特開 2024-50813 ワーク処理システム

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2024050813

(43)【公開日】2024-04-10

(54)【発明の名称】ワーク処理システム

(51)【国際特許分類】

   H01L 21/683 20060101AFI20240403BHJP

   H01L 21/301 20060101ALI20240403BHJP

   H01L 21/304 20060101ALI20240403BHJP

【ＦＩ】

H01L21/68 P

H01L21/78 P

H01L21/304 648A

H01L21/304 643A

【審査請求】有

【請求項の数】2

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2024016094

(22)【出願日】2024-02-06

(62)【分割の表示】P 2020108832の分割

【原出願日】2020-06-24

【公序良俗違反の表示】

（特許庁注：以下のものは登録商標）

１．テフロン

(71)【出願人】

【識別番号】000151494

【氏名又は名称】株式会社東京精密

(74)【代理人】

【識別番号】100083116

【弁理士】

【氏名又は名称】松浦 憲三

(74)【代理人】

【識別番号】100140992

【弁理士】

【氏名又は名称】松浦 憲政

(74)【代理人】

【識別番号】100170069

【弁理士】

【氏名又は名称】大原 一樹

(74)【代理人】

【識別番号】100128635

【弁理士】

【氏名又は名称】松村 潔

(72)【発明者】

【氏名】曽田 陽彦

(72)【発明者】

【氏名】清水 翼

(57)【要約】

【課題】スピンナ装置の回転テーブルの回転中心とワークユニットとを正確に位置決めできるワーク処理システムを提供する。
【解決手段】ワーク処理システムは、ワークを備えたワークユニットを収納するワーク収納カセットと、スピンナ装置と、ワーク収納カセットとスピンナ装置との間でワークユニットを搬送する搬送装置と、を備え、スピンナ装置は、搬送装置により搬送されたワークユニットを受け取り保持する保持面を有する回転テーブルと、回転テーブルの外周部に設けられ、搬送装置から受け渡されたワークユニットの外周部の複数位置に径方向外側から接触可能であり、回転テーブルの回転中心とワークユニットとの相対的な位置決めを行う複数の位置決め部材と、を有する。
【選択図】図６

【特許請求の範囲】

【請求項1】

ワークを備えたワークユニットを収納するワーク収納カセットと、
スピンナ装置と、
前記ワーク収納カセットと前記スピンナ装置との間で前記ワークユニットを搬送する搬送装置と、
を備え、
前記スピンナ装置は、
前記搬送装置により搬送された前記ワークユニットを受け取り保持する保持面を有する回転テーブルと、
前記回転テーブルの外周部に設けられ、前記搬送装置から受け渡された前記ワークユニットの外周部の複数位置に径方向外側から接触可能であり、前記回転テーブルの回転中心と前記ワークユニットとの相対的な位置決めを行う複数の位置決め部材と、
を有する、
ワーク処理システム。

【請求項2】

前記複数の位置決め部材は、それぞれ前記ワークユニットが接触する位置にテーパ面を有し、前記テーパ面は前記位置決め部材の先端から前記保持面に近づくにつれて前記回転テーブルの回転中心に近づくように傾斜している、
請求項１に記載のワーク処理システム。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明はワーク処理システムに関する。

【背景技術】

【0002】

ワークに対して加工を行う加工装置において、ワークを塗布装置、又は洗浄装置に搬送する機能を備える装置構成が知られている。

【0003】

例えば、特許文献１の加工装置では、ダイシングシートを介してリング状のフレームにワーク（例えばウエハ）を固定したワークユニットが収納されたカセットを準備する。カセットからワークユニットを取り出し、一対のガイドレールにより位置決めし、塗布装置、又は洗浄装置に用いられるスピンナ装置の回転テーブルの上に、ワークユニットを受け渡ししている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0004】

【特許文献1】特開２００９－２５３２２６号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0005】

ところで、回転テーブルは塗布、及び洗浄のプロセスにおいて３０００ｒｐｍ等の高速で回転する。回転テーブルとフレームの回転中心は正確に合わせる必要がある。つまり、回転の重心バランスを合わせる必要がある。

