎｚ＞ｎｘ≒ｎｙ （３）
（ｎｘ、ｎｙは、基材平面に対して平行な方向の屈折率を示し、ｎｘとｎｙはそれぞれ
直交し、ｎｚはｎｘ及びｎｙのいずれにも直交する方向の屈折率を示す。）
【発明の効果】
【0006】
本発明の積層体によれば、黒表示時斜めから見た時の光漏れ抑制に優れる光学フィルム
が得られる。
が得られる。
【図面の簡単な説明】
【0007】
【図1】本発明の積層体の一例を示す断面模式図である。
【図2】本発明の積層体を含む偏光板の一例を示す断面模式図である。
【図3】本発明の積層体を備えた液晶表示装置の一例を示す断面模式図である。
【図4】本発明の積層体を備えた有機ＥＬ表示装置の一例を示す断面模式図である。
【発明を実施するための形態】
【0008】
以下、図面を参照しながら、本発明を説明する。
【0009】
本発明は、基材及び光学異方性層を有し、かつ光学異方性層が下記式（１）、（２）及
び（３）を満たす積層体である。本発明の積層体（以下、本積層体ということがある。）
は、好ましくは組成及び光学特性が同一である１種類の光学異方性層を有する。
Δｎ５０（４５０）／Δｎ５０（５５０）≦１．００ （１）
１．００≦Δｎ５０（６５０）／Δｎ５０（５５０） （２）
（ここで、Δｎ５０（４５０）、Δｎ５０（５５０）、Δｎ５０（６５０）はそれぞれ波
長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、６５０ｎｍにおいて、進相軸を傾斜中心軸として５０度傾斜
させ、測定したときに得られる位相差値から導出される複屈折である。）
ｎｚ＞ｎｘ≒ｎｙ （３）
（ｎｘ、ｎｙは、基材平面に対して平行な方向の屈折率を示し、ｎｘとｎｙはそれぞれ
直交し、ｎｚはｎｘ及びｎｙのいずれにも直交する方向の屈折率を示す。）
び（３）を満たす積層体である。本発明の積層体（以下、本積層体ということがある。）
は、好ましくは組成及び光学特性が同一である１種類の光学異方性層を有する。
Δｎ５０（４５０）／Δｎ５０（５５０）≦１．００ （１）
１．００≦Δｎ５０（６５０）／Δｎ５０（５５０） （２）
（ここで、Δｎ５０（４５０）、Δｎ５０（５５０）、Δｎ５０（６５０）はそれぞれ波
長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、６５０ｎｍにおいて、進相軸を傾斜中心軸として５０度傾斜
させ、測定したときに得られる位相差値から導出される複屈折である。）
ｎｚ＞ｎｘ≒ｎｙ （３）
（ｎｘ、ｎｙは、基材平面に対して平行な方向の屈折率を示し、ｎｘとｎｙはそれぞれ
直交し、ｎｚはｎｘ及びｎｙのいずれにも直交する方向の屈折率を示す。）
【0010】
基材としては、通常透明基材が用いられる。透明基材とは、光、特に可視光を透過し得
る透光性を有する基材を意味し、透光性とは、波長３８０～７８０ｎｍにわたる光線に対
しての透過率が８０％以上となる特性をいう。具体的な透明基材としては、ガラスおよび
透光性樹脂基材が挙げられ、透光性樹脂基材が好ましい。基材には、通常フィルム状のも
のが用いられ、好ましくはロール状のフィルムが用いられる。
る透光性を有する基材を意味し、透光性とは、波長３８０～７８０ｎｍにわたる光線に対
しての透過率が８０％以上となる特性をいう。具体的な透明基材としては、ガラスおよび
透光性樹脂基材が挙げられ、透光性樹脂基材が好ましい。基材には、通常フィルム状のも
のが用いられ、好ましくはロール状のフィルムが用いられる。
【0011】
基材を構成する樹脂としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ノルボルネン系ポリマ
ー等のポリオレフィン；ポリビニルアルコール；ポリエチレンテレフタレート；ポリメタ
クリル酸エステル；ポリアクリル酸エステル；セルロースエステル；ポリエチレンナフタ
レート；ポリカーボネート；ポリスルフォン；ポリエーテルスルホン；ポリエーテルケト
ン；ポリフェニレンスルフィド；およびポリフェニレンオキシドが挙げられる。中でも、
ポリエチレン、ポリプロピレン、ノルボルネン系ポリマー等のポリオレフィンからなる基
材が好ましい。
ー等のポリオレフィン；ポリビニルアルコール；ポリエチレンテレフタレート；ポリメタ
クリル酸エステル；ポリアクリル酸エステル；セルロースエステル；ポリエチレンナフタ
レート；ポリカーボネート；ポリスルフォン；ポリエーテルスルホン；ポリエーテルケト
ン；ポリフェニレンスルフィド；およびポリフェニレンオキシドが挙げられる。中でも、
ポリエチレン、ポリプロピレン、ノルボルネン系ポリマー等のポリオレフィンからなる基
材が好ましい。
【0012】
基材には、表面処理を施してもよい。表面処理の方法としては、例えば、真空下または
大気圧下、コロナまたはプラズマで基材の表面を処理する方法、基材表面をレーザー処理
する方法、基材表面をオゾン処理する方法、基材表面をケン化処理する方法または基材表
面を火炎処理する方法、基材表面にカップリング剤を塗布する方法、プライマー処理する
方法、反応性モノマーや反応性を有するポリマーを基材表面に付着させた後、放射線、プ
ラズマまたは紫外線を照射して反応させるグラフト重合法などが挙げられる。中でも、真
空下や大気圧下で、基材表面をコロナまたはプラズマ処理する方法が好ましい。
大気圧下、コロナまたはプラズマで基材の表面を処理する方法、基材表面をレーザー処理
する方法、基材表面をオゾン処理する方法、基材表面をケン化処理する方法または基材表
面を火炎処理する方法、基材表面にカップリング剤を塗布する方法、プライマー処理する
方法、反応性モノマーや反応性を有するポリマーを基材表面に付着させた後、放射線、プ
ラズマまたは紫外線を照射して反応させるグラフト重合法などが挙げられる。中でも、真
空下や大気圧下で、基材表面をコロナまたはプラズマ処理する方法が好ましい。
【0013】
コロナまたはプラズマで基材の表面処理を行う方法としては、大気圧近傍の圧力下で、
対向した電極間に基材を設置し、コロナまたはプラズマを発生させて、基材の表面処理を
行う方法、対向した電極間にガスを流し、電極間でガスをプラズマ化し、プラズマ化した
ガスを基材に吹付ける方法、および、低圧条件下で、グロー放電プラズマを発生させて、
基材の表面処理を行う方法が挙げられる。
対向した電極間に基材を設置し、コロナまたはプラズマを発生させて、基材の表面処理を
行う方法、対向した電極間にガスを流し、電極間でガスをプラズマ化し、プラズマ化した
ガスを基材に吹付ける方法、および、低圧条件下で、グロー放電プラズマを発生させて、
基材の表面処理を行う方法が挙げられる。
【0014】
中でも、大気圧近傍の圧力下で、対向した電極間に基材を設置し、コロナまたはプラズ
マを発生させて、基材の表面処理を行う方法、または、対向した電極間にガスを流し、電
極間でガスをプラズマ化し、プラズマ化したガスを基材に吹付ける方法が好ましい。かか
るコロナまたはプラズマによる表面処理は、通常、市販の表面処理装置により行われる。
マを発生させて、基材の表面処理を行う方法、または、対向した電極間にガスを流し、電
極間でガスをプラズマ化し、プラズマ化したガスを基材に吹付ける方法が好ましい。かか
るコロナまたはプラズマによる表面処理は、通常、市販の表面処理装置により行われる。
【0015】
本発明の積層体が有する光学異方性層は、下記式（１）、（２）及び（３）を満たす。
Δｎ５０（４５０）／Δｎ５０（５５０）≦１．００ （１）
１．００≦Δｎ５０（６５０）／Δｎ５０（５５０） （２）
（ここで、Δｎ５０（４５０）、Δｎ５０（５５０）、Δｎ５０（６５０）はそれぞれ波
長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、６５０ｎｍにおいて、進相軸を傾斜中心軸として５０度傾斜
させ、測定したときに得られる位相差値から導出される複屈折である。）
ｎｚ＞ｎｘ≒ｎｙ （３）
（ｎｘ、ｎｙは、基材平面に対して平行な方向の屈折率を示し、ｎｘとｎｙはそれぞれ
直交し、ｎｚはｎｘ及びｎｙのいずれにも直交する方向の屈折率を示す。）
Δｎ５０（４５０）／Δｎ５０（５５０）≦１．００ （１）
１．００≦Δｎ５０（６５０）／Δｎ５０（５５０） （２）
（ここで、Δｎ５０（４５０）、Δｎ５０（５５０）、Δｎ５０（６５０）はそれぞれ波
長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、６５０ｎｍにおいて、進相軸を傾斜中心軸として５０度傾斜
させ、測定したときに得られる位相差値から導出される複屈折である。）
ｎｚ＞ｎｘ≒ｎｙ （３）
（ｎｘ、ｎｙは、基材平面に対して平行な方向の屈折率を示し、ｎｘとｎｙはそれぞれ
直交し、ｎｚはｎｘ及びｎｙのいずれにも直交する方向の屈折率を示す。）
【0016】
式（１）及び式（２）は、光学異方性層の厚み方向（ｚ方向）における波長分散性を意
味する。Δｎ５０（λ）は、光学異方性層を、進相軸を傾斜中心軸として５０度傾斜させ
、波長λｎｍで測定させたときに得られる位相差値Ｒ５0（λ）及び光学異方性層の厚み
ｄから、下記式（ｚ－１）により算出することができる。
Δｎ５０（λ）＝ Ｒ５0（λ）／ｄ （ｚ－１）
式（１）及び式（２）を満たすことは、長波長ほど複屈折が大きくなる逆波長分散性を示
す。式（３）は、光学異方性層がポジティブＣプレートの特性を有することを表す。
味する。Δｎ５０（λ）は、光学異方性層を、進相軸を傾斜中心軸として５０度傾斜させ
、波長λｎｍで測定させたときに得られる位相差値Ｒ５0（λ）及び光学異方性層の厚み
ｄから、下記式（ｚ－１）により算出することができる。
Δｎ５０（λ）＝ Ｒ５0（λ）／ｄ （ｚ－１）
式（１）及び式（２）を満たすことは、長波長ほど複屈折が大きくなる逆波長分散性を示
す。式（３）は、光学異方性層がポジティブＣプレートの特性を有することを表す。
【0017】
光学異方性層は、通常、溶液を塗布し乾燥することで得られるコーティング層である。
当該溶液をしては、重合性液晶化合物及び光重合開始剤を含む組成物（以下、光学異方性
層形成用組成物ということがある）が挙げられる。
当該溶液をしては、重合性液晶化合物及び光重合開始剤を含む組成物（以下、光学異方性
層形成用組成物ということがある）が挙げられる。
【0018】
重合性液晶化合物としては、例えば、式（Ａ）で表される化合物（以下「化合物（Ａ）
」という場合がある）が挙げられる。重合性液晶化合物は一種類でもよいし、異なる構造
の化合物を複数組み合わせてもよい。
化合物（Ａ）としては、特表２０１１－２０７７６５号公報に記載されている化合物が
挙げられる。具体的には、式（Ａ）：
［式（Ａ）中、
Ｘ１は、酸素原子、硫黄原子または－ＮＲ１－を表わす。Ｒ１は、水素原子または炭素
数１～４のアルキル基を表わす。
Ｙ１は、置換基を有していてもよい炭素数６～１２の１価の芳香族炭化水素基または置
換基を有していてもよい炭素数３～１２の１価の芳香族複素環式基を表わす。
Ｑ３およびＱ４は、それぞれ独立に、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１～
２０の１価の脂肪族炭化水素基、炭素数３～２０の１価の脂環式炭化水素基、置換基を有
していてもよい炭素数６～２０の１価の芳香族炭化水素基、ハロゲン原子、シアノ基、ニ
トロ基、－ＮＲ２Ｒ３または－ＳＲ２を表わすか、または、Ｑ３とＱ４とが互いに結合し
て、これらが結合する炭素原子とともに芳香環または芳香族複素環を形成する。Ｒ２およ
びＲ３は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１～６のアルキル基を表わす。
Ｄ１およびＤ２は、それぞれ独立に、単結合、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｓ）－Ｏ
－、－ＣＲ４Ｒ５－、－ＣＲ４Ｒ５－ＣＲ６Ｒ７－、－Ｏ－ＣＲ４Ｒ５－、－ＣＲ４Ｒ５
－Ｏ－ＣＲ６Ｒ７－、－ＣＯ－Ｏ－ＣＲ４Ｒ５－、－Ｏ－ＣＯ－ＣＲ４Ｒ５－、－ＣＲ４
Ｒ５－Ｏ－ＣＯ－ＣＲ６Ｒ７－、－ＣＲ４Ｒ５－ＣＯ－Ｏ－ＣＲ６Ｒ７－または－ＮＲ４
－ＣＲ５Ｒ６－または－ＣＯ－ＮＲ４－を表わす。
Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６およびＲ７は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子または炭素数
１～４のアルキル基を表わす。
Ｇ１およびＧ２は、それぞれ独立に、炭素数５～８の２価の脂環式炭化水素基を表わし
、該脂環式炭化水素基を構成するメチレン基は、酸素原子、硫黄原子または－ＮＨ－に置
き換っていてもよく、該脂環式炭化水素基を構成するメチン基は、第三級窒素原子に置き
換っていてもよい。
Ｌ１およびＬ２は、それぞれ独立に、１価の有機基を表わし、Ｌ１およびＬ２のうちの
少なくとも一つは、重合性基を有する。］
で表される化合物も挙げられ、Ｌ１が式（Ａ１）で表される基であり、かつ、Ｌ２が式（
Ａ２）で表される基である式（Ａ）で表される化合物が好ましい。
Ｐ１－Ｆ１－（Ｂ１－Ａ１）ｋ－Ｅ１－ （Ａ１）
Ｐ２－Ｆ２－（Ｂ２－Ａ２）ｌ－Ｅ２－ （Ａ２）
［式（Ａ１）および式（Ａ２）中、
Ｂ１、Ｂ２、Ｅ１およびＥ２は、それぞれ独立に、－ＣＲ４Ｒ５－、－ＣＨ２－ＣＨ２
－、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－Ｏ－、－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－、－ＣＳ－Ｏ－、－Ｏ－ＣＳ－Ｏ
－、－ＣＯ－ＮＲ1－、－Ｏ－ＣＨ２－、－Ｓ－ＣＨ２－または単結合を表わす。
」という場合がある）が挙げられる。重合性液晶化合物は一種類でもよいし、異なる構造
の化合物を複数組み合わせてもよい。
化合物（Ａ）としては、特表２０１１－２０７７６５号公報に記載されている化合物が
挙げられる。具体的には、式（Ａ）：
Ｘ１は、酸素原子、硫黄原子または－ＮＲ１－を表わす。Ｒ１は、水素原子または炭素
数１～４のアルキル基を表わす。
Ｙ１は、置換基を有していてもよい炭素数６～１２の１価の芳香族炭化水素基または置
換基を有していてもよい炭素数３～１２の１価の芳香族複素環式基を表わす。
Ｑ３およびＱ４は、それぞれ独立に、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１～
２０の１価の脂肪族炭化水素基、炭素数３～２０の１価の脂環式炭化水素基、置換基を有
していてもよい炭素数６～２０の１価の芳香族炭化水素基、ハロゲン原子、シアノ基、ニ
トロ基、－ＮＲ２Ｒ３または－ＳＲ２を表わすか、または、Ｑ３とＱ４とが互いに結合し
て、これらが結合する炭素原子とともに芳香環または芳香族複素環を形成する。Ｒ２およ
びＲ３は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１～６のアルキル基を表わす。
Ｄ１およびＤ２は、それぞれ独立に、単結合、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｓ）－Ｏ
－、－ＣＲ４Ｒ５－、－ＣＲ４Ｒ５－ＣＲ６Ｒ７－、－Ｏ－ＣＲ４Ｒ５－、－ＣＲ４Ｒ５
－Ｏ－ＣＲ６Ｒ７－、－ＣＯ－Ｏ－ＣＲ４Ｒ５－、－Ｏ－ＣＯ－ＣＲ４Ｒ５－、－ＣＲ４
Ｒ５－Ｏ－ＣＯ－ＣＲ６Ｒ７－、－ＣＲ４Ｒ５－ＣＯ－Ｏ－ＣＲ６Ｒ７－または－ＮＲ４
－ＣＲ５Ｒ６－または－ＣＯ－ＮＲ４－を表わす。
Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６およびＲ７は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子または炭素数
