特開 2024-20309 リソグラフィシステムの熱安定化のための動的冷却制御

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2024020309

(43)【公開日】2024-02-14

(54)【発明の名称】リソグラフィシステムの熱安定化のための動的冷却制御

(51)【国際特許分類】

   G03F 7/20 20060101AFI20240206BHJP

【ＦＩ】

G03F7/20 501

G03F7/20 521

【審査請求】有

【請求項の数】14

【出願形態】ＯＬ

【外国語出願】

(21)【出願番号】P 2023189770

(22)【出願日】2023-11-07

(62)【分割の表示】P 2021549252の分割

【原出願日】2020-01-23

(31)【優先権主張番号】16/284,516

(32)【優先日】2019-02-25

(33)【優先権主張国・地域又は機関】US

【公序良俗違反の表示】

（特許庁注：以下のものは登録商標）

１．Ｂｌｕ－ｒａｙ

(71)【出願人】

【識別番号】390040660

【氏名又は名称】アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド

【氏名又は名称原語表記】ＡＰＰＬＩＥＤ ＭＡＴＥＲＩＡＬＳ，ＩＮＣＯＲＰＯＲＡＴＥＤ

【住所又は居所原語表記】３０５０ Ｂｏｗｅｒｓ Ａｖｅｎｕｅ Ｓａｎｔａ Ｃｌａｒａ ＣＡ ９５０５４ Ｕ．Ｓ．Ａ．

(74)【代理人】

【識別番号】110002077

【氏名又は名称】園田・小林弁理士法人

(72)【発明者】

【氏名】ジョンストン， ベンジャミン エム．

(72)【発明者】

【氏名】コリボー， デービッド マイケル

(72)【発明者】

【氏名】リー， チュク ミン

(72)【発明者】

【氏名】ユー， ジェ ミョン

(72)【発明者】

【氏名】タオ， ウェイミン

(72)【発明者】

【氏名】モーネンス， アントワーヌ ピー．

(57)【要約】      （修正有）

【課題】安定化時間を短縮する能力、及び安定化時間にわたる全ピッチの変化を補償する露光パターンを基板上のフォトレジストに書き込む能力のうちの少なくとも１つを提供する、リソグラフィプロセスのシステム、ソフトウェアアプリケーション、及び方法を提供する。
【解決手段】スラブ１２０と、スラブ１２０上方に配置されたステージ１３０と、スラブ１２０上に配置された一対の支持体１２２と、処理装置と、冷却器システムとを含む。一対の支持体は一対の軌道を支持し、ステージ１３０は一対の軌道に沿って移動するように構成される。処理装置１６０は、スラブ１２０に連結された装置支持体と、装置支持体によって支持された処理ユニット１６４とを有する。処理ユニット１６４は、複数の画像投影システム１６７を有する。冷却器システムは、一対の軌道の各軌道に配置された少なくとも１つの流体チャネルを有する。
【選択図】図１

【特許請求の範囲】

【請求項1】

スラブと、
前記スラブの上方に配置され、基板を支持するように構成された可動ステージと、
前記スラブ上に配置され、一対の軌道を支持する一対の支持体であって、前記ステージが前記一対の軌道に沿って移動するように構成される、一対の支持体と、
処理装置であって、
前記スラブに連結され、前記ステージがその下を通過するための開口部を有する装置支持体、及び
前記装置支持体によって支持され、複数の画像投影システムを有する処理ユニット
を有する処理装置と、
前記一対の軌道の各軌道に配置された少なくとも１つの流体チャネルを有する冷却器システムと
を備える、システム。

【請求項2】

前記処理ユニットが、パターンデータを前記処理ユニットに提供するように構成されたコントローラに連結され、
各流体チャネルが、前記コントローラに連結された冷却器に接続される入口及び出口を有し、前記コントローラが、各流体チャネルを通って循環される流体の流量及び所定の温度を制御するように構成される、請求項１に記載のシステム。

【請求項3】

前記スラブ、前記装置支持体、及び前記一対の軌道の少なくとも１つの軌道のうちの１つ又は複数に位置する１つ又は複数の温度検出器を更に備える、請求項２に記載のシステム。

【請求項4】

前記処理ユニットによって受信された前記パターンデータは、前記画像投影システムの各々が前記基板上に配置されたフォトレジストを露光パターンに露光する１つ又は複数のプロセスレシピのシーケンスに対応する、請求項３に記載のシステム。

【請求項5】

前記温度検出器が、前記コントローラに連結されており、かつ前記フォトレジストの露光中に測定された温度を前記コントローラに提供するように構成され、
前記測定された温度に基づいて、前記コントローラが、補償されたパターンデータを生成し、前記補償されたパターンデータを前記処理ユニットに提供するように構成される、請求項４に記載のシステム。

【請求項6】

前記装置支持体が、
前記スラブ上に配置された２つの立設部と、
前記立設部によって支持された３つ以上のブリッジであって、前記立設部及びブリッジは、前記ステージがその下を通過するための前記開口部を形成し、前記画像投影システムの各々が、隣接するブリッジ上に配置される、３つ以上のブリッジと
を備え、
前記コントローラに連結された前記１つ又は複数の温度検出器が、前記立設部及び前記ブリッジに位置する、請求項５に記載のシステム。

【請求項7】

前記一対の軌道が一対の磁気チャネルであり、前記ステージが、前記一対の磁気チャネルに沿って前記ステージを移動させるための力を提供する電動モータを含み、
前記コントローラに連結された前記１つ又は複数の温度検出器は、前記一対の磁気チャネルの少なくとも１つの磁気チャネルに隣接して配置された１つ又は複数のエンコーダに隣接して位置する、請求項６に記載のシステム。

【請求項8】

スラブと、
前記スラブの上方に配置され、基板を支持するように構成された可動ステージと、
前記スラブ上に配置され、一対の軌道を支持する一対の支持体であって、前記ステージが前記一対の軌道に沿って移動するように構成される、一対の支持体と、
処理装置であって、
前記スラブに連結され、前記ステージがその下を通過するための開口部を有する装置支持体、及び
前記装置支持体によって支持される処理ユニットであって、複数の画像投影システムを有し、かつ前記処理ユニットにパターンデータを提供するように構成されたコントローラに連結された、処理ユニット
を有する処理装置と、
前記スラブ、前記装置支持体、及び前記一対の軌道の少なくとも１つの軌道のうちの１つ又は複数に位置する１つ又は複数の温度検出器と
を備え、
前記処理ユニットによって受信された前記パターンデータは、前記画像投影システムの各々が前記基板上に配置されたフォトレジストを露光パターンに露光する１つ又は複数のプロセスレシピのシーケンスに対応し、
前記温度検出器が、前記コントローラに連結されており、かつ前記フォトレジストの露光中に測定された温度を前記コントローラに提供するように構成され、
前記測定された温度に基づいて、前記コントローラが、補償されたパターンデータを生成し、前記補償されたパターンデータを前記処理ユニットに提供するように構成される、システム。

