特開 2024-74263 容器をクリーニングするための方法および装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2024074263

(43)【公開日】2024-05-30

(54)【発明の名称】容器をクリーニングするための方法および装置

(51)【国際特許分類】

   H01L 21/31 20060101AFI20240523BHJP

   B01J 3/00 20060101ALI20240523BHJP

   B01J 3/02 20060101ALI20240523BHJP

   B01F 21/00 20220101ALI20240523BHJP

   B01F 23/40 20220101ALI20240523BHJP

   B01F 23/70 20220101ALI20240523BHJP

   B01F 35/71 20220101ALI20240523BHJP

   B01F 35/75 20220101ALI20240523BHJP

   B01F 23/50 20220101ALI20240523BHJP

   B01F 35/90 20220101ALI20240523BHJP

   B01F 35/213 20220101ALI20240523BHJP

   B01F 35/221 20220101ALI20240523BHJP

   B01F 101/58 20220101ALN20240523BHJP

【ＦＩ】

H01L21/31 F

B01J3/00 N

B01J3/00 P

B01J3/02 101J

B01J3/02 N

B01J3/02 M

B01J3/00 Z

B01F21/00

B01F23/40

B01F23/70

B01F35/71

B01F35/75

B01F21/00 102

B01F23/50

B01F35/90

B01F35/213

B01F35/221

H01L21/31 B

B01F101:58

【審査請求】未請求

【請求項の数】20

【出願形態】ＯＬ

【外国語出願】

(21)【出願番号】P 2023194398

(22)【出願日】2023-11-15

(31)【優先権主張番号】63/426,433

(32)【優先日】2022-11-18

(33)【優先権主張国・地域又は機関】US

(71)【出願人】

【識別番号】519237203

【氏名又は名称】エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェー

(74)【代理人】

【識別番号】100108453

【弁理士】

【氏名又は名称】村山 靖彦

(74)【代理人】

【識別番号】100110364

【弁理士】

【氏名又は名称】実広 信哉

(74)【代理人】

【識別番号】100133400

【弁理士】

【氏名又は名称】阿部 達彦

(72)【発明者】

【氏名】ジェレルド・リー・ウィンクラー

(72)【発明者】

【氏名】ポール・マ

(72)【発明者】

【氏名】エリック・ジェームズ・シェロ

(72)【発明者】

【氏名】シュバム・ガーグ

(72)【発明者】

【氏名】ジョナサン・バッケ

(72)【発明者】

【氏名】トッド・ダン

(72)【発明者】

【氏名】ジャクリーン・レンチ

(72)【発明者】

【氏名】シュアイディ・ジャン

【テーマコード（参考）】

4G035

4G037

5F045

【Ｆターム（参考）】

4G035AA16

4G035AA18

4G035AB36

4G035AE13

4G035AE15

4G037AA02

4G037AA11

4G037CA18

4G037DA18

5F045BB14

5F045EE02

5F045EF05

(57)【要約】

【課題】供給源容器をクリーニングするための方法および装置を提供する。
【解決手段】本技術の様々な実施形態は、供給源容器をクリーニングするための方法および装置を提供しうる。供給源容器は、溶液を生成するために溶媒で充填、または部分的に充填されうる。溶液は、供給源容器から除去され、供給源容器に接続されている廃棄物容器内に含有される。廃棄物容器は、廃棄物容器内に陰圧を発生させ、溶液を供給源容器から引き出し、廃棄物容器の中に引き込むベローまたは他の機構を廃棄物容器の内部に有しうる。追加的に、溶液を供給源容器から廃棄物容器に引き込むために液体ポンプを使用しうる。
【選択図】図１

【特許請求の範囲】

【請求項1】

装置であって、
第一の容器であって、
側壁、頂面、および底面によって画定された内部容積であって、前記側壁が前記底面から前記頂面まで上方に延在する、内部容積と、
前記頂面に配置された第一の入口ポートと、
第一の入口に接続された第一の入口チューブであって、前記入口チューブが前記第一の容器の前記内部容積の中に延在する、第一の入口チューブと、
前記頂面から前記底面に向かって延在する第一の出口チューブと、を備える第一の容器と、
第二の容器であって、
側壁、頂面、および底面によって画定された内部容積と、
前記第二の容器の前記内部容積内に配置された、かつ拡張および収縮するように構成された機構と、
前記第一の出口チューブに接続された第二の入口チューブと、
前記機構の中に空気を流すように構成された第三の入口ポートと、
前記第二の容器の前記底面に配置された第二の出口ポートと、を備える第二の容器と、を備える装置。

