特開 2024-80105 蒸発源ユニット、成膜装置及び成膜方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2024080105

(43)【公開日】2024-06-13

(54)【発明の名称】蒸発源ユニット、成膜装置及び成膜方法

(51)【国際特許分類】

   C23C 14/24 20060101AFI20240606BHJP

   H10K 50/10 20230101ALI20240606BHJP

   H10K 71/16 20230101ALI20240606BHJP

   H01L 21/363 20060101ALI20240606BHJP

【ＦＩ】

C23C14/24 C

H10K50/10

H10K71/16

H01L21/363

【審査請求】未請求

【請求項の数】18

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2022193009

(22)【出願日】2022-12-01

(71)【出願人】

【識別番号】591065413

【氏名又は名称】キヤノントッキ株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】110003281

【氏名又は名称】弁理士法人大塚国際特許事務所

(72)【発明者】

【氏名】杉本 美悠

【テーマコード（参考）】

3K107

4K029

5F103

【Ｆターム（参考）】

3K107AA01

3K107BB01

3K107CC33

3K107CC45

3K107FF15

3K107GG28

3K107GG32

3K107GG33

3K107GG34

3K107GG43

3K107GG56

4K029AA09

4K029AA24

4K029BA04

4K029BA21

4K029BB03

4K029BC07

4K029BD01

4K029CA01

4K029DA03

4K029DA12

4K029DB03

4K029DB14

4K029DB18

4K029EA02

4K029HA01

4K029JA01

4K029JA06

4K029KA01

4K029KA09

5F103AA01

5F103BB12

5F103BB36

5F103BB53

5F103DD30

5F103GG03

5F103LL01

5F103RR10

(57)【要約】

【課題】基板に形成される膜の膜厚の均一化に有利な技術を提供する。
【解決手段】移動方向に相対的に移動する基板に対して成膜を行う蒸発源ユニットであって、前記移動方向に交差する交差方向に沿って並んで配置され、前記基板に付着させる第１蒸着物質をそれぞれが放出する複数の第１蒸発源を含む第１蒸発源群と、前記交差方向に沿って並んで配置され、前記基板に付着させる第２蒸着物質をそれぞれが放出する複数の第２蒸発源を含み、前記移動方向において前記第１蒸発源群よりも外側に配置された第２蒸発源群と、前記第１蒸発源から放出される前記第１蒸着物質の状態を監視する第１水晶モニタと、前記第２蒸発源から放出される前記第２蒸着物質の状態を監視する第２水晶モニタと、を有し、前記第２蒸発源から放出されて前記第２水晶モニタに付着する前記第２蒸着物質の付着量は、前記第１蒸発源から放出されて前記第１水晶モニタに付着する前記第１蒸着物質の付着量よりも小さい、ことを特徴とする蒸発源ユニットを提供する。
【選択図】図４

【特許請求の範囲】

【請求項1】

移動方向に相対的に移動する基板に対して成膜を行う蒸発源ユニットであって、
前記移動方向に交差する交差方向に沿って並んで配置され、前記基板に付着させる第１蒸着物質をそれぞれが放出する複数の第１蒸発源を含む第１蒸発源群と、
前記交差方向に沿って並んで配置され、前記基板に付着させる第２蒸着物質をそれぞれが放出する複数の第２蒸発源を含み、前記移動方向において前記第１蒸発源群よりも外側に配置された第２蒸発源群と、
前記第１蒸発源から放出される前記第１蒸着物質の状態を監視する第１水晶モニタと、
前記第２蒸発源から放出される前記第２蒸着物質の状態を監視する第２水晶モニタと、
を有し、
前記第２蒸発源から放出されて前記第２水晶モニタに付着する前記第２蒸着物質の付着量は、前記第１蒸発源から放出されて前記第１水晶モニタに付着する前記第１蒸着物質の付着量よりも小さい、ことを特徴とする蒸発源ユニット。

【請求項2】

前記第２蒸発源の成膜レートは、前記第１蒸発源の成膜レートよりも低い、ことを特徴とする請求項１に記載の蒸発源ユニット。

【請求項3】

前記第２蒸発源から放出されて前記第２水晶モニタに付着する前記第２蒸着物質の膜密度は、前記第１蒸発源から放出されて前記第１水晶モニタに付着する前記第１蒸着物質の膜密度よりも低い、ことを特徴とする請求項１に記載の蒸発源ユニット。

【請求項4】

前記付着量は、成膜レート［Å／ｓ］と膜密度［ｇ／ｃｍ^３］との積で定義される、ことを特徴とする請求項１に記載の蒸発源ユニット。

【請求項5】

前記第１蒸着物質と前記第２蒸着物質とを同時に前記基板に付着させて前記第１蒸着物質と前記第２蒸着物質との混合膜を形成する、ことを特徴とする請求項１に記載の蒸発源ユニット。

【請求項6】

前記第１水晶モニタと前記第２水晶モニタとは、前記移動方向に交差する交差方向に沿って並んで配置されている、ことを特徴とする請求項１に記載の蒸発源ユニット。

【請求項7】

前記第１水晶モニタと前記第２水晶モニタとは、前記移動方向において前記第２蒸発源群よりも外側に配置されている、ことを特徴とする請求項６に記載の蒸発源ユニット。

【請求項8】

前記第１水晶モニタは、当該第１水晶モニタと、前記第１蒸発源とを結ぶ線が前記移動方向に交差するように配置され、
前記第２水晶モニタは、当該第２水晶モニタと、前記第２蒸発源とを結ぶ線が前記移動方向に平行になるように配置されている、ことを特徴とする請求項７に記載の蒸発源ユニット。

【請求項9】

前記移動方向に交差する交差方向に沿って並んで配置され、前記基板に付着させる第３蒸着物質をそれぞれが放出する複数の第３蒸発源を含み、前記移動方向において、前記第１蒸発源群よりも外側、且つ、前記第２蒸発源群とは反対側に配置された第３蒸発源群を更に有し、
前記第３蒸着物質を、前記第１蒸着物質及び前記第２蒸着物質から独立して前記基板に付着させて前記第３蒸着物質の膜を形成する、ことを特徴とする請求項６に記載の蒸発源ユニット。

【請求項10】

前記第３蒸発源から放出される前記第３蒸着物質の状態を監視する第３水晶モニタを更に有し、
前記第３水晶モニタは、前記移動方向において前記第３蒸発源群よりも外側に配置されている、
ことを特徴とする請求項９に記載の蒸発源ユニット。

