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特開2024-19999ガラス組成物、ガラスペースト、封着パッケージおよび有機エレクトロルミネセンス素子
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024019999
(43)【公開日】2024-02-14
(54)【発明の名称】ガラス組成物、ガラスペースト、封着パッケージおよび有機エレクトロルミネセンス素子
(51)【国際特許分類】
C03C 8/04 20060101AFI20240206BHJP
C03C 8/24 20060101ALI20240206BHJP
C03C 8/16 20060101ALI20240206BHJP
H10K 50/10 20230101ALI20240206BHJP
H05B 33/04 20060101ALI20240206BHJP
【ＦＩ】
C03C8/04
C03C8/24
C03C8/16
H05B33/14 A
H05B33/04
【審査請求】未請求
【請求項の数】10
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2022122837
(22)【出願日】2022-08-01
(71)【出願人】
【識別番号】000000044
【氏名又は名称】ＡＧＣ株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】110002000
【氏名又は名称】弁理士法人栄光事務所
(72)【発明者】
【氏名】泰地 航平
(72)【発明者】
【氏名】渡辺 智之
【テーマコード（参考）】
3K107
4G062
【Ｆターム（参考）】
3K107AA01
3K107BB01
3K107BB02
3K107CC45
3K107DD12
3K107EE43
3K107EE53
4G062AA09
4G062BB12
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4G062DB02
4G062DB03
4G062DC01
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4G062DC03
4G062DD01
4G062DD02
4G062DE04
4G062DF01
4G062EA01
4G062EA10
4G062EB01
4G062EC01
4G062ED01
4G062ED02
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4G062EF01
4G062EF02
4G062EG01
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4G062FA01
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4G062FH02
4G062FJ01
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4G062HH09
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4G062HH15
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4G062HH20
4G062JJ01
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4G062JJ05
4G062JJ07
4G062JJ10
4G062KK01
4G062KK03
4G062KK05
4G062KK07
4G062KK10
4G062MM12
4G062NN29
4G062PP01
4G062PP14
(57)【要約】
【課題】耐水性の観点でより優れ、熱膨張係数がより小さく、溶融時の流動性及び焼成時の許容温度範囲の広さに優れるガラス組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】酸化物基準のモル％表示で、Ｖ２Ｏ５を２５．０～４０．０％、ＴｅＯ２を２５．５～３０．０％、ＺｎＯを１５．０～３０．０％、Ｎｂ２Ｏ５を５．５％～８．０％、Ａｌ２Ｏ３を０～５．０％、ＢａＯを０～４．５％、Ｂ２Ｏ３を０～６．０％、Ｂｉ２Ｏ３を０～０．４％、及びＺｒＯ２を０～４．５％含有し、実質的にアルカリ金属酸化物及びＰｂＯを含有しないことを特徴とするガラス組成物。
【選択図】なし
【解決手段】酸化物基準のモル％表示で、Ｖ２Ｏ５を２５．０～４０．０％、ＴｅＯ２を２５．５～３０．０％、ＺｎＯを１５．０～３０．０％、Ｎｂ２Ｏ５を５．５％～８．０％、Ａｌ２Ｏ３を０～５．０％、ＢａＯを０～４．５％、Ｂ２Ｏ３を０～６．０％、Ｂｉ２Ｏ３を０～０．４％、及びＺｒＯ２を０～４．５％含有し、実質的にアルカリ金属酸化物及びＰｂＯを含有しないことを特徴とするガラス組成物。
【選択図】なし
【特許請求の範囲】
【請求項1】
酸化物基準のモル％表示で、
Ｖ２Ｏ５を２５．０～４０．０％、
ＴｅＯ２を２５．５～３０．０％、
ＺｎＯを１５．０～３０．０％、
Ｎｂ２Ｏ５を５．５～８．０％、
Ａｌ２Ｏ３を０～５．０％、
ＢａＯを０～４．５％、
Ｂ２Ｏ３を０～６．０％、
Ｂｉ２Ｏ３を０～０．４％、及び
ＺｒＯ２を０～４．５％含有し、
実質的にアルカリ金属酸化物及びＰｂＯを含有しないことを特徴とするガラス組成物。
Ｖ２Ｏ５を２５．０～４０．０％、
ＴｅＯ２を２５．５～３０．０％、
ＺｎＯを１５．０～３０．０％、
Ｎｂ２Ｏ５を５．５～８．０％、
Ａｌ２Ｏ３を０～５．０％、
ＢａＯを０～４．５％、
Ｂ２Ｏ３を０～６．０％、
Ｂｉ２Ｏ３を０～０．４％、及び
ＺｒＯ２を０～４．５％含有し、
実質的にアルカリ金属酸化物及びＰｂＯを含有しないことを特徴とするガラス組成物。
【請求項2】
酸化物基準のモル％表示で、Ｂ２Ｏ３を１．０～５．０％含有する、請求項１に記載のガラス組成物。
【請求項3】
酸化物基準のモル％表示で、Ｎｂ２Ｏ５を６．２％超含有する、請求項１または２に記載のガラス組成物。
【請求項4】
酸化物基準のモル％表示で、Ｖ２Ｏ５とＴｅＯ２とＺｎＯの含有量の合計（Ｖ２Ｏ５＋ＴｅＯ２＋ＺｎＯ）が８０～９１％である、請求項１または２に記載のガラス組成物。
【請求項5】
酸化物基準のモル％表示で、（Ｖ２Ｏ５／ＴｅＯ２）で表される含有量の比が１．０～１．６である、請求項１または２に記載のガラス組成物。
【請求項6】
酸化物基準のモル％表示で、Ｂｉ２Ｏ３とＴｅＯ２とＢａＯの含有量の合計（Ｂｉ２Ｏ３＋ＴｅＯ２＋ＢａＯ）が２５．５～３１．０％である、請求項１または２に記載のガラス組成物。
【請求項7】
酸化物基準のモル％表示で、Ａｌ２Ｏ３とＺｒＯ２の含有量の合計（Ａｌ２Ｏ３＋ＺｒＯ２）が０～７．０％である、請求項１または２に記載のガラス組成物。
【請求項8】
請求項１または２に記載のガラス組成物と、有機ビヒクルとを含有するガラスペースト。
【請求項9】
第１の基板と、前記第１の基板に対向して配置される第２の基板と、前記第１の基板と前記第２の基板との間に配置され、前記第１の基板と前記第２の基板とを接着する封着層と、を有する封着パッケージであって、
前記封着層は、請求項１または２に記載のガラス組成物を含む封着パッケージ。
前記封着層は、請求項１または２に記載のガラス組成物を含む封着パッケージ。
【請求項10】
基板と、前記基板上に積層された陽極と有機薄膜層と陰極とを有する積層構造体と、前記積層構造体の外表面側を覆って前記基板上に載置されたガラス部材と、前記基板と前記ガラス部材とを接着する封着層と、を備え、
前記封着層は、請求項１または２に記載のガラス組成物を含む有機エレクトロルミネセンス素子。
前記封着層は、請求項１または２に記載のガラス組成物を含む有機エレクトロルミネセンス素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、ガラス組成物、ガラスペースト、封着パッケージおよび有機エレクトロルミネセンス素子に関する。
【背景技術】
【0002】
有機ＥＬディスプレイ（Ｏｒｇａｎｉｃ Ｅｌｅｃｔｒｏ－Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ Ｄｉｓｐｌａｙ：ＯＥＬＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）等の平板型ディスプレイ装置（ＦＰＤ）は、１対のガラス基板が封着されたガラスパッケージにより発光素子が封止された構造を有する。また、液晶表示装置（ＬＣＤ）は、１対のガラス基板間に液晶が封止された構造を有する。さらに、有機薄膜太陽電池や色素増感型太陽電池等の太陽電池は、１対のガラス基板間に太陽電池素子（光電変換素子）が封止された構造を有する。
