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特開2024-79870光異性化基を有する（メタ）アクリル化合物、ポリ（メタ）アクリル化合物、及び、（メタ）アクリル系接着剤
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024079870
(43)【公開日】2024-06-12
(54)【発明の名称】光異性化基を有する（メタ）アクリル化合物、ポリ（メタ）アクリル化合物、及び、（メタ）アクリル系接着剤
(51)【国際特許分類】
C07C 69/54 20060101AFI20240604BHJP
C09J 133/06 20060101ALI20240604BHJP
C08F 20/18 20060101ALI20240604BHJP
【ＦＩ】
C07C69/54 Z
C09J133/06
C08F20/18
【審査請求】未請求
【請求項の数】3
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2023201258
(22)【出願日】2023-11-29
(31)【優先権主張番号】P 2022191130
(32)【優先日】2022-11-30
(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP
【新規性喪失の例外の表示】特許法第３０条第２項適用申請有り 掲載年月日：令和４年１２月１日、掲載アドレス：ｈｔｔｐｓ：／／ｗｗｗ．ｍｒｓ－ｊ．ｏｒｇ／ｍｅｅｔｉｎｇ２０２２／ｊｐ／ａｂｏｕｔ／ｉｍｐｏｒｔａｎｔ．ｐｈｐ ｈｔｔｐｓ：／／ｗｗｗ．ｍｒｓ－ｊ．ｏｒｇ／ｍｅｅｔｉｎｇ２０２２／ｊｐ／ｐｒｇ／ｐｒｏｇｒａｍＬｉｓｔ．ｐｈｐ？ｗｄａｙ＝６ 集会名：第３２回日本ＭＲＳ年次大会、開催日：令和４年１２月６日 掲載年月日：令和５年３月８日、掲載アドレス：ｈｔｔｐｓ：／／ｃｏｎｆｉｔ．ａｔｌａｓ．ｊｐ／ｇｕｉｄｅ／ｅｖｅｎｔ／ｃｓｊ１０３ｒｄ／ｓｔａｔｉｃ／ｏｕｔｌｉｎｅ ｈｔｔｐｓ：／／ｃｏｎｆｉｔ．ａｔｌａｓ．ｊｐ／ｇｕｉｄｅ／ｅｖｅｎｔ／ｃｓｊ１０３ｒｄ／ｓｕｂｊｅｃｔ／Ｐ１－２ｐｍ－２１／ａｄｖａｎｃｅｄ 集会名：日本化学会第１０３春季年会（２０２３）、開催日：令和５年３月２３日 掲載年月日：令和５年３月８日、掲載アドレス：ｈｔｔｐｓ：／／ｃｏｎｆｉｔ．ａｔｌａｓ．ｊｐ／ｇｕｉｄｅ／ｅｖｅｎｔ／ｃｓｊ１０３ｒｄ／ｓｔａｔｉｃ／ｏｕｔｌｉｎｅ ｈｔｔｐｓ：／／ｃｏｎｆｉｔ．ａｔｌａｓ．ｊｐ／ｇｕｉｄｅ／ｅｖｅｎｔ／ｃｓｊ１０３ｒｄ／ｓｕｂｊｅｃｔ／Ｐ１－２ｐｍ－２２／ａｄｖａｎｃｅｄ 集会名：日本化学会第１０３春季年会（２０２３）、開催日：令和５年３月２３日 掲載年月日：令和５年５月９日、掲載アドレス：ｈｔｔｐｓ：／／ｍａｉｎ．ｓｐｓｊ．ｏｒ．ｊｐ／ｎｅｎｋａｉ／７２ｎｅｎｋａｉ／ｉｎｄｅｘ．ｈｔｍｌ ｈｔｔｐｓ：／／ｍｅｍｂｅｒ．ｓｐｓｊ．ｏｒ．ｊｐ／ｃｏｎｖｅｎｔｉｏｎ／ｓｐｓｊ２０２３／ｉｎｄｅｘ．ｐｈｐ？ｉｄ＝１Ｆ２９＆ｔｆ＝１＆ｂｏ＝Ｆ 集会名：第７２回高分子学会年次大会、開催日：令和５年５月２４日 掲載年月日：令和５年５月９日、掲載アドレス：ｈｔｔｐｓ：／／ｍａｉｎ．ｓｐｓｊ．ｏｒ．ｊｐ／ｎｅｎｋａｉ／７２ｎｅｎｋａｉ／ｉｎｄｅｘ．ｈｔｍｌ ｈｔｔｐｓ：／／ｍｅｍｂｅｒ．ｓｐｓｊ．ｏｒ．ｊｐ／ｃｏｎｖｅｎｔｉｏｎ／ｓｐｓｊ２０２３／ｉｎｄｅｘ．ｐｈｐ？ｉｄ＝２Ｐｄ０７２＆ｐｌａｃｅ＿ｎｕｍ＝１ 集会名：第７２回高分子学会年次大会、開催日：令和５年５月２５日
【新規性喪失の例外の表示】特許法第３０条第２項適用申請有り 掲載年月日：令和５年７月４日、掲載アドレス：ｈｔｔｐｓ：／／ｍａｉｎ．ｓｐｓｊ．ｏｒ．ｊｐ／ｉｐｃ／２０２３／ｉｎｄｅｘ．ｈｔｍｌ ｈｔｔｐｓ：／／ｍｅｍｂｅｒ．ｓｐｓｊ．ｏｒ．ｊｐ／ｃｏｎｖｅｎｔｉｏｎ／ｉｐｃ２０２３／ｉｎｄｅｘ．ｐｈｐ？ｉｄ＝２１Ｐ０４５ａ＆ｐｌａｃｅ＿ｎｕｍ＝１ 集会名：Ｔｈｅ １３ｔｈ ＳＰＳＪ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｃｏｎｆｅｒｅｎｃｅ（ＩＰＣ２０２３）、開催日：令和５年７月２１日 掲載年月日：令和５年９月１３日、掲載アドレス：ｈｔｔｐｓ：／／ｍａｉｎ．ｓｐｓｊ．ｏｒ．ｊｐ／ｔｏｈｒｏｎ／７２ｔｏｈｒｏｎ／ ｈｔｔｐｓ：／／ｍｅｍｂｅｒ．ｓｐｓｊ．ｏｒ．ｊｐ／ｃｏｎｖｅｎｔｉｏｎ／ｔｏｈｒｏｎ２０２３／ｉｎｄｅｘ．ｐｈｐ？ｉｄ＝１Ｐａ０６１＆ｐｌａｃｅ＿ｎｕｍ＝１ 集会名：第７２回高分子討論会、開催日：令和５年９月２６日 掲載年月日：令和５年９月１３日、掲載アドレス：ｈｔｔｐｓ：／／ｍａｉｎ．ｓｐｓｊ．ｏｒ．ｊｐ／ｔｏｈｒｏｎ／７２ｔｏｈｒｏｎ／ ｈｔｔｐｓ：／／ｍｅｍｂｅｒ．ｓｐｓｊ．ｏｒ．ｊｐ／ｃｏｎｖｅｎｔｉｏｎ／ｔｏｈｒｏｎ２０２３／ｉｎｄｅｘ．ｐｈｐ？ｉｄ＝２Ｐｄ０６０＆ｐｌａｃｅ＿ｎｕｍ＝１ 集会名：第７２回高分子討論会、開催日：令和５年９月２７日 掲載年月日：令和５年９月２６日、掲載アドレス：ｈｔｔｐｓ：／／ｆｅｓｔａ．ｃｓｊ．ｊｐ／２０２３／ ｈｔｔｐｓ：／／ｆｅｓｔａ．ｃｓｊ．ｊｐ／２０２３／ｐｒｏｇｒａｍ／＃ｐｓ－Ｐ４ 集会名：日本化学会秋季事業 第１３回 ＣＳＪ化学フェスタ２０２３、開催日：令和５年１０月１８日 掲載年月日：令和５年９月２６日、掲載アドレス：ｈｔｔｐｓ：／／ｆｅｓｔａ．ｃｓｊ．ｊｐ／２０２３／ ｈｔｔｐｓ：／／ｆｅｓｔａ．ｃｓｊ．ｊｐ／２０２３／ｐｒｏｇｒａｍ／＃ｐｓ－Ｐ６ 集会名：日本化学会秋季事業 第１３回 ＣＳＪ化学フェスタ２０２３、開催日：令和５年１０月１８日
【国等の委託研究の成果に係る記載事項】（出願人による申告）令和４年度、国立研究開発法人科学技術振興機構、戦略的創造研究推進事業「熱安定な分子スイッチによる光可逆性接着剤の開発」委託研究、産業技術力強化法第１７条の適用を受ける特許出願
(71)【出願人】
【識別番号】504136568
【氏名又は名称】国立大学法人広島大学
(74)【代理人】
【識別番号】100095407
【弁理士】
【氏名又は名称】木村 満
(74)【代理人】
【識別番号】100138955
【弁理士】
【氏名又は名称】末次 渉
(72)【発明者】
【氏名】今任 景一
(72)【発明者】
【氏名】大山 陽介
(72)【発明者】
【氏名】兼田 直輝
(72)【発明者】
【氏名】日高 太智
【テーマコード（参考）】
4H006
4J040
4J100
【Ｆターム（参考）】
4H006AA01
4H006AA03
4H006AB46
4H006AB99
4H006BJ50
4H006BP30
4H006KC14
4J040DF041
4J040JA02
4J040JB02
4J040MA05
4J040MB09
4J040NA19
4J040PA20
4J040PA30
4J040PA42
4J100AL04Q
4J100AL05Q
4J100AL08P
4J100BA02P
4J100BC03P
4J100BC43P
4J100CA01
4J100CA04
4J100CA27
4J100DA01
4J100DA04
4J100FA03
4J100FA06
4J100FA19
4J100FA35
4J100GA22
4J100GC07
4J100GC26
4J100JA03
(57)【要約】 （修正有）
【課題】新たに、高分子分野においても分子スイッチとして利用可能な光異性化基を有する（メタ）アクリル化合物、ポリ（メタ）アクリル化合物、及び、（メタ）アクリル系接着剤を提供する。
【解決手段】光異性化基を有する（メタ）アクリル化合物は、式１又は式２で表される。
【選択図】なし
【解決手段】光異性化基を有する（メタ）アクリル化合物は、式１又は式２で表される。
【選択図】なし
【特許請求の範囲】
【請求項1】
式１又は式２で表される、
（式１及び式２中、Ｒ１は水素、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｉ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｔ－ブチル基又はフェニル基、Ｒ２は水素、メトキシ基又はシアノ基、Ｒ３は炭素数１～２０のアルキル基又はフェニル基、Ｒ４は水素又はメチル基、ｎは１～２０の整数を表す。）
ことを特徴とする光異性化基を有する（メタ）アクリル化合物。
【化1】
（式１及び式２中、Ｒ１は水素、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｉ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｔ－ブチル基又はフェニル基、Ｒ２は水素、メトキシ基又はシアノ基、Ｒ３は炭素数１～２０のアルキル基又はフェニル基、Ｒ４は水素又はメチル基、ｎは１～２０の整数を表す。）
ことを特徴とする光異性化基を有する（メタ）アクリル化合物。
【請求項2】
式１１又は式１２で表される、