【請求項2】

前記第一の入口チューブが、液体を前記第一の容器の前記内部容積に送達するように構成されている、請求項１に記載の装置。

【請求項3】

前記第一の容器の外部表面上に配置された、かつ前記第一の容器を第一の温度で維持するように構成された加熱要素をさらに備える、請求項１に記載の装置。

【請求項4】

前記第一の出口チューブと前記第二の入口チューブの間に配置された固体粒子カウンターをさらに備える、請求項１に記載の装置。

【請求項5】

前記第一の入口チューブが、前記第一の容器の前記底面の方を向いた複数のノズルをさらに備える、請求項１に記載の装置。

【請求項6】

前記第一の容器の前記内部容積内に配置された、かつ液体を検出するように構成されたセンサをさらに備える、請求項１に記載の装置。

【請求項7】

前記第二の容器の前記内部容積が、前記第一の出口ポートおよび前記第二の入口チューブを介して前記第一の容器の前記内部容積に接続されている、請求項１に記載の装置。

【請求項8】

前記第一の容器が、前記第一の容器の前記内部容積の外側に、かつ前記頂面上に配置された第一の出口ポートをさらに備え、前記第一の出口ポートが前記第一の出口チューブに接続されている、請求項１に記載の装置。

【請求項9】

前記第一の入口ポートが第一の弁を備え、前記第一の出口ポートが第二の弁を備える、請求項８に記載の装置。

【請求項10】

前記第二の出口ポートが、前記第二の容器の前記内部容積の外側に配置されていて、第三の弁を備える、請求項１に記載の装置。

【請求項11】

溶質を含有する供給源容器をクリーニングする方法であって、
第一の入口チューブを介して前記供給源容器の中に溶媒を流すことと、
前記供給源容器を前記溶媒で所定のレベルまで充填することと、
前記溶媒および溶質から溶液を生成することと、
前記供給源容器に接続された廃棄物容器を提供することと、
前記廃棄物容器内に陰圧を発生させることを含む、前記溶液を前記供給源容器から前記廃棄物容器に流すことと、
前記廃棄物容器から前記溶液を排出することと、を含む方法。

【請求項12】

前記溶液中の前記溶質の粒子状物質を検出することをさらに含む、請求項１１に記載の方法。

【請求項13】

前記廃棄物容器内に前記陰圧を発生させることが、真空源を介して前記廃棄物容器の内部に配置されたベローを圧縮することを含む、請求項１１に記載の方法。

【請求項14】

前記廃棄物容器から前記溶液を排出することが、前記ベローを加圧することによって前記ベローを拡張することを含む、請求項１３に記載の方法。

【請求項15】

前記供給源容器を加熱することと、前記供給源容器内の空気を抜くこととを含む、前記供給源容器を乾燥させることをさらに含む、請求項１１に記載の方法。

【請求項16】

前記供給源容器を第一の温度で維持することと、
前記廃棄物容器を第二の温度で維持することであって、前記第二の温度が前記第一の温度よりも低い、維持することと、をさらに含む、請求項１１に記載の方法。

【請求項17】

前記溶媒を前記供給源容器の中に流す前に、フッ素ラジカルを前記供給源容器の中に導入することをさらに含む、請求項１１に記載の方法。

【請求項18】

装置であって、
第一の容器であって、
側壁、頂面、および底面によって画定された内部容積であって、前記側壁が前記底面から前記頂面まで上方に延在する、内部容積と、
前記第一の表面に配置された、かつ第一の弁を備える第一の入口ポートと、
第一の入口に接続された第一の入口チューブであって、前記入口チューブが前記第一の容器の前記内部容積の中に延在する、第一の入口チューブと、
前記頂面から前記底面に向かって延在する第一の出口チューブと、
前記第一の容器の前記内部容積の外側に、かつ前記頂面上に配置された第一の出口ポートであって、前記第一の出口ポートが前記第一の出口チューブに接続されていて、かつ第二の弁を備える、第一の出口ポートと、を備える第一の容器と、
第二の容器であって、
側壁、頂面、および底面によって画定された内部容積と、
前記第一の出口ポートを介して前記第一の出口チューブに接続された第二の入口チューブと、
第三の弁を備える第二の出口ポートと、
前記第二の容器の前記内部容積に流体接続された、かつ前記第二の容器の前記底面に配置された、かつ第四の弁を備える第三の出口ポートと、を備える第二の容器と、
前記第三の弁に接続された真空ポンプと、
前記第四の弁の下流に流体接続された液体ポンプと、を備える装置。

【請求項19】

前記第一の出口ポートと前記第二の入口チューブの間に配置された固体粒子カウンターをさらに備える、請求項１８に記載の装置。

【請求項20】

前記第一の入口チューブが、前記第一の容器の前記底面の方を向いている複数のノズルをさらに備える、請求項１８に記載の装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本開示は概して、容器をクリーニングするための方法および装置に関する。より具体的に、本開示は、溶媒および付随する廃棄物容器を使用して、化学物質を保持する、かつ半導体デバイスの製造中に使用される供給源容器をクリーニングすることに関する。

【背景技術】

【0002】

容器は、半導体製造プロセス中に様々な化学物質を含有するために、かつ半導体製造ツールに送達するために使用される。これらの容器の多くは、製造プロセス中および／またはツールに依然として接続されている間に定期的に再充填される。しかしながら、時間経過に伴い、部分的に分解された、または部分的に反応した化学物質などの不純物の蓄積が、これらの容器内で発生しうる。容器内の不純物の蓄積は、用量変動または欠陥の問題をもたらす可能性があり、これは、容器をツールから取り外して交換する必要があり、その間、半導体製造ツールは停止され、動作できない。

