特開 2024-52317 搬送装置及びこの搬送装置を備えるインライン式の真空処理装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2024052317

(43)【公開日】2024-04-11

(54)【発明の名称】搬送装置及びこの搬送装置を備えるインライン式の真空処理装置

(51)【国際特許分類】

   C23C 14/56 20060101AFI20240404BHJP

   C23C 14/24 20060101ALI20240404BHJP

   H01L 21/677 20060101ALI20240404BHJP

   B65G 23/44 20060101ALI20240404BHJP

   B65G 15/14 20060101ALI20240404BHJP

【ＦＩ】

C23C14/56 G

C23C14/24 J

H01L21/68 A

B65G23/44

B65G15/14

【審査請求】未請求

【請求項の数】5

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2022158963

(22)【出願日】2022-09-30

(71)【出願人】

【識別番号】000231464

【氏名又は名称】株式会社アルバック

(74)【代理人】

【識別番号】110000305

【氏名又は名称】弁理士法人青莪

(72)【発明者】

【氏名】深尾 万里

(72)【発明者】

【氏名】沢森 朗

(72)【発明者】

【氏名】久保 隼

(72)【発明者】

【氏名】遠藤 茂

【テーマコード（参考）】

3F023

4K029

5F131

【Ｆターム（参考）】

3F023AA05

3F023BB02

3F023BC01

3F023CA02

4K029AA09

4K029AA24

4K029BB02

4K029CA01

4K029DA03

4K029DA12

4K029DB14

4K029DB18

4K029DB19

4K029DB21

4K029EA00

4K029JA01

4K029KA02

4K029KA09

5F131AA03

5F131AA12

5F131AA32

5F131AA33

5F131BA03

5F131CA17

5F131CA32

5F131DA02

5F131DA22

5F131DA52

5F131DB92

(57)【要約】

【課題】基板がその処理面を開放した状態で設置できる搬送トレイを真空チャンバ内で一方向に搬送するための搬送装置をランニングコストの削減効果が高い構成とする。
【解決手段】搬送装置ＴＭは一対の搬送ユニットＴｍ１，Ｔｍ２を備える、各搬送ユニットが、搬送トレイＴｃの搬送方向に間隔を存して設けられる２個の回転部材２１ａ，２１ｂ、２２ａ，２２ｂの間に巻き掛けられて周回走行する搬送ベルト２３ａ、２３ｂと、搬送トレイが載置される搬送ベルトの部分を支持する複数個の支持ローラ２４とを有する。各搬送ベルトを同期して周回走行させて、これらの搬送ベルトに跨って載置される搬送トレイのＸ軸方向への搬送を繰り返したときに、搬送トレイと比較して優先的に変形するように搬送ベルトが構成される。
【選択図】図１

【特許請求の範囲】

【請求項1】

被処理基板がその処理面を開放した状態で設置できる搬送トレイを真空チャンバ内で一方向に搬送するための搬送装置において、
被処理基板面内で互いに直交する方向をＸ軸方向及びＹ軸方向とし、Ｙ軸方向に間隔を存して配置される一対の搬送ユニットを備え、各搬送ユニットが、Ｘ軸方向に間隔を存して設けられる２個の回転部材の間に巻き掛けられて周回走行する搬送ベルトと、Ｘ軸方向に間隔を存して設けられて前記搬送トレイが載置される前記搬送ベルトの部分を支持する複数個の支持ローラとを夫々有し、
前記一対の搬送ユニットの各搬送ベルトを同期して周回走行させてこれらの搬送ベルトに跨って載置される前記搬送トレイのＸ軸方向への搬送を繰り返したときに、搬送トレイと比較して優先的に変形するように前記搬送ベルトが構成されることを特徴とする搬送装置。

【請求項2】

前記回転部材の少なくとも一方をＸ軸方向で互いに離間する方向に付勢する付勢手段を備え、前記搬送ベルトが変形したときに前記付勢手段の付勢力で前記回転部材の少なくとも一方がＸ軸方向に変位されて前記搬送ベルトに付与されるテンションが維持されることを特徴とする請求項１記載の搬送装置。