【0003】
この中でも有機ＥＬディスプレイは、水分との接触で有機ＥＬ素子の発光特性が著しく劣化することから、有機ＥＬ素子を外気から厳密に遮断する必要がある。また、有機ＥＬ素子は高温に曝されると損傷することから封止方法が極めて重要である。
【0004】
そこで、有機ＥＬディスプレイの封止方法としてガラス組成物を封着材料に使用し、局所加熱により封止する方法が有力視されている。一般的にはガラス組成物は有機ビヒクルと混合してペースト化して用いる。このペーストを一方のガラス基板にスクリーン印刷もしくはディスペンス等で塗布し、焼き付けて仮焼成層とする。次に他方のガラス基板を重ね合わせて、仮焼成層に対するレーザ等を用いた局所加熱によりガラス組成物を溶融させて封着させる。
【0005】
封着材料に使用されるガラス組成物は、耐水性が高いこと、熱膨張係数が被封着材料に近いこと、レーザ封着における有機ＥＬ素子への熱的悪影響を小さくする上で、ガラス組成物の溶融時の許容温度（プロセスマージン）が広いこと、が望ましい。
【0006】
このように、封着材料に使用されるガラス組成物として、例えば、特許文献１には有機ＥＬディスプレイの封止に用いられるＴｅＯ２－ＺｎＯ－Ｂ２Ｏ３系のガラス組成物が記載されている。また、特許文献２では、Ｖ２Ｏ５－ＺｎＯ－ＴｅＯ２系のガラス組成物が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0007】
【特許文献1】特許第６３５７９３７号公報
【特許文献2】特許第６０２２０７０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0008】
近年、有機ＥＬディスプレイは、画面サイズの大型化が進んでいる。画面サイズが大型となる場合、画面サイズが小型のものと比較して、封着部分の線幅を大きくする必要がある。封着部分の線幅を大きくすると、レーザ封着時において、被封着材料と封着材料との熱膨張差による応力がかかりやすくなり、封着層および被封着材料にクラックが生じるおそれがある。したがって、封着パッケージの信頼性を担保するために、封着材料は熱膨張係数が被封着材料の熱膨張係数により近いことが求められる。
【0009】
さらに、従来の封着パッケージは、ガラス基板同士が封着されたものが一般的であったが、近年では、例えば、金属膜が表面に成膜された基板とガラス基板を封着した封着パッケージなども求められている。金属膜が表面に成膜された基板を封着する場合であっても優れた封着強度が要求される。封着強度は、封着材料の流動性を高めることによって向上できる。
【0010】
特許文献１及び特許文献２に記載のガラス組成物は、耐水性、熱膨張係数の大きさ、溶融時の流動性及び焼成時の許容温度範囲の広さの面で更なる改善の余地があった。
【0011】
本発明は、上述の事情に鑑みて、有機ＥＬディスプレイや液晶ディスプレイ等のフラットディスプレイにおけるガラス部材同士の接合部を、レーザ加熱といった局所加熱方式によって封着するのに用いるバナジウム系ガラス組成物として、従来のガラス組成物と比して、耐水性の観点でより優れ、熱膨張係数がより小さく、溶融時の流動性及び焼成時の許容温度範囲の広さに優れるガラス組成物を提供することを目的とする。
また、本発明は当該ガラス組成物を含有する封着材料及びガラスペースト、並びに、当該ガラス組成物を含有する封着層を有する封着パッケージ及び有機エレクトロルミネセンス素子を提供することを目的とする。
また、本発明は当該ガラス組成物を含有する封着材料及びガラスペースト、並びに、当該ガラス組成物を含有する封着層を有する封着パッケージ及び有機エレクトロルミネセンス素子を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0012】
本発明者らは、ガラス組成が特定の範囲であるガラス組成物により上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成した。
本発明は以下の構成のガラス組成物、ガラスペースト、封着パッケージおよび有機エレクトロルミネセンス素子を提供する。
［１］ 酸化物基準のモル％表示で、
Ｖ２Ｏ５を２５．０～４０．０％、
ＴｅＯ２を２５．５～３０．０％、
ＺｎＯを１５．０～３０．０％、
Ｎｂ２Ｏ５を５．５～８．０％、
Ａｌ２Ｏ３を０～５．０％、
ＢａＯを０～４．５％、
Ｂ２Ｏ３を０～６．０％、
Ｂｉ２Ｏ３を０～０．４％、及び
ＺｒＯ２を０～４．５％含有し、
実質的にアルカリ金属酸化物及びＰｂＯを含有しないことを特徴とするガラス組成物。
［２］ 酸化物基準のモル％表示で、Ｂ２Ｏ３を１．０～５．０％含有する、［１］に記載のガラス組成物。
［３］ 酸化物基準のモル％表示で、Ｎｂ２Ｏ５を６．２％超含有する、［１］または［２］に記載のガラス組成物。
［４］ 酸化物基準のモル％表示で、Ｖ２Ｏ５とＴｅＯ２とＺｎＯの含有量の合計（Ｖ２Ｏ５＋ＴｅＯ２＋ＺｎＯ）が８０～９１％である、［１］～［３］のいずれか１つに記載のガラス組成物。
［５］ 酸化物基準のモル％表示で、（Ｖ２Ｏ５／ＴｅＯ２）で表される含有量の比が１．０～１．６である、［１］～［４］のいずれか１つに記載のガラス組成物。
［６］ 酸化物基準のモル％表示で、Ｂｉ２Ｏ３とＴｅＯ２とＢａＯの含有量の合計（Ｂｉ２Ｏ３＋ＴｅＯ２＋ＢａＯ）が２５．５～３１．０％である、［１］～［５］のいずれか１つに記載のガラス組成物。
［７］ 酸化物基準のモル％表示で、Ａｌ２Ｏ３とＺｒＯ２の含有量の合計（Ａｌ２Ｏ３＋ＺｒＯ２）が０～７．０％である、［１］～［６］のいずれか１つに記載のガラス組成物。
［８］ ［１］～［７］のいずれか１つに記載のガラス組成物と、有機ビヒクルとを含有するガラスペースト。
［９］ 第１の基板と、前記第１の基板に対向して配置される第２の基板と、前記第１の基板と前記第２の基板との間に配置され、前記第１の基板と前記第２の基板とを接着する封着層と、を有する封着パッケージであって、
前記封着層は、［１］～［７］のいずれか１つに記載のガラス組成物を含む封着パッケージ。
［１０］ 基板と、前記基板上に積層された陽極と有機薄膜層と陰極とを有する積層構造体と、前記積層構造体の外表面側を覆って前記基板上に載置されたガラス部材と、前記基板と前記ガラス部材とを接着する封着層と、を備え、
前記封着層は、［１］～［７］のいずれか１つに記載のガラス組成物を含む有機エレクトロルミネセンス素子。
本発明は以下の構成のガラス組成物、ガラスペースト、封着パッケージおよび有機エレクトロルミネセンス素子を提供する。
［１］ 酸化物基準のモル％表示で、
Ｖ２Ｏ５を２５．０～４０．０％、
ＴｅＯ２を２５．５～３０．０％、
ＺｎＯを１５．０～３０．０％、
Ｎｂ２Ｏ５を５．５～８．０％、
Ａｌ２Ｏ３を０～５．０％、
ＢａＯを０～４．５％、
Ｂ２Ｏ３を０～６．０％、
Ｂｉ２Ｏ３を０～０．４％、及び
ＺｒＯ２を０～４．５％含有し、
実質的にアルカリ金属酸化物及びＰｂＯを含有しないことを特徴とするガラス組成物。
［２］ 酸化物基準のモル％表示で、Ｂ２Ｏ３を１．０～５．０％含有する、［１］に記載のガラス組成物。
［３］ 酸化物基準のモル％表示で、Ｎｂ２Ｏ５を６．２％超含有する、［１］または［２］に記載のガラス組成物。
［４］ 酸化物基準のモル％表示で、Ｖ２Ｏ５とＴｅＯ２とＺｎＯの含有量の合計（Ｖ２Ｏ５＋ＴｅＯ２＋ＺｎＯ）が８０～９１％である、［１］～［３］のいずれか１つに記載のガラス組成物。
［５］ 酸化物基準のモル％表示で、（Ｖ２Ｏ５／ＴｅＯ２）で表される含有量の比が１．０～１．６である、［１］～［４］のいずれか１つに記載のガラス組成物。
［６］ 酸化物基準のモル％表示で、Ｂｉ２Ｏ３とＴｅＯ２とＢａＯの含有量の合計（Ｂｉ２Ｏ３＋ＴｅＯ２＋ＢａＯ）が２５．５～３１．０％である、［１］～［５］のいずれか１つに記載のガラス組成物。
［７］ 酸化物基準のモル％表示で、Ａｌ２Ｏ３とＺｒＯ２の含有量の合計（Ａｌ２Ｏ３＋ＺｒＯ２）が０～７．０％である、［１］～［６］のいずれか１つに記載のガラス組成物。
［８］ ［１］～［７］のいずれか１つに記載のガラス組成物と、有機ビヒクルとを含有するガラスペースト。
［９］ 第１の基板と、前記第１の基板に対向して配置される第２の基板と、前記第１の基板と前記第２の基板との間に配置され、前記第１の基板と前記第２の基板とを接着する封着層と、を有する封着パッケージであって、
前記封着層は、［１］～［７］のいずれか１つに記載のガラス組成物を含む封着パッケージ。
