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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024094583
(43)【公開日】2024-07-10
(54)【発明の名称】高純度薬品用容器の製造方法
(51)【国際特許分類】
B29C 49/78 20060101AFI20240703BHJP
B29C 49/04 20060101ALI20240703BHJP
C08L 23/06 20060101ALI20240703BHJP
【ＦＩ】
B29C49/78
B29C49/04
C08L23/06
【審査請求】未請求
【請求項の数】3
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2022211218
(22)【出願日】2022-12-28
(71)【出願人】
【識別番号】000003300
【氏名又は名称】東ソー株式会社
(72)【発明者】
【氏名】石原 広崇
【テーマコード（参考）】
4F208
4J002
【Ｆターム（参考）】
4F208AA04
4F208AG07
4F208AH55
4F208AR08
4F208LA01
4F208LA09
4F208LB01
4F208LG04
4F208LG22
4F208LJ09
4J002BB03W
4J002BB03X
4J002GG01
(57)【要約】
【課題】 容器内面の表面平滑性に優れ、該ポリエチレン樹脂由来の微粒子が少なく、長期保管後も微粒子の溶出量が少ない高クリーンな高純度薬品容器の製造方法を提供する。
【解決手段】 ポリエチレン樹脂をブロー成形により容器を製造する方法において、剪断速度が１００～９００ｓ－１の範囲であり、かつ、長さ２０ｍｍ、直径１．０ｍｍであるダイスを用いたキャピラリーレオメータによる１８０℃での剪断応力が０．２０ＭＰａ以下となる剪断速度にて製造することを特徴とする高純度薬品容器の製造方法。
【選択図】 なし
【解決手段】 ポリエチレン樹脂をブロー成形により容器を製造する方法において、剪断速度が１００～９００ｓ－１の範囲であり、かつ、長さ２０ｍｍ、直径１．０ｍｍであるダイスを用いたキャピラリーレオメータによる１８０℃での剪断応力が０．２０ＭＰａ以下となる剪断速度にて製造することを特徴とする高純度薬品容器の製造方法。
【選択図】 なし
【特許請求の範囲】
【請求項1】
ポリエチレン樹脂をブロー成形により容器を製造する方法であって、剪断速度が１００～９００ｓ－１の範囲であり、かつ、長さ２０ｍｍ、直径１．０ｍｍであるダイスを用いたキャピラリーレオメータによる１８０℃での剪断応力が０．２０ＭＰａ以下となる剪断速度にて製造する、高純度薬品容器の製造方法。
【請求項2】
ポリエチレン樹脂として、密度が０．９５０～０．９８０ｇ／ｃｍ３、温度１９０℃、荷重２．１６Ｋｇにおけるメルトフローレートが１０～５０ｇ／分の低分子量エチレン系重合体と、密度が０．９２０～０．９６０ｇ／ｃｍ３、温度１９０℃、荷重２１．６Ｋｇにおけるメルトフローレートが０．０１～０．５ｇ／１０分の高分子量エチレン系重合体の２成分を含み、該２成分の重量比が４０：６０～６０：４０であり、以下の（１）～（４）の性状を有するものである、請求項１に記載の高純度薬品容器の製造方法。
（１）密度（ＪＩＳ Ｋ６９２２―１）が０．９４０～０．９７０ｇ／ｃｍ３
（２）温度１９０℃、荷重２１．６Ｋｇにおけるメルトフローレート（ＪＩＳ Ｋ６９２２－１）が１．０～１５ｇ／１０分
