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特開2024-63769バルブマニホールドのためのシステム及び装置
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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024063769
(43)【公開日】2024-05-13
(54)【発明の名称】バルブマニホールドのためのシステム及び装置
(51)【国際特許分類】
   H01L 21/02 20060101AFI20240502BHJP
【FI】
H01L21/02 Z
【審査請求】未請求
【請求項の数】20
【出願形態】OL
【外国語出願】
(21)【出願番号】P 2023181785
(22)【出願日】2023-10-23
(31)【優先権主張番号】63/419,512
(32)【優先日】2022-10-26
(33)【優先権主張国・地域又は機関】US
(71)【出願人】
【識別番号】519237203
【氏名又は名称】エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェー
(74)【代理人】
【識別番号】100108453
【弁理士】
【氏名又は名称】村山 靖彦
(74)【代理人】
【識別番号】100110364
【弁理士】
【氏名又は名称】実広 信哉
(74)【代理人】
【識別番号】100133400
【弁理士】
【氏名又は名称】阿部 達彦
(72)【発明者】
【氏名】レオナルド・ロドリゲス
(57)【要約】
【課題】バルブマニホールドのためのシステム及び装置を提供する。
【解決手段】本技術の様々な実施形態は、様々なスルーホール及びチャネルを有する複数の層を有する、バルブマニホールドを提供する場合がある。複数の層は、スルーホール及びチャネルが、単一の連続的な流路を形成するように、一緒に接続されてもよい。
【選択図】図1
【特許請求の範囲】
【請求項1】
バルブマニホールドであって、
第一の層であって、
第一の表面と、
前記第一の表面と反対向きで、かつ平行な第二の表面と、
前記第一の表面から前記第二の表面に延在する第一のスルーホールと、
前記第一の表面に配置された第一のチャネルと、を備える、第一の層と、
前記第一の層の上方に配置された第二の層であって、
前記第二の表面に隣接した第三の表面と、
前記第三の表面と反対向きで、かつ平行な第四の表面と、
前記第三の表面から前記第四の表面に延在する複数のスルーホールと、を備える、第二の層と、
前記第二の層の上方に配置された第三の層であって、
前記第四の表面に隣接した第五の表面と、
前記第五の表面と反対向きで、かつ平行な第六の表面と、
前記第五の表面から前記第六の表面に延在する第五のスルーホールと、
前記第五の表面に配置された第二のチャネルと、を備える、第三の層と、を備える、バルブマニホールド。
【請求項2】
前記複数のスルーホールが、第二のスルーホール、第三のスルーホール、及び第四のスルーホールを含む、請求項1に記載のバルブマニホールド。
【請求項3】
前記第一のチャネルが、前記第二のスルーホールを前記第四のスルーホールに接続する、請求項2に記載のバルブマニホールド。
【請求項4】
前記第二のチャネルが、前記第三のスルーホールを前記第四のスルーホールに接続する、請求項2に記載のバルブマニホールド。
【請求項5】
前記第一、第二、第三、第四及び第五のスルーホールが、前記第一及び第二のチャネルと一緒になって、単一の連続的な流路を形成する、請求項2に記載のバルブマニホールド。
【請求項6】
前記第五のスルーホールが、前記複数のスルーホールからの1つのスルーホールと整列する、請求項1に記載のバルブマニホールド。
【請求項7】
前記第一のスルーホールが、前記複数のスルーホールからの1つのスルーホールと整列する、請求項1に記載のバルブマニホールド。
【請求項8】
前記第一のチャネルが、前記複数のスルーホールからの少なくとも2つのスルーホールと整列する、請求項1に記載のバルブマニホールド。
【請求項9】
前記第二のチャネルが、前記複数のスルーホールからの少なくとも2つのスルーホールと整列する、請求項1に記載のバルブマニホールド。
【請求項10】
前記第五のスルーホールが、前記複数のスルーホールからの1つのスルーホールと整列する、請求項1に記載のバルブマニホールド。
【請求項11】
バルブマニホールドであって、
第一の層であって、
第一の表面と、
前記第一の表面と反対向きで、かつ平行な第二の表面と、
前記第一の表面から前記第二の表面に延在する第一のスルーホールと、
前記第一の表面に配置された第一のチャネルと、を備える、第一の層と、
前記第一の層の上方に配置された第二の層であって、
第三の表面と、
前記第三の表面と反対向きで、かつ平行な第四の表面と、
複数のスルーホールであって、各スルーホールが、前記第三の表面から前記第四の表面に延在し、前記複数のスルーホールが、第二のスルーホール、第三のスルーホール、及び第四のスルーホールを含み、
前記第三のスルーホールが前記第一のスルーホールと整列し、
前記第二及び第四のスルーホールが前記第一のチャネルと整列する、複数のスルーホールと、を備える、第二の層と、
前記第二の層の上方に配置された第三の層であって、
第五の表面と、
前記第五の表面と反対向きで、かつ平行な第六の表面と、
前記第五の表面から前記第六の表面に延在し、かつ前記第二のスルーホールと整列する第五のスルーホールと、