【請求項11】

前記第３水晶モニタは、当該第３水晶モニタと、前記第３蒸発源とを結ぶ線が前記移動方向に平行になるように配置されている、ことを特徴とする請求項１０に記載の蒸発源ユニット。

【請求項12】

前記複数の第１蒸発源及び前記複数の第２蒸発源のそれぞれにおいて、前記交差方向に隣接する２つの蒸発源の間の距離は互いに異なる、ことを特徴とする請求項１に記載の蒸発源ユニット。

【請求項13】

移動方向に相対的に移動する基板に対して成膜を行う蒸発源ユニットであって、
前記移動方向に交差する交差方向に沿って並んで配置され、前記基板に付着させる第１蒸着物質をそれぞれが放出する複数の第１蒸発源を含む第１蒸発源群と、
前記交差方向に沿って並んで配置され、前記基板に付着させる第２蒸着物質をそれぞれが放出する複数の第２蒸発源を含む第２蒸発源群と、
前記第１蒸発源から放出される前記第１蒸着物質の状態を監視する第１水晶モニタと、前記第２蒸発源から放出される前記第２蒸着物質の状態を監視する第２水晶モニタと、を含む監視手段と、
を有し、
前記第２蒸発源から放出されて前記第２水晶モニタに付着する前記第２蒸着物質の付着量が、前記第１蒸発源から放出されて前記第１水晶モニタに付着する前記第１蒸着物質の付着量よりも小さくなるように、前記第２蒸発源群は、前記第１蒸発源群よりも前記監視手段の近くに配置されている、ことを特徴とする蒸発源ユニット。

【請求項14】

前記第１水晶モニタと前記第２水晶モニタとは、前記移動方向に交差する交差方向に沿って並んで配置されている、ことを特徴とする請求項１３に記載の蒸発源ユニット。

【請求項15】

前記第２蒸発源群は、前記移動方向において前記第１蒸発源群よりも外側に配置されている、ことを特徴とする請求項１３に記載の蒸発源ユニット。

【請求項16】

前記監視手段は、前記移動方向において前記第２蒸発源群よりも外側に配置されている、ことを特徴とする請求項１５に記載の蒸発源ユニット。

【請求項17】

請求項１乃至１６のうちいずれか１項に記載の蒸発源ユニットを有する成膜装置。

【請求項18】

請求項１７に記載の成膜装置を用いて基板に成膜する、
ことを特徴とする成膜方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、蒸発源ユニット、成膜装置及び成膜方法に関する。

【背景技術】

【0002】

有機ＥＬディスプレイなどの製造においては、蒸発源から放出された蒸着物質が基板に付着することで基板に膜（薄膜）が形成される。特許文献１には、複数の蒸着源を用いて成膜を行う際に、蒸発源から蒸発される蒸着材料の状態、例えば、蒸発レートや成膜レートをモニタ（監視）するセンサ（成膜レートモニタ）が開示されている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【特許文献1】特開２０１９－２１８６２３号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

しかしながら、複数の蒸発源を用いて成膜を行う場合、基本的には、各蒸発源に対して成膜レートモニタなどを含む監視装置がそれぞれ設けられるが、監視装置と監視対象の蒸発源との位置関係によって、監視装置の監視精度が低下する可能性がある。このような場合、成膜レートの制御が困難となり、基板に形成される膜の膜厚の均一性を低下させる虞がある。

【0005】

本発明は、このような従来技術の課題に鑑みてなされ、基板に形成される膜の膜厚の均一化に有利な技術を提供することを例示的目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0006】

上記目的を達成するために、本発明の一側面としての蒸発源ユニットは、移動方向に相対的に移動する基板に対して成膜を行う蒸発源ユニットであって、前記移動方向に交差する交差方向に沿って並んで配置され、前記基板に付着させる第１蒸着物質をそれぞれが放出する複数の第１蒸発源を含む第１蒸発源群と、前記交差方向に沿って並んで配置され、前記基板に付着させる第２蒸着物質をそれぞれが放出する複数の第２蒸発源を含み、前記移動方向において前記第１蒸発源群よりも外側に配置された第２蒸発源群と、前記第１蒸発源から放出される前記第１蒸着物質の状態を監視する第１水晶モニタと、前記第２蒸発源から放出される前記第２蒸着物質の状態を監視する第２水晶モニタと、を有し、前記第２蒸発源から放出されて前記第２水晶モニタに付着する前記第２蒸着物質の付着量は、前記第１蒸発源から放出されて前記第１水晶モニタに付着する前記第１蒸着物質の付着量よりも小さい、ことを特徴とする。

【0007】

本発明の更なる目的又はその他の側面は、以下、添付図面を参照して説明される実施形態によって明らかにされるであろう。

【発明の効果】

【0008】

本発明によれば、例えば、基板に形成される膜の膜厚の均一化に有利な技術を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【0009】

【図1】本発明の一側面としての成膜装置を有する成膜システムの構成を模式的に示す平面図である。

【図2】本発明の一側面としての成膜装置の構成を模式的に示す正面図である。

【図3】蒸発源ユニットの構成を説明するための図である。

【図4】蒸発源ユニットの構成を説明するための図である。

【図5】蒸発源の構成を模式的に示す断面図である。

【発明を実施するための形態】

【0010】

以下、添付図面を参照して実施形態を詳しく説明する。なお、以下の実施形態は特許請求の範囲に係る発明を限定するものではない。実施形態には複数の特徴が記載されているが、これらの複数の特徴の全てが発明に必須のものとは限らず、また、複数の特徴は任意に組み合わせられてもよい。更に、添付図面においては、同一もしくは同様の構成に同一の参照番号を付し、重複した説明は省略する。

【0011】

図１は、本発明の一側面としての成膜装置１を有する成膜システムＳＹの構成を模式的に示す平面図である。成膜システムＳＹは、搬入される基板に対して成膜処理を行い、成膜処理が行われた基板を搬出するシステムである。例えば、複数の成膜システムＳＹを並べて設置することで、電子デバイスの製造ラインが構成される。電子デバイスとしては、例えば、スマートフォン用の有機ＥＬ表示装置の表示パネルが挙げられる。

【0012】

成膜システムＳＹは、図１に示すように、成膜装置１と、搬入室６０と、基板搬送室６２と、搬出室６４と、マスクストック室６６と、を有する。なお、成膜装置１の構成については、後で詳細に説明する。