［１０］ 基板と、前記基板上に積層された陽極と有機薄膜層と陰極とを有する積層構造体と、前記積層構造体の外表面側を覆って前記基板上に載置されたガラス部材と、前記基板と前記ガラス部材とを接着する封着層と、を備え、
前記封着層は、［１］～［７］のいずれか１つに記載のガラス組成物を含む有機エレクトロルミネセンス素子。
【発明の効果】
【0013】
本発明のガラス組成物は、従来のガラス組成物に比して、耐水性の観点でより優れ、熱膨張係数がより小さく、溶融時の流動性及び焼成時の許容温度範囲の広さに優れる。
【図面の簡単な説明】
【0014】
【発明を実施するための形態】
【0015】
以下、本発明の実施形態について説明する。なお、本発明は、以下に説明する実施形態に限定されるものではない。また、以下の図面において、同じ作用を奏する部材・部位には同じ符号を付して説明することがあり、重複する説明は省略または簡略化することがある。また、図面に記載の実施形態は、本発明を明瞭に説明するために模式化されており、実際のサイズや縮尺を必ずしも正確に表したものではない。
【0016】
＜ガラス組成物＞
本実施形態のガラス組成物は、酸化物基準のモル％表示で、Ｖ２Ｏ５を２５．０～４０．０％、ＴｅＯ２を２５．５～３０．０％、ＺｎＯを１５．０～３０．０％、Ｎｂ２Ｏ５を５．５～８．０％、Ａｌ２Ｏ３を０～５．０％、ＢａＯを０～４．５％、Ｂ２Ｏ３を０～６．０％、Ｂｉ２Ｏ３を０～０．４％、及びＺｒＯ２を０～４．５％含有し、実質的にアルカリ金属酸化物及びＰｂＯを含有しないことを特徴とする。
本実施形態のガラス組成物は、酸化物基準のモル％表示で、Ｖ２Ｏ５を２５．０～４０．０％、ＴｅＯ２を２５．５～３０．０％、ＺｎＯを１５．０～３０．０％、Ｎｂ２Ｏ５を５．５～８．０％、Ａｌ２Ｏ３を０～５．０％、ＢａＯを０～４．５％、Ｂ２Ｏ３を０～６．０％、Ｂｉ２Ｏ３を０～０．４％、及びＺｒＯ２を０～４．５％含有し、実質的にアルカリ金属酸化物及びＰｂＯを含有しないことを特徴とする。
【0017】
次に、本実施形態のガラス組成物の各成分について説明する。以下の説明において、特に断りのない限り、ガラス組成物の各成分の含有量における「％」の表示は、酸化物基準、すなわち酸化物換算のモル％表示である。本明細書において、数値範囲を表す「～」は、上下限を含む意味で使用される。
【0018】
封着材料に用いられるガラス組成物がアルカリ金属酸化物を含有すると、封着時や、封着後において封着材料が高温にさらされた際に、ガラス基板などの被封着材料にアルカリ成分が拡散し、被封着材料が劣化する。したがって、本実施形態のガラス組成物は実質的にアルカリ金属酸化物を含有しない。なお、本明細書において、「実質的に含有しない」とは、不可避的な不純物以外には含有しないという意味、即ち、意図的には添加されていないという意味である。したがって、本実施形態のガラス組成物は、不可避不純物としてのアルカリ金属酸化物を微量含有し得る。本実施形態のガラス組成物におけるアルカリ金属酸化物の含有量は、１０００ｐｐｍ以下が好ましく、５００ｐｐｍ以下がより好ましい。
なお、本明細書においてアルカリ金属酸化物とは、Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ２Ｏ及びＫ２Ｏを意味するものとする。また、ｐｐｍとは質量ｐｐｍを意味する。
なお、本明細書においてアルカリ金属酸化物とは、Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ２Ｏ及びＫ２Ｏを意味するものとする。また、ｐｐｍとは質量ｐｐｍを意味する。
【0019】
また、本実施形態のガラス組成物は環境に対する負荷を低減するために、実質的に鉛、すなわち、ＰｂＯを含有しない。なお、ＰｂＯについて、「実質的に含有しない」とは、ガラス組成物中のＰｂＯの含有量が、１０００ｐｐｍ以下であることを意味する。
【0020】
Ｖ２Ｏ５は、ガラス形成酸化物であり、ガラスのネットワークを形成するとともに、低軟化成分として必須である。また、レーザ吸収成分としても有効である。一方、Ｖ２Ｏ５の含有量が多いと、耐水性が低下し、またガラス製造時にガラス安定性が低下してガラスが失透しやすくなるおそれがある。また、Ｖ２Ｏ５の含有量が少なすぎると、ガラス転移温度が上昇し低温封着性が悪化するおそれがある。したがって、Ｖ２Ｏ５の含有量は２５．０～４０．０％とする。Ｖ２Ｏ５の含有量は２８．０％以上が好ましく、３０．０％以上がより好ましく、３２．０％以上がさらに好ましく、また、３９．０％以下が好ましく、３８．０％以下がより好ましく、３７．０％以下がさらに好ましい。
【0021】
ＴｅＯ２は、ガラス形成酸化物であり、ガラスネットワークを形成するとともに、低軟化成分として必須である。また、ガラス組成物の流動性および耐水性を向上させる機能を有する。一方、ＴｅＯ２の含有量が多いと、熱膨張係数が大きくなる。また、少なすぎると、ガラス転移温度が上昇し低温封着性が悪化するおそれがあり、また封着焼成時に結晶化しやすくなる。さらに、流動性および耐水性の向上の効果を十分に得ることができない。したがって、ＴｅＯ２の含有量を２５．５～３０．０％とする。ＴｅＯ２の含有量は２６．０％以上が好ましく、また、２９．０％以下が好ましく、２８．０％以下がより好ましく、２７．５％以下がさらに好ましい。
【0022】
ＺｎＯは、熱膨張係数を低下させる成分として必須である。一方、ＺｎＯの含有量が多いと、ガラス製造時にガラス安定性が低下してガラスが失透しやすくなるおそれがある。また少なすぎると、熱膨張係数が大きくなる。したがって、ＺｎＯの含有量は１５．０～３０．０％である。ＺｎＯの含有量は１７．０％以上が好ましく、１８．５％以上がより好ましく、２０．０％以上がさらに好ましく、また、２８．０％以下が好ましく、２６．５％以下がより好ましく、２５．０％以下がさらに好ましい。
【0023】
Ｎｂ２Ｏ５は、熱膨張係数を低下させ、また耐水性を向上させる成分として必須である。一方、Ｎｂ２Ｏ５の含有量が多いと、レーザ焼成封着時にガラスが結晶化しやすく、また、少なすぎると、熱膨張係数が大きくなり、さらに耐水性を向上の効果が十分に得られない。したがって、Ｎｂ２Ｏ５の含有量を５．５～８．０％とする。
一般的にＮｂ２Ｏ５は含有量が多いと（例えば、５％以上）、レーザ焼成封着時にガラスが結晶化しやすくなるため、従来、Ｎｂ２Ｏ５を多く添加することが困難であった。本発明者らは、ＴｅＯ２等の非晶質成分の割合を十分に高めることによって、Ｎｂ２Ｏ５を５．５％以上含有させても、焼成によってガラスが結晶化せず、優れた耐水性および熱膨張係数の小さいガラス組成物が得られることを見出した。
Ｎｂ２Ｏ５の含有量は６．２％超が好ましく、６．５％以上がより好ましい。また、レーザ焼成封着時におけるガラスの結晶化を回避するため、Ｎｂ２Ｏ５の含有量は８．０％以下であり、７．８％以下が好ましく、７．６％以下がより好ましく、７．４％以下がさらに好ましい。
一般的にＮｂ２Ｏ５は含有量が多いと（例えば、５％以上）、レーザ焼成封着時にガラスが結晶化しやすくなるため、従来、Ｎｂ２Ｏ５を多く添加することが困難であった。本発明者らは、ＴｅＯ２等の非晶質成分の割合を十分に高めることによって、Ｎｂ２Ｏ５を５．５％以上含有させても、焼成によってガラスが結晶化せず、優れた耐水性および熱膨張係数の小さいガラス組成物が得られることを見出した。
Ｎｂ２Ｏ５の含有量は６．２％超が好ましく、６．５％以上がより好ましい。また、レーザ焼成封着時におけるガラスの結晶化を回避するため、Ｎｂ２Ｏ５の含有量は８．０％以下であり、７．８％以下が好ましく、７．６％以下がより好ましく、７．４％以下がさらに好ましい。
【0024】
Ａｌ２Ｏ３は必須ではないが、熱膨張係数を低下させる効果を有する成分であり、さらに耐水性を向上させる効果があるため、本実施形態のガラス組成物に含有させることが好ましい。本実施形態において、Ａｌ２Ｏ３の含有量は０～５．０％である。ここで、Ａｌ２Ｏ３を含有させる場合、Ａｌ２Ｏ３の含有量は、０．５％以上が好ましく、１．０％以上がより好ましく、１．５％以上がさらに好ましい。また、ガラス転移温度を適切な範囲に保ち、さらにレーザ焼成封着時のガラスの結晶化を回避するために、Ａｌ２Ｏ３の含有量は、５．０％以下であり、４．５％以下が好ましく、４．０％以下がより好ましく、３．５％以下がさらに好ましい。
【0025】
ＢａＯは必須ではないが、ガラスを安定化させるために有効な成分であるため、本実施形態のガラス組成物に含有させることが好ましい。本実施形態において、ＢａＯの含有量は０～４．５％である。ここで、ＢａＯを含有させる場合、ＢａＯの含有量は、０．５％以上が好ましい。また、ガラス転移温度や熱膨張係数を適切な範囲に保つために、ＢａＯの含有量は、４．５％以下であり、３．５％が好ましく、２．５％以下がより好ましく、２．０％以下がさらに好ましい。