前記第五の表面に配置され、かつ前記第三及び第四のスルーホールと整列する第二のチャネルと、を備える、第三の層と、を備える、バルブマニホールド。
【請求項12】
前記第一のチャネルが、前記第二のスルーホールを前記第四のスルーホールに接続する、請求項11に記載のバルブマニホールド。
【請求項13】
前記第二のチャネルが、前記第三のスルーホールを前記第四のスルーホールに接続する、請求項11に記載のバルブマニホールド。
【請求項14】
前記第一、第二、第三、第四及び第五のスルーホールが、前記第一及び第二のチャネルと一緒になって、単一の連続的な流路を形成する、請求項11に記載のバルブマニホールド。
【請求項15】
バルブマニホールドであって、
前記第一の層と前記第二の層との間に配置され、かつ前記第一のスルーホール及び前記第一のチャネルに対して形状が対応する、第一の複数の開口部を備える、第一のガスケットと、
前記第二の層と前記第三の層との間に配置され、かつ前記第五のスルーホール及び前記第二のチャネルに対して形状が対応する、第二の複数の開口部を備える、第二のガスケットと、を備える、請求項11に記載のバルブマニホールド。
【請求項16】
システムであって、
入口を備える反応チャンバと、
単一の連続的な流路を有するバルブマニホールドであって、
前記反応チャンバに接続された第一の層であって、
前記入口と整列した第一のスルーホールと、
第一のチャネルと、を備える、第一の層と、
前記第一の層の上方に配置された第二の層であって、
第二のスルーホール、第三のスルーホール、及び第四のスルーホールを備える複数のスルーホールであって、
前記第三のスルーホールが前記第一のスルーホールと整列し、かつ
前記第二及び第四のスルーホールが前記第一のチャネルと整列する、複数のスルーホールを備える、第二の層と、
前記第二の層の上方に配置された第三の層であって、
前記第二のスルーホールと整列した第五のスルーホールと、
前記第三及び第四のスルーホールと整列し、かつ接続する、第二のチャネルと、を備える、第三の層と、を備える、バルブマニホールドと、を備える、システム。
【請求項17】
前記装置が、
前記第一の層と前記第二の層との間に配置され、かつ前記第一のスルーホール及び前記第一のチャネルに対して形状が対応する、第一の複数の開口部を備える、第一のガスケットと、
前記第二の層と前記第三の層との間に配置され、かつ前記第五のスルーホール及び前記第二のチャネルに対して形状が対応する、第二の複数の開口部を備える、第二のガスケットと、を更に備える、請求項16に記載のシステム。
【請求項18】
前記第一のチャネルが、前記第二のスルーホールを前記第四のスルーホールに接続する、請求項16に記載のシステム。
【請求項19】
前記第二、第三及び第四のスルーホールが垂直に配向され、かつ前記第二の層の表面から前記第二の層と反対向きの、平行な表面に延在する、請求項16に記載のシステム。
【請求項20】
システムであって、
前記第一のチャネルが前記第一の層の表面に配置され、かつ
前記第二のチャネルが前記第三の層の表面に配置される、請求項16に記載のシステム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本開示は、概して、半導体設備のための装置に関する。より具体的には、本開示は、バルブマニホールド、及び半導体デバイスの製造中にバルブマニホールドを利用するシステムに関する。
【背景技術】
【0002】
半導体製造プロセス中に使用される設備は、(例えば、気体の形態の)化学物質を、反応チャンバに混合及び/又は送達するために、バルブマニホールドを提供してもよい。従来のバルブマニホールドは、流路の長さに起因して混合不良に悩まされる場合があり、及び/又はOリングによって生成されるデッドボリュームを有する場合がある。デッドボリュームは、異なるパルス原料ガスの、時間的分離を低減する場合がある。パルスガスのこの重複は、デッドスペース内における異なるガス間の反応につながる場合があり、これは、粒子形成及び処理されるシリコンウエハの劣化を引き起こす場合がある。したがって、いくつかの化学物質が十分に混合することを可能にする長さを有するだけでなく、デッドボリュームも減少させる流路を有するバルブマニホールドを有することが望ましい場合がある。
【発明の概要】
【0003】
本技術の様々な実施形態は、様々なスルーホール及びチャネルを有する複数の層を有する、バルブマニホールドを提供する場合がある。複数の層は、スルーホール及びチャネルが単一の連続的な流路を形成するように、一緒に接続されてもよい。
【0004】
一態様によれば、バルブマニホールドは、第一の層であって、第一の表面と、第一の表面と反対向きでかつ平行な第二の表面と、第一の表面から第二の表面に延在する第一のスルーホールと、第一の表面に配置された第一のチャネルとを備える、第一の層と、第一の層の上方に配置された第二の層であって、第二の表面に隣接した第三の表面と、第三の表面と反対向むきでかつ平行な第四の表面と、第三の表面から第四の表面に延在する複数のスルーホールとを備える、第二の層と、第二の層の上方に配置された第三の層であって、第四の表面に隣接した第五の表面と、第五の表面と反対向きでかつ平行な第六の表面と、第五の表面から第六の表面に延在する第五のスルーホールと、第五の表面に配置された第二のチャネルとを備える、第三の層と、を備える。
【0005】
上記のバルブマニホールドの一実施形態では、複数のスルーホールは、第二のスルーホール、第三のスルーホール、及び第四のスルーホールを備える。