【0013】

搬入室６０には、成膜装置１において成膜処理が行われる基板１００が成膜装置１の外部から搬入される。基板搬送室６２には、基板１００を搬送する搬送ロボット６２０が設けられる。搬送ロボット６２０は、搬入室６０に搬入された基板１００を成膜装置１に搬送する。また、搬送ロボット６２０は、成膜装置１において成膜処理が行われた基板１００を搬出室６４に搬送する。搬送ロボット６２０によって搬出室６４に搬送された基板１００は、搬出室６４から成膜システムＳＹの外部に搬出される。なお、複数の成膜システムＳＹが並べて設置されている場合には、上流側の成膜システムＳＹの搬出室６４が下流側の成膜システムＳＹの基板搬送室６２を兼ねていてもよい。マスクストック室６６には、成膜装置１における成膜処理に用いられるマスク１０１がストックされる。マスクストック室６６にストックされているマスク１０１は、搬送ロボット６２０によって成膜装置１に搬送される。

【0014】

成膜システムＳＹを構成する成膜装置１及び各室の内部は、真空ポンプなどの排気機構によって真空状態に維持される。なお、本実施形態において、「真空状態」とは、大気圧よりも低い圧力の気体で満たされた状態、即ち、減圧状態を意味する。

【0015】

図２は、本発明の一側面としての成膜装置１の構成を模式的に示す正面図である。なお、以下の図において、矢印Ｘ及びＹは、互いに直交する水平方向を示し、矢印Ｚは、垂直方向（鉛直方向）を示す。

【0016】

成膜装置１は、基板に対して蒸発源を移動させながら、基板に蒸発源から放出された蒸着物質を付着（蒸着）させることで、基板に膜（薄膜）を形成する成膜処理を行う装置である。成膜装置１は、例えば、スマートフォン用の有機ＥＬ表示装置の表示パネルの製造装置として用いられ、上述したように、複数台を並べて設置することで、その製造ラインを構成する。成膜装置１で成膜処理が行われる基板の材質としては、ガラス、樹脂、金属などを適宜選択可能であり、特に、ガラス上にポリイミドなどの樹脂層が形成されたものが好適である。蒸着物質としては、有機材料や無機材料（例えば、金属、金属酸化物）などが用いられる。なお、成膜装置１は、有機ＥＬ表示装置の表示パネルの製造に限定されず、表示装置（フラットパネルディスプレイ）や薄膜太陽電池、有機光電変換素子（有機薄膜撮像素子）などの電子デバイス、光学部材などの製造装置としても適用可能である。また、本実施形態において、成膜装置１は、Ｇ８Ｈサイズのガラス基板（１１００ｍｍ×２５００ｍｍ、１２５０ｍｍ×２２００ｍｍ）に対して成膜処理を行うが、成膜装置１が成膜処理を行う基板のサイズは適宜設定可能である。

【0017】

成膜装置１は、図２に示すように、蒸発源ユニット１０と、複数の成膜ステージ３０Ａ及び３０Ｂと、を有する。蒸発源ユニット１０及び成膜ステージ３０Ａ及び３０Ｂは、成膜処理時（使用時）に真空状態に維持されるチャンバ４５の内部に配置される。本実施形態では、複数の成膜ステージ３０Ａ及び３０Ｂは、チャンバ４５の内部の上部においてＸ方向に離間して設けられ、その下方には、蒸発源ユニット１０が設けられている。また、チャンバ４５には、基板１００を搬入及び搬出するための複数の搬入出口（不図示）が設けられている。

【0018】

成膜装置１は、蒸発源ユニット１０に電力を供給する電源４１と、蒸発源ユニット１０及び電源４１を電気的に接続する電気接続部４２と、を更に有する。電気接続部４２は、水平方向に移動可能なアームに内蔵された電気配線を含み、Ｘ方向に移動可能な蒸発源ユニット１０に対して電源４１からの電力を供給することができるように構成されている。

【0019】

成膜装置１は、成膜装置１の各構成要素（の動作）を制御する制御部４３を更に有する。制御部４３は、例えば、ＣＰＵに代表されるプロセッサ、ＲＡＭ、ＲＯＭなどのメモリ及び各種インタフェースを含むコンピュータ（情報処理装置）で構成される。制御部４３は、ＲＯＭに記憶されたプログラムをＲＡＭに読み出して実行することで、成膜装置１における各種の動作や処理を実現する。なお、制御部４３に代えて、成膜システムＳＹを統括的に制御するホストコンピュータなどで成膜装置１の各構成要素を直接制御することも可能である。

【0020】

成膜ステージ３０Ａは、基板１００Ａに対して成膜処理を行うためのステージである。成膜ステージ３０Ａは、基板１００Ａ及びマスク１０１Ａを支持するとともに、基板１００Ａとマスク１０１Ａとの相対的な位置を調整する。成膜ステージ３０Ａは、基板支持部３２Ａと、マスク支持部３４Ａと、支柱３５Ａと、アライメント機構３６Ａと、を含む。

【0021】

基板支持部３２Ａは、基板１００Ａを支持する。基板支持部３２Ａは、本実施形態では、基板１００Ａの短辺がＸ方向に沿い、基板１００Ａの長辺がＹ方向に沿うように、基板１００Ａを支持する。基板支持部３２Ａは、基板１００Ａの縁を、基板１００Ａの下側から支持する。但し、基板支持部３２Ａは、基板１００Ａの縁を挟持することで基板１００Ａを支持してもよいし、静電チャック又は粘着チャックなどで基板１００Ａを吸着することで基板１００Ａを支持してもよい。基板支持部３２Ａは、基板搬送室６２に設けられた搬送ロボット６２０を介して、成膜システムＳＹに搬入された基板１００Ａを受け取る。また、基板支持部３２Ａには、基板支持部３２Ａを昇降可能にする昇降機構（不図示）が設けられ、搬送ロボット６２０から受け取った基板１００Ａをマスク支持部３４Ａに支持されたマスク１０１Ａの上に重ね合わせることができる。かかる昇降機構には、ボールねじ機構などの当業界で周知の技術を適用することが可能である。

【0022】

マスク支持部３４Ａは、マスク１０１Ａを支持する。本実施形態では、マスク支持部３４Ａには、開口（不図示）が設けられ、かかる開口を介して、マスク１０１Ａと重ね合わされた基板１００Ａの成膜面（膜を形成する面）に対して蒸着物質が付着（飛散）する。マスク支持部３４Ａは、支柱３５Ａを介して、チャンバ４５に支持される。

