(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024089487
(43)【公開日】2024-07-03
(54)【発明の名称】分散体、該分散体を含むインク組成物、及び光変換層
(51)【国際特許分類】
C09K 11/08 20060101AFI20240626BHJP
C09K 11/02 20060101ALI20240626BHJP
C09K 11/61 20060101ALI20240626BHJP
C09K 11/62 20060101ALI20240626BHJP
C09K 11/66 20060101ALI20240626BHJP
C09K 11/74 20060101ALI20240626BHJP
C09K 11/75 20060101ALI20240626BHJP
C09K 11/85 20060101ALI20240626BHJP
C09K 11/87 20060101ALI20240626BHJP
C09D 11/50 20140101ALI20240626BHJP
C08K 9/06 20060101ALI20240626BHJP
C08L 101/00 20060101ALI20240626BHJP
C08L 33/06 20060101ALI20240626BHJP
G02B 5/20 20060101ALI20240626BHJP
【ＦＩ】
C09K11/08 G
C09K11/02 Z
C09K11/61
C09K11/62
C09K11/66
C09K11/74
C09K11/75
C09K11/85
C09K11/87
C09D11/50
C08K9/06
C08L101/00
C08L33/06
G02B5/20
【審査請求】未請求
【請求項の数】8
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2022204885
(22)【出願日】2022-12-21
(71)【出願人】
【識別番号】000002886
【氏名又は名称】ＤＩＣ株式会社
(72)【発明者】
【氏名】延藤 浩一
(72)【発明者】
【氏名】野中 祐貴
【テーマコード（参考）】
2H148
4H001
4J002
4J039
【Ｆターム（参考）】
2H148AA00
2H148AA05
2H148AA07
4H001CA02
4H001CC11
4H001XA01
4H001XA06
4H001XA07
4H001XA09
4H001XA17
4H001XA22
4H001XA25
4H001XA29
4H001XA32
4H001XA35
4H001XA37
4H001XA40
4H001XA46
4H001XA47
4H001XA49
4H001XA51
4H001XA53
4H001XA55
4H001XA63
4H001XA65
4H001XA70
4H001XA82
4H001XA83
4J002AA001
4J002BG051
4J002DD086
4J002EX076
4J002FB146
4J002FD206
4J002GH01
4J002GP00
4J039AD21
4J039BA10
4J039BA20
4J039BA30
4J039BA34
4J039BA39
4J039BC20
4J039BC56
4J039BE01
4J039BE27
4J039CA07
4J039EA27
4J039EA28
4J039FA04
(57)【要約】
【課題】発光特性の変化が少なく、長期保存性に優れる、ナノ結晶を含む発光性粒子を含有する分散体、前記分散体を含むインク組成物、及び前記インク組成物から形成される光変換層を提供すること。
【解決手段】メタルハライドからなる半導体ナノ結晶の表面にシロキサン結合を有する構造を含む表面層を備えた発光性粒子と、ＬｏｇＰ値が１．０以上５．０以下である重合性基を有する化合物とを含有し、含水率が５０ｐｐｍ以上１０００ｐｐｍ以下である、分散体。
【選択図】なし
【解決手段】メタルハライドからなる半導体ナノ結晶の表面にシロキサン結合を有する構造を含む表面層を備えた発光性粒子と、ＬｏｇＰ値が１．０以上５．０以下である重合性基を有する化合物とを含有し、含水率が５０ｐｐｍ以上１０００ｐｐｍ以下である、分散体。
【選択図】なし
【特許請求の範囲】
【請求項1】
メタルハライドからなる半導体ナノ結晶の表面にシロキサン結合を有する構造を含む表面層を備えた発光性粒子と、ＬｏｇＰ値が１．０以上５．０以下である重合性基を有する化合物とを含有し、含水率が５０ｐｐｍ以上１０００ｐｐｍ以下である、分散体。
【請求項2】
前記発光性粒子に対する水の比率（水／発光性粒子）が５．０以上５００以下である、請求項１に記載の分散体。
【請求項3】
前記発光性粒子に対する前記重合性基を有する化合物の比率（重合性基を有する化合物／発光性粒子）が質量比で１０以上１００以下である、請求項１に記載の分散体。
【請求項4】
前記半導体ナノ結晶が、一般式ＡａＭｂＸｃで表される化合物であり、
前記ＡがＣｓ、Ｒｂ、メチルアンモニウム、ホルムアミジニウム、アンモニウム、２－フェニルエチルアンモニウム、ピロリジニウム、ピペリジニウム、１－ブチル－１－メチルピペリジニウム、テトラメチルアンモニウム、テトラエチルアンモニウム、ベンジルトリメチルアンモニウム及びベンジルトリエチルアンモニウムからなる群から選ばれる１つ以上の陽イオンを表し、
前記ＢがＰｂ、Ｓｎ、Ｇｅ、Ｂｉ、Ｓｂ、Ａｇ、Ｉｎ、Ｃｕ、Ｙｂ、Ｔｉ、Ｐｄ、Ｍｎ、Ｅｕ、Ｚｒ及びＴｂからなる群から選ばれる金属イオンを表し、
前記ＸがＦ、Ｃｌ、Ｂｒ及びＩからなる群から選ばれる１つ以上のハロゲン化物イオンを表し、
ａが１～７の正数を表し、ｂが１～４の正数を表し、ｃが１～１６の正数を表す、請求項１に記載の分散体。
前記ＡがＣｓ、Ｒｂ、メチルアンモニウム、ホルムアミジニウム、アンモニウム、２－フェニルエチルアンモニウム、ピロリジニウム、ピペリジニウム、１－ブチル－１－メチルピペリジニウム、テトラメチルアンモニウム、テトラエチルアンモニウム、ベンジルトリメチルアンモニウム及びベンジルトリエチルアンモニウムからなる群から選ばれる１つ以上の陽イオンを表し、
前記ＢがＰｂ、Ｓｎ、Ｇｅ、Ｂｉ、Ｓｂ、Ａｇ、Ｉｎ、Ｃｕ、Ｙｂ、Ｔｉ、Ｐｄ、Ｍｎ、Ｅｕ、Ｚｒ及びＴｂからなる群から選ばれる金属イオンを表し、
前記ＸがＦ、Ｃｌ、Ｂｒ及びＩからなる群から選ばれる１つ以上のハロゲン化物イオンを表し、
ａが１～７の正数を表し、ｂが１～４の正数を表し、ｃが１～１６の正数を表す、請求項１に記載の分散体。
【請求項5】
前記半導体ナノ結晶が、ペロブスカイト型結晶構造を有する、請求項１に記載の分散体。
【請求項6】
前記重合性基を有する化合物が光重合性化合物である、請求項１に記載の分散体。
【請求項7】
請求項１～６のいずれか１項に記載の分散体と、重合開始剤とを含むインク組成物。
【請求項8】
請求項７に記載のインク組成物から形成される、光変換層。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、発光性粒子を含む分散体、該分散体を含有するインク組成物、及び該インク組成物から形成される光変換層に関する。
【背景技術】
【0002】
次世代の表示素子に要求される国際規格ＢＴ．２０２０を満たす発光材料として、半導体性のナノ結晶が注目されており、例えば量子ドット、量子ロッド、その他の無機蛍光体粒子等の発光性ナノ結晶を用いて赤色光又は緑色光を取り出す光変換シートやカラーフィルター画素部のような光変換層、また発光性ナノ結晶をバックライトに用いた表示デバイスや照明装置が提案されている。
発光性ナノ結晶は蛍光又は燐光を発し、発光スペクトルの半値幅が狭いという特徴がある。現在主流のコアシェル型量子ドットでは、初期にはＣｄＳｅ等を使用していたが、Ｃｄによる有害性を回避するため、最近ではＩｎＰ等が使用されている。しかし、粒子としての安定性が低く、安定化改善に向けた検討が精力的に進められている。また、コアシェル型量子ドットは、その粒子サイズにより発光波長が決まるため、半値幅がより狭い発光を得るためには粒子径の分散度を精密に制御する必要があり、その生産には課題が多い。
発光性ナノ結晶は蛍光又は燐光を発し、発光スペクトルの半値幅が狭いという特徴がある。現在主流のコアシェル型量子ドットでは、初期にはＣｄＳｅ等を使用していたが、Ｃｄによる有害性を回避するため、最近ではＩｎＰ等が使用されている。しかし、粒子としての安定性が低く、安定化改善に向けた検討が精力的に進められている。また、コアシェル型量子ドットは、その粒子サイズにより発光波長が決まるため、半値幅がより狭い発光を得るためには粒子径の分散度を精密に制御する必要があり、その生産には課題が多い。
【0003】
一方、近年、ペロブスカイト型結晶構造をもつ量子ドットが見出され注目を集めている。例えば、一般式ＣｓＰｂＸ３（Ｘはハロゲン原子のアニオンを表す。）で示される、ペロブスカイト型結晶構造を有する、セシウムと鉛とハロゲンとからなるメタルハライドであるナノ結晶は、ハロゲン原子の種類とその存在割合を調整することにより発光波長を制御できる利点があり、発光材料としての物性に優れることが非特許文献１に開示されている。また、粒子サイズの制御がＩｎＰ量子ドット等に比べ容易であり、生産性面で有利である。特許文献１には、ペロブスカイト型結晶構造を有する発光性結晶とアクリレートポリマー由来の固体ポリマー含有組成物及び発光性部品が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【特許文献1】国際公開第２０１８／０２８８７０号
【非特許文献】
【0005】
【非特許文献1】Ｎａｎｏ Ｌｅｔｔｅｒｓ，２０１５，１５，３６９２－３６９６
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
しかし、ペロブスカイト型結晶構造を有するナノ結晶を含む分散体は、発光特性の変化が少なく長期保存性に優れることが望まれる。
【0007】
本発明の目的は、発光特性の変化が少なく長期保存性に優れる、ナノ結晶を含む発光性粒子を含有する分散体を提供することにある。
本発明の目的はまた、かかる分散体を含むインク組成物、及び前記インク組成物から形成される光変換層を提供することにある。
本発明の目的はまた、かかる分散体を含むインク組成物、及び前記インク組成物から形成される光変換層を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0008】
本発明は、下記の態様を有する。
［１］ メタルハライドからなる半導体ナノ結晶の表面にシロキサン結合を有する構造を含む表面層を備えた発光性粒子と、ＬｏｇＰ値が１．０以上５．０以下である重合性基を有する化合物とを含有し、含水率が５０ｐｐｍ以上１０００ｐｐｍ以下である、分散体。
［２］ 前記発光性粒子に対する水の比率（水／発光性粒子）が５．０以上５００以下である、［１］に記載の分散体。
［３］ 前記発光性粒子に対する前記重合性基を有する化合物の比率（重合性基を有する化合物／発光性粒子）が質量比で１０以上１００以下である、［１］又は［２］に記載の分散体。
［４］ 前記半導体ナノ結晶が、一般式ＡａＭｂＸｃで表される化合物であり、
前記ＡがＣｓ、Ｒｂ、メチルアンモニウム、ホルムアミジニウム、アンモニウム、２－フェニルエチルアンモニウム、ピロリジニウム、ピペリジニウム、１－ブチル－１－メチルピペリジニウム、テトラメチルアンモニウム、テトラエチルアンモニウム、ベンジルトリメチルアンモニウム及びベンジルトリエチルアンモニウムからなる群から選ばれる１つ以上の陽イオンを表し、
前記ＢがＰｂ、Ｓｎ、Ｇｅ、Ｂｉ、Ｓｂ、Ａｇ、Ｉｎ、Ｃｕ、Ｙｂ、Ｔｉ、Ｐｄ、Ｍｎ、Ｅｕ、Ｚｒ及びＴｂからなる群から選ばれる金属イオンを表し、
前記ＸがＦ、Ｃｌ、Ｂｒ及びＩからなる群から選ばれる１つ以上のハロゲン化物イオンを表し、
ａが１～７の正数を表し、ｂが１～４の正数を表し、ｃが１～１６の正数を表す、［１］～［３］のいずれかに記載の分散体。
［５］ 前記半導体ナノ結晶が、ペロブスカイト型結晶構造を有する、［１］～［４］のいずれかに記載の分散体。
［６］ 前記重合性基を有する化合物が光重合性化合物である、［１］～［５］のいずれかに記載の分散体。
［７］ ［１］～［６］のいずれかに記載の分散体と、重合開始剤とを含むインク組成物。
［８］ ［７］に記載のインク組成物から形成される、光変換層。
［１］ メタルハライドからなる半導体ナノ結晶の表面にシロキサン結合を有する構造を含む表面層を備えた発光性粒子と、ＬｏｇＰ値が１．０以上５．０以下である重合性基を有する化合物とを含有し、含水率が５０ｐｐｍ以上１０００ｐｐｍ以下である、分散体。
［２］ 前記発光性粒子に対する水の比率（水／発光性粒子）が５．０以上５００以下である、［１］に記載の分散体。
［３］ 前記発光性粒子に対する前記重合性基を有する化合物の比率（重合性基を有する化合物／発光性粒子）が質量比で１０以上１００以下である、［１］又は［２］に記載の分散体。
［４］ 前記半導体ナノ結晶が、一般式ＡａＭｂＸｃで表される化合物であり、
前記ＡがＣｓ、Ｒｂ、メチルアンモニウム、ホルムアミジニウム、アンモニウム、２－フェニルエチルアンモニウム、ピロリジニウム、ピペリジニウム、１－ブチル－１－メチルピペリジニウム、テトラメチルアンモニウム、テトラエチルアンモニウム、ベンジルトリメチルアンモニウム及びベンジルトリエチルアンモニウムからなる群から選ばれる１つ以上の陽イオンを表し、
前記ＢがＰｂ、Ｓｎ、Ｇｅ、Ｂｉ、Ｓｂ、Ａｇ、Ｉｎ、Ｃｕ、Ｙｂ、Ｔｉ、Ｐｄ、Ｍｎ、Ｅｕ、Ｚｒ及びＴｂからなる群から選ばれる金属イオンを表し、
前記ＸがＦ、Ｃｌ、Ｂｒ及びＩからなる群から選ばれる１つ以上のハロゲン化物イオンを表し、
ａが１～７の正数を表し、ｂが１～４の正数を表し、ｃが１～１６の正数を表す、［１］～［３］のいずれかに記載の分散体。
［５］ 前記半導体ナノ結晶が、ペロブスカイト型結晶構造を有する、［１］～［４］のいずれかに記載の分散体。
［６］ 前記重合性基を有する化合物が光重合性化合物である、［１］～［５］のいずれかに記載の分散体。
［７］ ［１］～［６］のいずれかに記載の分散体と、重合開始剤とを含むインク組成物。
［８］ ［７］に記載のインク組成物から形成される、光変換層。
【発明の効果】
【0009】
本発明によれば、発光特性の変化が少なく長期保存性に優れる、ナノ結晶を含む発光性粒子を含有する分散体、前記分散体を含むインク組成物、及び前記インク組成物から形成される光変換層を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【0010】
【図1】本発明に係る光変換層を備える積層構造体の一実施形態を模式的に示す断面図である。
【図2】本発明に係る光変換層を備える発光素子の一実施形態を模式的に示す断面図である。
【図3】アクティブマトリックス回路の構成を示す概略図である。
【発明を実施するための形態】
【0011】
本発明の分散体は、メタルハライドからなる半導体ナノ結晶（以下、単に「ナノ結晶」とも記す。）の表面にシロキサン結合を有する構造を含む表面層を備えた発光性粒子（以下、「発光性粒子」とも記す。）と、ＬｏｇＰ値が１．０以上５．０以下である重合性基を有する化合物とを含有し、含水率が５０ｐｐｍ以上１０００ｐｐｍ以下である。本発明の分散体は、後述するように、例えば、発光ダイオード（ＬＥＤ）等の表示素子に用いられる光変換層を形成する波長変換材料として好適に使用できる。
【0012】
本発明の分散体は、所定の波長の光を吸収することにより、吸収した波長とは異なる波長の光（蛍光又は燐光）を発することができる、発光性を有する半導体ナノ結晶を含む発光性粒子を含有する。ここで、発光性とは、電子の励起により発光する性質であることが好ましく、励起光が照射されたときに、ナノ結晶に含まれる電子が基底状態から励起状態に励起されて、基底状態に戻る際に発光を生じる性質であるのがより好ましい。
【0013】
１．発光性粒子
＜メタルハライドからなる半導体ナノ結晶＞
本発明において、ナノ結晶はメタルハライドからなる半導体ナノ結晶であり、励起光を吸収して蛍光又は燐光を発光するナノサイズの結晶体（ナノ結晶粒子）である。かかるナノ結晶は、例えば、透過型電子顕微鏡又は走査型電子顕微鏡によって測定される最大粒子径が１００ｎｍ以下である結晶体である。ナノ結晶は、例えば、所定の波長の光エネルギーや電気エネルギーにより励起され、蛍光又は燐光を発することができる。また、メタルハライドからなる量子ドットであるナノ結晶は、より半値幅の狭い発光ピークを得ることができる。
＜メタルハライドからなる半導体ナノ結晶＞
本発明において、ナノ結晶はメタルハライドからなる半導体ナノ結晶であり、励起光を吸収して蛍光又は燐光を発光するナノサイズの結晶体（ナノ結晶粒子）である。かかるナノ結晶は、例えば、透過型電子顕微鏡又は走査型電子顕微鏡によって測定される最大粒子径が１００ｎｍ以下である結晶体である。ナノ結晶は、例えば、所定の波長の光エネルギーや電気エネルギーにより励起され、蛍光又は燐光を発することができる。また、メタルハライドからなる量子ドットであるナノ結晶は、より半値幅の狭い発光ピークを得ることができる。
【0014】
ナノ結晶は、一般式：ＡａＭｂＸｃで表される化合物である。ここで、ａは、１～７の正数であり、ｂは、１～４の正数であり、ｃは、１～１６の正数である。
一般式：ＡａＭｂＸｃで表される化合物の具体例としては、ＡＭＸ、Ａ４ＭＸ、ＡＭＸ２、ＡＭＸ３、Ａ２ＭＸ３、ＡＭ２Ｘ３、Ａ２ＭＸ４、Ａ２ＭＸ５、Ａ３ＭＸ５、Ａ３Ｍ２Ｘ５、Ａ３ＭＸ６、Ａ４ＭＸ６、ＡＭ２Ｘ６、Ａ２ＭＸ６、Ａ４Ｍ２Ｘ６、Ａ３ＭＸ８、Ａ３Ｍ２Ｘ９、Ａ３Ｍ３Ｘ９、Ａ２Ｍ２Ｘ１０、Ａ７Ｍ３Ｘ１６で表される化合物が好ましい。
一般式：ＡａＭｂＸｃで表される化合物の具体例としては、ＡＭＸ、Ａ４ＭＸ、ＡＭＸ２、ＡＭＸ３、Ａ２ＭＸ３、ＡＭ２Ｘ３、Ａ２ＭＸ４、Ａ２ＭＸ５、Ａ３ＭＸ５、Ａ３Ｍ２Ｘ５、Ａ３ＭＸ６、Ａ４ＭＸ６、ＡＭ２Ｘ６、Ａ２ＭＸ６、Ａ４Ｍ２Ｘ６、Ａ３ＭＸ８、Ａ３Ｍ２Ｘ９、Ａ３Ｍ３Ｘ９、Ａ２Ｍ２Ｘ１０、Ａ７Ｍ３Ｘ１６で表される化合物が好ましい。
【0015】
上記式中、Ａは１価の陽イオンを表し、有機カチオン及び金属カチオンのうちの少なくとも１種である。有機カチオンとしては、アンモニウム、メチルアンモニウム、ホルムアミジニウム、グアニジニウム、イミダゾリウム、ピリジニウム、ピロリジニウム、プロトン化チオウレア等が挙げられ、金属カチオンとしては、Ｃｓ、Ｒｂ、Ｋ、Ｎａ、Ｌｉ等のカチオンが挙げられる。
Ｍは少なくとも１種の金属カチオンを表す。具体的には、１種の金属カチオン（Ｍ１）、２種の金属カチオン（Ｍ１ αＭ２ β）、３種の金属カチオン（Ｍ１ αＭ２ βＭ３ γ）、４種の金属カチオン（Ｍ１ αＭ２ βＭ３ γＭ４ δ）等が挙げられる。但し、α、β、γ、δは、それぞれ０～１の実数を表し、かつα＋β＋γ＋δ＝１を表す。Ｍが表す金属カチオンとしては、１族、２族、３族、４族、５族、６族、７族、８族、９族、１０族、１１族、１３族、１４族、１５族から選ばれる金属カチオンが挙げられる。より好ましくは、Ａｇ、Ａｕ、Ｂｉ、Ｃａ、Ｃｅ、Ｃｏ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｅｕ、Ｆｅ、Ｇａ、Ｇｅ、Ｈｆ、Ｉｎ、Ｉｒ、Ｍｇ、Ｍｎ、Ｍｏ、Ｎａ、Ｎｂ、Ｎｄ、Ｎｉ、Ｏｓ、Ｐｂ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｒｅ、Ｒｈ、Ｒｕ、Ｓｂ、Ｓｃ、Ｓｍ、Ｓｎ、Ｓｒ、Ｔａ、Ｔｅ、Ｔｉ、Ｖ、Ｗ、Ｚｎ、Ｚｒ等のカチオンが挙げられる。
Ｘは少なくとも１種のハロゲンを含むアニオンを表し、具体的には、１種又は２種以上のハロゲン化物アニオンを含む。Ｘとして２種以上のアニオンが共存する場合、その共存比には特に制限はない。かかるアニオンとしてはＦ－、Ｃｌ－、Ｂｒ－、Ｉ－等のハロゲン化物イオン等が挙げられる。
ナノ結晶は、その粒子サイズ、Ｘサイトを構成するアニオンの種類及び存在割合を調整することにより、発光波長（発光色）を制御できる。また、ナノ結晶は、発光特性をより向上させる観点から、Ｂｉ、Ｍｎ、Ｃａ、Ｅｕ、Ｓｂ、Ｙｂなどの金属イオンが添加（ドープ）されたものであってもよい。
Ｍは少なくとも１種の金属カチオンを表す。具体的には、１種の金属カチオン（Ｍ１）、２種の金属カチオン（Ｍ１ αＭ２ β）、３種の金属カチオン（Ｍ１ αＭ２ βＭ３ γ）、４種の金属カチオン（Ｍ１ αＭ２ βＭ３ γＭ４ δ）等が挙げられる。但し、α、β、γ、δは、それぞれ０～１の実数を表し、かつα＋β＋γ＋δ＝１を表す。Ｍが表す金属カチオンとしては、１族、２族、３族、４族、５族、６族、７族、８族、９族、１０族、１１族、１３族、１４族、１５族から選ばれる金属カチオンが挙げられる。より好ましくは、Ａｇ、Ａｕ、Ｂｉ、Ｃａ、Ｃｅ、Ｃｏ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｅｕ、Ｆｅ、Ｇａ、Ｇｅ、Ｈｆ、Ｉｎ、Ｉｒ、Ｍｇ、Ｍｎ、Ｍｏ、Ｎａ、Ｎｂ、Ｎｄ、Ｎｉ、Ｏｓ、Ｐｂ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｒｅ、Ｒｈ、Ｒｕ、Ｓｂ、Ｓｃ、Ｓｍ、Ｓｎ、Ｓｒ、Ｔａ、Ｔｅ、Ｔｉ、Ｖ、Ｗ、Ｚｎ、Ｚｒ等のカチオンが挙げられる。
Ｘは少なくとも１種のハロゲンを含むアニオンを表し、具体的には、１種又は２種以上のハロゲン化物アニオンを含む。Ｘとして２種以上のアニオンが共存する場合、その共存比には特に制限はない。かかるアニオンとしてはＦ－、Ｃｌ－、Ｂｒ－、Ｉ－等のハロゲン化物イオン等が挙げられる。
ナノ結晶は、その粒子サイズ、Ｘサイトを構成するアニオンの種類及び存在割合を調整することにより、発光波長（発光色）を制御できる。また、ナノ結晶は、発光特性をより向上させる観点から、Ｂｉ、Ｍｎ、Ｃａ、Ｅｕ、Ｓｂ、Ｙｂなどの金属イオンが添加（ドープ）されたものであってもよい。
【0016】
上記一般式：ＡａＭｂＸｃで表されるナノ結晶の中でも、ペロブスカイト型結晶構造を有する化合物は、その粒子サイズ、Ｍサイトを構成する金属カチオンの種類及び存在割合を調整し、さらにＸサイトを構成するアニオンの種類及び存在割合を調整することにより、発光波長（発光色）を制御できる点で、ナノ結晶として特に好ましい。
具体的には、優れた発光特性を有する観点から、ＡＭＸ３、Ａ３ＭＸ５、Ａ３ＭＸ６、Ａ４ＭＸ６、Ａ２ＭＸ６で表される化合物が好ましく、発光特性と合成の容易さの観点から、ＡＭＸ３がより好ましい。式中のＡ、Ｍ及びＸは上記のとおりである。また、ペロブスカイト型結晶構造を有する化合物は、上述のように、Ｂｉ、Ｍｎ、Ｃａ、Ｅｕ、Ｓｂ、Ｙｂなどの金属イオンが添加（ドープ）されたものであってもよい。
具体的には、優れた発光特性を有する観点から、ＡＭＸ３、Ａ３ＭＸ５、Ａ３ＭＸ６、Ａ４ＭＸ６、Ａ２ＭＸ６で表される化合物が好ましく、発光特性と合成の容易さの観点から、ＡＭＸ３がより好ましい。式中のＡ、Ｍ及びＸは上記のとおりである。また、ペロブスカイト型結晶構造を有する化合物は、上述のように、Ｂｉ、Ｍｎ、Ｃａ、Ｅｕ、Ｓｂ、Ｙｂなどの金属イオンが添加（ドープ）されたものであってもよい。
【0017】
ペロブスカイト型結晶構造を示す化合物の中でも、合成の容易さ、良好な発光特性及び結晶構造の堅牢性の観点から、ＡはＣｓ、Ｒｂ、Ｋ、Ｎａ、Ｌｉ、メチルアンモニウム、ホルムアミジニウムからなる群から選ばれる陽イオンであることが好ましく、Ｃｓ、Ｒｂ、メチルアンモニウム及びホルムアミジニウムから選ばれる陽イオンがより好ましく、Ｃｓ及びホルムアミジニウムから選ばれる陽イオンがさらに好ましい。
Ｍは１種の金属カチオン（Ｍ１）、又は２種の金属カチオン（Ｍ１ αＭ２ β（但し、αとβはそれぞれ０～１の実数を表し、α＋β＝１を表す。））であり、合成の容易さ、良好な発光特性及び結晶構造の堅牢性の観点から、Ｐｂ、Ｓｎ、Ｇｅ、Ｂｉ、Ｓｂ、Ａｇ、Ｉｎ、Ｃｕ、Ｙｂ、Ｔｉ、Ｐｄ、Ｍｎ、Ｅｕ、Ｚｒ及びＴｂからなる群から選ばれる金属イオンであることが好ましく、Ｐｂ、Ｓｎ、Ｂｉ、Ｓｂ、Ａｇ、Ｉｎ、Ｃｕ、Ｍｎ及びＺｒからなる群から選ばれる金属イオンがより好ましく、Ｐｂ、Ｓｎ及びＣｕからなる群から選ばれる金属イオンがさらに好ましく、Ｐｂイオンが特に好ましい。
ＸはＦ－、Ｃｌ－、Ｂｒ－、Ｉ－からなる群から選ばれるハロゲン化物イオンであることが好ましく、合成の容易さ、良好な発光特性及び結晶構造の堅牢性の観点から、Ｃｌ－、Ｂｒ－、Ｉ－からなる群から選ばれるハロゲン化物イオンがより好ましく、Ｂｒ－、Ｉ－からなる群から選ばれるハロゲン化物イオンがさらに好ましく、Ｂｒ－が特に好ましい。
Ｍは１種の金属カチオン（Ｍ１）、又は２種の金属カチオン（Ｍ１ αＭ２ β（但し、αとβはそれぞれ０～１の実数を表し、α＋β＝１を表す。））であり、合成の容易さ、良好な発光特性及び結晶構造の堅牢性の観点から、Ｐｂ、Ｓｎ、Ｇｅ、Ｂｉ、Ｓｂ、Ａｇ、Ｉｎ、Ｃｕ、Ｙｂ、Ｔｉ、Ｐｄ、Ｍｎ、Ｅｕ、Ｚｒ及びＴｂからなる群から選ばれる金属イオンであることが好ましく、Ｐｂ、Ｓｎ、Ｂｉ、Ｓｂ、Ａｇ、Ｉｎ、Ｃｕ、Ｍｎ及びＺｒからなる群から選ばれる金属イオンがより好ましく、Ｐｂ、Ｓｎ及びＣｕからなる群から選ばれる金属イオンがさらに好ましく、Ｐｂイオンが特に好ましい。
ＸはＦ－、Ｃｌ－、Ｂｒ－、Ｉ－からなる群から選ばれるハロゲン化物イオンであることが好ましく、合成の容易さ、良好な発光特性及び結晶構造の堅牢性の観点から、Ｃｌ－、Ｂｒ－、Ｉ－からなる群から選ばれるハロゲン化物イオンがより好ましく、Ｂｒ－、Ｉ－からなる群から選ばれるハロゲン化物イオンがさらに好ましく、Ｂｒ－が特に好ましい。
【0018】
ペロブスカイト型結晶構造を有するナノ結晶の具体的な組成として、ＣｓＰｂＢｒ３、（ＣＨ３ＮＨ３）ＰｂＢｒ３、（ＣＨＮ２Ｈ４）ＰｂＢｒ３、ＣｓＰｂＩ３、（ＣＨ３ＮＨ３）ＰｂＩ３、（ＣＨＮ２Ｈ４）ＰｂＩ３、ＣｓＰｂ（Ｂｒ／Ｉ）３、（ＣＨ３ＮＨ３）Ｐｂ（Ｂｒ／Ｉ）３、（ＣＨＮ２Ｈ４）Ｐｂ（Ｂｒ／Ｉ）３等の、ＭとしてＰｂを用いたナノ結晶は、光強度に優れると共に量子効率に優れることから、好ましい。また、ＣｓＳｎＢｒ３、ＣｓＳｎＣｌ３、ＣｓＳｎＢｒ１．５Ｃｌ１．５、Ｃｓ３Ｓｂ２Ｂｒ９、（ＣＨ３ＮＨ３）３Ｂｉ２Ｂｒ９、（Ｃ４Ｈ９ＮＨ３）２ＡｇＢｉＢｒ６、等のＭとしてＰｂ以外の金属カチオンを用いたナノ結晶は、低毒性であって環境への影響が少ないことから、好ましい。
【0019】
ナノ結晶として、６０５～６６５ｎｍの波長範囲に発光ピークを有する光（赤色光）を発する赤色発光性の結晶、５００～５６０ｎｍの波長範囲に発光ピークを有する光（緑色光）を発する緑色発光性の結晶、４２０～４８０ｎｍの波長範囲に発光ピークを有する光（青色）を発する青色発光性の結晶等を選択して用いることができる。
なお、ナノ結晶の発光ピークの波長は、例えば、絶対ＰＬ量子収率測定装置を用いて測定される蛍光スペクトル又は燐光スペクトルにおいて確認できる。
なお、ナノ結晶の発光ピークの波長は、例えば、絶対ＰＬ量子収率測定装置を用いて測定される蛍光スペクトル又は燐光スペクトルにおいて確認できる。