（３）ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィ（ＧＰＣ）を用いて得られる分子量分布曲線において、分子量１０００以下の成分が０．３０重量％以下
（４）含有金属量がポリエチレン樹脂に対して２０ＰＰＭ以下
（１）密度（ＪＩＳ Ｋ６９２２―１）が０．９４０～０．９７０ｇ／ｃｍ３
（２）温度１９０℃、荷重２１．６Ｋｇにおけるメルトフローレート（ＪＩＳ Ｋ６９２２－１）が１．０～１５ｇ／１０分
（３）ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィ（ＧＰＣ）を用いて得られる分子量分布曲線において、分子量１０００以下の成分が０．３０重量％以下
（４）含有金属量がポリエチレン樹脂に対して２０ＰＰＭ以下
【請求項3】
ポリエチレン樹脂が添加剤を含まない、請求項１又は２に記載の高純度薬品容器の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、半導体装置産業分野、精密工業部品分野及び医薬品等に使用される高純度薬品用容器の製造に好適で、特に容器内面の表面平滑性に優れ、微粒子の発生が少ない高純度薬品用容器の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【0002】
近年、電子工業分野の著しい発達に伴って、高純度薬品の需要が高まっている。高純度薬品は、例えば、大規模集積回路（ＬＳＩ）等の電子回路の製造に不可欠の薬品として使用されている。具体的には、ウエハー洗浄・エッチング用、配線・絶縁膜エッチング用、治具洗浄用、現像液、レジスト希釈液、レジスト剥離液、乾燥用等の用途として、硫酸、塩酸、硝酸、フッ化水素酸、フッ化アンモニウム、過酸化水素水、イソプロピルアルコール、キシレン、ＴＭＡＨ（テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド）、メタノール、酢酸、リン酸、アンモニア水、ＰＧＭＥＡ（酢酸プロピレングリコールメチルエーテル）、ＤＭＳＯ（ジメチルスルホキシド）、ＮＭＰ（Ｎ－メチル－２－ピロリドン）等が用いられている。これらの高純度薬品の容器材料として、高密度ポリエチレン樹脂が用いられている。半導体回路の集積度の向上とともに、これらの薬品中の不純物や微粒子に対する低減化の要求が一層厳しくなっており、この厳しい要求を満足させるために、これらの薬品を充填する容器に対するクリーン性の要求も年々高まっている。また、上記の要求とともに、これら薬品を充填する容器の大型化、の要求も高まっているが、主に大型容器に使用される高粘度な高密度ポリエチレン樹脂においては、流動性の低さから、容器表面荒れによる外観不良が発生しやすくなる。
【0003】
この課題を解決するための方法として、ブロー成形用のダイスやコアにメッキなどのコーティングを行うことにより、樹脂の滑り性を向上させ、シャークスキンを抑制する方法が公知であるが、耐久性のある金属メッキはシャークスキン抑制効果に乏しく、シャークスキン抑制効果に優れるテフロン（登録商標）コーティングなどは耐久性に乏しいため、耐久性とシャークスキン抑制効果を高度に両立する方法が見出されていないのが現状である。
【0004】
パリソンに発生したシャークスキンを消去するために、パリソンを挟み込む金型の温度を高く設定する方法が提案されているが、生産性向上のために冷却効果を高めるべき金型工程で加熱を行うため、生産性向上方法としては不向きである。また、固化速度も遅いため、樹脂由来の微粒子成分が発生しやすくなり、容器のクリーン性が低下する（特許文献１参照）。
【0005】
