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特開2024-26152光吸収異方性層、積層体、光学フィルム、画像表示装置、バックライトモジュール
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024026152
(43)【公開日】2024-02-28
(54)【発明の名称】光吸収異方性層、積層体、光学フィルム、画像表示装置、バックライトモジュール
(51)【国際特許分類】
G02B 5/30 20060101AFI20240220BHJP
G02B 1/04 20060101ALI20240220BHJP
H10K 50/86 20230101ALI20240220BHJP
H10K 59/10 20230101ALI20240220BHJP
H10K 77/10 20230101ALI20240220BHJP
H10K 50/85 20230101ALI20240220BHJP
F21S 2/00 20160101ALI20240220BHJP
F21V 5/00 20180101ALI20240220BHJP
F21V 5/08 20060101ALI20240220BHJP
G09F 9/30 20060101ALI20240220BHJP
G09F 9/00 20060101ALI20240220BHJP
G02F 1/1335 20060101ALI20240220BHJP
G02F 1/13 20060101ALI20240220BHJP
G02F 1/13357 20060101ALI20240220BHJP
F21Y 115/10 20160101ALN20240220BHJP
【ＦＩ】
G02B5/30
G02B1/04
H10K50/86
H10K59/10
H10K77/10
H10K50/85
F21S2/00 431
F21V5/00 530
F21V5/00 600
F21V5/08
G09F9/30 308A
G09F9/00 324
G09F9/00 336J
G09F9/00 336G
G02F1/1335
G02F1/13 505
G02F1/13357
F21Y115:10
【審査請求】有
【請求項の数】6
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2023198385
(22)【出願日】2023-11-22
(62)【分割の表示】P 2021567239の分割
【原出願日】2020-12-11
(31)【優先権主張番号】P 2019236916
(32)【優先日】2019-12-26
(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP
(31)【優先権主張番号】P 2020023354
(32)【優先日】2020-02-14
(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP
(31)【優先権主張番号】P 2020182666
(32)【優先日】2020-10-30
(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP
(71)【出願人】
【識別番号】306037311
【氏名又は名称】富士フイルム株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100152984
【弁理士】
【氏名又は名称】伊東 秀明
(74)【代理人】
【識別番号】100148080
【弁理士】
【氏名又は名称】三橋 史生
(72)【発明者】
【氏名】三戸部 史岳
(72)【発明者】
【氏名】西村 直弥
(72)【発明者】
【氏名】加藤 隆志
(72)【発明者】
【氏名】柴田 直也
(57)【要約】
【課題】 本発明は、二色性物質を含有し、正面から見た場合の透過率が高く、且つ、斜め方向の透過率を低くすることができる光吸収異方性層、積層体、光学フィルム、画像表示装置、および、バックライトモジュールを提供することを課題とする。
【解決手段】 液晶性化合物と、少なくとも１種類の二色性物質とを含み、二色性物質が膜面に対し垂直に配向している光吸収異方性層であって、光吸収異方性層の波長５５０ｎｍにおける配向度が０．９５以上である、光吸収異方性層。
【選択図】なし
【解決手段】 液晶性化合物と、少なくとも１種類の二色性物質とを含み、二色性物質が膜面に対し垂直に配向している光吸収異方性層であって、光吸収異方性層の波長５５０ｎｍにおける配向度が０．９５以上である、光吸収異方性層。
【選択図】なし
【特許請求の範囲】
【請求項1】
光吸収異方性層と、前記光吸収異方性層に隣接して配置される配向膜（ただし、光配向膜を含まない）と、を含む光学フィルムであって、
前記光吸収異方性層が、液晶性化合物と、少なくとも１種類の二色性物質とを含み、
前記二色性物質が主面に対し垂直に配向しており、
前記光吸収異方性層の波長５５０ｎｍにおける配向度が０．９５以上であり、
前記二色性物質が、波長５６０～７００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する少なくとも１種の色素化合物を含み、
前記色素化合物が、式（１）で表される化合物である、光学フィルム。
式（１）中、Ａｒ１およびＡｒ２はそれぞれ独立に、置換基を有していてもよいフェニレン基、または、置換基を有していてもよいナフチレン基を表す。
式（１）中、Ｒ１は、水素原子、炭素数１～２０の置換基を有していてもよい直鎖もしくは分岐状のアルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルキルスルホニル基、アルキルカルボニル基、アルキルオキシカルボニル基、アシルオキシ基、アルキルカーボネート基、アルキルアミノ基、アシルアミノ基、アルキルカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アルキルスルホニルアミノ基、アルキルスルファモイル基、アルキルカルバモイル基、アルキルスルフィニル基、アルキルウレイド基、アルキルリン酸アミド基、アルキルイミノ基、または、アルキルシリル基を表す。
前記アルキル基を構成する－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－ＣＯ－、－Ｃ（Ｏ）－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（Ｏ）－、－Ｓｉ（ＣＨ３）２－Ｏ－Ｓｉ（ＣＨ３）２－、－Ｎ（Ｒ１’）－、－Ｎ（Ｒ１’）－ＣＯ－、－ＣＯ－Ｎ（Ｒ１’）－、－Ｎ（Ｒ１’）－Ｃ（Ｏ）－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（Ｏ）－Ｎ（Ｒ１’）－、－Ｎ（Ｒ１’）－Ｃ（Ｏ）－Ｎ（Ｒ１’）－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－Ｃ≡Ｃ－、－Ｎ＝Ｎ－、－Ｃ（Ｒ１’）＝ＣＨ－Ｃ（Ｏ）－、または、－Ｏ－Ｃ（Ｏ）－Ｏ－によって置換されていてもよい。
Ｒ１が水素原子以外の基である場合、各基が有する水素原子は、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、－Ｎ（Ｒ１’）２、アミノ基、－Ｃ（Ｒ１’）＝Ｃ（Ｒ１’）－ＮＯ２、－Ｃ（Ｒ１’）＝Ｃ（Ｒ１’）－ＣＮ、または、－Ｃ（Ｒ１’）＝Ｃ（ＣＮ）２、によって置換されていてもよい。
Ｒ１’は、水素原子または炭素数１～６の直鎖もしくは分岐状のアルキル基を表す。各基において、Ｒ１’が複数存在する場合、互いに同一であっても異なっていてもよい。
式（１）中、Ｒ２およびＲ３は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１～２０の置換基を有していてもよい直鎖もしくは分岐状のアルキル基、アルコキシ基、アシル基、アルキルオキシカルボニル基、アルキルアミド基、アルキルスルホニル基、アリール基、アリールカルボニル基、アリールスルホニル基、アリールオキシカルボニル基、または、アリールアミド基を表す。
前記アルキル基を構成する－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｃ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）－Ｓ－、－Ｓ－Ｃ（Ｏ）－、－Ｓｉ（ＣＨ３）２－Ｏ－Ｓｉ（ＣＨ３）２－、－ＮＲ２’－、－ＮＲ２’－ＣＯ－、－ＣＯ－ＮＲ２’－、－ＮＲ２’－Ｃ（Ｏ）－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（Ｏ）－ＮＲ２’－、－ＮＲ２’－Ｃ（Ｏ）－ＮＲ２’－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－Ｃ≡Ｃ－、－Ｎ＝Ｎ－、－Ｃ（Ｒ２’）＝ＣＨ－Ｃ（Ｏ）－、または、－Ｏ－Ｃ（Ｏ）－Ｏ－、によって置換されていてもよい。
Ｒ２およびＲ３が水素原子以外の基である場合、各基が有する水素原子は、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、－ＯＨ基、－Ｎ（Ｒ２’）２、アミノ基、－Ｃ（Ｒ２’）＝Ｃ（Ｒ２’）－ＮＯ２、－Ｃ（Ｒ２’）＝Ｃ（Ｒ２’）－ＣＮ、または、－Ｃ（Ｒ２’）＝Ｃ（ＣＮ）２によって置換されていてもよい。
Ｒ２’は、水素原子または炭素数１～６の直鎖もしくは分岐状のアルキル基を表す。各基において、Ｒ２’が複数存在する場合、互いに同一であっても異なっていてもよい。
Ｒ２およびＲ３は、互いに結合して環を形成してもよいし、Ｒ２またはＲ３は、Ａｒ２と結合して環を形成してもよい。
前記光吸収異方性層が、液晶性化合物と、少なくとも１種類の二色性物質とを含み、
前記二色性物質が主面に対し垂直に配向しており、
前記光吸収異方性層の波長５５０ｎｍにおける配向度が０．９５以上であり、
前記二色性物質が、波長５６０～７００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する少なくとも１種の色素化合物を含み、
前記色素化合物が、式（１）で表される化合物である、光学フィルム。
【化1】
式（１）中、Ｒ１は、水素原子、炭素数１～２０の置換基を有していてもよい直鎖もしくは分岐状のアルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルキルスルホニル基、アルキルカルボニル基、アルキルオキシカルボニル基、アシルオキシ基、アルキルカーボネート基、アルキルアミノ基、アシルアミノ基、アルキルカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アルキルスルホニルアミノ基、アルキルスルファモイル基、アルキルカルバモイル基、アルキルスルフィニル基、アルキルウレイド基、アルキルリン酸アミド基、アルキルイミノ基、または、アルキルシリル基を表す。
前記アルキル基を構成する－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－ＣＯ－、－Ｃ（Ｏ）－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（Ｏ）－、－Ｓｉ（ＣＨ３）２－Ｏ－Ｓｉ（ＣＨ３）２－、－Ｎ（Ｒ１’）－、－Ｎ（Ｒ１’）－ＣＯ－、－ＣＯ－Ｎ（Ｒ１’）－、－Ｎ（Ｒ１’）－Ｃ（Ｏ）－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（Ｏ）－Ｎ（Ｒ１’）－、－Ｎ（Ｒ１’）－Ｃ（Ｏ）－Ｎ（Ｒ１’）－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－Ｃ≡Ｃ－、－Ｎ＝Ｎ－、－Ｃ（Ｒ１’）＝ＣＨ－Ｃ（Ｏ）－、または、－Ｏ－Ｃ（Ｏ）－Ｏ－によって置換されていてもよい。
Ｒ１が水素原子以外の基である場合、各基が有する水素原子は、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、－Ｎ（Ｒ１’）２、アミノ基、－Ｃ（Ｒ１’）＝Ｃ（Ｒ１’）－ＮＯ２、－Ｃ（Ｒ１’）＝Ｃ（Ｒ１’）－ＣＮ、または、－Ｃ（Ｒ１’）＝Ｃ（ＣＮ）２、によって置換されていてもよい。
Ｒ１’は、水素原子または炭素数１～６の直鎖もしくは分岐状のアルキル基を表す。各基において、Ｒ１’が複数存在する場合、互いに同一であっても異なっていてもよい。
式（１）中、Ｒ２およびＲ３は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１～２０の置換基を有していてもよい直鎖もしくは分岐状のアルキル基、アルコキシ基、アシル基、アルキルオキシカルボニル基、アルキルアミド基、アルキルスルホニル基、アリール基、アリールカルボニル基、アリールスルホニル基、アリールオキシカルボニル基、または、アリールアミド基を表す。
前記アルキル基を構成する－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｃ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）－Ｓ－、－Ｓ－Ｃ（Ｏ）－、－Ｓｉ（ＣＨ３）２－Ｏ－Ｓｉ（ＣＨ３）２－、－ＮＲ２’－、－ＮＲ２’－ＣＯ－、－ＣＯ－ＮＲ２’－、－ＮＲ２’－Ｃ（Ｏ）－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（Ｏ）－ＮＲ２’－、－ＮＲ２’－Ｃ（Ｏ）－ＮＲ２’－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－Ｃ≡Ｃ－、－Ｎ＝Ｎ－、－Ｃ（Ｒ２’）＝ＣＨ－Ｃ（Ｏ）－、または、－Ｏ－Ｃ（Ｏ）－Ｏ－、によって置換されていてもよい。
Ｒ２およびＲ３が水素原子以外の基である場合、各基が有する水素原子は、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、－ＯＨ基、－Ｎ（Ｒ２’）２、アミノ基、－Ｃ（Ｒ２’）＝Ｃ（Ｒ２’）－ＮＯ２、－Ｃ（Ｒ２’）＝Ｃ（Ｒ２’）－ＣＮ、または、－Ｃ（Ｒ２’）＝Ｃ（ＣＮ）２によって置換されていてもよい。
Ｒ２’は、水素原子または炭素数１～６の直鎖もしくは分岐状のアルキル基を表す。各基において、Ｒ２’が複数存在する場合、互いに同一であっても異なっていてもよい。
Ｒ２およびＲ３は、互いに結合して環を形成してもよいし、Ｒ２またはＲ３は、Ａｒ２と結合して環を形成してもよい。
【請求項2】
前記光吸収異方性層の波長４２０ｎｍにおける配向度が０．９３以上である、請求項１に記載の光学フィルム。
【請求項3】
請求項１または２に記載の光学フィルムを有する、画像表示装置。
【請求項4】
表示部分に曲面部を有する、請求項３に記載の画像表示装置。
【請求項5】
請求項１または２に記載の光学フィルムを有する、視野角を切り替えることが可能な画像表示装置。
【請求項6】
視認側から、第一導光板、光フィルター素子、および、第二導光板を有し、
前記光フィルター素子が、請求項１または２に記載の光学フィルムである、
視野角を切り替えることが可能なバックライトモジュール。
前記光フィルター素子が、請求項１または２に記載の光学フィルムである、
視野角を切り替えることが可能なバックライトモジュール。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、光吸収異方性層、積層体、光学フィルム、画像表示装置、および、バックライトモジュールに関する。
【背景技術】
【0002】
液晶表示装置の覗き込み防止や視角制御のため、厚さ方向に吸収軸を持つ異方性光吸収層を使用する技術が知られている。例えば、特許文献１および２では二色性物質を含み、吸収軸とフィルム面の法線とのなす角が０～４５°であるフィルムを用いた視角制御システムに関する偏光素子が提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【特許文献1】特開２００９－１４５７７６号公報
【特許文献2】国際公開第２０１８／０７９８５４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
近年、省エネや有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）の寿命などの問題があり、膜面に対して正面方向の透過率が高いフィルムの要求が高くなってきている。
【0005】
本発明は、二色性物質を含み、正面方向から見た場合の透過率が高く、且つ、斜め方向から見た場合の透過率が低い、光吸収異方性層を提供することを課題とする。
また、本発明は、積層体、光学フィルム、画像表示装置、および、バックライトモジュールを提供することも課題とする。
また、本発明は、積層体、光学フィルム、画像表示装置、および、バックライトモジュールを提供することも課題とする。
【課題を解決するための手段】
【0006】
本発明者らは、二色性物質が膜面に対し垂直に配向している光吸収異方性層の波長５５０ｎｍにおける配向度を０．９５以上にすることで、正面の透過率が高く、且つ、斜め方向の透過率を低くできることを見出し、本発明に至った。
【0007】
すなわち、以下の構成により上記課題を解決できることを見出した。
【0008】
（１） 液晶性化合物と、少なくとも１種類の二色性物質とを含み、
二色性物質が膜面に対し垂直に配向している光吸収異方性層であって、
光吸収異方性層の波長５５０ｎｍにおける配向度が０．９５以上である、光吸収異方性層。
（２） 光吸収異方性層の波長４２０ｎｍにおける配向度が０．９３以上である、（１）に記載の光吸収異方性層。
（３） 液晶性化合物および少なくとも１種の二色性物質を含む領域Ａと、領域Ａよりも極角３０°から見た斜め透過率が高い領域Ｂとを有する光吸収異方性層であって、
二色性物質が膜面に対し垂直に配向しており、
領域Ａの波長５５０ｎｍにおける配向度が０．９５以上である、光吸収異方性層。
（４） 領域Ａの極角３０°から見た斜め透過率が１０％以下であり、領域Ｂの極角３０°から見た斜め透過率が８０％以上である、（３）に記載の光吸収異方性層。
（５） （１）～（４）のいずれかに記載の光吸収異方性層と、二色性物質が膜面に対し水平に配向している偏光子層とが積層されている積層体。
（６） （１）～（４）のいずれかに記載の光吸収異方性層と、液晶性化合物および二色性物質が膜面に対し水平に配向している偏光子層とが積層されている積層体。
（７） （１）～（４）のいずれかに記載の光吸収異方性層、または、（５）もしくは（６）に記載の積層体を有する光学フィルム。
（８） （１）～（４）のいずれかに記載の光吸収異方性層、（５）もしくは（６）に記載の積層体、または、（７）に記載の光学フィルムを有する、画像表示装置。
（９） 表示部分に曲面部を有する、（８）に記載の画像表示装置。
（１０） （３）または（４）に記載の光吸収異方性層を有する、視野角を切り替えることが可能な画像表示装置。
（１１） （１）または（２）に記載の光吸収異方性層を有する、視野角を切り替えることが可能な画像表示装置。
（１２） 視認側から、第一導光板、光フィルター素子、および、第二導光板を有し、
光フィルター素子が、（１）または（２）に記載の光吸収異方性層である、
視野角を切り替えることが可能なバックライトモジュール。
二色性物質が膜面に対し垂直に配向している光吸収異方性層であって、
光吸収異方性層の波長５５０ｎｍにおける配向度が０．９５以上である、光吸収異方性層。
（２） 光吸収異方性層の波長４２０ｎｍにおける配向度が０．９３以上である、（１）に記載の光吸収異方性層。
（３） 液晶性化合物および少なくとも１種の二色性物質を含む領域Ａと、領域Ａよりも極角３０°から見た斜め透過率が高い領域Ｂとを有する光吸収異方性層であって、
二色性物質が膜面に対し垂直に配向しており、
領域Ａの波長５５０ｎｍにおける配向度が０．９５以上である、光吸収異方性層。
（４） 領域Ａの極角３０°から見た斜め透過率が１０％以下であり、領域Ｂの極角３０°から見た斜め透過率が８０％以上である、（３）に記載の光吸収異方性層。
（５） （１）～（４）のいずれかに記載の光吸収異方性層と、二色性物質が膜面に対し水平に配向している偏光子層とが積層されている積層体。
（６） （１）～（４）のいずれかに記載の光吸収異方性層と、液晶性化合物および二色性物質が膜面に対し水平に配向している偏光子層とが積層されている積層体。
（７） （１）～（４）のいずれかに記載の光吸収異方性層、または、（５）もしくは（６）に記載の積層体を有する光学フィルム。
（８） （１）～（４）のいずれかに記載の光吸収異方性層、（５）もしくは（６）に記載の積層体、または、（７）に記載の光学フィルムを有する、画像表示装置。
（９） 表示部分に曲面部を有する、（８）に記載の画像表示装置。
（１０） （３）または（４）に記載の光吸収異方性層を有する、視野角を切り替えることが可能な画像表示装置。
（１１） （１）または（２）に記載の光吸収異方性層を有する、視野角を切り替えることが可能な画像表示装置。
（１２） 視認側から、第一導光板、光フィルター素子、および、第二導光板を有し、
光フィルター素子が、（１）または（２）に記載の光吸収異方性層である、
視野角を切り替えることが可能なバックライトモジュール。
【発明の効果】
【0009】
本発明によれば、二色性物質を含み、正面方向から見た場合の透過率が高く、且つ、斜め方向から見た場合の透過率が低い、光吸収異方性層を提供できる。
また、本発明によれば、積層体、光学フィルム、画像表示装置、および、バックライトモジュールを提供できる。
また、本発明によれば、積層体、光学フィルム、画像表示装置、および、バックライトモジュールを提供できる。
【図面の簡単な説明】
【0010】
【発明を実施するための形態】
【0011】
以下、本発明について詳細に説明する。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。
なお、本明細書において、「～」を用いて表される数値範囲は、「～」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
また、本明細書において、平行および直交とは厳密な意味での平行および直交を意味するのではなく、平行または直交から±５°の範囲を意味する。
また、本明細書において、光吸収異方性層の法線方向に対する傾き角度（極角）と傾き方向（方位角）を変化させて透過率を測定した際に最も透過率の高い方向を透過率中心軸とし、透過率中心軸と光吸収異方性層の膜面（光吸収異方性層の主面）との角度がほぼ垂直であるとき、二色性物質が垂直に配向していると定義する。透過率中心軸と膜面との角度が垂直である配向とは、７０～９０°の範囲内となる配向を意味し、８０～９０°の範囲内となる配向が好ましく、８５～９０°の範囲内となる配向がより好ましい。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。
なお、本明細書において、「～」を用いて表される数値範囲は、「～」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
また、本明細書において、平行および直交とは厳密な意味での平行および直交を意味するのではなく、平行または直交から±５°の範囲を意味する。
また、本明細書において、光吸収異方性層の法線方向に対する傾き角度（極角）と傾き方向（方位角）を変化させて透過率を測定した際に最も透過率の高い方向を透過率中心軸とし、透過率中心軸と光吸収異方性層の膜面（光吸収異方性層の主面）との角度がほぼ垂直であるとき、二色性物質が垂直に配向していると定義する。透過率中心軸と膜面との角度が垂直である配向とは、７０～９０°の範囲内となる配向を意味し、８０～９０°の範囲内となる配向が好ましく、８５～９０°の範囲内となる配向がより好ましい。
【0012】
また、本明細書において、液晶性組成物、液晶性化合物とは、硬化などにより、もはや液晶性を示さなくなったものも概念として含まれる。
【0013】
また、本明細書において、各成分は、各成分に該当する物質を１種単独でも用いても、２種以上を併用してもよい。ここで、各成分について２種以上の物質を併用する場合、その成分についての含有量とは、特段の断りが無い限り、併用した物質の合計の含有量を指す。
また、本明細書において、「（メタ）アクリレート」は、「アクリレート」または「メタクリレート」を表す表記であり、「（メタ）アクリル」は、「アクリル」または「メタクリル」を表す表記であり、「（メタ）アクリロイル」は、「アクリロイル」または「メタクリロイル」を表す表記である。
また、本明細書において、「（メタ）アクリレート」は、「アクリレート」または「メタクリレート」を表す表記であり、「（メタ）アクリル」は、「アクリル」または「メタクリル」を表す表記であり、「（メタ）アクリロイル」は、「アクリロイル」または「メタクリロイル」を表す表記である。
【0014】
＜光吸収異方性層の第１実施態様＞
本発明の光吸収異方性層の第１実施態様は、液晶性化合物と、少なくとも１種類の二色性物質とを含み、二色性物質が膜面（光吸収異方性層の主面）に対し垂直に配向している光吸収異方性層であって、光吸収異方性層の波長５５０ｎｍにおける配向度が０．９５以上を満たす。
なお、上記光吸収異方性層の波長５５０ｎｍにおける配向度は、光吸収異方性層を正面方向から見た場合の透過率がより高く、且つ、斜め方向から見た場合の透過率をより低くできる点（以下、単に「本発明の効果がより優れる点」ともいう。）で、０．９６以上が好ましい。上限は特に制限されないが、１．００が挙げられる。
本発明の光吸収異方性層の第１実施態様は、液晶性化合物と、少なくとも１種類の二色性物質とを含み、二色性物質が膜面（光吸収異方性層の主面）に対し垂直に配向している光吸収異方性層であって、光吸収異方性層の波長５５０ｎｍにおける配向度が０．９５以上を満たす。
なお、上記光吸収異方性層の波長５５０ｎｍにおける配向度は、光吸収異方性層を正面方向から見た場合の透過率がより高く、且つ、斜め方向から見た場合の透過率をより低くできる点（以下、単に「本発明の効果がより優れる点」ともいう。）で、０．９６以上が好ましい。上限は特に制限されないが、１．００が挙げられる。
【0015】
上記波長５５０ｎｍにおける配向度は以下の方法によって算出される。
ＡｘｏＳｃａｎ ＯＰＭＦ－１（オプトサイエンス社製）を用いて、波長５５０ｎｍにおける光吸収異方性層の透過率を測定する。測定の際には、光吸収異方性層の法線方向に対する角度である極角を０～６０°まで５°毎に変更しつつ、各極角における全方位角度での波長５５０ｎｍにおける透過率を測定する。次に、表面反射の影響を除去した後、最も透過率の高い方位角および極角での透過率をＴｍ（０）、最も透過率の高い方位角方向において、最も透過率の高い極角からさらに極角を４０°傾けた角度での透過率をＴｍ（４０）とする。得られたＴｍ（０）およびＴｍ（４０）から下記式により吸光度を算出し、Ａ（０）およびＡ（４０）を算出する。
Ａ＝－ｌｏｇ（Ｔｍ）
ここで、Ｔｍは透過率、Ａは吸光度を表す。
算出したＡ（０）およびＡ（４０）より、下記式で定義された配向度Ｓを算出する。
Ｓ＝（４．６×Ａ（４０）－Ａ（０））／（４．６×Ａ（４０）＋２×Ａ（０））
ＡｘｏＳｃａｎ ＯＰＭＦ－１（オプトサイエンス社製）を用いて、波長５５０ｎｍにおける光吸収異方性層の透過率を測定する。測定の際には、光吸収異方性層の法線方向に対する角度である極角を０～６０°まで５°毎に変更しつつ、各極角における全方位角度での波長５５０ｎｍにおける透過率を測定する。次に、表面反射の影響を除去した後、最も透過率の高い方位角および極角での透過率をＴｍ（０）、最も透過率の高い方位角方向において、最も透過率の高い極角からさらに極角を４０°傾けた角度での透過率をＴｍ（４０）とする。得られたＴｍ（０）およびＴｍ（４０）から下記式により吸光度を算出し、Ａ（０）およびＡ（４０）を算出する。
Ａ＝－ｌｏｇ（Ｔｍ）
ここで、Ｔｍは透過率、Ａは吸光度を表す。
算出したＡ（０）およびＡ（４０）より、下記式で定義された配向度Ｓを算出する。
Ｓ＝（４．６×Ａ（４０）－Ａ（０））／（４．６×Ａ（４０）＋２×Ａ（０））
【0016】
本発明の光吸収異方性層の第１実施態様は、正面の透過率が高く、斜め方向の透過率を低くすることができる。これは以下の理由によると推定される。
斜め方向の透過率を低くするためには、光吸収異方性層の厚みを増やすことで実現できるが同時に正面の透過率が下がってしまう。波長５５０ｎｍにおける光吸収異方性層の配向度を０．９５以上にすることで、二色性物質の吸収軸が垂直方向からずれたものの存在頻度が下がると考えられる。それにより光吸収異方性層を正面方向から見た時の二色性物質による吸収を抑制できた結果、正面方向の透過率を高くできたと推定される。
斜め方向の透過率を低くするためには、光吸収異方性層の厚みを増やすことで実現できるが同時に正面の透過率が下がってしまう。波長５５０ｎｍにおける光吸収異方性層の配向度を０．９５以上にすることで、二色性物質の吸収軸が垂直方向からずれたものの存在頻度が下がると考えられる。それにより光吸収異方性層を正面方向から見た時の二色性物質による吸収を抑制できた結果、正面方向の透過率を高くできたと推定される。
【0017】
また、正面方向の色味をニュートラルにできる点で、光吸収異方性層の波長４２０ｎｍにおける配向度が０．９３以上を満たすことが好ましい。なかでも、正面方向の色味をよりニュートラルにできる点で、波長４２０ｎｍにおける配向度は０．９４以上が好ましい。上限は特に制限されないが、１．００が好ましい。
二色性物質を含む光吸収異方性層の色味制御については、通常、光吸収異方性層に含まれる二色性物質の添加量を調整することで行う。しかし、正面方向と斜め方向との色味を共にニュートラルの状態にすることは、二色性物質の添加量調整だけではできないことが分かった。正面方向と斜め方向との色味をニュートラルの状態にできない原因が、波長４２０ｎｍの配向度が低いことであることが分かり、波長４２０ｎｍにおける配向度を高配向度にすることで、正面方向と斜め方向との色味をニュートラルにできる。
二色性物質を含む光吸収異方性層の色味制御については、通常、光吸収異方性層に含まれる二色性物質の添加量を調整することで行う。しかし、正面方向と斜め方向との色味を共にニュートラルの状態にすることは、二色性物質の添加量調整だけではできないことが分かった。正面方向と斜め方向との色味をニュートラルの状態にできない原因が、波長４２０ｎｍの配向度が低いことであることが分かり、波長４２０ｎｍにおける配向度を高配向度にすることで、正面方向と斜め方向との色味をニュートラルにできる。
【0018】
上記波長４２０ｎｍにおける配向度の算出方法は、上述した波長５５０ｎｍにおける配向度の算出方法における測定波長を５５０ｎｍから４２０ｎｍに変更した方法が挙げられる。
【0019】
［液晶性化合物］
光吸収異方性層は、液晶性化合物を含む。液晶性化合物を含むことで、二色性物質の析出を抑止しながら、二色性物質を高い配向度で配向させることができる。
液晶性化合物は、二色性を示さない液晶性化合物である。
液晶性化合物としては、低分子液晶性化合物および高分子液晶性化合物のいずれを用いることも可能であり、両方を併用することも好ましい。ここで、「低分子液晶性化合物」とは、化学構造中に繰り返し単位を有さない液晶性化合物のことをいう。また、「高分子液晶性化合物」とは、化学構造中に繰り返し単位を有する液晶性化合物のことをいう。
光吸収異方性層は、液晶性化合物を含む。液晶性化合物を含むことで、二色性物質の析出を抑止しながら、二色性物質を高い配向度で配向させることができる。
液晶性化合物は、二色性を示さない液晶性化合物である。
液晶性化合物としては、低分子液晶性化合物および高分子液晶性化合物のいずれを用いることも可能であり、両方を併用することも好ましい。ここで、「低分子液晶性化合物」とは、化学構造中に繰り返し単位を有さない液晶性化合物のことをいう。また、「高分子液晶性化合物」とは、化学構造中に繰り返し単位を有する液晶性化合物のことをいう。
【0020】
低分子液晶性化合物としては、例えば、特開２０１３－２２８７０６号公報に記載されている液晶性化合物が挙げられる。低分子液晶性化合物としては、スメクチック相を示す液晶性化合物も好ましく用いることができる。
【0021】
高分子液晶性化合物としては、例えば、特開２０１１－２３７５１３号公報に記載されているサーモトロピック液晶性高分子が挙げられる。また、高分子液晶性化合物は、光吸収異方性膜の強度（特に、耐屈曲性）が優れるという観点から、末端に架橋性基を有する繰り返し単位を有することが好ましい。架橋性基としては、例えば、特開２０１０－２４４０３８号公報の［００４０］～［００５０］段落に記載された重合性基が挙げられる。これらの中でも、反応性および合成適性の向上の観点から、アクリロイル基、メタクリロイル基、エポキシ基、オキセタニル基、または、スチリル基が好ましく、アクリロイル基、または、メタクリロイル基がより好ましい。
【0022】
本発明における光吸収異方性層が高分子液晶性化合物を含む場合、高分子液晶性化合物は、ネマチック液晶相を形成するのが好ましい。
ネマチック液晶相を示す温度範囲は、室温（２３℃）～４５０℃が好ましく、取り扱いや製造適性の観点から、５０～４００℃が好ましい。
ネマチック液晶相を示す温度範囲は、室温（２３℃）～４５０℃が好ましく、取り扱いや製造適性の観点から、５０～４００℃が好ましい。
【0023】