【0020】
赤色発光性のナノ結晶は、６６５ｎｍ以下、６６３ｎｍ以下、６６０ｎｍ以下、６５８ｎｍ以下、６５５ｎｍ以下、６５３ｎｍ以下、６５１ｎｍ以下、６５０ｎｍ以下、６４７ｎｍ以下、６４５ｎｍ以下、６４３ｎｍ以下、６４０ｎｍ以下、６３７ｎｍ以下、６３５ｎｍ以下、６３２ｎｍ以下又は６３０ｎｍ以下の波長範囲に発光ピークを有することが好ましく、６２８ｎｍ以上、６２５ｎｍ以上、６２３ｎｍ以上、６２０ｎｍ以上、６１５ｎｍ以上、６１０ｎｍ以上、６０７ｎｍ以上又は６０５ｎｍ以上の波長範囲に発光ピークを有することが好ましい。
これらの上限値及び下限値は、任意に組み合わせることができる。なお、以下の同様の記載においても、個別に記載した上限値及び下限値は任意に組み合わせ可能である。
これらの上限値及び下限値は、任意に組み合わせることができる。なお、以下の同様の記載においても、個別に記載した上限値及び下限値は任意に組み合わせ可能である。
【0021】
緑色発光性のナノ結晶は、５６０ｎｍ以下、５５７ｎｍ以下、５５５ｎｍ以下、５５０ｎｍ以下、５４７ｎｍ以下、５４５ｎｍ以下、５４３ｎｍ以下、５４０ｎｍ以下、５３７ｎｍ以下、５３５ｎｍ以下、５３２ｎｍ以下又は５３０ｎｍ以下の波長範囲に発光ピークを有することが好ましく、５２８ｎｍ以上、５２５ｎｍ以上、５２３ｎｍ以上、５２０ｎｍ以上、５１５ｎｍ以上、５１０ｎｍ以上、５０７ｎｍ以上、５０５ｎｍ以上、５０３ｎｍ以上又は５００ｎｍ以上の波長範囲に発光ピークを有することが好ましい。
【0022】
青色発光性のナノ結晶は、４８０ｎｍ以下、４７７ｎｍ以下、４７５ｎｍ以下、４７０ｎｍ以下、４６７ｎｍ以下、４６５ｎｍ以下、４６３ｎｍ以下、４６０ｎｍ以下、４５７ｎｍ以下、４５５ｎｍ以下、４５２ｎｍ以下又は４５０ｎｍ以下の波長範囲に発光ピークを有することが好ましく、４５０ｎｍ以上、４４５ｎｍ以上、４４０ｎｍ以上、４３５ｎｍ以上、４３０ｎｍ以上、４２８ｎｍ以上、４２５ｎｍ以上、４２２ｎｍ以上又は４２０ｎｍ以上の波長範囲に発光ピークを有することが好ましい。
【0023】
ナノ結晶の形状は、特に限定されず、任意の幾何学的形状であってもよく、任意の不規則な形状であってもよい。ナノ結晶の形状としては、例えば、直方体状、立方体状、球状、正四面体状、楕円体状、角錐形状、ディスク状、枝状、網状、ロッド状等が挙げられる。ナノ結晶の形状は、直方体状、立方体状又は球状が好ましい。
【0024】
ナノ結晶の平均粒子径（体積平均径）は、４０ｎｍ以下であることが好ましく、３０ｎｍ以下がより好ましく、２０ｎｍ以下がさらに好ましく、１５ｎｍ以下が特に好ましい。また、ナノ結晶の平均粒子径は、１ｎｍ以上であることが好ましく、１．５ｎｍ以上がより好ましく、２ｎｍ以上がさらに好ましく、３ｎｍ以上が特に好ましい。かかる平均粒子径を有するナノ結晶は、所望の発光波長を得ることができると共に、ナノ結晶の凝集による二次粒子の形成を抑制でき、蛍光量子収率、輝度及び色再現性の低下を抑制できる。
なお、ナノ結晶の平均粒子径は、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）又はＸ線回折装置（ＸＲＤ）等によってナノ結晶の粒径を測定し、体積基準の平均粒径を算出して得られる。
なお、ナノ結晶の平均粒子径は、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）又はＸ線回折装置（ＸＲＤ）等によってナノ結晶の粒径を測定し、体積基準の平均粒径を算出して得られる。
【0025】
＜シロキサン結合を有する構造を含む表面層＞
本発明の分散体を構成する発光性粒子は、ナノ結晶の表面に、シロキサン結合を有する構造を含む表面層を備える。換言すれば、発光性粒子はナノ結晶をコアとし、その表面の少なくとも一部に、シロキサン結合を含む表面層をシェルとして備えている。
かかるシロキサン結合を有する構造を含む表面層は単独の層からなっていてもよく、複数の層からなっていてもよい。
ナノ結晶がシロキサン結合を有する構造を含む表面層を備えることで、発光性粒子の水分や酸素に対する安定性、耐光性等を向上できる。また本発明の分散体の長期保存性、及び本分散体を含む組成物から形成される光変換層の光学特性の耐久性等を向上できる観点から好ましい。
本発明の分散体を構成する発光性粒子は、ナノ結晶の表面に、シロキサン結合を有する構造を含む表面層を備える。換言すれば、発光性粒子はナノ結晶をコアとし、その表面の少なくとも一部に、シロキサン結合を含む表面層をシェルとして備えている。
かかるシロキサン結合を有する構造を含む表面層は単独の層からなっていてもよく、複数の層からなっていてもよい。
ナノ結晶がシロキサン結合を有する構造を含む表面層を備えることで、発光性粒子の水分や酸素に対する安定性、耐光性等を向上できる。また本発明の分散体の長期保存性、及び本分散体を含む組成物から形成される光変換層の光学特性の耐久性等を向上できる観点から好ましい。
【0026】
シロキサン結合を有する構造を含む表面層は、ナノ結晶の表面に配位可能で、かつ分子同士がシロキサン結合を形成可能な化合物を含む配位子から構成されるのが好ましい。
かかる配位子は、ナノ結晶に含まれるカチオン又はアニオンに結合する結合性基を有する化合物、及び、ナノ結晶に含まれるカチオン又はアニオンに結合する結合性基を有し、シロキサン結合を形成可能な反応性基を有するシラン化合物（以下、「シラン化合物」とも記す。）を含むが、さらに、ナノ結晶に含まれるカチオン又はアニオンに結合する結合性基を有する化合物を含んでもよい。
かかる配位子は、ナノ結晶に含まれるカチオン又はアニオンに結合する結合性基を有する化合物、及び、ナノ結晶に含まれるカチオン又はアニオンに結合する結合性基を有し、シロキサン結合を形成可能な反応性基を有するシラン化合物（以下、「シラン化合物」とも記す。）を含むが、さらに、ナノ結晶に含まれるカチオン又はアニオンに結合する結合性基を有する化合物を含んでもよい。
【0027】
シラン化合物における、シロキサン結合を形成可能な反応性基としては、シロキサン結合を容易に形成できる観点から、シラノール基、炭素原子数が１～６のアルコキシシリル基等の加水分解性シリル基が好ましく、シラノール基、炭素原子数が１～２のアルコキシシリル基がより好ましい。換言すれば、シラン化合物は、ナノ結晶の表面に結合可能な結合性基及び加水分解性シリル基を有するシラン化合物である。
シラン化合物が有する結合性基としては、上述した結合性基が挙げられ、中でもカルボキシル基、メルカプト基及びアミノ基の少なくとも１種が好ましい。これらの結合性基は加水分解性シリル基よりも、ナノ結晶に含まれるカチオン又はアニオンに対する親和性が高いため、シラン化合物は結合性基をナノ結晶側にして配位する。そして、シラン化合物が有する加水分解性シリル基の縮合によりシロキサン結合を形成させることで、より容易かつ確実にシロキサン結合を有する構造を含む表面層を形成できる。
シラン化合物としては、カルボキシル基含有シラン化合物、アミノ基含有シラン化合物、メルカプト基含有シラン化合物が好ましい。これらは１種を単独で、又は２種以上を併用してもよい。
シラン化合物が有する結合性基としては、上述した結合性基が挙げられ、中でもカルボキシル基、メルカプト基及びアミノ基の少なくとも１種が好ましい。これらの結合性基は加水分解性シリル基よりも、ナノ結晶に含まれるカチオン又はアニオンに対する親和性が高いため、シラン化合物は結合性基をナノ結晶側にして配位する。そして、シラン化合物が有する加水分解性シリル基の縮合によりシロキサン結合を形成させることで、より容易かつ確実にシロキサン結合を有する構造を含む表面層を形成できる。
シラン化合物としては、カルボキシル基含有シラン化合物、アミノ基含有シラン化合物、メルカプト基含有シラン化合物が好ましい。これらは１種を単独で、又は２種以上を併用してもよい。
【0028】
カルボキシル基含有シラン化合物としては、例えば３－（トリメトキシシリル）プロピオン酸、３－（トリエトキシシリル）プロピオン酸、２－、カルボキシエチルフェニルビス（２－メトキシエトキシ）シラン、Ｎ－［３－（トリメトキシシリル）プロピル］－Ｎ’－カルボキシメチルエチレンジアミン、Ｎ－［３－（トリメトキシシリル）プロピル］フタルアミド、Ｎ－［３－（トリメトキシシリル）プロピル］エチレンジアミン－Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－三酢酸、（６－トリエトキシシリル）－３－［［［３－（トリエトキシシリル）プロピル］アミノ］カルボニル］ヘキサン酸等が挙げられる。
【0029】
アミノ基含有シラン化合物としては、例えば、３－アミノプロピルトリメトキシシラン、３－アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ－（２－アミノエチル）－３－アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ－（２－アミノエチル）－３－アミノプロピルメチルジエトキシシラン、Ｎ－（２－アミノエチル）－３－アミノプロピルメチルジプロポキシシラン、Ｎ－（２－アミノエチル）－３－アミノプロピルメチルジイソプロポキシシラン、Ｎ－（２－アミノエチル）－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ－（２－アミノエチル）－３－アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ－（２－アミノエチル）－３－アミノプロピルトリプロポキシシラン、Ｎ－（２－アミノエチル）－３－アミノプロピルトリイソプロポキシシラン、Ｎ－（２－アミノエチル）－３－アミノイソブチルジメチルメトキシシラン、Ｎ－（２－アミノエチル）－３－アミノイソブチルメチルジメトキシシラン、Ｎ－（２－アミノエチル）－１１－アミノウンデシルトリメトキシシラン、Ｎ－（２－アミノエチル）－３－アミノプロピルシラントリオール、３－トリエトキシシリル－Ｎ－（１，３－ジメチル－ブチリデン）プロピルアミン、Ｎ－フェニル－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ，Ｎ－ビス［３－（トリメトキシシリル）プロピル］エチレンジアミン、（アミノエチルアミノエチル）フェニルトリメトキシシラン、（アミノエチルアミノエチル）フェニルトリエトキシシラン、（アミノエチルアミノエチル）フェニルトリプロポキシシラン、（アミノエチルアミノエチル）フェニルトリイソプロポキシシラン、（アミノエチルアミノメチル）フェニルトリメトキシシラン、（アミノエチルアミノメチル）フェニルトリエトキシシラン、（アミノエチルアミノメチル）フェニルトリプロポキシシラン、（アミノエチルアミノメチル）フェニルトリイソプロポキシシラン、Ｎ－（ビニルベンジル）－２－アミノエチル－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ－（ビニルベンジル）－２－アミノエチル－３－アミノプロピルメチルジメトキシラン、Ｎ－β－（Ｎ－ビニルベンジルアミノエチル）－Ｎ－γ－（Ｎ－ビニルベンジル）－γ－アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ－β－（Ｎ－ジ（ビニルベンジル）アミノエチル）－γ－アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ－β－（Ｎ－ジ（ビニルベンジル）アミノエチル）－Ｎ－γ－（Ｎ－ビニルベンジル）－γ－アミノプロピルトリメトキシシラン、メチルベンジルアミノエチルアミノプロピルトリメトキシシラン、ジメチルベンジルアミノエチルアミノプロピルトリメトキシシラン、ベンジルアミノエチルアミノプロピルトリメトキシシラン、ベンジルアミノエチルアミノプロピルトリエトキシシラン、３－ウレイドプロピルトリエトキシシラン、３－（Ｎ－フェニル）アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ，Ｎ－ビス［３－（トリメトキシシリル）プロピル］エチレンジアミン、（アミノエチルアミノエチル）フェネチルトリメトキシシラン、（アミノエチルアミノエチル）フェネチルトリエトキシシラン、（アミノエチルアミノエチル）フェネチルトリプロポキシシラン、（アミノエチルアミノエチル）フェネチルトリイソプロポキシシラン、（アミノエチルアミノメチル）フェネチルトリメトキシシラン、（アミノエチルアミノメチル）フェネチルトリエトキシシラン、（アミノエチルアミノメチル）フェネチルトリプロポキシシラン、（アミノエチルアミノメチル）フェネチルトリイソプロポキシシラン、Ｎ－［２－［３－（トリメトキシシリル）プロピルアミノ］エチル］エチレンジアミン、Ｎ－［２－［３－（トリエトキシシリル）プロピルアミノ］エチル］エチレンジアミン、Ｎ－［２－［３－（トリプロポキシシリル）プロピルアミノ］エチル］エチレンジアミン、Ｎ－［２－［３－（トリイソプロポキシシリル）プロピルアミノ］エチル］エチレンジアミン等が挙げられる。
【0030】
メルカプト基含有シラン化合物としては、例えば３－メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３－メルカプトプロピルトリエトキシシラン、３－メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、３－メルカプトプロピルメチルジエトキシシラン、２－メルカプトエチルトリメトキシシラン、２－メルカプトエチルトリエトキシシラン、２－メルカプトエチルメチルジメトキシシラン、２－メルカプトエチルメチルジエトキシシラン、３－［エトキシビス（３，６，９，１２，１５－ペンタオキサオクタコサン－１－イルオキシ）シリル］－１－プロパンチオール等が挙げられる。
【0031】
ナノ結晶に含まれるカチオン又はアニオンに結合する結合性基としては、例えばカルボキシル基、カルボン酸無水物基、アミノ基、アンモニウム基、メルカプト基、ホスフィン基、ホスフィンオキシド基、リン酸基、ホスホン酸基、ホスフィン酸基、スルホン酸基、ボロン酸基及びそれらの塩のうちの少なくとも１種が挙げられる。中でも、カルボキシル基、アミノ基、メルカプト基、スルホン酸基、ホスホン酸基及びそれらの塩のうちの少なくとも１種であることが好ましい。
ナノ結晶に含まれるカチオン又はアニオンに結合する結合性基を有する化合物である、シラン化合物ではない配位子として、具体的にはカルボキシル基含有化合物、アミノ基含有化合物、メルカプト基含有化合物、スルホン酸基含有化合物、ホスホン酸基含有化合物及びそれらの塩が好ましい。これらは１種を単独で使用しても、２種以上を併用してもよい。
発光性粒子の安定性を向上させる観点からは、シラン化合物ではないカルボキシル基含有化合物、アミノ基含有化合物、スルホン酸基含有化合物、ホスホン酸基含有化合物及びそれらの塩の１種以上と、シラン化合物の１種以上を用いることが好ましい。
配位子は、ナノ結晶の合成時に共存させるか、又はナノ結晶を形成後、ナノ結晶の合成時に共存させた配位子とは異なる配位子に置換することもできる。
ナノ結晶に含まれるカチオン又はアニオンに結合する結合性基を有する化合物である、シラン化合物ではない配位子として、具体的にはカルボキシル基含有化合物、アミノ基含有化合物、メルカプト基含有化合物、スルホン酸基含有化合物、ホスホン酸基含有化合物及びそれらの塩が好ましい。これらは１種を単独で使用しても、２種以上を併用してもよい。
発光性粒子の安定性を向上させる観点からは、シラン化合物ではないカルボキシル基含有化合物、アミノ基含有化合物、スルホン酸基含有化合物、ホスホン酸基含有化合物及びそれらの塩の１種以上と、シラン化合物の１種以上を用いることが好ましい。
配位子は、ナノ結晶の合成時に共存させるか、又はナノ結晶を形成後、ナノ結晶の合成時に共存させた配位子とは異なる配位子に置換することもできる。
【0032】
カルボキシル基含有化合物としては、例えばアラキドン酸、クロトン酸、ｔｒａｎｓ－２－デセン酸、エルカ酸、３－デセン酸、ｃｉｓ－４，７，１０，１３，１６，１９－ドコサヘキサエン酸、４－デセン酸、ａｌｌ ｃｉｓ－５，８，１１，１４，１７－エイコサペンタエン酸、ａｌｌ ｃｉｓ－８，１１，１４－エイコサトリエン酸、ｃｉｓ－９－ヘキサデセン酸、ｔｒａｎｓ－３－ヘキセン酸、ｔｒａｎｓ－２－ヘキセン酸、２－ヘプテン酸、３－ヘプテン酸、２－ヘキサデセン酸、リノレン酸、リノール酸、γ－リノレン酸、３－ノネン酸、２－ノネン酸、ｔｒａｎｓ－２－オクテン酸、ペトロセリン酸、エライジン酸、オレイン酸、３－オクテン酸、ｔｒａｎｓ－２－ペンテン酸、ｔｒａｎｓ－３－ペンテン酸、リシノール酸、ソルビン酸、２－トリデセン酸、ｃｉｓ－１５－テトラコセン酸、１０－ウンデセン酸、２－ウンデセン酸、酢酸、酪酸、ベヘン酸、セロチン酸、デカン酸、アラキジン酸、ヘンエイコサン酸、ヘプタデカン酸、ヘプタン酸、ヘキサン酸、ヘプタコサン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、メリシン酸、オクタコサン酸、ノナデカン酸、ノナコサン酸、ｎ－オクタン酸、パルミチン酸、ペンタデカン酸、プロピオン酸、ペンタコサン酸、ノナン酸、ステアリン酸、リグノセリン酸、トリコサン酸、トリデカン酸、ウンデカン酸、吉草酸等の、炭素数１～３０の直鎖状又は分岐状の脂肪族カルボン酸が挙げられる。
【0033】
アミノ基含有化合物としては、例えば１－アミノヘプタデカン、１－アミノノナデカン、ヘプタデカン－９－アミン、ステアリルアミン、オレイルアミン、２－ｎ－オクチル－１－ドデシルアミン、アリルアミン、アミルアミン、２－エトキシエチルアミン、３－エトキシプロピルアミン、イソブチルアミン、イソアミルアミン、３－メトキシプロピルアミン、２－メトキシエチルアミン、２－メチルブチルアミン、ネオペンチルアミン、プロピルアミン、メチルアミン、エチルアミン、ブチルアミン、ヘキシルアミン、ヘプチルアミン、オクチルアミン、１－アミノデカン、ノニルアミン、１－アミノウンデカン、ドデシルアミン、１－アミノペンタデカン、１－アミノトリデカン、ヘキサデシルアミン、テトラデシルアミン等の、炭素数１～３０の直鎖状又は分岐状の脂肪族アミンが挙げられる。
【0034】
メルカプト基含有化合物としては、例えばｎ－ドデシルチオール、ｔｅｒｔ－ドデシルチオール、１－ドデカンチオール、ｎ－オクタンチオール、１－オクタデカンチオール等が挙げられる。
【0035】
スルホン酸基含有化合物又はその塩としては、例えばドデシルベンゼンスルホン酸、４－ｎ－オクチルベンゼンスルホン酸ナトリウム、４－ドデシルベンゼン－１－スルホン酸ナトリウム、４－ウンデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、４－テトラデシルベンゼン－１－スルホン酸ナトリウム、４－トリデシルベンゼン－１－スルホン酸ナトリウム、１－デカンスルホン酸ナトリウム、１－ドデカンスルホン酸ナトリウム、ラウリル硫酸ナトリウム等が挙げられる。
ホスホン酸基含有化合物又はその塩としては、例えばドデシルホスホン酸等が挙げられる。
ホスホン酸基含有化合物又はその塩としては、例えばドデシルホスホン酸等が挙げられる。
【0036】
上記した化合物の中でも、本発明においては、シラン化合物と併用する配位子として、オレイン酸、オクタン酸、ラウリン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、ドデシルホスホン酸、オレイルアミン、オクチルアミン、トリオクチルホスフィンが好ましく、オレイン酸、ラウリン酸、オレイルアミン、ドデシルベンゼンスルホン酸、ドデシルホスホン酸がより好ましい。
【0037】
特に、シロキサン結合を有する構造を含む表面層は、ナノ結晶の表面に、配位子として例えばオレイン酸、３－アミノプロピルトリエトキシシランを配位させ、さらに３－アミノプロピルトリエトキシシランが有するアルコキシシリル基を縮合させシロキサン結合を形成させて得られたものであることが好ましい。
【0038】
また、前記シラン化合物と併用する配位子は、ナノ結晶表面にシロキサン結合を有する構造を含むシェル層を形成させたのちに添加することによってナノ結晶表面に配位させてもよい。
【0039】
シロキサン結合を有する構造を含む表面層の厚さは０．５～５０ｎｍの範囲が好ましく、１．０～３０ｎｍの範囲がより好ましい。シロキサン結合を有する構造を含む表面層の厚さが前記範囲であると、発光性粒子の熱に対する安定性を十分に高められる。なお、シロキサン結合を有する構造を含む表面層の厚さは、配位子の結合基と反応性基とを連結する連結構造の原子数（鎖長）を調整することで変更できる。
【0040】
発光性粒子においては、前記配位子のほか、ジドデシルジメチルアンモニウムブロミド、フェネチルアンモニウムブロミド、フェネチルアンモニウムヨージド、メチルトリオクチルアンモニウムブロミド、テトラオクチルアンモニウムブロミド、ジデシルジメチルアンモニウムブロミド、ジテトラデシルジメチルアンモニウムブロミド等のアンモニウム塩が、ナノ結晶表面に配位していても良い。
【0041】
＜発光性粒子及び分散体の製造方法＞
発光性粒子は、例えば以下の方法で製造できる。
すなわち、ナノ結晶を合成可能な原料化合物と、ナノ結晶の表面に結合可能な結合性基及び加水分解性シリル基を有するシラン化合物と、溶媒とを含む溶液から、ナノ結晶を形成しつつ当該ナノ結晶の表面にシロキサン結合を形成することにより、ナノ結晶の表面にシロキサン結合を有する構造を含む表面層を備えた発光性粒子を得る。
発光性粒子は、例えば以下の方法で製造できる。
すなわち、ナノ結晶を合成可能な原料化合物と、ナノ結晶の表面に結合可能な結合性基及び加水分解性シリル基を有するシラン化合物と、溶媒とを含む溶液から、ナノ結晶を形成しつつ当該ナノ結晶の表面にシロキサン結合を形成することにより、ナノ結晶の表面にシロキサン結合を有する構造を含む表面層を備えた発光性粒子を得る。
【0042】
かかる製造方法には、例えばホットインジェクション法やＬＡＲＰ法を適用できる。
発光性粒子を得る製造方法は、前記したＡａＭｂＸｃで表される化合物からなるナノ結晶を合成可能な原料化合物と、上述した配位子（ナノ結晶に含まれるカチオン又はアニオンに結合する結合性基を有する化合物）と、シラン化合物と、溶媒とを含む溶液を複数調製し、これらを混合した後に、析出したナノ結晶の表面に配位したシラン化合物の反応性基（加水分解性シリル基）を縮合させて行うのが好ましい。
溶液を混合する際は、加熱してもよく、加熱しなくてもよい。
ここで原料化合物は、陽イオンＡを含む化合物、金属イオンＭを含む化合物、及びハロゲン化物イオンＸを含む化合物である。陽イオンＡを含む化合物としては、例えば陽イオンＡの水酸化物、酢酸塩、炭酸塩、硝酸塩、硫酸塩；これらの水和物；等が挙げられる。金属イオンＭを含む化合物としては、金属イオンの酸化物、水酸化物、ハロゲン化物塩、酢酸塩、炭酸塩、硝酸塩、硫酸塩；これらの水和物；等が挙げられる。ハロゲン化物イオンＸを含む化合物としては、カルボン酸ハロゲン化物、ハロゲン化有機ケイ素化合物、ハロゲン化水素、アンモニウム塩が挙げられる。
なお、第１の原料化合物として、金属イオンＭを含みかつハロゲン化物Ｘを含む、金属ハロゲン化物塩を好適に使用できる。
溶媒としては、例えば、１－オクタデセン、ジオクチルエーテル、ジフェニルエーテル等が挙げられる。
発光性粒子を得る製造方法は、前記したＡａＭｂＸｃで表される化合物からなるナノ結晶を合成可能な原料化合物と、上述した配位子（ナノ結晶に含まれるカチオン又はアニオンに結合する結合性基を有する化合物）と、シラン化合物と、溶媒とを含む溶液を複数調製し、これらを混合した後に、析出したナノ結晶の表面に配位したシラン化合物の反応性基（加水分解性シリル基）を縮合させて行うのが好ましい。
溶液を混合する際は、加熱してもよく、加熱しなくてもよい。
ここで原料化合物は、陽イオンＡを含む化合物、金属イオンＭを含む化合物、及びハロゲン化物イオンＸを含む化合物である。陽イオンＡを含む化合物としては、例えば陽イオンＡの水酸化物、酢酸塩、炭酸塩、硝酸塩、硫酸塩；これらの水和物；等が挙げられる。金属イオンＭを含む化合物としては、金属イオンの酸化物、水酸化物、ハロゲン化物塩、酢酸塩、炭酸塩、硝酸塩、硫酸塩；これらの水和物；等が挙げられる。ハロゲン化物イオンＸを含む化合物としては、カルボン酸ハロゲン化物、ハロゲン化有機ケイ素化合物、ハロゲン化水素、アンモニウム塩が挙げられる。
なお、第１の原料化合物として、金属イオンＭを含みかつハロゲン化物Ｘを含む、金属ハロゲン化物塩を好適に使用できる。
溶媒としては、例えば、１－オクタデセン、ジオクチルエーテル、ジフェニルエーテル等が挙げられる。
【0043】
溶液を混合する際に加熱する場合、具体的には、陽イオンＡを含む化合物と溶媒とを含む第１の溶液、及び、金属イオンＭを含む化合物とハロゲン化物イオンＸを含む化合物と溶媒とを含む第２の溶液をそれぞれ調製する。第２の溶液において、金属イオンＭを含む化合物とハロゲン化物イオンＸを含む化合物に代えて、前述の金属ハロゲン化物塩を用いてもよい。
このとき、いずれか一方の溶液には上述した配位子を、もう一方の溶液にはシラン化合物を加えて各溶液を調製する。シラン化合物を含む溶液は、上述した配位子を含んでいてもよい。各溶液の調製において配位子又はシラン化合物を共存させておくことにより、第１の溶液と第２の溶液とを反応させた際に、配位子又はシラン化応物を表面に備えたナノ結晶を得ることができる。また、配位子又はシラン化合物を共存させることで、過剰な結晶成長を防ぎ、目的の粒径範囲内のナノ結晶を得ることができる。
配位子及びシラン化合物の量は、各々の溶液の調製に用いる溶媒の体積量に対して１０％～１００％の範囲であるのが、ナノ結晶の表面に配位した配位子を備えるナノ結晶を得やすい観点、また配位子を共存させておくことによる過剰な結晶成長を防ぐ効果を得られる観点から好ましい。
このとき、いずれか一方の溶液には上述した配位子を、もう一方の溶液にはシラン化合物を加えて各溶液を調製する。シラン化合物を含む溶液は、上述した配位子を含んでいてもよい。各溶液の調製において配位子又はシラン化合物を共存させておくことにより、第１の溶液と第２の溶液とを反応させた際に、配位子又はシラン化応物を表面に備えたナノ結晶を得ることができる。また、配位子又はシラン化合物を共存させることで、過剰な結晶成長を防ぎ、目的の粒径範囲内のナノ結晶を得ることができる。
配位子及びシラン化合物の量は、各々の溶液の調製に用いる溶媒の体積量に対して１０％～１００％の範囲であるのが、ナノ結晶の表面に配位した配位子を備えるナノ結晶を得やすい観点、また配位子を共存させておくことによる過剰な結晶成長を防ぐ効果を得られる観点から好ましい。
【0044】