【発明の概要】

【0003】

本技術の様々な実施形態は、供給源容器をクリーニングするための方法および装置を提供しうる。供給源容器は、溶液を生成するために溶媒で充填、または部分的に充填されうる。溶液は、供給源容器から除去され、供給源容器に接続されている廃棄物容器内に含有される。廃棄物容器は、廃棄物容器内に陰圧を発生させ、溶液を供給源容器から引き出し、廃棄物容器の中に引き込むベローまたは他の機構を廃棄物容器の内部に有しうる。追加的に、溶液を供給源容器から廃棄物容器に引き込むために液体ポンプを使用しうる。

【0004】

一つの態様によると、装置は、第一の容器であって、側壁、頂面、および底面によって画定された内部容積であって、側壁が底面から頂面まで上方に延在する、内部容積と、第一の表面に配置された第一の入口ポートと、第一の入口に接続された第一の入口チューブであって、入口チューブが第一の容器の内部容積の中に延在する、第一の入口チューブと、頂面から底面に向かって延在する第一の出口チューブと、を備える第一の容器と、第二の容器であって、側壁、頂面、および底面によって画定された内部容積と、第二の容器の内部容積内に配置された、かつ拡張および収縮するように構成された機構と、第一の出口チューブに接続された第二の入口チューブと、機構の中に空気を流すように構成された第三の入口ポートと、第二の容器の底面に配置された第二の出口ポートと、を備える第二の容器と、を備える。

【0005】

上記の装置の一実施形態において、第一の入口チューブは、第一の容器の内部容積に液体を送達するように構成されている。

【0006】

上記の装置の一実施形態において、装置は、第一の容器の外部表面上に配置された、かつ第一の容器を第一の温度で維持するように構成された加熱要素をさらに備える。

【0007】

上記の装置の一実施形態において、装置は、第一の出口チューブと第二の入口チューブの間に配置された固体粒子カウンターをさらに備える。

【0008】

上記の装置の一実施形態において、第一の入口チューブは、第一の容器の底面の方を向いた複数のノズルをさらに備える。

【0009】

上記の装置の一実施形態において、装置は、第一の容器の内部容積内に配置された、かつ液体を検出するように構成されたセンサをさらに備える。

【0010】

上記の装置の一実施形態において、第二の容器の内部容積は、第一の出口ポートおよび第二の入口チューブを介して第一の容器の内部容積に接続されている。

【0011】

上記の装置の一実施形態において、第一の容器は、第一の容器の内部容積の外側に、かつ頂面上に配置された第一の出口ポートをさらに備え、第一の出口ポートは第一の出口チューブに接続されている。

【0012】

上記の装置の一実施形態において、第一の入口ポートは第一の弁を備え、第一の出口ポートは第二の弁を備える。

【0013】

上記の装置の一実施形態において、第二の出口ポートは、第二の容器の内部容積の外側に配置されていて、第三の弁を備える。

【0014】

別の態様によると、溶質を含有する供給源容器をクリーニングする方法は、第一の入口チューブを介して供給源容器の中に溶媒を流すことと、供給源容器を溶媒で所定のレベルまで充填することと、溶媒および溶質から溶液を生成することと、供給源容器に接続された廃棄物容器を提供することと、廃棄物容器内に陰圧を発生させることを含む、溶液を供給源容器から廃棄物容器に流すことと、廃棄物容器から溶液を排出することとを含む。

【0015】

上記の方法の一実施形態において、方法は、溶液中の粒子を検出することをさらに含む。

【0016】

上記の方法の一実施形態において、廃棄物容器内に陰圧を発生させることは、真空源を介して廃棄物容器の内部に配置されたベローを圧縮することを含む。

【0017】

上記の方法の一実施形態において、廃棄物容器から溶液を排出することは、ベローを加圧することによってベローを拡張することを含む。

【0018】

上記の方法の一実施形態において、方法は、供給源容器を加熱することと、供給源容器内の空気を抜くこととを含む、供給源容器を乾燥させることをさらに含む。

【0019】

上記の方法の一実施形態において、方法は、供給源容器を第一の温度で維持することと、廃棄物容器を第二の温度で維持することとをさらに含み、第二の温度は第一の温度よりも低い。

【0020】

上記の方法の一実施形態において、方法は、溶媒を供給源容器の中に流す前に、フッ素ラジカルを供給源容器の中に導入することをさらに含む。

【0021】

さらに別の態様によると、装置は、第一の容器であって、側壁、頂面、および底面によって画定された内部容積であって、側壁が底面から頂面まで上方に延在する、内部容積と、第一の表面に配置された、かつ第一の弁を備える第一の入口ポートと、第一の入口に接続された第一の入口チューブであって、入口チューブが第一の容器の内部容積の中に延在する、第一の入口チューブと、頂面から底面に向かって延在する第一の出口チューブと、第一の容器の内部容積の外側に、かつ頂面上に配置された第一の出口ポートであって、第一の出口ポートが第一の出口チューブに接続されていて、かつ第二の弁を備える、第一の出口ポートとを備える第一の容器と、第二の容器であって、側壁、頂面、および底面によって画定された内部容積と、第一の出口ポートを介して第一の出口チューブに接続された第二の入口チューブと、第三の弁を備える第二の出口ポートと、第二の容器の内部容積に流体接続された、かつ第二の容器の底面に配置された、かつ第四の弁を備える第三の出口ポートとを備える第二の容器と、第三の弁に接続された真空ポンプと、第四の弁の下流に流体接続された液体ポンプとを備える。

