特開 2024-69871 半導体エピタキシャル基板の製造方法、半導体エピタキシャル基板、及び半導体装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2024069871

(43)【公開日】2024-05-22

(54)【発明の名称】半導体エピタキシャル基板の製造方法、半導体エピタキシャル基板、及び半導体装置

(51)【国際特許分類】

   H01L 29/872 20060101AFI20240515BHJP

   H01L 21/329 20060101ALI20240515BHJP

   C30B 29/36 20060101ALI20240515BHJP

   H01L 21/205 20060101ALI20240515BHJP

   H01L 29/47 20060101ALN20240515BHJP

【ＦＩ】

H01L29/86 301D

H01L29/86 301P

C30B29/36 A

H01L21/205

H01L29/48 D

H01L29/48 P

【審査請求】未請求

【請求項の数】5

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2022180129

(22)【出願日】2022-11-10

(71)【出願人】

【識別番号】000190149

【氏名又は名称】信越半導体株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100102532

【弁理士】

【氏名又は名称】好宮 幹夫

(74)【代理人】

【識別番号】100194881

【弁理士】

【氏名又は名称】小林 俊弘

(74)【代理人】

【識別番号】100215142

【弁理士】

【氏名又は名称】大塚 徹

(72)【発明者】

【氏名】大槻 剛

(72)【発明者】

【氏名】松原 寿樹

(72)【発明者】

【氏名】鈴木 温

(72)【発明者】

【氏名】阿部 達夫

【テーマコード（参考）】

4G077

4M104

5F045

【Ｆターム（参考）】

4G077AA03

4G077AB02

4G077BE08

4G077DB04

4G077DB07

4G077EE08

4G077HA06

4M104AA03

4M104BB02

4M104BB06

5F045AA06

5F045AB06

5F045AC01

5F045AC07

5F045AD18

5F045AE23

5F045AF02

5F045BB16

5F045HA05

(57)【要約】

【課題】
転位の拡長による順方向劣化を容易に抑制できる半導体エピタキシャル基板の製造方法の提供を目的とする。
【解決手段】
４Ｈ－ＳｉＣ基板の表面にＨ^＋を注入するイオン注入工程と、前記イオン注入工程を行った前記４Ｈ－ＳｉＣ基板の表面に４Ｈ－ＳｉＣをエピタキシャル成長させるエピタキシャル成長工程と、を含むことを特徴とする半導体エピタキシャル基板の製造方法。
【選択図】図１

【特許請求の範囲】

【請求項1】

４Ｈ－ＳｉＣ基板の表面にＨ^＋を注入するイオン注入工程と、
前記イオン注入工程を行った前記４Ｈ－ＳｉＣ基板の表面に４Ｈ－ＳｉＣをエピタキシャル成長させるエピタキシャル成長工程と、
を含むことを特徴とする半導体エピタキシャル基板の製造方法。

【請求項2】

前記イオン注入工程において、イオン源として水素ガス、又は水素を含む化合物を用いることを特徴とする、請求項１に記載の半導体エピタキシャル基板の製造方法。

【請求項3】

前記イオン注入工程において、前記４Ｈ－ＳｉＣ基板の表面へのＨ^＋注入量を１×１０^１３ａｔｏｍｓ／ｃｍ^２以上、５×１０^１５ａｔｏｍｓ／ｃｍ^２以下とすることを特徴とする請求項１に記載の半導体エピタキシャル基板の製造方法。

【請求項4】

Ｈ^＋が注入された注入層を有する４Ｈ－ＳｉＣ基板と、
前記４Ｈ－ＳｉＣ基板上に設けられた４Ｈ－ＳｉＣのエピタキシャル層と、
を備えることを特徴とする半導体エピタキシャル基板。

【請求項5】

請求項４に記載の半導体エピタキシャル基板を備えることを特徴とする半導体装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、半導体エピタキシャル基板の製造方法、半導体エピタキシャル基板、及び半導体装置に関する。

【背景技術】

【0002】

ＳｉＣは、２．２～３．３ｅＶという広いバンドギャップを有することから高い絶縁破壊強度を有し、また熱伝導率も大きいためパワーデバイスや高周波用デバイスなどの各種半導体デバイス用の半導体材料として期待されている材料である。

