特開 2024-25023 放射性同位体精製装置、及び放射性同位体精製方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2024025023

(43)【公開日】2024-02-26

(54)【発明の名称】放射性同位体精製装置、及び放射性同位体精製方法

(51)【国際特許分類】

   B01D 59/26 20060101AFI20240216BHJP

   B01J 20/26 20060101ALI20240216BHJP

   B01J 20/34 20060101ALI20240216BHJP

   B01D 15/00 20060101ALI20240216BHJP

【ＦＩ】

B01D59/26

B01J20/26 E

B01J20/34 G

B01D15/00 N

【審査請求】未請求

【請求項の数】12

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2022128110

(22)【出願日】2022-08-10

(71)【出願人】

【識別番号】000002107

【氏名又は名称】住友重機械工業株式会社

(71)【出願人】

【識別番号】301032942

【氏名又は名称】国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構

(71)【出願人】

【識別番号】504173471

【氏名又は名称】国立大学法人北海道大学

(71)【出願人】

【識別番号】509013703

【氏名又は名称】公立大学法人福島県立医科大学

(74)【代理人】

【識別番号】100088155

【弁理士】

【氏名又は名称】長谷川 芳樹

(74)【代理人】

【識別番号】100113435

【弁理士】

【氏名又は名称】黒木 義樹

(74)【代理人】

【識別番号】100162640

【弁理士】

【氏名又は名称】柳 康樹

(72)【発明者】

【氏名】染 佳梨子

(72)【発明者】

【氏名】上野 悟史

(72)【発明者】

【氏名】小田 敬

(72)【発明者】

【氏名】樋口 博紀

(72)【発明者】

【氏名】ゲラゴメズ フランシスコ

(72)【発明者】

【氏名】永津 弘太郎

(72)【発明者】

【氏名】峯岸 克行

(72)【発明者】

【氏名】久下 裕司

(72)【発明者】

【氏名】高橋 和弘

(72)【発明者】

【氏名】西嶋 剣一

【テーマコード（参考）】

4D017

4G066

【Ｆターム（参考）】

4D017AA01

4D017BA13

4D017BA15

4D017CA13

4D017DA01

4D017DB10

4G066AA34D

4G066AB19B

4G066AC22B

4G066CA12

4G066CA46

4G066GA11

(57)【要約】      （修正有）

【課題】不純物が少ない放射性同位体を精製できる放射性同位体精製装置、及び放射性同位体精製方法を提供できる。
【解決手段】保持離脱部３は、放射性同位体を第１の樹脂材料にて保持する。これにより、放射性同位体は、放射性同位体含有溶液に含まれる不純物から分離される。次に、流体供給部１は、保持離脱部３へ保持された放射性同位体を抽出する抽出溶液を供給する。これにより、放射性同位体は、不純物を除去された状態にて、保持離脱部３から離脱して回収可能となる。保持離脱部３は、リン－酸素結合を有する化合物を含む第１の樹脂材料によって、放射性同位体を保持及び離脱させる。第１の樹脂材料がリン－酸素結合を有する化合物を含むことで、放射性同位体に混入する不純物を低減して、少ない抽出溶液の量で放射性同位体を抽出することが可能となる。
【選択図】図１

【特許請求の範囲】

【請求項1】

放射性同位体としてＧａ－６８を精製する放射性同位体精製装置であって、リン－酸素結合を有する化合物を含む第１の樹脂材料によって、前記放射性同位体を保持及び離脱させる保持離脱部を備え、
前記保持離脱部へ前記放射性同位体を含む放射性同位体含有溶液を前記保持離脱部へ供給し、前記保持離脱部へ保持された前記放射性同位体を抽出する抽出溶液を供給する、放射性同位体精製装置。

【請求項2】

前記第１の樹脂材料は、「（Ｒ_１Ｏ）（Ｒ_２Ｏ）（Ｒ_３Ｏ）ＰＯ」の化合物を有し、Ｒ_１，Ｒ_２，Ｒ_３が、炭素数２～８の直鎖アルキル基、炭素数３～８の分岐アルキル基、不飽和結合を有する炭素数３～８の炭化水素基、または芳香族基である、請求項１に記載の放射性同位体精製装置。

【請求項3】

前記第１の樹脂材料は、リン酸トリブチル（ＴＢＰ）、ジアミルアミルホスホン酸（ＤＡ[ＡＰ]）、トリオクチルホスフィンオキシド（ＴＯＰＯ）、リン酸ビス（２－エチルヘキシル）（ＨＤＥＨＰ）、２－エチルヘキシルホスホン酸－２－エチルヘキシル（ＨＥＨ［ＥＨＰ］）、ビス（２,４,４－トリメチルペンチル）ホスフィン酸（Ｈ［ＤＴＭＰＰ］）の何れかの化合物を有する、請求項１に記載の放射性同位体精製装置。

【請求項4】

前記第１の樹脂材料は、リン酸トリブチルの化合物を有する、請求項１に記載の放射性同位体精製装置。

【請求項5】

前記保持離脱部から離脱された前記放射性同位体を含む前記抽出溶液の酸性度を調整する酸性度調整部を更に備える、請求項１に記載の放射性同位体精製装置。

【請求項6】

前記放射性同位体含有溶液は、前記抽出溶液よりも酸の濃度が高い、請求項１に記載の放射性同位体精製装置。

【請求項7】

前記保持離脱部へ前記抽出溶液を供給する前に、前記抽出溶液よりも酸の濃度が高い洗浄液を供給する、請求項１に記載の放射性同位体精製装置。

【請求項8】

前記放射性同位体含有溶液、及び前記抽出溶液はそれぞれ塩酸溶液であり、前記放射性同位体含有溶液は、３Ｍ～１２Ｍの濃度を有する、請求項４に記載の放射性同位体精製装置。

【請求項9】

前記放射性同位体含有溶液、及び前記抽出溶液はそれぞれ塩酸溶液であり、前記抽出溶液は、０．１Ｍ～２Ｍの濃度を有する、請求項４に記載の放射性同位体精製装置。

【請求項10】

前記第１の樹脂材料は０．１ｍＬ～２．０ｍＬの容量を有すると共にリン酸トリブチルの化合物を有し、前記洗浄液は３～１０Ｍの濃度を有する塩酸溶液であり、前記洗浄液の量は１０ｍＬ以上である、請求項７に記載の放射性同位体精製装置。

【請求項11】

前記放射性同位体溶液に含有される前記放射性同位体は、加速器を用いて製造された、請求項１に記載の放射性同位体精製装置。

【請求項12】

放射性同位体としてＧａ－６８を精製する放射性同位体精製方法であって、
リン－酸素結合を有する化合物を含む第１の樹脂材料によって、前記放射性同位体を保持及び離脱させ、
前記放射性同位体を含む放射性同位体含有溶液を前記第１の樹脂材料へ供給し、
前記第１の樹脂材料で保持された前記放射性同位体を抽出する抽出溶液を供給する、
放射性同位体精製方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、放射性同位体精製装置、及び放射性同位体精製方法に関する。