【0023】

アライメント機構３６Ａは、基板１００Ａとマスク１０１Ａとの相対的な位置を調整するアライメント（位置合わせ）を行う。アライメント機構３６Ａは、基板支持部３２Ａとマスク支持部３４Ａとの水平方向における相対位置を調整することで、基板支持部３２Ａに支持された基板１００Ａとマスク支持部３４Ａに支持されたマスク１０１Ａとのアライメントを行う。基板１００Ａとマスク１０１Ａとのアライメントには、当業界で周知の技術を適用することが可能である。例えば、まず、アライメント機構３６Ａは、基板１００Ａ及びマスク１０１Ａのそれぞれに形成されたアライメント用のマークをカメラ（不図示）で検知する。そして、アライメント機構３６Ａは、これらのマークを検知することで得られる基板１００Ａの位置とマスク１０１Ａの位置との関係が、所定の条件を満たすように、基板１００Ａとマスク１０１Ａとの位置関係を調整する。具体的には、基板１００Ａに形成されたマークと、マスク１０１Ａに形成されたマークとを重ね合わせ、それらのマークのずれ量をカメラで検知し、所定の条件を満たすように（許容範囲に収まるように）、基板１００Ａの位置を調整する。

【0024】

アライメント機構３６Ａによって基板１００Ａとマスク１０１Ａとのアライメントが行われると、基板支持部３２Ａは、支持している基板１００Ａをマスク１０１Ａの上に重ね合わせる。基板１００Ａとマスク１０１Ａとが重ね合わせられた状態において、基板１００Ａに対して、蒸発源ユニット１０による成膜処理が行われる。

【0025】

成膜ステージ３０Ｂは、成膜ステージ３０Ａと同様な構成を含む。成膜ステージ３０Ｂは、基板支持部３２Ｂと、マスク支持部３４Ｂと、支柱３５Ｂと、アライメント機構３６Ｂと、を含む。基板支持部３２Ｂ、マスク支持部３４Ｂ、支柱３５Ｂ及びアライメント機構３６Ｂは、それぞれ、基板支持部３２Ａ、マスク支持部３４Ａ、支柱３５Ａ及びアライメント機構３６Ａに対応する。

【0026】

本実施形態において、成膜装置１は、複数の成膜ステージ３０Ａ及び３０Ｂを有し、所謂、デュアルステージの成膜装置として具現化されている。従って、成膜ステージ３０Ａにおいて、基板１００Ａに対する成膜処理（蒸着など）が行われる間に、成膜ステージ３０Ｂにおいて、基板１００Ｂとマスク１０１Ｂとのアライメントを行うことが可能であり、成膜処理を効率的に行うことができる。

【0027】

次いで、図３及び図４を参照して、蒸発源ユニット１０について説明する。ここでは、蒸発源ユニット１０を構成する各要素の概要を説明し、蒸発源ユニット１０の配置構成や動作例については後で詳細に説明する。図３は、蒸発源ユニット１０の構成を説明するための図であって、蒸発源ユニット１０を横方向（Ｙ方向）から模式的に示す図である。図４は、蒸発源ユニット１０の構成を説明するための図であって、蒸発源ユニット１０を上方向（Ｚ方向）から模式的に示す図である。

【0028】

蒸発源ユニット１０は、本実施形態では、Ｘ方向に移動しながら蒸着物質を放出することで、基板１００に対して成膜処理を行うためのユニットである。蒸発源ユニット１０は、複数の蒸発源１１ａ～１１ｒと、複数の監視装置１２ａ～１２ｒと、シャッタ１６１～１６３と、移動部２０と、を含む。

【0029】

図５は、蒸発源１１ａ～１１ｒの構成を模式的に示す断面図である。複数の蒸発源１１ａ～１１ｒは、それぞれ、蒸着物質を放出する。複数の蒸発源１１ａ～１１ｒのそれぞれは、図５に示すように、材料容器１１１と、加熱部１１２と、を含む。

【0030】

材料容器１１１は、その内部に、基板１００に付着させる蒸着物質を収容するるつぼである。材料容器１１１の上部には、材料容器１１１の内部で蒸発した蒸着物質を、材料容器１１１の外部に放出するための放出部１１１１が設けられている。放出部１１１１は、本実施形態では、材料容器１１１の上面に形成された開口（放出口）として構成されているが、これに限定されるものではない。例えば、材料容器１１１を筒状の部材などで構成することで、放出部１１１１の機能を実現してもよい。また、材料容器１１１の上面には、放出部１１１１として、複数の開口が設けられていてもよい。

【0031】

加熱部１１２は、材料容器１１１に収容された蒸着物質を加熱して蒸発させる。加熱部１１２は、例えば、材料容器１１１の全体を覆うように設けられることが好ましい。加熱部１１２は、本実施形態では、電熱線を用いたシーズヒータとして具現化され、図５には、シーズヒータの電熱線を材料容器１１１の周囲に巻き付けたときの断面が示されている。

【0032】

加熱部１１２による蒸着物質の加熱は、制御部４３によって制御される。本実施形態において、複数の蒸発源１１ａ～１１ｒは、それぞれが独立して、材料容器１１１及び加熱部１１２を含んでいる。従って、制御部４３は、複数の蒸発源１１ａ～１１ｒによる蒸着物質の加熱（蒸発）を、それぞれ独立に制御することが可能である。

【0033】

図３及び図４に戻って、複数の蒸発源１１ａ～１１ｒは、蒸発源ユニット１０の移動方向（Ｘ方向）に沿って互いに離間した３つの蒸発源群１７Ａ～１７Ｃに大別される。蒸発源群１７Ａは、蒸発源ユニット１０の移動方向に交差する交差方向（Ｙ方向）に沿って配置された複数の蒸発源１１ａ～１１ｆを含む。蒸発源群１７Ｂは、蒸発源ユニット１０の移動方向に交差する交差方向に沿って配置された複数の蒸発源１１ｇ～１１ｌを含む。蒸発源群１７Ｃは、蒸発源ユニット１０の移動方向に交差する交差方向に沿って配置された複数の蒸発源１１ｍ～１１ｒを含む。

【0034】

３つの蒸発源群１７Ａ～１７Ｃは、本実施形態では、蒸発源ユニット１０の移動方向において、蒸発源群１７Ａ、蒸発源群１７Ｂ、蒸発源群１７Ｃの順に並んで配置されている。従って、蒸発源群１７Ａ～１７Ｃのそれぞれに含まれる蒸発源に着目すると、例えば、蒸発源１１ｄ、蒸発源１１ｊ、蒸発源１１ｐは、蒸発源ユニット１０の移動方向に沿って、この順に並んで配置されている。また、３つの蒸発源群１７Ａ～１７Ｃは、互いに異なる蒸着物質を放出することが可能である。