【0022】

上記の装置の一実施形態において、装置は、第一の出口ポートと第二の入口チューブの間に配置された固体粒子カウンターをさらに備える。

【0023】

上記の装置の一実施形態において、第一の入口チューブは、第一の容器の底面の方を向いた複数のノズルをさらに備える。

【図面の簡単な説明】

【0024】

本技術のより完全な理解は、以下の例示的な図に関連して考慮される場合、詳細な説明を参照することによって得られる場合がある。以下の図において、同様の参照番号は、図全体を通して同様の要素および工程を指す。

【図1】図１は、本技術の例示的な一実施形態によるシステムを典型的に図示する。

【図2】図２は、本技術の例示的な一実施形態によるシステムを典型的に図示する。

【図3】図３は、本技術の例示的な一実施形態によるシステムを典型的に図示する。

【図4】図４は、本技術の例示的な一実施形態によるシステムを操作するための方法である。

【発明を実施するための形態】

【0025】

本技術は、機能ブロックの構成要素および様々な処理工程に関して記述されうる。こうした機能ブロックは、特定された機能を実施するように、かつ様々な結果を達成するように構成された、任意の数の構成要素によって実現されてもよい。例えば、本技術は、様々な弁、ポンプ、反応チャンバ、容器を採用してもよい。

【0026】

図１および図２を参照すると、例示的なシステム１００は、ウエハ（図示せず）などの基材を処理するための反応チャンバ１１５を備えてもよい。反応チャンバ１１５は、処理チャンバ（図示せず）およびシャワーヘッドアセンブリ（図示せず）を備えてもよい。処理チャンバは、ウエハを処理するために構成された内部空間を備えてもよい。例えば、処理チャンバは、所望の温度、圧力、コンダクタンスなどを達成するために、排気ダクト、加熱要素、センサなどが装備されてもよい。

【0027】

シャワーヘッドアセンブリは、前駆体および／または反応物質をウエハに向かって流すように構成された複数の貫通穴（図示せず）を備えてもよい。従って、シャワーヘッドアセンブリは、ウエハおよび処理チャンバの上方に位置付けられてもよい。

【0028】

システム１００は、処理チャンバの内部空間内に配置された、かつウエハを支持するように構成されたサセプタ（図示せず）をさらに備えてもよい。サセプタは、台座（図示せず）によって支持されてもよい。様々な実施形態において、サセプタは、ｚ軸（Ｚ）に沿って上下に（例えば、第一の位置から第二の位置に）移動するように構成されてもよい。他の場合において、サセプタ１３０は静止したままであってもよい。

【0029】

様々な実施形態において、サセプタは、セラミック（アルミナ、ＡｌＯｘ）、または金属（例えば、ステンレス鋼、ハステロイなどの金属材料）から形成されてもよい。サセプタは、水平に配向されている、かつシャワーヘッドアセンブリの直下に位置付けられている頂面を備えてもよい。ウエハ（または他の基材）は、処理中にサセプタ１３０の頂面上に置かれてもよい。

【0030】

サセプタは、処理中にウエハを任意の望ましい温度に加熱するように構成された加熱要素（図示せず）を備えてもよい。加熱要素は、任意の適切な加熱要素を含んでもよく、任意の所望の形状またはパターンで配置されてもよい。様々な実施形態において、サセプタ１３０は、リフトピン（図示せず）が中に配置されてもよい貫通穴（図示せず）をさらに備えてもよい。

【0031】

システム１００は、様々な前駆体および／または反応物質をシャワーヘッドアセンブリを介して処理チャンバに送達するための弁マニホールド１１２をさらに備えてもよい。様々な実施形態において、弁マニホールド１１２は、シャワーヘッドアセンブリの頂面上に位置付けられてもよい。

【0032】

システム１００は、基材処理中に反応チャンバ１１５に送達される化学物質（例えば、前駆体または反応物質）を含有するように構成された供給源容器１０５をさらに備えてもよい。例えば、供給源容器１０５は、側壁１２２、底面１２１、頂面１２４（例えば、リッド）によって画定された内部容積１２３を備えてもよく、側壁１２２は、底面１２１から頂面１２４まで上方に延在する。化学物質は、固体または液体のいずれであってもよい。供給源容器１０５は、定期的に、または化学物質が供給源容器１０５内部で所定レベルに達した時に、再充填されるように構成されてもよい。一部の場合において、供給源容器１０５は、新しい化学物質で再充填された時に、その物理的場所から取り外されないか、または反応チャンバ１１５から接続解除されない。一部の場合において、化学物質は、経時的に蓄積することがある残留物１４１または溶質を残したまま、供給源容器１０５内で部分的に分解または部分的に反応してもよい。残留物１４１は、供給源容器１０５の底面１２１および／または供給源容器１０５の側壁１２２上で観察されてもよい。

