特開 2024-48392 リソグラフィシステムのマスクを認定するための方法および装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2024048392

(43)【公開日】2024-04-08

(54)【発明の名称】リソグラフィシステムのマスクを認定するための方法および装置

(51)【国際特許分類】

   G03F 1/22 20120101AFI20240401BHJP

   G03F 1/84 20120101ALI20240401BHJP

【ＦＩ】

G03F1/22

G03F1/84

【審査請求】有

【請求項の数】10

【出願形態】ＯＬ

【外国語出願】

(21)【出願番号】P 2023164254

(22)【出願日】2023-09-27

(31)【優先権主張番号】10 2022 124 800.3

(32)【優先日】2022-09-27

(33)【優先権主張国・地域又は機関】DE

(71)【出願人】

【識別番号】503263355

【氏名又は名称】カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー

(74)【代理人】

【識別番号】100094569

【弁理士】

【氏名又は名称】田中 伸一郎

(74)【代理人】

【識別番号】100109070

【弁理士】

【氏名又は名称】須田 洋之

(74)【代理人】

【識別番号】100067013

【弁理士】

【氏名又は名称】大塚 文昭

(74)【代理人】

【識別番号】100120525

【弁理士】

【氏名又は名称】近藤 直樹

(74)【代理人】

【識別番号】100139712

【弁理士】

【氏名又は名称】那須 威夫

(74)【代理人】

【識別番号】100141553

【弁理士】

【氏名又は名称】鈴木 信彦

(74)【代理人】

【識別番号】100196612

【弁理士】

【氏名又は名称】鎌田 慎也

(72)【発明者】

【氏名】アサド ラソール

(72)【発明者】

【氏名】キャロラ ブレイジング－バンガート

(72)【発明者】

【氏名】シュテフェン ヴァイセンベルク

【テーマコード（参考）】

2H195

【Ｆターム（参考）】

2H195BA10

2H195BD03

2H195CA12

(57)【要約】      （修正有）

【課題】リソグラフィシステムのマスクを認定するための方法および装置を提供する。
【解決手段】マスクを認定するための方法であって、第１１の検出(101)が順次行われ、第１の検出(101)と、複数の測定点(22)から複数の基準測定点(24)を決定することであって、基準測定点(24)として決定された測定点(22)における第１の検出(101)からある時間的距離の位置で、それぞれの場合に基準測定点(24)におけるマスクの少なくとも１つの限界寸法(20)の第２の検出(103)と、基準測定点(24)の各々における第１および第２の検出された限界寸法(20)間における偏差を決定することと、決定された偏差に応じて、測定時間期間にわたる補正率の時間的プロファイルを決定することと、補正率の決定された時間的プロファイルを少なくとも１つの限界寸法(20)に適用することとを含む。
【選択図】図３

【特許請求の範囲】

【請求項1】

リソグラフィシステム（１）のためのマスク（１３）を認定するための方法（１００）であって、前記マスク（１３）は、各測定点（２２）における前記マスク（１３）の１つまたは複数の限界寸法（２０）を検出するための複数の事前に定義された測定点（２２）を有し、前記方法（１００）は、
－ 前記測定点（２２）における前記マスク（１３）の少なくとも１つの限界寸法（２０）の第１の検出（１０１）であって、前記第１の検出（１０１）が順次行われ、前記第１の検出（１０１）の持続時間が測定時間期間を定義する、第１の検出（１０１）と、
－ 前記複数の測定点（２２）から複数の基準測定点（２４）を決定すること（１０２）であって、基準測定点（２４）の数は測定点（２２）の数より少ない、決定すること（１０２）と、
－ 基準測定点（２４）として決定された前記測定点（２２）における前記第１の検出（１０１）からある時間的距離の位置で、それぞれの場合に前記基準測定点（２４）における前記マスク（１３）の前記少なくとも１つの限界寸法（２０）の第２の検出（１０３）と、
－ 前記基準測定点（２４）の各々における前記第１および前記第２の検出された限界寸法（２０）間における偏差（２１）を決定すること（１０４）と、
－ 前記決定された偏差（２１）に応じて、前記測定時間期間にわたる補正率の時間的プロファイルを決定すること（１０５）と、
－ 前記マスク（１３）の補正された限界寸法を得るために、前記補正率の前記決定された時間的プロファイルを前記少なくとも１つの限界寸法（２０）に適用すること（１０６）と
を含む、方法（１００）。