【0035】

複数の監視装置１２ａ～１２ｒは、複数の蒸発源１１ａ～１１ｒに対応して設けられている。複数の監視装置１２ａ～１２ｒのそれぞれは、複数の蒸発源１１ａ～１１ｒのそれぞれから放出される蒸着物質の状態（放出状態）、例えば、蒸着物質のレート（蒸発レート（成膜レート））を監視する。監視装置１２ａ～１２ｒは、図３に示すように、ケース１２１と、ケース１２１の内部に厚膜センサとして設けられた水晶振動子１２３（水晶モニタ）と、を含む。水晶振動子１２３には、蒸発源１１から放出され、ケース１２１に設けられた導入部１２２を介してケース１２１の内部に導入された蒸着物質が付着する。水晶振動子１２３の振動数は、水晶振動子１２３に付着する蒸着物質の量（付着量）に応じて変動する。従って、制御部４３は、水晶振動子１２３の振動数に基づいて、基板１００に付着（蒸着）した蒸着物質の膜厚を算出することができる。水晶振動子１２３に付着する蒸着物質の単位時間あたりの量は、蒸発源１１から放出される蒸着物質の量と相関を有するため、監視装置１２ａ～１２ｒは、結果的に、複数の蒸発源１１から放出される蒸着物質の状態を監視することができる。

【0036】

本実施形態では、監視装置１２ａ～１２ｒのそれぞれは、蒸発源１１ａ～１１ｒから放出される蒸着物質の状態を独立に監視する。また、制御部４３は、監視装置１２ａ～１２ｒの監視結果に基づいて、蒸発源１１ａ～１１ｒ（の各加熱部の出力）を独立に制御する。換言すれば、制御部４３は、監視装置１２ａ～１２ｒのそれぞれで監視される蒸着物質のレートに基づいて、蒸発源１１ａ～１１ｒのそれぞれの成膜レートを制御する。

【0037】

制限部１４は、複数の蒸発源１１ａ～１１ｒから放出される蒸着物質の放出範囲を制限する。制限部１４は、本実施形態では、複数の板部材１４１～１４４を含む。板部材１４１及び１４２は、複数の蒸発源１１ａ～１１ｆから放出される蒸着物質のＸ方向における放出範囲を制限する。板部材１４２及び１４３は、複数の蒸発源１１ｇ～１１ｌから放出される蒸着物質のＸ方向における放出範囲を制限する。板部材１４３及び１４４は、複数の蒸発源１１ｇ～１１ｒから放出される蒸着物質のＸ方向における放出範囲を制限する。

【0038】

板部材１４１には、監視装置１２ａ～１２ｌに導入される（飛散する）蒸着物質が通過する筒状部材１４１ａ～１４１ｌが設けられる。板部材１４２には、監視装置１２ｇ～１２ｌに導入される蒸着物質が通過する筒状部材１４２ｇ～１４２ｌが設けられる。板部材１４４には、監視装置１２ｍ～１２ｒに導入される蒸着物質が通過する筒状部材１４４ｍ～１４４ｌが設けられる。筒状部材１４１ａ～１４１ｌ、１４２ｇ～１４２ｌ、１４４ｍ～１４４ｌは、隣接する蒸発源から放出される蒸着物質が監視対象外の監視装置に入り込むこと（所謂、クロストーク）による監視装置の監視精度の低下の抑制に寄与する。

【0039】

シャッタ１６１～１６３は、蒸発源群１７Ａ～１７Ｃから放出される蒸着物質の基板１００への飛散を制御する。シャッタ１６１～１６３は、蒸発源群１７Ａ～１７Ｃから放出される蒸着物質の基板１００への飛散を遮断する遮断位置と、かかる蒸着物質の基板１００への飛散を許容する許容位置との間で変位可能に設けられている。例えば、シャッタ１６１は、蒸発源群１７Ａに含まれる蒸発源１１ａ～１１ｆから放出される蒸着物質の基板１００への飛散を遮断する遮断位置と、かかる蒸着物質の基板１００への飛散を許容する許容位置との間で変位可能に設けられている。シャッタ１６２及び１６３についても、シャッタ１６１と同様に、遮断位置と許容位置との間で変位可能に設けられている。

【0040】

シャッタ１６１は、蒸発源ユニット１０の移動方向に交差する交差方向（Ｙ方向）を軸方向とする回動軸１６１１と、回動軸１６１１に設けられた遮蔽部材１６１２と、を含む。シャッタ１６１は、遮蔽部材１６１２が回動軸１６１１を中心として回動して開閉動作を行うことで、遮断位置と許容位置との間で変位する。同様に、シャッタ１６２は、回動軸１６２１と、遮蔽部材１６２２と、を含み、シャッタ１６３は、回動軸１６３１と、遮蔽部材１６３２と、を含む。

【0041】

シャッタ１６１の回動軸１６１１は、蒸発源１１ａ～１１ｆの放出部１１１１に対して、蒸発源ユニット１０の移動方向（Ｘ方向）にずれて配置される。同様に、シャッタ１６２の回動軸１６２１は、蒸発源１１ｇ～１１ｌの放出部１１１１に対して蒸発源ユニット１０の移動方向にずれて配置される。また、シャッタ１６３の回動軸１６３１は、蒸発源１１ｐ～１１ｒの放出部１１１１に対して蒸発源ユニット１０の移動方向にずれて配置される。これにより、シャッタ１６１～１６３が許容位置に位置したときに、シャッタ１６１～１６３と蒸発源１１ａ～１１ｒの放出範囲との干渉を抑制することができる。

【0042】

また、本実施形態では、シャッタ１６１の回動軸１６１１の高さとシャッタ１６２の回動軸１６２１の高さとが異なる。これにより、シャッタ１６１、１６２を同時に開閉させる際に、シャッタ１６１とシャッタ１６２との干渉を抑制するとともに、シャッタ１６１、１６２をＸ方向にコンパクトに配置することができる。

【0043】

また、本実施形態では、蒸発源群１７ＡよりもＸ方向＋側に配置される蒸発源群１７Ｂの上方を覆うシャッタ１６２の回動軸１６２１が蒸発源１１ｇ～１１ｌの放出部１１１１に対してＸ方向＋側にずれて配置される。一方、蒸発源群１７ＢよりもＸ方向－側に配置される蒸発源群１７Ａの上方を覆うシャッタ１６１の回動軸１６１１が蒸発源１１ａ～１１ｆの放出部１１１１に対してＸ方向－側にずれて配置されている。従って、シャッタ１６１とシャッタ１６２とは、両開きの扉のような構成となる。これにより、蒸発源群１７Ａと蒸発源群１７Ｂとで共蒸着を行う場合に、シャッタ１６１が蒸発源群１７Ｂの放出範囲と干渉したり、シャッタ１６２が蒸発源群１７Ａの放出範囲と干渉したりすることを抑制することができる。