【0006】

また、塗布プロセスにおいては、ノズルをワークに正確に位置づける必要があるため、搬送に起因する回転テーブルとワークユニットとの位置ずれを最小限に抑える必要がある。

【0007】

しかしながら、ガイドレール、回転テーブルの位置は装置の組立て精度の影響を受けるため、ガイドレールだけで回転テーブルの回転中心とワークユニットとを正確に位置決めすることは難しい。

【0008】

また、一対のガイドレールによりフレームを挟持した場合でも、ガイドレールとフレームとの隙間を無くすことはできず、そのため誤差成分を含んでしまう。また、隣接した加工装置の振動の影響を受け、ガイドレールと回転テーブルとの位置関係は状況により不定となる。

【0009】

特に、加工装置に複数のスピンナ装置を搭載する場合、スピンナ装置を一対のガイドレールの下方で直線状に並べて配置する必要がある。加工装置の組み立て精度は、単一のスピンナ装置の場合と比べると要求精度が高くなる。現実には正確に直線状に複数のスピンナ装置を配置するのは困難であり、そのためスピンナ装置ごとに回転テーブルの中心ずれが生じ、回転テーブルの回転中心とワークユニットとを正確に位置決めすることが困難になる。

【0010】

本発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、スピンナ装置の回転テーブルの回転中心とワークユニットとを正確に位置決めできるワーク処理システムを提供することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0011】

上記目的を達成するために、次の発明態様を提供する。

【0012】

第一態様のワーク処理システムは、ダイシングシートを介してリング状のフレームにワークが固定されたワークユニットを収納するワーク収納カセットと、ワーク収納カセットから搬送方向に並列配置された複数のスピンナ装置と、ワーク収納カセットと複数のスピンナ装置との間でワークユニットを搬送する搬送装置と、を備えたワーク処理システムであって、搬送装置は、ワーク収納カセットから搬送方向に延びる一対のガイドレールと、一対のガイドレールに案内されつつワークユニットを搬送方向に搬送するクランプ部材と、を有し、スピンナ装置は、搬送方向に直交する昇降方向に昇降自在に構成された回転テーブルであって、搬送装置により搬送されたワークカセットを受け取り保持する保持面を有する回転テーブルと、回転テーブルの外周部に設けられた複数の位置決めピンであり、搬送装置から受け渡されたワークユニットの外周部の複数位置に径方向外側から接触可能であり、回転テーブルの回転中心とワークユニットとの相対的な位置決めを行う複数の位置決めピンと、を有する。

【0013】

第二態様のワーク処理システムにおいて、複数の位置決めピンは、それぞれワークユニットが接触する位置にテーパ面を有し、テーパ面は位置決めピンの先端から保持面に近づくにつれて回転テーブルの回転中心に近づくように傾斜している。

【0014】

第三態様のワーク処理システムにおいて、複数の位置決めピンは、回転テーブルの回転中心から径方向に等距離離れた位置に設けられる。

【0015】

第四態様のワーク処理システムにおいて、複数の位置決めピンは、回転テーブルの回転中心を中心とする周方向に均等に配置される。

【0016】

第五態様のワーク処理システムにおいて、回転テーブルの外周に、回転テーブルが回転すると回動しフレームをクランプするフレームクランパを備え、複数の位置決めピンがフレームクランパを軸支する。

【0017】

第六態様のワーク処理システムにおいて、複数の位置決めピンは、断面が一定の柱形状であり、回転テーブルにおいてワーク収納カセットの側に配置され、搬送部材がワークユニットを複数の位置決めピンに接触させる。

