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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024179397
(43)【公開日】2024-12-26
(54)【発明の名称】ワークの分割方法
(51)【国際特許分類】
   H01L 21/301 20060101AFI20241219BHJP
【FI】
H01L21/78 Q
H01L21/78 P
H01L21/78 M
【審査請求】未請求
【請求項の数】2
【出願形態】OL
(21)【出願番号】P 2023098217
(22)【出願日】2023-06-15
(71)【出願人】
【識別番号】000134051
【氏名又は名称】株式会社ディスコ
(74)【代理人】
【識別番号】110004185
【氏名又は名称】インフォート弁理士法人
(74)【代理人】
【識別番号】100121083
【弁理士】
【氏名又は名称】青木 宏義
(74)【代理人】
【識別番号】100138391
【弁理士】
【氏名又は名称】天田 昌行
(72)【発明者】
【氏名】バン ヒョンジン
【テーマコード(参考)】
5F063
【Fターム(参考)】
5F063AA15
5F063CB05
5F063CB20
5F063CB25
5F063DF12
5F063DF14
5F063DF21
5F063FF33
(57)【要約】
【課題】機能部が形成されたウェーハを切断する際に、カバー部材への電極部の接触を防止することが可能となるワークの分割方法を提供する。
【解決手段】切削ブレード51またはレーザ光線の分割手段を用いて分割するワーク1の分割方法であって、支持基板13とカバー部材12とを例えば紫外線硬化型の仮接着剤31で仮接着する仮接着工程と、切削ブレード51を用いて機能部22に対応した支持基板13に到達する溝61をカバー部材12に形成する溝形成工程と、ウェーハ11とカバー部材12とを接着剤41で接着する接着工程と、機能部22に接着した仮接着剤31に例えば紫外線を照射して接着力を低下させ、電極部23に対応したカバー部材12を支持基板13とともにウェーハ11から離間させる取外し工程と、分割手段を用いてストリート21に沿ってウェーハ11を切断してチップにする分割工程と、を備える、ワーク1の分割方法。
【選択図】図4

【特許請求の範囲】
【請求項1】
上面に格子状のストリートによって区画された領域に機能部と電極部とが形成されたウェーハの上にカバー部材を貼り合わせ、切削ブレードまたはレーザ光線の分割手段を用いて分割するワークの分割方法であって、
支持基板と該カバー部材とを仮接着剤で仮接着する仮接着工程と、
該切削ブレードを用いて該機能部に対応した該支持基板に到達する溝を該カバー部材に形成する溝形成工程と、
該ウェーハと該カバー部材とを接着剤で接着する接着工程と、
該機能部に接着した該仮接着剤の接着力を低下させ、
該電極部に対応した該カバー部材を該支持基板とともに該ウェーハから離間させる取外し工程と、
該分割手段を用いて該ストリートに沿って該ウェーハを切断してチップにする分割工程と、を備える、
ワークの分割方法。
【請求項2】
該取外し工程の後、該カバー部材の上面を洗浄する洗浄工程を含む請求項1記載のワークの分割方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、ワークの分割方法に関する。
【背景技術】
【0002】
OLED(有機発光ダイオード:organic light-emitting diode)は、有機EL(有機エレクトロルミネッセント:organic electro-luminescence)ダイオードとしても知られており、特許文献1-3に開示のように、OLED(有機EL)ディスプレイとして製造されている。
【0003】
機能部として機能するOLEDは、シリコンウェーハなどのウェーハにストリートによって区画された領域に形成され、OLEDなどの機能部を保護するガラスウェーハや透明樹脂板などのカバー部材を機能部の表面に貼り合わせた後、切削ブレードで切断して、矩形のチップにしている。
【0004】
チップの上面の側部には配線を接続するパッドなどの電極部が形成されている。そして、OLEDディスプレイを形成する際は、基材に複数のチップを並べ、パッドなどの電極部に配線を接続している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0005】
【特許文献1】特開2023-033963号公報
【特許文献2】特開2022-064163号公報
【特許文献3】特開2019-081954号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