（式１１及び式１２中、Ｒ１は水素、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｉ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｔ－ブチル基又はフェニル基、Ｒ２は水素、メトキシ基又はシアノ基、Ｒ３は炭素数１～２０のアルキル基又はフェニル基、ｍは正の実数、ｎは１～２０の整数を表す。）
ことを特徴とする光異性化基を有するポリ（メタ）アクリル化合物。
【化2】
（式１１及び式１２中、Ｒ１は水素、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｉ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｔ－ブチル基又はフェニル基、Ｒ２は水素、メトキシ基又はシアノ基、Ｒ３は炭素数１～２０のアルキル基又はフェニル基、ｍは正の実数、ｎは１～２０の整数を表す。）
ことを特徴とする光異性化基を有するポリ（メタ）アクリル化合物。
【請求項3】
請求項１に記載の（メタ）アクリル化合物又は請求項２に記載のポリ（メタ）アクリル化合物を含有する、
ことを特徴とする（メタ）アクリル系接着剤。
ことを特徴とする（メタ）アクリル系接着剤。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、光異性化基を有する（メタ）アクリル化合物、ポリ（メタ）アクリル化合物、及び、（メタ）アクリル系接着剤に関する。
【背景技術】
【0002】
光可逆的に異性化する分子スイッチは小さな構造とシンプルな動きから分子マシンとして広く利用されている。分子スイッチは、外部刺激によって２つの状態を可逆的に変更しながら機能性のある応答を行う。分子スイッチに組み込まれる光異性化基として、アゾベンゼンが広く知られている。紫外線或いは可視光線の照射により、アゾベンゼンユニットがシス体・トランス体に異性化し、分子構造が大きく変化する。
【0003】
アゾベンゼンのほか、光異性化基として、インダン骨格の二量体をユニットとするスティッフスチルベンやヒンダードスティッフスチルベンなどが知られている。また、分子スイッチの高分子分野への応用も検討されており、例えば、高分子主鎖にヒンダードスティッフスチルベンを有する高分子化合物が知られている（非特許文献１）。
【先行技術文献】
【非特許文献】
【0004】
【非特許文献1】今任景一、“熱安定型分子マシンの開発とゲルアクチュエーターへの応用”、［online］、令和３年９月３０日、公益財団法人 矢崎科学技術振興記念財団、［令和４年１１月２８日検索］、インターネット、＜URL：https://www.yazaki-found.jp/search/recipient1165.html＞
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
非特許文献１など、高分子分野においても光異性化可能な分子スイッチの応用が検討されているが、様々な高分子分野で求められる要求に対応できるよう、更なる分子スイッチを備えた高分子化合物の開発が臨まれる。
【0006】
本発明は、上記事項に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、新たに、高分子分野においても分子スイッチとして利用可能な光異性化基を有する（メタ）アクリル化合物、ポリ（メタ）アクリル化合物、及び、（メタ）アクリル系接着剤を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0007】
本発明の第１の観点に係る光異性化基を有する（メタ）アクリル化合物は、
式１又は式２で表される、
（式１及び式２中、Ｒ１は水素、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｉ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｔ－ブチル基又はフェニル基、Ｒ２は水素、メトキシ基又はシアノ基、Ｒ３は炭素数１～２０のアルキル基又はフェニル基、Ｒ４は水素又はメチル基、ｎは１～２０の整数を表す。）
ことを特徴とする。
式１又は式２で表される、
【化1】
（式１及び式２中、Ｒ１は水素、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｉ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｔ－ブチル基又はフェニル基、Ｒ２は水素、メトキシ基又はシアノ基、Ｒ３は炭素数１～２０のアルキル基又はフェニル基、Ｒ４は水素又はメチル基、ｎは１～２０の整数を表す。）
ことを特徴とする。
【0008】
本発明の第２の観点に係る光異性化基を有するポリ（メタ）アクリル化合物は、
式１１又は式１２で表される、
（式１１及び式１２中、Ｒ１は水素、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｉ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｔ－ブチル基又はフェニル基、Ｒ２は水素、メトキシ基又はシアノ基、Ｒ３は炭素数１～２０のアルキル基又はフェニル基、ｍは正の実数、ｎは１～２０の整数を表す。）
ことを特徴とする。
式１１又は式１２で表される、
【化2】
（式１１及び式１２中、Ｒ１は水素、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｉ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｔ－ブチル基又はフェニル基、Ｒ２は水素、メトキシ基又はシアノ基、Ｒ３は炭素数１～２０のアルキル基又はフェニル基、ｍは正の実数、ｎは１～２０の整数を表す。）
ことを特徴とする。
【0009】
本発明の第３の観点に係る（メタ）アクリル系接着剤は、
本発明の第１の観点に係る（メタ）アクリル化合物又は本発明の第２の観点に係るポリ（メタ）アクリル化合物を含有する、
ことを特徴とする。
本発明の第１の観点に係る（メタ）アクリル化合物又は本発明の第２の観点に係るポリ（メタ）アクリル化合物を含有する、
ことを特徴とする。
【発明の効果】
【0010】
本発明によれば、新たに、高分子分野においても分子スイッチとして利用可能な光異性化基を有する（メタ）アクリル化合物、ポリ（メタ）アクリル化合物、及び、（メタ）アクリル系接着剤を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【0011】
【図1】化合物Ｍ１の１Ｈ ＮＭＲスペクトルを示すグラフである。
【図2】化合物Ｍ２の１Ｈ ＮＭＲスペクトルを示すグラフである。
【図3】化合物Ｍ３の１Ｈ ＮＭＲスペクトルを示すグラフである。
【図4】化合物Ｍ４の１Ｈ ＮＭＲスペクトルを示すグラフである。
【図5】化合物Ｍ５の１Ｈ ＮＭＲスペクトルを示すグラフである。
【図6】化合物Ｍ６の１Ｈ ＮＭＲスペクトルを示すグラフである。
【図7】化合物Ｐ１の１Ｈ ＮＭＲスペクトルを示すグラフである。
【図8】化合物Ｐ２の１Ｈ ＮＭＲスペクトルを示すグラフである。
【図9】化合物Ｐ３の１Ｈ ＮＭＲスペクトルを示すグラフである。
【図10】化合物Ｐ４の１Ｈ ＮＭＲスペクトルを示すグラフである。
【図11】化合物Ｐ５の１Ｈ ＮＭＲスペクトルを示すグラフである。
【図12】化合物Ｐ６の１Ｈ ＮＭＲスペクトルを示すグラフである。
【図13】化合物Ｐ７の１Ｈ ＮＭＲスペクトルを示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【0012】
本実施の形態に係る光異性化基を有する（メタ）アクリル化合物は、式１又は式２で表される。
【0013】
【化3】
【0014】
式１及び式２中、Ｒ１は水素、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｉ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｔ－ブチル基又はフェニル基を表す。また、Ｒ２は水素、メトキシ基又はシアノ基を表す。また、Ｒ３はメチル基、ｔ－ブチル基、ヘキシル基、ドデシル基等の炭素数１～２０のアルキル基又はフェニル基を表す。また、Ｒ４は水素又はメチル基を表す。また、ｎは１～２０の整数を表す。
【0015】
また、光異性化基を有するポリ（メタ）アクリル化合物は、式１１又は式１２で表される。
【0016】
【化4】
【0017】
式１１及び式１２中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、ｎは、上記式１及び式２とそれぞれ同義であり、ｍは正の実数である。式１１及び式１２で表されるポリ（メタ）アクリル化合物の数平均分子量（Ｍｎ）は例えば４０００～１５０００であり、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は例えば１～１．５である。