１～４のアルキル基を表わす。
Ｇ１およびＧ２は、それぞれ独立に、炭素数５～８の２価の脂環式炭化水素基を表わし
、該脂環式炭化水素基を構成するメチレン基は、酸素原子、硫黄原子または－ＮＨ－に置
き換っていてもよく、該脂環式炭化水素基を構成するメチン基は、第三級窒素原子に置き
換っていてもよい。
Ｌ１およびＬ２は、それぞれ独立に、１価の有機基を表わし、Ｌ１およびＬ２のうちの
少なくとも一つは、重合性基を有する。］
で表される化合物も挙げられ、Ｌ１が式（Ａ１）で表される基であり、かつ、Ｌ２が式（
Ａ２）で表される基である式（Ａ）で表される化合物が好ましい。
Ｐ１－Ｆ１－（Ｂ１－Ａ１）ｋ－Ｅ１－ （Ａ１）
Ｐ２－Ｆ２－（Ｂ２－Ａ２）ｌ－Ｅ２－ （Ａ２）
［式（Ａ１）および式（Ａ２）中、
Ｂ１、Ｂ２、Ｅ１およびＥ２は、それぞれ独立に、－ＣＲ４Ｒ５－、－ＣＨ２－ＣＨ２
－、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－Ｏ－、－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－、－ＣＳ－Ｏ－、－Ｏ－ＣＳ－Ｏ
－、－ＣＯ－ＮＲ1－、－Ｏ－ＣＨ２－、－Ｓ－ＣＨ２－または単結合を表わす。
【0019】
Ａ１およびＡ２は、それぞれ独立に、炭素数５～８の２価の脂環式炭化水素基または炭
素数６～１８の２価の芳香族炭化水素基を表わし、該脂環式炭化水素基を構成するメチレ
ン基は、酸素原子、硫黄原子または－ＮＨ－に置き換っていてもよく、該脂環式炭化水素
基を構成するメチン基は、第三級窒素原子に置き換っていてもよい。
素数６～１８の２価の芳香族炭化水素基を表わし、該脂環式炭化水素基を構成するメチレ
ン基は、酸素原子、硫黄原子または－ＮＨ－に置き換っていてもよく、該脂環式炭化水素
基を構成するメチン基は、第三級窒素原子に置き換っていてもよい。
【0020】
ｋおよびｌは、それぞれ独立に、０～３の整数を表わす。
Ｆ１およびＦ２は、炭素数１～１２の２価の脂肪族炭化水素基を表わす。
Ｐ１は、重合性基を表わす。
Ｐ２は、水素原子または重合性基を表わす。
Ｒ４およびＲ５は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子または炭素数１～４のアル
キル基を表わす。
Ｆ１およびＦ２は、炭素数１～１２の２価の脂肪族炭化水素基を表わす。
Ｐ１は、重合性基を表わす。
Ｐ２は、水素原子または重合性基を表わす。
Ｒ４およびＲ５は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子または炭素数１～４のアル
キル基を表わす。
【0021】
光学異方性層形成用組成物における重合性液晶化合物の含有量は、光学異方性層形成用
組成物１００質量部に対して、通常５質量部～５０質量部であり、好ましくは１０質量部
～３０質量部である。
組成物１００質量部に対して、通常５質量部～５０質量部であり、好ましくは１０質量部
～３０質量部である。
【0022】
光重合開始剤としては、例えば、光照射によりラジカルを発生するものが挙げられる。
光重合開始剤としては、ベンゾイン化合物、ベンゾフェノン化合物、ベンジルケタール
化合物、α－ヒドロキシケトン化合物、α－アミノケトン化合物、α－アセトフェノン化
合物、トリアジン化合物、ヨードニウム塩およびスルホニウム塩が挙げられる。具体的に
は、イルガキュア（Irgacure）（登録商標）９０７、同１８４、同、同８１９、同２５０
、同３６９（以上、全てＢＡＳＦジャパン株式会社製）、セイクオール（登録商標）ＢＺ
、同Ｚ、同ＢＥＥ（以上、全て精工化学株式会社製）、カヤキュアー（kayacure）（登録
商標）ＢＰ１００（日本化薬株式会社製）、ＵＶＩ－６９９２（ダウ社製）、アデカオプ
トマー（登録商標）ＳＰ－１５２、同ＳＰ－１７０（以上、全て株式会社ＡＤＥＫＡ製）
、ＴＡＺ－Ａ、ＴＡＺ－ＰＰ（以上、日本シイベルヘグナー社製）およびＴＡＺ－１０４
（三和ケミカル社製）等が挙げられる。中でも、α－アセトフェノン化合物が好ましく、
α－アセトフェノン化合物としては、２－メチル－２－モルホリノ－１－（４－メチルス
ルファニルフェニル）プロパン－１－オン、２－ジメチルアミノ－１－（４－モルホリノ
フェニル）－２－ベンジルブタン－１－オン及び２－ジメチルアミノ－１－（４－モルホ
リノフェニル）－２－（４－メチルフェニルメチル）ブタン－１－オン等が挙げられ、よ
り好ましくは２－メチル－２－モルホリノ－１－（４－メチルスルファニルフェニル）プ
ロパン－１－オン及び２－ジメチルアミノ－１－（４－モルホリノフェニル）－２－ベン
ジルブタン－１－オンが挙げられる。α－アセトフェノン化合物の市販品としては、イル
ガキュア（登録商標）３６９、３７９ＥＧ、９０７（以上、ＢＡＳＦジャパン（株）製）
及びセイクオール（登録商標）ＢＥＥ（精工化学社製）等が挙げられる。
光重合開始剤としては、ベンゾイン化合物、ベンゾフェノン化合物、ベンジルケタール
化合物、α－ヒドロキシケトン化合物、α－アミノケトン化合物、α－アセトフェノン化
合物、トリアジン化合物、ヨードニウム塩およびスルホニウム塩が挙げられる。具体的に
は、イルガキュア（Irgacure）（登録商標）９０７、同１８４、同、同８１９、同２５０
、同３６９（以上、全てＢＡＳＦジャパン株式会社製）、セイクオール（登録商標）ＢＺ
、同Ｚ、同ＢＥＥ（以上、全て精工化学株式会社製）、カヤキュアー（kayacure）（登録
商標）ＢＰ１００（日本化薬株式会社製）、ＵＶＩ－６９９２（ダウ社製）、アデカオプ
トマー（登録商標）ＳＰ－１５２、同ＳＰ－１７０（以上、全て株式会社ＡＤＥＫＡ製）
、ＴＡＺ－Ａ、ＴＡＺ－ＰＰ（以上、日本シイベルヘグナー社製）およびＴＡＺ－１０４
（三和ケミカル社製）等が挙げられる。中でも、α－アセトフェノン化合物が好ましく、
α－アセトフェノン化合物としては、２－メチル－２－モルホリノ－１－（４－メチルス
ルファニルフェニル）プロパン－１－オン、２－ジメチルアミノ－１－（４－モルホリノ
フェニル）－２－ベンジルブタン－１－オン及び２－ジメチルアミノ－１－（４－モルホ
リノフェニル）－２－（４－メチルフェニルメチル）ブタン－１－オン等が挙げられ、よ
り好ましくは２－メチル－２－モルホリノ－１－（４－メチルスルファニルフェニル）プ
ロパン－１－オン及び２－ジメチルアミノ－１－（４－モルホリノフェニル）－２－ベン
ジルブタン－１－オンが挙げられる。α－アセトフェノン化合物の市販品としては、イル
ガキュア（登録商標）３６９、３７９ＥＧ、９０７（以上、ＢＡＳＦジャパン（株）製）
及びセイクオール（登録商標）ＢＥＥ（精工化学社製）等が挙げられる。
【0023】
光重合開始剤は、重合性液晶化合物１００質量部に対して、通常０．１質量部～３０質
量部であり、好ましくは０．５質量部～１０質量部である。上記範囲内であれば、重合性
液晶化合物の液晶配向を乱すことなく、重合性液晶化合物を重合させることができる。
量部であり、好ましくは０．５質量部～１０質量部である。上記範囲内であれば、重合性
液晶化合物の液晶配向を乱すことなく、重合性液晶化合物を重合させることができる。
【0024】
光学異方性層形成用組成物はさらに、重合禁止剤、光増感剤、レベリング剤、カイラル
剤、反応性添加剤、溶剤等を含んでもよい。
剤、反応性添加剤、溶剤等を含んでもよい。
【0025】
［重合禁止剤］
光学異方性層形成用組成物は、重合性液晶化合物の重合反応をコントロールするために
、重合禁止剤を含んでいてもよい。
重合禁止剤としては、ハイドロキノンおよびアルキルエーテル等の置換基を有するハイ
ドロキノン類；ブチルカテコール等のアルキルエーテル等の置換基を有するカテコール類
；ピロガロール類、２，２，６，６－テトラメチル－１－ピペリジニルオキシラジカル等
のラジカル補足剤；チオフェノール類；β－ナフチルアミン類およびβ－ナフトール類が
挙げられる。
光学異方性層形成用組成物における重合禁止剤の含有量は、重合性液晶化合物１００質
量部に対して、通常０．１質量部～３０質量部であり、好ましくは０．５質量部～１０質
量部である。上記範囲内であれば、重合性液晶化合物の液晶配向を乱すことなく、重合す
ることができる。
光学異方性層形成用組成物は、重合性液晶化合物の重合反応をコントロールするために
、重合禁止剤を含んでいてもよい。
重合禁止剤としては、ハイドロキノンおよびアルキルエーテル等の置換基を有するハイ
ドロキノン類；ブチルカテコール等のアルキルエーテル等の置換基を有するカテコール類
；ピロガロール類、２，２，６，６－テトラメチル－１－ピペリジニルオキシラジカル等
のラジカル補足剤；チオフェノール類；β－ナフチルアミン類およびβ－ナフトール類が
挙げられる。
光学異方性層形成用組成物における重合禁止剤の含有量は、重合性液晶化合物１００質
量部に対して、通常０．１質量部～３０質量部であり、好ましくは０．５質量部～１０質
量部である。上記範囲内であれば、重合性液晶化合物の液晶配向を乱すことなく、重合す
ることができる。
【0026】
［光増感剤］
光増感剤としては、キサントン、チオキサントン等のキサントン類；アントラセンおよ
びアルキルエーテル等の置換基を有するアントラセン類；フェノチアジン；ルブレンが挙
げられる。
光増感剤を用いることにより、光重合開始剤を高感度化することができる。光増感剤の
含有量は、重合性液晶化合物１００質量部に対して、通常０．１質量部～３０質量部であ
り、好ましくは０．５質量部～１０質量部である。
光増感剤としては、キサントン、チオキサントン等のキサントン類；アントラセンおよ
びアルキルエーテル等の置換基を有するアントラセン類；フェノチアジン；ルブレンが挙
げられる。
光増感剤を用いることにより、光重合開始剤を高感度化することができる。光増感剤の
含有量は、重合性液晶化合物１００質量部に対して、通常０．１質量部～３０質量部であ
り、好ましくは０．５質量部～１０質量部である。
【0027】
［レベリング剤］
レベリング剤としては、有機変性シリコーンオイル系、ポリアクリレート系およびパー
フルオロアルキル系のレベリング剤が挙げられる。具体的には、ＤＣ３ＰＡ、ＳＨ７ＰＡ
、ＤＣ１１ＰＡ、ＳＨ２８ＰＡ、ＳＨ２９ＰＡ、ＳＨ３０ＰＡ、ＳＴ８０ＰＡ、ＳＴ８６
ＰＡ、ＳＨ８４００、ＳＨ８７００、ＦＺ２１２３（以上、全て東レ・ダウコーニング（
株）製）、ＫＰ３２１、ＫＰ３２３、ＫＰ３２４、ＫＰ３２６、ＫＰ３４０、ＫＰ３４１
、Ｘ２２－１６１Ａ、ＫＦ６００１（以上、全て信越化学工業（株）製）、ＴＳＦ４００
、ＴＳＦ４０１、ＴＳＦ４１０、ＴＳＦ４３００、ＴＳＦ４４４０、ＴＳＦ４４４５、Ｔ
ＳＦ－４４４６、ＴＳＦ４４５２、ＴＳＦ４４６０（以上、全てモメンティブ パフォー
マンス マテリアルズ ジャパン合同会社製）、フロリナート（fluorinert）（登録商標
）ＦＣ－７２、同ＦＣ－４０、同ＦＣ－４３、同ＦＣ－３２８３（以上、全て住友スリー
エム（株）製）、メガファック（登録商標）Ｒ－０８、同Ｒ－３０、同Ｒ－９０、同Ｆ－
４１０、同Ｆ－４１１、同Ｆ－４４３、同Ｆ－４４５、同Ｆ－４７０、同Ｆ－４７７、同
Ｆ－４７９、同Ｆ－４８２、同Ｆ－４８３（以上、いずれもＤＩＣ（株）製）、エフトッ
プ（商品名）ＥＦ３０１、同ＥＦ３０３、同ＥＦ３５１、同ＥＦ３５２（以上、全て三菱
マテリアル電子化成（株）製）、サーフロン（登録商標）Ｓ－３８１、同Ｓ－３８２、同
Ｓ－３８３、同Ｓ－３９３、同ＳＣ－１０１、同ＳＣ－１０５、ＫＨ－４０、ＳＡ－１０
０（以上、全てＡＧＣセイミケミカル（株）製）、商品名Ｅ１８３０、同Ｅ５８４４（（
株）ダイキンファインケミカル研究所製）、ＢＭ－１０００、ＢＭ－１１００、ＢＹＫ－
３５２、ＢＹＫ－３５３及びＢＹＫ－３６１Ｎ（いずれも商品名：ＢＭ Ｃｈｅｍｉｅ社
製）が挙げられる。２種以上のレベリング剤を組み合わせてもよい。
レベリング剤としては、有機変性シリコーンオイル系、ポリアクリレート系およびパー
フルオロアルキル系のレベリング剤が挙げられる。具体的には、ＤＣ３ＰＡ、ＳＨ７ＰＡ
、ＤＣ１１ＰＡ、ＳＨ２８ＰＡ、ＳＨ２９ＰＡ、ＳＨ３０ＰＡ、ＳＴ８０ＰＡ、ＳＴ８６
ＰＡ、ＳＨ８４００、ＳＨ８７００、ＦＺ２１２３（以上、全て東レ・ダウコーニング（
株）製）、ＫＰ３２１、ＫＰ３２３、ＫＰ３２４、ＫＰ３２６、ＫＰ３４０、ＫＰ３４１
、Ｘ２２－１６１Ａ、ＫＦ６００１（以上、全て信越化学工業（株）製）、ＴＳＦ４００
、ＴＳＦ４０１、ＴＳＦ４１０、ＴＳＦ４３００、ＴＳＦ４４４０、ＴＳＦ４４４５、Ｔ
ＳＦ－４４４６、ＴＳＦ４４５２、ＴＳＦ４４６０（以上、全てモメンティブ パフォー
マンス マテリアルズ ジャパン合同会社製）、フロリナート（fluorinert）（登録商標
）ＦＣ－７２、同ＦＣ－４０、同ＦＣ－４３、同ＦＣ－３２８３（以上、全て住友スリー
エム（株）製）、メガファック（登録商標）Ｒ－０８、同Ｒ－３０、同Ｒ－９０、同Ｆ－
４１０、同Ｆ－４１１、同Ｆ－４４３、同Ｆ－４４５、同Ｆ－４７０、同Ｆ－４７７、同
Ｆ－４７９、同Ｆ－４８２、同Ｆ－４８３（以上、いずれもＤＩＣ（株）製）、エフトッ
プ（商品名）ＥＦ３０１、同ＥＦ３０３、同ＥＦ３５１、同ＥＦ３５２（以上、全て三菱
マテリアル電子化成（株）製）、サーフロン（登録商標）Ｓ－３８１、同Ｓ－３８２、同
Ｓ－３８３、同Ｓ－３９３、同ＳＣ－１０１、同ＳＣ－１０５、ＫＨ－４０、ＳＡ－１０
０（以上、全てＡＧＣセイミケミカル（株）製）、商品名Ｅ１８３０、同Ｅ５８４４（（
株）ダイキンファインケミカル研究所製）、ＢＭ－１０００、ＢＭ－１１００、ＢＹＫ－
３５２、ＢＹＫ－３５３及びＢＹＫ－３６１Ｎ（いずれも商品名：ＢＭ Ｃｈｅｍｉｅ社
製）が挙げられる。２種以上のレベリング剤を組み合わせてもよい。
【0028】
レベリング剤を用いることにより、より平滑な積層体光学異方性層を形成することがで
きる。また、光学異方性層の製造過程で、光学異方性層形成用組成物の流動性を制御した
り、光学異方性層の架橋密度を調整したりすることができる。レベリング剤の含有量は、
重合性液晶化合物１００質量部に対して、通常０．１質量部～３０質量部であり、好まし
くは０．１質量部～１０質量部である。
きる。また、光学異方性層の製造過程で、光学異方性層形成用組成物の流動性を制御した
り、光学異方性層の架橋密度を調整したりすることができる。レベリング剤の含有量は、
重合性液晶化合物１００質量部に対して、通常０．１質量部～３０質量部であり、好まし
くは０．１質量部～１０質量部である。
【0029】
［カイラル剤］
カイラル剤としては、公知のカイラル剤（例えば、液晶デバイスハンドブック、第３章
４－３項、ＴＮ、ＳＴＮ用カイラル剤、１９９頁、日本学術振興会第１４２委員会編、１
９８９に記載）が挙げられる。
カイラル剤は、一般に不斉炭素原子を含むが、不斉炭素原子を含まない軸性不斉化合物
あるいは面性不斉化合物もカイラル剤として用いることができる。軸性不斉化合物または
面性不斉化合物としては、ビナフチル、ヘリセン、パラシクロファンおよびこれらの誘導
体が挙げられる。
具体的には、特開２００７－２６９６４０号公報、特開２００７－２６９６３９号公報
、特開２００７－１７６８７０号公報、特開２００３－１３７８８７号公報、特表２００
０－５１５４９６号公報、特開２００７－１６９１７８号公報および特表平９－５０６０
８８号公報に記載されているような化合物が挙げられ、好ましくはＢＡＳＦジャパン（株
）製のｐａｌｉｏｃｏｌｏr（登録商標） ＬＣ７５６である。
カイラル剤の含有量は、重合性液晶化合物１００質量部に対して、通常０．１質量部～
３０質量部であり、好ましくは１．０質量部～２５質量部である。上記範囲内であれば、
重合性液晶化合物を重合する際に、該重合性液晶化合物の液晶配向を乱すことをより抑制