【背景技術】

【0002】

例えば、病院等でのＰＥＴ検査（ポジトロン断層撮影検査）等に使用される放射性同位体標識化合物が用いられる。このような標識化合物に用いられる放射性同位体としてＧａ－６８が採用される（特許文献１）。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【特許文献1】特表２０２０－５２９１１５号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

Ｇａ－６８は、例えば、サイクロトロンにて固体ターゲットに粒子線を照射して、^６８Ｚｎ（ｐ，ｎ）^６８Ｇａの核反応により製造される。従って、この固体ターゲットを溶解したＧａ－６８を含有する溶液の中には、ターゲット材料（Ｚｎ－６８）や環境中からの金属イオン（代表的にはＦｅイオン）が混入する可能性がある。製造されたＧａ－６８の物質量は非常に少ないため、他の金属イオンが混入することにより後の工程に悪影響を及ぼす懸念がある。

【0005】

従って、本発明は、不純物が少ない放射性同位体を精製できる放射性同位体精製装置、及び放射性同位体精製方法を提供することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0006】

本発明の一側面に係る放射性同位体精製装置は、放射性同位体としてＧａ－６８を精製する放射性同位体精製装置であって、リン－酸素結合を有する化合物を含む第１の樹脂材料によって、放射性同位体を保持及び離脱させる保持離脱部を備え、保持離脱部へ放射性同位体を含む放射性同位体含有溶液を保持離脱部へ供給し、保持離脱部へ保持された放射性同位体を抽出する抽出溶液を供給する。

【0007】

放射性同位体精製装置は、保持離脱部へ放射性同位体を含む放射性同位体含有溶液を保持離脱部へ供給する。これにより、保持離脱部は、放射性同位体を第１の樹脂材料にて保持する。これにより、放射性同位体は、放射性同位体含有溶液に含まれる不純物から分離される。次に、放射性同位体精製装置は、保持離脱部へ保持された放射性同位体を抽出する抽出溶液を供給する。これにより、放射性同位体は、不純物を除去された状態にて、保持離脱部から離脱して回収可能となる。ここで、保持離脱部は、リン－酸素結合を有する化合物を含む第１の樹脂材料によって、放射性同位体を保持及び離脱させる。第１の樹脂材料がリン－酸素結合を有する化合物を含むことで、放射性同位体に混入する不純物を低減して、少ない抽出溶液の量で放射性同位体を抽出することが可能となる。以上より、不純物が少ない放射性同位体を精製できる。

【0008】

第１の樹脂材料は、「（Ｒ_１Ｏ）（Ｒ_２Ｏ）（Ｒ_３Ｏ）ＰＯ」の化合物を有し、Ｒ_１，Ｒ_２，Ｒ_３が、炭素数２～８の直鎖アルキル基、炭素数３～８の分岐アルキル基、不飽和結合を有する炭素数３～８の炭化水素基、または芳香族基であってよい。この場合、放射性同位体に混入する不純物を低減して、少ない抽出溶液の量で放射性同位体を抽出することが可能となる。

【0009】

第１の樹脂材料は、リン酸トリブチル（ＴＢＰ）、ジアミルアミルホスホン酸（ＤＡ[ＡＰ]）、トリオクチルホスフィンオキシド（ＴＯＰＯ）、リン酸ビス（２－エチルヘキシル）（ＨＤＥＨＰ）、２－エチルヘキシルホスホン酸－２－エチルヘキシル（ＨＥＨ［ＥＨＰ］）、ビス（２,４,４－トリメチルペンチル）ホスフィン酸（Ｈ［ＤＴＭＰＰ］）の何れかの化合物を有してよい。この場合、放射性同位体に混入する不純物を低減して、少ない抽出溶液の量で放射性同位体を抽出することが可能となる。

【0010】

第１の樹脂材料は、リン酸トリブチル（ＴＢＰ）の化合物を有してよい。この場合、保持離脱部として特に好ましい化合物を採用することで、放射性同位体に混入する不純物を低減して、少ない抽出溶液の量で放射性同位体を抽出することが可能となる。

【0011】

放射性同位体精製装置は、保持離脱部から離脱された放射性同位体を含む前記抽出溶液の酸性度を調整する酸性度調整部を更に備えてよい。この場合、酸性度調整部にて、放射性同位体の酸性度をＧａ標識化合物の合成に適したものとすることができる。

【0012】

放射性同位体含有溶液は、抽出溶液よりも酸の濃度が高くてよい。放射性同位体含有溶液の酸の濃度は、第１の樹脂材料に対して放射性同位体を保持可能な濃度であり、抽出溶液の濃度は、第１の樹脂材料から放射性同位体を溶離可能な濃度である。これにより、放射性同位体含有溶液を第１の樹脂材料へ供給する際、リン－酸素結合を有する化合物を含む第１の樹脂材料に対して放射性同位体が良好に保持されつつ、不純物が分離され、その後、第１樹脂材料に保持されている放射性同位体を良好に精製できる。

【0013】

保持離脱部へ抽出溶液を供給する前に、抽出溶液よりも酸の濃度が高い洗浄液を供給してよい。洗浄液の酸の濃度は、第１の樹脂材料から放射性同位体を保持可能な酸の濃度であり、抽出溶液の濃度は、第１の樹脂材料から放射性同位体を溶離可能な濃度である。これにより、洗浄液で第１の樹脂材料を洗浄する際、リン－酸素結合を有する化合物を含む第１の樹脂材料に対して放射性同位体が良好に保持されつつ、放射性同位体含有溶液由来の不純物を除去し、その後、第１樹脂材料に保持されている放射性同位体を良好に精製できる。

【0014】

放射性同位体含有溶液、及び抽出溶液はそれぞれ塩酸溶液であり、放射性同位体含有溶液は、３Ｍ～１２Ｍの濃度を有してよい。これにより、リン－酸素結合を有する化合物を含む第１の樹脂材料に対して放射性同位体が良好に保持される。

【0015】

放射性同位体含有溶液、及び抽出溶液はそれぞれ塩酸溶液であり、抽出溶液は、０．１Ｍ～２Ｍの濃度を有してよい。これにより、リン－酸素結合を有する化合物を含む第１の樹脂材料に対して保持された放射性同位体を良好に離脱させることができる。

【0016】

第１の樹脂材料は０．１ｍＬ～２．０ｍＬの容量を有すると共にリン酸トリブチルの化合物を有し、洗浄液は３～１０Ｍの濃度を有する塩酸溶液であり、洗浄液の量は１０ｍＬ以上であってよい。この場合、第１の樹脂材料から良好に不純物を除去できる。