しかしながら、従来の技術においては、電極部は、配線を接続させるために露出している。カバー部材のみを切断しウェーハから電極部に対応した部分のカバー部材を除去して、電極部を露出させている。そのため、電極部が形成されている部分を非接触にウェーハとカバー部材とを貼り合わせている。切削ブレードでカバー部材のみを切削した際に、電極部にカバー部材の一部が接触する、また、切断したカバー部材により電極部を傷つけるという問題がある。したがって、OLEDなどの機能部が形成されたウェーハを切断する際に、パッドなどの電極部にガラスウェーハなどのカバー部材を接触させない、という解決すべき課題がある。
【0007】
本発明はかかる点に鑑みてなされたものであり、機能部が形成されたウェーハを切断する際に、カバー部材への電極部の接触を防止することが可能となるワークの分割方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0008】
本発明のワークの分割方法は、上面に格子状のストリートによって区画された領域に機能部と電極部とが形成されたウェーハの上にカバー部材を貼り合わせ、切削ブレードまたはレーザ光線の分割手段を用いて分割するワークの分割方法であって、支持基板と該カバー部材とを仮接着剤で仮接着する仮接着工程と、該切削ブレードを用いて該機能部に対応した該支持基板に到達する溝を該カバー部材に形成する溝形成工程と、該ウェーハと該カバー部材とを接着剤で接着する接着工程と、該機能部に接着した該仮接着剤の接着力を低下させ、該電極部に対応した該カバー部材を該支持基板とともに該ウェーハから離間させる取外し工程と、該分割手段を用いて該ストリートに沿って該ウェーハを切断してチップにする分割工程と、を備える。
【発明の効果】
【0009】
本発明によれば、機能部が形成されたウェーハを切断する際に、カバー部材への電極部の接触を防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【0010】
図1】本実施形態のワークの分割方法のうち仮接着工程を示す図である。
図2】本実施形態のワークの分割方法のうち溝形成工程を示す図である。
図3】溝形成工程の俯瞰図を示す図である。
図4】本実施形態のワークの分割方法のうち接着工程を示す図である。
図5】本実施形態のワークの分割方法のうち準備工程を示す図である。
図6】本実施形態のワークの分割方法のうち取外し工程を示す図である。
図7】本実施形態のワークの分割方法のうち分割工程を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【0011】
図1図7を参照して、本実施形態に係るワークの分割方法ついて説明する。本実施形態に係るワーク1の分割方法は、後述の仮接着工程と、溝形成工程と、接着工程と、準備工程と、取外し工程と、分割工程と、を備える。なお、準備工程は、取外し工程内の工程として実行してもよい。準備工程を取外し工程内で実行する場合には、準備工程を省略してもよい。図1は、本実施形態のワーク1の分割方法のうち仮接着工程を示す図である。図2は、本実施形態のワーク1の分割方法のうち溝形成工程を示す図である。図3は、溝形成工程の俯瞰図を示す図である。図4は、本実施形態のワーク1の分割方法のうち接着工程を示す図である。図5は、本実施形態のワーク1の分割方法のうち準備工程を示す図である。図6は、本実施形態のワーク1の分割方法のうち取外し工程を示す図である。図7は、本実施形態のワーク1の分割方法のうち分割工程を示す図である。
【0012】
各図に示すX軸方向、およびY軸方向は互いに垂直な関係にある。X軸方向は左右方向(水平方向)であり、Y軸方向は上下方向(垂直方向)である。各図において、X軸方向を示す両矢線のうち、-Xの側を左方とし、+Xの側を右方とする。Y軸方向を示す両矢線のうち、+Yの側を上方とし、-Yの側を下方とする。
【0013】
はじめに、本実施形態に係るワークの分割方法の実行対象であるワーク1について説明する。本実施形態に係るワーク1は、ウェーハ11と、カバー部材12と、支持基板13と、を備える。
【0014】
ウェーハ11は、上面に格子状のストリート21によって区画された領域に機能部22と、電極部23と、が形成される。ウェーハ11は、バックプレーン(Back Plane)として、微細配線が可能で微細な機能部22や電極部23が形成可能なシリコンウェーハを使用したCMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor)基板などにより構成される。機能部22と電極部23とが形成されたウェーハ11は、接着剤41によりカバー部材12接着される。
【0015】
機能部22は、自発光デバイスであるOLEDなどにより構成される。OLEDとして、白色OLED(White OLED)により構成される。白色OLEDから発光された白色光は、RGBのカラーフィルタ(図示せず)などが形成されたカバー部材12に向けて照射される。