【0033】

様々な実施形態において、供給源容器１０５は、第一の弁１４５を備える第一の入口ポートと、第二の弁１５０を備える第二の入口ポートと、第三の弁１５２を備える第一の出口ポートと、第四の弁１５５を備える第二の出口ポートと、第五の弁１６０を備える第三の出口ポートとを備えてもよい。例示的な一実施形態において、第一の弁１４５は高温ダイアフラム弁を含んでもよく、第二の弁１５０は高速高温ダイアフラム弁を含んでもよく、第三の弁１５２は高温ダイアフラム弁を含んでもよく、第四の弁１５５は高速高温ダイアフラム弁を含んでもよく、第五の弁１６０は高温ダイアフラム弁を含んでもよい。例示的な一実施形態において、第二の出口ポートおよび第四の弁１５５は、ウエハ処理中に供給源容器１０５を反応チャンバ１１５に接続するために使用されてもよい。様々な実施形態において、入口ポートおよび出口ポートの各々は、様々な継手、コネクタ、管をさらに備えてもよい。例示的な一実施形態において、それぞれの弁を含む入口ポートおよび出口ポートは、供給源容器１０５の頂面１２４に、かつ内部容積１２３の外部に配置されている。追加的に、入口ポートおよび出口ポートの一部分は、頂面１２４を通って内部容積１２３の中に延在してもよい。しかしながら、こうした場合において、それぞれの弁は内部容積１２３の外部に配置されている。

【0034】

様々な実施形態において、供給源容器１０５は、第一の入口ポートに接続された、かつそれを通して液体を流すように構成された第一の入口チューブ１４７をさらに備えてもよい。第一の入口チューブ１４７は、頂面１２４から底面１２１に向かって、供給源容器１０５の内部容積１２３の中に下向きに延在してもよい。例えば、第一の入口チューブ１４７は、底面１２１の近くで終了してもよい。追加的に、第一の入口チューブ１４７は、内部容積１２３を通って部分的に（例えば、その半分または３／４）延在してもよい。

【0035】

様々な実施形態において、供給源容器１０５は、第二の出口ポートに接続された、かつそれを通して液体を流すように構成された第一の出口チューブ１４７をさらに備えてもよい。第一の出口チューブ１４７は、頂面１２４から底面１２１に向かって、供給源容器１０５の内部容積１２３の中に下向きに延在してもよい。様々な実施形態において、第一の出口チューブ１４７は、底面１２１の近くで終了してもよい。

【0036】

様々な実施形態において、第一の出口チューブ１４７は、出口チューブ１４７の端に配置された複数のノズル１４９を備えてもよい。複数のノズル１４９は、任意の数のノズル１４９を含んでもよく、ノズルは、下向きまたは横方向などの任意の方向を向いていてもよい。

【0037】

様々な実施形態において、システム１００は、ウエハ処理中に使用される化学物質を含有する前駆体源１２２をさらに備えてもよい。さらに、システム１００は、液体溶媒を含有する溶媒源１２０をさらに備えてもよい。一部の場合において、供給源容器１０５内の残留物１４１を溶解して溶液１０７を作り出すために、液体溶媒が使用されてもよい。

【0038】

一つの実施形態において、前駆体源１２２および溶媒源１２０は、スイッチングマニホールド１５１を介して第一の弁１４５に接続されてもよい。スイッチングマニホールド１５１は、前駆体化学物質または液体溶媒のいずれかが任意の所与の時間で第一の弁１４５に流れることを可能にするように構成されてもよい。言い換えれば、スイッチングマニホールド１５１は、前駆体化学物質と液体の両方が同時に第一の弁１４５に流れることを防止する。追加的に、溶媒源１２０および前駆体源１２２は、別個のラインおよび弁を用いて供給源容器１０５に接続されてもよい。

【0039】

様々な実施形態において、システム１００は、遠隔プラズマユニットまたはオゾン発生器などのラジカル発生器１２５をさらに備えてもよい。ラジカル発生器１２５は、フッ素ラジカルを発生するように構成されてもよい。ラジカル発生器１２５は、第二の弁１５０を介して供給源容器１０５に接続されてもよい。

【0040】

様々な実施形態において、供給源容器１０５は、供給源容器１０５の外側を囲むヒータージャケット、または供給源容器１０５が加熱された環境内に包含されるオーブンスタイルの加熱などの外部熱源（図示せず）によって加熱されてもよい。一部の場合において、化学物質は加熱されて、基材処理中に反応チャンバ１１５に流れる蒸気を生成する。