できる。
カイラル剤としては、公知のカイラル剤（例えば、液晶デバイスハンドブック、第３章
４－３項、ＴＮ、ＳＴＮ用カイラル剤、１９９頁、日本学術振興会第１４２委員会編、１
９８９に記載）が挙げられる。
カイラル剤は、一般に不斉炭素原子を含むが、不斉炭素原子を含まない軸性不斉化合物
あるいは面性不斉化合物もカイラル剤として用いることができる。軸性不斉化合物または
面性不斉化合物としては、ビナフチル、ヘリセン、パラシクロファンおよびこれらの誘導
体が挙げられる。
具体的には、特開２００７－２６９６４０号公報、特開２００７－２６９６３９号公報
、特開２００７－１７６８７０号公報、特開２００３－１３７８８７号公報、特表２００
０－５１５４９６号公報、特開２００７－１６９１７８号公報および特表平９－５０６０
８８号公報に記載されているような化合物が挙げられ、好ましくはＢＡＳＦジャパン（株
）製のｐａｌｉｏｃｏｌｏr（登録商標） ＬＣ７５６である。
カイラル剤の含有量は、重合性液晶化合物１００質量部に対して、通常０．１質量部～
３０質量部であり、好ましくは１．０質量部～２５質量部である。上記範囲内であれば、
重合性液晶化合物を重合する際に、該重合性液晶化合物の液晶配向を乱すことをより抑制
できる。
【0030】
［反応性添加剤］
反応性添加剤としては、その分子内に炭素－炭素不飽和結合と活性水素反応性基とを有
するものが好ましい。なお、ここでいう「活性水素反応性基」とは、カルボキシル基（－
ＣＯＯＨ）、水酸基（－ＯＨ）、アミノ基（－ＮＨ２）等の活性水素を有する基に対して
反応性を有する基を意味し、グリシジル基、オキサゾリン基、カルボジイミド基、アジリ
ジン基、イミド基、イソシアナト基、チオイソシアナト基、無水マレイン酸基等がその代
表例である。
反応性添加剤としては、その分子内に炭素－炭素不飽和結合と活性水素反応性基とを有
するものが好ましい。なお、ここでいう「活性水素反応性基」とは、カルボキシル基（－
ＣＯＯＨ）、水酸基（－ＯＨ）、アミノ基（－ＮＨ２）等の活性水素を有する基に対して
反応性を有する基を意味し、グリシジル基、オキサゾリン基、カルボジイミド基、アジリ
ジン基、イミド基、イソシアナト基、チオイソシアナト基、無水マレイン酸基等がその代
表例である。
【0031】
反応性添加剤において、活性水素反応性基は少なくとも２つ存在すると好ましく、この
場合、複数存在する活性水素反応性基は同一でも、異なるものであってもよい。
場合、複数存在する活性水素反応性基は同一でも、異なるものであってもよい。
【0032】
反応性添加剤が有する炭素－炭素不飽和結合とは、炭素－炭素二重結合又は炭素－炭素
三重結合、あるいはそれらの組み合わせであってよいが、炭素－炭素二重結合であると好
ましい。中でも、反応性添加剤としては、ビニル基及び／又は（メタ）アクリル基として
炭素－炭素不飽和結合を含むと好ましい。さらに、活性水素反応性基が、エポキシ基、グ
リシジル基及びイソシアナト基からなる群から選ばれる少なくとも１種であるものが好ま
しく、アクリル基と、イソシアナト基とを有する反応性添加剤が特に好ましい。
三重結合、あるいはそれらの組み合わせであってよいが、炭素－炭素二重結合であると好
ましい。中でも、反応性添加剤としては、ビニル基及び／又は（メタ）アクリル基として
炭素－炭素不飽和結合を含むと好ましい。さらに、活性水素反応性基が、エポキシ基、グ
リシジル基及びイソシアナト基からなる群から選ばれる少なくとも１種であるものが好ま
しく、アクリル基と、イソシアナト基とを有する反応性添加剤が特に好ましい。
【0033】
反応性添加剤の具体例としては、メタクリロキシグリシジルエーテルやアクリロキシグ
リシジルエーテルなどの、（メタ）アクリル基とエポキシ基とを有する化合物；オキセタ
ンアクリレートやオキセタンメタクリレートなどの、（メタ）アクリル基とオキセタン基
とを有する化合物；ラクトンアクリレートやラクトンメタクリレートなどの、（メタ）ア
クリル基とラクトン基とを有する化合物；ビニルオキサゾリンやイソプロペニルオキサゾ
リンなどの、ビニル基とオキサゾリン基とを有する化合物；イソシアナトメチルアクリレ
ート、イソシアナトメチルメタクリレート、２－イソシアナトエチルアクリレート及び２
―イソシアナトエチルメタクリレートなどの、（メタ）アクリル基とイソシアナト基とを
有する化合物のオリゴマー等が挙げられる。また、メタクリル酸無水物、アクリル酸無水
物、無水マレイン酸及びビニル無水マレイン酸などの、ビニル基やビニレン基と酸無水物
とを有する化合物などが挙げられる。中でも、メタクリロキシグリシジルエーテル、アク
リロキシグリシジルエーテル、イソシアナトメチルアクリレート、イソシアナトメチルメ
タクリレート、ビニルオキサゾリン、２－イソシアナトエチルアクリレート、２－イソシ
アナトエチルメタクリレート及び前記のオリゴマーが好ましく、イソシアナトメチルアク
リレート、２－イソシアナトエチルアクリレート及び前記のオリゴマーが特に好ましい。
リシジルエーテルなどの、（メタ）アクリル基とエポキシ基とを有する化合物；オキセタ
ンアクリレートやオキセタンメタクリレートなどの、（メタ）アクリル基とオキセタン基
とを有する化合物；ラクトンアクリレートやラクトンメタクリレートなどの、（メタ）ア
クリル基とラクトン基とを有する化合物；ビニルオキサゾリンやイソプロペニルオキサゾ
リンなどの、ビニル基とオキサゾリン基とを有する化合物；イソシアナトメチルアクリレ
ート、イソシアナトメチルメタクリレート、２－イソシアナトエチルアクリレート及び２
―イソシアナトエチルメタクリレートなどの、（メタ）アクリル基とイソシアナト基とを
有する化合物のオリゴマー等が挙げられる。また、メタクリル酸無水物、アクリル酸無水
物、無水マレイン酸及びビニル無水マレイン酸などの、ビニル基やビニレン基と酸無水物
とを有する化合物などが挙げられる。中でも、メタクリロキシグリシジルエーテル、アク
リロキシグリシジルエーテル、イソシアナトメチルアクリレート、イソシアナトメチルメ
タクリレート、ビニルオキサゾリン、２－イソシアナトエチルアクリレート、２－イソシ
アナトエチルメタクリレート及び前記のオリゴマーが好ましく、イソシアナトメチルアク
リレート、２－イソシアナトエチルアクリレート及び前記のオリゴマーが特に好ましい。
【0034】
ここで、活性水素反応性基としてイソシアナト基を有し、反応性添加剤としてより好ま
しいものを具体的に示す。この好ましい反応性添加剤は例えば、下記式（Ｙ）で表される
。
［式（Ｙ）中、
ｎは１～１０までの整数を表わし、Ｒ１’は、炭素数２～２０の２価の脂肪族又は脂環
式炭化水素基、或いは炭素数５～２０の２価の芳香族炭化水素基を表わす。各繰り返し単
位にある２つのＲ２’は、一方が－ＮＨ－であり、他方が＞Ｎ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒ３’で示
される基である。Ｒ３’は、水酸基又は炭素－炭素不飽和結合を有する基を表す。
式（Ｙ）中のＲ３’のうち、少なくとも１つのＲ３’は炭素－炭素不飽和結合を有する
基である。］
しいものを具体的に示す。この好ましい反応性添加剤は例えば、下記式（Ｙ）で表される
。
ｎは１～１０までの整数を表わし、Ｒ１’は、炭素数２～２０の２価の脂肪族又は脂環
式炭化水素基、或いは炭素数５～２０の２価の芳香族炭化水素基を表わす。各繰り返し単
位にある２つのＲ２’は、一方が－ＮＨ－であり、他方が＞Ｎ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒ３’で示
される基である。Ｒ３’は、水酸基又は炭素－炭素不飽和結合を有する基を表す。
式（Ｙ）中のＲ３’のうち、少なくとも１つのＲ３’は炭素－炭素不飽和結合を有する
基である。］
【0035】
前記式（Ｙ）で表される反応性添加剤の中でも、下記式（ＹＹ）で表される化合物（以
下、場合により「化合物（ＹＹ）」という。）が特に好ましいものである（なお、ｎは前
記と同じ意味である）。
化合物（ＹＹ）には、市販品をそのまま又は必要に応じて精製して用いることができる
。市販品としては、例えば、Ｌａｒｏｍｅｒ（登録商標）ＬＲ－９０００（ＢＡＳＦ社製
）等が挙げられる。
下、場合により「化合物（ＹＹ）」という。）が特に好ましいものである（なお、ｎは前
記と同じ意味である）。
。市販品としては、例えば、Ｌａｒｏｍｅｒ（登録商標）ＬＲ－９０００（ＢＡＳＦ社製
）等が挙げられる。
【0036】
反応性添加剤の含有量は、重合性液晶化合物１００質量部に対して、通常０．１質量部
～３０質量部であり、好ましくは０．１質量部～５質量部である。
～３０質量部であり、好ましくは０．１質量部～５質量部である。
【0037】
［溶剤］
光学異方性層形成用組成物は、光学異方性層の製造の操作性を良好にするために溶剤、
特に有機溶剤を含むことが好ましい。有機溶剤としては、重合性液晶化合物等の光学異方
性層形成用組成物の構成成分を溶解し得る有機溶剤が好ましく、重合性液晶化合物等の光
学異方性層形成用組成物の構成成分を溶解し得る溶剤であって、且つ、重合性液晶化合物
の重合反応に不活性な溶剤がより好ましい。具体的には、メタノール、エタノール、エチ
レングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、メチルセロソルブ、
ブチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテル、フェノール等のアルコー
ル溶剤；酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、γ－
ブチロラクトン、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、乳酸エチル等のエス
テル溶剤；アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチ
ルアミルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン溶剤；ペンタン、ヘキサン、ヘプタ
ン等の非塩素化脂肪族炭化水素溶剤；トルエン、キシレン等の非塩素化芳香族炭化水素溶
剤；アセトニトリル等のニトリル溶剤；テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエー
テル溶剤；およびクロロホルム、クロロベンゼン等の塩素化炭化水素溶剤；が挙げられる
。二種以上の有機溶剤を組み合わせて用いてもよい。中でも、アルコール溶剤、エステル
溶剤、ケトン溶剤、非塩素化脂肪族炭化水素溶剤および非塩素化芳香族炭化水素溶剤が好
ましい。
光学異方性層形成用組成物は、光学異方性層の製造の操作性を良好にするために溶剤、
特に有機溶剤を含むことが好ましい。有機溶剤としては、重合性液晶化合物等の光学異方
性層形成用組成物の構成成分を溶解し得る有機溶剤が好ましく、重合性液晶化合物等の光
学異方性層形成用組成物の構成成分を溶解し得る溶剤であって、且つ、重合性液晶化合物
の重合反応に不活性な溶剤がより好ましい。具体的には、メタノール、エタノール、エチ
レングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、メチルセロソルブ、
ブチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテル、フェノール等のアルコー
ル溶剤；酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、γ－
ブチロラクトン、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、乳酸エチル等のエス
テル溶剤；アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチ
ルアミルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン溶剤；ペンタン、ヘキサン、ヘプタ
ン等の非塩素化脂肪族炭化水素溶剤；トルエン、キシレン等の非塩素化芳香族炭化水素溶
剤；アセトニトリル等のニトリル溶剤；テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエー
テル溶剤；およびクロロホルム、クロロベンゼン等の塩素化炭化水素溶剤；が挙げられる
。二種以上の有機溶剤を組み合わせて用いてもよい。中でも、アルコール溶剤、エステル
溶剤、ケトン溶剤、非塩素化脂肪族炭化水素溶剤および非塩素化芳香族炭化水素溶剤が好
ましい。
【0038】
光学異方性層形成用組成物はさらに、化合物（Ａ）とは異なる化合物を含んでいても良
い。
い。
【0039】
化合物（Ａ）とは異なる重合性液晶化合物としては、例えば、式（Ｘ）で表される基を
含む化合物（以下「化合物（Ｘ）」という場合がある）が挙げられる。重合性液晶化合物
は一種類でもよいし、異なる構造の化合物を複数組み合わせてもよい。
Ｐ１１－Ｂ１１－Ｅ１１－Ｂ１２－Ａ１１－Ｂ１３－ （Ｘ）
［式（Ｘ）中、Ｐ１１は、重合性基を表わす。
Ａ１１は、２価の脂環式炭化水素基または２価の芳香族炭化水素基を表わす。該２価の
脂環式炭化水素基および２価の芳香族炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、
炭素数１～６のアルキル基、炭素数１～６アルコキシ基、シアノ基またはニトロ基で置換
されていてもよく、該炭素数１～６のアルキル基および該炭素数１～６アルコキシ基に含
まれる水素原子は、フッ素原子で置換されていてもよい。
Ｂ１１は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－Ｏ－、－Ｏ－ＣＯ－、－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－、－ＣＯ
－ＮＲ１６－、－ＮＲ１６－ＣＯ－、－ＣＯ－、－ＣＳ－または単結合を表わす。Ｒ１６
は、水素原子または炭素数１～６のアルキル基を表わす。
Ｂ１２およびＢ１３は、それぞれ独立に、－Ｃ≡Ｃ－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＨ２－Ｃ
Ｈ２－、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－、
－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－ＣＨ＝Ｎ－、－Ｎ＝ＣＨ－、－Ｎ＝Ｎ－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｎ
Ｒ１６－、－ＮＲ１６－Ｃ（＝Ｏ）－、－ＯＣＨ２－、－ＯＣＦ２－、－ＣＨ２Ｏ－、－
ＣＦ２Ｏ－、－ＣＨ＝ＣＨ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－ＣＨ＝ＣＨ－または
単結合を表わす。
Ｅ１１は、炭素数１～１２のアルカンジイル基を表わし、該アルカンジイル基に含まれ
る水素原子は、炭素数１～５のアルコキシ基で置換されていてもよく、該アルコキシ基に
含まれる水素原子は、ハロゲン原子で置換されていてもよい。また、該アルカンジイル基
を構成する－ＣＨ２－は、－Ｏ－または－ＣＯ－に置き換わっていてもよい。］
含む化合物（以下「化合物（Ｘ）」という場合がある）が挙げられる。重合性液晶化合物
は一種類でもよいし、異なる構造の化合物を複数組み合わせてもよい。
Ｐ１１－Ｂ１１－Ｅ１１－Ｂ１２－Ａ１１－Ｂ１３－ （Ｘ）
［式（Ｘ）中、Ｐ１１は、重合性基を表わす。
Ａ１１は、２価の脂環式炭化水素基または２価の芳香族炭化水素基を表わす。該２価の