【0017】

放射性同位体溶液に含有される放射性同位体は、加速器を用いて製造されてよい。この場合、高い収量にて必要な時に必要量の放射性同位体を得ることができる。

【0018】

本発明の一側面に係る放射性同位体精製方法は、放射性同位体としてＧａ－６８を精製する放射性同位体精製方法であって、リン－酸素結合を有する化合物を含む第１の樹脂材料によって、放射性同位体を保持及び離脱させ、放射性同位体を含む放射性同位体含有溶液を第１の樹脂材料へ供給し、第１の樹脂材料で保持された放射性同位体を抽出する抽出溶液を供給する。

【0019】

この放射性同位体精製方法によれば、上述の放射性同位体精製装置と同趣旨の作用・効果を得ることができる。

【発明の効果】

【0020】

本発明によれば、不純物が少ない放射性同位体を精製できる放射性同位体精製装置、及び放射性同位体精製方法を提供できる。

【図面の簡単な説明】

【0021】

【図1】本発明の一実施形態に係る放射性同位体精製装置を示す概略構成図である。

【図2】放射性同位体精製装置による精製方法を示す図である。

【図3】各工程における放射性同位体精製装置での流体の流れを示す概略構成図である。

【図4】各工程における放射性同位体精製装置での流体の流れを示す概略構成図である。

【図5】各工程における放射性同位体精製装置での流体の流れを示す概略構成図である。

【図6】各工程における放射性同位体精製装置での流体の流れを示す概略構成図である。

【図7】各工程における放射性同位体精製装置での流体の流れを示す概略構成図である。

【図8】第１の樹脂材料の化合物の化学構造の一例を示す図である。

【図9】実験結果を示すグラフである。

【図10】加速器を用いた放射性同位体精製システムを含む放射性薬剤生成システムの概念図である。

【図11】ジェネレータを用いた放射性薬剤生成システムの概念図である。

【発明を実施するための形態】

【0022】

以下、添付図面を参照しながら本発明の一実施形態に係る放射性同位体精製装置について説明する。なお、図面の説明において同一の要素には同一の符号を付し、重複する説明を省略する。

【0023】

図１は、本発明の一実施形態に係る放射性同位体精製装置１００を示す概略構成図である。放射性同位体精製装置１００は、放射性同位体としてＧａ－６８を精製する装置である。放射性同位体精製装置１００は、流体供給部１と、流体制御部２と、保持離脱部３と、廃液回収部４と、酸性度調整部６と、溶液回収部７と、を備える。なお、放射性同位体精製装置には、合成装置に設けられた放射性同位体精製機能を有する装置も含まれる。

【0024】

流体供給部１は、流体制御部２を介して、保持離脱部３及び酸性度調整部６へ流体を供給する。流体供給部１は、第１の供給部１１、第２の供給部１２、第３の供給部１３、第４の供給部１４、及び第５の供給部１５を備える。

【0025】

第１の供給部１１は、放射性同位体を含む放射性同位体含有溶液を保持離脱部３へ供給する。第１の供給部１１は、放射性同位体含有溶液を収容するバイアルによって構成される。また、第１の供給部１１には、窒素などの圧送ガスが供給されるラインＬ１が接続される。第１の供給部１１には、上流側のサイクロトロン（固体ターゲット）から回収した放射性同位体含有溶液を輸送するラインＬ２が接続される。第１の供給部１１には、流体制御部２へ放射性同位体含有溶液を供給するラインＬ３が接続される。放射性同位体含有溶液は、酸を含む水溶液であり、酸は、例えば、塩酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、硝酸、等から選択される。

【0026】

第２の供給部１２は、洗浄液を保持離脱部３へ供給する。第２の供給部１２は、洗浄液を収容するバイアルによって構成される。洗浄液として、例えば濃塩酸（６Ｍ塩酸）などが採用される。また、第２の供給部１２には、流体制御部２へ洗浄液を供給するラインＬ４が接続される。第３の供給部１３は、抽出溶液を保持離脱部３へ供給する。第３の供給部１３は、抽出溶液を収容するバイアルによって構成される。抽出溶液として、例えば希塩酸（０．５Ｍ塩酸）などが採用される。また、第３の供給部１３には、流体制御部２へ抽出溶液を供給するラインＬ５が接続される。

【0027】

第４の供給部１４は、洗浄液を酸性度調整部６へ供給する。第４の供給部１４は、洗浄液を収容するバイアルによって構成される。洗浄液として、例えば希塩酸（０．５Ｍ塩酸）などが採用される。また、第４の供給部１４には、流体制御部２へ洗浄液を供給するラインＬ６が接続される。第５の供給部１５は、抽出溶液を酸性度調整部６へ供給する。第５の供給部１５は、抽出溶液を収容するバイアルによって構成される。抽出溶液として、例えば希塩酸（０．１Ｍ塩酸）などが採用される。また、第５の供給部１５には、流体制御部２へ抽出溶液を供給するラインＬ７が接続される。

【0028】

保持離脱部３は、第１の樹脂材料によって、放射性同位体を保持及び離脱させる。保持離脱部３は、第１の樹脂材料をカラムに収容することによって構成される。保持離脱部３の入口部には、流体制御部２からのラインＬ８が接続され、出口部には、流体制御部２へ延びるラインＬ９が接続される。

【0029】

保持離脱部３は、流体供給部１の第１の供給部１１から供給された放射性同位体含有溶液を供給されることで、当該放射性同位体含有溶液に含まれる放射性同位体を、第１の樹脂材料に保持する。保持離脱部３は、放射性同位体含有溶液に含まれる不純物（ターゲット材に含まれるＺｎ等の不純物）を溶液と共に通過させてラインＬ９へ流す。保持離脱部３は、流体供給部１の第２の供給部１２から供給された洗浄液を供給されることで、残存している不純物を離脱させて、洗浄液と共にラインＬ９へ流す。保持離脱部３から流れた不純物は、流体制御部２を介して廃液回収部４にて回収される。

【0030】

また、保持離脱部３は、流体供給部１の第３の供給部１３から供給された抽出溶液を供給されることで、保持している放射性同位体を離脱させて、抽出溶液と共にラインＬ９へ流す。保持離脱部３から離脱した放射性同位体は、流体制御部２を介して酸性度調整部６へ供給される。

【0031】

第１の供給部１１から供給される放射性同位体含有溶液、及び第２の供給部１２から供給される洗浄液は、第３の供給部１３から供給される抽出溶液よりも酸の濃度が高い。放射性同位体含有溶液および洗浄液は、放射性同位体を第１の樹脂材料に保持させるために、高い酸の濃度を有する。一方、抽出溶液は、保持離脱部３から放射性同位体を離脱させるため、比較的低い酸の濃度を有する。

【0032】

放射性同位体含有溶液、洗浄液、および抽出溶液がそれぞれ塩酸溶液である場合、放射性同位体含有溶液、および洗浄液は、例えば、３～１２Ｍ、好ましくは６～１０Ｍの濃度を有する。３Ｍ以上であることにより、リン－酸素結合を有する化合物を含む第１の樹脂材料に対して放射性同位体が保持される。抽出溶液は、例えば、０．１～２Ｍ、好ましくは０．１～０．５Ｍの濃度を有する。これにより、リン－酸素結合を有する化合物を含む第１の樹脂材料に対して保持された放射性同位体を離脱させることができる。