【0018】
式１及び式２で表される（メタ）アクリル化合物は、下記の実施例を参照して合成することができる。また、式１１及び式１２で表されるポリ（メタ）アクリル化合物は、式１及び式２で表される（メタ）アクリル化合物を用いて、下記の実施例を参照して合成することができる。
【0019】
ポリ（メタ）アクリル化合物は、光異性化基として、インダン骨格のサブユニットが二重結合で結合した二量体ユニットを有している。二量体ユニットを有していることにより、ポリ（メタ）アクリル化合物は、特定の波長の光を照射することで異性化する。
【0020】
具体的には、式１１で表される化合物を例に説明すると、特定の波長の光照射を受けて式１１の状態（Ｅ体）から式１１’の状態（Ｚ体）に異性化する。また、特定の波長の光照射を受けて、式１１’の状態から、式１１の状態に光異性化する。なお、式１１で表されるポリ（メタ）アクリル化合物は、式１１の状態（Ｅ体）では流動性がない状態（固体状）、式１１’の状態（Ｚ体）では流動性がある状態（液状）になる。したがって、光照射によって、固体状から液状へ、又は、液状から固体状へ可逆的に状態が変化する。このＥ体からＺ体への異性化は、例えば、３００～３７０ｎｍの波長の光照射により進行する。また、Ｚ体からＥ体への異性化は、例えば、３８０～４１０ｎｍの波長の光照射により進行する。
【0021】
【化5】
【0022】
また、ポリ（メタ）アクリル化合物は、式１１及び式１２中の置換基（式１１及び式１２中のＲ１、Ｒ２、Ｒ３）、アルキル鎖の炭素数（式１１及び式１２中のｎ）の選択により、ガラス転移温度を変えることができ、常温付近に設定することもできる。ポリ（メタ）アクリル化合物は、ガラス転移温度以上で上記の特定の波長の光照射によってＥ体からＺ体へ、又は、Ｚ体からＥ体へと異性化するので、ガラス転移温度が常温付近であることにより、加熱を行わなくても光照射のみで異性化させることが可能になる。
【0023】
ポリ（メタ）アクリル化合物は、光異性化基である二量体ユニットの二重結合が高分子主鎖中に存在せず、側鎖に存在している。二量体ユニットの二重結合が高分子主鎖中にある場合に比べ、サブユニットの回転が阻害されにくく、異性化しやすいと考えられる。また、この二量体ユニットは、熱安定と言われていることから、熱による不測の異性化の発生も生じにくいと考えられる。
【0024】
（メタ）アクリル系接着剤は、上述した（メタ）アクリル化合物又はポリ（メタ）アクリル化合物を含有する。（メタ）アクリル系接着剤は、対象物同士を接着しているときはＥ体であり、対象物同士を剥がすときには、光照射を受けてＺ体へ異性化し、接着力が弱まる。
【0025】
あらゆる分野において、金属やプラスチック、セラミックス、複合材料などの特性が異なる材料を適材適所に組み合わせて性能向上を図った材料や部材が用いられる等、所謂マルチマテリアル化が進んでいる。一方で、資源の有効利用の観点から、マルチマテリアル化された材料や部材についても、不要になった後に解体し、再利用することが望まれる。
【0026】
マルチマテリアル化においては接着接合が主要な手段となるが、アクリル系接着剤では、光照射によって、接着力が弱まるので、マルチマテリアル化された材料や部材を解体して再利用しやすくなる。すなわち、（メタ）アクリル系接着剤は、マルチマテリアル化における光解体性接着剤としての利用が期待できる。
【0027】
（メタ）アクリル系接着剤は、上述した（メタ）アクリル化合物、ポリ（メタ）アクリル化合物のほか、機能を損なわない限り、フィラー、増量剤、物性調整剤、着色剤、難燃剤、酸化防止剤、老化防止剤、香料、顔料、染料等、他の成分を含有していてもよい。
【実施例0028】
下記スキーム１に示すように、段階的に化合物Ｍ１を合成した。
【0029】
【化6】
【0030】
（化合物２の合成）
窒素雰囲気下で化合物１（６．１６ｇ，１７．７ｍｍｏｌ）とメチルマグネシウムヨージド（１Ｍジエチルエーテル溶液，１７．７ｍＬ，７．７ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（４０ｍＬ）溶液を調製した。この溶液を１６０℃で２時間加熱した。このとき、反応容器は密閉せずに溶媒を揮発させた。室温に冷却して飽和ＮＨ４Ｃｌ水溶液（５０ｍＬ）を加え、酢酸エチル（５０ｍＬ）を用い、３回分液して有機成分を抽出した。有機層を飽和食塩水（１００ｍＬ）で分液して洗浄し、無水硫酸マグネシウムで脱水した後、濃縮した。最後にシリカゲルクロマトグラフィー（溶離液：ジクロロメタン）により精製して、化合物２を得た（収量２．４０ｇ、収率４１％）。
窒素雰囲気下で化合物１（６．１６ｇ，１７．７ｍｍｏｌ）とメチルマグネシウムヨージド（１Ｍジエチルエーテル溶液，１７．７ｍＬ，７．７ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（４０ｍＬ）溶液を調製した。この溶液を１６０℃で２時間加熱した。このとき、反応容器は密閉せずに溶媒を揮発させた。室温に冷却して飽和ＮＨ４Ｃｌ水溶液（５０ｍＬ）を加え、酢酸エチル（５０ｍＬ）を用い、３回分液して有機成分を抽出した。有機層を飽和食塩水（１００ｍＬ）で分液して洗浄し、無水硫酸マグネシウムで脱水した後、濃縮した。最後にシリカゲルクロマトグラフィー（溶離液：ジクロロメタン）により精製して、化合物２を得た（収量２．４０ｇ、収率４１％）。
【0031】
（化合物３の合成）
二口フラスコに炭酸カリウム（２．９８ｇ，２１．５ｍｍｏｌ）を加え、窒素置換した。化合物２（２．４０ｇ，７．１８ｍｍｏｌ）のアセトン（８０ｍＬ）溶液と６－ブロモ－１－ヘキサノール（１．８８ｍＬ，１４．４ｍｍｏｌ）を加えて、５０℃で２日間撹拌した。室温に冷却して酢酸エチル（２００ｍＬ）を加えて、超純水（１００ｍＬ）で３回、飽和食塩水で１回分液した。有機層を無水硫酸マグネシウムで脱水した後、濃縮した。最後にシリカゲルクロマトグラフィー（溶離液：ヘキサン／酢酸エチル＝６／４）と分取ゲル浸透クロマトグラフィー（溶離液：クロロホルム）により精製して、化合物３を得た（収量２．３６ｇ，収率７６％）。
二口フラスコに炭酸カリウム（２．９８ｇ，２１．５ｍｍｏｌ）を加え、窒素置換した。化合物２（２．４０ｇ，７．１８ｍｍｏｌ）のアセトン（８０ｍＬ）溶液と６－ブロモ－１－ヘキサノール（１．８８ｍＬ，１４．４ｍｍｏｌ）を加えて、５０℃で２日間撹拌した。室温に冷却して酢酸エチル（２００ｍＬ）を加えて、超純水（１００ｍＬ）で３回、飽和食塩水で１回分液した。有機層を無水硫酸マグネシウムで脱水した後、濃縮した。最後にシリカゲルクロマトグラフィー（溶離液：ヘキサン／酢酸エチル＝６／４）と分取ゲル浸透クロマトグラフィー（溶離液：クロロホルム）により精製して、化合物３を得た（収量２．３６ｇ，収率７６％）。
【0032】
（化合物Ｍ１の合成）
窒素雰囲気下で化合物３（２．３６ｇ，５．４３ｍｍｏｌ）とトリエチルアミン（１．５１ｍＬ，１０．９ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（１２ｍＬ）溶液を調製した。氷浴中、窒素雰囲気下でアクリロイルクロリド（０．８８ｍＬ，１０．９ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（８ｍＬ）溶液をゆっくりと滴下した。そのまま３０分間撹拌した後、室温に戻して２４時間撹拌した。反応溶液を濃縮した後、酢酸エチル（１００ｍＬ）を加えた。飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（１００ｍＬ）と飽和食塩水（１００ｍＬ）で分液し、無水硫酸マグネシウムで脱水した後、濃縮した。最後にシリカゲルクロマトグラフィー（溶離液：ヘキサン／酢酸エチル＝９／１）により精製して、化合物Ｍ１を得た（収量２．１０ｇ，収率７４％）。
得られた化合物Ｍ１の１Ｈ ＮＭＲスペクトルを図１に示す。
窒素雰囲気下で化合物３（２．３６ｇ，５．４３ｍｍｏｌ）とトリエチルアミン（１．５１ｍＬ，１０．９ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（１２ｍＬ）溶液を調製した。氷浴中、窒素雰囲気下でアクリロイルクロリド（０．８８ｍＬ，１０．９ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（８ｍＬ）溶液をゆっくりと滴下した。そのまま３０分間撹拌した後、室温に戻して２４時間撹拌した。反応溶液を濃縮した後、酢酸エチル（１００ｍＬ）を加えた。飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（１００ｍＬ）と飽和食塩水（１００ｍＬ）で分液し、無水硫酸マグネシウムで脱水した後、濃縮した。最後にシリカゲルクロマトグラフィー（溶離液：ヘキサン／酢酸エチル＝９／１）により精製して、化合物Ｍ１を得た（収量２．１０ｇ，収率７４％）。
得られた化合物Ｍ１の１Ｈ ＮＭＲスペクトルを図１に示す。
【0033】