【請求項9】

前記装置支持体が、
前記スラブ上に配置された２つの立設部と、
前記立設部によって支持された３つ以上のブリッジであって、前記立設部及びブリッジは、前記ステージがその下を通過するための前記開口部を形成し、前記画像投影システムの各々が、隣接するブリッジ上に配置される、３つ以上のブリッジと
を備え、
前記コントローラに連結された１つ又は複数の温度検出器が、前記立設部及び前記ブリッジに位置する、請求項８に記載のシステム。

【請求項10】

前記一対の軌道が一対の磁気チャネルであり、前記ステージが、前記一対の磁気チャネルに沿って前記ステージを移動させるための力を提供する電動モータを含み、
前記コントローラに連結された前記１つ又は複数の温度検出器は、前記一対の磁気チャネルの少なくとも１つの磁気チャネルに隣接して配置された１つ又は複数のエンコーダに隣接して位置する、請求項９に記載のシステム。

【請求項11】

前記エンコーダが、前記処理ユニットに対する前記ステージ上のそれぞれの位置を提供するように構成される、請求項１０に記載のシステム。

【請求項12】

冷却器システムを更に備え、前記冷却器システムが、
前記一対の軌道の各軌道に配置された少なくとも１つの流体チャネルと、
前記コントローラに連結される冷却器に接続される入口及び出口を有する各流体チャネルと
を有し、
前記コントローラが、各流体チャネルを通って循環される流体の流量及び所定の温度を制御するように構成される、請求項８に記載のシステム。

【請求項13】

前記温度検出器が、抵抗温度検出器（ＲＴＤ）である、請求項８に記載のシステム。

【請求項14】

前記画像投影システムが空間光変調器を備え、前記空間光変調器が、マイクロＬＥＤ、ＯＬＥＤ、デジタルマイクロミラーデバイス（ＤＭＤ）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、及び垂直キャビティ面発光レーザ（ＶＣＳＥＬ）からなる群から選択される、請求項８に記載のシステム。

【請求項15】

スラブと、
前記スラブの上方に配置され、基板を支持するように構成された可動ステージと、
前記スラブ上に配置され、一対の軌道を支持する一対の支持体であって、前記ステージが前記一対の軌道に沿って移動するように構成される、一対の支持体と、
処理装置であって、
前記スラブに連結され、前記ステージがその下を通過するための開口部を有する装置支持体、及び
前記装置支持体によって支持される処理ユニットであって、複数の画像投影システムを有し、かつ前記処理ユニットにパターンデータを提供するように構成されたコントローラに連結された、処理ユニット
を有する処理装置と、
前記一対の軌道の各軌道に配置された少なくとも１つの流体チャネルを有する冷却器システムと、
前記スラブ、前記装置支持体、及び前記一対の軌道の少なくとも１つの軌道のうちの１つ又は複数に位置する１つ又は複数の温度検出器と
を備え、
前記処理ユニットによって受信された前記パターンデータは、前記画像投影システムの各々が前記基板上に配置されたフォトレジストを露光パターンに露光する１つ又は複数のプロセスレシピのシーケンスに対応し、
前記温度検出器が、前記コントローラに連結されており、かつ前記フォトレジストの露光中に測定された温度を前記コントローラに提供するように構成され、
前記測定された温度に基づいて、前記コントローラが、補償されたパターンデータを生成し、前記補償されたパターンデータを前記処理ユニットに提供するように構成される、システム。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本開示の実施形態は、概して、リソグラフィシステムに関する。より詳細には、本開示の実施形態は、動作中の温度変化を補償するデジタルリソグラフィシステムに関する。

【背景技術】

【0002】

フォトリソグラフィは、半導体デバイスのバックエンド処理などの半導体デバイスや、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）などのディスプレイデバイスの製造に広く使用される。例えば、大面積基板は、ＬＣＤの製造に利用されることが多い。ＬＣＤ又はフラットパネルディスプレイは、一般的に、コンピュータ、タッチパネルデバイス、携帯情報端末（ＰＤＡ）、携帯電話、テレビモニタなどのアクティブマトリクスディスプレイに使用される。概して、フラットパネルディスプレイは、２つのプレートの間に挟まれた、各画素における相変化材料としての液晶材料の層を含む。電源からの電力が、液晶材料を横切って又は通って印加されると、液晶材料を通過する光の量が、画像をディスプレイ上に生成可能にする画素位置において制御される、即ち、選択的に変調される。

【0003】

リソグラフィシステムの動作中に、ステージの移動は、システム全体を通して、ある期間にわたって熱を放散させる結果となる。時間の経過とともに、システム全体を通して熱が放散されると、システムの構成要素の温度が上昇する。システムの構成要素の温度が、一定時間、即ち安定化時間にわたって上昇すると、安定化温度が維持されるまで、基板の全ピッチが変化する。安定化温度で、全ピッチは一定である。安定化温度においてシステムがない状態で、安定化時間中に１つ又は複数のプロセスレシピを実行するためのシステムの動作は、オーバーレイエラーを生じる可能性がある。したがって、安定化温度に達するまで、アイドルプロセスレシピが実行される。アイドルプロセスレシピは、スループットを低下させる。

【0004】

したがって、スループットを増加させるためのリソグラフィプロセスのシステム、ソフトウェアアプリケーション、及び方法が当技術分野で必要とされている。

【発明の概要】

【0005】

１つの実施形態では、あるシステムが提供される。このシステムは、スラブ、スラブ上方に配置された可動ステージ、スラブ上に配置された一対の支持体、処理装置、及び冷却器システムを含む。ステージは、基板を支持するように構成される。一対の支持体は一対の軌道を支持し、ステージは一対の軌道に沿って移動するように構成される。処理装置は、スラブに連結された装置支持体と、装置支持体によって支持された処理ユニットとを有する。装置支持体は、ステージがその下を通過するための開口部を有し、処理ユニットは、複数の画像投影システムを有する。冷却器システムは、一対の軌道の各軌道に配置された少なくとも１つの流体チャネルを有する。

【0006】

別の実施形態では、あるシステムが提供される。このシステムは、スラブと、スラブ上方に配置された可動ステージと、スラブ上に配置された一対の支持体と、処理装置と、スラブの１つ又は複数に位置する１つ又は複数の温度検出器と、装置支持体と、一対の軌道のうちの少なくとも１つの軌道とを含む。一対の支持体は一対の軌道を支持し、ステージは一対の軌道に沿って移動するように構成される。処理装置は、スラブに連結された装置支持体と、装置支持体によって支持された処理ユニットとを有する。装置支持体は、ステージがその下を通過するための開口部を有し、処理ユニットは、複数の画像投影システムを有する。処理ユニットは、パターンデータを処理ユニットに提供するように構成されたコントローラに連結される。処理ユニットによって受信されたパターンデータは、画像投影システムの各々が基板上に配置されたフォトレジストを露光パターンに露光する１つ又は複数のプロセスレシピのシーケンスに対応する。温度検出器は、コントローラに連結されており、かつフォトレジストの露光中に測定された温度をコントローラに提供するように構成される。測定された温度に基づいて、コントローラは、補償されたパターンデータを生成し、補償されたパターンデータを処理ユニットに提供するように構成される。