【0016】
電極部23は、パッドなどにより構成される。電極部23は、接続用の端子として形成されたリードレス構造のQFNパッケージ(Quad For Non-lead package)基板であり、複数のチップ搭載領域の周囲に配置されストリート21へ突出したQFNパッケージの電極パッドなどにより構成される。電極部23は、電極パッドとしてアノード(Anode)やカソード(Cathode)により構成される。
【0017】
支持基板13は、接着剤41を用いてカバー部材12と仮接着することによりカバー部材12を支持する。支持基板13は、薄いディスクの形状により形成されている。支持基板13は、紫外線などの光を透過する透過部材により構成される。カバー部材12は、紫外線の他に可視光線や赤外線などの光を透過してもよい。
【0018】
カバー部材12は、光を透過する透過部材により構成され、例えば、ガラスウェーハなどにより構成される。カバー部材12は、機能部22と電極部23とが形成されたウェーハ11の上に貼り合わされる。カバー部材12は、電子集積回路(IC)およびシリコンベースの光起電力セルを製造するためのベースとして使用される非常に薄いディスクの形状により形成されている。
【0019】
ガラスウェーハは、ホウケイ酸ガラス、石英、または溶融シリカなどの材料により形成されている。カバー部材12には、RGBからなるカラーフィルターが設けられる。上述の実施形態においては、カバー部材12はガラスウェーハにより構成されているがこの限りではない。カバー部材12は、透明樹脂板により構成されてもよい。カバー部材12が透明樹脂板により構成される場合、透明樹脂板は、アクリル、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリスチレンなどの材料により形成される。
【0020】
次に、本実施形態に係るワークの分割方法について説明する。本実施形態に係るワーク1の分割方法は、分割手段を用いてワークの分割を行う。本実施形態においては、分割手段として、切削ブレード51やレーザ光線(図示せず)などを用いることができる。ワーク1の分割方法は、仮接着工程、溝形成工程、接着工程、準備工程、取外し工程、および分割工程の順に実行されることが好ましい。以下、本実施形態に係るワーク1の分割方法で実行される各工程について説明する。
【0021】
図1に示すように、仮接着工程では、支持基板13を下方に配置し、カバー部材12を支持基板13の上方に配置した状態で仮接着剤31により仮接着する。仮接着剤31は、紫外線を照射することにより照射された箇所の接着力を低下させる紫外線硬化型の接着剤により形成される。仮接着工程においては、仮接着剤31を用いることにより、支持基板13の上方全面を、カバー部材12の下方全面に対し仮接着できるとともに、紫外線を照射することにより照射された箇所の接着力を低下させることができる。本実施形態において仮接着剤31として、紫外線硬化型の接着剤を使用しているがこの限りではなく、仮接着剤31として、紫外線硬化型以外の光硬化型接着剤により形成してもよい。光硬化型接着剤として、例えば、可視光硬化型、赤外線硬化型などの接着剤を用いることができる。仮接着剤31として光硬化型接着剤を用いた場合には、支持基板13とカバー部材とを仮接着できるとともに、可視光や赤外線を照射することにより照射された箇所の接着力を低下させることができる。また、仮接着剤31として、熱硬化型接着剤を用いてもよい。仮接着剤31として熱硬化型接着剤を用いた場合には、支持基板13とカバー部材とを仮接着できるとともに、加熱することにより加熱された箇所の接着力を低下させることができる。
【0022】
図2図3に示すように、溝形成工程では、切削ブレード51を用いて機能部22に対応した支持基板13に到達する溝61をカバー部材12に形成する。機能部22に対応した支持基板13に到達する溝61とは、後述の図3で示す接着工程において、ウェーハ11とカバー部材12とを接着した際に、ウェーハ11に形成された機能部22の左方および右方の各端部に対応する位置LAに形成された溝をいう。支持基板13に到達する溝61は、下方に向けて垂直方向に切削してカバー部材12に形成される。切削ブレード51は、カバー部材12を貫通して、ストリート21に沿って少なくとも支持基板13の表面に到達するまで溝61を形成する。図2に示すように、切削ブレード51は、支持基板13の表面から所定の深さDとなるまで支持基板13を切削して溝61を形成することができる。切削ブレード51により切削して溝61を形成した場合であっても、支持基板13とカバー部材12とは互いに仮接着剤31により仮接着されているため、切削ブレード51の押圧や回転などによりカバー部材12がズレることなく溝61を形成することができる。溝形成工程において、カバー部材12に対し、機能部22に対応した支持基板13に到達する溝61を形成することにより、後述の取外し工程において、機能部22に対応する個所のみ残して、カバー部材12を取り外すことができる。図3におけるストリート21に形成された溝61と溝61との間の領域Aを本実施形態において容易に取り外すことができる領域となる。