【0003】

しかしながら、ＳｉＣを用いてダイオードなど実際の素子を作製した場合に順方向に通電した場合、多数のキャリアが基板に注入されて転位が拡張することで、順方向特性が変動してしまい（Ｖｆ変動）、動作が不安定になり信頼性が損なわれる、順方向劣化と呼ばれる現象が生じることが知られており、大きな問題である（非特許文献１）。

【0004】

この転位の拡張を止める方法として、Ｃｕイオンを注入する方法（非特許文献２）が2010年に提案されたのち、最近になってＨ^＋でも同様の効果があることが報告されている（非特許文献３及び４）。
具体的には非特許文献３、４ではＨ^＋を１×１０^１５ａｔｏｍｓ／ｃｍ^２程度注入する方法が提案されている。この方法は高ドーズのＨ^＋を深い位置（ＳｉＣエピタキシャルであれば５μｍ以上）に注入することが必要であるが、装置構成上、Ｈ^＋の高いドーズ量と深い位置（高加速）を同時に満たすことが難しく実際の応用には課題がある（高加速を優先すると、１枚のＳｉＣウェーハにＨ^＋を注入するのに１０時間以上を要する）。

【0005】

このＨ^＋のＳｉＣへの注入に関しては他にもいくつかの先行技術が報告されている。特許文献１には、２枚のＳｉＣ単結晶ウェーハを準備し、それぞれに酸化膜を形成したのち、片方の基板に水素イオンを注入し、その後、酸化膜を介して室温で接合一体化してから、５００℃以上に加熱処理することにより水素イオン注入された箇所でＳｉＣ単結晶ウェーハを２分割し半導体電子素子用基板を作製する方法が開示されている。この方法では、接合部に酸化膜が存在しており、縦方向デバイスとする際に、この酸化膜が絶縁層として機能しパワーデバイス基板としての機能が大きく制限されてしまう。また、特許文献２には、Ｈ^＋注入した単結晶と多結晶のＳｉＣ基板を貼り合わせたのちに、単結晶及び多結晶それぞれを剥離する方法が開示されているが、２回剥離をおこなうことによるコストの増加とそれぞれ所定の工程で剥離をおこなう難しさがあり、また順方向劣化については言及がされていない。さらに、特許文献３では、不純物濃度と欠陥密度に注目しており欠陥密度の少ない高抵抗基板をＨ^＋注入を用いて転写する方法が開示されている。この方法は、もともとの基板に存在する欠陥を低減する方法ではあるが、その後の信頼性に関わる順方向劣化については言及がない。さらに、特許文献４には、Ｈ^＋による基板剥離のもととなる技術が開示されており、拡散バリア（酸素拡散バリア）機能については言及があるが、こちらも順方向劣化については言及がない。最後の特許文献５はＨ^＋による分離への記述はあるが、同じく順方向劣化に対する解決策は示されていない。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0006】

【特許文献1】特開平１１－００３８４２号公報

【特許文献2】特開２０１６－０１８８９０号公報

【特許文献3】特開２０１４－０２２７１１号公報

【特許文献4】特開２００７－３２９４７０号公報

【特許文献5】特開２００７－２２７４１５号公報

【非特許文献】

【0007】

【非特許文献1】M. Skowronski and S. Ha, “Degradation of hexagonal silicon-carbide-based bipolar devices”, J. Appl., Phys., 99, 01101(2006).

【非特許文献2】B. Chen, H. Matsuhara, T. Sekiguchi, T. Ohyanagi, A. Kinoshita and H. Okumura, “Pinning of recombination-enhanced dislocation mition in 4H-SiC : Role of Cu and EH1 complex”, Appl. Phys. Lett., 96, 212110(2010).

【非特許文献3】M. Kato, O. Watanabe, T. Mii, H. Sakane, S. Harada, “Suppression of stacking fault expansion in SiC PiN diodes by H+ implantation”, Abstract of 19th International Conference on Silicon Carbide and Related Materials, 453(2022).

【非特許文献4】S. Harada, T. Mii, H. Sakane, M. Kato, “Suppression of recombination enhanced dislocation glide motion in 4HSiC by hydrogen ion implantation”, Abstract of 19th International Conference on Silicon Carbide and Related Materials, 459(2022).

