(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024091548
(43)【公開日】2024-07-04
(54)【発明の名称】液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶表示素子
(51)【国際特許分類】
G02F 1/1337 20060101AFI20240627BHJP
C08G 73/10 20060101ALI20240627BHJP
【ＦＩ】
G02F1/1337 525
C08G73/10
【審査請求】未請求
【請求項の数】19
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2023213856
(22)【出願日】2023-12-19
(31)【優先権主張番号】202211665747.X
(32)【優先日】2022-12-23
(33)【優先権主張国・地域又は機関】CN
(71)【出願人】
【識別番号】000003986
【氏名又は名称】日産化学株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】110000095
【氏名又は名称】弁理士法人Ｔ．Ｓ．パートナーズ
(74)【代理人】
【識別番号】100082887
【弁理士】
【氏名又は名称】小川 利春
(74)【代理人】
【識別番号】100181331
【弁理士】
【氏名又は名称】金 鎭文
(74)【代理人】
【識別番号】100183597
【弁理士】
【氏名又は名称】比企野 健
(74)【代理人】
【識別番号】100090918
【弁理士】
【氏名又は名称】泉名 謙治
(72)【発明者】
【氏名】作本 直樹
(72)【発明者】
【氏名】王 裕
【テーマコード（参考）】
2H290
4J043
【Ｆターム（参考）】
2H290AA15
2H290AA33
2H290AA53
2H290AA73
2H290BF13
2H290BF24
2H290BF54
2H290DA01
2H290DA03
4J043PA04
4J043PA19
4J043SA62
4J043SB03
4J043SB05
4J043TA22
4J043TA71
4J043TB01
4J043TB03
4J043UA022
4J043UA121
4J043UA131
4J043UA132
4J043UA141
4J043UB012
4J043UB121
4J043UB131
4J043UB161
4J043UB221
4J043UB241
4J043UB401
4J043UB402
4J043VA041
4J043VA042
4J043VA051
4J043XA04
4J043XA19
4J043ZB23
(57)【要約】
【課題】アミド交換反応が抑制され、且つ、ＡＣ残像に対する耐性に優れた、２種類以上のポリアミック酸を含有する液晶配向剤、該液晶配向剤から得られる液晶配向膜、及び液晶表示素子を提供する。
【解決手段】アミド交換反応が抑制され、且つ、ＡＣ残像に対する耐性に優れた、２種類以上のポリイミド前駆体を含有する液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶表示素子を提供する。かかる液晶配向剤は、２種類以上の重合体を含有する重合体成分（Ｐ）、及び（Ｃ）成分を含有する液晶配向剤であって、前記重合体成分（Ｐ）が、特定の条件（i）～（iii）の少なくとも一つを満たし、（Ｃ）成分の含有量が、液晶配向剤中の全成分を１００質量％とした場合、０．１質量％以上、且つ、１１質量％未満であり、（Ｃ）成分：分子内にヒドロキシ基を１～４つ有し、且つ、カルボキシ基を１～４つ有する炭素数１～２０の脂肪族化合物（ＣＨＡ）。
【選択図】なし
【解決手段】アミド交換反応が抑制され、且つ、ＡＣ残像に対する耐性に優れた、２種類以上のポリイミド前駆体を含有する液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶表示素子を提供する。かかる液晶配向剤は、２種類以上の重合体を含有する重合体成分（Ｐ）、及び（Ｃ）成分を含有する液晶配向剤であって、前記重合体成分（Ｐ）が、特定の条件（i）～（iii）の少なくとも一つを満たし、（Ｃ）成分の含有量が、液晶配向剤中の全成分を１００質量％とした場合、０．１質量％以上、且つ、１１質量％未満であり、（Ｃ）成分：分子内にヒドロキシ基を１～４つ有し、且つ、カルボキシ基を１～４つ有する炭素数１～２０の脂肪族化合物（ＣＨＡ）。
【選択図】なし
【特許請求の範囲】
【請求項1】
２種類以上の重合体を含有する重合体成分（Ｐ）、及び（Ｃ）成分を含有する液晶配向剤であって、
前記重合体成分（Ｐ）が、以下の条件（i）～（iii）の少なくとも一つを満たし、
（Ｃ）成分の含有量が、液晶配向剤中の全成分を１００質量％とした場合、０．１質量％以上、且つ、１１質量％未満である、前記液晶配向剤。
（i）１種以上の構造単位を有し、下記式（Ａ１）で表される構造単位（ａ１）を有するポリイミド前駆体（Ａ）を２種類以上含む、重合体成分（Ｐ１）。
（ii）前記ポリイミド前駆体（Ａ）と異なる重合体であって、１種以上の構造単位を有し、下記式（Ｂ１）で表される構造単位（ｂ１）を有するポリイミド前駆体（Ｂ）を２種類以上含む、重合体成分（Ｐ２）。
（iii）前記ポリイミド前駆体（Ａ）と、前記ポリイミド前駆体（Ｂ）と、を含む、重合体成分（Ｐ３）。
（式（Ａ１）において、Ｘａ１は下記式（Ｘａ１－１）～（Ｘａ１－８）からなる群から選ばれる４価の有機基を表し、Ｙａ１は２価の有機基を表す。）
（式（Ｘａ１－１）～（Ｘａ１－３）において、Ｒ１からＲ１５はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～６のアルキル基、炭素数２～６のアルケニル基、炭素数２～６のアルキニル基、フッ素原子を含有する炭素数１～６の１価の有機基、又はフェニル基を表し、同一でも異なってもよい。＊は結合手を表す。）
（式（Ｂ１）において、Ｘｂ１は炭素数６～３０の芳香族基を有する４価の有機基を表し、Ｘｂ１と結合するカルボニル炭素の少なくとも一つはＸｂ１の芳香族基と結合する。Ｙｂ１は２価の有機基を表す。）
（Ｃ）成分：分子内にヒドロキシ基を１～４つ有し、且つ、カルボキシ基を１～４つ有する炭素数１～２０の脂肪族化合物（ＣＨＡ）。
前記重合体成分（Ｐ）が、以下の条件（i）～（iii）の少なくとも一つを満たし、
（Ｃ）成分の含有量が、液晶配向剤中の全成分を１００質量％とした場合、０．１質量％以上、且つ、１１質量％未満である、前記液晶配向剤。
（i）１種以上の構造単位を有し、下記式（Ａ１）で表される構造単位（ａ１）を有するポリイミド前駆体（Ａ）を２種類以上含む、重合体成分（Ｐ１）。
（ii）前記ポリイミド前駆体（Ａ）と異なる重合体であって、１種以上の構造単位を有し、下記式（Ｂ１）で表される構造単位（ｂ１）を有するポリイミド前駆体（Ｂ）を２種類以上含む、重合体成分（Ｐ２）。
（iii）前記ポリイミド前駆体（Ａ）と、前記ポリイミド前駆体（Ｂ）と、を含む、重合体成分（Ｐ３）。
【化1】
【化2】
【化3】
（Ｃ）成分：分子内にヒドロキシ基を１～４つ有し、且つ、カルボキシ基を１～４つ有する炭素数１～２０の脂肪族化合物（ＣＨＡ）。
【請求項2】
前記化合物（ＣＨＡ）が、炭素数１～１９の脂肪族炭化水素の少なくとも１～４つの水素原子がヒドロキシ基で置換され、且つ、別の１～４つの水素原子がカルボキシ基で置換された化合物（ｃ１ＨＡ）；化合物（ｃ１ＨＡ）の異なる２個の炭素原子に結合する第２級炭素原子（－ＣＨ２－）の一部がそれぞれ独立に－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、又は－Ｃ（＝Ｏ）－で置き換えられてなる化合物（ｃ２ＨＡ）；化合物（ｃ１ＨＡ）が有する炭素－炭素結合の間に－Ｏ－が挿入されてなる化合物（ｃ３ＨＡ－１）、又は化合物（ｃ２ＨＡ）が有するカルボニル炭素以外の炭素－炭素結合の間に－Ｏ－が挿入されてなる化合物（ｃ３ＨＡ－２）からから選ばれる、請求項１に記載の液晶配向剤。
但し、化合物（ｃ１ＨＡ）、化合物（ｃ２ＨＡ）、化合物（ｃ３ＨＡ－１）及び化合物（ｃ３ＨＡ－２）の炭素数は、２～２０である。
但し、化合物（ｃ１ＨＡ）、化合物（ｃ２ＨＡ）、化合物（ｃ３ＨＡ－１）及び化合物（ｃ３ＨＡ－２）の炭素数は、２～２０である。
【請求項3】
前記化合物（ＣＨＡ）が有するカルボキシ基の数が１である、請求項１に記載の液晶配向剤。
【請求項4】
前記化合物（ＣＨＡ）が、α－ヒドロキシ酸、β－ヒドロキシ酸、又はその両方に該当する化合物である、請求項１に記載の液晶配向剤。
【請求項5】
前記（Ｃ）成分が、グリコール酸、乳酸、リンゴ酸、酒石酸、クエン酸から選ばれる少なくとも１種類の化合物である、請求項１に記載の液晶配向剤。
【請求項6】
前記式（Ａ１）において、Ｘａ１が上記式（Ｘａ１－１）で表される４価の有機基である、請求項１又は２に記載の液晶配向剤。
【請求項7】
前記式（Ａ１）において、Ｘａ１が下記式（Ｘａ１－１－１）～（Ｘａ１－１－５）からなる群から選ばれる４価の有機基である、請求項１又は２に記載の液晶配向剤。
（＊は結合手を表す。）
【化4】
【請求項8】
前記式（Ａ１）において、Ｙａ１が下記式（３）～（４）からなる群から選ばれる２価の有機基である、請求項１又は２に記載の液晶配向剤。
（式（３）及び（４）において、Ｒ３、Ｒ４、及びＲ４’は、それぞれ独立して、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、保護されてもよいアミノ基、チオール基、ニトロ基、リン酸基、又は炭素数１～２０の１価の有機基を表す。
Ａ４は、エステル結合、アミド結合、チオエステル結合、又は炭素数２～２０の２価の有機基を表す。但し、１，４－フェニレン基、該フェニレン基上の水素原子の１～４つがＲ４、及びＲ４’で置換されている２価の有機基、又はこれらの２価の有機基同士が連結した２価の有機基を除く。
ａ３、ａ４、及びａ４’は、それぞれ独立して０～４の整数である。
ａは、１～４の整数である。ｂ及びｃはそれぞれ独立して１～２の整数である。Ｒ３、Ｒ４、Ｒ４’が複数存在する場合、Ｒ３、Ｒ４、及びＲ４’の構造は同一でも異なってもよい。ａ３、ａ４、及びａ４’が複数存在する場合、それぞれ同一でも異なっていてもよい。＊は結合手を表す。）
【化5】
Ａ４は、エステル結合、アミド結合、チオエステル結合、又は炭素数２～２０の２価の有機基を表す。但し、１，４－フェニレン基、該フェニレン基上の水素原子の１～４つがＲ４、及びＲ４’で置換されている２価の有機基、又はこれらの２価の有機基同士が連結した２価の有機基を除く。
ａ３、ａ４、及びａ４’は、それぞれ独立して０～４の整数である。
ａは、１～４の整数である。ｂ及びｃはそれぞれ独立して１～２の整数である。Ｒ３、Ｒ４、Ｒ４’が複数存在する場合、Ｒ３、Ｒ４、及びＲ４’の構造は同一でも異なってもよい。ａ３、ａ４、及びａ４’が複数存在する場合、それぞれ同一でも異なっていてもよい。＊は結合手を表す。）
【請求項9】
前記式（Ｂ１）において、Ｘｂ１が下記式（Ｘｂ１－１）～（Ｘｂ１－１３）からなる群から選ばれる４価の有機基である、請求項１又は２に記載の液晶配向剤。
（＊は結合手を表す。）
【化6】
【請求項10】
前記式（Ｂ１）において、Ｘｂ１が、前記式（Ｘｂ１－１）～（Ｘｂ１－７）からなる群から選ばれる４価の有機基である、請求項１又は２に記載の液晶配向剤。
【請求項11】
重合体成分（Ｐ）を構成する重合体が、酸脱離性基を有しない、請求項１に記載の液晶配向剤。
【請求項12】
請求項１～１１のいずれか１項に記載の液晶配向剤から得られる液晶配向膜。
【請求項13】
下記の工程（１）～（３）を含む、液晶配向膜の製造方法。
工程（１）：請求項１～１１のいずれか１項に記載の液晶配向剤を基板上に塗布する工程
工程（２）：塗布した前記液晶配向剤を焼成する工程
工程（３）：工程（２）で得られた前記膜に配向処理する工程
工程（１）：請求項１～１１のいずれか１項に記載の液晶配向剤を基板上に塗布する工程
工程（２）：塗布した前記液晶配向剤を焼成する工程
工程（３）：工程（２）で得られた前記膜に配向処理する工程
【請求項14】
前記配向処理が、光配向処理である、請求項１３に記載の液晶配向膜の製造方法。
【請求項15】
工程（３）の後に、更に下記の焼成工程を含む、請求項１４に記載の液晶配向膜の製造方法。
焼成工程：１５０℃～３００℃で焼成する工程。
焼成工程：１５０℃～３００℃で焼成する工程。
【請求項16】
請求項１３～１５のいずれか１項に記載の液晶配向膜の製造方法により形成された、液晶配向膜。
【請求項17】
請求項１２に記載の液晶配向膜を具備する液晶表示素子。
【請求項18】
請求項１６に記載の液晶配向膜を具備する液晶表示素子。
【請求項19】
請求項１２又は１６に記載の液晶配向膜を形成することを含む、液晶表示素子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶表示素子に関する。
【背景技術】
【0002】
液晶表示素子は、例えば、素子基板とカラーフィルタ基板との間に挟持された液晶層、液晶層に電界を印加する画素電極及び共通電極、液晶層の液晶分子の配向性を制御する液晶配向膜、画素電極に供給される電気信号をスイッチングする薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）等を備えている。液晶分子の駆動方式としては、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）方式、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）方式等の縦電界方式や、ＩＰＳ（Ｉｎ－Ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）方式、ＦＦＳ（Ｆｒｉｎｇｅ Ｆｉｅｌｄ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）方式等の横電界方式が知られている。
【0003】
現在、工業的に最も普及している液晶配向膜は、電極基板上に形成された、ポリアミック酸及び／又はこれをイミド化したポリイミドに代表される重合体からなる膜の表面を、綿、ナイロン、ポリエステル等の布で一方向に擦る、いわゆるラビング処理を行うことで作製されている（例えば、特許文献１参照）。ラビング処理は、簡便で生産性に優れた工業的に有用な方法である。一方、液晶表示素子の高性能化、高精細化、大型化に伴い、ラビング処理に代わる配向処理方法として、偏光された放射線を照射することにより、液晶配向能を付与する光配向法が知られている。光配向法は、光異性化反応を利用したもの、光架橋反応を利用したもの、光分解反応を利用したもの等が提案されている（例えば、特許文献２、非特許文献１参照）。
また、液晶配向膜を形成する液晶配向剤として、特性の異なる２種類以上のポリアミック酸を含有する液晶配向剤が知られている。そのような液晶配向剤では、調製、保存の過程でアミド交換反応が進行し、ポリマー組成が平均化されてしまう、といったことが知られている。（例えば、特許文献３参照）。
また、液晶配向膜を形成する液晶配向剤として、特性の異なる２種類以上のポリアミック酸を含有する液晶配向剤が知られている。そのような液晶配向剤では、調製、保存の過程でアミド交換反応が進行し、ポリマー組成が平均化されてしまう、といったことが知られている。（例えば、特許文献３参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【特許文献1】ＷＯ２０１６／０６３８３４号公報
【特許文献2】日本特開２０１１－１０７２６６号公報
【特許文献3】ＷＯ２０１２／０５７３３７号公報
【非特許文献】
【0005】
【非特許文献1】「液晶光配向膜」木戸脇、市村 機能材料 １９９７年１１月号 Ｖｏｌ．１７、 Ｎｏ．１１ １３～２２ページ
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
近年では、大画面で高精細な液晶表示素子が主体となり、またスマートフォン、タブレットＰＣやカーナビゲーションといった小型の表示端末の普及が進み、液晶表示素子に対する高品質化の要求は従来よりも増してさらに高まっている。特に、ＩＰＳ方式やＦＦＳ方式に代表される液晶表示素子に用いられる液晶配向膜には、長期交流駆動によって発生する残像（以下、ＡＣ残像ともいう）を抑制するための、高い配向規制力が必要とされる。
特性の異なる２種類以上のポリアミック酸を含有する液晶配向剤を用いる場合、製造コストの観点で好ましい一方、アミド交換反応の問題が発生するため、上記に示すような高いレベルの要求に応えられるものが必ずしも得られない、といった問題が発生する。
特性の異なる２種類以上のポリアミック酸を含有する液晶配向剤を用いる場合、製造コストの観点で好ましい一方、アミド交換反応の問題が発生するため、上記に示すような高いレベルの要求に応えられるものが必ずしも得られない、といった問題が発生する。
【0007】
以上のようなことから、本発明の目的は、アミド交換反応が抑制され、且つ、ＡＣ残像に対する耐性に優れた、２種類以上のポリアミック酸を含有する液晶配向剤、該液晶配向剤から得られる液晶配向膜、及び液晶表示素子を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0008】
本発明者は、上記課題を達成するために鋭意研究を行った結果、特定のテトラカルボン酸残基を有する構造単位を含む第一のポリイミド前駆体と、特定のテトラカルボン酸残基を有する第二のポリイミド前駆体と、ヒドロキシ基を有する特定の化合物と、を含む液晶配向剤を用いることが、上記の目的を達成するために極めて有効であることを見出し、本発明を完成させた。
【0009】
本発明は、以下の態様を包含するものである。
２種類以上の重合体を含有する重合体成分（Ｐ）、及び（Ｃ）成分を含有する液晶配向剤であって、
前記重合体成分（Ｐ）が、以下の条件（i）～（iii）の少なくとも一つを満たし、
（Ｃ）成分の含有量が、液晶配向剤中の全成分を１００質量％とした場合、０．１質量％以上、且つ、１１質量％未満である、前記液晶配向剤。
（i）１種以上の構造単位を有し、下記式（Ａ１）で表される構造単位（ａ１）を有するポリイミド前駆体（Ａ）を２種類以上含む、重合体成分（Ｐ１）。
（ii）上記ポリイミド前駆体（Ａ）と異なる重合体であって、１種以上の構造単位を有し、下記式（Ｂ１）で表される構造単位（ｂ１）を有するポリイミド前駆体（Ｂ）を２種類以上含む、重合体成分（Ｐ２）。
（iii）上記ポリイミド前駆体（Ａ）と、上記ポリイミド前駆体（Ｂ）と、を含む、重合体成分（Ｐ３）。
（式（Ａ１）において、Ｘａ１は下記式（Ｘａ１－１）～（Ｘａ１－８）からなる群から選ばれる４価の有機基を表し、Ｙａ１は２価の有機基を表す。）
（式（Ｘａ１－１）～（Ｘａ１－３）において、Ｒ１からＲ１５はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～６のアルキル基、炭素数２～６のアルケニル基、炭素数２～６のアルキニル基、フッ素原子を含有する炭素数１～６の１価の有機基、又はフェニル基を表し、同一でも異なってもよい。＊は結合手を表す。）
（式（Ｂ１）において、Ｘｂ１は炭素数６～３０の芳香族基を有する４価の有機基を表し、Ｘｂ１と結合するカルボニル炭素の少なくとも一つはＸｂ１の芳香族基と結合する。Ｙｂ１は２価の有機基を表す。）
（Ｃ）成分：分子内にヒドロキシ基を１～４つ有し、且つ、カルボキシ基を１～４つ有する炭素数１～２０の脂肪族化合物（ＣＨＡ）
なお、本明細書全体を通して、以下の用語及び略号の意味は、それぞれ、以下のとおりである。ハロゲン原子は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などである。
＊は、いずれの場合も、結合手を表す。また、Ｂｏｃは、ｔｅｒｔ－ブトキシカルボニル基を表し、Ｆｍｏｃは、９－フルオレニルメトキシカルボニル基を表す。
２種類以上の重合体を含有する重合体成分（Ｐ）、及び（Ｃ）成分を含有する液晶配向剤であって、
前記重合体成分（Ｐ）が、以下の条件（i）～（iii）の少なくとも一つを満たし、
（Ｃ）成分の含有量が、液晶配向剤中の全成分を１００質量％とした場合、０．１質量％以上、且つ、１１質量％未満である、前記液晶配向剤。
（i）１種以上の構造単位を有し、下記式（Ａ１）で表される構造単位（ａ１）を有するポリイミド前駆体（Ａ）を２種類以上含む、重合体成分（Ｐ１）。
（ii）上記ポリイミド前駆体（Ａ）と異なる重合体であって、１種以上の構造単位を有し、下記式（Ｂ１）で表される構造単位（ｂ１）を有するポリイミド前駆体（Ｂ）を２種類以上含む、重合体成分（Ｐ２）。
（iii）上記ポリイミド前駆体（Ａ）と、上記ポリイミド前駆体（Ｂ）と、を含む、重合体成分（Ｐ３）。
【化1】
【化2】
【化3】
（Ｃ）成分：分子内にヒドロキシ基を１～４つ有し、且つ、カルボキシ基を１～４つ有する炭素数１～２０の脂肪族化合物（ＣＨＡ）
なお、本明細書全体を通して、以下の用語及び略号の意味は、それぞれ、以下のとおりである。ハロゲン原子は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などである。
＊は、いずれの場合も、結合手を表す。また、Ｂｏｃは、ｔｅｒｔ－ブトキシカルボニル基を表し、Ｆｍｏｃは、９－フルオレニルメトキシカルボニル基を表す。
【発明の効果】
【0010】
本発明によれば、アミド交換反応が抑制され、且つ、ＡＣ残像に対する耐性に優れた、２種類以上のポリイミド前駆体を含有する液晶配向剤、該液晶配向剤から得られる液晶配向膜、及び液晶表示素子を得ることができる。また、該液晶表示素子は、表示不良の少ない高い表示品位を有する。
本発明の上記効果が得られるメカニズムは必ずしも明らかではないが、ほぼ次のように推定される。即ち、ヒドロキシ基及びカルボキシ基の両方を有する化合物を添加することにより、アミック酸中のカルボン酸周辺の環境を変化させ、アミド交換反応を抑制したことで、液晶配向能に優れるポリイミド前駆体が本来の機能を発現し、上記の効果が得られたと考えられる。
本発明の上記効果が得られるメカニズムは必ずしも明らかではないが、ほぼ次のように推定される。即ち、ヒドロキシ基及びカルボキシ基の両方を有する化合物を添加することにより、アミック酸中のカルボン酸周辺の環境を変化させ、アミド交換反応を抑制したことで、液晶配向能に優れるポリイミド前駆体が本来の機能を発現し、上記の効果が得られたと考えられる。
【発明を実施するための形態】
【0011】
＜重合体成分（Ｐ）＞
本発明の液晶配向剤に含有される重合体成分（Ｐ）は、２種類以上の重合体を含有し、且つ、以下の条件（i）～（iii）の少なくとも一つを満たす、重合体成分である。
（i）１種以上の構造単位を有し、上記式（Ａ１）で表される構造単位（ａ１）を有するポリイミド前駆体（Ａ）を２種類以上含む、重合体成分（Ｐ１）。
（ii）上記ポリイミド前駆体（Ａ）と異なる重合体であって、１種以上の構造単位を有し、上記式（Ｂ１）で表される構造単位（ｂ１）を有するポリイミド前駆体（Ｂ）を２種類以上含む、重合体成分（Ｐ２）。
（iii）上記ポリイミド前駆体（Ａ）と、上記ポリイミド前駆体（Ｂ）と、を含む、重合体成分（Ｐ３）。
本発明の液晶配向剤に含有される重合体成分（Ｐ）は、２種類以上の重合体を含有し、且つ、以下の条件（i）～（iii）の少なくとも一つを満たす、重合体成分である。
（i）１種以上の構造単位を有し、上記式（Ａ１）で表される構造単位（ａ１）を有するポリイミド前駆体（Ａ）を２種類以上含む、重合体成分（Ｐ１）。
（ii）上記ポリイミド前駆体（Ａ）と異なる重合体であって、１種以上の構造単位を有し、上記式（Ｂ１）で表される構造単位（ｂ１）を有するポリイミド前駆体（Ｂ）を２種類以上含む、重合体成分（Ｐ２）。
（iii）上記ポリイミド前駆体（Ａ）と、上記ポリイミド前駆体（Ｂ）と、を含む、重合体成分（Ｐ３）。
【0012】
重合体成分（Ｐ）は、酸脱離性基を有しない重合体で構成されていてもよい。ここで、酸脱離性基とは、酸により開裂する結合を有する基であり、上記結合の開裂により酸脱離性基の一部又は全部が重合体の主鎖から脱離する基である。
好ましい酸脱離性基として、アミノ基やヒドロキシ基等を保護する保護基が挙げられる。該保護基としては、カルバメート系保護基（具体例として、ｔｅｒｔ－ブトキシカルボニル基、又は９－フルオレニルメチルオキシカルボニルなど）、又は、保護される酸素原子と共にアセタール構造や３級エーテル構造を形成する基、等が挙げられる。