液晶性化合物の含有量は、光吸収異方性層中の二色性物質の含有量１００質量部に対して、２５～２０００質量部が好ましく、１００～１３００質量部がより好ましく、２００～９００質量部がさらに好ましい。液晶性化合物の含有量が上記範囲内にあることで、光吸収異方性層の配向度がより向上する。
液晶性化合物は、１種単独で含まれていてもよいし、２種以上含まれていてもよい。液晶性化合物が２種以上含まれる場合、上記液晶性化合物の含有量は、液晶性化合物の含有量の合計を意味する。
液晶性化合物は、１種単独で含まれていてもよいし、２種以上含まれていてもよい。液晶性化合物が２種以上含まれる場合、上記液晶性化合物の含有量は、液晶性化合物の含有量の合計を意味する。
【0024】
液晶性化合物は、配向度がより優れる観点から、下記式（１Ｌ）で表される繰り返し単位（以下、「繰り返し単位（１Ｌ）」とも言う）を含む高分子液晶性化合物であることが好ましい。
【0025】
【化1】
【0026】
上記式（１Ｌ）中、Ｐ１は繰り返し単位の主鎖を表し、Ｌ１は単結合または２価の連結基を表し、ＳＰ１はスペーサー基を表し、Ｍ１はメソゲン基を表し、Ｔ１は末端基を表す。
【0027】
Ｐ１が表す繰り返し単位の主鎖としては、具体的には、例えば、下記式（Ｐ１－Ａ）～（Ｐ１－Ｄ）で表される基が挙げられ、なかでも、原料となる単量体の多様性および取り扱いが容易である観点から、下記式（Ｐ１－Ａ）で表される基が好ましい。
【0028】
【化2】
【0029】
式（Ｐ１－Ａ）～（Ｐ１－Ｄ）において、「＊」は、式（１Ｌ）におけるＬ１との結合位置を表す。式（Ｐ１－Ａ）～（Ｐ１－Ｄ）において、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～１０のアルキル基または炭素数１～１０のアルコキシ基を表す。上記アルキル基は、直鎖または分岐のアルキル基であってもよいし、環状構造を有するアルキル基（シクロアルキル基）であってもよい。また、上記アルキル基の炭素数は、１～５が好ましい。
式（Ｐ１－Ａ）で表される基は、（メタ）アクリル酸エステルの重合によって得られるポリ（メタ）アクリル酸エステルの部分構造の一単位であることが好ましい。
式（Ｐ１－Ｂ）で表される基は、エポキシ基を有する化合物のエポキシ基を開環重合して形成されるエチレングリコール単位であることが好ましい。
式（Ｐ１－Ｃ）で表される基は、オキセタン基を有する化合物のオキセタン基を開環重合して形成されるプロピレングリコール単位であることが好ましい。
式（Ｐ１－Ｄ）で表される基は、アルコキシシリル基およびシラノール基の少なくとも一方の基を有する化合物の縮重合によって得られるポリシロキサンのシロキサン単位であることが好ましい。ここで、アルコキシシリル基およびシラノール基の少なくとも一方の基を有する化合物としては、式ＳｉＲ４（ＯＲ５）２－で表される基を有する化合物が挙げられる。式中、Ｒ４は、式（Ｐ１－Ｄ）におけるＲ４と同義であり、複数のＲ５はそれぞれ独立に、水素原子または炭素数１～１０のアルキル基を表す。
式（Ｐ１－Ａ）で表される基は、（メタ）アクリル酸エステルの重合によって得られるポリ（メタ）アクリル酸エステルの部分構造の一単位であることが好ましい。
式（Ｐ１－Ｂ）で表される基は、エポキシ基を有する化合物のエポキシ基を開環重合して形成されるエチレングリコール単位であることが好ましい。
式（Ｐ１－Ｃ）で表される基は、オキセタン基を有する化合物のオキセタン基を開環重合して形成されるプロピレングリコール単位であることが好ましい。
式（Ｐ１－Ｄ）で表される基は、アルコキシシリル基およびシラノール基の少なくとも一方の基を有する化合物の縮重合によって得られるポリシロキサンのシロキサン単位であることが好ましい。ここで、アルコキシシリル基およびシラノール基の少なくとも一方の基を有する化合物としては、式ＳｉＲ４（ＯＲ５）２－で表される基を有する化合物が挙げられる。式中、Ｒ４は、式（Ｐ１－Ｄ）におけるＲ４と同義であり、複数のＲ５はそれぞれ独立に、水素原子または炭素数１～１０のアルキル基を表す。
【0030】
Ｌ１は、単結合または２価の連結基である。
Ｌ１が表す２価の連結基としては、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（Ｏ）－、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｃ（Ｏ）ＮＲ３－、－ＮＲ３Ｃ（Ｏ）－、－ＳＯ２－、および、－ＮＲ３Ｒ４－などが挙げられる。式中、Ｒ３およびＲ４はそれぞれ独立に、水素原子、置換基Ｗ（後述）を有していてもよい炭素数１～６のアルキル基を表す。
Ｐ１が式（Ｐ１－Ａ）で表される基である場合には、配向度がより優れる観点から、Ｌ１は－Ｃ（Ｏ）Ｏ－で表される基が好ましい。
Ｐ１が式（Ｐ１－Ｂ）～（Ｐ１－Ｄ）で表される基である場合には、配向度がより優れる観点から、Ｌ１は単結合が好ましい。
Ｌ１が表す２価の連結基としては、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（Ｏ）－、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｃ（Ｏ）ＮＲ３－、－ＮＲ３Ｃ（Ｏ）－、－ＳＯ２－、および、－ＮＲ３Ｒ４－などが挙げられる。式中、Ｒ３およびＲ４はそれぞれ独立に、水素原子、置換基Ｗ（後述）を有していてもよい炭素数１～６のアルキル基を表す。
Ｐ１が式（Ｐ１－Ａ）で表される基である場合には、配向度がより優れる観点から、Ｌ１は－Ｃ（Ｏ）Ｏ－で表される基が好ましい。
Ｐ１が式（Ｐ１－Ｂ）～（Ｐ１－Ｄ）で表される基である場合には、配向度がより優れる観点から、Ｌ１は単結合が好ましい。
【0031】
ＳＰ１が表すスペーサー基は、液晶性を発現しやすいことや、原材料の入手性などの観点から、オキシエチレン構造、オキシプロピレン構造、ポリシロキサン構造およびフッ化アルキレン構造からなる群より選択される少なくとも１種の構造を含むことが好ましい。
ここで、ＳＰ１が表すオキシエチレン構造は、＊－（ＣＨ２－ＣＨ２Ｏ）ｎ１－＊で表される基が好ましい。式中、ｎ１は１～２０の整数を表し、＊は、上記式（１Ｌ）中のＬ１またはＭ１との結合位置を表す。ｎ１は、配向度がより優れる観点から、２～１０の整数であることが好ましく、２～４の整数であることがより好ましく、３であることがさらに好ましい。
また、ＳＰ１が表すオキシプロピレン構造は、配向度がより優れる観点から、＊－（ＣＨ（ＣＨ３）－ＣＨ２Ｏ）ｎ２－＊で表される基が好ましい。式中、ｎ２は１～３の整数を表し、＊はＬ１またはＭ１との結合位置を表す。
また、ＳＰ１が表すポリシロキサン構造は、配向度がより優れる観点から、＊－（Ｓｉ（ＣＨ３）２－Ｏ）ｎ３－＊で表される基が好ましい。式中、ｎ３は６～１０の整数を表し、＊はＬ１またはＭ１との結合位置を表す。
また、ＳＰ１が表すフッ化アルキレン構造は、配向度がより優れる観点から、＊－（ＣＦ２－ＣＦ２）ｎ４－＊で表される基が好ましい。式中、ｎ４は６～１０の整数を表し、＊はＬ１またはＭ１との結合位置を表す。
ここで、ＳＰ１が表すオキシエチレン構造は、＊－（ＣＨ２－ＣＨ２Ｏ）ｎ１－＊で表される基が好ましい。式中、ｎ１は１～２０の整数を表し、＊は、上記式（１Ｌ）中のＬ１またはＭ１との結合位置を表す。ｎ１は、配向度がより優れる観点から、２～１０の整数であることが好ましく、２～４の整数であることがより好ましく、３であることがさらに好ましい。
また、ＳＰ１が表すオキシプロピレン構造は、配向度がより優れる観点から、＊－（ＣＨ（ＣＨ３）－ＣＨ２Ｏ）ｎ２－＊で表される基が好ましい。式中、ｎ２は１～３の整数を表し、＊はＬ１またはＭ１との結合位置を表す。
また、ＳＰ１が表すポリシロキサン構造は、配向度がより優れる観点から、＊－（Ｓｉ（ＣＨ３）２－Ｏ）ｎ３－＊で表される基が好ましい。式中、ｎ３は６～１０の整数を表し、＊はＬ１またはＭ１との結合位置を表す。
また、ＳＰ１が表すフッ化アルキレン構造は、配向度がより優れる観点から、＊－（ＣＦ２－ＣＦ２）ｎ４－＊で表される基が好ましい。式中、ｎ４は６～１０の整数を表し、＊はＬ１またはＭ１との結合位置を表す。
【0032】
Ｍ１が表すメソゲン基とは、液晶形成に寄与する液晶分子の主要骨格を示す基である。液晶分子は、結晶状態と等方性液体状態との中間の状態（メソフェーズ）である液晶性を示す。メソゲン基については特に制限はなく、例えば、「Ｆｌｕｓｓｉｇｅ Ｋｒｉｓｔａｌｌｅ ｉｎ Ｔａｂｅｌｌｅｎ ＩＩ」（ＶＥＢ Ｄｅｕｔｓｃｈｅ Ｖｅｒｌａｇ ｆｕｒ Ｇｒｕｎｄｓｔｏｆｆ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅ，Ｌｅｉｐｚｉｇ、１９８４年刊）、特に第７頁～第１６頁の記載、および、液晶便覧編集委員会編、液晶便覧（丸善、２０００年刊）、特に第３章の記載、を参照することができる。
メソゲン基としては、例えば、芳香族炭化水素基、複素環基、および脂環式基からなる群より選択される少なくとも１種の環状構造を有する基が好ましい。
メソゲン基は、配向度がより優れる観点から、芳香族炭化水素基を有するのが好ましく、２～４個の芳香族炭化水素基を有するのがより好ましく、３個の芳香族炭化水素基を有するのがさらに好ましい。
メソゲン基としては、例えば、芳香族炭化水素基、複素環基、および脂環式基からなる群より選択される少なくとも１種の環状構造を有する基が好ましい。
メソゲン基は、配向度がより優れる観点から、芳香族炭化水素基を有するのが好ましく、２～４個の芳香族炭化水素基を有するのがより好ましく、３個の芳香族炭化水素基を有するのがさらに好ましい。
【0033】
メソゲン基としては、液晶性の発現、液晶相転移温度の調整、原料入手性および合成適性という観点、並びに、配向度がより優れる観点から、下記式（Ｍ１－Ａ）または下記式（Ｍ１－Ｂ）で表される基が好ましく、式（Ｍ１－Ｂ）で表される基がより好ましい。
【0034】
【化3】
【0035】
式（Ｍ１－Ａ）中、Ａ１は、芳香族炭化水素基、複素環基および脂環式基からなる群より選択される２価の基である。これらの基は、アルキル基、フッ化アルキル基、アルコキシ基または置換基Ｗで置換されていてもよい。
Ａ１で表される２価の基は、４～６員環であることが好ましい。また、Ａ１で表される２価の基は、単環でも、縮環であってもよい。
＊は、ＳＰ１またはＴ１との結合位置を表す。
Ａ１で表される２価の基は、４～６員環であることが好ましい。また、Ａ１で表される２価の基は、単環でも、縮環であってもよい。
＊は、ＳＰ１またはＴ１との結合位置を表す。
【0036】
Ａ１が表す２価の芳香族炭化水素基としては、フェニレン基、ナフチレン基、フルオレン－ジイル基、アントラセン－ジイル基およびテトラセン－ジイル基などが挙げられ、メソゲン骨格の設計の多様性や原材料の入手性などの観点から、フェニレン基またはナフチレン基が好ましく、フェニレン基がより好ましい。
【0037】
Ａ１が表す２価の複素環基としては、芳香族および非芳香族のいずれであってもよいが、配向度がより向上するという観点から、２価の芳香族複素環基であることが好ましい。
２価の芳香族複素環基を構成する炭素以外の原子としては、窒素原子、硫黄原子および酸素原子が挙げられる。芳香族複素環基が炭素以外の環を構成する原子を複数有する場合、これらは同一であっても異なっていてもよい。
２価の芳香族複素環基の具体例としては、例えば、ピリジレン基（ピリジン－ジイル基）、ピリダジン－ジイル基、イミダゾール－ジイル基、チエニレン（チオフェン－ジイル基）、キノリレン基（キノリン－ジイル基）、イソキノリレン基（イソキノリン－ジイル基）、オキサゾール－ジイル基、チアゾール－ジイル基、オキサジアゾール－ジイル基、ベンゾチアゾール－ジイル基、ベンゾチアジアゾール－ジイル基、フタルイミド－ジイル基、チエノチアゾール－ジイル基、チアゾロチアゾール－ジイル基、チエノチオフェン－ジイル基、および、チエノオキサゾール－ジイル基などが挙げられる。
２価の芳香族複素環基を構成する炭素以外の原子としては、窒素原子、硫黄原子および酸素原子が挙げられる。芳香族複素環基が炭素以外の環を構成する原子を複数有する場合、これらは同一であっても異なっていてもよい。
２価の芳香族複素環基の具体例としては、例えば、ピリジレン基（ピリジン－ジイル基）、ピリダジン－ジイル基、イミダゾール－ジイル基、チエニレン（チオフェン－ジイル基）、キノリレン基（キノリン－ジイル基）、イソキノリレン基（イソキノリン－ジイル基）、オキサゾール－ジイル基、チアゾール－ジイル基、オキサジアゾール－ジイル基、ベンゾチアゾール－ジイル基、ベンゾチアジアゾール－ジイル基、フタルイミド－ジイル基、チエノチアゾール－ジイル基、チアゾロチアゾール－ジイル基、チエノチオフェン－ジイル基、および、チエノオキサゾール－ジイル基などが挙げられる。
【0038】
Ａ１が表す２価の脂環式基の具体例としては、シクロペンチレン基およびシクロへキシレン基などが挙げられる。
【0039】
式（Ｍ１－Ａ）中、ａ１は１～１０の整数を表す。ａ１が２以上である場合には、複数のＡ１は同一でも異なっていてもよい。
【0040】
式（Ｍ１－Ｂ）中、Ａ２およびＡ３はそれぞれ独立に、芳香族炭化水素基、複素環基および脂環式基からなる群より選択される２価の基である。Ａ２およびＡ３の具体例および好適態様は、式（Ｍ１－Ａ）のＡ１と同様であるので、その説明を省略する。
式（Ｍ１－Ｂ）中、ａ２は１～１０の整数を表し、ａ２が２以上である場合には、複数のＡ２は同一でも異なっていてもよく、複数のＡ３は同一でも異なっていてもよく、複数のＬＡ１は同一でも異なっていてもよい。ａ２は、配向度がより優れる観点から、２以上の整数であることが好ましく、２であることがより好ましい。
式（Ｍ１－Ｂ）中、ａ２が１である場合には、ＬＡ１は２価の連結基である。ａ２が２以上である場合には、複数のＬＡ１はそれぞれ独立に、単結合または２価の連結基であり、複数のＬＡ１のうち少なくとも１つが２価の連結基である。ａ２が２である場合、配向度がより優れる観点から、２つのＬＡ１のうち、一方が２価の連結基であり、他方が単結合であることが好ましい。
式（Ｍ１－Ｂ）中、ａ２は１～１０の整数を表し、ａ２が２以上である場合には、複数のＡ２は同一でも異なっていてもよく、複数のＡ３は同一でも異なっていてもよく、複数のＬＡ１は同一でも異なっていてもよい。ａ２は、配向度がより優れる観点から、２以上の整数であることが好ましく、２であることがより好ましい。
式（Ｍ１－Ｂ）中、ａ２が１である場合には、ＬＡ１は２価の連結基である。ａ２が２以上である場合には、複数のＬＡ１はそれぞれ独立に、単結合または２価の連結基であり、複数のＬＡ１のうち少なくとも１つが２価の連結基である。ａ２が２である場合、配向度がより優れる観点から、２つのＬＡ１のうち、一方が２価の連結基であり、他方が単結合であることが好ましい。
【0041】
式（Ｍ１－Ｂ）中、ＬＡ１が表す２価の連結基としては、－Ｏ－、－（ＣＨ２）ｇ－、－（ＣＦ２）ｇ－、－Ｓｉ（ＣＨ３）２－、－（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｇ－、－（ＯＳｉ（ＣＨ３）２）ｇ－（ｇは１～１０の整数を表す。）、－Ｎ（Ｚ）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｎ－、－Ｎ＝Ｃ（Ｚ）－、－Ｃ（Ｚ）２－Ｃ（Ｚ’）２－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＯＣ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｎ（Ｚ）Ｃ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｚ）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（Ｏ）－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｎ－、－Ｎ＝Ｃ（Ｚ）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｚ”）－、－Ｎ（Ｚ”）－Ｃ（Ｏ）－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－Ｃ（Ｏ）－Ｓ－、－Ｓ－Ｃ（Ｏ）－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｎ－Ｎ＝Ｃ（Ｚ’）－（Ｚ、Ｚ’、Ｚ”はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１～４のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、シアノ基、または、ハロゲン原子を表す。）、－Ｃ≡Ｃ－、－Ｎ＝Ｎ－、－Ｓ－、－Ｓ（Ｏ）－、－Ｓ（Ｏ）（Ｏ）－、－（Ｏ）Ｓ（Ｏ）Ｏ－、－Ｏ（Ｏ）Ｓ（Ｏ）Ｏ－、－ＳＣ（Ｏ）－、および、－Ｃ（Ｏ）Ｓ－などが挙げられる。なかでも、配向度がより優れる観点から、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－が好ましい。ＬＡ１は、これらの基を２つ以上組み合わせた基であってもよい。
【0042】
Ｍ１の具体例としては、例えば以下の構造が挙げられる。なお、下記具体例において、「Ａｃ」は、アセチル基を表す。
【0043】
【化4】
【0044】
【化5】
【0045】
Ｔ１が表す末端基としては、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数１～１０のアルコキシ基、炭素数１～１０のアルキルチオ基、炭素数１～１０のアルコキシカルボニルオキシ基、炭素数１～１０のアルコキシカルボニル基（ＲＯＣ（Ｏ）－：Ｒはアルキル基）、炭素数１～１０のアシルオキシ基、炭素数１～１０のアシルアミノ基、炭素数１～１０のアルコキシカルボニルアミノ基、炭素数１～１０のスルホニルアミノ基、炭素数１～１０のスルファモイル基、炭素数１～１０のカルバモイル基、炭素数１～１０のスルフィニル基、炭素数１～１０のウレイド基、および、（メタ）アクリロイルオキシ基含有基などが挙げられる。上記（メタ）アクリロイルオキシ基含有基としては、例えば、－Ｌ－Ａ（Ｌは単結合または連結基を表す。連結基の具体例は上述したＬ１およびＳＰ１と同じである。Ａは（メタ）アクリロイルオキシ基を表す）で表される基が挙げられる。
Ｔ１は、配向度がより優れる観点から、炭素数１～１０のアルコキシ基が好ましく、炭素数１～５のアルコキシがより好ましく、メトキシ基がさらに好ましい。これらの末端基は、これらの基、または、上述の架橋性基によって、さらに置換されていてもよい。
Ｔ１の主鎖の原子数は、配向度がより優れる観点から、１～２０が好ましく、１～１５がより好ましく、１～１０がさらに好ましく、１～７が特に好ましい。Ｔ１の主鎖の原子数が２０以下であることで、光吸収異方性層の配向度がより向上する。ここで、Ｔ１における「主鎖」とは、Ｍ１と結合する最も長い分子鎖を意味し、水素原子はＴ１の主鎖の原子数にカウントしない。例えば、Ｔ１がｎ－ブチル基である場合には主鎖の原子数は４であり、Ｔ１がｓｅｃ－ブチル基である場合の主鎖の原子数は３である。
Ｔ１は、配向度がより優れる観点から、炭素数１～１０のアルコキシ基が好ましく、炭素数１～５のアルコキシがより好ましく、メトキシ基がさらに好ましい。これらの末端基は、これらの基、または、上述の架橋性基によって、さらに置換されていてもよい。
Ｔ１の主鎖の原子数は、配向度がより優れる観点から、１～２０が好ましく、１～１５がより好ましく、１～１０がさらに好ましく、１～７が特に好ましい。Ｔ１の主鎖の原子数が２０以下であることで、光吸収異方性層の配向度がより向上する。ここで、Ｔ１における「主鎖」とは、Ｍ１と結合する最も長い分子鎖を意味し、水素原子はＴ１の主鎖の原子数にカウントしない。例えば、Ｔ１がｎ－ブチル基である場合には主鎖の原子数は４であり、Ｔ１がｓｅｃ－ブチル基である場合の主鎖の原子数は３である。
【0046】
繰り返し単位（１Ｌ）の含有量は、配向度がより優れる観点から、高分子液晶性化合物が有する全繰り返し単位１００質量％に対して、２０～１００質量％が好ましい。
本発明において、高分子液晶性化合物に含まれる各繰り返し単位の含有量は、各繰り返し単位を得るために使用される各単量体の仕込み量（質量）に基づいて算出される。
繰り返し単位（１Ｌ）は、高分子液晶性化合物中において、１種単独で含まれていてもよいし、２種以上含まれていてもよい。なかでも、配向度がより優れる観点から、繰り返し単位（１Ｌ）が高分子液晶性化合物中に２種含まれているのがよい。
本発明において、高分子液晶性化合物に含まれる各繰り返し単位の含有量は、各繰り返し単位を得るために使用される各単量体の仕込み量（質量）に基づいて算出される。
繰り返し単位（１Ｌ）は、高分子液晶性化合物中において、１種単独で含まれていてもよいし、２種以上含まれていてもよい。なかでも、配向度がより優れる観点から、繰り返し単位（１Ｌ）が高分子液晶性化合物中に２種含まれているのがよい。
【0047】
高分子液晶性化合物が繰り返し単位（１Ｌ）を２種含む場合、配向度がより優れる観点から、一方（繰り返し単位Ａ）においてＴ１が表す末端基がアルコキシ基であり、他方（繰り返し単位Ｂ）においてＴ１が表す末端基がアルコキシ基以外の基であることが好ましい。
上記繰り返し単位ＢにおいてＴ１が表す末端基は、配向度がより優れる観点から、アルコキシカルボニル基、シアノ基、または、（メタ）アクリロイルオキシ基含有基であることが好ましく、アルコキシカルボニル基、または、シアノ基であることがより好ましい。
高分子液晶性化合物中の上記繰り返し単位Ａの含有量と高分子液晶性化合物中の上記繰り返し単位Ｂの含有量との割合（Ａ／Ｂ）は、配向度がより優れる観点から、５０／５０～９５／５であることが好ましく、６０／４０～９３／７であることがより好ましく、７０／３０～９０／１０であることがさらに好ましい。
上記繰り返し単位ＢにおいてＴ１が表す末端基は、配向度がより優れる観点から、アルコキシカルボニル基、シアノ基、または、（メタ）アクリロイルオキシ基含有基であることが好ましく、アルコキシカルボニル基、または、シアノ基であることがより好ましい。
高分子液晶性化合物中の上記繰り返し単位Ａの含有量と高分子液晶性化合物中の上記繰り返し単位Ｂの含有量との割合（Ａ／Ｂ）は、配向度がより優れる観点から、５０／５０～９５／５であることが好ましく、６０／４０～９３／７であることがより好ましく、７０／３０～９０／１０であることがさらに好ましい。
【0048】
また、高分子液晶性化合物は、繰り返し単位（１Ｌ）とももに、メソゲン基を有しない繰り返し単位を有していてもよい。メソゲン基を有しない繰り返し単位としては、式（１Ｌ）におけるＭ１が単結合である繰り返し単位が挙げられる。
高分子液晶性化合物がメソゲン基を有しない繰り返し単位を有する場合、配向度がより優れる観点から、高分子液晶性化合物が有する全繰り返し単位１００質量％に対して、０質量％超３０質量％以下が好ましく、１０質量％超２０質量％以下がより好ましい。
高分子液晶性化合物がメソゲン基を有しない繰り返し単位を有する場合、配向度がより優れる観点から、高分子液晶性化合物が有する全繰り返し単位１００質量％に対して、０質量％超３０質量％以下が好ましく、１０質量％超２０質量％以下がより好ましい。
【0049】
高分子液晶性化合物の重量平均分子量（Ｍｗ）は、配向度がより優れる観点から、１０００～５０００００が好ましく、２０００～３０００００がより好ましい。高分子液晶性化合物のＭｗが上記範囲内にあれば、高分子液晶性化合物の取り扱いが容易になる。
特に、塗布時のクラック抑制の観点から、高分子液晶性化合物の重量平均分子量（Ｍｗ）は、１００００以上が好ましく、１００００～３０００００がより好ましい。
また、配向度の温度ラチチュードの観点から、高分子液晶性化合物の重量平均分子量（Ｍｗ）は、１００００未満が好ましく、２０００以上１００００未満が好ましい。
ここで、本発明における重量平均分子量および数平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフ（ＧＰＣ）法により測定された値である。
・溶媒（溶離液）：Ｎ－メチルピロリドン
・装置名：ＴＯＳＯＨ ＨＬＣ－８２２０ＧＰＣ
・カラム：ＴＯＳＯＨ ＴＳＫｇｅｌＳｕｐｅｒＡＷＭ－Ｈ（６ｍｍ×１５ｃｍ）を３本接続して使用
・カラム温度：２５℃
・試料濃度：０．１質量％
・流速：０．３５ｍＬ／ｍｉｎ
・校正曲線：ＴＯＳＯＨ製ＴＳＫ標準ポリスチレン Ｍｗ＝２８０００００～１０５０（Ｍｗ／Ｍｎ＝１．０３～１．０６）までの７サンプルによる校正曲線を使用
特に、塗布時のクラック抑制の観点から、高分子液晶性化合物の重量平均分子量（Ｍｗ）は、１００００以上が好ましく、１００００～３０００００がより好ましい。
また、配向度の温度ラチチュードの観点から、高分子液晶性化合物の重量平均分子量（Ｍｗ）は、１００００未満が好ましく、２０００以上１００００未満が好ましい。
ここで、本発明における重量平均分子量および数平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフ（ＧＰＣ）法により測定された値である。
・溶媒（溶離液）：Ｎ－メチルピロリドン
・装置名：ＴＯＳＯＨ ＨＬＣ－８２２０ＧＰＣ
・カラム：ＴＯＳＯＨ ＴＳＫｇｅｌＳｕｐｅｒＡＷＭ－Ｈ（６ｍｍ×１５ｃｍ）を３本接続して使用
・カラム温度：２５℃
・試料濃度：０．１質量％
・流速：０．３５ｍＬ／ｍｉｎ
・校正曲線：ＴＯＳＯＨ製ＴＳＫ標準ポリスチレン Ｍｗ＝２８０００００～１０５０（Ｍｗ／Ｍｎ＝１．０３～１．０６）までの７サンプルによる校正曲線を使用
【0050】
本明細書における置換基Ｗについて説明する。
置換基Ｗとしては、例えば、アルキル基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１２、さらに好ましくは炭素数１～８のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－オクチル基、ｎ－デシル基、ｎ－ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、および、シクロヘキシル基などが挙げられる。）、アルケニル基（好ましくは炭素数２～２０、より好ましくは炭素数２～１２、さらに好ましくは炭素数２～８のアルケニル基であり、例えば、ビニル基、アリール基、２－ブテニル基、および、３－ペンテニル基などが挙げられる。）、アルキニル基（好ましくは炭素数２～２０、より好ましくは炭素数２～１２、さらに好ましくは炭素数２～８のアルキニル基であり、例えば、プロパルギル基、および、３－ペンチニル基などが挙げられる。）、アリール基（好ましくは炭素数６～３０、より好ましくは炭素数６～２０、さらに好ましくは炭素数６～１２のアリール基であり、例えば、フェニル基、２，６－ジエチルフェニル基、３，５－ジトリフルオロメチルフェニル基、スチリル基、ナフチル基、および、ビフェニル基などが挙げられる。）、置換もしくは無置換のアミノ基（好ましくは炭素数０～２０、より好ましくは炭素数０～１０、さらに好ましくは炭素数０～６のアミノ基であり、例えば、無置換アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、および、アニリノ基などが挙げられる。）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１５であり、例えば、メトキシ基、エトキシ基、および、ブトキシ基などが挙げられる。）、オキシカルボニル基（好ましくは炭素数２～２０、より好ましくは炭素数２～１５、さらに好ましくは２～１０であり、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、および、フェノキシカルボニル基などが挙げられる。）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２～２０、より好ましくは炭素数２～１０、さらに好ましくは２～６であり、例えば、アセトキシ基、ベンゾイルオキシ基、アクリロイル基、および、メタクリロイル基などが挙げられる。）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２～２０、より好ましくは炭素数２～１０、さらに好ましくは炭素数２～６であり、例えば、アセチルアミノ基、および、ベンゾイルアミノ基などが挙げられる。）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２～２０、より好ましくは炭素数２～１０、さらに好ましくは炭素数２～６であり、例えば、メトキシカルボニルアミノ基などが挙げられる。）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７～２０、より好ましくは炭素数７～１６、さらに好ましくは炭素数７～１２であり、例えば、フェニルオキシカルボニルアミノ基などが挙げられる。）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、さらに好ましくは炭素数１～６であり、例えば、メタンスルホニルアミノ基、および、ベンゼンスルホニルアミノ基などが挙げられる。）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０～２０、より好ましくは炭素数０～１０、さらに好ましくは炭素数０～６であり、例えば、スルファモイル基、メチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、および、フェニルスルファモイル基などが挙げられる。）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、さらに好ましくは炭素数１～６であり、例えば、無置換のカルバモイル基、メチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、および、フェニルカルバモイル基などが挙げられる。）、アルキルチオ基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、さらに好ましくは炭素数１～６であり、例えば、メチルチオ基、および、エチルチオ基などが挙げられる。）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６～２０、より好ましくは炭素数６～１６、さらに好ましくは炭素数６～１２であり、例えば、フェニルチオ基などが挙げられる。）、スルホニル基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、さらに好ましくは炭素数１～６であり、例えば、メシル基、および、トシル基などが挙げられる。）、スルフィニル基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、さらに好ましくは炭素数１～６であり、例えば、メタンスルフィニル基、および、ベンゼンスルフィニル基などが挙げられる。）、ウレイド基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、さらに好ましくは炭素数１～６であり、例えば、無置換のウレイド基、メチルウレイド基、および、フェニルウレイド基などが挙げられる。）、リン酸アミド基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、さらに好ましくは炭素数１～６であり、例えば、ジエチルリン酸アミド基、および、フェニルリン酸アミド基などが挙げられる。）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、および、ヨウ素原子などが挙げられる。）、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、アゾ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１～３０、より好ましくは炭素数１～１２のヘテロ環基であり、例えば、窒素原子、酸素原子、硫黄原子などのヘテロ原子を有するヘテロ環基であり、例えば、エポキシ基、オキセタニル基、イミダゾリル基、ピリジル基、キノリル基、フリル基、ピペリジル基、モルホリノ基、マレイミド基、ベンゾオキサゾリル基、ベンズイミダゾリル基、および、ベンズチアゾリル基などが挙げられる。）、シリル基（好ましくは炭素数３～４０、より好ましくは炭素数３～３０、さらに好ましくは炭素数３～２４のシリル基であり、例えば、トリメチルシリル基、および、トリフェニルシリル基などが挙げられる。）、カルボキシ基、スルホン酸基、および、リン酸基などが挙げられる。