下記スキーム２に示すように、段階的に化合物Ｍ２を合成した。なお、化合物２は上記スキーム１に沿って合成し、用いた。
【0034】
【化7】
【0035】
（化合物４の合成）
二口フラスコに炭酸カリウム（１．１１ｇ，８．０６ｍｍｏｌ）を加え、窒素置換した。化合物２（８９８ｍｇ，２．６９ｍｍｏｌ）のアセトン（４０ｍＬ）溶液と１２－ブロモ－１－ドデカノール（１．４３ｇ，５．３７ｍｍｏｌ）を加えて、５０℃で２日間撹拌した。室温に冷却して酢酸エチル（７０ｍＬ）を加えて、飽和食塩水で２回分液した。有機層を無水硫酸マグネシウムで脱水した後、濃縮した。最後にシリカゲルクロマトグラフィー（溶離液：ヘキサン／酢酸エチル＝７／３）と分取ゲル浸透クロマトグラフィー（溶離液：クロロホルム）により精製して、化合物４を得た（収量９１７ｍｇ，収率６６％）。
二口フラスコに炭酸カリウム（１．１１ｇ，８．０６ｍｍｏｌ）を加え、窒素置換した。化合物２（８９８ｍｇ，２．６９ｍｍｏｌ）のアセトン（４０ｍＬ）溶液と１２－ブロモ－１－ドデカノール（１．４３ｇ，５．３７ｍｍｏｌ）を加えて、５０℃で２日間撹拌した。室温に冷却して酢酸エチル（７０ｍＬ）を加えて、飽和食塩水で２回分液した。有機層を無水硫酸マグネシウムで脱水した後、濃縮した。最後にシリカゲルクロマトグラフィー（溶離液：ヘキサン／酢酸エチル＝７／３）と分取ゲル浸透クロマトグラフィー（溶離液：クロロホルム）により精製して、化合物４を得た（収量９１７ｍｇ，収率６６％）。
【0036】
（化合物Ｍ２の合成）
窒素雰囲気下で化合物４（９１７ｍｇ，１．７７ｍｍｏｌ）とトリエチルアミン（０．４９ｍＬ，３．５４ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（８ｍＬ）溶液を調製した。氷浴中、窒素雰囲気下でアクリロイルクロリド（２８６μＬ，３．５４ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（１２ｍＬ）溶液をゆっくりと滴下した。そのまま３０分間撹拌した後、室温に戻して２４時間撹拌した。反応溶液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と飽和食塩水で分液し、有機層を無水硫酸マグネシウムで脱水した後、濃縮した。最後にシリカゲルクロマトグラフィー（溶離液：ジクロロメタン）により精製して、化合物Ｍ２を得た（収量８４３ｍｇ，収率８３％）。
得られた化合物Ｍ２の１Ｈ ＮＭＲスペクトルを図２に示す。
窒素雰囲気下で化合物４（９１７ｍｇ，１．７７ｍｍｏｌ）とトリエチルアミン（０．４９ｍＬ，３．５４ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（８ｍＬ）溶液を調製した。氷浴中、窒素雰囲気下でアクリロイルクロリド（２８６μＬ，３．５４ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（１２ｍＬ）溶液をゆっくりと滴下した。そのまま３０分間撹拌した後、室温に戻して２４時間撹拌した。反応溶液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と飽和食塩水で分液し、有機層を無水硫酸マグネシウムで脱水した後、濃縮した。最後にシリカゲルクロマトグラフィー（溶離液：ジクロロメタン）により精製して、化合物Ｍ２を得た（収量８４３ｍｇ，収率８３％）。
得られた化合物Ｍ２の１Ｈ ＮＭＲスペクトルを図２に示す。
【0037】
下記スキーム３に示すように、段階的に化合物Ｍ３を合成した。
【0038】
【化8】
【0039】
（化合物５の合成）
窒素雰囲気下で化合物１（３．３３ｇ，９．５６ｍｍｏｌ）とメチルマグネシウムヨージド（１Ｍジエチルエーテル溶液，５７．３ｍＬ，５７．３ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（２２ｍＬ）溶液を調製した。この溶液を１６０℃で６時間加熱した。このとき、反応容器は密閉せずに溶媒を揮発させた。室温に冷却して飽和塩化アンモニウム水溶液（１００ｍＬ）を加え、酢酸エチル（１００ｍＬ）を用いて２回分液して有機成分を抽出した。有機層を飽和食塩水（１００ｍＬ）で２回分液して洗浄し、無水硫酸マグネシウムで脱水した後、濃縮した。最後にシリカゲルクロマトグラフィー（溶離液：ジクロロメタン／酢酸エチル＝４９／１－４／１）により精製して、化合物５を得た（収量１．２０ｇ，収率３９％）。
窒素雰囲気下で化合物１（３．３３ｇ，９．５６ｍｍｏｌ）とメチルマグネシウムヨージド（１Ｍジエチルエーテル溶液，５７．３ｍＬ，５７．３ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（２２ｍＬ）溶液を調製した。この溶液を１６０℃で６時間加熱した。このとき、反応容器は密閉せずに溶媒を揮発させた。室温に冷却して飽和塩化アンモニウム水溶液（１００ｍＬ）を加え、酢酸エチル（１００ｍＬ）を用いて２回分液して有機成分を抽出した。有機層を飽和食塩水（１００ｍＬ）で２回分液して洗浄し、無水硫酸マグネシウムで脱水した後、濃縮した。最後にシリカゲルクロマトグラフィー（溶離液：ジクロロメタン／酢酸エチル＝４９／１－４／１）により精製して、化合物５を得た（収量１．２０ｇ，収率３９％）。
【0040】
（化合物６の合成）
二口フラスコに炭酸カリウム（１．８５ｇ，１３．４ｍｍｏｌ）を加え、窒素置換した。化合物５（１．４３ｇ，４．４７ｍｍｏｌ）のアセトン（４３ｍＬ）溶液と１－ブロモヘキサン（０．６３ｍＬ，４．４７ｍｍｏｌ）を加えて、５０℃で４０．５時間撹拌した。室温に冷却して酢酸エチル（１００ｍＬ）を加えて、超純水（１００ｍＬ）で２回、飽和食塩水で１回分液した。有機層を無水硫酸マグネシウムで脱水した後、濃縮した。最後にシリカゲルクロマトグラフィー（溶離液：ヘキサン／酢酸エチル＝１９／１－３／２）により精製して、化合物６を得た（収量８６０ｍｇ，収率４８％）。
二口フラスコに炭酸カリウム（１．８５ｇ，１３．４ｍｍｏｌ）を加え、窒素置換した。化合物５（１．４３ｇ，４．４７ｍｍｏｌ）のアセトン（４３ｍＬ）溶液と１－ブロモヘキサン（０．６３ｍＬ，４．４７ｍｍｏｌ）を加えて、５０℃で４０．５時間撹拌した。室温に冷却して酢酸エチル（１００ｍＬ）を加えて、超純水（１００ｍＬ）で２回、飽和食塩水で１回分液した。有機層を無水硫酸マグネシウムで脱水した後、濃縮した。最後にシリカゲルクロマトグラフィー（溶離液：ヘキサン／酢酸エチル＝１９／１－３／２）により精製して、化合物６を得た（収量８６０ｍｇ，収率４８％）。
【0041】
（化合物７の合成）
二口フラスコに炭酸カリウム（７０７ｍｇ，５．１２ｍｍｏｌ）を加え、窒素置換した。化合物６（６９０ｍｇ，１．７１ｍｍｏｌ）のアセトン（２１ｍＬ）溶液と６－ブロモ－１－ヘキサノール（０．４５ｍＬ，３．４１ｍｍｏｌ）を加えて、５０℃で５０時間撹拌した。室温に冷却して酢酸エチルを加えて、超純水と飽和食塩水で分液した。有機層を無水硫酸マグネシウムで脱水した後、濃縮した。最後にシリカゲルクロマトグラフィー（溶離液：ジクロロメタン／酢酸エチル＝４９／１－４／１）により精製して、化合物７を得た（収量７６０ｍｇ，収率８８％）。
二口フラスコに炭酸カリウム（７０７ｍｇ，５．１２ｍｍｏｌ）を加え、窒素置換した。化合物６（６９０ｍｇ，１．７１ｍｍｏｌ）のアセトン（２１ｍＬ）溶液と６－ブロモ－１－ヘキサノール（０．４５ｍＬ，３．４１ｍｍｏｌ）を加えて、５０℃で５０時間撹拌した。室温に冷却して酢酸エチルを加えて、超純水と飽和食塩水で分液した。有機層を無水硫酸マグネシウムで脱水した後、濃縮した。最後にシリカゲルクロマトグラフィー（溶離液：ジクロロメタン／酢酸エチル＝４９／１－４／１）により精製して、化合物７を得た（収量７６０ｍｇ，収率８８％）。
【0042】
（化合物Ｍ３の合成）
窒素雰囲気下で化合物７（１．４１ｇ，２．７９ｍｍｏｌ）とトリエチルアミン（０．７８ｍＬ，５．５９ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（９ｍＬ）溶液を調製した。氷浴中、窒素雰囲気下でアクリロイルクロリド（０．４５ｍＬ，５．５９ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（５ｍＬ）溶液をゆっくりと滴下した。そのまま３０分間撹拌した後、室温に戻して１９時間撹拌した。反応溶液を濃縮した後、酢酸エチルを加えた。飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と飽和食塩水で分液し、無水硫酸マグネシウムで脱水した後、濃縮した。最後にシリカゲルクロマトグラフィー（溶離液：ヘキサン／ジクロロメタン＝３／１－０／１）により精製して、化合物Ｍ３を得た（収量７６０ｍｇ，収率４９％）。
得られた化合物Ｍ３の１Ｈ ＮＭＲスペクトルを図３に示す。