【0026】
Ｂ２Ｏ３は必須ではないが、ガラス形成酸化物であり、ガラスネットワークを形成し、ガラス安定性を向上させる成分であるため、本実施形態のガラス組成物に含有させることが好ましい。本実施形態において、Ｂ２Ｏ３の含有量は０～６．０％である。ここで、Ｂ２Ｏ３を含有させる場合、Ｂ２Ｏ３の含有量は１．０％以上が好ましく、１．５％以上がより好ましく、２．０％以上がさらに好ましい。また、Ｂ２Ｏ３の含有量が多いと、逆にガラスが不安定になり、レーザ焼成封着時に結晶化しやすくなる。したがって、Ｂ２Ｏ３が過剰に含有されることによるガラスの結晶化を回避するために、Ｂ２Ｏ３の含有量は６．０％以下であり、５．０％以下が好ましく、４．５％以下がより好ましく、４．０％以下がさらに好ましい。
【0027】
Ｂｉ２Ｏ３は封着時にガラス基板と反応しやすく、反応層を形成することで接着強度を向上させる成分であるため、本実施形態のガラス組成物に含有させることが好ましい。また、Ｂｉ２Ｏ３の含有量が多いと、レーザ焼成封着時にガラスが結晶化しやすく、さらに熱膨張係数が大きくなるおそれがある。その上、過度にガラス基板と反応し、ガラス基板中のＳｉＯ２等の高融点成分をガラス組成物中に取り込むことで、固着点が上がり、封着後の封着材料の残留応力が大きくなるおそれがある。したがって、Ｂｉ２Ｏ３の含有量は０～０．４％である。ここで、Ｂｉ２Ｏ３の含有量は、０．３％以下が好ましく、０．２％以下がより好ましく、０．１５％以下がさらに好ましく、０．１％以下が特に好ましい。また、Ｂｉ２Ｏ３の含有量の下限は０％であり、すなわち、本実施形態のガラス組成物においてＢｉ２Ｏ３は実質的に含有しなくてもよい。
【0028】
ＺｒＯ２は必須ではないが、化学的安定性を向上させる成分であるため、含有させることが好ましい。本実施形態において、ＺｒＯ２の含有量は０～４．５％である。ここで、ＺｒＯ２を含有させる場合、ＺｒＯ２の含有量は、０．５％以上が好ましく、１．０％以上がより好ましい。また、ガラス転移温度を適切な範囲に保ち、さらにレーザ焼成封着時のガラスの結晶化を回避するために、ＺｒＯ２の含有量は、４．５％以下であり、３．５％以下が好ましく、３．０％以下がより好ましく、２．５％以下がさらに好ましい。
【0029】
Ｖ２Ｏ５、ＴｅＯ２およびＺｎＯの含有量の合計（Ｖ２Ｏ５＋ＴｅＯ２＋ＺｎＯ）が８０～９１％であると、耐水性とガラスの安定化を両立させやすいため好ましい。また、同様の理由から、（Ｖ２Ｏ５＋ＴｅＯ２＋ＺｎＯ）は８２％以上がより好ましく、８４％以上がさらに好ましく、また、８９％以下がより好ましく、８８％以下がさらに好ましい。
【0030】
Ｖ２Ｏ５とＴｅＯ２との含有量の比（Ｖ２Ｏ５／ＴｅＯ２）が１．０～１．６であると、封着焼成時の結晶化を抑制でき、ガラスが安定化するため好ましい。また、同様の理由から、（Ｖ２Ｏ５／ＴｅＯ２）は１．１以上がより好ましく、また、１．５以下がより好ましい。
【0031】
Ｂｉ２Ｏ３、ＴｅＯ２およびＢａＯの含有量の合計（Ｂｉ２Ｏ３＋ＴｅＯ２＋ＢａＯ）が２５．５～３１．０％であると、熱膨張係数を適切な範囲にできるため、好ましい。また、同様の理由から、（Ｂｉ２Ｏ３＋ＴｅＯ２＋ＢａＯ）は２６．０％以上がより好ましく、また、３０．０％以下がより好ましい。
【0032】
Ａｌ２Ｏ３およびＺｒＯ２の含有量の合計（Ａｌ２Ｏ３＋ＺｒＯ２）が０～７．０％であると、レーザ焼成封着時のガラスの結晶化を抑制しつつ、耐水性を向上できるため好ましい。また、同様の理由から、（Ａｌ２Ｏ３＋ＺｒＯ２）は１．５％以上がより好ましく、２．５％以上がさらに好ましく、また、６．０％以下がより好ましく、５．０％以下がさらに好ましい。
【0033】
ＣｕＯは必須ではないが、熱膨張係数を低下させる効果を有する成分であり、また耐水性を向上させる効果があるため、含有させてもよい。さらにレーザ吸収成分としても有効である。そのため、ＣｕＯを含有させることで、ガラスペースト作製時に、レーザ吸収を目的として含有させる顔料の添加量を減らし、代わりに低膨張充填剤を多く含有させることができるため、より熱膨張係数が低いガラスペーストの製造が可能になる。一方、ＣｕＯの含有量が多いと、レーザ封着焼成時に結晶化しやすくなる。したがって、ＣｕＯの含有量は１．０～１０．０％であることが好ましい。ここで、レーザ吸収の効果を十分得るために、ＣｕＯの含有量は１．０％以上が好ましく、２．０％以上がより好ましく、３．０％以上がさらに好ましい。また、ガラスの結晶化を回避するために、ＣｕＯの含有量は１０．０％以下が好ましく、８．０％以下がより好ましく、７．０％以下がさらに好ましい。
【0034】
Ｆｅ２Ｏ３は必須ではないが、レーザ吸収成分としても有効であるため、含有させてもよい。Ｆｅ２Ｏ３を含有させることで、ガラスペースト作製時に、レーザ吸収を目的として含有させる顔料の添加量を減らし、代わりに低膨張充填剤を多く含有させることができるため、より熱膨張係数が低いガラスペーストの作製が可能になる。一方で、Ｆｅ２Ｏ３の含有量が多いとレーザ焼成封着時にガラスが結晶化しやすくなり、さらに、ガラスの軟化点が上がり、低温封着性が悪くなる。したがって、Ｆｅ２Ｏ３の含有量は１．０～７．０％であることが好ましい。ここで、Ｆｅ２Ｏ３の含有量は７．０％以下が好ましく、５．０％以下がより好ましく、２．０％以下がさらに好ましい。また、レーザ吸収の効果を得るために、Ｆｅ２Ｏ３の含有量は１．０％以上が好ましい。ただし、ＣｕＯが含まれていれば、Ｆｅ２Ｏ３を含有していなくても上記効果を得ることができる。
【0035】
ＭｎＯ２は必須ではないが、レーザ吸収成分として有効な成分であるため、含有させてもよい。ＭｎＯ２を含有させることで、ガラスペースト作製時に、レーザ吸収を目的として含有させる顔料の添加量を減らし、代わりに低膨張充填剤を多く含有させることができるため、より熱膨張係数が低いガラスペーストの作製が可能になる。一方で、ＭｎＯ２の含有量が多いと、レーザ焼成封着時にガラスが結晶化しやすくなる。したがって、ＭｎＯ２の含有量は１．０～７．０％であることが好ましい。ここで、ＭｎＯ２の含有量は７．０％以下が好ましく、５．０％以下がより好ましく、２．０％以下がさらに好ましい。また、レーザ吸収の効果を得るために、ＭｎＯ２の含有量は１．０％以上が好ましい。ただし、ＣｕＯやＦｅ２Ｏ３が含まれていれば、ＭｎＯ２を含有していなくても上記効果を得ることができる。
【0036】
本実施形態のガラス組成物は、上記成分以外の成分（以下、「他の成分」という。）を本発明の目的を損なわない範囲で含有してもよい。他の成分の合計の含有量は好ましくは１０．０％以下である。
【0037】
本実施形態のガラス組成物は、他の成分としてＳｉＯ２、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、Ｐ２Ｏ５、ＴｉＯ２、ＣｅＯ２、Ｌａ２Ｏ３、ＣｏＯ、ＭｏＯ３、Ｓｂ２Ｏ３、ＷＯ３、ＧｅＯ２、Ｔａ２Ｏ５などを含有してもよい。ただし、Ｐ２Ｏ５を含有させ過ぎると、耐水性が低下するおそれがある。そのため、Ｐ２Ｏ５を含有してもよいが、含有量は５％以下が好ましく、実質的に含有しないことがさらに好ましい。なお、Ｐ２Ｏ５について、「実質的に含有しない」とは、ガラス組成物中のＰ２Ｏ５の含有量が、１０００ｐｐｍ以下であることを意味する。
【0038】
（ガラス組成物の熱特性）
本実施形態のガラス組成物は、ガラス転移温度Ｔｇが３４０℃以下であることが、低温封着性が良好となるため好ましい。Ｔｇはより好ましくは３３０℃以下であり、３２０℃以下がさらに好ましい。Ｔｇの下限は特に限定されないが、例えば、２８０℃以上である。
本実施形態のガラス組成物は、ガラス転移温度Ｔｇが３４０℃以下であることが、低温封着性が良好となるため好ましい。Ｔｇはより好ましくは３３０℃以下であり、３２０℃以下がさらに好ましい。Ｔｇの下限は特に限定されないが、例えば、２８０℃以上である。
【0039】
本実施形態のガラス組成物は、熱分析装置（ＤＴＡ）を用いて加熱した際の第４変曲点Ｔｓが４００℃以下であることが、低温封着性が良好となるため好ましい。Ｔｓはより好ましくは３９０℃以下であり、３８０℃以下がさらに好ましい。Ｔｓの下限は特に限定されないが、例えば、３５０℃以上である。
【0040】
本実施形態のガラス組成物は、熱分析装置（ＤＴＡ）を用いて加熱した際の結晶化開始温度Ｔｃｓが４７０℃以上であることが、低温封着性が良好となるため好ましい。Ｔｃｓはより好ましくは４８０℃以上であり、４９０℃以上がさらに好ましい。Ｔｃｓの上限は特に限定されない。
【0041】