置換基Ｗとしては、例えば、アルキル基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１２、さらに好ましくは炭素数１～８のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－オクチル基、ｎ－デシル基、ｎ－ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、および、シクロヘキシル基などが挙げられる。）、アルケニル基（好ましくは炭素数２～２０、より好ましくは炭素数２～１２、さらに好ましくは炭素数２～８のアルケニル基であり、例えば、ビニル基、アリール基、２－ブテニル基、および、３－ペンテニル基などが挙げられる。）、アルキニル基（好ましくは炭素数２～２０、より好ましくは炭素数２～１２、さらに好ましくは炭素数２～８のアルキニル基であり、例えば、プロパルギル基、および、３－ペンチニル基などが挙げられる。）、アリール基（好ましくは炭素数６～３０、より好ましくは炭素数６～２０、さらに好ましくは炭素数６～１２のアリール基であり、例えば、フェニル基、２，６－ジエチルフェニル基、３，５－ジトリフルオロメチルフェニル基、スチリル基、ナフチル基、および、ビフェニル基などが挙げられる。）、置換もしくは無置換のアミノ基（好ましくは炭素数０～２０、より好ましくは炭素数０～１０、さらに好ましくは炭素数０～６のアミノ基であり、例えば、無置換アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、および、アニリノ基などが挙げられる。）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１５であり、例えば、メトキシ基、エトキシ基、および、ブトキシ基などが挙げられる。）、オキシカルボニル基（好ましくは炭素数２～２０、より好ましくは炭素数２～１５、さらに好ましくは２～１０であり、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、および、フェノキシカルボニル基などが挙げられる。）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２～２０、より好ましくは炭素数２～１０、さらに好ましくは２～６であり、例えば、アセトキシ基、ベンゾイルオキシ基、アクリロイル基、および、メタクリロイル基などが挙げられる。）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２～２０、より好ましくは炭素数２～１０、さらに好ましくは炭素数２～６であり、例えば、アセチルアミノ基、および、ベンゾイルアミノ基などが挙げられる。）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２～２０、より好ましくは炭素数２～１０、さらに好ましくは炭素数２～６であり、例えば、メトキシカルボニルアミノ基などが挙げられる。）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７～２０、より好ましくは炭素数７～１６、さらに好ましくは炭素数７～１２であり、例えば、フェニルオキシカルボニルアミノ基などが挙げられる。）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、さらに好ましくは炭素数１～６であり、例えば、メタンスルホニルアミノ基、および、ベンゼンスルホニルアミノ基などが挙げられる。）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０～２０、より好ましくは炭素数０～１０、さらに好ましくは炭素数０～６であり、例えば、スルファモイル基、メチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、および、フェニルスルファモイル基などが挙げられる。）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、さらに好ましくは炭素数１～６であり、例えば、無置換のカルバモイル基、メチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、および、フェニルカルバモイル基などが挙げられる。）、アルキルチオ基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、さらに好ましくは炭素数１～６であり、例えば、メチルチオ基、および、エチルチオ基などが挙げられる。）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６～２０、より好ましくは炭素数６～１６、さらに好ましくは炭素数６～１２であり、例えば、フェニルチオ基などが挙げられる。）、スルホニル基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、さらに好ましくは炭素数１～６であり、例えば、メシル基、および、トシル基などが挙げられる。）、スルフィニル基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、さらに好ましくは炭素数１～６であり、例えば、メタンスルフィニル基、および、ベンゼンスルフィニル基などが挙げられる。）、ウレイド基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、さらに好ましくは炭素数１～６であり、例えば、無置換のウレイド基、メチルウレイド基、および、フェニルウレイド基などが挙げられる。）、リン酸アミド基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、さらに好ましくは炭素数１～６であり、例えば、ジエチルリン酸アミド基、および、フェニルリン酸アミド基などが挙げられる。）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、および、ヨウ素原子などが挙げられる。）、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、アゾ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１～３０、より好ましくは炭素数１～１２のヘテロ環基であり、例えば、窒素原子、酸素原子、硫黄原子などのヘテロ原子を有するヘテロ環基であり、例えば、エポキシ基、オキセタニル基、イミダゾリル基、ピリジル基、キノリル基、フリル基、ピペリジル基、モルホリノ基、マレイミド基、ベンゾオキサゾリル基、ベンズイミダゾリル基、および、ベンズチアゾリル基などが挙げられる。）、シリル基（好ましくは炭素数３～４０、より好ましくは炭素数３～３０、さらに好ましくは炭素数３～２４のシリル基であり、例えば、トリメチルシリル基、および、トリフェニルシリル基などが挙げられる。）、カルボキシ基、スルホン酸基、および、リン酸基などが挙げられる。
【0051】
［二色性物質］
本発明に用いられる二色性物質は、特に限定されず、可視光吸収物質（二色性色素、二色性アゾ化合物）、発光物質（蛍光物質、燐光物質）、紫外線吸収物質、赤外線吸収物質、非線形光学物質、カーボンナノチューブ、および、無機物質（例えば量子ロッド）などが挙げられ、従来公知の二色性物質（二色性色素）を使用することができる。
本発明に用いられる二色性物質は、特に限定されず、可視光吸収物質（二色性色素、二色性アゾ化合物）、発光物質（蛍光物質、燐光物質）、紫外線吸収物質、赤外線吸収物質、非線形光学物質、カーボンナノチューブ、および、無機物質（例えば量子ロッド）などが挙げられ、従来公知の二色性物質（二色性色素）を使用することができる。
【0052】
特に好ましく用いられる二色性物質は、二色性アゾ色素化合物である。
二色性アゾ色素化合物は、特に限定されず、従来公知の二色性アゾ色素を使用することができるが、後述の化合物が好ましく用いられる。
二色性アゾ色素化合物は、特に限定されず、従来公知の二色性アゾ色素を使用することができるが、後述の化合物が好ましく用いられる。
【0053】
本発明において、二色性アゾ色素化合物とは、方向によって吸光度が異なる色素を意味する。
二色性アゾ色素化合物は、液晶性を示してもよいし、液晶性を示さなくてもよい。
二色性アゾ色素化合物が液晶性を示す場合には、ネマチック性またはスメクチック性のいずれを示してもよい。液晶相を示す温度範囲は、室温（約２０℃～２８℃）～３００℃が好ましく、取扱い性および製造適性の観点から、５０～２００℃であることがより好ましい。
二色性アゾ色素化合物は、液晶性を示してもよいし、液晶性を示さなくてもよい。
二色性アゾ色素化合物が液晶性を示す場合には、ネマチック性またはスメクチック性のいずれを示してもよい。液晶相を示す温度範囲は、室温（約２０℃～２８℃）～３００℃が好ましく、取扱い性および製造適性の観点から、５０～２００℃であることがより好ましい。
【0054】
本発明においては、色味調整の観点から、光吸収異方性層が、波長５６０～７００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する少なくとも１種の色素化合物（以下、「第１の二色性アゾ色素化合物」とも略す。）と、波長４５５ｎｍ以上５６０ｎｍ未満の範囲に極大吸収波長を有する少なくとも１種の色素化合物（以下、「第２の二色性アゾ色素化合物」とも略す。）とを少なくとも含むことが好ましく、具体的には、後述する式（１）で表される二色性アゾ色素化合物と、後述する式（２）で表される二色性アゾ色素化合物とを少なくとも含むことがより好ましい。
【0055】
本発明においては、３種以上の二色性アゾ色素化合物を併用してもよく、例えば、光吸収異方性層を黒色に近づける観点から、第１の二色性アゾ色素化合物と、第２の二色性アゾ色素化合物と、波長３８０ｎｍ以上４５５ｎｍ未満の範囲に極大吸収波長を有する少なくとも１種の色素化合物（以下、「第３の二色性アゾ色素化合物」とも略す。）とを併用することが好ましい。
【0056】
本発明においては、耐押圧性がより良好となる観点からは、二色性アゾ色素化合物が架橋性基を有していることが好ましい。
架橋性基としては、具体的には、例えば、（メタ）アクリロイル基、エポキシ基、オキセタニル基、および、スチリル基などが挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基が好ましい。
架橋性基としては、具体的には、例えば、（メタ）アクリロイル基、エポキシ基、オキセタニル基、および、スチリル基などが挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基が好ましい。
【0057】
（第１の二色性アゾ色素化合物）
第１の二色性アゾ色素化合物は、核である発色団と、発色団の末端に結合する側鎖と、を有する化合物であることが好ましい。
発色団の具体例としては、芳香族環基（例えば、芳香族炭化水素基、芳香族複素環基）、および、アゾ基などが挙げられ、芳香族環基およびアゾ基の両方を有する構造が好ましく、芳香族複素環基（好ましくはチエノチアゾール基）と２つのアゾ基とを有するビスアゾ構造がより好ましい。
側鎖としては、特に限定されず、後述の式（１）のＲ１、Ｒ２およびＲ３で表される基が挙げられる。
第１の二色性アゾ色素化合物は、核である発色団と、発色団の末端に結合する側鎖と、を有する化合物であることが好ましい。
発色団の具体例としては、芳香族環基（例えば、芳香族炭化水素基、芳香族複素環基）、および、アゾ基などが挙げられ、芳香族環基およびアゾ基の両方を有する構造が好ましく、芳香族複素環基（好ましくはチエノチアゾール基）と２つのアゾ基とを有するビスアゾ構造がより好ましい。
側鎖としては、特に限定されず、後述の式（１）のＲ１、Ｒ２およびＲ３で表される基が挙げられる。
【0058】
第１の二色性アゾ色素化合物は、波長５６０ｎｍ以上７００ｎｍ以下の範囲に最大吸収波長を有する二色性アゾ色素化合物であり、光吸収異方性層の色味調整の観点から、波長５６０～６５０ｎｍの範囲に最大吸収波長を有する二色性アゾ色素化合物であることが好ましく、波長５６０～６４０ｎｍの範囲に最大吸収波長を有する二色性アゾ色素化合物であるのがより好ましい。
本明細書における二色性アゾ色素化合物の最大吸収波長（ｎｍ）は、二色性アゾ色素化合物を良溶媒中に溶解させた溶液を用いて、分光光度計によって測定される波長３８０～８００ｎｍの範囲における紫外可視光スペクトルから求められる。
本明細書における二色性アゾ色素化合物の最大吸収波長（ｎｍ）は、二色性アゾ色素化合物を良溶媒中に溶解させた溶液を用いて、分光光度計によって測定される波長３８０～８００ｎｍの範囲における紫外可視光スペクトルから求められる。
【0059】
本発明においては、形成される光吸収異方性層の配向度が更に向上する観点から、第１の二色性アゾ色素化合物が、下記式（１）で表される化合物であることが好ましい。
【0060】
【化6】
【0061】
式（１）中、Ａｒ１およびＡｒ２はそれぞれ独立に、置換基を有していてもよいフェニレン基、または、置換基を有していてもよいナフチレン基を表し、フェニレン基が好ましい。
【0062】
式（１）中、Ｒ１は、水素原子、炭素数１～２０の置換基を有していてもよい直鎖もしくは分岐状のアルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルキルスルホニル基、アルキルカルボニル基、アルキルオキシカルボニル基、アシルオキシ基、アルキルカーボネート基、アルキルアミノ基、アシルアミノ基、アルキルカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アルキルスルホニルアミノ基、アルキルスルファモイル基、アルキルカルバモイル基、アルキルスルフィニル基、アルキルウレイド基、アルキルリン酸アミド基、アルキルイミノ基、または、アルキルシリル基を表す。
上記アルキル基を構成する－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－ＣＯ－、－Ｃ（Ｏ）－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（Ｏ）－、－Ｓｉ（ＣＨ３）２－Ｏ－Ｓｉ（ＣＨ３）２－、－Ｎ（Ｒ１’）－、－Ｎ（Ｒ１’）－ＣＯ－、－ＣＯ－Ｎ（Ｒ１’）－、－Ｎ（Ｒ１’）－Ｃ（Ｏ）－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（Ｏ）－Ｎ（Ｒ１’）－、－Ｎ（Ｒ１’）－Ｃ（Ｏ）－Ｎ（Ｒ１’）－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－Ｃ≡Ｃ－、－Ｎ＝Ｎ－、－Ｃ（Ｒ１’）＝ＣＨ－Ｃ（Ｏ）－、または、－Ｏ－Ｃ（Ｏ）－Ｏ－によって置換されていてもよい。
Ｒ１が水素原子以外の基である場合、各基が有する水素原子は、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、－Ｎ（Ｒ１’）２、アミノ基、－Ｃ（Ｒ１’）＝Ｃ（Ｒ１’）－ＮＯ２、－Ｃ（Ｒ１’）＝Ｃ（Ｒ１’）－ＣＮ、または、－Ｃ（Ｒ１’）＝Ｃ（ＣＮ）２、によって置換されていてもよい。
Ｒ１’は、水素原子または炭素数１～６の直鎖もしくは分岐状のアルキル基を表す。各基において、Ｒ１’が複数存在する場合、互いに同一であっても異なっていてもよい。
上記アルキル基を構成する－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－ＣＯ－、－Ｃ（Ｏ）－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（Ｏ）－、－Ｓｉ（ＣＨ３）２－Ｏ－Ｓｉ（ＣＨ３）２－、－Ｎ（Ｒ１’）－、－Ｎ（Ｒ１’）－ＣＯ－、－ＣＯ－Ｎ（Ｒ１’）－、－Ｎ（Ｒ１’）－Ｃ（Ｏ）－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（Ｏ）－Ｎ（Ｒ１’）－、－Ｎ（Ｒ１’）－Ｃ（Ｏ）－Ｎ（Ｒ１’）－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－Ｃ≡Ｃ－、－Ｎ＝Ｎ－、－Ｃ（Ｒ１’）＝ＣＨ－Ｃ（Ｏ）－、または、－Ｏ－Ｃ（Ｏ）－Ｏ－によって置換されていてもよい。
Ｒ１が水素原子以外の基である場合、各基が有する水素原子は、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、－Ｎ（Ｒ１’）２、アミノ基、－Ｃ（Ｒ１’）＝Ｃ（Ｒ１’）－ＮＯ２、－Ｃ（Ｒ１’）＝Ｃ（Ｒ１’）－ＣＮ、または、－Ｃ（Ｒ１’）＝Ｃ（ＣＮ）２、によって置換されていてもよい。
Ｒ１’は、水素原子または炭素数１～６の直鎖もしくは分岐状のアルキル基を表す。各基において、Ｒ１’が複数存在する場合、互いに同一であっても異なっていてもよい。
【0063】
式（１）中、Ｒ２およびＲ３は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１～２０の置換基を有していてもよい直鎖もしくは分岐状のアルキル基、アルコキシ基、アシル基、アルキルオキシカルボニル基、アルキルアミド基、アルキルスルホニル基、アリール基、アリールカルボニル基、アリールスルホニル基、アリールオキシカルボニル基、または、アリールアミド基を表す。
上記アルキル基を構成する－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｃ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）－Ｓ－、－Ｓ－Ｃ（Ｏ）－、－Ｓｉ（ＣＨ３）２－Ｏ－Ｓｉ（ＣＨ３）２－、－ＮＲ２’－、－ＮＲ２’－ＣＯ－、－ＣＯ－ＮＲ２’－、－ＮＲ２’－Ｃ（Ｏ）－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（Ｏ）－ＮＲ２’－、－ＮＲ２’－Ｃ（Ｏ）－ＮＲ２’－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－Ｃ≡Ｃ－、－Ｎ＝Ｎ－、－Ｃ（Ｒ２’）＝ＣＨ－Ｃ（Ｏ）－、または、－Ｏ－Ｃ（Ｏ）－Ｏ－、によって置換されていてもよい。
Ｒ２およびＲ３が水素原子以外の基である場合、各基が有する水素原子は、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、－ＯＨ基、－Ｎ（Ｒ２’）２、アミノ基、－Ｃ（Ｒ２’）＝Ｃ（Ｒ２’）－ＮＯ２、－Ｃ（Ｒ２’）＝Ｃ（Ｒ２’）－ＣＮ、または、－Ｃ（Ｒ２’）＝Ｃ（ＣＮ）２によって置換されていてもよい。
Ｒ２’は、水素原子または炭素数１～６の直鎖もしくは分岐状のアルキル基を表す。各基において、Ｒ２’が複数存在する場合、互いに同一であっても異なっていてもよい。
Ｒ２およびＲ３は、互いに結合して環を形成してもよいし、Ｒ２またはＲ３は、Ａｒ２と結合して環を形成してもよい。
上記アルキル基を構成する－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｃ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）－Ｓ－、－Ｓ－Ｃ（Ｏ）－、－Ｓｉ（ＣＨ３）２－Ｏ－Ｓｉ（ＣＨ３）２－、－ＮＲ２’－、－ＮＲ２’－ＣＯ－、－ＣＯ－ＮＲ２’－、－ＮＲ２’－Ｃ（Ｏ）－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（Ｏ）－ＮＲ２’－、－ＮＲ２’－Ｃ（Ｏ）－ＮＲ２’－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－Ｃ≡Ｃ－、－Ｎ＝Ｎ－、－Ｃ（Ｒ２’）＝ＣＨ－Ｃ（Ｏ）－、または、－Ｏ－Ｃ（Ｏ）－Ｏ－、によって置換されていてもよい。
Ｒ２およびＲ３が水素原子以外の基である場合、各基が有する水素原子は、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、－ＯＨ基、－Ｎ（Ｒ２’）２、アミノ基、－Ｃ（Ｒ２’）＝Ｃ（Ｒ２’）－ＮＯ２、－Ｃ（Ｒ２’）＝Ｃ（Ｒ２’）－ＣＮ、または、－Ｃ（Ｒ２’）＝Ｃ（ＣＮ）２によって置換されていてもよい。
Ｒ２’は、水素原子または炭素数１～６の直鎖もしくは分岐状のアルキル基を表す。各基において、Ｒ２’が複数存在する場合、互いに同一であっても異なっていてもよい。
Ｒ２およびＲ３は、互いに結合して環を形成してもよいし、Ｒ２またはＲ３は、Ａｒ２と結合して環を形成してもよい。
【0064】
耐光性の観点からは、Ｒ１は電子吸引性基であることが好ましく、Ｒ２およびＲ３は電子供与性が低い基であることが好ましい。
このような基の具体例として、Ｒ１としては、アルキルスルホニル基、アルキルカルボニル基、アルキルオキシカルボニル基、アシルオキシ基、アルキルスルホニルアミノ基、アルキルスルファモイル基、アルキルスルフィニル基、および、アルキルウレイド基などが挙げられ、Ｒ２およびＲ３としては、下記の構造の基などが挙げられる。なお下記の構造の基は、上記式（１）において、Ｒ２およびＲ３が結合する窒素原子を含む形で示す。
このような基の具体例として、Ｒ１としては、アルキルスルホニル基、アルキルカルボニル基、アルキルオキシカルボニル基、アシルオキシ基、アルキルスルホニルアミノ基、アルキルスルファモイル基、アルキルスルフィニル基、および、アルキルウレイド基などが挙げられ、Ｒ２およびＲ３としては、下記の構造の基などが挙げられる。なお下記の構造の基は、上記式（１）において、Ｒ２およびＲ３が結合する窒素原子を含む形で示す。
【0065】
【化7】
【0066】
第１の二色性アゾ色素化合物の具体例を以下に示すが、これに限定されるものではない。
【0067】
【化8】
【0068】
（第２の二色性アゾ色素化合物）
第２の二色性アゾ色素化合物は、第１の二色性アゾ色素化合物とは異なる化合物であり、具体的にはその化学構造が異なっている。
第２の二色性アゾ色素化合物は、二色性アゾ色素化合物の核である発色団と、発色団の末端に結合する側鎖と、を有する化合物であることが好ましい。
発色団の具体例としては、芳香族環基（例えば、芳香族炭化水素基、芳香族複素環基）、および、アゾ基などが挙げられ、芳香族炭化水素基およびアゾ基の両方を有する構造が好ましく、芳香族炭化水素基と２つまたは３つのアゾ基とを有するビスアゾまたはトリスアゾ構造がより好ましい。
側鎖としては、特に限定されず、後述の式（２）のＲ４、Ｒ５またはＲ６で表される基が挙げられる。
第２の二色性アゾ色素化合物は、第１の二色性アゾ色素化合物とは異なる化合物であり、具体的にはその化学構造が異なっている。
第２の二色性アゾ色素化合物は、二色性アゾ色素化合物の核である発色団と、発色団の末端に結合する側鎖と、を有する化合物であることが好ましい。
発色団の具体例としては、芳香族環基（例えば、芳香族炭化水素基、芳香族複素環基）、および、アゾ基などが挙げられ、芳香族炭化水素基およびアゾ基の両方を有する構造が好ましく、芳香族炭化水素基と２つまたは３つのアゾ基とを有するビスアゾまたはトリスアゾ構造がより好ましい。
側鎖としては、特に限定されず、後述の式（２）のＲ４、Ｒ５またはＲ６で表される基が挙げられる。
【0069】
第２の二色性アゾ色素化合物は、波長４５５ｎｍ以上５６０ｎｍ未満の範囲に最大吸収波長を有する二色性アゾ色素化合物であり、光吸収異方性層の色味調整の観点から、波長４５５～５５５ｎｍの範囲に最大吸収波長を有する二色性アゾ色素化合物であることが好ましく、波長４５５～５５０ｎｍの範囲に最大吸収波長を有する二色性アゾ色素化合物であることがより好ましい。
特に、５６０～７００ｎｍの範囲に最大吸収波長を有する第１の二色性アゾ色素化合物と、４５５ｎｍ以上５６０ｎｍ未満の範囲に最大吸収波長を有する第２の二色性アゾ色素化合物と、を用いれば、光吸収異方性層の色味調整がより容易になる。
特に、５６０～７００ｎｍの範囲に最大吸収波長を有する第１の二色性アゾ色素化合物と、４５５ｎｍ以上５６０ｎｍ未満の範囲に最大吸収波長を有する第２の二色性アゾ色素化合物と、を用いれば、光吸収異方性層の色味調整がより容易になる。
【0070】
第２の二色性アゾ色素化合物は、光吸収異方性層の配向度がより向上する点から、式（２）で表される化合物であるのが好ましい。
【0071】
【化9】
【0072】
式（２）中、ｎは１または２を表す。
式（２）中、Ａｒ３、Ａｒ４およびＡｒ５はそれぞれ独立に、置換基を有していてもよいフェニレン基、置換基を有していてもよいナフチレン基または置換基を有していてもよい複素環基を表す。
複素環基としては、芳香族および非芳香族のいずれであってもよい。
芳香族複素環基を構成する炭素以外の原子としては、窒素原子、硫黄原子および酸素原子が挙げられる。芳香族複素環基が炭素以外の環を構成する原子を複数有する場合、これらは同一であっても異なっていてもよい。
芳香族複素環基の具体例としては、例えば、ピリジレン基（ピリジン－ジイル基）、ピリダジン－ジイル基、イミダゾール－ジイル基、チエニレン（チオフェン－ジイル基）、キノリレン基（キノリン－ジイル基）、イソキノリレン基（イソキノリン－ジイル基）、オキサゾール－ジイル基、チアゾール－ジイル基、オキサジアゾール－ジイル基、ベンゾチアゾール－ジイル基、ベンゾチアジアゾール－ジイル基、フタルイミド－ジイル基、チエノチアゾール－ジイル基、チアゾロチアゾール－ジイル基、チエノチオフェン－ジイル基、および、チエノオキサゾール－ジイル基などが挙げられる。
式（２）中、Ａｒ３、Ａｒ４およびＡｒ５はそれぞれ独立に、置換基を有していてもよいフェニレン基、置換基を有していてもよいナフチレン基または置換基を有していてもよい複素環基を表す。
複素環基としては、芳香族および非芳香族のいずれであってもよい。
芳香族複素環基を構成する炭素以外の原子としては、窒素原子、硫黄原子および酸素原子が挙げられる。芳香族複素環基が炭素以外の環を構成する原子を複数有する場合、これらは同一であっても異なっていてもよい。
芳香族複素環基の具体例としては、例えば、ピリジレン基（ピリジン－ジイル基）、ピリダジン－ジイル基、イミダゾール－ジイル基、チエニレン（チオフェン－ジイル基）、キノリレン基（キノリン－ジイル基）、イソキノリレン基（イソキノリン－ジイル基）、オキサゾール－ジイル基、チアゾール－ジイル基、オキサジアゾール－ジイル基、ベンゾチアゾール－ジイル基、ベンゾチアジアゾール－ジイル基、フタルイミド－ジイル基、チエノチアゾール－ジイル基、チアゾロチアゾール－ジイル基、チエノチオフェン－ジイル基、および、チエノオキサゾール－ジイル基などが挙げられる。
【0073】
式（２）中、Ｒ４の定義は、式（１）中のＲ１と同様である。
式（２）中、Ｒ５およびＲ６の定義はそれぞれ、式（１）中のＲ２およびＲ３と同様である。
式（２）中、Ｒ５およびＲ６の定義はそれぞれ、式（１）中のＲ２およびＲ３と同様である。
【0074】
耐光性の観点からは、Ｒ４は電子吸引性基であることが好ましく、Ｒ５およびＲ６は電子供与性が低い基であることが好ましい。
このような基のうち、Ｒ４が電子吸引性基である場合の具体例は、Ｒ１が電子吸引性基である場合の具体例と同様であり、Ｒ５およびＲ６が電子供与性の低い基である場合の具体例は、Ｒ２およびＲ３が電子供与性の低い基である場合の具体例と同様である。
このような基のうち、Ｒ４が電子吸引性基である場合の具体例は、Ｒ１が電子吸引性基である場合の具体例と同様であり、Ｒ５およびＲ６が電子供与性の低い基である場合の具体例は、Ｒ２およびＲ３が電子供与性の低い基である場合の具体例と同様である。
【0075】
第２の二色性アゾ色素化合物の具体例を以下に示すが、これに限定されるものではない。
【0076】
【化10】
【0077】
【化11】
【0078】
【化12】
【0079】
【化13】
【0080】
（ｌｏｇＰ値の差）
ｌｏｇＰ値は、化学構造の親水性および疎水性の性質を表現する指標である。第１の二色性アゾ色素化合物の側鎖のｌｏｇＰ値と、第２の二色性アゾ色素化合物の側鎖のｌｏｇＰ値と、の差の絶対値（以下、「ｌｏｇＰ差」ともいう。）は、２．３０以下が好ましく、２．０以下がより好ましく、１．５以下がさらに好ましく、１．０以下が特に好ましい。ｌｏｇＰ差が２．３０以下であれば、第１の二色性アゾ色素化合物と第２の二色性アゾ色素化合物との親和性が高まって、配列構造をより形成しやすくなるため、光吸収異方性層の配向度がより向上する。
なお、第１の二色性アゾ色素化合物または第２の二色性アゾ色素化合物の側鎖が複数ある場合、少なくとも１つのｌｏｇＰ差が上記値を満たすことが好ましい。
ここで、第１の二色性アゾ色素化合物および第２の二色性アゾ色素化合物の側鎖とは、上述した発色団の末端に結合する基を意味する。例えば、第１の二色性アゾ色素化合物が式（１）で表される化合物である場合、式（１）中のＲ１、Ｒ２およびＲ３が側鎖であり、第２の二色性アゾ色素化合物が式（２）で表される化合物である場合、式（２）中のＲ４、Ｒ５およびＲ６が側鎖である。特に、第１の二色性アゾ色素化合物が式（１）で表される化合物であり、第２の二色性アゾ色素化合物が式（２）で表される化合物である場合、Ｒ１とＲ４とのｌｏｇＰ値の差、Ｒ１とＲ５とのｌｏｇＰ値の差、Ｒ２とＲ４とのｌｏｇＰ値の差、および、Ｒ２とＲ５とのｌｏｇＰ値の差のうち、少なくとも１つのｌｏｇＰ差が上記値を満たすことが好ましい。
ｌｏｇＰ値は、化学構造の親水性および疎水性の性質を表現する指標である。第１の二色性アゾ色素化合物の側鎖のｌｏｇＰ値と、第２の二色性アゾ色素化合物の側鎖のｌｏｇＰ値と、の差の絶対値（以下、「ｌｏｇＰ差」ともいう。）は、２．３０以下が好ましく、２．０以下がより好ましく、１．５以下がさらに好ましく、１．０以下が特に好ましい。ｌｏｇＰ差が２．３０以下であれば、第１の二色性アゾ色素化合物と第２の二色性アゾ色素化合物との親和性が高まって、配列構造をより形成しやすくなるため、光吸収異方性層の配向度がより向上する。
なお、第１の二色性アゾ色素化合物または第２の二色性アゾ色素化合物の側鎖が複数ある場合、少なくとも１つのｌｏｇＰ差が上記値を満たすことが好ましい。
ここで、第１の二色性アゾ色素化合物および第２の二色性アゾ色素化合物の側鎖とは、上述した発色団の末端に結合する基を意味する。例えば、第１の二色性アゾ色素化合物が式（１）で表される化合物である場合、式（１）中のＲ１、Ｒ２およびＲ３が側鎖であり、第２の二色性アゾ色素化合物が式（２）で表される化合物である場合、式（２）中のＲ４、Ｒ５およびＲ６が側鎖である。特に、第１の二色性アゾ色素化合物が式（１）で表される化合物であり、第２の二色性アゾ色素化合物が式（２）で表される化合物である場合、Ｒ１とＲ４とのｌｏｇＰ値の差、Ｒ１とＲ５とのｌｏｇＰ値の差、Ｒ２とＲ４とのｌｏｇＰ値の差、および、Ｒ２とＲ５とのｌｏｇＰ値の差のうち、少なくとも１つのｌｏｇＰ差が上記値を満たすことが好ましい。
【0081】
ここで、ｌｏｇＰ値は、化学構造の親水性および疎水性の性質を表現する指標であり、親疎水パラメータと呼ばれることがある。ｌｏｇＰ値は、ＣｈｅｍＢｉｏＤｒａｗ ＵｌｔｒａまたはＨＳＰｉＰ(Ｖｅｒ．４．１．０７)などのソフトウェアを用いて計算できる。また、ＯＥＣＤ Ｇｕｉｄｅｌｉｎｅｓ ｆｏｒ ｔｈｅ Ｔｅｓｔｉｎｇ ｏｆ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ，Ｓｅｃｔｉｏｎｓ １，Ｔｅｓｔ Ｎｏ．１１７の方法などにより、実験的に求めることもできる。本発明では特に断りのない限り、ＨＳＰｉＰ(Ｖｅｒ．４．１．０７)に化合物の構造式を入力して算出される値をｌｏｇＰ値として採用する。
【0082】
（第３の二色性アゾ色素化合物）
第３の二色性アゾ色素化合物は、第１の二色性アゾ色素化合物および第２の二色性アゾ色素化合物以外の二色性アゾ色素化合物であり、具体的には、第１の二色性アゾ色素化合物および第２の二色性アゾ色素化合物とは化学構造が異なっている。光吸収異方性層が第３の二色性アゾ色素化合物を含む場合、光吸収異方性層の色味の調整が容易になるという利点がある。
第３の二色性アゾ色素化合物の最大吸収波長は、３８０ｎｍ以上４５５ｎｍ未満であり、３８５～４５４ｎｍが好ましい。
第３の二色性アゾ色素化合物は、第１の二色性アゾ色素化合物および第２の二色性アゾ色素化合物以外の二色性アゾ色素化合物であり、具体的には、第１の二色性アゾ色素化合物および第２の二色性アゾ色素化合物とは化学構造が異なっている。光吸収異方性層が第３の二色性アゾ色素化合物を含む場合、光吸収異方性層の色味の調整が容易になるという利点がある。
第３の二色性アゾ色素化合物の最大吸収波長は、３８０ｎｍ以上４５５ｎｍ未満であり、３８５～４５４ｎｍが好ましい。
【0083】
第３の二色性アゾ色素化合物としては、下記式（６）で表される二色性アゾ色素が好ましい。
【0084】
【化14】
【0085】
式（６）中、ＡおよびＢは、それぞれ独立に、架橋性基を表す。
式（６）中、ａおよびｂは、それぞれ独立に、０または１を表す。波長４２０ｎｍにおける配向度に優れる観点においては、ａおよびｂは、ともに０であることが好ましい。
式（６）中、ａ＝０の場合にはＬ１は１価の置換基を表し、ａ＝１の場合にはＬ１は単結合または２価の連結基を表す。また、ｂ＝０の場合にはＬ２は１価の置換基を表し、ｂ＝１の場合にはＬ２は単結合または２価の連結基を表す。
式（６）中、Ａｒ１は（ｎ１＋２）価の芳香族炭化水素基または複素環基を表し、Ａｒ２は（ｎ２＋２）価の芳香族炭化水素基または複素環基を表し、Ａｒ３は（ｎ３＋２）価の芳香族炭化水素基または複素環基を表す。
式（６）中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、それぞれ独立に、１価の置換基を表す。ｎ１≧２である場合には複数のＲ１は互いに同一でも異なっていてもよく、ｎ２≧２である場合には複数のＲ２は互いに同一でも異なっていてもよく、ｎ３≧２である場合には複数のＲ３は互いに同一でも異なっていてもよい。
式（６）中、ｋは、１～４の整数を表す。ｋ≧２の場合には、複数のＡｒ２は互いに同一でも異なっていてもよく、複数のＲ２は互いに同一でも異なっていてもよい。
式（６）中、ｎ１、ｎ２およびｎ３は、それぞれ独立に、０～４の整数を表す。ただし、ｋ＝１の場合にはｎ１＋ｎ２＋ｎ３≧０であり、ｋ≧２の場合にはｎ１＋ｎ２＋ｎ３≧１である。