【0007】

更に別の実施形態では、あるシステムが提供される。このシステムは、スラブと、スラブ上方に配置された可動ステージと、スラブ上に配置された一対の支持体と、処理装置と、冷却器システムと、スラブの１つ又は複数に位置する１つ又は複数の温度検出器と、装置支持体と、一対の軌道の少なくとも１つの軌道とを含む。一対の支持体は一対の軌道を支持し、ステージは一対の軌道に沿って移動するように構成される。処理装置は、スラブに連結された装置支持体と、装置支持体によって支持された処理ユニットとを有する。装置支持体は、ステージがその下を通過するための開口部を有し、処理ユニットは、複数の画像投影システムを有する。処理ユニットは、パターンデータを処理ユニットに提供するように構成されたコントローラに連結される。処理ユニットによって受信されたパターンデータは、画像投影システムの各々が基板上に配置されたフォトレジストを露光パターンに露光する１つ又は複数のプロセスレシピのシーケンスに対応する。冷却器システムは、一対の軌道の各軌道に配置された少なくとも１つの流体チャネルを有する。温度検出器は、コントローラに連結されており、かつフォトレジストの露光中に測定された温度をコントローラに提供するように構成される。測定された温度に基づいて、コントローラは、補償されたパターンデータを生成し、補償されたパターンデータを処理ユニットに提供するように構成される。

【0008】

本開示の上述の特徴を詳細に理解できるように、上記で簡単に要約されている本開示のより詳細な説明が、実施形態を参照することによって得られ、それらの実施形態の一部が添付図面に示される。しかしながら、添付図面は例示的な実施形態を示しているにすぎず、従って、本開示の範囲を限定すると見なされるべきではなく、その他の等しく有効な実施形態を許容しうることに留意されたい。

【図面の簡単な説明】

【0009】

【図1】実施形態によるシステムの斜視図である。

【図2】実施形態によるシステムの処理ユニットの上面図である。

【図3】実施形態によるシステムの熱交換システムの斜視図である。

【図4】実施形態によるリソグラフィの方法のために構成されたコンピューティングシステムの概略図である。

【図5】実施形態によるリソグラフィアプリケーションの概略図である。

【図6】実施形態によるコントローラの概略図である。

【図7A】実施形態によるシステムの安定化時間及び安定化温度を示すグラフである。

【図7B】実施形態によるシステムの安定化時間及び安定化温度を示すグラフである。

【図7C】実施形態によるシステムの安定化時間及び安定化温度を示すグラフである。

【図7D】実施形態によるシステムの安定化時間及び安定化温度を示すグラフである。

【図8】実施形態によるリソグラフィプロセスの方法のフロー図である。

【図9】実施形態によるリソグラフィプロセスの方法のフロー図である。

【発明を実施するための形態】

【0010】

理解を容易にするために、可能な場合には、複数の図に共通する同一の要素を指し示すのに、同一の参照番号を使用した。１つの実施形態の要素及び特徴は、更なる記述がなくとも、他の実施形態に有益に組み込まれうると想定される。

【0011】

本明細書に記載の実施形態は、安定化時間を短縮する能力、及び安定化時間にわたる全ピッチの変化を補償する露光パターンを基板上のフォトレジストに書き込む能力のうちの少なくとも１つを提供する、リソグラフィプロセスのシステム、ソフトウェアアプリケーション、及び方法を提供する。本システムの１つの実施形態は、スラブ、スラブ上方に配置された可動ステージ、スラブ上に配置された一対の支持体、処理装置、及び冷却器システムを含む。ステージは、基板を支持するように構成される。一対の支持体は一対の軌道を支持し、ステージは一対の軌道に沿って移動するように構成される。処理装置は、スラブに連結された装置支持体と、装置支持体によって支持された処理ユニットとを有する。装置支持体は、ステージがその下を通過するための開口部を有し、処理ユニットは、複数の画像投影システムを有する。冷却器システムは、一対の軌道の各軌道に配置された少なくとも１つの流体チャネルを有する。

【0012】

図１は、本明細書に記載の実施形態から利益を得ることができる、デジタルリソグラフィシステムなどのシステム１００の斜視図である。システム１００は、ベースフレーム１１０と、スラブ１２０と、１つ又は複数のステージ１３０と、処理装置１６０とを含む。ベースフレーム１１０は、製造施設の床上に置かれ、スラブ１２０を支持しうる。受動空気アイソレータ１１２は、ベースフレーム１１０とスラブ１２０との間に位置付けられる。スラブ１２０は花崗岩の一枚板であり、１つ又は複数のステージ１３０がスラブ１２０の上に配置されうる。基板１４０は、１つ又は複数のステージ１３０の各々によって支持されうる。複数の孔（図示せず）がステージ１３０に形成され、それにより、複数のリフトピン（図示せず）は、それらの孔を通って延びることができるようになる。リフトピンは、例えば移送ロボット（図示せず）から、基板１４０を受け取るために、伸長位置まで上昇しうる。移送ロボットは、基板１４０をリフトピン上に位置付け、リフトピンは、その後、基板１４０をステージ１３０上に徐々に下降させうる。

【0013】

基板１４０は、例えば、石英で作られ、フラットパネルディスプレイの一部として使用されうる。他の実施形態では、基板１４０は、他の材料から作られてもよい。本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる本明細書に記載の実施形態では、基板は、アルカリ土類ボロ－アルミノケイ酸塩などのガラスを含む。いくつかの実施形態では、基板１４０は、その上に形成されたフォトレジスト層を有しうる。フォトレジストは、放射線に敏感であり、ポジ型フォトレジスト又はネガ型フォトレジストでありうるが、これは、放射線に露光されたフォトレジストの部分が、パターンがフォトレジストに書き込まれた後に、フォトレジストに塗布されたフォトレジストデベロッパにそれぞれ可溶性であるか、又は不溶性であることを意味している。フォトレジストの化学組成により、そのフォトレジストがポジ型フォトレジストになるか、又はネガ型フォトレジストになるかが決まる。例えば、フォトレジストは、ジアゾナフトキノン、フェノールホルムアルデヒド樹脂、ポリ（メチルメタクリレート）、ポリ（メチルグルタルイミド）、及びＳＵ－８のうちの少なくとも１つを含みうる。このようにして、電子回路を形成するために、パターンが基板１４０の表面上に形成されうる。

【0014】

システム１００は、一対の支持体１２２と、一対の軌道１２４とを更に含む。一対の支持体１２２は、スラブ１２０上に配置され、本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる１つの実施形態では、スラブ１２０及び一対の支持体１２２は、単一の材料片でありうる。本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる本明細書に記載の実施形態では、一対の軌道１２４は、一対の支持体１２２によって支持され、２つ以上のステージ１３０は、軌道１２４に沿ってＸ方向に移動しうる。本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる１つの実施形態では、一対の軌道１２４は、一対の磁気チャネル３０１（図３に示す）である。図示のように、一対の軌道１２４の各軌道は線形である。本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる他の実施形態では、一対の軌道１２４の各軌道は線形である。本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる１つの実施形態では、位置情報をコントローラ１９０に提供するために、エンコーダ１２６が各ステージ１３０とそれぞれ共配置されるが、これについては、本明細書で更に詳細に説明される。１つ又は複数のステージ１３０の各々はまた、基板１４０の処理及び／又は割り出し（ｉｎｄｅｘｉｎｇ）のために、軌道１５０に沿って移動することによって、Ｙ方向にも移動しうる。本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる本明細書に記載の実施形態では、各ステージ１３０は、ステージ１３０を持ち上げるための複数の空気軸受（図示せず）を含む。本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる本明細書に記載の実施形態では、各ステージ１３０は、一対の磁気チャネル３０１に沿ってステージ１３０を移動させる力を提供するために、リニアモータなどの電気モータ（図示せず）を含む。