次いで、１４０～２６０℃に加熱した所定量の第２の溶液に、所定量の第１の溶液を添加して反応させ、－２０～３０℃に冷却後、さらに大気下で１０～３０℃で攪拌することで、ナノ結晶の表面にシロキサン結合を有する構造を含む表面層を備えた発光性粒子を析出させる。
第２の溶液に第１の溶液を混合した後の反応時間は、過度な結晶成長を抑制し発光可能な粒子径を備えたナノ結晶を得るために、５分以内であるのが好ましく、１秒～６０秒の範囲がより好ましく、３秒～１０秒の範囲がさらに好ましい。また、反応後の冷却時間は、第２の溶液に第１の溶液を混合する際の設定温度や、反応のスケールによっても異なり得るが、ナノ結晶を速やかに析出させる観点から、通常、１～６０分の範囲であるのが好ましい。なお、冷却手段には特に制限はなく、目的とする冷却温度と冷却までの時間に応じて、氷水、水－エチレングリコール混合系冷媒、ドライアイス－アセトン浴等を適宜選択して使用できる。また、上記した各溶液の調製や、溶液を混合して反応させ、その後冷却する操作は、大気雰囲気下で行っても、窒素やアルゴン等の不活性ガス雰囲気下で行ってもよい。
なお、第１の溶液及び第２の溶液の混合量は、各溶液中に含有させる陽イオンＡを含む化合物、金属イオンＭを含む化合物とハロゲン化物イオンＸを含む化合物（又は金属イオンＭを含みかつハロゲン化物Ｘを含む金属ハロゲン化物塩）、配位子及びシラン化合物のそれぞれの含有量、並びに陽イオンＡ、金属イオンＭ及びハロゲン化物イオンＸの所望の混合比により適宜調節できる。
第２の溶液に第１の溶液を混合した後の反応時間は、過度な結晶成長を抑制し発光可能な粒子径を備えたナノ結晶を得るために、５分以内であるのが好ましく、１秒～６０秒の範囲がより好ましく、３秒～１０秒の範囲がさらに好ましい。また、反応後の冷却時間は、第２の溶液に第１の溶液を混合する際の設定温度や、反応のスケールによっても異なり得るが、ナノ結晶を速やかに析出させる観点から、通常、１～６０分の範囲であるのが好ましい。なお、冷却手段には特に制限はなく、目的とする冷却温度と冷却までの時間に応じて、氷水、水－エチレングリコール混合系冷媒、ドライアイス－アセトン浴等を適宜選択して使用できる。また、上記した各溶液の調製や、溶液を混合して反応させ、その後冷却する操作は、大気雰囲気下で行っても、窒素やアルゴン等の不活性ガス雰囲気下で行ってもよい。
なお、第１の溶液及び第２の溶液の混合量は、各溶液中に含有させる陽イオンＡを含む化合物、金属イオンＭを含む化合物とハロゲン化物イオンＸを含む化合物（又は金属イオンＭを含みかつハロゲン化物Ｘを含む金属ハロゲン化物塩）、配位子及びシラン化合物のそれぞれの含有量、並びに陽イオンＡ、金属イオンＭ及びハロゲン化物イオンＸの所望の混合比により適宜調節できる。
【0045】
例えば、溶媒４０ｍＬに対し、陽イオンＡを含む化合物として炭酸セシウムを０．２～２ｇ、配位子としてオレイン酸を０．１～１０ｍＬの範囲で混合し、９０～１５０℃で１０～１８０分間減圧乾燥後、１００～２００℃に加熱して溶解させ、セシウム－オレイン酸溶液である第１の溶液を調製できる。
一方、溶媒５ｍＬに対し、金属イオンＭとハロゲン化物イオンＸを含む金属ハロゲン化物として臭化鉛（ＩＩ）２０～１００ｍｇを添加して、９０～１５０℃で１０～１８０分間減圧乾燥後、シラン化合物として３－アミノプロピルトリエトキシシラン０．１～２ｍＬを添加して、第２の溶液を調製できる。
次に、１４０～２６０℃に加熱した第２の溶液に第１の溶液を添加して反応させた後、－２０～３０℃に冷却して撹拌すると、表面に３－アミノプロピルトリエトキシシラン及びオレイン酸が配位したナノ結晶が析出してくる。
この混合物を、さらに湿度５～６０％の大気下、１０～３０℃で５～３００分間撹拌した後、酢酸メチルを添加することで、ナノ結晶を形成しつつ当該ナノ結晶の表面にて３－アミノプロピルトリエトキシシランのエトキシシリル基が縮合してシロキサン結合を形成し、ナノ結晶の表面にシロキサン結合を有する構造を含む表面層を備えた発光性粒子を含む懸濁液を得る。
得られた懸濁液を例えば遠心分離することにより、発光性粒子を回収できる。回収した発光性粒子に分散媒を添加し、振倒撹拌して分散させることで、発光性粒子の分散体を得る。そして、必要に応じて分散体に水を添加したり、脱水処理を行う等して、発光性粒子の分散体における含水率を５０ｐｐｍ以上１０００ｐｐｍ以下の範囲に調整する。
分散媒としては、例えばシクロヘキサン、ヘキサン、ヘプタン、クロロホルム、トルエン、オクタン、クロロベンゼン、テトラリン、ジフェニルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ブチルカルビトールアセテート、又はこれらの混合物などが挙げられる。画素部の形成時、すなわちインク組成物を硬化させる前にインク組成物から溶剤の除去が容易である観点から、溶剤の沸点は３００℃以下であるのが好ましく、２００℃以下がより好ましく、１５０℃以下がさらに好ましい。
分散体における分散媒の量は、分散体全体に対して８０～９９．５質量％であるのが好ましい。
かかる分散体は、ナノ結晶を含む発光性粒子が溶媒に分散したコロイド溶液である。かかる分散体は、濾過、遠心分離、吸着、カラムクロマトグラフ等により、不純物を除去することが好ましい。また分散体を直ちに使用しない場合は、光学特性の安定性及び分散安定性の維持の観点から、遮光下で保管することが好ましい。保管温度は－７０℃以上４０℃以下が好ましく、－５０℃以上３０℃以下がより好ましく、－３０℃以上２０℃以下がさらに好ましく、－２０℃以上１０℃以下が特に好ましい。
一方、溶媒５ｍＬに対し、金属イオンＭとハロゲン化物イオンＸを含む金属ハロゲン化物として臭化鉛（ＩＩ）２０～１００ｍｇを添加して、９０～１５０℃で１０～１８０分間減圧乾燥後、シラン化合物として３－アミノプロピルトリエトキシシラン０．１～２ｍＬを添加して、第２の溶液を調製できる。
次に、１４０～２６０℃に加熱した第２の溶液に第１の溶液を添加して反応させた後、－２０～３０℃に冷却して撹拌すると、表面に３－アミノプロピルトリエトキシシラン及びオレイン酸が配位したナノ結晶が析出してくる。
この混合物を、さらに湿度５～６０％の大気下、１０～３０℃で５～３００分間撹拌した後、酢酸メチルを添加することで、ナノ結晶を形成しつつ当該ナノ結晶の表面にて３－アミノプロピルトリエトキシシランのエトキシシリル基が縮合してシロキサン結合を形成し、ナノ結晶の表面にシロキサン結合を有する構造を含む表面層を備えた発光性粒子を含む懸濁液を得る。
得られた懸濁液を例えば遠心分離することにより、発光性粒子を回収できる。回収した発光性粒子に分散媒を添加し、振倒撹拌して分散させることで、発光性粒子の分散体を得る。そして、必要に応じて分散体に水を添加したり、脱水処理を行う等して、発光性粒子の分散体における含水率を５０ｐｐｍ以上１０００ｐｐｍ以下の範囲に調整する。
分散媒としては、例えばシクロヘキサン、ヘキサン、ヘプタン、クロロホルム、トルエン、オクタン、クロロベンゼン、テトラリン、ジフェニルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ブチルカルビトールアセテート、又はこれらの混合物などが挙げられる。画素部の形成時、すなわちインク組成物を硬化させる前にインク組成物から溶剤の除去が容易である観点から、溶剤の沸点は３００℃以下であるのが好ましく、２００℃以下がより好ましく、１５０℃以下がさらに好ましい。
分散体における分散媒の量は、分散体全体に対して８０～９９．５質量％であるのが好ましい。
かかる分散体は、ナノ結晶を含む発光性粒子が溶媒に分散したコロイド溶液である。かかる分散体は、濾過、遠心分離、吸着、カラムクロマトグラフ等により、不純物を除去することが好ましい。また分散体を直ちに使用しない場合は、光学特性の安定性及び分散安定性の維持の観点から、遮光下で保管することが好ましい。保管温度は－７０℃以上４０℃以下が好ましく、－５０℃以上３０℃以下がより好ましく、－３０℃以上２０℃以下がさらに好ましく、－２０℃以上１０℃以下が特に好ましい。
【0046】
上述のように、ナノ結晶を得る際に、第１の溶液と第２の溶液とを加熱した状態で混合してもよいが、加熱せずに混合させてもよい。その場合、ナノ結晶の原料化合物及びシラン化合物とは異なる配位子を含む溶液を、シラン化合物をナノ結晶に対する貧溶媒に溶解した溶液中に大気下にて滴下・混合することにより、ナノ結晶を析出させる方法が挙げられる。
例えば、ジメチルスルホキシド、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ－メチルホルムアミド等のナノ結晶を溶解する溶媒（良溶媒）１０ｍＬに対し、陽イオンＡを含む化合物として臭化セシウムを５～２５ｍｇ、金属イオンＭとハロゲン化物イオンＸを含む金属ハロゲン化物として臭化鉛（ＩＩ）を１０～５０ｍｇ、配位子としてオレイン酸０．２～２ｍＬ、配位子としてオレイルアミン０．０５～０．５ｍｌの範囲で混合して溶解させた溶液（ｉ）を調製する。一方、イソプロパノール、トルエン、ヘキサン、シクロヘキサン等の、ナノ結晶の貧溶媒５ｍＬに対し、シラン化合物として３－アミノプロピルトリエトキシシラン０．０１～０．５ｍＬを添加した溶液（ｉｉ）を調製する。
そして、溶液（ｉｉ）の５ｍＬに対し、溶液（ｉ）の０．１～１ｍＬを、大気下で０～３０℃で添加すると同時に５～１８０秒間撹拌する。溶液（ｉｉ）に溶液（ｉ）を添加したときにナノ結晶が析出すると共に、かかるナノ結晶の表面に３－アミノプロピルトリエトキシシラン、オレイン酸及びオレイルアミンが配位する。そして、大気下での撹拌中に３－アミノプロピルトリエトキシシランのアルコキシシリル基が縮合し、ナノ結晶の表面にシロキサン結合を含む表面層を備えた発光性粒子を含む懸濁液を得る。
得られた懸濁液を例えば遠心分離することにより、発光性粒子を回収できる。回収した発光性粒子にトルエン等の分散媒を添加し、振倒撹拌して分散させることで、発光性粒子の分散体を得る。そして、必要に応じて分散体に水を添加したり、脱水処理を行う等して、発光性粒子の分散体における含水率を５０ｐｐｍ以上１０００ｐｐｍ以下の範囲に調整する。
例えば、ジメチルスルホキシド、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ－メチルホルムアミド等のナノ結晶を溶解する溶媒（良溶媒）１０ｍＬに対し、陽イオンＡを含む化合物として臭化セシウムを５～２５ｍｇ、金属イオンＭとハロゲン化物イオンＸを含む金属ハロゲン化物として臭化鉛（ＩＩ）を１０～５０ｍｇ、配位子としてオレイン酸０．２～２ｍＬ、配位子としてオレイルアミン０．０５～０．５ｍｌの範囲で混合して溶解させた溶液（ｉ）を調製する。一方、イソプロパノール、トルエン、ヘキサン、シクロヘキサン等の、ナノ結晶の貧溶媒５ｍＬに対し、シラン化合物として３－アミノプロピルトリエトキシシラン０．０１～０．５ｍＬを添加した溶液（ｉｉ）を調製する。
そして、溶液（ｉｉ）の５ｍＬに対し、溶液（ｉ）の０．１～１ｍＬを、大気下で０～３０℃で添加すると同時に５～１８０秒間撹拌する。溶液（ｉｉ）に溶液（ｉ）を添加したときにナノ結晶が析出すると共に、かかるナノ結晶の表面に３－アミノプロピルトリエトキシシラン、オレイン酸及びオレイルアミンが配位する。そして、大気下での撹拌中に３－アミノプロピルトリエトキシシランのアルコキシシリル基が縮合し、ナノ結晶の表面にシロキサン結合を含む表面層を備えた発光性粒子を含む懸濁液を得る。
得られた懸濁液を例えば遠心分離することにより、発光性粒子を回収できる。回収した発光性粒子にトルエン等の分散媒を添加し、振倒撹拌して分散させることで、発光性粒子の分散体を得る。そして、必要に応じて分散体に水を添加したり、脱水処理を行う等して、発光性粒子の分散体における含水率を５０ｐｐｍ以上１０００ｐｐｍ以下の範囲に調整する。
【0047】
発光性粒子の平均粒子径（体積平均径）は、２００ｎｍ以下が好ましく、１５０ｎｍ以下がより好ましく、１００ｎｍ以下がさらに好ましく、５０ｎｍ以下が特に好ましい。また、発光性粒子の平均粒子径は１ｎｍ以上が好ましく、１．５ｎｍ以上がより好ましく、２ｎｍ以上がさらに好ましく、５ｎｍ以上が特に好ましい。平均粒子径が前記範囲であると、所望の波長の光を発しやすい。なお、発光性粒子の平均粒子径（体積平均径）は、透過型電子顕微鏡又は走査型電子顕微鏡より各粒子の粒子径を測定し、体積平均径を算出して得られる。
【0048】
発光性粒子は、バッチリアクターを使用して製造できる。また、粒子サイズのバラつき低減、不純物の混入防止、製造効率、温度制御等の観点からは、連続層流、液滴ベース又は強制薄膜式等のフローリアクターを使用して製造することがより好ましい。
【0049】
２．重合性基を有する化合物
本発明の分散体を構成する重合性基を有する化合物は、後述する、本発明の分散体を含むインク組成物の硬化物中においてバインダーとして機能し、光（活性エネルギー線）の照射により重合する、光重合性化合物であるのが好ましい。光重合性化合物としては、ラジカル重合性化合物、カチオン重合性化合物、アニオン重合性化合物等が挙げられ、モノマーであってもオリゴマーであってもよい。中でも、硬化性が良好な観点から、ラジカル重合性化合物が好ましい。
本発明の分散体を構成する重合性基を有する化合物は、後述する、本発明の分散体を含むインク組成物の硬化物中においてバインダーとして機能し、光（活性エネルギー線）の照射により重合する、光重合性化合物であるのが好ましい。光重合性化合物としては、ラジカル重合性化合物、カチオン重合性化合物、アニオン重合性化合物等が挙げられ、モノマーであってもオリゴマーであってもよい。中でも、硬化性が良好な観点から、ラジカル重合性化合物が好ましい。
【0050】
ラジカル重合性化合物としては、例えば、重合性官能基としてエチレン性不飽和基を有する化合物が挙げられる。なお、本明細書において、エチレン性不飽和基とは、エチレン性不飽和結合（重合性の炭素－炭素二重結合）を有する基を意味する。エチレン性不飽和基としては、例えば、ビニル基、ビニレン基、ビニリデン基、（メタ）アクリロイル基等が挙げられる。エチレン性不飽和基を有する化合物が有するエチレン性不飽和結合の数（例えばエチレン性不飽和基の数）は、例えば１～６であってよい。
エチレン性不飽和基を有する化合物としては、後述する、本発明の分散体を含むインク組成物から得られる硬化物の外部量子効率をより向上できる観点から、（メタ）アクリロイル基を有する化合物が好ましく、単官能又は多官能の（メタ）アクリレートがより好ましく、単官能又は二官能の（メタ）アクリレートがさらに好ましい。
なお、本明細書中において「（メタ）アクリロイル基」とは、アクリロイル基、メタクリロイル基及びそれらの双方を総称する用語である。「（メタ）アクリレート」はアクリレート、メタアクリレート及びそれらの双方を総称する用語である。
また、単官能（メタ）アクリレートとは、（メタ）アクリロイル基を１つ有する（メタ）アクリレートを意味し、多官能（メタ）アクリレートとは、（メタ）アクリロイル基を２つ以上有する（メタ）アクリレートを意味する。
エチレン性不飽和基を有する化合物としては、後述する、本発明の分散体を含むインク組成物から得られる硬化物の外部量子効率をより向上できる観点から、（メタ）アクリロイル基を有する化合物が好ましく、単官能又は多官能の（メタ）アクリレートがより好ましく、単官能又は二官能の（メタ）アクリレートがさらに好ましい。
なお、本明細書中において「（メタ）アクリロイル基」とは、アクリロイル基、メタクリロイル基及びそれらの双方を総称する用語である。「（メタ）アクリレート」はアクリレート、メタアクリレート及びそれらの双方を総称する用語である。
また、単官能（メタ）アクリレートとは、（メタ）アクリロイル基を１つ有する（メタ）アクリレートを意味し、多官能（メタ）アクリレートとは、（メタ）アクリロイル基を２つ以上有する（メタ）アクリレートを意味する。
【0051】
単官能（メタ）アクリレートとしては、例えばメチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、アミル（メタ）アクリレート、２－エチルヘキシル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、ヘキサデシル（メタ）アクリレート、オクタデシル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、メトキシエチル（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニロキシエチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシ－３－フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、フェニルベンジル（メタ）アクリレート、こはく酸モノ（２－アクリロイルオキシエチル）、Ｎ－［２－（アクリロイルオキシ）エチル］フタルイミド、Ｎ－［２－（アクリロイルオキシ）エチル］テトラヒドロフタルイミド等が挙げられる。
【0052】
多官能（メタ）アクリレートは、２官能（メタ）アクリレート、３官能（メタ）アクリレート、４官能（メタ）アクリレート、５官能（メタ）アクリレート、６官能（メタ）アクリレート等である。例えば、ジオール化合物の２つの水酸基が（メタ）アクリロイルオキシ基によって置換されたジ（メタ）アクリレート、トリオール化合物の２つ又は３つの水酸基が（メタ）アクリロイルオキシ基によって置換されたジ（メタ）アクリレート又はトリ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【0053】
２官能（メタ）アクリレートとしては、例えば１，３－ブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４－ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，５－ペンタンジオールジ（メタ）アクリレート、３－メチル－１，５－ペンタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６－ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，８－オクタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９－ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールヒドロキシピバリン酸エステルジアクリレート、トリス（２－ヒドロキシエチル）イソシアヌレートの２つの水酸基が（メタ）アクリロイルオキシ基によって置換されたジ（メタ）アクリレート、１モルのネオペンチルグリコールに４モル以上のエチレンオキシド又はプロピレンオキシドを付加して得られるジオールの２つの水酸基が（メタ）アクリロイルオキシ基によって置換されたジ（メタ）アクリレート、１モルのビスフェノールＡに２モルのエチレンオキシド又はプロピレンオキシドを付加して得られるジオールの２つの水酸基が（メタ）アクリロイルオキシ基によって置換されたジ（メタ）アクリレート、１モルのトリメチロールプロパンに３モル以上のエチレンオキシド又はプロピレンオキシドを付加して得られるトリオールの２つの水酸基が（メタ）アクリロイルオキシ基によって置換されたジ（メタ）アクリレート、１モルのビスフェノールＡに４モル以上のエチレンオキシド又はプロピレンオキシドを付加して得られるジオールの２つの水酸基が（メタ）アクリロイルオキシ基によって置換されたジ（メタ）アクリレート、１モルのプロピレングリコールと２モルのエピクロルヒドリンの反応生成物に（メタ）アクリル酸を付加したジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【0054】
３官能（メタ）アクリレートとしては、例えばトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、グリセリントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、１モルのトリメチロールプロパンに３モル以上のエチレンオキシド又はプロピレンオキシドを付加して得られるトリオールの３つの水酸基が（メタ）アクリロイルオキシ基によって置換されたトリ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
４官能（メタ）アクリレートとしては、例えばペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
５官能（メタ）アクリレートとしては、例えばジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
６官能（メタ）アクリレートとしては、例えばジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
４官能（メタ）アクリレートとしては、例えばペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
５官能（メタ）アクリレートとしては、例えばジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
６官能（メタ）アクリレートとしては、例えばジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【0055】
多官能（メタ）アクリレートは、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等のジペンタエリスリトールの複数の水酸基が（メタ）アクリロイルオキシ基によって置換されたポリ（メタ）アクリレート、一分子中にエチレン性二重結合を２つ以上有する芳香族ウレタンオリゴマー、脂肪族ウレタンオリゴマー、エポキシアクリレートオリゴマー、ポリエステルアクリレートオリゴマー及びその他特殊オリゴマーからなる群から選択される少なくとも一種の化合物であってもよい。
【0056】
（メタ）アクリレート化合物は、リン酸基を有する、エチレンオキシド変性リン酸（メタ）アクリレート、エチレンオキシド変性アルキルリン酸（メタ）アクリレート等であってもよい。
【0057】
本発明の分散体が含有する重合性基を有する化合物は、そのＬｏｇＰ値が１．０以上５．０以下である。かかる化合物として、例えば、上記に例示した光重合性化合物の中から当該特定のＬｏｇＰ値の範囲にある光重合性化合物を選択して必須成分として使用できる。このような特定のＬｏｇＰ値の範囲の重合性基を有する化合物を用いることにより、本発明の分散体の保存安定性を向上でき、また本発明の分散体を含むインク組成物から形成される硬化物の光学特性を良好にできる。
本発明においてＬｏｇＰ値とは、光重合性化合物の、１－オクタノール／水の分配係数の対数値を表し、「Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｐｈａｒｍａｃｅｕｔｉｃａｌ Ｓｃｉｅｎｃｅｓ 、 ８３ページ、８４巻， Ｎｏ． １， １９９５年刊」（ＷＩＬＬＩＡＭ Ｍ． ＭＥＹＬＡＮ 、 ＰＨＩＬＩＰ Ｈ． ＨＯＷＡＲＤ著）に記載の方法で算出される。ＬｏｇＰ値は一般に有機化合物の親疎水性の相対的評価に用いられる数値であり、例えば以下のように求められる。
１，４－ブタンジオールジアセテート １．３９
テトラリン ３．２７
ＬＤＯ １．３５
ＯＸＴ－２２１ ２．０２
エチレングリコール －１．６１
ｎ－ラウリルメタクリレート ６．６８
本発明においてＬｏｇＰ値とは、光重合性化合物の、１－オクタノール／水の分配係数の対数値を表し、「Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｐｈａｒｍａｃｅｕｔｉｃａｌ Ｓｃｉｅｎｃｅｓ 、 ８３ページ、８４巻， Ｎｏ． １， １９９５年刊」（ＷＩＬＬＩＡＭ Ｍ． ＭＥＹＬＡＮ 、 ＰＨＩＬＩＰ Ｈ． ＨＯＷＡＲＤ著）に記載の方法で算出される。ＬｏｇＰ値は一般に有機化合物の親疎水性の相対的評価に用いられる数値であり、例えば以下のように求められる。
１，４－ブタンジオールジアセテート １．３９
テトラリン ３．２７
ＬＤＯ １．３５
ＯＸＴ－２２１ ２．０２
エチレングリコール －１．６１
ｎ－ラウリルメタクリレート ６．６８
【0058】
なお、１－オクタノール／水の分配係数の対数値は、ＪＩＳ Ｚ ７２６０－１１７に基づいて実測することも可能だが、上記文献の計算方法で求めた値が多数の実測結果と非常によい相関を示すことが上記文献に示されている。
光重合性化合物のＬｏｇＰ値は、発光性ナノ結晶の水分による劣化を抑える点で、４．５以下であることが好ましく、３．０以下であることがより好ましく、２．０以下であることがさらに好ましい。
光重合性化合物のＬｏｇＰ値は、発光性ナノ結晶の水分による劣化を抑える点で、４．５以下であることが好ましく、３．０以下であることがより好ましく、２．０以下であることがさらに好ましい。
【0059】
光重合性化合物の分子量は、ＬｏｇＰ値を上記範囲としやすい観点から、１００以上７００以下であることが好ましく、１５０以上５００以下であることがより好ましく、２００以上４００以下であることがさらに好ましく、２５０以上３５０以下であることが好ましい。
本発明の分散体における光重合性化合物の含有量は、６０質量％以上１００質量％以下であることが好ましく、７０質量％以上１００質量％以下がより好ましく、８０質量％以上１００質量％以下がさらに好ましい。
本発明の分散体における光重合性化合物の含有量は、６０質量％以上１００質量％以下であることが好ましく、７０質量％以上１００質量％以下がより好ましく、８０質量％以上１００質量％以下がさらに好ましい。
【0060】
光重合性化合物のＳＰ値は、１０．０以下であることが好ましい。光重合性化合物のＳＰ値は、例えば、９．７５以下、又は９．５０以下であってよく、８．５０以上又は８．７０以上であってよい。
【0061】
本発明の分散体が、前記ＳＰ値が１０．０以下の光重合性化合物を含む場合、その光重合性化合物の含有量は、分散体の保存安定性が優れる観点、及び、優れた光学特性（例えば外部量子効率）が得られる観点から、分散体中の光重合性化合物の全質量を基準として、４０～１００質量％であることが好ましく、５０～１００質量％であることがより好ましく、６０～１００質量％であることがさらに好ましく、７０～１００質量％であることが特に好ましい。
【0062】
なお、本発明におけるＳＰ値（溶解度パラメータ／単位：（（ｃａｌ／ｃｍ３）０．５）とは、Ｒ．Ｆ．Ｆｅｄｏｒｓ，Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ Ｓｃｉｅｎｃｅ，１４，ｐ１４７（１９７４）に記載される、所謂、Ｆｅｄｏｒｓ法で計算された溶解度パラメータをいう。Ｆｅｄｏｒｓ法では、凝集エネルギー密度とモル分子容とが置換基の種類及び数に依存していると考え、溶解度パラメータを以下の数式（１）で表す。溶解度パラメータは、各化合物に固有の値である。