【請求項3】

前記回転部材の少なくとも一方の変位量を検出する検出器を更に備えることを特徴とする請求項２記載の搬送装置。

【請求項4】

請求項３記載の搬送装置と、前記真空チャンバ内で前記被処理基板に対して所定の真空処理を施すための真空処理ユニットとを備えるインライン式の真空処理装置。

【請求項5】

前記搬送装置及び前記真空処理ユニットの少なくとも一方の作動を制御する制御ユニットを更に備え、前記制御ユニットが前記検出器に通信自在に接続されて、前記検出器の検出値に応じてベルト交換に関する情報を報知するように構成されることを特徴とする請求項４記載のインライン式の真空処理装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、真空チャンバ内で被処理基板がその処理面を開放した状態で設置できる搬送トレイを一方向に搬送するための搬送装置及びインライン式の真空処理装置に関する。

【背景技術】

【0002】

例えば、フラットパネルディスプレイの製造工程には、ガラス基板等の被処理基板（以下、「基板」という）の片面（成膜面）に有機膜や金属膜を真空蒸着法にて順次成膜する工程がある。このような工程には、一般にインライン式の真空成膜装置が利用される。このような真空処理装置としての真空成膜装置は、一方向に長手な真空チャンバを有し、その内部には、複数個の成膜源が列設されていると共に、各成膜源が列設された方向に基板を搬送する搬送装置が設けられている（例えば、特許文献１参照）。この場合、基板はその処理面を開放した状態で搬送トレイに設置された状態で搬送される。なお、近年の基板の大面積に伴い、基板と搬送トレイとを含めた総重量は数百キロに及ぶ場合がある。

【0003】

上記搬送装置は、基板面内で互いに直交する方向をＸ軸方向及びＹ軸方向とし、Ｙ軸方向に間隔を存して配置される一対の搬送ユニットを備える。各搬送ユニットは、真空チャンバの互いに対峙する側壁にＸ軸方向に所定間隔で設けられる回転部材としての複数個の駆動ローラを有する。そして、一対の搬送ユニットの各駆動ローラを同期して回転駆動させて、これらの駆動ローラに跨って載置される搬送トレイが各駆動ローラを乗り継ぎながらＸ軸方向下流側へと搬送される。このような搬送装置では、例えば、各駆動ローラを乗り継ぐ際の搬送トレイと駆動ローラとの衝突や搬送トレイと駆動ローラとの摺動面での摩耗などは避けられない。このとき、駆動ローラの外周面が、摩耗などで優先的に変形するように設計すると、搬送トレイの搬送時の振動が大きくなって搬送トレイ内で基板が位置ずれを起こし易く、または、搬送トレイの搬送速度がバラツキ易くなってくる。このような搬送不良は、各搬送トレイに設置される基板の成膜面に精度よく一定の膜厚で成膜することを阻害してしまう。このことから、通常は、搬送トレイが駆動ローラと比較して優先的に変形するように設計される（つまり、搬送トレイを消耗品としている）。

【0004】

ところで、インライン式の真空処理装置に利用される搬送トレイは、複数枚の搬送トレイを１セットとし、メンテナンスのために複数セットで準備される。そして、製品歩留まりを高く維持するために、各セットの搬送トレイが予め設定される時間だけ使用されると、セット毎交換することが一般である。このように搬送トレイを消耗品として定期的に交換するのでは、ランニングコストが多大となるという問題がある。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0005】

【特許文献1】特許６１７９９０８号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0006】

本発明は、以上の点に鑑み、ランニングコストの削減効果が高い搬送装置及びこの搬送装置を備える真空処理装置を提供することをその課題とするものである。

【課題を解決するための手段】

【0007】

上記課題を解決するために、真空チャンバ内で被処理基板がその処理面を開放した状態で設置できる搬送トレイを一方向に搬送するための本発明の搬送装置は、被処理基板面内で互いに直交する方向をＸ軸方向及びＹ軸方向とし、Ｙ軸方向に間隔を存して配置される一対の搬送ユニットを備え、各搬送ユニットが、Ｘ軸方向に間隔を存して設けられる２個の回転部材の間に巻き掛けられて周回走行する搬送ベルトと、Ｘ軸方向に間隔を存して設けられて前記搬送トレイが載置される前記搬送ベルトの部分を支持する複数個の支持ローラとを夫々有し、前記一対の搬送ユニットの各搬送ベルトを同期して周回走行させて、これらの搬送ベルトに跨って載置される前記搬送トレイのＸ軸方向への搬送を繰り返したときに、搬送トレイと比較して優先的に変形するように前記搬送ベルトが構成されることを特徴とする。