式（６）中、ａおよびｂは、それぞれ独立に、０または１を表す。波長４２０ｎｍにおける配向度に優れる観点においては、ａおよびｂは、ともに０であることが好ましい。
式（６）中、ａ＝０の場合にはＬ１は１価の置換基を表し、ａ＝１の場合にはＬ１は単結合または２価の連結基を表す。また、ｂ＝０の場合にはＬ２は１価の置換基を表し、ｂ＝１の場合にはＬ２は単結合または２価の連結基を表す。
式（６）中、Ａｒ１は（ｎ１＋２）価の芳香族炭化水素基または複素環基を表し、Ａｒ２は（ｎ２＋２）価の芳香族炭化水素基または複素環基を表し、Ａｒ３は（ｎ３＋２）価の芳香族炭化水素基または複素環基を表す。
式（６）中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、それぞれ独立に、１価の置換基を表す。ｎ１≧２である場合には複数のＲ１は互いに同一でも異なっていてもよく、ｎ２≧２である場合には複数のＲ２は互いに同一でも異なっていてもよく、ｎ３≧２である場合には複数のＲ３は互いに同一でも異なっていてもよい。
式（６）中、ｋは、１～４の整数を表す。ｋ≧２の場合には、複数のＡｒ２は互いに同一でも異なっていてもよく、複数のＲ２は互いに同一でも異なっていてもよい。
式（６）中、ｎ１、ｎ２およびｎ３は、それぞれ独立に、０～４の整数を表す。ただし、ｋ＝１の場合にはｎ１＋ｎ２＋ｎ３≧０であり、ｋ≧２の場合にはｎ１＋ｎ２＋ｎ３≧１である。
【0086】
式（６）において、ＡおよびＢが表す架橋性基としては、例えば、特開２０１０－２４４０３８号公報の［００４０］～［００５０］段落に記載された重合性基が挙げられる。これらの中でも、反応性および合成適性の向上の観点から、アクリロイル基、メタクリロイル基、エポキシ基、オキセタニル基、または、スチリル基が好ましく、溶解性をより向上できるという観点から、アクリロイル基またはメタクリロイル基がより好ましい。
【0087】
式（６）において、ａ＝０の場合にはＬ１は１価の置換基を表し、ａ＝１の場合にはＬ１は単結合または２価の連結基を表す。また、ｂ＝０の場合にはＬ２は１価の置換基を表し、ｂ＝１の場合にはＬ２は単結合または２価の連結基を表す。
【0088】
Ｌ１およびＬ２が表す１価の置換基としては、二色性物質の溶解性を高めるために導入される基、または、色素としての色調を調節するために導入される電子供与性や電子吸引性を有する基が好ましい。
例えば、置換基としては、
アルキル基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１２、さらに好ましくは炭素数１～８のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－オクチル基、ｎ－デシル基、ｎ－ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる。）、
アルケニル基（好ましくは炭素数２～２０、より好ましくは炭素数２～１２、さらに好ましくは炭素数２～８のアルケニル基であり、例えば、ビニル基、アリル基、２－ブテニル基、３－ペンテニル基などが挙げられる。）、
アルキニル基（好ましくは炭素数２～２０、より好ましくは炭素数２～１２、さらに好ましくは炭素数２～８のアルキニル基であり、例えば、プロパルギル基、３－ペンチニル基などが挙げられる。）、
アリール基（好ましくは炭素数６～３０、より好ましくは炭素数６～２０、さらに好ましくは炭素数６～１２のアリール基であり、例えば、フェニル基、２，６-ジエチルフェニル基、３，５－ジトリフルオロメチルフェニル基、ナフチル基、および、ビフェニル基などが挙げられる。）、
置換もしくは無置換のアミノ基（好ましくは炭素数０～２０、より好ましくは炭素数０～１０、さらに好ましくは炭素数０～６のアミノ基であり、例えば、無置換アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、および、アニリノ基などが挙げられる。）、
アルコキシ基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１５であり、例えば、メトキシ基、エトキシ基、および、ブトキシ基などが挙げられる。）、
オキシカルボニル基（好ましくは炭素数２～２０、より好ましくは炭素数２～１５、さらに好ましくは２～１０であり、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、および、フェノキシカルボニル基などが挙げられる。）、
アシルオキシ基（好ましくは炭素数２～２０、より好ましくは炭素数２～１０、さらに好ましくは２～６であり、例えば、アセトキシ基およびベンゾイルオキシ基などが挙げられる。）、
アシルアミノ基（好ましくは炭素数２～２０、より好ましくは炭素数２～１０、さらに好ましくは炭素数２～６であり、例えば、アセチルアミノ基およびベンゾイルアミノ基などが挙げられる。）、
アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２～２０、より好ましくは炭素数２～１０、さらに好ましくは炭素数２～６であり、例えば、メトキシカルボニルアミノ基などが挙げられる。）、
アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７～２０、より好ましくは炭素数７～１６、さらに好ましくは炭素数７～１２であり、例えば、フェニルオキシカルボニルアミノ基などが挙げられる。）、
スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、さらに好ましくは炭素数１～６であり、例えば、メタンスルホニルアミノ基、および、ベンゼンスルホニルアミノ基などが挙げられる。）、
スルファモイル基（好ましくは炭素数０～２０、より好ましくは炭素数０～１０、さらに好ましくは炭素数０～６であり、例えば、スルファモイル基、メチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、および、フェニルスルファモイル基などが挙げられる。）、
カルバモイル基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、さらに好ましくは炭素数１～６であり、例えば、無置換のカルバモイル基、メチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、および、フェニルカルバモイル基などが挙げられる。）、
アルキルチオ基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、さらに好ましくは炭素数１～６であり、例えば、メチルチオ基、および、エチルチオ基などが挙げられる。）、
アリールチオ基（好ましくは炭素数６～２０、より好ましくは炭素数６～１６、さらに好ましくは炭素数６～１２であり、例えば、フェニルチオ基などが挙げられる。）、
スルホニル基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、さらに好ましくは炭素数１～６であり、例えば、メシル基、トシル基などが挙げられる。）、
スルフィニル基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、さらに好ましくは炭素数１～６であり、例えば、メタンスルフィニル基、および、ベンゼンスルフィニル基などが挙げられる。）、
ウレイド基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、さらに好ましくは炭素数１～６であり、例えば、無置換のウレイド基、メチルウレイド基、および、フェニルウレイド基などが挙げられる。）、
リン酸アミド基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、さらに好ましくは炭素数１～６であり、例えば、ジエチルリン酸アミド基、および、フェニルリン酸アミド基などが挙げられる。）、
ヘテロ環基（好ましくは炭素数１～３０、より好ましくは１～１２のヘテロ環基であり、例えば、窒素原子、酸素原子、および、硫黄原子などのヘテロ原子を有するヘテロ環基であり、例えば、イミダゾリル基、ピリジル基、キノリル基、フリル基、ピペリジル基、モルホリノ基、ベンゾオキサゾリル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基などが挙げられる。）、
シリル基（好ましくは、炭素数３～４０、より好ましくは炭素数３～３０、さらに好ましくは、炭素数３～２４のシリル基であり、例えば、トリメチルシリル基、トリフェニルシリル基などが挙げられる。）、
ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、および、ヨウ素原子などが挙げられる。）、
ヒドロキシ基、メルカプト基、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、および、アゾ基、などを用いることができる。
これらの置換基は、さらにこれらの置換基によって置換されていてもよい。また、置換基を２つ以上有する場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに結合して環を形成していてもよい。
上記置換基がさらに上記置換基によって置換された基としては、例えば、アルコキシ基がアルキル基で置換された基である、ＲＢ－（Ｏ－ＲＡ）ｎａ－基が挙げられる。ここで、式中、ＲＡは炭素数１～５のアルキレン基を表し、ＲＢは炭素数１～５のアルキル基を表し、ｎａは１～１０（好ましくは１～５、より好ましくは１～３）の整数を表す。
これらの中でも、Ｌ１およびＬ２が表す１価の置換基としては、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、および、これらの基がさらにこれらの基によって置換された基（例えば、上述したＲＢ－（Ｏ－ＲＡ）ｎａ－基）が好ましく、アルキル基、アルコキシ基、および、これらの基がさらにこれらの基によって置換された基（例えば、上述したＲＢ－（Ｏ－ＲＡ）ｎａ－基）がより好ましい。
例えば、置換基としては、
アルキル基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１２、さらに好ましくは炭素数１～８のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－オクチル基、ｎ－デシル基、ｎ－ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる。）、
アルケニル基（好ましくは炭素数２～２０、より好ましくは炭素数２～１２、さらに好ましくは炭素数２～８のアルケニル基であり、例えば、ビニル基、アリル基、２－ブテニル基、３－ペンテニル基などが挙げられる。）、
アルキニル基（好ましくは炭素数２～２０、より好ましくは炭素数２～１２、さらに好ましくは炭素数２～８のアルキニル基であり、例えば、プロパルギル基、３－ペンチニル基などが挙げられる。）、
アリール基（好ましくは炭素数６～３０、より好ましくは炭素数６～２０、さらに好ましくは炭素数６～１２のアリール基であり、例えば、フェニル基、２，６-ジエチルフェニル基、３，５－ジトリフルオロメチルフェニル基、ナフチル基、および、ビフェニル基などが挙げられる。）、
置換もしくは無置換のアミノ基（好ましくは炭素数０～２０、より好ましくは炭素数０～１０、さらに好ましくは炭素数０～６のアミノ基であり、例えば、無置換アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、および、アニリノ基などが挙げられる。）、
アルコキシ基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１５であり、例えば、メトキシ基、エトキシ基、および、ブトキシ基などが挙げられる。）、
オキシカルボニル基（好ましくは炭素数２～２０、より好ましくは炭素数２～１５、さらに好ましくは２～１０であり、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、および、フェノキシカルボニル基などが挙げられる。）、
アシルオキシ基（好ましくは炭素数２～２０、より好ましくは炭素数２～１０、さらに好ましくは２～６であり、例えば、アセトキシ基およびベンゾイルオキシ基などが挙げられる。）、
アシルアミノ基（好ましくは炭素数２～２０、より好ましくは炭素数２～１０、さらに好ましくは炭素数２～６であり、例えば、アセチルアミノ基およびベンゾイルアミノ基などが挙げられる。）、
アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２～２０、より好ましくは炭素数２～１０、さらに好ましくは炭素数２～６であり、例えば、メトキシカルボニルアミノ基などが挙げられる。）、
アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７～２０、より好ましくは炭素数７～１６、さらに好ましくは炭素数７～１２であり、例えば、フェニルオキシカルボニルアミノ基などが挙げられる。）、
スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、さらに好ましくは炭素数１～６であり、例えば、メタンスルホニルアミノ基、および、ベンゼンスルホニルアミノ基などが挙げられる。）、
スルファモイル基（好ましくは炭素数０～２０、より好ましくは炭素数０～１０、さらに好ましくは炭素数０～６であり、例えば、スルファモイル基、メチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、および、フェニルスルファモイル基などが挙げられる。）、
カルバモイル基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、さらに好ましくは炭素数１～６であり、例えば、無置換のカルバモイル基、メチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、および、フェニルカルバモイル基などが挙げられる。）、
アルキルチオ基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、さらに好ましくは炭素数１～６であり、例えば、メチルチオ基、および、エチルチオ基などが挙げられる。）、
アリールチオ基（好ましくは炭素数６～２０、より好ましくは炭素数６～１６、さらに好ましくは炭素数６～１２であり、例えば、フェニルチオ基などが挙げられる。）、
スルホニル基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、さらに好ましくは炭素数１～６であり、例えば、メシル基、トシル基などが挙げられる。）、
スルフィニル基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、さらに好ましくは炭素数１～６であり、例えば、メタンスルフィニル基、および、ベンゼンスルフィニル基などが挙げられる。）、
ウレイド基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、さらに好ましくは炭素数１～６であり、例えば、無置換のウレイド基、メチルウレイド基、および、フェニルウレイド基などが挙げられる。）、
リン酸アミド基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、さらに好ましくは炭素数１～６であり、例えば、ジエチルリン酸アミド基、および、フェニルリン酸アミド基などが挙げられる。）、
ヘテロ環基（好ましくは炭素数１～３０、より好ましくは１～１２のヘテロ環基であり、例えば、窒素原子、酸素原子、および、硫黄原子などのヘテロ原子を有するヘテロ環基であり、例えば、イミダゾリル基、ピリジル基、キノリル基、フリル基、ピペリジル基、モルホリノ基、ベンゾオキサゾリル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基などが挙げられる。）、
シリル基（好ましくは、炭素数３～４０、より好ましくは炭素数３～３０、さらに好ましくは、炭素数３～２４のシリル基であり、例えば、トリメチルシリル基、トリフェニルシリル基などが挙げられる。）、
ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、および、ヨウ素原子などが挙げられる。）、
ヒドロキシ基、メルカプト基、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、および、アゾ基、などを用いることができる。
これらの置換基は、さらにこれらの置換基によって置換されていてもよい。また、置換基を２つ以上有する場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに結合して環を形成していてもよい。
上記置換基がさらに上記置換基によって置換された基としては、例えば、アルコキシ基がアルキル基で置換された基である、ＲＢ－（Ｏ－ＲＡ）ｎａ－基が挙げられる。ここで、式中、ＲＡは炭素数１～５のアルキレン基を表し、ＲＢは炭素数１～５のアルキル基を表し、ｎａは１～１０（好ましくは１～５、より好ましくは１～３）の整数を表す。
これらの中でも、Ｌ１およびＬ２が表す１価の置換基としては、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、および、これらの基がさらにこれらの基によって置換された基（例えば、上述したＲＢ－（Ｏ－ＲＡ）ｎａ－基）が好ましく、アルキル基、アルコキシ基、および、これらの基がさらにこれらの基によって置換された基（例えば、上述したＲＢ－（Ｏ－ＲＡ）ｎａ－基）がより好ましい。
【0089】
Ｌ１およびＬ２が表す２価の連結基としては、例えば、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－、－ＣＯ－ＮＲＮ－、－Ｏ－ＣＯ－ＮＲＮ－、－ＮＲＮ－ＣＯ－ＮＲＮ－、－ＳＯ２－、－ＳＯ－、アルキレン基、シクロアルキレン基、および、アルケニレン基、ならびに、これらの基を２つ以上組み合わせた基などが挙げられる。
これらの中でも、アルキレン基と、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－および－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－からなる群より選択される１種以上の基と、を組み合わせた基が好ましい。
ここで、ＲＮは、水素原子またはアルキル基を表す。ＲＮが複数存在する場合には、複数のＲＮは互いに同一でも異なっていてもよい。
これらの中でも、アルキレン基と、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－および－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－からなる群より選択される１種以上の基と、を組み合わせた基が好ましい。
ここで、ＲＮは、水素原子またはアルキル基を表す。ＲＮが複数存在する場合には、複数のＲＮは互いに同一でも異なっていてもよい。
【0090】
二色性物質の溶解性がより向上するという観点からは、Ｌ１およびＬ２の少なくとも一方の主鎖の原子の数は、３個以上であることが好ましく、５個以上であることがより好ましく、７個以上であることがさらに好ましく、１０個以上であることが特に好ましい。また、主鎖の原子の数の上限値は、２０個以下であることが好ましく、１２個以下であることがより好ましい。
一方で、光吸収異方性層の配向度がより向上するという観点からは、Ｌ１およびＬ２の少なくとも一方の主鎖の原子の数は、１～５個であることが好ましい。
ここで、式（６）におけるＡが存在する場合には、Ｌ１における「主鎖」とは、Ｌ１と連結する「Ｏ」原子と、「Ａ」と、を直接連結するために必要な部分を指し、「主鎖の原子の数」とは、上記部分を構成する原子の個数のことを指す。同様に、式（６）におけるＢが存在する場合には、Ｌ２における「主鎖」とは、Ｌ２と連結する「Ｏ」原子と、「Ｂ」と、を直接連結するために必要な部分を指し、「主鎖の原子の数」とは、上記部分を構成する原子の数のことを指す。なお、「主鎖の原子の数」には、後述する分岐鎖の原子の数は含まない。
また、Ａが存在しない場合には、Ｌ１における「主鎖の原子の数」とは、分岐鎖を含まないＬ１の原子の個数のことをいう。Ｂが存在しない場合には、Ｌ２における「主鎖の原子の数」とは、分岐鎖を含まないＬ２の原子の個数のことをいう。
具体的には、下記式（Ｄ１）においては、Ｌ１の主鎖の原子の数は５個（下記式（Ｄ１）の左側の点線枠内の原子の数）であり、Ｌ２の主鎖の原子の数は５個（下記式（Ｄ１）の右側の点線枠内の原子の数）である。また、下記式（Ｄ１０）においては、Ｌ１の主鎖の原子の数は７個（下記式（Ｄ１０）の左側の点線枠内の原子の数）であり、Ｌ２の主鎖の原子の数は５個（下記式（Ｄ１０）の右側の点線枠内の原子の数）である。
一方で、光吸収異方性層の配向度がより向上するという観点からは、Ｌ１およびＬ２の少なくとも一方の主鎖の原子の数は、１～５個であることが好ましい。
ここで、式（６）におけるＡが存在する場合には、Ｌ１における「主鎖」とは、Ｌ１と連結する「Ｏ」原子と、「Ａ」と、を直接連結するために必要な部分を指し、「主鎖の原子の数」とは、上記部分を構成する原子の個数のことを指す。同様に、式（６）におけるＢが存在する場合には、Ｌ２における「主鎖」とは、Ｌ２と連結する「Ｏ」原子と、「Ｂ」と、を直接連結するために必要な部分を指し、「主鎖の原子の数」とは、上記部分を構成する原子の数のことを指す。なお、「主鎖の原子の数」には、後述する分岐鎖の原子の数は含まない。
また、Ａが存在しない場合には、Ｌ１における「主鎖の原子の数」とは、分岐鎖を含まないＬ１の原子の個数のことをいう。Ｂが存在しない場合には、Ｌ２における「主鎖の原子の数」とは、分岐鎖を含まないＬ２の原子の個数のことをいう。
具体的には、下記式（Ｄ１）においては、Ｌ１の主鎖の原子の数は５個（下記式（Ｄ１）の左側の点線枠内の原子の数）であり、Ｌ２の主鎖の原子の数は５個（下記式（Ｄ１）の右側の点線枠内の原子の数）である。また、下記式（Ｄ１０）においては、Ｌ１の主鎖の原子の数は７個（下記式（Ｄ１０）の左側の点線枠内の原子の数）であり、Ｌ２の主鎖の原子の数は５個（下記式（Ｄ１０）の右側の点線枠内の原子の数）である。
【0091】
【化15】
【0092】
Ｌ１およびＬ２は、分岐鎖を有していてもよい。
ここで、式（６）においてＡが存在する場合には、Ｌ１における「分岐鎖」とは、式（６）におけるＬ１と連結する「Ｏ」原子と、「Ａ」と、を直接連結するために必要な部分以外の部分をいう。同様に、式（６）においてＢが存在する場合には、Ｌ２における「分岐鎖」とは、式（６）におけるＬ２と連結する「Ｏ」原子と、「Ｂ」と、を直接連結するために必要な部分以外の部分をいう。
また、式（６）においてＡが存在しない場合には、Ｌ１における「分岐鎖」とは、式（６）におけるＬ１と連結する「Ｏ」原子を起点として延びる最長の原子鎖（すなわち主鎖）以外の部分をいう。同様に、式（６）においてＢが存在しない場合には、Ｌ２における「分岐鎖」とは、式（６）におけるＬ２と連結する「Ｏ」原子を起点として延びる最長の原子鎖（すなわち主鎖）以外の部分をいう。
分岐鎖の原子の数は、３以下であることが好ましい。分岐鎖の原子の数が３以下であることで、光吸収異方性層の配向度がより向上するなどの利点がある。なお、分岐鎖の原子の数には、水素原子の数は含まれない。
ここで、式（６）においてＡが存在する場合には、Ｌ１における「分岐鎖」とは、式（６）におけるＬ１と連結する「Ｏ」原子と、「Ａ」と、を直接連結するために必要な部分以外の部分をいう。同様に、式（６）においてＢが存在する場合には、Ｌ２における「分岐鎖」とは、式（６）におけるＬ２と連結する「Ｏ」原子と、「Ｂ」と、を直接連結するために必要な部分以外の部分をいう。
また、式（６）においてＡが存在しない場合には、Ｌ１における「分岐鎖」とは、式（６）におけるＬ１と連結する「Ｏ」原子を起点として延びる最長の原子鎖（すなわち主鎖）以外の部分をいう。同様に、式（６）においてＢが存在しない場合には、Ｌ２における「分岐鎖」とは、式（６）におけるＬ２と連結する「Ｏ」原子を起点として延びる最長の原子鎖（すなわち主鎖）以外の部分をいう。
分岐鎖の原子の数は、３以下であることが好ましい。分岐鎖の原子の数が３以下であることで、光吸収異方性層の配向度がより向上するなどの利点がある。なお、分岐鎖の原子の数には、水素原子の数は含まれない。
【0093】
式（６）において、Ａｒ１は（ｎ１＋２）価（例えば、ｎ１が１である時は３価）、Ａｒ２は（ｎ２＋２）価（例えば、ｎ２が１である時は３価）、Ａｒ３は（ｎ３＋２）価（例えば、ｎ３が１である時は３価）、の芳香族炭化水素基または複素環基を表す。ここで、Ａｒ１～Ａｒ３はそれぞれ、ｎ１～ｎ３個の置換基（後述するＲ１～Ｒ３）で置換された２価の芳香族炭化水素基または２価の複素環基と換言できる。
Ａｒ１～Ａｒ３が表す２価の芳香族炭化水素基としては、単環であっても、２環以上の縮環構造を有していてもよい。２価の芳香族炭化水素基の環数は、溶解性がより向上するという観点から、１～４が好ましく、１～２がより好ましく、１（すなわちフェニレン基であること）がさらに好ましい。
２価の芳香族炭化水素基の具体例としては、フェニレン基、アズレン－ジイル基、ナフチレン基、フルオレン－ジイル基、アントラセン－ジイル基およびテトラセン－ジイル基などが挙げられ、溶解性がより向上するという観点から、フェニレン基またはナフチレン基が好ましく、フェニレン基がより好ましい。
以下に、第３の二色性色素化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、下記具体例中、ｎは、１～１０の整数を表す。
Ａｒ１～Ａｒ３が表す２価の芳香族炭化水素基としては、単環であっても、２環以上の縮環構造を有していてもよい。２価の芳香族炭化水素基の環数は、溶解性がより向上するという観点から、１～４が好ましく、１～２がより好ましく、１（すなわちフェニレン基であること）がさらに好ましい。
２価の芳香族炭化水素基の具体例としては、フェニレン基、アズレン－ジイル基、ナフチレン基、フルオレン－ジイル基、アントラセン－ジイル基およびテトラセン－ジイル基などが挙げられ、溶解性がより向上するという観点から、フェニレン基またはナフチレン基が好ましく、フェニレン基がより好ましい。
以下に、第３の二色性色素化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、下記具体例中、ｎは、１～１０の整数を表す。
【0094】
【化16】
【0095】
【化17】
【0096】
４２０ｎｍの配向度に優れる点では、第３の二色性アゾ色素化合物がラジカル重合性基を有さないことが好ましい。例えば、以下の構造が挙げられる。
【0097】
【化18】
【0098】
第３の二色性アゾ色素化合物は、４２０ｎｍの配向度に特に優れる点で、下記式（１－１）で表される構造を有する二色性物質であるのがより好ましい。
【0099】
【化19】
【0100】
式（１－１）中、Ｒ１、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、ｎ１、ｎ３、Ｌ１およびＬ２の定義はそれぞれ、式（１）のＲ１、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、ｎ１、ｎ３、Ｌ１およびＬ２と同義である。
式（１－１）中、Ｒ２１およびＲ２２の定義はそれぞれ独立に、式（１）のＲ２と同義である。
式（１－１）中、ｎ２１およびｎ２２の定義はそれぞれ独立に、式（１）のｎ２と同義である。
ｎ１＋ｎ２１＋ｎ２２＋ｎ３≧１であり、ｎ１＋ｎ２１＋ｎ２２＋ｎ３は、１～９が好ましく、１～５がより好ましい。
式（１－１）中、Ｒ２１およびＲ２２の定義はそれぞれ独立に、式（１）のＲ２と同義である。
式（１－１）中、ｎ２１およびｎ２２の定義はそれぞれ独立に、式（１）のｎ２と同義である。
ｎ１＋ｎ２１＋ｎ２２＋ｎ３≧１であり、ｎ１＋ｎ２１＋ｎ２２＋ｎ３は、１～９が好ましく、１～５がより好ましい。
【0101】
以下に、二色性物質の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【0102】
【化20】
【0103】
【化21】
【0104】
【化22】
【0105】
二色性物質の含有量は、光吸収異方性層の全質量に対して、１０～３０質量％が好ましく、１５～３０質量％がより好ましく、１８～２８質量％がさらに好ましく、２０～２６質量％が特に好ましい。二色性物質の含有量が上記範囲内にあれば、光吸収異方性層を薄膜にした場合であっても、高配向度の光吸収異方性層を得ることができる。そのため、フレキシブル性に優れた光吸収異方性層が得られやすい。
第１の二色性アゾ色素化合物の含有量は、光吸収異方性層中の二色性物質全体の含有量１００質量部に対して、４０～９０質量部が好ましく、４５～７５質量部がより好ましい。
第２の二色性アゾ色素化合物の含有量は、光吸収異方性層中の二色性物質全体の含有量１００質量に対して、６～５０質量部が好ましく、８～３５質量部がより好ましい。
第３の二色性アゾ色素化合物の含有量は、光吸収異方性層中の二色性アゾ色素化合物の含有量１００質量に対して、３～３５質量部が好ましく、５～３５質量部がより好ましい。
第１の二色性アゾ色素化合物と、第２の二色性アゾ色素化合物と、および必要に応じて用いられる第３の二色性アゾ色素化合物と、の含有比は、光吸収異方性層の色味調整するために、任意に設定することができる。ただし、第１の二色性アゾ色素化合物に対する第２の二色性アゾ色素化合物の含有比（第２の二色性アゾ色素化合物／第１の二色性アゾ色素化合物）は、モル換算で、０．１～１０が好ましく、０．１～２がより好ましく、０．１～０．５がさらに好ましい。第１の二色性アゾ色素化合物に対する第２の二色性アゾ色素化合物の含有比が上記範囲内にあれば、配向度が高められる。
第１の二色性アゾ色素化合物の含有量は、光吸収異方性層中の二色性物質全体の含有量１００質量部に対して、４０～９０質量部が好ましく、４５～７５質量部がより好ましい。
第２の二色性アゾ色素化合物の含有量は、光吸収異方性層中の二色性物質全体の含有量１００質量に対して、６～５０質量部が好ましく、８～３５質量部がより好ましい。
第３の二色性アゾ色素化合物の含有量は、光吸収異方性層中の二色性アゾ色素化合物の含有量１００質量に対して、３～３５質量部が好ましく、５～３５質量部がより好ましい。
第１の二色性アゾ色素化合物と、第２の二色性アゾ色素化合物と、および必要に応じて用いられる第３の二色性アゾ色素化合物と、の含有比は、光吸収異方性層の色味調整するために、任意に設定することができる。ただし、第１の二色性アゾ色素化合物に対する第２の二色性アゾ色素化合物の含有比（第２の二色性アゾ色素化合物／第１の二色性アゾ色素化合物）は、モル換算で、０．１～１０が好ましく、０．１～２がより好ましく、０．１～０．５がさらに好ましい。第１の二色性アゾ色素化合物に対する第２の二色性アゾ色素化合物の含有比が上記範囲内にあれば、配向度が高められる。
【0106】
本発明における光吸収異方性層は、例えば、上記液晶性化合物および二色性物質を含む光吸収異方性層形成用組成物を用いて作製できる。
光吸収異方性層形成用組成物は、液晶性化合物および二色性物質以外の成分を含んでいてもよく、例えば、溶媒、垂直配向剤、界面改良剤、重合性成分、および、重合開始剤（例えば、ラジカル重合開始剤）などが挙げられる。この場合、本発明における光吸収異方性層は、液状成分（溶媒など）以外の固形成分を含む。
光吸収異方性層形成用組成物は、液晶性化合物および二色性物質以外の成分を含んでいてもよく、例えば、溶媒、垂直配向剤、界面改良剤、重合性成分、および、重合開始剤（例えば、ラジカル重合開始剤）などが挙げられる。この場合、本発明における光吸収異方性層は、液状成分（溶媒など）以外の固形成分を含む。
【0107】
界面改良剤としては、後述する実施例欄に記載の界面改良剤を用いることができる。
光吸収異方性層形成用組成物が界面改良剤を含む場合、界面改良剤の含有量は、光吸収異方性層形成用組成物中の上記二色性物質と上記液晶性化合物との合計１００質量部に対して、０．００１～５質量部が好ましい。
光吸収異方性層形成用組成物が界面改良剤を含む場合、界面改良剤の含有量は、光吸収異方性層形成用組成物中の上記二色性物質と上記液晶性化合物との合計１００質量部に対して、０．００１～５質量部が好ましい。
【0108】
重合性成分としては、アクリレートを含む化合物（例えば、アクリレートモノマー）が挙げられる。この場合、本発明における光吸収異方性層は、上記アクリレートを含む化合物を重合させて得られるポリアクリレートを含む。
重合性成分としては、例えば、特開２０１７－１２２７７６号公報の［００５８］段落に記載の化合物が挙げられる。
光吸収異方性層形成用組成物が重合性成分を含む場合、重合性成分の含有量は、光吸収異方性層形成用組成物中の上記二色性物質と上記液晶性化合物との合計１００質量部に対して、３～２０質量部が好ましい。
重合性成分としては、例えば、特開２０１７－１２２７７６号公報の［００５８］段落に記載の化合物が挙げられる。
光吸収異方性層形成用組成物が重合性成分を含む場合、重合性成分の含有量は、光吸収異方性層形成用組成物中の上記二色性物質と上記液晶性化合物との合計１００質量部に対して、３～２０質量部が好ましい。