更には、樹脂の分子量や分子量分布などを特定の範囲することや樹脂に滑材を添加し、樹脂組成物の滑り性を向上させる方法により成形時のシャークスキンを抑制する方法が提案されているが、シャークスキン抑制のために低下させざるを得ない樹脂特性（例えば、耐衝撃性やクリーン性など）が生じてしまう（特許文献２、３参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0006】
【特許文献1】特開平６－３２８５４９号公報
【特許文献2】特開２００４－２６９８６４号公報
【特許文献3】特開２００９－１３８１２２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0007】
本発明は、ポリエチレン樹脂をブロー成形した場合に、容器内面の表面平滑性に優れ、かつ該ポリエチレン樹脂の溶出物や劣化物等の汚染物質の溶出を極力抑えた高純度薬品容器の製造方法の提供を目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【0008】
本発明者らは、上記課題を解決するため鋭意検討した結果、特定のポリマー物性を有するポリエチレンを用い、
特定の剪断速度条件でブロー成形を行うことにより、容器内面の表面平滑性に優れ、かつポリエチレン由来の微粒子が少ない高純度薬品容器が得られることを見出し、本発明を開発するに至った。
特定の剪断速度条件でブロー成形を行うことにより、容器内面の表面平滑性に優れ、かつポリエチレン由来の微粒子が少ない高純度薬品容器が得られることを見出し、本発明を開発するに至った。
【0009】
即ち、本発明の各様態は以下の示す［１］～［５］である。
［１］ポリエチレン樹脂をブロー成形により容器を製造する方法であって、剪断速度が１００～９００ｓ－１の範囲であり、かつ、長さ２０ｍｍ、直径１．０ｍｍであるダイスを用いたキャピラリーレオメータによる１８０℃での剪断応力が０．２０ＭＰａ以下となる剪断速度にて製造する、高純度薬品容器の製造方法。
［２］ポリエチレン樹脂として、密度が０．９５０～０．９８０ｇ／ｃｍ３、温度１９０℃、荷重２．１６Ｋｇにおけるメルトフローレートが１０～５０ｇ／分の低分子量エチレン系重合体と、密度が０．９２０～０．９６０ｇ／ｃｍ３、温度１９０℃、荷重２１．６Ｋｇにおけるメルトフローレートが０．０１～０．５ｇ／１０分の高分子量エチレン系重合体の２成分を含み、該２成分の重量比が４０：６０～６０：４０であり、以下の（１）～（４）の性状を有するものである、［１］に記載の高純度薬品容器の製造方法。
（１）密度（ＪＩＳ Ｋ６９２２―１）が０．９４０～０．９７０ｇ／ｃｍ３
（２）温度１９０℃、荷重２１．６Ｋｇにおけるメルトフローレート（ＪＩＳ Ｋ６９２２－１）が１．０～１５ｇ／１０分
（３）ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィ（ＧＰＣ）を用いて得られる分子量分布曲線において、分子量１０００以下の成分が０．３０重量％以下
（４）含有金属量がポリエチレン樹脂に対して２０ＰＰＭ以下
［３］ポリエチレン樹脂が添加剤を含まない、［１］又は［２］に記載の高純度薬品容器の製造方法。
［１］ポリエチレン樹脂をブロー成形により容器を製造する方法であって、剪断速度が１００～９００ｓ－１の範囲であり、かつ、長さ２０ｍｍ、直径１．０ｍｍであるダイスを用いたキャピラリーレオメータによる１８０℃での剪断応力が０．２０ＭＰａ以下となる剪断速度にて製造する、高純度薬品容器の製造方法。