【0008】

本発明によれば、真空チャンバ内で搬送トレイを搬送する際に、回転部材や支持ローラと搬送トレイの裏面との間に緩衝材として機能する例えばスチール製の搬送ベルトを介在させ、この搬送ベルトを優先的に変形する消耗品とし、必要に応じて２枚の搬送ベルトを交換するようにした。このため、上記従来例のように搬送トレイ自体を消耗品として定期的に交換するものと比較してランニングコストを大幅に削減することができる。しかも、駆動ローラを用いる従来例のものと比較して搬送時の振動が可及的に抑制されると共に、搬送速度のばらつきも小さくできる。その結果、被処理基板の成膜面に単層膜や多層膜を成膜する場合に、精度よく一定の膜厚で成膜処理を施すことが可能になる。

【0009】

ところで、Ｘ軸方向上流側にて一対の搬送ベルトの間に跨るように搬送トレイを載置し、各搬送ベルトを同期して周回走行させて、搬送トレイをＸ軸方向下流側へと搬送することを繰り返す場合、搬送ベルトに生じる変形には、搬送トレイと搬送ベルトとの間の摩耗（例えば、スリップ痕）だけでなく、伸びによるものがある。そして、搬送ベルトが伸びてくると、搬送速度のバラツキが生じてくる。本発明では、前記回転部材の少なくとも一方をＸ軸方向で互いに離間する方向に付勢する付勢手段を備え、前記搬送ベルトが（弾性）変形したときに前記付勢手段の付勢力で前記回転部材の少なくとも一方がＸ軸方向に変位されて前記搬送ベルトに付与されるテンションが維持される構成を採用することができる。これにより、殊更真空チャンバ内を大気開放して搬送ベルトのテンションを再調整するといった作業を不要にでき、常時、搬送速度のバラツキを小さく維持することができる。

【0010】

他方で、搬送ベルトが所定範囲を超えた伸びにより（塑性）変形すると、搬送ベルトに付与されるテンションを維持することができない。このような場合、搬送ベルトを定期的に交換することも考えられるが、搬送ベルトに生じる伸びは、搬送トレイの重量や搬送速度といった搬送条件で異なる。このため、不要なベルト交換を防止できることが好ましい。本発明では、前記回転部材の少なくとも一方の変位量を検出する検出器を更に備える構成を採用することができる。これによれば、例えば、検出器での検知値を真空処理装置または搬送装置の制御ユニットに取り込み、その取り込んだ値が予め設定した閾値を超えた場合に、ベルト交換を報知するようにすれば、搬送ベルトの交換時期が適切に判断でき、不要なベルト交換を防止できる。なお、搬送ベルトに生じるスリップ痕などの摩耗状態を監視するために、ＣＣＤカメラなどの撮像素子を設け、その画像解析からもベルト交換を判断すれば、搬送ベルトの変形に伴う搬送不良を確実に防止できてよい。

【0011】

また、上記課題を解決するために、本発明のインライン式の真空処理装置は、上記搬送装置に加え、前記真空チャンバ内で前記被処理基板に対して所定の真空処理を施すための真空処理ユニットを備える。そして、前記搬送装置及び前記真空処理ユニットの少なくとも一方の作動を制御する制御ユニットを更に備え、前記制御ユニットが前記検出器に通信自在に接続されて、前記検出器の検出値に応じてベルト交換に関する情報を報知するように構成される。

【図面の簡単な説明】

【0012】

【図1】本実施形態の搬送装置を備えるインライン式の真空成膜装置の構成を説明する断面図。

【図2】図１のＩＩ－ＩＩ線に沿う断面図。

【図3】図２のＩＩＩ－ＩＩＩ線に沿う断面図。

【図4】図３の一点鎖線で囲う部分の拡大断面図。

【図5】図４のＶ－Ｖ線に沿う断面図。

【発明を実施するための形態】

【0013】

以下、図面を参照して、インライン式の真空処理装置を真空成膜装置とし、また、被処理基板を矩形の輪郭を持つガラス基板（以下、「基板Ｓｇ」という）として、基板Ｓｇを搬送トレイＴｃに設置した状態で搬送して、基板Ｓｇの片面（成膜面Ｓｇ１）に真空蒸着法にて多層膜を成膜する場合を例に、本発明の搬送装置ＴＭ及びこの搬送装置ＴＭを備えるインライン式の成膜装置ＣＭの実施形態を説明する。以下では、基板Ｓｇ面内で互いに直交する方向をＸ軸方向及びＹ軸方向とし、また、後述の成膜源側から基板Ｓｇに向かう方向をＺ軸方向上方とし、また、基板Ｓｇは、図１中、左側から右側に移動するものとし、これを基準に方向を示す用語を用いるものとする。