脂環式炭化水素基および２価の芳香族炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、
炭素数１～６のアルキル基、炭素数１～６アルコキシ基、シアノ基またはニトロ基で置換
されていてもよく、該炭素数１～６のアルキル基および該炭素数１～６アルコキシ基に含
まれる水素原子は、フッ素原子で置換されていてもよい。
Ｂ１１は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－Ｏ－、－Ｏ－ＣＯ－、－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－、－ＣＯ
－ＮＲ１６－、－ＮＲ１６－ＣＯ－、－ＣＯ－、－ＣＳ－または単結合を表わす。Ｒ１６
は、水素原子または炭素数１～６のアルキル基を表わす。
Ｂ１２およびＢ１３は、それぞれ独立に、－Ｃ≡Ｃ－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＨ２－Ｃ
Ｈ２－、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－、
－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－ＣＨ＝Ｎ－、－Ｎ＝ＣＨ－、－Ｎ＝Ｎ－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｎ
Ｒ１６－、－ＮＲ１６－Ｃ（＝Ｏ）－、－ＯＣＨ２－、－ＯＣＦ２－、－ＣＨ２Ｏ－、－
ＣＦ２Ｏ－、－ＣＨ＝ＣＨ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－ＣＨ＝ＣＨ－または
単結合を表わす。
Ｅ１１は、炭素数１～１２のアルカンジイル基を表わし、該アルカンジイル基に含まれ
る水素原子は、炭素数１～５のアルコキシ基で置換されていてもよく、該アルコキシ基に
含まれる水素原子は、ハロゲン原子で置換されていてもよい。また、該アルカンジイル基
を構成する－ＣＨ２－は、－Ｏ－または－ＣＯ－に置き換わっていてもよい。］
【0040】
Ａ１１で表される２価の芳香族炭化水素基および２価の脂環式炭化水素基の炭素数は、
３～１８の範囲であることが好ましく、５～１２の範囲であることがより好ましく、５ま
たは６であることが特に好ましい。Ａ１１としては、シクロヘキサン－１，４－ジイル基
、１，４－フェニレン基が好ましい。
３～１８の範囲であることが好ましく、５～１２の範囲であることがより好ましく、５ま
たは６であることが特に好ましい。Ａ１１としては、シクロヘキサン－１，４－ジイル基
、１，４－フェニレン基が好ましい。
【0041】
Ｅ１１で表される炭素数１～１２のアルカンジイル基としては、直鎖状の炭素数１～１
２のアルカンジイル基が好ましい。炭素数１～１２のアルカンジイル基を構成する－ＣＨ
２－は、－Ｏ－に置き換っていてもよい。
具体的には、メチレン基、エチレン基、プロパン－１，３－ジイル基、ブタン－１，４
－ジイル基、ペンタン－１，５－ジイル基、へキサン－１，６－ジイル基、へプタン－１
，７－ジイル基、オクタン－１，８－ジイル基、ノナン－１，９－ジイル基、デカン－１
，１０－ジイル基、ウンデカン－１，１１－ジイル基およびドデカン－１，１２－ジイル
基等の炭素数１～１２の直鎖状アルカンジイル基；－ＣＨ２－ＣＨ２－Ｏ－ＣＨ２－ＣＨ
２－、－ＣＨ２－ＣＨ２－Ｏ－ＣＨ２－ＣＨ２－Ｏ－ＣＨ２－ＣＨ２－および－ＣＨ２－
ＣＨ２－Ｏ－ＣＨ２－ＣＨ２－Ｏ－ＣＨ２－ＣＨ２－Ｏ－ＣＨ２－ＣＨ２－等が挙げられ
る。
Ｂ１１としては、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－Ｏ－、－Ｏ－ＣＯ－が好ましく、中でも、
－ＣＯ－Ｏ－がより好ましい。
Ｂ１２およびＢ１３としては、それぞれ独立に、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｃ（＝Ｏ）－、－
Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－が好ましく、中でも、
－Ｏ－または－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－がより好ましい。
２のアルカンジイル基が好ましい。炭素数１～１２のアルカンジイル基を構成する－ＣＨ
２－は、－Ｏ－に置き換っていてもよい。
具体的には、メチレン基、エチレン基、プロパン－１，３－ジイル基、ブタン－１，４
－ジイル基、ペンタン－１，５－ジイル基、へキサン－１，６－ジイル基、へプタン－１
，７－ジイル基、オクタン－１，８－ジイル基、ノナン－１，９－ジイル基、デカン－１
，１０－ジイル基、ウンデカン－１，１１－ジイル基およびドデカン－１，１２－ジイル
基等の炭素数１～１２の直鎖状アルカンジイル基；－ＣＨ２－ＣＨ２－Ｏ－ＣＨ２－ＣＨ
２－、－ＣＨ２－ＣＨ２－Ｏ－ＣＨ２－ＣＨ２－Ｏ－ＣＨ２－ＣＨ２－および－ＣＨ２－
ＣＨ２－Ｏ－ＣＨ２－ＣＨ２－Ｏ－ＣＨ２－ＣＨ２－Ｏ－ＣＨ２－ＣＨ２－等が挙げられ
る。
Ｂ１１としては、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－Ｏ－、－Ｏ－ＣＯ－が好ましく、中でも、
－ＣＯ－Ｏ－がより好ましい。
Ｂ１２およびＢ１３としては、それぞれ独立に、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｃ（＝Ｏ）－、－
Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－が好ましく、中でも、
－Ｏ－または－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－がより好ましい。
【0042】
Ｐ１１で示される重合性基としては、光重合反応がし易いという点で、ラジカル重合性
基またはカチオン重合性基が好ましく、取り扱いが容易な上、重合性液晶化合物の製造自
体も容易であることから、重合性基は、下記の式（Ｐ－１１）～式（Ｐ－１５）で表わさ
れる基であることが好ましい。
［式（Ｐ－１１）～（Ｐ－１５）中、
Ｒ１７～Ｒ２１はそれぞれ独立に、炭素数１～６のアルキル基または水素原子を表わす
。］
基またはカチオン重合性基が好ましく、取り扱いが容易な上、重合性液晶化合物の製造自
体も容易であることから、重合性基は、下記の式（Ｐ－１１）～式（Ｐ－１５）で表わさ
れる基であることが好ましい。
Ｒ１７～Ｒ２１はそれぞれ独立に、炭素数１～６のアルキル基または水素原子を表わす
。］
【0043】
式（Ｐ－１１）～式（Ｐ－１３）で表わされる基の具体例としては、下記式（Ｐ－１６
）～式（Ｐ－２０）で表わされる基が挙げられる。
）～式（Ｐ－２０）で表わされる基が挙げられる。
【0044】
Ｐ１１は、式（Ｐ－１４）～式（Ｐ－２０）で表わされる基であることが好ましく、ビ
ニル基、ｐ－スチルベン基、エポキシ基またはオキセタニル基がより好ましい。
Ｐ１１－Ｂ１１－で表わされる基が、アクリロイルオキシ基またはメタアクリロイルオ
キシ基であることがさらに好ましい。
ニル基、ｐ－スチルベン基、エポキシ基またはオキセタニル基がより好ましい。
Ｐ１１－Ｂ１１－で表わされる基が、アクリロイルオキシ基またはメタアクリロイルオ
キシ基であることがさらに好ましい。
【0045】
化合物（Ｘ）としては、式（Ｉ）、式（ＩＩ）、式（ＩＩＩ）、式（ＩＶ）、式（Ｖ）
または式（ＶＩ）で表わされる化合物が挙げられる。
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-A13-B15-A14-B16-E12-B17-P12 （Ｉ）
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-A13-B15-A14-F11 （ＩＩ）
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-A13-B15-E12-B17-P12 （ＩＩＩ）
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-A13-F11 （ＩＶ）
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-E12-B17-P12 （Ｖ）
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-F11 （ＶＩ）
（式中、
Ａ１２～Ａ１４はそれぞれ独立に、Ａ１１と同義であり、Ｂ１４～Ｂ１６はそれぞれ独
立に、Ｂ１２と同義であり、Ｂ１７は、Ｂ１１と同義であり、Ｅ１２は、Ｅ１１と同義で
ある。
Ｆ１１は、水素原子、炭素数１～１３のアルキル基、炭素数１～１３のアルコキシ基、
シアノ基、ニトロ基、トリフルオロメチル基、ジメチルアミノ基、ヒドロキシ基、メチロ
ール基、ホルミル基、スルホ基（－ＳＯ３Ｈ）、カルボキシ基、炭素数１～１０のアルコ
キシカルボニル基またはハロゲン原子を表わし、該アルキル基およびアルコキシ基を構成
する－ＣＨ２－は、－Ｏ－に置き換っていてもよい。
または式（ＶＩ）で表わされる化合物が挙げられる。
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-A13-B15-A14-B16-E12-B17-P12 （Ｉ）
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-A13-B15-A14-F11 （ＩＩ）
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-A13-B15-E12-B17-P12 （ＩＩＩ）
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-A13-F11 （ＩＶ）
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-E12-B17-P12 （Ｖ）
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-F11 （ＶＩ）
（式中、
Ａ１２～Ａ１４はそれぞれ独立に、Ａ１１と同義であり、Ｂ１４～Ｂ１６はそれぞれ独
立に、Ｂ１２と同義であり、Ｂ１７は、Ｂ１１と同義であり、Ｅ１２は、Ｅ１１と同義で
ある。
Ｆ１１は、水素原子、炭素数１～１３のアルキル基、炭素数１～１３のアルコキシ基、
シアノ基、ニトロ基、トリフルオロメチル基、ジメチルアミノ基、ヒドロキシ基、メチロ
ール基、ホルミル基、スルホ基（－ＳＯ３Ｈ）、カルボキシ基、炭素数１～１０のアルコ
キシカルボニル基またはハロゲン原子を表わし、該アルキル基およびアルコキシ基を構成
する－ＣＨ２－は、－Ｏ－に置き換っていてもよい。
【0046】
化合物（Ｘ）の具体例としては、液晶便覧（液晶便覧編集委員会編、丸善（株）平成１
２年１０月３０日発行）の「３．８．６ ネットワーク（完全架橋型）」、「６．５．１
液晶材料 ｂ．重合性ネマチック液晶材料」に記載された化合物の中で重合性基を有す
る化合物、特開２０１０－３１２２３号公報、特開２０１０－２７０１０８号公報、特開
２０１１－６３６０号公報および特開２０１１－２０７７６５号公報記載の重合性液晶化
合物が挙げられる。
２年１０月３０日発行）の「３．８．６ ネットワーク（完全架橋型）」、「６．５．１
液晶材料 ｂ．重合性ネマチック液晶材料」に記載された化合物の中で重合性基を有す
る化合物、特開２０１０－３１２２３号公報、特開２０１０－２７０１０８号公報、特開
２０１１－６３６０号公報および特開２０１１－２０７７６５号公報記載の重合性液晶化
合物が挙げられる。
【0047】
化合物（Ｘ）の具体例としては、下記式（Ｉ－１）～式（Ｉ－４）、式（ＩＩ－１）～
式（ＩＩ－４）、式（ＩＩＩ－１）～式（ＩＩＩ－２６）、式（ＩＶ－１）～式（ＩＶ－
２６）、式（Ｖ－１）～式（Ｖ－２）および式（ＶＩ－１）～式（ＶＩ－６）で表わされ
る化合物が挙げられる。なお、下記式中、ｋ1およびｋ2は、それぞれ独立して、２～１２
の整数を表わす。これらの化合物（Ｘ）は、その合成の容易さ、または、入手の容易さの
点で、好ましい。
式（ＩＩ－４）、式（ＩＩＩ－１）～式（ＩＩＩ－２６）、式（ＩＶ－１）～式（ＩＶ－
２６）、式（Ｖ－１）～式（Ｖ－２）および式（ＶＩ－１）～式（ＶＩ－６）で表わされ
る化合物が挙げられる。なお、下記式中、ｋ1およびｋ2は、それぞれ独立して、２～１２
の整数を表わす。これらの化合物（Ｘ）は、その合成の容易さ、または、入手の容易さの
点で、好ましい。
【0048】
【0049】
【0050】
【0051】
【0052】
【0053】
【0054】
【0055】
【0056】
【0057】
化合物（Ｘ）と、化合物（Ａ）との混合量を調整することで、本発明の積層体の波長分
散特性を制御することができる。光学異方性層形成用組成物における化合物（Ｘ）の含有
量は、光学異方性層形成用組成物１００質量部に対して、通常５質量部～５０質量部であ
り、好ましくは５質量部～１０質量部である。
光学異方性層形成用組成物における、化合物（Ｘ）の含有量は、化合物（Ａ）１００質
量部に対して、通常０部～５０部であり、好ましくは０部～１０部である。
散特性を制御することができる。光学異方性層形成用組成物における化合物（Ｘ）の含有
量は、光学異方性層形成用組成物１００質量部に対して、通常５質量部～５０質量部であ
り、好ましくは５質量部～１０質量部である。
光学異方性層形成用組成物における、化合物（Ｘ）の含有量は、化合物（Ａ）１００質
量部に対して、通常０部～５０部であり、好ましくは０部～１０部である。
【0058】
光学異方性層に含まれる重合性液晶化合物を配向させるには、基材上に光学異方性層形
成用組成物を塗布すればよいが、配向膜層を用いてもよい。つまり、本発明の積層体は、
基材及び光学異方性層の間に配向膜層を有してもよい。
成用組成物を塗布すればよいが、配向膜層を用いてもよい。つまり、本発明の積層体は、
基材及び光学異方性層の間に配向膜層を有してもよい。
【0059】
本発明における配向膜層は、光学異方性層形成用組成物に溶解せず、光学異方性層形成
用組成物に含まれる溶剤の除去や重合性液晶化合物の液晶配向を調整するための加熱で変
質せず、積層体搬送時の摩擦等による剥がれが起きないものが好ましい。
用組成物に含まれる溶剤の除去や重合性液晶化合物の液晶配向を調整するための加熱で変
質せず、積層体搬送時の摩擦等による剥がれが起きないものが好ましい。
【0060】
一般的に、配向膜層を形成する方法としては、基材表面に、配向性ポリマーを塗布し乾
燥する方法、配向性ポリマーを塗布し乾燥しその表面をラビングする方法、光配向性ポリ
マーを塗布し乾燥し偏光を照射する方法、酸化ケイ素を斜方蒸着する方法、及び、ラング
ミュア・ブロジェット法（ＬＢ法）を用いて長鎖アルキル基を有する単分子膜を形成する
方法などが挙げられる。
配向性ポリマー及び光配向性ポリマーは、通常、溶剤に溶解して塗布される。
燥する方法、配向性ポリマーを塗布し乾燥しその表面をラビングする方法、光配向性ポリ
マーを塗布し乾燥し偏光を照射する方法、酸化ケイ素を斜方蒸着する方法、及び、ラング
ミュア・ブロジェット法（ＬＢ法）を用いて長鎖アルキル基を有する単分子膜を形成する
方法などが挙げられる。
配向性ポリマー及び光配向性ポリマーは、通常、溶剤に溶解して塗布される。
【0061】
配向性ポリマーとしては、分子内にアミド結合を有するポリアミドやゼラチン類、分子
内にイミド結合を有するポリイミド及びその加水分解物であるポリアミック酸、ポリビニ