【0006】
上記のバルブマニホールドの一実施形態では、第一のチャネルは、第二のスルーホールを第四のスルーホールに接続する。
【0007】
上記のバルブマニホールドの一実施形態では、第二のチャネルは、第三のスルーホールを第四のスルーホールに接続する。
【0008】
上記のバルブマニホールドの一実施形態では、第一、第二、第三、第四及び第五のスルーホールは、第一及び第二のチャネルと一緒になって、単一の連続的な流路を形成する。
【0009】
上記のバルブマニホールドの一実施形態では、第五のスルーホールは、複数のスルーホールからの1つのスルーホールと整列する。
【0010】
上記のバルブマニホールドの一実施形態では、第一のスルーホールは、複数のスルーホールからの1つのスルーホールと整列する。
【0011】
上記のバルブマニホールドの一実施形態では、第一のチャネルは、複数のスルーホールからの少なくとも2つのスルーホールと整列する。
【0012】
上記のバルブマニホールドの一実施形態では、第二のチャネルは、複数のスルーホールから少なくとも2つのスルーホールと整列する。
【0013】
上記のバルブマニホールドの一実施形態では、第五のスルーホールは、複数のスルーホールからの1つのスルーホールと整列する。
【0014】
別の態様によれば、バルブマニホールドは、第一の層であって、第一の表面と、第一の表面と反対向きでかつ平行な第二の表面と、第一の表面から第二の表面に延在する第一のスルーホールと、第一の表面に配置された第一のチャネルとを備える、第一の層と、第一の層の上方に配置された第二の層であって、第三の表面と、第三の表面と反対向きでかつ平行な第四の表面と、各スルーホールが第三の表面から第四の表面に延在する複数のスルーホールであって、複数のスルーホールが第二のスルーホール、第三のスルーホール、及び第四のスルーホールとを備え、第三のスルーホールが第一のスルーホールと整列し、第二及び第四のスルーホールが第一のチャネルと整列する、第二の層と、第二の層の上方に配置された第三の層であって、第五の表面と、第五の表面と反対向きでかつ平行な第六の表面と、第五の表面から第六の表面に延在し、第二のスルーホールと整列した第五のスルーホールと、第五の表面に配置され、第三及び第四のスルーホールと整列した第二のチャネルとを備える、第三の層と、を備える。
【0015】
上記のバルブマニホールドの一実施形態では、第一のチャネルは、第二のスルーホールを第四のスルーホールに接続する。
【0016】
上記のバルブマニホールドの一実施形態では、第二のチャネルは、第三のスルーホールを第四のスルーホールに接続する。
【0017】
上記のバルブマニホールドの一実施形態では、第一、第二、第三、第四及び第五のスルーホールは、第一及び第二のチャネルと一緒になって、単一の連続的な流路を形成する。
【0018】
上記のバルブマニホールドの一実施形態では、バルブマニホールドは、第一の層と第二の層との間に配置された第一のガスケットであって、第一のスルーホール及び第一のチャネルに対して形状が対応する第一の複数の開口部を備える、第一のガスケットと、第二の層と第三の層との間に配置された第二のガスケットであって、第五のスルーホール及び第二のチャネルに対して形状が対応する第二の複数の開口部を備える、第二のガスケットと、を更に備える。
【0019】
更に別の態様によれば、システムは、入口を備える反応チャンバと、単一の連続的な流路を有するバルブマニホールドであって、反応チャンバに接続された第一の層であって、入口と整列した第一のスルーホールと、第一のチャネルとを備える、第一の層と、第一の層の上方に配置された第二の層であって、第二のスルーホール、第三のスルーホール、及び第四のスルーホールを備える複数のスルーホールを備え、第三のスルーホールが第一のスルーホールと整列し、第二及び第四のスルーホールが第一のチャネルと整列した、第二の層と、第二の層の上方に配置された第三の層であって、第二のスルーホールと整列した第五のスルーホールと、第三及び第四のスルーホールと整列し、かつこれらを接続する第二のチャネルとを備える、第三の層とを備えるバルブマニホールドと、を備える。
【0020】
上記のシステムの一実施形態では、装置は、第一の層と第二の層との間に配置された第一のガスケットであって、第一のスルーホール及び第一のチャネルに対して形状が対応する第一の複数の開口部を備える、第一のガスケットと、第二の層と第三の層の間に配置された第二のガスケットであって、第五のスルーホール及び第二のチャネルに対して形状が対応する第二の複数の開口部を備える、第二のガスケットと、を更に備える。
【0021】
上記のシステムの一実施形態では、第一のチャネルは、第二のスルーホールを第四のスルーホールに接続する。
【0022】
上記のシステムの一実施形態では、第二、第三及び第四のスルーホールは、垂直に配向され、かつ第二の層の表面から第二の層と反対向きでかつ平行な表面に延在する。
【0023】
上記のシステムの実施形態では、第一のチャネルは、第一の層の表面に配置され、また第二のチャネルは、第三の層の表面に配置される。
【0024】
本技術のより完全な理解は、以下の例示的な図面に関連して考慮される時に、発明を実施するための形態を参照することによって得られる場合がある。以下の図において、同様の参照番号は、図全体を通して、同様の要素及び工程を指す。
【図面の簡単な説明】
【0025】
図1図1は、本技術の例示的な一実施形態によるシステムを、代表的に図示する。