【請求項2】

前記複数の基準測定点（２４）を決定すること（１０２）は、前記測定時間期間内の前記測定点（２２）の測定時間の時間的分布に依存し、好ましくは、前記基準測定点（２４）が、前記測定時間期間内で時間的に均一に分布している測定時間を有する、請求項１に記載の方法（１００）。

【請求項3】

前記補正率の時間的プロファイルを決定すること（１０５）は、前記基準測定点（２４）についてそれぞれ決定された前記偏差（２１）を通る基準曲線を決定することを含む、請求項１および２のいずれか１項に記載の方法（１００）。

【請求項4】

－ 前記第２の検出（１０３）からのある時間的距離の位置において前記基準測定点（２４）の少なくとも一部での前記マスク（１３）の前記少なくとも１つの限界寸法（２０）の第３の検出（３０３）であって、前記偏差（２１）を決定すること（１０４）は、前記第３の検出された限界寸法（２０）にさらに依存している、第３の検出（３０３）
をさらに含む、請求項１～３のいずれか１項に記載の方法（１００）。

【請求項5】

前記マスク（１３）が少なくとも５００の測定点（２２）、好ましくは少なくとも７００の測定点（２２）を有する、請求項１～４のいずれか１項に記載の方法（１００）。

【請求項6】

前記複数の基準測定点（２４）が、前記測定点（２２）の最大１０％、好ましくは最大５％を含む、請求項１～５のいずれか１項に記載の方法（１００）。

【請求項7】

前記第１の検出（１０１）、前記第２の検出（１０３）および／または前記第３の検出（３０３）が、それぞれの場合に、平均値を形成するために、前記少なくとも１つの限界寸法の多重検出を含む、請求項１～６のいずれか１項に記載の方法（１００）。

【請求項8】

前記測定点（２２）が、前記マスク（１３）の前記認定のために必要とされる前記マスク（１３）の全ての限界寸法が検出可能であるように事前に定義される、請求項１～７のいずれか１項に記載の方法（１００）。

【請求項9】

－ 基準測定点（２４）において決定された前記偏差（２１）が事前に定義された閾値を上回っている場合、信号を出力すること（４０１）
をさらに含む、請求項１～８のいずれか１項に記載の方法（１００）。

【請求項10】

リソグラフィシステム（１）のためのマスク（１３）を認定するための装置（３０）であって、前記マスク（１３）が、各測定点（２２）における前記マスク（１３）の１つまたは複数の限界寸法（２０）を検出するための複数の事前に定義された測定点（２２）を有し、前記装置（３０）が、マスク保持部（３２）と、撮像ユニット（３６）と、処理ユニット（３４）と、評価ユニット（３８）とを備え、前記評価ユニット（３８）が、前記マスク保持部（３２）、前記撮像ユニット（３６）および前記処理ユニット（３４）によって、請求項１～９のいずれかに記載の方法（１００）を実行するように構成されている、装置（３０）。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、リソグラフィシステムのマスクを認定（ｑｕａｌｉｆｙ）するための方法、さらに装置に関する。

【背景技術】

【0002】

マイクロリソグラフィのリソグラフィシステムは、例えば、特に小さい構造を有する、集積回路などの微細構造の部品の作製において使用される。リソグラフィシステムでは、照明装置によって非常に短い波長を有する遠紫外線または極紫外線（ＤＵＶまたはＥＵＶ放射）で照明されたマスク（「レチクル」とも呼ばれる）の像が、マスク構造をリソグラフィ対象物に転写するために、投影装置によってリソグラフィ対象物上に結像（ｉｍａｇｅ）される。

【0003】

高結像品質を達成するために、マスク構造は、既に高い精度を有していなければならない。マスクがそれらの精度要件を満たし、それによって生成されたリソグラフィ対象物も所望の特性および機能を有することを確実にするために、マスクは、リソグラフィシステムでの使用前に実際に望まれる構造からの偏差について、認定方法によってチェックされる。この認定が可能な限り高い正確性を有するために、可能な限り大きい数の測定点において、例えば干渉計による方法によってマスク構造を試験する必要がある。さらに、このマスク構造は、測定パスにおいて確認された結果間の偏差を決定可能にするため、したがってそのために使用された装置による試験の、例えば試験中に発生するドリフト（例えば、温度ドリフトまたはダンパードリフト）を原因とする何らかの影響を適切な修正によって考慮に入れ得るようにするために、数回連続して試験される。そのため、そのような認定方法は、大幅な時間消費に関連する。