【0044】

移動部２０は、蒸発源ユニット１０、具体的には、複数の蒸発源１１ａ～１１ｒ及び複数の監視装置１２ａ～１２ｒを移動方向（Ｘ方向）に移動させる。本実施形態では、移動部２０によって、蒸発源ユニット１０を基板１００に対して移動させながら、蒸発源ユニット１０から放出される蒸着物質を基板１００に付着（蒸着）させることで基板１００に蒸着物質の膜（層）を形成する成膜処理を行う。

【0045】

移動部２０は、蒸発源ユニット１０に設けられる構成要素として、モータ（不図示）と、モータの駆動により回転する軸部材に設けられたピニオン２０２と、ガイド部材２０３と、を含む。また、移動部２０は、ピニオン２０２に係合するラック（不図示）と、ガイド部材２０３が摺動するガイドレール２０６と、を更に含む。蒸発源ユニット１０は、モータの駆動により回転するピニオン２０２がラックと係合することで、ガイドレール２０６に沿ってＸ方向に移動する。

【0046】

このように構成された成膜装置１において、蒸発源群１７Ａ（蒸発源１１ａ～１１ｆ）、蒸発源群１７Ｂ（蒸発源１１ｇ～１１ｌ）及び蒸発源群１７Ｃ（蒸発源１１ｍ～１１ｒ）のそれぞれが放出（収容）する蒸着物質について考える。

【0047】

従来技術では、蒸発源群１７Ａ～１７Ｃのそれぞれから放出される蒸着物質に特別な規定（制限）はなく、蒸発源群１７Ａ～１７Ｃのそれぞれには任意の蒸着物質が収容されている。但し、蒸発源群１７Ａと蒸発源群１７Ｃとの間（中央列）に配置された蒸発源群１７Ｂに、監視装置が含む水晶振動子への付着量（重量）が少ない蒸着物質を収容すると、蒸発源群１７Ｂから放出される蒸着物質のレートを高精度に制御することが困難となる。これには、以下に説明するように、主に、２つの理由が挙げられる。

【0048】

１つ目の理由は、蒸発源群（蒸発源）から放出される蒸着物質のレートの制御（精度）は、水晶振動子に付着する蒸着物質の付着量に依存しているからである。中央列の蒸発源群１７Ｂと監視装置１２ｇ～１２ｌとの間の物理的な距離は、蒸発源群１７Ａと監視装置１２ａ～１２ｆとの間の物理的な距離や蒸発源群１７Ｃと監視装置１２ｍ～１２ｒとの間の物理的な距離よりも長くなる。このような蒸発源群１７Ｂに水晶振動子への付着量が少ない蒸着物質が収容されていると、監視装置１２ｇ～１２ｌが含む水晶振動子１２３への蒸着物質の付着量が著しく少なくなり、監視装置１２ｇ～１２ｌによる監視精度が低下してしまう。

【0049】

２つ目の理由は、蒸発源群１７Ｂに隣接する蒸発源群１７Ａや蒸発源群１７Ｃから放出される蒸着物質が、監視対象外である監視装置１２ｇ～１２ｌに入り込むこと（クロストーク）によって、監視装置１２ｇ～１２ｌによる監視精度が低下してしまうからである。

【0050】

そこで、本実施形態では、蒸発源群１７Ａ～１７Ｃの配置関係を考慮して、蒸発源群１７Ａ～１７Ｃのそれぞれが放出（収容）する蒸着物質を規定することで、水晶振動子への付着量が少ない蒸着物質に対する監視装置による監視精度の低下を抑制する。

【0051】

例えば、蒸発源ユニット１０の移動方向（Ｘ方向）において、中央列に配置された蒸発源群１７Ｂ（第１蒸発源群）、及び、蒸発源群１７Ｂよりも外側の外側列に配置された蒸発源群１７Ａ（第２蒸発源群）に着目する。そして、蒸発源群１７Ａ（蒸発源１１ａ～１１ｆ）、及び、蒸発源群１７Ｂ（蒸発源１１ｇ～１１ｌ）のそれぞれに、蒸発源から放出されて水晶振動子に付着する付着量が互いに異なる第１蒸着物質及び第２蒸着物質を収容する場合を考える。なお、蒸発源から放出されて水晶振動子に付着する第１蒸着物質の付着量を第１付着量とすると、蒸発源から放出されて水晶振動子に付着する第２蒸着物質の付着量は、第１付着量よりも小さい第２付着量であるものとする。このように、第２蒸着物質は、第１蒸着物質と比較して、水晶振動子への付着量が少ない蒸着物質である。

【0052】

この場合、本実施形態では、中央列に配置された蒸発源群１７Ｂに含まれる蒸発源１１ｇ～１１ｌ（第１蒸発源）に第１蒸着物質を収容し、外側列に配置された蒸発源群１７Ａに含まれる蒸発源１１ａ～１１ｆ（第２蒸発源）に第２蒸着物質を収容する。従って、監視装置１２ａ～１２ｆの水晶振動子１２３に付着する第２蒸着物質の付着量は、監視装置１２ｇ～１２ｌの水晶振動子１２３に付着する第１蒸着物質の付着量よりも小さくなる。このように、本実施形態では、水晶振動子１２３への付着量が少ない第２蒸着物質を収容する蒸発源１１ａ～１１ｆを含む蒸発源群１７Ａを外側列に配置する。換言すれば、監視装置１２ａ～１２ｆの水晶振動子に付着する蒸着物質の付着量が、監視装置１２ｇ～１２ｌの水晶振動子に付着する蒸着物質の付着量よりも小さくなるように、蒸発源群１７Ａを蒸発源群１７Ｂよりも監視装置１２ａ～１２ｌの近くに配置する。なお、図４に示すように、監視装置１２ａ～１２ｆと、監視装置１２ｇ～１２ｌとは、蒸発源ユニット１０の移動方向（Ｘ方向）に交差する交差方向（Ｙ方向）に沿って並んで配置されている。また、監視装置１２ａ～１２ｆと、監視装置１２ｇ～１２ｌとは、蒸発源ユニット１０の移動方向において、蒸発源群１７Ａよりも外側に配置されている。