【0033】

保持離脱部３に使用される第１の樹脂材料は０．１ｍＬ～２．０ｍＬの容量を有し、好ましくは０．３ｍＬの容量を有する。この保持離脱部３の洗浄に使用する洗浄液の濃度は３～１０Ｍであり、好ましくは６Ｍである。０．３ｍＬの容量の第１の樹脂材料を使用し、洗浄液を６Ｍの塩酸とした時、その洗浄液量は１０ｍＬ以上が必要であり、好ましくは１０ｍＬである。

【0034】

酸性度調整部６は、保持離脱部３から離脱された放射性同位体を含む抽出溶液の酸性度を調整する。例えば、本実施形態における放射性同位体の精製後の放射性同位体溶液が、薬剤合成するのに好適な反応溶液の水素イオン濃度（ｐＨ）となるように、酸性度調整部６を用いて調整が行うことができる。酸性度調整部６は、第２の樹脂をカラムに収容することによって構成される。酸性度調整部６の入口部には、流体制御部２からのラインＬ１１が接続され、出口部には、流体制御部２へ延びるラインＬ１２が接続される。

【0035】

酸性度調整部６は、保持離脱部３から供給された放射性同位体を含む抽出溶液を供給されることで、当該抽出溶液に含まれる放射性同位体を、第２の樹脂材料に保持する。酸性度調整部６は、抽出溶液に含まれる不純物を抽出溶液と共に通過させてラインＬ１２へ流す。酸性度調整部６は、流体供給部１の第４の供給部１４から供給された洗浄液を供給されることで、残存している不純物を離脱させて、洗浄液と共にラインＬ１２へ流す。酸性度調整部６から流れた不純物は、流体制御部２を介して廃液回収部４にて回収される。

【0036】

また、酸性度調整部６は、流体供給部１の第５の供給部１５から供給された抽出溶液を供給されることで、目的物である放射性同位体であるＧａ－６８を標識反応に適した酸性度のＧａ－６８塩酸溶液としてラインＬ１２へ流す。酸性度調整部６から溶出した放射性同位体の溶液は、流体制御部２を介して溶液回収部７へ供給される。

【0037】

廃液回収部４は、保持離脱部３からの廃液、及び酸性度調整部６からの廃液を回収する。廃液回収部４は、廃液を収容するバイアルによって構成される。廃液回収部４には、流体制御部２から延びて、保持離脱部３の廃水が供給されるラインＬ１３と、酸性度調整部６の廃水が供給されるラインＬ１４と、が接続される。また、廃液回収部４を減圧するラインＬ１６が接続される。

【0038】

溶液回収部７は、酸性度調整部６からの放射性同位体の溶液を回収する。溶液回収部７は、溶液を収容するバイアルによって構成される。溶液回収部７には、流体制御部２から延びて、酸性度調整部６からの溶液が供給されるラインＬ１７が接続される。また、廃液回収部４を減圧するラインＬ１８が接続される。

【0039】

流体制御部２は、放射性同位体精製装置１００の中における各流体の流れを制御するための装置である。流体制御部２は、複数の弁と、複数のラインを備えており、複数の弁を制御することによって、各ラインにおける流体の流れを制御する。

【0040】

流体制御部２は、第１の供給部１１からのラインＬ３と、保持離脱部３に接続されるラインＬ８と、に接続されるラインＬ２０を有する。ラインＬ２０は、ラインＬ３側から順に、弁ＶＰ３，ＶＰ１，ＶＰ３３，ＶＰ３４に接続される。ラインＬ２０のうち、弁ＶＰ１とＶＰ３３との間からラインＬ２１、及びラインＬ２２が延びる。ラインＬ２１は、弁ＶＰ１７，ＶＰ１８に接続される。ラインＬ２２は、弁ＶＰ２０，ＶＰ２１，ＶＰ２４に接続され、ラインＬ２１に合流する。

【0041】

ラインＬ２３は、第２の供給部１２からのラインＬ４に接続され、弁ＶＰ４に接続され、ラインＬ２０の弁ＶＰ３，ＶＰ１間に接続される。ラインＬ２４は、第３の供給部１３からのラインＬ５に接続され、弁ＶＰ５，ＶＰ２に接続され、ラインＬ２１に合流する。ラインＬ２６は、第４の供給部１４からのラインＬ６に接続され、弁ＶＰ６に接続され、ラインＬ２４の弁ＶＰ５，ＶＰ２間に接続される。ラインＬ２７は、外部のラインＬ１０に接続され、弁ＶＰ８，ＶＰ１９に接続され、ラインＬ２１の弁ＶＰ１８とラインＬ２２の合流部との間に接続される。ラインＬ２８は、第５の供給部１５からのラインＬ７に接続され、弁ＶＰ７に接続され、ラインＬ２７の弁ＶＰ８，ＶＰ１９間に接続される。

【0042】

ラインＬ３１は、ラインＬ２２の弁ＶＰ２０，ＶＰ２１間に接続され、弁ＶＰ２２，ＶＰ３６に接続され、保持離脱部３からのラインＬ９に接続される。ラインＬ３２は、ラインＬ３１の弁ＶＰ２２，ＶＰ３６間に接続され、弁ＶＰ３５に接続され、廃液回収部４へのラインＬ１３に接続される。ラインＬ３３は、ラインＬ２２の弁ＶＰ２１，ＶＰ２４間に接続され、弁ＶＰ２３，ＶＰ３９に接続され、酸性度調整部６へのラインＬ１１に接続される。

【0043】

ラインＬ３６は、酸性度調整部６からのラインＬ１２に接続され、弁ＶＰ４１，ＶＰ４０に接続され、廃液回収部４へのラインＬ１４に接続される。ラインＬ３７は、ラインＬ３６の弁ＶＰ４１，ＶＰ４０間に接続され、弁ＶＰ３０，ＶＰ２８，ＶＰ３１，ＶＰ４２に接続され、溶液回収部７へのラインＬ１７に接続される。

【0044】

図２を参照して、放射性同位体精製装置１００による放射性同位体精製方法について説明する。図２に示すように、まず、保持離脱部３へ放射性同位体含有溶液を充填する（ステップＳ１０）。この場合、図３に示すように、第１の供給部１１が、ラインＬ３、ラインＬ２０、ラインＬ８を介して、放射性同位体含有溶液を保持離脱部３へ供給する（流れＦ１）。放射性同位体溶液中の放射性同位体は保持離脱部３の第１の樹脂材料に保持される。また、不純物を含む溶液は、保持離脱部３を通過して、ラインＬ９、ラインＬ３１、ラインＬ３２、ラインＬ１３を介して、廃液回収部４へ回収される（流れＦ２）。ここでは、第１の供給部１１に窒素を圧送し、廃液回収部４を減圧することで、放射性同位体含有溶液及び廃液を流す。