ルアルコール、アルキル変性ポリビニルアルコール、ポリアクリルアミド、ポリオキサゾ
ール、ポリエチレンイミン、ポリスチレン、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸及び
ポリアクリル酸エステル類等を挙げることができる。中でも、ポリアミド、ポリイミドま
たはポリアミック酸が好ましい。配向膜層を形成する配向性ポリマーは、一種類でもよい
し、複数種類のポリマーを組み合わせた組成物でもよいし、複数種類のポリマーを組み合
わせた共重合体でもよい。これらのポリマーは、単量体を、脱水や脱アルコール等の重縮
合、ラジカル重合、アニオン重合、カチオン重合等の連鎖重合、配位重合又は開環重合等
することで容易に得ることができる。
市販の配向性ポリマーとしては、サンエバー（登録商標、日産化学社製）、オプトマー
（登録商標、ＪＳＲ製）等が挙げられる。
このような配向性ポリマーから形成される配向膜層は、重合性液晶化合物の液晶配向を
容易にする。また、配向性ポリマーの種類やラビング条件によって、水平配向、垂直配向
、ハイブリッド配向、傾斜配向等の様々な液晶配向の制御が可能であり、各種液晶パネル
の視野角改善等に利用できる。
内にイミド結合を有するポリイミド及びその加水分解物であるポリアミック酸、ポリビニ
ルアルコール、アルキル変性ポリビニルアルコール、ポリアクリルアミド、ポリオキサゾ
ール、ポリエチレンイミン、ポリスチレン、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸及び
ポリアクリル酸エステル類等を挙げることができる。中でも、ポリアミド、ポリイミドま
たはポリアミック酸が好ましい。配向膜層を形成する配向性ポリマーは、一種類でもよい
し、複数種類のポリマーを組み合わせた組成物でもよいし、複数種類のポリマーを組み合
わせた共重合体でもよい。これらのポリマーは、単量体を、脱水や脱アルコール等の重縮
合、ラジカル重合、アニオン重合、カチオン重合等の連鎖重合、配位重合又は開環重合等
することで容易に得ることができる。
市販の配向性ポリマーとしては、サンエバー（登録商標、日産化学社製）、オプトマー
（登録商標、ＪＳＲ製）等が挙げられる。
このような配向性ポリマーから形成される配向膜層は、重合性液晶化合物の液晶配向を
容易にする。また、配向性ポリマーの種類やラビング条件によって、水平配向、垂直配向
、ハイブリッド配向、傾斜配向等の様々な液晶配向の制御が可能であり、各種液晶パネル
の視野角改善等に利用できる。
【0062】
光配向性ポリマーとしては、感光性構造を有するポリマーが挙げられる。感光性構造を
有するポリマーに偏光を照射すると、照射された部分の感光性構造が異性化又は架橋する
ことで光配向性ポリマーが配向し、光配向性ポリマーからなる膜に配向規制力が付与され
る。上記感光性構造としては、例えば、アゾベンゼン構造、マレイミド構造、カルコン構
造、桂皮酸構造、１，２－ビニレン構造、１，２－アセチレン構造、スピロピラン構造、
スピロベンゾピラン構造及びフルギド構造などが挙げられる。配向膜層を形成する光配向
性ポリマーは、一種類でもよいし、異なる構造のポリマーを複数組み合わせてもよいし、
異なる感光性構造を複数有する共重合体であってもよい。光配向性ポリマーは、感光性構
造を有する単量体を、脱水や脱アルコールなどの重縮合、ラジカル重合、アニオン重合、
カチオン重合などの連鎖重合、配位重合又は開環重合等することで得ることができる。光
配向性ポリマーとしては、特許第４４５０２６１号、特許第４０１１６５２号、特開２０
１０－４９２３０号公報、特許第４４０４０９０号、特開２００７－１５６４３９号公報
、特開２００７－２３２９３４号公報などに記載の光配向性ポリマー等が挙げられる。中
でも、光配向性ポリマーとしては、耐久性の観点から、偏光照射によって架橋構造を形成
するポリマーが好ましい。
有するポリマーに偏光を照射すると、照射された部分の感光性構造が異性化又は架橋する
ことで光配向性ポリマーが配向し、光配向性ポリマーからなる膜に配向規制力が付与され
る。上記感光性構造としては、例えば、アゾベンゼン構造、マレイミド構造、カルコン構
造、桂皮酸構造、１，２－ビニレン構造、１，２－アセチレン構造、スピロピラン構造、
スピロベンゾピラン構造及びフルギド構造などが挙げられる。配向膜層を形成する光配向
性ポリマーは、一種類でもよいし、異なる構造のポリマーを複数組み合わせてもよいし、
異なる感光性構造を複数有する共重合体であってもよい。光配向性ポリマーは、感光性構
造を有する単量体を、脱水や脱アルコールなどの重縮合、ラジカル重合、アニオン重合、
カチオン重合などの連鎖重合、配位重合又は開環重合等することで得ることができる。光
配向性ポリマーとしては、特許第４４５０２６１号、特許第４０１１６５２号、特開２０
１０－４９２３０号公報、特許第４４０４０９０号、特開２００７－１５６４３９号公報
、特開２００７－２３２９３４号公報などに記載の光配向性ポリマー等が挙げられる。中
でも、光配向性ポリマーとしては、耐久性の観点から、偏光照射によって架橋構造を形成
するポリマーが好ましい。
【0063】
本発明では、中でも、重合性液晶化合物の配向均一性、及び、光学異方性層の製造時間
及び製造コストの観点から、ポリイミド、ポリアミドまたはポリアミック酸から選ばれる
材料からなる配向性ポリマーを塗布し乾燥する方法、及び、配向性ポリマーを塗布し乾燥
しその表面をラビングする方法が好ましい。
及び製造コストの観点から、ポリイミド、ポリアミドまたはポリアミック酸から選ばれる
材料からなる配向性ポリマーを塗布し乾燥する方法、及び、配向性ポリマーを塗布し乾燥
しその表面をラビングする方法が好ましい。
【0064】
配向性ポリマー又は光配向性ポリマーを溶解する溶剤としては、例えば、水；メタノー
ル、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール
、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ等のアルコール溶媒；酢酸エチル、酢酸ブチル、
エチレングリコールメチルエーテルアセテート、γ－ブチロラクトン、プロピレングリコ
ールメチルエーテルアセテート、乳酸エチル等のエステル溶媒；アセトン、メチルエチル
ケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルアミルケトン、メチルイソブチル
ケトン、Ｎ－メチル－２－ピロリドン等のケトン溶媒；ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、
エチルシクロヘキサン等の脂肪族炭化水素溶媒；トルエン、キシレン、クロロベンゼン等
の芳香族炭化水素溶媒；アセトニトリル等のニトリル溶媒；プロピレングリコールモノメ
チルエーテル、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテル溶媒；クロロホルム
等のハロゲン化炭化水素溶媒等が挙げられる。これら有機溶媒は、単独でもよいし、組み
合わせてもよい。
ル、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール
、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ等のアルコール溶媒；酢酸エチル、酢酸ブチル、
エチレングリコールメチルエーテルアセテート、γ－ブチロラクトン、プロピレングリコ
ールメチルエーテルアセテート、乳酸エチル等のエステル溶媒；アセトン、メチルエチル
ケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルアミルケトン、メチルイソブチル
ケトン、Ｎ－メチル－２－ピロリドン等のケトン溶媒；ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、
エチルシクロヘキサン等の脂肪族炭化水素溶媒；トルエン、キシレン、クロロベンゼン等
の芳香族炭化水素溶媒；アセトニトリル等のニトリル溶媒；プロピレングリコールモノメ
チルエーテル、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテル溶媒；クロロホルム
等のハロゲン化炭化水素溶媒等が挙げられる。これら有機溶媒は、単独でもよいし、組み
合わせてもよい。
【0065】
溶剤は、配向性ポリマー又は光配向性ポリマー１００質量部に対して、通常１０質量部
～１０００００質量部であり、好ましくは１０００質量部～５００００質量部であり、よ
り好ましくは２０００質量部～２００００質量部である。
～１０００００質量部であり、好ましくは１０００質量部～５００００質量部であり、よ
り好ましくは２０００質量部～２００００質量部である。
【0066】
溶剤に溶解した配向性ポリマー又は光配向性ポリマーを、基材に塗布する方法としては
、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコー
ティング法、ＣＡＰコーティング法、ダイコーティング法等が挙げられる。また、ディッ
プコーター、バーコーター、スピンコーター等のコーターを用いて塗布する方法も挙げら
れる。
、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコー
ティング法、ＣＡＰコーティング法、ダイコーティング法等が挙げられる。また、ディッ
プコーター、バーコーター、スピンコーター等のコーターを用いて塗布する方法も挙げら
れる。
【0067】
乾燥方法としては、自然乾燥、通風乾燥、加熱乾燥、減圧乾燥およびこれらを組み合わ
せた方法が挙げられる。乾燥温度は、１０～２５０℃が好ましく、２５～２００℃がより
好ましい。乾燥時間は、溶剤の種類にもよるが、５秒間～６０分間が好ましく、１０秒間
～３０分間がより好ましい。
せた方法が挙げられる。乾燥温度は、１０～２５０℃が好ましく、２５～２００℃がより
好ましい。乾燥時間は、溶剤の種類にもよるが、５秒間～６０分間が好ましく、１０秒間
～３０分間がより好ましい。
【0068】
ラビングする方法としては、ラビング布が巻きつけられ、回転しているラビングロール
を、基材に塗布され乾燥された配向ポリマーに接触させる方法が挙げられる。
を、基材に塗布され乾燥された配向ポリマーに接触させる方法が挙げられる。
【0069】
偏光を照射する方法としては、特開２００６－３２３０６０号公報に記載の装置を用い
る方法等が挙げられる。また、所望の複数領域に対応したフォトマスクを介して、当該領
域毎に、直線偏光紫外線等の偏光を繰り返し照射することで、パターン化配向膜層を形成
することもできる。フォトマスクとしては、通常、石英ガラス、ソーダライムガラスまた
はポリエステルなどのフィルム上に、遮光パターンを設けたものが用いられる。遮光パタ
ーンで覆われている部分は照射される偏光が遮断され、覆われていない部分は照射される
偏光が透過される。熱膨張の影響が小さいという点で、石英ガラスが好ましい。光配向性
ポリマーの反応性の点で、照射する偏光は紫外線であることが好ましい。
る方法等が挙げられる。また、所望の複数領域に対応したフォトマスクを介して、当該領
域毎に、直線偏光紫外線等の偏光を繰り返し照射することで、パターン化配向膜層を形成
することもできる。フォトマスクとしては、通常、石英ガラス、ソーダライムガラスまた
はポリエステルなどのフィルム上に、遮光パターンを設けたものが用いられる。遮光パタ
ーンで覆われている部分は照射される偏光が遮断され、覆われていない部分は照射される
偏光が透過される。熱膨張の影響が小さいという点で、石英ガラスが好ましい。光配向性
ポリマーの反応性の点で、照射する偏光は紫外線であることが好ましい。
【0070】
配向膜層の厚さは、通常１０ｎｍ～１００００ｎｍであり、好ましくは１０ｎｍ～１０
００ｎｍである。
配向膜層の厚さが上記範囲にあると、重合性液晶化合物を所望の方向や角度に容易に液
晶配向させることができるため好ましい。
００ｎｍである。
配向膜層の厚さが上記範囲にあると、重合性液晶化合物を所望の方向や角度に容易に液
晶配向させることができるため好ましい。
【0071】
重合性液晶化合物の液晶配向の状態には、水平配向、垂直配向、ハイブリッド配向及び
傾斜配向等があるが、好ましくは垂直配向である。水平、垂直等の表現は、基材面を基準
とした重合性液晶化合物の長軸の配向方向を表す。例えば、垂直配向とは基材面に対して
垂直な方向に重合性液晶化合物の長軸を有することである。
傾斜配向等があるが、好ましくは垂直配向である。水平、垂直等の表現は、基材面を基準
とした重合性液晶化合物の長軸の配向方向を表す。例えば、垂直配向とは基材面に対して
垂直な方向に重合性液晶化合物の長軸を有することである。
【0072】
液晶配向の状態は、配向膜層および重合性液晶化合物の性質によって変化し、その組み
合わせは任意に選択することができる。例えば、配向膜層が配向規制力として水平配向を
発現させる材料であれば、重合性液晶化合物は水平配向またはハイブリッド配向を形成す
ることができ、垂直配向を発現させる材料であれば、重合性液晶化合物は垂直配向または
傾斜配向を形成することができる。
配向規制力は、配向膜層が配向性ポリマーから形成されている場合は、表面状態やラビ
ング条件によって任意に調整することが可能であり、光配向性ポリマーから形成されてい
る場合は、偏光照射条件等によって任意に調整することが可能である。また、重合性液晶
化合物の、表面張力や液晶性等の物性を選択することにより、液晶配向を制御することも
できる。
合わせは任意に選択することができる。例えば、配向膜層が配向規制力として水平配向を
発現させる材料であれば、重合性液晶化合物は水平配向またはハイブリッド配向を形成す
ることができ、垂直配向を発現させる材料であれば、重合性液晶化合物は垂直配向または
傾斜配向を形成することができる。
配向規制力は、配向膜層が配向性ポリマーから形成されている場合は、表面状態やラビ
ング条件によって任意に調整することが可能であり、光配向性ポリマーから形成されてい
る場合は、偏光照射条件等によって任意に調整することが可能である。また、重合性液晶
化合物の、表面張力や液晶性等の物性を選択することにより、液晶配向を制御することも
できる。
【0073】
本発明では、配向膜層は重合性液晶化合物を垂直配向させることができる配向規制力を
有するものが好ましい。具体的には、配向性ポリマー内に、珪素原子、フッ素原子等から
なる非極性置換基を有することが好ましい。例えば、特許第４６０５０１６号、特許第４
９８５９０６号、特許第４５０２１１９号またはＷＯ２００８／１１７７６０号に記載さ
れているような、一般的に垂直配向型液晶表示素子の液晶配向膜として用いられている材
料を使用することができる。
有するものが好ましい。具体的には、配向性ポリマー内に、珪素原子、フッ素原子等から
なる非極性置換基を有することが好ましい。例えば、特許第４６０５０１６号、特許第４
９８５９０６号、特許第４５０２１１９号またはＷＯ２００８／１１７７６０号に記載さ
れているような、一般的に垂直配向型液晶表示素子の液晶配向膜として用いられている材
料を使用することができる。
【0074】
塗布された光学異方性層形成用組成物に含まれる重合性液晶化合物がネマチック相等の
液晶相を示す場合、モノドメイン配向による複屈折性を有する。光学異方性層を形成する
ためには、基材又は配向膜層上に光学異方性層形成用組成物を塗布した後、光照射を行う
ことによって硬化する。
液晶相を示す場合、モノドメイン配向による複屈折性を有する。光学異方性層を形成する
ためには、基材又は配向膜層上に光学異方性層形成用組成物を塗布した後、光照射を行う