本実施形態のガラス組成物は、熱分析装置（ＤＴＡ）を用いて加熱した際の結晶化温度Ｔｃｐが４５０℃以上であることが、低温封着性が良好となるため好ましい。Ｔｃｐはより好ましくは４７０℃以上であり、４８０℃以上がさらに好ましい。Ｔｃｐの上限は特に限定されない。
【0042】
本実施形態に係るガラス組成物は、結晶化開始温度と第４変曲点の温度差（Ｔｃｓ－Ｔｓ）が１００℃より大きいことが好ましい。（Ｔｃｓ－Ｔｓ）が１００℃より大きいことで、ガラス溶融時のプロセスマージンを広げることができ、レーザ焼成封着時における有機ＥＬ素子への熱影響を小さくできる。（Ｔｃｓ－Ｔｓ）は、１１０℃以上がより好ましく、１２０℃以上がさらに好ましい。（Ｔｃｓ－Ｔｓ）の上限は、特に限定されない。
【0043】
ガラス転移温度Ｔｇ、第４変曲点Ｔｓ、結晶化開始温度Ｔｃｓおよび結晶化温度Ｔｃｐは、示差熱分析（ＤＴＡ）装置を用いて測定したＤＴＡチャートの第１変曲点をＴｇ、第４変曲点をＴｓ、発熱ピークの開始点をＴｃｓ、発熱ピーク温度をＴｃｐとして求められる。
【0044】
（ガラス組成物の製造方法）
本実施形態のガラス組成物の製造方法は、特に限定されない。例えば、以下に示す方法で製造できる。
本実施形態のガラス組成物の製造方法は、特に限定されない。例えば、以下に示す方法で製造できる。
【0045】
まず、原料混合物を準備する。原料は、通常の酸化物系のガラスの製造に用いる原料であれば特に限定されず、酸化物や炭酸塩等を用い得る。得られるガラス組成物の組成が上記の範囲となるように原料の種類および割合を適宜調整して原料混合物とする。
【0046】
次に、原料混合物を公知の方法で加熱して溶融物を得る。加熱溶融する温度（溶融温度）は、９５０～１２００℃が好ましく、１０００℃以上がより好ましく、また、１１５０℃以下がより好ましい。加熱溶融する時間は、３０～９０分が好ましい。
【0047】
その後、溶融物を冷却し固化することにより、本実施形態のガラス組成物が得られる。冷却方法は特に限定されない。ロールアウトマシンやプレスマシンを使用してもよく、また、冷却液体への滴下等により急冷する方法であってもよい。得られるガラス組成物は完全に非晶質である、すなわち結晶化度が０％であることが好ましい。ただし、本発明の効果を損なわない範囲であれば、結晶化した部分を含んでいてもよい。
【0048】
こうして得られる本実施形態のガラス組成物は、いかなる形態であってもよい。例えば、ブロック状、板状、薄い板状（フレーク状）、粉末状等であってもよい。
【0049】
本実施形態のガラス組成物を封着材料として用いる場合には、ガラス組成物はガラス粉末であることが好ましい。なお、ガラス組成物の上記特性の評価をする際の形態についても、封着材料としての性能をみる観点から、ガラス粉末が好ましい。
【0050】
（ガラス粉末）
本実施形態のガラス組成物をガラス粉末とする場合、ガラス粉末の粒度は、用途に応じて適宜選択できる。ガラス粉末の典型的な用途である封着材料の場合、ガラス粉末の粒度は０．１～１００μｍが好ましい。
本実施形態のガラス組成物をガラス粉末とする場合、ガラス粉末の粒度は、用途に応じて適宜選択できる。ガラス粉末の典型的な用途である封着材料の場合、ガラス粉末の粒度は０．１～１００μｍが好ましい。
【0051】
また、ガラス粉末の粒度が大きいと、ペースト化して塗布や乾燥した際に、沈降分離しやすく、さらに、得られる封着層の厚みが増加するという問題もある。したがって、ガラス粉末をペースト化して使用する場合は、ガラス粉末の粒度は０．１～５．０μｍの範囲にするのが好ましく、より好ましくは０．１～２．５μｍである。
【0052】
なお、本明細書においては、「粒度」は、累積粒度分布における体積基準の５０％粒径（Ｄ５０）を意味し、具体的には、レーザ回折／散乱式粒度分布測定装置を用いて測定した粒径分布の累積粒度曲線において、その積算量が体積基準で５０％を占めるときの粒径を意味する。
【0053】
本実施形態のガラス組成物からなるガラス粉末は、例えば、ガラス組成物を粉砕して得られる。よって、ガラス粉末の粒度は、粉砕の条件により調整できる。粉砕の方法としては、回転ボールミル、振動ボールミル、遊星ミル、ジェットミル、アトライター、媒体撹拌ミル（ビーズミル）、ジョークラッシャー、ロールクラッシャーなどが挙げられる。
【0054】
特にガラス粉末を、５．０μｍ以下といった細かい粒度にする場合は、湿式粉砕を用いるのがよい。湿式粉砕は水もしくはアルコールのような溶媒中でアルミナやジルコニアからなるメディアもしくはビーズミルを用いて粉砕するものである。
【0055】
ガラス粉末の粒度を調整するために、ガラス組成物の粉砕に加えて、必要に応じて篩等を用いて、分級を行ってもよい。
【0056】
また、本実施形態のガラス組成物からなるガラス粉末を封着材料として用いる場合は、ガラス粉末をそのままの形態で用いてもよいが、封着方法に応じて、低膨張充填材および／またはレーザ吸収物質とともに混合した封着材料としてもよい。また、該ガラス組成物並びに該封着材料は、作業性を高める観点から、ペースト化して用いることが好ましい。
【0057】
＜ガラスペースト＞
本実施形態のガラスペーストは、上記の本実施形態のガラス組成物と、有機ビヒクルとを含有する。また、ガラスペーストは、封着方法に応じて低膨張充填材および／またはレーザ吸収物質を含有してもよい。以下、有機ビヒクル、低膨張充填材、レーザ吸収物質について説明する。
本実施形態のガラスペーストは、上記の本実施形態のガラス組成物と、有機ビヒクルとを含有する。また、ガラスペーストは、封着方法に応じて低膨張充填材および／またはレーザ吸収物質を含有してもよい。以下、有機ビヒクル、低膨張充填材、レーザ吸収物質について説明する。
【0058】
有機ビヒクルとしては、例えば、溶剤にバインダ成分である樹脂を溶解したものが用いられる。
具体的には、メチルセルロース、エチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、オキシエチルセルロース、ベンジルセルロース、プロピルセルロース、ニトロセルロース等の樹脂を、ターピネオール、テキサノール、ブチルカルビトールアセテート、エチルカルビトールアセテート等の溶剤に溶解したものを有機ビヒクルとして使用できる。
また、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロオキシエチル（メタ）アクリレート等のアクリル系樹脂を、メチルエチルケトン、ターピネオール、テキサノール、ブチルカルビトールアセテート、エチルカルビトールアセテート等の溶剤に溶解したものを有機ビヒクルとして使用できる。なお、本明細書において（メタ）アクリレートとは、アクリレート及びメタクリレートの少なくとも一方を意味する。
また、ポリエチレンカーボネート、ポリプロピレンカーボネート等のポリアルキレンカーボネートを、アセチルクエン酸トリエチル、プロピレングリコールジアセテート、コハク酸ジエチル、エチルカルビトールアセテート、トリアセチン、テキサノール、アジピン酸ジメチル、安息香酸エチル、プロピレングリコールモノフェニルエーテルとトリエチレングリコールジメチルエーテルの混合物等の溶剤に溶解したものを有機ビヒクルとして使用できる。
具体的には、メチルセルロース、エチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、オキシエチルセルロース、ベンジルセルロース、プロピルセルロース、ニトロセルロース等の樹脂を、ターピネオール、テキサノール、ブチルカルビトールアセテート、エチルカルビトールアセテート等の溶剤に溶解したものを有機ビヒクルとして使用できる。
また、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロオキシエチル（メタ）アクリレート等のアクリル系樹脂を、メチルエチルケトン、ターピネオール、テキサノール、ブチルカルビトールアセテート、エチルカルビトールアセテート等の溶剤に溶解したものを有機ビヒクルとして使用できる。なお、本明細書において（メタ）アクリレートとは、アクリレート及びメタクリレートの少なくとも一方を意味する。
また、ポリエチレンカーボネート、ポリプロピレンカーボネート等のポリアルキレンカーボネートを、アセチルクエン酸トリエチル、プロピレングリコールジアセテート、コハク酸ジエチル、エチルカルビトールアセテート、トリアセチン、テキサノール、アジピン酸ジメチル、安息香酸エチル、プロピレングリコールモノフェニルエーテルとトリエチレングリコールジメチルエーテルの混合物等の溶剤に溶解したものを有機ビヒクルとして使用できる。
【0059】
有機ビヒクルにおける樹脂と溶剤の割合は、特に制限されないが、有機ビヒクルの粘度がガラスペーストの粘度を調整できる粘度となるように選択される。有機ビヒクルにおける樹脂と溶剤の割合は、具体的には、樹脂：溶剤で示す質量比が、３：９７～３０：７０程度が好ましい。