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0008】

このように、ＳｉＣ基板にＨ^＋を注入する方法は多数知られているが、順方向劣化を現実的に解決するには課題がある。

【0009】

本発明は、上記課題を解決するためになされたものであり、上記のＳｉＣ素子の順方向劣化の問題を基板レベルで解決するためになされたものである。より詳しくは高耐圧デバイス基板として期待されている４Ｈ－ＳｉＣが、通電によりキャリアが注入されることで転位が拡張して電気特性が変化する順方向劣化（通電劣化）の問題を解決するものであり、従来よりも順方向劣化を容易に抑制することが可能となる半導体エピタキシャル基板の製造方法、半導体エピタキシャル基板、及び半導体装置を提供することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0010】

本発明は、上記目的を達成するためになされたものであり、４Ｈ－ＳｉＣ基板の表面にＨ^＋を注入するイオン注入工程と、前記イオン注入工程を行った前記４Ｈ－ＳｉＣ基板の表面に４Ｈ－ＳｉＣをエピタキシャル成長させるエピタキシャル成長工程と、を含むことを特徴とする半導体エピタキシャル基板の製造方法を提供する。

【0011】

本発明では４Ｈ－ＳｉＣ基板上にエピタキシャル層を形成する前に、この４Ｈ－ＳｉＣ基板表面にＨ^＋をイオン注入しておき、その後に４Ｈ－ＳｉＣ基板表面上に４Ｈ－ＳｉＣをエピタキシャル成長させる。こうすることで、エピタキシャル層と基板の界面にＨが存在するため、このＨが基板からエピタキシャル層への転位の拡張を抑制でき転位の拡長による順方向劣化を抑制できる。エピタキシャル成長中にＨ^＋はもちろん外方拡散するが、イオン注入によって生じたダメージによってＨ^＋がトラップされ、エピタキシャル成長中にＳｉＣ中に存在することで転位の伸展を抑制することが可能になる。また、この方法では４Ｈ－ＳｉＣ基板表面上にＨ^＋をイオン注入すればよいため、従来のＨ^＋注入技術のように４Ｈ－ＳｉＣ基板やエピタキシャル層の深い位置にイオン注入を行う必要がなく、加速電圧を高くする必要がない。そのため、従来よりも順方向劣化を容易に抑制することが可能となる。

【0012】

前記イオン注入工程において、イオン源として水素ガス、又は水素を含む化合物を用いることができる。
このように、イオン源は水素ガスを使用することはもちろん、水素を含む化合物であれば使用することが可能であり、イオン源の選択肢を広げることができる。またこの時のイオン源はＣＨ_４のようなものでもよいし、注入するイオンはクラスターイオン（例えば特表２００６－５１５７１１号公報、特開２０１４－０９９４７７号公報に記載）のようなものでもよく、適宜選択される。

【0013】

前記イオン注入工程において、前記４Ｈ－ＳｉＣ基板の表面へのＨ^＋注入量を１×１０^１３ａｔｏｍｓ／ｃｍ^２以上、５×１０^１５ａｔｏｍｓ／ｃｍ^２以下とすることができる。
Ｈ^＋の濃度は、その後の熱処理などで変化するので、適宜決定されるが、Ｈ^＋注入量を１×１０^１３ａｔｏｍｓ／ｃｍ^２以上とすることで、エピタキシャル層への転位の拡張を抑制するのに必要なＨ^＋の濃度を十分に確保できる。また、Ｈ^＋注入量を５×１０^１５ａｔｏｍｓ／ｃｍ^２以下とすることで、その後の熱処理の際に、Ｈ^＋を注入した注入層を起点に４Ｈ－ＳｉＣ基板からエピタキシャル層が剥離するのを十分に防止できる。

【0014】

また本発明は、Ｈ^＋が注入された注入層を有する４Ｈ－ＳｉＣ基板と、前記４Ｈ－ＳｉＣ基板上に設けられた４Ｈ－ＳｉＣのエピタキシャル層と、を備えることを特徴とする半導体エピタキシャル基板を提供する。
この構成により、注入層内のＨ^＋がエピタキシャル層の転位の拡張を抑制でき、転位の拡長による順方向劣化を容易に抑制できるものとなる。