ことによって硬化する。
【0075】
光学異方性層形成用組成物を基材又は配向膜層上に塗布する方法としては、押し出しコ
ーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、
ＣＡＰコーティング法、スリットコーティング法、ダイコーティング法等が挙げられる。
また、ディップコーター、バーコーター、スピンコーター等のコーターを用いて塗布する
方法等も挙げられる。中でも、ＲｏｌｌｔｏＲｏｌｌ形式で連続的に塗布できる点で、Ｃ
ＡＰコーティング法、インクジェット法、ディップコーティング法、スリットコーティン
グ法、ダイコーティング法およびバーコーターによる塗布方法が好ましい。Ｒｏｌｌｔｏ
Ｒｏｌｌ形式で塗布する場合、基材に配向性ポリマーを含む組成物を塗布して配向膜層を
形成し、さらに得られた配向膜層上に光学異方性層を連続的に形成することもできる。
ーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、
ＣＡＰコーティング法、スリットコーティング法、ダイコーティング法等が挙げられる。
また、ディップコーター、バーコーター、スピンコーター等のコーターを用いて塗布する
方法等も挙げられる。中でも、ＲｏｌｌｔｏＲｏｌｌ形式で連続的に塗布できる点で、Ｃ
ＡＰコーティング法、インクジェット法、ディップコーティング法、スリットコーティン
グ法、ダイコーティング法およびバーコーターによる塗布方法が好ましい。Ｒｏｌｌｔｏ
Ｒｏｌｌ形式で塗布する場合、基材に配向性ポリマーを含む組成物を塗布して配向膜層を
形成し、さらに得られた配向膜層上に光学異方性層を連続的に形成することもできる。
【0076】
光照射は、通常、可視光、紫外光またはレーザー光により行われ、紫外光が好ましい。
【0077】
光照射は塗布された光学異方性層形成用組成物にそのまま行ってもよいが、光学異方性
層形成用組成物が溶剤を含む場合は、乾燥して、溶剤を除去した後に光照射するのが好ま
しい。塗布された該光学異方性層形成用組成物から溶剤を除去することで、該光学異方性
層形成用組成物に含まれる重合性液晶化合物は液晶配向を形成する。乾燥（溶剤の除去）
は、光照射と並行して行ってもよいが、光照射を行う前に、ほとんどの溶剤を除去してお
くことが好ましい。乾燥方法としては、前記の配向膜層形成時の乾燥方法と同じ方法が挙
げられる。中でも、自然乾燥または加熱乾燥が好ましい。乾燥温度は、０℃～２５０℃の
範囲が好ましく、５０℃～２２０℃の範囲がより好ましく、６０℃～１７０℃の範囲がさ
らに好ましい。乾燥時間は、１０秒間～６０分間が好ましく、より好ましくは３０秒間～
３０分間である。
層形成用組成物が溶剤を含む場合は、乾燥して、溶剤を除去した後に光照射するのが好ま
しい。塗布された該光学異方性層形成用組成物から溶剤を除去することで、該光学異方性
層形成用組成物に含まれる重合性液晶化合物は液晶配向を形成する。乾燥（溶剤の除去）
は、光照射と並行して行ってもよいが、光照射を行う前に、ほとんどの溶剤を除去してお
くことが好ましい。乾燥方法としては、前記の配向膜層形成時の乾燥方法と同じ方法が挙
げられる。中でも、自然乾燥または加熱乾燥が好ましい。乾燥温度は、０℃～２５０℃の
範囲が好ましく、５０℃～２２０℃の範囲がより好ましく、６０℃～１７０℃の範囲がさ
らに好ましい。乾燥時間は、１０秒間～６０分間が好ましく、より好ましくは３０秒間～
３０分間である。
【0078】
本発明の積層体は、吸収軸を直交させた偏光板間に設置した場合、光漏れが極めて小さ
くなる。具体的には、偏光板（Ａ）、本積層体、偏光板（Ｂ）の順に積層した構成におい
て、偏光板（Ａ）と偏光板（Ｂ）の吸収軸が直交し、かつ、次の（ａ）及び（ｂ）のいず
れの場合においても、偏光板（Ｂ）側から光を入射し偏光板（Ａ）側から透過光を検出し
た時に得られる波長５５０ｎｍにおける透過率Ｔが下記式（Ｄ）を満たすものである。
（ａ）積層体を構成する基材面内に遅相軸が存在する場合、基材を偏光板（Ｂ）側に配置
し、かつ、基材の遅相軸を偏光板（Ｂ）の吸収軸と平行に積層する。
（ｂ）積層体を構成する基材面内に遅相軸が存在しない場合、基材を偏光板（Ｂ）側に配
置する。
０．０００＜ Ｔ ＜０．００５ （Ｄ）
（ここで、透過率Ｔは、偏光板（Ａ）と偏光板（Ｂ）の吸収軸を平行に配置した場合の透
過率を１００％とした時の値である）
くなる。具体的には、偏光板（Ａ）、本積層体、偏光板（Ｂ）の順に積層した構成におい
て、偏光板（Ａ）と偏光板（Ｂ）の吸収軸が直交し、かつ、次の（ａ）及び（ｂ）のいず
れの場合においても、偏光板（Ｂ）側から光を入射し偏光板（Ａ）側から透過光を検出し
た時に得られる波長５５０ｎｍにおける透過率Ｔが下記式（Ｄ）を満たすものである。
（ａ）積層体を構成する基材面内に遅相軸が存在する場合、基材を偏光板（Ｂ）側に配置
し、かつ、基材の遅相軸を偏光板（Ｂ）の吸収軸と平行に積層する。
（ｂ）積層体を構成する基材面内に遅相軸が存在しない場合、基材を偏光板（Ｂ）側に配
置する。
０．０００＜ Ｔ ＜０．００５ （Ｄ）
（ここで、透過率Ｔは、偏光板（Ａ）と偏光板（Ｂ）の吸収軸を平行に配置した場合の透
過率を１００％とした時の値である）
【0079】
基材面内に遅相軸が存在する場合（（ａ）の場合）、偏光板の吸収軸と基材の遅相軸が
平行の関係にないと、基材の位相差が生じてしまい、基材のみで光漏れが生じる。つまり
、積層体の特性を確認する場合には、上述した（ａ）のように積層する必要がある。
平行の関係にないと、基材の位相差が生じてしまい、基材のみで光漏れが生じる。つまり
、積層体の特性を確認する場合には、上述した（ａ）のように積層する必要がある。
【0080】
基材面内に遅相軸が存在しない場合（（ｂ）の場合）は、偏光板間にどのように設置し
ても位相差は生じないため、積層体の特性を確認することができる。
ても位相差は生じないため、積層体の特性を確認することができる。
【0081】
式（Ｄ）で表される波長５５０ｎｍにおける透過率Ｔは、一般的な紫外可視分光光度計
で測定可能である。偏光板（Ａ）と偏光板（Ｂ）の吸収軸を平行に配置した場合の透過率
を１００％とし、吸収軸を直交させた偏光板（Ａ）及び（Ｂ）の間に、本発明の積層体を
入れて測定することで、光漏れの程度を確認することができる。
本発明により得られる積層体は、配向性に優れているため、液晶の配向乱れによる光漏
れを大きく抑制することが可能であり、表示装置に組み込んだ場合の特性としても優れる
。
で測定可能である。偏光板（Ａ）と偏光板（Ｂ）の吸収軸を平行に配置した場合の透過率
を１００％とし、吸収軸を直交させた偏光板（Ａ）及び（Ｂ）の間に、本発明の積層体を
入れて測定することで、光漏れの程度を確認することができる。
本発明により得られる積層体は、配向性に優れているため、液晶の配向乱れによる光漏
れを大きく抑制することが可能であり、表示装置に組み込んだ場合の特性としても優れる
。
【0082】
本発明における基材は、好ましくは下記式（４）を満たす。
ｎｘ＞ｎｙ≒ｎｚ （４）
（ここで、ｎｘ、ｎｙは、基材平面に対して平行な方向の屈折率を示し、ｎｘとｎｙはそ
れぞれ直交し、ｎｚはｎｘ及びｎｙのいずれにも直交する方向の屈折率を示す。）
ｎｘ＞ｎｙ≒ｎｚ （４）
（ここで、ｎｘ、ｎｙは、基材平面に対して平行な方向の屈折率を示し、ｎｘとｎｙはそ
れぞれ直交し、ｎｚはｎｘ及びｎｙのいずれにも直交する方向の屈折率を示す。）
【0083】
式（４）を満たす基材としては、アートンフィルム（ＪＳＲ（株）製）、ゼオノアフィ
ルム（（株）オプテス製）、エスシーナ（積水化学工業（株）製）、ＶＡ－ＴＡＣ（コミ
カミノルタオプト（株）製）、スミカライト（住友化学（株）製）等が挙げられる。
ルム（（株）オプテス製）、エスシーナ（積水化学工業（株）製）、ＶＡ－ＴＡＣ（コミ
カミノルタオプト（株）製）、スミカライト（住友化学（株）製）等が挙げられる。
【0084】
基材がｎｘ＞ｎｙ≒ｎｚの関係を満たす場合、一般的にネガティブＢプレートと呼ばれ
る光学特性を示し、ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚの関係を満たす場合は、ポジティブＡプレートと呼
ばれる特性を表す。これらの基材を用いることで、積層体の補償効果を向上させることが
可能となるが、基材の製造の容易さから、ｎｘ＞ｎｙ≒ｎｚを用いることが好ましい。
る光学特性を示し、ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚの関係を満たす場合は、ポジティブＡプレートと呼
ばれる特性を表す。これらの基材を用いることで、積層体の補償効果を向上させることが
可能となるが、基材の製造の容易さから、ｎｘ＞ｎｙ≒ｎｚを用いることが好ましい。
【0085】
さらに本発明における基材は、好ましくは下記式（５）及び（６）、又は、下記式（７
）及び（８）を満たす。
Δｎ（４５０）／Δｎ（５５０）≧１．００ （５）
１．００≧Δｎ（６５０）／Δｎ（５５０） （６）
Δｎ（４５０）／Δｎ（５５０）≦１．００ （７）
１．００≦Δｎ（６５０）／Δｎ（５５０） （８）
（ここで、Δｎ（４５０）、Δｎ（５５０）、Δｎ（６５０）はそれぞれ波長４５０ｎｍ
、５５０ｎｍ、６５０ｎｍにおいて、測定したときに正面位相差値から導出される複屈折
である。）
）及び（８）を満たす。
Δｎ（４５０）／Δｎ（５５０）≧１．００ （５）
１．００≧Δｎ（６５０）／Δｎ（５５０） （６）
Δｎ（４５０）／Δｎ（５５０）≦１．００ （７）
１．００≦Δｎ（６５０）／Δｎ（５５０） （８）
（ここで、Δｎ（４５０）、Δｎ（５５０）、Δｎ（６５０）はそれぞれ波長４５０ｎｍ
、５５０ｎｍ、６５０ｎｍにおいて、測定したときに正面位相差値から導出される複屈折
である。）
【0086】
式（５）及び（６）を満たす基材としては、式（４）を満たす基材として挙げた、市販
のフィルム等が挙げられる。
のフィルム等が挙げられる。
【0087】
式（７）及び（８）を満たす基材としては、例えば、「ピュアエース（登録商標）ＷＲ
」（帝人株式会社製）等が挙げられる。
」（帝人株式会社製）等が挙げられる。
【0088】
式（５）及び式（６）は、長波長ほど複屈折が小さくなることを意味し、基材の波長分
散性が正波長分散であることを表す。式（７）及び式（８）は、長波長ほど複屈折が大き
くなることを意味し、基材の波長分散性が逆波長分散であることを表す。
散性が正波長分散であることを表す。式（７）及び式（８）は、長波長ほど複屈折が大き
くなることを意味し、基材の波長分散性が逆波長分散であることを表す。
【0089】
本積層体は、以下の工程（ａ１）及び（ａ２）を含む製造方法によって製造することが
できる。
工程（ａ１）：基材に式（Ａ）で表される重合性液晶化合物を含む組成物を塗布する工程
工程（ａ２）：塗布された該組成物を乾燥し、光照射によって硬化する工程
できる。
工程（ａ１）：基材に式（Ａ）で表される重合性液晶化合物を含む組成物を塗布する工程
工程（ａ２）：塗布された該組成物を乾燥し、光照射によって硬化する工程
【0090】
また、本積層体は、以下の工程（ｂ１）、（ｂ２）及び（ｂ３）を含む製造方法によっ
て製造することができる。
工程（ｂ１）：基材に配向性ポリマーを塗布し、配向膜層を形成する工程
工程（ｂ２）：該配向膜層上に、式（Ａ）で表される重合性液晶化合物を含む組成物を塗
布する工程
工程（ｂ３）：塗布された該組成物を乾燥し、光照射によって硬化する工程
て製造することができる。
工程（ｂ１）：基材に配向性ポリマーを塗布し、配向膜層を形成する工程
工程（ｂ２）：該配向膜層上に、式（Ａ）で表される重合性液晶化合物を含む組成物を塗
布する工程
工程（ｂ３）：塗布された該組成物を乾燥し、光照射によって硬化する工程
【0091】
光学異方性層の厚さは、その用途により適宜調節できるが、０．１μｍ～１０μｍであ
ることが好ましく、光弾性を小さくする点で０．２μｍ～５μｍであることがさらに好ま
しい。
ることが好ましく、光弾性を小さくする点で０．２μｍ～５μｍであることがさらに好ま
しい。
【0092】
本積層体の中でも重合性液晶化合物が垂直配向したものは、光射出側の斜角から確認し
た場合の直線偏光を円偏光や楕円偏光に変換したり、円偏光または楕円偏光を直線偏光に
変換したり、直線偏光の偏光方向を変換したりするために用いられる位相差フィルムとし
て有用である。
前記位相差フィルムは、可視光領域における透明性に優れ、様々な表示装置用部材とし
て使用し得る。
た場合の直線偏光を円偏光や楕円偏光に変換したり、円偏光または楕円偏光を直線偏光に
変換したり、直線偏光の偏光方向を変換したりするために用いられる位相差フィルムとし
て有用である。
前記位相差フィルムは、可視光領域における透明性に優れ、様々な表示装置用部材とし
て使用し得る。
【0093】
本積層体は、複数枚積層してもよいし、他のフィルムと組み合わせてもよい。重合性液
晶化合物の配向状態の異なる本積層体を複数枚積層する、又は、本積層体と他のフィルム
とを組み合わせると、視野角補償フィルム、視野角拡大フィルム、反射防止フィルム、偏
光板、円偏光板、楕円偏光板又は輝度向上フィルムとして利用できる。
晶化合物の配向状態の異なる本積層体を複数枚積層する、又は、本積層体と他のフィルム
とを組み合わせると、視野角補償フィルム、視野角拡大フィルム、反射防止フィルム、偏
光板、円偏光板、楕円偏光板又は輝度向上フィルムとして利用できる。
【0094】
本積層体は、重合性液晶化合物の配向状態によって光学特性を変化させることができ、
ＶＡ（vertical alignment）モード、ＩＰＳ（in-plane switching）モード、ＯＣＢ（op
tically compensated bend）モード、ＴＮ（twisted nematic）モード、ＳＴＮ（super t
wisted nematic）モード等の種々の液晶表示装置用の位相差フィルムとして使用すること
ができる。
ＶＡ（vertical alignment）モード、ＩＰＳ（in-plane switching）モード、ＯＣＢ（op
tically compensated bend）モード、ＴＮ（twisted nematic）モード、ＳＴＮ（super t
wisted nematic）モード等の種々の液晶表示装置用の位相差フィルムとして使用すること
ができる。
【0095】
本積層体をポジティブＣプレートとして用いる場合は、正面位相差値Ｒｅ（５５０）は
０～１０ｎｍの範囲に、好ましく通常は０～５ｎｍの範囲に調整すればよく、厚み方向の
位相差値Ｒthは、通常－１０～－３００ｎｍの範囲に、好ましくは－２０～－２００ｎｍ
の範囲に調整すればよい。上記正面位相差値Ｒｅ（５５０）は、液晶セルの特性に合わせ
て適宜選択するのが好ましく、特にＩＰＳモードの液晶表示装置の補償に適している。
０～１０ｎｍの範囲に、好ましく通常は０～５ｎｍの範囲に調整すればよく、厚み方向の
位相差値Ｒthは、通常－１０～－３００ｎｍの範囲に、好ましくは－２０～－２００ｎｍ
の範囲に調整すればよい。上記正面位相差値Ｒｅ（５５０）は、液晶セルの特性に合わせ
て適宜選択するのが好ましく、特にＩＰＳモードの液晶表示装置の補償に適している。
【0096】
積層体の厚み方向の屈折率異方性を意味する厚み方向の位相差値Ｒthは、面内の進相軸
を傾斜軸として５０度傾斜させて測定される位相差値Ｒ50と面内の位相差値Ｒ0 とから算
出できる。すなわち、厚み方向の位相差値Ｒthは、面内の位相差値Ｒ0、進相軸を傾斜軸
として５０度傾斜させて測定した位相差値Ｒ５0、光学異方性層の厚みｄ、及び光学異方
性層の平均屈折率ｎ0から、以下の式(９)～（１１）によりｎx、ｎy及びｎz を求め、こ