【0014】

図１及び図２を参照して、本実施形態の搬送装置ＴＭを備える真空成膜装置ＣＭは、互いに連設されてＸ軸方向に長手の第１～第３の各成膜チャンバＰｃ１，Ｐｃ２，Ｐｃ３を備える。第１～第３の各成膜チャンバＰｃ１，Ｐｃ２，Ｐｃ３には真空ポンプ（図示せず）が接続され、その内部の成膜空間を所定圧力の真空雰囲気を形成することができる。第１～第３の各成膜チャンバＰｃ１，Ｐｃ２，Ｐｃ３内にはまた、Ｘ軸方向同一軸線上に位置させて、各成膜源１ａ，１ｂ，１ｃが夫々設けられている。各成膜源１ａ，１ｂ，１ｃは、同一の構成を有し、成膜材料Ｖｍを収容する坩堝１１と、坩堝１１の成膜材料Ｖｍを加熱する加熱手段１２とを備える。成膜材料Ｖｍとしては、基板Ｓｇに積層しようとする各薄膜の組成に応じて適宜選択される。加熱手段１２としては、成膜材料Ｖｍの種類に応じて抵抗加熱方式、誘導加熱方式や電子銃方式のものが用いられる。各成膜源１ａ，１ｂ，１ｃはまた、坩堝１１の上面放出口１１ａを覆って基板Ｓｇへの成膜材料Ｖｍの到達を防止する回動自在なシャッタ１３を備える。

【0015】

第１の成膜チャンバＰｃ１のＸ軸方向上流側及び第３の成膜チャンバＰｃ３のＸ軸方向下流側には、ロードロックチャンバＬｃ１，Ｌｃ２がゲートバルブＧＶ１，Ｇｖ２を介して夫々連設されている。各ロードロックチャンバＬｃ１，Ｌｃ２には、特に図示して説明しないが、真空ポンプとベントバルブとが夫々接続され、その内部を大気雰囲気と真空雰囲気とに速やかに切換ることができる。そして、上流側のロードロックチャンバＬｃ１に予め処理前の基板Ｓｇを設置した搬送トレイＴｃが搬入され、下流側のロードロックチャンバＬｃ２から処理済み基板Ｓｇが搬送トレイＴｃと共に搬出されるようになっている。

【0016】

搬送トレイＴｃは、真空雰囲気で使用しても成膜処理に影響を与えない材料、例えば、ステンレス鋼やインバー、アルミニウム製の板材で構成され、基板Ｓｇの成膜面Ｓｇ１が臨む矩形の開口Ｔｃ１が形成され（図２参照）、基板Ｓｇがその処理面Ｓｇ１を下方に向けた姿勢で搬送トレイＴｃの上面に設置される。そして、基板Ｓｇが設置された搬送トレイＴｃを上流側のロードロックチャンバＬｃ１から、各成膜チャンバＰｃ１，Ｐｃ２，Ｐｃ３内を順次通って下流側のロードロックチャンバＬｃ２まで搬送するため各成膜チャンバＰｃ１，Ｐｃ２，Ｐｃ３には、本実施形態の搬送装置ＴＭが夫々設けられている。