【発明の効果】

【0018】

本発明によれば、スピンナ装置の回転テーブルの回転中心とワークユニットとを相対的に正確に位置決めできる。

【図面の簡単な説明】

【0019】

【図1】図１はワーク処理システムを含むシステムの全体構成図である。

【図2】図２はワークユニットの平面図である。

【図3】図３はワーク処理システムの斜視図である。

【図4】図４はワーク処理システムの側面図である。

【図5】図５はワーク処理システムの上面図である。

【図6】図６は第一形態のワーク処理システムの説明図である。

【図7】図７は第二形態のワーク処理システムの説明図である。

【図8】図８は第三形態のワーク処理システムの説明図である。

【発明を実施するための形態】

【0020】

以下、添付図面に基づいて、本発明の好ましい実施形態について詳説する。本明細書では、同一の構成要素には同一の参照符号を付して、重複する説明は適宜省略する。

【0021】

〔全体構成〕
図１は実施形態に係るワーク処理システムを含むシステムの全体構成図である。図２はワークユニットの平面図である。図３はワーク処理システムの斜視図であり、図４はワーク処理システムの側面図であり、図５はワーク処理システムの上面図である。同図に示すワーク処理システム１０は、ワーク収納カセットと、並列配置された複数のスピンナ装置との間で、搬送装置によりワークユニットを搬送するシステムである。

【0022】

ワーク処理システム１０は、図１に示されるように、ワーク収納カセット２０と、スピンナ装置３０と、搬送装置５０と、を備える。実施形態においては、ワーク処理システム１０に隣接して加工ステージ８０が設けられる。なお、図１において、スピンナ装置３０と加工ステージ８０との間のワークユニットＷＵの搬送方向をＸ軸方向で示し、ワーク収納カセット２０とスピンナ装置３０との間のワークユニットＷＵの搬送方向をＹ軸方向で示し、鉛直方向をＺ軸方向で示している。Ｘ軸方向、Ｙ軸方向、及びＺ軸方向は、互いに直交する。ワークユニットＷＵは加工対象となるワークＷを備えている（図２参照）。

【0023】

加工ステージ８０は、テーブル８２と、テーブル８２の上に配置されたＸ－Ｙ駆動機構８４と、レーザ照射装置８６と、を備える。Ｘ－Ｙ駆動機構８４は、ワークユニットＷＵを載置するための載置台８８を備える。加工ステージ８０では、載置台８８に載置されたワークユニットＷＵが、Ｘ－Ｙ駆動機構８４により、レーザ照射装置８６の下方の加工位置に移動される。レーザ照射装置８６は、載置台８８にされたワークＷにレーザ光ＬＤを照射する。レーザ照射装置８６は、アブレーション等のワークＷの表面への加工、及びワークＷの内部へのレーザ加工領域の形成のいずれにも適用できる。

【0024】

ワークユニットＷＵは、ワーク処理システム１０と加工ステージ８０との間で、図示しない搬送アームによって移動される。

【0025】

図２に示されるようにワークユニットＷＵは、ワークＷと、ダイシングシートＳと、リング状のフレームＦと、を備え、ダイシングシートＳを介してリング状のフレームＦにワークＷが固定される。ワークＷは、例えば、半導体ウエハである。半導体ウエハには各種のデイバスが形成される。半導体ウエハは、各種工程を経て、分割ラインに沿って複数のチップに分割される。ワークＷは、半導体ウエハに限定されない。

【0026】

ワークＷが、例えば、（Die Attach Filmダイアタッチフィルム）と呼ばれるダイボンディング用のフィルム状接着剤Ｄが貼着されたダイシングシートＳ（ダイシングテープ、粘着テープ、又は粘着シート等とも称される）に貼り付けられる。

【0027】

ダイシングシートＳの周縁部は、剛性のあるリング状のフレームＦ（ダイシングフレーム、リングフレーム等とも称される）にマウントされる。ワークＷが、ダイシングシートＳを介してフレームＦの開口の位置に配置される。

【0028】

図２において、フレームＦは、周方向に沿って形成された４個の直線部分と、直線部分の間に形成された円弧部分とを有する。４個の直線部分の中で、対向する２つの直線部分は互いに平行であり、フレームＦの中心に対して周方向に均等に配置される。ただし、フレームＦの形状は上記形状に限定されず、適宜変更できる。

【0029】

図１及び図３に示されるように、ワークユニットＷＵを収納したワーク収納カセット２０が準備される。ワーク収納カセット２０は、図示しないカセットステージに載置される。カセットステージは、昇降機構によりＺ軸方向に昇降可能に構成される。