【0015】

処理装置１６０は、支持体１６２と、処理ユニット１６４とを含む。支持体１６２は、スラブ１２０上に配置された２つの立設部１６１を含み、３つ以上のブリッジ１６３を支持する。立設部１６１及びブリッジ１６３は、１つ又は複数のステージ１３０が処理ユニット１６４の下を通過するための開口部１６６を形成する。処理ユニット１６４は、支持体１６２によって支持されうる。本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる１つの実施形態では、処理ユニット１６４は、フォトリソグラフィプロセスでフォトレジストを露光するように構成されたパターン発生器である。本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができるいくつかの実施形態では、パターン発生器は、マスクレスリソグラフィプロセスを実行するように構成されうる。各リソグラフィプロセスは、パターン発生器の１つ又は複数のプロセスレシピに対応する。本明細書に記載のいくつかの実施形態では、アイドルプロセスは、パターン発生器の１つ又は複数のアイドルプロセスレシピに対応する。処理ユニット１６４は、ケース１６５内に配置された複数の画像投影システム１６７を含む。画像投影システム１６７の各画像投影システムは、隣接するブリッジ１６３上に配置される。処理装置１６０は、マスクレス直接パターニングを実行するために利用されうる。本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる１つの実施形態では、処理ユニット１６４は、８４もの画像投影システム１６７を含む。画像投影システム１６７の各々は、空間光変調器を含む。空間光変調器は、マイクロＬＥＤ、ＯＬＥＤ、デジタルマイクロミラーデバイス（ＤＭＤ）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、及び垂直キャビティ面発光レーザ（ＶＣＳＥＬ）を含むが、これらに限定されない。画像投影システム１６７の各々の構成要素は、使用される空間光変調器に応じて変化する。

【0016】

コントローラ１９０は、本明細書に記載の処理技術の制御及び自動化を容易にする。コントローラ１９０は、処理装置１６０、１つ又は複数のステージ１３０、及び各エンコーダ１２６のうちの１つ又は複数に連結されるか、又はそれらと通信する。処理装置１６０及び１つ又は複数のステージ１３０は、基板処理及び位置合わせに関する情報をコントローラに提供する。例えば、処理装置１６０は、コントローラ１９０に情報を提供して、基板処理が完了したことをコントローラ１９０に警告する。コントローラ１９０は、本明細書に記載の方法の制御及び自動化を容易にする。コントローラ１９０によって読み取り可能な、撮像プログラムと呼ばれうるプログラム（又はコンピュータ命令）は、どのタスクがシステム１００上で実行可能であるかを決定する。プログラムは、処理時間及び基板位置を監視及び制御するためのパターンデータ及びコードを含む。パターンデータは、電磁放射を用いてフォトレジストに書き込まれる露光パターンに対応する。

【0017】

動作中、ステージ１３０は、図１に示すように、ローディング（第１の）位置から、処理（第２の）位置まで、Ｘ方向に移動する。処理位置は、ステージ１３０が処理ユニット１６４の下を通過する際の、ステージ１３０の１つ又は複数の位置である。ステージ１３０はまた、基板１４０の処理及び／又は割り出しのために、軌道１５０に沿って移動することによって、Ｙ方向にも移動する。ステージ１３０は、独立した動作が可能であり、基板１４０を１つの方向に走査して、他の方向に進むことができる。図２に示すように、処理ユニット１６４の上面図は、本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる１つの実施形態では、システム１００は、一対の軌道１２４の軌道に隣接して配置された、スチールの予圧バーなどの予圧バー２０１と、予圧バー２０１に隣接して配置された、高分解能エンコーダなどの１つ又は複数のエンコーダ２０３とを含む。コントローラ１９０は、更に、１つ又は複数のエンコーダ１２７に連結されるか、又は１つ又は複数のエンコーダ１２７と通信している。１つ又は複数のエンコーダ１２７は、動作中、処理ユニット１６４に対する１つ又は複数のステージ１３０上のそれぞれの位置を提供する。説明を容易にするために、図２は、処理ユニット１６４の半分（第１の部分）と、画像投影システム１６７の１つを示し、それらを参照して説明される。しかしながら、本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる１つの実施形態では、処理ユニット１６４のもう半分（第２の部分）は、一対の軌道１２４の軌道に隣接して配置された別の予圧バー２０１と、予圧バー２０１に隣接して配置された１つ又は複数の追加のエンコーダ２０３とを含むことに留意されたい。

【0018】

動作中、ステージ１３０の移動は、ステージ１３０の電気モータを介して、一対の磁気チャネル３０１に沿ってステージ１３０を移動させる力を提供し、システム１００全体を通して一定期間にわたって熱を放散させる結果となる。一定期間にわたって、システム１００全体を通した熱の放散は、スラブ１２０、１つ又は複数のステージ１３０、処理装置１６０、及び１つ又は複数のステージ１３０の各々によって支持されている基板１４０のような、システム１００の構成要素の温度を上昇させる。システム１００の構成要素の温度が、一定時間、即ち安定化時間にわたって上昇すると、安定化温度が維持されるまで、基板１４０の全ピッチ１０１が変化する。安定化温度では、全ピッチ１０１は一定である。マスタースケールとしても知られる全ピッチ１０１は、第１の点１０５と第２の点１０７との間の距離１０３として画定される。システム１００が安定化温度になくても、安定化時間の間に１つ又は複数のプロセスレシピを実行するためのシステム１００の動作は、プロセスレシピに対する基板１４０の露光の後続の位置を歪め、シフトさせる、即ち、オーバーレイエラーをもたらすことがある。したがって、１つ又は複数のアイドルプロセスレシピが、安定化温度まで実行される。次に、１つ又は複数のプロセスレシピが実行される。スループットを増加させるために、本明細書に記載のシステム、ソフトウェアアプリケーション、及び方法は、安定化時間を短縮する能力、及び安定化時間にわたる全ピッチ１０１の変化を補償する露光パターンを基板１４０上のフォトレジストに書き込む能力のうちの少なくとも１つを提供する。

【0019】

本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる本明細書に記載の実施形態では、抵抗温度検出器（ＲＴＤ）などの温度検出器１０９が、一対の軌道１２４、立設部１６１、ブリッジ１６３、及びスラブ１２０に配置される。温度検出器１０９はまた、エンコーダ１２６及びエンコーダ１２７に隣接して配置される。エンコーダ１２７に隣接して配置された温度検出器１０９は、予圧バー２０１上に配置される。コントローラ１９０は、温度検出器１０９のそれぞれに連結されるか、又はこれらと通信する。温度検出器１０９は、一対の軌道１２４、立設部１６１、ブリッジ１６３、スラブ１２０、エンコーダ１２６、及びエンコーダ１２７の温度測定値をコントローラ１９０に提供する。冷却器システム３００の斜視図である図３に示すように、本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる１つの実施形態では、システム１００は、冷却器システム３００を含む。冷却器システム３００は、冷却器３０４に連結された少なくとも１つの流体チャネル３０２を含む。一対の軌道１２４の各軌道は、少なくとも１つの流体チャネル３０２を含む。説明を容易にするために、図３は、一対の軌道１２４のうちの１つの（第１の）軌道を示し、これを参照して説明する。しかしながら、本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる１つの実施形態では、一対の軌道１２４のうちの別の（第２の）軌道が、少なくとも１つの流体チャネル３０２を含むことに留意されたい。