［２］ポリエチレン樹脂として、密度が０．９５０～０．９８０ｇ／ｃｍ３、温度１９０℃、荷重２．１６Ｋｇにおけるメルトフローレートが１０～５０ｇ／分の低分子量エチレン系重合体と、密度が０．９２０～０．９６０ｇ／ｃｍ３、温度１９０℃、荷重２１．６Ｋｇにおけるメルトフローレートが０．０１～０．５ｇ／１０分の高分子量エチレン系重合体の２成分を含み、該２成分の重量比が４０：６０～６０：４０であり、以下の（１）～（４）の性状を有するものである、［１］に記載の高純度薬品容器の製造方法。
（１）密度（ＪＩＳ Ｋ６９２２―１）が０．９４０～０．９７０ｇ／ｃｍ３
（２）温度１９０℃、荷重２１．６Ｋｇにおけるメルトフローレート（ＪＩＳ Ｋ６９２２－１）が１．０～１５ｇ／１０分
（３）ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィ（ＧＰＣ）を用いて得られる分子量分布曲線において、分子量１０００以下の成分が０．３０重量％以下
（４）含有金属量がポリエチレン樹脂に対して２０ＰＰＭ以下
［３］ポリエチレン樹脂が添加剤を含まない、［１］又は［２］に記載の高純度薬品容器の製造方法。
【発明の効果】
【0010】
容器内面の表面平滑性に優れ、該ポリエチレン樹脂由来の微粒子が少なく、長期保管後も微粒子の溶出量が少ない高クリーンな高純度薬品容器の製造方法を提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【0011】
本発明の高純度薬品容器の製造方法は、ポリエチレン樹脂をブロー成形時の剪断速度が１００～９００ｓ－１の範囲であり、かつ、長さ２０ｍｍ、直径１．０ｍｍであるダイスを用いたキャピラリーレオメータによる１８０℃での剪断応力が０．２０ＭＰａ以下となる剪断速度で製造する。剪断応力が０．２ＭＰａよりも高いと容器表面の平滑性が損なわれる。
【0012】
得られた高純度薬品容器内表面の最大粗さは１０μｍ以下であることが好ましい。最大粗さが１０μｍ以下であれば、成形品とした際に外観が良好なものとなる。最大粗さは、基準長さにおける粗さ曲線の中で、最も高い山の高さと最も深い谷の深さの和を求め、表したものである。
【0013】
得られた高純度薬品容器の未洗浄容器に超純水を充填し、内溶液から溶出する０．１μｍ以上の微粒子数は、２３℃×１時間静置後にて７個／ｍＬ以下であることが好ましい。０．１μｍ以上の微粒子数が７個／ｍＬ以下であれば、ＬＳＩの微細化に対応できる。
【0014】
本発明に用いられるポリエチレン樹脂は、密度が０．９５０～０．９８０ｇ／ｃｍ３、温度１９０℃、荷重２．１６Ｋｇにおけるメルトフローレートが１０～５０ｇ／分の低分子量エチレン系重合体と、密度が０．９２０～０．９６０ｇ／ｃｍ３、温度１９０℃、荷重２１．６Ｋｇにおけるメルトフローレートが０．０１～０．５ｇ／１０分の高分子量エチレン系重合体の２成分からなり、該２成分の重量比が４０：６０～６０：４０であり、以下の（１）～（４）の性状を有するものを用いることが好ましい。
（１）密度（ＪＩＳ Ｋ６９２２―１）が０．９４０～０．９７０ｇ／ｃｍ３
（２）ＨＬＭＦＲ（ＪＩＳ Ｋ６９２２－１）が１～１５ｇ／１０分
（３）ＧＰＣを用いて得られる分子量分布曲線において、分子量１０００以下の成分が０．３０重量％以下
（４）含有金属量がポリエチレン樹脂に対して２０ＰＰＭ以下
上記ポリエチレン樹脂は、チーグラー系触媒又はメタロセン系触媒等の高活性触媒により製造できる。例えばチタン、ジルコニウム等の遷移金属化合物、マグネシウム化合物及び有機アルミニウム化合物からなる高活性チーグラー系触媒を重合用触媒として用い、エチレンもしくは、エチレンと炭素数３～２０のα－オレフィンを所望の密度となる割合にして共重合することにより、好適に製造することができる。上記触媒として、特許第３３１９０５１号に記載の触媒を挙げることができる。