【0063】
【数1】
【0064】
上記数式（１）中、ΣＥｃｏｈは凝集エネルギーを、ΣＶはモル分子容を示す。
ＳＰ値のＳＩ単位は、（Ｊ／ｃｍ３）０．５又は（ＭＰａ）０．５であるが、本明細書では従来慣用的に使用される（ｃａｌ／ｃｍ３）０．５を用いる。ＳＰ値の単位は、次の式：１（ｃａｌ／ｃｍ３）０．５≒２．０５（Ｊ／ｃｍ３）０．５≒２．０５（ＭＰａ）０．５で換算することができる。
ＳＰ値のＳＩ単位は、（Ｊ／ｃｍ３）０．５又は（ＭＰａ）０．５であるが、本明細書では従来慣用的に使用される（ｃａｌ／ｃｍ３）０．５を用いる。ＳＰ値の単位は、次の式：１（ｃａｌ／ｃｍ３）０．５≒２．０５（Ｊ／ｃｍ３）０．５≒２．０５（ＭＰａ）０．５で換算することができる。
【0065】
ＳＰ値が１０．０以下である（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、ラウリルアクリレート（ＳＰ値：８．７０）、イソステアリルアクリレート（ＳＰ値：８．５９）、イソデシルアクリレート（ＳＰ値：８．３９）、ｎ－ブチルアクリレート（ＳＰ値：８．８２）、イソボルニルアクリレート（ＳＰ値：８．７０）、シクロヘキシルアクリレート（ＳＰ値：９．２６）、ベンジルアクリレート（ＳＰ値：９．７１）、フェノキシエチルアクリレート（ＳＰ値：９．７４）、ジシクロペンテニルアクリレート（ＳＰ値：９．７１）、ジシクロペンテニルオキシエチルアクリレート（ＳＰ値：９．６５）、ジシクロペンタニルアクリレート（ＳＰ値：９．６６）、（２－メチル－２－エチル－１，３－ジオキソラン－４－イル）メチルアクリレート（ＳＰ値：９．２１）、テトラヒドロフルフリルアクリレート（ＳＰ値：９．５１）、５－エチル－１，３－ジオキサン－５－イルメチルアクリレート（ＳＰ値：９．３５）、２－エチルヘキシルアクリレート（ＳＰ値：８．６２）、２－［２－（エトキシ）エトキシ］エチルアクリレート（ＳＰ値：９．０８）、メトキシトリエチレングリコールアクリレート（ＳＰ値：９．１８）、２－エチルヘキシルカルビトールアクリレート（ＳＰ値：８．８２）、メトキシポリエチレングリコール＃４００アクリレート（ＳＰ値：９．２８）、メトキシジプロピレングリコールアクリレート（ＳＰ値：９．２９）、アリルメタクリレート（ＳＰ値：８．９９）、ラウリルメタクリレート（ＳＰ値：９．０２）、ｔｅｒｔ－ブチルメタクリレート（ＳＰ値：８．４８）、２－エチルヘキシルメタクリレート（ＳＰ値：８．６３）、イソデシルメタクリレート（ＳＰ値：８．４２）、イソボルニルメタクリレート（ＳＰ値：８．７０）、シクロヘキシルメタクリレート（ＳＰ値：９．２２）、ベンジルメタクリレート（ＳＰ値：９．６４）、フェノキシエチルメタクリレート（ＳＰ値：９．６８）、ジシクロペンテニルオキシエチルメタクリレート（ＳＰ値：９．６０）、ジシクロペンタニルメタクリレート（ＳＰ値：９．６０）、１，４－ブタンジオールジアクリレート（ＳＰ値：９．７３）、１，６－ヘキサンジオールジアクリレート（ＳＰ値：９．５６）、１，９－ノナンジオールジアクリレート（ＳＰ値：９．３９）、１，１０－デカンジオールジアクリレート（ＳＰ値：９．３４）、ジプロピレングリコールジアクリレート（ＳＰ値：９．６０）、ネオペンチルグリコールジアクリレート（ＳＰ値：９．４０）、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート（ＳＰ値：９．６８）、トリエチレングリコールジアクリレート（ＳＰ値：９．７７）、ポリエチレングリコール＃２００ジアクリレート（ＳＰ値：９．７２）、ポリエチレングリコール＃４００ジアクリレート（ＳＰ値：９．５８）、ポリエチレングリコール＃６００ジアクリレート（ＳＰ値：９．５２）、ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＳＰ値：８．７８）、トリメチロールプロパントリアクリレート（ＳＰ値：９．８８）、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート（ＳＰ値：９．８１）、１，４－ブタンジオールジメタクリレート（ＳＰ値：９．６１）、１，６－ヘキサンジオールジメタクリレート（ＳＰ値：９．４８）、１，９－ノナンジオールジメタクリレート（ＳＰ値：９．３３）、エチレングリコールジメタクリレート（ＳＰ値：９．７８）、ジエチレングリコールジメタクリレート（ＳＰ値：９．７１）、トリエチレングリコールジメタクリレート（ＳＰ値：９．６６）、ポリエチレングリコール＃２００ジメタクリレート（ＳＰ値：９．６３）、ポリエチレングリコール＃４００ジメタクリレート（ＳＰ値：９．５３）、ポリエチレングリコール＃６００ジメタクリレート（ＳＰ値：９．４９）等が挙げられる。
【0066】
３．分散体の含水率
本発明の分散体の含水率は５０ｐｐｍ以上１０００ｐｐｍ以下であり、１００ｐｐｍ超１０００ｐｐｍ以下であることがより好ましく、１００ｐｐｍ超３００ｐｐｍ以下であることがより好ましい。
なお、本発明の分散体の含水率は、カールフィッシャー水分計（例えば、三菱化学社製、型番ＣＡ－０６、気化ユニットは同社製ＶＡ－０６）により測定できる。
また、本発明の分散体において、前記した発光性粒子に対する水の比率（水／発光性粒子）が質量比で５．０以上５００以下であることが好ましく、７．０以上３００以下がより好ましく、１０．０以上２６０以下がさらに好ましい。
さらに、本発明の分散体において、前記した発光性粒子に対する、前記した特定のＬｏｇＰ値を有する重合性基を有する化合物の比率（重合性基を有する化合物／発光性粒子）が質量比で１０以上１００以下であることが好ましい。
本発明の分散体の含水率は５０ｐｐｍ以上１０００ｐｐｍ以下であり、１００ｐｐｍ超１０００ｐｐｍ以下であることがより好ましく、１００ｐｐｍ超３００ｐｐｍ以下であることがより好ましい。
なお、本発明の分散体の含水率は、カールフィッシャー水分計（例えば、三菱化学社製、型番ＣＡ－０６、気化ユニットは同社製ＶＡ－０６）により測定できる。
また、本発明の分散体において、前記した発光性粒子に対する水の比率（水／発光性粒子）が質量比で５．０以上５００以下であることが好ましく、７．０以上３００以下がより好ましく、１０．０以上２６０以下がさらに好ましい。
さらに、本発明の分散体において、前記した発光性粒子に対する、前記した特定のＬｏｇＰ値を有する重合性基を有する化合物の比率（重合性基を有する化合物／発光性粒子）が質量比で１０以上１００以下であることが好ましい。
【0067】
本発明の分散体の含水率、水／発光性粒子の比、重合性基を有する化合物／発光性粒子の比を、上記範囲に制御する手段として、以下が挙げられる。
例えば、上述したシラン化合物が有する加水分解性シリル基の縮合によるシロキサン結合の形成を促進する観点から、発光性粒子を形成する際に水を添加しても良く、水を添加せずに溶媒又は反応雰囲気に含まれる微量の水分によってシロキサン結合の形成を促進しても良い。この場合は、予め脱水処理等を特に行わない原料化合物を使用し、大気雰囲気下で発光性粒子の調製を行ってよい。また、加熱によってシロキサン結合の形成を促進しても良い。加熱する場合の温度は２０℃以上１２０℃以下が好ましく、３０℃以上１００℃以下がより好ましく、４０℃以上８０℃以下がさらに好ましい。
また、分散体の調製に用いる重合性基を有する化合物等の含水率を予め把握しておき、発光性粒子を含む分散体を形成後、含水率を上記した所定範囲内に調整することを目的に、分散体に水を添加するか、または必要に応じて、モレキュラーシーブス等の脱水剤による水吸着、加熱又は減圧による脱水処理を行ってもよい。
さらに、脱水剤による水吸着、加熱又は減圧による脱水処理を行った後に、水の添加により分散体の含水率を調整してもよい。
例えば、上述したシラン化合物が有する加水分解性シリル基の縮合によるシロキサン結合の形成を促進する観点から、発光性粒子を形成する際に水を添加しても良く、水を添加せずに溶媒又は反応雰囲気に含まれる微量の水分によってシロキサン結合の形成を促進しても良い。この場合は、予め脱水処理等を特に行わない原料化合物を使用し、大気雰囲気下で発光性粒子の調製を行ってよい。また、加熱によってシロキサン結合の形成を促進しても良い。加熱する場合の温度は２０℃以上１２０℃以下が好ましく、３０℃以上１００℃以下がより好ましく、４０℃以上８０℃以下がさらに好ましい。
また、分散体の調製に用いる重合性基を有する化合物等の含水率を予め把握しておき、発光性粒子を含む分散体を形成後、含水率を上記した所定範囲内に調整することを目的に、分散体に水を添加するか、または必要に応じて、モレキュラーシーブス等の脱水剤による水吸着、加熱又は減圧による脱水処理を行ってもよい。
さらに、脱水剤による水吸着、加熱又は減圧による脱水処理を行った後に、水の添加により分散体の含水率を調整してもよい。
【0068】
ナノ結晶を形成させる際に配位子を共存させると、かかる配位子はナノ結晶の表面に存在するカチオン又はアニオン（ダングリングボンド）に配位して、ナノ結晶が安定化される。また、ナノ結晶の形成時に水が存在する場合は、水自体がナノ結晶表面のキャッピングリガンド密度を減少させていわば配位子としても機能し、ナノ結晶表面の不動態化に一時的に寄与し得ると考えられる。一方で、水が多量に存在すると、ナノ結晶に配位した配位子又は水はナノ結晶表面には固定化されていないため徐々に脱離し、ナノ結晶成分が溶出したり凝集していき、発光特性が低下する原因となる。
【0069】
本発明の分散体では、上述したように、ナノ結晶の表面に配位可能で、かつ分子同士がシロキサン結合を形成可能な化合物を含む配位子、好適にはナノ結晶に含まれるカチオン又はアニオンに結合する結合性基を有する化合物、及び前述したシラン化合物の両者を、ナノ結晶の形成時に配位子として用いている。所定量の水が存在することで、シラン化合物の縮合により、ナノ結晶の表面にシロキサン結合を有する構造を含む表面層を備えた発光性粒子となる。かかる表面層が形成されたナノ結晶では配位子の脱離が起こりにくく、またナノ結晶表面の水分子も脱離しにくくなると考えられる。また、表面層が存在することで、ナノ結晶中のイオン成分の移動による結晶組成の変化や、発光性粒子の凝集を抑制でき、発光特性を十分に発揮できると考えられる。
さらに、特定のＬｏｇＰ値を有する重合性基を有する化合物が存在することで、インク組成物用の分散体としての安定性が向上していると考えられる。
したがって、本発明の分散体はその保管安定性が向上し、発光性粒子の発光特性を長期に亘り維持できると推定される。
さらに、特定のＬｏｇＰ値を有する重合性基を有する化合物が存在することで、インク組成物用の分散体としての安定性が向上していると考えられる。
したがって、本発明の分散体はその保管安定性が向上し、発光性粒子の発光特性を長期に亘り維持できると推定される。
【0070】
４．インク組成物
本発明はまた、上述した分散体と、重合開始剤とを含むインク組成物である。
本発明のインク組成物をインクジェット方式の印刷方式を用いて塗布する場合、粘度及び吐出後のインクの耐揮発性を両立しやすい観点から、光重合性化合物の分子量は５０～５００であるのが好ましく、１００～４００がより好ましい。
本発明のインク組成物をロールコーター、グラビアコーター、フレキソコーター、ダイコーター等の印刷方式を用いてフィルム等の基材に塗布する場合、粘度とレベリング性を両立しやすい観点から、光重合性化合物の分子量は１００～５００であるのが好ましく、１５０～４００がより好ましい。
本発明はまた、上述した分散体と、重合開始剤とを含むインク組成物である。
本発明のインク組成物をインクジェット方式の印刷方式を用いて塗布する場合、粘度及び吐出後のインクの耐揮発性を両立しやすい観点から、光重合性化合物の分子量は５０～５００であるのが好ましく、１００～４００がより好ましい。
本発明のインク組成物をロールコーター、グラビアコーター、フレキソコーター、ダイコーター等の印刷方式を用いてフィルム等の基材に塗布する場合、粘度とレベリング性を両立しやすい観点から、光重合性化合物の分子量は１００～５００であるのが好ましく、１５０～４００がより好ましい。
【0071】
本発明のインク組成物において、硬化可能成分である光重合性化合物として、重合性官能基を１分子中に２つ以上有する光重合性化合物を用いると、得られる硬化物の耐久性（強度、耐熱性等）を向上できる観点から好ましい。
より具体的には、インク組成物を調製した際の粘度安定性、吐出性、塗布性に優れる観点、インク組成物の硬化性が良好となる観点、発光性粒子を含有する塗膜等の硬化物の製造時における、硬化収縮に起因する塗膜表面の平滑性低下を抑制し得る観点；本発明のインク組成物からなる光変換層において、プラスチック、ガラス等の基材への密着性、耐溶剤性、耐磨耗性が向上する観点、また優れた光学特性（例えば外部量子効率）が得られる観点から、２種以上のラジカル重合性化合物を用いることが好ましく、単官能（メタ）アクリレートと多官能（メタ）アクリレートとを組み合わせて用いることが好ましい。
より具体的には、インク組成物を調製した際の粘度安定性、吐出性、塗布性に優れる観点、インク組成物の硬化性が良好となる観点、発光性粒子を含有する塗膜等の硬化物の製造時における、硬化収縮に起因する塗膜表面の平滑性低下を抑制し得る観点；本発明のインク組成物からなる光変換層において、プラスチック、ガラス等の基材への密着性、耐溶剤性、耐磨耗性が向上する観点、また優れた光学特性（例えば外部量子効率）が得られる観点から、２種以上のラジカル重合性化合物を用いることが好ましく、単官能（メタ）アクリレートと多官能（メタ）アクリレートとを組み合わせて用いることが好ましい。
【0072】
本発明の分散体を含有するインク組成物においては、本発明の効果を損なわない範囲で、ＬｏｇＰ値が本発明の規定範囲外の光重合性化合物をさらに含有していてもよい。ＬｏｇＰ値が本発明の規定範囲外の光重合性化合物を含有する場合、その量は、発光性ナノ結晶の析出や凝集を抑える点で、インク組成物全体に対して４０質量％以下であるのが好ましく、３０質量％以下がより好ましく、２５質量％以下がさらに好ましく、２０質量％以下が特に好ましい。
【0073】
本発明のインク組成物における光重合性化合物の含有量は、インク組成物の硬化性が良好となる観点、並びに、インク組成物の硬化物の耐溶剤性及び磨耗性が向上する観点から、インク組成物全体に対して４０質量％以上９８質量％以下であることが好ましく、５０質量％以上９７質量％以下がより好ましく、６０質量％以上９５質量％以下がさらに好ましい。
【0074】
本発明のインク組成物が含有する重合開始剤としては、上記した特定範囲のＬｏｇＰ値を有する重合性化合物として光重合性化合物が好適であることに対応し、光重合開始剤が好ましい。光重合開始剤としては、例えば分子開裂型又は水素引き抜き型の光ラジカル重合開始剤が挙げられる。
分子開裂型の光ラジカル重合開始剤としては、例えばベンゾインイソブチルエーテル、２，４－ジエチルチオキサントン、２－イソプロピルチオキサントン、２，４，６－トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルホリノフェニル）－ブタン－１－オン、ビス（２，６－ジメトキシベンゾイル）－２，４，４－トリメチルペンチルホスフィンオキシド、（２，４，６－トリメチルベンゾイル）エトキシフェニルホスフィンオキシド等が挙げられる。これら以外に、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニルプロパン－１－オン、１－（４－イソプロピルフェニル）－２－ヒドロキシ－２－メチルプロパン－１－オン、２－メチル－１－（４－メチルチオフェニル）－２－モルホリノプロパン－１－オン等を併用してもよい。
水素引き抜き型の光ラジカル重合開始剤としては、例えばベンゾフェノン、４－フェニルベンゾフェノン、イソフタルフェノン、４－ベンゾイル－４’－メチル－ジフェニルスルフィド等が挙げられる。
分子開裂型の光ラジカル重合開始剤と水素引き抜き型の光ラジカル重合開始剤とを併用してもよい。
分子開裂型の光ラジカル重合開始剤としては、例えばベンゾインイソブチルエーテル、２，４－ジエチルチオキサントン、２－イソプロピルチオキサントン、２，４，６－トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルホリノフェニル）－ブタン－１－オン、ビス（２，６－ジメトキシベンゾイル）－２，４，４－トリメチルペンチルホスフィンオキシド、（２，４，６－トリメチルベンゾイル）エトキシフェニルホスフィンオキシド等が挙げられる。これら以外に、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニルプロパン－１－オン、１－（４－イソプロピルフェニル）－２－ヒドロキシ－２－メチルプロパン－１－オン、２－メチル－１－（４－メチルチオフェニル）－２－モルホリノプロパン－１－オン等を併用してもよい。
水素引き抜き型の光ラジカル重合開始剤としては、例えばベンゾフェノン、４－フェニルベンゾフェノン、イソフタルフェノン、４－ベンゾイル－４’－メチル－ジフェニルスルフィド等が挙げられる。
分子開裂型の光ラジカル重合開始剤と水素引き抜き型の光ラジカル重合開始剤とを併用してもよい。
【0075】
また、光重合開始剤として、フォトブリーチング性を有する光重合開始剤を含有することが好ましい。この場合、本発明のインク組成物の硬化物の光透過性が高まりやすい。フォトブリーチング性を有する光重合開始剤としては、例えばフォトブリーチング性を有するオキシムエステル系化合物又はアシルホスフィンオキシド系化合物の少なくとも一方を含有するのが好ましい。
フォトブリーチング性を有するオキシムエステル系化合物としては、例えば１－［４－（フェニルチオ）フェニル］－１，２－オクタンジオン２－（Ｏ－ベンゾイルオキシム）、エタノン，１－［９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］－，１－（Ｏ－アセチルオキシム）等が挙げられる。
フォトブリーチング性を有するアシルホスフィンオキシド系化合物としては、例えば２，４，６－トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、ビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキシド、２，４，６－トリメチルベンゾイルエトキシフェニルホスフィンオキシド等が挙げられる。
硬化物の内部硬化性に優れ、かつ初期着色度が小さい硬化物を形成できる観点から、少なくとも１種以上のアシルホスフィンオキシド系化合物を含有することが好ましい。この場合、３６５ｎｍ、３８５ｎｍ、３９５ｎｍ又は４０５ｎｍ等の、特定波長を中心とする±１５ｎｍ域の狭スペクトル出力を有する紫外発光ダイオード（ＵＶ－ＬＥＤ）を用いた硬化に適する観点からも好ましい。
フォトブリーチング性を有するオキシムエステル系化合物としては、例えば１－［４－（フェニルチオ）フェニル］－１，２－オクタンジオン２－（Ｏ－ベンゾイルオキシム）、エタノン，１－［９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］－，１－（Ｏ－アセチルオキシム）等が挙げられる。
フォトブリーチング性を有するアシルホスフィンオキシド系化合物としては、例えば２，４，６－トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、ビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキシド、２，４，６－トリメチルベンゾイルエトキシフェニルホスフィンオキシド等が挙げられる。
硬化物の内部硬化性に優れ、かつ初期着色度が小さい硬化物を形成できる観点から、少なくとも１種以上のアシルホスフィンオキシド系化合物を含有することが好ましい。この場合、３６５ｎｍ、３８５ｎｍ、３９５ｎｍ又は４０５ｎｍ等の、特定波長を中心とする±１５ｎｍ域の狭スペクトル出力を有する紫外発光ダイオード（ＵＶ－ＬＥＤ）を用いた硬化に適する観点からも好ましい。
【0076】
光重合開始剤の含有量は、光重合性化合物への溶解性、インク組成物の硬化性、及びインク組成物から形成される光変換層の経時安定性（外部量子効率の維持安定性）の観点から、インク組成物中の光重合性化合物に対して０．１～２０質量％であることが好ましく、０．５～１５質量％がより好ましく、１～１０質量％がさらに好ましく、１～５質量％が特に好ましい。
また、光重合開始剤におけるアシルホスフィンオキシド系化合物の含有比率は、インク組成物の硬化性の観点から５０～１００質量％であることが好ましく、６０～１００質量％がより好ましく、７０～１００質量％がさらに好ましい。
また、光重合開始剤におけるアシルホスフィンオキシド系化合物の含有比率は、インク組成物の硬化性の観点から５０～１００質量％であることが好ましく、６０～１００質量％がより好ましく、７０～１００質量％がさらに好ましい。
【0077】
本発明のインク組成物は、本発明の効果を阻害しない範囲で、重合禁止剤、酸化防止剤、分散剤、界面活性剤、光散乱粒子、連鎖移動剤、増感剤、レベリング剤、熱可塑性樹脂、溶剤等の他の成分をさらに含有していてもよい。
【0078】
重合禁止剤としては、例えばｐ－メトキシフェノール、クレゾール、ｔｅｒｔ－ブチルカテコール、３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシトルエン等のキノン系化合物；ｐ－フェニレンジアミン、４－アミノジフェニルアミン、Ｎ，Ｎ’－ジフェニル－ｐ－フェニレンジアミン等のアミン系化合物；フェノチアジン、ジステアリルチオジプロピオネート等のチオエーテル系化合物；２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－１－オキシル、２，２，６，６－テトラメチルピペリジン、４－ヒドロキシ－２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－１－オキシル等のＮ－オキシル化合物；Ｎ－ニトロソジフェニルアミン、Ｎ－ニトロソフェニルナフチルアミン、Ｎ－ニトロソジナフチルアミン等のニトロソ系化合物が挙げられる。
重合禁止剤を含有する場合、その量はインク組成物に含まれる光重合性化合物の総量に対して０．０１～１質量％の範囲であることが好ましく、０．０２～０．５質量％がより好ましい。
重合禁止剤を含有する場合、その量はインク組成物に含まれる光重合性化合物の総量に対して０．０１～１質量％の範囲であることが好ましく、０．０２～０．５質量％がより好ましい。
【0079】
酸化防止剤としては、フェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、硫黄系酸化防止剤等が挙げられ、例えばペンタエリスリトールテトラキス［３－（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）］プロピオネート、チオジエチレンビス［３－（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）］プロピオネート、オクタデシル－３－（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート、３，９－ビス（２，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－メチルフェノキシ)－２，４，８，１０－テトラオキサ－３，９－ジホスファスピロ［５．５］ウンデカン、２，４，８，１０－テトラキス（１，１－ジメチルエチル）－６－［（２－エチルヘキシル）オキシ］－１２Ｈ－ジベンゾ［ｄ，ｇ］［１，３，２］ジオキサホスホシン、ビス［３－（ドデシルチオ）プロピオン酸］２，２－ビス［［３－（ドデシルチオ）－１－オキソプロピルオキシ］メチル］－１，３－プロパンジイル等が挙げられる。
インク組成物及びインク組成物から形成される光変換層の熱安定性の観点から、フェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤が好ましく、フェノール系酸化防止剤がより好ましい。また、インク組成物から形成される光変換層の長期間の熱安定性の観点から、フェノール系酸化防止剤とリン系酸化防止剤を併用することが好ましい。
酸化防止剤を含有する場合、その量は、インク組成物の硬化性を阻害しない観点から、インク組成物に含まれる光重合性化合物の総量に対して０．０１～２質量％の範囲であることが好ましく、０．０２～１質量％がより好ましい。
インク組成物及びインク組成物から形成される光変換層の熱安定性の観点から、フェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤が好ましく、フェノール系酸化防止剤がより好ましい。また、インク組成物から形成される光変換層の長期間の熱安定性の観点から、フェノール系酸化防止剤とリン系酸化防止剤を併用することが好ましい。
酸化防止剤を含有する場合、その量は、インク組成物の硬化性を阻害しない観点から、インク組成物に含まれる光重合性化合物の総量に対して０．０１～２質量％の範囲であることが好ましく、０．０２～１質量％がより好ましい。
【0080】
分散剤としては、例えばトリオクチルホスフィン、トリオクチルホスフィンオキシド、ヘキシルホスホン酸等のリン原子含有化合物；オレイルアミン、オクチルアミン、トリオクチルアミン等の窒素原子含有化合物；１－デカンチオール、オクタンチオール、ドデカンチオール等の硫黄原子含有化合物；アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂等の高分子分散剤が挙げられる。これらは、例えばビックケミー社製の「ＤＩＳＰＥＲ（登録商標）ＢＹＫ」シリーズ、エボニック社製の「ＴＥＧＯ（登録商標）Ｄｉｓｐｅｒｓ」シリーズ、ＢＡＳＦ社製の「ＥＦＫＡ（登録商標）」シリーズ、日本ルーブリゾール社製の「ＳＯＬＳＰＥＲＳＥ（登録商標）」シリーズ、味の素ファインテクノ社製の「アジスパー（登録商標）」シリーズ、楠本化成社製の「ＤＩＳＰＡＲＬＯＮ（登録商標）」シリーズ、共栄社化学社製の「フローレン（登録商標）」等の市販品として入手できる。
分散剤を含有する場合、その量はインク組成物に含まれる光重合性化合物の総量に対して、０．０５～１０質量％の範囲であることが好ましく、０．１～５質量％がより好ましい。
分散剤を含有する場合、その量はインク組成物に含まれる光重合性化合物の総量に対して、０．０５～１０質量％の範囲であることが好ましく、０．１～５質量％がより好ましい。
【0081】