図2図2は、本技術の例示的な一実施形態によるバルブマニホールドの側面図を、代表的に図示する。
図3図3は、本技術の例示的な一実施形態によるバルブマニホールドの分解図を、代表的に図示する。
図4図4は、本技術の例示的な一実施形態によるバルブマニホールドの上部層の側面図を、代表的に図示する。
図5図5は、本技術の例示的な一実施形態によるバルブマニホールドの中間層の側面図を、代表的に図示する。
図6図6は、本技術の例示的な一実施形態によるバルブマニホールドの底部層の側面図を、代表的に図示する。
図7図7は、本技術の例示的な一実施形態によるバルブマニホールドの上部層の上面図を、代表的に図示する。
図8図8は、本技術の例示的な一実施形態によるバルブマニホールドの中間層の上面図を、代表的に図示する。
図9図9は、本技術の例示的な一実施形態によるバルブマニホールドの底部層の上面図を、代表的に図示する。
図10図10は、本技術の例示的な一実施形態によるバルブマニホールドの流路を、代表的に図示する。
【発明を実施するための形態】
【0026】
本技術は、機能ブロックの構成要素、及び様々な処理工程に関して記述されてもよい。こうした機能ブロックは、特定された機能を実施するように、及び様々な結果を達成するように構成された、任意の数の構成要素によって実現されてもよい。例えば、本技術は、様々なシャワーヘッド、反応チャンバ、及びサセプタを採用してもよい。更に、本技術は、所望の処理工程を達成するために、任意の数の前駆体、及び/又は反応物質を使用してもよい。
【0027】
図1を参照すると、例示的なシステム100は、ウエハ135などの基材を処理するための、反応チャンバ105を備えてもよい。反応チャンバ105は、処理チャンバ125、及びシャワーヘッドアセンブリ120を備えてもよい。処理チャンバ125は、ウエハ135を処理するために構成された、内部空間を備えてもよい。例えば、処理チャンバ125は、所望の温度、圧力、コンダクタンスなどを達成するために、排気ダクト、発熱体、センサなどを備えてもよい。
【0028】
シャワーヘッドアセンブリ120は、上面150及び底面155を備えてもよい。上面及び底面150、155は水平に配向されてもよく、表面155、155は互いに平行である。シャワーヘッドアセンブリ120は、シャワーヘッドアセンブリの底面150で終了し、かつ前駆体及び/又は反応物質をウエハ135に向かって流すように構成された、複数のスルーホール(図示せず)を備えてもよい。したがって、シャワーヘッドアセンブリ120は、ウエハ135及び処理チャンバ125の上方に、位置付けられてもよい。
【0029】
システム100は、処理チャンバ125の内部空間内に配置され、かつウエハ135を支持するように構成された、サセプタ130を更に備えてもよい。サセプタ130は、台座140によって支持されてもよい。様々な実施形態では、サセプタ130は、z軸(Z)に沿って、例えば、第一の位置から第二の位置へ、上下に移動するように構成されてもよい。他の事例では、サセプタ130は、静止したままであってもよい。
【0030】
様々な実施形態では、サセプタ130は、セラミック(アルミナ、AlOx)、又は金属(例えば、ステンレス鋼、ハステロイなどの金属材料)から形成されてもよい。サセプタ130は、水平に配向され、かつシャワーヘッドアセンブリ120の直下に位置付けられた、上面を備えてもよい。ウエハ135(又は、他の基材)は、処理中にサセプタ130の上面上に置かれてもよい。
【0031】
サセプタ130は、処理中にウエハ135を任意の所望の温度に加熱するように構成された、発熱体(図示せず)を備えてもよい。発熱体は、任意の適切な発熱体を備えてもよく、また任意の所望の形状又はパターンで配置されてもよい。様々な実施形態では、サセプタ130は、リフトピン(図示せず)がその中に配置されてもよい、スルーホール(図示せず)を更に備えてもよい。
【0032】
システム100は、様々な前駆体及び/又は反応物質を、シャワーヘッドアセンブリ120を介して処理チャンバ125に送達するための、バルブマニホールド110を更に備えてもよい。様々な実施形態では、バルブマニホールド110は、シャワーヘッドアセンブリ120の上面150上に、位置付けられてもよい。
【0033】
様々な実施形態で、また図3~10を参照すると、バルブマニホールド110は、上部層210、中間層205、及び底部層200を備えてもよい。各層210、205、200は、アルミニウム、ステンレス鋼、ニッケル合金、ハステロイ、又は任意の他の適切な材料などの、金属材料から形成されてもよい。様々な実施形態では、上部層、中間層、及び底部層、210、205、200は、ボルト、ねじなどの、任意の適切な締結具を用いて、一緒に接続される、又は別の方法で固定される。様々な実施形態では、底部層200は、ボルト、ねじなどの、任意の適切な締結具を使用して、シャワーヘッドアセンブリ120の上面150に、直接取り付けられてもよい。
【0034】
様々な実施形態では、底部層200は、第一の表面225と、第一の表面225と平行な、反対向きの第二の表面230とを、備えてもよい。底部層200は、第一の表面225から第二の表面230へと延在する、第一のスルーホール300を更に備えてもよい。例示的な実施形態では、第一のスルーホール300は、円形断面を有してもよいが、他の実施形態では、第一のスルーホール300は、任意の適切な形状を有してもよい。様々な実施形態では、第一のスルーホール300は、シャワーヘッドアセンブリ120の上面150に配置された入口と、整列してもよい。
【0035】