【0030】

図３に示されるように、ワーク収納カセット２０は、略直方体の箱形状に形成される。ワーク収納カセット２０は、上面、及び底面を除く、少なくとも一方に開口２２を有する。ワーク収納カセット２０の内部には、水平に延びる複数の溝２４が形成され、複数段の棚が形成される。各棚には、ワークユニットＷＵが１枚ずつ水平方向に格納される。ワーク収納カセット２０の開口２２を介して、ワークユニットＷＵがワーク収納カセット２０に対して取出し、及び収納される。

【0031】

図１に示されるように、複数のスピンナ装置３０が、搬送方向（Ｙ軸方向）に沿って、例えば直線状に並列配置される。スピンナ装置３０は、回転テーブル３２と、回転テーブル３２を支持するベース３４とを備える。回転テーブル３２は、上面にワークユニットＷＵを受け取り保持する保持面３２Ａを有する。保持面３２Ａは、例えば、下方から吸引することにより吸着面として機能できる。回転テーブル３２の保持面３２Ａは、ワークユニットＷＵを直接的、又は間接的に保持できる。直接的な保持は、ワークユニットＷＵが保持面３２Ａに直接保持される場合である。間接的な保持は、保持面３２Ａの上に載置された他の部材の上にワークユニットＷＵが保持される場合である。

【0032】

ベース３４は、回転テーブル３２を回転駆動させる図示しない回転機構と、回転テーブル３２を搬送方向（Ｙ軸方向）に直交する昇降方向（Ｚ軸方向）に昇降自在に駆動する図示しない昇降機構と、を備える。

【0033】

スピンナ装置３０は、ワークユニットＷＵのワークＷに対し、塗布、及び洗浄できるよう構成される。スピンナ装置３０は、例えば、図示しないノズルを備える。ノズルから塗布液、洗浄液等が、回転テーブル３２に保持されたワークユニットＷＵのワークＷに噴出される。塗布液、洗浄液等を噴出する際、回転テーブル３２はワークユニットＷＵを保持した状態で、例えば、３０００ｒｐｍを上限として回転する。

【0034】

図３に示されるように、ワーク収納カセット２０は、その開口２２をスピンナ装置３０に向けて、カセットステージに載置される。搬送装置５０は、ワーク収納カセット２０と複数のスピンナ装置３０との間でワークユニットＷＵを搬送する。

【0035】

図１、及び図３に示されるように搬送装置５０は、ワーク収納カセット２０から搬送方向（Ｙ軸方向）に延びる一対のガイドレール５２と、搬送方向（Ｙ軸方向）に沿って移動自在の搬送部材としてクランプ部材５４と、を有する。クランプ部材５４は、ワークユニットＷＵのフレームＦを把持し、一対のガイドレール５２に案内しつつワークユニットＷＵを搬送方向（Ｙ軸方向）に沿って搬送する。なお、図３においては、ワークユニットＷＵのフレームＦのみを示している。搬送部材としてクランプ部材５４を例示したが、ワークユニットＷＵを搬送できる限り、構造は限定されない。例えば、ワークユニットＷＵを吸着パッドで吸着したり、爪等で引っ掛けたりして搬送してもよい。

【0036】

ガイドレール５２は、Ｙ軸方向に直交する面で切断した断面において、略Ｌ字形状を有する。一対のガイドレール５２は、一方がＬ字形状で、他方が逆Ｌ字形状となるよう、向かい合うように所定の距離だけ離して配置される。クランプ部材５４により搬送されるワークユニットＷＵは、その下面がＬ字形状の一対のガイドレール５２により支持され、Ｘ軸方向への移動が規制される。

【0037】

クランプ部材５４は、ワーク収納カセット２０を向く側に把持部を備え、フレームＦを把持する。クランプ部材５４は図示しない駆動装置により、搬送方向（Ｙ軸方向）への移動と、フレームＦに対する把持と解放とが制御される。

【0038】

図４、及び図５に示されるように、スピンナ装置３０と一対のガイドレール５２との位置関係は、スピンナ装置３０は、一対のガイドレール５２に間に位置するように配置され、図５に示されるように、一対のガイドレール５２の下方に配置される。図４はＹ軸方向から見た側面図であり、図５はＺ軸方向に沿って上から見た上面図である。