【発明の概要】

【0004】

したがって、本発明の目的は、上記で言及した問題の背景に対して、時間の少ない消費で実行される可能な限り正確なリソグラフィシステムのマスクの認定を可能にする改良方法および改良装置を提供することである。

【0005】

本発明による解決策は、独立請求項の特徴に存する。独立請求項は、有益な発展に関する。

【0006】

本発明は、リソグラフィシステムのためのマスクを認定するための方法であって、マスクは、各測定点におけるマスクの１つまたは複数の限界寸法を検出するための複数の事前に定義された測定点(predefined measurement points)を有し、方法は、
－ 測定点におけるマスクの少なくとも１つの限界寸法の第１の検出であって、第１の検出が順次行われ、第１の検出の持続時間(duration)が測定時間期間(measurement time period)を定義する、第１の検出と、
－ 複数の測定点から複数の基準測定点を決定することであって、基準測定点の数は測定点の数より少ない、決定することと、
－ 基準測定点として決定された測定点における第１の検出からある時間的距離の位置で、それぞれの場合に基準測定点におけるマスクの少なくとも１つの限界寸法の第２の検出と、
－ 基準測定点の各々における第１および第２の検出された限界寸法間における偏差(deviation)を決定することと、
－ 決定された偏差に応じて、測定時間期間にわたる補正率(correction factor)の時間的プロファイルを決定することと、
－ マスクの補正された限界寸法を得るために、補正率の決定された時間的プロファイルを少なくとも１つの限界寸法に適用することと
を含む、方法を開示する。

【0007】

最初に、本発明と関連して使用されるいくつかの語を以下に説明する。

【0008】

「限界寸法(critical dimension)」は、例えば個別の線の最小線幅、互いに近接した線の最小線幅、および円形エリアの最小サイズなど、マスクの構造の重要な特徴(critical feature)の寸法を指す。限界寸法の均一性は、リソグラフィプロセスの結像品質に、したがってリソグラフィ対象物に転写される構造の品質に、大きな影響を及ぼす。限界寸法は、例えば干渉計による方法によって検出可能である。限界寸法は、例えば、単位［ｎｍ］を有する値として表されることが可能である。

【0009】

「測定点(measurement point)」は、検出対象の少なくとも１つの限界寸法が確認可能であるマスクのそのような領域を意味すると理解されるべきである。個別の線の最小線幅が、例えば検出対象であることが意図される場合、測定点は、線幅全体を網羅するような少なくとも範囲を有することが可能である。したがって、互いに近接した線の最小線幅を検出するための測定点はまた、２本の線間の中間領域をさらに網羅することができる。

【0010】

特に、「少なくとも１つの限界寸法の検出」はまた、複数の限界寸法の検出を含み得る。それぞれの場合に、検出対象の限界寸法は、例えば事前に定義された測定点の構成および適合性に依存し得る。例えば、測定点が、マスクの認定のために必要とされるマスクの全ての限界寸法が検出可能であるように事前に定義され得る。

【0011】

本発明による方法は、例えば、ＥＵＶリソグラフィシステムのためのマスクのための位置合わせ方法の一部である。

【0012】

本発明は、補正された限界寸法を得るために、マスクの少なくとも１つの限界寸法についての補正率の時間的プロファイルを考慮に入れる、リソグラフィシステムのマスクを認定するための有益な方法を含む。補正率を決定するために、それぞれの場合に、考慮される限界寸法は、それぞれの場合に、第１の時にマスクの全ての測定点において、その後、第２の時に測定点のサブセットを構成する選択された基準測定点のみにおいて順次検出される。それによって検出された限界寸法に基づいて、それらの基準測定点について、第１および第２の検出された限界寸法間の偏差が決定可能であり、第１の検出の測定時間期間にわたる補正率の時間的プロファイルは、そこから確認可能であり、それぞれの場合に、考慮される限界寸法に適用可能である。本発明による方法において、偏差を決定するために必要とされるさらなる検出プロセスにおいて測定点のいくつかのみが考慮される必要があるという事実のおかげで、第２の検出のために必要とされる時間分は、大幅に短くなり得る。その結果、その認定方法のために全体として必要な時間は大幅に減少させることができる。