【0015】

そして、本発明は、上記に記載の半導体エピタキシャル基板を備えることを特徴とする半導体装置である。
この構成では、半導体装置が転位の拡長による順方向劣化が抑制された半導体エピタキシャル基板を備えるため、半導体装置も順方向劣化による信頼性の低下が抑制できるものとなる。

【発明の効果】

【0016】

以上のように、本発明の半導体エピタキシャル基板の製造方法によれば、従来よりも順方向劣化を容易に抑制することが可能となる。本発明の半導体エピタキシャル基板、及び、半導体装置は従来よりも順方向劣化を容易に抑制することが可能なものとなる。

【図面の簡単な説明】

【0017】

【図1】本発明の実施形態に係る半導体エピタキシャル基板の製造方法のフロー図を示す。

【図2】実施例の順方向劣化試験の試験方法の手順を示す。

【図3】実施例の順方向劣化試験におけるＶｆの測定結果を示す。

【図4】実施例の順方向劣化試験におけるＨ^＋注入量とΔＶｆの関係を示す。

【発明を実施するための形態】

【0018】

以下、本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。

【0019】

上述のように、転位の拡長による順方向劣化を容易に抑制できる半導体エピタキシャル基板の製造方法が求められていた。

【0020】

本発明者らは、上記課題について鋭意検討を重ねた結果、４Ｈ－ＳｉＣ基板の表面にＨ^＋を注入するイオン注入工程と、前記イオン注入工程を行った前記４Ｈ－ＳｉＣ基板の表面に４Ｈ－ＳｉＣをエピタキシャル成長させるエピタキシャル成長工程と、を含む方法により、従来よりも順方向劣化を容易に抑制することが可能となることを見出し、本発明を完成した。

【0021】

また本発明者らは、上記課題について鋭意検討を重ねた結果、Ｈ^＋が注入された注入層を有する４Ｈ－ＳｉＣ基板と、前記４Ｈ－ＳｉＣ基板上に設けられた４Ｈ－ＳｉＣのエピタキシャル層と、を備えることを特徴とする半導体エピタキシャル基板が、従来よりも順方向劣化を容易に抑制することが可能なものとなることを見出し、本発明を完成した。

【0022】

さらに本発明者らは、上記課題について鋭意検討を重ねた結果、上記に記載の半導体エピタキシャル基板を備えることを特徴とする半導体装置が、従来よりも順方向劣化を容易に抑制することが可能なものとなることを見出し、本発明を完成した。

【0023】

以下、本発明の実施形態に係る半導体エピタキシャル基板の製造方法、半導体エピタキシャル基板、及び半導体装置について図１を参照しながら説明する。
まず、半導体エピタキシャル基板の製造方法について説明する。

【0024】

まず、図１（ａ）に示すように４Ｈ－ＳｉＣ基板１（バルク４Ｈ－ＳｉＣ）を準備し、図１（ｂ）に示すように、この基板表面にイオン注入装置を使用して、例えば注入量が１×１０^１３ａｔｏｍｓ／ｃｍ^２以上の条件でＨ^＋のイオン注入を行い、注入層２を形成する（イオン注入工程）。この際のＨ^＋のイオン源としては水素ガスでも良いし、ＣＨ_４のような水素を含む化合物を使用してもよい。イオン源が化合物である場合、注入するイオンはクラスターイオンのようなものでもよく、適宜選択される。また、注入深さは、深くなるほど注入するＨ^＋の加速エネルギーが高くなるので、それほど深くなくてもよく、最大でも５μｍ程度（加速エネルギーで５０ｋｅＶ程度）でよい。なお、このＨ^＋の濃度１×１０^１３ａｔｏｍｓ／ｃｍ^２の条件は、ピーク濃度では、１×１０^１８ａｔｏｍｓ／ｃｍ^３に相当するため、この濃度をターゲットに注入すればよいが、好ましくはＨ^＋注入量が１×１０^１３ａｔｏｍｓ／ｃｍ^２、体積濃度では１×１０^１９ａｔｏｍｓ／ｃｍ^３以上が好ましい。Ｈ^＋注入量を１×１０^１３ａｔｏｍｓ／ｃｍ^２以上とすることで、エピタキシャル層３への転位の拡張を抑制するのに必要なＨ^＋の濃度を十分に確保できる。
一方でＨ^＋の注入量は５×１０^１５ａｔｏｍｓ／ｃｍ^２以下とするのが好ましい。その後のエピタキシャル層３を形成する際の熱処理で、Ｈ^＋を注入した注入層２を起点に４Ｈ－ＳｉＣ基板１からエピタキシャル層３が剥離するのを十分に防止できるためである。エピタキシャル層３が剥離するのをより確実に防止する観点からは、Ｈ^＋の注入量は１×１０^１５ａｔｏｍｓ／ｃｍ^２以下とするのが、より好ましい。