酸脱離性基を有しない重合体は、例えば、酸脱離性基を有しない原料成分（酸脱離性基を有しない原料の具体例として、酸脱離性基を有しないジアミン、酸脱離性基を有しないテトラカルボン酸二無水物又はその誘導体、酸脱離性基を形成しない末端修飾剤、等）を用いることで得られる。
好ましい酸脱離性基として、アミノ基やヒドロキシ基等を保護する保護基が挙げられる。該保護基としては、カルバメート系保護基（具体例として、ｔｅｒｔ－ブトキシカルボニル基、又は９－フルオレニルメチルオキシカルボニルなど）、又は、保護される酸素原子と共にアセタール構造や３級エーテル構造を形成する基、等が挙げられる。
酸脱離性基を有しない重合体は、例えば、酸脱離性基を有しない原料成分（酸脱離性基を有しない原料の具体例として、酸脱離性基を有しないジアミン、酸脱離性基を有しないテトラカルボン酸二無水物又はその誘導体、酸脱離性基を形成しない末端修飾剤、等）を用いることで得られる。
【0013】
＜ポリイミド前駆体（Ａ）＞
本発明の液晶配向剤に含有される重合体成分（Ｐ１）及び（Ｐ３）は、１種以上の構造単位を有し、下記式（Ａ１）で表される構造単位（ａ１）を有する、ポリイミド前駆体（Ａ）を含有する。尚、ポリイミド前駆体（Ａ）は１種類又は２種類以上の重合体を用いてもよい。また、ポリイミド前駆体（Ａ）は、１種類の構造単位を有しても良く、又は２種類以上の異なる構造単位を有しても良く、又は３種類以上の異なる構造単位を有しても良く、又は４種類以上の異なる構造単位を有しても良い。
（式（Ａ１）において、Ｘａ１は下記式（Ｘａ１－１）～（Ｘａ１－８）からなる群から選ばれる４価の有機基を表し、Ｙａ１は２価の有機基を表す。）
式（Ｘａ１－１）～（Ｘａ１－３）において、Ｒ１からＲ１５はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～６のアルキル基、炭素数２～６のアルケニル基、炭素数２～６のアルキニル基、フッ素原子を含有する炭素数１～６の１価の有機基、又はフェニル基を表し、同一でも異なってもよい。＊は結合手を表す。
本発明の液晶配向剤に含有される重合体成分（Ｐ１）及び（Ｐ３）は、１種以上の構造単位を有し、下記式（Ａ１）で表される構造単位（ａ１）を有する、ポリイミド前駆体（Ａ）を含有する。尚、ポリイミド前駆体（Ａ）は１種類又は２種類以上の重合体を用いてもよい。また、ポリイミド前駆体（Ａ）は、１種類の構造単位を有しても良く、又は２種類以上の異なる構造単位を有しても良く、又は３種類以上の異なる構造単位を有しても良く、又は４種類以上の異なる構造単位を有しても良い。
【化4】
【化5】
【0014】
上記Ｒ１～Ｒ１５における炭素数１～６のアルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基等が挙げられる。上記Ｒ１～Ｒ１５における炭素数２～６のアルケニル基の具体例としては、ビニル基、プロペニル基、ブテニル基等が挙げられ、これらは直鎖状でも分岐状でもよい。上記Ｒ１～Ｒ１５における炭素数２～６のアルキニル基の具体例としては、エチニル基、１－プロピニル基、２－プロピニル基、１－ブチニル基、２－ブチニル基、３－ブチニル基等が挙げられる。上記Ｒ１～Ｒ１５における、フッ素原子を含有する炭素数１～６の１価の有機基としては、フルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ペンタフルオロプロピル基等が挙げられる。
液晶の配向性や液晶表示素子の信頼性の観点から、上記Ｘａ１は、上記式（Ｘａ１－１）で表される４価の有機基が好ましい。さらに、光反応性が高い観点から、Ｒ１～Ｒ４がそれぞれ独立して水素原子又はメチル基であり、Ｒ１～Ｒ４の少なくとも１つがメチル基であることが好ましく、Ｒ１～Ｒ４の少なくとも２つがメチル基であることがより好ましい。更に好ましいのは、Ｒ１及びＲ４がメチル基であり、Ｒ２及びＲ３が水素原子である場合である。上記式（Ｘａ１－１）は、下記式（Ｘａ１－１－１）～（Ｘａ１－１－５）からなる群から選ばれる４価の有機基であることが好ましい。
液晶の配向性や液晶表示素子の信頼性の観点から、上記Ｘａ１は、上記式（Ｘａ１－１）で表される４価の有機基が好ましい。さらに、光反応性が高い観点から、Ｒ１～Ｒ４がそれぞれ独立して水素原子又はメチル基であり、Ｒ１～Ｒ４の少なくとも１つがメチル基であることが好ましく、Ｒ１～Ｒ４の少なくとも２つがメチル基であることがより好ましい。更に好ましいのは、Ｒ１及びＲ４がメチル基であり、Ｒ２及びＲ３が水素原子である場合である。上記式（Ｘａ１－１）は、下記式（Ｘａ１－１－１）～（Ｘａ１－１－５）からなる群から選ばれる４価の有機基であることが好ましい。
【化6】
【0015】
上記式（Ａ１）におけるＹａ１の２価の有機基は、特に限定されないが、例えば、下記式（３）～（４）で表される２価の有機基が挙げられる。なお、上記２価の有機基は、例えば、ポリイミド前駆体（Ａ）を得るためのジアミン成分として、上記２価の有機基を有するジアミンを用いることで、ポリイミド前駆体（Ａ）の構造単位中に導入される。
本発明の効果を好適に得る観点から、ポリイミド前駆体（Ａ）を構成する構造単位の少なくとも一つは、下記式（３）～（４）で表される２価の有機基からなる群から選ばれる構造を有することが好ましく、＊がジアミン由来の窒素原子に結合する下記式（３）～（４）で表される２価の有機基からなる群から選ばれる構造を有することがより好ましい。
また、本発明の効果を好適に得る観点から、上記式（Ａ１）において、Ｙａ１が下記式（３）～（４）からなる群から選ばれる２価の有機基であることが好ましい。
（式（３）及び（４）において、Ｒ３、Ｒ４、及びＲ４’は、それぞれ独立して、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、保護されてもよいアミノ基、チオール基、ニトロ基、リン酸基、又は炭素数１～２０の１価の有機基を表す。
Ａ４は、エステル結合、アミド結合、チオエステル結合、又は炭素数２～２０の２価の有機基を表す。但し、１，４－フェニレン基、該フェニレン基上の水素原子の１～４つがＲ４、及びＲ４’で置換されている２価の有機基、又はこれらの２価の有機基同士が連結した２価の有機基を除く。
ａ３、ａ４、及びａ４’は、それぞれ独立して０～４の整数である。
ａは、１～４の整数である。ｂ及びｃはそれぞれ独立して１～２の整数である。Ｒ３、Ｒ４、Ｒ４’が複数存在する場合、Ｒ３、Ｒ４、及びＲ４’の構造は同一でも異なってもよい。ａ３、ａ４、及びａ４’が複数存在する場合、それぞれ同一でも異なっていてもよい。＊は結合手を表す。）
本発明の効果を好適に得る観点から、ポリイミド前駆体（Ａ）を構成する構造単位の少なくとも一つは、下記式（３）～（４）で表される２価の有機基からなる群から選ばれる構造を有することが好ましく、＊がジアミン由来の窒素原子に結合する下記式（３）～（４）で表される２価の有機基からなる群から選ばれる構造を有することがより好ましい。
また、本発明の効果を好適に得る観点から、上記式（Ａ１）において、Ｙａ１が下記式（３）～（４）からなる群から選ばれる２価の有機基であることが好ましい。
【化7】
Ａ４は、エステル結合、アミド結合、チオエステル結合、又は炭素数２～２０の２価の有機基を表す。但し、１，４－フェニレン基、該フェニレン基上の水素原子の１～４つがＲ４、及びＲ４’で置換されている２価の有機基、又はこれらの２価の有機基同士が連結した２価の有機基を除く。
ａ３、ａ４、及びａ４’は、それぞれ独立して０～４の整数である。
ａは、１～４の整数である。ｂ及びｃはそれぞれ独立して１～２の整数である。Ｒ３、Ｒ４、Ｒ４’が複数存在する場合、Ｒ３、Ｒ４、及びＲ４’の構造は同一でも異なってもよい。ａ３、ａ４、及びａ４’が複数存在する場合、それぞれ同一でも異なっていてもよい。＊は結合手を表す。）
【0016】
上記式（３）及び（４）のＲ３、Ｒ４、及びＲ４’における炭素数１～２０の１価の有機基としては、炭素数１～２０の１価の炭化水素基、当該炭化水素基の任意のメチレン基を－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｓ－、－ＮＲ３－（ただし、Ｒ３は、水素原子、炭素数１～１０の１価の炭化水素基、又はｔｅｒｔ－ブトキシカルボニル基を表す。）、－ＣＯ－ＮＲ３－（ただし、Ｒ３は、水素原子、炭素数１～１０の１価の炭化水素基、又はｔｅｒｔ－ブトキシカルボニル基を表す。）、－Ｓｉ（Ｒ３）２－（ただし、Ｒ３は、水素原子又は炭素数１～１０の１価の炭化水素基を表す。）、－Ｓ（＝Ｏ）２－等（以下、これらの基をヘテロ原子含有基（Ａ）ともいう。）で置き換えてなる１価の基（Ａ）、１価の炭化水素基、若しくは１価の基Ａの炭素原子に結合する水素原子の少なくとも１個をハロゲン原子、ヒドロキシ基、アルコキシ基、ニトロ基、保護基で保護されてもよいアミノ基、メルカプト基、ニトロソ基、アルキルシリル基、アルコキシシリル基、シラノール基、スルフィノ基、ホスフィノ基、カルボキシ基、シアノ基、スルホ基、アシル基等で置換してなる１価の基（Ａ２）、複素環を有する１価の基が挙げられる。なお、基（Ａ）、基（Ａ２）及び複素環を有する１価の基の炭素数は、１～２０である。
Ｒ３、Ｒ４、及びＲ４’における炭素数１～２０の１価の有機基としては、中でも、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数２～１０のアルケニル基、炭素数２～１０のアルキニル基、及び当該炭化水素基の任意のメチレン基を上記ヘテロ原子含有基（Ａ）で置き換えてなる１価の基がより一層好ましい。
上記保護されてもよいアミノ基としては、－Ｎ（Ｒ）２が挙げられ、Ｒは、水素原子、炭素数１～１０の１価の炭化水素基、又はｔｅｒｔ－ブトキシカルボニル基を表す。
Ｒ３、Ｒ４、及びＲ４’における炭素数１～２０の１価の有機基は、好ましくは、メチル基、メトキシ基、ビニル基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、保護基で保護されても良いアミノ基、又は、炭素数１～３のアルキル基が有する水素原子の少なくとも一つをハロゲン原子、若しくは、保護基で保護されても良いアミノ基で置換してなる１価の基である。
Ｒ３、Ｒ４、及びＲ４’における炭素数１～２０の１価の有機基としては、中でも、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数２～１０のアルケニル基、炭素数２～１０のアルキニル基、及び当該炭化水素基の任意のメチレン基を上記ヘテロ原子含有基（Ａ）で置き換えてなる１価の基がより一層好ましい。
上記保護されてもよいアミノ基としては、－Ｎ（Ｒ）２が挙げられ、Ｒは、水素原子、炭素数１～１０の１価の炭化水素基、又はｔｅｒｔ－ブトキシカルボニル基を表す。
Ｒ３、Ｒ４、及びＲ４’における炭素数１～２０の１価の有機基は、好ましくは、メチル基、メトキシ基、ビニル基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、保護基で保護されても良いアミノ基、又は、炭素数１～３のアルキル基が有する水素原子の少なくとも一つをハロゲン原子、若しくは、保護基で保護されても良いアミノ基で置換してなる１価の基である。
【0017】
上記式（３）におけるａは、好ましくは、１～２の整数である。上記式（３）におけるａ３は、好ましくは、０～２の整数であり、ａ３が複数存在する場合、それぞれ同一でも異なっていてもよい。上記式（４）におけるａ４、及びａ４’は、それぞれ独立して、好ましくは、０～２の整数であり、ａ４、及びａ４’ が複数存在する場合、それぞれ同一でも異なっていてもよい。
【0018】
上記式（４）のＡ４における炭素数２～２０の２価の有機基としては、炭素数２～２０の炭化水素基；該炭化水素基が有する任意のアルキレン基を、－Ｃ（＝Ｏ）－、－ＮＲ－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｓｉ（Ｒ０）２－、及び－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－の少なくとも一つの基で置き換えてなる２価の有機基（４ａ）（但し、２価の有機基（４ａ）の炭素数は、２～２０である。）；炭素数２～２０の炭化水素基の末端、及び、当該炭化水素基が有する任意のアルキレン基の炭素－炭素結合の間、の少なくとも１箇所以上に－Ｏ－が挿入されてなる２価の有機基（４ｂ）；２価の有機基（４ａ）が有する任意のアルキレン基の炭素－炭素結合の間の少なくとも１箇所以上に－Ｏ－が挿入されてなる２価の有機基（４ｃ）；複素環を有する炭素数２～２０の２価の有機基（４ｄ）；等が挙げられる。
上記－ＮＲ－におけるＲは、水素原子、炭素数１～５の１価の炭化水素基、又はｔｅｒｔ－ブトキシカルボニル基を表す。上記－Ｓｉ（Ｒ０）２－におけるＲ０は、水素原子又は炭素数１～１０の１価の炭化水素基を表す。
上記－ＮＲ－におけるＲは、水素原子、炭素数１～５の１価の炭化水素基、又はｔｅｒｔ－ブトキシカルボニル基を表す。上記－Ｓｉ（Ｒ０）２－におけるＲ０は、水素原子又は炭素数１～１０の１価の炭化水素基を表す。
【0019】
上記炭化水素基としては、鎖状炭化水素基、又は、脂環式炭化水素基、若しくは、芳香族基（芳香族基における芳香族環構造としては、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、ビフェニル構造、アントラセン環等）を有する炭化水素基等、が挙げられる。
鎖状炭化水素基の具体例としては、環状構造を有しない、炭素数１～２０の２価の直鎖状炭化水素基、又は分岐状炭化水素基が挙げられ、好ましくは炭素数１～２０のアルキレン基、炭素数２～２０のアルケニレン基、炭素数２～２０のアルキニレン基である。
脂環式炭化水素基の具体例として、脂環式構造（例：シクロヘキシレン基、又はビシクロヘキシレン基）、又は、脂環式構造と鎖状炭化水素構造を有する炭化水素基、等があげられる。
芳香族基を有する炭化水素基の具体例として、芳香族基、芳香族基と鎖状炭化水素構造を有する炭化水素基、芳香族基と脂環式構造を有する炭化水素基、等が挙げられる。
鎖状炭化水素基の具体例としては、環状構造を有しない、炭素数１～２０の２価の直鎖状炭化水素基、又は分岐状炭化水素基が挙げられ、好ましくは炭素数１～２０のアルキレン基、炭素数２～２０のアルケニレン基、炭素数２～２０のアルキニレン基である。
脂環式炭化水素基の具体例として、脂環式構造（例：シクロヘキシレン基、又はビシクロヘキシレン基）、又は、脂環式構造と鎖状炭化水素構造を有する炭化水素基、等があげられる。
芳香族基を有する炭化水素基の具体例として、芳香族基、芳香族基と鎖状炭化水素構造を有する炭化水素基、芳香族基と脂環式構造を有する炭化水素基、等が挙げられる。
【0020】
上記２価の有機基（４ｄ）における複素環としては、ピペリジン環、ピペラジン環、モルホリン環、ピロリジン環、ピロール環、フラン環、チオフェン環、イミダゾール環、ピラゾール環、イミド環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、チアゾール環、イソチアゾール環、ピリジン環、ピリミジン環、ピリダジン環、又は、ピラジン環、又は、これらの環構造を構造の一部に含む縮合環等が挙げられ、上記環上の水素原子は置換されてもよい。該置換基としては、ハロゲン原子、メチル基、又は、メトキシ基、等が挙げられる。
【0021】
上記式（４）のＡ４は、本発明の効果を好適に得る観点から、基「－Ｌ１－Ａ－Ｌ１’－」、又は、複素環を有する炭素数２～２０の２価の有機基が好ましい。
なお、基「－Ｌ１－Ａ－Ｌ１’－」におけるＬ１、Ｌ１’及びＡの炭素数の合計は、２～２０を満たす。
Ｌ１及びＬ１’は、それぞれ、独立して、単結合、－Ｏ－、－ＮＲ－、－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲ－、－Ｃ（＝Ｏ）－、又は－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－を表し、Ｒは、水素原子、炭素数１～５の１価の炭化水素基、又はｔｅｒｔ－ブトキシカルボニル基を表す。
基「－Ｌ１－Ａ－Ｌ１’－」におけるＡは、本発明の効果を好適に得る観点から、炭素数１～１２のアルキレン基、－ＣＨ＝ＣＨ－、－Ｃ≡Ｃ－、－ＣＲ０＝ＣＲ０’－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－（Ｒ０及びＲ０’は、それぞれ独立して、水素原子又はメチル基を表す。）、又は該アルキレン基の炭素－炭素結合の間に、－Ｏ－、－ＮＲ－、－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲ－、－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲ－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｓｉ（Ｒａ）２－及び－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－の少なくともいずれかの基が挿入されてなる２価の有機基、－Ｏ－Ａｒ－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ａｒ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－Ａｒ－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－を表す。但し、Ｌ１及びＬ１’が、単結合を表す場合、Ａはメチレン基以外の基を表す。
上記－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲ－、及び－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲ－Ｃ（＝Ｏ）－におけるＲは、水素原子、炭素数１～５の１価の炭化水素基、又はｔｅｒｔ－ブトキシカルボニル基を表す。－Ｓｉ（Ｒａ）２－におけるＲａは、水素原子又は炭素数１～３の１価の炭化水素基を表す。Ａが有する任意の水素原子は、ハロゲン原子で置換されていてもよい。
上記－Ｏ－Ａｒ－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ａｒ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、及び－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－Ａｒ－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－におけるＡｒは、フェニレン基、又はビフェニル構造を表す。
なお、基「－Ｌ１－Ａ－Ｌ１’－」におけるＬ１、Ｌ１’及びＡの炭素数の合計は、２～２０を満たす。
Ｌ１及びＬ１’は、それぞれ、独立して、単結合、－Ｏ－、－ＮＲ－、－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲ－、－Ｃ（＝Ｏ）－、又は－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－を表し、Ｒは、水素原子、炭素数１～５の１価の炭化水素基、又はｔｅｒｔ－ブトキシカルボニル基を表す。
基「－Ｌ１－Ａ－Ｌ１’－」におけるＡは、本発明の効果を好適に得る観点から、炭素数１～１２のアルキレン基、－ＣＨ＝ＣＨ－、－Ｃ≡Ｃ－、－ＣＲ０＝ＣＲ０’－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－（Ｒ０及びＲ０’は、それぞれ独立して、水素原子又はメチル基を表す。）、又は該アルキレン基の炭素－炭素結合の間に、－Ｏ－、－ＮＲ－、－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲ－、－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲ－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｓｉ（Ｒａ）２－及び－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－の少なくともいずれかの基が挿入されてなる２価の有機基、－Ｏ－Ａｒ－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ａｒ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－Ａｒ－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－を表す。但し、Ｌ１及びＬ１’が、単結合を表す場合、Ａはメチレン基以外の基を表す。
上記－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲ－、及び－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲ－Ｃ（＝Ｏ）－におけるＲは、水素原子、炭素数１～５の１価の炭化水素基、又はｔｅｒｔ－ブトキシカルボニル基を表す。－Ｓｉ（Ｒａ）２－におけるＲａは、水素原子又は炭素数１～３の１価の炭化水素基を表す。Ａが有する任意の水素原子は、ハロゲン原子で置換されていてもよい。
上記－Ｏ－Ａｒ－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ａｒ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、及び－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－Ａｒ－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－におけるＡｒは、フェニレン基、又はビフェニル構造を表す。
【0022】
上記式（３）及び（４）のより好ましい具体例として、下記式（ｄＡＬ－１）～（ｄＡＬ－１２）、（５－１）～（５－６）、（ｚ－１）～（ｚ－７）、（ｏ２－１）～（ｏ２－１２）、（ｈ－１）～（ｈ－１３）及び（Ｉｍ－１）～（Ｉｍ－６）で表される構造が挙げられる。なお、下記式（ｄＡＬ－１）～（ｄＡＬ－８）、（５－１）～（５－６）、（ｚ－１）～（ｚ－７）、（ｏ２－１）～（ｏ２－１２）及び（ｈ－１）～（ｈ－１３）で表される構造において、＊と結合するベンゼン環の結合位置は、１，４－位とする。下記式（ｄＡＬ－９）において、全てのベンゼン環の結合位置は、１，４－位とする。
（式（ｄＡＬ－６）において、ｍ１及びｍ２が０の場合、ｍ１、ｍ２及びｎの合計は、１～１２であり、ｍ１及びｍ２の少なくとも一つが０以外の整数の場合、ｍ１、ｍ２及びｎの合計は、２～１２である。式（ｄＡＬ－８）において、ｍ１、ｍ２及びｎの合計は、３～１２である。式（ｄＡＬ－１１）及び式（ｄＡＬ－１２）、において、ｍ１、ｍ２及びｎの合計は、３～１２である。）
【化8】
【化9】
【化10】
【化11】
【化12】
【化13】
【0023】
また、上記式（Ａ１）におけるＹａ１の２価の有機基は、上記式（３）～（４）で表される２価の有機基以外のその他の構造であってもよい。
その他の構造として、上記式（３）における＊と結合するベンゼン環の結合位置が１，４－位から２，５－位に変更された２価の有機基（３Ｌ）；上記式（４）における＊と結合するベンゼン環の少なくとも一つの結合位置が１，４－位から２，５－位に変更された２価の有機基（４Ｌ）；又は、以下のジアミンから２つのアミノ基を除いた２価の有機基、等が挙げられる。なお、上記２価の有機基（３Ｌ）及び（４Ｌ）において、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ４’、Ａ４、ａ３、ａ４、ａ４’、ａ、ｂ、及びｃの好ましい態様は、上記式（３）～（４）と同義である。
その他の構造として、上記式（３）における＊と結合するベンゼン環の結合位置が１，４－位から２，５－位に変更された２価の有機基（３Ｌ）；上記式（４）における＊と結合するベンゼン環の少なくとも一つの結合位置が１，４－位から２，５－位に変更された２価の有機基（４Ｌ）；又は、以下のジアミンから２つのアミノ基を除いた２価の有機基、等が挙げられる。なお、上記２価の有機基（３Ｌ）及び（４Ｌ）において、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ４’、Ａ４、ａ３、ａ４、ａ４’、ａ、ｂ、及びｃの好ましい態様は、上記式（３）～（４）と同義である。