【0013】

一実施形態において、複数の基準測定点を決定することは、測定時間期間内の測定点の測定時間の時間的分布に依存している。好ましくは、基準測定点として決定される測定点の測定時間(measurement times)は、測定時間期間内で時間的に均一に分布しているように、互いに同一な時間的距離にある。これは、複数の測定点にわたって均一に分布するようにして第１および第２の検出された限界寸法間の偏差を決定可能にし、それによって補正率の時間的プロファイルを特に正確に決定可能にする。

【0014】

好ましくは、補正率の時間的プロファイルを決定することは、基準測定点についてそれぞれ決定された偏差を通る基準曲線を決定することを含む。このように、基準測定点として決定されていない測定点についても、考慮されている限界寸法の偏差が十分に正確に推定可能であり、これは、補正率の時間的プロファイルをより高い精度をもって決定可能にする。

【0015】

一例として、上記方法は、第２の検出からのある時間的距離の位置において基準測定点の少なくとも一部でのマスクの少なくとも１つの限界寸法の第３の検出であって、偏差を決定することは、さらに検出された限界寸法にさらに依存している、第３の検出をさらに含む。一例として、平均値は、第２の検出および第３の検出中に確認された、それぞれ検出された限界寸法の値から形成され、第１の検出された限界寸法と第２および第３の検出された限界寸法の平均値との間の偏差が決定される。第３の検出によって、さらに偏差を決定する際の第３の検出された限界寸法を考慮に入れることによって、補正率の時間的プロファイルがさらに正確に決定可能である。

【0016】

有益なことに、マスクは、少なくとも５００の測定点、好ましくは少なくとも７００の測定点を有する。代替的または追加的に、複数の基準測定点が、測定点の最大１０％、好ましくは最大５％を含む。これらの数の測定点および基準測定点を用いて、方法は、十分に正確にリソグラフィシステムのマスクを認定するための特に効率的な可能性をなす。

【0017】

特に、第１の検出、第２の検出および／または第３の検出が、それぞれの場合に、少なくとも１つの限界寸法の多重検出(multiple detection)を含むことができる。それぞれの場合に検出される限界寸法は、それぞれの場合に多重検出された限界寸法にわたる平均化によって、ここで得られ得る。

【0018】

一実施形態によれば、方法は、基準測定点において決定された偏差が事前に定義された閾値を上回っている場合、信号を出力することをさらに含む。一例として、依然として許容可能な偏差についての閾値が、限界寸法、好ましくは、それぞれの場合に、全ての検出可能な限界寸法について事前に定義される。それぞれの場合に、１つの基準測定点について、または最小個数の基準測定点について、考慮される限界寸法の偏差を決定することが、事前に定義された閾値を上回る値を生じさせた場合、信号が適切なユーザインターフェースにて出力され得る。この信号は、音響信号、例えば警告音、または視覚信号、例えばディスプレイ上のメッセージであり得る。方法が実行されている間の、例えば環境条件の誤った設定など、リソグラフィシステムのマスクを認定するための方法を実行するために使用される装置の潜在的な動作不良、または装置の撮像ユニットの誤った設定は、上記のようにして信号通知されることが可能である。

【0019】

本発明は、リソグラフィシステムのためのマスクを認定するための装置であって、マスクが、各測定点におけるマスクの１つまたは複数の限界寸法を検出するための複数の事前に定義された測定点を有し、装置が、マスク保持部(mask holder)と、撮像ユニット(image capture unit)と、処理ユニット(processing unit)と、評価ユニットとを備え、評価ユニットが、マスク保持部、撮像ユニットおよび処理ユニットによって、本発明による上記方法を実行するように構成されている、装置をさらに開示する。

【0020】

本発明による装置は、例えば、ＥＵＶリソグラフィシステムのためのマスクを位置合わせするための、対応して構成されているマスク計測装置である。

【0021】

本装置のさらなる有益な発展のより詳細な説明のために、上述した方法の発展について言及する。同様に、方法は、装置と関連して説明されたさらなる特徴によって発展可能である。