【0025】

イオン注入工程が終了すると、つぎに図１（ｃ）に示すようにイオン注入工程を行った４Ｈ－ＳｉＣ基板１の表面に４Ｈ－ＳｉＣのホモエピタキシャル成長をおこない、エピタキシャル層３を形成する（エピタキシャル成長工程）。具体的にはエピタキシャル成長工程時の温度は例えば１６００℃前後で、原料ガスとしてＳｉＨ_４とＣ_３Ｈ_８を使用したＣＶＤエピタキシャルをおこなえばよい。
以上の工程により図１（ｃ）に示すような半導体エピタキシャル基板４が得られる。

【0026】

次に、図１を参照して本実施形態に係る半導体エピタキシャル基板４について説明する。
本発明の半導体エピタキシャル基板４は、Ｈ^＋が注入された注入層２を有する４Ｈ－ＳｉＣ基板１と、４Ｈ－ＳｉＣ基板１上に設けられた４Ｈ－ＳｉＣのエピタキシャル層３を備える。
半導体エピタキシャル基板４は、例えば本発明に係る半導体エピタキシャル基板４の製造方法で製造できる。

【0027】

次に、図１を参照して本実施形態に係る半導体装置５について説明する。
半導体エピタキシャル基板４は半導体装置５に用いることができる。例えば図１（ｃ）に示すように半導体エピタキシャル基板４の表面であるエピタキシャル層３にデバイスを作製した後にＡｌ／Ｐｔ電極７を蒸着し、裏面である４Ｈ－ＳｉＣ基板１にＡｕ電極９を蒸着することで、ショットキーバリアダイオード（ＳＢＤ）を形成できる。よって半導体エピタキシャル基板４を備える半導体装置５としては、ショットキーバリアダイオードを形成した半導体エピタキシャル基板４を例示できる。もちろん、ダイシングすることで、半導体装置５をチップ化することもできる。

【0028】

このように本発明に係る半導体エピタキシャル基板４の製造方法では４Ｈ－ＳｉＣ基板１上にエピタキシャル層３を形成する前に、この４Ｈ－ＳｉＣ基板１の表面にＨ^＋をイオン注入しておき、その後に４Ｈ－ＳｉＣ基板１の表面上に４Ｈ－ＳｉＣをエピタキシャル成長させる。こうすることで、エピタキシャル層３と４Ｈ－ＳｉＣ基板１の界面にＨが存在するため、このＨが４Ｈ－ＳｉＣ基板１からエピタキシャル層３への転位の拡張を抑制でき転位の拡長による順方向劣化を抑制できる。また、この方法では４Ｈ－ＳｉＣ基板１の表面上にＨ^＋をイオン注入すればよいため、従来のＨ^＋注入技術のように４Ｈ－ＳｉＣ基板１やエピタキシャル層３の深い位置にイオン注入を行う必要がなく、加速電圧を高くする必要がない。そのため、従来よりも順方向劣化を容易に抑制することが可能となる。

【実施例0029】

以下、実施例に基づき本発明を具体的に説明する。図１に示す手順で半導体エピタキシャル基板４を製造して順方向劣化試験を行い、順方向特性を評価した。具体的な手順は以下の通りである。