窒素雰囲気下で化合物７（１．４１ｇ，２．７９ｍｍｏｌ）とトリエチルアミン（０．７８ｍＬ，５．５９ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（９ｍＬ）溶液を調製した。氷浴中、窒素雰囲気下でアクリロイルクロリド（０．４５ｍＬ，５．５９ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（５ｍＬ）溶液をゆっくりと滴下した。そのまま３０分間撹拌した後、室温に戻して１９時間撹拌した。反応溶液を濃縮した後、酢酸エチルを加えた。飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と飽和食塩水で分液し、無水硫酸マグネシウムで脱水した後、濃縮した。最後にシリカゲルクロマトグラフィー（溶離液：ヘキサン／ジクロロメタン＝３／１－０／１）により精製して、化合物Ｍ３を得た（収量７６０ｍｇ，収率４９％）。
得られた化合物Ｍ３の１Ｈ ＮＭＲスペクトルを図３に示す。
【0043】
下記スキーム４に示すように、段階的に化合物Ｍ４を合成した。
【0044】
【化9】
【0045】
（化合物１２の合成）
窒素雰囲気下で化合物１１（１．５ｇ，５．１３ｍｍｏｌ）とメチルマグネシウムヨージド（１Ｍジエチルエーテル溶液，３０．８ｍＬ，３０．８ｍｍｏｌ）を混合し、１６０℃で３．５時間加熱した。このとき、反応容器は密閉せずに溶媒を揮発させた。室温に冷却して飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルを用いて分液して有機成分を抽出した。有機層を飽和食塩水で分液して洗浄し、無水硫酸マグネシウムで脱水した後、濃縮した。最後にシリカゲルクロマトグラフィー（溶離液：ヘキサン／酢酸エチル＝４９／１－０／１）により精製して、化合物１２を得た（収量９９０ｍｇ，収率７３％）。
窒素雰囲気下で化合物１１（１．５ｇ，５．１３ｍｍｏｌ）とメチルマグネシウムヨージド（１Ｍジエチルエーテル溶液，３０．８ｍＬ，３０．８ｍｍｏｌ）を混合し、１６０℃で３．５時間加熱した。このとき、反応容器は密閉せずに溶媒を揮発させた。室温に冷却して飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルを用いて分液して有機成分を抽出した。有機層を飽和食塩水で分液して洗浄し、無水硫酸マグネシウムで脱水した後、濃縮した。最後にシリカゲルクロマトグラフィー（溶離液：ヘキサン／酢酸エチル＝４９／１－０／１）により精製して、化合物１２を得た（収量９９０ｍｇ，収率７３％）。
【0046】
（化合物１３の合成）
二口フラスコに化合物１２（１．６４ｇ，６，２１ｍｍｏｌ）と炭酸カリウム（２．５７ｇ，１８．６ｍｍｏｌ）を加え、窒素置換した。Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド（８２ｍＬ）を加えて、３０℃で１時間撹拌した。１－ブロモヘキサン（０．８７ｍＬ，６．２０ｍｍｏｌ）を加えて、１１０℃で１３時間撹拌した。室温に冷却して酢酸エチルと超純水、飽和食塩水を加えて分液した。有機層を濃縮した後、シリカゲルクロマトグラフィー（溶離液：ヘキサン／酢酸エチル＝４９／１－４／１）により精製して、化合物１３を得た（収量８３０ｍｇ，収率３８％）。
二口フラスコに化合物１２（１．６４ｇ，６，２１ｍｍｏｌ）と炭酸カリウム（２．５７ｇ，１８．６ｍｍｏｌ）を加え、窒素置換した。Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド（８２ｍＬ）を加えて、３０℃で１時間撹拌した。１－ブロモヘキサン（０．８７ｍＬ，６．２０ｍｍｏｌ）を加えて、１１０℃で１３時間撹拌した。室温に冷却して酢酸エチルと超純水、飽和食塩水を加えて分液した。有機層を濃縮した後、シリカゲルクロマトグラフィー（溶離液：ヘキサン／酢酸エチル＝４９／１－４／１）により精製して、化合物１３を得た（収量８３０ｍｇ，収率３８％）。
【0047】
（化合物１４の合成）
化合物１３（４００ｍｇ，１．１５ｍｍｏｌ）と炭酸カリウム（４７６ｍｇ，３．４４ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミド（３０ｍＬ）溶液を調製して、３０℃で１時間撹拌した。６－ブロモ－１－ヘキサノール（０．３０ｍＬ，２．３０ｍｍｏｌ）を加えて、１１０℃で１８時間撹拌した。室温に冷却して酢酸エチルと超純水、飽和食塩水を加えて分液した。有機層を濃縮した後、シリカゲルクロマトグラフィー（溶離液：ヘキサン／酢酸エチル＝１９／１－３／２）により精製して、化合物１４を得た（収量４００ｍｇ，収率７８％）。
化合物１３（４００ｍｇ，１．１５ｍｍｏｌ）と炭酸カリウム（４７６ｍｇ，３．４４ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミド（３０ｍＬ）溶液を調製して、３０℃で１時間撹拌した。６－ブロモ－１－ヘキサノール（０．３０ｍＬ，２．３０ｍｍｏｌ）を加えて、１１０℃で１８時間撹拌した。室温に冷却して酢酸エチルと超純水、飽和食塩水を加えて分液した。有機層を濃縮した後、シリカゲルクロマトグラフィー（溶離液：ヘキサン／酢酸エチル＝１９／１－３／２）により精製して、化合物１４を得た（収量４００ｍｇ，収率７８％）。
【0048】
（化合物Ｍ４の合成）
窒素雰囲気下で化合物１４（４００ｍｇ，０．８９２ｍｍｏｌ）とトリエチルアミン（０．２５ｍＬ，１．７８ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（４ｍＬ）溶液を調製した。氷浴中、窒素雰囲気下でアクリロイルクロイド（０．１４ｍＬ，１．７８ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（２ｍＬ）溶液をゆっくりと滴下した。そのまま３０分間撹拌した後、室温に戻して２５．５時間撹拌した。酢酸エチルと飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水を加えて分液し、有機層を濃縮した。最後にシリカゲルクロマトグラフィー（溶離液：ヘキサン／酢酸エチル＝４９／１－４／１）により精製して、化合物Ｍ４を得た（収量３００ｍｇ，収率６７％）。
得られた化合物Ｍ４の１Ｈ ＮＭＲスペクトルを図４に示す。
窒素雰囲気下で化合物１４（４００ｍｇ，０．８９２ｍｍｏｌ）とトリエチルアミン（０．２５ｍＬ，１．７８ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（４ｍＬ）溶液を調製した。氷浴中、窒素雰囲気下でアクリロイルクロイド（０．１４ｍＬ，１．７８ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（２ｍＬ）溶液をゆっくりと滴下した。そのまま３０分間撹拌した後、室温に戻して２５．５時間撹拌した。酢酸エチルと飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水を加えて分液し、有機層を濃縮した。最後にシリカゲルクロマトグラフィー（溶離液：ヘキサン／酢酸エチル＝４９／１－４／１）により精製して、化合物Ｍ４を得た（収量３００ｍｇ，収率６７％）。
得られた化合物Ｍ４の１Ｈ ＮＭＲスペクトルを図４に示す。
【0049】
下記スキーム５に示すように、段階的に化合物Ｍ５を合成した。
【0050】
【化10】
【0051】
（化合物８の合成）
二口フラスコに炭酸カリウム（４０８ｍｇ，６．０６ｍｍｏｌ）を加え、窒素置換した。化合物５（９７１ｍｇ，３．０３ｍｍｏｌ）のアセトン（３０ｍＬ）溶液と１－ブロモヘキサデカン（０．９３ｍＬ，３．０３ｍｍｏｌ）を加えて、６０℃で５９時間攪拌した。室温に冷却して酢酸エチル（１００ｍＬ）を加えて、超純水（１００ｍＬ）で２回分液した。有機層を無水硫酸マグネシウムで脱水した後、濃縮した。最後にシリカゲルクロマトグラフィー（溶離液：ヘキサン／酢酸エチル＝９／１）により精製して、化合物８を得た（収量７８０ｍｇ，収率４７％）。
二口フラスコに炭酸カリウム（４０８ｍｇ，６．０６ｍｍｏｌ）を加え、窒素置換した。化合物５（９７１ｍｇ，３．０３ｍｍｏｌ）のアセトン（３０ｍＬ）溶液と１－ブロモヘキサデカン（０．９３ｍＬ，３．０３ｍｍｏｌ）を加えて、６０℃で５９時間攪拌した。室温に冷却して酢酸エチル（１００ｍＬ）を加えて、超純水（１００ｍＬ）で２回分液した。有機層を無水硫酸マグネシウムで脱水した後、濃縮した。最後にシリカゲルクロマトグラフィー（溶離液：ヘキサン／酢酸エチル＝９／１）により精製して、化合物８を得た（収量７８０ｍｇ，収率４７％）。
【0052】
（化合物９の合成）
二口フラスコに炭酸カリウム（３３４ｍｇ，２．４２ｍｍｏｌ）を加え、窒素置換した。化合物８（６６０ｍｇ，１．２１ｍｍｏｌ）のアセトン（２０ｍＬ）溶液と６－ブロモ－１－ヘキサノール（０．３２ｍＬ，２．４２ｍｍｏｌ）を加えて、５０℃で６６時間攪拌した。室温に冷却して酢酸エチル（１０ｍＬ）を加えて、超純水（１００ｍＬ）で２回分液した。有機層を無水硫酸マグネシウムで脱水した後、濃縮した。最後にシリカゲルクロマトグラフィー（溶離液：ヘキサン／酢酸エチル＝６／４）により精製して、化合物９を得た（収量６７５ｍｇ，収率８６％）。