【0024】
１，２－ビス（６－アミノ－２－ナフチルオキシ）エタン、１，２－ビス（６－アミノ－２－ナフチル）エタン、又は、６－［２－（４－アミノフェノキシ）エトキシ］－２－ナフチルアミンなどのナフタレン環を有する芳香族ジアミン、４，４’－ジアミノアゾベンゼン、３，３’－ジアミノジフェニルメタン、３，４’－ジアミノジフェニルメタン、４，４’－ジアミノジフェニルメタン、３，３’－ジアミノジフェニルエーテル、３，４’－ジアミノジフェニルエーテル、４，４’－ジアミノジフェニルエーテル、４，４’－ジアミノベンゾフェノン、２，６－ジアミノピリジン、３，４－ジアミノピリジン、２，４－ジアミノピリミジン、３，６－ジアミノカルバゾール、Ｎ－メチル－３，６－ジアミノカルバゾール、３，６－ジアミノアクリジン、Ｎ－エチル－３，６－ジアミノカルバゾール、Ｎ－フェニル－３，６－ジアミノカルバゾール、４，４’－ジアミノジフェニルアミン、４，４’－ジアミノジフェニル－Ｎ－メチルアミン、４－（２－（メチルアミノ）エチル）アニリン、４－（２－アミノエチル）アニリン、１－（４－アミノフェニル）－１，３，３－トリメチル－１Ｈ－インダン－５－アミン、１－（４－アミノフェニル）－２，３－ジヒドロ－１，３，３－トリメチル－１Ｈ－インデン－６－アミン、コレスタニルオキシ－３，５－ジアミノベンゼン、コレステニルオキシ－３，５－ジアミノベンゼン、コレスタニルオキシ－２，４－ジアミノベンゼン、３，５－ジアミノ安息香酸コレスタニル、３，５－ジアミノ安息香酸コレステニル、３，５－ジアミノ安息香酸ラノスタニル及び３，６－ビス（４－アミノベンゾイルオキシ）コレスタン等のステロイド骨格を有するジアミン、１，３－ビス（３－アミノプロピル）－テトラメチルジシロキサン等のシロキサン結合を有するジアミン；メタキシリレンジアミン、１，３－プロパンジアミン、テトラメチレンジアミン、ペンタメチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、１，３－ビス（アミノメチル）シクロヘキサン、１，４－ジアミノシクロヘキサン、４，４’－メチレンビス（シクロヘキシルアミン）、ＷＯ２０１８／１１７２３９号に記載の式（Ｙ－１）～（Ｙ－１６７）のいずれかで表される基に２つのアミノ基が結合したジアミン等。
【0025】
上記ポリイミド前駆体（Ａ）は、本発明の効果を好適に得る観点から、上記式（Ａ１）で表される構造単位（ａ１）とともに、更に、下記式（Ａ２）で表される構造単位（ａ２）を有するポリイミド前駆体であってもよい。
（式（Ａ２）において、Ｘａ２は下記式（Ｘ－１）～（Ｘ－１７）のいずれかで表される４価の有機基、又は芳香族テトラカルボン酸二無水物に由来する４価の有機基を表し、Ｙａ２は２価の有機基を表す。）
【化14】
【化15】
【化16】
【0026】
上記式（Ａ２）におけるＹａ２の２価の有機基の具体例として、上記式（Ａ１）におけるＹａ１の２価の有機基で例示した構造が好ましい態様を含めて挙げられる。
ポリイミド前駆体（Ａ）は、残留ＤＣ由来の残像が少ない観点から、ウレア結合を有する２価の有機基；アミド結合を有する２価の有機基；窒素原子含有複素環、第二級アミノ基及び第三級アミノ基よりなる群から選ばれる少なくとも一種の窒素原子含有構造を有する２価の有機基；及びカルボキシ基を有する２価の有機基からなる群から選ばれる２価の有機基を有する構造単位を含む重合体であってもよい。
上記場合において、Ｙａ１、Ｙａ２における２価の有機基が、ウレア結合を有する２価の有機基；アミド結合を有する２価の有機基；窒素原子含有複素環、第二級アミノ基及び第三級アミノ基よりなる群から選ばれる少なくとも一種の窒素原子含有構造を有する２価の有機基；及びカルボキシ基を有する２価の有機基からなる群から選ばれる２価の有機基であることがより好ましく、好ましい態様として、後述する特定の２価の有機基の好ましい態様が挙げられる。
ポリイミド前駆体（Ａ）は、残留ＤＣ由来の残像が少ない観点から、ウレア結合を有する２価の有機基；アミド結合を有する２価の有機基；窒素原子含有複素環、第二級アミノ基及び第三級アミノ基よりなる群から選ばれる少なくとも一種の窒素原子含有構造を有する２価の有機基；及びカルボキシ基を有する２価の有機基からなる群から選ばれる２価の有機基を有する構造単位を含む重合体であってもよい。
上記場合において、Ｙａ１、Ｙａ２における２価の有機基が、ウレア結合を有する２価の有機基；アミド結合を有する２価の有機基；窒素原子含有複素環、第二級アミノ基及び第三級アミノ基よりなる群から選ばれる少なくとも一種の窒素原子含有構造を有する２価の有機基；及びカルボキシ基を有する２価の有機基からなる群から選ばれる２価の有機基であることがより好ましく、好ましい態様として、後述する特定の２価の有機基の好ましい態様が挙げられる。
【0027】
上記芳香族テトラカルボン酸二無水物とは、芳香環（ベンゼン環、ナフタレン環等）に結合する少なくとも１つのカルボキシ基を含めて４つのカルボキシ基が分子内脱水することにより得られる酸二無水物である。但し、芳香環構造のみで構成されている必要はなく、その一部に鎖状炭化水素構造や脂環式構造を有していてもよい。好ましい具体例として、下記式（Ｘｂ１－ａ）～（Ｘｂ１－ｃ）のいずれかで表される４価の有機基が挙げられ、より好ましくは、下記式（Ｘｂ１－１）～（Ｘｂ１－２１）のいずれかで表される４価の有機基が挙げられる。
（ｘ及びｙは、それぞれ独立に、単結合、エーテル、カルボニル、エステル、炭素数１～１０のアルカンジイル基、１，４－フェニレン、スルホニル又はアミド結合である。ｊ及びｋは、０又は１である。）
【化17】
【化18】
【化19】
【0028】
ポリイミド前駆体（Ａ）は、本発明の効果を好適に得る観点から、構造単位（ａ１）をポリイミド前駆体（Ａ）が有する全構造単位の１０～１００モル％含むことが好ましく、１５～１００モル％含むことがより好ましい。
ポリイミド前駆体（Ａ）は、本発明の効果を好適に得る観点から、上記式（３）～（４）で表される２価の有機基を有する構造単位を、ポリイミド前駆体（Ａ）が有する全構造単位の１０～１００モル％含むことが好ましく、１５～１００モル％含むことがより好ましい。
ポリイミド前駆体（Ａ）が構造単位（ａ１）以外の構造単位を含む場合は、上記構造単位（ａ１）は、ポリイミド前駆体（Ａ）が有する全構造単位の９５モル％以下含むことが好ましく、９０モル％以下含むことがより好ましい。
ポリイミド前駆体（Ａ）は、本発明の効果を好適に得る観点から、上記式（３）～（４）で表される２価の有機基を有する構造単位を、ポリイミド前駆体（Ａ）が有する全構造単位の１０～１００モル％含むことが好ましく、１５～１００モル％含むことがより好ましい。
ポリイミド前駆体（Ａ）が構造単位（ａ１）以外の構造単位を含む場合は、上記構造単位（ａ１）は、ポリイミド前駆体（Ａ）が有する全構造単位の９５モル％以下含むことが好ましく、９０モル％以下含むことがより好ましい。
【0029】
＜ポリイミド前駆体（Ｂ）＞
本発明の液晶配向剤に含有される重合体成分（Ｐ２）及び（Ｐ３）は、ポリイミド前駆体（Ａ）と異なる重合体であって、１種以上の構造単位を有し、下記式（Ｂ１）で表される構造単位（ｂ１）を有する、ポリイミド前駆体（Ｂ）を含有する。尚、ポリイミド前駆体（Ｂ）は１種類又は２種類以上の重合体を用いてもよい。また、ポリイミド前駆体（Ｂ）は、１種類の構造単位を有しても良く、又は２種類以上の異なる構造単位を有しても良く、又は３種類以上の異なる構造単位を有しても良く、又は４種類以上の異なる構造単位を有しても良い。
（式（Ｂ１）において、Ｘｂ１は炭素数６～３０の芳香族基を有する４価の有機基を表し、Ｘｂ１と結合するカルボニル炭素の少なくとも一つはＸｂ１の芳香族基と結合する。Ｙｂ１は２価の有機基を表す。）
本発明の液晶配向剤に含有される重合体成分（Ｐ２）及び（Ｐ３）は、ポリイミド前駆体（Ａ）と異なる重合体であって、１種以上の構造単位を有し、下記式（Ｂ１）で表される構造単位（ｂ１）を有する、ポリイミド前駆体（Ｂ）を含有する。尚、ポリイミド前駆体（Ｂ）は１種類又は２種類以上の重合体を用いてもよい。また、ポリイミド前駆体（Ｂ）は、１種類の構造単位を有しても良く、又は２種類以上の異なる構造単位を有しても良く、又は３種類以上の異なる構造単位を有しても良く、又は４種類以上の異なる構造単位を有しても良い。
【化20】
【0030】
上記式（Ｂ１）におけるＸｂ１は、炭素数６～３０の芳香族基を有する４価の有機基を表し、Ｘｂ１と結合するカルボニル炭素の少なくとも一つはＸｂ１の芳香族基と結合する。より好ましくは、芳香環（ベンゼン環、ナフタレン環等）に結合する少なくとも１つのカルボキシ基を含めて４つのカルボキシ基が分子内脱水することにより得られる酸二無水物に由来する４価の有機基である。但し、芳香環構造のみで構成されている必要はなく、その一部に鎖状炭化水素構造や脂環式構造を有していてもよい。
Ｘｂ１の好ましい具体例として、芳香族テトラカルボン酸化合物に由来する４価の有機基が挙げられる。Ｘｂ１は好ましくは、上記式（Ｘｂ１－ａ）～（Ｘｂ１－ｃ）のいずれかで表される４価の有機基であり、より好ましくは、上記式（Ｘｂ１－１）～（Ｘｂ１－２１）のいずれかで表される４価の有機基であり、さらに好ましくは、上記式（Ｘｂ１－１）～（Ｘｂ１－１３）のいずれかで表される４価の有機基である。より一層好ましいのは、上記式（Ｘｂ１－１）～（Ｘｂ１－７）からなる群から選ばれる４価の有機基である。
Ｘｂ１の好ましい具体例として、芳香族テトラカルボン酸化合物に由来する４価の有機基が挙げられる。Ｘｂ１は好ましくは、上記式（Ｘｂ１－ａ）～（Ｘｂ１－ｃ）のいずれかで表される４価の有機基であり、より好ましくは、上記式（Ｘｂ１－１）～（Ｘｂ１－２１）のいずれかで表される４価の有機基であり、さらに好ましくは、上記式（Ｘｂ１－１）～（Ｘｂ１－１３）のいずれかで表される４価の有機基である。より一層好ましいのは、上記式（Ｘｂ１－１）～（Ｘｂ１－７）からなる群から選ばれる４価の有機基である。
【0031】
上記Ｙｂ１における２価の有機基としては、上記Ｙａ１で例示した２価の有機基が挙げられる。残留ＤＣ由来の残像が少ない観点から、ポリイミド前駆体（Ｂ）は、ウレア結合を有する２価の有機基；アミド結合を有する２価の有機基；窒素原子含有複素環、第二級アミノ基及び第三級アミノ基よりなる群から選ばれる少なくとも一種の窒素原子含有構造を有する２価の有機基；及びカルボキシ基を有する２価の有機基からなる群から選ばれる２価の有機基（これらを総称して特定の２価の有機基ともいう。）を有する構造単位を含む重合体であることが好ましい。
また、残留ＤＣ由来の残像が少ない観点から、ポリイミド前駆体（Ｂ）は、Ｙｂ１が、上記特定の２価の有機基である構造単位を含む重合体であることが好ましい。
さらに、上記Ｙｂ１における２価の有機基としては、本発明の効果を好適に得る観点から、上記式（３）～（４）で表される２価の有機基；３，３’－ジアミノジフェニルメタン、３，４’－ジアミノジフェニルメタン、４，４’－ジアミノジフェニルメタン、３，３’－ジアミノジフェニルエーテル、３，４’－ジアミノジフェニルエーテル、及び４，４’－ジアミノジフェニルエーテルからなる群から選ばれるジアミンから２つのアミノ基を除いた２価の有機基（これらを総称して特定の２価の有機基ｂ２ともいう。）であることが好ましい。
また、残留ＤＣ由来の残像が少ない観点から、ポリイミド前駆体（Ｂ）は、Ｙｂ１が、上記特定の２価の有機基である構造単位を含む重合体であることが好ましい。
さらに、上記Ｙｂ１における２価の有機基としては、本発明の効果を好適に得る観点から、上記式（３）～（４）で表される２価の有機基；３，３’－ジアミノジフェニルメタン、３，４’－ジアミノジフェニルメタン、４，４’－ジアミノジフェニルメタン、３，３’－ジアミノジフェニルエーテル、３，４’－ジアミノジフェニルエーテル、及び４，４’－ジアミノジフェニルエーテルからなる群から選ばれるジアミンから２つのアミノ基を除いた２価の有機基（これらを総称して特定の２価の有機基ｂ２ともいう。）であることが好ましい。
【0032】
上記ウレア結合を有する２価の有機基としては、例えば、上記式（４）のＡ４が基「－ＮＨ－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲ－」を有する、上記式（４）で表される２価の有機基が挙げられる。
上記アミド結合を有する２価の有機基としては、上記式（４）のＡ４がアミド結合を有する、上記式（４）で表される２価の有機基が挙げられる。
上記窒素原子含有複素環、第二級アミノ基及び第三級アミノ基よりなる群から選ばれる少なくとも一種の窒素原子含有構造を有する２価の有機基としては、２，６－ジアミノピリジン、３，４－ジアミノピリジン、２，４－ジアミノピリミジン、３，６－ジアミノカルバゾール、Ｎ－メチル－３，６－ジアミノカルバゾール、３，６－ジアミノアクリジン、Ｎ－エチル－３，６－ジアミノカルバゾール、Ｎ－フェニル－３，６－ジアミノカルバゾール、上記式（ｚ－１）～式（ｚ－７）で表される構造を有するジアミンなどの複素環含有ジアミン；４，４’－ジアミノジフェニルアミン、４，４’－ジアミノジフェニル－Ｎ－メチルアミン、Ｎ，Ｎ’－ビス（４－アミノフェニル）－ベンジジン、Ｎ，Ｎ’－ビス（４－アミノフェニル）－Ｎ，Ｎ’－ジメチルベンジジン、若しくは、Ｎ，Ｎ’－ビス（４－アミノフェニル）－Ｎ，Ｎ’－ジメチル－１，４－ベンゼンジアミンに代表されるジフェニルアミン構造を有するジアミン；からなる群から選ばれるジアミンから２つのアミノ基を除いた２価の有機基が挙げられる。
上記カルボキシ基を有する２価の有機基としては、２，４－ジアミノ安息香酸、２，５－ジアミノ安息香酸、３，５－ジアミノ安息香酸、４，４’－ジアミノビフェニル－３－カルボン酸、４，４’－ジアミノジフェニルメタン－３－カルボン酸、１，２－ビス（４－アミノフェニル）エタン－３－カルボン酸、４，４’－ジアミノビフェニル－３，３’－ジカルボン酸、４，４’－ジアミノビフェニル－２，２’－ジカルボン酸、３，３’－ジアミノビフェニル－４，４’－ジカルボン酸、３，３’－ジアミノビフェニル－２，４’－ジカルボン酸、４，４’－ジアミノジフェニルメタン－３，３’－ジカルボン酸、１，２－ビス（４－アミノフェニル）エタン－３，３’－ジカルボン酸、４，４’－ジアミノジフェニルエーテル－３，３’－ジカルボン酸などのカルボキシ基を有するジアミンから２つのアミノ基を除いた２価の有機基が挙げられる。
上記アミド結合を有する２価の有機基としては、上記式（４）のＡ４がアミド結合を有する、上記式（４）で表される２価の有機基が挙げられる。
上記窒素原子含有複素環、第二級アミノ基及び第三級アミノ基よりなる群から選ばれる少なくとも一種の窒素原子含有構造を有する２価の有機基としては、２，６－ジアミノピリジン、３，４－ジアミノピリジン、２，４－ジアミノピリミジン、３，６－ジアミノカルバゾール、Ｎ－メチル－３，６－ジアミノカルバゾール、３，６－ジアミノアクリジン、Ｎ－エチル－３，６－ジアミノカルバゾール、Ｎ－フェニル－３，６－ジアミノカルバゾール、上記式（ｚ－１）～式（ｚ－７）で表される構造を有するジアミンなどの複素環含有ジアミン；４，４’－ジアミノジフェニルアミン、４，４’－ジアミノジフェニル－Ｎ－メチルアミン、Ｎ，Ｎ’－ビス（４－アミノフェニル）－ベンジジン、Ｎ，Ｎ’－ビス（４－アミノフェニル）－Ｎ，Ｎ’－ジメチルベンジジン、若しくは、Ｎ，Ｎ’－ビス（４－アミノフェニル）－Ｎ，Ｎ’－ジメチル－１，４－ベンゼンジアミンに代表されるジフェニルアミン構造を有するジアミン；からなる群から選ばれるジアミンから２つのアミノ基を除いた２価の有機基が挙げられる。
上記カルボキシ基を有する２価の有機基としては、２，４－ジアミノ安息香酸、２，５－ジアミノ安息香酸、３，５－ジアミノ安息香酸、４，４’－ジアミノビフェニル－３－カルボン酸、４，４’－ジアミノジフェニルメタン－３－カルボン酸、１，２－ビス（４－アミノフェニル）エタン－３－カルボン酸、４，４’－ジアミノビフェニル－３，３’－ジカルボン酸、４，４’－ジアミノビフェニル－２，２’－ジカルボン酸、３，３’－ジアミノビフェニル－４，４’－ジカルボン酸、３，３’－ジアミノビフェニル－２，４’－ジカルボン酸、４，４’－ジアミノジフェニルメタン－３，３’－ジカルボン酸、１，２－ビス（４－アミノフェニル）エタン－３，３’－ジカルボン酸、４，４’－ジアミノジフェニルエーテル－３，３’－ジカルボン酸などのカルボキシ基を有するジアミンから２つのアミノ基を除いた２価の有機基が挙げられる。
【0033】
ポリイミド前駆体（Ｂ）は、残留ＤＣ由来の残像が少ない観点において、上記特定の２価の有機基を有する構造単位（より好ましくは、ジアミン由来の窒素原子に結合する上記特定の２価の有機基を有する構造単位である。）を、ポリイミド前駆体（Ｂ）に含まれる全構造単位の１モル％以上、好ましくは５モル％以上、より好ましくは１０モル％以上、更に好ましくは２０モル％以上含むことが好ましい。
また、ポリイミド前駆体（Ｂ）は、残留ＤＣ由来の残像が少ない観点において、Ｙｂ１が上記特定の２価の有機基である構造単位を、ポリイミド前駆体（Ｂ）に含まれる全構造単位の１モル％以上、好ましくは５モル％以上、より好ましくは１０モル％以上、更に好ましくは２０モル％以上含むことが好ましい。
さらに、ポリイミド前駆体（Ｂ）は、本発明の効果を好適に得る観点から、Ｙｂ１が上記特定の２価の有機基ｂ２である構造単位を、ポリイミド前駆体（Ｂ）に含まれる全構造単位の１モル％以上、好ましくは５モル％以上、より好ましくは１０モル％以上、更に好ましくは２０モル％以上含むことが好ましい。また、Ｙｂ１が上記特定の２価の有機基ｂ２である構造単位を、ポリイミド前駆体（Ｂ）に含まれる全構造単位の９５モル％以下、９０モル％以下、又は８０モル％以下であっても良い。
また、ポリイミド前駆体（Ｂ）は、残留ＤＣ由来の残像が少ない観点において、Ｙｂ１が上記特定の２価の有機基である構造単位を、ポリイミド前駆体（Ｂ）に含まれる全構造単位の１モル％以上、好ましくは５モル％以上、より好ましくは１０モル％以上、更に好ましくは２０モル％以上含むことが好ましい。
さらに、ポリイミド前駆体（Ｂ）は、本発明の効果を好適に得る観点から、Ｙｂ１が上記特定の２価の有機基ｂ２である構造単位を、ポリイミド前駆体（Ｂ）に含まれる全構造単位の１モル％以上、好ましくは５モル％以上、より好ましくは１０モル％以上、更に好ましくは２０モル％以上含むことが好ましい。また、Ｙｂ１が上記特定の２価の有機基ｂ２である構造単位を、ポリイミド前駆体（Ｂ）に含まれる全構造単位の９５モル％以下、９０モル％以下、又は８０モル％以下であっても良い。
【0034】
上記ポリイミド前駆体（Ｂ）は、本発明の効果を好適に得る観点から、上記式（Ｂ１）で表される構造単位（ｂ１）とともに、更に、下記式（Ｂ２）で表される構造単位（ｂ２）を有するポリイミド前駆体であってもよい。
（式（Ｂ２）において、Ｘｂ２は非環式脂肪族テトラカルボン酸二無水物、又は脂環式テトラカルボン酸二無水物に由来する４価の有機基を表し、Ｙｂ２は２価の有機基を表す。）
【化21】
【0035】
なお、非環式脂肪族テトラカルボン酸二無水物は、鎖状炭化水素構造に結合する４つのカルボキシ基が分子内脱水することにより得られる酸二無水物である。但し、鎖状炭化水素構造のみで構成されている必要はなく、その一部に脂環式構造や芳香環構造を有していてもよい。
脂環式テトラカルボン酸二無水物は、脂環式構造に結合する少なくとも１つのカルボキシ基を含めて４つのカルボキシ基が分子内脱水することにより得られる酸二無水物である。但し、これら４つのカルボキシ基はいずれも芳香環には結合していない。また、脂環式構造のみで構成されている必要はなく、その一部に鎖状炭化水素構造や芳香環構造を有していてもよい。
脂環式テトラカルボン酸二無水物は、脂環式構造に結合する少なくとも１つのカルボキシ基を含めて４つのカルボキシ基が分子内脱水することにより得られる酸二無水物である。但し、これら４つのカルボキシ基はいずれも芳香環には結合していない。また、脂環式構造のみで構成されている必要はなく、その一部に鎖状炭化水素構造や芳香環構造を有していてもよい。
【0036】
上記式（Ｂ２）におけるＹｂ２の２価の有機基の具体例として、上記式（Ｂ１）におけるＹｂ１の２価の有機基で例示した構造が好ましい態様を含めて挙げられる。
Ｘｂ２は、本発明の効果を好適に得る観点から、好ましくは、上記式（Ｘ－１）～（Ｘ－１７）、又は（Ｘａ１－１）～（Ｘａ１－８）のいずれかで表される４価の有機基である。
Ｘｂ２は、本発明の効果を好適に得る観点から、好ましくは、上記式（Ｘ－１）～（Ｘ－１７）、又は（Ｘａ１－１）～（Ｘａ１－８）のいずれかで表される４価の有機基である。
【0037】
本発明の効果を好適に得る観点から、ポリイミド前駆体（Ｂ）は、構造単位（ｂ１）をポリイミド前駆体（Ｂ）が有する全構造単位の１０～１００モル％含むことが好ましく、１５～１００モル％含むことがより好ましい。
また、ポリイミド前駆体（Ｂ）が構造単位（ｂ１）以外の構造単位を含む場合は、構造単位（ｂ１）は、ポリイミド前駆体（Ｂ）が有する全構造単位の９５モル％以下含むことが好ましく、９０モル％以下含むことがより好ましい。
ポリイミド前駆体（Ｂ）は、上記構造単位（ｂ２）をポリイミド前駆体（Ｂ）が有する全構造単位の５モル％以上含むことが好ましく、１０モル％以上含むことが好ましい。また、上記構造単位（ｂ２）をポリイミド前駆体（Ｂ）が有する全構造単位の９０モル％以下含むことが好ましく、８５モル％以下含むことがより好ましい。
また、ポリイミド前駆体（Ｂ）が構造単位（ｂ１）以外の構造単位を含む場合は、構造単位（ｂ１）は、ポリイミド前駆体（Ｂ）が有する全構造単位の９５モル％以下含むことが好ましく、９０モル％以下含むことがより好ましい。
ポリイミド前駆体（Ｂ）は、上記構造単位（ｂ２）をポリイミド前駆体（Ｂ）が有する全構造単位の５モル％以上含むことが好ましく、１０モル％以上含むことが好ましい。また、上記構造単位（ｂ２）をポリイミド前駆体（Ｂ）が有する全構造単位の９０モル％以下含むことが好ましく、８５モル％以下含むことがより好ましい。
【0038】
上記重合体成分（Ｐ）における、第一のポリイミド前駆体の含有量に対する第二のポリイミド前駆体の含有量の質量比率（第一のポリイミド前駆体の含有量／第二のポリイミド前駆体の含有量）は、１０／９０～９０／１０が好ましく、２０／８０～９０／１０がより好ましく、２０／８０～８０／２０が更に好ましい。
残留ＤＣ由来の残像が少ない観点において、ポリイミド前駆体（Ａ）の含有量に対するポリイミド前駆体（Ｂ）の含有量の質量比率（ポリイミド前駆体（Ａ）の含有量／ポリイミド前駆体（Ｂ）の含有量）は、１０／９０～９０／１０が好ましく、２０／８０～９０／１０がより好ましく、２０／８０～８０／２０が更に好ましい。
残留ＤＣ由来の残像が少ない観点において、ポリイミド前駆体（Ａ）の含有量に対するポリイミド前駆体（Ｂ）の含有量の質量比率（ポリイミド前駆体（Ａ）の含有量／ポリイミド前駆体（Ｂ）の含有量）は、１０／９０～９０／１０が好ましく、２０／８０～９０／１０がより好ましく、２０／８０～８０／２０が更に好ましい。
【0039】
＜ポリイミド前駆体（Ａ）及びポリイミド前駆体（Ｂ）の製造方法＞
本発明におけるポリイミド前駆体（Ａ）及び（Ｂ）は、例えば、ＷＯ２０１３／１５７５８６号公報に記載されるような既知の方法で合成できる。
本発明におけるポリイミド前駆体（Ａ）及び（Ｂ）は、例えば、ＷＯ２０１３／１５７５８６号公報に記載されるような既知の方法で合成できる。
【0040】
具体的には、テトラカルボン酸二無水物を含むテトラカルボン酸誘導体成分とジアミン成分とを溶媒中で（縮重合）反応させることにより得られる。溶媒としては、生成した重合体が溶解するものであれば特に限定されない。
【0041】
例えば、上記式（Ａ１）で表される繰り返し単位を有するポリイミド前駆体（Ａ）を合成する場合、ジアミン成分としては、－ＮＨ－Ｙａ１－ＮＨ－の構造（Ｙａ１は式（Ａ１）のＹａ１と同じ定義である。）を有するジアミンが使用され、また、テトラカルボン酸誘導体成分としては、上記式（Ｘａ１）の構造（Ｘａ１は式（Ａ１）のＸａ１と同じ定義である。）を有するテトラカルボン酸二無水物が使用される。
【0042】
ポリイミド前駆体の合成反応に供されるテトラカルボン酸二無水物とジアミンとの使用割合は、ジアミンのアミノ基１当量に対して、テトラカルボン酸二無水物の酸無水物基が０．５～２当量となる割合が好ましく、さらに好ましくは０．８～１．２当量となる割合である。通常の重縮合反応と同様に、このテトラカルボン酸二無水物の酸無水物基の当量が１当量に近いほど、生成するポリイミド前駆体の分子量は大きくなる。