【0039】

なお、図３、及び図４に示されるように、スピンナ装置３０の回転テーブル３２の周囲に、ワークユニットＷＵのフレームＦの下面を保持するＬ字形状の保持部材３６と、保持部材３６の角部において軸支されるフレームクランパ３８を備える。図３に示されるように、４個の保持部材３６、及びフレームクランパ３８は、回転テーブル３２の回転中心を中心とする周方向に均等に配置される。

【0040】

図４に示されるように、保持部材３６は回転テーブル３２から外径方向に延びる水平部３６Ａと、水平部３６ＡからＺ軸方向の上に延びる立設部３６Ｂとを有する。フレームクランパ３８は、一端がクランプ部３８Ａで他端が錘部３８Ｂで構成され、軸３８Ｃを介して保持部材３６の角部に回動自在に軸支される。フレームクランパ３８は、回転テーブル３２が回転していない場合、錘部３８Ｂは重力方向に垂下する。回転テーブル３２が回転した場合、錘部３８Ｂは遠心力により外周側に揺動し、クランプ部３８ＡがフレームＦをクランプできる。

【0041】

次に、ワーク処理システム１０における、ワーク収納カセット２０、スピンナ装置３０、及び搬送装置５０の動作を、図３に基づいて簡単に説明する。

【0042】

ワーク収納カセット２０は、図示しない昇降機構を備えるカセットステージにより、矢印に示されるように、鉛直方向（Ｚ軸方向）に昇降できる。

【0043】

複数のスピンナ装置３０は、図示しない昇降機構により、矢印に示すように、個別に鉛直方向（Ｚ軸方向）に昇降できる。

【0044】

一対のガイドレール５２は、矢印で示すように、Ｘ軸方向に沿って、互いに離れる方向、及び近づく方向に移動可能に構成される。クランプ部材５４は、矢印で示すように、ワークユニットＷＵの搬送方向（Ｙ軸方向）に移動可能に構成される。

【0045】

最初、クランプ部材５４は、Ｙ軸方向に沿ってワーク収納カセット２０に近づく方向に移動し、ワークユニットＷＵのフレームＦを把持する。クランプ部材５４は、例えば、ワーク収納カセット２０に対し遠い側のスピンナ装置３０（第一スピンナ装置とも称する）の位置までワークユニットＷＵを一対のガイドレール５２により案内させて搬送する。一対のガイドレール５２は基本的にはＺ軸方向に移動しないで、同じ高さを維持する。

【0046】

次いで、第一スピンナ装置（スピンナ装置３０）の回転テーブル３２が上昇し、保持面３２ＡがワークユニットＷＵの下面を保持する。一対のガイドレール５２が、ワークユニットＷＵの下面を支持しない位置まで、お互い離間するように移動する。クランプ部材５４は、ワークユニットＷＵを解放し、待機位置へ移動する。

【0047】

第一スピンナ装置の保持面３２ＡでワークユニットＷＵを保持した状態で、回転テーブル３２が下降する。回転テーブル３２が回転し、図示しないワークＷに対して塗布、又は洗浄が行われる。

【0048】

第一スピンナ装置で塗布、又は洗浄が行われる間、クランプ部材５４は、Ｙ軸方向に沿ってワーク収納カセット２０に近づく方向に移動し、次のワークユニットＷＵのフレームＦを把持する。一対のガイドレール５２は、ワークユニットＷＵの下面を支持できる位置までお互い近づく方向に移動する。なお、ワーク収納カセット２０は、上昇、又は下降し、次のワークユニットＷＵを一対のガイドレール５２の位置まで移動させる。

【0049】

クランプ部材５４は、ワーク収納カセット２０に対し近い側のスピンナ装置３０（第二スピンナ装置と称する）の位置までワークユニットＷＵを一対のガイドレール５２により案内させて搬送する。