（１）密度（ＪＩＳ Ｋ６９２２―１）が０．９４０～０．９７０ｇ／ｃｍ３
（２）ＨＬＭＦＲ（ＪＩＳ Ｋ６９２２－１）が１～１５ｇ／１０分
（３）ＧＰＣを用いて得られる分子量分布曲線において、分子量１０００以下の成分が０．３０重量％以下
（４）含有金属量がポリエチレン樹脂に対して２０ＰＰＭ以下
上記ポリエチレン樹脂は、チーグラー系触媒又はメタロセン系触媒等の高活性触媒により製造できる。例えばチタン、ジルコニウム等の遷移金属化合物、マグネシウム化合物及び有機アルミニウム化合物からなる高活性チーグラー系触媒を重合用触媒として用い、エチレンもしくは、エチレンと炭素数３～２０のα－オレフィンを所望の密度となる割合にして共重合することにより、好適に製造することができる。上記触媒として、特許第３３１９０５１号に記載の触媒を挙げることができる。
【0015】
該ポリエチレン樹脂の製造における重合方法は、薬品に溶出する金属不純物濃度を低く抑え、また、微粒子の発生の原因となる低分子重合体の樹脂への取り込みを制限するため、炭素数が６以上かつ１０以下の重合溶媒、例えば、ノルマルヘキサン、ノルマルヘプタン等を用いるスラリー重合であり、密度が０．９５０～０．９８０ｇ／ｃｍ３である低分子量エチレン系重合体と、密度が０．９２０～０．９６０ｇ／ｃｍ３である高分子量エチレン系重合体の２成分からなり、該２成分の重量比が４０：６０～６０：４０である。低分子量成分および高分子量成分の２成分は、例えば二段重合法で製造できる。
【0016】
該ポリエチレン樹脂は以下に示すように密度、メルトフローレート、分子量１０００以下の成分および含有金属量を特定するものが好ましい。
【0017】
すなわち、該ポリエチレン樹脂の密度（ＪＩＳ Ｋ６９２２－１）は０．９４０～０．９７０ｇ／ｃｍ３が好ましい。密度が９４０～９７０ｋｇ／ｍ３の範囲では、微粒子発生による容器のクリーン性および強度に問題なく容器が成形できる。
【0018】
該ポリエチレン樹脂のＨＬＭＦＲ（ＪＩＳ Ｋ６９２２－１）は１．０～１５ｇ／１０分が好ましい。１．０ｇ／１０分以上であれば成形時の樹脂の流動性が低下することなく、また、１５ｇ／１０分以下であれば容器の落下強度が低下しない。
【0019】
該ポリエチレン樹脂のＧＰＣを用いて得られる分子量分布曲線において、分子量１０００以下の成分は０．３０重量％以下が好ましい。分子量１０００以下の成分が０．３０重量％以下であると、低分子量成分が少なく、容器から溶出する微粒子数が増加しない。
【0020】
該ポリエチレン樹脂の金属含有量は２０ＰＰＭ以下であることが好ましい。含有金属量が２０ＰＰＭ以下であれば、高純度薬品への金属溶出量が少ないため、薬品中の金属不純物濃度を抑制することができる。含有金属量は、全樹脂に対する金属分の割合を重量ＰＰＭで示すものである。含有金属量は樹脂を灰化したのちにアルカリ溶融して得られるもので、Ｍｇ、Ａｌ、Ｔｉ等の残存物である。
【0021】
さらに、該ポリエチレン樹脂は、酸化防止剤、耐光安定剤、及び中和剤等の全ての添加剤が無添加であることが好ましい。ここで、中和剤とはステアリン酸カルシウムやステアリン酸亜鉛に代表される脂肪酸金属塩とハイドロタルサイト類であって、何れも薬品中に溶出して金属汚染物質となるものであり、無添加であることが好ましい。
【0022】
該ポリエチレンとしては、高密度ポリエチレンである二ポロンハード８Ｄ０１Ａ（東ソー（株）製）が挙げられる。
【0023】