界面活性剤としては、発光性粒子を含有する薄膜を形成する場合に、膜厚ムラを低減させ得る化合物が好ましい。例えば、ジアルキルスルホコハク酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類及び脂肪酸塩類等のアニオン性界面活性剤；ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルアリルエーテル類、アセチレングリコール類及びポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレンブロックコポリマー類等のノニオン性界面活性剤；アルキルアミン塩類、及び第四級アンモニウム塩類等のカチオン性界面活性剤；並びにシリコーン系やフッ素系の界面活性剤が挙げられる。これらは、例えばＤＩＣ社製の「メガファック（登録商標）」シリーズ、ネオス社製の「フタージェント（登録商標）」シリーズ、ＢＹＫ社製の「ＢＹＫ（登録商標）」シリーズ、エボニック社製の「ＴＥＧＯ（登録商標）Ｒａｄ」シリーズ、楠本化成社製の「ＤＩＳＰＡＲＬＯＮ（登録商標） ＯＸ」シリーズ、共栄社化学社製の「ポリフローＮｏ．７」、「フローレンＡＣ－３００」、「フローレンＡＣ－３０３」等の市販品として入手できる。
界面活性剤を含有する場合、その添加量はインク組成物に含まれる光重合性化合物の総量に対して０．００５～２質量％の範囲であることが好ましく、０．０１～０．５質量％がより好ましい。
界面活性剤を含有する場合、その添加量はインク組成物に含まれる光重合性化合物の総量に対して０．００５～２質量％の範囲であることが好ましく、０．０１～０．５質量％がより好ましい。
【0082】
光散乱粒子は、光学的に不活性な無機微粒子であることが好ましい。光散乱粒子は、発光層（光変換層）に照射された光源部からの光を散乱させることができる。光散乱粒子を構成する材料としては、例えばタングステン、ジルコニウム、チタン、白金、ビスマス、ロジウム、パラジウム、銀、スズ、プラチナ、金等の単体金属；シリカ、硫酸バリウム、炭酸バリウム、炭酸カルシウム、タルク、酸化チタン、クレー、カオリン、硫酸バリウム、炭酸バリウム、炭酸カルシウム、アルミナホワイト、酸化チタン、酸化マグネシウム、酸化バリウム、酸化アルミニウム、酸化ビスマス、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛等の金属酸化物；炭酸マグネシウム、炭酸バリウム、次炭酸ビスマス、炭酸カルシウム等の金属炭酸塩；水酸化アルミニウム等の金属水酸化物；ジルコン酸バリウム、ジルコン酸カルシウム、チタン酸カルシウム、チタン酸バリウム、チタン酸ストロンチウム等の複合酸化物、次硝酸ビスマス等の金属塩が挙げられる。
中でも、漏れ光の低減効果により優れる観点から、酸化チタン、アルミナ、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、硫酸バリウム及びシリカからなる群より選択される少なくとも１種を含むことが好ましく、酸化チタン、硫酸バリウム及び炭酸カルシウムからなる群より選択される少なくとも一種を含むことがより好ましく、酸化チタンであることが特に好ましい。
中でも、漏れ光の低減効果により優れる観点から、酸化チタン、アルミナ、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、硫酸バリウム及びシリカからなる群より選択される少なくとも１種を含むことが好ましく、酸化チタン、硫酸バリウム及び炭酸カルシウムからなる群より選択される少なくとも一種を含むことがより好ましく、酸化チタンであることが特に好ましい。
【0083】
光散乱粒子を含有する場合、その量は、例えば本発明のインク組成物をカラーフィルター層の形成材料として用いる場合には、バックライトの青色光の透過を抑える観点で、インク組成物全体に対して１～１０質量％の範囲であることが好ましく、２～７．５質量％の範囲がより好ましく、３～５質量％の範囲が特に好ましい。また、本発明のインク組成物を光変換シートの形成材料として用いる場合には、バックライトの青色光の取出しの観点で、インク組成物全体に対して０．１～５質量％の範囲であることが好ましく、０．１５～３質量％の範囲がより好ましく、０．２～１．５質量％の範囲がさらに好ましい。
【0084】
連鎖移動剤としては、例えば１，４－テルピノレン、α－テルピネン、γ－テルピネン、ジペンテン等の不飽和炭化水素；ペンタフェニルエタン、α－メチルスチレンダイマー等の芳香族炭化水素；クロロホルム、四塩化炭素、四臭化炭素、ブロモトリクロロメタン等のハロゲン化炭化水素；ブタンチオール、ペンタンチオール、オクタンチオール、ドデカンチオール、テトラデカンチオール、ヘキサデカンチオール、ヘキサンジチオール、デカンジチオール、１，４－ブタンジオールビスチオプロピオネート、１，４－ブタンジオールビスチオグリコレート、エチレングリコールビスチオグリコレート、エチレングリコールビスチオプロピオネート、トリメチロールプロパントリスチオグリコレート、トリメチロールプロパントリスチオプロピオネート、トリメチロールプロパントリス（３－メルカプトブチレート）、ペンタエリスリトールテトラキスチオグリコレート、ペンタエリスリトールテトラキスチオプロピオネート、ペンタエリスリトールテトラキス（３－メルカプトプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３－メルカプトブチレート）、トリメルカプトプロピオン酸トリス（２－ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、１，４－ジメチルメルカプトベンゼン、２，４，６－トリメルカプト－ｓ－トリアジン、２－（Ｎ，Ｎ－ジブチルアミノ）－４，６－ジメルカプト－ｓ－トリアジン等のチオール化合物；ジメチルキサントゲンジスルフィド、ジエチルキサントゲンジスルフィド、ジイソプロピルキサントゲンジスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド、テトラエチルチウラムジスルフィド、テトラブチルチウラムジスルフィドのようなスルフィド化合物；Ｎ，Ｎ－ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ－ジビニルアニリン、アクロレイン、アリルアルコール等が挙げられる。中でも、トリメチロールプロパントリス（３－メルカプトブチレート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３－メルカプトプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３－メルカプトブチレート）が好ましい。
連鎖移動剤を含有する場合、その量はインク組成物に含まれる光重合性化合物の総量に対して、１～４０質量％の範囲であることが好ましく、５～３５質量％がより好ましく、１０～３０質量％がさらに好ましい。
連鎖移動剤を含有する場合、その量はインク組成物に含まれる光重合性化合物の総量に対して、１～４０質量％の範囲であることが好ましく、５～３５質量％がより好ましく、１０～３０質量％がさらに好ましい。
【0085】
溶剤としては、例えばシクロヘキサン、ヘキサン、ヘプタン、クロロホルム、トルエン、オクタン、クロロベンゼン、テトラリン、ジフェニルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ブチルカルビトールアセテート、又はこれらの混合物などが挙げられる。画素部の形成時、すなわちインク組成物を硬化させる前にインク組成物から溶剤の除去が容易である観点から、溶剤の沸点は３００℃以下であるのが好ましく、２００℃以下がより好ましく、１５０℃以下がさらに好ましい。
インク組成物が溶剤を含む場合、その量はインク組成物全体に対して５質量％以下であるのが好ましい。溶剤の除去の操作を不要とする観点からは、インク組成物は溶剤を含有しないのがより好ましい。
インク組成物が溶剤を含む場合、その量はインク組成物全体に対して５質量％以下であるのが好ましい。溶剤の除去の操作を不要とする観点からは、インク組成物は溶剤を含有しないのがより好ましい。
【0086】
本発明のインク組成物の調製方法には特に制限はなく、上記した各成分を配合することにより調製できる。例えば、前記した本発明の分散体、光重合開始剤及び必要に応じてさらに他の成分を、ボールミル、サンドミル、ビーズミル、３本ロールミル、ペイントコンディショナー、アトライター、超音波等を使用して攪拌混合することで調製できる。
光散乱粒子を含有させる場合は、光散乱粒子と分散剤を混合してビーズミルにより前記光重合性化合物へ分散させたミルベースを別途作成し、前記した本発明の分散体と共に、、光重合開始剤と混合することにより調製できる。
光散乱粒子を含有させる場合は、光散乱粒子と分散剤を混合してビーズミルにより前記光重合性化合物へ分散させたミルベースを別途作成し、前記した本発明の分散体と共に、、光重合開始剤と混合することにより調製できる。
【0087】
本発明のインク組成物の含水率は５０ｐｐｍ以上５００ｐｐｍ以下であるのが好ましく、１００ｐｐｍ以上４００ｐｐｍ以下であることがより好ましい。なお、本発明のインク組成物の含水率は、上記した分散体の含水率と同様の方法で測定できる。
また、本発明のインク組成物において、発光性粒子に対する水の比率（水／発光性粒子）は、質量比で１０以上４００以下であることが好ましく、発光性粒子に対する、前記した特定のＬｏｇＰ値を有する重合性基を有する化合物の比率（重合性基を有する化合物／発光性粒子）が質量比で１０以上２００以下であることが好ましい。
また、本発明のインク組成物において、発光性粒子に対する水の比率（水／発光性粒子）は、質量比で１０以上４００以下であることが好ましく、発光性粒子に対する、前記した特定のＬｏｇＰ値を有する重合性基を有する化合物の比率（重合性基を有する化合物／発光性粒子）が質量比で１０以上２００以下であることが好ましい。
【0088】
５．光変換層
本発明のインク組成物を基板上に塗布して被膜を形成し、この被膜を硬化させて硬化物を得ることができる。かかる本発明のインク組成物から形成される光変換層は、カラーフィルター及び波長変換フィルム用途に好適である。
本発明のインク組成物を基板上に塗布する際の方法としては、スピンコーティング、ダイコーティング、エクストルージョンコーティング、ロールコーティング、ワイヤーバーコーティング、グラビアコーティング、スプレーコーティング、ディッピング、インクジェット法、プリント法等が挙げられる。塗布の際、必要に応じ、インク組成物に炭化水素、ハロゲン化炭化水素、エーテル、アルコール、ケトン、エステル、非プロトン性極性化合物等を溶媒として添加してもよい。溶媒を添加した場合は、インク組成物を基板上に塗布後、自然乾燥、加熱下又は減圧下での乾燥を行う。
本発明のインク組成物を基板上に塗布して被膜を形成し、この被膜を硬化させて硬化物を得ることができる。かかる本発明のインク組成物から形成される光変換層は、カラーフィルター及び波長変換フィルム用途に好適である。
本発明のインク組成物を基板上に塗布する際の方法としては、スピンコーティング、ダイコーティング、エクストルージョンコーティング、ロールコーティング、ワイヤーバーコーティング、グラビアコーティング、スプレーコーティング、ディッピング、インクジェット法、プリント法等が挙げられる。塗布の際、必要に応じ、インク組成物に炭化水素、ハロゲン化炭化水素、エーテル、アルコール、ケトン、エステル、非プロトン性極性化合物等を溶媒として添加してもよい。溶媒を添加した場合は、インク組成物を基板上に塗布後、自然乾燥、加熱下又は減圧下での乾燥を行う。
【0089】
本発明のインク組成物を基板上に塗布する際の基板の形状は、平板の他に、曲面を構成部分として有していても良い。基板を構成する材料は、有機材料又は無機材料のいずれも使用できる。有機材料としては、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリアミド、ポリメタクリル酸メチル、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリテトラフルオロエチレン、ポリクロロトリフルオロエチレン、ポリアリレート、ポリスルホン、トリアセチルセルロース、セルロース、ポリエーテルエーテルケトン等が挙げられ、無機材料としては、例えばシリコン、ガラス、方解石等が挙げられる。
【0090】
本発明のインク組成物の硬化は、紫外線又は電子線等の活性エネルギー線を照射することで行うのが好ましい。詳細は光変換層の作成の説明にて後述する。
【0091】
本発明のインク組成物を形成材料とする波長変換フィルムは、初期の特性変化を軽減し、安定的な特性発現を図るため、熱処理を施してもよい。かかる熱処理は５０～２５０℃の温度範囲で、３０秒～１２時間の処理時間であることが好ましい。
【0092】
このような方法によって得られた波長変換フィルムは、基板から剥離して単体で用いても良く、剥離せずに用いてもよい。また、得られた波長変換フィルムを積層しても、他の基板に貼り合わせて用いてもよい。
本発明のインク組成物を形成材料とする波長変換フィルムを積層構造体に用いる場合、かかる積層構造体は、例えば基板、バリア層、光散乱層等の任意の層を有していても良い。基板を構成する材料は、前記したとおりである。バリア層としては、ポリエチレンテレフタレート、ガラス等が挙げられる。光散乱層としては、例えば前記光散乱粒子を含有する層や、光散乱フィルムが挙げられる。
積層構造体の構成例としては、例えば、２枚の基板間に本発明のインク組成物を形成材料とする光変換層を挟持した構造が挙げられる。その場合、水分や酸素から光変換層を保護するために、基板間の外周部を封止材によって封止しても良い。
図１は、本実施形態の積層構造体の構成を模式的に示す断面図である。積層構造体４０は、第１の基板４１及び第２の基板４２の間に、本実施形態の波長変換フィルム４４が挟持されている。波長変換フィルム４４は、光散乱粒子４４１と発光性粒子４４２とを含有する本発明のインク組成物を材料として形成され、光散乱粒子４４１及び発光性粒子４４２は、波長変換フィルム中に均一に分散している。波長変換フィルム４４は、封止材によって形成された封止層４３によって封止されている。
本発明のインク組成物を形成材料とする波長変換フィルムを積層構造体に用いる場合、かかる積層構造体は、例えば基板、バリア層、光散乱層等の任意の層を有していても良い。基板を構成する材料は、前記したとおりである。バリア層としては、ポリエチレンテレフタレート、ガラス等が挙げられる。光散乱層としては、例えば前記光散乱粒子を含有する層や、光散乱フィルムが挙げられる。
積層構造体の構成例としては、例えば、２枚の基板間に本発明のインク組成物を形成材料とする光変換層を挟持した構造が挙げられる。その場合、水分や酸素から光変換層を保護するために、基板間の外周部を封止材によって封止しても良い。
図１は、本実施形態の積層構造体の構成を模式的に示す断面図である。積層構造体４０は、第１の基板４１及び第２の基板４２の間に、本実施形態の波長変換フィルム４４が挟持されている。波長変換フィルム４４は、光散乱粒子４４１と発光性粒子４４２とを含有する本発明のインク組成物を材料として形成され、光散乱粒子４４１及び発光性粒子４４２は、波長変換フィルム中に均一に分散している。波長変換フィルム４４は、封止材によって形成された封止層４３によって封止されている。
【0093】
本発明のインク組成物を形成材料とする積層構造体は、例えば、プリズムシート、導光板、発光性粒子を含む積層構造体及び光源を有する発光デバイス用途に好適である。光源としては、例えば、発光ダイオード、レーザー、電界発光デバイスが挙げられる。
また、本発明のインク組成物を形成材料とする積層構造体は、ディスプレイ用の波長変換部材として使用されることが好ましい。波長変換部材として使用する場合の構成例としては、例えば、２枚のバリア層の間に本発明のインク組成物を形成材料とする波長変換フィルムを封止した積層構造体を、導光板上に設置する構造が挙げられる。この場合、導光板の側面に設置された発光ダイオードからの青色光を、前記積層構造体を通すことによって、緑色光や赤色光へと変換し、青色光、緑色光及び赤色光が混色されて白色光を得ることができることから、ディスプレイ用のバックライトとして使用できる。
また、本発明のインク組成物を形成材料とする積層構造体は、ディスプレイ用の波長変換部材として使用されることが好ましい。波長変換部材として使用する場合の構成例としては、例えば、２枚のバリア層の間に本発明のインク組成物を形成材料とする波長変換フィルムを封止した積層構造体を、導光板上に設置する構造が挙げられる。この場合、導光板の側面に設置された発光ダイオードからの青色光を、前記積層構造体を通すことによって、緑色光や赤色光へと変換し、青色光、緑色光及び赤色光が混色されて白色光を得ることができることから、ディスプレイ用のバックライトとして使用できる。
【0094】
６．発光素子
以下、青色有機ＬＥＤバックライトを備えた発光素子のカラーフィルター画素部を、本発明のインク組成物にて形成する場合を例に挙げて説明する。
図２は、本発明のインク組成物の硬化物からなる光変換層を備える発光素子の一実施形態を示す断面図であり、図３及び図４は、それぞれアクティブマトリックス回路の構成を示す概略図である。なお、図２では、便宜上、各部の寸法及びそれらの比率を誇張して示し、実際とは異なる場合がある。また、以下に示す材料、寸法等は一例であって、本発明は、それらに限定されず、その要旨を変更しない範囲で適宜変更することが可能である。以下では、説明の都合上、図２の上側を「上側」又は「上方」と、下側を「下側」又は「下方」と言う。また、図２では、図面が煩雑になることを避けるため、断面を示すハッチングの記載を省略している。
以下、青色有機ＬＥＤバックライトを備えた発光素子のカラーフィルター画素部を、本発明のインク組成物にて形成する場合を例に挙げて説明する。
図２は、本発明のインク組成物の硬化物からなる光変換層を備える発光素子の一実施形態を示す断面図であり、図３及び図４は、それぞれアクティブマトリックス回路の構成を示す概略図である。なお、図２では、便宜上、各部の寸法及びそれらの比率を誇張して示し、実際とは異なる場合がある。また、以下に示す材料、寸法等は一例であって、本発明は、それらに限定されず、その要旨を変更しない範囲で適宜変更することが可能である。以下では、説明の都合上、図２の上側を「上側」又は「上方」と、下側を「下側」又は「下方」と言う。また、図２では、図面が煩雑になることを避けるため、断面を示すハッチングの記載を省略している。
【0095】
図２に示すように、発光素子１００は、下基板１と、ＥＬ光源部２００と、充填層１０と、保護層１１と、上述した発光性粒子を含有し発光層として作用する光変換層１２と、上基板１３とをこの順に積層した構造を備える。
ＥＬ光源部２００は、陽極２と、複数の層からなるＥＬ層１４と、陰極８と、図示しない偏光板と、封止層９とを順に備える。ＥＬ層１４は、陽極２側から順次積層された正孔注入層３と、正孔輸送層４と、発光層５と、電子輸送層６と、電子注入層７とを含む。
かかる発光素子１００は、ＥＬ光源部２００（ＥＬ層１４）から発せられた光を光変換層１２によって吸収及び再放出するか或いは透過させ、上基板１３側から外部に取り出すフォトルミネセンス素子である。このとき、光変換層１２に含まれる発光性粒子によって所定の色の光に変換される。
以下、各層について順次説明する。
ＥＬ光源部２００は、陽極２と、複数の層からなるＥＬ層１４と、陰極８と、図示しない偏光板と、封止層９とを順に備える。ＥＬ層１４は、陽極２側から順次積層された正孔注入層３と、正孔輸送層４と、発光層５と、電子輸送層６と、電子注入層７とを含む。
かかる発光素子１００は、ＥＬ光源部２００（ＥＬ層１４）から発せられた光を光変換層１２によって吸収及び再放出するか或いは透過させ、上基板１３側から外部に取り出すフォトルミネセンス素子である。このとき、光変換層１２に含まれる発光性粒子によって所定の色の光に変換される。
以下、各層について順次説明する。
【0096】
［下基板１及び上基板１３］
下基板１及び上基板１３は、それぞれ発光素子１００を構成する各層を支持及び／又は保護する機能を有する。発光素子１００がトップエミッション型である場合、上基板３が透明基板で構成される。一方、発光素子１００がボトムエミッション型である場合、下基板２が透明基板で構成される。ここで、透明基板とは、可視光領域の波長の光を透過可能な基板を意味し、透明には、無色透明、着色透明、半透明が含まれる。
下基板１及び上基板１３は、それぞれ発光素子１００を構成する各層を支持及び／又は保護する機能を有する。発光素子１００がトップエミッション型である場合、上基板３が透明基板で構成される。一方、発光素子１００がボトムエミッション型である場合、下基板２が透明基板で構成される。ここで、透明基板とは、可視光領域の波長の光を透過可能な基板を意味し、透明には、無色透明、着色透明、半透明が含まれる。
【0097】
透明基板としては、例えば、石英ガラス、合成石英板等のガラス基板；石英基板；ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエーテルスルホン、ポリイミド、ポリカーボネート等で構成される樹脂基板；鉄、ステンレス、アルミニウム、銅等で構成される金属基板；シリコン基板、ガリウム砒素基板等を使用できる。中でも、アルカリ成分を含まない無アルカリガラスからなるガラス基板が、熱膨脹率が小さく寸法安定性及び高温加熱処理における作業性に優れる観点から好ましい。このようなガラス基板として、例えばコーニング社製の「７０５９ガラス」、「１７３７ガラス」、「イーグル２０００」及び「イーグルＸＧ（登録商標）」、ＡＧＣ社製の「ＡＮ１００」、日本電気硝子社製の「ＯＡ－１０Ｇ」及び「ＯＡ－１１」を好適に使用できる。
下基板１及び上基板１３の平均厚さに特に限定はなく、通常、１００～１０００μｍの範囲が好ましく、３００～８００μｍの範囲がより好ましい。
発光素子１００に可撓性を付与する場合、下基板１及び上基板１３には、それぞれ樹脂基板又は比較的厚さの小さい金属基板を選択できる。なお、発光素子１００の使用形態に応じ、下基板１及び上基板１３のいずれか一方又は双方を省略してもよい。
下基板１及び上基板１３の平均厚さに特に限定はなく、通常、１００～１０００μｍの範囲が好ましく、３００～８００μｍの範囲がより好ましい。
発光素子１００に可撓性を付与する場合、下基板１及び上基板１３には、それぞれ樹脂基板又は比較的厚さの小さい金属基板を選択できる。なお、発光素子１００の使用形態に応じ、下基板１及び上基板１３のいずれか一方又は双方を省略してもよい。
【0098】
図３に示すように、下基板１上には、Ｒ、Ｇ、Ｂで示される画素電極ＰＥを構成する陽極２への電流の供給を制御する信号線駆動回路Ｃ１及び走査線駆動回路Ｃ２と、これらの回路の作動を制御する制御回路Ｃ３と、信号線駆動回路Ｃ１に接続された複数の信号線７０６と、走査線駆動回路Ｃ２に接続された複数の走査線７０７とを備えている。
また、各信号線７０６と各走査線７０７との交差部近傍には、図４に示すように、コンデンサ７０１と、駆動トランジスタ７０２と、スイッチングトランジスタ７０８とが設けられている。
また、各信号線７０６と各走査線７０７との交差部近傍には、図４に示すように、コンデンサ７０１と、駆動トランジスタ７０２と、スイッチングトランジスタ７０８とが設けられている。
【0099】
コンデンサ７０１は、一方の電極が駆動トランジスタ７０２のゲート電極に接続され、他方の電極が駆動トランジスタ７０２のソース電極に接続されている。駆動トランジスタ７０２は、ゲート電極がコンデンサ７０１の一方の電極に接続され、ソース電極がコンデンサ７０１の他方の電極及び駆動電流を供給する電源線７０３に接続され、ドレイン電極がＥＬ光源部２００の陽極２に接続されている。
【0100】
スイッチングトランジスタ７０８は、ゲート電極が走査線７０７に接続され、ソース電極が信号線７０６に接続され、ドレイン電極が駆動トランジスタ７０２のゲート電極に接続されている。また、本実施形態において、共通電極７０５は、ＥＬ光源部２００の陰極８を構成している。なお、駆動トランジスタ７０２及びスイッチングトランジスタ７０８は、例えば、薄膜トランジスタ等で構成することができる。
【0101】
走査線駆動回路Ｃ２は、走査線７０７を介して、スイッチングトランジスタ７０８のゲート電極に走査信号に応じた走査電圧を供給又は遮断し、スイッチングトランジスタ７０８のオン又はオフする。これにより、走査線駆動回路Ｃ２は、信号線駆動回路Ｃ１が信号電圧を書き込むタイミングを調整する。一方、信号線駆動回路Ｃ１は、信号線７０６及びスイッチングトランジスタ７０８を介して、駆動トランジスタ７０２のゲート電極に映像信号に応じた信号電圧を供給又は遮断し、ＥＬ光源部２００に供給する信号電流の量を調整する。
【0102】
したがって、走査線駆動回路Ｃ２から走査電圧がスイッチングトランジスタ７０８のゲート電極に供給され、スイッチングトランジスタ７０８がオンすると、信号線駆動回路Ｃ１から信号電圧がスイッチングトランジスタ７０８のゲート電極に供給される。このとき、この信号電圧に対応したドレイン電流が電源線７０３から信号電流としてＥＬ光源部２００に供給される。その結果、ＥＬ光源部２００は、供給される信号電流に応じて発光する。
【0103】
＜ＥＬ光源部２００＞
［陽極２］
陽極２は、外部電源から発光層５に向かって正孔を供給する機能を有する。陽極２の構成材料（陽極材料）としては、例えば、金、アルミニウム等の金属；ヨウ化銅等のハロゲン化金属；インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）、酸化スズ（ＳｎＯ２）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）等の金属酸化物；等が挙げられる。これらは単独で用いても、２種以上を併用してもよい。
陽極２の平均厚さに特に限定はなく、通常、１０～１０００ｎｍの範囲が好ましく、１０～２００ｎｍの範囲がより好ましい。
陽極２は、例えば、真空蒸着法やスパッタリング法のような乾式成膜法により形成できる。この際、フォトリソグラフィー法やマスクを用いた方法により、所定のパターンを有する陽極２を形成してもよい。
［陽極２］
陽極２は、外部電源から発光層５に向かって正孔を供給する機能を有する。陽極２の構成材料（陽極材料）としては、例えば、金、アルミニウム等の金属；ヨウ化銅等のハロゲン化金属；インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）、酸化スズ（ＳｎＯ２）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）等の金属酸化物；等が挙げられる。これらは単独で用いても、２種以上を併用してもよい。