【0050】

次いで、第二スピンナ装置（スピンナ装置３０）の回転テーブル３２が上昇し、保持面３２ＡがワークユニットＷＵの下面を保持する。一対のガイドレール５２が、ワークユニットＷＵの下面を支持しない位置まで、お互い離間するように移動する。第二スピンナ装置の保持面３２ＡでワークユニットＷＵを保持した状態で、回転テーブル３２が下降する。回転テーブル３２が回転し、図示しないワークＷに対して塗布、又は洗浄が行われる。

【0051】

複数のスピンナ装置３０を適用することで、複数のワークユニットＷＵに対する塗布、又は洗浄のスループットを大幅に向上できる。一つのスピンナ装置３０を稼働させている間、他のスピンナ装置３０にワークユニットＷＵを搬送できる。ワークユニットＷＵに対する処理の待ち時間を低減できる。

【0052】

実施形態では、複数のスピンナ装置３０に対し、一対のガイドレール５２の下方に直線状に並べて配置する場合において、回転テーブル３２の回転中心とワークユニットＷＵとを正確に位置決めするため、スピンナ装置３０の回転テーブル３２の外周部に複数の位置決めピンを設けている。以下、好ましい形態について説明する。

【0053】

＜第一形態＞
図６はワーク処理システム１０に含まれる第一形態のスピンナ装置３０の説明図であり、図６（Ａ）は全体図であり、図６（Ｂ）は拡大図である。

【0054】

図６（Ａ）に示されるように、回転テーブル３２の外周部に４個の位置決めピン４０が設けられている。位置決めピン４０は、回転テーブル３２から水平方向に延びる支持部材４２の先端の側で支持され、Ｚ軸方向で上向きに延びる。

【0055】

４個の位置決めピン４０の配置位置の一例を説明する。図６（Ａ）において、４個のフレームクランパ３８は、対向する２個のフレームクランパ３８を連結する２組の直線が直交し、一方はＹ軸方向（搬送方向）に平行で、他方はＸ軸方向に平行となるように配置される。したがって、４個の位置決めピン４０の位置は、各位置決めピン４０と回転テーブル３２の回転中心とを連結する直線がＸ軸方向、及びＹ軸方向とは平行でない位置に配置される。

【0056】

図６（Ｂ）に示されるように、位置決めピン４０は、図示しない搬送装置５０から受け渡されたワークユニットＷＵの外周部の径方向外側から接触可能に構成される。位置決めピン４０は、ワークユニットＷＵが接触する位置にテーパ面４０Ａを有している。テーパ面４０Ａは位置決めピン４０の先端から保持面３２Ａに近づくにつれて回転テーブル３２の回転中心に近づくように傾斜している。テーパ面４０Ａは平面、又は曲面、又はその組み合わせで構成できる。テーパ面４０Ａの角度は、９０°未満であればよい。テーパ面４０Ａの角度は、円錐形状であれば６０°以上８０°以下であることがより好ましい。なお、テーパ面４０Ａが円錐形状ではなく曲面を有する場合はこの限りではない。また、テーパ面４０Ａの角度は、テーパ面４０Ａと、テーパ面４０Ａを横切る水平面との成す角で決定される。

【0057】

図６（Ａ）に示されるように、複数個の位置決めピン４０が設けられるので、ワークユニットＷＵの外周部の複数位置において径方向外側から接触できる。

【0058】

図６（Ｂ）に示されるように、搬送装置５０からワークユニットＷＵが受け渡される際、回転テーブル３２は、矢印方向に上昇する。位置決めピン４０とワークユニットＷＵの外周部とが接触する。ワークユニットＷＵは複数の位置決めピン４０のテーパ面４０Ａに沿うように、破線の矢印に示すように回転テーブル３２の回転中心に向かって移動する。その結果、回転テーブル３２の回転中心とワークユニットＷＵとの相対的な位置決めが実行される。第一形態では、セルフアラインメントにより、回転テーブル３２の回転中心とワークユニットＷＵとの位置決めが可能になる。図６（Ａ）に示されるよう、位置決めピン４０は、複数（例えば、３、４個程度）設置され、中心位置が１通りに決まるように配置されることが好ましい。