二口フラスコに炭酸カリウム（３３４ｍｇ，２．４２ｍｍｏｌ）を加え、窒素置換した。化合物８（６６０ｍｇ，１．２１ｍｍｏｌ）のアセトン（２０ｍＬ）溶液と６－ブロモ－１－ヘキサノール（０．３２ｍＬ，２．４２ｍｍｏｌ）を加えて、５０℃で６６時間攪拌した。室温に冷却して酢酸エチル（１０ｍＬ）を加えて、超純水（１００ｍＬ）で２回分液した。有機層を無水硫酸マグネシウムで脱水した後、濃縮した。最後にシリカゲルクロマトグラフィー（溶離液：ヘキサン／酢酸エチル＝６／４）により精製して、化合物９を得た（収量６７５ｍｇ，収率８６％）。
【0053】
（化合物Ｍ５の合成）
窒素雰囲気下で化合物９（６５０ｍｇ，１．０５ｍｍｏｌ）とトリエチルアミン（０．３００ｍＬ，２．０９ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（２．５ｍＬ）溶液を調製した。氷浴中、窒素雰囲気下で塩化アクリロイル（０．２００ｍＬ，２．０９ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（０．３ｍＬ）溶液をゆっくりと滴下した。そのまま３０分間撹拌した後、室温に戻して２４時間撹拌した。反応溶液を濃縮した後、酢酸エチル（１００ｍＬ）を加えた。飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（５０ｍＬ）と飽和食塩水（５０ｍＬ）で分液し、無水硫酸マグネシウムで脱水した後、濃縮した。最後にシリカゲルクロマトグラフィー（溶離液：ヘキサン／酢酸エチル＝９／１）により精製して、化合物Ｍ５を得た（収量３９０ｍｇ，収率５３％）。
得られた化合物Ｍ５の１Ｈ ＮＭＲスペクトルを図５に示す。
窒素雰囲気下で化合物９（６５０ｍｇ，１．０５ｍｍｏｌ）とトリエチルアミン（０．３００ｍＬ，２．０９ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（２．５ｍＬ）溶液を調製した。氷浴中、窒素雰囲気下で塩化アクリロイル（０．２００ｍＬ，２．０９ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（０．３ｍＬ）溶液をゆっくりと滴下した。そのまま３０分間撹拌した後、室温に戻して２４時間撹拌した。反応溶液を濃縮した後、酢酸エチル（１００ｍＬ）を加えた。飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（５０ｍＬ）と飽和食塩水（５０ｍＬ）で分液し、無水硫酸マグネシウムで脱水した後、濃縮した。最後にシリカゲルクロマトグラフィー（溶離液：ヘキサン／酢酸エチル＝９／１）により精製して、化合物Ｍ５を得た（収量３９０ｍｇ，収率５３％）。
得られた化合物Ｍ５の１Ｈ ＮＭＲスペクトルを図５に示す。
【0054】
下記スキーム６に示すように、段階的に化合物Ｍ６を合成した。
【0055】
【化11】
【0056】
（化合物１０の合成）
窒素雰囲気下で化合物１（５．００ｇ，１４．６ｍｍｏｌ）とヨウ化メチルマグネシウム（１Ｍジエチルエーテル溶液，５３．０ｍＬ，５３．０ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（１０ｍＬ）溶液を調製した。この溶液を１６０℃で４時間加熱した。このとき、反応容器は密閉せずに溶媒を揮発させた。室温に冷却して飽和塩化アンモニウム水溶液（１００ｍＬ）を加え、酢酸エチル（１００ｍＬ）を用いて２回分液して有機成分を抽出した。有機層を飽和食塩水で分液して洗浄し、無水硫酸マグネシウムで脱水した後、濃縮した。最後にシリカゲルクロマトグラフィー（溶離液：ジクロロメタン／酢酸エチル＝４９／１－４／１）により精製して、化合物１０を得た（収量２．４７ｇ，収率５４％）。
窒素雰囲気下で化合物１（５．００ｇ，１４．６ｍｍｏｌ）とヨウ化メチルマグネシウム（１Ｍジエチルエーテル溶液，５３．０ｍＬ，５３．０ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（１０ｍＬ）溶液を調製した。この溶液を１６０℃で４時間加熱した。このとき、反応容器は密閉せずに溶媒を揮発させた。室温に冷却して飽和塩化アンモニウム水溶液（１００ｍＬ）を加え、酢酸エチル（１００ｍＬ）を用いて２回分液して有機成分を抽出した。有機層を飽和食塩水で分液して洗浄し、無水硫酸マグネシウムで脱水した後、濃縮した。最後にシリカゲルクロマトグラフィー（溶離液：ジクロロメタン／酢酸エチル＝４９／１－４／１）により精製して、化合物１０を得た（収量２．４７ｇ，収率５４％）。
【0057】
（化合物１１の合成）
二口フラスコに炭酸カリウム（１．７３ｇ，２１．５ｍｍｏｌ）を加え、窒素置換した。化合物１０（２．００ｇ，６．２４ｍｍｏｌ）のアセトン（３０ｍＬ）溶液と１－ブロモヘキサデカン（１．９０ｍＬ，６．２４ｍｍｏｌ）を加えて、６０℃で５２時間攪拌した。室温に冷却して酢酸エチル（１５０ｍＬ）を加えて、超純水（１００ｍＬ）で２回分液した。有機層を無水硫酸マグネシウムで脱水した後、濃縮した。最後にシリカゲルクロマトグラフィー（溶離液：ヘキサン／酢酸エチル＝９／１）により精製して、化合物１１を得た（収量１．４８ｇ，収率４４％）。
二口フラスコに炭酸カリウム（１．７３ｇ，２１．５ｍｍｏｌ）を加え、窒素置換した。化合物１０（２．００ｇ，６．２４ｍｍｏｌ）のアセトン（３０ｍＬ）溶液と１－ブロモヘキサデカン（１．９０ｍＬ，６．２４ｍｍｏｌ）を加えて、６０℃で５２時間攪拌した。室温に冷却して酢酸エチル（１５０ｍＬ）を加えて、超純水（１００ｍＬ）で２回分液した。有機層を無水硫酸マグネシウムで脱水した後、濃縮した。最後にシリカゲルクロマトグラフィー（溶離液：ヘキサン／酢酸エチル＝９／１）により精製して、化合物１１を得た（収量１．４８ｇ，収率４４％）。
【0058】
（化合物１２の合成）
二口フラスコに炭酸カリウム（４２２ｍｇ，２．９７ｍｍｏｌ）を加え、窒素置換した。化合物１１（８１０ｍｇ，１．４９ｍｍｏｌ）のアセトン（２４ｍＬ）溶液と６－ブロモ－１－ヘキサノール（０．４０ｍＬ，２．９７ｍｍｏｌ）を加えて、６０℃で２日間攪拌した。室温に冷却して酢酸エチル（１００ｍＬ）を加えて、超純水（１００ｍＬ）で２回と飽和食塩水（１００ｍＬ）で１回分液した。有機層を無水硫酸マグネシウムで脱水した後、濃縮した。最後にシリカゲルクロマトグラフィー（溶離液：ヘキサン／酢酸エチル＝９／１）により精製して、化合物１２を得た（収量７００ｍｇ，収率７３％）。
二口フラスコに炭酸カリウム（４２２ｍｇ，２．９７ｍｍｏｌ）を加え、窒素置換した。化合物１１（８１０ｍｇ，１．４９ｍｍｏｌ）のアセトン（２４ｍＬ）溶液と６－ブロモ－１－ヘキサノール（０．４０ｍＬ，２．９７ｍｍｏｌ）を加えて、６０℃で２日間攪拌した。室温に冷却して酢酸エチル（１００ｍＬ）を加えて、超純水（１００ｍＬ）で２回と飽和食塩水（１００ｍＬ）で１回分液した。有機層を無水硫酸マグネシウムで脱水した後、濃縮した。最後にシリカゲルクロマトグラフィー（溶離液：ヘキサン／酢酸エチル＝９／１）により精製して、化合物１２を得た（収量７００ｍｇ，収率７３％）。
【0059】
（化合物Ｍ６の合成）
窒素雰囲気下で化合物１２（６６７ｍｇ，１．０３ｍｍｏｌ）とトリエチルアミン（０．２９０ｍＬ，２．０７ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（３．０ｍＬ）溶液を調製した。氷浴中、窒素雰囲気下で塩化アクリロイル（０．１６７ｍＬ，２．０７ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（２．０ｍＬ）溶液をゆっくりと滴下した。そのまま３０分間撹拌した後、室温に戻して２４時間撹拌した。反応溶液を濃縮した後、酢酸エチル（１００ｍＬ）を加えた。飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（５０ｍＬ）と飽和食塩水（５０ｍＬ）で分液し、無水硫酸マグネシウムで脱水した後、濃縮した。最後にシリカゲルクロマトグラフィー（溶離液：ヘキサン／酢酸エチル＝９／１）により精製して、化合物Ｍ６を得た（収量６１２ｍｇ，収率８５％）。
得られた化合物Ｍ６の１Ｈ ＮＭＲスペクトルを図６に示す。
窒素雰囲気下で化合物１２（６６７ｍｇ，１．０３ｍｍｏｌ）とトリエチルアミン（０．２９０ｍＬ，２．０７ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（３．０ｍＬ）溶液を調製した。氷浴中、窒素雰囲気下で塩化アクリロイル（０．１６７ｍＬ，２．０７ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（２．０ｍＬ）溶液をゆっくりと滴下した。そのまま３０分間撹拌した後、室温に戻して２４時間撹拌した。反応溶液を濃縮した後、酢酸エチル（１００ｍＬ）を加えた。飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（５０ｍＬ）と飽和食塩水（５０ｍＬ）で分液し、無水硫酸マグネシウムで脱水した後、濃縮した。最後にシリカゲルクロマトグラフィー（溶離液：ヘキサン／酢酸エチル＝９／１）により精製して、化合物Ｍ６を得た（収量６１２ｍｇ，収率８５％）。