【0041】

様々な実施形態において、システム１００は、廃棄物容器１１０をさらに備えてもよい。廃棄物容器１１０は、供給源容器１０５に流体接続されてもよい。例えば、廃棄物容器１１０は、第三の出口ポートの第五の弁１６０から下流に接続されてもよい。廃棄物容器１１０は、流体を含有するように構成されてもよい。例えば、廃棄物容器１１０は、側壁１６２、頂面１６１、底面１６３によって画定された内部容積１６４を備えてもよい。

【0042】

様々な実施形態において、廃棄物容器１１０は、第三の入口ポートおよび第二の入口チューブ１６７を備えてもよい。第二の入口チューブ１６７は、第三の入口ポートに接続されてもよく、かつ廃棄物容器１１０の内部容積１６４の中に延在してもよい。様々な実施形態において、第三の入口ポートは、第九の弁１６５を備えてもよい。第九の弁１６５は、ダイアフラム弁を備えてもよい。様々な実施形態において、第三の入口ポートは、廃棄物容器１１０の頂面１６１に配置されてもよい。

【0043】

様々な実施形態において、廃棄物容器１１０は、廃棄物容器の底面１６３に配置された第二の出口ポートをさらに備えてもよい。第二の出口ポートは、廃棄物容器１１０から選択的に液体を流すように構成されてもよい。例えば、第二の出口ポートは、第六の弁１８５を備えてもよい。

【0044】

様々な実施形態において、廃棄物容器１１０は、拡張および収縮するように構成されている廃棄物容器１１０の内部容積１６４内に配置された機構１４０をさらに備えてもよい。例えば、機構１４０は、ベローまたはブラダーを備えてもよい。

【0045】

追加的に、または代替的に、システム１００は、第六の弁１８５から下流に流体接続された液体ポンプ３００をさらに備えてもよい。液体ポンプ３００は、廃棄物容器１１０から液体をポンピングするのに適した任意のポンプを備えてもよい。

【0046】

様々な実施形態において、廃棄物容器１１０は、第七の弁１８０を備える第四の入口ポートと、第八の弁１７０を備える第五の入口ポートとをさらに備えてもよい。第七の弁１８０および第八の弁１７０は、ダイアフラム弁または電磁弁を備えてもよい。様々な実施形態において、第四の入口ポートおよび第五の入口ポートは、廃棄物容器１１０の頂面１６１に配置されてもよい。機構１４０を拡張するために、第七の弁１８０は真空源１３５に接続されてもよく、第八の弁１７０は、内部容積１６４の圧力よりも高い圧力を有する加圧空気源１３０に接続されてもよい。様々な実施形態において、真空源１３５は、機構１４０に接続されてもよく、かつ機構１４０から空気を除去するように配置されてもよい。他の実施形態において、真空源１３５は、液体ポンプ３００がベローまたはブラダー機構１４０なしで使用される場合など、真空経路を介して廃棄物容器１１０に接続されてもよく、かつ廃棄物容器１１０の内部容積１６４から空気を除去するように配置されてもよい。

【0047】

様々な実施形態において、弁１４５、１５０、１５２、１５５、１６０、１６１、１６５、１７０、１８０は、ガスまたは液体の流れを選択的に制御するための任意の好適な弁を備えてもよい。例えば、弁は、空気弁、ダイアフラム弁、プラグ弁、ピストン弁などを含んでもよい。

【0048】

様々な実施形態において、システム１００は、粒子状物質濃度を測定するように、またはそうでなければ液体中の粒子状物質を検出するように構成された粒子カウンター１７１をさらに備えてもよい。例えば、粒子カウンター１７１は、残留物１４１の特定の物質を検出または測定するように構成されてもよい。一つの実施形態において、粒子カウンター１７１は、第五の弁１６０から下流に、かつ第二の入口チューブ１６７から上流に配置されてもよい。追加的に、粒子カウンター１７１は、第六の弁１８５の下流に配置されてもよい。

【0049】

様々な実施形態において、システム１００は、処理化学物質または溶液１０７のレベルを検出する、またはそうでなければ測定するための一つ以上のセンサ（図示せず）をさらに備えてもよい。センサは、液体および／または固体を測定または検出するための任意の適切なセンサタイプであってもよい。例えば、センサは、液体センサ、静電容量センサ、力センサ、超音波センサ、浮動センサなどを含んでもよい。

【0050】

動作中、および図１～図４を参照すると、システム１００は、前駆体源１２２からの化学物質を使用してウエハを処理するように構成されてもよい。最初に、供給源容器１０５は、前駆体源１２２（４００）からの処理化学物質で充填されている。これは、前駆体源１２２からの化学物質が供給源容器１０５の中に流れることを可能にするために、スイッチングマニホールド１５１および第一の弁１４５を操作することによって達成されてもよい。例えば、スイッチングマニホールド１５１は、溶媒源１２０内の液体溶媒の流れを遮断するように、かつ前駆体源１２２内の化学物質を通過させるように動作されてもよく、第一の弁１４５は開かれていてもよい。供給源容器１０５が処理化学物質で充填されると、ウエハ処理が進行してもよい（４０５）。供給源容器１０５を処理化学物質で再充填し、ウエハ処理を実施するこのプロセスは、複数回発生してもよい。