【0059】

回転テーブル３２の回転中心とワークユニットＷＵとの位置決めの精度を向上させるため、複数の位置決めピン４０は、回転テーブルの回転中心から径方向に等距離離れた位置に設けられることが好ましい。

【0060】

等距離に配置された複数の位置決めピン４０は、フレームＦの円弧部分に接触可能になる。フレームＦの円弧部分に各位置決めピン４０が接触することにより、回転テーブル３２の回転中心とワークユニットＷＵの回転中心との相対的な位置決めが可能である。

【0061】

また、複数の位置決めピン４０は、回転テーブル３２の回転中心を中心とする周方向に均等に配置されることが好ましい。第一形態では、４個の位置決めピン４０は、周方向に隣り合う２つの位置決めピン４０が回転テーブル３２の回転中心に対してなす中心角が９０°となるように配置される。

【0062】

周方向に均等に配置された複数の位置決めピン４０は、ワークユニットＷＵに対して径方向外側からバランスよく接触でき、回転テーブル３２の回転中心とワークユニットＷＵの回転中心との相対的な位置決めが実行される。

【0063】

位置決めピン４０の配置、及び形状は、ワークユニットＷＵのフレームＦの形状を考慮して適宜変更できる。位置決めピン４０は、例えば、表面硬質処理ないし摩擦低減処理（テフロンコートやタフラム処理等）が施されたステンレス鋼等で構成されることが好ましい。

【0064】

＜第二形態＞
図７は第二形態のスピンナ装置３０を含むワーク処理システム１０の説明図であり、図７（Ａ）は全体図であり、図７（Ｂ）は拡大図である。第一形態と同様の構成に同様の符号を付して説明を省略する場合がある。

【0065】

図７（Ａ）に示されるように、回転テーブル３２の外周部に４個のフレームクランパ３８が、４個の保持部材３６により、それぞれ軸支されている。４個のフレームクランパ３８は、対向する２個のフレームクランパ３８を連結する２組の直線が直交し、一方はＹ軸方向（搬送方向）に平行で、他方はＸ軸方向に平行となるように配置される。

【0066】

図７（Ｂ）に示されるように、保持部材３６は、外径方向に延びる水平部３６Ａと、水平部３６ＡからＺ軸方向の上に延びる立設部３６Ｂとを有する。立設部３６Ｂは、ワークユニットＷＵが接触する位置にテーパ面３６Ｃを有する。テーパ面３６Ｃは立設部３６Ｂの先端から保持面３２Ａに近づくにつれて回転テーブル３２の回転中心に近づくように傾斜している。第二形態では、保持部材３６がテーパ面３６Ｃを備える立設部３６Ｂを有し、第一形態の位置決めピン４０の同様の機能を果たす。

【0067】

図７（Ａ）に示されるように、複数個の保持部材３６が設けられるので、ワークユニットＷＵの外周部の複数位置において立設部３６Ｂは径方向外側から接触できる。

【0068】

図７（Ｂ）に示されるように、搬送装置５０のガイドレール５２からワークユニットＷＵが受け渡される際、回転テーブル３２は、矢印方向に上昇する。立設部３６ＢとワークユニットＷＵとが接触する。ワークユニットＷＵは複数の立設部３６Ｂのテーパ面３６Ｃに沿うように、破線の矢印に示すように回転テーブル３２の回転中心に向かって移動する。その結果、回転テーブル３２の回転中心とワークユニットＷＵとの相対的な位置決めが実行される。第二形態では、セルフアラインメントにより、回転テーブル３２の回転中心とワークユニットＷＵとの位置決めが可能になる。図７（Ａ）に示されるよう、保持部材３６は、複数（例えば、３、４個程度）設置され、中心位置が１通りに決まるように配置されることが好ましい。

【0069】

＜第三形態＞
図８は第三形態のスピンナ装置３０を含むワーク処理システム１０の説明図である。第一形態又は第二形態と同様の構成に同様の符号を付して説明を省略する場合がある。

【0070】

図８に示されるように、回転テーブル３２の外周部に２個の位置決めピン４０が設けられている。位置決めピン４０は、回転テーブル３２から水平方向に延びる支持部材４２の先端の側で支持され、Ｚ軸方向で上向きに延びる。