該ポリエチレン樹脂をブロー成形により容器状に成形することにより高純度薬品容器となる。特に、クリーンルーム内に設置したブロー成形機を使用し、フィルターで微粒子を取り除いたエアーをブローエアーに用いたブロー成形方法はクリーンな容器を製造するのに好ましい。
【0024】
本発明で使用するブロー成形機のスクリューの有効長Ｌとスクリュー径Ｄの比（Ｌ／Ｄ）は２４～３２の範囲が好ましい。Ｌ／Ｄが２４～３２の範囲であれば、ポリエチレン樹脂を充分に溶融混練できる。
【実施例0025】
以下、本発明について実施例により説明するが、これら実施例に限定されるものではない。なお、実施例、比較例で使用する試験方法は、以下の通りである。
（１）ポリエチレン
ポリエチレンとして、下記市販の高密度ポリエチレンを使用した。
（１）ポリエチレン
ポリエチレンとして、下記市販の高密度ポリエチレンを使用した。
【0026】
ポリエチレンＡ：密度＝０．９５７ｇ／ｃｍ３、ＨＬＭＦＲ＝８．０ｇ／１０分
（商品名：ニポロンハード８Ｄ０１Ａ、東ソー（株）製）
ポリエチレンＢ：密度＝０．９５８ｇ／ｃｍ３、ＨＬＭＦＲ＝２５ｇ／１０分
（商品名：ニポロンハード８０２２、東ソー（株）製）
（２）剪断応力
キャピラリーレオメータＳＲ２０（インストロン製）を用いて評価した。バレル径１５ｍｍ、ダイスの長さＬと径Ｄの比Ｌ／Ｄは２０／１（ｍｍ）、流入角は１８０°とし、バレル温度１８０℃、剪断速度６．０８～３６４８ｓ－１におけるダイス出口の剪断応力を測定した。
（３）ブロー成形
５０ｍｍΦの押出スクリューを有するブロー成形機ＭＳＥ－５０Ｅ／５４Ｍ－Ａ（（株）タハラ製）を用いて、シリンダー温度１８０℃、剪断速度４０～１２５０ｓ－１にてダイス先端よりパリソンを連続押出し、内容積８００ｍＬの容器を成形した。
（４）容器内表面の最大粗さ
ポリエチレン樹脂をブロー成形することで得られた内容積８００ｍＬ容器を使用した。容器胴部の内表面の最大粗さＲｚ値を形状測定レーザーマイクロスコープ（（株）キーエンス製、ＶＫ－Ｘ２００）を使用して測定した。
（５）微粒子数
ポリエチレン樹脂をブロー成形することで得られた内容積８００ｍＬ容器を使用した。２３℃のクリーンルーム内で容器に６００ｍＬの超純水を充填し、蓋をして１時間静置後、充填水中の０．１μｍ微粒子数を微粒子カウンタ（リオン（株）製、コントローラ：ＫＥ－４０Ｂ１，パーティクルセンサ：ＫＳ－４２Ａ）で測定した。水中の微粒子数は個／ｍＬで示す。
（６）密度
ＪＩＳ Ｋ６９２２－１に準拠して密度勾配管法で測定した。
（７）ＭＦＲ
ＪＩＳ Ｋ６９２２－１に準拠して、１９０℃、荷重２．１６ｋｇで測定した。
（８）ＨＬＭＦＲ
ＪＩＳ Ｋ６９２２－１に準拠して、１９０℃、荷重２１．６ｋｇで測定した。
（９）分子量１０００以下の成分
ＧＰＣ測定により得られた分子量分布曲線から１０００以下の成分の積分量の割合を算出した。
（１０）含有金属量
試料を灰化したのちにアルカリ溶融を行い、溶液化したものを測定溶液とし、Ｏｐｔｉｍａ ８３００を使用して、ＩＣＰ－ＡＥＳ測定により、試料中の含有金属量を測定した。
（商品名：ニポロンハード８Ｄ０１Ａ、東ソー（株）製）
ポリエチレンＢ：密度＝０．９５８ｇ／ｃｍ３、ＨＬＭＦＲ＝２５ｇ／１０分
（商品名：ニポロンハード８０２２、東ソー（株）製）
（２）剪断応力
キャピラリーレオメータＳＲ２０（インストロン製）を用いて評価した。バレル径１５ｍｍ、ダイスの長さＬと径Ｄの比Ｌ／Ｄは２０／１（ｍｍ）、流入角は１８０°とし、バレル温度１８０℃、剪断速度６．０８～３６４８ｓ－１におけるダイス出口の剪断応力を測定した。
（３）ブロー成形