底部層200は、第二の表面225に配置された第一のチャネル305を、更に備えてもよい。具体的には、第一のチャネル305は、底部層200の第二の表面225内に溝を備える。第一のチャネル305は、第一の終端600及び第二の終端605を、更に備える。様々な実施形態では、第一のチャネル305は、L字形状又はC字形状を形成してもよい。しかしながら、第一のチャネル305は、任意の他の適切な形状を有してもよい。
【0036】
様々な実施形態では、中間層205は、第三の表面235と、第三の表面235と平行な、反対向きの第四の表面240とを、備えてもよい。第三の表面235は、底部層200の第二の表面230に隣接してもよい。中間層205は、複数のスルーホールを更に備えてもよい。例えば、中間層205は、第二のスルーホール310、第三のスルーホール315、及び第四のスルーホール320を備えてもよい。複数のスルーホールからの各スルーホール310、315、320は、第三の表面235から第四の表面240まで、延在してもよい。例示的な実施形態では、第二、第三及び第四のスルーホールは、円形断面を有してもよいが、他の実施形態では、スルーホール310、315、320は、任意の適切な形状を有してもよい。様々な実施形態では、第三のスルーホール315は、第一のスルーホール300と同一の断面形状及びサイズを有してもよい。
【0037】
様々な実施形態では、第二及び第四のスルーホール310、320は、第一のチャネル305と整列してもよく、これにより第一のチャネル305は、スルーホール310、320の第一の端部を接続することを介して、第二及び第四のスルーホール310、320を接続する。例えば、第二のスルーホール310は、第一のチャネル305の第一の端部600と整列してもよく、一方で、第四のスルーホールは、第一のチャネル305の第二の端部605と整列する。
【0038】
様々な実施形態では、上部層210は、第五の表面245と、第五の表面245と平行な、反対向きの第六の表面250とを、備えてもよい。第五の表面245は、中間層205の第四の表面240に隣接してもよい。上部層210は、第五の表面245から第六の表面250に延在する、第五のスルーホール325を更に備えてもよい。例示的な実施形態では、第五のスルーホール325は、円形断面を有してもよいが、他の実施形態では、第五のスルーホール325は、任意の適切な形状を有してもよい。例示的な実施形態では、第五のスルーホール325は、第二のスルーホール310と同一の断面形状及びサイズを有してもよい。
【0039】
上部層210は、第五の表面245に配置された第二のチャネル330を、更に備えてもよい。具体的には、第二のチャネル330は、上部層200の第五の表面245内に溝を備える。第二のチャネル330は、第一の終端部400及び第二の終端部405を、更に備える。様々な実施形態では、第三及び第四のスルーホール315、320は、第二のチャネル330と整列してもよく、これにより第二のチャネル330は、スルーホール315、320の第二の端部を直接接続することを介して、第三及び第四のスルーホール315、320を接続する。例えば、第三のスルーホール310は、第二のチャネル330の第一の端部400と整列してもよく、一方で、第四のスルーホールは、第二のチャネル330の第二の端部405と整列する。例示的な実施形態では、第二のチャネル330は、直線形状を有してもよいが、第二のチャネル330は、任意の他の適切な形状を有してもよい。
【0040】
様々な実施形態では、並びに図2及び7~9を参照すると、バルブマニホールド110は、底部層200と中間層205との間に配置されて、それぞれの層の間に封止を提供する、第一のガスケット215を、更に備えてもよい。第一のガスケット215は、層の幅W及び長さL全体にわたって延在する、ゴム、フルオロポリマーエラストマー、及び合成ゴム化合物、又は任意の他の適切な封止材料などの、実質的に平坦な封止材料のシートを含んでもよい。
【0041】
第一のガスケット215は、第一のスルーホール300及び第一のチャネル305に対してサイズ及び形状が対応する、複数の開口部を備えて、第一のスルーホール300が第三のスルーホール315に接続することを可能にし、また第一のチャネル305が第二及び第四のスルーホール310、320に接続することを可能にしてもよい。
【0042】
様々な実施形態では、バルブマニホールド110は、中間層205と上部層210との間に配置されて、それぞれの層の間に封止を提供する、第二のガスケット220を、更に備えてもよい。第一のガスケット215は、層の幅W及び長さL全体にわたって延在する、ゴム、フルオロポリマーエラストマー、及び合成ゴム化合物、又は任意の他の適切な封止材料などの、実質的に平坦な封止材料のシートを含んでもよい。
【0043】
第二のガスケット220は、第五のスルーホール325及び第二のチャネル330に対してサイズ及び形状が対応する、複数の開口部を備えて、第五のスルーホール325が第二のスルーホール310に接続することを可能にし、また第二のチャネル305が第三及び第四のスルーホール315、320に接続することを可能にしてもよい。
【0044】
代替的な実施形態では、また図1、2、6、及び9を参照すると、バルブマニホールド110は、上部層210及び中間層205のみを含んでもよい。この場合、底部層200は省略されてもよく、また第一のスルーホール300及び第一のチャネル305は、代わりに、シャワーヘッドアセンブリ120の上面150に、直接機械加工されてもよい。