得られた化合物Ｍ６の１Ｈ ＮＭＲスペクトルを図６に示す。
【0060】
（化合物Ｐ１の合成）
下記スキーム７に示すようにして、化合物Ｐ１を合成した。
下記スキーム７に示すようにして、化合物Ｐ１を合成した。
【0061】
【化13】
【0062】
銅線（５ｍｍ，２本）を硫酸で洗浄し、メタノールで置換した後、乾燥させた。化合物Ｍ１（１．２６ｇ，２．５８ｍｍｏｌ）のジメチルスルホキシド（０．７ｍＬ）とテトラヒドロフラン（１．４ｍＬ）の混合溶液を調製し、２－ブロモイソ酪酸エチル（８．５μＬ，５７．１μｍｏｌ）と銅線を加えて、凍結脱気を２回行った。トリス［２－（ジメチルアミノ）エチル］アミン（６２．１μＬ，２２９μｍｏｌ）のジメチルスルホキシド（０．７ｍＬ）溶液も別に調製して、凍結脱気を２回行った後、窒素雰囲気下で化合物Ｍ１の溶液に加えて、凍結脱気を３回行った。室温で７０時間撹拌した後、空気中に暴露し、ジクロロメタンを加えて、中性アルミナで吸引濾過した。濾液を濃縮して、過剰量のヘキサンを用いて再沈殿を３回行い、減圧乾燥して、化合物Ｐ１を得た（収量３１０ｍｇ，収率２５％，Ｍｎ＝１３５００，Ｍｗ／Ｍｎ＝１．３５）。
得られた化合物Ｐ１の１Ｈ ＮＭＲスペクトルを図７に示す。
得られた化合物Ｐ１の１Ｈ ＮＭＲスペクトルを図７に示す。
【0063】
（化合物Ｐ２の合成）
下記スキーム８に示すようにして、化合物Ｐ２を合成した。
下記スキーム８に示すようにして、化合物Ｐ２を合成した。
【0064】
【化14】
【0065】
銅線（５ｍｍ，２本）を硫酸で洗浄し、メタノールで置換した後、乾燥させた。化合物Ｍ２（４８６ｍｇ，８４８μｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（１．３５ｍＬ）溶液を調製し、２－ブロモイソ酪酸エチル（４．３５μＬ，２９．２μｍｏｌ）と銅線を加えて、凍結脱気を４回行った。窒素雰囲気下でトリス［２－（ジメチルアミノ）エチル］アミン（３１．７μＬ，１１７μｍｏｌ）を加えて、室温で１日撹拌した。空気中に暴露し、ジクロロメタンを加えて、中性アルミナで吸引濾過した。過剰量のアセトニトリル／水＝８／２の混合溶液を用いて、氷浴中で濾液の再沈殿を２回行い、減圧乾燥して、化合物Ｐ２を得た（収量１０９ｍｇ，収率２２％，Ｍｎ＝７２００，Ｍｗ／Ｍｎ＝１．２５）。
得られた化合物Ｐ２の１Ｈ ＮＭＲスペクトルを図８に示す。
得られた化合物Ｐ２の１Ｈ ＮＭＲスペクトルを図８に示す。
【0066】
（化合物Ｐ３の合成）
下記スキーム９に示すようにして、化合物Ｐ３を合成した。
下記スキーム９に示すようにして、化合物Ｐ３を合成した。
【0067】
【化15】
【0068】
銅線（５ｍｍ，２本）を硫酸で洗浄し、メタノールで置換した後、乾燥させた。窒素雰囲気下で銅線と化合物Ｍ３（７６０ｍｇ，１．３６ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（１．９ｍＬ）溶液、２－ブロモイソ酪酸エチル（６．１μＬ，４１．２μｍｏｌ）、トリス［２－（ジメチルアミノ）エチル］アミン（４４．７μＬ，１６５μｍｏｌ）を混合し、凍結脱気を行った。室温で４７時間撹拌した後、空気中に暴露し、ジクロロメタンを加えて、中性アルミナで吸引濾過した。濾液を濃縮して、過剰量のアセトニトリルを用いて再沈殿を行い、減圧乾燥して、化合物Ｐ３を得た（収量４５０ｍｇ，収率５９％，Ｍｎ＝９２００，Ｍｗ／Ｍｎ＝１．２９）。
得られた化合物Ｐ３の１Ｈ ＮＭＲスペクトルを図９に示す。
得られた化合物Ｐ３の１Ｈ ＮＭＲスペクトルを図９に示す。
【0069】
（化合物Ｐ４の合成）
下記スキーム１０に示すようにして、化合物Ｐ４を合成した。
下記スキーム１０に示すようにして、化合物Ｐ４を合成した。
【0070】
【化16】
【0071】
銅線（５ｍｍ，２本）を硫酸で洗浄し、メタノールで置換した後、乾燥させた。窒素雰囲気下で銅線と化合物Ｍ４（２８０ｍｇ，０．５５７ｍｍｏｌ）のアニソール（１ｍＬ）溶液、２－ブロモイソ酪酸エチル（２．１μＬ，１３．９μｍｏｌ）、トリス［２－（ジメチルアミノ）エチル］アミン（１５．１μＬ，５５．７μｍｏｌ）を混合し、凍結脱気を行った。７０℃で４３時間撹拌した後、１００℃で３．５時間撹拌した。空気中に暴露し、ジクロロメタンを加えて、中性アルミナで吸引濾過した。濾液を濃縮して、過剰量のアセトニトリル／水＝９／１の混合溶液を用いて再沈殿を行い、減圧乾燥して、化合物Ｐ４を得た（収量１６ｍｇ，収率６％，Ｍｎ＝４６００，Ｍｗ／Ｍｎ＝１．３２）。
得られた化合物Ｐ４の１Ｈ ＮＭＲスペクトルを図１０に示す。
得られた化合物Ｐ４の１Ｈ ＮＭＲスペクトルを図１０に示す。
【0072】
（化合物Ｐ５の合成）
下記スキーム１１に示すようにして、化合物Ｐ５を合成した。
下記スキーム１１に示すようにして、化合物Ｐ５を合成した。
【0073】
【化17】
【0074】
銅線（５ｍｍ，２本）を硫酸で洗浄し、メタノールで置換した後、乾燥させた。化合物Ｍ１（８０ｍｇ，０．１６４ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液を調製し、アクリル酸 ２－エチルヘキシル（０．３１ｍＬ，１．４７ｍｍｏｌ）と２－ブロモイソ酪酸エチル（３．５μＬ，２３．４μｍｏｌ）、銅線を加えて、凍結脱気を行った。トリス［２－（ジメチルアミノ）エチル］アミン（２５．４μＬ，９３．６μｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液も別に調製して、凍結脱気を行った後、窒素雰囲気下で化合物Ｍ１の溶液に加えて、凍結脱気を行った。テトラヒドロフランは合計１ｍＬ使用した。室温で２２．５時間撹拌した後、空気中に暴露し、ジクロロメタンを加えて、中性アルミナで吸引濾過した。濾液を濃縮して、過剰量のヘキサンを用いて再沈殿を行い、減圧乾燥して、化合物Ｐ５を得た（Ｍｎ＝７７００，Ｍｗ／Ｍｎ＝１．２２）。
得られた化合物Ｐ５の１Ｈ ＮＭＲスペクトルを図１１に示す。
得られた化合物Ｐ５の１Ｈ ＮＭＲスペクトルを図１１に示す。
【0075】
（化合物Ｐ６の合成）
下記スキーム１２に示すようにして、化合物Ｐ６を合成した。
下記スキーム１２に示すようにして、化合物Ｐ６を合成した。
【0076】
【化18】
【0077】
銅線（５ｍｍ，２本）を硫酸で洗浄し、メタノールで置換した後、乾燥させた。化合物Ｍ５（３９０ｍｇ，５５８μｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（１．２ｍＬ）の溶液を調製し、２－ブロモイソ酪酸エチル（２．５μＬ，１６．９μｍｏｌ）と銅線、トリス［２－（ジメチルアミノ）エチル］アミン（１８．０μＬ，６７．６μｍｏｌ）を加えて、凍結脱気を４回行った。室温で２日間撹拌した後、空気中に暴露し、ジクロロメタンを加えて、中性アルミナで吸引濾過した。濾液を濃縮して、過剰量の冷アセトンを用いて再沈殿を２回行い、減圧乾燥して、化合物Ｐ６を得た（収量１５８ｍｇ，収率４１％，Ｍｎ＝１２４００，Ｍｗ／Ｍｎ＝１．２０）。
得られた化合物Ｐ６の１Ｈ ＮＭＲスペクトルを図１２に示す。
得られた化合物Ｐ６の１Ｈ ＮＭＲスペクトルを図１２に示す。
【0078】
（化合物Ｐ７の合成）
下記スキーム１３に示すようにして、化合物Ｐ７を合成した。
下記スキーム１３に示すようにして、化合物Ｐ７を合成した。
【0079】
【化19】
【0080】
銅線（５ｍｍ，２本）を硫酸で洗浄し、メタノールで置換した後、乾燥させた。化合物Ｍ６（５３ｍｇ，７５．８μｍｏｌ）とアクリル酸ドコシル（２４５ｍｇ，６４４μｍｏｌ）のアニソール（０．７ｍＬ）溶液を調製し、２－ブロモイソ酪酸エチル（１．０μＬ，５．６４μｍｏｌ）と銅線、トリス［２－（ジメチルアミノ）エチル］アミン（７．０μＬ，２８．６μｍｏｌ）を加えて、凍結脱気を４回行った。４５℃で３６時間撹拌した後、空気中に暴露し、トルエンを加えて、中性アルミナで吸引濾過した。濾液を濃縮して、過剰量のメタノールを用いて再沈殿を行い、得られた粉体をアセトンで洗浄した後、減圧乾燥して、化合物Ｐ７を得た（収量７８ｍｇ，収率２６％，Ｍｎ＝３３０００，Ｍｗ／Ｍｎ＝１．３０）。
得られた化合物Ｐ７の１Ｈ ＮＭＲスペクトルを図１３に示す。
得られた化合物Ｐ７の１Ｈ ＮＭＲスペクトルを図１３に示す。
【0081】
（実験１）溶液での光異性化の検証
化合物Ｐ１をテトラヒドロフランに溶解させた溶液（３．２８×１０－５Ｍ）を調製した。この溶液に３００ｎｍの波長の光を照射した。そして、吸光度を測定し、Ｚ体及びＥ体のモル分率を求めることで、Ｅ体からＺ体への異性化を評価した。吸光度及びモル分率を図１４（Ａ）、（Ｂ）にそれぞれ示す。波長３００ｎｍの光照射に伴い、化合物Ｐ１はＥ体からＺ体への異性化が進行していることがわかる。