【0109】
液晶性化合物を用いる場合、例えば、ゲストホスト型液晶セルの技術を利用して、ホスト液晶の配向に付随させて二色性物質の分子を、上記のような所望の配向にすることができる。具体的には、ゲストとなる二色性物質と、ホスト液晶となる液晶性化合物とを混合し、ホスト液晶を配向させるとともに、その液晶分子の配向に沿って二色性物質の分子を配向させて、その配向状態を固定することで、本発明における光吸収異方性層を作製することができる。
【0110】
本発明における光吸収異方性層の光吸収特性の使用環境による変動を防止するために、二色性物質の配向を、化学結合の形成によって固定するのが好ましい。例えば、ホスト液晶、二色性物質、または所望により添加される重合性成分の重合を進行させることで、配向を固定することができる。
【0111】
また、一対の基板に、二色性物質と液晶性化合物（ホスト液晶）とを少なくとも含む液晶層を有するゲストホスト型液晶セルそのものを、本発明における光吸収異方性層として利用してもよい。ホスト液晶の配向（およびそれに付随する二色性物質の配向）は、基板内面に形成された配向膜によって制御することができ、電界などの外部刺激を与えない限り、その配向状態は維持され、本発明における光吸収異方性層の光吸収特性を一定にすることができる。
【0112】
［垂直配向剤］
垂直配向剤としては、ボロン酸化合物、および、オニウム塩が挙げられる。
垂直配向剤としては、ボロン酸化合物、および、オニウム塩が挙げられる。
【0113】
ボロン酸化合物としては、式（３０）で表される化合物が好ましい。
【0114】
式（３０）
【化23】
【0115】
式（３０）中、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立に、水素原子、置換もしくは無置換の脂肪族炭化水素基、置換もしくは無置換のアリール基、または、置換もしくは無置換のヘテロ環基を表す。
Ｒ３は、（メタ）アクリル基を含む置換基を表す。
ボロン酸化合物の具体例としては、特開２００８－２２５２８１号公報の［００２３］～［００３２］段落に記載の一般式（Ｉ）で表されるボロン酸化合物が挙げられる。
ボロン酸化合物としては、以下に例示する化合物も好ましい。
Ｒ３は、（メタ）アクリル基を含む置換基を表す。
ボロン酸化合物の具体例としては、特開２００８－２２５２８１号公報の［００２３］～［００３２］段落に記載の一般式（Ｉ）で表されるボロン酸化合物が挙げられる。
ボロン酸化合物としては、以下に例示する化合物も好ましい。
【0116】
【化24】
【0117】
オニウム塩としては、式（３１）で表される化合物が好ましい。
【0118】
式（３１）
【化25】
【0119】
式（３１）中、環Ａは、含窒素複素環からなる第４級アンモニウムイオンを表す。Ｘ－は、アニオンを表す。Ｌ１は、２価の連結基を表す。Ｌ２は、単結合、または、２価の連結基を表す。Ｙ１は、５または６員環を部分構造として有する２価の連結基を表す。Ｚは、２～２０のアルキレン基を部分構造として有する２価の連結基を表す。Ｐ１およびＰ２は、それぞれ独立に、重合性エチレン性不飽和結合を有する一価の置換基を表す。
オニウム塩の具体例としては、特開２０１２－２０８３９７号公報の［００５２］～［００５８］段落に記載のオニウム塩、特開２００８－０２６７３０号公報の［００２４］～［００５５］段落に記載のオニウム塩、および、特開２００２－０３７７７７号公報に記載のオニウム塩が挙げられる。
オニウム塩の具体例としては、特開２０１２－２０８３９７号公報の［００５２］～［００５８］段落に記載のオニウム塩、特開２００８－０２６７３０号公報の［００２４］～［００５５］段落に記載のオニウム塩、および、特開２００２－０３７７７７号公報に記載のオニウム塩が挙げられる。
【0120】
光吸収異方性層形成用組成物（光吸収異方性層）中の垂直配向剤の含有量は、液晶性化合物全質量に対して、０．１～４００質量％が好ましく、０．５～３５０質量％がより好ましい。
垂直配向剤は、単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。垂直配向剤が２種以上を用いられる場合、それらの合計量が上記範囲であることが好ましい。
垂直配向剤は、単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。垂直配向剤が２種以上を用いられる場合、それらの合計量が上記範囲であることが好ましい。
【0121】
［垂直配向に適したレベリング剤］
光吸収異方性層形成用組成物（光吸収異方性層）は、以下のレベリング剤を含むことが好ましい。光吸収異方性層形成用組成物（光吸収異方性層）がレベリング剤を含むと、光吸収異方性層の表面にかかる乾燥風による面状の荒れを抑制し、二色性物質がより均一に配向する。
レベリング剤は特に制限されず、フッ素原子を含むレベリング剤（フッ素系レベリング剤）、または、ケイ素原子を含むレベリング剤（ケイ素系レベリング剤）が好ましく、フッ素系レベリング剤がより好ましい。
光吸収異方性層形成用組成物（光吸収異方性層）は、以下のレベリング剤を含むことが好ましい。光吸収異方性層形成用組成物（光吸収異方性層）がレベリング剤を含むと、光吸収異方性層の表面にかかる乾燥風による面状の荒れを抑制し、二色性物質がより均一に配向する。
レベリング剤は特に制限されず、フッ素原子を含むレベリング剤（フッ素系レベリング剤）、または、ケイ素原子を含むレベリング剤（ケイ素系レベリング剤）が好ましく、フッ素系レベリング剤がより好ましい。
【0122】
フッ素系レベリング剤としては、脂肪酸の一部がフルオロアルキル基で置換された多価カルボン酸の脂肪酸エステル類、および、フルオロ置換基を有するポリアクリレート類が挙げられる。特に、二色性物質および液晶性化合物として棒状化合物を用いる場合、二色性物質および液晶性化合物の垂直配向を促進する観点から、式（４０）で表される化合物由来の繰り返し単位を含むレベリング剤が好ましい。
【0123】
式（４０）
【0124】
【化26】
【0125】
Ｒ０は、水素原子、ハロゲン原子、または、メチル基を表す。
Ｌは、２価の連結基を表す。Ｌとしては、炭素数２～１６のアルキレン基が好ましく、上記アルキレン基において隣接しない任意の－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＣＯ－、または、－ＣＯＮＨ－に置換されていてもよい。
ｎは、１～１８の整数を表す。
Ｌは、２価の連結基を表す。Ｌとしては、炭素数２～１６のアルキレン基が好ましく、上記アルキレン基において隣接しない任意の－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＣＯ－、または、－ＣＯＮＨ－に置換されていてもよい。
ｎは、１～１８の整数を表す。
【0126】
式（４０）で表される化合物由来の繰り返し単位を有するレベリング剤は、さらに他の繰り返し単位を含んでいてもよい。
他の繰り返し単位としては、式（４１）で表される化合物由来の繰り返し単位が挙げられる。
他の繰り返し単位としては、式（４１）で表される化合物由来の繰り返し単位が挙げられる。
【0127】
式（４１）
【0128】
【化27】
【0129】
Ｒ１１は、水素原子、ハロゲン原子、または、メチル基を表す。
Ｘは、酸素原子、硫黄原子、または、－Ｎ（Ｒ１３）－を表す。Ｒ１３は、水素原子、または、炭素数１～８のアルキル基を表す。
Ｒ１２は、水素原子、置換基を有してもよいアルキル基、または、置換基を有していてもよい芳香族基を表す。上記アルキル基の炭素数は、１～２０が好ましい。上記アルキル基は、直鎖状、分岐鎖状、および、環状のいずれであってもよい。
また、上記アルキル基の有していてもよい置換基としては、ポリ（アルキレンオキシ）基、および、重合性基が挙げられる。重合性基の定義は、上述した通りである。
Ｘは、酸素原子、硫黄原子、または、－Ｎ（Ｒ１３）－を表す。Ｒ１３は、水素原子、または、炭素数１～８のアルキル基を表す。
Ｒ１２は、水素原子、置換基を有してもよいアルキル基、または、置換基を有していてもよい芳香族基を表す。上記アルキル基の炭素数は、１～２０が好ましい。上記アルキル基は、直鎖状、分岐鎖状、および、環状のいずれであってもよい。
また、上記アルキル基の有していてもよい置換基としては、ポリ（アルキレンオキシ）基、および、重合性基が挙げられる。重合性基の定義は、上述した通りである。
【0130】
レベリング剤が、式（４０）で表される化合物由来の繰り返し単位、および、式（４１）で表される化合物由来の繰り返し単位を含む場合、式（４０）で表される化合物由来の繰り返し単位の含有量は、レベリング剤が含む全繰り返し単位に対して、１０～９０モル％が好ましく、１５～９５モル％がより好ましい。
レベリング剤が、式（４０）で表される化合物由来の繰り返し単位、および、式（４１）で表される化合物由来の繰り返し単位を含む場合、式（４１）で表される化合物由来の繰り返し単位の含有量は、レベリング剤が含む全繰り返し単位に対して、１０～９０モル％が好ましく、５～８５モル％がより好ましい。
レベリング剤が、式（４０）で表される化合物由来の繰り返し単位、および、式（４１）で表される化合物由来の繰り返し単位を含む場合、式（４１）で表される化合物由来の繰り返し単位の含有量は、レベリング剤が含む全繰り返し単位に対して、１０～９０モル％が好ましく、５～８５モル％がより好ましい。
【0131】
また、レベリング剤としては、上述した式（４０）で表される化合物由来の繰り返し単位に代えて、式（４２）で表される化合物由来の繰り返し単位を含むレベリング剤も挙げられる。
【0132】
式（４２）
【0133】
【化28】
【0134】
Ｒ２は、水素原子、ハロゲン原子、または、メチル基を表す。
Ｌ２は、２価の連結基を表す。
ｎは、１～１８の整数を表す。
Ｌ２は、２価の連結基を表す。
ｎは、１～１８の整数を表す。
【0135】
レベリング剤の具体例としては、特開２００４－３３１８１２号公報の［００４６］～［００５２］段落に例示される化合物、および、特開２００８－２５７２０５号公報の［００３８］～［００５２］段落に記載の化合物が挙げられる。
【0136】
光吸収異方性層形成用組成物（光吸収異方性層）中のレベリング剤の含有量は、液晶性化合物全質量に対して、０．００１～１０質量％が好ましく、０．０１～５質量％がより好ましい。
レベリング剤は、単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。レベリング剤が２種以上を用いられる場合、それらの合計量が上記範囲であることが好ましい。
レベリング剤は、単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。レベリング剤が２種以上を用いられる場合、それらの合計量が上記範囲であることが好ましい。
【0137】
［重合開始剤］
光吸収異方性層形成用組成物は、重合開始剤を含むことが好ましい。
重合開始剤としては特に制限はないが、感光性を有する化合物、すなわち光重合開始剤であることが好ましい。
光重合開始剤としては、各種の化合物を特に制限なく使用できる。光重合開始剤の例には、α－カルボニル化合物（米国特許第２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書）、アシロインエーテル（米国特許第２４４８８２８号明細書）、α－炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許第２７２２５１２号明細書）、多核キノン化合物（米国特許第３０４６１２７号および同２９５１７５８号の各明細書）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ－アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許第３５４９３６７号明細書）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０－１０５６６７号公報および米国特許第４２３９８５０号明細書）、オキサジアゾール化合物（米国特許第４２１２９７０号明細書）、ｏ－アシルオキシム化合物(特開２０１６－０２７３８４号公報［００６５］段落)および、アシルフォスフィンオキシド化合物（特公昭６３－４０７９９号公報、特公平５－０２９２３４号公報、特開平１０－０９５７８８号公報および特開平１０－０２９９９７号公報）などが挙げられる。
このような光重合開始剤としては、市販品も用いることができ、ＢＡＳＦ社製のイルガキュア－１８４、イルガキュア－９０７、イルガキュア－３６９、イルガキュア－６５１、イルガキュア－８１９、イルガキュア－ＯＸＥ－０１およびイルガキュア－ＯＸＥ－０２などが挙げられる。
光吸収異方性層形成用組成物は、重合開始剤を含むことが好ましい。
重合開始剤としては特に制限はないが、感光性を有する化合物、すなわち光重合開始剤であることが好ましい。
光重合開始剤としては、各種の化合物を特に制限なく使用できる。光重合開始剤の例には、α－カルボニル化合物（米国特許第２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書）、アシロインエーテル（米国特許第２４４８８２８号明細書）、α－炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許第２７２２５１２号明細書）、多核キノン化合物（米国特許第３０４６１２７号および同２９５１７５８号の各明細書）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ－アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許第３５４９３６７号明細書）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０－１０５６６７号公報および米国特許第４２３９８５０号明細書）、オキサジアゾール化合物（米国特許第４２１２９７０号明細書）、ｏ－アシルオキシム化合物(特開２０１６－０２７３８４号公報［００６５］段落)および、アシルフォスフィンオキシド化合物（特公昭６３－４０７９９号公報、特公平５－０２９２３４号公報、特開平１０－０９５７８８号公報および特開平１０－０２９９９７号公報）などが挙げられる。
このような光重合開始剤としては、市販品も用いることができ、ＢＡＳＦ社製のイルガキュア－１８４、イルガキュア－９０７、イルガキュア－３６９、イルガキュア－６５１、イルガキュア－８１９、イルガキュア－ＯＸＥ－０１およびイルガキュア－ＯＸＥ－０２などが挙げられる。
【0138】
光吸収異方性層形成用組成物が重合開始剤を含む場合、重合開始剤の含有量は、光吸収異方性層形成用組成物中の上記二色性物質と上記液晶性化合物との合計１００質量部に対し、０．０１～３０質量部が好ましく、０．１～１５質量部がより好ましい。重合開始剤の含有量が０．０１質量部以上であることで、光吸収異方性膜の耐久性が良好となり、３０質量部以下であることで、光吸収異方性膜の配向度がより良好となる。
重合開始剤は、１種単独で用いても２種以上を併用してもよい。重合開始剤を２種以上含む場合、その合計量が上記範囲内であるのが好ましい。
重合開始剤は、１種単独で用いても２種以上を併用してもよい。重合開始剤を２種以上含む場合、その合計量が上記範囲内であるのが好ましい。
【0139】
［溶媒］
光吸収異方性層形成用組成物は、作業性などの観点から、溶媒を含むのが好ましい。
溶媒としては、例えば、ケトン類（例えば、アセトン、２－ブタノン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、および、シクロヘキサノンなど）、エーテル類（例えば、ジオキサン、テトラヒドロフラン、２－メチルテトラヒドロフラン、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロピラン、および、ジオキソランなど）、脂肪族炭化水素類（例えば、ヘキサンなど）、脂環式炭化水素類（例えば、シクロヘキサンなど）、芳香族炭化水素類（例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、および、トリメチルベンゼンなど）、ハロゲン化炭素類（例えば、ジクロロメタン、トリクロロメタン、ジクロロエタン、ジクロロベンゼン、および、クロロトルエンなど）、エステル類（例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、および、乳酸エチルなど）、アルコール類（例えば、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノール、イソペンチルアルコール、ネオペンチルアルコール、ジアセトンアルコール、および、ベンジルアルコールなど）、セロソルブ類（例えば、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、および、１，２－ジメトキシエタンなど）、セロソルブアセテート類、スルホキシド類（例えば、ジメチルスルホキシドなど）、アミド類（例えば、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチルピロリドン、および、Ｎ－エチルピロリドンなど）、および、ヘテロ環化合物（例えば、ピリジンなど）などの有機溶媒、ならびに、水が挙げられる。これの溶媒は、１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
これらの溶媒のうち、ケトン類（特にシクロペンタノン、シクロヘキサノン）、エーテル類（特にテトラヒドロフラン、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロピラン、および、ジオキソラン）、および、アミド類（特に、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチルピロリドン、および、Ｎ－エチルピロリドン）が好ましい。
光吸収異方性層形成用組成物が溶媒を含む場合、溶媒の含有量は、光吸収異方性層形成用組成物の全質量に対して、８０～９９質量％が好ましく、８３～９８質量％がより好ましく、８５～９６質量％がさらに好ましい。
溶媒が２種以上含まれる場合、上記溶媒の含有量は、溶媒の含有量の合計を意味する。
光吸収異方性層形成用組成物は、作業性などの観点から、溶媒を含むのが好ましい。
溶媒としては、例えば、ケトン類（例えば、アセトン、２－ブタノン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、および、シクロヘキサノンなど）、エーテル類（例えば、ジオキサン、テトラヒドロフラン、２－メチルテトラヒドロフラン、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロピラン、および、ジオキソランなど）、脂肪族炭化水素類（例えば、ヘキサンなど）、脂環式炭化水素類（例えば、シクロヘキサンなど）、芳香族炭化水素類（例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、および、トリメチルベンゼンなど）、ハロゲン化炭素類（例えば、ジクロロメタン、トリクロロメタン、ジクロロエタン、ジクロロベンゼン、および、クロロトルエンなど）、エステル類（例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、および、乳酸エチルなど）、アルコール類（例えば、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノール、イソペンチルアルコール、ネオペンチルアルコール、ジアセトンアルコール、および、ベンジルアルコールなど）、セロソルブ類（例えば、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、および、１，２－ジメトキシエタンなど）、セロソルブアセテート類、スルホキシド類（例えば、ジメチルスルホキシドなど）、アミド類（例えば、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチルピロリドン、および、Ｎ－エチルピロリドンなど）、および、ヘテロ環化合物（例えば、ピリジンなど）などの有機溶媒、ならびに、水が挙げられる。これの溶媒は、１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
これらの溶媒のうち、ケトン類（特にシクロペンタノン、シクロヘキサノン）、エーテル類（特にテトラヒドロフラン、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロピラン、および、ジオキソラン）、および、アミド類（特に、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチルピロリドン、および、Ｎ－エチルピロリドン）が好ましい。
光吸収異方性層形成用組成物が溶媒を含む場合、溶媒の含有量は、光吸収異方性層形成用組成物の全質量に対して、８０～９９質量％が好ましく、８３～９８質量％がより好ましく、８５～９６質量％がさらに好ましい。
溶媒が２種以上含まれる場合、上記溶媒の含有量は、溶媒の含有量の合計を意味する。
【0140】
＜光吸収異方性層の形成方法＞
光吸収異方性層の形成方法は特に限定されず、上述した光吸収異方性層形成用組成物を塗布して塗布膜を形成する工程（以下、「塗布膜形成工程」ともいう。）と、塗布膜に含まれる液晶性成分を配向させる工程（以下、「配向工程」ともいう。）と、をこの順に含む方法が挙げられる。
なお、液晶性成分とは、上述した液晶性化合物だけでなく、上述した二色性物質が液晶性を有している場合は、液晶性を有する二色性物質も含む成分である。
光吸収異方性層としては、光吸収異方性層形成用組成物を用いて得られる層であることが好ましく、光吸収異方性層形成用組成物を用いて得られる塗布膜に対して硬化処理を施して得られる層（硬化層）であることがより好ましい。
光吸収異方性層の形成方法は特に限定されず、上述した光吸収異方性層形成用組成物を塗布して塗布膜を形成する工程（以下、「塗布膜形成工程」ともいう。）と、塗布膜に含まれる液晶性成分を配向させる工程（以下、「配向工程」ともいう。）と、をこの順に含む方法が挙げられる。
なお、液晶性成分とは、上述した液晶性化合物だけでなく、上述した二色性物質が液晶性を有している場合は、液晶性を有する二色性物質も含む成分である。
光吸収異方性層としては、光吸収異方性層形成用組成物を用いて得られる層であることが好ましく、光吸収異方性層形成用組成物を用いて得られる塗布膜に対して硬化処理を施して得られる層（硬化層）であることがより好ましい。
【0141】
［塗布膜形成工程］
塗布膜形成工程は、光吸収異方性層形成用組成物を塗布して塗布膜を形成する工程である。
上述した溶媒を含む光吸収異方性層形成用組成物を用いたり、光吸収異方性層形成用組成物を加熱などによって溶融液などの液状物としたものを用いたりすることにより、光吸収異方性層形成用組成物を塗布することが容易になる。
なお、光吸収異方性層形成用組成物中に含まれる各種成分の含有量は、上述した光吸収異方性層中における各成分の含有量となるように調整されることが好ましい。
光吸収異方性層形成用組成物の塗布方法としては、具体的には、例えば、ロールコーティング法、グラビア印刷法、スピンコート法、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法、スプレー法、および、インクジェット法などの公知の方法が挙げられる。
塗布膜形成工程は、光吸収異方性層形成用組成物を塗布して塗布膜を形成する工程である。
上述した溶媒を含む光吸収異方性層形成用組成物を用いたり、光吸収異方性層形成用組成物を加熱などによって溶融液などの液状物としたものを用いたりすることにより、光吸収異方性層形成用組成物を塗布することが容易になる。
なお、光吸収異方性層形成用組成物中に含まれる各種成分の含有量は、上述した光吸収異方性層中における各成分の含有量となるように調整されることが好ましい。
光吸収異方性層形成用組成物の塗布方法としては、具体的には、例えば、ロールコーティング法、グラビア印刷法、スピンコート法、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法、スプレー法、および、インクジェット法などの公知の方法が挙げられる。
【0142】
［配向工程］
配向工程は、塗布膜に含まれる液晶性成分を配向させる工程である。これにより、光吸収異方性層が得られる。
配向工程は、乾燥処理を有していてもよい。乾燥処理によって、溶媒などの成分を塗布膜から除去することができる。乾燥処理は、塗布膜を室温下において所定時間放置する方法（例えば、自然乾燥）によって行われてもよいし、加熱および／または送風する方法によって行われてもよい。
ここで、光吸収異方性層形成用組成物に含まれる液晶性成分は、上述した塗布膜形成工程または乾燥処理によって、配向する場合がある。例えば、光吸収異方性層形成用組成物が溶媒を含む塗布液として調製されている態様では、塗布膜を乾燥して、塗布膜から溶媒を除去することで、光吸収異方性を持つ塗布膜（すなわち、光吸収異方性膜）が得られる。
乾燥処理が塗布膜に含まれる液晶性成分の液晶相への転移温度以上の温度により行われる場合には、後述する加熱処理は実施しなくてもよい。
配向工程は、塗布膜に含まれる液晶性成分を配向させる工程である。これにより、光吸収異方性層が得られる。
配向工程は、乾燥処理を有していてもよい。乾燥処理によって、溶媒などの成分を塗布膜から除去することができる。乾燥処理は、塗布膜を室温下において所定時間放置する方法（例えば、自然乾燥）によって行われてもよいし、加熱および／または送風する方法によって行われてもよい。
ここで、光吸収異方性層形成用組成物に含まれる液晶性成分は、上述した塗布膜形成工程または乾燥処理によって、配向する場合がある。例えば、光吸収異方性層形成用組成物が溶媒を含む塗布液として調製されている態様では、塗布膜を乾燥して、塗布膜から溶媒を除去することで、光吸収異方性を持つ塗布膜（すなわち、光吸収異方性膜）が得られる。
乾燥処理が塗布膜に含まれる液晶性成分の液晶相への転移温度以上の温度により行われる場合には、後述する加熱処理は実施しなくてもよい。
【0143】
塗布膜に含まれる液晶性成分の液晶相への転移温度は、製造適性の面から１０～２５０℃が好ましく、２５～１９０℃がより好ましい。上記転移温度が１０℃以上であると、液晶相を呈する温度範囲にまで温度を下げるための冷却処理などが必要とならず、好ましい。また、上記転移温度が２５０℃以下であると、一旦液晶相を呈する温度範囲よりもさらに高温の等方性液体状態にする場合にも高温を要さず、熱エネルギーの浪費、ならびに、基板の変形および変質などを低減できるため、好ましい。
【0144】
配向工程は、加熱処理を有することが好ましい。これにより、塗布膜に含まれる液晶性成分を配向させることができるため、加熱処理後の塗布膜を光吸収異方性膜として好適に使用できる。
加熱処理は、製造適性の面から１０～２５０℃が好ましく、２５～１９０℃がより好ましい。また、加熱時間は、１～３００秒が好ましく、１～６０秒がより好ましい。
加熱処理は、製造適性の面から１０～２５０℃が好ましく、２５～１９０℃がより好ましい。また、加熱時間は、１～３００秒が好ましく、１～６０秒がより好ましい。
【0145】
配向工程は、加熱処理後に実施される冷却処理を有していてもよい。冷却処理は、加熱後の塗布膜を室温（２０～２５℃）程度まで冷却する処理である。これにより、塗布膜に含まれる液晶性成分の配向を固定することができる。冷却手段としては、特に限定されず、公知の方法により実施できる。
以上の工程によって、光吸収異方性膜を得ることができる。
なお、本態様では、塗布膜に含まれる液晶性成分を配向する方法として、乾燥処理および加熱処理などを挙げているが、これに限定されず、公知の配向処理によって実施できる。
以上の工程によって、光吸収異方性膜を得ることができる。
なお、本態様では、塗布膜に含まれる液晶性成分を配向する方法として、乾燥処理および加熱処理などを挙げているが、これに限定されず、公知の配向処理によって実施できる。
【0146】
［他の工程］
光吸収異方性層の形成方法は、上記配向工程後に、光吸収異方性層を硬化させる工程（以下、「硬化工程」ともいう。）を有していてもよい。
硬化工程は、例えば、光吸収異方性層が架橋性基（重合性基）を有している場合には、加熱および／または光照射（露光）によって実施される。このなかでも、硬化工程は光照射によって実施されることが好ましい。
硬化に用いる光源は、赤外線、可視光および紫外線など、種々の光源を用いることが可能であるが、紫外線であることが好ましい。また、硬化時に加熱しながら紫外線を照射してもよいし、特定の波長のみを透過するフィルタを介して紫外線を照射してもよい。
露光が加熱しながら行われる場合、露光時の加熱温度は、液晶膜に含まれる液晶性成分の液晶相への転移温度にもよるが、２５～１４０℃であることが好ましい。
また、露光は、窒素雰囲気下で行われてもよい。ラジカル重合によって液晶膜の硬化が進行する場合において、酸素による重合の阻害が低減されるため、窒素雰囲気下で露光することが好ましい。
光吸収異方性層の形成方法は、上記配向工程後に、光吸収異方性層を硬化させる工程（以下、「硬化工程」ともいう。）を有していてもよい。
硬化工程は、例えば、光吸収異方性層が架橋性基（重合性基）を有している場合には、加熱および／または光照射（露光）によって実施される。このなかでも、硬化工程は光照射によって実施されることが好ましい。
硬化に用いる光源は、赤外線、可視光および紫外線など、種々の光源を用いることが可能であるが、紫外線であることが好ましい。また、硬化時に加熱しながら紫外線を照射してもよいし、特定の波長のみを透過するフィルタを介して紫外線を照射してもよい。
露光が加熱しながら行われる場合、露光時の加熱温度は、液晶膜に含まれる液晶性成分の液晶相への転移温度にもよるが、２５～１４０℃であることが好ましい。
また、露光は、窒素雰囲気下で行われてもよい。ラジカル重合によって液晶膜の硬化が進行する場合において、酸素による重合の阻害が低減されるため、窒素雰囲気下で露光することが好ましい。
【0147】
光吸収異方性層の厚さは、特に限定されないが、後述する本発明の積層体を偏光素子に用いた場合のフレキシブル性の観点から、１００～８０００ｎｍであることが好ましく、３００～５０００ｎｍであることがより好ましい。
【0148】
＜光吸収異方性層の第２実施態様＞
本発明の光吸収異方性層の第２実施態様は、液晶性化合物および少なくとも１種の二色性物質を含む領域Ａと、領域Ａよりも極角３０°から見た斜め透過率が高い領域Ｂとを有する光吸収異方性層であって、二色性物質が膜面（光吸収異方性層の主面）に対し垂直に配向しており、領域Ａの波長５５０ｎｍにおける配向度が０．９５以上である。
光吸収異方性層の第２実施態様は、面内方向において、領域Ａと領域Ｂとの２つの領域を有する。領域Ａは、上述した光吸収異方性層の第１実施態様と同様の構成を有する。つまり、領域Ａは、上述した液晶性化合物および二色性物質を含む。また、領域Ａ中において二色性物質は膜面に対して垂直に配向しており、領域Ａは所定の配向度を示す。
領域Ｂは、領域Ａよりも極角３０°から見た斜め透過率が高い領域である。つまり、領域Ａを極角３０°から見た斜め透過率と、領域Ｂを極角３０°から見た斜め透過率とを比較した場合、領域Ｂを極角３０°から見た斜め透過率のほうが高い。
上記斜め透過率は、波長５５０ｎｍにおける透過率を意味する。
領域Ｂは、空間であってもよいし、領域Ａと同じく液晶性化合物が含まれる領域であってもよい。領域Ｂには二色性物質が含まれていてもよいが、上述したように、領域Ａと領域Ｂとが所定の透過率の関係を満たすように、二色性物質の含有量が調整される。領域Ｂ中における二色性物質の含有量は、領域Ｂ全質量に対して、３質量％以下が好ましく、１質量％以下がより好ましく、０質量％がさらに好ましい。
本発明の光吸収異方性層の第２実施態様は、液晶性化合物および少なくとも１種の二色性物質を含む領域Ａと、領域Ａよりも極角３０°から見た斜め透過率が高い領域Ｂとを有する光吸収異方性層であって、二色性物質が膜面（光吸収異方性層の主面）に対し垂直に配向しており、領域Ａの波長５５０ｎｍにおける配向度が０．９５以上である。
光吸収異方性層の第２実施態様は、面内方向において、領域Ａと領域Ｂとの２つの領域を有する。領域Ａは、上述した光吸収異方性層の第１実施態様と同様の構成を有する。つまり、領域Ａは、上述した液晶性化合物および二色性物質を含む。また、領域Ａ中において二色性物質は膜面に対して垂直に配向しており、領域Ａは所定の配向度を示す。
領域Ｂは、領域Ａよりも極角３０°から見た斜め透過率が高い領域である。つまり、領域Ａを極角３０°から見た斜め透過率と、領域Ｂを極角３０°から見た斜め透過率とを比較した場合、領域Ｂを極角３０°から見た斜め透過率のほうが高い。
上記斜め透過率は、波長５５０ｎｍにおける透過率を意味する。
領域Ｂは、空間であってもよいし、領域Ａと同じく液晶性化合物が含まれる領域であってもよい。領域Ｂには二色性物質が含まれていてもよいが、上述したように、領域Ａと領域Ｂとが所定の透過率の関係を満たすように、二色性物質の含有量が調整される。領域Ｂ中における二色性物質の含有量は、領域Ｂ全質量に対して、３質量％以下が好ましく、１質量％以下がより好ましく、０質量％がさらに好ましい。