陽極２の平均厚さに特に限定はなく、通常、１０～１０００ｎｍの範囲が好ましく、１０～２００ｎｍの範囲がより好ましい。
陽極２は、例えば、真空蒸着法やスパッタリング法のような乾式成膜法により形成できる。この際、フォトリソグラフィー法やマスクを用いた方法により、所定のパターンを有する陽極２を形成してもよい。
【0104】
［陰極８］
陰極８は、外部電源から発光層５に向かって電子を供給する機能を有する。陰極８の構成材料（陰極材料）としては、例えば、リチウム、ナトリウム、マグネシウム、アルミニウム、銀、ナトリウム－カリウム合金、マグネシウム／アルミニウム混合物、マグネシウム／銀混合物、マグネシウム／インジウム混合物、アルミニウム／酸化アルミニウム混合物、希土類金属、ＩＴＯ、アルミニウムドープ酸化亜鉛（ＡＺＯ）、ＳｎＯ２、ＺｎＯ等の金属又は金属酸化物等が挙げられる。これらは単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
陰極８の平均厚さに特に限定はなく、通常、０．１～１０００ｎｍの範囲が好ましく、１～２００ｎｍの範囲がより好ましい。
陰極８は、例えば、蒸着法やスパッタリング法のような乾式成膜法により形成できる。
発光素子１００がトップエミッション型である場合、陰極８はＩＴＯ等で形成される透明電極で構成される。この場合、陽極２はアルミニウム等で形成される反射電極で構成してもよい。
一方、発光素子１００がボトムエミッション型である場合、陽極２はＩＴＯ等で形成される透明電極で構成される。この場合、陰極８はアルミニウム等で形成される反射電極で構成してもよい。
陰極８は、外部電源から発光層５に向かって電子を供給する機能を有する。陰極８の構成材料（陰極材料）としては、例えば、リチウム、ナトリウム、マグネシウム、アルミニウム、銀、ナトリウム－カリウム合金、マグネシウム／アルミニウム混合物、マグネシウム／銀混合物、マグネシウム／インジウム混合物、アルミニウム／酸化アルミニウム混合物、希土類金属、ＩＴＯ、アルミニウムドープ酸化亜鉛（ＡＺＯ）、ＳｎＯ２、ＺｎＯ等の金属又は金属酸化物等が挙げられる。これらは単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
陰極８の平均厚さに特に限定はなく、通常、０．１～１０００ｎｍの範囲が好ましく、１～２００ｎｍの範囲がより好ましい。
陰極８は、例えば、蒸着法やスパッタリング法のような乾式成膜法により形成できる。
発光素子１００がトップエミッション型である場合、陰極８はＩＴＯ等で形成される透明電極で構成される。この場合、陽極２はアルミニウム等で形成される反射電極で構成してもよい。
一方、発光素子１００がボトムエミッション型である場合、陽極２はＩＴＯ等で形成される透明電極で構成される。この場合、陰極８はアルミニウム等で形成される反射電極で構成してもよい。
【0105】
［正孔注入層３］
正孔注入層３は、陽極２から供給された正孔を受け取り、正孔輸送層４に注入する機能を有する。なお、正孔注入層３は必要に応じて設け、省略してもよい。
正孔注入層３の構成材料（正孔注入材料）としては、例えば、銅フタロシアニン等のフタロシアニン化合物；４，４’，４’’－トリス［フェニル（ｍ－トリル）アミノ］トリフェニルアミン等のトリフェニルアミン誘導体；１，４，５，８，９，１２－ヘキサアザトリフェニレンヘキサカルボニトリル、２，３，５，６－テトラフルオロ－７，７，８，８－テトラシアノ－キノジメタン等のシアノ化合物；酸化バナジウム、酸化モリブデン等の金属酸化物；アモルファスカーボン；ポリアニリン（エメラルディン）、ポリ（３，４－エチレンジオキシチオフェン）－ポリ（スチレンスルホン酸）（ＰＥＤＯＴ－ＰＳＳ）、ポリピロール等の高分子等が挙げられる。これらは１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。中でも、ＰＥＤＯＴ－ＰＳＳがより好ましい。
正孔注入層３は、陽極２から供給された正孔を受け取り、正孔輸送層４に注入する機能を有する。なお、正孔注入層３は必要に応じて設け、省略してもよい。
正孔注入層３の構成材料（正孔注入材料）としては、例えば、銅フタロシアニン等のフタロシアニン化合物；４，４’，４’’－トリス［フェニル（ｍ－トリル）アミノ］トリフェニルアミン等のトリフェニルアミン誘導体；１，４，５，８，９，１２－ヘキサアザトリフェニレンヘキサカルボニトリル、２，３，５，６－テトラフルオロ－７，７，８，８－テトラシアノ－キノジメタン等のシアノ化合物；酸化バナジウム、酸化モリブデン等の金属酸化物；アモルファスカーボン；ポリアニリン（エメラルディン）、ポリ（３，４－エチレンジオキシチオフェン）－ポリ（スチレンスルホン酸）（ＰＥＤＯＴ－ＰＳＳ）、ポリピロール等の高分子等が挙げられる。これらは１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。中でも、ＰＥＤＯＴ－ＰＳＳがより好ましい。
【0106】
正孔注入層３の平均厚さに特に限定はなく、通常、０．１～５００ｎｍの範囲が好ましく、１～３００ｎｍの範囲がより好ましく、２～２００ｎｍの範囲がさらに好ましい。また、正孔注入層３は、単層でも、２層以上が積層された積層構成であってもよい。
正孔注入層３は、湿式成膜法又は乾式成膜法により形成できる。
湿式成膜法では、通常、正孔注入材料を含有する液状組成物を、インクジェット印刷法（ピエゾ方式又はサーマル形式の液滴吐出法）、スピンコート法、キャスト法、ＬＢ法、凸版印刷法、グラビア印刷法、スクリーン印刷法、ノズルプリント印刷法等により塗布し、得られた塗膜を乾燥する。なお、ノズルプリント印刷法とは、液状組成物をノズル孔から液柱としてストライプ状に塗布する方法である。
乾式成膜法としては、真空蒸着法、スパッタリング法等を好適に使用できる。
正孔注入層３は、湿式成膜法又は乾式成膜法により形成できる。
湿式成膜法では、通常、正孔注入材料を含有する液状組成物を、インクジェット印刷法（ピエゾ方式又はサーマル形式の液滴吐出法）、スピンコート法、キャスト法、ＬＢ法、凸版印刷法、グラビア印刷法、スクリーン印刷法、ノズルプリント印刷法等により塗布し、得られた塗膜を乾燥する。なお、ノズルプリント印刷法とは、液状組成物をノズル孔から液柱としてストライプ状に塗布する方法である。
乾式成膜法としては、真空蒸着法、スパッタリング法等を好適に使用できる。
【0107】
［正孔輸送層４］
正孔輸送層４は、正孔注入層３から正孔を受け取り、発光層５まで効率的に輸送する機能を有する。また、正孔輸送層４は、電子の輸送を防止する機能を有していてもよい。なお、正孔輸送層４は必要に応じて設ければよく、省略することもできる。
正孔輸送層４は、正孔注入層３から正孔を受け取り、発光層５まで効率的に輸送する機能を有する。また、正孔輸送層４は、電子の輸送を防止する機能を有していてもよい。なお、正孔輸送層４は必要に応じて設ければよく、省略することもできる。
【0108】
正孔輸送層４の構成材料（正孔輸送材料）としては、電子輸送能より正孔輸送能の高い材料を用いることが好ましい。係る正孔輸送材料としては、例えば芳香族アミン、カルバゾール誘導体、芳香族炭化水素、スチルベン誘導体等が挙げられ、π電子過剰型複素芳香族又は芳香族アミン等を好適に使用できる。
正孔輸送材料の具体例としては、、ＴＰＤ（Ｎ，Ｎ’－ジフェニル－Ｎ，Ｎ’－ジ（３－メチルフェニル）－１，１’－ビフェニル－４，４’－ジアミン）、α－ＮＰＤ（４，４’－ビス［Ｎ－（１－ナフチル）－Ｎ－フェニルアミノ］ビフェニル）、ｍ－ＭＴＤＡＴＡ（４，４’，４’’－トリス（３－メチルフェニルフェニルアミノ）トリフェニルアミン）等のトリフェニルアミン誘導体；ポリビニルカルバゾール；ポリ［Ｎ，Ｎ’－ビス（４－ブチルフェニル）－Ｎ，Ｎ’－ビス（フェニル）－ベンジジン］（ｐｏｌｙ－ＴＰＡ）、ポリフルオレン（ＰＦ）、ポリ［Ｎ，Ｎ’－ビス（４－ブチルフェニル）－Ｎ，Ｎ’－ビス（フェニル）－ベンジジン］（Ｐｏｌｙ－ＴＰＤ）、ポリ［（９，９－ジオクチルフルオレニル－２，７－ジイル）－ｃｏ－（４，４’－（Ｎ－（ｓｅｃ－ブチルフェニル）ジフェニルアミン））（ＴＦＢ）、ポリフェニレンビニレン（ＰＰＶ）等の共役系化合物重合体；及びこれらのモノマー単位を含む共重合体等が挙げられる。これらは、１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
正孔輸送材料としては、トリフェニルアミン誘導体、置換基が導入されたトリフェニルアミン誘導体の重合体又は共重合体が好ましく、置換基が導入されたトリフェニルアミン誘導体の重合体がより好ましい。
正孔輸送材料の具体例としては、、ＴＰＤ（Ｎ，Ｎ’－ジフェニル－Ｎ，Ｎ’－ジ（３－メチルフェニル）－１，１’－ビフェニル－４，４’－ジアミン）、α－ＮＰＤ（４，４’－ビス［Ｎ－（１－ナフチル）－Ｎ－フェニルアミノ］ビフェニル）、ｍ－ＭＴＤＡＴＡ（４，４’，４’’－トリス（３－メチルフェニルフェニルアミノ）トリフェニルアミン）等のトリフェニルアミン誘導体；ポリビニルカルバゾール；ポリ［Ｎ，Ｎ’－ビス（４－ブチルフェニル）－Ｎ，Ｎ’－ビス（フェニル）－ベンジジン］（ｐｏｌｙ－ＴＰＡ）、ポリフルオレン（ＰＦ）、ポリ［Ｎ，Ｎ’－ビス（４－ブチルフェニル）－Ｎ，Ｎ’－ビス（フェニル）－ベンジジン］（Ｐｏｌｙ－ＴＰＤ）、ポリ［（９，９－ジオクチルフルオレニル－２，７－ジイル）－ｃｏ－（４，４’－（Ｎ－（ｓｅｃ－ブチルフェニル）ジフェニルアミン））（ＴＦＢ）、ポリフェニレンビニレン（ＰＰＶ）等の共役系化合物重合体；及びこれらのモノマー単位を含む共重合体等が挙げられる。これらは、１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
正孔輸送材料としては、トリフェニルアミン誘導体、置換基が導入されたトリフェニルアミン誘導体の重合体又は共重合体が好ましく、置換基が導入されたトリフェニルアミン誘導体の重合体がより好ましい。
【0109】
正孔輸送層４の平均厚さに特に限定はなく、通常、１～５００ｎｍの範囲が好ましく、５～３００ｎｍの範囲がより好ましく、１０～２００ｎｍの範囲がさらに好ましい。
正孔輸送層４は、単層でも、２層以上が積層された積層構成であってもよい。
このような正孔輸送層４は、湿式成膜法又は乾式成膜法により形成できる。湿式製膜法及び乾式製膜法については正孔注入層３の説明にて上述したとおりである。
正孔輸送層４は、単層でも、２層以上が積層された積層構成であってもよい。
このような正孔輸送層４は、湿式成膜法又は乾式成膜法により形成できる。湿式製膜法及び乾式製膜法については正孔注入層３の説明にて上述したとおりである。
【0110】
［電子注入層７］
電子注入層７は、陰極８から供給された電子を受け取り、電子輸送層６に注入する機能を有する。なお、電子注入層７は必要に応じて設け、省略してもよい。
電子注入層７の構成材料（電子注入材料）としては、例えば、Ｌｉ２Ｏ、ＬｉＯ、Ｎａ２Ｓ、Ｎａ２Ｓｅ、ＮａＯ等のアルカリ金属カルコゲナイド；ＣａＯ、ＢａＯ、ＳｒＯ、ＢｅＯ、ＢａＳ、ＭｇＯ、ＣａＳｅ等のアルカリ土類金属カルコゲナイド；ＣｓＦ、ＬｉＦ、ＮａＦ、ＫＦ、ＬｉＣｌ、ＫＣｌ、ＮａＣｌ等のアルカリ金属ハライド；８－ヒドロキシキノリノラトリチウム（Ｌｉｑ）等のアルカリ金属塩；ＣａＦ２、ＢａＦ２、ＳｒＦ２、ＭｇＦ２、ＢｅＦ２等のアルカリ土類金属ハライド等が挙げられる。これらは１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。中でも、アルカリ金属カルコゲナイド、アルカリ土類金属ハライド、アルカリ金属塩が好ましい。
電子注入層７は、陰極８から供給された電子を受け取り、電子輸送層６に注入する機能を有する。なお、電子注入層７は必要に応じて設け、省略してもよい。
電子注入層７の構成材料（電子注入材料）としては、例えば、Ｌｉ２Ｏ、ＬｉＯ、Ｎａ２Ｓ、Ｎａ２Ｓｅ、ＮａＯ等のアルカリ金属カルコゲナイド；ＣａＯ、ＢａＯ、ＳｒＯ、ＢｅＯ、ＢａＳ、ＭｇＯ、ＣａＳｅ等のアルカリ土類金属カルコゲナイド；ＣｓＦ、ＬｉＦ、ＮａＦ、ＫＦ、ＬｉＣｌ、ＫＣｌ、ＮａＣｌ等のアルカリ金属ハライド；８－ヒドロキシキノリノラトリチウム（Ｌｉｑ）等のアルカリ金属塩；ＣａＦ２、ＢａＦ２、ＳｒＦ２、ＭｇＦ２、ＢｅＦ２等のアルカリ土類金属ハライド等が挙げられる。これらは１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。中でも、アルカリ金属カルコゲナイド、アルカリ土類金属ハライド、アルカリ金属塩が好ましい。
【0111】
電子注入層７の平均厚さに特に限定はなく、通常、０．１～１００ｎｍの範囲が好ましく、０．２～５０ｎｍの範囲がより好ましく、０．５～１０ｎｍの範囲がさらに好ましい。また、電子注入層７は、単層でも、２層以上が積層された積層構成であってもよい。
電子注入層７は、湿式成膜法又は乾式成膜法により形成できる。湿式製膜法及び乾式製膜法については正孔注入層３の説明にて上述したとおりである。
電子注入層７は、湿式成膜法又は乾式成膜法により形成できる。湿式製膜法及び乾式製膜法については正孔注入層３の説明にて上述したとおりである。
【0112】
［電子輸送層６］
電子輸送層６は、電子注入層７から電子を受け取り、発光層５まで効率的に輸送する機能を有する。また、電子輸送層６は、正孔の輸送を防止する機能を有していてもよい。なお、電子輸送層６は、必要に応じて設ければよく、省略することもできる。
電子輸送層６の構成材料（電子輸送材料）としては、正孔輸送能より電子輸送能の高い材料を用いることが好ましい。電子輸送材料としては、例えば、フラーレン、ジフェニルキノン誘導体、ニトロ置換フルオレン誘導体、キノキサリン誘導体、オキサジアゾール誘導体、トリアゾール誘導体、フェナントロリン誘導体、ピリジン誘導体、ビピリジン誘導体、イミダゾール誘導体、キノリン誘導体、ペリレン誘導体、トリアジン誘導体、又はピリミジン誘導体等の含窒素複素芳香族化合物のようなπ電子不足型複素芳香族；キノリン配位子、ペリレン配位子、ベンゾキノリン配位子、オキサゾール配位子、ベンズオキサゾリン配位子、ベンゾチアゾリン配位子、又はチアゾール配位子を有する金属錯体等が挙げられる。
電子輸送層６は、電子注入層７から電子を受け取り、発光層５まで効率的に輸送する機能を有する。また、電子輸送層６は、正孔の輸送を防止する機能を有していてもよい。なお、電子輸送層６は、必要に応じて設ければよく、省略することもできる。
電子輸送層６の構成材料（電子輸送材料）としては、正孔輸送能より電子輸送能の高い材料を用いることが好ましい。電子輸送材料としては、例えば、フラーレン、ジフェニルキノン誘導体、ニトロ置換フルオレン誘導体、キノキサリン誘導体、オキサジアゾール誘導体、トリアゾール誘導体、フェナントロリン誘導体、ピリジン誘導体、ビピリジン誘導体、イミダゾール誘導体、キノリン誘導体、ペリレン誘導体、トリアジン誘導体、又はピリミジン誘導体等の含窒素複素芳香族化合物のようなπ電子不足型複素芳香族；キノリン配位子、ペリレン配位子、ベンゾキノリン配位子、オキサゾール配位子、ベンズオキサゾリン配位子、ベンゾチアゾリン配位子、又はチアゾール配位子を有する金属錯体等が挙げられる。
【0113】
電子輸送材料の具体例としては、トリス（８－キノリラート）アルミニウム（Ａｌｑ）、トリス（４－メチル－８－キノリノラート）アルミニウム（Ａｌｍｑ３）、ビス（１０－ヒドロキシベンゾ［ｈ］キノリナート）ベリリウム、ビス（２－メチル－８－キノリノラート）（ｐ－フェニルフェノラート）アルミニウム、ビス（８－キノリノラート）亜鉛、ビス［２－（２’－ヒドロキシフェニル）ベンズオキサゾラート］亜鉛、ビス［２－（２’－ヒドロキシフェニル）ベンゾチアゾラート］亜鉛、２－（４－ビフェニリル）－５－（４－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）－１，３，４－オキサジアゾール（ＰＢＤ）、３－（４－ビフェニリル）－４－フェニル－５－（４－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）－１，２，４－トリアゾール（ＴＡＺ）、１，３－ビス［５－（ｐ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）－１，３，４－オキサジアゾール－２－イル］ベンゼン（ＯＸＤ－７）、９－［４－（５－フェニル－１，３，４－オキサジアゾール－２－イル）フェニル］カルバゾール（ＣＯ１１）、２，２’，２’’－（１，３，５－ベンゼントリイル）トリス（１－フェニル－１Ｈ－ベンゾイミダゾール）（ＴＰＢＩ）、２－［３－（ジベンゾチオフェン－４－イル）フェニル］－１－フェニル－１Ｈ－ベンゾイミダゾール（ｍＤＢＴＢＩｍ－ＩＩ）、４，７－ジフェニル－１，１０－フェナントロリン（ＢＰｈｅｎ）等が挙げられる。これらの化合物は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
また、電子輸送材料として、無機半導体材料を用いてもよい。電子輸送層６を無機半導体材料で構成することにより、電子輸送層６中における電子の移動度を高め、発光層５への電子の注入効率を向上できる。係る電子輸送材料としては、例えば、炭酸セシウム等の金属塩；酸化チタン（ＴｉＯｘ）、酸化亜鉛等の金属酸化物を好適に使用できる。
また、電子輸送材料として、無機半導体材料を用いてもよい。電子輸送層６を無機半導体材料で構成することにより、電子輸送層６中における電子の移動度を高め、発光層５への電子の注入効率を向上できる。係る電子輸送材料としては、例えば、炭酸セシウム等の金属塩；酸化チタン（ＴｉＯｘ）、酸化亜鉛等の金属酸化物を好適に使用できる。
【0114】
電子輸送層６の平均厚さに特に限定はなく、通常、５～５００ｎｍの範囲が好ましく、５～２００ｎｍの範囲がより好ましい。また、電子輸送層６は、単層でも、２層以上が積層された積層構成であってもよい。
電子輸送層６は、湿式成膜法又は乾式成膜法により形成できる。湿式製膜法及び乾式製膜法については正孔注入層３の説明にて上述したとおりである。
電子輸送層６は、湿式成膜法又は乾式成膜法により形成できる。湿式製膜法及び乾式製膜法については正孔注入層３の説明にて上述したとおりである。
【0115】
発光素子１００に正孔注入層３及び電子注入層７を設けると、正孔輸送層４及び電子輸送層６を介した発光層５への正孔及び電子の輸送効率を高めることができる。その結果、発光層５の発光効率をより向上させ、高輝度での発光が可能で、かつ長寿命な発光素子が得られる。
【0116】
［発光層５］
発光層５は、発光層５に注入された正孔及び電子の再結合により生じるエネルギーを利用して、発光を生じさせる機能を有する。本実施形態の発光層５は、４００～５００ｎｍの範囲の波長の青色光を発し、より好ましくは４２０～４８０ｎｍの範囲である。
発光層５は、発光材料（ゲスト材料又はドーパント材料）及びホスト材料を含むことが好ましい。ホスト材料と発光材料との質量比に特に制限はなく、通常、１０：１～３００：１の範囲が好ましい。
発光材料としては、一重項励起エネルギーを光に変換可能な化合物又は三重項励起エネルギーを光に変換可能な化合物を使用でき、有機低分子蛍光材料、有機高分子蛍光材料及び有機燐光材料からなる群から選択される少なくとも１種を含むことが好ましい。
発光層５は、発光層５に注入された正孔及び電子の再結合により生じるエネルギーを利用して、発光を生じさせる機能を有する。本実施形態の発光層５は、４００～５００ｎｍの範囲の波長の青色光を発し、より好ましくは４２０～４８０ｎｍの範囲である。
発光層５は、発光材料（ゲスト材料又はドーパント材料）及びホスト材料を含むことが好ましい。ホスト材料と発光材料との質量比に特に制限はなく、通常、１０：１～３００：１の範囲が好ましい。
発光材料としては、一重項励起エネルギーを光に変換可能な化合物又は三重項励起エネルギーを光に変換可能な化合物を使用でき、有機低分子蛍光材料、有機高分子蛍光材料及び有機燐光材料からなる群から選択される少なくとも１種を含むことが好ましい。
【0117】
一重項励起エネルギーを光に変換可能な化合物としては、蛍光を発する有機低分子蛍光材料又は有機高分子蛍光材料が挙げられる。
有機低分子蛍光材料としては、アントラセン構造、テトラセン構造、クリセン構造、フェナントレン構造、ピレン構造、ペリレン構造、スチルベン構造、アクリドン構造、クマリン構造、フェノキサジン構造又はフェノチアジン構造を有する化合物が好ましい。
有機低分子蛍光材料としては、アントラセン構造、テトラセン構造、クリセン構造、フェナントレン構造、ピレン構造、ペリレン構造、スチルベン構造、アクリドン構造、クマリン構造、フェノキサジン構造又はフェノチアジン構造を有する化合物が好ましい。
【0118】
有機低分子蛍光材料の具体例としては、例えば、５，６－ビス［４－（１０－フェニル－９－アントリル）フェニル］－２，２’－ビピリジン、５，６－ビス［４’－（１０－フェニル－９－アントリル）ビフェニル－４－イル］－２，２’－ビピリジン、Ｎ，Ｎ’－ビス［４－（９Ｈ－カルバゾール－９－イル）フェニル］－Ｎ，Ｎ’－ジフェニルスチルベン－４，４’－ジアミン、４－（９Ｈ－カルバゾール－９－イル）－４’－（１０－フェニル－９－アントリル）トリフェニルアミン、４－（９Ｈ－カルバゾール－９－イル）－４’－（９，１０－ジフェニル－２－アントリル）トリフェニルアミン、Ｎ，９－ジフェニル－Ｎ－［４－（１０－フェニル－９－アントリル）フェニル］－９Ｈ－カルバゾール－３－アミン、４－（１０－フェニル－９－アントリル）－４’－（９－フェニル－９Ｈ－カルバゾール－３－イル）トリフェニルアミン、４－［４－（１０－フェニル－９－アントリル）フェニル］－４’－（９－フェニル－９Ｈ－カルバゾール－３－イル）トリフェニルアミン、ペリレン、２，５，８，１１－テトラ（ｔｅｒｔ－ブチル）ペリレン、Ｎ，Ｎ’－ジフェニル－Ｎ，Ｎ’－ビス［４－（９－フェニル－９Ｈ－フルオレン－９－イル）フェニル］ピレン－１，６－ジアミン、Ｎ，Ｎ’－ビス（３－メチルフェニル）－Ｎ，Ｎ’－ビス［３－（９－フェニル－９Ｈ－フルオレン－９－イル）フェニル］－ピレン－１，６－ジアミン、Ｎ，Ｎ’－ビス（ジベンゾフラン－２－イル）－Ｎ，Ｎ’－ジフェニルピレン－１，６－ジアミン、Ｎ，Ｎ’－ビス（ジベンゾチオフェン－２－イル）－Ｎ，Ｎ’－ジフェニルピレン－１，６－ジアミン、Ｎ，Ｎ’’－（２－ｔｅｒｔ－ブチルアントラセン－９，１０－ジイルジ－４，１－フェニレン）ビス［Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－トリフェニル－１，４－フェニレンジアミン］、Ｎ，９－ジフェニル－Ｎ－［４－（９，１０－ジフェニル－２－アントリル）フェニル］－９Ｈ－カルバゾール－３－アミン、Ｎ－［４－（９，１０－ジフェニル－２－アントリル）フェニル］－Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－トリフェニル－１，４－フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’，Ｎ’’，Ｎ’’，Ｎ’’’，Ｎ’’’－オクタフェニルジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセン－２，７，１０，１５－テトラアミン、クマリン３０、Ｎ－（９，１０－ジフェニル－２－アントリル）－Ｎ，９－ジフェニル－９Ｈ－カルバゾール－３－アミン、Ｎ－（９，１０－ジフェニル－２－アントリル）－Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－トリフェニル－１，４－フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ，９－トリフェニルアントラセン－９－アミン、クマリン６、クマリン５４５Ｔ、Ｎ，Ｎ’－ジフェニルキナクリドン、ルブレン、５，１２－ビス（１，１’－ビフェニル－４－イル）－６，１１－ジフェニルテトラセン、２－（２－｛２－［４－（ジメチルアミノ）フェニル］エテニル｝－６－メチル－４Ｈ－ピラン－４－イリデン）プロパンジニトリル、２－｛２－メチル－６－［２－（２，３，６，７－テトラヒドロ－１Ｈ，５Ｈ－ベンゾ［ｉｊ］キノリジン－９－イル）エテニル］－４Ｈ－ピラン－４－イリデン｝プロパンジニトリル、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトラキス（４－メチルフェニル）テトラセン－５，１１－ジアミン、７，１４－ジフェニル－Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトラキス（４－メチルフェニル）アセナフト［１，２－ａ］フルオランテン－３，１０－ジアミン、２－｛２－イソプロピル－６－［２－（１，１，７，７－テトラメチル－２，３，６，７－テトラヒドロ－１Ｈ，５Ｈ－ベンゾ［ｉｊ］キノリジン－９－イル）エテニル］－４Ｈ－ピラン－４－イリデン｝プロパンジニトリル、２－｛２－ｔｅｒｔ－ブチル－６－［２－（１，１，７，７－テトラメチル－２，３，６，７－テトラヒドロ－１Ｈ，５Ｈ－ベンゾ［ｉｊ］キノリジン－９－イル）エテニル］－４Ｈ－ピラン－４－イリデン｝プロパンジニトリル、２－（２，６－ビス｛２－［４－（ジメチルアミノ）フェニル］エテニル｝－４Ｈ－ピラン－４－イリデン）プロパンジニトリル、２－｛２，６－ビス［２－（８－メトキシ－１，１，７，７－テトラメチル－２，３，６，７－テトラヒドロ－１Ｈ，５Ｈ－ベンゾ［ｉｊ］キノリジン－９－イル）エテニル］－４Ｈ－ピラン－４－イリデン｝プロパンジニトリル、５，１０，１５，２０－テトラフェニルビスベンゾ［５，６］インデノ［１，２，３－ｃｄ：１’，２’，３’－ｌｍ］ペリレン等が挙げられる。
【0119】
有機高分子蛍光材料としては、例えば、フルオレン誘導体に基づく単位からなるホモポリマー、フルオレン誘導体に基づく単位とテトラフェニルフェニレンジアミン誘導体に基づく単位とからなるコポリマー、ターフェニル誘導体に基づく単位からなるホモポリマー、ジフェニルベンゾフルオレン誘導体に基づく単位からなるホモポリマー等が挙げられる。
【0120】
三重項励起エネルギーを光に変換可能な化合物としては、燐光を発する有機燐光材料が好ましい。有機燐光材料としては、例えば、Ｉｒ、Ｒｈ、Ｐｔ、Ｒｕ、Ｏｓ、Ｓｃ、Ｙ、Ｇｄ、Ｐｄ、Ａｇ、Ａｕ、Ａｌからなる群から選択される少なくとも１種の金属原子を含む金属錯体が挙げられる。中でも、Ｉｒ、Ｒｈ、Ｐｔ、Ｒｕ、Ｏｓ、Ｓｃ、Ｙ、Ｇｄ及びＰｄからなる群から選択される少なくとも１種の金属原子を含む金属錯体が好ましく、Ｉｒ、Ｒｈ、Ｐｔ及びＲｕからなる群から選択される少なくとも１種の金属原子を含む金属錯体がより好ましく、Ｉｒ錯体又はＰｔ錯体がさらに好ましい。
【0121】