【0017】

搬送装置ＴＭは、図３～図５も参照して、Ｙ軸方向で互いに向かい合う各成膜チャンバＰｃ１，Ｐｃ２，Ｐｃ３の両側壁に夫々配置される一対の搬送ユニットＴｍ１，Ｔｍ２を備える。各搬送ユニットＴｍ１，Ｔｍ２は、同一の構成を有し、第１～第３の各成膜チャンバＰｃ１，Ｐｃ２，Ｐｃ３のＸ軸方向両端部に夫々設けられる回転部材としての駆動プーリ２１ａ，２１ｂ及び従動プーリ２２ａ，２２ｂと、駆動プーリ２１ａ，２１ｂと従動プーリ２２ａ，２２ｂとの間に巻き掛けられる搬送ベルト２３ａ、２３ｂと、Ｘ軸方向に間隔を存して設けられて搬送トレイＴｃが載置される搬送ベルト２３ａ、２３ｂの部分を支持する複数個の支持ローラ２４とを夫々を備えている。そして、一対の搬送ベルトト２３ａ、２３ｂの間に跨るように、Ｙ軸方向に沿う搬送トレイＴｃの両外端部が各搬送ベルト２３ａ、２３ｂに夫々設置される。駆動プーリ２１ａ，２１ｂ及び従動プーリ２２ａ，２２ｂより小径の各支持ローラ２４は、各成膜チャンバＰｃ１，Ｐｃ２，Ｐｃ３の側壁に軸支され、搬送ベルト２３ａ、２３ｂの周回走行に伴って回転自在である。支持ローラ２４としては、各成膜チャンバＰｃ１，Ｐｃ２，Ｐｃ３内で成膜処理に悪影響を与えないように、例えば、ステンレス鋼、または炭素鋼（Ｓ４５Ｃ：焼き入れ材）製のもの、或いはハードクロムメッキ等の表面処理を施したものが用いられる。また、互いに隣接する各支持ローラ２４のＸ軸方向の間隔は、搬送トレイＴｃのＸ軸方向長さに応じて適宜設定される。

【0018】

Ｘ軸方向下流端側に設けられる駆動プーリ２１ａ，２１ｂには、内部気密性を確保した状態で各成膜チャンバＰｃ１，Ｐｃ２，Ｐｃ３の側壁に挿設されるモータ３ａ，３ｂの駆動軸３１ａ，３１ｂが接続されている。従動プーリ２２ａ，２２ｂは、Ｘ軸方向で駆動プーリ２１ａ，２１ｂから離間する方向（図４中、左方向）に付勢する付勢手段４を介して各成膜チャンバＰｃ１，Ｐｃ２，Ｐｃ３の側壁に取り付けられている。この場合、各成膜チャンバＰｃ１，Ｐｃ２，Ｐｃ３の側壁には、Ｘ軸方向に長手のベース板５１が設けられ、ベース板５１の内面には、Ｘ軸方向にのびるように２本のレール部材５２がＺ軸方向に間隔を置いて取り付けられ、レール部材５２に可動板５３がＸ軸方向に摺動自在に係合している。そして、レール部材５２に立設した軸体５４の先端部に軸受５５を介して従動プーリ２２ａ，２２ｂが夫々外挿されている。ベース板５１の内面にはまた、可動板５３からＸ軸方向下流側に間隔を存して固定板５６が設けられている。

【0019】

可動板５３に向かい合う固定板５６の部分には、Ｘ軸方向にのびる収容孔５６ａが凹設されると共に、固定板５６に向かい合う可動板５３の部分にはバネ座５３ａが取り付けられている。そして、バネ座５３ａと収容孔５６ａとの間に付勢手段４としてのコイルバネが縮設されている。コイルバネ４の付勢力は、搬送ベルト２３ａ，２３ｂに付与する張力が所定の範囲に常時維持されるように設定される。この場合、固定板５６に設けた調整ボルト６によりコイルバネ４の付勢力が調整できるようにしている。また、可動板５３の上面には、ベース板５１よりＺ軸方向上方にのびる長さを持つ検出片５３ｂが設けられ、検出片５３ｂの部分に対峙させてベース板５１上には検出器としての反射型のレーザセンサ７が取り付けられている。そして、レーザセンサ７から検出片５３ｂに向けてレーザ光を照射し、その反射光量から従動プーリ２２ａ，２２ｂのＸ軸方向の変位量を検出することができる。

【0020】

搬送ベルト２３ａ，２３ｂとしては、搬送装置ＴＭによって搬送トレイＴｃのＸ軸方向への搬送を繰り返したときに、搬送トレイＴｃと比較して優先的に変形するように構成され、真空雰囲気で使用しても真空処理に悪影響を与えない材料が適宜選択される。例えば、基板Ｓｇを設置した状態の搬送トレイＴｃの総重量が５０ｋｇ～１２００ｋｇの範囲である場合、幅が４０ｍｍ～６０ｍｍの範囲且つ厚さが０．１５ｍｍ～０．３０ｍｍの範囲のスチール製のもので搬送ベルト２３ａ、２３ｂを構成することができる。搬送ベルト２３ａ、２３ｂに生じる変形としては、搬送トレイＴｃの支持板部Ｔｃ３との面接触に伴う摩耗（例えば、スリップ痕）だけでなく、特に駆動プーリ２１ａ，２１ｂ、従動プーリ２２ａ，２２ｂまたは支持ローラ２４と搬送トレイＴｃとの間に挟まれた際の圧延同様の事象に伴う伸びによるものがある。そして、搬送ベルト２３ａ、２３ｂが伸びるように変形とした場合は、コイルバネ４の付勢力により固定板５６に対して可動板５３が、ひいては、従動プーリ２２ａ，２２ｂがＸ軸方向で駆動プーリ２１ａ，２１ｂから離間する方向に相対変位して搬送ベルト２３ａ、２３ｂに付与されるテンションが維持され、このときの変位量がレーザセンサ７で検出される。なお、図中、Ｐｐは、搬送装置ＴＭの各構成部品への着膜を防止する防着板である。