ポリイミド前駆体の合成反応における反応温度は－２０～１５０℃が好ましく、０～１００℃がより好ましい。また、反応時間は０．１～２４時間が好ましく、０．５～１２時間がより好ましい。
ポリイミド前駆体の合成反応は任意の濃度で行うことができるが、反応液におけるポリイミド前駆体の濃度は、好ましくは１～５０質量％、より好ましくは５～３０質量％である。反応初期は高濃度で行い、その後、溶媒を追加することもできる。
ポリイミド前駆体の合成反応における反応温度は－２０～１５０℃が好ましく、０～１００℃がより好ましい。また、反応時間は０．１～２４時間が好ましく、０．５～１２時間がより好ましい。
ポリイミド前駆体の合成反応は任意の濃度で行うことができるが、反応液におけるポリイミド前駆体の濃度は、好ましくは１～５０質量％、より好ましくは５～３０質量％である。反応初期は高濃度で行い、その後、溶媒を追加することもできる。
【0043】
ジアミン成分とテトラカルボン酸誘導体成分とを反応させる際の上記溶媒の具体例としては、Ｎ－メチル－２－ピロリドン、Ｎ－エチル－２－ピロリドン、γ－ブチロラクトン、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノンが挙げられる。また、重合体の溶媒溶解性が高い場合は、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、４－ヒドロキシ－４－メチル－２－ペンタノン、又はＨ３Ｃ－ＣＨ（ＯＨ）－ＣＨ２－Ｏ－Ｄ１（Ｄ１は炭素数１～３のアルキル基を表す。）、ＨＯ－ＣＨ２－ＣＨ２－Ｏ－Ｄ２（Ｄ２は炭素数１～３のアルキル基を表す。）、ＨＯ－ＣＨ２－ＣＨ２－Ｏ－ＣＨ２－ＣＨ２－Ｄ３（Ｄ３は炭素数１～４のアルキル基を表す。）で示される溶媒を用いることができる。これら溶媒は単独で使用しても、混合して使用してもよい。
【0044】
上記Ｈ３Ｃ－ＣＨ（ＯＨ）－ＣＨ２－Ｏ－Ｄ１、ＨＯ－ＣＨ２－ＣＨ２－Ｏ－Ｄ２、ＨＯ－ＣＨ２－ＣＨ２－Ｏ－ＣＨ２－ＣＨ２－Ｄ３で示される溶媒の具体例としては、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルなどが挙げられる。
【0045】
＜重合体の溶液粘度・分子量＞
本発明のポリイミド前駆体（Ａ）、及びポリイミド前駆体（Ｂ）は、これを濃度１０～１５質量％の溶液としたときに、例えば、１０～１０００ｍＰａ・ｓの溶液粘度を持つものが作業性の観点から好ましいが、特に限定されない。なお、上記重合体の溶液粘度（ｍＰａ・ｓ）は、当該重合体の良溶媒（例えば、γ－ブチロラクトン、Ｎ－メチル－２－ピロリドン等）を用いて調製した濃度１０～１５質量％の重合体溶液につき、Ｅ型回転粘度計を用いて２５℃において測定した値である。
本発明のポリイミド前駆体（Ａ）、及びポリイミド前駆体（Ｂ）は、これを濃度１０～１５質量％の溶液としたときに、例えば、１０～１０００ｍＰａ・ｓの溶液粘度を持つものが作業性の観点から好ましいが、特に限定されない。なお、上記重合体の溶液粘度（ｍＰａ・ｓ）は、当該重合体の良溶媒（例えば、γ－ブチロラクトン、Ｎ－メチル－２－ピロリドン等）を用いて調製した濃度１０～１５質量％の重合体溶液につき、Ｅ型回転粘度計を用いて２５℃において測定した値である。
【0046】
上記ポリイミド前駆体（Ａ）、及びポリイミド前駆体（Ｂ）のゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定したポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）は、好ましくは１，０００～５００，０００であり、より好ましくは２，０００～３００，０００である。また、Ｍｗと、ＧＰＣにより測定したポリスチレン換算の数平均分子量（Ｍｎ）との比で表される分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は、好ましくは１５以下であり、より好ましくは１０以下である。この分子量範囲にあることが、本発明の効果を好適に得る観点から、好ましい。
【0047】
＜末端封止剤＞
本発明におけるポリイミド前駆体（Ａ）、及びポリイミド前駆体（Ｂ）を合成するに際して、上記の如きテトラカルボン酸誘導体成分、及びジアミン成分とともに、適当な末端封止剤を用いて末端封止型の重合体としてもよい。末端封止型の重合体は、塗膜によって得られる液晶配向膜の膜硬度の向上や、シール剤と液晶配向膜の密着特性の向上という効果を有する。
本発明におけるポリイミド前駆体（Ａ）、及びポリイミド前駆体（Ｂ）を合成するに際して、上記の如きテトラカルボン酸誘導体成分、及びジアミン成分とともに、適当な末端封止剤を用いて末端封止型の重合体としてもよい。末端封止型の重合体は、塗膜によって得られる液晶配向膜の膜硬度の向上や、シール剤と液晶配向膜の密着特性の向上という効果を有する。
【0048】
本発明におけるポリイミド前駆体（Ａ）、ポリイミド前駆体（Ｂ）の末端の例としては、アミノ基、カルボキシ基、酸無水物基又はこれらの誘導体が挙げられる。アミノ基、カルボキシ基、酸無水物基は通常の縮合反応により得るか、又は以下の末端封止剤を用いて末端を封止することにより得ることができ、例えば、以下の末端封止剤を用いて、同様に得ることができる。
【0049】
末端封止剤としては、例えば、無水酢酸、無水マレイン酸、無水ナジック酸、無水フタル酸、無水イタコン酸、シクロヘキサンジカルボン酸無水物、３－ヒドロキシフタル酸無水物、トリメリット酸無水物、３－（３－トリメトキシシリル）プロピル）－３，４－ジヒドロフラン－２，５－ジオン、４，５，６，７－テトラフルオロイソベンゾフラン－１，３－ジオン、４－エチニルフタル酸無水物等の酸一無水物；二炭酸ジ－ｔｅｒｔ－ブチル、二炭酸ジアリル等の二炭酸ジエステル化合物；アクリロイルクロリド、メタクリロイルクロリド、ニコチン酸クロリド等のクロロカルボニル化合物；アニリン、２－アミノフェノール、３－アミノフェノール、４－アミノサリチル酸、５－アミノサリチル酸、６－アミノサリチル酸、２－アミノ安息香酸、３－アミノ安息香酸、４－アミノ安息香酸、シクロヘキシルアミン、ｎ－ブチルアミン、ｎ－ペンチルアミン、ｎ－ヘキシルアミン、ｎ－ヘプチルアミン、ｎ－オクチルアミン等のモノアミン化合物；エチルイソシアネート、フェニルイソシアネート、ナフチルイソシアネート、２－アクリロイルオキシエチルイソシアネ－ト及び２－メタクリロイルオキシエチルイソシアネ－ト等の不飽和結合を有するイソシアネート等のモノイソシアネート化合物；エチルイソチオシアネート、アリルイソチオシアネート等のイソチオシアネート化合物等を挙げることができる。
【0050】
末端封止剤の使用割合は、使用するジアミン成分の合計１００モル部に対して、０．０１～２０モル部が好ましく、０．０１～１０モル部がより好ましい。
【0051】
＜化合物（Ｃ）＞
本発明の液晶配向剤は、分子内にヒドロキシ基を１～４つ有し、且つ、カルボキシ基を１～４つ有する炭素数１～２０の脂肪族化合物（ＣＨＡ）を含有する。尚、化合物（ＣＨＡ）は１種類又は２種類以上の化合物を用いてもよい。
脂肪族化合物（ＣＨＡ）は、鎖状化合物又は脂環式化合物を包含する化合物である。
鎖状化合物とは、環状構造を含まず、鎖状構造のみで構成された直鎖状化合物及び分岐状化合物を意味する。脂環式化合物とは、環構造として脂肪族環の構造を含み、芳香環構造を含まない化合物を意味する。脂環式化合物は、脂肪族環の構造のみで構成されていてもよく、その一部に鎖状構造を有するものも含む。鎖状化合物及び脂環式化合物は、飽和化合物であってもよく、炭素－炭素結合の一部が二重結合または三重結合に置換された不飽和化合物であってもよい。
上記化合物（ＣＨＡ）の炭素数は、本発明の効果を好適に得る観点から、好ましくは２～１８であり、２～１０であり、２～６である。
上記化合物（ＣＨＡ）が有するカルボキシ基の数は、本発明の効果を好適に得る観点から、１～３つがより好ましく、１～２つがさらに好ましく、１つが最も好ましい。
上記化合物（ＣＨＡ）の好ましい具体例として、例えば、炭素数１～１９の脂肪族炭化水素の少なくとも１～４つの水素原子がヒドロキシ基で置換され、且つ、別の１～４つの水素原子がカルボキシ基で置換された化合物（ｃ１ＨＡ）；化合物（ｃ１ＨＡ）の異なる２個の炭素原子に結合する第２級炭素原子（－ＣＨ２－）の一部がそれぞれ独立に－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、又は－Ｃ（＝Ｏ）－で置き換えられてなる化合物（ｃ２ＨＡ）；化合物（ｃ１ＨＡ）が有する炭素－炭素結合の間に－Ｏ－が挿入されてなる化合物（ｃ３ＨＡ－１）、又は化合物（ｃ２ＨＡ）が有するカルボニル炭素以外の炭素－炭素結合の間に－Ｏ－が挿入されてなる化合物（ｃ３ＨＡ－２）等が挙げられる。但し、化合物（ｃ１ＨＡ）、化合物（ｃ２ＨＡ）、化合物（ｃ３ＨＡ－１）及び化合物（ｃ３ＨＡ－２）の炭素数は、２～２０である。上記脂肪族炭化水素は、環状構造を含まない炭素数１～１９の非環式脂肪族炭化水素であってもよく、環状構造を含む炭素数３～１９の環式脂肪族炭化水素であってもよい。
本発明の液晶配向剤は、分子内にヒドロキシ基を１～４つ有し、且つ、カルボキシ基を１～４つ有する炭素数１～２０の脂肪族化合物（ＣＨＡ）を含有する。尚、化合物（ＣＨＡ）は１種類又は２種類以上の化合物を用いてもよい。
脂肪族化合物（ＣＨＡ）は、鎖状化合物又は脂環式化合物を包含する化合物である。
鎖状化合物とは、環状構造を含まず、鎖状構造のみで構成された直鎖状化合物及び分岐状化合物を意味する。脂環式化合物とは、環構造として脂肪族環の構造を含み、芳香環構造を含まない化合物を意味する。脂環式化合物は、脂肪族環の構造のみで構成されていてもよく、その一部に鎖状構造を有するものも含む。鎖状化合物及び脂環式化合物は、飽和化合物であってもよく、炭素－炭素結合の一部が二重結合または三重結合に置換された不飽和化合物であってもよい。
上記化合物（ＣＨＡ）の炭素数は、本発明の効果を好適に得る観点から、好ましくは２～１８であり、２～１０であり、２～６である。
上記化合物（ＣＨＡ）が有するカルボキシ基の数は、本発明の効果を好適に得る観点から、１～３つがより好ましく、１～２つがさらに好ましく、１つが最も好ましい。
上記化合物（ＣＨＡ）の好ましい具体例として、例えば、炭素数１～１９の脂肪族炭化水素の少なくとも１～４つの水素原子がヒドロキシ基で置換され、且つ、別の１～４つの水素原子がカルボキシ基で置換された化合物（ｃ１ＨＡ）；化合物（ｃ１ＨＡ）の異なる２個の炭素原子に結合する第２級炭素原子（－ＣＨ２－）の一部がそれぞれ独立に－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、又は－Ｃ（＝Ｏ）－で置き換えられてなる化合物（ｃ２ＨＡ）；化合物（ｃ１ＨＡ）が有する炭素－炭素結合の間に－Ｏ－が挿入されてなる化合物（ｃ３ＨＡ－１）、又は化合物（ｃ２ＨＡ）が有するカルボニル炭素以外の炭素－炭素結合の間に－Ｏ－が挿入されてなる化合物（ｃ３ＨＡ－２）等が挙げられる。但し、化合物（ｃ１ＨＡ）、化合物（ｃ２ＨＡ）、化合物（ｃ３ＨＡ－１）及び化合物（ｃ３ＨＡ－２）の炭素数は、２～２０である。上記脂肪族炭化水素は、環状構造を含まない炭素数１～１９の非環式脂肪族炭化水素であってもよく、環状構造を含む炭素数３～１９の環式脂肪族炭化水素であってもよい。
【0052】
上記ヒドロキシ基及びカルボキシ基が結合する炭素原子の少なくとも一つは、第一級炭素原子であってもよく、第二級炭素原子であってもよく、又は第三級炭素原子であってもよい。
【0053】
上記化合物（ＣＨＡ）は、本発明の効果を好適に得る観点から、α－ヒドロキシ酸、β－ヒドロキシ酸、又はその両方に該当する化合物などが好ましい。
ここで、カルボキシ基が結合している炭素原子を基準炭素原子としたときに、ヒドロキシ基がこの基準炭素原子に結合している構造を有する化合物をα－ヒドロキシ酸といい、ヒドロキシ基がこの基準炭素の隣の炭素原子に結合している構造を有する化合物をβ－ヒドロキシ酸という。尚、上記化合物（ＣＨＡ）は、α－ヒドロキシ酸とβ－ヒドロキシ酸の両方の条件を満たす化合物を含む。上記（ＣＨＡ）がキラル化合物である場合、Ｌ体、Ｄ体、及びＤＬ体のいずれを用いてもよい。
上記化合物（ＣＨＡ）のより好ましい具体例として、グリコール酸、乳酸、リンゴ酸、酒石酸、クエン酸、β－ヒドロキシ酪酸が挙げられる。特に、グリコール酸、乳酸が特に好ましい。
ここで、カルボキシ基が結合している炭素原子を基準炭素原子としたときに、ヒドロキシ基がこの基準炭素原子に結合している構造を有する化合物をα－ヒドロキシ酸といい、ヒドロキシ基がこの基準炭素の隣の炭素原子に結合している構造を有する化合物をβ－ヒドロキシ酸という。尚、上記化合物（ＣＨＡ）は、α－ヒドロキシ酸とβ－ヒドロキシ酸の両方の条件を満たす化合物を含む。上記（ＣＨＡ）がキラル化合物である場合、Ｌ体、Ｄ体、及びＤＬ体のいずれを用いてもよい。
上記化合物（ＣＨＡ）のより好ましい具体例として、グリコール酸、乳酸、リンゴ酸、酒石酸、クエン酸、β－ヒドロキシ酪酸が挙げられる。特に、グリコール酸、乳酸が特に好ましい。
【0054】
化合物（ＣＨＡ）の含有量の合計は、液晶配向剤中の全成分を１００質量％とした場合、０．１質量％以上で、且つ、１１質量％未満である。化合物（ＣＨＡ）の含有量の合計は、液晶配向剤中の全成分を１００質量％とした場合、より好ましくは、０．２質量％以上であり、更に好ましくは０．３質量％以上である。
また、液晶配向剤の（Ｃ）成分以外の成分の合計質量が液晶配向剤の全質量に占める割合は、液晶配向剤中の全成分を１００質量％とした場合、９９．９質量％以下であり、より好ましくは９９．８質量％以下であり、さらに好ましくは９９．７質量％以下である。さらに、液晶配向剤の（Ｃ）成分以外の成分の合計質量が液晶配向剤の全質量に占める割合は、液晶配向剤中の全成分を１００質量％とした場合、８８質量％より大きい。
また、液晶配向剤の（Ｃ）成分以外の成分の合計質量が液晶配向剤の全質量に占める割合は、液晶配向剤中の全成分を１００質量％とした場合、９９．９質量％以下であり、より好ましくは９９．８質量％以下であり、さらに好ましくは９９．７質量％以下である。さらに、液晶配向剤の（Ｃ）成分以外の成分の合計質量が液晶配向剤の全質量に占める割合は、液晶配向剤中の全成分を１００質量％とした場合、８８質量％より大きい。
【0055】
本発明の液晶配向剤は、有機溶媒（但し、（Ｃ）成分を除く。）を含有する。有機溶媒の具体例としては、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルラクトアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルプロピオンアミド、テトラメチル尿素、Ｎ，Ｎ－ジエチルホルムアミド、Ｎ－メチル－２－ピロリドン、Ｎ－エチル－２－ピロリドン、ジメチルスルホキシド、γ－ブチロラクトン、γ－バレロラクトン、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、３－メトキシ－Ｎ，Ｎ－ジメチルプロパンアミド、３－ブトキシ－Ｎ，Ｎ－ジメチルプロパンアミド、Ｎ－（ｎ－プロピル）－２－ピロリドン、Ｎ－イソプロピル－２－ピロリドン、Ｎ－（ｎ－ブチル）－２－ピロリドン、Ｎ－（ｔｅｒｔ－ブチル）－２－ピロリドン、Ｎ－（ｎ－ペンチル）－２－ピロリドン、Ｎ－メトキシプロピル－２－ピロリドン、Ｎ－エトキシエチル－２－ピロリドン、Ｎ－メトキシブチル－２－ピロリドン、Ｎ－シクロヘキシル－２－ピロリドン（これらを総称して「良溶媒」ともいう）が挙げられる。なかでも、Ｎ－メチル－２－ピロリドン、Ｎ－エチル－２－ピロリドン、３－メトキシ－Ｎ，Ｎ－ジメチルプロパンアミド、３－ブトキシ－Ｎ，Ｎ－ジメチルプロパンアミド又はγ－ブチロラクトンが好ましい。良溶媒の含有量は、液晶配向剤中の全成分を１００質量％とした場合、２０質量％以上が好ましく、３０質量％以上が好ましい。
【0056】
また、液晶配向剤に含有される有機溶媒は、上記溶媒に加えて液晶配向剤を塗布する際の塗布性や塗膜の表面平滑性を向上させる溶媒（貧溶媒ともいう。）を併用した混合溶媒の使用が好ましい。貧溶媒の含有量は、液晶配向剤中の全成分を１００質量％とした場合１質量％以上が好ましく、５質量％以上がより好ましく、１０質量％以上がさらに好ましい。
また、上記良溶媒及び貧溶媒の含有量の合計は、液晶配向剤中の全成分を１００質量％とした場合、９９．９質量％以下が好ましく、９９．８質量％以下がより好ましく、９９．７質量％以下が更に好ましい。
貧溶媒の種類及び含有量は、液晶配向剤の塗布装置、塗布条件、塗布環境等に応じて適宜選択される。上記貧溶媒の具体例を下記するが、これらに限定されない。
また、上記良溶媒及び貧溶媒の含有量の合計は、液晶配向剤中の全成分を１００質量％とした場合、９９．９質量％以下が好ましく、９９．８質量％以下がより好ましく、９９．７質量％以下が更に好ましい。
貧溶媒の種類及び含有量は、液晶配向剤の塗布装置、塗布条件、塗布環境等に応じて適宜選択される。上記貧溶媒の具体例を下記するが、これらに限定されない。
【0057】
ジイソプロピルエーテル、ジイソブチルエーテル、ジイソブチルカルビノール（２，６－ジメチル－４－ヘプタノール）、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、４－ヒドロキシ－４－メチル－２－ペンタノン、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、３－エトキシブチルアセタート、１－メチルペンチルアセタート、２－エチルブチルアセタート、２－エチルヘキシルアセタート、エチレングリコールジアセタート、プロピレンカーボネート、エチレンカーボネート、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノイソアミルエーテル、エチレングリコールモノヘキシルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、１－（２－ブトキシエトキシ）－２－プロパノール、２－（２－ブトキシエトキシ）－１－プロパノール、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセタート、プロピレングリコールジアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセタート、ジエチレングリコールモノプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセタート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセタート、２－（２－エトキシエトキシ）エチルアセタート、ジエチレングリコールジアセタート、プロピレングリコールジアセテート、酢酸ｎ－ブチル、酢酸プロピレングリコールモノエチルエーテル、酢酸シクロヘキシル、酢酸４－メチル－２－ペンチル、３－メトキシプロピオン酸メチル、３－エトキシプロピオン酸エチル、３－メトキシプロピオン酸エチル、３－メトキシプロピオン酸プロピル、３－メトキシプロピオン酸ブチル、乳酸ｎ－ブチル、乳酸イソアミル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジイソブチルケトン（２，６－ジメチル－４－ヘプタノン）等を挙げることができる。
【0058】
貧溶媒としては、なかでも、ジイソブチルカルビノール、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールジアセテート、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、４－ヒドロキシ－４－メチル－２－ペンタノン、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセタート、又はジイソブチルケトンが好ましい。
【0059】
良溶媒と貧溶媒との好ましい溶媒の組み合わせとしては、Ｎ－メチル－２－ピロリドンとエチレングリコールモノブチルエーテル、Ｎ－メチル－２－ピロリドンとγ－ブチロラクトンとエチレングリコールモノブチルエーテル、Ｎ－メチル－２－ピロリドンとγ－ブチロラクトンとプロピレングリコールモノブチルエーテル、Ｎ－エチル－２－ピロリドンとプロピレングリコールモノブチルエーテル、Ｎ－エチル－２－ピロリドンと４－ヒドロキシ－４－メチル－２－ペンタノン、Ｎ－エチル－２－ピロリドンとプロピレングリコールジアセテート、Ｎ，Ｎ－ジメチルラクトアミドとジイソブチルケトン、Ｎ－メチル－２－ピロリドンと３－エトキシプロピオン酸エチル、Ｎ－エチル－２－ピロリドンと３－エトキシプロピオン酸エチル、Ｎ－エチル－２－ピロリドンと３－エトキシプロピオン酸エチルとプロピレングリコールモノブチルエーテル、Ｎ－メチル－２－ピロリドンと３－エトキシプロピオン酸エチルとジエチレングリコールモノプロピルエーテル、Ｎ－エチル－２－ピロリドンと３－エトキシプロピオン酸エチルとジエチレングリコールモノプロピルエーテル、Ｎ－メチル－２－ピロリドンとエチレングリコールモノブチルエーテルアセタート、Ｎ－エチル－２－ピロリドンとジプロピレングリコールジメチルエーテル、Ｎ，Ｎ－ジメチルラクトアミドとエチレングリコールモノブチルエーテル、Ｎ，Ｎ－ジメチルラクトアミドとプロピレングリコールジアセテート、Ｎ－エチル－２－ピロリドンとジエチレングリコールジエチルエーテル、Ｎ－エチル－２－ピロリドンとジエチレングリコールモノエチルエーテルとブチルセロソルブアセテート、Ｎ－メチル－２－ピロリドンとジエチレングリコールモノメチルエーテルとブチルセロソルブアセテート、Ｎ，Ｎ－ジメチルラクトアミドとジエチレングリコールジエチルエーテル、Ｎ－メチル－２－ピロリドンとγ－ブチロラクトンと４－ヒドロキシ－４－メチル－２－ペンタノンとジエチレングリコールジエチルエーテル、Ｎ－エチル－２－ピロリドンとＮ－メチル－２－ピロリドンと４－ヒドロキシ－４－メチル－２－ペンタノン、Ｎ－エチル－２－ピロリドンと４－ヒドロキシ－４－メチル－２－ペンタノンとプロピレングリコールモノブチルエーテル、Ｎ－メチル－２－ピロリドンと４－ヒドロキシ－４－メチル－２－ペンタノンとジイソブチルケトン、Ｎ－メチル－２－ピロリドンと４－ヒドロキシ－４－メチル－２－ペンタノンとジプロピレングリコールモノメチルエーテル、Ｎ－メチル－２－ピロリドンと４－ヒドロキシ－４－メチル－２－ペンタノンとプロピレングリコールモノブチルエーテル、Ｎ－メチル－２－ピロリドンと４－ヒドロキシ－４－メチル－２－ペンタノンとプロピレングリコールジアセテート、Ｎ－エチル－２－ピロリドンと４－ヒドロキシ－４－メチル－２－ペンタノンとジプロピレングリコールジメチルエーテル、γ－ブチロラクトンと４－ヒドロキシ－４－メチル－２－ペンタノンとジイソブチルケトン、γ－ブチロラクトンと４－ヒドロキシ－４－メチル－２－ペンタノンとプロピレングリコールジアセテート、Ｎ－メチル－２－ピロリドンとγ－ブチロラクトンとプロピレングリコールモノブチルエーテルとジイソブチルケトン、Ｎ－メチル－２－ピロリドンとγ－ブチロラクトンとプロピレングリコールモノブチルエーテルとジイソプロピルエーテル、Ｎ－メチル－２－ピロリドンとγ－ブチロラクトンとプロピレングリコールモノブチルエーテルとジイソブチルカルビノール、Ｎ－メチル－２－ピロリドンとγ－ブチロラクトンとジプロピレングリコールジメチルエーテル、Ｎ－メチル－２－ピロリドンとプロピレングリコールモノブチルエーテルとジプロピレングリコールジメチルエーテル、Ｎ－エチル－２－ピロリドンとプロピレングリコールモノブチルエーテルとジプロピレングリコールモノメチルエーテル、Ｎ－エチル－２－ピロリドンとジエチレングリコールジエチルエーテルとジプロピレングリコールモノメチルエーテル、Ｎ－エチル－２－ピロリドンとプロピレングリコールモノブチルエーテルとプロピレングリコールジアセテート、Ｎ－エチル－２－ピロリドンとプロピレングリコールモノブチルエーテルとジイソブチルケトン、Ｎ－エチル－２－ピロリドンとγ－ブチロラクトンとジイソブチルケトン、Ｎ－エチル－２－ピロリドンとＮ，Ｎ－ジメチルラクトアミドとジイソブチルケトン、Ｎ－メチル－２－ピロリドンとエチレングリコールモノブチルエーテルとエチレングリコールモノブチルエーテルアセタート、γ－ブチロラクトンとエチレングリコールモノブチルエーテルアセタートとジプロピレングリコールジメチルエーテル、Ｎ－エチル－２－ピロリドンとエチレングリコールモノブチルエーテルアセタートとプロピレングリコールジメチルエーテル、Ｎ－メチル－２－ピロリドンと酢酸４－メチル－２－ペンチルとエチレングリコールモノブチルエーテル、Ｎ－メチル－２－ピロリドンとシクロヘキサノンとプロピレングリコールモノメチルエーテル等を挙げることができる。