発光層５はホスト材料を含んでもよい。ホスト材料は、発光層５に注入された正孔と電子との再結合の場を提供し、その分子上での正孔－電子対（励起子；エキシトン）の形成を促進する。この励起子の励起エネルギーは、ナノ結晶に移動（フェルスター共鳴エネルギー移動）し、発光する。係る現象を利用することにより、発光層５の発光効率を向上できる。
ホスト材料としては、発光材料のエネルギーギャップより大きいエネルギーギャップを有する化合物の少なくとも１種を用いるのが好ましい。また発光材料が燐光材料である場合、ホスト材料は、発光材料よりも三重項励起エネルギー（基底状態と三重項励起状態とのエネルギー差）の大きい化合物を選択することが好ましい。
ホスト材料としては、発光材料のエネルギーギャップより大きいエネルギーギャップを有する化合物の少なくとも１種を用いるのが好ましい。また発光材料が燐光材料である場合、ホスト材料は、発光材料よりも三重項励起エネルギー（基底状態と三重項励起状態とのエネルギー差）の大きい化合物を選択することが好ましい。
【0122】
ホスト材料としては、例えば、Ａｌｑ、Ａｌｍｑ３、ビス（１０－ヒドロキシベンゾ［ｈ］キノリナト）ベリリウム（II）、ビス（２－メチル－８－キノリノラト）（４－フェニルフェノラト）アルミニウム（III）、ビス（８－キノリノラト）亜鉛（II）、ビス［２－（２－ベンゾオキサゾリル）フェノラト］亜鉛（II）、ビス［２－（２－ベンゾチアゾリル）フェノラト］亜鉛（II）、２－（４－ビフェニリル）－５－（４－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）－１，３，４－オキサジアゾール、１，３－ビス［５－（ｐ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）－１，３，４－オキサジアゾール－２－イル］ベンゼン、３－（４－ビフェニリル）－４－フェニル－５－（４－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）－１，２，４－トリアゾール、２，２’，２’’－（１，３，５－ベンゼントリイル）トリス（１－フェニル－１Ｈ－ベンゾイミダゾール）、バソフェナントロリン、バソキュプロイン、９－［４－（５－フェニル－１，３，４－オキサジアゾール－２－イル）フェニル］－９Ｈ－カルバゾール、９，１０－ジフェニルアントラセン、Ｎ，Ｎ－ジフェニル－９－［４－（１０－フェニル－９－アントリル）フェニル］－９Ｈ－カルバゾール－３－アミン、４－（１０－フェニル－９－アントリル）トリフェニルアミン、Ｎ，９－ジフェニル－Ｎ－｛４－［４－（１０－フェニル－９－アントリル）フェニル］フェニル｝－９Ｈ－カルバゾール－３－アミン、６，１２－ジメトキシ－５，１１－ジフェニルクリセン、９－［４－（１０－フェニル－９－アントラセニル）フェニル］－９Ｈ－カルバゾール、３，６－ジフェニル－９－［４－（１０－フェニル－９－アントリル）フェニル］－９Ｈ－カルバゾール、９－フェニル－３－［４－（１０－フェニル－９－アントリル）フェニル］－９Ｈ－カルバゾール、７－［４－（１０－フェニル－９－アントリル）フェニル］－７Ｈ－ジベンゾ［ｃ，ｇ］カルバゾール、６－［３－（９，１０－ジフェニル－２－アントリル）フェニル］－ベンゾ［ｂ］ナフト［１，２－ｄ］フラン、９－フェニル－１０－｛４－（９－フェニル－９Ｈ－フルオレン－９－イル）ビフェニル－４’－イル｝アントラセン、９，１０－ビス（３，５－ジフェニルフェニル）アントラセン、９，１０－ジ（２－ナフチル）アントラセン、２－ｔｅｒｔ－ブチル－９，１０－ジ（２－ナフチル）アントラセン、９，９’－ビアントリル、９，９’－（スチルベン－３，３’－ジイル）ジフェナントレン、９，９’－（スチルベン－４，４’－ジイル）ジフェナントレン、１，３，５－トリ（１－ピレニル）ベンゼン、５，１２－ジフェニルテトラセン又は５，１２－ビス（ビフェニル－２－イル）テトラセン等が挙げられる。これらは、１種を単独で使用しても、２種以上を併用してもよい。
【0123】
発光層５の平均厚さは、通常、１～１００ｎｍの範囲であることが好ましく、１～５０ｎｍの範囲がより好ましい。
発光層５は、湿式成膜法又は乾式成膜法により形成できる。湿式製膜法及び乾式製膜法については正孔注入層３の説明にて上述したとおりである。
発光層５は、湿式成膜法又は乾式成膜法により形成できる。湿式製膜法及び乾式製膜法については正孔注入層３の説明にて上述したとおりである。
【0124】
なお、ＥＬ光源部２００は、さらに、例えば正孔注入層３、正孔輸送層４及び発光層５を区画するバンク（隔壁）を有していてもよい。バンクの高さは特に限定されず、通常、０．１～５μｍの範囲が好ましく、０．２～４μｍの範囲がより好ましく、０．２～３μｍの範囲がさらに好ましい。
バンクの開口の幅は、１０～２００μｍの範囲が好ましく、３０～２００μｍの範囲がより好ましく、５０～１００μｍの範囲がさらに好ましい。バンクの開口の長さは、１０～４００μｍの範囲が好ましく、２０～２００μｍの範囲がより好ましく、５０～２００μｍの範囲がさらに好ましい。
また、バンクの傾斜角度は、１０～１００°の範囲が好ましく、１０～９０°の範囲がより好ましく、１０～８０°の範囲がさらに好ましい。
バンクの開口の幅は、１０～２００μｍの範囲が好ましく、３０～２００μｍの範囲がより好ましく、５０～１００μｍの範囲がさらに好ましい。バンクの開口の長さは、１０～４００μｍの範囲が好ましく、２０～２００μｍの範囲がより好ましく、５０～２００μｍの範囲がさらに好ましい。
また、バンクの傾斜角度は、１０～１００°の範囲が好ましく、１０～９０°の範囲がより好ましく、１０～８０°の範囲がさらに好ましい。
【0125】
発光素子１００は、発光層５と電子輸送層６との間にさらに正孔ブロック層を有していてもよい。正孔ブロック層は、正孔輸送層４から輸送された正孔が発光層５を通過し、電子輸送層６へ移動することを規制する機能を有する。正孔ブロック層を設けると、発光層５中で電子と再結合できなかった正孔を電子輸送層６へ逃すことなく、発光層５中に留めることができる。発光層５中に留まる正孔は、再度電子との再結合の機会を得られるため無駄にならず、発光層５の発光効率をより向上できる。
正孔ブロック層の構成材料としては、上述した電子輸送材料を、１種を単独で、又は２種以上を組み合わせて使用できる。
正孔ブロック層の平均厚さに特に限定はなく、通常、１～５００ｎｍの範囲が好ましく、２～３００ｎｍの範囲がより好ましく、３～２００ｎｍの範囲がさらに好ましい。また、正孔ブロック層は、単層でも、２層以上が積層された積層構成であってもよい。
正孔ブロック層は、湿式成膜法又は乾式成膜法により形成できる。湿式製膜法及び乾式製膜法については正孔注入層３の説明にて上述したとおりである。
また、発光素子１００は、光を適切に反射させるための反射層、光を適切に透過させるための透明光学調整層、光を適切に透過及び散乱させるための光散乱層をさらに有していてもよい。
発光素子１００の実施の形態は、上述の構成に限定されず、他の任意の構成を追加で備えてもよく、同様の機能を発揮する任意の構成と置換されてもよい。
正孔ブロック層の構成材料としては、上述した電子輸送材料を、１種を単独で、又は２種以上を組み合わせて使用できる。
正孔ブロック層の平均厚さに特に限定はなく、通常、１～５００ｎｍの範囲が好ましく、２～３００ｎｍの範囲がより好ましく、３～２００ｎｍの範囲がさらに好ましい。また、正孔ブロック層は、単層でも、２層以上が積層された積層構成であってもよい。
正孔ブロック層は、湿式成膜法又は乾式成膜法により形成できる。湿式製膜法及び乾式製膜法については正孔注入層３の説明にて上述したとおりである。
また、発光素子１００は、光を適切に反射させるための反射層、光を適切に透過させるための透明光学調整層、光を適切に透過及び散乱させるための光散乱層をさらに有していてもよい。
発光素子１００の実施の形態は、上述の構成に限定されず、他の任意の構成を追加で備えてもよく、同様の機能を発揮する任意の構成と置換されてもよい。
【0126】
＜光変換層１２＞
光変換層１２は、ＥＬ光源部２００から発せられた光を変換して再発光するか、或いは、ＥＬ光源部２００から発せられた光を透過する。
光変換層は、図２に示すように、画素部２０として、前記範囲の波長の光を変換して赤色光を発する第１の画素部２０ａと、前記範囲の波長の光を変換して緑色光を発する第２の画素部２０ｂと、前記範囲の波長の光を透過する第３の画素部２０ｃとを有している。複数の第１の画素部２０ａ、第２の画素部２０ｂ及び第３の画素部２０ｃが、この順に繰り返すように格子状に配列されている。そして、隣り合う画素部の間、すなわち、第１の画素部２０ａと第２の画素部２０ｂとの間、第２の画素部２０ｂと第３の画素部２０ｃとの間、第３の画素部２０ｃと第１の画素部２０ａとの間に、光を遮蔽する遮光部３０が設けられている。換言すれば、隣り合う画素部２０同士は、遮光部３０によって隔てられている。なお、第１の画素部２０ａ及び第２の画素部２０ｂは、それぞれの色に対応した色材を含んでもよい。
光変換層１２は、ＥＬ光源部２００から発せられた光を変換して再発光するか、或いは、ＥＬ光源部２００から発せられた光を透過する。
光変換層は、図２に示すように、画素部２０として、前記範囲の波長の光を変換して赤色光を発する第１の画素部２０ａと、前記範囲の波長の光を変換して緑色光を発する第２の画素部２０ｂと、前記範囲の波長の光を透過する第３の画素部２０ｃとを有している。複数の第１の画素部２０ａ、第２の画素部２０ｂ及び第３の画素部２０ｃが、この順に繰り返すように格子状に配列されている。そして、隣り合う画素部の間、すなわち、第１の画素部２０ａと第２の画素部２０ｂとの間、第２の画素部２０ｂと第３の画素部２０ｃとの間、第３の画素部２０ｃと第１の画素部２０ａとの間に、光を遮蔽する遮光部３０が設けられている。換言すれば、隣り合う画素部２０同士は、遮光部３０によって隔てられている。なお、第１の画素部２０ａ及び第２の画素部２０ｂは、それぞれの色に対応した色材を含んでもよい。
【0127】
第１の画素部２０ａ及び第２の画素部２０ｂは、それぞれ上述したインク組成物の硬化物を含む発光性の画素部である。硬化物は、発光性粒子と硬化成分とを含有する。また、硬化物は、光を散乱させて外部へ確実に取り出すためにさらに光散乱粒子を含むことが好ましい。
第１の画素部２０ａは、第１硬化成分２２ａと、第１硬化成分２２ａ中に分散された第１発光性粒子９０ａ及び第１光散乱粒子２１ａとを含む。同様に、第２の画素部２０ｂは、第２硬化成分２２ｂと、第２硬化成分２２ｂ中に分散された第２発光性粒子９０ｂ及び第２光散乱粒子２１ｂとを含む。
硬化成分は、光重合性化合物の重合によって得られた成分であり、光重合性化合物の重合体と、インク組成物中の有機成分（分散剤、未反応の光重合性化合物等）が含まれていてもよい。
第１の画素部２０ａ及び第２の画素部２０ｂにおいて、第１硬化成分２２ａと第２硬化成分２２ｂとは同一であっても異なっていてもよく、第１光散乱粒子２１ａと第２光散乱粒子２１ｂとは同一であっても異なっていてもよい。
第１の画素部２０ａは、第１硬化成分２２ａと、第１硬化成分２２ａ中に分散された第１発光性粒子９０ａ及び第１光散乱粒子２１ａとを含む。同様に、第２の画素部２０ｂは、第２硬化成分２２ｂと、第２硬化成分２２ｂ中に分散された第２発光性粒子９０ｂ及び第２光散乱粒子２１ｂとを含む。
硬化成分は、光重合性化合物の重合によって得られた成分であり、光重合性化合物の重合体と、インク組成物中の有機成分（分散剤、未反応の光重合性化合物等）が含まれていてもよい。
第１の画素部２０ａ及び第２の画素部２０ｂにおいて、第１硬化成分２２ａと第２硬化成分２２ｂとは同一であっても異なっていてもよく、第１光散乱粒子２１ａと第２光散乱粒子２１ｂとは同一であっても異なっていてもよい。
【0128】
第１発光性粒子９０ａは、４２０～４８０ｎｍの範囲の波長の光を吸収し６０５～６６５ｎｍの範囲に発光ピーク波長を有する光を発する、赤色発光性粒子である。すなわち、第１の画素部２０ａは、青色光を赤色光に変換するための赤色画素部と言える。
また、第２発光性粒子９０ｂは、４２０～４８０ｎｍの範囲の波長の光を吸収し５００～５６０ｎｍの範囲に発光ピーク波長を有する光を発する、緑色発光性粒子である。すなわち、第２の画素部２０ｂは、青色光を緑色光に変換するための緑色画素部と言える。
また、第２発光性粒子９０ｂは、４２０～４８０ｎｍの範囲の波長の光を吸収し５００～５６０ｎｍの範囲に発光ピーク波長を有する光を発する、緑色発光性粒子である。すなわち、第２の画素部２０ｂは、青色光を緑色光に変換するための緑色画素部と言える。
【0129】
画素部２０ａ、２０ｂにおける発光性粒子の含有量は、外部量子効率の向上効果により優れる観点及び優れた発光強度が得られる観点から、インク組成物の硬化物の全質量を基準として０．１質量％以上であることが好ましく、１質量％以上がより好ましく、２質量％以上がさらに好ましく、３質量％以上が特に好ましい。発光性粒子の含有量は、画素部２０ａ、２０ｂの信頼性に優れる観点及び優れた発光強度が得られる観点から、インク組成物の全質量を基準として３０質量％以下であることが好ましく、２５質量％以下がより好ましく、２０質量％以下がさらに好ましく、１５質量％以下が特に好ましい。
【0130】
画素部２０ａ、２０ｂにおける光散乱粒子の含有量は、外部量子効率の向上効果により優れる観点から、インク組成物の硬化物の全質量を基準として、０．１質量％以上であることが好ましく、１質量％以上がより好ましく、５質量％以上がさらに好ましく、７質量％以上が特に好ましい。光散乱粒子の含有量は、外部量子効率の向上効果により優れる観点及び画素部２０の信頼性に優れる観点から、インク組成物の硬化物の全質量を基準として、６０質量％以下であることが好ましく、５０質量％以下がより好ましく、４０質量％以下がさらに好ましく、３０質量％以下が特に好ましい。
【0131】
第３の画素部２０ｃは、４２０～４８０ｎｍの範囲の波長の光に対し３０％以上の透過率を有する。そのため、第３の画素部２０ｃは、４２０～４８０ｎｍの範囲の波長の光を発する光源を用いる場合に、青色画素部として機能する。第３の画素部２０ｃは、例えば、本発明の分散体を構成する発光性粒子を含まない以外は上述した実施形態のインク組成物と同様の組成である組成物（非発光性インク組成物）の硬化物を含む、非発光性の画素部である。硬化物は、発光性粒子を含有せず、光散乱性粒子と硬化成分とを含有する。すなわち、第３の画素部２０ｃは、第３硬化成分２２ｃと、第３硬化成分２２ｃ中に分散された第３光散乱性粒子２１ｃを含む。
第３硬化成分２２ｃは、例えば、光重合性化合物の重合によって得られる成分であり、光重合性化合物の重合体を含む。第３硬化成分２２ｃは、４２０～４８０ｎｍの範囲の波長の光に対する透過率が３０％以上となる限りにおいて、光重合性化合物の重合体と、インク組成物中の有機成分（分散剤、未反応の光重合性化合物等）が含まれていてもよい。
第３光散乱性粒子２１ｃは、第１光散乱性粒子２１ａ及び第２光散乱性粒子２１ｂと同一であっても、異なっていてもよい。
画素部２０ｃにおける光散乱粒子の含有量は、視野角における光強度差をより低減する観点から、非発光性インク組成物の硬化物の全質量を基準として、１質量％以上であることが好ましく、３質量％以上がより好ましく、５質量％以上がさらに好ましい。光散乱粒子の含有量は、光反射をより低減する観点から、非発光性インク組成物の硬化物の全質量を基準として、８０質量％以下であることが好ましく、７５質量％以下がより好ましく、７０質量％以下がさらに好ましい。
なお、第３の画素部２０ｃの透過率は、顕微分光装置により測定できる。
第３硬化成分２２ｃは、例えば、光重合性化合物の重合によって得られる成分であり、光重合性化合物の重合体を含む。第３硬化成分２２ｃは、４２０～４８０ｎｍの範囲の波長の光に対する透過率が３０％以上となる限りにおいて、光重合性化合物の重合体と、インク組成物中の有機成分（分散剤、未反応の光重合性化合物等）が含まれていてもよい。
第３光散乱性粒子２１ｃは、第１光散乱性粒子２１ａ及び第２光散乱性粒子２１ｂと同一であっても、異なっていてもよい。
画素部２０ｃにおける光散乱粒子の含有量は、視野角における光強度差をより低減する観点から、非発光性インク組成物の硬化物の全質量を基準として、１質量％以上であることが好ましく、３質量％以上がより好ましく、５質量％以上がさらに好ましい。光散乱粒子の含有量は、光反射をより低減する観点から、非発光性インク組成物の硬化物の全質量を基準として、８０質量％以下であることが好ましく、７５質量％以下がより好ましく、７０質量％以下がさらに好ましい。
なお、第３の画素部２０ｃの透過率は、顕微分光装置により測定できる。
【0132】
画素部（第１の画素部２０ａ、第２の画素部２０ｂ及び第３の画素部２０ｃ）の厚さは、１μｍ以上であることが好ましく、２μｍ以上であることがより好ましく、３μｍ以上であることがさらに好ましい。
画素部（第１の画素部２０ａ、第２の画素部２０ｂ及び第３の画素部２０ｃ）の厚さは、３０μｍ以下であることが好ましく、２５μｍ以下であることがより好ましく、２０μｍ以下であることがさらに好ましい。
画素部（第１の画素部２０ａ、第２の画素部２０ｂ及び第３の画素部２０ｃ）の厚さは、３０μｍ以下であることが好ましく、２５μｍ以下であることがより好ましく、２０μｍ以下であることがさらに好ましい。
【0133】
遮光部３０は、隣り合う画素部２０を隔てて混色（クロストーク）を防ぐ目的及び光源からの光漏れを防ぐ目的で設けられる隔壁部、いわゆるブラックマトリックスである。
遮光部３０を構成する材料は特に限定されず、クロム等の金属の他、バインダー樹脂とカーボン微粒子、金属酸化物、無機顔料、有機顔料等の遮光性粒子を含む樹脂組成物等が挙げられる。バインダー樹脂には、例えばポリイミド樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリアクリルアミド、ポリビニルアルコール、ゼラチン、カゼイン、セルロース等の１種又は２種以上を含む樹脂、感光性樹脂、Ｏ／Ｗエマルジョン樹脂（例えば、反応性シリコーンエマルジョン）等を使用できる。
遮光部３０の厚さは、１μｍ以上１５μｍ以下であることが好ましい。
遮光部３０を構成する材料は特に限定されず、クロム等の金属の他、バインダー樹脂とカーボン微粒子、金属酸化物、無機顔料、有機顔料等の遮光性粒子を含む樹脂組成物等が挙げられる。バインダー樹脂には、例えばポリイミド樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリアクリルアミド、ポリビニルアルコール、ゼラチン、カゼイン、セルロース等の１種又は２種以上を含む樹脂、感光性樹脂、Ｏ／Ｗエマルジョン樹脂（例えば、反応性シリコーンエマルジョン）等を使用できる。
遮光部３０の厚さは、１μｍ以上１５μｍ以下であることが好ましい。
【0134】
［光変換層１２の形成方法］
以上の第１～３の画素部２０ａ～２０ｃを備える光変換層１２は、例えば、湿式成膜法により形成した塗膜を乾燥、加熱して硬化させることより形成することができる。第１の画素部２０ａ及び第２の画素部２０ｂは、本発明のインク組成物を用いて形成でき、第３の画素部２０ｃは、本発明の分散体を構成する発光性粒子を含まない、上述した非発光性インク組成物を用いて形成することができる。
以上の第１～３の画素部２０ａ～２０ｃを備える光変換層１２は、例えば、湿式成膜法により形成した塗膜を乾燥、加熱して硬化させることより形成することができる。第１の画素部２０ａ及び第２の画素部２０ｂは、本発明のインク組成物を用いて形成でき、第３の画素部２０ｃは、本発明の分散体を構成する発光性粒子を含まない、上述した非発光性インク組成物を用いて形成することができる。
【0135】
本発明のインク組成物の塗膜を得るための塗布法としては、インクジェット印刷法（ピエゾ方式又はサーマル方式の液滴吐出法）、スピンコート法、キャスト法、ＬＢ法、凸版印刷法、グラビア印刷法、スクリーン印刷法、ノズルプリント印刷法等が挙げられる。
【0136】
インクジェット印刷法の場合、インク組成物の吐出量は特に限定されず、通常、１～５０ｐＬ／回であることが好ましく、１～３０ｐＬ／回がより好ましく、１～２０ｐＬ／回がさらに好ましい。
ノズル孔の開口径は、５～５０μｍの範囲であることが好ましく、１０～３０μｍの範囲であることがより好ましい。かかる範囲であると、ノズル孔の目詰まりを防止しつつ、インク組成物の吐出精度を高められる。
ノズル孔の開口径は、５～５０μｍの範囲であることが好ましく、１０～３０μｍの範囲であることがより好ましい。かかる範囲であると、ノズル孔の目詰まりを防止しつつ、インク組成物の吐出精度を高められる。
【0137】
塗膜を形成する際の温度は特に限定されず、通常、１０～５０℃の範囲が好ましく、１５～４０℃の範囲がより好ましく、１５～３０℃の範囲がさらに好ましい。かかる温度で液滴を吐出すれば、本発明のインク組成物中に含まれる各種成分の結晶化を抑制できる。
また、塗膜を形成する際の相対湿度も特に限定されず、通常、０．０１ｐｐｍ～８０％の範囲であることが好ましく、０．０５ｐｐｍ～６０％の範囲がより好ましく、０．１ｐｐｍ～１５％の範囲がさらに好ましく、１ｐｐｍ～１％の範囲が特に好ましく、５～１００ｐｐｍの範囲が最も好ましい。
また、塗膜を形成する際の相対湿度も特に限定されず、通常、０．０１ｐｐｍ～８０％の範囲であることが好ましく、０．０５ｐｐｍ～６０％の範囲がより好ましく、０．１ｐｐｍ～１５％の範囲がさらに好ましく、１ｐｐｍ～１％の範囲が特に好ましく、５～１００ｐｐｍの範囲が最も好ましい。
【0138】
インク組成物に炭化水素、ハロゲン化炭化水素、エーテル、アルコール、ケトン、エステル、非プロトン性極性化合物等を溶媒として添加した場合は、インク組成物を基板上に塗布後、硬化させる前に、自然乾燥、加熱下又は減圧下での乾燥を行う。生産性の観点から、加熱下、又は加熱下かつ減圧下で乾燥を行うのが好ましい。加熱温度は、添加した溶媒の沸点及び蒸気圧も考慮し、通常、５０～１３０℃が好ましく、６０～１２０℃がより好ましい。減圧下の圧力は、通常、０．００１～１００Ｐａの範囲が好ましい。また、乾燥時間は、通常、１～３０分間が好ましい。乾燥により溶媒を塗膜から除去することで、得られる光変換層の外部量子効率をより向上できる。
【0139】
本発明のインク組成物の硬化は、活性エネルギー線（例えば、紫外線）の照射により行える。照射源（光源）としては、例えば、水銀ランプ、メタルハライドランプ、キセノンランプ、ＬＥＤ等が挙げられ、塗膜への熱負荷の低減や低消費電力の観点から、ＬＥＤが好ましい。
【0140】
照射する光の波長は、２００ｎｍ以上４４０ｎｍ以下が好ましい。また、光の強度は、塗膜表面と内部の硬化度にムラがなく十分に硬化でき、塗膜表面の平滑性を保ちやすい観点から、０．２～２ｋＷ／ｃｍ２が好ましく、０．４～１ｋＷ／ｃｍ２がより好ましい。光の照射量（露光量）は、１０ｍＪ／ｃｍ２以上４０００ｍＪ／ｃｍ２以下が好ましい。
塗膜の硬化は、大気雰囲気下、又は窒素、アルゴン、二酸化炭素等の不活性ガス雰囲気下で行うことができるが、塗膜表面の酸素阻害及び塗膜の酸化を抑制する観点から、不活性ガス下で行うことが好ましい。このような条件で塗膜を硬化させることにより、得られる光変換層の外部量子効率をより向上できる。
塗膜の硬化は、大気雰囲気下、又は窒素、アルゴン、二酸化炭素等の不活性ガス雰囲気下で行うことができるが、塗膜表面の酸素阻害及び塗膜の酸化を抑制する観点から、不活性ガス下で行うことが好ましい。このような条件で塗膜を硬化させることにより、得られる光変換層の外部量子効率をより向上できる。
【0141】
本発明のインク組成物は水分や熱に対する安定性に優れ、硬化物（成形体）である画素部２０においても良好な発光を実現できる。また、本発明のインク組成物は分散性に優れるため発光性粒子の分散性に優れ、かつ平坦な画素部２０を得やすい。
【0142】
さらに、第１の画素部２０ａ及び第２の画素部２０ｂに含まれる発光性粒子が、ペロブスカイト型結晶構造を有する半導体ナノ結晶を含む場合は、３００～５００ｎｍの波長領域の吸収が大きい。そのため、第１の画素部２０ａ及び第２の画素部２０ｂにおいて、第１の画素部２０ａ及び第２の画素部２０ｂに入射した青色光が上基板１３側へ透過する、すなわち、青色光が上基板１３側へ漏れることを防止できる。したがって、本発明の分散体を構成する発光性粒子を含む、第１の画素部２０ａ及び第２の画素部２０ｂによれば、青色光が混色されることなく、色純度の高い赤色光及び緑色光を取り出すことができる。
【0143】
発光素子１００は、トップエミッション型に代えて、ボトムエミッション型として構成することもできる。また、発光素子１００はＥＬ光源部２００に代えて他の光源を使用することもできる。
【0144】
上述の発光素子は、カラーフィルターを備えたカラー表示デバイスへの適用に好適である。ここで、カラー表示デバイスとは、例えば、テレビ、モニター、スマートフォン、携帯電話等のカラー表示を行うデバイスであり、液晶層を用いないタイプと液晶層を用いるタイプのいずれをも包含する。
【0145】
以上、本発明の分散体、前記分散体を含むインク組成物及び前記インク組成物の硬化物からなる光変換層について説明したが、本発明は、上述した実施形態の構成に限定されない。例えば、本発明の分散体、分散体を含むインク組成物、インク組成物の硬化物からなる光変換層は、それぞれ、上述した実施形態の構成において、他の任意の構成を追加して有していてもよく、同様の機能を発揮する任意の構成と置換されていてもよい。
【実施例0146】
以下、実施例により本発明を具体的に説明する。ただし、本発明は下記の実施例のみに限定されない。なお、特に断りのない限り、「部」及び「％」は質量基準である。
各実施例及び比較例で用いた、重合性基を有する化合物の略号、化学名、商品名、分子量、ＬｏｇＰ値、ＳＰ値及び構造式を表１に示す。
各実施例及び比較例で用いた、重合性基を有する化合物の略号、化学名、商品名、分子量、ＬｏｇＰ値、ＳＰ値及び構造式を表１に示す。
【0147】
【表1】
【0148】
Ａ．含水率の異なる、発光性粒子の各種分散体の調製例
実施例１
まず、０．１２ｇの炭酸セシウムと、５ｍＬの１－オクタデセンと、０．５ｍＬのオレイン酸とを混合し、アルゴン雰囲気下、１５０℃で均一に溶解させた後、１００℃まで冷却してセシウム－オレイン酸溶液を得た。
一方、０．１ｇの臭化鉛（ＩＩ）と、７．５ｍＬの１－オクタデセンと、０．７５ｍＬのオレイン酸とを混合し、アルゴン雰囲気下、９０℃で１０分間減圧乾燥した後、０．７５ｍＬの３－アミノプロピルトリエトキシシラン（ＡＰＴＥＳ）を添加してさらに２０分間撹拌しながら減圧乾燥し、次いで１４０℃に加熱した。