【0022】

上述した実施形態および構成は、一例に過ぎないとして理解されるべきであり、本発明を限定することは決して意図されない。

【0023】

本発明は、添付図面を参照して、有益な実施形態に基づいて一例として以下でさらに詳細に説明される。

【図面の簡単な説明】

【0024】

【図1】リソグラフィシステムの例示的な一実施形態の概略図を示す。

【図2】例示的な一実施形態による本発明による方法の概略的なフロー図を示す。

【図3】例示的な一実施形態による、複数の測定点および基準測定点においてそれぞれの場合に検出される限界寸法の図を示す。

【図4】例示的な一実施形態による、複数の基準測定点について決定された限界寸法の偏差の図を示す。

【図5】例示的な一実施形態により決定された限界寸法の偏差の空間的分布の図を示す。

【図6】例示的な一実施形態による本発明による装置の概略図を示す。

【発明を実施するための形態】

【0025】

図１は、リソグラフィシステムの例示的な一実施形態として、ＥＵＶリソグラフィシステム１を概略的に示す。ＥＵＶリソグラフィシステム１は、照明装置１０と、投影装置１１とを備える。対象物場内の物体平面１２において配置されたマスク１３が、照明装置１０を用いて照明される。

【0026】

照明装置１０は、ＥＵＶ範囲、すなわち、特に５ｎｍ～１００ｎｍの波長を有する電磁放射を射出する照明放射源１４を備える。照明放射源１４から発せられた照明放射は、最初に、集光装置１５によって中間焦点面１６内に集束される。

【0027】

照明装置１０は、偏向ミラー１７を備えており、偏向ミラー１７によって、照明放射源１４によって射出された照明放射が第１のファセットミラー１８上に偏向される。第２のファセットミラー１９は、第１のファセットミラー１８の下流に配設される。第１のファセットミラー１８および第２のファセットミラー１９は各々が、それぞれの場合に、互いに垂直に延びる２本の軸を中心として個別にピボット回転可能である複数のマイクロミラーを備える。第１のファセットミラー１８の個別のファセットは、第２のファセットミラー１９を用いてマスク１３内に結像される。

【0028】

投影装置１１を用いて、マスク１３は、複数のミラー８を介して、像面９に配置されたウェハの感光層上に結像される。照明放射が反射されるＥＵＶリソグラフィシステム１の様々なミラーは、ＥＵＶミラーとして具現化される。ＥＵＶミラーは、高反射性のコーティング、例えば多層コーティングの形態、特に、モリブデンおよびケイ素の層を交互に有する多層コーティングの形態で設けられる。本発明による方法は、マスク１３の品質がリソグラフィシステム１で使用されるのに十分であるかどうかを確認するために、そのようなマスク１３の認定に関する。

【0029】

図２は、リソグラフィシステム１のためのマスク１３を認定するための本発明による方法１００の例示的な一実施形態の概略的なフロー図を示す。マスク１３は、マスク１３の各測定点２２における１つまたは複数の限界寸法２０を検出するための複数の事前に定義された測定点２２を有する。

【0030】

ステップ１０１は、測定点２２におけるマスク１３の少なくとも１つの限界寸法２０の第１の検出を実行することを含む。これは、干渉計による方法によって順次行われる。第１の検出１０１の持続時間は、測定時間期間を定義する。

【0031】

図３において、ステップ１０１における測定点２２についてのそれぞれの場合に検出される限界寸法２０は、４７．６ｎｍ～４８．４ｎｍの値でプロットされる。測定点２２の数は７８６である。第１の検出１０１の持続時間は、７時間である。

【0032】

ステップ１０２において、複数の基準測定点２４は、複数の測定点２２のうちから決定される。この場合、基準測定点２４の数は測定点２２の数よりも少なく、本実施例では３０であり、したがって測定点２２の数の５％未満である。複数の測定点２２のうちから決定された基準測定点２４が、図３に同様に示される。

【0033】

本実施例において、決定するステップ１０２は、測定時間期間内の測定点２２の測定時間の時間的分布に依存している。このように、基準測定点２４は、第１の検出１０１の持続時間内のそれぞれの測定時間を考慮に入れることによって、測定点２２のうちから決定することができる。説明した実施例では、基準測定点２４として決定される測定点２２の測定時間が互いに同一な時間的距離にあり、したがって、測定時間期間内で時間的に均一に分布しているように、基準測定点２４が決定される。

【0034】

基準測定点２４において、マスク１３の少なくとも１つの限界寸法２０の第２の検出１０３は、それぞれの場合に、基準測定点２４として決定された測定点２２における第１の検出１０１からのある時間的距離の位置において行われる。これらの第２の検出された限界寸法２０の値はまた、図３の個別の基準測定点２４についてプロットされる。第２の検出１０３の持続時間は、２０分間であり、したがって、第１の検出１０１の持続時間よりも大幅に短い。