【0051】

一部の場合において、処理化学物質は、供給源容器１０５の内部で部分的に分解または部分的に反応してもよく、底面１２１および／または側壁１２２上での残留物１４１（すなわち、不純物）の蓄積をもたらす。供給源容器１０５内の不純物の蓄積は、ウエハ処理中の用量変動または欠陥の問題をもたらすことがある。

【0052】

様々な実施形態において、所定の数のウエハ処理、および処理化学物質での供給源容器１０５の充填の後、処理化学物質が低いかまたは空である時を検出するためにセンサ（図示せず）が使用されてもよい（４１０）。

【0053】

様々な実施形態において、システム１００は、アッシングプロセス（４１５）を実施してもよく、そこでフッ素ラジカルが発生され、供給源容器１０５の中に導入されて、任意の有機金属残渣と反応して、金属フッ化物または酸化物固体および揮発性有機種を生成する。アッシングプロセスの結果として生成された残渣は、以下に説明する通りに、クリーニング方法によって除去されてもよい。

【0054】

本技術の実施形態は、ウエハ処理作業後に、供給源容器１０５から残渣１４１をクリーニングする方法を含んでもよい。例示的な一実施形態において、クリーニングプロセスは、供給源容器１０５で処理化学物質が不足していること、または空であることがシステム１００で検出された後に、進行してもよい。クリーニングプロセスは、すべての残渣１４１を溶解し、溶液１０７を生成するために供給源容器１０５を液体溶質で充填すること（４２０）を含んでもよい。これは、溶媒源１２０からの液体溶媒が第一の入口チューブ１４７を介して供給源容器１０５の中に流れることを可能にするために、スイッチングマニホールド１５１および第一の弁１４５を動作させることによって達成されてもよい。例えば、スイッチングマニホールド１５１は、前駆体源１２２内の処理化学物質の流れを遮断するように、かつ液体溶媒を通過させるように動作されてもよく、第一の弁１４５は開かれていてもよい。クリーニングする方法は、供給源容器１０５内の所定のレベル（例えば、センサによって示される通り）に達するまで、または所定の容積の液体溶媒が供給源容器１０５に移送されるまで（例えば、流量計またはこれに類するものによって示される通り）、供給源容器１０５を液体溶媒で充填することを含んでもよい。

【0055】

様々な実施形態において、クリーニングする方法は、供給源容器１０５から廃棄物容器１１０に溶液を移送すること（４２５）をさらに含んでもよい。一つの実施形態において、溶液を移送することは、第五の弁１６０を開き、溶液を第一の出口チューブ１４５を通して流して、第二の入口チューブ１６７を介して廃棄物容器１１０の中に流すことを含んでもよい。システム１００が第九の弁１６５を備える場合、第九の弁１６５も開いていてもよい。さらに、前駆体源１２２および溶媒源１２０が同じ入口を共有する場合、スイッチングマニホールド１５１は、前駆体源１２２内の化学物質の流れを遮断するように、かつ溶媒源１２０内の液体溶媒を通過させるように動作されてもよい。

【0056】

例示的な一実施形態において、また図１および図２を参照すると、供給源容器１０５から廃棄物容器１１０に溶液を流すことは、ベローまたはバルーン機構１４０を収縮させることによって容易にされてもよい。機構１４０を収縮させることは、機構１４０から空気を除去するために真空源１３５を起動することを含んでもよい。追加的に、第六の弁１８５は閉じられることになる。第六の弁１８５が閉じられ、かつ第六の弁１８５が閉じられた状態で機構１４０を収縮させると、廃棄物容器１１０内部に陰圧を発生させることになる。廃棄物容器１１０内に発生された陰圧は、溶液を供給源容器１０５から廃棄物容器１１０に流すことになる。

【0057】

様々な実施形態において、クリーニングする方法は、廃棄物容器１１０から溶液を排出すること（４３０）をさらに含んでもよい。これは、廃棄物容器１１０から溶液をポンピングする、またはそうでなければ強制的に出すことによって達成されてもよい。一つの実施形態において、また図１および図２を参照すると、廃棄物容器１１０から溶液を排出することは、第二の出口ポートおよび第六の弁１８５を通して溶液を廃棄物容器１１０から強制的に出すために、機構１４０を拡張することと、第六の弁１８５を開くこととを含んでもよい。機構を拡張することは、第八の弁１７０を開くことと、機構１４０の中に空気を流すこととによって、機構１４０を加圧することを含んでもよい。真空経路は、第七の弁１８０を閉じることによって閉じられてもよい。

【0058】

別の実施形態において、また図３を参照すると、供給源容器１０５から廃棄物容器１１０に溶液を流すことは、廃棄物容器１１０から空気を抜くために、かつ廃棄物容器１１０内に陰圧を発生させるために、第七の弁１８０を開くことによって容易にされてもよい。陰圧は、供給源容器１０５から廃棄物容器１１０に溶液を引き出すことになる（すなわち、内部容積１６４は供給源容器１０５よりも低い圧力である）。それから、廃棄物容器１１０は、第七の弁１８０をオフにすることと、第六の弁１８５を開くことと、液体ポンプ３００をオンにすることとによって排出されてもよい。