【0045】

次に、洗浄液で保持離脱部３を洗浄する（ステップＳ２０）。この場合、図４に示すように、第２の供給部１２が、ラインＬ４、ラインＬ２３、ラインＬ２０、ラインＬ８を介して、洗浄液を保持離脱部３へ供給する（流れＦ３）。洗浄液は、保持離脱部３の第１の樹脂材料に保持された不純物を、ラインＬ９、ラインＬ３１、ラインＬ３２、ラインＬ１３を介して、廃液回収部４へ回収される（流れＦ４）。ここでは、廃液回収部４を減圧することで、洗浄液及び廃液を流す。

【0046】

次に、保持離脱部３へ抽出溶液を流して放射性同位体を離脱させて抽出する（ステップＳ３０）と共に、酸性度調整部６へ充填する（ステップＳ４０）。この場合、図５に示すように、第３の供給部１３が、ラインＬ５、ラインＬ２４、ラインＬ２１、ラインＬ２０、ラインＬ８を介して、抽出溶液を保持離脱部３へ供給する（流れＦ５）。抽出溶液は、保持離脱部３の第１の樹脂に保持された放射性同位体を抽出して、ラインＬ９、ラインＬ３１、ラインＬ２２、ラインＬ３３、ラインＬ１１を介して、酸性度調整部６へ供給される（流れＦ６）。放射性同位体は酸性度調整部６で保持されて、不純物は、ラインＬ１２、ラインＬ３６、ラインＬ１４を介して、廃液回収部４へ回収される（流れＦ７）。ここでは、廃液回収部４を減圧することで、抽出溶液及び廃液を流す。

【0047】

次に、洗浄液で酸性度調整部６を洗浄する（ステップＳ５０）。この場合、図６に示すように、第４の供給部１４が、ラインＬ６、ラインＬ２６、ラインＬ２４、ラインＬ２１、ラインＬ２０、ラインＬ２２、ラインＬ３３、ラインＬ１１を介して、洗浄液を酸性度調整部６へ供給する（流れＦ８）。洗浄液は、酸性度調整部６の第２の樹脂に保持された不純物を、ラインＬ１２、ラインＬ３６、ラインＬ１４を介して、廃液回収部４へ回収される（流れＦ９）。ここでは、廃液回収部４を減圧することで、洗浄液及び廃液を流す。

【0048】

次に、酸性度調整部６へ抽出溶液を流して酸性度を調整して放射性同位体を抽出する（ステップＳ６０）。この場合、図７に示すように、第５の供給部１５が、ラインＬ７、ラインＬ２８、ラインＬ２７、ラインＬ２１、ラインＬ２２、ラインＬ３３、ラインＬ１１を介して、抽出溶液を酸性度調整部６へ供給する（流れＦ１０）。抽出溶液は、酸性度調整部６の第２の樹脂に保持された放射性同位体を、ラインＬ１２、ラインＬ３６、ラインＬ３７、ラインＬ１７を介して、溶液回収部７へ回収される（流れＦ１１）。ここでは、溶液回収部７を減圧することで、抽出溶液を流す。

【0049】

次に、第１の樹脂材料について説明する。第１の樹脂材料は、リン－酸素結合を有する化合物を含む。第１の樹脂材料は、不活性支持体にこのような化合物を含浸させたものである。当該化合物は、「（Ｒ_１Ｏ）（Ｒ_２Ｏ）（Ｒ_３Ｏ）ＰＯ」と示したときに、Ｒ_１，Ｒ_２，Ｒ_３が以下のいずれかの基である化合物であってよい。

（ｉ）炭素数２～８の直鎖アルキル基であってよく、より好ましくは、エチル基（炭素数２の直鎖アルキル基）、プロピル基（炭素数３の直鎖アルキル基）、ペンチル基（炭素数５の直鎖アルキル基）、ヘキシル基（炭素数６の直鎖アルキル基）、オクチル基（炭素数８の直鎖アルキル基）を採用してよい。

（ｉｉ）炭素数３～８の分岐アルキル基であってよく、より好ましくは、イソプロピル基（炭素数３の分岐アルキル基）、イソブチル基（炭素数４の分岐アルキル基）を採用してよい。

（ｉＶ）不飽和結合を有する炭素数３～８の炭化水素基であってよい。

（Ｖ）芳香族基であってよく、より好ましくはフェニル基、トリル基であってよい。

【0050】

また、リン－酸素結合を有する化合物を含む第１の樹脂材料は、図８（ａ）に示す化学構造を有するリン酸トリブチル（ＴＢＰ）の化合物を含んでよい。第１の樹脂材料は、図８（ｂ）に示す化学構造を有するジアミルアミルホスホン酸（ＤＡ[ＡＰ]）の化合物を有してよい。第１の樹脂材料は、図８（ｃ）に示す化学構造を有するトリオクチルホスフィンオキシド（ＴＯＰＯ）の化合物を含んでよい。第１の樹脂材料は、図８（ｄ）に示す化学構造を有するリン酸ビス（２－エチルヘキシル）（ＨＤＥＨＰ）の化合物を含んでよい。第１の樹脂材料は、図８（ｅ）に示す化学構造を有する２－エチルヘキシルホスホン酸－２－エチルヘキシル（ＨＥＨ［ＥＨＰ］）の化合物を含んでよい。第１の樹脂材料は、図８（ｆ）に示す化学構造を有するビス（２,４,４－トリメチルペンチル）ホスフィン酸（Ｈ［ＤＴＭＰＰ］）の化合物を含んでよい。図８に示すＲはブチル基である。

【0051】

上述の化合物の内、図８（ａ）に示すリン酸トリブチル（ＴＢＰ）の化合物を含むものを採用することが好ましい。リン酸トリブチルは、「（Ｒ_１Ｏ）（Ｒ_２Ｏ）（Ｒ_３Ｏ）ＰＯ」と示したときに、Ｒ_１，Ｒ_２，Ｒ_３が「ＣＨ_３ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－」である。

【0052】

第２の樹脂材料として、トリオクチルホスフィンオキシド（ＴＯＰＯ）などが採用されてよい。多くの樹脂において、Ｇａ－６８は、１～２Ｍの塩酸では保持されないが、このトリオクチルホスフィンオキシド（ＴＯＰＯ）は、塩酸濃度が１～２Ｍの場合でも樹脂中に十分保持されるという特徴を有する。

【0053】

次に、本実施形態に係る放射性同位体精製装置１００の作用・効果について説明する。

【0054】

放射性同位体精製装置１００は、保持離脱部３へ放射性同位体を含む放射性同位体含有溶液を保持離脱部３へ供給する。これにより、保持離脱部３は、放射性同位体を第１の樹脂材料にて保持する。これにより、放射性同位体は、放射性同位体含有溶液に含まれる不純物から分離される。次に、放射性同位体精製装置１００は、保持離脱部３へ保持された放射性同位体を抽出する抽出溶液を供給する。これにより、放射性同位体は、不純物を除去された状態にて、保持離脱部３から離脱して回収可能となる。ここで、保持離脱部３は、リン－酸素結合を有する化合物を含む第１の樹脂材料によって、放射性同位体を保持及び離脱させる。第１の樹脂材料がリン－酸素結合を有する化合物を含むことで、放射性同位体に混入する不純物を低減して、少ない抽出溶液の量で放射性同位体を抽出することが可能となる。以上より、不純物が少ない放射性同位体を精製できる。