【0020】

冷却器などの冷却器３０４は、一対の軌道１２４が所定の温度に維持されるように、流体チャネル３０２の入口３１０に接続された入口導管３０６を介して、かつチャネル３０２の出口３１２に接続された出口導管３０８を介して、各流体チャネル３０２と流体連結している。本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる１つの実施形態では、各流体チャネル３０２は、約５ミリメートル（ｍｍ）から約２０ｍｍの直径を有する。本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる別の実施形態では、冷却器３０４は、インターフェースボックスに連結されて、冷却剤などの流体の流量を制御する。流体は、約１０℃から約３０℃の温度を維持できる材料を含みうる。冷却器３０４は、各流体チャネル３０２を通って循環される流体を供給する。各流体チャネル３０２を通って流れる流体は、一対の軌道１２４が所定の温度に維持できるようにし、これは、システム１００の安定化温度及び安定化時間を制御するために、一対の軌道１２４の温度プロファイルの制御を補助する。本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる１つの実施形態では、流体は、２リットル／分（Ｌ／分）～約４Ｌ／分の流量で循環される。

【0021】

図４は、本開示の実施形態が実施されうるリソグラフィの方法のために構成されたコンピューティングシステム４００の概略図である。図４に示すように、コンピューティングシステム４００は、複数のサーバ４０８、リソグラフィアプリケーション４１２、及び複数のコントローラ（即ち、コンピュータ、パーソナルコンピュータ、モバイル／ワイヤレスデバイス）１９０（これらのうちの２つだけが明確にする目的で示される）を含むことができ、それぞれが通信ネットワーク４０６（例えば、インターネット）に接続されている。サーバ４０８は、ローカル接続（例えば、ストレージエリアネットワーク（ＳＡＮ）又はネットワーク接続ストレージ（ＮＡＳ））を介して、又はインターネットを通して、データベース４１４と通信しうる。サーバ４０８は、データベース４１４に含まれるデータに直接アクセスするか、又はデータベース４１４内に含まれるデータを管理するように構成されたデータベースマネージャとインターフェース接続するかのどちらかを行うように構成される。

【0022】

各コントローラ１９０は、例えばプロセッサ、システムメモリ、ハードディスクドライブ、バッテリ、マウス及びキーボードなどの入力デバイス、及び／又はモニタ若しくはグラフィカルユーザインターフェースなどの出力デバイス、並びに／又は入力を受信するだけではなく出力の表示も行うタッチスクリーンのような結合型入力／出力デバイスといった、計算デバイスの従来の構成要素を含みうる。各サーバ４０８及びリゾグラフィアプリケーション４１２は、プロセッサ及びシステムメモリ（図示せず）を含み、例えば、リレーショナルデータベースソフトウェア及び／又はファイルシステムを使用して、データベース４１４に格納されたコンテンツを管理するように構成されうる。Ｉ／Ｏデバイスインターフェース５０８は、図５に示すように、例えばＴＣＰ／ＩＰプロトコルなどのネットワークプロトコルを使用して、互いに、コントローラ１９０と、及びリソグラフィアプリケーション４１２と通信するようにプログラムされうる。リソグラフィアプリケーション４１２は、通信ネットワーク４０６を介してコントローラ１９０と直接通信しうる。コントローラ１９０は、プログラム及び／又は他のソフトウェアアプリケーションなどのソフトウェア４０４を実行し、サーバ４０８によって管理されるアプリケーションにアクセスするようにプログラムされる。

【0023】

以下に記載の実施形態では、ユーザは、通信ネットワーク４０６を通してサーバ４０８に接続されうるコントローラ１９０をそれぞれ操作しうる。ページ、画像、データ、文書などは、コントローラ１９０を介してユーザに表示されうる。情報及び画像は、コントローラ１９０と通信する表示デバイス及び／又はグラフィカルユーザインターフェースを通して表示されうる。

【0024】

コントローラ１９０は、パーソナルコンピュータ、ラップトップモバイルコンピューティングデバイス、スマートフォン、家庭用ゲーム機、ホームデジタルメディアプレーヤ、ネットワーク接続テレビ、セットトップボックス、並びに／又は通信ネットワーク４０６及び／若しくは必要なアプリケーション若しくはソフトウェアと通信するのに適した構成要素を有する他のコンピューティングデバイスでありうることに留意されたい。コントローラ１９０はまた、リソグラフィアプリケーション４１２からコンテンツ及び情報を受信するように構成された他のソフトウェアアプリケーションも実行しうる。

【0025】

図５は、リソグラフィアプリケーション４１２の概略図である。リソグラフィアプリケーション４１２は、中央処理装置（ＣＰＵ）５０２、ネットワークインターフェース５０４、メモリ５２０、及び相互接続５０６を介して通信するストレージ５３０を含むが、これに限定されない。リソグラフィアプリケーション４１２はまた、Ｉ／Ｏデバイス５１０（例えば、キーボード、ビデオ、マウス、オーディオ、タッチスクリーンなど）を接続するＩ／Ｏデバイスインターフェース５０８も含みうる。リソグラフィアプリケーション４１２は、データ通信ネットワークを介してデータを送信するように構成されたネットワークインターフェース６０４（図６に示す）を更に含みうる。

【0026】

ＣＰＵ５０２は、メモリ５２０に記憶されたプログラミング命令を検索及び実行し、概して、他のシステム構成要素の動作を制御及び調整する。同様に、ＣＰＵ５０２は、メモリ５２０内に存在するアプリケーションデータを記憶及び検索する。代表的には、単一のＣＰＵ、複数のＣＰＵ、複数の処理コアを有する単一のＣＰＵなどであるＣＰＵ５０２が含まれる。相互接続５０６は、ＣＰＵ５０２、Ｉ／Ｏデバイスインターフェース５０８、ストレージ５３０、ネットワークインターフェース５０４、及びメモリ５２０の間でプログラミング命令及びアプリケーションデータを送信するために使用される。

【0027】

代表的にはランダムアクセスメモリであるメモリ５２０が通常含まれ、メモリ５２０は、動作中に、ＣＰＵ５０２によって使用されるソフトウェアアプリケーション及びデータを記憶する。ストレージ５３０は、単一のユニットとして図示しているが、不揮発性のデータを記憶するよう構成された、固定ディスクドライブ、フロッピーディスクドライブ、ハードディスクドライブ、フラッシュメモリストレージドライブ、テープドライブ、取り外し可能なメモリカード、ＣＤ－ＲＯＭ、ＤＶＤ－ＲＯＭ、Ｂｌｕ－Ｒａｙ、ＨＤ－ＤＶＤ、光ストレージ、ネットワーク接続ストレージ（ＮＡＳ）、クラウドストレージ、又はストレージエリアネットワーク（ＳＡＮ）などの、固定ストレージデバイス及び／又は取り外し可能なストレージデバイスの組み合わせでありうる。