【0060】
液晶配向剤における固形分濃度（液晶配向剤の溶媒以外の成分の合計質量が液晶配向剤の全質量に占める割合）は、粘性、揮発性などを考慮して適宜に選択されるが、好ましくは１～１０質量％の範囲である。均一で欠陥のない塗膜を形成させるという点からは、１質量％以上が好ましく、溶液の保存安定性の点からは、１０質量％以下が好ましい。特に好ましい固形分濃度は、２～８質量％である。
固形分濃度の範囲は、基板に液晶配向剤を塗布する際に用いる方法によって適宜選択してもよい。例えばスピンコート塗布を行う場合には、固形分濃度が１．５～４．５質量％であることが特に好ましい。印刷法による場合には、固形分濃度を３～９質量％とし、それにより溶液粘度を１２～５０ｍＰａ・ｓとすることが特に好ましい。インクジェット法による場合には、固形分濃度を１～５質量％とし、それにより、溶液粘度を３～１５ｍＰａ・ｓとすることが特に好ましい。液晶配向剤を調製する際の温度は、好ましくは１０～５０℃であり、より好ましくは２０～３０℃である。
液晶配向剤中の重合体成分の濃度は、形成させようとする塗膜の厚みの設定によって適宜変更することができる。均一で欠陥のない塗膜を形成させるという点から、液晶配向剤中の重合体成分の濃度（重合体の合計濃度）は、１質量％以上が好ましく、溶液の保存安定性の点からは、１０質量％以下が好ましい。特に好ましい重合体の濃度は、２～８質量％である。
液晶配向剤中の重合体成分（Ｐ）の含有量（重合体成分（Ｐ）を構成する重合体の合計量）は、本開示の効果を好適に得る観点から、液晶配向剤に含まれる重合体成分の合計１００質量部に対して、好ましくは１０質量部以上であり、より好ましくは２０質量部以上であり、更に好ましくは５０質量部以上である。
液晶配向剤が後述するその他の重合体を含む場合、重合体成分（Ｐ）の含有量は、液晶配向剤に含まれる重合体の合計１００質量部に対して、９９．９質量部以下が好ましく、９９質量部以下がより好ましい。
固形分濃度の範囲は、基板に液晶配向剤を塗布する際に用いる方法によって適宜選択してもよい。例えばスピンコート塗布を行う場合には、固形分濃度が１．５～４．５質量％であることが特に好ましい。印刷法による場合には、固形分濃度を３～９質量％とし、それにより溶液粘度を１２～５０ｍＰａ・ｓとすることが特に好ましい。インクジェット法による場合には、固形分濃度を１～５質量％とし、それにより、溶液粘度を３～１５ｍＰａ・ｓとすることが特に好ましい。液晶配向剤を調製する際の温度は、好ましくは１０～５０℃であり、より好ましくは２０～３０℃である。
液晶配向剤中の重合体成分の濃度は、形成させようとする塗膜の厚みの設定によって適宜変更することができる。均一で欠陥のない塗膜を形成させるという点から、液晶配向剤中の重合体成分の濃度（重合体の合計濃度）は、１質量％以上が好ましく、溶液の保存安定性の点からは、１０質量％以下が好ましい。特に好ましい重合体の濃度は、２～８質量％である。
液晶配向剤中の重合体成分（Ｐ）の含有量（重合体成分（Ｐ）を構成する重合体の合計量）は、本開示の効果を好適に得る観点から、液晶配向剤に含まれる重合体成分の合計１００質量部に対して、好ましくは１０質量部以上であり、より好ましくは２０質量部以上であり、更に好ましくは５０質量部以上である。
液晶配向剤が後述するその他の重合体を含む場合、重合体成分（Ｐ）の含有量は、液晶配向剤に含まれる重合体の合計１００質量部に対して、９９．９質量部以下が好ましく、９９質量部以下がより好ましい。
【0061】
本発明の液晶配向剤は、その他、必要に応じて上記以外の成分を含有していてもよい。当該成分としては、例えば、ポリイミド前駆体（Ａ）及び（Ｂ）以外のその他の重合体；エポキシ基、イソシアネート基、オキセタニル基、シクロカーボネート基、ブロックイソシアネート基、ヒドロキシ基及びアルコキシ基から選ばれる少なくとも１種の置換基を有する架橋性化合物（但し、上記化合物（ＣＨＡ）を除く。）、並びに重合性不飽和基を有する架橋性化合物からなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物；官能性シラン化合物；金属キレート化合物；硬化促進剤；界面活性剤；酸化防止剤；増感剤；防腐剤；液晶配向膜の誘電率や電気抵抗を調整するための化合物；イミド化を促進するための化合物、などが挙げられる。
【0062】
その他の重合体の具体例を挙げると、ポリシロキサン、ポリエステル、ポリアミド、ポリウレア、ポリウレタン、ポリオルガノシロキサン、セルロース誘導体、ポリアセタール、ポリスチレン誘導体、ポリ（スチレン－マレイン酸無水物）共重合体、ポリ（イソブチレン－マレイン酸無水物）共重合体、ポリ（ビニルエーテル－マレイン酸無水物）共重合体、ポリ（スチレン－フェニルマレイミド）誘導体、ポリ（メタ）アクリレートからなる群から選ばれる重合体等が挙げられる。
【0063】
ポリ（スチレン－マレイン酸無水物）共重合体の具体例としては、ＳＭＡ１０００、２０００、３０００（Ｃｒａｙ Ｖａｌｌｅｙ社製）、ＧＳＭ３０１（岐阜セラツク製造所社製）等が挙げられ、ポリ（イソブチレン－マレイン酸無水物）共重合体の具体例としては、イソバン－６００（クラレ社製）が挙げられ、ポリ（ビニルエーテル－マレイン酸無水物）共重合体の具体例としては、Ｇａｎｔｒｅｚ ＡＮ－１３９（メチルビニルエーテル無水マレイン酸樹脂、アシュランド社製）が挙げられる。その他の重合体は、一種を単独で使用してもよく、また二種以上を組み合わせて使用してもよい。その他の重合体の含有割合は、液晶配向剤中に含まれる重合体の合計１００質量部に対して、９０質量部以下が好ましく、８０質量部以下がより好ましい。また、その他の重合体の含有割合は、液晶配向剤中に含まれる重合体の合計１００質量部に対して、０．１質量部以上が好ましく、１質量部以上がより好ましい。
【0064】
上記架橋性化合物の好ましい具体例としては、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、トリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、１，６－ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリンジグリシジルエーテル、ジブロモネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、１，３，５，６－テトラグリシジル－２，４－ヘキサンジオール、エピコート８２８（三菱ケミカル社製）などのビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、エピコート８０７（三菱ケミカル社製）などのビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ＹＸ－８０００（三菱ケミカル社製）などの水添ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ＹＸ６９５４ＢＨ３０（三菱ケミカル社製）などのビフェニル骨格含有エポキシ樹脂、ＥＰＰＮ－２０１（日本化薬社製）などのフェノールノボラック型エポキシ樹脂、ＥＯＣＮ－１０２Ｓ（日本化薬社製）などの（ｏ，ｍ，ｐ－）クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ＴＥＰＩＣ（日産化学社製）などのトリグリシジルイソシアヌレート、セロキサイド２０２１Ｐ（ダイセル社製）などの脂環式エポキシ樹脂、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトラグリシジル－ｍ－キシリレンジアミン、１，３－ビス（Ｎ，Ｎ－ジグリシジルアミノメチル）シクロヘキサン、又はＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトラグリシジル－４，４’－ジアミノジフェニルメタンに代表される第三級窒素原子を含有する化合物、テトラキス（グリシジルオキシメチル）メタンなどのオキシラニル基を２つ以上有する化合物；ＷＯ２０１１／１３２７５１号公報の段落［０１７０］～［０１７５］に記載のオキセタニル基を２つ以上有する化合物；コロネートＡＰステーブルＭ、コロネート２５０３、２５１５、２５０７、２５１３、２５５５、ミリオネートＭＳ－５０（以上、東ソー社製）、タケネートＢ－８３０、Ｂ－８１５Ｎ、Ｂ－８２０ＮＳＵ、Ｂ－８４２Ｎ、Ｂ－８４６Ｎ、Ｂ－８７０Ｎ、Ｂ－８７４Ｎ、Ｂ－８８２Ｎ（以上、三井化学社製）等のブロックイソシアネート基を有する化合物；２，２’－ビス（２－オキサゾリン）、２，２’－ビス（４－メチル－２－オキサゾリン）、２，２’－ビス（５－メチル－２－オキサゾリン）、１，２，４－トリス（２－オキサゾリニル）－ベンゼン、エポクロス（日本触媒社製）のようなオキサゾリン基を有する化合物；ＷＯ２０１１／１５５５７７号公報の段落［００２５］～［００３０］、［００３２］に記載のシクロカーボネート基を有する化合物；Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトラキス（２－ヒドロキシエチル）アジポアミド、２，２－ビス（４－ヒドロキシ－３，５－ジヒドロキシメチルフェニル）プロパン、２，２－ビス（４－ヒドロキシ－３，５－ジメトキシフェニル）プロパン、２，２－ビス（４－ヒドロキシ－３，５－ジヒドロキシメチルフェニル）－１，１，１，３，３，３－ヘキサフルオロプロパンなどのヒドロキシ基やアルコキシ基を有する化合物；グリセリンモノ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート（１，２－，１，３－体混合物）、グリセリントリス（メタ）アクリレート、グリセリン１，３－ジグリセロラートジ（メタ）アクリレート、ペンタエリストールトリ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ペンタエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ヘキサエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートで示される化合物が挙げられる。上記架橋性化合物の含有量は液晶配向剤に含まれる重合体成分１００質量部に対して０．１～３０質量部であることが好ましく、より好ましくは０．１～２０質量部である。
【0065】
上記誘電率や電気抵抗を調整するための化合物としては、３－ピコリルアミンなどの窒素原子含有芳香族複素環を有するモノアミンが挙げられる。窒素原子含有芳香族複素環を有するモノアミンの含有量は液晶配向剤に含まれる重合体成分１００質量部に対して０．１～３０質量部であることが好ましく、より好ましくは０．１～２０質量部である。
【0066】
上記官能性シラン化合物の好ましい具体例としては、３－アミノプロピルトリメトキシシラン、３－アミノプロピルトリエトキシシラン、３－アミノプロピルジエトキシメチルシラン、２－アミノプロピルトリメトキシシラン、２－アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ－（２－アミノエチル）－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ－（２－アミノエチル）－３－アミノプロピルメチルジメトキシシラン、３－ウレイドプロピルトリメトキシシラン、３－ウレイドプロピルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、３－グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、ｐ－スチリルトリメトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３－アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、トリス［３－（トリメトキシシリル）プロピル］イソシアヌレート、３－メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、３－メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３－イソシアネートプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。官能性シラン化合物の含有量は、液晶配向剤に含まれる重合体成分１００質量部に対して０．１～３０質量部であることが好ましく、より好ましくは０．１～２０質量部である。
【0067】
上記イミド化を促進するための化合物としては、塩基性の部位（例：第一級アミノ基、脂肪族ヘテロ環（例：ピロリジン骨格）、芳香族ヘテロ環（例：イミダゾール環、インドール環）、又はグアニジノ基等）を有する化合物（但し、上記架橋性化合物及び密着助剤は除く。）、又は、焼成時に上記塩基性の部位が発生する化合物が好ましい。より好ましくは、焼成時に上記塩基性の部位が発生する化合物であり、好ましい具体例を挙げると、アミノ酸が有する塩基性の部位の一部又は全てが保護されたアミノ酸が挙げられる。上記アミノ酸が有する塩基性の部位の保護基としては、Ｂｏｃ基などのカルバメート系保護基が挙げられる。上記アミノ酸の具体例としては、グリシン、アラニン、システイン、メチオニン、アスパラギン、グルタミン、バリン、ロイシン、フェニルアラニン、チロシン、トリプトファン、プロリン、ヒドロキシプロリン、アルギニン、ヒスチジン、リシン、オルニチンが挙げられる。イミド化を促進するための化合物のより好ましい具体例を挙げると、Ｎ－α－（９－フルオレニルメトキシカルボニル）－Ｎ－τ－（ｔｅｒｔ－ブトキシカルボニル）－Ｌ－ヒスチジンが挙げられる。本発明の液晶配向剤に含有される上記イミド化を促進するための化合物の含有量は、液晶配向剤に含まれる重合体成分１００質量部に対して、０．１～３０質量部が好ましく、より好ましくは０．１～２０質量部、さらに好ましくは５～２０質量部である。
【0068】
（液晶配向膜及び液晶表示素子）
本発明に係る液晶表示素子は、上記液晶配向剤を用いて形成した液晶配向膜を具備する。
本発明の液晶配向膜は、例えば、以下の工程（１）～（２）を含む方法、工程（１）～（３）を含む方法により製造することができる。
液晶表示素子の動作モードは特に限定せず、例えば、ＴＮ方式、ＳＴＮ方式、垂直配向方式（ＶＡ－ＭＶＡ方式、ＶＡ－ＰＶＡ方式などを含む。）、面内スイッチング方式（ＩＰＳ方式、ＦＦＳ方式）、光学補償ベンド方式（ＯＣＢ方式）など種々の動作モードに適用することができる。
本発明に係る液晶表示素子は、上記液晶配向剤を用いて形成した液晶配向膜を具備する。
本発明の液晶配向膜は、例えば、以下の工程（１）～（２）を含む方法、工程（１）～（３）を含む方法により製造することができる。
液晶表示素子の動作モードは特に限定せず、例えば、ＴＮ方式、ＳＴＮ方式、垂直配向方式（ＶＡ－ＭＶＡ方式、ＶＡ－ＰＶＡ方式などを含む。）、面内スイッチング方式（ＩＰＳ方式、ＦＦＳ方式）、光学補償ベンド方式（ＯＣＢ方式）など種々の動作モードに適用することができる。
【0069】
本発明の液晶表示素子は、例えば、以下の工程（１）～（４）を含む方法、工程（１）～（２）及び（４）を含む方法、工程（１）～（３）、（４－２）及び（４－４）を含む方法、又は工程（１）～（３）、（４－３）及び（４－４）を含む方法により製造することができる。
また、本発明の液晶表示素子の一つの態様は、以下の工程（１）～（２）、又は、工程（１）～（３）を含む、液晶配向膜の製造方法により形成された液晶配向膜を具備する液晶表示素子である。
また、本発明の液晶表示素子の一つの態様は、以下の工程（１）～（２）、又は、工程（１）～（３）を含む、液晶配向膜の製造方法により形成された液晶配向膜を具備する液晶表示素子である。
【0070】
＜工程（１）：液晶配向剤を基板上に塗布する工程＞
工程（１）は、液晶配向剤を基板上に塗布する工程である。工程（１）の具体例は以下のとおりである。
パターニングされた透明導電膜が設けられている基板の一面に、液晶配向剤を、例えばロールコーター法、スピンコート法、印刷法、インクジェット法などの適宜の塗布方法により塗布する。ここで基板の材質としては、透明性の高い基板であれば特に限定されず、ガラス、窒化珪素とともに、アクリル、ポリカーボネート等のプラスチック等を用いることもできる。また、反射型の液晶表示素子では、片側の基板のみにならば、シリコンウエハー等の不透明な物でも使用でき、この場合の電極にはアルミニウム等の光を反射する材料も使用できる。また、ＩＰＳ方式又はＦＦＳ方式の液晶表示素子を製造する場合には、櫛歯型にパターニングされた透明導電膜又は金属膜からなる電極が設けられている基板と、電極が設けられていない対向基板とを用いる。
ＩＰＳ方式の液晶表示素子において使用される櫛歯電極基板であるＩＰＳ基板は、例えば、基材と、基材上に形成され、櫛歯状に配置された複数の線状電極と、基材上に線状電極を覆うように形成された液晶配向膜とを有する。
なお、ＦＦＳ方式の液晶表示素子において使用される櫛歯電極基板であるＦＦＳ基板は、例えば、基材と、基材上に形成された面電極と、面電極上に形成された絶縁膜と、絶縁膜上に形成され、櫛歯状に配置された複数の線状電極と、絶縁膜上に線状電極を覆うように形成された液晶配向膜とを有する。
工程（１）は、液晶配向剤を基板上に塗布する工程である。工程（１）の具体例は以下のとおりである。
パターニングされた透明導電膜が設けられている基板の一面に、液晶配向剤を、例えばロールコーター法、スピンコート法、印刷法、インクジェット法などの適宜の塗布方法により塗布する。ここで基板の材質としては、透明性の高い基板であれば特に限定されず、ガラス、窒化珪素とともに、アクリル、ポリカーボネート等のプラスチック等を用いることもできる。また、反射型の液晶表示素子では、片側の基板のみにならば、シリコンウエハー等の不透明な物でも使用でき、この場合の電極にはアルミニウム等の光を反射する材料も使用できる。また、ＩＰＳ方式又はＦＦＳ方式の液晶表示素子を製造する場合には、櫛歯型にパターニングされた透明導電膜又は金属膜からなる電極が設けられている基板と、電極が設けられていない対向基板とを用いる。
ＩＰＳ方式の液晶表示素子において使用される櫛歯電極基板であるＩＰＳ基板は、例えば、基材と、基材上に形成され、櫛歯状に配置された複数の線状電極と、基材上に線状電極を覆うように形成された液晶配向膜とを有する。
なお、ＦＦＳ方式の液晶表示素子において使用される櫛歯電極基板であるＦＦＳ基板は、例えば、基材と、基材上に形成された面電極と、面電極上に形成された絶縁膜と、絶縁膜上に形成され、櫛歯状に配置された複数の線状電極と、絶縁膜上に線状電極を覆うように形成された液晶配向膜とを有する。
【0071】
液晶配向剤を基板に塗布し、成膜する方法としては、スクリーン印刷、オフセット印刷、フレキソ印刷、インクジェット法、又はスプレー法等が挙げられる。なかでも、インクジェット法による塗布、成膜法が好適に使用できる。
【0072】
＜工程（２）：塗布した液晶配向剤を焼成する工程＞
工程（２）は、基板上に塗布した液晶配向剤を焼成し、膜を形成する工程である。工程（２）の具体例は以下のとおりである。
工程（１）において液晶配向剤を基板上に塗布した後は、ホットプレート、熱循環型オーブン又はＩＲ（赤外線）型オーブンなどの加熱手段により、溶媒を蒸発させたり、ポリアミック酸に代表されるポリイミド前駆体の熱イミド化を行ったりすることができる。液晶配向剤を塗布した後の乾燥、焼成工程は、任意の温度と時間を選択することができ、複数回行ってもよい。液晶配向剤を焼成する温度としては、例えば４０～１８０℃で行うことができる。プロセスを短縮する観点で、４０～１５０℃で行ってもよい。焼成時間としては特に限定されないが、１～１０分又は、１～５分が挙げられる。ポリアミック酸に代表されるポリイミド前駆体の熱イミド化を行う場合には、上記工程の後、例えば１５０～３００℃、又は１５０～２５０℃で焼成する工程を追加してもよい。焼成時間としては特に限定されないが、５～４０分、又は、５～３０分の焼成時間が挙げられる。
焼成後の膜状物の膜厚は、薄すぎると液晶表示素子の信頼性が低下する場合があるので、５～３００ｎｍが好ましく、１０～２００ｎｍがより好ましい。
工程（２）は、基板上に塗布した液晶配向剤を焼成し、膜を形成する工程である。工程（２）の具体例は以下のとおりである。
工程（１）において液晶配向剤を基板上に塗布した後は、ホットプレート、熱循環型オーブン又はＩＲ（赤外線）型オーブンなどの加熱手段により、溶媒を蒸発させたり、ポリアミック酸に代表されるポリイミド前駆体の熱イミド化を行ったりすることができる。液晶配向剤を塗布した後の乾燥、焼成工程は、任意の温度と時間を選択することができ、複数回行ってもよい。液晶配向剤を焼成する温度としては、例えば４０～１８０℃で行うことができる。プロセスを短縮する観点で、４０～１５０℃で行ってもよい。焼成時間としては特に限定されないが、１～１０分又は、１～５分が挙げられる。ポリアミック酸に代表されるポリイミド前駆体の熱イミド化を行う場合には、上記工程の後、例えば１５０～３００℃、又は１５０～２５０℃で焼成する工程を追加してもよい。焼成時間としては特に限定されないが、５～４０分、又は、５～３０分の焼成時間が挙げられる。
焼成後の膜状物の膜厚は、薄すぎると液晶表示素子の信頼性が低下する場合があるので、５～３００ｎｍが好ましく、１０～２００ｎｍがより好ましい。
【0073】
＜工程（３）：工程（２）で得られた膜に配向処理する工程＞
工程（３）は、場合により、工程（２）で得られた膜に配向処理する工程である。即ち、ＩＰＳ方式又はＦＦＳ方式等の水平配向方式の液晶表示素子では該塗膜に対し配向能付与処理を行う。一方、ＶＡ方式又はＰＳＡ方式等の垂直配向方式の液晶表示素子では、形成した塗膜をそのまま液晶配向膜として使用することができるが、該塗膜に対し配向能付与処理を施してもよい。液晶配向膜の配向処理方法としては、ラビング配向処理法、光配向処理法が挙げられる。光配向処理法としては、上記膜状物の表面に、好ましくは一定方向に偏光された放射線を照射し、好ましくは、加熱処理を行い、液晶配向性（液晶配向能ともいう）を付与する方法が挙げられる。放射線としては、１００～８００ｎｍの波長を有する紫外線又は可視光線を用いることができる。なかでも、好ましくは１００～４００ｎｍ、より好ましくは、２００～４００ｎｍの波長を有する紫外線である。
工程（３）は、場合により、工程（２）で得られた膜に配向処理する工程である。即ち、ＩＰＳ方式又はＦＦＳ方式等の水平配向方式の液晶表示素子では該塗膜に対し配向能付与処理を行う。一方、ＶＡ方式又はＰＳＡ方式等の垂直配向方式の液晶表示素子では、形成した塗膜をそのまま液晶配向膜として使用することができるが、該塗膜に対し配向能付与処理を施してもよい。液晶配向膜の配向処理方法としては、ラビング配向処理法、光配向処理法が挙げられる。光配向処理法としては、上記膜状物の表面に、好ましくは一定方向に偏光された放射線を照射し、好ましくは、加熱処理を行い、液晶配向性（液晶配向能ともいう）を付与する方法が挙げられる。放射線としては、１００～８００ｎｍの波長を有する紫外線又は可視光線を用いることができる。なかでも、好ましくは１００～４００ｎｍ、より好ましくは、２００～４００ｎｍの波長を有する紫外線である。
【0074】
上記放射線の照射量は、１～１０，０００ｍＪ／ｃｍ２が好ましく、なかでも、１００～５，０００ｍＪ／ｃｍ２がより好ましい。また、放射線を照射する場合、液晶配向性を改善するために、上記膜状物を有する基板を、５０～２５０℃で加熱しながら照射してもよい。このようにして作製した上記液晶配向膜は、液晶分子を一定の方向に安定して配向させることができる。
照射光の光源としては、例えば低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、Ｄｅｅｐ ＵＶランプ、重水素ランプ、メタルハライドランプ、アルゴン共鳴ランプ、キセノンランプ、水銀キセノンランプ、エキシマレーザー（例えば、ＫｒＦエキシマレーザー）、蛍光ランプ、ＬＥＤランプ、ハロゲンランプ（例えば、ナトリウムランプ）、マイクロウェーブ励起無電極ランプなどを使用することができる。
また、照射光として偏光状態の光を用いた場合、偏光光の消光比が高いほどより高い異方性を付与できることから、例えば、紫外線の場合には、偏光紫外線の消光比は１０：１以上がより好ましく、２０：１以上が更に好ましい。