【0149】
領域Ａの極角３０°から見た斜め透過率は１０％以下であることが好ましく、領域Ｂの極角３０°から見た斜め透過率は８０％以上であることが好ましい。
【0150】
光吸収異方性層の第２実施態様においては、一部の領域で（偏光の）視野角依存性を強めたり弱めたりすることが可能となる。これにより、視野角依存性を強めた領域にのみ機密度の高い情報を表示したりすることもできる。また、表示装置として視野角依存性を自在に制御することにより、意匠性に優れた設計も可能となる。マイクロＬＥＤ（light emitting diode）などの表示装置において発光部から周辺領域への光漏れを防止するために、発光部以外の領域を上記領域Ｂにし、発光部を上記領域Ａとするパターニングにすることで画面の中の明暗のコントラストを高めることも可能である。
【0151】
なお、光吸収異方性層中における領域Ａと領域Ｂとの配置位置は特に制限されず、使用目的に応じて、適宜配置できる。例えば、領域Ａと領域Ｂとを交互にストライプ状に配置してもよいし、光吸収異方性層の一部を領域Ｂとして、他の全ての領域を領域Ａとしてもよい。
【0152】
光吸収異方性層の第２実施態様の形成方法は特に制限されず、ＷＯ２０１９／１７６９１８号公報に記載されているような公知の各種の方法が利用可能である。一例として、光吸収異方性層の厚さを面内で制御する方法、光吸収異方性層中の二色性色素化合物を偏在させる方法、および、光学的に均一な光吸収異方性層を後加工する方法などが挙げられる。
光吸収異方性層の厚さを面内で制御する方法としては、リソグラフィを利用する方法、インプリントを利用する方法、および、凹凸構造を有する基材に光吸収異方性層を形成する方法などが挙げられる。
光吸収異方性層中の二色性色素化合物を偏在させる方法としては、溶剤浸漬により二色性色素を抽出する方法（ブリーチング）が挙げられる。
さらに、光学的に均一な光吸収異方性層を後加工する方法としては、レーザー加工などによって、平坦な光吸収異方性層の一部を裁断する方法が挙げられる。
光吸収異方性層の厚さを面内で制御する方法としては、リソグラフィを利用する方法、インプリントを利用する方法、および、凹凸構造を有する基材に光吸収異方性層を形成する方法などが挙げられる。
光吸収異方性層中の二色性色素化合物を偏在させる方法としては、溶剤浸漬により二色性色素を抽出する方法（ブリーチング）が挙げられる。
さらに、光学的に均一な光吸収異方性層を後加工する方法としては、レーザー加工などによって、平坦な光吸収異方性層の一部を裁断する方法が挙げられる。
【0153】
＜積層体＞
本発明の積層体は、上述した光吸収異方性層（第１実施態様および第２実施態様）と、二色性物質を水平に配向させた偏光子層を積層した積層体である。これにより、斜めの光の透過率を下げることが可能となり、視野角を狭めることによりプライバシーフィルムなどの用途で用いることができる。
二色性物質を水平に配向させた偏光子層は、特に限定されない。ポリビニルアルコールやその他の高分子樹脂に二色性物質を染着して延伸することで水平に配向させた偏光子でもよいし、本発明の光吸収異方性層のように液晶性化合物の配向を活用して二色性物質を水平に配向させた偏光子でもよいが、延伸を行わず、液晶の配向性を利用して二色性物質を配向させた偏光子が好ましい。
液晶の配向性を利用して二色性物質を配向させた偏光子は、厚みが０．１～５μｍ程度と非常に薄層化できること、特開２０１９－１９４６８５号公報に記載されているように折り曲げた時のクラックが入りにくいことや熱変形が小さいこと、および、特許６４８３４８６号公報に記載されるように５０％を超えるような透過率の高い偏光板でも耐久性に優れることなど、多くの長所を有する。
これらの長所を生かして、高輝度や小型軽量が求められる用途、微細な光学系用途、曲面を有する部位への成形用途、および、フレキシブルな部位への用途が可能である。
本発明の積層体は、上述した光吸収異方性層（第１実施態様および第２実施態様）と、二色性物質を水平に配向させた偏光子層を積層した積層体である。これにより、斜めの光の透過率を下げることが可能となり、視野角を狭めることによりプライバシーフィルムなどの用途で用いることができる。
二色性物質を水平に配向させた偏光子層は、特に限定されない。ポリビニルアルコールやその他の高分子樹脂に二色性物質を染着して延伸することで水平に配向させた偏光子でもよいし、本発明の光吸収異方性層のように液晶性化合物の配向を活用して二色性物質を水平に配向させた偏光子でもよいが、延伸を行わず、液晶の配向性を利用して二色性物質を配向させた偏光子が好ましい。
液晶の配向性を利用して二色性物質を配向させた偏光子は、厚みが０．１～５μｍ程度と非常に薄層化できること、特開２０１９－１９４６８５号公報に記載されているように折り曲げた時のクラックが入りにくいことや熱変形が小さいこと、および、特許６４８３４８６号公報に記載されるように５０％を超えるような透過率の高い偏光板でも耐久性に優れることなど、多くの長所を有する。
これらの長所を生かして、高輝度や小型軽量が求められる用途、微細な光学系用途、曲面を有する部位への成形用途、および、フレキシブルな部位への用途が可能である。
【0154】
［バリア層］
本発明の積層体は、光吸収異方性層とともに、バリア層を有していることが好ましい。
ここで、バリア層は、ガス遮断層（酸素遮断層）とも呼ばれ、大気中の酸素などのガス、水分、または、隣接する層に含まれる化合物などから本発明の光吸収異方性層を保護する機能を有する。
バリア層については、例えば、特開２０１４－１５９１２４号公報の［００１４］～［００５４］段落、特開２０１７－１２１７２１号公報の［００４２］～［００７５］段落、特開２０１７－１１５０７６号公報の［００４５］～［００５４］段落、特開２０１２－２１３９３８号公報の［００１０］～［００６１］段落、および、特開２００５－１６９９９４号公報の［００２１］～［００３１］段落の記載を参照できる。
本発明の積層体は、光吸収異方性層とともに、バリア層を有していることが好ましい。
ここで、バリア層は、ガス遮断層（酸素遮断層）とも呼ばれ、大気中の酸素などのガス、水分、または、隣接する層に含まれる化合物などから本発明の光吸収異方性層を保護する機能を有する。
バリア層については、例えば、特開２０１４－１５９１２４号公報の［００１４］～［００５４］段落、特開２０１７－１２１７２１号公報の［００４２］～［００７５］段落、特開２０１７－１１５０７６号公報の［００４５］～［００５４］段落、特開２０１２－２１３９３８号公報の［００１０］～［００６１］段落、および、特開２００５－１６９９９４号公報の［００２１］～［００３１］段落の記載を参照できる。
【0155】
［屈折率調整層］
本発明の積層体は、光吸収異方性層の高屈折率に起因する内部反射が問題となる場合がある。その場合に、屈折率調整層が存在することが好ましい。屈折率調整層は、光吸収異方性層に接するように配置される層であり、波長５５０ｎｍにおける面内平均屈折率が１．５５～１．７０である。いわゆるインデックスマッチングを行うための屈折率調整層であることが好ましい。
本発明の積層体は、光吸収異方性層の高屈折率に起因する内部反射が問題となる場合がある。その場合に、屈折率調整層が存在することが好ましい。屈折率調整層は、光吸収異方性層に接するように配置される層であり、波長５５０ｎｍにおける面内平均屈折率が１．５５～１．７０である。いわゆるインデックスマッチングを行うための屈折率調整層であることが好ましい。
【0156】
＜光学フィルム＞
本発明の光学フィルムは、上述した光吸収異方性層、または、上述した積層体を有する。
光学フィルムは、光吸収異方性層および積層体以外の他の部材を有していてもよい。
本発明の光学フィルムは、上述した光吸収異方性層、または、上述した積層体を有する。
光学フィルムは、光吸収異方性層および積層体以外の他の部材を有していてもよい。
【0157】
［透明基材フィルム］
本発明の光学フィルムは、透明基材フィルムを有してもよい。
透明基材フィルムとしては、公知の透明樹脂フィルム、透明樹脂板、および、透明樹脂シートなどを用いることができ、特に限定はない。透明樹脂フィルムとしては、セルロースアシレートフィルム（例えば、セルローストリアセテートフィルム（屈折率１．４８）、セルロースジアセテートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム）、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、シクロオレフィン系フィルム、ポリアクリル系樹脂フィルム、ポリウレタン系樹脂フィルム、ポリエステルフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリスルホンフィルム、ポリエーテルフィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、および、（メタ）アクリルニトリルフィルムなどが挙げられる。
本発明の光学フィルムは、透明基材フィルムを有してもよい。
透明基材フィルムとしては、公知の透明樹脂フィルム、透明樹脂板、および、透明樹脂シートなどを用いることができ、特に限定はない。透明樹脂フィルムとしては、セルロースアシレートフィルム（例えば、セルローストリアセテートフィルム（屈折率１．４８）、セルロースジアセテートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム）、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、シクロオレフィン系フィルム、ポリアクリル系樹脂フィルム、ポリウレタン系樹脂フィルム、ポリエステルフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリスルホンフィルム、ポリエーテルフィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、および、（メタ）アクリルニトリルフィルムなどが挙げられる。
【0158】
その中でも、透明性が高く、光学的に複屈折が少なく、製造が容易であり、偏光板の保護フィルムとして一般に用いられているセルロースアシレートフィルムが好ましく、セルローストリアセテートフィルムがより好ましい。
透明基材フィルムの厚さは、通常２０～１００μｍである。
本発明においては、透明基材フィルムがセルロースエステル系フィルムであり、かつ、その膜厚が２０～７０μｍであるのが好ましい。
また、透明基材としてポリアクリル系フィルムまたはハードコート層を設けた高硬度フィルムを用いることで、他部材との貼合工程（たとえば直線偏光板など）や、画像表示装置へ組み込む工程で、本発明の光吸収異方性層が傷つくのを防止することができる。
また、透明基材として、ポリエチレンテレフタレートフィルムまたはシクロオレフィン系フィルムなどの低透湿性・低酸素透過性フィルムを用いることで、光吸収異方性層の高温高湿耐性や耐光性を向上させることができる。
透明基材フィルムの厚さは、通常２０～１００μｍである。
本発明においては、透明基材フィルムがセルロースエステル系フィルムであり、かつ、その膜厚が２０～７０μｍであるのが好ましい。
また、透明基材としてポリアクリル系フィルムまたはハードコート層を設けた高硬度フィルムを用いることで、他部材との貼合工程（たとえば直線偏光板など）や、画像表示装置へ組み込む工程で、本発明の光吸収異方性層が傷つくのを防止することができる。
また、透明基材として、ポリエチレンテレフタレートフィルムまたはシクロオレフィン系フィルムなどの低透湿性・低酸素透過性フィルムを用いることで、光吸収異方性層の高温高湿耐性や耐光性を向上させることができる。
【0159】
［配向膜］
本発明の光学フィルムは、透明基材フィルムと光吸収異方性層との間に、配向膜を有していてもよい。
配向膜は、配向膜上において二色性物質を所望の配向状態とすることができるのであれば、どのような層でもよい。
例えば、多官能アクリレート化合物から形成される膜やポリビニルアルコールを用いてもよい。特に、ポリビニルアルコールが好ましい。
本発明の光学フィルムは、透明基材フィルムと光吸収異方性層との間に、配向膜を有していてもよい。
配向膜は、配向膜上において二色性物質を所望の配向状態とすることができるのであれば、どのような層でもよい。
例えば、多官能アクリレート化合物から形成される膜やポリビニルアルコールを用いてもよい。特に、ポリビニルアルコールが好ましい。
【0160】
本発明の光吸収異方性層、積層体、および、光学フィルムを、視野角の角度依存性を制御するために、光学異方性フィルムや旋光子と組み合わせて用いることも可能である。
【0161】
＜光学フィルムの製造方法＞
本発明の光学フィルムの製造方法の一例としては、上記光吸収異方性層形成用組成物を上記透明基材フィルム上に塗布して塗布膜を形成する工程と、上記塗布膜に含まれる液晶性成分を配向させて上記光吸収異方性層を得る工程と、上記光吸収異方性層に隣接するように保護層を形成する工程と、をこの順に含む方法が挙げられる。
各工程は、公知の方法にしたがって実施でき、特に限定されるものではない。
なお、液晶性成分とは、上述した液晶性化合物だけでなく、上述した二色性物質が液晶性を有している場合は、液晶性を有する二色性物質も含む成分である。
本発明の光学フィルムの製造方法の一例としては、上記光吸収異方性層形成用組成物を上記透明基材フィルム上に塗布して塗布膜を形成する工程と、上記塗布膜に含まれる液晶性成分を配向させて上記光吸収異方性層を得る工程と、上記光吸収異方性層に隣接するように保護層を形成する工程と、をこの順に含む方法が挙げられる。
各工程は、公知の方法にしたがって実施でき、特に限定されるものではない。
なお、液晶性成分とは、上述した液晶性化合物だけでなく、上述した二色性物質が液晶性を有している場合は、液晶性を有する二色性物質も含む成分である。
【0162】
［粘着層］
本発明の積層体および光学フィルムは、粘着層を有していてもよい。
粘着層は通常の液晶表示装置に使用されるものと同様の透明で光学的に等方性の接着剤であることが好ましく、通常は感圧型接着剤が使用される。
本発明の積層体および光学フィルムは、粘着層を有していてもよい。
粘着層は通常の液晶表示装置に使用されるものと同様の透明で光学的に等方性の接着剤であることが好ましく、通常は感圧型接着剤が使用される。
【0163】
粘着層には、母材（粘着剤）、導電性粒子、および必要に応じて用いられる熱膨張性粒子の他に、架橋剤（例えば、イソシアネート系架橋剤、エポキシ系架橋剤など）、粘着付与剤（例えば、ロジン誘導体樹脂、ポリテルペン樹脂、石油樹脂、および、油溶性フェノール樹脂など）、可塑剤、充填剤、老化防止剤、界面活性剤、紫外線吸収剤、光安定剤、並びに、酸化防止剤などの適宜な添加剤を配合してもよい。
【0164】
粘着層の厚みは特に制限されず、２０～５００μｍが好ましく、２０～２５０μｍがより好ましい。粘着層の厚みが２０μｍ以上の場合、必要な接着力やリワーク適性が得られやすく、粘着層の厚みが５００μｍ以下の場合、画像表示装置の周辺端部から粘着剤がはみ出したり、滲み出すことをより抑制できる。
【0165】
粘着層の形成には、例えば、母材、導電性粒子、および必要に応じて、熱膨張性粒子、添加剤、および、溶媒などを含むコーティング液を被塗布物に直接塗布して剥離ライナーを介して圧着する方法、適当な剥離ライナー（剥離紙など）上にコーティング液を塗布して熱膨張性粘着層を形成し、これを被塗布物上に圧着転写（移着）する方法などが挙げられる。
【0166】
［接着層］
本発明の積層体および光学フィルムは、接着層を有していてもよい。
接着層に含まれる接着剤は、貼り合わせた後の乾燥や反応により接着性を発現する。
例えば、ポリビニルアルコール系接着剤（ＰＶＡ系接着剤）は、乾燥により接着性が発現し、材料同士を接着することが可能となる。
反応により接着性を発現する硬化型接着剤の具体例としては、（メタ）アクリレート系接着剤のような活性エネルギー線硬化型接着剤やカチオン重合硬化型接着剤が挙げられる。なお、（メタ）アクリレートとは、アクリレートおよび／またはメタクリレートを意味する。（メタ）アクリレート系接着剤における硬化性成分としては、例えば、（メタ）アクリロイル基を有する化合物、および、ビニル基を有する化合物が挙げられる。また、カチオン重合硬化型接着剤としては、エポキシ基またはオキセタニル基を有する化合物も使用できる。エポキシ基を有する化合物は、分子内に少なくとも２個のエポキシ基を有するものであれば特に限定されず、一般に知られている各種の硬化性エポキシ化合物を用いることができる。好ましいエポキシ化合物として、分子内に少なくとも２個のエポキシ基と少なくとも１個の芳香環を有する化合物（芳香族系エポキシ化合物）や、分子内に少なくとも２個のエポキシ基を有し、そのうちの少なくとも１個は脂環式環を構成する隣り合う２個の炭素原子との間で形成されている化合物（脂環式エポキシ化合物）などが例として挙げられる。
中でも、加熱変形耐性の観点から、紫外線照射で硬化する紫外線硬化型接着剤が好ましく用いられる。
本発明の積層体および光学フィルムは、接着層を有していてもよい。
接着層に含まれる接着剤は、貼り合わせた後の乾燥や反応により接着性を発現する。
例えば、ポリビニルアルコール系接着剤（ＰＶＡ系接着剤）は、乾燥により接着性が発現し、材料同士を接着することが可能となる。
反応により接着性を発現する硬化型接着剤の具体例としては、（メタ）アクリレート系接着剤のような活性エネルギー線硬化型接着剤やカチオン重合硬化型接着剤が挙げられる。なお、（メタ）アクリレートとは、アクリレートおよび／またはメタクリレートを意味する。（メタ）アクリレート系接着剤における硬化性成分としては、例えば、（メタ）アクリロイル基を有する化合物、および、ビニル基を有する化合物が挙げられる。また、カチオン重合硬化型接着剤としては、エポキシ基またはオキセタニル基を有する化合物も使用できる。エポキシ基を有する化合物は、分子内に少なくとも２個のエポキシ基を有するものであれば特に限定されず、一般に知られている各種の硬化性エポキシ化合物を用いることができる。好ましいエポキシ化合物として、分子内に少なくとも２個のエポキシ基と少なくとも１個の芳香環を有する化合物（芳香族系エポキシ化合物）や、分子内に少なくとも２個のエポキシ基を有し、そのうちの少なくとも１個は脂環式環を構成する隣り合う２個の炭素原子との間で形成されている化合物（脂環式エポキシ化合物）などが例として挙げられる。
中でも、加熱変形耐性の観点から、紫外線照射で硬化する紫外線硬化型接着剤が好ましく用いられる。
【0167】
接着層および粘着層の各層には、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノール系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、シアノアクリレート系化合物、および、ニッケル錯塩系化合物などの紫外線吸収剤で処理する方式により紫外線吸収能をもたせたものであってもよい。
【0168】
フィルムへの粘着層や接着層の付設は、適宜な方式で行いうる。例えば、トルエンや酢酸エチルなどの適宜な溶剤の単独物または混合物からなる溶媒に、ベースポリマーまたはその組成物を溶解または分散させた１０～４０重量％程度の粘着剤溶液を調製し、それを流延方式や塗工方式などの適宜な展開方式でフィルム上に直接付設する方式、または、セパレータ上に粘着層を形成してそれを移着する方式が挙げられる。
【0169】
粘着層および接着層は、異なる組成または種類などのものの重畳層としてフィルムの片面または両面に設けることもできる。また、両面に設ける場合に、フィルムの表裏において異なる組成、種類、および、厚さなどの粘着層とすることもできる。
【0170】
また、接着剤や粘着剤を付設する前に、接着性の向上などを目的として、接着剤や粘着剤が配置される被対象物の表面改質処理を行ってもよい。具体的な処理としては、コロナ処理、プラズマ処理、プライマー処理、および、ケン化処理などが挙げられる。
【0171】
＜画像表示装置＞
本発明の画像表示装置は、上述した本発明の光吸収異方性層、上述した本発明の積層体、または、上述した本発明の光学フィルムを有する。
本発明の光学フィルムは、二色性物質を用いた従来公知の視野角制御フィルムと比較して、正面透過率が高く、かつ、斜め透過率が低いため、狭視野角を実現するために有用性が高い。視野角制御フィルムとしては、３Ｍ社製ライトコントロールフィルムも良く知られているが、厚みが大きいことや周期的な構造に起因するモアレが生じやすいことなどの課題を有するため、本発明の光学フィルムに置き換えて使用することで、画像表示装置の画質向上、薄層化、小型化、および、意匠性向上に寄与することができる。
本発明の画像表示装置に用いられる表示素子は特に限定されず、例えば、液晶セル、有機エレクトロルミネッセンス（以下、「ＥＬ」と略す。）表示パネル、および、プラズマディスプレイパネルなどが挙げられる。
これらのうち、液晶セルまたは有機ＥＬ表示パネルであるのが好ましく、液晶セルであるのがより好ましい。すなわち、本発明の画像表示装置としては、表示素子として液晶セルを用いた液晶表示装置、表示素子として有機ＥＬ表示パネルを用いた有機ＥＬ表示装置であるのが好ましく、液晶表示装置であるのがより好ましい。
本発明の画像表示装置は、上述した本発明の光吸収異方性層、上述した本発明の積層体、または、上述した本発明の光学フィルムを有する。
本発明の光学フィルムは、二色性物質を用いた従来公知の視野角制御フィルムと比較して、正面透過率が高く、かつ、斜め透過率が低いため、狭視野角を実現するために有用性が高い。視野角制御フィルムとしては、３Ｍ社製ライトコントロールフィルムも良く知られているが、厚みが大きいことや周期的な構造に起因するモアレが生じやすいことなどの課題を有するため、本発明の光学フィルムに置き換えて使用することで、画像表示装置の画質向上、薄層化、小型化、および、意匠性向上に寄与することができる。
本発明の画像表示装置に用いられる表示素子は特に限定されず、例えば、液晶セル、有機エレクトロルミネッセンス（以下、「ＥＬ」と略す。）表示パネル、および、プラズマディスプレイパネルなどが挙げられる。
これらのうち、液晶セルまたは有機ＥＬ表示パネルであるのが好ましく、液晶セルであるのがより好ましい。すなわち、本発明の画像表示装置としては、表示素子として液晶セルを用いた液晶表示装置、表示素子として有機ＥＬ表示パネルを用いた有機ＥＬ表示装置であるのが好ましく、液晶表示装置であるのがより好ましい。
【0172】
［液晶表示装置］
本発明の画像表示装置の一例である液晶表示装置としては、上述した本発明の光吸収異方性層と、液晶セルと、を有する態様が好ましく挙げられる。より好適には、上述した本発明の積層体（ただし、λ／４板を含まない）と、液晶セルと、を有する液晶表示装置が挙げられる。
なお、本発明においては、液晶セルの両側に設けられる偏光素子のうち、フロント側の偏光素子として本発明の積層体を用いるのが好ましく、フロント側およびリア側の偏光素子として本発明の積層体を用いるのがより好ましい。
以下に、液晶表示装置を構成する液晶セルについて詳述する。
本発明の画像表示装置の一例である液晶表示装置としては、上述した本発明の光吸収異方性層と、液晶セルと、を有する態様が好ましく挙げられる。より好適には、上述した本発明の積層体（ただし、λ／４板を含まない）と、液晶セルと、を有する液晶表示装置が挙げられる。
なお、本発明においては、液晶セルの両側に設けられる偏光素子のうち、フロント側の偏光素子として本発明の積層体を用いるのが好ましく、フロント側およびリア側の偏光素子として本発明の積層体を用いるのがより好ましい。
以下に、液晶表示装置を構成する液晶セルについて詳述する。
【0173】
（液晶セル）
液晶表示装置に利用される液晶セルは、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モード、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ Ｂｅｎｄ）モード、ＩＰＳ（Ｉｎ－Ｐｌａｎｅ－Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モード、または、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）モードであることが好ましいが、これらに限定されるものではない。
ＴＮモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に水平配向し、さらに６０～１２０゜にねじれ配向している。ＴＮモードの液晶セルは、カラーＴＦＴ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載がある。
ＶＡモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に垂直に配向している。ＶＡモードの液晶セルには、（１）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のＶＡモードの液晶セル（特開平２－１７６６２５号公報記載）に加えて、（２）視野角拡大のため、ＶＡモードをマルチドメイン化した（ＭＶＡモードの）液晶セル（ＳＩＤ９７、Ｄｉｇｅｓｔ ｏｆ ｔｅｃｈ．Ｐａｐｅｒｓ（予稿集）２８（１９９７）８４５記載）、（３）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード（ｎ－ＡＳＭモード）の液晶セル（日本液晶討論会の予稿集５８～５９（１９９８）記載）および（４）ＳＵＲＶＩＶＡＬモードの液晶セル（ＬＣＤインターナショナル９８で発表）が含まれる。また、ＰＶＡ（Ｐａｔｔｅｒｎｅｄ Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）型、光配向型（Ｏｐｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）、およびＰＳＡ（Ｐｏｌｙｍｅｒ－Ｓｕｓｔａｉｎｅｄ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）のいずれであってもよい。これらのモードの詳細については、特開２００６－２１５３２６号公報、および、特表２００８－５３８８１９号公報に詳細な記載がある。
ＩＰＳモードの液晶セルは、棒状液晶性分子が基板に対して実質的に平行に配向しており、基板面に平行な電界が印加することで液晶分子が平面的に応答する。ＩＰＳモードは電界無印加状態で黒表示となり、上下一対の偏光板の吸収軸は直交している。光学補償シートを用いて、斜め方向での黒表示時の漏れ光を低減させ、視野角を改良する方法が、特開平１０－５４９８２号公報、特開平１１－２０２３２３号公報、特開平９－２９２５２２号公報、特開平１１－１３３４０８号公報、特開平１１－３０５２１７号公報、および、特開平１０－３０７２９１号公報などに開示されている。
液晶表示装置に利用される液晶セルは、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モード、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ Ｂｅｎｄ）モード、ＩＰＳ（Ｉｎ－Ｐｌａｎｅ－Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モード、または、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）モードであることが好ましいが、これらに限定されるものではない。
ＴＮモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に水平配向し、さらに６０～１２０゜にねじれ配向している。ＴＮモードの液晶セルは、カラーＴＦＴ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載がある。
ＶＡモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に垂直に配向している。ＶＡモードの液晶セルには、（１）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のＶＡモードの液晶セル（特開平２－１７６６２５号公報記載）に加えて、（２）視野角拡大のため、ＶＡモードをマルチドメイン化した（ＭＶＡモードの）液晶セル（ＳＩＤ９７、Ｄｉｇｅｓｔ ｏｆ ｔｅｃｈ．Ｐａｐｅｒｓ（予稿集）２８（１９９７）８４５記載）、（３）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード（ｎ－ＡＳＭモード）の液晶セル（日本液晶討論会の予稿集５８～５９（１９９８）記載）および（４）ＳＵＲＶＩＶＡＬモードの液晶セル（ＬＣＤインターナショナル９８で発表）が含まれる。また、ＰＶＡ（Ｐａｔｔｅｒｎｅｄ Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）型、光配向型（Ｏｐｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）、およびＰＳＡ（Ｐｏｌｙｍｅｒ－Ｓｕｓｔａｉｎｅｄ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）のいずれであってもよい。これらのモードの詳細については、特開２００６－２１５３２６号公報、および、特表２００８－５３８８１９号公報に詳細な記載がある。
ＩＰＳモードの液晶セルは、棒状液晶性分子が基板に対して実質的に平行に配向しており、基板面に平行な電界が印加することで液晶分子が平面的に応答する。ＩＰＳモードは電界無印加状態で黒表示となり、上下一対の偏光板の吸収軸は直交している。光学補償シートを用いて、斜め方向での黒表示時の漏れ光を低減させ、視野角を改良する方法が、特開平１０－５４９８２号公報、特開平１１－２０２３２３号公報、特開平９－２９２５２２号公報、特開平１１－１３３４０８号公報、特開平１１－３０５２１７号公報、および、特開平１０－３０７２９１号公報などに開示されている。
【0174】
［有機ＥＬ表示装置］
本発明の画像表示装置の一例である有機ＥＬ表示装置としては、例えば、視認側から、上述した本発明の光吸収異方性層と、水平配向偏光子と、λ／４板と、有機ＥＬ表示パネルと、をこの順で有する態様が好適に挙げられる。
また、有機ＥＬ表示パネルは、電極間（陰極および陽極間）に有機発光層（有機エレクトロルミネッセンス層）を挟持してなる有機ＥＬ素子を用いて構成された表示パネルである。有機ＥＬ表示パネルの構成は特に制限されず、公知の構成が採用される。
本発明の画像表示装置の一例である有機ＥＬ表示装置としては、例えば、視認側から、上述した本発明の光吸収異方性層と、水平配向偏光子と、λ／４板と、有機ＥＬ表示パネルと、をこの順で有する態様が好適に挙げられる。
また、有機ＥＬ表示パネルは、電極間（陰極および陽極間）に有機発光層（有機エレクトロルミネッセンス層）を挟持してなる有機ＥＬ素子を用いて構成された表示パネルである。有機ＥＬ表示パネルの構成は特に制限されず、公知の構成が採用される。
【0175】
［曲面画像表示装置］
本発明の曲面画像表示装置の一例としては、特開２０１７－１８１８２１号公報、特開２０１７－１８１８１９号公報、特開２０１７－１０２４５６号公報、および、特開２０１４－０９５９０１号公報などに開示されている。
曲面画像表示装置は、表示部分に曲面部を有する。本発明の光吸収異方性層は剛性が小さいため、上記表示部分の曲面部に沿うように、形状を変形することができる。つまり、本発明の光吸収異方性層はそれ自体に曲面部を有するように、変形させることができる。
なお、本発明の積層体および光学フィルムに関しても、剛性が低いため、上記表示部分の曲面部に沿うように、形状を変形することができる。つまり、本発明の積層体および光学フィルムはそれ自体に曲面部を有するように、変形させることができる。
本発明の曲面画像表示装置の一例としては、特開２０１７－１８１８２１号公報、特開２０１７－１８１８１９号公報、特開２０１７－１０２４５６号公報、および、特開２０１４－０９５９０１号公報などに開示されている。
曲面画像表示装置は、表示部分に曲面部を有する。本発明の光吸収異方性層は剛性が小さいため、上記表示部分の曲面部に沿うように、形状を変形することができる。つまり、本発明の光吸収異方性層はそれ自体に曲面部を有するように、変形させることができる。
なお、本発明の積層体および光学フィルムに関しても、剛性が低いため、上記表示部分の曲面部に沿うように、形状を変形することができる。つまり、本発明の積層体および光学フィルムはそれ自体に曲面部を有するように、変形させることができる。
【0176】
［視野角切り替え可能な画像表示装置（視野角を切り替えることが可能な画像表示装置）］
本発明の光吸収異方性層、積層体、および、光学フィルムを用いることで、光の射出角度を狭くすることが可能となる。視野角切り替え可能な画像表示装置は、様々な方式が知られているが、狭い射出角度の光を生成する目的で、本発明の光吸収異方性層、積層体、および、光学フィルムを用いることができる。
例えば、本発明の光吸収異方性層、積層体、および、光学フィルムを用いて狭い射出角度の光を生成した後、特開平９－１０５９０７号公報に記載のように、光の拡散有無を制御する素子を通過させ、狭視野角/広視野角を切り替えできる。