れらを式（８）に代入して、算出することができる。
を傾斜軸として５０度傾斜させて測定される位相差値Ｒ50と面内の位相差値Ｒ0 とから算
出できる。すなわち、厚み方向の位相差値Ｒthは、面内の位相差値Ｒ0、進相軸を傾斜軸
として５０度傾斜させて測定した位相差値Ｒ５0、光学異方性層の厚みｄ、及び光学異方
性層の平均屈折率ｎ0から、以下の式(９)～（１１）によりｎx、ｎy及びｎz を求め、こ
れらを式（８）に代入して、算出することができる。
【0097】
Ｒｔｈ＝［（ｎｘ＋ｎｙ）／２－ｎｚ］×ｄ （８）
Ｒ０ ＝（ｎｘ－ｎｙ）×ｄ （９）
Ｒ5０＝（ｎｘ－ｎｙ'）×ｄ／ｃｏｓ(φ) （１０）
(ｎｘ＋ｎｙ＋ｎｚ)／３＝ｎ０ （１１）
ここで、
φ＝sin－１〔sin（５０°）／ｎ０〕
ｎｙ'＝ｎｙ×ｎｚ／〔ｎｙ ２×sin２（φ）＋ｎｚ ２×cos２（φ）〕１／２
Ｒ０ ＝（ｎｘ－ｎｙ）×ｄ （９）
Ｒ5０＝（ｎｘ－ｎｙ'）×ｄ／ｃｏｓ(φ) （１０）
(ｎｘ＋ｎｙ＋ｎｚ)／３＝ｎ０ （１１）
ここで、
φ＝sin－１〔sin（５０°）／ｎ０〕
ｎｙ'＝ｎｙ×ｎｚ／〔ｎｙ ２×sin２（φ）＋ｎｚ ２×cos２（φ）〕１／２
【0098】
本発明の積層体の光学異方性層を、粘接着剤を介して被転写基材に転写し、被転写基材
、粘接着剤層及び光学異方性層からなる第２の積層体を得ることができる。
粘接着剤としては、公知のものを用いることができ、転写は公知の方法で行なうことが
できる。被転写基材としては、基材や偏光板と同じものが挙げられる。
本発明の第２の積層体は、本発明の積層体と同じ光学特性を有する。
本発明の積層体が、基材、配向膜層及び光学異方性層を有する場合は、本発明の積層体
の光学異方性層及び配向膜層を、粘接着剤を介して被転写基材に転写し、被転写基材、粘
接着剤層、光学異方性層及び配向膜層からなる第２の積層体を得ることができる
、粘接着剤層及び光学異方性層からなる第２の積層体を得ることができる。
粘接着剤としては、公知のものを用いることができ、転写は公知の方法で行なうことが
できる。被転写基材としては、基材や偏光板と同じものが挙げられる。
本発明の第２の積層体は、本発明の積層体と同じ光学特性を有する。
本発明の積層体が、基材、配向膜層及び光学異方性層を有する場合は、本発明の積層体
の光学異方性層及び配向膜層を、粘接着剤を介して被転写基材に転写し、被転写基材、粘
接着剤層、光学異方性層及び配向膜層からなる第２の積層体を得ることができる
【0099】
図１に、本積層体の模式図を示す。図１（a）は、基材１及び光学異方性層２がこの順
番で積層された本積層体１００である。図１（ｂ）は、基材１、配向膜層３及び光学異方
性層２が、この順番で積層された本積層体１００である。
番で積層された本積層体１００である。図１（ｂ）は、基材１、配向膜層３及び光学異方
性層２が、この順番で積層された本積層体１００である。
【0100】
本積層体は、偏光板を構成する部材としても有用である。本発明の偏光板は、本積層体
と偏光フィルムとを含むものであり、本積層体は通常位相差フィルムとして含まれる。
本発明の偏光板の具体例としては、図２（ａ）～図２（ｄ）で示される偏光板が挙げら
れる。図２（ａ）で示される偏光板１１０は、偏光フィルム４、光学異方性層２及び基材
１がこの順に積層された偏光板であり、図２（ｂ）で示される偏光板１１０は、偏光フィ
ルム４、基材１及び光学異方性層２がこの順で積層された偏光板であり、図２（ｃ）で示
される偏光板１１０は、偏光フィルム４、光学異方性層２、配向膜層３及び基材１がこの
順に積層された偏光板であり、図２（ｄ）で示される偏光板１１０は、偏光フィルム４、
基材１、配向膜層３及び光学異方性層２がこの順で積層された偏光板である。偏光フィル
ム４と光学異方性層２又は基材１は、接着剤および／または粘着剤を用いて接合してもよ
い。
と偏光フィルムとを含むものであり、本積層体は通常位相差フィルムとして含まれる。
本発明の偏光板の具体例としては、図２（ａ）～図２（ｄ）で示される偏光板が挙げら
れる。図２（ａ）で示される偏光板１１０は、偏光フィルム４、光学異方性層２及び基材
１がこの順に積層された偏光板であり、図２（ｂ）で示される偏光板１１０は、偏光フィ
ルム４、基材１及び光学異方性層２がこの順で積層された偏光板であり、図２（ｃ）で示
される偏光板１１０は、偏光フィルム４、光学異方性層２、配向膜層３及び基材１がこの
順に積層された偏光板であり、図２（ｄ）で示される偏光板１１０は、偏光フィルム４、
基材１、配向膜層３及び光学異方性層２がこの順で積層された偏光板である。偏光フィル
ム４と光学異方性層２又は基材１は、接着剤および／または粘着剤を用いて接合してもよ
い。
【0101】
偏光フィルム４は、偏光機能を有するフィルムであればよく、例えば、ポリビニルアル
コール系フィルムにヨウ素や二色性色素を吸着させて延伸したフィルム、および、ポリビ
ニルアルコール系フィルムを延伸してヨウ素や二色性色素を吸着させたフィルム等が挙げ
られる。
コール系フィルムにヨウ素や二色性色素を吸着させて延伸したフィルム、および、ポリビ
ニルアルコール系フィルムを延伸してヨウ素や二色性色素を吸着させたフィルム等が挙げ
られる。
【0102】
偏光フィルム４は、必要に応じて、保護フィルムで保護されていてもよい。保護フィル
ムとしては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ノルボルネン系ポリマー等のポリオレフィ
ンフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリメタクリル酸エステルフィルム
、ポリアクリル酸エステルフィルム、セルロースエステルフィルム、ポリエチレンナフタ
レートフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリスルフォンフィルム、ポリエーテルス
ルホンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリフェニレンスルフィドフィルムおよ
びポリフェニレンオキシドフィルムが挙げられる。
ムとしては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ノルボルネン系ポリマー等のポリオレフィ
ンフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリメタクリル酸エステルフィルム
、ポリアクリル酸エステルフィルム、セルロースエステルフィルム、ポリエチレンナフタ
レートフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリスルフォンフィルム、ポリエーテルス
ルホンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリフェニレンスルフィドフィルムおよ
びポリフェニレンオキシドフィルムが挙げられる。
【0103】
接着剤としては、透明性が高く、耐熱性に優れた接着剤であることが好ましい。そのよ
うな接着剤としては、アクリル系接着剤、エポキシ系接着剤およびウレタン系接着剤が挙
げられる。
うな接着剤としては、アクリル系接着剤、エポキシ系接着剤およびウレタン系接着剤が挙
げられる。
【0104】
本積層体は、さまざまな表示装置に用いることができる。表示装置とは、表示素子を有
する装置であり、発光源として発光素子または発光装置を含む。表示装置としては、液晶
表示装置、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置、無機エレクトロルミネッセ
ンス（ＥＬ）表示装置、タッチパネル表示装置、電子放出表示装置（例えば電場放出表示
装置（ＦＥＤ）、表面電界放出表示装置（ＳＥＤ））、電子ペーパー（電子インクや電気
泳動素子を用いた表示装置、プラズマ表示装置、投射型表示装置（例えばグレーティング
ライトバルブ（ＧＬＶ）表示装置、デジタルマイクロミラーデバイス（ＤＭＤ）を有する
表示装置）および圧電セラミックディスプレイなどが挙げられる。液晶表示装置は、透過
型液晶表示装置、半透過型液晶表示装置、反射型液晶表示装置、直視型液晶表示装置およ
び投写型液晶表示装置などのいずれをも含む。これらの表示装置は、２次元画像を表示す
る表示装置であってもよいし、３次元画像を表示する立体表示装置であってもよい。特に
本積層体は、積層する光学異方性層の軸の関係により、液晶表示装置、タッチパネル表示
装置、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置及び無機エレクトロルミネッセン
ス（ＥＬ）表示装置に有効に用いることができる。
する装置であり、発光源として発光素子または発光装置を含む。表示装置としては、液晶
表示装置、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置、無機エレクトロルミネッセ
ンス（ＥＬ）表示装置、タッチパネル表示装置、電子放出表示装置（例えば電場放出表示
装置（ＦＥＤ）、表面電界放出表示装置（ＳＥＤ））、電子ペーパー（電子インクや電気
泳動素子を用いた表示装置、プラズマ表示装置、投射型表示装置（例えばグレーティング
ライトバルブ（ＧＬＶ）表示装置、デジタルマイクロミラーデバイス（ＤＭＤ）を有する
表示装置）および圧電セラミックディスプレイなどが挙げられる。液晶表示装置は、透過
型液晶表示装置、半透過型液晶表示装置、反射型液晶表示装置、直視型液晶表示装置およ
び投写型液晶表示装置などのいずれをも含む。これらの表示装置は、２次元画像を表示す
る表示装置であってもよいし、３次元画像を表示する立体表示装置であってもよい。特に
本積層体は、積層する光学異方性層の軸の関係により、液晶表示装置、タッチパネル表示
装置、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置及び無機エレクトロルミネッセン
ス（ＥＬ）表示装置に有効に用いることができる。
【0105】
図３は、本積層体を備えた液晶表示装置の概略図である。
液晶表示装置としては、図３（ａ）～図３（ｄ）で示される液晶表示装置が挙げられる
。図３（ａ）～図３（ｄ）に示される液晶表示装置は、本発明の偏光板１１０が液晶パネ
ル５の一方の面に、偏光フィルム４’が液晶パネル５の他方の面に、接着剤および／また
は粘着剤を介して貼り合わされた構造を有しており、偏光フィルム４の吸収軸と偏光フィ
ルム４’の吸収軸は直行している。
液晶表示装置としては、図３（ａ）～図３（ｄ）で示される液晶表示装置が挙げられる
。図３（ａ）～図３（ｄ）に示される液晶表示装置は、本発明の偏光板１１０が液晶パネ
ル５の一方の面に、偏光フィルム４’が液晶パネル５の他方の面に、接着剤および／また
は粘着剤を介して貼り合わされた構造を有しており、偏光フィルム４の吸収軸と偏光フィ
ルム４’の吸収軸は直行している。
【0106】
本積層体は、特にＩＰＳ（in-plane switching）モードの黒表示時の光漏れを抑制する
効果に優れる。ＩＰＳモードの表示装置の補償に用いる場合の基材１の遅相軸と偏光フィ
ルム４の吸収軸の関係について説明する。図３（a）及び図３（ｃ）の構成では、偏光フ
ィルム４の吸収軸と基材１の遅相軸が平行であり、図３（ｂ）及び図３（ｄ）の構成では
、偏光フィルム４の吸収軸と基材１の遅相軸が直行であれば、基材の異方性及び光学異方
性層の異方性により、液晶パネルから射出される偏光状態を、斜めから視認した場合にお
いても良好に変換することが可能となる。また、図３（ａ）～図３（ｄ）で示される液晶
表示装置では、図示しない電極を用いて、液晶パネルに電圧を印加することにより、液晶
分子の液晶配向が変化し、白黒表示が実現できる。
効果に優れる。ＩＰＳモードの表示装置の補償に用いる場合の基材１の遅相軸と偏光フィ
ルム４の吸収軸の関係について説明する。図３（a）及び図３（ｃ）の構成では、偏光フ
ィルム４の吸収軸と基材１の遅相軸が平行であり、図３（ｂ）及び図３（ｄ）の構成では
、偏光フィルム４の吸収軸と基材１の遅相軸が直行であれば、基材の異方性及び光学異方
性層の異方性により、液晶パネルから射出される偏光状態を、斜めから視認した場合にお
いても良好に変換することが可能となる。また、図３（ａ）～図３（ｄ）で示される液晶
表示装置では、図示しない電極を用いて、液晶パネルに電圧を印加することにより、液晶
分子の液晶配向が変化し、白黒表示が実現できる。
【0107】
図４は、本積層体を備えた有機ＥＬ表示装置の概略図である。
図４（ａ）は、偏光フィルム４、光学異方性層２、基材１及び有機ＥＬパネル６が、こ
の順番で積層された有機ＥＬ表示装置である。図４（ｂ）は、偏光フィルム４、基材１、
光学異方性層２及び有機ＥＬパネル６がこの順で積層された有機ＥＬ表示装置であり、図
４（ｃ）は、偏光フィルム４、光学異方性層２、配向膜層３、基材１及び有機ＥＬパネル
６がこの順に積層された有機ＥＬ表示装置であり、図４（ｄ）は、偏光フィルム４、基材
１、配向膜層３、光学異方性層２及び有機ＥＬパネル６がこの順で積層された有機ＥＬ表
示装置である。いずれの場合においても、偏光フィルム４の吸収軸と基材１の遅相軸がな
す角４５°で積層されていれば、本積層体は円偏光板としての機能を発現し、有機ＥＬ表
示装置用の優れた反射防止層として用いることができる。
図４（ａ）は、偏光フィルム４、光学異方性層２、基材１及び有機ＥＬパネル６が、こ
の順番で積層された有機ＥＬ表示装置である。図４（ｂ）は、偏光フィルム４、基材１、
光学異方性層２及び有機ＥＬパネル６がこの順で積層された有機ＥＬ表示装置であり、図
４（ｃ）は、偏光フィルム４、光学異方性層２、配向膜層３、基材１及び有機ＥＬパネル
６がこの順に積層された有機ＥＬ表示装置であり、図４（ｄ）は、偏光フィルム４、基材
１、配向膜層３、光学異方性層２及び有機ＥＬパネル６がこの順で積層された有機ＥＬ表
示装置である。いずれの場合においても、偏光フィルム４の吸収軸と基材１の遅相軸がな
す角４５°で積層されていれば、本積層体は円偏光板としての機能を発現し、有機ＥＬ表
示装置用の優れた反射防止層として用いることができる。
【実施例0108】
以下、実施例により本発明をより具体的に説明する。なお、例中の「％」および「部」
は、特記ない限り、質量％および質量部を意味する。
は、特記ない限り、質量％および質量部を意味する。
【0109】
［配向性ポリマー組成物の調製］
配向性ポリマー組成物の組成を、表１に示す。市販の配向性ポリマーであるサンエバー
ＳＥ－６１０（日産化学工業株式会社製）にＮ－メチル－２－ピロリドン、２－ブトキシ
エタノール及びエチルシクロヘキサンを加えてして配向性ポリマー組成物（Ａ）を調整し
た。
配向性ポリマー組成物の組成を、表１に示す。市販の配向性ポリマーであるサンエバー
ＳＥ－６１０（日産化学工業株式会社製）にＮ－メチル－２－ピロリドン、２－ブトキシ
エタノール及びエチルシクロヘキサンを加えてして配向性ポリマー組成物（Ａ）を調整し
た。
【0110】
【表1】
ＳＥ－６１０については、固形分量を納品仕様書に記載の濃度から換算した。
【0111】
実施例１
［光学異方性層形成用組成物の調製］
表２の成分を混合し、得られた混合物を８０℃で１時間攪拌することにより、光学異方
性層形成用組成物１を得た。
［光学異方性層形成用組成物の調製］
表２の成分を混合し、得られた混合物を８０℃で１時間攪拌することにより、光学異方
性層形成用組成物１を得た。
【0112】
【表2】
表２における括弧内の値は、調製した組成物の全量に対する各成分の含有割合を意味する
。
表２におけるＩｒｇ３６９は、ＢＡＳＦジャパン社製のイルガキュア（登録商標）３６