【0045】
動作中、及び図10を参照すると、ガスは、第一、第二、第三、第四及び第五のスルーホール300、310、315、320、325、並びに第一及び第二のチャネル305、330によって形成された流路に沿って流れてもよい。例示的な実施形態では、第一、第二、第三、第四及び第五のスルーホール300、310、315、320、325、並びに第一及び第二のチャネル305、330は、単一の連続的な流路1000を形成する。具体的には、ガスは、第五のスルーホール325においてバルブマニホールド110に入ってもよく、そして第五のスルーホール325を通って第二のスルーホール310へと流れてもよい。ガスは、第二のスルーホール310を通って第一のチャネル305へと流れてもよく、ここでガスは、第一のチャネル305を介して第四のスルーホール320に向けられる。ガスは、第四のスルーホールを通って第二のチャネル305へと流れてもよく、ここでガスは、第二のチャネル305を介して第三のスルーホール315に向けられる。ガスは、第三のスルーホール315を通って流れ、次いで、第一のスルーホール300を通って流れ、次いで、バルブマニホールド110を出てもよい。
【0046】
前述の記述では、技術は、特定の例示的な実施形態を参照しながら、記述されている。示され、かつ記述された特定の実施は、本技術及びその最良の形態の例示であり、そして本技術の範囲を、いかなるやり方でも、別の方法で限定することを意図しない。実際、簡潔のために、従来の製造、接続、調製、並びに方法及びシステムの他の機能的態様は、詳細に記述されていない場合がある。更に、様々な図に示される接続線は、様々な要素間の、例示的な機能的関係、及び/又はステップを表すことを、意図する。多くの代替的若しくは追加の機能的関係、又は物理的接続が、実際のシステムに存在してもよい。
【0047】
本技術は、特定の例示的な実施形態を参照しながら、記述されている。しかしながら、様々な修正及び変更が、本技術の範囲から逸脱することなく、行われてもよい。記述及び図面は、制限的なものではなく、例示の様態にあると見なされ、また全てのそのような修正は、本技術の範囲内に含まれることが意図される。したがって、技術の範囲は、単に、上述した特定の例のみではなく、記述される一般的な実施形態、及びその法的均等物によって、決定されるべきである。例えば、任意の方法、又はプロセスの実施形態に列挙されたステップは、別の方法で明示的に指定されない限り、任意の順序で実行されてもよく、また特定の実施例に提示される明示的な順序に限定されない。更に、任意の装置の実施形態に列挙された構成要素及び/又は要素は、本技術と実質的に同じ結果を生成するために、様々な順列で組み立てられてもよく、又は別の方法で動作可能に構成されてもよく、したがって、特定の実施例に列挙された特定の構成に限定されない。
【0048】
恩恵、他の利点、及び問題に対する解決策を、具体的な実施形態に関して、上述してきた。何らかの恩恵、利点、問題に対する解決策、又は何らかの特定の恩恵、利点、又は解決策を引き起こす場合がある何らかの要素を生じさせる場合がある、若しくはより顕著にさせる場合がある何らかの要素は、しかしながら、重要な、必要とされる、又は必須の特徴若しくは構成要素としては、解釈されない。
【0049】
「備える(comprises)」、「備えている(comprising)」という用語、又はその何らかの他の変形は、要素のリストを備えるプロセス、方法、物品、構成要素、又は装置が、列挙されたそれらの要素のみを含むのではなく、明示的に列挙されていない、又はそのようなプロセス、方法、物品、構成要素、若しくは装置に固有の、他の要素も含んでもよいように、非限定的包含を参照することを意図している。具体的に列挙されていないものに加えて、本技術の実践において使用される上述の構造、配置、用途、割合、要素、材料、又は構成要素の、その他の組み合わせ及び/又は修正は、特定の環境、製造仕様、設計パラメータ、又はその他の動作要件に、それらの一般原理から逸脱することなく、変更されてもよく、又は別の方法で具体的に適合されてもよい。
【0050】
本技術を、例示的な実施形態を参照しながら、上述してきた。しかしながら、本技術の範囲から逸脱することなく、例示的な実施形態に、変更及び修正を加えてもよい。これら及び他の変更又は修正は、以下の特許請求の範囲で表される通り、本技術の範囲内に含まれることが意図されている。
図1
図2
図3
図4
図5
図6
図7
図8
図9
図10
【手続補正書】
【提出日】2024-04-01
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0028
【補正方法】変更
【補正の内容】
【0028】
シャワーヘッドアセンブリ120は、上面150及び底面155を備えてもよい。上面及び底面150、155は水平に配向されてもよく、上面150及び底面155は互いに平行である。シャワーヘッドアセンブリ120は、シャワーヘッドアセンブリの底面150で終了し、かつ前駆体及び/又は反応物質をウエハ135に向かって流すように構成された、複数のスルーホール(図示せず)を備えてもよい。したがって、シャワーヘッドアセンブリ120は、ウエハ135及び処理チャンバ125の上方に、位置付けられてもよい。
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0033
【補正方法】変更
【補正の内容】
【0033】