または、特開２０１７－０９８２４６号公報に記載のように、視認側から、逆プリズムシート、比較的大きな入射角度で上記逆プリズムシートへ光を入射する第一導光板（逆プリズムシートからの出射光は狭視野角）、斜めからの入射光を吸収し狭い射出角度の光を比較的小さな入射角度で上記逆プリズムシートへ光を入射する光フィルター素子と第二導光板（逆プリズムシートからの出射光は狭視野角）からなる狭視野角／広視野角切り替えバックライトシステムにおいて、上記光フィルター素子として、本発明の光吸収異方性層、積層体や光学フィルムを用いることができる。
また、本発明の光吸収異方性層と水平配向偏光子の間に、液晶セルなどの位相差変調素子を配置して、狭視野角／光視野角切り替えを行うこともできる。例えば、位相差変調セルとしてＶＡモードまたはＥＣＢモードの液晶セルを使用すると、液晶セル中の液晶が垂直配向している状態においては狭視野角になり、液晶セル中の液晶が傾斜配向すると広視野角モードとなり、セルの電圧印可有無で狭視野角／広視野角を制御できる。
また、位相差変調セルとして、ＩＰＳモードの液晶セルを使用も考えられる。電圧無印可時の液晶セルの配向方向と、水平配向偏光子の吸収軸方向は平行または垂直方向になるようにし、電圧印可によって液晶セルの配向方向を変化させることで、狭視野角から広視野角へと視野角を切り替えることができる。
また、後述の実施例７のように、本発明の請求項３、４で記載の領域Ａ、領域Ｂを、発光画素毎にパターニングし、発光画素毎の点灯を制御することで、狭視野角／広視野角を切り替えすることが可能となる。
本発明の光吸収異方性層、積層体、および、光学フィルムを用いることで、光の射出角度を狭くすることが可能となる。視野角切り替え可能な画像表示装置は、様々な方式が知られているが、狭い射出角度の光を生成する目的で、本発明の光吸収異方性層、積層体、および、光学フィルムを用いることができる。
例えば、本発明の光吸収異方性層、積層体、および、光学フィルムを用いて狭い射出角度の光を生成した後、特開平９－１０５９０７号公報に記載のように、光の拡散有無を制御する素子を通過させ、狭視野角/広視野角を切り替えできる。
または、特開２０１７－０９８２４６号公報に記載のように、視認側から、逆プリズムシート、比較的大きな入射角度で上記逆プリズムシートへ光を入射する第一導光板（逆プリズムシートからの出射光は狭視野角）、斜めからの入射光を吸収し狭い射出角度の光を比較的小さな入射角度で上記逆プリズムシートへ光を入射する光フィルター素子と第二導光板（逆プリズムシートからの出射光は狭視野角）からなる狭視野角／広視野角切り替えバックライトシステムにおいて、上記光フィルター素子として、本発明の光吸収異方性層、積層体や光学フィルムを用いることができる。
また、本発明の光吸収異方性層と水平配向偏光子の間に、液晶セルなどの位相差変調素子を配置して、狭視野角／光視野角切り替えを行うこともできる。例えば、位相差変調セルとしてＶＡモードまたはＥＣＢモードの液晶セルを使用すると、液晶セル中の液晶が垂直配向している状態においては狭視野角になり、液晶セル中の液晶が傾斜配向すると広視野角モードとなり、セルの電圧印可有無で狭視野角／広視野角を制御できる。
また、位相差変調セルとして、ＩＰＳモードの液晶セルを使用も考えられる。電圧無印可時の液晶セルの配向方向と、水平配向偏光子の吸収軸方向は平行または垂直方向になるようにし、電圧印可によって液晶セルの配向方向を変化させることで、狭視野角から広視野角へと視野角を切り替えることができる。
また、後述の実施例７のように、本発明の請求項３、４で記載の領域Ａ、領域Ｂを、発光画素毎にパターニングし、発光画素毎の点灯を制御することで、狭視野角／広視野角を切り替えすることが可能となる。
【実施例0177】
以下、実施例に基づいて本発明を具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、試薬、物質量とその割合、および、操作などは本発明の趣旨から逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明は以下の実施例に限定され制限されるものではない。
【0178】
＜実施例１＞
色素が垂直方向に配向した光吸収異方性層を下記のように作製した。
色素が垂直方向に配向した光吸収異方性層を下記のように作製した。
【0179】
［透明支持体１の作製］
セルロースアシレートフィルム１（厚み４０μｍのＴＡＣ基材；ＴＧ４０ 富士フイルム社）の表面をアルカリ液で鹸化し、その上に配向層形成用塗布液１をワイヤーバーで塗布した。塗膜が形成された支持体を６０℃の温風で６０秒間、さらに１００℃の温風で１２０秒間乾燥し、配向層を形成し、配向層付きＴＡＣフィルムを得た。
配向層の膜厚は１μｍであった。
セルロースアシレートフィルム１（厚み４０μｍのＴＡＣ基材；ＴＧ４０ 富士フイルム社）の表面をアルカリ液で鹸化し、その上に配向層形成用塗布液１をワイヤーバーで塗布した。塗膜が形成された支持体を６０℃の温風で６０秒間、さらに１００℃の温風で１２０秒間乾燥し、配向層を形成し、配向層付きＴＡＣフィルムを得た。
配向層の膜厚は１μｍであった。
【0180】
―――――――――――――――――――――――――――――――――
（配向層形成用塗布液１）
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記の変性ポリビニルアルコール ３．８０質量部
・開始剤Ｉｒｇ２９５９ ０．２０質量部
・水 ７０質量部
・メタノール ３０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――
（配向層形成用塗布液１）
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記の変性ポリビニルアルコール ３．８０質量部
・開始剤Ｉｒｇ２９５９ ０．２０質量部
・水 ７０質量部
・メタノール ３０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――
【0181】
変性ポリビニルアルコール
【化29】
【0182】
［光吸収異方性層Ｐ１の形成］
得られた配向層ＰＡ１上に、下記の光吸収異方性層形成用組成物Ｐ１をワイヤーバーで連続的に塗布し、塗布層Ｐ１を形成した。
次いで、塗布層Ｐ１を１４０℃で３０秒間加熱し、塗布層Ｐ１を室温（２３℃）になるまで冷却した。
次いで、塗布層Ｐ１を８０℃で６０秒間加熱し、再び室温になるまで冷却した。
その後、塗布層Ｐ１に対して、ＬＥＤ灯（中心波長３６５ｎｍ）を用いて照度２００ｍＷ／ｃｍ２の照射条件で２秒間照射することにより、配向層１上に光吸収異方性層Ｐ１を作製した。
塗布層Ｐ１の膜厚は３μｍ、光吸収異方性層Ｐ１の波長５５０ｎｍにおける配向度は、０．９６であった。
これを光吸収異方性フィルム１とした。
得られた配向層ＰＡ１上に、下記の光吸収異方性層形成用組成物Ｐ１をワイヤーバーで連続的に塗布し、塗布層Ｐ１を形成した。
次いで、塗布層Ｐ１を１４０℃で３０秒間加熱し、塗布層Ｐ１を室温（２３℃）になるまで冷却した。
次いで、塗布層Ｐ１を８０℃で６０秒間加熱し、再び室温になるまで冷却した。
その後、塗布層Ｐ１に対して、ＬＥＤ灯（中心波長３６５ｎｍ）を用いて照度２００ｍＷ／ｃｍ２の照射条件で２秒間照射することにより、配向層１上に光吸収異方性層Ｐ１を作製した。
塗布層Ｐ１の膜厚は３μｍ、光吸収異方性層Ｐ１の波長５５０ｎｍにおける配向度は、０．９６であった。
これを光吸収異方性フィルム１とした。
【0183】
―――――――――――――――――――――――――――――――――
光吸収異方性層形成用組成物Ｐ１の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記二色性物質Ｄ－１ ０．４０質量部
・下記二色性物質Ｄ－２ ０．１５質量部
・下記二色性物質Ｄ－３ ０．６３質量部
・下記高分子液晶性化合物Ｐ－１ ３．６５質量部
・重合開始剤
ＩＲＧＡＣＵＲＥＯＸＥ－０２（ＢＡＳＦ社製） ０．０４０質量部
・下記化合物Ｅ－１ ０．０６０質量部
・下記化合物Ｅ－２ ０．０６０質量部
・下記界面活性剤Ｆ－１ ０．０１０質量部
・下記界面活性剤Ｆ－２ ０．０１５質量部
・シクロペンタノン ４７．００質量部
・テトラヒドロフラン ４７．００質量部
・ベンジルアルコール １．００質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
光吸収異方性層形成用組成物Ｐ１の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記二色性物質Ｄ－１ ０．４０質量部
・下記二色性物質Ｄ－２ ０．１５質量部
・下記二色性物質Ｄ－３ ０．６３質量部
・下記高分子液晶性化合物Ｐ－１ ３．６５質量部
・重合開始剤
ＩＲＧＡＣＵＲＥＯＸＥ－０２（ＢＡＳＦ社製） ０．０４０質量部
・下記化合物Ｅ－１ ０．０６０質量部
・下記化合物Ｅ－２ ０．０６０質量部
・下記界面活性剤Ｆ－１ ０．０１０質量部
・下記界面活性剤Ｆ－２ ０．０１５質量部
・シクロペンタノン ４７．００質量部
・テトラヒドロフラン ４７．００質量部
・ベンジルアルコール １．００質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
【0184】
二色性物質Ｄ－１
【0185】
【化30】
【0186】
二色性物質Ｄ－２
【0187】
【化31】
【0188】
二色性物質Ｄ－３
【0189】
【化32】
【0190】
高分子液晶性化合物Ｐ－１
【0191】
【化33】
【0192】
化合物Ｅ－１
【0193】
【化34】
【0194】
化合物Ｅ－２
【0195】
【化35】
【0196】
界面活性剤Ｆ－１
【0197】
【化36】
【0198】
界面活性剤Ｆ－２
【0199】
【化37】
【0200】
［積層体Ａ１の作製］
国際公開第２０１５／１６６９９１号記載の片面保護膜付偏光板０２と同様の方法で、偏光子の厚さが８μｍで、偏光子の片面がむき出しの偏光板１を作製した。
偏光板１の偏光子がむき出し面と、上記で作製した光吸収異方性フィルム１の光吸収異方性層表面をコロナ処理し、下記のＰＶＡ接着剤１を用いて貼合し、積層体Ａ１を作製した。
国際公開第２０１５／１６６９９１号記載の片面保護膜付偏光板０２と同様の方法で、偏光子の厚さが８μｍで、偏光子の片面がむき出しの偏光板１を作製した。
偏光板１の偏光子がむき出し面と、上記で作製した光吸収異方性フィルム１の光吸収異方性層表面をコロナ処理し、下記のＰＶＡ接着剤１を用いて貼合し、積層体Ａ１を作製した。
【0201】
（ＰＶＡ接着剤１の調製）
アセトアセチル基を含有するポリビニルアルコール系樹脂（平均重合度：１２００，ケン化度：９８．５モル％，アセトアセチル化度：５モル％）１００質量部に対し、メチロールメラミン２０質量部を、３０℃の温度条件下に、純水に溶解し、固形分濃度３．７質量％に調整した水溶液を調製した。
アセトアセチル基を含有するポリビニルアルコール系樹脂（平均重合度：１２００，ケン化度：９８．５モル％，アセトアセチル化度：５モル％）１００質量部に対し、メチロールメラミン２０質量部を、３０℃の温度条件下に、純水に溶解し、固形分濃度３．７質量％に調整した水溶液を調製した。
【0202】
［画像表示装置Ａ１の作製］
ＩＰＳモードの液晶表示装置であるｉＰａｄ Ａｉｒ（登録商標） Ｗｉ－Ｆｉモデル １６ＧＢ （ＡＰＰＬＥ社製）を分解し、液晶セルを取り出した。液晶セルから視認側偏光板を剥離し、視認側偏光板を剥離した面に、上記作製した積層体Ａ１を、偏光板１側が液晶セル側になるようにして、下記の粘着剤シート１を用いて貼合した。このとき、偏光板１の吸収軸の方向は、製品に貼合されていた視認側偏光板の吸収軸と同じになるように貼合した。貼合後、組み立て直し、画像表示装置Ａ１を作製した。
ＩＰＳモードの液晶表示装置であるｉＰａｄ Ａｉｒ（登録商標） Ｗｉ－Ｆｉモデル １６ＧＢ （ＡＰＰＬＥ社製）を分解し、液晶セルを取り出した。液晶セルから視認側偏光板を剥離し、視認側偏光板を剥離した面に、上記作製した積層体Ａ１を、偏光板１側が液晶セル側になるようにして、下記の粘着剤シート１を用いて貼合した。このとき、偏光板１の吸収軸の方向は、製品に貼合されていた視認側偏光板の吸収軸と同じになるように貼合した。貼合後、組み立て直し、画像表示装置Ａ１を作製した。
【0203】
（粘着剤シート１の作製）
以下の手順に従い、アクリレート系ポリマーを調製した。
冷却管、窒素導入管、温度計および撹拌装置を備えた反応容器に、アクリル酸ブチル９５重量部、アクリル酸５重量部を溶液重合法により重合させて、平均分子量２００万、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）３．０のアクリレート系ポリマーＡ１を得た。
以下の手順に従い、アクリレート系ポリマーを調製した。
冷却管、窒素導入管、温度計および撹拌装置を備えた反応容器に、アクリル酸ブチル９５重量部、アクリル酸５重量部を溶液重合法により重合させて、平均分子量２００万、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）３．０のアクリレート系ポリマーＡ１を得た。
【0204】
次に、得られたアクリレート系ポリマーＡ１（１００質量部）に加えて、コロネートＬ（トリレンジイソシアネ－トのトリメチロールプロパン付加物の７５質量％酢酸エチル溶液、１分子中のイソシアネート基数：３個、日本ポリウレタン工業株式会社製）（１．０質量部）、および、シランカップリング剤ＫＢＭ－４０３（信越化学工業社製）（０．２質量部）を混合し、最後に全固形分濃度が１０質量％となるように酢酸エチルを添加して、粘着剤形成用組成物を調製した。この組成物を、シリコーン系剥離剤で表面処理したセパレートフィルムにダイコーターを用いて塗布し９０℃の環境下で１分間乾燥させ、アクリレート系粘着剤シート（粘着剤シート１）を得た。粘着剤シート１の膜厚は２５μｍ、粘着剤シート１の貯蔵弾性率は０．１ＭＰａであった。
【0205】
＜実施例２＞
光吸収異方性層形成用組成物Ｐ１を光吸収異方性層形成用組成物Ｐ２に変更した以外は、実施例１と同様にして、実施例２の画像表示装置Ａ２を作製した。
光吸収異方性層形成用組成物Ｐ１を光吸収異方性層形成用組成物Ｐ２に変更した以外は、実施例１と同様にして、実施例２の画像表示装置Ａ２を作製した。
【0206】
―――――――――――――――――――――――――――――――――
光吸収異方性層形成用組成物Ｐ２の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記二色性物質Ｄ－４ ０．４０質量部
・上記二色性物質Ｄ－２ ０．１５質量部
・上記二色性物質Ｄ－３ ０．６３質量部
・上記高分子液晶性化合物Ｐ－１ ３．６５質量部
・重合開始剤
ＩＲＧＡＣＵＲＥＯＸＥ－０２（ＢＡＳＦ社製） ０．０４０質量部
・上記化合物Ｅ－１ ０．０６０質量部
・上記化合物Ｅ－２ ０．０６０質量部
・上記界面活性剤Ｆ－１ ０．０１０質量部
・上記界面活性剤Ｆ－２ ０．０１５質量部
・シクロペンタノン ４７．００質量部
・テトラヒドロフラン ４７．００質量部
・ベンジルアルコール １．００質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
光吸収異方性層形成用組成物Ｐ２の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記二色性物質Ｄ－４ ０．４０質量部
・上記二色性物質Ｄ－２ ０．１５質量部
・上記二色性物質Ｄ－３ ０．６３質量部
・上記高分子液晶性化合物Ｐ－１ ３．６５質量部
・重合開始剤
ＩＲＧＡＣＵＲＥＯＸＥ－０２（ＢＡＳＦ社製） ０．０４０質量部
・上記化合物Ｅ－１ ０．０６０質量部
・上記化合物Ｅ－２ ０．０６０質量部
・上記界面活性剤Ｆ－１ ０．０１０質量部
・上記界面活性剤Ｆ－２ ０．０１５質量部
・シクロペンタノン ４７．００質量部
・テトラヒドロフラン ４７．００質量部
・ベンジルアルコール １．００質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
【0207】
二色性物質Ｄ－４
【0208】
【化38】
【0209】
＜実施例３＞
光吸収異方性層形成用組成物Ｐ１を光吸収異方性層形成用組成物Ｐ３に変更した以外は、実施例１と同様にして、実施例３の画像表示装置Ａ３を作製した。
光吸収異方性層形成用組成物Ｐ１を光吸収異方性層形成用組成物Ｐ３に変更した以外は、実施例１と同様にして、実施例３の画像表示装置Ａ３を作製した。
【0210】
―――――――――――――――――――――――――――――――――
光吸収異方性層形成用組成物Ｐ３の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・上記二色性物質Ｄ－１ ０．４０質量部
・上記二色性物質Ｄ－２ ０．１５質量部
・上記二色性物質Ｄ－３ ０．６３質量部
・下記高分子液晶性化合物Ｐ－２ ３．２０質量部
・下記低分子液晶性化合物Ｍ－１ ０．４５質量部
・重合開始剤
ＩＲＧＡＣＵＲＥＯＸＥ－０２（ＢＡＳＦ社製） ０．０４０質量部
・下記化合物Ｅ－１ ０．０６０質量部
・下記化合物Ｅ－２ ０．０６０質量部
・下記界面活性剤Ｆ－１ ０．０１０質量部
・下記界面活性剤Ｆ－２ ０．０１５質量部
・シクロペンタノン ４７．００質量部
・テトラヒドロフラン ４７．００質量部
・ベンジルアルコール １．００質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
光吸収異方性層形成用組成物Ｐ３の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・上記二色性物質Ｄ－１ ０．４０質量部
・上記二色性物質Ｄ－２ ０．１５質量部
・上記二色性物質Ｄ－３ ０．６３質量部
・下記高分子液晶性化合物Ｐ－２ ３．２０質量部
・下記低分子液晶性化合物Ｍ－１ ０．４５質量部
・重合開始剤
ＩＲＧＡＣＵＲＥＯＸＥ－０２（ＢＡＳＦ社製） ０．０４０質量部
・下記化合物Ｅ－１ ０．０６０質量部
・下記化合物Ｅ－２ ０．０６０質量部
・下記界面活性剤Ｆ－１ ０．０１０質量部
・下記界面活性剤Ｆ－２ ０．０１５質量部
・シクロペンタノン ４７．００質量部
・テトラヒドロフラン ４７．００質量部
・ベンジルアルコール １．００質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
【0211】
高分子液晶性化合物Ｐ－２
【0212】
【化39】
【0213】
低分子液晶性化合物Ｍ－１
【0214】
【化40】
【0215】
＜実施例４＞
光吸収異方性層形成用組成物Ｐ１を光吸収異方性層形成用組成物Ｐ４に変更した以外は、実施例１と同様にして、実施例４の画像表示装置Ａ４を作製した。
光吸収異方性層形成用組成物Ｐ１を光吸収異方性層形成用組成物Ｐ４に変更した以外は、実施例１と同様にして、実施例４の画像表示装置Ａ４を作製した。
【0216】
―――――――――――――――――――――――――――――――――
光吸収異方性層形成用組成物Ｐ４の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記二色性物質Ｄ－５ ０．４０質量部
・上記二色性物質Ｄ－２ ０．１５質量部
・上記二色性物質Ｄ－３ ０．６３質量部
・上記高分子液晶性化合物Ｐ－１ ３．６５質量部
・重合開始剤
ＩＲＧＡＣＵＲＥＯＸＥ－０２（ＢＡＳＦ社製） ０．０４０質量部
・上記化合物Ｅ－１ ０．０６０質量部
・上記化合物Ｅ－２ ０．０６０質量部
・上記界面活性剤Ｆ－１ ０．０１０質量部
・上記界面活性剤Ｆ－２ ０．０１５質量部
・シクロペンタノン ４７．００質量部
・テトラヒドロフラン ４７．００質量部
・ベンジルアルコール １．００質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
光吸収異方性層形成用組成物Ｐ４の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記二色性物質Ｄ－５ ０．４０質量部
・上記二色性物質Ｄ－２ ０．１５質量部
・上記二色性物質Ｄ－３ ０．６３質量部
・上記高分子液晶性化合物Ｐ－１ ３．６５質量部
・重合開始剤
ＩＲＧＡＣＵＲＥＯＸＥ－０２（ＢＡＳＦ社製） ０．０４０質量部
・上記化合物Ｅ－１ ０．０６０質量部
・上記化合物Ｅ－２ ０．０６０質量部
・上記界面活性剤Ｆ－１ ０．０１０質量部
・上記界面活性剤Ｆ－２ ０．０１５質量部
・シクロペンタノン ４７．００質量部
・テトラヒドロフラン ４７．００質量部
・ベンジルアルコール １．００質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
【0217】
二色性物質Ｄ－５
【0218】
【化41】
【0219】
＜実施例５＞
［セルロースアシレートフィルム１の作製］
（コア層セルロースアシレートドープの作製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、撹拌して、各成分を溶解し、コア層セルロースアシレートドープとして用いるセルロースアセテート溶液を調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
コア層セルロースアシレートドープ
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・アセチル置換度２．８８のセルロースアセテート １００質量部
・特開２０１５－２２７９５５号公報の実施例に
記載されたポリエステル化合物Ｂ １２質量部
・下記化合物Ｆ ２質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒） ４３０質量部
・メタノール（第２溶剤） ６４質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
［セルロースアシレートフィルム１の作製］
（コア層セルロースアシレートドープの作製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、撹拌して、各成分を溶解し、コア層セルロースアシレートドープとして用いるセルロースアセテート溶液を調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
コア層セルロースアシレートドープ
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・アセチル置換度２．８８のセルロースアセテート １００質量部
・特開２０１５－２２７９５５号公報の実施例に
記載されたポリエステル化合物Ｂ １２質量部
・下記化合物Ｆ ２質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒） ４３０質量部
・メタノール（第２溶剤） ６４質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
【0220】
化合物Ｆ
【0221】
【化42】
【0222】
（外層セルロースアシレートドープの作製）
上記のコア層セルロースアシレートドープ９０質量部に下記のマット剤溶液を１０質量部加え、外層セルロースアシレートドープとして用いるセルロースアセテート溶液を調製した。
上記のコア層セルロースアシレートドープ９０質量部に下記のマット剤溶液を１０質量部加え、外層セルロースアシレートドープとして用いるセルロースアセテート溶液を調製した。
【0223】
―――――――――――――――――――――――――――――――――
マット剤溶液
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・平均粒子サイズ２０ｎｍのシリカ粒子
（ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製） ２質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒） ７６質量部
・メタノール（第２溶剤） １１質量部
・上記のコア層セルロースアシレートドープ １質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
マット剤溶液
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・平均粒子サイズ２０ｎｍのシリカ粒子
（ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製） ２質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒） ７６質量部
・メタノール（第２溶剤） １１質量部
・上記のコア層セルロースアシレートドープ １質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
【0224】
（セルロースアシレートフィルム２の作製）
上記コア層セルロースアシレートドープと上記外層セルロースアシレートドープとを平均孔径３４μｍのろ紙および平均孔径１０μｍの焼結金属フィルターでろ過した後、上記コア層セルロースアシレートドープとその両側に外層セルロースアシレートドープとを３層同時に流延口から２０℃のドラム上に流延した（バンド流延機）。
次いで、溶剤含有率略２０質量％の状態でフィルムをドラム上から剥ぎ取り、フィルムの幅方向の両端をテンタークリップで固定し、横方向に延伸倍率１．１倍で延伸しつつ乾燥した。
その後、熱処理装置のロール間を搬送することにより、更に乾燥し、厚み２０μｍの光学フィルムを作製し、これをセルロースアシレートフィルム２とした。得られたセルロースアシレートフィルム２の面内レターデーションは０ｎｍであった。
上記コア層セルロースアシレートドープと上記外層セルロースアシレートドープとを平均孔径３４μｍのろ紙および平均孔径１０μｍの焼結金属フィルターでろ過した後、上記コア層セルロースアシレートドープとその両側に外層セルロースアシレートドープとを３層同時に流延口から２０℃のドラム上に流延した（バンド流延機）。
次いで、溶剤含有率略２０質量％の状態でフィルムをドラム上から剥ぎ取り、フィルムの幅方向の両端をテンタークリップで固定し、横方向に延伸倍率１．１倍で延伸しつつ乾燥した。
その後、熱処理装置のロール間を搬送することにより、更に乾燥し、厚み２０μｍの光学フィルムを作製し、これをセルロースアシレートフィルム２とした。得られたセルロースアシレートフィルム２の面内レターデーションは０ｎｍであった。
【0225】
［透明支持体２の作製］
後述する光配向層形成用塗布液ＰＡ１を、ワイヤーバーで連続的に上記セルロースアシレートフィルム２上に塗布した。塗膜が形成された支持体を１４０℃の温風で１２０秒間乾燥し、続いて、塗膜に対して偏光紫外線照射（１０ｍＪ／ｃｍ２、超高圧水銀ランプ使用）することで、光配向層ＰＡ１を形成し、光配向層付きＴＡＣフィルムを得た。光配向層ＰＡ１の膜厚は０．３μｍであった。
後述する光配向層形成用塗布液ＰＡ１を、ワイヤーバーで連続的に上記セルロースアシレートフィルム２上に塗布した。塗膜が形成された支持体を１４０℃の温風で１２０秒間乾燥し、続いて、塗膜に対して偏光紫外線照射（１０ｍＪ／ｃｍ２、超高圧水銀ランプ使用）することで、光配向層ＰＡ１を形成し、光配向層付きＴＡＣフィルムを得た。光配向層ＰＡ１の膜厚は０．３μｍであった。
【0226】
―――――――――――――――――――――――――――――――――
（光配向層形成用塗布液ＰＡ１）
―――――――――――――――――――――――――――――――――
下記記重合体ＰＡ－１ １００．００質量部
下記酸発生剤ＰＡＧ－１ ５．００質量部
下記酸発生剤ＣＰＩ－１１０ＴＦ ０．００５質量部
イソプロピルアルコール １６．５０質量部
酢酸ブチル １０７２．００質量部
メチルエチルケトン ２６８．００質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
（光配向層形成用塗布液ＰＡ１）
―――――――――――――――――――――――――――――――――
下記記重合体ＰＡ－１ １００．００質量部
下記酸発生剤ＰＡＧ－１ ５．００質量部
下記酸発生剤ＣＰＩ－１１０ＴＦ ０．００５質量部
イソプロピルアルコール １６．５０質量部
酢酸ブチル １０７２．００質量部
メチルエチルケトン ２６８．００質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
【0227】
重合体ＰＡ－１
【0228】
【化43】
【0229】
酸発生剤ＰＡＧ－１
【0230】
【化44】
【0231】
酸発生剤ＣＰＩ－１１０Ｆ
【0232】
【化45】
【0233】
［偏光子層１の形成］
得られた光配向層ＰＡ１上に、下記の偏光子層形成用組成物１をワイヤーバーで連続的に塗布し、塗布層１を形成した。
次いで、塗布層１を１４０℃で３０秒間加熱し、塗布層１を室温（２３℃）になるまで冷却した。
次いで、得られた塗布層１を８０℃で６０秒間加熱し、再び室温になるまで冷却した。
その後、ＬＥＤ灯（中心波長３６５ｎｍ）を用いて照度２００ｍＷ／ｃｍ２の照射条件で２秒間照射することにより、光配向層ＰＡ１上に偏光子層１を作製した。偏光子層１の膜厚は１．６μｍであった。
得られた光配向層ＰＡ１上に、下記の偏光子層形成用組成物１をワイヤーバーで連続的に塗布し、塗布層１を形成した。
次いで、塗布層１を１４０℃で３０秒間加熱し、塗布層１を室温（２３℃）になるまで冷却した。
次いで、得られた塗布層１を８０℃で６０秒間加熱し、再び室温になるまで冷却した。
その後、ＬＥＤ灯（中心波長３６５ｎｍ）を用いて照度２００ｍＷ／ｃｍ２の照射条件で２秒間照射することにより、光配向層ＰＡ１上に偏光子層１を作製した。偏光子層１の膜厚は１．６μｍであった。
【0234】
―――――――――――――――――――――――――――――――――
偏光子層形成用組成物１の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・上記二色性物質Ｄ－１ ０．２５質量部
・上記二色性物質Ｄ－２ ０．３６質量部
・上記二色性物質Ｄ－３ ０．５９質量部
・上記高分子液晶性化合物Ｐ－２ ２．２１質量部
・上記低分子液晶性化合物Ｍ－１ １．３６質量部
・重合開始剤
ＩＲＧＡＣＵＲＥＯＸＥ－０２（ＢＡＳＦ社製） ０．２００質量部
・下記界面活性剤Ｆ－３ ０．０２６質量部
・シクロペンタノン ４６．００質量部
・テトラヒドロフラン ４６．００質量部
・ベンジルアルコール ３．００質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
偏光子層形成用組成物１の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・上記二色性物質Ｄ－１ ０．２５質量部
・上記二色性物質Ｄ－２ ０．３６質量部
・上記二色性物質Ｄ－３ ０．５９質量部
・上記高分子液晶性化合物Ｐ－２ ２．２１質量部
・上記低分子液晶性化合物Ｍ－１ １．３６質量部
・重合開始剤
ＩＲＧＡＣＵＲＥＯＸＥ－０２（ＢＡＳＦ社製） ０．２００質量部
・下記界面活性剤Ｆ－３ ０．０２６質量部
・シクロペンタノン ４６．００質量部
・テトラヒドロフラン ４６．００質量部
・ベンジルアルコール ３．００質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
【0235】
界面活性剤Ｆ－３
【0236】
【化46】
【0237】
［配向層１の形成］
偏光子層１の表面をコロナ処理した後、上記配向層形成用塗布液１をワイヤーバーで連続的に塗布した。その後、１００℃の温風で２分間乾燥することにより、偏光子層１上に厚み１．０μｍのポリビニルアルコール（ＰＶＡ）配向層１が形成された。
偏光子層１の表面をコロナ処理した後、上記配向層形成用塗布液１をワイヤーバーで連続的に塗布した。その後、１００℃の温風で２分間乾燥することにより、偏光子層１上に厚み１．０μｍのポリビニルアルコール（ＰＶＡ）配向層１が形成された。
【0238】
［光吸収異方性層Ｐ１の形成］
得られた配向層１の上に、上記光吸収異方性層形成用組成物Ｐ１をワイヤーバーで連続的に塗布し、塗布層Ｐ１を形成した。
次いで、塗布層Ｐ１を１４０℃で３０秒間加熱し、塗布層Ｐ１を室温（２３℃）になるまで冷却した。
次いで、得られた塗布層Ｐ１を８０℃で６０秒間加熱し、再び室温になるまで冷却した。
その後、ＬＥＤ灯（中心波長３６５ｎｍ）を用いて照度２００ｍＷ／ｃｍ２の照射条件で２秒間照射することにより、配向層１上に光吸収異方性層Ｐ１を作製し、積層体Ａ５とした。塗布層Ｐ１の膜厚は３μｍ、光吸収異方性層Ｐ１の波長５５０ｎｍにおける配向度は０．９６であった。
得られた配向層１の上に、上記光吸収異方性層形成用組成物Ｐ１をワイヤーバーで連続的に塗布し、塗布層Ｐ１を形成した。
次いで、塗布層Ｐ１を１４０℃で３０秒間加熱し、塗布層Ｐ１を室温（２３℃）になるまで冷却した。
次いで、得られた塗布層Ｐ１を８０℃で６０秒間加熱し、再び室温になるまで冷却した。
その後、ＬＥＤ灯（中心波長３６５ｎｍ）を用いて照度２００ｍＷ／ｃｍ２の照射条件で２秒間照射することにより、配向層１上に光吸収異方性層Ｐ１を作製し、積層体Ａ５とした。塗布層Ｐ１の膜厚は３μｍ、光吸収異方性層Ｐ１の波長５５０ｎｍにおける配向度は０．９６であった。
【0239】