【0023】
上述の実施形態においては、溝形成工程において、切削ブレード51を用いて機能部22に対応した支持基板13に到達する溝61をカバー部材12に形成しているがこの限りではない。例えば、溝形成工程において、図示していないレーザ光線を用いて機能部22に対応した支持基板13に到達する溝61をカバー部材12に形成してもよい。
【0024】
図4に示すように、接着工程では、ウェーハ11とカバー部材12とを接着剤41で接着する。接着工程においては、まず、ウェーハ11を下方に配置する。溝形成工程において溝61が形成された支持基板13とカバー部材12とを上下反転する。そして、上下反転することにより支持基板13の下方に配置されたカバー部材12と、カバー部材12の下方に配置されたウェーハ11と、の間に接着剤41を形成する。接着剤41は、紫外線を照射された箇所の接着力は低下しない接着剤により形成される。接着工程においては、接着剤41は、機能部22が配置された位置にのみ形成され、電極部23に対応する位置には形成されない。したがって、機能部22とカバー部材12との間には空洞62が形成され、機能部22とカバー部材12とは接着剤41により互いに接着されない状態が保持される。空洞62が形成されることにより、電極部23と、電極部23の上方に配置されているカバー部材12とは、互いに接着せずに非接触の状態が保持されている。
【0025】
図5に示すように、準備工程では、機能部22に接着した仮接着剤31にUV光源71から紫外線72を照射して接着力を低下させて、後述の取外し工程の準備をする。UV光源71は、ワーク1に対し紫外線72を照射する紫外線照射部として機能する。準備工程において照射される紫外線72は機能部22に接着した仮接着剤31に対しピンポイントで照射することができる。UV光源71は、ワーク1の上方に配置され支持基板13を貫通して仮接着剤31に対し照射される。UV光源71から照射された紫外線72は、支持基板13を介して機能部22が接着された仮接着剤31の位置LBに対し照射され、支持基板13を介して機能部22に接着される仮接着剤31の接着力を低下させることができる。これにより、後述の取外し工程において、支持基板13への接着力が弱められた機能部22に対応するカバー部材12を残して、仮接着剤31により支持基板13と接着されている電極部23に対応するカバー部材12のみを持ち上げて取り外すことができるよう準備することができる。
【0026】
なお、接着工程の前に、仮接着剤31に紫外線を照射して、仮接着剤31の接着力を低下させてもよい。なお、仮接着剤が、熱硬化型の場合は、機能部22に対応した部分に接着した仮接着剤31に対しピンポイントで加熱する。また、支持基板13は、電極部23に対応する位置に断熱シートを配置して、電極部23に対応した部分に接着した仮接着剤31に熱が伝わらないようにしてもよい。
【0027】
図6に示すように、取外し工程では、電極部23に対応したカバー部材12を支持基板13とともにウェーハ11から離間させる。取外し工程においては、支持基板13がバキューム保持などにより上方に引き上げられる。支持基板13が上方へ引き上げられると、準備工程において支持基板13への接着力が弱められた機能部22に対応したカバー部材12は、機能部22の上に残ったままとなる。これに対し、電極部23に対応したカバー部材12は、仮接着剤31により支持基板13と接着されている。このため、電極部23に対応したカバー部材12のみを持ち上げて支持基板13とともにウェーハ11から離間させて取り外すことができる。このため、電極部23に対応するカバー部材12は仮接着剤31により接着されているため、下方に落ちることなく取り除くことができる。カバー部材12をウェーハ11に貼り付ける前に、機能部22の大きさに対応して支持基板13に仮接着して支持されているカバー部材12を切断して、貼り合わせた後、支持基板13とともに電極部23に対応した部分のカバー部材12を取り外しているので、カバー部材12への電極部23の接触を未然に防ぐことができる。これにより、電極部23にカバー部材12が接触することによる電極部23の傷の発生を防ぐことができる。
【0028】