【0071】

第三形態では、複数の位置決めピン４０は、断面が一定の柱形状であり、回転テーブル３２において、図示しないワーク収納カセット２０の側に配置される。ワーク収納カセット２０の側とは、回転テーブル３２の回転中心を通るＸ軸方向に平行な直線を基準に、ワーク収納カセット２０に面する回転テーブル３２の円弧状の部分を意味する。断面が一定の柱形状は、円柱、及び多角柱を含む。断面は、Ｚ軸方向に直交する面で切断した断面である。

【0072】

第三形態では、クランプ部材５４が、ワーク収納カセット２０からワークユニットＷＵを把持し、一対のガイドレール５２に案内させてスピンナ装置３０を超える位置まで搬送する。超える位置とは、ワークユニットＷＵの中心が、回転テーブル３２の回転中心から、ワーク収納カセット２０とは反側に離れた位置にあることを意味する。

【0073】

次に、スピンナ装置３０の回転テーブル３２が上昇し、保持面３２ＡがワークユニットＷＵの下面を保持する。クランプ部材５４が、ワークユニットＷＵのフレームＦを把持した状態で、ワーク収納カセット２０の側にワークユニットＷＵを搬送する。ワークユニットＷＵのフレームＦが複数の位置決めピン４０に押し当てられる。これにより、ワークユニットＷＵと位置決めピン４０とが接触し、回転テーブル３２の回転中心とワークユニットＷＵとの相対的な位置決めが実行される。

【0074】

位置決めピン４０が断面一定の柱形状を有しているので、ワークユニットＷＵを位置決めピン４０に押し付けた際、ワークユニットＷＵが上方方向に逃げるのを抑制できる。

【0075】

位置決めピン４０は、複数（例えば、２，３個程度）設置され、ワークユニットＷＵを押し付けた際に中心位置が１通りに決まるように配置される。位置決めピン４０は、ワーク収納カセット２０の側に配置される。したがって、回転テーブル３２の重量バランスを考慮して、カウンターウエイトを、Ｘ軸方向を基準に、位置決めピン４０と反対側に設けることが好ましい。

【0076】

上述したように、第一形態、第二形態、及び第三形態において、搬送装置５０に備えられる一対のガイドレール５２は、ワークユニットＷＵを案内するガイドとして機能する。一方、スピンナ装置３０とワークユニットＷＵとの位置決めは、スピンナ装置３０に設けられた位置決めピン４０（又は保持部材３６）により実行される。すなわち、位置決めピン４０（又は保持部材３６）により、回転テーブル３２の中心を直接参照できる。

【0077】

なお、第一形態、第二形態、及び第三形態では、複数のスピンナ装置を備えるワーク処理システムを説明したが、１個のスピンナ装置を備えるワーク処理システムにも、第一形態、第二形態、及び第三形態の位置決めピンを適用できる。また、位置決めピンを適用することで、スピンナ装置に設置された制振部材が経年劣化した場合でも、回転テーブルの回転中心とワークユニットとの相対的な位置決めを実行できる。

【符号の説明】

【0078】

１０…ワーク処理システム、２０…ワーク収納カセット、２２…開口、２４…溝、３０…スピンナ装置、３２…回転テーブル、３２Ａ…保持面、３４…ベース、３６…保持部材、３６Ａ…水平部、３６Ｂ…立設部、３６Ｃ…テーパ面、３８…フレームクランパ、３８Ａ…クランプ部、３８Ｂ…錘部、３８Ｃ…軸、４０…位置決めピン、４０Ａ…テーパ面、４２…支持部材、５０…搬送装置、５２…ガイドレール、５４…クランプ部材、８０…加工ステージ、８２…テーブル、８４…Ｘ－Ｙ駆動機構、８６…レーザ照射装置、８８…載置台、Ｄ…フィルム状接着剤、Ｆ…フレーム、ＬＤ…レーザ光、Ｓ…ダイシングシート、Ｗ…ワーク、ＷＵ…ワークユニット

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】