様々な実施形態で、また図~10を参照すると、バルブマニホールド110は、上部層210、中間層205、及び底部層200を備えてもよい。各層210、205、200は、アルミニウム、ステンレス鋼、ニッケル合金、ハステロイ、又は任意の他の適切な材料などの、金属材料から形成されてもよい。様々な実施形態では、上部層、中間層、及び底部層、210、205、200は、ボルト、ねじなどの、任意の適切な締結具を用いて、一緒に接続される、又は別の方法で固定される。様々な実施形態では、底部層200は、ボルト、ねじなどの、任意の適切な締結具を使用して、シャワーヘッドアセンブリ120の上面150に、直接取り付けられてもよい。
【手続補正3】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0035
【補正方法】変更
【補正の内容】
【0035】
底部層200は、第二の表面230に配置された第一のチャネル305を、更に備えてもよい。具体的には、第一のチャネル305は、底部層200の第二の表面230内に溝を備える。第一のチャネル305は、第一の終端600及び第二の終端605を、更に備える。様々な実施形態では、第一のチャネル305は、L字形状又はC字形状を形成してもよい。しかしながら、第一のチャネル305は、任意の他の適切な形状を有してもよい。
【手続補正4】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0039
【補正方法】変更
【補正の内容】
【0039】
上部層210は、第五の表面245に配置された第二のチャネル330を、更に備えてもよい。具体的には、第二のチャネル330は、上部層210の第五の表面245内に溝を備える。第二のチャネル330は、第一の終端部400及び第二の終端部405を、更に備える。様々な実施形態では、第三及び第四のスルーホール315、320は、第二のチャネル330と整列してもよく、これにより第二のチャネル330は、スルーホール315、320の第二の端部を直接接続することを介して、第三及び第四のスルーホール315、320を接続する。例えば、第三のスルーホール315は、第二のチャネル330の第一の端部400と整列してもよく、一方で、第四のスルーホールは、第二のチャネル330の第二の端部405と整列する。例示的な実施形態では、第二のチャネル330は、直線形状を有してもよいが、第二のチャネル330は、任意の他の適切な形状を有してもよい。
【手続補正5】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0043
【補正方法】変更
【補正の内容】
【0043】
第二のガスケット220は、第五のスルーホール325及び第二のチャネル330に対してサイズ及び形状が対応する、複数の開口部を備えて、第五のスルーホール325が第二のスルーホール310に接続することを可能にし、また第二のチャネル330が第三及び第四のスルーホール315、320に接続することを可能にしてもよい。
【手続補正6】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0045
【補正方法】変更
【補正の内容】
【0045】
動作中、及び図10を参照すると、ガスは、第一、第二、第三、第四及び第五のスルーホール300、310、315、320、325、並びに第一及び第二のチャネル305、330によって形成された流路に沿って流れてもよい。例示的な実施形態では、第一、第二、第三、第四及び第五のスルーホール300、310、315、320、325、並びに第一及び第二のチャネル305、330は、単一の連続的な流路1000を形成する。具体的には、ガスは、第五のスルーホール325においてバルブマニホールド110に入ってもよく、そして第五のスルーホール325を通って第二のスルーホール310へと流れてもよい。ガスは、第二のスルーホール310を通って第一のチャネル305へと流れてもよく、ここでガスは、第一のチャネル305を介して第四のスルーホール320に向けられる。ガスは、第四のスルーホールを通って第二のチャネル330へと流れてもよく、ここでガスは、第二のチャネル330を介して第三のスルーホール315に向けられる。ガスは、第三のスルーホール315を通って流れ、次いで、第一のスルーホール300を通って流れ、次いで、バルブマニホールド110を出てもよい。
【手続補正7】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項1】
バルブマニホールドであって、
第一の層であって、
第一の表面と、
前記第一の表面と反対向きで、かつ平行な第二の表面と、
前記第一の表面から前記第二の表面に延在する第一のスルーホールと、
前記第二の表面に配置された第一のチャネルと、を備える、第一の層と、
前記第一の層の上方に配置された第二の層であって、
前記第二の表面に隣接した第三の表面と、
前記第三の表面と反対向きで、かつ平行な第四の表面と、
前記第三の表面から前記第四の表面に延在する複数のスルーホールと、を備える、第二の層と、
前記第二の層の上方に配置された第三の層であって、
前記第四の表面に隣接した第五の表面と、
前記第五の表面と反対向きで、かつ平行な第六の表面と、
前記第五の表面から前記第六の表面に延在する第五のスルーホールと、
前記第五の表面に配置された第二のチャネルと、を備える、第三の層と、を備える、バルブマニホールド。
【請求項2】
前記複数のスルーホールが、第二のスルーホール、第三のスルーホール、及び第四のスルーホールを含む、請求項1に記載のバルブマニホールド。