【0028】

メモリ５２０は、リソグラフィアプリケーションソフトウェア５２８を含みうるアプリケーションプラットフォーム５２６を実行するための命令及びロジックを記憶しうる。ストレージ５３０は、データ５３４及び関連するアプリケーションプラットフォームコンテンツ５３６を記憶するように構成されたデータベース５３２を含みうる。データベース５３２は、任意のタイプのストレージデバイスでありうる。

【0029】

ネットワークコンピュータは、本明細書で提供される開示と併せて使用することができる別のタイプのコンピュータシステムである。ネットワークコンピュータは、通常、ハードディスク又は他の大容量ストレージを含まず、実行可能プログラムは、ＣＰＵ６０２（図６に示す）によって実行されるように、ネットワーク接続からメモリ５２０に読み込まれる。典型的なコンピュータシステムは、通常、少なくともプロセッサ、メモリ、及びメモリをプロセッサに連結する相互接続を含むだろう。

【0030】

図６は、リソグラフィアプリケーション４１２にアクセスし、アプリケーションプラットフォーム５２６に関連するデータを検索又は表示するために使用されるコントローラ１９０の概略図である。コントローラ１９０は、中央処理装置（ＣＰＵ）６０２、ネットワークインターフェース６０４、相互接続６０６、メモリ６２０、ストレージ６３０、及びサポート回路６４０を含みうるが、これらに限定されない。コントローラ１９０はまた、Ｉ／Ｏデバイス６１０（例えば、キーボード、ディスプレイ、タッチスクリーン、及びマウスデバイス）をコントローラ１９０に接続するＩ／Ｏデバイスインターフェース６０８を含みうる。

【0031】

ＣＰＵ５０２と同様に、代表的には、単一のＣＰＵ、複数のＣＰＵ、複数の処理コアを有する単一のＣＰＵなどであるＣＰＵ６０２が含まれ、代表的にはランダムアクセスメモリであるメモリ６２０が、概して含まれる。相互接続６０６は、ＣＰＵ６０２、Ｉ／Ｏデバイスインターフェース６０８、ストレージ６３０、ネットワークインターフェース６０４、及びメモリ６２０の間でプログラミング命令及びアプリケーションデータを送信するために使用されうる。ネットワークインターフェース６０４は、例えば、リソグラフィアプリケーション４１２からコンテンツを転送するために、通信ネットワーク４０６を介してデータを送信するように構成されうる。ハードディスクドライブ又はソリッドステートストレージドライブ（ＳＳＤ）などのストレージ６３０は、不揮発性データを記憶しうる。ストレージ６３０は、データベース６３１を含みうる。データベース６３１は、データ６３２と、他のコンテンツ６３４と、データ６３８及び制御ロジック６３９を有する画像処理ユニット６３６とを含みうる。例示的に、メモリ６２０は、それ自体がソフトウェア命令６２４を表示し、及び／又はデータ６２６を記憶又は表示しうるアプリケーションインターフェース６２２を含みうる。アプリケーションインターフェース６２２は、コントローラがリソグラフィアプリケーション４１２によってホストされるデータ及び他のコンテンツにアクセスできるようにする１つ又は複数のソフトウェアアプリケーションを提供しうる。

【0032】

図１に示すように、システム１００はコントローラ１９０を含む。コントローラ１９０は、中央処理装置（ＣＰＵ）６０２、メモリ６２０、及びサポート回路６４０（又はＩ／Ｏ５０８）を含む。ＣＰＵ６０２は、産業設定で様々なプロセス及びハードウェア（例えば、パターン発生器、モータ、及び他のハードウェア）を制御したり、プロセス（例えば、処理時間及び基板の位置など）を監視したりするために使用されている、任意の形態のコンピュータプロセッサの１つでありうる。メモリ５２０は、図６に示すように、ＣＰＵ６０２に接続されており、ランダムアクセスメモリ、読み取り専用メモリ（ＲＯＭ）、フロッピーディスク、ハードディスク、又はローカル又はリモートの任意の他の形態のデジタルストレージといった、容易に利用可能なメモリの１つ又は複数でありうる。ソフトウェア命令及びデータは、ＣＰＵ６０２に命令するために、コード化されてメモリ内に記憶されうる。サポート回路６４０はまた、従来の方法でプロセッサをサポートするためにＣＰＵ６０２に接続される。サポート回路６４０は、従来のキャッシュ６４２、電源６４４、クロック回路６４６、入出力回路６４８、サブシステム６５０などを含みうる。コントローラ１９０によって読み取り可能なプログラム（又はコンピュータ命令）は、どのタスクが基板１４０上で実行可能であるかを決定する。プログラムは、コントローラ１９０によって読み取り可能なソフトウェアであり、例えば、処理時間及び基板位置を監視及び制御するためのコードを含みうる。

【0033】

しかしながら、これら全ての用語及び類似の用語は、適切な物理量に関連付けられるべきであり、これらの量に適用される単なる便宜上の符号にすぎないことに留意すべきである。下記検討から明らかであるように、別途特段の記載がない限り、本明細書全体を通じて、「処理する（ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ）」「計算する（ｃｏｍｐｕｔｉｎｇ）」「算出する（ｃａｌｃｕｌａｔｉｎｇ）」「決定する（ｄｅｔｅｒｍｉｎｉｎｇ）」、又は「表示する（ｄｉｓｐｌａｙｉｎｇ）」等といった用語を利用する検討は、コンピュータシステムのレジスタ及びメモリ内の物理的（電子）量として表されるデータを操作し、コンピュータシステムのメモリ若しくはレジスタ、又はかかる情報のその他のストレージデバイス、伝送デバイス、又はディスプレイデバイス内の物理量として同様に表される他のデータに変換する、コンピュータシステム又は類似の電子計算デバイスの作動及びプロセスを指すと認識される。

【0034】

本実施例は、本明細書の動作を実行するための装置にも関する。この装置は、求められる目的のために特別に構築されうるか、又はコンピュータに記憶されたコンピュータプログラムによって選択的に作動するか若しくは再構成される汎用コンピュータを備えうる。このようなコンピュータプログラムは、読み出し専用メモリ（ＲＯＭ）、ランダムアクセスメモリ（ＲＡＭ）、ＥＰＲＯＭ、ＥＥＰＲＯＭ、フラッシュメモリ、磁気カード若しくは光カード、フロッピーディスクと、光ディスクと、ＣＤ－ＲＯＭと、磁気－光ディスクとを含む任意の種類のディスク、又は電子命令を記憶するのに適した任意の種類の媒体などであり（ただしそれらに限定されない）、その各々がコンピュータシステムの相互接続に接続される、コンピュータ可読記憶媒体に記憶されうる。