【0055】

第１の樹脂材料は、「（Ｒ_１Ｏ）（Ｒ_２Ｏ）（Ｒ_３Ｏ）ＰＯ」の化合物を有し、Ｒ_１，Ｒ_２，Ｒ_３が、炭素数２～８の直鎖アルキル基、炭素数３～８の分岐アルキル基、不飽和結合を有する炭素数４～８の炭化水素基、または芳香族基であってよい。この場合、放射性同位体に混入する不純物を低減して、少ない抽出溶液の量で放射性同位体を抽出することが可能となる。

【0056】

第１の樹脂材料は、リン酸トリブチル（ＴＢＰ）、ジアミルアミルホスホン酸（ＤＡ[ＡＰ]）、トリオクチルホスフィンオキシド（ＴＯＰＯ）、リン酸ビス（２－エチルヘキシル）（ＨＤＥＨＰ）、２－エチルヘキシルホスホン酸－２－エチルヘキシル（ＨＥＨ［ＥＨＰ］）、ビス（２,４,４－トリメチルペンチル）ホスフィン酸（Ｈ［ＤＴＭＰＰ］）の何れかの化合物を有してよい。この場合、放射性同位体に混入する不純物を低減して、少ない抽出溶液の量で放射性同位体を抽出することが可能となる。

【0057】

第１の樹脂材料は、リン酸トリブチル（ＴＢＰ）の化合物を有してよい。この場合、保持離脱部３として特に好ましい化合物を採用することで、放射性同位体に混入する不純物を低減して、少ない抽出溶液の量で放射性同位体を抽出することが可能となる。

【0058】

放射性同位体精製装置１００は、保持離脱部３から離脱された放射性同位体を含む抽出溶液の酸性度を調整する酸性度調整部６を更に備えてよい。この場合、酸性度調整部６にて、放射性同位体の酸性度をＧａ標識化合物の合成に適したものとすることができる。

【0059】

放射性同位体含有溶液は、抽出溶液よりも酸の濃度が高くてよい。放射性同位体含有溶液の酸の濃度は、第１の樹脂材料に対して放射性同位体を保持可能な濃度であり、抽出溶液の濃度は、第１の樹脂材料から放射性同位体を溶離可能な濃度である。これにより、放射性同位体含有溶液を第１の樹脂材料へ供給する際、リン－酸素結合を有する化合物を含む第１の樹脂材料に対して放射性同位体が良好に保持されつつ、不純物が分離され、その後、第１樹脂材料に保持されている放射性同位体を良好に精製できる。

【0060】

保持離脱部３へ抽出溶液を供給する前に、抽出溶液よりも酸の濃度が高い洗浄液を供給してよい。洗浄液の酸の濃度は、第１の樹脂材料から放射性同位体を保持可能な酸の濃度であり、抽出溶液の濃度は、第１の樹脂材料から放射性同位体を溶離可能な濃度である。これにより、洗浄液で第１の樹脂材料を洗浄する際、リン－酸素結合を有する化合物を含む第１の樹脂材料に対して放射性同位体が良好に保持されつつ、放射性同位体含有溶液由来の不純物を除去し、その後、第１樹脂材料に保持されている放射性同位体を良好に精製できる。

【0061】

放射性同位体含有溶液、及び抽出溶液はそれぞれ塩酸溶液であり、放射性同位体含有溶液は、３Ｍ～１２Ｍの濃度を有してよい。これにより、リン－酸素結合を有する化合物を含む第１の樹脂材料に対して放射性同位体が良好に保持される。

【0062】

放射性同位体含有溶液、及び抽出溶液はそれぞれ塩酸溶液であり、抽出溶液は、０．１Ｍ～２Ｍの濃度を有してよい。これにより、リン－酸素結合を有する化合物を含む第１の樹脂材料に対して保持された放射性同位体を良好に離脱させることができる。

【0063】

第１の樹脂材料は０．１ｍＬ～２．０ｍＬの容量を有すると共にリン酸トリブチルの化合物を有し、洗浄液は３～１０Ｍの濃度を有する塩酸溶液であり、洗浄液の量は１０ｍＬ以上であってよい。この場合、第１の樹脂材料から良好に不純物を除去できる。

【0064】

放射性同位体溶液に含有される放射性同位体は、加速器を用いて製造されてよい。この場合、高い収量にて必要な時に必要量の放射性同位体を得ることができる。

【0065】

本発明の一側面に係る放射性同位体精製方法は、放射性同位体としてＧａ－６８を精製する放射性同位体精製方法であって、リン－酸素結合を有する化合物を含む第１の樹脂材料によって、放射性同位体を保持及び離脱させ、放射性同位体を含む放射性同位体含有溶液を第１の樹脂材料へ供給し、第１の樹脂材料で保持された放射性同位体を抽出する抽出溶液を供給する。

【0066】

この放射性同位体精製方法によれば、上述の放射性同位体精製装置１００と同趣旨の作用・効果を得ることができる。

【0067】

図９（ａ）は、保持離脱部３の第１の樹脂材料としてヒドロキサム酸樹脂（代表的な市販品としてＴｒｉｓＫｅｍ社ＺＲレジン）を用いた比較例に係る放射性同位体精製装置に係るＧａ－６８の精製実験を行った結果を示すグラフである。図９（ｂ）は、実施例１に係る放射性同位体精製装置に係るＧａ－６８の精製実験を行った結果を示すグラフである。実施例１の精製条件について説明する。実施例１では、保持離脱部３の第１の樹脂材料としてＴＢＰの化合物を有する樹脂材料を用いた。保持離脱部３への充填時には、６Ｍの塩酸を１０ｍＬの液量で供給した。保持離脱部３の洗浄時には６Ｍの塩酸を３０ｍＬの液量で供給した。保持離脱部３からの抽出（酸性度調整部６への充填）時には０．１Ｍの塩酸を２０ｍＬの液量で供給した。

【0068】

図９の横軸において前半のフラクションＮｏでは、保持離脱部３に対して放射性同位体含有容器を供給し、洗浄液としての塩酸を供給している。図９（ａ）では、フラクションＮо３０～４０のタイミングで、図９（ｂ）では、フラクションＮｏ４０～５０のタイミングで、保持離脱部３に対して抽出溶液としての塩酸を供給している。一回のフラクションで供給される溶液の量は一定とされている。図９の縦軸は、保持離脱部３から出てくる金属イオンの量を示す。図９（ａ）及び図９（ｂ）に示すように、実施例１においては、比較例よりも少ないフラクションＮоにて、Ｆｅ及びＺｎの抽出が完了している。また、図９（ａ）の比較例では３～４フラクションにてＧａ－６８の抽出が完了しているのに比して、図９（ｂ）の実施例１では１フラクションにてＧａ－６８の抽出が完了している。このように、本実施例１では、少量の溶液で不純物の除去が可能であり、少量の抽出溶液にてＧａ－６８の抽出が可能であることが確認できる。少ない溶液で不純物の除去やＧａ－６８の抽出をできる場合、Ｇａ－６８の濃度調整等を制御し易くなる。