照射光の光源としては、例えば低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、Ｄｅｅｐ ＵＶランプ、重水素ランプ、メタルハライドランプ、アルゴン共鳴ランプ、キセノンランプ、水銀キセノンランプ、エキシマレーザー（例えば、ＫｒＦエキシマレーザー）、蛍光ランプ、ＬＥＤランプ、ハロゲンランプ（例えば、ナトリウムランプ）、マイクロウェーブ励起無電極ランプなどを使用することができる。
また、照射光として偏光状態の光を用いた場合、偏光光の消光比が高いほどより高い異方性を付与できることから、例えば、紫外線の場合には、偏光紫外線の消光比は１０：１以上がより好ましく、２０：１以上が更に好ましい。
【0075】
更に、上記の方法で、偏光された放射線を照射した塗膜やラビング配向処理を行った塗膜に、水や溶媒を用いて、接触処理してもよい。また、上記配向処理を行った膜は、接触処理を行わず、加熱処理を行っても良い。さらに、上記接触処理を行った膜に更に加熱処理を行ってもよい。
【0076】
上記接触処理に使用する溶媒としては、放射線の照射によって膜状物から生成した分解物を溶解する溶媒であれば、特に限定されるものではない。具体例としては、水、メタノール、エタノール、２－プロパノール、アセトン、メチルエチルケトン、１－メトキシ－２－プロパノール、１－メトキシ－２－プロパノールアセテート、ブチルセロソルブ、乳酸エチル、乳酸メチル、ジアセトンアルコール、３－メトキシプロピオン酸メチル、３－エトキシプロピオン酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、酢酸シクロヘキシル等が挙げられる。溶媒は、１種類でも、２種類以上組み合わせてもよい。
【0077】
上記の放射線を照射した塗膜、又は接触処理を行った膜に対する加熱処理の温度は、５０～３００℃がより好ましく、１２０～３００℃がより好ましく、１５０～３００℃がさらに好ましく、１５０～２５０℃が最も好ましい。加熱処理の時間としては、それぞれ１～３０分とすることが好ましい。
【0078】
＜工程（４）：液晶セルを作製する工程＞
上記のようにして液晶配向膜が形成された基板を２枚準備し、対向配置した２枚の基板間に液晶を配置する。具体的には以下の２つの方法が挙げられる。
第一の方法は、先ず、それぞれの液晶配向膜が対向するように間隙（セルギャップ）を介して２枚の基板を対向配置する。次いで、２枚の基板の周辺部をシール剤を用いて貼り合わせ、基板表面及びシール剤により区画されたセルギャップ内に液晶組成物を注入充填して膜面に接触した後、注入孔を封止する。
上記のようにして液晶配向膜が形成された基板を２枚準備し、対向配置した２枚の基板間に液晶を配置する。具体的には以下の２つの方法が挙げられる。
第一の方法は、先ず、それぞれの液晶配向膜が対向するように間隙（セルギャップ）を介して２枚の基板を対向配置する。次いで、２枚の基板の周辺部をシール剤を用いて貼り合わせ、基板表面及びシール剤により区画されたセルギャップ内に液晶組成物を注入充填して膜面に接触した後、注入孔を封止する。
【0079】
また、第二の方法は、ＯＤＦ（Ｏｎｅ Ｄｒｏｐ Ｆｉｌｌ）方式と呼ばれる手法である。液晶配向膜を形成した２枚の基板のうちの一方の基板上の所定の場所に、例えば紫外光硬化性のシール剤を塗布し、更に液晶配向膜面上の所定の数箇所に液晶組成物を滴下する。その後、液晶配向膜が対向するように他方の基板を貼り合わせて液晶組成物を基板の全面に押し広げて膜面に接触させる。次いで、基板の全面に紫外光を照射してシール剤を硬化する。いずれの方法による場合でも、更に、用いた液晶組成物が等方相をとる温度まで加熱した後、室温まで徐冷することにより、液晶充填時の流動配向を除去することが望ましい。
なお、塗膜に対してラビング配向処理を行った場合には、２枚の基板は、各塗膜におけるラビング方向が互いに所定の角度、例えば直交又は逆平行となるように対向配置される。
シール剤としては、例えば硬化剤及びスペーサーとしての酸化アルミニウム球を含有するエポキシ樹脂等を用いることができる。
上記液晶組成物としては、特に制限はなく、少なくとも一種の液晶化合物（液晶分子）を含む組成物であって、ネマチック相を呈する液晶組成物（以下、ネマチック液晶ともいう。）、スメクチック相を呈する液晶、又はコレステリック相を呈する液晶組成物を挙げることができ、そのなかでもネマチック液晶が好ましい。また、誘電率異方性が正または負の各種の液晶組成物を用いることができる。なお、以下では、誘電率異方性が正の液晶組成物を、ポジ型液晶ともいい、誘電率異方性が負の液晶組成物を、ネガ型液晶ともいう。
上記液晶組成物は、フッ素原子、ヒドロキシ基、アミノ基、フッ素原子含有基（例えば、トリフルオロメチル基）、シアノ基、アルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、イソチオシアネート基、複素環、シクロアルカン、シクロアルケン、ステロイド骨格、ベンゼン環、又はナフタレン環を有する液晶化合物を含んでもよく、分子内に液晶性を発現する剛直な部位（メソゲン骨格）を２つ以上有する化合物（例えば、剛直な二つのビフェニル構造、又はターフェニル構造がアルキル基で連結されたバイメソゲン化合物）を含んでもよい。
また、上記液晶組成物は、液晶配向性を向上させる観点から、添加物をさらに含有してもよい。このような添加物は、重合性基（（メタ）アクリロイル基、等）を有する化合物などの光重合性モノマー；光学活性な化合物（例：メルク（株）社製のＳ－８１１など）；酸化防止剤；紫外線吸収剤；色素；消泡剤；重合開始剤；又は重合禁止剤などが挙げられる。
ポジ型液晶としては、メルク社製のＺＬＩ－２２９３、ＺＬＩ－４７９２、ＭＬＣ－２００３、ＭＬＣ－２０４１、ＭＬＣ－３０１９、又はＭＬＣ－７０８１などが挙げられる。
ネガ型液晶としては、例えばメルク社製のＭＬＣ－６６０８、ＭＬＣ－６６０９、ＭＬＣ－６６１０、ＭＬＣ－７０２６、又はＭＬＣ－７０２６－１００などが挙げられる。
また、重合性基を有する化合物を含有する液晶として、メルク社製のＭＬＣ－３０２３が挙げられる。
なお、塗膜に対してラビング配向処理を行った場合には、２枚の基板は、各塗膜におけるラビング方向が互いに所定の角度、例えば直交又は逆平行となるように対向配置される。
シール剤としては、例えば硬化剤及びスペーサーとしての酸化アルミニウム球を含有するエポキシ樹脂等を用いることができる。
上記液晶組成物としては、特に制限はなく、少なくとも一種の液晶化合物（液晶分子）を含む組成物であって、ネマチック相を呈する液晶組成物（以下、ネマチック液晶ともいう。）、スメクチック相を呈する液晶、又はコレステリック相を呈する液晶組成物を挙げることができ、そのなかでもネマチック液晶が好ましい。また、誘電率異方性が正または負の各種の液晶組成物を用いることができる。なお、以下では、誘電率異方性が正の液晶組成物を、ポジ型液晶ともいい、誘電率異方性が負の液晶組成物を、ネガ型液晶ともいう。
上記液晶組成物は、フッ素原子、ヒドロキシ基、アミノ基、フッ素原子含有基（例えば、トリフルオロメチル基）、シアノ基、アルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、イソチオシアネート基、複素環、シクロアルカン、シクロアルケン、ステロイド骨格、ベンゼン環、又はナフタレン環を有する液晶化合物を含んでもよく、分子内に液晶性を発現する剛直な部位（メソゲン骨格）を２つ以上有する化合物（例えば、剛直な二つのビフェニル構造、又はターフェニル構造がアルキル基で連結されたバイメソゲン化合物）を含んでもよい。
また、上記液晶組成物は、液晶配向性を向上させる観点から、添加物をさらに含有してもよい。このような添加物は、重合性基（（メタ）アクリロイル基、等）を有する化合物などの光重合性モノマー；光学活性な化合物（例：メルク（株）社製のＳ－８１１など）；酸化防止剤；紫外線吸収剤；色素；消泡剤；重合開始剤；又は重合禁止剤などが挙げられる。
ポジ型液晶としては、メルク社製のＺＬＩ－２２９３、ＺＬＩ－４７９２、ＭＬＣ－２００３、ＭＬＣ－２０４１、ＭＬＣ－３０１９、又はＭＬＣ－７０８１などが挙げられる。
ネガ型液晶としては、例えばメルク社製のＭＬＣ－６６０８、ＭＬＣ－６６０９、ＭＬＣ－６６１０、ＭＬＣ－７０２６、又はＭＬＣ－７０２６－１００などが挙げられる。
また、重合性基を有する化合物を含有する液晶として、メルク社製のＭＬＣ－３０２３が挙げられる。
【0080】
本発明の液晶配向剤は、電極を備えた一対の基板の間に液晶層を有してなり、一対の基板の間に活性エネルギー線及び熱の少なくとも一方により重合する重合性化合物を含む液晶組成物を配置し、電極間に電圧を印加しつつ、活性エネルギー線の照射及び加熱の少なくとも一方により、重合性化合物を重合させる工程を経て製造される液晶表示素子（ＰＳＡ方式の液晶表示素子）にも好ましく用いられる。
また、本発明の液晶配向剤は、電極を備えた一対の基板の間に液晶層を有してなり、上記一対の基板の間に活性エネルギー線及び熱の少なくとも一方により重合する重合性基を含む液晶配向膜を配置し、電極間に電圧を印加する工程を経て製造される液晶表示素子（ＳＣ－ＰＶＡ方式の液晶表示素子）にも好ましく用いられる。
また、本発明の液晶配向剤は、電極を備えた一対の基板の間に液晶層を有してなり、上記一対の基板の間に活性エネルギー線及び熱の少なくとも一方により重合する重合性基を含む液晶配向膜を配置し、電極間に電圧を印加する工程を経て製造される液晶表示素子（ＳＣ－ＰＶＡ方式の液晶表示素子）にも好ましく用いられる。
【0081】
＜工程（４－２）：ＰＳＡ方式の液晶表示素子の場合＞
重合性化合物を含有する液晶組成物を注入又は滴下する点以外は上記（４）と同様に実施される。重合性化合物としては、例えばアクリレート基やメタクリレート基などの重合性不飽和基を分子内に１個以上有する重合性化合物を挙げることができる。
重合性化合物を含有する液晶組成物を注入又は滴下する点以外は上記（４）と同様に実施される。重合性化合物としては、例えばアクリレート基やメタクリレート基などの重合性不飽和基を分子内に１個以上有する重合性化合物を挙げることができる。
【0082】
＜工程（４－３）：ＳＣ－ＰＶＡ方式の液晶表示素子の場合＞
上記（４）と同様にした後、後述する紫外線を照射する工程を経て液晶表示素子を製造する方法を採用してもよい。この方法によれば、上記ＰＳＡ方式の液晶表示素子を製造する場合と同様に、少ない光照射量で応答速度に優れた液晶表示素子を得ることができる。重合性基を有する化合物は、上記重合性不飽和基を分子内に１個以上有する化合物であってもよく、その含有量は、液晶配向剤に含有される重合体成分１００質量部に対して０．１～３０質量部であることが好ましく、より好ましくは１～２０質量部である。また、上記重合性基は液晶配向剤に用いる重合体が有していてもよく、このような重合体としては、例えば上記光重合性基を末端に有するジアミンを含むジアミン成分を反応に用いて得られる重合体が挙げられる。
上記（４）と同様にした後、後述する紫外線を照射する工程を経て液晶表示素子を製造する方法を採用してもよい。この方法によれば、上記ＰＳＡ方式の液晶表示素子を製造する場合と同様に、少ない光照射量で応答速度に優れた液晶表示素子を得ることができる。重合性基を有する化合物は、上記重合性不飽和基を分子内に１個以上有する化合物であってもよく、その含有量は、液晶配向剤に含有される重合体成分１００質量部に対して０．１～３０質量部であることが好ましく、より好ましくは１～２０質量部である。また、上記重合性基は液晶配向剤に用いる重合体が有していてもよく、このような重合体としては、例えば上記光重合性基を末端に有するジアミンを含むジアミン成分を反応に用いて得られる重合体が挙げられる。
【0083】
＜工程（４－４）：紫外線を照射する工程＞
上記（４－２）又は（４－３）で得られた一対の基板の有する導電膜間に電圧を印加した状態で液晶セルに光照射する。ここで印加する電圧は、例えば５～５０Ｖの直流又は交流とすることができる。また、照射する光としては、例えば１５０～８００ｎｍの波長の光を含む紫外線及び可視光線を用いることができるが、３００～４００ｎｍの波長の光を含む紫外線が好ましい。照射光の光源としては、例えば低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、重水素ランプ、メタルハライドランプ、アルゴン共鳴ランプ、キセノンランプ、エキシマレーザーなどを使用することができる。光の照射量は、好ましくは１，０００～２００，０００Ｊ／ｍ２であり、より好ましくは１，０００～１００，０００Ｊ／ｍ２である。
上記（４－２）又は（４－３）で得られた一対の基板の有する導電膜間に電圧を印加した状態で液晶セルに光照射する。ここで印加する電圧は、例えば５～５０Ｖの直流又は交流とすることができる。また、照射する光としては、例えば１５０～８００ｎｍの波長の光を含む紫外線及び可視光線を用いることができるが、３００～４００ｎｍの波長の光を含む紫外線が好ましい。照射光の光源としては、例えば低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、重水素ランプ、メタルハライドランプ、アルゴン共鳴ランプ、キセノンランプ、エキシマレーザーなどを使用することができる。光の照射量は、好ましくは１，０００～２００，０００Ｊ／ｍ２であり、より好ましくは１，０００～１００，０００Ｊ／ｍ２である。
【0084】
そして、必要に応じて液晶セルの外側表面に偏光板を貼り合わせることにより液晶表示素子を得ることができる。液晶セルの外表面に貼り合わされる偏光板としては、ポリビニルアルコールを延伸配向させながらヨウ素を吸収させた「Ｈ膜」と称される偏光フィルムを酢酸セルロース保護膜で挟んだ偏光板又はＨ膜そのものからなる偏光板を挙げることができる。
【実施例0085】
以下に実施例を挙げ、本発明を更に詳しく説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。使用した化合物の略号、及び各特性の測定方法は、以下のとおりである。
【0086】
（溶媒）
ＮＭＰ：Ｎ－メチル－２－ピロリドン
ＢＣＳ：ブチルセロソルブ
ＮＭＰ：Ｎ－メチル－２－ピロリドン
ＢＣＳ：ブチルセロソルブ
【0087】
（テトラカルボン酸二無水物）
（ＡＤＡ－１）～（ＡＤＡ－６）：それぞれ、下記式（ＡＤＡ－１）～（ＡＤＡ－６）で表される化合物
（ＡＤＡ－１）～（ＡＤＡ－６）：それぞれ、下記式（ＡＤＡ－１）～（ＡＤＡ－６）で表される化合物
【化22】
【0088】
（ジアミン）
（ＤＡ－１）～（ＤＡ－１２）：それぞれ、下記式（ＤＡ－１）～（ＤＡ－１２）で表される化合物
（ＤＡ－１）～（ＤＡ－１２）：それぞれ、下記式（ＤＡ－１）～（ＤＡ－１２）で表される化合物
【化23】
【0089】
（添加剤）
ＡＤ－１：下記式（ＡＤ－１）で表される化合物
添加剤Ａ：Ｎ－α－（９－フルオレニルメトキシカルボニル）－Ｎ－τ－（ｔｅｒｔ－ブトキシカルボニル）－Ｌ－ヒスチジン
添加剤Ｂ：３－グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン
ＡＤ－１：下記式（ＡＤ－１）で表される化合物
添加剤Ａ：Ｎ－α－（９－フルオレニルメトキシカルボニル）－Ｎ－τ－（ｔｅｒｔ－ブトキシカルボニル）－Ｌ－ヒスチジン
添加剤Ｂ：３－グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン
【化24】
【0090】
［粘度の測定］
合成例において、ポリアミック酸溶液の粘度は、Ｅ型粘度計ＴＶＥ－２２Ｈ（東機産業社製）を用い、サンプル量１．１ｍＬ、コーンロータＴＥ－１（１°３４’、Ｒ２４）、温度２５℃で測定した。
合成例において、ポリアミック酸溶液の粘度は、Ｅ型粘度計ＴＶＥ－２２Ｈ（東機産業社製）を用い、サンプル量１．１ｍＬ、コーンロータＴＥ－１（１°３４’、Ｒ２４）、温度２５℃で測定した。
【0091】
（ジアミンの合成）
【0092】
下記モノマー合成例１における生成物は１Ｈ－ＮＭＲ分析により同定した。分析条件は下記のとおりである。
装置：ＢＲＵＫＥＲ ＡＤＶＡＮＣＥ ＩＩＩ－５００ＭＨｚ
測定溶媒：重水素化ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ－ｄ６）
基準物質：テトラメチルシラン（ＴＭＳ）（δ０．０ ｐｐｍ ｆｏｒ １Ｈ）
装置：ＢＲＵＫＥＲ ＡＤＶＡＮＣＥ ＩＩＩ－５００ＭＨｚ
測定溶媒：重水素化ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ－ｄ６）
基準物質：テトラメチルシラン（ＴＭＳ）（δ０．０ ｐｐｍ ｆｏｒ １Ｈ）
【0093】
＜モノマー合成例１：ＤＡ－５の合成＞
【化25】
【0094】
２－（４－ニトロフェノキシ）エタノール（３０．０ｇ，０．１６４ｍｏｌ）に対し、ＴＨＦ（テトラヒドロフラン、１２０ｇ）及びピリジン（１４．０ｇ，０．１７７ｍｏｌ）を仕込み、氷浴（０℃）で冷却しながら撹拌した。得られた溶液中に、ＴＨＦ（６０ｇ）に溶解させたアジピン酸ジクロリド（１７．０ｇ，０．０９２９ｍｏｌ）を滴下し、滴下終了後、室温（２５℃）で２０分間撹拌し、その後４５℃で１８時間撹拌した。反応終了後、室温（２５℃）へ冷却し、水（５４０ｇ）を加えて結晶を析出させた。濾過により得られた結晶を乾燥させ、粗結晶（３９ｇ）を得た。粗結晶にＴＨＦ（３００ｇ）を加え７０℃で加熱撹拌し、氷浴（０℃）で冷却しながらメタノール（４００ｇ）を加えて再結晶させた。これを濾過し、得られた結晶を乾燥させ、ＤＡ－５－１を得た（収量：３４．０ｇ，０．０７１３ｍｏｌ，収率８８％）。
１Ｈ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ） ｉｎ ＤＭＳＯ－ｄ６：δ（ｐｐｍ）＝８．１９（ｄ，Ｊ＝９．５Ｈｚ，４Ｈ），７．１６（ｄ，Ｊ＝９．５Ｈｚ，４Ｈ），４．３７（ｑ，４Ｈ），４．３４（ｑ，４Ｈ），２．３３（ｔ，４Ｈ），１．５４－１．５１（ｍ，４Ｈ）．
１Ｈ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ） ｉｎ ＤＭＳＯ－ｄ６：δ（ｐｐｍ）＝８．１９（ｄ，Ｊ＝９．５Ｈｚ，４Ｈ），７．１６（ｄ，Ｊ＝９．５Ｈｚ，４Ｈ），４．３７（ｑ，４Ｈ），４．３４（ｑ，４Ｈ），２．３３（ｔ，４Ｈ），１．５４－１．５１（ｍ，４Ｈ）．
【0095】
上記で得られたＤＡ－５－１（２９．０ｇ，０．０６０９ｍｏｌ）に対し、ＤＭＦ（Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、２９０ｇ）を加え窒素置換した後、カーボン担持パラジウム（５％Ｐｄカーボン粉末（含水品）Ｋタイプ、エヌ・イー・ケムキャット社製）（２．３２ｇ）を加え再度窒素置換し、水素テドラーバッグを取り付け、５０℃で１８時間加熱撹拌した。反応終了後、メンブレンフィルターに通してカーボン担持パラジウムを除去後、濾液に水（１０００ｇ）を加えて撹拌し結晶を析出させた。これを濾過し、粗結晶（２４ｇ）を得た。粗結晶にＴＨＦ（９２ｇ）を加え５０℃で加熱撹拌してスラリー洗浄し、次いで氷浴（０℃）で冷却後、濾過し、得られた結晶を乾燥させ、結晶（２２ｇ）を得た。得られた結晶にＤＭＦ（６６ｇ）を加え５０℃で加熱撹拌し、次いで氷浴（０℃）で冷却後、アセトニトリル（８８ｇ）を加えて再結晶させた。これを濾過し、得られた結晶を乾燥させ、ＤＡ－５を得た（収量：１７．０ｇ，０．０４０８ｍｏｌ，収率６７％）。
１Ｈ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ） ｉｎ ＤＭＳＯ－ｄ６：δ（ｐｐｍ）＝６．６５（ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ，４Ｈ），６．４９（ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ，４Ｈ），４．６０（ｓ，４Ｈ），４．２６（ｔ，４Ｈ），４．０１（ｔ，４Ｈ），２．３３（ｔ，４Ｈ），１．５６－１．５３（ｍ，４Ｈ）．
１Ｈ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ） ｉｎ ＤＭＳＯ－ｄ６：δ（ｐｐｍ）＝６．６５（ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ，４Ｈ），６．４９（ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ，４Ｈ），４．６０（ｓ，４Ｈ），４．２６（ｔ，４Ｈ），４．０１（ｔ，４Ｈ），２．３３（ｔ，４Ｈ），１．５６－１．５３（ｍ，４Ｈ）．
【0096】
（重合体の合成）
＜合成例１＞
撹拌装置付き及び窒素導入管付きの５００ｍＬ四つ口フラスコに、ＤＡ－１を２．１６ｇ（２０．０ｍｍｏｌ）、ＤＡ－２を７．３３ｇ（３０．０ｍｍｏｌ）、ＤＡ－３を９．６１ｇ（３０．０ｍｍｏｌ）、ＤＡ－７を７．９７ｇ（２０．０ｍｍｏｌ）を取り、ＮＭＰを３１１．３ｇ加えて、窒素を送りながら撹拌し溶解させた。このジアミン溶液を撹拌しながらＡＤＡ－３を２０．８５ｇ（９３．０ｍｍｏｌ）添加し、更に固形分濃度が１２質量％になるようにＮＭＰを４０．１ｇ加え、４０℃下で２４時間撹拌してポリアミック酸溶液（ＰＡＡ－１）を得た。このポリアミック酸の粘度は、４０５ｍＰａ・ｓであった。
＜合成例１＞
撹拌装置付き及び窒素導入管付きの５００ｍＬ四つ口フラスコに、ＤＡ－１を２．１６ｇ（２０．０ｍｍｏｌ）、ＤＡ－２を７．３３ｇ（３０．０ｍｍｏｌ）、ＤＡ－３を９．６１ｇ（３０．０ｍｍｏｌ）、ＤＡ－７を７．９７ｇ（２０．０ｍｍｏｌ）を取り、ＮＭＰを３１１．３ｇ加えて、窒素を送りながら撹拌し溶解させた。このジアミン溶液を撹拌しながらＡＤＡ－３を２０．８５ｇ（９３．０ｍｍｏｌ）添加し、更に固形分濃度が１２質量％になるようにＮＭＰを４０．１ｇ加え、４０℃下で２４時間撹拌してポリアミック酸溶液（ＰＡＡ－１）を得た。このポリアミック酸の粘度は、４０５ｍＰａ・ｓであった。
【0097】
＜合成例２＞
撹拌装置付き及び窒素導入管付きの２００ｍＬ四つ口フラスコに、ＤＡ－６を６．３８ｇ（３２．０ｍｍｏｌ）、ＤＡ－８を１．２２ｇ（８．０ｍｍｏｌ）を取り、ＮＭＰを１１０．１ｇ加えて、窒素を送りながら撹拌し溶解させた。このジアミン溶液を撹拌しながら、ＡＤＡ－１を１１．１８ｇ（３８．０ｍｍｏｌ）添加し、更に固形分濃度が１２質量％になるようにＮＭＰを２７．５ｇ加え、２５℃下で２４時間撹拌してポリアミック酸溶液（ＰＡＡ－２）を得た。このポリアミック酸の粘度は、３９８ｍＰａ・ｓであった。
撹拌装置付き及び窒素導入管付きの２００ｍＬ四つ口フラスコに、ＤＡ－６を６．３８ｇ（３２．０ｍｍｏｌ）、ＤＡ－８を１．２２ｇ（８．０ｍｍｏｌ）を取り、ＮＭＰを１１０．１ｇ加えて、窒素を送りながら撹拌し溶解させた。このジアミン溶液を撹拌しながら、ＡＤＡ－１を１１．１８ｇ（３８．０ｍｍｏｌ）添加し、更に固形分濃度が１２質量％になるようにＮＭＰを２７．５ｇ加え、２５℃下で２４時間撹拌してポリアミック酸溶液（ＰＡＡ－２）を得た。このポリアミック酸の粘度は、３９８ｍＰａ・ｓであった。
【0098】
＜合成例３＞
撹拌装置及び窒素導入管付きの１００ｍＬの四つ口フラスコに、ＤＡ－４を３．４４ｇ（１２．０ｍｍｏｌ）、ＤＡ－５を１．２５ｇ（３．０ｍｍｏｌ）量り取り、ＮＭＰを４５．８ｇ加え、窒素を送りながら撹拌して溶解させた。このジアミン溶液を水冷下で撹拌しながら、ＡＤＡ－３を３．１３ｇ（１４．０ｍｍｏｌ）添加し、さらにＮＭＰを１１．５ｇ加え、窒素雰囲気下４０℃で２４時間撹拌してポリアミック酸溶液（ＰＡＡ－３）を得た。このポリアミック酸の粘度は、３２０ｍＰａ・ｓであった。
撹拌装置及び窒素導入管付きの１００ｍＬの四つ口フラスコに、ＤＡ－４を３．４４ｇ（１２．０ｍｍｏｌ）、ＤＡ－５を１．２５ｇ（３．０ｍｍｏｌ）量り取り、ＮＭＰを４５．８ｇ加え、窒素を送りながら撹拌して溶解させた。このジアミン溶液を水冷下で撹拌しながら、ＡＤＡ－３を３．１３ｇ（１４．０ｍｍｏｌ）添加し、さらにＮＭＰを１１．５ｇ加え、窒素雰囲気下４０℃で２４時間撹拌してポリアミック酸溶液（ＰＡＡ－３）を得た。このポリアミック酸の粘度は、３２０ｍＰａ・ｓであった。
【0099】
＜合成例４＞
撹拌装置及び窒素導入管付きの１００ｍＬのナスフラスコに、ＤＡ－６を３．１９ｇ（１６．０ｍｍｏｌ）、ＤＡ－８を０．６１ｇ（４．００ｍｍｏｌ）量り取り、ＮＭＰを３３．３ｇ加え、窒素を送りながら撹拌して溶解させた。このジアミン溶液を水冷下で撹拌しながら、ＡＤＡ－２を１．２５ｇ（５．０ｍｍｏｌ）添加し、さらにＮＭＰを３．７ｇ加え、窒素雰囲気下５０℃で２時間撹拌した。さらに、ＮＭＰを３２．０ｇ加え、次いで、ＡＤＡ－１を５．４１ｇ（１８．４ｍｍｏｌ）添加し、さらにＮＭＰを７．７ｇ加え、窒素雰囲気下７０℃で１２時間撹拌してポリアミック酸溶液（ＰＡＡ－４）を得た。このポリアミック酸の粘度は、３２０ｍＰａ・ｓであった。