【請求項3】
前記第一のチャネルが、前記第二のスルーホールを前記第四のスルーホールに接続する、請求項2に記載のバルブマニホールド。
【請求項4】
前記第二のチャネルが、前記第三のスルーホールを前記第四のスルーホールに接続する、請求項2に記載のバルブマニホールド。
【請求項5】
前記第一、第二、第三、第四及び第五のスルーホールが、前記第一及び第二のチャネルと一緒になって、単一の連続的な流路を形成する、請求項2に記載のバルブマニホールド。
【請求項6】
前記第五のスルーホールが、前記複数のスルーホールからの1つのスルーホールと整列する、請求項1に記載のバルブマニホールド。
【請求項7】
前記第一のスルーホールが、前記複数のスルーホールからの1つのスルーホールと整列する、請求項1に記載のバルブマニホールド。
【請求項8】
前記第一のチャネルが、前記複数のスルーホールからの少なくとも2つのスルーホールと整列する、請求項1に記載のバルブマニホールド。
【請求項9】
前記第二のチャネルが、前記複数のスルーホールからの少なくとも2つのスルーホールと整列する、請求項1に記載のバルブマニホールド。
【請求項10】
前記第五のスルーホールが、前記複数のスルーホールのうちの前記第二のスルーホールと整列する、請求項に記載のバルブマニホールド。
【請求項11】
バルブマニホールドであって、
第一の層であって、
第一の表面と、
前記第一の表面と反対向きで、かつ平行な第二の表面と、
前記第一の表面から前記第二の表面に延在する第一のスルーホールと、
前記第二の表面に配置された第一のチャネルと、を備える、第一の層と、
前記第一の層の上方に配置された第二の層であって、
第三の表面と、
前記第三の表面と反対向きで、かつ平行な第四の表面と、
複数のスルーホールであって、各スルーホールが、前記第三の表面から前記第四の表面に延在し、前記複数のスルーホールが、第二のスルーホール、第三のスルーホール、及び第四のスルーホールを含み、
前記第三のスルーホールが前記第一のスルーホールと整列し、
前記第二及び第四のスルーホールが前記第一のチャネルと整列する、複数のスルーホールと、を備える、第二の層と、
前記第二の層の上方に配置された第三の層であって、
第五の表面と、
前記第五の表面と反対向きで、かつ平行な第六の表面と、
前記第五の表面から前記第六の表面に延在し、かつ前記第二のスルーホールと整列する第五のスルーホールと、
前記第五の表面に配置され、かつ前記第三及び第四のスルーホールと整列する第二のチャネルと、を備える、第三の層と、を備える、バルブマニホールド。
【請求項12】
前記第一のチャネルが、前記第二のスルーホールを前記第四のスルーホールに接続する、請求項11に記載のバルブマニホールド。
【請求項13】
前記第二のチャネルが、前記第三のスルーホールを前記第四のスルーホールに接続する、請求項11に記載のバルブマニホールド。
【請求項14】
前記第一、第二、第三、第四及び第五のスルーホールが、前記第一及び第二のチャネルと一緒になって、単一の連続的な流路を形成する、請求項11に記載のバルブマニホールド。
【請求項15】
バルブマニホールドであって、
前記第一の層と前記第二の層との間に配置され、かつ前記第一のスルーホール及び前記第一のチャネルに対して形状が対応する、第一の複数の開口部を備える、第一のガスケットと、
前記第二の層と前記第三の層との間に配置され、かつ前記第五のスルーホール及び前記第二のチャネルに対して形状が対応する、第二の複数の開口部を備える、第二のガスケットと、を備える、請求項11に記載のバルブマニホールド。
【請求項16】
システムであって、
入口を備える反応チャンバと、
単一の連続的な流路を有するバルブマニホールドであって、
前記反応チャンバに接続された第一の層であって、
前記入口と整列した第一のスルーホールと、
第一のチャネルと、を備える、第一の層と、
前記第一の層の上方に配置された第二の層であって、
第二のスルーホール、第三のスルーホール、及び第四のスルーホールを備える複数のスルーホールであって、
前記第三のスルーホールが前記第一のスルーホールと整列し、かつ
前記第二及び第四のスルーホールが前記第一のチャネルと整列する、複数のスルーホールを備える、第二の層と、
前記第二の層の上方に配置された第三の層であって、
前記第二のスルーホールと整列した第五のスルーホールと、
前記第三及び第四のスルーホールと整列し、かつ接続する、第二のチャネルと、を備える、第三の層と、を備える、バルブマニホールドと、を備える、システム。
【請求項17】
前記装置が、
前記第一の層と前記第二の層との間に配置され、かつ前記第一のスルーホール及び前記第一のチャネルに対して形状が対応する、第一の複数の開口部を備える、第一のガスケットと、
前記第二の層と前記第三の層との間に配置され、かつ前記第五のスルーホール及び前記第二のチャネルに対して形状が対応する、第二の複数の開口部を備える、第二のガスケットと、を更に備える、請求項16に記載のシステム。
【請求項18】
前記第一のチャネルが、前記第二のスルーホールを前記第四のスルーホールに接続する、請求項16に記載のシステム。
【請求項19】
前記第二、第三及び第四のスルーホールが垂直に配向され、かつ前記第二の層の表面から前記第二の層と反対向きの、平行な表面に延在する、請求項16に記載のシステム。
【請求項20】
システムであって、
前記第一のチャネルが前記第一の層の表面に配置され、かつ
前記第二のチャネルが前記第三の層の表面に配置される、請求項16に記載のシステム。
【外国語明細書】