【0035】

本明細書に提示されるアルゴリズム及びディスプレイは、いかなる特定のコンピュータ又はその他の装置にも本質的に関連していない。様々な汎用システムが、本明細書の教示内容に従ってプログラムと共に使用され、又は求められる方法工程を実行するために、より専門的な装置を構築することが便宜にかなうと分かることもある。様々なこれらのシステムの構造は、上記の説明から明らかになるだろう。加えて、本開示の例は、何らかの特定のプログラミング言語に関連して説明されているのではなく、ゆえに、様々な例が多様なプログラミング言語を使用して実装されうる。

【0036】

より詳細に説明するように、本開示の実施形態は、安定化時間を短縮する能力、及び安定化時間にわたり全ピッチ１０１の変化を補償する露光パターンをフォトレジストに書き込む能力のうちの少なくとも１つに関するリソグラフィアプリケーションに関する。本明細書に記載の実施形態は、ソフトウェアアプリケーションプラットフォームに関する。ソフトウェアアプリケーションプラットフォームは、安定化時間を短縮すること、及び安定化時間にわたり全ピッチ１０１の変化を補償する露光パターンをフォトレジストに書き込むことのうちの少なくとも１つの方法を含む。

【0037】

図７Ａ及び図７Ｂは、一対の軌道１２４を所定の温度に維持するために冷却器システム３００を利用しない、期間７０２にわたるシステム１００の安定化時間７０１及び安定化温度７０６を示すグラフである。本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる、図７Ａ及び図７Ｂに示す、１つの実施形態では、熱交換器は、一対の軌道をシステム温度に維持する。システム温度は、期間７０２の間にシステム１００の構成要素の同一温度であり、例えば、約２１℃から約２３℃である。図７Ａ及び図７Ｂは、エンコーダ１２７の第１のエンコーダ７１０、エンコーダ１２７の第３のエンコーダ７１２、一対の軌道１２４の磁気チャネル３０１、スラブ１２０、及びブリッジ１６３のブリッジ７１４に位置する温度検出器１０９によって測定されたシステム１００の温度を示す。本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる、図７Ａ及び図７Ｂに示す、１つの実施形態では、期間７０２にわたって、安定化温度７０６に達するまで、１つ又は複数のアイドルプロセスレシピがシステム１００によって実行される。本明細書で更に詳細に説明される別の実施形態では、期間７０２にわたって、１つ又は複数のプロセスレシピの第１のシーケンスがシステム１００によって実行され、リソグラフィプロセスの方法９００の安定化時間にわたる全ピッチ１０１の変化のベースラインが得られる。方法９００は、パターンデータの補償されたパターンデータを処理ユニット１６４に提供する。補償されたパターンデータは、フォトレジストに書き込まれる補償されたパターンデータの露光パターンにオーバーレイエラーがないように、安定化時間にわたる全ピッチ１０１の変化を考慮する。

【0038】

１つ又は複数のアイドルプロセスは、１つ又は複数のステージ１３０に対して最大スキャン速度を有する。本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる実施形態では、最大走査速度は、約１００ミリメートル／秒（ｍｍ／秒）から約４００ｍｍ／秒である。図７Ａの最大走査速度は約３００ｍｍ／秒であり、図７Ｂの最大走査速度は約２００ｍｍ／秒である。安定化時間７０１は、初期温度７０４から安定化温度７０６までの時間の持続期間である。安定化温度７０６は、温度検出器１０９の各々によって測定された温度が、期間７０２にわたる最終温度７０８の－０．１℃から約０．１℃内、即ち±０．１℃内にある点に対応する。図７Ａの安定化時間７０１は約１０．２５時間であり、図７Ｂの安定化時間７０１は約２．５時間である。

【0039】

図８は、リソグラフィプロセスの方法８００のフロー図である。方法８００は、スループットを増加させるために安定化時間７０１を減少させる。図７Ｃ及び７Ｄは、方法８００中の期間７０２にわたるシステム１００の安定化時間７０１及び安定化温度７０６を示すグラフである。方法８００は、冷却器システム３００を利用して、一対の軌道１２４を所定の温度に維持する。所定の温度は、システム温度より低い。工程８０１において、１つ又は複数のアイドルプロセスレシピがシステム１００によって実行される。工程８０１の間、冷却器システム３００は、一対の軌道１２４をシステム温度よりも低い所定の温度に維持する。冷却器３０４は、各流体チャネル３０２を通って循環される流体を供給する。本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる１つの実施形態では、所定の温度は、約１０℃から約２１℃である。最大走査速度が約３００ｍｍ／秒である、図７Ｃの安定化時間７０１は、約２．５時間であり、最大走査速度が約２００ｍｍ／秒である、図７Ｄにおける安定化時間７０１は、約１時間である。本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる１つの実施形態では、方法８００は、安定化時間７０１を約７０％から約９０％減少させる。方法８００の後に、１つ又は複数のプロセスレシピのシーケンスが実行されうる。

【0040】

図９は、リソグラフィプロセスの方法９００のフロー図である。方法９００は、安定化時間７０１にわたる全ピッチ１０１の変化を補償する露光パターンを基板１４０上のフォトレジストに書き込む能力を提供する。したがって、１つ又は複数のプロセスレシピのシーケンスは、安定化温度７０６に到達するために１つ又は複数のアイドルプロセスレシピを実行することなく、実行されうる。工程９０１で、１つ又は複数のプロセスレシピの第１のシーケンスが、システム１００によって実行される。１つ又は複数のプロセスレシピの第１のシーケンスは、安定化時間７０１にわたる全ピッチ１０１の変化のベースラインを得る。１つ又は複数のプロセスレシピの第１のシーケンスにおいて、処理ユニット１６４は、コントローラ１９０からパターンデータを受信し、マスクパターンデータに対応する露光パターンにフォトレジストを露光する。本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる１つの実施形態では、工程９０１中に、冷却器システム３００は、一対の軌道１２４を所定の温度に維持する。工程９０１の後に、第１の基板の全ピッチ１０１と、露光パターンの書き込まれた露光パターンのオーバーレイエラーとが測定される。本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる１つの実施形態では、検査システムは、全ピッチ１０１及びオーバーレイエラーを測定し、コントローラ１９０に提供する。コントローラ１９０は、全ピッチ１０１及びオーバーレイエラーを受信し、補償されたパターンデータを処理ユニット１６４に提供する。本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる別の実施形態では、期間７０２にわたって温度検出器１０９により測定されたシステム１００の温度は、コントローラ１９０によって収集され、コントローラ１９０は、その温度に基づいて補償されたパターンデータを生成する。工程９０２では、１つ又は複数のプロセスレシピの少なくとも第２のシーケンスがシステム１００によって実行される。１つ又は複数のプロセスレシピの第２のシーケンスでは、処理ユニット１６４は、コントローラ１９０から補償されたパターンデータを受信し、補償されたパターンデータに対応する補償された露光パターンにフォトレジストを露光する。補償されたパターンデータは、第２の基板のフォトレジストに書き込まれる補償された露光パターンにオーバーレイエラーがないように、安定化時間にわたって全ピッチ１０１の変化を考慮する。本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる１つの実施形態では、工程９０２中に、冷却器システム３００は、一対の軌道１２４を所定の温度に維持する。