【0069】

（実施例２）
次に、実施例２について説明する。実施例２においては、手技での精製効率の確認を行った。ここでは、少量のＧａ－６８を加速器で生産して、手技での分離精製試験をおこなった。実施例２の精製条件について説明する。保持離脱部３の第１の樹脂材料として、ＴＢＰの化合物を有する樹脂材料を０．３ｍＬの樹脂容量にて採用した。酸性度調整部６の第２の樹脂材料として、ＴＯＰＯの化合物を有する樹脂材料を２．０ｍＬの樹脂容量にて採用した。保持離脱部３への充填時には、１０Ｍの塩酸を６ｍＬの液量で供給した。保持離脱部３の洗浄時には、６Ｍの塩酸を５ｍＬの液量で供給した。保持離脱部３からの抽出（酸性度調整部６への充填）時には、０．５Ｍの塩酸を５ｍＬの液量で供給した。酸性度調整部６の洗浄時には、０．５Ｍの塩酸を５ｍＬの液量で供給した。酸性度調整部６からの抽出時には、０．１Ｍの塩酸を３ｍＬの液量で供給した。

【0070】

試験結果について説明する。放射性同位体の保持率は、保持離脱部３への充填時が９８．７％、保持離脱部３の洗浄時が９９．９％、酸性度調整部６への充填時が９６．０％、酸性度調整部６の洗浄時が９６．７％となった。放射性同位体の脱離率（抽出率）は、保持離脱部３からの抽出時が９１．０％、酸性度調整部６からの抽出時が９９．４％となった。全効率は８２．８％となった。

【0071】

保持率の確認方法について説明する。保持離脱部３への充填時については、樹脂材料に充填される前の溶液の放射線量Ａを測定し、樹脂材料にその溶液を全量充填した後の樹脂材料の放射線量Ｂを測定し、放射線量Ａに対する放射線量Ｂの割合を計算した。保持離脱部３の洗浄時については、樹脂材料にその溶液を全量充填した後の樹脂材料の放射線量Ｂを測定し、洗浄した後の樹脂材料の放射線量Ｃを測定し、放射線量Ｂに対する放射線量Ｃの割合を計算した。保持離脱部３からの抽出については、洗浄した後の樹脂材料の放射線量Ｃを測定し、保持離脱部３から抽出した溶液の放射線量Ｄを測定し、放射線量Ｃに対する放射線量Ｄの割合を計算した。酸性度調整部６に関する保持率の確認方法は、保持離脱部３の方法と同様に行われた。なお、上記各放射線量は、同時刻における放射線量となるように、実測値が減衰補正されたものである。

【0072】

（実施例３）
実施例３について説明する。この精製では、実際に薬剤製造に使用するスケールのGa-68を加速器で製造し、欧州薬局方に記載されているＺｎとＦｅの金属混入量を基準値以下とするための液量の条件決めを行った。

【0073】

実施例３の精製条件について説明する。保持離脱部３の第１の樹脂材料として、ＴＢＰの化合物を有する樹脂材料を０．３ｍＬの樹脂容量にて採用した。酸性度調整部６の第２の樹脂材料として、ＴＯＰＯの化合物を有する樹脂材料を２．０ｍＬの樹脂容量にて採用した。保持離脱部３への充填時には、１０Ｍの塩酸を１０ｍＬの液量で供給した。保持離脱部３の洗浄時には、６Ｍの塩酸を１０ｍＬの液量で供給した。保持離脱部３からの抽出（酸性度調整部６への充填）時には、０．５Ｍの塩酸を５ｍＬの液量で供給した。酸性度調整部６の洗浄時には、０．５Ｍの塩酸を５ｍＬの液量で供給した。酸性度調整部６からの抽出時には、０．１Ｍの塩酸を３ｍＬの液量で供給した。

【0074】

試験結果について説明する。酸性度調整部６からの抽出液の金属イオン混入量を測定したところ、Ｆｅ混入量は０．３８（μｇ／ＧＢｑ）となり、欧州薬局方基準である１０（μｇ／ＧＢｑ）より少ないという条件を満たしていた。Ｚｎ混入量は０．７５（μｇ／ＧＢｑ）となり、欧州薬局方基準である１０（μｇ／ＧＢｑ）より少ないという条件を満たしていた。このように、欧州薬局方に記される金属イオンの混入量基準を満たす結果が得られた。

【0075】

本発明は、上述の実施形態に限定されるものではない。

【0076】

上述の実施形態において、サイクロトロンを用いて製造された放射性同位体を含有する放射性同位体含有溶液が用いられているが、放射性同位体含有溶液に含有される放射性同位体の製造方法はこれに限定されるものではない。例えば、サイクロトロン、シンクロトロン、シンクロサイクロトロン等、加速器を用いて製造された放射性同位体であればよい。

【0077】

図１０は、加速器を用いた放射性同位体精製システムを含む放射性薬剤生成システムの概念図である。サイクロトロンなど、粒子線を用いた放射性同位体の製造において、原料としてＺｎ－６８が用いられる。Ｚｎ－６８のターゲットに、粒子線が照射されることにより、Ｇａ－６８が生成される一方で、不純物としてのＺｎがＧａ－６８と混在した状態となる。この不純物を除去するために、本発明の放射性同位体精製装置１００を用いる。

【0078】

図１０に示すように、放射性同位体精製システム２００は、加速器１０１と、溶解装置１０２と、放射性同位体精製装置１００と、を備える。放射性薬剤生成システム３０１は、放射性同位体精製システム２００と、標識合成装置１０３とを備える。加速器１０１は、当該加速器１０１で加速したプロトンを固体のＺｎ－６８に照射し、核反応でＧａ－６８を生産する。加速器１０１から溶解装置１０２へ向かう経路では、機械式、あるいは作業員搬送で照射済みターゲットを運搬し、溶解装置１０２に投入（設置）される。溶解装置１０２は、照射済みのＺｎ－６８を塩酸で溶解し、塩酸溶液とする。当該溶解液は、放射性同位体精製装置１００へ液送される。放射性同位体精製装置１００は、前述の実施形態に係る構成を用いて、Ｇａ－６８の分離精製を行う。精製されたＧａ－６８の溶液は、標識合成装置１０３へ液送される。標識合成装置１０３は、精製されたＧａ－６８の溶液を用いて、標識薬剤合成を行う。