【0030】

直径１５０ｍｍ、厚さ３５５μｍで、ｎ型、抵抗率０．０１Ω・ｃｍで（０００１）面に対して４°オフの４Ｈ－ＳｉＣ基板１を準備し、これにＨ^＋を加速エネルギー５０ｋｅＶで注入量１×１０^１２ａｔｏｍｓ／ｃｍ^２～１×１０^１６ａｔｏｍｓ／ｃｍ^２の範囲で注入した（注入は室温）。この基板に、ホットウォール型ＣＶＤ装置を用いて、Ｈ_２をキャリアガスとして、ＳｉＨ_４、Ｃ_３Ｈ_８を原料ガスとしてエピタキシャル層３の成長をおこない、半導体エピタキシャル基板４を製造した。このときの温度は１６００℃で炉内圧力は７ｋＰａとした。
この半導体エピタキシャル基板４に、直径１ｍｍのＡｌ／Ｐｔ電極７を蒸着しショットキーバリアダイオード（ＳＢＤ）を形成した（エピタキシャル層３にはＡｌ／Ｐｔ電極７を蒸着し、裏面である４Ｈ－ＳｉＣ基板１にはＡｕ電極９を蒸着した）。

【0031】

次に、製造した半導体エピタキシャル基板４に対して、実際に順方向特性を評価し、Ｈ^＋を注入した効果を確認した。

【0032】

まず、製造した半導体エピタキシャル基板４のうち、Ｈ^＋の注入量が１×１０^１３ａｔｏｍｓ／ｃｍ^２の基板に、Ａｌ／Ｐｔ電極７を使用したショットキーバリアダイオード（ＳＢＤ）を形成したものに対して、図２のようなストレスシーケンスで順方向ストレスを２０Ａ／ｃｍ^２から１００分ごとに段階的に増加させて印加し、各段階での順方向電圧Ｖｆと電流Ｉの関係を測定した。その結果、高電流ストレスを印加したにも関わらず、図３のように各段階でのＶｆの差がほとんどないため、Ｖｆの変動がほとんどみられず、すなわち本方法で形成した基板では順方向劣化がほとんどみられないことがわかった。

【0033】

次に、製造した全ての半導体エピタキシャル基板４に対して、図２のストレスシーケンスに従って順方向ストレスを印加し、初期（「Ｖｆ測定Ｉｎｉｔ．」）と「Ｖｆ測定４」でのＶｆの差をΔＶｆと定義（このときの電流値は０．０００２Ａ）し、この値を、Ｖｆ変動を示す値とした。その結果、図４に示すようにＨ^＋の注入量が多くなるほどΔＶｆが低下し、特に注入量が１×１０^１４ａｔｏｍｓ／ｃｍ^２を超えると、ΔＶｆが０に近くなり、Ｖｆ変動がほとんど見られなくなった。
以上の結果から、本発明の実施例によれば、Ｈ^＋の注入により、順方向劣化が抑制されることがわかった（図４）。

【0034】

本明細書は、以下の態様を包含する。
［１］：４Ｈ－ＳｉＣ基板の表面にＨ^＋を注入するイオン注入工程と、
前記イオン注入工程を行った前記４Ｈ－ＳｉＣ基板の表面に４Ｈ－ＳｉＣをエピタキシャル成長させるエピタキシャル成長工程と、
を含むことを特徴とする半導体エピタキシャル基板の製造方法。
［２］：前記イオン注入工程において、イオン源として水素ガス、又は水素を含む化合物を用いることを特徴とする、上記［１］に記載の半導体エピタキシャル基板の製造方法。
［３］：前記イオン注入工程において、前記４Ｈ－ＳｉＣ基板の表面へのＨ^＋注入量を１×１０^１３ａｔｏｍｓ／ｃｍ^２以上、５×１０^１５ａｔｏｍｓ／ｃｍ^２以下とすることを特徴とする上記［１］又は［２］に記載の半導体エピタキシャル基板の製造方法。
［４］：Ｈ^＋が注入された注入層を有する４Ｈ－ＳｉＣ基板と、
前記４Ｈ－ＳｉＣ基板上に設けられた４Ｈ－ＳｉＣのエピタキシャル層と、
を備えることを特徴とする半導体エピタキシャル基板。
［５］：上記［４］に記載の半導体エピタキシャル基板を備えることを特徴とする半導体装置。

【0035】

なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。

【符号の説明】

【0036】

１…４Ｈ－ＳｉＣ基板、 ２…注入層、 ３…エピタキシャル層、 ４…半導体エピタキシャル基板、 ５…半導体装置、 ７…Ａｌ／Ｐｔ電極、 ９…Ａｕ電極。

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】