【0060】
低膨張充填材はガラス組成物より低い熱膨張係数を有し、概ね－１５×１０－７～４５×１０－７／℃程度の熱膨張係数を有する。低膨張充填材は、封着層の熱膨張係数を低下させる目的で添加される。
【0061】
低膨張充填材としては、特に限定されないが、シリカ、アルミナ、ジルコニア、珪酸ジルコニウム、コージェライト、リン酸ジルコニウム系化合物、ソーダライムガラス、および硼珪酸ガラスから選ばれる少なくとも１種が好ましい。リン酸ジルコニウム系化合物としては、（ＺｒＯ）２Ｐ２Ｏ７、ＮａＺｒ２（ＰＯ４）３、ＫＺｒ２（ＰＯ４）３、Ｃａ０．５Ｚｒ２（ＰＯ４）３、ＮｂＺｒ（ＰＯ４）３、Ｚｒ２（ＷＯ３）（ＰＯ４）２、これらの複合化合物等が挙げられる。
【0062】
低膨張充填材の粒度は、０．１～５．０μｍが好ましく、より好ましくは０．１～２．０μｍである。
【0063】
低膨張充填材の含有量は、封着層の熱膨張係数が被封着材料（例えば、ガラス基板）の熱膨張係数に近づくように設定される。低膨張充填材の含有量は、ガラス組成物と、低膨張充填材と、レーザ吸収物質を混合したもの（以下、混合材料と称することがある）の体積の合計に対して１体積％以上が好ましく、５体積％以上がより好ましく、１０体積％以上がさらに好ましい。一方、低膨張充填材の含有量が多すぎると、封着材料の溶融時の流動性が不良となるため、低膨張充填材の含有量は、混合材料の体積に対して５０体積％以下が好ましく、４５体積％以下がより好ましく、４０体積％以下がさらに好ましい。
【0064】
レーザ吸収物質としては、特に限定されないが、先述したＣｕＯ、Ｆｅ２Ｏ３、ＭｎＯ２を構成するＣｕ、Ｆｅ、Ｍｎの他に、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｃｏ等から選ばれる少なくとも１種の金属または該金属を含む酸化物等の化合物（無機顔料）等が挙げられる。また、レーザ吸収物質はこれら以外の顔料でもよい。
【0065】
レーザ吸収物質の粒度は、０．１～５．０μｍが好ましく、より好ましくは０．１～２．０μｍである。
【0066】
レーザ吸収物質の含有量が少なすぎると、レーザ照射により封着材料を十分に溶融させることが困難になるおそれがある。したがって、他のレーザ吸収物質を含む、レーザ吸収物質の合計の含有量が、混合材料の体積に対して０．１体積％以上が好ましく、１体積％以上がより好ましく、３体積％以上がさらに好ましい。一方、レーザ吸収物質の含有量が多すぎると、封着材料の溶融時の流動性が不良となり、これにより接着強度が低減する。したがって、レーザ吸収物質の含有量は、混合材料の体積に対して２０体積％以下が好ましく、１８体積％以下がより好ましく、１５体積％以下がさらに好ましい。
【0067】
ガラスペーストにおける混合材料と有機ビヒクルの割合は、求められるガラスペーストの粘度に応じて適宜調整される。具体的には、混合材料：有機ビヒクルで示す質量比が、６０：４０～９０：１０程度が好ましい。ガラスペーストには、混合材料と有機ビヒクル以外に必要に応じて、かつ、本発明の目的に反しない限度において公知の添加剤を配合できる。
【0068】
ガラスペーストの調整は、攪拌翼を備えた回転式の混合機、ロールミル、ボールミル等を用いた公知の方法により行われる。
【0069】
＜封着パッケージ＞
次に、本実施形態のガラス組成物が適用される封着パッケージについて説明する。
図１、２は、封着パッケージの一実施形態を示す平面図および断面図である。図３Ａ～図３Ｄは、図３に示す封着パッケージの製造方法の一実施形態を示す工程図である。図４、５は、図１、２に示す封着パッケージの製造に用いられる第１の基板の平面図および断面図である。図６、７は、図１、２に示す封着パッケージの製造に用いられる第２の基板の平面図および断面図である。
次に、本実施形態のガラス組成物が適用される封着パッケージについて説明する。
図１、２は、封着パッケージの一実施形態を示す平面図および断面図である。図３Ａ～図３Ｄは、図３に示す封着パッケージの製造方法の一実施形態を示す工程図である。図４、５は、図１、２に示す封着パッケージの製造に用いられる第１の基板の平面図および断面図である。図６、７は、図１、２に示す封着パッケージの製造に用いられる第２の基板の平面図および断面図である。
【0070】
封着パッケージ１０は、ＯＥＬＤ、ＰＤＰ、ＬＣＤ等のＦＰＤ、有機エレクトロルミネセンス（ＯＥＬ）素子等の発光素子を使用した照明装置（ＯＥＬ照明等）、あるいは色素増感型太陽電池のような太陽電池等を構成する。
すなわち、封着パッケージ１０は、第１の基板１１と、前記第１の基板に対向して配置される第２の基板１２と、前記第１の基板と前記第２の基板との間に配置され、前記第１の基板と前記第２の基板とを接着する封着層１５とを有する。また、当該封着層１５は、上記の本実施形態のガラス組成物を含む。
すなわち、封着パッケージ１０は、第１の基板１１と、前記第１の基板に対向して配置される第２の基板１２と、前記第１の基板と前記第２の基板との間に配置され、前記第１の基板と前記第２の基板とを接着する封着層１５とを有する。また、当該封着層１５は、上記の本実施形態のガラス組成物を含む。
【0071】
第１の基板１１は、例えば、電子素子部１３が主として設けられる素子基板である。第２の基板１２は、例えば、封止に主として用いられる封止基板である。第１の基板１１には、電子素子部１３が設けられる。第１の基板１１と第２の基板１２とは互いに対向するように配置され、これらの間に枠状に配置された封着層１５により接着されている。
【0072】
第１の基板１１、第２の基板１２には、ガラス基板、金属膜が表面に成膜された基板等が挙げられる。
ガラス基板としては、ソーダライムガラス基板、無アルカリガラス基板等が用いられる。ソーダライムガラス基板として、例えば、ＡＳ、ＰＤ２００（いずれもＡＧＣ社製、商品名）、これらを化学強化したものが挙げられる。また、無アルカリガラス基板として、例えば、ＡＮ１００（ＡＧＣ社製、商品名）、ＥＡＧＬＥ２０００（コーニング社製、商品名）、ＥＡＧＬＥ ＧＸ（コーニング社製、商品名）、ＪＡＤＥ（コーニング社製、商品名）、＃１７３７（コーニング社製、商品名）、ＯＡ－１０（日本電気硝子社製、商品名）、テンパックス（ショット社製、商品名）等が挙げられる。
金属膜が表面に成膜された基板としては、Ｔｉを含む膜がガラス基板表面に成膜された基板等が挙げられる。なお、基板の材料は特に限定されず、公知のものであってもよい。なお、金属膜が多層膜である場合、最表面の層にＴｉを含むことが好ましい。
第１の基板１１および第２の基板１２は、同一の基板であってもよく、異なる基板を組み合わせてもよい。
ガラス基板としては、ソーダライムガラス基板、無アルカリガラス基板等が用いられる。ソーダライムガラス基板として、例えば、ＡＳ、ＰＤ２００（いずれもＡＧＣ社製、商品名）、これらを化学強化したものが挙げられる。また、無アルカリガラス基板として、例えば、ＡＮ１００（ＡＧＣ社製、商品名）、ＥＡＧＬＥ２０００（コーニング社製、商品名）、ＥＡＧＬＥ ＧＸ（コーニング社製、商品名）、ＪＡＤＥ（コーニング社製、商品名）、＃１７３７（コーニング社製、商品名）、ＯＡ－１０（日本電気硝子社製、商品名）、テンパックス（ショット社製、商品名）等が挙げられる。
金属膜が表面に成膜された基板としては、Ｔｉを含む膜がガラス基板表面に成膜された基板等が挙げられる。なお、基板の材料は特に限定されず、公知のものであってもよい。なお、金属膜が多層膜である場合、最表面の層にＴｉを含むことが好ましい。
第１の基板１１および第２の基板１２は、同一の基板であってもよく、異なる基板を組み合わせてもよい。
【0073】
電子素子部１３は、例えば、ＯＥＬＤやＯＥＬ照明であればＯＥＬ素子、ＰＤＰであればプラズマ発光素子、ＬＣＤであれば液晶表示素子、太陽電池であれば色素増感型太陽電池素子（色素増感型光電変換部素子）を有する。電子素子部１３は、各種公知の構造にて構成でき、図示される構造に限定されない。
【0074】
図１、２の封着パッケージ１０では、電子素子部１３として、ＯＥＬ素子、プラズマ発光素子等が第１の基板１１に設けられている。電子素子部１３が色素増感型太陽電池素子等の場合、図示しないが第１の基板１１および第２の基板１２のそれぞれの対向面に配線膜や電極膜等の素子膜が設けられる。
【0075】
電子素子部１３がＯＥＬ素子等の場合、第１の基板１１と第２の基板１２との間には一部空間が残存する。この空間は、このままの状態でもよいし、透明な樹脂等が充填されてもよい。透明樹脂は、第１の基板１１および第２の基板１２に接着してもよいし、接触するだけでもよい。