【0041】

要約すると、リソグラフィプロセスのシステム、ソフトウェアアプリケーション、及び方法は、安定化時間を短縮させる能力、及び安定化時間にわたる全ピッチの変化を補償する露光パターンを基板上のフォトレジストに書き込む能力のうちの少なくとも１つを提供する。熱交換の利用は、一対の軌道を所定の温度に維持し、これは一対の軌道の温度プロファイルを制御して安定化温度を制御し、システムの安定化時間を短縮するのに役立つ。温度検出器の利用は、１つ又は複数のプロセスレシピの第１のシーケンスに対応する期間にわたって、システムの温度に基づく補償されたパターンデータの生成を提供する。したがって、１つ又は複数のプロセスレシピの少なくとも１つの第２のシーケンスは、安定化時間にわたる全ピッチの変化を考慮する補償された露光パターンを用いてシステムによって実行されうる。

【0042】

上記は、本開示の実施例を対象としているが、本開示の他の実施例及び更なる実施例が、本開示の基本的な範囲から逸脱することなく考案されてもよく、本開示の範囲は、以下の特許請求の範囲によって決定される。

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7A】

【図7B】

【図7C】

【図7D】

【図8】

【図9】

【手続補正書】

【提出日】2023-12-06

【手続補正1】

【補正対象書類名】特許請求の範囲

【補正対象項目名】全文

【補正方法】変更

【補正の内容】

【特許請求の範囲】

【請求項1】

システムであって、
スラブと、
前記スラブの上方に配置され、基板を支持するように構成されたステージであって、当該ステージが一対の軌道に沿って移動するように動作可能な電気モータを有するステージと、
前記スラブ上に配置され且つ前記スラブに連結された一対の支持体であって、前記一対の軌道を支持し且つ前記一対の軌道に連結された一対の支持体と、
処理装置と
を備え、
前記軌道のそれぞれが、前記軌道の内部に配置された少なくとも１つの流体チャネルを有し、各流体チャネルが、コントローラに連結された冷却システムの冷却器に接続される入口及び出口を有し、
前記処理装置が、
前記スラブに連結され、前記ステージがその下を通過するための開口部を有する装置支持体、及び
前記装置支持体によって支持され、複数の画像投影システムを有する処理ユニット
を有し、前記処理ユニットが、第１パターンデータ及び第２パターンデータを前記処理ユニットに提供するように構成された前記コントローラに連結され、
前記コントローラが、各流体チャネルを通って循環される流体の流量及び所定の温度を制御するように、且つ前記システムが安定化温度で維持されるまで１つ又は複数のアイドルレシピの前記第１パターンデータを提供するように動作可能であり、
前記コントローラが、前記システムが前記安定化温度で維持されると、１つ又は複数のアイドルレシピの前記第２パターンデータを提供するように動作可能である、システム。

【請求項2】

前記スラブ、前記装置支持体、及び前記一対の軌道の少なくとも１つの軌道のうちの１つ又は複数に位置する１つ又は複数の温度検出器を更に備える、請求項１に記載のシステム。

【請求項3】

前記装置支持体が、
前記スラブ上に配置された２つの立設部と、
前記立設部によって支持された３つ以上のブリッジであって、前記立設部及びブリッジは、前記ステージがその下を通過するための前記開口部を形成し、各画像投影システムが、隣接するブリッジ上に配置される、３つ以上のブリッジと
を備え、
前記コントローラに連結された前記１つ又は複数の温度検出器が、前記立設部及び前記ブリッジに位置する、請求項２に記載のシステム。

【請求項4】

前記一対の軌道が一対の磁気チャネルであり、前記ステージが、前記一対の磁気チャネルに沿って前記ステージを移動させるための力を提供する電動モータを含み、
前記コントローラに連結された前記１つ又は複数の温度検出器は、前記一対の磁気チャネルの少なくとも１つの磁気チャネルに隣接して配置された１つ又は複数のエンコーダに隣接して位置する、請求項２に記載のシステム。

【請求項5】

前記エンコーダが、前記処理ユニットに対する前記ステージ上のそれぞれの位置を提供するように構成される、請求項４に記載のシステム。

【請求項6】

前記温度検出器が、抵抗温度検出器（ＲＴＤ）である、請求項４に記載のシステム。

【請求項7】

前記画像投影システムが空間光変調器を備え、前記空間光変調器が、マイクロＬＥＤ、ＯＬＥＤ、デジタルマイクロミラーデバイス（ＤＭＤ）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、及び垂直キャビティ面発光レーザ（ＶＣＳＥＬ）からなる群から選択される、請求項１に記載のシステム。

【請求項8】

デジタルリソグラフィシステムが安定化温度になるまで、基板上で１つ又は複数のプロセスレシピの第１シーケンスを実行することであって、前記１つ又は複数のプロセスレシピのパターンデータを前記デジタルリソグラフィシステムの処理ユニットに提供することを含む、第１シーケンスを実行することと、
スラブ、前記処理ユニットの装置支持体、及び前記デジタルリソグラフィシステムの一対の軌道の少なくとも１つの軌道のうちの１つ又は複数に位置する１つ又は複数の温度検出器で、前記第１シーケンスの間に前記デジタルリソグラフィシステムの温度を測定することと、
前記第１シーケンスの間に測定された温度を、前記１つ又は複数の温度検出器に連結されたコントローラに提供することと、
補償されたパターンデータを生成することと
を含み、
前記コントローラが、前記測定された温度に基づいて前記補償されたパターンデータを生成する、方法。

【請求項9】

前記補償されたパターンデータを前記処理ユニットに提供することを更に含む、請求項８に記載の方法。

【請求項10】

前記補償されたパターンデータが前記１つ又は複数のプロセスレシピの第２シーケンスを含む、請求項９に記載の方法。

【請求項11】

１つ又は複数のアイドルプロセスレシピの第１パターンデータをデジタルリソグラフィシステムの処理ユニットに提供することと、
前記デジタルリソグラフィシステムが安定化温度で維持されるまで前記１つ又は複数のアイドルプロセスレシピを実行することと
を含み、
前記デジタルリソグラフィシステムが、
スラブ上に配置され且つ前記スラブに連結された一対の支持体であって、一対の軌道を支持し且つ前記一対の軌道に連結された一対の支持体
を含み、
前記軌道のそれぞれが、前記軌道の内部に配置された少なくとも１つの流体チャネルを有し、各流体チャネルが、コントローラに連結された冷却システムの冷却器に接続される入口及び出口を有し、
前記コントローラが、各流体チャネルを通って循環される流体の流量及び所定の温度を制御し、且つ前記デジタルリソグラフィシステムが前記安定化温度で維持されるまで前記１つ又は複数のアイドルプロセスレシピの前記第１パターンデータを前記処理ユニットに提供する、方法。

【請求項12】

前記デジタルリソグラフィシステムが前記安定化温度で維持されると、１つ又は複数のプロセスレシピを実行することを更に含む、請求項１１に記載の方法。

【請求項13】

前記コントローラが、前記デジタルリソグラフィシステムが前記安定化温度で維持されると、前記１つ又は複数のプロセスレシピの第２パターンデータを提供する、請求項１２に記載の方法。

【請求項14】

前記１つ又は複数のアイドルプロセスレシピが、ステージに対する最大スキャン速度を有する、請求項１１に記載の方法。

【外国語明細書】