【0035】

ステップ１０４は、基準測定点２４の各々における第１および第２の検出された限界寸法２０間における偏差２１を決定することを含む。このため、基準測定点２４として決定された各測定点２２について、その測定点２２において、ステップ１０１で以前に検出された限界寸法２０の値からの第２の検出された限界寸法２０の値の偏差２１が決定される。図示されている実施例では、偏差２１は、基準測定点２４として決定された測定点２２において検出された第１の限界寸法２０の値を、この基準測定点２４で検出された第２の限界寸法２０の値から差し引くことによって決定される。

【0036】

したがって、第１および第２の検出された限界寸法２０間の決定された偏差２１が図４に示されており、ステップ１０４で決定された、第１および第２の検出された限界寸法２０間の偏差２１の値は、それぞれの場合に、（複数の測定点２２のうちの）基準測定点２４についてプロットされる。本実施例では、図示されている偏差２１は、－０．０３ｎｍ～０．１５ｎｍの範囲からの値を想定している。

【0037】

ステップ１０５は、第１および第２の検出された限界寸法２０間の、ステップ１０４で決定された偏差２１に依存する測定時間期間にわたる補正率の時間プロファイルを決定することを含む。

【0038】

提示されている実施例では、補正率の時間的プロファイルを決定するステップ１０５は、それぞれの場合に考慮される限界寸法２０の、基準測定点２４について決定された偏差２１を通る基準曲線を決定することを含む。基準曲線を決定するために、ｎ次数多項式によってステップ１０４で基準測定点２４について決定された偏差２１上を通る曲線が提供され得る。

【0039】

測定点２２における第１の検出１０１は、第１の検出１０１の持続時間、本実施例では７時間によって定義される測定時間期間において順次実行されているので、偏差２１の時間的プロファイルは、基準測定点２４において決定された偏差２１のプロファイルから確認可能である。その後、この時間プロファイルにおいて決定された偏差２１における変化に基づいて、補正率の時間的プロファイルを決定することが可能である。

【0040】

説明した実施例において、マスク１３の考慮された限界寸法２０についての補正率およびその時間的プロファイルがリソグラフィシステム１で使用されるマスク１３の位置合わせのための方法で考慮に入れられるようにして、ステップ１０６において、補正率の決定された時間的プロファイルが少なくとも１つの限界寸法２０に適用される。したがって、マスク１３の位置合わせは、上記のように補正されたマスク１３の限界寸法に応じて行われ得る。

【0041】

さらに、方法１００は、さらなるステップ３０３として、基準測定点２４または基準測定点２４のうちの少なくともいくつかにおけるマスク１３の少なくとも１つの限界寸法２０の第３の検出をさらに含み得、第３の検出は、第２の検出１０３からのある時間的距離の位置で行われる。したがって、少なくとも１つの限界寸法２０の偏差２１を決定するステップ１０４は、ステップ３０３において追加で検出された少なくとも１つの限界寸法２０に応じたやり方で追加で行われ得る。

【0042】

ステップ１０３で検出された限界寸法と同様に、基準測定点２４として決定された各測定点２２におけるステップ３０３で追加検出された限界寸法についても、この測定点２２で検出された（ステップ１０１）第１の限界寸法２０と第３の検出された（ステップ３０３）限界寸法２０との間の偏差２１を決定可能である。これらの追加で決定された偏差２１は、基準測定点２４にわたるプロファイル３０４として図４に同様に図示されている。

【0043】

基準測定点２４の各々においてそれぞれ決定された少なくとも１つの限界寸法２０の偏差２１を考慮に入れて、平均化が実行可能であり、それぞれの場合に考慮された限界寸法２０の平均化された偏差２１が基準測定点２４の各々について決定可能である。基準測定点２４にわたるそのような平均化された偏差２１のプロファイル３０６も図４に示されている。それに応じて、補正率の時間的プロファイルを決定するステップ１０５は、上記のようにして決定された平均化偏差２１に応じて実行可能である。

【0044】

方法１００は、基準測定点２４について決定された偏差２１が事前に定義された閾値を上回っている場合、信号を出力するステップ４０１をさらに提供する。この場合、利用可能なユーザインターフェースに応じて、警告音が出力され、および／または対応する警告メッセージが表示される。