【0053】

上述したように、蒸発源群１７Ａ及び１７Ｂの配置関係を考慮して、蒸発源群１７Ａ及び１７Ｂのそれぞれが放出（収容）する蒸着物質を規定することで、蒸発源群１７Ａから放出される第２蒸着物質のレートを高精度に制御することが可能となる。これは、水晶振動子への付着量が少ない蒸着物質を収容する蒸発源群１７Ａと監視装置１２ａ～１２ｆとの間の物理的な距離が短く、水晶振動子への蒸着物質の付着量が著しく少なくなることを抑制しているからである。また、蒸発源群１７Ａに隣接する蒸発源群１７Ｂから放出される蒸着物質が、監視対象外である監視装置１２ｇ～１２ｌに入り込むこと（クロストーク）も抑制されるからである。

【0054】

以下、蒸発源群１７Ａ及び１７Ｂの配置関係を考慮して、蒸発源群１７Ａ及び１７Ｂのそれぞれが放出（収容）する蒸着物質を規定することによる効果、特に、クロストークが抑制される効果について、具体的な数値例を挙げて説明する。

【0055】

ここでは、蒸発源群１７Ａ及び蒸発源群１７Ｂに、マグネシウム（Ｍｇ）及び銀（Ａｇ）のいずれかの蒸着材料を収容するものとし、蒸発源群１７Ａに含まれる蒸発源１１ｄ及び蒸発源群１７Ｂに含まれる蒸発源１１ｊに注目する。マグネシウム（Ｍｇ）は、銀（Ａｇ）と比較して、水晶振動子への付着量が少ない蒸着物質である。水晶振動子への蒸着物質の付着量は、成膜レート［Å／ｓ］と膜密度［ｇ／ｃｍ^３］との積で定義し、マグネシウム（Ｍｇ）の膜密度は１．７［ｇ／ｃｍ^３］であり、銀（Ａｇ）の膜密度は１０．４［ｇ／ｃｍ^３］である。なお、監視装置１２ｄ及び１２ｊのそれぞれに表示される成膜レートには、実際の蒸着物質の成膜レートに対して、補正値（所謂、ツーリングファクタ）が入る。また、蒸発源１１ｄと監視装置１２ｄとの間の物理的な距離を１［Ｌ］とし、蒸発源１１ｊと監視装置１２ｊとの間の物理的な距離を２［Ｌ］とする。

【0056】

まず、比較例（従来技術）として、蒸発源１１ｄに銀（Ａｇ）を、蒸発源１１ｊにマグネシウム（Ｍｇ）を収容し、基板にＡｇとＭｇを同時に付着させてＡｇとＭｇの混合膜（銀マグネシウム（ＡｇＭｇ））を１．０［Å／ｓ］の成膜レートで成膜する（共蒸着）。この際、実際のマグネシウム（Ｍｇ）の成膜レートを１．００［Å／ｓ］、実際の銀（Ａｇ）の成膜レートを０．０１［Å／ｓ］とする。この場合、監視装置１２ｊでは、実際には、０．０１［Å／ｓ］×１／２［Ｌ］＝０．００５［Å／ｓ］のレートであるが、１．０［Å／ｓ］の成膜レートとするために、２００（＝１．０［Å／ｓ］／０．００５［Å／ｓ］）の補正値が入る。従って、蒸発源１１ｄから０．０１［Å／ｓ］のクロストーク成分（Ａｇ）が監視装置１２ｊに入るものとすると、その影響は、０．０１［Å／ｓ］×２００（補正値）＝２．０［Å／ｓ］となる。そのため、監視装置１２ｊに含まれる水晶振動子に付着するクロストーク成分の付着量は、２．０［Å／ｓ］（成膜レート）×１０．４［ｇ／ｃｍ^３］（銀（Ａｇ）の膜密度）＝２０．８となる。

【0057】

一方、実施例（本発明）として、蒸発源１１ｄにマグネシウム（Ｍｇ）を、蒸発源１１ｊに銀（Ａｇ）を収容し、基板にＡｇとＭｇを同時に付着させてＡｇとＭｇの混合膜（銀マグネシウム（ＡｇＭｇ））を１．０［Å／ｓ］の成膜レートで成膜する（共蒸着）。この際、実際のマグネシウム（Ｍｇ）の成膜レートを１．００［Å／ｓ］、実際の銀（Ａｇ）の成膜レートを０．０１［Å／ｓ］とする。この場合、監視装置１２ｊでは、実際には、１．０［Å／ｓ］×１／２［Ｌ］＝０．５［Å／ｓ］のレートであるが、１．０［Å／ｓ］の成膜レートとするために、２（＝１．０［Å／ｓ］／０．５［Å／ｓ］）の補正値が入る。従って、蒸発源１１ｄから０．０１［Å／ｓ］のクロストーク成分（Ｍｇ）が監視装置１２ｊに入るものとすると、その影響は、０．０１［Å／ｓ］×２（補正値）＝０．０２［Å／ｓ］となる。そのため、監視装置１２ｊに含まれる水晶振動子に付着するクロストーク成分の付着量は、０．０２［Å／ｓ］（成膜レート）×１．７［ｇ／ｃｍ^３］（マグネシウム（Ｍｇ）の膜密度）＝０．０３４となる。

【0058】

このように、実施例では、比較例に対して、監視装置１２ｊにおけるクロストークの影響（クロストーク成分の付着量）が大幅に低減されている。従って、監視装置１２ｊにおいて、蒸発源１１ｊに隣接する蒸発源１１ｄからの蒸着物質が入り込むこと（クロストーク）による監視精度の低下が抑制される。なお、実施例では、監視装置１２ｊについて説明したが、監視装置１２ｇ～１２ｉ、１２ｋ、１２ｌについても同様に、蒸発源１１ａ～ｃ、１１ｅ、１１ｆからの蒸着物質が入り込むことによる監視精度の低下が抑制されることは明らかである。