図7に示すように、分割工程では、切削ブレード51やレーザ光線などの分割手段を用いてストリート21に沿ってウェーハ11を切断してチップにする。取外し工程の後に行われる分割工程では、切削ブレード51がウェーハ11をストリート21に沿って切断してダイシングすることで、ウェーハ11は個々のデバイスが形成されたチップに分割される。切削ブレード51は、図示しないスピンドルを回転しながらウェーハ11に向かって下降することで、切削ブレード51をストリート21に押し付けてウェーハ11を切削する。この際、ウェーハ11を保持している基台をストリート21と平行な方向に移動させることで、ストリート21に沿ってウェーハ11が分割される。このような処理をストリート21毎に行うことで、ウェーハ11は個々のデバイスが形成されたチップに分割される。分割工程において切削ブレード51を用いる場合には、カバー部材12はウェーハ11と接着されているため、カバー部材12に切削ブレード51を接触させずに切断することができる。溝形成工程において切断する工程を、第1切断工程とし、分割工程において切断する工程を、第2切断工程としてもよい。第2切断工程として実行される図7の実施形態においては、分割手段として切削ブレード51を用いているがこの限りではない。例えば、分割手段としてレーザ光線を用いてもよい。なお、分割工程においてレーザ光線を用いる場合には、カバー部材12や支持基板13にレーザ光線の一部が投光されないようにする。これにより、エネルギーの損失を防止することができる。
【0029】
上述の実施形態に係るワーク1の分割方法によれば、溝形成工程において、機能部22に対応した支持基板13に到達する溝61をカバー部材12が形成される。これにより、切削ブレード51により切削して溝61を形成した場合であっても、支持基板13とカバー部材12とは互いに仮接着工程においてすでに仮接着剤31により仮接着されているため、切削ブレード51の押圧や回転などによりガラスウェーハなどのカバー部材12がズレることなく溝61を形成することができる。そして、カバー部材12に対し、機能部22に対応した支持基板13に到達する溝61を形成することにより、取外し工程において、機能部22に対応する個所のみ残して、カバー部材12を取り外すことができる。図3におけるストリート21に形成された溝61と溝61との間の領域Aを容易に取り外すことができる。
【0030】
また、接着工程においては、カバー部材12と、ウェーハ11との間において形成される接着剤41は、機能部22が配置された位置にのみ形成され、電極部23に対応する位置には形成されない。したがって、機能部22とカバー部材12との間には空洞62が形成され、機能部22とカバー部材12とは接着剤41により互いに接着されない状態を保持することができる。これにより、後述の取外し工程において、機能部22に対応する個所のみ残して、カバー部材12を取り外すことができる。
【0031】
また、準備工程においては、機能部22に接着した仮接着剤31に対しピンポイントで紫外線72を照射して接着力を低下させる。これにより、取外し工程において、支持基板13への接着力が弱められた機能部22に対応するカバー部材12を残して、仮接着剤31により支持基板13と接着されている電極部23に対応するカバー部材12のみを持ち上げて取り外すことができる。
【0032】
また、そして取外し工程においては、支持基板13が上方へ引き上げられると、支持基板13への接着力が弱められた機能部22に対応したカバー部材12は、機能部22の上に残すことができる。一方で、電極部23に対応したカバー部材12は、仮接着剤31により支持基板13と接着されている。その結果、電極部23に対応したカバー部材12のみを持ち上げて支持基板13とともにウェーハ11から離間させて取り外すことができるとともに、電極部23に対応するカバー部材12は仮接着剤31により接着されているため下方に落とすことなく取り除くことができる。したがって、機能部22が形成されたウェーハ11を切断する際に、カバー部材12への電極部23の接触を防止することができ、電極部23にカバー部材12が接触することによる電極部23の傷の発生を未然に防ぐことができる。そして、分割工程においては、切削ブレード51を用いてストリート21に沿ってウェーハ11を切断してチップにすることができる。
【0033】
なお、分割工程の後、カバー部材12の上面を含むウェーハ11の上面を洗浄する洗浄工程を含めてもよい。また、洗浄工程においては、アンモニア水を用いたアルカリ洗浄(APR洗浄)を実施することによって、カバー部材12の表面を洗浄する。
【0034】
なお、カバー部材12の洗浄は、取外し工程後であって分割工程前に実施することによってカバー部材12の表面に仮接着剤31が残っていた場合、その残った仮接着剤31を除去し、切削ブレード51を用いた分割工程の際に切削ブレード51に仮接着剤31が付着し、切削加工した溝61の蛇行を防止することができる。
【符号の説明】
【0035】
1 :ワーク、11 :ウェーハ、12 :カバー部材、13 :支持基板、
21 :ストリート、22 :機能部、23 :電極部、31 :仮接着剤、
41 :接着剤、51 :切削ブレード、61 :溝、62 :空洞、
71 :UV光源、72 :紫外線、

図1
図2
図3
図4
図5
図6
図7