撹拌装置及び窒素導入管付きの１００ｍＬのナスフラスコに、ＤＡ－６を３．１９ｇ（１６．０ｍｍｏｌ）、ＤＡ－８を０．６１ｇ（４．００ｍｍｏｌ）量り取り、ＮＭＰを３３．３ｇ加え、窒素を送りながら撹拌して溶解させた。このジアミン溶液を水冷下で撹拌しながら、ＡＤＡ－２を１．２５ｇ（５．０ｍｍｏｌ）添加し、さらにＮＭＰを３．７ｇ加え、窒素雰囲気下５０℃で２時間撹拌した。さらに、ＮＭＰを３２．０ｇ加え、次いで、ＡＤＡ－１を５．４１ｇ（１８．４ｍｍｏｌ）添加し、さらにＮＭＰを７．７ｇ加え、窒素雰囲気下７０℃で１２時間撹拌してポリアミック酸溶液（ＰＡＡ－４）を得た。このポリアミック酸の粘度は、３２０ｍＰａ・ｓであった。
【0100】
＜合成例５＞
撹拌装置付きおよび窒素導入管付きの２０００ｍｌ四つ口フラスコにＤＡ－９（１３.７ｇ，５９.３ｍｍｏｌ）を入れ、ＮＭＰ１５３.３ｇを加え、窒素を送りながら撹拌し溶解させた。このジアミン溶液を撹拌しながらＡＤＡ－１（１６.６ｇ，５６.５ｍｍｏｌ）を添加し、更にＮＭＰを１７．０ｇ加え、窒素雰囲気下４０℃で２４時間撹拌してポリアミック酸溶液（ＰＡＡ－５）を得た。このポリアミック酸溶液の２５℃における粘度は５０４ｍＰａ・ｓであった。
撹拌装置付きおよび窒素導入管付きの２０００ｍｌ四つ口フラスコにＤＡ－９（１３.７ｇ，５９.３ｍｍｏｌ）を入れ、ＮＭＰ１５３.３ｇを加え、窒素を送りながら撹拌し溶解させた。このジアミン溶液を撹拌しながらＡＤＡ－１（１６.６ｇ，５６.５ｍｍｏｌ）を添加し、更にＮＭＰを１７．０ｇ加え、窒素雰囲気下４０℃で２４時間撹拌してポリアミック酸溶液（ＰＡＡ－５）を得た。このポリアミック酸溶液の２５℃における粘度は５０４ｍＰａ・ｓであった。
【0101】
＜合成例６＞
撹拌装置付き及び窒素導入管付きの１００ｍＬ四つ口フラスコに、ＤＡ－１０を１．８５ｇ（９．２３ｍｍｏｌ）及びＤＡ－８を２．１０ｇ（１３．８２ｍｍｏｌ）を量り取り、ＮＭＰ３９．７ｇを加えて、窒素を送りながら撹拌し溶解させた。このジアミン溶液を撹拌しながらＡＤＡ－４を４．８２ｇ（２２．０８ｍｍｏｌ）添加し、更にＮＭＰを１０．０ｇ加え、室温で２４時間撹拌してポリアミック酸溶液（ＰＡＡ－６）を得た。このポリアミック酸溶液の温度２５℃における粘度は２５７ｍＰａ・ｓであった。
撹拌装置付き及び窒素導入管付きの１００ｍＬ四つ口フラスコに、ＤＡ－１０を１．８５ｇ（９．２３ｍｍｏｌ）及びＤＡ－８を２．１０ｇ（１３．８２ｍｍｏｌ）を量り取り、ＮＭＰ３９．７ｇを加えて、窒素を送りながら撹拌し溶解させた。このジアミン溶液を撹拌しながらＡＤＡ－４を４．８２ｇ（２２．０８ｍｍｏｌ）添加し、更にＮＭＰを１０．０ｇ加え、室温で２４時間撹拌してポリアミック酸溶液（ＰＡＡ－６）を得た。このポリアミック酸溶液の温度２５℃における粘度は２５７ｍＰａ・ｓであった。
【0102】
＜合成例７＞
撹拌装置付きおよび窒素導入管付きの１００ｍｌ四つ口フラスコにＤＡ－４を７．４５ｇ（２６．０ｍｍｏｌ）入れ、ＮＭＰを６７．０ｇ加え、窒素を送りながら撹拌し溶解させた。このジアミン溶液を水冷下で撹拌しながらＡＤＡ－４を４．８６ｇ（２４．８ｍｍｏｌ）加え、更に固形分濃度が１２質量％になるようにＮＭＰを２３．３ｇ加え、窒素雰囲気下、５０℃で加熱しながら２０時間撹拌してポリアミック酸溶液（ＰＡＡ－７）を得た。このポリアミック酸溶液の温度２５℃における粘度は、５３０ｍＰａ・ｓであった。
撹拌装置付きおよび窒素導入管付きの１００ｍｌ四つ口フラスコにＤＡ－４を７．４５ｇ（２６．０ｍｍｏｌ）入れ、ＮＭＰを６７．０ｇ加え、窒素を送りながら撹拌し溶解させた。このジアミン溶液を水冷下で撹拌しながらＡＤＡ－４を４．８６ｇ（２４．８ｍｍｏｌ）加え、更に固形分濃度が１２質量％になるようにＮＭＰを２３．３ｇ加え、窒素雰囲気下、５０℃で加熱しながら２０時間撹拌してポリアミック酸溶液（ＰＡＡ－７）を得た。このポリアミック酸溶液の温度２５℃における粘度は、５３０ｍＰａ・ｓであった。
【0103】
＜合成例８＞
撹拌装置付きおよび窒素導入管付きの１００ｍｌ四つ口フラスコにＤＡ－１１を０．９９ｇ(５．００ｍｍｏｌ)、ＤＡ－６を３．９９ｇ（２０．０ｍｍｏｌ）入れ、ＮＭＰを５７．２ｇ加え、窒素を送りながら撹拌し溶解させた。このジアミン溶液を水冷下で撹拌しながらＡＤＡ－６を１．５０ｇ（５．００ｍｍｏｌ）とＮＭＰを１．０７ｇ加えて、窒素雰囲気下、水冷下で３時間撹拌した。その後、ＡＤＡ－５を３．５３ｇ（１８．０ｍｍｏｌ）添加し、更に固形分濃度が１０質量％になるようにＮＭＰを３１．８ｇ加えて、再び窒素雰囲気下、水冷下で３時間撹拌してポリアミック酸溶液（ＰＡＡ－８）を得た。このポリアミック酸溶液の温度２５℃における粘度は、１６５ｍＰａ・ｓであった。
撹拌装置付きおよび窒素導入管付きの１００ｍｌ四つ口フラスコにＤＡ－１１を０．９９ｇ(５．００ｍｍｏｌ)、ＤＡ－６を３．９９ｇ（２０．０ｍｍｏｌ）入れ、ＮＭＰを５７．２ｇ加え、窒素を送りながら撹拌し溶解させた。このジアミン溶液を水冷下で撹拌しながらＡＤＡ－６を１．５０ｇ（５．００ｍｍｏｌ）とＮＭＰを１．０７ｇ加えて、窒素雰囲気下、水冷下で３時間撹拌した。その後、ＡＤＡ－５を３．５３ｇ（１８．０ｍｍｏｌ）添加し、更に固形分濃度が１０質量％になるようにＮＭＰを３１．８ｇ加えて、再び窒素雰囲気下、水冷下で３時間撹拌してポリアミック酸溶液（ＰＡＡ－８）を得た。このポリアミック酸溶液の温度２５℃における粘度は、１６５ｍＰａ・ｓであった。
【0104】
＜合成例９＞
撹拌装置付きおよび窒素導入管付きの１００ｍｌ四つ口フラスコにＤＡ－１２を７．４５ｇ（３０．０ｍｍｏｌ）入れ、ＮＭＰを９２．３ｇ加え、窒素を送りながら撹拌し溶解させた。このジアミン溶液を水冷下で撹拌しながらＡＤＡ－３を６．２２ｇ（２７．８ｍｍｏｌ）加え、更に固形分濃度が１２質量％になるようにＮＭＰを７．９４ｇ加えて、再び窒素雰囲気下、４０℃で加熱しながら２４時間撹拌してポリアミック酸溶液（ＰＡＡ－９）を得た。このポリアミック酸溶液の温度２５℃における粘度は、３４７ｍＰａ・ｓであった。
撹拌装置付きおよび窒素導入管付きの１００ｍｌ四つ口フラスコにＤＡ－１２を７．４５ｇ（３０．０ｍｍｏｌ）入れ、ＮＭＰを９２．３ｇ加え、窒素を送りながら撹拌し溶解させた。このジアミン溶液を水冷下で撹拌しながらＡＤＡ－３を６．２２ｇ（２７．８ｍｍｏｌ）加え、更に固形分濃度が１２質量％になるようにＮＭＰを７．９４ｇ加えて、再び窒素雰囲気下、４０℃で加熱しながら２４時間撹拌してポリアミック酸溶液（ＰＡＡ－９）を得た。このポリアミック酸溶液の温度２５℃における粘度は、３４７ｍＰａ・ｓであった。
【0105】
上記合成例で得られたポリアミック酸の仕様を表１に示す。表中、テトラカルボン酸成分の括弧内の数値は、重合に使用したテトラカルボン酸成分の総量１００モル部に対して、使用した各テトラカルボン酸二無水物の量（モル部）を表す。ジアミン成分の括弧内の数値は、重合に使用したジアミン成分の総量１００モル部に対して、使用した各ジアミンの量（モル部）を表す。
【0106】
【表1】
【0107】
（液晶配向剤の調製）
＜例１＞
撹拌子を入れた５０ｍＬ三角フラスコに、合成例１で得られたポリアミック酸溶液（ＰＡＡ－１）を８．６７ｇ、合成例２で得られたポリアミック酸溶液（ＰＡＡ－２）を８．６７ｇ、添加剤ＢのＮＭＰ１．０質量％溶液を２．０８ｇ、ＡＤ－１のＮＭＰ１０質量％溶液を１．０４ｇ、ＮＭＰを１１．１４ｇ、ＤＬ－乳酸（ＭＡＣＫＬＩＮ社製 品名：ＤＬ－乳酸 純度：８５～９０％）を０．２０ｇ、ＢＣＳを８．００ｇ加え、更に添加剤Ａを０．２１ｇ加えて、マグネチックスターラーで３０分間撹拌し、液晶配向剤（ＡＬ－１）を得た。
＜例１＞
撹拌子を入れた５０ｍＬ三角フラスコに、合成例１で得られたポリアミック酸溶液（ＰＡＡ－１）を８．６７ｇ、合成例２で得られたポリアミック酸溶液（ＰＡＡ－２）を８．６７ｇ、添加剤ＢのＮＭＰ１．０質量％溶液を２．０８ｇ、ＡＤ－１のＮＭＰ１０質量％溶液を１．０４ｇ、ＮＭＰを１１．１４ｇ、ＤＬ－乳酸（ＭＡＣＫＬＩＮ社製 品名：ＤＬ－乳酸 純度：８５～９０％）を０．２０ｇ、ＢＣＳを８．００ｇ加え、更に添加剤Ａを０．２１ｇ加えて、マグネチックスターラーで３０分間撹拌し、液晶配向剤（ＡＬ－１）を得た。
【0108】
＜例２＞
上記例１と同様の方法で液晶配向剤（ＡＬ－１）を調製した後、得られた液晶配向剤を２５℃にて４８時間静置し、液晶配向剤（ＡＬ－１－４８ｈ）を得た。
上記例１と同様の方法で液晶配向剤（ＡＬ－１）を調製した後、得られた液晶配向剤を２５℃にて４８時間静置し、液晶配向剤（ＡＬ－１－４８ｈ）を得た。
【0109】
＜例３＞
撹拌子を入れた５０ｍＬ三角フラスコに、合成例１で得られたポリアミック酸溶液（ＰＡＡ－１）を８．６７ｇ、合成例２で得られたポリアミック酸溶液（ＰＡＡ－２）を８．６７ｇ、添加剤ＢのＮＭＰ１．０質量％溶液を２．０８ｇ、ＡＤ－１のＮＭＰ１０質量％溶液を１．０４ｇ、ＮＭＰを１０．９４ｇ、ＤＬ－乳酸（ＭＡＣＫＬＩＮ社製 品名：ＤＬ－乳酸 純度：８５～９０％）を０．４０ｇ、ＢＣＳを８．００ｇ加え、更に添加剤Ａを０．２１ｇ加えて、マグネチックスターラーで３０分間撹拌し、液晶配向剤（ＡＬ－２）を得た。
撹拌子を入れた５０ｍＬ三角フラスコに、合成例１で得られたポリアミック酸溶液（ＰＡＡ－１）を８．６７ｇ、合成例２で得られたポリアミック酸溶液（ＰＡＡ－２）を８．６７ｇ、添加剤ＢのＮＭＰ１．０質量％溶液を２．０８ｇ、ＡＤ－１のＮＭＰ１０質量％溶液を１．０４ｇ、ＮＭＰを１０．９４ｇ、ＤＬ－乳酸（ＭＡＣＫＬＩＮ社製 品名：ＤＬ－乳酸 純度：８５～９０％）を０．４０ｇ、ＢＣＳを８．００ｇ加え、更に添加剤Ａを０．２１ｇ加えて、マグネチックスターラーで３０分間撹拌し、液晶配向剤（ＡＬ－２）を得た。
【0110】
＜例４＞
上記例３と同様の方法で液晶配向剤（ＡＬ－２）を調製した後、得られた液晶配向剤を２５℃にて４８時間静置し、液晶配向剤（ＡＬ－２－４８ｈ）を得た。
上記例３と同様の方法で液晶配向剤（ＡＬ－２）を調製した後、得られた液晶配向剤を２５℃にて４８時間静置し、液晶配向剤（ＡＬ－２－４８ｈ）を得た。
【0111】
＜例５＞
撹拌子を入れた５０ｍＬ三角フラスコに、合成例１で得られたポリアミック酸溶液（ＰＡＡ－１）を８．６７ｇ、合成例２で得られたポリアミック酸溶液（ＰＡＡ－２）を８．６７ｇ、添加剤ＢのＮＭＰ１．０質量％溶液を２．０８ｇ、ＡＤ－１のＮＭＰ１０質量％溶液を１．０４ｇ、ＮＭＰを１１．２４ｇ、クエン酸（ＭＡＣＫＬＩＮ社製 品名：クエン酸 純度：９９．５％以上）を０．２ｇ、ＢＣＳを８．００ｇ加え、更に添加剤Ａを０．２１ｇ加えて、マグネチックスターラーで３０分間撹拌し、液晶配向剤（ＡＬ－３）を得た。
撹拌子を入れた５０ｍＬ三角フラスコに、合成例１で得られたポリアミック酸溶液（ＰＡＡ－１）を８．６７ｇ、合成例２で得られたポリアミック酸溶液（ＰＡＡ－２）を８．６７ｇ、添加剤ＢのＮＭＰ１．０質量％溶液を２．０８ｇ、ＡＤ－１のＮＭＰ１０質量％溶液を１．０４ｇ、ＮＭＰを１１．２４ｇ、クエン酸（ＭＡＣＫＬＩＮ社製 品名：クエン酸 純度：９９．５％以上）を０．２ｇ、ＢＣＳを８．００ｇ加え、更に添加剤Ａを０．２１ｇ加えて、マグネチックスターラーで３０分間撹拌し、液晶配向剤（ＡＬ－３）を得た。
【0112】
＜例６＞
上記例５と同様の方法で液晶配向剤（ＡＬ－３）を調製した後、得られた液晶配向剤を２５℃にて４８時間静置し、液晶配向剤（ＡＬ－３－４８ｈ）を得た。
＜例７＞
撹拌子を入れた５０ｍＬ三角フラスコに、合成例１で得られたポリアミック酸溶液（ＰＡＡ－１）を８．６７ｇ、合成例２で得られたポリアミック酸溶液（ＰＡＡ－２）を８．６７ｇ、添加剤ＢのＮＭＰ１．０質量％溶液を２．０８ｇ、ＡＤ－１のＮＭＰ１０質量％溶液を１．０４ｇ、ＮＭＰを１０．９４ｇ、クエン酸（ＭＡＣＫＬＩＮ社製 品名：クエン酸 純度：９９．５％以上）を０．４ｇ、ＢＣＳを８．００ｇ加え、更に添加剤Ａを０．２１ｇ加えて、マグネチックスターラーで３０分間撹拌し、液晶配向剤（ＡＬ－４）を得た。
上記例５と同様の方法で液晶配向剤（ＡＬ－３）を調製した後、得られた液晶配向剤を２５℃にて４８時間静置し、液晶配向剤（ＡＬ－３－４８ｈ）を得た。
＜例７＞
撹拌子を入れた５０ｍＬ三角フラスコに、合成例１で得られたポリアミック酸溶液（ＰＡＡ－１）を８．６７ｇ、合成例２で得られたポリアミック酸溶液（ＰＡＡ－２）を８．６７ｇ、添加剤ＢのＮＭＰ１．０質量％溶液を２．０８ｇ、ＡＤ－１のＮＭＰ１０質量％溶液を１．０４ｇ、ＮＭＰを１０．９４ｇ、クエン酸（ＭＡＣＫＬＩＮ社製 品名：クエン酸 純度：９９．５％以上）を０．４ｇ、ＢＣＳを８．００ｇ加え、更に添加剤Ａを０．２１ｇ加えて、マグネチックスターラーで３０分間撹拌し、液晶配向剤（ＡＬ－４）を得た。
【0113】
＜例８＞
上記例７と同様の方法で液晶配向剤（ＡＬ－４）を調製した後、得られた液晶配向剤を２５℃にて４８時間静置し、液晶配向剤（ＡＬ－４－４８ｈ）を得た。
上記例７と同様の方法で液晶配向剤（ＡＬ－４）を調製した後、得られた液晶配向剤を２５℃にて４８時間静置し、液晶配向剤（ＡＬ－４－４８ｈ）を得た。
【0114】
＜例９＞
撹拌子を入れた５０ｍＬ三角フラスコに、合成例１で得られたポリアミック酸溶液（ＰＡＡ－１）を８．６７ｇ、合成例２で得られたポリアミック酸溶液（ＰＡＡ－２）を８．６７ｇ、添加剤ＢのＮＭＰ１．０質量％溶液を２．０８ｇ、ＡＤ－１のＮＭＰ１０質量％溶液を１．０４ｇ、ＮＭＰを１１．３４ｇ、ＢＣＳを８．００ｇ加え、更に添加剤Ａを０．２１ｇ加えて、マグネチックスターラーで３０分間撹拌し、液晶配向剤（ＡＬ－５）を得た。
撹拌子を入れた５０ｍＬ三角フラスコに、合成例１で得られたポリアミック酸溶液（ＰＡＡ－１）を８．６７ｇ、合成例２で得られたポリアミック酸溶液（ＰＡＡ－２）を８．６７ｇ、添加剤ＢのＮＭＰ１．０質量％溶液を２．０８ｇ、ＡＤ－１のＮＭＰ１０質量％溶液を１．０４ｇ、ＮＭＰを１１．３４ｇ、ＢＣＳを８．００ｇ加え、更に添加剤Ａを０．２１ｇ加えて、マグネチックスターラーで３０分間撹拌し、液晶配向剤（ＡＬ－５）を得た。
【0115】
＜例１０＞
上記例９と同様の方法で液晶配向剤（ＡＬ－５）を調製した後、得られた液晶配向剤を２５℃にて４８時間静置し、液晶配向剤（ＡＬ－５－４８ｈ）を得た。
＜例１１＞
撹拌子を入れた５０ｍＬ三角フラスコに、合成例３で得られたポリアミック酸溶液（ＰＡＡ－３）を５．２０ｇ、合成例４で得られたポリアミック酸溶液（ＰＡＡ－４）を１２．１３ｇ、添加剤ＢのＮＭＰ１．０質量％溶液を２．０８ｇ、ＡＤ－１のＮＭＰ１０質量％溶液を１．０４ｇ、ＮＭＰを１１．３５ｇ、ＤＬ－乳酸（ＭＡＣＫＬＩＮ社製 品名：ＤＬ－乳酸 純度：８５～９０％）を０．２ｇ、ＢＣＳを８．００ｇ加え、マグネチックスターラーで３０分間撹拌し、液晶配向剤（ＡＬ－６）を得た。
上記例９と同様の方法で液晶配向剤（ＡＬ－５）を調製した後、得られた液晶配向剤を２５℃にて４８時間静置し、液晶配向剤（ＡＬ－５－４８ｈ）を得た。
＜例１１＞
撹拌子を入れた５０ｍＬ三角フラスコに、合成例３で得られたポリアミック酸溶液（ＰＡＡ－３）を５．２０ｇ、合成例４で得られたポリアミック酸溶液（ＰＡＡ－４）を１２．１３ｇ、添加剤ＢのＮＭＰ１．０質量％溶液を２．０８ｇ、ＡＤ－１のＮＭＰ１０質量％溶液を１．０４ｇ、ＮＭＰを１１．３５ｇ、ＤＬ－乳酸（ＭＡＣＫＬＩＮ社製 品名：ＤＬ－乳酸 純度：８５～９０％）を０．２ｇ、ＢＣＳを８．００ｇ加え、マグネチックスターラーで３０分間撹拌し、液晶配向剤（ＡＬ－６）を得た。
【0116】
＜例１２＞
上記例１１と同様の方法で液晶配向剤（ＡＬ－６）を調製した後、得られた液晶配向剤を２５℃にて４８時間静置し、液晶配向剤（ＡＬ－６－４８ｈ）を得た。
＜例１３＞
撹拌子を入れた５０ｍＬ三角フラスコに、合成例３で得られたポリアミック酸溶液（ＰＡＡ－３）を５．２０ｇ、合成例４で得られたポリアミック酸溶液（ＰＡＡ－４）を１２．１３ｇ、添加剤ＢのＮＭＰ１．０質量％溶液を２．０８ｇ、ＡＤ－１のＮＭＰ１０質量％溶液を１．０４ｇ、ＮＭＰを１１．５５ｇ、ＢＣＳを８．００ｇ加え、マグネチックスターラーで３０分間撹拌し、液晶配向剤（ＡＬ－７）を得た。
上記例１１と同様の方法で液晶配向剤（ＡＬ－６）を調製した後、得られた液晶配向剤を２５℃にて４８時間静置し、液晶配向剤（ＡＬ－６－４８ｈ）を得た。
＜例１３＞
撹拌子を入れた５０ｍＬ三角フラスコに、合成例３で得られたポリアミック酸溶液（ＰＡＡ－３）を５．２０ｇ、合成例４で得られたポリアミック酸溶液（ＰＡＡ－４）を１２．１３ｇ、添加剤ＢのＮＭＰ１．０質量％溶液を２．０８ｇ、ＡＤ－１のＮＭＰ１０質量％溶液を１．０４ｇ、ＮＭＰを１１．５５ｇ、ＢＣＳを８．００ｇ加え、マグネチックスターラーで３０分間撹拌し、液晶配向剤（ＡＬ－７）を得た。
【0117】
＜例１４＞
上記例１３と同様の方法で液晶配向剤（ＡＬ－７）を調製した後、得られた液晶配向剤を２５℃にて４８時間静置し、液晶配向剤（ＡＬ－７－４８ｈ）を得た。
上記例１３と同様の方法で液晶配向剤（ＡＬ－７）を調製した後、得られた液晶配向剤を２５℃にて４８時間静置し、液晶配向剤（ＡＬ－７－４８ｈ）を得た。
【0118】
例１～１４で得られた液晶配向剤の第一の重合体、第二の重合体、（Ｃ）成分の種類及び（Ｃ）成分の比率は、下記表２のとおりである。
下記の例において、例１～８及び例１１～１２は、本発明の実施例であり、例９～１０及び例１３～１４は比較例である。
表中、（Ｃ）成分の括弧内の数値は、各液晶配向剤の総量１００質量部に対する、各化合物の含有量（質量部）を表す。
下記の例において、例１～８及び例１１～１２は、本発明の実施例であり、例９～１０及び例１３～１４は比較例である。
表中、（Ｃ）成分の括弧内の数値は、各液晶配向剤の総量１００質量部に対する、各化合物の含有量（質量部）を表す。
【0119】
【表2】
【0120】
［ＦＦＳ駆動方式の液晶セルの作製（光配向処理）］
（例１５～２４）
ＦＦＳ駆動方式の液晶表示素子の構成を備えた液晶セルを作製した。
初めに電極付きの基板を準備した。基板は、３０ｍｍ×５０ｍｍの大きさで、厚さが０．７ｍｍのガラス基板を用いた。基板上には第１層目として対向電極を構成する、ベタ状のパターンを備えたＩＴＯ電極が形成されている。第１層目の対向電極の上には第２層目として、ＣＶＤ法により成膜されたＳｉＮ（窒化珪素）膜が形成されていた。第２層目のＳｉＮ膜は、層間絶縁膜として機能する、膜厚が５００ｎｍのものを用いた。第２層目のＳｉＮ膜の上には、第３層目としてＩＴＯ膜をパターニングして形成された櫛歯状の画素電極が配置され、第１画素および第２画素の２つの画素が形成されていた。各画素のサイズは、縦１０ｍｍで横約５ｍｍであった。このとき、第１層目の対向電極と第３層目の画素電極とは、第２層目のＳｉＮ膜の作用により電気的に絶縁されていた。
（例１５～２４）
ＦＦＳ駆動方式の液晶表示素子の構成を備えた液晶セルを作製した。
初めに電極付きの基板を準備した。基板は、３０ｍｍ×５０ｍｍの大きさで、厚さが０．７ｍｍのガラス基板を用いた。基板上には第１層目として対向電極を構成する、ベタ状のパターンを備えたＩＴＯ電極が形成されている。第１層目の対向電極の上には第２層目として、ＣＶＤ法により成膜されたＳｉＮ（窒化珪素）膜が形成されていた。第２層目のＳｉＮ膜は、層間絶縁膜として機能する、膜厚が５００ｎｍのものを用いた。第２層目のＳｉＮ膜の上には、第３層目としてＩＴＯ膜をパターニングして形成された櫛歯状の画素電極が配置され、第１画素および第２画素の２つの画素が形成されていた。各画素のサイズは、縦１０ｍｍで横約５ｍｍであった。このとき、第１層目の対向電極と第３層目の画素電極とは、第２層目のＳｉＮ膜の作用により電気的に絶縁されていた。
【0121】
第３層目の画素電極は、中央部分が内角１６０°で屈曲した幅３μｍの電極要素が６μｍの間隔を開けて平行になるように複数配列された櫛歯形状を有しており、１つの画素は、複数の電極要素の屈曲部を結ぶ線を境に第１領域と第２領域を有していた。
各画素の第１領域と第２領域とを比較すると、それらを構成する画素電極の電極要素の形成方向が異なるものとなっていた。すなわち、上記複数の電極要素の屈曲部を結ぶ方向を基準とした場合、画素の第１領域では画素電極の電極要素が時計回りに８０°の角度をなすように形成され、画素の第２領域では画素電極の電極要素が反時計回りに８０°の角度をなすように形成されていた。すなわち、各画素の第１領域と第２領域とでは、画素電極と対向電極との間の電圧印加によって誘起される液晶分子の、基板面内での回転動作（インプレーン・スイッチング）の方向が互いに逆方向となるように構成されていた。
各画素の第１領域と第２領域とを比較すると、それらを構成する画素電極の電極要素の形成方向が異なるものとなっていた。すなわち、上記複数の電極要素の屈曲部を結ぶ方向を基準とした場合、画素の第１領域では画素電極の電極要素が時計回りに８０°の角度をなすように形成され、画素の第２領域では画素電極の電極要素が反時計回りに８０°の角度をなすように形成されていた。すなわち、各画素の第１領域と第２領域とでは、画素電極と対向電極との間の電圧印加によって誘起される液晶分子の、基板面内での回転動作（インプレーン・スイッチング）の方向が互いに逆方向となるように構成されていた。
【0122】
次に、上記液晶配向剤の調製例１～１０で得られた液晶配向剤（ＡＬ－１）～（ＡＬ－５）及び（ＡＬ－１－４８ｈ）～（ＡＬ－５－４８ｈ）を１．０μｍのフィルターで濾過した後、上記電極付き基板と裏面にＩＴＯ膜が成膜されている高さ４μｍの柱状スペーサーを有するガラス基板に、それぞれスピンコート塗布にて塗布した。８０℃のホットプレート上で５分間乾燥させた後、２３０℃の熱風循環式オーブンで３０分間焼成を行い、膜厚１００ｎｍの塗膜を形成させた。次に、光配向処理を行った。具体的には、この塗膜面に偏光板を介して消光比１０：１以上の直線偏光した波長２５４ｎｍの紫外線を照射した。なお、照射した紫外線の照射量は、下記の表３に記載の条件で行った。下記の作製例において、例１５～２２は、本発明の実施例であり、例２３～２４は比較例である。
次に、上記の照射膜付き基板を２３０℃のホットプレート上で３０分間加熱する加熱工程を行い、液晶配向膜付き基板を得た。
次に、上記の照射膜付き基板を２３０℃のホットプレート上で３０分間加熱する加熱工程を行い、液晶配向膜付き基板を得た。
【0123】
【表3】
【0124】
上記の液晶配向膜付き基板を２枚用意し、液晶注入口を残して周囲にシール剤（三井化学社製 ＸＮ－１５００Ｔ）を印刷し、液晶配向膜面が向き合い配向方向が０°になるようにして張り合わせた。その後、１２０℃で９０分間の加熱処理を行い、シール剤を硬化させて空セルを作製した。この空セルにネガ型液晶ＭＬＣ－７０２６－１００（メルク社製）を常温で真空注入した後、注入口を封止してアンチパラレル配向の液晶セルとした。得られたＦＦＳ駆動方式の液晶セルを１２０℃で１時間加熱し、２３℃で一晩放置してから下記する各評価に用いた。
【0125】
［ＦＦＳ駆動方式の液晶セルの作製（ラビング配向処理）］
（例２５～２８）
上記と同様の電極付き基板、及び柱状スペーサーを有するガラス基板を準備した。そして、上記液晶配向剤の調製例１１～１４で得られた液晶配向剤（ＡＬ－６）～（ＡＬ－７）及び（ＡＬ－６－４８ｈ）～（ＡＬ－７－４８ｈ）を用いた以外は、上記と同様の手順で膜厚１００ｎｍの塗膜を形成させた。次に、上記光配向処理を以下に記載のラビング配向処理に変更して、配向処理を行った。具体的には、塗膜が形成された基板を、レーヨン布でラビング（ローラー直径：１４０ｍｍ、ローラー回転数：１０００ｒｐｍ、移動速度：３０ｍｍ／ｓｅｃ、押し込み長：０．３ｍｍ）した。その後、純水中にて１分間超音波照射をして洗浄を行い、エアブローにて水滴を除去した後、８０℃で１０分間乾燥して液晶配向膜付き基板を得た。
このようにして得られた上記液晶配向膜付きの基板を２枚用意し、上記と同様の手順でＦＦＳ駆動方式の液晶セルを作製し、下記する各評価に用いた。
なお、液晶セルの作製例と、液晶セルの作製に用いた液晶配向剤及び配向処理方法を、表４に示す。下記の作製例において、例２５～２６は、本発明の実施例であり、例２７～２８は比較例である。
（例２５～２８）