【0059】

また、実施例（及び比較例）に示したように、監視装置１２ｇ～１２ｌへのクロストーク成分の付着量は、成膜レートや膜密度に大きく依存している。従って、蒸発源群１７Ａ（蒸発源１１ａ～１１ｆ）の成膜レートは、蒸発源群１７Ｂ（蒸発源１１ｇ～１１ｌ）よりも低いことが好ましい。従って、成膜レートが低い蒸着物質を収容する蒸発源１１ａ～１１ｆを含む蒸発源群１７Ａを外側列に、即ち、成膜レートが高い蒸着物質を収容する蒸発源１１ｇ～１１ｌを含む蒸発源群１７Ｂよりも外側に配置するとよい。また、蒸発源群１７Ａ（蒸発源１１ａ～１１ｆ）から放出されて水晶振動子に付着する蒸着物質の膜密度は、蒸発源群１７Ｂ（蒸発源１１ｇ～１１ｌ）から放出されて水晶振動子に付着する蒸着物質の膜密度よりも低いことが好ましい。従って、膜密度が低い蒸着物質を収容する蒸発源１１ａ～１１ｆを含む蒸発源群１７Ａを外側列に、即ち、膜密度が高い蒸着物質を収容する蒸発源１１ｇ～１１ｌを含む蒸発源群１７Ｂよりも外側に配置するとよい。

【0060】

また、実施例のように、蒸発源群１７Ａ（蒸発源１１ａ～１１ｆ）にマグネシウム（Ｍｇ）を、蒸発源群１７Ｂ（蒸発源１１ｇ～１１ｌ）に銀（Ａｇ）を収容する場合、蒸発源群１７Ｃ（蒸発源１１ｍ～１１ｒ）には、例えば、イッテルビウム（Ｙｂ）を収容する。蒸発源群１７Ｃは、蒸発源ユニット１０の移動方向（Ｘ方向）において、蒸発源群１７Ｂよりも外側、且つ、蒸発源群１７Ａとは反対側に配置されている。この場合、蒸発源群１７Ｃから放出されるＹｂを、蒸発源群１７Ｂから放出されるＡｇや蒸発源群１７Ａから放出されるＭｇから独立して基板に付着させてＹｂの膜を形成する（単独蒸着）。この際、蒸発源ユニット１０では、制御部４３によってシャッタ１６１～１６３の動作が制御され、Ｙｂの膜（第１層）と、銀マグネシウム（ＡｇＭｇ）の膜（第２層）とを基板に成膜する。なお、これらの蒸着物質（成膜材料）は、例示であって、限定されるものではない。

【0061】

また、基板１００に形成される蒸着物質の膜厚の均一性には、蒸発源ユニット１０の移動方向（Ｘ方向）に交差する交差方向（Ｙ方向）に隣接する２つの蒸発源の間の距離（間隔）も関連している。例えば、蒸発源ユニット１０の移動方向に交差する交差方向に隣接する２つの蒸発源の間の距離について、複数の蒸発源のレイアウト領域の外側を中心側よりも短くすることで、基板１００に形成される蒸着物質の膜の膜厚の均一化に寄与することができる。

【0062】

具体的には、蒸発源群１７Ａに含まれる蒸発源１１ａ、１１ｂ及び１１ｃに着目すると、蒸発源１１ｂと蒸発源１１ａとの間の距離Ｌ３を、蒸発源１１ｃと蒸発源１１ｂとの間の距離Ｌ２よりも短くする。このように、複数の蒸発源１１ａ～１１ｆのうち、蒸発源ユニット１０の移動方向に交差する交差方向に隣接する２つの蒸発源の間の距離を互いに異ならせる。

【0063】

また、上述したように、本実施形態では、蒸発源ユニット１０の移動方向（Ｘ方向）に交差する交差方向（Ｙ方向）に隣接する２つの蒸発源の間の距離が一定ではなく、隣接する２つの蒸発源の間隔が広くなる部分がある。このような場合、複数の監視装置１２ａ～１２ｒの配置に関して、図４に示すように、クロストークの抑制効果が高い配置を採用することが可能となる。

【0064】

具体的には、監視装置１２ａ～１２ｆについては、各監視装置１２ａ～１２ｆと、蒸発源群１７Ａに含まれる複数の蒸発源１１ａ～１１ｆのうちの対応する蒸発源とを結ぶ線が蒸発源ユニット１０の移動方向（Ｘ方向）に平行となるように配置する。また、監視装置１２ｇ～１２ｌについては、各監視装置１２ｇ～１２ｌと、蒸発源群１７Ｂに含まれる複数の蒸発源１１ｇ～１１ｌのうちの対応する蒸発源とを結ぶ線が蒸発源ユニット１０の移動方向に交差するように配置する。また、監視装置１２ａ～１２ｆ、及び、監視装置１２ｇ～１２ｌは、蒸発源ユニット１０の移動方向（Ｘ方向）の一方の側、本実施形態では、蒸発源群１７Ａの側に配置される。従って、監視装置１２ａ～１２ｌが配置される領域に近い蒸発源群１７Ａに含まれる蒸発源１１ａ～１１ｆから放出される蒸着物質の状態については、監視装置１２ａ～１２ｆによって最短距離で監視することになる。また、蒸発源群１７Ｂに含まれる蒸発源１１ｇ～１１ｌから放出される蒸着物質の状態については、監視装置１２ｇ～１２ｌによって斜め方向から監視することになる。これにより、監視装置１２ａ～１２ｆ（蒸発源１１ａ～１１ｆ）や監視装置１２ｇ～１２ｌでのクロストークが抑制され、監視装置１２ａ～１２ｌの監視精度の低下を抑えることができる。

【0065】

一方、監視装置１２ｍ～１２ｒについては、各監視装置１２ｍ～１２ｒと、蒸発源群１７Ｃ（第３蒸発源群）に含まれる複数の蒸発源１１ｍ～１１ｒのうちの対応する蒸発源とを結ぶ線が蒸発源ユニット１０の移動方向に平行となるように配置する。また、監視装置１２ｍ～１２ｒは、蒸発源ユニット１０の移動方向の他方の側、本実施形態では、蒸発源群１７Ｃの側に配置される。従って、監視装置１２ｍ～１２ｒが配置される領域に近い蒸発源群１７Ｃに含まれる蒸発源１１ｍ～１１ｒから放出される蒸着物質の状態については、監視装置１２ｍ～１２ｒによって最短距離で監視することになる。これにより、監視装置１２ｍ～１２ｒでのクロストークが抑制され、監視装置１２ｍ～１２ｒの監視精度の低下を抑えることができる。

【0066】

発明は上記実施形態に制限されるものではなく、発明の精神及び範囲から離脱することなく、様々な変更及び変形が可能である。従って、発明の範囲を公にするために請求項を添付する。

【符号の説明】

【0067】

１：成膜装置 １０：蒸着源ユニット １１ａ～１１ｒ：蒸発源 １２ａ～１２ｒ：監視装置 ４３：制御部 １００：基板 １０１：マスク

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】