５０ｍｍΦの押出スクリューを有するブロー成形機ＭＳＥ－５０Ｅ／５４Ｍ－Ａ（（株）タハラ製）を用いて、シリンダー温度１８０℃、剪断速度４０～１２５０ｓ－１にてダイス先端よりパリソンを連続押出し、内容積８００ｍＬの容器を成形した。
（４）容器内表面の最大粗さ
ポリエチレン樹脂をブロー成形することで得られた内容積８００ｍＬ容器を使用した。容器胴部の内表面の最大粗さＲｚ値を形状測定レーザーマイクロスコープ（（株）キーエンス製、ＶＫ－Ｘ２００）を使用して測定した。
（５）微粒子数
ポリエチレン樹脂をブロー成形することで得られた内容積８００ｍＬ容器を使用した。２３℃のクリーンルーム内で容器に６００ｍＬの超純水を充填し、蓋をして１時間静置後、充填水中の０．１μｍ微粒子数を微粒子カウンタ（リオン（株）製、コントローラ：ＫＥ－４０Ｂ１，パーティクルセンサ：ＫＳ－４２Ａ）で測定した。水中の微粒子数は個／ｍＬで示す。
（６）密度
ＪＩＳ Ｋ６９２２－１に準拠して密度勾配管法で測定した。
（７）ＭＦＲ
ＪＩＳ Ｋ６９２２－１に準拠して、１９０℃、荷重２．１６ｋｇで測定した。
（８）ＨＬＭＦＲ
ＪＩＳ Ｋ６９２２－１に準拠して、１９０℃、荷重２１．６ｋｇで測定した。
（９）分子量１０００以下の成分
ＧＰＣ測定により得られた分子量分布曲線から１０００以下の成分の積分量の割合を算出した。
（１０）含有金属量
試料を灰化したのちにアルカリ溶融を行い、溶液化したものを測定溶液とし、Ｏｐｔｉｍａ ８３００を使用して、ＩＣＰ－ＡＥＳ測定により、試料中の含有金属量を測定した。
【0027】
実施例１
ブロー成形機ＭＳＥ－５０Ｅ／５４Ｍ－Ａ（（株）タハラ製）を使用し、シリンダー温度１８０℃、剪断速度３００ｓ－１にてダイス先端よりポリエチレンＡを押し出し、内容積８００ｍＬの容器を成形した。長さ２０ｍｍ、直径１．０ｍｍであるダイスを用いたキャピラリーレオメータによる１８０℃での剪断速度３００ｓ－１における剪断応力は、０．１５ＭＰａであった。得られた容器を用いて上記した内表面の最大粗さと微粒子数を測定した。評価結果を表１に示す。
ブロー成形機ＭＳＥ－５０Ｅ／５４Ｍ－Ａ（（株）タハラ製）を使用し、シリンダー温度１８０℃、剪断速度３００ｓ－１にてダイス先端よりポリエチレンＡを押し出し、内容積８００ｍＬの容器を成形した。長さ２０ｍｍ、直径１．０ｍｍであるダイスを用いたキャピラリーレオメータによる１８０℃での剪断速度３００ｓ－１における剪断応力は、０．１５ＭＰａであった。得られた容器を用いて上記した内表面の最大粗さと微粒子数を測定した。評価結果を表１に示す。
【0028】
実施例２
実施例１と同様の成形機を使用し、シリンダー温度１８０℃、剪断速度６００ｓ－１にてダイス先端よりポリエチレンＡを押し出し、内容積８００ｍＬの容器を成形した。長さ２０ｍｍ、直径１．０ｍｍであるダイスを用いたキャピラリーレオメータによる１８０℃での剪断速度６００ｓ－１における剪断応力は、０．１８ＭＰａであった。得られた容器を用いて上記した内表面の最大粗さと微粒子数を測定した。評価結果を表１に示す。
実施例１と同様の成形機を使用し、シリンダー温度１８０℃、剪断速度６００ｓ－１にてダイス先端よりポリエチレンＡを押し出し、内容積８００ｍＬの容器を成形した。長さ２０ｍｍ、直径１．０ｍｍであるダイスを用いたキャピラリーレオメータによる１８０℃での剪断速度６００ｓ－１における剪断応力は、０．１８ＭＰａであった。得られた容器を用いて上記した内表面の最大粗さと微粒子数を測定した。評価結果を表１に示す。
【0029】
比較例１