【0059】

様々な実施形態において、工程４２０、４２５、４３０は、供給源容器１０５から残渣１４１のすべてまたは大半を溶解するために必要な所定の回数または任意の回数だけ繰り返されてもよい。粒子カウンター１７１は、必要なサイクル数を示すために使用されてもよい。例えば、システム１００は、粒子カウンター１７１が固体粒子状物質をもはや検出しなくなるか、または溶液中の粒子状物質の濃度が事前設定された閾値レベル以下になるまで、４２０、４２５、４３０を繰り返してもよい。

【0060】

様々な実施形態において、クリーニングする方法は、供給源容器１０５を溶質で充填する（４２０）前に、アッシングプロセス（４１５）を実施することをさらに含んでもよい。アッシングプロセスは、任意の有機金属残渣と反応させて、金属フッ化物または酸化物固体および揮発性有機種を生成するために、フッ素ラジカルを発生することと、それを供給源容器１０５の中に導入することとを含んでもよい。例えば、フッ素ラジカルを発生させるために、ラジカル発生器１２５を使用してもよい。アッシングプロセス（４１５）の結果として生成された残渣は、工程４２０、４２５、４３０で上述の通り、クリーニング方法によって除去されてもよい。

【0061】

様々な実施形態において、クリーニングプロセスが完了すると（例えば、工程４１５、４２０、４２５、４３０）、方法は、供給源容器１０５を乾燥させることをさらに含んでもよい。供給源容器１０５を乾燥させることは、真空経路を開くことによって、例えば第三の弁１５２を開くことによって、供給源容器１０５を加熱すること、および／または供給源容器１０５から空気を抜くことを含んでもよい。

【0062】

様々な実施形態において、クリーニングプロセスが完了すると（例えば、工程４１５、４２０、４２５、４３０）、システム１００は、工程４００に戻ることによってウエハ処理作業に戻ってもよい。

【0063】

前述の説明において、本技術は特定の例示的な実施形態を参照して説明されている。示された、かつ記述された特定の実装は、本技術およびその最良の形態の例示であり、本技術の範囲をいかなるやり方でも、別の方法で限定することを意図していない。実際、簡潔のために、方法およびシステムの従来の製造、関連、調製、および他の機能的態様を詳細に記述していない場合がある。さらに、様々な図に示された接続線は、様々な要素間の例示的な機能的関係および／または工程を表すことが意図されている。多くの代替的もしくは追加の機能的関係、もしくは物理的接続が実際のシステムにおいて存在してもよい。

【0064】

本技術については、具体的な例示的な実施形態を参照して説明してきた。しかしながら、本技術の範囲から逸脱することなく、様々な修正および変更がなされてもよい。説明および図面は、制限的な態様というよりは例示的な態様として見なされ、そのような修正はすべて、本技術の範囲内に含まれることが意図されている。従って、本技術の範囲は、上述の特定の実施例のみによってではなく、記載の一般的な実施形態およびその法的等価物によって決定されるべきである。例えば、任意の方法またはプロセスの実施形態に列挙された工程は、別段の明示的な指定がない限り、任意の順序で実行されてもよく、特定の実施例に提示された明示的な順序に限定されない。さらに、任意の装置の実施形態に列挙された構成要素および／または要素は、本技術と実質的に同じ結果を生成するために、様々な順列で組み立てられてもよく、または別の方法で動作可能に構成されてもよく、従って特定の実施例に列挙された特定の構成に限定されない。

【0065】

恩恵、他の利点、および問題に対する解決策が、特定の実施形態に関して上述されている。特定の恩恵、利点、問題に対する解決策、または何らかの特定の恩恵、利点、もしくは解決策を生じさせる場合がある、またはより顕著にさせる場合がある何らかの要素は、しかしながら、重要な、必要とされる、または必須の特徴もしくは要素であると解釈されない。

【0066】

「含む、備える（ｃｏｍｐｒｉｓｅｓ）」、「含んでいる、備える（ｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ）」という用語、またはその任意の変形語は、要素のリストを含むプロセス、方法、物品、組成物、または装置が、それらの要素のみを含むだけでなく、明示的に列挙されていない、またはそのようなプロセス、方法、物品、組成物、または装置に固有の他の要素を含んでもよいように、非限定的包含を指すことが意図されている。本技術の実践において使用される上述の構造、配置、用途、割合、要素、材料、または構成要素の他の組み合わせおよび／または修正は、具体的に列挙されていないものに加えて、それらの一般原理から逸脱することなく、様々であってもよく、または別の方法で特定の環境、製造仕様、設計パラメータ、または他の動作要件に具体的に適合されてもよい。

【0067】

本技術については、例示的な一実施形態を参照して上述されている。しかしながら、本技術の範囲から逸脱することなく、その例示的な実施形態に変更および修正がなされてもよい。これらおよび他の変更または修正は、以下の特許請求の範囲で表される通り、本技術の範囲内に含まれることが意図されている。

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【外国語明細書】