上記と同様の電極付き基板、及び柱状スペーサーを有するガラス基板を準備した。そして、上記液晶配向剤の調製例１１～１４で得られた液晶配向剤（ＡＬ－６）～（ＡＬ－７）及び（ＡＬ－６－４８ｈ）～（ＡＬ－７－４８ｈ）を用いた以外は、上記と同様の手順で膜厚１００ｎｍの塗膜を形成させた。次に、上記光配向処理を以下に記載のラビング配向処理に変更して、配向処理を行った。具体的には、塗膜が形成された基板を、レーヨン布でラビング（ローラー直径：１４０ｍｍ、ローラー回転数：１０００ｒｐｍ、移動速度：３０ｍｍ／ｓｅｃ、押し込み長：０．３ｍｍ）した。その後、純水中にて１分間超音波照射をして洗浄を行い、エアブローにて水滴を除去した後、８０℃で１０分間乾燥して液晶配向膜付き基板を得た。
このようにして得られた上記液晶配向膜付きの基板を２枚用意し、上記と同様の手順でＦＦＳ駆動方式の液晶セルを作製し、下記する各評価に用いた。
なお、液晶セルの作製例と、液晶セルの作製に用いた液晶配向剤及び配向処理方法を、表４に示す。下記の作製例において、例２５～２６は、本発明の実施例であり、例２７～２８は比較例である。
【0126】
【表4】
【0127】
［長期交流駆動による残像評価（配向由来の残像評価）］
上記で作製したＦＦＳ駆動方式の液晶セルを用い、６０℃の恒温環境下、周波数６０Ｈｚで±５Ｖの交流電圧を１２０時間印加した。その後、液晶セルの画素電極と対向電極との間をショートさせた状態にし、そのまま室温に一日放置した。
放置の後、液晶セルを偏光軸が直交するように配置された２枚の偏光板の間に設置し、電圧無印加の状態でバックライトを点灯させておき、透過光の輝度が最も小さくなるように液晶セルの配置角度を調整した。そして、第１画素の第２領域が最も暗くなる角度から第１領域が最も暗くなる角度まで液晶セルを回転させたときの回転角度を角度Δ１として算出した。第２画素でも同様に、第２領域と第１領域とを比較し、同様の角度Δ２を算出した。そして、第１画素で得られた角度Δ１と第２画素で得られた角度Δ２の平均値を液晶セルの角度Δとして算出した結果を下記表５に示す。さらに、２５℃で４８時間静置ありとなしの場合での角度Δの差異（以下、変化値（Ｘ）ともいう。）も下記表５に示す。なお、変化値（Ｘ）は、下記式を用いて算出した。
変化値（Ｘ）＝Ａ－Ｂ
Ａ：２５℃で４８時間静置した液晶配向剤を用いて作製した液晶セルの角度Δ
Ｂ：２５℃で４８時間静置していない液晶配向剤を用いて作製した液晶セルの角度Δ
この変化値（Ｘ）の値が小さい、若しくは、マイナスの値である場合、アミド交換により生じる液晶配向性の悪化が抑制される、又は液晶配向性が良化することを意味する。
上記で作製したＦＦＳ駆動方式の液晶セルを用い、６０℃の恒温環境下、周波数６０Ｈｚで±５Ｖの交流電圧を１２０時間印加した。その後、液晶セルの画素電極と対向電極との間をショートさせた状態にし、そのまま室温に一日放置した。
放置の後、液晶セルを偏光軸が直交するように配置された２枚の偏光板の間に設置し、電圧無印加の状態でバックライトを点灯させておき、透過光の輝度が最も小さくなるように液晶セルの配置角度を調整した。そして、第１画素の第２領域が最も暗くなる角度から第１領域が最も暗くなる角度まで液晶セルを回転させたときの回転角度を角度Δ１として算出した。第２画素でも同様に、第２領域と第１領域とを比較し、同様の角度Δ２を算出した。そして、第１画素で得られた角度Δ１と第２画素で得られた角度Δ２の平均値を液晶セルの角度Δとして算出した結果を下記表５に示す。さらに、２５℃で４８時間静置ありとなしの場合での角度Δの差異（以下、変化値（Ｘ）ともいう。）も下記表５に示す。なお、変化値（Ｘ）は、下記式を用いて算出した。
変化値（Ｘ）＝Ａ－Ｂ
Ａ：２５℃で４８時間静置した液晶配向剤を用いて作製した液晶セルの角度Δ
Ｂ：２５℃で４８時間静置していない液晶配向剤を用いて作製した液晶セルの角度Δ
この変化値（Ｘ）の値が小さい、若しくは、マイナスの値である場合、アミド交換により生じる液晶配向性の悪化が抑制される、又は液晶配向性が良化することを意味する。
【0128】
【表5】
【0129】
本発明の実施例である例１５～２２及び例２５～２６は、比較例である例２３～２４及び例２７～２８に対して、変化値（Ｘ）が小さいことが確認された。
また、例１５～１８と例１９～２２との比較により、乳酸を用いた場合に、より小さい変化値（Ｘ）が得られ、良好な特性を示す事が確認された。
つまり、本発明の液晶配向剤を用いることにより、アミド交換反応により生じる液晶配向性の悪化を抑制できる、又は液晶配向性が維持される、若しくは良化されることが確認された。
また、例１５～１８と例１９～２２との比較により、乳酸を用いた場合に、より小さい変化値（Ｘ）が得られ、良好な特性を示す事が確認された。
つまり、本発明の液晶配向剤を用いることにより、アミド交換反応により生じる液晶配向性の悪化を抑制できる、又は液晶配向性が維持される、若しくは良化されることが確認された。
【0130】
＜例２９＞
撹拌子を入れた５０ｍＬ三角フラスコに、合成例１で得られたポリアミック酸溶液（ＰＡＡ－１）を８．６７ｇ、合成例５で得られたポリアミック酸溶液（ＰＡＡ－５）を６．９７ｇ、添加剤ＢのＮＭＰ１．０質量％溶液を２．０８ｇ、ＡＤ－１のＮＭＰ１０質量％溶液を１．０４ｇ、ＮＭＰを１３．０８ｇ、ＤＬ－乳酸（ＭＡＣＫＬＩＮ社製 品名：ＤＬ－乳酸 純度：８５～９０％）を０．２ｇ、ＢＣＳを８．００ｇ加え、更に添加剤Ａを０．２１ｇ加えて、マグネチックスターラーで３０分間撹拌し、液晶配向剤（ＡＬ－８）を得た。
撹拌子を入れた５０ｍＬ三角フラスコに、合成例１で得られたポリアミック酸溶液（ＰＡＡ－１）を８．６７ｇ、合成例５で得られたポリアミック酸溶液（ＰＡＡ－５）を６．９７ｇ、添加剤ＢのＮＭＰ１．０質量％溶液を２．０８ｇ、ＡＤ－１のＮＭＰ１０質量％溶液を１．０４ｇ、ＮＭＰを１３．０８ｇ、ＤＬ－乳酸（ＭＡＣＫＬＩＮ社製 品名：ＤＬ－乳酸 純度：８５～９０％）を０．２ｇ、ＢＣＳを８．００ｇ加え、更に添加剤Ａを０．２１ｇ加えて、マグネチックスターラーで３０分間撹拌し、液晶配向剤（ＡＬ－８）を得た。
【0131】
＜例３０＞
上記例２９と同様の方法で液晶配向剤（ＡＬ－８）を調製した後、得られた液晶配向剤を２５℃にて４８時間静置し、液晶配向剤（ＡＬ－８－４８ｈ）を得た。
上記例２９と同様の方法で液晶配向剤（ＡＬ－８）を調製した後、得られた液晶配向剤を２５℃にて４８時間静置し、液晶配向剤（ＡＬ－８－４８ｈ）を得た。
【0132】
＜例３１＞
撹拌子を入れた５０ｍＬ三角フラスコに、合成例１で得られたポリアミック酸溶液（ＰＡＡ－１）を８．６７ｇ、合成例６で得られたポリアミック酸溶液（ＰＡＡ－６）を６．９７ｇ、添加剤ＢのＮＭＰ１．０質量％溶液を２．０８ｇ、ＡＤ－１のＮＭＰ１０質量％溶液を１．０４ｇ、ＮＭＰを１３．０８ｇ、ＤＬ－乳酸（ＭＡＣＫＬＩＮ社製 品名：ＤＬ－乳酸 純度：８５～９０％）を０．２ｇ、ＢＣＳを８．００ｇ加え、更に添加剤Ａを０．２１ｇ加えて、マグネチックスターラーで３０分間撹拌し、液晶配向剤（ＡＬ－９）を得た。
撹拌子を入れた５０ｍＬ三角フラスコに、合成例１で得られたポリアミック酸溶液（ＰＡＡ－１）を８．６７ｇ、合成例６で得られたポリアミック酸溶液（ＰＡＡ－６）を６．９７ｇ、添加剤ＢのＮＭＰ１．０質量％溶液を２．０８ｇ、ＡＤ－１のＮＭＰ１０質量％溶液を１．０４ｇ、ＮＭＰを１３．０８ｇ、ＤＬ－乳酸（ＭＡＣＫＬＩＮ社製 品名：ＤＬ－乳酸 純度：８５～９０％）を０．２ｇ、ＢＣＳを８．００ｇ加え、更に添加剤Ａを０．２１ｇ加えて、マグネチックスターラーで３０分間撹拌し、液晶配向剤（ＡＬ－９）を得た。
【0133】
＜例３２＞
上記例３１と同様の方法で液晶配向剤（ＡＬ－９）を調製した後、得られた液晶配向剤を２５℃にて４８時間静置し、液晶配向剤（ＡＬ－９－４８ｈ）を得た。
上記例３１と同様の方法で液晶配向剤（ＡＬ－９）を調製した後、得られた液晶配向剤を２５℃にて４８時間静置し、液晶配向剤（ＡＬ－９－４８ｈ）を得た。
【0134】
＜例３３＞
撹拌子を入れた５０ｍＬ三角フラスコに、合成例１で得られたポリアミック酸溶液（ＰＡＡ－１）を６．９３ｇ、合成例８で得られたポリアミック酸溶液（ＰＡＡ－８）を１２．４８ｇ、添加剤ＢのＮＭＰ１．０質量％溶液を２．０８ｇ、ＡＤ－１のＮＭＰ１０質量％溶液を１．０４ｇ、ＮＭＰを９．２７ｇ、ＤＬ－乳酸（ＭＡＣＫＬＩＮ社製 品名：ＤＬ－乳酸 純度：８５～９０％）を０．２０ｇ、ＢＣＳを８．００ｇ加え、更に添加剤Ａを０．２１ｇ加えて、マグネチックスターラーで３０分間撹拌し、液晶配向剤（ＡＬ－１０）を得た。
撹拌子を入れた５０ｍＬ三角フラスコに、合成例１で得られたポリアミック酸溶液（ＰＡＡ－１）を６．９３ｇ、合成例８で得られたポリアミック酸溶液（ＰＡＡ－８）を１２．４８ｇ、添加剤ＢのＮＭＰ１．０質量％溶液を２．０８ｇ、ＡＤ－１のＮＭＰ１０質量％溶液を１．０４ｇ、ＮＭＰを９．２７ｇ、ＤＬ－乳酸（ＭＡＣＫＬＩＮ社製 品名：ＤＬ－乳酸 純度：８５～９０％）を０．２０ｇ、ＢＣＳを８．００ｇ加え、更に添加剤Ａを０．２１ｇ加えて、マグネチックスターラーで３０分間撹拌し、液晶配向剤（ＡＬ－１０）を得た。
【0135】
＜例３４＞
上記例３３と同様の方法で液晶配向剤（ＡＬ－１０）を調製した後、得られた液晶配向剤を２５℃にて４８時間静置し、液晶配向剤（ＡＬ－１０－４８ｈ）を得た。
上記例３３と同様の方法で液晶配向剤（ＡＬ－１０）を調製した後、得られた液晶配向剤を２５℃にて４８時間静置し、液晶配向剤（ＡＬ－１０－４８ｈ）を得た。
【0136】
＜例３５＞
撹拌子を入れた５０ｍＬ三角フラスコに、合成例９で得られたポリアミック酸溶液（ＰＡＡ－９）を５．２０ｇ、合成例２で得られたポリアミック酸溶液（ＰＡＡ－２）を１４．５６ｇ、添加剤ＢのＮＭＰ１．０質量％溶液を２．０８ｇ、ＡＤ－１のＮＭＰ１０質量％溶液を１．０４ｇ、ＮＭＰを９．００ｇ、ＤＬ－乳酸（ＭＡＣＫＬＩＮ社製 品名：ＤＬ－乳酸 純度：８５～９０％）を０．２０ｇ、ＢＣＳを８．００ｇ加え、更に添加剤Ａを０．２１ｇ加えて、マグネチックスターラーで３０分間撹拌し、液晶配向剤（ＡＬ－１１）を得た。
撹拌子を入れた５０ｍＬ三角フラスコに、合成例９で得られたポリアミック酸溶液（ＰＡＡ－９）を５．２０ｇ、合成例２で得られたポリアミック酸溶液（ＰＡＡ－２）を１４．５６ｇ、添加剤ＢのＮＭＰ１．０質量％溶液を２．０８ｇ、ＡＤ－１のＮＭＰ１０質量％溶液を１．０４ｇ、ＮＭＰを９．００ｇ、ＤＬ－乳酸（ＭＡＣＫＬＩＮ社製 品名：ＤＬ－乳酸 純度：８５～９０％）を０．２０ｇ、ＢＣＳを８．００ｇ加え、更に添加剤Ａを０．２１ｇ加えて、マグネチックスターラーで３０分間撹拌し、液晶配向剤（ＡＬ－１１）を得た。
【0137】
＜例３６＞
上記例３５と同様の方法で液晶配向剤（ＡＬ－１１）を調製した後、得られた液晶配向剤を２５℃にて４８時間静置し、液晶配向剤（ＡＬ－１１－４８ｈ）を得た。
上記例３５と同様の方法で液晶配向剤（ＡＬ－１１）を調製した後、得られた液晶配向剤を２５℃にて４８時間静置し、液晶配向剤（ＡＬ－１１－４８ｈ）を得た。
【0138】
＜例３７＞
撹拌子を入れた５０ｍＬ三角フラスコに、合成例１で得られたポリアミック酸溶液（ＰＡＡ－１）を８．６７ｇ、合成例５で得られたポリアミック酸溶液（ＰＡＡ－５）を６．９７ｇ、添加剤ＢのＮＭＰ１．０質量％溶液を２．０８ｇ、ＡＤ－１のＮＭＰ１０質量％溶液を１．０４ｇ、ＮＭＰを１３．２８ｇ、ＢＣＳを８．００ｇ加え、更に添加剤Ａを０．２１ｇ加えて、マグネチックスターラーで３０分間撹拌し、液晶配向剤（ＡＬ－１２）を得た。
撹拌子を入れた５０ｍＬ三角フラスコに、合成例１で得られたポリアミック酸溶液（ＰＡＡ－１）を８．６７ｇ、合成例５で得られたポリアミック酸溶液（ＰＡＡ－５）を６．９７ｇ、添加剤ＢのＮＭＰ１．０質量％溶液を２．０８ｇ、ＡＤ－１のＮＭＰ１０質量％溶液を１．０４ｇ、ＮＭＰを１３．２８ｇ、ＢＣＳを８．００ｇ加え、更に添加剤Ａを０．２１ｇ加えて、マグネチックスターラーで３０分間撹拌し、液晶配向剤（ＡＬ－１２）を得た。
【0139】
＜例３８＞
上記例３７と同様の方法で液晶配向剤（ＡＬ－１２）を調製した後、得られた液晶配向剤を２５℃にて４８時間静置し、液晶配向剤（ＡＬ－１２－４８ｈ）を得た。
上記例３７と同様の方法で液晶配向剤（ＡＬ－１２）を調製した後、得られた液晶配向剤を２５℃にて４８時間静置し、液晶配向剤（ＡＬ－１２－４８ｈ）を得た。
【0140】
＜例３９＞
撹拌子を入れた５０ｍＬ三角フラスコに、合成例１で得られたポリアミック酸溶液（ＰＡＡ－１）を８．６７ｇ、合成例６で得られたポリアミック酸溶液（ＰＡＡ－６）を６．９７ｇ、添加剤ＢのＮＭＰ１．０質量％溶液を２．０８ｇ、ＡＤ－１のＮＭＰ１０質量％溶液を１．０４ｇ、ＮＭＰを１３．２８ｇ、ＢＣＳを８．００ｇ加え、更に添加剤Ａを０．２１ｇ加えて、マグネチックスターラーで３０分間撹拌し、液晶配向剤（ＡＬ－１３）を得た。
撹拌子を入れた５０ｍＬ三角フラスコに、合成例１で得られたポリアミック酸溶液（ＰＡＡ－１）を８．６７ｇ、合成例６で得られたポリアミック酸溶液（ＰＡＡ－６）を６．９７ｇ、添加剤ＢのＮＭＰ１．０質量％溶液を２．０８ｇ、ＡＤ－１のＮＭＰ１０質量％溶液を１．０４ｇ、ＮＭＰを１３．２８ｇ、ＢＣＳを８．００ｇ加え、更に添加剤Ａを０．２１ｇ加えて、マグネチックスターラーで３０分間撹拌し、液晶配向剤（ＡＬ－１３）を得た。
【0141】
＜例４０＞
上記例３９と同様の方法で液晶配向剤（ＡＬ－１３）を調製した後、得られた液晶配向剤を２５℃にて４８時間静置し、液晶配向剤（ＡＬ－１３－４８ｈ）を得た。
上記例３９と同様の方法で液晶配向剤（ＡＬ－１３）を調製した後、得られた液晶配向剤を２５℃にて４８時間静置し、液晶配向剤（ＡＬ－１３－４８ｈ）を得た。
【0142】
＜例４１＞
撹拌子を入れた５０ｍＬ三角フラスコに、合成例１で得られたポリアミック酸溶液（ＰＡＡ－１）を６．９３ｇ、合成例８で得られたポリアミック酸溶液（ＰＡＡ－８）を１２．４８ｇ、添加剤ＢのＮＭＰ１．０質量％溶液を２．０８ｇ、ＡＤ－１のＮＭＰ１０質量％溶液を１．０４ｇ、ＮＭＰを９．４７ｇ、ＢＣＳを８．００ｇ加え、更に添加剤Ａを０．２１ｇ加えて、マグネチックスターラーで３０分間撹拌し、液晶配向剤（ＡＬ－１４）を得た。
撹拌子を入れた５０ｍＬ三角フラスコに、合成例１で得られたポリアミック酸溶液（ＰＡＡ－１）を６．９３ｇ、合成例８で得られたポリアミック酸溶液（ＰＡＡ－８）を１２．４８ｇ、添加剤ＢのＮＭＰ１．０質量％溶液を２．０８ｇ、ＡＤ－１のＮＭＰ１０質量％溶液を１．０４ｇ、ＮＭＰを９．４７ｇ、ＢＣＳを８．００ｇ加え、更に添加剤Ａを０．２１ｇ加えて、マグネチックスターラーで３０分間撹拌し、液晶配向剤（ＡＬ－１４）を得た。
【0143】
＜例４２＞
上記例４１と同様の方法で液晶配向剤（ＡＬ－１４）を調製した後、得られた液晶配向剤を２５℃にて２４時間静置し、液晶配向剤（ＡＬ－１４－４８ｈ）を得た。
上記例４１と同様の方法で液晶配向剤（ＡＬ－１４）を調製した後、得られた液晶配向剤を２５℃にて２４時間静置し、液晶配向剤（ＡＬ－１４－４８ｈ）を得た。
【0144】
＜例４３＞
撹拌子を入れた５０ｍＬ三角フラスコに、合成例９で得られたポリアミック酸溶液（ＰＡＡ－９）を５．２０ｇ、合成例２で得られたポリアミック酸溶液（ＰＡＡ－２）を１４．５６ｇ、添加剤ＢのＮＭＰ１．０質量％溶液を２．０８ｇ、ＡＤ－１のＮＭＰ１０質量％溶液を１．０４ｇ、ＮＭＰを９．２０ｇ、ＢＣＳを８．００ｇ加え、更に添加剤Ａを０．２１ｇ加えて、マグネチックスターラーで３０分間撹拌し、液晶配向剤（ＡＬ－１５）を得た。
撹拌子を入れた５０ｍＬ三角フラスコに、合成例９で得られたポリアミック酸溶液（ＰＡＡ－９）を５．２０ｇ、合成例２で得られたポリアミック酸溶液（ＰＡＡ－２）を１４．５６ｇ、添加剤ＢのＮＭＰ１．０質量％溶液を２．０８ｇ、ＡＤ－１のＮＭＰ１０質量％溶液を１．０４ｇ、ＮＭＰを９．２０ｇ、ＢＣＳを８．００ｇ加え、更に添加剤Ａを０．２１ｇ加えて、マグネチックスターラーで３０分間撹拌し、液晶配向剤（ＡＬ－１５）を得た。
【0145】
＜例４４＞
上記例４３と同様の方法で液晶配向剤（ＡＬ－１５）を調製した後、得られた液晶配向剤を２５℃にて４８時間静置し、液晶配向剤（ＡＬ－１５－４８ｈ）を得た。
上記例４３と同様の方法で液晶配向剤（ＡＬ－１５）を調製した後、得られた液晶配向剤を２５℃にて４８時間静置し、液晶配向剤（ＡＬ－１５－４８ｈ）を得た。
【0146】
＜例４５＞
撹拌子を入れた５０ｍＬ三角フラスコに、合成例７で得られたポリアミック酸溶液（ＰＡＡ－７）を５．２０ｇ、合成例４で得られたポリアミック酸溶液（ＰＡＡ－４）を１２．１３ｇ、添加剤ＢのＮＭＰ１．０質量％溶液を２．０８ｇ、ＡＤ－１のＮＭＰ１０質量％溶液を１．０４ｇ、ＮＭＰを１１．３５ｇ、ＤＬ－乳酸（ＭＡＣＫＬＩＮ社製 品名：ＤＬ－乳酸 純度：８５～９０％）を０．２０ｇ、ＢＣＳを８．００ｇ加え、マグネチックスターラーで３０分間撹拌し、液晶配向剤（ＡＬ－１６）を得た。
撹拌子を入れた５０ｍＬ三角フラスコに、合成例７で得られたポリアミック酸溶液（ＰＡＡ－７）を５．２０ｇ、合成例４で得られたポリアミック酸溶液（ＰＡＡ－４）を１２．１３ｇ、添加剤ＢのＮＭＰ１．０質量％溶液を２．０８ｇ、ＡＤ－１のＮＭＰ１０質量％溶液を１．０４ｇ、ＮＭＰを１１．３５ｇ、ＤＬ－乳酸（ＭＡＣＫＬＩＮ社製 品名：ＤＬ－乳酸 純度：８５～９０％）を０．２０ｇ、ＢＣＳを８．００ｇ加え、マグネチックスターラーで３０分間撹拌し、液晶配向剤（ＡＬ－１６）を得た。
【0147】
＜例４６＞
上記例４５と同様の方法で液晶配向剤（ＡＬ－１６）を調製した後、得られた液晶配向剤を２５℃にて４８時間静置し、液晶配向剤（ＡＬ－１６－４８ｈ）を得た。
上記例４５と同様の方法で液晶配向剤（ＡＬ－１６）を調製した後、得られた液晶配向剤を２５℃にて４８時間静置し、液晶配向剤（ＡＬ－１６－４８ｈ）を得た。
【0148】
＜例４７＞
撹拌子を入った５０ｍＬ三角フラスコに、合成例７で得られたポリアミック酸溶液（ＰＡＡ－７）を２．００ｇ、合成例８で得られたポリアミック酸溶液（ＰＡＡ－８）を９．６０ｇ、添加剤Ｂの１質量％ＮＭＰ溶液を２．１０ｇ、ＮＭＰを２．２０ｇ、ＤＬ－乳酸（ＭＡＣＫＬＩＮ社製 品名：ＤＬ－乳酸 純度：８５～９０％）を０．１ｇ、ＢＣＳを４．００ｇ加え、マグネチックスターラーで３０分撹拌し、液晶配向剤（ＡＬ－１７）を得た。
撹拌子を入った５０ｍＬ三角フラスコに、合成例７で得られたポリアミック酸溶液（ＰＡＡ－７）を２．００ｇ、合成例８で得られたポリアミック酸溶液（ＰＡＡ－８）を９．６０ｇ、添加剤Ｂの１質量％ＮＭＰ溶液を２．１０ｇ、ＮＭＰを２．２０ｇ、ＤＬ－乳酸（ＭＡＣＫＬＩＮ社製 品名：ＤＬ－乳酸 純度：８５～９０％）を０．１ｇ、ＢＣＳを４．００ｇ加え、マグネチックスターラーで３０分撹拌し、液晶配向剤（ＡＬ－１７）を得た。
【0149】
＜例４８＞
上記例４４と同様の方法で液晶配向剤（ＡＬ－１７）を調製した後、得られた液晶配向剤を２５℃にて４８時間静置し、液晶配向剤（ＡＬ－１７－４８ｈ）を得た。
上記例４４と同様の方法で液晶配向剤（ＡＬ－１７）を調製した後、得られた液晶配向剤を２５℃にて４８時間静置し、液晶配向剤（ＡＬ－１７－４８ｈ）を得た。
【0150】
＜例４９＞
撹拌子を入れた５０ｍＬ三角フラスコに、合成例７で得られたポリアミック酸溶液（ＰＡＡ－７）を５．２０ｇ、合成例４で得られたポリアミック酸溶液（ＰＡＡ－４）を１２．１３ｇ、添加剤ＢのＮＭＰ１．０質量％溶液を２．０８ｇ、ＡＤ－１のＮＭＰ１０質量％溶液を１．０４ｇ、ＮＭＰを１１．５５ｇ、ＢＣＳを８．００ｇ加え、マグネチックスターラーで３０分間撹拌し、液晶配向剤（ＡＬ－１８）を得た。
撹拌子を入れた５０ｍＬ三角フラスコに、合成例７で得られたポリアミック酸溶液（ＰＡＡ－７）を５．２０ｇ、合成例４で得られたポリアミック酸溶液（ＰＡＡ－４）を１２．１３ｇ、添加剤ＢのＮＭＰ１．０質量％溶液を２．０８ｇ、ＡＤ－１のＮＭＰ１０質量％溶液を１．０４ｇ、ＮＭＰを１１．５５ｇ、ＢＣＳを８．００ｇ加え、マグネチックスターラーで３０分間撹拌し、液晶配向剤（ＡＬ－１８）を得た。
【0151】
＜例５０＞
上記例４９と同様の方法で液晶配向剤（ＡＬ－１８）を調製した後、得られた液晶配向剤を２５℃にて４８時間静置し、液晶配向剤（ＡＬ－１８－４８ｈ）を得た。
上記例４９と同様の方法で液晶配向剤（ＡＬ－１８）を調製した後、得られた液晶配向剤を２５℃にて４８時間静置し、液晶配向剤（ＡＬ－１８－４８ｈ）を得た。
【0152】
＜例５１＞
撹拌子を入った５０ｍＬ三角フラスコに、合成例７で得られたポリアミック酸溶液（ＰＡＡ－７）を２．００ｇ、合成例８で得られたポリアミック酸溶液（ＰＡＡ－８）を９．６０ｇ、添加剤Ｂの１質量％ＮＭＰ溶液を１．２０ｇ、ＮＭＰを３．２０ｇ、ＢＣＳを４．００ｇ加え、マグネチックスターラーで３０分撹拌し、液晶配向剤（ＡＬ－１９）を得た。
撹拌子を入った５０ｍＬ三角フラスコに、合成例７で得られたポリアミック酸溶液（ＰＡＡ－７）を２．００ｇ、合成例８で得られたポリアミック酸溶液（ＰＡＡ－８）を９．６０ｇ、添加剤Ｂの１質量％ＮＭＰ溶液を１．２０ｇ、ＮＭＰを３．２０ｇ、ＢＣＳを４．００ｇ加え、マグネチックスターラーで３０分撹拌し、液晶配向剤（ＡＬ－１９）を得た。
【0153】
＜例５２＞
上記例４７と同様の方法で液晶配向剤（ＡＬ－１９）を調製した後、得られた液晶配向剤を２５℃にて４８時間静置し、液晶配向剤（ＡＬ－１９－４８ｈ）を得た。
例２９～５２で得られた液晶配向剤の第一の重合体、第二の重合体、（Ｃ）成分の種類及び（Ｃ）成分の比率は、下記表６のとおりである。
下記の例において、例２９～３６及び例４５～例４８は、本発明の実施例であり、例３７～４４及び例４９～５２は比較例である。
表中、（Ｃ）成分の括弧内の数値は、各液晶配向剤の総量１００質量部に対する、各化合物の含有量（質量部）を表す。
上記例４７と同様の方法で液晶配向剤（ＡＬ－１９）を調製した後、得られた液晶配向剤を２５℃にて４８時間静置し、液晶配向剤（ＡＬ－１９－４８ｈ）を得た。
例２９～５２で得られた液晶配向剤の第一の重合体、第二の重合体、（Ｃ）成分の種類及び（Ｃ）成分の比率は、下記表６のとおりである。
下記の例において、例２９～３６及び例４５～例４８は、本発明の実施例であり、例３７～４４及び例４９～５２は比較例である。
表中、（Ｃ）成分の括弧内の数値は、各液晶配向剤の総量１００質量部に対する、各化合物の含有量（質量部）を表す。
【0154】
【表6】
【0155】
［ＦＦＳ駆動方式の液晶セルの作製（光配向処理）］
（例５３～６８）
上記例２９～４４で調製した液晶配向剤（ＡＬ－８）～（ＡＬ－１５）及び（ＡＬ－８－４８ｈ）～（ＡＬ－１５－４８ｈ）を用い、照射した紫外線の量を下記の表７に変更した以外は、上記例１５～２４に記載の方法と同一の方法を用いて、ＦＦＳ駆動方式の液晶セルを作成した。下記の作製例において、例５３～６０は、本発明の実施例であり、例６１～６８は比較例である。
（例５３～６８）
上記例２９～４４で調製した液晶配向剤（ＡＬ－８）～（ＡＬ－１５）及び（ＡＬ－８－４８ｈ）～（ＡＬ－１５－４８ｈ）を用い、照射した紫外線の量を下記の表７に変更した以外は、上記例１５～２４に記載の方法と同一の方法を用いて、ＦＦＳ駆動方式の液晶セルを作成した。下記の作製例において、例５３～６０は、本発明の実施例であり、例６１～６８は比較例である。
【0156】
【表7】
【0157】
［ＦＦＳ駆動方式の液晶セルの作製（ラビング配向処理）］
（例６９～７６）
上記例４５～５２で調製した液晶配向剤（ＡＬ－１６）～（ＡＬ－１９）及び（ＡＬ－１６－４８ｈ）～（ＡＬ－１９－４８ｈ）を用いた以外は、上記例２５～２８に記載の方法と同一の方法を用いて、ＦＦＳ駆動方式の液晶セルを作成した。なお、液晶セルの作製に用いた液晶配向剤及び配向処理方法を、表８に示す。下記の作製例において、例６９～７２は、本発明の実施例であり、例７３～７６は比較例である。
（例６９～７６）
上記例４５～５２で調製した液晶配向剤（ＡＬ－１６）～（ＡＬ－１９）及び（ＡＬ－１６－４８ｈ）～（ＡＬ－１９－４８ｈ）を用いた以外は、上記例２５～２８に記載の方法と同一の方法を用いて、ＦＦＳ駆動方式の液晶セルを作成した。なお、液晶セルの作製に用いた液晶配向剤及び配向処理方法を、表８に示す。下記の作製例において、例６９～７２は、本発明の実施例であり、例７３～７６は比較例である。
【0158】
【表8】
【0159】
［長期交流駆動による残像評価（配向由来の残像評価）］
上記例５３～例７６で作製した液晶セルを用いて、上記に記載と同様の方法で、長期交流駆動による残像評価を実施した。結果を表９に示す。
上記例５３～例７６で作製した液晶セルを用いて、上記に記載と同様の方法で、長期交流駆動による残像評価を実施した。結果を表９に示す。
【0160】
【表9】
【0161】
本発明の実施例である例５３～６０及び例６９～例７２は、比較例である例６１～６８及び例７３～７６に対して、変化値（Ｘ）が小さいことが確認された。つまり、本発明の液晶配向剤を用いることにより、アミド交換反応により生じる液晶配向性の悪化を抑制できる、又は液晶配向性が維持される、若しくは良化されることが確認された。