実施例１と同様の成形機を使用し、シリンダー温度１８０℃、剪断速度４０ｓ－１にてダイス先端よりポリエチレンＡを押し出し、内容積８００ｍＬの容器を成形した。長さ２０ｍｍ、直径１．０ｍｍであるダイスを用いたキャピラリーレオメータによる１８０℃での剪断速度４０ｓ－１における剪断応力は、０．１６ＭＰａであった。得られた容器を用いて上記した内表面の最大粗さと微粒子数を測定した。評価結果を表１に示す。
実施例１と同様の成形機を使用し、シリンダー温度１８０℃、剪断速度４０ｓ－１にてダイス先端よりポリエチレンＡを押し出し、内容積８００ｍＬの容器を成形した。長さ２０ｍｍ、直径１．０ｍｍであるダイスを用いたキャピラリーレオメータによる１８０℃での剪断速度４０ｓ－１における剪断応力は、０．１６ＭＰａであった。得られた容器を用いて上記した内表面の最大粗さと微粒子数を測定した。評価結果を表１に示す。
【0030】
比較例２
実施例１と同様の成形機を使用し、シリンダー温度１８０℃、剪断速度１５０ｓ－１にてダイス先端よりポリエチレンＡを押し出し、内容積８００ｍＬの容器を成形した。長さ２０ｍｍ、直径１．０ｍｍであるダイスを用いたキャピラリーレオメータによる１８０℃での剪断速度１５０ｓ－１における剪断応力は、０．２５ＭＰａであった。得られた容器を用いて上記した内表面の最大粗さと微粒子数を測定した。評価結果を表１に示す。
実施例１と同様の成形機を使用し、シリンダー温度１８０℃、剪断速度１５０ｓ－１にてダイス先端よりポリエチレンＡを押し出し、内容積８００ｍＬの容器を成形した。長さ２０ｍｍ、直径１．０ｍｍであるダイスを用いたキャピラリーレオメータによる１８０℃での剪断速度１５０ｓ－１における剪断応力は、０．２５ＭＰａであった。得られた容器を用いて上記した内表面の最大粗さと微粒子数を測定した。評価結果を表１に示す。
【0031】
比較例３
実施例１と同様の成形機を使用し、シリンダー温度１８０℃、剪断速度１２５０ｓ－１にてダイス先端よりポリエチレンＡを押し出し、内容積８００ｍＬの容器を成形した。長さ２０ｍｍ、直径１．０ｍｍであるダイスを用いたキャピラリーレオメータによる１８０℃での剪断速度１２５０ｓ－１における剪断応力は、０．２６ＭＰａであった。得られた容器を用いて上記した内表面の最大粗さと微粒子数を測定した。評価結果を表１に示す。
実施例１と同様の成形機を使用し、シリンダー温度１８０℃、剪断速度１２５０ｓ－１にてダイス先端よりポリエチレンＡを押し出し、内容積８００ｍＬの容器を成形した。長さ２０ｍｍ、直径１．０ｍｍであるダイスを用いたキャピラリーレオメータによる１８０℃での剪断速度１２５０ｓ－１における剪断応力は、０．２６ＭＰａであった。得られた容器を用いて上記した内表面の最大粗さと微粒子数を測定した。評価結果を表１に示す。
【0032】
比較例４
実施例１と同様の成形機を使用し、シリンダー温度１８０℃、剪断速度１５０ｓ－１にてダイス先端よりポリエチレンＢを押し出し、内容積８００ｍＬの容器を成形した。長さ２０ｍｍ、直径１．０ｍｍであるダイスを用いたキャピラリーレオメータによる１８０℃での剪断速度１５０ｓ－１における剪断応力は、０．２６ＭＰａであった。得られた容器を用いて上記した内表面の最大粗さと微粒子数を測定した。評価結果を表１に示す。
実施例１と同様の成形機を使用し、シリンダー温度１８０℃、剪断速度１５０ｓ－１にてダイス先端よりポリエチレンＢを押し出し、内容積８００ｍＬの容器を成形した。長さ２０ｍｍ、直径１．０ｍｍであるダイスを用いたキャピラリーレオメータによる１８０℃での剪断速度１５０ｓ－１における剪断応力は、０．２６ＭＰａであった。得られた容器を用いて上記した内表面の最大粗さと微粒子数を測定した。評価結果を表１に示す。
【0033】
【表1】