【0076】
電子素子部１３が色素増感型太陽電池素子等の場合、図示しないが第１の基板１１と第２の基板１２との間の全体に電子素子部１３が配置される。なお、封止対象は、電子素子部１３に限定されず、光電変換装置等でもよい。また、封着パッケージ１０は、電子素子部１３を有しない複層ガラスのような建材でもよい。
【0077】
以下、封着パッケージの一例として、ＯＥＬＤを構成する有機エレクトロルミネセンス素子について図８を参照して詳細に説明する。
本実施形態のガラス組成物を用いて得られる有機エレクトロルミネセンス素子２１０は、基板２１１と、基板２１１上に積層された陽極２１３ａと有機薄膜層２１３ｂと陰極２１３ｃとを有する積層構造体２１３と、積層構造体２１３の外表面側を覆って基板２１１上に載置されたガラス部材２１２と、基板２１１とガラス部材２１２とを接着する封着層２１５とを備える。また、当該封着層２１５は、上記の本実施形態のガラス組成物を含む。
本実施形態のガラス組成物を用いて得られる有機エレクトロルミネセンス素子２１０は、基板２１１と、基板２１１上に積層された陽極２１３ａと有機薄膜層２１３ｂと陰極２１３ｃとを有する積層構造体２１３と、積層構造体２１３の外表面側を覆って基板２１１上に載置されたガラス部材２１２と、基板２１１とガラス部材２１２とを接着する封着層２１５とを備える。また、当該封着層２１５は、上記の本実施形態のガラス組成物を含む。
【0078】
（封着パッケージの製造方法）
次に、上述した本実施形態のガラス組成物が適用される封着パッケージの製造方法の実施形態について説明する。
封着には上述したガラスペーストを用いる。ガラスペーストは、第２の基板１２に枠状に塗布された後、乾燥されて塗布層となる。塗布方法として、スクリーン印刷、グラビア印刷等の印刷法、ディスペンス法等が挙げられる。乾燥は、溶剤を除去するために実施され、通常は１２０℃以上の温度で１０分以上行われる。塗布層に溶剤が残留すると、その後の仮焼成でバインダ成分が十分に除去されないおそれがある。
次に、上述した本実施形態のガラス組成物が適用される封着パッケージの製造方法の実施形態について説明する。
封着には上述したガラスペーストを用いる。ガラスペーストは、第２の基板１２に枠状に塗布された後、乾燥されて塗布層となる。塗布方法として、スクリーン印刷、グラビア印刷等の印刷法、ディスペンス法等が挙げられる。乾燥は、溶剤を除去するために実施され、通常は１２０℃以上の温度で１０分以上行われる。塗布層に溶剤が残留すると、その後の仮焼成でバインダ成分が十分に除去されないおそれがある。
【0079】
塗布層には仮焼成が行われて仮焼成層１５ａとされる（図６、図７）。仮焼成は、塗布層を封着材料に含まれるガラス組成物のガラス転移温度以下の温度に加熱してバインダ成分を除去した後、封着材料に含まれるガラス組成物の軟化点以上の温度に加熱することにより行われる。
【0080】
【0081】
【0082】
その後、第２の基板１２を通して仮焼成層１５ａにレーザ光１６を照射して焼成を実施する（図３Ｃ）。レーザ光１６は、枠状形状の仮焼成層１５ａに沿って走査しながら照射される。仮焼成層１５ａの全周にわたってレーザ光１６が照射されることで、第１の基板１１と第２の基板１２との間に枠状の封着層１５が形成される。なお、レーザ光１６は、第１の基板１１を通して仮焼成層１５ａに照射されてもよい。
【0083】
レーザ光１６の種類は、特に限定されるものではなく、半導体レーザ、炭酸ガスレーザ、エキシマレーザ、ＹＡＧレーザ、ＨｅＮｅレーザ等のレーザ光が使用される。レーザ光１６の照射条件は、仮焼成層１５ａの厚さ、線幅、厚さ方向の断面積等に応じて選択される。レーザ光１６の出力は、２～１５０Ｗが好ましい。レーザ光の出力が２Ｗ未満であると、仮焼成層１５ａが溶融されないおそれがある。レーザ光の出力が１５０Ｗを超えると、第１の基板１１、第２の基板１２にクラック等が発生しやすくなる。レーザ光１６の出力は、５～１２０Ｗがより好ましい。
【0084】
このようにして、第１の基板１１と第２の基板１２との間に封着層１５によって電子素子部１３が気密封止された封着パッケージ１０が製造される（図３Ｄ）。
【0085】
以上、レーザ光１６の照射により焼成を行う方法について説明したが、焼成の方法は必ずしもレーザ光１６の照射により行われる方法に限られない。焼成方法は、電子素子部１３の耐熱性、封着パッケージ１０の構成等に応じて他の方法を採用できる。例えば、電子素子部１３の耐熱性が高い場合、または電子素子部１３を有しない場合、レーザ光１６の照射に代えて、図３Ｂに示すような組立体の全体を電気炉等の焼成炉内に配置して、仮焼成層１５ａを含めた組立体の全体を加熱して封着層１５としてもよい。
【0086】
以上、本発明の封着パッケージの実施形態を、一例を挙げて説明したが、本発明の封着パッケージはこれらに限定されるものではない。本発明の趣旨に反しない限度において、また必要に応じて、その構成を適宜変更できる。
【実施例0087】
以下、本発明について実施例を参照してさらに詳細に説明するが、本発明は実施例に限定されない。例１～１５が実施例である。例１６～３７は比較例である。
【0088】
［例１～３７］
（ガラス組成物の製造）
表１～表２のガラス組成の欄にモル％表示で示す組成となるように原料を調合して混合し、１０００～１１００℃の電気炉中で白金ルツボを用いて１時間溶融した。得られた溶融液を、水冷ローラによりシート状に成形した後、これをボールミルにより乾式粉砕を行った。これを目開き１００メッシュの篩に通したものをガラス組成物とした。
このガラス組成物のＤ５０を、マイクロトラック粒度分布測定装置（日機装社製）により測定したところ、いずれも２～５μｍの範囲内であった。
（ガラス組成物の製造）
表１～表２のガラス組成の欄にモル％表示で示す組成となるように原料を調合して混合し、１０００～１１００℃の電気炉中で白金ルツボを用いて１時間溶融した。得られた溶融液を、水冷ローラによりシート状に成形した後、これをボールミルにより乾式粉砕を行った。これを目開き１００メッシュの篩に通したものをガラス組成物とした。
このガラス組成物のＤ５０を、マイクロトラック粒度分布測定装置（日機装社製）により測定したところ、いずれも２～５μｍの範囲内であった。
【0089】
次に、これらのガラス組成物について以下の測定および評価を行った。
なお、表１～２中、評価の欄の「－」は、ＤＴＡによる結晶化ピークが見られなかったまたはガラス化しなかったため未評価であることを示す。
なお、表１～２中、評価の欄の「－」は、ＤＴＡによる結晶化ピークが見られなかったまたはガラス化しなかったため未評価であることを示す。
【0090】
（ＤＴＡ試験）
リガク社製、示差熱分析（ＤＴＡ）装置ＴＧ－ＤＴＡ８１２２にて昇温速度；１０℃／分でガラス組成物の熱分析を行い、得られたＤＴＡチャートから、ガラス転移温度Ｔｇ、第４変曲点Ｔｓ［℃］、結晶化開始温度Ｔｃｓ［℃］、結晶化温度Ｔｃｐ［℃］をそれぞれ求めた。なお、ガラス転移温度Ｔｇ、第４変曲点Ｔｓ、結晶化開始温度Ｔｃｓおよび結晶化温度Ｔｃｐは、ＤＴＡチャートの第１変曲点をＴｇ、第４変曲点をＴｓ、発熱ピークの開始点をＴｃｓ、発熱ピーク温度をＴｃｐとして求めた。また、焼成時の許容温度の評価として、結晶化開始温度と第４変曲点の温度差（Ｔｃｓ－Ｔｓ）を求め、得られた結果を下記表に示した。（Ｔｃｓ－Ｔｓ）の値が、１００℃より大きいものを合格とした。
リガク社製、示差熱分析（ＤＴＡ）装置ＴＧ－ＤＴＡ８１２２にて昇温速度；１０℃／分でガラス組成物の熱分析を行い、得られたＤＴＡチャートから、ガラス転移温度Ｔｇ、第４変曲点Ｔｓ［℃］、結晶化開始温度Ｔｃｓ［℃］、結晶化温度Ｔｃｐ［℃］をそれぞれ求めた。なお、ガラス転移温度Ｔｇ、第４変曲点Ｔｓ、結晶化開始温度Ｔｃｓおよび結晶化温度Ｔｃｐは、ＤＴＡチャートの第１変曲点をＴｇ、第４変曲点をＴｓ、発熱ピークの開始点をＴｃｓ、発熱ピーク温度をＴｃｐとして求めた。また、焼成時の許容温度の評価として、結晶化開始温度と第４変曲点の温度差（Ｔｃｓ－Ｔｓ）を求め、得られた結果を下記表に示した。（Ｔｃｓ－Ｔｓ）の値が、１００℃より大きいものを合格とした。
【0091】
（熱膨張係数（α））
各ガラス組成物を直方体状に成形し、熱膨張測定用焼成体を得た。得られた熱膨張測定用焼成体を直径が５±０．５ｍｍ、長さが２±０．０５ｃｍの円柱形に加工した。加工した熱膨張測定用焼成体をＲＩＧＡＫＵ社製、熱膨張計ＴｈｅｒｍｏｐｌｕｓＥＶＯ２システムＴＤＬ８４１１で昇温速度１０℃／分の条件で加熱し、５０～２５０℃における熱膨張係数α（単位：１０－７／℃）を算出した。得られた結果を下記表に示した。熱膨張係数αが９１未満のものを合格とした。