上記臭化鉛（ＩＩ）を含む混合液に１５０℃で０．７５ｍＬの前記セシウム－オレイン酸溶液を添加し、５秒間撹拌後、氷浴で冷却した。次いで、３０ｍＬの酢酸メチルを添加し振倒攪拌し、得られた懸濁液を遠心分離（１００００ｒｐｍ、１分間）した。上澄み液を除去して得た沈殿物にイソボルニルメタクリレート（ＩＢ－Ｘ；含水量２８０ｐｐｍ）１．４ｇを添加し振倒攪拌した後、上澄み液を回収することによって、オレイン酸が配位しかつＡＰＴＥＳ同士のシロキサン結合を含む表面層を備える、ペロブスカイト型のＣｓＰｂＢｒ３（以下、「ＱＤ１」と記す。）がＩＢ－Ｘ中に分散した、１．５ｇの分散体１を得た。
分散体１の含水率をカールフィッシャー法により測定したところ、５７ｐｐｍであった。分散体１における、ＱＤ１に対する水の質量比は８．６に相当し、ＱＤ１に対するＩＢ－Ｘの質量比は１４に相当する。分散体１の組成の詳細を表２に示す。
実施例１
まず、０．１２ｇの炭酸セシウムと、５ｍＬの１－オクタデセンと、０．５ｍＬのオレイン酸とを混合し、アルゴン雰囲気下、１５０℃で均一に溶解させた後、１００℃まで冷却してセシウム－オレイン酸溶液を得た。
一方、０．１ｇの臭化鉛（ＩＩ）と、７．５ｍＬの１－オクタデセンと、０．７５ｍＬのオレイン酸とを混合し、アルゴン雰囲気下、９０℃で１０分間減圧乾燥した後、０．７５ｍＬの３－アミノプロピルトリエトキシシラン（ＡＰＴＥＳ）を添加してさらに２０分間撹拌しながら減圧乾燥し、次いで１４０℃に加熱した。
上記臭化鉛（ＩＩ）を含む混合液に１５０℃で０．７５ｍＬの前記セシウム－オレイン酸溶液を添加し、５秒間撹拌後、氷浴で冷却した。次いで、３０ｍＬの酢酸メチルを添加し振倒攪拌し、得られた懸濁液を遠心分離（１００００ｒｐｍ、１分間）した。上澄み液を除去して得た沈殿物にイソボルニルメタクリレート（ＩＢ－Ｘ；含水量２８０ｐｐｍ）１．４ｇを添加し振倒攪拌した後、上澄み液を回収することによって、オレイン酸が配位しかつＡＰＴＥＳ同士のシロキサン結合を含む表面層を備える、ペロブスカイト型のＣｓＰｂＢｒ３（以下、「ＱＤ１」と記す。）がＩＢ－Ｘ中に分散した、１．５ｇの分散体１を得た。
分散体１の含水率をカールフィッシャー法により測定したところ、５７ｐｐｍであった。分散体１における、ＱＤ１に対する水の質量比は８．６に相当し、ＱＤ１に対するＩＢ－Ｘの質量比は１４に相当する。分散体１の組成の詳細を表２に示す。
【0149】
実施例２
実施例１において、ＩＢ－Ｘ１．４ｇに代えてフェノキシエチルメタクリレート（ＰｈＥＭ；含水量７６０ｐｐｍ）１．４ｇを用いた以外は、実施例１と同様の操作によりＱＤ１がＰｈ－ＥＭ中に分散した、１．５ｇの分散体２を得た。分散体２の含水率、分散体２における、ＱＤ１に対する水の質量比、ＱＤ１に対するＰｈＥＭの質量比を表２に示す。
実施例１において、ＩＢ－Ｘ１．４ｇに代えてフェノキシエチルメタクリレート（ＰｈＥＭ；含水量７６０ｐｐｍ）１．４ｇを用いた以外は、実施例１と同様の操作によりＱＤ１がＰｈ－ＥＭ中に分散した、１．５ｇの分散体２を得た。分散体２の含水率、分散体２における、ＱＤ１に対する水の質量比、ＱＤ１に対するＰｈＥＭの質量比を表２に示す。
【0150】
実施例３
実施例１において、ＩＢ－Ｘ１．４ｇに代えてトリエチレングリコールジメタクリレート（ＴＥＧＤＭＡ；含水量１３４５ｐｐｍ）１．４ｇを用いた以外は、実施例１と同様の操作によりＱＤ１がＴＥＧＤＭＡ中に分散した、１．５ｇの分散体３を得た。分散体３の含水率、分散体３における、ＱＤ１に対する水の質量比、ＱＤ１に対するＴＥＧＤＭＡの質量比を表２に示す。
実施例１において、ＩＢ－Ｘ１．４ｇに代えてトリエチレングリコールジメタクリレート（ＴＥＧＤＭＡ；含水量１３４５ｐｐｍ）１．４ｇを用いた以外は、実施例１と同様の操作によりＱＤ１がＴＥＧＤＭＡ中に分散した、１．５ｇの分散体３を得た。分散体３の含水率、分散体３における、ＱＤ１に対する水の質量比、ＱＤ１に対するＴＥＧＤＭＡの質量比を表２に示す。
【0151】
実施例４
実施例１において、ＩＢ－Ｘ１．４ｇに代えてポリエチレングリコールジメタクリレート（ＰＥＧ２００ＤＭＡ；含水量１４９３ｐｐｍ）１．４ｇを用いた以外は、実施例１と同様の操作によりＱＤ１がＰＥＧ２００ＤＭＡ中に分散した、１．５ｇの分散体４を得た。分散体４の含水率、分散体４における、ＱＤ１に対する水の質量比、ＱＤ１に対するＰＥＧ２００ＤＭＡの質量比を表２に示す。
実施例１において、ＩＢ－Ｘ１．４ｇに代えてポリエチレングリコールジメタクリレート（ＰＥＧ２００ＤＭＡ；含水量１４９３ｐｐｍ）１．４ｇを用いた以外は、実施例１と同様の操作によりＱＤ１がＰＥＧ２００ＤＭＡ中に分散した、１．５ｇの分散体４を得た。分散体４の含水率、分散体４における、ＱＤ１に対する水の質量比、ＱＤ１に対するＰＥＧ２００ＤＭＡの質量比を表２に示す。
【0152】
実施例５
実施例１において、ＩＢ－Ｘ１．４ｇに代えてポリプロピレングリコールジメタクリレート（ＰＰＧ３００ＤＭＡ；含水量８５４ｐｐｍ）１．４ｇを用いた以外は、実施例１と同様の操作によりＱＤ１がＰＰＧ３００ＤＭＡ中に分散した、１．５ｇの分散体５を得た。分散体５の含水率、分散体５における、ＱＤ１に対する水の質量比、ＱＤ１に対するＰＰＧ３００ＤＭＡの質量比を表２に示す。
実施例１において、ＩＢ－Ｘ１．４ｇに代えてポリプロピレングリコールジメタクリレート（ＰＰＧ３００ＤＭＡ；含水量８５４ｐｐｍ）１．４ｇを用いた以外は、実施例１と同様の操作によりＱＤ１がＰＰＧ３００ＤＭＡ中に分散した、１．５ｇの分散体５を得た。分散体５の含水率、分散体５における、ＱＤ１に対する水の質量比、ＱＤ１に対するＰＰＧ３００ＤＭＡの質量比を表２に示す。
【0153】
実施例６～１０
実施例１において、ＩＢ－Ｘ１．４ｇに代えて表２に示す各種モノマー１０ｇを用いた以外は、実施例１と同様の操作により、１０．１ｇの分散体６～１０を得た。なお、各種モノマーの含水量は、実施例１～５に記載したとおりである。分散体６～１０の含水率、ＱＤ１に対する水の質量比、ＱＤ１に対する各種モノマーの質量比を表２に示す。
実施例１において、ＩＢ－Ｘ１．４ｇに代えて表２に示す各種モノマー１０ｇを用いた以外は、実施例１と同様の操作により、１０．１ｇの分散体６～１０を得た。なお、各種モノマーの含水量は、実施例１～５に記載したとおりである。分散体６～１０の含水率、ＱＤ１に対する水の質量比、ＱＤ１に対する各種モノマーの質量比を表２に示す。
【0154】
比較例１
まず、０．１２ｇの炭酸セシウムと、５ｍＬの１－オクタデセンと、０．５ｍＬのオレイン酸とを混合し、アルゴン雰囲気下、１５０℃で均一に溶解させた後、１００℃まで冷却してセシウム－オレイン酸溶液を得た。
一方、０．１ｇの臭化鉛（ＩＩ）と、７．５ｍＬの１－オクタデセンと、０．７５ｍＬのオレイン酸と、０．７５ｍＬのオレイルアミンとを混合し、アルゴン雰囲気下、９０℃で１０分間減圧乾燥した後、さらに２０分間撹拌しながら減圧乾燥し、次いで１４０℃に加熱した。
上記臭化鉛（ＩＩ）を含む混合液に１５０℃で０．７５ｍＬの前記セシウム－オレイン酸溶液を添加し、５秒間撹拌後、氷浴で冷却した。次いで、３０ｍＬの酢酸メチルを添加し振倒攪拌し、得られた懸濁液を遠心分離（１００００ｒｐｍ、１分間）した。上澄み液を除去して得た沈殿物に２－［２－エトキシ（エトキシ）］エチルアクリレート（ＥＣ－Ａ；含水量３３００ｐｐｍ）１．４ｇを添加し振倒攪拌した後、上澄み液を回収することによって、オレイン酸とオレイルアミンが配位した、ペロブスカイト型のＣｓＰｂＢｒ３（以下、「ＱＤ２」と記す。）がＥＣ－Ａ中に分散した、１．５ｇの分散体Ｃ１を得た。
分散体Ｃ１の含水率をカールフィッシャー法により測定したところ、９５ｐｐｍであった。分散体Ｃ１における、ＱＤ２に対する水の質量比は１４．３に相当し、ＱＤ２に対するＥＣ－Ａの質量比は１４に相当する。分散体Ｃ１の組成の詳細を表２に示す。
まず、０．１２ｇの炭酸セシウムと、５ｍＬの１－オクタデセンと、０．５ｍＬのオレイン酸とを混合し、アルゴン雰囲気下、１５０℃で均一に溶解させた後、１００℃まで冷却してセシウム－オレイン酸溶液を得た。
一方、０．１ｇの臭化鉛（ＩＩ）と、７．５ｍＬの１－オクタデセンと、０．７５ｍＬのオレイン酸と、０．７５ｍＬのオレイルアミンとを混合し、アルゴン雰囲気下、９０℃で１０分間減圧乾燥した後、さらに２０分間撹拌しながら減圧乾燥し、次いで１４０℃に加熱した。
上記臭化鉛（ＩＩ）を含む混合液に１５０℃で０．７５ｍＬの前記セシウム－オレイン酸溶液を添加し、５秒間撹拌後、氷浴で冷却した。次いで、３０ｍＬの酢酸メチルを添加し振倒攪拌し、得られた懸濁液を遠心分離（１００００ｒｐｍ、１分間）した。上澄み液を除去して得た沈殿物に２－［２－エトキシ（エトキシ）］エチルアクリレート（ＥＣ－Ａ；含水量３３００ｐｐｍ）１．４ｇを添加し振倒攪拌した後、上澄み液を回収することによって、オレイン酸とオレイルアミンが配位した、ペロブスカイト型のＣｓＰｂＢｒ３（以下、「ＱＤ２」と記す。）がＥＣ－Ａ中に分散した、１．５ｇの分散体Ｃ１を得た。
分散体Ｃ１の含水率をカールフィッシャー法により測定したところ、９５ｐｐｍであった。分散体Ｃ１における、ＱＤ２に対する水の質量比は１４．３に相当し、ＱＤ２に対するＥＣ－Ａの質量比は１４に相当する。分散体Ｃ１の組成の詳細を表２に示す。
【0155】
比較例２
比較例１において、ＥＣ－Ａ１．４ｇに代えてポリエチレングリコールジメタクリレート（ＰＥＧ４００ＤＭＡ；含水量１６６３ｐｐｍ）１．４ｇを用いた以外は、比較例１と同様の操作によりＱＤ２がＰＥＧ４００ＤＭＡ中に分散した、１．５ｇの分散体Ｃ２を得た。分散体Ｃ２の含水率、分散体Ｃ２における、ＱＤ２に対する水の質量比、ＱＤ２に対するＰＥＧ４００ＤＭＡの質量比を表２に示す。
比較例１において、ＥＣ－Ａ１．４ｇに代えてポリエチレングリコールジメタクリレート（ＰＥＧ４００ＤＭＡ；含水量１６６３ｐｐｍ）１．４ｇを用いた以外は、比較例１と同様の操作によりＱＤ２がＰＥＧ４００ＤＭＡ中に分散した、１．５ｇの分散体Ｃ２を得た。分散体Ｃ２の含水率、分散体Ｃ２における、ＱＤ２に対する水の質量比、ＱＤ２に対するＰＥＧ４００ＤＭＡの質量比を表２に示す。
【0156】
比較例３
比較例１において、ＥＣ－Ａ１．４ｇに代えてポリエチレングリコールジメタクリレート（ＰＥＧ２００ＤＭＡ；含水量１４９３ｐｐｍ）１．４ｇを用いた以外は、比較例１と同様の操作によりＱＤ２がＰＥＧ２００ＤＭＡ中に分散した、１．５ｇの分散体Ｃ３を得た。分散体Ｃ３の含水率、分散体Ｃ３における、ＱＤ２に対する水の質量比、ＱＤ２に対するＰＥＧ２００ＤＭＡの質量比を表２に示す。
比較例１において、ＥＣ－Ａ１．４ｇに代えてポリエチレングリコールジメタクリレート（ＰＥＧ２００ＤＭＡ；含水量１４９３ｐｐｍ）１．４ｇを用いた以外は、比較例１と同様の操作によりＱＤ２がＰＥＧ２００ＤＭＡ中に分散した、１．５ｇの分散体Ｃ３を得た。分散体Ｃ３の含水率、分散体Ｃ３における、ＱＤ２に対する水の質量比、ＱＤ２に対するＰＥＧ２００ＤＭＡの質量比を表２に示す。
【0157】
比較例４
実施例１において、ＩＢ－Ｘ１．４ｇに代えてＥＣ－Ａ１．４ｇ（含水量３３００ｐｐｍ）を用いた以外は、実施例１と同様の操作によりＱＤ１がＥＣ－Ａ中に分散した、１．５ｇの分散体Ｃ４を得た。分散体Ｃ４の含水率、分散体Ｃ４における、ＱＤ１に対する水の質量比、ＱＤ１に対するＥＣ－Ｍの質量比を表２に示す。
実施例１において、ＩＢ－Ｘ１．４ｇに代えてＥＣ－Ａ１．４ｇ（含水量３３００ｐｐｍ）を用いた以外は、実施例１と同様の操作によりＱＤ１がＥＣ－Ａ中に分散した、１．５ｇの分散体Ｃ４を得た。分散体Ｃ４の含水率、分散体Ｃ４における、ＱＤ１に対する水の質量比、ＱＤ１に対するＥＣ－Ｍの質量比を表２に示す。
【0158】
比較例５
実施例１において、ＩＢ－Ｘ１．４ｇに代えてコハク酸モノ（２－アクリロイルオキシエチル）（ＨＯＡ－ＭＳ；含水量５２０００ｐｐｍ）１．４ｇを用いた以外は、実施例１と同様の操作によりＱＤ１がＨＯＡ－ＭＳ中に分散した、１．５ｇの分散体Ｃ５を得た。分散体Ｃ５の含水率、分散体Ｃ５における、ＱＤ１に対する水の質量比、ＱＤ１に対するＨＯＡ－ＭＳの質量比を表２に示す。
実施例１において、ＩＢ－Ｘ１．４ｇに代えてコハク酸モノ（２－アクリロイルオキシエチル）（ＨＯＡ－ＭＳ；含水量５２０００ｐｐｍ）１．４ｇを用いた以外は、実施例１と同様の操作によりＱＤ１がＨＯＡ－ＭＳ中に分散した、１．５ｇの分散体Ｃ５を得た。分散体Ｃ５の含水率、分散体Ｃ５における、ＱＤ１に対する水の質量比、ＱＤ１に対するＨＯＡ－ＭＳの質量比を表２に示す。
【0159】
比較例６
実施例１において、ＩＢ－Ｘ１．４ｇに代えてヒドロキシエチルメタクリレート（ＨＥＭＡ；含水量６９９０ｐｐｍ）１．４ｇを用いた以外は、実施例１と同様の操作によりＱＤ１がＨＥＭＡ中に分散した、１．５ｇの分散体Ｃ６を得た。分散体Ｃ６の含水率、分散体Ｃ６における、ＱＤ１に対する水の質量比、ＱＤ１に対するＨＥＭＡの質量比を表２に示す。
実施例１において、ＩＢ－Ｘ１．４ｇに代えてヒドロキシエチルメタクリレート（ＨＥＭＡ；含水量６９９０ｐｐｍ）１．４ｇを用いた以外は、実施例１と同様の操作によりＱＤ１がＨＥＭＡ中に分散した、１．５ｇの分散体Ｃ６を得た。分散体Ｃ６の含水率、分散体Ｃ６における、ＱＤ１に対する水の質量比、ＱＤ１に対するＨＥＭＡの質量比を表２に示す。
【0160】
比較例７
実施例１において、ＩＢ－Ｘ１．４ｇに代えてポリエチレングリコールジメタクリレート（ＰＥＧ４００ＤＭＡ；含水量１６６３ｐｐｍ）１．４ｇを用いた以外は、実施例１と同様の操作によりＱＤ１がＰＥＧ４００ＤＭＡ中に分散した、１．５ｇの分散体Ｃ７を得た。分散体Ｃ７の含水率、分散体Ｃ７における、ＱＤ１に対する水の質量比、ＱＤ１に対するＰＥＧ４００ＤＭＡの質量比を表２に示す。
実施例１において、ＩＢ－Ｘ１．４ｇに代えてポリエチレングリコールジメタクリレート（ＰＥＧ４００ＤＭＡ；含水量１６６３ｐｐｍ）１．４ｇを用いた以外は、実施例１と同様の操作によりＱＤ１がＰＥＧ４００ＤＭＡ中に分散した、１．５ｇの分散体Ｃ７を得た。分散体Ｃ７の含水率、分散体Ｃ７における、ＱＤ１に対する水の質量比、ＱＤ１に対するＰＥＧ４００ＤＭＡの質量比を表２に示す。
【0161】
比較例８
実施例１において、ＩＢ－Ｘ１．４ｇに代えてポリエチレングリコールジメタクリレート（ＰＥＧ６００ＤＭＡ；含水量１９５８ｐｐｍ）１．４ｇを用いた以外は、実施例１と同様の操作によりＱＤ１がＰＥＧ６００ＤＭＡ中に分散した、１．５ｇの分散体Ｃ８を得た。分散体Ｃ８の含水率、分散体Ｃ８における、ＱＤ１に対する水の質量比、ＱＤ１に対するＰＥＧ６００ＤＭＡの質量比を表２に示す。
実施例１において、ＩＢ－Ｘ１．４ｇに代えてポリエチレングリコールジメタクリレート（ＰＥＧ６００ＤＭＡ；含水量１９５８ｐｐｍ）１．４ｇを用いた以外は、実施例１と同様の操作によりＱＤ１がＰＥＧ６００ＤＭＡ中に分散した、１．５ｇの分散体Ｃ８を得た。分散体Ｃ８の含水率、分散体Ｃ８における、ＱＤ１に対する水の質量比、ＱＤ１に対するＰＥＧ６００ＤＭＡの質量比を表２に示す。
【0162】
比較例９～１３
実施例１において、ＩＢ－Ｘ１．４ｇに代えて表２に示す各種モノマー１０ｇを用いた以外は、実施例１と同様の操作により、１０．１ｇの分散体Ｃ９～Ｃ１３を得た。なお、各種モノマーの含水量は、比較例４～８に記載したとおりである。分散体Ｃ９～Ｃ１３の含水率、ＱＤ１に対する水の質量比、ＱＤ１に対する各種モノマーの質量比を表２に示す。
実施例１において、ＩＢ－Ｘ１．４ｇに代えて表２に示す各種モノマー１０ｇを用いた以外は、実施例１と同様の操作により、１０．１ｇの分散体Ｃ９～Ｃ１３を得た。なお、各種モノマーの含水量は、比較例４～８に記載したとおりである。分散体Ｃ９～Ｃ１３の含水率、ＱＤ１に対する水の質量比、ＱＤ１に対する各種モノマーの質量比を表２に示す。
【0163】
Ｂ．各分散体の保管安定性試験
上記で得た各分散体について、調製直後、また４０℃でそれぞれ１日、２５日及び７０日保管した後の、各分散体の絶対量子収率（ＰＬＱＹ）、発光スペクトルのピーク波長（λmax）及び発光スペクトルの半値幅（ＦＷＨＭ）を、絶対ＰＬ量子収率測定装置（浜松ホトニクス社製、「Ｑｕａｎｔａｕｒｕｓ－ＱＤ」）を使用して、励起波長４５０ｎｍにより測定した。結果を表２に示す。
上記で得た各分散体について、調製直後、また４０℃でそれぞれ１日、２５日及び７０日保管した後の、各分散体の絶対量子収率（ＰＬＱＹ）、発光スペクトルのピーク波長（λmax）及び発光スペクトルの半値幅（ＦＷＨＭ）を、絶対ＰＬ量子収率測定装置（浜松ホトニクス社製、「Ｑｕａｎｔａｕｒｕｓ－ＱＤ」）を使用して、励起波長４５０ｎｍにより測定した。結果を表２に示す。
【0164】
【表2】
【0165】
実施例１～１０の分散体は、いずれも、調製直後に対する７０日保管後のＰＬＱＹ維持率が６３％以上である上に、７０日保管後のλmax及びＦＷＨＭが、調製直後と同程度である。このことから、実施例１～１０の分散体は、耐久性に優れる上に、長期安定性に優れることが明らかである。
【0166】
一方、比較例１～１３の分散体は、調製直後に対する７０日保管後のＰＬＱＹ維持率が実施例１～１０よりも劣っているか、或いは、７０日保管後のλmaxが調製直後よりも短波長側にシフトしていたり、ＦＷＨＭが広がっている。このことから、比較例１～１３の分散体は、耐久性及び／又は長期安定性が不十分である。
【0167】
Ｃ．インク組成物の調製例
調製例１
調製直後の１．５ｇの分散体１と、光重合性化合物としてトリメチロールプロパントリメタクリレート（ＴＭＰＴＭＡ；共栄社化学株式会社製「ライトエステルＴＭＰ」、含水量２００ｐｐｍ）０．５ｇと、光重合開始剤としてジフェニル（２，４，６－トリメトキシベンゾイル）ホスフィンオキシド（ＴＰＯ；ＢＡＳＦジャパン株式会社製「Ｏｍｎｉｒａｄ ＴＰＯ」）０．０７ｇとを混合して溶解させ、メンブレンフィルター（孔径１．０μｍ）により濾過して、インク組成物１－１を調製した。
前述した分散体の保管安定性試験において得た分散体１を用いて、上記と同様にして、４０℃で１日保管後の分散体１よりインク組成物１－２を、４０℃で２５日保管後の分散体１よりインク組成物１－３を、及び４０℃で７０日保管後の分散体１よりインク組成物１－４をそれぞれ調製した。
調製例１
調製直後の１．５ｇの分散体１と、光重合性化合物としてトリメチロールプロパントリメタクリレート（ＴＭＰＴＭＡ；共栄社化学株式会社製「ライトエステルＴＭＰ」、含水量２００ｐｐｍ）０．５ｇと、光重合開始剤としてジフェニル（２，４，６－トリメトキシベンゾイル）ホスフィンオキシド（ＴＰＯ；ＢＡＳＦジャパン株式会社製「Ｏｍｎｉｒａｄ ＴＰＯ」）０．０７ｇとを混合して溶解させ、メンブレンフィルター（孔径１．０μｍ）により濾過して、インク組成物１－１を調製した。
前述した分散体の保管安定性試験において得た分散体１を用いて、上記と同様にして、４０℃で１日保管後の分散体１よりインク組成物１－２を、４０℃で２５日保管後の分散体１よりインク組成物１－３を、及び４０℃で７０日保管後の分散体１よりインク組成物１－４をそれぞれ調製した。
【0168】
調製例２～５
調製例１において、分散体１に代えて分散体２～５をそれぞれ用いた以外は、調製例１と同様にして、各インク組成物（２－１～２－４）～（５－１～５－４）を調製した。
調製例１において、分散体１に代えて分散体２～５をそれぞれ用いた以外は、調製例１と同様にして、各インク組成物（２－１～２－４）～（５－１～５－４）を調製した。
【0169】
調製例６
調製直後の１０．１ｇの分散体６と、光重合性化合物としてＴＭＰＴＭＡ（含水量２００ｐｐｍ）を３．５ｇと、光重合開始剤としてＴＰＯを０．５０ｇとを混合して溶解させ、メンブレンフィルター（孔径１．０μｍ）により濾過して、インク組成物６－１を調製した。
前述した分散体の保管安定性試験において得た分散体６を用いて、上記と同様にして、４０℃で１日保管後の分散体６よりインク組成物６－２を、４０℃で２５日保管後の分散体６よりインク組成物６－３を、及び４０℃で７０日保管後の分散体６よりインク組成物６－４をそれぞれ調製した。
調製直後の１０．１ｇの分散体６と、光重合性化合物としてＴＭＰＴＭＡ（含水量２００ｐｐｍ）を３．５ｇと、光重合開始剤としてＴＰＯを０．５０ｇとを混合して溶解させ、メンブレンフィルター（孔径１．０μｍ）により濾過して、インク組成物６－１を調製した。
前述した分散体の保管安定性試験において得た分散体６を用いて、上記と同様にして、４０℃で１日保管後の分散体６よりインク組成物６－２を、４０℃で２５日保管後の分散体６よりインク組成物６－３を、及び４０℃で７０日保管後の分散体６よりインク組成物６－４をそれぞれ調製した。
【0170】
調製例７～１０
調製例６において、分散体６に代えて分散体７～１０をそれぞれ用いた以外は、調製例１と同様にして、各インク組成物（７－１～７－４）～（１０－１～１０－４）を調製した。
調製例６において、分散体６に代えて分散体７～１０をそれぞれ用いた以外は、調製例１と同様にして、各インク組成物（７－１～７－４）～（１０－１～１０－４）を調製した。
【0171】
調製例１１～１８
調製例１において、分散体１に代えて分散体Ｃ１～Ｃ８をそれぞれ用いた以外は、調製例１と同様にして、各インク組成物（Ｃ１－１～Ｃ１－４）～（Ｃ８－１～Ｃ８－４）を調製した。
調製例１において、分散体１に代えて分散体Ｃ１～Ｃ８をそれぞれ用いた以外は、調製例１と同様にして、各インク組成物（Ｃ１－１～Ｃ１－４）～（Ｃ８－１～Ｃ８－４）を調製した。
【0172】
調製例１９～２３
調製例６において、分散体６に代えて分散体Ｃ９～Ｃ１３をそれぞれ用いた以外は、調製例１と同様にして、各インク組成物（Ｃ９－１～Ｃ９－４）～（Ｃ１３－１～Ｃ１３－４）を調製した。
調製例６において、分散体６に代えて分散体Ｃ９～Ｃ１３をそれぞれ用いた以外は、調製例１と同様にして、各インク組成物（Ｃ９－１～Ｃ９－４）～（Ｃ１３－１～Ｃ１３－４）を調製した。
【0173】
Ｄ．光変換層の製造及び評価
Ｄ－１．光変換層の製造
調製例１～２３で得た各インク組成物を、ガラス基板ＥａｇｌｅＸＧ（コーニング社製）に滴下し、もう一枚のガラス基板ＥａｇｌｅＸＧを重ね置き、窒素雰囲気下、主波長が３９５ｎｍのＵＶ光を、積算光量が２０Ｊ／ｃｍ２になるように照射することによって、各インク組成物の硬化物からなる、発光性粒子を含有する厚み１００μｍの光変換層を製造した。
Ｄ－１．光変換層の製造
調製例１～２３で得た各インク組成物を、ガラス基板ＥａｇｌｅＸＧ（コーニング社製）に滴下し、もう一枚のガラス基板ＥａｇｌｅＸＧを重ね置き、窒素雰囲気下、主波長が３９５ｎｍのＵＶ光を、積算光量が２０Ｊ／ｃｍ２になるように照射することによって、各インク組成物の硬化物からなる、発光性粒子を含有する厚み１００μｍの光変換層を製造した。
【0174】
Ｄ－２．発光特性評価
各光変換層について、絶対量子収率（ＰＬＱＹ）、発光スペクトルのピーク波長（λmax）及び発光スペクトルの半値幅（ＦＷＨＭ）を、絶対ＰＬ量子収率測定装置（浜松ホトニクス社製、「Ｑｕａｎｔａｕｒｕｓ－ＱＹ」）を用いて、励起波長４５０ｎｍにより測定した。結果を表３に示す。
各光変換層について、絶対量子収率（ＰＬＱＹ）、発光スペクトルのピーク波長（λmax）及び発光スペクトルの半値幅（ＦＷＨＭ）を、絶対ＰＬ量子収率測定装置（浜松ホトニクス社製、「Ｑｕａｎｔａｕｒｕｓ－ＱＹ」）を用いて、励起波長４５０ｎｍにより測定した。結果を表３に示す。
【0175】
【表3】
【0176】
調製例１～１０のインク組成物は、実施例１～１０の分散体のうちのいずれかを含む。調製例１～１０のインク組成物より形成した光変換層は、７０日保管後の分散体を含むインク組成物を用いて形成した光変換層であっても、ＰＬＱＹが４５％以上である上に、λmax及びＦＷＨＭがいずれも同程度である。このことから、実施例１～１０の分散体は、７０日保管後にインク組成物として調製され、該組成物を用いて光変換層を形成した場合であっても、優れた光学特性を発現する光変換層を形成できることが明らかである。
【0177】
一方、調製例１１～１８のインク組成物は、比較例１～１３の分散体のうちのいずれかを含む。調製例１～１０のインク組成物より形成した光変換層は、７０日保管後の分散体を含むインク組成物を用いて形成した光変換層におけるＰＬＱＹが４５％未満である。或いは、７０日保管後の分散体を含むインク組成物を用いて形成した光変換層は、調製直後の分散体を含むインク組成物を用いて形成した光変換層と比較して、λmaxが短波長側にシフトしていたり、ＦＷＨＭが広がっている。このことから、比較例１～１３の分散体は、７０日保管後にインク組成物として調製され、該組成物を用いて光変換層を形成した場合に、優れた光学特性が得られた光変換層を形成できないことが明らかである。
【0178】
上記の実施例のとおり、本発明の分散体は保存安定性に優れる。また、本発明の分散体から形成した光変換層は良好な発光特性を示す。
【産業上の利用可能性】
【0179】
本発明の分散体は発光特性の変化が少なく長期保存性に優れる。そのため、光変換層、カラーフィルター、波長変換フィルム、さらにはカラー表示デバイス、液晶表示素子等の各種デバイスへ適用できる。
【符号の説明】
【0180】
１００ 発光素子
２００ ＥＬ光源部
１ 下基板
２ 陽極
３ 正孔注入層
４ 正孔輸送層
５ 発光層
６ 電子輸送層
７ 電子注入層
８ 陰極
９ 封止層
１０ 充填層
１１ 保護層
１２ 光変換層
１３ 上基板
１４ ＥＬ層
２０ 画素部
２０ａ 第１の画素部
２０ｂ 第２の画素部
２０ｃ 第３の画素部
２１ａ 第１光散乱粒子
２１ｂ 第２光散乱粒子
２１ｃ 第３光散乱粒子
２２ａ 第１硬化成分
２２ｂ 第２硬化成分
２２ｃ 第３硬化成分
９０ａ 第１発光性粒子
９０ｂ 第２発光性粒子
３０ 遮光部
４０ 積層構造体
４１ 第１の基板
４２ 第２の基板
４３ 封止層
４４ 波長変換フィルム
４４１ 光散乱粒子
４４２ 発光性粒子
７０１ コンデンサ
７０２ 駆動トランジスタ
７０３ 電源線
７０５ 共通電極
７０６ 信号線
７０７ 走査線
７０８ スイッチングトランジスタ
Ｃ１ 信号線駆動回路
Ｃ２ 走査線駆動回路
Ｃ３ 制御回路
ＰＥ 画素電極
２００ ＥＬ光源部
１ 下基板
２ 陽極
３ 正孔注入層
４ 正孔輸送層
５ 発光層
６ 電子輸送層
７ 電子注入層
８ 陰極
９ 封止層
１０ 充填層
１１ 保護層
１２ 光変換層
１３ 上基板
１４ ＥＬ層
２０ 画素部
２０ａ 第１の画素部
２０ｂ 第２の画素部
２０ｃ 第３の画素部
２１ａ 第１光散乱粒子
２１ｂ 第２光散乱粒子
２１ｃ 第３光散乱粒子
２２ａ 第１硬化成分
２２ｂ 第２硬化成分
２２ｃ 第３硬化成分
９０ａ 第１発光性粒子
９０ｂ 第２発光性粒子
３０ 遮光部
４０ 積層構造体
４１ 第１の基板
４２ 第２の基板
４３ 封止層
４４ 波長変換フィルム
４４１ 光散乱粒子
４４２ 発光性粒子
７０１ コンデンサ
７０２ 駆動トランジスタ
７０３ 電源線
７０５ 共通電極
７０６ 信号線
７０７ 走査線
７０８ スイッチングトランジスタ
Ｃ１ 信号線駆動回路
Ｃ２ 走査線駆動回路
Ｃ３ 制御回路
ＰＥ 画素電極
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