【0021】

真空成膜装置ＣＭは、コンピューター、メモリやシーケンサ等を備える制御ユニットＣｕを備える。制御ユニットＣｕは、各成膜源１ａ，１ｂ，１ｃや真空ポンプといった成膜時に作動する部品だけでなく、搬送装置ＴＭの作動も統括制御する。この場合、制御ユニットＣｕは、特に図示して説明しないが、各部品や搬送装置ＴＭの作動状態を表示するディスプレイを備える。制御ユニットＣｕはまた、レーザセンサ７に通信自在に接続されて検出された変位量が入力される。そして、入力された変位量が予め制御ユニットＣｕに設定される閾値を超えると、制御ユニットＣｕのディスプレイに搬送ベルト２３ａ、２３ｂの交換時期が到来したことを音声や画像で報知できるようにしている。

【0022】

上記真空成膜装置ＣＭにより基板Ｓｇの処理面Ｓｇ１に多層膜を成膜する場合には、大気雰囲気の上流側のロードロックチャンバＬｃ１に、予め処理前の基板Ｓｇを設置した搬送トレイＴｃが搬入される。この場合、各成膜チャンバＰｃ１，Ｐｃ２，Ｐｃ３内は真空ポンプにより真空排気されて所定圧力に維持されると共に、各成膜源１ａ，１ｂ，１ｃにて坩堝１１の成膜材料Ｖｍが加熱手段１２により加熱される。このとき、シャッタ１３により坩堝１１上面の放出開口１１ａが遮蔽されている。上流側のロードロックチャンバＬｃ１が所定圧力まで真空排気されると、ゲートバルブＧｖ１が開放され、上流側のロードロックチャンバＬｃ１から第１の成膜チャンバＰｃ１内の搬送装置ＴＭへと、つまり、搬送トレイＴｃが一対の搬送ユニットＴｍ１，Ｔｍ２の各搬送ベルト２３ａ，２３ｂに跨るように受け渡される。モータ３ａ，３ｂにより各駆動プーリ２１ａ，２１ｂを同期して回転駆動させて搬送ベルト２３ａ，２３ｂを周回走行させると、搬送トレイＴｃがＸ軸方向下流側へと搬送され、引き続き、第２及び第３の成膜チャンバＰｃ２，Ｐｃ３内の搬送装置ＴＭを夫々乗り継ぎながら搬送される。搬送中には、シャッタ１３を適宜退避させることで、気化または昇華により坩堝１１から所定の余弦則に従い放出される成膜材料Ｖｍが開口Ｔｃ４を通して基板Ｓｇの成膜面Ｓｇ１が付着、堆積することで処理面Ｓｇ１に多層膜が成膜される。そして、第３の成膜チャンバＰｃ３内で搬送トレイＴｃが最下流側まで搬送されてくると、ゲートバルブＧｖ２が開放され、処理済みの基板Ｓｇのある搬送トレイＴｃが下流側のロードロックチャンバＬｃ２へと搬送され、ゲートバルブＧｖ２が閉じた後、大気開放して回収される。

【0023】

以上の実施形態によれば、各搬送装置ＴＭの一対の搬送ベルト２３ａ，２３ｂの間に跨るように搬送トレイＴｃを載置し、各搬送ベルト２３ａ，２３ｂを同期して周回走行させて、搬送トレイＴｃをＸ軸方向下流側へと搬送することを繰り返す際に、駆動プーリ２１ａ，２１ｂ、従動プーリ２２ａ，２２ｂ及び支持ローラ２４と搬送トレイＴｃの支持板部Ｔｃ３の裏面との間に緩衝材として機能するスチール製の搬送ベルト２３ａ，２３ｂが介在され、搬送ベルト２３ａ，２３ｂが優先的に変形する消耗品とした。これにより、必要に応じて２枚の搬送ベルト２３ａ，２３ｂを交換すればよいため、上記従来例のように搬送トレイＴｃ自体を消耗品として定期的に交換するものと比較してランニングコストを大幅に削減することができる。しかも、駆動ローラを用いる従来例のものと比較して搬送時の振動が可及的に抑制されると共に、搬送速度のばらつきも小さくできる。その結果、成膜面Ｓｇ１に多層膜を成膜する場合に、精度よく一定の膜厚で成膜処理を施すことが可能になる。