［画像表示装置Ａ５の作製］
ＩＰＳモードの液晶表示装置であるｉＰａｄ Ａｉｒ（登録商標） Ｗｉ－Ｆｉモデル １６ＧＢ （ＡＰＰＬＥ社製）を分解し、液晶セルを取り出した。液晶セルから視認側偏光板を剥離し、視認側偏光板を剥離した面に、上記作製した積層体Ａ５を、セルロースアシレートフィルム２側が液晶セル側になるようにして、上記粘着剤シート１を用いて貼合した。このとき、偏光子層１の吸収軸の方向は、製品に貼合されていた視認側偏光板の吸収軸と同じになるように貼合した。貼合後、組み立て直し、画像表示装置Ａ５を作製した。
ＩＰＳモードの液晶表示装置であるｉＰａｄ Ａｉｒ（登録商標） Ｗｉ－Ｆｉモデル １６ＧＢ （ＡＰＰＬＥ社製）を分解し、液晶セルを取り出した。液晶セルから視認側偏光板を剥離し、視認側偏光板を剥離した面に、上記作製した積層体Ａ５を、セルロースアシレートフィルム２側が液晶セル側になるようにして、上記粘着剤シート１を用いて貼合した。このとき、偏光子層１の吸収軸の方向は、製品に貼合されていた視認側偏光板の吸収軸と同じになるように貼合した。貼合後、組み立て直し、画像表示装置Ａ５を作製した。
【0240】
＜比較例１＞
光吸収異方性層形成用組成物Ｐ１を光吸収異方性層形成用組成物Ｐ５に変更した以外は、実施例１と同様にして画像表示装置Ｂ１を作製した。
光吸収異方性層形成用組成物Ｐ１を光吸収異方性層形成用組成物Ｐ５に変更した以外は、実施例１と同様にして画像表示装置Ｂ１を作製した。
【0241】
―――――――――――――――――――――――――――――――――
光吸収異方性層形成用組成物Ｐ５の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・上記二色性物質Ｄ－５ ８．７１質量部
・下記二色性物質Ｄ－６ １０．５９質量部
・下記高分子液晶性化合物Ｐ－３ ４４．１３質量部
・重合開始剤
ＩＲＧＡＣＵＲＥＯＸＥ－０２（ＢＡＳＦ社製） ０．０４０質量部
・上記化合物Ｅ－１ ０．８００質量部
・上記化合物Ｅ－２ ０．８００質量部
・上記界面活性剤Ｆ－２ ０．９６０質量部
・シクロペンタノン ７９３．９０質量部
・テトラヒドロフラン １４０．１０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
光吸収異方性層形成用組成物Ｐ５の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・上記二色性物質Ｄ－５ ８．７１質量部
・下記二色性物質Ｄ－６ １０．５９質量部
・下記高分子液晶性化合物Ｐ－３ ４４．１３質量部
・重合開始剤
ＩＲＧＡＣＵＲＥＯＸＥ－０２（ＢＡＳＦ社製） ０．０４０質量部
・上記化合物Ｅ－１ ０．８００質量部
・上記化合物Ｅ－２ ０．８００質量部
・上記界面活性剤Ｆ－２ ０．９６０質量部
・シクロペンタノン ７９３．９０質量部
・テトラヒドロフラン １４０．１０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
【0242】
二色性物質Ｄ－６
【0243】
【化47】
【0244】
高分子液晶性化合物Ｐ－３
【0245】
【化48】
【0246】
＜比較例２＞
光吸収異方性層の膜厚を３μｍから４．５μｍになるように変更した以外は、比較例１と同様にして画像表示装置Ｂ２を作製した。
光吸収異方性層の膜厚を３μｍから４．５μｍになるように変更した以外は、比較例１と同様にして画像表示装置Ｂ２を作製した。
【0247】
＜性能の評価＞
（１）配向度の評価
得られた異方性光吸収層の波長５５０ｎｍにおける配向度は以下の方法によって算出した。
ＡｘｏＳｃａｎ ＯＰＭＦ－１（オプトサイエンス社製）を用いて、測定の際に、光吸収異方性層の法線方向に対する角度である極角を０～９０°まで５°毎に変更しつつ、各極角における全方位角度での波長５５０ｎｍでの透過率を測定した。次に、表面反射の影響を除去した後、最も透過率の高い方位角および極角での透過率をＴｍ（０）、最も透過率の高い方位角方向において、最も透過率の高い極角からさらに極角を４０°傾けた角度での透過率をＴｍ（４０）とする。得られたＴｍ（０）およびＴｍ（４０）から下記式により吸光度を算出し、Ａ（０）およびＡ（４０）を算出した。
Ａ＝－ｌｏｇ（Ｔｍ）
ここで、Ｔｍは透過率、Ａは吸光度を表す。
算出したＡ（０）およびＡ（４０）より、下記式で定義された波長５５０ｎｍにおける配向度Ｓを算出した。
Ｓ＝（４．６×Ａ（４０）－Ａ（０））／（４．６×Ａ（４０）＋２×Ａ（０））
上記波長を５５０ｎｍから４２０ｎｍに変更することにより、波長４２０ｎｍにおける配向度Ｓを算出した。
（１）配向度の評価
得られた異方性光吸収層の波長５５０ｎｍにおける配向度は以下の方法によって算出した。
ＡｘｏＳｃａｎ ＯＰＭＦ－１（オプトサイエンス社製）を用いて、測定の際に、光吸収異方性層の法線方向に対する角度である極角を０～９０°まで５°毎に変更しつつ、各極角における全方位角度での波長５５０ｎｍでの透過率を測定した。次に、表面反射の影響を除去した後、最も透過率の高い方位角および極角での透過率をＴｍ（０）、最も透過率の高い方位角方向において、最も透過率の高い極角からさらに極角を４０°傾けた角度での透過率をＴｍ（４０）とする。得られたＴｍ（０）およびＴｍ（４０）から下記式により吸光度を算出し、Ａ（０）およびＡ（４０）を算出した。
Ａ＝－ｌｏｇ（Ｔｍ）
ここで、Ｔｍは透過率、Ａは吸光度を表す。
算出したＡ（０）およびＡ（４０）より、下記式で定義された波長５５０ｎｍにおける配向度Ｓを算出した。
Ｓ＝（４．６×Ａ（４０）－Ａ（０））／（４．６×Ａ（４０）＋２×Ａ（０））
上記波長を５５０ｎｍから４２０ｎｍに変更することにより、波長４２０ｎｍにおける配向度Ｓを算出した。
【0248】
（２）透過率と色味の評価
上記作製した画像表示装置Ａ１を、測定機（ＥＺ－Ｃｏｎｔｒａｓｔ ＸＬ８８、ＥＬＤＩＭ社製）を用いて、白表示画面の極角０°（正面方向）の輝度Ｙ（０）Ａ１、極角３０°（斜め方向）の輝度Ｙ（３０）Ａ１、極角０°の色味ａ＊（０）Ａ１、色味ｂ＊（０）Ａ１、極角３０°の色味ａ＊（３０）Ａ１、色味ｂ＊（３０）Ａ１を測定した。
また、画像表示装置Ａ１の作製において、光吸収異方性層がない偏光板を液晶セルに貼合以外は、実施例１と同様にして、画像表示装置Ｃを作製し、上記記載と同様にして、白表示画面の極角０°（正面方向）の輝度Ｙ（０）Ｃ、極角３０°（斜め方向）の輝度Ｙ（３０）Ｃを測定した。光吸収異方性層を含まない画像表示装置Ｃの輝度と比較することで、正面透過率Ｔ０（Ｔ（０））および斜め透過率Ｔ３０（Ｔ（３０））を求めた。
具体的には、下記式を用いて算出し、下記の基準で透過率を評価した。
Ｔ（０）＝｛Ｙ（０）Ａ１／Ｙ（０）Ｃ｝×１００
Ｔ（３０）＝｛Ｙ（３０）Ａ１／Ｙ（３０）Ｃ｝×１００
Ａ：極角０°（正面）透過率が８０％以上、
且つ、極角３０°（斜め）透過率が１０％以下。
Ｂ：極角０°（正面）透過率が８０％より低く、
且つ、極角３０°（斜め）透過率が１０％以下。
または、極角０°（正面）透過率が８０％以上、
且つ、極角３０°（斜め）透過率が１０％より高い。
または、極角０°（正面）透過率が８０％より低く、
且つ、極角３０°（斜め）透過率が１０％より高い。
上記作製した画像表示装置Ａ１を、測定機（ＥＺ－Ｃｏｎｔｒａｓｔ ＸＬ８８、ＥＬＤＩＭ社製）を用いて、白表示画面の極角０°（正面方向）の輝度Ｙ（０）Ａ１、極角３０°（斜め方向）の輝度Ｙ（３０）Ａ１、極角０°の色味ａ＊（０）Ａ１、色味ｂ＊（０）Ａ１、極角３０°の色味ａ＊（３０）Ａ１、色味ｂ＊（３０）Ａ１を測定した。
また、画像表示装置Ａ１の作製において、光吸収異方性層がない偏光板を液晶セルに貼合以外は、実施例１と同様にして、画像表示装置Ｃを作製し、上記記載と同様にして、白表示画面の極角０°（正面方向）の輝度Ｙ（０）Ｃ、極角３０°（斜め方向）の輝度Ｙ（３０）Ｃを測定した。光吸収異方性層を含まない画像表示装置Ｃの輝度と比較することで、正面透過率Ｔ０（Ｔ（０））および斜め透過率Ｔ３０（Ｔ（３０））を求めた。
具体的には、下記式を用いて算出し、下記の基準で透過率を評価した。
Ｔ（０）＝｛Ｙ（０）Ａ１／Ｙ（０）Ｃ｝×１００
Ｔ（３０）＝｛Ｙ（３０）Ａ１／Ｙ（３０）Ｃ｝×１００
Ａ：極角０°（正面）透過率が８０％以上、
且つ、極角３０°（斜め）透過率が１０％以下。
Ｂ：極角０°（正面）透過率が８０％より低く、
且つ、極角３０°（斜め）透過率が１０％以下。
または、極角０°（正面）透過率が８０％以上、
且つ、極角３０°（斜め）透過率が１０％より高い。
または、極角０°（正面）透過率が８０％より低く、
且つ、極角３０°（斜め）透過率が１０％より高い。
【0249】
また、色味評価については、下記式を用いて算出し、下記の基準で色味を評価した。
｜ａ＊ｂ＊｜＝ √（ａ＊（０）Ａ１２＋ｂ＊（０）Ａ１２）
＋√（ａ＊（３０）Ａ１２＋ｂ＊（３０）Ａ１２）
ＡＡ：｜ａ＊ｂ＊｜が１２未満
Ａ：｜ａ＊ｂ＊｜が１２以上１５未満
Ｂ：｜ａ＊ｂ＊｜が１５以上
｜ａ＊ｂ＊｜＝ √（ａ＊（０）Ａ１２＋ｂ＊（０）Ａ１２）
＋√（ａ＊（３０）Ａ１２＋ｂ＊（３０）Ａ１２）
ＡＡ：｜ａ＊ｂ＊｜が１２未満
Ａ：｜ａ＊ｂ＊｜が１２以上１５未満
Ｂ：｜ａ＊ｂ＊｜が１５以上
【0250】
画像表示装置Ａ１の代わりに、画像表示装置Ａ２～Ａ５、Ｂ１～Ｂ２を使用して、上記と同様の手順に従って、透過率と色味の評価を実施した。
【0251】
なお、実施例１～５で得られた光吸収異方性層においては、二色性物質が膜面に対し垂直に配向していた。垂直に配向の定義は、上述した通りである。
【0252】
表１中、「５５０ｎｍ配向度」は、光吸収異方性層の波長５５０ｎｍにおける配向度を表し、「４２０ｎｍ配向度」は、光吸収異方性層の波長４２０ｎｍにおける配向度を表す。
「透過率」欄の「正面」欄は、正面透過率を表し、「３０°」欄は、極角３０°（斜め）透過率を表す。
「透過率」欄の「正面」欄は、正面透過率を表し、「３０°」欄は、極角３０°（斜め）透過率を表す。
【0253】
【表1】
【0254】
［曲面加工適正確認］
曲面を有するスマートフォン（Ｇａｌａｘｙ Ｎｏｔｅ９ サムスン製）の表示画面に、実施例１で作製した積層体Ａ１を、偏光板１側を貼合側にして、市販の粘着剤ＳＫ２０５７（綜研化学製）を用いて貼合した。積層体Ａ１は膜厚が１００μｍ以下で剛性が低いため、表示画面の曲面部分においても、気泡などが入らず、きれいに貼合できた。
続いて、本発明の光学フィルムと同様の性能を持つ、市場に多く普及しているルーバータイプの光学フィルム（３ＭＴＭ セキュリティ/プライバシーフィルターＰＦ１２ Ｈ２シリーズ）を上記スマートフォンの表示画面上に、市販の粘着剤ＳＫ２０５７（綜研化学製）を用いて貼合した。ルーバータイプの光学フィルムは、膜厚が５００μｍで剛性が高いため、表示画面の曲面部分において、気泡が入ってしまい、きれいに貼合することができなかった。
曲面を有するスマートフォン（Ｇａｌａｘｙ Ｎｏｔｅ９ サムスン製）の表示画面に、実施例１で作製した積層体Ａ１を、偏光板１側を貼合側にして、市販の粘着剤ＳＫ２０５７（綜研化学製）を用いて貼合した。積層体Ａ１は膜厚が１００μｍ以下で剛性が低いため、表示画面の曲面部分においても、気泡などが入らず、きれいに貼合できた。
続いて、本発明の光学フィルムと同様の性能を持つ、市場に多く普及しているルーバータイプの光学フィルム（３ＭＴＭ セキュリティ/プライバシーフィルターＰＦ１２ Ｈ２シリーズ）を上記スマートフォンの表示画面上に、市販の粘着剤ＳＫ２０５７（綜研化学製）を用いて貼合した。ルーバータイプの光学フィルムは、膜厚が５００μｍで剛性が高いため、表示画面の曲面部分において、気泡が入ってしまい、きれいに貼合することができなかった。
【0255】
＜実施例６＞
［光吸収異方性層の形成］
領域Ａと領域Ｂのパターンを有する光吸収異方性層を下記のように作製した。
実施例１の配向層ＰＡ１上に、上記の光吸収異方性層形成用組成物Ｐ１をワイヤーバーで連続的に塗布し、塗布層Ｐ１を形成した。
次いで、塗布層Ｐ１を１４０℃で３０秒間加熱し、塗布層Ｐ１を室温（２３℃）になるまで冷却した。
次いで、得られた塗布層Ｐ１を８０℃で６０秒間加熱し、再び室温になるまで冷却した。
その後、高圧水銀灯が出射する光を、マスクを介して、照度２８ｍＷ／ｃｍ２の照射条件で６０秒間照射することにより、配向膜ＰＡ上に、面内に液晶性化合物の硬化領域と未硬化領域とを有する光吸収異方性層を作製した。なお、マスクは、領域Ａとして縦１０ｍｍ×横５０ｍｍの長方形の光透過部を有する、遮光部（領域Ｂ）と光透過部とを有するマスクパターンとした。
作製した面内に液晶性化合物の硬化領域（領域Ａ）と未硬化領域（領域Ｂ）とを有する光吸収異方性層を有するフィルムを、エタノール中に３分間浸漬して、重合していない液晶性化合物を洗浄除去し、面内に偏光度の異なる領域Ａおよび領域Ｂを有するパターン光吸収異方性層を有する光吸収異方性フィルム６を形成した。
領域Ａにおいては、二色性物質が膜面に対し垂直に配向していた。垂直に配向の定義は、上述した通りである。
また、領域Ａにおける波長５５０ｎｍにおける配向度は０．９６であり、波長４２０ｎｍにおける配向度は０．９４であった。
さらに、領域Ａは、極角３０°透過率が１０％以下であり、正面透過率が８０％以上であった。領域Ｂは、極角３０°透過率も正面透過率も８０％以上であった。
［光吸収異方性層の形成］
領域Ａと領域Ｂのパターンを有する光吸収異方性層を下記のように作製した。
実施例１の配向層ＰＡ１上に、上記の光吸収異方性層形成用組成物Ｐ１をワイヤーバーで連続的に塗布し、塗布層Ｐ１を形成した。
次いで、塗布層Ｐ１を１４０℃で３０秒間加熱し、塗布層Ｐ１を室温（２３℃）になるまで冷却した。
次いで、得られた塗布層Ｐ１を８０℃で６０秒間加熱し、再び室温になるまで冷却した。
その後、高圧水銀灯が出射する光を、マスクを介して、照度２８ｍＷ／ｃｍ２の照射条件で６０秒間照射することにより、配向膜ＰＡ上に、面内に液晶性化合物の硬化領域と未硬化領域とを有する光吸収異方性層を作製した。なお、マスクは、領域Ａとして縦１０ｍｍ×横５０ｍｍの長方形の光透過部を有する、遮光部（領域Ｂ）と光透過部とを有するマスクパターンとした。
作製した面内に液晶性化合物の硬化領域（領域Ａ）と未硬化領域（領域Ｂ）とを有する光吸収異方性層を有するフィルムを、エタノール中に３分間浸漬して、重合していない液晶性化合物を洗浄除去し、面内に偏光度の異なる領域Ａおよび領域Ｂを有するパターン光吸収異方性層を有する光吸収異方性フィルム６を形成した。
領域Ａにおいては、二色性物質が膜面に対し垂直に配向していた。垂直に配向の定義は、上述した通りである。
また、領域Ａにおける波長５５０ｎｍにおける配向度は０．９６であり、波長４２０ｎｍにおける配向度は０．９４であった。
さらに、領域Ａは、極角３０°透過率が１０％以下であり、正面透過率が８０％以上であった。領域Ｂは、極角３０°透過率も正面透過率も８０％以上であった。
【0256】
［積層体Ａ６の作製］
国際公開第２０１５／１６６９９１号記載の片面保護膜付偏光板０２と同様の方法で、偏光子の厚さが８μｍで、偏光子の片面がむき出しの偏光板１を作製した。
上記偏光板１の偏光子がむき出し面と、作製した光吸収異方性フィルム６の光吸収異方性層表面を上記粘着剤シート１を用いて貼合し、積層体Ａ６を作製した。
国際公開第２０１５／１６６９９１号記載の片面保護膜付偏光板０２と同様の方法で、偏光子の厚さが８μｍで、偏光子の片面がむき出しの偏光板１を作製した。
上記偏光板１の偏光子がむき出し面と、作製した光吸収異方性フィルム６の光吸収異方性層表面を上記粘着剤シート１を用いて貼合し、積層体Ａ６を作製した。
【0257】
［画像表示装置Ａ６の作製］
上記画像表示装置Ａ１と同様にして、積層体Ａ１を積層体Ａ６に変更して、画像表示装置Ａ６を作製した。領域Ａの部分のみが狭視野角であり、正面からのみはっきりと視認できた。
上記画像表示装置Ａ１と同様にして、積層体Ａ１を積層体Ａ６に変更して、画像表示装置Ａ６を作製した。領域Ａの部分のみが狭視野角であり、正面からのみはっきりと視認できた。
【0258】
＜実施例７＞
［光吸収異方性層の形成］
領域Ａと領域Ｂのパターンを有する光吸収異方性層を下記のように作製した。
実施例１の配向層ＰＡ１上に、上記の光吸収異方性層形成用組成物Ｐ１をワイヤーバーで連続的に塗布し、塗布層Ｐ１を形成した。
次いで、塗布層Ｐ１を１４０℃で３０秒間加熱し、塗布層Ｐ１を室温（２３℃）になるまで冷却した。
次いで、得られた塗布層Ｐ１を８０℃で６０秒間加熱し、再び室温になるまで冷却した。
その後、高圧水銀灯が出射する光を、マスクを介して、照度２８ｍＷ／ｃｍ２の照射条件で６０秒間照射することにより、配向膜上に、面内に液晶性化合物の硬化領域と未硬化領域とを有する光吸収異方性層を作製した。なお、マスクは、領域Ａとして縦８５μｍ×横５０ｍｍの長方形の光透過部を有し、領域Ｂとして縦８５μｍ×横５０ｍｍの長方形の遮光部を有し、領域Ａと領域Ｂが交互に配置され、縦方向５０ｍｍの長さを有するマスクパターンを使用した。
作製した面内に液晶性化合物の硬化領域（領域Ａ）と未硬化領域（領域Ｂ）とを有する光吸収異方性層を有するフィルムを、エタノール中に３分間浸漬して、重合していない液晶性化合物を洗浄除去し、面内に偏光度の異なる領域Ａおよび領域Ｂを有する光吸収異方性層を有する光吸収異方性フィルム７を形成した。
領域Ａにおいては、二色性物質が膜面に対し垂直に配向していた。垂直に配向の定義は、上述した通りである。
また、領域Ａにおける波長５５０ｎｍにおける配向度は０．９６であり、波長４２０ｎｍにおける配向度は０．９４であった。
さらに、領域Ａは、極角３０°透過率が１０％以下であり、正面透過率が８０％以上であった。領域Ｂは、極角３０°透過率も正面透過率も８０％以上であった。
［光吸収異方性層の形成］
領域Ａと領域Ｂのパターンを有する光吸収異方性層を下記のように作製した。
実施例１の配向層ＰＡ１上に、上記の光吸収異方性層形成用組成物Ｐ１をワイヤーバーで連続的に塗布し、塗布層Ｐ１を形成した。
次いで、塗布層Ｐ１を１４０℃で３０秒間加熱し、塗布層Ｐ１を室温（２３℃）になるまで冷却した。
次いで、得られた塗布層Ｐ１を８０℃で６０秒間加熱し、再び室温になるまで冷却した。
その後、高圧水銀灯が出射する光を、マスクを介して、照度２８ｍＷ／ｃｍ２の照射条件で６０秒間照射することにより、配向膜上に、面内に液晶性化合物の硬化領域と未硬化領域とを有する光吸収異方性層を作製した。なお、マスクは、領域Ａとして縦８５μｍ×横５０ｍｍの長方形の光透過部を有し、領域Ｂとして縦８５μｍ×横５０ｍｍの長方形の遮光部を有し、領域Ａと領域Ｂが交互に配置され、縦方向５０ｍｍの長さを有するマスクパターンを使用した。
作製した面内に液晶性化合物の硬化領域（領域Ａ）と未硬化領域（領域Ｂ）とを有する光吸収異方性層を有するフィルムを、エタノール中に３分間浸漬して、重合していない液晶性化合物を洗浄除去し、面内に偏光度の異なる領域Ａおよび領域Ｂを有する光吸収異方性層を有する光吸収異方性フィルム７を形成した。
領域Ａにおいては、二色性物質が膜面に対し垂直に配向していた。垂直に配向の定義は、上述した通りである。
また、領域Ａにおける波長５５０ｎｍにおける配向度は０．９６であり、波長４２０ｎｍにおける配向度は０．９４であった。
さらに、領域Ａは、極角３０°透過率が１０％以下であり、正面透過率が８０％以上であった。領域Ｂは、極角３０°透過率も正面透過率も８０％以上であった。
【0259】
［積層体Ａ７の作製］
国際公開第２０１５／１６６９９１号記載の片面保護膜付偏光板０２と同様の方法で、偏光子の厚さが８μｍで、偏光子の片面がむき出しの偏光板１を作製した。
上記偏光板１の偏光子がむき出し面と、作製した光吸収異方性フィルム７の光吸収異方性層表面を粘着剤ＳＫ２０５７（綜研化学製）を用いて貼合し、積層体Ａ７を作製した。
国際公開第２０１５／１６６９９１号記載の片面保護膜付偏光板０２と同様の方法で、偏光子の厚さが８μｍで、偏光子の片面がむき出しの偏光板１を作製した。
上記偏光板１の偏光子がむき出し面と、作製した光吸収異方性フィルム７の光吸収異方性層表面を粘着剤ＳＫ２０５７（綜研化学製）を用いて貼合し、積層体Ａ７を作製した。
【0260】
［画像表示装置Ａ７の作製］
Ｓａｍｓｕｎｇ製スマートフォン ＧａＬａｘｙ Ｓ４を分解し、ＥＬ基板に貼合されている偏光板を剥離した。偏光板を剥離したＥＬ基板上に、粘着剤ＳＫ２０５７（綜研化学製）を用いてピュアエースＷＲ Ｗ１４２（帝人製）と上記記載の積層体Ａ７を、ピュアエースＷＲ Ｗ１４２がＥＬ基板側、また、積層体Ａ７の光吸収異方性フィルム７側が視認側になるように貼合した。この時、積層体Ａ７の領域Ａと領域ＢがＥＬ基板の画素に対して、一致するように貼合した。
Ｓａｍｓｕｎｇ製スマートフォン ＧａＬａｘｙ Ｓ４を分解し、ＥＬ基板に貼合されている偏光板を剥離した。偏光板を剥離したＥＬ基板上に、粘着剤ＳＫ２０５７（綜研化学製）を用いてピュアエースＷＲ Ｗ１４２（帝人製）と上記記載の積層体Ａ７を、ピュアエースＷＲ Ｗ１４２がＥＬ基板側、また、積層体Ａ７の光吸収異方性フィルム７側が視認側になるように貼合した。この時、積層体Ａ７の領域Ａと領域ＢがＥＬ基板の画素に対して、一致するように貼合した。
【0261】
作製した画像表示装置Ａ７に、領域Ａに重なる画素だけに画像を表示させる画像αと、領域Ｂに重なる画素だけに画像を表示させる画像βを用意した。画像αを表示させた場合、画像表示装置Ａ７に貼合されたフィルムの吸収軸に対して、極角３０°の方向から画像を見た時、画像が暗くなり、画像を認識できなくなった。また、画像βを表示させた場合、画像表示装置Ａ７に貼合されたフィルムの吸収軸に対して、極角３０°の方向から画像を見た時、明るさの変化が小さく、画像を認識できた。したがって、パターン光吸収異方性フィルム７を使用することで、視野角を切り替えられる画像表示装置を作製できることを確認できた。
【0262】
＜実施例８＞
特開２０１７－０９８２４６号公報の実施例を参考に、光フィルター素子１４０を実施例１で作製した光吸収異方性フィルム１として、視野角切り替え可能なバックライトモジュールを作製した。
図１は、本発明の一実施例のバックライトモジュールの概略図である。
図１を参照すると、本実施例のバックライトモジュール１００は第一面光源アセンブリー１１０、第二面光源アセンブリー１２０、第一光学シート１３０および光フィルター素子１４０を含む。
第一面光源アセンブリー１１０は第一発光ユニット１１１および第一導光板１１２を含み、第一導光板１１２は対向する第一出光面１１４と第一底面１１５、および第一出光面１１４と第一底面１１５との間に位置する第一入光面１１３を有し、第一発光ユニット１１１が第一導光板１１２の第一入光面１１３の近傍に位置する。
第二面光源アセンブリー１２０は第一面光源アセンブリー１１０の上方に位置し、かつ第二発光ユニット１２１および第二導光板１２２を含み、第二導光板１２２は対向する第二出光面１２４と第二底面１２５、および第二出光面１２４と第二底面１２５との間に位置する第二入光面１２３を有し、第二発光ユニット１２１は第二導光板１２２の第二入光面１２３の近傍に位置する。
第一光学シート１３０は第二面光源アセンブリー１２０の上方に位置し、かつ第一方向（例えば、Ｘ軸方向）に配列された複数のプリズムピラー１３１を含み、プリズムピラー１３１の先端１３２が第二面光源アセンブリー１２０に向っている。本実施例において、プリズムピラー１３１の軸延伸方向が第二方向（例えば、Ｚ軸方向）へ延伸し、かつ第一方向が第二方向に垂直である。光フィルター素子１４０は第一面光源アセンブリー１１０と第二面光源アセンブリー１２０との間に位置し、かつ光フィルター素子１４０は所定の入射角度範囲内の入射光線を透過させる。
第一発光ユニット１１１は光線を提供し、この光線が第一入光面１１３から第一導光板１１２内に進入し、第一導光板１１２は光線を変換して、第一導光板１１２の第一出光面１１４から出射する第一面光源にする。第二発光ユニット１２１は光線を提供し、この光線が第二入光面１２３から第二導光板１２２内に進入し、第二導光板１２２は光線を変換して、第二導光板１２２の第二出光面１２４から出射する第二面光源にする。
第一発光ユニット１１１と第二発光ユニット１２１は、例えば、いずれも基板（図示せず）および基板上に配置された複数の発光素子（図示せず）、例えば発光ダイオードを含むが、これに限定されない。本発明は、第一発光ユニット１１１および第二発光ユニット１２１の種類について限定しない。また、第一導光板１１２の第一底面１１５および第二導光板１２２の第二底面１２５において、光線が第一出光面１１４および第二出光面１２４から出射される際の光の型を調整するための微構造（図示せず）を設けることができる。上記微構造は網点、溝などであってもよいが、これに限定されない。
第一光学シート１３０は、例えば、逆プリズムシートまたは逆プリズムシート構造を有する複合式光学シートであり、入射角度の異なる光線が第一光学シート１３０から出射させる際に異なる出射角度になるようにできる。プリズムピラー１３１の第一表面１３３から入射される光線を例にすると、入射角度が比較的に大きい場合、光線が第二表面１３４まで屈折され、かつ第二表面１３４に反射された後、比較的に小さい出射角度で第一光学シート１３０の出光側１３５から出射される。入射角度が比較的に小さい場合、光線が屈折された後そのまま比較的に大きい出射角度で第一光学シート１３０の出光側１３５から出射される。また、各プリズムピラー１３１の軸延伸方向が、例えばＺ軸方向と平行である。各プリズムピラー１３１の先端１３２に面取り処理、例えば丸面取りが施してもよい。
具体的に言うと、第一発光ユニット１１１がオンの時、光線Ｌ１は主に比較的に小さい入射角度で第一光学シート１３０のプリズムピラー１３１の第一表面１３３および第二表面１３４に入射されるため、比較的に大きい出射角度で第一光学シート１３０の出光側１３５から出射される。第二発光ユニット１２１がオンの時、光線Ｌ２は主に比較的に大きい入射角度で図１の第一光学シート１３０のプリズムピラー１３１の第一表面１３３および第二表面１３４に入射されるため、比較的に小さい出射角度で第一光学シート１３０の出光側１３５から出射される。第一発光ユニット１１１と第二発光ユニット１２１が共にオンの時、出射角度が比較的に大きい光線Ｌ１と出射角度が比較的に小さい光線Ｌ２は第一光学シート１３０の出光側１３５から出射され、重なった後、広視角面光源を形成することができる。従って、第一発光ユニット１１１と第二発光ユニット１２１が共にオンの時、広視角モードと定義することができる。一方、第一発光ユニット１１１がオフで、第二発光ユニット１２１がオンの時、出射角度が比較的に小さい光線Ｌ２が第一光学シート１３０の出光側１３５から出射された後、狭視角面光源が形成される。従って、第二発光ユニット１２１がオンで、かつ第一発光ユニット１１１がオフの時、狭視角モードと定義することができる。つまり、図１に記載のバックライトモジュールは、視野角を切り替えることが可能なバックライトモジュールに該当する。
以上より、光フィルター素子１４０として、本発明の光吸収異方性フィルム１を用いることで、正面輝度が高く、視野角切り替え可能なバックライトモジュールとなることを確認した。
特開２０１７－０９８２４６号公報の実施例を参考に、光フィルター素子１４０を実施例１で作製した光吸収異方性フィルム１として、視野角切り替え可能なバックライトモジュールを作製した。
図１は、本発明の一実施例のバックライトモジュールの概略図である。
図１を参照すると、本実施例のバックライトモジュール１００は第一面光源アセンブリー１１０、第二面光源アセンブリー１２０、第一光学シート１３０および光フィルター素子１４０を含む。
第一面光源アセンブリー１１０は第一発光ユニット１１１および第一導光板１１２を含み、第一導光板１１２は対向する第一出光面１１４と第一底面１１５、および第一出光面１１４と第一底面１１５との間に位置する第一入光面１１３を有し、第一発光ユニット１１１が第一導光板１１２の第一入光面１１３の近傍に位置する。
第二面光源アセンブリー１２０は第一面光源アセンブリー１１０の上方に位置し、かつ第二発光ユニット１２１および第二導光板１２２を含み、第二導光板１２２は対向する第二出光面１２４と第二底面１２５、および第二出光面１２４と第二底面１２５との間に位置する第二入光面１２３を有し、第二発光ユニット１２１は第二導光板１２２の第二入光面１２３の近傍に位置する。
第一光学シート１３０は第二面光源アセンブリー１２０の上方に位置し、かつ第一方向（例えば、Ｘ軸方向）に配列された複数のプリズムピラー１３１を含み、プリズムピラー１３１の先端１３２が第二面光源アセンブリー１２０に向っている。本実施例において、プリズムピラー１３１の軸延伸方向が第二方向（例えば、Ｚ軸方向）へ延伸し、かつ第一方向が第二方向に垂直である。光フィルター素子１４０は第一面光源アセンブリー１１０と第二面光源アセンブリー１２０との間に位置し、かつ光フィルター素子１４０は所定の入射角度範囲内の入射光線を透過させる。
第一発光ユニット１１１は光線を提供し、この光線が第一入光面１１３から第一導光板１１２内に進入し、第一導光板１１２は光線を変換して、第一導光板１１２の第一出光面１１４から出射する第一面光源にする。第二発光ユニット１２１は光線を提供し、この光線が第二入光面１２３から第二導光板１２２内に進入し、第二導光板１２２は光線を変換して、第二導光板１２２の第二出光面１２４から出射する第二面光源にする。
第一発光ユニット１１１と第二発光ユニット１２１は、例えば、いずれも基板（図示せず）および基板上に配置された複数の発光素子（図示せず）、例えば発光ダイオードを含むが、これに限定されない。本発明は、第一発光ユニット１１１および第二発光ユニット１２１の種類について限定しない。また、第一導光板１１２の第一底面１１５および第二導光板１２２の第二底面１２５において、光線が第一出光面１１４および第二出光面１２４から出射される際の光の型を調整するための微構造（図示せず）を設けることができる。上記微構造は網点、溝などであってもよいが、これに限定されない。
第一光学シート１３０は、例えば、逆プリズムシートまたは逆プリズムシート構造を有する複合式光学シートであり、入射角度の異なる光線が第一光学シート１３０から出射させる際に異なる出射角度になるようにできる。プリズムピラー１３１の第一表面１３３から入射される光線を例にすると、入射角度が比較的に大きい場合、光線が第二表面１３４まで屈折され、かつ第二表面１３４に反射された後、比較的に小さい出射角度で第一光学シート１３０の出光側１３５から出射される。入射角度が比較的に小さい場合、光線が屈折された後そのまま比較的に大きい出射角度で第一光学シート１３０の出光側１３５から出射される。また、各プリズムピラー１３１の軸延伸方向が、例えばＺ軸方向と平行である。各プリズムピラー１３１の先端１３２に面取り処理、例えば丸面取りが施してもよい。
具体的に言うと、第一発光ユニット１１１がオンの時、光線Ｌ１は主に比較的に小さい入射角度で第一光学シート１３０のプリズムピラー１３１の第一表面１３３および第二表面１３４に入射されるため、比較的に大きい出射角度で第一光学シート１３０の出光側１３５から出射される。第二発光ユニット１２１がオンの時、光線Ｌ２は主に比較的に大きい入射角度で図１の第一光学シート１３０のプリズムピラー１３１の第一表面１３３および第二表面１３４に入射されるため、比較的に小さい出射角度で第一光学シート１３０の出光側１３５から出射される。第一発光ユニット１１１と第二発光ユニット１２１が共にオンの時、出射角度が比較的に大きい光線Ｌ１と出射角度が比較的に小さい光線Ｌ２は第一光学シート１３０の出光側１３５から出射され、重なった後、広視角面光源を形成することができる。従って、第一発光ユニット１１１と第二発光ユニット１２１が共にオンの時、広視角モードと定義することができる。一方、第一発光ユニット１１１がオフで、第二発光ユニット１２１がオンの時、出射角度が比較的に小さい光線Ｌ２が第一光学シート１３０の出光側１３５から出射された後、狭視角面光源が形成される。従って、第二発光ユニット１２１がオンで、かつ第一発光ユニット１１１がオフの時、狭視角モードと定義することができる。つまり、図１に記載のバックライトモジュールは、視野角を切り替えることが可能なバックライトモジュールに該当する。
以上より、光フィルター素子１４０として、本発明の光吸収異方性フィルム１を用いることで、正面輝度が高く、視野角切り替え可能なバックライトモジュールとなることを確認した。
【符号の説明】
【0263】
１００ バックライトモジュール
１１０ 第一面源アセンブリー
１１１ 第一発光ユニット
１１２ 第一導光板
１１３ 第一入射面
１１４ 第一出射面
１１５ 第一底面
１２０ 第二面源アセンブリー
１２１ 第二発光ユニット
１２２ 第二導光板
１２３ 第二入射面
１２４ 第二出射面
１２５ 第二底面
１３０ 第一光学シート
１３１ プリズムピラー
１３２ 先端
１３３ 第一表面
１３４ 第二表面
１３５ 出向側
１４０ 光フィルター素子（光吸収異方性フイルム）
１５１、１５３ 拡散シート
１５２ プリズムシート
１１０ 第一面源アセンブリー
１１１ 第一発光ユニット
１１２ 第一導光板
１１３ 第一入射面
１１４ 第一出射面
１１５ 第一底面
１２０ 第二面源アセンブリー
１２１ 第二発光ユニット
１２２ 第二導光板
１２３ 第二入射面
１２４ 第二出射面
１２５ 第二底面
１３０ 第一光学シート
１３１ プリズムピラー
１３２ 先端
１３３ 第一表面
１３４ 第二表面
１３５ 出向側
１４０ 光フィルター素子（光吸収異方性フイルム）
１５１、１５３ 拡散シート
１５２ プリズムシート
【図1】