９であり、ＢＹＫ３６１Ｎは、ビックケミージャパン製のレベリング剤であり、化合物Ａ
１は、下記式で示される化合物である。ＰＧＭＥＡは、プロピレングリコール１－モノメ
チルエーテル２－アセタートである。
【0113】
化合物Ａ１：
【0114】
化合物Ａ１は、特開２０１０－３１２２３号公報記載の方法で合成した。
【0115】
実施例１［積層体の製造例１］
シクロオレフィンポリマーフィルム（基材）（ゼオノアフィルム、日本ゼオン株式会社
製）の表面を、コロナ処理装置（ＡＧＦ－Ｂ１０、春日電機株式会社製）を用いて出力０
．３ｋＷ、処理速度３ｍ／分の条件で１回処理した。
コロナ処理を施して得られたシクロオレフィンポリマーフィルム表面に、光学異方性層
形成用組成物１を塗布し、乾燥して、ユニキュア（ＶＢ―１５２０１ＢＹ－Ａ、ウシオ電
機株式会社製）を用いて、窒素雰囲気下、波長３６５ｎｍの光を４０ｍＷ／ｃｍ２の照度
で３０秒間照射することで光学異方性層１を形成し、積層体１を得た。
シクロオレフィンポリマーフィルム（基材）（ゼオノアフィルム、日本ゼオン株式会社
製）の表面を、コロナ処理装置（ＡＧＦ－Ｂ１０、春日電機株式会社製）を用いて出力０
．３ｋＷ、処理速度３ｍ／分の条件で１回処理した。
コロナ処理を施して得られたシクロオレフィンポリマーフィルム表面に、光学異方性層
形成用組成物１を塗布し、乾燥して、ユニキュア（ＶＢ―１５２０１ＢＹ－Ａ、ウシオ電
機株式会社製）を用いて、窒素雰囲気下、波長３６５ｎｍの光を４０ｍＷ／ｃｍ２の照度
で３０秒間照射することで光学異方性層１を形成し、積層体１を得た。
【0116】
実施例２［積層体の製造例２］
シクロオレフィンポリマーフィルム（基材）（ゼオノアフィルム、日本ゼオン株式会社
製）の表面を、コロナ処理装置（ＡＧＦ－Ｂ１０、春日電機株式会社製）を用いて出力０
．３ｋＷ、処理速度３ｍ／分の条件で１回処理した。
コロナ処理を施して得られたシクロオレフィンポリマーフィルム表面に、配向性ポリマ
ー組成物（Ａ）を塗布し、乾燥して、厚さ４０ｎｍの配向膜（１）を形成した。続いて、
光学異方性層形成用組成物１を、バーコーターを用いて配向膜（１）表面に塗布し、１２
０℃に加熱し乾燥し、室温まで冷却した。乾燥した光学異方性層形成用組成物に、ユニキ
ュア（ＶＢ―１５２０１ＢＹ－Ａ、ウシオ電機株式会社製）を用いて、窒素雰囲気下、波
長３６５ｎｍの光を４０ｍＷ／ｃｍ２の照度で３０秒間照射することで光学異方性層２を
形成し、積層体２を得た。
シクロオレフィンポリマーフィルム（基材）（ゼオノアフィルム、日本ゼオン株式会社
製）の表面を、コロナ処理装置（ＡＧＦ－Ｂ１０、春日電機株式会社製）を用いて出力０
．３ｋＷ、処理速度３ｍ／分の条件で１回処理した。
コロナ処理を施して得られたシクロオレフィンポリマーフィルム表面に、配向性ポリマ
ー組成物（Ａ）を塗布し、乾燥して、厚さ４０ｎｍの配向膜（１）を形成した。続いて、
光学異方性層形成用組成物１を、バーコーターを用いて配向膜（１）表面に塗布し、１２
０℃に加熱し乾燥し、室温まで冷却した。乾燥した光学異方性層形成用組成物に、ユニキ
ュア（ＶＢ―１５２０１ＢＹ－Ａ、ウシオ電機株式会社製）を用いて、窒素雰囲気下、波
長３６５ｎｍの光を４０ｍＷ／ｃｍ２の照度で３０秒間照射することで光学異方性層２を
形成し、積層体２を得た。
【0117】
［光学特性の測定］
光学異方性層１及び２の位相差値を測定機（ＫＯＢＲＡ－ＷＲ、王子計測機器社製）に
より測定した。まず、基材であるシクロオレフィンポリマーフィルムには位相差がなく、
遅相軸が存在しないことを確認した。光学異方性層１及び２を積層したサンプルへの光の
入射角を変えて測定し、液晶が垂直配向しているかどうか確認した。位相差値Ｒ（λ）は
入射角０度（正面）の位相差値、Ｒ５０（λ）は入射角５０度（進相軸まわりの傾斜）の
位相差値であり、それぞれ波長（λ）５５０ｎｍにおいて測定した。また、平均屈折率ｎ
0を１．６０とし、式 (９)～（１１）によりｎx、ｎy及びｎz を求めた。結果を表３、４
に示す。
光学異方性層１及び２の位相差値を測定機（ＫＯＢＲＡ－ＷＲ、王子計測機器社製）に
より測定した。まず、基材であるシクロオレフィンポリマーフィルムには位相差がなく、
遅相軸が存在しないことを確認した。光学異方性層１及び２を積層したサンプルへの光の
入射角を変えて測定し、液晶が垂直配向しているかどうか確認した。位相差値Ｒ（λ）は
入射角０度（正面）の位相差値、Ｒ５０（λ）は入射角５０度（進相軸まわりの傾斜）の
位相差値であり、それぞれ波長（λ）５５０ｎｍにおいて測定した。また、平均屈折率ｎ
0を１．６０とし、式 (９)～（１１）によりｎx、ｎy及びｎz を求めた。結果を表３、４
に示す。
【0118】
【表3】
【0119】
【表4】
【0120】
［光漏れの測定］
実施例１および２で得られた積層体１および２の両面に、偏光板（住友化学社製沃素系
通常偏光板ＴＲＷ８４２ＡＰ７）を、偏光板の吸収軸が直交するように、粘着剤を用いて
貼合した。得られた偏光フィルム付積層体の波長５５０ｎｍにおける透過率を積分球付き
分光光度計（日本分光（株）製、Ｖ７１００）にて測定した。基材には遅相軸が存在しな
いため、基材を偏光板（Ｂ）側に配置し、偏光板（Ｂ）側から光を入射した。結果を表５
に示す。
実施例１および２で得られた積層体１および２の両面に、偏光板（住友化学社製沃素系
通常偏光板ＴＲＷ８４２ＡＰ７）を、偏光板の吸収軸が直交するように、粘着剤を用いて
貼合した。得られた偏光フィルム付積層体の波長５５０ｎｍにおける透過率を積分球付き
分光光度計（日本分光（株）製、Ｖ７１００）にて測定した。基材には遅相軸が存在しな
いため、基材を偏光板（Ｂ）側に配置し、偏光板（Ｂ）側から光を入射した。結果を表５
に示す。
【0121】
【表5】
【0122】
実施例３［積層体の製造例３］
基材に、正面位相差値が１２０ｎｍであるシクロオレフィンポリマーフィルムを用いた
以外は、実施例１と同様の方法で、厚さ０．５２３μｍの光学異方性層３を形成し、積層
体３を得た。
基材に、正面位相差値が１２０ｎｍであるシクロオレフィンポリマーフィルムを用いた
以外は、実施例１と同様の方法で、厚さ０．５２３μｍの光学異方性層３を形成し、積層
体３を得た。
【0123】
実施例４［積層体の製造例４］
基材に、正面位相差値が１２０ｎｍであるシクロオレフィンポリマーフィルムを用いた
以外は、実施例２と同様の方法で、厚さ０．５１４μｍの光学異方性層４を形成し、積層
体４を得た。
基材に、正面位相差値が１２０ｎｍであるシクロオレフィンポリマーフィルムを用いた
以外は、実施例２と同様の方法で、厚さ０．５１４μｍの光学異方性層４を形成し、積層
体４を得た。
【0124】
実施例５［積層体の製造例５］
基材に、正面位相差値が１４１ｎｍであるピュアエースＷＲ（帝人株式会社製）（を用
いた以外は、実施例１と同様の方法で、厚さ０．５５０μｍの光学異方性層５を形成し、
積層体５を得た。
基材に、正面位相差値が１４１ｎｍであるピュアエースＷＲ（帝人株式会社製）（を用
いた以外は、実施例１と同様の方法で、厚さ０．５５０μｍの光学異方性層５を形成し、
積層体５を得た。
【0125】
実施例６［積層体の製造例６］
基材に、正面位相差値が１４１ｎｍであるピュアエースＷＲ（帝人株式会社製）（を用
いた以外は、実施例２と同様の方法で、厚さ０．５６２μｍの光学異方性層６を形成し、
積層体６を得た。
基材に、正面位相差値が１４１ｎｍであるピュアエースＷＲ（帝人株式会社製）（を用
いた以外は、実施例２と同様の方法で、厚さ０．５６２μｍの光学異方性層６を形成し、
積層体６を得た。
【0126】
［黒表示の確認］
実施例３～６で製造した積層体３～６の光学異方性層側の面に、粘着剤層と偏光板とを
この順で積層した。この際、偏光板の透過軸と、積層体３～６の基材の遅相軸とが略直交
するように積層した。得られた積層体付偏光板を、視認側偏光板を取り除いたｉ－Ｐａｄ
（登録商標）（アップル社製）の視認側に貼合し、黒表示させた時の光漏れを、パネル表
面に対し方位角４５°、仰角４５°の方向から目視で確認した。結果を表６に示す。
実施例３～６で製造した積層体３～６の光学異方性層側の面に、粘着剤層と偏光板とを
この順で積層した。この際、偏光板の透過軸と、積層体３～６の基材の遅相軸とが略直交
するように積層した。得られた積層体付偏光板を、視認側偏光板を取り除いたｉ－Ｐａｄ
（登録商標）（アップル社製）の視認側に貼合し、黒表示させた時の光漏れを、パネル表
面に対し方位角４５°、仰角４５°の方向から目視で確認した。結果を表６に示す。
【0127】
【表6】
【0128】
実施例７［積層体の製造例７］
ポリエチレンテレフタレートフィルム（基材）（三菱樹脂株式会社製、ダイアホイルＴ
１４０Ｅ２５）の表面を、コロナ処理装置（ＡＧＦ－Ｂ１０、春日電機株式会社製）を用
いて出力０．３ｋＷ、処理速度３ｍ／分の条件で１回処理した。コロナ処理を施して得ら
れたポリエチレンテレフタレートフィルム表面に、配向性ポリマー組成物（Ａ）を塗布し
、乾燥して、厚さ４０ｎｍの配向膜（１）を形成した。続いて、光学異方性層形成用組成
物１を、バーコーターを用いて配向膜（１）表面に塗布し、１２０℃に加熱し乾燥し、室
温まで冷却した。乾燥した光学異方性層形成用組成物に、ユニキュア（ＶＢ―１５２０１
ＢＹ－Ａ、ウシオ電機株式会社製）を用いて、窒素雰囲気下、波長３６５ｎｍの光を４０
ｍＷ／ｃｍ２の照度で３０秒間照射することで光学異方性層７を形成し、積層体７を得た
。
ポリエチレンテレフタレートフィルム（基材）（三菱樹脂株式会社製、ダイアホイルＴ
１４０Ｅ２５）の表面を、コロナ処理装置（ＡＧＦ－Ｂ１０、春日電機株式会社製）を用
いて出力０．３ｋＷ、処理速度３ｍ／分の条件で１回処理した。コロナ処理を施して得ら
れたポリエチレンテレフタレートフィルム表面に、配向性ポリマー組成物（Ａ）を塗布し
、乾燥して、厚さ４０ｎｍの配向膜（１）を形成した。続いて、光学異方性層形成用組成
物１を、バーコーターを用いて配向膜（１）表面に塗布し、１２０℃に加熱し乾燥し、室
温まで冷却した。乾燥した光学異方性層形成用組成物に、ユニキュア（ＶＢ―１５２０１
ＢＹ－Ａ、ウシオ電機株式会社製）を用いて、窒素雰囲気下、波長３６５ｎｍの光を４０
ｍＷ／ｃｍ２の照度で３０秒間照射することで光学異方性層７を形成し、積層体７を得た
。
【0129】
［光学特性の測定］
積層体７の光学異方性層７の表面を、コロナ処理装置を用いて出力０．３ｋＷ、処理速
度３ｍ／分の条件で１回処理した。コロナ処理を施した面に、粘着剤を介してシクロオレ
フィンポリマーフィルム（ゼオノアフィルム、日本ゼオン株式会社製）を積層した。続い
て、ポリエチレンテレフタレートフィルム及び配向膜を剥離し、シクロオレフィンポリマ
ーフィルム、粘着剤層及び光学異方性層７からなる積層体８を得た。
積層体８の位相差値を測定機（ＫＯＢＲＡ－ＷＲ、王子計測機器社製）により測定した
。まず、基材であるシクロオレフィンポリマーフィルムには位相差がなく、遅相軸が存在
しないことを確認した。光学異方性層１及び２を積層したサンプルへの光の入射角を変え
て測定し、液晶が垂直配向しているかどうか確認した。位相差値Ｒ（λ）は入射角０度（
正面）の位相差値、Ｒ５０（λ）は入射角５０度（進相軸まわりの傾斜）の位相差値であ
り、それぞれ波長（λ）５５０ｎｍにおいて測定した。また、平均屈折率ｎ0を１．６０
とし、式 (９)～（１１）によりｎx、ｎy及びｎz を求めた。結果を表７、８に示す。
積層体７の光学異方性層７の表面を、コロナ処理装置を用いて出力０．３ｋＷ、処理速
度３ｍ／分の条件で１回処理した。コロナ処理を施した面に、粘着剤を介してシクロオレ
フィンポリマーフィルム（ゼオノアフィルム、日本ゼオン株式会社製）を積層した。続い
て、ポリエチレンテレフタレートフィルム及び配向膜を剥離し、シクロオレフィンポリマ
ーフィルム、粘着剤層及び光学異方性層７からなる積層体８を得た。
積層体８の位相差値を測定機（ＫＯＢＲＡ－ＷＲ、王子計測機器社製）により測定した
。まず、基材であるシクロオレフィンポリマーフィルムには位相差がなく、遅相軸が存在
しないことを確認した。光学異方性層１及び２を積層したサンプルへの光の入射角を変え
て測定し、液晶が垂直配向しているかどうか確認した。位相差値Ｒ（λ）は入射角０度（
正面）の位相差値、Ｒ５０（λ）は入射角５０度（進相軸まわりの傾斜）の位相差値であ
り、それぞれ波長（λ）５５０ｎｍにおいて測定した。また、平均屈折率ｎ0を１．６０
とし、式 (９)～（１１）によりｎx、ｎy及びｎz を求めた。結果を表７、８に示す。
【0130】
［光漏れの測定］
実施例７で得られた積層体７の光学異方性層７の表面を、コロナ処理装置を用いて出力
０．３ｋＷ、処理速度３ｍ／分の条件で１回処理した。コロナ処理を施した面に、粘着剤
を介してシクロオレフィンポリマーフィルム（正面位相差値が１２０ｎｍ）を積層した。
続いて、ポリエチレンテレフタレートフィルム及び配向膜を剥離し、シクロオレフィンポ
リマーフィルム、粘着剤層及び光学異方性層７からなる積層体９を得た。積層体９の両面
に、偏光板を、偏光板の吸収軸が直交するように、粘着剤を用いて貼合した。得られた偏
光フィルム付積層体の波長５５０ｎｍにおける透過率Ｔを積分球付き分光光度計にて測定
した。結果を表９に示す。
実施例７で得られた積層体７の光学異方性層７の表面を、コロナ処理装置を用いて出力
０．３ｋＷ、処理速度３ｍ／分の条件で１回処理した。コロナ処理を施した面に、粘着剤
を介してシクロオレフィンポリマーフィルム（正面位相差値が１２０ｎｍ）を積層した。
続いて、ポリエチレンテレフタレートフィルム及び配向膜を剥離し、シクロオレフィンポ
リマーフィルム、粘着剤層及び光学異方性層７からなる積層体９を得た。積層体９の両面
に、偏光板を、偏光板の吸収軸が直交するように、粘着剤を用いて貼合した。得られた偏
光フィルム付積層体の波長５５０ｎｍにおける透過率Ｔを積分球付き分光光度計にて測定
した。結果を表９に示す。
【0131】
［黒表示の確認］
実施例７で製造した積層体９の光学異方性層側の面に、粘着剤層と偏光板とをこの順で
積層した。この際、偏光板の透過軸と、積層体９の基材の遅相軸とが略直交するように積
層した。得られた積層体付偏光板を、視認側偏光板を取り除いたｉ－Ｐａｄ（登録商標）
（アップル社製）の視認側に貼合し、黒表示させた時の光漏れを、パネル表面に対し方位
角４５°、仰角４５°の方向から目視で確認した。結果を表１０に示す。
実施例７で製造した積層体９の光学異方性層側の面に、粘着剤層と偏光板とをこの順で
積層した。この際、偏光板の透過軸と、積層体９の基材の遅相軸とが略直交するように積
層した。得られた積層体付偏光板を、視認側偏光板を取り除いたｉ－Ｐａｄ（登録商標）
（アップル社製）の視認側に貼合し、黒表示させた時の光漏れを、パネル表面に対し方位
角４５°、仰角４５°の方向から目視で確認した。結果を表１０に示す。
【0132】
【表7】
【0133】
【表8】
【0134】
【表9】
【0135】
【表10】
【0136】
本発明の積層体は、黒表示時斜めから見た時の光漏れ抑制に優れることが確認された。
【産業上の利用可能性】
【0137】
本発明の積層体は、黒表示時斜めから見た時の光漏れ抑制に優れる光学フィルムとして
有用である。
有用である。
【符号の説明】
【0138】
１：基材
２：光学異方性層
３：配向膜層
４、４’：偏光フィルム
５：液晶パネル
６：有機ＥＬパネル
１００：本積層体
１１０：偏光板
２：光学異方性層
３：配向膜層
４、４’：偏光フィルム
５：液晶パネル
６：有機ＥＬパネル
１００：本積層体
１１０：偏光板
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】