【0024】

また、搬送ベルト２３ａ，２３ｂが伸びた場合、コイルバネ４の付勢力で従動プーリ２２ａ，２２ｂがＸ軸方向に相対変位されて搬送ベルト２３ａ，２３ｂに付与されるテンションが維持されるため、殊更各成膜チャンバＰｃ１，Ｐｃ２，Ｐｃ３を大気開放して搬送ベルト２３ａ，２３ｂのテンションを再調整するといった作業を不要にでき、常時、搬送速度のばらつきを可及的に小さく維持することができる。しかも、従動プーリ２２ａ，２２ｂの変位量を検出する検出器７を更に備え、検出器７での検知値を制御ユニットＣｕに取り込み、その取り込んだ値が予め設定した閾値を超えた場合に、ベルト交換を報知できるため、搬送ベルト２３ａ，２３ｂの交換時期が適切に判断でき、不要なベルト交換を防止できる。なお、特に図示して説明しないが、搬送ベルト２３ａ、２３ｂに生じるスリップ痕などの摩耗状態を監視するために、ＣＣＤカメラなどの撮像素子を各成膜チャンバＰｃ１，Ｐｃ２，Ｐｃ３内に設け、その画像解析からもベルト交換を判断すれば、搬送ベルト２３ａ，２３ｂの変形に伴う搬送不良を確実に防止できてよい。

【0025】

以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明の技術思想の範囲を逸脱しない限り、種々の変形が可能である。上記実施形態では、真空処理として真空蒸着法による成膜処理を例に説明したが、これに限定されるものではない。スパッタリング法やＣＶＤ法による成膜処理やドライエッチング処理を実施するものにも本発明は適用することができる。また、付勢手段としてコイルバネ４を用いるものを例に説明したが、搬送ベルト２３ａ，２３ｂが変形に応じて従動プーリ２２ａ，２２ｂをＸ軸方向に相対変位できるものであれば、これに限定されるものではなく、板バネなどの他の付勢手段を利用することができ、また、従動プーリ２２ａ，２２ｂに代えてまたはこれに加えて駆動プーリ２１ａ，２１ｂがＸ軸方向に相対変位するように構成してもよい。更に、従動プーリ２２ａ，２２ｂの変位量を検出する検出器７としてレーザセンサ７を用いるものを例に説明したが、これに限定されるものではなく、マイクロスイッチなどの他のものを用いることもできる。

【0026】

また、上記実施形態では、一対の搬送ベルトト２３ａ、２３ｂの間に跨るように、Ｙ軸方向に沿う搬送トレイＴｃの両外端部を直接各搬送ベルト２３ａ、２３ｂに夫々設置するものを例に説明したが、これに限定されるものではない。搬送トレイＴｃの各搬送ベルト２３ａ、２３ｂへの設置面（接触面）は、特に摩耗し易いため、当該面のみに、例えば、硬度の高い（耐摩耗性の高い材料である）ＳＵＳ４４０Ｃなどのステンレス鋼製のシート材を取り付けるようにしてもよい。そして、何等かの原因で傷付いたようなときには、当該シート材のみを交換するようにすれば、ランニングコスト削減の効果をより向上させることができる（即ち、搬送トレイ自体を消耗品としない）。

【符号の説明】

【0027】

ＣＭ…インライン式の真空成膜装置（真空処理装置）、ＴＭ…搬送装置、Ｃｕ…制御ユニット、Ｔｃ…搬送トレイ、Ｔｍ１，Ｔｍ２…搬送ユニット、２１ａ，２１ｂ…駆動プーリ（回転部材）、２２ａ，２２ｂ…従動プーリ（回転部材）、２３ａ，２３ｂ…搬送ベルト、２４…支持ローラ、４…コイルバネ（付勢手段）、７…レーザセンサ（検出器）。

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】