【0045】

図５は、それぞれの場合にｘ方向およびｙ方向に１４０ｍｍだけ延在するマスク１３のエリアにわたる空間分布において事前に定義された閾値を上回る第１および第２の検出された限界寸法２０間の、例示的な一実施形態により決定された偏差２１の図を示す。ｘ軸およびｙ軸は、マスク１３のエリア上の測定点２２および基準測定点２４のそれぞれの座標を示す。黒で強調された領域において、それぞれの場合に決定された偏差２１は、閾値を上回っている。

【0046】

測定点２２における限界寸法２０の第１の検出１０１は、線ごとに行われ、左下から右上まで進む。左下におけるマスク１３の領域において、基準測定点２４のより大きい領域が存在し、その場合、マスク１３のエリアのさらなる領域と比較すると、決定された偏差２１は、閾値を上回っている。偏差２１が検出１０１の終了に向かうよりも検出１０１の開始時の方が大きく、これは時間的プロファイルにおける偏差２１の減少によって反映されることが導出可能である。したがって、ステップ１０５において、補正率およびその時間的プロファイルはまた、決定され、リソグラフィプロセスの持続時間の増加に伴ってその影響が減少するようにして、考慮される限界寸法２０に適用される。

【0047】

図６は、リソグラフィシステム１のためのマスク１３を認定するための装置３０を示しており、マスク１３は、各測定点２２におけるマスク１３の１つまたは複数の限界寸法２０を検出するための複数の事前に定義された測定点２２を有する。装置３０は、マスク保持部３２と、処理ユニット３４と、撮像ユニット３６と、評価ユニット３８とを備えており、評価ユニット３８は、マスク保持部３２、処理ユニット３４および撮像ユニット３６に動作接続されている。評価ユニット３８は、マスク保持部３２、撮像ユニット３６および処理ユニット３４によって、上記で説明した方法１００を実行するように構成されている。

【0048】

この場合、マスク保持部３２は、撮像ユニット３６が測定点２２においてマスク保持部３２によって保持されたマスク１３の少なくとも１つの限界寸法２０の第１の検出１０１を実行できるように制御される。その後、撮像ユニット３６は、そのような第１の検出１０１を実行し、第１の検出１０１は順次行われ、第１の検出１０１の持続時間は、測定時間期間を定義する。

【0049】

さらに、処理ユニット３４は、複数の測定点２２から複数の基準測定点２４を決定し（ステップ１０２）、基準測定点２４の数は測定点２２の数より少ない。

【0050】

続いて、撮像ユニット３６は、基準測定点２４として決定された測定点２２における第１の検出１０１からある時間的距離の位置で、それぞれの場合に基準測定点２４においてマスク１３の少なくとも１つの限界寸法２０の第２の検出１０３を実行し、その目的のため、マスク１３は、マスク保持部３２によってそれに応じたように位置付けられる。

【0051】

処理ユニット３４は、基準測定点２４の各々における第１および第２の検出された限界寸法２０間の偏差２１を決定し（ステップ１０４）、決定された偏差２１に応じて、測定時間期間にわたる補正率の時間的プロファイルを決定する（ステップ１０５）。その後、評価ユニット３８は、処理ユニット３４によってマスク１３の補正された限界寸法を得るために、補正率の決定された時間的プロファイルを少なくとも１つの限界寸法２０に適用するステップ１０６を実行する。

【0052】

本明細書に記載の本発明の実施形態、ならびにそれに関連してそれぞれ言及された任意選択的な特徴および特性はまた、相互の全組合せにおいて開示されているとして理解されるべきである。特に、本件において、実施形態に含まれる特徴の記載も、逆に明確に説明されていない限り、その特徴がその実施形態の機能のために必須または不可欠であるように理解されるべきではない。

【符号の説明】

【0053】

１ リソグラフィシステム
１０ 照明装置
１３ マスク
１４ 照明放射源
１５ 集光装置
１６ 中間焦点面
２０ 限界寸法
２１ 偏差
２２ 測定点
２４ 基準測定点
３０ 装置
３２ マスク保持部
３４ 処理ユニット
３６ 撮像ユニット
３８ 評価ユニット