各ガラス組成物を直方体状に成形し、熱膨張測定用焼成体を得た。得られた熱膨張測定用焼成体を直径が５±０．５ｍｍ、長さが２±０．０５ｃｍの円柱形に加工した。加工した熱膨張測定用焼成体をＲＩＧＡＫＵ社製、熱膨張計ＴｈｅｒｍｏｐｌｕｓＥＶＯ２システムＴＤＬ８４１１で昇温速度１０℃／分の条件で加熱し、５０～２５０℃における熱膨張係数α（単位：１０－７／℃）を算出した。得られた結果を下記表に示した。熱膨張係数αが９１未満のものを合格とした。
【0092】
（流動性評価）
４ｇのガラス組成物をプレス成形して直径が１５ｍｍであるサンプル（フローボタン）作製した。得られたフローボタンをガラス基板上に配置し、各ガラス組成物の軟化点にあわせて４５０～４６０℃に３０分保持する焼成を行って流動性評価用焼成体を得た。次に、得られた流動性評価用焼成体について、角度を４等分して４箇所の径を測定し、その４箇所径の平均値を算出しＦＢ径（単位：ｍｍ）とした。各サンプルについて、以下の基準にしたがい、流動性、光沢、接着の有無を評価した。得られた結果を下記表に示した。流動性および光沢の評価で〇のものを合格とした。
＜流動性＞
〇：ＦＢ径が２４ｍｍ以上である。
×：ＦＢ径が２４ｍｍ未満である。
＜光沢＞
〇：流動性評価用焼成体の表面全体に光沢があった。
△：流動性評価用焼成体の表面の一部に光沢がなかった。
×：流動性評価用焼成体の表面の全体に光沢がなかった。
４ｇのガラス組成物をプレス成形して直径が１５ｍｍであるサンプル（フローボタン）作製した。得られたフローボタンをガラス基板上に配置し、各ガラス組成物の軟化点にあわせて４５０～４６０℃に３０分保持する焼成を行って流動性評価用焼成体を得た。次に、得られた流動性評価用焼成体について、角度を４等分して４箇所の径を測定し、その４箇所径の平均値を算出しＦＢ径（単位：ｍｍ）とした。各サンプルについて、以下の基準にしたがい、流動性、光沢、接着の有無を評価した。得られた結果を下記表に示した。流動性および光沢の評価で〇のものを合格とした。
＜流動性＞
〇：ＦＢ径が２４ｍｍ以上である。
×：ＦＢ径が２４ｍｍ未満である。
＜光沢＞
〇：流動性評価用焼成体の表面全体に光沢があった。
△：流動性評価用焼成体の表面の一部に光沢がなかった。
×：流動性評価用焼成体の表面の全体に光沢がなかった。
【0093】
（耐水性評価）
各ガラス組成物のガラスフレークを用い、温度１２１℃、湿度１００％ＲＨの環境下で４８時間静置した。静置後の耐水性評価用焼成体に対して、以下の基準にしたがい、耐水性を評価した。得られた結果を下記表に示した。判定としては、〇のものを合格とした。
＜耐水性の評価基準＞
〇：耐水性評価用焼成体の表面全体で変色している箇所が見られなかった。
△：耐水性評価用焼成体の表面の一部に変色している箇所が見られた。
×：耐水性評価用焼成体の表面の全体が変色していた。
各ガラス組成物のガラスフレークを用い、温度１２１℃、湿度１００％ＲＨの環境下で４８時間静置した。静置後の耐水性評価用焼成体に対して、以下の基準にしたがい、耐水性を評価した。得られた結果を下記表に示した。判定としては、〇のものを合格とした。
＜耐水性の評価基準＞
〇：耐水性評価用焼成体の表面全体で変色している箇所が見られなかった。
△：耐水性評価用焼成体の表面の一部に変色している箇所が見られた。
×：耐水性評価用焼成体の表面の全体が変色していた。
【0094】
【表1】
【0095】
【表2】
【0096】
実施例である例１～１５のガラス組成物は、優れた耐水性を示し、熱膨張係数が小さく、溶融時の流動性及び焼成時の許容温度範囲の広さに優れた。
【0097】
一方、比較例である例１６は、Ｂｉ２Ｏ３が０．４％超かつＴｅＯ２が２５．５％未満であるため、焼成時の許容温度範囲が狭く、さらに流動性が劣った。
また、比較例である例１７～１９は、Ｎｂ２Ｏ５が５．５％未満であるため、熱膨張係数が大きく、さらに耐水性が劣った。
また、比較例である例２０は、Ｂｉ２Ｏ３が０．４％超であるため、熱膨張係数が大きかった。
また、比較例である例２１は、Ｎｂ２Ｏ５が８．０％超であるため、焼成時の許容温度範囲が狭く、また、流動性および耐水性が劣った。
また、比較例である例２２は、Ｖ２Ｏ５が４０．０％超かつＮｂ２Ｏ５が５．５％未満であるため、流動性および耐水性が劣った。
また、比較例である例２３は、ＴｅＯ２が３０．０％超であるため、熱膨張係数が大きく、さらに耐水性が劣った。
また、比較例である例２４、２５は、ＴｅＯ２が２５．５％未満かつＺｎＯが３０．０％超であるため、耐水性が劣り、例２５においては焼成時の許容温度範囲が狭く、流動性も劣った。
また、比較例である例２６、２７は、ＺｒＯ２が４．５％超であるため、耐水性が劣った。
また、比較例である例２８は、Ｂｉ２Ｏ３が０．４％超であるため、熱膨張係数が大きかった。
また、比較例である例２９は、Ｖ２Ｏ５が４０．０％超、ＺｎＯが１５．０％未満かつＢａＯが４．５％超であるため、焼成時の許容温度範囲も狭く、熱膨張係数が大きく、さらに流動性が劣った。
また、比較例である例３０は、Ｖ２Ｏ５が２５．５％未満かつＺｎＯが３０．０％超であるため、ガラス化しなかった。
また、比較例である例３１は、ＺｎＯが３０．０％超であるため、耐水性評価が劣った。
また、比較例である例３２は、Ａｌ２Ｏ３が５．０％超であるため、焼成時の許容温度範囲も狭く、さらに流動性が劣った。
また、比較例である例３３は、Ｖ２Ｏ５が４０．０％超であるため、焼成時の許容温度範囲も狭く、熱膨張係数が大きく、さらに、流動性および耐水性が劣った。
また、比較例である例３４～３６は、Ｂｉ２Ｏ３が０．４％超であるため、例３４は焼成時の許容温度が狭く、例３５は耐水性が劣り、例３６は熱膨張係数が大きく、さらに耐水性が劣った。
また、比較例である例３７は、Ｂ２Ｏ３が６．０％超であるため、耐水性が劣った。
また、比較例である例１７～１９は、Ｎｂ２Ｏ５が５．５％未満であるため、熱膨張係数が大きく、さらに耐水性が劣った。
また、比較例である例２０は、Ｂｉ２Ｏ３が０．４％超であるため、熱膨張係数が大きかった。
また、比較例である例２１は、Ｎｂ２Ｏ５が８．０％超であるため、焼成時の許容温度範囲が狭く、また、流動性および耐水性が劣った。
また、比較例である例２２は、Ｖ２Ｏ５が４０．０％超かつＮｂ２Ｏ５が５．５％未満であるため、流動性および耐水性が劣った。
また、比較例である例２３は、ＴｅＯ２が３０．０％超であるため、熱膨張係数が大きく、さらに耐水性が劣った。
また、比較例である例２４、２５は、ＴｅＯ２が２５．５％未満かつＺｎＯが３０．０％超であるため、耐水性が劣り、例２５においては焼成時の許容温度範囲が狭く、流動性も劣った。
また、比較例である例２６、２７は、ＺｒＯ２が４．５％超であるため、耐水性が劣った。
また、比較例である例２８は、Ｂｉ２Ｏ３が０．４％超であるため、熱膨張係数が大きかった。
また、比較例である例２９は、Ｖ２Ｏ５が４０．０％超、ＺｎＯが１５．０％未満かつＢａＯが４．５％超であるため、焼成時の許容温度範囲も狭く、熱膨張係数が大きく、さらに流動性が劣った。
また、比較例である例３０は、Ｖ２Ｏ５が２５．５％未満かつＺｎＯが３０．０％超であるため、ガラス化しなかった。
また、比較例である例３１は、ＺｎＯが３０．０％超であるため、耐水性評価が劣った。
また、比較例である例３２は、Ａｌ２Ｏ３が５．０％超であるため、焼成時の許容温度範囲も狭く、さらに流動性が劣った。
また、比較例である例３３は、Ｖ２Ｏ５が４０．０％超であるため、焼成時の許容温度範囲も狭く、熱膨張係数が大きく、さらに、流動性および耐水性が劣った。
また、比較例である例３４～３６は、Ｂｉ２Ｏ３が０．４％超であるため、例３４は焼成時の許容温度が狭く、例３５は耐水性が劣り、例３６は熱膨張係数が大きく、さらに耐水性が劣った。
また、比較例である例３７は、Ｂ２Ｏ３が６．０％超であるため、耐水性が劣った。
【符号の説明】
【0098】
１０：封着パッケージ
１１：第１の基板
１２：第２の基板
１３：電子素子部
１５：封着層
１５ａ：仮焼成層
１６：レーザ光
２１０：有機エレクトロルミネセンス素子
２１１：基板
２１２：ガラス部材
２１３：積層構造体
２１３ａ：陽極
２１３ｂ：有機薄膜層
２１３ｃ：陰極
２１５：封着層
１１：第１の基板
１２：第２の基板
１３：電子素子部
１５：封着層
１５ａ：仮焼成層
１６：レーザ光
２１０：有機エレクトロルミネセンス素子
２１１：基板
２１２：ガラス部材
２１３：積層構造体
２１３ａ：陽極
２１３ｂ：有機薄膜層
２１３ｃ：陰極
２１５：封着層
【図1】
【図2】
【図3A】
【図3B】
【図3C】
【図3D】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】