【0079】

一方、比較実施形態として、ジェネレータを用いた放射性薬剤生成システム３０２について説明する。図１１は、ジェネレータを用いた放射性薬剤生成システムの概念図である。ジェネレータを用いた放射性同位体溶液の製造において、原料としてカラムに保持されたＧｅ－６８が用いられる。時間の経過により、Ｇｅ－６８はＧａ－６８へと壊変する。この生成したＧａ－６８は上記カラムへの保持力は低いため、例えば、０．１Ｍ塩酸で容易に単離抽出ができる。ジェネレータで製造されたＧａ－６８溶液には、通常の使用法において後工程で問題となるような不純物の混入が生じにくいため、後工程で、得られたＧａ－６８ついて新たな精製工程を行わなくてもよい。

【0080】

図１１に示すように、放射性薬剤生成システム３０２は、ジェネレータ２０１と、標識合成装置２０３と、を備える。ジェネレータ２０１は、ジェネレータ２０１内のカラムに保持されたＧｅ－６８が、時間経過で、Ｇａ－６８に壊変する。ジェネレータ２０１の樹脂に希塩酸（０．１Ｍ塩酸）を流すことで、Ｇａ－６８が溶出して、標識合成装置２０３へ液送される。標識合成装置２０３は、精製されたＧａ－６８の溶液を用いて、標識薬剤合成を行う。

【0081】

加速器を用いて放射性同位体を製造する場合、高収量（放射線量：数ＧＢｑ～数十ＧＢｑ）で放射性同位体を得ることができ、必要な時に必要量を製造できるというメリットがある。なお、毎回の精製作業が必要となるが、本発明により効率よく、純度の高い精製が可能になった。

【0082】

ジェネレータを用いて放射性同位体を製造する場合、院内サイクロトロンが不要となり、特別な化学操作なしに、希塩酸を流すだけで標識に使える溶液を得られるというメリットがある。一方、低収量（数百ＭＢｑ～１ＧＢｑ強）であり、１日のミルキング（ジェネレータから放射性同位体を取り出す）の回数の制限があるとうデメリットがある。また、使用しない時もＧｅ－６８は減衰し続けるというデメリットがある。加速器を用いる場合、これらのデメリットを回避できる。

【0083】

放射性同位体含有溶液、洗浄液、および抽出液を送液する配管は、限定されるものではないが、放射性同位体含有溶液に対して耐性を有する樹脂で形成されることが好ましい。「耐性」は、放射性同位体含有溶液が接触することにより、樹脂の持っている物理的性質を保てなくなることがないことである。溶液に含まれる溶媒が塩酸の場合は、配管の材料として、例えば、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、フッ素樹脂、ポリフェニレンサルファイド (ＰＰＳ)、等を好適に用いることができる。

【0084】

図１０の放射性同位体精製システム２００において、Ｚｎ－６８の固体ターゲットを用いてＧａ－６８を生成しているが、例えば液体ターゲットを用いて放射性同位体を生成してもよい。また、例えば、図１に示す放射性同位体精製装置の構造は一例にすぎず、適宜変更してもよい。

【0085】

［形態１］
放射性同位体としてＧａ－６８を精製する放射性同位体精製装置であって、リン－酸素結合を有する化合物を含む第１の樹脂材料によって、前記放射性同位体を保持及び離脱させる保持離脱部を備え、
前記保持離脱部へ前記放射性同位体を含む放射性同位体含有溶液を前記保持離脱部へ供給し、前記保持離脱部へ保持された前記放射性同位体を抽出する抽出溶液を供給する、放射性同位体精製装置。
［形態２］
前記第１の樹脂材料は、「（Ｒ_１Ｏ）（Ｒ_２Ｏ）（Ｒ_３Ｏ）ＰＯ」の化合物を有し、Ｒ_１，Ｒ_２，Ｒ_３が、炭素数２～８の直鎖アルキル基、炭素数３～８の分岐アルキル基、不飽和結合を有する炭素数３～８の炭化水素基、または芳香族基である、形態１に記載の放射性同位体精製装置。
［形態３］
前記第１の樹脂材料は、リン酸トリブチル（ＴＢＰ）、ジアミルアミルホスホン酸（ＤＡ[ＡＰ]）、トリオクチルホスフィンオキシド（ＴＯＰＯ）、リン酸ビス（２－エチルヘキシル）（ＨＤＥＨＰ）、２－エチルヘキシルホスホン酸－２－エチルヘキシル（ＨＥＨ［ＥＨＰ］）、ビス（２,４,４－トリメチルペンチル）ホスフィン酸（Ｈ［ＤＴＭＰＰ］）の何れかの化合物を有する、形態１に記載の放射性同位体精製装置。
［形態４］
前記第１の樹脂材料は、リン酸トリブチルの化合物を有する、形態１に記載の放射性同位体精製装置。
［形態５］
前記保持離脱部から離脱された前記放射性同位体を含む前記抽出溶液の酸性度を調整する酸性度調整部を更に備える、形態１～４の何れか一項に記載の放射性同位体精製装置。
［形態６］
前記放射性同位体含有溶液は、前記抽出溶液よりも酸の濃度が高い、形態１～５の何れか一項に記載の放射性同位体精製装置。
［形態７］
前記保持離脱部へ前記抽出溶液を供給する前に、前記抽出溶液よりも酸の濃度が高い洗浄液を供給する、形態１～６の何れか一項に記載の放射性同位体精製装置。
［形態８］
前記放射性同位体含有溶液、及び前記抽出溶液はそれぞれ塩酸溶液であり、前記放射性同位体含有溶液は、３Ｍ～１２Ｍの濃度を有する、形態４に記載の放射性同位体精製装置。
［形態９］
前記放射性同位体含有溶液、及び前記抽出溶液はそれぞれ塩酸溶液であり、前記抽出溶液は、０．１Ｍ～２Ｍの濃度を有する、形態４又は８に記載の放射性同位体精製装置。
［形態１０］
前記第１の樹脂材料は０．１ｍＬ～２．０ｍＬの容量を有すると共にリン酸トリブチルの化合物を有し、前記洗浄液は３～１０Ｍの濃度を有する塩酸溶液であり、前記洗浄液の量は１０ｍＬ以上である、形態７に記載の放射性同位体精製装置。
［形態１１］
前記放射性同位体溶液に含有される前記放射性同位体は、加速器を用いて製造された、形態１～１０の何れか一項に記載の放射性同位体精製装置。
［形態１２］
放射性同位体としてＧａ－６８を精製する放射性同位体精製方法であって、
リン－酸素結合を有する化合物を含む第１の樹脂材料によって、前記放射性同位体を保持及び離脱させ、
前記放射性同位体を含む放射性同位体含有溶液を前記第１の樹脂材料へ供給し、
前記第１の樹脂材料で保持された前記放射性同位体を抽出する抽出溶液を供給する、
放射性同位体精製方法。

【符号の説明】

【0086】

１…流体供給部、２…流体制御部、３…保持離脱部、６…酸性度調整部、１００…放射性同位体精製装置。

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】