化合物Ｐ１をテトラヒドロフランに溶解させた溶液（３．２８×１０－５Ｍ）を調製した。この溶液に３００ｎｍの波長の光を照射した。そして、吸光度を測定し、Ｚ体及びＥ体のモル分率を求めることで、Ｅ体からＺ体への異性化を評価した。吸光度及びモル分率を図１４（Ａ）、（Ｂ）にそれぞれ示す。波長３００ｎｍの光照射に伴い、化合物Ｐ１はＥ体からＺ体への異性化が進行していることがわかる。
【0082】
次いで、３００ｎｍの光照射後の溶液に対して波長４０５ｎｍの光を照射した。そして、吸光度を測定することで、Ｚ体及びＥ体のモル分率を求めることで、Ｚ体からＥ体への光異性化を評価した。吸光度及びモル分率を図１５（Ａ）、（Ｂ）にそれぞれ示す。波長４０５ｎｍの光照射に伴い、化合物Ｐ１はＺ体からＥ体への異性化が進行していることがわかる。
【0083】
また、化合物Ｐ１をテトラヒドロフランに溶解させた溶液（３．２５×１０－５Ｍ）について、照射する光の波長を上記の３００ｎｍ、４０５ｎｍをそれぞれ３６５ｎｍ、３８５ｎｍに代えて、上記と同様に行った。
【0084】
３６５ｎｍの光を照射したときの吸光度及びモル分率を図１６（Ａ）、（Ｂ）に、また、３８５ｎｍの光を照射したときの吸光度及びモル分率を図１７（Ａ）、（Ｂ）にそれぞれ示す。化合物Ｐ１は、３６５ｎｍの光照射によりＥ体からＺ体へ、３８５ｎｍの光照射によりＺ体からＥ体への異性化が進行している。
【0085】
（実験２）薄膜での光異性化の検証１
化合物Ｐ１をテトラヒドロフランに溶解させた溶液（１０ｍｇ／ｍＬ）を調製し、石英基板上にスピンコート法により化合物Ｐ１の薄膜（以下、Ｐ１薄膜１０）を製造した。
化合物Ｐ１をテトラヒドロフランに溶解させた溶液（１０ｍｇ／ｍＬ）を調製し、石英基板上にスピンコート法により化合物Ｐ１の薄膜（以下、Ｐ１薄膜１０）を製造した。
【0086】
Ｐ１薄膜１０について、実験１と同様に、波長３００ｎｍの光を照射した後、４０５ｎｍの光を照射した。３００ｎｍの光を照射したときの吸光度及びモル分率を図１８（Ａ）、（Ｂ）に、また、４０５ｎｍの光を照射したときの吸光度及びモル分率を図１９（Ａ）、（Ｂ）にそれぞれ示す。薄膜の場合、溶液の場合ほどではないものの、化合物Ｐ１は、３００ｎｍの光照射によりＥ体からＺ体への異性化、４０５ｎｍの光照射によりＺ体からＥ体への異性化が進行している。
【0087】
また、照射する光を上記の３００ｎｍ、４０５ｎｍをそれぞれ３６５ｎｍ、３８５ｎｍに代えて、上記と同様に行った。
【0088】
３６５ｎｍの光を照射したときの吸光度及びモル分率を図２０（Ａ）、（Ｂ）に、また、３８５ｎｍの光を照射したときの吸光度及びモル分率を図２１（Ａ）、（Ｂ）にそれぞれ示す。化合物Ｐ１は３６５ｎｍの光照射によりＥ体からＺ体への異性化、３８５ｎｍの光照射によりＺ体からＥ体への異性化が進行している。
【0089】
（実験３）薄膜での光異性化の検証２
化合物Ｐ１をテトラヒドロフランに溶解させた溶液（２０ｍｇ／ｍＬ）を調製し、石英基板上にスピンコート法により化合物Ｐ１の薄膜（以下、Ｐ１薄膜２０）を製造した。
化合物Ｐ１をテトラヒドロフランに溶解させた溶液（２０ｍｇ／ｍＬ）を調製し、石英基板上にスピンコート法により化合物Ｐ１の薄膜（以下、Ｐ１薄膜２０）を製造した。
【0090】
Ｐ１薄膜２０について、実験１と同様に、波長３００ｎｍの光を照射した後、４０５ｎｍの光を照射した。３００ｎｍの光を照射したときの吸光度及びモル分率を図２２（Ａ）、（Ｂ）に、また、４０５ｎｍの光を照射したときの吸光度及びモル分率を図２３（Ａ）、（Ｂ）にそれぞれ示す。化合物Ｐ１は３００ｎｍの光照射によりＥ体からＺ体への異性化、４０５ｎｍの光照射によりＺ体からＥ体への異性化が進行している。
【0091】
照射する光を上記の３００ｎｍ、４０５ｎｍから３６５ｎｍ、３８５ｎｍにそれぞれ変えて、上記と同様に行った。３６５ｎｍの光を照射したときの吸光度及びモル分率を図２４（Ａ）、（Ｂ）に、また、３８５ｎｍの光を照射したときの吸光度及びモル分率を図２５（Ａ）、（Ｂ）にそれぞれ示す。化合物Ｐ１は３６５ｎｍの光照射によりＥ体からＺ体への異性化、３８５ｎｍの光照射によりＺ体からＥ体への異性化が進行している。
【0092】
化合物Ｐ３をテトラヒドロフランに溶解させた溶液（２０ｍｇ／ｍＬ）を調製し、石英基板上にスピンコート法により化合物Ｐ３の薄膜（以下、Ｐ３薄膜２０）を製造した。
【0093】
Ｐ３薄膜２０について、実験１と同様に、波長３６５ｎｍの光を照射した後、４０５ｎｍの光を照射した。３６５ｎｍの光を照射したときの吸光度及びモル分率を図２６（Ａ）、（Ｂ）に、また、４０５ｎｍの光を照射したときの吸光度及びモル分率を図２７（Ａ）、（Ｂ）にそれぞれ示す。化合物Ｐ３は、３６５ｎｍの光照射によりＥ体からＺ体への異性化、４０５ｎｍの光照射によりＺ体からＥ体への異性化が進行している。
【0094】
（実験４）ガラス転移温度の測定
化合物Ｐ１（Ｅ体）について、示差走査熱量測定（ＤＳＣ）を行い、ガラス転移温度（Ｔｇ）を求めた。
化合物Ｐ１（Ｅ体）について、示差走査熱量測定（ＤＳＣ）を行い、ガラス転移温度（Ｔｇ）を求めた。
【0095】
次に、化合物Ｐ１の合成時における溶媒等の残留物を除去すべく、化合物Ｐ１（Ｅ体）をテトラヒドロフランに溶解させ（５×１０－５Ｍ）、ヘキサンで沈殿させた。そして、減圧乾燥を行って得られた化合物Ｐ１（Ｅ体）について、ＤＳＣ測定を行った。
【0096】
更に、化合物Ｐ１（Ｅ体）をテトラヒドロフランに溶解させた溶液に対し、波長３００ｎｍの光を４分間照射し、Ｚ体に異性化させた。その後、ヘキサンで沈殿させ、減圧乾燥を行って得られた化合物Ｐ１（Ｚ体）についても、ＤＳＣ測定を行った。
【0097】
その結果を図２８（Ａ）に示す。化合物Ｐ１のＥ体のＴｇは５２℃であり、Ｚ体のＴｇは５５℃に変化していた。
【0098】
また、化合物Ｐ１に代えて化合物Ｐ２（Ｅ体）を用い、上記と同様にしてＤＳＣ測定を行った。その結果を図２８（Ｂ）に示す。化合物Ｐ２のＥ体のＴｇは３２℃であり、Ｚ体のＴｇは１１℃に変化していた。
【0099】
また、化合物Ｐ１に代えて化合物Ｐ３（Ｅ体）を用い、照射する光を３６５ｎｍ、１５秒間とした以外、上記と同様にしてＤＳＣ測定を行った。その結果を図２８（Ｃ）に示す。化合物Ｐ３のＥ体のＴｇは３１℃であり、Ｚ体のＴｇは２６℃に変化していた。
【0100】
また、化合物Ｐ１に代えて化合物Ｐ６（Ｅ体）を用い、上記と同様にしてＤＳＣ測定を行った。その結果を図２８（Ｄ）に示す。化合物Ｐ６のＥ体のＴｇは－４℃であり、Ｚ体のＴｇは－５℃に変化していた。
【0101】
（実験５）接着性の評価
ピラニア処理した後にＨＭＤＳ（ヘキサメチルジシラザン）処理した疎水性石英ガラス基板（４０×１０ｍｍ）を２枚用意した。一方の疎水性石英ガラス基板の端から７×１０ｍｍの範囲に化合物Ｐ６の粉末を２ｍｇ置いた。
そして、オーブンに入れて、８２℃で１時間加熱して溶融させた。
化合物Ｐ２の上にもう１枚の疎水性石英ガラス基板を置いた。そして、５０ｇの錘を用いて疎水性石英ガラス基板同士（試験体）を加圧した状態でオーブンに入れて再度１時間（８２℃）で加熱圧着させた。
オーブンから試験体を取り出し、錘を乗せたまま室温で１時間冷却し、２枚の基板を接合した。
ピラニア処理した後にＨＭＤＳ（ヘキサメチルジシラザン）処理した疎水性石英ガラス基板（４０×１０ｍｍ）を２枚用意した。一方の疎水性石英ガラス基板の端から７×１０ｍｍの範囲に化合物Ｐ６の粉末を２ｍｇ置いた。
そして、オーブンに入れて、８２℃で１時間加熱して溶融させた。
化合物Ｐ２の上にもう１枚の疎水性石英ガラス基板を置いた。そして、５０ｇの錘を用いて疎水性石英ガラス基板同士（試験体）を加圧した状態でオーブンに入れて再度１時間（８２℃）で加熱圧着させた。
オーブンから試験体を取り出し、錘を乗せたまま室温で１時間冷却し、２枚の基板を接合した。
【0102】
この試験片について、５００Ｎのロードセル（ＳＭ－５００Ｎ－１６８、島津製作所製）および保持装置（ＳＣＧ－１ｋＮＡ、島津製作所製）を備えた万能試験機（ＥＺ－ＬＸ、島津製作所製）を用い、ひずみ速度０．５ｍｍ／ｍｉｎ（室温）にて、疎水性石英ガラス基板同士を引っ張り、最大応力と破断時変位の平均値と標準偏差を算出した（ｎ＝５）。
【0103】
また、試験片に波長３００ｎｍの光（ＵＶ光）を照射した。そして、ＵＶ光照射後の試験片について、上記と同様にして、最大応力と破断時変位の平均値と標準偏差を算出した（ｎ＝５）。
【0104】
【産業上の利用可能性】
【0105】
本発明に係る光異性化基を有する（メタ）アクリル化合物及びポリ（メタ）アクリル化合物は、分子スイッチとしての利用が期待される。また、（メタ）アクリル系接着剤は、マルチマテリアル化における光解体性接着剤としての利用が期待される。
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13】
【図14】
【図15】
【図16】
【図17】
【図18】
【図19】
【図20】
【図21】
【図22】
【図23】
【図24】
【図25】
【図26】
【図27】
【図28】
【図29】