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【手続補正書】

【提出日】2023-12-27

【手続補正1】

【補正対象書類名】特許請求の範囲

【補正対象項目名】全文

【補正方法】変更

【補正の内容】

【特許請求の範囲】

【請求項1】

リソグラフィシステム（１）のためのマスク（１３）を認定するための方法（１００）であって、前記マスク（１３）は、各測定点（２２）における前記マスク（１３）の１つまたは複数の限界寸法（２０）を検出するための複数の事前に定義された測定点（２２）を有し、前記方法（１００）は、
－ 前記測定点（２２）における前記マスク（１３）の少なくとも１つの限界寸法（２０）の第１の検出（１０１）であって、前記第１の検出（１０１）が順次行われ、前記第１の検出（１０１）の持続時間が測定時間期間を定義する、第１の検出（１０１）と、
－ 前記複数の測定点（２２）から複数の基準測定点（２４）を決定すること（１０２）であって、基準測定点（２４）の数は測定点（２２）の数より少ない、決定すること（１０２）と、
－ 基準測定点（２４）として決定された前記測定点（２２）における前記第１の検出（１０１）からある時間的距離の位置で、それぞれの場合に前記基準測定点（２４）における前記マスク（１３）の前記少なくとも１つの限界寸法（２０）の第２の検出（１０３）と、
－ 前記基準測定点（２４）の各々における前記第１および前記第２の検出された限界寸法（２０）間における偏差（２１）を決定すること（１０４）と、
－ 前記決定された偏差（２１）に応じて、前記測定時間期間にわたる補正率の時間的プロファイルを決定すること（１０５）と、
－ 前記マスク（１３）の補正された限界寸法を得るために、前記補正率の前記決定された時間的プロファイルを前記少なくとも１つの限界寸法（２０）に適用すること（１０６）と
を含む、方法（１００）。

【請求項2】

前記複数の基準測定点（２４）を決定すること（１０２）は、前記測定時間期間内の前記測定点（２２）の測定時間の時間的分布に依存し、好ましくは、前記基準測定点（２４）が、前記測定時間期間内で時間的に均一に分布している測定時間を有する、請求項１に記載の方法（１００）。

【請求項3】

前記補正率の時間的プロファイルを決定すること（１０５）は、前記基準測定点（２４）についてそれぞれ決定された前記偏差（２１）を通る基準曲線を決定することを含む、請求項１または請求項２に記載の方法（１００）。

【請求項4】

－ 前記第２の検出（１０３）からのある時間的距離の位置において前記基準測定点（２４）の少なくとも一部での前記マスク（１３）の前記少なくとも１つの限界寸法（２０）の第３の検出（３０３）であって、前記偏差（２１）を決定すること（１０４）は、前記第３の検出された限界寸法（２０）にさらに依存している、第３の検出（３０３）
をさらに含む、請求項１または請求項２に記載の方法（１００）。

【請求項5】

前記マスク（１３）が少なくとも５００の測定点（２２）、好ましくは少なくとも７００の測定点（２２）を有する、請求項１または請求項２に記載の方法（１００）。

【請求項6】

前記複数の基準測定点（２４）が、前記測定点（２２）の最大１０％、好ましくは最大５％を含む、請求項１または請求項２に記載の方法（１００）。

【請求項7】

前記第１の検出（１０１）、前記第２の検出（１０３）および／または前記第３の検出（３０３）が、それぞれの場合に、平均値を形成するために、前記少なくとも１つの限界寸法の多重検出を含む、請求項１または請求項２に記載の方法（１００）。

【請求項8】

前記測定点（２２）が、前記マスク（１３）の前記認定のために必要とされる前記マスク（１３）の全ての限界寸法が検出可能であるように事前に定義される、請求項１または請求項２に記載の方法（１００）。

【請求項9】

－ 基準測定点（２４）において決定された前記偏差（２１）が事前に定義された閾値を上回っている場合、信号を出力すること（４０１）
をさらに含む、請求項１または請求項２に記載の方法（１００）。

【請求項10】

リソグラフィシステム（１）のためのマスク（１３）を認定するための装置（３０）であって、前記マスク（１３）が、各測定点（２２）における前記マスク（１３）の１つまたは複数の限界寸法（２０）を検出するための複数の事前に定義された測定点（２２）を有し、前記装置（３０）が、マスク保持部（３２）と、撮像ユニット（３６）と、処理ユニット（３４）と、評価ユニット（３８）とを備え、前記評価ユニット（３８）が、前記マスク保持部（３２）、前記撮像ユニット（３６）および前記処理ユニット（３４）によって、請求項１または請求項２に記載の方法（１００）を実行するように構成されている、装置（３０）。

【外国語明細書】